(57)【要約】  本願は、製造作業の煩雑さを軽減し、かつ製造コストを抑制しつつ、半導体装置の信頼性を向上させることができる半導体装置の製造方法および半導体装置を提供すること、を課題とする。そこで、本発明の一態様は、第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とを接合する第１接合工程と、前記半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とを接合する第２接合工程と、を有する半導体装置の製造方法において、前記第１接合工程により形成された前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより封止接合体を形成する封止工程を有し、前記第２接合工程は、前記封止工程の後に行うこと、を特徴とする。
2011092859.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とを接合する第１接合工程と、前記半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とを接合する第２接合工程と、を有する半導体装置の製造方法において、
前記第１接合工程により形成された前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより封止接合体を形成する封止工程を有し、
前記第２接合工程は、前記封止工程の後に行うこと、
を特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載する半導体装置の製造方法において、
前記封止工程では、前記接合体における前記封止面と前記半導体素子部の第２面とを前記樹脂で覆った後に、前記半導体素子部の第２面を覆った部分の前記樹脂を除去することにより前記封止接合体を形成すること、
を特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載する半導体装置の製造方法において、
前記第２接合工程では、前記樹脂の耐熱温度以下であり、かつ、前記第１電極板の第１面と前記半導体素子部の第１面とを接合する第１接合材の融点以下の温度に、前記封止接合体を加熱すること、
を特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載する半導体装置の製造方法において、
前記第２接合工程では、前記第２電極板に第１面と第２面とを貫通する貫通穴を設けておき、前記貫通穴から前記半導体素子部の第２面と前記第２電極板の第１面とを接合する第２接合材を供給すること、
を特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項３に記載する半導体装置の製造方法において、
前記第２接合工程では、前記第２電極板を前記半導体素子部の第２面と前記第２電極板の第１面とを接合する第２接合材の融点以上に加熱しておき、前記第２接合材を前記第２電極板の第１面に付与すること、
を特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載する半導体装置の製造方法において、
前記封止工程では、前記第１電極板と前記半導体素子部との配列方向にて前記樹脂の面よりも前記半導体素子部の第２面が凹むように前記封止接合体に凹部を形成し、
前記第２接合工程では、前記凹部に前記半導体素子部の第２面と前記第２電極板の第１面とを接合する接合層を形成すること、
を特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とを接合する第１接合工程を有する半導体装置の製造方法において、
前記第１接合工程により形成された前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより封止接合体を形成する封止工程と、
前記封止接合体における前記半導体素子部の第２面に第２電極板の第１面に設けられた凸部を圧接する圧接工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載する半導体装置の製造方法において、
前記半導体素子部と前記第２電極板との間に放熱材を付与する放熱材付与工程を有すること、
を特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とが接合し、前記半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とが接合する半導体装置において、
前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより形成された封止接合体を有し、
前記封止接合体の樹脂部分は前記第２電極板の第１面に接着しておらず、かつ前記半導体素子部と前記第２電極板との配列方向にて前記第２電極板の第１面の位置よりも前記半導体素子部が配置される側の位置に設けられていること、
を特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項９に記載する半導体装置において、
前記第２電極板は、第１面と第２面とを貫通する貫通穴を備えること、
を特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載する半導体装置において、
前記封止接合体は、前記第１電極板と前記半導体素子部との配列方向にて前記樹脂の面よりも前記半導体素子部の第２面が凹むように形成された凹部を備え、
前記凹部に前記半導体素子部の第２面と前記第２電極板の第１面とを接合する接合層が形成されていること、
を特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とが接合する半導体装置において、
前記半導体素子部の第２面に圧接する凸部が形成された第１面を備えた第２電極板と、
前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより形成された封止接合体とを有し、
