(57)【要約】  本発明は、下式（１）で表される化合物を含むジオール成分と、含フッ素カーボネートとを溶融重縮合する、ポリカーボネートの製造方法に関する。    【化１】2011062104.tif 000031ただし、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のシクロアルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、２つのＲ１および２つのＲ２は互いに同一であっても異なってもよく、Ｘは、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数６〜１０のシクロアルキレン基、または炭素数６〜１０のアリーレン基であり、複数のＸは同一であっても異なってもよく、ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜５の整数である。
2011062104.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（１）で表される化合物を含むジオール成分と、含フッ素カーボネートとを溶融重縮合する、ポリカーボネートの製造方法。
【化１】
2011062104.tif 000024
ただし、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のシクロアルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、２つのＲ１および２つのＲ２は互いに同一であっても異なってもよく、
Ｘは、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数６〜１０のシクロアルキレン基、または炭素数６〜１０のアリーレン基であり、複数のＸは同一であっても異なってもよく、
ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜５の整数である。
【請求項２】
前記含フッ素カーボネートが、下式（４）で表される化合物、下式（５）で表される化合物、下式（６）で表される化合物、下式（７）で表される化合物、および下式（８）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の含フッ素カーボネートを含む、請求項１に記載のポリカーボネートの製造方法。
【化２】
2011062104.tif 000025
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、２つのＲ８は同一であっても異なってもよく、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、２つのＲ９は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、２つのＲ１０は同一であっても異なってもよく、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、Ａ１〜Ａ３がそれぞれ複数存在する場合、それぞれのＡ１〜Ａ３は同一であっても異なってもよく、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、Ｂ１〜Ｂ３がそれぞれ複数存在する場合、それぞれのＢ１〜Ｂ３は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、Ｒｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。
【化３】
2011062104.tif 000026
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、
Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、Ｒｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。
【化４】
2011062104.tif 000027
ただし、Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、２つのＲ１４は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１５は同一であっても異なってもよい。
【化５】
2011062104.tif 000028
ただし、Ｒ１６〜Ｒ２０は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１６、２つのＲ１７、２つのＲ１８、２つのＲ１９、および２つのＲ２０はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
各ベンゼン環において、Ｒ１６〜Ｒ２０の少なくとも１つがフッ素原子を有し、
アルキル基、フルオロアルキル基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。
【化６】
2011062104.tif 000029
ただし、Ｒ１６〜Ｒ２０は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１６、２つのＲ１７、２つのＲ１８、２つのＲ１９、および２つのＲ２０はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
Ｒ２１は、炭素数１〜６のアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ２１は同一であっても異なってもよく、
分子内には少なくとも１つのフッ素原子を有する。
【請求項３】
触媒の存在下に、前記ジオール成分と含フッ素カーボネートとを溶融重縮合する、請求項１または２に記載のポリカーボネートの製造方法。
【請求項４】
前記触媒が、塩基性触媒、または該塩基性触媒の構造を有するイオン交換樹脂である、請求項３に記載のポリカーボネートの製造方法。
【請求項５】
前記触媒が、金属の単体、金属酸化物、金属水酸化物、金属水素化物、金属酢酸塩、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属ハロゲン塩、金属アミド化物、金属アルコラート、金属フェノラートからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項３に記載のポリカーボネートの製造方法。
【請求項６】
前記含フッ素カーボネートが、下式（９）で表される化合物および下式（１０）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の含フッ素アルコールを出発物質として用いる反応によって得られる、請求項２に記載のポリカーボネートの製造方法。
【化７】
2011062104.tif 000030
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、
Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、一分子中にＲｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。
【請求項７】
前記含フッ素アルコールの炭素数が、２〜１０である、請求項６に記載のポリカーボネートの製造方法。
【請求項８】
前記含フッ素アルコールのｐＫａが、１５未満である、請求項６または７に記載のポリカーボネートの製造方法。
【請求項９】
前記含フッ素アルコールのｐＫａが、１０未満である、請求項６または７に記載のポリカーボネートの製造方法。
【請求項１０】
前記含フッ素アルコールが、２，２，３，３，−テトラフルオロプロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、ペルフルオロ（ｔ−ブチル）アルコール、および２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキサノールからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項６〜９のいずれか１項に記載のポリカーボネートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネートは、透明性、耐熱性、機械的特性等に優れることから、様々な光学材料に利用されている。光学フィルム、光学ディスク、光学プリズム、ピックアップレンズ等に用いられる光学材料においては、複屈折が大きいと、材料内部を透過した光線の結像点がぼやけ、情報の読み取りエラー等の様々な問題を生じることが知られている。そのため、複屈折の小さいポリカーボネートが要望されている。【０００３】
複屈折の小さいポリカーボネートとしては、たとえば、下記のものが提案されている。
（１）側鎖方向に、分極率の大きいフルオレン構造を有するビスフェノール類を用いた全芳香族ポリカーボネート（特許文献１、２）。
（２）光弾性定数の低下を目的として、側鎖方向に分極率の大きいフルオレン構造を有し直鎖方向にフェノール骨格を有するエーテルジオール類のホモポリカーボネート、あるいはそれらとビスフェノール類との共重合体（特許文献３、４）。
（３）側鎖方向に分極率の大きいフルオレン構造を有するビスフェノール類と特定構造を有する脂肪族環状ジオールとの共重合体（特許文献５）。
（４）押出成形、射出成形および延伸加工を行っても複屈折の発生の小さいポリカーボネートとして、フルオレン構造を有し直鎖方向にフェノール骨格を有するエーテルジオール類と特定構造を有する脂肪族環状ジオールとの共重合体（特許文献６）。【０００４】
（１）〜（４）のポリカーボネートは、透明性が高く、かつ光弾性定数が低いことから、光学材料として期待される。
