(57)【要約】  本発明による液晶表示装置（１００）は、垂直配向型の液晶層（３）と、一対の光配向膜（１２、２２）とを備える。複数の絵素（Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｙ）のそれぞれは、電圧印加時の液晶分子のチルト方向が互いに異なる４つの液晶ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）を有し、４つの液晶ドメインは、２行２列のマトリクス状に配置されている。一対の光配向膜は、行方向および列方向の一方に平行な第１方向に沿って液晶層に２ｎ画素（ｎは１以上の整数）を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有する。配向パターンの繰り返し単位である２ｎ画素内において、４つの液晶ドメインが第１の順序で配置された第１の絵素と、４つの液晶ドメインが第１の順序とは異なる第２の順序で配置された第２の絵素とが混在する。本発明によると、１個の画素に他の絵素とは異なるサイズの絵素が含まれている液晶表示装置に４ＤＲＴＮモードを採用したときの、光配向処理に要するマスクが基板片側で１枚ずつとなり、コストおよび時間の増加を抑制することができる。
2011062165.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直配向型の液晶層と、
前記液晶層を介して互いに対向する第１基板および第２基板と、
前記第１基板の前記液晶層側に設けられた第１電極および前記第２基板の前記液晶層側に設けられた第２電極と、
前記第１電極と前記液晶層との間および前記第２電極と前記液晶層との間に設けられた一対の光配向膜と、を備え、
複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有し、
前記複数の画素のそれぞれは、互いに異なる色を表示する少なくとも３個の絵素を含む複数の絵素を有し、
前記複数の絵素のそれぞれは、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されたときの前記液晶層の層面内および厚さ方向における中央付近の液晶分子のチルト方向が予め決められた第１のチルト方向である第１液晶ドメインと、第２のチルト方向である第２液晶ドメインと、第３のチルト方向である第３液晶ドメインと、第４のチルト方向である第４液晶ドメインと、を有し、前記第１、第２、第３および第４のチルト方向は、任意の２つの方向の差が９０°の整数倍に略等しい４つの方向であり、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインは、２行２列のマトリクス状に配置されている、液晶表示装置であって、
前記一対の光配向膜は、行方向および列方向の一方に平行な第１方向に沿って前記液晶層に２ｎ画素（ｎは１以上の整数）を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有し、
配向パターンの繰り返し単位である２ｎ画素内において、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインが第１の順序で配置された第１の絵素と、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインが前記第１の順序とは異なる第２の順序で配置された第２の絵素とが混在する液晶表示装置。
【請求項２】
配向パターンの繰り返し単位である２ｎ画素内において、一側半分のｎ画素と他側半分のｎ画素とで配向パターンが反転している請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
配向パターンの繰り返し単位である２ｎ画素のうちの一側半分のｎ画素内で、前記第１の絵素の個数と前記第２の絵素の個数との差は０または１であり、他側半分のｎ画素内でも、前記第１の絵素の個数と前記第２の絵素の個数との差は０または１である請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記複数の画素のそれぞれにおける前記複数の絵素を、前記第１方向に沿った長さで順位付けたとき、順位が連続する２つの絵素の一方は前記第１の絵素であり、他方は前記第２の絵素である請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
ｎは１以上１０以下である請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記複数の絵素は、前記第１方向に沿った長さが所定の第１の長さＬ１である絵素と、前記第１方向に沿った長さが前記第１の長さＬ１とは異なる第２の長さＬ２である絵素と、を含む請求項１から５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記複数の絵素は、前記第１方向に沿った長さが前記第１の長さＬ１および前記第２の長さＬ２とは異なる第３の長さＬ３である絵素をさらに含む請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記複数の絵素のそれぞれ内において、ある中間調を表示するときに当該中間調よりも暗い領域が形成され、
前記第１の絵素内に形成される前記暗い領域は、略卍状であり、
前記第２の絵素内に形成される前記暗い領域は、略８の字状である請求項１から７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記一対の光配向膜の配向規制力によって、行方向および列方向の他方に平行な第２方向に沿って前記液晶層に２ｍ画素（ｍは１以上の整数）を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れ、
前記第２方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２ｍ画素内において、前記第１の絵素と、前記第２の絵素とが混在する請求項１から８のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第２方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２ｍ画素内において、一側半分のｍ画素と他側半分のｍ画素とで配向パターンが反転している請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第２方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２ｍ画素のうちの一側半分のｍ画素内で、前記第１の絵素の個数と前記第２の絵素の個数との差は０または１であり、他側半分のｍ画素内でも、前記第１の絵素の個数と前記第２の絵素の個数との差は０または１である請求項９または１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
ｍは１以上１０以下である請求項９から１１のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインは、前記チルト方向が隣接する液晶ドメイン間で略９０°異なるように配置されており、
前記第１のチルト方向と前記第３のチルト方向とは、略１８０°の角をなし、
前記第１の絵素内において、
前記第１電極のエッジのうちの前記第１液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第１のチルト方向と９０°超の角をなす第１エッジ部を含み、
前記第１電極のエッジのうちの前記第２液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第２のチルト方向と９０°超の角をなす第２エッジ部を含み、
前記第１電極のエッジのうちの前記第３液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第３のチルト方向と９０°超の角をなす第３エッジ部を含み、
前記第１電極のエッジのうちの前記第４液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第４のチルト方向と９０°超の角をなす第４エッジ部を含み、
前記第１エッジ部および前記第３エッジ部は、表示面における水平方向および垂直方向の一方に略平行であり、前記第２エッジ部および前記第４エッジ部は、表示面における水平方向および垂直方向の他方に略平行であり、
前記第２の絵素内において、
前記第１電極のエッジのうちの前記第１液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第１のチルト方向と９０°超の角をなす第１エッジ部を含み、
前記第１電極のエッジのうちの前記第３液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第３のチルト方向と９０°超の角をなす第３エッジ部を含み、
前記第１エッジ部および前記第３エッジ部のそれぞれは、表示面における水平方向に略平行な第１部分と表示面における垂直方向に略平行な第２部分とを含む、請求項１から１２のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記複数の絵素のそれぞれは、それぞれ内の前記液晶層に互いに異なる電圧を印加することができる複数のサブ絵素を有し、
前記複数のサブ絵素のそれぞれが、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインを有する請求項１から１３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記複数の絵素は、赤を表示する赤絵素、緑を表示する緑絵素および青を表示する青絵素を含む請求項１から１４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記複数の絵素は、黄を表示する黄絵素をさらに含む請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記液晶層を介して互いに対向し、それぞれの透過軸が互いに略直交するように配置された一対の偏光板をさらに備え、
前記第１、第２、第３および第４のチルト方向は、前記一対の偏光板の前記透過軸と略４５°の角をなす、請求項１から１６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記液晶層は、負の誘電異方性を有する液晶分子を含み、
前記一対の光配向膜のうちの一方によって規定されるプレチルト方向と他方によって規定されるプレチルト方向とは互いに略９０°異なる、請求項１から１７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
垂直配向型の液晶層と、
前記液晶層を介して互いに対向する第１基板および第２基板と、
前記第１基板の前記液晶層側に設けられた第１電極および前記第２基板の前記液晶層側に設けられた第２電極と、
前記第１電極と前記液晶層との間に設けられた第１光配向膜および前記第２電極と前記液晶層との間に設けられた第２光配向膜と、を備え、
複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有し、
前記複数の画素のそれぞれは、互いに異なる色を表示する少なくとも３個の絵素を含む複数の絵素を有し、
前記複数の絵素のそれぞれは、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されたときの前記液晶層の層面内および厚さ方向における中央付近の液晶分子のチルト方向が予め決められた第１のチルト方向である第１液晶ドメインと、第２のチルト方向である第２液晶ドメインと、第３のチルト方向である第３液晶ドメインと、第４のチルト方向である第４液晶ドメインと、を有し、前記第１、第２、第３および第４のチルト方向は、任意の２つの方向の差が９０°の整数倍に略等しい４つの方向であり、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインは、２行２列のマトリクス状に配置されている、液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１光配向膜の、前記複数の絵素のそれぞれに対応する領域内に、第１プレチルト方向を有する第１領域および前記第１プレチルト方向に反平行な第２プレチルト方向を有する第２領域を光配向処理によって形成する工程（Ａ）と、
前記第２光配向膜の、前記複数の絵素のそれぞれに対応する領域内に、第３プレチルト方向を有する第３領域および前記第３プレチルト方向に反平行な第４プレチルト方向を有する第４領域を光配向処理によって形成する工程（Ｂ）と、を包含し、
前記第１領域および前記第２領域を形成する前記工程（Ａ）は、
前記第１光配向膜の前記第１領域となる部分に光を照射する第１露光工程と、
前記第１露光工程の後に前記第１光配向膜の前記第２領域となる部分に光を照射する第２露光工程と、を含み、
前記第１露光工程および前記第２露光工程は、ストライプ状の複数の遮光部と前記複数の遮光部間に位置する複数の透光部とを含むマスクパターンを有する、共通の同一の第１フォトマスクを用いて実行され、
前記第１フォトマスクの、行方向および列方向の一方に平行な第１方向に沿って連続するあるｎ画素（ｎは１以上の整数）に対応する領域のマスクパターンと、前記あるｎ画素に前記第１方向に沿って隣接する別のｎ画素に対応する領域のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある液晶表示装置の製造方法。
【請求項２０】
ストライプ状の前記複数の遮光部は、行方向および列方向の他方に平行な第２方向に沿って延びている請求項１９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第１領域および前記第２領域を形成する前記工程（Ａ）は、
前記第１露光工程の前に、前記第１光配向膜の、前記複数の絵素のそれぞれの略半分に対応する部分が、前記複数の遮光部に重なるように前記第１フォトマスクを配置する第１フォトマスク配置工程と、
前記第１露光工程と前記第２露光工程との間に、前記第１フォトマスクを前記第１方向に沿ってｎ画素分ずらす第１フォトマスク移動工程と、をさらに含む、請求項１９または２０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記複数の絵素は、前記第１方向に沿った長さが所定の第１の長さＬ１である絵素と、前記第１方向に沿った長さが前記第１の長さＬ１とは異なる第２の長さＬ２である絵素と、を含む請求項１９から２１のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記複数の絵素は、前記第１方向に沿った長さが前記第１の長さＬ１および前記第２の長さＬ２とは異なる第３の長さＬ３である絵素をさらに含む請求項２２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２４】
ｎは１以上１０以下である請求項１９から２３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２５】
前記第３領域および前記第４領域を形成する前記工程（Ｂ）は、
前記第２光配向膜の前記第３領域となる部分に光を照射する第３露光工程と、
前記第３露光工程の後に前記第２光配向膜の前記第４領域となる部分に光を照射する第４露光工程と、を含み、
前記第３露光工程および前記第４露光工程は、ストライプ状の複数の遮光部と前記複数の遮光部間に位置する複数の透光部とを含むマスクパターンを有する、共通の同一の第２フォトマスクを用いて実行され、
前記第２フォトマスクの、行方向および列方向の他方に平行な第２方向に沿って連続するあるｍ画素（ｍは１以上の整数）に対応する領域のマスクパターンと、前記あるｍ画素に前記第２方向に沿って隣接する別のｍ画素に対応する領域のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある請求項１９から２４のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２６】
前記第２フォトマスクのストライプ状の前記複数の遮光部は、前記第１方向に沿って延びている請求項２５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２７】
前記第３領域および前記第４領域を形成する前記工程（Ｂ）は、
前記第３露光工程の前に、前記第２光配向膜の、前記複数の絵素のそれぞれの略半分に対応する部分が、前記複数の遮光部に重なるように前記第２フォトマスクを配置する第２フォトマスク配置工程と、
前記第３露光工程と前記第４露光工程との間に、前記第２フォトマスクを前記第２方向に沿ってｍ画素分ずらす第２フォトマスク移動工程と、をさらに含む、請求項２５または２６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２８】
前記複数の絵素は、赤を表示する赤絵素、緑を表示する緑絵素および青を表示する青絵素を含む請求項１９から２７のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２９】
前記複数の絵素は、黄を表示する黄絵素をさらに含む請求項２８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置およびその製造方法に関し、特に、広視野角特性を有する液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置の表示特性が改善され、テレビジョン受像機などへの利用が進んでいる。液晶表示装置の視野角特性は向上したもののさらなる改善が望まれている。特に、垂直配向型の液晶層を用いた液晶表示装置（ＶＡモードの液晶表示装置と呼ばれることもある。）の視野角特性を改善する要求は強い。【０００３】
現在、テレビ等の大型表示装置に用いられているＶＡモードの液晶表示装置には、視野角特性を改善するために、１個の絵素に複数の液晶ドメインを形成する配向分割構造が採用されている。配向分割構造を形成する方法としては、ＭＶＡモードが主流である。ＭＶＡモードは、例えば特許文献１に開示されている。【０００４】
ＭＶＡモードでは、垂直配向型液晶層を挟んで対向する一対の基板のそれぞれの液晶層側に配向規制構造を設けることによって、各絵素内に配向方向（チルト方向）が異なる複数の液晶ドメイン（典型的には配向方向は４種類）が形成される。配向規制構造としては、電極に設けたスリット（開口部）や、リブ（突起構造）が用いられ、液晶層の両側から配向規制力が発揮される。【０００５】
しかしながら、スリットやリブを用いると、従来のＴＮモードで用いられていた配向膜によってプレチルト方向を規定した場合と異なり、スリットやリブが線状であることから、液晶分子に対する配向規制力が絵素内で不均一となるため、応答速度に分布が生じるという問題がある。また、スリットやリブを設けた領域の光透過率が低下するので、表示輝度が低下するという問題もある。【０００６】
上述の問題を回避するためには、ＶＡモードの液晶表示装置についても、配向膜でプレチルト方向を規定することによって配向分割構造を形成することが好ましい。そのようにして配向分割構造が形成されたＶＡモードの液晶表示装置を、本願出願人は、特許文献２に提案している。【０００７】
特許文献２に開示されている液晶表示装置では、配向膜でプレチルト方向を規定することによって、４分割配向構造が形成される。つまり、液晶層に電圧が印加されたときに、１個の絵素内に４つの液晶ドメインが形成される。このような４分割配向構造を、単に４Ｄ構造と呼ぶこともある。【０００８】
また、特許文献２に開示されている液晶表示装置では、液晶層を介して対向する一対の配向膜のうちの一方の配向膜によって規定されるプレチルト方向と、他方の配向膜によって規定されるプレチルト方向とは互いに略９０°異なっている。そのため、電圧印加時には、液晶分子はツイスト配向をとる。このように、プレチルト方向（配向処理方向）が互いに直交するように設けられた一対の垂直配向膜を用いることによって液晶分子がツイスト配向をとるＶＡモードは、ＶＡＴＮ（Vertical Alignment Twisted Nematic）モードあるいはＲＴＮ（Reverse Twisted Nematic）モードと呼ばれることもある。既に説明したように、特許文献２の液晶表示装置では４Ｄ構造が形成されることから、本願出願人は、特許文献２の液晶表示装置の表示モードを４Ｄ−ＲＴＮモードと呼んでいる。【０００９】
液晶分子のプレチルト方向を配向膜に規定させる具体的な方法としては、特許文献２にも記載されているように、光配向処理を行う方法が有望視されている。光配向処理は、非接触で処理できるので、ラビング処理のように摩擦による静電気の発生が無く、歩留まりを向上させることができる。【００１０】
また、近年、ＶＡモードの液晶表示装置の視野角特性のさらなる改善を目的として、絵素分割駆動技術が実用化されている（例えば特許文献３および４）。絵素分割駆動技術によれば、正面方向から観測したときのγ特性（ガンマ特性）と斜め方向から観測したときのγ特性とが異なるという問題点、すなわち、γ特性の視角依存性が改善される。ここで、γ特性とは、表示輝度の階調依存性である。絵素分割駆動技術では、１個の絵素を互いに異なる輝度を表示できる複数のサブ絵素で構成し、絵素に入力される表示信号電圧に対する所定の輝度を表示する。つまり、絵素分割駆動技術とは、複数のサブ絵素の互いに異なるγ特性を合成することによって、絵素のγ特性の視角依存性を改善する技術である。【００１１】
さらに、最近では、上述したような視野角特性の改善に加え、液晶表示装置の色再現範囲（表示可能な色の範囲）の拡大が望まれている。一般的な液晶表示装置では、光の三原色である赤、緑、青を表示する３個の絵素によって１個の画素が構成されており、そのことによってカラー表示が可能になっている。これに対し、特許文献５に開示されているような、表示に用いる原色の数を４つ以上に増やすことによって液晶表示装置の色再現範囲を広くする手法が提案されている。【００１２】
例えば、図９７に示す液晶表示装置９００のように、赤、緑、青および黄を表示する４個の絵素Ｒ、Ｇ、ＢおよびＹによって１個の画素Ｐを構成することにより、色再現範囲を広くすることができる。あるいは、赤、緑、青、黄およびシアンを表示する５個の絵素によって１個の画素を構成したり、赤、緑、青、黄、シアンおよびマゼンタを表示する６個の絵素によって１個の画素を構成したりしてもよい。４つ以上の原色を用いることにより、三原色を用いて表示を行う従来の液晶表示装置よりも色再現範囲を広くすることができる。４つ以上の原色を用いて表示を行う液晶表示装置は、多原色液晶表示装置と呼ばれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開平１１−２４２２２５号公報
【特許文献２】国際公開第２００６／１３２３６９号
【特許文献３】特開２００４−６２１４６号公報
【特許文献４】特開２００４−７８１５７号公報
【特許文献５】特表２００４−５２９３９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本願発明者は、多原色液晶表示装置への４Ｄ−ＲＴＮモードの採用を検討する上で、以下の問題を見出した。【００１５】
三原色を用いて表示を行う液晶表示装置では、１画素内における複数の絵素のサイズはすべて同じであることが一般的である。これに対し、多原色液晶表示装置では、明るさの向上やホワイトバランスの調整などの理由から、１画素内における一部の絵素のサイズを他の絵素のサイズと異ならせることがあり、１画素内におけるすべての絵素のサイズが異なることも考えられる。このような、絵素のサイズが均一でない液晶表示装置に４Ｄ−ＲＴＮモードを採用すると、後に詳述するように光配向処理を行う際に「ずらし露光」ができなくなり、それによって光配向処理に要するコストや時間が増加してしまう。【００１６】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、１個の画素に他の絵素とは異なるサイズの絵素が含まれている液晶表示装置に４Ｄ−ＲＴＮモードを採用したときの、光配向処理に要するコストおよび時間の増加を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明による液晶表示装置は、垂直配向型の液晶層と、前記液晶層を介して互いに対向する第１基板および第２基板と、前記第１基板の前記液晶層側に設けられた第１電極および前記第２基板の前記液晶層側に設けられた第２電極と、前記第１電極と前記液晶層との間および前記第２電極と前記液晶層との間に設けられた一対の光配向膜と、を備え、複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有し、前記複数の画素のそれぞれは、互いに異なる色を表示する少なくとも３個の絵素を含む複数の絵素を有し、前記複数の絵素のそれぞれは、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されたときの前記液晶層の層面内および厚さ方向における中央付近の液晶分子のチルト方向が予め決められた第１のチルト方向である第１液晶ドメインと、第２のチルト方向である第２液晶ドメインと、第３のチルト方向である第３液晶ドメインと、第４のチルト方向である第４液晶ドメインと、を有し、前記第１、第２、第３および第４のチルト方向は、任意の２つの方向の差が９０°の整数倍に略等しい４つの方向であり、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインは、２行２列のマトリクス状に配置されている、液晶表示装置であって、前記一対の光配向膜は、行方向および列方向の一方に平行な第１方向に沿って前記液晶層に２ｎ画素（ｎは１以上の整数）を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有し、配向パターンの繰り返し単位である２ｎ画素内において、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインが第１の順序で配置された第１の絵素と、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインが前記第１の順序とは異なる第２の順序で配置された第２の絵素とが混在する。【００１８】
ある好適な実施形態において、配向パターンの繰り返し単位である２ｎ画素内において、一側半分のｎ画素と他側半分のｎ画素とで配向パターンが反転している。【００１９】
ある好適な実施形態において、配向パターンの繰り返し単位である２ｎ画素のうちの一側半分のｎ画素内で、前記第１の絵素の個数と前記第２の絵素の個数との差は０または１であり、他側半分のｎ画素内でも、前記第１の絵素の個数と前記第２の絵素の個数との差は０または１である。【００２０】
ある好適な実施形態において、前記複数の画素のそれぞれにおける前記複数の絵素を、前記第１方向に沿った長さで順位付けたとき、順位が連続する２つの絵素の一方は前記第１の絵素であり、他方は前記第２の絵素である。【００２１】
ある好適な実施形態において、ｎは１以上１０以下である。【００２２】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素は、前記第１方向に沿った長さが所定の第１の長さＬ１である絵素と、前記第１方向に沿った長さが前記第１の長さＬ１とは異なる第２の長さＬ２である絵素と、を含む。【００２３】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素は、前記第１方向に沿った長さが前記第１の長さＬ１および前記第２の長さＬ２とは異なる第３の長さＬ３である絵素をさらに含む。【００２４】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素のそれぞれ内において、ある中間調を表示するときに当該中間調よりも暗い領域が形成され、前記第１の絵素内に形成される前記暗い領域は、略卍状であり、前記第２の絵素内に形成される前記暗い領域は、略８の字状である。【００２５】
ある好適な実施形態において、前記一対の光配向膜の配向規制力によって、行方向および列方向の他方に平行な第２方向に沿って前記液晶層に２ｍ画素（ｍは１以上の整数）を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れ、前記第２方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２ｍ画素内において、前記第１の絵素と、前記第２の絵素とが混在する。【００２６】
ある好適な実施形態において、前記第２方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２ｍ画素内において、一側半分のｍ画素と他側半分のｍ画素とで配向パターンが反転している。【００２７】
ある好適な実施形態において、前記第２方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２ｍ画素のうちの一側半分のｍ画素内で、前記第１の絵素の個数と前記第２の絵素の個数との差は０または１であり、他側半分のｍ画素内でも、前記第１の絵素の個数と前記第２の絵素の個数との差は０または１である。【００２８】
ある好適な実施形態において、ｍは１以上１０以下である。【００２９】
ある好適な実施形態において、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインは、前記チルト方向が隣接する液晶ドメイン間で略９０°異なるように配置されており、前記第１のチルト方向と前記第３のチルト方向とは、略１８０°の角をなし、前記第１の絵素内において、前記第１電極のエッジのうちの前記第１液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第１のチルト方向と９０°超の角をなす第１エッジ部を含み、前記第１電極のエッジのうちの前記第２液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第２のチルト方向と９０°超の角をなす第２エッジ部を含み、前記第１電極のエッジのうちの前記第３液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第３のチルト方向と９０°超の角をなす第３エッジ部を含み、前記第１電極のエッジのうちの前記第４液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第４のチルト方向と９０°超の角をなす第４エッジ部を含み、前記第１エッジ部および前記第３エッジ部は、表示面における水平方向および垂直方向の一方に略平行であり、前記第２エッジ部および前記第４エッジ部は、表示面における水平方向および垂直方向の他方に略平行であり、前記第２の絵素内において、前記第１電極のエッジのうちの前記第１液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第１のチルト方向と９０°超の角をなす第１エッジ部を含み、前記第１電極のエッジのうちの前記第３液晶ドメインに近接する部分は、それに直交し前記第１電極の内側に向かう方位角方向が前記第３のチルト方向と９０°超の角をなす第３エッジ部を含み、前記第１エッジ部および前記第３エッジ部のそれぞれは、表示面における水平方向に略平行な第１部分と表示面における垂直方向に略平行な第２部分とを含む。【００３０】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素のそれぞれは、それぞれ内の前記液晶層に互いに異なる電圧を印加することができる複数のサブ絵素を有し、前記複数のサブ絵素のそれぞれが、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインを有する。【００３１】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素は、赤を表示する赤絵素、緑を表示する緑絵素および青を表示する青絵素を含む。【００３２】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素は、黄を表示する黄絵素をさらに含む。【００３３】
ある好適な実施形態において、本発明による液晶表示装置は、前記液晶層を介して互いに対向し、それぞれの透過軸が互いに略直交するように配置された一対の偏光板をさらに備え、前記第１、第２、第３および第４のチルト方向は、前記一対の偏光板の前記透過軸と略４５°の角をなす。【００３４】
ある好適な実施形態において、前記液晶層は、負の誘電異方性を有する液晶分子を含み、前記一対の光配向膜のうちの一方によって規定されるプレチルト方向と他方によって規定されるプレチルト方向とは互いに略９０°異なる。【００３５】
本発明による液晶表示装置の製造方法は、垂直配向型の液晶層と、前記液晶層を介して互いに対向する第１基板および第２基板と、前記第１基板の前記液晶層側に設けられた第１電極および前記第２基板の前記液晶層側に設けられた第２電極と、前記第１電極と前記液晶層との間に設けられた第１光配向膜および前記第２電極と前記液晶層との間に設けられた第２光配向膜と、を備え、複数の行および複数の列を有するマトリクス状に配列された複数の画素を有し、前記複数の画素のそれぞれは、互いに異なる色を表示する少なくとも３個の絵素を含む複数の絵素を有し、前記複数の絵素のそれぞれは、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されたときの前記液晶層の層面内および厚さ方向における中央付近の液晶分子のチルト方向が予め決められた第１のチルト方向である第１液晶ドメインと、第２のチルト方向である第２液晶ドメインと、第３のチルト方向である第３液晶ドメインと、第４のチルト方向である第４液晶ドメインと、を有し、前記第１、第２、第３および第４のチルト方向は、任意の２つの方向の差が９０°の整数倍に略等しい４つの方向であり、前記第１、第２、第３および第４液晶ドメインは、２行２列のマトリクス状に配置されている、液晶表示装置の製造方法であって、前記第１光配向膜の、前記複数の絵素のそれぞれに対応する領域内に、第１プレチルト方向を有する第１領域および前記第１プレチルト方向に反平行な第２プレチルト方向を有する第２領域を光配向処理によって形成する工程（Ａ）と、前記第２光配向膜の、前記複数の絵素のそれぞれに対応する領域内に、第３プレチルト方向を有する第３領域および前記第３プレチルト方向に反平行な第４プレチルト方向を有する第４領域を光配向処理によって形成する工程（Ｂ）と、を包含し、前記第１領域および前記第２領域を形成する前記工程（Ａ）は、前記第１光配向膜の前記第１領域となる部分に光を照射する第１露光工程と、前記第１露光工程の後に前記第１光配向膜の前記第２領域となる部分に光を照射する第２露光工程と、を含み、前記第１露光工程および前記第２露光工程は、ストライプ状の複数の遮光部と前記複数の遮光部間に位置する複数の透光部とを含むマスクパターンを有する、共通の同一の第１フォトマスクを用いて実行され、前記第１フォトマスクの、行方向および列方向の一方に平行な第１方向に沿って連続するあるｎ画素（ｎは１以上の整数）に対応する領域のマスクパターンと、前記あるｎ画素に前記第１方向に沿って隣接する別のｎ画素に対応する領域のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。【００３６】
ある好適な実施形態において、ストライプ状の前記複数の遮光部は、行方向および列方向の他方に平行な第２方向に沿って延びている。【００３７】
