(57)【要約】  本願は、光や熱等によって促進される有機色素の退色劣化を長期間有効に防止する手段としての、有機色素に対して優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される光吸収部材を提供する。  より詳しくは、式（１）：2012008318.tif 000025（式中、記号は明細書に定義されるとおりである。）で表される有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される光吸収部材を提供する。
2012008318.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
2012008318.tif 000024
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子であり、
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基である。尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
また、Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６であり、
Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）
で表される有機色素安定化剤。
【請求項２】
式（１）における金属原子Ｍが、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子である請求項１に記載の有機色素安定化剤。
【請求項３】
請求項１または２に記載の有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と、少なくとも１種類の有機色素を含有することを特徴とする光吸収部材用組成物。
【請求項４】
請求項３に記載の光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、式（１）で表される有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と少なくとも１種類の有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機色素は古くから、繊維、プラスチックの着色、分析用指示薬、写真用感光剤等に広く用いられてきた。近年では、特定の波長域の光を吸収する機能性色素として、色素レーザー、光記録媒体、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、光電変換素子、紫外線/熱線遮蔽フィルム等、幅広い分野で利用されている。
しかしながら、有機色素は、光や熱等の外部環境の影響によって退色が促進され、その機能を長期間持続することが困難であるといった重大な欠点を有する。そのため、有機色素の経時的な退色劣化を抑制するために、種々の光安定化剤が使用されている。
例えば、特許文献１ではニトロソジフェニルアミン類、特許文献２ではニトロソフェノール類、ニトロソナフトール類による有機色素の安定化が提案されているが、これらニトロソ化合物はそれ自体の毒性が強いか、あるいは光分解物の毒性が強い等の問題があることに加え、その安定化効果についても必ずしも満足のいくものではなかった。【０００３】
また、トリニトロフェニルヒドラジン基を有する化合物を用いた方法が特許文献３に示されているが、これらのトリニトロフェニルヒドラジン基を有する化合物は、爆発性を有しており、取り扱い上、大きな問題がある。
さらに、特許文献４〜７には、光安定化剤としてチオ配位子を有するニッケル化合物等の金属錯体を用いる方法が示されているが、これらニッケル化合物の使用には着色を伴うため、使用できる用途に制限があり、またその光安定化効果も必ずしも満足のいくものではなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平２−３００２８８号公報
【特許文献２】特開平２−３００２８９号公報
【特許文献３】特開平２−３０４０５５号公報
【特許文献４】特開昭６２−１９３８９１号
【特許文献５】特開昭６２−２０７６８８号
【特許文献６】特開昭６３−１９２９３号
【特許文献７】特開昭６３−１９９２４８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、光や熱等によって促進される有機色素の退色劣化を長期間有効に防止する手段として、有機色素に対して優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される光吸収部材を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、式（１）で表される金属錯体が有機色素に対して非常に優れた退色劣化抑制効果を有することを見出し、該金属錯体を有機色素安定化剤として使用することによって上記課題を解決に導き、本発明の完成に至った。すなわち、本発明は以下に示す有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と少なくとも１種類の有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材に関する。【０００７】
項１．式（１）：【０００８】
【化１】
2012008318.tif 000003
【０００９】
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子であり、
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基である。尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
また、Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６であり、
Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）
で表される有機色素安定化剤。
項２．式（１）における金属原子Ｍが、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子である項１に記載の有機色素安定化剤。
項３．項１または２に記載の有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と、少なくとも１種類の有機色素を含有することを特徴とする光吸収部材用組成物。
項４．項３に記載の光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、有機色素に対して非常に優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤が得られる。従って、本発明の有機色素安定化剤と有機色素を用いることで、長期間に渡って優れた耐光性、耐熱性を持続することができる光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、式（１）：
【００１２】
【化２】
2012008318.tif 000004
【００１３】
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基である。尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。また、Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６であり、Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）
で表される有機色素安定化剤と、該有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と少なくとも１種類の有機色素とを含む光収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材を提供するものである。
【００１４】
また、式（１）におけるＺ１およびＺ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＭについて以下に例示する。
【００１５】
式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属される、前記のＮＲ５のＲ５としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。合成方法の簡便さから炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましい。
尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
【００１６】
ここで、式（１）におけるＹ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は、合成方法の簡便さの観点から、酸素原子または硫黄原子であることが特に好ましい。
【００１７】
式中、Ｚ１またはＺ２に帰属される、前記のＣＲ６のＲ６としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基や、２−フリル基、２−チエニル基、５−クロロ−２−チエニル基、２−ピロリル基、２−オキサゾリル基、５−メチル−２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基等のヘテロアリール基や、４−ピリジルメチル基、４−キノリルメチル基、２−チエニルメチル基等のヘテロアラルキル基や、
【００１８】
４−アセトアミドベンジル基、３−アミノベンジル基、４−アミノベンジル基、３−メトキシベンジル基、２−メトキシフェネチル基、４−（ｎ−ペンチルオキシ）ベンジル基、２−アリルオキシフェネチル基、５−アリル−２−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基、２−ブロモベンジル基、３−フェネチル基、４−ブロモベンジル基、２−クロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、６−ブロモ−２−ヒドロキシベンジル基、５−ブロモ−３−ニトロ−２−ヒドロキシフェネチル基、４−（ｎ−ブチル）ベンジル基、３−ブロモ−５−メトキシ−４−ヒドロキシベンジル基、４−ベンジルオキシベンジル基、６−ブロモ−３−メトキシ−２−ヒドロキシベンジル基、（１−ブロモ−２−ナフチル）−ｎ−プロピル基、２−ベンジルオキシベンジル基、３,５−ビストリフルオロメチルフェネチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、５−ブロモ−２−フルオロベンジル基、３−ブロモ−４−メトキシベンジル基、５−ブロモ−２−メトキシベンジル基、３−ブロモ−５−クロロ−２−ヒドロキシベンジル基、４−ブロモ−２−フルオロベンジル基、２−ブロモ−４,５−ジメトキシフェネチル基、３,４−エチレンジオキシベンジル基、３−ブロモ−４−フルオロフェネチル基、６−ブロモ−３,４−メチレンジオキシベンジル基、３−ブロモ−４−ヒドロキシベンジル基、２−ブロモ−５−フルオロフェネチル基、４−シアノベンジル基、４−トリフルオロベンジル基、４−（４−クロロフェノキシ）フェネチル基、４−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）ベンジル基、３,４−ジアセトキシベンジル基、４−（Ｎ,Ｎ−ジフェニルアミノ）ベンジル基、４−［Ｎ−（４,４−ジオキソチオモルホリノ）］ベンジル基、４−（Ｎ−ピロリジノ）ベンジル基、３−（２−ヒドロキシエトキシ）ベンジル基、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェネチル基、４−ヒドロキシ−３,５−ジメチルベンジル基、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−ｎ−プロピル基、４−イソプロピルベンジル基、４−イソブチルベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。
【００１９】
尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
【００２０】
さらに、式（１）におけるＺ１およびＺ２は、合成方法の簡便さの観点から、窒素原子、ＣＨであることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。
【００２１】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、２−メトキシエチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、３−クロロ−ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、６−フェニル−ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。
【００２２】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【００２３】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。
【００２４】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノスルホニル基、Ｎ−エチルアミノスルホニル基、Ｎ−イソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、Ｎ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−エチルイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−２−エチルヘキシルアミノスルホニル基等が挙げられる。
【００２５】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基としては、例えば、モルホリノスルホニル基、２−メチルモルホリノスルホニル基、３−メチルモルホリノスルホニル基、２−エチルモルホリノスルホニル基、３−ｎ−プロピルモルホリノスルホニル基、３−ｎ−ブチルモルホリノスルホニル基、２，３−ジメチルモルホリノスルホニル基、２，６−ジメチルモルホリノスルホニル基、３−フェニルモルホリノスルホニル基等が挙げられる。
【００２６】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基としては、例えば、ピペリジノスルホニル基、２−メチルピペリジノスルホニル基、３−メチルピペリジノスルホニル基、４−メチルピペリジノスルホニル基、２−エチルピペリジノスルホニル基、４−ｎ−プロピルピペリジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピペリジノスルホニル基、２，４−ジメチルピペリジノスルホニル基、２，６−ジメチルピペリジノスルホニル基、４−フェニルピペリジノスルホニル基等が挙げられる。
【００２７】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基としては、例えば、ピロリジノスルホニル基、２−メチルピロリジノスルホニル基、３−メチルピロリジノスルホニル基、２−エチルピロリジノスルホニル基、３−ｎ−プロピルピロリジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピロリジノスルホニル基、２，４−ジメチルピロリジノスルホニル基、２，５−ジメチルピロリジノスルホニル基、３−フェニルピロリジノスルホニル基等が挙げられる。
【００２８】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基としては、例えば、チオモルホルノスルホニル基、２−メチルチオモルホリノスルホニル基、３−メチルチオモルホリノスルホニル基、２−エチルチオモルホリノスルホニル基、３−ｎ−プロピルチオモルホリノスルホニル基、３−ｎ−ブチルチオモルホリノスルホニル基、２，３−ジメチルチオモルホリノスルホニル基、２，６−ジメチルチオモルホリノスルホニル基、３−フェニルチオモルホリノスルホニル基等が挙げられる。
