(57)【要約】  ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と紫外線硬化性基とを有する含フッ素紫外線硬化性樹脂を含有する光ディスク用紫外線硬化型組成物により、含フッ素紫外線硬化性樹脂が組成物中に好適に相溶して塗膜の表面ないしその近傍に好適に偏在するため、指紋等の油分が付着した際にもその液滴サイズが小さく、発振波長の短いレーザー光を透過した際の光の散乱が生じにくい光ディスクの最外層を形成でき、信号の記録再生が良好な光ディスクを形成できる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクの最外層に使用する紫外線硬化型組成物であって、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と紫外線硬化性基とを有する含フッ素紫外線硬化性樹脂を含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項２】
前記含フッ素紫外線硬化性樹脂が、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端にラジカル重合性不飽和基を有する構造部位を有する化合物（ｄ１）と、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ１）に、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）を反応させて得られる含フッ素紫外線硬化性樹脂である請求項１記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項３】
前記含フッ素紫外線硬化性樹脂が、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）の重合体（Ｐ２）に、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端に前記反応性官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）を有する化合物（ｄ１’）と、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）とを反応させて得られる含フッ素紫外線硬化性樹脂である請求項１記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項４】
前記含フッ素紫外線硬化性樹脂を紫外線硬化性化合物の総量に対し０．１〜３質量％含有する請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項５】
前記光ディスクが、基板上に、少なくとも光反射層及び光透過層が順に積層され、最外層としてハードコート層を有し、前記ハードコート層を通してブルーレーザー光により情報の記録又は再生を行う光ディスクである請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項６】
３官能（メタ）アクリレートモノマーを紫外線硬化性化合物の総量に対し３０〜７０質量％含有する請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項７】
基板上に、光反射層、情報記録層及び光透過層が順に積層され、最外層にハードコート層を有し、前記ハードコート層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う光ディスクであって、前記ハードコート層が、請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物の硬化物からなることを特徴とする光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク、特に３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有するブルーレーザーにより情報の記録又は再生を行う光ディスクの最外層に使用する光ディスク用紫外線硬化型組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度記録可能な光ディスクとして主流となっているＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ）は厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤにおいては高密度化を達成するため、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ）に比べ短波長の６５０ｎｍのレーザーを用い、光学系も高開口数化している。【０００３】
しかし、ＨＤＴＶ（ｈｉｇｈ  ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）に対応した高画質の映像等を記録または再生する為には更なる高密度化が必要となる。ＤＶＤの次世代に位置する更なる高密度記録の方法及びその光ディスクの検討が行われており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザー及び高開口数の光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている。【０００４】
当該光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層してなり、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。この光ディスクの光透過層には、生産性の観点から、紫外線硬化型組成物を使用することがもっぱら研究されている。【０００５】
これら光ディスクは長期に安定した記録再生特性を保持する必要がある。このため、光透過層には形状安定性に優れるものが望まれ、また最外層として使用する場合には傷が付きにくく、指紋等が付着した際にも付着しづらく拭き取り易い表面性状が求められる。光ディスクの最外層として使用される組成物としては、例えば、シリカ等の無機粒子や、シラン化合物などを含有させることで、表面の滑り性を向上させた組成物が開示されている（例えば特許文献１、２参照）。しかし、無機微粒子やシラン化合物を含有する組成物を厚膜の光透過層として、光ディスクの最外層に使用すると相溶性が悪く濁りが生じる場合があった。【０００６】
指紋等の汚れが付着しにくい紫外線硬化型樹脂組成物として、シラン化合物を含有する紫外線硬化型組成物が開示されている（例えば特許文献３参照）。当該紫外線硬化型組成物は、指紋の付着を好適に防止できるものであるが、この紫外線硬化型組成物を記録型ブルーレイディスクであるＢＤ−ＲやＢＤ−ＲＥの光透過層の表面に使用し、指紋を付着させた後に記録再生を行うと、指紋の液滴サイズが大きいために十分に良好な信号特性が得られない場合があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２１６３５２
【特許文献２】特開２００６−２１９６５７
【特許文献３】特開２００７−０４６０４９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、指紋が付着しても信号の記録再生が良好で、付着した指紋の拭き取り時にも傷付きが生じにくく、かつ繰り返しの拭き取りに際しても指紋払拭性の劣化が少ない光ディスクの最外層を形成可能な紫外線硬化型組成物、及び光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の紫外線硬化型組成物は、特定のフッ素化アクリル共重合体を微量使用することにより、好適に相溶して塗膜の表面ないしその近傍に好適に偏在し、優れた耐指紋付着性を実現できる。【００１０】
すなわち本発明は、光ディスクの最外層に使用する紫外線硬化型組成物であって、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と紫外線硬化性基とを有する含フッ素紫外線硬化性樹脂を含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、指紋等の油分が付着した際にもその液滴サイズが小さいことから、発振波長の短いレーザー光を透過した際の光の散乱が生じにくい。また、付着した指紋等の油分を繰り返し拭き取った際にも好適な拭き取り性を有し、拭き取りを繰り返し行った際にも拭き取り性の劣化が少ない。さらに、白濁等を生じることなく、好適な透明性を実現できるため、発振波長の短いブルーレーザー光により情報の記録や再生を行う光ディスクの最外層として有用に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図２】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図３】本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。
【図４】本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
［光ディスク用紫外線硬化型組成物］
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、光ディスクの最外層に使用する紫外線硬化型組成物であって、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と紫外線硬化性基とを有する含フッ素紫外線硬化性樹脂を含有する組成物である。【００１４】
（含フッ素紫外線硬化性樹脂）
本発明で用いる含フッ素紫外線硬化性樹脂は、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と紫外線硬化性基とを有するものである。この含フッ素紫外線硬化性樹脂は、以下のような方法で得ることができる。【００１５】
ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を有する前記含フッ素紫外線硬化性樹脂としては、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端にラジカル重合性不飽和基を有する構造部位を有する化合物（ｄ１）と、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ１）に、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）を反応させて得られる含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）が挙げられる。また、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）の重合体（Ｐ２）に、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端に前記反応性官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）を有する化合物（ｄ１’）と、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）とを反応させて得られる含フッ素紫外線硬化性樹脂（２）も挙げられる。【００１６】
ここで、前記ラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）としては、アクリル系単量体、芳香族ビニル系単量体、ビニルエステル系単量体、マレイミド系単量体等が挙げられる。また、前記ラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）が有する反応性官能基（Ｒ１）としては、水酸基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基等が挙げられる。【００１７】