ある好適な実施形態において、前記第１領域および前記第２領域を形成する前記工程（Ａ）は、前記第１露光工程の前に、前記第１光配向膜の、前記複数の絵素のそれぞれの略半分に対応する部分が、前記複数の遮光部に重なるように前記第１フォトマスクを配置する第１フォトマスク配置工程と、前記第１露光工程と前記第２露光工程との間に、前記第１フォトマスクを前記第１方向に沿ってｎ画素分ずらす第１フォトマスク移動工程と、をさらに含む。【００３８】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素は、前記第１方向に沿った長さが所定の第１の長さＬ１である絵素と、前記第１方向に沿った長さが前記第１の長さＬ１とは異なる第２の長さＬ２である絵素と、を含む。【００３９】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素は、前記第１方向に沿った長さが前記第１の長さＬ１および前記第２の長さＬ２とは異なる第３の長さＬ３である絵素をさらに含む。【００４０】
ある好適な実施形態において、ｎは１以上１０以下である。【００４１】
ある好適な実施形態において、前記第３領域および前記第４領域を形成する前記工程（Ｂ）は、前記第２光配向膜の前記第３領域となる部分に光を照射する第３露光工程と、前記第３露光工程の後に前記第２光配向膜の前記第４領域となる部分に光を照射する第４露光工程と、を含み、前記第３露光工程および前記第４露光工程は、ストライプ状の複数の遮光部と前記複数の遮光部間に位置する複数の透光部とを含むマスクパターンを有する、共通の同一の第２フォトマスクを用いて実行され、前記第２フォトマスクの、行方向および列方向の他方に平行な第２方向に沿って連続するあるｍ画素（ｍは１以上の整数）に対応する領域のマスクパターンと、前記あるｍ画素に前記第２方向に沿って隣接する別のｍ画素に対応する領域のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。【００４２】
ある好適な実施形態において、前記第２フォトマスクのストライプ状の前記複数の遮光部は、前記第１方向に沿って延びている。【００４３】
ある好適な実施形態において、前記第３領域および前記第４領域を形成する前記工程（Ｂ）は、前記第３露光工程の前に、前記第２光配向膜の、前記複数の絵素のそれぞれの略半分に対応する部分が、前記複数の遮光部に重なるように前記第２フォトマスクを配置する第２フォトマスク配置工程と、前記第３露光工程と前記第４露光工程との間に、前記第２フォトマスクを前記第２方向に沿ってｍ画素分ずらす第２フォトマスク移動工程と、をさらに含む。【００４４】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素は、赤を表示する赤絵素、緑を表示する緑絵素および青を表示する青絵素を含む。【００４５】
ある好適な実施形態において、前記複数の絵素は、黄を表示する黄絵素をさらに含む。
【発明の効果】
【００４６】
本発明によると、１個の画素に他の絵素とは異なるサイズの絵素が含まれている液晶表示装置に４Ｄ−ＲＴＮモードを採用したときの、光配向処理に要するコストおよび時間の増加を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】４分割配向構造を有する絵素の例を示す図である。
【図２】図１に示した絵素の配向分割方法を説明するための図であり、（ａ）はＴＦＴ基板側のプレチルト方向を示し、（ｂ）はＣＦ基板側のプレチルト方向を示し、（ｃ）は液晶層に電圧を印加したときのチルト方向および暗い領域を示している。
【図３】図１に示した絵素において絵素電極のエッジ近傍に暗線が発生する理由を説明するための図である。
【図４】絵素の他の配向分割方法を説明するための図であり、（ａ）はＴＦＴ基板側のプレチルト方向を示し、（ｂ）はＣＦ基板側のプレチルト方向を示し、（ｃ）は液晶層に電圧を印加したときのチルト方向および暗い領域を示している。
【図５】絵素の他の配向分割方法を説明するための図であり、（ａ）はＴＦＴ基板側のプレチルト方向を示し、（ｂ）はＣＦ基板側のプレチルト方向を示し、（ｃ）は液晶層に電圧を印加したときのチルト方向および暗い領域を示している。
【図６】絵素の他の配向分割方法を説明するための図であり、（ａ）はＴＦＴ基板側のプレチルト方向を示し、（ｂ）はＣＦ基板側のプレチルト方向を示し、（ｃ）は液晶層に電圧を印加したときのチルト方向および暗い領域を示している。
【図７】従来の多原色液晶表示装置９００に４Ｄ−ＲＴＮモードを採用した構成を模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図８】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、図７に示した構成を実現するための光配向処理を説明するための図であり、（ａ）はＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示し、（ｂ）および（ｃ）はＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に際して行われる露光工程を示している。
【図９】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、図７に示した構成を実現するための光配向処理を説明するための図であり、（ａ）はＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示し、（ｂ）および（ｃ）はＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理に際して行われる露光工程を示している。
【図１０】赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂのサイズと緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサイズとが異なる液晶表示装置９００Ａを模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図１１】液晶表示装置９００Ａが備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図１２】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置９００Ａが備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に際して行われる露光工程を示している。
【図１３】赤絵素Ｒのサイズと、青絵素Ｂのサイズと、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサイズとが異なる液晶表示装置９００Ｂを模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図１４】赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサイズがすべて異なる液晶表示装置９００Ｃを模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図１５】液晶表示装置９００Ｂが備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を行うために、従来の技術思想により設計されたフォトマスクを示す図である。
【図１６】液晶表示装置９００Ｃが備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を行うために、従来の技術思想により設計されたフォトマスクを示す図である。
【図１７】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置１００を模式的に示す図であり、１個の絵素を示す断面図である。
【図１８】（ａ）および（ｂ）は、本発明の好適な実施形態における液晶表示装置１００を模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図１９】液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図２０】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図２１】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図２２】液晶表示装置１００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図２３】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図２４】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図２５】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図２６】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図２７】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図２８】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図２９】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３０】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３１】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３２】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３３】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３４】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３５】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３６】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３７】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３８】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図３９】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図４０】（ａ）および（ｂ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクのあるバリエーションを用いた場合の第１露光工程および第２露光工程を示す図であり、（ｃ）は、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（２画素）を示す図である。
【図４１】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図４２】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図４３】図４１および図４２に示した光配向処理によって形成される二重露光領域を示す図である。
【図４４】（ａ）および（ｂ）は、本発明の好適な実施形態における液晶表示装置２００を模式的に示す図であり、４個の画素Ｐを示す平面図である。
【図４５】液晶表示装置２００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図４６】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置２００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図４７】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置２００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図４８】液晶表示装置２００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図４９】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置２００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図５０】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置２００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図５１】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置３００を模式的に示す図であり、６個の画素Ｐを示す平面図である。
【図５２】液晶表示装置３００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図５３】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置３００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図５４】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置３００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図５５】液晶表示装置３００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図５６】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置３００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図５７】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置３００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図５８】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置４００を模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図５９】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置５００を模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図６０】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置５００Ａを模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図６１】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置５００Ｂを模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【図６２】絵素分割駆動を行うための各絵素の具体的な構成の一例を示す図である。
【図６３】絵素分割駆動を行うための各絵素の具体的な構成の一例を示す図である。
【図６４】国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／０６２５８５号の技術により得られる液晶表示装置１０００を模式的に示す図であり、４個の画素Ｐを示す平面図である。
【図６５】国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／０６２５８５号の技術により得られる液晶表示装置１０００を模式的に示す図であり、４個の画素Ｐを示す平面図である。
【図６６】液晶表示装置１０００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図６７】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１０００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図６８】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１０００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図６９】液晶表示装置１０００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図７０】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１０００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図７１】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１０００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図７２】（ａ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合の液晶表示装置１０００の配向状態を示す図であり、（ｂ）は、左方向の貼り合わせずれが発生した場合の液晶表示装置１０００の配向状態を示す図である。
【図７３】（ａ）および（ｂ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合および左方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置１０００の表示面が上斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す図である。
【図７４】（ａ）および（ｂ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合および左方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置１０００の表示面が下斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す図である。
【図７５】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置６００を模式的に示す図であり、４個の画素Ｐを示す平面図である。
【図７６】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置６００を模式的に示す図であり、４個の画素Ｐを示す平面図である。
【図７７】液晶表示装置６００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図７８】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置６００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図７９】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置６００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図８０】液晶表示装置６００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図８１】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置６００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図８２】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置６００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図８３】（ａ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合の液晶表示装置６００の配向状態を示す図であり、（ｂ）は、左方向の貼り合わせずれが発生した場合の液晶表示装置６００の配向状態を示す図である。
【図８４】（ａ）および（ｂ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合および左方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置６００の表示面が上斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す図である。
【図８５】（ａ）および（ｂ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合および左方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置６００の表示面が下斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す図である。
【図８６】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置７００を模式的に示す図であり、４個の画素Ｐを示す平面図である。
【図８７】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置７００を模式的に示す図であり、４個の画素Ｐを示す平面図である。
【図８８】液晶表示装置７００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図８９】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置７００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図９０】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置７００が備えるＴＦＴ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図９１】液晶表示装置７００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理に用いられるフォトマスクを示す図である。
【図９２】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置７００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図９３】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置７００が備えるＣＦ基板の光配向膜に対する光配向処理を説明するための図である。
【図９４】（ａ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合の液晶表示装置７００の配向状態を示す図であり、（ｂ）は、上方向の貼り合わせずれが発生した場合の液晶表示装置７００の配向状態を示す図である。
【図９５】（ａ）および（ｂ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合および上方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置７００の表示面が左斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す図である。
【図９６】（ａ）および（ｂ）は、貼り合わせずれが発生しなかった場合および上方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置７００の表示面が右斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す図である。
【図９７】従来の多原色液晶表示装置９００を模式的に示す図であり、２個の画素Ｐを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。以下では、多原色液晶表示装置を例として説明を行うが、本発明は多原色液晶表示装置に限定されるものではない。本発明は、１個の画素に他の絵素とは異なるサイズの絵素が含まれている液晶表示装置に４Ｄ−ＲＴＮモードを採用する場合に広く用いられる。４Ｄ−ＲＴＮモードは、既に説明したように、各絵素に４分割配向構造（４Ｄ構造）が形成されるＲＴＮモード（ＶＡＴＮモード）であり、４Ｄ−ＲＴＮモードを採用した液晶表示装置は、垂直配向型の液晶層を備える。
【００４９】
本願明細書において、「垂直配向型の液晶層」とは、液晶分子が垂直配向膜の表面に対して略８５°以上の角度で配向した液晶層を指す。垂直配向型の液晶層に含まれる液晶分子は、負の誘電異方性を有する。垂直配向型の液晶層と、液晶層を介して互いに対向するようにクロスニコルに配置された（つまりそれぞれの透過軸が互いに略直交するように配置された）一対の偏光板とを組み合わせることにより、ノーマリーブラックモードの表示が行われる。
【００５０】
また、本願明細書において、「絵素」とは、表示において特定の階調を表現する最小の単位を指し、表示に用いられる原色（赤、緑、青など）のそれぞれの階調を表現する単位に対応する（「ドット」とも呼ばれる。）。複数の絵素の組み合わせが、カラー表示を行うための最小単位である１個の「画素」を構成（規定）する。また、「サブ絵素」とは、１個の絵素に複数個含まれ、互いに異なる輝度を表示できる単位であって、１個の絵素に入力される表示信号電圧に対する所定の輝度（階調）を当該複数のサブ絵素によって表示するものをいう。
【００５１】
「プレチルト方向」は、配向膜によって規定される液晶分子の配向方向であって、表示面内の方位角方向を指す。また、このとき液晶分子が配向膜の表面となす角を「プレチルト角」と呼ぶ。なお、配向膜に対し、所定の向きのプレチルト方向を規定する能力を発現させるための処理を行うことを、本願明細書では「配向膜にプレチルト方向を付与する」と表現し、また、配向膜によって規定されるプレチルト方向を単に「配向膜のプレチルト方向」と呼ぶこともある。
【００５２】
液晶層を介して対向する一対の配向膜によるプレチルト方向の組み合わせを変えることによって、４分割配向構造を形成することができる。４分割された絵素は、４つの液晶ドメインを有する。
【００５３】
それぞれの液晶ドメインは、液晶層に電圧が印加されたときの液晶層の層面内および厚さ方向における中央付近の液晶分子のチルト方向（「基準配向方向」ということもある。）で特徴付けられ、このチルト方向（基準配向方向）が各ドメインの視角依存性に支配的な影響を与える。このチルト方向も方位角方向である。方位角方向の基準は、表示面の水平方向とし、左回りを正とする（表示面を時計の文字盤に例えると３時方向を方位角０°として、反時計回りを正とする）。４つの液晶ドメインのチルト方向が、任意の２つの方向の差が９０°の整数倍に略等しい４つの方向（例えば、１２時方向、９時方向、６時方向、３時方向）となるように設定することによって、視野角特性が平均化され、良好な表示を得ることができる。また、視野角特性の均一さの観点からは、４つの液晶ドメインの絵素内に占める面積を互いに略等しくすることが好ましい。具体的には、４つの液晶ドメインの内の最大の液晶ドメインの面積と最小の液晶ドメインの面積との差が、最大の面積の２５％以下であることが好ましい。
【００５４】
以下の実施形態で例示する垂直配向型の液晶層は、誘電異方性が負の液晶分子（誘電異方性が負のネマチック液晶材料）を含み、一方の配向膜によって規定されるプレチルト方向と、他方の配向膜によって規定されるプレチルト方向とは互いに略９０°異なっており、これら２つのプレチルト方向の中間の方向にチルト方向（基準配向方向）が規定されている。液晶層に電圧を印加したときには、液晶分子は配向膜の配向規制力に従ってツイスト配向をとる。液晶層には、必要に応じてカイラル剤が添加されていてもよい。
【００５５】
一対の配向膜のそれぞれによって規定されるプレチルト角は互いに略等しいことが好ましい。プレチルト角が略等しいことにより、表示輝度特性を向上させることができるという利点が得られる。特に、プレチルト角の差を１°以内にすることによって、液晶層の中央付近の液晶分子のチルト方向（基準配向方向）を安定に制御することが可能となり、表示輝度特性を向上させることができる。これは、上記プレチルト角の差が１°を超えると、チルト方向が液晶層内の位置によってばらつき、その結果、透過率がばらつく（すなわち所望の透過率よりも低い透過率となる領域が形成される）ためと考えられる。
【００５６】
配向膜へのプレチルト方向の付与は、光配向処理によって行われる。感光性基を含む光配向膜を用いることによって、プレチルト角のばらつきを１°以下に制御することができる。感光性基としては、４−カルコン基、４’−カルコン基、クマリン基、及び、シンナモイル基からなる群より選ばれる少なくとも一つの感光性基を含むことが好ましい。
【００５７】
以下の実施形態では、典型的な例として、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を備えたアクティブマトリクス駆動の液晶表示装置を示すが、本発明は他の方式の液晶表示装置にも適用できることは言うまでもない。
【００５８】
（実施形態１）
本実施形態の説明に先立ち、一般的な４Ｄ−ＲＴＮモードにおいて絵素を配向分割する方法と、多原色液晶表示装置に４Ｄ−ＲＴＮモードを採用した場合の問題点を説明する。
【００５９】
図１に、４分割配向構造（４Ｄ構造）を有する絵素１０を示す。なお、図１には、説明の簡単さのために、略正方形の絵素電極に対応する略正方形の絵素１０を示しているが、絵素の形状に制限はない。例えば、絵素１０は略長方形であってもよい。
【００６０】
絵素１０は、図１に示すように、４つの液晶ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４を有する。図１では、液晶ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４の面積は互いに等しく、図１に示す例は、視野角特性上最も好ましい４Ｄ構造の例である。４つの液晶ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４は、２行２列のマトリクス状に配置されている。
【００６１】
液晶ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４のそれぞれのチルト方向（基準配向方向）をｔ１、ｔ２、ｔ３およびｔ４とすると、これらは、任意の２つの方向の差が９０°の整数倍に略等しい４つの方向である。表示面における水平方向の方位角（３時方向）を０°とすると、液晶ドメインＤ１のチルト方向ｔ１は略２２５°、液晶ドメインＤ２のチルト方向ｔ２は略３１５°、液晶ドメインＤ３のチルト方向ｔ３は略４５°、液晶ドメインＤ４のチルト方向ｔ４は略１３５°方向である。つまり、液晶ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４は、それぞれのチルト方向が、隣接する液晶ドメイン間で略９０°異なるように配置されている。
【００６２】
なお、ここで、液晶層を介して互いに対向する一対の偏光板は、透過軸（偏光軸）が互いに略直交するように配置されており、より具体的には、一方の透過軸が表示面の水平方向に略平行で、他方の透過軸が表示面の垂直方向に略平行となるように配置されている。従って、チルト方向ｔ１、ｔ２、ｔ３およびｔ４は、一対の偏光板の透過軸と略４５°の角をなす。以下、特に示さない限り、偏光板の透過軸の配置は上述した配置と同じである。
【００６３】
図１に示した絵素１０の４Ｄ構造は、図２に示すようにして得ることができる。図２（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、図１に示した絵素１０の配向分割方法を説明するための図である。図２（ａ）は、ＴＦＴ基板（下側基板）に設けられている配向膜のプレチルト方向ＰＡ１およびＰＡ２を示し、図２（ｂ）は、カラーフィルタ（ＣＦ）基板（上側基板）に設けられている配向膜のプレチルト方向ＰＢ１およびＰＢ２を示している。また、図２（ｃ）は、液晶層に電圧を印加したときのチルト方向を示している。これらの図では、観察者側から見たときの液晶分子の配向方向を模式的に示しており、円錐状に示した液晶分子の底面側の端部が観察者に近いように、液晶分子がチルトしていることを示している。
【００６４】
ＴＦＴ基板側の領域（１個の絵素１０に対応する領域）は、図２（ａ）に示すように、左右に２分割されており、それぞれの領域（左側の領域と右側の領域）の垂直配向膜に反平行なプレチルト方向ＰＡ１およびＰＡ２が付与されるように配向処理されている。具体的には、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射することによって光配向処理が行われている。左側の領域に光照射を行う際には、フォトマスクの遮光部によって右側の領域は遮光されており、右側の領域に光照射を行う際には、同様に左側の領域が遮光されている。
【００６５】
ＣＦ基板側の領域（１個の絵素１０に対応する領域）は、図２（ｂ）に示すように、上下に２分割されており、それぞれの領域（上側の領域と下側の領域）の垂直配向膜に反平行なプレチルト方向ＰＢ１およびＰＢ２が付与されるように配向処理されている。具体的には、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射することによって光配向処理が行われている。上側の領域に光照射を行う際には、フォトマスクの遮光部によって下側の領域は遮光されており、下側の領域に光照射を行う際には、同様に上側の領域が遮光されている。
【００６６】
図２（ａ）および（ｂ）に示したように配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図２（ｃ）に示すように配向分割された絵素１０を形成することができる。図２（ａ）、（ｂ）および（ｃ）からわかるように、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれについて、ＴＦＴ基板の配向膜のプレチルト方向と、ＣＦ基板の配向膜のプレチルト方向とは互いに略９０°異なっており、これら２つのプレチルト方向の中間の方向にチルト方向（基準配向方向）が規定されている。また、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれについて、上下の配向膜によるプレチルト方向の組み合わせが他の液晶ドメインと異なっており、そのことによって、１個の絵素１０内で４つのチルト方向が実現されている。
【００６７】
４Ｄ−ＲＴＮモードにおける絵素１０内では、ある中間調を表示するときに、図２（ｃ）に示すように、表示すべき中間調よりも暗い領域ＤＲが形成される。この暗い領域ＤＲは、液晶ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４間の境界に位置する十字状の暗線（十字状部分）ＣＬと、絵素電極のエッジ近傍においてエッジに略平行に延びる直線状の暗線（直線状部分）ＳＬとを有し、全体として略卍状である。
【００６８】
