(57)【要約】  処理槽の排気手段を大型化しなくても処理ガス成分が処理槽から外部に漏出するのを十分に抑制できる表面処理装置を提供する。  被処理物９を、搬送手段２０によって処理槽３０の主室３１内の処理領域１９を通過するように搬送方向に搬送する。処理槽３０には、主室３１の少なくとも搬出側に副室３３を設ける。これら室を仕切る仕切壁３７及び外壁３６に被処理物９を搬入出可能な常開の開口３７ａ，３６ａを形成する。主室排気手段４０を主室３１に接続し、主室３１の内圧を槽外の圧力より低くする。副室給気手段５２を副室３３に接続して給気し、副室３３の内圧を槽外の圧力より高くする。
2011111626.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を大気圧近傍の処理領域にて表面処理する表面処理装置であって、
（ａ）  前記被処理物を、前記処理領域を通過するように搬送方向に搬送する搬送手段と、
（ｂ）  前記処理領域を含む主室と、前記主室の前記搬送方向の搬入側及び搬出側のうち少なくとも搬出側に設けられて前記主室と仕切壁にて仕切られた副室とを有し、かつ搬入側の外壁及び搬出側の外壁並びに前記仕切壁には、前記被処理物を搬入出可能な常開の開口が形成された処理槽と、
（ｃ）  前記主室に接続され、前記主室内のガスを吸引して前記主室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より低くする排気手段と、
（ｄ）  前記副室に接続され、前記副室内に空気又は不活性ガスを供給して前記副室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より高くする副室給気手段と、
を備えたことを特徴とする表面処理装置。
【請求項２】
前記被処理物が連続シート状であり、
前記搬送手段が、前記被処理物を掛け回す複数のガイドロールを含み、前記ガイドロールのうち第１のガイドロールが前記副室内に収容されていることを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
【請求項３】
前記第１ガイドロールの直径が前記副室を画成する外壁と仕切壁との間の距離より大きく、前記第１ガイドロールの外周部が前記外壁の開口及び前記仕切壁の開口に入り込んでいることを特徴とする請求項２に記載の表面処理装置。
【請求項４】
前記第１ガイドロールの周面の周方向の一側部に前記被処理物が巻き付けられており、前記副室給気手段が、前記副室の前記一側部が面する室部分に開口する給気ポートを含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の表面処理装置。
【請求項５】
前記複数のガイドロールのうち前記第１ガイドロールと隣接する第２のガイドロールが、前記処理槽の前記搬送方向の外側又は前記主室内に配置され、前記第１ガイドロールと前記第２ガイドロールとによって前記被処理物が前記開口を通過する位置が設定されていることを特徴とする請求項２〜４の何れか１項に記載の表面処理装置。
【請求項６】
前記搬送手段が、前記処理槽より前記搬出側の外側に配置されて前記被処理物を巻き取る巻取ロールを更に含み、前記第２ガイドロールが、前記搬出側の外壁と前記巻取ロールとの間に配置されていることを特徴とする請求項５に記載の表面処理装置。
【請求項７】
前記主室の内圧が、前記処理槽の外部の圧力より１０Ｐａ〜５０Ｐａ低く、前記副室の内圧が、前記処理槽の外部の圧力より５Ｐａ〜２０Ｐａ高いことを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物を大気圧近傍下において表面処理する装置に関し、特に被処理物を連続的に搬送しながら大気圧プラズマ処理等の表面処理を行なうのに適した表面処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、大気圧プラズマ処理等の表面処理においては、処理ガス成分の漏れ等を防止するため、処理領域を処理槽にて囲んでいる（特許文献１等参照）。この処理槽に排気ブロアや排気ポンプ等の排気源を接続し、処理槽内の処理ガスを含むガスを吸引して排出している。処理槽の端壁には、被処理物を搬入出する開口が設けられている。被処理物が枚葉状であったりバッチ処理する場合等では、上記開口に扉を設け、個々の被処理物を搬入、搬出する度に扉を開閉すれば、処理ガスの漏れを防止できる。しかし、被処理物が連続シート状であったり被処理物を処理ラインに沿って搬送しながら連続処理する場合等では、扉の開閉が困難ないしは不可能である。そこで、特許文献１では、搬入側及び搬出側の壁をそれぞれ二重構造にして小室を設けている。各壁に常開の開口が形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１０２１９８号公報（００５４、図８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上掲特許文献１の搬入側及び搬出側の二重壁によれば、処理槽からの流出ガスが、一旦、上記二重壁内の小室に溜められる。しかし、その後、ガスが拡散して外部に漏れるおそれがある。特に、搬出側においては、被処理物に接するガスが被処理物に引き連れられて外部に漏れやすい。これを防止するためには、排気ブロアや排気ポンプ等の排気源の容量を大きくする必要がある。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、被処理物を例えば連続的に搬送しながら処理槽内において表面処理する装置において、処理槽の排気源を大型化しなくても処理ガス成分が処理槽から外部に漏出するのを十分に抑制できるようにすることを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明は、被処理物を大気圧近傍の処理領域にて表面処理する表面処理装置であって、
（ａ）  前記被処理物を、前記処理領域を通過するように搬送方向に搬送する搬送手段と、
（ｂ）  前記処理領域を含む主室と、前記主室の前記搬送方向の搬入側及び搬出側のうち少なくとも搬出側に設けられて前記主室と仕切壁にて仕切られた副室とを有し、かつ搬入側の外壁及び搬出側の外壁並びに前記仕切壁には、前記被処理物を搬入出可能な常開の開口が形成された処理槽と、