ところで、（１）〜（４）のポリカーボネートは、通常、炭酸ジフェニルとジオールモノマーとの溶融重縮合により製造される。しかし、炭酸ジフェニルを用いた場合、エステル交換反応の進行に伴い系内から抜き出されるフェノールの沸点が高いことから、重縮合温度を高く設定せざるを得ないという制約がある。そのため、ジオールモノマーの熱分解による着色物質が生成し、ポリカーボネートの色相に悪影響を及ぼすことがある。そこで、ポリカーボネートを広く光学材料として用いるために、さらなる色相の向上が求められている。【０００５】
なお、エステル交換反応の進行に伴い系内から抜き出されるアルコールの沸点を下げ、低い重縮合温度においてポリカーボネートを製造する方法として、炭酸ビス−（β−フルオロアルキル）および２価フェノールを用いる重縮合法が検討されている（特許文献７）。
しかし、該方法では、２価フェノールのカーボネートポリマーの製造に留まっており、該２価フェノールのカーボネートポリマーは、透明性が高くかつ複屈折の小さいことが求められる光学材料としては不充分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】日本国特開平６−２５３９８号公報
【特許文献２】日本国特開平７−１０９３４２号公報
【特許文献３】日本国特開平１０−１０１７８７号公報
【特許文献４】日本国特開平１０−１０１７８６号公報
【特許文献５】日本国特開２０００−１６９５７３号公報
【特許文献６】日本国特開２００５−１４６１４０号公報
【特許文献７】日本国特開昭５５−１０２６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、優れた色相と高い屈折率を有するポリカーボネートを、低温で、かつ簡単なプロセスで製造できる方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のポリカーボネートの製造方法は、下式（１）で表される化合物を含むジオール成分と、含フッ素カーボネートとを溶融重縮合する。【０００９】
【化１】
2011062104.tif 000003
【００１０】
ただし、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のシクロアルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、２つのＲ１および２つのＲ２は互いに同一であっても異なってもよく、
Ｘは、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数６〜１０のシクロアルキレン基、または炭素数６〜１０のアリーレン基であり、複数のＸは同一であっても異なってもよく、
ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜５の整数である。【００１１】
前記含フッ素カーボネートは、下式（４）で表される化合物、下式（５）で表される化合物、下式（６）で表される化合物、下式（７）で表される化合物、および下式（８）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の含フッ素カーボネートを含むことが好ましい。【００１２】
【化２】
2011062104.tif 000004
【００１３】
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、２つのＲ８は同一であっても異なってもよく、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、２つのＲ９は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、２つのＲ１０は同一であっても異なってもよく、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、Ａ１〜Ａ３がそれぞれ複数存在する場合、それぞれのＡ１〜Ａ３は同一であっても異なってもよく、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、Ｂ１〜Ｂ３がそれぞれ複数存在する場合、それぞれのＢ１〜Ｂ３は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、Ｒｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。【００１４】
【化３】
2011062104.tif 000005
【００１５】
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、
Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、Ｒｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。【００１６】
【化４】
2011062104.tif 000006
【００１７】
ただし、Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、２つのＲ１４は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１５は同一であっても異なってもよい。【００１８】
【化５】
2011062104.tif 000007
【００１９】
ただし、Ｒ１６〜Ｒ２０は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１６、２つのＲ１７、２つのＲ１８、２つのＲ１９、および２つのＲ２０はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
各ベンゼン環において、Ｒ１６〜Ｒ２０の少なくとも１つがフッ素原子を有し、
アルキル基、フルオロアルキル基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。【００２０】
【化６】
2011062104.tif 000008
【００２１】
ただし、Ｒ１６〜Ｒ２０は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１６、２つのＲ１７、２つのＲ１８、２つのＲ１９、および２つのＲ２０はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
Ｒ２１は、炭素数１〜６のアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ２１は同一であっても異なってもよく、
分子内には少なくとも１つのフッ素原子を有する。【００２２】
本発明のポリカーボネートの製造方法においては、触媒の存在下に、前記ジオール成分と含フッ素カーボネートとを溶融重縮合することが好ましい。
前記触媒は、塩基性触媒、または該塩基性触媒の構造を有するイオン交換樹脂であることが好ましい。
前記触媒は、金属の単体、金属酸化物、金属水酸化物、金属水素化物、金属酢酸塩、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属ハロゲン塩、金属アミド化物、金属アルコラート、金属フェノラートからなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。【００２３】
前記含フッ素カーボネートは、下式（９）で表される化合物および下式（１０）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の含フッ素アルコールを出発物質として用いる反応によって得られるものであることが好ましい。【００２４】
【化７】
2011062104.tif 000009
【００２５】
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、
Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、一分子中にＲｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。【００２６】
前記含フッ素アルコールの炭素数は、２〜１０であることが好ましい。
前記含フッ素アルコールのｐＫａは、１５未満であることが好ましく、１０未満であることがより好ましい。
前記含フッ素アルコールは、２，２，３，３，−テトラフルオロプロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、ペルフルオロ（ｔ−ブチル）アルコール、および２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキサノールからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００２７】
本発明のポリカーボネートの製造方法によれば、優れた色相と高い屈折率を有するポリカーボネートを、低温で、かつ簡単なプロセスで製造できる。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本明細書においては、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
【００２９】
＜ポリカーボネートの製造方法＞
本発明のポリカーボネートの製造方法は、必要に応じて触媒の存在下に、化合物（１）を含むジオール成分と、含フッ素カーボネートとを溶融重縮合して、ポリカーボネートを得る方法である。
【００３０】
（ジオール成分）
ジオール成分は、化合物（１）を必須成分として含み、必要に応じて化合物（２）、化合物（３）、他のジオールを含む成分である。
【００３１】
化合物（１）は、下式（１）で表わされる化合物である。
【００３２】
【化８】
2011062104.tif 000010
【００３３】
