(57)【要約】  耐候性試験後の保護フィルムとハードコート層との層間密着の改良を図ったハードコートフィルムを提供する。また、それが具備された偏光板、及び液晶表示装置を提供する。  本発明のハードコートフィルムは、基材フィルム上にハードコート層を有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが２〜２０ｎｍの範囲内であり、かつ当該算術平均粗さＲａと輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍとの比（Ｒａ／ＲＳｍ）が５×１０−５〜３×１０−４の範囲内であることを特徴とする。
2012026192.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上にハードコート層を有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが２〜２０ｎｍの範囲内であり、かつ当該算術平均粗さＲａと輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍとの比（Ｒａ／ＲＳｍ）が５×１０−５〜３×１０−４の範囲内であることを特徴とするハードコートフィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが、４〜２０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のハードコートフィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層が、実質的に微粒子を含有しないことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のハードコートフィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層が、突起を有し、かつ当該突起の形状が不規則であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のハードコートフィルム。
【請求項５】
前記ハードコートフィルムのヘイズ値（Ｈｈ）と基材フィルムのヘイズ値（Ｈｆ）との差の絶対値｜Ｈｈ−Ｈｆ｜が、０．０〜０．８％の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のハードコートフィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層が、活性線硬化型樹脂を含有し、かつ当該活性線硬化型樹脂の粘度が、３０〜３０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のハードコートフィルム。
【請求項７】
前記基材フィルムのフィルム幅手方向のｔａｎδが、下記関係式を満たすことを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載のハードコートフィルム。
関係式：０．５≧ｔａｎδ−４０／ｔａｎδｐｅａｋ≧０．２４
ここで、ｔａｎδｐｅａｋは２５〜２１０℃の範囲内で測定されたｔａｎδ値の最大値を表し、ｔａｎδ−４０はｔａｎδｐｅａｋを示した時の温度−４０℃でのｔａｎδの値を表す。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載のハードコートフィルムが具備されていることを特徴とする偏光板。
【請求項９】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載のハードコートフィルムが具備されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコートフィルム、それが具備された偏光板、及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）の液晶表示パネルを構成する液晶セルには、二枚の偏光板が貼り合わされている。この偏光板は、ヨウ素又は二色性染料を吸着させ染着させたポリビニルアルコール（以下適宜、「ＰＶＡ」と略す。）系フィルムを一定方向に延伸配向させた偏光素子（偏光膜）を、二枚のセルロースエステル系保護フィルムの間に挟んだ三層構造である。【０００３】
一般に、液晶セルに使用される偏光板の最表面の保護フィルムは、特に物理的な損傷を受け易く、損傷を受けると表示画像品質を損なうので、保護フィルム上にハードコート層が設けられたハードコートフィルムが用いられている。【０００４】
他方、セルロースエステル系保護フィルムは、セルロースエステル樹脂の特性上、使用環境の違い（湿度の影響）で、寸法が変化しやすいため、耐透湿性を向上するため添加剤が検討されている（例えば、特許文献１参照。）。【０００５】
これら添加剤の添加により、セルロースエステル系保護フィルムの耐透湿性は向上するものの、セルロースエステル系保護フィルムとハードコート層との層間密着が取りにくくなる問題があった。特に、大型の液晶表示装置やデジタルサイネージ用液晶表示装置など、屋外用途での使用を想定した耐候性試験後では、セルロースエステル系保護フィルムとハードコート層との層間密着が取りにくい問題があった。【０００６】
セルロースエステル系保護フィルムとハードコート層との層間密着を向上する技術については、例えば特許文献２に開示されている。特許文献２は、多官能（メタ）アクリルモノマーと、ヒドロキシ基（水酸基）を有する（メタ）アクリルモノマーと、光ラジカル重合開始剤と、重合性基を有する含フッ素化合物とを含む成分で硬化したハードコート層の表面自由エネルギーを２０ｍＮ／ｍ以下とし、さらに、ハードコート層の膜厚を５〜２５μｍに制御したハードコートフィルムである。【０００７】
特許文献２の技術では、耐候性試験前の保護フィルムとハードコート層との層間密着はある程度改善するものの、耐候性試験後の層間密着については、改善効果が無く、また本発明に関する内容については何ら記載及び言及もされていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−６９２２５号公報
【特許文献２】特開２００９−２６３６００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、耐候性試験後の保護フィルムとハードコート層との層間密着の改良を図ったハードコートフィルムを提供することである。また、それが具備された偏光板、及び液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、ハードコートフィルムのハードコート層の算術平均粗さＲａと輪郭曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）の比率を特定範囲に制御し、さらに、ハードコート層の算術平均粗さＲａを前記範囲にコントロールできる条件でハードコートフィルムを作製することで、ハードコート層を形成する塗膜樹脂が、基材に浸透しやすい粘度にコントロールされ、基材に塗膜樹脂が浸透し、アンカー効果により密着性が向上することを見出し、本発明を成すに至った次第である。【００１１】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。【００１２】
１．基材フィルム上にハードコート層を有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが２〜２０ｎｍの範囲内であり、かつ当該算術平均粗さＲａと輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍとの比（Ｒａ／ＲＳｍ）が５×１０−５〜３×１０−４の範囲内であることを特徴とするハードコートフィルム。【００１３】
２．前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが、４〜２０ｎｍの範囲内であることを特徴とする前記第１項に記載のハードコートフィルム。【００１４】
３．前記ハードコート層が、実質的に微粒子を含有しないことを特徴とする前記第１項又は第２項に記載のハードコートフィルム。【００１５】
４．前記ハードコート層が、突起を有し、かつ当該突起の形状が不規則であることを特徴とする前記第１項から第３項までのいずれか一項に記載のハードコートフィルム。【００１６】
５．前記ハードコートフィルムのヘイズ値（Ｈｈ）と基材フィルムのヘイズ値（Ｈｆ）との差の絶対値｜Ｈｈ−Ｈｆ｜が、０．０〜０．８％の範囲内であることを特徴とする前記第１項から第４項までのいずれか一項に記載のハードコートフィルム。【００１７】
６．前記ハードコート層が、活性線硬化型樹脂を含有し、かつ当該活性線硬化型樹脂の粘度が、３０〜３０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることを特徴とする前記第１項から第５項までのいずれか一項に記載のハードコートフィルム。【００１８】
７．前記基材フィルムのフィルム幅手方向のｔａｎδが、下記関係式を満たすことを特徴とする前記第１項から第６項までのいずれか一項に記載のハードコートフィルム。
関係式：０．５≧ｔａｎδ−４０／ｔａｎδｐｅａｋ≧０．２４
ここで、ｔａｎδｐｅａｋは２５〜２１０℃の範囲内で測定されたｔａｎδ値の最大値を表し、ｔａｎδ−４０はｔａｎδｐｅａｋを示した時の温度−４０℃でのｔａｎδの値を表す。【００１９】
８．前記第１項から第７項までのいずれか一項に記載のハードコートフィルムが具備されていることを特徴とする偏光板。【００２０】
９．前記第１項から第７項までのいずれか一項に記載のハードコートフィルムが具備されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の上記手段により、耐候性試験後の保護フィルムとハードコート層との層間密着の改良を図ったハードコートフィルムを提供することができる。また、それが具備された偏光板、及び液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係る突起の説明図
【図２】本発明に係る偏光板の模式図
【図３】偏光板の耐久試験の評価を行う際の概略図
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明のハードコートフィルムは、基材フィルム上にハードコート層を有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが２〜２０ｎｍの範囲内であり、かつ当該算術平均粗さＲａと輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍとの比（Ｒａ／ＲＳｍ）が５×１０−５〜３×１０−４の範囲内であることを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項９までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２４】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが、４〜２０ｎｍの範囲内であることが好ましい。さらに、当該ハードコート層が、実質的に微粒子を含有しないことが好ましい。特に、当該ハードコート層が、突起を有し、かつ当該突起の形状が不規則であることが好ましい。
【００２５】
本発明においては、前記ハードコートフィルムのヘイズ値（Ｈｈ）と基材フィルムのヘイズ値（Ｈｆ）との差の絶対値｜Ｈｈ−Ｈｆ｜が、０．０〜０．８％の範囲内であることが好ましい。また、当該ハードコート層が、活性線硬化型樹脂を含有し、かつ当該活性線硬化型樹脂の粘度が、３０〜３０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。さらに、前記基材フィルムのフィルム幅手方向のｔａｎδが、前記関係式を満たすことが好ましい。
【００２６】
本発明のハードコートフィルムは、偏光板及び液晶表示装置に好適に用いることができる。
