(57)【要約】【課題】  特に、各入力領域の電圧値を従来よりも均一にでき、入力操作性を向上させることができる入力装置を提供することを目的とする。【解決手段】  下部基板２６と上部基板２７とが対向配置され、各基板２６，２７は、基材２９，３１と、各基材２９，３１の内面に設けられた抵抗層３０，３２と、各抵抗層３０，３２の表面に形成された電極層とを有して構成される。前記下部基板２６を構成する一対の下部電極層４０，４１間には、複数のスイッチ入力部２２，２３が設けられており、各スイッチ入力部２２，２３は、抵抗層３０ａの表面に形成された導電層４５，４６により区分けされている。そして前記下部電極層４０，４１間に電圧が印加され、各スイッチ入力部２２，２３の電圧値に基づいて、入力操作した各スイッチ入力部２２，２３が検知される。【選択図】図４
2011021406.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板とが対向配置され、各基板は、基材と、各基材の内面に設けられた抵抗層と、各抵抗層の表面に形成された電極層とを有し、
前記第１基板を構成する一対の第１電極層間には、複数の第１入力領域が設けられており、各第１入力領域は、前記抵抗層の表面に形成された導電層により区分けされており、前記第１電極層間に電圧が印加され、各第１入力領域内の電圧値に基づいて、入力操作した各第１入力領域が検知されることを特徴とする入力装置。
【請求項２】
各第１入力領域は、一対の前記第１電極層の対向方向に間隔を空けて配置されている請求項１記載の入力装置。
【請求項３】
各第１入力領域には少なくとも前記導電層が、一対の前記第１電極層間の電圧降下の方向に延出形成されている請求項１又は２に記載の入力装置。
【請求項４】
各第１入力領域の周囲が前記導電層により囲まれている請求項１ないし３のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項５】
前記導電層は、前記電極層と同じ材質で形成される請求項１ないし４のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項６】
前記抵抗層には、各第１入力領域に形成される第１抵抗層と、前記第１抵抗層と連続し、各第１入力領域間に形成される第２抵抗層が形成されており、前記第２抵抗層が前記第１抵抗層よりも高抵抗で形成されている請求項１ないし５のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項７】
前記抵抗層には、各第１入力領域に形成される第１抵抗層と、前記第１抵抗層と連続し、前記第１電極層と前記第１入力領域との間に形成される第３抵抗層が形成されており、前記第３抵抗層が前記第１抵抗層よりも高抵抗で形成されている請求項１ないし６のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項８】
前記第２抵抗層、あるいは、前記第３抵抗層、又は、前記第２抵抗層及び前記第３抵抗層の幅寸法は、前記第１抵抗層の幅寸法よりも小さい請求項６又は７に記載の入力装置。
【請求項９】
前記第１入力領域とは別に、液晶表示パネルと対向する位置に第２入力領域が設けられ、前記第１電極層は、前記第１入力領域及び前記第２入力領域に対する共通の電極層である請求項１ないし８のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項１０】
前記第２基板を構成する一対の第２電極層は、前記第１電極層の対向方向と直交する方向にて対向し、前記第１電極層とともに入力操作した前記第２領域の座標位置を検知する電極層として設けられており、前記第２電極層の一方が、入力操作した各第１入力領域を検知する際の出力電極として機能する請求項９記載の入力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の入力領域内が夫々、異なる電圧値に設定され、前記電圧値に基づいて入力操作した各入力領域を判別できる入力装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１１は本発明に対する比較例の入力装置２を備える携帯電子機器１の斜視図である。入力装置２は抵抗層式のタッチパネルである。【０００３】
図１１に示すように入力装置２には、筐体３内に配置される液晶表示パネル（図示しない）に対向する位置に液晶表示部４が設けられ、前記液晶表示部４から離れた位置に加飾された複数のスイッチ入力部５，６が設けられる。【０００４】
入力装置２は、下部基板、上部基板及び加飾フィルム等を有して構成される。
