(57)【要約】【課題】  ４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法及びその合成中間体の提供。【解決手段】  一般式（１）（式中、Ｒはアルキル基を示す。）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体を、酸存在下で反応させることを特徴とする、一般式（２）（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法、及び、一般式（１）（式中、Ｒはアルキル基を示す。）で表されることを特徴とするシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体。【選択図】なし2011016228.tif 000014
2011016228.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2011016228.tif 000009
（式中、Ｒはアルキル基を示す。）
で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体を、酸存在下で反応させることを特徴とする、一般式（２）
【化２】
2011016228.tif 000010
（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法。
【請求項２】
酸存在下での反応が、イソプテンと二酸化炭素の発生を伴う脱保護、又は加水分解及び脱炭酸である請求項１に記載の４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法。
【請求項３】
一般式（１）
【化３】
2011016228.tif 000011
（式中、Ｒはアルキル基を示す。）
で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体が、シアノ酢酸ｔ−ブチルと、一般式（３）
【化４】
2011016228.tif 000012
（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンを反応させて製造されるものである、請求項１に記載の４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法。
【請求項４】
一般式（１）
【化５】
2011016228.tif 000013
（式中、Ｒはアルキル基を示す。）
で表されることを特徴とするシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンを製造する方法及びその合成中間体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンが、除草剤の合成中間体であることは知られている（特許文献１、２参照）。この４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンを得る方法としては、塩基存在下、シアノ酢酸エステルと４，６−ジ置換−２−メチルスルホニルピリミジンを反応させ、２−シアノ−２−（４，６−ジ置換ピリミジン−２−イル）酢酸エステルとした後、非プロトン性溶媒中、２当量の水及び触媒量の塩化ナトリウム等の無機塩の存在下、１５０℃で加水分解し、次いで脱炭酸反応させる方法が知られている（特許文献１参照）。しかし、この方法は、１５０℃もの高温を要し、収率も５０〜６０％と低いという問題点があった。【０００３】
又、２−クロロメチル−４，６−ジメトキシピリミジンとシアン化ナトリウムを反応させる方法も知られている（特許文献２参照）。しかし、この方法も、収率５８％と低収率であり、工業的実施に適しているとはいい難い。【０００４】
このように、４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法として、２−シアノ−２−（４，６−ジアルコキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチルの、酸存在下での高い反応性を利用する方法は知られていなかった。又、２−シアノ−２−（４，６−ジアルコキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチルは、前記特許文献１、２には具体的に記載されていない新規化合物である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ９５／２５７３０号公報
【特許文献２】特開平２−２８２３７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来の技術の持つ欠点を解決し、工業的実施に好適な４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法、及び、その合成中間体を提供することを目的としてなされた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
即ち、上記のような状況に鑑み、本発明者が４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンを製造する方法について鋭意研究を重ねた結果、意外にも、塩基存在下、シアノ酢酸ｔ−ブチルと４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンを反応させて２−シアノ−２−（４，６−ジアルコキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチルとした後、酸の存在下で、イソプテンと二酸化炭素の発生を伴い脱保護させること、又は加水分解し次いで脱炭酸反応させることにより、上記課題を解決できることを見出し、この知見に基づき本発明を完成するに至ったものである。【０００８】
本発明は、下記〔１〕乃至〔４〕項に記載の発明を提供することにより前記課題を解決した。【０００９】
〔１〕一般式（１）
【化１】
2011016228.tif 000003
（式中、Ｒはアルキル基を示す。）
で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体を、酸存在下で反応させることを特徴とする、一般式（２）
【化２】
2011016228.tif 000004
（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法。【００１０】
〔２〕酸存在下での反応が、イソプテンと二酸化炭素の発生を伴う脱保護、又は加水分解及び脱炭酸である〔１〕に記載の４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法。
〔３〕一般式（１）
【化３】
2011016228.tif 000005
（式中、Ｒはアルキル基を示す。）
で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体が、シアノ酢酸ｔ−ブチルと、一般式（３）
【化４】
2011016228.tif 000006
（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンを反応させて製造されるものである、〔１〕に記載の４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法。【００１１】
〔４〕一般式（１）
【化５】
2011016228.tif 000007
（式中、Ｒはアルキル基を示す。）
で表されることを特徴とするシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの新規な工業的製造方法が提供される。本発明方法によれば、入手容易な原料を用いて、特殊な反応装置を用いることなく、穏やかな条件下で、目的とする４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンを高選択的に効率良く、しかも簡便な操作で製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。【００１４】
本発明は、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体、及び、該誘導体を用いる、一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法である。本発明方法は、前記シアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体におけるｔ−ブチルエステルの、酸への高い反応性に基づくものであり、例えば、エチル基等による他のアルキルエステル誘導体とは区別されるべきものである（比較例１参照）。【００１５】