【００２９】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基としては、例えば、ピペラジノスルホニル基、２−メチルピペラジノスルホニル基、３−メチルピペラジノスルホニル基、２−エチルピペラジノスルホニル基、３−ｎ−プロピルピペラジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピペラジノスルホニル基、２，５−ジメチルピペラジノスルホニル基、２，６−ジメチルピペラジノスルホニル基、３−フェニルピペラジノスルホニル基、２−ピリミジルピペラジノスルホニル基等が挙げられる。
【００３０】
前記のＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個、好ましくは１または２個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、経済性すなわち原料の入手の簡便さや、反応工程数、収率の観点からみれば、存在しないか、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが好ましく、存在しないか、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であることがより好ましく、存在しないことがさらに好ましい。
【００３１】
また、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である場合には、溶媒に対する溶解性の面で特に有利であり、中でも炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であることがより好ましく、炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、モルホリノスルホニル基であることがさらに好ましい。
【００３２】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４、Ｚ１およびＺ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立したものであるが、合成方法の簡便さおよび取得する該金属錯体の品質（純度）管理の観点から、好ましくはＹ１＝Ｙ２且つＹ３＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４である。また、該金属錯体の各種溶媒に対する溶解性の観点から言えば、Ｙ１＝Ｙ３≠Ｙ２＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ３＝Ｒ２＝Ｒ４、またはＹ１＝Ｙ３＝Ｙ２＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ３≠Ｒ２＝Ｒ４であることが好ましい。
【００３３】
式中、Ｍで表される金属原子は、例えば、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子等が挙げられる。
【００３４】
式（１）で表される金属錯体は、下記式（２）で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。
式（２）：
【００３５】
【化３】
2012008318.tif 000005
【００３６】
式（２）において、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ式（１）中のＹ１（および/またはＹ３）、Ｙ２（および/またはＹ４）、Ｚ１（および/またはＺ２）、Ｒ１（および/またはＲ３）、Ｒ２（および/またはＲ４）に対応している。
【００３７】
式（２）で表される配位子は、例えば、「特開昭５６−８７５７５」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８７，３６８」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８２，５９０」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８２，１０６６−１０６７」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，２６，３４３４−３４４５」、「Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９６，１２６，３２９−３３７」、「Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９４，１２４，３０１−３０８」、「特表２００７−５３５４２１」において開示されている方法で合成することができる。
以下、式（２）で表される配位子の製造方法を一部説明する。
【００３８】
≪配位子の製造方法≫
i) 下記式（３）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｓ，Ｚ１＝Ｎの場合
【００３９】
【化４】
2012008318.tif 000006
【００４０】
例えば、特開昭５６−８７５７５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノベンゾチアゾール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２−アミノ−置換ベンゾチアゾール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をフェノール等の酸触媒存在下において、１５０〜１８５℃に加熱し、反応させることによって２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を合成することができる。
【００４１】
ii) 下記式（４）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝Ｏ，Ｚ１＝Ｎの場合
【００４２】
【化５】
2012008318.tif 000007
【００４３】
例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８７，３６８に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノフェノール（Ｒ２が存在しない場合）または２−アミノ−置換フェノール（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に溶解させ、塩基として水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で３０分間攪拌し、ここにＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］−カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）のＤＭＦ溶液を滴下し、窒素雰囲気下で還流させることで２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾールまたは２−［２−（置換ベンゾチアゾリル）アミノ］置換ベンゾオキサゾールを合成することができる。
【００４４】
前記Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエートまたはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエートは、例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８２，５９０に記載されている方法に従って合成することができる。
【００４５】
すなわち、２−アミノベンゾチアゾール（Ｒ１が存在しない場合）または２−アミノ−置換ベンゾチアゾール（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＤＭＦに溶解させ、水浴または氷浴下でこの溶液に、水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、次に二硫化炭素を滴下し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を滴下した後、ヨウ化メチルを滴下することで、Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−置換ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）を合成することができる。
【００４６】
iii) 下記式（５）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝ＮＨ，Ｚ１＝Ｎの場合
【００４７】
【化６】
2012008318.tif 000008
【００４８】
例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８２，１０６６−１０６７に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ２が存在しない場合）またはｏ−（置換フェニレン）ジアミン（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＤＭＦに溶解させ、ここにＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］−カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）のＤＭＦ溶液を滴下した後に、１０〜１６時間還流させることで２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾイミダゾールまたは２−［２−（置換ベンゾチアゾリルアミノ）］置換ベンゾイミダゾールを合成することができる。
【００４９】
iv) 下記式（６）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝ＮＨ，Ｚ１＝ＣＨの場合
【００５０】
【化７】
2012008318.tif 000009
【００５１】
例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ２が存在しない場合）またはｏ−（置換フェニレン）ジアミン（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）と、エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテート（Ｒ１が存在しない場合）またはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）を窒素雰囲気下において１６０℃で６時間還流することによって（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）メタンまたは［２−（置換ベンゾチアゾリル）］［２−（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンを合成することができる。
【００５２】
前記エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテートは、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２に記載されている方法に従って合成することができる。
すなわち、エチルシアノアセテートと２−アミノ−置換チオフェノールを混合し、窒素雰囲気下において１２０℃で２時間反応させることで、エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテートを合成することができる。
【００５３】
v) 下記式（７）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｏ，Ｚ１＝ＣＨの場合
【００５４】
【化８】
2012008318.tif 000010
【００５５】
例えば、ＵＳ３２５０７８０に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノフェノール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２−アミノ−置換フェノール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１７５℃まで昇温し、反応させることで、ビス（２−ベンゾオキサゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾオキサゾリル）］メタンを合成することができる。
【００５６】
vi) 下記式（８）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｓ，Ｚ１＝ＣＨの場合
【００５７】
【化９】
2012008318.tif 000011
【００５８】
例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，２６，３４３４−３４４５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノチオフェノール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２−アミノ−置換チオフェノール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１２５−１５０℃で２時間反応させることで、ビス（２−ベンゾチアゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾチアゾリル）］メタンを合成することができる。
【００５９】
vii) 下記式（９）：式（２）においてＹ１＝ＮＲ５、Ｙ２＝ＮＲ５，Ｚ１＝ＣＨの場合
【００６０】
【化１０】
2012008318.tif 000012
【００６１】
例えば、Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９６，１２６，３２９−３３７に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、（Ｎ−置換−）ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または（Ｎ−置換−）［ｏ−（置換フェニレン）］ジアミン（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸ジエチルを混合し、この混合液を窒素雰囲気下において１５５℃で１１時間還流することで、ビス［２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル］メタンまたはビス［２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンを合成することができる。
【００６２】
viii) 下記式（１０）：式（２）においてＺ１＝ＣＲ６の場合
【００６３】
【化１１】
2012008318.tif 000013
【００６４】
例えば、Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９４，１２４，３０１−３０８に記載されている方法に従って合成することができる。前記の通り、式（１）中のＺ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６としてはアラルキル基であることが特に好ましい。ここでは、このアラルキル基が、例えば、４−ピリジルメチル基である場合を取り上げ、以下、合成方法を説明する。４−ピリジルメチル基以外の置換基である場合にも対応する基質（置換基に対応するアルデヒド体）を選択することで、同様の合成方法に従って合成することが可能である。
【００６５】
iv)で得られた（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）メタンまたは［２−（置換ベンゾチアゾリル）］［２−（置換ベンゾイミダゾリル）］メタン、または
v)で得られたビス（２−ベンゾオキサゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾオキサゾリル）］メタン、または
vi)で得られたビス（２−ベンゾチアゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾチアゾリル）］メタン、または
vii)で得られたビス［２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル］メタンまたはビス［２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンと、