下部基板及び上部基板は、夫々、透明基材と、透明基材の内面に形成されたＩＴＯ等の抵抗層と、抵抗層の表面に形成された電極層と、を有して構成される。【０００５】
下部基板と上部基板は高さ方向に対向配置され、下部基板と上部基板の間には空気層が設けられる。【０００６】
下部基板及び上部基板には夫々一対の前記電極層が設けられるが、下部基板に設けられた一対の電極層の対向方向と、上部基板に設けられた一対の電極層の対向方向とは略直交している。【０００７】
図１２は、下部基板８の部分拡大平面図であり、特にスイッチ入力部５，６の付近のみを示した。【０００８】
図１２に示すように透明基材９の表面（内面）９ａには、抵抗層１０が形成されている。抵抗層１０は、複数のスイッチ入力部５，６の各領域を包含する大きさで形成される。【０００９】
図１２に示すように、抵抗層１０の表面には一対の電極層１１，１２が形成される。
一対の電極層１１，１２は抵抗層１０の端部付近上で図示Ｘ方向にて相対向している。【００１０】
図１２に示すように、一対の電極層１１，１２間に位置する抵抗層１０は、レーザトリミングによってスイッチ入力部５の入力領域とスイッチ入力部６の入力領域とに区分けされている。図１２にはレーザトリミングによる切断線１３，１４が図示されている。【００１１】
図１２に示すように、各スイッチ入力部５，６は、一対の電極層１１，１２の対向方向（Ｘ方向）に並設されており、一対の電極層１１，１２間に電圧を印加すると、切断線１３，１４により区分けされた各スイッチ入力部５，６の領域内が異なる電圧領域となる。【００１２】
このため、電圧値に基づいて、入力操作したスイッチ入力部５，６を判別することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開平１０−２１４１４５号公報
【特許文献２】特開平７−８５７４８号公報
【特許文献３】特開平９−２７２３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、図１２に示す比較例の構造では、後述の実験結果にも示すように、各スイッチ入力部５，６の領域内では電圧値が夫々、不均一となった。このため、入力感度が場所により変わりやすい等、入力操作性が低下する問題があった。【００１５】
上記に挙げた各特許文献には、タッチスイッチに関する発明が開示されている。しかしながら、これら特許文献はいずれも、図１２のように、抵抗層１０の表面に設けられた一対の電極層１１，１２間が複数のスイッチ入力部（入力領域）５，６に区分けされ、各スイッチ入力部５，６の領域内が異なる電圧値となるように構成されたものではない。【００１６】
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、各入力領域内の電圧値を従来よりも均一にでき、入力操作性を向上させることができる入力装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明における入力装置は、
第１基板と第２基板とが対向配置され、各基板は、基材と、各基材の内面に設けられた抵抗層と、各抵抗層の表面に形成された電極層とを有し、
前記第１基板を構成する一対の第１電極層間には、複数の第１入力領域が設けられており、各第１入力領域は、前記抵抗層の表面に形成された導電層により区分けされており、前記第１電極層間に電圧が印加され、各第１入力領域内の電圧値に基づいて、入力操作した各第１入力領域が検知されることを特徴とするものである。【００１８】
本発明では、各第１入力領域を、抵抗層の表面に形成された導電層により区分けしており、これにより、第１電極層間に電圧を印加したときに、各第１入力領域内の電圧値を異ならせ、しかも、従来に比べて、各第１入力領域内での電圧値を、夫々均一に近づけることができる。したがって、各第１入力領域を入力操作したときに、入力感度が入力操作場所により変わる等の不具合を抑制でき、従来に比べて入力操作性を向上させることができる。【００１９】
本発明では、各第１入力領域は、一対の前記第１電極層の対向方向に間隔を空けて配置されていることが好ましい。【００２０】
また本発明では、各第１入力領域には少なくとも前記導電層が、一対の前記第１電極層間の電圧降下の方向に延出形成されていることが好ましい。これにより、従来に比べて各第１入力領域内での電圧カーブをより効果的に小さくでき、各第１入力領域内での電圧値を、夫々、一定値となるように調整することが可能である。【００２１】