前記ラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、末端水酸基含有ラクトン変性（メタ）アクリレート等の水酸基含有不飽和単量体；２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）エチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等のイソシアネート基含有不飽和単量体；グリシジルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル等のエポキシ基含有不飽和単量体；（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、イタコン酸等のカルボキシル基含有不飽和単量体が挙げられる。【００１８】
また、前記ラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）は、他のラジカル重合性不飽和単量体と共重合してもよい。この他のラジカル重合性不飽和単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘプチル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル類；マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類などが挙げられる。【００１９】
次に、前記化合物（ｄ１）又は化合物（ｄ１’）が有するポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖は、具体的には、炭素原子数１〜３の２価フッ化炭素基と酸素原子が交互に連結した構造を有するものが挙げられる。炭素原子数１〜３の２価フッ化炭素基は、一種類であっても良いし複数種の混合であってもよく、具体的には、下記構造式１で表されるものが挙げられる。【００２０】
【化１】
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（上記構造式１中、Ｘは下記構造式ａ〜ｄであり、構造式１中の全てのＸが同一構造のものであってもよいし、また、複数の構造がランダムに又はブロック状に存在していてもよい。また、ｎは繰り返し単位を表す１以上の数である。）【００２１】
【化２】
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【００２２】
これらの中でも、特に塗膜表面の指紋拭き取り性等の防汚性が良好な塗膜が得られる点から前記構造式ａで表されるパーフルオロメチレン構造と、前記構造ｂで表されるパーフルオロエチレン構造とが共存するものがとりわけ好ましい。ここで、前記構造式ａで表されるパーフルオロメチレン構造と、前記構造ｂで表されるパーフルオロエチレン構造との存在比率は、モル比率（構造ａ／構造ｂ）が１／４〜４／１となる割合であることが防汚性に優れた塗膜が得られる点から好ましく、また、前記構造式１中のｎの値は３〜４０の範囲であること、特に６〜３０が好ましい。【００２３】
また、前記ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖は、指紋拭き取り性等の防汚性と滑り性が優れる点と非フッ素硬化性樹脂組成物との溶解性を向上させやすい点からポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖１本に含まれるフッ素原子の合計が１８〜２００個の範囲であることが好ましく、２５〜８０個の範囲であることが特に好ましい。【００２４】
本発明で用いる含フッ素紫外線硬化性樹脂が有する紫外線硬化性基は、活性エネルギー線の照射により硬化性を示すエチレン性二重結合であり、具体的には、下記構造式Ｕ−１〜Ｕ−３で示されるものが挙げられる。【００２５】
【化３】
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【００２６】
上記した紫外線硬化性基を本発明で用いる含フッ素紫外線硬化性樹脂に導入するには、前記重合体（Ｐ１）又は重合体（Ｐ２）を得た後、該重合体の側鎖に存在する反応性官能基（Ｒ１）に、該反応性官能基（Ｒ１）と反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）を反応させる方法が挙げられる。【００２７】
したがって、含フッ素紫外線硬化性樹脂は、具体的には、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端にラジカル重合性不飽和基を有する構造部位を有する化合物（ｄ１）と、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ１）に、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）を反応させて得られるもの（以下、これを「含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）」という。）、又は、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（Ｂ）の重合体（Ｐ２）に、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端に前記反応性官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）を有する化合物（ｄ１’）と、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）とを反応させて得られるもの（以下、これを「含フッ素紫外線硬化性樹脂（２）」という。）であることがその工業的製造が容易であることから好ましい。【００２８】
ここで、含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）を製造する際に用いる、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端にラジカル重合性不飽和基を有する構造部位を有する化合物（ｄ１）は、前記したポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端に、例えば、下記構造式Ｕ’−１〜Ｕ’−４で示されるラジカル重合性不飽和基を有するものが挙げられる。【００２９】
【化４】
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【００３０】
これらのラジカル重合性不飽和基の中でも特に化合物（ｄ１）自体の入手や製造の容易さ、あるいは、前記したラジカル重合性不飽和単量体との反応性に優れる点から、構造式Ｕ’−１で表されるアクリロイルオキシ基、又は、構造式Ｕ’−２で表されるメタクリロイルオキシ基が好ましい。【００３１】
前記化合物（ｄ１）の中で、前記したアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有するものとしては、下記構造式ｄ１−１〜ｄ１−１０で表されるものが挙げられる。なお、下記の各構造式中における「−ＰＦＰＥ−」は、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を示す。【００３２】
【化５】
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【００３３】
これらの中でも特に化合物（ｄ１）自体の工業的製造が容易であり、また、重合体（Ｐ１）を製造する際の重合反応も容易である点から前記構造式ｄ１−１、ｄ１−２、ｄ１−５、ｄ１−６で表されるものが好ましい。【００３４】
上記化合物（ｄ１）を製造するには、例えば、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端に水酸基を１つずつ有する化合物に対して、（メタ）アクリル酸クロライドを脱塩酸反応させて得る方法、（メタ）アクリル酸を脱水反応させて得る方法、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートをウレタン化反応させて得る方法、無水イタコン酸をエステル化反応させて得る方法、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端にカルボキシル基を１つずつ有する化合物に対して、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルをエステル化反応させて得る方法、グリシジルメタクリレートをエステル化反応させて得る方法、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端にイソシアネート基を１つずつ有する化合物に対して、２−ヒドロキシエチルアクリルアミドを反応させる方法が挙げられる。これらのなかでも、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端に水酸基を１つずつ有する化合物に対して、（メタ）アクリル酸クロライドを脱塩酸反応させて得る方法と、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートをウレタン化反応させて得る方法が合成上得られやすい点で特に好ましい。【００３５】
ここで、重合体（Ｐ１）を製造する方法は、前記化合物（ｄ１）、及び、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）、更に必要によりその他のラジカル重合性不飽和単量体を、有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を使用して重合させる方法が挙げられる。ここで用いる有機溶媒としては、ケトン類、エステル類、アミド類、スルホキシド類、エーテル類、炭化水素類が好ましく、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、沸点、相溶性、重合性を考慮して適宜選択される。ラジカル重合開始剤としては、例えば過酸化ベンゾイル等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等が例示できる。さらに必要に応じてラウリルメルカプタン、２−メルカプトエタノ−ル、チオグリセロール、エチルチオグリコ−ル酸、オクチルチオグリコ−ル酸等の連鎖移動剤を使用することができる。【００３６】
得られる重合体（Ｐ１）は、数平均分子量が８００〜３，０００の範囲にあるものが好ましく、１，０００〜２，０００の範囲にあるものがより好ましい。また、重合体（Ｐ１）は、重量平均分子量が１，５００〜２０，０００の範囲にあるものが好ましく、２，０００〜８，０００の範囲にあるものがより好ましい。重合体（Ｐ１）の平均分子量がこれらの範囲にあれば、重合中に架橋不溶化を生じることを防止できる。また、最終的に得られる含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）の１分子中の重合性不飽和基の個数を多くすることができる。【００３７】
この様にして得られる重合体（Ｐ１）に、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）を反応させることにより、目的とする含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）が得られる。【００３８】
ここで、前記化合物（ｄ３）が有する官能基（Ｒ２）は、例えば、水酸基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基等が挙げられる。例えば反応性官能基（Ｒ１）が水酸基である場合には、官能基（Ｒ２）としてイソシアネート基が挙げられ、反応性官能基（Ｒ１）がイソシアネート基である場合には、官能基（Ｒ２）として水酸基が挙げられ、反応性官能基（Ｒ１）がエポキシ基である場合には、官能基（Ｒ２）としてカルボキシル基が挙げられ、反応性官能基（Ｒ１）がカルボキシル基である場合には、官能基（Ｒ２）としてエポキシ基が挙げられる。【００３９】
このような化合物（ｄ３）としては、前記ラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）として例示したものと同様のものを用いることができる。また、その他２つ以上の紫外線硬化性基を有するものとして、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートも用いることができる。【００４０】