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のシクロアルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基である。アルキル基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。シクロアルキル基、アリール基は、置換基としてアルキル基（好ましくは炭素数１〜４のアルキル基）を有していてもよい。２つのＲ１および２つのＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｘは、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数６〜１０のシクロアルキレン基、または炭素数６〜１０のアリーレン基である。アルキレン基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。シクロアルキレン基、アリーレン基は、置換基としてアルキル基（好ましくは炭素数１〜４のアルキル基）を有していてもよい。複数のＸは同一であっても異なってもよい。
ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜５の整数である。
【００３４】
化合物（１）としては、具体的には、下記の化合物が挙げられる。
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔ−ブチルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン等。
【００３５】
化合物（１）としては、安価で原料の調達が容易であるという点から、下記の化合物が好ましい。
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、
９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、  ９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン。
【００３６】
化合物（２）は、下式（２）で表わされる化合物である。
【００３７】
【化９】
2011062104.tif 000011
【００３８】
Ｙは、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数４〜２０のシクロアルキレン基である。アルキレン基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。シクロアルキレン基は、置換基としてアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基）を有していてもよい。
【００３９】
化合物（２）としては、具体的には、下記の化合物が挙げられる。
トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノール、
４，１０−ジメチルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノール、
４，４，１０，１０−テトラメチルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノール、
１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０−デカメチルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノール、
シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、
デカリン−２，６−ジメタノール、
２，３−ノルボルナンジメタノール、
２，５−ノルボルナンジメタノール、
ペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］ペンタデカンジメタノール、
ペンタシクロ［９．２．１．１４，７．０２，１０．０３，８］ペンタデカンジメタノール、
シクロペンタン−１，３−ジメタノール、
１，４−ブタンジオール、
１，５−ペンタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール等。
【００４０】
化合物（２）としては、ポリカーボネートの溶融粘度を低下させる効果が大きく、成型加工性を良化させる点から、下記の化合物が好ましい。
トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノール、
４，１０−ジメチルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノール、
４，４，１０，１０−テトラメチルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノール、
シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、
２，３−ノルボルナンジメタノール、
２，５−ノルボルナンジメタノール、
１，４−ブタンジオール、
１，５−ペンタンジオール。
【００４１】
化合物（３）は、下式（３）で表わされる化合物である。
【００４２】
【化１０】
2011062104.tif 000012
【００４３】
Ｚは、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数１〜６のフルオロアルキレン基、炭素数２〜６のアルキリデン基、炭素数６〜１０のシクロアルキレン基、炭素数６〜１０のシクロアルキリデン基、ケトン基、スルフィニル基、スルホニル基、酸素原子、または硫黄原子である。アルキレン基、フルオロアルキレン基、アルキリデン基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基は、置換基としてアルキル基（好ましくは炭素数１〜４のアルキル基）を有していてもよい。
Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、塩素原子、または臭素原子である。
【００４４】
化合物（３）としては、具体的には、下記の化合物が挙げられる。
ヒドロキノン、
レゾルシノール、
ジヒドロキシ−ジフェニル、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルフィド、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−エーテル、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケトン、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン、
α，α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン
ならびに、これらのアルキル化された誘導体、ハロゲン化された誘導体等。
【００４５】
化合物（３）としては、原料の供給性、熱安定性の点から、下記の化合物が好ましい。
２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〔ビスフェノールＡ〕、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン〔ビスフェノールＡＦ〕、
２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、
２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、
２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、
２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
２，４−ビス−（４，ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、
１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、
１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、
α，α’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、
α，α’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−α，α，α’，α’−テトラメチル−ｍ−キシレン、
α，α’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−α，α，α’，α’−テトラメチル−ｐ−キシレン、
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−スルフィド、
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−スルホン、
４，４’−ジヒドロキシジフェニル。
【００４６】
（含フッ素カーボネート）
含フッ素カーボネートとしては、ジオール成分とのエステル交換反応性の点から、化合物（４）、化合物（５）、化合物（６）、化合物（７）、化合物（８）からなる群から選ばれる少なくとも１種の含フッ素カーボネートが好ましい。
【００４７】
化合物（４）は、下式（４）で表わされる化合物である。
【００４８】
【化１１】
2011062104.tif 000013
【００４９】
