(57)【要約】  連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する少なくとも１層の有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機ＥＬ素子の製造方法の提供するため、バックロールに支持され搬送される帯状基材の上に、有機薄膜層形成用塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗膜を乾燥する乾燥工程を有する有機薄膜層の形成方法において、前記乾燥工程は、前記バックロールの上に乾燥室を有する乾燥装置を使用していることを特徴とする有機薄膜層の形成方法。
2012002423.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックロールに支持され搬送される帯状基材の上に、有機薄膜層形成用塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗膜を乾燥する乾燥工程を有する有機薄膜層の形成方法において、
前記乾燥工程は、前記バックロールの上に乾燥室を有する乾燥装置を使用していることを特徴とする有機薄膜層の形成方法。
【請求項２】
前記乾燥室を減圧とすることを特徴とする請求項１に記載の有機薄膜層の形成方法。
【請求項３】
前記乾燥室の入り口から出口までの高さが、前記バックロールの表面から０．１ｍｍから５０ｍｍで連続的に変化していることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機薄膜層の形成方法。
【請求項４】
前記乾燥工程は前記塗膜に含有される溶媒量が、前記有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して２０％以上の間に前記塗膜が前記乾燥室内に搬送される位置に配置されていることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法。
【請求項５】
前記乾燥工程は前記塗膜に含有される溶媒量を、前記有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の０．０１質量％から１０．０質量％にすることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法。
【請求項６】
前記乾燥工程は、吸引方式で形成した層流状態の乾燥風により前記塗膜を乾燥することを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法。
【請求項７】
前記乾燥風のレイノルズ数（Ｒｅ）が７０から１９５０で、且つ平均流速が０．３ｍ／ｓｅｃ以上であることを特徴とする請求項６に記載の有機薄膜層の形成方法。
【請求項８】
前記層流状態の乾燥風の温度は、前記有機薄膜層形成用塗布液を、前記帯状基材の上に塗布する時の雰囲気温度に対して±５℃であることを特徴とする請求項６又は７に記載の有機薄膜層の形成方法。
【請求項９】
前記層流状態の乾燥風は、前記帯状基材の長さ方向と平行で、且つ搬送方向と同じ方向に流れていることを特徴とする請求項６から８の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法。
【請求項１０】
基材上に少なくとも第１電極と、少なくとも１層の有機層と第２電極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記有機層が請求項１から９の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布方式による有機薄膜の形成方法及びこの形成方法を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子とも言う）の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から連続走行する帯状基材に塗布液を塗布する方法として次の２通りの塗布方法が知られている。一つは、予め必要な塗布液膜形成量よりも余剰な塗布液を基材上に吐出させ、その後なんらかの掻き取り手段で余剰分を取り除く後計量型塗布方式である。後計量型塗布方式としては、ブレード塗布法、エアーナイフ塗布法、ワイヤーバー塗布法、グラビア塗布法、リバース塗布法、リバースロール塗布法が知られている。【０００３】
他の一つは、必要な塗布液膜を形成する量だけ塗布液を吐出させて基材の上に塗布液を塗布する前計量型塗布方式である。前計量型塗布方式としては、スリット型ダイコーターを用いたエクストルージョン塗布法、スライドコーターを用いたスライド塗布法、カーテン塗布法、インクジェットヘッドを用いた塗布法が知られている。前計量型塗布装置の中でもスリット型ダイコーターは、塗布精度の高さ、高品位性、高速、薄膜、多層塗布適性等の対応が可能であることから、例えば、光学用フィルム、インクジェット記録用紙、熱現像記録材料、有機ＥＬ素子等の製造に使用されている。【０００４】
この中でも、近年、有機ＥＬ素子について使用される塗布方法が注目を浴びている。有機ＥＬ素子は、基材の上に形成された一対の陽極と陰極との間に、厚さ０．１μｍ程度の有機発光物質を含有する有機層（単層部又は多層部）で構成する薄膜型の全固体素子である。この様な有機ＥＬ素子に２Ｖから２０Ｖ程度の比較的低い電圧を印加すると、有機層に陰極から電子が注入され陽極から正孔が注入される。この電子と正孔が有機層に含まれる発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出することにより発光が得られることが知られており、次世代の平面ディスプレーや照明として期待されている技術である。【０００５】
有機ＥＬ素子は生産性の向上や製造コスト低減のため、近年では有機層をロールツーロール方式と言われる連続走行する帯状基材（以下、ウェブ状基材ともいう）に塗布する方式での製造が検討されている。又、近年では素子の高機能化や薄層化、塗布膜の膜厚の均一化、及び更なる高生産性の要望が高くなっている。【０００６】
例えば、有機ＥＬ素子を構成している有機層（例えば、正孔輸送層、発光層等）を塗布方式により形成する場合、有機ＥＬ素子の性能、使用する材料の溶解度の観点から低粘度になる場合が多く、使用する塗布液の粘度は、４．０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度となっているが、このような低粘度の材料を用いた場合には、乾燥ムラを避けることが難しいことが知られている。又、有機層の内、正孔輸送層の膜厚は５ｎｍから５００ｎｍ、発光層を形成している１層の厚さは２ｎｍから１００ｎｍと薄膜であるため有機層の膜厚の均一性が有機ＥＬパネルの性能に影響を及ぼすことが知られている。例えば発光層を塗布方式で形成する場合において、数ｎｍの膜厚のバラツキが発光ムラとして現れることが知られており、このため膜厚の均一化の要望が高くなっている。【０００７】
膜厚ムラの発生する原因としては、上述した塗布時の膜厚のバラツキの他、乾燥時の乾燥ムラ（風紋とも言う）によることが知られている。【０００８】
乾燥時の乾燥ムラに対してはこれまでに検討がなされて来た。例えば、塗液が塗布されたウェブ状の基材を搬送しながら乾燥炉内で、基材に対して平行な風向きでかつ層流として熱風を送り、塗工面の乾燥ムラを起こさずに、しかも効率よく塗膜を乾燥させる方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。【０００９】
基板上に液状材料を塗布した直後に、気流発生部の噴出口から基板の搬送方向と平行な層流状態の気流を噴出して乾燥する方法が知られている（例えば、特許文献２参照。）。【００１０】
搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布した後、塗布位置から０．２ｍ以上、０．８ｍ以下に配設した各乾燥ゾーン毎に層流状態の気流を基材の搬送方向と交わる方向に供給する給気手段を備えた複数の乾燥ゾーンに分割され乾燥ゾーンの搬送口に搬入し、わずかな乾燥ムラの発生をも抑制しながら少なくとも自然乾燥よりも乾燥速度を早く、生産性も向上出来る塗布膜を乾燥する方法が知られている（例えば、特許文献３参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００２−３４０４７９号公報
【特許文献２】特開２００３−２９７５６９号公報
【特許文献３】特開２００９−１２５６３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら特許文献１に記載の方法は次の問題点があることが判った。
１．均一な乾燥風を吐出させるには非常に高い装置精度が要求される。
２．高さ方向の風速バラツキが大きく、１０．０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度塗布液は風紋が発生しやすく適用出来ない。【００１３】
しかしながら特許文献２に記載の方法は次の問題点があることが判った。
１．塗布した画素に対して乾燥気流を発生させる気流発生部が必要であり、乾燥能力は気流発生部ノズルの数に依存する。気流発生部の数を増やすことで精度、コストの面で課題がある。
２．又、気流発生部と気流発生部及び塗布機構との距離が短い場合には、隣接する気流発生部から発生した給排気の影響で気流が乱れ乾燥ムラが発生する恐れがある。
しかしながら特許文献３に記載の方法は次の問題点があることが判った。
１．天板と基材及び基材と底板に圧力差が生じ、均一な乾燥が困難である。