十字状の暗線ＣＬは、液晶ドメイン間で配向が連続的になるように、液晶分子が液晶ドメイン同士の境界で偏光板の透過軸に平行または直交するように配向することによって形成される。また、エッジ近傍の直線状の暗線ＳＬは、液晶ドメインが近接する絵素電極のエッジに、それに直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向が液晶ドメインのチルト方向（基準配向方向）と９０°超の角をなすエッジ部が存在すると、形成される。これは、液晶ドメインのチルト方向と絵素電極のエッジに生成される斜め電界による配向規制力の方向が互いに対向する成分を有することになるために、この部分で液晶分子が偏光板の透過軸に平行または直交するように配向するためと考えられる。以下、図１に示した４Ｄ構造の絵素１０を例とし、図３を参照しながら、エッジ近傍に暗線ＳＬが発生する理由をより具体的に説明する。なお、図３では、十字状の暗線ＣＬは省略している。
【００６９】
図３に示すように、絵素電極は、４つのエッジ（辺）ＳＤ１、ＳＤ２、ＳＤ３およびＳＤ４を有しており、電圧印加時に生成される斜め電界は、それぞれの辺に直交し、絵素電極の内側に向かう方向（方位角方向）の成分を有する配向規制力を発揮する。図３では、４つのエッジＳＤ１、ＳＤ２、ＳＤ３およびＳＤ４に直交し、絵素電極の内側に向かう方位角方向を矢印ｅ１、ｅ２、ｅ３およびｅ４で示している。
【００７０】
４つの液晶ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４のそれぞれは、絵素電極の４つのエッジＳＤ１、ＳＤ２、ＳＤ３およびＳＤ４のうちの２つと近接しており、電圧印加時には、それぞれのエッジに生成される斜め電界による配向規制力を受ける。
【００７１】
液晶ドメインＤ１が近接する絵素電極のエッジのうちのエッジ部ＥＧ１では、エッジ部ＥＧ１に直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向ｅ１が液晶ドメインＡのチルト方向ｔ１と９０°超の角をなしている。その結果、液晶ドメインＤ１では、電圧印加時に、このエッジ部ＥＧ１に略平行に暗線ＳＬ１が生じる。
【００７２】
同様に、液晶ドメインＤ２が近接する絵素電極のエッジのうちのエッジ部ＥＧ２では、エッジ部ＥＧ２に直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向ｅ２が液晶ドメインＤ２のチルト方向ｔ２と９０°超の角をなしている。その結果、液晶ドメインＤ２では、電圧印加時に、このエッジ部ＥＧ２に略平行に暗線ＳＬ２が生じる。
【００７３】
同様に、液晶ドメインＤ３が近接する絵素電極のエッジのうちのエッジ部ＥＧ３では、エッジ部ＥＧ３に直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向ｅ３が液晶ドメインＤ３のチルト方向ｔ３と９０°超の角をなしている。その結果、液晶ドメインＤ３では、電圧印加時に、このエッジ部ＥＧ３に略平行に暗線ＳＬ３が生じる。
【００７４】
同様に、液晶ドメインＤ４が近接する絵素電極のエッジのうちのエッジ部ＥＧ４では、エッジ部ＥＧ４に直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向ｅ４が液晶ドメインＤ４のチルト方向ｔ４と９０°超の角をなしている。その結果、液晶ドメインＤ４では、電圧印加時に、このエッジ部ＥＧ４に略平行に暗線ＳＬ４が生じる。
【００７５】
液晶ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４のチルト方向ｔ１、ｔ２、ｔ３およびｔ４のそれぞれが、近接するエッジ部ＥＧ１、ＥＧ２、ＥＧ３およびＥＧ４に生成される斜め電界による配向規制力の方位角成分ｅ１、ｅ２、ｅ３およびｅ４となす角は、いずれも略１３５°である。
【００７６】
このように、液晶ドメインＤ１にはエッジ部ＥＧ１に略平行に暗線ＳＬ１が生じ、液晶ドメインＤ２にはエッジ部ＥＧ２に略平行に暗線ＳＬ２が生じる。また、液晶ドメインＤ３にはエッジ部ＥＧ３に略平行に暗線ＳＬ３が生じ、液晶ドメインＤ４にはエッジ部ＥＧ４に略平行に暗線ＳＬ４が生じる。暗線ＳＬ１およびＳＬ３は表示面における垂直方向に略平行であり、暗線ＳＬ２およびＳＬ４は表示面における水平方向に略平行である。つまり、エッジ部ＥＧ１およびエッジ部ＥＧ３は、垂直方向に略平行であり、エッジ部ＥＧ２およびエッジ部ＥＧ４は、水平方向に略平行である。
【００７７】
なお、１個の絵素を４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４に配向分割する方法（つまり絵素内での液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置）は、図１〜図３の例に限定されない。
【００７８】
例えば、図４（ａ）および（ｂ）に示すように配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図４（ｃ）に示すように配向分割された絵素２０を形成することができる。絵素２０は、絵素１０と同様、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４を有する。液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれのチルト方向は、絵素１０の液晶ドメインＤ１〜Ｄ４と同じである。
【００７９】
ただし、絵素１０では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４が左上、左下、右下、右上の順に（つまり左上から反時計回りに）配置されているのに対し、絵素２０では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、右下、右上、左上、左下の順に（つまり右下から反時計回りに）配置されている。これは、絵素１０と絵素２０とでは、ＴＦＴ基板の左側領域および右側領域とＣＦ基板の上側領域および下側領域のそれぞれについて、プレチルト方向が反対だからである。また、液晶ドメインＤ１およびＤ３に生じる暗線ＳＬ１およびＳＬ３は表示面における水平方向に略平行であり、液晶ドメインＤ２およびＤ４に生じる暗線ＳＬ２およびＳＬ４は表示面における垂直方向に略平行である。つまり、エッジ部ＥＧ１およびエッジ部ＥＧ３は、水平方向に略平行であり、エッジ部ＥＧ２およびエッジ部ＥＧ４は、垂直方向に略平行である。
【００８０】
また、図５（ａ）および（ｂ）に示すように配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図５（ｃ）に示すように配向分割された絵素３０を形成することができる。絵素３０は、絵素１０と同様、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４を有する。液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれのチルト方向は、絵素１０の液晶ドメインＤ１〜Ｄ４と同じである。
【００８１】
ただし、絵素３０では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、右上、右下、左下、左上の順に（つまり右上から時計回りに）配置されている。これは、絵素１０と絵素３０とでは、ＴＦＴ基板の左側領域および右側領域について、プレチルト方向が反対だからである。
【００８２】
また、絵素３０では、液晶ドメインＤ１およびＤ３には暗線が生じない。これは、液晶ドメインＤ１およびＤ３のそれぞれに近接する絵素電極のエッジに、それに直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向がチルト方向と９０°超の角をなすエッジ部が存在しないためである。一方、液晶ドメインＤ２およびＤ４には、暗線ＳＬ２およびＳＬ４が生じる。これは、液晶ドメインＤ２およびＤ４のそれぞれに近接する絵素電極のエッジに、それに直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向がチルト方向と９０°超の角をなすエッジ部が存在しているためである。また、暗線ＳＬ２およびＳＬ４のそれぞれは、水平方向に平行な部分ＳＬ２（Ｈ）、ＳＬ４（Ｈ）と、垂直方向に平行な部分ＳＬ２（Ｖ）、ＳＬ４（Ｖ）とを含む。これは、液晶ドメインＤ２およびＤ４のそれぞれのチルト方向が、水平なエッジ部についても、垂直なエッジ部についても、エッジ部に直交して絵素電極の内側に向かう方位角方向に対して９０°超の角を形成するからである。
【００８３】
また、図６（ａ）および（ｂ）に示すように配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図６（ｃ）に示すように配向分割された絵素４０を形成することができる。絵素４０は、絵素１０と同様、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４を有する。液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれのチルト方向は、絵素１０の液晶ドメインＤ１〜Ｄ４と同じである。
【００８４】
ただし、絵素４０では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、左下、左上、右上、右下の順に（つまり左下から時計回りに）配置されている。これは、絵素１０と絵素４０とでは、ＣＦ基板の上側領域および下側領域について、プレチルト方向が反対だからである。
【００８５】
また、絵素４０では、液晶ドメインＤ２およびＤ４には暗線が生じない。これは、液晶ドメインＤ２およびＤ４のそれぞれに近接する絵素電極のエッジに、それに直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向がチルト方向と９０°超の角をなすエッジ部が存在しないためである。一方、液晶ドメインＤ１およびＤ３には、暗線ＳＬ１およびＳＬ３が生じる。これは、液晶ドメインＤ１およびＤ３のそれぞれに近接する絵素電極のエッジに、それに直交し絵素電極の内側に向かう方位角方向がチルト方向と９０°超の角をなすエッジ部が存在しているためである。また、暗線ＳＬ１およびＳＬ３のそれぞれは、水平方向に平行な部分ＳＬ１（Ｈ）、ＳＬ３（Ｈ）と、垂直方向に平行な部分ＳＬ１（Ｖ）、ＳＬ３（Ｖ）とを含む。これは、液晶ドメインＤ１およびＤ３のそれぞれのチルト方向が、水平なエッジ部についても、垂直なエッジ部についても、エッジ部に直交して絵素電極の内側に向かう方位角方向に対して９０°超の角を形成するからである。
【００８６】
上述したように、絵素内における液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置としては、種々の配置を採用することができる。図２〜図６に示しているように、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置が異なると、エッジ近傍の暗線ＳＬの発生パターンが異なり、そのため、暗い領域ＤＲの全体形状が異なる。図２および図４に示した絵素１０および２０では、暗い領域ＤＲが略卍状であるのに対し、図５および図６に示した絵素３０および４０では、暗い領域ＤＲは略８の字状（垂直方向から傾斜した８の字状）である。なお、本願明細書における「卍状」は、「右まんじ」（図２参照）および「左まんじ」（図４参照）の両方の形状を含む。
【００８７】
このように、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置に応じて暗い領域ＤＲの形状が異なるので、暗い領域ＤＲの形状は、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置を特徴付けているといえる。そのため、以降の図面では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置に代えて（あるいは加えて）暗い領域ＤＲを示すことがある。また、以下では、絵素内に略卍状の暗い領域ＤＲが発生するような配向（ドメイン配置）を「卍配向」と称し、略８の字状の暗い領域ＤＲが発生するような配向（ドメイン配置）を「８の字配向」と称する。
【００８８】
次に、図９７に示した多原色液晶表示装置９００に４Ｄ−ＲＴＮモードを採用する場合の光配向処理を具体的に説明する。ここでは、図７に示すように、赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇ、青絵素Ｂおよび黄絵素Ｙのそれぞれに略卍状の暗い領域ＤＲが発生するような液晶ドメイン配置（図４に示した絵素２０における配置と同じ配置）を例として説明を行う。また、図７に示しているように、各絵素の行方向に沿った長さはすべて同じ長さＬ１であり、各絵素の列方向に沿った長さはすべて同じ長さＬ２である。
【００８９】
ＴＦＴ基板側の配向膜に対しては、図８に示すように光配向処理が行われる。まず、図８（ａ）に示すようなフォトマスク９０１を用意する。フォトマスク９０１は、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部９０１ａと、複数の遮光部９０１ａ間に配置された複数の透光部９０１ｂとを有する。複数の透光部９０１ｂのそれぞれの幅（行方向に沿った幅）Ｗ１は、各絵素の行方向に沿った長さＬ１（図７参照）の半分である（つまりＷ１＝Ｌ１／２）。また、複数の遮光部９０１ａのそれぞれの幅（行方向に沿った幅）Ｗ２も、各絵素の行方向に沿った長さＬ１の半分である（つまりＷ２＝Ｌ１／２、Ｗ１＋Ｗ２＝Ｌ１）。
【００９０】
このフォトマスク９０１を、図８（ｂ）に示すように、遮光部９０１ａが各絵素の右半分に重なるとともに透光部９０１ｂが各絵素の左半分に重なるように配置し、この状態で矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、ＴＦＴ基板側の配向膜の、各絵素の左半分に対応する部分に所定のプレチルト方向（図４（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ１）が付与される。
【００９１】
次に、フォトマスク９０１を、行方向に沿って絵素の長さＬ１の半分ずらし、図８（ｃ）に示すように、遮光部９０１ａが各絵素の左半分に重なるとともに透光部９０１ｂが各絵素の右半分に重なるように配置し、この状態で矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、ＴＦＴ基板側の配向膜の、各絵素の右半分に対応する部分に所定のプレチルト方向（図４（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２）が付与される。
【００９２】
ＣＦ基板側の光配向膜に対しては、図９に示すように光配向処理が行われる。まず、図９（ａ）に示すようなフォトマスク９０２を用意する。フォトマスク９０２は、行方向（水平方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部９０２ａと、複数の遮光部９０２ａ間に配置された複数の透光部９０２ｂとを有する。複数の透光部９０２ｂのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ３は、各絵素の列方向に沿った長さＬ２（図７参照）の半分である（つまりＷ３＝Ｌ２／２）。また、複数の遮光部９０２ａのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ４も、各絵素の列方向に沿った長さＬ２の半分である（つまりＷ４＝Ｌ２／２、Ｗ３＋Ｗ４＝Ｌ２）。
【００９３】
このフォトマスク９０２を、図９（ｂ）に示すように、遮光部９０２ａが各絵素の下半分に重なるとともに透光部９０２ｂが各絵素の上半分に重なるように配置し、この状態で矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、ＣＦ基板側の配向膜の、各絵素の上半分に対応する部分に所定のプレチルト方向（図４（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ１）が付与される。
【００９４】
次に、フォトマスク９０２を、列方向に沿って絵素の長さＬ２の半分ずらし、図９（ｃ）に示すように、遮光部９０２ａが各絵素の上半分に重なるとともに透光部９０２ｂが各絵素の下半分に重なるように配置し、この状態で矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、ＣＦ基板側の配向膜の、各絵素の下半分に対応する部分に所定のプレチルト方向（図４（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ２）が付与される。
【００９５】
上述したように、ＴＦＴ基板側の配向膜に対する光配向処理の際、１回目の露光工程で用いられたフォトマスク９０１を、２回目の露光工程の前にずらしてそのまま用いる。また、ＣＦ基板側の配向膜に対する光配向処理の際にも、１回目の露光工程で用いられたフォトマスク９０２を、２回目の露光工程の前にずらしてそのまま用いる。本願明細書では、このような露光手法を「ずらし露光」と呼ぶ。
【００９６】
しかしながら、１個の画素に他の絵素とは異なるサイズの絵素が含まれている場合、ＴＦＴ基板側および／またはＣＦ基板側の配向膜に対してずらし露光を行うことができない。例えば、図１０に示す多原色液晶表示装置９００Ａでは、各絵素の列方向に沿った長さはすべて同じ長さＬ３であるが、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１と、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２とは異なっている。具体的には、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２は、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分である（つまりＬ２＝Ｌ１／２）。このように、液晶表示装置９００Ａでは、１個の画素Ｐ内で、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂのサイズと、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサイズとが異なっている。
【００９７】
図１０に示した液晶表示装置９００Ａのように、赤絵素Ｒのサイズが黄絵素Ｙよりも大きい液晶表示装置は、国際公開第２００７／１４８５１９号に開示されている。赤絵素Ｒのサイズが黄絵素Ｙよりも大きいと、各絵素が同じサイズを有している場合に比べ、明るい赤（明度の高い赤）を表示することができる。
【００９８】
この液晶表示装置９００Ａに対して、図１０の右側に示しているような液晶ドメイン配置（つまり図７の右側に示したのと同じ配置）を実現するための光配向処理を行う場合、以下に説明するように、ＴＦＴ基板側の配向膜に対してずらし露光を行うことはできない。
【００９９】
液晶表示装置９００ＡのＴＦＴ基板側の配向膜に光配向処理を行う場合、まず、図１１に示すようなフォトマスク９０３を用意する。フォトマスク９０３は、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部９０３ａと、複数の遮光部９０３ａ間に配置された複数の透光部９０３ｂとを有する。ただし、複数の遮光部９０３ａは、互いに幅の異なる２種類の遮光部９０３ａ１および９０３ａ２を含んでおり、複数の透光部９０３ｂは、互いに幅の異なる２種類の透光部９０３ｂ１および９０３ｂ２を含んでいる。
【０１００】
２種類の透光部９０３ｂ１および９０３ｂ２のうちの一方の透光部９０３ｂ１の幅Ｗ１は、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１（図１０参照）の半分である（つまりＷ１＝Ｌ１／２）。これに対し、他方の透光部９０３ｂ２の幅Ｗ３は、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２（図１０参照）の半分である（つまりＷ３＝Ｌ２／２）。
【０１０１】
また、２種類の遮光部９０３ａ１および９０３ａ２のうちの一方の遮光部９０３ａ１の幅Ｗ２は、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分である（つまりＷ２＝Ｌ１／２、Ｗ１＋Ｗ２＝Ｌ１）。これに対し、他方の遮光部９０３ａ２の幅Ｗ４は、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分である（つまりＷ４＝Ｌ２／２、Ｗ３＋Ｗ４＝Ｌ２）。
【０１０２】
上述した幅の広い方の透光部９０３ｂ１、幅の広い方の遮光部９０３ａ１、幅の狭い方の透光部９０３ｂ２、幅の狭い方の遮光部９０３ａ２は、この順で循環的に配置されている。このフォトマスク９０３を、図１２（ａ）に示すように、幅の広い方の遮光部９０３ａ１が赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分に重なるとともに、幅の狭い方の遮光部９０３ａ２が緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの右半分に重なるように（つまり幅の広い方の透光部９０３ｂ１が赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分に重なるとともに、幅の狭い方の透光部９０３ｂ２が緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの左半分に重なるように）配置し、この状態で矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、ＴＦＴ基板側の配向膜の、各絵素の左半分に対応する部分に所定のプレチルト方向（図４（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ１）が付与される。
【０１０３】
次に、本来であれば残りの部分（右半分）に所定のプレチルト方向を付与するための露光を行うところであるが、図１１に示したフォトマスク９０３をずらしてそのような露光を行うことはできない。
【０１０４】
例えば、図１２（ａ）に示した状態から、フォトマスク９０３を行方向に沿って右側に赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの長さＬ１の半分ずらした場合、図１２（ｂ）に示すように、幅の広い方の遮光部９０３ａ１が緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの全体に重なり、幅の狭い方の遮光部９０３ａ２が赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分のさらに右半分に重なる。つまり、幅の広い方の透光部９０３ｂ１が赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分に重なり、幅の狭い方の透光部９０３ｂ２が赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分のさらに左半分に重なる。この状態で矢印で示した方向から紫外線を斜め照射すると、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分に対応する部分には所定のプレチルト方向（図４（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２）を付与することができるが、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの右半分に対応する部分には、プレチルト方向を付与することができない。緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの右半分は、遮光部９０３ａ１によって遮光されているからである。また、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分のさらに左半分は、遮光されていないために紫外線を照射され、二重に露光されてしまう。二重に露光された領域は、所望のプレチルト方向（１回目の露光によって付与されたプレチルト方向）を規定することができない。
【０１０５】
また、図１２（ａ）に示した状態から、フォトマスク９０３を行方向に沿って右側に赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの長さＬ１の１／４（つまり緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの長さＬ２の半分）ずらした場合、図１２（ｃ）に示すように、幅の広い方の遮光部９０３ａ１が緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの左半分と赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分のさらに右半分とに重なり、幅の狭い方の遮光部９０３ａ２が赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分のさらに左半分に重なる。つまり、幅の広い方の透光部９０３ｂ１が赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの中央部分（右半分のさらに左半分と左半分のさらに右半分）に重なり、幅の狭い方の透光部９０３ｂ２が緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの右半分に重なる。この状態で矢印で示した方向から紫外線を斜め照射すると、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの右半分に対応する部分には所定のプレチルト方向（図４（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２）を付与することができるが、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分のさらに右半分に対応する部分には、プレチルト方向を付与することができない。赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分のさらに右半分は、遮光部９０３ａ１によって遮光されているからである。また、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分のさらに右半分は、遮光されていないために紫外線が照射され、二重に露光されてしまう。
【０１０６】
上述したように、１個の画素に他の絵素とは異なるサイズの絵素が含まれている場合、ずらし露光を行うことができない。具体的には、絵素の長さが複数種類存在する方向に沿ったずらし露光を行うことができない。上記の説明では、行方向に沿った絵素の長さが２種類存在する場合を例示したが、行方向に沿った絵素の長さが３種類以上の場合や、列方向に沿った絵素の長さが複数種類存在する場合についても同様である。例えば、図１３に示す液晶表示装置９００Ｂや図１４に示す液晶表示措置９００Ｃについても、従来の技術思想により設計されたフォトマスクでは、ずらし露光を行うことができない。
【０１０７】
図１３に示す液晶表示装置９００Ｂでは、各絵素の列方向に沿った長さはすべて同じ長さＬ４であるが、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１と、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２と、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３とは異なっている。具体的には、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３よりも、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２が大きく、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１はさらに大きい（つまりＬ１＞Ｌ２＞Ｌ３）。このように、液晶表示装置９００Ｂでは、１個の画素Ｐ内で、赤絵素Ｒのサイズと、青絵素Ｂのサイズと、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサイズとが異なっており、行方向に沿った絵素の長さが３種類存在している。
【０１０８】
図１４に示す液晶表示装置９００Ｃでは、各絵素の列方向に沿った長さはすべて同じ長さＬ５であるが、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１と、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２と、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３と、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ４とは異なっている。具体的には、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３および緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ４は、この順に大きい（つまりＬ１＞Ｌ２＞Ｌ３＞Ｌ４）。このように、液晶表示装置９００Ｃでは、１個の画素Ｐ内で、各絵素のサイズがすべて異なっており、行方向に沿った絵素の長さが４種類存在している。
【０１０９】
図１３に示した液晶表示装置９００ＢのＴＦＴ基板側の配向膜に光配向処理を行う場合、従来の技術思想によれば、図１５に示すようなフォトマスク９０４が設計される。フォトマスク９０４は、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部９０４ａと、複数の遮光部９０４ａ間に配置された複数の透光部９０４ｂとを有する。ただし、複数の遮光部９０４ａは、互いに幅の異なる３種類の遮光部９０４ａ１、９０４ａ２および９０４ａ３を含んでおり、複数の透光部９０４ｂは、互いに幅の異なる３種類の透光部９０４ｂ１、９０４ｂ２および９０４ｂ３を含んでいる。
【０１１０】
３種類の透光部９０４ｂ１、９０４ｂ２および９０４ｂ３のうちのもっとも広い透光部９０４ｂ１の幅Ｗ１は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１（図１３参照）の半分である（つまりＷ１＝Ｌ１／２）。これに対し、２番目に広い透光部９０４ｂ２の幅Ｗ３は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２（図１３参照）の半分であり（つまりＷ３＝Ｌ２／２）、もっとも狭い透光部９０４ｂ３の幅Ｗ５は、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３（図１３参照）の半分である（つまりＷ５＝Ｌ３／２）。
【０１１１】
また、３種類の遮光部９０４ａ１、９０４ａ２および９０４ａ３のうちのもっとも広い遮光部９０４ａ１の幅Ｗ２は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分である（つまりＷ２＝Ｌ１／２、Ｗ１＋Ｗ２＝Ｌ１）。これに対し、２番目に広い遮光部９０４ａ２の幅Ｗ４は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２の半分であり（つまりＷ４＝Ｌ２／２、Ｗ３＋Ｗ４＝Ｌ２）、もっとも狭い透光部９０４ａ３の幅Ｗ６は、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３の半分である（つまりＷ６＝Ｌ３／２、Ｗ５＋Ｗ６＝Ｌ３）。
【０１１２】
図１４に示した液晶表示装置９００ＣのＴＦＴ基板側の配向膜に光配向処理を行う場合、従来の技術思想によれば、図１６に示すようなフォトマスク９０５が設計される。フォトマスク９０５は、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部９０５ａと、複数の遮光部９０５ａ間に配置された複数の透光部９０５ｂとを有する。ただし、複数の遮光部９０５ａは、互いに幅の異なる４種類の遮光部９０５ａ１、９０５ａ２、９０５ａ３および９０５ａ４を含んでおり、複数の透光部９０５ｂは、互いに幅の異なる４種類の透光部９０５ｂ１、９０５ｂ２、９０５ｂ３および９０５ｂ４を含んでいる。
【０１１３】
４種類の透光部９０５ｂ１、９０５ｂ２、９０５ｂ３および９０５ｂ４のうちのもっとも広い透光部９０５ｂ１の幅Ｗ１は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１（図１４参照）の半分である（つまりＷ１＝Ｌ１／２）。これに対し、２番目に広い透光部９０５ｂ２の幅Ｗ３は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２（図１４参照）の半分であり（つまりＷ３＝Ｌ２／２）、三番目に広い透光部９０５ｂ３の幅Ｗ５は、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３（図１４参照）の半分である（つまりＷ５＝Ｌ３／２）。また、もっとも狭い透光部９０５ｂ４の幅Ｗ７は、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ４（図１４参照）の半分である（つまりＷ７＝Ｌ４／２）。
【０１１４】
また、４種類の遮光部９０５ａ１、９０５ａ２、９０５ａ３および９０５ａ４のうちのもっとも広い遮光部９０５ａ１の幅Ｗ２は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分である（つまりＷ２＝Ｌ１／２、Ｗ１＋Ｗ２＝Ｌ１）。これに対し、２番目に広い遮光部９０５ａ２の幅Ｗ４は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２の半分であり（つまりＷ４＝Ｌ２／２、Ｗ３＋Ｗ４＝Ｌ２）、３番目に広い遮光部９０５ａ３の幅Ｗ６は、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３の半分である（つまりＷ６＝Ｌ３／２、Ｗ５＋Ｗ６＝Ｌ３）。また、もっとも狭い遮光部９０５ａ４の幅Ｗ８は、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ４の半分である（つまりＷ８＝Ｌ４／２、Ｗ７＋Ｗ８＝Ｌ４）。
【０１１５】
図１１に示したフォトマスク９０３を用いる場合について図１２を参照しながら説明したことから類推されるように、図１５に示すフォトマスク９０４を用いる場合や、図１６に示すフォトマスク９０５を用いる場合にも、ずらし露光を行うことができない。これに対し、本発明によれば、１個の画素に他の絵素とは異なるサイズの絵素が含まれている場合であっても、ずらし露光を行うことができる。
【０１１６】
なお、本願出願人は、国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／０６２５８５号に、１個の画素内に行方向および／または列方向に沿った絵素の長さが２種類存在していてもずらし露光が可能な技術を提案している。しかしながら、この技術を用いても、行方向および／または列方向に沿った絵素の長さが３種類以上存在している場合には、ずらし露光を行うことができない。これに対し、本発明によれば、絵素の長さが何種類存在していても、ずらし露光を行うことができる。以下、本発明による液晶表示装置およびその製造方法を具体的に説明する。
【０１１７】
