(57)【要約】  本発明は、テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合しておらず、それ以外の炭素原子には少なくとも１つのヒドロキシル基が結合しているフラノース又はピラノースを構成成分として含む糖類を、ルテニウム触媒及び水素ガスの存在下、重水素化された溶媒と反応させ、当該糖類を構成する炭素原子のうち、ヒドロキシル基が直結する炭素原子に結合した水素原子を選択的に重水素原子に置換することを特徴とする、糖類の重水素化方法、の発明である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合しておらず、それ以外の少なくとも１つの炭素原子にはヒドロキシル基が結合しているフラノース又はピラノースを構成成分として含む糖類を、ルテニウム触媒及び水素ガスの存在下、重水素化された溶媒と反応させ、当該糖類を構成する炭素原子のうち、ヒドロキシル基が直結する炭素原子に結合した水素原子を選択的に重水素原子に置換することを特徴とする、糖類の重水素化方法。
【請求項２】
前記糖類が、下記一般式［１］〜［７］で示されるものである、請求項１に記載の重水素化方法：
2011129314.tif 000039
［式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基又は炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ２及びＲ３は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ５及びＲ６は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
2011129314.tif 000040
［式中、Ｒ１１は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基又は炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ１５及びＲ１６は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ１１〜Ｒ１６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１１〜Ｒ１６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ１２〜Ｒ１６の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
2011129314.tif 000041
［式中、Ｒ２１’は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基又は炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’及びＲ２４’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２６’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ２２〜Ｒ２６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２２〜Ｒ２６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ２１’〜Ｒ２４’及びＲ２６’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２１’〜Ｒ２４’及びＲ２６’の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ２２〜Ｒ２６、Ｒ２１’〜Ｒ２４’及びＲ２６’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
2011129314.tif 000042
［式中、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’及びＲ３４’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３５’及びＲ３６’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ３２〜Ｒ３６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２〜Ｒ３６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ３２’〜Ｒ３６’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２’〜Ｒ３６’の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ３２〜Ｒ３６及びＲ３２’〜Ｒ３６’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
2011129314.tif 000043
［式中、Ｒ４１は一般式［６］で示される基を表し、Ｒ４１’は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基又は炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ４２、Ｒ４３及びＲ４４は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ４２’、Ｒ４３’及びＲ４４’は何れか１つが一般式［５］と結合する結合手であって、それ以外は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４５’及びＲ４６’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ４２〜Ｒ４６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４２〜Ｒ４６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ４１’〜Ｒ４６’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４１’〜Ｒ４６’の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ４２〜Ｒ４６、Ｒ４２’〜Ｒ４６’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
2011129314.tif 000044
［式中、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’及びＲ５３’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５５’及びＲ５６’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ５２〜Ｒ５６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２〜Ｒ５６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ５２’〜Ｒ５３’及びＲ５５’〜Ｒ５６’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２’〜Ｒ５３’及びＲ５５’〜Ｒ５６’の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ５２〜Ｒ５６、Ｒ５２’〜Ｒ５３’及びＲ５５’〜Ｒ５６’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【請求項３】
前記ルテニウム触媒がルテニウムカーボンである、請求項１に記載の重水素化方法。
【請求項４】
前記重水素化された溶媒が重水である、請求項１に記載の重水素化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、糖類の重水素化方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
重水素化（ジュウテリウム化及びトリチウム化）された化合物は、種々の目的に有用であるとされている。例えば、ジュウテリウム化された化合物は、反応機構及び物質代謝などの解明に非常に有用であり、標識化合物として広く利用されており、更に該化合物は、その同位体効果によって化合物自体の安定性や性質が変化することから、医薬品、農薬品、有機ＥＬ材料等としても有用であるとされている。また、トリチウム化された化合物は、医薬品等の吸収、分布、血中濃度、排泄、代謝等を動物実験等で調査する際の標識化合物として有用であるとされている。そのため、近年、これらの分野に於いても重水素化（ジュウテリウム化及びトリチウム化）された化合物を用いた研究が盛んに行われている。【０００３】
中でも、糖類の重水素化合物は、１Ｈ−ＮＭＲチャートを単純化するため、これを用いることにより、複雑な構造を持つ糖の構造解析が容易となる。【０００４】
また、生化学分野では糖の重水素標識化合物を用いて糖代謝経路の解明、糖代謝異常の診断など生体内における糖の動態研究が行われている。例えばシアル酸、グルコサミン、グルクロン酸等の糖を基本骨格とする重水素標識化合物は、生体内動態の追跡子（トレーサー）として有用であるが、これら標識化合物は、重水素標識シントンを出発原料として多段階反応により合成されるため、極めて高価であるという問題を有している。【０００５】
従って、低コストかつ簡便に糖類の重水素化を効率よく行うことができれば、標識化（重水素化）された糖を原料として、研究ツールとして有用な生物活性物質の各種重水素標識体を合成することができる。【０００６】
糖の重水素化方法としては、例えばRaney Ni触媒又はRaney Ni合金触媒の存在下、重水素源として重水を用いて、マイクロウェーブ又は超音波を照射する方法が挙げられる（非特許文献１、非特許文献２）。しかしながら、これらの方法では、重水素化率が低い、テトラヒドロピラン環構造を有する単糖の６位の炭素原子にヒドロキシル基が結合する場合にその炭素原子に結合する水素原子が重水素化されない、特定の反応装置が必要である等の理由から重水素化できる基質が限定される、基質が分解しエピ化が起こる、工業的製法としては効率的でない等の問題点を有している。【０００７】
また、本発明者等は、ルテニウム触媒の存在下、ヒドロキシル基を有する化合物中のヒドロキシル基に直結した炭素原子に結合する水素原子を穏和な条件下で選択的に重水素化する方法を開発している（特許文献１）。しかしながら、この方法には、糖の重水素化については何ら開示されていない。【０００８】
このような状況下、高純度な糖類の重水素化物を効率的に製造する方法の開発が望まれている現状にある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開WO2009/005069号公報
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】Journal of the American Chemical Society, 1988, 4, 697-702
【非特許文献２】Tetrahedron Letters, 1996, 37, 6231.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記した如き状況に鑑みなされたもので、ルテニウム触媒を用いることにより、糖類の炭素原子のうち、ヒドロキシル基が直結する炭素原子に結合した水素原子を選択的に重水素原子に置換（重水素化）する方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、
「テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合しておらず、それ以外の少なくとも１つの炭素原子にはヒドロキシル基が結合しているフラノース又はピラノースを構成成分として含む糖類（以下、「本発明に係る糖類」と言う場合がある。）を、ルテニウム触媒及び水素ガスの存在下、重水素化された溶媒と反応させ、当該糖類を構成する炭素原子のうち、ヒドロキシル基が直結する炭素原子に結合した水素原子を選択的に重水素原子に置換することを特徴とする、糖類の重水素化方法。」
の発明である。
【発明の効果】
【００１３】
ルテニウム触媒を用いた本発明の糖類の重水素化方法によれば、従来法が有していた、例えばマイクロウェーブ又は超音波を用いて糖類を重水と反応させる方法のように反応装置が必要であることから工業的製法としては効率的ではない、重水素化率が低い、テトラヒドロフラン環構造を有する単糖の５位の炭素原子又はテトラヒドロピラン環構造を有する糖の６位の炭素原子にヒドロキシル基が結合する場合にその炭素原子に結合する水素原子を重水素化できない、糖のエピ化が起こる等の問題点を有することなく、本発明に係る糖類の炭素原子のうち、ヒドロキシル基が直結する炭素原子に結合される水素原子を穏和な条件下で選択的に効率よく、且つ開環させることなく重水素化することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明に於いて、「重水素原子」とはジュウテリウム（Ｄ）原子又はトリチウム（Ｔ）原子のことを意味し、「重水素化」とはジュウテリウム化又はトリチウム化のことを意味する。また、本明細書に於いて重水素化率とは、糖類の各炭素原子に結合した水素原子が重水素原子に置換された夫々の比率（％）のことを意味する。更にまた、本明細書に於いて「基質を効率よく重水素化する」とは、基質全体の重水素化率を向上させることも意味する。
【００１５】
本発明に係る「テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合しておらず、それ以外の少なくとも１つの炭素原子にはヒドロキシル基が結合しているフラノース又はピラノースを構成成分として含む糖類」とは、(1)上記した構造を有する構成成分（構成糖）１つからなる単糖及び(2)当該構造を有する構成成分（構成糖：単糖）を少なくとも１つ含む二糖以上の糖類（二糖、三糖、四糖、オリゴ糖、多糖類）を意味する。
【００１６】
また、本発明に係る糖類のうち二糖以上の糖類においては、その構成成分が全て上記した構造を有している必要はない。すなわち、少なくとも１つの構成成分が上記した構造を有するものであり、これ以外の構成成分はテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合していないものであれば、それ以外の炭素原子にはヒドロキシル基が結合していても結合していなくてもよい。言い換えれば、テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合していない単糖が複数個グリコシド結合した二糖以上の糖類であって、当該糖類分子中の前記炭素原子以外の炭素原子の少なくとも１つにヒドロキシル基が結合している糖類であればよい。
【００１７】
上記した構造を有するフラノースとしては、例えばエリトロフラノース、トレオフラノース、リボフラノース、アラビノフラノース、キシロフラノース、リキソフラノース、フルクトフラノース等のフラノースから誘導される誘導体が挙げられる。
【００１８】
上記した構造を有するピラノースとしては、例えばリボピラノース、アラビノピラノース、キシロピラノース、リキソピラノース、アロピラノース、アルトロピラノース、グルコピラノース、マンノピラノース、グロピラノース、イドピラノース、ガラクトピラノース、タロピラノース、フルクトピラノース等のピラノースから誘導される誘導体が挙げられる。