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、２つのＲ８は同一であっても異なってもよく、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、２つのＲ９は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、２つのＲ１０は同一であっても異なってもよく、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、Ａ１〜Ａ３がそれぞれ複数存在する場合、それぞれのＡ１〜Ａ３は同一であっても異なってもよく、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、Ｂ１〜Ｂ３がそれぞれ複数存在する場合、それぞれのＢ１〜Ｂ３は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、Ｒｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。
アルキル基、フルオロアルキル基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。フルオロアリーレン基は、置換基としてアルキル基、フルオロアルキル基（好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、フルオロアルキル基）を有していてもよい。
【００５０】
化合物（５）は、下式（５）で表わされる化合物である。
【００５１】
【化１２】
2011062104.tif 000014
【００５２】
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、
Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、Ｒｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。
ペルフルオロアルキレン基、アルキル基、フルオロアルキル基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。フルオロアリーレン基は、置換基としてアルキル基、フルオロアルキル基（好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、フルオロアルキル基）を有していてもよい。
【００５３】
化合物（６）は、下式（６）で表わされる化合物である。
【００５４】
【化１３】
2011062104.tif 000015
【００５５】
ただし、Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、２つのＲ１４は同一であっても異なってもよく、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１５は同一であっても異なってもよい。
ペルフルオロアルキレン基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。
【００５６】
化合物（７）は、下式（７）で表わされる化合物である。
【００５７】
【化１４】
2011062104.tif 000016
【００５８】
ただし、Ｒ１６〜Ｒ２０は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１６、２つのＲ１７、２つのＲ１８、２つのＲ１９、および２つのＲ２０はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
各ベンゼン環において、Ｒ１６〜Ｒ２０の少なくとも１つがフッ素原子を有し、
アルキル基、フルオロアルキル基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。
【００５９】
化合物（８）は、下式（８）で表わされる化合物である。
【００６０】
【化１５】
2011062104.tif 000017
【００６１】
ただし、Ｒ１６〜Ｒ２０は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ１６、２つのＲ１７、２つのＲ１８、２つのＲ１９、および２つのＲ２０はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
Ｒ２１は、炭素数１〜６のアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数１〜６のフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、２つのＲ２１は同一であっても異なってもよく、
分子内には少なくとも１つのフッ素原子を有する。
アルキル基、フルオロアルキル基、アルキレン基、フルオロアルキレン基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。
【００６２】
化合物（４）〜（８）としては、具体的には、下記の化合物が挙げられる。
ビス−（２，２，２−トリフルオロエチル）カーボネート、
ビス−（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）カーボネート、
ビス−（２，２，３，３−テトラフルオロプロピル）カーボネート、
ビス−（１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル）カーボネート、
ビス−（２−フルオロプロピル）カーボネート、
ビス−（２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル）カーボネート、
ビス−（２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル）カーボネート、
ビス−（ペルフルオロ（ｔ−ブチル））カーボネート、
ビス−（２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンチル）カーボネート、
ビス−（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキシル）カーボネート、
ビス−（１，１，１−トリフルオロイソプロピル）カーボネート、
ビス−（２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル）カーボネート、
ビス−（３，４，５，６，７−ペンタフルオロフェニル）カーボネート等。
【００６３】
化合物（４）〜（８）としては、酸解離度の点から、下記の化合物が好ましい。
ビス−（２，２，３，３−テトラフルオロプロピル）カーボネート、
ビス−（１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル）カーボネート、
ビス−（ペルフルオロ（ｔ−ブチル））カーボネート、
ビス−（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキシル）カーボネート、
ビス−（３，４，５，６，７−ペンタフルオロフェニル）カーボネート。
【００６４】
含フッ素カーボネートは、ジオール成分の合計１モルに対して、０．９５〜１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、０．９７〜１．１５モルの比率で用いられることがより好ましい。
【００６５】
（含フッ素カーボネートの製造方法）
化合物（４）〜（６）は、化合物（９）および化合物（１０）からなる群から選ばれる少なくとも１種の含フッ素アルコールを出発物質として用いる反応によって得ることができる。
【００６６】
【化１６】
2011062104.tif 000018
【００６７】
ただし、Ｒ８は、フッ素原子、またはＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基であり、
Ｒ９は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基であり、
Ｒ１０は、水素原子、フッ素原子、またはＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基であり、
Ｒ１４は、水素原子、またはフッ素原子であり、
Ｒ１５は、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ａ１〜Ａ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｂ１〜Ｂ３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはＲｆであり、
Ｒ１１は、フッ素原子、Ｒｆ、またはＯＲｆであり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、Ｒｆ、ＯＲｆ、または炭素数１〜６のアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、
Ｒｆは、炭素数１〜４のフルオロアルキル基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）、または炭素数６〜１０のフルオロアリーレン基（ただし、エーテル性酸素を含んでもよい）であり、一分子中にＲｆが複数存在する場合、複数のＲｆは互いに同一であっても異なってもよい。
ペルフルオロアルキレン基、アルキル基、フルオロアルキル基は、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。フルオロアリーレン基は、置換基としてアルキル基、フルオロアルキル基（好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、フルオロアルキル基）を有していてもよい。
【００６８】
含フッ素アルコールとしては、エステル交換反応速度を向上させる点から、酸解離度が、化合物（１）〜（３）の酸解離度よりも高いものが好ましい。よって、水酸基のα位の炭素原子（以下、α炭素とも記す）にフルオロアルキル基が直接結合した化合物が好ましい。ただし、α炭素に直接フッ素原子が結合したアルコールは、脱ＨＦ反応による分解反応が起こりやすいため、好ましくない。