酢酸および酢酸ナトリウムを混合し、ここに４−ピリジンカルボキシアルデヒドを添加し反応させた後に、パラジウムカーボン等を用いて還元することで、
【００６６】
iv)で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−｛２−（置換ベンゾチアゾリル）｝｛２−（置換ベンゾイミダゾリル）｝エチル］ピリジンを、
v)で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス（２−ベンゾオキサゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（置換ベンゾオキサゾリル）｝エチル］ピリジンを、
vi)で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス（２−ベンゾチアゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（置換ベンゾチアゾリル）｝エチル］ピリジンを、
vii)で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス｛２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル｝エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）エチル］ピリジンを合成することができる。
【００６７】
ix) 式（２）においてＲ１およびＲ２のそれぞれ少なくとも一つの置換基が、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基の場合
【００６８】
例えば、特表２００７−５３５４２１に記載されている方法に従って、前記i)〜viii)の方法で得られた配位子（式（２）においてＲ１およびＲ２の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし３個が置換されたものに限る）に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基を導入することができる。
ここでは、i)で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を例に取り上げ、以下、合成方法を説明する。
【００６９】
i)で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）をクロロスルホン酸に添加し、混合物を一晩攪拌する。さらに塩化チオニルを添加し５０℃で１時間攪拌した後室温まで冷却する。混合物を氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒に一級または二級アミンと攪拌することで対応する２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を合成することができる。
【００７０】
≪式（１）で表される金属錯体の製造方法≫
例えば、Ｐｏｌｙｈｅｄｒｏｎ  ２００６，２５，２３６３−２３７４やＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２等に記載されている方法に従って、前記のi) 〜ix）の製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。すなわち前記のi) 〜ix)の製造方法に基づいて得られた配位子と、式（１）中のＭに対応する金属の酢酸塩を、メタノール、エタノール、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。
【００７１】
≪式（１）で表される有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と、少なくとも１種類の有機色素を含む光吸収部材用組成物≫
本発明における光吸収部材用組成物は、式（１）で表される少なくとも１種類の有機色素安定化剤と少なくとも１種類の有機色素を含有することを特徴とする。
さらに、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーおよび/または少なくとも１種類の溶媒を含有するものも本発明に含まれる。
【００７２】
有機色素に対する安定化効果の観点からは、本発明における式（１）で表される有機色素安定化剤は分子レベルで溶解した状態で含有されることが好ましいが、有機色素は溶解状態であっても分散状態であってもよい。
【００７３】
前記の有機色素としては、特に限定されるものではなく、例えば、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ポルフィリン系、ニトロソ系、インダミン系、キノフタロン系、キサンテン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、キノリン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジオキシム系、ピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、インドリン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、メロシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系、ピランスロン系、インジゴイド系、インダンスレン系、イモニウム系、アミニウム系、クマリン系、ルブレン系、アクリジン系、フルオラン系、スチリル系等の有機色素が挙げられる。
【００７４】
前記有機色素安定化剤の各々の添加量としては、十分な有機色素安定化効果を得られる限り特に限定されることはないが、有機色素１モルに対して０．１〜１５モル、好ましくは０．３〜１０モル、より好ましくは０．５〜５モルである。０．１モル未満では、十分な安定化効果が得られないおそれがあり、１５モル以上添加しても添加量に見合う安定化効果が得られず経済的でない。
【００７５】
前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができる。ここで、無機系バインダーとはポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
尚、本発明において使用する「マトリックス材料」という表現は、有機系または無機系バインダーと呼ばれるマトリックス成分（固形分）そのものだけでなく、該マトリックス成分を含む溶液（例えば、市販のバインダー溶液）も含む。
【００７６】
有機系バインダーとしては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等のポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂や、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体や、ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のポリスチレン系樹脂や、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体や、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル系樹脂や、シリコーン系樹脂や、ポリスルホン系樹脂や、ポリアミド系樹脂や、ポリイミド系樹脂や、ポリウレタン系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂や、エポキシ系樹脂や、フェノール系樹脂や、メラミン樹脂や、ユリア樹脂や、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂や、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴムもしくは天然ゴム等が挙げられる。
【００７７】
基材への密着性や透明性の観点から、好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂であり、より好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリビニル系樹脂である。
尚、（メタ）アクリルは、メタクリルおよびアクリルを示す。
【００７８】
無機系バインダーとしては、ポリシロキサン系バインダーを好適に用いることができる。この場合、ポリシロキサン系バインダー前駆体としてシリコンアルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を好適に用いることができる。
【００７９】
シリコンアルコキシドのゾル溶液は、通常、有機溶媒中で酸触媒存在下、シリコンアルコキシドに水を添加し、加水分解・重縮合させることにより、調製することができるが、市販のゾル溶液を使用しても良い。以下、シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製方法を具体的に説明する。
【００８０】
（シリコンアルコキシド）
シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランが挙げられる。
これらの中でも、得られる膜の状態や強度、経済性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランであることが好ましい。
【００８１】
これらのシリコンアルコキシドは、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【００８２】
また、最終的に得られるコーティング膜に所望の物性を付与するために、必要に応じて、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシドを添加・併用してもよい。
【００８３】
例えば、反射率を高くしたい場合にはチタンアルコキシドや亜鉛アルコキシドを、また機械的強度、耐アルカリ性を高くしたい場合にはジルコニウムアルコキシドを、耐候性を向上させたい場合にはニッケルアルコキシドを添加・併用することが効果的である。
【００８４】
（酸触媒）
酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸や、蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。加水分解・重縮合反応終了後に酸が残存すると、縮合安定性が悪化するため、低沸点で揮発性が高く、ＰＫａの小さな蟻酸を用いることが好ましい。
【００８５】
酸触媒の添加量としては、十分な触媒作用を発揮する限り、特に限定されるものではないが、通常シリコンアルコキシド１モルに対して０．０１モル以上、より好ましくは０．３モル以上を配合することが好ましい。０．０１モル未満では十分な触媒作用が得られないおそれがあり、また過剰に添加した場合には、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液が、残存する酸により経時的に劣化するおそれがある。よってシリコンアルコキシド１モルに対して１モル以下の割合で配合することが好ましい。
【００８６】
（水）
上記シリコンアルコキシドの加水分解を引き起こし得る限り、特に限定されないが、シリコンアルコキシド１モルに対し、２〜６モルの割合で水を添加することが好ましい。２モル未満では十分に加水分解が進行しないおそれがあり、６モルを超えると加水分解が速く進行しすぎてしまい、続く重縮合反応の進行を妨げることに加え、反応後に除去する水の量が多くなり効率的でない。
【００８７】
（反応溶媒）
シリコンアルコキシド、水、酸触媒に加えて反応溶媒を使用することにより、加水分解速度を適度に低め、確実に加水分解・重縮合を進行させることができる。さらに、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の粘度をハンドリングしやすいレベルにまで調整するための希釈剤としての役割も兼ねる。
【００８８】
反応溶媒としては、前記シリコンアルコキシドが溶解するものであれば特に限定されることなく、適宜選択し使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３ − オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００８９】
反応性や経済性の観点から、好ましくは、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類等である。
【００９０】
後工程において、該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に式（１）で表される有機色素安定化剤を溶解・混合する場合には、あらかじめ該有機色素安定化剤の溶解性が良好な溶媒を本工程における反応溶媒として使用することで、該有機色素安定化剤を溶解・混合する際の労力を軽減することができる。
【００９１】
ただし、該有機色素安定化剤の貧溶媒を用いて本工程におけるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を調製した場合であっても、該有機色素安定化剤を溶解・混合する前に該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の溶媒を該有機色素安定化剤の良溶媒に置換する、あるいは該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に該有機色素安定化剤の良溶媒を添加することによって、問題なく溶解・混合することもできる。
【００９２】
前記反応溶媒の使用量は、シリコンアルコキシド１００重量部に対し、５０〜１０００重量部、好ましくは１００〜５００重量部の範囲とすることが望ましい。５０重量部未満では、加水分解・重縮合反応を適度な反応速度で進行させることが困難になるおそれがあり、１０００重量部を超えると、加水分解・重縮合反応の速度が低下するため効率的でないことに加えて、後述の減圧・留去工程に長時間を必要とするおそれがある。
【００９３】
まず、１種類または２種類以上のシリコンアルコキシドを、酸触媒、水及び溶媒と混合する。この溶液を０〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃ の温度に維持することにより、加水分解・重縮合反応を進行させる。０℃未満では、加水分解・重縮合反応が進行しにくくなるおそれがある。また１５０℃を超えると加水分解・重縮合反応が急速に進行するため、未反応のアルコキシ基が残存したり、ゲル化や着色を招くおそれがある。加水分解・重縮合反応の時間は、温度条件にもよるが、通常１〜２４時間、より好ましくは２〜８時間である。１時間未満では、十分に加水分解・重縮合反応が進行しないおそれがあり、２４時間を超えてもそれ以上反応が進まないことから経済的でない。
【００９４】
加水分解・重縮合反応により副生するアルコールと水を系外に除去するために、反応終了後、あるいは反応中に、反応液を減圧留去することが好ましい。減圧留去しながら反応を進行させれば、重縮合反応の反応速度を向上させる効果も見込めるためより好ましい。この工程において、前記酸触媒として蟻酸等の低沸点で揮発性の高い触媒を用いれば、溶媒とともに酸触媒も系外に除去でき、反応終了後のゾル溶液の安定性を確保することができる。
【００９５】
このようにして加水分解・重縮合反応の進行により、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を得ることができる。
【００９６】
これらのマトリックス材料は単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。組み合わせて使用する場合、有機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、無機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、有機系バインダーと無機系バインダーのそれぞれから選択される異なる２種類以上を組み合わせてもよい。
【００９７】
前記の溶媒としては、該有機色素安定化剤の溶解性が良好であるものであれば適宜選択し、使用することができる。有機色素を溶解させて使用する場合には、有機色素安定化剤および有機色素の溶解性が良好なものを適宜選択し使用することができ、さらにマトリックス材料および/またはマトリックスの材料の前駆体を含む場合には、有機色素安定化剤、有機色素およびマトリックス材料および/またはマトリックスの材料の前駆体の溶解性（相溶性）が良好なものを選択し、使用することができる。
