(57)【要約】  本発明は、微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールド（２）を被転写材料（３）に押圧した後に前記モールド（２）を前記被転写材料（３）から剥離することで前記被転写材料（３）の表面に前記凹凸パターンを転写するパターン転写装置（１Ａ）であって、前記モールド（２）と前記被転写材料（３）とを互いに押圧する押圧機構（４Ａ）と、前記モールド（２）に離型剤を供給する離型剤供給機構（７）と、を備えることを特徴とする。このパターン転写装置（１Ａ）によれば、連続して使用するモールド（２）の再生処理が不要で、かつモールド（２）の離型性を良好に維持することができる。
2011089836.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを被転写材料に押圧した後に前記モールドを前記被転写材料から剥離することで前記被転写材料の表面に前記凹凸パターンを転写するパターン転写装置であって、
前記モールドと前記被転写材料とを互いに押圧する押圧機構と、
前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給機構と、
を備えることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項２】
微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを被転写材料に押圧した後に前記モールドを前記被転写材料から剥離することで前記被転写材料の表面に前記凹凸パターンを転写するパターン転写装置であって、
前記モールドと前記被転写材料とを互いに押圧するための押圧機構と、
前記モールドが前記押圧機構へ送り込まれるように、前記モールドを予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送するモールド搬送機構と、
前記被転写材料が前記押圧機構へ送り込まれるように、前記被転写材料を予め定められた被転写材料搬送経路に沿って搬送する被転写材料搬送機構と、
前記モールド搬送経路上で前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給機構と、
を備えることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項３】
請求の範囲第２項に記載のパターン転写装置において、
前記モールドに供給された離型剤を乾燥させる乾燥機構と、
前記モールド搬送経路上の前記モールドを清浄化する清浄化機構と、
前記モールドに前記離型剤が供給されて形成された離型層にリンス剤を供給するリンス剤供給機構と、
前記離型剤を前記モールドに定着させる光を前記離型剤に照射する光照射機構と、
前記モールドに前記離型剤が供給されて形成された前記離型層に接触して前記モールドを拭浄する拭浄機構と、
前記モールドと前記被転写材料との間に被転写材料保護材を供給する保護材供給機構と、
のうちの少なくとも一つの機構を更に備えることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項４】
請求の範囲第２項又は第３項に記載のパターン転写装置において、
ベルト状に形成された前記モールドが環状の前記モールド搬送経路に配置されてエンドレスに前記押圧機構へ送り込まれるように構成されていることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項５】
請求の範囲第２項又は請求項３に記載のパターン転写装置において、
前記押圧機構が、相互に重ね合わせられた前記モールドと前記被転写材料とを挟み込む少なくとも一対のロールを備えることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項６】
請求の範囲第２項又は請求項３に記載のパターン転写装置において、
前記モールドがニッケルを含む金属材料で構成されていることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項７】
請求の範囲第２項又は請求項３に記載のパターン転写装置において、
前記モールドがポリイミド樹脂又は光硬化性樹脂を含む樹脂材料で構成されていることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項８】
微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを第１の被転写材料に押圧した後に前記モールドを前記第１の被転写材料から剥離することで前記第１の被転写材料の表面に前記凹凸パターンを転写するパターン転写装置であって、
前記モールドと前記第１の被転写材料とを互いに押圧するための第１の押圧機構と、
前記モールドが前記第１の押圧機構へ送り込まれるように、前記モールドを予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送するモールド搬送機構と、
前記第１の被転写材料が前記第１の押圧機構へ送り込まれるように、前記第１の被転写材料を予め定められた第１の被転写材料搬送経路に沿って搬送する第１の被転写材料搬送機構と、
前記モールド搬送経路上で前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給機構と、
を備え、
更に、前記第１の押圧機構よりも前記モールド搬送経路の上流側に配置され、当該モールドと第２の被転写材料とを互いに押圧するための第２の押圧機構と、
前記第２の被転写材料が前記第２の押圧機構へ送り込まれるように前記第２の被転写材料を搬送する第２の被転写材料搬送機構と、
を備えることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項９】
請求の範囲第８項に記載のパターン転写装置において、
前記モールドに供給された離型剤を乾燥させる乾燥機構と、
前記モールド搬送経路上の前記モールドを清浄化する清浄化機構と、
前記モールドに前記離型剤が供給されて形成された離型層にリンス剤を供給するリンス剤供給機構と、
前記離型剤を前記モールドに定着させる光を前記離型剤に照射する光照射機構と、
前記モールドに前記離型剤が供給されて形成された前記離型層に接触して前記モールドを拭浄する拭浄機構と、
前記モールドと前記第１の被転写材料との間に第１の被転写材料保護材を供給する第１の保護材供給機構と、
前記モールドと前記第２の被転写材料との間に第２の被転写材料保護材を供給する第２の保護材供給機構と、
のうちの少なくとも一つの機構を更に備えることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項１０】
請求の範囲第８項又は第９項に記載のパターン転写装置において、
ベルト状に形成された前記モールドが環状の前記モールド搬送経路に配置されてエンドレスに前記第１押圧機構及び前記第２の押圧機構の両方に送り込まれるように構成されていることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項１１】
請求の範囲第８項又は第９項に記載のパターン転写装置において、
前記第１の押圧機構及び前記第２の押圧機構のそれぞれが、相互に重ね合わせられた前記モールドと、前記第１の被転写材料及び前記第２の被転写材料のそれぞれとを挟み込む、少なくとも一対のロールを備えることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項１２】
請求の範囲第８項又は第９項に記載のパターン転写装置において、
前記モールドがニッケルを含む金属材料で構成されていることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項１３】
請求の範囲第８項又は第９項に記載のパターン転写装置において、
前記モールドがポリイミド樹脂又は光硬化性樹脂を含む樹脂材料で構成されていることを特徴とするパターン転写装置。
【請求項１４】
微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程とを繰り返すことで、前記被転写材料に前記凹凸パターンを連続的に転写するパターン転写方法であって、
前記剥離工程と前記押圧転写工程との間に、前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給工程を有することを特徴とするパターン転写方法。
【請求項１５】
微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送すると共に、前記凹凸パターンを転写する被転写材料を予め定められた被転写材料搬送経路に沿って搬送する搬送工程と、
前記モールド及び前記被転写材料の搬送途中で、前記モールドを前記被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、
前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程と、
前記押圧転写工程前に前記モールド搬送経路上で前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給工程と、
を有するパターン転写方法であって、
前記押圧転写工程、前記剥離工程及び前記離型剤供給工程のそれぞれは、前記モールド搬送経路上の異なる位置で実施されることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項１６】
請求の範囲第１５項に記載のパターン転写方法において、
前記モールドに供給された離型剤を乾燥させる乾燥工程と、
前記モールド搬送経路上の前記モールドを清浄化する清浄化工程と、
前記モールドに前記離型剤が供給されて形成された離型層にリンス剤を供給するリンス剤供給工程と、
前記離型剤を前記モールドに定着させる光を前記離型剤に照射する光照射工程と、
前記モールドに前記離型剤が供給されて形成された前記離型層に接触して前記モールドを拭浄する拭浄工程と、
のうちの少なくとも一つの工程が、
前記押圧転写工程、前記剥離工程及び前記離型剤供給工程が実施される位置とは異なる前記モールド搬送経路上の位置で実施されることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項１７】
微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを環状のモールド搬送経路に沿ってエンドレスに搬送すると共に、前記凹凸パターンを転写する被転写材料を予め定められた被転写材料搬送経路に沿って搬送する搬送工程と、
前記モールド及び前記被転写材料の搬送途中で、前記モールドを前記被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、