２．１０．０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度塗布液は風紋が発生しやすく搬送方向と交わる方向に気流を当てると液寄りが生じ、均一なデバイスが作製出来ない。【００１４】
この様な状況から、連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機ＥＬ素子の製造方法の開発が望まれている。【００１５】
本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機ＥＬ素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。【００１７】
１．バックロールに支持され搬送される帯状基材の上に、有機薄膜層形成用塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗膜を乾燥する乾燥工程を有する有機薄膜層の形成方法において、
前記乾燥工程は、前記バックロールの上に乾燥室を有する乾燥装置を使用していることを特徴とする有機薄膜層の形成方法。【００１８】
２．前記乾燥室を減圧とすることを特徴とする前記１に記載の有機薄膜層の形成方法。【００１９】
３．前記乾燥室の入り口から出口までの高さが、前記バックロールの表面から０．１ｍｍから５０ｍｍで連続的に変化していることを特徴とする前記１又は２に記載の有機薄膜層の形成方法。【００２０】
４．前記乾燥工程は前記塗膜に含有される溶媒量が、前記有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して２０％以上の間に前記塗膜が前記乾燥室内に搬送される位置に配置されていることを特徴とする前記１から３の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法。【００２１】
５．前記乾燥工程は前記塗膜に含有される溶媒量を、前記有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の０．０１質量％から１０．０質量％にすることを特徴とする前記１から４の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法。【００２２】
６．前記予備乾燥工程は、吸引方式で形成した層流状態の乾燥風により前記塗膜を乾燥することを特徴とする前記１から５の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法。【００２３】
７．前記乾燥風のレイノルズ数（Ｒｅ）が７０から１９５０で、且つ平均流速が０．３ｍ／ｓｅｃ以上であることを特徴とする前記６に記載の有機薄膜層の形成方法。【００２４】
８．前記層流状態の乾燥風の温度は、前記有機薄膜層形成用塗布液を、前記帯状基材の上に塗布する時の雰囲気温度に対して±５℃であることを特徴とする前記６又は７に記載の有機薄膜層の形成方法。【００２５】
９．前記層流状態の乾燥風は、前記帯状基材と平行で、且つ搬送方向と同じ方向に流れていることを特徴とする前記６から８の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法。【００２６】
１０．基材上に少なくとも第１電極と、少なくとも１層の有機層と第２電極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記有機層が前記１から６の何れか１項に記載の有機薄膜層の形成方法により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【発明の効果】
【００２７】
連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機ＥＬ素子の製造方法を提供することが出来た。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】帯状基材の上に有機薄膜層形成用塗布液を塗布し少なくとも１層の有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法を示す概略図である。
【図２】図１のＸで示される部分の拡大概略図である。
【図３】図２（ａ）のＡ−Ａ′に沿った概略断面図である。
【図４】図１から図３に示す有機薄膜層の形成方法を使用して有機ＥＬ素子を製造する製造工程の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の実施の形態を図１から図４を参照しながら説明するが本発明はこれに限定されるものではない。本発明の有機薄膜層の形成方法における乾燥工程は、少なくともバックアップロールの上に乾燥室を有していることを特徴としている。以下に本発明における有機薄膜層の形成工程に付き説明する。
【００３０】
図１は帯状基材の上に有機薄膜層形成用塗布液を塗布して有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法を示す概略図である。
【００３１】
図中、４は有機薄膜層の形成工程を示す。形成工程４は、帯状基材の供給工程４ａと、塗布工程４ｂと、第１の乾燥工程４ｃと、第２の乾燥工程４ｄと、回収工程４ｅとを有している。
【００３２】
供給工程４ａは繰り出し装置（不図示）を使用しており、繰り出し装置（不図示）に装着されたロール状の帯状基材５を繰り出し、塗布工程４ｂに帯状基材５を供給する。
【００３３】
塗布工程４ｂは湿式塗布機４ｂ１と、帯状基材５を保持するバックロール４ｂ２とを使用しており、湿式塗布機４ｂ１により有機薄膜層形成用塗布液６（図２参照）をバックロール４ｂ２上の帯状基材５に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜が形成される。
【００３４】
使用可能な湿式塗布機としては、例えば、ダイコート方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式、インクジェット方式、メイヤーバー方式、キャップコート法、スプレー塗布法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の塗布機の使用が可能である。これらの湿式塗布機の使用は有機薄膜層の材料に応じて適宜選択することが可能となっている。本図は、湿式塗布機４ｂ１としてダイコート方式の場合を示している。
【００３５】
有機薄膜層形成用塗布液に使用する溶媒の蒸気圧は、溶媒乾燥温度を維持するための加熱コスト、乾燥速度液寄りなどを考慮し、５×１３３Ｐａから５０×１３３Ｐａであることが好ましい。
【００３６】
好ましい溶媒としては、有機薄膜層を溶解出来るものであれば特に指定はないが、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ＩＰＡ、ｎ−ブチルアルコールなどのアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ＴＨＦ、ケトン類、エーテル類、アセトン、ジアセトンアルコール、ジオキサン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリアルキレングリコールなどのグリコール類、２−ピロリドン、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロフォルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソプロピル、γブチルラクトン、ブチルセロソルブ、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラクロロエタン、ニトロベンズアルデヒド、ニトロベンゼン、二硫化炭素、２−ヘプタノン、ベンゼン、テルピネオール及び水などを組み合わせて使用出来る。
【００３７】
有機薄膜層形成用塗布液の粘度は、形成する有機薄膜層の材料により異なるが、本発明では、有機薄膜層の電気特性、乾燥速度等を考慮し、０．３ｍＰａ・ｓから１０．０ｍＰａ・ｓである。粘度は、ブルックフィールドデジタル粘度計ＨＶ−５０で測定した値を示す。
【００３８】
有機薄膜層形成用塗布液の固形分濃度は、形成する有機薄膜層の材料により異なるが、本発明では、塗布液調製後の経時安定性を考慮し、０．１質量％から２．０質量％が好ましい。
【００３９】
第１の乾燥工程４ｃは、乾燥装置４ｃ１を使用しており、塗布工程４ｂで形成された有機薄膜層形成用塗膜から溶媒が予備的に除去される。尚、本発明では第１の乾燥工程４ｃを便宜上、予備乾燥工程と言う。予備乾燥工程４ｃに関しては図２、図３で詳細に説明する。
【００４０】
第２の乾燥工程４ｄは、乾燥装置４ｄ１を使用しており、予備乾燥工程４ｃで処理された有機薄膜層形成用塗膜が形成されている帯状基材５を加熱乾燥し有機薄膜層が形成される。乾燥装置４ｄ１としては特に限定はなく、例えばヒーター加熱方式、加熱風方式等が挙げられ必要に応じて適宜選択することが可能となっている。尚、本発明では第２の乾燥工程４ｄを便宜上、本乾燥工程と言う。
【００４１】
回収工程４ｅは、巻取り装置（不図示）を使用しており、有機薄膜層が形成された帯状基材５を巻芯に巻取りロール状で回収する。
【００４２】
本発明で有機薄膜層とは、１０ｎｍから２００ｎｍの厚さを言う。又、厚さは、日本ビーコ（株）製ＷｙｋｏＮＴ９１００など光学干渉式膜厚測定機で測定することが可能である。
【００４３】
図２は図１のＸで示される部分の拡大概略図である。図２（ａ）は図１のＸで示される部分の拡大概略斜視図である。図２（ｂ）は図２（ａ）の予備乾燥装置側からの概略平面図である。
【００４４】