図１７および図１８に、本実施形態における液晶表示装置１００を示す。図１７は、液晶表示装置１００の１個の絵素を模式的に示す断面図であり、図１８（ａ）および（ｂ）は、それぞれ液晶表示装置１００の２個の画素Ｐを模式的に示す平面図である。後述するように、液晶表示装置１００は、４つの原色を用いて表示を行う多原色液晶表示装置である。また、液晶表示装置１００は、４Ｄ−ＲＴＮモードで表示を行う。
【０１１８】
液晶表示装置１００は、図１７に示すように、垂直配向型の液晶層３と、液晶層３を介して互いに対向するＴＦＴ基板（「アクティブマトリクス基板」と呼ばれることもある。）Ｓ１およびＣＦ基板（「対向基板」と呼ばれることもある。）Ｓ２と、ＴＦＴ基板Ｓ１の液晶層３側に設けられた絵素電極１１およびＣＦ基板Ｓ２の液晶層３側に設けられた対向電極２１とを備える。
【０１１９】
液晶層３は、負の誘電異方性を有する（つまりΔε＜０）液晶分子３ａを含む。液晶分子３ａは、液晶層３に電圧が印加されていないとき（つまり絵素電極１１と対向電極２１との間に電圧が印加されていないとき）、図１７に示しているように、基板面に対して略垂直に配向している。絵素電極１１は、絶縁性を有する透明基板（例えばガラス基板やプラスチック基板）Ｓ１ａ上に設けられており、対向電極２１は、絶縁性を有する透明基板（例えばガラス基板やプラスチック基板）Ｓ２ａ上に設けられている。
【０１２０】
液晶表示装置１００は、さらに、一対の光配向膜１２および２２と、一対の偏光板１３および２３とを備える。一対の光配向膜１２および２２のうちの一方の光配向膜１２は、絵素電極１１と液晶層３との間に設けられており、他方の光配向膜２２は、対向電極２１と液晶層３との間に設けられている。一対の偏光板１３および２３は、液晶層３を介して互いに対向し、図１８に示すように、それぞれの透過軸（偏光軸）Ｐ１およびＰ２が互いに略直交するように配置されている。
【０１２１】
なお、ここでは図示していないが、ＴＦＴ基板Ｓ１は、さらに、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、ＴＦＴに走査信号を供給する走査線、ＴＦＴに映像信号を供給する信号線などを有する。また、ＣＦ基板Ｓ２は、さらに、カラーフィルタおよびブラックマトリクス（遮光層）を有する。
【０１２２】
図１８（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶表示装置１００は、複数の画素Ｐを有する。図１８（ａ）および（ｂ）には、行方向に沿って隣接する２個の画素Ｐを示しているが、液晶表示装置１００の複数の画素Ｐは、複数の行および複数の列を含むマトリクス状に配置されている。
【０１２３】
複数の画素Ｐのそれぞれは、赤を表示する赤絵素Ｒ、緑を表示する緑絵素Ｇ、青を表示する青絵素Ｂおよび黄を表示する黄絵素Ｙによって規定される。つまり、各画素Ｐは、互いに異なる色を表示する４個の絵素を有する。これら４個の絵素は、画素Ｐ内で１行４列に配置されており、赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇ、青絵素Ｂおよび黄絵素Ｙは、画素Ｐ内で左側から右側に向かってこの順で配置されている。
【０１２４】
赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇ、青絵素Ｂおよび黄絵素Ｙのそれぞれは、４つの領域に配向分割されている。具体的には、各絵素は、絵素電極１１と対向電極２１との間に電圧が印加されたときのチルト方向がそれぞれ略２２５°、略３１５°、略４５°、略１３５°方向である４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４を有する。既に説明したように、一対の偏光板１３および２３の一方の透過軸Ｐ１が表示面の水平方向に略平行であり、他方の透過軸Ｐ２が表示面の垂直方向に略平行であるので、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれのチルト方向は、偏光板１３および２３の透過軸Ｐ１およびＰ２と略４５°の角をなす。４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、各絵素内で２行２列のマトリクス状に配置されている。
【０１２５】
なお、図１８（ａ）および（ｂ）は同じ画素Ｐを示しているが、図１８（ａ）では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれについて、チルト方向（基準配向方向）と暗い領域ＤＲのパターンが示されている。これに対し、図１８（ｂ）では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれについて、ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２のプレチルト方向が点線の矢印で示され、ＣＦ基板Ｓ２の光配向膜２２のプレチルト方向が実線の矢印で示されている。プレチルト方向を示すこれらの矢印は、液晶分子３ａが、矢先側の端部を矢尻側の端部よりも基板（その光配向膜が設けられている方の基板）から遠ざけるようにプレチルトしていることを示している。液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれに対応する領域に着目したとき、一方の配向膜１２のプレチルト方向と、他方の配向膜２２のプレチルト方向とは互いに略９０°異なる。一方の配向膜１２によって規定されるプレチルト角と、他方の配向膜２２によって規定されるプレチルト角とは、既に述べたように、互いに略等しいことが好ましい。
【０１２６】
各画素Ｐを規定する４個の絵素は、図１８（ａ）および（ｂ）に示すように、行方向に沿った長さがすべて異なる。具体的には、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３および緑画素Ｇの行方向に沿った長さＬ４は、この順に大きい（つまりＬ１＞Ｌ２＞Ｌ３＞Ｌ４）。これに対し、すべての絵素の列方向に沿った長さは、同じ長さＬ５である。このように、本実施形態の液晶表示装置１００の画素Ｐ内では、列方向については絵素の長さが１種類であるのに対し、行方向については絵素の長さが４種類存在している。
【０１２７】
多原色液晶表示装置に４Ｄ−ＲＴＮモードを単純に適用した場合、すべての絵素で４つの液晶ドメインが同じ順で配置される。例えば、図７、図１０、図１３および図１４に示した例では、すべての絵素は卍配向をとる。つまり、一対の光配向膜は、行方向および列方向のいずれに沿っても、液晶層に１絵素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有する。
【０１２８】
これに対し、本実施形態における液晶表示装置１００では、一対の光配向膜１２および２２は、行方向に沿って液晶層３に２画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有する。つまり、図１８（ａ）および（ｂ）のそれぞれには、配向パターンの繰り返しの最小単位が示されている。配向パターンの繰り返し単位である２画素内においては、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４がある順序で配置された絵素と、その順序とは異なる順序で液晶ドメインＤ１〜Ｄ４が配置された絵素とが混在する。
【０１２９】
図１８（ａ）および（ｂ）に示す例では、左側の画素Ｐの赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙ内と、右側の画素Ｐの緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂ内において、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、左上、左下、右下、右上の順に（つまり左上から反時計回りに）配置されている。そのため、これらの絵素内に形成される暗い領域ＤＲは、略卍状である。これに対し、左側の画素Ｐの緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂ内と、右側の画素Ｐの赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙ内において、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、右上、右下、左下、左上の順に（つまり右上から時計回りに）配置されている。そのため、これらの絵素内に形成される暗い領域ＤＲは、略８の字状である。従って、配向パターンの繰り返し単位である２画素内において、絵素の配向は、左側から右側に向かって卍、８の字、８の字、卍、８の字、卍、卍、８の字と変化する。
【０１３０】
このように、配向パターンの繰り返し単位である２画素内では、卍配向の絵素と８の字配向の絵素とが混在している。また、左側の画素Ｐの各色の絵素と、右側の画素Ｐの各色の絵素とでは、卍配向と８の字配向とが入れ替わっている。具体的には、左側の画素Ｐでは、赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙが卍配向で、緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂが８の字配向であるので、絵素の配向は、左側から右側に向かって卍、８の字、８の字、卍と変化する。これに対し、右側の画素Ｐでは、赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙが８の字配向で、緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂが卍配向であるので、絵素の配向は、左側から右側に向かって８の字、卍、卍、８の字と変化する。従って、配向パターンの繰り返し単位の左側半分（左側の画素Ｐ）と右側半分（右側の画素Ｐ）とでは、配向パターンが反転している。
【０１３１】
このような構成を有する液晶表示装置１００では、ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２およびＣＦ基板Ｓ２の光配向膜２２に対してずらし露光を行うことができる。以下、液晶表示装置１００の製造方法を説明する。なお、液晶表示装置１００の製造方法において、光配向膜１２および２２への光配向処理以外の工程は、公知の手法で実行することができるので、以下では、ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２への光配向処理と、ＣＦ基板Ｓ２の光配向膜２２への光配向処理とを説明する。以下で説明する光配向処理における露光工程は、例えば、ウシオ電機株式会社製のプロキシミティ露光装置を用いて実行することができる。
【０１３２】
まず、図１９〜図２１を参照しながら、ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２への光配向処理を説明する。
【０１３３】
まず、図１９に示すフォトマスク１を用意する。図１９には、フォトマスク１の一部を示しており、より具体的には、配向パターンの繰り返し単位である２画素に対応する領域を示している。フォトマスク１は、図１９に示すように、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部１ａと、複数の遮光部１ａ間に配置された複数の透光部１ｂとを含むマスクパターンを有する。
【０１３４】
複数の透光部１ｂのうち、もっとも左側の透光部１ｂ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ１は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ１＝Ｌ１／２）、左側から２番目の透光部１ｂ２の幅Ｗ２は、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ４の半分に等しい（つまりＷ２＝Ｌ４／２）。また、左側から３番目の透光部１ｂ３の幅Ｗ３は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３の半分との和に等しく（つまりＷ３＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）、左側から４番目の透光部１ｂ４の幅Ｗ４は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ４の半分との和に等しい（つまりＷ４＝（Ｌ１＋Ｌ４）／２）。さらに、左側から５番目の透光部１ｂ５の幅Ｗ５は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２の半分に等しく（つまりＷ５＝Ｌ２／２）、左側から６番目（もっとも右側）の透光部１ｂ６の幅Ｗ６は、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３の半分に等しい（つまりＷ６＝Ｌ３／２）。
【０１３５】
複数の遮光部１ａのうち、もっとも左側の遮光部１ａ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ７は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ４の半分との和に等しく（つまりＷ７＝（Ｌ１＋Ｌ４）／２）、左側から２番目の遮光部１ａ２の幅Ｗ８は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２の半分に等しい（つまりＷ８＝Ｌ２／２）。また、左側から３番目の遮光部１ａ３の幅Ｗ９は、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３の半分と赤絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分との和に等しく（つまりＷ９＝（Ｌ３＋Ｌ１）／２）、左側から４番目の遮光部１ａ４の幅Ｗ１０は、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ４の半分に等しい（つまりＷ１０＝Ｌ４／２）。さらに、左側から５番目（もっとも右側）の遮光部１ａ５の幅Ｗ１１は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３の半分との和に等しい（つまりＷ１１＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）。
【０１３６】
図１９に示すフォトマスク１を、配向パターンの最小繰り返し単位の左側半分（左側の画素Ｐ）に対応する領域Ｒ１と、右側半分（右側の画素Ｐ）に対応する領域Ｒ２とに区分したとき、左側の領域Ｒ１のマスクパターンと、右側の領域Ｒ２のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。つまり、右側の領域Ｒ２における遮光部１ａは、左側の領域Ｒ１における透光部１ｂの位置に設けられており、右側の領域Ｒ２における透光部１ｂは、左側の領域Ｒ１における遮光部１ａの位置に設けられている。
【０１３７】
次に、図２０（ａ）に示すように、光配向膜１２の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが透光部１ｂに重なるようにフォトマスク１を配置する。言い換えると、光配向膜１２の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが遮光部１ａに重なるようにフォトマスク１を配置する。
【０１３８】
続いて、図２０（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図２０（ｃ）に示すように、光配向膜１２の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ１と同じ方向であり、以下ではこのプレチルト方向を便宜的に「第１プレチルト方向」と呼ぶ。
【０１３９】
次に、図２１（ａ）に示すように、フォトマスク１を行方向に沿って所定の距離Ｄ１ずらす。所定の距離Ｄ１は、ここでは、画素Ｐの行方向に沿った長さＰＬ１（図１８（ａ）参照）と同じである。つまり、フォトマスク１は、行方向に沿って１画素分ずらされる。この移動により、光配向膜１２の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが、フォトマスク１の透光部１ｂに重なる。言い換えると、光配向膜１２の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが、フォトマスク１の遮光部１ａに重なる。
【０１４０】
続いて、図２１（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図２１（ｃ）に示すように、光配向膜１２の残りの部分、つまり、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２と同じ方向であり、第１プレチルト方向に反平行な方向である。以下では、このプレチルト方向を便宜的に「第２プレチルト方向」と呼ぶ。
【０１４１】
上述した光配向処理によって、光配向膜１２の各絵素に対応する領域内に、第１プレチルト方向を有する領域と、第１プレチルト方向に反平行な第２プレチルト方向を有する領域とが形成される。以下では、第１プレチルト方向を有する領域を便宜的に「第１領域」と呼び、第２プレチルト方向を有する領域を便宜的に「第２領域」と呼ぶ。また、以下では、光配向膜１２の第１領域となる部分に光を照射する露光工程を「第１露光工程」と呼び、光配向膜１２の第２領域となる部分に光を照射する露光工程を「第２露光工程」と呼ぶこともある。第１露光工程および第２露光工程のそれぞれにおいて、光（典型的にはここで例示しているような紫外線）の照射は、例えば、基板法線方向から３０°〜５０°傾斜した方向から行われる。また、光配向膜１２によって規定されるプレチルト角は、例えば８８．５°〜８９°である。
【０１４２】
次に、図２２〜図２４を参照しながら、ＣＦ基板Ｓ２の光配向膜２２への光配向処理を説明する。
【０１４３】
まず、図２２に示すフォトマスク２を用意する。図２２には、フォトマスク２の一部を示しており、より具体的には、４画素（２行２列に配置された４個の画素Ｐ）に対応する領域を示している。フォトマスク２は、図２２に示すように、行方向（水平方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部２ａと、複数の遮光部２ａ間に配置された複数の透光部２ｂとを含むマスクパターンを有する。複数の透光部２ｂのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ１２は、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分である（つまりＷ１２＝Ｌ５／２）。また、複数の遮光部２ａのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ１３も、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分である（つまりＷ１３＝Ｌ５／２、Ｗ１２＋Ｗ１３＝Ｌ５）。
【０１４４】
次に、図２３（ａ）に示すように、光配向膜２２の、各絵素の上半分に対応する部分が透光部２ｂに重なるようにフォトマスク２を配置する。言い換えると、光配向膜２２の、各絵素の下半分に対応する部分が遮光部２ａに重なるようにフォトマスク２を配置する。
【０１４５】
続いて、図２３（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図２３（ｃ）に示すように、光配向膜２２の、各絵素の上半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ１と同じ方向であり、このプレチルト方向を以下では便宜的に「第３プレチルト方向」と呼ぶ。
【０１４６】
次に、図２４（ａ）に示すように、フォトマスク２を列方向に沿って所定の距離Ｄ２ずらす。所定の距離Ｄ２は、ここでは、画素Ｐの列方向に沿った長さＰＬ２（図１８（ａ）参照）の１／２であり、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分（１／２）である。つまり、フォトマスク２は、列方向に沿って半画素分ずらされる。この移動により、光配向膜２２の、各絵素の下半分に対応する部分が、フォトマスク２の透光部２ｂに重なる。つまり、各絵素の上半分に対応する部分が、フォトマスク２の遮光部２ａに重なる。
【０１４７】
続いて、図２４（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図２４（ｃ）に示すように、光配向膜２２の残りの部分、つまり、各絵素の下半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ２と同じ方向であり、第３プレチルト方向に反平行な方向である。以下では、このプレチルト方向を便宜的に「第４プレチルト方向」と呼ぶ。
【０１４８】
上述した光配向処理によって、光配向膜２２の各絵素に対応する領域内に、第３プレチルト方向を有する領域と、第３プレチルト方向に反平行な第４プレチルト方向を有する領域とが形成される。以下では、第３プレチルト方向を有する領域を便宜的に「第３領域」と呼び、第４プレチルト方向を有する領域を便宜的に「第４領域」と呼ぶ。また、以下では、光配向膜２２の第３領域となる部分に光を照射する露光工程を「第３露光工程」と呼び、光配向膜２２の第４領域となる部分に光を照射する露光工程を「第４露光工程」と呼ぶこともある。第３露光工程および第４露光工程のそれぞれにおいて、光（典型的にはここで例示しているような紫外線）の照射は、例えば、基板法線方向から３０°〜５０°傾斜した方向から行われる。また、光配向膜２２によって規定されるプレチルト角は、例えば、８８．５°〜８９°である。
【０１４９】
このようにして光配向処理がなされたＴＦＴ基板Ｓ１およびＣＦ基板Ｓ２を貼り合わせることによって、図１８に示したように各絵素が配向分割された液晶表示装置１００が得られる。
【０１５０】
上述した製造方法では、第１領域および第２領域を形成する工程（ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２に光配向処理を施す工程）において、２回の露光工程（第１露光工程および第２露光工程）が共通の同一のフォトマスク１を用いて実行され、また、第３領域および第４領域を形成する工程（ＣＦ基板Ｓ２の光配向膜２２に光配向処理を施す工程）において、２回の露光工程（第３露光工程および第４露光工程）が共通の同一のさらなるフォトマスク２を用いて実行される。つまり、本実施形態の製造方法によれば、絵素の長さが１種類である列方向に沿ったずらし露光だけでなく、絵素の長さが４種類である行方向に沿ったずらし露光も行うことができるので、低コスト・短タクトタイムで光配向処理を実現できる。
【０１５１】
逆に言うと、本実施形態の液晶表示装置１００のように、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が互いに異なる（暗い領域ＤＲの形状が互いに異なる）絵素が混在し、行方向に沿って２画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れる構成を有していることによって、光配向処理の際にずらし露光が実行される製造方法での製造が可能となる。これに対し、多原色液晶表示装置に４Ｄ−ＲＴＮモードを単純に適用した場合には、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が同じ絵素しか存在しておらず、そのため、光配向処理の際にずらし露光を少なくとも一方の基板側について行うことができない。なお、本実施形態の液晶表示装置１００では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が異なる絵素が２画素（配向パターンの最小繰り返し単位）内に混在するが、そのことによる視野角特性への悪影響はない。
【０１５２】
上述したように、本発明によれば、多原色液晶表示装置に４Ｄ−ＲＴＮモードを採用したときの、光配向処理に要するコストおよび時間の増加を抑制することができる。既に説明したように、本実施形態の製造方法で行方向（絵素の長さが４種類存在する方向）に沿ったずらし露光で用いられるフォトマスク１では、配向パターンの最小繰り返し単位の半分に対応する２つの領域Ｒ１およびＲ２のマスクパターンが、ネガポジ反転した関係にある。このような、従来とは異なる思想で設計されたフォトマスク１を用いることにより、絵素の長さが４種類存在する方向に沿ったずらし露光が可能となる。
【０１５３】
なお、フォトマスク１の２つの領域Ｒ１およびＲ２のマスクパターンは、互いにネガポジ反転した関係にあればよく、フォトマスク１における遮光部１ａおよび透光部１ｂの配置は、図１９に例示した配置に限定されない。以下、フォトマスク１の設計思想と、その思想により設計されたフォトマスク１のバリエーションを具体的に説明する。
【０１５４】
まず、配向パターンの最小繰り返し単位である２画素のうちの一方の画素Ｐに関し、赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇ、青絵素Ｂおよび黄絵素Ｙのそれぞれについて、第１露光工程において絵素の左半分を露光するのか、右半分を露光するのかを決定する。これにより、２つの領域Ｒ１およびＲ２のうちの一方の領域のマスクパターン（遮光部１ａおよび透光部１ｂの配置）が決定される。このときのマスクパターンは、４個の絵素のそれぞれについて２種類の選択肢があることから、全部で１６（＝２4）通りである。次に、決定された一方の領域のマスクパターンをネガポジ反転させたものを、他方の領域のマスクパターンとする。このようにして、フォトマスク１における遮光部１ａおよび透光部１ｂの具体的な配置を決定することができる。一方の領域のマスクパターンが１６通りであることから、フォトマスク１のバリエーションも１６個存在する。
【０１５５】
図２５〜図４０に、フォトマスク１のバリエーション１Ａ〜１Ｐを示す。図２５〜図４０では、バリエーション１Ａ〜１Ｐを用いた場合の第１露光工程を（ａ）に示し、第２露光工程を（ｂ）に示し、完成した液晶表示装置１００における配向パターンの最小繰り返し単位（つまり２画素）を（ｃ）に示している。
【０１５６】
図２５〜図４０の（ａ）および（ｂ）に示すように、バリエーション１Ａ〜１Ｐのいずれについても、左側の領域のマスクパターンと右側の領域のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。従って、行方向に沿ったずらし露光を行うことができ、図２５〜図４０の（ｃ）に示すように、一対の光配向膜１２および２２に対して行方向に沿って２画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を付与することができる。
【０１５７】
なお、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が互いに異なる（暗い領域ＤＲの形状が互いに異なる）２種類の絵素は、２画素内で偏在しないことが好ましい。卍配向と８の字配向の偏りが著しいと、斜め方向から観察したときにその偏りが視認されるおそれがあるからである。従って、図２５および図４０の（ｃ）に示されているような１画素内に卍配向の絵素および８の字配向の絵素の一方しか存在しない配向パターンよりも、図２６〜図３９の（ｃ）に示されているような１画素内に卍配向の絵素および８の字配向の絵素の両方が混在している配向パターンの方が好ましい。つまり、図２５および図４０の（ａ）および（ｂ）に示されているバリエーション１Ａおよび１Ｐよりも、図２６〜図３９の（ａ）および（ｂ）に示されているバリエーション１Ｂ〜１Ｏの方が好ましい。
【０１５８】
また、１画素内における卍配向の絵素の個数と８の字配向の絵素の個数との差は、できるだけ小さいことが好ましい。従って、図２６〜図３９の（ｃ）に示されている配向パターンのうちでは、図２６、図２７、図２９、図３２、図３３、図３６、図３８および図３９の（ｃ）に示されているような個数差が２である配向パターンよりも、図２８、図３０、図３１、図３４、図３５および図３７の（ｃ）に示されているような個数差が０である配向パターンの方が好ましい。つまり、図２６〜図３９の（ａ）および（ｂ）に示すバリエーション１Ｂ〜１Ｏのうちでは、図２６、図２７、図２９、図３２、図３３、図３６、図３８および図３９の（ａ）および（ｂ）に示されているバリエーション１Ｂ、１Ｃ、１Ｅ、１Ｈ、１Ｉ、１Ｌ、１Ｎおよび１Ｏよりも、図２８、図３０、図３１、図３４、図３５および図３７の（ａ）および（ｂ）に示されているバリエーション１Ｄ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｊ、１Ｋおよび１Ｍの方が好ましい。
【０１５９】
さらに、１画素内で、卍配向の絵素の面積の合計と、８の字配向の絵素の面積の合計とができるだけ近いことが好ましいので、１画素内で絵素サイズが大きくなるにつれて（あるいは小さくなるにつれて）卍配向と８の字配向とが交互に現れることが好ましい。つまり、各画素Ｐ内における複数の絵素を、行方向に沿った長さで順位付けたとき、順位が連続する２つの絵素の一方は卍配向の絵素であり、他方は８の字配向の絵素であることが好ましい。例えば、もっとも大きな絵素が卍配向をとる場合、２番目に大きな絵素が８の字配向をとり、３番目に大きな絵素が卍配向をとり、もっとも小さな絵素が８の字配向をとることが好ましい。逆に、もっとも大きな絵素が８の字配向をとる場合、２番目に大きな絵素が卍配向をとり、３番目に大きな絵素が８の字配向をとり、もっとも小さな絵素が卍配向をとることが好ましい。従って、図２５〜図４０の（ｃ）に示されている配向パターンのうちでは、図３１および図３４の（ｃ）に示されている配向パターンがもっとも好ましく、図２５〜図４０の（ａ）および（ｂ）に示されているバリエーション１Ａ〜１Ｐのうちでは、図３１および図３４の（ａ）および（ｂ）に示されているバリエーション１Ｇおよび１Ｊがもっとも好ましい。
【０１６０】
なお、本実施形態では、フォトマスク１の透光部１ｂが各絵素の左半分または右半分にちょうど重なるような幅で設けられている（つまり遮光部１ａも各絵素の左半分または右半分にちょうど重なるような幅で設けられている）場合について説明した。言い換えると、露光工程において透光部１ｂと遮光部１ａとの境界が、各絵素の中心線（左半分と右半分との境界）に一致する場合について説明した（図２０および図２１参照）。しかしながら、透光部１ｂおよび遮光部１ａの幅は、これに限定されるものではない。透光部１ｂの幅を所定の増分Δだけ大きくし、遮光部１ａの幅をその分小さくしてもよい。
【０１６１】
図４１および図４２を参照しながら、そのようなフォトマスク１を用いる場合の、ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２への光配向処理を説明する。
【０１６２】
まず、図４１（ａ）に示すように、光配向膜１２の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが透光部１ｂに重なるようにフォトマスク１を配置する。ただし、フォトマスク１の遮光部１ａの幅が図１９に示したものよりもΔだけ小さいので、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙの右半分の一部に対応する部分と緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂの左半分の一部に対応する部分（いずれもΔ／２の幅を有する）も、透光部１ｂに重なる。また、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙの左半分の一部に対応する部分と緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂの右半分の一部に対応する部分（いずれもΔ／２の幅を有する）も、透光部１ｂに重なる。
【０１６３】
続いて、図４１（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図４１（ｃ）に示すように、光配向膜１２の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。
【０１６４】
次に、図４２（ａ）に示すように、フォトマスク１を行方向に沿って所定の距離Ｄ１（具体的には画素Ｐの行方向に沿った長さＰＬ１だけ）ずらす。この移動により、光配向膜１２の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが、フォトマスク１の透光部１ｂに重なる。ただし、フォトマスク１の遮光部１ａの幅が図１９に示したものよりもΔだけ小さいので、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙの左半分の一部に対応する部分と緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂの右半分の一部に対応する部分（いずれもΔ／２の幅を有する）も、透光部１ｂに重なる。また、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙの右半分の一部に対応する部分と緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂの左半分の一部に対応する部分（いずれもΔ／２の幅を有する）も、透光部１ｂに重なる。
【０１６５】
続いて、図４２（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図４２（ｃ）に示すように、光配向膜１２の残りの部分、つまり、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。
【０１６６】
このようにして光配向処理を行った場合、図４３に示すように、各絵素の中央部分（行方向における中央部分）と、緑絵素Ｇと青絵素Ｂとの境界部分とに、１回目の露光工程と２回目の露光工程の両方において光が照射される領域（二重露光領域）ＤＥが形成される。二重露光領域ＤＥの幅は、透光部１ｂの幅の増分（遮光部１ａの幅の減少分）Δに等しい。
【０１６７】
二重露光領域ＤＥは、フォトマスク１をずらして露光する際に生じるアライメントずれのマージンを確保するための領域である。露光装置のアライメント精度は高くても±数μｍ程度であるので、アライメントずれが発生しても、絵素内に未露光領域が形成されないことが信頼性等の観点から好ましい。未露光領域が存在すると、液晶層３や配向膜１２、２２中の不純物であるイオン成分が未露光領域に引き寄せられ、ＤＣずれ（信号電圧と対向電圧のＤＣレベルのずれ）やシミなどの不具合を生じる可能性があるからである。
【０１６８】
フォトマスク１の透光部１ｂおよび遮光部１ａの幅が、二重露光領域ＤＥが形成されるように設定されていることにより、アライメントずれが発生したときに未露光領域が形成されることを防止することができる。未露光領域の形成をより確実に防止する観点からは、透光部１ｂの幅の増分Δが大きいことが好ましいが、増分Δが大きすぎると、つまり、二重露光領域ＤＥの幅が大きくなりすぎると、絵素の中央付近の暗線（十字状の暗線ＣＬの垂直方向に延びる部分）の幅が大きくなり、透過率が低下してしまう。透過率の低下を抑制する観点からは、透光部１ｂの幅の増分Δは、１０μｍ以下である（つまり０＜Δ≦１０）ことが好ましい。また、透過率の低下をいっそう抑制するとともに未露光領域の形成をより確実に防止する観点からは、増分Δは、１μｍ以上５μｍ以下である（つまり１≦Δ≦５）ことがより好ましい。
【０１６９】