また本発明では、各第１入力領域の周囲が前記導電層により囲まれていることが好ましい。これにより、より効果的に、各第１入力領域に印加された電圧値を夫々、略均一にできる。【００２２】
また本発明では、前記導電層は、前記電極層と同じ材質で形成されることが、生産性を向上させることができ、好適である。【００２３】
また本発明では、前記抵抗層には、各第１入力領域に形成される第１抵抗層と、前記第１抵抗層と連続し、各第１入力領域間に形成される第２抵抗層が形成されており、前記第２抵抗層が前記第１抵抗層よりも高抵抗で形成されていることが好ましい。これにより、一方の第１入力領域内での電圧値と、他方の第１入力領域での電圧値との間に適度な差を簡単かつ適切に設けることが可能になる。【００２４】
また本発明では、前記抵抗層には、各第１入力領域に形成される第１抵抗層と、前記第１抵抗層と連続し、前記第１電極層と前記第１入力領域との間に形成される第３抵抗層が形成されており、前記第３抵抗層が前記第１抵抗層よりも高抵抗で形成されていることが好ましい。これにより各第１入力領域内での電圧値が所定レベルとなるように適切に調整することが可能になる。【００２５】
上記発明において、前記第２抵抗層、あるいは、前記第３抵抗層、又は、前記第２抵抗層及び前記第３抵抗層の幅寸法を、前記第１抵抗層の幅寸法よりも小さくすることで高抵抗層を簡単且つ適切に形成できる。【００２６】
また本発明では、前記第１入力装置とは別に、液晶表示パネルと対向する位置に第２入力領域が設けられ、前記第１電極層は、前記第１入力領域及び前記第２入力領域に対する共通の電極層であることが好ましい。これにより簡単な電極構造にて、複数の第１入力領域と、第２入力領域とを形成することができる。【００２７】
また本発明では、前記第２基板を構成する一対の第２電極層は、前記第１電極層の対向方向と直交する方向にて対向し、前記第１電極層とともに入力操作した前記第２領域の座標位置を検知する電極層として設けられており、前記第２電極層の一方が、入力操作した各第１入力領域を検知する際の出力電極として機能することが好ましい。これにより、第２入力領域を入力操作した際の座標位置の検知と、入力操作した各第１入力領域の判別とを簡単な検知構造にて実現できる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の入力装置によれば、従来に比べて、各第１入力領域内の電圧値を、夫々均一に近づけることができ、入力操作性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】第１実施形態における入力装置（タッチパネル）が組み込まれた携帯電子機器の斜視図、
【図２】図１に示すＡ−Ａ線に沿って切断し矢印方向から見た携帯電子機器の部分拡大縦断面図、
【図３】本実施形態における下部基板の平面図、
【図４】図３における下部基板の部分拡大平面図、
【図５】本実施形態における上部基板の平面図（下部基板と対向する内面を示す）、
【図６】図４に示す第１実施形態の入力装置のスイッチ入力部における電圧分布を示す模式図と、スイッチ入力部が設けられた下部電極層間のＸ方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果の模式図、
【図７】第２実施形態における入力装置の下部基板の部分拡大平面図、
【図８】第２実施形態における入力装置の下部電極層間のＸ方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果、
【図９】（ａ）は、比較例の入力装置のスイッチ入力部における電圧分布を示す模式図であり、（ｂ）は、スイッチ入力部が設けられた電極層間のＸ方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果、
【図１０】第３実施形態における入力装置の下部基板の部分拡大平面図、
【図１１】比較例における入力装置（タッチパネル）が組み込まれた携帯電子機器の斜視図、
【図１２】比較例における下部基板の部分拡大平面図。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
図１は第１実施形態における入力装置（タッチパネル）が組み込まれた携帯電子機器の斜視図、図２は図１に示すＡ−Ａ線に沿って切断し矢印方向から見た携帯電子機器の部分拡大縦断面図、図３は、本実施形態における下部基板の平面図、図４は、図３における下部基板の部分拡大平面図、図５は、本実施形態における上部基板の平面図（下部基板と対向する内面を示す）、を示す。
【００３１】
図１に示す携帯電話等の携帯電子機器２０には液晶表示部（第２入力領域）２１とスイッチ入力部（第１入力領域）２２，２３とが設けられ、液晶表示部２１及びスイッチ入力部２２，２３の双方が入力操作可能な入力領域となっている。