予備乾燥工程４ｃは、バックロールの上に配置されており、乾燥室を減圧とする乾燥装置４ｃ１を使用している。乾燥装置４ｃ１は、乾燥室４ｃ１１と圧力制御部４ｃ１２とを有している。
【００４５】
乾燥室４ｃ１１は側板４ｃ１１１と、側板４ｃ１１２と天板４ｃ１１３と、天板４ｃ１１３と１体となった取付け板４ｃ１１４とを有しており、帯状基材５側と圧力制御部４ｃ１２側と湿式塗布機４ｂ１側が開いた樋状の構造を有している。乾燥室４ｃ１１は取付け板４ｃ１１４を介して圧力制御部４ｃ１２の側板４ｃ１２４（図３参照）に固定されている。乾燥室４ｃ１１には層流状態の乾燥風が、帯状基材５の搬送方向（図中の矢印方向）に流れる様になっている。
【００４６】
圧力制御部４ｃ１２は、側板４ｃ１２１と、側板４ｃ１２２と、側板４ｃ１２３と、側板４ｃ１２４（図３参照）と、天板４ｃ１２５とを有し、帯状基材５側が開けられた箱形構造となっている。４ｃ１２６は天板４ｃ１２５に取り付けられた吸引管を示し吸引ポンプ（不図示）に繋がっている。
【００４７】
６は湿式塗布機４ｂ１から吐出された有機薄膜層形成用塗布液を示す。７は有機薄膜層形成用塗布液６を塗布し形成された塗膜を示す。
【００４８】
Ｊは乾燥室４ｃ１１の幅を示す。幅Ｊは有機薄膜層形成用塗布液の塗布幅Ｌに対して、乾燥室の内側の面部の風の乱れの影響と生産効率等を考慮し、１５０％から１８０％であることが好ましい。Ｋは帯状基材５の幅を示す。
【００４９】
図３は図２（ａ）のＡ−Ａ′に沿った概略断面図である。図３（ａ）は図２（ａ）のＡ−Ａ′に沿った拡大概略断面図である。図３（ｂ）は図３（ａ）のＹで示される部分の拡大概略図である。
【００５０】
図中、４ｃ１２７は圧力制御室を示す。吸引管４ｃ１２６を介して吸引ポンプ（不図示）で圧力制御室を減圧にすることで、乾燥室４ｃ１１の開口部４ｃ１１５から有機薄膜層形成用塗布液を塗布する雰囲気の気体が乾燥風となり流れ込み、開口部４ｃ１１６へと層流状態で流れる様になっている。尚、圧力制御室を減圧にするとは、塗布室の圧力対して圧力制御室の圧力を下げることを言う。本発明では、開口部４ｃ１１５を入り口、開口部４ｃ１１６を出口と言う。
【００５１】
４ｃ１１５は乾燥室４ｃ１１の湿式塗布機４ｂ１側の開口部を示し、４ｃ１１６は乾燥室４ｃ１１の圧力制御部４ｃ１２側の開口部を示す。開口部４ｃ１１５から開口部４ｃ１１６有機薄膜層形成用塗布液を塗布する雰囲気の区間が乾燥室４ｃ１１となっている。
【００５２】
乾燥室４ｃ１１の内側の面は、乾燥室４ｃ１１内を流れる乾燥風を層流とするため表面粗さが１０μｍ以下であることが好ましい。表面粗さはキーエンス（株）ＫＳ−１１００により測定した値を示す。又、開口部４ｃ１１５及び開口部４ｃ１１６の周辺には乾燥室４ｃ１１内を流れる乾燥風の層流状態に影響を与える凹状物、凸状物、例えばねじ穴、継ぎ手、バリ等がないことが好ましい。
【００５３】
乾燥室４ｃ１１内を流れる乾燥風の温度は、塗布液の対流、バックロール等の機械軸振れ精度への影響、加熱機構によるバラツキの影響等を考慮し、帯状基材５の上に有機薄膜層形成用塗布液を塗布する雰囲気温度であることが好ましい。雰囲気温度とは塗布する部屋の温度を言う。尚、雰囲気温度としては、温度が高過ぎる場合設備コストが高くなり、低過ぎると充分な蒸発速度が得られないため、２０℃から４０℃が好ましい。
【００５４】
乾燥室４ｃ１１内を流れる乾燥風の状態は、層流状態であることが好ましいが風速が低すぎる場合は、基材の搬送風の影響を受け易くなり、且つ乾燥速度が遅くなるため、レイノルズ数（Ｒｅ）が７０から１９５０で、且つ平均流速が０．３ｍ／ｓｅｃ以上であることが好ましい。さらに好ましくは７０以上、１０００以下、最も好ましくは７０以上、７５０以下である。レイノルズ数を７０未満とすると、実質的な乾燥条件としては乾燥風の平均流速が０ｍ／ｓｅｃに近づくため乾燥に時間が掛かり過ぎる。それゆえレイノルズ数の下限は７０以上が好ましい。これに対して、レイノルズ数を１９５０超とすると乱流／層流遷移域となり、塗布液の液界面が乱された状態で乾燥が進むため、塗膜に多少のムラが生じる可能性がある。それ故、レイノルズ数の上限が１９５０以下とすることが好ましい。
【００５５】
レイノルズ数（Ｒｅ）は、乾燥室４ｃ１１の幅手と高さをそれぞれａ、ｂとした場合、矩形流路相当直径Ｄｅ＝２ａｂ／（ａ＋ｂ）、流速は下記に示す測定値（ｍ／ｓｅｃ）、気体の動粘度（μ／ρ  式中  μ：乾燥風の粘度、ρ：乾燥風の密度）を１３．３５×１０−６（ｍ２・ｓ−１）により求めた値を示す。流速は、カノマックス株式会社アネモマスター風速計６００３より求めた値を示す。
【００５６】
乾燥室４ｃ１１内を流れる乾燥風のレイノルズ数（Ｒｅ）及び平均流速の調整は、圧力制御室の圧力を制御することで可能となっている。
【００５７】
予備乾燥工程４ｃは、帯状基材５の上に形成された有機薄膜層形成用塗膜中に含有される溶媒量が、風紋の発生を考慮し、有機薄膜層形成用塗布液の溶剤量に対して２０質量％以上の間に前記塗膜が前記乾燥室内に搬送される様に、バックロールの上の位置に配置されていることが好ましい。
【００５８】
予備乾燥工程４ｃの開口部４ｃ１１６から出る時の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量は、本乾燥工程４ｄの乾燥に必要な距離、膜厚ムラ等を考慮し、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の０．０１質量％から１０．０質量％であることが好ましい。
【００５９】
有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶剤量は、以下に示す方法で測定した値を示す。
【００６０】
溶剤量の測定は、キーエンス（株）製  ダブルスキャン型レーザー変位計  ＬＴ−９５００を用いて、ウェット膜厚を測定することで算出した。
【００６１】
Ｍは開口部４ｃ１１５のバックロール４ｂ２の表面から天板４ｃ１１３の内面４ｃ１１７迄の高さ（乾燥室の高さを示す）を示す。
【００６２】
Ｎは開口部４ｃ１１６のバックロール４ｂ２の表面から天板４ｃ１１３の内面４ｃ１１７迄の高さ（乾燥室の高さを示す）を示す。
【００６３】
開口部（入り口）４ｃ１１５から開口部（出口）４ｃ１１６迄の高さは、乾燥風を層流とするため、塗膜の乾燥等を考慮し、０．１ｍｍから５０ｍｍで連続的に変化していることが必要である。尚、連続的に変化するとは単調に連続的に増加、又は減少することを言う。途中で変化の方向が変わっても、又変化しなくてもよい。具体的には１ｍｍ以上の段差がなければよい。
【００６４】
又、開口部（入り口）４ｃ１１５から開口部（出口）４ｃ１１６迄のバックロールの表面からの高さは同じであっても構わない。
【００６５】
他の符号は図２と同義である。
【００６６】
乾燥室４ｃ１１を形成する材料は蒸発する溶媒で影響を受けない材料であれば特に限定はなく、例えば、ステンレス、アルミニウム、石英ガラス等が挙げられる。これらの中でも、視認性、耐溶媒性、精度を考慮し、石英ガラスが好ましく用いられる。
【００６７】
図１から図３に示される本発明の有機薄膜層の形成方法により次の効果が挙げられる。１．乾燥ムラの発生がなく、有機薄膜層が安定した膜厚を有すことで長い発光寿命が得られる。
２．連続して有機薄膜層の乾燥を行うことが出来、且つ、低コストである。
【００６８】
図１から図３に示される本発明の有機薄膜層の形成方法は、ハードコート層、反射防止層等を有する反射防止フィルム、光学用フィルム、有機ＥＬ素子を構成している各層の内で塗布方式で形成可能な有機層（例えば、正孔輸送層、発光層等）、液晶ディスプレーに用いられるカラーフィルター、光学フィルター、各種コーティングフィルムの製造、インクジェット記録用紙、熱現像記録材料等の製造に適用することが可能である。
【００６９】
以下に本発明の図１から図３に示す有機薄膜層の形成方法を使用した有機ＥＬ素子を製造する方法に付き説明する。
【００７０】
図４は図１から図３に示す有機薄膜層の形成方法を使用して有機ＥＬ素子を製造する製造工程の概略図である。尚、本発明で有機ＥＬ素子とは、基材／第１電極／機能層（正孔輸送層／発光層／電子輸送層）／第２電極の構成を言う。尚、本図に示す予備乾燥工程は図２、図３に示す予備乾燥工程４ｃと同じであり、本乾燥工程は図１に示す本乾燥工程４ｄと同じである。
【００７１】
図中、１は有機ＥＬ素子の製造工程を示す。製造工程１は、第１供給工程１０１と、正孔輸送層形成工程１０２と、発光層形成工程１０３と、電子輸送層形成工程１０４と、第１回収工程１０５と、第２供給工程１０６と、第２電極形成工程１０７と第２回収工程１０８とを有している。
【００７２】
第１供給工程１０１は、ロール状帯状基材２ａの繰り出し装置（不図示）とアキュームレータ１０１ａとを使用ており、連続的に、次工程の正孔輸送層形成工程１０２に帯状基材２を繰り出す様になっている。アキュームレータ１０１ａは次工程の正孔輸送層形成工程１０２との速度調整のために配設されている。
【００７３】
正孔輸送層形成工程１０２は、塗布工程１０２ａと、乾燥工程１０２ｂとを有し、アキュームレータ１０２ｃを使用している。正孔輸送層形成工程１０２では、第１電極までが形成された帯状基材２の第１電極取り出し電極部を除き第１電極の上に正孔輸送層形成用塗布液が塗布され、乾燥工程１０２ｂを経て正孔輸送層が形成され、次工程の発光層形成工程１０３に搬送される。アキュームレータ１０２ｃは次工程の発光層形成工程１０３との速度調整のために配設されている。
【００７４】
