(57)【要約】ハイヒールを履いた際に、足が外側にブレることにより生ずる捻じれが予防され、またハイヒールを履いた際に生じやすい外反母趾が予防される。  足の指先部に対応させて横断的に前部隆起部１が形成され、また足裏のドーム構造の扁平化を防止する中央部隆起部２、後部外側隆起部３および後部内側隆起部４が形成されてなるハイヒール用中敷Ａである。前部隆起部１は、小指側が親指側より高くされてされ、また、前部隆起部１には、親指を受ける溝状部４４が形成されている。
2011067948.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足の指先部に対応させて横断的に前部隆起部が形成され、前記前部隆起部によりつま先における荷重面が拡大されて荷重圧が均等化されてなることを特徴とするハイヒール用中敷。
【請求項２】
小指側が親指側より高くされ、つま先の外側の指にも荷重がかかるようにされてなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
【請求項３】
親指に対応させて溝状部が形成されてなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
【請求項４】
足の骨配列により形成されるドーム構造の扁平化を避ける位置に中央部隆起部が形成されてなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
【請求項５】
中央部隆起部は、内側が足底腱膜、外側が第５中足骨と小趾外転筋、前側が中足骨頭、後側が踵球によって囲まれてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
【請求項６】
中央部隆起部が、先広形状とされてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
【請求項７】
中央隆起部が、先低かつ後高形状とされてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
【請求項８】
後部外側隆起部および後部内側隆起部が形成されてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
【請求項９】
後部外側隆起部後部および後部内側隆起部後部が、踵部脂肪体を踵部中央に寄せるとともに、足部がつま先方向に移動するのを防ぐように形成されてなることを特徴とする請求項８記載のハイヒール用中敷。
【請求項１０】
成形部を有してなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
【請求項１１】
成形部が、天然ゴム、シリコンゴムなどの合成ゴム、エチレン酢酸ビニル樹脂などの発泡素材、皮革または合成皮革、ベルベットおよび不織布などの繊維素材、または塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂からなるものとされてなることを特徴とする請求項１０記載のハイヒール用中敷。
【請求項１２】
表面化粧部を有してなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１２のいずれか一項に記載のハイヒール用中敷を備えてなることを特徴とするハイヒール。
【請求項１４】
底の内側表面に、少なくとも前部隆起部が形成されてなることを特徴とするハイヒール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハイヒール用中敷に関する。さらに詳しくは、ハイヒールを履くことにより生ずる足の不快感や疲労感、足の変形、そして身体への悪影響を予防または解消できるハイヒール用中敷に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、女性のファッションの一つとして、踵が高く先細のハイヒール（以下、単にハイヒールという。）を履くことがなされている。
このハイヒールは、足の指先部を強制的に細くすることや体重を足の指先部に集中させることから、足や膝に悪影響を与えることが知られている。例えば、つま先における荷重面積が小さいため、不安定であり、荷重面積を広げるためにはつま先を外向きまたは内向きとなるように傾ける必要があり、その影響は膝や腰にも波及する。このため、ハイヒールを履き続けると、外反母趾、膝のＯ脚変形、腰痛などになることが知られている。