【００３２】
図２に示すように、携帯電子機器２０は入力装置２４と、液晶表示パネル２５とを有して構成される。
【００３３】
入力装置２４は、下から下部基板（第１基板）２６、上部基板（第２基板）２７及び加飾フィルム２８の順に積層された構成である。
【００３４】
図２に示すように、下部基板２６は、下部基材２９と、下部基材２９の上面（上部基板２７と対向する内面）に形成された下部抵抗層３０と、下部抵抗層３０の表面に形成された下部電極層４０，４１（第１電極層；図３参照）を有して構成される。
【００３５】
また、図２に示すように、下部基板２６と高さ方向にて所定間隔を空けて対向する上部基板２７は、上部基材３１と、上部基材３１の下面（下部基板２６と対向する内面）に形成された上部抵抗層３２と、上部抵抗層３２の表面に形成された一対の上部電極層４２，４３（第２電極層；図５参照）とを有して構成される。
【００３６】
下部基材２９は例えばポリカーボネート樹脂（ＰＣ樹脂）等の透明基材で形成され、厚みが０．５〜１．５ｍｍ程度で形成される。前記下部基材２９は上部基材３１より厚くまた剛性が高いことが好適である。
【００３７】
また上部基材３１は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂等の透明基材であり、厚みが５０μｍ〜３００μｍ程度で形成される。
【００３８】
下部抵抗層３０及び上部抵抗層３２は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料で形成され、スパッタや蒸着等で成膜される。
【００３９】
なお図２では、各基材２９，３１の表面（対向面）は平坦面であるが、干渉縞等の発生を抑制すべく、液晶表示パネル２５と対向する部分の前記基材２９，３１の表面が例えばプリズム形状とされていてもよい。
【００４０】
図２に示す入力装置２４は抵抗式タッチパネルの構造であり、下部基板２６と上部基板２７との間に空気層４４が設けられている。なお下部基板２６と上部基板２７間には前記空気層４４を形成するためのスペーサが設けられるが図２では省略した。
【００４１】
図２に示すように上部基板２７の上面には加飾フィルム（加飾層）２８が貼着されている。加飾フィルム２８は、アクリル樹脂やポリ塩化ビニル系樹脂等の樹脂シートを基材として形成されていることが好ましい。加飾フィルム２８には、複数の窓部２８ａ，２８ｂが設けられており、一方の窓部２８ａが図１に示す各スイッチ入力部２２，２３に形成された文字や記号等の所定形状で形成された透光部であり、他方の窓部２８ｂが図１に示す液晶表示部２１の平面形状で形成された透光部である。
【００４２】
図３に示すように例えば下部基板２６は、Ｘ方向よりもＸ方向に直交するＹ方向に長く延出する略長方形である。図３に示すように、液晶表示部２１が大きな領域を占めており、液晶表示部２１の一方のＹ側領域にスイッチ入力部２２，２３が設けられる。ただし、下部基板２６の形状や、液晶表示部２１の大きさ等は任意に設定される。
【００４３】
また図３に示すように下部抵抗層３０の表面に形成された一対の下部電極層４０，４１は、液晶表示部２１のＸ方向の両側からからスイッチ入力部２２，２３のＸ方向の両側にかけてＹ方向に延出して形成され、下部電極層４０，４１は、液晶表示部２１及びスイッチ入力部２２，２３の共通の電極層として機能している。
【００４４】
図４の拡大図に示すように、下部基材２９の上面に形成された下部抵抗層３０は、例えばスイッチ入力部２２，２３の形成領域に形成された下部抵抗層３０ａと、液晶表示部２１の形成領域に形成された下部抵抗層３０ｂとに分断されている。下部抵抗層３０ａは、複数あるスイッチ入力部２２，２３の形成領域に一体に形成されている。また、下部抵抗層３０ａと下部抵抗層３０ｂとに分断せず一体に下部抵抗層３０を構成してもよい。
【００４５】
図４に示すように、一対の下部電極層４０，４１は、液晶表示部２１よりもＸ方向の外側にはみ出す下部抵抗層３０ｂ上に形成され、さらに前記下部電極層４０，４１は、スイッチ入力部２２，２３よりもＸ方向の両側にはみだす下部抵抗層３０ａ，３０ｂ上に形成される。
【００４６】
図４に示すように、例えば、下部電極層４０，４１は下部抵抗層３０ｂ上から下部抵抗層３０ａ上にかけて屈曲して形成される。前記下部電極層４０，４１の下部抵抗層３０ａ上に位置する先端部４０ａ，４１ａのＸ方向への間隔は、スイッチ入力部２２，２３の両端間の間隔よりも若干広く形成される。またこの実施形態では、前記先端部４０ａ，４１ａのＸ方向への間隔は下部抵抗層３０ｂ上に位置する下部電極層４０，４１間の間隔に比べて狭くなっている。