【００９８】
例えば、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２ − ヘプタノン、３ − オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００９９】
これらの中で、該有機色素安定化剤の溶解性の観点からより好ましいものを挙げると、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２ − ヘプタノン、３ − オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等である。
【０１００】
さらに好ましくは、アルコール類としてはテトラフルオロプロパノール等が、ハロゲン化炭化水素類としてはクロロホルム、ジクロロメタン等が、ケトン類としてはＭＥＫ、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が、エステル類としてはγ−ブチロラクトン、乳酸エチル等が、エーテル類としてはシクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が、芳香族類としてはトルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンが、ラクタム類としては２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等が、グリコールエーテル類としてはＰＧＭＥＡ等が、その他スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【０１０１】
また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記溶媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、α−エチルスチレン、α−ブチルスチレン、α−ヘキシルスチレン、４−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ブロモスチレン、４−ニトロスチレン、４−メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、（メタ）アクリル酸や、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エトキシブチル（メタ）アクリレート、３−エトキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、メチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルや、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシドおよびビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ブロモ化ビスフェノールＡ、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジクロルメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス［｛（３−エ���ル−３−オキセタニル）メトキシ｝メチル］ベンゼン、トリ［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルフェニル］エーテル、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）オリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。
【０１０２】
また、無機系重合性モノマーとして、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を使用することができる。
【０１０３】
ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
【０１０４】
これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合溶媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。
【０１０５】
これら有機色素安定化剤、および有機色素、さらに必要に応じて併用されるマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および/または溶媒を混合する方法としては、特に制限されることなく公知の攪拌装置を使用することができる。
例えば、有機色素安定化剤、および有機色素（、およびマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー）を溶媒に溶解させて使用する場合には、特に混合の手順に関して制限を受けることはなく、いかなる順番で各成分を混合してもよい。尚、溶媒として重合性モノマーを使用する場合にも同様にして混合することができる。
【０１０６】
また、有機色素安定化剤（、およびマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー）を溶媒に溶解させ、且つ有機色素は分散状態で使用したい場合には、混合の手順に関しては特に制限を受けることはないが、あらかじめ有機色素を溶媒に分散させた分散液を調整しておき、この分散液を添加・混合するか、あるいは全成分を添加・混合した後、公知の分散機を用いて、該有機色素を分散させることができる。尚、溶媒として重合性モノマーを使用する場合にも同様にして混合することができる。また、有機色素微粒子の分散状態を安定に保つために、必要に応じて公知の分散剤を併用してもよい。
【０１０７】
分散機としては、例えば、ペイントシェーカー、ボールミル、ナノミル、アトライター、バスケットミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、ＳＣミル、スパイクミル、アジテーターミル等のメディア型分散機や、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー、デゾルバー、ディスパー、高速インペラー分散機等のメディアレス型分散機が挙げられる。
中でも、コスト、処理能力の面から、メディア型分散機を使用するのが好ましい。また、これらのうちの一つを単独で用いても良く、２種類以上の装置を組み合わせて使用しても良い。
【０１０８】
分散メディアとしては、用いる分散機の分散室内部の材質に応じて、ステンレス鋼、スチール等の鋼球ビーズや、アルミナ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、シリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスビーズや、ソーダガラス、ハイビー等のガラスビーズや、ＷＣ等の超硬ビーズ等の中から適宜選択し使用することができ、そのビーズ径は０．０３〜１．５ｍｍφの範囲が好ましい。
【０１０９】
分散剤としては、例えば、アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリウム塩等のカチオン性分散剤や、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルジアリールジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等のアニオン性分散剤や、アルキルベタインやアミドベタイン等の両性分散剤や、ノニオン性分散剤や、フッ素系分散剤や、シリコン系分散剤や、高分子系分散剤等を使用することができる。中でも、次に例示するようなノニオン性分散剤や高分子系分散剤が特に好ましい。
【０１１０】
ノニオン性分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類や、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類や、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類や、ソルビタン脂肪酸エステル類が好ましく用いられる。分散性や経済性の観点から、より好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類およびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類である。
【０１１１】
高分子系分散剤としては、例えば、ポリウレタン、ポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸及びその塩、スチレン−アクリル酸共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加物等が好ましく用いられる。
【０１１２】
溶媒を使用することなく、該有機色素安定化剤、有機色素を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料（溶媒を含まないマトリックス成分そのもの）中に練りこむ方法を採用してもよい。この場合には公知の溶融混練機を使用することが好ましい。一例を挙げると、短軸押出機を用いて溶融混練した後にストライド状に押し出し、ペレット状にカットすることで、成形材料としての光吸収部材用組成物を得ることができる。溶融混練時の温度は使用する有機色素安定化剤および有機色素の分解温度と、使用するマトリックス材料の融点またはガラス転移点の双方を考慮した上で適宜設定することができ、また混練時の圧力については、使用するマトリックス材料の物性に応じて適宜設定することができる。
尚、溶融混練時に使用するマトリックス材料の好ましい例示としては、後述の基材の項で有機系基材として例示するものと同じものが挙げられる。
【０１１３】
また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、可塑剤、離型剤、蛍光増白剤、無機系光遮蔽剤等を適宜添加してもよい。
【０１１４】
また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の光吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。
【０１１５】
熱硬化の場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサノン−１−カルボニトリル）等のアゾ系化合物や、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキシド類や、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド等を挙げることができる。
【０１１６】
光硬化の場合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４’−メチルチオ−２，２−ジメチル−２−モルホリノアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、２−クロロチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【０１１７】
熱硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩等を挙げることができる。
光硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩等を挙げることができる。
【０１１８】
硬化剤としては、上記重合性モノマーとしてエポキシ系モノマーを使用する際に使用されるものとして、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物や、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、ピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジンなどの脂肪族アミンや、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４-ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンや、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類や、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩や、ポリメルカプタン、ポリサルファイドなどを挙げることができる。
【０１１９】
中でも、酸無水物類が重合後のエポキシ樹脂の機械特性を向上する点で好ましく、操作性において常温で液状のものが好ましい。具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。
常温で固体の酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を使用する場合には、常温で液状の酸無水物に溶解させ、常温で液状の混合物として使用することが操作上好ましい。
【０１２０】
エポキシ系モノマーの上記硬化反応を促進するために、さらに硬化促進剤を使用することもできる。硬化促進剤は、単独または２種以上を混合して使用することができる。  例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジアミノメチル）フェノール、１，８−ジアザビスシクロ（５，４，０）ウンデセン−７とそのオクチル酸塩などの第三級アミン類やイミダゾール類及び／ 又はそれらの有機カルボン酸塩や、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、ベンジルトリフェニルホスホニウム臭素塩、ベンジルトリブチルホスホニウム臭素塩などのホスフィン類及び／ 又はそれらの第四級塩や、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸錫などの有機カルボン酸金属塩や、亜鉛とβ−ジケトンよりなるアセチルアセトン亜鉛キレート、ベンゾイルアセトン亜鉛キレート、ジベンゾイルメタン亜鉛キレート、アセト酢酸エチル亜鉛キレートなどの金属− 有機キレート化合物や、芳香族スルホニウム塩などが挙げられる。
【０１２１】
《光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材》
かくして得られた光吸収部材用組成物を用いて光吸収部材を作製することができる。本発明における光吸収部材は主に以下の２種類の形態を示す。
【０１２２】
（Ｉ）基材上に該有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材
前記で得られた光吸収部材用組成物を基材に塗布し、乾燥および/または硬化することにより、基材上に該有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材を作製することができる。
前記光吸収部材用組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【０１２３】
基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス、金属板、セラミックス等の無機系基材や、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。
【０１２４】
また、層間剥離、コートムラを防ぐ目的で、塗布前に基材表面を洗浄してもよい。洗浄方法としては特に限定されず、基材の種類に応じて適宜選択し、実施することができる。通常、超音波洗浄、ＵＶ洗浄、セリ粉洗浄、酸洗浄、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄等を単独で、または組み合わせて実施することができる。洗浄終了後は、洗浄剤が残留しないように濯ぎ及び乾燥を行う。
【０１２５】
塗布により形成される光吸収膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０１〜１０００μｍ、好ましくは０．０５〜７００μｍ、さらに好ましくは０．１〜５００μｍである。０．０１μｍ未満では、膜特性と光吸収能の両立が困難となるおそれがあり、１０００μｍを超えると、後述の乾燥工程において光吸収部材用組成物中の揮発成分が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸を生じたり、クラックを生じる可能性がある。
