(57)【要約】本発明は、ランニングコストを削減したり、設備を縮小化したりすることができるフォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法を提供する。本発明のフォトマスクは、基板面内の露光領域毎に配向膜を露光するのに用いられるフォトマスクであって、上記フォトマスクは、フォトマスクの主面に入射する光に対して透過と反射とを行うものであり、透過した光を露光領域の一方に向けて照射し、反射した光を露光領域の他方に向けて照射することを特徴とするフォトマスクである。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板面内の露光領域毎に配向膜を露光するのに用いられるフォトマスクであって、
該フォトマスクは、フォトマスクの主面に入射する光に対して透過と反射とを行うものであり、透過した光を露光領域の一方に向けて照射し、反射した光を露光領域の他方に向けて照射することを特徴とするフォトマスク。
【請求項２】
前記フォトマスクは、その主面が露光に供される基板面に対して略垂直となるように配置して用いるものであることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のフォトマスク及び配向膜を露光する光を照射する光源を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
一対の基板、基板間に設けられた液晶層及び基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜を備える液晶表示パネルを製造するための方法であって、
該製造方法は、請求項３に記載の露光装置を用いて配向膜を露光する工程を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
一対の基板、基板間に設けられた液晶層及び基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜を備える液晶表示パネルを製造するための方法であって、
該製造方法は、基板面内を２以上の露光領域に分割し、フォトマスクを透過した光によって露光領域の一方における配向膜を露光し、フォトマスクを反射した光によって露光領域の他方における配向膜を露光する露光工程を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記露光工程は、基板主面の法線に対して斜め方向から光をフォトマスク主面に照射して透過と反射とを行うことを特徴とする請求項４又は５に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法に関する。より詳しくは、配向膜による配向分割のために用いられるフォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスクは、基板上の感光性樹脂層を露光するために用いられ、種々の電子部材の製造に活用されている。特に、液晶表示パネルを製造するための光配向法による配向膜露光において広く用いられている。配向膜露光プロセスは、液晶分子の配向方向を制御し、規制する配向膜を形成するための重要なプロセスであり、これによって視野角に優れた液晶表示パネルの製造が可能となる。例えば、フォトマスクを透過させて所定の方向から光を照射することにより配向膜に液晶分子の配向規制力を与え、更に、次工程において配向膜の光照射を異なる方向から選択的に行うことにより、配向膜の配向分割を行う手法が用いられている。【０００３】
従来の液晶表示装置の製造方法としては、液晶を挟持する少なくとも一方が透明の１対の基板を有し、各基板上に液晶分子の配向方向を規制する配向膜が設けられた液晶表示装置を製造する方法であり、光学マスクを通して紫外線を照射することにより該配向膜に液晶分子の配向規制力を与え、且つ該配向膜の紫外線照射を異なる方向から、選択的に行い、それにより配向膜の配向分割を行うことを含む液晶表示装置の製造方法であって、遮光パターン面に金属−誘電体多層膜が設けられた光学マスクを使用し、該多層膜は、特定の入射角の紫外線を透過するように最適化されていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
この製造方法は、配向分割を行う際に、重複露光領域の範囲を狭くすることによって配向分割を最適化し、配向膜の安定な配向を可能とすることを課題としたものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−１６１９４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したような配向膜露光装置においては、フォトマスクのランニングコストを抑えるため小型フォトマスクを複数枚繋ぎ合わすスキャン露光方法が主流となっている。フォトマスクが小型であるため、通常は数回に分けて紫外線等の光を照射することになる。露光工程数が多くなると、それに伴い露光ステージも多くなる。【０００６】
