(57)【要約】  本発明は、ブロッキング（貼り付き）の改善により、透明性フィルム基材及び液晶化合物を含む光学異方性層（液晶層）の変形によるリタデーションムラを抑制し、すぐれた表面平滑性（低ヘイズ）を有する光学補償フィルム、これを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供する。  光学補償フィルムは、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の片面に、配向された液晶化合物を含む光学異方性層が設けられ、同透明性フィルム基材の他面に、セルロースエステル系樹脂バインダーと微粒子とを含有するバックコート層が設けられており、バックコート層に含まれる微粒子の粒径が１μｍ以下であり、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、２〜１０ｎｍの範囲であることを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の片面に、配向された液晶化合物を含む光学異方性層が設けられ、同透明性フィルム基材の他面に、セルロースエステル系樹脂バインダーと微粒子とを含有するバックコート層が設けられている光学補償フィルムにおいて、バックコート層に含まれる微粒子の粒径が１μｍ以下であり、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、２〜１０ｎｍの範囲であることを特徴とする、光学補償フィルム。
【請求項２】
透明性フィルム基材の片面と、液晶化合物を含む光学異方性層との間に、接合用中間層が設けられていることを特徴とする、請求項１に記載の光学補償フィルム。
【請求項３】
セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材が、セルロースアセテートプロピオネートフィルムであることを特徴とする、請求項１または２に記載の光学補償フィルム。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光学補償フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【請求項５】
請求項４に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置には、視野角特性等の光学特性を改善するために、光学補償性能を有する光学フィルムが使用されている。このような光学補償フィルムとしては、液晶化合物を含有し、その液晶化合物が配向された光学異方性層を備えた光学補償フィルムが知られている。【０００３】
一方、透明性フィルム基材上に光学異方性層を備える光学補償フィルムには、光学異方性層を設けた側と反対側の面にバックコート層を設けることが好ましい。この場合、バックコート層は、好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、そのため、バックコート層形成用塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるための微粒子を添加することが行なわれている。【０００４】
このような光学補償フィルムとしては、具体的には、例えば下記の特許文献１〜３に記載のものが挙げられる。【０００５】
特許文献１には、液晶表示装置の光学補償に寄与する液晶化合物を含む光学異方性層等を安定的にかつ良好な平面平滑性を保持して作製するのに有用な塗布組成物が記載されている。そして、特許文献１には、光学補償フィルムの光学異方性層と反対側の面に、バックコート層を設けることが記載されている。【０００６】
また、特許文献２及び３には、透明性フィルム基材の片側に機能性薄膜層を有し、反対側にセルロースエステル、微粒子及び有機溶剤を構成成分とするバックコート層を有する光学補償フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１５０４８９号公報
【特許文献２】特開２００５−２６６２３１号公報
【特許文献３】特開２００７−３２００５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、液晶塗布フィルムのような表面平滑性（低ヘイズ）が求められる光学補償フィルムにおいて、液晶化合物を含む光学異方性層側の面と反対側面のハードコート層（ブロッキング防止層）は、製造工程の重要な課題である。光学補償フィルムの巻き締りにより、ブロッキング（巻き状態での貼り付き、変形）が発生すると、透明性フィルム基材および光学異方性層（液晶層）が変形し、リタデーションムラ（光学値変動によるムラ）と呼ばれる外観上および機能上の不具合が発生してしまうという問題があった。【０００９】
本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、セルロース系樹脂フィルムよりなる透明性フィルム基材の片面に、光学異方性層（液晶層）が設けられ、同他面に、微粒子とバインダーを含むバックコート層が設けられている光学補償フィルムについて、ブロッキング（貼り付き）の改善により、透明性フィルム基材及び液晶化合物を含む光学異方性層（液晶層）の変形によるリタデーションムラを抑制できるとともに、すぐれた表面平滑性（低ヘイズ）を有する光学補償フィルム、これを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記の点に鑑み鋭意研究を重ねた結果、セルロース系樹脂フィルムよりなる透明性フィルム基材の片面に、液晶化合物を含む光学異方性層（液晶層）が設けられ、同他面に、微粒子とバインダーを含むバックコート層が設けられた光学補償フィルムについて、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の表面粗さが小さいと、ブロッキング改善効果が薄れてしまうことを見出した。そして、バックコート層の形成の際に、バックコート層形成用塗布組成物中の溶剤種の選定により、バックコート層基層表面の微粒子が存在しない領域の表面粗さを、所定の比較的粗い範囲に制御することにより、光学補償フィルムのブロッキング（貼り付き）を改善することができ、これにより、透明性フィルム基材及び液晶化合物を含む光学異方性層（液晶層）の変形によるリタデーションムラを抑制できることを見い出し、本発明を完成するに至ったものである。【００１１】
上記の目的を達成するために、請求項１の光学補償フィルムの発明は、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の片面に、配向された液晶化合物を含む光学異方性層が設けられ、同透明性フィルム基材の他面に、セルロースエステル系樹脂バインダーと微粒子とを含有するバックコート層が設けられている光学補償フィルムにおいて、バックコート層に含まれる微粒子の粒径が１μｍ以下であり、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、２〜１０ｎｍの範囲であることを特徴としている。【００１２】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学補償フィルムであって、透明性フィルム基材の片面と、液晶化合物を含む光学異方性層との間に、接合用中間層が設けられていることを特徴としている。【００１３】
請求項３の発明は、請求項１または２に記載の光学補償フィルムであって、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材が、セルロースアセテートプロピオネートフィルムであることを特徴としている。【００１４】
請求項４の発明は、請求項１から３のいずれか１項に記載の光学補償フィルムを有することを特徴とする偏光板である。【００１５】
請求項５の発明は、請求項４に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１の光学補償フィルムの発明は、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の片面に、配向された液晶化合物を含む光学異方性層が設けられ、同透明性フィルム基材の他面に、セルロースエステル系樹脂バインダーと微粒子とを含有するバックコート層が設けられている光学補償フィルムにおいて、バックコート層に含まれる微粒子の粒径が１μｍ以下であり、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、２〜１０ｎｍの範囲であるもので、請求項１の発明によれば、バックコート層基層表面の微粒子が存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、所定の比較的粗い範囲に制御することにより、光学補償フィルムのブロッキング（貼り付き）を改善することができ、これにより、光学補償フィルムについて、透明性フィルム基材及び液晶化合物を含む光学異方性層（液晶層）の変形によるリタデーションムラを抑制できるとともに、すぐれた表面平滑性（低ヘイズ）を有するという効果を奏する。【００１７】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学補償フィルムであって、透明性フィルム基材の片面と、液晶化合物を含む光学異方性層との間に、接合用中間層が設けられているもので、請求項２の発明によれば、接合用中間層及び光学異方性層において欠陥の発生を抑制でき、接合用中間層と光学異方性層との密着性が充分に高く、さらに、光学異方性層の液晶化合物の配向性が充分に高い光学補償フィルムを得ることができるという効果を奏する。【００１８】
上記の請求項１または２に記載の光学補償フィルムにおいては、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材としては、透明性が高い点から、セルロースアセテートプロピオネートフィルムであることが好ましい。【００１９】
請求項４の発明は、請求項１から３のいずれか１項に記載の光学補償フィルムを有する偏光板であり、請求項４の発明によれば、偏光板の透明保護フィルムとして、光学補償性能に優れた光学補償フィルムが適用されているので、例えば、液晶表示装置に適用した際に、視野角の拡大やコントラストの向上等の、液晶表示装置の高画質化を実現できる偏光板が得られる。【００２０】
請求項５の発明は、請求項４に記載の偏光板を有する液晶表示装置であり、請求項５の発明によれば、光学補償性能に優れた光学補償フィルムを具備する偏光板を用いるので、視野角の拡大やコントラスト等が向上された、高画質な液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
つぎに、本発明の実施の形態を説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
（光学補償フィルム）
本発明による光学補償フィルムは、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の片面に、配向された液晶化合物を含む光学異方性層が設けられ、同透明性フィルム基材の他面に、セルロースエステル系樹脂バインダーと微粒子とを含有するバックコート層が設けられている光学補償フィルムであって、バックコート層に含まれる微粒子の粒径が１μｍ以下であり、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、２〜１０ｎｍの範囲であることを特徴としている。