塗布工程１０２ａは、湿式塗布機１０２ａ１と帯状基材２を保持するバックアップロール１０２ａ２とを使用している。湿式塗布機１０２ａ１による正孔輸送層形成用塗布液は、帯状基材２に付けられているアライメントマーク（不図示）をアライメントマーク検出機（不図示）で検出し、第１電極（陽極）の取り出し電極（不図示）を除いて既に形成されている第１電極（陽極）（不図示）の上に塗布される。使用可能な湿式塗布機としては、例えば、ダイコート方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式、インクジェット方式、メイヤーバー方式、キャップコート法、スプレー塗布法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の塗布機の使用が可能である。これらの湿式塗布機の使用は正孔輸送層の材料に応じて適宜選択することが可能となっている。尚、本図は照明用に使用する有機ＥＬ素子を１例にしているため湿式塗布機１０２ａ１は全面塗工タイプとなっているが、有機ＥＬパネルがフルカラー方式の場合は、パターン化されて形成されている第１電極（陽極）のパターンに合わせて第１電極（陽極）上に発光層をパターン塗布するため、例えば、インクジェット方式、フレキソ印刷方式、オフセット印刷方式、グラビア印刷方式、スクリーン印刷方式、マスクを用いたスプレー塗布方式等に使用する各種塗布装置を使用することが可能である。
【００７５】
乾燥工程１０２ｂは、予備乾燥工程１０２ｂ１と本乾燥工程１０２ｂ２とを有している。予備乾燥工程１０２ｂ１に関しては図２、図３に示す予備乾燥工程４ｃと同じである。
【００７６】
本乾燥工程１０２ｂ２は、乾燥装置１０２ｂ２１と加熱処理装置１０２ｂ２２とを使用している。乾燥装置１０２ｂ２１としては特に限定はなく、例えば加熱方式、加熱風方式、真空乾燥方式等が挙げられ必要に応じて適宜選択することが可能となっている。
【００７７】
加熱処理装置１０２ｂ２２は正孔輸送層形成用塗膜（不図示）を帯状基材２の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置１０２ｂ２２における正孔輸送層（不図示）の加熱処理条件として、正孔輸送層の平滑性向上、残留溶媒の除去等を考慮し、正孔輸送層を構成している樹脂のガラス転移温度に対して−３０℃から＋３０℃、且つ、正孔輸送層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。
【００７８】
乾燥工程１０２ｂと発光層形成工程１０３との間には必要に応じて帯電防止手段１０２ｂ３を配設することが好ましい。
【００７９】
帯電防止手段帯電防止手段１０２ｂ３は、非接触式帯電防止装置１０２ｂ３１と接触式帯電防止装置１０２ｂ３２とを有している。非接触式帯電防止装置１０２ｂ３１としては例えば、非接触式のイオナイザーが挙げられる。イオナイザーの種類については特に制限はなく、イオン発生方式はＡＣ方式、ＤＣ方式どちらでも構わない。ＡＣタイプ、ダブルＤＣタイプ、パルスＡＣタイプ、軟Ｘ線タイプが用いることが出来るが、特に精密除電の観点から、ＡＣタイプが好ましい。ＡＣタイプの使用の際に必要となる噴射気体については、空気かＮ２が用いられるが、充分に純度が高められたＮ２で行うことが好ましい。又、インラインで行う観点より、ブロワータイプもしくはガンタイプより選ばれる。
【００８０】
接触式帯電防止装置１０２ｂ３２としては、除電ロール又はアース接続した導電性ブラシを用いて行われる。除電器としての除電ロールは、接地されており、除電された表面に回転自在に接触して表面電荷を除去する。この様な除電ロールとしては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属製ロールの他に、カーボンブラック、金属粉、金属繊維等の導電性材料を混合した弾性のあるプラスチックやゴム製のロールが使用される。特に、帯状基材２との接触をよくするため、弾性のあるものが好ましい。アース接続した導電性ブラシとは、一般には、線状に配列した導電性繊維からなるブラシ部材や線状金属製のブラシを有する除電バー又は除電糸構造のものを挙げることが出来る。除電バーについては、特に限定はないが、コロナ放電式のものが好ましく用いられ、例えば、キーエンス社製のＳＪ−Ｂが用いられる。除電糸についても、特に限定はないが、通常フレキシブルな糸状のものが好ましく用いられ、例えば、日本精線社製ステンレス鋼除電繊維ナスロンをその一例として挙げることが出来る。
【００８１】
非接触式帯電防止装置１０２ｂ３１は帯状基材２の上に形成されている正孔輸送層面側に使用し、接触式帯電防止装置１０２ｂ３２は帯状基材２の裏面側に使用することが好ましい。
【００８２】
正孔輸送層の膜厚は、発光効率、寿命等を考慮し適宜調整される。
【００８３】
発光層形成工程１０３は、塗布工程１０３ａと、乾燥工程１０３ｂとを有し、アキュームレータ１０３ｃを使用している。アキュームレータ１０３ｃは次工程の電子輸送層形成工程１０４との速度調整のために配設されている。発光層形成工程１０３では、正孔輸送層までが形成された帯状基材２の第１電極取り出し電極部を除き正孔輸送層の上に発光層形成用塗布液が塗布され、乾燥工程１０３ｂを経て発光層が形成され、次工程の電子輸送層形成工程１０４に搬送される。
【００８４】
塗布工程１０３ａは、湿式塗布機１０３ａ１と、帯状基材２を保持するバックアップロール１０３ａ２とを使用している。湿式塗布機１０３ａ１による発光層形成用塗布液は、帯状基材２に付けられているアライメントマーク（不図示）をアライメントマーク検出機（不図示）で検出し、第１電極（陽極）の取り出し電極（不図示）を除いて既に形成されている正孔輸送層（不図示）の上に塗布される。使用可能な湿式塗布機としては、正孔輸送層形成工程１０２の塗布工程１０２ａに使用する湿式塗布機と同じものを使用することが可能である。
【００８５】
乾燥工程１０３ｂは、予備乾燥工程１０３ｂ１と本乾燥工程１０３ｂ２とを有している。予備乾燥工程１０３ｂ１は正孔輸送層形成工程１０２の予備乾燥工程１０２ｂ１と同じ構成となっている。
【００８６】
本乾燥工程１０３ｂ２は、乾燥装置１０３ｂ２１と加熱処理装置１０３ｂ２２とを使用している。乾燥装置１０３ｂ２１としては特に限定はなく、例えば加熱方式、加熱風方式等が挙げられ必要に応じて適宜選択することが可能となっている。
【００８７】
加熱処理装置１０３ｂ２２は発光層形成用塗膜（不図示）を帯状基材２の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置１０３ｂ２２における発光層（不図示）の加熱処理条件として、発光層の平滑性向上、残留溶媒の除去、発光層の硬化等を考慮し、発光層を構成している樹脂のガラス転移温度に対して−３０℃から＋３０℃、且つ、発光層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。
【００８８】
乾燥工程１０３ｂと電子輸送層形成工程１０４との間には必要に応じて帯電防止手段１０２ｂ３と同じ帯電防止手段１０３ｂ３を配設することが好ましい。
【００８９】
発光層の膜厚は、膜の均質性、素子寿命、発光効率等を考慮し、通常、５ｎｍから１μｍ、好ましくは２０ｎｍから１００ｎｍの範囲で選ばれる。
【００９０】
発光層（不図示）が多層の場合は、積層する数に合わせて塗布工程、乾燥工程を配設する必要がある。例えば、発光層を多層にすることで白色素子の作製が可能である。本発明において、発光層とは青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を指す。発光層を積層する場合の積層順としては、特に制限はなく、又各発光層間に非発光性の中間層を有していてもよい。又、発光層を４層以上設ける場合には、陽極に近い順から、例えば青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層、青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層／緑色発光層、青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層／緑色発光層／赤色発光層の様に青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を順に積層することが、輝度安定性を高める上で好ましい。
【００９１】
発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性、発光に必要な電圧等を考慮し、通常２ｎｍから５μｍ、好ましくは２ｎｍから２００ｎｍの範囲で選ばれる。更に１０ｎｍから１００ｎｍの範囲にあるのが好ましい。膜厚を１００ｎｍ以下にすると電圧面のみならず、駆動電流に対する発光色の安定性が向上する効果があり好ましい。
【００９２】
電子輸送層形成工程１０４は、塗布工程１０４ａと、乾燥工程１０４ｂとを有し、アキュームレータ１０４ｃを使用している。アキュームレータ１０４ｃは次工程の第１回収工程１０５との速度調整のために配設されている。電子輸送層形成工程１０４では、発光層までが形成された帯状基材２の第１電極取り出し電極部を除き発光層の上に電子輸送層形成用塗布液が塗布され、乾燥工程１０４ｂを経て電子輸送層が形成され、次工程の第１回収工程１０５に搬送され一旦回収される。
【００９３】
塗布工程１０４ａは、湿式塗布機１０４ａ１と、帯状基材２を保持するバックアップロール１０４ａ２とを使用している。湿式塗布機１０４ａ１による電子輸送層形成用塗布液は、帯状基材２に付けられているアライメントマーク（不図示）をアライメントマーク検出機（不図示）で検出し、第１電極（陽極）の取り出し電極（不図示）を除いて既に形成されている発光送層（不図示）の上に塗布される。使用可能な湿式塗布機としては、正孔輸送層形成工程１０２の塗布工程１０２ａに使用する湿式塗布機と同じものを使用することが可能である。
【００９４】