前記封止接合体の樹脂部分は前記第２電極板の第１面に接着しておらず、かつ前記半導体素子部と前記第２電極板との配列方向にて前記第２電極板の第１面の位置よりも前記半導体素子部が配置される側の位置に設けられていること、
を特徴とする半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パワー素子の両面にパワー素子の電極に接続する電極板が設けられた半導体装置の製造方法および半導体装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、パワー素子（半導体素子）の両面に電極板を設けた半導体装置の製造方法においては、パワー素子の両面に電極板を接合した接合体を形成した後、この接合体をエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂により封止していた（樹脂封止工程）。
ここで、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂は、高温で硬化するときに樹脂が架橋反応することにより体積が収縮する硬化収縮という特性や、高温状態から冷却されることにより体積が収縮する熱収縮という特性を有する。【０００３】
パワー素子の両面に電極板が設けられた半導体装置において、パワー素子の両面に設けられた２枚の電極板は、その電極板間にパワー素子やブロック電極板などが設けられた状態で、一定間隔で離されて配置されている。そして、前記の樹脂封止工程において、この２枚の電極板の間を熱硬化性樹脂（以下、封止樹脂という）で封止していた。しかし、２枚の電極板の間に封入された封止樹脂が硬化収縮や熱収縮により収縮すると、２枚の電極板同士はお互いの距離を縮めるように近づこうとするが、パワー素子やブロック電極などがこれを妨げることになる。そのため、封止樹脂と電極板との間の接着部分において、剥離を促す応力が印加され、封止樹脂の電極板との接着力がこの応力に負けて、封止樹脂と電極板とが剥離してしまい、半導体装置の信頼性が低下するおそれがある。
また、半導体装置の使用環境下における冷熱サイクルにおいても、同様に、封止樹脂と電極板とが剥離してしまい、半導体装置の信頼性が低下するおそれがある。【０００４】
そこで、特許文献１では、封止樹脂と電極板との間にポリアミド樹脂やポリイミド樹脂などのコーティング樹脂を付与して、封止樹脂と電極板との密着性を高めて半導体装置の信頼性を高めようとする技術を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１８８３１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１の技術において使用されているポリアミド樹脂やポリイミド樹脂などのコーティング樹脂は高価である。また、コーティング樹脂を付与するに際し、コーティング樹脂の付与部分における未付与領域の有無や気泡の巻き込みの有無を検査する工程が別途必要になる。そのため、特許文献１の技術では、製造コストが増大してしまう。【０００７】
また、パワー素子の両面の電極板の内側に電極板やパワー素子が露出することがない様にコーティング樹脂を付与するために、コーティング樹脂原液の入った槽に浸漬させなくてはいけない。このときに、コーティング樹脂によって電気的に絶縁されたくない部分（例えば、パワー素子と制御用端子とを接続する制御用配線など）を、コーティング樹脂の付与前に予めマスクしたり、コーティング樹脂の付与後に洗浄することが別途必要になる。そのため、特許文献１の技術では、製造作業が煩雑となってしまう。【０００８】
そこで、本発明は上記した問題点を解決するためになされたものであり、製造作業の煩雑さを軽減し、かつ製造コストを抑制しつつ、半導体装置の信頼性を向上させることができる半導体装置の製造方法および半導体装置を提供すること、を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するためになされた本発明の一態様は、第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とを接合する第１接合工程と、前記半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とを接合する第２接合工程と、を有する半導体装置の製造方法において、前記第１接合工程により形成された前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより封止接合体を形成する封止工程を有し、前記第２接合工程は、前記封止工程の後に行うこと、を特徴とする。【００１０】
この態様によれば、封止工程では接合体に第２電極板が接合されていないので、樹脂が収縮しても樹脂内で発生する応力は解放され、第１電極板や半導体素子部と樹脂とが剥離せず、半導体装置の信頼性が向上する。
また、ポリアミド樹脂やポリイミド樹脂などのコーティング樹脂を付与しなくてもよいので、製造コストが抑制され、かつ製造作業の煩雑さが軽減される。
なお、半導体素子部の実施態様には、半導体素子とブロック電極板との接合体も含まれるものとする。【００１１】
本発明の一態様として、前記封止工程では、前記接合体における前記封止面と前記半導体素子部の第２面とを前記樹脂で覆った後に、前記半導体素子部の第２面を覆った部分の前記樹脂を除去することにより前記封止接合体を形成すること、が好ましい。【００１２】
この態様によれば、例えば、接合体を成形型内に挿入して樹脂で覆う場合に、半導体素子部の第２面と成形型とにクリアランスを設けることができるので、接合体を構成する各部品の寸法のバラつきによる半導体素子部の第２面と成形型との干渉を防止できる。【００１３】
本発明の一態様として、前記第２接合工程では、前記樹脂の耐熱温度以下であり、かつ、前記第１電極板の第１面と前記半導体素子部の第１面とを接合する第１接合材の融点以下の温度に、前記封止接合体を加熱すること、が好ましい。【００１４】