【００２２】
また、本発明に係る光学補償フィルムは、透明性フィルム基材と、透明性フィルム基材上に形成された機能層とを備え、機能層が、活性線硬化樹脂を含有する接合用中間層と、液晶化合物を含有する光学異方性層との少なくとも２つの層を積層したものであり、接合用中間層が光学異方性層より透明性フィルム基材側に存在する。
【００２３】
光学補償フィルムとしては、機能層として、接合用中間層及び光学異方性層のみで構成されたものに限定されず、他の層を備えたものであってもよい。具体的には、例えば、機能層として、透明性フィルム基材と接合用中間層との間に介在する第２の中間層として、下地層を備えていてもよい。下地層としては、例えば、帯電防止層、溶出抑制層、及び防眩層等として働くものが挙げられる。
【００２４】
本発明では、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の光学異方性層を設けた側の面と反対側の面にはバックコート層が設けられている。
【００２５】
バックコート層は、活性エネルギー線硬化樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられるとともに、バックコート層は、ブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層用塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために、微粒子が添加されている。
【００２６】
本発明による光学補償フィルムにおいては、バックコート層に含まれる微粒子の粒径が１μｍ以下である。ここで、バックコート層に含まれる微粒子の粒径が１μｍを超えると、光学補償フィルムのヘイズの上昇が発生するほか、微粒子脱落の可能性が高まり、工程汚染の懸念があるため、好ましくない。
【００２７】
さらに、本発明による光学補償フィルムにおいては、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、２〜１０ｎｍの範囲である。
【００２８】
本発明による光学補償フィルムのバックコート層の基層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、例えば温度２３℃、湿度５０±５％ＲＨの条件下において、３次元表面構造解析顕微鏡（ｚｙｇｏ Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０００、キャノン販売株式会社製）を用い、対物レンズ５０倍、イメージズーム１．０倍で測定することができる。このとき、５０ｎｍ以上のピークがある微粒子存在領域部分をカットした領域部分（以下、微粒子が存在しない領域部分という）であるバックコート層基層表面について中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定を行うものである。
【００２９】
ここで、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ未満と小さいと、ブロッキング改善効果が薄れてしまうので、好ましくない。また、バックコート層基層表面の微粒子の存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、１０ｎｍを超えると、光学補償フィルムの表面平滑性が劣り、ヘイズが高くなって、透明性が劣化するので、好ましくない。
【００３０】
本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、光学補償フィルムの透明性フィルム基材成分に対して、高溶解性、低溶解性の溶剤を各種割合で混合させた溶媒をバックコート層形成用組成物の溶剤に使用することにより、基材の膨潤度の差から、目標の表面粗さが得られることを見出した。
【００３１】
以下、本発明による光学補償フィルムについて、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材、液晶化合物を含む光学異方性層、接合用中間層、およびバックコート層の順に説明する。
（透明性フィルム基材）
透明性フィルム基材としては、透明性があり、光学補償フィルムの基材として用いることができるものであれば、特に限定されない。なお、ここで透明性があるとは、可視光の透過率が６０％以上であることであり、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。透明性フィルム基材としては、具体的には、例えば、透明性樹脂を含有する樹脂フィルム等が挙げられる。
【００３２】
透明性樹脂としては、光学補償フィルムの基材として用いることができるものであれば、特に限定されず、例えば、フィルム基材等に成形した際に、透明性があることが好ましい。透明性樹脂としては、具体的には、例えば、セルロースエステル系樹脂が挙げられる。
【００３３】
セルロースエステル系樹脂としては、特に限定されない。具体的には、例えば、セルロース樹脂の、炭素数が２〜２２程度のカルボン酸エステルであることが好ましく、炭素数が２〜６の低級脂肪酸エステルであることがより好ましい。また、芳香族カルボン酸のエステルであってもよい。
【００３４】
また、セルロースエステル系樹脂としては、より具体的には、例えば、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、及びセルロースアセテートプロピオネートブチレート樹脂のようなアセチル基の他にプロピオネート基又はブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステル等が挙げられる。この中でも、プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネート樹脂は、耐水性に優れ、透明性が高い点から、液晶画像表示装置用のフィルムとして特に有用である。
【００３５】
セルロースエステル系樹脂としては、より具体的には、例えば、アセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹ、総アシル基置換度をＸ＋Ｙとした時、ＸとＹとが下記式（Ｉ）及び（II）を満たすセルロースの混合脂肪酸エステルを有するセルロースエステル系樹脂が好ましい。
【００３６】
２≦Ｘ＋Ｙ≦３        （Ｉ）
０≦Ｙ≦１．５        （II）
また、上記式（Ｉ）及び（II）に加えて、下記式（III）及び下記式（VI）を満たすセルロースアセテートプロピオネート樹脂が特に好ましい。
【００３７】
１≦Ｘ≦２．５        （III）
０．１≦Ｙ≦１．５    （IV）
また、アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらのセルロースエステル系樹脂は、公知の方法で合成することができる。アシル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【００３８】
アシル基としては、直鎖であっても分岐していてもよく、また環を形成していてもよい。アシル基の置換度が同程度の場合、アシル基の炭素数が大きいと複屈折性が低下するため、炭素数が２〜６のアシル基が好ましい。また、ブチレートを形成するブチリル基は、直鎖であっても分岐していてもよい。
【００３９】
また、セルロースエステル系樹脂としては、単一のセルロースエステル系樹脂であってもよいし、また、複数種のセルロースエステル系樹脂、例えば、アシル基置換度の異なるもの等を組み合わせて用いてもよい。また、上記の好適範囲外のセルロースエステル系樹脂を組み合わせて用いてもよい。複数種のセルロースエステル系樹脂を組み合わせて用いることによって、所望の光学特性を有する透明性フィルム基材を得ることができる。上記の好適範囲外のセルロースエステル系樹脂を組み合わせて用いる場合であっても、好適範囲内のセルロースエステル系樹脂と好適範囲外のセルロースエステル系樹脂との混合比が、質量比で、１００：０〜５０：５０であることが好ましい。
【００４０】
セルロースエステル系樹脂の原料であるセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。また、それらから得られたセルロースエステル系樹脂はそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステル系樹脂は、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることができる。
【００４１】
セルロースエステル系樹脂の数平均分子量は、６００００〜３０００００であることが、光学補償フィルムに成型した場合の機械的強度が強い点で好ましい。また、溶液流延製膜法において適度なドープ粘度となる点からも好ましい。さらに、７００００〜２０００００であることがより好ましい。また、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）が、１．４〜４．５の範囲であることが好ましい。
【００４２】
セルロースエステル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。
【００４３】
また、セルロースエステル系樹脂は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
セルロースエステル系樹脂は、公知の方法により製造することができる。具体的には、アシル化剤が、酸クロライド（ＣＨ３ＣＯＣｌ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＣｌ、Ｃ３Ｈ７ＣＯＣｌ）である場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。より具体的には、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、セルロースエステル系樹脂は、各置換度に合わせて上記アシル化剤量を調整して反応させたものであり、セルロースエステル系樹脂はこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）と言う。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際には２．６〜３．０である）。
【００４５】
また、セルロースエステルフィルムとしては、市販されているものとして、具体的に、例えば、コニカミノルタオプト株式会社製の、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ等が挙げられる。
【００４６】
また、透明性フィルム基材としては、接合用中間層を形成する前に、表面処理を施したものが好ましい。表面処理としては、特に限定されず、通常の方法を採用することができる。具体的には、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線処理、火炎処理等が挙げられる。
【００４７】