なお、本実施形態では、ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２の各絵素に対応する領域が左右に２分割され、ＣＦ基板Ｓ２の光配向膜２２の各絵素に対応する領域が上下に２分割される場合について説明を行ったが、本発明はこのような構成に限定されるものではない。ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２の各絵素に対応する領域が上下に２分割され、ＣＦ基板Ｓ２の光配向膜２２の各絵素に対応する領域が左右に２分割されてもよい。その場合、ＴＦＴ基板Ｓ１の光配向膜１２に対する光配向処理の際に、図２２に示したフォトマスク２を用いて列方向に沿ったずらし露光を行い、ＣＦ基板Ｓ２の光配向膜２２に対する光配向処理の際に、図１９に示したフォトマスク１を用いて行方向に沿ったずらし露光を行えばよい。
【０１７０】
（実施形態２）
図４４に、本実施形態における液晶表示装置２００を示す。図４４（ａ）および（ｂ）は、それぞれ液晶表示装置２００の行方向に沿って連続する４個の画素Ｐを模式的に示す平面図である。
【０１７１】
各画素Ｐを規定する４個の絵素は、図４４（ａ）および（ｂ）に示すように、行方向に沿った長さがすべて異なる。具体的には、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３および緑画素Ｇの行方向に沿った長さＬ４は、この順に大きい（つまりＬ１＞Ｌ２＞Ｌ３＞Ｌ４）。これに対し、すべての絵素の列方向に沿った長さは、同じ長さＬ５である。このように、本実施形態の液晶表示装置２００の画素Ｐ内では、列方向については絵素の長さが１種類であるのに対し、行方向については絵素の長さが４種類存在している。
【０１７２】
実施形態１における液晶表示装置１００では、配向パターンの最小繰り返し単位が２画素である。これに対し、本実施形態における液晶表示装置２００では、配向パターンの最小繰り返し単位は４画素である。つまり、液晶表示装置２００の一対の光配向膜は、行方向に沿って液晶層に４画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有する。図４４（ａ）および（ｂ）のそれぞれには、配向パターンの最小繰り返し単位が示されている。
【０１７３】
配向パターンの繰り返し単位である４画素内においては、卍配向の絵素と、８の字配向の絵素とが混在する。具体的には、もっとも左側の画素Ｐの赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙと、左側から２番目の画素Ｐの赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙと、左側から３番目の画素Ｐの緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂと、もっとも右側の画素Ｐの青絵素Ｂとは、卍配向をとる。これに対し、もっとも左側の画素Ｐの緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂと、左側から２番目の画素Ｐの青絵素Ｂと、左側から３番目の画素Ｐの赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙと、もっとも右側の画素Ｐの赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙとは、８の字配向をとる。
【０１７４】
また、左側の２画素では、絵素の配向は、左側から右側に向かって卍、８の字、８の字、卍、卍、卍、８の字、卍、と変化する。これに対し、右側の２画素では、絵素の配向は、左側から右側に向かって８の字、卍、卍、８の字、８の字、８の字、卍、８の字と変化する。従って、配向パターンの繰り返し単位の左側半分（左側の２画素）と右側半分（右側の２画素）とでは、配向パターンが反転している。
【０１７５】
このような構成を有する液晶表示装置２００においても、行方向および列方向の両方に沿ってずらし露光を行うことができる。以下、液晶表示装置２００が備える一対の光配向膜に対する光配向処理を説明する。
【０１７６】
まず、図４５〜図４７を参照しながら、ＴＦＴ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０１７７】
まず、図４５に示すフォトマスク１Ｑを用意する。図４５には、フォトマスク１Ｑの一部を示しており、より具体的には、配向パターンの繰り返し単位である４画素に対応する領域を示している。フォトマスク１Ｑは、図４５に示すように、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部１ａと、複数の遮光部１ａ間に配置された複数の透光部１ｂとを含むマスクパターンを有する。
【０１７８】
複数の透光部１ｂのうち、もっとも左側の透光部１ｂ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ１は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ１＝Ｌ１／２）、左側から２番目の透光部１ｂ２の幅Ｗ２は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しい（つまりＷ２＝Ｌ４／２）。左側から３番目の透光部１ｂ３の幅Ｗ３は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しく（つまりＷ３＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）、左側から４番目の透光部１ｂ４の幅Ｗ４は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しい（つまりＷ４＝Ｌ１／２）。
【０１７９】
左側から５番目の透光部１ｂ５の幅Ｗ５は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しく（つまりＷ５＝Ｌ４／２）、左側から６番目の透光部１ｂ６の幅Ｗ６は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しい（つまりＷ６＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）。左側から７番目の透光部１ｂ７の幅Ｗ７は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの長さＬ４の半分との和に等しく（つまりＷ７＝（Ｌ１＋Ｌ４）／２）、左側から８番目の透光部１ｂ８の幅Ｗ８は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分に等しい（つまりＷ８＝Ｌ２／２）。
【０１８０】
左側から９番目の透光部１ｂ９の幅Ｗ９は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分に等しく（つまりＷ９＝Ｌ３／２）、左側から１０番目の透光部１ｂ１０の幅Ｗ１０は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しい（つまりＷ１０＝Ｌ１／２）。左側から１１番目の透光部１ｂ１１の幅Ｗ１１は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分と青絵素Ｂの長さＬ２の半分との和に等しく（つまりＷ１１＝（Ｌ４＋Ｌ２）／２）、左側から１２番目（もっとも右側）の透光部１ｂ１２の幅Ｗ１２は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分に等しい（つまりＷ１２＝Ｌ３／２）。
【０１８１】
複数の遮光部１ａのうち、もっとも左側の遮光部１ａ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ１３は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの長さＬ４の半分との和に等しく（つまりＷ１３＝（Ｌ１＋Ｌ４）／２）、左側から２番目の遮光部１ａ２の幅Ｗ１４は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分に等しい（つまりＷ１４＝Ｌ２／２）。左側から３番目の遮光部１ａ３の幅Ｗ１５は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分に等しく（つまりＷ１５＝Ｌ３／２）、左側から４番目の遮光部１ａ４の幅Ｗ１６は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しい（つまりＷ１６＝Ｌ１／２）。
【０１８２】
左側から５番目の遮光部１ａ５の幅Ｗ１７は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分と青絵素Ｂの長さＬ２の半分との和に等しく（つまりＷ１７＝（Ｌ４＋Ｌ２）／２）、左側から６番目の遮光部１ａ６の幅Ｗ１８は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分と赤絵素Ｒの長さＬ１の半分との和に等しい（つまりＷ１８＝（Ｌ３＋Ｌ１）／２）。左側から７番目の遮光部１ａ７の幅Ｗ１９は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しく（つまりＷ１９＝Ｌ４／２）、左側から８番目の遮光部１ａ８の幅Ｗ２０は、青絵素Ｇの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しい（つまりＷ２０＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）。
【０１８３】
左側から９番目の遮光部１ａ９の幅Ｗ２１は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ２１＝Ｌ１／２）、左側から１０番目の遮光部１ａ１０の幅Ｗ２２は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しい（つまりＷ２２＝Ｌ４／２）。左側から１１番目（もっとも右側）の遮光部１ａ１１の幅Ｗ２３は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しい（つまりＷ２３＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）。
【０１８４】
図４５に示すフォトマスク１Ｑを、配向パターンの最小繰り返し単位の左側半分（左側の２画素）に対応する領域Ｒ１と、右側半分（右側の２画素）に対応する領域Ｒ２とに区分したとき、左側の領域Ｒ１のマスクパターンと、右側の領域Ｒ２のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。つまり、右側の領域Ｒ２における遮光部１ａは、左側の領域Ｒ１における透光部１ｂの位置に設けられており、右側の領域Ｒ２における透光部１ｂは、左側の領域Ｒ１における遮光部１ａの位置に設けられている。
【０１８５】
次に、図４６（ａ）に示すように、光配向膜の、もっとも左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、左側から２番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが透光部１ｂに重なるようにフォトマスク１を配置する。このとき、左側から３番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分と、左側から４番目（もっとも右側）の画素Ｐの赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分も透光部１ｂに重なる。
【０１８６】
続いて、図４６（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図４６（ｃ）に示すように、光配向膜の、透光部１ｂに重なっている部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ１と同じ方向である。
【０１８７】
次に、図４７（ａ）に示すように、フォトマスク１Ｑを行方向に沿って所定の距離Ｄ１ずらす。所定の距離Ｄ１は、ここでは、画素Ｐの行方向に沿った長さＰＬ１（図４４（ａ）参照）の２倍である。つまり、フォトマスク１Ｑは、行方向に沿って２画素分ずらされる。この移動により、光配向膜の、もっとも左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、左側から２番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが、フォトマスク１Ｑの透光部１ｂに重なる。このとき、左側から３番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分と、左側から４番目（もっとも右側）の画素Ｐの赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分とに対応する部分も透光部１ｂに重なる。
【０１８８】
続いて、図４７（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図４７（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、移動後のフォトマスク１Ｑの透光部１ｂに重なっている部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２と同じ方向であり、図４６（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０１８９】
上述した光配向処理によって、ＴＦＴ基板の光配向膜の各絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。次に、図４８〜図５０を参照しながら、ＣＦ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０１９０】
まず、図４８に示すフォトマスク２Ａを用意する。図４８には、フォトマスク２Ａの一部を示しており、より具体的には、８画素（２行４列に配置された８個の画素Ｐ）に対応する領域を示している。フォトマスク２Ａは、図４８に示すように、行方向（水平方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部２ａと、複数の遮光部２ａ間に配置された複数の透光部２ｂとを含むマスクパターンを有する。複数の透光部２ｂのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ２４は、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分である（つまりＷ２４＝Ｌ５／２）。また、複数の遮光部２ａのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ２５も、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分である（つまりＷ２５＝Ｌ５／２、Ｗ２４＋Ｗ２５＝Ｌ５）。
【０１９１】
次に、図４９（ａ）に示すように、光配向膜の、各絵素の上半分に対応する部分が透光部２ｂに重なるようにフォトマスク２Ａを配置する。言い換えると、光配向膜の、各絵素の下半分に対応する部分が遮光部２ａに重なるようにフォトマスク２Ａを配置する。
【０１９２】
続いて、図４９（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図４９（ｃ）に示すように、光配向膜の、各絵素の上半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ１と同じ方向である。
【０１９３】
次に、図５０（ａ）に示すように、フォトマスク２Ａを列方向に沿って所定の距離Ｄ２ずらす。所定の距離Ｄ２は、ここでは、画素Ｐの列方向に沿った長さＰＬ２（図４４（ａ）参照）の１／２であり、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分（１／２）である。つまり、フォトマスク２Ａは、列方向に沿って半画素分ずらされる。この移動により、光配向膜の、各絵素の下半分に対応する部分が、フォトマスク２Ａの透光部２ｂに重なる。つまり、各絵素の上半分に対応する部分が、フォトマスク２Ａの遮光部２ａに重なる。
【０１９４】
続いて、図５０（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図５０（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、各絵素の下半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ２と同じ方向であり、図４９（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０１９５】
上述した光配向処理によって、ＣＦ基板の光配向膜の各絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。このようにして光配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図４４に示したように各絵素が配向分割された液晶表示装置２００が得られる。
【０１９６】
液晶表示装置２００の製造方法においても、ＴＦＴ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク１Ｑを用いて実行され、また、ＣＦ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク２Ａを用いて実行される。つまり、絵素の長さが１種類である列方向に沿ったずらし露光だけでなく、絵素の長さが４種類である行方向に沿ったずらし露光も行うことができるので、低コストで短タクトタイムで光配向処理を実現できる。このように、本実施形態の液晶表示装置２００では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が互いに異なる（暗い領域ＤＲの形状が互いに異なる）絵素が混在し、且つ、行方向に沿って４画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れる構成を有していることによって、光配向処理の際にずらし露光が実行される製造方法での製造が可能となる。
【０１９７】
なお、フォトマスク１Ｑの２つの領域Ｒ１およびＲ２のマスクパターンは、互いにネガポジ反転した関係にあればよく、フォトマスク１Ｑにおける遮光部１ａおよび透光部１ｂの配置は、図４５に例示した配置に限定されない。以下、フォトマスク１Ｑの設計思想を説明する。
【０１９８】
まず、配向パターンの最小繰り返し単位である４画素のうちの左側または右側の２画素に関し、赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇ、青絵素Ｂおよび黄絵素Ｙのそれぞれについて、第１露光工程において絵素の左半分を露光するのか、右半分を露光するのかを決定する。これにより、２つの領域Ｒ１およびＲ２のうちの一方の領域のマスクパターン（遮光部１ａおよび透光部１ｂの配置）が決定される。このときのマスクパターンは、８個の絵素のそれぞれについて２種類の選択肢があることから、全部で２５６（＝２8）通りである。次に、決定された一方の領域のマスクパターンをネガポジ反転させたものを、他方の領域のマスクパターンとする。このようにして、フォトマスク１Ｑにおける遮光部１ａおよび透光部１ｂの具体的な配置を決定することができる。一方の領域のマスクパターンが２５６通りであることから、フォトマスク１Ｑのバリエーションも２５６個存在する。
【０１９９】
（実施形態３）
図５１に、本実施形態における液晶表示装置３００を示す。図５１は、液晶表示装置３００の行方向に沿って連続する６個の画素Ｐを模式的に示す平面図である。
【０２００】
各画素Ｐを規定する４個の絵素は、図５１に示すように、行方向に沿った長さがすべて異なる。具体的には、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３および緑画素Ｇの行方向に沿った長さＬ４は、この順に大きい（つまりＬ１＞Ｌ２＞Ｌ３＞Ｌ４）。これに対し、すべての絵素の列方向に沿った長さは、同じ長さＬ５である。このように、本実施形態の液晶表示装置３００の画素Ｐ内では、列方向については絵素の長さが１種類であるのに対し、行方向については絵素の長さが４種類存在している。
【０２０１】
実施形態１における液晶表示装置１００では、配向パターンの最小繰り返し単位が２画素であり、実施形態２における液晶表示装置２００では、配向パターンの最小繰り返し単位が４画素である。これに対し、本実施形態における液晶表示装置３００では、配向パターンの最小繰り返し単位は６画素である。つまり、液晶表示装置３００の一対の光配向膜は、行方向に沿って液晶層に６画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有する。図５１には、配向パターンの最小繰り返し単位が示されている。
【０２０２】
配向パターンの繰り返し単位である６画素内においては、卍配向の絵素と、８の字配向の絵素とが混在する。具体的には、もっとも左側の画素Ｐの赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙと、左側から２番目の画素Ｐの赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙと、左側から３番目の画素Ｐの緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂと、左側から４番目の画素Ｐの緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂと、左側から５番目の画素Ｐの青絵素Ｂと、もっとも右側の画素Ｐの赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙとは、卍配向をとる。これに対し、もっとも左側の画素Ｐの緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂと、左側から２番目の画素Ｐの青絵素Ｂと、左側から３番目の画素Ｐの赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙと、左側から４番目の画素Ｐの赤絵素Ｒおよび黄絵素Ｙと、左側から５番目の画素Ｐの赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙと、もっとも右側の画素Ｐの緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂとは、８の字配向をとる。
【０２０３】
また、左側の３画素では、絵素の配向は、左側から右側に向かって卍、８の字、８の字、卍、卍、卍、８の字、卍、８の字、卍、卍、８の字と変化する。これに対し、右側の３画素では、絵素の配向は、左側から右側に向かって８の字、卍、卍、８の字、８の字、８の字、卍、８の字、卍、８の字、８の字、卍と変化する。従って、配向パターンの繰り返し単位の左側半分（左側の３画素）と右側半分（右側の３画素）とでは、配向パターンが反転している。
【０２０４】
このような構成を有する液晶表示装置３００においても、行方向および列方向の両方に沿ってずらし露光を行うことができる。以下、液晶表示装置３００が備える一対の光配向膜に対する光配向処理を説明する。
【０２０５】
まず、図５２〜図５４を参照しながら、ＴＦＴ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０２０６】
まず、図５２に示すフォトマスク１Ｒを用意する。図５２には、フォトマスク１Ｒの一部を示しており、より具体的には、配向パターンの繰り返し単位である６画素に対応する領域を示している。フォトマスク１Ｒは、図５２に示すように、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部１ａと、複数の遮光部１ａ間に配置された複数の透光部１ｂとを含むマスクパターンを有する。
【０２０７】
複数の透光部１ｂのうち、もっとも左側の透光部１ｂ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ１は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ１＝Ｌ１／２）、左側から２番目の透光部１ｂ２の幅Ｗ２は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しい（つまりＷ２＝Ｌ４／２）。左側から３番目の透光部１ｂ３の幅Ｗ３は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しく（つまりＷ３＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）、左側から４番目の透光部１ｂ４の幅Ｗ４は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しい（つまりＷ４＝Ｌ１／２）。
【０２０８】
左側から５番目の透光部１ｂ５の幅Ｗ５は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しく（つまりＷ５＝Ｌ４／２）、左側から６番目の透光部１ｂ６の幅Ｗ６は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しい（つまりＷ６＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）。左側から７番目の透光部１ｂ７の幅Ｗ７は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの長さＬ４の半分との和に等しく（つまりＷ７＝（Ｌ１＋Ｌ４）／２）、左側から８番目の透光部１ｂ８の幅Ｗ８は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分に等しい（つまりＷ８＝Ｌ２／２）。
【０２０９】
左側から９番目の透光部１ｂ９の幅Ｗ９は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分に等しく（つまりＷ９＝Ｌ３／２）、左側から１０番目の透光部１ｂ１０の幅Ｗ１０は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの長さＬ４の半分との和に等しい（つまりＷ１０＝（Ｌ１＋Ｌ４）／２）。左側から１１番目の透光部１ｂ１１の幅Ｗ１１は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分に等しく（つまりＷ１１＝Ｌ２／２）、左側から１２番目の透光部１ｂ１２の幅Ｗ１２は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分に等しい（つまりＷ１２＝Ｌ３／２）。
【０２１０】
左側から１３番目の透光部１ｂ１３の幅Ｗ１３は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ１３＝Ｌ１／２）、左側から１４番目の透光部１ｂ１４の幅Ｗ１４は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分と青絵素Ｂの長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ１４＝（Ｌ４＋Ｌ２）／２）。左側から１５番目の透光部１ｂ１５の幅Ｗ１５は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分と赤絵素Ｒの長さＬ１の半分との和に等しく（つまりＷ１５＝（Ｌ３＋Ｌ１）／２）、左側から１６番目の透光部１ｂ１６の幅Ｗ１６は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しい（つまりＷ１６＝Ｌ４／２）。左側から１７番目（もっとも右側）の透光部１ｂ１７の幅Ｗ１７は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しい（つまりＷ１７＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）。
【０２１１】
複数の遮光部１ａのうち、もっとも左側の遮光部１ａ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ１８は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの長さＬ４の半分との和に等しく（つまりＷ１８＝（Ｌ１＋Ｌ４）／２）、左側から２番目の遮光部１ａ２の幅Ｗ１９は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分に等しい（つまりＷ１９＝Ｌ２／２）。左側から３番目の遮光部１ａ３の幅Ｗ２０は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分に等しく（つまりＷ２０＝Ｌ３／２）、左側から４番目の遮光部１ａ４の幅Ｗ２１は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しい（つまりＷ２１＝Ｌ１／２）。
【０２１２】
左側から５番目の遮光部１ａ５の幅Ｗ２２は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分と青絵素Ｂの長さＬ２の半分との和に等しく（つまりＷ２２＝（Ｌ４＋Ｌ２）／２）、左側から６番目の遮光部１ａ６の幅Ｗ２３は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分と赤絵素Ｒの長さＬ１の半分との和に等しい（つまりＷ２３＝（Ｌ３＋Ｌ１）／２）。左側から７番目の遮光部１ａ７の幅Ｗ２４は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しく（つまりＷ２４＝Ｌ４／２）、左側から８番目の遮光部１ａ８の幅Ｗ２５は、青絵素Ｇの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しい（つまりＷ２５＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）。
【０２１３】
左側から９番目の遮光部１ａ９の幅Ｗ２６は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ２６＝Ｌ１／２）、左側から１０番目の遮光部１ａ１０の幅Ｗ２７は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しい（つまりＷ２７＝Ｌ４／２）。左側から１１番目の遮光部１ａ１１の幅Ｗ２８は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しく（つまりＷ２８＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）、左側から１２番目の遮光部１ａ１２の幅Ｗ２９は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分に等しい（つまりＷ２９＝Ｌ１／２）。
【０２１４】
左側から１３番目の遮光部１ａ１３の幅Ｗ３０は、緑絵素Ｇの長さＬ４の半分に等しく（Ｗ３０＝Ｌ４／２）、左側から１４番目の遮光部１ａ１４の幅Ｗ３１は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分と黄絵素Ｙの長さＬ３の半分との和に等しい（つまりＷ３１＝（Ｌ２＋Ｌ３）／２）。左側から１５番目の遮光部１ａ１５の幅Ｗ３２は、赤絵素Ｒの長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの長さＬ４の半分との和に等しく（Ｗ３２＝（Ｌ１＋Ｌ４）／２）、左側から１６番目の遮光部１ａ１６の幅Ｗ３３は、青絵素Ｂの長さＬ２の半分に等しい（Ｗ３３＝Ｌ２／２）。左側から１７番目（もっとも右側）の遮光部１ａ１７の幅Ｗ３４は、黄絵素Ｙの長さＬ３の半分に等しい（Ｗ３４＝Ｌ３／２）。
【０２１５】
図５２に示すフォトマスク１Ｒを、配向パターンの最小繰り返し単位の左側半分（左側の３画素）に対応する領域Ｒ１と、右側半分（右側の３画素）に対応する領域Ｒ２とに区分したとき、左側の領域Ｒ１のマスクパターンと、右側の領域Ｒ２のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。つまり、右側の領域Ｒ２における遮光部１ａは、左側の領域Ｒ１における透光部１ｂの位置に設けられており、右側の領域Ｒ２における透光部１ｂは、左側の領域Ｒ１における遮光部１ａの位置に設けられている。
【０２１６】
次に、図５３（ａ）に示すように、光配向膜の、もっとも左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、左側から２番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが透光部１ｂに重なるようにフォトマスク１を配置する。このとき、左側から３番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分と、左側から４番目の画素Ｐの赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分とに対応する部分も透光部１ｂに重なる。また、左側から５番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分と、左側から６番目（もっとも右側）の画素Ｐの赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分とに対応する部分も透光部１ｂに重なる。
【０２１７】
続いて、図５３（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図５３（ｃ）に示すように、光配向膜の、透光部１ｂに重なっている部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ１と同じ方向である。
【０２１８】
次に、図５４（ａ）に示すように、フォトマスク１Ｒを行方向に沿って所定の距離Ｄ１ずらす。所定の距離Ｄ１は、ここでは、画素Ｐの行方向に沿った長さＰＬ１（図５１参照）の３倍である。つまり、フォトマスク１Ｒは、行方向に沿って３画素分ずらされる。この移動により、光配向膜の、もっとも左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、左側から２番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが、フォトマスク１Ｒの透光部１ｂに重なる。このとき、左側から３番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分と、左側から４番目の画素Ｐの赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分も透光部１ｂに重なる。さらに、左側から５番目の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分と、左側から６番目（もっとも右側）の画素Ｐの赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分も透光部１ｂに重なる。