【００２７】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２８】
＜表面形状＞
本発明のハードコートフィルムは、基材フィルム上にハードコート層を有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが２〜２０ｎｍの範囲内であり、かつ当該算術平均粗さＲａと輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍとの比（Ｒａ／ＲＳｍ）が、５×１０−５〜３×１０−４の範囲内であることを特徴とする。
【００２９】
算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の規定に基づいて、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定した値である。算術平均粗さＲａは２〜２０ｎｍであり、より好ましくは４〜２０ｎｍである。
【００３０】
また、輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍも算術平均粗さＲａと同様に、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の規定に基づいて、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定した値である。ＲＳｍは３〜８０μｍが好ましく、より好ましくは５〜７０μｍである。
【００３１】
上記のように測定した算術平均粗さＲａと輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍの比（Ｒａ／ＲＳｍ）を５×１０−５〜３×１０−４の範囲にコントロールすることで、保護フィルムとハードコート層との耐候性試験後の層間密着が良好となる。
【００３２】
本発明に係るハードコート層は、上記範囲の算術平均粗さＲａ（以下、単に「Ｒａ」ともいう。）とするため、ハードコート層に突起を有することが好ましい。突起形状の高さは、１ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜０．５μｍである。また幅は、５０ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは、５０ｎｍ〜５０μｍである。
【００３３】
上記突起形状の高さ、及び幅は断面観察から求めることができる。また、図１に突起の説明図を示した。図１に示されているように、断面観察の画像に中心線ａを引き、山の麓を形成する線ｂ、ｃと中心線ａとの２つの交点の距離を、突起サイズの幅ｔとした。また、山頂と中心線ａまでの距離を突起サイズの高さｈとして求められる。
【００３４】
また、ハードコート層の突起数は、５００〜２０００００個／ｍｍ２が好ましい。具体的には下記の方法で測定できる。
【００３５】
突起数の測定は、ハードコート層を光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製、倍率５０倍）で測定した。次に、この測定面積（１００μｍ×１００μｍ角）内の突起数を画像から読みとった。この一連の測定を１０回行い、１０回の平均値からハードコートフィルムのハードコート層の突起数を求めることができる。なお、突起数としては粗さ曲線の平均線から３ｎｍ以上の高さの突起をカウントするものとする。
【００３６】
突起形状を形成させる方法としては、微粒子を添加する方法、鋳型を押し当てて表面に突起を形成させる方法、ハードコート塗布組成物の乾燥工程における減率乾燥区間の処理温度を高温条件に制御する方法などが、その例として挙げられるが、鋳型を押し当てて表面に突起を形成させる方法など、規則的に突起形状を形成させる方法では、保護フィルムとハードコート層との耐候性試験後の層間密着に十分な効果が得られない。
【００３７】
本発明では、突起形状を形成する方法としては、ハードコート塗布組成物の乾燥工程における減率乾燥区間の処理温度を高温条件に制御する方法を用いることが、耐候性試験後の層間密着、生産性、再現性の観点から好ましい。減率乾燥区間を高温状態で制御することで樹脂塗膜中に対流が生じ、不均一な表面状態となり、この不均一な表面状態のまま硬化し、塗膜が形成されるため、ハードコート層に表面凹凸が得られると考えている。
【００３８】
したがって、本発明では、突起形状を形成させる方法として、微粒子を添加する方法に依らず、上記の乾燥工程を制御する方法を用いた場合、本発明に係るハードコート層は、実質的に微粒子を含有しない態様となる。
【００３９】
なお、本発明の「不規則な突起形状」とは、表面凹凸が型押しによる規則的な形状を有する突起などではなく、形も大きさも定まらない様々な形状の突起をさす。これらに限定はされないが、例えば、図１に示す（ａ）や（ｂ）といった幅も高さも異なる突起が、不規則な形状の突起として例示される。また、「不規則な配置」とは、前記不規則な傾向の突起が規則的に（例えば、等間隔などで）配置されているのではなく、ランダムな間隔で不規則に配置されており、等方的であっても、異方的であってもよいことをさす。
【００４０】
＜ヘイズ＞
本発明のハードコートフィルムのヘイズ値（Ｈｈ）は、クリア性から１．５％以下が好ましく、より好ましくは１％以下である。また、ハードコートフィルムのヘイズ値（Ｈｈ）が０．２％未満は、ハードコートフィルムの取り扱い性の点から、設計が実情困難である。また、ハードコートフィルムのヘイズ値（Ｈｈ）と基材フィルムのヘイズ値（Ｈｆ）との差の絶対値｜Ｈｈ−Ｈｆ｜を０．０〜０．８％の範囲内とすることが、大型化された液晶表示装置やデジタルサイネージ等の屋外で用いられる際の、十分な輝度や高いコントラストが得られる点から好ましい。
【００４１】
ハードコート層のヘイズ値を制御するには、ハードコート層を構成する樹脂、添加剤の種類や量、ハードコート層塗布組成物の樹脂や溶剤の含有質量比の調整、また乾燥工程の減率乾燥区間の処理温度条件で達成できる。また、ハードコート層の算術平均粗さＲａも表面ヘイズとしてヘイズ値に影響するため、上記突起の形状、数などを制御することが有効である。
【００４２】
＜ハードコートフィルム＞
本発明のハードコートフィルムは、少なくとも基材フィルムとハードコート層によって構成されており、当該ハードコート層は活性線硬化樹脂を含有し、紫外線や電子線のような活性線（活性エネルギー線ともいう）照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層であることが好ましい。
【００４３】
活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。
【００４４】
活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。
【００４５】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【００４６】
紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独又は二種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。
【００４７】
また、本発明に係るハードコート層は、単官能アクリレート含有しても良い。単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート：単官能アクリレート＝８０：２０〜９９：２が好ましい。
【００４８】
単官能アクリレートとしては、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。単官能アクリレートとしては、新中村化学工業株式会社や大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。本発明は、上記した多官能アクリレートや単官能アクリレート以外の活性線硬化樹脂を単独又は二種以上混合してもよい。単独又は二種以上混合した活性線硬化樹脂の２５℃における粘度が、３０ｍＰａ・ｓ以上、３０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、更に３０ｍＰａ・ｓ以上２０００ｍＰａ・ｓ以下である。このような低粘度の樹脂を用いることで、乾燥工程において樹脂組成物の十分な流動性が得られるため、ハードコート層に突起形状が形成しやすい。また、３０ｍＰａ・ｓ以上の粘度の活性線硬化樹脂であれば、十分な硬化性が得られ、３０００ｍＰａ・ｓ以下の粘度の活性線硬化樹脂であれば、乾燥工程において樹脂組成物の十分な流動性が得られるために、ハードコート層表面に凹凸形状を形成しやすい。上記粘度は、Ｂ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。低粘度樹脂としては、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどを挙げることができる。
【００４９】
このような低粘度の樹脂を用いることで、乾燥工程において樹脂組成物の十分な流動性が得られるため、ハードコート層に突起形状が、形成しやすい。なお、上記粘度は、Ｂ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。
【００５０】
ハードコート層には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００で含有することが好ましい。
【００５１】
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００５２】
また本発明に係るハードコート層は、基材フィルムを膨潤又は一部溶解をする溶剤で希釈したハードコート層塗布組成物を、以下の方法で基材フィルム上に塗布、乾燥、硬化して設けることが、ハードコート層に突起形状が得られやすい点から好ましい。基材フィルムを膨潤又は一部溶解する溶剤としては、ケトン及び／又は酢酸エステルを含む溶剤が好ましい。また、塗布量はウェット膜厚として０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．１〜３０μｍ、好ましくは１〜２０μｍ、特に好ましくは４〜１５μｍである。
【００５３】
ハードコート層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の塗布方法を用いて、ハードコート層を形成するハードコート塗布組成物を塗布し、塗布後、乾燥し、ＵＶ硬化処理、更に必要に応じて、ＵＶ硬化に加熱処理することで形成できる。乾燥は、減率乾燥区間において７０℃以上の高温処理を行うことが好ましく、８０℃以上がさらに好ましく、９０℃以上が特に好ましい。最も好ましくは、減率乾燥区間の温度は９５℃〜１２０℃の範囲である。該範囲で減率乾燥区間の温度を制御することで、ハードコート層の算術平均粗さＲａが、本発明の範囲に制御しやすい。減率乾燥区間を高温処理とすることで、積極的に樹脂塗膜中で対流を生じさせ、その結果ハードコート層表面に突起形状が形成させると推察される。
【００５４】
一般に乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量はすべて塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、紫外線硬化型樹脂組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。
【００５５】
ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【００５６】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００５７】
また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、又は二軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。
【００５８】
ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含んでも良く、好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子又はπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。また、ハードコート層には、塗布性の観点、及び微粒子の均一な分散性の観点から、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤或いはポリオキシエーテル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフトポリマーを含有しても良い。フッ素−シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。シリコーン系界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、４級塩等がある。シリコーン界面活性剤の具体的商品として、例えば、ＳＨ２００、ＢＹ１６−８７３、ＰＲＸ４１３（ジメチルシリコーンオイル；東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製）、ＳＨ２０３、ＳＨ２３０、ＳＦ８４１６（アルキル変性シリコーンオイル；東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製）、ＳＦ８４１７、ＢＹ１６−２０８、ＢＹ１６−２０９、ＢＹ１６−８４９、ＢＹ１６−８７２、ＦＺ−２２２２、ＦＺ−２２０７（ジメチルポリシロキサン・ポリエチレンオキサイド直鎖状ブロックコポリマー；日本ユニカー（株）製のＦＺシリーズ）、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０５（エポキシ変性シリコーンオイル；信越化学工業社製）、ＢＹＫ−ＵＶ３５００，ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３７（ポリエーテル変性シリコーンオイルビックケミ−ジャパン社製）等が挙げられるがこれらに限定されない。またこれら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜５質量％の範囲で添加することが好ましい。
【００５９】
ハードコート層は一層でも複数の層でもよい。ハードコート層のハードコート性、ヘイズ、算術表面粗さＲａを制御し易くするために、二層以上に分割して設けても良い。
【００６０】
二層以上設ける場合の最上層の膜厚は、０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましい。二層以上の積層は同時重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に二層以上のハードコート層をｗｅｔ  ｏｎ  ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成することである。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ  ｏｎ  ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。
【００６１】
本発明でのハードコートフィルムは、硬度の指標で有る鉛筆硬度が、Ｈ以上であり、より好ましくは３Ｈ以上である。３Ｈ以上であれば、液晶表示装置の偏光板化工程で、傷が付きにくいばかりではなく、屋外用途で用いられることが多い、大型の液晶表示装置や、デジタルサイネージ用液晶表示装置の表面保護フィルムとして用いた際も優れた膜強度を示す。鉛筆硬度は、作製したハードコートフィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
【００６２】
＜基材フィルム＞
本発明に係る基材フィルムは、製造が容易であること、ハードコート層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。また、本発明では基材フィルムを保護フィルムとして使用する。
【００６３】
これらの性質を有していればいずれでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることができる。
【００６４】
これらの内、セルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、及びＫＣ１２ＵＲ（以上、コニカミノルタオプト（株）製））、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルムが製造上、コスト面、等方性、接着性（鹸化適性）から好ましい。
【００６５】
基材フィルムの屈折率は、１．３０〜１．７０であることが好ましく、１．４０〜１．６５であることがより好ましい。屈折率は、屈折率は、アタゴ社製  アッベ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ  Ｋ７１４２の方法で測定する。
【００６６】
基材フィルムは、フィルム幅手方向の、湿度５５％ＲＨで２５℃から２１０℃まで温度変化させて測定したｔａｎδが下記の関係を有することが、過酷な耐久試験で本発明の目的効果を良好に発揮する点から好ましい。
【００６７】
０．５≧ｔａｎδ−４０／ｔａｎδｐｅａｋ≧０．２４
ここで、「ｔａｎδｐｅａｋ」とは、２５℃から２１０℃まで温度変化させてｔａｎδ値を測定したときの最大値をいい、「ｔａｎδ−４０」とは、ｔａｎδｐｅａｋを示したときの温度から４０℃低い温度、すなわち、温度−４０℃でのｔａｎδの値をいう。
【００６８】
基材フィルムのフィルム幅手方向のｔａｎδ、即ち温度に対する貯蔵弾性率と損失弾性率のバランスを上記のような範囲とすることで、本発明の目的効果がより良く発揮される。ｔａｎδの測定は、例えば、試料をあらかじめ２３℃５５％ＲＨの雰囲気下２４時間調湿したものを使用し、湿度５５％ＲＨ、下記条件で昇温させながら、又は温度設定して測定した。
【００６９】
測定装置：ティーエイインスツルメント社製  ＲＳＡIII
試料：幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍに設定）
測定条件：引張モード
測定温度：２５〜２１０℃、又は４０℃
昇温条件：５℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ
〈セルロースエステルフィルム〉
本発明に係る基材フィルムとして好ましい樹脂フィルムの典型的例は、セルロースエステルフィルムである。
【００７０】
セルロースエステル樹脂（以下、「セルロースエステル」ともいう。）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。
【００７１】
特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることができる。
【００７２】
セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。
【００７３】
平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。
【００７４】
また、セルローストリアセテートとしては、アセチル基置換度が、２．８０〜２．９５であって数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上、１５５０００未満、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２６５０００以上３１００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．９〜２．１であるセルローストリアセテートＡ、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０であって数平均分子量（Ｍｎ）が１５５０００以上、１８００００未満、Ｍｗは２９００００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎは、１．８〜２．０であるセルローストリアセテートＢを含有することが好ましい。
【００７５】
さらに、セルローストリアセテートＡとセルローストリアセテートＢを併用する場合には、質量比でセルローストリアセテートＡ：セルローストリアセテートＢ＝１００：０〜２０：８０までの範囲であることが好ましい。
【００７６】
セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。
【００７７】
式（Ｉ）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）  ０≦Ｘ≦２．５
特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。
【００７８】
セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）及び分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下の通りである。
【００７９】
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）
Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００８０】
＜セルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂含有フィルム＞
本発明に係る基材フィルムには、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを含有し、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０であるフィルムを用いても良い。
【００８１】
アクリル樹脂は、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、及びこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上の単量体を併用して用いることができる。
【００８２】
これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００〜５０００００であることが好ましく、更に好ましくは、１１００００〜５０００００の範囲内である。
【００８３】
アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁又は乳化重合では３０〜１００℃、塊状又は溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。得られた共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。また、市販品も使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。アクリル樹脂は二種以上を併用することもできる。また、アクリル樹脂には、特開２００９−８４５７４に記載の（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体に（メタ）アクリル系樹脂がグラフトされたグラフト共重合体を用いてもよい。前記グラフト共重合体は、（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体がコア（ｃｏｒｅ）を構成し、その周辺に前記（メタ）アクリル系樹脂がシェル（ｓｈｅｌｌ）を構成するコア−シェルタイプのグラフト共重合体であることが好ましい。
【００８４】
