(57)【要約】  本発明の光走査装置は、入射した光を反射する振動ミラーと、振動ミラーの一端に連結された第１の梁部と、振動ミラーの他端に連結された第２の梁部と、第１の梁部に連結され、第１の梁部と第１の調整部との間に配置され、振動ミラーを揺動させる第１の駆動部と、第１の駆動部に連結され、第１の梁部を弾性変形させることで、第１の梁部の弾性係数を調整する第１の調整部とを有する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射した光を反射する振動ミラーと、
前記振動ミラーの一端に連結された第１の梁部と、
前記振動ミラーの他端に連結された第２の梁部と、
前記第１の梁部に連結され、前記第１の梁部と前記第１の調整部との間に配置され、前記振動ミラーを揺動させる第１の駆動部と、
前記第１の駆動部に連結され、前記第１の梁部を弾性変形させることで、前記第１の梁部の弾性係数を調整する第１の調整部とを有する光走査装置。
【請求項２】
前記第１の駆動部が、圧電素子を含む請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１の調整部が、圧電素子を含む請求項１または請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記第１の梁部は、前記第１の駆動部に向けて少なくとも２本以上に分岐した構造を持つ梁支持部を備える請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記第１の駆動部は、前記第１の梁部に対して対称位置の少なくとも２箇所以上に形成されている請求項１ないし請求項４の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記第１の調整部は、前記第１の梁部に対して対称位置の少なくとも２箇所以上に形成されている請求項１ないし請求項５の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記振動ミラー、前記第１の梁部、前記第１の駆動部、及び前記第１の調整部が、一体成形されている請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記振動ミラーの共振周波数を検出する共振周波数検出部をさらに備え、共振周波数が一定となるよう前記第１の調整部を制御する請求項１ないし請求項７の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記第２の梁部に連結され、前記振動ミラーを揺動させる第２の駆動部をさらに有する請求項１ないし請求項８の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記第２の駆動部に連結され、前記第２の梁部を弾性変形させ、前記第２の梁部の弾性係数を調整する第２の調整部をさらに有する請求項９に記載の光走査装置。
【請求項１１】
前記第２の駆動部が、圧電素子を含む請求項９または請求項１０に記載の光走査装置。
【請求項１２】
前記第２の調整部が、圧電素子を含む請求項９ないし請求項１１の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１３】
前記第２の梁部は、第２の駆動部に向けて少なくとも２本以上に分岐した構造を持つ梁支持部を備える請求項９ないし請求項１２の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１４】
前記第２の駆動部は、前記第２の梁部に対して対称位置の少なくとも２箇所以上に形成されている請求項９ないし請求項１３の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１５】
前記第２の調整部は、前記第２の梁部に対して対称位置の少なくとも２箇所以上に形成されている請求項９ないし請求項１４の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１６】
前記振動ミラー、前記第２の梁部、前記第２の駆動部、及び前記第２の調整部が、一体成形されている請求項９ないし請求項１５の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１７】
前記振動ミラーの共振周波数を検出する共振周波数検出部をさらに備え、共振周波数が一定となるよう前記第２の調整部を制御する請求項９ないし請求項１６の何れか１項に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入射した光と反射面との角度を変化させることにより、その反射光の走査を行う光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光を走査する光走査装置は、デジタル複写機や、レーザープリンタ、バーコードリーダー、スキャナー、プロジェクタ等で広く用いられている。この光走査装置として、従来はモーターを用いたポリゴンミラーやガルバノミラーなどが一般的に広く用いられてきた。【０００３】
一方で近年の微細加工技術の発展により、ＭＥＭＳ技術を応用して製造された光走査装置が大きな発展を遂げている。中でも、梁部を回転軸として振動ミラーを往復振動させることにより光を走査させる光走査装置が注目を集めている。ＭＥＭＳ技術によって形成される振動ミラーは、従来のモーターを用いたポリゴンミラー等の回転による光走査装置と比較して、構造が簡単であることや、半導体プロセスによる一体成形が可能であることにより、小型化や低コスト化が容易であること、また小型化により高速化が容易であること等の利点がある。【０００４】
これらのＭＥＭＳ技術による振動ミラーは、振れ角を大きくとるために、駆動周波数と構造体の共振周波数とを一致させることが一般的である。ミラーの共振周波数ｆｒは、梁部のねじり弾性係数ｋと振動ミラーの慣性モーメントＩＭとから、次式で与えられる。
ｆｒ＝１／（２π√（ｋ／ＩＭ））                          （１）
式（１）におけるねじれ弾性係数ｋは、梁部の幅をｗ、厚さをｔ、長さをLとし、ｔ＜ｗを仮定すると、次式で与えられる。
ｋ＝（Ｇβｔｗ３）／Ｌ                                      （２）
ここでＧは横弾性定数であり、梁部を形成する材料のヤング率Ｅとポアソン比νを用いてＧ＝Ｅ／（２（１＋ν））で表される。βは梁ｗとｔの比から定まる定数である。【０００５】
振動ミラーの振動時に、梁部は高速かつ長時間ねじり変形する。しかし梁部及び振動ミラーは単結晶のシリコンで一体成形されているため、この変形に対しても十分な耐久性を有していると考えられている。
このように共振周波数は、振動ミラーの慣性モーメントと、梁部のねじりバネ定数等から決定される。しかし一方でこれらの値は、加工精度や周囲温度などの違いによるばらつきを避けることはできない。そのため、共振周波数にもばらつきが出てしまう。【０００６】
