(57)【要約】  本発明は、基材上に、蛍光体層、該蛍光体層上に配置された接着層および該接着層上に配置された保護層を有する放射線像変換パネルであって、該接着層がマット剤粒子を含有し、該マット剤粒子の平均粒径Ｍの値が、該接着層の膜厚ｄの値より大きいことを特徴とし、画質の低下がなく、耐傷性に優れ、防汚性に優れた放射線像変換パネルおよびそれを製造する製造方法が提供できる。
2012020578.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、蛍光体層、該蛍光体層上に配置された接着層および該接着層上に配置された保護層を有する放射線像変換パネルであって、該接着層がマット剤粒子を含有し、該マット剤粒子の平均粒径Ｍの値が、該接着層の膜厚ｄの値より大きいことを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項２】
前記接着層の膜厚ｄと、前記平均粒径Ｍが、３ｄ＜Ｍ＜１５ｄの関係であることを特徴とする請求項１に記載の放射線像変換パネル。
【請求項３】
前記マット剤粒子の平均粒径Ｍが、３μｍ〜５０μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の放射線像変換パネル。
【請求項４】
前記接着層の膜厚ｄが、１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項５】
前記保護層の膜厚が、４〜２０μｍであることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルを具備することを特徴とする放射線画像形成装置。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルを製造する放射線像変換パネルの製造方法であって、
前記マット剤粒子を含有する接着層用塗布液を調製する塗布液調製工程、
前記保護層上に該接着層用塗布液を塗布し乾燥して前記保護層上に前記接着層を形成する接着層形成工程、
前記基材上に前記蛍光体層を形成して蛍光体シートを作製する蛍光体シート作製工程、および該蛍光体シートと前記接着層が付いた前記保護層とを、前記蛍光体層と前記接着層とを対面させて貼合する貼合工程、
を有することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被写体の放射線画像を形成する際に用いられる放射線画像形成装置に用いられる放射線像変換パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、Ｘ線画像のような放射線画像は医療現場において病状の診断に広く用いられている。特に、増感紙−フィルム系による放射線画像は、長い歴史のなかで高感度化と高画質化が図られた結果、高い信頼性と優れたコストパフォーマンスを併せ持った撮像システムとして、広く用いられてきた。【０００３】
しかしながらこれら画像情報はいわゆるアナログ画像情報であって、近年発展を続けているデジタル画像情報のような、自由な画像処理や瞬時の電送ができない。【０００４】
そして、近年ではコンピューテッドラジオグラフィ（ＣＲ）やフラットパネル型の放射線ディテクタ（ＦＰＤ）等に代表されるデジタル方式の放射線画像検出装置が登場している。これらの放射線画像検出装置においては、デジタルの放射線画像が、直接あるいは間接的に得られ、陰極管や液晶パネル等の画像表示装置や、写真感光材料などの記録材料などに、放射線画像を表示することが可能である。【０００５】
これらの放射線画像検出には、蛍光体層を有する画像変換パネルが用いられ。【０００６】
画像変換パネルとしては、蛍光体層から発生する蛍光を直接光電変換素子などで検出して画像を形成する方式に用いられるものや、蛍光体層が放射線のエネルギーの一部を蓄積し、その後で可視光などの励起光を受け蓄積されたエネルギーに応じて発光する輝尽発光を検出して画像を形成する方式に用いられるものがある。【０００７】
他方、蛍光体を含有する蛍光体層は、摩擦による損傷などの機械的変化や、空気中の水分などによる潮解などの化学的変化を受けやすく、これらの変化により放射線画像の画質の劣化を招き易かった。【０００８】
そのため、放射線画像検出装置を用いる方法として、蛍光体層上に保護層を設けた構成で使用される方法が知られている。【０００９】
例えば、画質を低下させることなく高い防傷性を持たせるために、蛍光体層の上に特定の表面粗さを有する保護層を設けた放射線像変換パネルが知られており（特許文献１参照）、その中で特定の表面粗さにするための方法として、保護層用の塗布液中に微粒子を添加する方法、保護層をエンボス加工をする方法などが記載されている。【００１０】