基材フィルムにおけるアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、基材フィルムの５５質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは６０質量％以上であり、特に好ましくは、７０質量％以上である。
【００８５】
基材フィルムは、熱可塑性アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を含有して構成されていても良い。
【００８６】
〈アクリル粒子〉
基材フィルムは、脆性の改善に優れる点から、アクリル粒子を含有しても良い。アクリル粒子とは、前記熱可塑性アクリル樹脂及びセルロースエステル樹脂を相溶状態で含有する基材フィルム中に粒子の状態（非相溶状態ともいう）で存在するアクリル成分を表す。
【００８７】
アクリル粒子は特に限定されるものではないが、二層以上の層構造を有するアクリル粒子であることが好ましく、特に多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製“メタブレン”、鐘淵化学工業社製“カネエース”、呉羽化学工業社製“パラロイド”、ロームアンドハース社製“アクリロイド”、ガンツ化成工業社製“スタフィロイド”及びクラレ社製“パラペットＳＡ”などが挙げられ、これらは、単独ないし二種以上を用いることができる。
【００８８】
また、基材フィルムにアクリル粒子を添加する場合は、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂との混合物の屈折率とアクリル粒子の屈折率が近いことが、透明性が高いフィルムを得る点では好ましい。具体的には、アクリル粒子とアクリル樹脂の屈折率差が０．０５以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２以下、とりわけ０．０１以下であることが好ましい。
【００８９】
アクリル微粒子は、該基材フィルムを構成するアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量に対して、含有質量比でアクリル微粒子：アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂総質量＝０．５：１００〜３０：１００の範囲で含有させることで、目的効果がより良く発揮される点から好ましく、更に好ましくは、アクリル微粒子：アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量＝１．０：１００〜１５：１００の範囲である。
【００９０】
〈その他の添加剤〉
基材フィルムには、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することもできる。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、あるいはエポキシ系等が挙げられる。この中で、ポリエステル系とフタル酸エステル系の可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れる。用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用することによって、広範囲の用途に適用できる。
【００９１】
ポリエステル系可塑剤は、一価ないし四価のカルボン酸と一価ないし六価のアルコールとの反応物であるが、主に二価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られたものが用いられる。代表的な二価カルボン酸としては、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。またポリエステル系可塑剤の好ましくは、芳香族末端エステル系可塑剤である。芳香族末端エステル系可塑剤としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸及び少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールとを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましく、最終的な化合物の構造としてアジピン酸残基及びフタル酸残基を有していればよく、エステル化合物を製造する際には、ジカルボン酸の酸無水物又はエステル化物として反応させてもよい。
【００９２】
ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、安息香酸であることが最も好ましい。また、これらはそれぞれ一種又は二種以上の混合物として使用することができる。
【００９３】
炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等が挙げられる。これらの中では特に１，２−プロピレングリコールが好ましい。これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用してもよい。
【００９４】
芳香族末端エステル系可塑剤は、オリゴエステル、ポリエステルの型のいずれでもよく、分子量は１００〜１００００の範囲が良いが、好ましくは３５０〜３０００の範囲である。また酸価は、１．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ基（水酸基）価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ基（水酸基）価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。可塑剤は基材フィルム１００質量部に対して、０．５〜３０質量部を添加するのが好ましい。具体的には以下に示す化合物などが挙げられるがこれらに限定されない。
【００９５】
【化１】
2012026192.tif 000003
【００９６】
【化２】
2012026192.tif 000004
【００９７】
更に、基材フィルムには、糖エステル化合物を含有しても良い。糖エステル化合物とは、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物であり、具体的には一般式（１）で表わされる化合物などをあげることができる。
【００９８】
【化３】
2012026192.tif 000005
【００９９】
式中、Ｒ１〜Ｒ８は、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換のアリールカルボニル基を表し、Ｒ１〜Ｒ８は、同じであっても、異なっていてもよい。
【０１００】
以下に一般式（１）で示される化合物をより具体的（化合物１−１〜化合物１−２３）に示すが、これらに限定はされない。なお、一般式（１）で表される化合物の好ましい具体例としては、下表に示す化合物が挙げられる。なお、下表中に記載のＲは、Ｒ１〜Ｒ８のうちのいずれかを表す。アルキルカルボニル基及びアリールカルボニル基の置換基としては、下表に示すアルキルカルボニル基及びアリールカルボニル基が有するフェニル基、アルコキシ基等の置換基が好ましい。
【０１０１】
【化４】
2012026192.tif 000006
【０１０２】
【化５】
2012026192.tif 000007
【０１０３】
【化６】
2012026192.tif 000008
【０１０４】
さらに、基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有することが好まし。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。ここで、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
【０１０５】
分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。さらに、基材フィルムには、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、基材フィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。
【０１０６】
基材フィルムには、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる一種、あるいは二種以上の混合物を挙げることができる。
【０１０７】
具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
【０１０８】
また、液晶表示装置の偏光板用保護フィルムとして基材フィルムが用いられる場合は、吸湿による寸法変化によりムラや位相差値の変化が発生してしまい、コントラストの低下や色むらといった問題を発生させる。特に屋外で使用される液晶表示装置に用いられる偏光板保護フィルムであれば、上記の問題は顕著となる。このため、寸法変化率（％）は０．５％未満が好ましく、更に、０．３％未満であることが好ましい。
【０１０９】
また、基材フィルムは、フィルム面内の直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。
【０１１０】
ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。
【０１１１】
欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認する。なお、反射光で観察する場合に、欠点の大きさが不明瞭であれば、表面にアルミや白金を蒸着して観察する。
【０１１２】
かかる欠点頻度にて表される品位に優れたフィルムを生産性よく得るには、ポリマー溶液を流延直前に高精度濾過することや、流延機周辺のクリーン度を高くすること、また、流延後の乾燥条件を段階的に設定し、効率よくかつ発泡を抑えて乾燥させることが有効である。
【０１１３】
欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。
【０１１４】
また、目視で確認できない場合でも、該フィルム上にハードコート層などを形成したときに、塗剤が均一に形成できず欠点（塗布抜け）となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）をいう。
【０１１５】
また、基材フィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。
【０１１６】
破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。
【０１１７】
基材フィルムの厚みは、２０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは３０μｍ以上である。
【０１１８】
厚みの上限は特に限定される物ではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルムの厚みは用途により適宜選定することができる。
【０１１９】
基材フィルムは、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。
【０１２０】
また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。
【０１２１】
〈基材フィルムの製膜〉
基材フィルムの製膜方法の例を説明するが、これに限定されるものではない。基材フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。
【０１２２】
セルロースエステル樹脂やアクリル樹脂を溶解に用いた溶媒の残留抑制の点からは溶融流延製膜法で作製する方法が好ましい。溶融流延によって形成される方法は、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるフィルムが得られる、溶融押出し法が好ましい。また、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは流延法による溶液製膜が好ましい。また、フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上又はエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延製膜法として含まれる。