（ｃ）  前記主室に接続され、前記主室内のガスを吸引して前記主室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より低くする排気手段と、
（ｄ）  前記副室に接続され、前記副室内に空気又は不活性ガスを供給して前記副室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より高くする副室給気手段と、
を備えたことを特徴とする。【０００６】
副室給気手段から副室に供給された空気又は不活性ガスが、上記圧力差によって仕切壁の開口から主室内に流入する。この流れによって、主室内の処理ガス成分を含むガスが外部に漏れるのを確実に防止できる。特に、主室内の搬出側の部分においては、被処理物に接するガスが、被処理物に引き連れられて搬出側の副室ひいては槽外へ向けて移動する。これに対し、搬出側の副室からのガスが主室に流入する。この搬出側副室からのガス流入方向は、上記被処理物の移動方向ひいては被処理物上のガスの流れ方向とは大略逆方向である。この逆方向の流入ガスによって、被処理物上のガスを押し戻すことができる。これによって、処理ガス成分を含むガスが被処理物と一緒に外部に漏れるのを確実に防止できる。主室の内圧は大気圧より少し低くすればよく、主室排気手段の排気源の排気容量を大きくする必要がなく、排気源を小型化できる。
また、副室給気手段から副室に供給された空気又は不活性ガスの一部は、外壁の開口から外部に流出する。この流れによって、外部の雰囲気ガスが処理槽内に入り込むのを防止することができる。【０００７】
前記被処理物が連続シート状である場合には、前記搬送手段が、前記被処理物を掛け回す複数のガイドロールを含むことが好ましい。例えば、搬入側の槽外に繰出ロールが設けられ、搬出側の槽外に巻取ロールが設けられ、前記繰出ロール及び前記巻取ロールの間に前記複数のガイドロールが配列される。これら複数のガイドロールの一部又は全部が、処理槽の内部に配置される。前記連続シート状の被処理物は、繰出ロールから繰り出され、前記ガイドロールの列に案内されて処理槽の処理領域を含む主室及び副室を通り、巻取ロールに巻き取られる。【０００８】
前記ガイドロールのうち第１のガイドロールが前記副室内に収容されていることが好ましい。前記第１ガイドロールに連続シート状の被処理物を掛け回すことによって、副室内における連続シート状被処理物を位置決めしてばたつきを防止できる。したがって、外壁及び仕切壁の各開口の開口度を、連続シート状被処理物のばたつきを殆ど考慮することなく小さく設定できる。ひいては、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。【０００９】
前記第１ガイドロールの直径が前記副室を画成する外壁と仕切壁との間の距離より大きく、前記第１ガイドロールの外周部が前記外壁の開口及び前記仕切壁の開口に入り込んでいることが好ましい。
これにより、前記第１ガイドロールによって前記開口の大部分を塞ぐようにできる。しかも、前記第１ガイドロールの周面上における前記連続シート状の被処理物の進入接点及び送出接点が、ちょうど前記開口の内部又は前記開口の近傍に位置するようにできる。そうすると、前記連続シート状の被処理物における前記副室内に配置される部分のほぼ全体が前記第１ガイドロールに掛け回される。したがって、前記副室内での前記連続シート状の被処理物のばたつきを確実に防止できる。よって、前記開口の開口度（すなわち、前記開口の縁部と前記第１ガイドロールの周面との間に形成される隙間の大きさ）を十分に小さくでき、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。副室内には第１ガイドロールを１つだけ設ければよく、部品点数を減らすことができる。【００１０】
前記第１ガイドロールの周面の周方向の一側部に前記被処理物が巻き付けられており、前記副室給気手段が、前記副室の前記一側部が面する室部分に開口する給気ポートを含むことが好ましい。これによって、前記室部分を確実に高圧にできる。したがって、主室内の処理ガス成分を含むガスが被処理物に引き連れられて副室に入り込んだり、外部の雰囲気ガスが副室内に入り込んだりするのを確実に低減できる。ひいては、処理ガス成分を含むガスが外部に流出したり、外部の雰囲気ガスが主室内に流入したりするのを一層確実に防止できる。【００１１】
前記複数のガイドロールのうち前記第１ガイドロールと隣接する第２のガイドロールが、前記処理槽の前記搬送方向の外側又は前記主室内に配置され、前記第１ガイドロールと前記第２ガイドロールとによって前記被処理物が前記開口を通過する位置が設定されていることが好ましい。
これにより、前記開口の開口度を十分に小さくでき、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。前記第２ガイドロールは、前記繰出ロールと搬入側の副室内のガイドロールとの間、又は搬出側の副室内のガイドロールと前記巻取ロールとの間に介在される。繰出ロール又は巻取ロール上の被処理物の巻き付け径が繰り出し及び巻き取りの進行に伴って変化しても、上記位置が変化することはない。したがって、外壁の開口の開口度を十分に小さく設定できる。ひいては、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。特に、前記第１ガイドロールを搬出側の副室に設け、前記第２ガイドロールを前記搬出側の外壁と前記巻取ロールとの間に配置することによって、前記巻取ロール上の被処理物の巻き付け径が巻き取りの進行に伴って増大しても、被処理物が第１ガイドロールから第２ガイドロールへ送出される角度が変化するのを回避でき、かつ被処理物が前記搬出側の外壁の開口を通過する位置が変化するのを回避できる。したがって、前記搬出側の外壁の開口の縁と被処理物との間に形成される隙間の大きさを一定に維持できる。よって、前記搬出側の外壁の開口の開口度を十分に小さく設定できる。この結果、主室からのガスが前記搬出側の外壁の開口から外部へ流出したり、外部の雰囲気ガスが前記搬出側の外壁の開口から処理槽内に流入したりするのを確実に防止できる。【００１２】