また、保護層と蛍光体層との密着強度を高め画質低下を抑えるために、蛍光体層上に接着層を設け、この上に裏打ちフィルム上に設けられた保護層を積層して裏打ちフィルムを剥がし、さらに保護層を圧着して、保護層を有する放射線像変換パネルを製造する放射線像変換パネルの製造方法が知られている（特許文献２参照）。【００１１】
しかしながら、これらの放射線像変換パネルを用いても、画質が不充分な場合がある、耐傷性が不充分な場合があるなどの問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２０００−３４６９９６号公報
【特許文献２】特開２００８−１４８５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、画質の低下がなく、耐傷性に優れ、汚染除去性に優れた放射線像変換パネルおよびそれを製造する製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記目的は、下記の手段により達成される。【００１５】
１．基材上に、蛍光体層、該蛍光体層上に配置された接着層および該接着層上に配置された保護層を有する放射線像変換パネルであって、該接着層がマット剤粒子を含有し、該マット剤粒子の平均粒径Ｍの値が、該接着層の膜厚ｄの値より大きいことを特徴とする放射線像変換パネル。【００１６】
２．前記接着層の膜厚ｄと、前記平均粒径Ｍが、３ｄ＜Ｍ＜１５ｄの関係であることを特徴とする前記１に記載の放射線像変換パネル。【００１７】
３．前記マット剤粒子の平均粒径Ｍが、３μｍ〜５０μｍであることを特徴とする前記１または２に記載の放射線像変換パネル。【００１８】
４．前記接着層の膜厚ｄが、１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする前記１から３のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。【００１９】
５．前記保護層の膜厚が、４〜２０μｍであることを特徴とする前記１から４のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。【００２０】
６．前記１から５のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルを具備することを特徴とする放射線画像形成装置。【００２１】
７．前記１から５のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルを製造する放射線像変換パネルの製造方法であって、
前記マット剤粒子を含有する接着層用塗布液を調製する塗布液調製工程、
前記保護層上に該接着層用塗布液を塗布し乾燥して前記保護層上に前記接着層を形成する接着層形成工程、
前記基材上に前記蛍光体層を形成して蛍光体シートを作製する蛍光体シート作製工程、および該蛍光体シートと前記接着層が付いた前記保護層とを、前記蛍光体層と前記接着層とを対面させて貼合する貼合工程、
を有することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の上記手段により、画質の低下がなく、耐傷性に優れ、汚染除去性に優れた放射線像変換パネルおよびそれを製造する製造方法が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の放射線像変換パネルの例の構成を示す、概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明は、基材上に、蛍光体層、該蛍光体層上に配置された接着層および該接着層上に配置された保護層を有する放射線像変換パネルであって、該接着層がマット剤粒子を含有し、該マット剤粒子の平均粒径Ｍの値が、該接着層の膜厚ｄの値より大きいことを特徴とする。
【００２５】
本発明では、特に保護層と蛍光体層との間に、その膜厚よりもおおきな粒径を有するマット剤粒子を含有した接着層を設けることで、画質の低下がなく、耐傷性に優れ、防汚性に優れた放射線像変換パネルを得ることができる。
【００２６】
図１は、本発明の放射線像変換パネルの例の構成を模式的に表したものである。図１において、放射線像変換パネル１０は、基材１上に、必要に応じて設けられる下引き層２を有し、下引き層２上に蛍光体層３を有し、蛍光体層３上に接着層４を有し、接着層４上に保護層６を有する。接着層４は、接着層４の膜厚よりも大きな粒径を有するマット剤粒子５を有している。
【００２７】
（基材）