そこで、上述した問題を解決するために、振動ミラーの共振周波数の調整機構を設けた光走査装置が提案されている。この光走査装置は、調整機構により、部材の加工精度のばらつきや周囲温度の変化による共振周波数の変動を調整し、共振周波数を一定に保つことができる。
このような構成として、例えば特許文献１においては、第１の梁部と、第２の梁部と、第１の圧電素子部と、電源部と、を有する共振型光走査装置が開示されている。第１の梁部は、振動ミラーの一端に連結されている。第２の梁部は、振動ミラーの他端に連結されている。第１の圧電素子部は、第１の梁部を弾性変形させる。電源部は、振動ミラーを駆動させるための電圧を第１の圧電素子部に印加する。この共振型光走査装置は、電源部により、第１の圧電素子部に対して直流電圧成分を加えて、第１の梁部と第２の梁部に張力を生じさせることにより、梁部の弾性係数を変化させ、共振周波数の調整を行っている。
しかしながら、特許文献１では、梁部の表面に積層された圧電素子（金属薄膜やセラミックス多結晶体）は、共振時におけるねじり変形の影響を直接受けるため、結晶粒界から欠陥が発生し、疲労破壊が生じやすい。つまり、共振周波数の調整精度が落ちたり、調整不能になったりする問題があった。【０００７】
これに対して、特許文献２においては、振動ミラーの一端に連結された第１の梁部と、振動ミラーの他端に連結された第２の梁部と、第１の梁部を弾性変形させるための第１の構造体とを備える装置が開示されている。この装置は、第１の構造体に電圧を印加することで第１の梁部に張力を生じさせ、共振周波数の調整を行っている。この場合、振動ミラーは、ミラー下部または側面に配置した電極により、静電力で駆動させることが想定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】日本国特開２００７−２５６０８号公報
【特許文献２】日本国特開２００６−１９５２９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献２の装置の構成では、第１の構造体と第１の梁部とが連結されている関係で、ミラー下部または側面から静電気により振動ミラーを駆動させる場合であっても、第１の構造体自体が揺動させざるを得ない。そのため、第１の構造体の圧電素子がミラー振動の影響を受け、共振周波数の調整精度が低下するという問題があった。【００１０】
本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであり、簡易な構成により共振周波数を高精度に調整でき、安定した動作を維持することができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記問題を解決するために、本発明の光走査装置は、入射した光を反射する振動ミラーと、前記振動ミラーの一端に連結された第１の梁部と、前記振動ミラーの他端に連結された第２の梁部と、前記第１の梁部に連結され、前記第１の梁部と前記第１の調整部との間に配置され、前記振動ミラーを揺動させる第１の駆動部と、前記第１の駆動部に連結され、前記第１の梁部を弾性変形させることで、前記第１の梁部の弾性係数を調整する第１の調整部とを有する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、第１の駆動部を間に挟んで第１の梁部とは反対側に第１の調整部が配置されているため、梁部の揺動時において、第１の調整部は梁部の変形等による影響を受け難くなる。これにより、第１の調整部による共振周波数の調整を高精度に行うことができるので、従来のように温度変化や加工プロセス等による共振周波数のばらつきを抑制することができる。その結果、安定した動作を維持することができる信頼性の高い光走査装置を提供できる。
また、構造上も、第１の駆動部における第１の梁部とは反対側に、第１の梁部の弾性係数を調整する第１の調整部を配置するという簡易な構成をとっており、新たな加工プロセスを必要としない点も利点である。したがって、第１の調整部追加に伴う作業効率及びコストの増加を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態における画像表示装置の全体構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の第１実施形態における光走査素子の構成を示す平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図４Ａ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図４Ｂ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図４Ｃ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図４Ｄ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図４Ｅ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図５Ａ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図５Ｂ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図５Ｃ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図５Ｄ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図５Ｅ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図６Ａ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図６Ｂ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図６Ｃ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図６Ｄ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図６Ｅ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図７Ａ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図７Ｂ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図７Ｃ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図７Ｄ】図２に示す光走査素子の製造方法を説明するための工程図であり、図３に相当する断面図である。