前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程と、
を有し、エンドレスに搬送される前記モールドは、搬送される前記被転写材料に対して前記押圧転写工程と前記剥離工程とを繰り返して行うパターン転写方法であって、
更に、前記押圧転写工程前に前記モールド搬送経路上で前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給工程を有し、
前記押圧転写工程、前記剥離工程及び前記離型剤供給工程のそれぞれは、前記モールド搬送経路上の異なる位置で実施されることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項１８】
請求の範囲第１７項に記載のパターン転写方法において、
前記モールドに離型剤からなる離型層を定着させる定着工程を更に有すると共に、この定着工程が行われる際に、前記被転写材料と前記モールドとの間に被転写材料保護材を供給する保護材供給工程を有することを特徴とするパターン転写方法。
【請求項１９】
請求の範囲第１４項から第１８項のいずれか１項に記載のパターン転写方法において、
前記離型剤が分子末端に極性基を有するフッ素系離型剤であることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載のパターン転写方法において、
前記極性基が水酸基、エーテル基及びエステル基の少なくとも１種であることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２１】
請求の範囲第１４項から第１８項のいずれか１項に記載のパターン転写方法において、
前記モールドがニッケルを含む金属材料で構成されていることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２２】
請求の範囲第１４項から第１８項のいずれか１項に記載のパターン転写方法において、
前記モールドがポリイミド樹脂又は光硬化性樹脂を含む樹脂材料で構成されていることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２３】
請求の範囲第１８項に記載のパターン転写方法において、
前記被転写材料保護材のガラス転移温度が前記被転写材料のガラス転移温度よりも高いことを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２４】
微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、
前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程とを繰り返すことで、前記被転写材料に前記凹凸パターンを連続的に転写するパターン転写方法であって、
前記モールドには、予め第１の離型剤による第１の離型層が形成されていると共に、前記剥離工程と前記押圧転写工程との間に、前記第１の離型剤とは異種の第２の離型剤を前記第１の離型層上に供給する離型剤供給工程を有することを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２５】
微細な凹凸パターンを有し、予め第１の離型剤による第１の離型層が形成されているベルト状のモールドを予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送すると共に、前記凹凸パターンを転写する被転写材料を予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送する搬送工程と、
前記モールド及び前記被転写材料の搬送途中で、前記モールドを前記被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、
前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程と、
前記押圧転写工程前に前記モールド搬送経路上で前記モールドに前記第１の離型剤とは異種の第２の離型剤を前記第１の離型層上に供給する離型剤供給工程と、
を有するパターン転写方法であって、
前記押圧転写工程、前記剥離工程及び前記離型剤供給工程のそれぞれは、前記モールド搬送経路上の異なる位置で実施されることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２６】
請求の範囲第２５項に記載のパターン転写方法において、
前記モールドに供給された第２の離型剤を乾燥させる乾燥工程と、
前記第１の離型層の表面を清浄化する清浄化工程と、
前記モールドに前記第２の離型剤が供給されて形成された第２の離型層にリンス剤を供給するリンス剤供給工程と、
前記第２の離型剤を前記第１の離型層の表面に定着させる光を前記第２の離型剤に照射する光照射工程と、
のうちの少なくとも一つの工程が、
前記押圧転写工程、前記剥離工程及び前記離型剤供給工程が実施される位置とは異なる前記モールド搬送経路上の位置で実施されることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２７】
請求の範囲第２４項から第２６項のいずれか１項に記載のパターン転写方法において、
前記第１の離型剤の分子末端には前記モールドの表面の化学種と共有結合する官能基を有しており、かつ前記第２の離型剤の分子末端には極性基を有することを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２８】
請求の範囲第２４項から第２６項のいずれか１項に記載のパターン転写方法において、
前記モールドがニッケルを含む金属材料で構成されていることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項２９】
請求の範囲第２４項から第２６項のいずれか１項に記載のパターン転写方法において、
前記モールドがポリイミド樹脂又は光硬化性樹脂を含む樹脂材料で構成されていることを特徴とするパターン転写方法。
【請求項３０】
請求の範囲第２７項に記載のパターン転写方法において、
前記第１の離型剤の分子末端の前記官能基が前記モールドの表面の化学種とシランカップリング反応を生じさせる官能基であり、前記第２の離型剤の分子末端の前記極性基が水酸基、エーテル基及びエステル基の少なくとも１種であることを特徴とするパターン転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細な凹凸パターンをナノインプリント法で被転写材料に転写するパターン転写装置及びパターン転写方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイの反射防止フィルム、導光板等の光学部品、細胞培養シート等のバイオデバイス、太陽電池、発光装置等の電子デバイスにおいては、その性能の向上を図り、そして所望の機能を発現させるために、各種材料の表面に微細な凹凸パターンを形成した部材が使用されている。
従来、微細な凹凸パターンを形成する技術としては、ナノインプリント技術が知られている（例えば、特許文献１、特許文献２及び非特許文献１参照）。このナノインプリント技術とは、ナノメートルオーダの微細な凹凸パターンを有するモールドを、基板の表面に塗布した樹脂に型押しして転写する技術である。ちなみに、前記した特許文献１、特許文献２及び非特許文献１の転写技術は、樹脂に平板状のモールドをスタンプ式に押し付けるものである。【０００３】
また、ローラータイプのモールドを使用した転写技術も知られている（例えば、特許文献３及び非特許文献２参照）。この転写技術によれば、連続的に回転するモールドに被転写材料を連続して供給することができるので、平板状のモールドを使用したスタンプ式の転写技術（例えば、特許文献１、特許文献２及び非特許文献１参照）と比較して、転写工程を高速化することができる。【０００４】
ところで、前記した転写技術においては、予めモールドの表面に離型処理を施すことが知られている。例えば、特許文献４には、予め離型剤が施されたローラータイプのモールドを使用する転写技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第５２５９９２６号明細書
【特許文献２】米国特許第５７７２９０５号明細書
【特許文献３】特開２００６−３２６９４８号公報
【特許文献４】特開平６−１２７０７号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】S.Y.Chou et al.,Appl.Phys.Lett.、vol.67,p.3114(1995)
【非特許文献２】Hua Tan et al.,J.Vac.Sci.Technol.B16(6),p.3926(1998)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、予め離型剤が施されたモールドを使用する従来の転写技術（例えば、特許文献４参照）では、モールドが転写を繰り返すにつれて離型性が徐々に低下して転写不良を引き起こすと共に、モールドの目詰まりを生じる場合がある。したがって、従来の転写技術においては、モールドの離型性が低下した場合に、モールドを新しいものと交換していたが、ナノメートルオーダの凹凸パターンを有するモールドは高価であることから、パターン転写装置のランニングコストが高くなる問題があった。【０００８】
そこで、再び離型剤をモールドに施す再生処理を行うことも考えられるが、この再生処理を行う前に、予め加熱処理や薬剤処理によって、離型性が低下した離型剤や目詰まりをモールドから除去する必要がある。【０００９】
しかしながら、離型剤や目詰まりを除去するための加熱処理や薬剤処理は、モールドのナノメートルオーダの凹凸パターンに与える影響が大きい。更に詳しく説明すると、従来の転写技術（例えば、特許文献４参照）で使用される離型剤は、モールドの表面の化学種と共有結合させて離型剤の接合性を高めているので、この離型剤の加熱による分解除去、又は薬剤による溶解除去を行うと、モールド自体が変質し、変形し、又は欠損して微細な凹凸パターンを損傷する恐れがある。【００１０】
そこで、本発明の課題は、連続して使用するモールドの再生処理が不要で、かつモールドの離型性を良好に維持することができるパターン転写装置及びパターン転写方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決する本発明は、微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを被転写材料に押圧した後に前記モールドを前記被転写材料から剥離することで前記被転写材料の表面に前記凹凸パターンを転写するパターン転写装置であって、前記モールドと前記被転写材料とを互いに押圧する押圧機構と、前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給機構と、を備えることを特徴とする。【００１２】
