(57)【要約】  本発明は、ＰＰＡＲ活性化作用とアンジオテンシン受容体拮抗作用を併せ持つ化合物を見出すことを課題とする。  本発明は、一般式（Ｉ）2011142381.tif 000263（式中、Ａは、ビフェニルメチルイミダゾリル基、ビフェニルメチルベンゾイミダゾリル基等であり、Ｂは、２価のベンゾイミダゾリル基等であり、Ｃはカルボキシル基等であり、Ｅは  ２価のフェニル基、ナフチル基等であり、Ｇは結合手、酸素原子等であり、Ｑは酸素原子又は硫黄原子であり、ｎは１乃至６の整数であり、ｐは１乃至６の整数であり、Ｖは結合手、酸素原子等であり、Ｒは水素原子、アルキル基等である。）を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類である。
2011142381.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１７１】
2011142381.tif 000208
［式中、
Ａは、以下の（ａ）〜（ｇ）：
（ａ）式  
【化１７２】
2011142381.tif 000209
（式中、Ｒａ１は、以下の（ｉ）〜(ｖｉｉｉ)：
（ｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、（ｖ）式  −Ｎ（Ｒａ３）（Ｒａ４）（式中、Ｒａ３は（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、又は（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示し、Ｒａ４は水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を示す。）を有する基、（ｖｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基、（ｖｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルオキシ基、又は（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルチオ基を示し、
Ｒａ２は、以下の（ｉ）〜（ｘｉｉ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルバモイル基、（ｖｉｉｉ）アミノ基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニルアミノ基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ６ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、又は（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示し、
Ｄは、以下の（ｉ）〜（ｘｉ）：
（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）式
【化１７３】
2011142381.tif 000210
（式中、Ｌａ及びＬｂは、同一または異なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。）を有する基、（ｉｖ）式
【化１７４】
2011142381.tif 000211
（式中、Ｌｃは酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒａ３）−（式中、Ｒａ３は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−  を有する基、（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基、（ｖｉｉ）式
【化１７５】
2011142381.tif 000212
を有する基、（ｖｉｉｉ）ホルミルアミノスルホニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニルアミノスルホニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニルアミノスルホニル基、（ｉｘ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリールカルボニルアミノスルホニル基、（ｘ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニルアミノスルホニル基、又は（ｘｉ）スルホ基を示す。）を有する基；
（ｂ）式
【化１７６】
2011142381.tif 000213
（式中、Ｄ及びＲａ１は上記したものと同意義を示し、式
【化１７７】
2011142381.tif 000214
を有する基は、置換基Ｒａ５を有してもよく、酸素原子、硫黄原子、式  ＝Ｎ−Ｒａ３基（式中、Ｒａ３は前述したものと同意義を示す。）及びスルホン（−Ｓ（Ｏ）２−）基から選択される原子又は／及び基を１乃至２個含有していてもよく、炭素原子がオキソ基、Ｃ１−Ｃ６アルキリデン基、Ｃ１−Ｃ６アルキルイミノ基、ヒドロキシイミノ基、又はＣ１−Ｃ６アルコキシイミノ基で置換されていてもよい、３価の６員環不飽和炭化水素基を示し、Ｒａ５は（ｉ）上記のＲａ２基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｖ）Ｃ６−Ｃ１０アリールオキシ基、又は（ｖｉ）Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ基を示す。）を有する基；
（ｃ）式
【化１７８】
2011142381.tif 000215
（式中、Ｄ、Ｒａ１及びＲａ５は上記したものと同意義を示す。）を有する基；
（ｄ）式
【化１７９】
2011142381.tif 000216
（式中、Ｄ及びＲａ１は上記したものと同意義を示し、Ｒａ６は水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を示す。）を有する基；
（ｅ）式
【化１８０】
2011142381.tif 000217
（式中、Ｄ及びＲａ１は上記したものと同意義を示し、Ｒａ７は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、又はＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基を示す。）を有する基；
（ｆ）式
【化１８１】
2011142381.tif 000218
（式中、Ｄ及びＲａ１は上記したものと同意義を示し、Ｒａ８は水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を示し、Ｌｄは、式  ＝ＣＨ−基又は式  ＝Ｎ−基を示す。）を有する基；又は
（ｇ）式
【化１８２】
2011142381.tif 000219
（式中、Ｄは上記したものと同意義を示し、Ｒａ９はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、又はＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基を示す。）を有する基を示し、
Ｂは、式
【化１８３】
2011142381.tif 000220
（式中、Ｒａ３は上記したものと同意義を示し、Ｔは式  ＝ＣＨ−基又は式  ＝Ｎ−基を示す。）を有する基を示し、また、Ｂは、Ｅと（又はＧと）、イミダゾール環部分又はベンゼン若しくはピリジン環部分で結合し、
Ｃは、以下の（ａ）〜（ｄ）：
（ａ）カルボキシル基；
（ｂ）式
【化１８４】
2011142381.tif 000221
（式中、Ｌａは上記したものと同意義を示し、Ｌｅは、式  ＝ＣＨ−基又は式  ＝Ｎ−基を示し、Ｌｅが式  ＝Ｎ−基を示すときは、Ｌａは酸素原子を示す。）を有する基；
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１及びＲｃ２は、同一又は異なって、以下の（ｉ）〜（ｖｉｉｉ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールスルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基を示し、但し、後述するＷｃ１が酸素原子又は硫黄原子を示すときは、Ｒｃ１及びＲｃ２は上記の、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、又は（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示し、
Ｗｃ１は、以下の（ｉ）〜（ｉｉｉ）：
（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  −Ｎ（Ｒｃ３）−（式中、Ｒｃ３は、以下の（ｉ）〜（ｘｉｉｉ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｖｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分αを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、（ｘ）後述する置換分α（但し、置換分αのうち、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、又は（ｖｉｉ）ニトロ基は除く。）１乃至２個で置換されていてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｘｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基を示す。）を有する基；又は、
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２は、以下の（ｉ）〜（ｘｉｉｉ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｖｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分αを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、（ｘ）後述する置換分α（但し、置換分αのうち、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、又は（ｖｉｉ）ニトロ基は除く。）１乃至２個で置換されていてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｘｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基を示す。）を有する基を示し、
Ｅは、以下の（１）又は（２）：
（１）式
【化１８５】
2011142381.tif 000222
（式中、Ｒｅ１はＡｒ（アリール若しくはヘテロアリール環）の置換基であり、同一または異なって、０又は１乃至複数個（該複数はアリール若しくはヘテロアリール環が置換基を有し得る最大の数である）存在し、Ｒｅ１は後述する置換分αを示し、Ｗｃ３は、以下の（ａ）〜（ｈ）：
（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す。）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は、以下の（ｉ）〜（ｘｉｖ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールスルホニル基、（ｖｉｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｘ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｘｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、又は（ｘｉｖ）後述する置換分α（但し、置換分αのうち、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、又は（ｖｉｉ）ニトロ基は除く。）１乃至２個で置換されていてもよいカルバモイル基を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基、（ｇ）上記（ａ）乃至（ｆ）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基、又は（ｈ）結合手を示し、
Ｘｅ２は、以下の（ａ）〜（ｇ）：
（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ１０アルキレン基、（ｆ）式  −Ｗｃ４−Ｐｈｅ−Ｘｅ３−（式中、Ｗｃ４は、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有してもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手を示し、Ｐｈｅは、上記置換基Ｒｅ１を１乃至４個有していてもよいフェニレン基を示し、Ｘｅ３は、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手を示す。）を有する基、又は（ｇ）結合手を示し、
Ａｒはフェニレン基、ナフチレン基、又は酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至５個を含有する５乃至１０員環（単環若しくは縮環）ヘテロアリーレン基を示す。）を有する基；又は、
（２）式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−（式中、２個のＷｃ３は同一又は異なり、Ｗｃ３は上記したものと同意義を示し、Ｘｅ４は、以下の（ａ）〜（ｆ）：
（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ１０アルキレン基、又は（ｆ）結合手を示す。）を有する基を示し、但し、上記のＷｃ３、Ｘｅ２、Ｗｃ４、Ｘｅ３、Ｘｅ４及びそれらが形成する基において、（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは前述したものと同意義を示す。）を有する基及び（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）を有する基若しくは式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）を有する部分は、互いに、直接又は式  −ＣＨ２−基に隣接して、結合せず、
Ｇは、結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上述したものと同意義を示す。）を有する基を示し、
Ｑは、酸素原子又は硫黄原子を示し、
ｎは、１乃至６の整数を示し、
ｐは、１乃至６の整数を示し、
Ｖは、結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上述したものと同意義を示す。）を有する基を示し、
Ｒは、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、又は（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示し、
置換分αは、以下の（ｉ）〜（ｘｘｉｖ）：
（ｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、（ｖｉｉ）ニトロ基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基、（ｉｘ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｘ）アリール部分に，後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｘｉ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｘｉｖ）アリール部分に、後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｘｖ）後述する置換分βを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）後述する置換分β（但し、（ｉｉ）ハロゲン原子を除く。）１乃至２個で置換されていてもよいアミノ基、（ｘｉｘ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルコキシ基、（ｘｘ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシ基、（ｘｘｉ）アリール部分に、後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）アリール部分に、後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基を示し、
置換分βは、以下の（ｉ）〜（ｘｉ）：
（ｉ）Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）後述する置換分γを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分γを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）後述する置換分γを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｖｉｉ）アリール部分に、後述する置換分γを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分γを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、（ｘ）カルバモイル基、又は（ｘｉ）後述する置換分γを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルバモイル基を示し、
置換分γは、（ｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）ハロゲン原子、又は（ｉｖ）ヒドロキシ基を示す。］
を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２】
Ａが、
（ａ）式（ａ−１）
【化１８６】
2011142381.tif 000223
（式中、Ｒａ１が（ｉ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基、（ｉｉ）フッ素又は塩素で置換されたＣ２−Ｃ５アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ５アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ２−Ｃ５アルキルチオ基、（ｖ）式  −Ｎ（Ｒａ３）（Ｒａ４）（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ５アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基であり、Ｒａ４が水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基である。）を有する基、（ｖｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、（ｖｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルオキシ基、又は（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルチオ基である。）を有する基であり、
Ｒａ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルバモイル基、（ｖｉｉｉ）アミノ基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニルアミノ基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、又は（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、
Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基若しくは５−チオキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基、（ｉｖ）２，４−ジオキソオキサゾリジン−５−イル基若しくは２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−  を有する基、（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基、（ｖｉｉ）２−ヒドロキシ−３，４−ジオキソ−１−シクロブテニル基、（ｖｉｉｉ）アセチルアミノスルホニル基若しくはプロピオニルアミノスルホニル基、（ｉｘ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルアミノスルホニル基、又は（ｘ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルアセチルアミノスルホニル基である。）を有する基、
（ｂ）式（ｂ−１）
【化１８７】
2011142381.tif 000224
式（ｂ−２）
【化１８８】
2011142381.tif 000225
式（ｂ−３）
【化１８９】
2011142381.tif 000226
式（ｂ−４）
【化１９０】
2011142381.tif 000227
式（ｂ−５）
【化１９１】
2011142381.tif 000228
式（ｂ−６）
【化１９２】
2011142381.tif 000229
又は式（ｂ−７）
【化１９３】
2011142381.tif 000230
（上記式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルバモイル基、（ｖｉｉｉ）アミノ基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニルアミノ基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基若しくはヘキシル基、（ｘｉｖ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基、又は（ｘｖ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基であり、点線を含む結合が単結合又は二重結合であり、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、又は（ｉｖ）ベンジル基であり、Ｒａ３ａが（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基又は（ｉｖ）ベンジル基である。）を有する基、
（ｃ）式（ｃ−１）
【化１９４】
2011142381.tif 000231
（式中、Ｄがカルボキシル基又は５−テトラゾリル基であり、Ｒａ１がプロピル基、ブチル基、シクロプロピル基、又はエトキシ基であり、Ｒａ５が水素原子、塩素原子、カルボキシル基、カルバモイル基、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、トリフルオロメチル基、又はメトキシ基である）を有する基、
（ｄ）式（ｄ−１）
【化１９５】
2011142381.tif 000232
（式中、Ｄがカルボキシル基又は５−テトラゾリル基であり、Ｒａ１がプロピル基、ブチル基、シクロプロピル基、又はエトキシ基であり、Ｒａ６がメチル基又はエチル基である。）を有する基、
（ｅ）式（ｅ−１）
【化１９６】
2011142381.tif 000233
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ７が、水素原子、メチル基、エチル基、シクロプロピル基、又はシクロヘキシル基である。）を有する基、
（ｆ）式（ｆ−１）
【化１９７】
2011142381.tif 000234
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ８が、水素原子、メチル基、又はエチル基であり、Ｌｄが  式＝ＣＨ−又は  ＝Ｎ−基である。）を有する基、又は
（ｇ）式（ｇ−１）
【化１９８】
2011142381.tif 000235
（式中、Ｄが上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ９が、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基、又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である。）を有する基である、請求項１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項３】
Ａが、
（ａ）式（ａ−１）
【化１９９】
2011142381.tif 000236
（式中、Ｒａ１が（ｉ）Ｃ３−Ｃ５アルキル基、（ｉｉ）フッ素で置換されたＣ３−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ２−Ｃ４アルキルチオ基、（ｖ）式、−Ｎ（Ｒａ３）（Ｒａ４）（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルキル基であり、Ｒａ４が水素原子である。）を有する基、（ｖｉ）Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、（ｖｉｉ）シクロプロピルオキシ基、又は（ｖｉｉｉ）シクロプロピルチオ基である。）を有する基であり、
Ｒａ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ３アルキルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ３アルキルカルバモイル基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基若しくはアセチルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ３ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、又は（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基であり、及び
Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基、（ｉｖ）２，４−ジオキソオキサゾリジン−５−イル基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−を有する基、（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基、又は（ｖｉｉｉ）アセチルアミノスルホニル基である。）を有する基、
（ｂ）式（ｂ−１）
【化２００】
2011142381.tif 000237
式（ｂ−２）
【化２０１】
2011142381.tif 000238
式（ｂ−３）
【化２０２】
2011142381.tif 000239
式（ｂ−４）
【化２０３】
2011142381.tif 000240
式（ｂ−５）
【化２０４】
2011142381.tif 000241
式（ｂ−６）
【化２０５】
2011142381.tif 000242
又は式（ｂ−７）
【化２０６】
2011142381.tif 000243
（上記式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基若しくはアセチルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ２ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基若しくはヘキシル基、（ｘｉｖ）フッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ３アルキル基、又は（ｘｖ）Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基であり、点線を含む結合が単結合又は二重結合であり、Ｒａ３が（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒａ３ａが（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基である。）を有する基、
（ｅ）式（ｅ−１）
【化２０７】
2011142381.tif 000244
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ７が、シクロヘキシル基である。）を有する基、
（ｆ）式（ｆ−１）
【化２０８】
2011142381.tif 000245
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ８が、水素原子又はメチル基であり、Ｌｄが  式  ＝Ｎ−基である。）を有する基、又は
（ｇ）式（ｇ−１）
【化２０９】
2011142381.tif 000246
（式中、Ｄが上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ９が、Ｃ２−Ｃ４アルキル基、フッ素で置換されたＣ３−Ｃ４アルキル基、又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である。）を有する基である、請求項１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項４】
Ａが、
（ａ）式（ａ−１）
【化２１０】
2011142381.tif 000247
（式中、Ｒａ１が（ｉ）プロピル、ブチル、ｉ−ブチル若しくはペンチル基、（ｉｉｉ）エトキシ若しくはプロポキシ基、（ｉｖ）エチルチオ若しくはプロピルチオ基、（ｖ）プロピルアミノ若しくはブチルアミノ基、（ｖｉ）シクロプロピル基、又は（ｖｉｉ）シクロプロピルオキシ基であり、Ｒａ２が、（ｉｉ）塩素原子若しくは臭素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル若しくはプロピオニル基、（ｖ）カルボキシル基、若しくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ若しくはブトキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基若しくはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、又は（ｘ）１−ヒドロキシエチル基若しくは１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基であり、Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−を有する基、又は（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基である。）を有する基、又は
（ｂ）式（ｂ−１）
【化２１１】
2011142381.tif 000248
式（ｂ−２）
【化２１２】
2011142381.tif 000249
式（ｂ−６）
【化２１３】
2011142381.tif 000250
又は式（ｂ−７）
【化２１４】
2011142381.tif 000251
（上記式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるもの同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）フッ素原子若しくは塩素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ３アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）Ｎ−メチル、Ｎ−エチル、Ｎ−ｉ−プロピル、Ｎ，Ｎ−ジメチル若しくはＮ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル基、（ｘｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｔ−ブチル若しくはヘキシル基、（ｘｉｖ）フルオロメチル若しくはトリフルオロメチル基、又は（ｘｖ）メトキシ、エトキシ、プロポキシ若しくはｉ−プロポキシ基であり、点線を含む結合が単結合又は二重結合であり、Ｒａ３が（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）メチル、エチル若しくはi‐プロピル基であり、Ｒａ３ａが（ｉｉ）メチル若しくはエチル基である。）を有する基である、請求項１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項５】
Ａが、
（ａ）式（ａ−１）
【化２１５】
2011142381.tif 000252
（式中、Ｒａ１が（ｉ）プロピル若しくはブチル基、（ｉｉｉ）エトキシ基、（ｉｖ）エチルチオ若しくはプロピルチオ基、（ｖ）プロピルアミノ基、又は（ｖｉ）シクロプロピル基であり、Ｒａ２が、（ｉｉ）塩素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル若しくはプロピオニル基、（ｖ）カルボキシル基、若しくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ若しくはブトキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）Ｎ−メチル、Ｎ−エチル若しくはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、又は（ｘ）１−ヒドロキシエチル基であり、Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、又は（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基である。）を有する基、又は
（ｂ）式（ｂ−１）
【化２１６】
2011142381.tif 000253
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）塩素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル基、（ｖ）カルボキシル基、メトキシカルボニル基若しくはエトキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）Ｎ−メチル若しくはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、（ｘｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル若しくはｔ−ブチル基、（ｘｉｖ）トリフルオロメチル基、又は（ｘｖ）メトキシ基である。）を有する基である、請求項１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項６】
Ａが、
（ａ）式（ａ−１）
【化２１７】
2011142381.tif 000254
（式中、Ｒａ１が（ｉ）プロピル若しくはブチル基、（ｉｉｉ）エトキシ基、又は（ｖｉ）シクロプロピル基であり、Ｒａ２が、（ｉｉ）塩素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル若しくはプロピオニル基、（ｖ）カルボキシル基、若しくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ若しくはｉ−プロポキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基又は（ｖｉｉ）Ｎ−メチル、Ｎ−エチル若しくはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基であり、Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、又は（ｉｉ）５−テトラゾリル基である。）を有する基、又は
（ｂ）式（ｂ−１）
【化２１８】
2011142381.tif 000255
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）塩素原子、（ｖ）カルボキシル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｘｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル若しくはｉ−プロピル基、（ｘｉｖ）トリフルオロメチル基、又は（ｘｖ）メトキシ基である。）を有する基である、請求項１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項７】
Ｂが、
式（ｂｂ−１）
【化２１９】
2011142381.tif 000256
（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ５アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がＣ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、フッ素、塩素、及びフッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ３アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル若しくはフェネチル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝又は  −Ｎ＝基であり、Ｂが、Ｅと（又はＧと）、イミダゾール環部分又はベンゼン若しくはピリジン環部分で結合する。）を有する基である、請求項１乃至６記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項８】
Ｂが、
式（ｂｂ−１）
【化２２０】
2011142381.tif 000257
（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝  又は  −Ｎ＝  基であり、Ｂが、Ｅと（又はＧと）、イミダゾール環部分又はベンジル若しくはピリジン環部分で結合する。）を有する基である、請求項１乃至６記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項９】
Ｂが、
式（ｂｂ−１）
【化２２１】
2011142381.tif 000258
（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル若しくはブチル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されてもよいベンジル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝又は  −Ｎ＝基であり、Ｂが、Ｅとベンゼン若しくはピリジン環部分で結合し、Ｇとイミダゾール環部分で結合する。）を有する基である、請求項１乃至６記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１０】
Ｂが、
式（ｂｂ−１）
【化２２２】
2011142381.tif 000259
（式中、Ｒａ３が（ｉｉ）メチル若しくはエチル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝基であり、Ｂが、Ｅとベンゼン若しくはピリジン環部分で結合し、Ｇとイミダゾール環部分で結合する。）を有する基である、請求項１乃至６記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１１】
Ｃが、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−スルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基であり、Ｒｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、ホルミル、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル、及びメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−スルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基であり、Ｗｃ１が（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  ＝Ｎ−Ｒｃ３（式中、Ｒｃ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基��（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基若しくはアクロイル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル若しくはナフチルカルボニル基、（ｖｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ４シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）メチル、エチル、メトキシ、フッ素及び塩素からなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル；Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル；及びフェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ２アルコシカルボニル基、（ｘｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、ベンジルオキシカルボニル基である。）を有する基である。）を有する基、又は
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル若しくはナフチルカルボニル基、（ｖｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）メチル、エチル、メトキシ、フッ素及び塩素からなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル；Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル；及びフェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、カルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェノキシ−若しくはナフチルオキシ−カルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基である。）を有する基である、請求項１乃至１０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１２】
Ｃが、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基であり、Ｒｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、フッ素、塩素、トリフルオロメチル、ホルミル、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル、及びメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ３アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルスルホニル基であり、Ｗｃ１が（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  ＝Ｎ−Ｒｃ３（式中、Ｒｃ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）ホルミル基若しくはアセチル基、（ｖｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｉｘ）メチル、メトキシ、フッ素若しくは塩素で置換されていてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘ）Ｃ１−Ｃ３アルキル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル；及びフェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フ��ニル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基である。）を有する基、又は
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及び若しくはトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル若しくはバレリル基、（ｖｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ５−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）メチル、メトキシ、フッ素若しくは塩素で置換されていてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ３アルキル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル；及びフェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基、（ｘｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基である。）を有する基である、請求項１乃至１０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１３】
Ｃが、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、又は（ｉｖ）ベンジル基であり、Ｒｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル若しくはブチル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素、トリフルオロメチル、及びメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メタン、エタン若しくはプロパンスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメタンスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルスルホニル基であり、Ｗｃ１が（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  ＝Ｎ−Ｒｃ３（式中、Ｒｃ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）ベンジル基、（ｖ）アセチル基、（ｖｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｉｘ）フリルカルボニル、チエニカルボニルル若しくはニコチノイル基、又は（ｘ）メチル及びエチル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル；及びフェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基である。）を有する基、又は
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）アセチル、プロピオニル、ブチリル若しくはバレリル基、（ｖｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｉｘ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）メトキシカルボニル基、（ｘｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基である。）を有する基である、請求項１乃至１０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１４】
Ｃが、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）（エトキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−ｔ−ブチルフェノキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−クロロフェノキシ）（カルボキシ）メチル基、（ベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−プロポキシベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（３−クロロベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−クロロベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−メトキシベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−ベンゾイルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（プロピルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（フェニルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（ベンジルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−エチル−Ｎ−ニコチノイルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（３−フェニルウレイド）（カルボキシ）メチル基、［１−ブチル−３−（３−ブロモベンジル）ウレイド］（カルボキシ）メチル基、［Ｎ−エチル−Ｎ−（４−メトキシベンジルカルボニル）アミノ］（カルボキシ）メチル基若しくは（２−ベンゾイルフェニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、又は
（ｄ）Ｎ−（４−メトキシフェノキシカルボニル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−（４−クロロベンジル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−フェノキシカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−(３−トリフルオロメチルベンゾイル)−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−ベンジルカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−バレリル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−（Ｎ−ベンジルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基若しくはＮ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基である、請求項１乃至１０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１５】
Ｃが、
（ａ）カルボキシル基、（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル基、（ｃ）（４−クロロベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、又は（ｄ）Ｎ−フェノキシカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基である、請求項１乃至１０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１６】
Ｅが、
（１）式  （ｄ−１）
【化２２３】
2011142381.tif 000260
（式中、Ｒｅ１が、同一または異なって、０又は１乃至３個存在し、Ｒｅ１が（ｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、（ｖｉｉ）ニトロ基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、（ｉｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｘ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−又はナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル基若しくはナフチルカルボニル基、（ｘｉｖ）アリール部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｘｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル又はピラジニルカルボニル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニルカルバモイル基若しくはナフチルカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキル及びＣ１−Ｃ４アルコキシ；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル及びナフチル；フェニル若しくはナフチル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−及びナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル；ホルミル、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル及びアクリロイル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル及びナフチルカルボニル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される置換基を１乃至３個有していてもよい、フェニル−及びナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル；Ｃ３−Ｃ４シクロアルキルカルボニル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル及びピラジニルカルボニル；カルバモイル；及びメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニルカルバモイル及びナフチルカルバモイルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいアミノ基、（ｘｉｘ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルコキシ基、（ｘｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェノキシ若しくはナフチルオキシ基、（ｘｘｉ）フェニル又はナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルコキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェノキシカルボニル若しくはナフチルオキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基であり、
Ｗｃ３が、（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが、０乃至２の整数である。）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニルスルホニル基若しくはナフチルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基若しくはアクリロル基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル若しくはナフチルカルボニル基、（ｘｉ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル又はピラジニルカルボニル基、又は（ｘｉｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキル；Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル及びナフチル；及びフェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−及びナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基、（ｇ）上記（ａ）乃至（ｆ）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、又は（ｈ）結合手であり、
Ｘｅ２が、（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキレン基、（ｆ）式  −Ｗｃ４−Ｐｈｅ−Ｘｅ３−（式中、Ｗｃ４が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは０乃至２を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手であり、Ｐｈｅが、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｘｅ３が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手である。）を有する基、又は（ｇ）結合手であり、及び
Ａｒが、２価の、フェニル、ナフチル、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、イソキサゾール、オキサゾール、１，３，４−オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，３，４−チアジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾ〔Ｂ〕チオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾイソキサゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、オキサゾロ〔４，５−Ｂ〕ピリジン、ベンゾフラザン、ピラゾロ〔４，５−Ｃ〕ピリジン、ピラゾロ〔３，４−Ｂ〕ピリジン、１，２，３−ベンゾチアジアゾール、ピラゾロ〔３，４−Ｄ〕ピリミジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ピリド〔２，３−Ｂ〕ピラジン、ピリドイミダゾール、キナゾリン、フタラジン、又はナフチリジン環状基である。）を有する基；又は
（２）式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−基が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−  （式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至５個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基、又は結合手である、請求項１乃至１５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１７】
Ｅが、
式  （ｄ−１）
【化２２４】
2011142381.tif 000261
（式中、Ｒｅ１が、同一または異なって、０又は１乃至２個存在し、Ｒｅ１が（ｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉ）フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキル基、（ｉｉｉ）メトキシ若しくはエトキシ基、（ｉｖ）フッ素若しくは塩素原子、（ｖｉｉｉ）シクロプロピル基、（ｉｘ）フェニル基、（ｘ）ベンジル基、（ｘｉ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）ベンゾイル基、（ｘｉｖ）ベンジルカルボニル基、（ｘｖ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）フェニルカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）アミノ、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ若しくはＮ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、（ｘｉｘ）フルオロメトキシ若しくはトリフルオロメトキシ基、（ｘｘ）フェノキシ基、（ｘｘｉ）ベンジルオキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）フェノキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）ベンジルオキシカルボニル基であり、
Ｗｃ３が、（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メチルスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメチルスルホニル基、（ｖｉｉ）フェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）ベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）ベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基、（ｇ）上記（ａ）乃至（ｆ）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、又は（ｈ）結合手であり、