続いて、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体について説明する。【００１６】
一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体には、下記式
【化６】
2011016228.tif 000008
（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
で表されるように、互変異性体として一般式（１’）で表される２−シアノ−２−（４，６−ジアルコキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチルが存在する。本明細書においては、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体の具体的な名称は、対応する互変異性体である、一般式（１’）で表される２−シアノ−２−（４，６−ジアルコキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチルの構造に準じて呼称及び記載するものとする。【００１７】
尚、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体中のＲは、前記と同じ意味を示し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１乃至６の低級アルキル基、又は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３乃至６の環状低級アルキル基を示している。【００１８】
従って、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体としては、具体的には例えば、２−シアノ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジエトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジｎ−プロポキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジイソプロポキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジｎ−ブトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジｓｅｃ−ブトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジｔ−ブトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジｎ−ペンチルオキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジｎ−ヘキシルオキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジシクロプロポキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジシクロブトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジシクロペンチルオキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル、２−シアノ−２−（４，６−ジシクロヘキシルオキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル等を挙げることができる。【００１９】
続いて、一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの製造方法について説明する。【００２０】
一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンは、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体を酸と反応させて、イソプテンと二酸化炭素の発生を伴う脱保護反応、又は加水分解及び脱炭酸反応に付することにより製造することができる。【００２１】
当反応に用いる酸としては、当反応が可能な酸であればいずれでも構わないが、具体的には例えば、メタンスルホン酸等の脂肪族スルホン酸や、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸等の芳香族スルホン酸を包含するスルホン酸；塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸；ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸；三フッ化ホウ素−テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）錯体、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸；モンモリロナイトＫ−１０等の固体酸等を挙げることができる。当反応に用いる酸としては、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点から、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸や、塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸、或いは、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸の使用が好ましく、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸或いは塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸の使用がより好ましい。これらの酸は単独で、又は任意の割合で２種類以上を用いてもよい。【００２２】
当反応における酸の使用モル比については、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体に対して如何なるモル比でも反応が進行するが、通常一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体の使用モル比の０．０１〜１００．０モル、好ましくは０．１〜２０．０モル、より好ましくは０．２〜１０．０モルの範囲を例示できる。【００２３】
当反応は無溶媒で実施してもよいが、反応を円滑に進行するために溶媒を用いることが好ましい。当反応に用いうる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば良く、例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル、プロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；フェニルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類；ジクロロメタン等の含ハロゲン溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール等のアルコール類；水；ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類等が挙げられる。好ましくはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を用いるのが良く、トルエンを溶媒として用いると特に好ましい。【００２４】
溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。【００２５】
溶媒量としては、反応系の攪拌が充分にできる量であれば良いが、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体１モルに対して、通常０〜１０ｌ、好ましくは０．２〜２ｌの範囲であれば良い。【００２６】
当反応の反応温度は、０℃〜使用する溶媒の還流温度という範囲を例示できるが、好ましくは１０〜１００℃の範囲が良い。【００２７】
当反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜３０時間がよい。【００２８】