【０２１９】
続いて、図５４（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図５４（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、移動後のフォトマスク１Ｒの透光部１ｂに重なっている部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２と同じ方向であり、図５３（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０２２０】
上述した光配向処理によって、ＴＦＴ基板の光配向膜の各絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。次に、図５５〜図５７を参照しながら、ＣＦ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０２２１】
まず、図５５に示すフォトマスク２Ｂを用意する。図５５には、フォトマスク２Ｂの一部を示しており、より具体的には、１２画素（２行６列に配置された１２個の画素Ｐ）に対応する領域を示している。フォトマスク２Ｂは、図５５に示すように、行方向（水平方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部２ａと、複数の遮光部２ａ間に配置された複数の透光部２ｂとを含むマスクパターンを有する。複数の透光部２ｂのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ３５は、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分である（つまりＷ３５＝Ｌ５／２）。また、複数の遮光部２ａのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ３６も、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分である（つまりＷ３６＝Ｌ５／２、Ｗ３５＋Ｗ３６＝Ｌ５）。
【０２２２】
次に、図５６（ａ）に示すように、光配向膜の、各絵素の上半分に対応する部分が透光部２ｂに重なるようにフォトマスク２Ｂを配置する。言い換えると、光配向膜の、各絵素の下半分に対応する部分が遮光部２ａに重なるようにフォトマスク２Ｂを配置する。
【０２２３】
続いて、図５６（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図５６（ｃ）に示すように、光配向膜の、各絵素の上半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ１と同じ方向である。
【０２２４】
次に、図５７（ａ）に示すように、フォトマスク２Ｂを列方向に沿って所定の距離Ｄ２ずらす。所定の距離Ｄ２は、ここでは、画素Ｐの列方向に沿った長さＰＬ２（図５１（ａ）参照）の１／２であり、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の半分（１／２）である。つまり、フォトマスク２Ｂは、列方向に沿って半画素分ずらされる。この移動により、光配向膜の、各絵素の下半分に対応する部分が、フォトマスク２Ｂの透光部２ｂに重なる。つまり、各絵素の上半分に対応する部分が、フォトマスク２Ｂの遮光部２ａに重なる。
【０２２５】
続いて、図５７（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図５７（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、各絵素の下半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ２と同じ方向であり、図５６（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０２２６】
上述した光配向処理によって、ＣＦ基板の光配向膜の各絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。このようにして光配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図５１に示したように各絵素が配向分割された液晶表示装置３００が得られる。
【０２２７】
液晶表示装置３００の製造方法においても、ＴＦＴ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク１Ｒを用いて実行され、また、ＣＦ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク２Ｂを用いて実行される。つまり、絵素の長さが１種類である列方向に沿ったずらし露光だけでなく、絵素の長さが４種類である行方向に沿ったずらし露光も行うことができるので、低コストで短タクトタイムで光配向処理を実現できる。このように、本実施形態の液晶表示装置３００では、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が互いに異なる（暗い領域ＤＲの形状が互いに異なる）絵素が混在し、且つ、行方向に沿って６画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れる構成を有していることによって、光配向処理の際にずらし露光が実行される製造方法での製造が可能となる。
【０２２８】
なお、フォトマスク１Ｒの２つの領域Ｒ１およびＲ２のマスクパターンは、互いにネガポジ反転した関係にあればよく、フォトマスク１Ｒにおける遮光部１ａおよび透光部１ｂの配置は、図５２に例示した配置に限定されない。以下、フォトマスク１Ｒの設計思想を説明する。
【０２２９】
まず、配向パターンの最小繰り返し単位である６画素のうちの左側または右側の３画素に関し、赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇ、青絵素Ｂおよび黄絵素Ｙのそれぞれについて、第１露光工程において絵素の左半分を露光するのか、右半分を露光するのかを決定する。これにより、２つの領域Ｒ１およびＲ２のうちの一方の領域のマスクパターン（遮光部１ａおよび透光部１ｂの配置）が決定される。このときのマスクパターンは、１２個の絵素のそれぞれについて２種類の選択肢があることから、全部で４０９６（＝２12）通りである。次に、決定された一方の領域のマスクパターンをネガポジ反転させたものを、他方の領域のマスクパターンとする。このようにして、フォトマスク１Ｒにおける遮光部１ａおよび透光部１ｂの具体的な配置を決定することができる。一方の領域のマスクパターンが４０９６通りであることから、フォトマスク１Ｒのバリエーションも４０９６個存在する。
【０２３０】
なお、上記実施形態１、２および３では、配向パターンの最小繰り返し単位が２画素、４画素および６画素である場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。配向パターンの最小繰り返し単位は、偶数画素、つまり２ｎ画素（ｎは１以上の整数）であればよく、配向パターンの最小繰り返し単位である２ｎ画素内において、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が互いに異なる絵素が混在すればよい。
【０２３１】
なお、配向パターンの最小繰り返し単位は、必ずしも行方向に沿って連続した２ｎ画素である必要はない。絵素の列方向に沿った長さが複数種類存在する場合には、列方向に沿って連続した２ｎ画素を配向パターンの最小繰り返し単位とすればよい。
【０２３２】
例えば、図５８に示す液晶表示装置４００では、各画素Ｐを規定する４個の絵素は、４行一列に配置されており、列方向に沿った長さがすべて異なる。具体的には、赤絵素Ｒの列方向に沿った長さＬ１、青絵素Ｂの列方向に沿った長さＬ２、黄絵素Ｙの列方向に沿った長さＬ３および緑画素Ｇの列方向に沿った長さＬ４は、この順に大きい（つまりＬ１＞Ｌ２＞Ｌ３＞Ｌ４）。これに対し、すべての絵素の行方向に沿った長さは、同じ長さＬ５である。このように、液晶表示装置４００の画素Ｐ内では、行方向については絵素の長さが１種類であるのに対し、列方向については絵素の長さが４種類存在している。この液晶表示装置４００では、図示しているように、列方向に沿って連続した２画素が配向パターンの最小繰り返し単位となっているので、行方向だけでなく、列方向に沿ってもずらし露光を行うことができる。
【０２３３】
配向パターンの最小繰り返し単位を２ｎ画素にするためには、フォトマスクの、行方向（あるいは列方向）に沿って連続するあるｎ画素（ｎは１以上の整数）に対応する領域のマスクパターンと、上記あるｎ画素に行方向（あるいは列方向）に沿って隣接する別のｎ画素に対応する領域のマスクパターンとが、互いにネガポジ反転した関係にあればよい。
【０２３４】
２回の露光工程間のフォトマスクを移動する工程において、フォトマスクは、行方向または列方向に沿ってｎ画素分ずらされる。このフォトマスク移動工程において、１０画素分よりも大きな距離ずらすことは、難しい場合がある。現行の露光装置において、フォトマスクを機械的に移動させる場合の移動範囲の上限は２ｍｍ（２０００μｍ）程度であり、これ以上の距離を移動させることは、メカ的に困難であるだけでなく、ずらした際に十分なアライメント精度を確保することも難しい。一方、ＴＶ用途の液晶表示パネルにおける画素サイズは小さくても２００μｍ程度である。そのため、フォトマスクを移動させる距離は、１０（＝２０００／２００）画素分以下であることが好ましい。従って、配向パターンの最小繰り返し単位は、２画素以上２０画素以下（つまり１≦ｎ≦１０）であることが好ましい。
【０２３５】
なお、上記実施形態では、行方向に沿った絵素の長さが４種類存在し、各画素Ｐを規定する４個の絵素のサイズがすべて異なる場合を説明したが、本発明はこれに限定されない。本発明は、行方向または列方向に沿った絵素の長さが何種類であっても、好適に用いられる。例えば、行方向に沿った絵素の長さが２種類であってもよいし、図５９に示す液晶表示装置５００のように、行方向に沿った絵素の長さが３種類であってもよい。
【０２３６】
液晶表示装置５００では、図５９に示すように、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さは、同じ長さＬ３であり、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ２、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ３はこの順に大きい（つまりＬ１＞Ｌ２＞Ｌ３）。これに対し、すべての絵素の列方向に沿った長さは、同じ長さＬ５である。このように、液晶表示装置５００の画素Ｐ内では、列方向については絵素の長さが１種類であるのに対し、行方向については絵素の長さが３種類存在している。このような液晶表示装置５００においても、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が互いに異なる絵素が混在し、且つ、行方向に沿って２ｎ画素（図５９には２画素の場合を例示している）を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れる構成を有していることによって、ずらし露光が可能となる。
【０２３７】
また、図６０に示す液晶表示装置５００Ａのように、絵素分割駆動技術が用いられてもよい。液晶表示装置５００Ａは、画素Ｐを規定する各絵素が、それぞれ内の液晶層に互いに異なる電圧を印加することができる複数のサブ絵素を有する点において、図５９に示した液晶表示装置５００と異なる。
【０２３８】
具体的には、赤絵素Ｒは、相対的に低い輝度を呈する暗サブ絵素ＲSLおよび相対的に高い輝度を呈する明サブ絵素ＲSHを有する。同様に、緑絵素Ｇは、暗サブ絵素ＧSLおよび明サブ絵素ＧSHを有し、青絵素Ｂは、暗サブ絵素ＢSLおよび明サブ絵素ＢSHを有し、黄絵素Ｙは、暗サブ絵素ＹSLおよび明サブ絵素ＹSHを有する。各絵素内で、暗サブ絵素および明サブ絵素は、列方向に沿って（つまり一列に）配置されている。絵素分割駆動を可能にするための具体的な構成としては、特許文献３および４に開示されているような種々の構成を用い得る。
【０２３９】
各絵素が有する暗サブ絵素および明サブ絵素は、それぞれ４つの領域に配向分割されている。具体的には、各サブ絵素は、電圧印加時のチルト方向がそれぞれ略２２５°、略３１５°、略４５°、略１３５°方向である４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４を有する。液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のそれぞれのチルト方向は、クロスニコル状態に配置された一対の偏光板の透過軸Ｐ１およびＰ２と略４５°の角をなす。４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、２行２列のマトリクス状に配置されている。
【０２４０】
このように、液晶表示装置５００Ａでは、１つの絵素が複数のサブ絵素を有し、サブ絵素ごとに４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４が形成される。サブ絵素内に４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４が形成される場合にも、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４のサブ絵素内での配置に応じて、異なる形状の暗い領域ＤＲが形成される。
【０２４１】
なお、図６０には、暗サブ絵素ＲSL、ＧSL、ＢSLおよびＹSLの列方向に沿った長さと、明サブ絵素ＲSH、ＧSH、ＢSHおよびＹSHの列方向に沿った長さとが同じ長さＬ６である構成を示しているが、図６１に示す液晶表示装置５００Ｂのように、暗サブ絵素ＲSL、ＧSL、ＢSLおよびＹSLの列方向に沿った長さＬ６と、明サブ絵素ＲSH、ＧSH、ＢSHおよびＹSHの列方向に沿った長さＬ７とが異なっていてもよい。液晶表示装置５００Ｂでは、暗サブ絵素ＲSL、ＧSL、ＢSLおよびＹSLの列方向に沿った長さＬ６は、明サブ絵素ＲSH、ＧSH、ＢSHおよびＹSHの列方向に沿った長さＬ７のＮ倍（Ｎは２以上の整数）である（つまりＬ６＝Ｎ・Ｌ７）。
【０２４２】
ここで、絵素分割駆動を行うための具体的な構成を説明する。図６２に、各絵素の具体的な構成の一例を示す。各絵素は、図６２に示すように、互いに異なる輝度を呈し得る第１サブ絵素ｓ１および第２サブ絵素ｓ２を有している。つまり、各絵素は、ある階調の表示を行う際に、第１サブ絵素ｓ１および第２サブ絵素ｓ２のそれぞれの液晶層に印加される実効電圧が異なるように駆動され得る。第１サブ絵素ｓ１および第２サブ絵素ｓ２の一方が、図６０および図６１に示した暗サブ絵素ＲSL、ＧSL、ＢSLおよびＹSLであり、他方が明サブ絵素ＲSH、ＧSH、ＢSHおよびＹSHである。なお、１つの絵素が有する複数のサブ絵素の個数（絵素の分割数ということもある。）は２に限られず、例えば、４であってもよい。
【０２４３】
このように、絵素を互いに異なる輝度を呈し得る複数のサブ絵素ｓ１およびｓ２に分割すると、異なるγ特性が混合された状態で観察されるので、γ特性の視角依存性（正面観測時のγ特性と斜め観測時のγ特性が異なるという問題点）が改善される。γ特性とは表示輝度の階調依存性であり、γ特性が正面方向と斜め方向で異なるということは、階調表示状態が観測方向によって異なるということである。
【０２４４】
第１サブ絵素ｓ１および第２サブ絵素ｓ２の液晶層に大きさの異なる実効電圧を印加するための構成は、特許文献３および４などに開示されているように種々の構成であり得る。
【０２４５】
例えば、図６２に例示する構成を採用することができる。絵素分割駆動を行わない一般的な液晶表示装置においては、１つの絵素はスイッチング素子（例えばＴＦＴ）を介して信号線に接続された唯一の絵素電極を有しているのに対し、図６２に示す１つの絵素は、互いに異なる信号線１６ａおよび１６ｂに、それぞれ対応するＴＦＴ１７ａおよび１７ｂを介して接続された２つのサブ絵素電極１１ａおよび１１ｂを有している。
【０２４６】
第１サブ絵素ｓ１および第２サブ絵素ｓ２は、１つの絵素を構成するので、ＴＦＴ１７ａおよび１７ｂのゲート電極は共通の走査線（ゲートライン）１５に接続され、同じ走査信号によってオン／オフ制御される。信号線（ソースライン）１６ａおよび１６ｂには、第１サブ絵素ｓ１と第２サブ絵素ｓ２とが異なる輝度を呈するように信号電圧（階調電圧）が供給される。信号線１６ａおよび１６ｂに供給される信号電圧は、第１サブ絵素ｓ１と第２サブ絵素ｓ２の平均輝度が、外部から入力される表示信号（映像信号）が示す絵素輝度に一致するように調整される。
【０２４７】
あるいは、図６３に示す構成を採用することもできる。図６３に示す構成では、ＴＦＴ１７ａおよびＴＦＴ１７ｂのソース電極は共通の（同一の）信号線１６に接続されている。また、第１サブ絵素ｓ１および第２サブ絵素ｓ２には、それぞれ補助容量（ＣＳ）１８ａおよび１８ｂが設けられている。補助容量１８ａおよび１８ｂは、それぞれ補助容量配線（ＣＳライン）１９ａおよび１９ｂに接続されている。補助容量１８ａおよび１８ｂは、それぞれサブ絵素電極１１ａおよび１１ｂに電気的に接続された補助容量電極と、補助容量配線１９ａおよび１９ｂに電気的に接続された補助容量対向電極と、これらの間に設けられた絶縁層（いずれも不図示）によって形成されている。補助容量１８ａおよび１８ｂの補助容量対向電極は互いに独立しており、それぞれ補助容量配線１９ａおよび１９ｂから互いに異なる電圧（補助容量対向電圧という。）が供給され得る構造を有している。補助容量対向電極に供給される補助容量対向電圧を変化させることによって、容量分割を利用して、第１サブ絵素ｓ１の液晶層と第２サブ絵素ｓ２の液晶層とに印加される実効電圧を異ならせることができる。
【０２４８】
図６２に示した構成では、第１サブ絵素ｓ１および第２サブ絵素ｓ２に、それぞれ独立したＴＦＴ１７ａおよび１７ｂが接続されており、これらＴＦＴ１７ａおよび１７ｂのソース電極は、それぞれに対応する信号線１６ａ、１６ｂに接続されている。従って、複数のサブ絵素ｓ１およびｓ２の液晶層に任意の実効電圧を印加することができる反面、信号線（１６ａ、１６ｂ）の数が絵素分割駆動を行わない液晶表示装置における信号線の数の２倍となり、信号線駆動回路の数も２倍必要となる。
【０２４９】
これに対し、図６３に示す構成を採用すると、サブ絵素電極１１ａおよび１１ｂのそれぞれに対して異なる信号電圧を印加する必要がないので、ＴＦＴ１７ａおよび１７ｂを共通の信号線１６に接続し、同じ信号電圧を供給すればよい。従って、信号線１６の本数は、絵素分割駆動を行わない液晶表示装置と同じであり、信号線駆動回路の構成も絵素分割駆動を行わない液晶表示装置で用いられるものと同じ構成を採用できる。
【０２５０】
なお、上記の実施形態では、各画素Ｐが４個の絵素によって規定される構成を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。各画素Ｐが５個以上の絵素によって規定されてもよい。例えば、赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇ、青絵素Ｂおよび黄絵素Ｙに、シアンを表示するシアン絵素を加えた５個の絵素によって各画素Ｐが規定されてもよいし、さらにマゼンタを表示するマゼンタ絵素を加えた６個の絵素によって各画素Ｐが規定されてもよい。あるいは、各画素Ｐが３個の絵素（例えば赤絵素Ｒ、緑絵素Ｇおよび青絵素Ｂ）によって規定されてもよい。つまり、表示に用いられる原色の数に特に限定はなく、本発明は、多原色液晶表示装置にも、三原色液晶表示装置にも用いられる。
【０２５１】
各画素Ｐが奇数個の絵素によって規定される場合でも、１画素内における卍配向の絵素の個数と８の字配向の絵素の個数との差は、できるだけ小さいことが好ましい。従って、各画素Ｐが奇数個の絵素によって規定される場合には、卍配向の絵素と８の字配向の絵素との個数差が１である配向パターンがもっとも好ましい。そのため、各画素Ｐが奇数個の絵素によって規定される場合と偶数個の絵素によって規定される場合とを概括すると、配向パターンの繰り返し単位である２ｎ画素のうちの一側半分のｎ画素内で、卍配向の絵素の個数と８の字配向の絵素の個数との差は０または１であり、他側半分のｎ画素内でも、卍配向の絵素の個数と８の字配向の絵素の個数との差は０または１であることが好ましい。
【０２５２】
（実施形態４）
上記の説明では、１個の画素に他の絵素とは異なるサイズの絵素が含まれている場合であってもずらし露光を行うことができるという効果を述べた。本発明によると、さらに、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを貼り合わせる際に位置ずれ（以下では「貼り合わせずれ」と呼ぶ）が発生しても斜め観察時の色ずれによる表示品位の低下を抑制できるという効果が得られる。以下、この効果をより具体的に説明する。
【０２５３】
既に説明したように、国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／０６２５８５号に、１個の画素内に行方向および／または列方向に沿った絵素の長さが２種類存在していてもずらし露光が可能な技術が提案されている。しかしながら、この技術では、貼り合わせずれが発生すると、斜め観察時に色ずれが視認されることがある。
【０２５４】
図６４および図６５に、国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／０６２５８５号の技術により得られる液晶表示装置１０００を示す。図６４および図６５は、それぞれ液晶表示装置１０００の２行２列に配置された４個の画素Ｐを模式的に示す平面図である。
【０２５５】
液晶表示装置１０００には、絵素分割駆動技術が用いられている。そのため、赤絵素Ｒは、相対的に低い輝度を呈する暗サブ絵素ＲSLおよび相対的に高い輝度を呈する明サブ絵素ＲSHを有する。同様に、緑絵素Ｇは、暗サブ絵素ＧSLおよび明サブ絵素ＧSHを有し、青絵素Ｂは、暗サブ絵素ＢSLおよび明サブ絵素ＢSHを有し、黄絵素Ｙは、暗サブ絵素ＹSLおよび明サブ絵素ＹSHを有する。各絵素内で、暗サブ絵素および明サブ絵素は、列方向に沿って（つまり一列に）配置されている。各絵素が有する暗サブ絵素および明サブ絵素は、それぞれ４つの領域に配向分割されている。つまり、各サブ絵素は、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４を有する。
【０２５６】
液晶表示装置１０００では、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さは同じ長さＬ１であり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さは同じ長さＬ２である。前者の長さＬ１は、後者の長さＬ２よりも大きい（つまりＬ１＞Ｌ２）。これに対し、すべての絵素の列方向に沿った長さは、同じ長さＬ５である。このように、液晶表示装置１０００の画素Ｐ内では、列方向については絵素の長さが１種類であるのに対し、行方向については絵素の長さが２種類存在している。なお、暗サブ絵素ＲSL、ＧSL、ＢSLおよびＹSLの列方向に沿った長さと、明サブ絵素ＲSH、ＧSH、ＢSHおよびＹSHの列方向に沿った長さとは同じ長さＬ６である。
【０２５７】
赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内において、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、右上、右下、左下、左上の順に（つまり右上から時計回りに）配置されている。そのため、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内に形成される暗い領域ＤＲは、略８の字状である。これに対し、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内においては、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４は、左上、左下、右下、右上の順に（つまり左上から反時計回りに）配置されている。そのため、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内に形成される暗い領域ＤＲは、略卍状である。
【０２５８】
このように、液晶表示装置１０００では、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂ内と、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙ内とで、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置パターンが異なっており、１個の画素Ｐ内に、卍配向のサブ絵素と、８の字配向のサブ絵素とが混在している。ただし、図６４および図６５からわかるように、液晶表示装置１０００では、行方向に沿っては液晶層に１／２画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れ、列方向に沿っても液晶層に１／２画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れる。つまり、配向パターンの最小繰り返し単位は、偶数画素（２ｎ画素）ではない。
【０２５９】
上述した構成を有する液晶表示装置１０００でも、ＴＦＴ基板およびＣＦ基板の光配向膜に対してずらし露光を行うことができる。以下、液晶表示装置１０００の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０２６０】
まず、図６６〜図６８を参照しながら、ＴＦＴ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０２６１】
まず、図６６に示すフォトマスク１００１を用意する。フォトマスク１００１は、図６６に示すように、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部１００１ａと、複数の遮光部１００１ａ間に配置された複数の透光部１００１ｂとを有する。複数の透光部１００１ｂのそれぞれの幅（行方向に沿った幅）Ｗ１は、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分と緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ１＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。また、複数の遮光部１００１ａのそれぞれの幅（行方向に沿った幅）Ｗ２も、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分と緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ２＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２、Ｗ１＋Ｗ２＝Ｌ１＋Ｌ２）。
【０２６２】
次に、図６７（ａ）に示すように、光配向膜の、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分と緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの左半分とに対応する部分が透光部１００１ｂに重なるように（つまり赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分と緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの右半分とに対応する部分が遮光部１００１ａに重なるように）フォトマスク１００１を配置する。
【０２６３】
続いて、図６７（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図６７（ｃ）に示すように、光配向膜の、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分と緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの左半分とに対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ１と同じ方向である。
【０２６４】
次に、図６８（ａ）に示すように、フォトマスク１００１を行方向に沿って所定の距離Ｄ１ずらす。所定の距離Ｄ１は、画素Ｐの行方向に沿った長さＰＬ１（図６４参照）の１／４である。この移動により、光配向膜の、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分と緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの右半分とに対応する部分が、フォトマスク１００１の透光部１００１ｂに重なる。つまり、光配向膜の、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの右半分と緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの左半分とに対応する部分が、フォトマスク１００１の遮光部１００１ａに重なる。
【０２６５】
続いて、図６８（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図６８（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの左半分と緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの右半分とに対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２と同じ方向であり、図６７（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０２６６】
上述した光配向処理によって、ＴＦＴ基板の光配向膜の各絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。次に、図６９〜図７１を参照しながら、ＣＦ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０２６７】
まず、図６９に示すフォトマスク１００２を用意する。フォトマスク１００２は、図６９に示すように、行方向（水平方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部１００２ａと、複数の遮光部１００２ａ間に配置された複数の透光部１００２ｂとを有する。複数の透光部１００２ｂのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ３は、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分である（つまりＷ３＝Ｌ６／２）。また、複数の遮光部１００２ａのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ４も、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分である（つまりＷ４＝Ｌ６／２、Ｗ３＋Ｗ４＝Ｌ６）。
【０２６８】
次に、図７０（ａ）に示すように、光配向膜の、各サブ絵素の上半分に対応する部分が透光部１００２ｂに重なるように（つまり各サブ絵素の下半分に対応する部分が遮光部１００２ａに重なるように）フォトマスク１００２を配置する。
【０２６９】
続いて、図７０（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図７０（ｃ）に示すように、光配向膜の、各サブ絵素の上半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ１と同じ方向である。
【０２７０】
次に、図７１（ａ）に示すように、フォトマスク１００２を列方向に沿って所定の距離Ｄ２ずらす。所定の距離Ｄ２は、画素Ｐの列方向に沿った長さＰＬ２（図６４参照）の１／４であり、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の１／４であり、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分（１／２）である。この移動により、光配向膜の、各サブ絵素の下半分に対応する部分が、フォトマスク１００２の透光部１００２ｂに重なる。つまり、各絵素の上半分に対応する部分が、フォトマスク１００２の遮光部１００２ａに重なる。
【０２７１】
続いて、図７１（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図７１（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、各サブ絵素の下半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ２と同じ方向であり、図７０（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０２７２】
上述した光配向処理によって、ＣＦ基板の光配向膜の各絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。このようにして光配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図６４および図６５に示したように各サブ絵素が配向分割された液晶表示装置１０００が得られる。
【０２７３】
液晶表示装置１０００を製造する際にも、ＴＦＴ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク１００１を用いて実行され、また、ＣＦ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク１００２を用いて実行される。つまり、絵素の長さが１種類である列方向に沿ったずらし露光だけでなく、絵素の長さが２種類である行方向に沿ったずらし露光も行うことができる。しかしながら、液晶表示装置１０００では、製造時に貼り合わせずれが発生すると、斜め観察時に色ずれが視認されることがある。
【０２７４】
図７２（ａ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合の液晶表示装置１０００の配向状態を示し、図７２（ｂ）に、左方向の貼り合わせずれが発生した場合（つまりＣＦ基板の位置が本来よりも左側にずれてしまった場合）の液晶表示装置１０００の配向状態を示す。
【０２７５】
貼り合わせずれが発生しなかった場合、図７２（ａ）に示すように、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の行方向に沿った長さは同じである。そのため、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。
【０２７６】
これに対し、左方向の貼り合わせずれが発生した場合、図７２（ｂ）に示すように、各サブ絵素内で左側に位置する２つの液晶ドメインの行方向に沿った長さが大きくなり、右側に位置する２つの液晶ドメインの行方向に沿った長さが小さくなる。そのため、各サブ絵素内で左側の２つの液晶ドメインの面積が、右側の２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなる。
【０２７７】
