(57)【要約】  応力が抑制又は解消された結晶性膜が形成可能なエピタキシャル成長用単結晶基板、結晶性膜付き単結晶基板、結晶性膜、結晶性膜付き単結晶基板の製造方法、結晶性基板の製造方法、及び素子製造方法の提供。    エピタキシャル成長により形成される結晶性膜の成膜に用いられる単結晶基板表面の少なくとも一部の領域に梨地を形成し、次いで、梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜をエピタキシャル成長により形成すると共に、単結晶基板の梨地形成面上には単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜をエピタキシャル成長により形成して、少なくとも単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成する結晶性膜と、単結晶基板とで、結晶性膜付き単結晶基板を形成する。
2011129246.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単結晶基板の表面の少なくとも一部の領域に梨地が形成されていることを特徴とする単結晶基板。
【請求項２】
前記梨地が前記単結晶基板表面に、ストライプ形状、十字形状、格子形状、複数の多角形を配置した形状、同心円状、螺旋形状、及び前記単結晶基板の中心点を通る直線に対して線対称又は点対称な形状、の何れかで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の単結晶基板。
【請求項３】
前記梨地が不連続に前記単結晶基板表面に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の単結晶基板。
【請求項４】
前記梨地が相互に独立した複数の部分に亘って前記単結晶基板表面に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の単結晶基板。
【請求項５】
前記単結晶基板の直径が２インチ以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の単結晶基板。
【請求項６】
前記単結晶基板の直径が２インチ以上であることを特徴とする請求項４に記載の単結晶基板。
【請求項７】
前記梨地の幅が、０μｍ超かつ８０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から３又は５のいずれか１項に記載の単結晶基板。
【請求項８】
前記梨地の幅が、０μｍ超かつ１０μｍ以下であることを特徴とする請求項７に記載の単結晶基板。
【請求項９】
前記単結晶基板表面の全面積に占める前記梨地の形成されている領域の面積が０％超かつ５０％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の単結晶基板。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の単結晶基板の、前記梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜が形成されていると共に、
前記梨地形成面上には前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜が形成され、
更に、少なくとも前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成される結晶性膜と、前記単結晶基板とで形成されていることを特徴とする結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１１】
前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜が、窒化物半導体膜であることを特徴とする請求項１０に記載の結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１２】
前記単結晶基板の材料が、サファイアであることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１３】
前記梨地非形成面に面する前記単結晶性膜表面の他方の表面に、凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１０から１２のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１４】
前記単結晶性膜の側面が、前記単結晶性膜の材料の屈折率と、前記単結晶性膜外部の大気の屈折率とで決定する臨界角以上の角度（但し、前記臨界角は前記単結晶基板表面の法線方向を基準とした角度）で傾斜して形成されていることを特徴とする請求項１３に記載の結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１５】
請求項１０から１２のいずれか１項に記載の前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で形成され、前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の膜厚が３００μｍ以上であることを特徴とする結晶性膜。
【請求項１６】
エピタキシャル成長により形成される結晶性膜の成膜に用いられる単結晶基板の、基板表面の少なくとも一部の領域に梨地を形成し、
次いで、前記梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜をエピタキシャル成長により形成すると共に、
前記単結晶基板の前記梨地形成面上には前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜をエピタキシャル成長により形成して、
少なくとも前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成する前記結晶性膜と、前記単結晶基板とで結晶性膜付き単結晶基板を形成することを特徴とする結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項１７】
前記単結晶基板表面に、ストライプ形状、十字形状、格子形状、複数の多角形を配置した形状、同心円状、螺旋形状、及び前記単結晶基板の中心点を通る直線に対して線対称又は点対称な形状、の何れかで前記梨地を形成することを特徴とする請求項１６に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項１８】
前記梨地を不連続に前記単結晶基板表面に形成することを特徴とする請求項１７に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項１９】
前記梨地を相互に独立した複数の部分に亘って前記単結晶基板表面に形成することを特徴とする請求項１６に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２０】
前記単結晶基板として、直径が２インチ以上の単結晶基板を用いることを特徴とする請求項１６から１８のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２１】
前記単結晶基板として、直径が２インチ以上の単結晶基板を用いることを特徴とする請求項１９に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２２】