Ｘｅ２が、（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基又はアセチル基である。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基又はアセチル基である。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、（ｆ）式  −Ｗｃ４−Ｐｈｅ−Ｘｅ３−（式中、Ｗｃ４が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが０乃至２である。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、ホルミル基又はアセチル基である。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが０乃至２である。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、ホルミル基又はアセチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基、又は結合手であり、Ｐｈｅが、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、フッ素及び塩素からなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｘｅ３が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、ホルミル基、又はアセチル基である。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチル���らなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、ホルミル基、又はアセチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基、又は結合手である。）を有する基、又は（ｇ）結合手であり、及び
Ａｒが、２価の、フェニル、ナフチル、フラン、チオフェン、イミダゾール、テトラゾール、オキサゾール、チアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾ〔Ｂ〕チオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾイソキサゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、イソキノリン、又はピリドイミダゾール環状基である。）を有する基；又は
（２）式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−基が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが０乃至２である。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メチルスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメチルスルホニル基、（ｖｉｉ）フェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）ベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）ベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メチルスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメチルスルホニル基、（ｖｉｉ）フェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）ベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）ベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基��フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手である、請求項１乃至１５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１８】
Ｅが、
（１）式  （ｄ−１）
【化２２５】
2011142381.tif 000262
（式中、Ｒｅ１が、同一または異なって、０又は１乃至２個存在し、Ｒｅ１が（ｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉ）トリフルオロメチル基、（ｉｉｉ）メトキシ若しくはエトキシ基、又は（ｉｖ）フッ素若しくは塩素原子であり、
Ｗｃ３が、（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいベンジル基、又は（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基である。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基、（ｇ）上記（ａ）乃至（ｅ）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、又は（ｈ）結合手であり、
Ｘｅ２が、（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、ベンジル基、又はアセチル基である。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、ベンジル基、又はアセチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は（ｇ）結合手であり、及び
Ａｒが、２価の、フェニル、ピリジン、ベンゾイミダゾール、又はピリドイミダゾール環状基である。）を有する基；又は
（２）式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−基が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが０乃至２である。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいベンジル基、又は（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基である。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいベンジル基、又は（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基である。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手である、請求項１乃至１５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項１９】
Ｅが、
（１）式  −ＣＨ２Ｏ−１，４−フェニレン−Ｓ−、−ＣＨ２Ｓ−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＯ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−（３，５−ジメチルフェニレン）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＯＮＨＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−３，５−ピリジニレン−Ｓ−、−ＣＨ２Ｓ−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＳＣＨ２−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−２，５−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−２，５−ピリジニレン−Ｓ−、２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｓ−、２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−若しくは２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基；又は
（２）式  −ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−、−ＣＨ２ＳＯ−、−ＣＨ２ＳＯ２−、−ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＣＨ２Ｓ−若しくは−ＳＣＨ２−基又は結合手である、請求項１乃至１５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２０】
Ｅが、
（１）式  −ＣＨ２Ｏ−１，４−フェニレン−Ｓ−、−ＣＨ２Ｓ−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＯ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−（３，５−ジメチルフェニレン）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＯＮＨＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｓ−若しくは２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基；又は
（２）式  −ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−、−ＣＨ２ＳＯ−、−ＣＨ２ＳＯ２−、−ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＣＨ２Ｓ−若しくは−ＳＣＨ２−基、又は結合手である、請求項１乃至１５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２１】
Ｇが、
結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル、エチル、フェニル及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基である、請求項１乃至２０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２２】
Ｇが、
結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいベンジル基である。）を有する基である、請求項１乃至２０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２３】
Ｇが、
結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）メチル若しくはエチル基である。）を有する基である、請求項１乃至２０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２４】
Ｇが、
結合手又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、メチル基又はエチル基である。）を有する基である、請求項１乃至２０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２５】
式  −Ｖ−Ｒ基において、
Ｖが、結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、又は（ｉｘ）アセチル基である。）を有する基であり、Ｒが、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）メチル及びエチル；トリフルオロメチル；メトキシ及びエトキシ；フッ素、塩素及び臭素；フェニル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、又は（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、メチル及びエチル；トリフルオロメチル；メトキシ及びエトキシ；フッ素、塩素及び臭素；フェニル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ３アルキル基である、請求項１乃至２４記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２６】
式  −Ｖ−Ｒ基において、
Ｖが、結合手、酸素原子又は硫黄原子であり、Ｒが、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ペンチル若しくはヘキシル基、（ｉｉｉ）メチル；トリフルオロメチル；メトキシ；フッ素、塩素及び臭素；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分が、メチル；トリフルオロメチル；メトキシ；フッ素、塩素及び臭素；フェニル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ３アルキル基である、請求項１乃至２４記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２７】
式  −Ｖ−Ｒ基において、
Ｖが、結合手又は酸素原子であり、Ｒが、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、ｉ−プロピル若しくはヘキシル基、又は（ｉｉｉ）フェニル基、２−、３−若しくは４−トリフルオロメチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−クロロ−３−メトキシフェニル基、３−若しくは４−ブロモフェニル基、４−メチルベンゾイルフェニル基、３−クロロベンゾイルフェニル基若しくは、３−トリフルオロメトキシフェニル基、又は（ｉｖ）ベンジル基、３−若しくは４−トリフルオロメチルベンジル基、２−、３−若しくは４−メトキシベンジル基、４−クロロベンジル基、３−ブロモベンジル基、４−（４−メチルベンゾイル）ベンジル基、３−クロロベンゾイルベンジル基、３−トリフルオロメトキシベンジル基、α―メチルベンジル基、２−（４−メトキシフェニル）エチル基若しくは３−フェニルプロピル基である、請求項１乃至２４記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２８】
式  −（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−基において、
ｎが、１乃至４の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は請求項１で述べたものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２乃至４の整数である。）、Ｑが、酸素原子又は硫黄原子である、請求項１乃至２７記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項２９】
式  −（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−基において、
ｎが、１乃至４の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は請求項１で述べたものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２乃至４の整数である。）、Ｑが、酸素原子である、請求項１乃至２７記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項３０】
式  −（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−基において、
ｎが、１乃至３の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は請求項１で述べたものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２乃至３の整数である。）、Ｑが、酸素原子である基である、請求項１乃至２７記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項３１】
式  −（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−基において、
ｎが、１乃至２の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は請求項１で述べたものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２の整数である。）、Ｑが、酸素原子である、請求項１乃至２７記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項３２】
ｐが、１乃至４の整数である、請求項１乃至３１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項３３】
ｐが、１乃至３の整数である、請求項１乃至３１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項３４】
ｐが、１乃至２の整数である、請求項１乃至３１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項３５】
一般式（Ｉ）を有する化合物が、
４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸メチル、
４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸Ｎ−メチルアミド、
４−〔３−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルチオ｝フェノキシメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
４−〔２−［１−メチル−２−｛４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル｝−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ］エチルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
４−〔２−［１−メチル−２−｛４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル｝−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルチオアセチルアミノ］エチルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル
４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシメチル｝−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル（又はその塩酸塩）、
４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシメチル｝−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸、
４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルスルホニルメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルチオメチル｝−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
３−［４−〔６−（５−エトキシカルボニル−１−｛２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル｝−２−プロピル−１Ｈ−イミダゾール−４−イルメチルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ〕フェニル］−２−（４−クロロベンジルオキシ）プロピオン酸、
Ｎ−［４−｛６−〔５−エトキシカルボニル−１−｛２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル｝−２−プロピル−１Ｈ−イミダゾール−４−イルメチルチオ〕−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ｝フェニルメチル］−Ｎ−フェノキシカルボニルアミノ酢酸、
４−［４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝ベンジルチオメチル］−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
４−〔２−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝ピリジン−５−イルメチルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
Ｎ−［４−｛６−〔５−エトキシカルボニル−１−｛２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル｝−２−プロピル−１Ｈ−イミダゾール−４−イルメチルチオ〕−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ｝フェニルメチル］−Ｎ−（３−トリフルオロメチルベンゾイル）アミノ酢酸、
５−（４−｛６−［４−メチル−２−プロピル−１−〔２’−（２−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル〕−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルメトキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル）チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−〔４−［６−｛２−（Ｎ−（１−メチル−２−［４−メチル−２−プロピル−１−（２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニルメチル）−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イル］−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イル）−Ｎ−メチルアミノ）エトキシ｝−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン、
４’−〔６−（Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−５−イル｝−Ｎ−メチルアミノメチル）−４−メチル−２−プロピル−１Ｈ−ベンゾイミダゾ−ル−１−イルメチル〕ビフェニル−２−カルボン酸、
４’−［６−｛６−（Ｎ−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ］エチル−Ｎ−メチルアミノ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イル｝−４−メチル−２−プロピル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−１−イルメチル］ビフェニル−２−カルボン酸、
５−〔４−［６−｛４−（４−メチル−２−プロピル−１−〈２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル〉−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルカルボニルアミノメチル）フェノキシ｝−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン、又は
４’−［６−｛６−（Ｎ−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ］エチル−Ｎ−メチルアミノ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イル｝−４−メチル−２−プロピル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−１−イルメチル］ビフェニル−２−カルボン酸である、請求項１記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類。
【請求項３６】
請求項１乃至３５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類を有効成分として含有する医薬組成物。
【請求項３７】
医薬が、ＰＰＡＲ活性化作用とアンジオテンシン受容体拮抗作用を併せ持つ医薬である、請求項３６記載の医薬組成物。
【請求項３８】
医薬が、糖尿病、糖尿病合併症、ガン、緑内障、ドライアイ、アルツハイマー症、高血圧症又は高脂血症の、予防剤又は治療剤である、請求項３６記載の医薬組成物。
【請求項３９】
医薬が、糖尿病又は糖尿病合併症の、予防剤又は治療剤である、請求項３６記載の医薬組成物。
【請求項４０】
請求項１乃至３５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類を有効成分として含有する医薬組成物を製造するための、請求項１乃至３５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類の使用。
【請求項４１】
医薬が、糖尿病又は糖尿病合併症の、予防剤又は治療剤である、請求項４０記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類の使用。
【請求項４２】
医薬組成物としての、請求項１乃至３５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類の使用。
【請求項４３】
医薬が、糖尿病又は糖尿病合併症の、予防剤又は治療剤である、請求項４２記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類の使用。
【請求項４４】
請求項１乃至３５記載のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類の有効量を温血動物に投与することからなる、糖尿病又は糖尿病合併症の、予防方法又は治療方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れたＰＰＡＲ活性化（アゴニスト）作用及び優れたアンジオテンシンＩＩ受容体拮抗作用を有し、医薬として有用な、ベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、チアゾリジン系化合物、オキサゾリジン系化合物等のＰＰＡＲ活性化薬は、糖尿病、高脂血症のような様々な疾病の治療剤等として有用であることが知られ（非特許文献１及び２）、イミダゾール環系化合物等のアンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬は、高血圧、心疾患、高血圧に起因する疾病の治療剤等として有用であることが知られている（非特許文献３）。また、優れたアンジオテンシンＩＩ受容体拮抗作用を有する化合物（例えば、イルベサルタン、テルミサルタン等）が、ＰＰＡＲ（γ）活性化作用を有することが知られているが（非特許文献４及び５）、これらのＰＰＡＲ（γ）活性化作用は、いわゆる選択的なＰＰＡＲ（γ）調節作用（Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ＰＰＡＲ（γ）  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ  Ａｃｔｉｏｎ）、すなわち、部分的な（Ｐａｒｔｉａｌ）活性化（アゴニスト）作用）であり、完全な（Ｆｕｌｌ）活性化（アゴニスト）作用ではない。さらに、副作用が軽減された、優れた糖尿病の治療剤等の開発を期待して、チアゾリジン系化合物、オキサゾリジン系化合物等のＰＰＡＲ活性化薬とイミダゾール環系化合物等のアンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の併用薬が提案されている（特許文献１及び２、及び非特許文献６）。
しかしながら、優れたＰＰＡＲ活性化作用（完全な（Ｆｕｌｌ）活性化（アゴニスト）作用）と優れたアンジオテンシンＩＩ受容体拮抗作用を併せ持つ化合物は知られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＷＯ０６／０３８７２２
【特許文献２】ＷＯ０９／０８８００６
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｅｘｐｅｒｔ  Ｏｐｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔｉｇ．  Ｄｒｕｇｓ，  ｖｏｌ．１２（９），ｐａｇｅ  １４８９−１５００（２００３）
【非特許文献２】Ｊ．Ｃｌｉｎｉｃａｌ  Ｉｎｖｅｓｔｉｇ．，ｖｏｌ．１０６（４），ｐａｇｅ  ４６７−４７２（２０００）
【非特許文献３】Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，  ｖｏｌ．３９，ｐａｇｅ  ６２５−６５６（１９９６）
【非特許文献４】Ｄｉａｂｅｔｅｓ，  ｖｏｌ．５４，ｐａｇｅ  ３４４２−３４５２（２００５）
【非特許文献５】Ｄｉａｂｅｔｅｓ  Ｃａｒｅ，  ｖｏｌ．  ２７（ｎｏ．  ４），ｐａｇｅ  １０１５（２００４）
【非特許文献６】Ｈｙｐｅｒｔｅｎｓｉｏｎ，ｖｏｌ．５１，ｐａｇｅ  ２９６−３０１（２００８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、一連のイミダゾール誘導体の合成とそれらの薬理活性について検討してきた結果、特異な構造を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体が優れたＰＰＡＲ活性化作用及び優れたアンジオテンシンＩＩ拮抗作用を有することを見出し、発明を完成した。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、一般式（Ｉ）
【化１】
2011142381.tif 000003
［式中、
Ａは、以下の（ａ）〜（ｇ）：
（ａ）式  
【化２】
2011142381.tif 000004
（式中、Ｒａ１は、以下の（ｉ）〜(ｖｉｉｉ)：
（ｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、（ｖ）式  −Ｎ（Ｒａ３）（Ｒａ４）（式中、Ｒａ３は（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、又は（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示し、Ｒａ４は水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を示す。）を有する基、（ｖｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基、（ｖｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルオキシ基、又は（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルチオ基を示し、
Ｒａ２は、以下の（ｉ）〜（ｘｉｉ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルバモイル基、（ｖｉｉｉ）アミノ基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニルアミノ基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ６ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、又は（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示し、
Ｄは、以下の（ｉ）〜（ｘｉ）：
（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）式
【化３】
2011142381.tif 000005
（式中、Ｌａ及びＬｂは、同一または異なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。）を有する基、（ｉｖ）式
【化４】
2011142381.tif 000006
（式中、Ｌｃは酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒａ３）−（式中、Ｒａ３は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−  を有する基、（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基、（ｖｉｉ）式
【化５】
2011142381.tif 000007
を有する基、（ｖｉｉｉ）ホルミルアミノスルホニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニルアミノスルホニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニルアミノスルホニル基、（ｉｘ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリールカルボニルアミノスルホニル基、（ｘ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニルアミノスルホニル基、又は（ｘｉ）スルホ基を示す。）を有する基；
（ｂ）式
【化６】
2011142381.tif 000008
（式中、Ｄ及びＲａ１は上記したものと同意義を示し、式
【化７】
2011142381.tif 000009
を有する基は、置換基Ｒａ５を有してもよく、酸素原子、硫黄原子、式  ＝Ｎ−Ｒａ３基（式中、Ｒａ３は前述したものと同意義を示す。）及びスルホン（−Ｓ（Ｏ）２−）基から選択される原子又は／及び基を１乃至２個含有していてもよく、炭素原子がオキソ基、Ｃ１−Ｃ６アルキリデン基、Ｃ１−Ｃ６アルキルイミノ基、ヒドロキシイミノ基、又はＣ１−Ｃ６アルコキシイミノ基で置換されていてもよい、３価の６員環不飽和炭化水素基を示し、Ｒａ５は（ｉ）上記のＲａ２基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｖ）Ｃ６−Ｃ１０アリールオキシ基、又は（ｖｉ）Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ基を示す。）を有する基；
（ｃ）式
【化８】
2011142381.tif 000010
（式中、Ｄ、Ｒａ１及びＲａ５は上記したものと同意義を示す。）を有する基；
（ｄ）式
【化９】
2011142381.tif 000011
（式中、Ｄ及びＲａ１は上記したものと同意義を示し、Ｒａ６は水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を示す。）を有する基；
（ｅ）式
【化１０】
2011142381.tif 000012
（式中、Ｄ及びＲａ１は上記したものと同意義を示し、Ｒａ７は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、又はＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基を示す。）を有する基；
（ｆ）式
【化１１】
2011142381.tif 000013
（式中、Ｄ及びＲａ１は上記したものと同意義を示し、Ｒａ８は水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を示し、Ｌｄは、式  ＝ＣＨ−基又は式  ＝Ｎ−基を示す。）を有する基；又は
（ｇ）式
【化１２】
2011142381.tif 000014
（式中、Ｄは上記したものと同意義を示し、Ｒａ９はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、又はＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基を示す。）を有する基を示し、
Ｂは、式
【化１３】
2011142381.tif 000015
（式中、Ｒａ３は上記したものと同意義を示し、Ｔは式  ＝ＣＨ−基又は式  ＝Ｎ−基を示す。）を有する基を示し、また、Ｂは、Ｅと（又はＧと）、イミダゾール環部分又はベンゼン若しくはピリジン環部分で結合し、
Ｃは、以下の（ａ）〜（ｄ）：
（ａ）カルボキシル基；
（ｂ）式
【化１４】
2011142381.tif 000016
（式中、Ｌａは上記したものと同意義を示し、Ｌｅは、式  ＝ＣＨ−基又は式  ＝Ｎ−基を示し、Ｌｅが式  ＝Ｎ−基を示すときは、Ｌａは酸素原子を示す。）を有する基；
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１及びＲｃ２は、同一又は異なって、以下の（ｉ）〜（ｖｉｉｉ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールスルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基を示し、但し、後述するＷｃ１が酸素原子又は硫黄原子を示すときは、Ｒｃ１及びＲｃ２は上記の、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、又は（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示し、
Ｗｃ１は、以下の（ｉ）〜（ｉｉｉ）：
（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  −Ｎ（Ｒｃ３）−（式中、Ｒｃ３は、以下の（ｉ）〜（ｘｉｉｉ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｖｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分αを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、（ｘ）後述する置換分α（但し、置換分αのうち、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、又は（ｖｉｉ）ニトロ基は除く。）１乃至２個で置換されていてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｘｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基を示す。）を有する基；又は、
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２は、以下の（ｉ）〜（ｘｉｉｉ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｖｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分αを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、（ｘ）後述する置換分α（但し、置換分αのうち、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、又は（ｖｉｉ）ニトロ基は除く。）１乃至２個で置換されていてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｘｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基を示す。）を有する基を示し、
Ｅは、以下の（１）又は（２）：
（１）式
【化１５】
2011142381.tif 000017
（式中、Ｒｅ１はＡｒ（アリール若しくはヘテロアリール環）の置換基であり、同一または異なって、０又は１乃至複数個（該複数はアリール若しくはヘテロアリール環が置換基を有し得る最大の数である）存在し、Ｒｅ１は後述する置換分αを示し、Ｗｃ３は、以下の（ａ）〜（ｈ）：
（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す。）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は、以下の（ｉ）〜（ｘｉｖ）：
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールスルホニル基、（ｖｉｉｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｘ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｘｉ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、又は（ｘｉｖ）後述する置換分α（但し、置換分αのうち、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、又は（ｖｉｉ）ニトロ基は除く。）１乃至２個で置換されていてもよいカルバモイル基を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基、（ｇ）上記（ａ）乃至（ｆ）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基、又は（ｈ）結合手を示し、
Ｘｅ２は、以下の（ａ）〜（ｇ）：
（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ１０アルキレン基、（ｆ）式  −Ｗｃ４−Ｐｈｅ−Ｘｅ３−（式中、Ｗｃ４は、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手を示し、Ｐｈｅは、上記置換基Ｒｅ１を１乃至４個有していてもよいフェニレン基を示し、Ｘｅ３は、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基又は結合手を示す。）を有する基、又は（ｇ）結合手を示し、
Ａｒはフェニレン基、ナフチレン基、又は酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至５個を含有する５乃至１０員環（単環若しくは縮環）ヘテロアリーレン基を示す。）を有する基；又は、
（２）式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−（式中、２個のＷｃ３は同一又は異なり、Ｗｃ３は上記したものと同意義を示し、Ｘｅ４は、以下の（ａ）〜（ｆ）：
（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ１０アルキレン基、又は（ｆ）結合手を示す。）を有する基を示し、但し、上記のＷｃ３、Ｘｅ２、Ｗｃ４、Ｘｅ３、Ｘｅ４及びそれらが形成する基において、（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは前述したものと同意義を示す。）を有する基及び（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）を有する基若しくは式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）を有する部分は、互いに、直接又は式  −ＣＨ２−基に隣接して、結合せず、
Ｇは、結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上述したものと同意義を示す。）を有する基を示し、
Ｑは、酸素原子又は硫黄原子を示し、
ｎは、１乃至６の整数を示し、
ｐは、１乃至６の整数を示し、
Ｖは、結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上述したものと同意義を示す。）を有する基を示し、
Ｒは、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）後述する置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、又は（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示し、
置換分αは、以下の（ｉ）〜（ｘｘｉｖ）：
（ｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、（ｖｉｉ）ニトロ基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基、（ｉｘ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｘ）アリール部分に，後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｘｉ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｘｉｖ）アリール部分に、後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｘｖ）後述する置換分βを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）後述する置換分β（但し、（ｉｉ）ハロゲン原子を除く。）１乃至２個で置換されていてもよいアミノ基、（ｘｉｘ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルコキシ基、（ｘｘ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシ基、（ｘｘｉ）アリール部分に、後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）アリール部分に、後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基を示し、
置換分βは、以下の（ｉ）〜（ｘｉ）：
（ｉ）Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）後述する置換分γを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分γを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）後述する置換分γを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｖｉｉ）アリール部分に、後述する置換分γを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分γを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基、（ｘ）カルバモイル基、又は（ｘｉ）後述する置換分γを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルバモイル基を示し、
置換分γは、（ｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）ハロゲン原子、又は（ｉｖ）ヒドロキシ基を示す。］
を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類に関する。
また、一般式（Ｉ）を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類を有効成分として含有する医薬組成物（特に、ＰＰＡＲ活性（特に、γ活性）化作用とアンジオテンシン受容体拮抗作用を併せ持つ医薬組成物）、一般式（Ｉ）を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類を有効成分として含有する医薬組成物（特に、ＰＰＡＲ活性（特に、γ活性）化作用とアンジオテンシン受容体拮抗作用を併せ持つ医薬組成物）を製造するための、一般式（Ｉ）を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類の使用、医薬組成物（特に、ＰＰＡＲ活性（特に、γ活性）化作用とアンジオテンシン受容体拮抗作用を併せ持つ医薬組成物）としての、一般式（Ｉ）を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類の使用、及び一般式（Ｉ）を有するベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類の有効量を温血動物（特に、ヒト）に投与することからなる、糖尿病又は糖尿病合併症の、予防方法又は治療方法に関する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類若しくはアミド類は、特異な化学構造を有し、そのため、優れたＰＰＡＲ活性化作用と優れたアンジオテンシンＩＩ受容体拮抗作用を併せ持ち、また、一部の化合物（特に、ベンジルチアゾゾリジン誘導体）は、選択的に、ＰＰＡＲγ活性化作用を有し、さらに、体重増加抑制効果、体脂肪増加抑制効果等を有する。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本出願明細書において、
Ｒａ１、Ｒｃ１、Ｗｃ２、Ｒ、置換分α等の「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」、又はＲａ１、置換分α等の「Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基」、Ｒａ１、Ｒａ５、置換分α等の「Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基」、Ｒａ３等の「置換分αを１乃至５個を有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基」、Ｒａ２等の「Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニルアミノ基」、Ｒａ２等の「モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルバモイル基」、及びＲａ２等の「Ｃ１−Ｃ６ヒドロキシアルキル基」等における、「Ｃ１−Ｃ６アルキル」部分は、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ｓ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、４−メチルペンチル（イソヘキシル）、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、又は２−エチルブチル基であり得、好適には、Ｃ１−Ｃ５アルキル基であり、更に好適には、Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、又はブチル基であり、最も好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基である。
また、置換分βの「Ｃ１−Ｃ１０アルキル基」は、例えば、上記の「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」、へプチル基、イソへプチル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、又はデシル基であり得、好適には、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（特に、Ｃ１−Ｃ５アルキル基）であり、更に好適には、Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、又はブチル基であり、最も好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基である。
【０００９】
Ｒａ３、Ｗｃ２、Ｒ等の「置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基」、又はＲａ３、Ｒｃ１、Ｗｃ２、Ｒ等の「置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基」、及びＲｃ１等の「置換分αを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールスルホニル基」等における「置換分αの１乃至５個を有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリール」部分は、置換分αの１乃至５個を有していてもよい、炭素数６乃至１０個の芳香族炭化水素基であり、例えば、置換分αの１乃至５個を有していてもよい、フェニル、インデニル、又は１−若しくは２−ナフチル基であり得、好適には、後述する、置換分α−１乃至置換分α−５の１乃至３個を有していてもよい、フェニル基又は１−若しくは２−ナフチル基であり、最も好適には、後述する、置換分α−５を有していてもよいフェニル基である。
Ｒａ１、置換分α等の「Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基」、又はＲｃ３、Ｗｃ２、置換分α等の「Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基」等における「Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル」部分は、縮環していてもよい、３乃至１０員飽和環状炭化水素基であり、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、又はアダマンチル基であり得、好適には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、又はアダマンチル基であり、更に好適には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、又はシクロヘキシル基であり、最も好適には、シクロプロピル、シクロブチル、又はシクロヘキシル基である。
Ｒａ２、置換分α等の「ハロゲン原子」、又はＲａ１等の「Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基」等における「ハロゲン」部分は、例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子であり得、好適には、弗素原子、塩素原子、又は臭素原子であり、更に好適には、弗素原子、又は塩素原子である。
Ｒａ２の「Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニル基」における「Ｃ１−Ｃ１０アルキル」部分は、炭素数１乃至１０個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、例えば、上述した「Ｃ１−Ｃ６アルキル」、へプチル、オクチル、ノニル、又はデシル基であり、好適には、Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、更に好適には、Ｃ１−Ｃ５アルキル基であり、更により好適には、Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、最も好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、又はイソプロピル基である。
Ｒａ２、Ｗｃ２、Ｒｅ１、置換分α等の「Ｃ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基」、又はＲａ２等の「Ｃ２−Ｃ６アルケニルカルボニルアミノ基」等における「Ｃ２−Ｃ６アルケニルカルボニル」部分は、炭素数２乃至６個の不飽和炭化水素−カルボニル基であり、例えば、アクロイル、メタアクロイル、クロトノイル、２−ペンテノイル、２−ヘキセノイル、又は２−ヘプテノイル基であり得、好適には、Ｃ２−Ｃ４アルケニルカルボニル基であり、更に好適には、アクロイル又はクロトノイル基であり、最も好適には、アクロイル基である。
【００１０】
Ａ１に含まれる「置換基Ｒａ５を有してもよく、酸素原子、硫黄原子、窒素原子及びスルホン（−Ｓ（Ｏ）２−）基から選択される原子又は／及び基を１乃至２個含有してもよく、炭素原子がオキソ基、Ｃ１−Ｃ６アルキリデン基、Ｃ１−Ｃ６アルキルイミノ基、ヒドロキシイミノ基、又はＣ１−Ｃ６アルコキシイミノ基で置換されていてもよい、３価の６員環不飽和炭化水素基」は、例えば、置換基Ｒａ５を有してもよく、イミダゾール環と縮環している、３価の、フェニル基、シクロへキセニル基、ピラニル基、チオピラニル基、ジヒドロピラニル基、ジヒドロチオピラニル基、４−オキソジヒドロチオピラニル基、４−メチリデンジヒドロチオピラニル基、４−メチルイミノジヒドロチオピラニル基、４−メトキシイミノジヒドロチオピラニル基、４−ヒドロキシイミノジヒドロチオピラニル基、１，１，４−トリオキソジヒドロチオピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ジヒドロピリジル基、２−オキソジヒドロピリジル基、４−オキソジヒドロピリジル基、２−メチリデンジヒドロピリジル基、２−メチルイミノジヒドロピリジル基、ジヒドロピリダジニル基、３−オキソジヒドロピリダジニル基、ジヒドロピリミジニル基、４−オキソジヒドロピリミジニル基、ジヒドロピラジニル基、テトラヒドロピリジル基、２−オキソテトラヒドロピリジル基、４−オキソテトラヒドロピリジル基、テトラヒドロピリダジニル基、３−オキソテトラヒドロピリダジニル基、３，６−ジオキソテトラヒドロピリダジニル基、テトラヒドロピリミジニル基、２−オキソテトラヒドロピリミジニル基、２，６−ジオキソテトラヒドロピリミジニル基、又はテトラヒドロピラジニル基であり得、好適には、置換基Ｒａ５を有してもよい、３価の、フェニル基、チオピラニル基、ジヒドロピラニル基、ジヒドロチオピラニル基、４−オキソジヒドロチオピラニル基、４−メチルイミノジヒドロチオピラニル基、４−メトキシイミノジヒドロチオピラニル基、４−ヒドロキシイミノジヒドロチオピラニル基、１，１，４−トリオキソジヒドロチオピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ジヒドロピリジル基、２−オキソジヒドロピリジル基、４−オキソジヒドロピリジル基、ジヒドロピリダジニル基、３−オキソジヒドロピリダジニル基、ジヒドロピリミジニル基、４−オキソジヒドロピリミジニル基、２−オキソテトラヒドロピリジル基、４−オキソテトラヒドロピリジル基、テトラヒドロピリダジニル基、３−オキソテトラヒドロピリダジニル基、３，６−ジオキソテトラヒドロピリダジニル基、テトラヒドロピリミジニル基、２−オキソテトラヒドロピリミジニル基、又は２，６−ジオキソテトラヒドロピリミジニル基であり、更に好適には、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ハロゲノＣ１−Ｃ４アルキル基及びカルボキシ基からなる群から選択される１乃至３個の置換基を有してもよい、３価の、フェニル基若しくはピリジル基、又はＣ１−Ｃ３アルキル基で置換されてもよい、ジヒドロチオピラニル基、４−オキソジヒドロチオピラニル基、４−メトキシイミノジヒドロチオピラニル基、４−ヒドロキシイミノジヒドロチオピラニル基、１，１，４−トリオキソジヒドロチオピラニル基、ジヒドロピリジル基、２−オキソジヒドロピリジル基、４−オキソジヒドロピリジル基、３，６−ジオキソテトラヒドロピリダジニル基、又は２，６−ジオキソテトラヒドロピリミジニル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、又はカルボキシ基を有してもよい、３価の、フェニル基若しくはピリジル基、４−オキソジヒドロチオピラニル基、４−オキソジヒドロピリジル基、３，６−ジオキソテトラヒドロピリダジニル基、又は２，６−ジオキソテトラヒドロピリミジニル基であり、最も好適には、メチルフェニル基、エチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、トリフルオロフェニル基、フルオロフェニル基、４−メチルピリジル基、４−オキソジヒドロチオピラニル基、４−オキソジヒドロピリジル基、又は２，６−ジオキソテトラヒドロピリミジニル基である。
Ｒｃ３、Ｗｃ２等の「置換分αを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基」、又は置換分αの「置換分βの１乃至２個を有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至２個含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニル基」等は、例えば、当該置換基を有してもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピロリルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、１，２，３−オキサジアゾリルカルボニル、トリアゾリルカルボニル、チアジアゾリルカルボニル、ピラニルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピコリニル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル、ピラジニルカルボニル、又はアゼピニルカルボニル基であり得、好適には、後述する、置換分α−１乃至α−５、置換分β−１乃至β−５又は置換分γ−１乃至γ−３を１乃至２個有してもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピロリルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ピラニルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピコリニル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル、又はピラジニルカルボニル基であり、更に好適には、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びＣ１−Ｃ３ハロゲノアルキル基からなる群から選択される置換基を１乃至２個有してもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピロリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、又はイソニコチノイル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から選択される置換基を１乃至２個有してもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、又はイソニコチノイル基であり、更にまたより好適には、メチル基、メトキシ基、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から選択される置換基を１乃至２個有してもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ニコチノイル、又はイソニコチノイル基であり、最も好適には、２−メチルフリルカルボニル、２，５−ジメチルフリルカルボニル、２−クロロニコチノイル、４−クロロニコチノイル、６−クロロニコチノイル、２−クロロ−６−メチルニコチノイル、２−クロロ−６−トリフルオロメチルニコチノイル、２−フルオロニコチノイル、２−メトキシニコチノイル、３、５−ジクロロイソニコチノイル、２−フルオロイソニコチノイル、又は２−メトキシイソニコチノイル基である。