【００１９】
本発明に係る糖類としては、(Ｉ)構成成分として、上記した構造を有するフラノース又はピラノース１つからなる単糖、及び(II)構成成分として、上記した構造を有するフラノース又はピラノースを少なくとも１つ含む二糖以上の糖類（二糖、三糖、四糖、オリゴ糖、多糖類）が挙げられるが、単糖及び二糖が好ましい。
【００２０】
尚、上記のうち二糖以上の糖類においては、フラノースのみから構成されるものであっても、ピラノースのみから構成されるものであってもよく、また、両者を含むものであってもよい。
【００２１】
なかでも、本発明に係る糖類としては、(1)テトラヒドロフラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合しておらず、それ以外の少なくとも１つの炭素原子にはヒドロキシル基が結合しているフラノース（単糖）、(2)テトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合しておらず、それ以外の少なくとも１つの炭素原子にはヒドロキシル基が結合しているピラノース（単糖）、(3)構成成分として、フラノース２個からなるものであって、少なくとも１つが上記した構造を有するフラノースである二糖、又は(4)構成成分として、ピラノース２個からなるものであって、少なくとも１つが上記した構造を有するピラノースである二糖、及び(5)構成成分として、フラノース１個とピラノース１個からなるものであって、当該フラノースとピラノースの何れか一方が少なくとも上記した構造を有するものである二糖が好ましく、上記(2)、(4)及び(5)の糖類がより好ましく、上記(2)及び(4)の糖類が特に好ましい。
【００２２】
また、上記した構造を有するピラノースを構成成分として含む糖類、即ち、(i)構成成分として、上記した構造を有するピラノース１つからなる単糖及び(ii)構成成分として、ピラノースのみからなるものであって、少なくとも１つが上記した構造を有するピラノースである二糖以上の糖類（二糖、三糖、四糖、オリゴ糖、多糖類）がより好ましい。
【００２３】
尚、上記において、糖類を構成する構成成分におけるテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環に結合する置換基（R1〜R56'等）は、当該テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環の炭素原子を平面とした場合に、該平面に対して上方又は下方の何れの方向に結合していてもよく、本発明ではこれら全てを使用できる。
【００２４】
本発明に係る糖類であって、そのテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合している炭素原子にはヒドロキシル基が結合しておらず、それ以外の少なくとも１つの炭素原子にはヒドロキシル基が結合している上記糖類の具体例としては下記一般式［１］〜［７］で示されるものが挙げられる。
【００２５】
2011129314.tif 000002
【００２６】
［式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基又は炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ２及びＲ３は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ５及びＲ６は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１〜Ｒ３及びＲ５〜Ｒ６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
【００２７】
2011129314.tif 000003
【００２８】
［式中、Ｒ１１は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基又は炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ１５及びＲ１６は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ１１〜Ｒ１６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１１〜Ｒ１６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ１２〜Ｒ１６の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
【００２９】
2011129314.tif 000004
【００３０】
［式中、Ｒ２１’は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基又は炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’及びＲ２４’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２６’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ２２〜Ｒ２６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２２〜Ｒ２６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ２１’〜Ｒ２４’及びＲ２６’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２１’〜Ｒ２４’及びＲ２６’の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ２２〜Ｒ２６、Ｒ２１’〜Ｒ２４’及びＲ２６’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
【００３１】
2011129314.tif 000005
【００３２】
［式中、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’及びＲ３４’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３５’及びＲ３６’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ３２〜Ｒ３６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２〜Ｒ３６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ３２’〜Ｒ３６’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２’〜Ｒ３６’の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ３２〜Ｒ３６及びＲ３２’〜Ｒ３６’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
【００３３】
2011129314.tif 000006
【００３４】
［式中、Ｒ４１は一般式［６］で示される基を表し、Ｒ４１’は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基又は炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ４２、Ｒ４３及びＲ４４は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ４２’、Ｒ４３’及びＲ４４’は何れか１つが一般式［５］と結合する結合手であって、それ以外は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４５’及びＲ４６’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ４２〜Ｒ４６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４２〜Ｒ４６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ４１’〜Ｒ４６’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４１’〜Ｒ４６’の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ４２〜Ｒ４６、Ｒ４２’〜Ｒ４６’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］、
【００３５】
2011129314.tif 000007
【００３６】
［式中、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’及びＲ５３’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表し、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５５’及びＲ５６’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜１０のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒ基（式中、Ｒはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基、炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜１０のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ５２〜Ｒ５６の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２〜Ｒ５６の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ５２’〜Ｒ５３’及びＲ５５’〜Ｒ５６’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２’〜Ｒ５３’及びＲ５５’〜Ｒ５６’の何れかとで炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ５２〜Ｒ５６、Ｒ５２’〜Ｒ５３’及びＲ５５’〜Ｒ５６’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００３７】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２１’、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４１’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、具体的には、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ-プロポキシ基、イソプポキシ基、ｎ-ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ-ブトキシ基、ｔｅｒｔ-ブトキシ基、シクロブトキシ基、ｎ-ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ-ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ-ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、２-メチルブトキシ基、１，２-ジメチルプロポキシ基、１-エチルプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、ｎ-ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ｓｅｃ-ヘキシルオキシ基、ｔｅｒｔ-ヘキシルオキシ基、ネオヘキシルオキシ基、２-メチルペンチルオキシ基、１，２-ジメチルブトキシ基、２，３-ジメチルブトキシ基、１-エチルブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ-ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｓｅｃ-ヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ-ヘプチルオキシ基、ネオヘプチルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、ｎ-オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ-オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ-オクチルオキシ基、ネオオクチルオキシ基、２-エチルヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、ｎ-ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｓｅｃ-ノニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ノニルオキシ基、ネオノニルオキシ基、シクロノニルオキシ基、ｎ-デシルオキシ基、イソデシルオキシ基、ｓｅｃ-デシルオキシ基、ｔｅｒｔ-デシルオキシ基、ネオデシルオキシ基、シクロデシルオキシ基等が挙げられる。
【００３８】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２１’、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４１’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数６〜１０のアリールオキシ基としては、具体的には、例えばフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アズレニルオキシ基等が挙げられる。
【００３９】
中でも、炭素数６のアリールオキシ基であるフェニルオキシ基が好ましい。
【００４０】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２１’、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４１’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数７〜１０のアラルキルオキシ基としては、具体的には、例えばベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、３-フェニルプロピル基、１-メチル-１-フェニルエチル基、４-フェニルブチル基、２-メチル-２-フェニルプロピル基、１，２，３，４-テトラヒドロナフチル基等が挙げられる。
【００４１】
中でも、炭素数７のアラルキルオキシ基であるベンジルオキシ基が好ましい。