乾燥工程１０４ｂは、予備乾燥工程１０４ｂ１と本乾燥工程１０４ｂ２とを有している。予備乾燥工程１０４ｂ１は正孔輸送層形成工程１０２の予備乾燥工程１０２ｂ１と同じ構成となっている。
【００９５】
本乾燥工程１０４ｂ２は、乾燥装置１０４ｂ２１と加熱処理装置１０４ｂ２２とを使用している。乾燥装置１０４ｂ２１としては特に限定はなく、例えば加熱方式、加熱風方式等が挙げられ必要に応じて適宜選択することが可能となっている。
【００９６】
加熱処理装置１０４ｂ２２は電子輸送層形成用塗膜（不図示）を帯状基材２の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置１０４ｂ２２における電子輸送層（不図示）の加熱処理条件として、電子輸送層の平滑性向上、残留溶媒の除去、電子輸送層の硬化等を考慮し、電子輸送層を構成している樹脂のガラス転移温度に対して−３０℃から＋３０℃、且つ、電子輸送層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。
【００９７】
乾燥工程１０４ｂと第１回収工程１０５との間には必要に応じて帯電防止手段１０２ｂ３と同じ帯電防止手段１０４ｂ３を配設することが好ましい。
【００９８】
電子輸送層の膜厚は発光効率、寿命等を考慮し適宜調整される。
【００９９】
第２供給工程１０６は、電子輸送層迄が形成されロール状に巻取られたロール状帯状基材２ａの繰り出し装置（不図示）とアキュームレータ１０６ａとを使用ており、次工程の第２電極形成工程１０７に電子輸送層迄が形成された帯状基材２を繰り出す様になっている。アキュームレータ１０６ａは次工程の第２電極形成工程１０７との速度調整のために配設されている。
【０１００】
第２電極形成工程１０７は、蒸発源容器１０７ｂを有する蒸着装置１０７ａとアキュームレータ１０７ｃとを有している。アキュームレータ１０７ｃは次工程の第２回収工程１０８との速度調整のために配設されている。
【０１０１】
第２電極形成工程１０７では第２供給工程１０６から供給されてくる電子輸送層迄が形成された帯状基材２に付けられているアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って蒸着装置１０７ａで決められた位置に、取り出し電極（不図示）を有する第２電極（陰極）（不図示）を、既に形成されている電子注入層（不図示）の上にマスクパターン成膜する。第２電極（陰極）としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍから５μｍ、好ましくは５０ｎｍから２００ｎｍの範囲で選ばれる。この段階で、基材／第１電極（陽極）／正孔輸送層／発光層／電子注入層／第２電極（陰極）の構成を有する有機ＥＬ素子３が出来上がる。この後、封止材料で有機ＥＬ素子を封止することで有機ＥＬパネルが製造される。
【０１０２】
第２電極（陰極）の形成方法については、特に限定はなく、例えばスパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることが出来る。
【０１０３】
本発明の有機薄膜層の形成方法で正孔輸送層、発光層、電子輸送層を湿式塗布方式で形成した有機ＥＬ素子は各層が安定して形成することが出来、安定した性能を有する有機ＥＬ素子の製造が可能となった。
【０１０４】
本図は、正孔輸送層形成工程から電子輸送層形成工程と、第２電極形成工程とに分割した場合を示したが正孔輸送層形成工程から第２電極形成工程までを連続することも可能である。
【０１０５】
以下に、本発明の有機薄膜層の形成方法により製造される製品に係わる材料に付き説明する。
【０１０６】
有機ＥＬ素子
又、本発明の塗布方法で有機ＥＬ素子を製造する際に使用する材料は、国際公開第０６／１００８６８号パンフレット、特開２００６−２９４５３６号公報、特開２００７−７３３３２公報等に記載されている公知の材料を使用することが可能である。
【０１０７】
その他
尚、本発明の塗布方法で反射防止フィルム、光学フィルムを製造する際に使用する材料は、特開２００８−２９６４２１号公報、同２００８−２４２００３号公報、同２００８−２２４７１８号公報、同２００８−２００６００号公報、同２００７−０９８８３３号公報、同２００６−２９３２０１号公報、同２００６−２８５２１７号公報等に記載されている公知の材料を使用することが可能である。
【実施例】
【０１０８】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。【０１０９】
実施例１
（帯状基材の準備）
厚さ１００μｍ、幅２００ｍｍ、長さ５００ｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人・デュポン社製フィルム、以下、ＰＥＴと略記する）を帯状基材として準備した。【０１１０】
（第１電極（ＩＴＯ膜）の形成）
準備した帯状基材の上にスパッタ装置を用いて厚さ１００ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。【０１１１】
（有機薄膜層形成用塗布液の準備）
アセトン１００質量部に市販の染料、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２４９を１．５質量部を溶解した塗布液調製し、粘度１．０ｍＰ・ｓになる様にポリビニルブチレート（ＰＶＢ）の添加量調整し塗布液を準備した。塗布液の粘度は東機産業株式会社製の、Ｅ型粘度計  ＶＩＳＣＯＮＩＣ  ＥＤ型及び同社製コントローラーＥ−２００型を使用し、温度２５℃で測定した値を示す。【０１１２】
（スリット型ダイコーターの準備）
以下に示すスリット型ダイコーターを準備した。【０１１３】
スリット型ダイコーターの幅                          １７０ｍｍ
スリット間隙Ｏ                                      １００μｍ
塗布幅                                              １００ｍｍ
（塗布）
図１に示す製造工程で準備したスリット型ダイコーターを使用し、準備した有機薄膜層形成用塗布液を、直径３００ｍｍのバックロールに支持された、準備した帯状基材の上に形成したＩＴＯ膜の上に、塗布速度１．０ｍ／ｍｉｎから１０．０ｍ／ｍｉｎで塗布し、ウェット膜厚６μｍの有機薄膜層形成用塗膜を形成し表１に示す様に乾燥室の入り口及び出口のバックロールの表面からの高さを連続的に変えた乾燥装置を使用した図２、図３に示す予備乾燥工程で処理し、引き続き本乾燥工程で加熱装置により温度１２０℃、平均風速０．３ｍ／ｓｅｃで乾燥し有機薄膜層を形成し試料Ｎｏ．１０１から１１０とした。ドライ膜厚（乾燥後の膜厚）は１００ｎｍであった。尚、予備乾燥工程に入る時の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶剤量は、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して９５．０％であった。【０１１４】
予備乾燥工程に入る前の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量は、キーエンス社製ダブルスキャン型レーザー変位計  ＬＴ−９５００を用いウェット膜厚より算出した値を使用した。【０１１５】
尚、予備乾燥工程を通過させた後に含まれる溶媒量は１．２質量％であった。【０１１６】
予備乾燥工程を通過させた後の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量とは、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対する割合（質量％）を示す。【０１１７】
尚、ウェット膜厚とは、下式で算出される理論膜厚を言う。【０１１８】
ウェット膜厚＝塗布液供給流量／（塗布幅×塗布速度）
又、塗布速度は、三菱電機（株）製  レーザドップラ速度計ＬＶ２０３で測定した。【０１１９】
（塗布条件）
塗布条件としては、塗布幅１００ｍｍ、塗布長５０ｍ、塗布液の塗布時の温度は２５℃で行った。【０１２０】
予備乾燥工程の条件
乾燥室を流れる乾燥風の温度：２５℃
乾燥室の入り口から出口までの距離：２００ｍｍ
乾燥室の内側の表面の表面粗さ（Ｒａ）：５μｍ
乾燥室の有機薄膜層形成用塗布液の塗布幅に対する割合（％）：１５０％
乾燥室の減圧度：３０Ｐａ
乾燥風の流れる方向は帯状基材の搬送方向と同じとした。【０１２１】
比較試料の作製
予備乾燥工程を使用せずに本乾燥工程で温度１２０℃で乾燥した他は全て同じ条件で行い有機薄膜層を形成し比較試料Ｎｏ．１１１とした。【０１２２】
評価
作製した各試料Ｎｏ．１０１から１１１に付き、始め５ｍと、終わり５ｍとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を以下に示す測定方法により測定し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表１に示す。【０１２３】
膜厚安定性の測定方法
濃度と膜厚との関係が直線関係にあることから、コニカミノルタ製コニカデンシトメーターＰＤＭ−７を使用し、幅手方向に１０ｍｍ間隔で濃度を測定し、試料に付き３１点の濃度のバラツキを膜厚安定性として、次の式より計算で求めた。【０１２４】
膜厚安定性（バラツキ）＝（（最高濃度−最小濃度）／平均濃度）×１００
膜厚安定性（バラツキ）の評価ランク
◎：バラツキが１．０未満
○：バラツキが１．０以上、３．０未満
△：バラツキが３．０以上、５．０未満
×：バラツキが５．０以上【０１２５】
【表１】
2012002423.tif 000003
【０１２６】
