(57)【要約】  本発明は、（Ａ）下記一般式（１）（ｎは１〜３０の整数を示す）で示される構造を有する（メタ）アクリレートとしてポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート又はポリ（Ｃ２又はＣ３アルキレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層を光透過層として有する光ディスク、及び上記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）を含む光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に関するもので、該樹脂組成物は特に有機色素記録層を有する光ディスクに有用であり、上記光ディスクは耐久試験後においても好ましいジッタ値を示す。式（１）2011118174.tif 000012
2011118174.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層及び記録層を有する光ディスク、
式（１）
2011118174.tif 000009
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
【請求項２】
（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する、記録層を有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
式（１）
2011118174.tif 000010
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
【請求項３】
（Ａ）一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）がポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート又はポリ（Ｃ２又はＣ３アルキレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレートである請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項４】
前記（メタ）アクリレート（Ａ）が、下記一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレートである請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
式（２）
2011118174.tif 000011
式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す。 
【請求項５】
前記（メタ）アクリレート（Ａ）を、組成物全体に対して２０〜９５重量％含有する請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項６】
（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、前記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項７】
（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレートの何れか一方若しくは両者である請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項８】
組成物全体に対して、前記（メタ）アクリレート（Ａ）が２０〜９５重量％、（Ｂ）光重合開始剤の含量が１〜１０重量％であり、残部が（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）である請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項９】
硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜１００ＭＰａである請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項２〜９の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物。
【請求項１１】
記録層を有する光ディスク基板に、請求項２〜９の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して該光ディスク基板上に該樹脂組成物の硬化物層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項１２】
請求項２〜９の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物の、記録層を有する光ディスクにおける光透過層形成のための用途。
【請求項１３】
有機色素記録層を有する請求項１に記載の光ディスク。
【請求項１４】
光ディスクが有機色素記録層を有する光ディスクである請求項２〜９の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１５】
上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）として、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を、樹脂組成物の総量に対して、２０〜６０重量％で含有する請求項２〜９、及び１４の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録層を有する光ディスク、及びそれに使用する紫外線硬化型樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、実用化されている光ディスク記録媒体としては、１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に記録層、反射層、紫外線硬化型樹脂からなる保護層を積層したＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷや、０．６ｍｍのポリカーボネート基板と、記録層及び反射層を備えた０．６ｍｍのポリカーボネート基板を紫外線硬化型樹脂で貼り合わせたＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭが存在している。【０００３】
また、近年、単層タイプのＤＶＤの約５倍の記録容量を有するブルーレイディスク（ＢＤ−Ｒ）が発売されている。ブルーレイディスクは、１．１ｍｍの透明または不透明のプラスチック製の基板上に反射層、記録層及び界面層（誘電層とも呼ばれる）を形成し、ついで界面層上に約０．１ｍｍの光透過層（カバー層とも呼ばれる）を積層した構造で、光透過層を通して記録／再生するディスクである。記録層には有機色素や無機化合物が使用され、界面層には光透過性の無機化合物が使用される。また、光透過層としては紫外線硬化型樹脂の硬化物層が使用されている。【０００４】
有機色素からなる記録層を有するブルーレイディスクでは、記録層にレーザー光を照射し、有機色素の体積変化による変形を利用して記録を行う。色素の体積変化を補助し、優れた記録信号特性（例えば、ジッタ特性）を得る目的で、光透過性のカバー層を硬化性樹脂で形成し、記録層と向き合う界面領域の弾性率が２５℃で４０ＭＰａ以下であることを特徴とする光情報記録媒体（特許文献１）、有機色素の記録層上に２５℃での弾性率が３４〜９６ＭＰａの樹脂硬化物層を有する光情報記録媒体（特許文献２）が提案されている。しかしながら、これらの文献には、どのような組成の樹脂組成物の硬化物層がそのような弾性率を達成し得るかに付いては全く開示されていない。【０００５】
また、前述の光ディスク記録媒体の信頼性の評価指標として、温度８０℃／相対湿度８０％ＲＨの環境下で１００時間放置する環境試験を行う。この環境試験前後の記録信号の劣化度合いを所定の範囲以内にするために、界面層上に５℃と５５℃での貯蔵弾性率が共に１００ＭＰａ以下であり、かつ５℃の貯蔵弾性率と５５℃の貯蔵弾性率の比が１０以下である、主成分として柔軟性ウレタンアクリレートを含み、希釈剤として単官能アクリレートを含む硬化性樹脂、又は、主成分としてウレタンアクリレートを含み、希釈剤として単官能アクリレート及び多官能アクリレートを含む硬化性樹脂の硬化物層を形成させる技術（特許文献３）が提案されている。しかしながら、この文献には、上記のように、主成分がウレタンアクリレートであること、希釈剤として単官能アクリレート単独、又は、単官能アクリレート及び多官能アクリレートを併用することが開示されているのみで、具体的な成分組成に付いての開示はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−１２３６３１号公報
【特許文献２】特開２００８−２６９７０３号公報
【特許文献３】特開２００９−０２６３７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、記録層、特に有機色素記録層と本発明の紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層を有する光ディスク及び優れた記録信号特性及び耐久性を付与できる紫外線硬化型樹脂組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、一般式（１）の構造を有する（メタ）アクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層及び記録層、好ましくは有機色素記録層を有する光ディスクが、優れた記録信号特性及び耐久性を示すことを見出し、本発明を完成するに至った。【０００９】
即ち、本発明は、次の（１）〜（１５）に関するものである。
(１)  （Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層及び記録層を有する光ディスク、
式（１）
2011118174.tif 000003
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
(２)  （Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する、記録層を有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
式（１）
2011118174.tif 000004
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
(３)  上記（Ａ）一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）がポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート又はポリ（Ｃ２又はＣ３アルキレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレートである上記（２）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
(４)  前記（メタ）アクリレート（Ａ）が、下記一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレートである上記（２）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
