(57)【要約】従来の物理特性や光学特性を保持しつつ、画像表示装置の最表面材料として、耐紫外線性や耐酸化性等の耐光性を安定的に保持し、帯電防止性に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に画像コントラストが高い光学積層体を提供する。光透過性基材及び前記光透過性基材の一方の面に樹脂層を有する光学積層体であって、上記樹脂層は、バインダー樹脂、ポリチオフェン類、導電補助剤及びレベリング剤を含有することを特徴とする光学積層体。
2011142433.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材及び前記光透過性基材の一方の面に樹脂層を有する光学積層体であって、
前記樹脂層は、バインダー樹脂、ポリチオフェン類、導電補助剤及びレベリング剤を含有する
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
ポリチオフェン類の含有量が、バインダー樹脂１００質量部に対して０．１〜１．０質量部である請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
ポリチオフェン類は、アニオン性化合物との錯体である請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項４】
導電補助剤は、鎖状金属酸化物粒子、カーボンナノチューブ及び導電性微粒子からなる群より選択される少なくとも一種である請求項１、２又は３記載の光学積層体。
【請求項５】
導電補助剤は、鎖状金属酸化物粒子及び／又は導電性微粒子であり、前記導電補助剤の含有量が、バインダー樹脂１００質量部に対して、０．５〜５．０質量部である請求項４記載の光学積層体。
【請求項６】
導電補助剤は、カーボンナノチューブであり、前記導電補助剤の含有量が、バインダー樹脂１００質量部に対して、０．００１〜０．１３質量部である請求項４記載の光学積層体。
【請求項７】
樹脂層の初期表面抵抗値及び耐光性試験後の表面抵抗値が１×１０１２Ω／□未満である請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体。
【請求項８】
樹脂層は、更にプロトン性官能基を有する添加剤を含む請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体。
【請求項９】
プロトン性官能基を有する添加剤は、エポキシアクリレートである請求項８記載の光学積層体。
【請求項１０】
樹脂層は、防眩性機能を有する請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の光学積層体。
【請求項１１】
樹脂層は、光透過性基材と反対側界面から１００ｎｍまでに導電補助剤が存在していない領域が形成されている請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の光学積層体。
【請求項１２】
光透過性基材上に下地凹凸層を更に有し、前記下地凹凸層上に樹脂層を有する請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０又は１１記載の光学積層体。
【請求項１３】
光透過性基材、及び、前記光透過性基材の一方の面に樹脂層を有する光学積層体の製造方法であって、
バインダー樹脂、ポリチオフェン類、導電補助剤、レベリング剤及び溶剤を含有する樹脂層用組成物を用いて樹脂層を形成する工程を有する
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
【請求項１４】
偏光素子を有する偏光板であって、
前記偏光板は、前記偏光素子の表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１又は１２記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１５】
最表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１若しくは１２記載の光学積層体、又は、請求項１４記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、光学積層体の製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置の最表面には、防眩性、反射防止性や帯電防止性等の種々の性能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。【０００３】
このような光学積層体は、通常、画像表示装置の最表面に設置されるものであるため、耐光性、すなわち、耐紫外線性、耐酸化性といった性能が要求される。
また、従来、光学積層体において、帯電による埃等の付着による汚れや、使用時又はディスプレイ製造工程における障害の発生を防ぐために、導電性材料である帯電防止剤を含む樹脂層を設けることが行われている。【０００４】
上記光学積層体に使用される帯電防止剤としては、アンチモンドープした酸化錫（ＡＴＯ）やスズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物系やカーボン系等の導電性微粒子等の無機系材料（特許文献１、２）が知られている。しかしながら、金属酸化物等の無機系材料は、添加量が多いと光学積層体の光透過率が低下したり、画像表示装置に設置した場合の画面のコントラストが低下するといった問題があった。【０００５】
上記帯電防止剤としてはまた、導電性ポリマーや４級アンモニウム塩系導電材等の有機系材料のものも知られている（特許文献２）。
特許文献３には、分子内にアニオン基及び／又は電子吸引性基を有する可溶化高分子成分と導電性高分子成分とを含む可溶性導電性高分子成分と、ハードコート成分とを含有することを特徴とする帯電防止性樹脂組成物が開示されている。
特許文献４には、分子内の側鎖の末端に不飽和二重結合を有する可溶化高分子成分及び導電性高分子成分を含む可溶性導電性高分子成分と、光硬化性モノマー及び／又は有機溶媒とを含有することを特徴とする導電性高分子溶液が開示されている。
特許文献５又は６には、導電性高分子、ドーパント、並びに、ラジカル重合性基を有するアミド系化合物又はアミン類及びノニオン性界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する分散剤を含有し、水の含有量が２０重量％以下である導電性高分子／ドーパント錯体有機溶媒分散体が開示されている。【０００６】
しかしながら、これらの有機導電性材料や帯電防止性樹脂組成物を光学積層体の製造に使用した場合、所望の帯電防止性能を有する光学積層体を得ることはできても、従来の物理特性（ハードコート性等）や光学特性（光透過性、防眩性等）を保持したままで、更に、画像のコントラストが充分に高いものは得られていなかった。
近年、表示画像の品質の更なる向上が求められており、画像のコントラストがより高い光学積層体の実現が求められている。
更に、特許文献５及び６には導電性高分子としてポリチオフェン類を使用できることが開示されている。しかしながら、ポリチオフェン類は、耐紫外線性及び耐酸化性がないため、ポリチオフェン類を含む組成物を光学積層体の製造に使用した場合、帯電防止性能が劣化するという不具合があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−０３２８４５号公報
【特許文献２】特開２００６−０２３３５０号公報
【特許文献３】特開２００５−３５０６２２号公報
【特許文献４】特開２００６−０２８４３９号公報
【特許文献５】特開２００８−２２２８５０号公報
【特許文献６】特開２００８−０４５１１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記現状に鑑み、従来の物理特性や光学特性を保持しつつ、画像表示装置の最表面材料として、耐紫外線性や耐酸化性等の耐光性を安定的に保持し、帯電防止性及び生産安定性に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に画像コントラストが高い光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、光透過性基材及び前記光透過性基材の一方の面に樹脂層を有する光学積層体であって、上記樹脂層は、バインダー樹脂、ポリチオフェン類、導電補助剤及びレベリング剤を含有することを特徴とする光学積層体である。
本発明の光学積層体は、上記ポリチオフェン類の含有量が、バインダー樹脂１００質量部に対して０．１〜１．０質量部であることが好ましい。
また、上記ポリチオフェン類は、アニオン性化合物を含有することが好ましい。
また、上記導電補助剤は、鎖状金属酸化物粒子、カーボンナノチューブ及び導電性微粒子からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。
また、上記導電補助剤は、鎖状金属酸化物粒子及び／又は導電性微粒子であり、上記導電補助剤の含有量が、バインダー樹脂１００質量部に対して、０．５〜５．０質量部であることが好ましい。
また、上記導電補助剤は、カーボンナノチューブであり、上記導電補助剤の含有量が、バインダー樹脂１００質量部に対して、０．００１〜０．１３質量部であることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記樹脂層の初期表面抵抗値及び耐光性試験後の表面抵抗値が１×１０１２Ω／□未満であることが好ましい。
また、上記樹脂層は、更にプロトン性官能基を有する添加剤を含むことが好ましい。
また、上記プロトン性官能基を有する添加剤は、エポキシアクリレートであることが好ましい。
また、上記樹脂層は、防眩性機能を有することが好ましい。
また、上記樹脂層は、光透過性基材と反対側界面から１００ｎｍまでに導電補助剤が存在していない領域が形成されていることが好ましい。
本発明の光学積層体は、上記光透過性基材上に下地凹凸層を更に有し、上記下地凹凸層上に上記樹脂層を有することが好ましい。【００１０】
本発明はまた、光透過性基材、及び、上記光透過性基材の一方の面に樹脂層を有する光学積層体の製造方法であって、バインダー樹脂、ポリチオフェン類、導電補助剤、レベリング剤及び溶剤を含有する樹脂層用組成物を用いて樹脂層を形成する工程を有することを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
本発明の光学積層体の製造方法において、上記樹脂層用組成物の水分含有量が２０質量％以下であることが好ましい。【００１１】
本発明はまた、偏光素子を有する偏光板であって、上記偏光板は、上記偏光素子の表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に本発明について詳細に説明する。【００１２】
本発明は、光透過性基材、及び、上記光透過性基材の一方の面に樹脂層を有する光学積層体であって、上記樹脂層が特定の成分を含むものであることを特徴とする。このため、本発明の光学積層体は、従来の物理特性（硬度、ハードコート性等）や光学特性（光透過性、防眩性等）を有しつつ、画像表示装置の最表面材料として、耐紫外線性や耐酸化性等の耐光性を安定的に保持し、帯電防止性に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に画像のコントラストが高いものとすることができる。【００１３】
具体的には、本発明の光学積層体では、上記樹脂層が、バインダー樹脂、ポリチオフェン類、導電補助剤及びレベリング剤を含有する層である。
上記樹脂層がこのような特定の成分を含有する層であるため、本発明の光学積層体では、上記樹脂層におけるポリチオフェン含有量を少量とした場合であっても、高い導電性を示し、優れた帯電防止性を発揮することができる。また、上記樹脂層におけるポリチオフェン含有量を少量にできるため、本発明の光学積層体は、高い光透過性を維持することができる。また、本発明の光学積層体を画像表示装置に適用した場合、表示される画像のコントラストを高くすることができる。更に、上記樹脂層は、上記導電補助剤を含有するため、上述した優れた性能を維持しつつ、耐紫外線性及び耐酸化性をも向上させることができる。
更に、本発明の光学積層体は、生産安定性にも優れたものである。なお、本明細書において、「生産安定性」とは、樹脂層の面内での初期表面抵抗値にバラつきがないことを意味する。
本発明の光学積層体を画像表示装置等の装置へ適用する場合の仕様としては、１ｍ２を超える大判のサイズで塗布及び大量生産する必要がある。このような仕様で生産する際、塗布厚みのムラや塗液の分散ムラにより、樹脂層の面内での特性にバラつきが生じ、所望の特性が面内で安定して得られないことがあり、この場合、大量生産に向かず生産性も安定しない。これに対して、本発明の光学積層体は、殊にポリチオフェン類と導電補助剤が好適な状態で樹脂層中に存在することにより、初期及び耐光性試験後の表面抵抗値が安定するほか、面内での初期表面抵抗値も安定したものとなる。【００１４】
上記ポリチオフェン類は、本発明の光学積層体において、上記樹脂層に導電性を付与する帯電防止剤として機能する成分であり、置換又は非置換のものであってもよい。