また、透明性フィルム基材としては、光学的に二軸性のフィルムであることが好ましい。ここで、光学的に二軸性のフィルムとは、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである透明性フィルム基材である。光学的に二軸性のフィルムとしては、可視光の透過率が８０％以上、膜厚が２０〜７０μｍ、下記式（１）で求められる面内リタデーション（Ｒｏ）が２０〜３３０ｎｍ、下記式（２）で求められる厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が５０〜３４０ｎｍであることが好ましい。
（１）      Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（２）      Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
ここで、ｎｘは、フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｙは、フィルムの面内の遅相軸に直交する方向の屈折率を示し、ｎｚは、フィルムの厚み方向の屈折率を示し、ｄは、フィルムの厚み（ｎｍ）を示す。上記各屈折率は、例えば、王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて、温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍで測定することができる。
【００４８】
また、セルロースエステルフィルムの二軸性を調整するためには、具体的には、例えば、リタデーション上昇剤、アクリル系重合体、及び糖エステル化合物の少なくとも１種を含有させることが好ましい。
【００４９】
リタデーション上昇剤としては、セルロースエステルフィルムのリタデーションを上昇させるものであれば、特に限定されない。
【００５０】
また、透明製フィルム基材を製造する際、その原料である樹脂組成物の硬化を阻害しない範囲で、微粒子、可塑剤や紫外線吸収剤が含有されているものであってもよい。また、このような透明性フィルム基材（樹脂フィルム）の製造方法についての詳細については、後述する。
【００５１】
透明性フィルム基材の厚みは、樹脂フィルムの薄型化を達成するため薄い方が好ましいが、製造中の破断等を防止するため、２０μｍ以上であることが好ましい。ここでの厚みとは、平均膜厚のことであり、株式会社ミツトヨ製の接触式膜厚計により、フィルムの幅方向に２０〜２００箇所、膜厚を測定し、その測定値の平均値を膜厚として示す。また、透明性フィルム基材の幅、物性、及び形状等は、特に限定なく、製造する光学補償フィルムの目的に合わせて、適宜選択することができ、特に限定されないが、光学補償フィルムの幅は、大型の液晶表示装置への使用、偏光板加工時のフィルムの使用効率、生産効率の点から、１０００〜４０００ｍｍであることが好ましい。
【００５２】
透明性フィルム基材としては、光学補償フィルムの基材として用いることができるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、溶液流延製膜法や溶融流延製膜法等によって得られた樹脂フィルム等を用いることができる。このような樹脂フィルムであれば、膜厚が均一であって、光学補償フィルムの基材として好適に使用できる。
【００５３】
本発明においては、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材が、セルロースアセテートプロピオネート樹脂フィルムであることが好ましい。このような構成によれば、透明性フィルム基材の透明性が高く、さらに、光学異方性層に含有される液晶化合物の配向性が高いので、光学補償性能に優れるだけではなく、透明性にも充分に優れた光学補償フィルムが得られる。
（光学異方性層）
光学異方性層は、液晶化合物を含有する層であれば、特に限定されず、視野角を拡大する等の所定の光学補償性能を発揮できる光学異方性層等が挙げられる。また、光学異方性層は、液晶化合物が配向されていることが好ましく、その配向性が高いことがより好ましい。
【００５４】
また、液晶化合物としては、特に限定されず、光学異方性層に含有される従来公知の液晶化合物等が挙げられる。具体的には、例えば、分子内に棒状のメソゲン基や円盤状のメソゲン基を有するもの等が挙げられる。この中でも、分子内に棒状のメソゲン基を有するものが好ましい。そして、液晶化合物としては、垂直配向でき、その配向を固定化することができる、いわゆる垂直配向性を有する液晶化合物であることがより好ましい。すなわち、光学異方性層としては、例えば、分子内に棒状のメソゲン基を有する液晶化合物を含有し、メソゲン基が、その長軸方向を透明性フィルム基材の面方向に略垂直となるように配向（垂直配向）させた後、配向が固定化されているものが好ましい。
【００５５】
また、液晶化合物が、分子内に棒状のメソゲン基を有し、メソゲン基が、その長軸方向を透明性フィルム基材の面方向に略垂直となるように配向させた後、配向が固定化されていることが好ましい。このような構成によれば、光学補償性能のより優れた光学フィルムが得られる。
【００５６】
また、分子内に棒状のメソゲン基を有する液晶化合物としては、棒状のメソゲン基と重合性官能基とを含有する重合性液晶であってもよいし、少なくとも主鎖及び側鎖のいずれか一方に棒状のメソゲン基を含有する高分子液晶であってもよいし、棒状のメソゲン基と重合性官能基とを含有する高分子液晶であってもよい。重合性官能基を含有することによって、固定化の際、例えば、液晶転移温度未満まで冷却した後、冷却しながら、重合させることによって、配向をより固定化させることができ、さらに、光学異方性層として硬化させることもできる点等から好ましい。そして、メソゲン基の配向性や重合による光学異方性層の成形性等の観点から、重合性液晶が好ましい。
【００５７】
メソゲン基としては、特に限定されないが、垂直配向しうる棒状のメソゲン基であることが好ましい。具体的には、例えば、エステル基、シアノ基、アルキル基、及びアリール基を含有する官能基等が挙げられる。また、メソゲン基としては、上記各メソゲン基を１種含有するものであってもよいし、２種以上を組み合わせて含有するものであってもよい。
【００５８】
重合性官能基としては、特に限定されず、配向後、配向を保持したまま重合させることができることが好ましい。具体的には、例えば、熱によって重合が開始するものであってもよいし、紫外線等の活性線の照射によって重合が開始するものであってもよい。すなわち、重合性液晶の場合、熱硬化性のものであってもよいし、活性線硬化性のものであってもよい。また、液晶化合物を液晶転移温度未満で重合させる場合、あまり加熱しない方が好ましいので、活性線硬化性のものの方がより好ましい。
【００５９】
また、液晶化合物が、活性線の照射により重合可能な官能基を有する重合性液晶化合物であって、固定化工程が、光学異方性層形成用塗布組成物を冷却した後、光学異方性層形成用塗布組成物に活性線を照射して、光学異方性層形成用塗布組成物を硬化させる工程であることが好ましい。
【００６０】
このような構成によれば、後述する接合用中間層、及び光学異方性層において欠陥の発生を抑制でき、接合用中間層と光学異方性層との密着性が充分に高く、さらに、光学異方性層の液晶化合物の配向性が充分に高い光学補償フィルムをより容易に製造することができる。
【００６１】
また、重合性官能基としては、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基やビニルエーテル等のビニル基、エポキシ基、及びオキセタニル基等が挙げられる。また、重合性官能基を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、重合性液晶としては、重合性官能基を分子内に１つ含有するものであってもよいし、２つ以上含有するものであってもよい。
【００６２】
液晶化合物としては、メソゲン基を含有するものやメソゲン基と重合性官能基とを含有するもの等が挙げられる。具体的には、例えば、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号公報、国際公開第９５／２４４５５号公報、国際公開第９７／００６００号公報、国際公開第９８／２３５８０号公報、国際公開第９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、特開平６−１６６１６号公報、特開平７−１１０４６９号公報、特開平１１−８００８１号公報、特開２００１−３２８９７３号公報、特開２００４−２４０１８８号公報、特開２００５−９９２３６号公報、特開２００５−９９２３７号公報、特開２００５−１２１８２７号公報、特開２００２−３００４２号公報等に記載の化合物等が挙げられる。また、より具体的には、例えば、下記化学式（１）及び下記化学式（２）で表される化合物が好ましく用いられる。
【００６３】
【化１】
2011024683.tif 000002
【００６４】
式中、Ｒ１ 及びＲ２ は、それぞれ独立して水素又はメチル基を示し、Ｘは、水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、又はニトロ基を示し、ａ及びｂは、２〜１２を示す。
【００６５】
【化２】
2011024683.tif 000003
【００６６】
式中、Ｒ３は、水素又はメチル基を示す。
【００６７】
また、上記化学式（１）で表される液晶化合物としては、Ｒ１及びＲ２が、共に水素を示すものが、液晶相を示す温度範囲が広い点から好ましい。また、Ｘとしては、塩素又はメチル基が好ましい。ａ及びｂは、２〜１２を示すが、４〜１０であることが好ましく、６〜９であることが好ましい。
【００６８】
また、液晶化合物は、上記各液晶化合物を単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００６９】
また、液晶化合物としては、市販されているものとして、具体的には、例えば、ＤＩＣ株式会社製のＵＣＬ０１８や、ＢＡＳＦ社製のパリオカラーＬＣ２４２等が挙げられる。
【００７０】
なおここで、垂直配向とは、透明性フィルム基材の厚み方向に対する、メソゲン基の長軸方向（液晶化合物の配向方向）の角度であるチルト角が、７０〜９０°であることを意味し、８０〜９０°であることが好ましい。また、液晶化合物が垂直配向するか否かは、液晶化合物、特にその棒状のメソゲン基の構造に依存することが知られている。すなわち、垂直配向する構造を有する液晶化合物であれば、公知の配向処理によって、垂直配向しうる。
【００７１】
配向処理としては、具体的には、例えば、被塗布層である接合用中間層等の上に塗布された、液晶化合物を含む光学異方性層形成用塗布組成物（塗布液）を、液晶化合物の液晶転移温度以上まで加熱することによって、垂直配向させ、その後、液晶転移温度未満まで冷却することによって、その垂直配向を固定化する方法等が挙げられる。ここで、液晶転移温度とは、固体−液晶相転移温度を指す。そして、光学異方性層形成用塗布組成物を塗布した後の液晶転移温度以上までの加熱は、液晶−等方性液体相転移温度以下までであることが好ましい。
【００７２】
また、光学異方性層の厚みは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．２〜５μｍであることがより好ましい。
【００７３】