かかるハイヒールを履くことによる足への悪影響を予防または解消するため、種々の靴中敷が提案されている。
例えば、特許文献１には、図２８に示すように、隆起部１０１をその略中央に設けた靴中敷１００であって、該隆起部１０１は、靴中敷１００の長さ方向に連なって伸びかつその内側端および外側端が靴中敷１００の内側周縁および外側周縁とそれぞれ適当な間隔をおいて形成されており、そして前記隆起部１０１は、より高硬度の部分であって、靴中敷１００が装入された靴を履用したとき、足部を靴中敷１００の長さ方向および幅方向にわたって各々弓型を保持することができる外形を有する靴中敷１００が提案されている。
しかしながら、特許文献１の提案に係る靴中敷１００は、充分な人間工学的な考察がなされていないため、外反母趾などに対する充分な予防がなし得ないという問題や、履用時に痛みなどの不快感が生ずるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−３５４５０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明はかかる従来技術の課題に鑑みなされたものであって、人間工学的な考察の上に立ったハイヒール用中敷を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のハイヒール用中敷は、足の指先部に対応させて横断的に前部隆起部が形成され、前記前部隆起部によりつま先における荷重面が拡大されて荷重圧が均等化されてなることを特徴とする。
本発明のハイヒール用中敷においては、小指側が親指側より高くされ、つま先の外側の指にも荷重がかかるようにされてなるのが好ましい。
また、本発明のハイヒール用中敷においては、親指に対応させて溝状部が形成されてなるのが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、足の骨配列により形成されるドーム構造の扁平化を避ける位置に中央部隆起部が形成されてなるのが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、中央部隆起部は、内側が足底腱膜、外側が第５中足骨と小趾外転筋、前側が中足骨頭、後側が踵球によって囲まれてなるのが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、中央部隆起部が先広形状とされてなるのが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、中央隆起部が先低かつ後高形状とされてなるが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、後部外側隆起部および後部内側隆起部が形成されてなるのが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、後部外側隆起部後部および後部内側隆起部後部が、踵部脂肪体を踵部中央に寄せるとともに、足のドーム構造の内側と外側との骨配列を足底から支持し、足部がハイヒールの中でつま先方向に移動するのを防ぐように形成されてなるのが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、成形部を有してなるのが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、成形部は、天然ゴム、シリコンゴムなどの合成ゴム、エチレン酢酸ビニル樹脂（ＥＶＡ）などの発泡素材、皮革または合成皮革、ベルベットおよび不織布などの繊維素材、または塩化ビニル樹脂（ＰＶＣ）などの熱可塑性樹脂からなるものとされてなるのが好ましい。
さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、表面化粧部を有してなるのが好ましい。
【発明の効果】
【０００６】
本発明のハイヒール用中敷は、前記の如く構成されているので、つま先（中足骨頭）における荷重面が拡大されて荷重圧が均等化され、つま先の側方への傾きが防止されという優れた効果を奏する。また、それにより外反母趾の要因となる足のゆがみも予防されるという優れた効果も奏する。
本発明の好ましい形態によれば、つま先のハイヒール前部への移動が防止されるので、指先が細い先部へ移動することによって強制される母趾の外反が防止されるという優れた効果が得られる。