【００４７】
図４に示すように、一対の下部電極層４０，４１の先端部４０ａ，４１ａ間には２つのスイッチ入力部２２，２３が形成される。各スイッチ入力部２２，２３は、一対の下部電極層４０，４１の対向方向であるＸ方向に所定の間隔を空けて並設されている。
【００４８】
図４に示すように、各スイッチ入力部２２，２３は、下部抵抗層３０ａの表面に形成された導電層４５，４６により区分けされている。
【００４９】
図４に示すように、各スイッチ入力部２２，２３の周囲は全て、導電層４５，４６により囲まれていることが好適である。
【００５０】
図５に示すように、上部基板２７を構成する上部基材３１の下面（下部基板２６と対向する内面）の略全面にＩＴＯ等の上部抵抗層３２が形成され、上部抵抗層３２の表面に一対の上部電極層４２，４３が形成されている。
【００５１】
また上部抵抗層３２は、レーザトリミングによる切断線５３により一部が除去されている。これは、上部電極層４２と上部電極層４３との間の電気的な絶縁性を確保するためである。
【００５２】
図５に示すように一対の上部電極層４２，４３の対向方向はＹ方向であり、下部電極層４０，４１の対向方向（Ｘ方向；図３参照）と直交している。
【００５３】
図５に示すように、上部電極層４２は、液晶表示部２１よりもＸ方向の外側にてＹ方向に延出する配線延出部４２ａと、液晶表示部２１よりもＹ方向の外側にて配線延出部４２ａから屈曲して形成された対向部４２ｂとを有して構成される。前記対向部４２ｂは、他方の上部電極層４３と液晶表示部２１を介してＹ方向にて対向している。
【００５４】
図５に示すように、対向部４２ｂには、液晶表示部２１の外側の位置に、スイッチ入力部２２，２３の周囲を囲むようにして形成された画定部４２ｃが一体的に形成されている。ただし画定部４２ｃの形成は任意である。
【００５５】
また図５に示す実施形態では、液晶表示部２１よりもＸ方向の外側であって上部電極層４２の配線延出部４２ａと対向してダミー電極層４７が形成されている。このダミー電極層４７は、図３に示す下部基板２６と図５の上部基板２７とをスペーサを介して対向させるときに、下部基板２６と上部基板２７とを平行に対向配置しやすくするために設けられたものである。したがってダミー電極層４７の形成は任意である。
【００５６】
また上部抵抗層３２には、上部電極層４２，４３とダミー電極層４７との間の電気的な絶縁性を確保するために、レーザトリミングによる切断線５４が形成されている。
【００５７】
図３及び図５に示す下部基板２６及び上部基板２７が図２に示すように空気層４４を介して対向配置された状態で、各スイッチ入力部２２，２３を押圧すると、押圧された箇所では下部抵抗層３０ａと上部抵抗層３２とが接触し、その出力を上部基板２７の上部電極層４２から取り出すことが出来る。本実施形態では、下部基板２６側にて、各スイッチ入力部２２，２３の領域内が異なる電圧値に設定されているため、一方のスイッチ入力部２２を押圧したときと、他方のスイッチ入力部２３を押圧したときとで異なる出力値を上部電極層４２から得ることができ、前記出力値に基づいて、押圧したスイッチ入力部２２，２３を判別することが出来る。
【００５８】
図６には、図４に示す第１実施形態の一対の下部電極層４０，４１間に電圧を印加したときの、各スイッチ入力部２２，２３の電圧分布の模式図と、下部電極層４０，４１間のＸ方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果の模式図とが示されている。この実験では下部電極層４０をグランド側に、下部電極層４１をＶｄｄ側とした。
【００５９】
図６に示すように、下部電極層４１に近いスイッチ入力部２３の領域内での電圧値（平均値）は、下部電極層４０に近いスイッチ入力部２２の領域内での電圧値（平均値）よりも高くなった。しかも、各スイッチ入力部２２，２３の領域を囲った低抵抗の導電層４５，４６により各領域内を夫々、適切に同電位化でき、各スイッチ入力部２２，２３の領域の電圧値が夫々、略均一になることがわかった。また、図６に示すように、スイッチ入力部２２とスイッチ入力部２３との境付近の領域５６で電圧値が急激に変化した。ここで領域５６は、図４にも示すように導電層４５と導電層４６の間の部分に相当する。また領域５５は、下部電極層４０の下部抵抗層３０ａ上に位置する先端部４０ａと導電層４５との間の部分に相当する。更に、領域５７は、下部電極層４１の下部抵抗層３０ａ上に位置する先端部４１ａと導電層４６の間の部分に相当する。
【００６０】