【００６９】
酸解離度の尺度としては、含フッ素アルコールのｐＫａを用いる。
含フッ素アルコールのｐＫａは、化合物（１）〜（３）よりも低いｐＫａ、すなわち１５未満が好ましく、１０未満がより好ましい。
【００７０】
化合物（９）としては、α炭素に結合するフルオロアルキル基が多いほど含フッ素アルコールの酸解離度が高くなることから、Ｒ８およびＲ９がＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基およびＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基である、すなわち２級または３級の含フッ素アルコールであることが好ましく、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０がそれぞれＣＡ１Ｂ１Ｒ１１で表される基、ＣＡ２Ｂ２Ｒ１２で表される基およびＣＡ３Ｂ３Ｒ１３で表される基である、すなわち３級の含フッ素アルコールであることがより好ましい。
【００７１】
含フッ素アルコールの炭素数は、２〜１０が好ましい。含フッ素アルコールの炭素数が２以上であれば、水酸基のα位に直接フッ素原子が結合していない安定な含フッ素アルコールを選択できる。含フッ素アルコールの炭素数が１０以下であれば、エステル交換反応時に解離する含フッ素アルコールを蒸留留去する際、穏和な条件で容易除去できる沸点となるため、エステル交換反応時に高い温度をかける必要がなく、品質の高いポリカーボネートを製造できる。
【００７２】
含フッ素アルコールとしては、具体的には、下記の化合物が挙げられる。
２，２，２−トリフルオロエタノール、
２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパノール、
２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、
１，１，１−トリフルオロ−２−プロパノール、
２−フルオロプロパノール、
２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブタノール、
２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブタノール、
２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンタノール、
ペルフルオロ（ｔ−ブチル）アルコール、
２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタノール、
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキサノール、
３，４，５，６，７−ペンタフルオロフェノール等。
【００７３】
含フッ素アルコールとしては、酸解離度の点から、下記の化合物が好ましい。
２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、
ペルフルオロ（ｔ−ブチル）アルコール、
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキサノール。
【００７４】
含フッ素アルコールを出発物質として用いる反応によって含フッ素カーボネートを得る具体的な方法としては、下記の（ａ）〜（ｃ）の方法が挙げられ、ホスゲン等の毒性の化合物を用いることなく、収率が高い点から、（ｃ）の方法が好ましい。
（ａ）ホスゲンと含フッ素アルコールとを反応させて、含フッ素カーボネートを得る方法。
（ｂ）ジアルキルカーボネートと含フッ素アルコールとのエステル交換反応によって、含フッ素カーボネートを得る方法。
（ｃ）触媒の存在下、化合物（１１）と含フッ素アルコールとを反応させて、含フッ素カーボネートを得る方法。
【００７５】
【化１７】
2011062104.tif 000019
【００７６】
ただし、Ｘ１１〜Ｘ１３は、それぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子であり、Ｘ１１〜Ｘ１３のうち少なくとも１つはハロゲン原子であり、Ｘ１４〜Ｘ１６は、それぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子であり、Ｘ１４〜Ｘ１６のうち少なくとも１つはハロゲン原子である。
Ｘ１１〜Ｘ１６は、すべてハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子または塩素原子がより好ましく、副生物としてクロロホルムが得られる点から、すべて塩素原子であることが最も好ましい。
【００７７】
化合物（１１）としては、具体的には、下記の化合物が挙げられる。
ヘキサクロロアセトン、
１,１,１,３,３−ペンタクロロアセトン、
１,１,２,２−テトラクロロアセトン、
１，１，２−トリクロロアセトン、
ヘキサフルオロアセトン、
１,１,１,３,３−ペンタフルオロアセトン、
１，１，３，３−テトラフルオロアセトン、
１，１，２−トリフルオロアセトン、
１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジフルオロアセトン、
１，１，１−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロアセトン、
１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラフルオロアセトン、
１,１,２,２−テトラブロモアセトン、
１,１,１,３,３−ペンタブロモアセトン、
ヘキサブロモアセトン等。
【００７８】
化合物（１１）としては、工業的に有用なクロロホルムを高収率で併産できる点から、ヘキサクロロアセトンが好ましい。
化合物（１１）のうち、クロロアセトン類は、日本国特公昭６０−５２７４１号公報、日本国特公昭６１−１６２５５号公報に記載された、アセトンを塩素化する方法により容易に製造できる。また、米国特許第６２３５９５０号明細書に記載された、クロロアセトン類をフッ化水素によってフッ素化する方法によって、容易に部分フッ素化化合物を製造できる。
【００７９】
含フッ素アルコールの最初の仕込みのモル数と、化合物（１１）の最初の仕込みのモル数との比（含フッ素アルコール／化合物（１１））は、含フッ素カーボネートの収率を向上させる点から、２．０超が好ましく、２．５以上がより好ましく、３．０以上が特に好ましい。
【００８０】
（ｃ）の方法で用いる触媒としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属；アルカリ金属水素化物、アルカリ土類金属水素化物；アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物；相間移動触媒；アルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ土類金属ハロゲン化物；アンモニアのハロゲン化物；イオン交換樹脂；スズ、チタン、アルミニウム、タングステン、モリブデン、ジルコニウムおよび亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の化合物または酸化物；エステル交換反応触媒等が挙げられる。
【００８１】
（ｃ）の方法で用いる触媒の量は、触媒によって種々選択されるが、基質に対して０．０１〜３０質量％が好ましく、反応活性および反応後の触媒除去工程を考慮すると、０．１〜１０質量％がより好ましい。
【００８２】
（ｃ）の方法においては、反応を促進させる目的で、溶媒を用いてもよい。ただし、反応器の容積効率、溶媒分離工程時の目的物のロスを考えると、可能であれば無溶媒で反応を実施することが好ましい。
（ｃ）の方法における反応温度は、４０〜２００℃が好ましい。
（ｃ）の方法における反応圧力は、通常は大気圧である。
【００８３】
（触媒）
本発明のポリカーボネートの製造方法において、必要に応じて用いられる触媒としては、重合反応の活性、ポリカーボネートの着色度を抑える点から、下記の（ｉ）または（ii）のグループから選ばれる触媒が好ましい。
（ｉ）塩基性触媒、または該塩基性触媒の構造を有するイオン交換樹脂。
（ii）金属の単体、金属酸化物、金属水酸化物、金属水素化物、金属酢酸塩、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属ハロゲン塩、金属アミド化物、金属アルコラート、金属フェノラートからなる群から選ばれる少なくとも１種。
【００８４】
（ｉ）のグループ：
塩基性触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素化合物等が挙げられる。
アルカリ金属化合物としては、アルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド等が挙げられる。
アルカリ土類金属化合物としては、アルカリ土類金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド等が挙げられる。
含窒素化合物としては、４級アンモニウムヒドロキシド、それらの塩、アミン類等が挙げられる。
塩基性触媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８５】
アルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム；炭酸水素ナトリウム；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム；ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム；水素化ホウ素ナトリウム；フェニル化ホウ素ナトリウム；安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム；リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム；フェニルリン酸二ナトリウム；ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二セシウム塩、二リチウム塩；フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が挙げられる。
【００８６】
アルカリ土類金属化合物としては、具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム；炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム；酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム；ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム；安息香酸カルシウム；フェニルリン酸マグネシウム等が挙げられる。
【００８７】
含窒素化合物としては、具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、トリウンデシルアミン、トリドデシルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類；２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が挙げられる。
【００８８】
塩基性触媒の構造を有するイオン交換樹脂としては、陰イオン型イオン交換樹脂が挙げられる。市販品としては、ダイヤイオン（登録商標）シリーズ（三菱化学社製）、アンバーライト（登録商標）シリーズ（ローム・アンド・ハース社製）、アンバーリスト（登録商標）シリーズ（ローム・アンド・ハース社製）等が挙げられる。
【００８９】
（ii）のグループ：
金属の単体としては、アルカリ金属の単体であるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、アルカリ土類金属の単体であるＣａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ等が挙げられる。
金属酸化物としては、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｓｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２等が挙げられる。
金属水酸化物としては、水酸化アルミニウム、水酸化マンガン、水酸化鉄（II）、水酸化銅（II）、水酸化亜鉛、水酸化ランタン、水酸化鉄（III）等が挙げられる。
金属水素化物としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等が挙げられる。
【００９０】
金属酢酸塩としては、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｃｄ、Ｃｏの酢酸塩等が挙げられる。
金属炭酸塩としては、炭酸鉄（II）、炭酸銅（II）、炭酸銀（Ｉ）等が挙げられる。
金属リン酸塩としては、アルカリ金属のリン酸塩、アルカリ土類金属のリン酸塩、アルカリ金属のフェニルリン酸塩、アルカリ土類金属のフェニルリン酸塩等が挙げられる。
金属ハロゲン塩としては、アルカリ金属のハロゲン塩、アルカリ土類金属のハロゲン塩が挙げられる。アルカリ金属のハロゲン塩としては、ＬｉＦ、ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＮａＦ、ＮａＣｌ、ＮａＢｒ、ＫＦ、ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＲｂＦ、ＲｂＣｌ、ＲｂＢｒ、ＣｓＦ、ＣｓＣｌ、ＣｓＢｒ等が挙げられる。アルカリ土類金属のハロゲン塩としては、ＢｅＦ２、ＢｅＣｌ２、ＢｅＢｒ２、ＣａＦ２、ＣａＣｌ２、ＣａＢｒ２、ＳｒＦ２、ＳｒＣｌ２、ＳｒＢｒ２等が挙げられる。
【００９１】
金属アミド化物としては、ＬｉＮＨ２、ＮａＮＨ２等のアルカリ金属アミド、Ｍｇ（ＮＨ２）２、Ｂａ（ＮＨ２）２、Ｃａ（ＮＨ２）２、Ｓｒ（ＮＨ２）２、Ｂｅ（ＮＨ２）２等のアルカリ土類金属アミド等が挙げられる。
金属アルコラートとしては、アルカリ金属のメタノール塩、アルカリ金属のエタノール塩、アルカリ金属のｔ−ブタノール塩等が挙げられる。
【００９２】
触媒は、ジオール成分の合計１モルに対して、１０−９〜１０−２モルの比率で用いられることが好ましく、１０−７〜１０−３モルの比率で用いられることがより好ましい。
【００９３】
（溶融重縮合）
溶融重縮合とは、加熱下、かつ常圧または減圧下にて、必要に応じて触媒の存在下に、無溶媒で化合物（１）を含むジオール成分と含フッ素カーボネートとをエステル交換反応させ、副生成物（含フッ素アルコール）を除去しながら行う反応である。
エステル交換反応は、条件を変えずに一段階で行ってもよく、条件を変えて二段階以上に分けて行ってもよい。
【００９４】
一段階で行う場合、温度：２００〜２６０℃（好ましくは１９０〜２５０℃）、反応時間：０．５〜５時間（好ましくは１〜４時間）、圧力：常圧〜１Ｔｏｒｒの条件で行う。
二段階以上で行う場合、具体的には、一段階目の反応を、温度：１１０〜２００℃（好ましくは１５０〜１９０℃）、反応時間：０．１〜４時間（好ましくは０．５〜２時間）、圧力：常圧〜２５０Ｔｏｒｒの条件で行う。ついで、１〜２時間かけて温度を最終温度である２２０〜２６０℃まで徐々に上昇させるととともに、圧力を徐々に最終圧力である１Ｔｏｒｒ以下まで減圧し、反応を継続する。最後に、温度：２２０〜２６０℃、圧力：１Ｔｏｒｒ以下の減圧下の条件でエステル交換反応を進め、所定の粘度に達したところで窒素によって復圧し、反応を終了する。圧力：１Ｔｏｒｒ以下における反応時間は０．１〜１時間であり、全体の反応時間は１〜５時間（通常２〜４時間）である。
【００９５】
エステル交換反応は、連続式で行ってもよく、バッチ式で行ってもよい。
エステル交換反応を行う際に用いられる反応装置としては、錨型撹拌翼、マックスブレンド撹拌翼、ヘリカルリボン型撹拌翼等を装備した縦型；パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型；スクリューを装備した押出機型；ワイヤー接触型の流下式重縮合機、ワイヤーを用いない流下式重縮合機等の落下式の縦型重縮合機等が挙げられる。反応装置は、系内の粘度を勘案して、２種以上を適宜組み合わせて用いることが好ましい。
【００９６】
（後処理）
熱安定性および加水分解安定性に優れる点から、得られたポリカーボネートに含まれる触媒を除去または失活させることが好ましい。
失活方法としては、触媒としてアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物等の塩基性触媒を用いた場合は、酸性物質により中和する方法が好ましい。
酸性物質としては、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、フェニルリン酸、フェニルホスフィン、フェニルホスフィン酸、フェニルホスホン酸、ジフェニルホスフェート、ジフェニルホスファイト、ジフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィンオキシド、ジフェニルホスフィン酸、モノメチルアシッドホスフェート、モノメチルアシッドホスファイト、ジメチルアシッドホスフェート、ジメチルアシッドホスファイト、モノブチルアシッドホスフェート、モノブチルアシッドホスファイト、ジブチルアシッドホスフェート、ジブチルアシッドホスファイト、モノステアリルアシッドホスフェート、ジステアリルアシッドホスフェート等のリン含有酸性化合物；ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸プロピル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ペンチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェニル、ｐ−トルエンスルホン酸フェネチル、ｐ−トルエンスルホン酸ナフチル等の芳香族スルホン酸化合物が挙げられる。
【００９７】
酸性物質の添加量は、塩基性触媒に対して、中和当量の１／５〜２０倍量が好ましく、１／２〜１０倍量がより好ましい。酸性物質の添加量が該範囲であれば、所望の効果が得られるとともに、ポリカーボネートの耐熱性、機械的物性の低下が抑えられる。
【００９８】
酸性物質以外の失活剤としては、芳香族スルホン酸ホスホニウム塩が挙げられる。
芳香族スルホン酸ホスホニウム塩としては、ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ｐ−トルエンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ブチルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、オクチルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩等が挙げられる。
【００９９】
芳香族スルホン酸ホスホニウム塩の添加量は、ポリカーボネートに対して１〜３００ｐｐｍが好ましく、１０〜１００ｐｐｍがより好ましい。芳香族スルホン酸ホスホニウム塩の添加量が該範囲であれば、所望の効果が得られるとともに、ポリカーボネートの耐熱性、機械的物性の低下が抑えられる。
【０１００】