【図８】本発明の第２実施形態における光走査素子の構成を示す図であり、図３に相当する断面図である。
【図９】本発明の第３実施形態における光走査素子の構成を示す図であり、図３に相当する断面図である。
【図１０】本発明の第４実施形態における光走査素子の構成を示す図であり、図３に相当する断面図である。
【図１１】本発明の第５実施形態における光走査素子の構成を示す図であり、図３に相当する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
次に、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。
（第１実施形態）
（画像表示装置）
最初に、本発明の実施形態の光走査装置が組み込まれる画像表示装置の全体構成及び動作について説明する。図１は、本発明の実施形態における画像表示装置の全体構成を示すブロック図である。
図１に示すように、本実施形態の画像表示装置１は、外部から供給される映像信号Ｓに応じて変調された光束を生成する光束生成装置１１を備えている。光束生成装置１１は、信号処理回路２１と、光源部３１と、コリメート光学系１２と、合成光学系１３とを備えている。信号処理回路２１は、映像信号Ｓに基づいて画像を構成するための要素となる信号を発生させる。光源部３１は、信号処理回路２１から出力される３つの映像信号（Ｒ、Ｇ、Ｂ）をそれぞれ光束にする。コリメート光学系１２は、光束を平行光化する。合成光学系１３は、光束を合成する。画像表示装置１はまた、合成光学系１３で合成された光を画像表示するために水平方向に走査する水平走査部１４と、水平走査部１４で水平方向に走査された光束を垂直方向に走査する垂直走査部１５とを備える。画像表示装置１は、水平走査部１４および垂直走査部１５により水平方向と垂直方向に走査された光束をスクリーン１６上に出射する。
【００１５】
信号処理回路２１では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各映像信号が生成され、各映像信号が各レーザー駆動回路（赤色レーザー駆動回路２２、緑色レーザー駆動回路２３、青色レーザー駆動回路２４）に出力される。信号処理回路２１は、水平走査部１４で使用される水平同期信号を水平走査同期回路２５を介して出力し、また垂直走査部１５で使用される垂直同期信号を垂直走査同期回路２６を介して出力する。
【００１６】
光源部３１は、赤色レーザー３２及び赤色レーザー駆動回路２２と、緑色レーザー３３及び緑色レーザー駆動回路２３と、青色レーザー３４及び青色レーザー駆動回路２４と、を備えている。赤色レーザー３２は、赤色の光束を発生させる。赤色レーザー駆動回路２２は、赤色レーザー３２を駆動する。緑色レーザー３３は、緑色の光束を発生させる。緑色レーザー駆動回路２３は、緑色レーザー３３を駆動する。青色レーザー３４は、青色の光束を発生させる。青色レーザー駆動回路２４は、青色レーザー３４を駆動する。各レーザー３２〜３４として、半導体レーザーあるいは高調波発生機構（ＳＨＧ）付き固定レーザー等を使用してもよい。
【００１７】
各レーザー３２〜３４から出射したそれぞれの光束は、コリメート光学系１２によってそれぞれ平行光化された後、合成光学系１３のダイクロイックミラー３６〜３８に入射される。これらのダイクロイックミラー３６〜３８により、各レーザー光が波長に関して選択的に反射または透過される。
これらの３つのダイクロイックミラー３６〜３８に入射した赤、緑、青の光束は、波長選択的に反射または透過して、水平走査部１４に出力される。
【００１８】
水平走査部１４は、合成光学系１３から入射された光束を画像として投影するために、光束を水平方向に走査する。垂直走査部１５は、合成光学系１３から入射された光束を画像として投影するために、光束を垂直方向に走査する。
水平走査部１４と信号処理回路２１とは、水平光走査装置として機能する。垂直走査部１５と信号処理回路２１とは、垂直光走査装置として機能する。
【００１９】
水平走査部１４は、光束を水平方向に走査するための水平走査素子（光走査装置）５１と、水平走査素子５１を駆動させる水平走査駆動回路４１と、水平走査素子５１の共振周波数を調整するための共振周波数調整回路４２とを有している。
垂直走査部１５は、光束を垂直方向に走査するための垂直走査素子４３と、垂直走査素子４３を駆動させるための垂直走査駆動回路４４と、を備えている。水平走査駆動回路４１は、水平走査同期回路２５から出力される水平同期信号に基づいて駆動する。垂直走査駆動回路４４は、垂直走査同期回路２６から出力される垂直同期信号に基づいて駆動する。
【００２０】
（光走査素子）
次に、上述した水平走査素子（以下、光走査素子という）について説明する。図２は第１実施形態における光走査素子の構成を示す平面図である。図３は図２のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
図２，図３に示すように、光走査素子５１は、共振タイプの光走査素子である。光走査素子５１は、上部枠体５２と下部枠体５３（図３参照）とがＳｉＯ２等からなる酸化膜５４（図３参照）を介して接合することにより形成されている。上部枠体５２及び下部枠体５３は、微細加工が可能で適度な剛性を持つ単結晶シリコン基板により一体形成されている。
【００２１】
上部枠体５２は、矩形枠状のベース部５６と、平面視矩形状の振動ミラー５７と、一対の橋架部５９とを備えている。振動ミラー５７は、ベース部５６内の中央部に配置されている。一対の橋架部５９は、ベース部５６の対向する辺（以下、短辺部５８という）からそれぞれ振動ミラー５７に向かって延在し、振動ミラー５７を両端から支持する。
【００２２】
各橋架部５９は、一対の梁部（第１の梁部及び第２の梁部）６２と、駆動部（第１の駆動部及び第２の駆動部）６３と、調整部（第１の調整部及び第２の調整部）６４と、を有している。一対の梁部６２は、振動ミラー５７の両端側から長辺部６１の延在方向（長手方向）に沿って互いに逆方向に沿って延在する。駆動部６３は、これら梁部６２にそれぞれ連結されて振動ミラー５７を駆動させる。調整部６４は、各駆動部６３とベース部５６の各短辺部５８とをそれぞれ連結するとともに、梁部６２の弾性係数を調整する。これら各調整部６４、駆動部６３及び梁部６２は、短辺部５８から振動ミラー５７に向かって幅が段々と縮小するように延在しており、ベース部５６から振動ミラー５７まで一体形成されている。各橋架部５９は、振動ミラー５７を中心にして対称の部材であるため、以下の説明では、一方の橋架部５９の構成について説明する。
【００２３】
振動ミラー５７は、ミラー基板６６と、ミラー基板６６上に形成された反射膜６７とを備えている。ミラー基板６６は、両側面に一体形成された梁部６２でそれぞれ一辺の中央付近を支持されている。反射膜６７は、使用する光に対して十分な反射率を持つ金属薄膜により形成されている。振動ミラー５７と２本の梁部６２の寸法は、必要とする共振周波数が得られるように設計されている。