具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ３およびＤ４の行方向に沿った長さが大きくなり、液晶ドメインＤ１およびＤ２の行方向に沿った長さが小さくなる。そのため、液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が、液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなる。
【０２７８】
また、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ１およびＤ２の行方向に沿った長さが大きくなり、液晶ドメインＤ３およびＤ４の行方向に沿った長さが小さくなる。そのため、液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が、液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなる。
【０２７９】
このように、貼り合わせずれが発生すると、４つの液晶ドメインの面積に差が生じてしまう（あるいは差が大きくなってしまう）。４つの液晶ドメインの面積に差があっても、表示面を正面方向から観察したときには問題はない。例えばある階調の白を表示する場合、正面方向からの観察時には、図７２（ａ）に示した配向状態および図７２（ｂ）に示した配向状態のいずれであっても、各画素Ｐは白く視認される。
【０２８０】
ただし、４つの液晶ドメインの面積に差があると、斜め方向からの観察時（つまり視角を倒したとき）に色ずれが発生することがある。例えば行方向（左方向または右方向）の貼り合わせずれが発生した場合には、上方向に沿って視角を倒したとき（上斜め方向からの観察時）や、下方向に沿って視角を倒したとき（下斜め方向からの観察時）に、色ずれが発生する。
【０２８１】
図７３（ａ）および（ｂ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合および左方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置１０００の表示面が上斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す。図７３（ａ）および（ｂ）は、いずれも、ある階調の白が表示されている状態を示している。なお、図７３（ａ）および（ｂ）のいずれにおいても、各絵素内の一部の領域が暗く示されている。これは、液晶分子が上側に倒れる液晶ドメインＤ３およびＤ４は、上斜め方向からの観察時には、暗く視認されるからである。従って、上方向に沿ってある程度大きく視角を倒したときには、液晶ドメインＤ１およびＤ２が主に表示に寄与する。
【０２８２】
既に説明したように、貼り合わせずれが発生しなかった場合、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。そのため、図７３（ａ）からわかるように、上斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積（主に表示に寄与する液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積）の比は、正面方向からの観察時と同じである。従って、上斜め方向からの観察時にも各画素Ｐによって表示される色は白のままである。
【０２８３】
これに対し、左方向の貼り合わせずれが発生した場合、各サブ絵素内で左側に位置する２つの液晶ドメインの面積が、右側に位置する２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなる。具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなる。そのため、図７３（ｂ）からわかるように、上斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比は、正面方向からの観察時と異なる。具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの実効的な面積比が低くなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比が高くなる。従って、上斜め方向からの観察時に各画素Ｐによって表示される色は緑味を帯びるので、複数の画素Ｐは全体として緑に視認される。
【０２８４】
図７４（ａ）および（ｂ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合および左方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置１０００の表示面が下斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す。図７４（ａ）および（ｂ）は、いずれも、ある階調の白が表示されている状態を示している。なお、図７４（ａ）および（ｂ）のいずれにおいても、各絵素内の一部の領域が暗く示されている。これは、液晶分子が下側に倒れる液晶ドメインＤ１およびＤ２は、下斜め方向からの観察時には、暗く視認されるからである。従って、下方向に沿ってある程度大きく視角を倒したときには、液晶ドメインＤ３およびＤ４が主に表示に寄与する。
【０２８５】
既に説明したように、貼り合わせずれが発生しなかった場合、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。そのため、図７４（ａ）からわかるように、下斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積（主に表示に寄与する液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積）の比は、正面方向からの観察時と同じである。従って、下斜め方向からの観察時にも各画素Ｐによって表示される色は白のままである。
【０２８６】
これに対し、左方向の貼り合わせずれが発生した場合、各サブ絵素内で左側に位置する２つの液晶ドメインの面積が、右側に位置する２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなる。具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなる。そのため、図７４（ｂ）からわかるように、下斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比は、正面方向からの観察時と異なる。具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの実効的な面積比が高くなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比が低くなる。従って、下斜め方向からの観察時に各画素Ｐによって表示される色はマゼンタ味を帯びるので、複数の画素Ｐは全体としてマゼンタに視認される。
【０２８７】
このように、液晶表示装置１０００では、製造時に貼り合わせずれが発生すると、斜め観察時に色ずれ（例えば白が緑またはマゼンタに着色されてしまう）が視認されることがある。これに対し、本発明によれば、このような色ずれに起因する表示品位の低下を抑制することができる。
【０２８８】
図７５および図７６に、本実施形態における液晶表示装置６００を示す。図７５および図７６は、それぞれ液晶表示装置６００の２行２列に配置された４個の画素Ｐを模式的に示す平面図である。
【０２８９】
液晶表示装置６００には、絵素分割駆動技術が用いられている。そのため、赤絵素Ｒは、相対的に低い輝度を呈する暗サブ絵素ＲSLおよび相対的に高い輝度を呈する明サブ絵素ＲSHを有する。同様に、緑絵素Ｇは、暗サブ絵素ＧSLおよび明サブ絵素ＧSHを有し、青絵素Ｂは、暗サブ絵素ＢSLおよび明サブ絵素ＢSHを有し、黄絵素Ｙは、暗サブ絵素ＹSLおよび明サブ絵素ＹSHを有する。各絵素内で、暗サブ絵素および明サブ絵素は、列方向に沿って（つまり一列に）配置されている。各絵素が有する暗サブ絵素および明サブ絵素は、それぞれ４つの領域に配向分割されている。つまり、各サブ絵素は、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４を有する。
【０２９０】
液晶表示装置６００では、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さは同じ長さＬ１であり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さは同じ長さＬ２である。前者の長さＬ１は、後者の長さＬ２よりも大きい（つまりＬ１＞Ｌ２）。これに対し、すべての絵素の列方向に沿った長さは、同じ長さＬ５である。このように、液晶表示装置６００の画素Ｐ内では、列方向については絵素の長さが１種類であるのに対し、行方向については絵素の長さが２種類存在している。なお、暗サブ絵素ＲSL、ＧSL、ＢSLおよびＹSLの列方向に沿った長さと、明サブ絵素ＲSH、ＧSH、ＢSHおよびＹSHの列方向に沿った長さとは同じ長さＬ６である。
【０２９１】
本実施形態における液晶表示装置６００では、一対の光配向膜は、行方向に沿って液晶層に２画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有する。行方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２画素内においては、卍配向のサブ絵素から構成される絵素と、８の字配向のサブ絵素から構成される絵素とが混在する。具体的には、左側の画素Ｐにおける緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサブ絵素と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂのサブ絵素とは、卍配向をとる。これに対し、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂのサブ絵素と、右側の画素Ｐにおける緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサブ絵素とは、８の字配向をとる。
【０２９２】
また、左側の画素Ｐでは、サブ絵素の配向は、左側から右側に向かって８の字、卍、８の字、卍と変化する。これに対し、右側の画素Ｐでは、サブ絵素の配向は、左側から右側に向かって卍、８の字、卍、８の字と変化する。従って、配向パターンの繰り返し単位の左側半分（左側の画素Ｐ）と右側半分（右側の画素Ｐ）とでは、配向パターンが反転している。
【０２９３】
液晶表示装置６００においても、行方向および列方向の両方に沿ってずらし露光を行うことができる。以下、液晶表示装置６００が備える一対の光配向膜に対する光配向処理を説明する。
【０２９４】
まず、図７７〜図７９を参照しながら、ＴＦＴ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０２９５】
まず、図７７に示すフォトマスク１Ｓを用意する。図７７には、フォトマスク１Ｓの一部を示しており、より具体的には、配向パターンの繰り返し単位である２画素に対応する領域を示している。フォトマスク１Ｓは、図７７に示すように、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部１ａと、複数の遮光部１ａ間に配置された複数の透光部１ｂとを含むマスクパターンを有する。
【０２９６】
複数の透光部１ｂのうち、もっとも左側の透光部１ｂ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ１は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しく（つまりＷ１＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）、左側から２番目の透光部１ｂ２の幅Ｗ２は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分と黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ２＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。また、左側から３番目の透光部１ｂ３の幅Ｗ３は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ３＝Ｌ１／２）、左側から４番目の透光部１ｂ４の幅Ｗ４は、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ２の半分と青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分との和に等しい（つまりＷ４＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。さらに、左側から５番目（もっとも右側）の透光部１ｂ５の幅Ｗ５は、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分に等しい（つまりＷ５＝Ｌ２／２）。
【０２９７】
複数の遮光部１ａのうち、もっとも左側の遮光部１ａ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ６は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ６＝Ｌ１／２）、左側から２番目の遮光部１ａ２の幅Ｗ７は、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ２の半分と青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分との和に等しい（つまりＷ７＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。また、左側から３番目の遮光部１ａ３の幅Ｗ８は、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分に等しく（つまりＷ８＝Ｌ２／２）、左側から４番目の遮光部１ａ４の幅Ｗ９は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ９＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。さらに、左側から５番目（もっとも右側）の遮光部１ａ５の幅Ｗ１０は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分と黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ１０＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。
【０２９８】
図７７に示すフォトマスク１Ｓを、配向パターンの最小繰り返し単位の左側半分（左側の画素Ｐ）に対応する領域Ｒ１と、右側半分（右側の画素Ｐ）に対応する領域Ｒ２とに区分したとき、左側の領域Ｒ１のマスクパターンと、右側の領域Ｒ２のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。つまり、右側の領域Ｒ２における遮光部１ａは、左側の領域Ｒ１における透光部１ｂの位置に設けられており、右側の領域Ｒ２における透光部１ｂは、左側の領域Ｒ１における遮光部１ａの位置に設けられている。
【０２９９】
次に、図７８（ａ）に示すように、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが透光部１ｂに重なるようにフォトマスク１Ｓを配置する。言い換えると、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが遮光部１ａに重なるようにフォトマスク１Ｓを配置する。
【０３００】
続いて、図７８（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図７８（ｃ）に示すように、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ１と同じ方向である。
【０３０１】
次に、図７９（ａ）に示すように、フォトマスク１Ｓを行方向に沿って所定の距離Ｄ１ずらす。所定の距離Ｄ１は、ここでは、画素Ｐの行方向に沿った長さＰＬ１（図７５参照）と同じである。つまり、フォトマスク１Ｓは、行方向に沿って１画素分ずらされる。この移動により、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが、フォトマスク１Ｓの透光部１ｂに重なる。言い換えると、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが、フォトマスク１Ｓの遮光部１ａに重なる。
【０３０２】
続いて、図７９（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図７９（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２と同じ方向であり、図７８（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０３０３】
上述した光配向処理によって、ＴＦＴ基板の光配向膜の各サブ絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。次に、図８０〜図８２を参照しながら、ＣＦ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０３０４】
まず、図８０に示すフォトマスク２Ｃを用意する。図８０には、フォトマスク２Ｃの一部を示しており、より具体的には、４画素（２行２列に配置された４個の画素Ｐ）に対応する領域を示している。フォトマスク２Ｃは、図８０に示すように、行方向（水平方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部２ａと、複数の遮光部２ａ間に配置された複数の透光部２ｂとを含むマスクパターンを有する。複数の透光部２ｂのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ１１は、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分である（つまりＷ１１＝Ｌ６／２）。また、複数の遮光部２ａのそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ１２も、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分である（つまりＷ１２＝Ｌ６／２、Ｗ１１＋Ｗ１２＝Ｌ６）。
【０３０５】
次に、図８１（ａ）に示すように、光配向膜の、各サブ絵素の上半分に対応する部分が透光部２ｂに重なるようにフォトマスク２Ｃを配置する。言い換えると、光配向膜の、各サブ絵素の下半分に対応する部分が遮光部２ａに重なるようにフォトマスク２Ｃを配置する。
【０３０６】
続いて、図８１（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図８１（ｃ）に示すように、光配向膜の、各サブ絵素の上半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ１と同じ方向である。
【０３０７】
次に、図８２（ａ）に示すように、フォトマスク２Ｃを列方向に沿って所定の距離Ｄ２ずらす。所定の距離Ｄ２は、ここでは、画素Ｐの列方向に沿った長さＰＬ２（図７５参照）の１／４であり、各絵素の列方向に沿った長さＬ５の１／４であり、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分（１／２）である。つまり、フォトマスク２Ｃは、列方向に沿って１／４画素分ずらされる。この移動により、光配向膜の、各サブ絵素の下半分に対応する部分が、フォトマスク２Ｃの透光部２ｂに重なる。つまり、各サブ絵素の上半分に対応する部分が、フォトマスク２Ｃの遮光部２ａに重なる。
【０３０８】
続いて、図８２（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図８２（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、各サブ絵素の下半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ２と同じ方向であり、図８１（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０３０９】
上述した光配向処理によって、ＣＦ基板の光配向膜の各サブ絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。このようにして光配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図７５および図７６に示したように各サブ絵素が配向分割された液晶表示装置６００が得られる。
【０３１０】
液晶表示装置６００の製造方法においても、ＴＦＴ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク１Ｓを用いて実行され、また、ＣＦ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク２Ｃを用いて実行される。つまり、絵素の長さが１種類である列方向に沿ったずらし露光だけでなく、絵素の長さが２種類である行方向に沿ったずらし露光も行うことができるので、低コスト・短タクトタイムで光配向処理を実現できる。さらに、液晶表示装置６００では、製造時に貼り合わせずれが発生しても、斜め観察時の色ずれに起因する表示品位の低下を抑制することができる。
【０３１１】
図８３（ａ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合の液晶表示装置６００の配向状態を示し、図８３（ｂ）に、左方向の貼り合わせずれが発生した場合（つまりＣＦ基板の位置が本来よりも左側にずれてしまった場合）の液晶表示装置６００の配向状態を示す。
【０３１２】
貼り合わせずれが発生しなかった場合、図８３（ａ）に示すように、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の行方向に沿った長さは同じである。そのため、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。
【０３１３】
これに対し、左方向の貼り合わせずれが発生した場合、図８３（ｂ）に示すように、各サブ絵素内で左側に位置する２つの液晶ドメインの行方向に沿った長さが大きくなり、右側に位置する２つの液晶ドメインの行方向に沿った長さが小さくなる。そのため、各サブ絵素内で左側の２つの液晶ドメインの面積が、右側の２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなる。
【０３１４】
具体的には、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ３およびＤ４の行方向に沿った長さが大きくなり、液晶ドメインＤ１およびＤ２の行方向に沿った長さが小さくなる。そのため、液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が、液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなる。また、左側の画素Ｐにおける緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ１およびＤ２の行方向に沿った長さが大きくなり、液晶ドメインＤ３およびＤ４の行方向に沿った長さが小さくなる。そのため、液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が、液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなる。
【０３１５】
これに対し、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ１およびＤ２の行方向に沿った長さが大きくなり、液晶ドメインＤ３およびＤ４の行方向に沿った長さが小さくなる。そのため、液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が、液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなる。また、右側の画素Ｐにおける緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ３およびＤ４の行方向に沿った長さが大きくなり、液晶ドメインＤ１およびＤ２の行方向に沿った長さが小さくなる。そのため、液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が、液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなる。
【０３１６】
このように、貼り合わせずれが発生すると、４つの液晶ドメインの面積に差が生じてしまうが、４つの液晶ドメインの面積に差があっても、表示面を正面方向から観察したときには問題はない。例えばある階調の白を表示する場合、正面方向からの観察時には、図８３（ａ）に示した配向状態および図８３（ｂ）に示した配向状態のいずれであっても、各画素Ｐは白く視認される。
【０３１７】
ただし、４つの液晶ドメインの面積に差があると、斜め方向からの観察時に色ずれが発生することがある。例えば行方向の貼り合わせずれが発生した場合には、上斜め方向からの観察時や、下斜め方向からの観察時に、色ずれが発生する。
【０３１８】
図８４（ａ）および（ｂ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合および左方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置６００の表示面が上斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す。図８４（ａ）および（ｂ）は、いずれも、ある階調の白が表示されている状態を示している。なお、図８４（ａ）および（ｂ）では、図７３（ａ）および（ｂ）と同様、上斜め方向からの観察時に暗く視認される（液晶分子が上側に倒れる）液晶ドメインＤ３およびＤ４を暗く示している。上方向に沿ってある程度大きく視角を倒したときには、液晶ドメインＤ１およびＤ２が主に表示に寄与する。
【０３１９】
既に説明したように、貼り合わせずれが発生しなかった場合、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。そのため、図８４（ａ）からわかるように、上斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積（主に表示に寄与する液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積）の比は、正面方向からの観察時と同じである。従って、上斜め方向からの観察時にも各画素Ｐによって表示される色は白のままである。
【０３２０】
これに対し、左方向の貼り合わせずれが発生した場合、各サブ絵素内で左側に位置する２つの液晶ドメインの面積が、右側に位置する２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなる。具体的には、左側の画素Ｐにおいては、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内で液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内で液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなる。そのため、図８４（ｂ）からわかるように、上斜め方向からの観察時の、左側の画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比は、正面方向からの観察時と異なる。具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの実効的な面積比が低くなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比が高くなる。従って、上斜め方向からの観察時に左側の画素Ｐによって表示される色は緑味を帯びる。
【０３２１】
また、右側の画素Ｐにおいては、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内で液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内で液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなる。そのため、図８４（ｂ）からわかるように、上斜め方向からの観察時の、右側の画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比は、正面方向からの観察時と異なる。具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの実効的な面積比が高くなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比が低くなる。従って、上斜め方向からの観察時に右側の画素Ｐによって表示される色はマゼンタ味を帯びる。ただし、既に説明したように、左側の画素Ｐによって表示される色が緑味を帯びているので、複数の画素Ｐは全体としては白に視認される。
【０３２２】
図８５（ａ）および（ｂ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合および左方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置６００の表示面が下斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す。図８５（ａ）および（ｂ）は、いずれも、ある階調の白が表示されている状態を示している。なお、図８５（ａ）および（ｂ）では、図７４（ａ）および（ｂ）と同様、下斜め方向からの観察時に暗く視認される（液晶分子が下側に倒れる）液晶ドメインＤ１およびＤ２を暗く示している。下方向に沿ってある程度大きく視角を倒したときには、液晶ドメインＤ３およびＤ４が主に表示に寄与する。
【０３２３】
既に説明したように、貼り合わせずれが発生しなかった場合、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。そのため、図８５（ａ）からわかるように、下斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積（主に表示に寄与する液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積）の比は、正面方向からの観察時と同じである。従って、下斜め方向からの観察時にも各画素Ｐによって表示される色は白のままである。
【０３２４】
これに対し、左方向の貼り合わせずれが発生した場合、各サブ絵素内で左側に位置する２つの液晶ドメインの面積が、右側に位置する２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなる。具体的には、左側の画素Ｐにおいては、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内で液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内で液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなる。そのため、図８５（ｂ）からわかるように、下斜め方向からの観察時の、左側の画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比は、正面方向からの観察時と異なる。具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの実効的な面積比が高くなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比が低くなる。従って、下斜め方向からの観察時に左側の画素Ｐによって表示される色はマゼンタ味を帯びる。
【０３２５】
また、右側の画素Ｐにおいては、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの各サブ絵素内で液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積が液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積よりも大きくなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの各サブ絵素内で液晶ドメインＤ３およびＤ４の面積が液晶ドメインＤ１およびＤ２の面積よりも大きくなる。そのため、図８５（ｂ）からわかるように、下斜め方向からの観察時の、右側の画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比は、正面方向からの観察時と異なる。具体的には、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの実効的な面積比が低くなり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比が高くなる。従って、下斜め方向からの観察時に右側の画素Ｐによって表示される色は緑味を帯びる。ただし、既に説明したように、左側の画素Ｐによって表示される色がマゼンタ味を帯びているので、複数の画素Ｐは全体としては白に視認される。
【０３２６】
このように、液晶表示装置６００においても、製造時に貼り合わせずれが発生すると、斜め観察時に各画素Ｐで色ずれが発生する。しかしながら、液晶表示装置６００では、異なる方向に色味がシフトした画素Ｐ（緑味を帯びる画素Ｐとマゼンタ味を帯びる画素Ｐ）が行方向に沿って混在するので、表示される色は、複数の画素Ｐ全体としては白のままである。そのため、色ずれは視認されにくく、色ずれに起因した表示品位の低下が抑制される。
【０３２７】
なお、ここでは絵素分割駆動技術が用いられた（つまり各絵素が複数のサブ絵素に分割された）構成を例示したが、絵素分割駆動技術が用いられていない構成においても、色ずれに起因した表示品位の低下を抑制する効果を得ることができる。
【０３２８】
（実施形態５）
図８６および図８７に、本実施形態における液晶表示装置７００を示す。図８６および図８７は、それぞれ液晶表示装置７００の２行２列に配置された４個の画素Ｐを模式的に示す平面図である。
【０３２９】
液晶表示装置７００には、絵素分割駆動技術が用いられている。そのため、赤絵素Ｒは、相対的に低い輝度を呈する暗サブ絵素ＲSLおよび相対的に高い輝度を呈する明サブ絵素ＲSHを有する。同様に、緑絵素Ｇは、暗サブ絵素ＧSLおよび明サブ絵素ＧSHを有し、青絵素Ｂは、暗サブ絵素ＢSLおよび明サブ絵素ＢSHを有し、黄絵素Ｙは、暗サブ絵素ＹSLおよび明サブ絵素ＹSHを有する。各絵素内で、暗サブ絵素および明サブ絵素は、列方向に沿って（つまり一列に）配置されている。各絵素が有する暗サブ絵素および明サブ絵素は、それぞれ４つの領域に配向分割されている。つまり、各サブ絵素は、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４を有する。