有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したＩＴＯ膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、バックロールの上に入り口から出口のバックロールの表面からの高さを０．１ｍｍから１０．０ｍｍで連続的に単調に増加した乾燥室を有し、乾燥室を減圧とする乾燥装置を使用し、層流状態の乾燥風が流れる予備乾燥工程を通過させ、本乾燥工程で乾燥し有機薄膜層を形成した試料Ｎｏ．１０２から１０９は膜厚安定性が優れた性能を示すことが確認された。【０１２７】
予備乾燥工程の乾燥室の上に入り口のバックロールの表面からの高さを０．０．０７ｍｍ、出口のバックロールの表面からの高さを２０．０ｍｍと連続的に単調に増加した乾燥室を有し、乾燥室を減圧とする乾燥装置を使用して作成した試料Ｎｏ．１０１は、膜厚バラツキが本発明の試料Ｎｏ．１０２から１０９に比べ実用上問題にはならないが僅かに劣ることが確認された。【０１２８】
予備乾燥工程の乾燥室の上に入り口のバックロールの表面からの高さを２０．０ｍｍ、出口のバックロールの表面からの高さを５５．０ｍｍと連続的に単調に増加した乾燥室を有し、乾燥室を減圧とする乾燥装置を使用して作成した試料Ｎｏ．１０９は、膜厚バラツキが本発明の試料Ｎｏ．１０２から１０９に比べ実用上問題にはならないが僅かに劣ることが確認された。【０１２９】
有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したＩＴＯ膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、予備乾燥工程を使用せず、加熱した層流の乾燥風で乾燥して作製した試料Ｎｏ．１１１は膜が流れることで、膜厚安定性が本発明の試料Ｎｏ．１０１から１１０に比べ劣ることが確認された。本発明の有効性を確認した。【０１３０】
実施例２
（帯状基材の準備）
実施１と同じ帯状基材を準備した。【０１３１】
（第１電極（ＩＴＯ膜）の形成）
実施１と同じ方法で準備した帯状基材の上に第１電極（ＩＴＯ膜）を形成した。【０１３２】
（有機薄膜層形成用塗布液の準備）
実施例１と同じ有機薄膜層形成用塗布液を準備した。【０１３３】
（塗布）
実施例１で使用したものと同じスリット型ダイコーターを使用し、図１に示す製造工程で、準備した有機薄膜層形成用塗布液を準備した帯状基材の上に塗布速度１．０ｍ／ｍｉｎから１０．０ｍ／ｍｉｎで塗布し、ウェット膜厚６．０μｍの有機薄膜層形成用塗膜を形成し、予備乾燥工程を通過させた後の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量を表２に示す様に変化させた他は、実施例１で作成した試料Ｎｏ．１０６と同じ方法で帯状基体の上に有機薄膜層を形成し試料Ｎｏ．２０１から２０８とした。尚、予備乾燥工程を通過させた後に有機薄膜層形成用塗膜に含まれる溶媒量を０．００７から１０．５質量％までの調整は、乾燥室の入り口から出口までのバックロールの表面からの高さ、乾燥装置内の圧力制御室の圧力、搬送速度、等を変化させることで行った。【０１３４】
予備乾燥工程を通過させた後の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量とは、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対する割合（質量％）を示す。【０１３５】
尚、ウェット膜厚とは、実施例１と同じ理論膜厚を言い、実施例１と同じ方法で測定した値を示す。又、塗布速度は、三菱電機（株）製  レーザドップラ速度計ＬＶ２０３で測定した。【０１３６】
（塗布条件）
塗布条件としては、実施例１と同じ条件で行った。【０１３７】
評価
作製した各試料Ｎｏ．２０１から２０８に付き、始め５ｍと、終わり５ｍとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を実施例１と同じ方法で測定し、実施例１と同じ評価ランクに従って評価した結果を表２に示す。【０１３８】
【表２】
2012002423.tif 000004
【０１３９】
有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したＩＴＯ膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、層流状態の乾燥風が流れる予備乾燥工程を通過させ、予備乾燥工程を通過させた後の前記有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量が、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の０．０１質量％から１０．０質量％の状態で、本乾燥工程で乾燥し有機薄膜層を形成した試料Ｎｏ．２０２から２０７は膜厚安定性が優れた性能を示すことが確認された。【０１４０】
有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したＩＴＯ膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、層流状態の乾燥風が流れる予備乾燥工程を通過させ、予備乾燥工程を通過させた後の前記有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量が、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の０．００７質量％状態で、本乾燥工程で乾燥し有機薄膜層を形成した試料Ｎｏ．２０１は膜厚安定性が本発明の試料Ｎｏ．２０２から２０７に比べ実用上問題ない程度で劣ることが確認された。【０１４１】
有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したＩＴＯ膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、層流状態の乾燥風が流れる予備乾燥工程を通過させ、予備乾燥工程を通過させた後の前記有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量が、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の７質量％状態で、本乾燥工程で乾燥し有機薄膜層を形成した試料Ｎｏ．２０８は、膜厚安定性が本発明の試料Ｎｏ．２０２から２０７に比べ実用上問題ない程度で劣ることが確認された。【０１４２】
有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したＩＴＯ膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、予備乾燥工程を使用せず、加熱した層流の乾燥風で乾燥して作製した試料Ｎｏ．２０９は膜が流れることで、膜厚安定性が本発明の試料Ｎｏ．２０１から２０８に比べ劣ることが確認された。本発明の有効性を確認した。【０１４３】
実施例３
（帯状基材の準備）
実施１と同じ帯状基材を準備した。【０１４４】
（第１電極（ＩＴＯ膜）の形成）
実施１と同じ方法で準備した帯状基材の上に第１電極（ＩＴＯ膜）を形成した。【０１４５】
（有機薄膜層形成用塗布液の準備）
実施例１と同じ有機薄膜層形成用塗布液を準備した。【０１４６】
（塗布）
実施例１で使用したものと同じスリット型ダイコーターを使用し、図１に示す製造工程で、準備した有機薄膜層形成用塗布液を準備した帯状基材の上に塗布速度１．０ｍ／ｍｉｎから１０．０ｍ／ｍｉｎで塗布し、ウェット膜厚６．０μｍの有機薄膜層形成用塗膜を形成し、表３に示す様に図２、図３に示す予備乾燥工程に入る前の有機薄膜層形成用塗膜の残存溶媒量を、帯状基材の搬送速度、スリット型ダイコーターと予備乾燥装置の開口部までの距離を変化させて処理した後、引き続き本乾燥工程で温度１２０℃で乾燥し有機薄膜層を形成し試料Ｎｏ．３０１から３０８とした。尚、ドライ膜厚（乾燥後の膜厚）は１００ｎｍであった。予備乾燥工程に入る前の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量とは、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対する割合（質量％）を示す。【０１４７】
予備乾燥工程に入る前の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量は、実施例１と同じ方法で測定した値を使用した。【０１４８】
尚、ウェット膜厚とは、実施例１と同じ理論膜厚を言い、実施例１と同じ方法で測定した値を示す。下式で算出される理論膜厚を言う。【０１４９】
又、塗布速度は、三菱電機（株）製  レーザドップラ速度計ＬＶ２０３で測定した。【０１５０】
（塗布条件）
塗布条件としては、実施例１と同じ条件で行った。【０１５１】
予備乾燥工程を出る時の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量は、乾燥室の入り口から出口までのバックロールの表面からの高さ、乾燥装置内の圧力制御室の圧力、搬送速度、等を変化させることで、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して１．２質量％とした。【０１５２】
評価
作製した各試料Ｎｏ．３０１から３０８付き、始め５ｍと、終わり５ｍとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を実施例１と同じ方法で測定し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表３に示す。【０１５３】