式（２）
2011118174.tif 000005
式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す。 
(５)  前記（メタ）アクリレート（Ａ）を、組成物全体に対して２０〜９５重量％含有する上記（２）〜（４）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。【００１０】
(６)  （Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、前記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である上記（２）〜（５）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
(７)  （Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレートの何れか一方若しくは両者である上記（２）〜（６）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
(８)  組成物全体に対して、前記（メタ）アクリレート（Ａ）が２０〜９５重量％、（Ｂ）光重合開始剤の含量が１〜１０重量％であり、残部が（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）である上記（２）〜（７）のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
(９)  硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜１００ＭＰａである上記（２）〜（８）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
(１０)  上記（２）〜（９）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物。
(１１)  記録層を有する光ディスク基板に、上記（２）〜（９）のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して該光ディスク基板上に該樹脂組成物の硬化物層を形成することを特徴とする上記（１）に記載の光ディスクの製造方法。
（１２）  上記（２）〜（９）の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物の、記録層を有する光ディスクにおける光透過層形成のための用途。
（１３）  有機色素記録層を有する上記（１）に記載の光ディスク。
（１４）  光ディスクが有機色素記録層を有する光ディスクである上記（２）〜（９）の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
（１５） 上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）として、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を、樹脂組成物の総量に対して、２０〜６０重量％で含有する上記（２）〜（９）、及び（１４）の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
【発明の効果】
【００１１】
記録層を有する光ディスク、特に有機色素記録層を有する光ディスクの光透過層に、本発明の一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂組成物を使用した場合、記録時及び高温高湿下での長時間の使用において信頼性の高い光ディスクを提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物（以下本発明の樹脂組成物又は本発明の組成物ともいう）は、特定の構造を有する（メタ）アクリレート及び光重合開始剤を含有する。
【００１３】
本発明の組成物に含有される一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）（Ａ）としては、ブタンジオールモノ又はジ（メタ）アクリレートを除く、一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレートで有れば何れも使用することが出来る。  単官能若しくは多官能のポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレートが好ましく、２官能のポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレートがより好ましく、通常ポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート又はポリ（Ｃ２又はＣ３アルキレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレートを挙げることができる。ｎは通常１〜３０の範囲であり、上記の「ポリ」は「２〜３０」の範囲である。好ましい範囲は２〜２０程度であり、より好ましい範囲は３〜２０程度、更に好ましい範囲は３〜１５程度である。最も好ましい範囲は２〜１０若しくは３〜１０である。
上記ジ（メタ）アクリレートとしてはポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート又は（エチレングリコール又はプロピレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
具体的には、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）ジアクリレート（例えば、日油株式会社製ブレンマーＡＤＥＴシリーズ）、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）ジアクリレート（例えば、日油株式会社製ブレンマーＡＤＰＴシリーズ）、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート（例えば、日油株式会社製ブレンマーＡＤＴ−２５０）、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）ジメタクリレート（例えば、日油株式会社製ブレンマーＰＤＥＴシリーズ）、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）ジメタクリレート（例えば、日油株式会社製ブレンマーＰＤＰＴシリーズ）、ポリテトラメチレングリコールジメタクリレート（例えば、日油株式会社製ブレンマーＰＤＴ−６５０）等を挙げることができる。
上記のジ（メタ）アクリレートの中でも、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレートが好ましく、より好ましくは一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレートが特に好ましい。
2011118174.tif 000006
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す。）
【００１４】
一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレートはポリテトラメチレングリコールと、（メタ）アクリル酸との脱水エステル化反応、低級アルキルアクリル酸エステルとのエステル交換反応、アクリル酸クロライドを使用した脱塩反応により製造できる。市販の化合物としては、例えば、一般式（２）中、Ｒが水素原子、ｎ＝３の化合物を日油株式会社製ブレンマーＡＤＴ−２５０や共栄社化学株式会社製ライトアクリレートＰＴＭＧＡ−２５０、一般式（２）中、Ｒが水素原子、ｎ＝９の化合物を新中村化学株式会社製ＮＫエステルＡ−ＰＴＭＧ−６５として入手することができる。
【００１５】
（Ａ）成分の紫外線硬化型樹脂組成物中の含有量は通常１０〜９５重量％、好ましくは２０〜９５重量％、より好ましくは２０〜８０重量％、更に好ましくは４０〜８０重量％、最も好ましくは５０〜８０重量％である。１０重量％未満では色素の体積変化を補助できず、記録信号特性の指標であるジッタ値（％）が悪くなる。
【００１６】
本発明の組成物に含有される光重合開始剤（Ｂ）としては、特に限定はされないが、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュアー１８４；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノールオリゴマー（ＯＮＥ-Ｒｉｆｉｎｅｄ）、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（イルガキュアー２９５９；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（イルガキュアー１２７；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（イルガキュアー６５１；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ダロキュア１１７３；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（イルガキュアー９０７；チバスペシャリティ・ケミカルズ製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００１７】
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物においては、これら（Ｂ）成分は、１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。（Ｂ）成分の紫外線硬化型樹脂組成物中の含有量は通常０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。
【００１８】
更に、光重合開始助剤となりうるアミン類等を上記の光重合開始剤と併用することもできる。使用しうるアミン類等としては、安息香酸２−ジメチルアミノエチルエステル、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルまたはｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる。該アミン類等の光重合開始助剤を使用する場合、本発明の接着用樹脂組成物中の含有量は通常０．００５〜５重量％、好ましくは０．０１〜３重量％である。
【００１９】
本発明の組成物に含有される（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、（メタ）アクリロイル基を１個以上有する（メタ）アクリレートを使用することができる。尚、本発明において（メタ）アクリレートとはメタクリレート又はアクリレートを意味し、その種類は特に限定されない。
好ましいものとしては（Ｃ−１）エポキシ（メタ）アクリレート及び／又は（Ｃ−２）ウレタン（メタ）アクリレート、更には（Ｃ−３）（メタ）アクリレートモノマー（前記（Ａ）成分、（Ｃ−１）成分及び（Ｃ−２）成分以外の（メタ）アクリレート）等を用いることができる。
【００２０】