また、前記課題を解決する本発明は、微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを被転写材料に押圧した後に前記モールドを前記被転写材料から剥離することで前記被転写材料の表面に前記凹凸パターンを転写するパターン転写装置であって、前記モールドと前記被転写材料とを互いに押圧するための押圧機構と、前記モールドが前記押圧機構へ送り込まれるように、前記モールドを予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送するモールド搬送機構と、前記被転写材料が前記押圧機構へ送り込まれるように、前記被転写材料を予め定められた被転写材料搬送経路に沿って搬送する被転写材料搬送機構と、前記モールド搬送経路上で前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給機構と、を備えることを特徴とする。【００１３】
また、前記課題を解決する本発明は、微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを第１の被転写材料に押圧した後に前記モールドを前記第１の被転写材料から剥離することで前記第１の被転写材料の表面に前記凹凸パターンを転写するパターン転写装置であって、前記モールドと前記第１の被転写材料とを互いに押圧するための第１の押圧機構と、前記モールドが前記第１の押圧機構へ送り込まれるように、前記モールドを予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送するモールド搬送機構と、前記第１の被転写材料が前記第１の押圧機構へ送り込まれるように、前記第１の被転写材料を予め定められた第１の被転写材料搬送経路に沿って搬送する第１の被転写材料搬送機構と、前記モールド搬送経路上で前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給機構と、を備え、更に、前記第１の押圧機構よりも前記モールド搬送経路の上流側に配置され、当該モールドと第２の被転写材料とを互いに押圧するための第２の押圧機構と、前記第２の被転写材料が前記第２の押圧機構へ送り込まれるように前記第２の被転写材料を搬送する第２の被転写材料搬送機構と、を備えることを特徴とする。【００１４】
また、前記課題を解決する本発明は、微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程とを繰り返すことで、前記被転写材料に前記凹凸パターンを連続的に転写するパターン転写方法であって、前記剥離工程と前記押圧転写工程との間に、前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給工程を有することを特徴とする。【００１５】
また、前記課題を解決する本発明は、微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送すると共に、前記凹凸パターンを転写する被転写材料を予め定められた被転写材料搬送経路に沿って搬送する搬送工程と、前記モールド及び前記被転写材料の搬送途中で、前記モールドを前記被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程と、前記押圧転写工程前に前記モールド搬送経路上で前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給工程と、を有するパターン転写方法であって、前記押圧転写工程、前記剥離工程及び前記離型剤供給工程のそれぞれは、前記モールド搬送経路上の異なる位置で実施されることを特徴とする。【００１６】
また、前記課題を解決する本発明は、微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを環状のモールド搬送経路に沿ってエンドレスに搬送すると共に、前記凹凸パターンを転写する被転写材料を予め定められた被転写材料搬送経路に沿って搬送する搬送工程と、前記モールド及び前記被転写材料の搬送途中で、前記モールドを前記被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程と、を有し、エンドレスに搬送される前記モールドは、搬送される前記被転写材料に対して前記押圧転写工程と前記剥離工程とを繰り返して行うパターン転写方法であって、更に、前記押圧転写工程前に前記モールド搬送経路上で前記モールドに離型剤を供給する離型剤供給工程を有し、前記押圧転写工程、前記剥離工程及び前記離型剤供給工程のそれぞれは、前記モールド搬送経路上の異なる位置で実施されることを特徴とする。【００１７】
また、前記課題を解決する本発明は、微細な凹凸パターンを有するベルト状のモールドを被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程とを繰り返すことで、前記被転写材料に前記凹凸パターンを連続的に転写するパターン転写方法であって、前記モールドには、予め第１の離型剤による第１の離型層が形成されていると共に、前記剥離工程と前記押圧転写工程との間に、前記第１の離型剤とは異種の第２の離型剤を前記第１の離型層上に供給する離型剤供給工程を有することを特徴とする。【００１８】
また、前記課題を解決する本発明は、微細な凹凸パターンを有し、予め第１の離型剤による第１の離型層が形成されているベルト状のモールドを予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送すると共に、前記凹凸パターンを転写する被転写材料を予め定められたモールド搬送経路に沿って搬送する搬送工程と、前記モールド及び前記被転写材料の搬送途中で、前記モールドを前記被転写材料に押圧して前記被転写材料に前記凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、前記被転写材料から前記モールドを剥離する剥離工程と、前記押圧転写工程前に前記モールド搬送経路上で前記モールドに前記第１の離型剤とは異種の第２の離型剤を前記第１の離型層上に供給する離型剤供給工程と、を有するパターン転写方法であって、前記押圧転写工程、前記剥離工程及び前記離型剤供給工程のそれぞれは、前記モールド搬送経路上の異なる位置で実施されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、連続して使用するモールドの再生処理が不要で、かつモールドの離型性を良好に維持することができるパターン転写装置及びパターン転写方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン転写装置を模式的に示す構成説明図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係るパターン転写装置を模式的に示す構成説明図である。
【図３】本発明の第３実施形態に係るパターン転写装置を模式的に示す構成説明図である。
【図４】本発明の第４実施形態に係るパターン転写装置を模式的に示す構成説明図である。
【図５】本発明の第５実施形態に係るパターン転写装置を模式的に示す構成説明図である。
【図６】（ａ）は、本発明の第６実施形態に係るパターン転写装置を模式的に示す構成説明図であり、（ｂ）は、本発明の第６実施形態に係るパターン転写装置の動作説明図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係るパターン転写装置における変形例を示す構成説明図である。
【図８】本発明の比較例として示すパターン転写装置の構成説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に、本発明の第１実施形態から第６実施形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
（第１実施形態）
構成説明図である図１に示すように、本実施形態に係るパターン転写装置１Ａは、モールド２を予め定められたモールド搬送経路１５に沿って搬送するモールド搬送機構１０と、被転写材料３を予め定められた被転写材料搬送経路１６に沿って搬送する被転写材料搬送機構１１と、モールド２と被転写材料３とを互いに押圧するための押圧機構４Ａと、モールド２に離型剤を供給する離型剤供給機構７と、を備えている。
【００２２】
本実施形態でのモールド２は、ベルト状に形成されると共に環状になってエンドレスベルト状のモールド２となっている。このモールド２は、被転写材料３と接する環状の外側となる面に、被転写材料３に転写する微細な凹凸パターン（図示省略）を有している。この凹凸パターンは、その凹部と凸部が繰り返して連続に形成されたパターンであり、凹部の深さ（又は凸部の高さ）、凹部の幅（又は凸部の幅）、凹部同士の間隔（又は凸部同士の間隔）がナノメートルオーダで形成されている。
ちなみに、その凹凸形状は、このパターン転写装置１Ａで得られる微細構造体の用途に応じて適宜に設定することができ、例えば、柱状、穴状、ラメラ状（襞状）等が挙げられる。なお、凹凸パターンは、モールド２の全周に亘って形成されていてもよいし、モールド２の一部に形成されていてもよい。
【００２３】
本実施形態でのモールド２の材質としては、可撓性を有すると共に、要求される強度と加工精度を実現できるものであれば特に制限はなく、例えば、各種金属、各種樹脂等が挙げられる。金属としては、ニッケルが望ましく、樹脂としては、ポリイミド樹脂及び光硬化性樹脂が望ましい。また、このようなモールド２は、前記した凹凸パターンが形成されるニッケル等の金属やポリイミド樹脂等の樹脂と、これを支持する、例えば、ステンレス、芳香族ポリアミド樹脂（例えばケブラー（登録商標）樹脂）等のベース部材が一体となった複合積層体とすることができる。
【００２４】
本実施形態でのモールド搬送機構１０は、環状のモールド２が掛け渡される複数のロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄと、これらのロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを予め定められた回転角度ごとに断続的に回転駆動するステッピングモータ等の駆動機構（図示省略）とで構成されている。本実施形態でのロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄは、環状のモールド２の内側と接するように配置されている。
【００２５】
前記した駆動機構は、各ロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを反時計周りに断続的に回転（左回転）させることでモールド２を断続的に左回転させて、後記する押圧機構４Ａへモールド２を、所定の長さごとに断続的に、かつエンドレスに送り込むようになっている。ロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄの駆動機構（図示省略）の回転角度は、例えば、押圧機構４Ａへ送り込まれるモールド２の長さが予め定められた長さとなるように設定されている。なお、図１中、符号Ｘを付した矢印はモールド２の搬送方向を示している。