前記主室の内圧は、好ましくは、前記処理槽の外部の圧力より１０Ｐａ〜５０Ｐａ低い。よって、主室排気源の排気容量を小さくできる。
前記副室の内圧は、好ましくは、前記処理槽の外部の圧力より５Ｐａ〜２０Ｐａ高い。これにより、処理ガス成分の漏れを確実に防止できる。【００１３】
ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、処理ガス成分が処理槽から外部に漏出するのを十分に抑制できる。排気源を大型化する必要はない。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る表面処理装置の概略構成を示す解説正面図である。
【図２】上記表面処理装置の処理槽の搬入側の部分及び搬出側の部分を、被処理フィルムを省略して示す、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う平面断面図である。
【図３】上記処理槽の搬出側の部分を拡大して示す正面断面図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ線に沿う、上記処理槽の搬出側の部分の側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図１は、本発明の一実施形態を示したものである。この実施形態の被処理物９は、連続シート状のフィルムにて構成されている。被処理フィルムは、例えば偏光板等の光学装置用の光学樹脂フィルムである。ここでは、被処理フィルム９として、偏光板の保護フィルムとなる光学樹脂フィルムが適用されている。被処理フィルム９の主成分としては、例えばトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、シクロオレフィン重合体（ＣＯＰ）、シクロオレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリイミド（ＰＩ）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。フィルムの厚さは、例えば１００μｍ程度である。
【００１７】
本実施形態の表面処理装置１は、被処理フィルム９に対し、偏光フィルムとの接着工程における接着性を向上させるための表面処理を施す。処理ガスとして重合性モノマーとキャリアガスの混合ガス等が用いられている。重合性モノマーとしては、例えばアクリル酸（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＨ）が用いられている。アクリル酸は、酢酸様の臭気を有し、爆発性等をも有しているため、適切な管理を要する。重合性モノマーとしては、アクリル酸に限定されるものではなく、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸、２−メタクリロイルプロピオン酸、メタクリル酸エチレングリコール、アリルアルコール、メタクリル酸ヒドロキシエチル、酢酸ビニル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸２−エチル、アクリルアルデヒド、クロトンアルデヒド等であってもよい。キャリアガスとしては不活性ガスが用いられている。不活性ガスとして窒素（Ｎ２）が挙げられるが、これに限定されず、Ａｒ、Ｈｅ等の希ガスであってもよい。
【００１８】
表面処理装置１は、処理部１０と、搬送手段２０と、処理槽３０を備えている。
処理部１０は、大気圧近傍プラズマにて被処理物９を表面処理する大気圧プラズマ処理部にて構成されている。大気圧プラズマ処理部１０は、少なくとも２つの電極１１を有している。これら電極１１は、円筒形状（ロール状）になっている。２つのロール電極１１が、軸線を図１の紙面と直交する水平方向に向けて平行に配置されている。ロール電極１１，１１どうし間の最も狭くなった箇所及びその近傍の空間が処理領域１９になっている。図示は省略するが、２つのロール電極１１の一方は電源に接続されている。他方のロール電極１１は、電気的に接地されている。電源からの電力供給によって、ロール電極１１，１１間に大気圧近傍の圧力下でプラズマ放電が生成される。処理領域１９の上方及び下方にノズル１２がそれぞれ配置されている。各ノズル１２の吹出し口が処理領域１９に臨んでいる。図示しない処理ガス源からの処理ガスがノズル１２に供給され、ノズル１２から処理領域１９へ吹き出される。これにより、処理ガスが処理領域１９内でプラズマ化（励起、活性化、ラジカル化、イオン化等を含む）されて被処理フィルム９の表面処理がなされる。具体的には、処理ガス中のアクリル酸（重合性モノマー）が被処理フィルム９上で重合反応を起こし、被処理フィルム９の表面に接着性促進層が形成される。
【００１９】
上下のノズル１２，１２から同時に処理ガスを吹き出してもよく、上下何れか１つのノズル１２からのみ処理ガスを吹出し、他方のノズル１２を処理領域１９の閉塞部材として用いてもよい。
被処理フィルム９の搬送方向の上流側のロール電極１１の周面上で、アクリル酸等の重合性モノマーを含有するガスを被処理フィルム９に吹き付けて付着させ、続いて処理領域１９に窒素等の不活性ガスを供給してプラズマ化し、重合性モノマーの重合反応を起こさせてもよい。
【００２０】
搬送手段２０は、被処理フィルム９を搬送方向（図１において概略右方向）に搬送する。搬送手段２０は、繰出ロール２１と、巻取ロール２２と、ガイドロール２３を備えている。これらロール２１，２２，２３は、共に軸線を図１の紙面と直交する方向に向けた円筒形状になっている。繰出ロール２１は、処理槽３０より搬送方向の上流側すなわち搬入側（図１において左）に配置されている。繰出ロール２１から被処理フィルム９が繰り出される。巻取ロール２２は、処理槽３０より搬送方向の下流側すなわち搬出側（図１において右）に配置されている。処理済みの被処理フィルム９が巻取ロール２２に巻き取られる。繰出ロール２１と巻取ロール２２の間に複数のガイドロール２３（２３１〜２３６）が配列されている。これらガイドロール２３に被処理フィルム９の中間部分が掛け回されている。ガイドロール２３の列の中間にロール電極１１，１１が配置されている。被処理フィルム９がロール電極１１，１１の上側部分に半周程度掛け回されている。２つのロール電極１１の中間の被処理フィルム９が処理領域１９に通されている。各ロール電極１１は、軸線まわりに回転可能になっている。ロール２１，２２及びロール電極１１，１１が互いに同期して回転駆動し、被処理フィルム９を搬送する。ロール電極１１は、搬送手段２０の一要素を構成する。ガイドロール２３（２３１〜２３６）は、被処理フィルム９の搬送に合わせて従動回転する。ガイドロール２３によって、被処理フィルム９の搬送経路が設定され、かつ被処理フィルム９に張力が付与されている。