【表３】
2012002423.tif 000005
【０１５４】
有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量中の溶剤量が有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶剤量に対して２０質量％以上で、予備乾燥工程に搬送し作製した試料Ｎｏ．３０１から３０７は膜厚安定性において優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。【０１５５】
実施例４
予備乾燥工程の乾燥風の温度を表４に示す様に変えた他は全て実施例１で作製した試料Ｎｏ．１０６と同じ条件で有機薄膜層を形成し試料Ｎｏ．４０１から４０７とした。尚、塗布を行った際の、雰囲気温度は２５℃であった。【０１５６】
評価
作製した各試料Ｎｏ．４０１から４０７に付き、始め５ｍと、終わり５ｍとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を実施例１と同じ方法で測定し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表４に示す。【０１５７】
【表４】
2012002423.tif 000006
【０１５８】
層流状態の乾燥風の温度を、有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に塗布する時の雰囲気温度（２５℃±５℃）にすることで塗布液膜の熱対流を抑え膜厚安定性に優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。【０１５９】
実施例５
予備乾燥工程の風流路乾燥風温度、乾燥流路高さ及び乾燥風流路の有機薄膜層形成用塗布液の塗布幅に対する割合を変え、乾燥風のレイノルズ数（Ｒｅ）及び平均流速を表５に示す様に変えた他は全て実施例１で作製した試料Ｎｏ．１０６と同じ条件で有機薄膜層を形成し試料Ｎｏ．５０１から５１２とした。【０１６０】
Ｒｅ数は以下に示す式で表される。【０１６１】
Ｒｅ＝ρｖｄ／μ
相当直径をｄ、乾燥風の密度ρ、乾燥風の粘度μ、乾燥風の粘性μ、平均流速をｖとした時とする。【０１６２】
評価
作製した各試料Ｎｏ．５０１から５１２に付き、始め５ｍと、終わり５ｍとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を実施例１と同じ方法で測定し、実施例１塗同じ評価ランクで評価した結果を表５に示す。【０１６３】
【表５】
2012002423.tif 000007
【０１６４】
層流状態の乾燥風のレイノルズ数（Ｒｅ）が７３から１９５０で、且つ平均流速が０．３ｍ／ｓｅｃ以上の条件にすることで膜厚安定性が優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。【０１６５】
実施例６
帯状の有機ＥＬ素子構造体（可撓性基材／第１電極（陽極）／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／第２電極（陰極））を図４に示す製造工程を使用し、予備乾燥工程を通過させた後の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量を表７に示す様に変化させ、以下に示す方法で作製した後、断裁し有機ＥＬ素子を作製し試料Ｎｏ．６０１から６０８とした。尚、正孔輸送層、発光層、電子輸送層はスリット型ダイコーターで塗布し形成し、第１電極（陽極）、第２電極（陰極）は蒸着方式で成膜し形成した。【０１６６】
〈帯状基材の準備〉
厚さ１００μｍ、幅２００ｍｍ、長さ５００ｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人・デュポン社製フィルム、以下、ＰＥＴと略記する）を帯状基材として準備した。尚、帯状基材には、予め第１電極を形成する位置を示すためにアライメントマークを第１電極が形成される面及び反対の面の同じ位置に設けた。【０１６７】
〈第１電極の形成〉
準備した帯状基材の上に５×１０−１Ｐａの真空環境条件で厚さ１２０ｎｍのＩＴＯ（インジウムチンオキシド）をスパッタリング法により、マスクパターン成膜を行い、取り出し電極を有する１２ｍｍ×５ｍｍの大きさの第１電極を一定間隔で１２列連続的に形成し、一旦巻取り保管した。【０１６８】
（正孔輸送層形成用塗布液の準備）
ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製  Ｂｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＡＩ  ４０８３）を純水で６５％、メタノール５％で希釈した溶液を正孔輸送層形成用塗布液として準備した。正孔輸送層形成用塗布液の粘度は０．７ｍＰａ・ｓであった。粘度はブルックフィールド社製  デジタル粘度計  ＬＶＤＶ−Ｉを使用し、２０℃で測定した値を示す。【０１６９】
（正孔輸送層の形成）
準備したスリット型ダイコーターを使用し、準備された第１電極が形成されたロール状のＰＥＴを帯電除去処理した後、バックアップロールに保持されたＰＥＴの第１電極の上全面（但し、両端の１０ｍｍは除く）に、準備した正孔輸送層形成用塗布液を以下に示す条件で塗布した後、乾燥・加熱処理を行った。【０１７０】
（帯電除去処理）
帯電除去処理は第１電極形成側を非接触式帯電防止装置を、裏面側を接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置はヒューグルエレクトロニクス（株）製フレキシブルＡＣ式イオナイズィングバーＭＯＤＥＬ４１００Ｖを使用し行った。接触式帯電防止装置は都ローラー工業（株）製導電性ガイドロールＭＥ−１０２を使用し行った。【０１７１】
（正孔輸送層形成用塗布液の塗布条件）
塗布条件としては、正孔輸送層形成用塗布液を塗布速度５ｍ／ｍｉｎ、塗布幅１８０ｍｍ、ウェット膜厚は２μｍ、正孔輸送層形成用塗布液の塗布時の温度は２５℃、露点温度−２０℃以下のＮ２ガス環境の大気圧下で、且つ清浄度クラス５以下（ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０）で行った。予備乾燥工程を通過した後の正孔輸送層形成用塗膜に含有される溶媒量は、正孔輸送層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して５質量％とした。【０１７２】
バックロールは直径３００ｍｍのものを使用した。【０１７３】
予備乾燥工程の条件
乾燥室を流れる乾燥風の温度：２５℃
乾燥室を流れる乾燥風の平均風速：１．０ｍ／ｓｅｃ
乾燥室の入り口のバックロール表面からの高さ：５ｍｍ
乾燥室の出口のバックロール表面からの高さ：５ｍｍ
乾燥室の入り口から出口までの距離：２００ｍｍ
乾燥室の内側の表面の表面粗さ（Ｒａ）：５μｍ
乾燥室の有機薄膜層形成用塗布液の塗布幅に対する割合（％）：１５０％
乾燥風の流れる方向は帯状基材の搬送方向と同じとした。【０１７４】
ウェット膜厚は、流量（供給量）／（塗布幅×塗布速度）により算出した理論値を示す。【０１７５】
尚、塗布速度は、三菱電機（株）製  レーザドップラ速度計ＬＶ２０３で測定した。【０１７６】
乾燥及び加熱処理条件
正孔輸送層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、正孔輸送層形成用塗布液を塗布し予備乾燥工程を通過した後、乾燥装置を使用し、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ１００ｍｍ、流出風速１ｍ／ｓｅｃ、幅手の風速分布５％、温度１２０℃の熱風を吹き付け残留溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度１５０℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い、正孔輸送層を形成した。尚、ドライ膜厚（乾燥後の膜厚）は１００ｎｍであった。【０１７７】
（発光層形成用塗布液の調製）
ジカルバゾール誘導体（ＣＢＰ）                      １．００質量％
イリジウム錯体（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）                  ０．０５質量％
トルエン                                          ９８．９５質量％
発光層形成用塗布液の粘度は０．５９ｍＰａ・ｓであった。粘度はブルックフィールド社  デジタル粘度計  ＬＶＤＶ−Ｉを使用し、２０℃で測定した値を示す。【０１７８】
（発光層の形成）
準備された正孔輸送層までが形成されたロール状のＰＥＴを帯電除去処理した後、正孔輸送層の上全面（但し、ＰＥＴの両端の１０ｍｍは除く）に、準備したスリット型ダイコーターを使用し、発光層形成用塗布液を以下に示す条件で塗布した。塗布後、予備乾燥工程で処理し、予備乾燥工程を通過させた後の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量を表５に示す様に変化させ、引き続き乾燥部で以下に示す条件により乾燥・加熱処理を行った引き続き電子輸送層形成工程に搬送した。予備乾燥工程を通過させた後の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量とは、発光層形成用塗布液に含有される溶媒量に対する割合（質量％）を示す。予備乾燥工程を通過させた後の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量の変化は、乾燥風流路を流れる乾燥風の平均流速を０．０８ｍ／ｓｅｃから２．５ｍ／ｓｅｃに変えることで行った。【０１７９】