本発明において用いうるエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）は、硬化性の向上や硬化物の硬度や硬化速度を向上させる機能がある。また、本発明において、エポキシ（メタ）アクリレートとしては、グリシジルエーテル型エポキシ化合物と、（メタ）アクリル酸を反応させることにより得られたものであればいずれも使用できる。該エポキシ（メタ）アクリレートを得るために使用出来る好ましいグリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、ビスフェノールＡ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＦ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、へキサンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等を挙げることができる。
【００２１】
エポキシ（メタ）アクリレートは、これらグリシジルエーテル型エポキシ化合物と、（メタ）アクリル酸を、例えば、下記のような条件で反応させることにより得られる。
【００２２】
グリシジルエーテル型エポキシ化合物のエポキシ基１当量に対して、（メタ）アクリル酸を０．９〜１．５モル、より好ましくは０．９５〜１．１モルの比率で反応させる。反応温度は８０〜１２０℃が好ましく、反応時間は１０〜３５時間程度である。反応を促進させるために、例えばトリフェニルフォスフィン、ＴＡＰ、トリエタノールアミン、テトラエチルアンモニウムクロライド等の触媒を使用するのが好ましい。又、反応中、重合を防止するために重合禁止剤として、例えば、パラメトキシフェノール、メチルハイドロキノン等を使用することもできる。
【００２３】
本発明において、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）としては、ビスフェノールＡ型のエポキシ化合物より得られた、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレートがより好ましい。ビスフェノールＡ型のエポキシ化合物としては上記ビスフェノールＡ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等を挙げることができる。
本発明において、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）の分子量としては５００〜１００００が好ましい。
【００２４】
本発明において用いうるウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）は、本発明の樹脂組成物の粘度調整と硬化物における弾性率の調整、及び、該樹脂組成物の硬化物層が、光透過層として使用された時には、機械的特性を向上させる（反り、ゆがみ等を減じる）機能があり、光ディスクにおける記録信号特性を向上させる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、多価アルコール、ポリイソシアネート及びヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物を反応させることによって得られる。
より具体的には、多価アルコールとポリイソシアネートを反応させ、得られたウレタンオリゴマーに、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物を反応させることによって得ることが出来る。
【００２５】
多価アルコールとしては、例えば、下記の多価アルコールを挙げることができる。
（ｉ）ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−〔ヒドロキシメチル〕−シクロヘキサン等の脂肪族多価アルコール、好ましくは炭素数２〜１０脂肪族多価アルコール。
（ｉｉ）上記（ｉ）記載の脂肪族多価アルコールの一種と多塩基酸との反応によって得られるポリエステルポリオール。
なお上記の多塩基酸としては、例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。
（ｉｉｉ）上記の多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトンアルコール。
（ｉｖ）ポリカーボネートポリオール。例えば１，６−ヘキサンジオール等の多価アルコールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等。
（ｖ）ポリエーテルポリオール。例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコール等のポリＣ２−Ｃ４アルキレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ等。
上記の中で、多価アルコールとしては、ポリエーテルポリオール又はポリエステルポリオールが好ましい。これらの平均分子量は２００〜８０００程度が好ましく、より好ましくは２００〜３０００程度であり、更に好ましくは３００〜１８００程度、最も好ましくは４００〜１５００程度である。より好ましくはポリＣ２−Ｃ４アルキレングリコールである。
なお、ポリエーテルポリオールは相溶性を向上させる点から特に好ましい。
【００２６】
ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）の合成に使用されるポリイソシアネート（有機ポリイソシアネート）としては、ジイソシアネートが好ましく、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート又はジシクロペンタニルジイソシアネート等が挙げられる。これらの中で、イソホロンジイソシアネート又はトリレンジイソシアネートがより好ましい。
ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）の合成に使用されるヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシＣ２−Ｃ８脂肪族炭化水素(メタ）アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン（メタ）アクリレート等が挙げられる。この中で好ましいヒドロキシ（メタ）アクリレートはヒドロキシＣ２−Ｃ８脂肪族炭化水素(メタ）アクリレートであり、より好ましくはヒドロキシＣ２−Ｃ４アルキル(メタ）アクリレートであり、最も好ましくはヒドロキシエチル(メタ）アクリレートである。
【００２７】
前記反応は、例えば、以下のようにして行う。即ち、多価アルコールにその水酸基１当量あたり有機ポリイソシアネートをそのイソシアネート基が好ましくは１．１〜２．０当量になるように混合し、反応温度を好ましくは７０〜９０℃で反応させ、ウレタンオリゴマーを合成する。次いで、ウレタンオリゴマーのイソシアネート基１当量あたり、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物をその水酸基が好ましくは１〜１．５当量となるように混合し、７０〜９０℃で反応させて目的とするウレタン（メタ）アクリレートを得ることができる。
好ましいウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）としては、多価アルコールとしてポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールを用い、有機ポリイソシアネートとして上記ジイソシアネートを用い、ヒドロキシ（メタ）アクリレートとして、上記好ましいヒドロキシ（メタ）アクリレートとして挙げたヒドロキシ（メタ）アクリレート、最も好ましくは２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを用いて得られるウレタン（メタ）アクリレートであり、より好ましくは、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオール、ジイソシアネート及び２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの３者から得られるウレタン（メタ）アクリレート（ｃ−２a)を挙げることができる。
また、上記において、分子量２００〜３０００程度（好ましくは分子量３００〜１８００）のポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールを用いて得られたウレタン（メタ）アクリレートも好ましいウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）の一つである。
また、場合により、３００〜１８００程度のポリＣ２〜Ｃ６アルキレングリコール、より好ましくは分子量３００〜１８００程度のＣ３〜Ｃ５アルキレングリコール、イソホロンジイソシアネート及びヒドロキシＣ２〜Ｃ４（メタ）アクリレートとの反応で得られるウレタン（メタ）アクリレートも好ましいウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）の一つである。
【００２８】
また、ＵＸ−０９３７：ポリエーテル系ウレタンアクリレート（日本化薬（株）製）等として市場より入手することも可能である。ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）の分子量としては通常４００〜１００００程度、好ましくは４００〜２０００程度、より好ましくは４００〜１０００程度である。
本発明の樹脂組成物において、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を含む態様は好ましい態様の一つであり、（Ｃ）成分として、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）単独を含む態様であっても良く、他の（Ｃ）成分と併用する態様であっても良い。
本発明の樹脂組成物において、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を含む場合、その含量は、樹脂組成物の総量に対して、０％より大きく、通常８０％以下、好ましくは７０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。例えば、（Ｃ）成分として、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を含む態様においては、樹脂組成物の総量に対して、２０〜８０重量％程度が好ましく、より好ましくは２０〜７０重量％以下であり、更に好ましくは２０〜６０重量％、最も好ましくは２０〜５０重量％である。これらの含量においては（Ｃ）成分としてウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を単独で含んでもよいし、また、（Ｃ−１）成分又は（Ｃ−３）成分を併用してもよい。
【００２９】
（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）として、前記の（Ａ）、（Ｃ−１）成分及び（Ｃ−２）成分以外の（メタ）アクリレートモノマーは何れも使用することができる。例えば下記する単官能又は多官能（好ましくは２〜６官能）（メタ）アクリレートを挙げることができる。