この態様によれば、樹脂が変質することなく、また、第１電極板や半導体素子部と樹脂とが剥離することなく、さらに、第１接合材が溶融・変質することなく、半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とを接合することができる。【００１５】
本発明の一態様として、前記第２接合工程では、前記第２電極板に第１面と第２面とを貫通する貫通穴を設けておき、前記貫通穴から前記半導体素子部の第２面と前記第２電極板の第１面とを接合する第２接合材を供給すること、が好ましい。【００１６】
この態様によれば、貫通穴から容易に半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面との間に第２接合材を供給することができる。
また、余分な第２接合材は貫通穴から溢れるので、第２接合材の供給量の制御精度を緩和できる。【００１７】
本発明の一態様として、前記第２接合工程では、前記第２電極板を前記半導体素子部の第２面と前記第２電極板の第１面とを接合する第２接合材の融点以上に加熱しておき、前記第２接合材を前記第２電極板の第１面に付与すること、が好ましい。【００１８】
この態様によれば、第２電極板の第１面に第２接合材を付与することにより、容易に第２接合材を溶融させたまま、半導体素子部の第２面に第２接合材を密着させて半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とを接合することができる。【００１９】
本発明の一態様として、前記封止工程では、前記第１電極板と前記半導体素子部との配列方向にて前記樹脂の面よりも前記半導体素子部の第２面が凹むように前記封止接合体に凹部を形成し、前記第２接合工程では、前記凹部に前記半導体素子部の第２面と前記第２電極板の第１面とを接合する接合層を形成すること、が好ましい。【００２０】
この態様によれば、封止接合体と上面電極板との間に隙間を設けることなく半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とを接合することができるので、上面電極板が外力を受けても半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とを接合する接合層が維持される。【００２１】
上記課題を解決するためになされた本発明の一態様は、第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とを接合する第１接合工程を有する半導体装置の製造方法において、前記第１接合工程により形成された前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより封止接合体を形成する封止工程と、前記封止接合体における前記半導体素子部の第２面に第２電極板の第１面に設けられた凸部を圧接する圧接工程と、を有することを特徴とする。【００２２】
この態様によれば、封止工程では接合体に第２電極板が圧接されていないので、樹脂が収縮しても樹脂内で発生する応力は解放され、第１電極板や半導体素子部と樹脂とが剥離せず、半導体装置の信頼性が向上する。
また、ポリアミド樹脂やポリイミド樹脂などのコーティング樹脂を付与しなくてもよいので、製造コストが抑制され、かつ製造作業の煩雑さが軽減される。
さらに、半導体素子部の第２面に第２電極板の第１面に設けられた凸部を圧接することにより、半導体素子部と第２電極板を接続できるので、半導体素子部と第２電極板とを接合するための接合材や加熱工程が不要になり、製造コストを抑制することができる。【００２３】
本発明の一態様として、前記半導体素子部と前記第２電極板との間に放熱材を付与する放熱材付与工程を有すること、が好ましい。【００２４】
この態様によれば、大電流の通電により半導体素子部で発生する熱は放熱材により半導体素子部から第２電極板へ放熱されるので、半導体素子部と第２電極板の間で大電流を通電させることができる。【００２５】
上記課題を解決するためになされた本発明の一態様は、第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とが接合し、前記半導体素子部の第２面と第２電極板の第１面とが接合する半導体装置において、前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより形成された封止接合体を有し、前記封止接合体の樹脂部分は前記第２電極板の第１面に接着しておらず、かつ前記半導体素子部と前記第２電極板との配列方向にて前記第２電極板の第１面の位置よりも前記半導体素子部が配置される側の位置に設けられていること、を特徴とする。【００２６】
本発明の一態様として、前記第２電極板は、第１面と第２面とを貫通する貫通穴を備えること、が好ましい。【００２７】
本発明の一態様として、前記封止接合体は、前記第１電極板と前記半導体素子部との配列方向にて前記樹脂の面よりも前記半導体素子部の第２面が凹むように形成された凹部を備え、前記凹部に前記半導体素子部の第２面と前記第２電極板の第１面とを接合する接合層が形成されていること、が好ましい。【００２８】
上記課題を解決するためになされた本発明の一態様は、第１電極板の第１面と半導体素子部の第１面とが接合する半導体装置において、前記半導体素子部の第２面に圧接する凸部が形成された第１面を備えた第２電極板と、前記第１電極板と前記半導体素子部との接合体における面のうち前記第１電極板の第２面と前記半導体素子部の第２面とを除いた封止面を樹脂で覆うことにより形成された封止接合体とを有し、前記封止接合体の樹脂部分は前記第２電極板の第１面に接着しておらず、かつ前記半導体素子部と前記第２電極板との配列方向にて前記第２電極板の第１面の位置よりも前記半導体素子部が配置される側の位置に設けられていること、を特徴とする。
【発明の効果】
【００２９】
本発明に係る半導体装置の製造方法および半導体装置によれば、製造作業の煩雑さを軽減し、かつ製造コストを抑制しつつ、半導体装置の信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】半導体装置の上面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】実施例１の製造方法を示す図である。