これらの中でも特に紫外線等の活性エネルギー線照射での重合硬化性が好ましい点から、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アクリル酸が好ましい。【００４１】
前記重合体（Ｐ１）に、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）を反応させる方法は、化合物（ｄ３）中の紫外線硬化性基が重合しない条件で行えばよく、例えば、温度条件を３０〜１２０℃の範囲に調節して反応させることが好ましい。この反応は触媒や重合禁止剤の存在下、必要により有機溶剤の存在下に行うことが好ましい。【００４２】
例えば、前記官能基（Ｒ１）が水酸基であって前記官能基（Ｒ２）がイソシアネート基の場合、あるいは、前記官能基（Ｒ１）がイソシアネート基であって前記官能基（Ｒ２）が水酸基の場合、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール等を使用し、ウレタン化反応触媒としてジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫、オクチル酸亜鉛等を使用し、反応温度４０〜１２０℃、特に６０〜９０℃で反応させる方法が好ましい。また、前記官能基（Ｒ１）がエポキシ基であって前記官能基（Ｒ２）がカルボキシル基の場合、あるいは、前記官能基（Ｒ１）がカルボキシル基であって前記官能基（Ｒ２）がエポキシ基の場合は、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール等を使用し、エステル化反応触媒としてトリエチルアミン等の第３級アミン類、塩化テトラメチルアンモニウム等の第４級アンモニウム類、トリフェニルホスフィン等の第３級ホスフィン類、塩化テトラブチルホスホニウム等の第４級ホスホニウム類等を使用し、反応温度８０〜１３０℃、特に１００〜１２０℃で反応させることが好ましい。【００４３】
上記反応で用いられる有機溶媒はケトン類、エステル類、アミド類、スルホキシド類、エーテル類、炭化水素類が好ましく、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、沸点、相溶性を考慮して適宜選択すればよい。【００４４】
次に、含フッ素紫外線硬化性樹脂（２）を製造するには、まず、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）を重合して重合体（Ｐ２）を製造する。この際、前記したとおり、ラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）と共にその他のラジカル重合性不飽和単量体を併用して共重合させてもよい。重合方法は、重合体（Ｐ１）を製造する場合と同様に、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）、必要によりその他のラジカル重合性不飽和単量体を、ラジカル重合開始剤を使用して重合させる方法が挙げられる。この際、有機溶剤の存在下で行うことが好ましく、必要により、連鎖移動剤を用いてもよい。使用し得る有機溶媒、ラジカル重合開始剤、連鎖移動剤は、重合体（Ｐ１）を製造する場合と同じものを用いることができる。【００４５】
このようにして得られる重合体（Ｐ２）は、ＧＰＣ測定による数平均分子量が８００〜３，０００の範囲にあるものが好ましく、１，０００〜２，０００の範囲にあるものが好ましい。また、重合体（Ｐ２）は、重量平均分子量が１，２００〜６，０００の範囲にあるものが好ましく、１，５００〜５，０００の範囲にあるものが好ましい。重合体（Ｐ２）の平均分子量がこれらの範囲にあれば、重合中に架橋不溶化を生じることを防止できる。【００４６】
次いで、得られた重合体（Ｐ２）に、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端に前記反応性官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）を有する化合物（ｄ１’）と、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）とを反応させることにより、目的とする含フッ素紫外線硬化性樹脂（２）が得られる。【００４７】
この際、化合物（ｄ１’）を先に重合体（Ｐ２）に反応させた後、化合物（ｄ３）を反応させてもよいし、その逆の順であってもよい。さらに、化合物（ｄ１’）と化合物（ｄ３）とを同時に重合体（Ｐ２）と反応させてもよい。【００４８】
また、重合体（Ｐ２）中の反応性官能基（Ｒ１）の量、及び、該反応性官能基（Ｒ１）に対する化合物（ｄ１’）及び化合物（ｄ３）の反応割合を適性に調整することが本発明の効果を顕著なものとする点から望ましく、具体的には、重合体（Ｐ２）中の反応性官能基（Ｒ１）の量は、１００〜２００ｇ／ｅｑ．の範囲であると官能基濃度が高くなり、より耐アルカリ性が良好となる点から好ましく、また、反応性官能基（Ｒ１）１モルに対して、化合物（ｄ１’）中の官能基（Ｒ２）が０．０５〜０．２０モルとなる割合であり、かつ、反応性官能基（Ｒ１）１モルに対して、化合物得（ｄ３）中の反応性を有する官能基（Ｒ２）が０．８０〜０．９５モルとなる割合で反応させることが好ましい。【００４９】
ここで、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端に前記反応性官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）を有する化合物（ｄ１’）における官能基（Ｒ２）は、水酸基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基等が挙げられる。例えば反応性官能基（Ｒ１）が水酸基である場合には、官能基（Ｒ２）としてイソシアネート基が挙げられ、反応性官能基（Ｒ１）がイソシアネート基である場合には、官能基（Ｒ２）として水酸基が挙げられ、反応性官能基（Ｒ１）がエポキシ基である場合には、官能基（Ｒ２）としてカルボキシル基が挙げられ、反応性官能基（Ｒ１）がカルボキシル基である場合には、官能基（Ｒ２）としてエポキシ基が挙げられる。【００５０】
このような化合物（ｄ１’）としては、例えば、下記構造式ｄ１’−１〜ｄ１’−６で表される化合物、及び、これらの化合物にヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートなどの多官能型イソシアネート化合物や、ビスフェノール型エポキシ樹脂などの２官能型エポキシ樹脂等で変性した化合物が挙げられる。なお、下記の各構造式中における「−ＰＦＰＥ−」は、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を示す。これらのなかでも変性していない下記構造式ｄ１’−１〜ｄ１’−６で表される化合物が好ましく、特に官能基（Ｒ１）がイソシアネート基である場合には、下記構造式ｄ１’−１で表される化合物（ｄ１’）が官能基（Ｒ１）に対する反応性に優れる点から好ましい。【００５１】
【化６】
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【００５２】
また、ここで用いる化合物（ｄ３）は、前記した含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）の製造の際に用いた化合物（ｄ３）と同一のものを用いることができる。【００５３】
重合体（Ｐ２）と化合物（ｄ１’）及び化合物（ｄ３）との反応は、前記した通り、重合体（Ｐ２）と化合物（ｄ１’）とを反応させた後、化合物（ｄ３）を反応させてもよいし、重合体（Ｐ２）と化合物（ｄ３）とを反応させた後、化合物（ｄ１’）を反応させてもよく、あるいは、化合物（ｄ１’）と化合物（ｄ３）とを同時に重合体（Ｐ２）と反応させてもよい。反応条件は、これらの何れの方法であっても、反応に関与する官能基の種類によって適宜選択できる。【００５４】
例えば、重合体（Ｐ２）中の官能基（Ｒ１）及び化合物（ｄ１’）中の官能基（Ｒ２）の一方が水酸基であって、他方がイソシアネート基である場合、あるいは、重合体（Ｐ２）中の官能基（Ｒ１）及び化合物（ｄ３）中の官能基（Ｒ２）の一方が水酸基であって、他方がイソシアネート基である場合、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、２，６−ジｔ−ブチル−４−メチルフェノール等を使用し、ウレタン化反応触媒としてジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫、オクチル酸亜鉛等を使用し、反応温度４０〜１２０℃、特に６０〜９０℃で反応させる方法が好ましい。【００５５】
また、重合体（Ｐ２）中の官能基（Ｒ１）及び化合物（ｄ１’）中の官能基（Ｒ２）の一方がカルボキシル基であって、他方がエポキシ基である場合、あるいは、重合体（Ｐ２）中の官能基（Ｒ１）及び化合物（ｄ３）中の官能基（Ｒ２）の一方がカルボキシル基であって、他方がエポキシ基である場合、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、２，６−ジｔ−ブチル−４−メチルフェノール等を使用し、エステル化反応触媒としてトリエチルアミン等の第３級アミン類、塩化テトラメチルアンモニウム等の第４級アンモニウム類、トリフェニルホスフィン等の第３級ホスフィン類、塩化テトラブチルホスホニウム等の第４級ホスホニウム類等を使用し、反応温度８０〜１３０℃、特に１００〜１２０℃で反応させることが好ましい。【００５６】
また、これらの反応において適宜有機溶媒を使用することができ、使用し得る有機溶媒としては、ケトン類、エステル類、アミド類、スルホキシド類、エーテル類、炭化水素類が挙げられ、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、沸点、相溶性を考慮して適宜選択すればよい。【００５７】
また、前記した含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）又は含フッ素紫外線硬化性樹脂（２）に代表される含フッ素紫外線硬化性樹脂は、数平均分子量（Ｍｎ）が１，０００〜１０，０００の範囲であり、かつ、重量平均分子量（Ｍｗ）が２，０００〜１００，０００の範囲であるものが好ましく、数平均分子量（Ｍｎ）が１，５００〜５，０００の範囲であり、かつ、重量平均分子量（Ｍｗ）が４，０００〜５０，０００の範囲であるものがより好ましい。これらの平均分子量の範囲のものであれば、含フッ素紫外線硬化性樹脂の製造時におけるゲル化を起こすことなく、さらに高架橋で現像性に優れた塗膜が得られる点から好ましい。【００５８】
ここで、数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣ測定に基づきポリスチレン換算した値である。なお、ＧＰＣの測定条件は以下の通りである。
［ＧＰＣの測定条件］
測定装置：東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０  ＧＰＣ」、
カラム：東ソー株式会社製ガードカラム「ＨＨＲ−Ｈ」（６．０ｍｍＩ．Ｄ．×４ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
検出器：ＥＬＳＤ（オルテック製「ＥＬＳＤ２０００」）
データ処理：東ソー株式会社製「ＧＰＣ−８０２０モデルＩＩバージョン４．１０」
測定条件：カラム温度４０℃、展開溶媒テトラヒドロフラン、流速１．０ｍｌ／分
標準：前記「ＧＰＣ−８０２０モデルＩＩバージョン４．１０」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。【００５９】
（使用ポリスチレン）
東ソー株式会社製「Ａ−５００」
東ソー株式会社製「Ａ−１０００」
東ソー株式会社製「Ａ−２５００」
東ソー株式会社製「Ａ−５０００」
東ソー株式会社製「Ｆ−１」
東ソー株式会社製「Ｆ−２」
東ソー株式会社製「Ｆ−４」
東ソー株式会社製「Ｆ−１０」
東ソー株式会社製「Ｆ−２０」
東ソー株式会社製「Ｆ−４０」
東ソー株式会社製「Ｆ−８０」
東ソー株式会社製「Ｆ−１２８」
試料：樹脂固形分換算で１．０質量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターで濾過したもの（１００μｌ）。【００６０】