例えば、（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリレートモノマーとして、エチレンオキサイド変性フェノール（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート、フェニルグリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリシクロデカン（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイド変性ノニルフェニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエンオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート（例えば、日立化成工業株式会社製ＦＡＮＣＲＹＬ  ＦＡ−５１１Ａ）、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（例えば、日立化成工業株式会社製ＦＡＮＣＲＹＬ  ＦＡ−５１２Ａ）、ジシクロペンテニルオキシメタクリレート（例えば、日立化成工業株式会社製ＦＡＮＣＲＹＬ  ＦＡ−５１２Ｍ）、ジシクロペンタニルアクリレート（例えば、日立化成工業株式会社製ＦＡＮＣＲＹＬ  ＦＡ−５１３Ａ）、ジシクロペンタニルメタクリレート（例えば、日立化成工業株式会社製ＦＡＮＣＲＹＬ  ＦＡ−５１３Ｍ）、１−アダマンチルアクリレート（例えば、出光興産株式会社製Ａｄａｍａｎｔａｔｅ  ＡＡ）、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート（例えば、出光興産株式会社製Ａｄａｍａｎｔａｔｅ  ＭＡ）、２−エチル−２−アダマンチルアクリレート（例えば、出光興産株式会社製Ａｄａｍａｎｔａｔｅ  ＥＡ）、１−アダマンチルメタクリレート（例えば、出光興産株式会社製Ａｄａｍａｎｔａｔｅ  ＡＭ）、エチレンオキサイド変性フェノキシ化リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ブトキシ化リン酸（メタ）アクリレート及びエチレンオキサイド変性オクチルオキシ化リン酸（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３０】
（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリレートモノマーは本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を光透過層として形成させた光ディスクの機械的特性（反り、ゆがみ等の抑制）を向上させる機能を有する。
ここで、記録時及び高温多湿下で優れた信号記録特性を付与するという観点から、エチレンオキサイド変性フェノール（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイド変性ノニルフェニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートを使用することが特に好ましい。
【００３１】
（Ｃ−３）成分としての（メタ）アクリロイル基を２個有する（メタ）アクリレートモノマーとしては、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，３−ジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート（例えば、日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−６８４、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート等）、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート（例えば、日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−６０４、ジオキサングリコールジアクリレート等）、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート及びエチレンオキサイド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３２】
ここで、記録時及び高温多湿下で優れた信号記録特性を付与するという観点から、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートを使用することが好ましく、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート又は（ポリ）Ｃ２〜Ｃ４アルキレンオキサイド変性Ｃ６−Ｃ１５グリコールジ（メタ）アクリレートがより好ましい。場合により（ポリ）Ｃ２〜Ｃ４アルキレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートはより好ましい。
【００３３】
（Ｃ−３）成分としての（メタ）アクリロイル基を３個有する（メタ）アクリレートモノマーとしては、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールオクタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクロイルオキシエチル］イソシアヌレ−ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
ここで、記録時及び高温多湿下で優れた信号記録特性を付与するという観点から、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートが特に好ましい。
【００３４】
（Ｃ−３）成分としての（メタ）アクリロイル基を４個有する（メタ）アクリレートモノマーとしては、ペンタエリスリトールポリエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリプロポキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
（Ｃ−３）成分としての（メタ）アクリロイル基を５個有する（メタ）アクリレートモノマーとしては、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
（Ｃ−３）成分としての（メタ）アクリロイル基を６個有する（メタ）アクリレートモノマーとしては、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。なお、本発明において用いうる（メタ）アクリレートモノマーは、（メタ）アクリロイル基を７個以上有する多官能のものであってもよい。
ここで、記録時及び高温多湿下で優れた信号記録特性を付与するという観点から、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００３５】
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物においては、これら（Ｃ）成分は、１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。（Ｃ）成分の紫外線硬化型樹脂組成物中の含有量（樹脂組成物の総量に対する含有量）は通常４〜８０％、好ましくは１０〜５０重量％、更に好ましくは１０〜４０重量％である。
また、ウレタン(メタ）アクリレート（Ｃ−２）を樹脂組成物の総量に対し、１５〜３５重量％、好ましくは２０〜３０重量％の範囲で使用するとき、前記エポキシ(メタ）アクリレート（Ｃ−１）又は前記(メタ）アクリレートモノマ-（Ｃ−３）成分を併用しても良いが、（Ｃ）成分として、（Ｃ−２）成分を単独で使用する態様も好ましい態様の一つである。また、（Ｃ−２）成分を含まないか、その含量が樹脂組成物の総量に対し、２５重量％以下の時、（Ｃ）成分として、前記エポキシ(メタ）アクリレート（Ｃ−１）又は前記(メタ）アクリレートモノマ-（Ｃ−３）を使用する態様も好ましい。
（Ｃ−２）成分を含まないか、その含量が上記のように少ない時を考慮すると、樹脂組成物の総量に対する（Ｃ）成分の含有量としては、３０〜８０重量％、好ましくは４０〜７０重量％であってもよい。
また、（Ｃ）成分として（Ｃ−１）と（Ｃ−２）を併せて用いる場合、通常（Ｃ−１）及び／又は（Ｃ−２）は（Ｃ）成分１００重量部に対して５〜５０重量部、好ましくは１０〜３０重量部程度であってもよく、残部は（Ｃ−３）成分である。また、（Ｃ）成分として、（Ｃ−３）成分を使用する場合の好ましい一つの態様として、（Ｃ−３）成分を、（Ｃ）成分１００重量部に対して１０〜８０重量部、好ましくは２０〜８０重量部、より好ましくは２５〜７５重量部程度の割合で含む態様も挙げることができる。
本発明において、より好ましい態様の1つは、（Ｃ）成分として、樹脂組成物の総量に対し、（Ｃ−２）成分を０より大きく、８０重量％以下、好ましくは２０〜７０重量％、更に好ましくは２０〜６０重量％含み、（Ｃ−１）成分又は（Ｃ−３）成分（より好ましくは（Ｃ−３）成分）を０〜４０重量％で含み、（Ｃ）成分の総量が、０より大きく、８０重量％以下、好ましくは２０〜７０重量％、より好ましくは２０〜６０重量％の時である。また、このときの好ましい態様の１つは、（Ｃ）成分の総量に対する（Ｃ−２）成分の含量が、４０〜１００重量％程度、より好ましくは６０〜１００重量％、更に好ましくは８０〜１００重量％の場合である。
また、（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量は、樹脂組成物の総量に対し、８０〜９９％が好ましく、９０〜９９重量％の時より好ましい。
【００３６】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物には、必要に応じてメルカプトフェノール等の防錆剤、酸化防止剤、有機溶剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、蛍光増白剤、光安定剤（例えば、ヒンダードアミン化合物等）、充填剤等の添加剤を加えてもよい。
ヒンダードアミン化合物の具体例として例えば、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルアルコール、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアルコール、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル（メタ）アクリレート（アデカ（株）製、ＬＡ−８２）などが挙げられる。
ヒンダードアミン化合物又は/及びメルカプトフェノール等は添加することにより、耐久性の向上などで好ましい効果を達成する場合がある。
これらの添加剤は、樹脂組成物の総量に対し、通常０〜２０重量％、好ましくは０〜１０重量％の範囲で使用することが出来る。
【００３７】
また、本発明において、前記（Ａ）成分と（Ｃ）成分、好ましくはウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）又は、前記（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）の何れか一方若しくは両者を併用することにより、本発明の樹脂組成物の硬化物の弾性率を、本発明において好ましい弾性率（２５℃）、例えば０．０１〜１００ＭＰａ、好ましくは０．０１〜３０ＭＰａ、より好ましくは０．０１〜２０ＭＰａの範囲とすることもできる。該硬化物層の２５℃での弾性率を、この範囲に調整するとき、該硬化物層を、界面層上に有する光ディスクは、耐久性及び記録特性共に優れる。