また、光学異方性層は、上記式（１）で求められる面内リタデーション（Ｒｏ）が、０〜１０ｎｍであることが好ましい。また、上記式（２）で求められる厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が、−５００〜−１００ｎｍであることが好ましい。
（接合用中間層）
接合用中間層は、透明性フィルム基材上、又は下地層を備える場合には、下地層上に形成される。
【００７４】
また、接合用中間層は、活性線硬化樹脂を含む。また、接合用中間層は、光学異方性層の液晶化合物の配向を促進させる液晶配向層として働くもの、具体的には、例えば、ラビング処理を施したものであってもよい。
【００７５】
活性線硬化樹脂としては、紫外線等の活性線によって硬化するものであって、透明性があるものである。ここで透明性があるとは、可視光の透過率が６０％以上であることであり、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、イソプロペニル基、エポキシ基、及びオキセタニル基等の重合性官能基を有するもの等が挙げられる。また、活性線硬化樹脂としては、重合性官能基を２つ以上有し、活性線を照射することによって、架橋構造又は網目構造となるものが好ましい。また、活性線としては、作業性の観点等から、紫外線であることが好ましい。すなわち、活性線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂であることが好ましい。また、活性線硬化樹脂としては、活性線硬化性化合物を硬化させて得られるものであることが好ましい。そして、その活性線硬化性化合物としては、ウレタンアクリレートオリゴマー及びアクリレートオリゴマーの少なくともいずれか一方であることがより好ましい。
【００７６】
活性線硬化樹脂としては、具体的には、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、及び紫外線硬化型エポキシ樹脂等の紫外線硬化型アクリレート系樹脂等が挙げられる。
【００７７】
紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂としては、具体的には、例えば、ポリエステルポリオールに、イソシアネートモノマー又はプレポリマーを反応させて得られた生成物を、さらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとして、アクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系モノマーを反応させることによって容易に得ることができるもの等が挙げられる。より具体的には、例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のもの等が挙げられる。また、市販品としては、具体的には、例えば、日本合成化学工業株式会社製の紫光ＵＶ−７５１０Ｂ、ＤＩＣ株式会社製のユニディック１７−８０６  １００部と日本ポリウレタン工業株式会社製のコロネートＬ  １部との混合物等が挙げられる。
【００７８】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、具体的には、例えば、ポリエステルポリオールに、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のアクリレート系モノマーを反応させることによって容易に得ることができるもの等が挙げられる。より具体的には、例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報に記載のもの等が挙げられる。
【００７９】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂としては、具体的には、例えば、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するもの等が挙げられる。より具体的には、例えば、特開平１−１０５７３８号公報に記載のもの等が挙げられる。
【００８０】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
【００８１】
活性線硬化樹脂としては、上記例示した化合物のほかに、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、及びペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等が挙げられる。そして、その市販品としては、具体的には、例えば、株式会社ＡＤＥＫＡ製の、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ（ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ）、広栄化学化学工業株式会社製の、コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ、大日精化工業株式会社製の、セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００、ダイセル・サイテック株式会社製の、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２、ＤＩＣ株式会社製の、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１、中国塗料株式会社製の、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ、三洋化成工業株式会社製の、サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２、昭和高分子株式会社製の、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７、グレース・ジャパン株式会社製のＲＣＣ−１５Ｃ、東亞合成株式会社製の、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、新中村化学工業株式会社製の、ＮＫハードＢ−４２０、ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ−ＩＢＤ−２Ｅ等が挙げられる。
【００８２】
また、接合用中間層の厚みが、０．０１〜１μｍであることが好ましく、０．０２〜０．７μｍであることがより好ましい。接合用中間層の厚みが薄すぎると、接合用中間層が有する効果、例えば、液晶配向層、帯電防止層、溶出防止層及び防眩層等として働く効果や、上記のような密着性を高める効果を発揮しにくくなる傾向がある。また、接合用中間層の厚みが厚すぎると、得られる光学補償フィルムが不必要に厚くなり、光学補償フィルムの薄型化を阻害するという傾向がある。
【００８３】
このような構成によれば、接合用中間層及び光学異方性層において欠陥の発生をより抑制でき、接合用中間層と光学異方性層との密着性がより高く、さらに、光学異方性層の液晶化合物の配向性がより高い光学補償フィルムが得られる。
【００８４】
また、活性線硬化樹脂が、活性線硬化性化合物を硬化させて得られるものであることが好ましい。そして、その活性線硬化性化合物としては、ウレタンアクリレートオリゴマー及びアクリレートオリゴマーの少なくともいずれか一方であることがより好ましい。
（バックコート層）
本発明では、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の光学異方性層を設けた側の面と反対側の面にはバックコート層が設けられている。
【００８５】
ここで、バックコート層は、ブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層形成用塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されている。
【００８６】
なお、バックコート層は、活性エネルギー線硬化樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するためにも設けられている。すなわち、光学補償フィルムに、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。
【００８７】
バックコート層に添加される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【００８８】
これらの微粒子は、例えばアエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）、シーホスターＫＥ−Ｐ１０、同ＫＥ−Ｐ３０、同ＫＥ−Ｐ５０、同ＫＥ−Ｐ１００、同ＫＥ−Ｐ１５０、同ＫＥ−Ｐ２５０（以上、株式会日本触媒社製）の商品名で市販されており、を使用することができる。これらの中でも、特に好ましいものとしては、シーホスターＫＥ−Ｐ３０、同ＫＥ−Ｐ５０、同ＫＥ−Ｐ１００が挙げられる。
【００８９】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えばアエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【００９０】
ポリマーの微粒子の例として、アクリル樹脂微粒子、シリコーン樹脂微粒子、及びフッ素樹脂微粒子を挙げることができる。アクリル樹脂微粒子としては、例えばＭＰ−１４５１（綜研化学株式会社製）、リオスフェアＲＳＰ−３０２１Ｄ（東洋インキ株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【００９１】
また、シリコーン樹脂微粒子としては、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えばトスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【００９２】
バックコート層に含まれる微粒子は、その粒径が１μｍ以下である。また、バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％好ましくは０．１〜１０質量％であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１％以下であることが好ましく０．５％以下であることが好ましく、特に０．０〜０．１％であることが好ましい。なお、バックコート層に含まれる微粒子の粒径は可視光域の凡その下限である４００ｎｍ以下がより好ましい。光学的に波長以下の粒径では散乱が生じにくくなるからである。
【００９３】
バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えばセルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．２〜２．３、プロピオニル基置換度０．１〜１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロースエステル系樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９４】
特に好ましくはジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートのようなセルロース系樹脂である。