また、前記含フッ素紫外線硬化性樹脂中のフッ素原子の含有率は、２〜３５質量％の範囲であることが好ましく、５〜２５質量％の範囲であることより好ましい。前記含フッ素紫外線硬化性樹脂中のフッ素原子の含有率がこの範囲であれば、高い防汚性が得られる。【００６１】
さらに、含フッ素紫外線硬化性樹脂中の紫外線硬化性基の含有量は、紫外線硬化性基当量２００〜９００ｇ／ｅｑ．の範囲であることが好ましく、２００〜６００ｇ／ｅｑ．の範囲であることがより好ましい。含フッ素紫外線硬化性樹脂中の紫外線硬化性基の含有量がこの範囲であれば、硬化塗膜の防汚性、指紋拭き取り性に優れる。【００６２】
前記含フッ素紫外線硬化性樹脂の含有量は、光ディスク用紫外線硬化性化合物の総量に対し０．１〜５質量％の範囲であることが好ましく、０．１〜３質量％の範囲であることがさらに好ましい。前記含フッ素紫外線硬化性樹脂は、当該少量の含有量であっても好適な防汚性、指紋拭き取り性を発現でき、好適な相溶性を実現できる。【００６３】
（光硬化性化合物）
本発明に使用する光硬化性化合物としては、不飽和ポリエステル型、アクリル型、チオール・エン型、エポキシ型など各種の光硬化性化合物を使用でき、光情報記録媒体のハードコート層用として使用する場合には、硬度や弾性率、接着する基板との接着性、塗布時の粘度等を考慮して適宜選択すればよい。【００６４】
なかでも、光情報記録媒体用途としては、透明で耐侯性の良好な、紫外線硬化性化合物としてアクリル型の光硬化性化合物を使用することが好ましい。このようなアクリル型の光硬化性化合物としては、例えば、下記の（メタ）アクリレートモノマーや、（メタ）アクリレートオリゴマーが使用できる。【００６５】
（メタ）アクリレートモノマーとしては、一分子中にアクリロイル基を１つ有する単官能（メタ）アクリレート、アクリロイル基を２つ有する２官能（メタ）アクリレート、アクリロイル基を３つ以上有する２官能以上の（メタ）アクリレートを好適に使用できる。単官能（メタ）アクリレートの例としては、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、等の脂肪族（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等の芳香族（メタ）アクリレートが挙げられる。また、脂環式のモノマーとして、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等も使用できる。また、アクリロイルモルフォリン、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等も使用できる。【００６６】
２官能（メタ）アクリレートの例としては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、脂環式の２官能（メタ）アクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジアクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等も使用できる。【００６７】
これら単官能及び２官能（メタ）アクリレートは、塗付時の粘度の調整や、架橋密度の調整等のために適宜使用でき、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、イソボルニル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレートは、積層する基板としてポリカーボネートを使用する際に良好な接着性を付与できるため好ましく、特にテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが好ましく使用できる。
また、脂環式構造を有するものは、剛直な環構造を有することにより、得られる硬化物に高温での高い弾性率と高いガラス転移温度を与えることができる。【００６８】
３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たテトラオールのテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート等を使用できる。【００６９】
これら３官能以上の（メタ）アクリレートは、硬化物に高い弾性率を付与することができるため好ましい。中でもトリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３〜６モルのエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリ（メタ）アクリレート、および、ペンタエリスリトール１モルに４〜８モルのエチレンオキサイドを付加して得たテトラオールのテトラ（メタ）アクリレートは、硬化後に特に高い弾性率を与えることができるので特に好ましく使用できる。【００７０】
また、上記（メタ）アクリレートモノマーに（メタ）アクリレートオリゴマーを併用することも好ましく、当該オリゴマーとしては、剛直な構造を有するエポキシ（メタ）アクリレートを好適に使用できる。エポキシ（メタ）アクリレートとしては、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応物と（メタ）アクリル酸との反応により合成されるビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロルヒドリンとの反応物と（メタ）アクリル酸との反応により合成されるビスフェノールＳ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦとエピクロルヒドリンとの反応物と（メタ）アクリル酸との反応により合成されるビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、フェノールノボラックとエピクロルヒドリンとの反応物と（メタ）アクリル酸との反応により合成されるフェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらビスフェノール型のエポキシ（メタ）アクリレートは、得られる硬化物に高い弾性率、高い硬度を付与できる。なかでも、ビスフェノールＡ型のエポキシ（メタ）アクリレートを好ましく使用できる。【００７１】
また、ウレタン（メタ）アクリレートも好適に使用でき、ウレタン（メタ）アクリレートとしては、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個以上のヒドロキシル基を有する化合物とから得られるウレタン（メタ）アクリレートを好ましく使用できる。また、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個のイソシアネート基を有する化合物とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートも好ましく使用できる。【００７２】
更に、他のオリゴマーも適宜使用でき、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等を併用しても良い。【００７３】
（重合開始剤）
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物には光重合開始剤を必要に応じ使用することができる。光重合開始剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明で使用する光重合開始剤として好適である。【００７４】
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝２−メチル−プロパン−１−オン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、チバジャパン（株）社製Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４、日本シイベルヘグナー（株）社製  ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＩＰ  １５０等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。【００７５】
当該光重合開始剤としては、適用する光情報記録媒体において情報の読取や書込を行う光の波長を吸収しないものが好ましく、例えば、ブルーレーザーディスクに適用する場合には、４００ｎｍ近傍の光吸収の少ないものを好ましく使用できる。【００７６】
（添加剤）
また、紫外線硬化型樹脂組成物に添加する任意成分としては、次のようなものが有り、本発明の効果を損わない範囲内で使用可能である。例えば、光重合開始剤に対する増感剤として、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等があり、更に前述光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。【００７７】
また、硬化物の硬度を上げるため、シリカ粒子等の無機成分を含有してもよいが、無機粒子を分散させる溶媒を使用しなくてもよく、また、無機粒子による光散乱等の問題が生じないため、無機粒子を含有しないことが好ましい。【００７８】
上記の含フッ素紫外線硬化性樹脂を含有する本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、光ディスクの最外層として好適に適用でき、信号の記録又は再生に、波長が３７０〜４３０ｎｍのブルーレーザーを使用する光ディスクの最外層として特に好適に適用できる。【００７９】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、光ディスクの構成に応じて上記例示した（メタ）アクリレートオリゴマーや（メタ）アクリレートモノマーを適宜配合すればよく、例えば、薄いハードコート層として光ディスクの最外層に設ける場合には、光ディスク用紫外線硬化型組成物の２５℃におけるＢ型粘度を２０〜１５０ｍＰａ・ｓの範囲とすることが好ましい。当該粘度とすることで、スピンコーター等の塗布により好適に１〜１０μｍ程度の薄いハードコート層を最外層として形成できる。【００８０】
また、ハードコート層として使用する際には、紫外線硬化後の硬化膜の２５℃における弾性率が、１０００〜４０００ＭＰａの範囲であることが好ましく、１５００〜３０００の範囲であることが更に好ましい。硬化膜の弾性率を当該範囲とすることで、傷付きや硬化膜の割れを特に好適に抑制できる。【００８１】
ハードコート層として使用する際の本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、３官能以上の（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。また、ビスフェノール型のエポキシアクリレート及び／又はウレタンアクリレートを含有することも好ましく、更に、３官能（メタ）アクリレート、１官能及び／又は２官能（メタ）アクリレートを併用することで、硬度や弾性率、接着する基板との接着性、塗布時の粘度等を好適に調整できる。各々の含有量は、必要とされる特性に応じて適宜調整すればよいが、紫外線硬化型組成物中にエポキシ（メタ）アクリレート及び／又はウレタンアクリレートを３０質量％以下で使用することが好ましく、１〜３０質量％含有することが好ましく、５〜１５質量％含有することがより好ましい。エポキシ（メタ）アクリレートを当該範囲で含有することにより、得られる硬化物に高い硬度を付与できると共に、塗付する際の粘度も好適に調整でき、反りの低減にも有効であるため好ましい。ウレタンアクリレートを当該範囲で含有すると、硬化膜に柔軟性を付与でき、反りの低減に有効である。また、３官能（メタ）アクリレートの含有量としては、２〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが更に好ましい。更に、１官能及び／又は２官能（メタ）アクリレートの含有量としては、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることが更に好ましい。１〜３官能の（メタ）アクリレートの比率は、使用する（メタ）アクリレートの種類に応じて適宜調整する必要があるが、上記範囲内にて調整することで、塗付時の粘度や、硬化後の架橋密度を好適な範囲とすることができ、硬化物に高い硬度を付与できると共に硬化物の反りを低減できる。【００８２】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、厚さが７０〜１１０μｍ程度の光透過層を最外層とするハードコート層を有さない光ディスクの最外層としても好適に適用できる。光透過層を最外層とする光ディスクに適用する場合には、光ディスク用紫外線硬化型組成物の２５℃におけるＢ型粘度を５００〜３０００ｍＰａ・ｓとすることが好ましく、８００〜２０００ｍ・Ｐａとすることが更に好ましい。当該粘度とすることで、スピンコーター等の塗布により好適に７０〜１１０μｍ程度の厚膜の光透過層を最外層として形成できる。【００８３】