なお、上記ポリチオフェン類は、非置換のままでも樹脂層に充分な導電性を得ることができるが、導電性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を分子中に導入することが好ましい。【００１５】
上記ポリチオフェン類の具体例としては、例えば、ポリ（チオフェン）、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−エチルチオフェン）、ポリ（３−プロピルチオフェン）、ポリ（３−ブチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３−クロロチオフェン）、ポリ（３−ヨードチオフェン）、ポリ（３−シアノチオフェン）、ポリ（３−フェニルチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヒドロキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジメトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジエトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジプロポキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジブトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジオクチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ブテンジオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−メトキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−エトキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）等が挙げられる。なかでも、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）がバインダー樹脂との相溶性が良い点で好ましい。【００１６】
また、上記ポリチオフェン類は、アニオン性化合物との錯体（以下、ポリチオフェン錯体ともいう）であることが好ましい。
上記アニオン性化合物としては、アニオン基として、上記ポリチオフェン類への化学酸化ドープが起こりうる官能基を有するものであればよい。なかでも、製造の容易さ及び安定性の観点から、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシル基、スルホ基等が好ましい。更に、官能基のポリチオフェン成分へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。【００１７】
上記アニオン性化合物としては、具体的には、例えば、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。これらのうち、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。【００１８】
上記アニオン性化合物の重合度としては特に限定されないが、例えば、モノマー単位が１０〜１０万であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点から、下限が５０、上限が１万であることがより好ましい。【００１９】
上記ポリチオフェン錯体は、例えば、上記ポリチオフェン類の前駆体モノマーを、上記アニオン性化合物、酸化剤、酸化触媒及び溶媒中で酸化重合することで得ることができる。【００２０】
上記酸化剤、酸化触媒としては、例えば、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム等のペルオキソ二硫酸塩、塩化第二鉄、硫酸第二鉄、硝酸第二鉄、塩化第二銅等の遷移金属化合物、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウムなどの金属ハロゲン化合物、酸化銀、酸化セシウム等の金属酸化物、過酸化水素、オゾン等の過酸化物、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物、酸素等が挙げられる。【００２１】
また、上記溶媒としては特に限定されず、例えば、水、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチレンホスホルトリアミド、アセトニトリル、ベンゾニトリル等の極性溶媒、クレゾール、フェノール、キシレノール等のフェノール類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ギ酸、酢酸等のカルボン酸、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート化合物、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル化合物、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテル等の鎖状エーテル類、３−メチル−２−オキサゾリジノン等の複素環化合物、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル化合物等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上の混合物としてもよいし、他の有機溶媒との混合物としてもよい。【００２２】
上記酸化重合において、上記ポリチオフェン類の前駆体モノマーと、アニオン性化合物との配合比としては特に限定されないが、得られるポリチオフェン錯体に充分な導電性を発現させることができることから、ポリチオフェン１質量部に対して、アニオン性化合物が０．５〜５質量部となる配合比であることが好ましい。【００２３】
また、上記ポリチオフェン錯体は、市販品を用いることもでき、例えば、ＣＬＥＶＩＯＳ  Ｐ（商品名、Ｈ．Ｃ．シュタルク社製）、Ｏｒｇａｃｏｎ（商品名、アグファ社製）等が挙げられる。なかでも、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との錯体である、ＣＬＥＶＩＯＳ  Ｐ（商品名、Ｈ．Ｃ．シュタルク社製）が樹脂との相溶性がよい点で好ましい【００２４】
上記酸化重合により得られた錯体や上記市販品の多くは、ポリチオフェン錯体の水分散液であるが、本発明においては、有機溶剤分散型ポリチオフェン錯体であることが好ましい。【００２５】
上記有機溶剤分散型ポリチオフェン錯体における有機溶剤としては、上記ポリチオフェン類を溶解しないものであれば特に限定されず、例えば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、アミド類、スルホキシド類、スルホン類、エステル類、ニトリル類等が挙げられる。
上記アルコール類としては、水酸基を有するものであれば特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等のモノアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジアルコール、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類等が挙げられる。
上記ケトン類としては、分子中にケトン構造を有するものであれば特に限定されず、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
上記エーテル類としては特に限定されず、例えば、ジエチルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル類、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテル類等のエーテル類等が挙げられる。
上記アミド類としては特に限定されず、例えば、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。
上記スルホキシド類としては特に限定されず、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
上記スルホン類としては特に限定されず、例えば、スルホラン等が挙げられる。
上記エステル類としては特に限定されず、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられる。
上記ニトリル類としては特に限定されず、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等が挙げられる。
これらは、単独で用いられてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのなかでは、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類が取り扱い性と分散安定性の点から好ましい。【００２６】
上記樹脂層における上記ポリチオフェン類の含有量は、後述するバインダー樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜１質量部であることが好ましい。上記含有量が０．１質量部未満であると、所望の帯電防止性を付与することができないことがある。１質量部を超えると、光透過率が減少し、所望の高いコントラストを実現することができないことがある。上記ポリチオフェン類の含有量は、下限が０．２質量部であることがより好ましく、上限が０．７質量部であることがより好ましい。【００２７】
このように上記ポリチオフェン類が少量の含有量であるにもかかわらず、本発明の光学積層体が帯電防止性能を発揮しうることから、上記ポリチオフェン類は、樹脂層中において、樹脂層全体に分散して存在しているのではなく、樹脂層中の一定の位置に層状態、あるいは樹脂層内に微細な網目状態として存在していると推測される。ここでいう層状態としては、上記層状態でポリチオフェン類が、互いに通電可能な位置で均一に分散している状態の他、小規模で局在した部分が互いに通電可能な位置で近接しあうような形態でポリチオフェン類が層状態を形成しているとも推測される。また、微細な網目状態としては、ポリチオフェン類が樹脂層全体で、互いに通電可能な位置で隣接して網目を構成していると推測される。なお、上記ポリチオフェン類は、樹脂層中で後述する導電補助剤を介して上述した状態で存在していてもよい。
更に、上記ポリチオフェン類は、耐光性を満足するために、樹脂層中の樹脂層表面側（光透過性基材面とは反対側）寄りであるが、最表面ではない位置に存在することが推測される。【００２８】
上記導電補助剤は、本発明の光学積層体において、上記ポリチオフェン類による帯電防止性能を補助する役割を果たす成分である。
上述のように、上記ポリチオフェン類は、樹脂層中に樹脂層表面側寄りであるが、最表面ではない位置に存在すると推測されるが、上記樹脂層がポリチオフェン類のみを含有する場合、その存在位置が最表面に近すぎると、紫外線による劣化や酸化による劣化が生じて樹脂層の表面抵抗値に面内バラツキが生じ、帯電防止性能が低下する（すなわち、耐光性に劣る）ことがある。一方で、上記紫外線による劣化や酸化による劣化が生じ難い位置、すなわち、樹脂層の最表面により遠い位置にポリチオフェン類が存在していると、樹脂層の表面への通電が困難となって表面抵抗値が高くなったり、面内バラツキが生じたりして、やはり帯電防止性能が劣ることがある。更に、ポリチオフェン類が微細な網目状態としてムラなく樹脂層に存在していないと、樹脂層の表面抵抗値に面内バラツキが生じ、帯電防止性能が劣ることがある。特に樹脂層がポリチオフェン類のみを含む場合、該ポリチオフェン類をムラなく微細な網目状態とするには添加量を多くする必要がある他、加工条件においても高度な調整が要求される。
しかしながら、本発明では、上記樹脂層にポリチオフェン類に加えて導電補助剤を含有することで、ポリチオフェン類のみを含む場合に起こり得るこのような問題を好適に防止することができ、生産安定性に優れたものとなる。
ここで、上記樹脂層に導電補助剤が含まれているとしても、該導電補助剤が樹脂層の全体で互いに通電可能な位置にない状態で均一分散していると、該導電補助剤による通電網が形成されず、帯電防止性能が不充分となることがあり、充分な帯電防止性能を発揮し得る量の導電補助剤を添加すると、光透過性が減少し、所望の高いコントラストを実現できないことがある。このため、上記導電補助剤は、樹脂層中で互いに通電可能な位置に分散し、該導電補助剤による通電網を形成していることが好ましい。更に、本発明においては、上記導電補助剤と上記ポリチオフェン類とによる通電網を形成していることも好ましい。
また、上記樹脂層は、光透過性基材と反対側界面から１００ｎｍまでに導電補助剤が存在していない領域が形成されていることが好ましい。このような範囲で導電補助剤が存在していない領域が形成されていることで、耐光性の低下を好適に防止することができる。
ここで、上記「導電補助剤が存在していない領域」とは、上記樹脂層の断面ＳＥＭ画像において、導電補助剤が光透過性基材と反対側界面から１００ｎｍの領域に確認できない、ないしは上記樹脂層の光透過性基材と反対側界面付近の断面を１万倍に拡大した画像において、該樹脂層の厚さ方向に垂直な方向５μｍあたり確認される導電補助剤が２個以下である場合を意味する。【００２９】