また、別の本発明の好ましい形態によれば、足部の外側アーチの扁平化、および第１中足骨の内転化が防止されるので、外側アーチの扁平化により起こる下腿の外旋が防止されるとともに、外旋による膝関節に及ぶ回旋ストレスが予防されて膝の変形の増悪が予防されるという優れた効果が得られる。さらに、その結果、骨盤外側の中殿筋や大腿筋膜張筋の疲労が予防され、骨盤や腰部の痛みや疲労が予防されるという優れた効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
図１は標準的日本人の足の骨格形状を示す骨格図である。
図２は標準的日本人の足底の図であって、同（ａ）は筋肉および腱膜の分布を示し、同（ｂ）は忌避領域を示す領域分布図である。
図３は本発明の実施形態１に係るハイヒール用中敷の二面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は右側面図を示す。
図４は同ハイヒール用中敷基部の三面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は右側面図を示し、同（ｃ）は底面図を示す。
図５は同ハイヒール用中敷のイメージ図である。
図６は同ハイヒール用中敷の前部隆起部形成要素の五面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は左側面図を示し、同（ｃ）は右側面図を示し、同（ｄ）は底面図を示し、同（ｅ）はＩ−Ｉ線断面図を示す。
図７は同前部隆起部形成要素のイメージ図である。
図８は同前部隆起部形成要素の断面位置を示すイメージ図である。
図９は図８のＡ部断面のイメージ図である。
図１０は図８のＢ部断面のイメージ図である。
図１１は図８のＣ部断面のイメージ図である。
図１２は図８のＤ部断面のイメージ図である。
図１３は図８のＥ部断面のイメージ図である。
図１４は図８のＦ部断面のイメージ図である。
図１５は図８のＧ部断面のイメージ図である。
図１６は同ハイヒール用中敷の中央部隆起部形成要素の五面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は左側面図を示し、同（ｃ）は右側面図を示し、同（ｄ）は底面図を示し、同（ｅ）はＢ−Ｂ線断面図を示す。
図１７は同ハイヒール用中敷の後部外側隆起部形成要素の三面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は右側面図を示し、同（ｃ）は底面図を示す。
図１８は同ハイヒール用中敷の後部内側隆起部形成要素の三面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は左側面図を示し、同（ｃ）は底面図を示す。
図１９は本発明の実施形態２に係るハイヒール用中敷の二面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は左側面図を示す。
図２０は同ハイヒール用中敷を上方から見たイメージ図である。
図２１は同中敷を後方上部から見たイメージ図である。
図２２は同中敷を後面側から見たイメージ図である。
図２３は同中敷を内側面側から見たイメージ図である。
図２４は同中敷の前方上部から見たイメージ図である。
図２５は同中敷を前面側から見たイメージ図である。
図２６は同中敷を外側面側から見たイメージ図である。
図２７は同中敷を外側上部から見たイメージ図である。
図２８は特許文献１の提案に係る靴中敷の二面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、添付図面を参照しながら本発明を実施形態に基づいて説明するが、本発明はかかる実施形態のみに限定されるものではない。
まず、以後の理解を容易にするため、靴中敷（以下、単に中敷ということもある。）についての本発明者等の研究結果について概説する。
本発明者等は、その研究結果より、日本人の健常者の足の骨格は、足の大きさと足指の長さの点を除けば、図１に示すような骨格形態を有しているとの知見を得た。この知見から、中敷底板材として標準型のものが利用できる場合が大多数であろうと推察される。図１中、符号Ｂ１は種子骨を示し、符号Ｂ２は第１中足骨を示し、符号Ｂ３は第２中足骨を示し、符号Ｂ４は第３中足骨を示し、符号Ｂ５は内側楔状骨を示し、符号Ｂ６は中間楔状骨を示し、符号Ｂ７は舟状骨を示し、符号Ｂ８は距骨を示し、符号Ｂ９は趾骨を示し、符号Ｂ１０は第４中足骨を示し、符号Ｂ１１は第５中足骨を示し、符号Ｂ１２は外側楔状骨を示し、符号Ｂ１３は立方骨を示し、符号Ｂ１４は踵骨を示し、符号Ｂ９ａは末節骨を示し、符号Ｂ９ｂは中節骨を示し、符号Ｂ９ｃは基節骨を示す。