【０１２６】
前記光吸収部材用組成物が溶媒を含有する場合には、乾燥工程を設けてもよい。乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒の種類によって適宜設定することができる。
また、前記光吸収部材用組成物がマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含有する場合には、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に１００〜５００℃、好ましくは１３０〜４００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
【０１２７】
１００℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体および/または有機色素が熱分解してしまうおそれがある。
焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
【０１２８】
また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
尚、後述の剥離性基材を用い、この上にコーティングを施した後、所望の別基材に該コーティング層を転写して得られた積層体も（Ｉ）の形態に含まれる。別基材としては前記の基材が例示される。
【０１２９】
具体的な方法としては、例えば、光吸収部材用組成物を剥離性基材（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）上に塗布し、必要に応じて乾燥工程を設けた後、ラミネーター等を用いて別基材（例えば、ガラス基材）と貼り合わせ、その後剥離性基材を剥離することで、別基材上に有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材を作製することができる。この場合にも必要に応じて、前記養生工程、焼成工程や重合処理等を設けてもよい。
例えば、所望の基材上に異なる成分からなるマトリックス膜を多層化させた積層体を作製する場合に、このような転写法を用いることが有効である。すなわち、前記のように基材上に直接光吸収部材用組成物を塗布し、光吸収層を形成する方法で多層膜を形成しようとする場合、例えば、ｎ＋１層目（ｎは自然数を表す）を形成する際に使用する光吸収部材用組成物は、ｎ層目の構成成分が溶解したり膨潤したりしないものでなければならず、ｎ＋１層目を構成する光吸収部材用組成物の構成成分が制限されてしまうが、かかる転写法を用いることにより、これらの制限を回避することができる。
【０１３０】
（II）該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜形態の光吸収部材
前記で得られた光吸収部材用組成物を、剥離性基材上に塗布し、乾燥または硬化した後に、剥離性基材から該光吸収膜を剥離することによって得られる、該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜形態の光吸収部材を作製することができる。
【０１３１】
光吸収部材用組成物を剥離性基材に塗布する方法としては、特に限定されず、前記（Ｉ）で例示したものが挙げられる。
前記剥離性基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。剥離性基材は、基材を構成する素材が剥離性を有するものであれば基材単独でもよいし、基材を構成する素材が剥離性を有しない場合、または剥離性が乏しい場合には基材に剥離性層を積層したものであってもよい。前者の基材を構成する素材が剥離性を有するものである場合には、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等を用いることができる。
後者の、基材に剥離性層を積層したものである場合、基材としては前記（Ｉ）で例示したような基材を用いることができる。これら基材の表面に基材とは接着性を有し、紫外線吸収部材用組成物から作製される該金属錯体を含有する膜層に対しては剥離性を有する剥離性層を積層したものを使用することができる。
剥離性層は、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、剥離性物質をバインダー樹脂中に溶解または分散させたもの等で構成される。
剥離性物質としては、特に制限されるものではなく、例えば、長鎖アルキル化合物、カルナバワックスやモンタンワックスや酸化ポリエチレンや非酸化ポリエチレン等の合成ワックス等が挙げられる。
【０１３２】
これらから選択される少なくとも１種以上を溶媒（分散媒）中に溶解、分散、希釈し、得られた組成物を基材上に公知の方法で塗布または印刷した後、乾燥または硬化することによって基材上に剥離性層を形成することができる。剥離性層の膜厚は、０．５μｍ〜１０μｍ程度であることが好ましい。
【０１３３】
光吸収部材用組成物を剥離性基材上に塗布することによって形成される該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０１〜１０００μｍ、好ましくは０．０５〜７００μｍ、さらに好ましくは０．１〜５００μｍである。０．０１μｍ未満では、膜特性と光吸収能の両立が困難となるおそれがあり、１０００μｍを超えると、後述の乾燥工程において光吸収部材用組成物中の揮発成分が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸を生じたり、クラックを生じる可能性がある。
【０１３４】
（Ｉ）と同じく、前記光吸収部材用組成物が溶媒を含有する場合には、乾燥工程を設けてもよく、乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒の種類によって適宜設定することができる。
また、前記光吸収部材用組成物がマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含有する場合には、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
【０１３５】
例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に１００〜５００℃、好ましくは１３０〜４００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
１００℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体および/または有機色素が熱分解してしまうおそれがある。
【０１３６】
焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
【０１３７】
また、前記光吸収部材用組成物の項で述べたように、該有機色素安定化剤、有機色素を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料（溶媒を含まないマトリックス成分そのもの）中に練りこむ方法を採用する場合には、前記光吸収部材用組成物の項で挙げた一例に倣えば、得られたペレット状の光吸収部材用組成物を、シート押出機を用いて成形することでシート状の光吸収部材を得ることができる。
【実施例】
【０１３８】
以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。【０１３９】
製造例１
フェノール１８．８ｇ（０．２モル）を５０℃まで加熱し溶融させ、ここに２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）を加えた後、さらに１８０℃まで加熱し、２０時間保温した。その後、反応液を８０℃まで冷却し、エタノール６０ｇを滴下し、さらに１時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別し、エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として白色の２，２’−イミノビスベンゾチアゾール（Ｌ１：下記表１参照）３２．１ｇを得た。収率は２−アミノベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。【０１４０】
製造例２
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾール５３．５ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（５，６−ジメチルベンゾチアゾール）（Ｌ２：下記表１参照）４２．１ｇを得た。収率は２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾールに対して８２．７％であった。【０１４１】
製造例３
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−６−クロロベンゾチアゾール５５．４ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（６−クロロベンゾチアゾール）（Ｌ３：下記表１参照）３７．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−クロロベンゾチアゾールに対して７０．４％であった。【０１４２】
製造例４
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール５４．１ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（６−メトキシベンゾチアゾール）（Ｌ４：下記表１参照）４１．７ｇを得た。収率は２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾールに対して８１．０％であった。【０１４３】
製造例５
２−アミノベンゾチアゾール９０．１ｇ（０．６０モル）をＤＭＦ５６６ｇに溶解させ、氷浴下で２０モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液３６ｍＬ（水酸化ナトリウム０．７２モル相当）を滴下し、次いで二硫化炭素９１．４ｇ（１．２モル）を滴下し、さらに２０モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液３６ｍＬ（水酸化ナトリウム０．７２モル相当）を滴下した後に、ヨウ化メチル１７８．８ｇ（１．２６モル）を滴下した。室温で２時間攪拌した後に、この反応液を水３０００ｇの中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート１０７．２ｇを得た。収率は２−アミノベンゾチアゾールに対して７０．２％であった。【０１４４】
２−アミノフェノール２１．８ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ９４４ｇに溶解させ、ここに５モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液４０ｍＬ（水酸化ナトリウム０．２０モル相当）を加え、室温で３０分間攪拌し、次いでここに前記の得られたＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ１４１６ｇに溶解させた溶液を滴下した。次いで１５３℃まで昇温し、窒素雰囲気下で６時間還流させた後、室温まで冷却し、この反応液を水２０００ｇ中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾール（Ｌ５：下記表１参照）３０．０ｇを得た。収率は２−アミノフェノールに対して５６．１％であった。【０１４５】
製造例６
製造例５において２−アミノベンゾチアゾール９０．１ｇ（０．６０モル）に代えて、２−アミノ−６−メチルベンゾチアゾール９８．５ｇ（０．６０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（６−メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエート１１４．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−メチルベンゾチアゾールに対して７０．９％であった。【０１４６】
製造例５においてＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）に代えて、ここで得られたＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（６−メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエート５３．７ｇ（０．２０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、２−［２−（６−メチルベンゾチアゾリル）アミノ］ベンゾオキサゾール（Ｌ６：下記表１参照）２９．４ｇを得た。収率はＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（６−メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエートに対して５２．３％であった。【０１４７】
製造例７
製造例５において２−アミノフェノール２１．８ｇ（０．２０モル）に代えて、２−アミノ−４−クロロフェノール２８．７ｇ（０．２０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、５−クロロ−２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾール（Ｌ７：下記表１参照）３２．４ｇを得た。収率は２−アミノ−４−クロロフェノールに対して５３．７％であった。【０１４８】
製造例８
ｏ−フェニレンジアミン２１．６ｇ（０．２モル）をＤＭＦ９４４ｇに溶解させ、ここにＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ１２５８ｇに溶解させた溶液を滴下した。次いで１５３℃まで昇温し、窒素雰囲気下で１３時間還流させた後、０℃まで冷却した。ここに水２０００ｇを滴下し、析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾイミダゾール（Ｌ８：下記表１参照）３２．０ｇを得た。収率はｏ−フェニレンジアミンに対して６０．１％であった。【０１４９】
製造例９
エチルシアノアセテート１０１．８ｇ（０．９０モル）と２−アミノチオフェノール１１２．７ｇ（０．９０モル）を混合し、窒素雰囲気下において１２０℃で２時間保温した。この反応液を室温まで冷却した後、黄色のオイルとしてエチル−２−ベンゾチアゾリルアセテート１８５．７ｇを得た。収率は２−アミノチオフェノールに対して９３．２％であった。【０１５０】
Ｎ−メチル−ｏ−フェニレンジアミン７３．３ｇ（０．６０モル）と、前で得られたエチル−２−ベンゾチアゾリルアセテート１３２．８ｇ（０．６０モル）を混合し、窒素雰囲気下において１６０℃で６時間還流した。このとき副生するエタノールを留去しながら還流した。反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテル９００ｇを加え、析出した黄色の固体を濾別した。濾別した黄色固体に２０％塩酸１５００ｇを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で３０分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がｐＨ８になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下し中和したところ、沈殿物が得られた。これを濾別し、水６００ｇ、クロロホルム６００ｇを加え、攪拌し、分液処理によりクロロホルム層を取り出した。クロロホルムを留去し、さらに乾燥することで、微黄色の（２−ベンゾチアゾリル）（２−（Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル））メタン（Ｌ９：下記表１参照）３６．９ｇを得た。収率はＮ−メチル−ｏ−フェニレンジアミンに対して２２．０％であった。【０１５１】
製造例１０