【００９５】
バックコート層は、具体的には、上記微粒子、バインダー、およびセルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材を溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒、およびフィルム基材を溶解させない溶媒を含むバックコート層形成用塗布組成物を、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材塗布することによって行なわれる。
【００９６】
ここで、バックコート層形成用塗布組成物には、２種類の混合溶剤を使用するのが、好ましい。
【００９７】
ただし、これら２種類の溶剤は、下記の２つの条件を満たすものである。
【００９８】
ここで、ＳＰ値９〜１０の溶剤を「溶剤１」、およびＳＰ値１１〜１５の溶剤を「溶剤２」とすると、これらの溶剤は、下記の２つの条件を満たす。
【００９９】
条件１：溶剤１の沸点＞溶剤２の沸点
条件２：溶剤１と溶剤の混合割合比が、８：２〜１：９
ここで、有機化合物のＳＰ値とは、溶解性パラメーターのことであって、どれだけ溶媒などに溶けやすいかということを数値化したものであり、有機化合物ではよく使われる極性と同義で、このＳＰ値が大きい程、極性が大きいことを表わす。ＳＰ値は、Ｆｅｄｏｒｓ法で計算した計算値を使用することができる。
【０１００】
本発明の光学補償フィルムのバックコート層形成用塗布組成物に使用される溶剤としては、上記の条件を満たすものを適宜に選定することができる。例えば、メタノール（ＭＡ）、エタノール（ＥＡ）、１−プロパノール（ＮＰＡ）、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）等のアルコール系溶剤、アセトン、アセチルアセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（ＥＣＳ）、エチレングリコールイソプロピルエーテル（ＩＰＣ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールエチルエーテル（ＰＥ）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート（ＰＧＥＥＡ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコール誘導体、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、ホルムアミド（ＦＡ）、Ｎ−メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、クロロホルム、ミネラルスピリッツ、ターピネオール等の中から適宜選択できるが、これらに限定されるものではない。
【０１０１】
本発明の光学補償フィルムのバックコート層形成用塗布組成物に使用される溶剤とその沸点、およびＳＰ値を、下記の表１に例示した。
【０１０２】
【表１】
2011024683.tif 000004
【０１０３】
ここで、上記の条件１および条件２を満足するバックコート層の使用溶剤１と使用溶剤２の組み合わせを例示すると、つぎの通りである。
【０１０４】
使用溶剤１        使用溶剤２  混合比
ＰＧＭＥＡ        ：ＩＰＡ    ＝２：８
ＰＧＭＥＡ        ：ＮＰＡ    ＝３：７
ＰＧＭＥＡ        ：メタノール＝３：７
ＰＧＭＥＡ        ：エタノール＝４：６
メチルエチルケトン：メタノール＝１：９
メチルエチルケトン：メタノール＝５：５
酢酸エチル        ：メタノール＝３：７
酢酸エチル        ：メタノール＝４：６
シクロヘキサノン  ：ＩＰＡ    ＝２：８
シクロヘキサノン  ：ＮＰＡ    ＝２：８
シクロヘキサノン  ：エタノール＝３：７
シクロヘキサノン  ：メタノール＝２：８
上記のようなバックコート層形成用塗布組成物を、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明性フィルム基材の表面にウェット膜厚１〜１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであることが好ましい。
【０１０５】
バックコート層を塗設する順番は、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の活性エネルギー線硬化樹脂層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。または２回以上に分けてバックコート層を塗布することもできる。
（光学補償フィルムの製造方法）
本発明による光学補償フィルムは、具体的には、以下のように製造される。
【０１０６】
まず、本発明による光学補償フィルムでは、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねるために、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の片面に、バックコート層を先に塗設し、その後、透明性フィルム基材の他面に、接合用中間層である活性線硬化樹脂層を塗設することが望ましい。
【０１０７】
バックコート層は、具体的には、微粒子、バインダー、およびセルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材を溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒、およびフィルム基材を溶解させない溶媒を含むバックコート層形成用塗布組成物を、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の表面上に、塗布することによって行なわれる。
【０１０８】
上記のようなバックコート層形成用塗布組成物を、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明性フィルム基材の表面にウェット膜厚１〜１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであることが好ましい。
【０１０９】
バックコート層を塗設する順番は、セルロースエステル系樹脂透明性フィルム基材の活性エネルギー線硬化樹脂層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。または２回以上に分けてバックコート層を塗布することもできる。
【０１１０】
つぎに、透明性フィルム基材上に、接合用中間層を形成する。具体的には、透明性フィルム基材上に、活性線硬化樹脂を含有する中間層形成用塗布組成物を塗布する。
【０１１１】
塗布方法としては、特に限定されず、公知の塗布方法を用いることができる。具体的には、例えば、グラビアコータ、スピナーコータ、ワイヤーバーコータ、ロールコータ、リバースコータ、押出コータ、エアードクターコータ、ダイコータ、ディップコータ及びインクジェット法等の塗布装置を用いたものが挙げられる。そして、塗布厚みとしては、中間層形成用塗布組成物の固形分濃度等によっても異なるが、具体的には、例えば、形成される接合用中間層の厚みが上記範囲内となるような厚みであることが好ましく、ウェット膜厚で、０．１〜４０μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることがより好ましい。また、ドライ膜厚としては、平均膜厚で０．０１〜１μｍであることが好ましく、０．０２〜０．７μｍであることがより好ましい。
【０１１２】
そして、透明性フィルム基材上に塗布された中間層形成用塗布組成物に、活性線を照射して、接合用中間層を形成させる。その際、活性線を照射する前に、透明性フィルム基材上に塗布された中間層形成用塗布組成物を乾燥させておいてもよい。乾燥方法としては、中間層形成用塗布組成物中の有機溶剤を乾燥することができれば、特に限定されない。具体的には、例えば、風乾、加熱除去、及び減圧除去等が挙げられる。これらを単独で行ってもよいし、２種以上を組み合わせて行ってもよい。なお、活性線としては、中間層形成用塗布組成物を硬化させることができれば、特に限定されず、具体的には、例えば、電子線や紫外線等が挙げられる。この中でも、操作性の観点等から、紫外線が好ましい。
【０１１３】
また、中間層形成用塗布組成物は、活性線硬化樹脂以外に、通常、有機溶剤が含有されている。
【０１１４】
有機溶剤としては、活性線硬化樹脂を溶解させることができるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類、メチレンクロライド、ジオキソラン、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（プロピレングリコールモノメチルエーテル等）等のグリコールエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル酢酸エステル等のグリコールエーテル類のカルボン酸エステル、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、及びジアセトンアルコール等のケトンアルコール類等が挙げられる。この中でも、アルキル基の炭素数が１〜４のプロピレングリコールモノアルキルエーテルやアルキル基の炭素数が１〜４のプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル等が好ましい。また、これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、中間層形成用塗布組成物中の有機溶剤濃度は、組成等によって異なるが、例えば、５〜８０質量％程度であることが好ましい。
【０１１５】
また、中間層形成用塗布組成物は、活性線硬化樹脂以外に、例えば、セルロースエステル系樹脂、後述する光重合開始剤等を含有していてもよい。より具体的には、例えば、中間層形成用塗布組成物には、光重合開始剤を含有してもよい。電子線を照射することによって重合させる場合には、光重合開始剤が不要であるが、一般的に用いられている重合、例えば、紫外線（ＵＶ）照射による重合の場合には、重合を促進させるために光重合開始剤を含有させることが好ましい。そうすることによって、重合温度を低くすることができる。
【０１１６】
光重合開始剤としては、活性線硬化樹脂の硬化反応の開始に寄与できればよく、具体的には、例えば、α−ヒドロキシケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体等が挙げられる。この中でも、α−ヒドロキシケトン及びこの誘導体が好ましい。また、これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、光重合開始剤の含有量は、例えば、活性線硬化樹脂１００質量部に対して０．１〜１質量部程度であることが好ましい。
【０１１７】
紫外線を照射する光源としては、紫外線を発生する光源であれば、限定なく使用できる。具体的には、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、及びキセノンランプ等が挙げられる。
【０１１８】