【００１１】
Ｗｃ３の「（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す。）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有してもよい、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基」は、例えば、式、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）４−、−（ＣＨ２）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）５−、−（ＣＨ２）６−、−（ＣＨ２）７−、−（ＣＨ２）８−、−（ＣＨ２）９−、−（ＣＨ２）１０−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＳＯ−、−ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−、−ＣＨ２−Ｎ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）−、−ＣＨ２−Ｎ（フェニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（４−メチルフェニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンジル）−、−ＣＨ２−Ｎ（メチルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（トリフルオロメチルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンゼンスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンジルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ホルミル）−、−ＣＨ２−Ｎ（アセチル）−、−ＣＨ２−Ｎ（アクロイル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンゾイル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンジルカルボニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（シクロプロピルカルボニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（フリルカルボニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（チエニルカルボニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（カルバモイル）−、−ＣＨ２−Ｎ（メチルカルバモイル）−、−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−、−ＣＨ２−ＣＯＮ（アセチル）−、−ＣＨ２−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−、−ＣＨ２−Ｎ（アセチル）ＣＯ−、−ＣＨ２−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＮＨＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＯ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−Ｃ��（ＣＨ３）−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＮＨＣＯ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−（ＣＨ２）３−Ｎ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−ＣＯＮＨ−、−（ＣＨ２）３−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）３−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−、−（ＣＨ２）３−ＣＯ−、−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−Ｓ−（ＣＨ２）３−、−ＮＨ−（ＣＨ２）３−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）３−、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）３−、−ＣＯ−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＮＨＣＯ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＯ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）３−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｓ−��−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）−（ＣＨ２
）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）２−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−、−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｓ−、−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｓ−、又は−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−基であり得、好適には、式、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＳＯ−、−ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｎ（フェニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンジル）−、−ＣＨ２−Ｎ（メチルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（トリフルオロメチルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンジルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ホルミル）−、−ＣＨ２−Ｎ（アセチル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンゾイル）−、−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）２−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−、−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｓ−、−Ｓ−ＣＨ２−、−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｓ−、又は−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−基であり、更に好適には、式、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＳＯ−、−ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｎ（フェニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンジル）−、−ＣＨ２−Ｎ（メチルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（トリフルオロメチルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンジルスルホニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ホルミル）−、−ＣＨ２−Ｎ（アセチル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンゾイル）−、−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）２−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｓ−  、−Ｓ−ＣＨ２−、又は−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−基であり、最も好適には、式、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＳＯ−、−ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）２−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｓ−、又は−Ｓ−ＣＨ２−基である。
また、後述する「Ｅ」の「Ｄ−１（２）」における、「酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−を有する基（これらの式中、ｑ及びＲｅ２は後述する「Ｄ−１（２）」におけるものと同意義を示す。）からなる群から選択される原子若しくは基／及びを１乃至５個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基」は、例えば、上記のＷｃ３の「（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す。）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基」から、式  −ＣＯ−を有する基を有するＣ１−Ｃ１０アルキレン基を除いたもの、又は式  −Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）��−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２
）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＮＨＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−若しくは−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ
２）２−Ｓ−基であり得、「Ｄ−２（２）」における、「酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−を有する基（これらの式中、ｑ及びＲｅ２は後述する「Ｄ−２（２）」におけるものと同意義を示す。）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基」の具体的な基は、上記の「好適には」に示されたものであり、「Ｄ−３（２）」における、「酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−を有する基（これらの式中、ｑ及びＲｅ２は後述する「Ｄ−３（２）」におけるものと同意義を示す。）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基の具体的な基は、上記の「さらに好適には」に示されたものである。
【００１２】
Ｘｅ２及びＸｅ４の「酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ１０アルキレン基」（好適には、上記の原子若しくは／及び基を１乃至３個含有する、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基）は、例えば、上記のＷｃ３の「（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す。）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基」から、式  −ＳＯ−を有する基、  式  −Ｓ（Ｏ）２−を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び／又は式  −ＣＯ−を有する基を含有するＣ１−Ｃ１０アルキレン基を除いたものであり得、好適には、式、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−、−ＣＨ２−Ｎ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）−、−ＣＨ２−Ｎ（フェニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（４−メチルフェニル）−、−ＣＨ２−Ｎ（ベンジル）−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＮＨＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−（ＣＨ２）３−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−Ｓ−（ＣＨ２）３−、−ＮＨ−（ＣＨ２）３−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）３−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、又は−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−  基であり、更に好適には、式、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＮＨＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−Ｃ���２−Ｓ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、又は−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−  基であり、更により好適には、式、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＮＨＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）
２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、又は−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）３−ＮＨ−  基であり、最も好適には、式、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＮＨＣＨ２−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｏ−、又は−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）３−Ｓ−  基である。
また、後述する「Ｄ−１」における、「酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基（これらの式中、Ｒｅ２は「Ｄ−１」におけるものと同意義を示す。）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキレン基」（好適には、これらの原子若しくは／及び基を１乃至３個含有するＣ１−Ｃ６アルキレン基）の具体的な基は、上記の「好適には」に示されたものであり、「Ｄ−２」における、「酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基（これらの式中、Ｒｅ２は「Ｄ−２」におけるものと同意義を示す。）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基」（好適には、これらの原子若しくは／及び基を１乃至３個含有する、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基）の具体的な基は、上記の「更に好適には」に示されたものであり、「Ｄ−３」における、「酸素原子、硫黄原子及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、ベンジル基、又はアセチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基（好適には、これらの原子若しくは／及び基を１乃至２個含有するＣ１−Ｃ４アルキレン基）の具体的な基は、上記の「更により好適には」に示されたものである。
【００１３】
Ｗｃ４及びＸｅ３の「酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す。）を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は前述してものと同意義を示す。）を有する基原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基」（好適には、これらの原子若しくは／及び基を１乃至２個含有するＣ１−Ｃ４アルキレン基）は、例えば、式、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）４−、−（ＣＨ２）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＳＯ−、−ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−ＮＨＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−（ＣＨ２）３−Ｓ−、−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、−（ＣＨ２）３−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−Ｓ−（ＣＨ２）３−、−ＮＨ−（ＣＨ２）３−、−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−ＮＨ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−ＣＨ２−、又は−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−  基であり、好適には、式、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＳＯ−、−ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）３−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−ＣＨ２−、又は−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−  基であり、更に好適には、式、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＳＯ−、−ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）���−Ｏ−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−、−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、−（ＣＨ２）２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｓ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｓ−ＣＨ２−、又は−（ＣＨ２）２−ＮＨ−ＣＨ２−  基であり、最も好適には、式、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ２−ＳＯ−、−ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−Ｏ−ＣＨ２−、又は−（ＣＨ２）２−Ｓ−ＣＨ２−  基である。
また、後述する「Ｄ−１（１）」における、「酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基（これらの式中、ｑ及びＲｅ２は「Ｄ−１（１）」におけるものと同意義を示す。）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基」（好適には、これらの原子若しくは／及び基を１乃至２個含有するＣ１−Ｃ４アルキレン基）の具体的な基は、上記の「好適には」に示されたものであり、「Ｄ−２（１）」における、「酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−を有する基（これらの式中、ｑ及びＲｅ２は「Ｄ−２（１）」におけるものと同意義を示す。）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基」（好適には、これらの原子若しくは／及び基を１乃至２個含有するＣ１−Ｃ３アルキレン基）の具体的な基は、上記の「更に好適には」に示されたものである。
【００１４】
Ａｒの「酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至５個を含有する５乃至１０員環（単環又は縮環）ヘテロアリーレン基」は、例えば、２価の、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、１，２，４−トリアゾール、１，２，３−トリアゾール、テトラゾール、イソキサゾール、オキサゾール、１，３，４−オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，３，４−チアジアゾール、１，２，４−チアジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、１，２，４−トリアジン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾ〔Ｂ〕チオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾイソキサゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、オキサゾロ〔４，５−Ｂ〕ピリジン、ベンゾフラザン、ｓ−トリアゾロ〔１，５−Ａ〕ピリミジン、ｓ−トリアゾロ〔４，３−Ａ〕ピリミジン、ピラゾロ〔４，５−Ｃ〕ピリジン、ピラゾロ〔３，４−Ｂ〕ピリジン、ｓ−トリアゾロ〔４，３−Ａ〕−ｓ−トリアジン、１，２，３−ベンゾチアジアゾール、ピラゾロ〔３，４−Ｄ〕ピリミジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ピリド〔２，３−Ｂ〕ピラジン、ピリドイミダゾール、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、又はナフチリジン環状基であり得、好適には、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、イソキサゾール、オキサゾール、１，３，４−オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，３，４−チアジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾ〔Ｂ〕チオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾイソキサゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、オキサゾロ〔４，５−Ｂ〕ピリジン、ベンゾフラザン、ピラゾロ〔４，５−Ｃ〕ピリジン、ピラゾロ〔３，４−Ｂ〕ピリジン、１，２，３−ベンゾチアジアゾール、ピラゾロ〔３，４−Ｄ〕ピリミジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ピリド〔２，３−Ｂ〕ピラジン、ピリドイミダゾール、キナゾリン、フタラジン、又はナフチリジン環状基であり、更により好適には、フラン、チオフェン、イミダゾール、テトラゾール、オキサゾール、チアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ベンゾフラン、ベンゾ〔Ｂ〕チオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、イソキノリン、又はピリドイミダゾール環状基であり、更にまたより好適には、２，５−テトラゾール、５，２−テトラゾール、２，５−オキサゾール、２，５−チアゾール、２，５−ピリジン、３，５−ピリジン、３，６−ピリジン、１，５−ベンゾイミダゾール、２，６−ベンゾオキサゾール、２，６−ベンゾイミダゾール、６，２−ベンゾイミダゾール、４，７−ベンゾチアゾール、又は２，７−ピリドイミダゾール環状基であり、最も好適には、２，５−テトラゾール、５，２−テトラゾール、２，５−ピリジン、３，５−ピリジン、３，６−ピリジン、１，５−ベンゾイミダゾール、２，６−ベンゾオキサゾール、２，６−ベンゾイミダゾール、６，２−ベンゾイミダゾール、又は２，７−ピリドイミダゾール環状基である。
【００１５】
Ｒａ１等の［Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルキル基」の具体例は、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル，トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ヨードメチル、２−フルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−ブロモエチル、２，２−ジブロモエチル、２−ヨードエチル、３−クロロプロピル、４−フルオロブチル、又は６−ヨードヘキシル基であり得、好適には、フルオロメチル、ジフルオロメチル，トリフルオロメチル、ジクロロメチル、２−フルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、３−クロロプロピル、４−フルオロブチル、又は６−ヨードヘキシル基であり、更に好適には、フルオロメチル、ジフルオロメチル，トリフルオロメチル、２−フルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、３−クロロプロピル、又は４−フルオロブチル基であり、最も好適には、トリフルオロメチル基である。
【００１６】
Ｒａ３等の「置換分αを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基」の具体例は、例えば、ベンジル、ナフチルメチル、インデニルメチル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナフチルブチル、５−フェニルペンチル、５−ナフチルペンチル、６−フェニルヘキシル、又は６−ナフチルヘキシル基であり得、好適には、ベンジル、ナフチルメチル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチル、２−ナフチルエチル、３−フェニルプロピル、３−ナフチルプロピル、３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、４−ナフチルブチル、５−フェニルペンチル、５−ナフチルペンチル、６−フェニルヘキシル、又は６−ナフチルヘキシル基であり、更に好適には、ベンジル、ナフチルメチル、２−フェネチル、２−ナフチルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、又は６−フェニルヘキシル基であり、最も好適には、ベンジル基である。
【００１７】
Ｒｃ３等の「置換分α（但し、置換分αのうち、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、又は（ｖｉｉ）ニトロ基は除く。）１乃至２個で置換されていてもよいカルバモイル基」は、好適には、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアリールカルバモイル、ジアリールカルバモイル、モノアリールアルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアリールアルキルカルバモイル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアルキルカルバモイル、Ｎ−アリール−Ｎ−アリールアルキルカルバモイル、シクロアルキルカルバモイル、ジシクロアルキルカルバモイル、Ｎ−アルキル−Ｎ−シクロアルキルカルバモイル、Ｎ−アリール−Ｎ−シクロアルキルカルバモイル、Ｎ−アリールアルキル−Ｎ−シクロアルキルカルバモイル、ホルミルカルバモイル、アルキルカルボニルカルバモイル、アルケニルカルボニルカルバモイル、アリールカルボニルカルバモイル、アリールアルキルカルバモイル、後述する置換分βを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至３個を含有する５乃至７員環へテロアリールカルボニルが窒素に置換したカルバモイル、又は上記の５乃至７員環へテロアリールカルボニル基及びアルキル基、アリール基、アリールアルキル基若しくはシクロアルキル基が窒素に置換したジ置換カルバモイル基であり、更に好適には、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、ブチルカルバモイル、ヘキシルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ペンチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−１−ナフチルメチル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ヘキシルカルバモイル、シクロプロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル、シクロペンチルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、シクロオクチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロプロピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロブチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロペンチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロオクチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロペンチルカルバモイル、Ｎ−シクロプロピル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−シクロブチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−シクロペンチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−シクロオクチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−シクロプロピルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−シクロブチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−シクロペンチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−シクロオクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロプロピルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロペンチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−シクロブチル−Ｎ−シクロペンチルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−シクロペンチルカルバモイル、Ｎ−シクロペンチル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−シクロペンチル−Ｎ−シクロオクチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、１−ナフチルカルバモイル、２−ナフチルカルバモイル、４−メチルフェニルカルバモイル、４−クロロ−３−メチルフェニルカルバモイル、４−フルオロフェニルカルバモイル、２、４−ジフルオロフェニルカルバモイル、２−クロロ−４−フルオロフェニルカルバモイル、１−クロロ−４−ナフチルカルバモイル、４−ビフェニルカルバモイル、４−ベンジルフェニルカルバモイル、３−アセチルフェニルカルバモイル、４−ベンゾイルフェニルカルバモイル、４−ニコチノイルフェニルカルバモイル、４−フェニルカルバモイルフェニルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジフェニルカルバモイル、ベンジルカルバモイル、ナフチルメチルカルバモイル、２−フェネチルカルバモイル、２−ナフチルエチルカルバモイル、３−フェニルプロピルカルバモイル、４−フェニルブチルカルバモイル、５−フェニルペンチルカルバモイル、６−フェニルヘキシルカルバモイル、２−カルバモイルベンジルカルバモイル、４−ｔ−ブチルベンジルカルバモイル、２−ブロモベンジルカルバモイル、３−クロロベンジルカルバモイル、２，６−ジフルオロベンジルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジベンジルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ナフチルメチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−２−フェネチルカルバモイル、アセチルカルバモイル、プロピオニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピオニルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−アセチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ブチリルカルバモイル、ベンゾイルカルバモイル、ナフトイルカルバモイル、４−フルオロベンゾイルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ナフトイルカルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−ベンゾイルカルバモイル、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−フェニルカルバモイル、３−フェニルプロピオニルカルバモイル、Ｎ−５−ペンタノイル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−３−フェニルプロピオニルカルバモイル、ニコチノイルカルバモイル、イソニコチノイルカルバモイル、ピコリノイルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ニコチノイルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−イソニコチノイルカルバモイル、Ｎ−ブチル−Ｎ−ピコリノイルカルバモイル、Ｎ−ニコチノイル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−イソニコチノイル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−ピコリノイルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ニコチノイルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソニコチノイルカルバモイル、又はＮ−ベンジル−Ｎ−ピコリノイルカルバモイル基であり、更により好適には、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、ブチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−１−ナフチルメチル−Ｎ−メチルカルバモイル、シクロプロピルカルバモイル、シクロペンチルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロプロピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−シクロプロピル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−シクロペンチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−シクロプロピルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−ナフチルカルバモイル、４−メチルフェニルカルバモイル、４−クロロ−３−メチルフェニルカルバモイル、４−フルオロフェニルカルバモイル、２−クロロ−４−フルオロフェニルカルバモイル、１−クロロ−４−ナフチルカルバモイル、４−ベンジルフェニルカルバモイル、３−アセチルフェニルカルバモイル、４−ニコチノイルフェニルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジフェニルカルバモイル、ベンジルカルバモイル、ナフチルメチルカルバモイル、２−フェネチルカルバモイル、４−ｔ−ブチルベンジルカルバモイル、３−クロロベンジルカルバモイル、２，６−ジフルオロベンジルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジベンジルカルバモイル、ニコチノイルカルバモイル、イソニコチノイルカルバモイル、ピコリノイルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ニコチノイルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−ピコリノイルカルバモイル、又はＮ−ベンジル−Ｎ−ニコチノイルカルバモイル基であり、最も好適には、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ブチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルカルバモイル、シクロプロピルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−シクロペンチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−ナフチルカルバモイル、４−クロロ−３−メチルフェニルカルバモイル、４−フルオロフェニルフェニルカルバモイル、２−クロロ−４−フルオロフェニルフェニルカルバモイル、１−クロロ−４−ナフチルカルバモイル、ベンジルカルバモイル、ナフチルメチルカルバモイル、２−フェネチルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジベンジルカルバモイル、ニコチノイルカルバモイル、又はＮ−メチル−Ｎ−ニコチノイルカルバモイル基である。
【００１８】
置換分αは、好適には、（ｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、（ｖｉｉ）ニトロ基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、（ｉｘ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｘ）アリール部分に，後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、フェニル−又はナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｘｉ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ４アルケニルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、フェニルカルボニル基若しくはナフチルカルボニル基、（ｘｉｖ）アリール部分に、後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基、（ｘｖ）後述する置換分βを１乃至２個有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピロリルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、１，２，３−オキサジアゾリルカルボニル、トリアゾリルカルボニル、チアジアゾリルカルボニル、ピラニルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピコリニル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル、ピラジニルカルボニル、又はアゼピニルカルボニル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）後述する置換分βを１乃至５個有していてもよい、フェニルカルバモイル基若しくはナフチルカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）後述する置換分β（但し、（ｉｉ）ハロゲン原子を除く。）１乃至２個で置換されていてもよいアミノ基、（ｘｉｘ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルコキシ基、（ｘｘ）後述する置換分βの１乃至２個で置換されていてもよい、フェノキシ基若しくはナフチルオキシ基、（ｘｘｉ）アリール部分に、後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよい、フェノキシカルボニル基若しくはナフチルオキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）アリール部分に、後述する置換分βの１乃至５個を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基であり（置換分α−１）、
更に好適には、（ｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉ）フルオロメチル、ジフルオロメチル，トリフルオロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、２−フルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−ブロモエチル若しくは２，２−ジブロモエチル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、（ｖｉｉ）ニトロ基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３又はＣ６シクロアルキル基、（ｉｘ）後述する置換分β−２を１乃至３個有していてもよいフェニル基、（ｘ）アリール部分に，後述する置換分β−２を１乃至３個有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、アクロイル基、又はクロトノイル基、（ｘｉｉ）Ｃ３又はＣ６シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）後述する置換分β−２を１乃至３個有していてもよいベンゾイル基、（ｘｉｖ）アリール部分に、後述する置換分β−２を１乃至３個有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｘｖ）後述する置換分β−２を１乃至２個有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピロリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、又はイソニコチノイル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）後述する置換分β−１を１乃至３個有していてもよいフェニルカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）後述する置換分β−２（但し、（ｉｉ）ハロゲン原子を除く。）１乃至２個で置換されていてもよいアミノ基、（ｘｉｘ）フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、ジクロロエトキシ、２−フルオロエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、２−クロロエトキシ、２，２，２−トリクロロエトキシ、２−ブロモエトキシ若しくは２，２−ジブロモエトキシ基、（ｘｘ）後述する置換分β−２で置換されていてもよい、フェノキシ基、（ｘｘｉ）アリール部分に、後述する置換分β−２の１乃至３個を有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ２アルコキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）後述する置換分β−２の１乃至３個を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）後述する置換分β−２の１乃至３個を有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基であり（置換分α−２）、
更により好適には、（ｉ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、（ｉｉ）フルオロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２−フルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル又は２−クロロエチル、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、（ｉｖ）フッ素原子又は塩素原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉｉｉ）シクロプロピル基、（ｉｘ）後述する置換分β−４を有していてもよいフェニル基、（ｘ）後述する置換分β−４を有していてもよいベンジル基、（ｘｉ）ホルミル基又はアセチル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）後述する置換分β−４を有していてもよいベンゾイル基、（ｘｉｖ）後述する置換分β−４を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｖ）後述する置換分β−４を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、又はニコチノイル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）後述する置換分β−４を有していてもよいフェニルカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）後述する置換分β−４（但し、（ｉｉ）ハロゲン原子を除く。）１乃至２個で置換されていてもよいアミノ基、（ｘｉｘ）フルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、又は２，２，２−トリフルオロエトキシ基、（ｘｘ）後述する置換分β−４で置換されていてもよいフェノキシ基、（ｘｘｉ）後述する置換分β−４を有していてもよいベンジルオキシ基、（ｘｘｉｉ）メトキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）後述する置換分β−４を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）後述する置換分β−４を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基であり（置換分α−３）、
更にまたより好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子、シクロプロピル基、フェニル基、ベンジル基、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルバモイル基、アミノ基、トリフルオロメトキシ基、フェノキシ基、又はメトキシカルボニル基であり（置換分α−４）、
最も好適には、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、フッ素原子、又は塩素原子である（置換分α−５）。
【００１９】
置換分βは、好適には、（ｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）後述する置換分γ−１を１乃至３個有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）アリール部分に、後述する置換分γ−１を１乃至３個有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ４アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）後述する置換分γ−１を１乃至３個有していてもよい、ベンゾイル基若しくはナフチルカルボニル基、（ｖｉｉ）アリール部分に、後述する置換分γ−１を１乃至３個有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分γ−１を１乃至２個有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピロリルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、１，２，３−オキサジアゾリルカルボニル、トリアゾリルカルボニル、チアジアゾリルカルボニル、ピラニルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピコリニル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル、ピラジニルカルボニル、又はアゼピニルカルボニル基、（ｘ）カルバモイル基、又は（ｘｉ）後述する置換分γ−１を１乃至３個有していてもよい、フェニルカルバモイル基若しくはナフチルカルバモイル基であり（β−１群）、
更に好適には、（ｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、フルオロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２−フルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロエチル若しくはＣ１−Ｃ３アルコキシ基、（ｉｉ）フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子、（ｉｉｉ）後述する置換分γ−２を１乃至３個有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）後述する置換分γ−２を１乃至３個有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、アクロイル基、又はクロトノイル基、（ｖｉ）後述する置換分γ−２を１乃至３個有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）後述する置換分γ−２を１乃至３個有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分γ−２を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピロリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、又はイソニコチノイル基、（ｘ）カルバモイル基、又は（ｘｉ）後述する置換分γ−２を１乃至３個有していてもよいフェニルカルバモイル基であり（β−２群）、
更により好適には、（ｉ）メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基若しくはメトキシ基、（ｉｉ）フッ素原子若しくは塩素原子、（ｉｉｉ）後述する置換分γ−３を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）後述する置換分γ−３を有していてもよいベンジル基、（ｖ）ホルミル基若しくはＣ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｖｉ）後述する置換分γ−３を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）後述する置換分γ−３を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）シクロプロピルカルボニル基若しくはシクロヘキシルカルボニル基、（ｉｘ）後述する置換分γ−３を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ニコチノイル若しくはイソニコチノイル基、（ｘ）カルバモイル基、又は（ｘｉ）後述する置換分γ−３を有していてもよいフェニルカルバモイル基であり（β−３群）、
更にまたより好適には、メチル基、エチル基、フッ素原子、塩素原子、フェニル基、ベンジル基、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、シクロプロピルカルボニル基、フリルカルボニル基、チエニルカルボニル基、ニコチノイル基、カルバモイル基、又はフェニルカルバモイル基であり（β−４群）、
最も好適には、メチル基、エチル基、フッ素原子、又は塩素原子であり（β−５群）、
【００２０】
置換分γは、好適には、（ｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）ハロゲン原子、又は（ｉｖ）ヒドロキシ基であり（置換分γ−１）、更に好適には、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−ヨードエチル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヒドロキシ基であり（置換分γ−２）、更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−クロロエチル基、フッ素原子、塩素原子、又はヒドロキシ基であり（置換分γ−３）、最も好適には、メチル基又はトリフルオロメチル基である（置換分γ−４）。
【００２１】
本発明のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体（Ｉ）は、分子内に、酸性基（例えば、カルボキシル基、テトラゾール基、チアゾリジン−２，４−ジオン基等）及び／又は塩基性基（例えば、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基等）を有し、常法に従って、酸及び／又は塩基を反応させ、薬理上許容される塩にすることができる。そのような塩は、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属塩；アンモニウム塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−Ｎ−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のようなアミン塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩；硝酸塩；過塩素酸塩；硫酸塩；燐酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなスルホン酸塩；酢酸塩、りんご酸塩、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩のようなカルボン酸塩；又はオルニチン酸塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩であり得、好適には、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アミン塩、ハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、燐酸塩、スルホン酸塩、カルボン酸塩、又はアミノ酸塩であり、更に好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩；カルシウム塩、マグネシウム塩；アンモニウム塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、テトラメチルアンモニウム塩；塩酸塩、臭化水素酸塩；硝酸塩；硫酸塩；燐酸塩；メタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩；酢酸塩、りんご酸塩、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩；オルニチン酸塩、グルタミン酸塩、又はアスパラギン酸塩である。
【００２２】
本発明のベンゾ若しくはピリドイミダゾール誘導体（Ｉ）がカルボキシル基を有する場合、常法（後述するカルボン酸類とアルコール体若しくはアミン体の縮合反応）に従って、化合物（Ｉ）又はその活性誘導体（例えば、酸クロリド等）を相当するアルコール体（例えば、Ｃ１−Ｃ６アルコール等）若しくはその活性誘導体（例えば、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル体、（ピバロイルオキシ）メチル体、フタリジル体、［（イソプロポキシカルボニル）オキシ］メチル体等）、アンモニア又は相当するアミン体（モノ−若しくはジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン等）と反応させるか；化合物（Ｉ）のエステル体を相当するアルコール体（例えば、Ｃ１−Ｃ６アルコール等）と反応させるか（エステル交換反応）又はアンモニア若しくは相当するアミン体（モノ−若しくはジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン等）と反応させるか（アミド化反応）；又は化合物（Ｉ）のアルカリ金属塩を相当するハライド体（例えば、Ｃ１−Ｃ６アルキルクロリド若しくはブロミド、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルクロリド若しくはブロミド、（ピバロイルオキシ）メチルクロリド若しくはブロミド、フタリジルクロリド若しくはブロミド、［（イソプロポキシカルボニル）オキシ］メチルクロリド若しくはブロミド等）と反応させることにより、薬理上許容されるエステル類又はアミド類にすることができる。
そのようなエステル類は、例えば、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、ｓ−ブチルエステル、ｔ−ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキシルエステルのようなＣ１−Ｃ６アルキルエステル類；シクロペンチルエステル、シクロヘキシルエステルのようなＣ３−Ｃ６シクロアルキルエステル類；フェニルエステル、ナフチルエステルのようなＣ６−Ｃ１０アリールエステル類；ベンジルエステル、フェネチルエステル、α−メチルベンジルエステル、３−フェニルプロピルエステル、４−フェニルブチルエステル、６−フェニルへキシルエステル、ジフェニルメチルエステル、トリフェニルメチルエステルのようなＣ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルエステル類；又は（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルエステル、（ピバロイルオキシ）メチルエステル、フタリジルエステル、［（イソプロポキシカルボニル）オキシ］メチルエステル、［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］メチルエステル、１−［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］エチルエステルのような生体内で、加水分解されるエステル類であり得、好適には、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、ヘキシルエステル；シクロペンチルエステル、シクロヘキシルエステル；フェニルエステル；ベンジルエステル、フェネチルエステル、４−フェニルブチルエステル、６−フェニルへキシルエステル、ジフェニルメチルエステル；（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルエステル、（ピバロイルオキシ）メチルエステル、フタリジルエステル、［（イソプロポキシカルボニル）オキシ］メチルエステル、［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］メチルエステル、又は１−［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］エチルエステルであり、更に好適には、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブチルエステル、シクロヘキシルエステル、ベンジルエステル、フェネチルエステル、４−フェニルブチルエステル、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルエステル、（ピバロイルオキシ）メチルエステル、フタリジルエステル、［（イソプロポキシカルボニル）オキシ］メチルエステル、［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］メチルエステル、又は１−［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］エチルエステルであり、更により好適には、メチルエステル、エチルエステル、シクロヘキシルエステル、フェネチルエステル、４−フェニルブチルエステル、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルエステル、（ピバロイルオキシ）メチルエステル、［（イソプロポキシカルボニル）オキシ］メチルエステル、［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］メチルエステル、又は１−［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］エチルエステルであり、最も好適には、メチルエステル、エチルエステル、フェネチルエステル、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルエステル、［（シクロヘキシルオキシカルボニル）���キシ］メチルエステル、又は１−［（シクロヘキシルオキシカルボニル）オキシ］エチルエステルである。