本発明に係る基材は、蛍光体層を担持可能な板状体またはフィルム体である。
【００２８】
基材としては、各種のガラス、高分子材料、金属等を用いることができる。例えば、石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラス、サファイア、チッ化珪素、炭化珪素などのセラミック基板、シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素、ガリウム燐、ガリウム窒素など半導体基板、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、炭素繊維強化樹脂シート等のプラスチックフィルム、アルミニウムシート、鉄シート、銅シート等の金属シート或いは金属酸化物の被覆層を有する金属シートなどを用いることができる。
【００２９】
これらの中でも、耐久性や軽量化といった観点から、ＰＥＴシート、アルミニウムシートや炭素繊維強化樹脂シート、ポリイミドフィルムが好ましく用いられる。
【００３０】
また、基材の厚さは、耐性の向上や軽量化といった観点から、５０μｍ〜５００μｍの範囲にあることが好ましい。
【００３１】
（蛍光体層）
本発明に係る蛍光体層は、蛍光体を含有する。
【００３２】
蛍光体としては、例えば、特開昭４８−８０４８７号に記載されているＢａＳＯ４：Ａｘで表される蛍光体、特開昭４８−８０４８８号記載のＭｇＳＯ４：Ａｘで表される蛍光体、特開昭４８−８０４８９号に記載されているＳｒＳＯ４：Ａｘで表される蛍光体、特開昭５１−２９８８９号に記載されているＮａ２ＳＯ４、ＣａＳＯ４及びＢａＳＯ４等にＭｎ、Ｄｙ及びＴｂの中少なくとも１種を添加した蛍光体、特開昭５２−３０４８７号に記載されているＢｅＯ、ＬｉＦ、ＭｇＳＯ４及びＣａＦ２等の蛍光体、特開昭５３−３９２７７号に記載されているＬｉ２Ｂ４Ｏ７：Ｃｕ，Ａｇ等の蛍光体、特開昭５４−４７８８３号に記載されているＬｉ２Ｏ・（Ｂｅ２Ｏ２）ｘ：Ｃｕ，Ａｇ等の蛍光体、米国特許第３，８５９，５２７号に記載されているＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ及び（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ｍｎｘで表される蛍光体が挙げられる。また、特開昭５５−１２１４２号に記載されているＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ蛍光体、一般式がＢａＯ・ｘＡｌ２Ｏ３：Ｅｕで表されるアルミン酸バリウム蛍光体、及び、一般式がＭ（II）Ｏ・ｘＳｉＯ２：Ａで表されるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。
【００３３】
また、特開昭５５−１２１４３号に記載されている一般式が（Ｂａ１−ｘ−ｙＭｇｘＣａｙ）Ｆｘ：Ｅｕ２＋で表されるアルカリ土類フッ化ハロゲン化物蛍光体、特開昭５５−１２１４４号に記載されている一般式がＬｎＯＸ：ｘＡで表される蛍光体、特開昭５５−１２１４５号に記載されている一般式が（Ｂａ１−ｘＭ（II）ｘ）Ｆｘ：ｙＡで表される蛍光体、特開昭５５−８４３８９号に記載されている一般式がＢａＦＸ：ｘＣｅ，ｙＡで表される蛍光体、特開昭５５−１６００７８号に記載されている一般式がＭ（II）ＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎで表される希土類元素賦活２価金属フルオロハライド蛍光体、一般式ＺｎＳ：Ａ、ＣｄＳ：Ａ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａ，Ｘで表される蛍光体、特開昭５９−３８２７８号に記載されている下記いずれかの一般式
ｘＭ３（ＰＯ４）２・ＮＸ２：ｙＡ
ｘＭ３（ＰＯ４）２：ｙＡ
で表される蛍光体、特開昭５９−１５５４８７号に記載されている下記いずれかの一般式
ｎＲｅＸ３・ｍＡＸ′２：ｘＥｕ
ｎＲｅＸ３・ｍＡＸ′２：ｘＥｕ，ｙＳｍ
で表される蛍光体、特開昭６１−７２０８７号に記載されている下記一般式
Ｍ（Ｉ）Ｘ・ａＭ（II）Ｘ′２・ｂＭ（III）Ｘ″３：ｃＡ
で表されるアルカリハライド蛍光体、及び特開昭６１−２２８４００号に記載されている一般式Ｍ（Ｉ）Ｘ：ｘＢｉで表されるビスマス賦活アルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特に、アルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等の方法で柱状の輝尽性蛍光体層を形成させやすく好ましい。
【００３４】