前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を、窒化物半導体膜とすることを特徴とする請求項１６から１８、２０のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２３】
前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を、窒化物半導体膜とすることを特徴とする請求項１９又は２１に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２４】
前記単結晶基板の材料を、サファイアとすることを特徴とする請求項１６から１８、２０、２２のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２５】
前記単結晶基板の材料を、サファイアとすることを特徴とする請求項１９、２１、２３のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２６】
前記梨地非形成面に面する前記単結晶性膜表面の他方の表面に、エッチングにより凹凸を形成することを特徴とする請求項１６から１８、２０、２２、２４のいずれか1項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２７】
前記梨地非形成面に面する前記単結晶性膜表面の他方の表面に、エッチングにより凹凸を形成することを特徴とする請求項１９、２１、２３、２５のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２８】
前記エッチングがウエットエッチングであることを特徴とする請求項２６に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２９】
前記エッチングがウエットエッチングであることを特徴とする請求項２７に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３０】
前記エッチングにより、前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の少なくとも一部を除去することで、前記単結晶性膜の側面を露出し、
前記側面を、前記単結晶性膜の材料の屈折率と、前記単結晶性膜外部の大気の屈折率とで決定する臨界角以上の角度（但し、前記臨界角は前記単結晶基板表面の法線方向を基準とした角度）で傾斜して形成することを特徴とする請求項２６又は２８に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３１】
前記エッチングにより、前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の少なくとも一部を除去することで、前記単結晶性膜の側面を露出し、
前記側面を、前記単結晶性膜の材料の屈折率と、前記単結晶性膜外部の大気の屈折率とで決定する臨界角以上の角度（但し、前記臨界角は前記単結晶基板表面の法線方向を基準とした角度）で傾斜して形成することを特徴とする請求項２７又は２９に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３２】
前記梨地を０μｍ超かつ８０μｍ以下の幅で形成することを特徴とする請求項１６から１８、２０、２２、２４、２６、２８、３０のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３３】
前記梨地を０μｍ超かつ１０μｍ以下の幅で形成することを特徴とする請求項３２に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３４】
前記単結晶基板表面の全面積に占める前記梨地の形成されている領域の面積が０％超かつ５０％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１６に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３５】
請求項１６から２５のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により製造された結晶性膜の前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜表面の一部にマスクを形成後、
前記単結晶性膜表面上及び前記マスク表面上に第２の単結晶性膜を形成すると共に、
前記マスク非形成の前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜表面上に、第２の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を形成し、
所定の厚さまで前記第２の単結晶性膜及び前記第２の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を形成後、
以下、前記マスクの形成から所定の厚さでの前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜形成工程を繰り返すことにより、
前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の形成箇所を前記マスクの形成の度に縮小していき、
前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の形成箇所を皆無として、前記単結晶性膜のみから形成される結晶性基板を形成することを特徴とする結晶性基板の製造方法。
【請求項３６】
請求項１６から３１のいずれか１項記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により結晶性膜付き単結晶基板を製造し、
更に、その結晶性膜に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と前記素子部分に略対応するサイズを有する結晶性膜付き単結晶基板とを含む素子を製造することを特徴とする素子製造方法。
【請求項３７】
請求項３５に記載の結晶性基板の製造方法により結晶性基板を製造し、
更に、結晶性基板に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と前記素子部分に略対応するサイズを有する結晶性基板とを含む素子を製造することを特徴とする素子製造方法。
【請求項３８】
請求項３２又は３３に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により結晶性膜付き単結晶基板を製造し、
更に、その結晶性膜に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と前記素子部分に略対応するサイズを有する結晶性膜付き単結晶基板とを含む素子を製造することを特徴とする素子製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、単結晶基板、結晶性膜付き単結晶基板、結晶性膜、結晶性膜付き単結晶基板の製造方法、結晶性基板の製造方法、及び素子製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