そのようなアミド類は、例えば、アミド（−ＣＯＮＨ２）；Ｎ−メチルアミド、Ｎ−エチルアミド、Ｎ−プロピルアミド、Ｎ−イソプロピルアミド、Ｎ−ブチルアミド、Ｎ−ｓ−ブチルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアミド、Ｎ−ペンチルアミド、Ｎ−へキシルアミド、Ｎ−シクロプロピルアミド、Ｎ−シクロペンチルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアミドのようなモノ−Ｃ１−Ｃ６アルキルアミド若しくはモノ−Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルアミド；又はＮ，Ｎ−ジメチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミド、Ｎ−ブチル−Ｎ−シクロペンチルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロプロピルアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルアミドのようなジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルアミド、Ｎ−Ｃ１−Ｃ６アルキル−Ｎ−Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルアミド若しくはジ−Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルアミドであり得、好適には、アミド（−ＣＯＮＨ２）；Ｎ−メチルアミド、Ｎ−エチルアミド、Ｎ−プロピルアミド、Ｎ−イソプロピルアミド、Ｎ−ブチルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアミド、Ｎ−へキシルアミド、Ｎ−シクロペンチルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアミド；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミド、又はＮ−エチル−Ｎ−シクロプロピルアミドであり、更に好適には、アミド（−ＣＯＮＨ２）、Ｎ−メチルアミド、Ｎ−エチルアミド、Ｎ−ブチルアミド、Ｎ−へキシルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミド、又はＮ−メチル−Ｎ−ブチルアミドであり、更により好適には、アミド（−ＣＯＮＨ２）、Ｎ−メチルアミド、Ｎ−エチルアミド、Ｎ−ブチルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、又はＮ−メチル−Ｎ−ブチルアミドである。
【００２３】
本発明の化合物（Ｉ）は、大気中に放置したり、再結晶することにより、水分、アルコール等の有機溶媒を吸収し、吸着水が付いたり、水和物又は有機溶媒和物となる場合があり、そのように形成される、水和物又は有機溶媒和物も本発明に包含される。
また、再結晶により種々の結晶形を示す場合、そのような全ての結晶形及び非晶質（アモルファス）も本発明に包含される。
更に、生体内において代謝されて本発明の化合物（Ｉ）またはその薬理上許容される塩に変換される化合物、いわゆるプロドラッグも全て本発明に包含される。
更にまた、本発明の化合物（Ｉ）は、光学異性体を有する場合がある。即ち、不斉炭素原子又はスルホキシド基を有する場合、Ｒ配位又はＳ配位である立体異性体が存在する。また、不飽和二重結合を有する場合、シス体又はトランス体である幾何異性体が存在する。その各々又はそれらの任意の割合の化合物のいずれも本発明に包含される。そのような立体異性体は、光学分割された原料化合物を用いて化合物（Ｉ）を合成するか又は合成した化合物（Ｉ）を所望により通常の光学分割法若しくは分離法を用いて光学分割することができる。
【００２４】
本発明の化合物（Ｉ）の好ましい化合物を以下に示す。
Ａは、
（Ａ−１）好適には、
（ａ）式（ａ−１）
【化１６】
2011142381.tif 000018
（式中、Ｒａ１が（ｉ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基、（ｉｉ）フッ素又は塩素で置換されたＣ２−Ｃ５アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ５アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ２−Ｃ５アルキルチオ基、（ｖ）式  −Ｎ（Ｒａ３）（Ｒａ４）（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ５アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基であり、Ｒａ４が水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基である。）を有する基、（ｖｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、（ｖｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルオキシ基、又は（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルチオ基である。）を有する基であり、
Ｒａ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルバモイル基、（ｖｉｉｉ）アミノ基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニルアミノ基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、又は（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、
Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基若しくは５−チオキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基、（ｉｖ）２，４−ジオキソオキサゾリジン−５−イル基若しくは２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−  を有する基、（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基、（ｖｉｉ）２−ヒドロキシ−３，４−ジオキソ−１−シクロブテニル基、（ｖｉｉｉ）アセチルアミノスルホニル基若しくはプロピオニルアミノスルホニル基、（ｉｘ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルアミノスルホニル基、又は（ｘ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルアセチルアミノスルホニル基である。）を有する基、
【００２５】
（ｂ）式（ｂ−１）
【化１７】
2011142381.tif 000019
式（ｂ−２）
【化１８】
2011142381.tif 000020
式（ｂ−３）
【化１９】
2011142381.tif 000021
式（ｂ−４）
【化２０】
2011142381.tif 000022
式（ｂ−５）
【００２６】
【化２１】
2011142381.tif 000023
式（ｂ−６）
【化２２】
2011142381.tif 000024
又は式（ｂ−７）
【化２３】
2011142381.tif 000025
（上記式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルバモイル基、（ｖｉｉｉ）アミノ基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニルアミノ基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基若しくはヘキシル基、（ｘｉｖ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基、又は（ｘｖ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基であり、点線を含む結合が単結合又は二重結合であり、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、又は（ｉｖ）ベンジル基であり、Ｒａ３ａが（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基又は（ｉｖ）ベンジル基である。）を有する基、
（ｃ）式（ｃ−１）
【化２４】
2011142381.tif 000026
（式中、Ｄがカルボキシル基又は５−テトラゾリル基であり、Ｒａ１がプロピル基、ブチル基、シクロプロピル基、又はエトキシ基であり、Ｒａ５が水素原子、塩素原子、カルボキシル基、カルバモイル基、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、トリフルオロメチル基、又はメトキシ基である）を有する基、
【００２７】
（ｄ）式（ｄ−１）
【化２５】
2011142381.tif 000027
（式中、Ｄがカルボキシル基又は５−テトラゾリル基であり、Ｒａ１がプロピル基、ブチル基、シクロプロピル基、又はエトキシ基であり、Ｒａ６がメチル基又はエチル基である。）を有する基、
（ｅ）式（ｅ−１）
【化２６】
2011142381.tif 000028
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ７が、水素原子、メチル基、エチル基、シクロプロピル基、又はシクロヘキシル基である。）を有する基、
（ｆ）式（ｆ−１）
【化２７】
2011142381.tif 000029
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ８が、水素原子、メチル基、又はエチル基であり、Ｌｄが  式＝ＣＨ−又は  ＝Ｎ−基である。）を有する基、又は
【００２８】
（ｇ）式（ｇ−１）
【化２８】
2011142381.tif 000030
（式中、Ｄ及が上記の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ９が、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基、又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である。）を有する基であり、
【００２９】
（Ａ−２）更に好適には、
（ａ）上記式（ａ−１）
（式中、Ｒａ１が（ｉ）Ｃ３−Ｃ５アルキル基、（ｉｉ）フッ素で置換されたＣ３−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ２−Ｃ４アルキルチオ基、（ｖ）式、−Ｎ（Ｒａ３）（Ｒａ４）（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルキル基であり、Ｒａ４が水素原子である。）を有する基、（ｖｉ）Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、（ｖｉｉ）シクロプロピルオキシ基、又は（ｖｉｉｉ）シクロプロピルチオ基である。）を有する基であり、
Ｒａ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ３アルキルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ３アルキルカルバモイル基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基若しくはアセチルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ３ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、又は（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基であり、及び
Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基、（ｉｖ）２，４−ジオキソオキサゾリジン−５−イル基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−を有する基、（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基、又は（ｖｉｉｉ）アセチルアミノスルホニル基である。）を有する基、
（ｂ）上記式（ｂ−１）乃至（ｂ−７）
（上記式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−２）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ３アルキルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基若しくはアセチルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ２ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基若しくはヘキシル基、（ｘｉｖ）フッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ３アルキル基、又は（ｘｖ）Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基であり、点線を含む結合が単結合又は二重結合であり、Ｒａ３が（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒａ３ａが（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基である。）を有する基、
（ｅ）上記式（ｅ−１）
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−２）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ７が、シクロヘキシル基である。）を有する基、
（ｆ）上記式（ｆ−１）
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−２）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ８が、水素原子又はメチル基であり、Ｌｄが  式  ＝Ｎ−基である。）を有する基、又は
（ｇ）上記式（ｇ−１）
（式中、Ｄが上記（Ａ−２）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ９が、Ｃ２−Ｃ４アルキル基、フッ素で置換されたＣ３−Ｃ４アルキル基、又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である。）を有する基であり、
【００３０】
（Ａ−３）更により好適には、
（ａ）上記式（ａ−１）
（式中、Ｒａ１が（ｉ）プロピル、ブチル、ｉ−ブチル若しくはペンチル基、（ｉｉｉ）エトキシ若しくはプロポキシ基、（ｉｖ）エチルチオ若しくはプロピルチオ基、（ｖ）プロピルアミノ若しくはブチルアミノ基、（ｖｉ）シクロプロピル基、又は（ｖｉｉ）シクロプロピルオキシ基であり、Ｒａ２が、（ｉｉ）塩素原子若しくは臭素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル若しくはプロピオニル基、（ｖ）カルボキシル基、若しくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ若しくはブトキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基若しくはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、又は（ｘ）１−ヒドロキシエチル基若しくは１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基であり、Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−を有する基、又は（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基である。）を有する基、又は
（ｂ）上記式（ｂ−１）、（ｂ−２）、（ｂ−６）及び（ｂ−７）
（上記式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−３）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）フッ素原子若しくは塩素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ３アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）Ｎ−メチル、Ｎ−エチル、Ｎ−ｉ−プロピル、Ｎ，Ｎ−ジメチル若しくはＮ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル基、（ｘｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｔ−ブチル若しくはヘキシル基、（ｘｉｖ）フルオロメチル若しくはトリフルオロメチル基、又は（ｘｖ）メトキシ、エトキシ、プロポキシ若しくはｉ−プロポキシ基であり、点線を含む結合が単結合又は二重結合であり、Ｒａ３が（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）メチル、エチル若しくはi‐プロピル基であり、Ｒａ３ａが（ｉｉ）メチル若しくはエチル基である。）を有する基であり、
【００３１】
（Ａ−４）更にまたより好適には、
（ａ）上記式（ａ−１）
（式中、Ｒａ１が（ｉ）プロピル若しくはブチル基、（ｉｉｉ）エトキシ基、（ｉｖ）エチルチオ若しくはプロピルチオ基、（ｖ）プロピルアミノ基、又は（ｖｉ）シクロプロピル基であり、Ｒａ２が、（ｉｉ）塩素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル若しくはプロピオニル基、（ｖ）カルボキシル基、若しくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ若しくはブトキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）Ｎ−メチル、Ｎ−エチル若しくはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、又は（ｘ）１−ヒドロキシエチル基であり、Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、又は（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基である。）を有する基、又は
（ｂ）上記式（ｂ−１）
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−４）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）塩素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル基、（ｖ）カルボキシル基、メトキシカルボニル基若しくはエトキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）Ｎ−メチル若しくはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、（ｘｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル若しくはｔ−ブチル基、（ｘｉｖ）トリフルオロメチル基、又は（ｘｖ）メトキシ基である。）を有する基であり、
（Ａ−５）最も好適には、
（ａ）上記式（ａ−１）
（式中、Ｒａ１が（ｉ）プロピル若しくはブチル基、（ｉｉｉ）エトキシ基、又は（ｖｉ）シクロプロピル基であり、Ｒａ２が、（ｉｉ）塩素原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）アセチル若しくはプロピオニル基、（ｖ）カルボキシル基、若しくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ若しくはｉ−プロポキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、又は（ｖｉｉ）Ｎ−メチル、Ｎ−エチル若しくはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基であり、Ｄが、（ｉ）カルボキシル基又は（ｉｉ）５−テトラゾリル基である。）を有する基、又は
（ｂ）上記式（ｂ−１）
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−５）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）塩素原子、（ｖ）カルボキシル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｘｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル若しくはｉ−プロピル基、（ｘｉｖ）トリフルオロメチル基、又は（ｘｖ）メトキシ基である。）を有する基であり、
【００３２】
Ｂは、
（Ｂ−１）好適には、式（ｂｂ−１）
【化２９】
2011142381.tif 000031
（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ５アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がＣ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、フッ素、塩素、及びフッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ３アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル若しくはフェネチル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝又は  −Ｎ＝基であり、Ｂが、Ｅと（又はＧと）、イミダゾール環部分又はベンゼン若しくはピリジン環部分で結合する。）を有する基であり、
（Ｂ−２）更に好適には、上記式（ｂｂ−１）
（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝  又は  −Ｎ＝  基であり、Ｂが、Ｅと（又はＧと）、イミダゾール環部分又はベンゼン若しくはピリジン環部分で結合する。）を有する基であり、
（Ｂ−３）更により好適には、上記式（ｂｂ−１）
（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル若しくはブチル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されてもよいベンジル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝又は  −Ｎ＝基であり、Ｂが、Ｅとベンゼン若しくはピリジン環部分で結合し、Ｇとイミダゾール環部分で結合する。）を有する基であり、
（Ｂ−４）最も好適には、上記式（ｂｂ−１）
（式中、Ｒａ３が（ｉｉ）メチル若しくはエチル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝基であり、Ｂが、Ｅとベンゼン若しくはピリジン環部分で結合し、Ｇとイミダゾール環部分で結合する。）を有する基であり、
【００３３】
Ｃは、
（Ｃ−１）好適には、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−スルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基であり、Ｒｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、ホルミル、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル、及びメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−スルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基であり、Ｗｃ１が（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  ＝Ｎ−Ｒｃ３（式中、Ｒｃ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基��（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基若しくはアクロイル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル若しくはナフチルカルボニル基、（ｖｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ４シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）メチル、エチル、メトキシ、フッ素及び塩素からなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル；Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル；及びフェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ２アルコシカルボニル基、（ｘｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、ベンジルオキシカルボニル基である。）を有する基である。）を有する基、又は
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル若しくはナフチルカルボニル基、（ｖｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）メチル、エチル、メトキシ、フッ素及び塩素からなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル；Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル；及びフェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、カルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェノキシ−若しくはナフチルオキシ−カルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハロゲン及びＣ１−Ｃ２ハロゲノアルキルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基である。）を有する基であり、
【００３４】
（Ｃ−２）更に好適には、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基であり、Ｒｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、フッ素、塩素、トリフルオロメチル、ホルミル、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル、及びメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ３アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルスルホニル基であり、Ｗｃ１が（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  ＝Ｎ−Ｒｃ３（式中、Ｒｃ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）ホルミル基若しくはアセチル基、（ｖｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｖｉｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｉｘ）メチル、メトキシ、フッ素若しくは塩素で置換されていてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘ）Ｃ１−Ｃ３アルキル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル；及びフェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フ��ニル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基である。）を有する基、又は
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及び若しくはトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル若しくはバレリル基、（ｖｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキカルボニル基、（ｖｉｉｉ）Ｃ５−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｉｘ）メチル、メトキシ、フッ素若しくは塩素で置換されていてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ３アルキル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル；及びフェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基、（ｘｉｉ）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基である。）を有する基であり、
【００３５】
（Ｃ−３）更により好適には、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、又は（ｉｖ）ベンジル基であり、Ｒｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル若しくはブチル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素、トリフルオロメチル、及びメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メタン、エタン若しくはプロパンスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメタンスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルスルホニル基であり、Ｗｃ１が（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  ＝Ｎ−Ｒｃ３（式中、Ｒｃ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）ベンジル基、（ｖ）アセチル基、（ｖｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｉｘ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘ）メチル及びエチル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル；及びフェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基である。）を有する基、又は
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）アセチル、プロピオニル、ブチリル若しくはバレリル基、（ｖｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｉｘ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）メトキシカルボニル基、（ｘｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基である。）を有する基であり、
【００３６】
（Ｃ−４）更にまたより好適には、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）（エトキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−ｔ−ブチルフェノキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−クロロフェノキシ）（カルボキシ）メチル基、（ベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−プロポキシベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（３−クロロベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−クロロベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（４−メトキシベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−ベンゾイルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（プロピルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（フェニルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（ベンジルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（Ｎ−エチル−Ｎ−ニコチノイルアミノ）（カルボキシ）メチル基、（３−フェニルウレイド）（カルボキシ）メチル基、［１−ブチル−３−（３−ブロモベンジル）ウレイド］（カルボキシ）メチル基、［Ｎ−エチル−Ｎ−（４−メトキシベンジルカルボニル）アミノ］（カルボキシ）メチル基若しくは（２−ベンゾイルフェニルアミノ）（カルボキシ）メチル基、又は
（ｄ）Ｎ−（４−メトキシフェノキシカルボニル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−（４−クロロベンジル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−フェノキシカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−（３−トリフルオロメチルベンゾイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−ベンジルカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−バレリル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−（Ｎ−ベンジルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基、Ｎ−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基若しくはＮ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基であり、
【００３７】
（Ｃ−５）最も好適には、（ａ）カルボキシル基、（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル基、（ｃ）（４−クロロベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基、又は（ｄ）Ｎ−フェノキシカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基であり、
Ｅは、
【００３８】
（Ｄ−１）好適には、
（１）式  （ｄ−１）
【化３０】
2011142381.tif 000032
（「−Ｗｃ３−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２−」とも記す。）
（式中、Ｒｅ１が、同一または異なって、０又は１乃至３個存在し、Ｒｅ１が（ｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、（ｖｉｉ）ニトロ基、（ｖｉｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、（ｉｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｘ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−又はナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ３アルケニルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル基若しくはナフチルカルボニル基、（ｘｉｖ）アリール部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｘｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル又はピラジニルカルボニル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニルカルバモイル基若しくはナフチルカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキル及びＣ１−Ｃ４アルコキシ；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル及びナフチル；フェニル若しくはナフチル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−及びナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル；ホルミル、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル及びアクリロイル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル及びナフチルカルボニル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−及びナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル；Ｃ３−Ｃ４シクロアルキルカルボニル；メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル及びピラジニルカルボニル；カルバモイル；及びメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニルカルバモイル及びナフチルカルバモイルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいアミノ基、（ｘｉｘ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルコキシ基、（ｘｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェノキシ若しくはナフチルオキシ基、（ｘｘｉ）フェニル又はナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルコキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェノキシカルボニル若しくはナフチルオキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基であり、
Ｗｃ３が、（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが、０乃至２の整数である。）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル基、（ｖｉ）Ｃ１−Ｃ４ハロゲノアルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニルスルホニル基若しくはナフチルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル基、Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基若しくはアクリロル基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、ベンゾイル若しくはナフチルカルボニル基、（ｘｉ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピリダジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル又はピラジニルカルボニル基、又は（ｘｉｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキル；Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル及びナフチル；及びフェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−及びナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基、（ｇ）上記（ａ）乃至（ｆ）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、又は（ｈ）結合手であり、
Ｘｅ２が、（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキレン基、（ｆ）式  −Ｗｃ４−Ｐｈｅ−Ｘｅ３−（式中、Ｗｃ４が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは０乃至２を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手であり、Ｐｈｅが、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｘｅ３が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は結合手である。）を有する基、又は（ｇ）結合手であり、および
Ａｒが、２価の、フェニル、ナフチル、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、イソキサゾール、オキサゾール、１，３，４−オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，３，４−チアジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾ〔Ｂ〕チオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾイソキサゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、オキサゾロ〔４，５−Ｂ〕ピリジン、ベンゾフラザン、ピラゾロ〔４，５−Ｃ〕ピリジン、ピラゾロ〔３，４−Ｂ〕ピリジン、１，２，３−ベンゾチアジアゾール、ピラゾロ〔３，４−Ｄ〕ピリミジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ピリド〔２，３−Ｂ〕ピラジン、ピリドイミダゾール、キナゾリン、フタラジン、又はナフチリジン環状基である。）を有する基；又は
（２）式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−  基が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−  （式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２は上記したものと同意義を示す。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至５個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン基（好適には、これらの原子若しくは／及び基を含有するＣ１−Ｃ１０アルキレン基）、又は結合手であり、
【００３９】
（Ｄ−２）更に好適には、
（１）上記式  （ｄ−１）
（式中、Ｒｅ１が、同一または異なって、０又は１乃至２個存在し、Ｒｅ１が（ｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉ）フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキル基、（ｉｉｉ）メトキシ若しくはエトキシ基、（ｉｖ）フッ素若しくは塩素原子、（ｖｉｉｉ）シクロプロピル基、（ｉｘ）フェニル基、（ｘ）ベンジル基、（ｘｉ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）ベンゾイル基、（ｘｉｖ）ベンジルカルボニル基、（ｘｖ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）フェニルカルバモイル基、（ｘｖｉｉｉ）アミノ、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ若しくはＮ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、（ｘｉｘ）フルオロメトキシ若しくはトリフルオロメトキシ基、（ｘｘ）フェノキシ基、（ｘｘｉ）ベンジルオキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）フェノキシカルボニル基、又は（ｘｘｉｖ）ベンジルオキシカルボニル基であり、
Ｗｃ３が、（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メチルスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメチルスルホニル基、（ｖｉｉ）フェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）ベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）ベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、（ｆ）式  −ＣＯ−を有する基、（ｇ）上記（ａ）乃至（ｆ）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、又は（ｈ）結合手であり、
Ｘｅ２が、（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、又はアセチル基である。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、又はアセチル基である。）を有する基及び式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、（ｆ）式  −Ｗｃ４−Ｐｈｅ−Ｘｅ３−（式中、Ｗｃ４が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが０乃至２である。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、ホルミル基、又はアセチル基である。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが０乃至２である。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、ホルミル基、又はアセチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基、又は結合手であり、Ｐｈｅが、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、フッ素及び塩素からなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｘｅ３が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、ホルミル基、又はアセチル基である。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオ���メチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、ホルミル基、又はアセチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基又は結合手である。）を有する基、又は（ｇ）結合手であり、及び
Ａｒが、２価の、フェニル、ナフチル、フラン、チオフェン、イミダゾール、テトラゾール、オキサゾール、チアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾ〔Ｂ〕チオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾイソキサゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、イソキノリン、又はピリドイミダゾール環状基である。）を有する基；又は
（２）式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−  基が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが０乃至２である。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メチルスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメチルスルホニル基、（ｖｉｉ）フェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）ベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）ベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メチルスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメチルスルホニル基、（ｖｉｉ）フェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）ベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）ベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される置換基１乃至２個で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、又はフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基（好適には、これらの原子若しくは／及び基を含有するＣ１−Ｃ４アルキレン基）、又は結合手であり、
【００４０】
（Ｄ−３）更により好適には、
（１）上記式  （ｄ−１）
（式中、Ｒｅ１が、同一または異なって、０又は１乃至２個存在し、Ｒｅ１が（ｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉ）トリフルオロメチル基、（ｉｉｉ）メトキシ若しくはエトキシ基、又は（ｉｖ）フッ素若しくは塩素原子であり、
Ｗｃ３が、（ａ）酸素原子、（ｂ）式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは、０乃至２の整数を示す）を有する基、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいベンジル基、又は（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基である。）を有する基、（ｄ）式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基、（ｅ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基、（ｇ）上記（ａ）乃至（ｅ）からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、又は（ｈ）結合手であり、
Ｘｅ２が、（ａ）酸素原子、（ｂ）硫黄原子、（ｃ）式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、ベンジル基又はアセチル基である。）を有する基、（ｅ）酸素原子、硫黄原子及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子、メチル基、ベンジル基、又はアセチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至２個含有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキレン基、又は（ｇ）結合手であり、及び
Ａｒが、２価の、フェニル、ピリジン、ベンゾイミダゾール、又はピリドイミダゾール環状基である。）を有する基；又は
（２）式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−  基が、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑが０乃至２である。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいベンジル基、又は（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基である。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基、酸素原子、式  −Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｑは上記したものと同意義を示す。）、式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいベンジル基、又は（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基である。）を有する基、式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基及び式  −Ｎ（Ｒｅ２）−ＣＯ−（式中、Ｒｅ２が、水素原子又はメチル基である。）を有する基からなる群から選択される原子若しくは／及び基を１乃至３個含有していてもよい、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基（好適には、これらの原子若しくは／及び基を含有するＣ１−Ｃ４アルキレン基）、又は結合手であり、
【００４１】
（Ｄ−４）更にまたより好適には、
（１）式  −ＣＨ２Ｏ−１，４−フェニレン−Ｓ−、−ＣＨ２Ｓ−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＯ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−（３，５−ジメチルフェニレン）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＯＮＨＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−３，５−ピリジニレン−Ｓ−、−ＣＨ２Ｓ−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＳＣＨ２−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−２，５−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−２，５−ピリジニレン−Ｓ−、２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｓ−、２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−若しくは２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基；又は
（２）式  −ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−、−ＣＨ２ＳＯ−、−ＣＨ２ＳＯ２−、−ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＣＨ２Ｓ−若しくは−ＳＣＨ２−基、又は結合手であり、
【００４２】
（Ｄ−５）最も好適には、
（１）式  −ＣＨ２Ｏ−１，４−フェニレン−Ｓ−、−ＣＨ２Ｓ−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＯ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−（３，５−ジメチルフェニレン）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＯＮＨＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｓ−若しくは２，６−（１−メチルベンズイミダゾリレン）−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基；又は
（２）式  −ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−、−ＣＨ２ＳＯ−、−ＣＨ２ＳＯ２−、−ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＣＨ２Ｓ−若しくは−ＳＣＨ２−基、又は結合手であり、
Ｇは、
【００４３】
（Ｅ−１）好適には、
結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル、エチル、フェニル及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基であり、
【００４４】
（Ｅ−２）更に好適には、
結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、（ｉｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素又はトリフルオロメチルで置換されていてもよいベンジル基である。）を有する基であり、
（Ｅ−３）更により好適には、
結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）メチル若しくはエチル基である。）を有する基であり、
【００４５】
（Ｅ−４）最も好適には、
結合手又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、メチル基又はエチル基である。）を有する基であり、
式  −Ｖ−Ｒ基は、
【００４６】
（Ｆ−１）好適には、
Ｖが、結合手、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、又は（ｉｘ）アセチル基である。）を有する基であり、Ｒが、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）メチル及びエチル；トリフルオロメチル；メトキシ及びエトキシ；フッ素、塩素及び臭素；フェニル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、又は（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、メチル及びエチル；トリフルオロメチル；メトキシ及びエトキシ；フッ素、塩素及び臭素；フェニル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ３アルキル基である基であり、
【００４７】
（Ｆ−２）更に好適には、
Ｖが、結合手、酸素原子又は硫黄原子であり、Ｒが、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ペンチル若しくはヘキシル基、（ｉｉｉ）メチル；トリフルオロメチル；メトキシ；フッ素、塩素及び臭素；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分が、メチル；トリフルオロメチル；メトキシ；フッ素、塩素及び臭素；フェニル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ３アルキル基である基であり、
【００４８】
（Ｆ−３）最も好適には、