【００２６】
４つのロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄのうち、後記する被転写材料搬送機構１１によって搬送される被転写材料３にモールド２を押し当てるように配置される２つのロール８ｂ，８ｃは、搬送されるモールド２の上流側のロール８ｂでモールド２を被転写材料３と接するように送り込み、下流側のロール８ｃでモールド２を被転写材料３から引き離すように機能している。なお、これらのロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄは、この４つに限定されるものではなく、前記したロール８ｂ，８ｃの機能を有するものを少なくとも有していれば、３つ又は５以上であってもよい。
【００２７】
本実施形態での被転写材料３は、モールド２と略同じ幅の長尺のベルト状に形成されたものであって、熱可塑性樹脂製のフィルム材で形成されている。この熱可塑性樹脂としては、このパターン転写装置１Ａで得られる微細構造体の用途に応じて適宜に選択することができ、中でもガラス転移温度Ｔｇが１００℃から１６０℃程度のものが望ましく、具体的には、例えば、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。この被転写材料３は、次に説明する被転写材料搬送機構１１の送出しリール９ａに巻回されて収納されている。なお、本実施形態での被転写材料３は、熱可塑性樹脂で形成された単一層からなるフィルム材を想定しているが、少なくとも一方の最外層が熱可塑性樹脂で形成された多層構成であってもよい。
【００２８】
本実施形態での被転写材料搬送機構１１は、前記した被転写材料３を巻回して収納する送出しリール９ａと、この送出しリール９ａから送り出された被転写材料３を巻き取る巻取りリール９ｂと、少なくとも被転写材料３を巻き取るように巻取りリール９ｂを予め定められた回転角度ごとに断続的に回転駆動するステッピングモータ等の駆動機構（図示省略）とを備えている。この駆動機構は、巻取りリール９ｂを予め定められた回転角度ごとに断続的に回転させることで、予め定められた所定の長さごとに断続的に被転写材料３を巻き取るように構成されている。言い換えれば、巻取りリール９ｂは、駆動機構によって、被転写材料３を予め定められた長さごとに送出しリール９ａから引き出して、後記する押圧機構４Ａへ送り込むようになっている。なお、図１中、符号Ｙを付した矢印は被転写材料３の搬送方向を示している。
【００２９】
本実施形態での巻取りリール９ｂの駆動機構は、前記したロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄの駆動機構と同期して、被転写材料３を押圧機構４Ａへ送り込むタイミングを、モールド２を押圧機構４Ａへ送り込むタイミングと一致させると共に、押圧機構４Ａへ送り込む被転写材料３の長さと、押圧機構４Ａへ送り込むモールド２の長さとを一致させている。
【００３０】
つまり、本実施形態に係るパターン転写装置１Ａは、モールド２と被転写材料３とを重ね合わせた状態で押圧機構４Ａに送り込むようになっている。なお、本実施形態では巻取りリール９ｂにのみ駆動機構を設けているが、巻取りリール９ｂの回転に同期して送出しリール９ａを回転させる駆動機構を備えていてもよい。
【００３１】
また、モールド２と被転写材料３とが密着している場合には、被転写材料搬送機構１１に前記駆動機構を設けていないとしても、モールド搬送機構１０を駆動させてモールド２を押圧機構４Ａへ送り込むことによって、モールド２と被転写材料３とを同時に搬送することも可能である。また、被転写材料搬送機構１１には、被転写材料３に弛みが生じないようにする張力調整機構（図示省略）を備えていてもよい。
【００３２】
本実施形態での押圧機構４Ａは、ロール８ｂとロール８ｃとの間で搬送されるモールド２と、この搬送区間のモールド２に重ね合わせられるように搬送される被転写材料３とを挟み込んで押圧するように構成されている。この押圧機構４Ａは、ロール８ｂとロール８ｃとの間の区間で、モールド２及び被転写材料３を挟み込むように対向して配置される上側押圧部材６ａ及び下側押圧部材６ｂと、上側押圧部材６ａ及び下側押圧部材６ｂを、モールド２及び被転写材料３に押し付け、又はこれらから離反するように移動させる駆動装置（図示省略）とを備えている。ちなみに、この駆動装置の押し付けと離反の動作は、モールド２及び被転写材料３の搬送が停止している際に行われる。
【００３３】
また、上側押圧部材６ａには、ヒータ（図示省略）が内蔵されている。このヒータは、被転写材料３に押し付けられたモールド２を介して被転写材料３を加熱することによって、被転写材料３（熱可塑性樹脂）をそのガラス転移温度Ｔｇ以上に昇温するものである。なお、本実施形態では、上側押圧部材６ａにのみヒータを配置することを想定しているが、下側押圧部材６ｂにのみヒータを配置する構成であってもよいし、両方の上側押圧部材６ａ及び下側押圧部材６ｂにヒータを配置する構成であってもよい。
【００３４】
本実施形態での離型剤供給機構７は、環状のモールド搬送経路１５に沿って搬送されるモールド２の外側、つまり、前記した凹凸パターンが形成されている側に離型剤を供給するものである。
【００３５】
本実施形態での離型剤供給機構７は、ロール８ｄからロール８ａに向かう区間のモールド搬送経路１５上で離型剤をモールド２に供給するように配置されているが、離型剤供給機構７の配置位置はこれに限定されるものではなく、ロール８ｃからロール８ｄに向かう区間、又はロール８ａからロール８ｂに向かう区間のモールド搬送経路１５上で離型剤を供給するように配置されていてもよい。ちなみに、本実施形態での離型剤供給機構７は、モールド２が加熱される押圧機構４Ａの位置よりも下流側に距離を取って配置することができるので、モールド２が充分に冷却されてから離型剤を付与することができる。その結果、例えば、沸点の低い溶媒を含む離型剤溶液を使用する場合には、その溶媒が瞬時に蒸発することが回避され、離型剤をモールド２に均一に広げて塗布することができる。また、本実施形態での離型剤供給機構７は、モールド搬送経路１５上で複数箇所に配置されていてもよい。
【００３６】
離型剤供給機構７としては、モールド２の凹凸パターンの表面に離型剤を付与して離型層を形成することができればいかなる構成であってもよく、例えば、離型剤にモールド２を浸漬し、又は離型剤をモールド２に塗布する構成が挙げられる。ちなみに、塗布する方式としては、例えば、スプレー式、インクジェット式、ディスペンサー式、ブラシ式等のいずれであってもよい。なお、常温で固体の離型剤については、適当な溶媒又は分散媒によって溶液又は分散液を調製して使用することができる。
【００３７】
次に、離型剤供給機構７から供給される離型剤について説明する。ここでの離型剤は、請求の範囲にいう「第２の離型剤」に相当する。ちなみに、請求の範囲にいう「第１の離型剤」は、後記するパターン形成方法で詳しく説明するように、予めモールド２に付与されている離型剤を意味し、ここでは離型剤供給機構７から供給される離型剤（第２の離型剤）と区別している。
【００３８】
離型剤供給機構７から供給される離型剤としては、モールド２の表面の化学種と共有結合しない、いわゆる非反応型離型剤が望ましく、具体的にはフッ素系離型剤が望ましい。中でも、分子末端に極性基を有するフッ素系離型剤が望ましく、特に、水酸基、エーテル基及びエステル基の少なくとも１種を分子末端に有するフッ素系離型剤が望ましい。
【００３９】
次に、本実施形態に係るパターン転写装置１Ａの動作について説明しながら、パターン転写方法について説明する。パターン転写装置１Ａでは、図１に示す被転写材料３がセットされていない状態で、モールド搬送機構１０によってモールド２を搬送させながら離型剤供給機構７で離型剤をモールド２に供給する。そして、ロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄに掛け渡されたモールド２の外側の全周に、つまり、モールド２の凹凸パターンの全体に亘って離型層を形成する。なお、ここでは離型層の形成を離型剤供給機構７から離型剤を供給することによって行う場合について説明したが、予め離型層を形成したモールド２をこのパターン転写装置１Ａに装着してもよい。また、この場合、予めモールド２に付与する離型剤は、離型剤供給機構７から供給することとなる離型剤と同種であってもよいし、異種であっても構わない。
【００４０】
次に、図１に示すように、送出しリール９ａから引き出した被転写材料３の端部を巻取りリール９ｂに取り付けて被転写材料搬送経路１６を設定した後に、モールド搬送機構１０、被転写材料搬送機構１１、押圧機構４Ａ及び離型剤供給機構７が動作するようにパターン転写装置１Ａを起動する。
【００４１】
そして、押圧機構４Ａの上側押圧部材６ａと下側押圧部材６ｂとが、モールド２及び被転写材料３を挟み込んで押圧する。この際、上側押圧部材６ａの前記したヒータによって、被転写材料３がガラス転移温度Ｔｇ以上となるように加熱され可塑化（又は半流動化）する。その結果、モールド２の凹凸パターンが被転写材料３に転写される。
【００４２】
次に、上側押圧部材６ａ及び下側押圧部材６ｂが、モールド２及び被転写材料３から離反すると、被転写材料３はその温度がガラス転移温度Ｔｇよりも低下して硬化する。  一方、上側押圧部材６ａ及び下側押圧部材６ｂが離反した状態で、モールド搬送機構１０及び被転写材料搬送機構１１が押圧機構４Ａの上流側に位置するモールド２及び被転写材料３を押圧機構４Ａに送り込む。そして、前記したと同様に、上側押圧部材６ａ及び下側押圧部材６ｂがモールド２及び被転写材料３を押圧して凹凸パターンを被転写材料３に転写する。
【００４３】
本実施形態に係るパターン転写装置１Ａにおいては、このようなモールド搬送機構１０及び被転写材料搬送機構１１によるモールド２及び被転写材料３の搬送工程と、押圧機構４Ａによる被転写材料３への凹凸パターンの押圧転写工程とが連続的に繰り返される。
【００４４】
そして、凹凸パターンが転写されてロール８ｃに到達した被転写材料３が巻取りリール９ｂに向かって搬送される一方で、モールド２はロール８ｃからロール８ｄに向かって搬送されるので、ロール８ｃの位置でモールド２は被転写材料３から剥離される。つまり、本実施形態でのロール８ｃは、剥離ロールとして機能している。
【００４５】
また、このパターン転写装置１Ａにおいては、ベルト状のモールド２を使用するので、押圧機構４Ａとロール８ｃとの間に所定の距離を確保することができる。そのことによって、凹凸パターンの転写時の熱が充分に冷却されて確実に硬化した被転写材料３からモールド２を剥離することができる。さらに、図示していないが、押圧機構４Ａとロール８ｃとの間にエアブローや冷却ロールなどの冷却機構を設ければ、生産性を向上させるために搬送速度を増加させる必要が生じても、モールド２及び被転写材料３を充分に冷却できるため、剥離を確実に行うことができる。以上のような工程は、請求の範囲にいう「剥離工程」に相当する。