続いて、上記本発明方法により製造される、一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンについて説明する。【００２９】
一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの式中の基Ｒは、前記と同じ意味を示す。【００３０】
従って、一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンとしては、具体的には例えば、２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジエトキシピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジｎ−プロポキシピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジイソプロポキシピリミジン、４，６−ジｎ−ブトキシ−２−シアノメチルピリミジン、４，６−ジｓｅｃ−ブトキシ−２−シアノメチルピリミジン、４，６−ジｔ−ブトキシ−２−シアノメチルピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジｎ−ペンチルオキシピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジｎ−ヘキシルオキシピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジシクロプロポキシピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジシクロブトキシピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジシクロペンチルオキシピリミジン、２−シアノメチル−４，６−ジシクロヘキシルオキシピリミジン等を挙げることができる。【００３１】
続いて本発明方法において原料となる、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体の製造方法について説明する。【００３２】
一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体は、シアノ酢酸ｔ−ブチルと、一般式（３）で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンと反応させて製造することができる。尚、シアノ酢酸ｔ−ブチルは公知化合物である。【００３３】
一般式（３）で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンの式中の基Ｒは、前記と同じ意味を示す。【００３４】
従って、一般式（３）で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンとしては、具体的には例えば、４，６−ジメトキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジエトキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジｎ−プロポキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジイソプロポキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジｎ−ブトキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジｓｅｃ−ブトキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジｔ−ブトキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、２−メタンスルホニル−４，６−ジｎ−ペンタノキシピリミジン、４，６−ジｎ−ヘキサノキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジシクロプロポキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジシクロブトキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジシクロペンタノキシ−２−メタンスルホニルピリミジン、４，６−ジシクロヘキサノキシ−２−メタンスルホニルピリミジン等を挙げることができる。【００３５】
当反応における、シアノ酢酸ｔ−ブチルと一般式（３）で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンの使用モル比は、如何なるモル比でも反応が進行するが、シアノ酢酸ｔ−ブチル１モルに対する、一般式（３）で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンの使用モルは、通常０．１〜１０．０モル、好ましくは０．５〜２．０モル、より好ましくは０．８〜１．２モルの範囲を例示することができる。【００３６】
当反応は塩基なしで実施してもよいが、反応をより円滑に進めるためには塩基を用いることが好ましい。当反応に用い得る塩基としては、具体的には例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基や、ピリジン、Ｎ，Ｎ‐ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の三級アミン化合物等を挙げることができる。これらの塩基は単独で、又は任意の割合で用いてもよい。入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点から、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基の使用が好ましく、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムの使用がより好ましい。【００３７】
当反応における、塩基の使用モル比は、シアノ酢酸ｔ−ブチルに対して如何なるモル比でも反応が進行するが、通常シアノ酢酸ｔ−ブチル１モルに対して、０〜１０．０モル、好ましくは０．３３〜３．０モルの範囲を、より好ましくは１．５〜２．５モルの範囲を例示できる。【００３８】
当反応は無溶媒で実施してもよいが、反応を円滑に進行させるために溶媒を用いることが好ましい。当反応に用いうる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば良く、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル、プロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール等のアルコール類；トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素；フェニルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類；ジクロロメタン等の含ハロゲン溶媒；ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類等が挙げられる。好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール等のアルコール類、又は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル、プロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類を用いるのが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル、プロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類を用いるのが更に好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を溶媒として用いると特に好ましい。【００３９】
溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。【００４０】
溶媒量としては、反応系の攪拌が充分にできる量であれば良いが、シアノ酢酸ｔ−ブチル１モルに対して通常０〜１０ｌ、好ましくは０．２〜２ｌの範囲であれば良い。【００４１】