【０１２３】
（有機溶媒）
基材フィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。
【０１２４】
例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。
【０１２５】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の溶解を促進する役割もある。
【０１２６】
特に、メチレンクロライド、及び炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、アクリル樹脂と、セルロースエステル樹脂と、アクリル粒子の３種を、少なくとも計１５〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。
【０１２７】
炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。
【０１２８】
（溶液流延法）
基材フィルムは、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
【０１２９】
ドープ中のセルロースエステル、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０１３０】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０１３１】
好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。
【０１３２】
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
【０１３３】
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０１３４】
特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０１３５】
セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。
【０１３６】
残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１３７】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０１３８】
また、セルロースエステルフィルム或いはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０１３９】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１４０】
（延伸工程）
延伸工程では、フィルムの長手方向（ＭＤ方向）、及び幅手方向（ＴＤ方向）に対して、逐次又は同時に延伸することができる。互いに直交する二軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、或いはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げてＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。
【０１４１】
製膜工程のこれらの幅保持或いは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０１４２】
テンター内などの製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍがさらに好ましい。１４０Ｎ／ｍ〜１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。
【０１４３】
延伸する際は、基材フィルムのガラス転移温度をＴｇとすると（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃、さらに好ましく（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃である。
【０１４４】
基材フィルムのＴｇは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。本発明の用途においてはフィルムの乾燥時のＴｇは１１０℃以上が好ましく、さらに１２０℃以上が好ましい。
【０１４５】
従ってガラス転移温度は１９０℃以下、より好ましくは１７０℃以下であることが好ましい。このとき、フィルムのＴｇはＪＩＳ  Ｋ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。
【０１４６】
延伸する際の温度は１５０℃以上、延伸倍率は１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗れるため好ましい。フィルム表面を粗らすことは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特にハードコート層の密着性が向上するため好ましい。算術平均粗さＲａは、好ましくは２．０ｎｍ〜４．０ｎｍ、より好ましくは２．５ｎｍ〜３．５ｎｍである。
【０１４７】
（溶融製膜法）
基材フィルムは、溶融製膜法によって製膜しても良い。溶融製膜法は、樹脂及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。
【０１４８】
加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度及び表面精度などの点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。
【０１４９】
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し一軸や二軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。
【０１５０】
添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。
【０１５１】
粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
【０１５２】
押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、二軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
【０１５３】
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
【０１５４】
上記ペレットを一軸や二軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップされ、冷却ロール上で固化させる。
【０１５５】
供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。
【０１５６】
押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
【０１５７】
可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。
【０１５８】
冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。
【０１５９】
弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、登録特許３１９４９０４号、登録特許３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。これらは市販されているものを用いることもできる。
【０１６０】
冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
【０１６１】
また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。
【０１６２】
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。
【０１６３】
巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
【０１６４】
＜機能性層＞
本発明のハードコートフィルムには、バックコート層、反射防止層等の機能性層を設けることができる。
【０１６５】
〈バックコート層〉
本発明のハードコートフィルムは、基材フィルムのハードコート層を設けた側と反対側の面に、カールやくっつき防止のためにバックコート層を設けてもよい。
【０１６６】
バックコート層に添加される粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
【０１６７】
バックコート層に含まれる粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％が好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１．５％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。
【０１６８】
バインダーとしては、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル樹脂が好ましい。
【０１６９】
〈反射防止層〉
本発明のハードコートフィルムは、ハードコート層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。
【０１７０】
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。又は、二層以上の高屈折率層と二層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。
【０１７１】
反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。
【０１７２】
基材フィルム／ハードコート層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層
反射防止フィルムには必須である低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、支持体である基材フィルムの屈折率より低く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。
【０１７３】
低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。
【０１７４】
低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも一種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。
【０１７５】
なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。
【０１７６】
一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）４
前記一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
【０１７７】
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。
【０１７８】
＜偏光板＞