触媒の失活は、具体的には、温度：１５０〜３００℃（好ましくは２００〜２８０℃）、圧力：常圧以下（好ましくは１３３３Ｐａ以下の減圧下）の条件で、パドル翼、格子翼メガネ翼等を備えた横型混練機、多ベント式二軸押出機等の装置を用いて行われる。
失活剤をマスターバッチとして添加する場合、適当量の失活剤を均一に混練りできるように、ベースレジンとベースレジンに含まれる失活剤の濃度および押出条件を選択して押出しを行う。芳香族ポリカーボネートをベースレジンとして用いても構わないが、本発明の製造方法で得られたポリカーボネートよりも溶融粘度の高い芳香族ポリカーボネートをベースレジンとして用いる場合は、剪断発熱を考慮して、本発明の製造方法で得られたポリカーボネート１００質量％に対して１０質量％以下（好ましくは５質量％以下）の添加量とするのが好ましい。また、得られたポリカーボネートの優れた色相および耐熱性を損なわないように、質量平均分子量が１００００以上の芳香族ポリカーボネートを用いることが好ましい。
【０１０１】
エステル交換反応により得られたポリカーボネート中には、通常、芳香族モノヒドロキシ化合物が含まれている。
芳香族モノヒドロキシ化合物を低減する方法としては、溶媒で抽出する方法；パドル翼、格子翼、メガネ翼等を備えた横型混練機、多ベント式２軸押出機、薄膜蒸発器等によって脱揮処理する方法；等が挙げられる。溶媒で抽出する方法では、工程が複雑となり、また、残留する溶媒も問題となることから、工程が簡易で、かつ低コストである、押出機による脱揮処理が有効である。
【０１０２】
溶融重縮合により製造されたポリカーボネートは、反応終了直後の溶融状態にあるうちに押出機に導入され、触媒を失活させた後、少なくとも１以上のベントにより１３３３３Ｐａ以下の減圧下で、脱揮処理されることが好ましい。
触媒が活性な状態で長時間高温下に滞留すると解重合が起こり、低分子量化合物が生成するため、ポリカーボネートを押出機に導入してから酸性物質を添加するなどして触媒を失活させるまでの時間は短いほど好ましい。
脱揮処理を行うベントの数は、１以上であり、２以上が好ましい。
脱揮処理を行う際の圧力は、１３３３３Ｐａ以下であり、効率よく低分子量化合物を脱揮できる点から、１３３３Ｐａ以下がより好ましい。圧力の下限は、装置上の制約から１０Ｐａである。
脱揮処理を行う際、脱揮助剤として純水または適当な溶媒をポリカーボネートに圧入してもよい。
押出機中でのポリカーボネートの温度は、２５０℃以下が好ましく、２４０℃以下がより好ましい。温度が該範囲であれば、熱分解等により低分子量化合物が生成しにくく、また、着色が抑えられる。
触媒を失活させた後、一旦冷却し、押出機によって同様に脱揮処理することも問題なく行うことができる。
【０１０３】
溶媒で抽出する方法は、溶媒回収等が必要となり煩雑になりがちであるが、ポリカーボネートに含まれる低分子化合物量を大きく低減できる。ポリカーボネートを溶媒に添加し、温度：２０〜１００℃で約１〜３時間撹拌して溶解した後、冷却等によって析出させ、その後、通常の固液分離、乾燥等の方法で処理する。溶媒の量は、通常、ポリカーボネートに対して１〜１０倍程度が好ましい。
【０１０４】
（ポリカーボネート）
本発明の製造方法で得られたポリカーボネートの中に残留する芳香族モノヒドロキシ化合物は、１０００ｐｐｍ以下が好ましく、５００ｐｐｍ以下がより好ましく、２００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。ただし、特に断らない限り、本発明においてｐｐｍは質量基準である。残留する芳香族モノヒドロキシ化合物が該範囲であれば、高温下における着色や分子量の低下が抑えられる。また、成形時等における着色、シルバーストリーク、発泡、金型汚染等が抑えられ、品質のよい成形品が得られる。
【０１０５】
本発明の製造方法で得られたポリカーボネートは、ポリスチレン換算の質量平均分子量が２００００〜２０００００であることが好ましく、３５０００〜１０００００であることがより好ましい。ポリスチレン換算の質量平均分子量が２００００以上であれば、機械的特性が良好となり、２０００００以下であれば、流動性が良好となり、成形条件が厳しくならない。
【０１０６】
本発明の製造方法で得られたポリカーボネートのガラス転移温度は、９５〜１６５℃が好ましく、１０５〜１６５℃がより好ましい。ガラス転移温度が９５℃以上であれば、耐熱性が良好となり、適応できる使用環境が広がる。ガラス転移温度が１６５℃以下であれば、流動性が良好となり、成形条件が厳しくならない。また、流動性を確保するために低分子量にする必要がなく、脆くならない。
【０１０７】
本発明の製造方法で得られたポリカーボネートには、その物性を損なわない範囲で、必要に応じて各種公知の添加剤を加えてもよい。
添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、難燃剤、帯電防止剤、顔料、染料等が挙げられる。添加剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０８】
酸化防止剤としては、トリフェニルホスファイト、トリス（４−メチルフェニル）ホスファイト、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（モノノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２−メチル−４−エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２−メチル−４−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ，ジノニルフェニル）ホスファイト、ビス−（モノノニルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、２，２−メチレンビス−（４，６−ジメチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス−（４−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス−（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス−（４，６−ジメチルフェニル）ヘキシルホスファイト、２，２−メチレンビス−（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ヘキシルホスファイト、２，２−メチレンビス−（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ステアリルホスファイト等のホスファイト化合物；ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス−｛２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，１，３−トリス［２−メチル−４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ）−５−ｔ−ブチルフェニル］ブタン等のヒンダードフェノール系化合物；５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン等が挙げられる。酸化防止剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０９】
酸化防止剤の添加量は、ポリカーボネート１００質量％に対して、０．００５〜０．１質量％が好ましく、０．０１〜０．０８質量％がより好ましく、０．０１〜０．０５質量％がさらに好ましい。酸化防止剤の添加量が該範囲であれば、所望の効果が得られるとともに、耐熱性、機械的物性の低下が抑えられる。
【０１１０】
紫外線吸収剤としては、２−（５−メチル―２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］］、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２，４−ジヒドロキソベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。紫外線吸収剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１１】
紫外線吸収剤の添加量は、ポリカーボネート１００質量％に対して０．００５〜１．０質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましく、０．０１〜０．０５質量％がさらに好ましい。紫外線吸収剤の添加量が該範囲であれば、所望の効果が得られるとともに、耐熱性、機械的物性の低下が抑えられる。
【０１１２】
離型剤としては、天然パラフィン類、合成パラフィン類、シリコーンオイル、ポリエチレンワックス類、蜜蝋、ステアリン酸、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ステアリル、パルミチン酸モノグリセリド、ベヘニン酸ベヘニン、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート等の脂肪酸エステル等が挙げられる。離型剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１３】
離型剤の添加量は、ポリカーボネート１００質量％に対して０．００５〜０．５質量％が好ましく、０．０１〜０．１質量％がより好ましく、０．０１〜０．０５質量％がさらに好ましい。離型剤の添加量が該範囲であれば、所望の効果が得られるとともに、耐熱性、機械的物性の低下が抑えられる。
【０１１４】
添加剤の添加方法としては、反応終了後にポリカーボネートが溶融状態にあるうちに添加する方法；反応終了後のポリカーボネートを一旦冷却し、ペレット化した後、再溶融し混合する方法等が挙げられ、熱履歴を低減できる点から、反応終了後にポリカーボネートが溶融状態にあるうちに添加する方法が好ましい。