２−アミノフェノール３２．７ｇ（０．３０モル）とマロン酸１５．６ｇ（０．１５モル）を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸３９０ｇ中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１５０℃まで昇温し、３時間保温した後、室温まで冷却した後に水を滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、ビス（２−ベンゾオキサゾリル）メタン（Ｌ１０：下記表１参照）２５．３ｇを得た。収率は２−アミノフェノールに対して６７．４％であった。【０１５２】
製造例１１
製造例１０において２−アミノフェノール３２．７ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノチオフェノール３７．６ｇ（０．３０モル）を用いた以外は製造例１０と同様にして、ビス（２−ベンゾチアゾリル）メタン（Ｌ１１：下記表１参照）３８．２ｇを得た。収率は２−アミノチオフェノールに対して９０．２％であった。【０１５３】
製造例１２
Ｎ−メチル−ｏ−フェニレンジアミン１１０．０ｇ（０．９０モル）とマロン酸ジエチル７２．１ｇ（０．４５モル）を混合し、この混合液を窒素雰囲気下において１５５℃で１１時間還流した。析出物を濾別し、ジエチルエーテルで洗浄後、２０％塩酸９００ｍＬを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で３０分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がｐＨ８になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下したところ、沈殿を生じた。これを濾別し灰色固体を得た。この灰色固体をＩＰＡから再結晶することにより精製し、乾燥することで、白色のビス［２−（Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）］メタン（Ｌ１２：下記表１参照）３８．１ｇを得た。収率はＮ−メチル−ｏ−フェニレンジアミンに対して３０．６％であった。【０１５４】
製造例１３
製造例１で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾール（Ｌ１：下記表１参照）１０ｇ（０．０３５モル）をクロロスルホン酸７０．１ｇ(０．６０２モル)に添加し、混合物を室温で１８時間攪拌した。さらに塩化チオニル１０ｇ（０．０８４モル）を添加し５０℃で１時間攪拌した後室温まで冷却した。この混合物を４００ｇの氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒にジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）と即座に攪拌した。室温まで暖めた後、約１ｍＬの５０重量％の水酸化ナトリウム溶液によって混合物をアルカリ性にした。固体を吸引ろ過し、水で洗浄後、乾燥することで薄黄色の２，２’−イミノビス［６−（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノスルホニル）ベンゾチアゾール］（Ｌ１３：下記表１参照）１８．６ｇを得た。収率は２，２’−イミノビスベンゾチアゾールに対して８０．０％であった。【０１５５】
製造例１４
製造例１３においてジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）に代えて、モルホリン８．８ｇ（０．１０１モル）を用いた以外は製造例１３と同様にして、２，２’−イミノビス（６−モルホリノスルホニルベンゾチアゾール）（Ｌ１４：下記表１参照）１５．４ｇを得た。収率は２，２’−イミノビスベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。
製造例１５
製造例１３においてジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）に代えて、モルホリン８．８ｇ（０．１０１モル）を用いた以外は製造例１３と同様にして、２，２’−イミノビス（６−モルホリノスルホニルベンゾチアゾール）（Ｌ１４：下記表１参照）１５．４ｇを得た。収率は２，２’−イミノビスベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。【０１５６】
得られた各配位子の構造式を表１に示す。【０１５７】
【表１−１】
2012008318.tif 000014
【０１５８】
【表１−２】
2012008318.tif 000015
【０１５９】
製造例１５
製造例１で得られた配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）を温ＤＭＦ２５０ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）を添加した。この反応液を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール３００ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体（Ｃ１−Ｃｏ）２８．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して９１．４％であった。【０１６０】
製造例１６
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ２）３３．９ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、橙色のコバルト錯体（Ｃ２−Ｃｏ）３２．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ２）に対して８７．８％であった。【０１６１】
製造例１７
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）を用い、さらに酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）に代えて、酢酸ニッケル・４水和物１２．４ｇ（０．０５モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、赤紫色のニッケル錯体（Ｃ３−Ｎｉ）２８．０ｇを得た。収率は配位子（Ｌ３）に対して７３．６％であった。【０１６２】
製造例１８
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ４）３４．３ｇ（０．１モル）を用い、さらに酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）に代えて、酢酸銅・１水和物１０．０ｇ（０．０５モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ４−Ｃｕ）２６．２ｇを得た。収率は配位子（Ｌ４）に対して７０．０％であった。【０１６３】
製造例１９
製造例１７において配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ５）２６．７ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１９と同様にして、赤褐色のニッケル錯体（Ｃ５−Ｎｉ）２１．７ｇを得た。収率は配位子（Ｌ５）に対して７３．５％であった。【０１６４】
製造例２０
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ６）２８．１ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ６−Ｃｏ）１６．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ６）に対して５２．６％であった。【０１６５】
製造例２１
製造例１７において配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ７）３０．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１７と同様にして、赤紫色のニッケル錯体（Ｃ７−Ｎｉ）２２．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ７）に対して６８．２％であった。【０１６６】
製造例２２
製造例１８において配位子（Ｌ４）３４．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ８）２６．６ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１８と同様にして、緑色の銅錯体（Ｃ８−Ｃｕ）１６．６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ８）に対して５５．９％であった。【０１６７】
製造例２３
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ９）２７．９ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ９−Ｃｏ）２１．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ９）に対して６９．１％であった。【０１６８】
製造例２４
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１０）２５．０ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、赤色のコバルト錯体（Ｃ１０−Ｃｏ）２０．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１０）に対して７２．８％であった。【０１６９】
製造例２５
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１１）２８．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、紫色のコバルト錯体（Ｃ１１−Ｃｏ）２２．１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１１）に対して７１．１％であった。【０１７０】
製造例２６
製造例１７において配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１２）２７．６ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１７と同様にして、灰色のニッケル錯体（Ｃ１２−Ｎｉ）２０．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１２）に対して６８．３％であった。【０１７１】
製造例２７
製造例１３で得られた配位子（Ｌ１３）４．００ｇ（０．００６モル）を温ＤＭＦ２４ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸ニッケル・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール２０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄緑色のニッケル錯体（Ｃ１３−Ｎｉ）３．５８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１３）に対して８５．９％であった。  【０１７２】
製造例２８
製造例２７において酢酸ニッケル・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）に代えて酢酸コバルト・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）を用いた以外は製造例２７と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）３．７１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１３）に対して８９．０％であった。【０１７３】
製造例２９
製造例２７において酢酸ニッケル・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）に代えて酢酸銅・１水和物０．６０ｇ（０．００３モル）を用いた以外は製造例２７と同様にして、緑色の銅錯体（Ｃ１３−Ｃｕ）３．５５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１３）に対して８４．９％であった。【０１７４】
製造例３０
製造例２７において配位子（Ｌ１３）４．００ｇ（０．００６モル）に代えて配位子（Ｌ１４）３．４９ｇ（０．００６モル）を用いた以外は製造例２７と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ１４−Ｃｏ）３．１４ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１４）に対して８５．８％であった。【０１７５】
得られた各金属錯体の構造式を表２に示す。【０１７６】
【表２】
2012008318.tif 000016
【０１７７】
（無機系バインダー：シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製）
尚、以下に記載のシリコンアルコキシドのゾル溶液の加熱残分とは、ガラス基材上にゾル溶液の液滴をのせ２００℃で３０分間加熱した際にガラス基材上に残った固形分の重量を、前記のガラス基材上にのせたゾル溶液の液滴の重量で除した値である。それぞれの試料について３回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。【０１７８】
製造例３１
メチルトリエトキシシラン４９．９ｇ（０．２８モル）と、フェニルトリエトキシシラン２４．０ｇ（０．１０モル）と、ＭＥＫ８０ｇとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸６．９ｇ （０．１５モル）および水２５．０ｇを添加し、室温で３０分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を７０ ℃まで昇温し、４時間保温し、加水分解・重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに１時間加水分解・重縮合反応を進行させることで、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＭＥＫ溶液（シロキサンオリゴマー/ＭＥＫ溶液，加熱残分４２．５％）を得た。【０１７９】
（光吸収部材用組成物およびこれを用いた光吸収部材）
実施例１
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．７９ｇをＭＥＫ８．８ｇに溶解させ、これにシアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）と、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を加え、溶解させることにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Ａを得た。
この光吸収部材用組成物Ａを、バーコーター（１００μｍ）を用いてポリエチレンテレフタレートフィルム基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において５分間予備乾燥させた。その後８０℃で３分間乾燥し、光吸収部材Ａを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１８０】
実施例２
実施例１において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ２（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０２３０）７．０ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ２−Ｃｏ）８．７ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｂ、および光吸収部材Ｂを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０１８１】
実施例３