また、下記一般式（１）で表される輝尽性蛍光体粒子も好ましく用いることができる。
【００３５】
一般式（１）：Ｍ１Ｘ・ａＭ２Ｘ′２・ｂＭ３Ｘ″３：ｅＡ
一般式（１）において、Ｍ１はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属であり、Ｍ２はＢｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｃｕ及びＮｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の２価金属であり、Ｍ３はＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ及びＩｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の３価金属であり、Ｘ、Ｘ′及びＸ″は各々Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群から選ばれる少なくとも１種のハロゲンであり、Ａは、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｉｎ、Ｃｓ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｇｄ、Ｌｕ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｌ、Ｎａ、Ａｇ、Ｃｕ及びＭｇからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属であり、また、ａ、ｂ、ｅはそれぞれ０≦ａ＜０．５、０≦ｂ＜０．５、０＜ｅ≦０．２の範囲の数値を表す。
【００３６】
さらに、前記一般式（１）においては、Ｍ１がＫ、Ｒｂ及びＣｓからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属であること、ＸがＢｒ及びＩから選ばれる少なくとも１種のハロゲンであること、Ｍ２がＢｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａから選ばれる少なくとも１種の２価金属であること、Ｍ３がＹ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ａｌ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｌｕ、Ｇａ及びＩｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の３価金属であること、ｂが０≦ｂ≦１０−２であること、Ａが、Ｅｕ、Ｃｓ、Ｓｍ、Ｔｌ及びＮａからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属であることが好ましい。
【００３７】
蛍光体層は、基材上に上記の蛍光体を含有する塗布液を公知の方法により塗布し乾燥して形成する、あるいは基材上に上記の蛍光体を公知の蒸着法により形成する、方法により形成され、基材と蛍光体層を有する蛍光体シートが作製される。
【００３８】
（下引層）
基材と蛍光体層の間には、下引層を有してもよい。
【００３９】
当該下引層は、ＣＶＤ法（気相化学成長法）によりポリパラキシリレン膜を成膜する方法や高分子結合材（バインダー）による方法があるが、膜付の観点から高分子結合材（バインダー）による方法がより好ましい。
【００４０】
下引層は、溶剤に溶解または分散した高分子結合材（以下「バインダー」ともいう。）を塗布、乾燥して形成することが好ましい。
【００４１】
高分子結合材としては、具体的には、ポリウレタン、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、セルロース誘導体（ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。なかでもポリウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール、ニトロセルロースを使用することが好ましい。
【００４２】
高分子結合材としては、特に蛍光体層との密着の点でポリウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール、ニトロセルロースなどが好ましい。
【００４３】
また、ガラス転移温度（Ｔｇ）が３０〜１００℃のポリマーであることが、蒸着結晶と支持体との膜付の点で好ましい。この観点からは、特にポリエステル樹脂であることが好ましい。
【００４４】