窒化ガリウム（ＧａＮ）に代表される窒化物半導体は、バンドギャップが広く、青色系の発光が可能であることから、発光ダイオード（ＬＥＤ）や半導体レーザ（ＬＤ）等に広く用いられている。例えば、ＧａＮを含む青色系ＬＥＤと黄色の発光体とを組み合わせた白色ＬＥＤは、携帯電話等の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のバックライトとして普及している。又、白色ＬＥＤは、低消費電力及び長寿命などの利点を持っているので、蛍光灯や白熱灯に代わる環境性に優れた光源として期待されており、研究及び開発が盛んに行われている。【０００３】
窒化物半導体の結晶性膜は、サファイア基板に代表されるエピタキシャル成長用基板（以下、「成長用基板」）の面上にエピタキシャル成長により成膜形成される。しかしながら、成長用基板と、その成長用基板面上に形成される結晶性膜との間に格子定数差が発生するため、常に応力がかかった状態で結晶性膜が成長用基板面上に形成される。【０００４】
この応力により成長用基板及び結晶性膜に大きな反りが発生する。この反りのため、ＬＥＤ等の各素子製造時にフォトリソグラフィ工程により結晶性膜の面上に電極パターンを形成する際に、成長用基板の中央部と周縁部とで露光時に光の焦点距離のずれが発生してしまう。従って、結晶性膜面上にフォトリソグラフィ工程を均一に行うことが困難であり、成長用基板の直径が２インチ以上という大型基板になるほど、フォトリソグラフィ工程のばらつき（不均一性）が顕著になっている。【０００５】
ばらつきを防止するために、反りが完全に緩和される温度よりも低い温度で成長用基板及び結晶性膜に熱処理を行い、エピタキシャル成長で生じる反りと反対方向の反りを有する成長用基板を作製することが考案されている（例えば、特許文献１を参照）。【０００６】
又、自立可能な厚さを有する結晶性膜を、成長用基板の面上にエピタキシャル成長により成膜形成すると、その結晶性膜に発生する応力に起因して、結晶性膜にクラックが発生するが、そのクラックを抑制する方法として、成長用基板表面にマスク材を格子状に形成し、結晶性膜のエピタキシャル形成領域を、各々独立した小さな領域とする結晶性膜の製造方法が発明されている（例えば、特許文献２を参照）。【０００７】
特許文献２には、クラックと貫通転位を同時に抑制する窒化物半導体膜の製造方法が開示されている。図１４に示すように特許文献２では、窒化物半導体膜がエピタキシャル成長しない酸化シリコンマスク材１００を格子状に形成し、成長用基板１０１表面を各々分離して露出させることで、エピタキシャル成長領域を各々独立した小さな領域とすることが開示されている。ここに主として単結晶から成る反応防止層１０２を形成し、製造工程中に応力と熱による成長用基板１０１と、上層の窒化物半導体膜１０３との間での化学反応が起きないようにしている。【０００８】
この後、２つの異なる温度範囲で、同一又は異なる組成の窒化物半導体膜を交互に形成した歪み緩和層１０４を形成することで、成長用基板１０１と窒化物半導体膜１０３との応力を緩和することが出来るので、窒化物半導体膜１０３でのクラック発生を抑制することが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００４−１６８６２２号公報
【特許文献２】特開２００２−２９９２５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１開示の方法に従い、予め反りが完全に緩和されるよりも低い温度で熱処理を行い、エピタキシャル成長時に生じる反りを打ち消すような反り、即ちエピタキシャル成長時に発生する反りと反対方向の反りを有する成長用基板を作製するには、熱処理前に成長用基板の歪み測定を行い、歪み量に応じて熱処理温度を変更する必要があり、量産に適さず基板コストの増大を招いてしまう。加えて、エピタキシャル成長時の温度は通常、熱処理温度よりも高く、故意に残留させた歪みがエピタキシャル成長中に緩和されるため、エピタキシャル成長後に目的の反り量の成長用基板及び結晶性膜を得ることは非常に困難であり、エピタキシャル成長後に成長用基板及び結晶性膜に反りが残存してしまう。従って、成長用基板裏面のラップ処理のために成長用基板を研磨盤に貼り付けようとしても、反りのために大きな圧力で成長用基板及び結晶性膜を研磨盤に押さえ付けなければならず、その圧力により成長用基板及び結晶性膜にクラックが発生してしまう。【００１１】
又、特許文献２のような従来の窒化物半導体膜の製造方法では、１０ｍｍ角程度の小さな単一の窒化物半導体膜であれば形成可能であるが、窒化物半導体膜の寸法が小さすぎるため、量産性を考慮すると例えば２インチ以上という比較的大きな寸法の窒化物半導体膜の形成が望まれている。【００１２】
本発明は上記課題に基づいてなされたものであり、本発明の目的は応力が抑制又は解消された結晶性膜が形成可能なエピタキシャル成長用単結晶基板、結晶性膜付き単結晶基板、結晶性膜、結晶性膜付き単結晶基板の製造方法、結晶性基板の製造方法、及び素子製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題は以下の本発明により達成される。即ち、
本発明の単結晶基板は、単結晶基板の表面の少なくとも一部の領域に梨地が形成されていることを特徴とする。【００１４】
更に本発明の単結晶基板の一実施形態は、梨地が単結晶基板表面に、ストライプ形状、十字形状、格子形状、複数の多角形を配置した形状、同心円状、螺旋形状、及び単結晶基板の中心点を通る直線に対して線対称又は点対称な形状、の何れかで形成されていることが好ましい。【００１５】
更に本発明の単結晶基板の他の実施形態は、梨地が不連続に単結晶基板表面に形成されていることが好ましい。【００１６】
更に本発明の単結晶基板の他の実施形態は、梨地が相互に独立した複数の部分に亘って単結晶基板表面に形成されていることが好ましい。【００１７】
更に本発明の単結晶基板の他の実施形態は、直径が２インチ以上であることが好ましい。【００１８】
更に本発明の単結晶基板の他の実施形態は、梨地の幅が、０μｍ超かつ８０μｍ以下であることが好ましい。【００１９】
更に本発明の単結晶基板の他の実施形態は、梨地の幅が、０μｍ超かつ１０μｍ以下であることが好ましい。【００２０】
更に本発明の単結晶基板の他の実施形態は、単結晶基板表面の全面積に占める梨地の形成されている領域の面積が０％超かつ５０％以下の範囲内であることが好ましい。【００２１】
更に本発明の結晶性膜付き単結晶基板は、
梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜が形成されていると共に、
梨地形成面上には単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜が形成され、
更に、少なくとも単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成される結晶性膜と、単結晶基板とで形成されていることを特徴とする。【００２２】
更に本発明の結晶性膜付き単結晶基板の一実施形態は、単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜が、窒化物半導体膜であることが好ましい。【００２３】
更に本発明の結晶性膜付き単結晶基板の他の実施形態は、単結晶基板の材料がサファイアであることが好ましい。【００２４】
更に本発明の結晶性膜付き単結晶基板の他の実施形態は、梨地非形成面に面する単結晶性膜表面の他方の表面に、凹凸が形成されていることが好ましい。【００２５】
更に本発明の結晶性膜付き単結晶基板の他の実施形態は、