【００２１】
処理槽３０は、主室３１と、搬入側の副室３２と、搬出側の副室３３を有している。主室３１は、処理槽３０の内容積の大半を占めている。主室３１の内部に処理部１０ひいては処理領域１９が配置されている。
【００２２】
処理槽３０の搬入側の壁は、搬入側外壁３４と搬入側仕切壁３５の二重構造になっている。外壁３４が処理槽３０の搬入側の外部と処理槽３０の内部とを仕切っている。仕切壁３５によって、主室３１と搬入側副室３２が仕切られている。外壁３４と仕切壁３５との間に搬入側副室３２が形成されている。搬入側副室３２は、ロール２３の軸線と同方向（図１の紙面と直交する方向）に延びる筒状空間になっている。搬入側副室３２の内容積は、主室３１の内容積より十分に小さい。搬入側副室３２の内容積は、主室３１の内容積の例えば５００分の１〜２０００分の１である。
【００２３】
処理槽３０の搬出側の壁は、搬出側外壁３６と搬出側仕切壁３７の二重構造になっている。外壁３６が処理槽３０の搬出側の外部と処理槽３０の内部とを仕切っている。仕切壁３７によって、主室３１と搬出側副室３３が仕切られている。外壁３６と仕切壁３７との間に搬出側副室３３が形成されている。搬出側副室３３は、ロール２３の軸線と同方向（図１の紙面と直交する方向）に延びる筒状空間になっている。搬出側副室３３の内容積は、搬入側副室３２の内容積とほぼ同じであり、主室３１の内容積より十分に小さい。搬出側副室３３の内容積は、主室３１の内容積の例えば５００分の１〜２０００分の１である。搬入側の副室３２の内容積と搬出側の副室３３の内容積が互いに異なっていてもよい。
【００２４】
処理槽３０の搬入側部及び搬出側部の構造を更に詳述する。
搬入側の外壁３４に搬入側外開口３４ａが形成されている。開口３４ａを介して搬入側の外部空間と搬入側副室３２が連通している。搬入側仕切壁３５に搬入側内開口３５ａが形成されている。開口３５ａを介して搬入側副室３２と主室３１が連通している。被処理フィルム９が、外部から外開口３４ａを通して搬入側副室３２に搬入され、更に内開口３５ａを通して主室３１に搬入される。搬入開口３４ａ，３５ａは、常開であり、扉が設けられていない。
【００２５】
搬入側副室３２内に搬入側副室内ガイドロール２３２（第１ガイドロール）が収容されている。副室内ガイドロール２３２の直径は、副室３２の水平短手方向（図１の左右方向）の寸法すなわち壁３４，３５間の距離より若干大きい。副室内ガイドロール２３２の左右の周側部が、各搬入開口３４ａ，３５ａに少し入り込んでいる。副室内ガイドロール２３２によって、搬入開口３４ａ，３５ａの大部分が塞がれている。各搬入開口３４ａ，３５ａの上下の縁と副室内ガイドロール２３２の周面との間の隙間（クリアランス）は十分に狭い。各搬入開口３４ａ，３５ａの上縁と副室内ガイドロール２３２の周面との垂直方向の離間距離は、好ましくは０．５ｍｍ〜４ｍｍ程度であり、より好ましくは１ｍｍ程度である。各搬入開口３４ａ，３５ａの下縁と副室内ガイドロール２３２の周面との垂直方向の離間距離は、上記上縁側の離間距離より若干大きく、好ましくは１ｍｍ〜６ｍｍ程度であり、より好ましくは３ｍｍ程度である。副室内ガイドロール２３２によって、搬入側副室３２が、ガイドロール２３２より下側の室部分３２ａと、ガイドロール２３２より上側の室部分３２ｂとに仕切られている。
【００２６】
図２に示すように、副室内ガイドロール２３２の軸線Ｌ２に沿う軸長は、搬入側副室３２の軸線Ｌ２に沿う長さより短く、更には搬入開口３４ａ，３５ａの軸線Ｌ２に沿う長さより少し短い。副室内ガイドロール２３２の軸線Ｌ２方向の端面と、搬入開口３４ａ，３５ａの軸線Ｌ２方向の端縁との間のクリアランスは、好ましくは１ｍｍ〜３ｍｍ程度である。副室内ガイドロール２３２の軸方向の両側の各端面と搬入側副室３２の同側の内端面との間には十分な広さの連通空間３２ｅが形成されている。副室３２の下側の室部分３２ａと上側の室部分３２ｂが連通空間３２ｅを介して連通している。
【００２７】
図１に示すように、被処理フィルム９が、副室内ガイドロール２３２の周面の下側部（周方向の一側部）に部分的に巻き付けられている。被処理フィルム９のガイドロール２３２への巻き付け部分９ａは、被処理フィルム９における搬入側副室３２内に配置された部分のほぼ全体に及んでいる。巻き付け部分９ａは、搬入側副室３２の下側の室部分３２ａに面している。副室内ガイドロール２３２によって被処理フィルム９の搬入側副室３２内における位置ないしは姿勢が決められている。副室内ガイドロール２３２とその前段に隣接する槽外ガイドロール２３１（第２ガイドロール）とによって、被処理フィルム９が槽外から副室内ガイドロール２３２に進入する角度及び副室内ガイドロール２３２の周面に接する位置（進入接点ａ）、並びに被処理フィルム９が外開口３４ａを通過する位置が決められている。上記進入接点ａは、ちょうど外開口３４ａ又はその近傍に位置している。副室内ガイドロール２３２とその後段に隣接する主室内ガイドロール２３３（第２ガイドロール）とによって、被処理フィルム９が副室内ガイドロール２３２の周面から送り出される位置（送出接点ｂ）及び角度、並びに被処理フィルム９が内開口３５ａを通過する位置が決められている。上記送出接点ｂは、ちょうど内開口３５ａの内部又はその近傍に位置している。
【００２８】
上記槽外ガイドロール２３１は、処理槽３０の搬入側の外部に、外開口３４ａに近接して配置されている。槽外ガイドロール２３１は、繰出ロール２１と搬入側の外壁３４との間に介在されている。
上記主室内ガイドロール２３３は、主室３１の内部に、内開口３５ａに近接して配置されている。