【図４】実施例１の製造方法を示す図である。
【図５】実施例１の製造方法を示す図である。
【図６】実施例１の製造方法の変形例を示す図である。
【図７】実施例１の製造方法の変形例を示す図である。
【図８】実施例１の製造方法の変形例を示す図である。
【図９】実施例１の製造方法の変形例を示す図である。
【図１０】実施例２の製造方法を示す図である。
【図１１】実施例２の製造方法を示す図である。
【図１２】実施例２の製造方法を示す図である。
【図１３】実施例２の製造方法の変形例を示す図である。
【図１４】実施例２の製造方法の変形例を示す図である。
【図１５】上面電極板とブロック電極板との接合部分を示す図である。
【図１６】実施例３の製造方法を示す図である。
【図１７】実施例３の製造方法を示す図である。
【図１８】実施例４の製造方法を示す図である。
【図１９】実施例４の製造方法を示す図である。
【図２０】実施例４の製造方法を示す図である。
【図２１】実施例４の製造方法における積層パワーモジュールの一部における平面図である。
【図２２】図２１のＢ−Ｂ断面図である。
【図２３】実施例４の製造方法により製造された半導体装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明を具体化した形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、半導体装置の構成概要について説明する。図１は半導体装置の上面図を示し、図２は図１のＡ−Ａ断面図を示す。図１と図２とに示すように、半導体装置１は、主に、素子下電極板１０、パワー素子１２、上面電極板１４、ブロック電極板１６、制御用端子１８、封止樹脂２０、制御用配線２２などを有する。
【００３２】
素子下電極板１０は、略矩形平板状に形成され、バスバー２４が設けられている。
パワー素子１２は、半導体素子部を構成する一例であって、大電力をスイッチングする半導体スイッチング素子であり、本実施例では、パワー素子１２としてＩＧＢＴ２６（トランジスタ）やダイオード２８を備えている。なお、図２では、このパワー素子１２のうちＩＧＢＴ２６を代表して示している。パワー素子１２の両面には不図示の電極が設けられ、素子下電極板１０の内面３０（本発明における第１電極板の第１面の一例）がはんだ層３２によってパワー素子１２の面３３（本発明における半導体素子部の第１面の一例）の電極に接合されている。
【００３３】
上面電極板１４は、略矩形平板状に形成され、バスバー３８が設けられている。この上面電極板１４の内面４０（本発明における第２電極板の第１面の一例）は、はんだ層４２によってブロック電極板１６の面４４（本発明における半導体素子部の第２面の一例）に接合されている。また、後述するように、上面電極板１４をブロック電極板１６の面４４に圧接させてもよい。これにより、上面電極板１４とブロック電極板１６とが、電気的および熱的に接続している。また、後述するように、上面電極板１４に貫通穴６２（図１２参照）を設けてもよい。
【００３４】
ブロック電極板１６は、パワー素子１２とともに半導体素子部を構成する一例であって、矩形ブロック状に形成され、その面３４がはんだ層３６によってパワー素子１２の面３７の電極に接合されている。本実施例では、ブロック電極板１６の面３４の面積は、ＩＧＢＴ２６やダイオード２８の面積よりも小さく、例えばＩＧＢＴ２６とブロック電極板１６との接合面積はＩＧＢＴ２６の電極とほぼ同じ大きさとなっている。
【００３５】
ＩＧＢＴ２６の端部には、複数の制御用電極（不図示）が設けられ、この各制御用電極に制御用配線２２の一端が接続されている。制御用配線２２の他端は、制御用端子１８に接続されている。制御用配線２２には、例えば、アルミボンディングワイヤーを用いる。
素子下電極板１０、上面電極板１４、ブロック電極板１６、制御用端子１８は、銅板であり、さらにニッケルめっきを施してもよい。あるいは、ニッケルめっきを施したアルミ板であってもよい。
【００３６】
封止樹脂２０は、液状の熱硬化性樹脂が硬化したものであり、素子下電極板１０の外面４６（本発明における第１電極板の第２面の一例）とブロック電極板１６の面４４の部分を除いて、素子下電極板１０とはんだ層３２とパワー素子１２とはんだ層３６とブロック電極板１６の面（本発明における封止面の一例）を覆うことにより、素子下電極板１０と上面電極板１４との間の空間と、素子下電極板１０の周囲の空間とを封止している。封止樹脂２０には、例えば、エポキシ樹脂を使用する。
以上が、半導体装置の構成概要についての説明であり、以下、半導体装置の製造方法について説明する。
【００３７】
〔実施例１〕
図３〜図５は、実施例１の製造方法を示す図である。図３〜図５では、パワー素子１２のうちＩＧＢＴ２６の部分の断面を示しているが、ダイオード２８の部分の断面についても以下の内容と同様に説明できるものとする。
【００３８】
まず、図３に示すように、素子下電極板１０の内面３０とパワー素子１２の面３３とをはんだ接合し（本発明における第１接合工程の一例）、また、パワー素子１２の面３７とブロック電極板１６の面３４とをはんだ接合する。これにより、素子下電極板１０、はんだ層３２、パワー素子１２、はんだ層３６、ブロック電極板１６の順に積層させる。また、ＩＧＢＴ２６の端部に設けられた制御用電極（不図示）と制御用端子１８とを、制御用配線２２により接続する。以上により、図３に示すような接合体５０を形成する。
【００３９】
次に、図４に示すように、トランスファーモールドまたはポティング封止などにより、接合体５０の周囲を封止樹脂２０で覆うことにより、接合体５０の周囲の空間を封止樹脂２０で封止する。このとき、素子下電極板１０の外面４６を封止樹脂２０で覆わないようにする。
【００４０】