本発明の光学積層体において、上記導電補助剤は、上記樹脂層中で、例えば、光透過性基材側界面からポリチオフェン類の存在する位置の直下まで存在したり（構成１）、ポリチオフェン類の存在する位置と同じ位置に存在したり（構成２）、ポリチオフェン類の存在する位置と同じ位置から樹脂層の光透過性基材側界面にかけて存在したりしている（構成３）と推測される。
上記構成１では、図３に示したように、樹脂層３０の光透過性基材側界面から順に、導電補助剤が存在する領域３２とポリチオフェン類が存在する領域３１とが積層形成されていると推測される。上記構成１では、導電補助剤が存在する領域３２とポリチオフェン類が存在する領域３１とを積層し、これらの領域間での通電を図ることで、導電補助剤は、ポリチオフェン類による帯電防止性能を補助しているものと推測される。なお、図３に示した導電補助剤が存在する領域３２は、光透過性基材側界面まで形成されているが、当該導電補助剤が存在する領域３２は、光透過性基材側界面まで形成されていなくてもよい。
また、上記構成２では、図４に示したように、樹脂層４０中にポリチオフェン類及び導電補助剤が存在する領域４１が形成されていると推測される。また、上記構成３では、図５に示したように、樹脂層５０中にポリチオフェン類及び導電補助剤が存在する領域５１と、該領域５１の光透過性基材側に導電補助剤が存在する領域５２とが形成されていると推測される。上記構成２及び構成３では、樹脂層中にポリチオフェン類及び導電補助剤が存在する領域で、これらの材料による通電網を形成することで、導電補助剤は、ポリチオフェン類による帯電防止性能を補助しているものと推測される。
なお、図５に示した導電補助剤が存在する領域５２は、光透過性基材側界面まで形成されているが、当該導電補助剤が存在する領域５２は、光透過性基材側界面まで形成されていなくてもよい。
図３〜４は、本発明の光学積層体における樹脂層中の導電補助剤及びポリチオフェン類の存在する領域を模式的に示す断面図である。
また、ポリチオフェン類が紫外線等で劣化した箇所がある場合、上記導電補助剤は、該劣化した箇所に存在したりしていると推測される。その結果、樹脂層表面の表面抵抗値をより優れたものとすることができるとともに、面内バラツキを小さくすることができ、更に、ポリチオフェン類の耐紫外線性及び耐酸化性等の耐光性を向上させることができるものと推測される。
その結果、樹脂層表面の表面抵抗値をより優れたものとすることができるとともに、面内バラツキを小さくすることができ、更に、ポリチオフェン類の耐紫外線性及び耐酸化性等の耐光性を向上させることができるものと推測される。
なお、上記「面内バラツキ」とは、上記樹脂層表面の表面抵抗値が、該樹脂層の表面内でバラツキがあることを意味する。
図１に、上記導電補助剤として鎖状ＡＴＯを含む樹脂層を備えた本発明の光学積層体の断面ＳＥＭ写真を示す。なお、本発明におけるポリチオフェン類の添加量は非常に少量であるため、本発明の光学積層体の断面ＳＥＭ観察にて、ポリチオフェン類を観察することは現状困難であるが、上述の通り樹脂層中に好適に存在しているものと推測される。
図１に示したように、上述した樹脂層に含まれる鎖状ＡＴＯ等の導電補助剤の存在位置は、該樹脂層の断面観察により確認することができる。なお、図１に示した本発明の光学積層体は、樹脂層が後述する有機系微粒子を有する下地凹凸層上に形成された構造を有する。【００３０】
上記導電補助剤としては、鎖状金属酸化物粒子、カーボンナノチューブ及び導電性微粒子からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。
上記鎖状金属酸化物粒子としては、金属酸化物粒子が鎖状に連なった構造を有する粒子が挙げられる。なお、上記鎖状金属酸化物粒子は、導電性を有する鎖状導電無機微粒子である。
上記鎖状金属酸化物粒子を構成する金属酸化物粒子は、平均粒径が１〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましい下限は５ｎｍ、より好ましい上限は８０ｎｍである。１ｎｍ未満であると、上記金属酸化物粒子の粒界抵抗が急激に大きくなり、また、鎖状金属酸化物粒子が得られず３次元に凝集した微粒子が増加する傾向にあり、導電補助剤として機能し得る程度の低い抵抗値が得られないことがある。一方、１００ｎｍを超えると、鎖状金属酸化物粒子の形成が困難となり、また、仮に形成できたとしても金属酸化物粒子同士の接点が減少するために、導電補助剤として機能し得る程度の低い抵抗値が得られないことがある。更に、金属酸化物粒子による光の吸収が大きくなり、上記樹脂層の光透過率の低下やヘイズの上昇が生じることがある。このため、樹脂層に一定の光透過率を得るために樹脂層の膜厚を薄くしたり、金属酸化物粒子の量を少なくしたりすると、導電補助剤として充分な導電性が得られないことがある。【００３１】
また、上記鎖状金属酸化物粒子は、平均長さが２〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましい下限は５ｎｍ、より好ましい上限は８０ｎｍである。２ｎｍ未満であると、上記鎖状金属酸化物粒子による接触抵抗が増加し、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがある。一方、２００ｎｍを超えると、上記樹脂層の形成性が低下し、本発明の光学積層体にヘイズ等の光学特性に問題が生じ、更に外観が悪化することがある。
なお、上記金属酸化物粒子の平均粒径及び平均長さは、走査型電子顕微鏡（日本電子（株）：ＪＭＳ５３００）により測定された値である。【００３２】
上記鎖状金属酸化物粒子は、アスペクト比が２〜２００であることが帯電防止性及び光透過率の両立の点で好ましい。２未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能を充分に優れたものとすることができないことがあり、２００を超えると、上記樹脂層の光透過率が低下することがある。
なお、上記アスペクト比とは、公知の電子顕微鏡を用いて上記鎖状金属酸化物粒子の長軸と短軸とを測定し、長軸の長さを短軸の長さで除することで算出された値である。ここで、上記鎖状金属酸化物粒子の長軸とは、該鎖状金属酸化物粒子の外周上で最大となる２点間を結んだ直線を意味し、上記鎖状金属酸化物粒子の短軸とは、上記長軸に垂直な方向であって上記鎖状金属酸化物粒子の外周上で最大となる２点間を結んだ直線を意味する。【００３３】
上記鎖状金属酸化物粒子を構成する金属酸化物粒子としては、具体的には、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｏｓ及びＩｒからなる群より選択される１種以上の元素からなる金属の酸化物粒子が挙げられる。
なかでも、本発明の光学積層体の帯電防止性をより好適に向上させることができることから、上記金属酸化物粒子としては、酸化錫、Ｓｂ、Ｆ又はＰがドーピングされた酸化錫、酸化インジウム、Ｓｎ又はＦがドーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、低次酸化チタン等が好適であり、特に、ＡＴＯ（アンチモン錫酸化物）が好適に用いられる。【００３４】
このような鎖状金属酸化物粒子は、例えば、以下の方法により調製することができる。
すなわち、まず、金属塩又は金属アルコキシドが０．１〜５重量％の濃度で含まれるアルコール溶液を加熱して加水分解させる。このとき必要に応じて温水に加えたり、アルカリを加えたりしてもよい。このような加水分解によって、一次粒子径が１〜１００ｎｍの金属水酸化物のゲル分散液を調製する。
次いで、ゲル分散液を濾別・洗浄し、必要に応じて有機安定剤の存在下で、金属水酸化物をオートクレーブ処理し、更にメカニカル分散処理を行うことによって得ることができる。この場合、イオン交換樹脂処理して、イオン性不純物を除去してもよい。
こうして得られた鎖状金属酸化物粒子は、通常、遠心分離等の方法によって生成後の分散液から取り出され、必要に応じて酸等で洗浄された後、極性溶媒に分散させて使用される。また、得られた鎖状金属酸化物粒子を含む分散液は、そのまま塗布液として使用することもできる。【００３５】
上記メカニカル分散処理としては、例えば、サンドミル法、衝撃分散法等が挙げられ、特に、衝撃分散法が好ましく使用される。衝撃分散法は、音速程度の高速でスラリーを壁に衝突させて分散又は粉砕させる方法であり、たとえばＡｒｔｉｍｉｚｅｒ、Ｎａｎｏｍｉｚｅｒ等の装置を用いて行われる。
また、上記有機安定剤としては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、クエン酸等の多価カルボン酸及びその塩、複素環化合物或いはこれらの混合物等が挙げられる。
また、上記極性溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル等のエステル類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル等のケトン類等が挙げられる。これらの極性溶媒は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。【００３６】
上記カーボンナノチューブとしては、炭素六角網面が円筒状に閉じた構造を有するものであれば、単層構造であってもよく、円筒構造が入れ子状に配置された多層構造であってもよく、更には、これらが混在するものであってもよい。
具体的には、上記カーボンナノチューブとしては、例えば、シングルウォールカーボンナノチューブ、ダブルウォールカーボンナノチューブ、マルチウォールカーボンナノチューブ等が挙げられる。また、数本がロープ状に絡みあったものや分岐構造を有するものであってもよい。コスト面を考慮すると、マルチウォールカーボンナノチューブが好ましい。
また、製造したままのカーボンナノチューブを用いることもできるが、不純物を取り除いて純度を上げたものであることが好ましい。なお、カーボンナノチューブの精製方法としては、例えば、真空中で加熱する方法や酸処理する方法等が知られており、酸処理によってカーボンナノチューブ側鎖に水酸基やカルボキシル基が生成することも知られている。【００３７】
上記カーボンナノチューブのサイズとしては特に限定されないが、繊維長が１００ｎｍ〜１００μｍ、繊維径が１ｎｍ〜１μｍであることが好ましい。１００ｎｍ未満であると、樹脂層の表面抵抗値に面内バラツキが生じて帯電防止性が悪化することがあり、１００μｍを超えると、光透過率が低下することがある。上記繊維長のより好ましい下限は１μｍ、より好ましい上限は１０μｍであり、上記繊維径のより好ましい上限は２００ｎｍである。
なお、上記カーボンナノチューブの繊維長及び繊維径は、電子顕微鏡観察により測定された値である。【００３８】
また、上記導電性微粒子としては、金属微粒子又は金属酸化物微粒子が挙げられる。上記導電性微粒子を構成する材料としては、具体的には、例えば、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、フッ素化酸化スズ（ＦＴＯ）、ＺｎＯ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ等が挙げられる。【００３９】
上記導電性微粒子は、球状であることが好ましく、その粒径は、０．１〜２００ｎｍであることが好ましい。０．１ｎｍ未満であると、本発明の帯電防止性を充分に向上させることができないことがあり、２００ｎｍを超えると、本発明の光学積層体の透明性（全光線透過率）が低下することがある。より好ましい下限２０ｎｍ、より好ましい上限は１５０ｎｍである。【００４０】
本発明の光学積層体において、上記導電補助剤の含有量としては、使用する導電補助剤の種類によって適宜決定され、例えば、上記導電補助剤が鎖状金属酸化物粒子及び／又は導電性微粒子である場合、上記バインダー樹脂１００質量部に対して、０．５〜５．０質量部であることが好ましい。０．５質量部未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、５．０質量部を超えると、本発明の光学積層体の光透過率が低下したり、コントラストが低下したりすることがある。より好ましくは０．５〜２．５質量部である。上記導電補助剤がこの範囲にあることで、本発明の光学積層体の帯電防止性能をより好適に向上させることができる。【００４１】
また、上記導電補助剤がカーボンナノチューブである場合、上記導電補助剤の含有量としては、バインダー樹脂１００質量部に対して、０．００１〜０．１３質量部であることが好ましい。０．００１質量部未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、０．１３質量部を超えると、光透過率が低下したり、コントラストが低下したりすることがある。より好ましい下限は０．００５質量部、より好ましい上限は０．０５質量部である。上記導電補助剤がこの範囲にあることで、本発明の光学積層体の帯電防止性能をより好適に向上させることができる。【００４２】
本発明の光学積層体において、上記バインダー樹脂としては、上述したアニオン性化合物と反応しない材料であれば特に限定されないが、疎水性樹脂を含有することが好ましい。疎水性樹脂を含有することで、帯電防止性に優れ、高いコントラストを有する光学積層体とすることができる。