本発明のハードコートフィルムを用いた本発明の偏光板について述べる。本発明の偏光板は、特に高温高湿下で保存した際の変形故障耐性に優れている。また、本発明の偏光板を液晶表示装置などの画像表示装置に用いることで、視認性にも優れ、高温高湿下で保存した際の変形故障の防止性能と視認性が両立された優れた性能を有することがわかる。
【０１７９】
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明のハードコートフィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理したハードコートフィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
【０１８０】
もう一方の面に該ハードコートフィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明のハードコートフィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは、前述した基材フィルムであるセルローストリアセテートフィルムや熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有し、該熱可塑性アクリル樹脂と該セルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０である保護フィルムを用いることが好ましい。構成の詳細は前述の通りであり、具体的には、特開２００３−１２８５９号記載のリターデーションＲｏが５９０ｎｍで０〜５ｎｍ、Ｒｔが−２０〜＋２０ｎｍの無配向フィルムが一例として挙げられる。
【０１８１】
また、他に面内リターデーションＲｏが５９０ｎｍで、２０〜７０ｎｍ、Ｒｔが７０〜４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）を用いて、視野角拡大可能な偏光板とすることもできる。これらは例えば、特開２００２−７１９５７号の方法で作製することができる。又は、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。
【０１８２】
また、好ましく用いられる市販の偏光板保護フィルムとしては、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）、ゼオノアフィルム（日本ゼオン（株）製）、アートンフィルム（ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。
【０１８３】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。
【０１８４】
偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍの偏光膜が好ましく用いられる。
【０１８５】
該偏光膜の面上に、本発明のハードコートフィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０１８６】
＜粘着層＞
液晶セルの基板と貼り合わせるために保護フィルムの片面に用いられる粘着剤層は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。
【０１８７】
具体的な粘着層としては、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘着剤等のポリマーを用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化せしめることができる。なかでも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れていて好ましく用いることができる。
【０１８８】
＜液晶表示装置＞
本発明のハードコートフィルムを用いて作製した本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。
【０１８９】
本発明のハードコートフィルムは偏光板に組み込まれ、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置又はＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置で好ましく用いられる。
【実施例】
【０１９０】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１９１】
実施例１
＜基材フィルム１（セルローストリアセテートフィルム１）の作製＞
〈エステル化合物１の調製〉
１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、無水フタル酸２７８ｇ、アジピン酸９１ｇ、安息香酸６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。１５時間脱水縮合反応させ、反応終了後２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、エステル化合物１を得た。酸価０．１０、数平均分子量４５０であった。【０１９２】
〈基材フィルム１の作製〉
（二酸化珪素分散液）
アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製）          １０質量部
（一次粒子の平均径７ｎｍ）
エタノール                                            ９０質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過した。【０１９３】
（ドープ組成物）
セルローストリアセテートＡ１                          ９０質量部
（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．８８、Ｍｎ＝１４００００）
エステル化合物１                                      １０質量部
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ２．５質量部
二酸化珪素分散希釈液                                    ４質量部
メチレンクロライド                                  ４３２質量部
エタノール                                            ３８質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ液を調製した。【０１９４】
次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを３５℃で溶剤を蒸発させ、１．６５ｍ幅にスリットし、テンターでＴＤ方向（フィルムの幅手方向）に１．３倍、ＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍で延伸しながら、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。乾燥を始めたときの残留溶剤量は２０％であった。その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．４９ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１５ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、基材フィルム１を得た。基材フィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍ、巻数は３９００ｍであった。【０１９５】
＜ハードコートフィルム１の作製＞
上記作製した基材フィルム１（セルローストリアセテートフィルム１）上に、下記のハードコート層組成物１を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、マイクログラビアコーターを用いてセルローストリアセテートフィルム１の表面に塗布し、恒率乾燥区間温度９５℃、減率乾燥区間温度９５℃で乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚７μｍのハードコート層１を形成した。巻き取り、ロール状のハードコートフィルム１を作製した。【０１９６】
［ハードコート層組成物１］
〈フッ素−シロキサングラフトポリマーの調製〉
以下に、フッ素−シロキサングラフトポリマーの調製に用いた素材の市販品名を示す。【０１９７】
ラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）：セフラルコートＣＦ−８０３（ヒドロキシ基（水酸基）価６０、数平均分子量１５，０００；セントラル硝子（株）製）
片末端ラジカル重合性ポリシロキサン（Ｂ）：サイラプレーンＦＭ−０７２１（数平均分子量５，０００；チッソ（株）製）
ラジカル重合開始剤：パーブチルＯ（ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート；日本油脂（株）製）
硬化剤：スミジュールＮ３２００（ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型プレポリマー；住化バイエルウレタン（株）製）
（ラジカル重合性フッ素樹脂の合成）
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、セフラルコートＣＦ−８０３（１５５４質量部）、キシレン（２３３質量部）、及び２−イソシアナトエチルメタクリレート（６．３質量部）を入れ、乾燥窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。８０℃で２時間反応し、サンプリング物の赤外吸収スペクトルによりイソシアネートの吸収が消失したことを確認した後、反応混合物を取り出し、ウレタン結合を介して５０質量％のラジカル重合性フッ素樹脂を得た。【０１９８】
（フッ素−シロキサングラフトポリマーの調製）
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、上記合成したラジカル重合性フッ素樹脂（２６．１質量部）、キシレン（１９．５質量部）、酢酸ｎ−ブチル（１６．３質量部）、メチルメタクリレート（２．４質量部）、ｎ−ブチルメタクリレート（１．８質量部）、ラウリルメタクリレート（１．８質量部）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（１．８質量部）、ＦＭ−０７２１（５．２質量部）、及びパーブチルＯ（０．１質量部）を入れ、窒素雰囲気中で９０℃まで加熱した後、９０℃で２時間保持した。パーブチルＯ（０．１部）を追加し、さらに９０℃で５時間保持することによって、重量平均分子量が１７１，０００である３５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマーの溶液を得た。重量平均分子量はＧＰＣにより求めた。また、フッ素−シロキサングラフトポリマーの質量％はＨＰＬＣ（液体クロマトグラフィー）により求めた。【０１９９】
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、新中村化学工業（株）製）                    １００質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
なお、表１の記載において、多官能アクリレートであるペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレートはＰＥＴＡと示した。【０２００】
＜ハードコートフィルム２の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、減率乾燥区間温度を９０℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム２を作製した。【０２０１】