従来の液晶表示装置の製造方法においては、基板主面に対してその主面が平行となるように設置されるフォトマスクを透過させて基板主面に紫外線を照射することが行われている。図６は、従来のフォトマスク１１１の平面模式図である。遮光部１１３と透過部１１５が設けられ、透過部１１５を透過した光によって例えば半絵素幅毎に露光を行うことができるようになっている。しかしながら、配向膜の配向分割を行うためには、更に露光プロセスを設けて基板主面に対して異なる方向から紫外線を照射することになる。【０００７】
すなわち、露光プロセスは各々の光照射方向に分別し、また小型マスクを複数枚使用し露光することになる。例えば、露光前の配向膜が形成された基板全体を複数の小型マスクによって複数回に分けて露光する工程において、更に２以上の異なる方向から光照射を行って配向分割処理をする場合、基板全体を複数回に分けるのに最低で２回、更に少なくとも２つの異なる方向から露光することから、最低でも４つの露光ステージが必要となる。通常、スループットを確保するため、露光ステージの間には露光前準備をするための搬送ステージが設けられ、設備全体としては巨大なものとなってしまう。【０００８】
このような従来の露光装置の露光プロセスを概念的に図示したのが図７である。この図７においては、配向分割のための配向膜露光工程が、４つのステージとそれらを繋ぐ搬送ステージで構成されていることが示されている。具体的には、４つのステージ部１７１ａ、１７１ｂ、１７１ｃ、１７１ｄで構成されており、基板１３０は基板の流れ１８１に沿って進行する。前半（ステージ部１７１ａ、１７１ｂ）で露光用光源（露光する光を照射する光源）１３１ａ、１３１ｂから照射する光（紫外線１２１）と後半（ステージ部１７１ｃ、１７１ｄ）で露光用光源１３１ｃ、１３１ｄから照射する紫外線１２１との傾き方向は異なるものである。光配向法においては、照射方向の異なる光を照射することにより、液晶に異なるチルトの付与が可能となる。なお、フォトマスク１１１の主面は露光に供される基板１３０の主面に対して平行となっており、該フォトマスク１１１が露光用光源からの照射光を透過することで半絵素幅毎の露光を行っている。【０００９】
このように、従来の露光装置は設置スペースが大きくなり、各ステージに複数のフォトマスク、高圧水銀ランプ等、高額な消耗品が設けられ、特に、フォトマスクについては通常機種毎に異なるものを用いるため、設備費用、ランニングコストの増大に繋がっている。すなわち、各露光ステージに複数の光源（露光用光源及び追従用光源）、フォトマスクが必要となる為、装置全体のランニングコストとしては膨大な額となってしまう。従来の露光装置及び液晶表示装置の製造方法においては、このように生産工程の効率化、生産スペースなどの点で大きな課題を有するものであった。【００１０】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、ランニングコストを削減したり、設備を縮小化したりすることができるフォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、配向膜露光プロセスに用いられるフォトマスク（露光マスク）、それを用いた露光装置及び液晶表示パネルの製造方法について種々検討したところ、従来のフォトマスクが透過部と遮光部とによって構成され、光源からフォトマスクに入射した光が透過部を通って基板上の配向膜に照射されることになる一方で、遮光部によって一部の入射光が遮光されるというフォトマスクの形態に着目した。そして、フォトマスクの遮光部に反射部として光反射膜層を形成することで、１回の光源からの光照射により２方向の光の照射を可能とし、これまで別々の方向から複数回光照射せざるを得なかった工程を１回の照射で済ますことができ、省略できることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到した。また、フォトマスクの基板に対する設置方向についても従来の基板主面に対して平行とは異なり、基板主面に対して略垂直（基板の法線方向）となるようにすれば、透過部からは光が透過され直接基板に照射される一方、残りの反射部で反射された光は、透過部と略半絵素分ずれた位置に前者と反対方向から照射されることになり、露光プロセス、特に配向分割における配向膜露光の目的を満足することを見いだし、本発明に到達したものである。【００１２】