本明細書において、「疎水性樹脂」とは、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基等の親水性官能基を含有せず、ビニル基、ウレタン基、（メタ）アクリロイル基等の疎水性官能基を有するアクリル酸エステル樹脂を意味する。
なお、本発明の光学積層体において、上記バインダー樹脂として、アニオン性化合物と反応する樹脂は、帯電防止性の機能を損なわせるため使用できない。【００４３】
上記疎水性樹脂としては、なかでも、ウレタンアクリレートが、帯電防止性に優れ、高いコントラストが得られると同時にハードコート性を好適に付与することができることから好適に用いることができる。
また、本発明の光学積層体において、上記バインダー樹脂は、上記ウレタンアクリレートとともに用いられるのであれば、更に上記ウレタンアクリレート以外の疎水性樹脂を含有することが好ましい。上記疎水性樹脂を更に含有することで、上記樹脂層におけるポリチオフェン類を表面（光透過性基材と反対側の表面）付近に偏在させることが可能となり、ポリチオフェン類の添加量が少量であっても、優れた帯電防止性能を発揮し得るからである。この理由は明確ではないが、極性の低い疎水性の樹脂が上記樹脂層中に多く存在することで、極性の高いポリチオフェン類が表面の近傍に局在化しやすくなると考えられる。【００４４】
上記ウレタンアクリレート以外の疎水性樹脂としては、具体的には、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリルエステル、又は、これらのエチレンオキサイド変性品が好適に挙げられる。
なかでも、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが好適に用いられる。
なお、極性の高い疎水性樹脂は、初期の帯電防止性が悪化することがあり、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどは不適である。【００４５】
上記バインダー樹脂中の疎水性樹脂の含有量としては、バインダー樹脂中の樹脂成分中２０〜１００質量％であることが好ましい。２０質量％未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が低下することがある。上記疎水性樹脂の含有量は、下限が２５質量％であることがより好ましく、上限が７０質量％であることがより好ましい。【００４６】
上記疎水性樹脂以外のバインダー樹脂としては、例えば、紫外線若しくは電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。なかでも、電離放射線硬化型樹脂が好ましい。【００４７】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等を挙げることができる。【００４８】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。【００４９】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。
上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。
好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及び、ゴム又はエラストマー等が挙げられる。
なかでも、上記熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶な樹脂を使用することが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。【００５０】
上記熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。【００５１】
上記樹脂層は、レベリング剤を含有する。
上記レベリング剤を含有することで、上記レベリング剤が上記樹脂層表面へブリードすることにより、後述する樹脂層用組成物を用いて上記樹脂層を形成する際に、塗工乾燥時における上記樹脂層用組成物中の対流ムラや、ベナードセル等の欠陥を防止することができる。また、レベリング剤が積極的に樹脂層表面にブリードすることで、ポリチオフェン類が樹脂層表面にブリードするのを防止できるとともに、上記ポリチオフェン類を、樹脂層中の一定の位置に層状態、あるいは樹脂層内に微細な網目状態として存在させ、更に、樹脂層中に樹脂層表面側寄りであるが、最表面ではない位置に存在させることができると推測され、安定かつ好適な帯電防止性能を得ることが出来るものと考えられる。
上記レベリング剤としては、上記ポリチオフェン類のアニオン性化合物と反応しない材料であれば、反応性でも非反応性であってもよく、特に限定されないが、フッ素系及び／又はケイ素系化合物であることが好ましい。【００５２】
上記フッ素系化合物としては、ＣｄＦ２ｄ＋１（ｄは１〜２１の整数）で表されるパーフルオロアルキル基、−（ＣＦ２ＣＦ２）ｇ−（ｇは１〜５０の整数）で表されるパーフルオロアルキレン基、又は、Ｆ−（−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−）ｅ−ＣＦ（ＣＦ３）（ここで、ｅは１〜５０の整数）で表されるパーフルオロアルキルエーテル基、並びに、ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ２−、（ＣＦ３）２Ｃ＝Ｃ（Ｃ２Ｆ５）−、及び、（（ＣＦ３）２ＣＦ）２Ｃ＝Ｃ（ＣＦ３）−等で例示されるパーフルオロアルケニル基を有することが好ましい。【００５３】
上記の官能基を含む化合物であれば、上記フッ素系化合物の構造は特に限定されるものではなく、例えば、含フッ素モノマーの重合体、又は、含フッ素モノマーと非フッ素モノマーの共重合体等を用いることもできる。それらの中でも特に、含フッ素モノマーの単独共重合体、又は、含フッ素モノマーと非フッ素モノマーとの共重合体のいずれかで構成される含フッ素系重合体セグメントと、非フッ素系重合体セグメント、とから成るブロック共重合体又はグラフト共重合体が好ましく用いられる。このような共重合体においては、含フッ素系重合体セグメントが、主に防汚性・撥水撥油性を高める機能を有し、一方、非フッ素系重合体セグメントが、バインダー成分との相溶性を高める、アンカー機能を有する。したがって、このような共重合体を用いた反射防止積層体においては、繰り返し表面を擦られた場合にもこれらのフッ素系化合物が除去されにくく、また、長期に渡り防汚性などの諸性能を維持できる。【００５４】
上記フッ素系化合物は市販の製品として入手することができ、例えば、日本油脂製モディパーＦシリーズ、ＤＩＣ社製メガファックシリーズ等が好ましく用いられる。【００５５】
上記ケイ素系化合物は、下記一般式、【００５６】
【化１】
2011142433.tif 000003
【００５７】
（式中、Ｒａはメチル基などの炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｒｂは非置換、もしくはアミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基、または（メタ）アクリロイル基で置換された炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、またはポリエーテル変性基を示し、各Ｒａ、Ｒｂは互いに同一でも異なっていても良い。また、ｍは０〜２００、ｎは０〜２００の整数である。）
で示される構造を有することが好ましい。【００５８】
上記一般式のような基本骨格を持つポリジメチルシリコーンは、一般に表面張力が低く、撥水性や離型性に優れていることが知られているが、側鎖あるいは末端に種々の官能基を導入することで、更なる効果を付与することができる。例えば、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、（メタ）アクリロイル基、アルコキシ基等を導入することにより反応性を付与でき、上記電離放射線硬化型樹脂組成物との化学反応により共有結合を形成できる。また、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基を導入することで、耐油性や潤滑性等を付与でき、さらに、ポリエーテル変性基を導入することで、レベリング性や潤滑性を向上させることができる。【００５９】
このような化合物は、市販の製品として入手することができ、例えば、フルオロアルキル基をもつシリコーンオイルＦＬ１００（信越化学工業社製）や、ポリエーテル変性シリコーンオイルＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）等、目的に合わせて種々の変性シリコーンオイルを入手できる。なかでも、本発明では、ＴＳＦ４４６０が好適に使用される。【００６０】
上記フッ素系及び／又はケイ素系化合物は下記一般式、
ＲａｎＳｉＸ４−ｎ
（式中、Ｒａはパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、またはパーフルオロアルキルエーテル基を含む炭素数３〜１０００の炭化水素基を示し、Ｘはメトキシ基、エトキシ基、もしくはプロポキシ基等の炭素数１〜３のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、もしくはメトキシエトキシ基等のオキシアルコキシ基、または、クロル基、ブロモ基もしくはヨード基等のハロゲン基等の加水分解性基であり、同一でも異なっていてもよく、ｎは１〜３の整数を示す。）
で示される構造であってもよい。【００６１】
このような加水分解性基を含むことにより、特に無機成分、本発明においてはシリカ成分の水酸基と共有結合や水素結合を形成し易く、密着性を保持できるという効果がある。
このような化合物として、具体的には、ＴＳＬ８２５７（ＧＥ  東芝シリコーン社製）等のフルオロアルキルシランが挙げられる。【００６２】
上記樹脂層におけるレベリング剤の含有量は、上記バインダー樹脂１００質量部に対して０．０１〜５質量部であることが好ましい。０．０１質量部未満であると、塗膜の乾燥時に対流ムラが発生したり、レベリング不足を起因とした塗布面の外観不良が引き起こされる等の不具合が生じ、好ましくない。５質量部を超えると、塗膜の硬度が低下する等の不具合が生じ、やはり好ましくない。上記レベリング剤の含有量は、下限が０．１質量部であることがより好ましく、上限が２質量部であることがより好ましい。【００６３】
上記樹脂層は、更に、プロトン性官能基を有する添加剤を含むことが好ましい。
上記プロトン性官能基を有する添加剤を含むことにより、上記ポリチオフェン類の分散性及び安定性が向上するとともに、帯電防止性に優れた光学積層体とすることができる。これは、プロトン性官能基を有する添加剤が、上記アニオン性化合物のように振舞うことが可能であるためと推測される。また、上記プロトン性官能基を有する添加剤を含むことにより、耐光性についてもより安定し好ましい。
上記プロトン性官能基を有する添加剤としては、例えば、エポキシアクリレート、ヒドロキシアクリレート、ビニルスルホン酸等を挙げることができる。なかでも、エポキシアクリレートであることが好ましい。【００６４】
上記樹脂層における上記プロトン性官能基を有する添加剤の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１〜１５質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、上記ポリチオフェン類が凝集し、析出するなどのおそれがある他、帯電防止性能が低下するおそれがあり、安定生産が困難になる場合がある。１５質量部を超えると、上記ポリチオフェン類が過度に分散し、この場合も帯電防止性能が低下するおそれがある。上記プロトン性官能基を有する添加剤の含有量は、より好ましくは下限が２質量部であり、上限が１０質量部である。【００６５】
なお、上記プロトン性官能基を有する添加剤である上述のエポキシアクリレート等は、架橋反応してハードコート性を発揮するものであり、バインダー樹脂としても機能することができる。この場合、エポキシアクリレート等の含有量は、エポキシアクリレート等を含むバインダー樹脂１００質量％中１〜１５質量％であることが好ましい。【００６６】
本発明の光学積層体において、上記樹脂層は、防眩性機能を有することが好ましい。
このような防眩性機能を有する樹脂層は、表面に凹凸形状を有することが好ましい。該凹凸形状としては、後述する防眩層と同様のＳｍ、θａ、Ｒａ及びＲｚを有することが好ましい。
また、防眩性機能を有する樹脂層の表面の凹凸形状は、防眩剤を含む樹脂層用組成物により形成したもの、バインダー樹脂の相分離により形成したもの、エンボス加工により形成したものであってもよい。なお、上記防眩剤としては、後述する防眩層において説明する防眩剤と同様のものが挙げられる。【００６７】
上記組成からなる樹脂層は、上述のバインダー樹脂、ポリチオフェン類、導電補助剤、レベリング剤及び必要に応じて上記プロトン性官能基を有する樹脂やその他の成分を溶媒中に均一に混合して調製してなる樹脂層用組成物を用いて形成することができる。
上記混合は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。【００６８】
上記樹脂層用組成物は、更に、光重合開始剤を含んでいてもよい。