【００４２】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数２〜１０のアルキルカルボニルアミノ基としては、具体的には、例えばメチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ-プロピルカルボニルアミノ基、イソプロピルカルボニルアミノ基、ｎ-ブチルカルボニルアミノ基、イソブチルカルボニルアミノ基、ｓｅｃ-ブチルカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ-ブチルカルボニルアミノ基、シクロブチルカルボニルアミノ基、ｎ-ペンチルカルボニルアミノ基、イソペンチルカルボニルアミノ基、ｓｅｃ-ペンチルカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ-ペンチルカルボニルアミノ基、ネオペンチルカルボニルアミノ基、２-メチルブチルカルボニルアミノ基、１，２-ジメチルプロピルカルボニルアミノ基、１-エチルプロピルカルボニルアミノ基、シクロペンチルカルボニルアミノ基、ｎ-ヘキシルカルボニルアミノ基、イソヘキシルカルボニルアミノ基、ｓｅｃ-ヘキシルカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ-ヘキシルカルボニルアミノ基、ネオヘキシルカルボニルアミノ基、２-メチルペンチルカルボニルアミノ基、１，２-ジメチルブチルカルボニルアミノ基、２，３-ジメチルブチルカルボニルアミノ基、１-エチルブチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、ｎ-ヘプチルカルボニルアミノ基、イソヘプチルカルボニルアミノ基、ｓｅｃ-ヘプチルカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ-ヘプチルカルボニルアミノ基、ネオヘプチルカルボニルアミノ基、シクロヘプチルカルボニルアミノ基、ｎ-オクチルカルボニルアミノ基、イソオクチルカルボニルアミノ基、ｓｅｃ-オクチルカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ-オクチルカルボニルアミノ基、ネオオクチルカルボニルアミノ基、２-エチルヘキシルカルボニルアミノ基、シクロオクチルカルボニルアミノ基、ｎ-ノニルカルボニルアミノ基、イソノニルカルボニルアミノ基、ｓｅｃ-ノニルカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ-ノニルカルボニルアミノ基、ネオノニルカルボニルアミノ基、シクロノニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００４３】
中でも、炭素数２のアルキルカルボニルアミノ基であるメチルカルボニルアミノ基が好ましい。
【００４４】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数２〜１０のアルコキシアルキルオキシ基としては、具体的には、例えばメトキシメチルオキシ基、エトキシメチルオキシ基、プロポキシメチルオキシ基、ブトキシメチルオキシ基、ペンチルオキシメチルオキシ基、ヘキシルオキシメチルオキシ基、ペプチルオキシメチルオキシ基、オクチルオキシメチルオキシ基、ノニルオキシメチルオキシ基、メトキシエチルオキシ基、エトキシエチルオキシ基、プロポキシエチルオキシ基、ブトキシエチルオキシ基、ペンチルオキシエチルオキシ基、ヘキシルオキシエチルオキシ基、ペプチルオキシエチルオキシ基、オクチルオキシエチルオキシ基、メトキシプロピルオキシ基、エトキシプロピルオキシ基、プロポキシプロピルオキシ基、ブトキシプロピルオキシ基、ペンチルオキシプロピルオキシ基、ヘキシルオキシプロピルオキシ基、ペプチルオキシプロピルオキシ基、メトキシブチルオキシ基、エトキシブチルオキシ基、プロポキシブチルオキシ基、ブトキシブチルオキシ基、ペンチルオキシブチルオキシ基、ヘキシルオキシブチルオキシ基、メトキシペンチルオキシ基、エトキシペンチルオキシ基、プロポキシペンチルオキシ基、ブトキシペンチルオキシ基、ペンチルオキシペンチルオキシ基、メトキシヘキシルオキシ基、エトキシヘキシルオキシ基、プロポキシヘキシルオキシ基、ブトキシヘキシルオキシ基、メトキシヘプチルオキシ基、エトキシヘプチルオキシ基、プロポキシヘプチルオキシ基、メトキシオクチルオキシ基、エトキシオクチルオキシ基、メトキシノニルオキシ基等が挙げられる。
【００４５】
中でも、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基であるメトキシメチルオキシ基、エトキシメチルオキシ基、プロポキシメチルオキシ基、メトキシエチルオキシ基、エトキシエチルオキシ基、メトキシプロピルオキシ基が好ましい。
【００４６】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数３〜２０のアルキルシリルオキシ基としては、具体的には、例えばトリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリｎ-プロピルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、トリｎ-ブチルシリルオキシ基、トリイソブチルシリルオキシ基、トリｓｅｃ-ブチルシリルオキシ基、トリｔｅｒｔ-ブチルシリルオキシ基、トリシクロブチルシリルオキシ基、トリｎ-ペンチルシリルオキシ基、トリイソペンチルシリルオキシ基、トリｓｅｃ-ペンチルシリルオキシ基、トリｔｅｒｔ-ペンチルシリルオキシ基、トリネオペンチルシリルオキシ基、トリシクロペンチルシリルオキシ基、トリｎ-ヘキシルシリルオキシ基、トリイソヘキシルシリルオキシ基、トリｓｅｃ-ヘキシルシリルオキシ基、トリｔｅｒｔ-ヘキシルシリルオキシ基、トリネオヘキシルシリルオキシ基、トリシクロヘキシルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ-ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ-ブチルジエチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ-ブチルジフェニルシリルオキシ基等が挙げられる。
【００４７】
中でも、炭素数３のアルキルシリルオキシ基であるトリメチルシリルオキシ基が好ましい。
【００４８】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数１８〜２０のアリールシリルオキシ基としては、トリフェニルシリルオキシ基、トリルジフェニルシリルオキシ基、ジトリルフェニルシリルオキシ基等が挙げられる。アリールシリルオキシ基を構成するトリル基は、o-体、m-体、p-体のいずれのものであってもよい。
【００４９】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数２〜１０のアルキルカルボニルオキシ基としては、具体的には、例えばメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ-プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ-ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ブチルカルボニルオキシ基、シクロブチルカルボニルオキシ基、ｎ-ペンチルカルボニルオキシ基、イソペンチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ペンチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ペンチルカルボニルオキシ基、ネオペンチルカルボニルオキシ基、２-メチルブチルカルボニルオキシ基、１，２-ジメチルプロピルカルボニルオキシ基、１-エチルプロピルカルボニルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、ｎ-ヘキシルカルボニルオキシ基、イソヘキシルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ヘキシルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ヘキシルカルボニルオキシ基、ネオヘキシルカルボニルオキシ基、２-メチルペンチルカルボニルオキシ基、１，２-ジメチルブチルカルボニルオキシ基、２，３-ジメチルブチルカルボニルオキシ基、１-エチルブチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ｎ-ヘプチルカルボニルオキシ基、イソヘプチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ヘプチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ヘプチルカルボニルオキシ基、ネオヘプチルカルボニルオキシ基、シクロヘプチルカルボニルオキシ基、ｎ-オクチルカルボニルオキシ基、イソオクチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-オクチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-オクチルカルボニルオキシ基、ネオオクチルカルボニルオキシ基、２-エチルヘキシルカルボニルオキシ基、シクロオクチルカルボニルオキシ基、ｎ-ノニルカルボニルオキシ基、イソノニルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ノニルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ノニルカルボニルオキシ基、ネオノニルカルボニルオキシ基、シクロノニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００５０】
中でも、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基である、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基が好ましい。
【００５１】
一般式［１］〜［７］に於いて、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２４’、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３２’、Ｒ３３’、Ｒ３４’、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４２’、Ｒ４３’、Ｒ４４’、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５２’、Ｒ５３’及びＲで示される炭素数２〜１０のカーボネート基としては、具体的には、例えばメチルカーボネート基、エチルカーボネート基、ｎ-プロピルカーボネート基、イソプロピルカーボネート基、ｎ-ブチルカーボネート基、イソブチルカーボネート基、ｓｅｃ-ブチルカーボネート基、ｔｅｒｔ-ブチルカーボネート基、シクロブチルカーボネート基、ｎ-ペンチルカーボネート基、イソペンチルカーボネート基、ｓｅｃ-ペンチルカーボネート基、ｔｅｒｔ-ペンチルカーボネート基、ネオペンチルカーボネート基、２-メチルブチルカーボネート基、１，２-ジメチルプロピルカーボネート基、１-エチルプロピルカーボネート基、シクロペンチルカーボネート基、ｎ-ヘキシルカーボネート基、イソヘキシルカーボネート基、ｓｅｃ-ヘキシルカーボネート基、ｔｅｒｔ-ヘキシルカーボネート基、ネオヘキシルカーボネート基、２-メチルペンチルカーボネート基、１，２-ジメチルブチルカーボネート基、２，３-ジメチルブチルカーボネート基、１-エチルブチルカーボネート基、シクロヘキシルカーボネート基、ｎ-ヘプチルカーボネート基、イソヘプチルカーボネート基、ｓｅｃ-ヘプチルカーボネート基、ｔｅｒｔ-ヘプチルカーボネート基、ネオヘプチルカーボネート基、シクロヘプチルカーボネート基、ｎ-オクチルカーボネート基、イソオクチルカーボネート基、ｓｅｃ-オクチルカーボネート基、ｔｅｒｔ-オクチルカーボネート基、ネオオクチルカーボネート基、２-エチルヘキシルカーボネート基、シクロオクチルカーボネート基、ｎ-ノニルカーボネート基、イソノニルカーボネート基、ｓｅｃ-ノニルカーボネート基、ｔｅｒｔ-ノニルカーボネート基、ネオノニルカーボネート基、シクロノニルカーボネート基等が挙げられる。
【００５２】
中でも、炭素数２〜３のカーボネート基であるメチルカーボネート基、エチルカーボネート基が好ましい。
【００５３】
一般式［１］〜［７］に於いて、炭素数３〜１０のアセタール基としては、置換基を有していてもよい５員環〜１２員環からなる環状アセタール基が挙げられ、より具体的には、下記式で示される環状アセタール基が挙げられる。その中でも、５員環〜６員環からなる環状アセタール基が好ましい。
【００５４】
2011129314.tif 000008
【００５５】
一般式［１］〜［７］に於いて、炭素数３〜１０であって１〜３個の酸素原子を有している環状構造とは、各一般式における２つの置換基と本発明に係る糖類を構成する構成成分（構成糖）におけるテトロヒドロフラン環またはテトラヒドロピラン環の一部とで形成された環を意味する。言い換えれば、当該環状構造とは、各一般式における２つの置換基が、本発明に係る糖類を構成する構成成分（構成糖）におけるテトロヒドロフラン環またはテトラヒドロピラン環の一部とともに（一部を共有して）環を形成している場合を意味する。
【００５６】
このような環状構造としては、環状アセタール構造が好ましく、例えば、置換基を有していてもよい５員環〜１２員環からなる環状アセタール構造が挙げられ、より具体的には、下記式で示される環状アセタール構造が挙げられる。その中でも、５員環〜６員環からなる環状アセタール構造が好ましい。
【００５７】
尚、下記式中、太線は、本発明に係る糖類を構成する構成成分（構成糖）におけるテトロヒドロフラン環またはテトラヒドロピラン環の一部であることを示す。
【００５８】
2011129314.tif 000009
【００５９】
一般式［１］で示される化合物の好ましい例としては、下記一般式［１ａ］で示されるものが挙げられる。
【００６０】
2011129314.tif 000010
【００６１】
［式中、Ｒ１ａは水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基又はベンジルオキシ基を表し、Ｒ２ａ及びＲ３ａは夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表し、Ｒ５ａ及びＲ６ａは夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒａ基（式中、Ｒａはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ１ａ〜Ｒ３ａ及びＲ５ａ〜Ｒ６ａの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１ａ〜Ｒ３ａ及びＲ５ａ〜Ｒ６ａの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ５ａ、Ｒ６ａの少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００６２】
一般式［２］で示される化合物の好ましい例としては、下記一般式［２ａ］で示されるものが挙げられる。
【００６３】
2011129314.tif 000011
【００６４】