図７は、第２実施形態における入力装置の下部基板の部分拡大平面図である。なお図４と同じ部分には同じ符号を付した。また、図７では、見やすくするために、各スイッチ入力部２２，２３の間隔や下部電極層４０の先端部４０ａ，４１ｂとの間隔を図４よりも広げて示すこととした。
【００６１】
図７に示す実施形態では、図４と同様に、各スイッチ入力部２２，２３の周囲が低抵抗の導電層４５，４６により囲まれている。
【００６２】
図７に示す実施形態では、例えば、レーザトリミングによる切断線６０により、下部抵抗層３０ａには、各スイッチ入力部２２，２３の領域に形成された第１抵抗層３０ａ１と、各スイッチ入力部２２，２３の間に形成された第２抵抗層３０ａ２と、各スイッチ入力部２２と各下部電極層４０，４１との間に形成された第３抵抗層３０ａ３とに画定されている。
【００６３】
図７に示すように、第１抵抗層３０ａ１は、幅寸法Ｔ１で形成されている。また、第２抵抗層３０ａ２は、幅寸法Ｔ２で形成されている。また、第３抵抗層３０ａ３は、幅寸法Ｔ３で形成される。
【００６４】
そして図７に示すように、第２抵抗層３０ａ２の幅寸法Ｔ２及び第３抵抗層３０ａ３の幅寸法Ｔ３は、第１抵抗層３０ａ１の幅寸法Ｔ１より小さくなっている。よって、第２抵抗層３０ａ２及び第３抵抗層３０ａ３の断面積は、第１抵抗層３０ａ１の断面積よりも小さくなっており、第２抵抗層３０ａ２及び第３抵抗層３０ａ３は、第１抵抗層３０ａ１よりも高抵抗となっている。
【００６５】
図８は、図７に示す入力装置の下部電極層４０，４１間のＸ方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果である。図８には、本実施例の実験結果のみならず、レーザトリミング及び導電層を設けない形態における電圧変化についても点線で示した。
【００６６】
図８に示すように、各スイッチ入力部２２，２３の電圧値を一定値に調整できることがわかった。しかも図８に示すように、各スイッチ入力部２２，２３の間に形成された第２抵抗層３０ａ２による高抵抗の分圧設定により、スイッチ入力部２２における電圧値と、スイッチ入力部２３における電圧値とに適度な差を適切且つ容易に設けることが出来る。
【００６７】
また図８に示すように、一方のスイッチ入力部２２と下部電極層４０との間、及び他方のスイッチ入力部２３と下部電極層４１との間に夫々設けられた第３抵抗層３０ａ３，３０ａ３による高抵抗の分圧設定により、スイッチ入力部２２における電圧レベルと、スイッチ入力部２３における電圧レベルとを、夫々所定レベルに適切かつ容易に調整することが可能である。
【００６８】
図８では、入力電圧が１．８Ｖであり、スイッチ入力部２２での電圧値を、入力電圧のちょうど１／３に相当する０．６Ｖに、及び、スイッチ入力部２３での電圧値を、入力電圧のちょうど２／３に相当する１．２Ｖに、夫々、適切且つ容易に合わせ込むことができる。
【００６９】
本実施形態では、図４に示すように、抵抗層３０ａの上に、各スイッチ入力部２２，２３を囲む導電層４５，４６を設けることで、各スイッチ入力部２２，２３の電圧値を夫々、均一化することが可能であるが、更に、図７に示すように、各スイッチ入力部２２，２３の間、及び、各下部電極層４０，４１と各スイッチ入力部２２，２３との間に夫々、高抵抗層を設けることで、各スイッチ入力部２２，２３の電圧値を夫々、所定レベルの電圧値に適切且つ容易に調整することができる。
【００７０】
本実施形態では、図示しない検出回路側で、０．６Ｖに基づく出力が得られた場合には、スイッチ入力部２２を押圧したことを判別し、１．２Ｖに基づく出力が得られた場合には、スイッチ入力部２３を押圧したことを判別する。本実施形態では、スイッチ入力部２２のどこを押圧しても０．６Ｖに基づく出力を得ることができ、スイッチ入力部２３のどこを押圧しても１．２Ｖに基づく出力を得ることができる。このため誤検出や検出ばらつきを抑制でき、検出精度に優れた入力装置を構成できる。
【００７１】
なお、各スイッチ入力部２２，２３に要求される電圧レベル等によっては、幅細にされた高抵抗からなる第２抵抗層３０ａ２や第３抵抗層３０ａ３を設けない形態もあり得る。
【００７２】
また、第２抵抗層３０ａ２及び第３抵抗層３０ａ３を幅細に形成して高抵抗化する以外の方法（膜厚を薄くしたり、別の材質からなる高抵抗層を設ける等）も除外しないが、幅細にすることが簡単且つ適切に高抵抗化できて好適である。
【００７３】
上記下本実施形態に対し、図９は、図１２に示す比較例の構造でのシミュレーション実験結果である。図９（ａ）は、比較例の入力装置のスイッチ入力部５，６における電圧分布を示す模式図であり、（ｂ）は、一対の電極層１１、１２間におけるＸ方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果である。