この場合における好ましいウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）しては、前記した好ましいウレタン（メタ）アクリレートを挙げることができ、より好ましくは前記（Ｃ−２ａ）として挙げたウレタン（メタ）アクリレートである。
また、好ましい前記（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）としては、Ｃ５〜Ｃ１８アルキル（メタ）アクリレート、炭素数７〜１８アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（Ｃ２〜Ｃ４アルキレングリコール）ジ（メタ）アクリレート（なおポリは２〜２０程度が好ましい）、ポリ（Ｃ２−Ｃ３アルキレンオキサイド）変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート（なおポリは２〜２０程度が好ましい）等を挙げることができ、エチレンオキサイド５〜15モル変性（最も好ましくは１０モル変性）ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートはより好ましい。
【００３８】
本発明の樹脂組成物の好ましい態様を例示すると下記の通りである。
（Ｉ）  （Ａ）上記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレートとしてポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート又はポリ（Ｃ２又はＣ３アルキレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有する、記録層として有機色素記録層を有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＩＩ）  上記（Ａ）成分がポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレートである上記（Ｉ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＩＩＩ）上記（Ａ）成分における「ポリ」が２〜３０の範囲である上記（Ｉ）又は（ＩＩ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＩＶ）「ポリ」が２〜１０の範囲である上記（ＩＩＩ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（Ｖ）「ポリ」が３〜１０の範囲である上記（ＩＩＩ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＶＩ）上記の（Ｃ）成分が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、前記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である上記（Ｉ）〜（Ｖ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
【００３９】
（ＶＩＩ）上記の（Ｃ）成分として、少なくともウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を含む上記（Ｉ）〜（ＶＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＶＩＩＩ）ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）の分子量が４００〜１００００である（ＶＩ）又は（ＶＩＩ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＩＸ）ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）が多価アルコール、ポリイソシアネート及びヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物の反応によって得られるウレタン（メタ）アクリレートである上記（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（Ｘ）多価アルコールがポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールである上記（ＩＸ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＩ）多価アルコールがポリエーテルポリオールである上記（Ｘ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＩＩ）ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールの分子量が２００〜３０００である上記（Ｘ）又は（ＸＩ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＩＩＩ）ポリエーテルポリオールがポリＣ２〜Ｃ６アルキレングリコールである（Ｘ）〜（ＸＩＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＩＶ）ポリイソシアネートがジイソシアネートである上記（ＩＸ）〜（ＸＩＩＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＶ）ポリイソシアネートがイソホロンジイソシアネートである上記（ＩＸ）〜（ＸＩＩＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＶＩ）ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物がヒドロキシエチル（メタ）アクリレートである上記（ＩＸ）〜（ＸＩＩＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
【００４０】
（ＸＶＩＩ）（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）がカプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート又は（ポリ）Ｃ２〜Ｃ４アルキレンオキサイド変性Ｃ６−Ｃ１５グリコールジ（メタ）アクリレートである上記（ＶＩ）〜（ＸＶＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＶＩＩＩ）（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）がポリＣ２〜Ｃ４アルキレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートである上記（ＶＩ）〜（ＸＶＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＩＸ）樹脂組成物の総量に対して、上記（Ａ）成分含量が１０〜９５重量％、上記（Ｂ）成分含量が１〜１０重量％及び上記（Ｃ）成分含量が４〜８９重量％である上記（Ｉ）〜（ＸＶＩＩＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸ）上記（Ａ）成分含量が２０〜８０重量％及び上記（Ｃ）成分含量が１０〜７０重量％である上記（ＸＩＸ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸＩ）上記（Ａ）成分含量が４０〜８０重量％及び上記（Ｃ）成分含量が２０〜６０重量％であり、（Ａ）成分含量及び上記（Ｃ）成分含量の合計が９０〜９９重量％である上記（ＸＩＸ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸＩＩ）上記（Ａ）成分含量が５０〜８０重量％及び上記（Ｃ）成分含量が２０〜５０重量％である上記（ＸＸＩ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸＩＩＩ）樹脂組成物の総量に対して、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）の含量が０％より大きく、８０重量％以下である上記（Ｉ）〜（ＸＸＩＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
【００４１】
（ＸＸＩＶ）樹脂組成物の総量に対して、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）の含量が２０％より大きく、６０重量％以下である上記（Ｉ）〜（ＸＸＩＩ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸＶ）（Ｃ）成分として、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を（Ｃ）成分の総量に対して、８０ないし１００重量％で含む上記（ＸＸＩＶ）に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸＶＩ）任意の添加剤を、樹脂組成物の総量に対して、０〜２０重量％含む上記（Ｉ）〜（ＸＸＶ）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸＶＩＩ）硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜１００ＭＰａである上記（Ｉ）〜（ＸＸＶＩ）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸＶＩＩＩ）硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜３０ＭＰａである上記（ＸＸＶＩＩ）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（ＸＸＩＸ）硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜２０ＭＰａである上記（ＸＸＶＩＩ）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【００４２】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物は、前記した各成分を常温〜８０℃で混合溶解して得ることができ、必要により夾雑物をろ過等の操作により取り除いてもよい。本発明の接着用樹脂組成物は、塗布性を考え、２５℃の粘度が３０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲、好ましくは５０〜２０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは８０〜１６００ｍＰａ・ｓとなるように、成分の配合比等を適宜調節することが好ましい。特に、光透過層を、本発明の樹脂組成物の硬化物層の一層で済ませる場合には、５００〜１６００ｍＰａ・ｓ程度が好ましい。
ここで、粘度が高すぎると薄層の形成が困難となるので、形成する膜厚に応じて粘度を適宜調整するのが好ましい。