Ｖが、結合手又は酸素原子であり、Ｒが、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、ｉ−プロピル若しくはヘキシル基、又は（ｉｉｉ）フェニル基、２−、３−若しくは４−トリフルオロメチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−クロロ−３−メトキシフェニル基、３−若しくは４−ブロモフェニル基、４−メチルベンゾイルフェニル基、３−クロロベンゾイルフェニル基若しくは、３−トリフルオロメトキシフェニル基、又は（ｉｖ）ベンジル基、３−若しくは４−トリフルオロメチルベンジル基、２−、３−若しくは４−メトキシベンジル基、４−クロロベンジル基、３−ブロモベンジル基、４−（４−メチルベンゾイル）ベンジル基、３−クロロベンゾイルベンジル基、３−トリフルオロメトキシベンジル基、α―メチルベンジル基、２−（４−メトキシフェニル）エチル基若しくは３−フェニルプロピル基である基であり、
式  −（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−基は、
【００４９】
（Ｇ−１）好適には、
ｎが、１乃至４の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２乃至４の整数である。）、Ｑが、酸素原子又は硫黄原子である基であり、
（Ｇ−２）更に好適には、
ｎが、１乃至４の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２乃至４の整数である。）、Ｑが、酸素原子である基であり、
（Ｇ−３）更により好適には、
ｎが、１乃至３の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２乃至３の整数である。）、Ｑが、酸素原子である基であり、
（Ｇ−４）最も好適には、
ｎが、１乃至２の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２の整数である。）、Ｑが、酸素原子である基であり、
【００５０】
ｐは、
（Ｈ−１）好適には、１乃至４の整数であり、
（Ｈ−２）更に好適には、１乃至３の整数であり、
（Ｈ−３）最も好適には、１乃至２の整数である。
【００５１】
また、Ａを（Ａ−１）乃至（Ａ−５）から選択し、Ｂを（Ｂ−１）乃至（Ｂ−４）から選択し、Ｃを（Ｃ−１）乃至（Ｃ−５）から選択し、Ｅを（Ｄ−１）乃至（Ｄ−５）から選択し、Ｇを（Ｅ−１）乃至（Ｅ−４）から選択し、式  −Ｖ−Ｒ  基を（Ｆ−１）乃至（Ｆ−３）から選択し、式  −（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−  基を（Ｇ−１）乃至（Ｇ−４）から選択し、ｐを（Ｈ−１）乃至（Ｈ−３）から選択し、それらを組み合わせて得られる化合物も好適であり、例えば、
Ａが（Ａ−２）、
【００５２】
（ａ）上記式（ａ−１）
（式中、Ｒａ１が（ｉ）Ｃ３−Ｃ５アルキル基、（ｉｉ）フッ素で置換されたＣ３−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ２−Ｃ４アルキルチオ基、（ｖ）式  −Ｎ（Ｒａ３）（Ｒａ４）（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、又は（ｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルキル基であり、Ｒａ４が水素原子である。）を有する基、（ｖｉ）Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、（ｖｉｉ）シクロプロピルオキシ基、又は（ｖｉｉｉ）シクロプロピルチオ基である。）を有する基であり、
Ｒａ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ３アルキルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ３アルキルカルバモイル基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基若しくはアセチルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ３ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、又は（ｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ２アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基であり、及び
Ｄが、（ｉ）カルボキシル基、（ｉｉ）５−テトラゾリル基、（ｉｉｉ）５−オキソ−１，２，４−オキサジアゾリン−３−イル基、（ｉｖ）２，４−ジオキソオキサゾリジン−５−イル基、（ｖ）式  ＣＦ３ＳＯ２−ＮＨ−を有する基、（ｖｉ）テトラゾール‐５‐イルアミノカルボニル基、又は（ｖｉｉｉ）アセチルアミノスルホニル基である。）を有する基、
【００５３】
（ｂ）上記式（ｂ−１）乃至（ｂ−７）
（上記式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−２）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ５が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）ホルミル基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ３アルキルカルボニル基、（ｖ）カルボキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基、（ｖｉ）カルバモイル基、（ｖｉｉ）モノ−又はジ−Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、（ｉｘ）ホルミルアミノ基若しくはアセチルアミノ基、（ｘ）Ｃ１−Ｃ２ヒドロキシアルキル基、（ｘｉ）ホルミル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉｉ）Ｃ２−Ｃ４アルキルカルボニル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｘｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基若しくはヘキシル基、（ｘｉｖ）フッ素若しくは塩素で置換されたＣ１−Ｃ３アルキル基、又は（ｘｖ）Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基であり、点線を含む結合が単結合又は二重結合であり、Ｒａ３が（ｉ）水素原子又は（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒａ３ａが（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基である。）を有する基、
（ｅ）上記式（ｅ−１）
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−２）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ７が、シクロヘキシル基である。）を有する基、
（ｆ）上記式（ｆ−１）
（式中、Ｄ及びＲａ１が上記（Ａ−２）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ８が、水素原子又はメチル基であり、Ｌｄが  式  ＝Ｎ−基である。）を有する基、又は
（ｇ）上記式（ｇ−１）
（式中、Ｄが上記（Ａ−２）の式（ａ−１）におけるものと同意義であり、Ｒａ９が、Ｃ２−Ｃ４アルキル基、フッ素原子で置換されたＣ３−Ｃ４アルキル基、又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である。）を有する基であり、
【００５４】
Ｂが（Ｂ−３）、
上記式（ｂｂ−１）
（式中、Ｒａ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル若しくはブチル基、又は（ｉｖ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、又はトリフルオロメチルで置換されてもよいベンジル基であり、Ｔが式  −ＣＨ＝又は  −Ｎ＝基であり、Ｂが、Ｅとベンゼン若しくはピリジン環部分で結合し、Ｇとイミダゾール環部分で結合する。）を有する基であり、
【００５５】
Ｃが（Ｃ−３）、
（ａ）カルボキシル基、
（ｂ）チアゾリジン−２，４−ジオン−５−イル、オキサゾリジン−２，４−ジオン−５−イル若しくは１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン−２−イル基、
（ｃ）式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＨ）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｒｃ１が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、又は（ｉｖ）ベンジル基であり、Ｒｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル若しくはブチル基、（ｉｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素、トリフルオロメチル、及びメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）メタン、エタン若しくはプロパンスルホニル基、（ｖｉ）トリフルオロメタンスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、又は（ｖｉｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルスルホニル基であり、Ｗｃ１が（ｉ）酸素原子、（ｉｉ）硫黄原子、又は（ｉｉｉ）式  ＝Ｎ−Ｒｃ３（式中、Ｒｃ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル若しくはエチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）ベンジル基、（ｖ）アセチル基、（ｖｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｉｘ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘ）メチル及びエチル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル；及びフェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよい、カルバモイル基である。）を有する基、又は
（ｄ）式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＨ２ＣＯＯＨ（式中、Ｗｃ２が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル基、（ｉｉｉ）フェニル基、（ｉｖ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジル基、（ｖ）アセチル、プロピオニル、ブチリル若しくはバレリル基、（ｖｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｖｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｉｘ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、（ｘ）メチル及びエチル；フェニル；及びフェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素、臭素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいカルバモイル基、（ｘｉ）メトキシカルボニル基、（ｘｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェノキシカルボニル基、又は（ｘｉｉｉ）フェニル部分がメチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基である。）を有する基であり、
【００５６】
Ｅが（Ｄ−４）、
（１）式  −ＣＨ２Ｏ−１，４−フェニレン−Ｓ−、−ＣＨ２Ｓ−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＯ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＮＨ−１，４−（３，５−ジメチルフェニレン）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−１，３−フェニレン−Ｏ−、−ＳＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＯＮＨＣＨ２−１，４−フェニレン−Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−３，５−ピリジニレン−Ｓ−、−ＣＨ２Ｓ−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＳＣＨ２−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−２，５−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−３，６−ピリジニレン−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−２，５−ピリジニレン−Ｓ−、２，６−（１−メチルイミダゾリレン）−Ｓ−、２，６−（１−メチルイミダゾリレン）−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−若しくは２，６−（１−メチルイミダゾリレン）−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基；又は
（２）式  −ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｓ−、−ＣＨ２ＳＯ−、−ＣＨ２ＳＯ２−、−ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＣＨ２Ｓ−若しくは−ＳＣＨ２−基、又は結合手であり、
【００５７】
Ｇが（Ｅ−１）、
結合手、酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−（式中、Ｒｅ２が、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル若しくはナフチル基、（ｉｖ）フェニル若しくはナフチル部分が、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ２ハロゲノアルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基及びハロゲンからなる群から選択される１乃至３個の置換基を有していてもよい、フェニル−若しくはナフチル−Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（ｖ）Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉ）フッ素で置換されたＣ１−Ｃ２アルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニルスルホニル基、（ｖｉｉｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル若しくはアセチル基、（ｘ）メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル基、（ｘｉ）フェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロプロピルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）フリルカルボニル、チエニルカルボニル若しくはニコチノイル基、又は（ｘｉｖ）メチル、エチル、フェニル、及びフェニル部分が、メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンジルからなる群から選択される１乃至２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイル基である。）を有する基であり、
【００５８】
式  −Ｖ−Ｒ基が（Ｆ−２）、
Ｖが、結合手、酸素原子、又は硫黄原子であり、Ｒが、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ペンシル若しくはヘキシル基、（ｉｉｉ）メチル；トリフルオロメチル；メトキシ；フッ素、塩素及び臭素；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は（ｉｖ）フェニル部分が、メチル；トリフルオロメチル；メトキシ；フッ素、塩素及び臭素；フェニル；メチル、メトキシ、フッ素、塩素及びトリフルオロメチルからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいベンゾイル；及びトリフルオロメトキシからなる群から選択される１乃至２個の置換基を有していてもよいフェニル−Ｃ１−Ｃ３アルキル基である基であり、
【００５９】
式  −（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−基が、（Ｇ−１）
ｎが、１乃至４の整数であり（但し、Ｇが酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒｅ２）−基（式中、Ｒｅ２は前述したものと同意義を示す。）である場合は、ｎは２乃至４の整数である。）、Ｑが、酸素原子又は硫黄原子である基であり、
ｐが、（Ｈ−１）
１乃至４の整数である化合物も好適である。
【００６０】
好適な具体的化合物を以下の表１乃至表５に示す。
【００６１】
【化３１】
2011142381.tif 000033
【００６２】
【表１】
2011142381.tif 000034
2011142381.tif 000035
2011142381.tif 000036
2011142381.tif 000037
2011142381.tif 000038
2011142381.tif 000039
2011142381.tif 000040
2011142381.tif 000041
2011142381.tif 000042
2011142381.tif 000043
2011142381.tif 000044
2011142381.tif 000045
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2011142381.tif 000047
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2011142381.tif 000050
2011142381.tif 000051
2011142381.tif 000052
2011142381.tif 000053
【００６３】
【化３２】
2011142381.tif 000054
【００６４】
【表２】
2011142381.tif 000055
2011142381.tif 000056
2011142381.tif 000057
2011142381.tif 000058
2011142381.tif 000059
【００６５】
【化３３】
2011142381.tif 000060
【００６６】
【表３】
2011142381.tif 000061
【００６７】
【化３４】
2011142381.tif 000062
【００６８】
【表４】
2011142381.tif 000063
2011142381.tif 000064
2011142381.tif 000065
2011142381.tif 000066
【００６９】
【化３５】
2011142381.tif 000067
【００７０】
【表５】
2011142381.tif 000068
【００７１】
上記表中、「Ｔｚ」は、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基を示し，「Ｐｒ」は、プロピル基を示し、「Ｅｔ」は、エチル基を示し、「ＭＳ４ＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−４−オキシ基（式
【化３６】
2011142381.tif 000069
を有する基）を示し、「Ｍｅ」は、メチル基を示し、「−」は、結合手を示し、「Ｔｚｄ」は、２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル基を示し、「Ｃｘ」は、カルボキシ基を示し、「ＣＯＮＴｚ」は、Ｎ−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）カルバモイル基を示し、「ＮＳＣＦ」は、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基を示し、「ＳＮＣＯＰｒ」は、Ｎ−ブチリルスルファモイル基を示し、「ＳＮＣＯＭＣｌＮｐ」は、Ｎ−［２−（５−クロロナフチル）アセチル］スルファモイル基を示し、「Ｄｉｏｚ」は、２，４−ジオキソオキサゾリジン−５−イル基を示し、「Ｈｙｄ」は、２，４−ジオキソイミダゾリジン−５−イル基を示し、「Ｏｘｄｚ」は、２−オキソ−１，３，５−オキサジアゾリン−４−イル基を示し、「Ｏｘｔｄ」は、２−オキソ−１，３，５−チアジアゾリン−４−イル基を示し、「ＭＮＢｚＣｘ」は、（ベンゾイルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＥＢｎＣｘ」は、（Ｎ−エチル−Ｎ−べンジルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＥＰｙＣＯＣｘ」は、（Ｎ−エチル−Ｎ−ニコチノイルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＭＢｚＣｘ」は、（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＢＣＯＮＢｒＢｎＣｘ」は、（３−（３−ブロモベンジル）−１−ブチルウレイド）（カルボキシ）メチル基を示し、「Ｔｈｏｘｄｚ」は、２−チオキソ−１，３，５−オキサジアゾリン−４−イル基を示し、「Ｔｈｏｘｔｄｚ」は、２−チオキソ−１，３，５−チアジアゾリン−４−イル基を示し、「Ｄｉｋｂｎｌ」は、３，４−ジオキソ−２−ヒドロキシシクロ−１−ブテニル基を示し、「ＮＣＯＮＣｌＰｈＭＣｘ」は、Ｎ−［Ｎ−（４−クロロフェニル）カルバモイル］−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「Ｂｕ」は、ブチル基を示し、「ｉＢｕ」は、イソブチル基を示し、「Ｏ３ＭＯＢｎ」は、３−メトキシベンジルオキシ基を示し、「ｃＰｒ」は、シクロプロピル基を示し、「ＰｒＨｙｄ」は、１−プロピル−２，４−ジオキソイミダゾリジン−５−イル基を示し、「Ｐｈ」は、フェニル基を示し、「ｃＰｎＰｈＨｙｄ」は、１−（３−シクロペンチルフェニル）−２，４−ジオキソイミダゾリジン−５−イル基を示し、「ＣｂｍＰｈＨｙｄ」は、１−（３−カルバモイルフェニル）−２，４−ジオキソイミダゾリジン−５−イル基を示し、「ＣＦＰｈＮ」は、４−トリフルオロメチルフェニルアミノ基を示し、「ＥＯＰｈＰＮＭ」は、Ｎ−［３−（３−エトキシフェニル）プロピル］−Ｎ−メチルアミノ基を示し、「ＭＭｅＳ４ＰｈＯ」は、１−（１−メチルメチレンチオ）−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＳＮＣＯＥｔ２Ｐｈ」は、Ｎ−（３，５−ジエチルベンゾイル）スルファモイル基を示し、「ｎｅＰｎ」は、ネオペンチル基を示し、「ＭＯＣｌＢｎＣｘ」は、（４−クロロベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ｉＰｒ」は、イソプロピル基を示し、「ＳＮＣＯＢＭＰｈ」は、Ｎ−［５−（３−メチルフェニル）バレリル］スルファモイル基を示し、「Ｏ４ＣＦＢｎ」は、４−トリフルオロメチルベンジルオキシ基を示し、「Ｈｘ」は、ヘキシル基を示し、「ＭＯＥＣｘ」は、（エトキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ｓＢｕ」は、ｓ−ブチル基を示し、「ｉＨｘ」は、イソヘキシル基を示し、「ＯＭＭＰｈ」は、α−メチルベンジルオキシ基を示し、「ＮＰｈＭＣｘ」は、Ｎ−フェニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＭＣＨＯ」は、（メチル）（ホルミル）メチル基を示し、「Ｐｎ」は、ペンチル基を示し、「ＯｃＨｘ」は、シクロヘキシルオキシ基を示し、「Ｄｅ」は、デシル基を示し、「ＭＳ４ＰｈＭＯ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−４−メチレンオキシ基を示し、「ＰＣＯＰｎ」は、３−ヘキサノイルプロピル基を示し、「ＭＳ４ＢＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−２−ｔ−ブチル−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＮＭＯＢｚＭＣｘ」は、Ｎ−（２−メトキシベンゾイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＮＣｌＢｎＭＣｘ」は、Ｎ−（４−クロロベンジル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＮＳＭＣｘ」は、（メチルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＳＣＦＣｘ」は、（トリフルオロメチルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＳＭＰｈＣｘ」は、（４−メチルフェニルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＳＢｎＣｘ」は、（ベンジルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＭＳＭＰｈＣｘ」は、［Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニル）−Ｎ−メチルアミノ］（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＣｌＢｎＳＭＣｘ」は、［Ｎ−メチルスルホニル−Ｎ−（４−クロロベンジル）アミノ］（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＢｒＰｈＳＣＦＣｘ」は、［Ｎ−トリフルオロメチルスルホニル−Ｎ−（３−ブロモフェニル）アミノ］（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＣＯ２ＰｈＣｘ」は、（フェノキシカルボニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＣＯ２ＢｎＣｘ」は、（ベンジルオキシカルボニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＮＣＯ２ＢｕＣｘ」は、（ブトキシカルボニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＳＭ４ＰｈＯ」は、１−メチレンチオメチレン−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＳ３ＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−３−オキシ基を示し、「ＭＳ３ＰｈＳ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−３−チオ基を示し、「ＭＳ２ＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−２−オキシ基を示し、「ＭＯ４ＰｈＳ」は、１−メチレンオキシ−フェニレン−４−チオ基を示し、「ＭＯ３ＰｈＳ」は、１−メチレンオキシ−フェニレン−３−チオ基を示し、「ＮＣＯ２ＰｈＭＣｘ」は、Ｎ−フェノキシカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＳ３ＰｈＭＯ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−３−メチレンオキシ基を示し、「ＭＳ４ＰｈＥＯ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−４−エチレン−２−オキシ基を示し、「ＭＳ３ＰｈＥＯ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−３−エチレン−２−オキシ基を示し、「ＭＮ４ＰｈＯ」は、１−メチレンイミノ−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＮ４Ｍｅ２ＰｈＯ」は、１−メチレンイミノ−３，５−ジメチル−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＮ４ＰｈＳ」は、１−メチレンイミノ−フェニレン−４−���オ基を示し、「ＭＳ４ＰｈＮ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−４−イミノ基を示し、「ＭＳ４ＰｈＭＮ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−４−メチレンイミノ基を示し、「ＭＳ４ＰｈＣＯＮ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−４−カルボニルイミノ基を示し、「ＭＳ４ＰｈＭＣＯＮ」は、１−メチレンチオ−フェニレン−４−メチレンカルボニルイミノ基を示し、「ＭＳ３ＰｈＭＣＯＮ」」は、１−メチレンチオ−フェニレン−３−メチレンカルボニルイミノ基を示し、「ＥＳ４ＰｈＯ」は、１−（エチレン−２−チオ）−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＥＳ４ＰｈＭＯ」は、１−（エチレン−２−チオ）−フェニレン−４−メチレンオキシ基を示し、「ＥＭｅＳ４ＰｈＯ」は、１−（エチレン−２−メチル−２−チオ）−フェニレン−４−オキシ基（式
【００７２】
【化３７】
2011142381.tif 000070
を有する基）を示し、「ＭＭｅＭＳ４ＰｈＭＯ」は、１−（１−メチルエチレン−２−チオ）−フェニレン−４−メチレンオキシ基を示し、「ＯＥ４ＭＯＰｈ」は、２−（４−メトキシフェニル）エトキシ基を示し、「Ｏ４ＢｎＰｈＯ」は、１−オキシ−３−ベンジル−フェニレン−４−オキシ基を示し、「Ｏ３ＮｐＯ」は、１−オキシ−ナフチレン−３−オキシ基を示し、「ＭＳＥＳ４ＰｈＯ」は、１−（１−メチレンチオ−エチレン−２−チオ）−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＳＥＯ４ＰｈＳ」は、１−（１−メチレンチオ−エチレン−２−オキシ）−フェニレン−４−チオ基を示し、「ＭＳＥＳ４ＰｈＭＯ」は、１−（１−メチレンチオ−エチレン−２−チオ）−フェニレン−４−メチレンオキシ基を示し、「ＭＳＥＯ」は、１−メチレンチオ−エチレン−２−オキシ基（式  −ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２Ｏ−  を有する基）を示し、「ＭＯＥＯ」は、１−メチレンオキシ−エチレン−２−オキシ基を示し、「ＭＳＥＳ」は、１−メチレンチオ−エチレン−２−チオ基を示し、「ＭＮＥＳ」は、１−メチレンイミノ−エチレン−２−チオ基を示し、「ＭＯＢｎＣｘ」は、（ベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＳＥＮ」は、１−メチレンチオ−エチレン−２−イミノ基を示し、「Ｏ４ＭｅＰｈＳＯ２４ＭｅＰｈＯ」は、１−（１−オキシ−３−メチルフェニレン−４−スルホニル）−３−メチルフェニレン−４−オキシ基（式
【００７３】
【化３８】
2011142381.tif 000071
を有する基）を示し、「Ｏ６ＮｐＭＯ」は、２−オキシ−ナフチレン−６−メチレンオキシ基を示し、「Ｍ７ＢＴｈｉＭＯ」は、４−メチレン−ベンゾチアゾリレン−７−メチレンオキシ基を示し、「ＭＳ５ＰｙＮ」は、２−メチレンチオ−ピリジニレン−５−イミノ基を示し、「ＭＮ５ＰｙＮ」は、２−メチレンイミノ−ピリジニレン−５−イミノ基を示し、「Ｍ５ＣｌＭｅＢＩｍＭＯ」は、１−メチレン−４−クロロ−２−メチル−ベンゾイミダゾリレン−５−メチレンオキシ基を示し、「Ｍ５ＯｘｚＥＯ」は、２−メチレン−オキサゾリレン−５−エチレン−２−オキシ基を示し、「ＭＳ５ＴｈｉＭＯ」は、２−メチレンチオ−チアゾリレン−５−メチレンオキシ基を示し、「Ｍ５ＴｔｚＮ」は、２−メチレン−テトラゾリレン−５−イミノ基を示し、「ＭＳ２ＢＩｍＭＯ」は、６−メチレンチオ−ベンゾイミダゾリレン−２−メチレンオキシ基を示し、「ＭＳ７ＰｙＩｍＯ」は、２−メチレンチオ−ピリドイミダゾリレン−７−オキシ基を示し、「ＰＰｈ」は、３−フェニルプロピル基を示し、「ＭＳ６ＢＯｘｚＯ」は、２−メチレンチオ−ベンゾオキサゾリレン−６−オキシ基を示し、「ＯＰＰｈ」は、３−フェニルプロピルオキシ基を示し、「ＭＳ６ＢＯｘｚＭＯ」は、２−メチレンチオ−ベンゾオキサゾリレン−６−メチレンオキシ基を示し、「ＣＯＮ３ＭｅＮＰｈＳ」は、１−カルボニルイミノ−４−メチルアミノ−フェニレン−３−チオ基を示し、「ＮＣＯＭＳ」は、イミノカルボニルメチレンチオ基（式  −ＮＨＣＯＣＨ２Ｓ−  基）を示し、「ＭＳＥＮＣＯＭＳ」は、１−メチレンチオ−エチレン−２−イミノカルボニルメチレンチオ基を示し、「ＭＯ」は、メチレンオキシ基を示し、「ＭＳＥＮＭｅ」は、１−メチレンチオ−エチレン−２−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「ＭＭｅＳＥＯ」は、１−（１−メチルメチレンチオ）−エチレン−２−オキ基を示し、「ＭＳＥＳＰＳ」は、１−（１−メチレンチオ−エチレン−２−チオ）−トリメチレン−３−チオ基（式  −ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−  基）を示し、「ＮＣＯ２ＢｕＭＣｘ」は、Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＥｔＳ４ＰｈＯ」は、１−（１−エチルメチレンチオ）−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＭＳＢｎＣｘ」は、（メチル）（ベンジルチオ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ｃＢｕ」は、シクロブチル基を示し、「ｃＰｎ」は、シクロペンチル基を示し、「Ｏ２ＭＯＰｈ」は、２−メトキシフェノキシ基を示し、「ＮＡｃ」は、アセチルイミノ基を示し、「ＮＢｚ」は、ベンゾイルイミノ基を示し、「ＮＭｓ」は、メタンスルホニルイミノ基を示し、「Ｏｃ」は、オクチル基を示し、「ＮＴｓ」は、ｐ−トルエンスルホニルイミノ基を示し、「ＭＳ４ＭＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−２−メチル−フェニレン−４−オキシ基を示し、「Ｏ４ＢｒＰｈ」は、４−ブロモフェノキシ基を示し、「ＭＳＯ２４ＰｈＯ」は、１−メチレンスルホニル−４−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＳ」は、メチレンチオ基を示し、「ＭＭｅＳ」は、１−メチルメチレンチオ基を示し、「ＭＭｅ２Ｓ」は、１，１−ジメチルメチレンチオ基を示し、「ＭＥｔＳ」は、１−エチ���メチレンチオ基を示し、「ＥＳ」は、エチレン−２−チオ基を示し、「Ｈｐ」は、へプチル基を示し、「ＰＳ」は、トリメチレン−３−チオ基を示し、「ＭＮｉＰ」は、メチレン−Ｎ−イソプロピルイミノ基を示し、「４ＭｅＯＢｎ」は、４−メトキシベンジル基を示し、「ＳＮＣＯＭｅ」は、Ｎ−アセチルスルファモイル基を示し、「ＳＮＣＯｉＰｒ」は、Ｎ−イソブチリルスルファモイル基を示し、「ＳＮＣＯＰｈ」は、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基を示し、「ＳＮＣＯＦＣＦＰｈ」は、Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルベンゾイル）スルファモイル基を示し、「ＳＮＣＯＭＭＯＰｈ」は、Ｎ−（２−メトキシベンジルカルボニル）スルファモイル基を示し、「ＭＮＭｅ」は、メチレン−Ｎ−メチルイミノ基を示し、「Ｏ４ＣｌＢｎ」は、４−クロロベンジルオキシ基を示し、「Ｏ４ＭＯＢｎ」は、４−メトキシベンジルオキシ基を示し、「ＳＭＮｐ」は、１−ナフチルメチルチオ基を示し、「ＭＯＢＰｈＣｘ」は、（４−ｔ−ブチルフェノキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「Ｍ４ＢｚＰｈ」は、４−ベンゾイルベンジル基を示し、「ＭＮＢｚＰｈＣｘ」は、（２−ベンゾイルフェニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＮＣＯＢｕＭＣｘ」は、Ｎ−ペンタノイル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＮＭｅＣＯＭＳ」は、Ｎ−メチルイミノカルボニルメチレンチオ基（式  −Ｎ（ＣＨ３）ＣＯＣＨ２Ｓ−  基）を示し、「ＭＮＳＭＰｈＣｘ＊」は、（２−メチルフェニルスルホニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＯｉＰｒＣｘ」は、（イソプロポキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「Ｏ３ＣｌＰｈ」は、３−クロロフェノキシ基を示し、「ＮＢｚＭＣｘ」は、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＮＣＯ２ＥＰｈＭＣｘ」は、Ｎ−（３−フェニルプロピオニル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＮＣＯＢｕＢｎＣｘ」は、（３−ｔ−ブチルベンジルカルボニルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＮＣＯＮＢｕＭＣｘ」は、Ｎ−（Ｎ−ブチルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＳＯ」は、メチレン−スルフィニル基を示し、「ＭＳＯ２」は、メチレン−スルホニル基を示し、「ＣＯＮＭｅＥＯ」は、１−（カルボニル−Ｎ−メチルイミノ）−エチレン−２−オキシ基を示し、「ＭＳＭＣｌＣＦＰｈＣｘ」は、（３−クロロ−４−トリフルオロメチルベンジルチオ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＣＯＥ４ＰｈＯ」は、１−（カルボニル−２−エチレン）−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＣＯＥＯ」は、１−カルボニル−エチレン−２−オキシ基を示し、「ＣＯＮ３ＰｈＯ」は、１−カルボニルイミノ−フェニレン−３−オキシ基を示し、「ＣＯＮＭｅＭ４ＰｈＥＯ」は、１−（カルボニル−Ｎ−メチルイミノメチレン）−フェニレン−４−（エチレン−２−オキシ）基を示し、「Ｏ４ＣＦＰｈ」は、４−トリフルオロメチルフェノキシ基を示し、「ＭＮＥＣＯＭＭＯＰｈＣｘ」は、［Ｎ−（４−メトキシベンジルカルボニル）−Ｎ−エチルアミノ］（カルボキシ）メチル基を示し、「ＮＣＯ２ＭＯＰｈＭＣｘ」は、Ｎ−（４−メトキシフェノキシカルボニル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「Ｏ４ＣｌＰｈ」は、４−クロロフェノキシ基を示し、「Ｏ３ＣＦＰｈ」は、３−トリフルオロメチルフェノキシ基を示し、「ＭＳ３ＰｙＳ」は、３−メチレンチオ−ピリジニレン−５−チオ基を示し、「ＭＳＯ４ＰｈＯ」は、１−メチレンスルフィニル−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＯ４ＣｌＢｎＣｘ」は（カルボキシ）（４−クロロベンジルオキシ）メチル基を示し、「ＮＣＯ２ＰｈＭＣｘ」はＮ−カルボキシメチル−Ｎ−フェノキシカルボニルアミノ基を示し、「ＳＭ」は、チオメチレン基を示し、「ＳＭ４ＰｈＯ」は、１−チオメチレン−フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＳＭ３ＰｈＯ」は、１−チオメチレン−フェニレン−３−オキシ基を示し、「ＥＯ」は、エチレン−２−オキシ基を示し、「ＮＣＯＢｎＭＣｘ」は、Ｎ−ベンジルカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＮＣＯＮＣｌＢｎＭＣｘ」は、Ｎ−（３−クロロベンジルアミノカルボニル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「６ＭｅＢＩｍＮＭｅＥＯ」は、２−（１−メチルベンゾイミダゾリレン）−６−（Ｎ−メチルイミノエチレン−２−オキシ基を示し、「６ＭｅＢＩｍＳＥＯ」は、２−（１−メチルベンゾイミダゾリレン）−６−チオエチレン−２−オキシ基を示し、「Ｏ４ＣｌＰｈＢｎ」は、４−（４−クロロフェニル）ベンジルオキシ基を示し、「６ＭｅＢＩｍＳＥＮＭｅ」は、２−（１−メチルベンゾイミダゾリレン）−６−チオエチレン−２−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「ＭＮＭＣＯＭＯＰｈＣｘ」は、［Ｎ−メチル−Ｎ−（３−メトキシフェニルカルボニル）アミノ］（カルボキシ）メチル基を示し、「Ｂｚ」は、ベンゾイル基を示し、「Ｂｎ」は、ベンジル基を示し、「ＣＯＮＥ４ＰｈＯ」は、１−（カルボニルイミノ−２−エチレン）フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＯＨｘ」は、ヘキシルオキシ基を示し、「６ＭｅＢＩｍＯＥ４ＰｈＮＭｅ」は、１−［２−（１−メチルベンゾイミダゾリレン）−６−オキシ−２−エチレン］フェニレン−４−（Ｎ−メチルイミノ）基（式
【００７４】
【化３９】
2011142381.tif 000072
を有する基）を示し、「ＭＮＣＯＮＦＰｈＣｘ」は、［３−（４−フルオロフェニル）ウレイド］（カルボキシ）メチル基を示し、「２ＴｔｚＥＯ」は、５−テトラゾリレン−エチレン−２−オキシ基を示し、「ＭＭＯＢｎＣｘ」は、１−ベンジルオキシ−１−カルボキシエチル基を示し、「ＯＥ３ＰｈＮＭｅ」は、１−（オキシ−２−エチレン）−フェニレン−３−（Ｎ−メチルイミノ）基（式
【化４０】
2011142381.tif 000073
を有する基）を示し、「ＮＣＯＮＭＢｎＭＣｘ」は、Ｎ−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＮＭｅＥＯＥＯ」は、１−（Ｎ−メチルイミノエチレン−２−オキシ）エチレン−２−オキシ基（式、−Ｎ（ＣＨ３）Ｃ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ４Ｏ−基）を示し、「ＮＭｅＥＯ」は、１−（Ｎ−メチルイミノ）エチレン−２−オキシ基（式、−Ｎ（ＣＨ３）Ｃ２Ｈ４Ｏ−基）を示し、「ＮＢｕＥＯ」は、１−（Ｎ−ブチルイミノ）エチレン−２−オキシ基を示し、「ＯＥＯ４ＰｈＭＯ」は、１−（１−オキシエチレン−２−オキシ］フェニレン−４−メレンオキシ基を示し、「ＯＥＯ６ＮｐＮＭｅ」は、２−（１−オキシエチレン−２−オキシ）ナフチレン−６−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「ＭＮＣＯＮＰｈＣｘ＊」は、［３−（４−フルオロフェニル）ウレイド］（カルボキシ）メチル基を示し、「Ｓ３ＰｈＣＯＮＥＯ」は、１−チオフェニレン−３−カルボニルイミノ−エチレン−２−オキシ基（式
【００７５】
【化４１】
2011142381.tif 000074
を有する基）を示し、「ＰＮＭｅ」は、トリメチレン−３−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「Ｏ４ｔＢＰｈ」は、４−（ｔ−ブチル）フェノキシ基を示し、「ＭＰＯＢｎＯＣｘ」は、（４−プロポキシベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＣＯＮＥＮ」は、１−カルボニルイミノエチレン−２−イミノ基を示し、「ＣＯＮＭｅＥＮＭｅ」は、１−（カルボニル−Ｎ−メチルイミノ）エチレン−２−（Ｎ−メチルイミノ）基（式  −ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）−基）を示し、「ＯＥ３ＣｌＰｈ」は、２−（３−クロロフェニル）エトキシ基を示し、「ＥＮＭｅ」は、エチレン−２−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「Ｏ２Ｆ４ＣｌＢｎ」は、２−フルオロ−４−クロロベンジルオキシ基を示し、「ＣＯＭＣＯＮＭｅ」は、カルボニルメチレン−カルボニル（Ｎ−メチルイミノ）基（式  −ＣＯＣＨ２ＣＯＮ（ＣＨ３）−基）を示し、「Ｏ４ＢｒＢｎ」は、４−ブロモベンジルオキシ基を示し、「６ＭｅＢＩｍＳ」は、２−（１−メチルベンゾイミダゾリレン）−６−チオ基を示し、「６ＭｅＢＩｍＮＭｅＰＯ」は、２−（１−メチルベンゾイミダゾリレン）−６−（Ｎ−メチルイミノ）トリメチレン−３−オキシ基（式
【化４２】
2011142381.tif 000075
を有する基）を示し、「ＣＯＮ４ＰｈＯ」は、１−（カルボニルイミノ）フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＯＥＳ」は、１−オキシエチレン−２−チオ基を示し、「Ｏ３４ＭＯＰｈ」は、３，４−ジメトキシフェノキシ基を示し、「ＭＮＣＯＮＢｎＣｘ」は、（３−ベンジルウレイド）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＣＯＭＳ」は、カルボニルメチレンチオ基を示し、「ＮＣＯ２ＢｎＣｘ」は、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＣＯＮＭｅ４ＰｈＯ」は、１−（カルボニル−Ｎ−メチルイミノ）フェニレン−４−オキシ基を示し、「６ＭｅＢＩｍＮＢｕＥＯ」は、２−（１−メチルベンゾイミダゾリレン）−６−（Ｎ−ブチルイミノ）エチレン−２−オキシ基を示し、「ＮＣＯ２ＢｒＰｈＭＣｘ」は、Ｎ−（４−ブロモフェノキシカルボニル−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＣＯＮＭ４ＰｈＯ」は、１−（カルボニルイミノメチレン）フェニレン−４−オキシ基（式
【００７６】
【化４３】
2011142381.tif 000076
を有する基）を示し、「ＣＯＮＥＯ４ＰｈＯ」は、１−（１−カルボニルイミノエチレン−２−オキシ）フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＣＯＮＥ４ＰｈＯ」は、１−（カルボニルイミノ−２−エチレン）フェニレン−４−オキシ基を示し、「Ｏｄｚ」は、２，４−ジオキソ−１，３，５−オキサジアゾリジン−５−イル基を示し、「ＣＯＮＥ４ＰｈＮＭｅ」は、１−（カルボニルイミノ−２−エチレン）フェニレン−４−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「ＣＯＮＭ５ＰｙＮＭｅ」は、２−（カルボニルイミノメチレン）ピリジニレン−５−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「ＭＭＥＳＥＯ」は、１−（１，１−ジメチルメチレンチオ）エチレン−２−オキシ基を示し、「ＣＯＮＭｅＥＮＭｅ５ＰｙＭＮ」は、２−［１−（カルボニル−Ｎ−メチルイミノ）エチレン−２−（Ｎ−メチルイミノ）］ピリジニレン−５−メチレンイミノ基（式
【化４４】
2011142381.tif 000077
を有する基）を示し、「ＮＣＯＮＣＦＰｈＭＣｘ」は、Ｎ−［Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）カルバモイル］−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＳＢｎＣｘ」は、（ベンジルチオ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＯＥＦＢｎＣｘ」は、（３−エチル−２−フルオロベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＥＯＣｘ」は、（エトキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＰＭ４Ｎ２Ｏ」は、式
【化４５】
2011142381.tif 000078
を有する基を示し、「ＥＯＭ４Ｎ２Ｏ」は、式
【００７７】
【化４６】
2011142381.tif 000079
を有する基を示し、「ＭＣＯＮ」は、メチレン−カルボニルイミノ基を示し、「ＢＥ４Ｎ２Ｏ」は、式
【化４７】
2011142381.tif 000080
を有する基を示し、「ＥＯ４ＰｈＳ」は、１−（エチレン−２−オキシ）フェニレン−４−チオ基を示し、「ｃＰＰ４Ｎ２Ｏ＊」は、式
【化４８】
2011142381.tif 000081
を有する基を示し、「Ｐ４Ｎ２Ｏ＊」は、式
【化４９】
2011142381.tif 000082
を有する基を示し、「ＥＳＭＣＯＮＭｅ」は、エチレン−２−チオメチレンカルボニル−Ｎ−メチルイミノ基（式  −ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＯＮ（ＣＨ３）−基）を示し、「Ｐ４ＮＯ」は、式
【００７８】
【化５０】
2011142381.tif 000083
を有する基を示し、「ＥＳＥＮＢｕ」は、１−（エチレン−２−チオ）エチレン−２−Ｎ−ブチルイミノ基を示し、「Ｐ２ＮＯＳ」は、式
【化５１】
2011142381.tif 000084
を有する基を示し、「ＭＮＥＯＥＳ」は、１−（メチレンイミノエチレン−２−オキシ）エチレン−２−チオ基を示し、「ＰＮＯＭ２ＮＳ」は、式
【化５２】
2011142381.tif 000085
を有する基を示し、「ＰＮＥＳ３ＰｈＰｈＯ」は、１−（トリメチレン−３−イミノエチレン−２−チオ）−２−フェニルフェニレン−３−オキシ基（式
【化５３】
2011142381.tif 000086
を有する基）を示し、「ＰＮＯ２ＮＳ」は、式
【化５４】
2011142381.tif 000087
を有する基を示し、「Ｍ４ＰｈＯ」は、１−メチレン−フェニレン−３−オキシ基を示し、「Ｐ２Ｎ３ＯＳ」は、式
【００７９】
【化５５】
2011142381.tif 000088
を有する基を示し、「ＥＮＥＯＥＳＯ２」は、１−（エチレン−２−イミノ）エチレン−２−（オキシエチレン−２−スルホニル）基（式  −ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯ２−基）を示し、「Ｐ３ＮＯ」は、式
【化５６】
2011142381.tif 000089
を有する基を示し、「ＰＭ３ＮＯ」は、式
【化５７】
2011142381.tif 000090
を有する基を示し、「ＰＭ３ＮＯ＊」は、式
【化５８】
2011142381.tif 000091
を有する基を示し、「ＥＳ４ｃＰＰｈＯ」は、１−（エチレン−２−チオ）−２−シクロプロピルフェニレン−４−オキシ基を示し、「Ｐ２ＮＯ」は、式
【化５９】
2011142381.tif 000092
を有する基を示し、「ＭＳ４ｃＰＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−２−シクロプロピルフェニレン−４−オキシ基を示し、「ＰＭ２ＮＯ」は、式
【化６０】
2011142381.tif 000093
を有する基を示し、「ＭＳ４ＢｚＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−３−ベンゾイルフェニレン−４−オキシ基を示し、「ＰＣＦ２ＮＯ」は、式
【００８０】
【化６１】
2011142381.tif 000094
を有する基を示し、「Ｏ３ＣｌＢｎ」は、３−クロロベンジルオキシ基を示し、「ＰＣｌ２ＮＯ」は、式
【化６２】
2011142381.tif 000095
を有する基を示し、「ＰＯＭ２ＮＯ」は、式
【化６３】
2011142381.tif 000096
を有する基を示し、「ＭＳ４ＯＭｅＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−３−メトキシフェニレン−４−オキシ基を示し、「ＯＥＳ５ＰｙＯ」は、２−（オキシエチレン−２−チオ）−ピリジニレン−５−オキシ基を示し、「ｃＰＥ２Ｎ＊＊」は、式
【化６４】
2011142381.tif 000097
を有する基を示し、「ＢＥ２Ｎ＊＊」は、式
【００８１】
【化６５】
2011142381.tif 000098
を有する基を示し、「ＭＳ４ＢｕＯＰｈＯ」は、１−メチレンチオ−３−ブトキシフェニレン−４−オキシ基を示し、「ＰｃＨ２ＮＯ＊」は、式
【化６６】
2011142381.tif 000099
を有する基を示し、「ＥＳ６ＰｙＮ」は、３−（エチレン−２−チオ）ピリジニレン−６−イミノ基を示し、「ＭＮＭＣＯＮＰＨＣｘ」は、（３−イソプロピル−３−シクロヘキシル−１−メチルウレイド）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＰＯＭ２ＮＯ＊」は、式
【化６７】
2011142381.tif 000100
を有する基を示し、「ＥＳ４ＰｈＮＭｅ」は、１−（エチレン−２−チオ）フェニレン−３−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「ＰｉＢ２ＮＯ＊」は、式
【化６８】
2011142381.tif 000101
を有する基を示し、「ｃＰＭＮＯ」は、式
【化６９】
2011142381.tif 000102
を有する基を示し、「ＰＮＯ」は、式
【化７０】
2011142381.tif 000103
を有する基を示し、「ＥＳ３ＰｈＮＭｅ」は、１−（エチレン−２−チオ）フェニレン−３−（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「ＰＮＯ＊」は、式
【化７１】
2011142381.tif 000104
を有する基を示し、「５Ｔｔｚ」は、２，５−テトラゾリレン基を示し、「Ｐ２ＮＯ＊＊」は、式
【００８２】
【化７２】
2011142381.tif 000105
を有する基を示し、「ＥＭｅＳ」は、エチレン−２−メチル−２−チオ基を示し、「ＭＮＭＣＯＨＣｘ」は、（Ｎ−シクロヘキシルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＮＣＯＮＰＢＭＣｘ」は、Ｎ−（Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＯＭＮｐ」は、２−ナフチルメトキシ基を示し、「ＰＭ２Ｎ」は、式
【化７３】
2011142381.tif 000106
を有する基を示し、「ＭＳ４ＰｈＳ」は、１−メチレンチオフェニレン−４−チオ基を示し、「ＰＭ３Ｎ＊」は、式
【化７４】
2011142381.tif 000107
を有する基を示し、「ＮＭｅＥＳ」は、１−（Ｎ−メチルイミノ）エチレン−２−チオ基を示し、「ＣＯＮＥＳ」は、１−カルボニルイミノエチレン−２−チオ基を示し、「ＮＭＯＰｈＯＣＯＭＣｘ」は、Ｎ−（４−メトキシフェノキシカルボニル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＰＥＯＣ２Ｎ＊」は、式
【化７５】
2011142381.tif 000108
を有する基を示し、「ｃＰＥＮＣＯ２Ｎ＊」は、式
【００８３】
【化７６】
2011142381.tif 000109
を有する基を示し、「ＭＳ５ＰｙＭＯ」は、２−メチレンチオピリジニレン−５−メチレンオキシ基を示し、「ＥＯＭ２Ｎ」は、式
【化７７】
2011142381.tif 000110
を有する基を示し、「ＣＯＮＥＳ３ＰｈＯ」は、１−（カルボニルイミノエチレン−２−チオ）フェニレン−３−オキシ基を示し、「ＮＣＯＮＢｎＭＣｘ」は、Ｎ−（Ｎ−ベンジルカルバモイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＳＭ」は、メチレンチオメチレン基を示し、「ＭＯＢｕＣｘ」は、（ブトキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＯＥＯ」は、エチレンジオキシ基を示し、「ＥＯＭ３Ｎ＊」は、式
【化７８】
2011142381.tif 000111
を有する基を示し、「ＮＭｅＥＮＭｅ」は、エチレンビス（Ｎ−メチルイミノ）基を示し、「５ＭＳＭ２ＰｙＯ」は５−メチレンチオメチレン−ピリジニレン−２−オキシ基を示し、「６ＭＳＭ３ＰｙＯ」は６−メチレンチオメチレン−ピリジニレン−３−オキシ基を示し、「５ＭＳＭ２ＰｙＳ」は５−メチレンチオメチレン−ピリジニレン−２−チオ基を示し、「６ＭＳＭ３ＰｙＳ」は６−メチレンチオメチレン−ピリジニレン−３−チオ基を示し、「５ＭＳＥ２ＰｙＯ」は５−（１−メチレンチオ−２−エチレン）−ピリジニレン−２−オキシ基を示し、「ＭＳＭ４ＰｈＳ」は、１−メチレンチオメチレン‐フェニレン−４−チオ基を示し、「ＭＳ５Ｐｙ２Ｏ」は、５−メチレンチオ‐ピリジニレン−２−オキシ基を示し、「ＭＭｅＳＭ４ＰｈＯ」は、１−（１−メチルメチレンチオメチレン）‐フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＭｅＳＭ５Ｐｙ２Ｏ」は、５−（１−メチルメチレンチオメチレン）‐ピリジニレン‐２−オキシ基を示し、「ＳＭＭｅ」はチオ−1−メチルメチレン基を示し、「ＳＥ」は１−チオ−２−エチレン基を示し、「ＳＭ４ＰｈＳ」は１−チオメチレン−フェニレン−４−チオ基を示し、「ＳＥ４ＰｈＳ」は１−（１−チオー２−エチレン）‐フェニレン‐４−チオ基を示し、「ＳＭ５Ｐｙ２Ｏ」は５−チオメチレン‐ピリジニレン‐２−オキシ基を示し、「ＮＣＯ３ＣＦＰｈＭＣｘ」はＮ−（３−トリフロロメチルベンゾイル）−Ｎ−カルボキシメチルアミノ基を示し、「ＭＯＭＭｅＯＰｈＣｘ」は（４−メトキシベンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＯＭＣｌＰｈＣｘ」は（３−クロロべンジルオキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＯＭ３ＰｙＣｘ」は（ピリジン−３‐イルメチルオキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＯＥＣｌＰｈＣｘ」は［２−（４−クロロフェニル）エトキシ］（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＯｔＢｕＰｈＣｘ」は（４‐ｔ−ブチルフェノキシ）（カルボキシ）メチル基を示し、「ＭＭｅＳＥＯ」は、１−（１，１−ジメチルメチレンチオ）エチレン−２−オキシ基を示し、「ＭＭｅＳ４ＰｈＯ」は、１−（メチルメチレンチオ）フェニレン−４−オキシ基を示し、「ＭＭｅ２Ｓ４ＰｈＯ」は、１−（１，１−ジメチルメチレンチオ）フェニレン−４−オキシ基を示し、
「Ｐ４Ｎ２Ｏ＊＊」は、式
【化７９】
2011142381.tif 000112
を有する基を示し、「ＰＭ４Ｎ２Ｏ＊＊」は、式
【化８０】
2011142381.tif 000113
を有する基を示し、「ＰＭ４Ｎ２Ｏ＊」は、式  
【化８１】
2011142381.tif 000114
を有する基を示し、「Ｍ４ＰｈＯ」は、１−メチレン−フェニレン−４−オキシ基を示し、「Ｍ５Ｐｙ２Ｏ」は、５−メチレン−ピリジニレン−２−オキシ基を示し、「ＰＭＯ４Ｎ１Ｏ＊」は、式
【化８２】
2011142381.tif 000115
を有する基を示し、「ＰＭＯ４Ｎ１Ｏ＊＊」は、式
【化８３】
2011142381.tif 000116
を有する基を示す。
【００８４】
また、例示化合物番号ＩＩ−１〜ＩＩ−７６の化合物における「Ｅ」は、特にことわらなければ、式
【化８４】
2011142381.tif 000117
（式中、Ｒ１ａ，Ｒ５ａ及びＥは、前述したものと同意義を示し、Ｔは、式  −ＣＨ＝又は式  −Ｎ＝基を示す。）
を有する基の６位に結合し、例示化合物番号ＩＩ−１６、１７、２５、２６及び７３の化合物は、上記式の５位に結合し、例示化合物番号ＩＩ−５２及び５３の化合物は、上記式の７位に結合する。
【００８５】
上記表１−５において、好適には、例示化合物番号Ｉ−１、Ｉ−１４、Ｉ−１５、Ｉ−１６、Ｉ−１７、Ｉ−２１、Ｉ−２４、Ｉ−２８、Ｉ−３８、Ｉ−３９、Ｉ−４４、Ｉ−４５、Ｉ−４６、Ｉ−８７、Ｉ−１０１、Ｉ−１０４、Ｉ−１１０、Ｉ−１１１、Ｉ−１２４、Ｉ−１２７、Ｉ−１４５、Ｉ−１４７、Ｉ−１４８、Ｉ−１４９、Ｉ−１５０、Ｉ−１８０、Ｉ−１８１、Ｉ−１８２、Ｉ−２２３、Ｉ−２４１、Ｉ−２８３、Ｉ−２８５、Ｉ−２８６、Ｉ−２９３、Ｉ−２９５、Ｉ−２９６、Ｉ−２９７、Ｉ−２９９、Ｉ−３００、Ｉ−３０３、Ｉ−３０４、Ｉ−３０５、Ｉ−３０９、Ｉ−３１１、Ｉ−３１５、Ｉ−３１９、Ｉ−３２０、Ｉ−３２１、Ｉ−３２２、Ｉ−３２３、Ｉ−３２４、Ｉ−３２５、Ｉ−３２６、Ｉ−３２９、Ｉ−３３１、Ｉ−３３３、Ｉ−３３４、Ｉ−３３５、Ｉ−３３６、Ｉ−３３７、Ｉ−３３８、Ｉ−３４２、Ｉ−３４３、Ｉ−３４４、Ｉ−３４５、Ｉ−３４６、ＩＩ−１、ＩＩ−６、ＩＩ−７、ＩＩ−１９、ＩＩ−２５、ＩＩ−２７、ＩＩ−３１、ＩＩ−３５、ＩＩ−３６、ＩＩ−３７、ＩＩ−３８、ＩＩ−４５、ＩＩ−４８、ＩＩ−５２、ＩＩ−５４、ＩＩ−６０、ＩＩ−７２、ＩＩ−７３、ＩＩＩ−３５、ＩＩＩ−４１、ＩＩＩ−５３、又はＩＶ−１の化合物であり、
【００８６】
更に好適には、例示化合物番号Ｉ−１、Ｉ−１４、Ｉ−１５、Ｉ−１６、Ｉ−１７、Ｉ−２１、Ｉ−２４、Ｉ−２８、Ｉ−３８、Ｉ−４４、Ｉ−４５、Ｉ−４６、Ｉ−８７、Ｉ−１０１、Ｉ−１０４、Ｉ−１２７、Ｉ−１４８、Ｉ−１４９、Ｉ−１５０、Ｉ−１８１、Ｉ−１８２、Ｉ−２２３、Ｉ−２４１、Ｉ−２９３、Ｉ−２９５、Ｉ−２９６、Ｉ−２９７、Ｉ−３０４、Ｉ−３０５、Ｉ−３０９、Ｉ−３１１、Ｉ−３１５、Ｉ−３２０、Ｉ−３２１、Ｉ−３２２、Ｉ−３２３、Ｉ−３３３、Ｉ−３３４、Ｉ−３３５、Ｉ−３４２、Ｉ−３４３、Ｉ−３４４、Ｉ−３４５、Ｉ−３４６、ＩＩ−１、ＩＩ−６、ＩＩ−７、ＩＩ−１９、ＩＩ−２７、ＩＩ−３５、ＩＩ−３６、ＩＩ−５４、ＩＩ−６０、又はＩＶ−１の化合物であり、
【００８７】
更により好適には、
例示化合物番号Ｉ−１の化合物：４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル
例示化合物番号Ｉ−３８の化合物：４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸メチル、
例示化合物番号Ｉ−４６の化合物：４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸Ｎ−メチルアミド、
例示化合物番号Ｉ−１０１の化合物：４−〔３−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