【００４６】
このような剥離工程において、モールド２は、付与された離型剤によって被転写材料３に対する剥離性が向上しており、被転写材料３に転写した凹凸パターンの欠損を防止する。これによって、モールド２の凹凸パターンの目詰まりが防止される。
【００４７】
また、前記したように、離型剤として非反応型離型剤を使用した望ましいパターン転写方法では、モールド２の表面の化学種と離型剤とが共有結合せずに離型剤がモールド２の表面に堆積する。したがって、例えば、モールド２と共有結合する反応型離型剤を使用した場合と異なって、モールド２から離型剤が脱離し易くなっている。このことは、モールド２に対する離型剤の定着性が低下して、一見、不利のように見える。しかしながら、本発明者らの実験に基づく知見によると、反応型離型剤を使用した場合は、非反応型離型剤よりもモールド２に対する定着性に優れているものの、反応型離型剤の離型性の低下は離型層の全面で均一、且つ徐々に進行するのではなく、局所的でかつ突発的に生じることが判明している。
【００４８】
したがって、凹凸パターンの転写を繰り返すことで離型性が低下したモールド２を再生処理しようとすると、劣化した離型剤を除去してから新たな離型剤を付与する必要がある。そして、反応型離型剤を使用している場合には、本来、定着性が優れていることから、その除去が困難であり、しかも劣化した離型剤の除去を行うと、モールド２自体を損傷する恐れがあることは前記したところである。
【００４９】
また、劣化した離型剤の上から重ねて新たな離型剤を付与することは、モールド２の表面に形成する離型層の厚さを不均一に増大させるために、ナノメートルオーダで形成された凹凸パターンの精度を著しく低下することになる。
【００５０】
これに対して、非反応型離型剤は、モールド２と化学的に結合することなく堆積しており、被転写材料３からモールド２を剥離する際に、モールド２から脱離して被転写材料３に移行する。したがって、転写を繰り返すことで劣化した離型剤がモールド２に残る反応型離型剤と異なって、非反応型離型剤は、劣化してモールド２に残ることがない。
【００５１】
そして、本実施形態に係るパターン転写装置１Ａでは、凹凸パターンが転写され、モールド２が剥離された被転写材料３が、巻取りリール９ｂに巻き取られる一方で、非反応型離型剤が脱離したモールド２は、離型剤供給機構７に向かって搬送されることとなる。
【００５２】
次に、本実施形態に係るパターン転写装置１Ａは、離型剤供給機構７がモールド２に新たに離型剤を供給する。この工程は、請求の範囲にいう「離型剤供給工程」に相当する。
ちなみに、前記したように、分子末端に極性基を有するフッ素系離型剤、特に水酸基、エーテル基及びエステル基を有するフッ素系離型剤を使用した望ましいパターン転写方法では、モールド２の表面に対する離型剤の親和性を高めることができるので、より均一な厚さの離型層を形成することができる。
【００５３】
そして、離型剤供給機構７で離型剤が付与されたモールド２は、モールド搬送機構１０によって、再び押圧機構４Ａに送り込まれる。つまり、本実施形態に係るパターン転写装置１Ａを使用したパターン形成方法は、モールド２をモールド搬送経路１５に沿って搬送すると共に、被転写材料３を被転写材料搬送経路１６に沿って搬送する途中で、モールド２を被転写材料３に押圧して凹凸パターンを転写する押圧転写工程と、被転写材料３からモールド２を剥離する剥離工程と、モールド搬送経路１５上でモールド２に離型剤を供給する離型剤供給工程とが繰り返して行われることで、モールド２が被転写材料３に連続して凹凸パターンを転写していくこととなる。その結果、押圧転写工程、剥離工程及び離型剤供給工程のそれぞれは、モールド搬送経路１５上の異なる位置で実施され、剥離工程後、押圧転写工程前には、離型剤供給工程が実行されることとなる。
【００５４】
以上のようなパターン転写装置１Ａ及びこれを使用したパターン転写方法によれば、連続して使用するモールド２の再生処理が不要で、かつモールド２の離型性の低下を防止することができる。
【００５５】
また、前記したパターン形成方法においては、予めモールド２に付与しておく離型剤が反応型離型剤であり、離型剤供給機構７から供給する離型剤が前記した非反応型離型剤である構成とすることができる。
【００５６】
反応型離型剤としては、例えば、モールド２の表面に存在する水酸基とシランカップリング反応して共有結合を生じる官能基を分子末端に有するものが挙げられ、例えば、分子中に水酸基、アミノ基又はメルカプト基等の活性水素基を含有するものを用いることができる。
【００５７】
このようなパターン形成方法においては、予めモールド２に付与する反応型離型剤は、請求の範囲にいう「第１の離型剤」に相当し、この離型剤によってモールド２の表面に形成される離型層は、請求の範囲にいう「第１の離型層」に相当する。また、離型剤供給機構７から供給する非反応型離型剤は、前記したように、請求の範囲にいう「第２の離型剤」に相当し、この離型剤によって「第１の離型層」の表面に形成される離型層は、請求の範囲にいう「第２の離型層」に相当する。このようなパターン形成方法によれば、より確実にモールド２の離型性を良好に維持することができる。
【００５８】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施形態において、前記第１実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
【００５９】
構成説明図である図２に示すように、本実施形態に係るパターン転写装置１Ｂは、図１に示す上側押圧部材６ａ及び下側押圧部材６ｂに代えて、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂとで構成される押圧機構４Ｂを備える以外は、第１実施形態と同様に構成されている。ちなみに、ヒータは、上側ロール５ａ側に配置することを想定しているが、ヒータは、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂの少なくともいずれかに配置されていればよい。
【００６０】
このパターン転写装置１Ｂでは、反時計周りに回転（左回転）する上側ロール５ａと、時計回りに回転する（右回転）する下側ロール５ｂとの間に、重ね合わせられたモールド２及び被転写材料３が供給されて押圧されるようになっている。
【００６１】
このパターン転写装置１Ｂは、第１実施形態に係るパターン転写装置１Ａと同様の作用効果を奏することができると共に、次のような作用効果をも奏することができる。  このようなパターン転写装置１Ｂによれば、モールド２及び被転写材料３を連続して押圧機構４Ｂに送り込んで被転写材料３に凹凸パターンを形成することができる。  したがって、このパターン転写装置１Ｂは、スタンプ式の押圧機構４Ａを備える第１実施形態に係るパターン転写装置１Ａ（図１参照）と比較して、凹凸パターンの転写速度を高めることができる。
【００６２】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施形態において、前記第１実施形態及び第２実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
【００６３】
構成説明図である図３に示すように、本実施形態に係るパターン転写装置１Ｃは、ロール８ｄからロール８ａに向かうモールド搬送経路１５に沿って、上流側から下流側（ロール８ｄ側からロール８ａ側）に向かって、清浄化機構１７ａ、離型剤供給機構７、リンス機構１７ｂ、乾燥機構１７ｃ及び光照射機構１７ｄがこの順番に配置されている。パターン転写装置１Ｃは、このような清浄化機構１７ａ、リンス機構１７ｂ、乾燥機構１７ｃ及び光照射機構１７ｄを備える以外は、第２実施形態に係るパターン転写装置１Ｂと同様に構成されている。
【００６４】
清浄化機構１７ａは、モールド２の表面を清浄化するものであり、この清浄化機構１７ａとしては、例えば、モールド２に空気や窒素等の洗浄ガスや界面活性剤の水溶液等の洗浄液を噴射する構成、モールド２にＵＶオゾン表面処理を施す構成等を挙げることができる。
【００６５】
リンス機構１７ｂは、モールド２に付与した離型剤からなる離型層を単分子化膜にするためのリンス剤をモールド２に供給するものである。このリンス機構１７ｂとしては、例えば、離型剤溶液の調製に使用した溶媒をリンス剤として噴射する構成を挙げることができる。
【００６６】
乾燥機構１７ｃは、清浄化機構１７ａ、離型剤供給機構７及びリンス機構１７ｂで処理したモールド２の表面を乾燥するものであり、この乾燥機構１７ｃとしては、例えば、空気や窒素等の乾燥ガスを噴射する構成、赤外線を照射する構成等を挙げることができる。
【００６７】
光照射機構１７ｄは、モールド２上に供給した離型剤をモールド２に物理的に定着させるものであり、この光照射機構１７ｄとしては、例えば、紫外線（ＵＶ）を離型剤に照射する構成等を挙げることができる。
【００６８】
なお、パターン転写装置１Ｃは、これらの清浄化機構１７ａ、リンス機構１７ｂ、乾燥機構１７ｃ及び光照射機構１７ｄの全てを備えるものであってもよいし、これらのうち少なくとも一つを備えるものであってもよい。ちなみに、清浄化機構１７ａは、モールド搬送経路１５の押圧機構４Ｂの下流側であって、離型剤供給機構７の上流側に配置するのが望ましい。また、リンス機構１７ｂ、乾燥機構１７ｃ及び光照射機構１７ｄは、離型剤供給機構７の下流側であって、押圧機構４Ｂの上流側に配置するのが望ましい。
【００６９】
このようなパターン転写装置１Ｃは、第１実施形態に係るパターン転写装置１Ａ及び第２実施形態に係るパターン転写装置１Ｂと同様の作用効果を奏することができると共に、次のような作用効果をも奏することができる。
【００７０】
このようなパターン転写装置１Ｃによれば、清浄化機構１７ａ、リンス機構１７ｂ、乾燥機構１７ｃ及び光照射機構１７ｄを更に備えているので、これらを備えていないパターン転写装置よりも、より離型効果に優れ、しかも、より物理的な定着性に優れた離型層を形成することができる。
【００７１】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施形態において、前記第１実施形態ないし第３実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
【００７２】
構成説明図である図４に示すように、本実施形態に係るパターン転写装置１Ｆは、ロール８ｄからロール８ａに向かうモールド搬送経路１５に沿って、上流側から下流側（ロール８ｄ側からロール８ａ側）に向かって、離型剤供給機構７及び拭浄機構１７ｅがこの順番に配置されている。パターン転写装置１Ｆは、拭浄機構１７ｅを備える以外は、第２実施形態に係るパターン転写装置１Ｂと同様に構成されている。