すなわち、本発明は、基板面内の露光領域毎に配向膜を露光するのに用いられるフォトマスクであって、上記フォトマスクは、フォトマスクの主面に入射する光に対して透過と反射とを行うものであり、透過した光を露光領域の一方に向けて照射し、反射した光を露光領域の他方に向けて照射することを特徴とするフォトマスクである。【００１３】
従来のフォトマスクでは配向分割するために別々の方向から光照射しなければならず、その分だけ露光工程数が多くなっていたが、本発明のフォトマスクを用いると、露光プロセスにおいて露光用光源からの光の照射方向を２方向に分解することができ、上述したように、これまで基板面に対して異なる方向から光照射せざるを得なかった工程を省略することができる。その結果、露光ステージ数を削減し、これによって露光ステージにおけるランニングコストを大幅に削減したり、露光ステージ間の搬送ステージの削減による設備費用の縮小を実現したりすることが可能となる。【００１４】
本発明のフォトマスクは、フォトマスクの一部が透過部であり、他の一部が反射部によって構成されることになるが、通常では遮光部を有し、例えば、透過部と反射部の周囲やフォトマスクの端の部分に遮光部を有することになる。透過部は、１つのフォトマスク内に複数に分割して形成されることが好ましく、通常では、スリット状の複数の透過部が一定方向、一定間隔で配列された形態となっている。反射部は、配向膜に配向性を与え得るように光反射する部材で構成されていればよく、アルミ膜等の光反射率が高い金属膜等によって光反射層を構成することが好ましい。このようなフォトマスクの好ましい形態としては、図１に示されるように、スリット形状の複数の透過部が所定方向（一定方向）、所定間隔（一定間隔）で配列され、該複数の透過部間に透過部と略同一形状の複数の反射部が所定方向（一定方向）、所定間隔（一定間隔）で配列され、スリット状の透過部の短軸辺及び反射部の短軸辺が並んだ辺に沿ったフォトマスクの両端部が遮光部となっている形態が挙げられる。【００１５】
なお、本発明においては、フォトマスクの主面に入射する光に対して透過と反射とを行うことになる限り、上記のように透過部と反射部とを有し、透過と反射とをフォトマスク内の別々の領域で行う形態の他、光を透過すると同時に反射する部材でフォトマスクを構成し、透過と反射とをフォトマスク内の同じ領域で行う形態も挙げることができる。また、本発明のフォトマスクにおいて、一方向から入射した光は、通常では透過と反射とによって２方向に分解され、２方向に照射されることになり、このような形態が好ましいが、例えば、反射部の形状を一部変えることによって、更に多方向に照射されるようにしてもよい。光の入射についても、一方向から入射されるようにすることが好ましいが、多方向から入射されるようにしてもよい。【００１６】
本発明のフォトマスクの好ましい形態の一つとして、その主面が露光に供される基板面に対して略垂直となるように配置して用いるものである形態が挙げられる。このような使用形態により、光の照射方向が基板主面の法線に対して略対称になるように２方向に分解することができる。これによって、基板上を露光装置によってスキャンする場合、１回のスキャン動作で２方向の光の照射を可能とし、配向分割工程においては、半絵素毎に光の照射角度を反転させることが可能となる。配向分割における露光設備巨大化の原因となっている照射の向きを変えるという工程を一度に実施できるところがポイントであり、従来のフォトマスクでは実現できなかった顕著な効果を得ることができる。
なお、上記のように、フォトマスクの主面が露光に供される基板面に対して略垂直となるように配置すれば、２方向に分解されて照射される光の基板面に対する角度が同等となり、配向分割を配向方向だけを変えて均一に行うという点で好ましいが、本発明のフォトマスクにおいては、フォトマスクの主面を基板面に対して斜め方向にする等の形態とすることを妨げるものではない。【００１７】
本発明はまた、本発明のフォトマスク及び配向膜を露光する光を照射する光源を備える露光装置でもある。
上記露光装置の好ましい形態としては、小型フォトマスクを複数枚繋ぎ合わすスキャン露光方法を行う形態であり、通常では、基板全体を露光するために数回に分けて、露光前の配向膜が形成された基板上に向けて所定方向から紫外線等の光を照射することになる。本発明の露光装置は、１回の露光操作で実質的に２回の露光を行うことを可能とし、特に、１つの絵素内の配向膜を複数の配向方向に分割する配向分割露光プロセスにおいて、生産工程の効率化と生産スペースの縮小とを実現できるものである。【００１８】
本発明は更に、一対の基板、基板間に設けられた液晶層及び基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜を備える液晶表示パネルを製造するための方法であって、上記製造方法は、本発明の露光装置を用いて配向膜を露光する工程を含む液晶表示パネルの製造方法である。【００１９】