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・ジャパン社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記バインダー樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。【００６９】
上記樹脂層用組成物はまた、必要に応じて、その他の成分を含有していてもよい。上記その他の成分としては、紫外線吸収剤、防汚剤、屈折率調整剤、酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、重合禁止剤、粘度調整剤等を挙げることができる。【００７０】
上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができる。なかでも、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エチレングリコール、メチルイソブチルケトンなどが好ましい。【００７１】
これらの溶媒は、１種を使用するものであっても、複数種を併用するものであってもよいが、なかでも、沸点の異なる２種以上のアルコール系溶媒を全溶媒中５〜７０％含むことが好ましく、１５〜６０％含むことがより好ましい。上述の範囲のアルコール系溶媒を含むことにより、帯電防止性を安定的に得ることができる。【００７２】
上記樹脂層を形成する方法としては、上記樹脂層用組成物を塗布して被膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記被膜を硬化して上記樹脂層を形成する方法が挙げられる。
上記塗布して被膜を形成する方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。【００７３】
上記乾燥の方法としては、３０〜１２０℃で３〜１２０秒間乾燥させる方法が挙げられる。【００７４】
上記被膜の硬化方法は、上記組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、上記組成物が紫外線硬化型のものであれば、被膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。
上記紫外線を照射する場合は、１０〜３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する方法が挙げられる。【００７５】
上記樹脂層の厚さは、０．６〜１０μｍであることが好ましい。０．６μｍ未満であると、塗膜の硬度が不足するおそれがある。１０μｍを超えると、樹脂層用組成物を塗布し形成した塗膜での、対流ムラを充分に抑制することができず、帯電防止性に優れた光学積層体が得られないおそれがある。上記厚さは、１〜９μｍであることがより好ましい。上記樹脂層の厚さは、光学積層体の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより測定して得られた値である。【００７６】
本発明の光学積層体は、光透過性基材を有する。
上記光透過性基材としては、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。
上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、又は、トリアセチルセルロースを挙げることができる。【００７７】
上記光透過性基材の厚さは、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは下限が３０μｍであり、上限が２００μｍである。
上記光透過性基材は、その上に形成する層との接着性を向上させるために、コロナ放電処理、ケン化、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマー等の塗料の塗布を予め行ってもよい。【００７８】
本発明の光学積層体は、上述した樹脂層が光透過性基材上に形成されていることで、従来の物理特性や光学特性を保持しつつ、画像表示装置の最表面材料として、耐紫外線性や耐酸化性等の耐光性を安定的に保持し、帯電防止性に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に画像コントラストが高いものとすることができる。また、本発明の光学積層体において、上記樹脂層は、更に防眩性やハードコート性といった機能を有することが好ましい。また、上記樹脂層は、単一の層から構成されていてもよく、多層構造であってもよい。
本発明の光学積層体は、防眩性機能を有することが好ましい。上記防眩性機能を有する本発明の光学積層体の構成としては、例えば、上記樹脂層が防眩性機能を有する構成や、上記光透過性基材上に凹凸形状を有する下地凹凸層を有し、上記下地凹凸層上に上記樹脂層を有する構成等が挙げられる。
上記防眩性機能を有することにより、本発明の光学積層体は、外光による反射等を防ぐことができ、視認性を向上させることができる。
本発明の光学積層体は、上記光透過性基材上に下地凹凸層を有し、上記下地凹凸層上に上記樹脂層を有する構成が好ましい。上記樹脂層に凹凸形成用の微粒子を混ぜるなどの方法で防眩性機能を付与した構成の場合、凹凸形成用の微粒子の存在状態によって上述した樹脂層による本発明の効果が損なわれる可能性、又は、高度な加工条件が必要となる可能性がある。しかしながら、上記下地凹凸層上に上記樹脂層を有する構成とすることで、上述した樹脂層によって得られる本発明の効果を損なうことなく、本発明の光学積層体に好適な防眩性機能を付与することができる。
なお、従来、表面に凹凸形状を有する防眩層の表面に、帯電防止剤を含む帯電防止層を形成してなる構成の光学積層体においては、防眩層による防眩性と帯電防止層による帯電防止性と、光学積層体に本来求められる光透過性とを満たすことは困難であった。しかし、本発明の光学積層体は、上述の凹凸形状を有する下地凹凸層上に所望の樹脂層を有することで、これらの性能を充分に満たすことが可能となる。【００７９】
上記樹脂層に防眩性機能を有する構成、及び、上記光透過性基材上に凹凸形状を有する下地凹凸層を有し、該下地凹凸層上に上記樹脂層を有する構成は、いずれも表面に凹凸形状を有する層（以下、上記両方の構成を有する層をまとめて防眩層ともいう）である。上記凹凸形状は、上記防眩層表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の算術平均粗さをＲａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、外光による反射を防ぐことができるという観点により、下記式を満たすことが好ましい。θａ、Ｒａ、Ｒｚが下限未満であると、外光による反射を抑えることができない。また、θａ、Ｒａ、Ｒｚが上限を超えると、面ギラなどの不具合が生じるおそれがある。Ｓｍが下限未満であると、白ボケが発生するおそれがある。Ｓｍが上限を超えると、外光による反射を抑えることができないなどの不具合を生じるおそれがある。
５０μｍ＜Ｓｍ＜６００μｍ
０．１°＜θａ＜１．５°
０．０２μｍ＜Ｒａ＜０．２５μｍ
０．３０μｍ＜Ｒｚ＜２．００μｍ【００８０】
また、上記防眩層の凹凸形状は、より好ましくは、下記式を満たすことである。下記式を満たすと、外光による反射を防ぐことができ、さらには、画像表示装置を黒表示にした状態での優れた艶黒感（画面表示における濡れたような艶のある黒色の再現性）を得ることができるという点において、より好ましい。θａ、Ｒａ、Ｒｚ及びＳｍが上限を超える、あるいは下限未満であると、艶黒感を得ることができない。
１００μｍ＜Ｓｍ＜４００μｍ
０．１°＜θａ＜１．２°
０．０２μｍ＜Ｒａ＜０．１５μｍ
０．３０μｍ＜Ｒｚ＜１．２０μｍ
なお、本明細書において、上記Ｓｍ、Ｒａ及びＲｚは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に準拠する方法で得られる値であり、θａは、表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００  取り扱い説明書（１９９５．０７．２０改訂）（株式会社小坂研究所）に記載の定義により得られる値であり、図２に示すように、基準長さＬに存在する凸部高さの和（ｈ１+ｈ２+ｈ３+・・・+ｈｎ）のアークタンジェント｛θａ＝ｔａｎ−１（ｈ１+ｈ２+ｈ３+・・・+ｈｎ）／Ｌ｝で求めることができる。
このようなＳｍ、θａ、Ｒａ、Ｒｚは、例えば、表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００／株式会社小坂研究所製等により測定して求めることができる。【００８１】
上記防眩層の凹凸形状は、防眩剤を含む組成物により形成したもの、樹脂の相分離により形成したもの、エンボス加工により形成したものであってもよい。
なかでも、上記防眩層の凹凸形状は、防眩剤を含む組成物により形成したものであることが好ましい。なお、上記防眩層が凹凸形状を有する樹脂層である場合、上記防眩剤を含む組成物は、上述した樹脂層用組成物に防眩剤を含むものであり、上記凹凸形状を有する樹脂層を形成するものである。一方、上記防眩層が下地凹凸層上に上記樹脂層を有する構成である場合、上記防眩剤を含む組成物は、上記下地凹凸層を形成するものである。
上記防眩剤は微粒子であり、形状は、真球状、楕円状、不定形など、特に限定されない。また、上記防眩剤として、無機系、有機系の微粒子を使用することができ、好ましくは透明性の微粒子がよい。
有機系微粒子の具体例としては、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、ポリスチレンビーズ（屈折率１．５９〜１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３）、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１．６６）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物（屈折率１．６６）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５０）、等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、ポリスチレンビーズを挙げることができる。
無機系微粒子としては、不定形シリカ、球状等、ある特定形状を持った無機シリカビーズ等を挙げることができる。
なかでも、上記防眩剤として、アクリル−スチレン共重合体ビーズ及び／又は不定形シリカを使用することが好ましい。【００８２】
上記防眩剤の平均粒径は、１〜１０μｍであることが好ましく、３〜８μｍであることがより好ましい。上記平均粒径は、トルエン５質量％分散液の状態で、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により測定して得られた値である。
上記防眩剤の含有量は、バインダー樹脂固形分１００質量部に対して１〜４０質量部であることが好ましく、５〜３０質量部であることがより好ましい。【００８３】
また、上記防眩層は、更に内部散乱粒子を含有するものであることが好ましい。上記内部散乱粒子は、内部ヘイズを付与し、面ギラ等を抑制し得るものである。
上記内部散乱粒子としては、防眩層を構成するバインダー樹脂との屈折率の差が比較的大きい有機粒子又は無機粒子が挙げられ、例えば、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．５９〜１．６０）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１．６６）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物（屈折率１．６６）等のプラスチックビーズやシリコーン粒子（屈折率１．４２）を挙げることができる。
これらの粒子は、上記防眩剤としての性質と内部散乱粒子としての性質を兼ね備えたものを使用してもよい。【００８４】
上記内部散乱粒子の平均粒径は、０．５〜１０μｍであることが好ましく、１〜８μｍであることがより好ましい。上記平均粒径は、トルエン５質量％分散液の状態で、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により測定して得られた値である。
上記内部散乱粒子の添加量は、バインダー樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜４０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。【００８５】
上記防眩層のバインダー樹脂としては、上述した樹脂層に使用することのできるバインダー樹脂と同様のものを挙げることができる。【００８６】
上記防眩層は、更に、本発明の効果を阻害しない程度に必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、上述した樹脂層に使用できるその他の成分と同様のものを挙げることができる。【００８７】
上記防眩層は、公知の方法により形成するとよい。例えば、バインダー樹脂、防眩剤及びその他の成分を溶剤と混合分散して防眩層用組成物を調製して、公知の方法により形成することができる。上記防眩層用組成物の調製方法と、これを用いて防眩層を形成する方法としては、上述した樹脂層用組成物の調製方法と、樹脂層を形成する方法と同様の方法をそれぞれ挙げることができる。【００８８】