なお、足の骨格に変形などのわずかな障害が見られるため、標準型のものが利用できない履用者に対しては、標準型の中敷底板材を利用して、中央アーチ挙上部の凸形状を骨格の変形に合うよう削るなどして微調整すれば、障害の治療用としても活用できるものと推察される。
また、図１に示す日本人の標準型の足の骨格においては、体重を支えて歩行するのに重要な役割を担う踵部と母趾球部（すなわち、第１中足指節関節の足裏部）、および第１ないし第５指部とが、これらを繋ぐ縦アーチおよびに横アーチ構造を形成している。つまり、ドーム形状を呈している。
このドーム形状を呈している骨格構造（以下、ドーム構造という。）が、何等かの原因で乱れると、外反母趾や扁平足などの各種障害を引き起こすことが知られている。そこで、かかる障害の発生を予防しあるいは治療するためには、足の骨格の縦アーチ並びに横アーチからなるドーム構造を、正常な状態に維持することが重要と考えられる。
しかしながら、足の骨格を正常な状態に維持するため、足の構造を矯正する装具として靴中敷などを安易に採用すると、かえって足を傷めることになるおそれがある。というのは、足の骨格の足底側は、図２（ａ）に示すように、小指外転筋ないし短指屈筋とそれに並走する足底腱膜によって覆われているが、図２（ｂ）に示すように、踵部Ｔ、第２ないし第４中足骨頭の位置Ｖ、第２中足骨の位置Ｗ、または第５中足骨の位置Ｘに対して、狭い範囲に挙上する力を加えると、相対的に足部のドーム構造が扁平化されて強いストレスを起し、歩行障害などが生ずることがあるからである。なお、図中、符号Ｕは第１中足骨頭の位置を示す。
したがって、本発明のハイヒール用中敷においても、中央アーチ挙上部などのように足底を圧迫する隆起部を設けるには、前述したような押圧力集中が起こる位置を避ける必要がある。
より具体的には、前記障害の発生を回避して、足の骨格の機能を正常な状態に維持するには、つまりドーム構造を正常な状態に維持するには、以下のような各機能、すなわち、（１）中央アーチ部を挙上してドーム構造を支えることの他に、（２）立方骨位置を挙上して外側アーチ部を支えること、（３）土踏まず部を挙上して内側アーチ部を支えること、（４）踵球部への負荷の偏りを防ぐこと、の各機能を備えたハイヒール用中敷を、それぞれの履用者の足の骨格に適合するように調整したうえで提供する必要がある。
以下、以上の理解の上に立って、本発明を詳述する。
実施形態１
図３に、本発明の実施形態１に係るハイヒール用中敷（左足用中敷）Ａを示す。なお、右足用中敷は左足用中敷と左右対称とされているので、その図示説明は省略する。
ハイヒール用中敷Ａは、図３に示すように、前部隆起部１と、中央部隆起部２と、後部外側隆起部３および後部内側隆起部４とを備えてなるものとされる。また、ハイヒール用中敷Ａは、図３に示すように、基部１０と、成形部２０と、表面化粧部３０とを一体化して成形してなるものとされている。なお、図中、各部の厚みは理解の容易さおよび作図の便宜を考慮して誇張されている。
基部１０は、図４および図５に示すように、基板１１と、前部隆起部１を形成する前部隆起部形成要素１２（図６参照）と、中央部隆起部２を形成する中央部隆起部形成要素１３（図１６参照）と、後部外側隆起部３を形成する後部外側隆起部形成要素１４（図１７参照）と、後部内側隆起部４を形成する後部内側隆起部形成要素１５（図１８参照）とを一体化して備えてなるものとされ、前部隆起部形成要素１２、中央部隆起部形成要素１３、後部外側隆起部形成要素１４および後部内側隆起部形成要素１５が、所定配置にて基板１１表面に配設されている。つまり、前述した押圧力集中が起こる位置を避けながら、前記条件を満たすようにして基板１１表面に配設されている。なお、図示例においては、ハイヒール用中敷Ａは先細のハイヒール底形状に形成されているが、前足部（前部隆起部形成要素１２よりも前方部）を切り取った形状とされてもよい。
基板１１は、前述したように先細のハイヒール底形状に形成されている。また、基板１１の材質は、例えば、合成ゴムや合成樹脂などとされるが、これに限定されるものではなく、従来より靴用中敷の基板に用いられている公知の各種素材を好適に用いることができる。例えば、皮革や合成皮革とすることもできる。
前部隆起部形成要素１２は、合成ゴムや合成樹脂などからなる弓形状とされ、図４および図５に示すように、趾骨の基節骨に対応させて基板１１前部に横断的に配設されている。