【００２９】
同様に、処理槽３０の搬出側の仕切壁３７に搬出側内開口３７ａが形成されている。開口３７ａを介して主室３１と搬出側副室３３が連通している。搬出側外壁３６に搬出側外開口３６ａが形成されている。開口３６ａを介して搬出側副室３３と搬出側の外部空間とが連通している。処理部１０にて処理済みの被処理フィルム９が、主室３１から内開口３７ａを通して搬出側副室３３に出され、更に外開口３６ａを通して外部に搬出される。搬出開口３６ａ，３７ａは、常開であり、扉が設けられていない。
【００３０】
図３及び図４に示すように、搬出側副室３３内に搬出側副室内ガイドロール２３５（第１ガイドロール）が収容されている。副室内ガイドロール２３５の直径は、副室３３の水平短手方向（図１の左右方向）の寸法すなわち壁３６，３７間の距離より若干大きい。副室内ガイドロール２３５の左右の周側部が、各搬出開口３６ａ，３７ａに少し入り込んでいる。副室内ガイドロール２３５によって、搬出開口３６ａ，３７ａの大部分が塞がれている。各搬出開口３６ａ，３７ａの上下の縁と副室内ガイドロール２３５の周面との間の隙間（クリアランス）は十分に狭い。各搬出開口３６ａ，３７ａの上縁と副室内ガイドロール２３５の周面との垂直方向の離間距離は、好ましくは０．５ｍｍ〜４ｍｍ程度であり、より好ましくは１ｍｍ程度である。各搬出開口３６ａ，３７ａの下縁と副室内ガイドロール２３５の周面との垂直方向の離間距離は、上記上縁側の離間距離より若干大きく、好ましくは１ｍｍ〜６ｍｍ程度であり、より好ましくは３ｍｍ程度である。副室内ガイドロール２３５によって、搬出側副室３３が、ガイドロール２３５より下側の室部分３３ａと、ガイドロール２３５より上側の室部分３３ｂとに仕切られている。
【００３１】
図２及び図４に示すように、副室内ガイドロール２３５の軸線Ｌ３に沿う軸長は、搬出側副室３３の軸線Ｌ３に沿う長さより短く、更には搬出開口３６ａ，３７ａの軸線Ｌ３に沿う長さより少し短い。副室内ガイドロール２３５の軸線Ｌ３方向の端面と、搬出開口３６ａ，３７ａの軸線Ｌ３方向の端縁との間のクリアランスは、好ましくは１ｍｍ〜３ｍｍ程度である。副室内ガイドロール２３５の軸方向の両側の端面と搬出側副室３３の同側の内端面との間には十分な広さの連通空間３３ｅが形成されている。副室３３の下側の室部分３３ａと上側の室部分３３ｂが連通空間３３ｅを介して連通している。
【００３２】
図１に示すように、被処理フィルム９が、副室内ガイドロール２３５の周面の下側部（周方向の一側部）に部分的に巻き付けられている。被処理フィルム９のガイドロール２３５への巻き付け部分９ｂは、被処理フィルム９における搬出側副室３３内に配置された部分のほぼ全体に及んでいる。巻き付け部分９ｂは、搬出側副室３３の下側の室部分３３ａに面している。副室内ガイドロール２３５によって被処理フィルム９の搬出側副室３３内における位置ないしは姿勢が決められている。副室内ガイドロール２３５とその前段に隣接する主室内ガイドロール２３４（第２ガイドロール）とによって、被処理フィルム９が主室３１から副室内ガイドロール２３５に進入する角度及び副室内ガイドロール２３５の周面に接する位置（進入接点ｃ）、並びに被処理フィルム９が内開口３５ａを通過する位置が決められている。上記進入接点ｃは、ちょうど内開口３５ａ又はその近傍に位置している。副室内ガイドロール２３５とその後段に隣接する槽外ガイドロール２３６（第２ガイドロール）とによって、被処理フィルム９が副室内ガイドロール２３５の周面から送り出される位置（送出接点ｄ）及び角度、並びに被処理フィルム９が外開口３６ａを通過する位置が決められている。上記送出接点ｄは、ちょうど外開口３６ａの内部又はその近傍に位置している。
【００３３】
上記主室内ガイドロール２３４は、主室３１内に配置され、かつ仕切壁３７ひいてはその開口３７ａに近接して配置されている。
上記槽外ガイドロール２３６は、処理槽３０の搬出側の外部に、外開口３６ａに近接して配置されている。槽外ガイドロール２３６は、搬出側の外壁３６と巻取ロール２２との間に介在されている。
【００３４】
処理槽３０の主室３１に主室排気手段４０が接続されている。排気手段４０は、排気ポート４１と、排気源４３を含む。主室３１の底部に排気ポート４１が設けられている。ポート４１から排気路４２が延びている。この排気路４２が排気源４３に連なっている。排気源４３は、ブロアにて構成されているが、排気ポンプにて構成されていてもよい。排気源４３の駆動によって、主室３１内のガスが排気ポート４１から吸い込まれ、排気路４２を経て排出される。
【００３５】
図１に示すように、搬入側副室３２には搬入側副室給気手段５１が接続されている。副室給気手段５１は、複数の給気ポート５１ｐと、給気源５１ｘを含む。図２に示すように、給気ポート５１ｐは、搬入側副室３２の底部に軸線Ｌ２に沿って間隔を置いて設けられている。図１に示すように、各給気ポート５１ｐは、搬入側副室３２の下側の室部分３２ａに開口している。副室内ガイドロール２３２の下側部（被処理フィルム９が巻き付けられた部分）と給気ポート５１ｐが上下に対向している。
【００３６】
給気源５１ｘは、ブロアにて構成されているが、給気ポンプにて構成されていてもよい。給気源５１ｘからの給気路５１ａが複数（図では５つ）に分岐し、各給気ポート５１ｐに連なっている。給気源５１ｘの駆動によって、空気が給気路５１ａを経て、各給気ポート５１ｐから搬入側副室３２内に供給される。
【００３７】
図１に示すように、搬出側副室３３には搬出側副室給気手段５２が接続されている。副室給気手段５２は、複数の給気ポート５２ｐと、給気源５２ｘを含む。図２及び図４に示すように、給気ポート５２ｐは、搬出側副室３３の底部に軸線Ｌ３に沿って間隔を置いて設けられている。図３及び図４に示すように、各給気ポート５２ｐは、搬出側副室３３の下側の室部分３３ａに開口している。副室内ガイドロール２３５の下側部（被処理フィルム９が巻き付けられた部分）と給気ポート５２ｐが上下に対向している。
【００３８】
給気源５２ｘは、ブロアにて構成されているが、給気ポンプにて構成されていてもよい。１つの給気源が、搬入側副室給気源５１ｘ及び搬出側副室給気源５２ｘとして共用されていてもよい。給気源５２ｘからの給気路５２ａが複数（図では５つ）に分岐し、各給気ポート５２ｐに連なっている。給気源５２ｘの駆動によって、空気が給気路５２ａを経て、各給気ポート５２ｐから搬出側副室３３内に供給される。