上記防眩層の層厚みは、１〜１０μｍであることが好ましい。１μｍ未満であると、防眩性を好適に付与することができないおそれがある。１０μｍを超えると、カールやクラックなどが生じるおそれがある。
上記層厚みは、光学積層体の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより測定して得られた値である。【００８９】
また、本発明の光学積層体は、反射防止性の向上を図ることができることから、上記樹脂層上に低屈折率層を有することが好ましい。
上記低屈折率層は、外部からの光（例えば蛍光灯、自然光等）が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。低屈折率層としては、好ましくは１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれか構成される。フッ素樹脂以外の樹脂については、上述した樹脂層を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
また、上述したシリカは、中空シリカ微粒子であることが好ましく、このような中空シリカ微粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は３０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
また、上記低屈折率層は単層で効果が得られるが、より低い最低反射率、あるいはより高い最低反射率を調整する目的で、低屈折率層を２層以上設けることも適宜可能である。上記２層以上の低屈折率層を設ける場合、各々の低屈折率層の屈折率及び厚みに差異を設けることが好ましい。【００９０】
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物として特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。【００９１】
上記電離放射線で硬化する官能基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとしては、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等もある。【００９２】
上記熱硬化する極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等が挙げられる。
上記電離放射線で硬化する官能基と熱硬化する極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。【００９３】
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。【００９４】
更には、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。【００９５】
また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、上記樹脂層に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。【００９６】
上記低屈折率層の形成においては、上記低屈折率剤及び樹脂等を添加してなる低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｍＰａ・ｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｍＰａ・ｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止層を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ、密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。【００９７】
樹脂の硬化手段は、上述した樹脂層で説明したのと同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。【００９８】
低屈折率層の層厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（１）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）    （１）
（上記式中、
ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。【００９９】
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（２）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５        （２）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。【０１００】
本発明の光学積層体は、上述した光透過性基材、樹脂層、防眩層の他に、他の任意の層を有していてもよい。上記任意の層としては、防汚層、高屈折率層、中屈折率層等を挙げることができる。これらの層は、公知の高屈折率剤、防汚剤等と樹脂及び溶剤等とを混合して、公知の方法により形成するとよい。【０１０１】
本発明の光学積層体は、硬度が、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、２Ｈ以上であることが好ましい。【０１０２】
また、本発明の光学積層体は、樹脂層の表面抵抗値（製造直後の初期値）が１×１０１２Ω／□未満であることが好ましい。１×１０１２Ω／□以上であると、目的とする帯電防止性能が発現しなくなるおそれがある。上記表面抵抗値は、１×１０１１Ω／□未満であることがより好ましく、１×１０１０Ω／□未満であることが更に好ましい。
なお、上記表面抵抗値は、表面抵抗値測定器（三菱化学製、製品番号；Ｈｉｒｅｓｔａ  ＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて測定することができ、プローブにはＵＲプローブを用い、印加電圧は５００Ｖに設定した。【０１０３】
また、本発明の光学積層体は、耐光性試験（フェードメーター、ＦＡＬ−ＡＵ−Ｂ  スガ試験機社製）１００時間後における最表面の初期表面抵抗値が１×１０１２Ω／□未満であることが好ましい。１×１０１２Ω／□以上であると、本発明の光学積層体の耐紫外線性や耐酸化性といった耐光性が不充分となることがある。上記耐光性試験後の表面抵抗値は、１×１０１１Ω／□未満であることがより好ましく、１×１０１０Ω／□未満であることが更に好ましい。
なお、上記フェードメーターは、周囲温度が２３℃、湿度６５％の場所に設置した。サンプルサイズは、試料ホルダーに合わせて本発明の光学積層体をカットし、サンプルの樹脂層側面を光源側にして、押さえ板とバネとを用いて固定した。照射強度は３００〜４００nmの範囲では３６６Ｗ／ｍ２、４００〜７００nmの範囲では１３４Ｗ／ｍ２にて試験を実施した。【０１０４】
本発明の光学積層体は、全光線透過率が８７．０％以上であることが好ましい。８７．０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記全光線透過率は、８９．０％以上であることがより好ましい。
なお、上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ  Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。【０１０５】
本発明の光学積層体は、コントラスト比が８０％以上であることが好ましく、より好ましくは８５％以上である。８０％未満であると、本発明の光学積層体をディスプレイ表面に装着した場合において視認性を損なう恐れがある。なお、本明細書における、上記コントラスト比は、以下の方法により測定された値である。なお、以下の方法により測定されたコントラスト比が８０％以上であることで、一般の画像表示装置に対する画像コントラストの要求を満たすことができる。
すなわち、バックライトユニットとして冷陰極管光源に拡散板を設置したものを用い、２枚の偏光板（サムスン社製  ＡＭＮ−３２４４ＴＰ）を用い、該偏光板をパラレルニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬｍａｘを、クロスニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬｍｉｎで割った値（Ｌｍａｘ／Ｌｍｉｎ）をコントラストとし、光学積層体（光透過性基材＋樹脂層等）を、光透過性基材が偏光板側となるように配置し、樹脂層側より上記ＬｍａｘとＬｍｉｎとをそれぞれ測定して光学積層体のコントラスト（Ｌ１）を求める。次に、光透過性基材を上記偏光板上に配置し、上記ＬｍａｘとＬｍｉｎとをそれぞれ測定して光透過性基材のコントラスト（Ｌ２）を求める。そして、このようにして求めた（Ｌ１）を（Ｌ２）で割った値（Ｌ１／Ｌ２）×１００（％）をコントラスト比とする。
なお、上記輝度の測定には、色彩輝度計（トプコン社製  ＢＭ−５Ａ）を用い、色彩輝度計の測定角は、１°に設定し、サンプル上の視野φ５ｍｍで測定する。また、バックライトの光量は、サンプルを設置しない状態で、２枚の偏光板をパラレルニコルに設置したときの輝度が３６００ｃｄ／ｍ２になるように設置する。【０１０６】
本発明の光学積層体を製造する方法としては、上記樹脂層用組成物を使用して樹脂層を形成する工程を有する方法が挙げられる。
上記樹脂層用組成物は、バインダー樹脂、ポリチオフェン類、導電補助剤、レベリング剤及び溶剤を含有する。
このような本発明の光学積層体を製造する方法もまた、本発明の一つである。
上記光透過性基材、上記樹脂層用組成物、及び、上記樹脂層を形成する方法は、上述した通りである。【０１０７】
本発明の光学積層体を製造する方法は、具体的には、光透過性基材上に上記樹脂層用組成物を用いて樹脂層を形成する工程、及び、必要に応じて樹脂層上に低屈折率層を形成する工程を有する方法が挙げられる。また、上記下地凹凸層上に樹脂層を有する構成の場合、下地凹凸層を形成する工程、及び、上記下地凹凸層上に上記樹脂層を形成する工程を有する方法が挙げられる。上記樹脂層、低屈折率層及び下地凹凸層を形成する方法は、上述した通りである。【０１０８】
本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、上記光学積層体の、光透過性基材の上記樹脂層が存在する面と反対側の面側を、設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板もまた本発明の一つである。【０１０９】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と上記光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。また、粘着剤を使用して接着させてもよい。上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン粘着剤、シリコーン系粘着剤、又は、水系粘着剤等を挙げることができる。【０１１０】
本発明の光学積層体及び上記偏光板は、画像表示装置の最表面に備えることができる。このような画像表示装置もまた本発明の一つである。
上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。【０１１１】
上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、上記光学積層体又は上記偏光板が形成されてなるものである。【０１１２】
本発明の光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の光透過性基材側から照射される。なお、ＳＴＮ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。【０１１３】
上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極及び、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。【０１１４】
上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。【０１１５】
本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、携帯電話などのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ、タッチパネル、電子ペーパーなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。  
【発明の効果】
【０１１６】
本発明の光学積層体は、上記構成よりなるので、従来の物理特性及び光学特性を有しつつ、帯電防止性に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に画像のコントラストが高く、更に、耐紫外線性及び耐酸化性に優れたものとすることができる。このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】導電補助剤として鎖状ＡＴＯを含む樹脂層を備えた本発明の光学積層体の断面ＳＥＭ写真である。