【００４３】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物は、ブルーレイディスク等のレーザー入射側の光透過層用コート剤として好適に使用できる。具体的には塗布した樹脂の膜厚が１〜１００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍとなるように任意の方法、例えば、スピンコート法、２Ｐ法、ロールコート法、スクリーン印刷法等で本発明の樹脂組成物を光ディスク基板に塗工する。好ましくは有機色素記録層とその上に形成される界面層を有する光ディスク基板の該界面層に塗工する。塗工後、片側もしくは両面から紫外〜近紫外（波長２００〜４００ｎｍ付近）の光線を照射して硬化させる。照射量は約５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、特に好ましくは、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度である。紫外〜近紫外の光線照射による硬化には、紫外〜近紫外の光線を照射するランプであれば光源を問わない。例えば、低圧、高圧若しくは超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、（パルス）キセノンランプ、または無電極ランプ等が挙げられる。
【００４４】
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物は、光透過層が記録層又はその上に形成される界面層上に形成される第一の樹脂層と、第一の樹脂層からみて記録層又は界面層側とは反対の面上に形成される第二の樹脂層から構成される場合において、前記第一の樹脂層に好適に使用することができる。
この場合において、前記第一の樹脂層の厚さは通常１μｍ〜５０μｍであり、好ましくは５μｍ〜４０μｍ、より好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。
また、前記第二の樹脂層の厚さは通常５０μｍ〜１００μｍであり、好ましくは６０μｍ〜９５μｍ、より好ましくは７０μｍ〜９０μｍである。
【００４５】
光透過層（保護層）が二層から構成される場合において、光透過層（保護層）の形成方法としては、具体的には第一の樹脂層（本発明の樹脂組成物層）として塗布した樹脂の膜厚が例えば１μｍ〜５０μｍ、好ましくは１〜３０μｍ、より好ましくは１０μｍ〜３０μｍとなるように任意の方法、例えば、スピンコート法、２Ｐ法、ロールコート法、スクリーン印刷法等で組成物を光ディスク基板に塗工する。塗工後、片側もしくは両面から紫外〜近紫外（波長２００〜４００ｎｍ付近）の光線を照射して硬化させる。照射量は５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、特に好ましくは、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度である。第一の樹脂層の硬化後、第二の樹脂層として膜厚が例えば５０μｍ〜１００μｍ、好ましくは７０〜１００μｍ、より好ましくは７０μｍ〜９０μｍとなるように任意の方法、例えば、スピンコート法、２Ｐ法、ロールコート法、スクリーン印刷法等で、本発明の樹脂組成物とは異なる光透過層用の樹脂組成物を光ディスク基板に塗工する。塗工後、片側もしくは両面から紫外〜近紫外（波長２００〜４００ｎｍ付近）の光線を照射して硬化させる。照射量は約５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、特に好ましくは、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度である。さらに紫外〜近紫外の光線照射による硬化には、紫外〜近紫外の光線を照射するランプであれば光源を問わない。例えば、低圧、高圧若しくは超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、（パルス）キセノンランプ、または無電極ランプ等が挙げられる。
また、本発明の樹脂組成物は、光透過層を、本発明の樹脂組成物の硬化物層一層で形成することも出来る。該硬化物層の形成も、膜厚を５０μｍ〜１００μｍ、好ましくは７０〜１００μｍにし、第二層を形成しない点を除けば、上記本発明の樹脂組成物での第一層の形成に準じて行うことが出来る。
本発明の樹脂組成物の硬化物で形成された光透過層は、４００ｎｍ付近光の透過度において優れ、ブルーレイディスク用の光透過層として適するものである。
【００４６】
上記のようにして得られた好ましい本発明の光ディスクは、少なくとも、案内溝を有するカーボネートなどのプラスチック支持基板、該案内溝上に形成された反射層、該反射層上に形成された記録層｛無機又は有機記録層、好ましくは有機色素(通常アゾ色素等）記録層｝、該記録層上に形成された界面層（誘電体層）、該界面層上に形成された、本発明の樹脂組成物の硬化物層(光透過層）を有する光ディスクである。本発明の樹脂組成物の硬化物層(光透過層）は、場合により、それだけの単一層で、光透過層を形成してもよく、また、本発明の樹脂組成物の硬化物層上に、更に、別の光透過層用の樹脂組成物の硬化物層を有していても良い。後者の場合、光透過層は、本発明の樹脂組成物の硬化物層と別の光透過層用の樹脂組成物の硬化物層の２層から形成されることとなる。
本発明の光ディスクにおいては、記録層｛好ましくは有機色素(通常アゾ色素等）を含む記録層｝上に形成される界面層上に、直接本発明の樹脂組成物の硬化物層が形成されるとき、好ましい本発明の効果が達成される。
特に、前記する好ましい態様（Ｉ）〜（ＸＸＩＸ）に記載の樹脂組成物の硬化物層を有する光ディスク、特に、有機色素記録層を有するブルーレイディスクは、耐久試験前のジッタ値においても、また、耐久試験後のジッタ値においても、非常に優れた値を示し、記録時及び高温高湿下での長時間の使用においても高い信頼性を有する。
【００４７】
界面層は当業者においてよく知られているように、Ｚｎ等の金属原子を含む複合物などの金属原子含有無機化合物で形成される層である。
また、本発明の光ディスクにおける記録層は、レーザー光によって書き込み可能な記録層を意味する。
本発明の光ディスクでは、基板の記録情報面に記録層が設けられている。該記録層は、光記録媒体用の記録層として従来公知の材料を適宜利用可能である。例えば、色素、アモルファス半導体、部分窒化膜、部分酸化膜（無機膜）などが挙げられる。
本発明の光記録媒体は記録層を複数有していてもよいが、この場合、各々の層が同じ材料で形成されていてもよいし、別の材料を任意に組み合わせて形成してもよい。このようにすることで各層毎に透過率などの光学的性質を変えることができる。
記録層に使用されるアモルファス半導体材料の具体例としては、ＳｂＴｅ系、ＧｅＴｅ系、ＧｅＳｂＴｅ系、ＩｎＳｂＴｅ系、ＡｇＳｂＴｅ系、ＡｇＩｎＳｂＴｅ系、ＧｅＳｂ系、ＧｅＳｂＳｎ系、ＩｎＧｅＳｂＴｅ系、ＩｎＧｅＳｂＳｎＴｅ系等の材料が挙げられる。これらの中でも、結晶化速度を高めるために、Ｓｂを主成分とする組成物を用いることが好ましい。なお、これらのアモルファス半導体材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
部分窒化膜、部分酸化膜の具体例としては、ＢｉＧｅＮ、ＳｎＮｂＮなどの部分窒化膜、ＴｅＯx、ＢｉＦＯxなどの部分酸化膜が挙げられる。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により何ら制限されるものではない。
実施例１〜３、及び、比較例１及び２
実施例１〜３、比較例１及び２の紫外線硬化型樹脂組成物を表１に示した組成で、各成分を均一に混合することにより調製した。【００４９】
【表１】
2011118174.tif 000007
【００５０】
なお、表１中に略称で示した各成分は下記の通りである。
Ａ−ＰＴＭＧ−６５：ポリテトラメチレングリコールジアクリレート（新中村化学株式会社製、式（２）のＲが水素原子、ｎ＝９の化合物）
ＡＤＴ−２５０：ポリテトラメチレングリコールジアクリレート（日油株式会社製、式（２）のＲが水素原子、ｎ＝３の化合物）
ＴＰＧＤＡ：トリプロピレングリコールジアクリレート（サートマー社製、式（３）の化合物）
2011118174.tif 000008
ＦＡ−１２４ＡＳ：１，４−ブタンジオールジアクリレート（日立化成工業株式会社製、式（２）のＲが水素原子、ｎ＝１の化合物）
ＵＡ−１：ウレタンアクリレート（ポリテトラメチレングリコール（分子量８５０）、イソホロンジイソシアネート、２−ヒドロキシエチルアクリレートの３成分をモル比１：２：２で反応させて得られたウレタンアクリレート）
ＢＰＥ−１０：エチレンオキサイド１０モル変性ビスフェノールＡ型ジアクリレート（第一工業製薬株式会社製）
ＬＡ−８２：１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタアクリレート（旭電化株式会社製）
ＰＭＰ：４−メルカプトフェノール【００５１】
得られた本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を用いて下記（i)又は（ii)に記載の方法により色素記録層を有するブルーレイディスクを作製し、得られたブルーレイディスクの記録特性評価を下記（iii)に記載の方法で行い、その結果を前記表１に記載した。また、本発明の樹脂組成物の硬化物の弾性率を下記（iｖ)に記載の方法で行い、その結果を前記表１に記載した。【００５２】
（i)  実施例１及び２の樹脂組成物を用いたブルーレイディスクの作製
（光透過層が、本発明の樹脂硬化物層及び他の光透過層用の樹脂組成物硬化層の２層からなる色素記録層を有するブルーレイディスク）
１．トラックピッチ０．３２μｍの案内溝を有する直径１２ｃｍ、厚み１．１ｍｍのポリカーボネート基板に銀合金を１００ｎｍの膜厚になるようスパッタし、反射層を形成した。その後、アゾ色素をＴＦＰ（テトラフルオロプロパノール）溶剤に溶かした色素溶液をスピンコート法により塗布し、８０℃で３０分間乾燥して色素記録層を形成した。さらに、ＺｎＳ−ＳｉＯ２（モル比８０：２０）を約１５ｎｍの厚みになるようスパッタし、界面層を形成し、ブルーレイディスク基板を作製した。
２．ブルーレイディスク基板を界面層が上になるようスピンテーブルに乗せ、内径１１．５ｍｍまで覆う様に円状のキャップ処理を行い、ついで本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を２．０ｇ中心部のキャップ上に供給した。
３．本発明の紫外線硬化型樹脂組成物の粘度に合わせ、１０００ｒｐｍから１５００ｒｐｍの速度範囲で４秒から７秒間スピンコートし、各塗布膜厚が２５μｍとなるよう塗布した。スピンコート終了間際にキセノンフラッシュランプを２ショット照射し、表面の流動性が無くなる程度に硬化させた。
４．高圧水銀ランプを使用し、上側から４００ｍＪ／ｃｍ2で３秒間照射して本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を完全硬化させた。
５．硬化した本発明の紫外線硬化型樹脂組成物が上になるようスピンテーブルに乗せ、内径１１．５ｍｍまで覆う様に円状のキャップ処理を行い、ついでＢＲＤ−８６４（日本化薬（株）製ブルーレイディスク用光透過層用樹脂）を３．０ｇ中心部のキャップ上に供給した。
６．１５００ｒｐｍの速度範囲で４秒から７秒間スピンコートし、塗布膜厚が７５μｍとなるよう塗布した。スピンコート終了間際にキセノンフラッシュランプを２ショット照射し、表面の流動性が無くなる程度に硬化させた。