【００３９】
上記構成の表面処理装置１の動作を、処理槽３０内の圧力制御を中心に説明する。
被処理フィルム９を、繰出ロール２１から連続的に繰り出し、ガイドロール２３及びロール電極１１の列に沿って連続的に搬送し、途中の処理領域１９において表面処理し、巻取ロール２２にて連続的に巻き取る。
上記被処理フィルム９の搬送及び表面処理と併行して、主室排気手段４０によって主室３１内のガスを吸引して排出する。これにより、主室３１の内圧が、大気圧近傍の圧力範囲内において処理槽３０の外部の圧力（大気圧）より低くなる。好ましくは、主室３１の内圧を大気圧より１０Ｐａ〜５０Ｐａ程度低くし、より好ましくは２０Ｐａ程度低くする。
【００４０】
さらに、副室給気手段５１，５２によって、副室３２，３３に空気を供給する。この空気は、給気ポート５１ｐ，５２ｐから、先ず副室３２，３３の下側の室部分３２ａ，３３ａに充填され、更に連通空間３２ｅ，３３ｅを通って、上側の室部分３２ｂ．３３ｂ内に充填される。これにより、副室３２，３３の内圧が、大気圧近傍の圧力範囲内において処理槽３０の外部の圧力（大気圧）より高くなる。好ましくは、副室３２，３３の内圧を大気圧より５Ｐａ〜２０Ｐａ程度高くする。したがって、以下の関係が成立する。
（主室３１の内圧）＜（大気圧）＜（副室３２，３３の内圧）  （式１）
そのため、副室給気手段５１，５２から副室３２，３３に供給された空気が、外開口３４ａ，３６ａから外部に流出するとともに、内開口３５ａ，３７ａから主室３１内に流入する。外開口３４ａ，３６ａから外部に流出する流れによって、外部の雰囲気ガスが処理槽３０内に入り込むのを防止できる。内開口３５ａ，３７ａから主室３１内に流入する流れによって、主室３１内の処理ガス成分を含むガスが外部に漏れるのを防止できる。
【００４１】
更に、給気ポート５１ｐ，５２ｐからの空気は、直接的には下側の室部分３２ａ，３３ａに供給され、そこから上側の室部分３２ｂ，３３ｂに拡散するため、以下の関係が成立する。
（下側の室部分３２ａ，３３ａの内圧）＞（上側の室部分３２ｂ，３３ｂの内圧）      …（式２）
したがって、下側の室部分３２ａ，３３ａ、すなわち被処理フィルム９の巻き付け部分９ａ，９ｂが面する室部分３２ａ，３３ａの内圧を確実に高圧にできる。よって、主室３１内の処理ガス成分を含むガスが、室部分３２ａ，３３ａを経て、外部に流出したり、外部の雰囲気ガスが、室部分３２ａ，３３ａを経て、主室３２内に流入したりするのを一層確実に防止できる。特に、図３に示すように、主室３１の搬出側の部分においては、被処理フィルム９に接するガスｇ１が、被処理フィルム９に引き連れられて搬出側副室３３ひいては処理槽３０の搬出側の外部へ向けて移動する。これに対し、フィルム巻き付け側の室部分３３ａ内の空気が、搬出側副室内ガイドロール２３５と搬出側内開口３７ａの下縁との間を通って主室３１内に流入する。この流入ガスｇ３の流れ方向は、被処理フィルム９の搬送方向ひいては被処理フィルム９上のガスｇ１の流れとは逆方向である。この逆方向の流入ガスｇ３によって、被処理フィルム９上のガスｇ１を被処理フィルム９から離して主室３１の内側へ押し戻すことができる。これによって、ガスｇ１が被処理フィルム９と一緒に槽外に流出するのを確実に防止できる。したがって、処理ガス成分の外部への漏出を確実に防止できる。よって、環境負荷を軽減できる。処理ガスがアクリル酸を含む場合、アクリル酸特有の酢酸様の臭気が外部雰囲気中に漂うのを確実に防止でき、良好な作業環境を確保できる。
主室３１の内圧は大気圧より少し低くすればよく、主室排気源４３の排気容量を大きくする必要がなく、主室排気源４３を小型化できる。
【００４２】
搬出側副室３３内における被処理フィルム９は、搬出側副室内ガイドロール２３５に掛け回されることによって位置決めされている。したがって、被処理フィルム９が搬出側副室３３内でばたつくのを防止できる。しかも、被処理フィルム９の搬出側副室３３内における部分のほぼ全体が副室内ガイドロール２３５に掛け回されているため、搬出側副室３３内におけるばたつきを確実に防止できる。加えて、搬出側主室内ガイドロール２３４及び搬出側副室内ガイドロール２３５によって、被処理フィルム９の搬出側副室内ガイドロール２３５への進入接点ｃ、並びに被処理フィルム９が搬出側仕切壁３７を横切る位置及び角度を確定できる。したがって、搬出側内開口３７ａの下縁と副室内ガイドロール２３５の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。よって、被処理フィルム９上のガスｇ１が開口３７ａを通過しにくくなり、ガスｇ１の槽外への流出を確実に防止できる。副室３３からのガスｇ３の流入の勢いが増すことも、ガスｇ１の槽外への流出防止に寄与する。
【００４３】
搬出側副室内ガイドロール２３５及び搬出側槽外ガイドロール２３６によって、被処理フィルム９の搬出側副室内ガイドロール２３５からの送出接点ｄ、並びに被処理フィルム９が搬出側外壁３６を横切る位置及び角度を確定できる。搬出側副室内ガイドロール２３５と巻取ロール２２との間に槽外ガイドロール２３６を介在させることで、巻取ロール２２上の被処理フィルム９の巻き付け径が巻き取りの進行に伴って変化しても、上記副室内ガイドロール２３５の周面上の送出接点ｄ並びに被処理フィルム９が外壁３６を横切る位置及び角度が変化することはない。（図３の二点鎖線にて示すように、槽外ガイドロール２３６と巻取ロール２２との間の被処理フィルム９の角度が、巻き取りの進行に伴って変化する。）したがって、搬出側外開口３６ａの下縁と副室内ガイドロール２３５の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。また、各搬出開口３６ａ，３７ａの上縁と副室内ガイドロール２３５の周面との間のクリアランスは、副室内ガイドロール２３５が各搬出開口３６ａ，３７ａの上縁に接しない範囲で可能な限り小さくできる。
この結果、主室３１内の処理ガス成分を含むガスが、搬出側副室３３を経て外部に漏れるのを一層確実に防止できる。また、外部の雰囲気ガスが搬出側副室３３を経て主室３１内に流入するのを確実に防止できる。