【図２】θａの測定方法の説明図である。
【図３】本発明の光学積層体における樹脂層を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明の光学積層体における樹脂層を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の光学積層体における樹脂層を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０１１８】
以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。
【０１１９】
（実施例１）
光透過性基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フィルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を準備し、該光透過性基材の片面に、下記に示した組成の樹脂層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜を温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、４μｍ厚み（硬化時）の樹脂層を形成し、実施例１に係る光学積層体を作製した。
（樹脂層用組成物）
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（有機溶剤分散型ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルホン酸）(ＣＬＥＶＩＯＳ  Ｐ、Ｈ．Ｃ．シュタルク社製)  ０．５質量部
鎖状ＡＴＯ（Ｖ−３５６０；鎖状ＡＴＯ分散液（不揮発分２０．５％）、
日揮触媒化成工業社製）  １．２質量部
ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７、６官能、重量平均分子量１０００（固形分中の６０％ＰＥＴＡを含有）、荒川化学工業社製）  ５０．０質量部
アクリルエステル（Ｍ−４５０、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、東亜合成社製）  ４５．０質量部
エポキシアクリレート  (ヒタロイド７８５１、日立化成工業社製)
５．０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・ジャパン社製）  ６．０質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）  １．０質量部
ＭＩＢＫ  １５０．０質量部
ｎ−ＢｕＯＨ  １００．０質量部
【０１２０】
（実施例２）
鎖状ＡＴＯに代えて、カーボンナノチューブ（ＶＧＣＦ−Ｘ、昭和電工社製）を０．０１質量部配合して調製した樹脂層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして実施例２に係る光学積層体を作製した。
【０１２１】
（実施例３）
鎖状ＡＴＯに代えて、ＡＴＯ（ＸＪＢ−００１４、ペルノックス社製、不揮発分３０．０％）を１．２質量部配合して調製した樹脂層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして実施例３に係る光学積層体を作製した。
【０１２２】
（実施例４）
光透過性基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フィルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を準備し、該光透過性基材の片面に、下記に示した組成の樹脂層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜を温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、６μｍ厚み（硬化時）で、表面に凹凸形状を有する樹脂層を形成し、実施例４に係る光学積層体を作製した。
（樹脂層用組成物）
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（有機溶剤分散型ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルホン酸）(ＣＬＥＶＩＯＳ  Ｐ、Ｈ．Ｃ．シュタルク社製)  ０．５質量部
鎖状ＡＴＯ（Ｖ−３５６０；鎖状ＡＴＯ分散液（不揮発分２０．５％）、日揮触媒化成工業社製）  １．２質量部
ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７、６官能、重量平均分子量１０００（固形分中の６０％ＰＥＴＡを含有）、荒川化学工業社製）  ５０．０質量部
アクリルエステル（Ｍ−４５０、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、東亜合成社製）  ４５．０質量部
エポキシアクリレート  (ヒタロイド７８５１、日立化成工業社製)
５．０質量部
スチレン−アクリル共重合体微粒子（平均粒径３．５μｍ、屈折率１．５４、積水化成品工業社製）  １０．０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・ジャパン社製）  ６．０質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）  １．０質量部
ＭＩＢＫ  １５０．０質量部
ｎ−ＢｕＯＨ  １００．０質量部
【０１２３】
（実施例５、６）
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの配合量、導電補助剤種、及び、導電補助剤の配合量を下記表１に示したように変更した以外は、実施例４と同様にして樹脂層の表面に凹凸形状を有する実施例５、６に係る光学積層体を、それぞれ作製した。
なお、表１の導電補助剤種中、「カーボンナノチューブ」は、ＶＧＣＦ−Ｘ（昭和電工社製）であり、「ＡＴＯ」は、ＸＪＢ−００１４（ペルノックス社製、不揮発分３０．０％）である。
【０１２４】
【表１】
2011142433.tif 000004
【０１２５】
（比較例１）
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを配合せず、導電補助剤の配合量を下記表２に示したように変更した以外は、実施例１と同様にして樹脂層を形成し、比較例１に係る光学積層体を作製した。
【０１２６】
（実施例７〜１８、比較例２〜４、６、実験例１〜８）
光透過性基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フィルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を準備し、該光透過性基材の片面に、下記に示した組成の下地凹凸層用組成物を塗布し塗膜を形成した。
（下地凹凸層用組成物）
アクリル−スチレン共重合体ビーズ（粒径５μｍ、屈折率１．５５、綜研化学社製）  １５質量部
不定形シリカ  ＮＩＰＧＥＬ（ＡＺ−２０４、平均粒径１．５μｍ、東ソー・シリカ社製）  ５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ、ＰＥＴ−３０、日本化薬社製)  １００質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）  ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・ジャパン社製）  １質量部
ポリエーテル変性シリコーン（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）  ０．０２５質量部
トルエン  １５０質量部
シクロヘキサノン  ８０質量部
【０１２７】
次いで、形成した塗膜を温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が３０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、樹脂のみからなる部分の厚みが３μｍ（硬化時）の下地凹凸層を形成した。
【０１２８】
更に形成した下地凹凸層の上層として、樹脂層用組成物のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの配合量、導電補助剤種、及び、導電補助剤の配合量を下記表２に示したように変更した以外は、実施例１と同様にして樹脂層を形成し、各実施例、比較例及び実験例に係る光学積層体を作製した。
なお、表２の導電補助剤種中、「ＣＮＴ」は、カーボンナノチューブ（ＶＧＣＦ−Ｘ（昭和電工社製））であり、「ＡＴＯ」は、ＸＪＢ−００１４（ペルノックス社製、不揮発分３０．０％）である。
【０１２９】
（比較例５、実験例９、１０）
レベリング剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして比較例５に係る樹脂層用組成物を調製した。
また、エポキシアクリレートを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして実験例９に係る樹脂層用組成物を調製し、バインダー樹脂としてペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ、ＰＥＴ−３０、日本化薬社製）のみを用いた以外は、実施例１と同様にして実験例１０に係る樹脂層用組成物を調製した。
得られた各樹脂層用組成物を用いた以外は、実施例１２と同様にして比較例７、実験例９及び実験例１０に係る光学積層体を作製した。
【０１３０】
【表２】
2011142433.tif 000005
【０１３１】
（実施例１９）
光透過性基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フィルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を準備し、該光透過性基材の片面に、下記に示した組成の樹脂層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜を温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、６μｍ厚み（硬化時）で、表面に凹凸形状を有する樹脂層を形成し、実施例１９に係る光学積層体を作製した。
【０１３２】
（樹脂層用組成物）
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（有機溶剤分散型ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルホン酸）(ＣＬＥＶＩＯＳ  Ｐ、Ｈ．Ｃ．シュタルク社製)  ０．５質量部
鎖状ＡＴＯ（Ｖ−３５６０；鎖状ＡＴＯ分散液（不揮発分２０．５％）、日揮触媒化成工業社製）  １．２質量部
ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７、６官能、重量平均分子量１０００（固形分中の６０％ＰＥＴＡを含有）、荒川化学社製）  ５０．０質量部
アクリルエステル（Ｍ−４５０、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、東亜合成社製）  ４５．０質量部
エポキシアクリレート (ヒタロイド７８５１、日立化成工業社製)
５．０質量部
スチレン−アクリル共重合体微粒子（平均粒径３．５μｍ、屈折率１．５４、積水化成品工業社製）  １０．０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・ジャパン社製）  ６．０質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）  １．０質量部
ＭＩＢＫ  １５０．０質量部
ｎ−ＢｕＯＨ  １００．０質量部
【０１３３】
得られた樹脂層の最表面に、下記組成の低屈折率層用組成物を、乾燥後（４０℃×１分）の膜厚が０．１μｍとなるように塗布した。そして、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、実施例１９に係る光学積層体を得た。膜厚は、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように調整して行った。
【０１３４】
（低屈折率層用組成物）
中空シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分：２０質量％、溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒径：５０ｎｍ）  ７３質量部
フッ素原子含有ポリマー（ＪＳＲ社製；オプスターＪＮ３５、屈折率１．４１、重量平均分子量３万）  固形分換算で１質量部
フッ素原子含有モノマー（共栄社化学製；ＬＩＮＣ３Ａ、屈折率１．４２）
７質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ、ＰＥＴ−３０、日本化薬社製）  ２質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・ジャパン社製）  ０．３５質量部