帯電除去処理は発光層側に対して非接触式帯電防止装置を、裏面側に対して接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置及び触式帯電防止装置は正孔輸送層を形成する時と同じものを使用した。【０１８０】
（発光層形成用塗布液の塗布条件）
塗布条件としては、発光層形成用塗布液を塗布速度５ｍ／ｍｉｎ、塗布幅１８０ｍｍ、ウェット膜厚は３μｍ、発光層形成用塗布液の塗布時の温度は２５℃、露点温度−２０℃以下のＮ２ガス環境の大気圧下で、且つ、清浄度クラス５以下（ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０）で行った。尚、塗布速度は、正孔輸送層の塗布速度と同じ測定方法で行った。【０１８１】
予備乾燥工程の条件
乾燥風流路を流れる乾燥風の平均流速を除いて正孔輸送層形成の時と同じ条件とした。【０１８２】
予備乾燥工程内に搬送される時の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量は、帯状基材の搬送速度、スリット型ダイコーターと予備乾燥装置の開口部までの距離を調整し、発光層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して９０質量％とした。【０１８３】
乾燥及び加熱処理条件
発光層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、発光層形成用塗布液を塗布した後、乾燥装置を使用し、乾燥条件は、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ１００ｍｍ、流出風速１ｍ／ｓｅｃ、幅手の風速分布５％、温度１２０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度１５０℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い、発光層を形成した。尚、ドライ膜厚（乾燥後の膜厚）は１００ｎｍであった。【０１８４】
（電子輸送層形成用塗布液の準備）
電子輸送層形成用塗布液として、０．５質量％の電子輸送材料１を含有する１−ブタノール溶液を準備した。【０１８５】
【化１】
2012002423.tif 000008
【０１８６】
（電子輸送層の形成）
準備された発光層までが形成されたロール状のＰＥＴを帯電除去処理した後、発光層の上全面（但し、ＰＥＴの両端の１０ｍｍは除く）に、準備したスリット型ダイコーターを使用し、準備した電子輸送層形成用塗布液を以下に示す条件で塗布した。塗布後、乾燥部で以下に示す条件により乾燥・加熱処理を行った後、第１電極の取り出し電極部の上に形成された正孔送層、発光層及び電子輸送層を除去し、パターン化した電子輸送層までを形成したＰＥＴを作製し、一旦巻取り保管した。【０１８７】
（帯電除去処理）
帯電除去処理は電子輸送層側を非接触式帯電防止装置を、裏面側を接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置及び触式帯電防止装置は正孔輸送層を形成する時と同じものを使用した。【０１８８】
（電子輸送層形成用塗布液の塗布条件）
塗布条件としては、電子輸送層形成用塗布液を、塗布速度５ｍ／ｍｉｎ、塗布幅１８０ｍｍ、ウェット膜厚は２μｍ、電子輸送層形成用塗布液の塗布時の温度は２５℃、露点温度−２０℃以下のＮ２ガス環境の大気圧下で、且つ、清浄度クラス５以下（ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０）で行った。尚、塗布速度は、正孔輸送層の塗布速度と同じ測定方法で行った。【０１８９】
予備乾燥工程の条件
乾燥風流路を流れる乾燥風の平均流速も含め、正孔輸送層形成の時と同じ条件とした。【０１９０】
ウェット膜厚は、流量（供給量）／（塗布幅×塗布速度）により算出した理論値を示す。【０１９１】
尚、塗布速度は、三菱電機（株）製  レーザドップラ速度計ＬＶ２０３で測定した。【０１９２】
乾燥及び加熱処理条件
電子輸送層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、電子輸送層形成用塗布液を塗布した後、乾燥装置を使用し、乾燥条件は、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ１００ｍｍ、流出風速１ｍ／ｓｅｃ、幅手の風速分布５％、温度１２０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度１５０℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い、電子輸送層を形成した。尚、ドライ膜厚（乾燥後の膜厚）は５０ｎｍであった。【０１９３】
（第２電極の形成）
引き続き、電子輸送層までが形成されたＰＥＴに付けられたアライメントマークを検出し、アライメントマークの位置に従って形成された電子輸送層の上に第１電極の大きさ及び第２電極用取り出し電極を形成する大きさで、５×１０−４Ｐａの真空下にて第２電極形成材料としてアルミニウムを使用し、蒸着法にてマスクパターン成膜し、厚さ１００ｎｍの第２電極を積層し複数の有機ＥＬ素子を形成した有機ＥＬ素子構造体を作製した。【０１９４】
（断裁）
準備した複数の有機ＥＬ素子が連続的に繋がった状態のものを個別の有機ＥＬ素子の大きさにＰＥＴに付けられたアライメントマークを検出し、アライメントマークの位置に従って断裁し個別の有機ＥＬ素子を作製した。【０１９５】
比較試料の作製
予備乾燥工程を使用せずに本乾燥工程で正孔輸送層、発光層、電子輸送層を温度１５０℃で乾燥した他は全て同じ条件で行い有機薄膜層を形成し比較試料Ｎｏ．６０９とした。【０１９６】
評価
作製した試料Ｎｏ．６０１から６０９に付き、始め５ｍと、終わり５ｍとの箇所から作製した試料を抜き取り、リーク電流特性、輝度ムラを以下に示す試験方法により試験し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表６に示す。【０１９７】
リーク電流特性の試験方法
定電圧電源を用いて、逆方向の電圧（逆バイアス）を５Ｖを５秒間印加し、その時有機ＥＬ素子に流れる電流を測定した。サンプル１０枚の発光領域について測定を行い、最大電流値をリーク電流とした。【０１９８】
リーク電流特性の評価ランク
◎：最大電流値が１×１０−６Ａ未満
○：最大電流値が１×１０−６Ａ以上、１×１０−５Ａ未満
△：最大電流値が１×１０−５Ａ以上、１×１０−３Ａ未満
×：最大電流値が１×１０−３Ａ以上。【０１９９】
発光ムラ（輝度ムラ）の測定方法
定電圧電源を用いて、有機ＥＬパネルに直流５Ｖを印加し、サンプル中央部の発光部６箇所の輝度差を目視で観察した。【０２００】
発光ムラ（輝度ムラ）の評価ランク
◎：輝度の差が全くない
○：６箇所中、１箇所の輝度が異なる
△：６箇所中、２箇所以上４箇所未満の輝度が異なる
×：６箇所中、４箇所以上の輝度が異なる。【０２０１】
【表６】
2012002423.tif 000009
【０２０２】
本発明の予備乾燥の条件で、作製した可撓性基材／第１電極（陽極）／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／第２電極（陰極）の層構成を有する有機ＥＬ素子である試料Ｎｏ．６０２から６０７は何れもリーク電流特性、輝度ムラ共に安定した性能を示すことを確認した。【０２０３】
本発明の予備乾燥の条件外（予備乾燥工程を通過させた後の塗膜に含まれる溶媒量が、塗布液に含まれる溶媒量に対して０．００７質量％）で、作製した有機ＥＬ素子である試料Ｎｏ．６０１は、リーク電流特性、輝度ムラ共に試料Ｎｏ．６０２から６０７に対して劣る結果を示した。【０２０４】
本発明の予備乾燥の条件外（予備乾燥工程を通過させた後の塗膜に含まれる溶媒量が、塗布液に含まれる溶媒量に対して７．０質量％）で、作製した有機ＥＬ素子である試料Ｎｏ．６０８は、リーク電流特性、輝度ムラ共に試料Ｎｏ．６０２から６０７に対して劣る結果を示した。【０２０５】
予備乾燥を行わずに作製した有機ＥＬ素子である試料Ｎｏ．６０９は、リーク電流特性、輝度ムラ共に試料Ｎｏ．６０２から６０７に対して劣る結果を示した。【０２０６】
本発明の有効性が確認された。
【符号の説明】
【０２０７】
１  製造工程
１０２  正孔輸送層形成工程
１０３  発光層形成工程
１０４  電子輸送層形成工程
１０７  第２電極形成工程
２、２ａ、５  帯状基材
４  形成工程
４ｂ  塗布工程
１０２ａ１、１０３ａ１、１０４ａ１、４ｂ１  湿式塗布機
１０２ｂ１、１０３ｂ１、１０４ｂ１、４ｃ  予備乾燥工程
４ｃ１  乾燥装置
４ｃ１１  乾燥室
４ｃ１１５、４ｃ１１６  開口部
４ｃ１２  圧力制御部
１０２ｂ２、１０３ｂ２、１０３ｂ２、４ｄ  本乾燥工程
１０２ｂ２１、１０３ｂ２１、１０４ｂ２１、４ｄ１  乾燥装置
【図３】
2012002423.tif 000010
【図１】
2012002423.tif 000011
【図２】
2012002423.tif 000012
【図４】
2012002423.tif 000013
【国際調査報告】
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2012002423.tif 000015
2012002423.tif 000016
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