本発明はそして、一対の基板、基板間に設けられた液晶層及び基板の少なくとも一方の液晶層側の表面に設けられた配向膜を備える液晶表示パネルを製造するための方法であって、上記製造方法は、基板面内を２以上の露光領域に分割し、フォトマスクを透過した光によって露光領域の一方における配向膜を露光し、フォトマスクを反射した光によって露光領域の他方における配向膜を露光する露光工程を含む液晶表示パネルの製造方法でもある。これら本発明の液晶表示パネルの製造方法によって、上述したようにランニングコストが削減され、設備の縮小化を可能とする製造方法とすることができる。上記露光領域とは、例えば、１つの絵素が半絵素毎に区切られ、一方の半絵素が一定の配向方向となり、他方の半絵素が前記配向方向とは異なる一定の配向方向となる場合、一方の半絵素を１つの露光領域とし、他方の半絵素をもう１つの露光領域とすることになる。露光領域毎に配向膜の配向が異なり、これにより液晶表示パネルの視野角が改善されることとなる。上記液晶表示パネルの製造方法の好ましい形態としては、上記露光工程が基板主面の法線に対して斜め方向から光をフォトマスク主面に照射して透過と反射とを行う形態が挙げられる。
上述した本発明のフォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法のその他の構成は適宜設定すればよく、本発明の効果を阻害しない限り特に限定されるものではない。【００２０】
本発明のフォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法は、ランニングコストを削減したり設備を縮小化したりするだけでなく、場合に応じて、スキャン露光の回数が半減されるためマスク動作制御ミスによる不良発生のリスクを抑えることにも繋がる。また従来の露光装置では、フォトマスク面積の約半分を遮光しているため、光源からの多大なエネルギーが無駄になっていたが、本発明では光源からの光を実質的に全て利用することでエネルギーの効率的な利用が可能となる。なお、本発明は、ランニングコストを充分に削減するか、設備を縮小化するかのいずれかの効果を発揮するものであればよい。【００２１】
上述した各形態は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のフォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法によれば、ランニングコストを充分に削減したり、設備を縮小化したりすることができる。これによって、液晶表示パネルの生産工程を効率化し、その結果、工程数の削減が高品質化にも資することになる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施形態１に係るフォトマスクの平面模式図である。
【図２】実施形態１に係るフォトマスクの使用形態を示す断面模式図である。
【図３】実施形態１に係る露光装置を示す模式図である。
【図４】実施形態１に係る露光装置のＣＣＤカメラで観測したＴＦＴ基板の平面模式図である。
【図５】実施形態１に係る露光装置の露光プロセスを示す模式図である。
【図６】従来のフォトマスクの平面模式図である。
【図７】従来の露光装置の露光プロセスを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
実施形態において薄膜トランジスタ素子（ＴＦＴ）が配置される基板は、ＴＦＴ基板ともいう。
実施形態においてカラーフィルタ（ＣＦ）が配置される基板は、ＣＦ基板ともいう。
以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
【００２５】
実施形態１
図１は、実施形態１に係るフォトマスクの平面模式図である。
実施形態１に係るフォトマスク１１においては、透過部１５と透過部１５との間の部分（従来のフォトマスクにおける遮光部）に光反射部（反射部１７）が設けられ、透過部１５と反射部１７とが交互に設けられている。実施形態１においては、透過部１５の長さと反射部１７の長さ（図１に示した横の長さ）とは略同一であり、透過部１５の幅と反射部１７の幅（図１に示した縦の長さ）もまた略同一である。反射部１７には、例えば光反射率の高い膜を貼ることにより形成することができ、例えばアルミニウム膜等を貼ることが好適である。配向膜の配向分割において重要な項目の１つは、半絵素毎に光の照射角度を反転させることである。実施形態１のフォトマスク１１は、従来の遮光部に光反射の機能を付与することにより、配向分割のための露光プロセスにおける光源からの光の照射方向を２方向に分解する。これにより、配向膜の露光設備が巨大化する原因となっている照射の向きを変えるという工程を一度に実施することができる。なお、フォトマスク１１の縁には遮光部１３が設けられている。