変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製）
０．５質量部
変性シリコーンオイル（ＦＭ７７１１；チッソ社製）  ０．５質量部
ＭＩＢＫ  ３２０質量部
ＰＧＭＥＡ  １６１質量部
【０１３５】
（実施例２０、２１）
樹脂層用組成物の導電補助剤種、及び、導電補助剤の配合量を下記表３に示したように変更した以外は、実施例１９と同様にして樹脂層を形成し、該樹脂層の最表面に実施例１９と同様の条件で低屈折率層を形成して実施例２０、２１に係る光学積層体を作製した。
なお、表３の導電補助剤種中、「カーボンナノチューブ」は、ＶＧＣＦ−Ｘ（昭和電工社製）であり、「ＡＴＯ」は、ＸＪＢ−００１４（ペルノックス社製、不揮発分３０．０％）である。
【０１３６】
（実施例２２）
光透過性基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フィルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を準備し、該光透過性基材の片面に、下記に示した組成の樹脂層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜を温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、４μｍ厚み（硬化時）の樹脂層を形成した。
次いで、得られた樹脂層の最表面に実施例１９と同様の条件で低屈折率層を形成して実施例２２に係る光学積層体を作製した。
（樹脂層用組成物）
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（有機溶剤分散型ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルホン酸）(ＣＬＥＶＩＯＳ  Ｐ、Ｈ．Ｃ．シュタルク社製)  ０．５質量部
鎖状ＡＴＯ（Ｖ−３５６０；鎖状ＡＴＯ分散液（不揮発分２０．５％）、
日揮触媒化成工業社製）  １．２質量部
ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７、６官能、重量平均分子量１０００（固形分中の６０％ＰＥＴＡを含有）、荒川化学社製）  ５０．０質量部
アクリルエステル（Ｍ−４５０、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、東亜合成社製）  ４５．０質量部
エポキシアクリレート  (ヒタロイド７８５１、日立化成工業社製)
５．０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・ジャパン社製）  ６．０質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）  １．０質量部
ＭＩＢＫ  １５０．０質量部
ｎ−ＢｕＯＨ  １００．０質量部
【０１３７】
（実施例２３、２４）
樹脂層用組成物の導電補助剤種、及び、導電補助剤の配合量を下記表３に示したように変更した以外は、実施例２２と同様にして樹脂層を形成し、該樹脂層の最表面に実施例１９と同様の条件で低屈折率層を形成して実施例２３、２４に係る光学積層体を作製した。
なお、表３の導電補助剤種中、「カーボンナノチューブ」は、ＶＧＣＦ−Ｘ（昭和電工社製）であり、「ＡＴＯ」は、ＸＪＢ−００１４（ペルノックス社製、不揮発分３０．０％）である。
【０１３８】
（実施例２５）
光透過性基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フィルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を準備し、該光透過性基材の片面に、下記に示した組成の下地凹凸層用組成物を塗布し塗膜を形成した。
（下地凹凸層用組成物）
アクリル−スチレン共重合体ビーズ（粒径５μｍ、屈折率１．５５、綜研化学社製）  １５質量部
不定形シリカ  ＮＩＰＧＥＬ（ＡＺ−２０４、平均粒径１．５μｍ、東ソー・シリカ社製）  ５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ、ＰＥＴ−３０、日本化薬社製)  １００質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）  ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・ジャパン社製）  １質量部
ポリエーテル変性シリコーン（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）  ０．０２５質量部
トルエン  １５０質量部
シクロヘキサノン  ８０質量部
【０１３９】
次いで、形成した塗膜を温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が３０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、樹脂のみからなる部分の厚みが３μｍ（硬化時）の下地凹凸層を形成した。
【０１４０】
次に、形成した下地凹凸層の上層として、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの配合量、導電補助剤種、及び、導電補助剤の配合量を下記表３に示したように変更した以外は、実施例１と同様にして樹脂層を形成した。
更に、形成した樹脂層の最表面に実施例１９と同様の条件で低屈折率層を形成して実施例２５に係る光学積層体を作製した。
【０１４１】
（実施例２６、２７）
樹脂層用組成物のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの配合量、導電補助剤種、及び、導電補助剤の配合量を下記表３に示したように変更した以外は、実施例２５と同様にして下地凹凸層及び樹脂層を形成した。次いで、形成した樹脂層の最表面に実施例１９と同様の条件で低屈折率層を形成して実施例２６、２７に係る光学積層体を作製した。
なお、表３の導電補助剤種中、「カーボンナノチューブ」は、ＶＧＣＦ−Ｘ（昭和電工社製）であり、「ＡＴＯ」は、ＸＪＢ−００１４（ペルノックス社製、不揮発分３０．０％）である。
【０１４２】
【表３】
2011142433.tif 000006
【０１４３】
得られた実施例１〜２７、比較例１〜６及び実験例１〜１０に係る光学積層体を下記項目について評価した。評価結果を表４及び表５に示した。
【０１４４】
（表面抵抗値）
得られた光学積層体の樹脂層が形成された表面の表面抵抗値について、表面抵抗値測定器（三菱化学社製、製品番号；Ｈｉｒｅｓｔａ  ＩＰ  ＭＣＰ−ＨＴ２６０）を使用して、製造直後の初期表面抵抗値を測定した。また、得られた光学積層体について、耐光性評価として、フェードメーター（ＦＡＬ−ＡＵ−Ｂ、スガ試験機社製）を用いた１００時間後の表面抵抗値を測定した。
【０１４５】
（コントラスト比）
コントラスト比の測定では、バックライトユニットとして冷陰極管光源に拡散板を設置したものを用い、２枚の偏光板（サムスン社製  ＡＭＮ−３２４４ＴＰ）を用い、該偏光板をパラレルニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬｍａｘを、クロスニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬｍｉｎで割ることで、光学積層体（光透過性基材＋樹脂層）のコントラスト（Ｌ１）と、光透過性基材のコントラスト（Ｌ２）を求め、（Ｌ１／Ｌ２）×１００（％）を算出することでコントラスト比を算出した。
なお、輝度の測定には、色彩輝度計(トプコン社製  ＢＭ−５Ａ)を用いた。色彩輝度計の測定角は１°に設定し、サンプル上の視野φ５ｍｍで測定した。バックライトの光量は、サンプルを設置しない状態で、２枚の偏光板をパラレルニコルに設置したときの輝度が３６００ｃｄ／ｍ２になるように設置した。
【０１４６】
（全光線透過率）
各光学積層体の全光線透過率ついて、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ  Ｋ−７３６１（全光線透過率）に準拠した方法により測定した。
【０１４７】
（生産安定性）
各実施例、比較例、実験例で調製した各組成物を用いて、１ｍ２四方を超える大判のサイズで塗布し、面内の任意の位置を１ｍ２四方に切り取り、更にそれら１ｍ２四方のシートを正方形状に４分割した各枚葉サンプルの任意の位置について、上述した表面抵抗値の評価と同様の方法で初期表面抵抗値を測定し、各々の測定値を元に下記の判断基準に基づき評価した。
○：表面抵抗値のオーダーが１桁異なる箇所が１箇所以下であった
△：表面抵抗値のオーダーが１桁異なる箇所が２箇所存在した
×：表面抵抗値のオーダーが２桁以上異なる箇所が存在した
【０１４８】
（総合判定）
初期表面抵抗値及び耐光性試験後の表面抵抗値、コントラスト比並びに全光線透過率について、総合判定用の個別評価を以下の記述に基づいて行い、各実施例、比較例、実験例に係る光学積層体の総合判定を、下記に従って行った。
（個別評価）
（１）初期表面抵抗値及び耐光性試験後の表面抵抗値
○：１×１０１１Ω／□オーダー未満
△：１×１０１２Ω／□オーダー未満
×：１０１２Ω／□オーダー以上
（２）コントラスト比
○：８５％以上
△：８０％以上８５％未満
×：８０％未満
（３）全光線透過率
○：８９％以上
△：８７％以上８９％未満
×：８７％未満
（総合判定）
○：個別評価及び生産安定性の全てが○
△：個別評価及び生産安定性のうち、△が一つでも存在する
×：個別評価及び生産安定性のうち、×が一つでも存在する
【０１４９】
【表４】
2011142433.tif 000007
【０１５０】
【表５】
2011142433.tif 000008
【０１５１】
表４、５に示したように、導電補助剤固有の好適な含有範囲の近傍であれば、初期表面抵抗値、耐光性試験後の表面抵抗値、コントラスト比、全光線透過率値は、導電補助剤の種類によらず同様の傾向を示した。
また、表４、５に示したように、実施例の光学積層体は、いずれも優れた光学特性を保持しつつ、耐光性、帯電防止性に優れ、所望の高いコントラストが得られた。また、１層品と２層品及びこれらに低屈折率層を設けた仕様に関して、これらの間で効果についての大きな差異は見られなかった。
また、防眩性機能を有する実施例４〜２１、２５〜２７及び実験例１〜１０に係る光学積層体は、いずれも表面凹凸形状が、５０μｍ＜Ｓｍ＜６００μｍ、０．１°＜θａ＜１．５°０．０２μｍ＜Ｒａ＜０．２５μｍ、及び、０．３０μｍ＜Ｒｚ＜２．００μｍの各要件を満たし、優れた光学性能を有するものであった。
更に、低屈折率層を設けた実施例１９〜２７に係る光学積層体は、いずれも最低反射率が０．８〜１．１％と極めて小さい値となり、更に優れた光学性能を有していた。
一方、比較例１〜４に係る光学積層体は、ポリチオフェン類が含有されていなかったため、初期表面抵抗値の結果が悪く帯電防止性が不充分であった。また、比較例６に係る光学積層体は、導電補助剤が含有されていなかったため、初期及び耐光性試験後の表面抵抗値の結果が悪く帯電防止性が不充分であり、また、生産安定性にも劣るものであった。また、レベリング剤が含有されていなかった比較例５に係る光学積層体は、ポリチオフェン類が樹脂層の最表層付近に局在したほか、導電補助剤も本発明における好適な位置に配置されなかったため、初期表面抵抗値は、通常よりも良い結果を得たが、耐光性試験後の表面抵抗値が不充分であり、また、生産安定性にも劣るものであった。なお、その他、実験例１０を除く、全ての実施例及び実験例については、ポリチオフェン類と導電補助剤が本発明における好適な位置に配置されており、初期及び耐光性試験後の表面抵抗値に関し充分な値を得た。
ポリチオフェン類の含有量が少ない実験例１に係る光学積層体は、初期及び耐光性試験後の表面抵抗値の結果が悪く、充分な帯電防止性が得られず、逆にポリチオフェン類が多い実験例２に係る光学積層体は、所望の高いコントラストが得られなかった。また、導電補助剤の少ない実験例３、５、７に係る光学積層体は、初期及び耐光性試験後の表面抵抗値の結果が悪く、帯電防止性が不充分であり、逆に導電補助剤の含有量が多い実験例４、６、８に係る光学積層体は、所望の高いコントラスト、又は、所望の高い全光線透過率が得られなかった。また、プロトン性官能基を有する添加剤（エポキシアクリレート）を用いなかった実験例９に係る光学積層体は、ポリチオフェン類の分散性及び安定性がやや劣り、初期及び耐光性試験後の表面抵抗値に関しやや劣る結果となった。また、バインダー樹脂として極性の高い疎水性樹脂であるＰＥＴＡのみを用いた実験例１０に係る光学積層体は、初期表面抵抗が不充分であった。
【産業上の利用可能性】
【０１５２】
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー等に好適に適用することができる。
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図１】
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【国際調査報告】
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