下引層の調製に用いることができる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノールなどの低級アルコール、メチレンクロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、キシレンなどの芳香族化合物、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエステル、エチレングリコールモノメチルエステルなどのエーテルおよびそれらの混合物を挙げることができる。
【００４５】
なお、下引層には、蛍光体（シンチレータ）が発光する光の散乱の防止し、鮮鋭性等を向上させるために顔料や染料を含有させても良い。下引層の乾燥膜厚は１〜５０μｍが好ましく、５〜３０μｍがより好ましい。
【００４６】
（接着層）
本発明に係る接着層は、蛍光体層と後述する保護層とを接着させるための層であり、マット剤粒子を含有し、接着層の膜厚ｄが、該マット剤粒子の平均粒径Ｍの値より小さい。
【００４７】
接着層は、蛍光体層と保護層とを接着し得る樹脂を含有する層であり、この樹脂としては、例えば、ポリウレタン、ポリエステル、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。これらのなかでもポリウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等を使用することが好ましい。樹脂は単独で使っても良いし、Ｔｇの異なる樹脂を混合しても良い。
【００４８】
接着層は、上記の樹脂および下述するマット剤粒子を含有する接着層用塗布液を調製し、この接着層用塗布液を塗布することにより形成できる。接着層用塗布液は上記樹脂を溶解可能な溶媒を含有することが好ましく、溶媒としては、メチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノンなどが挙げられる、またこれらの混合溶媒が好ましく用いられる。
【００４９】
接着層用塗布液は、蛍光体層上に塗布されてもよいが、下述する保護層上に塗布され、保護層上に接着層が形成された接着層付き保護層が作製された後に、接着層が蛍光体層と保護層との間に配置されることが好ましい。
【００５０】
本発明において、接着層の膜厚ｄとは、接着層の断面を電子顕微鏡で観察し、マット剤粒子が存在しない部分の厚さを２０点測定し、各点の値の平均値をいう。
【００５１】
膜厚ｄの値としては、蛍光体層と保護層との密着性などの面から、０．５μｍ〜２０μｍが好ましく、特に１．０μｍ〜５．０μｍが好ましい。
【００５２】
（マット剤粒子）
本発明に係るマット剤粒子は、その粒子径が１００μｍ以下の粒子をいう。粒子径とは投影像における最大の長さをいう。
【００５３】
本発明において、マット剤粒子の平均粒径Ｍの値は、上記接着層の膜厚ｄの値より大きい。
【００５４】
平均粒径Ｍは、１００の粒子について粒子径を測定し、各粒子径の平均値をいう。
【００５５】
マット剤粒子の形状としては特に限定はないが、分散性、表面制御の観点より球状の粒子が好ましく用いられる。
【００５６】
またその平均粒子径は、画像ムラの面から５０μｍ以下が好ましく、さらに３μｍ以上５０μｍ以下が好ましい。
【００５７】
マット剤粒子は、上記接着層の膜厚ｄの値より大きいが、平均粒径Ｍが、３ｄ＜Ｍ＜１５ｄの関係であることが好ましい。
【００５８】
マット剤粒子の材料としては透明もしくは屈折率が低いものが好ましく、シリカ、炭酸カルシウム等の無機粒子、アクリル樹脂等の樹脂粒子が好ましい。
【００５９】
中でもシリカ粒子、アクリル樹脂粒子が好ましい。マット剤粒子は単独で使用してもよいし、混合して使用してもよい。
【００６０】
接着層の形成は、上記のように接着層用塗布液を塗布することにより形成することができるが、接着層用塗布液中のマット剤粒子の含有量は、接着層用塗布液中の上記樹脂に対して、０．０１質量％〜２０質量％が好ましく、特に１．０質量％〜５．０質量％が好ましい。
【００６１】
（保護層）
本発明に係る保護層は、上記のように接着層を介して蛍光体層に配置され、接着層が有するマット剤粒子を覆っている層である。
【００６２】
保護層は、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、塩化ビニル、ポリブチレンテレフタレート、ＡＢＳ、ＡＳ、ＰＯＭ、ポリスチレン、ポリアミド、テフロン（登録商標）、エチレン酸ビコポリマー、フィノール樹脂、メラミン、ポリエステル、エポキシ樹脂、セルロース、またこれらの共重合体などの樹脂の層であることが好ましく、これらの樹脂のフィルムである態様が好ましい態様である。