例示化合物番号Ｉ−１０４の化合物：４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルチオ｝フェノキシメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
例示化合物番号Ｉ−１２７の化合物：４−〔２−［１−メチル−２−｛４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル｝−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ］エチルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
例示化合物番号Ｉ−１４８の化合物：４−〔２−［１−メチル−２−｛４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル｝−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルチオアセチルアミノ］エチルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル
例示化合物番号Ｉ−１４９の化合物：４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシメチル｝−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル（又はその塩酸塩）、
例示化合物番号Ｉ−１５０の化合物：４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシメチル｝−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸、
例示化合物番号Ｉ−１８１の化合物：４−〔４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝フェニルスルホニルメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
例示化合物番号Ｉ−１８２の化合物：４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルチオメチル｝−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
例示化合物番号Ｉ−３０４の化合物：３−［４−〔６−（５−エトキシカルボニル−１−｛２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル｝−２−プロピル−１Ｈ−イミダゾール−４−イルメチルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ〕フェニル］−２−（４−クロロベンジルオキシ）プロピオン酸、
例示化合物番号Ｉ−３０５の化合物：Ｎ−［４−｛６−〔５−エトキシカルボニル−１−｛２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル｝−２−プロピル−１Ｈ−イミダゾール−４−イルメチルチオ〕−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ｝フェニルメチル］−Ｎ−フェノキシカルボニルアミノ酢酸、
例示化合物番号Ｉ−３０９の化合物：４−［４−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝ベンジルチオメチル］−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
例示化合物番号Ｉ−３１１の化合物：４−〔２−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルオキシ｝ピリジン−５−イルメチルチオメチル〕−２−プロピル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル、
例示化合物番号Ｉ−３３３の化合物：Ｎ−［４−｛６−〔５−エトキシカルボニル−１−｛２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル｝−２−プロピル−１Ｈ−イミダゾール−４−イルメチルチオ〕−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ｝フェニルメチル］−Ｎ−（３−トリフルオロメチルベンゾイル）アミノ酢酸、
例示化合物番号ＩＩ−１の化合物：５−（４−｛６−［４−メチル−２−プロピル−１−〔２’−（２−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル〕−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルメトキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル）チアゾリジン−２，４−ジオン、
例示化合物番号ＩＩ−７の化合物：５−〔４−［６−｛２−（Ｎ−（１−メチル−２−［４−メチル−２−プロピル−１−（２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニルメチル）−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イル］−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イル）−Ｎ−メチルアミノ）エトキシ｝−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン、
例示化合物番号ＩＩ−３５の化合物：４’−〔６−（Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−５−イル｝−Ｎ−メチルアミノメチル）−４−メチル−２−プロピル−１Ｈ−ベンゾイミダゾ−ル−１−イルメチル〕ビフェニル−２−カルボン酸、
例示化合物番号ＩＩ−５４の化合物：４’−［６−｛６−（Ｎ−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ］エチル−Ｎ−メチルアミノ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イル｝−４−メチル−２−プロピル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−１−イルメチル］ビフェニル−２−カルボン酸、
例示化合物番号ＩＩ−６０の化合物：５−〔４−［６−｛４−（４−メチル−２−プロピル−１−〈２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル〉−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−イルカルボニルアミノメチル）フェノキシ｝−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン、又は
例示化合物番号ＩＶ−１の化合物：４’−［６−｛６−（Ｎ−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ］エチル−Ｎ−メチルアミノ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イル｝−４−メチル−２−プロピル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−１−イルメチル］ビフェニル−２−カルボン酸であり、
【００８８】
最も好適には、例示化合物番号Ｉ−１、Ｉ−３８、Ｉ−４６、Ｉ−１８２、Ｉ−３０４、Ｉ−３０５、ＩＩ−７、ＩＩ−６０、又はＩＶ−１の化合物である。
【００８９】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物は、以下の方法に従って製造することができる。
＜Ａ法＞
【化８５】
2011142381.tif 000118
【００９０】
上記式中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｅ、Ｇ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｎ及びｐは、前述したものと同意義を示し、Ａ’及びＣ’は、Ａ及びＣに含まれるカルボキシル基、Ａに含まれるテトラゾール基及びチアゾリジン−２、４−ジオン−５−イル基、及びＣに含まれるチアゾリジン−２、４−ジオン−５−イル基が保護されているほか、それぞれ、Ａ及びＣと同意義を示し、ここで、カルボキシル基の保護基、テトラゾール基の保護基及びチアゾリジン−２、４−ジオン−５−イル基の保護基は、文献で公知である保護基であり得、カルボキシル基の保護基は、好適には、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、ベンジル基、又はベンツヒドリル基であり、最も好適には、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、又はベンジル基であり、テトラゾール基及びチアゾリジン−２、４−ジオン−５−イル基の保護基は、好適には、トリフェニルメチル基、ベンツヒドリル基、又はベンジル基であり、最も好適には、トリフェニルメチル基である。
【００９１】
Ａ法は、一般式（Ｉ）を有する化合物を製造する方法であり、Ａ−１工程は、一般式（Ｉ’）を有する化合物の保護基を除去することにより達成される。
この保護基を除去する方法は、有機化学おいて、公知の方法、すなわち、不活性溶媒中、（ａ）化合物（Ｉ’）を酸と反応させる方法、（ｂ）化合物（Ｉ’）を塩基と反応させる方法又は（ｃ）化合物（Ｉ’）を接触還元させる方法により行われる。
【００９２】
保護基がトリフェニルメチル基又はＣ１−Ｃ６アルキル基である場合、（ａ）化合物（Ｉ’）を酸と反応させる方法を用いて、保護基を除去することができる。
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；メタノール、エタノール、プロパノ−ルのようなアルコール類；トリフルオロ酢酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸類；水；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、アミド類、水、又はこれらの溶媒の混合溶媒であり、更に好適には、水、アルコール類、又はエーテル類であり、最も好適には、水、メタノール、エタノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、又は水とこれらの有機溶媒との混合溶媒（保護基がＣ１−Ｃ６アルキル基である場合）である。
【００９３】
使用される酸は、通常の反応において、酸として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸；酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸；塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸；又は酸性イオン交換樹脂であり得、好適には、無機酸又は有機酸であり、最も好適には、塩酸、酢酸、又はトリフルオロ酢酸である。
反応温度は、原料化合物、酸、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至１５０℃であり、好適には、１０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至１０日間であり、好適には、２時間乃至５日間である。
【００９４】
保護基がＣ１−Ｃ６アルキル基である場合、（ｂ）化合物（Ｉ’）を塩基と反応させる方法を用いて、保護基を除去することができる。
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、上記の「（ａ）の反応」に使用されるものであり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、アミド類、水、又はこれらの溶媒の混合溶媒であり、更に好適には、水、アルコール類、エーテル類、又は水との混合溶媒であり、最も好適には、水、メタノール、エタノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、又は水とこれらの有機溶媒との混合溶媒である。
使用される塩基は、通常の反応において、塩基として使用され、化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド類；アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、アルカリ金属水酸化物類又はアルカリ金属炭酸塩類であり、最も好適には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又は炭酸カリウムである。
【００９５】
不活性溶媒、反応温度及び反応時間は、上記の「（ａ）の反応」に使用されるものと同様のものである。
保護基がトリフェニルメチル基、ベンツヒドリル基、又はベンジル基である場合、（ｃ）化合物（Ｉ’）を接触還元させる方法を用いて、保護基を除去することができる。
本方法は、不活性溶媒中、接触還元触媒の存在下、化合物（Ｉ’）を水素と反応させることにより行われる。
使用される接触還元触媒は、有機化学で通常使用される接触還元触媒であり得、好適には、酸化白金、パラジウム、パラジウム−炭素、又はラネーニッケルであり、好適には、パラジウム−炭素である。
水素圧は、例えば、常圧乃至１０気圧であり得、好適には、常圧乃至３気圧であり、最も好適には、常圧乃至２気圧である。
使用される不活性溶媒は、通常の接触還元反応に使用されるものであり、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；メタノール、エタノール、プロパノ−ルのようなアルコール類；水；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり、好適には、エーテル類、アミド類、アルコール類、又はこれらの溶媒の混合溶媒であり、更に好適には、エーテル類又はアルコール類であり、最も好適には、テトラヒドロフラン、メタノール、又はエタノールである。
反応温度は、原料化合物、接触還元触媒、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至１５０℃であり、好適には、１０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、接触還元触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至１０日間であり、好適には、５時間乃至５日間である。
＜Ｂ法＞
【００９６】
【化８６】
2011142381.tif 000119
【００９７】
上記式中、Ａ’、Ｅ、Ｔ、Ｒａ３、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ及びＣ’は、前述したものと同意義を示し、Ｂｏｃ基はｔ−ブトキシカルボニル基を示し、但し、Ａ’及びＣ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃを有する基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈを有する基でもよい。
【００９８】
Ｂ法は、一般式（Ｉ’）  を有する化合物において、Ｂが、式
【化８７】
2011142381.tif 000120
を有する基（Ｅとベンゼン環部分又はピリジン環部分と結合する基）であり、Ｇが結合手である、一般式（Ｉ’ａ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＩＩ）を有する化合物と一般式（ＩＩＩ）を有する化合物を縮合させ（Ｂ−１工程）、次いで、得られた、一般式（ＩＶ）を有する化合物を酸と反応させ、閉環させること（Ｂ−２工程）により行われる。
また、本方法において、中間体（ＩＶ）を単離精製することなく、酸と反応させ、閉環させることもできる。さらに、閉環に際して、Ａ’又はＣ’に含まれるトリフェニルメチル保護基も同時に除去することができ、ｔ−ブチル保護基（カルボキシル基の保護基）も同時に除去することができる。
【００９９】
Ｂ−１工程は以下の方法で行われる。
（ａ）酸ハライド法
酸ハライド法は、不活性溶媒中、化合物（ＩＩＩ）をハロゲン化剤（例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、シュウ酸クロリド、シュウ酸ジクロリド、オキシ塩化リン、三塩化リン、又は五塩化リンであり得、好適には、シュウ酸ジクロリドである。）と反応させ、得られた酸ハライド類と化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下（好適には、存在下）、反応させることにより行われる。
【０１００】
使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり、好適には、有機アミン類であり、最も好適には、トリエチルアミン又はＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンである。
【０１０１】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；又はスルホランであり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジメチルホルムアミドである。
【０１０２】
反応温度は、原料化合物、ハロゲン化剤等により異なるが、ハロゲン化剤と化合物（ＩＩＩ）の反応及び酸ハライド類と化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩との反応とも、通常、−２０℃乃至１５０℃であり、好適には、ハロゲン化剤と化合物（ＩＩＩ）との反応では、−１０℃乃至１００℃であり、酸ハライド類と化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩との反応では、−２０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、ハロゲン化剤、反応温度等により異なるが、ハロゲン化剤と化合物（ＩＩＩ）の反応及び酸ハライド類と化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩との反応とも、通常、３０分間乃至８０時間であり、好適には、１時間乃至４８時間である。
【０１０３】
（ｂ）活性エステル法
活性エステル法は、不活性溶媒中、化合物（ＩＩＩ）と活性エステル化剤を反応させ、得られた活性エステル類を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下（好適には、存在下）、化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩と反応させることによって行われる。
【０１０４】
使用される活性エステル化剤は、例えば、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドのようなＮ−ヒドロキシ化合物；ジピリジルジスルフィドのようなジスルフィド化合物；ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩のようなカルボジイミド；１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール；４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニュウムクロリド（ＤＭＴＭＭ）、ジフェニルリン酸アジド、ヘキサフルオロリン酸ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム、又はトリフェニルホスフィンであり得、好適には、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニュウムクロリド（ＤＭＴＭＭ）、ジフェニルリン酸アジド、又は１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールであり、最も好適には、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニュウムクロリド（ＤＭＴＭＭ）、又は１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールである。
【０１０５】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；又はスルホランであり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、又はジメチルホルムアミドである。
【０１０６】
使用される塩基は、例えば、上記の「（ａ）酸ハライド法」において使用されるものと同様の塩基であり、好適には、有機アミン類であり、最も好適には、トリエチルアミン又はＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンである。
反応温度は、原料化合物、活性エステル化剤等により異なるが、通常、活性エステル化反応では、−７０℃乃至１５０℃であり、好適には、−１０℃乃至１００℃であり、活性エステル類と化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩との反応では、−２０℃乃至１００℃であり、好適には、０℃乃至５０℃である。
反応時間は、原料化合物、活性エステル化剤、反応温度等により異なるが、活性エステル化反応及び活性エステル類と化合物（ＩＩ）またはその酸付加塩との反応ともに、通常、３０分間乃至１０日間であり、好適には、１時間乃至４８時間である。
【０１０７】
（ｃ）混合酸無水物法
混合酸無水物法は、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には、存在下）、化合物（ＩＩＩ）と混合酸無水物化剤を反応させ、得られた混合酸無水物類を、不活性溶媒中、化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩を反応させることにより行われる。
【０１０８】
使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、有機アミン類であり、最も好適には、トリエチルアミン又はＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンである。
【０１０９】
使用される混合酸無水物化剤は、例えば、クロル炭酸エチル、クロル炭酸イソブチルのような炭酸Ｃ１−Ｃ６アルキルハライド；ピバロイルクロリドのようなＣ１−Ｃ６アルカノイルハライド；シアノホスホン酸ジエチル、シアノホスホン酸ジフェニルのようなジＣ１−Ｃ６アルキル若しくはジＣ６−Ｃ１４アリールシアノリン酸であり、好適には、クロル炭酸イソブチル、ジＣ１−Ｃ４アルキルシアノリン酸又はジフェニルシアノリン酸であり、最も好適には、クロル炭酸イソブチル又はシアノホスホン酸ジエチルである。
【０１１０】
混合酸無水物類を製造する際に使用される不活性溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；又はスルホランであり得、好適には、エーテル類又はアミド類であり、最も好適には、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミドである。
【０１１１】
混合酸無水物類を製造する反応における反応温度は、原料化合物、混合酸無水物化剤等により異なるが、通常、−５０℃乃至１００℃であり、好適には、−２０℃乃至６０℃である。
混合酸無水物類を製造する反応における反応時間は、原料化合物、混合酸無水物化剤、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至１週間であり、好適には、１時間乃至３日間である。
混合酸無水物類と化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩との反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下（好適には、存在下）で行われ、使用される塩基及び不活性溶媒は、上記の混合酸無水物類を製造する反応において使用されるものと同様である。
混合酸無水物類と化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩の反応における反応温度は、原料化合物、塩基等により異なるが、通常、−３０℃乃至１００℃であり、好適には、０℃乃至８０℃である。
混合酸無水物類と化合物（ＩＩ）又はその酸付加塩の反応における反応時間は、原料化合物、塩基、反応温度等により異なるが、通常、５分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至１６時間である。
【０１１２】
また、本反応において、ジＣ１−Ｃ６アルキルシアノリン酸またはジＣ６−Ｃ１４アリールシアノリン酸を使用する場合には、塩基の存在下、化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）を直接反応させることもできる。
【０１１３】
反応終了後、各反応の目的化合物は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には、適宜濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような、水に混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥した後、溶剤を留去することによって、各反応の目的化合物が得られる。また、必要に応じて、常法（例えば、蒸留、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等）に従って、目的化合物を更に（又は反応混合物を直ちに）精製することもできる。
【０１１４】
Ｂ−２工程において、化合物（ＩＶ）を酸と反応させ、閉環させる反応は、不活性溶媒中、化合物（ＩＶ）を酸と反応させることにより行われる。
【０１１５】
使用される酸は、通常の反応において、酸として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸；酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸；塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸；又は酸性イオン交換樹脂であり得、好適には、無機酸又は有機酸であり、最も好適には、塩酸、酢酸、又はトリフルオロ酢酸である。
【０１１６】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；トリフルオロ酢酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸類；水；又はこれら溶媒の混合溶媒であり得、好適には、有機酸類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、酢酸、ジオキサン、テトラヒドロフラン、又はジメチルホルムアミドである。
【０１１７】
反応温度は、原料化合物、使用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される酸、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至４８時間であり、好適には、３０分間乃至２４時間である。
【０１１８】
本方法の原料化合物（ＩＩＩ）は、以下の方法により、容易に製造される。
【０１１９】
化合物（ＩＩＩ）のうち、Ｃ’が、式  −Ｃ（Ｒｃ１）（ＣＯＯＰ１）−Ｗｃ１−Ｒｃ２（式中、Ｗｃ１、Ｒｃ１及びＲｃ２は前述したものと同意義を示し、Ｐ１はＣ１−Ｃ６アルキル基を示す。）を有する基である（特に、式  −Ｖ−Ｒ  基が水素原子である）、化合物（ＩＩＩａ）は、公知化合物であるか、公知の方法（例えば、特開２００２−１９３９４８号公報に記載の方法）に準じて製造することができる。
【０１２０】
化合物（ＩＩＩ）のうち、Ｃ’が、式  ＣＯＯＰ１（式中、Ｐ１は上記と同意義を示す。）を有する基である（特に、Ｖが酸素原子である）、化合物（ＩＩＩｂ）は、公知化合物であるか、公知の方法（例えば、特開２００４−１２３７１１号公報に記載の方法）に準じて製造することができる。
【０１２１】
化合物（ＩＩＩ）のうち、ｐが１であり、Ｃ’が２，４−ジオキソ−１，３−チアゾリジン−５−イル基である（特に、式  −Ｖ−Ｒ基が水素原子である）、化合物（ＩＩＩｃ）は、公知化合物であるか、公知の方法（例えば、特開平１１−１９３２７６号公報に記載の方法）に準じて製造することができる。
【０１２２】
＜Ｃ法＞
化合物（ＩＩＩ）のうち、Ｃ’が、式  −Ｎ（Ｗｃ２）−ＣＯＯＰ１（式中、Ｗｃ２及びＰ１は前述したものと同意義を示す。）を有する基である（特に、式  −Ｖ−Ｒ基が水素原子である）、化合物（ＩＩＩｄ）は、以下のＣａ法により製造することができる。
【０１２３】
【化８８】
2011142381.tif 000121
【０１２４】
上記式中、Ｑ、ｎ、ｐ、Ｐ１及びＷｃ２は前述したものと同意義を示し、Ｗｃ２ａは、水素原子を除くほか、Ｗｃ２と同意義を示し、Ｐ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（好適には、メチル基、エチル基、又はｔ−ブチル基であり、最も好適には、ｔ−ブチル基である）、ベンジル基又はベンズヒドリル基を示し、Ｙは、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ６−Ｃ１０アリールスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を示し（好適には、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子であり、最も好適には、メタンスルホニルオキシ基又は塩素原子である）、Ｙ１は，ハロゲン原子（好適には、塩素原子又は臭素原子である）を示す。
【０１２５】
Ｃａ−１工程は、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（Ｖ）を有する化合物と一般式（ＶＩ）を有する化合物を反応させ、一般式（ＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程である。
【０１２６】
使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、アルカリ金属水素化物類又はアルカリ金属炭酸塩類であり、最も好適には、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、又は炭酸セシウムである。
【０１２７】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、ケトン類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、アセトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、又はジメチルホルムアミドである。
【０１２８】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至１０日間であり、好適には、３０分間乃至３日間である。
【０１２９】
Ｃａ−２工程は、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下（好適には、存在下）一般式（ＶＩＩ）で示されるアルコール誘導体とスルホニルハライド類（例えば、メタンスルホニルクロリド、メタンスルホニルブロミド、エタンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリドのようなＣ１−Ｃ６アルキル若しくはＣ６−Ｃ１０アリールスルホニルハライドであり、好適には、メタンスルホニルクロリド又はｐ−トルエンスルホニルクロリドである）又はハロゲン化剤（例えば、塩化チオニル、臭化チオニルのようなハロゲン化チオニル、三臭化リン、五臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リンのようなハロゲン化リン類、又は酢酸クロリド、蓚酸クロリド、蓚酸ブロミドのような酸ハライドであり得、好適には、塩化チオニル、臭化チオニル、又は蓚酸クロリドである）を反応させ、一般式（ＶＩＩＩ）で示される化合物を製造する工程である。
【０１３０】
使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、アミン類又はアルカリ金属炭酸塩類であり、最も好適には、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又は炭酸カリウムである。
【０１３１】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり、好適には、ケトン類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、又はアミド類であり、最も好適には、アセトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、又はジクロロメタンである。
【０１３２】
反応温度は、原料化合物、使用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至５日間であり、好適には、３０分間乃至２４時間である。
【０１３３】
Ｃａ−３工程は、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＶＩＩＩ）を一般式（ＩＸ）で示される化合物と反応させ、一般式（Ｘ）で示される化合物を製造する工程である。
【０１３４】
使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、アミン類又はアルカリ金属炭酸塩類であり、最も好適には、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又は炭酸カリウムである。
【０１３５】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、ケトン類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、ジクロロメタン、アセトン、  ジオキサン、テトラヒドロフラン、又はジメチルホルムアミドである。
【０１３６】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、３０分間乃至３日間である。
【０１３７】
Ｃａ−４工程は、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（Ｘ）を一般式（ＸＩ）を有する化合物と反応させ、一般式（ＸＩＩ）で示される化合物を製造する工程である。なお、化合物（ＸＩＩ）において、Ｗｃ２が水素原子である化合物は、原料化合物（Ｘ）である。
また、化合物（ＸＩＩ）において、Ｗｃ２がアシル基である場合には、（Ｗｃ２ａ）２Ｏ（相当する酸無水物）或いはＷｃ２ａ−Ｃｌ（相当する酸塩化物）を化合物（Ｘ）と反応させることができ、化合物（ＸＩＩ）において、Ｗｃ２がカルバモイル基である場合には、相当する、置換分αを有していてもよいイソシアネートを化合物（Ｘ）と反応させることができる。但し、相当する、置換分αを有していてもよいイソシアネートと化合物（Ｘ）との反応においては、置換分αとして、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｉｖ）ハロゲン原子、（ｖ）ヒドロキシ基、（ｖｉ）シアノ基、（ｖｉｉ）ニトロ基、（ｘｉ）ホルミル、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基若しくはＣ２−Ｃ６アルケニルカルボニル基、（ｘｉｉ）Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルボニル基、（ｘｉｖ）アリール部分に、置換分βを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、（ｘｖ）置換分βを１乃至２個有していてもよく、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子の１乃至３個を含有する５乃至７員環ヘテロアリールカルボニル基、（ｘｖｉ）カルバモイル基、（ｘｖｉｉ）置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールカルバモイル基（ｘｖｉｉｉ）置換分β（但し、（ｉｉ）ハロゲン原子を除く。）１乃至２個で置換されていてもよいアミノ基、（ｘｉｘ）Ｃ１−Ｃ６ハロゲノアルコキシ基、（ｘｘ）置換分βの１乃至２個で置換されていてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシ基、（ｘｘｉ）アリール部分に、置換分βを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、（ｘｘｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、（ｘｘｉｉｉ）置換分βを１乃至５個有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシカルボニル基又は（ｘｘｉｖ）アリール部分に、置換分βを１乃至５個有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基を有する、相当する、置換分αを有していてもよいイソシアネートを除く。
これらの反応は、後述する文献に記載の方法によっても行うことができる。
【０１３８】
使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、アミン類又はアルカリ金属炭酸塩類であり、最も好適には、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又は炭酸カリウムである。
【０１３９】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類、ケトン類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、ジクロロメタン、アセトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、又はジメチルホルムアミドである。
【０１４０】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、１時間乃至３日間である。
【０１４１】
Ｃａ−５工程は、化合物（ＸＩＩ）の保護基（Ｐ２）を除去し、化合物（ＩＩＩｄ）を製造する工程である。
保護基（Ｐ２）がＣ１−Ｃ６アルキル基、ベンジル基、又はベンズヒドリル基である場合には、保護基の除去反応は、不活性溶媒（好適には、水と有機溶媒の混合溶媒）中、化合物（ＸＩＩ）を酸又は塩基と反応させることにより行われる。
本反応は、前記Ａ法における、（ａ）酸と反応させる方法及び（ｂ）塩基と反応させる方法と同様に行われる。
【０１４２】
保護基（Ｐ２）がｔ−ブチル基である場合には、保護基の除去反応は、不活性溶媒中、化合物（ＸＩＩ）を酸と反応させることにより行われる。
本反応は、前記Ａ法における、（ａ）酸と反応させる方法と同様に行われる。
【０１４３】
保護基（Ｐ２）がベンジル基又はベンズヒドリル基である場合には、保護基の除去反応は、不活性溶媒中、接触還元触媒の存在下、化合物（ＸＩＩ）を水素と反応させることにより行われる。
本反応は、前記Ａ法における、（ｃ）接触還元させる方法と同様に行われる。
【０１４４】
Ｃａ法における中間体（ＸＩＩ）は、以下のＣｂ法により、別途に製造することができる。
【０１４５】
【化８９】
2011142381.tif 000122
【０１４６】
上記式中、Ｗｃ２、Ｑ、Ｐ１、Ｐ２、ｐ及びｎは前述したもと同意義を示す。
【０１４７】
Ｃｂ−１工程は、化合物（ＩＸ）をアルキル化等して、一般式（ＸＩＩＩ）で示される化合物を製造する工程であり、本工程は、前述したＣａ−４工程と同様に行うことができる。なお、化合物（ＸＩＩＩ）において、Ｗｃ２が水素原子である化合物は、原料化合物（ＩＸ）である。
【０１４８】
Ｃｂ−２工程は、化合物（ＸＩＩＩ）を化合物（ＶＩＩＩ）と反応させ、化合物（ＸＩＩ）を製造する工程であり、本工程は、前述したＣａ−３工程と同様に準じて行うことができる。
Ｃｃ法は、Ｃａ法における中間体（Ｘ）を別途に製造する方法である。
【化９０】
2011142381.tif 000123
上記式中、Ｙ，Ｑ、Ｐ１、Ｐ２、ｐ及びｎは前述したもと同意義を示す。
Ｃｃ−１工程は、一般式（ＶＩＩａ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（Ｖ）を一般式（ＶＩａ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前述したＣａ−１工程と同様に行われる。
Ｃｃ−２工程は、化合物（Ｘ）を製造する工程（アルデヒドによるアミンの還元的アルキル化反応）であり、不活性溶媒中、還元剤の存在下、化合物（ＶＩＩ−ａ）を化合物（ＩＸ）と反応させることにより達成される。
使用される還元剤は、例えば、ナトリウムボロヒドリド、ナトリウムシアノボロヒドリド、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド（Ｓｏｄｉｕｍ  Ｔｒｉａｃｅｔｏｘｙ  Ｂｏｒｏｈｙｄｒｉｄｅ）或いはボラン／ピリジンである。好適には、ナトリウムシアノボロヒドリド、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド（Ｓｏｄｉｕｍ  Ｔｒｉａｃｅｔｏｘｙ  Ｂｏｒｏｈｙｄｒｉｄｅ）或いはボラン／ピリジンであり、最も好適には、ナトリウムシアノボロヒドリド、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリドである。
【０１４９】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールのようなアルコール類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、メタノール、エタノール、又はメタノールとジオキサン、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミドとの混合溶媒である。
【０１５０】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至１０日間であり、好適には、３０分間乃至３日間であ  る。
【０１５１】
＜Ｄ法＞
Ｄ法は、化合物（ＩＩ）を製造する工程である。
【０１５２】
【化９１】
2011142381.tif 000124
【０１５３】
上記式中、Ａ’、Ｅ、Ｔ、Ｒａ３及びＢｏｃは、前述したものと同意義を示す。但し、Ａ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）Ｂｏｃ基は、−Ｎ（Ｒａ３）Ｈ基であってもよい。
【０１５４】
Ｄ−１工程は、化合物（ＩＩ）を製造する工程であり、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物のニトロ基を還元してアミノ基に変換することにより行われる。なお、この反応に際して、Ａ’における保護基であるトリフェニルメチル基又は化合物（ＸＩＶ）中のアミノ基の保護基であるベンジルオキシカルボニル基も同時に除去することもできる。
【０１５５】
本工程は、芳香族ニトロ基の還元反応であり、不活性溶媒中、通常の有機反応に用いられる、接触還元反応、金属と酸の組合せ（例えば、鉄−塩酸若しくは硫酸、亜鉛−酢酸若しくは塩酸、錫−アルコール、又は錫−塩酸であり得、好適には、鉄−塩酸、亜鉛−酢酸、又は錫−塩酸であり、更に好適には、鉄−塩酸又は亜鉛−酢酸である）による還元反応、又はハイドロサルファイトナトリウムとの反応により行われる。
【０１５６】
用いられる不活性溶媒は、本反応に悪影響がなければどのようなものでもよいが、接触還元反応の場合は、好適には、アルコール類又はアルコール類とエーテル類若しくはアミド類との混合溶媒であり、更に好適には、メタノール又はメタノールとテトラヒドロフラン、ジオキサン若しくはジメチルホルムアミドとの混合溶媒であり、金属と酸の組合せによる還元反応の場合は、好適には、アルコール類（特に、メタノール又はエタノール）であり、ハイドロサルファイトナトリウムとの反応の場合は、好適には、水とアルコール類（特に、メタノール又はエタノール）との混合溶媒である。
用いられる接触還元触媒は、前記Ａ法で用いられるものと同様である。
反応温度は、原料化合物、接触還元触媒、還元剤、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至１５０℃であり、好適には、１０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、接触還元触媒、還元剤、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至１０日間であり、好適には、５時間乃至５日間である。
【０１５７】
＜Ｅ法＞
Ｅａ法は、化合物（ＸＩＶ）において、ＥがＥ’（以下に示す基）である化合物（ＸＩＶａ）を製造する方法である。
【０１５８】
【化９２】
2011142381.tif 000125
【０１５９】
上記式中、Ａ’、Ｔ、Ｒａ３及びＢｏｃ基は、前述したものと同意義を示し、Ｅ’は、芳香環に反応する末端が式  −Ｏ−基、式  −Ｓ−基又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいＣ６−Ｃ１０アリール基、又は置換されていてもよいＣ６−Ｃ１０アリール−Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示す。）を有する基であるほか、前記Ｅと同意義を示す。但し、Ａ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）Ｂｏｃ基は、−Ｎ（Ｒａ３）Ｈ基であってもよい。
【０１６０】
Ｅａ−１工程は、化合物（ＸＩＶａ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（ＸＶ）を有する化合物を一般式（ＸＶＩ）を有する化合物と反応させることにより行われる。
【０１６１】
使用される塩基は、通常の有機反応において、塩基として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、有機アミン類、アルカリ金属水素化物類、又はアルカリ金属炭酸塩類であり、最も好適には、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、又は炭酸セシウムである。
【０１６２】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、エーテル類又はアミド類であり、最も好適には、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、又はジメチルアセトアミドである。
【０１６３】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、１時間乃至３日間である。
また、得られた化合物（ＸＩＶａ）において、Ｒｅ２ａが水素原子である化合物は、所望により、相当するアシルハライド（アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、ベンジルカルボニルクロリド、シクロプロピルカルボニルクロリド、ニコチノイルクロリド等）、相当するスルホニルハライド（メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、ベンジルスルホニルクロリド等）、アルキル、ハロゲノアルキル、シクロアルキル、アリール及びアリールアルキルからなる置換分を１乃至２個有する置換カルバモイルハライド（Ｎ−メチルカルバモイルクロリド、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロリド、Ｎ−フェニルカルバモイルクロリド等）、又はギ酸と酢酸の無水物と、上記の反応と同様に行い、Ｒｅ２ａが前記Ｒｅ２における、（ｖ）アルキルスルホニル基、（ｖｉ）ハロゲノアルキルスルホニル基、（ｖｉｉ）置換分を有していてもよいアリールスルホニル基、（ｖｉｉｉ）置換分を有していてもよいアリール−アルキルスルホニル基、（ｉｘ）ホルミル基、アルキルカルボニル基若しくはアルケニルカルボニル基、（ｘ）置換分を有していてもよいアリールカルボニル基、（ｘｉ）置換分を有していてもよいアリール−アルキルカルボニル基、（ｘｉｉ）シクロアルキルカルボニル基、（ｘｉｉｉ）置換分を有していてもよいヘテロアリールカルボニル基、又は（ｘｉｖ）置換分（（ｉ）アルキル基、（ｉｉ）ハロゲノアルキル基、（ｖｉｉｉ）シクロアルキル基、（ｉｘ）置換分を有していてもよいアリール基、又は（ｘ）置換分を有していてもよい又はアリール−アルキル基）を有するカルバモイル基である化合物に変換することができる。
【０１６４】
Ｅｂ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが  式、−（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、Ａｒ及びＲｅ１は、前述したものと同意義を示し、Ｗｃ３ａは、式  −Ｏ−基、式  −Ｓ−基、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）を有する基を示し、Ｘｅ２ａは、芳香環に反応する末端が、式  −Ｏ−基、式  −Ｓ−基、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）を有する基であるほか、前記Ｘｅ２と同意義を示し、ｎ１は、１乃至１０の整数を示す。）を有する基である、化合物（ＸＩＶｂ）を製造する方法である。
【０１６５】
【化９３】
2011142381.tif 000126
【０１６６】
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｗｃ３ａ、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｔ、Ｙ、Ｒａ３及びＢｏｃ基は、前述したものと同意義を示す。
【０１６７】
Ｅｂ−１工程は、一般式（ＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩＩ）を有するアルコール体をスルホニルハライド類又はハロゲン化剤と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
【０１６８】
Ｅｂ−２工程は、一般式（ＸＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＩＸ）を有する化合物と化合物（ＸＶＩ）を反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０１６９】
Ｅｂ−３工程は、化合物（ＸＩＶｂ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＸ）を化合物（ＸＶＩＩＩ）と反応させることにより達成される。
【０１７０】
使用される塩基は、通常の有機反応において、塩基として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、アルカリ金属水素化物類、又はアルカリ金属炭酸塩類であり、最も好適には、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、又は炭酸セシウムである。
【０１７１】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、ジクロロメタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、又はジメチルアセトアミドである。
【０１７２】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、１時間乃至３日間である。
【０１７３】
Ｅｃ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式
【化９４】
2011142381.tif 000127
（式中、Ｒａ３及びＲｅ２ａは、前述したものと同意義を示し、ｎ２は、２乃至１０の整数を示し、Ｔａは、式  −ＣＨ＝基又は式  −Ｎ＝基を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｃ）を製造する方法である。
【０１７４】
【化９５】
2011142381.tif 000128
【０１７５】
上記式中、Ａ’、Ｒａ３、Ｔａ、ｎ２、Ｒｅ２ａ、Ｔ、及びＢｏｃ基は前述したものと同意義を示し、但し、化合物（ＸＩＶｃ）におけるＲａ３は、同一または異なっていてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０１７６】
Ｅｃ−１工程は、一般式（ＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩ）を一般式（ＸＸＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０１７７】
Ｅｃ−２工程は、一般式（ＸＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＩ）のニトロ基を還元することにより達成される。本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
【０１７８】
Ｅｃ−３工程は、一般式（ＸＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＩＶ）を有する化合物を化合物（ＸＸＩＩＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０１７９】
Ｅｃ−４工程は、一般式（ＸＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＶ）を脱Ｂｏｃ化して、続いて、閉環反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−２工程と同様に行われる。
【０１８０】
Ｅｃ−５工程は、化合物（ＸＩＶｃ）を製造する工程であり、化合物（ＸＸＶＩ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０１８１】
なお、本方法において、Ｅｃ−１工程で得られた化合物（ＸＸＩＩ）をエステル類（例えば、酢酸エステル、プロピオン酸エステル、又はｔ−ブトキシ炭酸エステル）に変換し、得られたエステル類をＥｃ−２工程からＥｃ−４工程までの反応に付し、次いで、得られた化合物のエステル部分を、前記Ａ法Ａ−１工程と同様にして、加水分解することにより、化合物（ＸＸＶＩｃ）を製造することもできる。
【０１８２】
Ｅｄ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −ＣＯＮＨ−Ｗｃ３ｂ−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、Ｒｅ１、Ａｒ及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示し、式  −ＣＯＮＨ−Ｗｃ３ｂ−基は、Ａと結合する末端が式  −ＣＯＮＨ−基であるほか、前記Ｗｃ３と同意義を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｄ）を製造する方法である。
【０１８３】
【化９６】
2011142381.tif 000129
【０１８４】
上記式中、Ａ’、Ｗｃ３ｂ、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｔ，Ｒａ３及びＢｏｃは前述したものと同意義を示す。但し、Ａ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０１８５】
Ｅｄ−１工程は、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＩＶ）を有する化合物を一般式（ＸＸＶＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０１８６】
Ｅｄ−２工程は、化合物（ＸＩＶｄ）を製造する工程であり、化合物（ＸＸＶＩＩＩ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ−１工程と同様に行われる。
また、本方法と同様にして、式  −Ｗｃ３−基中に、式  −ＣＯＮＨ−を有する化合物も製造される。
更に、化合物（ＸＩＶｄ）は、化合物（ＸＸＶＩＩ）を化合物（ＸＶＩ）化合物とＥｄ−２工程と同様に反応させ、一般式（ＸＸＶＩＩＩａ）を有する化合物とし、この化合物を化合物（ＸＸＩＶ）とＥｄ−１工程と同様に反応させても製造することができる。
【化９７】
2011142381.tif 000130
【０１８７】
Ｅｅ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（ＣＨ２）ｎ２−Ｏ−（式中、Ｒｅ２ａ及びｎ２は前述したものと同意義を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｅ）を製造する方法である。
【０１８８】
【化９８】
2011142381.tif 000131
【０１８９】
上記式中、Ａ’、Ｒｅ２ａ、ｎ２、Ｔ、、Ｒａ３、Ｂｏｃ及びＹは、前述したものと同意義を示す。但し、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０１９０】
Ｅｅ−１工程は、一般式（ＸＸＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＩＸ）を有する化合物を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０１９１】
Ｅｅ−２工程は、一般式（ＸＸＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＸ）を有するアルコール化合物をスルホニルハライド類又はハロゲン化剤と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
【０１９２】
Ｅｅ−３工程は、化合物（ＸＩＶｅ）を製造する工程であり、一般式（ＸＸＸＩＩ）を有する化合物を化合物（ＸＸＸＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｃ法Ｃａ−３工程と同様に行われる。
【０１９３】
Ｅｆ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｓ（Ｏ）ｑ−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｏ−（式中、ｎ１、ｑ、Ａｒ及びＲｅ１は前述したものと同意義を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｆ）を製造する方法である。
【０１９４】
【化９９】
2011142381.tif 000132
【０１９５】
上記式中、Ａ’、ｎ１、ｑ、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｔ、、Ｒａ３、Ｂｏｃ及びＹは、前述したものと同意義を示す。但し、Ｔが窒素原子の場合には、、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０１９６】
Ｅｆ−１工程は、一般式（ＸＸＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＸＸＸＩＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０１９７】
Ｅｆ−２工程は、一般式（ＸＸＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、フェノール化合物（ＸＸＸＩＶ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０１９８】
Ｅｆ−３工程は、化合物（ＸＩＶｆ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、スルフィド化合物（ＸＸＸＶ）を酸化剤と反応させることにより達成される。なお、化合物（ＸＩＶｆ）において、ｑが０である化合物は、原料化合物（ＸＸＸＶ）である。
使用される酸化剤は、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、過酢酸のような過酸類；ｔ−ブチルヒドロぺルオキシド、クミルヒドロぺルオキシドのようなヒドロぺルオキシド類：ジ−ｔ−ブチルぺルオキシドのようなジアルキルぺルオキシド類；又は過酸化水素であり得、好適には、過酸類、ヒドロぺルオキシド類、又は過酸化水素であり、最も好適には、ｍ−クロロ過安息香酸、ｔ−ブチルヒドロぺルオキシド、又は過酸化水素である。
【０１９９】
また、スルフィド化合物（ＸＸＸＶ）に対して、酸化剤１当量〜１．５当量使用することにより、化合物（ＸＩＶｆ）において、ｑが１であるスルホキシド類を製造することができ、酸化剤２当量〜３当量（２当量以上）使用することにより、化合物（ＸＩＶｆ）において、ｑが２であるスルホン類を製造することができる。
【０２００】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類であり、最も好適には、クロロホルム、ジクロロメタン、又は１，２−ジクロロエタンである。
【０２０１】
反応温度は、原料化合物、使用される酸化剤、使用される溶媒等により異なるが、通常、−７０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、−２０℃乃至５０℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、１時間乃至２日間である。
【０２０２】
Ｅｇ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｓ（Ｏ）ｑ−（式中、ｎ１及びｑは前述したものと同意義を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｇ）を製造する方法である。
【０２０３】
【化１００】
2011142381.tif 000133
【０２０４】
上記式中、Ａ’、ｎ１、ｑ、Ｔ、Ｒａ３、Ｂｏｃ及びＹは、前述したものと同意義を示す。但し、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２０５】
Ｅｇ−１工程は、一般式（ＸＸＸＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を化合物（ＸＸＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ−３工程と同様に行われ、好適には、塩基の不存在下に行われる。
【０２０６】