［式中、Ｒ１１ａは水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基又はベンジルオキシ基を表し、Ｒ１２ａ、Ｒ１３ａ及びＲ１４ａは夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表し、Ｒ１５ａ及びＲ１６ａは夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒａ基（式中、Ｒａはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ１１ａ〜Ｒ１６ａの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１１ａ〜Ｒ１６ａの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ１２ａ〜Ｒ１６ａの少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００６５】
一般式［３］で示される化合物の好ましい例としては、下記一般式［３ａ］で示されるものが挙げられる。
【００６６】
2011129314.tif 000012
【００６７】
［式中、Ｒ２１ａ’は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基又はベンジルオキシ基を表し、Ｒ２２ａ、Ｒ２３ａ、Ｒ２４ａ、Ｒ２２ａ’、Ｒ２３ａ’及びＲ２４ａ’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表し、Ｒ２５ａ、Ｒ２６ａ及びＲ２６ａ’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒａ基（式中、Ｒａはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ２２ａ〜Ｒ２６ａの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２２ａ〜Ｒ２６ａの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ２１ａ’〜Ｒ２４ａ’及びＲ２６ａ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２１ａ’〜Ｒ２４ａ’及びＲ２６ａ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ２２ａ〜Ｒ２６ａ、Ｒ２１ａ’〜Ｒ２４ａ’及びＲ２６ａ’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００６８】
一般式［４］で示される化合物の好ましい例としては、下記一般式［４ａ］で示されるものが挙げられる。
【００６９】
2011129314.tif 000013
【００７０】
［式中、Ｒ３２ａ、Ｒ３３ａ、Ｒ３４ａ、Ｒ３２ａ’、Ｒ３３ａ’及びＲ３４ａ’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表し、Ｒ３５ａ、Ｒ３６ａ、Ｒ３５ａ’及びＲ３６ａ’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒａ基（式中、Ｒａはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ３２ａ〜Ｒ３６ａの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２ａ〜Ｒ３６ａの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ３２ａ’〜Ｒ３６ａ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２ａ’〜Ｒ３６ａ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ３２ａ〜Ｒ３６ａ及びＲ３２ａ’〜Ｒ３６ａ’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００７１】
一般式［５］で示される化合物の好ましい例としては、下記一般式［５ａ］で示されるものが挙げられる。
【００７２】
2011129314.tif 000014
【００７３】
［式中、Ｒ４１ａは一般式［６ａ］で示される基を表し、Ｒ４１ａ’は水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基又はベンジルオキシ基を表し、Ｒ４２ａ、Ｒ４３ａ及びＲ４４ａは夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表し、Ｒ４２ａ’、Ｒ４３ａ’及びＲ４４ａ’は何れか１つが一般式［５ａ］と結合する結合手であって、それ以外はヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表し、Ｒ４５ａ、Ｒ４６ａ、Ｒ４５ａ’及びＲ４６ａ’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒａ基（式中、Ｒａはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ４２ａ〜Ｒ４６ａの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４２ａ〜Ｒ４６ａの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ４１ａ’〜Ｒ４６ａ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４１ａ’〜Ｒ４６ａ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ４２ａ〜Ｒ４６ａ、Ｒ４２ａ’〜Ｒ４６ａ’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００７４】
一般式［７］で示される化合物の好ましい例としては、下記一般式［７ａ］で示されるものが挙げられる。
【００７５】
2011129314.tif 000015
【００７６】
［式中、Ｒ５２ａ、Ｒ５３ａ、Ｒ５４ａ、Ｒ５２ａ’及びＲ５３ａ’は夫々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表し、Ｒ５５ａ、Ｒ５６ａ、Ｒ５５ａ’及びＲ５６ａ’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒａ基（式中、Ｒａはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルカルボニルアミノ基、炭素数２〜４のアルコキシアルキルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、炭素数２〜３のアルキルカルボニルオキシ基又は炭素数２〜３のカーボネート基を表す。）を表し、Ｒ５２ａ〜Ｒ５６ａの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２ａ〜Ｒ５６ａの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ５２ａ’〜Ｒ５３ａ’又はＲ５５ａ’〜Ｒ５６ａ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２ａ’〜Ｒ５３ａ’又はＲ５５ａ’〜Ｒ５６ａ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ５２ａ〜Ｒ５６ａ、Ｒ５２ａ’〜Ｒ５３ａ’及びＲ５５ａ’〜Ｒ５６ａ’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００７７】
一般式［１］で示される化合物のより好ましい例としては、下記一般式［１ｂ］で示されるものが挙げられる。
【００７８】
2011129314.tif 000016
【００７９】
［式中、Ｒ１ｂは水素原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｒ２ｂ及びＲ３ｂは夫々独立して、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表し、Ｒ５ｂ及びＲ６ｂは夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒｂ基（式中、Ｒｂはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表す。）を表し、Ｒ１ｂ〜Ｒ３ｂ及びＲ５ｂ〜Ｒ６ｂの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１ｂ〜Ｒ３ｂ及びＲ５ｂ〜Ｒ６ｂの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂの少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００８０】
一般式［２］で示される化合物のより好ましい例としては、下記一般式［２ｂ］で示されるものが挙げられる。
【００８１】
2011129314.tif 000017
【００８２】
［式中、Ｒ１１ｂは水素原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｒ１２ｂ、Ｒ１３ｂ及びＲ１４ｂは夫々独立して、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表し、Ｒ１５ｂ及びＲ１６ｂは夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒｂ基（式中、Ｒｂはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表す。）を表し、Ｒ１１ｂ〜Ｒ１６ｂの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１１ｂ〜Ｒ１６ｂの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ１２ｂ〜Ｒ１６ｂの少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００８３】
一般式［３］で示される化合物のより好ましい例としては、下記一般式［３ｂ］で示されるものが挙げられる。
【００８４】
2011129314.tif 000018
【００８５】
［式中、Ｒ２１ｂ’は水素原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｒ２２ｂ、Ｒ２３ｂ、Ｒ２４ｂ、Ｒ２２ｂ’、Ｒ２３ｂ’及びＲ２４ｂ’は夫々独立して、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表し、Ｒ２５ｂ、Ｒ２６ｂ及びＲ２６ｂ’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒｂ基（式中、Ｒｂはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表す。）を表し、Ｒ２２ｂ〜Ｒ２６ｂの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２２ｂ〜Ｒ２６ｂの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ２１ｂ’〜Ｒ２４ｂ’及びＲ２６ｂ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２１ｂ’〜Ｒ２４ｂ’及びＲ２６ｂ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ２２ｂ〜Ｒ２６ｂ、Ｒ２１ｂ’〜Ｒ２４ｂ’及びＲ２６ｂ’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００８６】
一般式［４］で示される化合物のより好ましい例としては、下記一般式［４ｂ］で示されるものが挙げられる。
【００８７】
2011129314.tif 000019
【００８８】
［式中、Ｒ３２ｂ、Ｒ３３ｂ、Ｒ３４ｂ、Ｒ３２ｂ’、Ｒ３３ｂ’及びＲ３４ｂ’は夫々独立して、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、メチルカルボニルアミノ基を表し、Ｒ３５ｂ、Ｒ３６ｂ、Ｒ３５ｂ’及びＲ３６ｂ’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒｂ基（式中、Ｒｂはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表す。）を表し、Ｒ３２ｂ〜Ｒ３６ｂの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２ｂ〜Ｒ３６ｂの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ３２ｂ’〜Ｒ３６ｂ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２ｂ’〜Ｒ３６ｂ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ３２ｂ〜Ｒ３６ｂ及びＲ３２ｂ’〜Ｒ３６ｂ’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００８９】
一般式［５］で示される化合物のより好ましい例としては、下記一般式［５ｂ］で示されるものが挙げられる。
【００９０】
2011129314.tif 000020
【００９１】
［式中、Ｒ４１ｂは一般式［６ｂ］で示される基を表し、Ｒ４１ｂ’は水素原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｒ４２ｂ、Ｒ４３ｂ及びＲ４４ｂは夫々独立して、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表し、Ｒ４２ｂ’、Ｒ４３ｂ’及びＲ４４ｂ’は何れか１つが一般式［５ｂ］と結合する結合手であって、それ以外はヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表し、Ｒ４５ｂ、Ｒ４６ｂ、Ｒ４５ｂ’及びＲ４６ｂ’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒｂ基（式中、Ｒｂはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表す。）を表し、Ｒ４２ｂ〜Ｒ４６ｂの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４２ｂ〜Ｒ４６ｂの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ４１ｂ’〜Ｒ４６ｂ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４１ｂ’〜Ｒ４６ｂ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ４２ｂ〜Ｒ４６ｂ、Ｒ４２ｂ’〜Ｒ４６ｂ’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００９２】
一般式［７］で示される化合物のより好ましい例としては、下記一般式［７ｂ］で示されるものが挙げられる。
【００９３】
2011129314.tif 000021