前部隆起部形成要素１２は、主にハイヒール内での足の前方への滑り込みを防ぐとともに、つま先（中足骨頭）における荷重面を拡大してつま先への荷重圧を均等化し、つま先の横方向への傾きを防止する機能を具現化させるものとされる。
前部隆起部形成要素１２は、より具体的には図６および図７に示すように、稜線が第５趾（小指）側（外側）から第２趾側（内側）に向けた緩やかな下り勾配とされた山脈状部４０と、第２趾と母趾（親指）との間に山脈状部４０の第２趾端の裾野４０ａから連続的に起立形成された独立峰状部４２と、母趾（親指）をガイドする独立峰状部４２に隣接させて溝状に形成されたＵ字状部（溝状部）４４とを有するものとされる。
また、図８に、前部隆起部形成要素１２と指との位置関係を示し、図９〜図１５に各位置の断面を示す。図８中、符号Ａは第５趾位置を示し、符号Ｂは第４趾位置を示し、符号Ｃは第３趾位置を示し、符号Ｄは第２趾位置を示し、符号Ｅは第２趾と第１趾との中間位置を示し、符号Ｆは第１趾位置を示し、符号Ｇは第１趾の内側位置を示す。また、前記各位置における厚さは、基板１１の厚みに加算される厚みを示す。例えば、基板１１の厚みを１ｍｍとすれば、第２趾と第１趾との中間位置Ｅにおけるトータルの厚みは５ｍｍとなる。
山脈状部４０の第５趾（小指）側の頂部の高さは５ｍｍ以下とされ、第２趾側の頂部の高さは３ｍｍ程度とされ、底部（裾部）の幅は２０ｍｍ〜２５ｍｍ程度とされている。
また、山脈状部４０は、図６および図７に示すように、前面（末節骨側）４１ａが緩傾斜とされ、後面４１ｂが急傾斜とされている。
独立峰状部４２の高さは３ｍｍ〜５ｍｍ程度とされ、底部（裾部）の幅は２０ｍｍ〜２５ｍｍ程度とされている。
Ｕ字状部４４の側壁４４ａの高さは５ｍｍ程度とされ、底部の長さは２０ｍｍ〜３５ｍｍ程度とされている。
山脈状部４０の後面４１ｂを急傾斜とするのは、足の前方へのずり落ちを予防するストッパとしての機能を具現化させるためであり、第５趾（小指）側を高くするのは、第５趾（小指）の外側へのぶれを防いで捻挫を予防する機能を具現化させるためである。
また、独立峰状部４２およびＵ字状部４４を設けるのは、母趾（親指）の第５趾（小指）側への傾斜を抑制して外反母趾を予防する機能を具現化させるためである。
中央部隆起部形成要素１３は、合成ゴムや合成樹脂などからなるくの字形山脈状とされ、図４および図５に示すように、第２ないし第４中足骨頭の位置Ｖ、第２中足骨の位置Ｗ、第５中足骨の位置Ｘ、および踵部Ｔに囲まれる領域（図２（ｂ）参照）に対応する位置、より厳密には、内側が足底腱膜、外側が第５中足骨と小趾外転筋、前側が中足骨頭、後側が踵球によって囲まれ領域に配設されている。
中央部隆起部形成要素１３は、より具体的には図１６に示すように、前部１３ａの裾野が後部より広く、かつ高さが後部１３ｂより低くされた先低かつ先広形状とされ、また前端部１３ａは緩傾斜とされ、一方後端部１３ｂは急傾斜とされている。これは、ドーム構造に沿わせる機能を具現化させるためである。
中央部隆起部形成要素１３の頂部の高さは、前部１３ａが５ｍｍ程度とされ、後部１３ｂが８ｍｍ程度とされ、底部（裾部）の幅は、前部１３ａが２０ｍｍ程度とされ、後部１３ｂが１０ｍｍ程度とされている。
中央部隆起部形成要素１３をかかる形状および配置とするのは、ドーム構造の扁平化を予防して正常な状態に維持する機能を具現化させるためである。つまり、前記条件（１）、（２）、（３）を満足させるようにするためである。
後部外側隆起部形成要素１４は、合成ゴムや合成樹脂などからなる半割れ山形状とされ、図４および図５に示すように、半割れ面を外側に向けかつ半割れ面を基板１１の外側に沿わせて中央部隆起部形成要素１３の外側後部１３ｂにその頂部を当接させて配設されている。ここで、半割れ面の裾前端は中央部隆起部形成要素１３のほぼ中央に対応する位置とされ、半割れ面の裾後端は踵部Ｔのほぼ中央に対応する位置とされている。また、半割れ面の稜線は円弧状とされている。
後部外側隆起部形成要素１４は、より具体的には、頂部が第５中足骨の位置Ｘの後方に位置し、前部１４ａは、明瞭には図示はされていないが、外側から内側に向けた緩傾斜の下りこう配の凹面とされ、中央部隆起部形成要素１３のほぼ中央に対応する位置とさせられるとともに、基板１１の外側に沿う後部１４ｂは、明瞭には図示はされていないが、踵が嵌まり込むよう緩傾斜の円弧状凹面とされて踵部Ｔ手前の位置とさせられている（図１７参照）。また、後部の裾は踵部Ｔに沿うよう円弧状とされている（図１７参照）。