紫外線の照射条件は、光源や中間層形成用塗布組成物等によって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ２であり、好ましくは、５〜１５０ｍＪ／ｃｍ２である。
【０１１９】
また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍであることが好ましい。
【０１２０】
張力を付与する方法は、特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに平面性優れたフィルムを得ることができる。
【０１２１】
つぎに、接合用中間層上に光学異方性層を形成する。具体的には、接合用中間層上に、液晶化合物を含有する光学異方性層形成用塗布組成物を塗布する。
【０１２２】
塗布方法としては、特に限定されず、公知の塗布方法を用いることができる。具体的には、例えば、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、ブレードコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、及び押出コート法等が挙げられる。そして、塗布厚みとしては、光学異方性層形成用塗布組成物の固形分濃度等によっても異なるが、具体的には、例えば、形成される光学異方性層の厚みが上記範囲内となるような厚みであることが好ましく、ドライ膜厚としては、平均膜厚で０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．２〜５μｍであることがより好ましい。
【０１２３】
そして、接合用中間層上に塗布された光学異方性層形成用塗布組成物を乾燥させる。乾燥方法としては、光学異方性層形成用塗布組成物中の有機溶剤を乾燥することができれば、特に限定されない。具体的には、例えば、風乾、加熱除去、及び減圧除去等が挙げられる。これらを単独で行ってもよいし、２種以上を組み合わせて行ってもよい。
【０１２４】
そして、接合用中間層上に塗布され、乾燥された光学異方性層形成用塗布組成物を、液晶化合物の液晶転移温度以上に加熱することによって、液晶化合物を配向させる。その配向時間としては、例えば、１〜１０分間程度かかる。なお、ここで、液晶転移温度とは、固体−液晶相転移温度を指す。そして、光学異方性層形成用塗布組成物を塗布した後の液晶転移温度以上までの加熱は、液晶−等方性液体相転移温度以下までであることが好ましい。また、加熱速度は、１０〜１５０℃／秒であることが好ましい。
【０１２５】
その後、光学異方性層形成用塗布組成物を、液晶化合物の液晶転移温度以下に冷却し、その配向を固定し、その状態で、光学異方性層形成用塗布組成物に活性線を照射する。そうすることによって、その配向性がより固定され、そして、液晶化合物が垂直配向した光学異方性層が形成される。すなわち、この工程は、液晶化合物が、活性線の照射により重合可能な官能基を有する重合性液晶化合物である場合、光学異方性層形成用塗布組成物を冷却した後、光学異方性層形成用塗布組成物に活性線を照射して、光学異方性層形成用塗布組成物を硬化させる工程である。そうすることによって、光学異方性層を容易に形成できる。
【０１２６】
また、光学異方性層形成用塗布組成物は、液晶化合物以外に、通常、後述する有機溶剤が含有されている。
【０１２７】
有機溶剤としては、液晶化合物を溶解させることができるものであれば、特に限定されない。また、有機溶剤としては、透明性フィルム基材や接合用中間層の性状を低下させない溶媒であることが好ましい。具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、メトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン等のエステル類、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等のハロゲン系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ等のアルコール類、フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２８】
また、有機溶媒の中でも、単独用いる溶媒として好ましいものは、炭化水素系溶媒、及びエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールモノエーテルアセテート系溶媒であり、組み合わせて用いる溶媒として好ましいのは、エーテル類又はケトン類と、グリコール類とを組み合わせて用いる混合溶媒である。
【０１２９】
また、光学異方性層形成用塗布組成物の固形分濃度としては、液晶化合物の溶解性や光学異方性層の膜厚等によって異なるが、例えば、０．１〜６０質量％程度であることが好ましく、３〜４０質量％程度であることがより好ましい。
【０１３０】
また、光学異方性層形成用塗布組成物には、液晶化合物以外に、例えば、液晶化合物として、重合性官能基を有する重合性液晶等を用いる場合、後述する光重合開始剤等を含有していてもよい。電子線を照射することによって重合させる場合には、光重合開始剤が不要であるが、一般的に用いられている重合、例えば、紫外線（ＵＶ）照射による重合の場合には、重合を促進させるために光重合開始剤を含有させることが好ましい。そうすることによって、重合温度を低くすることができ、固定化が好適に行うことができる。
【０１３１】
光重合開始剤としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、ベンジル（ビベンゾイル）、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、及び１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。また、これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３２】
光重合開始剤の含有量としては、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。光重合開始剤の含有量が少なすぎると、光重合開始剤の効果が発揮できない傾向にあり、また、多すぎると、液晶化合物の重合性が低下して、分子量が低くなり、よって、耐擦傷性等が低下する傾向がある。
【０１３３】
また、光学異方性層形成用塗布組成物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、増感剤を含有させてもよい。増感剤としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、日本化薬株式会社製のカヤキュアＤＥＴＸ等が挙げられる。
【０１３４】
また、光学異方性層形成用塗布組成物には、上記各組成以外にも、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記添加剤を含有させてもよい。
【０１３５】
添加剤としては、まず、例えば、多価アルコールと１塩基酸又は多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族もしくは脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物、及びアクリル基又はメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物、特開２００７−４５９９３号公報に記載のオニウム塩、フッ化アクリレートポリマー等が挙げられる。添加剤の添加により、光学異方性層形成用塗布組成物の硬化性が向上し、得られる光学異方性層の機械強度が増大し、またその安定性が改善される。
【０１３６】
また、添加剤の含有量は、本発明の目的が損なわれない範囲で選択され、一般的には、光学異方性層形成用塗布組成物の４０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることが好ましい。
【０１３７】
また、溶媒を含有する光学異方性層形成用塗布組成物には、塗工を容易にするために界面活性剤等を含有させてもよい。界面活性剤としては、具体的には、例えば、イミダゾリン、第四級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体等の陽イオン系界面活性剤；ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、第一級あるいは第二級アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族あるいは芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン系界面活性剤；ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン等の両性系界面活性剤；ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン系界面活性剤；パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基・親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル・親油基含有オリゴマーパーフルオロアルキル基含有ウレタン等のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。
【０１３８】
界面活性剤の含有量としては、界面活性剤の種類、液晶材料の種類、溶媒の種類、さらには溶液を塗工する配向膜の種類等にもよっても異なるが、通常は、液晶化合物に対して、１０ｐｐｍ〜１０質量％であることが好ましく、１００ｐｐｍ〜５質量％であることが好ましく、０．１〜１質量％であることが好ましい。
【０１３９】
活性線としては、中間層形成用塗布組成物を硬化させることができれば、特に限定されず、具体的には、例えば、電子線や紫外線等が挙げられる。この中でも、操作性の観点等から、紫外線や可視光が好ましく、紫外線がより好ましい。紫外線での硬化は、技術が確立していることや、可視光で硬化する場合より、利用しやすい点から好ましい。波長としては、具体的には、例えば、１５０〜５００ｎｍであることが好ましく、２５０〜４５０ｎｍであることがより好ましく、３００〜４００ｎｍであることが好ましい。
【０１４０】
紫外線を照射する光源としては、紫外線を発生する光源であれば、限定なく使用できる。具体的には、例えば、殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト等の低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等の高圧放電ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ等のショートアーク放電ランプ等が挙げられる。この中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。
【０１４１】
紫外線の照射条件は、光源や光学異方性層形成用塗布組成物等によって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ２であり、好ましくは、５〜１５０ｍＪ／ｃｍ２である。