当反応の反応温度は、０℃〜使用する溶媒の還流温度という範囲を例示できるが、好ましくは１０〜１００℃の範囲が良い。【００４２】
当反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜３０時間がよい。【００４３】
尚、一般式（３）で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンは公知の化合物であるか、或いは、例えばマロン酸ジエチルとチオ尿素を反応させた後、メルカプト基のメチル化、ヒドロキシル基のクロロ化、クロロ基のアルコキシ化、次いでメチルスルフィド基を酸化反応させる方法などにより製造することができる。【００４４】
本発明によれば、原料として、シアノ酢酸ｔ−ブチル、及び、一般式（３）で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンから容易に製造できる、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体を用いて、特別な反応装置を用いることなく、穏やかな条件下で、目的とする一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンを高選択的に効率良く、しかも簡便な操作で製造することができる。得られる一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンは、除草剤の合成中間体として有用な化合物である。
【実施例】
【００４５】
次に、実施例を挙げて本発明化合物の製造方法を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。【００４６】
実施例１
Ａ：２−シアノ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチルの製造
マグネットスターラー、還流管を備えた１００ｍｌのナス型フラスコに、炭酸カリ６．０８ｇ（４４ｍｍｏｌ）、２−メタンスルホニル−４，６−ジメトキシピリミジン４．３６ｇ（２０ｍｍｏｌ）、シアノ酢酸ｔ−ブチル３．１１ｇ（２２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌを加え、系を窒素置換した後、６０℃で２時間、７０℃で４時間攪拌した。反応スラリー液を室温まで冷却後、５％塩酸水溶液３０ｍｌに投入し、更に５０ｍｌの水を加え、濃塩酸を系が酸性になるまで滴下し、充分に攪拌した後、ろ過し、３０ｍｌの水で洗浄した。得られた結晶を乾燥し、２−シアノ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチルが５．４ｇの白色結晶として得られた。ＨＰＬＣ純度９９．３％、収率９７％。【００４７】
分解点  １８８℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δ：１３．２４（ｂｒ，１Ｈ），５．３５（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），４．０４（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），１．５３（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣ−ＭＳ（Ｍ＋１）＋＝２８０．１．【００４８】
Ｂ：２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジンの製造
マグネットスターラー、還流管を備えた５０ｍｌのナス型フラスコに、２−シアノ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル２．７９ｇ（１０ｍｍｏｌ）、トルエン１０ｍｌ、次いでメタンスルホン酸０．３８ｇ（４ｍｍｏｌ）を加え、系内を窒素置換した後、１００℃で２時間攪拌した。反応終了後、系を室温まで冷却し、水３０ｍｌ、酢酸エチル３０ｍｌを加え分液し、更に酢酸エチル２０ｍｌで再抽出した。酢酸エチル相を併せ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下酢酸エチルを留去し、２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジンが１．４５ｇの白色結晶として得られた。ＨＰＬＣ純度９５．７％、収率８１％。【００４９】
融点  ７１〜７２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δ：５．９７（ｓ，１Ｈ），３．９６（ｓ，６Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣ−ＭＳ（Ｍ＋１）＋＝１８０．４．【００５０】
実施例２（〔１〕項記載の発明）：２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジンの製造
マグネットスターラー、還流管を備えた１５ｍｌの試験管型反応器に、２−シアノ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）酢酸ｔ−ブチル０．２８ｇ（１ｍｍｏｌ）、トルエン１ｍｌ、３５％塩酸０．５ｇ（５ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で５時間攪拌した。このときの反応液の成分は、トルエンを除いたＨＰＬＣ（ＵＶ：２５４ｎｍ）の面積比で２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジンが８４．０％であった。【００５１】
ＬＣ−ＭＳ（Ｍ＋１）＋＝１８０．４．【００５２】
比較例１：２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジンの製造
マグネットスターラー、還流管を備えた１５ｍｌの試験管型反応器に、２−シアノ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）酢酸エチル０．２５ｇ（１ｍｍｏｌ）、トルエン１ｍｌ、メタンスルホン酸０．０４ｇ（０．４ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で３．５時間攪拌した。このときの反応液の成分は、トルエンを除いたＨＰＬＣ（ＵＶ：２５４ｎｍ）の面積比で２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジンが０．９％であり、原料である２−シアノ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）酢酸エチルは５９．２％残存していた。【００５３】
比較例２：２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジンの製造（特許文献１の製造方法）
２−メタンスルホニル−４，６−ジメトキシピリミジン４３６ｇ（２ｍｏｌ）、シアノ酢酸メチル２１８ｇ（２．２ｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．０ｌに溶解し、８０℃にて炭酸カリ３０４ｇ（２．２ｍｏｌ）を徐々に加えた後、同温度で３時間攪拌した。反応液を氷水中にあけ、濃塩酸でｐＨ＝１にした後、１時間攪拌した。析出した結晶をろ別し、水洗した。得られた含水２−シアノ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）酢酸メチルをジメチルスルホキシド１．５ｌに懸濁させ、１５０℃で３時間攪拌した。室温まで冷却後、反応液を水にあけ、析出した結晶をろ別し、水洗、乾燥した。収率６０％で２−シアノメチル−４，６−ジメトキシピリミジンが得られた。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンの新規な工業的製造法が提供される。本発明方法によれば、原料として、入手容易なシアノ酢酸ｔ−ブチル及び一般式（３）で表される４，６−ジアルコキシ−２−メタンスルホニルピリミジンから、一般式（１）で表されるシアノ酢酸ｔ−ブチル誘導体を経て、特殊な反応装置を用いることなく、穏やかな条件下で、目的とする一般式（２）で表される４，６−ジアルコキシ−２−シアノメチルピリミジンを高選択的に高収率で、しかも簡便な操作で製造できる上、触媒若しくは遷移金属に由来する有害な廃棄物も排出しないので、廃棄物処理が容易で環境にも優しく、工業的な利用価値が高い。
【国際調査報告】
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