後部外側隆起部形成要素１４の頂部の高さは、８ｍｍ程度とされている。
後部外側隆起部形成要素１４をかかる形状および配置とするのは、ドーム構造の扁平化を予防して正常な状態に維持する機能を具現化させるとともに、第５中足骨の外側へのぶれを防いで捻挫を予防する機能を具現化させるためである。つまり、前記条件（１）、（２）、（３）、（４）を満足させるようにするためである。
後部内側隆起部形成要素１５は、合成ゴムや合成樹脂などからなる半割れ山形状とされ、図４および図５に示すように、半割れ面を内側（右足側）に向けかつその半割れ面を基板１１の内側に沿わせて中央部隆起部形成要素１３に並列的に配設されている。ここで、半割れ面の裾前端は中央部隆起部形成要素１３の前部頂部に対応する位置とされ、半割れ面の裾後端は踵の後部に対応する位置とされている。また、半割れ面の稜線は中央部隆起部形成要素１３の後端に対応する位置までは緩傾斜の上りこう配とされ、同位置から後端部近傍までは平坦とされ、同位置から後端の裾までは急傾斜の円弧面とされている。
なお、中央部隆起部形成要素１３に対向する内側の前部および中部は、明瞭には図示はされていないが、緩傾斜の平面とされている。
後部内側隆起部形成要素１５は、より具体的には、頂部が第２中足骨の位置Ｗの内側に位置し、基板１１の内側に沿う裾部前部１５ａは円弧状とされ、後部外側隆起部形成要素１４の後部１４ｂと対向する後部１５ｂは、明瞭には図示はされていないが、踵が嵌まり込むよう緩傾斜の円弧状凹面とされて踵部Ｔ手前の位置とさせられている（図１８参照）。また、後部の裾は踵部Ｔに沿うよう円弧状とされている（図１８参照）。
後部内側隆起部形成要素１５の頂部の高さは、８ｍｍ程度とされている。
後部内側隆起部形成要素１５をかかる形状および配置とするのは、ドーム構造の扁平化を予防して正常な状態に維持する機能を具現化させるためである。つまり、前記条件（１）、（２）、（３）、（４）を満足させるようにするためである。
成形部２０は、基板１１と同一形状とされて基部１０と一体成形される。成形部２０の厚みは、例えば２ｍｍ〜５ｍｍ程度とされる。また、成形部２０の材質は、履用した場合における履用者に対する不快感を防止するため、成形後においても弾力性を有する素材とされるのが望ましい。かかる特性を有する素材としては、例えば天然ゴム、シリコン樹脂などの合成ゴム、ＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル樹脂）などの発泡樹脂、皮革、合成皮革、ベルベットや不織布などの繊維素材、ＰＶＣ（塩化ビニル樹脂）やＰＵ（ポリウレタン樹脂）などの合成樹脂などとすることができる。
表面化粧部３０は、成形がなされた成形部２０表面を覆うことができるよう可撓性を有する素材からなるものされる。前記特性を有する素材として、合成樹脂や布とすることができるがこれに限定されるものではなく、例えば皮革や合成皮革とすることもできる。
また、表面化粧部３０の素材としては、肌触りがよくて靴下との摩擦が少ない表面を有してハイヒールの履脱を容易とするものが望ましい。
なお、表面化粧部３０は、必要に応じて設けられればよく、そのため必ずしも設けられる必要はない。
しかして、本実施形態の中敷Ａは、単独で利用者に販売されて利用に供されたり、あるいはハイヒール製造業者に供給されハイヒールに予め装着されて利用に供される。
本実施形態の中敷Ａは、前記の如く構成されているので、以下の効果を奏する。
前部隆起部形成要素１２により形成される前部隆起部１により、足の指先部へ不当な荷重がかかることが予防されるとともに、足の外側への捩りが抑制される。そのため、捻挫の予防、足やすねの回旋の予防、膝の捻れの予防などが図られる。
中央部隆起部形成要素１３により形成される中央部隆起部（中央アーチ）により、足のドーム構造の頂点付近が支持される。そのため、ドーム構造が安定化され、また衝撃吸収力が向上する。
後部外側隆起部形成要素１４により形成される後部外側隆起部（外側アーチ）、および後部内側隆起部形成要素１５により形成される後部内側隆起部（内側アーチ）により、足の側方への搖動が抑制される。
中央アーチ、外側アーチおよび内側アーチは、足底腱膜、小趾外転筋などの筋腱を圧迫しないので、足底の不快感を誘発するおそれはない。
外側アーチ後端部および内側アーチ後端部の協働により、踵部脂肪体が足底の中央部に寄せられるので、足底が本来有している衝撃吸収能力を最大限に発揮させることができる。また、足の前部への移動、つまり先細とされているつま先方向への滑り落ちも防止される。