７．高圧水銀ランプを使用し、上側から４００ｍＪ／ｃｍ2で３秒間照射してＢＲＤ−８６４を完全硬化させ、本発明のブルーレイディスクを作製した。 【００５３】
（ii)  実施例３の樹脂組成物を用いたブルーレイディスク
（光透過層が本発明の樹脂硬化物層単独からなる色素記録層を有するブルーレイディスク）
１．トラックピッチ０．３２μｍの案内溝を有する直径１２ｃｍ、厚み１．１ｍｍのポリカーボネート基板に銀合金を１００ｎｍの膜厚になるようスパッタし、反射層を形成した。その後、アゾ色素をＴＦＰ（テトラフルオロプロパノール）溶剤に溶かした色素溶液をスピンコート法により塗布し、８０℃で３０分間乾燥して有機色素記録層を形成した。さらに、ＺｎＳ−ＳｉＯ２（モル比８０：２０）を約１５ｎｍの厚みになるようスパッタし、界面層を形成し、ブルーレイディスク基板を作製した。
２．ブルーレイディスク基板を界面層が上になるようスピンテーブルに乗せ、内径１１．５ｍｍまで覆う様に円状のキャップ処理を行い、ついで本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を２．０ｇ中心部のキャップ上に供給した。
３．本発明の紫外線硬化型樹脂組成物の粘度に合わせ、８００ｒｐｍから１３００ｒｐｍの速度範囲で４秒から７秒間スピンコートし、塗布膜の硬化後厚さが１００μｍとなるよう塗布した。スピンコート終了間際にキセノンフラッシュランプを２ショット照射し、表面の流動性が無くなる程度に硬化させた。
４．高圧水銀ランプを使用し、上側から光量４００ｍＪ／ｃｍ2で３秒間照射して本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を完全硬化させ、本発明のブルーレイディスクを作製した。【００５４】
（iii)  ブルーレイディスクの耐久性試験前後の記録信号特性
本発明の光ディスクを、８０℃、８５％ＲＨ環境下、２５０時間放置した。ブルーレイディスクデータ信号測定装置パルステック社製ＯＤＵ−１０００を用いて、線速度４．９２ｍ／ｓ、再生パワー０．３０ｍＷ、記録パワー６．０ｍＷ、Ｔ連続記録（１Ｔ長＝０．０８μｍ）で記録し、耐久性試験前後のブルーレイディスクの記録信号特性（ジッタ値）を測定し、下記基準で評価した。ジッタ値は光ディスクの電気信号のひとつであり、これらの数値が高いほど、ブルーレイディスクの信号データが劣化していることを示し、１０％以上となるとデータの読み書きが困難となる。
ジッタ値の評価
○・・・ジッタ値１０．０％未満。
×・・・ジッタ値１０．０％以上。【００５５】
（iｖ)  本発明の樹脂硬化物層の弾性率の測定
弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７２４４−５に基づく動的粘弾性測定法に従い測定した。即ち、本発明の樹脂組成物で、硬化後の厚さが１ｍｍとなるように、塗膜を形成し、ＦｕｓｉｏｎランプＤバルブを使用し、１Ｊ／ｃｍ2の積算光量において硬化させた後、長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、厚さ１ｍｍの大きさのサンプル片を作製し、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製粘弾性測定装置ＤＭＳ６１００により測定を行った。測定は曲げモードで行い、振幅荷重１０ｍＮ、周波数１Ｈｚ、昇温速度２℃／分の条件で−５０℃〜２００℃の範囲で測定を行った。
（ｖ)  ブルーレイ（４００ｎｍ付近の光）の透過度の測定
上記実施例１〜３で得られた樹脂組成物を用いて、硬化後の膜厚が１００μｍの光の透過度測定用のそれぞれのサンプルを作成し、分光光度計（Ｕ−３３１０、株式会社日立ハイテクノロジー製）を用いて、各サンプルにおける４０５ｎｍでの光の吸光度を測定して、光の透過度を求めた。何れのサンプルにおいても、光の透過度は８５％以上であった。【００５６】
表１の結果より、一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレートを含有する実施例１及び２の本発明の樹脂組成物は、耐久性試験前後において良好な記録信号特性が得られた。一方、式（３）の化合物を含有した比較例１及び式（２）のＲが水素原子、ｎ＝１の化合物を含有する比較例２は耐久性試験前後において良好な記録信号特性が得られなかった。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明の樹脂組成物は光ディスクの光透過層用の樹脂組成物として用いた時、得られる硬化物層はブルーレイの４００ｎｍ付近の光の透過性に優れ、かつ、得られた光ディスクは記録信号特性に優れ、耐久性にも優れることから、本発明の樹脂組成物及び本発明の光ディスク、特に有機色素記録層を有する光ディスクはブルーレイディスク等の光ディスクの製造に有用である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月28日(2011.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層及び記録層を有する光ディスクであって、上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、上記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である光ディスク、
式（１）
2011118174.tif 000013
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
【請求項２】
（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する、記録層を有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、上記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
式（１）
2011118174.tif 000014
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
【請求項３】
（Ａ）一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）がポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート又はポリ（Ｃ２又はＣ３アルキレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレートである請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項４】
前記（メタ）アクリレート（Ａ）が、下記一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレートである請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
式（２）
2011118174.tif 000015
式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す。 
【請求項５】
前記（メタ）アクリレート（Ａ）を、組成物全体に対して２０〜９５重量％含有する請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項６】
（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレートの何れか一方若しくは両者である請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項７】
組成物全体に対して、前記（メタ）アクリレート（Ａ）が２０〜９５重量％、（Ｂ）光重合開始剤の含量が１〜１０重量％であり、残部が（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）である請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項８】
硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜１００ＭＰａである請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項９】
請求項２〜８の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物。
【請求項１０】
記録層を有する光ディスク基板に、請求項２〜８の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して該光ディスク基板上に該樹脂組成物の硬化物層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項１１】
請求項２〜８の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物の、記録層を有する光ディスクにおける光透過層形成のための用途。
【請求項１２】
有機色素記録層を有する請求項１に記載の光ディスク。
【請求項１３】
光ディスクが有機色素記録層を有する光ディスクである請求項２〜８の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１４】
上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）として、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を、樹脂組成物の総量に対して、２０〜６０重量％で含有する請求項２〜８及び１３の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
即ち、本発明は、次の（１）〜（１４）に関するものである。
(１)  （Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層及び記録層を有する光ディスクであって、上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、上記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である光ディスク、
式（１）
2011118174.tif 000016
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
（２）  （Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する、記録層を有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、上記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
式（１）
2011118174.tif 000017
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