【０１４２】
また、上述したように、透明性フィルム基材が、長尺状であり、第１塗布工程、中間層形成工程、第２塗布工程、配向工程、及び固定化工程の各工程が、透明性フィルム基材を長手方向に搬送しながら行われている場合、透明性フィルム基材の幅が、１０００ｍｍ以上であって、透明性フィルム基材の搬送速度が、４０ｍ／分以上であることが好ましい。ここでの透明性フィルム基材の搬送速度は、中間層形成用塗布組成物や光学異方性層形成用塗布組成物の塗布速度に相当する。
【０１４３】
このような広幅の光学補償フィルムを、上記のような高速で透明性フィルム基材を搬送して製造しようとすると、一般的に、中間層形成用塗布組成物や光学異方性層形成用塗布組成物の塗布むら等が発生して、形成される接合用中間層や光学異方性層に欠陥が発生しやすいが、上記の製造方法によれば、接合用中間層及び光学異方性層において欠陥の発生を抑制でき、接合用中間層と光学異方性層との密着性が充分に高く、さらに、光学異方性層の液晶化合物の配向性が充分に高い光学補償フィルムを容易に製造することができる。
【０１４４】
本発明による光学補償フィルムの厚みは、２０μｍ以上であることが好ましく、２０〜８０μｍであることがより好ましい。ここでの厚みとは、平均膜厚のことであり、株式会社ミツトヨ製の接触式膜厚計により、フィルムの幅方向に２０〜２００箇所、膜厚を測定し、その測定値の平均値を膜厚として示す。また、透明性フィルム基材の幅、物性、及び形状等は、特に限定なく、製造する光学補償フィルムの目的に合わせて、適宜選択することができ、特に限定されないが、光学補償フィルムの幅は、大型の液晶表示装置への使用、偏光板加工時のフィルムの使用効率、生産効率の点から、１０００ｍｍ以上であることが好ましく、１０００〜４０００ｍｍであることがより好ましい。
（偏光板）
偏光板は、偏光素子と、偏光素子の表面上に配置された透明保護フィルムとを備え、透明保護フィルムが、光学補償フィルムである。偏光素子とは、入射光の偏光を直線偏光に変えて射出する光学素子である。
【０１４５】
偏光板としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬して延伸することによって作製される偏光素子の少なくとも一方の表面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて、光学補償フィルムを貼り合わせたものが好ましい。また、偏光素子のもう一方の表面にも、光学補償フィルムを積層させてもよいし、別の偏光板用の透明保護フィルムを積層させてもよい。この偏光板用の透明保護フィルムとしては、例えば、市販のセルロースエステルフィルムとして、コニカミノルタオプト株式会社製の、ＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＨＲ−１、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５等が好ましく用いられる。あるいは、セルロースエステルフィルム以外の環状オレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート等の樹脂フィルムを用いてもよい。この場合は、ケン化適性が低いため、適当な接着層を介して偏光板に接着加工することが好ましい。
【０１４６】
偏光板は、上述のように、偏光素子の少なくとも一方の表面側に積層する保護フィルムとして、光学補償フィルムを使用したものである。その際、光学補償フィルムが位相差フィルム等の光学補償フィルムとして働く場合、光学補償フィルムの遅相軸が偏光素子の吸収軸に実質的に平行または直交するように配置されていることが好ましい。
【０１４７】
また、偏光素子の具体例としては、例えば、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが挙げられる。ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものとがある。ポリビニルアルコール系フィルムとしては、エチレンで変性された変性ポリビニルアルコール系フィルムが好ましく用いられる。
【０１４８】
偏光素子は、例えば、以下のようにして得られる。まず、ポリビニルアルコール水溶液を用いて製膜する。得られたポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸させた後染色するか、染色した後一軸延伸する。そして、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を施す。
【０１４９】
偏光素子の膜厚は、５〜４０μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、５〜２０μｍであることがより好ましい。
【０１５０】
該偏光素子の表面上に、セルロースエステルを含むセルロースエステル系光学補償フィルムを張り合わせる場合、完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせることが好ましい。また、セルロースエステル系光学補償フィルム以外の光学補償フィルムの場合は、適当な粘着層を介して偏光板に接着加工することが好ましい。
【０１５１】
上述のような偏光板は、透明保護フィルムとして、上記実施形態による光学補償フィルムを用いることによって、光学補償フィルムが光学補償性能等に優れているので、光学補償性能等に優れた偏光板が得られる。
【０１５２】
このような構成によれば、偏光板の透明保護フィルムとして、光学補償性能に優れた光学補償フィルムが適用されているので、例えば、液晶表示装置に適用した際に、視野角の拡大やコントラストの向上等の、液晶表示装置の高画質化を実現できる偏光板が得られる。
（液晶表示装置）
液晶表示装置は、液晶セルと、液晶セルを挟むように配置された２枚の偏光板とを備える。なお、液晶セルとは、一対の電極間に液晶物質が充填されたものであり、この電極に電圧を印加することで、液晶の配向状態が変化され、透過光量が制御される。このような液晶表示装置は、光学補償性能等に優れた偏光板が用いられているので、液晶表示装置の視野角特性等の光学特性を改善することができる。したがって、液晶表示装置の高精細化を実現できる。
【０１５３】
また、液晶表示装置としては、具体的には、例えば、反射型、透過型、及び半透過型のものが挙げられ、また、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のものが挙げられる。この中でも、本実施形態による光学補償フィルムを備えた偏光板は、ＩＰＳ型の液晶表示装置で好適に用いられる。
【０１５４】
本実施形態による光学補償フィルムを備えた偏光板を市販のＩＰＳ（In Plane Switching）モード型の液晶表示装置に組み込むことによって、視認性に優れ、優れたカラーシフト、コーナームラ、正面コントラスト特性を有する液晶表示装置を作製することができる。
【０１５５】
ここで、ＩＰＳモードとは、フリンジ電場スイッチング（ＦＦＳ：Fringe-Field Switching）モードも含み、ＩＰＳモードと同様に、本実施形態による光学補償フィルムを備えた偏光板を組み込むことができ、同様の効果をもつ液晶表示装置を作製することができる。
【０１５６】
ＩＰＳモード型の液晶表示装置における液晶パネルの液晶層は、初期状態で基板面と平行なホモジニアス配向で、且つ基板と平行な平面で液晶層のダイレクターは電圧無印加時で電極配線方向と平行または幾分角度を有する。そして、電圧印加時で液晶層のダイレクターの向きが、電圧の印加に伴い電極配線方向と垂直な方向に移行し、液晶層のダイレクター方向が、電圧無印加時のダイレクター方向に比べて４５°電極配線方向に傾斜したとき、当該電圧印加時の液晶層は、まるで１／２波長板のように偏光の方位角を９０°回転させ、出射側偏光板の透過軸と偏光の方位角が一致して白表示となる。
【０１５７】
一般に、液晶層の厚みは一定であるが、横電界駆動であるため、液晶層の厚みに若干凹凸を設ける方がスイッチングに対する応答速度を上げることができるとも考えられるが、本実施形態による光学補償フィルムを備えた偏光板を組み込むことによって、液晶層の厚みが一定でない場合であっても、その効果を最大限生かすことができるものである。
【０１５８】
したがって、液晶層の厚みの変化に対し影響が少ないが、２〜６μｍであることが好ましく、３〜５．５μｍであることがより好ましい。そうすることによって、すぐれた性能を効果的に発揮できる液晶層となる。
【０１５９】
本発明によれば、光学補償性能に優れた光学補償フィルムを具備する偏光板を用いるので、視野角の拡大やコントラスト等が向上された、高画質な液晶表示装置を提供することができる。
【実施例】
【０１６０】
つぎに、本発明の実施例を比較例と共に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
透明性セルロースエステル系樹脂フィルム基材としては、セルロースアセテートプロピオネートフィルム（ＣＡＰ、商品名ＫＣ−４ＫＲ、コニカミノルタオプト社製）を使用した。この樹脂フィルムの膜厚は６０μｍであり、幅は１．５ｍであった。
（バックコート層形成用塗布組成物）
セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）          ０．１質量部
（アセチル基置換度０．０４、プロピオニル基置換度２．４、
総アシル基置換度２．４４）
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ２０質量部
（溶剤１：ＰＧＭＥＡ、沸点：１４６℃、ＳＰ値：９．６）
イソプロピルアルコール                                  ８０質量部
（溶剤２：ＩＰＡ、沸点：８２．４℃、ＳＰ値：１１．５）
シリカ微粒子の２％イソプロピルアルコール分散液        ０．８質量部
（シーホスターＫＥ−Ｐ５０、株式会社日本触媒製、平均粒径：５００ｎｍ）
上記のバックコート層形成用塗布組成物をセルロースアセテートプロピオネートフィルムの片面に、ワイヤーバー（＃５）で塗布し、温度８０℃で、３０秒間乾燥し、バックコート層を形成した。バックコート層の膜厚は、０．２μｍであった。
（接合用中間層形成用塗布組成物）
ウレタンアクリレートオリゴマー                          １３質量部
（ＵＶ−７５１０Ｂ  日本合成化学株式会社））
プロピレングリコールモノメチルエーテル                ２９０質量部
イソプロピルアルコール                                ６８５質量部
光重合開始剤                                        ０．０５質量部
（ルシリンＴＰＯ（バスフ株式会社製）
上記の中間層形成用塗布組成物を、セルロースアセテートプロピオネートフィルムの他面に、ワイヤーバー（＃３）で塗布し、温度８０℃で、３０秒間乾燥後、紫外線を１２０ｍＪ／ｍｍを１０秒照射して硬化した。乾燥後の接合用中間層の膜厚は、０．５μｍであった。
（重合性液晶層形成用塗布組成物）
紫外線重合性液晶材料                                    ２５質量部
（ＵＣＬ０１８  大日本インキ化学工業株式会社製）