実施形態２
図１９に、本発明の実施形態２に係るハイヒール用中敷（右足用中敷）Ａ１を示す。なお、左足用中敷は右足用中敷と左右対称とされているので、その図示説明は省略する。また、図１９中、図３と同一の符号は、同一または類似の構成要素を示す。
ハイヒール用中敷Ａ１は、図１９に示すように、実施形態１の後部外側隆起部形成要素１４および後部内側隆起部形成要素１５の形態を改変して、後部外側隆起部形成要素１４Ａおよび後部内側隆起部形成要素１５Ａとしてなるものとされる。
なお、実施形態２のその余の構成は実施形態１と同様とされているので、その構成の詳細な説明は省略する。
図２０〜図２７に、ハイヒール用中敷Ａ１（右足用）のイメージ図を示す。図中の符号ａは前部隆起部１を示し、符号ｂは後部内側隆起部４を示し、符号ｃは後部外側隆起部３を示し、符号ｄは中央部隆起部２を示す。
後部外側隆起部形成要素１４Ａは、図１９に示すように、後部の裾が凸状の円弧状とされるとともに、後部が頂部から連なる凸状の円弧状面とされてなるものとされる（図２６参照）。
後部内側隆起部形成要素１５Ａは、図１９に示すように、後部の裾が前部から連なる凸状の円弧状とされるとともに、後部が頂部から連なる凸状の円弧状面とされてなるものとされる。また、後部端部は急傾斜の円弧面とされている（図２３参照）。
本実施形態の中敷Ａ１は前記の如く構成されているので、実施形態１に比して踵部におけるフィット感が向上するという効果を奏する。また、後部外側隆起部形成要素１４Ａの後部および後部内側隆起部形成要素１５Ａの後部の形状が簡素化されているので、成形が容易となるという効果も奏する。
以上、本発明を実施形態に基づいて説明してきたが、本発明はかかる実施形態のみに限定されるものではなく、種々改変が可能である。
例えば、本実施形態では、ハイヒール用中敷Ａは、基部１０、成形部２０、表面化粧部３０を一体成形してなるものとされるが、基部１０を基層とし、成形部２０を成形層とし、表面化粧部３０を表面化粧層とする三層構造とされてもよい。さらに、表面化粧部３０が成形部２０に吸収された構成とされてもよい。
なお、ハイヒールの底の内側表面に前部隆起部、中央部隆起部、後部外側隆起部および後部内側隆起部を直接設けるようにされてもよい。
【産業上の利用可能性】
【０００９】
本発明のハイヒール用中敷は、靴産業に利用できる。とりわけ、外反母趾や扁平足の予防や治療効果を必要とされるハイヒールにとりわけ有用である。
【符号の説明】
【００１０】
Ａ      ハイヒール用中敷
１      前部隆起部
２      中央部隆起部
３      後部外側隆起部
４      後部内側隆起部
１０      基部
１１      基板
１２      前部隆起部形成要素
１３      中央部隆起部形成要素
１４      後部外側隆起部形成要素
１５      後部内側隆起部形成要素
２０      成形部
３０      表面化粧部
４０      山脈状部
４２      独立峰状部
４４      Ｕ字状部
【図１】
2011067948.tif 000003
【図２】
2011067948.tif 000004
【図３】
2011067948.tif 000005
【図４】
2011067948.tif 000006
【図６】
2011067948.tif 000007
【図１６】
2011067948.tif 000008
【図１７】
2011067948.tif 000009
【図１８】
2011067948.tif 000010
【図１９】
2011067948.tif 000011
【図２８】
2011067948.tif 000012
【図５】
2011067948.tif 000013
【図７】
2011067948.tif 000014
【図８】
2011067948.tif 000015
【図９】
2011067948.tif 000016
【図１０】
2011067948.tif 000017
【図１１】
2011067948.tif 000018
【図１２】
2011067948.tif 000019
【図１３】
2011067948.tif 000020
【図１４】
2011067948.tif 000021
【図１５】
2011067948.tif 000022
【図２０】
2011067948.tif 000023
【図２１】