＜ハードコートフィルム３の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム３を作製した。【０２０２】
＜ハードコートフィルム４の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物２に変更し、減率乾燥区間温度を９０℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム４を作製した。【０２０３】
［ハードコート層組成物２］
トリメチロールプロパントリアクリレート（ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、共栄社化学（株）製）                                ８０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ、大阪有機化学工業（株）製）                                                  ２０質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
＜ハードコートフィルム５の作製＞
ハードコートフィルム４の作製において、減率乾燥区間温度を９５℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム５を作製した。【０２０４】
＜ハードコートフィルム６の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物３に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム６を作製した。【０２０５】
［ハードコート層組成物３］
エトキシ化グリセリントリアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＧＬＹ−９Ｅ、新中村化学工業（株）製）                              ６０質量部
エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（ＮＫエステルＡ−９３００、新中村化学工業（株）製）                              ４０質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
＜ハードコートフィルム７の作製＞
ハードコートフィルム６の作製において、減率乾燥区間温度を１０５℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム７を作製した。【０２０６】
＜ハードコートフィルム８の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物４に変更し、減率乾燥区間温度を７５℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム８を作製した。【０２０７】
［ハードコート層組成物４］
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、新中村化学工業（株）製）                    １００質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
＜ハードコートフィルム９の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物５に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム９を作製した。【０２０８】
［ハードコート層組成物５］
ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製）                      １００質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
なお、表１の記載において、多官能アクリレートであるジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレートはＤＰＨＡと示した。【０２０９】
＜ハードコートフィルム１０の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物６に変更し、減率乾燥区間温度を１２０℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム１０を作製した。【０２１０】
［ハードコート層組成物６］
ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製）            ５０質量部
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＰＥＴＡ）（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、新中村化学工業（株）製）          ５０質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
＜ハードコートフィルム１１の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物７に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム１１を作製した。【０２１１】
［ハードコート層組成物７］
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、新中村化学工業（株）製）                      ５０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ、大阪有機化学工業（株）製）                                                  ５０質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
＜ハードコートフィルム１２の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物８に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム１２を作製した。【０２１２】
［ハードコート層組成物８］
ウレタンプレポリマーとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＵＡ−３０６Ｈ、共栄社化学（株）製）              １００質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
＜ハードコートフィルム１３の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物９に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム１３を作製した。【０２１３】
［ハードコート層組成物９］
アデカオプトマーＨＣＸ−５００−２８                １００質量部
（ＡＤＥＫＡ（株）製）
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
＜ハードコートフィルム１４の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート組成物１を下記ハードコート組成物１０に変更し、減率乾燥区間温度を１２５℃に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム１４を作製した。【０２１４】
［ハードコート層組成物１０］
ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製）            １０質量部
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＰＥＴＡ）（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、新中村化学工業（株）製）          ９０質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ４５質量部
メチルエチルケトン                                    ４５質量部
《評価》
上記作製したハードコートフィルム１〜１４について下記の評価を行った。【０２１５】
（ハードコートフィルム）
ａ．算術平均粗さＲａ及び輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍの測定
上記作製したハードコートフィルム１〜１４のハードコート層を光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）を用いて１０回測定し、その測定結果の平均から各ハードコートフィルムの算術平均粗さＲａ及び輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍを求めた。【０２１６】
得られた結果を表１に示した。【０２１７】
ｂ．ヘイズ測定
基材フィルムのヘイズ（Ｈｆ）をＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００；日本電色工業株式会社製）を用いて測定した。次に、上記作製した各ハードコートフィルム（Ｈｈ）のヘイズを基材フィルムと同様にして測定した。【０２１８】
これら各ハードコートフィルムのヘイズ値（Ｈｈ）から基材フィルムのヘイズ値（Ｈｆ）の差を引き、ハードコート層塗布前後のヘイズ変化の絶対値（｜Ｈｈ−Ｈｆ｜）を測定した。ハードコートフィルムのヘイズ値（Ｈｈ）及び、ヘイズ変化（｜Ｈｈ−Ｈｆ｜）の結果を表１に示す。【０２１９】
なお、基材フィルムのヘイズ値（Ｈｆ）は０．２８％であった。【０２２０】
ｃ．耐久性試験
ハードコートフィルム１〜１４を９０℃９５％の条件で２００時間保存したのち、サイクルサーモ（−４０℃・３０分放置、次いで８５℃・３０分放置を交互に５００サイクル）に投入後、耐候性試験機（アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気株式会社製）にて、１２０時間光照射した。【０２２１】
ｄ．耐久後の密着評価
上記耐久試験を実施したハードコートフィルムのハードコート層表面に、片刃のカミソリの刃を面に対して９０°の角度で切り込みを１ｍｍ間隔で縦横に１１本入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上に市販のセロハン製テープを貼り付け、その一端を手で持って垂直に力強く引っ張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対する薄膜が剥がされた面積の割合を目視で観察し、下記の基準で評価した。【０２２２】
◎：全く剥離されなかった
○：剥離された面積割合が１０％未満であった
×：剥離された面積割合が１０％以上であった【０２２３】
【表１】
2012026192.tif 000009
【０２２４】
表１の結果から判るように、ハードコート層の算術平均粗さＲａと、Ｒａと輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍの比（Ｒａ／ＲＳｍ）の両方が、本発明の範囲を有するハードコートフィルムは、高温高湿下で保存したのちサイクルサーモ試験、耐光試験に投入した際の密着性に優れていることがわかる。またハードコート層の算術平均粗さＲａが４〜２０ｎｍである本発明のハードコートフィルムは、特に優れた密着性を有することがわかる。【０２２５】