特に、トランスファーモールドの場合、成形型内に液状樹脂を注入する際に、素子下電極板１０の外面４６を成形型に密着させて、素子下電極板１０の外面４６に液状樹脂が回り込まないようにする。これにより、素子下電極板１０の外面４６が封止樹脂２０で覆われない。また、ブロック電極板１６の面４４と成形型との間には十分なクリアランスを設けておき、液状樹脂が回り込むようにして、ブロック電極板１６の面４４が封止樹脂２０で覆われるようにする。これにより、接合体５０を構成する各部品の高さのばらつきにより接合体５０と成形型とが干渉することを防止できる。
【００４１】
ここで、高温の液状樹脂が硬化して封止樹脂２０となる際に、硬化収縮や熱収縮により封止樹脂２０が収縮するが、接合体５０には上面電極板１４が未だ接合されておらず、封止樹脂２０の面５２は解放されている。そのため、封止樹脂２０が収縮する際に発生する応力は解放され、素子下電極板１０と封止樹脂２０との接着部分に剥離を促すような応力が印加されない。したがって、素子下電極板１０と封止樹脂２０との接着部分で剥離が生じない。なお、パワー素子１２と封止樹脂２０との間の接着部分や、ブロック電極板１６と封止樹脂２０との間の接着部分においても、同様に、剥離が生じない。
【００４２】
次に、図５に示すように、ブロック電極板１６の面４４が露出する高さになるまで、ブロック電極板１６の面４４側に存在する封止樹脂２０を研削して除去する。以上のような図４および図５に示すように、封止接合体５４を形成する（本発明における封止工程の一例）。
【００４３】
次に、封止接合体５４におけるブロック電極板１６の面４４に上面電極板１４を接合する（本発明における第２接合工程の一例）。これにより、前記の図２に示すような半導体装置１が製造される。図２に示す例では、上面電極板１４とブロック電極板１６との間の接合方法としてはんだ接合を行い、はんだ層４２を形成している。
【００４４】
なお、ブロック電極板１６の面４４に上面電極板１４を接合するに際しては、上面電極板１４とブロック電極板１６とを電気的および熱的に接合させる。そして、接合時においては、封止樹脂２０が変質しないように注意する。また、ブロック電極板１６と封止樹脂２０との間の接着部分や、パワー素子１２と封止樹脂２０との間の接着部分や、素子下電極板１０と封止樹脂２０との間の接着部分が剥離しないように注意する。また、はんだ層３２やはんだ層３６が溶融・変質しないように注意する。
【００４５】
本実施例では、はんだ層４２において、はんだ層３２やはんだ層３６で使用するはんだよりも融点が低く、かつ封止樹脂２０の耐熱温度以下の融点である低融点はんだを使用することが考えられる。これにより、接合時において封止樹脂２０が変質したり、封止接合体５４を構成する各部品と封止樹脂２０との間の接着部分が剥離したり、はんだ層３２やはんだ層３６が溶融・変質したりしない。
【００４６】
その他、上面電極板１４とブロック電極板１６との間の接合方法としては、超音波接合による接合方法、導電性接着剤を用いて接着させる接合方法、Ａｇナノ粒子接合法や酸化銀マイクロ粒子接合法による接合方法、ネジ締結やリベット接合による接合方法なども考えられる。
【００４７】
このように、本実施例では、ブロック電極板１６に上面電極板１４を接合していない状態の接合体５０の周囲の空間を封止樹脂２０により封止して封止接合体５４を形成した後に、ブロック電極板１６に上面電極板１４を接合している。そのため、封止樹脂２０の収縮による素子下電極板１０と封止樹脂２０との接着部分での剥離を防止できる。なお、同様に、パワー素子１２と封止樹脂２０との間の接着部分での剥離や、ブロック電極板１６と封止樹脂２０との間の接着部分での剥離についても防止できる。
【００４８】
また、本実施例では、ブロック電極板１６に上面電極板１４を接合していない状態で封止接合体５４を形成しているので、上面電極板１４の内面４０に封止樹脂２０が接着していない。そのため、半導体装置１の製造過程や半導体装置１の使用環境下における冷熱サイクルにおいて、封止樹脂２０が収縮しても、素子下電極板１０と上面電極板１４との間の封止樹脂２０で応力を内包しない。したがって、素子下電極板１０やパワー素子１２やブロック電極板１６などにおいて、封止樹脂２０との剥離を防止できる。
【００４９】
ゆえに、ポリアミド樹脂やポリイミド樹脂などのコーティング樹脂を付与しなくても、素子下電極板１０やパワー素子１２やブロック電極板１６などにおける封止樹脂２０との密着性を確保することができ、製造作業の煩雑さを軽減し、かつ製造コストの抑制を図りつつ半導体装置１の信頼性を向上させることができる。
【００５０】
また、本実施例では、封止樹脂２０は、ブロック電極板１６と上面電極板１４との配列方向にて上面電極板１４の内面４０の位置よりもブロック電極板１６が配置される側の位置に設けられ、上面電極板１４の内面４０の位置よりも外面４８（本発明における第２電極板の第２面の一例）側の位置には設けられていない。そのため、封止樹脂２０の使用量を軽減でき、封止樹脂コストの低減と半導体装置１の軽量化を図ることができる。
【００５１】
なお、半導体装置１を寒暖差の大きい使用環境下で使用する場合や、半導体装置１を大型化する場合には、熱応力が大きくなり、ブロック電極板１６などの各部品と封止樹脂２０との間の接着部分に剥離が生じるおそれがある。この場合には、剥離が生じやすい個所にポリアミド樹脂５６を付与しておくことが考えられる。
【００５２】
具体的には、前記の図３に示すように接合体５０を形成した後、図６に示すようにディスペンサ５８によりブロック電極板１６の周辺（ブロック電極板１６とパワー素子１２）にポリアミド樹脂５６を付与する。次に、図７に示すようにポリアミド樹脂５６を付与した接合体５９の周囲の空間を封止樹脂２０で封止した後に、図８に示すように封止樹脂２０とポリアミド樹脂５６とを研削してブロック電極板１６の面４４を露出させた封止接合体６１を形成し、図９に示すように上面電極板１４とブロック電極板１６とを接合させる。
これにより、半導体装置２が製造される。
【００５３】