【００２６】
図２は、実施形態１に係るフォトマスクの使用形態を示す断面模式図である。
上述したように加工したフォトマスク１１を基板３０の主面に対して略垂直となるように配置して用いることで、フォトマスク１１の主面に入射する紫外線２１に対して透過と反射とを行う。
【００２７】
図３は、実施形態１に係る露光装置を示す模式図である。
実施形態１に係る露光装置は、２つの露光ステージ部とその間の搬送ステージ部とから構成されており、図３はその一部を示す。各露光ステージ部に、複数のヘッドが設けられている。ヘッドの数は基板サイズによって異なるが、各ヘッドにそれぞれ露光用光源３１（露光ヘッド部）、フォトマスク１１及び追従用ＣＣＤ（ｃｈａｒｇｅ−ｃｏｕｐｌｅｄ  ｄｅｖｉｃｅ）カメラ４１等が設置される。フォトマスク１１は、その主面が露光に供される基板面に対して略垂直となるように配置されている。また実施形態１においては基板３０の背面（基板から見て露光用光源３１の反対側）に画像検出用光源６１（追従用光源ともいう。）が設けられ、画像検出用光源６１からの光が基板３０を通り、鏡を介してフォトマスク１１を通り、ＣＣＤカメラ４１に届く。フォトマスク微調整用のＣＣＤカメラ４１は、フォトマスクに垂直方向からであるとフォトマスクのスリットを覗くことができる点から、通常は、例えばこのように配置される。なお、ＣＣＤカメラ４１が基板３０のパターンエッジを捕捉でき、フォトマスク１１のエッジを認識できるものである限りこの形態以外の形態を適宜採用することができる。なお、ステージ部７１により基板３０が搬送される。
【００２８】
（配向膜露光装置の動作）
実施形態１に係る露光装置においては、露光用光源３１（紫外線２１の照射方向）及びフォトマスク１１が固定され、進行してくる基板３０に対してフォトマスク１１を追従させることで正確に紫外線を照射する。追従の動作は、基板３０の任意のパターン画像を予め設定しておき、フォトマスク１１に設けられている追従用パターンをＣＣＤカメラ４１で監視し、それら２つのパターンエッジの距離が常に一定となるようにフォトマスク１１を常時微調整するものである。
【００２９】
（基板−フォトマスク追従）
実施形態１に係る露光装置に設置されているＣＣＤカメラ４１によって基板３０のパターンエッジを捕捉し、同時にフォトマスク１１のエッジを認識し、両者の距離を一定に保持するようにフォトマスク１１を微調整することで露光位置精度を保つ。実施形態１においては、微調整は画像処理回路を含む制御部５１にて行う。そして、フォトマスク１１の微調整をしながら露光用光源３１により露光を行う。
【００３０】
図４は、実施形態１に係る露光装置のＣＣＤカメラで観測したＴＦＴ基板の平面模式図である。点線は、捕捉されたフォトマスクの追従用パターンエッジを示す。なお、ＣＦ基板であっても同様にしてフォトマスク１１を常時微調整しながら露光用光源により露光を行うことができる。ＴＦＴ基板又はＣＦ基板のいずれにおいても、該基板における直線又は略直線状の（直線に近い）パターンを追従パターンとして設定し、そのエッジを画像認識しながらそこにフォトマスク側のスリット（実際はマスクパターンとして画像に現れる）を追従させることになる。すなわち、基板面に何らかの直線又は略直線状のパターンがあれば追従露光が可能である。
【００３１】
図５は、実施形態１に係る露光装置の露光プロセスを示す模式図である。
図５に示されるように、透過した紫外線（透過光２３）を露光領域の一方に向けて照射し、反射した光（反射光２５）を露光領域の他方に向けて照射する。例えば、フォトマスク１１の透過部・反射部の長さ及び幅と光源からの紫外線の照射方向とを調整することにより、露光領域を適宜調整することができる。実施形態１においては、光源からの紫外線を通常の半絵素分の透過光と残りの半絵素分の反射光とに分解し、これらを同時に配向膜に照射することができる。なお、半絵素分の透過光が照射された露光領域に隣接する露光領域には、該半絵素分の透過光を透過したフォトマスク１１に隣接して設けられているフォトマスク１１からの反射光が照射され、これにより半絵素毎に透過光により露光された領域と反射光により露光された領域とが交互に配置されることになる。半絵素とは、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）又はＢ（青）等の、いずれかの単色を示す絵素の長さ方向又は幅方向で区切られた略半分の領域をいう。また、実施形態１においては、フォトマスク一つにより透過光が照射される領域と、反射光が半絵素ごとに照射される領域とは、略同一である。実施形態１においては、１回目の露光ステージ部７１ａにおいて、露光用光源３１ａからフォトマスク１１を介して透過光２３と反射光２５とが交互に照射されてストライプ状の部分が生じるが、該部分どうしの間に、次の露光ステージ部７１ｂで露光用光源３１ｂからフォトマスク１１を介して透過光２３と反射光２５とが照射される。また１回目の露光ステージで透過光２３と反射光２５とが照射されるストライプ状部分と次の露光ステージで透過光２３と反射光２５とが照射されるストライプ状部分とは、その形状・大きさが略同一である。なお、実施形態１では光配向に通常用いられる光である紫外線を用いているが、本発明の効果を発揮する限り、この他の波長領域の光を用いることが可能である。なお、実施形態１では、基板の流れ８１に沿って基板３０が搬送される。