なお、本発明のハードコートフィルムは、塗布後の乾燥工程における減率乾燥区間の温度を７０℃〜１３０℃に制御することで、ハードコート層の算術平均粗さＲａを本発明の範囲に制御できるため、好ましい。また、本発明のハードコートフィルムのヘイズ変化の絶対値（｜Ｈｈ−Ｈｆ｜）は０．０１％〜０．０７％であった。【０２２６】
また、本発明に係るハードコートフィルムについて、２３℃５５％ＲＨで２４時間調湿後、ＪＩＳ−Ｓ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、５００ｇのおもりを用いて鉛筆硬度の試験を行った。本発明に係るハードコートフィルムの鉛筆硬度は、いずれも３Ｈ以上であった。【０２２７】
実施例２
ハードコートフィルム１の作製において、基材フィルム１のセルローストリアセテート、及びエステル化合物１を表２に記載したように変更し、基材フィルム２及び３を作製した。次に、それら基材にハードコート層１を設けた以外は、同様にしてハードコートフィルム１５及び１６を作製した。【０２２８】
《評価》
実施例１の耐久性試験において、耐候性試験の光照射時間を２４０時間に変更した以外は同様にして、実施例１で作製したハードコートフィルム１、上記作製したハードコートフィルム１５及び１６の耐久性試験を行い、実施例１と同様にして評価した。【０２２９】
なお、基材フィルム２及び３のヘイズ値（Ｈｆ）は０．２８％であった。【０２３０】
また、下記の方法で基材フィルム１〜３のフィルム幅手方向のｔａｎδを測定した。これらの結果を表２に示した。【０２３１】
なお、表２に示したセルローストリアセテートＢ１は、アセチル置換度が２．８５であり、数平均分子量が１２００００である。また、エステル化合物Ｂは以下の方法で合成した化合物である。【０２３２】
〈エステル化合物Ｂの合成〉
１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、アジピン酸３７０ｇ、安息香酸１２２ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．０９ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。１５時間脱水縮合反応させ、反応終了後２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、エステル化合物Ｂを得た。酸価０．５５、数平均分子量５００であった。【０２３３】
（基材フィルムのフィルム幅手方向のｔａｎδの測定）
下記条件で基材フィルムの動的粘弾性を測定し、ｔａｎδ−４０／ｔａｎδｐｅａｋを求めた。試料はあらかじめ２３℃５５％ＲＨの雰囲気下２４時間調湿したものを使用し、湿度５５％ＲＨ、下記条件で昇温させながら、又は温度設定して測定した。【０２３４】
測定装置：ティーエイインスツルメント社製  ＲＳＡIII
試料：幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍに設定）
測定条件：引張モード
測定温度：２５〜２１０℃、又は−４０℃
昇温条件：５℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ【０２３５】
【表２】
2012026192.tif 000010
【０２３６】
表２の結果から判るように、過酷な試験では、幅手方向のｔａｎδが、０．５≧ｔａｎδ−４０／ｔａｎδｐｅａｋ≧０．２４である基材フィルムをハードコートフィルムに用いることで、特に密着性に優れ、クリア性も優れていることがわかる。【０２３７】
実施例３
＜偏光板１０１の作製＞
（アルカリ鹸化処理）
ハードコートフィルム１を偏光膜３の一方の面に貼り付け、セルローストリアセテートフィルム１からなる保護フィルム４を偏光膜３の他方の面に貼り付けて、偏光板１０１を作製した（図２及び３参照）。【０２３８】
（ａ）偏光膜の作製
けん化度９９．９５モル％、重合度２４００のポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略記する）１００質量部に、グリセリン１０質量部、及び水１７０質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Ｔダイから金属ロール上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理してＰＶＡフィルムを得た。得られたＰＶＡフィルムは、平均厚みが２５μｍ、水分率が４．４％、フィルム幅が３ｍであった。【０２３９】
次に、得られたＰＶＡフィルムを、予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で、連続的に処理して、偏光膜を作製した。すなわち、ＰＶＡフィルムを温度３０℃の水中に３０秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度０．４ｇ／リットル、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットルの温度３５℃の水溶液中に３分間浸した。続いて、ホウ酸濃度４％の５０℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が７００Ｎ／ｍの条件下で、６倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットル、ホウ酸濃度４０ｇ／リットル、塩化亜鉛濃度１０ｇ／リットルの温度３０℃の水溶液中に５分間浸漬して固定処理を行った。その後、ＰＶＡフィルムを取り出し、温度４０℃で熱風乾燥し、更に温度１００℃で５分間熱処理を行った。得られた偏光膜は、平均厚みが１３μｍ、偏光性能については透過率が４３．０％、偏光度が９９．５％、２色性比が４０．１であった。【０２４０】
（ｂ）偏光板の作製
下記工程１〜４に従って、偏光膜３と、保護フィルム４とハードコートフィルム１を貼り合わせて偏光板１０１を作製した。【０２４１】
工程１：前述の偏光膜３を、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に１〜２秒間浸漬した。【０２４２】
工程２：ハードコート層に剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を張り付けたハードコートフィルム１と保護フィルム４とを下記条件でアルカリ鹸化処理を実施した。次いで、工程１でポリビニルアルコール接着剤溶液に浸漬した偏光膜３に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、この偏光膜３をハードコートフィルム１と保護フィルム４とで図２のように挟み込んで、積層配置した。【０２４３】
（アルカリ鹸化処理）
ケン化工程    ２．５Ｍ−ＫＯＨ    ５０℃    １２０秒
水洗工程      水                  ３０℃      ６０秒
中和工程      １０質量部ＨＣｌ    ３０℃      ４５秒
水洗工程      水                  ３０℃      ６０秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで１００℃で乾燥。【０２４４】
工程３：積層物を、２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ２の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意して実施した。【０２４５】
工程４：工程３で作製した試料を、温度１００℃の乾燥機中にて５分間乾燥処理し、偏光板を作製した。【０２４６】
工程５：工程４で作製した偏光板の基材フィルム１に市販のアクリル系粘着剤を乾燥後の厚みが２５μｍとなるように塗布し、１１０℃のオーブンで５分間乾燥して粘着層を形成し、粘着層に剥離性の保護フィルムを張り付けた。この偏光を５７６×３２４ｍｍサイズに裁断（打ち抜き）し、偏光板１０１を作製した。【０２４７】
＜偏光板１０２〜１１４の作製＞
偏光板１０１の作製において、ハードコートフィルム１をハードコートフィルム２〜１４に、それぞれ変更した以外は同様にして偏光板１０２〜１１４を作製した。【０２４８】
＜液晶表示装置４０１の作製＞
ＮＥＣ製ノートＰＣ  ＬａＶｉｅ  Ｇタイプの液晶パネルの偏光板を剥がし、視認側の偏光板として上記作製した偏光板１０１（構成は図２参照、図２では偏光板７として図示されている。）をハードコート層が視認側となるようにして、粘着剤層５の剥離性保護フィルムを剥がした後、液晶セルガラスと貼合した。また、バックライト側には、上記手順と同様にアルカリ鹸化処理した基材フィルム１で偏光膜を挟持するように積層配置して貼合した偏光板２０１を厚さ２５μｍのアクリル系粘着剤を用いて液晶セルガラスに貼合して、液晶パネル３０１を作製した。次に液晶パネル３０１を液晶テレビにセットし、液晶表示装置４０１を作製した。【０２４９】
＜液晶表示装置４０２〜４１４の作製＞
液晶表示装置４０１の作製において、偏光板１０１を偏光板１０２〜１１４に、それぞれ変更した以外は同様にして液晶表示装置４０２〜４１４を作製した。【０２５０】
《評価》
上記作製した偏光板１０１〜１１４及び画像表示装置４０１〜４１４について下記の評価を行った。【０２５１】
（偏光板）
ａ．耐久性試験
偏光板１０１〜１１４のハードコート層の剥離性の保護フィルムを剥離したのち、偏光板を図３のように各７５枚重ね、一番下の偏光板は更に粘着層介してガラス板上に貼り合わせ、９０℃９５％の条件で２００時間保存した。【０２５２】
ｂ．変形故障の観察
上記耐久試験を実施した偏光板をハードコート層側から観察して、変形故障の状態を以下の基準で観察した。【０２５３】
◎：変形故障が全くみられない
○：僅かな部分で変形故障がみられるが、実害上問題なし
×：部分的な変形故障が、遠くから見てもはっきりと発生している事がみえる。【０２５４】
（液晶表示装置）
ａ．視認性（クリア性）評価
上記作製した液晶表示装置４０１〜４１４について、床から８０ｃｍの高さの机上に配置した。次に、床から３ｍの高さの天井部に、昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ  パナソニック（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとして、１．５ｍ間隔で１０セット配置した。この場合、評価者が液晶表示パネルの表示面の正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に蛍光灯がくるように配置した。次に、液晶表示装置４０１〜４１４の視認性を以下の基準で評価した。得られた結果を表３に示した。【０２５５】
◎：蛍光灯がはっきりと見える
○：蛍光灯が僅かに白っぽくぼけて見える
×：蛍光灯がぼけて白っぽく見える。【０２５６】
ｃ．総合評価
偏光板の変形故障と液晶表示装置の視認性（クリア性）の両立を総合評価として以下の基準で評価し、結果を表３に示した。【０２５７】
◎：偏光板の変形故障と液晶表示装置の視認性が◎
○：偏光板の変形故障或いは液晶表示装置の視認性のどちらかが○
×：偏光板の変形故障或いは液晶表示装置の視認性どちらかが×【０２５８】
【表３】
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【０２５９】
表３の結果から判るように、本発明ハードコートフィルムから構成された本発明の偏光板及び液晶表示装置は、高温高湿下で保存した際の変形故障耐性及び液晶表示装置に用いた際の視認性（クリア性）に優れ、変形故障の防止と視認性が両立された優れた性能を有することがわかる。
【符号の説明】
【０２６０】
１  基材フィルム
２ａ、２ｂ  ハードコート層
３  偏光膜
４  保護フィルム
５  粘着層
６  ハードコートフィルム
７  偏光板
８  ガラス板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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