ブロック電極板１６の周囲の封止樹脂２０には硬化収縮による応力が僅かに残り易く、半導体装置１の使用条件によってはブロック電極板１６と封止樹脂２０との間の接着部分で剥離が発生するおそれがある。そこで、図６〜図９に示すように、ブロック電極板１６の周辺にポリアミド樹脂５６を付与することにより、ブロック電極板１６と封止樹脂２０との間の接着部分の剥離の発生を確実に抑制することができる。尚、素子下電極板１０の上面３０と封止樹脂２０との密着性を上げるために、上面３０の広い領域にポリアミドを塗布してもよい。
【００５４】
また、本実施例では、上面電極板１４を接合していない状態の接合体５０に対し、ディスペンサ５８によりポリアミド樹脂５６の原液を滴下するだけで、容易にブロック電極板１６にポリアミド樹脂５６を付与することができる。また、ディスペンサ５８によりポリアミド樹脂５６をブロック電極板１６の周辺部分だけに限定して塗布することができるので、ポリアミド樹脂５６の使用量を最大限減らすことができる。また、ディスペンサ５８によりポリアミド樹脂５６の原液を滴下できるので、ポリアミド樹脂５６の原液が飛散しない。また、ディスペンサ５８によりポリアミド樹脂５６の原液を滴下できるので、滴下前のポリアミド樹脂５６の原液が外気に触れて吸湿することがなく、滴下前のポリアミド樹脂５６の原液に異物が付着して汚染されないことから、ディスペンサ５８内のポリアミド樹脂５６の原液をほぼ全部使用することができ、ポリアミド樹脂５６の材料コストを抑制することができる。さらに、ポリアミド樹脂５６の塗布面を垂直方向より直接目視できるので、ポリアミド樹脂５６の欠陥検査の作業性が良好である。
なお、ポリアミド樹脂５６の代わりにポリイミド樹脂を使用してもよい。
【００５５】
〔実施例２〕
図１０〜図１２は、実施例２の製造方法を示す図である。
実施例２では、実施例１の製造方法のうち、上面電極板１４とブロック電極板１６との間のはんだ接合の接合方法に特徴を有する。具体的には、図１０に示すように、封止接合体５４を予備加熱ヒータ６０により予備加熱しておく。このとき、はんだ層３２やはんだ層３６に使用したはんだの融点以下であって、かつ、封止樹脂２０の耐熱温度以下の温度で、予備加熱しておく。一例として、はんだ層３２やはんだ層３６に使用したはんだの融点が２３０℃以上２６０℃以下であって、封止樹脂２０の耐熱温度が１８０℃の場合には、封止接合体５４を１２０℃以上１８０℃未満の温度で予備加熱しておく。
【００５６】
そして、上面電極板１４を封止接合体５４に搭載する。なお、上面電極板１４も封止接合体５４に搭載する前に、不図示の予備加熱ヒータなどにより予備加熱しておき、封止接合体５４に搭載した後もホットエアなどで加熱しておくことが望ましい。
【００５７】
次に、図１１に示すように、上面電極板１４の内面４０と外面４８とを貫通する貫通穴６２からディスペンサ６３により溶融したはんだを供給する。このとき使用するはんだとして、はんだ層３２やはんだ層３６に使用したはんだと同じものを使用するか、あるいは、同等の融点のはんだを使用する。なお、一例として、はんだ層３２やはんだ層３６に使用したはんだの融点が２３０℃以上２６０℃以下の場合には、同じはんだを使用するか、同等の融点のはんだとして１４０℃以上２１０℃以下の融点のはんだを使用することが考えられる。
【００５８】
このようなはんだを溶融させた状態で貫通穴６２から供給すると、ブロック電極板１６の面４４の温度は貫通穴６２から供給したはんだの融点以下であるが、余熱により溶融状態のはんだが徐々に凝結しながら毛細管力によって上面電極板１４とブロック電極板１６との間に濡れ広がり、はんだ層４２が形成される。なお、余分なはんだは貫通穴６２から溢れ出るので、ディスペンサ６３によるはんだの供給量の制御精度を緩和することができる。
【００５９】
なお、ブロック電極板１６の面４４や上面電極板１４の面４０に酸化膜が形成されているとブロック電極板１６と上面電極板１４とのはんだ接合ができない。そこで、封止接合体５４の予備加熱及び、このはんだ付時の加熱は、窒素と水素とを混合させた還元性ガスの雰囲気中で行い、ブロック電極板１６の面４４の酸化膜を除去しておく。あるいは、封止樹脂５４で電位差が生じる部分は封止樹脂２０で封止され露出していなくて、上面電極板１４とブロック電極１６の面４４とのはんだ接合部付近に電位差が生じる部分が存在しないため、貫通穴６２から注入するはんだに予めフラックス材を含有させておくか、あるいは、予めブロック電極板１６の面４４にスプレーやはけでフラックス材を付与しておき、ブロック電極板１６の面４４の酸化膜を化学的に除去してもよい。
また、減圧下で脱気しながらはんだ層４２を形成すれば、はんだ層４２内におけるボイドの発生を防止することができる。
【００６０】
次に、上面電極板１４の外面４８の仕上げを行う。具体的には、貫通穴６２から上面電極板１４の外面４８に溢れ出た余分なはんだを、はんだの融点以上に熱したはんだコテで溶融させて除去するか、あるいは、切削機で切削して除去することが考えられる。これにより、図１２に示すように、半導体装置３が製造される。
【００６１】
このように本実施例では、はんだ層３２やはんだ層３６に使用したはんだの融点以下であって、かつ、封止樹脂２０の耐熱温度以下に、封止接合体５４を予備加熱しておき、はんだ層４２を形成する。そのため、はんだ層４２に、はんだ層３２やはんだ層３６に使用したはんだと同じはんだまたは、同等の融点のはんだを使用することができる。したがって、高価で接合性が低いおそれのある低融点はんだを使用する必要がないので、製造コストを抑制しつつ、はんだ層４２において高い接合性を実現することができる。
【００６２】
また、図１３〜図１５に示すような変形例も考えられる。まず、図１３に示すように、封止接合体５４を予備加熱ヒータ６０により図１０と同様に予備加熱しておく。その一方で、図１４に示すように、上面電極板１４の内面４０にはんだを付与し、加熱ヒータ６４により上面電極板１４をはんだの融点以上に加熱してはんだを溶融状態にしておく。なお、上面電極板１４の内面４０にはんだを付与するにあたっては、例えば、上面電極板１４の内面４０に溶融状態のはんだを滴下したり、上面電極板１４の内面４０にシート状のはんだを置くことなどが考えられる。
【００６３】