【００７３】
拭浄機構１７ｅとしては、例えば、拭浄ロールがモールド２の表面に接触しつつモールド２の搬送に連動して（同期して）回転するものが挙げられる。この拭浄ロールとしては、離型剤供給機構７によってモールド２の表面に形成された前記離型層に接触してモールド２の表面を拭浄することができる構成であれば特に制限はない。このような拭浄ロールとしては、例えば、ロールの表面に繊維の織布、不織布を配置したもの等が挙げられる。ちなみに、前記繊維としては、例えば、植物繊維、動物繊維、合成繊維、ガラス繊維等が挙げられる。この拭浄機構１７ｅによれば、モールド２の表面に形成された前記離型層に接触することで、モールド２の表面における余剰の離型剤を拭う（拭浄する）ことができる。
なお、本発明におけるロール状の拭浄機構１７ｅとしては、これに限定されるものではなく、例えば、ブラシがモールド２の幅方向に直線的に並んで、搬送されるモールド２の表面に接触する構成とすることもできる。
【００７４】
このパターン転写装置１Ｆは、第２実施形態に係るパターン転写装置１Ｂと同様の作用効果を奏することができると共に、次のような作用効果をも奏することができる。
前記したように、本実施形態の離型剤供給機構７からモールド２に非反応型離型剤を塗布すると、非反応型離型剤はモールド２の表面に吸着して離型層を形成する。
このときモールド２のパターン面に対して過不足のない適切な量の非反応型離型剤を供給すれば、モールド２のパターン面全体を被覆するように離型層が形成される。しかしながら、非反応型離型剤の供給量が多過ぎると、モールド２のパターン面に吸着できなかった余剰の非反応型離型剤は、パターン面に吸着して形成された離型層の上に重なって残留する。
このような余剰の非反応型離型剤が残留したままパターン転写を行うと、被転写材料３のパターン転写面にはモールド２の表面に残留していた非反応型離型剤が過剰に付着してしまう。この過剰に付着した非反応型離型剤は、被転写材料３にパターン転写を行って得られた製品（デバイス）の性能に悪影響を与える恐れがある。
これに対して、パターン転写装置１Ｆによれば、拭浄機構１７ｅがモールド２の表面の離型層に接触することで、この離型層上に残留する余剰の非反応型離型剤を予め取り除くことができる。その結果、パターン転写装置１Ｆによれば、被転写材料３にパターン転写を行う際に、被転写材料３に対する非反応型離型剤の過剰な付着を防止することができ、製品（デバイス）の性能に悪影響を与える恐れが低減する。
【００７５】
（第５実施形態）
次に、本発明の第５実施形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施形態において、前記第１実施形態ないし第４実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
【００７６】
構成説明図である図５に示すように、本実施形態に係るパターン転写装置１Ｇは、ロール８ｄからロール８ａに向かうモールド搬送経路１５に沿って、上流側から下流側（ロール８ｄ側からロール８ａ側）に向かって、離型剤供給機構７と、被転写材料搬送機構３１及び押圧機構４Ｃとがこの順番に配置されている。パターン転写装置１Ｇは、被転写材料搬送機構３１及び押圧機構４Ｃを備える以外は、第２実施形態に係るパターン転写装置１Ｂと同様に構成されている。
【００７７】
このパターン転写装置１Ｇは、前記した第４実施形態における拭浄機構１７ｅに代えて、被転写材料搬送機構３１及び押圧機構４Ｃを設けた構成となっており、モールド２の表面に過剰に塗布された非反応型離型剤を取り除くことを目的としている。なお、本実施形態における被転写材料３は、請求の範囲にいう「第１の被転写材料」に相当し、押圧機構４Ｂは、請求の範囲にいう「第１の押圧機構」に相当し、被転写材料搬送機構１１は、請求の範囲にいう「第１の被転写材料搬送機構」に相当し、被転写材料３３は、請求の範囲にいう「第２の被転写材料」に相当し、押圧機構４Ｃは、請求の範囲にいう「第２の押圧機構」に相当し、被転写材料搬送機構３１は、請求の範囲にいう「第２の被転写材料搬送機構」に相当する。
【００７８】
本実施形態での被転写材料搬送機構３１は、被転写材料３３を巻回して収納する送出しリール３９ａと、この送出しリール３９ａから送り出された被転写材料３３を巻き取る巻取りリール３９ｂと、少なくとも被転写材料３３を巻き取るように巻取りリール３９ｂを予め定められた回転角度ごとに断続的に回転駆動するステッピングモータ等の駆動機構（図示省略）とを備えている。この駆動機構は、巻取りリール３９ｂを予め定められた回転角度ごとに断続的に回転させることで、予め定められた所定の長さごとに断続的に被転写材料３３を巻き取るように構成されている。言い換えれば、巻取りリール３９ｂは、駆動機構によって、被転写材料３３を予め定められた長さごとに送出しリール３９ａから引き出して、後記する押圧機構４Ｃへ送り込むようになっている。
【００７９】
本実施形態での巻取りリール３９ｂの駆動機構は、前記したロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄの駆動機構と同期して、被転写材料３３を押圧機構４Ｃへ送り込むタイミングを、モールド２を押圧機構４Ｃへ送り込むタイミングと一致させると共に、押圧機構４Ｃへ送り込む被転写材料３３の長さと、押圧機構４Ｃへ送り込むモールド２の長さとを一致させている。
つまり、本実施形態に係るパターン転写装置１Ｇは、モールド２と被転写材料３３とを重ね合わせた状態で押圧機構４Ｃに送り込むようになっている。なお、本実施形態では巻取りリール３９ｂにのみ駆動機構を設けているが、巻取りリール３９ｂの回転に同期して送出しリール３９ａを回転させる駆動機構を備えていてもよい。
【００８０】
また、モールド２と被転写材料３３とが密着している場合には、被転写材料搬送機構３１に駆動機構を設けていないとしても、モールド搬送機構１０を駆動させてモールド２を押圧機構４Ｃへ送り込むことによって、モールド２と被転写材料３３とを同時に搬送することも可能である。また、被転写材料搬送機構３１には、被転写材料３３に弛みが生じないようにする張力調整機構（図示省略）を備えていてもよい。
【００８１】
押圧機構４Ｃは、時計回りに回転する（右回転）する上側ロール３５ａと、反時計周りに回転（左回転）する下側ロール３５ｂとを備えている。この押圧機構４Ｃにおいては、上側ロール３５ａと下側ロール３５ｂとの間に、重ね合わせられたモールド２及び被転写材料３３が供給されて押圧されるようになっている。ちなみに、前記した上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂ（図２参照）と同様に、上側ロール３５ａ及び下側ロール３５ｂの少なくともいずれかにヒータ（図示省略）が配置されている。
【００８２】
このようなパターン転写装置１Ｇによれば、離型剤供給機構７で非反応型離型剤を塗布した後、製品（デバイス）となる被転写材料３にパターン転写を行う前の段階で、ダミーの被転写材料３３にパターン転写を行うことで、モールド２の表面における余剰の非反応型離型剤を被転写材料３３に付着させることができる。その結果、このパターン転写装置１Ｇによれば、モールド２で被転写材料３にパターン転写を行う際に、被転写材料３に対する非反応型離型剤の過剰な付着を防止することができ、製品（デバイス）の性能に悪影響を与える恐れが低減する。
【００８３】
（第６実施形態）
次に、本発明の第６実施形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施形態において、前記第１実施形態ないし第５実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
【００８４】
構成説明図である図６（ａ）に示すように、本実施形態に係るパターン転写装置１Ｈは、モールド２がロール８ｂから押圧機構４Ｂに搬送されるまでに、モールド２と被転写材料３との間に保護材４３を供給するための保護材供給機構４１を備えている。この保護材４３は、請求の範囲にいう「被転写材料保護材」に相当する。
このパターン転写装置１Ｈは、例えば、モールド２に対して格段に優れた離型性を付与する反面、モールド２に対する定着に比較的に時間を要する離型剤を離型剤供給機構７に使用する場合に特に好適に使用することができる。
【００８５】
保護材４３は、押圧機構４Ｂを構成する上側ロール５ａと下側ロール５ｂとの間で所定の加熱条件で押圧されるモールド２と被転写材料３との間に介在する。この保護材４３は、モールド２と被転写材料３との間に介在することによって、被転写材料３を後記するように保護することとなる。
【００８６】
この保護材４３としては、被転写材料３並びに上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂに対して付着性を示さず、被転写材料３にパターン転写を行う際の上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂの加熱温度に対して耐熱性を有するものであれば特に制限はない。このような保護材４３の具体例としては、例えば、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂの加熱温度よりも高いガラス転移温度Ｔｇを有する樹脂フィルムないしは樹脂シートが挙げられる。中でも、被転写材料３のガラス転移温度Ｔｇよりも高いガラス転移温度Ｔｇを有する保護材４３が望ましい。
【００８７】
保護材供給機構４１としては、例えば、テープ状ないしはベルト状に形成された保護材４３が巻回されて、この保護材４３をモールド２と被転写材料３との間に送り出すリール４９で構成することができる。また、保護材供給機構４１は、リール４９を所定の回転速度で回転させて保護材４３を所定の速度で送り出す図示しない駆動装置（例えば、電動機）を備えることができる。また、保護材供給機構４１は、後記する所定の長さで保護材４３を送り出した後にこれを切断する図示しない切断機構を備えることができる。
【００８８】
次に、本実施形態に係るパターン転写装置１Ｈの動作について説明する。
本実施形態に係るパターン転写装置１Ｈにおいては、前記したように、モールド２で被転写材料３にパターン転写を行いながら離型剤供給機構７でモールド２に離型剤を塗布する際に、この離型剤のモールド２に対する定着に比較的時間を要する場合がある。その一方で、被転写材料３にパターン転写を行う際にモールド２を所定の速度で搬送する必要があるが、モールド２及び被転写材料３の搬送速度が速い場合には、これらのモールド２及び被転写材料３は、離型層の定着が不充分なままで押圧機構４Ｂの位置に到達してしまう。その結果、充分な離型性を発現しないまま、モールド２は被転写材料３に対してパターン転写を行うこととなり、モールド２と被転写材料３とが付着して転写不良を引き起こす恐れがある。
【００８９】