【００２４】
駆動部６３は、梁部６２よりも幅広に形成された駆動部基板７１と、駆動部基板７１上に酸化膜６０を介して形成された圧電素子７２とを備えている。駆動部基板７１の先端は、梁部６２に一体的に連結される。一方、駆動部基板７１の基端は、調整部６４に一体的に連結されている。図３に示すように、圧電素子７２は、駆動部基板７１の酸化膜６０上に、下部電極７３、圧電層７４、上部電極７５が順次積層されて形成されている。圧電素子７２（上部電極７５）上には、スパッタ法でマスク成膜されたＡｌ薄膜等による電極パッド７６が形成されている。
【００２５】
調整部６４は、駆動部６３とベース部５６との間で、駆動部６３よりも幅広に形成された調整部基板７９と、調整部基板７９上に酸化膜６０を介して形成された圧電素子８０とを備えている。調整部基板７９の先端は、駆動部基板７１に一体的に連結される。調整部基板７９の基端は、ベース部５６における短辺部５８の内周面に一体的に連結されている。圧電素子８０は、調整部基板７９の酸化膜６０上に、下部電極８１、圧電層８２、上部電極８３が順次積層されて形成されている。上部電極８３上には、スパッタ法でマスク成膜されたＡｌ薄膜等による電極パッド８４が形成されている。電極パッド７６，８４は、圧電領域（駆動部６３及び調整部６４）における上部電極７５，８３上の適当な位置に形成して構わない。
【００２６】
短辺部５８における調整部６４との連結部分には、圧電素子７２，８０の下部電極７３，８１に接続されるランド部８６が酸化膜６０を介して形成されている。ランド部８６は、駆動部６３と調整部６４との共通電極として機能している。ランド部８６は、駆動部６３及び調整部６４の下部電極７３，８１から連続的に形成された電極膜８７と、この電極膜８７上に形成された電極パッド８８とを備えている。すなわち、駆動部６３及び調整部６４の下部電極７３，８１と、ランド部８６の電極膜８７とは一体的に形成される一方、ランド部８６上には圧電層７４，８２及び上部電極７５，８３は形成されていない。駆動部６３と調整部６４との間において、圧電素子７２，８０のうち、圧電層７４，８２及び上部電極７５，８３が分離されている。各圧電素子７２，８０は独立して駆動可能に構成されている。ここでは上述した電極パッド７６，８４，８８としてＡｌ薄膜をスパッタ法で形成しているが、十分な密着性とシリコン基板との導通が得られればＰｔ等の他の材料も選択可能である。また、成膜方法としても他の方法で成膜してもよい。上述した水平走査駆動回路４１から電極パッド７６，８４，８８を介して圧電素子７２，８０に電圧が印加される。
【００２７】
調整部６４は、梁部６２の振動時に、変形等の影響を受けないような幅及び厚さで形成されている。上述したように上部枠体５２における圧電素子７２，８０及びランド部８６の裏面には酸化膜６０が形成され、この酸化膜６０を介して、圧電素子７２，８０、電極膜８７及び電極パッド７６，８４，８８が形成されている。上述したベース部５６、ミラー基板６６、駆動部基板７１及び調整部基板７９は半導体プロセスにより一体成形されている。
【００２８】
下部枠体５３は、平面視でベース部５６と同形状に形成された矩形枠型の部材である。下部枠体５３は、振動ミラー５７が振動する領域が除去された開口部５３ａを有している。下部枠体５３の厚さは、振動ミラー５７の振動範囲よりも厚く、かつ振動ミラー５７を取り扱う際に支障をきたさないことを考慮して設計されている。
【００２９】
（光走査素子の動作方法）
次に、上述した光走査素子の動作を説明する。
図２，図３の構成において、水平走査駆動回路４１から各電極パッド７６，８８を介して、駆動部基板７１の圧電層７４の表面または裏面に配置された各電極７３，７５間に交流電圧を印加する。この交流電圧の印加により、圧電層７４が駆動されて梁部６２の延在方向に沿って圧電層７４の長さが変化する。この場合、駆動部６３の圧電層７４に交流電圧を印加することにより、駆動部６３に発生する内部応力は、振動ミラー５７を振動させる作用をする。
このようにして振動ミラー５７が起動した後は、共振振動により振れ角を増大していくことができる。ここでは振動ミラー５７を共振振動させるための駆動力として圧電層７４を上部電極７５及び下部電極７３で挟んだ圧電素子７２を用いた場合を説明したが、これに限られない。駆動力として、電磁力、静電力を用いてもよい。
【００３０】
（共振周波数の調整方法）
振動ミラー５７の共振周波数は、上述したように振動ミラー５７の慣性モーメントと梁部６２の剛性等、それぞれの材料、形状によって定まる。したがって、加工精度や温度変化等により、目標とする共振周波数が得られない場合がある。
【００３１】
この問題を解決するための方法を、以下で説明する。
調整部６４の圧電素子８０に、水平走査駆動回路４１から電極パッド８４，８８を介して直流電圧を印加することにより、圧電層８２が駆動されて梁部６２の延在方向に沿って圧電層７４の長さが変化し、調整部６４に応力が発生する。この応力は、駆動部６３を介して梁部６２に伝達され、それに伴い梁部６２が応力を受ける。具体的には、梁部６２の延在方向における長さや梁部６２の横断面形状が変化する。具体的に、調整部６４が伸びる場合、梁部６２には圧縮の内部応力が作用し、調整部６４が短くなる場合、梁部６２には引っ張りの内部応力が作用する。これにより、梁部６２の弾性係数が変化することで、共振周波数を変化させることができる。梁部６２の弾性係数は、圧電素子８０に加える電圧を制御することにより変化する。
【００３２】
そこで、光走査素子５１の共振周波数を検出することができれば、その検出値に応じて調整部６４の圧電素子８０に印加される印加電圧にフィードバックをかけることで、共振周波数を一定値に維持することができる。共振周波数検出のための方法の一つとして、例えば図３に示すようの構造が考えられる。電極面を構成する振動ミラー５７を一方の電極とし、この電極に対向させて対向電極９０を設置する。これら電極９０及び振動ミラー５７間の変化に応じて変化する静電容量を、静電容量検出回路（共振周波数検出部）９１を用いて検出することにより共振周波数を検出することができる。これにより、調整部６４への信号は適切に調整系へ伝達され、共振周波数を所望の値に保つことができる。
【００３３】
この静電容量検出回路９１は、共振周波数検出部の一例であり、他の方法により共振周波数を検出してもよい。共振周波数は、振動ミラー５７の振れ角により検出することもできる。駆動周波数を設定しておいて、振れ角を振動ミラー５７からの走査ビームを検出する光検出素子、あるいはねじり梁のひずみを検出するひずみ検出素子等によって検出しながら、圧電素子８０を制御することにより、共振周波数が駆動周波数に一致するように制御することができる。さらに、環境温度の変動による振れ角の低下にも対応することができる。そのためには、振れ角が一定値を維持するように圧電素子８０の変位をフィードバック制御すればよい。