単結晶性膜の側面が、単結晶性膜の材料の屈折率と、単結晶性膜外部の大気の屈折率とで決定する臨界角以上の角度（但し、臨界角は単結晶基板表面の法線方向を基準とした角度）で傾斜して形成されていることが好ましい。【００２６】
更に本発明の結晶性膜は、単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で形成され、単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の膜厚が３００μｍ以上であることを特徴とする。【００２７】
又、本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法は、エピタキシャル成長により形成される結晶性膜の成膜に用いられる単結晶基板の、基板表面の少なくとも一部の領域に梨地を形成し、
次いで、梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜をエピタキシャル成長により形成すると共に、単結晶基板の梨地形成面上には単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜をエピタキシャル成長により形成して、
少なくとも単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成する結晶性膜と、単結晶基板とで結晶性膜付き単結晶基板を形成することを特徴とする。【００２８】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の一実施形態は、単結晶基板表面に、ストライプ形状、十字形状、格子形状、複数の多角形を配置した形状、同心円状、螺旋形状、及び単結晶基板の中心点を通る直線に対して線対称又は点対称な形状、の何れかで梨地を形成することが好ましい。【００２９】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、梨地を不連続に単結晶基板表面に形成することが好ましい。【００３０】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、梨地を相互に独立した複数の部分に亘って単結晶基板表面に形成することが好ましい。【００３１】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、単結晶基板として、直径が２インチ以上の単結晶基板を用いることが好ましい。【００３２】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を、窒化物半導体膜とすることが好ましい。【００３３】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、単結晶基板の材料をサファイアとすることが好ましい。【００３４】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、梨地非形成面に面する単結晶性膜表面の他方の表面に、エッチングにより凹凸を形成することが好ましい。【００３５】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、エッチングがウエットエッチングであることが好ましい。【００３６】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、
エッチングにより、単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の少なくとも一部を除去することで、単結晶性膜の側面を露出し、
側面を、単結晶性膜の材料の屈折率と、単結晶性膜外部の大気の屈折率とで決定する臨界角以上の角度（但し、臨界角は単結晶基板表面の法線方向を基準とした角度）で傾斜して形成することが好ましい。【００３７】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、梨地を０μｍ超かつ８０μｍ以下の幅で形成することが好ましい。【００３８】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、梨地を０μｍ超かつ１０μｍ以下の幅で形成することが好ましい。【００３９】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の他の実施形態は、単結晶基板表面の全面積に占める梨地の形成されている領域の面積が０％超かつ５０％以下の範囲内であることが好ましい。【００４０】
更に本発明に係る結晶性基板の製造方法は、結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により製造された結晶性膜の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜表面の一部にマスクを形成後、
単結晶性膜表面上及びマスク表面上に第２の単結晶性膜を形成すると共に、
マスク非形成の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜表面上に、第２の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を形成し、
所定の厚さまで第２の単結晶性膜及び第２の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を形成後、
以下、マスクの形成から所定の厚さでの単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜形成工程を繰り返すことにより、
単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の形成箇所をマスクの形成の度に縮小していき、
単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の形成箇所を皆無として、単結晶性膜のみから形成される結晶性基板を形成することを特徴とする。【００４１】
更に本発明に係る素子製造方法は、結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により結晶性膜付き単結晶基板を製造し、
更に、その結晶性膜に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と素子部分に略対応するサイズを有する結晶性膜付き単結晶基板とを含む素子を製造することを特徴とする。【００４２】
又、本発明に係る素子製造方法の他の実施形態は、結晶性基板の製造方法により結晶性基板を製造し、
更に、結晶性基板に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と素子部分に略対応するサイズを有する結晶性基板とを含む素子を製造することを特徴とする。【００４３】
又、本発明に係る素子製造方法の他の実施形態は、結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により結晶性膜付き単結晶基板を製造し、
更に、その結晶性膜に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と素子部分に略対応するサイズを有する結晶性膜付き単結晶基板とを含む素子を製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【００４４】