Ｅｇ−２工程は、一般式（ＸＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基（触媒）の存在下、化合物（ＸＸＸＶＩＩ）を分解反応に付すことにより達成される。また、ジチオエリスリトールを共存させることにより、好適に行われる。
用いられる塩基（触媒）は、通常の有機反応において、塩基として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミンのような有機１級アミン類；又はジエチルアミン、ジブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン、モルホリン、ピぺリジン、ピロリジン、ジエタノールアミンのような有機２級アミン類であり得、好適には、アルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属炭酸塩類、又は有機２級アミン類であり、最も好適には、モルホリン又はジブチルアミンである。
【０２０７】
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；アセトニトリル、プロピオニトリルのようなニトリル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；水；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、ケトン類、エーテル類、アミド類、又はハロゲン化炭化水素類であり、最も好適には、メタノール、エタノール、アセトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、又はジクロロメタンである。
【０２０８】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至７０℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至５日間であり、好適には、３０分間乃至３日間である。
【０２０９】
Ｅｇ−３工程は、一般式（ＸＸＸＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、メルカプタン化合物（ＸＸＸＶＩＩＩ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０２１０】
Ｅｇ−４工程は、化合物（ＸＩＶｇ）を製造する工程であり、スルフィド化合物（ＸＸＸＩＸ）を酸化剤と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｆ−３工程と同様に行われる。
【０２１１】
＜Ｆ法＞
Ｆ法は、Ｅ法の各種の出発原料を製造する方法である。
Ｆａ法は、前記Ｅｂ法の原料化合物（ＸＶＩＩ）を製造する方法である。
【０２１２】
【化１０１】
2011142381.tif 000134
【０２１３】
上記式中、Ａ’、ｎ１及びＹは前述したものと同意義を示し、Ｍはアルカリ金属を示す。なお、一般式（ＸＶＩＩａ）を有する化合物及び一般式（ＸＶＩＩｂ）を有する化合物は、それぞれ、ｎ１が１である及びｎ１が２である、化合物（ＸＶＩＩ）である。
【０２１４】
Ｆａ−１工程は、一般式（ＸＶＩＩＩａ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩＩａ）を有するアルコール化合物をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
本工程の原料化合物（ＸＶＩＩａ）は、前記化合物（ＸＸＩＶ：式  Ａ’−ＣＯＯＨ（式中、Ａ’は前述したものと同意義を示す。）を有するカルボン酸体）又はそのＣ１−Ｃ６アルキルエステル体を還元剤（例えば、水素化アルミニウムリチウム又はジイソブチルアルミニウムハイドライドのような金属水素化物）と不活性溶媒（例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類）中、−２０℃乃至溶媒の沸点温度で、３０分間乃至７時間、反応させることにより製造できる。    
【０２１５】
Ｆａ−２工程は、一般式（ＸＬＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下又は不在下、化合物（ＸＶＩＩＩａ）を、一般式（ＸＬ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
使用される塩基は、通常の有機反応において、塩基として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又はアルカリ金属炭酸塩類であり、最も好適には、炭酸カリウム又は炭酸セシウムである。
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、又はジメチルアセトアミドである。
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、１時間乃至３日間である。
【０２１６】
Ｆａ−３工程は、一般式（ＸＬＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸の存在下、一般式（ＸＬＩＩ）を有するアルコール化合物と反応させ、化合物（ＸＬＩ）を加アルコール分解させることにより達成される。
使用されるアルコールは、好適には、メタノール又はエタノールである。
使用される酸は、通常の反応において、酸として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸；酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸；塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸；又は酸性イオン交換樹脂であり得、好適には、無機酸又は有機酸であり、最も好適には、塩酸又は硫酸である。
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；メタノール、エタノール、プロパノ−ルのようなアルコール類；トリフルオロ酢酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、アミド類、又はこれらの溶媒の混合溶媒であり、更に好適には、アルコール類又はエーテル類であり、最も好適には、メタノール、エタノール、ジオキサン、又はテトラヒドロフランである。
反応温度は、原料化合物、酸、溶媒等により異なるが、通常、２０℃乃至１５０℃であり、好適には、５０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至１０日間であり、好適には、２時間乃至５日間である。
【０２１７】
Ｆａ−４工程は、一般式（ＸＶＩＩｂ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、エステル化合物（ＸＬＩＩＩ）を還元剤と反応させることにより達成される。
使用される還元剤は、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリ（ｓ−ブチル）ホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム（Ｒｅｄ−Ａｌ）、水素化リチウムトリ−ｔ−ブトキシアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、又はジイソブチルアルミニウムハイドライドのような金属水素化物であり得、好適には、Ｒｅｄ−Ａｌ、水素化アルミニウムリチウム、又はジイソブチルアルミニウムハイドライドである。
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、芳香族炭化水素類、エーテル類、又はこれらの溶媒の混合溶媒であり、更に好適には、エーテル類であり、最も好適には、ジエチルエーテル、ジオキサン、又はテトラヒドロフランである。
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至１０日間であり、好適には、１時間乃至５日間である。
得られた化合物（ＸＶＩＩｂ）を出発原料として、Ｆａ−１工程乃至Ｆａ−４工程に付すことにより、化合物（ＸＬＩＩｂ）に「−ＣＨ２−」が付加された化合物（Ａ’−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ）を製造することができ、更に、この工程を繰り返すことにより、所望の数の「−ＣＨ２−」が付加された化合物（即ち、ｎ１が４−１０である化合物（ＸＶＩＩ））を製造することができる。
【０２１８】
更に、化合物（ＸＶＩＩＩａ）及びその化合物に、所望の数の「−ＣＨ２−」が付加された化合物は、前記Ｅｆ法Ｅｆ−１工程の原料化合物（ＸＶＩＩＩ）であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を式  Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ２（式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）を有する化合物と前記Ｃ法Ｃａ−３工程と同様に反応させることにより、式  Ａ’−（ＣＨ２）ｎ１−Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ（式中、Ａ’、ｎ１及びＲｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）を有する化合物が製造でき、また、化合物（ＸＬＩ）及びその化合物に、所望の数の「−ＣＨ２−」が付加された化合物を還元すること（例えば、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に接触還元すること、又は還元剤（例えば、水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、又はＲｅｄ−Ａｌ）と不活性溶媒（例えば、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン）中、−２０℃乃至溶媒の沸点温度で、３０分間乃至１０時間、反応させることにより、式  Ａ’−（ＣＨ２）ｎ１−ＮＨ２（式中、Ａ’及びｎ１は、前述したものと同意義を示す。）を有する化合物が製造できる。
本方法の炭素鎖（−ＣＨ２−）を１個ずつ伸ばす方法は、文献公知の方法又はそれに順じる方法でも行われる（例えば、“Ｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｃ−Ｃ  Ｂｏｎｄｓ”，Ｊｅａｎ  Ｍａｔｈｉｅｕ  ＆  Ｊｅａｎ  Ｗｅｉｌｌ−Ｒａｙｎａｌ，Ｐｒｅｆａｃｅ  ｂｙ  Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ，Ｇｅｏｒｇ  ＴＨｉｅｍｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）。
【０２１９】
Ｆｂ法は、前記化合物（ＸＶＩＩ）において、ｎ１が奇数である化合物（ＸＶＩＩｃ）を別途に製造する方法である。
【０２２０】
【化１０２】
2011142381.tif 000135
【０２２１】
上記式中、Ａ’及びＰ１は前述したものと同意義を示し、ｎ３は、前記ｎ１のうち、奇数の整数を示し、Ｚは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ６−Ｃ１０アリール基、又はＣ１−Ｃ６アルコキシ基（好適には、フェニル、メトキシ、又はエトキシ基）を示す。
【０２２２】
Ｆｂ−１工程は、一般式（ＸＬＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、一般式（ＸＶＩＩａ）を有するアルコール化合物を酸化剤と反応させることにより達成される。
使用される酸化剤は、１級アルコール化合物をアルデヒド化合物に酸化するものであれば特に限定はないが、例えば、無水クロム酸（ＣｒＯ３）、クロム酸（Ｈ２ＣｒＯ４）、二クロム酸（Ｈ２Ｃｒ２Ｏ７）、ピリジン−無水クロム酸錯体（（Ｃ５Ｈ５Ｎ）２・ＣｒＯ３）、クロロクロム酸ピリジニウム（（Ｃ５Ｈ５Ｎ＋Ｈ）・ＣｌＣｒＯ３−）、二クロム酸ピリジニウム（（Ｃ５Ｈ５Ｎ＋Ｈ）２・Ｃｒ２Ｏ７２−）、ピリジン‐ＳＯ３−ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（Ｐａｒｒｉｋｈ−Ｄｏｅｒｉｎｇ酸化）、塩化オキサリル−ＤＭＳＯ、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）−ＤＭＳＯ（Ｐｆｉｔｚｎｅｒ−Ｍｏｆｆａｔｔ酸化）、トリフルオロ酢酸−ＤＭＳＯ（Ｓｗｅｒｎ変法）、又は無水酢酸−ＤＭＳＯ（Ａｌｂｒｉｇｈｔ−Ｇｏｌｄｍａｎｎ酸化）であり得、好適には、クロロクロム酸ピリジニウム（（Ｃ５Ｈ５Ｎ＋Ｈ）・ＣｌＣｒＯ３−）、二クロム酸ピリジニウム（（Ｃ５Ｈ５Ｎ＋Ｈ）２・Ｃｒ２Ｏ７２−）、ピリジン‐ＳＯ３−ＤＭＳＯ、又は塩化オキサリル−ＤＭＳＯである。
使用される不活性溶媒は、ジクロロメタンであり、但し、ピリジン‐ＳＯ３又は塩化オキサリルを使用する場合は、ジメチルスルホキシドである。
反応温度は、原料化合物、使用される酸化剤、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至５０℃である。
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至１０時間である。
【０２２３】
Ｆｂ−２工程は、一般式（ＸＬＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＬＩＶ）を、一般式（ＸＬＶ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
使用される不活性溶媒は、アルコール類、エーテル類、ニトリル類、アミド類、又はスルホキシド類であり、好適には、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アセトニトリル、又はジメチルスルホキシドである。
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−７８℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、０℃乃至７０℃である。
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、１時間乃至３日間である。
また、本工程は、文献公知の方法又はそれに準じる方法によっても行われる（例えば、Ｗ．  Ｓ．  Ｗａｄｓｗｏｒｔｈ，  Ｊｒ．，  Ｗ．  Ｄ．  Ｅｍｍｏｎｓ，  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．８３，  １７３３  （１９６１））。
【０２２４】
Ｆｂ−３工程は、一般式（ＸＬＩＩＩａ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＬＶＩ）を接触還元反応に付すことにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０２２５】
Ｆｂ−４工程は、一般式（ＸＶＩＩｄ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＬＩＩＩａ）を還元剤と反応することにより達成される。本工程は、前記Ｆａ−４工程と同様に行われる。
得られた化合物（ＸＶＩＩｄ）を出発原料として、Ｆｂ−１工程乃至Ｆｂ−４工程に付すことにより、化合物（ＸＶＩＩｄ）に「−ＣＨ２−ＣＨ２−」が付加された化合物（Ａ’−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ：ｎ３が５である化合物（ＸＶＩＩｃ））を製造することができ、更に、この工程を繰り返すことにより、所望の数の「−ＣＨ２−ＣＨ２−」が付加された化合物（即ち、ｎ３が７又は９である化合物（ＸＶＩＩｃ））を製造することができる。なお、化合物（ＸＶＩＩａ）及び化合物（ＸＶＩＩｄ）は、それぞれ、ｎ３が１及び３である化合物（ＸＶＩＩｃ）である。
【０２２６】
また、上記の化合物（ＸＬＩＶ）及びその化合物に、所望の「−ＣＨ２−ＣＨ２−」が付加された化合物は、式  Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ２（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する化合物と、前記Ａ法Ａ−１工程における、接触還元と同様な反応条件で、反応させることにより、式  Ａ’−（ＣＨ２）ｎ３−Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ（式中、Ａ’，Ｒｅ２及びｎ３は前述したものと同意義を示す。）を有する化合物を製造することができる。
【０２２７】
＜Ｇ法＞
Ｇ法は、前記Ｄ法の原料化合物（ＸＩＶ）に含まれる化合物を製造する方法である。
【０２２８】
Ｇａ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｓ−（ＣＨ２）ｎ４−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、ｎ１、Ｗｃ３ａ、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示し、ｎ４は、２乃至８の整数を示し、ｎ５は、１乃至７の整数を示し、但し、ｎ１、ｎ４及びｎ５の和が１０を超えない。）を有する基である化合物（ＸＩＶｈ）を製造する方法である。
【０２２９】
【化１０３】
2011142381.tif 000136
【０２３０】
上記式中、Ａ’、ｎ１、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ，Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｔ、Ｒａ３、Ｂｏｃ及びＹは前述したものと同意義を示す。Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２３１】
Ｇａ−１工程は、一般式（ＸＬＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＸＬＶＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０２３２】
Ｇａ−２工程は、一般式（Ｌ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＬＩＸ）を有する化合物を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０２３３】
Ｇａ−３工程は、一般式（ＬＩ）を有する化合物を製造する工程であり、アルコール化合物（Ｌ）をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−１工程と同様に行われる。
【０２３４】
Ｇａ−４工程は、化合物（ＸＩＶｈ）を製造する工程であり、化合物（ＸＬＶＩＩＩ）を化合物（ＬＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０２３５】
Ｇｂ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ４−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、ｎ１、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。但し、ｎ１、ｎ４及びｎ５の和が１０を超えない。）を有する基である化合物（ＸＩＶｉ）を製造する方法である。
【０２３６】
【化１０４】
2011142381.tif 000137
【０２３７】
上記式中、Ａ’、ｎ１、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｒａ３，Ｔ、Ｂｏｃ及びＹは、前述したものと同意義を示し、Ｗｃ３ｃは、保護された酸素原子（該保護基は、例えば、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、ピラニル基、又はＣ１−Ｃ６アルキル−Ｃ６−Ｃ１０アリール基であり得、好適には、アセチル基、ピラニル基、又はベンジル基である。）、保護された硫黄原子（該保護基は、例えば、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基又はトリフェニルメチル基であり得、好適には、アセチル基又はトリフェニルメチル基である。）又は  式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−Ｂｏｃ（式中、Ｒｅ２ａ及びＢｏｃは前述したものと同意義を示す。）を示す。Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２３８】
Ｇｂ−１工程は、一般式（ＬＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＬＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０２３９】
Ｇｂ−２工程は、一般式（ＬＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＬＩＩＩ）に含まれる、酸素原子、硫黄原子及び式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−基の保護基を除去することにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０２４０】
Ｇｂ−３工程は、化合物（ＸＩＶｉ）を製造する工程であり、化合物（ＬＩＶ）を化合物（ＬＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０２４１】
Ｇｃ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（ＣＨ２）ｎ４−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、ｎ１、Ｒｅ２ａ、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。但し、ｎ１、ｎ４及びｎ５の和は１０を超えない。）を有する基である化合物（ＸＩＶｊ）を製造する方法である。
【０２４２】
【化１０５】
2011142381.tif 000138
【０２４３】
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｒｅ２ａ、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｒａ３、Ｔ、Ｂｏｃ及びＹは、前述したものと同意義を示す。但し、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２４４】
Ｇｃ−１工程は、一般式（ＬＩＶａ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＬＶＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
また、本工程において、Ｗｃ３ａが硫黄原子である場合は、好適には、式  −ＳＨ基が保護され（該保護基は、上記Ｇｂ法におけるものと同様のものである。）、本反応の後に、該保護基は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に除去される。
【０２４５】
Ｇｃ−２工程は、化合物（ＸＩＶｊ）を製造する工程であり、化合物（ＬＩＶａ）を化合物（ＬＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０２４６】
Ｇｄ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ４−ＣＯＮ（Ｒｅ２ａ）−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、ｎ１、Ｗｃ３ａ、ｎ４、Ｒｅ２ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。但し、ｎ１、ｎ４及びｎ５の和は１０を超えない。）を有する基である化合物（ＸＩＶｋ）を製造する方法である。
【０２４７】
【化１０６】
2011142381.tif 000139
【０２４８】
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｗｃ３ａ、ｎ４、Ｒｅ２ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｔ、Ｒａ３、Ｂｏｃ、Ｙ及びＰ１は、前述したものと同意義を示す。但し、Ａ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２４９】
Ｇｄ−１工程は、一般式（ＬＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＬＶＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０２５０】
Ｇｄ−２工程は、一般式（ＬＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、エステル化合物（ＬＶＩＩ）を加水分解反応させることにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０２５１】
Ｇｄ−３工程は、一般式（ＬＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＬＩＸ）を有する化合物を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
また、本工程において、化合物（ＬＩＸ）に含まれる式  −ＮＨ−基が反応を妨げる場合は、所望により、Ｂｏｃのような保護基で、保護して、本反応を行い、次いで、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に、保護基を除去して、化合物（ＬＸ）を製造するすることができる。
【０２５２】
Ｇｄ−４工程は、化合物（ＸＩＶｋ）を製造する工程であり、化合物（ＬＸ）を化合物（ＬＶＩＩＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
Ｇｅ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ４−Ｎ（Ｒｅ２ａ）−ＣＯ−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、ｎ１、Ｗｃ３ａ、ｎ４、Ｒｅ２ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。但し、ｎ１、ｎ４及びｎ５の和は１０を超えない。）を有する基である化合物（ＸＩＶｍ）を製造する方法である。
【０２５３】
【化１０７】
2011142381.tif 000140
【０２５４】
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｗｃ３ａ、ｎ４、Ｒｅ２ａ、ｎ５、Ｒｅ１、Ａｒ、Ｘｅ２ａ、Ｔ、Ｒａ３、Ｂｏｃ及びＰ１は，前述したものと同意義を示す。但し、Ａ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２５５】
Ｇｅ−１工程は、一般式（ＬＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＬＸＩ）を有する化合物を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０２５６】
Ｇｅ−２工程は、一般式（ＬＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、エステル化合物（ＬＸＩＩ）を加水分解反応させることにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０２５７】
Ｇｅ−３工程は、化合物（ＸＩＶｍ）を製造する工程であり、一般式（ＬＶＩＩａ）を有する化合物を化合物（ＬＸＩＩＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
Ｇｆ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｎ（Ｒｅ２ａ）ＣＯ−（ＣＨ２）ｎ４−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、ｎ１、Ｒｅ２ａ、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。但し、ｎ１、ｎ４及びｎ５の和は１０を超えない。）
を有する基である化合物（ＸＩＶｎ）を製造する方法である。
【０２５８】
【化１０８】
2011142381.tif 000141
【０２５９】
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｒｅ２ａ、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｔ、Ｒａ３、Ｂｏｃ及びＰ１は、前述したものと同意義を示す。但し、Ａ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２６０】
Ｇｆ−１工程は、一般式（ＬＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＬＸＩＶ）を有する化合物を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０２６１】
Ｇｆ−２工程は、一般式（ＬＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、エステル化合物（ＬＸＶ）を加水分解反応させることにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０２６２】
Ｇｆ−３工程は、化合物（ＸＩＶｎ）を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩＩＩｂ）を有する化合物を化合物（ＬＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
Ｇｇ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−ＣＯＮ（Ｒｅ２ａ）−（ＣＨ２）ｎ４−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、ｎ１、Ｒｅ２ａ、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。但し、ｎ１、ｎ４及びｎ５の和は１０を超えない。）を有する基である化合物（ＸＩＶｏ）を製造する方法である。
【０２６３】
【化１０９】
2011142381.tif 000142
【０２６４】
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｒｅ２ａ、ｎ４、Ｗｃ３ａ、Ａｒ、ｎ５、Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｔ、Ｒａ３、Ｂｏｃ、Ｙ及びＹ１基は前述したものと同意義を示し，Ｐ３はＣ６−Ｃ１０アリール基（好適には、フェニル基である。）基を示す。但し、Ａ’中の  テトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、ｎ１、ｎ４及びｎ５の和は、１０の整数を超えず、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２６５】
Ｇｇ−１工程は、一般式（ＬＸＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＬＸＶＩＩ）を有する化合物を一般式（ＬＸＶＩＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。また、Ｙ１は、好適には、塩素である。
【０２６６】
Ｇｇ−２工程は、一般式（ＬＸＸ）を有する化合物を製造する工程であり、アルコール化合物（ＬＸＩＸ）をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
【０２６７】
Ｇｇ−３工程は、一般式（ＬＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸ）を一般式（ＬＸＸＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
また、化合物（ＬＸＸＩ）は、式  Ｈ−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−Ｈ（式中、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）を有する化合物と化合物（ＸＶＩ）を、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に反応させることにより、製造することができる。
【０２６８】
Ｇｇ−４工程は、一般式（ＬＸＶＩａ）を有する化合物を製造する工程であり、塩基の存在下、アリールカーバメイト化合物（ＬＸＸＩＩ）を加水分解することにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０２６９】
Ｇｇ−５工程は、化合物（ＸＩＶｏ）を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩＩＩｃ）を有する化合物を化合物（ＬＸＶＩａ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０２７０】
Ｇｈ法は、化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式
【化１１０】
2011142381.tif 000143
（式中、Ｒａ３及びＴは、前述したものと同意義を示す。）を有する基（Ａとイミダゾール環部分で結合する基）である化合物（ＸＩＶｐ）を製造する方法である。
【化１１１】
2011142381.tif 000144
上記式中、Ａ’、Ｒａ３、Ｔ、Ｂｏｃ及びＴａは、前述したものと同意義を示し、但し、同一分子中にある２個のＲａ３は、同一又は異なっていてもよく、Ｔ及びＴａが窒素原子の場合には、それぞれの分子内の、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ  基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２７１】
Ｇｈ−１工程は、一般式（ＬＸＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩ）をベンジルアルコールと反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０２７２】
Ｇｈ−２工程は、一般式（ＬＸＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸＩＩＩ）を還元することにより達成される。本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
【０２７３】
Ｇｈ−３工程は、一般式（ＬＸＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＶ）を化合物（ＬＸＸＩＶ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０２７４】
Ｇｈ−４工程は、一般式（ＬＸＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸＶ）を酸と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−２工程と同様に行われる。
【０２７５】
Ｇｈ−５工程は、化合物（ＸＩＶｐ）を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸＶＩ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０２７６】
なお、Ｇｈ−１工程において、ベンジルアルコールに代わり、前記化合物（ＬＸＶＩＩ）用いて、この化合物を、Ｇｈ−１工程乃至Ｇｈ−５工程の反応に付すことにより、式
【化１１２】
2011142381.tif 000145
【０２７７】
（式中、Ａ’、Ｒａ３、Ｔ、Ｒｅ２ａ、ｎ４、Ｔａ及びＢｏｃは、前述したものと同意義を示し、２つのＲａ３は、同一又は異なっていてもよい。）を有する化合物（ＸＩＶｑ）を製造することができる。
【０２７８】
更に、化合物（ＸＸＩＶ）の代わりに、式  Ａ’ａＣＯ２Ｈ  （式中、Ａ’ａは、式
【化１１３】
2011142381.tif 000146
（式中、Ｒａ１、Ｒａ５及びＴは、前述したものと同意義を示す。）
を有する化合物（ＸＸＩＶａ）を用いて、上記と同様にして、製造される化合物、すなわち、化合物（ＸＩＶｐ）及び化合物（ＸＩＶｑ）において、Ａ’が、Ａ’ａである化合物（ＸＩＶｐａ）及び化合物（ＸＩＶｑａ）を、式
【化１１４】
2011142381.tif 000147
（式中、Ｙ１は、前述したものと同意義を示し、Ｄａは、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基又は１−トリフェニルメチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル基を示す。）
を有する化合物（ＬＸＸＶＩＩ：好適には、４’−ブロモメチルビフェニル−２−カルボン酸Ｃ１−Ｃ６アルキルエステル又は４’−クロロメチルビフェニル−２−カルボン酸Ｃ１−Ｃ６アルキルエステル（該Ｃ１−Ｃ６アルキルエステルは、好適には、メチルエステル又はｔ−ブチルエステルである。）、又は４−クロロメチル−２’−（１−トリフェニルメチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル又は４−ブロモメチル−２’−（１−トリフェニルメチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニルである）と、前記Ｃａ法Ｃａ−４工程と同様に反応させることにより、化合物（ＸＩＶｐ）及び化合物（ＸＩＶｑ）において、Ａ’が、式
【化１１５】
2011142381.tif 000148
（式中、Ｒａ１、Ｒａ５、Ｄａ及びＴは、前述したものと同意義を示す。）
である化合物を製造することができる。
【０２７９】
＜Ｈ法＞
Ｈ法は、化合物（Ｉ’）に含まれる化合物を製造する方法である。
Ｈａ法は、前記化合物（Ｉ’）において、式  −Ｅ−Ｂ−Ｇ−基が、式
【化１１６】
2011142381.tif 000149
（式中、Ｒａ３は、前述したものと同意義を示し、２個のＲａ３は、同一又は異なっていてもよい。）を有する基（ＥがＢとベンゼン環部分で結合し、Ｇが結合手である基）である化合物（Ｉ’ａ）を製造する方法である。
【０２８０】
【化１１７】
2011142381.tif 000150
【０２８１】
上記式中、Ａ’、Ｒａ３、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ，ｐ、Ｃ’、Ｂｏｃ及びＭは、前述したものと同意義を示す。但し、Ａ’及びＣ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよい。
【０２８２】
Ｈａ−１工程は、一般式（ＬＸＸＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＶＩａ）を一般式（ＬＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物（好適には、Ｍはカリウムである）と反応させることより達成される。
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、エーテル類又はアミド類であり、最も好適には、ジメチルホルムアミド又はジメチルアセトアミドである。
反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、２０℃乃至１００℃である。
【０２８３】
反応時間は、原料化合物、使用される溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、１時間乃至２日間である。
【０２８４】
Ｈａ−２工程は、一般式（ＬＸＸＸ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸＩＸ）のニトロ基を還元することにより達成される。
本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
【０２８５】
Ｈａ−３工程は、一般式（ＬＸＸＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＶ）を化合物（ＬＸＸＸ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
Ｈａ−４工程は、一般式（ＬＸＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＩＩＩ）を化合物（ＬＸＸＸＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
Ｈａ−５工程は、化合物（Ｉ’ａ）を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸＸＩＩ）を酸と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−２工程と同様に行われる。
また、酸の種類、反応温度及び反応時間を選択することにより（例えば、酸として、酢酸を用い、３０℃乃至１００℃で、１時間乃至１０時間反応させることにより、中間体（ＬＸＸＸＩＩＩ）が得られる。
【化１１８】
2011142381.tif 000151
【０２８６】
Ｈｂ法は、前記化合物（Ｉ’）において、式  −Ｅ−Ｂ−基が、式
【化１１９】
2011142381.tif 000152
（式中、Ｒａ３及びＴは、前述したものと同意義を示す。）
を有する基（Ｅが結合手であり、Ｂとイミダゾール環部分と結合する基）である、化合物（Ｉ’ｂ）を製造する方法である。
【化１２０】
2011142381.tif 000153
上記式中、Ａ’、Ｒａ３、Ｔ、Ｇ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’及びＢｏｃ基は、前述したものと同意義を示す。但し、Ａ’及びＣ’中のテトラゾール基又はチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２８７】
Ｈｂ−１工程は、一般式（ＬＸＸＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＬＸＸＸＩＶ）を有する化合物のニトロ基を還元することにより達成される。本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
【０２８８】
Ｈｂ−２工程は、一般式（ＬＸＸＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＶ）を化合物（ＬＸＸＸＶ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０２８９】
Ｈｂ−３工程は、化合物（Ｉ’ｂ）を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸＸＶＩ）を酸と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−２工程と同様に行われる。
【０２９０】
＜Ｉ法＞
Ｉ法は、Ｈｂ法の原料である、化合物（ＬＸＸＸＩＶ）を製造する方法である。
Ｉａ法は、化合物（ＬＸＸＸＩＶ）を製造する方法である。
【化１２１】
2011142381.tif 000154
【０２９１】
上記式中、Ｒａ３、Ｂｏｃ、Ｔ、Ｇ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’及びＹは、前述したものと同意義を示す。Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０２９２】
Ｉａ−１工程は、一般式（ＬＸＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＬＸＸＸＶＩＩ）を有するアルコール化合物をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
【０２９３】
Ｉａ−２工程は、化合物（ＬＸＸＸＩＶ）を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸＸＶＩＩＩ）と一般式（ＬＸＸＸＩＸ）を有する化合物を反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−１工程と同様に行われる。
Ｉｂ法は、化合物（ＬＸＸＸＩＶ）において、ＧがＧａ（Ｇａは、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基である、化合物（ＬＸＸＸＩＶａ）を製造する方法である。
【化１２２】
2011142381.tif 000155
上記式中、Ｒａ３、Ｂｏｃ、Ｔ、Ｇａ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ及びＣ’は、前述したものと同意義を示す。但し、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
Ｉｂ−１工程は、一般式（ＬＸＸＸＶＩＩａ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩ）を、一般式（ＸＣ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０２９４】
Ｉｂ−２工程は、化合物（ＬＸＸＸＩＶａ）を製造する工程であり、化合物（ＬＸＸＸＶＩＩａ）を化合物（ＬＸＸＸＩＸ）と反応させることにより達成される。
本工程は、後述する、Ｉｆ法Ｉｆ−１工程と同様に行われる。
Ｉｃ法は、化合物（ＬＸＸＸＩＶａ）を別途に製造する方法である。
【化１２３】
2011142381.tif 000156
上記式中、Ｒａ３、Ｂｏｃ、Ｔ、Ｇａ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ及びＣ’は、前述したものと同意義を示す。但し、Ｃ’中のチアゾリジン−２，４−ジオン基は、保護されていなくてもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
Ｉｃ−１工程は、化合物（ＬＸＸＸＩＶａ）を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩ）を一般式（ＸＣＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
Ｉｄ法は、化合物（ＬＸＸＸＩＶ）において、Ｇが結合手である、化合物（ＬＸＸＸＩＶｂ）を製造する方法である。
【化１２４】
2011142381.tif 000157
上記式中、Ｒａ３、Ｂｏｃ、Ｔ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’、Ｐ１及びＹ１は、前述したものと同意義を示す。但し、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
Ｉｄ−１工程は、一般式（ＸＣＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＣＩＩ）を有する化合物を、ｔ−ブトキシカルボニルハライド（好適には、クロリド又はブロミド）或いはジ−ｔ−ブチルジカーボネ−ト及び一般式（ＸＣＩＩＩ）を有する化合物と順次反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−３工程と同様に行われる。
また、Ｔが窒素原子の場合は、ｔ−ブトキシカルボニルハライド或いはジ−ｔ−ブチルジカーボネ−トとの反応を省略してもよい。
【０２９５】
Ｉｄ−２工程は、一般式（ＸＣＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＣＩＶ）を、還元し、一連の増炭反応をすることにより達成される。
本工程は、前記Ｆａ法の各工程と同様に行われる。
【０２９６】
Ｉｄ−３工程は、化合物（ＬＸＸＸＩＶｂ）を製造する工程であり、化合物（ＸＣＶ）を一般式（ＬＸＸＸＩＸ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
本工程は、後述するＩｆ法Ｉｆ−１工程と同様に行われる。
【０２９７】
Ｉｅ法は、化合物（ＬＸＸＸＩＶｂ）を別途に製造する方法である。
【化１２５】
2011142381.tif 000158
上記式中、Ｒａ３、Ｂｏｃ、Ｔ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’及びＹは、前述したものと同意義を示す。但し、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
Ｉｅ−１工程は、一般式（ＸＣＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＣＶ）をスルホニル化又はハロゲン化することより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
Ｉｅ−２工程は、化合物（ＬＸＸＸＩＶｂ）を製造する工程であり、化合物（ＸＣＶＩ）を化合物（ＬＸＸＸＩＸ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−１工程と同様に行われる。
【０２９８】
Ｉｆ法は、化合物（ＸＣＩｃ）を製造する方法である。
【化１２６】
2011142381.tif 000159
上記式中、Ｒｅ２ａ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’、Ｙ及びＭは、前述したものと同意義を示す。
【０２９９】
Ｉｆ−１工程は、一般式（ＸＣＩａ）を有する化合物（化合物（ＸＣＩ）において、Ｇａが酸素原子である化合物）を製造する工程であり、不活性溶媒中、縮合剤の存在下、一般式（ＸＣＶＩＩ）を有する化合物を、一般式（ＬＸＸＸＩＸ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
使用される縮合剤は、いわゆる光延反応（Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  Ｊｐｎ．，ｖｏｌ．４０，ｐａｇｅ  ９３５−９３９  （１９６７），  Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，ｖｏｌ．４０，ｐａｇｅ    ２３８０−２３８２（１９６７））に使用される縮合剤であれば特に限定はないが、例えば、アゾジカルボン酸ジメチル、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、アゾジカルボン酸ジベンジル、ビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレートのようなアゾジカルボン酸ジエステル；１，１’−アゾビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピぺリジンのようなアゾジカルボン酸ジアミドとトリフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、４−（ジメチルアミノ）フェニルジフェニルホスフィン、ジフェニル−２−ピリジルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンのようなホスフィンの組み合わせ；又はシアノメチレントリ−ｎ−ブチルホスホランであり得、好適には、アゾジカルボン酸ジメチル、アゾジカルボン酸ジエチル、又はビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレートとトリフェニルホスフィンの組み合わせ；１，１’−アゾビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）又は１，１’−（アゾジカルボニル）ジピぺリジンとトリブチルホスフィン又はトリヘキシルホスフィンの組み合わせ；又はシアノメチレントリ−ｎ−ブチルホスホランである。
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はこれらの溶媒の混合溶媒であり得、好適には、芳香族炭化水素類又はエーテル類であり、最も好適には、ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、ジオキサン、又はテトラヒドロフランである。
反応温度は、原料化合物、縮合剤、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至溶媒の沸点温度であり、好適には、２０℃乃至１５０℃である。
【０３００】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間であり、好適には、１時間乃至３日間である。
また、化合物（ＸＣＶＩＩ）の一方のヒドロキシ基を保護した後、他方のヒドロキシ基をスルホニル化又はハロゲン化して、式  Ｙ（式中、Ｙは前述してものと同意義を示す。）を有する基に変えた後、化合物（ＬＸＸＸＩＸ）と反応させ、その後、保護基を除去することにより、アルコール化合物（ＸＣＩａ）を製造することもできる。
【０３０１】
Ｉｆ−２工程は、一般式（ＸＣＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、アルコール化合物（ＸＣＩａ）をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
Ｉｆ−３工程は、一般式（ＸＣＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＣＶＩＩＩ）を化合物（ＬＸＸＶＩＩＩ）と反応させるにより達成される。
本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に（好適には、塩基の不存在下で）行われる。
【０３０２】
Ｉｆ−４工程は、一般式（ＸＣＩｂ）を有する化合物（化合物（ＸＣＩ）において、Ｇａが硫黄原子である化合物）を製造する工程であり、化合物（ＸＣＩＸ）を塩基と反応させ、分解することにより達成される。本工程は、前記Ｅｇ法Ｅｇ−２工程と同様に行われる。
【０３０３】
Ｉｆ−５工程は、一般式（ＸＣＩｃ）を有する化合物（化合物（ＸＣＩ）において、Ｇａが式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−  （式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）である化合物）を製造する工程であり、化合物（ＸＣＶＩＩＩ）を、一般式（Ｃ）を有するアミン誘導体と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０３０４】
また、化合物（ＸＣＩａ）又は化合物（ＸＣＩｃ）に含まれる化合物、例えば、一般式、
【化１２７】
2011142381.tif 000160
を有する化合物は、公知化合物であるか又は公知の方法により製造することができる（例えば、特開２０００−３４４６６６号公報等）。
上記式中、Ｇｐはアミノ基又はヒドロキシル基を示し、ＡｌｋはＣ１−Ｃ６アルキレン基を示し、Ｒ１ｐは、（ｉ）水素原子、（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基、（ｖ）ハロゲン原子、又は（ｖｉ）ニトロ基を示し、Ｑｐは単結合、酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒ３ｐ）−（式中、Ｒ３ｐ は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ８脂肪族アシル基、又はＣ７−Ｃ１１芳香族アシルを示す。）を有する基を示し、Ｒ２ｐは、水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を示し、Ｗｐは、（ｉ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（ｉｉ）ヒドロキシ基、（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基、（ｖ）１乃至５個の置換分を有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリール基、（ｖｉ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールオキシ基、（ｖｉｉ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールチオ基、（ｖｉｉｉ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよいＣ７−Ｃ１２アラルキル基、（ｉｘ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよいＣ７−Ｃ１２アラルキルオキシ基、（ｘ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよいＣ７−Ｃ１２アラルキルチオ基、（ｘｉ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよい、Ｃ６−Ｃ１０アリールであり、アルキル部分がＣ１−Ｃ４アルキルであるアリールオキシアルキル基、（ｘｉｉ）酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至４個含有する、１環もしくは２環の５乃至１０員環複素芳香環基、（ｘｉｉｉ）酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至４個含有する、１環若しくは２環の５乃至１０員環複素芳香環オキシ基、（ｘｉｖ）酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至４個含有する、１環若しくは２環の５乃至１０員複素芳香環チオ基、（ｘｖ）酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至４個含有する、１環若しくは２環の５乃至１０員環飽和複素環基、（ｘｖｉ）アミノ基、（ｘｖｉｉ）アルキル部分がＣ１−Ｃ４を有するモノアルキルアミノ基、（ｘｖｉｉｉ）同一若しくは異なって各アルキルがＣ１−Ｃ４アルキルを有するジアルキルアミノ基、（ｘｉｘ）Ｃ１−Ｃ４のアルキル及び１乃至５個の置換分を有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールを有するＮ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、（ｘｘ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよいＣ６−Ｃ１０アリールアミノ基、（ｘｘｉ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよい、Ｃ７−Ｃ１２アラルキルアミノ基、又は（ｘｘｉｉ）アリール部分に１乃至５個の置換分を有していてもよいＣ７−Ｃ１２アラルキルを有するアラルキルオキシカルボニルアミノ基を示し、Ｐｐはエステル残基を示す。
【０３０５】
Ｉｇ法は、化合物（ＸＣＶＩＩＩ）を製造する方法である。
【化１２８】
2011142381.tif 000161
上記式中、Ｙ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ及びＣ’は、前述したものと同意義を示す。
Ｉｇ−１工程は、化合物（ＸＣＶＩＩＩ）を製造する工程であり、一般式（ＣＩ）を有する化合物を化合物（ＬＸＸＸＩＸ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−１工程と同様に行われる。
【０３０６】
＜Ｊ法＞
Ｊ法は、化合物（Ｉ’）において、Ｅが式  −Ｅｂ−Ｗｃ３ｄ−Ｅａ−（式中、式  −Ｅｂ−Ｗｃ３ｄ−  基（式中、Ｗｃ３ｄは、酸素原子、硫黄原子、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基又は式  −ＣＯ−Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基を示す。）は、Ｅａに結合する末端がＷｃ３ｄであるほか、前記Ｗｃ３と同意義を示し、Ｅａは、芳香環に反応する末端（Ｘｅ２又はＸｅ４中の）が酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基である、式  −Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２−又は式  −Ｗｃ３−Ｘｅ４−（両式中、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２、Ｗｃ３及びＸｅ４は前述したものと同意義を示す。）を有する基（ＥがＢとベンゼン環部分又はピリジン環部分で結合し、Ｇが結合手である基）である、化合物（Ｉ’ｃ）を製造する方法である。
【０３０７】
【化１２９】
2011142381.tif 000162
【０３０８】
上記式中、Ａ’、Ｅｂ、Ｗｃ３ｄ、Ｅａ、Ｔ、Ｒａ３、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’及びＢｏｃは、前述したものと同意義を示し、Ｙ２は、前記Ｙ又はカルボキシ基を示す。また、Ｅｂ中の式−Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基は、適宜、保護基（例えば、Ｂｏｃ基、トリフェニルメチル基、ベンジルオキシカルボニル基、又はフタルイミド基）により保護されていてもよく、また、必要であれば適宜、保護基を除去してもよく、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０３０９】
Ｊ−１工程は、一般式（ＣＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩ）を、一般式（ＣＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
Ｊ−２程は、一般式（ＣＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＩＩＩ）のニトロ基を還元することにより達成される。
本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
Ｊ−３工程は、一般式（ＣＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＩＶ）を化合物（ＩＩＩ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０３１０】
Ｊ−４程は、一般式（ＣＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＶ）を酸と反応させるにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−２工程と同様に行われる。