【００３４】
（光走査素子の製造方法）
上述した光走査素子の製造方法について、図４Ａ〜４Ｅ，および図５Ａ〜５Ｅを参照して説明する。
工程１
まず、図４Ａに示すように、支持Ｓｉ層１００（例えば、厚さ４７５μｍ）と活性層１０１（例えば、厚さ５０μｍ）とが、酸化膜１０２（例えば、厚さ２μｍ）によって接合されたＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板１０３を用意する。本実施形態では、１枚のＳＯＩ基板１０３から複数の光走査素子５１を、半導体プロセスを用いて一括形成する場合について説明する。支持Ｓｉ層１００は下部枠体５３を形成するデバイス基板として用いる。活性層１０１は上部枠体５２を形成するデバイス基板として用いる。活性層１０１の表面は予め酸化処理して酸化膜６０を形成しておく。
【００３５】
工程２
次に、図４Ｂに示すように、スパッタ法等を用いて、活性層１０１上の全域に下部電極７３，８１、圧電層７４，８２及び上部電極７５，８３並びにランド部８６の電極膜８７のスパッタ製膜１０５〜１０７を積層する。
【００３６】
工程３
次に、図４Ｃに示すように、上部電極７５，８３のスパッタ製膜１０７上にレジスト１１０を塗布し、フォトリソグラフィ技術を用いることにより、露光および現像を行なうことで、上部電極７５，８３の形成領域にレジスト１１０が残存するようにパターニングを行う。
【００３７】
工程４
図４Ｄに示すように、レジスト１１０をマスクとして上部電極７５，８３及び圧電層７４，８２のスパッタ製膜１０６，１０７をエッチングする。
【００３８】
工程５
その後、図４Ｅに示すように、レジスト１１０を剥離する。これにより、上部電極７５，８３及び圧電層７４，８２が形成される。
【００３９】
工程６
次に、図５Ａに示すように、活性層１０１上の全域に上部電極７５，８３を覆うようにレジスト１１１を塗布する。フォトリソグラフィ技術を用いることにより、露光および現像を行なうことで、下部電極７３，８１及び電極膜８７及び酸化膜６０の形成領域にレジスト１１１が残存するようにパターニングを行う。
【００４０】
工程７
次に、図５Ｂに示すように、レジスト１１１をマスクとして、下部電極７３，８１及び電極膜８７のスパッタ製膜１０７及び酸化膜６０をエッチングする。
【００４１】
工程８
その後、図５Ｃに示すように、レジスト１１１を剥離する。これにより、下部電極７３，８１、電極膜８７及び酸化膜６０が形成される。
【００４２】
工程９
次に、活性層１０１上における振動ミラー５７の形成領域に反射膜６７を形成する。具体的には、図５Ｄに示すように、活性層１０１上の全域にレジスト１１２を塗布する。フォトリソグラフィ技術を用いることにより、露光および現像を行なうことで、反射膜６７の形成領域（振動ミラー５７の形成領域）以外の領域にレジスト１１２が残存するようにパターニングを行う。すなわち、反射膜６７の形成領域には、レジスト１１２の開口部１１２ａが形成される。
【００４３】
工程１０
次に、図５Ｅに示すように、レジスト１１２をマスクとして、蒸着法等により銀等を成膜すると、活性層１０１上にはレジスト１１２の開口部１１２ａを通して蒸着製膜１１３が形成される。
【００４４】
工程１１
その後、図６Ａに示すように、レジスト１１２を剥離する。これにより、振動ミラー５７の形成領域に反射膜６７が形成される。
【００４５】
工程１２
次に、振動ミラー５７及び橋架部５９の外形を形成する。具体的には、図６Ｂに示すように、活性層１０１上の全域にレジスト１１４を塗布する。フォトリソグラフィ技術を用いることにより、露光および現像を行なうことで、上部枠体５２（ベース部５６、振動ミラー５７及び橋架部５９）の形成領域にレジスト１１４が残存するようにパターニングを行う。
【００４６】
工程１３
そして、図６Ｃに示すように、レジスト１１４をマスクとしてエッチング（ＤＲＩＥ：Ｄｅｅｐ  Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）を行う。な必要であれば、その前に酸化膜除去（ＢＯＥエッチング等）を行っておく。
【００４７】
工程１４
その後、図６Ｄに示すように、レジスト１１４を剥離する。これにより、ベース部５６の内側で振動ミラー５７が橋架部５９（ともに図３参照）に連結された状態になる。
【００４８】
工程１５
次に、下部枠体５３を形成する。具体的には、図６Ｅに示すように、まず上部枠体５２を被覆する保護膜１１５を形成する。
【００４９】
工程１６
次に、図７Ａに示すように、支持Ｓｉ層１００の裏面全域にレジスト１１６を塗布する。フォトリソグラフィ技術を用いることにより、露光および現像を行なうことで、下部枠体５３の形成領域にレジスト１１６が残存するようにパターニングを行う。
【００５０】
工程１７
次に、図７Ｂに示すように、レジスト１１６をマスクとして支持Ｓｉ層１００をエッチング（ＤＲＩＥ）することで、下部枠体５３を形成する。
【００５１】
工程１８
そして、図７Ｃに示すように、レジスト１１６をマスクとして再度エッチング（ＤＲＩＥ）を行い、下部枠体５３の内側の酸化膜１０２を除去する。
【００５２】
工程１９
図７Ｄに示すように、レジスト１１６、および保護膜１１５を剥離する。これにより、ＳＯＩ基板１０３上に複数の光走査素子５１が連結された状態で形成される。
【００５３】
工程２０
最後に、ＳＯＩ基板１０３をダイシングすることで、個々の光走査素子５１に個片化する。これにより、１枚のＳＯＩ基板１０３から上述した光走査素子５１を複数製造することができる。
【００５４】
このように、本実施形態では、駆動部６３を間に挟んで梁部６２とは反対側に、梁部６２の弾性係数を調整する調整部６４を設ける構成とした。
この構成によれば、振動ミラー５７の駆動時に交流電圧が印加される駆動部６３と、梁部６２の弾性係数の調整に直流電圧が印加される調整部６４とが分離されている。したがって、調整部６４に作用する梁部６２のねじり振動による影響が低減される。これにより、調整部６４による共振周波数の調整を高精度に行うことができる。よって、従来のように温度変化や加工プロセス等による共振周波数のばらつきを抑制することができる。しかも、調整部６４は、梁部６２の振動時に、変形等の影響を受けないような幅及び厚さで形成されている。このため、梁部６２の振動に伴う調整部６４の変形を確実に防止することができる。
したがって、共振周波数の調整精度を向上させ、安定し動作を維持することができる信頼性の高い光走査素子５１を提供することができる。
【００５５】
また、各橋架部５９にそれぞれ駆動部６３が設けられているので、振動ミラー５７には両端側から応力が付与されることになる。そのため、振動ミラー５７の回転角（振れ角）を大きく、かつ高精度に駆動することができる。
さらに、各橋架部５９にそれぞれ調整部６４が設けられている。このため、梁部６２に作用する内部応力を増大させることができ、周波数調整率を向上させることができる。また、各梁部６２の弾性係数を均等に調整することができる。これにより、走査精度の向上を図ることができる。