以上に説明したように本発明によれば、応力が抑制又は解消された結晶性膜が形成可能なエピタキシャル成長用単結晶基板、結晶性膜付き単結晶基板、結晶性膜、結晶性膜付き単結晶基板の製造方法、結晶性基板の製造方法、及び素子製造方法を提供することができる。【００４５】
なお、請求項１，４，９，１０，１６，１９及び３４に記載の発明によれば、エピタキシャル成長用の単結晶基板表面に梨地形成面と梨地非形成面とが設けられる。このため、たとえば、成膜形成する結晶性膜にも単結晶性膜部分と、単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜部分を設けることが可能となる。ここで、単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を結晶性膜に部分的に設けることで、単結晶基板との格子定数差及び熱膨張値差に起因して結晶性膜全体に発生する内部応力を、単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜部分から結晶性膜の外部へと開放することが可能となる。【００４６】
内部応力を結晶性膜の外部へと開放することにより、結晶性膜の反り量が減少又は皆無となり、各素子製造時のフォトリソグラフィ工程の均一性が改善され、又、結晶性膜内部でのクラックの発生が防止される。更に請求項５，６，２０，２１に記載の発明によれば、反り量の減少又は解消により、単結晶基板に直径２インチ以上の大口径の基板を用いて結晶性膜を成膜形成することが可能となるので、一度の成膜工程で２インチ以上という大口径の結晶性膜を形成することが可能となり、量産性の向上を図ることが出来る。【００４７】
更に請求項２，１７に記載の発明によれば、単結晶基板表面における梨地形成部分のパターン形状を、単結晶基板の中心点を通る直線に対し点対称に形成することにより、結晶性膜の全面に亘って均一に内部応力を開放させることが可能となる。又、パターン形状を、ストライプ形状、螺旋形状、線対称なパターンとすることにより、結晶性膜の内部応力の開放に縦横方向で偏りを持たせることも可能となる。【００４８】
更に請求項３，１８に記載の発明によれば、パターン形状として、単結晶基板の平面方向において梨地形成部分を、不連続となるように部分的に離して形成することにより、結晶性膜を形成後、単結晶基板及び結晶性膜から成る結晶性膜付き単結晶基板を切断する際に、梨地形成部分を横断すること無く、切断線を直線状として切断することが出来る。従って、結晶性膜付き単結晶基板の切断工程を簡略化することが可能になると共に、結晶性膜における単結晶性膜部分を大面積で切り出すことが出来る。【００４９】
更に請求項７，３２に記載の発明によれば、梨地の幅を０μｍ超かつ８０μｍ以下に設定することにより、単結晶基板面上における梨地部分の占める面積を抑えて発光素子，光発電素子，半導体素子等の素子の作製個数の減少を抑えられると共に、素子部分を作製後に、単結晶基板ごと素子を１チップずつ分割する際に、梨地を分割ラインとして使用することが可能となる。更に請求項８，３３に記載の発明よれば、梨地の幅を０μｍ超かつ１０μｍ以下に設定することにより、単結晶基板面上における梨地部分の占める面積が更に抑えられるので、単結晶基板面上における梨地部分の占める面積を更に抑えて、素子の作製個数を増加させることが出来る。【００５０】
更に請求項１１，２２，２３に記載の発明によれば、単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を窒化物半導体膜とすることにより、クラックが解消された窒化物半導体膜を得ることが出来る。【００５１】
更に請求項１２，２４，２５に記載の発明によれば、単結晶基板の材料としてサファイア（Ａｌ２Ｏ３）を選択することが、結晶性膜がＧａＮの場合、単結晶基板の格子定数がＧａＮの膜厚が増加するにつれて徐々に変化して緩和されていく効果を有するため好ましい。【００５２】
更に請求項１３，２６，２７に記載の発明によれば、結晶性膜付き単結晶基板において、梨地非形成面に面する単結晶性膜表面の他方の表面を凹凸状とすることにより、ＬＥＤと云った発光素子の光取出効率を向上させることが可能となる。【００５３】
更に請求項２８，２９に記載の発明によれば、単結晶性膜表面の凹凸形状の形成方法としてウエットエッチングを選択することにより、低コスト処理が可能で、単結晶基板表面に与える損傷も抑制することが出来る。【００５４】
更に請求項１４，３０，３１に記載の発明によれば、単結晶性膜側面を、臨界角以上の角度で傾斜するように形成し、臨界角以上の入射角をもつ光を単結晶性膜側面と単結晶性膜表面とで複数回反射させることで、外部へ取り出しできる確率を向上させることができる。【００５５】
更に請求項１５に記載の発明によれば、エピタキシャル成長により自立可能な３００μｍ以上の膜厚まで結晶性膜を形成することにより、自立可能な厚みを有しクラックが皆無な結晶性膜を得ることが可能となる。【００５６】
又、請求項３５，３６，３７，３８に記載の発明によれば、本発明の結晶性膜から結晶性基板を製造しその結晶性基板を使用、若しくは結晶性膜付き単結晶基板を使用して素子部分を作製して、その素子部分を用いて発光素子、光発電素子、半導体素子の何れかの素子を得ることにより、品質及び歩留まりの向上した各種素子を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施の形態に係る単結晶基板の一例を示す模式図である。ここで、図１（Ａ）は、単結晶基板の側面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）に示す単結晶基板を用いて作製された、本発明の実施の形態に係る結晶性膜付き単結晶基板の側面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る単結晶基板表面における梨地形状の一例を示す、単結晶基板の平面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る単結晶基板表面における梨地形状の他の一例を示す、単結晶基板の平面図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る単結晶基板表面における梨地形状の更に他の一例を示す、単結晶基板の平面図である。
【図５】本発明の実施の形態に係る単結晶基板表面における梨地形状の更に他の一例を示す、単結晶基板の平面図である。
【図６】本発明の実施の形態に係る単結晶基板表面における梨地形状の更に他の一例を示す、単結晶基板の平面図である。
【図７】図６に示す単結晶基板の切断状態を示す、単結晶基板の平面図である。
【図８】本発明の実施の形態に係る単結晶基板を用いて作製される結晶性膜の作製工程を模式的に示す側面図である。ここで、図８（Ａ）は、梨地面および梨地非形成面が設けられた単結晶基板を示す図であり、図８（Ｂ）は、図８（Ａ）に示す単結晶基板表面に結晶性膜が設けられた状態を示す図であり、図８（Ｃ）は、図８（Ｂ）に示す結晶性膜が設けられた単結晶基板から、結晶性膜を分離した状態を示す図である。
【図９】図８の工程で作製された結晶性膜を用いて作製される、結晶性基板の作製工程を模式的に示す側面図である。ここで、図９（Ａ）は、図８に示す結晶性膜の表面にマスクをパターニング形成した状態を示す図であり、図９（Ｂ）は、図９（Ａ）に示すマスクが設けられた結晶性膜の表面に、第二の単結晶性膜および第二の劣化結晶性膜が形成された状態を示す図である。また、図９（Ｃ）は、図９（Ｂ）に示す第二の劣化結晶性膜上にマスクをパターニング形成した状態を示す図であり、図９（Ｄ）は、図９（Ｃ）に示す第二の単結晶性膜およびマスクの表面を覆うように第三の単結晶膜を形成した状態を示す図である。