【０３３０】
液晶表示装置７００では、赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂの行方向に沿った長さは同じ長さＬ１であり、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの行方向に沿った長さは同じ長さＬ２である。前者の長さＬ１は、後者の長さＬ２よりも大きい（つまりＬ１＞Ｌ２）。これに対し、すべての絵素の列方向に沿った長さは、同じ長さＬ５である。このように、液晶表示装置７００の画素Ｐ内では、列方向については絵素の長さが１種類であるのに対し、行方向については絵素の長さが２種類存在している。なお、暗サブ絵素ＲSL、ＧSL、ＢSLおよびＹSLの列方向に沿った長さと、明サブ絵素ＲSH、ＧSH、ＢSHおよびＹSHの列方向に沿った長さとは同じ長さＬ６である。
【０３３１】
本実施形態における液晶表示装置７００では、一対の光配向膜は、行方向に沿って液晶層に２画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れるような配向規制力を有する。行方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２画素内においては、卍配向のサブ絵素から構成される絵素と、８の字配向のサブ絵素から構成される絵素とが混在する。例えば、上段左側の画素Ｐにおける緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサブ絵素と、上段右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂのサブ絵素とは、卍配向をとる。これに対し、上段左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂのサブ絵素と、上段右側の画素Ｐにおける緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサブ絵素とは、８の字配向をとる。
【０３３２】
また、上段左側の画素Ｐでは、サブ絵素の配向は、左側から右側に向かって８の字、卍、８の字、卍と変化する。これに対し、上段右側の画素Ｐでは、サブ絵素の配向は、左側から右側に向かって卍、８の字、卍、８の字と変化する。従って、行方向に沿った配向パターンの繰り返し単位の左側半分（上段左側の画素Ｐ）と右側半分（上段右側の画素Ｐ）とでは、配向パターンが反転している。
【０３３３】
さらに、本実施形態における液晶表示装置７００では、一対の光配向膜の配向規制力によって、列方向に沿っても液晶層に２画素を最小単位として同じ配向パターンが繰り返し現れる。列方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２画素内においては、卍配向の絵素（卍配向のサブ絵素から構成される絵素）と、８の字配向の絵素（８の字配向のサブ絵素から構成される絵素）とが混在する。例えば、上段左側の画素Ｐにおける緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサブ絵素と、下段左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂのサブ絵素とは、卍配向をとる。これに対し、上段左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒおよび青絵素Ｂのサブ絵素と、下段左側の画素Ｐにおける緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙのサブ絵素とは、８の字配向をとる。
【０３３４】
また、上段左側の画素Ｐの各色の絵素と、下段左側の画素Ｐの各色の絵素とでは、卍配向と８の字配向とが入れ替わっている。同様に、上段右側の画素Ｐの各色の絵素と、下段右側の画素Ｐの各色の絵素とでは、卍配向と８の字配向とが入れ替わっている。従って、配向パターンの繰り返し単位の上側半分と下側半分（上段左側の画素Ｐと下段左側の画素Ｐ、あるいは、上段右側の画素Ｐと下段右側の画素Ｐ）とでは、配向パターンが反転している。
【０３３５】
上述したように、本実施形態における液晶表示装置７００では、行方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位が２画素であるだけでなく、列方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位も２画素である。液晶表示装置７００が備える一対の光配向膜に対しては、以下のようにして光配向処理が行われる。
【０３３６】
まず、図８８〜図９０を参照しながら、ＴＦＴ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０３３７】
まず、図８８に示すフォトマスク１Ｔを用意する。図８８には、フォトマスク１Ｔの一部を示しており、より具体的には、４画素（２行２列に配置された４個の画素Ｐ）に対応する領域を示している。フォトマスク１Ｔは、図８８に示すように、列方向（垂直方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部１ａと、複数の遮光部１ａ間に配置された複数の透光部１ｂとを含むマスクパターンを有する。
【０３３８】
複数の透光部１ｂのうち、もっとも左側の透光部１ｂ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ１は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しく（つまりＷ１＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）、左側から２番目の透光部１ｂ２の幅Ｗ２は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分と黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ２＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。また、左側から３番目の透光部１ｂ３の幅Ｗ３は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ３＝Ｌ１／２）、左側から４番目の透光部１ｂ４の幅Ｗ４は、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ２の半分と青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分との和に等しい（つまりＷ４＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。さらに、左側から５番目（もっとも右側）の透光部１ｂ５の幅Ｗ５は、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分に等しい（つまりＷ５＝Ｌ２／２）。
【０３３９】
複数の遮光部１ａのうち、もっとも左側の遮光部１ａ１の幅（行方向に沿った幅）Ｗ６は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分に等しく（つまりＷ６＝Ｌ１／２）、左側から２番目の遮光部１ａ２の幅Ｗ７は、緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ２の半分と青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分との和に等しい（つまりＷ７＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。また、左側から３番目の遮光部１ａ３の幅Ｗ８は、黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分に等しく（つまりＷ８＝Ｌ２／２）、左側から４番目の遮光部１ａ４の幅Ｗ９は、赤絵素Ｒの行方向に沿った長さＬ１の半分と緑絵素Ｇの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ９＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。さらに、左側から５番目（もっとも右側）の遮光部１ａ５の幅Ｗ１０は、青絵素Ｂの行方向に沿った長さＬ１の半分と黄絵素Ｙの行方向に沿った長さＬ２の半分との和に等しい（つまりＷ１０＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２）。
【０３４０】
図８８に示すフォトマスク１Ｔを、行方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位の左側半分（左側の画素Ｐ）に対応する領域Ｒ１と、右側半分（右側の画素Ｐ）に対応する領域Ｒ２とに区分したとき、左側の領域Ｒ１のマスクパターンと、右側の領域Ｒ２のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。つまり、右側の領域Ｒ２における遮光部１ａは、左側の領域Ｒ１における透光部１ｂの位置に設けられており、右側の領域Ｒ２における透光部１ｂは、左側の領域Ｒ１における遮光部１ａの位置に設けられている。
【０３４１】
次に、図８９（ａ）に示すように、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが透光部１ｂに重なるようにフォトマスク１Ｔを配置する。言い換えると、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが遮光部１ａに重なるようにフォトマスク１Ｔを配置する。
【０３４２】
続いて、図８９（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図８９（ｃ）に示すように、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ１と同じ方向である。
【０３４３】
次に、図９０（ａ）に示すように、フォトマスク１Ｔを行方向に沿って所定の距離Ｄ１ずらす。所定の距離Ｄ１は、ここでは、画素Ｐの行方向に沿った長さＰＬ１（図８６参照）と同じである。つまり、フォトマスク１Ｔは、行方向に沿って１画素分ずらされる。この移動により、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分とが、フォトマスク１Ｔの透光部１ｂに重なる。言い換えると、光配向膜の、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分とが、フォトマスク１Ｔの遮光部１ａに重なる。
【０３４４】
続いて、図９０（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図９０（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、左側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの左半分、緑絵素Ｇの右半分、青絵素Ｂの左半分および黄絵素Ｙの右半分に対応する部分と、右側の画素Ｐにおける赤絵素Ｒの右半分、緑絵素Ｇの左半分、青絵素Ｂの右半分および黄絵素Ｙの左半分に対応する部分に所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ａ）に示したプレチルト方向ＰＡ２と同じ方向であり、図８９（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０３４５】
上述した光配向処理によって、ＴＦＴ基板の光配向膜の各サブ絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。次に、図９１〜図９３を参照しながら、ＣＦ基板の光配向膜への光配向処理を説明する。
【０３４６】
まず、図９１に示すフォトマスク２Ｄを用意する。図９１には、フォトマスク２Ｄの一部を示しており、より具体的には、４画素（２行２列に配置された４個の画素Ｐ）に対応する領域を示している。フォトマスク２Ｄは、図９１に示すように、行方向（水平方向）に平行に延びるストライプ状に形成された複数の遮光部２ａと、複数の遮光部２ａ間に配置された複数の透光部２ｂとを含むマスクパターンを有する。
【０３４７】
複数の透光部２ｂ（２ｂ１〜２ｂ４）のそれぞれの幅（列方向に沿った幅）Ｗ１１〜Ｗ１４は、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分である（つまりＷ１１＝Ｗ１２＝Ｗ１３＝Ｗ１４＝Ｌ６／２）。複数の遮光部２ａのうち、もっとも上側の遮光部２ａ１の幅（列方向に沿った幅）Ｗ１５は、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分に等しく（つまりＷ１５＝Ｌ６／２）、上側から２番目の遮光部２ａ２の幅Ｗ１６は、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６に等しい（つまりＷ１６＝Ｌ６）。また、上側から３番目（もっとも下側）の遮光部２ａ３の幅Ｗ１７は、各サブ絵素の列方向に沿った長さＬ６の半分に等しい（つまりＷ１７＝Ｌ６／２）。
【０３４８】
図９１に示すフォトマスク２Ｄを、列方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位の上側半分（上段の画素Ｐ）に対応する領域Ｒ３と、下側半分（下段の画素Ｐ）に対応する領域Ｒ４とに区分したとき、上側の領域Ｒ３のマスクパターンと、下側の領域Ｒ４のマスクパターンとは、互いにネガポジ反転した関係にある。つまり、下側の領域Ｒ４における遮光部２ａは、上側の領域Ｒ３における透光部２ｂの位置に設けられており、下側の領域Ｒ４における透光部２ｂは、上側の領域Ｒ３における遮光部２ａの位置に設けられている。
【０３４９】
次に、図９２（ａ）に示すように、光配向膜の、上段の画素Ｐにおける各サブ絵素の上半分に対応する部分と、下段の画素Ｐにおける各サブ絵素の下半分に対応する部分とが透光部２ｂに重なるようにフォトマスク２Ｄを配置する。言い換えると、光配向膜の、上段の画素Ｐにおける各サブ絵素の下半分に対応する部分と、下段の画素Ｐにおける各サブ絵素の上半分に対応する部分とが遮光部２ａに重なるようにフォトマスク２Ｄを配置する。
【０３５０】
続いて、図９２（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図９２（ｃ）に示すように、光配向膜の、上段の画素Ｐにおける各サブ絵素の上半分に対応する部分と、下段の画素Ｐにおける各サブ絵素の下半分に対応する部分とに所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ１と同じ方向である。
【０３５１】
次に、図９３（ａ）に示すように、フォトマスク２Ｄを列方向に沿って所定の距離Ｄ２ずらす。所定の距離Ｄ２は、ここでは、画素Ｐの列方向に沿った長さＰＬ２（図８６参照）と同じである。つまり、フォトマスク２Ｄは、列方向に沿って１画素分ずらされる。この移動により、光配向膜の、上段の画素Ｐにおける各サブ絵素の下半分に対応する部分と、下段の画素Ｐにおける各サブ絵素の上半分に対応する部分とが、フォトマスク２Ｄの透光部２ｂに重なる。つまり、上段の画素Ｐにおける各サブ絵素の上半分に対応する部分と、下段の画素Ｐにおける各サブ絵素の下半分に対応する部分とが、フォトマスク２Ｄの遮光部２ａに重なる。
【０３５２】
続いて、図９３（ｂ）に示すように、矢印で示した方向から紫外線を斜め照射する。この露光工程により、図９３（ｃ）に示すように、光配向膜の残りの部分、つまり、上段の画素Ｐにおける各サブ絵素の下半分に対応する部分と、下段の画素Ｐにおける各サブ絵素の上半分に対応する部分とに所定のプレチルト方向が付与される。このとき付与されるプレチルト方向は、図２（ｂ）に示したプレチルト方向ＰＢ２と同じ方向であり、図９２（ｃ）に示したプレチルト方向に反平行な方向である。
【０３５３】
上述した光配向処理によって、ＣＦ基板の光配向膜の各サブ絵素に対応する領域内に、互いに反平行なプレチルト方向を有する２つの領域が形成される。このようにして光配向処理がなされたＴＦＴ基板およびＣＦ基板を貼り合わせることによって、図８６および図８７に示したように各サブ絵素が配向分割された液晶表示装置７００が得られる。
【０３５４】
液晶表示装置７００の製造方法においても、ＴＦＴ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク１Ｔを用いて実行され、また、ＣＦ基板の光配向膜に光配向処理を施す工程で２回の露光工程が共通の同一のフォトマスク２Ｄを用いて実行される。つまり、絵素の長さが１種類である列方向に沿ったずらし露光だけでなく、絵素の長さが２種類である行方向に沿ったずらし露光も行うことができるので、低コスト・短タクトタイムで光配向処理を実現できる。さらに、液晶表示装置７００では、製造時に貼り合わせずれが発生しても、斜め観察時の色ずれに起因する表示品位の低下を抑制することができる。
【０３５５】
また、図６４などに示した液晶表示装置１０００や、図７５などに示した液晶表示装置６００では、列方向（上方向または下方向）の貼り合わせずれが発生した場合には、左方向に沿って視角を倒したとき（左斜め方向からの観察時）や、右方向に沿って視角を倒したとき（右斜め方向からの観察時）に、明るさのずれが発生することがある。本実施形態における液晶表示装置７００では、そのような明るさのずれに起因する表示品位の低下を抑制することができる。
【０３５６】
図９４（ａ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合の液晶表示装置７００の配向状態を示し、図９４（ｂ）に、上方向の貼り合わせずれが発生した場合（つまりＣＦ基板の位置が本来よりも上側にずれてしまった場合）の液晶表示装置７００の配向状態を示す。
【０３５７】
貼り合わせずれが発生しなかった場合、図９４（ａ）に示すように、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の列方向に沿った長さは同じである。そのため、４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。
【０３５８】
これに対し、上方向の貼り合わせずれが発生した場合、図９４（ｂ）に示すように、各サブ絵素内で上側に位置する２つの液晶ドメインの列方向に沿った長さが大きくなり、下側に位置する２つの液晶ドメインの列方向に沿った長さが小さくなる。そのため、各サブ絵素内で上側の２つの液晶ドメインの面積が、下側の２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなる。
【０３５９】
具体的には、上段の画素Ｐにおける各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ１およびＤ４の列方向に沿った長さが大きくなり、液晶ドメインＤ２およびＤ３の列方向に沿った長さが小さくなる。そのため、液晶ドメインＤ１およびＤ４の面積が、液晶ドメインＤ２およびＤ３の面積よりも大きくなる。これに対し、下段の画素Ｐにおける各サブ絵素内では、液晶ドメインＤ２およびＤ３の列方向に沿った長さが大きくなり、液晶ドメインＤ１およびＤ４の列方向に沿った長さが小さくなる。そのため、液晶ドメインＤ２およびＤ３の面積が、液晶ドメインＤ１およびＤ４の面積よりも大きくなる。
【０３６０】
このように、列方向の貼り合わせずれが発生した場合でも、４つの液晶ドメインの面積に差が生じてしまうが、４つの液晶ドメインの面積に差があっても、表示面を正面方向から観察したときには問題はない。例えばある階調の白を表示する場合、正面方向からの観察時には、図９４（ａ）に示した配向状態および図９４（ｂ）に示した配向状態のいずれであっても、各画素Ｐは白く視認される。また、図９４（ａ）に示した配向状態と、図９４（ｂ）に示した配向状態とで、各画素Ｐの明るさは同じである。つまり、明るさのずれは発生しない。
【０３６１】
ただし、列方向の貼り合わせずれが発生した場合、右斜め方向からの観察時や左斜め方向からの観察時に、明るさのずれが発生する。
【０３６２】
図９５（ａ）および（ｂ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合および上方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置７００の表示面が左斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す。図９５（ａ）および（ｂ）は、いずれも、ある階調の白が表示されている状態を示している。なお、図９５（ａ）および（ｂ）では、左斜め方向からの観察時に暗く視認される（液晶分子が左側に倒れる）液晶ドメインＤ１およびＤ４を暗く示している。左方向に沿ってある程度大きく視角を倒したときには、液晶ドメインＤ２およびＤ３が主に表示に寄与する。
【０３６３】
既に説明したように、貼り合わせずれが発生しなかった場合、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。そのため、図９５（ａ）からわかるように、左斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積（主に表示に寄与する液晶ドメインＤ２およびＤ３の面積）の比は、正面方向からの観察時と同じである。従って、左斜め方向からの観察時にも各画素Ｐによって表示される色は白のままである。
【０３６４】
また、上方向の貼り合わせずれが発生した場合でも、図９５（ｂ）からわかるように、左斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比は、正面方向からの観察時と同じである。従って、各画素Ｐによって表示される色は白のままである。
【０３６５】
ただし、上方向の貼り合わせずれが発生した場合、各サブ絵素内で上側に位置する２つの液晶ドメインの面積が、下側に位置する２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなるので、これにより、左斜め方向からの観察時の各画素Ｐの明るさが、本来（貼り合わせずれが発生しなかった場合）と異なってしまう。
【０３６６】
具体的には、上段の画素Ｐにおいては、各サブ絵素内で液晶ドメインＤ１およびＤ４の面積が液晶ドメインＤ２およびＤ３の面積よりも大きくなる。そのため、図９５（ｂ）からわかるように、左斜め方向からの観察時に上段の画素Ｐによって表示される白は、本来よりも暗くなる。
【０３６７】
また、下段の画素Ｐにおいては、各サブ絵素内で液晶ドメインＤ２およびＤ３の面積が液晶ドメインＤ１およびＤ４の面積よりも大きくなる。そのため、図９５（ｂ）からわかるように、左斜め方向からの観察時に下段の画素Ｐによって表示される白は、本来よりも明るくなる。
【０３６８】
このように、上方向の貼り合わせずれが発生すると、左斜め方向からの観察時に各画素Ｐで明るさのずれが発生する。しかしながら、液晶表示装置７００では、図９５（ｂ）に示されているように、暗くなるＰ画素（上段の画素Ｐ）と明るくなる画素Ｐ（下段の画素Ｐ）とが列方向に沿って混在するので、複数の画素Ｐ全体としては、貼り合わせずれが発生しなかった場合と同じ明るさを維持することができる。これに対し、液晶表示装置１０００や液晶表示装置６００では、上方向の貼り合わせずれが発生した場合、左斜め方向からの観察時に複数の画素Ｐは一様に暗くなってしまう。
【０３６９】
図９６（ａ）および（ｂ）に、貼り合わせずれが発生しなかった場合および上方向の貼り合わせずれが発生した場合について、液晶表示装置７００の表示面が右斜め方向からの観察時にどのように視認されるかを模式的に示す。図９６（ａ）および（ｂ）は、いずれも、ある階調の白が表示されている状態を示している。なお、図９６（ａ）および（ｂ）では、右斜め方向からの観察時に暗く視認される（液晶分子が下側に倒れる）液晶ドメインＤ２およびＤ３を暗く示している。右方向に沿ってある程度大きく視角を倒したときには、液晶ドメインＤ１およびＤ４が主に表示に寄与する。
【０３７０】
既に説明したように、貼り合わせずれが発生しなかった場合、各サブ絵素内で４つの液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の面積は同じである。そのため、図９６（ａ）からわかるように、右斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積（主に表示に寄与する液晶ドメインＤ１およびＤ４の面積）の比は、正面方向からの観察時と同じである。従って、右斜め方向からの観察時にも各画素Ｐによって表示される色は白のままである。
【０３７１】
また、上方向の貼り合わせずれが発生した場合でも、図９６（ｂ）からわかるように、右斜め方向からの観察時の、画素Ｐ内における赤絵素Ｒ、青絵素Ｂ、緑絵素Ｇおよび黄絵素Ｙの実効的な面積比は、正面方向からの観察時と同じである。従って、各画素Ｐによって表示される色は白のままである。
【０３７２】
ただし、上方向の貼り合わせずれが発生した場合、各サブ絵素内で上側に位置する２つの液晶ドメインの面積が、下側に位置する２つの液晶ドメインの面積よりも大きくなるので、これにより、右斜め方向からの観察時の各画素Ｐの明るさが、本来（貼り合わせずれが発生しなかった場合）と異なってしまう。
【０３７３】
具体的には、上段の画素Ｐにおいては、各サブ絵素内で液晶ドメインＤ１およびＤ４の面積が液晶ドメインＤ２およびＤ３の面積よりも大きくなる。そのため、図９６（ｂ）からわかるように、右斜め方向からの観察時に上段の画素Ｐによって表示される白は、本来よりも明るくなる。
【０３７４】
また、下段の画素Ｐにおいては、各サブ絵素内で液晶ドメインＤ２およびＤ３の面積が液晶ドメインＤ１およびＤ４の面積よりも大きくなる。そのため、図９６（ｂ）からわかるように、右斜め方向からの観察時に下段の画素Ｐによって表示される白は、本来よりも暗くなる。
【０３７５】
このように、上方向の貼り合わせずれが発生すると、右斜め方向からの観察時にも各画素Ｐで明るさのずれが発生する。しかしながら、液晶表示装置７００では、図９６（ｂ）に示されているように、暗くなるＰ画素（下段の画素Ｐ）と明るくなる画素Ｐ（上段の画素Ｐ）とが列方向に沿って混在するので、複数の画素Ｐ全体としては、貼り合わせずれが発生しなかった場合と同じ明るさを維持することができる。これに対し、液晶表示装置１０００や液晶表示装置６００では、上方向の貼り合わせずれが発生した場合、右斜め方向からの観察時に複数の画素Ｐは一様に明るくなってしまう。
【０３７６】
このように、液晶表示装置７００においては、貼り合わせずれに起因する明るさのずれが各画素Ｐで発生しても、明るくなる画素Ｐと暗くなる画素Ｐとが混在するので、表示される白は、複数の画素Ｐ全体としては本来と同じ輝度を維持することができる。そのため、明るさのずれは視認されにくく、明るさのずれに起因した表示品位の低下が抑制される。
【０３７７】
なお、ここでは絵素分割駆動技術が用いられた（つまり各絵素が複数のサブ絵素に分割された）構成を例示したが、絵素分割駆動技術が用いられていない構成においても、明るさのずれに起因した表示品位の低下を抑制する効果を得ることができる。
【０３７８】
また、本実施形態では、列方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位が２画素である場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。列方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位は、偶数画素、つまり２ｍ画素（ｍは１以上の整数）であればよく、列方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位である２ｍ画素内において、液晶ドメインＤ１〜Ｄ４の配置順序が互いに異なる絵素が混在すればよい。
【０３７９】
列方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位を２ｍ画素にするためには、フォトマスクの、列方向に沿って連続するあるｍ画素（ｍは１以上の整数）に対応する領域のマスクパターンと、上記あるｍ画素に列方向に沿って隣接する別のｍ画素に対応する領域のマスクパターンとが、互いにネガポジ反転した関係にあればよい。このようなフォトマスクは、２回の露光工程間のフォトマスクを移動する工程において、列方向に沿ってｍ画素分ずらされる。列方向に沿った配向パターンの最小繰り返し単位は、既に説明した理由から、２画素以上２０画素以下（つまり１≦ｍ≦１０）であることが好ましい。また、列方向に沿った配向パターンの繰り返し単位である２ｍ画素のうちの一側半分のｍ画素内で、卍配向の絵素の個数と８の字配向の絵素の個数との差は０または１であり、他側半分のｍ画素内でも、卍配向の絵素の個数と８の字配向の絵素の個数との差は０または１であることが好ましい。
【産業上の利用可能性】
【０３８０】
本発明による液晶表示装置は、テレビジョン受像機などの高品位の表示が求められる用途に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０３８１】
１、１Ａ〜１Ｔ    フォトマスク
２、２Ａ〜２Ｄ    フォトマスク
１ａ、２ａ    フォトマスクの遮光部
１ｂ、２ｂ    フォトマスクの透光部
３    液晶層
３ａ    液晶分子
１０、２０、３０、４０    絵素
１１    絵素電極
１２、２２    光配向膜
１３、２３    偏光板
２１    対向電極
１００、２００、３００、４００    液晶表示装置
５００、５００Ａ、５００Ｂ、６００、７００    液晶表示装置
Ｒ      赤絵素
Ｇ      緑絵素
Ｂ      青絵素
Ｙ      黄絵素
Ｓ１    ＴＦＴ基板（アクティブマトリクス基板）
Ｓ２    ＣＦ基板（対向基板）
Ｓ１ａ、Ｓ２ａ    透明基板
ＳＤ１〜ＳＤ４    画素電極のエッジ
ＥＧ１〜ＥＧ４    画素電極のエッジ部
Ｄ１〜Ｄ４    液晶ドメイン
ｔ１〜ｔ４    チルト方向（基準配向方向）
ｅ１〜ｅ４  絵素電極のエッジに直交し、絵素電極の内側に向かう方位角方向
ＤＲ    暗い領域
ＳＬ    直線状の暗線
ＣＬ    十字状の暗線
Ｐ      画素
ＤＥ    二重露光領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図６１】
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【図６２】
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【図６３】
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【図６４】
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【図６５】
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【図６６】
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【図６７】
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【図６８】
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【図６９】
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【図７０】
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【図７１】
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【図７２】
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【図７３】
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【図７４】
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【図７５】
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【図７６】
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【図７７】
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【図７８】
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【図７９】
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【図８０】
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【図８１】
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【図８２】
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【図８３】
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【図８４】
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【図８５】
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【図８６】
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【図８７】
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【図８８】
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【図８９】
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【図９０】
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【図９１】
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【図９２】
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【図９３】
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【図９４】
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【図９５】
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【図９６】
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【図９７】
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【国際調査報告】
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