［式中、Ｒ５２ｂ、Ｒ５３ｂ、Ｒ５４ｂ、Ｒ５２ｂ’及びＲ５３ｂ’は夫々独立して、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表し、Ｒ５５ｂ、Ｒ５６ｂ、Ｒ５５ｂ’及びＲ５６ｂ’は夫々独立して、水素原子、メチル基、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２Ｒｂ基（式中、Ｒｂはヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表す。）を表し、Ｒ５２ｂ〜Ｒ５６ｂの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２ｂ〜Ｒ５６ｂの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ５２ｂ’〜Ｒ５３ｂ’又はＲ５５ｂ’〜Ｒ５６ｂ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２ｂ’〜Ｒ５３ｂ’又はＲ５５ｂ’〜Ｒ５６ｂ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ５２ｂ〜Ｒ５６ｂ、Ｒ５２ｂ’〜Ｒ５３ｂ’及びＲ５５ｂ’〜Ｒ５６ｂ’の少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【００９４】
一般式［１］で示される化合物の更に好ましい例としては、下記一般式［１ｃ］で示されるものが挙げられる。
【００９５】
2011129314.tif 000022
【００９６】
［式中、Ｒ１ｃは水素原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは夫々独立してヒドロキシル基を表し、Ｒ５ｃ及びＲ６ｃは夫々独立して、水素原子、炭素数３〜５のアセタール基又は−ＣＨ２ＯＨ基を表し、Ｒ１ｃ〜Ｒ３ｃ及びＲ５ｃ〜Ｒ６ｃの何れか１つはそれ以外のＲ１ｃ〜Ｒ３ｃ及びＲ５ｃ〜Ｒ６ｃの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。］。
【００９７】
一般式［２］で示される化合物の更に好ましい例としては、下記一般式［２ｃ］で示されるものが挙げられる。
【００９８】
2011129314.tif 000023
【００９９】
［式中、Ｒ１１ｃは水素原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ及びＲ１４ｃは夫々独立して、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はメチルカルボニルアミノ基を表し、Ｒ１５ｃ及びＲ１６ｃは夫々独立して、水素原子、メチル基又は−ＣＨ２ＯＨを表し、Ｒ１１ｃ〜Ｒ１６ｃの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ１１ｃ〜Ｒ１６ｃの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。ただし、Ｒ１２ｃ〜Ｒ１６ｃの少なくとも１つがヒドロキシル基又は−ＣＨ２ＯＨ基である。］。
【０１００】
一般式［３］で示される化合物の更に好ましい例としては、下記一般式［３ｃ］で示されるものが挙げられる。
【０１０１】
2011129314.tif 000024
【０１０２】
［式中、Ｒ２１ｃ’は水素原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｒ２２ｃ、Ｒ２３ｃ、Ｒ２４ｃ、Ｒ２２ｃ’、Ｒ２３ｃ’及びＲ２４ｃ’は夫々独立してヒドロキシル基を表し、２５ｃ、Ｒ２６ｃ及びＲ２６ｃ’は夫々独立して、水素原子又は−ＣＨ２ＯＨ基を表し、Ｒ２２ｃ〜Ｒ２６ｃの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２２ｃ〜Ｒ２６ｃの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ２１ｃ’〜Ｒ２４ｃ’及びＲ２６ｃ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ２１ｃ’〜Ｒ２４ｃ’及びＲ２６ｃ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。］。
【０１０３】
一般式［４］で示される化合物の更に好ましい例としては、下記一般式［４ｃ］で示されるものが挙げられる。
【０１０４】
2011129314.tif 000025
【０１０５】
［式中、Ｒ３２ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、Ｒ３２ｃ’、Ｒ３３ｃ’及びＲ３４ｃ’はヒドロキシル基を表し、Ｒ３５ｃ、Ｒ３６ｃ、Ｒ３５ｃ’及びＲ３６ｃ’は夫々独立して、水素原子又は−ＣＨ２ＯＨ基を表し、Ｒ３２ｃ〜Ｒ３６ｃの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２ｃ〜Ｒ３６ｃの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ３２ｃ’〜Ｒ３６ｃ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ３２ｃ’〜Ｒ３６ｃ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。］。
【０１０６】
一般式［５］で示される化合物の更に好ましい例としては、下記一般式［５ｃ］で示れるものが挙げられる。
【０１０７】
2011129314.tif 000026
【０１０８】
［式中、Ｒ４１ｃは一般式［６ｃ］で示される基を表し、Ｒ４１ｃ’は水素原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｒ４２ｃ、Ｒ４３ｃ及びＲ４４ｃはヒドロキシル基を表し、Ｒ４２ｃ’、Ｒ４３ｃ’及びＲ４４ｃ’は何れか１つが一般式［５ｃ］と結合する結合手であって、それ以外はヒドロキシル基を表し、Ｒ４５ｃ、Ｒ４６ｃ、Ｒ４５ｃ’及びＲ４６ｃ’は夫々独立して、水素原子又は−ＣＨ２ＯＨ基を表し、Ｒ４２ｃ〜Ｒ４６ｃの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４２ｃ〜Ｒ４６ｃの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ４１ｃ’〜Ｒ４６ｃ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ４１ｃ’〜Ｒ４６ｃ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。］。
【０１０９】
一般式［７］で示される化合物の更に好ましい例としては、下記一般式［７ｃ］で示れるものが挙げられる。
【０１１０】
2011129314.tif 000027
【０１１１】
［式中、Ｒ５２ｃ、Ｒ５３ｃ、Ｒ５４ｃ、Ｒ５２ｃ’及びＲ５３ｃ’はヒドロキシル基を表し、Ｒ５５ｃ、Ｒ５６ｃ、Ｒ５５ｃ’及びＲ５６ｃ’は夫々独立して、水素原子又は−ＣＨ２ＯＨ基を表し、Ｒ５２ｃ〜Ｒ５６ｃの少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２ｃ〜Ｒ５６ｃの何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよく、Ｒ５２ｃ’〜Ｒ５６ｃ’の少なくとも何れか１つはそれ以外のＲ５２ｃ’〜Ｒ５６ｃ’の何れかとで炭素数３〜６であって２個の酸素原子を有している環状構造を形成していてもよい。］。
【０１１２】
上記一般式［１］で示される本発明に係る糖類（単糖）としては、例えばエリトロフラノース、トレオフラノース、リボフラノース、アラビノフラノース、キシロフラノース、リキソフラノース、フルコトフラノース、グルコフラノース、ガラクトフラノース、マンノフラノース、アロフラノース、アルトロフラノース、リキソフラノース、グロフラノース、イドフラノース、タロフラノース、ラムノフラノースから誘導されるもの等が挙げられる。
【０１１３】
具体的には、例えばメチル  β−Ｄ−リボフラノシド、メチル  α−Ｄ−リボフラノシド、メチル  ２−デオキシ−α−Ｄ−リボフラノシド、メチル  ２−デオキシ−β−Ｄ−リボフラノシド、１,２：５,６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース等が挙げられる。
【０１１４】
上記一般式［２］で示される本発明に係る糖類（単糖）としては、例えばリボピラノース、アラビノピラノース、キシロピラノース、リキソピラノース、アロピラノース、アルトロピラノース、グルコピラノース、マンノピラノース、グロピラノース、イドピラノース、ガラクトピラノース、タロピラノース、フルクトピラノースから誘導されるもの等が挙げられる。
【０１１５】
具体的には、例えばメチル  α−Ｄ−グルコピラノシド、メチル  β−Ｄ−グルコピラノシド、メチル  β−Ｄ−ガラクトピラノシド、メチル  α−Ｄ−ガラクトピラノシド、メチル  α−Ｄ−マンノピラノシド、メチル  β−Ｄ−キシロピラノシド、メチル  α−Ｌ−フコピラノシド、オクチル  β−Ｄ−グルコピラノシド、メチル  Ｎ−アセチル−α−Ｄ−グルコサミニド、１，６−アンヒドロ−β−Ｄ−グルコピラノース、メチル  ２,３−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド、メチル  ４,６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド、1，２：３，４−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−ガラクトピラノース、１，５−アンヒドログルシトール等が挙げられる。
【０１１６】
本発明に係る糖類のうち、１位のヒドロキシル基が保護されている、或いはヒドロキシル基自体が存在しない単糖としては、例えば天然型のＤ型、非天然型のＬ型の何れでもよく、例えばメチル  α−グルコピラノシド、メチル  β−グルコピラノシド、メチル  α−ガラクトピラノシド、メチル  β−ガラクトピラノシド、メチル  α−マンノピラノシド、メチル  β−マンノピラノシド、メチル  α−キシロピラノシド、メチル  β−キシロピラノシド、メチル  α−フコピラノシド、メチル  β−フコピラノシド、メチル  α−アラビノピラノシド、メチル-β-アラビノピラノシド、メチル  α−リボピラノシド、メチル  β−リボピラノシド、メチル  α−リキソピラノシド、メチル  β−リキソピラノシド、メチル  α−アロピラノシド、メチル  β−アロピラノシド、メチル  α−アルトロピラノシド、メチル  β−アルトロピラノシド、メチル  α−イドピラノシド、メチル  β−イドピラノシド、メチル  α−タロピラノシド、メチル  β−タロピラノシド、エチル  α−グルコピラノシド、エチル  β−グルコピラノシド、エチル  α−ガラクトピラノシド、エチル  β−ガラクトピラノシド、エチル  α−マンノピラノシド、エチル  β−マンノピラノシド、エチル  α−キシロピラノシド、エチル  β−キシロピラノシド、エチル  α−フコピラノシド、エチル  β−フコピラノシド、エチル  α−アラビノピラノシド、エチル  β−アラビノピラノシド、エチル  α−リボピラノシド、エチル  β−リボピラノシド、エチル  α−リキソピラノシド、エチル  β−リキソピラノシド、エチル  α−アロピラノシド、エチル  β−アロピラノシド、エチル  α−アルトロピラノシド、エチル  β−アルトロピラノシド、エチル  α−イドピラノシド、エチル  β−イドピラノシド、エチル  α−タロピラノシド、エチル  β−タロピラノシド、フェニル  α−グルコピラノシド、フェニル  β−グルコピラノシド、フェニル  α−ガラクトピラノシド、フェニル  β−ガラクトピラノシド、フェニル  α−マンノピラノシド、フェニル  β−マンノピラノシド、フェニル  α−キシロピラノシド、フェニル  β−キシロピラノシド、フェニル  α−フコピラノシド、フェニル  β−フコピラノシド、フェニル  α−アラビノピラノシド、フェニル  β−アラビノピラノシド、フェニル  α−リボピラノシド、フェニル  β−リボピラノシド、フェニル  α−リキソピラノシド、フェニル  β−リキソピラノシド、フェニル  α−アロピラノシド、フェニル  β−アロピラノシド、フェニル  α−アルトロピラノシド、フェニル  β−アルトロピラノシド、フェニル  α−イドピラノシド、フェニル  β−イドピラノシド、フェニル  α−タロピラノシド、フェニル  β−タロピラノシド、ベンジル  α−グルコピラノシド、ベンジル  β−グルコピラノシド、ベンジル  α−ガラクトピラノシド、ベンジル  β−ガラクトピラノシド、ベンジル  α−マンノピラノシド、ベンジル  β−マンノピラノシド、ベンジル  α−キシロピラノシド、ベンジル  β−キシロピラノシド、ベンジル  α−フコピラノシド、ベンジル  β−フコピラノシド、ベンジル  α−アラビノピラノシド、ベンジル  β−アラビノピラノシド、ベンジル  α−リボピラノシド、ベンジル  β−リボピラノシド、ベンジル  α−リキソピラノシド、ベンジル  β−リ��ソピラノシド、ベンジル  α−アロピラノシド、ベンジル  β−アロピラノシド、ベンジル  α−アルトロピラノシド、ベンジル  β−アルトロピラノシド、ベンジル  α−イドピラノシド、ベンジル  β−イドピラノシド、ベンジル  α−タロピラノシド、ベンジル  β−タロピラノシド、１，５−アンヒドログルシトール、１，５−アンヒドロアルトリトール、１，５−アンヒドロイディトール、１，５−アンヒドロマンニトール、１，５−アンヒドロガラクシトール、２，６−アンヒドログルシトール、２，６−アンヒドロガラクシトール、２，６−アンヒドロアルトリトール等が挙げられる。
【０１１７】
上記一般式［３］で示される本発明に係る糖類（二糖）としては、例えばイソマルトース、ゲンチオビオース、メリビオース、プリメベロース、アロラクトース、ビシアノース、６−α−マンノビオース、ルチノースから誘導されるもの等が挙げられる。
具体的には、例えばメチル  ６−Ｏ−α−Ｄ−グルコピラノシル−Ｄ−グルコピラノシド等が挙げられる。
【０１１８】
上記一般式［４］で示される本発明に係る糖類（二糖）としては、例えばα，α−トレハロース、α，β−トレハロース、β，β−トレハロースや、これらから誘導されるもの等が挙げられる。
具体的には、例えばα,α−トレハロース等が挙げられる。
【０１１９】
上記一般式［５］で示される本発明に係る糖類（二糖）としては、例えばソホロース、２−α−マンノビオース、コージビオース、ニゲロース、ラミナリビオース、３−α−マンノビオース、ツラノース、ラクトース、シラビノース、マルトース、セロビオース、４−α−マンノビオース、キシロビオースから誘導されるもの等が挙げられる。
具体的には、例えばメチル  ４−Ｏ−α−Ｄ−グルコピラノシル−Ｄ−グルコピラノシド等が挙げられる。
【０１２０】
上記一般式［７］で示される本発明に係る糖類（二糖）としては、例えばサッカロース、ガラクトスクロースや、これらから誘導されるもの等が挙げられる。
具体的には、例えばサッカロース等が挙げられる。
【０１２１】
一般式［１］〜［７］で示される化合物は、市販品を用いても常法（例えばOrganic Synthesis, Coll. Vol.1, 364(1941)等）により適宜合成されたものを用いてもよい。
【０１２２】
本発明の重水素化方法に於いて、重水素源として使用される重水素化された溶媒としては、重水素がジュウテリウムである場合には、例えば重水（Ｄ２Ｏ）、三重水素水（ＨＴＯ、）例えば重メタノール、重エタノール、重イソプロパノール、重ブタノール、重tert-ブタノール、重ペンタノール、重ヘキサノール、重ヘプタノール、重オクタノール、重ノナノール、重デカノール、重ウンデカノール、重ドデカノール等の重アルコール類、例えば重アセトン、重メチルエチルケトン、重メチルイソブチルケトン、重ジエチルケトン、重ジプロピルケトン、重ジイソプロピルケトン、重ジブチルケトン等の重ケトン類、重ジメチルスルホキシド等の有機溶媒等が挙げられ、中でも重水、重アルコール類が好ましく、具体的には、重水、重メタノールが特に好ましいものとして挙げられる。