実施例１において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ３（下記表３参照、Ａｍｅｒｉｃａｎ  ＤｙｅＳｏｕｒｃｅ社製のＡＤＳ８１７ＢＩ）６．９ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３−Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｃ、および光吸収部材Ｃを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０１８２】
実施例４
実施例１において、ＭＥＫ８．８ｇに代えてクロロホルム１６，２ｇを用い、またシアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ４（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０９４６）１３．０ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ４−Ｃｕ）１２．７ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｄ、および光吸収部材Ｄを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。【０１８３】
実施例５
実施例１において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてスクアリリウム系色素Ｄ５（下記表３参照、Ｓｅｎｓｉｅｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＳＴ３４５）５．７ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ５−Ｎｉ）１０．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｅ、および光吸収部材Ｅを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１８４】
実施例６
実施例１において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてジイモニウム系色素Ｄ６（下記表３参照、Ｓｅｎｓｉｅｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＳＴ１２１０）２５．０ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ６−Ｃｏ）１３．８ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｆ、および光吸収部材Ｆを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０１８５】
実施例７
シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）と製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７−Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）をＭＥＫ０．７ｇに溶解させ、これに製造例３１で得られたシロキサンオリゴマー/ＭＥＫ溶液を加え、溶解・混合することにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｇを得た。
この光吸収部材用組成物Ｇを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において５分間予備乾燥させた。その後、２００℃で３０分間焼成し、光吸収部材Ｇを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１８６】
実施例８
実施例７において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ２（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０２３０）７．８ｍｇ（０．０１３２ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７−Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えて製造例２２で得られた金属錯体（Ｃ８−Ｃｕ）７．８ｍｇ（０．０１３２ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｈ、および光吸収部材Ｈを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１８７】
実施例９
実施例７において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ３（下記表３参照、Ａｍｅｒｉｃａｎ  ＤｙｅＳｏｕｒｃｅ社製のＡＤＳ８１７ＢＩ）７．６ｍｇ（０．００９５５６ｍｍｏｌ）を用い、製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７−Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えて製造例２３で得られた金属錯体（Ｃ９−Ｃｏ）５．９ｍｇ（０．００９５５６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｉ、および光吸収部材Ｉを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１８８】
実施例１０
実施例７において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えてスクアリリウム系色素Ｄ５（下記表３参照、Ｓｅｎｓｉｅｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＳＴ３４５）６．５ｍｇ（０．０２００ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７−Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えて製造例２４で得られた金属錯体（Ｃ１０−Ｃｏ）１１．２ｍｇ（０．０２００ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｊ、および光吸収部材Ｊを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１８９】
実施例１１
実施例７において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えてジイモニウム系色素Ｄ６（下記表３参照、Ｓｅｎｓｉｅｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＳＴ１２１０）２７．２ｍｇ（０．０２４３ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７−Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えて製造例２５で得られた金属錯体（Ｃ１１−Ｃｏ）１５．１ｍｇ（０．０２４３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｋ、および光吸収部材Ｋを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１９０】
実施例１２
シアニン系色素Ｄ４（下記表３参照、ＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０９４６）１４．０ｍｇ（０．０１８２ｍｍｏｌ）と製造例２６で得られた金属錯体（Ｃ１２−Ｎｉ）１１．１ｍｇ（０．０１８２ｍｍｏｌ）をシクロペンタノン１．９ｇに溶解させ、これに重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート０．７ｇ、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の商品名：イルガキュア８１９）１３０ｍｇを加え、溶解・混合することにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｌを得た。
この光吸収部材用組成物Ｌを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた。その後１４０℃で３分間乾燥し、さらに露光装置（ナノテック株式会社製の商品名：マスクアライナーＬＡ４１０ｓ、株式会社三永電機製作所製の商品名：超高圧水銀ランプＬ２５０１Ｌ）を用いて露光（単色化なし、波長３６５ｎｍにおける光強度４０ｍＷ/ｃｍ２、２．５秒間照射）することによって硬化させ、紫外線吸収部材Ｌを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。【０１９１】
実施例１３
実施例３において、製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３−Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）に代えて製造例２７で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｎｉ）１２．０ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｍ、および光吸収部材Ｍを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０１９２】
実施例１４
実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）２４．０ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｎ、および光吸収部材Ｎを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０１９３】
実施例１５
実施例２において、製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ２−Ｃｏ）８．７ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）１６．５ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例２と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｏ、および光吸収部材Ｏを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１９４】
実施例１６
実施例３において、製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３−Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）１２．０ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｐ、および光吸収部材Ｐを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０１９５】
実施例１７
実施例４において、製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ４−Ｃｕ）１２．７ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）２３．５ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｑ、および光吸収部材Ｑを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。【０１９６】
実施例１８
実施例５において、製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ５−Ｎｉ）１０．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）２４．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例５と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｒ、および光吸収部材Ｒを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０１９７】
実施例１９
実施例６において、製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ６−Ｃｏ）１３．８ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）４０．０ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例６と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｓ、および光吸収部材Ｓを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１９８】
実施例２０
実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例２９で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｕ）２４．１ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｔ、および光吸収部材Ｔを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。【０１９９】
実施例２１
実施例１０において、製造例２４で得られた金属錯体（Ｃ１０−Ｃｏ）１１．２ｍｇ（０．０２００ｍｍｏｌ）に代えて製造例３０で得られた金属錯体（Ｃ１４−Ｃｏ）２４．５ｍｇ（０．０２００ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１０と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｕ、および光吸収部材Ｕを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。【０２００】
実施例２２
実施例１４において、製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）の添加量を２４．０ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて４８．０ｍｇ（０．０３４６ｍｍｏｌ）とした以外は実施例１４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｖ、および光吸収部材Ｖを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２０１】
実施例２３
実施例１４において、製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｃｏ）の添加量を２４．０ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて１２．０ｍｇ（０．００８６４ｍｍｏｌ）とした以外は実施例１４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｗ、および光吸収部材Ｗを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２０２】
比較例１
実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてビス（ジチオベンジル）ニッケル（東京化成工業株式会社製）９．４ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１、および光吸収部材Ｘ１を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２０３】
比較例２
実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてジ−ｎ−ブチルジチオカルバミン酸ニッケル（東京化成工業株式会社製）８．１ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ２、および光吸収部材Ｘ２を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２０４】