【００３２】
実施形態１はフォトマスクの設置方向を基板主面に対して略垂直にし、フォトマスク自体には従来の遮光部にアルミニウム等の紫外線反射膜層を形成することで、１回のスキャン動作で２方向の紫外線照射を可能とするものである。フォトマスクを基板に対し垂直に設置することにより、透過部からは紫外線が透過され直接基板に照射される。一方、残りの反射部で反射された紫外線は、透過部とちょうど半絵素分ずれた位置に前者と反対方向から照射されることになり、配向膜の配向分割を行う液晶表示装置の製造方法における配向膜露光の目的を満足する。なお、略垂直とは、本実施形態の好適な効果が発揮されると言える程度に実質的に垂直であればよい。
【００３３】
以上の結果、設備の縮小化及びランニングコスト削減が図れるだけでなく、スキャン露光の回数が半減されるためマスク動作制御ミスによる不良発生のリスクを抑えることにも繋がる。また現行処理では、フォトマスク面積の約半分を遮光している為、光源からの多大なエネルギーが無駄になっていたが、実施形態１では実質的に全ての紫外線を利用することでエネルギーの効率的な利用が可能となる。
【００３４】
比較例１
実施例１に係るフォトマスクの代わりに従来のフォトマスク（図６に示したもの）を用いて図７に示したように４つの露光ステージ１７１ａ、１７１ｂ、１７１ｃ、１７１ｄにより露光工程を行った。
【００３５】
実施形態１及び比較例１におけるランニングコスト削減効果を下記表１に示す。表１中、露光用ランプは、配向膜露光用のランプを意味し、追従用ランプは、追従のための画像検出用ランプを意味する。「１０００Ｈ」及び「２０００Ｈ」の「Ｈ」は、ランプの平均寿命の単位（時間）を意味する。「枚／機種」は、露光装置一つ当たりに必要となるフォトマスクの枚数を意味する。「効果」の欄には、ランニングコストの削減割合を示す。
【００３６】
【表１】
2011111479.tif 000003
【００３７】
実施形態１及び比較例１における設備設置面積及び設備費用を下記表２に示す。下記表２中、「効果」は、「設備設置面積」及び「設備費用」の削減割合を意味する。
【００３８】
【表２】
2011111479.tif 000004
【００３９】
実施形態１の形態の導入効果として、従来と比較しフォトマスクを含むランニングコスト及び設備設置面積については約５０％の削減をすることができ、設備費用は約３３％の削減を見込むことができる。
【００４０】
上述した実施形態における各形態は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
【００４１】
なお、本願は、２０１０年３月１２日に出願された日本国特許出願２０１０−０５６５７８号を基礎として、パリ条約ないし移行する国における法規に基づく優先権を主張するものである。該出願の内容は、その全体が本願中に参照として組み込まれている。
【符号の説明】
【００４２】
１１、１１１：フォトマスク
１３、１１３：遮光部
１５、１１５：透過部
１７：反射部
２１、１２１：紫外線
２３：透過光
２５：反射光
３０、１３０：基板
３１、３１ａ、３１ｂ、１３１ａ、１３１ｂ、１３１ｃ、１３１ｄ、：露光用光源
４１：ＣＣＤカメラ
５１：制御部
６１：画像検出用光源
７１、７１ａ、７１ｂ、１７１ａ、１７１ｂ、１７１ｃ、１７１ｄ：ステージ部 
８１、１８１：基板の流れ
【図１】
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【図２】
2011111479.tif 000006
【図３】
2011111479.tif 000007
【図４】
2011111479.tif 000008
【図５】
2011111479.tif 000009
【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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2011111479.tif 000013
2011111479.tif 000014
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