【００４４】
搬入側副室３２内における被処理フィルム９は、搬入側副室内ガイドロール２３２に掛け回されることによって位置決めされている。したがって、被処理フィルム９が搬入側副室３２内でばたつくのを防止できる。しかも、被処理フィルム９の搬入側副室３２内における部分のほぼ全体が副室内ガイドロール２３２に掛け回されているため、搬入側副室３２内におけるばたつきを確実に防止できる。加えて、搬入側槽外ガイドロール２３１及び搬入側副室内ガイドロール２３２によって、被処理フィルム９の搬入側副室内ガイドロール２３２への進入接点ａ、並びに被処理フィルム９が搬入側外壁３４を横切る位置及び角度を確定できる。繰出ロール２１と副室内ガイドロール２３２との間に槽外ガイドロール２３１を介在させることで、繰出ロール２１上の被処理フィルム９の巻き付け径が繰り出しの進行に伴って変化しても、上記副室内ガイドロール２３２の周面上の進入接点ａ並びに被処理フィルム９が外壁３４を横切る位置及び角度が変化することはない。したがって、搬入側外開口３４ａの下縁と副室内ガイドロール２３２の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。搬入側副室内ガイドロール２３２及び搬入側主室内ガイドロール２３３によって、被処理フィルム９の搬入側副室内ガイドロール２３２からの送出接点ｂ、並びに被処理フィルム９が搬入側仕切壁３５を横切る位置及び角度を確定できる。したがって、搬入側内開口３５ａの下縁と搬入側副室内ガイドロール２３２の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。また、各搬入開口３４ａ，３５ａの上縁と副室内ガイドロール２３２の周面との間のクリアランスは、副室内ガイドロール２３２が各搬入開口３４ａ，３５ａの上縁に接しない範囲で可能な限り小さくできる。この結果、主室３１内の処理ガス成分を含むガスが搬入側副室３２を経て外部に漏れるのを確実に防止でき、かつ外部の雰囲気ガスが搬入側副室３２を経て主室３１内に流入するのを確実に防止できる。
【００４５】
よって、表面処理装置１を、例えば偏光板の製造ラインなどに簡単に組み込むことができ、容易にインライン化することができる。
【００４６】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変をなすことができる。
例えば、副室給気手段５１，５２から副室３２，３３に供給されるガスは、空気に限られず、窒素等の不活性ガスであってもよい。
処理槽３０には搬入側副室３２及び搬出側副室３３のうち少なくとも搬出側副室３３が設けられていればよい。特に、処理槽３０内の処理ガス成分を含むガスが被処理フィルム９と一緒に外部に漏出するのを防止する観点からは、搬入側副室３２及び搬出側副室３３のうち搬出側副室３３だけを設け、搬入側副室３２を省略してもよい。
なお、槽外のガスが被処理フィルム９と一緒に処理槽３０内に入り込むのを防止する観点からは、搬入側副室３２及び搬出側副室３３のうち搬入副室３２だけを設けることにしてもよい。
【００４７】
副室給気手段５１，５２を副室３２，３３の上側の室部分５１ｂ，５２ｂに接続し、副室給気手段５１，５２からガスを上記上側の室部分５１ｂ，５２ｂに直接的に供給してもよい。副室給気手段５１，５２からガスを、副室３２，３３の上側の室部分５１ｂ，５２ｂと下側の室部分５１ａ，５２ａにそれぞれ直接的に供給してもよい。
副室内ガイドロール２３２，２３５の直径は、副室３２，３３の水平短手方向（図１の左右）の内寸法と等しくてもよく、上記内寸法より小さくてもよい。この場合、副室３２，３３の開口３４ａ，３５ａ，３６ａ，３７ａの上下方向の幅は、１〜１０ｍｍ程度であることが好ましい。
搬出側副室３３内にガイドロール２３５を２つ以上配置してもよい。この場合、１つのガイドロール２３５を内開口３７ａの近傍に配置し、他の１つのガイドロール２３５を外開口３６ａの近傍に配置するのが好ましい。
搬入側副室３２内にガイドロール２３２を２つ以上配置してもよい。この場合、１つのガイドロール２３２を外開口３４ａの近傍に配置し、他の１つのガイドロール２３２を内開口３５ａの近傍に配置するのが好ましい。
副室３３の内部又は仕切壁３７の近くにエアナイフノズルを設け、被処理フィルム９の表面に沿ってエアナイフを吹き付け、被処理フィルム９上のガスｇ１を被処理フィルム９から離し、又は主室３１の内側へ押し戻してもよい。  
処理部１０の電極構造は、一対のロール電極１１に限られず、ロール電極と平板電極の組み合わせでもよく、ロール電極と該ロール電極の周面に沿う凹曲面を有する凹板電極との組み合わせでもよく、平行平板電極でもよい。
【００４８】
処理部１０は、一対の電極間に被処理物を導入してプラズマを直接的に照射する所謂ダイレクト式のプラズマ処理部に限られず、一対の電極間で生成したプラズマガスを吹き出して、電極間空間から離れて配置された被処理物に吹き付ける所謂リモート式のプラズマ処理部であってもよい。
被処理フィルム９は、連続フィルムに限られず、ガラス基板や半導体ウェハであってもよい。  搬送手段２０は、ロール２１，２２，２３の列に限られず、移動ステージでもよく、コロコンベアでもよく、マニピュレータでもよい。
処理内容は、樹脂フィルムの接着性向上のためのプラズマ処理に限られない。更に、処理内容は、プラズマ処理に限られない。本発明は、洗浄、表面改質、エッチング、成膜等の種々の表面処理に適用できる。
処理ガスの成分は、処理内容に応じて適宜選択される。例えば、撥水化処理やシリコン含有膜のエッチング処理においては、処理ガス成分としてＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ６、Ｃ３Ｆ８、ＣＨＦ３、ＣＨ２Ｆ２、ＣＨ３Ｆ、ＳＦ６、ＮＦ３、ＸｅＦ２等のフッ素含有化合物を用いる。親水化処理においては、処理ガス成分としてＯ２、Ｎ２等を用いる。
【実施例１】
【００４９】
実施例を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
図１及び図２と実質的に同じ構造の装置１を用いた。