【００７４】
図９に示すように、各スイッチ入力部５，６の領域内での電圧値はＸ方向（下部電極層の対向方向）にむけて徐々に変化しており（電圧カーブが形成される）、夫々の領域にて電圧値が均一でないことがわかった。
【００７５】
以上のように本実施形態では、従来に比べて、各スイッチ入力部２２，２３の領域内での電圧値を夫々、一定値に設定することが出来る。このため、従来に比べて、各スイッチ入力部２２，２３の入力操作場所によって入力感度が変わってしまう等の不具合が生じるのを抑制でき、良好な入力操作性を得ることが出来る。
【００７６】
なお液晶表示部２１に対して入力操作したときも、下部基板２６と上部基板２７とが接触すると、下部電極層及び上部電極層から夫々出力を得て、入力操作したＸ座標及びＹ座標を検出することが出来る。
【００７７】
本実施形態では図４に示すように各スイッチ入力部２２，２３の周囲全体が、導電層４５，４６により囲まれていることが、より効果的に、各スイッチ入力部２２，２３内を均一な電圧値に設定できて好適である。ただし、導電層４５，４６により、各スイッチ入力部２２，２３の周囲の一部を囲むようにして区分けした形態でも従来に比べて各領域内での電圧値の均一性を向上させることができる。例えば、図１０に示すように、各スイッチ入力部２２，２３には少なくとも導電層７０，７１が、一対の下部電極層４０，４１間の電圧降下の方向（Ｘ方向；図８等参照）に延出形成された形態とすることも出来る。図１０に示すように、各導電層７０，７１はＸ方向に沿って延出した細長形状で形成される。このような形態によっても、各スイッチ入力部２２，２３の全域を夫々、導電層７０，７１により低抵抗で同電位化でき、従来に比べて、各スイッチ入力部２２，２３を夫々、一定電圧に調整することが出来る。なお図１０に示す第３実施形態では、図７と同じ部分については同じ符号を付した。
【００７８】
また、前記導電層４５，４６は、下部電極層４０，４１と同じ材質であることが、同じ製造工程で、前記導電層４５，４６と下部電極層４０，４１とを形成でき生産性を向上させることができ好適である。下部電極層４０，４１は、下部抵抗層３０よりも抵抗値が低く例えば銀塗膜でスクリーン印刷形成されたものを提示できる。
【００７９】
また本実施形態では、図１に示すようにスイッチ入力部２２，２３のほかに液晶表示部２１が設けられ、しかも図３，図４に示す下部電極層４０，４１をスイッチ入力部２２，２３及び液晶表示部２１の共通の電極層として使用している。さらに、図５に示す一対の上部電極層４２，４３は、前記下部電極層４０，４１の対向方向と直交する方向にて対向し、前記下部電極層４０，４１とともに入力操作した液晶表示部２１の座標位置を検知する電極層として設けられている。そして本実施形態では、一方の上部電極層４２を、入力操作した各スイッチ入力部２２，２３を検知する際の出力電極として用いている。
【００８０】
したがって簡単な電極構造にて、スイッチ入力部２２，２３と液晶表示部２１の双方を機能させることができ、また入力装置２４の小型化を促進できる。
【００８１】
また、本実施形態では、図２に示すように、各スイッチ入力部２２，２３の位置にある下部基材２９には導光部５０が一体成型されていることが好適である。
【００８２】
図２に示すように導光部５０は下部基材２９の下面２９ａから下方向へ突出する形状で形成されている。
【００８３】
図２に示すように、導光部５０の下面５０ａは微細凹凸の反射面５１を構成している。
図２に示すように、導光部５０の側方にはＬＥＤ等の光源５２が配置される。光源５２からの光は導光部５０の側面から入射され、入射光は、導光部５０の反射面５１にて反射されて上方に導かれ、下部基板２６、上部基板２７及び加飾フィルム２８の窓部２８ａを通過してスイッチ入力部２２，２３が夫々、照光される。
【００８４】
図２に示す液晶表示パネル２５は、反射型、半透過型、及び透過型の別を問わない。また図２に示す液晶表示パネル２５は例えば反射型であり、液晶表示パネル２５と入力装置２４との間にフロントライト（図示しない）が設けられている。
【００８５】
またスイッチ入力部２２，２３の数は限定されない。スイッチ入力部２２，２３の数が２より多くてもよい。
【００８６】
上記では、電極層４０，４１間に位置する各スイッチ入力部２２，２３を導電層４５，４６にて区分けした第１基板を、下部基板２６として説明したが、前記上部基板２７を前記第１基板にしてもよい。ただし、かかる場合、スイッチ入力部２２，２３の検知の際に上部電極層間に電圧を印加して、出力を下部電極層から取り出す構造とすることが必要である。