また、駆動部６３及び調整部６４が圧電素子７２，８０をそれぞれ備えている。このため、駆動部６３による振動ミラー５７の駆動、及び調整部６４による共振周波数の調整をそれぞれ独立して行うことが可能となる。さらに、圧電素子７２，８０は、半導体プロセスにより一体形成されるため、製造プロセスの増加を抑制し、低コスト化を図ることができる。
【００５６】
本実施形態では光走査素子５１を半導体プロセスにより一体成形することで、光走査素子５１の小型化及び低コスト化を実現することができる。また、小型化により高速化を図ることができる。また、駆動部６３から梁部６２へ作用する応力が直接的に伝達されるため、高い駆動効率を得ることができる。
しかも、本実施形態では、駆動部６３とベース部５６との間に、一体的に調整部６４を形成することができる。このため、構成の簡素化を図るとともに、調整部６４を追加するために新たなプロセスを必要としない。したがって、調整部６４を追加することに伴う作業効率及びコストの増加を抑制することができる。
【００５７】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。図８は第２実施形態における光走査素子の平面図である。以下の説明については、上述した第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付して説明を省略する。
図８に示すように、本実施形態の光走査素子１５１は、振動ミラー５７と、一対の梁部６２と、駆動部６３と、複数の調整部１６４ａ，１６４ｂと、ベース部５６とを備えている。一対の梁部６２は、振動ミラー５７に連結されている。駆動部６３は、梁部６２に連結されて振動ミラー５７を駆動させる。複数の調整部１６４ａ，１６４ｂは、梁部６２の弾性係数を調整する。ベース部５６は、調整部１６４ａ，１６４ｂをその外側から固定している。
【００５８】
駆動部６３の基端側には、駆動部６３の基端と各調整部１６４ａ，１６４ｂの先端とをまとめて連結する連結部１６５が形成されている。この連結部１６５には、連結部１６５の幅方向両端側からベース部５６の長辺部６１に向かって二股状に延在する一対の調整部１６４ａ，１６４ｂが連結されている。これら調整部１６４ａ，１６４ｂは、駆動部６３の幅方向に対して対称位置に配置されている。駆動部６３、連結部１６５及び調整部１６４ａ，１６４ｂは、平面視Ｙ字状に一体形成されている。すなわち、調整部１６４ａ，１６４ｂは、長辺部６１及び短辺部５８の延在方向に交差する方向に沿って延在している。本実施形態の光走査素子１５１においては、駆動部６３（連結部１６５）と長辺部６１とが、一対の調整部１６４ａ，１６４ｂによって架け渡されている。各調整部１６４ａ，１６４ｂは、上述した第１実施形態と同様に、調整部基板１７９ａ，１７９ｂ上に圧電素子１８０ａ，１８０ｂが形成されることにより構成されている。連結部１６５上には、電極膜１８７と、電極パッド１８８とが形成されている。電極膜１８７は、圧電素子１８０ａ，１８０ｂの下部電極７３，８１（図３参照）から連続的に形成されている。電極パッド１８８は、電極膜１９０上に形成され、調整部１６４ａ，１６４ｂ及び駆動部６３の下部電極７３，８１に電圧を印加するために用いられる。
【００５９】
本実施形態によれば、上述した第１実施形態と同様の効果を奏する。さらに、本実施形態によれば、複数（２本）の調整部１６４ａ，１６４ｂが、駆動部６３及び梁部６２の幅方向に対して対称な位置に配置されているため、駆動部６３及び梁部６２を安定して支持することができる。これにより、駆動部６３から作用する内部応力が各調整部１６４ａ，１６４ｂに均等に分散されるので、振動ミラー５７の振動による影響をさらに低減することができる。
また、調整部６４が梁部６２の延在方向に対して斜め方向を向いている。このため、調整部６４が梁部６２の延在方向に対して直交している場合に比べて、調整部６４の圧電素子１８０ａ，１８０ｂで生成される応力のうち、梁部６２の延在方向に沿う力成分を、梁部６２の圧縮及び伸縮成分として最大限に活用することができる。
【００６０】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について説明する。図９は第３実施形態における光走査素子の平面図である。以下の説明については、上述した第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付して説明を省略する。上述した第２実施形態では、駆動部６３とベース部５６とが連結部１６５を介して２本の調整部１６４ａ，１６４ｂによって連結されている構成について説明したが、これに限られない。調整部は２本以上の複数であっても構わない。
【００６１】
具体的には、図９に示すように、本実施形態の光走査素子２５１は、３本の調整部１６４ａ，１６４ｂ，１６４ｃを備えている。２本の調整部１６４ａ，１６４ｂは、連結部１６５の幅方向両端側から長辺部６１に向かって斜め方向に延在する。調整部１６４ｃは、連結部１６５の基端側から短辺部５８に向かって延在する。すなわち、本実施形態の光走査素子２５１は、駆動部６３の幅方向に対して対称な位置に並列接続された一対の調整部１６４ａ，１６４ｂと、駆動部６３の延在方向に沿って直列接続された調整部１６４ｃとを備えている。各調整部１６４ｃは、上述した第１実施形態と同様に、調整部基板１７９ｃ上に圧電素子１８０ｃが形成されることに構成される。
【００６２】
本実施形態によれば、上述した第２実施形態と同様の効果を奏することに加え、駆動部６３を３本の調整部１６４ａ〜１６４ｃによって支持することで、駆動部６３及び梁部６２をより安定して支持することができる。これにより、駆動部６３から作用する内部応力が各調整部１６４ａ〜１６４ｃに均等に分散され、振動ミラー５７の振動による影響をさらに低減することができる。
【００６３】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について説明する。図１０は第４実施形態における光走査素子の平面図である。以下の説明については、上述した第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態は、駆動部が複数設けられている点で上述した各実施形態と相違している。
図１０に示すように、本実施形態の光走査素子３５１は、振動ミラー５７と、梁部６２と、連結部３６５と、複数の駆動部３６３ａ，３６３ｂと、調整部６４とを備えている。梁部６２は、振動ミラー５７に連結されている。連結部３６５は、梁部６２の基端側に連結されている。複数の駆動部３６３ａ，３６３ｂは、連結部３６５を介して梁部６２の延在方向に直交する方向にそれぞれ延在する。調整部６４は、連結部３６５を介して梁部６２の延在方向に沿って延在する。
【００６４】