【００６３】
保護層の厚さの値は、鮮鋭性、耐傷性の面から、１〜５０μｍであることが好ましく、特に４〜２０μｍであることが好ましい。
【００６４】
保護層は、蛍光体層の上に設けられた接着層上に形成してもよいが、上記のように接着層を保護層に形成した後、接着層を介して蛍光体層上に設けられることが好ましい。
【００６５】
（放射線像変換パネルの製造方法）
本発明の放射線像変換パネルの製造方法は、上記マット剤粒子を含有する接着層用塗布液を調製する塗布液調製工程、上記保護層上に接着層用塗布液を塗布し乾燥して保護層上に接着層を形成して接着層付き保護層を作製する接着層形成工程、基材上に蛍光体層を形成して蛍光体シートを作製する蛍光体シート作製工程、および蛍光体シートと接着層付保護層とを、蛍光体層と接着層とを対面させて貼合する貼合工程を有する。
【００６６】
塗布液調製工程、接着層形成工程および蛍光体シート作製工程については、上記のような方法で行われる。
【００６７】
貼合工程では、蛍光体シートと接着層付保護層とを、蛍光体層と接着層とを対面させて貼合する。
【００６８】
貼合する際の、ニップ温度としては、保護層を形成する樹脂のＴｇ以上であることが、保護層の接着の安定し、パネルの変形の面から、Ｔｇ以上１８０℃以下が好ましく、特に１００℃以上１４０℃以下がさらに好ましい。
【００６９】
ニップ圧力としては、貼り合わせムラ、パネルの変形の面から３ｋｇ／ｃｍ以上、５０ｋｇ／ｃｍ以下が好ましく、特にパネルの変形の面から５ｋｇ／ｃｍ以上、２０ｋｇ／ｃｍ以下がさらに好ましい。
【００７０】
（放射線画像形成装置）
本発明の放射線画像形成装置は、本発明の放射線像変換パネルを具備する。
【００７１】
放射線画像形成装置は、光電変換素子をその表面に有する光電変換基板と、上記本発明の放射線像変換パネルとを、光電変換素子と、蛍光体層が対面するように配置された構造を有し、入射する放射線により発光した蛍光体層からの光を電気信号に変換し画像を形成する。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。【００７３】
（蛍光体シートの作製）
下引き層塗布液として、ポリエステル樹脂溶解品（東洋紡バイロン３０ＳＳ：固形分３０質量％）２９０．３１ｇにβ−銅フタロシアニン分散品０．０３ｇ（固形分３５質量％、顔料分３０質量％）及び硬化剤コロネートＨＸ９．６８ｇを混ぜ、プロペラミキサーで分散して用意した。この下引き層塗布液をドクターブレードを用いて基材であるＰＥＴ（東レ製：２５０−Ｅ２０）に塗布、１００℃で５分乾燥し、２０μｍ厚の下引き層を形成した。【００７４】
蛍光体層の形成材料として平均粒径５μｍのユーロピウムにより賦活されているアルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体（ＢａＦＢｒ０．８５Ｉ０．１５：Ｅｕ）４２７ｇ、ポリエステル樹脂（東洋紡バイロン５３０）１８ｇをメチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノンの混合溶媒に添加、プロペラミキサーによって分散し、固形分７７％の塗布液を調製した。【００７５】
この塗布液をドクターブレードを用いて、上記ＰＥＴ基材の下引き層側に塗布した後、１００℃で１５分間乾燥させて、それぞれに２８０μｍの蛍光体層を形成させ蛍光体シートを作製した。【００７６】
（マット剤粒子含有接着層用塗布液の作製）
ポリエステル樹脂溶解品（東洋紡製バイロン２０ＳＳ）を固形分１５質量％となる様にトルエン：メチルエチルケトン＝１：１に調合した溶液を添加し、プロペラミキサーにて３分間攪拌した。上記樹脂溶解品にアクリル粒子（マット剤粒子）：粒子径１５μｍ（綜研化学（株）製ケミスノーＭＸシリーズ）を樹脂比で２質量％添加し、プロペラミキサーにて１０分間攪拌し、溶液中に均一に分散させ、マット剤粒子含有接着層用塗布液を調整した。【００７７】
（接着層の形成）
保護層としてＰＥＴフィルム９μｍ（ユニチカ製「エンブレット」）を使用した。このＰＥＴフィルムの上に上記にて調整した接着層用塗布液をグラビアコーターにてライン速度１０ｍ／ｍｉｎで塗布、８０℃にて３分乾燥させることでＤＲＹ膜厚２μｍの接着層を設けた。【００７８】
（蛍光体シートと保護層との貼合）
上記にて作製した接着剤付保護層を上記蛍光体シートにラミネーターを用いて貼合させた。貼合は、ラミネーターのニップ温度１２０℃、ニップ線圧１３ｋｇ／ｃｍ、にて実施し、ラミネートと同時に上記アクリル粒子によって蛍光体プレート表面（保護層）に凹凸が付与された放射線像変換パネル１（本発明）を作製した。【００７９】