そこで、モールド２に対する離型層の定着が完了するまでの間（定着工程が完了するまでの間）、押圧機構４Ｂを構成する上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂによる押圧を一旦端停止した後に、これらの上側ロール５ａと下側ロール５ｂとを相互に離間させてモールド２と被転写材料３とが接触しないようにしておき、離型層の定着が完了した後に再びパターン転写を行うことが考えられる。
【００９０】
ところで、前記したように、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂによる押圧を一旦端停止した後に、これらの上側ロール５ａと下側ロール５ｂとを相互に離間する過程においては、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂがモールド２及び被転写材料３に接触した状態でモールド２及び被転写材料３の搬送が中断する瞬間がある。そのため、上側ロール５ａと下側ロール５ｂとの間で停止した被転写材料３は、搬送されているときよりも高温となって破損（例えば、溶断）する恐れがある。また、上側ロール５ａと下側ロール５ｂとが離間する直前まで、モールド２は被転写材料３に対してパターン転写を行っているために、被転写材料３にはモールド２の前記した凹凸パターンが食い込んだ状態となっている。そのため、被転写材料３からモールド２を無理に引き離そうとすると、被転写材料３の変形を引き起こす恐れがある。このような被転写材料３の破損や変形は、被転写材料３にパターン転写を行って得られる製品（デバイス）の生産性を低下させることとなる。
【００９１】
これに対して、本実施形態に係るパターン転写装置１Ｈは、保護材供給機構４１が保護材４３を被転写材料３とモールド２との間に供給することによって被転写材料３を保護する。つまり、動作説明図である図６（ｂ）に示すように、パターン転写装置１Ｈは、離型剤供給機構７によって離型剤をモールド２の表面に供給した際に、保護材供給機構４１が保護材４３を被転写材料３とモールド２との間に供給する。
ちなみに、本実施形態での保護材供給機構４１から供給される保護材４３の長さは、押圧機構４Ｂ（上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂ）からロール８ｃまでの間の長さよりも長くなるように、望ましくはロール８ｂ，８ｃ間の長さよりも長くなるように設定されている。そして、本実施形態での保護材供給機構４１では、図６（ｂ）に示すように、所定の長さの保護材４３を送り出した後に、前記した切断機構（図示省略）が保護材４３を切断する。
【００９２】
保護材４３の前端部Ｚ１は、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂ同士の間を押圧されつつ搬送されるモールド２と被転写材料３との間に挿入されると共に、この前端部Ｚ１は、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂ同士の間を通過する。そして、前端部Ｚ１がロール８ｃを通過すると、保護材４３はモールド２と被転写材料３との接触面全体に介在することとなる。その結果、パターン転写装置１Ｈによれば、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂ同士を相互に離間させる際に、前記したように、上側ロール５ａと下側ロール５ｂとの間で被転写材料３が停止した場合、つまり被転写材料３が搬送中よりも高温に晒された場合であっても、モールド２と被転写材料３との間に保護材４３が介在するので、被転写材料３が破損や変形するのを防止しつつモールド２から被転写材料３を引き離すことができる。したがって、このパターン転写装置１Ｈによれば、被転写材料３の破損や変形を防止することができるので、前記した製品（デバイス）の生産性を良好に維持することができる。
【００９３】
そして、このパターン転写装置１Ｈにおいては、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂ同士を離間させてモールド２から被転写材料３を引き離して所定の時間の経過後、モールド２の表面に対する離型層の定着が充分に行われると、被転写材料３とモールド２との間から保護材４３が取り除かれて、再び、上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂ同士の間で押圧されつつ、モールド２及び被転写材料３が搬送されることで再びパターン転写が行われる。
ちなみに、被転写材料３とモールド２との間から保護材４３を取り除く方法としては、例えば、保護材４３の前端部Ｚ１を巻取りリール等の回収機構（図示省略）で回収する方法が挙げられる。そして、この方法では、保護材４３の後端部Ｚ２がロール８ｃを通過することで、保護材４３が被転写材料３とモールド２との間から取り除かれることとなる。
そして、パターン転写装置１Ｈにおいては、離型剤供給機構７が離型剤をモールド２の表面に供給するたびにこのような動作が繰り返される。
【００９４】
また、パターン転写を再開する際においては、押圧機構４Ｂ（上側ロール５ａ及び下側ロール５ｂ）が所定のパターン転写条件（パターン転写時の加熱温度及び押圧力）を満足している必要があるが、前記したように、被転写材料３の搬送が停止していると、搬送されているときよりも被転写材料３が高温となって破損（例えば、溶断）する恐れがあるので、被転写材料３の搬送速度も所定の速度に達している必要がある。
これに対して、このパターン転写装置１Ｈにおいては、押圧機構４Ｂが所定のパターン転写条件を満たした後、被転写材料３の搬送を開始してその搬送速度が所定の速度に到達するまで、保護材供給機構４１によって被転写材料３とモールド２の間に保護材４３を供給して介在させておくことができる。その結果、パターン転写装置１Ｈによれば、パターン転写を再開する際においても、被転写材料３の破損や変形を防止することができる。
ちなみに、被転写材料３とモールド２の間に保護材４３を介在させる時間は、設定されたパターン転写条件及び被転写材料３の搬送速度に応じて適宜に設定することができる。この際、この時間の調節は、図６（ｂ）に示す保護材４３の長さ（前端部Ｚ１と後端部Ｚ２との間の距離）を加減することで行うことができる。
【００９５】
以上、本発明の第１実施形態ないし第６実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されず、種々の形態で実施することができる。なお、以下の他の実施形態において、前記第１実施形態ないし第６実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
前記第２実施形態では、図２に示すように、被転写材料３の片面に凹凸パターンを転写することを想定して構成しているが、本発明は被転写材料３の両面に凹凸パターンを転写する構成としてもよい。次に参照する図７は、本発明の第２実施形態に係るパターン転写装置における変形例を示す構成説明図である。
【００９６】
図７に示すように、このパターン転写装置１Ｄは、被転写材料３の下側に配置されるロール１８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄと、モールド２２と、離型剤供給機構２７とが、被転写材料３の上側に配置されるロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ、モールド２及び離型剤供給機構７に対して、被転写材料搬送経路１６を対称軸として線対称となるように配置されている。なお、図７中、符号Ｘ１を付した矢印はモールド２の搬送方向を示し、符号Ｘ２を付した矢印はモールド２２の搬送方向を示している。
【００９７】
このようなパターン転写装置１Ｄによれば、ロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄによって押圧機構４Ｂに供給されるモールド２によって被転写材料３の上面に凹凸パターンが転写され、ロール１８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄによって押圧機構４Ｂに供給されるモールド２２によって被転写材料３の下面に凹凸パターンが転写される。
【００９８】
なお、前記第１実施形態に係るパターン転写装置１Ａ（図１参照）、第３実施形態に係るパターン転写装置１Ｃ（図３参照）、第４実施形態に係るパターン転写装置１Ｆ（図４参照）、第５実施形態に係るパターン転写装置１Ｇ（図５参照）及び第６実施形態に係るパターン転写装置１Ｈ（図６（ａ）参照）においても、被転写材料３の上側に配置されるロール８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ、モールド２及び離型剤供給機構７に対して、被転写材料搬送経路１６を対称軸として線対称となるように、被転写材料３の下側に配置されるロール１８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄと、モールド２２と、離型剤供給機構２７とを配置することができる。
【００９９】
また、パターン転写装置１Ｄは、上下のモールド搬送経路１５，１５のそれぞれに、清浄化機構１７ａ、リンス機構１７ｂ、乾燥機構１７ｃ及び光照射機構１７ｄ（図３参照）の少なくとも１つを備えるものであってもよい。
【０１００】
また、パターン転写装置１Ｄは、上下のモールド搬送経路１５，１５のそれぞれに、拭浄機構１７ｅ（図４参照）を備えるものであってもよい。
【０１０１】
また、パターン転写装置１Ｄは、上下のモールド搬送経路１５，１５のそれぞれに、押圧機構４Ｃ（図５参照）及び被転写材料搬送機構３１（図５参照）を備えるものであってもよい。
【０１０２】
また、パターン転写装置１Ｄは、上下のモールド搬送経路１５，１５のそれぞれに、保護材供給機構４１（図６（ａ）参照）を備えるものであってもよい。
【０１０３】
また、前記第１実施形態ないし第６実施形態で説明したパターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈでは、パターン転写装置１Ｃにのみ清浄化機構１７ａ、離型剤供給機構７、リンス機構１７ｂ、乾燥機構１７ｃ、光照射機構１７ｄ（図３参照）等を有する構成を示したが、パターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈにおいても、清浄化機構１７ａ、離型剤供給機構７、リンス機構１７ｂ、乾燥機構１７ｃ及び光照射機構１７ｄのうちの少なくとも１つを有する構成とすることができる。
【０１０４】
また、前記第１実施形態ないし第６実施形態で説明したパターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈでは、パターン転写装置１Ｆにのみ拭浄機構１７ｅ（図４参照）を有する構成を示したが、パターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｇ，１Ｈにおいても、拭浄機構１７ｅを有する構成とすることができる。