（３）  上記（Ａ）一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）がポリ（テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート又はポリ（Ｃ２又はＣ３アルキレングリコール−テトラメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレートである上記（２）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（４）  前記（メタ）アクリレート（Ａ）が、下記一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレートである上記（２）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
式（２）
2011118174.tif 000018
式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す。 
（５）  前記（メタ）アクリレート（Ａ）を、組成物全体に対して２０〜９５重量％含有する上記（２）〜（４）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（６）  （Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレートの何れか一方若しくは両者である上記（２）〜（５）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（７）  組成物全体に対して、前記（メタ）アクリレート（Ａ）が２０〜９５重量％、（Ｂ）光重合開始剤の含量が１〜１０重量％であり、残部が（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）である上記（２）〜（６）のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（８）  硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜１００ＭＰａである上記（２）〜（７）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（９）  上記（２）〜（８）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物。
（１０）  記録層を有する光ディスク基板に、上記（２）〜（８）のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して該光ディスク基板上に該樹脂組成物の硬化物層を形成することを特徴とする上記（１）に記載の光ディスクの製造方法。
（１１）  上記（２）〜（８）の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物の、記録層を有する光ディスクにおける光透過層形成のための用途。
（１２）  有機色素記録層を有する上記（１）に記載の光ディスク。
（１３）  光ディスクが有機色素記録層を有する光ディスクである上記（２）〜（８）の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
（１４） 上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）として、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）を、樹脂組成物の総量に対して、２０〜６０重量％で含有する上記（２）〜（８）、及び（１３）の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月4日(2012.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレート、
式（２）
2011118174.tif 000019
式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレートの何れか一方若しくは両者を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層及び記録層を有する光ディスク。
【請求項２】
（Ａ）下記一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレート、
式（２）
2011118174.tif 000020
式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレートの何れか一方若しくは両者を含有する、記録層を有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項３】
前記（メタ）アクリレート（Ａ）を、組成物全体に対して２０〜９５重量％含有する請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項４】
組成物全体に対して、前記（メタ）アクリレート（Ａ）が２０〜９５重量％、（Ｂ）光重合開始剤の含量が１〜１０重量％であり、残部が前記（Ｃ）成分である請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項５】
硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜１００ＭＰａである請求項２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項６】
請求項２〜５の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物。
【請求項７】
記録層を有する光ディスク基板に、請求項２〜５の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して該光ディスク基板上に該樹脂組成物の硬化物層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項８】
有機色素記録層を有する請求項１に記載の光ディスク。
【請求項９】
光ディスクが有機色素記録層を有する光ディスクである請求項２〜５の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１０】
前記（Ｃ）成分として、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレートを、樹脂組成物の総量に対して、２０〜６０重量％で含有する請求項２〜５及び９の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
即ち、本発明は、次の（１）〜（１０）に関するものである。
(１)  （Ａ）下記一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレート、
式（２）
2011118174.tif 000021
式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレートの何れか一方若しくは両者を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層及び記録層を有する光ディスク。
（２）  （Ａ）下記一般式（２）で示される構造を有する（メタ）アクリレート、
式（２）
2011118174.tif 000022
式中、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは２〜１０の整数を示す、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレートの何れか一方若しくは両者を含有する、記録層を有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（３）  前記（メタ）アクリレート（Ａ）を、組成物全体に対して２０〜９５重量％含有する上記（２）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（４）  組成物全体に対して、前記（メタ）アクリレート（Ａ）が２０〜９５重量％、（Ｂ）光重合開始剤の含量が１〜１０重量％であり、残部が前記（Ｃ）成分である上記（２）又は（３）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（５）  硬化した時の硬化物の２５℃での弾性率が０．０１〜１００ＭＰａである上記（２）〜（４）の何れか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（６）  上記（２）〜（５）の何れか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物。
（７）  記録層を有する光ディスク基板に、上記（２）〜（５）のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して該光ディスク基板上に該樹脂組成物の硬化物層を形成することを特徴とする上記（１）に記載の光ディスクの製造方法。
（８）  有機色素記録層を有する上記（１）に記載の光ディスク。
（９）  光ディスクが有機色素記録層を有する光ディスクである上記（２）〜（５）の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
（１０） 前記（Ｃ）成分として、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応で得られたウレタンアクリレートを、樹脂組成物の総量に対して、２０〜６０重量％で含有する上記（２）〜（５）及び（９）の何れか一項に記載された紫外線硬化型樹脂組成物。
また、本明細書においては参考のため、下記の発明についても記載されている。
（ａ）（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層及び記録層を有する光ディスクであって、上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、上記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である光ディスク、
式（１）
2011118174.tif 000023
式中、ｎは１〜３０の整数を示す。
（ｂ）（Ａ）上記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート（但し、ブタンジオール（メタ）アクリレートを除く）、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレートを含有する、記録層を有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、上記（Ａ）以外の（メタ）アクリレート（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ−１）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ−２）及び、上記（Ａ）、（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）以外の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ−３）からなる群から選択される少なくとも一種である光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【国際調査報告】
2011118174.tif 000024
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