（放射線像変換パネル２〜２１（本発明）、２２（比較例）の作製）
接着層の中に分散させる粒子の粒径と量、接着層の厚さ、保護層の厚さを表１のように変化させ、同様に放射線像変換パネル２〜２１（本発明）および２２（比較例）を作製した。【００８０】
（放射線像変換パネル２３の作製（比較例））
放射線像変換パネル１の作製において、接着層用塗布液の中にマット剤粒子を含有させない他は放射線像変換パネル１の作製と同様にして、放射線像変換パネル２３の作製を行った。【００８１】
（放射線像変換パネル２４の作製（比較例））
（保護層用塗布液の調製）
トルエンにて溶解されたＰＭＭＡ樹脂（ＤＩＣ製  「ＡＣＲＹＤＩＣ  Ａ−１８１」）中にＰＭＭＡ粒子：粒子径１５μｍ（綜研化学（株）製ケミスノーＭＸシリーズ）を樹脂比で１．８７５質量％添加し、プロペラミキサーにて１０分間攪拌し、溶液中に均一に分散させ、マット剤粒子入り保護層用塗布液を調製した。【００８２】
（保護層の塗布）
放射線像変換パネル１における蛍光体層の上に、上記にて作製した保護層用塗布液をワイヤーバーにて塗布、５分間乾燥させることで膜厚約９μｍのマット剤粒子を含有する保護層を有する放射線像変換パネル２４を作製した。【００８３】
（評価）
（画質：鮮鋭性）
各々作製した放射線像変換パネルの鮮鋭性について、変調伝達関数（ＭＴＦ）を求めて評価した。【００８４】
ＭＴＦは放射線画像変換パネル試料にＣＴＦチャートを貼付した後、放射線像変換パネルに８０ｋＶｐのＸ線を１０ｍＲ（被写体までの距離：１．５ｍ）照射した後、パネルをＨｅ−Ｎｅレーザー光（６３３ｎｍ）で操作して励起し、ＣＴＦチャート像を走査読み取りして求めた。放射線像変換パネル２３を基準とし、各放射線像変換パネルの相対結果を下記ランクで評価し画質の評価の指標の一つとした。
○：−１％以上
△：−５％以上、−１％未満
×：−５％未満
結果を表１に示した。【００８５】
（画質：画像ムラ）
放射線像変換パネルに管電圧８０ｋＶｐのＸ線を照射した後、パネルをＨｅ−Ｎｅレーザー光（６３３ｎｍ）で操作して励起し、これを画像再生装置によって画像として再生し出力装置よりプリントアウトし、得られたプリント画像を目視により観察して画像ムラの出現を評価した。画像ムラの程度を下記ランクにより評価し、画質の評価の指標の一つとした。
○全くムラが見えない
△ムラはあるが撮影評価出来る
×ムラが多く撮影評価出来ない
結果を表１に示した。【００８６】
（耐傷性：スクラッチ評価）
ＨＥＩＤＯＮ製トライボギア１８ＬＦＷを使用し、先端形状が０．１ｍｍＲ９０度のサファイア製引掻き針を試料表面に接触させ、荷重を連続的に増加させながら引っ掻き、試料表面（保護層）に傷が発生するときの荷重を測定した。試料表面に傷が発生したときの荷重を測定し、下記のランクによりスクラッチ評価を行い、耐傷性の評価の指標の一つとした。
○：２０ｇ以上
△：１０を超え２０ｇ未満
×：１０ｇ以下
結果を表１に示した。【００８７】
（耐傷性：搬送評価）
線圧０．２ｋｇ／ｃｍにてニップされたＥＰＤＭゴムローラーφ２０ｍｍ間に上記にて作製した試料を１００００回往復搬送させ、試料面（保護層）に発生する傷を目視、放射線撮影画像にて確認した。傷の程度により、下記ランクで搬送評価を行い、耐傷性の評価の指標の一つとした。
○：傷がない、もしくは見えない
△：傷があるが撮影評価出来る
×：傷が多数あり撮影評価出来ない
結果を表１に示した。【００８８】
（汚染除去性：搬送評価）
線圧０．２ｋｇ／ｃｍにてニップされたＥＰＤＭゴムローラーφ２０ｍｍ間に上記にて作製した試料を１００００回往復搬送させ、試料表面（保護層）に発生する汚れを目視、放射線撮影画像にて確認した。試料表面をエタノールにて拭き取り汚れがふき取れるかを下記のランクで評価し、対汚染性を評価した。
○汚れがふき取れる
△汚れが残るが撮影評価出来る
×汚れが残り撮影評価出来ない
結果を表１に示した。【００８９】
【表１】
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【００９０】
表１より、本発明の放射線像変換パネルは、鮮鋭性の劣化が少なく画像ムラが少なく画質に優れ、耐傷性、汚染除去性に優れることが分かる。
【符号の説明】
【００９１】
１  基材
２  下引き層
３  蛍光体層
４  接着層
５  マット剤粒子
６  保護層
１０  放射線像変換パネル
【図１】
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【国際調査報告】
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