【０１１５】
ポリカーボネートと添加剤とは、溶融重縮合に用いた反応装置内で混合してもよく、単軸または２軸押出機等を用いて混練してもよい。
また、添加剤は、希釈せずにそのまま添加してもよく、可溶性溶媒で希釈して添加してもよく、マスターバッチの形態で添加してもよい。
また、添加剤は、失活剤と同時に添加してもよいが、失活剤を添加した後に添加することが好ましい。
また、押出機を用いて脱揮処理を行う場合、添加剤は、脱揮助剤と同時に添加してもよいが、添加剤によっては加水分解または脱揮助剤ととともに除去されてしまうため、脱揮処理後に添加することが好ましい。また、比較的耐熱性の低い添加剤を用いる場合、高温下における熱履歴を低減する点から、できるだけ押出機の末端部で添加することが有効である。
【０１１６】
本発明の製造方法で得られたポリカーボネートは、芳香族ポリカーボネートとブレンドして用いてもよい。
本発明の製造方法で得られたポリカーボネートと芳香族ポリカーボネートとの混練方法としては、触媒を失活させた後のポリカーボネートペレットと芳香族ポリカーボネートペレットとを押出機に導入して混練する方法；反応終了直後の溶融状態のポリカーボネートを押出機に導入し、触媒を失活させた後、芳香族ポリカーボネートを添加して混練する方法が挙げられる。剪断発熱を抑える点から、後者の方法が好ましい。特に、本発明の製造方法で得られたポリカーボネートよりも溶融粘度の高い芳香族ポリカーボネートを添加する場合、剪断発熱によりポリカーボネート温度が上昇するため、熱分解による分子量低下、低分子量化合物の生成、および着色を抑制するために、充分に触媒が失活されたポリカーボネートに芳香族ポリカーボネートを添加することが好ましい。
【０１１７】
以上説明した本発明のポリカーボネートの製造方法にあっては、化合物（１）を含むジオール成分と含フッ素カーボネートとを溶融重縮合しているため、エステル交換反応の進行に伴い系内から抜き出されるアルコールが、沸点の低い含フッ素アルコールとなる。そのため、重縮合温度を低く設定でき、その結果、優れた色相と高い屈折率を有するポリカーボネートを、低温で、かつ簡単なプロセスで製造できる。
【実施例】
【０１１８】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に何らの制限を受けるものではない。
得られたポリカーボネートの評価は、以下の方法で行った。【０１１９】
（分子量）
下記の装置を用い、下記の条件にてポリスチレン換算の質量平均分子量および数平均分子量を測定した。
ＧＰＣ装置：東ソー社製、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ、
検出器：ＲＩ検出、
カラム：ＴＳＫ  ＧＵＡＲＤＣＯＬＵＭＮ  ＳＵＰＥＲＨＺシリーズカラム（ＨＺ−Ｌガードカラム、４０００、３０００、２５００および２０００）、
展開溶媒：テトラヒドロフラン、
流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ、
カラム温度：４０℃。【０１２０】
（溶液色相（ＹＩ値））
サンプルの８．０ｇを塩化メチレンの８０ｍＬに溶解し、１．０ｃｍ石英ガラスセルを用いてＹＩ値（イエローインデックス）を測定した。色差計としては、日本電色工業社製、スペクトロカラーメーター、ＳＥ−２０００を用いた。【０１２１】
（合成例１）
ビス−（２，２，３，３−テトラフルオロプロピル）カーボネートの合成：
撹拌機、２０℃の還流冷却器および留出ラインを備えた５００ｍＬのガラス製の反応器に、ヘキサクロロアセトンの２０１ｇ（０．７６ｍｏｌ）、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールの３５８ｇ（２．７１ｍｏｌ）、ＫＦの１０ｇを仕込んだ後、撹拌を行いながら、徐々に温度を上昇し、内温１００℃で２０時間反応を行った。反応終了後に、反応器内に存在する反応粗液の５６０ｇを回収した。回収液をＧＣ分析した結果、化合物（１２）が生成していることを確認した。化合物（１２）は、蒸留精製した後、重合反応に用いた。【０１２２】
【化１８】
2011062104.tif 000020
【０１２３】
（実施例１）
窒素ガス雰囲気下、３００ｍＬの溶融重縮合用装置の反応器に、９，９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（化合物（１３））の８７．７ｇ（０．２ｍｏｌ）、化合物（１２）の６３．８ｇ（０．２２ｍｏｌ）、トリドデシルアミンの０．１０４ｇ（０．２ｍｍｏｌ）を仕込んだ。下記の脱酸素工程を３回繰り返した。
脱酸素工程：０℃にて反応器内が約１Ｔｏｒｒになるまで排気することによって酸素を抜いた後、再度反応器内に窒素を充填する。【０１２４】
【化１９】
2011062104.tif 000021
【０１２５】
反応器を、１８０℃に予熱したオイルバス内に浸した。オイルバス温度１８０℃、撹拌速度２００ｒｐｍで撹拌を行ったところ、１０分後に熱的に平衡化されて原料は完全に融解し、無色の均一な液体となった。その後、反応器内の圧力を７４０Ｔｏｒｒ、反応器内の温度を１８０℃に保って５分間反応を続けた時点で２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールが反応容器から排気され、受けフラスコ中に留出し始めた。３０分後、反応器内の温度を２００℃に上げ、反応器内の圧力を７４０Ｔｏｒｒに保った。３０分後、反応器内の温度を２００℃に保ったまま、反応器内の圧力を５００Ｔｏｒｒに下げ、さらに３０分間維持した。２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールは、受けフラスコ中に留出し続けた。反応器内の温度を２５０℃に上げ、反応器内の圧力を１００Ｔｏｒｒに下げた後、この条件を３０分間維持した。その後、反応器内の温度を２６０℃に上げ、反応器内を１Ｔｏｒｒに下げると、溶融した物質の粘度が上昇し始めた。３０分間維持した後、窒素で常圧まで復圧し、室温で冷却することで溶融重縮合を終了した。【０１２６】
得られたポリカーボネートのＧＰＣ分析による質量平均分子量（Ｍｗ）は４００００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は２９０００であり、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．３８であった。該ポリカーボネートの溶液色相（ＹＩ値）は、０．９０であり透明度の高いポリカーボネートと認められた。結果を表１に示す。【０１２７】
（比較例１）
窒素ガス雰囲気下、３００ｍＬの溶融重縮合用装置の反応器に、ビスフェノールＡ（化合物（１４））の４５．６２ｇ（０．２ｍｏｌ）、化合物（１２）の６３．８ｇ（０．２２ｍｏｌ）、トリドデシルアミンの０．１０４ｇ（０．２ｍｍｏｌ）を仕込んだ。下記の脱酸素工程を３回繰り返した。
脱酸素工程：０℃にて反応器内が約１Ｔｏｒｒになるまで排気することによって酸素を抜いた後、再度反応器内に窒素を充填する。【０１２８】
【化２０】
2011062104.tif 000022
【０１２９】
反応器を、１８０℃に予熱したオイルバス内に浸した。オイルバス温度１８０℃、撹拌速度２００ｒｐｍで撹拌を行ったところ、１０分後に熱的に平衡化されて原料は完全に融解し、無色の均一な液体となった。その後、反応器内の圧力を７４０Ｔｏｒｒ、反応器内の温度を１８０℃に保って５分間反応を続けた時点で２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールが反応容器から排気され、受けフラスコ中に留出し始めた。３０分後、反応器内の温度を２００℃に上げ、反応器内の圧力を７４０Ｔｏｒｒに保った。３０分後、反応器内の温度を２００℃に保ったまま、反応器内の圧力を５００Ｔｏｒｒに下げ、さらに３０分間維持した。２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールは、受けフラスコ中に留出し続けた。反応器内の温度を２５０℃に上げ、反応器内の圧力を１００Ｔｏｒｒに下げた後、この条件を３０分間維持した。その後、反応器内の温度を２６０℃に上げ、反応器内を１Ｔｏｒｒに下げると、溶融した物質の粘度が上昇し始めた。３０分間維持した後、窒素で常圧まで復圧し、室温で冷却することで溶融重縮合を終了した。【０１３０】
得られたポリカーボネートのＧＰＣ分析による質量平均分子量（Ｍｗ）は４５０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は３１０００であり、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．４５であった。該ポリカーボネートの溶液色相（ＹＩ値）は、３．０２であり実施例１のポリカーボネートと比較して透明度は劣っていた。結果を表１に示す。【０１３１】
【表１】
2011062104.tif 000023
【０１３２】
本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく、様々な修正や変更を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２００９年１１月１７日出願の日本特許出願２００９−２６１７２２に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
本発明の製造方法で得られたポリカーボネートは、高い透明度、高い屈折率を有し、優れた色相および耐熱性を有する。そのため、カメラレンズ、プロジェクターレンズ、ピックアップレンズ等の各種光学レンズ、プリズム、光学ディスク基板、光ファイバー、光学フィルム、光学フィルター等の各種光学デバイス、その部材等の光学材料として有用である。
【国際調査報告】
2011062104.tif 000032
2011062104.tif 000033