比較例３
実施例２において、製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ２−Ｃｏ）８．７ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）に代えてビス（ジチオベンジル）ニッケル（東京化成工業株式会社製）６．４ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例２と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ３、および光吸収部材Ｘ３を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２０５】
比較例４
実施例３において、製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３−Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）に代えてビス（ジチオベンジル）ニッケル（東京化成工業株式会社製）４．７ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ４、および光吸収部材Ｘ４を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。【０２０６】
比較例５
実施例４において、製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ４−Ｃｕ）１２．７ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）に代えてジ−ｎ−ブチルジチオカルバミン酸ニッケル（東京化成工業株式会社製）７．９ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ５、および光吸収部材Ｘ５を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２０７】
比較例６
実施例５において、製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ５−Ｎｉ）１０．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）に代えてジ−ｎ−ブチルジチオカルバミン酸ニッケル（東京化成工業株式会社製）８．２ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例５と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ６、および光吸収部材Ｘ６を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２０８】
比較例７
実施例６において、製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ６−Ｃｏ）１３．８ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）に代えてジ−ｎ−ブチルジチオカルバミン酸ニッケル（東京化成工業株式会社製）１０．４ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例６と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ７、および光吸収部材Ｘ７を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。【０２０９】
比較例８
実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ８、および光吸収部材Ｘ８を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２１０】
比較例９
実施例２において、製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ２−Ｃｏ）８．７ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例２と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ９、および光吸収部材Ｘ９を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２１１】
比較例１０
実施例３において、製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３−Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例３と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１０、および光吸収部材Ｘ１０を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２１２】
比較例１１
実施例４において、製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ４−Ｃｕ）１２．７ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１１、および光吸収部材Ｘ１１を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２１３】
比較例１２
実施例５において、製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ５−Ｎｉ）１０．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例５と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１２、および光吸収部材Ｘ１２を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２１４】
比較例１３
実施例６において、製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ６−Ｃｏ）１３．８ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例６と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１３、および光吸収部材Ｘ１３を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。【０２１５】
【表３】
2012008318.tif 000017
【０２１６】
[光吸収部材の評価]
実施例１〜２３および比較例１〜１３で得られた光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３について、以下の手順により実施した。【０２１７】
（１）耐光性試験
実施例１〜２３および比較例１〜１３で得られた光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３について、分光光度計（株式会社日立製作所製、型番：Ｕ−４１００）を用いて吸収スペクトルを測定した。光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３にはそれぞれ有機色素Ｄ１〜Ｄ６のいずれかが含有されており、これらＤ１〜Ｄ６の有機色素はそれぞれ特定の波長域に吸収を有している（上記表３参照）。光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３に一定の光を照射しながら、有機色素の吸収ピークの吸光度（以下色素ピークの吸光度）を時間別に測定することで、加速条件であるこの光照射による有機色素の経時劣化の様子を評価した。以下、詳細に説明する。
（１−１）
光吸収部材作製直後（耐光性試験実施前）に色素ピークの吸光度を測定した。
（１−２）
キセノンウェザーメーター（スガ試験機株式会社製、型番：Ｘ２５）を用いてこれら光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３に放射強度６０Ｗ／ｍ２（３００〜４００ｎｍ域における積算）の光を照射した。
（１−３）
経時的にこれら光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３をキセノンウェザーメーターから取り出し、色素ピークの吸光度を測定し、色素残存率を算出した。吸光度から残存率を算出する方法は下記の式による。【０２１８】
【数１】
2012008318.tif 000018
【０２１９】
（１−４）
時間を横軸、残存率を縦軸としたグラフにプロットし、光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ７についてそれぞれ残存率が５０％となる時間（Ｔ１）を読み取った。
（１−５）
（１−４）と同様に、比較例８〜１３で得られた光吸収部材Ｘ８〜Ｘ１３（安定化剤を含まない系）の残存率が５０％となる時間（Ｔ２）を読み取り、下記の式により安定化率を算出した。ここで算出される安定化率は、有機色素を単独で用いた場合に比べて、安定化剤を併用した場合に有機色素の劣化がどの程度抑制されるかを示す指標である。この安定化率の数値が大きい程、安定化剤としての能力がより高いことを示す。【０２２０】
【数２】
2012008318.tif 000019
【０２２１】
（２）耐熱性試験
（１）と同様に、実施例１〜２３および比較例１〜１３で得られた光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３について、分光光度計（株式会社日立製作所製、型番：Ｕ−４１００）を用いて、吸収スペクトルを測定した。光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３を加速条件である８０℃環境下に静置し耐熱性試験を実施しながら、有機色素の吸収ピークの吸光度（以下色素ピークの吸光度）を時間別に測定することで、熱による有機色素の経時劣化の様子を評価した。以下、詳細に説明する。
（２−１）
光吸収部材作製直後（耐熱性試験実施前）に色素ピークの吸光度を測定した。
（２−２）
小型環境試験器（エスペック株式会社製の商品名；ＳＨ−２２０）を用いてこれら光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３を８０℃の環境下で静置した。
（２−３）
経時的にこれら光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ１３を小型環境試験器から取り出し、色素ピークの吸光度を測定し、色素残存率を算出した。吸光度から残存率を算出する方法は下記の式による。【０２２２】
【数３】
2012008318.tif 000020
【０２２３】
（２−４）
時間を横軸、残存率を縦軸としたグラフにプロットし、光吸収部材Ａ〜ＷおよびＸ１〜Ｘ７についてそれぞれ残存率が８０％となる時間（Ｔ３）を読み取った。
（２−５）
（２−４）と同様に、比較例８〜１３で得られた光吸収部材Ｘ８〜Ｘ１３（安定化剤を含まない系）の残存率が８０％となる時間（Ｔ４）を読み取り、下記の式により安定化率を算出した。ここで算出される安定化率は、有機色素を単独で用いた場合に比べて、安定化剤を併用した場合に有機色素の劣化がどの程度抑制されるかを示す指標である。この安定化率の数値が大きい程、安定化剤としての能力がより高いことを示す。【０２２４】
【数４】
2012008318.tif 000021
【０２２５】
結果を以下の表４に示す。【０２２６】
【表４−１】
2012008318.tif 000022
【０２２７】
【表４−２】
2012008318.tif 000023
【０２２８】
（耐光性試験結果）
実施例１〜６は、有機色素Ｄ１〜Ｄ６と本発明における有機色素安定化剤（製造例１５〜２０で得られたもの）等モル量混合し、マトリックス材料として有機系バインダーを使用した系（光吸収材Ａ〜Ｆ）である。一方、比較例８〜１３はそれぞれ有機色素Ｄ１〜Ｄ６のみを使用し、マトリックス材料として有機系バインダーを使用した系（光吸収材Ｘ８〜Ｘ１３）である。これら実施例１〜６と比較例８〜１３との比較から、本発明における有機色素安定化剤は、有機色素Ｄ１〜Ｄ６すべてに対する長期間の優れた耐光性向上効果を有することが確認された。【０２２９】
実施例７〜１１は、有機色素Ｄ１〜Ｄ３およびＤ５〜Ｄ６と本発明における有機色素安定化剤（製造例２１〜２５で得られたもの）等モル量混合し、マトリックス材料として無機系バインダーを使用した系（光吸収材Ｇ〜Ｋ）である。これら実施例７〜１１と比較例８〜１０および比較例１２〜１３との比較より、本発明における有機色素安定化剤を使用することで、有機色素Ｄ１〜Ｄ３およびＤ５〜Ｄ６すべてについて耐光性が飛躍的に向上することが確認された。また、実施例１〜３および実施例５〜６と比べてもその安定化効果の度合いにほとんど差異は認められないことから、本発明における有機色素安定化剤の有機色素安定化効果はマトリックス材料の種類には影響を受けないと言える。【０２３０】
実施例１２はマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含む光吸収部材用組成物を基材上にコーティングし、これを光硬化した系（光吸収部材Ｌ）である。比較例１１と比べて大幅に有機色素の耐光性が向上していることから、このような使用形態においても本発明における有機色素安定化剤は問題なく機能することが分かる。【０２３１】
実施例１３〜２１は、有機色素Ｄ１〜Ｄ６と本発明における有機色素安定化剤のうち有機溶剤に対する溶解性面で特に有利な製造例２７〜３０で得られたものとを等モル量混合した系で、実施例１３〜２１はマトリックス材料として有機系バインダーを使用した系（光吸収材Ｍ〜Ｔ）であり、実施例２１はマトリックス材料として無機系バインダーを使用した系（光吸収材Ｕ）である。これら実施例１３〜２１と比較例８〜１３の比較から、本発明における有機色素安定化剤は、有機色素の種類およびその吸収波長によらず、優れた安定化効果を発揮する。【０２３２】
実施例２２は有機色素（Ｄ１）に対して本発明における有機色素安定化剤（Ｃ１３−Ｃｏ）の添加量を２倍モル量とした系（光吸収部材Ｖ）であり、実施例２３は有機色素（Ｄ１）に対して本発明における有機色素安定化剤（Ｃ１３−Ｃｏ）の添加量を０．５倍モル量とした系（光吸収部材Ｗ）である。有機色素（Ｄ１）と本発明における有機色素安定化剤（Ｃ１３−Ｃｏ）を等モル量混合した系である実施例１４（光吸収部材Ｎ）と比べると、２倍モル量添加した系では有機色素安定化効果が増大し、また０．５倍モル量添加した系ではやや有機色素安定化効果は低下しているものの、比較例１、２および８と比べると大幅に耐光性が向上していることが分かる。【０２３３】
実施例１、７、１４、２０（光吸収部材Ａ、Ｇ、Ｎ、Ｔ）と比較例１〜２（光吸収部材Ｘ１、Ｘ２）、実施例２、８、１５（光吸収部材Ｂ、Ｈ、Ｏ）と比較例３（光吸収部材Ｘ３）、実施例３，９，１３，１６（光吸収部材Ｃ、Ｉ、Ｍ、Ｐ）と比較例４（光吸収部材Ｘ４）、実施例４，１２，１７（光吸収部材Ｄ、Ｌ、Ｑ）と比較例５（光吸収部材Ｘ５）、実施例５、１０、１８、２１（光吸収部材Ｅ、Ｊ、Ｒ、Ｕ）と比較例６（光吸収部材Ｘ６）、実施例６，１１，１９（光吸収部材Ｆ、Ｋ、Ｓ）と比較例７（光吸収部材Ｘ７）のそれぞれの比較より、本発明における有機色素安定化剤が従来公知の安定化剤よりも長期間の優れた有機色素安定化効果を有することが確認された。【０２３４】
（耐熱性試験結果）
実施例および比較例の各々の結果を比較した場合、いずれの実施例についても、上記耐光性試験の結果に比べるとその安定化効果の度合いはやや小さいものの、本発明における有機色素安定化剤を有機色素と併用することで有機色素の耐熱性が数倍向上し、長期間に渡る安定化効果は公知の安定化剤よりも優れていることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０２３５】
本発明によれば、有機色素に対して非常に優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤を提供でき、これにより長期間に渡って優れた耐光性、耐熱性を持続することができる光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材を提供することができる。
【国際調査報告】
2012008318.tif 000026
2012008318.tif 000027