また、光透過層として使用する際には、紫外線硬化後の硬化膜の２５℃における弾性率が、１００〜２０００ＭＰａの範囲であることが好ましく、２００〜１５００の範囲であることが更に好ましい。硬化膜の弾性率を当該範囲とすることで、傷付きや硬化膜の反りを特に好適に抑制できる。【００８４】
［光ディスク］
本発明の光ディスクは、最外層として、上記紫外線硬化型組成物を使用することにより、好適な耐指紋付着性や指紋拭き取り性を実現できる。本発明の光ディスクの構成例としては、最外層としてハードコート層を有する構成、又は当該ハードコート層を有さず光透過層を最外層とする構成が例示できる。本発明においては、いずれの構成の光ディスクであっても良い。いずれの構成であっても、上記紫外線硬化型組成物の硬化膜を最外層層として適用することで、良好に光を透過できると共に、優れた防汚性や汚れの払拭性を有し、また、長期間経過後や、高温高湿環境下で放置された際にも安定した防汚性を発現することができる。このため、本発明の光ディスクは、光ディスク表面の光散乱が生じにくく、光による情報の読取や書込を良好に行うことができる。【００８５】
光透過層を最外層とする光ディスクとしては、基板上に、少なくとも光反射層、情報記録層及び光透過層が順に積層され、前記光透過層を通してブルーレーザー光により情報の記録又は再生を行う光ディスクが好適である。最外層としてハードコート層を有する光ディスクとしては、基板上に、少なくとも光反射層、情報記録層及び光透過層が順に積層され、最外層としてハードコート層を有し、前記ハードコート層を通してブルーレーザー光により情報の記録又は再生を行う光ディスクが好適である。【００８６】
本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましく、１００μｍの厚さにおいて４０５ｎｍの光の透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。【００８７】
本発明の光ディスクにおける光透過層の厚みは７０〜１１０μｍであることが好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。【００８８】
光透過層の弾性率としては、２５℃における弾性率が１００〜２０００ＭＰａの範囲であることが好ましく、２００〜１５００の範囲であることが更に好ましい。硬化膜の弾性率を当該範囲とすることで、傷付きの防止と硬化膜の反りの低減を実現しやすくなる。【００８９】
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。【００９０】
基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。【００９１】
光ディスクにハードコート層を設ける場合には、当該ハードコート層は１〜１０μｍの厚さであることが好ましく、２〜５μｍが特に好ましい。２〜５μｍの膜厚にすることで、特に反り変化量を少なくすることができる。【００９２】
また、ハードコート層としては、傷つきを低減するため高い硬度を有することが好ましく、表面鉛筆硬度で２Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であると更に好ましい。【００９３】
ハードコート層の弾性率としては、２５℃における弾性率が１０００〜４０００ＭＰａの範囲であることが好ましく、１５００〜３０００の範囲であることが更に好ましい。弾性率が上記範囲のものは、弾性率が低い場合、膜が軟らかくなり、逆に弾性率が高いものは、膜が脆くなり好ましくない。【００９４】
また、書込可能な記録型光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、指紋等の油分が付着した際にも液滴サイズが小さく、光記録時に記録エラーを生じにくいことから、記録型の光ディスクに好適に適用できる。記録型光ディスクの情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。【００９５】
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。【００９６】
本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層が積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。【００９７】
本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。【００９８】
光反射層上に塗布した紫外線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。【００９９】
紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１Ｊ／ｃｍ２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．０５〜０．８Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、０．０５〜０．６Ｊ／ｃｍ２であることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する紫外線硬化型組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。【０１００】
［実施態様］
以下、本発明の光ディスクの具体例として、単層型光ディスク及び二層型光ディスクの具体的構成の一例を以下に示す。【０１０１】
本発明の光ディスクのうち、単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図１に示したように、基板１上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック（グルーブ）を模式的に表したものである。光透過層３は、本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物を含んだ積層体からなる層であり、その厚さは１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。また、図２に示したように、当該構成上にハードコート層が設けられた構成も好ましく例示できる。【０１０２】
多層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図３に示したように、基板１上に、光反射層５と、光透過層６とが積層され、さらにその上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層３側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う二層型光ディスクの構成が例示できる。光透過層３及び光透過層６は、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、少なくともいずれかの層が本発明の紫外線硬化型組成物からなる層である。層の厚さとしては、光透過層３の厚さと光透過層６の厚さの和が１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。【０１０３】
当該構成の二層型光ディスクにおいては、記録トラック（グルーブ）が、光透過層６の表面にも形成されるため、光透過層６は、接着性に優れる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層の上に、記録トラックを好適に形成できる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層を積層した複層で形成されていてもよい。また当該多層型光ディスクにおいても、図４に示したように、最外層としてハードコート層が設けられた構成であっても良い。【０１０４】
図１に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜する。この上に紫外線硬化型組成物からなる光透過層を形成した後、本発明の紫外線硬化型組成物を塗布し、ディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させ、光透過層３を形成し、図１の光ディスクを作製する。【０１０５】
図３に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に、基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層６を成膜する。【０１０６】
この上に、本発明の紫外線硬化型組成物又は任意の紫外線硬化型組成物の光透過層５を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラック（グルーブ）を転写する。記録トラック（グルーブ）を転写する工程は次の通りである。基板１に形成された光反射層６上に紫外線硬化型組成物を塗布し、その上に記録トラック（グルーブ）を形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層５の記録トラック（グルーブ）を有する側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜し、この上に、紫外線硬化型組成物を塗付した後、紫外線照射により硬化させ、光透過層３を形成することで、図３の光ディスクを作製できる。また、光反射層に相変化型記録層を用いる場合でも上記と同様の方法により光ディスクを作成することができる。
【実施例】
【０１０７】
次に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。【０１０８】
（合成例１）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、下記式（Ｘ−１）で表される両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を２０質量部、溶媒としてジイソプロピルエーテル２０質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．０２質量部、中和剤としてトリエチルアミン３．１質量部を仕込み、空気気流下にて攪拌を開始し、フラスコ内を１０℃に保ちながらアクリル酸クロライド２．７質量部を１時間かけて滴下した。滴下終了後、１０℃で１時間攪拌し、昇温して３０℃で１時間攪拌した後、５０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行い、ガスクロマトグラフィー測定にてアクリル酸クロライドの消失が確認された。次いで、溶媒としてジイソプロピルエーテル４０質量部を追加した後、イオン交換水８０質量部を混合して攪拌してから静置し水層を分離させて取り除く方法による洗浄を３回繰り返した。次いで、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．０２質量部を添加し、脱水剤として硫酸マグネシウム８質量部を添加して１日間静置することで完全に脱水した後、脱水剤を濾別した。【０１０９】
【化７】
2011052369.tif 000009
（式中、Ｘはパーフルオロメチレン基及びパーフルオロエチレン基であり、１分子あたり、パーフルオロメチレン基が平均７個、パーフルオロエチレン基が平均８個存在するものであり、フッ素原子の数が平均４６である。また、ＧＰＣによる数平均分子量は１，５００である。）【０１１０】
次いで、減圧下で溶媒を留去することによって、下記構造式（ｄ１−１−１）で表される単量体を得た。【０１１１】