【０１２３】
尚、環境面や作業性を考慮すれば重水が好ましい。また、重水素がトリチウムの場合の重水素化された溶媒としては、例えば三重水素水（ＨＴＯ）等が挙げられる。
【０１２４】
重水素化された溶媒は、分子中の一つ以上の水素原子が重水素化されているものであればよく、例えば重アルコール類ではヒドロキシル基の水素原子、重カルボン酸類ではカルボキシル基の水素原子が重水素化されていれば本発明の重水素化方法に使用し得るが、分子中の水素原子全てが重水素化されたものが特に好ましい。
【０１２５】
重水素化された溶媒の使用量は、多い程本発明の重水素化が進みやすくなるが、経済的な面を考慮すると、重水素化された溶媒に含まれる重水素原子の量が、本発明に係る糖類の重水素化可能な水素原子に対して、下限として順に好ましく、等モル、10倍モル、20倍モル、30倍モル、40倍モル、上限として順に好ましく、250倍モル、150倍モルとなるような量である。
【０１２６】
本発明の重水素化方法に於いては、必要に応じて、重水素化された溶媒以外の他の反応溶媒を併用してもよく、本発明の重水素化反応が懸濁状態でも実施し得ることから、当該反応溶媒としては、基質を溶解し難いものも使用可能であるが、基質を溶解し易いものがより好ましい。
【０１２７】
必要に応じて用いられる反応溶媒の具体例としては、例えばジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エチルメチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、オキシラン、1,4-ジオキサン、ジヒドロピラン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、tert-ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール等のアルコール類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、ジブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド、軽水（水）等が挙げられる。
【０１２８】
本発明の重水素化方法を実施する際、重水素化の反応容器の気層部分は、通常反応に必要な水素ガスで置換するが、水素ガスと例えば窒素、アルゴン等の不活性ガスとの混合気体で置換されていてもよい。
【０１２９】
本発明の重水素化方法に於いて用いられる水素ガスの使用量は、反応基質に対して、下限として順に好ましく、等モル、10倍モル、20倍モル、30倍モル、上限として順に好ましく、300倍モル、200倍モル、100倍モル、40倍モルとなるような量である。
【０１３０】
尚、本発明の重水素化方法に於いては、常圧下で反応容器から水素ガスが散逸しないように密封状態或いはそれに近い状態となるようにすることが好ましい。密封に近い状態とは、例えば所謂連続反応のように、反応基質が連続的に反応容器に投入され、連続的に生成物が取り出されるような場合等を含む。
【０１３１】
本発明の重水素化方法に於ける触媒として挙げられるルテニウム触媒としては、ルテニウム原子の原子価が通常０〜２価、好ましくは０価のものが挙げられる。
【０１３２】
上記した如きルテニウム触媒は、金属そのもの（金属単体）でも、それら金属の水酸化物、酸化物、ハロゲン化物、或いは酢酸塩でもよい。これらの中でも、例えば金属単体、その水酸化物、酸化物、ハロゲン化物、酢酸塩、第４級アンモニウム塩等の、配位子が配位していない金属触媒が好ましい。また、これら金属（金属単体）、金属水酸化物、金属酸化物、金属ハロゲン化物、酢酸塩或いは金属錯体が種々の担体に担持されて成るものでもよい。
【０１３３】
配位子が配位していてもよい金属触媒の配位子としては、例えば1,5-シクロオクタジエン(COD)、ジベンジリデンアセトン(DBA)、ビピリジン(BPY)、フェナントロリン(PHE)、ベンゾニトリル（PhCN）、イソシアニド(RNC)、トリエチルアルシン(As(Et)3)、アセチルアセトナト(acac)、ペンタメチルシクロペンタジエニル(Cp*)、エチレンジアミン(EN)、テトラプロピルアンモニウム塩（TPAP）、例えばジメチルフェニルホスフィン（P(CH3)2Ph）、ジフェニルホスフィノフェロセン（DPPF）、トリメチルホスフィン(P(CH3)3)、トリエチルホスフィン(PEt3)、トリtert-ブチルホスフィン(PtBu3)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)、トリメトキシホスフィン(P(OCH3)3)、トリエトキシホスフィン(P(OEt)3)、トリtert-ブトキシホスフィン(P(OtBu)3)、トリフェニルホスフィン(PPh3)、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン(DPPE)、トリフェノキシホスフィン(P(OPh)3)、トリo-トリルホスフィン(P(o-tolyl)3)等の有機ホスフィン配位子等が挙げられる。
【０１３４】
ルテニウム触媒の具体例としては、例えばRu、例えばRu(OH)2等の水酸化ルテニウム触媒、例えばRuO4等の酸化ルテニウム触媒、例えばRuBr2、RuCl2、RuI2等のハロゲン化ルテニウム触媒、例えばルテニウムアセテート(Ru(OAc)2)、例えばRuCl2(PPh3)３等の、配位子に配位されたルテニウム触媒等、例えばテトラプロピルアンモニウムルテニウム（TPAP）のような４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１３５】
上記した如き金属触媒が、担体に担持されたものである場合の担体としては、例えばカーボン（例えば活性炭等）、アルミナ、シリカゲル、ゼオライト、モレキュラーシーブ、イオン交換樹脂、ポリマー等が挙げられ、中でもカーボン、アルミナが好ましく、就中、カーボンがより好ましい。
【０１３６】
担体として用いられるイオン交換樹脂としては、本発明の重水素化に悪影響を及ぼさないものであればよく、例えば陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹脂が挙げられる。
【０１３７】
陽イオン交換樹脂としては、例えば弱酸性陽イオン交換樹脂、強酸性陽イオン交換樹脂が挙げられ、陰イオン交換樹脂としては、例えば弱塩基性陰イオン交換樹脂、強塩基性陰イオン交換樹脂等が挙げられる。
【０１３８】
イオン交換樹脂は一般に骨格ポリマーとして二官能性モノマーで架橋したポリマーを含んでおり、これに酸性基又は塩基性基が結合され、夫々種々の陽イオン又は陰イオン（対イオン）で交換されている。
【０１３９】
弱酸性陽イオン交換樹脂の具体例としては、例えばジビニルベンゼンで架橋したアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルのポリマーを加水分解して得られるもの等が挙げられる。
【０１４０】
強酸性陽イオン交換樹脂の具体例としては、例えばスチレン−ジビニルベンゼンのコポリマーをスルホン化したものが挙げられる。
【０１４１】
強塩基性陰イオン交換樹脂としては、例えばスチレン−ジビニルベンゼンのコポリマーの芳香環にアミノ基が結合したものが挙げられる。
【０１４２】
塩基性陰イオン交換樹脂の塩基性の強さは、結合しているアミノ基が、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基、第４級アンモニウム塩になるに従って順に強くなる。
【０１４３】
尚、市販のイオン交換樹脂も上記した如きイオン交換樹脂と同様に本発明の重水素ガス製造法に於ける触媒の担体として使用可能である。
【０１４４】
また、担体として用いられるポリマーとしては、本発明の重水素化方法に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、その様なポリマーの例として、例えば下記一般式［８］で示されるモノマーが重合或いは共重合して得られるもの等が挙げられる。
【０１４５】
2011129314.tif 000028
【０１４６】
（式中、Ｒ８は水素原子、低級アルキル基、カルボキシル基、カルボキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシアルコキシカルボニル基、シアノ基又はホルミル基を表し、Ｒ９は水素原子、低級アルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシアルコキシカルボニル基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１０は水素原子、低級アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、置換基を有していてもよいアリール基、脂肪族ヘテロ環基、芳香族ヘテロ環基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシアルコキシカルボニル基、スルホ基、シアノ基、含シアノアルキル基、アシルオキシ基、カルボキシル基、カルボキシアルキル基、アルデヒド基、アミノ基、アミノアルキル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイル基又はヒドロキシアルキル基を表し、また、Ｒ８とＲ９とが結合し、隣接する-C=C-と一緒になって脂肪族環を形成していてもよい。）
【０１４７】
一般式［８］に於いて、Ｒ８〜Ｒ１０で示される低級アルキル基としては、直鎖状、分枝状、環状の何れにてもよく、例えば炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、sec-ヘキシル基、tert-ヘキシル基、ネオヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【０１４８】
Ｒ８及びＲ１０で示されるカルボキシアルキル基としては、例えば上記した如き低級アルキル基の水素原子の一部がカルボキシル基に置換されたもの等が挙げられ、具体的には例えばカルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基、カルボキシペンチル基、カルボキシヘキシル基等が挙げられる。
【０１４９】
Ｒ８〜Ｒ１０で示されるアルコキシカルボニル基としては、例えば炭素数２〜１１のものが好ましく、具体的には例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１５０】
Ｒ８〜Ｒ１０で示されるヒドロキシアルコキシカルボニル基としては、上記した如き炭素数２〜１１のアルコキシカルボニル基の水素原子の一部がヒドロキシル基に置換されたものが挙げられ、具体的には、例えばヒドロキシメトキシカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基、ヒドロキシプロポキシカルボニル基、ヒドロキシブトキシカルボニル基、ヒドロキシペンチルオキシカルボニル基、ヒドロキシヘキシルオキシカルボニル基、ヒドロキシヘプチルオキシカルボニル基、ヒドロキシオクチルオキシカルボニル基、ヒドロキシノニルオキシカルボニル基、ヒドロキシデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１５１】
Ｒ９及びＲ１０で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
【０１５２】
Ｒ１０で表されるハロアルキル基としては、例えばＲ８〜Ｒ１０で表される上記低級アルキル基がハロゲン化（例えばフッ素化、塩素化、臭素化、ヨウ素化等）された、炭素数１〜６のものが挙げられ、具体的には、例えばクロロメチル基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル基、2-クロロエチル基、3-クロロプロピル基、3-ブロモプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、4-クロロブチル基、5-クロロペンチル基、6-クロロヘキシル基等が挙げられる。
【０１５３】
置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられ、当該置換基としては、例えばアミノ基、ヒドロキシル基、低級アルコキシ基、カルボキシル基等が挙げられる。
【０１５４】
置換基として挙げられる低級アルコキシ基としては、直鎖状、分枝状或いは環状でもよく、通常炭素数１〜６のものが挙げられ、具体的には、例えばメトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec-ペンチルオキシ基、tert-ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、sec-ヘキシルオキシ基、tert-ヘキシルオキシ基、ネオヘキシルオキシ基、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【０１５５】
置換アリール基の具体例としては、例えばアミノフェニル基、トルイジノ基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、tert-ブトキシフェニル基、カルボキシフェニル基等が挙げられる。
【０１５６】
脂肪族へテロ環基としては、例えば５員環又は６員環であり、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を１〜３個含んでいるものが挙げられ、具体的には、例えば2-オキソピロリジル基、ピペリジル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基等が挙げられる。
【０１５７】
芳香族ヘテロ環基としては、例えば５員環又は６員環であり、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を１〜３個含んでいるものが挙げられ、具体的には、例えばピリジル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、フリル基、ピラニル基等が挙げられる。
【０１５８】
含シアノアルキル基としては、例えば上記した如き低級アルキル基の水素原子の一部がシアノ基で置換されたものが挙げられ、具体的には、例えばシアノメチル基、2-シアノエチル基、2-シアノプロピル基、3-シアノプロピル基、2-シアノブチル基、4-シアノブチル基、5-シアノペンチル基、6-シアノヘキシル基等が挙げられる。
【０１５９】