そして、封止接合体５４を予備加熱ヒータ６０により予備加熱した状態で、上面電極板１４を温度が下がらないようにホットエアなどで保温しながら短時間で反転させて、ブロック電極板１６の面４４に上面電極板１４の内面４０における溶融状態のはんだを重ね合わせて接合する。これにより、前記の図２に示すような半導体装置１が製造される。
【００６４】
このような変形例においても、はんだ層４２に、はんだ層３２やはんだ層３６に使用したはんだと同じはんだまたは、同等の融点のはんだを使用することができ、製造コストを抑制しつつ、はんだ層４２において高い接合性を実現することができる。
また、溶融状態のはんだが徐々に凝結しながら毛細管力によりブロック電極板１６の面４４と上面電極板１４の内面４０との間に濡れ広がることにより、はんだ層４２を形成することができる。
また、上面電極板１４に貫通穴６２を設ける必要がなくなり、さらに製造コストを抑制できる。
【００６５】
〔実施例３〕
ここで、封止接合体５４において、ブロック電極板１６の面４４と封止樹脂２０の面６６とが面一の場合や、ブロック電極板１６の面４４が封止樹脂２０の面６６よりも突出している場合を考える。すると、これらの場合において、ブロック電極板１６の面４４と上面電極板１４の内面４０との間にはんだ層４２を形成すると、図１５に示すように、上面電極板１４の内面４０と封止樹脂２０の面６６との間に隙間６８が生じる。そして、このような隙間６８が生じると、上面電極板１４が外力を受けたときに、図１５に示すような矢印方向の力が作用して、はんだ層４２に大きな応力が発生するおそれがある。
【００６６】
そこで本実施例では、図１６に示すように、封止接合体５４において、パワー素子１２とブロック電極板１６との配列方向にて面６６よりもブロック電極板１６の面４４が凹むように、封止樹脂２０の面６６に対しブロック電極板１６の面４４を低くして、凹み７０を設けておく。そして、この凹み７０内に、はんだ層４２を形成して上面電極板１４とブロック電極板１６とを接合する。
【００６７】
これにより、図１７に示すように、上面電極板１４の内面４０と封止樹脂２０の面６６との間に隙間６８が生じない。そのため、上面電極板１４が外力を受けても、はんだ層４２の面７２と封止樹脂２０の面６６とで支持されるので、はんだ層４２に大きな応力が発生しない。
【００６８】
なお、封止樹脂２０として、素子下電極板１０やブロック電極板１６とほぼ等しい線膨張係数の材料を使用することが望ましい。これにより、半導体装置の使用環境下における冷熱サイクルにおいて、封止樹脂２０の膨張・収縮による熱応力の発生が軽減され、素子下電極板１０やブロック電極板１６と封止樹脂２０との密着状態を維持することができ、かつ上面電極板１４とブロック電極板１６との間の接合状態を維持できる。
【００６９】
また、はんだ層４２の厚みを２００μｍよりも大きくすると、はんだ層４２に使用したはんだと封止樹脂２０との線膨張係数の差や、はんだ付時の凝固収縮の影響が大きくなる。そのため、半導体装置の使用環境下における冷熱サイクルにおいて、封止樹脂２０の膨張・収縮による熱応力の影響が大きくなり、上面電極板１４とブロック電極板１６との間の接合状態を維持できないおそれがある。したがって、凹み７０の厚みは、２００μｍ以下であることが望ましい。
【００７０】
また、封止樹脂２０に余分なはんだを逃がすためのポケット７４を設けておけば、余分なはんだが凹み７０から溢れ出て上面電極板１４の内面４０と封止樹脂２０の面６６との間に入り込むおそれがなくなる。
また、上面電極板１４と封止樹脂２０との間に不図示の接着剤を付与して、上面電極板１４と封止樹脂２０との間の密着性を強化してもよい。
【００７１】
また、封止樹脂２０にガラスや無機の硬い配合材を添加して封止樹脂２０の硬度を高めておくことが望ましい。これにより、ブロック電極板１６と封止樹脂２０とを同一条件で研削（例えば、フライス研削など）すれば、選択的にブロック電極板１６の切削量を封止樹脂２０の切削量よりも多くでき、容易に凹み７０を形成することができる。
【００７２】
〔実施例４〕
図１８〜図２１は、実施例４の製造方法を示す図である。
本実施例では、実施例１と異なる点として上面電極板１４とブロック電極板１６との間を接合させずに、ブロック電極板１６に上面電極板１４を圧接させることにより半導体装置１を形成している。
【００７３】
具体的には、図１８に示すように、まず、封止接合体５４において、ブロック電極板１６の面４４と、ブロック電極板１６の面４４の周辺部分の封止樹脂２０の面６６とに、ハケ塗り、ディスペンス塗布、スクリーン又はメタルマスク印刷により放熱用シリコーングリス７６を付与する（本発明における放熱材付与工程の一例）。
【００７４】
次に、図１９に示すように、放熱用シリコーングリス７６が付与されたブロック電極板１６の面４４側に上面電極板１４を配置する。このとき、上面電極板１４の内面４０には凸部７８を設けておく。
【００７５】
次に、図２０に示すように、この圧接前接合体８２を両面冷却器における各冷却チューブ８４の間に挿入する。このとき、上面電極板１４の外面４８と素子下電極板１０の外面４６に放熱用シリコーングリス（不図示）を付与した上に絶縁基板８０を配置し、さらに、絶縁基板８０にも放熱用シリコーングリス（不図示）を付与しておく。
【００７６】
次に、図２１と図２２に示すように、各冷却チューブ８４をハウジング８８に搭載し、積層パワーモジュール９０を製造する。このとき、積層パワーモジュール９０において、不図示のバネにより各冷却チューブ８４を加圧する。これにより、圧接前接合体８２に外力が加わって、上面電極板１４の凸部７８が放熱用シリコーングリス７６を突き破ってブロック電極板１６に圧接する（本発明における圧接工程の一例）。これにより、圧接前接合体８２から、図２３に示すような半導体装置４が製造される。なお、図２１は積層パワーモジュール９０の一部における平面図であり、図２２は図２１のＢ−Ｂ断面図である。
【００７７】
このように、本実施例では、上面電極板１４に凸部７８を設けてブロック電極板１６に圧接させることにより、上面電極板１４とブロック電極板１６とを電気的および熱的に接続させることができる。
【００７８】