【化８】
2011052369.tif 000010
（式中、Ｘはパーフルオロメチレン基及びパーフルオロエチレン基であり、１分子あたり、パーフルオロメチレン基が平均７個、パーフルオロエチレン基が平均８個存在するものであり、フッ素原子の数が平均４６である。）【０１１２】
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えた別のガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン６３．０質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、上記で得られた単量体（ｄ１−１−１）２１．５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート４１．３質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート９．４質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン１２６．０質量部を混合した開始剤溶液１３５．４質量部の３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−１）を得た。【０１１３】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−１）に、溶媒としてメチルエチルケトン７４．７質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてジブチル錫ジラウレート０．０６質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート４４．８質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量２，４００、重量平均分子量７，１００、最大分子量２０万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）中のフッ素含有量は１１質量％、紫外線硬化性基当量は３３９ｇ／ｅｑ．であった。【０１１４】
（合成例２）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン６８．３質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、合成例１で得られた単量体（ｄ１−１−１）３２．３質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３６．０質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート１０．２質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン１３６．５質量部を混合した開始剤溶液１４６．７質量部の３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−２）を得た。【０１１５】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−２）に、溶媒としてメチルエチルケトン７５．１質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０６質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート３９．２質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（２）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（２）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量１，７００、重量平均分子量５，７００、最大分子量１０万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（２）中のフッ素含有量は１７質量％、紫外線硬化性基当量は３８７ｇ／ｅｑ．であった。【０１１６】
（合成例３）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン１０７．４質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１１５℃に昇温した。次いで、合成例１で得られた単量体（ｄ１−１−１）３８．５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３２．８質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート１０．７質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン１０９．９質量部を混合した開始剤溶液１２０．６の３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１１５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１１５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−３）を得た。【０１１７】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−３）に、溶媒としてメチルエチルケトン１０６．９質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０３質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート３５．６質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（３）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（３）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量１，８００、重量平均分子量５，９００、最大分子量８万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（３）中のフッ素含有量は２０質量％、紫外線硬化性基当量は４２３ｇ／ｅｑ．であった。【０１１８】
（合成例４）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン４４．２質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、合成例１で得られた単量体（ｄ１−１−１）３８．５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３２．８質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート１０．７質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン８８．３質量部を混合した開始剤溶液の３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−４）を得た。【０１１９】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−４）に、溶媒としてメチルエチルケトン１０６．９質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０３質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート３５．６質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（４）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（４）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量３，０００、重量平均分子量２５，０００、最大分子量１５０万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（４）中のフッ素含有量は２０質量％、紫外線硬化性基当量は４２３ｇ／ｅｑ．であった。得られた含フッ素紫外線硬化性樹脂（４）のＩＲスペクトルのチャート図を図１に、１３Ｃ−ＮＭＲのチャート図を図２にそれぞれ示す。【０１２０】
（合成例５）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン２９．１質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、実施例１で得られた単量体（ｄ１−１−１）３８．５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３２．８質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート１０．７質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン５８．１質量部を混合した開始剤溶液の３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−５）を得た。【０１２１】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−５）に、溶媒としてメチルエチルケトン１０６．９質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０３質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート３５．６質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（５）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（５）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量３，２００、重量平均分子量８７，０００、最大分子量７００万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（５）中のフッ素含有量は２０質量％、紫外線硬化性基当量は４２３ｇ／ｅｑ．であった。【０１２２】
（合成例６）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン３６．８質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、実施例１で得られた単量体（ｄ１−１−１）４２．８質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３０．７質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート１１．０質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン７３．５質量部を混合した開始剤溶液の３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−６）を得た。【０１２３】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−６）に、溶媒としてメチルエチルケトン１０７．０質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０３質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート３３．５質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（６）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（６）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量２，５００、重量平均分子量１４，０００、最大分子量６０万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（６）中のフッ素含有量は２３質量％、紫外線硬化性基当量は４５０ｇ／ｅｑ．であった。【０１２４】