アルキルカルボニルオキシ基としては、例えば炭素数２〜２０のカルボン酸由来のものが挙げられ、具体的には、例えばメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ-プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ-ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ブチルカルボニルオキシ基、シクロブチルカルボニルオキシ基、ｎ-ペンチルカルボニルオキシ基、イソペンチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ペンチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ペンチルカルボニルオキシ基、ネオペンチルカルボニルオキシ基、２-メチルブチルカルボニルオキシ基、１，２-ジメチルプロピルカルボニルオキシ基、１-エチルプロピルカルボニルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、ｎ-ヘキシルカルボニルオキシ基、イソヘキシルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ヘキシルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ヘキシルカルボニルオキシ基、ネオヘキシルカルボニルオキシ基、２-メチルペンチルカルボニルオキシ基、１，２-ジメチルブチルカルボニルオキシ基、２，３-ジメチルブチルカルボニルオキシ基、１-エチルブチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ｎ-ヘプチルカルボニルオキシ基、イソヘプチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ヘプチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ヘプチルカルボニルオキシ基、ネオヘプチルカルボニルオキシ基、シクロヘプチルカルボニルオキシ基、ｎ-オクチルカルボニルオキシ基、イソオクチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-オクチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-オクチルカルボニルオキシ基、ネオオクチルカルボニルオキシ基、２-エチルヘキシルカルボニルオキシ基、シクロオクチルカルボニルオキシ基、ｎ-ノニルカルボニルオキシ基、イソノニルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ-ノニルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ-ノニルカルボニルオキシ基、ネオノニルカルボニルオキシ基、シクロノニルカルボニルオキシ基、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【０１６０】
アミノアルキル基としては、上記した如き低級アルキル基の水素原子の一部がアミノ基に置換されたものが挙げられ、具体的には、例えばアミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、アミノペンチル基、アミノヘキシル基等が挙げられる。
【０１６１】
N-アルキルカルバモイル基としては、カルバモイル基の水素原子の一部がアルキル基で置換されたものが挙げられ、具体的には、例えばN-メチルカルバモイル基、N-エチルカルバモイル基、N-n-プロピルカルバモイル基、N-イソプロピルカルバモイル基、N-n-ブチルカルバモイル基、N-tert-ブチルカルバモイル基等が挙げられる。
【０１６２】
ヒドロキシアルキル基としては、上記した如き低級アルキル基の水素原子の一部がヒドロキシル基に置換されたものが挙げられ、具体的には、例えばヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル基等が挙げられる。
【０１６３】
また、Ｒ８とＲ９とが結合し、隣接する-C=C-と一緒になって脂肪族環を形成している場合の脂肪族環としては、例えば炭素数５〜１０の不飽和脂肪族環が挙げられ、単環でも多環でもよい。これら環の具体例としては、例えばノルボルネン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、シクロデセン環等が挙げられる。
【０１６４】
一般式［８］で示されるモノマーの具体例としては、例えばエチレン，プロピレン，ブチレン，イソブチレン等の炭素数２〜２０のエチレン性不飽和脂肪族炭化水素類、例えばスチレン，4-メチルスチレン，4-エチルスチレン，ジビニルベンゼン等の炭素数８〜２０のエチレン性不飽和芳香族炭化水素類、例えばギ酸ビニル，酢酸ビニル，プロピオン酸ビニル，酢酸イソプロペニル等の炭素数３〜２０のアルケニルエステル類、例えば塩化ビニル，塩化ビニリデン，フッ化ビニリデン，テトラフルオロエチレン等の炭素数２〜２０の含ハロゲンエチレン性不飽和化合物類、例えばアクリル酸，メタクリル酸，イタコン酸，マレイン酸，フマル酸，クロトン酸，ビニル酢酸，アリル酢酸，ビニル安息香酸等の炭素数３〜２０のエチレン性不飽和カルボン酸類（これら酸類は、例えばナトリウム，カリウム等のアルカリ金属塩やアンモニウム塩等、塩の形になっているものでもよい。）、例えばメタクリル酸メチル，メタクリル酸エチル，メタクリル酸プロピル，メタクリル酸ブチル，メタクリル酸２−エチルヘキシル，アクリル酸メチル，アクリル酸エチル，アクリル酸プロピル，アクリル酸ブチル，アクリル酸２−エチルヘキシル，メタクリル酸ラウリル，アクリル酸ステアリル，イタコン酸メチル，イタコン酸エチル，マレイン酸メチル，マレイン酸エチル，フマル酸メチル，フマル酸エチル、クロトン酸メチル，クロトン酸エチル、３−ブテン酸メチル等のエチレン性不飽和カルボン酸エステル類、例えばアクリロニトリル，メタクリロニトリル，シアン化アリル等の炭素数３〜２０の含シアノエチレン性不飽和化合物類、例えばアクリルアミド，メタクリルアミド等の炭素数３〜２０のエチレン性不飽和アミド化合物類、例えばアクロレイン，クロトンアルデヒド等の炭素数３〜２０のエチレン性不飽和アルデヒド類、例えばビニルスルホン酸，4-ビニルベンゼンスルホン酸等の炭素数２〜２０のエチレン性不飽和スルホン酸類（これら酸類は、例えばナトリウム，カリウム等のアルカリ金属塩等、塩の形になっていているものでもよい。）、例えばビニルアミン，アリルアミン等の炭素数２〜２０のエチレン性不飽和脂肪族アミン類、例えばビニルアニリン等の炭素数８〜２０のエチレン性不飽和芳香族アミン類、例えばN-ビニルピロリドン，ビニルピペリジン等の炭素数５〜２０のエチレン性不飽和脂肪族ヘテロ環状アミン類、例えばアリルアルコール，クロチルアルコール等の３〜２０のエチレン性不飽和アルコール類、例えば4-ビニルフェノール等の炭素数８〜２０のエチレン性不飽和フェノール類等が挙げられる。
【０１６５】
担体に担持された触媒に於いて、触媒金属であるルテニウムの割合は、通常担体に担持された触媒全体の1〜99重量％、好ましくは1〜50重量％、より好ましくは1〜30重量％、更に好ましくは1〜20重量％である。
【０１６６】
本発明の触媒としては、活性炭にルテニウムを担持させたルテニウムカーボン（Ｒｕ／Ｃ）が好ましく、当該ルテニウムカーボンは常法により適宜合成したものを用いても、市販品（例えばＮＥケムキャット社製、和光純薬工業社製、アルドリッチ社製等）を用いてもよい。
【０１６７】
活性炭に担持させる際に使用されるルテニウムは、０価のルテニウムが一般に用いられる。また、ルテニウムの酸化物、ハロゲン化物等を使用する場合には、これらを活性炭に担持させた後、還元して０価のルテニウムにしたものを本発明の触媒として用いる。
【０１６８】
ルテニウム触媒には、微量の酸性夾雑物が含まれる場合がある。すなわち、例えば２価のルテニウムである塩化ルテニウムを還元処理して０価のルテニウムを調製する場合に於いて、副生する塩酸がルテニウム触媒中に残存する場合等がある。
【０１６９】
そのような酸性夾雑物を含有するルテニウム触媒を用いて、本発明の重水素化反応を実施した場合、酸性夾雑物が重水素化反応に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１７０】
そのため、この酸性夾雑物の影響を排除するために、重水素化反応を塩基の存在下で行うか、予め精製や、洗浄処理等して酸性夾雑物を除去したルテニウム触媒を用いてもよい。
【０１７１】
この目的に用いられる塩基としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム等の炭酸のアルカリ金属塩、例えばリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸リチウム、リン酸一水素ナトリウム、リン酸一水素カリウム、リン酸一水素リチウム等のリン酸のアルカリ金属塩、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム等の酢酸のアルカリ金属塩、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、エチレンジアミン等のアミン類、水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
【０１７２】
また、ルテニウム触媒を精製するには、この分野で通常行われている方法で行えばよい。
【０１７３】
ルテニウム触媒を洗浄処理するには、例えば、精製水等で洗浄処理すればよい。
【０１７４】
本発明の重水素化方法に於いては、上記の如き触媒を単独で用いても２つ以上を適宜組み合わせて用いてもよい。
【０１７５】
本発明の重水素化方法に於ける触媒の使用量は、それが担体等に担持されているか否かに拘わらず（金属触媒であるルテニウムの重量として）、糖類（基質）に対して、通常0.1〜200モル％、好ましくは0.5〜10モル％、より好ましくは1〜50モル％、更に好ましくは1〜20モル％である。
【０１７６】
塩基の存在下に重水素化反応を行う場合の塩基の使用量は、ルテニウム触媒に含まれる酸性夾雑物が中和される十分量でよいが、反応基質に対して4〜100モル％、好ましくは40モル％程度、反応液中の濃度として50〜500mmol/L程度でよい。塩基の存在下に重水素化反応を行う方法としては、重水素化反応を行う際に、反応系に塩基が存在していればよく、特に制限されない。
【０１７７】
本発明の重水素化方法の反応温度は、下限が通常10℃から、順により好ましく20℃、40℃、60℃であり、上限が通常120℃から、順により好ましく100℃である。
【０１７８】
本発明の重水素化方法の反応時間は、長いほど重水素化率は上がるが、通常30分〜120時間、好ましくは１〜120時間、より好ましくは３〜120時間である。
【０１７９】
本発明の重水素化方法は、常圧下で行うのが好ましく、通常0.05〜0.2ＭＰａ、好ましくは0.05〜0.15ＭＰａ、より好ましくは0.08〜0.12ＭＰａ、更に好ましくは0.09〜0.11ＭＰａである。
【０１８０】
本発明の重水素化方法を、重水素化された溶媒として重水を用い、ルテニウム触媒を用いた場合を例にとって説明する。
【０１８１】
即ち、例えば糖類（反応基質）と、糖類（反応基質）に対して0.1〜200モル％のルテニウム触媒を、重水素化された溶媒（触媒に対して1〜20000当量、好ましくは10〜700当量となる量）に加え、系内を水素ガスで置換した後、油浴中約10℃〜120℃で常圧下、約30分〜100時間撹拌反応させる。反応終了後、反応液を濾過してルテニウム触媒を除き、精製した後1H-NMR、2H-NMR、Massスペクトル等を測定して構造解析を行う。
【０１８２】
尚、得られた精製物は該精製物中にフリーのヒドロキシル基が存在するため、1H-NMR、2H-NMR測定が困難であることから、該精製物が有するヒドロキシル基をアセチル化処理した後にこのアセチル体に基づいて目的物の重水素化率を測定する。
【０１８３】
生成物が重水素化された溶媒に難溶な場合に、反応液から生成物を単離するには、例えば生成物が溶解する有機溶媒等により反応液から生成物を抽出し、更に濾過により触媒を除くといった公知の精製方法に従ってこれを行えばよい。
【０１８４】
得られたアセチル体は、通常この分野で知られている脱アセチル化処理を行うことにより、容易に対応するヒドロキシル基を有する重水素化物とすることができる。即ち、例えばメタノール中で該アセチル体をナトリウムメチラート又はメタノール性アンモニア溶液と反応させる等により、脱アセチル化された糖の重水素化物（脱アセチル化体）が容易に得られる。
【０１８５】
更に、得られた該脱アセチル化体のうち、テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合したヒドロキシル基が例えばメチル基等のアルキル基、アリール基又はアラルキル基で保護されているものについては、これらを脱保護処理（例えば脱メチル化等）することにより、容易に環状テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合したヒドロキシル基の保護基が脱保護され、対応する糖の重水素化物とすることができる。
【０１８６】
脱保護処理は、通常この分野で行われる常法に従って適宜行えばよい。
脱アルキル化（例えば脱メチル化等）又は脱アリール化（例えば脱フェニル化等）処理を行うには、例えばテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合したヒドロキシル基がアルキル基又はアリール基で保護された糖の重水素化物（アルキル化体又はアリール化体）をアセトニトリル中で塩化アンモニウムとヨウ化テトラブチルアンモニウムと反応させればよい。
【０１８７】
また、脱アラルキル化（例えば脱ベンジル化等）処理を行うには、例えばテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合したヒドロキシル基がアラルキル基で保護された糖の重水素化物（アラルキル体）をジクロロエタンに溶解し、更にフェニルチオトリメチルシラン(PhSSiMe3)とヨウ化テトラブチルアンモニウム (n-Bu4NI)を添加して反応させればよい。
【０１８８】
更に、上記した以外の基で保護されたヒドロキシル基の脱保護は、情報に従って適宜行えばよい。
【０１８９】
本発明の重水素化方法によれば、穏和な条件下で、本発明に係る糖類の炭素原子のうち、ヒドロキシル基が直結する炭素原子に結合した水素原子を選択的に高い重水素化率で効率よく重水素化することができる。
【０１９０】
中でも、本発明の重水素化方法に寄れば、従来法では重水素化できなかった糖類のテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環に結合した−ＣＨ２ＯＨ中基の炭素原子に結合する水素原子を効率よく重水素化することができる。
【０１９１】
また、本発明の重水素化方法によれば、５員環のフラノースや６員環のピラノースである単糖が開環されることなく効率よく重水素化される。また、２つのピラノースからなる二糖やフラノースとピラノースからなる二糖も同様に開環されることなく効率よく重水素化することができる。
【０１９２】
本発明の重水素化方法により得られる糖のうち、糖のテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合したヒドロキシル基がアルキル基、アリール基又はアラルキル基で保護されているものは、これら保護基を常法により容易に脱離することができるため、本発明の重水素化方法を用いて糖を重水素化した後、更に脱保護処理を行うことにより、全てのヒドロキシル基が保護されない（フリーな）糖の重水素化物を容易に得ることができる。
【０１９３】
このような全てのヒドロキシル基が保護されない糖の重水素化物を原料として用いて誘導体化を行えば、あらゆる糖誘導体の重水素化物を製造することができるため、本発明の重水素化方法により得られた重水素化物は種々の目的に応用が可能となる。
【０１９４】
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
【実施例】
【０１９５】
以下の実施例及び比較例に於いて、本発明の方法により得られた重水素化物の重水素化率は以下のようにして求めている。【０１９６】
即ち、本発明に係る糖類の炭素原子に結合するヒドロキシル基は、それが保護基などで保護されていない（フリーのヒドロキシル基の）場合は、糖の各部位の重水素化率を個別に算出することが困難である。従って、得られる糖の重水素化物中のフリーの各ヒドロキシル基をアセチル保護した後に、得られる糖の重水素化物の重水素化率を算出した。この操作を行うことにより、内部標準物質を添加することなく重水素化率の定量が可能となる。【０１９７】