【０３１１】
Ｊ−５工程は、化合物（Ｉ’ｃ）を製造する工程であり、化合物（ＣＶＩ）を、一般式（ＣＶＩＩ）を有する化合物と反応させるにより達成される。
本工程は、Ｙ２が前記Ｙであり、Ｗｃ３ａが、酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基である場合には、Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われ、Ｙ２がカルボキシ基であり、Ｗｃ３ａが、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基である場合には、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０３１２】
＜Ｋ法＞
Ｋ法は、化合物（Ｉ）に存在する硫黄原子を、所望により、酸化して、スルホキシド体又はスルホン体に変換する方法であり、前記Ｅｆ法Ｅｆ−３工程と同様に行われる。
【０３１３】
＜Ｌ法＞
Ｌ法は、前記化合物（ＸＶＩＩ）を製造する方法であり、一般式（ＣＶＩＩＩ）を有するカルボン酸エステルを還元することにより、達成される。
本方法（Ｌ−１工程）は、前記Ｆａ法Ｆａ−４工程と同様に行われる。
【０３１４】
【化１３０】
2011142381.tif 000163
【０３１５】
上記式中、Ａ’、ｎ１及びＰ１は、前述したものと同意義を示す。
【０３１６】
＜Ｍ法＞
Ｍ法は、一般式
【化１３１】
2011142381.tif 000164
（式中、Ｒａ１、Ｒａ５、Ｄａ、Ｒｅ２ａ及びｎ２は前述したものと同意義を示す。）を有する化合物を製造する方法である。
【０３１７】
【化１３２】
2011142381.tif 000165
【０３１８】
上記式中、Ｒａ１，Ｒａ５，Ｒｅ２ａ、ｎ２、Ｄａ及びＹ１は、前述したものと同意義を示す。
【０３１９】
Ｍ−１工程は、一般式（ＣＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＣＩＸ）を有する化合物を、一般式（ＬＸＶＩＩａ）を有する化合物と反応させるにより達成される。
本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。また、化合物（ＬＸＶＩＩａ）を過剰に使用すれば、塩基の不存在下に行われる。
【０３２０】
Ｍ−２工程は、一般式（ＣＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸ）を、一般式（ＣＸＩ）を有するカルボン酸と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。また、化合物（ＣＸ）の水酸基も同時に、アシル化（Ｒａ１ＣＯ化）される場合があり、その場合には、水酸基が同時にアシル化された化合物を次の工程に用い、後述するＭ−４工程において、又は後述するＭ−５工程の反応後、Ａ法Ａ−１工程と同様に、加水分解して、アシル基（Ｒａ１ＣＯ基）を除去することができる。
【０３２１】
Ｍ−３工程は、一般式（ＣＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＩＩ）のニトロ基を還元することにより達成される。
本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
【０３２２】
Ｍ−４工程は、一般式（ＣＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＩＩＩ）を酸と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−２工程と同様に行われる。また、本反応において、水酸基に結合したアシル基が同時に除去されることがある。
【０３２３】
Ｍ−５工程は、一般式（ＣＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＩＶ）を、一般式（ＬＸＸＶＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０３２４】
＜Ｎ法＞
Ｎ法は、前記化合物（Ｉ’）を別途に製造する方法である。
【０３２５】
【化１３３】
2011142381.tif 000166
【０３２６】
上記式中、Ａ’、Ｅ、Ｂ、Ｇ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ及びＣ’は前記と同意義を示す。
Ｎ−１工程は、化合物（Ｉ’）を製造する工程であり、一般式（ＣＸＶＩ）を有する化合物を化合物（ＬＸＸＸＩＸ）と反応させるにより達成される。
本工程は、前記Ｉｆ法Ｉｆ−１工程と同様に行われる。
【０３２７】
＜Ｏ法＞
Ｏ法は、一般式  Ａｂ−（ＣＨ２）ｎ１−ＯＨ（式中、ｎ１は前述したものと同意義を示し、Ａｂは、式
【化１３４】
2011142381.tif 000167
又は
式
【化１３５】
2011142381.tif 000168
（式中、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ５及びＤａは、前述したものと同意義を示す。）を有する基を示す。）を有する化合物を製造する方法である。
【０３２８】
【化１３６】
2011142381.tif 000169
【０３２９】
上記式中、Ａｂ、ｎ１、Ｐ１、Ｄａ及びＹ１は、前述したものと同意義を示し、Ａｄは、Ａｂにおいて、イミダゾール環の窒素原子の置換基が水素原子である基である。
【０３３０】
Ｏ−１工程は、一般式（ＣＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＣＸＶＩＩ）を有するカルボン酸エステル化合物を還元することにより達成される。
本工程は、前記Ｆａ法Ｆａ−４工程と同様に行われる。
【０３３１】
Ｏ−２工程は、一般式（ＣＸＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＶＩＩＩ）を化合物（ＬＸＸＶＩＩ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０３３２】
また、本方法において、Ｄａが、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基を除く基である場合は、化合物（ＣＸＶＩＩ）を化合物（ＬＸＸＶＩＩ）と反応させた後に、得られたカルボン酸エステル化合物を還元することにより、化合物（ＣＸＩＸ）を製造することもできる。
【０３３３】
＜Ｐ法＞
Ｐ法は、一般式
【化１３７】
2011142381.tif 000170
（式中、Ｒａ１、Ｄａ、Ｒａ５、ｎ１及びＲｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）を有する化合物を製造する方法である。
【０３３４】
【化１３８】
2011142381.tif 000171
【０３３５】
上記式中、Ｒａ１、Ｒａ５、Ｄａ、ｎ１、Ｒｅ２ａ、Ｂｏｃ及びＹ１は前述したものと同意義を示す。
【０３３６】
Ｐ−１工程は、一般式（ＣＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、カルボン酸化合物（ＣＸＸ）を一般式（ＣＸＸＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０３３７】
Ｐ−２工程は、一般式（ＣＸＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＣＸＸＩＩ）を有するアミド化合物を還元することにより達成される。
本工程は、前記Ｆａ法Ｆａ−４工程と同様に行われる。
【０３３８】
Ｐ−３工程は、一般式（ＣＸＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＩＩＩ）をｔ−ブトキシカルボニルハライド（好適には、クロライド又はブロマイド）或いはジ−ｔ−ブチルジカーボネ−トと反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程における酸ハライド或いは酸無水物とアミンの反応と同様に行われる。
【０３３９】
Ｐ−４工程は、一般式（ＣＸＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＩＶ）を化合物（ＬＸＸＶＩＩ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０３４０】
Ｐ−５工程は、一般式（ＣＸＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＶ）のアミノ基の保護基（Ｂｏｃ）を除去することにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−２工程と同様に行われる。
【０３４１】
また、本方法において、化合物（ＣＸＸＩＩＩ）を化合物（ＬＸＸＶＩＩ）と、Ｐ−４工程と同様に反応させても、化合物（ＣＸＸＶＩ）を製造することもできる。
【０３４２】
＜Ｑ法＞
Ｑ法は、前記化合物（ＸＩＶ）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ６−Ｗｃ３ｄ−（ＣＨ２）ｎ７−Ｗｃ３ｄ−（ＣＨ２）ｎ８−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、Ｗｃ３ｄ、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは、前述したものと同意義を示し、２個のＷｃ３ｄは、同一又は異なっていてもよく、ｎ６は、１乃至６の整数を示し、ｎ７は、２乃至６の整数を示し、ｎ８は、１乃至６の整数を示す。但し、ｎ６、ｎ７及びｎ８の和は、１０の整数を超えない。）を有する基である、化合物（ＸＩＶｒ）を製造する方法である。
【０３４３】
【化１３９】
2011142381.tif 000172
【０３４４】
上記式中、Ａ’、ｎ６、Ｗｃ３ｄ、ｎ７、ｎ８、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２ａ、Ｔ、Ｒａ３、Ｂｏｃ基及びＹは前述と同意義を示し、２つのＷｃ３ｄは、同一又は異なっていてもよく、Ｘｅ２ｂは、芳香環と反応する末端が、保護された、式  −ＯＨ、−ＳＨ、又は−Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ基（式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）である他、前記Ｘｅ２と同意義を示す。また、式  −ＯＨ、−ＳＨ、又は−Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ基の保護基は、前記Ｇｂ法におけるものと同様なものであり、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０３４５】
Ｑ−１工程は、一般式（ＣＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩＩＩｄ）を有する化合物を一般式（ＣＸＸＶＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０３４６】
Ｑ−２工程は、一般式（ＣＸＸＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、アルコール化合物（ＣＸＸＶＩＩＩ）をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
【０３４７】
Ｑ−３工程は、一般式（ＣＸＸＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＩＸ）と一般式（ＣＸＸＸ）を有する化合物を反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
また、化合物（ＣＸＸＸ）は、対応する、ヒドロキシ基、メルカプト基、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ  基が保護されていない化合物に、後述する文献に記載された方法により、上記に示されたような保護基を施すことにより得ることができる。
【０３４８】
Ｑ−４工程は、一般式（ＣＸＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＸＩ）に含まれる、酸素原子、硫黄原子、及び式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−基の保護基を除去することにより達成される。
本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０３４９】
Ｑ−５工程は、一般式（ＸＩＶｒ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＸＩＩ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０３５０】
また、本方法のＱ−３工程において、用いられる化合物（ＣＸＸＸ）の保護基は、なくても、目的物（ＣＸＸＸＩ）が場合により製造され得る。
【０３５１】
＜Ｒ法＞
Ｒ法は、前記化合物（Ｉ’）において、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ６−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ７−Ｗｃ−（ＣＨ２）ｎ８−Ｘｅ４ａ−（式中、ｎ６、Ｗｃ３ａ、ｎ７及びｎ８は、前述したものと同意義を示し、Ｗｃは、式  −ＣＯＮ（Ｒｅ２ａ）−又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）ＣＯ−基（両式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）を示し、Ｘｅ４ａは、芳香環に結合する末端が酸素原子、硫黄原子、又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基である他、Ｘｅ４と同意義を示す。）を有する基（ＥがＢとベンゼン環部分又はピリジン環部分で結合し、Ｇが結合手である基）である、化合物（Ｉ’ｄ）を製造する方法である。
【０３５２】
【化１４０】
2011142381.tif 000173
【０３５３】
上記式中、Ａ’、ｎ６、Ｗｃ３ａ、ｎ７、Ｗｃ、ｎ８、Ｘｅ４ａ、Ｔ、Ｒａ３、Ｂｏｃ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’及びＹは、前述と同意義を示し、Ｗａは、保護された、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ基（式中、Ｒｅ２ａ、前述したものと同意義を示す。）又は保護されたカルボキシ基を示し、Ｗｂは、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ基（式中、Ｒｅ２ａ、前述したものと同意義を示す。）又はカルボキシ基を示す。また、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ基又はカルボキシ基の保護基は、前記Ａ法及びＧｂ法におけるものと同様なものであり、Ｔが窒素原子の場合には、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｂｏｃ基は、式  −Ｎ（Ｒａ３）−Ｈ基でもよい。
【０３５４】
Ｒ−１工程は、一般式（ＣＸＸＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＣＸＸＸＩＩＩ）を有する化合物を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
【０３５５】
Ｒ−２工程は、一般式（ＣＸＸＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＸＩＶ）のニトロ基を還元することにより達成される。
本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
【０３５６】
Ｒ−３工程は、一般式（ＣＸＸＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＸＶ）を化合物（ＩＩＩ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０３５７】
Ｒ−４工程は、一般式（ＣＸＸＸＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＸＶＩ）を酸と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−２工程と同様に行われる。
【０３５８】
Ｒ−５工程は、一般式（ＣＸＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＸＸＶＩＩ）におけるＷａの保護された、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ基（式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）又は保護されたカルボキシ基の保護基を除去することにより達成される。
本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０３５９】
Ｒ−６工程は、、一般式（ＣＸＬ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩＩＩｄ）を有する化合物を一般式（ＣＸＸＸＩＸ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
【０３６０】
Ｒ−７工程は、一般式（ＣＸＬＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＬＸ）におけるＷａの保護された、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）基（式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）又は保護されたカルボキシ基の保護基を除去することにより達成される。
本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０３６１】
Ｒ−８工程は、化合物（Ｉ’ｄ）を製造する工程であり、末端が式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ  基  （式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）である、化合物（ＣＸＸＸＶＩＩＩ）を、末端がカルボキシ基である、化合物（ＣＸＬＩ）を反応させるか、又は末端がカルボキシ基である、化合物（ＣＸＸＸＶＩＩＩ）を、末端が式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ基（式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）である、化合物（ＣＸＬＩ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程と同様に行われる。
【０３６２】
また、本方法において、式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）Ｈ基（式中、Ｒｅ２ａは、前述したものと同意義を示す。）及び／又はカルボキシ基の保護基はなくても、目的物が場合により製造され得、その場合には、保護を除去する工程は不必要である。
【０３６３】
＜Ｓ法＞
Ｓ法は、化合物（Ｉ’）において、式  −Ｅ−Ｂ−基が、式
【化１４１】
2011142381.tif 000174
（式中、Ｅ’、Ｒａ３及びＴは、前述したものと同意義を示す。）
を有する基（ＥがＢとイミダゾール環部分と結合する基）である、化合物（Ｉ’ｅ）を製造する方法である。
【０３６４】
【化１４２】
2011142381.tif 000175
【０３６５】
上記式中、Ａ’、Ｅ’、Ｒａ３、Ｔ、Ｇ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’、Ｂｏｃ及びＹは、前述したものと同意義を示す。
【０３６６】
Ｓ−１工程は、一般式（ＣＸＬＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、前記化合物（ＬＸＸＸＶ）のＢｏｃを除去することにより達成される。
本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程（又はＢ法Ｂ−２工程）と同様に行われる。
【０３６７】
Ｓ−２工程は、一般式（ＣＸＬＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下又は不存在下、化合物（ＣＸＬＩＩ）をカルボニル化剤と反応させることにより達成される。
カルボニル化剤は、例えば、１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、クロロ蟻酸フェニル、炭酸ジフェニル、ホスゲン、又はトリホスゲンであり得、好適には、１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールである。
また、クロロ蟻酸フェニル、炭酸ジフェニル、ホスゲン、又はトリホスゲンを用いる場合には、塩基の存在下で、反応が好適に進行する。使用される塩基は、前記Ｂ法Ｂ−１工程で述べたものと同様なものである。
使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類であり得、好適には、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、又はアミド類であり、最も好適には、ジクロロメタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、又はジメチルホルムアミドである。
【０３６８】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃溶媒の至沸点温度であり、好適には、０℃乃至１００℃である。
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至４８時間であり、好適には、３０分間乃至２４時間である。
【０３６９】
Ｓ−３工程は、一般式（ＣＸＬＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＬＩＩＩ）をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
【０３７０】
Ｓ−４工程は、化合物（Ｉ’ｅ）を製造する工程であり、化合物（ＣＸＬＩＶ）を化合物（ＸＶ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
また、本法を応用することにより、前記化合物（ＣＸＶＩ）において、式  −Ｅ−Ｂ−  基が式
【化１４３】
2011142381.tif 000176
（式中、Ｅ’、Ｒａ３及びＴは、前述したものと同意義を示す。）
を有する基（ＥがＢとイミダゾール環部分と結合する基）である、化合物（ＣＸＶＩａ）を製造することができる（Ｓｂ法）。
【化１４４】
2011142381.tif 000177
上記式中、Ａ’、Ｅ’、Ｒａ３、Ｔ、Ｇ、ｎ、Ｂｏｃ及びＹは、前述したものと同意義を示す。
【０３７１】
Ｓｂ−１工程は、一般式（ＣＸＬＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＣＸＬＶ）を有する化合物のニトロ基を還元することにより達成される。
本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
【０３７２】
Ｓｂ−２工程は、一般式（ＣＸＬＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＬＶＩ）のＢｏｃを除去することにより達成される。
本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０３７３】
Ｓｂ−３工程は、一般式（ＣＸＬＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＬＶＩＩ）をカルボニル化することにより達成される。
本工程は、上記法Ｓ−２工程と同様に行われる。
【０３７４】
Ｓｂ−４工程は、一般式（ＣＸＬＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＸＬＶＩＩＩ）をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
【０３７５】
Ｓｂ−５工程は、化合物（ＣＸＶＩａ）を製造する工程であり、化合物（ＣＸＬＩＸ）を化合物（ＸＶ）と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
なお、本Ｓｂ工程において、化合物（ＣＸＬＶ）におけるヒドロキシル基に保護基をかけた後、Ｓｂ−１工程乃至Ｓｂ−５工程を施し、その後にヒドロキシル基の保護基を除去する事によっても、化合物（ＣＸＶＩａ）を製造する事が出来る。ヒドロキシ基の保護基は、例えば、前記Ｇｂ法で述べたものであり、保護基の除去は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
【０３７６】
さらに、本Ｓ法を応用することにより、Ｓｂ法における、中間体（ＣＸＬＶＩＩＩ）を製造することができる（Ｓｃ法）。
【化１４５】
2011142381.tif 000178
上記式中、Ｒａ３、Ｔ、Ｇ、ｎ及びＹ１は、前述したものと同意義を示す。
【０３７７】
Ｓｃ−１工程は、一般式（ＣＬＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＣＬ）を有する化合物のニトロ基を還元することにより達成される。
本工程は、前記Ｄ法Ｄ−１工程と同様に行われる。
【０３７８】
Ｓｃ−２工程は、一般式（ＣＬＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＬＩ）をカルボニル化することにより達成される。
本工程は、上記Ｓ−２工程と同様に行われる。
【０３７９】
Ｓｃ−３工程は、化合物（ＣＸＬＶＩＩＩ）を製造する工程であり、化合物（ＣＬＩＩ）を一般式（ＣＬＩＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−４工程と同様に行われる。
また、本工程において、化合物（ＣＬＩＩ）中に存在する、ヒドロキシ基は、保護されていてもよく、その場合は、本反応の後、適宜除去される。ヒドロキシ基の保護基は、例えば、前記Ｇｂ法で述べたものであり、保護基の除去は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
＜Ｔ法＞
Ｔ法は、化合物（Ｉ’）において、ＥがＢとベンゼン環部分又はピリジン環部分と結合し、Ｇが酸素原子、硫黄原子又は式  −Ｎ（Ｒｅ２ａ）−  （式中、Ｒｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基（Ｇａ）である化合物（Ｉ’ｆ）を製造する方法である。
【化１４６】
2011142381.tif 000179
上記式中、Ａ’、Ｅ、Ｒａ３、Ｔ、Ｇａ、ｎ、Ｑ、Ｖ、Ｒ、ｐ、Ｃ’、Ｂｏｃ及びＹは、前述したものと同意義を示す。
Ｔ−１工程は、一般式（ＣＬＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＩＩ）の式  Ｂｏｃ基を除去することにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程（又はＢ法Ｂ−２工程）と同様に行われる。
Ｔ−２工程は、一般式（ＣＬＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＬＩＶ）をカルボニル化剤と反応させるにより達成される。本工程は、Ｓ法Ｓ−２工程と同様に行われる。
Ｔ−３工程は、一般式（ＣＬＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＬＶ）をスルホニル化又はハロゲン化することにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
Ｔ−４工程は、化合物（Ｉ’ｆ）を製造する工程であり、化合物（ＣＬＶＩ）を化合物（ＸＣＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
＜Ｕ法＞
Ｕ法は、各種のＥを有する化合物（ＸＩＶ）を製造する方法である。
Ｕａ法は、Ｅが式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｎ（Ｒｅ２ａ）−（式中、ｎ１及びＲｅ２ａは前述したものと同意義を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｓ）を製造する方法である。
【化１４７】
2011142381.tif 000180
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｙ、Ｒｅ２a、Ｔ、Ｂｏｃ及びＲａ３は、前述したものと同意義を示す。
Ｕａ−１工程は、化合物（ＸＶＩＩＩｂ）を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＣＬＶＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
Ｕａ−２工程は、一般式（ＣＬＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＣＬＶＩＩＩ）を有する化合物を化合物（ＣＬＶＩＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｂ法Ｂ−１工程に準じて行われる。
Ｕａ−３工程は、化合物（ＸＶＩＩＩｂ）を製造する工程であり、アミド化合物（ＣＬＩＸ）を還元することにより達成される。本工程は、前記Ｆａ法Ｆａ−４工程と同様に行われる。
Ｕａ−４工程は、化合物（ＸＩＶｓ）を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩｂ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
Ｕｂ法は、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ４−Ｗｃ３ａ−（ＣＨ２）ｎ５−Ａｒ（Ｒｅ１）−Ｘｅ２ａ−（式中、ｎ１、ｎ４、Ｗｃ３ａ、ｎ５、Ａｒ、Ｒｅ１及びＸｅ２ａは前述したものと同意義を示し、２つのＷｃ３ａは、同一又は異なる。）を有する基である化合物（ＸＩＶｔ）を製造する方法である。
【化１４８】
2011142381.tif 000181
上記式中、Ａ’、ｎ１、ｎ４、ｎ５、Ｙ、Ｗｃ３ａ、Ｗｃ３ｃ、Ａｒ、Ｒｅ１、Ｘｅ２a、Ｘｅ２ｂ、Ｔ、Ｂｏｃ及びＲａ３は、前述したものと同意義を示す。
Ｕｂ−１工程は、一般式（ＣＬＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＣＬＸＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
Ｕｂ−２工程は、一般式（ＣＬＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、式−Ｗｃ３ｃ基の保護基を除去することにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
Ｕｂ−３工程は、一般式（ＣＬＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＬＸＩＩ）をスルホニルハライド類又はハロゲン化剤と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−２工程と同様に行われる。
Ｕｂ−４工程は、一般式（ＣＬＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＣＬＸＩＶ）を化合物（ＣＬＸＩＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｃａ法Ｃａ−３工程と同様に行われる。
Ｕｂ−５工程は、一般式（ＣＬＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、式−Ｘｅ２ｂ基の保護基を除去することにより達成される。本工程は、前記Ａ法Ａ−１工程と同様に行われる。
Ｕｂ−６工程は、化合物（ＸＩＶｔ）を製造する工程であり、化合物（ＣＬＸＶＩ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
Ｕｃ法は、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−Ｗｄ−Ｗｃ３ａ−Ｘｅ４ａ−（式中、ｎ１、Ｗｃ３ａ及びＸｅ４ａは前述したものと同意義を示し、２つのＷｃ３ａは、同一又は異なっていてもよく、式、−（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−Ｗｄ−Ｗｃ３ａ−は、Ａ’と結合する末端が、式−（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−基であり、Ｘｅ４ａと結合する末端が、Ｗｃ３ａであるほか、式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−基と同意義を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｕ）を製造する方法である。
【化１４９】
2011142381.tif 000182
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｙ、Ｗｃ３ａ、Ｗｄ、Ｘｅ４a、Ｔ、Ｂｏｃ及びＲａ３は、前述したものと同意義を示す。
Ｕｃ−１工程は、一般式（ＣＬＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＣＬＸＶＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
Ｕｃ−２工程は、化合物（ＸＩＶｕ）を製造する工程であり、化合物（ＣＬＸＶＩＩＩ）を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
Ｕｄ法は、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−Ｗｅ−Ｘｅ４ａ−（式中、ｎ１、Ｗｃ３ａ及びＸｅ４ａは前述したものと同意義を示し、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−Ｗｅ−Ｘｅ４ａ−は、Ａ’と結合する末端が、式−（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−基であり、ベンゼン環若しくはピリジン環部分と結合する末端が、Ｘｅ４ａであるほか、式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−基と同意義を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｕ）を製造する方法である。
【化１５０】
2011142381.tif 000183
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｙ、Ｗｃ３ａ、Ｗｅ、Ｘｅ４a、Ｔ、Ｂｏｃ及びＲａ３は、前述したものと同意義を示す。
Ｕｄ−１工程は、一般式（ＣＬＸＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＣＬＸＩＸ）を有する化合物を化合物（ＸＶＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−３工程と同様に行われる。
Ｕｄ−２工程は、化合物（ＸＩＶｕ）を製造する工程であり、化合物（ＣＬＸＸ）を化合物（ＸＶＩＩＩ）と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅａ法Ｅａ−１工程と同様に行われる。
Ｕｅ法は、Ｅが、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−Ｗｆ−Ｗｃ３ａ−Ｘｅ４ａ−（式中、ｎ１、Ｗｃ３ａ及びＸｅ４ａは前述したものと同意義を示し、２つのＷｃ３ａは、同一又は異なっていてもよく、式  −（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−Ｗｆ−Ｗｃ３ａ−Ｘｅ４ａ−基は、Ａ’と結合する末端が、式−（ＣＨ２）ｎ１−Ｗｃ３ａ−基であり、ベンゼン環若しくはピリジン環部分と結合する末端が、Ｘｅ４ａであるほか、式  −Ｗｃ３−Ｗｃ３−Ｘｅ４−基と同意義を示す。）を有する基である化合物（ＸＩＶｗ）を製造する方法である。
【化１５１】
2011142381.tif 000184
上記式中、Ａ’、ｎ１、Ｙ、Ｗｃ３ａ、Ｗｆ、Ｘｅ４a、Ｔ、Ｂｏｃ及びＲａ３は、前述したものと同意義を示す。
Ｕｅ−１工程は、一般式（ＣＬＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＣＬＸＸＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。本工程は、前記Ｅｂ法Ｅｂ−볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯銈볯ꖷ꣧꾁胣肸裨込볯ꎼ볯뢼볯ꦼ볯ꦼ볯銂鳦馁苣隌郥ꦉ苣붣胩馁苣ꖷ꣧ꞁ臣誂胣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯ꦼ볯覼苣릂菣鮃菣ꮃ菣ꦃ苣覃ꇩ袏臣较菣늂菣隌觥ꢁ迥鲿臣鮁苣鎁臣ꮁ苣誂臩邈臣貂苣芀鳦ꖷ꣧꾁胣趉꣨ꎼ뷯閳볯膽裢銼럥讨臣貐꟦ꮁꇨ辂苣讂胣㲂牢ਾ†볯薽裢鎼럥讨臣膀賥袐觧袼볯ꦼ볯鞽볯銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀賥袐觧袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯覼苣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯覼臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ臣袂苣钁裦閁苣讂胣겜럥讨臣膀觥風볯芽돦ꖼ뷯銈볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯閳臣膀볯貁胣込†裢랼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽볯㲓猯灵膽裢袼볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯躽볯銈볯螽裢뢼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲔猯灵膽裢袼볥궸胣랼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽볯㲓猯灵膽迥뎁볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯钼⼼畳㹰뷯꾁觥낿臣龁苣꺁臣貐蓦ꦾ苣몤臣膀뷯馼臣膀볯莹蟨醼볯꺁闦낕苣몤臣膀볥膀裢랼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽볯㲓猯灵膽裢袼볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯躽볯銈볯螽裢뢼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲔猯灵膽裢꾁胣ꆼ胢ꢁ뗧袐臣讂鳦꾫臣膀볥銈볯㲷畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯鎼⼼畳㹰뷯銈볯ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵覼뷯馼裢ꞁ臣誂胣馃菣벂菣낒诨鞁臣꾁菣ꪃ苣뎃鋧ꢃ裥ꢁ뗧袐臣讂鳦꾫臣膀볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯钼⼼畳㹰뷯ꞁ臣讂臣讁胣込†裢랼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽볯㲓猯灵銈볯㲷畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯鎼⼼畳㹰裢뢼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲔猯灵銈鿥ꢁ郥辄뻧銂ꓧ馁胣覼苣覜臣讂鿥ꞁ臣讂賥袐觧袼볯ꦼ볯颽볯銂ꏨꂀ臣讂雦閳臣芁苣芀戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢㄰ㄱ㈴㠳⸱楴≦㈾㄰ㄱ㈴㠳⸱楴쉦゠〰㠱㰵愯㰾䐯噉ਾ 誸꣨込룤膀볯馀胣랼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽볯㲓猯灵膽胣躽볯膀볯螽胣뢼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲔猯灵愾胣림胣뒼胣ꊼ뷯莽迥뎁볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯鎼⼼畳㹰臣膀觥낿臣龁苣꺁臣貐蓦ꦾ苣몤臣膀볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯钼⼼畳㹰뷯꾁胣뢅듧龎귥膀ꇧ蒻軥邭胣袏臣込†裢꺼볯늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲒猯灵膽볯銈볯込룤膀볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯銼⼼畳㹰뷯꾁胣趉뿨鞁臣节臣ꢁ郥辄뻧銂ꓧ馁胣覼苣覜臣讂鿥貁뿤랭臣貂臣蒁苣뮁臣膀볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯钼⼼畳㹰ꢁ郥辄뻧銂ꓧ馁胣㲂牢ਾ†볯蚽裢醼럥讨臣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯覼苣覜臣讂賥袐觧銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯뚼볯銂鳦馁苣隌郥ꦉ苣릂菣鮃菣ꮃ菣ꦃ苣覃ꇩ袏臣较菣늂菣隌觥ꢁ迥鲿臣鮁苣鎁臣ꮁ苣誂臩邈臣貂苣芀鳦ꖷ꣧꾁胣趉꣨ꎼ뷯閳볯膽裢銼럥讨臣貐꟦ꮁꇨ辂苣讂胣㲂牢ਾ†볯蚽裢銼럥讨臣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯覼苣覜臣讂賥袐觧銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀賥袐觧袼볯겼볯뢼볯覼苣肸裨込볯ꎼ볯뢼볯뚼볯覼苣覜臣讂賥袐觧ꢁ迥鲿臣鮁苣鎁臣ꮁ苣誂臩邈臣貂苣芀鳦ꖷ꣧꾁胣趉꣨ꖼ뷯閳볯芽裢鎼럥讨臣貐꟦ꮁꇨ辂苣讂胣㲂牢ਾ†볯蚽裢鎼럥讨臣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯ꦼ볯銂鳦馁苣隌郥ꦉ苣붣胩馁苣ꖷ꣧ꞁ臣誂胣込볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯钼⼼畳㹰뷯몟臣鶿귨몟苣꒙軥馁苣鎁臣ꮁ苣誂臩邈臣貂苣芀鳦ꖷ꣧꾁胣趉꣨ꆼ돦ꆼ裢醼럥讨臣貐꟦ꮁꇨ辂苣讂胣㲂牢ਾ†볯蚽裢钼럥讨臣膀賥袐觧袼볯ꦼ볯颽볯銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀賥袐觧袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯ꦼ볯銂賥袐觧袼볯뚼볯覼臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ臣袂苣钁裦閁苣讂胣겜럥讨臣膀觥風볯膽돦ꖼ뷯銈볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯閳臣膀賥袐觧袼볯ꦼ볯颽볯銂裥钀臣붣胩馁苣릖돦ꞁ臣讂胣㲂牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲ㄱ㐱㌲ㄸ琮晩㸢〲ㄱ㐱㌲ㄸ琮晩ꃂ〰㄰㘸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤風볥궸胣ꆼ胢膀볯㲷畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯鎼⼼畳㹰뷯膀뷯馼胣랼뷯膀볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯钼⼼畳㹰膀볯膀볯膀볯辽뷯誏臣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰膽볯㲓猯灵꾁胣趉뿨鞁臣节臣ꢁ郥辄뻧銂ꓧ馁胣㲂牢ਾ†볯螽裢醼럥讨臣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯覼苣覜臣讂賥袐觧銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯뢼볯銂鳦馁苣隌郥ꦉ苣隌郥ꦉ볯뢼볯ꦼ볯ꢁ迥鲿臣鮁苣鎁臣ꮁ苣誂臩邈臣貂苣芀鳦ꖷ꣧꾁胣趉꣨ꖼ뷯閳볯膽裢醼럥讨臣貐꟦ꮁꇨ辂苣讂胣㲂牢ਾ†볯螽裢銼럥讨臣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯銂鳦馁苣隌郥ꦉ苣붣胩馁苣ꖷ꣧ꞁ臣誂胣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯뢼볯銂苣ꮃ菣讃菣较菣ꒂ菣麡迥꾁菣궃苣뎃賥ꒉ臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ臣袂苣钁裦閁苣讂胣겜럥讨臣膀觥風볯膽돦ꎼ뷯銈볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯銈볯ꖷ꣧꾁胣隌郥ꦉ볯뢼볯뚼뷯覼苣붣胩馁苣ꖷ꣧ꞁ臣誂胣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯뢼볯覼苣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯뚼볯覼臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ臣袂苣钁裦閁苣讂胣겜럥讨臣膀觥風볯芽돦ꖼ뷯銈볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯閳臣膀볯貁胣込†裢랼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽볯㲓猯灵膽裢袼볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯躽볯銈볯銽볯늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲑猯灵覼裢뢼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲒猯灵膽裢袼볥궸胣랼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽볯㲓猯灵膽胣躽볯膀볯銽胣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲑猯灵誏臣뢼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲒猯灵膽臣趉뿨鞁臣节臣ꢁ郥辄뻧銂ꓧ馁胣覼苣覜臣讂鿥ꞁ臣讂賥袐觧袼볯ꦼ볯馽볯銂ꏨꂀ臣讂雦閳臣芁苣芀戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢㄰ㄱ㈴㠳⸱楴≦㈾㄰ㄱ㈴㠳⸱楴쉦゠〰㠱㰷愯㰾䐯噉ਾ 誸꣨込룤膀볯馀胣랼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽볯㲓猯灵膽胣躽볯膀볯銽胣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲑猯灵膀볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯銼⼼畳㹰뷯膀볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯銼⼼畳㹰뷯膀볯膀볯膀볯辽뷯誏臣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰膽볯㲓猯灵꾁胣趉뿨鞁臣节臣ꢁ郥辄뻧銂ꓧ馁胣㲂牢ਾ†볯袽裢醼럥讨臣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯覼苣覜臣讂賥袐觧銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯銂苣ꮃ菣讃菣较菣ꒂ菣麡迥꾁菣궃苣뎃賥ꒉ臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ臣袂苣钁裦閁苣讂胣겜럥讨臣膀觥風볯膽돦ꎼ뷯銈볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯銈볯ꖷ꣧꾁胣肸裨込볯ꎼ볯뢼볯뢼볯ꦼ볯覼苣覜臣讂賥袐觧銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀賥袐觧袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯覼苣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯뚼볯覼臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ臣袂苣钁裦閁苣讂胣겜럥讨臣膀觥風볯芽돦ꖼ뷯銈볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯銈볯ꖷ꣧꾁胣肸裨込볯ꎼ볯뢼볯뢼볯뚼볯銂鳦馁苣隌郥ꦉ苣붣胩馁苣ꖷ꣧ꞁ臣誂胣込볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯銼⼼畳㹰뷯몟臣鶿귨몟苣꒙軥馁苣鎁臣ꮁ苣誂臩邈臣貂苣芀鳦ꖷ꣧꾁胣趉꣨ꆼ돦ꆼ裢醼럥讨臣貐꟦ꮁꇨ辂苣讂胣㲂牢ਾ†볯袽裢钼럥讨臣膀賥袐觧袼볯ꦼ볯馽볯銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀賥袐觧袼볯겼볯뢼볯ꦼ볯覼苣隌郥ꦉ볯뢼볯ꦼ볯ꢁ迥鲿臣鮁苣鎁臣ꮁ苣誂臩邈臣貂苣芀鳦ꖷ꣧꾁胣趉꣨ꖼ뷯閳볯膽裢醼럥讨臣貐꟦ꮁꇨ辂苣讂胣㲂牢ਾ†볯覽돦꾁胣隌郥ꦉ볯뢼볯뚼뷯覼苣ꖈ胩ꮁꏨꂀ臣讂雦閳臣芁苣芀戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢㄰ㄱ㈴㠳⸱楴≦㈾㄰ㄱ㈴㠳⸱楴쉦゠〰㠱㰸愯㰾䐯噉ਾ 誸꣨込룤膀볯馀胣躽볯膀볯膀볯銽胣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲑猯灵膀볯㲸畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯銼⼼畳㹰膀볯㲷畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯鎼⼼畳㹰뷯膀볯膀볯辽뷯誏臣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰膽볯㲓猯灵꾁胣趉뿨鞁臣节臣ꢁ郥辄뻧銂ꓧ馁胣㲂牢ਾ†볯覽裢醼럥讨臣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯뚼볯覼苣覜臣讂賥袐觧銂ꏨꂀ臣讂럥讨臣芁苣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯뚼볯銂鳦馁苣隌郥ꦉ臣隌郥ꦉ볯뢼볯ꦼ볯銂迥鲿臣鮁苣鎁臣ꮁ苣誂臩邈臣貂苣芀鳦ꖷ꣧꾁胣趉꣨ꖼ뷯閳볯膽裢醼럥讨臣貐꟦ꮁꇨ辂苣讂胣㲂牢ਾ†볯覽裢銼럥讨臣膀룤겈볥袼볯겼볯뢼볯뚼볯ꦼ볯銂鳦馁苣隌郥ꦉ苣붣胩馁苣ꖷ꣧ꞁ臣誂胣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯뢼볯ꦼ볯銂苣ꮃ菣讃菣较菣ꒂ菣麡迥꾁菣궃苣뎃賥ꒉ臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ臣袂苣钁裦閁苣讂胣겜럥讨臣膀觥風볯膽돦ꎼ뷯銈볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯銈볯ꖷ꣧꾁胣隌郥ꦉ볯뢼볯뚼뷯覼苣붣胩馁苣ꖷ꣧ꞁ臣誂胣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯뢼볯ꦼ볯覼苣隌郥ꦉ볯ꎼ볯뢼볯뚼볯覼臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ臣袂苣钁裦閁苣讂胣겜럥讨臣膀觥風볯芽돦ꖼ뷯銈볯ꖷ꣧ꢁ郥颧臣財苣貂苣芀戼㹲 떼뷯閳臣膀볯貁볥₏銈볯ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵覼뷯醼裢꺼볯늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲒猯灵膽볯銈볯꾼裢뢼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲔猯灵膽裢袼볥궸胣躽볯膀볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯銼⼼畳㹰뷯誏臣뢼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰薽볯㲔猯灵膽臣趉뿨鞁臣节臣ꢁ郥辄뻧銂ꓧ馁胣覼苣覜臣讂鿥ꞁ臣讂賥袐觧袼볯ꦼ볯骽볯銂ꏨꂀ臣讂雦閳臣芁苣芀戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯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†볯蚽볯뢛꿥鶷鯩覼胥袼苣ꪃ苣늂菣蒖뇥꾂菣麃菣낂菣閃苣벃볯躽裢颃苣떂菣込藩뢅苣膃菣骼볯込볯覼볯邼볯銼볯芀䐼噉邀볯閼볯隼胣㲑䐯噉ਾ†볯芽볯钼裢뮼볯銈뷯钼裢ꊂ菣躃裢鎼裢袼볯銈뷯銈菣袃苣랂苣ꮃ菣讃菣銈볯銈菣膃菣ꊂ菣躃볯閃苣躃苣랂뷯閃苣讃菣膃苣ꆃ菣ꮃ볯銈볯銈菣궃菣ꮃ裢醼裢뮼볯馀裢袼볯銈菣ꪃ菣Ꞃ菣ꮃ菣膃菣銈볯ꢼ裢蚃菣ꦃ苣벃菣銈볯銈苣ꮃ볯鎃菣Ꞃ菣ꮃ裢钼裢ꒂ菣ꆃ菣ꮃ볯銈볯ꢼ裢ꒂ菣肃苣벃菣銈볯銈苣ꮃ菣뎃藩ꢂ菣ꮃ볯芏胨设볯馼볯膽볯꺁賥袐觧覼볯躼볯螽胣钼裢袼볯貼볯銈苣ꪂ苣붂菣ꊂ苣ꪃ苣뎃裢閼裢ꒂ菣ꆃ菣ꮃ볯閃苣躃苣랂藩뢅볯躼볯隼뷯誏臣뺹蟧뢂菣膃菣鮃菣ꂃ苣龃菣鞼뷯貽臣랷郥ꦉ臣랼볯ꎼ볯醼裢ꢂ菣ꮃ裢鎼裢袼볯銈苣ꆃ菣ꮃ苣龃菣鞃菣钃菣覼苣ꮃ菣뢂苣龃菣뮃ꇥ뢅ꇥ覼볯躼볯鎼뷯銂諥袁胣꒮룦ꞁ룤ꖗ鋦貋臣龁胣趏뿥랷郥ꦉ臣ꊅ藩ꢂ菣ꮃ臣뒰苣ꂊ臣膀藩뢅苣膃菣꒱苣蚈뛦鞁臣芀藩뢅苣膃菣꒱苣붣鋥龣ꇥ뒰臣鞴뗦鞁臣貾胣ꆄ냦ꮡ藩誃菣ꪃ苣ꂃ룤ꞁ매ꖇ臣龁胣뚺ꫥ銂闧뮎臣ꚁ胣鞾苣貂臣议룦鞼볯颼뷯銂苣ꪃ苣늂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣袼뫦몇뫦ꒉ볯躽裢颃苣떂菣込藩뢅苣膃菣鶼볯込볯讁苣醼볯醼볯ꞁ닧붣臣膀駧늉닧ꮜ臣鞁臣膀꣦風賥袐觧钼볯钼볯螽苣鞾臣芀䐼噉邀볯閼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰‾醼⼼畳㹰볯銈볯궼볯릂菣꾂菣ꮃ볯閼볯邼볯ꢼ뷯貼볯궼볯꾼裢蒽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰隼⼼畳㹢볯貼듎猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰邽뷯趽⼼畳㹢볯邼볯鞼볯袼뷯貼볯ꢼ볯膀볯躼볯銼볯钽볯鎼볯覼胣醼볯醼裢醼볯閼볯隃菣벃菣貼볯ꢼ볯膀볯躼볯鎼볯趽볯銼볯覼胣醼볯馼볯袼뷯貼볯ꢼ볯膀볯躼볯醼볯钽볯銼볯覼胣銼볯馼볯袼뷯貼볯ꢼ볯膀볯躼볯鞼볯醽볯醼볯覼胣鎼볯鎼볯袼볯ꢼ볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯ꢁ蟩ꪁ苣覼胣钼볯邼볯袼뷯貼볯ꢼ볯膀볯躼볯醼볯鎽볯銼볯覼胣钼볯鞼볯袼뷯貼볯ꢼ볯膀볯躼볯鞼볯醽볯醼볯覼胣閼볯钼볯袼뷯貼볯ꢼ볯膀볯躼볯颼裢鞼볯鞼볯袼뷯貼볯馼볯覼胣醼볯躼볯邼볯鎽볯醼볯覼胣㲂䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖 芏胨设볯邼裢銼戼㹲 钼裢鮽볯銈볯钼裢钀볯銈볯銼볯钼裢뢂苣궂苣膃苣뺂菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ菣膃菣覼菣Ꞃ菣궂苣ꊂ苣膃菣ꊂ菣躃胣銈볯銈볯꺼裢钽裢隃菣궂苣ꮂ菣鲃菣ꮃ裢꺼裢ꆃ菣ꮃ苣龃菣覼菣Ꞃ菣궂苣붼菣Ꞃ菣ꮃ菣ꪂ菣膃菣鶽裢銼裢鞃菣钃菣銈볯銈볯銼胢銈볯醼볯銈菣袃菣뺂菣ꮃ裢閼裢ꒂ菣覼菣閃苣讃菣銈볯銈苣ꮃ菣膃菣붼裢醼볯銈苣龃菣뺂菣ꮃ裢閼裢ꮂ菣鲃菣뢅苣膃菣㲫牢ਾ†볯銈볯钼裢鮽볯銈苣龃菣銈볯銈볯꺼裢钽裢隃菣궂苣ꮂ菣鲃菣ꮃ裢꺼裢ꆃ菣ꮃ苣龃菣覼菣Ꞃ菣궂苣鶽菣Ꞃ菣ꮃ菣ꪂ菣膃菣붼裢銼裢鞃菣钃菣銈볯銈볯銼胢銈볯醼볯銈菣袃菣뺂菣ꮃ裢閼裢ꒂ菣覼菣閃苣讃菣銈볯銈苣ꮃ菣膃菣붼裢醼볯銈苣龃菣뺂菣ꮃ裢閼裢ꮂ菣鲃菣뢅苣膃菣袼迥莀뻤鎼볯袼뷯覼臣隌郥ꦉ볯醼볯鎼볯螽胣钼裢袼볯貼볯銈苣ꪂ苣붂菣ꊂ苣ꪃ苣뎃裢閼裢ꒂ菣ꆃ菣ꮃ볯閃苣躃苣랂藩뢅볯躼볯邼볯誏臣뺹蟧뢂菣膃菣鮃菣ꂃ苣龃菣鎼뷯貽臣랷郥ꦉ臣膀볯뎼볯袼볯銈苣膃菣銈볯銈볯鎼裢뢂菣膃菣ꊂ菣躃菣궃菣ꮃ볯ꮂ菣鲃苣ꒂ菣覃菣ꦡ藩ꦡ볯邼볯鎼볯醼뷯銂諥袁胣꒮룦ꞁ룤鲤鋦貋臣龁胣趏뿥랷郥ꦉ臣ꊅ藩ꢂ菣ꮃ臣뒰苣ꂊ臣膀藩뢅苣膃菣꒱苣蚈뛦鞁臣芀藩뢅苣膃菣꒱苣붣鋥龣ꇥ뒰臣鞴뗦鞁臣貾胣ꆄ냦ꮡ藩誃菣ꪃ苣ꂃ룤ꞁ매ꖇ臣龁胣뚺ꫥ銂闧뮎臣ꚁ胣鞾苣貂臣议룦醼볯馼볯螽苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃볯뚺蟥뚺觥骼藩뢅苣膃菣込菣뾂菣벃菣鶼볯邼볯醼볯ꞁ닧붣臣膀럦蒻觨覲鳦ꢁ臣ꚁ胣馨꣨隌郥ꦉ볯躼볯隼뷯銂뻥龁胣㲂䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖 芏胨设볯醼戼㹲 꺼裢ꆃ菣ꮃ裢钼裢ꆃ菣ꮃ裢銼裢鞃菣钃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂苣龃菣뺂菣ꮃ裢隼裢ꮂ菣鲃苣떂菣覃戼㹲 钼裢ꆃ菣ꮃ裢銼裢鞃菣钃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂苣龃菣뺂菣ꮃ裢隼裢ꮂ菣鲃菣뢅볯閼뷯ꢁꇥ隌苣ꮃ菣讃菣醼볯邼뷯貽臣랷郥ꦉ苣膀껥ꦸ臣肸ꓥ뺔뷧鞁胣릲뗦ꦸ뫥颼볯莄臣ꚁ볯芙雩ꂊ蛧릒详鞁臣貾胣뢂菣膃菣鮃菣ꂃ苣龃菣邼볯醼뷯貽苣ꂊ臣膀鯦ꮁ胣颼볯莄臣ꚁ볯芙雩ꂊ蛧릒详鞁臣芀ꇥ隌苣ꮃ菣讃菣銂룦Ꞝ臣馕軥鞁胣议룦ꮁ매ꖇ苣ꆃ菣ꮃ菣ꮃ菣ꊂ菣覃볯邼볯趽뷯ꢁ菣膃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ醼볯螽苣ꂊ臣膀곦蒁臣膀냦랆룤膀菣ꪃ苣膃菣ꊂ菣뎃볯邼뷯銂믦许臣龁胣꒮룦ꞁ볯ꖗ雩릒详鞁臣貾胣뚺ꫥ銂闧뮎臣ꚁ胣鞾苣貂臣议룦ꮁ藩뢅苣膃菣ꢁꏩꦡ냦銂諥袁胣ꊅ藩ꢂ菣ꮃ뇥銂裥늶臣龁胣ꊅ藩ꢂ菣ꮃ뇥銂ꏩ貒ꏩꦡ냦ꞁ듦蒵臣龁뻥膀蓧뒰ꇧ뢅菣袃菣Ꚃ菣誸臣뺹蟧鞁臣芀뫦銪苣馕軥鞁臣膀뻥覂苣龁껦ꎸ苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃볯뚺蟥뚺觥骼藩뢅苣膃菣込菣뾂菣벃菣鶼볯邼볯醼볯ꞁ닧붣臣膀駧늉鯥鎽臣鞁臣膀꣦風賥袐觧钼볯钼뷯銂뻥龁胣㲂䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 麃苣릂菣꾂菣ꮃ볯銼볯銼볯궼볯醼볯㲉畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵芀䐼噉邀볯閼볯醼胣㲑䐯噉ਾ†迥莀뻤钼볯㲒牢ਾ†볯銈菣膃菣銈볯銈볯銈菣膃菣ꊂ菣躃菣膃菣銈볯銈菣궃菣ꮃ裢醼볯銈菣뎃苣ꒂ菣肃苣벃菣㲫牢ਾ†냦ꂴ賥ꊂ菣龃菣Ꚃ菣ꪃ菣Ꚃ菣銼볯閼뷯꺁매ꖇ菣袃菣銃菣궃菣ꦃ菣钼볯趽뷯뢇뿦늶臣膀볯銈菣膃菣銈볯銈菣膃菣銈볯銈菣궃菣ꮃ裢醼볯銈菣뎃苣ꒂ菣肃苣벃菣銈볯銈苣ꮃ菣궂苣龃菣袼迥莀뻤钼볯꺁賥袐觧覼볯躼볯閼뷯銂諥袁胣颼駦鎖諥놆苩膵臣龁胣趏뿥랷郥ꦉ臣膀냦랆룤膀냦钼뷯貽迥뎁菣袃菣銃菣궃菣ꦃ菣醼볯邼뷯貽苣ꂊ臣膀껥ꦸ臣醼駦鎖鋦貋臣龁胣뮴胦붙鳥銂諥袁胣趸뫦ꦉ苣궃迥鞁胣鎁臣趸뫦ꦉ苣ꆃ苣躃菣ꮃ臣뢇뿦鞁胣궃臩鞁胣궃뛦銂뿦꺸臣ꚁ胣馨꣨隌郥ꦉ臣鞲铧邈觧鎼볯馼볯螽苣鞾臣芀䐼噉邀볯閼볯銼胣㲑䐯噉ਾ†迥莀뻤钼볯㲓牢ਾ†볯銈볯꺼裢钽裢隃菣궂苣ꮂ菣鲃菣ꮃ裢꺼裢ꆃ菣ꮃ苣龃菣ꆃ菣ꮃ볯銈볯銈菣膃菣銈볯銈菣궃菣ꮃ裢醼볯銈菣뎃苣ꒂ菣肃苣벃菣㲫牢ਾ†볯銈菣膃菣銈볯銈볯銈菣膃菣ꊂ菣躃菣膃菣銈볯銈菣궃菣ꮃ裢醼볯銈菣뎃苣ꒂ菣肃苣벃菣袼迥莀뻤钼볯꺁賥袐觧覼볯躼볯隼뷯꺁매ꖇ菣袃菣銃菣궃菣ꦃ菣钼볯趽뷯뚺뛦ꮁ胣貺苧뢅苣銈뷯銈菣膃菣钼볯颼뷯銂諥袁胣꒮룦ꞁ볯銼駦鎖鋦貋臣龁胣뚺ꫥ銂闧뮎臣ꚁ胣鞾苣貂臣议룦銂苣ꪃ苣늂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣袼뫦몇뫦ꒉ볯躽裢颃苣떂菣込藩뢅苣膃菣鶼볯込볯讁苣醼볯鎼鯦ꮁ볯込볯ₕ覼臣뺲ꏨ鞁胣붙觨몛뷤ꢁ臣ꚁ胣馨꣨隌郥ꦉ볯躼볯閼뷯銂뻥龁胣㲂牢ਾ†볯蚽볯뢛꿥鶷鯩覼胥袼苣ꪃ苣늂菣蒖뇥꾂菣麃菣낂菣閃苣벃볯ꊅ藩ꢂ菣ꮃ볯骼볯躼볯钼胣㲂䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 芏胨设볯钼戼㹲 钼胢銈볯隼裢袼볯銈뷯銈菣袃苣랂苣ꮃ菣讃菣銈볯銈菣膃菣ꊂ菣躃菣膃菣覼裢钼裢ꆃ菣ꮃ裢銼裢鞃菣钃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂苣龃菣뺂菣ꮃ裢醼裢ꒂ菣ꆃ菣ꮃ볯鎃菣Ꞃ菣ꮃ裢銼裢ꮂ菣鲃菣뢅菣膃菣㲫牢ਾ†볯銈볯꺼裢钽裢隃菣궂苣ꮂ菣鲃菣ꮃ裢꺼裢ꆃ菣ꮃ苣龃菣ꆃ菣ꮃ볯銈볯銈菣膃菣銈볯銈菣궃菣ꮃ裢醼볯銈菣뎃苣ꒂ菣肃苣벃菣袼迥莀뻤钼볯꺁賥袐觧覼볯躼볯馼뷯꺁매ꖇ苣ꆃ菣ꮃ菣ꮃ菣ꊂ菣覃볯閼뷯貽뫦늶臣膀냦랆룤膀볯邼볯뒰듧隌菣袃菣Ꚃ菣邼볯鎼볯螽苣ꂊ臣膀껥ꦸ臣鎼볯蚈雩릒详鞁臣芀곦蒁臣膀냦랆룤膀볯馀裢隃菣ꊃ菣膃菣鎃菣Ꞃ菣ꮃ裢銼裢ꮂ菣鲃菣뢅菣膃菣鎼볯邼뷯銂諥袁胣꒮룦ꞁ룤鲤鋦貋臣龁胣뚺ꫥ銂闧뮎臣ꚁ胣鞾苣貂臣议룦ꮁ藩뢅苣膃菣ꢁꏩꦡ냦銂諥袁胣ꊅ藩ꢂ菣ꮃ뇥銂裥늶臣龁胣ꊅ藩ꢂ菣ꮃ뇥銂ꏩ貒ꏩꦡ냦ꞁ듦蒵臣龁뻥膀蓧뒰ꇧ뢅菣袃菣Ꚃ菣誸臣뺹蟧鞁臣芀뫦銪苣馕軥鞁臣膀뻥覂苣龁껦ꎸ볯躼볯螽苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃볯뚺蟥뚺觥骼뷯銈菣궂苣뎃볯ꊅ藩ꢂ菣ꮃ볯鎼볯醼臣覂볯込볯ₑ覼臣뺲ꏨ鞁胣ꆄ觨颫닧Ꞁ뛦鎽臣鞁臣膀꣦風賥袐觧钼볯閼볯螽苣鞾臣芀戼㹲 늼뷯袼鯧뺯럨ꊛ볯ꒀ볯랂菣ꮂ苣ꮃ雨꒱苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣貼뷯銈菣궂苣뎃볯ꊅ藩ꢂ菣ꮃ볯醼볯銼볯骼볯躼볯颼胣㲂䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 芏胨设볯閼戼㹲 钼胢銈볯隼裢袼볯銈菣膃菣ꊂ菣躃菣膃菣覼裢钼裢ꆃ菣ꮃ裢銼裢鞃菣钃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂苣龃菣뺂菣ꮃ裢醼裢ꒂ菣ꆃ菣ꮃ볯鎃菣Ꞃ菣ꮃ裢銼裢ꮂ菣鲃菣뢅菣膃菣㲫牢ਾ†볯馀裢뮼볯銈볯꺼裢钽裢隃菣궂苣ꮂ菣鲃菣ꮃ裢꺼裢ꆃ菣ꮃ苣龃菣ꆃ菣ꮃ볯銈볯銈菣膃菣銈볯銈菣궃菣ꮃ裢醼볯銈菣뎃苣ꒂ菣肃苣벃菣銈볯銈苣ꮃ菣膃菣붼菣閃苣讃菣銈볯銈苣ꮃ菣뎃藩ꆃ菣ꮃ볯芏胨设볯钼臣隌郥ꦉ볯钼볯钼볯螽臣钼볯ꦡ賥뒰듧込苣ꪂ苣떂菣뚺뛦銼볯趽뷯銂껥ꦸ臣醼볯芙雩릒详鞁臣芀迥鲿럦袐觧銂뿦꺸臣膀껦ꎸ臣ꊅ藩ꢂ菣ꮃ臣뒰藩隌菣袃菣Ꚃ菣뒰뫦늶苣ꂊ臣膀藩뢅苣膃菣꒱苣蚈뛦鞁臣芀藩뢅苣膃菣꒱苣뒰臣鞴뗦鞁胣ꆬ臣ꞁ胣붣鋥龣ꇥ뒰臣鞴뗦鞁臣貾胣ꆄ냦ꮡ藩誃菣ꪃ苣ꂃ룤ꞁ매ꖇ臣龁胣뚺ꫥ銂闧뮎臣ꚁ胣ꆄ觨릲諧ꦉ臣鞁臣膀꣦風賥袐觧꺁닧龔裦ꦉ볯躼볯钼뷯銂뻥龁胣㲂䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 芏胨设볯隼戼㹲 钼胢銈볯隼裢鮽볯銈菣膃菣銈볯銈볯銼裢袼볯銈菣膃菣ꊂ菣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