【図１０】バッファ層及び結晶性膜の成膜工程における単結晶基板の曲率挙動の一例を示すグラフである。
【図１１】梨地形成部分の幅を変更したサンプル毎の多層膜成膜工程におけるサファイア基板の曲率挙動の測定結果グラフである。
【図１２】図１１のサンプル毎の、梨地形成部分面積比に対する多層膜成膜後のサファイア基板の曲率を示すグラフである。
【図１３】結晶性膜付き単結晶基板の曲率から、結晶性膜付き単結晶基板の反り量を計算する方法を説明する模式説明図である。
【図１４】従来の窒化物半導体膜の製造方法の一例を示す断面図である。
【図１５】本発明の実施の形態に係るに係る結晶性膜付き単結晶基板の変更例を示す側面図である。
【図１６】本発明の実施の形態に係るに係る結晶性膜付き単結晶基板の更に他の変更例を示す側面図である。
【図１７】梨地形成部分の幅を変更したサンプル毎の多層膜成膜工程におけるサファイア基板の曲率挙動の測定結果グラフである。
【図１８】図１７サンプル毎の、梨地形成部分面積比に対する多層膜成膜後のサファイア基板の曲率を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００５８】
以下に、本発明の実施の形態に係るエピタキシャル成長用単結晶基板及び結晶性膜付き単結晶基板と、それらの製造方法を図１〜図８を参照して説明する。図１（Ａ）は、本発明に係るエピタキシャル成長用単結晶基板（以下、「単結晶基板」と云う。）を模式的に示す側面図である。図１（Ａ）に示す単結晶基板１は結晶性の膜（以下、「結晶性膜」と云う。）の成膜に用いられ、その結晶成長面表面、すなわち、単結晶基板１の一方の表面の少なくとも一部の領域に梨地（梨地面、あるいは、粗面）１ｂが形成される。この場合、結晶成長面表面の全面積の０％超かつ５０％以下の範囲内で、部分的に梨地１ｂが形成されることが好ましい。
【００５９】
ここで、結晶成長面とは、梨地１ｂを形成する前の状態の単結晶基板において表面粗さＲａが１ｎｍ以下である面を意味する。この結晶成長面は、通常、単結晶基板の一方の面にのみ設けられる。なお、結晶成長面の表面粗さＲａは０．１ｎｍ以下であることが好ましく、表面粗さＲａは小さいほどより好ましい。また、梨地とは、単結晶基板１表面において、表面粗さＲａが１００ｎｍ以上に加工された面上部分を指すものとする。梨地１ｂは、例えばブラスト加工やエッチング加工により単結晶基板１表面に部分的に形成される。なお、梨地１ｂの表面粗さＲａは、１００ｎｍ以上であれば特に限定されないが、５００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００６０】
なお、本願明細書において、表面粗さＲａとは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−２００１により定められる算術平均粗さを意味し、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）より、以下の条件で測定した値を意味する。
測定モード：ダイナミックフォースモードまたはタッピングモード
測定エリア：４μｍ×４μｍ四方
カンチレバーの先端径：１０ｎｍ以下
スキャンライン数：５１２（４μｍ当たり５１２本）
スキャン速度：０．３Ｈｚ（１ライン当たり０．３秒）
【００６１】
更に、図１（Ｂ）に示されるように、単結晶基板１の結晶成長面の面上に結晶性膜２をエピタキシャル成長により成膜形成する。梨地１ｂが形成されていない単結晶基板１の面（梨地非形成面１ａ）上には単結晶性の膜（以下、「単結晶性膜」と云う）２ａが形成されると共に、単結晶基板１の梨地形成面上（図１（Ａ）の１ｂ部分）には単結晶性膜２ａよりも結晶性が劣る結晶性膜（以下、必要に応じて単に「劣化結晶性膜」と云う）２ｂが形成される。なお本発明における結晶性の優劣の定義としては、同一の原子もしくは分子団が一定の規則で三次元に配列している状態から、点状，線状もしくは面状に、更に乱れたものを結晶性が劣った状態とする。すなわち、劣化結晶性膜２ｂは、単結晶性膜２ａに比べて原子もしくは分子団の三次元配列が点状，線状もしくは面状で更に乱れた状態であることを意味する。単結晶性膜２ａ及び劣化結晶性膜２ｂの一例としては窒化物半導体膜が挙げられ、より詳しい例としてはＧａＮ系半導体に代表されるＩＩＩ族窒化物系化合物半導体が挙げられる。なお、劣化結晶性膜２ｂとしては、たとえば、多結晶膜が挙げられる。
【００６２】
このように、単結晶基板１表面に梨地１ｂ形成面と梨地非形成面（平滑面）１ａをそれぞれ設けることで、成膜形成する結晶性膜２にも単結晶性膜２ａ部分と劣化結晶性膜２ｂ部分を設けることが可能となる。このように劣化結晶性膜２ｂを結晶性膜２に部分的に設けることで、単結晶基板１との格子定数差及び熱膨張値差に起因して結晶性膜２全体に発生する内部応力を、劣化結晶性膜２ｂ部分から結晶性膜２の外部へと開放することが可能となる。従って、結晶性膜２の反り量が減少又は皆無となり、従来技術のような各素子製造時のフォトリソグラフィ工程の均一性が改善され、また結晶性膜２内部でのクラックの発生が防止される。反り量が減少されることで結晶性膜２ができるだけ平坦な状態に近づくことが基本的に望ましいが、結晶性膜２の成膜に起因して生じた、単結晶基板１及び結晶性膜２の反りの向きは同じままで、反り量の程度が多少小さくなっているだけでも良い。            
【００６３】
更に、反り量の減少又は解消により、単結晶基板１に直径２インチ以上の大口径の基板を用いて結晶性膜２を成膜形成することが可能となるので、一度の成膜工程で２インチ以上という大口径の結晶性膜を形成することが可能となり、量産性の向上を図ることが出来る。なお本発明における反り量とは、単結晶基板１及び結晶性膜２の厚み方向において、単結晶基板１又は結晶性膜２の周辺部と中心部の距離を指すものとする。
【００６４】
更に、単結晶性膜２ａ及び劣化結晶性膜２ｂを窒化物半導体膜とすることにより、クラックが解消された窒化物半導体膜を得ることが出来る。
【００６５】
単結晶基板１の材料としてサファイア（Ａｌ２Ｏ３）を選択することが、結晶性膜２がＧａＮの場合、単結晶基板１の格子定数がＧａＮの膜厚が増加するにつれて徐々に変化して緩和されていく効果を有するため、好ましい。
【００６６】
単結晶基板１の結晶成長面全面積に対する、梨地１ｂの形成面積を０％超かつ５０％以下と設定することが好ましい理由は、５０％を超えると単結晶性膜２ａの面積が劣化結晶性膜２ｂ面積よりも小さくなり、単結晶性の結晶性膜２の形成効率が低下して望ましくないためである。更に０％超と設定した理由は、０％を含めるように設定すると、結晶成長面に梨地１ｂを形成しない単結晶基板１も本発明に含まれることになるため、必ず結晶成長面に梨地１ｂを形成し、結晶性膜２の内部応力を外部に開放させるため、０％超とした。
【００６７】
単結晶基板１の結晶成長面には、梨地１ｂを形成する前に予め研磨が施されており、この研磨は結晶成長面がエピタキシャル成長可能な程度まで平滑となるように行われれば良い。エピタキシャル成長可能な程度の目安としては、表面粗さＲａ＝１ｎｍ以下に形成することが好ましい。
【００６８】