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ８０質量部
光重合開始剤                                        ０．０４質量部
（ルシリンＴＰＯ、バスフ株式会社製）
ヒンダードアミン                                    ０．０２質量部
（ＬＳ−７６５、三共ライフテック株式会社製）
上記の重合性液晶層形成用塗布組成物をダイコータにより上記接合用中間層の表面上にウェット１２μｍの厚みで塗布した。その後、温度１００℃の恒温槽中で２分間加熱し、棒状液晶化合物を配向させて、液晶化合物を含む光学異方性層を形成した。光学異方性層の膜厚は、２μｍであった。【０１６１】
なお、下記の表２に、実施例１におけるバックコート層形成用塗布組成物の使用溶剤１の種類、そのＳＰ値、および沸点（℃）、並びに同使用溶剤２の種類、そのＳＰ値、および沸点（℃）、さらには、使用溶剤１と使用溶剤２の溶剤混合比を、まとめて記載した。【０１６２】
こうして得られた本実施例１による光学補償フィルムのバックコート層の基層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、温度２３℃、湿度５０±５％ＲＨの条件下において、３次元表面構造解析顕微鏡（ｚｙｇｏ Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０００、キャノン販売株式会社製）を用い、対物レンズ５０倍、イメージズーム１．０倍で測定した。【０１６３】
このとき、５０ｎｍ以上のピークがある微粒子存在領域部分をカットした、微粒子が存在しない領域部分であるバックコート層基層表面について中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定を行ったところ、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、５ｎｍであり、得られた結果を下記の表３に示した。
実施例２
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、バックコート層形成用塗布組成物の溶剤として、溶剤１：メチルエチルケトン（ＭＥＫ、沸点：８０℃、ＳＰ値：９．３）１０質量部、および溶剤２：メタノール（ＭｅＯＨ、沸点：６４．６℃、ＳＰ値：１４．５）９０質量部を、下記の表２に示すように、１０：９０の割合で使用した点にある。【０１６４】
こうして得られた本実施例２による光学補償フィルムのバックコート層の基層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、上記実施例１の場合と同様に測定したところ、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、２ｎｍであり、得られた結果を下記の表３にあわせて示した。
実施例３
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、バックコート層形成用塗布組成物の溶剤として、溶剤１：酢酸エチル（沸点：７８℃、ＳＰ値：８．９）３０質量部、および溶剤２：メタノール（ＭｅＯＨ、沸点：６４．６℃、ＳＰ値：１４．５）７０質量部を、下記の表２に示すように、３０：７０の割合で使用した点にある。【０１６５】
こうして得られた本実施例３による光学補償フィルムのバックコート層の基層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、上記実施例１の場合と同様に測定したところ、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、１０ｎｍであり、得られた結果を下記の表３にあわせて示した。
実施例４
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、バックコート層形成用塗布組成物の微粒子として、シリカ微粒子の２％イソプロピルアルコール分散液（シーホスターＫＥ−Ｐ１０、株式会社日本触媒製、平均粒径：１００ｎｍ）０．８質量部を使用した点にある。
実施例５
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、バックコート層形成用塗布組成物の微粒子として、シリカ微粒子の２％イソプロピルアルコール分散液（シーホスターＫＥ−Ｐ１００、株式会社日本触媒製、平均粒径：１０００ｎｍ）０．８質量部を使用した点にある。
実施例６
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、バックコート層形成用塗布組成物の微粒子として、アクリル微粒子の２％イソプロピルアルコール分散液（ＲＳＰ−３０２１Ｄ、株式会社東洋インキ製、平均粒径：５００ｎｍ）０．８質量部を使用した点にある。
実施例７
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、透明性セルロースエステル系樹脂フィルム基材として、セルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣ、商品名ＫＣ４ＵＹＷ、コニカミノルタオプト社製）を使用した点にある。この樹脂フィルムの膜厚は６０μｍであり、幅は１．５ｍであった。
比較例１
比較のために、上記実施例１の場合とは、バックコート層形成用塗布組成物の溶剤が異なるようにして、実施した。すなわち、バックコート層形成用塗布組成物の溶剤として、溶剤１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、沸点：１４６℃、ＳＰ値：９．６）５質量部、および溶剤２：イソプロピルアルコール（ＩＰＡ、沸点：８２．４℃、ＳＰ値：１１．５）９５質量部を、下記の表２に示すように、５：９５の割合で使用した点にある。【０１６６】
こうして得られた比較例１による光学補償フィルムのバックコート層の基層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、上記実施例１の場合と同様に測定したところ、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍであり、得られた結果を下記の表３にあわせて示した。
比較例２
比較のために、上記実施例１の場合とは、バックコート層形成用塗布組成物の溶剤が異なるようにして、実施した。すなわち、バックコート層形成用塗布組成物の溶剤として、溶剤１：シクロヘキサノン（沸点：１５５℃、ＳＰ値：９．６）９０質量部、および溶剤２：ノルマルプロピルアルコール（ＮＰＡ、沸点：９７℃、ＳＰ値：１２）１０質量部を、下記の表２に示すように、９０：１０の割合で使用した点にある。【０１６７】
こうして得られた比較例２による光学補償フィルムのバックコート層の基層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、上記実施例１の場合と同様に測定したところ、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、２０ｎｍであり、得られた結果を下記の表３にあわせて示した。
比較例３
上記実施例１の場合と同様に実施するが、上記実施例１の場合と異なる点は、バックコート層形成用塗布組成物の微粒子として、シリカ微粒子の２％イソプロピルアルコール分散液（ＨＰＳ−５００、株式会社東亞合成製、平均粒径：５０００ｎｍ）０．８質量部を使用した点にある。
（評価試験）
上記作製した、実施例１〜７及び比較例１〜３による各光学補償フィルムについて、下記の方法により光学性能を評価した。
〔ヘイズの測定〕
上記実施例１〜７、および比較例１〜３で得られた光学補償フィルムの各試料について、ヘイズ測定器（ＮＤＨ−２０００、東京電色工業株式会社製）を使用して、ヘイズ値を３回ずつ測定し、その平均値を各光学補償フィルムのヘイズ値とした。得られた結果を下記の表３にあわせて示した。
〔リタデーションムラの測定〕
上記実施例１〜７、および比較例１〜３で得られた各光学補償フィルムについて、常温で、１週間保管後のロールサンプルからＡサイズの試料を切り出し、それぞれの試料についてクロスニコル条件化で、目視によりリタデーションムラの評価を、下記の基準により行った。得られた結果を下記の表３にあわせて示した。【０１６８】
◎：押し跡、変形によるムラが全く無いもの
○：若干のムラはあるが、有害性の無いもの
×：ムラが目立ち、有害性があるもの
〔耐久処理後のリタデーションムラの測定〕
上記実施例１〜７、および比較例１〜３で得られた各光学補償フィルムについて、温度５０℃、湿度９０％ＲＨの高湿条件下で、各光学補償フィルム試料を重ね合わせて２００ｇの荷重をかけて、３時間、耐久処理を行った後、それぞれの試料についてクロスニコル条件化で、目視によりリタデーションムラの評価を、上記の基準により行った。得られた結果を下記の表３にあわせて示した。
〔ブロッキングの測定〕
上記実施例１〜７、および比較例１〜３で得られた各光学補償フィルムについて、温度５０℃、湿度９０％ＲＨの高湿条件下で、各光学補償フィルム試料を重ね合わせて２００ｇの荷重をかけて３時間、耐久処理を行った後、それぞれの試料についてクロスニコル条件化で、目視により貼り付き（ブロッキング性）の評価を、上記の基準により行った。得られた結果を下記の表３にあわせて示した。【０１６９】
【表２】
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【０１７０】
【表３】
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【０１７１】
上記表３の結果から明らかなように、本発明の実施例１〜７で得られた光学補償フィルムは、バックコート層基層表面の微粒子が存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、所定の比較的粗い範囲に制御することにより、いずれも光学補償フィルムのブロッキング（貼り付き）を改善することができ、これにより、光学補償フィルムについて、透明性フィルム基材及び液晶化合物を含む光学異方性層（液晶層）の変形によるリタデーションムラを抑制できるとともに、すぐれた表面平滑性（低ヘイズ）を有するものであった。【０１７２】
これに対し、上記比較例１で得られた光学補償フィルムは、バックコート層基層表面の微粒子が存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が小さいために、低ヘイズを有するものであるが、光学異方性層（液晶層）の変形によるリタデーションムラ、特に、耐久処理後のリタデーションムラを抑制することはできないものであった。また、上記比較例２で得られた光学補償フィルムは、バックコート層基層表面の微粒子が存在しない領域の中心線平均粗さ（Ｒａ）が大きいために、ヘイズ値が非常に高いものであった。さらに上記比較例３で得られた光学補償フィルムは、バックコート層に含まれる微粒子の平均粒子径が非常に大きいものであるため、ヘイズ値が非常に高いものであり、光学補償フィルムの性能として満足できるレベルのものは得られなかった。
【国際調査報告】
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