【０１０５】
また、前記第１実施形態ないし第６実施形態で説明したパターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈでは、パターン転写装置１Ｇにのみ押圧機構４Ｃ（図５参照）及び被転写材料搬送機構３１（図５参照）を有する構成を示したが、パターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｆ，１Ｈにおいても、押圧機構４Ｃ（図５参照）及び被転写材料搬送機構３１（図５参照）を有する構成とすることができる。
【０１０６】
また、前記第１実施形態ないし第６実施形態で説明したパターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈでは、パターン転写装置１Ｈにのみ保護材供給機構４１（図６（ａ）参照）を有する構成を示したが、パターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｆにおいても、モールド２と被転写材料３との間に保護材４３を供給する保護材供給機構４１を有する構成とすることができる。また、パターン転写装置１Ｇにおいては、モールド２と被転写材料３（第１の被転写材料）との間に保護材４３を供給する保護材供給機構４１（第１の保護材供給機構）を備えることができる。また、パターン転写装置１Ｇは、モールド２と被転写材料３３（第２の被転写材料）との間に保護材４３と同様の保護材を供給する保護材供給機構（第２の保護材供給機構）を備えるように構成することができる。このパターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈによれば、被転写材料３，３３の破損や変形を防止することができる。
【０１０７】
また、前記パターン転写装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈでは、エンドレスベルト状のモールド２，２２を使用しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、長尺のベルト状のモールド２を使用するものであってもよい。このようなパターン転写装置のモールド搬送機構としては、図示しないが、例えば、長尺のベルト状のモールド２の一端側を巻回してこれを送り出す送出しリールと、その他端側を巻き取る巻取りリールとで構成することができる。更にモールドの別な形態として、図示しないが、断続的に分割された複数のモールドを相互に接続した、いわゆる無限軌道状の形態であっても同様の効果が得られることは明らかである。
【実施例】
【０１０８】
（実施例１）
本実施例においては、図１に示すパターン転写装置１Ａを使用して、モールド２の凹凸パターンを被転写材料３に転写した。モールド２としては、厚さ１００μｍ、幅２００ｍｍ及び周長２ｍの環状ステンレス製ベルトの外側の面に、凹凸パターンが形成された厚さ１００μｍ、幅１００ｍｍ及び長さ１００ｍｍの切片を接着剤で貼り合わせたものを使用した。そして、予め非反応型離型剤であるフッ素系離型剤を凹凸パターンに付与したものをパターン転写装置１Ａに装着した。ちなみに、凹凸パターンの凹凸形状は、複数の穴が平面視で正三角形の頂点の位置に配置されてヘキサゴナルに並ぶものが使用され、穴の直径は５００ｎｍであり、深さは４００ｎｍであり、穴のピッチは１０００ｎｍであった。【０１０９】
被転写材料３としては、厚さ４００μｍ、幅１５０ｍｍの長尺のポリスチレンフィルムを準備した。離型剤供給機構７からは、非反応型離型剤であるフッ素系離型剤がモールド２の凹凸パターン（切片）に付与された。モールド２によって被転写材料３に転写された凹凸パターンは、モールド２の凹凸パターンが反転した柱状のものであり、柱の幅は５００ｎｍであり、高さは４００ｎｍであり、柱のピッチは１０００ｎｍであった。【０１１０】
次に、被転写材料３に転写された凹凸パターンのパターン欠損率を算出した。このパターン欠損率は、転写された凹凸パターン１ｍｍ２当りに存する、欠損している柱部分の数の割合（％）で定義している。算出した本実施例１でのパターン欠損率は、４×１０-4 ％であった。【０１１１】
また、パターン転写装置１Ａを使用して、離型剤供給機構７から前記した非反応型離型剤をモールド２に付与しつつ、このモールド２による凹凸パターンの転写を５０回繰り返して行った。そして、５０回目に被転写材料３に転写された凹凸パターンのパターン欠損率を算出した。その結果、パターン欠損率は、０．０２％程度であった。【０１１２】
（比較例１）
本比較例においては、図１に示すパターン転写装置１Ａから離型剤供給機構７のみを撤去したものを使用した以外は、実施例１と同様に、予め非反応型離型剤であるフッ素系離型剤を付与したモールド２を装着したものを使用した。そして、５０回繰り返してモールド２の凹凸パターンを被転写材料３に転写した。５０回目に被転写材料３に転写された凹凸パターンのパターン欠損率を算出した。その結果、パターン欠損率は、０．２４％であった。【０１１３】
（実施例２）
本実施例においては、予め非反応型離型剤を付与したモールド２に代えて、予め反応型離型剤（シランカップリング剤）を付与したモールド２を装着した以外は、実施例１と同様のパターン転写装置１Ａ（図１参照）を使用した。そして、このパターン転写装置１Ａを使用して、離型剤供給機構７から実施例１と同様の非反応型離型剤をモールド２に付与しつつ、このモールド２による凹凸パターンの転写を２０００回繰り返して行った。２０００回目に被転写材料３に転写された凹凸パターンについて、そのパターン欠損率を算出した。その結果、パターン欠損率は、０．４７％であった。【０１１４】
（比較例２）
本比較例においては、離型剤供給機構７から非反応型離型剤をモールド２に付与しなかった以外は、実施例２と同様に、予め反応型離型剤（シランカップリング剤）を付与したモールド２による凹凸パターンの転写を２０００回繰り返して行った。２０００回目に被転写材料３に転写された凹凸パターンについて、そのパターン欠損率を算出した。その結果、パターン欠損率は、１．５８％であった。【０１１５】
（パターン欠損率の評価結果）
凹凸パターンの転写ごとに離型剤をモールド２に付与しない比較例１では、５０回目に被転写材料３に転写された凹凸パターンのパターン欠損率が０．２４％であるのに対して、凹凸パターンの転写ごとに離型剤をモールド２に付与した実施例１では、５０回目に被転写材料３に転写された凹凸パターンのパターン欠損率が０．０２％と極めて低くなった。つまり、実施例１のパターン転写装置１Ａ及びパターン転写方法によれば、パターン転写を繰り返しても離型性を良好に維持することが可能で、モールドの再生処理を行わずにパターン転写を連続的に実行できることが確認された。【０１１６】
また、予め反応型離型剤を付与したモールド２を使用したとしても、凹凸パターンの転写を２０００回繰り返すと、比較例２に示すように、パターン欠損率は１．５８％にも達した。これに対して、凹凸パターンの転写ごとに非反応型離型剤をモールド２に付与した実施例２では、凹凸パターンの転写を２０００回繰り返しても、パターン欠損率が０．４７％と極めて低くなった。つまり、実施例２のパターン転写装置１Ａ及びパターン転写方法によれば、第１の離型層（反応型離型剤からなる離型層）の上に第２の離型層（非反応型離型剤からなる離型層）を凹凸パターンの転写ごとに逐次に再形成することができるので、離型性を良好に維持できることが確認された。【０１１７】
（比較例３）
本比較例においては、次の図８に示すパターン転写装置１Ｅを使用して、モールド２の凹凸パターンを被転写材料３に転写した。図８は、比較例として示すパターン転写装置の構成説明図である。この比較例３に係るパターン転写装置１Ｅは、図８に示すように、ヒータ内蔵の上側ロール５ａの周面にモールド２が配置されており、押圧機構４Ｂがモールド２を兼ねている。そして、離型剤供給機構７がモールド２の凹凸パターンに離型剤を供給可能なように配置されている。【０１１８】
このようなパターン転写装置１Ｅによれば、上側ロール５ａと下側ロール５ｂとの間で、前記した押圧転写工程が行われる。この際、上側ロール５ａは図示しないヒータで加熱されており、この上側ロール５ａによって被転写材料が加熱されることとなる。そして、上側ロール５ａと下側ロール５ｂとの間を被転写材料３が通過することで、前記した剥離工程が行われ、回転する上側ロール５ａに離型剤供給機構７が離型剤を供給することで、前記した離型剤供給工程が行われる。【０１１９】
このようなパターン転写装置１Ｅで、離型剤供給工程を行いつつ押圧転写工程を行ったところ、離型剤供給機構７からモールド２の表面に供給された離型剤は、モールド２の熱によって瞬時に蒸発して離型剤を被転写材料３とモールド２との接触面に到達させることができなかった。また、剥離工程においては、上側ロール５ａで加熱された被転写材料３が充分に冷却される前に上側ロール５ａのモールド２から剥離されたために、被転写材料３に対する転写不良が確認された。
【符号の説明】
【０１２０】
１Ａ    パターン転写装置
１Ｂ    パターン転写装置
１Ｃ    パターン転写装置
１Ｄ    パターン転写装置
１Ｅ    パターン転写装置
１Ｆ    パターン転写装置
１Ｇ    パターン転写装置
１Ｈ    パターン転写装置
２      モールド
３      被転写材料
４Ａ    押圧機構
４Ｂ    押圧機構
４Ｃ    押圧機構
５ａ    上側ロール
５ｂ    下側ロール
６ａ    上側押圧部材
６ｂ    下側押圧部材
７      離型剤供給機構
８ａ    ロール
８ｂ    ロール
８ｃ    ロール
８ｄ    ロール
９ａ    リール
９ｂ    リール
１０    モールド搬送機構
１１    被転写材料搬送機構
１５    モールド搬送経路
１６    被転写材料搬送経路
１７ａ  清浄化機構
１７ｂ  リンス機構（リンス剤供給機構）
１７ｃ  乾燥機構
１７ｄ  光照射機構
１７ｅ  拭浄機構
１８ａ  ロール
１８ｂ  ロール
１８ｃ  ロール
１８ｄ  ロール
２２    モールド
２７    離型剤供給機構
３１    被転写材料搬送機構
３３    被転写材料
３５ａ  上側ロール
３５ｂ  下側ロール
３９ａ  リール
３９ｂ  リール
４１    保護材供給機構
４３    保護材（被転写材料保護材）
４９    リール
【図１】
2011089836.tif 000003
【図２】
2011089836.tif 000004
【図３】
2011089836.tif 000005
【図４】
2011089836.tif 000006
【図５】
2011089836.tif 000007
【図６】
2011089836.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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