単結晶基板１の表面における梨地１ｂの形成部分のパターン形状としては、例えば図２に示すように、梨地１ｂが単線状に形成された部分が、単結晶基板１のオリフラ面に対して垂直及び平行に形成された十字形状、図３に示すように複数の単線状の梨地１ｂをオリフラ面に対して垂直及び平行に形成した格子形状、又は図４に示すように複数の単線状の梨地１ｂによって複数の多角形を配置した形状（図４では六角形）、またはリング状に形成した梨地１ｂの形成部分を複数，単結晶基板１の表面の中心点を中心として同心状に配置した同心円状などで形成する。
【００６９】
パターン形状は、結晶性膜２の反り状態の対称性に影響を与えるため、結晶性膜２の全面に亘って均一に内部応力を開放したい場合には、図２〜図４又は同心円状のように、パターン形状の平面形状が単結晶基板１の中心点を通る直線に対して、点対称であることが好ましい。
【００７０】
なお、パターン形状は各パターンに限定されず、結晶性膜２の反り量又は反り形状を考慮して、単結晶基板１のオリフラ面に対して垂直となるように、複数の単線状の梨地を形成したストライプ形状、梨地を螺旋状に形成した螺旋形状、又は単結晶基板１の中心点を通る直線に対して線対称なパターンに設定しても良い。ストライプ形状、螺旋形状、線対称なパターンでは、結晶性膜２の内部応力の開放に縦横方向で偏りを持たせることも可能となる。
【００７１】
又は図５に示すように、単結晶基板１の表面において各々の梨地１ｂの形成部分が、相互に独立した複数の円形状部分となるように形成しても良い。図５のパターン形状の場合、梨地１ｂの形成部分は単結晶基板１の平面方向に亘って、明らかな偏りが生じないように形成することが、結晶性膜２の全面に亘る内部応力の均一な緩和又は解消という点で好ましい。従って、図５のように、パターン形状の平面形状が単結晶基板１の中心点を通る直線に対して、点対称であることが好ましい。
【００７２】
結晶性膜２を成膜形成する単結晶基板１がサファイアの場合、その結晶成長面として好ましくはＣ面であるが、これに限定されず、Ｒ面、Ｍ面、Ａ面など、Ｃ面以外の面も使用可能である。なお、結晶成長面はＣ面に対して僅かに傾斜していても良い。又、Ｃ面の傾斜方向としてはｍ軸方向又はａ軸方向が挙げられるが、これに限定されない。
【００７３】
更に、パターン形状としては、図６に示したように単結晶基板１の平面方向において梨地１ｂの形成部分を、不連続となるように部分的に離して形成しても良い。図６では一例として、図２に示した十字形状のパターン形状が不連続となった梨地１ｂ形成パターンを示す。
【００７４】
図６に示すように梨地１ｂの形成部分を不連続に形成することにより、結晶性膜２を形成後、少なくとも単結晶基板１及び結晶性膜２から形成される結晶性膜付き単結晶基板を切断する際に、図７に一点鎖線で示すように梨地１ｂの形成部分を横断すること無く、切断線を直線状として切断することが出来る。従って、結晶性膜付き単結晶基板の切断工程を簡略化することが可能になると共に、結晶性膜２における単結晶性膜２ａの部分を大面積で切り出すことが出来る。なお、不連続なパターン形状としては、図６に示すような十字形状を基にしたパターン形状のみならず、図３や図４の各パターン形状、又はストライプ形状、同心円状、螺旋形状、線対称又は点対称な形状を基にしても良い。
【００７５】
更に、梨地１ｂの形成部分の幅ｔ（図２乃至図４参照）は、単結晶基板１の表面（結晶成長面）の全面積に対する梨地１ｂの形成面積の割合が低下し過ぎて、結晶性膜２の内部応力を充分に外部へと開放することが困難になり、結晶性膜２の反り量が過大になって結晶性膜２内部にクラックが発生しない程度とする。
【００７６】
なお幅ｔの上限としては、単結晶基板１の直径を拡大した時に、拡大前の梨地非形成面１ａの面積以上を確保できる寸法とする。
【００７７】
幅ｔを０μｍ超かつ８０μｍ以下に設定することにより、単結晶基板１の面上における梨地１ｂ部分の占める面積を抑えて発光素子，光発電素子，半導体素子等の素子の作製個数の減少が抑えられると共に、素子部分を作製後に、単結晶基板ごと素子を１チップずつ分割する際に、梨地１ｂを分割ラインとして使用することが可能となる。更に、幅ｔを０μｍ超かつ１０μｍ以下に設定することにより、単結晶基板１の面上における梨地１ｂ部分の占める面積が更に抑えられるので、単結晶基板１の面上における梨地１ｂ部分の占める面積を抑えて、素子の作製個数を増加させられ、より好ましい。
【００７８】
次に、本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法について、図８を参照して説明する。始めに単結晶基板の結晶成長面に研磨を施す。この研磨は結晶成長面がエピタキシャル成長可能な程度になるまで平滑となるように行われれば良い。エピタキシャル成長可能な程度の目安としては、表面粗さＲａ＝１ｎｍ以下に形成することが好ましい。
【００７９】
更に、単結晶基板のサーマルクリーニングを行い、引き続いて図８（Ａ）に示すように、単結晶基板１の結晶成長面全面積の０％超かつ５０％以下の範囲内で、結晶成長面の表面に梨地１ｂを形成する。梨地１ｂの形成には、ブラスト加工やエッチング加工が用いられる。ブラスト加工を例にして更に詳述すると、まず結晶成長面にマスキングを施し、梨地１ｂ形成部分のみに選択的にブラスト加工を行って結晶成長面上に梨地１ｂを形成する。噴射材にはアルミナや炭化硅素等の材料で、平均粒径５〜４０μｍを有する研磨材を使用する。ブラスト加工は熱発生の少ないサブμｍオーダーで加工が進行するため、単結晶基板１のチッピング、クラック等の発生を極めて少なくすることができ、梨地１ｂ形成法として好適である。ブラスト加工後には結晶成長面の噴射材を除去するため、結晶成長面の洗浄を行う。
【００８０】
梨地１ｂ形成部分の面粗さＲａは、劣化結晶性膜２ｂの結晶成長性を考慮して、約１００ｎｍ以上の範囲内に設定することが好ましい。
【００８１】
幅ｔを０μｍ超かつ８０μｍ以下に設定する方法を以下に示す。最初に、一方の基板表面に梨地１ｂの部分が全く形成されていない単結晶基板を用意する。次に、この基板表面にスパッタリング法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等の各種の気相成膜法あるいはスピンコート法、メッキ法、ゾルゲル法等の各種液相成膜法により、ＳｉＯ２膜、Ｎｉ膜等のマスキング膜を成膜し、更にそのマスキング膜上にスピンコートによりポジ型のレジスト膜を積層成膜する。
【００８２】
次にマスクアライナーを使って、フォトリソグラフィによりレジスト膜をパターニング処理する。この時のパターン形状が梨地１ｂのパターン形状となるため、レジスト膜のパターン形状の幅を、たとえば、０μｍ超かつ８０μｍ以下（更に好ましくは、０μｍ超かつ１０μｍ以下）に設定する。次にマスクアライナーによりマスキング膜上にパターン形状を転写（レジスト膜を露光・現像）する。次に、エッチングによりマスキング膜にパターニング処理を施した後、さらに、レジスト膜を除去する。更に、パターニング処理されたマスキング膜をマスク材にしてエッチングにより、パターン形状に沿って単結晶基板表面に梨地１ｂを形成する。そして、その後マスキング膜を除去すれば良い。
【００８３】
なお、マスキング膜及び単結晶基板表面のエッチング処理としてはドライエッチングおよびウエットエッチングのいずれも利用することができる。ここで、ウエットエッチングはドライエッチングに比べて、低コストで単結晶基板の梨地１ｂの形成処理が可能で、単結晶基板表面に与える損傷も、ドライエッチングに比べて抑制することができる。したがって、低コスト処理が可能である観点や単結晶基板表面に与える損傷抑制の観点からは、エッチング処理としてウエットエッチング処理を選択することが好ましい。一方、アンダーカットが生じ易いウエットエッチングに対して、ドライエッチングはアンダーカットを生じない条件で加工が可能である。このため、ドライエッチングは、ウエットエッチングよりも、梨地幅のコントロール性がよい。したがって、梨地幅のコントロール性を確保する観点からは、エッチング処理として、ドライエッチング処理を選択することが好ましい。