【符号の説明】
【００８７】
２０  携帯電子機器
２１  液晶表示部
２２、２３  スイッチ入力部
２４  入力装置
２５  液晶表示パネル
２６  下部基板
２７  上部基板
２８  加飾フィルム（加飾層）
２９  下部基材
３０、３０ａ、３０ｂ  下部抵抗層
３１  上部基材
３２  上部抵抗層
４０、４１  下部電極層
４２、４３  上部電極層
４５、４６  導電層
５０  導光部
５１  反射面
５２  光源
【図１】
2011021406.tif 000003
【図２】
2011021406.tif 000004
【図３】
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【図４】
2011021406.tif 000006
【図５】
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【図６】
2011021406.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
2011021406.tif 000012
【図１１】
2011021406.tif 000013
【図１２】
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【手続補正書】
【提出日】平成22年11月16日(2010.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板とが対向配置され、各基板は、基材と、各基材の内面に設けられた抵抗層と、各抵抗層の表面に形成された電極層とを有し、
前記第１基板を構成する一対の第１電極層間には、複数の第１入力領域が設けられており、各第１入力領域は、前記抵抗層の表面に形成された導電層により区分けされており、
各第１入力領域は、一対の前記第１電極層の対向方向に間隔を空けて配置され、前記第１電極層と隣り合う前記第１入力領域は、前記第１電極層との間に間隔を空けて配置されており、
前記第１電極層間に電圧が印加され、各第１入力領域内の電圧値に基づいて、入力操作した各第１入力領域が検知されることを特徴とする入力装置。
【請求項２】
各第１入力領域には少なくとも前記導電層が、一対の前記第１電極層間の電圧降下の方向に延出形成されている請求項１記載の入力装置。
【請求項３】
各第１入力領域の周囲が前記導電層により囲まれている請求項１又は２に記載の入力装置。
【請求項４】
前記導電層は、前記電極層と同じ材質で形成される請求項１ないし３のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項５】
前記抵抗層には、各第１入力領域に形成される第１抵抗層と、前記第１抵抗層と連続し、各第１入力領域間に形成される第２抵抗層が形成されており、前記第２抵抗層が前記第１抵抗層よりも高抵抗で形成されている請求項１ないし４のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項６】
前記抵抗層には、各第１入力領域に形成される第１抵抗層と、前記第１抵抗層と連続し、前記第１電極層と前記第１入力領域との間に形成される第３抵抗層が形成されており、前記第３抵抗層が前記第１抵抗層よりも高抵抗で形成されている請求項１ないし５のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項７】
前記第２抵抗層、あるいは、前記第３抵抗層、又は、前記第２抵抗層及び前記第３抵抗層の幅寸法は、前記第１抵抗層の幅寸法よりも小さい請求項５又は６に記載の入力装置。
【請求項８】
前記第１入力領域とは別に、液晶表示パネルと対向する位置に第２入力領域が設けられ、前記第１電極層は、前記第１入力領域及び前記第２入力領域に対する共通の電極層である請求項１ないし７のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項９】
前記第２基板を構成する一対の第２電極層は、前記第１電極層の対向方向と直交する方向にて対向し、前記第１電極層とともに入力操作した前記第２領域の座標位置を検知する電極層として設けられており、前記第２電極層の一方が、入力操作した各第１入力領域を検知する際の出力電極として機能する請求項８記載の入力装置。
【請求項１０】
（削除）
【国際調査報告】
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