2011067948.tif 000024
【図２２】
2011067948.tif 000025
【図２３】
2011067948.tif 000026
【図２４】
2011067948.tif 000027
【図２５】
2011067948.tif 000028
【図２６】
2011067948.tif 000029
【図２７】
2011067948.tif 000030
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月27日(2010.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足の指先部に対応させて横断的に前部隆起部が形成され、
前記前部隆起部は、稜線が第５趾側から第２趾側に向けた緩やかな下り勾配とされた山脈状部と、第２趾と母趾との間に前記山脈状部の第２趾端の裾野から連続的に起立形成された独立峰状部と、母趾をガイドする前記独立峰状部に隣接させて溝状に形成された溝状部とを含み、
前記前部隆起部によりつま先における荷重面が拡大されて荷重圧が均等化されてなることを特徴とするハイヒール用中敷。
【請求項２】
（削除）
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
足の骨配列により形成されるドーム構造の扁平化を避ける位置に中央部隆起部が形成されてなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
【請求項５】
中央部隆起部は、内側が足底腱膜、外側が第５中足骨と小趾外転筋、前側が中足骨頭、後側が踵球によって囲まれてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
【請求項６】
中央部隆起部が、先広形状とされてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
【請求項７】
中央隆起部が、先低かつ後高形状とされてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
【請求項８】
後部外側隆起部および後部内側隆起部が形成されてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
【請求項９】
後部外側隆起部後部および後部内側隆起部後部が、踵部脂肪体を踵部中央に寄せるとともに、足部がつま先方向に移動するのを防ぐように形成されてなることを特徴とする請求項８記載のハイヒール用中敷。
【請求項１０】
成形部を有してなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
【請求項１１】
成形部が、天然ゴム、シリコンゴムなどの合成ゴム、エチレン酢酸ビニル樹脂などの発泡素材、皮革または合成皮革、ベルベットおよび不織布などの繊維素材、または塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂からなるものとされてなることを特徴とする請求項１０記載のハイヒール用中敷。
【請求項１２】
表面化粧部を有してなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
【請求項１３】
請求項１、４、５、６、７、８、９、１０、１１または１２に記載のハイヒール用中敷を備えてなることを特徴とするハイヒール。
【請求項１４】
底の内側表面に、少なくとも前部隆起部が形成され、
前記前部隆起部は、稜線が第５趾側から第２趾側に向けた緩やかな下り勾配とされた山脈状部と、第２趾と母趾との間に前記山脈状部の第２趾端の裾野から連続的に起立形成された独立峰状部と、母趾をガイドする前記独立峰状部に隣接させて溝状に形成された溝状部とを含み、
前記前部隆起部によりつま先における荷重面が拡大されて荷重圧が均等化されてなることを特徴とするハイヒール。
【国際調査報告】
2011067948.tif 000031
2011067948.tif 000032
2011067948.tif 000033
2011067948.tif 000034
2011067948.tif 000035
2011067948.tif 000036
2011067948.tif 000037
2011067948.tif 000038
2011067948.tif 000039
2011067948.tif 000040