被処理フィルム９としてＴＡＣフィルムを用いた。フィルム９の幅（図１の紙面と直交する方向の寸法）は、１５４０ｍｍであった。
ガイドロール２３２，２３５の軸長は、１５８６ｍｍであった。ガイドロール２３２，２３５の直径は、φ１００ｍｍであった。
副室３２，３３の上記軸長方向の長さは、１０９５ｍｍであった。副室３２の水平短手方向の寸法は、１２８ｍｍであった。
開口３４ａ，３５ａ，３６ａ，３７ａの下縁と副室内ガイドロール２３２，２３５の周面との間のクリアランスは、垂直方向に３ｍｍであった。
開口３４ａ，３５ａ，３６ａ，３７ａの上縁と副室内ガイドロール２３２，２３５の周面との間のクリアランスは、垂直方向に１ｍｍであった。
開口３４ａ，３５ａ，３６ａ，３７ａの軸線Ｌ２，Ｌ３方向の端縁と副室内ガイドロール２３２，２３５の端面との間のクリアランスは、２ｍｍであった。
主室排気ブロア４３の排気流量を、１０ｍ３／ｍｉｎに設定した。
搬入側副室給気ブロア５１ｘ及び搬出側副室給気ブロア５２ｘの給気流量を、それぞれ０．５ｍ３／ｍｉｎに設定した。
フィルム９の搬送速度は、５ｍ／ｍｉｎ〜４０ｍ／ｍｉｎの範囲で調節した。【００５０】
処理部１０におけるプラズマ条件は以下の通りとした。
供給電力：  １２００Ｗ
印加電圧：Ｖｐｐ＝１７ｋＶ
ロール電極１１，１１間のギャップ：  １ｍｍ
上記ロール電極１１，１１間において空気放電を起こし、オゾンを発生させた。ノズル１２からのガス供給は行なわなかった。【００５１】
主室３１の内圧を差圧センサにて測定したところ、フィルム９の搬送速度が５ｍ／ｍｉｎ〜１５ｍ／ｍｉｎの範囲では、主室３１の内圧を大気圧より２０Ｐａ低い陰圧に維持できた。搬送速度を４０ｍ／ｍｉｎにしても、主室３１の内圧は大気圧より１７Ｐａ低い陰圧を維持できた。したがって、搬送速度を大きくしても、搬入開口３４ａからのガス流入量を抑制でき、主室排気手段の排気流量を増大させる必要がないことが確認された。【００５２】
さらに、各外壁開口３４ａ，３６ａの外側にオゾン検出器（理研計器株式会社製、型番ＧＤ−Ｋ７７Ｄ）を設置してオゾン検出を行なったところ、何れの開口３４ａ，３６ａ側でも搬送速度にかかわらずオゾンは検出されなかった。したがって、主室３１内のガスが開口３４ａ，３６ａから外部に漏れるのを十分に防止できることが確認された。なお、上記オゾン検出器の検出限界オゾン濃度は、０．０２ｐｐｍであった。
【実施例２】
【００５３】
実施例２では、実施例１と同じ装置１を用い、主室排気ブロア４３の排気流量を、２．５ｍ３／ｍｉｎ〜３０ｍ３／ｍｉｎの範囲で調節した。フィルム９の搬送速度は、１５ｍ／ｍｉｎ（一定）とした。それ以外の条件及び検出方法は、実施例１と同じにした。【００５４】
主室排気ブロア４３の排気流量が２．５ｍ３／ｍｉｎ〜５．０ｍ３／ｍｉｎのときは、両開口３４ａ，３６ａ側でオゾンが検出された。排気流量５．０ｍ３／ｍｉｎのときの主室３１の内圧は、大気圧より４．５Ｐａ低い陰圧であった。
主室排気ブロア４３の排気流量が７．５ｍ３／ｍｉｎのときは、オゾンが検出されたり、されなかったりした。
主室排気ブロア４３の排気流量が１０．０ｍ３／ｍｉｎ〜３０．０ｍ３／ｍｉｎのときは、何れの開口３４ａ，３６ａ側でもオゾンは検出されなかった。排気流量１０．０ｍ３／ｍｉｎのときの主室３１の内圧は、大気圧より１６．５Ｐａ低い陰圧であった。排気流量１５．０ｍ３／ｍｉｎのときの主室３１の内圧は、大気圧より３４．５Ｐａ低い陰圧であった。排気流量２０．０ｍ３／ｍｉｎのときの主室３１の内圧は、大気圧より４８Ｐａ低い陰圧であった。
したがって、主室３１の内圧を大気圧より１０Ｐａ程度低くすれば、漏れを防止できることが確認された。主室３１の内圧を大気圧より１５Ｐａ程度以上低くすれば、漏れを十分に防止できることが確認された。よって、主室排気手段の排気容量を大きくする必要はない。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明は、例えば偏光板等の光学装置の製造に適用可能である。
【符号の説明】
【００５６】
１      表面処理装置
９      被処理物
１０    処理部
１１    ロール電極
１２    ノズル
１９    処理領域
２０    搬送手段
２１    繰出ロール
２２    巻取ロール
２３    ガイドロール
２３１  搬入側の槽外ガイドロール（第２ガイドロール）
２３２  搬入側の副室内ガイドロール（第１ガイドロール）
２３３  搬入側の主室内ガイドロール（第２ガイドロール）
２３４  搬出側の主室内ガイドロール（第２ガイドロール）
２３５  搬出側の副室内ガイドロール（第１ガイドロール）
２３６  搬入側の槽外ガイドロール（第２ガイドロール）
３０    処理槽
３１    主室
３２    搬入側の副室
３２ａ  搬入側副室の下側（被処理フィルムの巻付側）の室部分
３２ｂ  搬入側副室の上側（非巻付側）の室部分
３２ｅ  搬入側の連通空間
３３    搬出側の副室
３３ａ  搬出側副室の下側（被処理フィルムの巻付側）の室部分
３３ｂ  搬出側副室の上側（非巻付側）の室部分
３３ｅ  搬入側の連通空間
３４    搬入側の外壁
３４ａ  搬入側外開口（外壁の開口）
３５    搬入側の仕切壁
３５ａ  搬入側の内開口（仕切壁の開口）
３６    搬出側の外壁
３６ａ  搬出側の外開口（外壁の開口）
３７    搬出側の仕切壁
３７ａ  搬出側の内開口（仕切壁の開口）
４０    主室排気手段
４１    排気ポート
４２    排気路
４３    排気源
５１    搬入側の副室給気手段
５２    搬出側の副室給気手段
５１ａ，５２ａ  給気路
５１ｐ，５２ｐ  給気ポート
５１ｘ，５２ｘ  給気源
ａ，ｃ  進入接点
ｂ，ｄ  送出接点
【図１】
2011111626.tif 000003
【図２】
2011111626.tif 000004
【図３】
2011111626.tif 000005
【図４】
2011111626.tif 000006
【国際調査報告】
2011111626.tif 000007
2011111626.tif 000008
2011111626.tif 000009
2011111626.tif 000010