（合成例７）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン３２．３質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、実施例１で得られた単量体（ｄ１−１−１）４２．８質量部、２−ヒドロキシエチルアクリレート２９．０質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート７．１質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン７５．５質量部を混合した開始剤溶液の３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−７）を得た。【０１２５】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−７）に、溶媒としてメチルエチルケトン１０７．０質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０３質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート２１．６質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（７）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（７）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量３，１００、重量平均分子量７，３００、最大分子量１４万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（７）中のフッ素含有量は２３質量％、紫外線硬化性基当量は４２９ｇ／ｅｑ．であった。【０１２６】
（合成例８）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン８１．９質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、実施例１で得られた単量体（ｄ１−１−１）３０．３質量部、下記式（ｄ２−１）で表されるポリオキシアルキレン基含有メタクリレート（式中のｎは平均５）５１．６質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート１２．２質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン６９．９質量部を混合した開始剤溶液の３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−８）を得た。【０１２７】
【化９】
2011052369.tif 000011
【０１２８】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−８）に、溶媒としてメチルエチルケトン７０．７質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０６質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート１８．１質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（８）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（８）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量１，８００、重量平均分子量５，４００、最大分子量９万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（８）中のフッ素含有量は１７質量％、紫外線硬化性基当量は７８０ｇ／ｅｑ．であった。【０１２９】
（合成例９）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン５６．２質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、実施例１で得られた単量体（ｄ１−１−１）３８．７質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６．６質量部、下記式（ｄ２−２）で表される不飽和脂肪酸ヒドロキシアルキルエステル修飾ε−カプロラクトン（式中のｎは平均１）２１．９質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート１１．６質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン１１２．３質量部を混合した開始剤溶液の４種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、重合体（Ｐ１−９）の溶液を得た。【０１３０】
【化１０】
2011052369.tif 000012
【０１３１】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−９）の溶液に、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０６質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート３０．３質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（９）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（９）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量２，１００、重量平均分子量１５，１００、最大分子量６０万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（９）中のフッ素含有量は２０質量％、紫外線硬化性基当量は５００ｇ／ｅｑ．であった。【０１３２】
（合成例１０）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、下記構造式（Ｘ−１）で表される両末端水酸基含有パーフルオロポリエーテル化合物（Ｘ−１）２０質量部、溶媒としてジイソプロピルエーテル１０質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．００６質量部及び中和剤としてトリエチルアミン３．３質量部を仕込み、空気気流下にて攪拌を開始し、フラスコ内を１０℃に保ちながらメタクリル酸クロライド３．１質量部を２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０℃で１時間攪拌し、昇温して３０℃で１時間攪拌した後、５０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行い、ガスクロマトグラフィー測定にてメタクリル酸クロライドの消失が確認された。【０１３３】
【化１１】
2011052369.tif 000013
（式中、Ｘはパーフルオロメチレン基及びパーフルオロエチレン基であり、１分子あたり、パーフルオロメチレン基が平均７個、パーフルオロエチレン基が平均８個存在するものであり、フッ素原子の数が平均４６である。また、ＧＰＣによる数平均分子量は１，５００である。）【０１３４】
次いで、溶媒としてジイソプロピルエーテル７２質量部を追加した後、イオン交換水７２質量部を混合して攪拌してから静置し水層を分離させて取り除く方法による洗浄を３回繰り返した。次いで、脱水剤として硫酸マグネシウム８質量部を添加して１日間静置することで完全に脱水した後、脱水剤を濾別して濾液を得た。この濾液の溶媒を減圧下で留去することによって、化合物（Ａ）として下式で表される単量体（ｄ１−２−１）２０．８質量部を得た。【０１３５】
【化１２】
2011052369.tif 000014
（式中、Ｘはパーフルオロメチレン基及びパーフルオロエチレン基であり、１分子あたり、パーフルオロメチレン基が平均７個、パーフルオロエチレン基が平均８個存在するものであり、フッ素原子の数が平均４６である。）【０１３６】
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン５７．３質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、上記で得られた単量体（ｄ１−２−１）１９．６質量部と、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３７．７質量部と、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート８．６質量部及び溶媒としてメチルイソブチルケトン１１５．０質量部を混合した開始剤溶液との３種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することによって、重合体（Ｐ１−１０）を得た。【０１３７】
次いで、上記で得られた重合体（Ｐ１−１０）に、溶媒としてメチルエチルケトン９７．３質量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．０５質量部及びウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０４質量部を仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート３９．７質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して５時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の吸収ピークの消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルエチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（１０）２０質量％含有のメチルエチルケトン溶液を得た。このラジカル重合性樹脂（１０）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量２，２００、重量平均分子量６，２００、最大分子量１０万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（１０）中のフッ素含有量は１１質量％、紫外線硬化性基当量は３５７ｇ／ｅｑ．であった。【０１３８】
（合成例１１）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン６９．０質量部を仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら１０５℃に昇温した。次いで、下記式（Ｙ−１）で表されるフッ素化アルキル基を有するアクリレート４０．０質量部及び２−ヒドロキシエチルメタクリレート２８．８質量部と、溶媒としてメチルイソブチルケトン６９．０質量部とを混合した単量体溶液１３７．８質量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート３．４質量部と溶媒としてメチルイソブチルケトン２２．５質量部を混合した開始剤溶液２５．９質量部の２種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を１０５℃に保ちながら同時に３時間かけて滴下した。滴下終了後、１０５℃で１０時間攪拌し、重合体溶液を得た。【０１３９】
【化１３】
2011052369.tif 000015
【０１４０】