アセチル化処理は、例えばフリーのヒドロキシル基を含有する糖の重水素化物をピリジン中、無水酢酸と反応させることにより行った。【０１９８】
尚、各表に於いて、各重水素化率は、各反応基質の構造式に付記された数字の位置にある炭素原子に結合した水素原子が重水素原子に置換された比率（％）を示す。また、各表中の各反応基質の構造式に番号が付されていない場合の重水素化率は、IUPAC命名法に従った各反応基質の炭素原子の位置番号の位置にある水素原子が水素原子に置換された比率（％）を示す。【０１９９】
実施例１．メチル  α−Ｄ−グルコピラノシドの重水素化
2011129314.tif 000029
【０２００】
メチル  α−Ｄ−グルコピラノシド (97.1 mg, 0.5 mmol)、10% Ru/C (25.3 mg, 3 mol%)及び重水 (D2O) (2 mL, 111 mmol)を試験管に添加し密封した後、水素風船とアスピレーターを用いて試験管内を水素置換した。水素置換後、80℃で24時間攪拌した。反応終了後、反応液をエタノールでフィルター濾過して触媒を除去し、減圧留去することにより、無保護のメチル  α−Ｄ−グルコピラノシド−ｄ５（重水素化体）を得た。【０２０１】
得られた目的物（重水素化体）について直接1H-NMRにより重水素化率を算出することが困難であるため、これをアセチル化した後に解析した。目的物のアセチル化処理は以下のとおりである。【０２０２】
即ち、得られた重水素化体、無水酢酸 (2.5 mmol)及びピリジン (5 mmol)を室温下24時間攪拌した後、トルエン溶媒中で反応液を減圧留去し、対応するMethyl 2,3,4,6-O-tetraacetyl-α-O-D-glucopyranoside-d5（アセチル化体）を97%の単離収率で得た。重水素化率は1H-NMRを用いて、基質のアノマー位メチル基プロトン或いはアセチル基のメチルプロトンを内部標準として決定した。また、2H-NMR及びFAB-Massにより重水素の導入を確認した。その結果を表１に示す。【０２０３】
重水素化率測定のためにアセチル化した重水素化物は、通常この分野で知られる脱アセチル化を行うことにより、実施例１により得られる元の糖の重水素化物とすることができる。脱アセチル化処理としては、例えば該アセチル化体を、メタノール中に溶解し、アンモニア含有メタノール溶液を更に添加し、生成するアセトアミドをクロロホルムで濾去すれば、メチル  α-Ｄ-グルコピラノシド-ｄ５（脱アセチル化体）が得られる。【０２０４】
また、これにより得られた重水素化物（脱アセチル化体）は、更に脱メチル化処理を行うことにより、当該糖のテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合している、メチル保護されたヒドロキシル基を脱メチル化できるため、全てのヒドロキシル基が保護されない（フリーな）糖の重水素化物が得られる。【０２０５】
脱メチル化処理としては、例えば該脱アセチル化体をアセトニトリル中に溶解し、塩化アルミニウム及びヨウ化テトラブチルアンモニウムと反応させることにより、糖のテトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合しているヒドロキシル基が脱メチル化された糖の重水素化物（α-Ｄ-グルコピラノース-ｄ５）が得られる。【０２０６】
このようにして得られた全てのヒドロキシル基が保護されない（フリーな）糖の重水素化物、即ちα-Ｄ-グルコピラノース-ｄ５は、適宜誘導体化することができるため、各種糖誘導体の重水素化物を製造するという目的に応用が可能となる。【０２０７】
比較例１〜６．各種触媒を用いたメチル  α−Ｄ−グルコピラノシドの重水素化
実施例１で用いた10％Ru/Cの代わりに、下記表１で示した各種触媒（Rh/C、Pt/C、Au/C、Ir/C、Ni/C）を用いた以外は実施例１と同様の操作を行うことにより重水素化を行ったが、基質を重水素化することはできなかった（重水素化率：０％）。その結果を表１に併せて示す。【０２０８】
【表１】
2011129314.tif 000030
【０２０９】
実施例１及び比較例１〜６の結果から明らかなように、本願のメチルグルコピラノシドを各種触媒で重水素化を行う場合、ルテニウム触媒（Ru/C）を用いた場合は糖類を開環させることなく重水素化できることが分かった（実施例１）。また、メチルグルコピラノシドの６位の水素原子も重水素化できることが分かった。【０２１０】
一方、例えばロジウム触媒（Rh/C）、白金触媒（Pt/C）、金触媒（Au/C）、イリジウム触媒（Ir/C）、ニッケル触媒（Ni/C）、パラジウム触媒（Pd/C）等の他の金属触媒を用いた場合はメチルグルコピラノシドを重水素化できないことが分かった（比較例１〜６）。【０２１１】
比較例７．
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【０２１２】
実施例１のメチル  α−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに、α−Ｄ−グルコピラノシド (90.1 mg, 0.5 mmol)（基質）用いた以外は、実施例１と同様の操作を行うことにより、基質の重水素化を行った。その結果、基質は分解してしまい重水素化物は得られなかった。【０２１３】
実施例１と比較例７の結果から明らかなように、グリコシド類を重水素化する場合、例えばグルコピラノシドのテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合したヒドロキシル基をメチル化したメチルグルコピラノシドを基質として用いると効率よく重水素化が進行する（実施例１）のに対して、フリーのグルコピラノシドを基質として用いた場合は、基質が分解してしまい重水素化できない（比較例７）ことが分かった。【０２１４】
このことは、本発明に係る糖類のテトラヒドロピラン環中の酸素原子と結合した炭素原子に直接結合したヒドロキシル基に例えばメチル基等の保護基を導入することにより、糖を効率よく重水素化することができることを示している。【０２１５】
実施例２〜１６．各種グリコシドの重水素化【０２１６】
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【０２１７】
下記表２に示される各種グリコシド（基質） 0.5mmol、10%Ru/C（5mol%）（触媒）及び重水２ mLを用いること以外は、実施例１と同様の操作を行い、対応する重水素化物（重水素化体）を得た。尚、実施例５及び１０については、触媒として10%Ru/C（10mol%）を用いて反応時間を３日間とした。その他各実施例において、実施例１と異なる条件で重水素化反応を行った場合、その各条件を表２にa)〜d)で夫々示す。【０２１８】
得られた重水素化体を実施例１と同様の方法でアセチル化処理した後、目的物の重水素化率及び単離収率を求めた。【０２１９】
尚、実施例１５では、無水酢酸とトリフルオロ酢酸を用いる方法で、C１位と06位の結合を切断し、水酸基をアセチル化することで、対応する重水素化体である1,2,3,4,6-ペンタ-O-アセチル-α-dグルコピラノース-d3を96%の単離収率で得た。また、重水素化体の重水素化率及び単離収率は、重水素化体をアセチル化せずに決定した。【０２２０】
得られた結果を表２に併せて示す。
【０２２１】
【表２】
2011129314.tif 000033
【０２２２】
*：各重水素化率は、２つのグルコースに於ける対応する炭素原子に結合した水素原子全体に対する重水素化置換の比率を示す。
a) 10%Ru/C（10mol%）を用いて３日間反応
b) 0.25mmolの基質を用いた。
c) 10%Ru/C（20mol%）を用いて４日間反応
d) 0.25mmolの基質と10%Ru/C（10mol%）を用いた。【０２２３】
尚、α,α−トレハロースは二つのグルコースがα−結合したものであり、二つのグルコースは、α−グルコシド結合に対して対称である。そのため、それぞれの対応する位置の炭素原子は、反応性が等価である。そのため、表２中、実施例１０のα,α−トレハロースを構成する二つのグルコースの炭素の位置番号は区別せずに、夫々対応する炭素毎に同じ位置番号を付している。【０２２４】
実施例２〜１６の結果から明らかなように、各種グリコシドを本発明の重水素化方法で重水素化した場合、基質中のヒドロキシル基が結合した炭素原子に直結する水素原子を効率よく、且つ開環させることなく重水素化することができることが判る。また、実施例２〜７、１０〜１４、１６等の結果から明らかなように、本発明の重水素化方法によれば、糖の６位の水素原子も効率よく重水素化することができることが分かった。また、実施例２〜１７の結果から明らかなように、本発明の重水素化により、糖のヒドロキシル基が直結する炭素原子に結合される水素原子が選択的に重水素化されることが分かる。【０２２５】
更に、実施例１０の結果から明らかなように、二糖の重水素化に於いても同様に糖のヒドロキシル基が直結する炭素原子に結合される水素原子を選択的に重水素化することができる。【０２２６】
また、これら実施例で得られた各種グリコシドの重水素化物は、脱アセチル化及び脱メチル化を実施例１と同様の操作で行うことにより、ヒドロキシル基が脱保護された、対応するグリコシド類の重水素化物を容易に得ることができる。【０２２７】
尚、実施例１と実施例２では同じ反応基質メチル  α−Ｄ−グルコピラノシドを用いて重水素化を行ったが、実施例２では、使用した触媒の量（5mol%）が実施例１で使用した量(3 mol%)よりも多かったため、より高い重水素化率で反応基質を重水素化することができた。【０２２８】
比較例８〜１１．
下記表３に示される各種糖類を基質として用いた以外は実施例２と同様の操作を行い基質を重水素化した。その結果、何れも重水素化物を単離できなかった。【０２２９】
【表３】
2011129314.tif 000034
【０２３０】
表３の結果から明らかなように、基質としてグリコシドの中でも５員環の糖類を用いた場合は、基質が開環等により分解してしまうため目的の重水素化物が得られないことがわかった（比較例８）。また、グルコサミンがアセチル化されたN-アセチルグルコサミンを基質として用いて重水素化を行った場合でも同様に、基質が開環等により分解してしまうため目的の重水素化物が得られなかった（比較例９）。【０２３１】
更に、α-グルコピラノ−スが有する５つのヒドロキシル基をアセチル化した1,2,3,4,6-ペンタ-O-アセチル-α−Ｄ-グルコピラノースを基質として用いた場合は、反応が進行せず基質がそのまま回収された（比較例１０）。【０２３２】
更にまた、６員環と５員環がグリコシド結合された二糖類であるサッカロースを基質として用いた場合も、基質が開環等により分解してしまうため目的の重水素化物が得られなかった。（比較例１１）。【０２３３】
実施例１７〜２１
ルテニウム触媒には、微量の酸性夾雑物が含まれる場合がある。すなわち、例えば２価のルテニウムである塩化ルテニウムを還元処理して０価のルテニウムを調製する場合に於いて、副生する塩酸がルテニウム触媒中に残存する場合がある。【０２３４】
メチル  β−リボフラノシドを基質として用いて重水素化反応を行った比較例８では、重水素化反応に用いたルテニウム触媒の酸性夾雑物の働きで基質の５員環が開環等により分解してしまい、目的の重水素化物が得られなかったのではないかと考えられた。【０２３５】
そこで、ルテニウム触媒の酸性夾雑物が重水素化反応に及ぼす影響を排除するため、下記表４に示されるグリコシドを用い、反応基質に対して40mol%の塩基の共存下、実施例２と同様に加熱撹拌した。反応終了後、ドライアイス等で中和した後、反応液をエタノール等の溶媒を用いて濾過して触媒を除去し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、対応する重水素化体を得た。
得られた重水素化体をアセチル化した後、酢酸エチル等有機溶剤で抽出することにより対応するアセチル化体を単離し、重水素化率及び単離収率を求めた。
その結果を表４に併せて示す。【０２３６】
【表４】
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*：10% Ru/C (10 mol%)を用いた。【０２３７】
表４の結果から明らかなように、塩基の存在下に重水素化反応を行った場合には、ルテニウム触媒の酸性夾雑物の影響を受けずに、目的の重水素化物が得られることがわかる。
また、反応基質としてサッカロースを用い、同様の方法で、塩基の存在下に重水素化反応を行った場合にも、ルテニウム触媒の酸性夾雑物の影響を受けずに、目的の重水素化物が得られた。【０２３８】
以上のことから、ルテニウム触媒に酸性夾雑物が混在している場合でも、塩基の存在下に本発明の重水素化反応を行うことにより、酸性夾雑物を中和して、目的の重水素化物を得ることが出来ることがわかる。【０２３９】
また、酸に不安定な基質を用いて本発明の重水素化反応を実施する際には、塩基の存在下で重水素化反応を行うこと、あるいは予め精製や線上処理等を行って、酸性夾雑物を除いたルテニウム触媒を用いることが、より好ましいことが分かる。【０２４０】
実施例２２〜２３．各種グリコシドの重水素化【０２４１】
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【０２４２】
基質が下記表５に示されるグリコシドであり、反応時間が３時間であること以外は、実施例２と同様の操作を行うことにより、対応する重水素化物を得た。その結果を表５に併せて示す。【０２４３】
【表５】
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【０２４４】
表５の結果から明らかなように、基質がメチル  β-グルコピラノシド（即ち、5位にヒドロキシルメチル基をもつもの）である場合は、反応時間を３時間とすると、反応時間が２４時間である場合（実施例３）に比べて重水素化率は低くなることが分かる（実施例２３）。【０２４５】
一方、５位にヒドロキシメチル基を持たないメチルグリコシド（メチル  β-キシロピラノシド）を重水素化する場合は、短い反応時間でも効率よく基質を重水素化することができることが分かった（実施例２４）。【０２４６】
実施例２４．1,5-アンヒドログルシトール
基質として1,5-アンヒドログルシトールを用いること以外は、実施例２と同様の操作を行うことにより、対応する重水素化物を得た。得られた重水素化物は実施例２と同様にアセチル化処理した後、目的物の重水素化率及び単離収率を測定した。その結果を表６に併せて示す。【０２４７】
【表６】
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【０２４８】
表６の結果から明らかなように、グリコシド以外の６員環の単糖も、同様に効率よく穏和な条件下で重水素化することができることが分かった。【０２４９】
比較例１２．
メチル  α−Ｄ−グルコピラノシド (97.1 mg, 0.5 mmol)、10% Ru/C (25.3 mg, 5 mol%)及び重水 (D2O) (2 mL, 111 mmol)を試験管に添加し密封した後、アルゴン雰囲気下（2 mL）で80℃で24時間攪拌した。反応終了後、実施例１と同様の操作を行ったが、基質が重水素化されなかった。【０２５０】
実施例１と比較例１２の結果から明らかなように、ルテニウム触媒を用いるだけでは糖を重水素化することはできず（比較例１２）、反応系内に水素ガスを存在させないと、基質の重水素化が進行しない（実施例１）ことが分かった。
【国際調査報告】
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