駆動部３６３ａ，３６３ｂは、連結部３６５の幅方向両端側から、それぞれ対向する長辺部６１に向かって延在している。駆動部３６３ａ，３６３ｂは、駆動部３６３ａ，３６３ｂ及び連結部３６５によって長辺部６１間を架け渡すように形成されている。各駆動部３６３ａ，３６３ｂは、上述した第１実施形態と同様に、駆動部基板３７１ａ，３７１ｂ上に圧電素子３７２ａ，３７２ｂが形成されることにより構成される。各長辺部６１上には、各駆動部３６３ａ，３６３ｂの下部電極７３（図３参照）から連続的に形成された電極膜３７７ａ，３７７ｂが形成されている。電極膜３７７ａ，３７７ｂ上には、電極パッド３７８ａ，３７８ｂが形成されている。
【００６５】
調整部６４は、上述した第１実施形態と同様であり、調整部基板７９上に圧電素子８０が形成されることにより構成されている。各短辺部５８上には、各調整部６４における圧電素子８０の下部電極８１（図３参照）から連続的に形成された電極膜３８５が形成されている。電極膜３８５上には、電極パッド３８６が形成されている。
【００６６】
この場合、駆動部３６３ａ，３６３ｂにおける圧電層７４（図３参照）の表面または裏面に配置した電極７３，７５（図３参照）間に電圧を印加すると、圧電層７４が駆動されて、梁部６２の延在方向に沿って圧電層７４の長さが変化する。具体的に、一方の梁部６２を支持する駆動部３６３ａの圧電素子３７２ａに交流電圧を印加することにより、内部応力が発生する。また、一方の梁部６２を支持する駆動部３６３ｂの圧電素子３７２ｂには駆動部３６３ａとは逆相の交流電圧を印加する。これにより梁部６２に発生する内部応力は、振動ミラー５７を振動させる作用をする。このようにして起動した後は、共振振動により振れ角を増大していくことができる。
これに対して、他方の梁部６２を支持する駆動部３６３ａには、一方の梁部６２を支持する駆動部３６３ａと同相の交流電圧を印加し、他方の梁部６２を支持する駆動部３６３ｂには、一方の梁部６２を支持する駆動部３６３ｂと同相の交流電圧を印加する。このように交流電圧を印加することにより、梁部６２に発生させる内部応力を増強することができる。すなわち、一対の駆動部３６３ａ，３６３ｂ間でそれぞれ逆相の交流電圧を印加する一方、各梁部６２間で相当する駆動部同士（駆動部３６３ａ同士及び駆動部３６３ｂ同士）には同相の交流電圧を印加する。
【００６７】
このように、本実施形態によれば、上述した実施形態と同様の効果を奏することに加え、調整部６４が駆動部３６３ａ，３６３ｂの延在方向に対して直交した位置に配置されている。これにより、駆動部３６３ａ，３６３ｂから調整部６４に作用する内部応力をさらに低減することができる。しかも、調整部６４は梁部６２の延在方向に沿って平行に配置されているため、調整部６４で生成される応力のうち、梁部６２の延在方向に作用する成分については最大化されることになる。したがって、調整部６４による共振周波数の調整を高精度に行うことができるとともに、調整部６４に作用する振動ミラー５７による影響を低減することが可能となる。
また、駆動部３６３ａ，３６３ｂが梁部６２に与える駆動力のうち、横振動（平面視で梁部６２の延在方向に直交する方向）を抑制し、振動ミラー５７の駆動力が最大限活用される。
【００６８】
（第５実施形態）
次に、本発明の第５実施形態について説明する。図１１は第５実施形態における光走査素子の平面図である。以下の説明については、上述した第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付して説明を省略する。
図１１に示すように、本実施形態における光走査素子４５１の梁部４６２は、梁部本体４０１と、２本の梁支持部４０２，４０３とを備えている。梁部本体４０１は、振動ミラー５７の両端部からそれぞれ延在する。２本の梁支持部４０２，４０３は、梁部本体４０１の基端側から二股状に延在し、駆動部６３の幅方向両側に一体的に連結されている。すなわち、各梁部４６２は、平面視Ｙ字状に形成されている。
【００６９】
この場合、調整部６４の圧電素子８０に、電極パッド８４，８８を介して直流電圧を印加することにより、調整部６４に内部応力が発生する。この応力は、駆動部６３を介して梁支持部４０２，４０３に伝達された後、梁部本体４０１に伝達される。それに伴い梁支持部４０２，４０３または梁部本体４０１の長さまたは形状が変化する。
これにより、梁支持部４０２，４０３または梁部本体４０１の弾性係数が変化することで、共振周波数を変化させることができる。また、梁支持部４０２，４０３または梁部本体４０１の弾性係数の変化量は、圧電素子８０に加える電圧を制御することにより変化する。
【００７０】
本実施形態では、上述した実施形態と同様の効果を奏するとともに、調整部６４から駆動部６３を介して梁支持部４０２，４０３に加わる応力が梁部本体４０１の形状変化に生かされやすくなり、周波数調整の効率を向上させることができる。この場合、梁支持部４０２，４０３の変形により、梁部本体４０１及び梁支持部４０２，４０３全体としてのねじり弾性係数が変化するため、調整部６４による応力の効果を高めるのに好適である。
上述した第２〜４実施形態も同様の梁支持部４０２，４０３を有することで、調整部６４による周波数調整の効果が増幅されることは明らかである。
【００７１】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
例えば、第１実施形態では、各梁部６２にそれぞれ駆動部６３を連結する構成としたが、これに限られない。少なくとも一方の梁部６２に駆動部６３を連結する構成にしても構わない。また、各駆動部６３とベース部５６との間に調整部６４を配置する構成としたが、これに限られない。一方の駆動部６３とベース部５６との間のみに調整部６４を配置する構成にしても構わない。
上述した各実施形態の構成を適宜組み合わせるような構成にしても構わない。
【００７２】
上述においては、本発明の実施形態の光走査装置を、画像表示装置１における水平走査素子５１に採用する構成について説明したが、垂直走査素子４３に採用しても構わない。
上述した本発明の実施形態の光走査装置を画像表示装置１における光走査素子５１に限らずデジタル複写機や、レーザープリンタ、バーコードリーダー等の光走査装置として採用することも可能である。
また、駆動部及び調整部は、２本以上の複数本設けても構わない。
【００７３】
この出願は、２００９年１１月１６日に出願された日本出願特願２００９−２６０８８１を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明は、光走査装置に適用することができる。この光走査装置によれば、簡易な構成により共振周波数を高精度に調整でき、安定した動作を維持することができる。
【符号の説明】
【００７５】
５１，１５１，２５１，３５１，４５１  水平走査素子（光走査装置）  
５７   振動ミラー  
６２，４６２  梁部（第１の梁部、第２の梁部）  