次いで、上記で得られた重合体溶液に、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１質量部、ウレタン化触媒としてオクチル酸錫０．０５質量部を仕込み、空気気流下で６０℃を保ちながら２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート３１．２質量部を１時間で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１０時間攪拌することにより反応を行った結果、ＩＲスペクトル測定によりイソシアネート基の消失が確認された。次いで、溶媒としてメチルイソブチルケトンで希釈した後に濾過によって溶液に不溶な物は濾別して、重合性基を有する含フッ素紫外線硬化性樹脂（１１）２０質量％含有のメチルイソブチルケトン溶液を得た。含フッ素紫外線硬化性樹脂（１１）の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量３，０００、重量平均分子量７，０００、最大分子量４万であった。また、含フッ素紫外線硬化性樹脂（１１）中のフッ素含有量は２５質量％、紫外線硬化性基当量は４５２ｇ／ｅｑ．であった。【０１４１】
下記表１〜４に示した配合（表中の組成の数値は質量部を表す。）により調整した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、実施例１〜２４及び比較例１〜３の紫外線硬化型組成物を調製した。なお、表中の含フッ素紫外線硬化性樹脂（１）〜（１０）の含有量は、上記合成例にて得られた２０質量％溶液として使用した質量部を表わす。得られた組成物について、下記の評価を行い、得られた結果を同表に示した。【０１４２】
＜粘度の測定方法＞
紫外線硬化型組成物について、２５℃における粘度をＢ型粘度計（（株）東京計器製、ＢＭ型）を用いて測定した。【０１４３】
＜弾性率の測定方法＞
紫外線硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が１００±１０μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で５００ｍＪ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント（株）社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、３０℃における動的弾性率Ｅ’を弾性率とした。【０１４４】
＜相溶性＞
配合した組成物が均一に相溶したものを○、相分離や白濁を生じたものを×とした。【０１４５】
＜信号評価用光ディスクの作成条件＞
直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板を準備し、（株）コベルコ科研製銀合金ターゲットＧＢＤ０５（銀を主成分とするビスマスとの合金）を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした。得られた基板の銀合金反射膜上に、ＤＩＣ株式会社製ダイキュアクリアＳＤ−８８０２をオリジン電気（株）製の塗布実験機を使用し膜厚が硬化後に９７±２μｍとなるように塗布した。ウシオ電機（株）製クセノンフラッシュ照射装置（型式：ＦＵＶ−２０１ＷＪ０２）を使用し、仮硬化２ショット（充電電圧３４２０Ｖ）、本硬化１０ショット（充電電圧３４２０Ｖ）の条件で紫外線を照射、硬化させた。
上記硬化物の上に表１の各組成物をオリジン電気（株）製の塗布実験機を使用し膜厚が硬化後に約３μｍとなるように塗布した。ウシオ電機（株）製クセノンフラッシュ照射装置（型式：ＦＵＶ−２０１ＷＪ０２）を使用し、本硬化１０ショット（充電電圧３４２０Ｖ）の条件で紫外線を照射、硬化させ、試験用サンプルディスクを得た。【０１４６】
＜人工指紋液の調製＞
希釈剤メトキシプロパノール１０質量部に対し、トリオレイン１質量部を添加し、更にＪＩＳ  Ｚ８９０１に定められた試験用粉体１第１１種の関東ローム０．４質量部を加えて撹拌し、人工指紋液を調製した。【０１４７】
＜疑似指紋パターン転写用原版の作製＞
人工指紋液を撹拌しながら約１ｍｌ採取し、ポリカーボネート製基板（直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ）上にスピンコート法により塗布した。この基板を６０℃で３分間加熱し、メトキシプロパノールを除去し、疑似指紋パターン転写用原版を得た。【０１４８】
＜疑似指紋パターンの転写＞
Ｎｏ．９のシリコーンゴム栓の小さい方の端面（直径２４ｍｍ）を研磨紙（日本研紙製ＣＣ  １５０−Ｃｗ）で一様に研磨したものを疑似指紋転写材として用いた。疑似指紋転写材端面を上記原版に荷重１２６Ｎで１０秒間押し当てて、人工指紋液成分を転写材の前記端面に移行させた。紫外線硬化型樹脂組成物を形成させたディスク表面の中心から半径方向３７ｍｍ付近のところに、人工指紋液成分が付着された転写材の前記端面を荷重１２６Ｎで１０秒間押し当てて人工指紋液成分を転写させた。【０１４９】
＜人工指紋付着試験＞
人工指紋成分を転写させた各ディスクサンプルを、キーエンス社製デジタルマイクロスコープＶＨＸ−２００を用い、１０００倍の倍率で液滴サイズを測定した。
液滴サイズは画面中で液滴が大きいもの１０個の直径を測定し、その平均を算出した。  測定した液滴サイズが１５ミクロン以下を○、１５ミクロン以上を×とした。【０１５０】
＜光ディスクのエラーレート測定＞
人工指紋液を付着させた各サンプルディスクをパルステック工業（株）社製  ＢＤ−ＭＡＳＴＥＲを用いて、３６〜３８ｍｍのＲａｎｄａｍ  ＳＥＲを測定した。
また、Ｒａｎｄａｍ  ＳＥＲのエラーレート比（人工指紋付着後／人工指紋付着前）を算出した。
Ｒａｎｄａｍ  ＳＥＲのエラーレート比が５０以下を○、５０以上を×とした。【０１５１】
＜拭き取り試験＞
ＳＥＲを測定後、市販のティッシュペーパー（（株）クレシア製）を８枚重ねたものをＮｏ．１２のゴム栓の大きい方の端面（直径３６ｍｍ）と、人工指紋液を付着させたサンプルディスクとの間に２５Ｎで挟み込み、徐々に移動させることにより人工指紋の拭き取りを行った。
拭き取り試験を５回繰り返し行った後、各サンプルディスクをパルステック工業（株）社製  ＢＤ−ＭＡＳＴＥＲを用いて、３６〜３８ｍｍのＲａｎｄａｍ  ＳＥＲを測定した。その時のＲａｎｄａｍ  ＳＥＲ比（拭き取り後／人工指紋付着前）を算出した。その値が１０以下を○、１０以上を×とした。【０１５２】
【表１】
2011052369.tif 000016
【０１５３】
【表２】
2011052369.tif 000017
【０１５４】
【表３】
2011052369.tif 000018
【０１５５】
【表４】
2011052369.tif 000019
【０１５６】
表中の記号は以下の通りである。
Ｖ−５５３０：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のグリシジル基に直接アクリル酸が付加した構造のエポキシアクリレート  ＤＩＣ（株）社製
ＰＨ−６０１９：３官能性脂肪族ウレタンアクリレート  コグニスジャパン（株）社製
ＥＢ−１２９０：６官能性脂肪族ウレタンアクリレート  ダイセルサイテック（株）社製
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＥＯ−ＴＭＰＴＡ：エチレンオキサイド（３モル）変性トリメチロールプロパントリアクリレート
ＥＯ−ＰＥＴＡ：エチレンオキサイド（４モル）変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
ＤＰＧＤＡ：ジプロピレングリコールジアクリレート
Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  チバジャパン（株）社製
Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
Ｔｅｇｏｒａｄ  ２２００Ｎ：反応性ポリシロキサン  エボニック デグサ ジャパン（株）社製【０１５７】
実施例１〜１７では、紫外線硬化型組成物の相溶性に優れており、人工指紋液の液滴サイズも１５ミクロン以下と小さく、良好であった。このレベルでは、記録型ブルーレイディスクであるＢＤ−ＲやＢＤ−ＲＥの光透過層に使用し指紋を付着させた後に記録再生を行っても、十分に良好な信号特性が得られた。
また比較例１では拭き取り性が悪いことが確認された。比較例２では、人工指紋の液滴サイズが１５ミクロン以上と大きくなった。
比較例３では人工指紋の付着性が悪く、拭き取り性も悪いことが確認された。
【符号の説明】
【０１５８】
１  基板
２  光反射層
３  光透過層
４  ハードコート層
５  光反射層
６  中間光透過層
【図１】
2011052369.tif 000020
【図２】
2011052369.tif 000021
【図３】
2011052369.tif 000022
【図４】
2011052369.tif 000023
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月8日(2011.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクの最外層に使用する紫外線硬化型組成物であって、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と紫外線硬化性基とを有する含フッ素紫外線硬化性樹脂を含有し、前記含フッ素紫外線硬化性樹脂が、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端にラジカル重合性不飽和基を有する構造部位を有する化合物（ｄ１）と、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ１）に、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）を反応させて得られる含フッ素紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項２】
光ディスクの最外層に使用する紫外線硬化型組成物であって、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と紫外線硬化性基とを有する含フッ素紫外線硬化性樹脂を含有し、前記含フッ素紫外線硬化性樹脂が、反応性官能基（Ｒ１）を有するラジカル重合性不飽和単量体（ｄ２）の重合体（Ｐ２）に、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端に前記反応性官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）を有する化合物（ｄ１’）と、前記官能基（Ｒ１）に対して反応性を有する官能基（Ｒ２）と紫外線硬化性基とを有する化合物（ｄ３）とを反応させて得られる含フッ素紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項３】
前記含フッ素紫外線硬化性樹脂を紫外線硬化性化合物の総量に対し０．１〜３質量％含有する請求項１又は２に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項４】
前記光ディスクが、基板上に、少なくとも光反射層及び光透過層が順に積層され、最外層としてハードコート層を有し、前記ハードコート層を通してブルーレーザー光により情報の記録又は再生を行う光ディスクである請求項１又は２に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項５】
３官能（メタ）アクリレートモノマーを紫外線硬化性化合物の総量に対し３０〜７０質量％含有する請求項１又は２に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項６】
基板上に、光反射層、情報記録層及び光透過層が順に積層され、最外層にハードコート層を有し、前記ハードコート層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う光ディスクであって、前記ハードコート層が、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物の硬化物からなることを特徴とする光ディスク。
【国際調査報告】
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