また、上面電極板１４とブロック電極板１６とを接合するための接合材や加熱工程が不要になり、製造コストを抑制することができる。また、大電流の通電によりブロック電極板１６で発生する熱は放熱用シリコーングリス７６によりブロック電極板１６から上面電極板１４へ放熱されるので、上面電極板１４とブロック電極板１６との間で大電流を通電させることができる。なお、上面電極板１４とブロック電極板１６との間の接続部分で発生する熱量が小さい場合には、放熱用シリコーングリス７６を付与しない実施例も考えられる。
【００７９】
また、上面電極板１４に凸部７８を設けてブロック電極板１６に圧接させる際には、上面電極板１４とブロック電極板１６との導通を阻害しないように注意しながら上面電極板１４の内面４０と封止樹脂２０の面６６との間に接着剤を付与して、仮固定しておいてもよい。これにより、上面電極板１４とブロック電極板１６との相対的な位置ズレの発生を防止できる。
【００８０】
なお、上面電極板１４の凸部７８の高さが５０μｍよりも大きくなると、上面電極板１４とブロック電極板１６との間に存在する放熱用シリコーングリス７６の熱抵抗が大きくなり、パワー素子１２の放熱を阻害するおそれがある。一方、上面電極板１４の凸部７８の高さが数μｍよりも小さくなると、放熱用シリコーングリス７６に配合される熱伝導性を備えた不図示の無機フィラーのほうが大きくなり、上面電極板１４とブロック電極板１６との間に無機フィラーが挟まって、上面電極板１４をブロック電極板１６に圧接できないおそれがある。そのため、上面電極板１４の凸部７８の高さは、数μｍ以上５０μｍ以下とすることが望ましい。
【００８１】
また、確実に放熱用シリコーングリス７６を突き破ることができ、かつ、ブロック電極板１６との接点における通電に伴う異常発熱を抑制できるように、上面電極板１４の凸部７８は、１ｍｍ×１ｍｍ〜８ｍｍ×８ｍｍ程度の範囲内に設定することが望ましい。また、上面電極板１４の凸部７８の先端は、円錐形であることが望ましい。また、上面電極板１４の凸部７８は、１個の上面電極板１４につき１個に限らず、２個以上の複数個設けてもよい。このような上面電極板１４の凸部７８は、鍛造や研削やエッチングで容易に成形することができる。また、アルミや金などのワイヤボンディングや、高電気伝導度の金属片を超音波接合や導電性樹脂、ろう付、圧入等で形成することが可能である。
【００８２】
尚、放熱用シリコーングリス７６の代わりに、導電性ペーストを付与してもよい。また、上面電極板１４の凸部７８の部分をくり抜いたカーボンシートを使用してもよい。カーボンシートとしては、特に、カーボン繊維を厚さ方向に揃えて、厚さ方向の熱伝導性を改善したものが好ましい。
【００８３】
また、封止樹脂２０に余分な放熱用シリコーングリス７６を逃がすためのポケット８６（図２３参照）を設けておけば、余分な放熱用シリコーングリス７６が溢れ出て上面電極板１４の内面４０と封止樹脂２０の面６６との間に入り込まない。これにより、上面電極板１４と封止樹脂２０との間の密着性を確実に維持でき、圧接前接合体８２の圧接後の厚さばらつきを低減することができる。
【００８４】
また、本実施例では、実施例１と同様に以下の効果も有する。
ブロック電極板１６に上面電極板１４を圧接していない状態の接合体５０の周囲を封止樹脂２０により封止して封止接合体５４を形成した後に、ブロック電極板１６に上面電極板１４を圧接している。そのため、封止樹脂２０の収縮による素子下電極板１０と封止樹脂２０との接着部分での剥離を防止できる。なお、同様に、パワー素子１２と封止樹脂２０との間の接着部分での剥離や、ブロック電極板１６と封止樹脂２０との間の接着部分での剥離についても防止できる。
【００８５】
また、本実施例では、ブロック電極板１６に上面電極板１４を圧接していない状態で封止接合体５４を形成しているので、上面電極板１４に封止樹脂２０が接着していない。そのため、半導体装置４の製造過程や半導体装置４の使用環境下における冷熱サイクルにおいて、封止樹脂２０が収縮しても、素子下電極板１０と上面電極板１４との間の封止樹脂２０で応力を内包しない。したがって、素子下電極板１０やパワー素子１２やブロック電極板１６などにおいて、封止樹脂２０との剥離を防止できる。
【００８６】
ゆえに、ポリアミド樹脂やポリイミド樹脂などのコーティング樹脂を付与しなくても、素子下電極板１０やパワー素子１２やブロック電極板１６などにおける封止樹脂２０との密着性を確保することができ、製造作業の煩雑さを軽減し、かつ製造コストの抑制を図りつつ半導体装置４の信頼性を向上させることができる。
【００８７】
また、封止樹脂２０は、ブロック電極板１６と上面電極板１４との配列方向にて上面電極板１４の内面４０の位置よりもブロック電極板１６が配置される側の位置に設けられ、上面電極板１４の内面４０の位置よりも外面４８側の位置には設けられていない。そのため、封止樹脂２０の使用量を軽減でき、半導体装置４の軽量化を図ることができる。
【００８８】
なお、上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。
【符号の説明】
【００８９】
１    半導体装置
１０  素子下電極板
１２  パワー素子
１４  上面電極板
１６  ブロック電極板
１８  制御用端子
２０  封止樹脂
２２  制御用配線
２６  ＩＧＢＴ
２８  ダイオード
３０  内面
３２  はんだ層
３３  面
３４  面
３６  はんだ層
３７  面
３８  バスバー
４０  内面
４２  はんだ層
４４  面
４６  外面
４８  外面
５０  接合体
５２  面
５４  封止接合体
５６  ポリアミド樹脂
５８  ディスペンサ
５９  接合体
６０  予備加熱ヒータ
６１  封止接合体
６２  貫通穴
６４  加熱ヒータ
６６  面
７０  凹み
７２  面
７６  放熱用シリコーングリス
７８  凸部
８２  圧接前接合体
８４  冷却チューブ
【図１】
2011092859.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【国際調査報告】
2011092859.tif 000026
2011092859.tif 000027