６３，３６３ａ，３６３ｂ    駆動部（第１の駆動部、第２の駆動部）  
６４，１６４ａ，１６４ｂ，１６４ｃ 調整部（第１の調整部、第２の調整部）  
７２   圧電素子  
８０，１８０ａ，１８０ｂ，１８０ｃ 圧電素子  
９１   静電容量検出回路（共振周波数検出部）
【図１】
2011058884.tif 000003
【図２】
2011058884.tif 000004
【図３】
2011058884.tif 000005
【図４Ａ】
2011058884.tif 000006
【図４Ｂ】
2011058884.tif 000007
【図４Ｃ】
2011058884.tif 000008
【図４Ｄ】
2011058884.tif 000009
【図４Ｅ】
2011058884.tif 000010
【図５Ａ】
2011058884.tif 000011
【図５Ｂ】
2011058884.tif 000012
【図５Ｃ】
2011058884.tif 000013
【図５Ｄ】
2011058884.tif 000014
【図５Ｅ】
2011058884.tif 000015
【図６Ａ】
2011058884.tif 000016
【図６Ｂ】
2011058884.tif 000017
【図６Ｃ】
2011058884.tif 000018
【図６Ｄ】
2011058884.tif 000019
【図６Ｅ】
2011058884.tif 000020
【図７Ａ】
2011058884.tif 000021
【図７Ｂ】
2011058884.tif 000022
【図７Ｃ】
2011058884.tif 000023
【図７Ｄ】
2011058884.tif 000024
【図８】
2011058884.tif 000025
【図９】
2011058884.tif 000026
【図１０】
2011058884.tif 000027
【図１１】
2011058884.tif 000028
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月24日(2011.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射した光を反射する振動ミラーと、
前記振動ミラーの一端に連結された第１の梁部と、
前記振動ミラーの他端に連結された第２の梁部と、
前記第１の梁部に連結された第１の駆動部と、
前記第１の駆動部に連結された第１の調整部と、を有し、
前記第１の駆動部は、前記第１の梁部と前記第１の調整部との間に配置され、前記振動ミラーを揺動させ、
前記第１の調整部は、前記第１の梁部を弾性変形させることで、前記第１の梁部の弾性係数を調整する光走査装置。
【請求項２】
前記第１の駆動部が、圧電素子を含む請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１の調整部が、圧電素子を含む請求項１または請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記第１の梁部は、前記第１の駆動部に向けて少なくとも２本以上に分岐した構造を持つ梁支持部を備える請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記第１の駆動部は、前記第１の梁部に対して対称位置の少なくとも２箇所以上に形成されている請求項１ないし請求項４の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記第１の調整部は、前記第１の梁部に対して対称位置の少なくとも２箇所以上に形成されている請求項１ないし請求項５の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記振動ミラー、前記第１の梁部、前記第１の駆動部、及び前記第１の調整部が、一体成形されている請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記振動ミラーの共振周波数を検出する共振周波数検出部をさらに備え、共振周波数が一定となるよう前記第１の調整部を制御する請求項１ないし請求項７の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記第２の梁部に連結され、前記振動ミラーを揺動させる第２の駆動部をさらに有する請求項１ないし請求項８の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記第２の駆動部に連結され、前記第２の梁部を弾性変形させ、前記第２の梁部の弾性係数を調整する第２の調整部をさらに有する請求項９に記載の光走査装置。
【請求項１１】
前記第２の駆動部が、圧電素子を含む請求項１０に記載の光走査装置。
【請求項１２】
前記第２の調整部が、圧電素子を含む請求項１０または請求項１１記載の光走査装置。
【請求項１３】
前記第２の梁部は、第２の駆動部に向けて少なくとも２本以上に分岐した構造を持つ梁支持部を備える請求項１０ないし請求項１２の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１４】
前記第２の駆動部は、前記第２の梁部に対して対称位置の少なくとも２箇所以上に形成されている請求項１０ないし請求項１３の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１５】
前記第２の調整部は、前記第２の梁部に対して対称位置の少なくとも２箇所以上に形成されている請求項１０ないし請求項１４の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１６】
前記振動ミラー、前記第２の梁部、前記第２の駆動部、及び前記第２の調整部が、一体成形されている請求項１０ないし請求項１５の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１７】
前記振動ミラーの共振周波数を検出する共振周波数検出部をさらに備え、共振周波数が一定となるよう前記第２の調整部を制御する請求項１０ないし請求項１６の何れか１項に記載の光走査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記問題を解決するために、本発明の光走査装置は、入射した光を反射する振動ミラーと、前記振動ミラーの一端に連結された第１の梁部と、前記振動ミラーの他端に連結された第２の梁部と、前記第１の梁部に連結された第１の駆動部と、前記第１の駆動部に連結された第１の調整部と、を有し、前記第１の駆動部は、前記第１の梁部と前記第１の調整部との間に配置され、前記振動ミラーを揺動させ、前記第１の調整部は、前記第１の梁部を弾性変形させることで、前記第１の梁部の弾性係数を調整する。
【国際調査報告】
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