【００８４】
続いて、梨地１ｂが形成された単結晶基板１の結晶成長面上に、エピタキシャル成長により結晶性膜２を成膜する。梨地１ｂのパターン形状が十字形状や格子形状の場合は、結晶性膜２として、ｎ−ＧａＮ系層及び多重量子井戸構造を有するＩｎＧａＮ系活性層を積層状に成長させる。又、梨地１ｂのパターン形状が図５に示すようなパターン形状の場合は、結晶性膜２としてＧａＮを成長させる。ｎ−ＧａＮ系層及びＩｎＧａＮ系活性層を成長させる場合は、単結晶基板１の結晶成長面上には予めバッファ層を成膜形成する。
【００８５】
梨地１ｂのパターン形状が十字形状や格子形状の単結晶基板に結晶性膜２をエピタキシャル成長させる成長法としては、ＭＯＣＶＤ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が好ましい。その理由は、ｎ−ＧａＮ系層及びＩｎ−ＧａＮ系活性層というように組成を変更しながら結晶性膜２を積層形成しなければならず、エピタキシャル成長時に結晶性膜の組成を変更し易いのはＭＯＣＶＤ法だからである。ＭＯＣＶＤ法によりｎ−ＧａＮ系層とＩｎＧａＮ系活性層が積層形成され、更にｎ−ＧａＮ系層とＩｎＧａＮ系活性層にはそれぞれ、梨地１ｂ形成面上には劣化結晶性膜２ｂが形成されると共に、梨地非形成面１ａ上には単結晶性膜２ａが形成される。図８（Ｂ）ではｎ−ＧａＮ系層とＩｎＧａＮ系活性層をまとめて結晶性膜２で示している。
【００８６】
一方、自立可能な厚さのＧａＮをエピタキシャル成長させる成長法としては、ＨＶＰＥ（Ｈｙｄｒｉｄｅ  Ｖａｐｏｒ  Ｐｈａｓｅ  Ｅｐｉｔａｘｙ）法が好ましい。その理由は、複雑な工程を行うことなく成膜可能であり、ＭＯＣＶＤ法やＭＢＥ（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｅａｍ  Ｅｐｉｔａｘｙ）法に比べて高い成長速度を達成できて厚いＧａＮを成長させることが出来ると共に、ＧａＮの欠陥密度の減少と量産性に優れるからである。ＨＶＰＥ法により、梨地１ｂ形成面上には劣化結晶性膜２ｂが形成されると共に、梨地非形成面１ａの上には単結晶性膜２ａが形成され、自立可能な厚さ３００μｍ以上の結晶性膜２が成長形成される（図８（Ｂ）参照）。
【００８７】
図１０は、バッファ層及び結晶性膜２の成膜工程における単結晶基板の曲率挙動の一例を示すグラフであり、具体的には単結晶基板１としてサファイア基板を用い（以下、必要に応じて「サファイア基板１Ｓ」と云う）、幅ｔ＝０．５ｍｍで図２に示す十字形状のパターン形状で梨地１ｂを形成したサファイア基板１Ｓの結晶成長面に、バッファ層及び結晶性膜２を成膜中のサファイア基板１Ｓの曲率挙動を示したグラフである。結晶性膜２としては、ｎ−ＧａＮ系層及びＩｎ−ＧａＮ系活性層を積層することで形成される結晶性膜を例に挙げて説明する。ここで、図１０中、横軸は時間を表し、縦軸は結晶成長面におけるサファイア基板１Ｓの曲率を表す。なお、縦軸の正の方向は結晶成長面側が凸を成すようにサファイア基板１Ｓが反っている状態を意味し、縦軸の負の方向は結晶成長面側が凹を成すようにサファイア基板１Ｓが反っている状態を意味する。
【００８８】
なお、図１０に例示したようなバッファ層及び結晶性膜成膜工程（以下、必要に応じて単に「成膜工程」と云う。）の実施中におけるサファイア基板１Ｓの曲率挙動は、Ｉｎ−ｓｉｔｕ観察方法を利用することで把握することができる。
【００８９】
図１３は結晶性膜２付き単結晶基板１の曲率から、結晶性膜２付き単結晶基板２の反り量を計算する方法を説明する模式説明図である。図１３においては、結晶性膜２付き単結晶基板１の曲率半径をＲ、曲率１／Ｒを有する結晶性膜２付き単結晶基板の反り量Ｘ、結晶性膜２付き単結晶基板１の直径を近似的にＤとして示した。これらの値の関係性として、三平方の定理を用いることで，（１／Ｒ）２＝（（１／Ｒ）−Ｘ）２＋（Ｄ／２）２）と示すことができる。この式から、単結晶基板１の直径が２インチ（５０ｍｍ）の場合は、０．３２２×曲率（ｋｍ−１）、単結晶基板１の直径が４インチ（１００ｍｍ）の場合は、１．２５０×曲率（ｋｍ−１）として反り量（μｍ）を求めることができる。
【００９０】
また、図１０の横軸に沿って（Ａ）〜（Ｅ）として示される区間は、成膜工程において順次実施される各プロセスに対応している。ここで、プロセス（Ａ）はサファイア基板１Ｓの結晶成長面をサーマルクリーニングするプロセスに対応し、プロセス（Ｂ）はバッファ層を形成するプロセスに対応し、プロセス（Ｃ）はｎ−ＧａＮ系層を形成するプロセスに対応し、プロセス（Ｄ）はＩｎＧａＮ系活性層を形成するプロセスに対応し、プロセス（Ｅ）はクールダウンするプロセスに対応している。
【００９１】
次に、図１０に示されるサファイア基板１Ｓの曲率挙動の変化を説明する。まず、（Ａ）結晶成長面のサーマルクリーニングプロセスでは、サファイア基板１Ｓの二面のうち、結晶成長面と他方の非結晶成長面との温度差により、結晶成長面が凹面を成そうとする方向（図１０中の縦軸におけるマイナス側）に反り、曲率が大きく変化する。
【００９２】
次に、（Ｂ）バッファ層を形成するプロセスでは、サファイア基板１Ｓの温度が、（Ａ）結晶成長面のサーマルクリーニングプロセスを実施中の温度よりも降下し、通常は、５００〜６００℃程度の温度に維持される。このため、結晶成長面が凸面を成そうとする方向（図１０中の縦軸におけるプラス側）に反り、曲率の絶対値は小さくなる。
【００９３】
次に、（Ｃ）ｎ−ＧａＮ系層を形成するプロセスでは、サファイア基板１Ｓの温度を再び１０００℃程度まで上昇させて、ｎ−ＧａＮ層を形成する。このプロセスでは、窒化ガリウムとサファイアの格子定数差に起因して、結晶成長面が凹面を成そうとする方向に反り、曲率の絶対値は増大する。さらに成膜が進行し、膜厚が大きくなるほど曲率の絶対値が増大する。
【００９４】
次に、（Ｄ）ＩｎＧａＮ系活性層を形成するプロセスでは、サファイア基板１Ｓの温度を７００〜８００℃程度に下降させて、ＩｎＧａＮ系活性層を形成する。結晶性膜２付きのサファイア基板１Ｓを用いて、所定の後加工を行うことにより、ＬＥＤチップなどの発光素子を製造する場合、ＩｎＧａＮ系活性層の膜厚及びＩｎＧａＮ系活性層中のＩｎ組成の均一性が、発光波長の面内均一性に影響し、ひいては発光素子の製造歩留まりにも影響する。ＩｎＧａＮ系活性層の膜厚及びＩｎＧａＮ系活性層中のＩｎ組成の均一性は成膜温度に影響を受ける。このため、（Ｄ）ＩｎＧａＮ系活性層を形成するプロセスでは、サファイア基板１Ｓの面内の温度均一性を向上させるために、成膜中のサファイア基板１Ｓの曲率はできるだけ０に近づけることが望ましい。なお、図１０の例では、プロセス（Ｄ）における曲率はほぼ０近傍に維持されている。
【００９５】
次に、バッファ層及び結晶性膜２が成膜形成されたサファイア基板１Ｓを、（Ｅ）クールダウンするプロセスでは、バッファ層及び結晶性膜２と、サファイア基板１Ｓとの熱膨張係数差により、サファイア基板１Ｓが結晶成長面側に凸を成す方向に反り、曲率の絶対値も増大する。また、常温近傍に冷却される過程で、バッファ層及び結晶性膜２中には圧縮応力が生じるため、これを解放するために、クールダウン終了後もサファイア基板１Ｓが結晶成長面側に凸を成すように反った状態が維持される。
【００９６】
また、結晶性膜２が自立可能な厚さ３００μｍ以上を有するＧａＮの場合は、更に結晶性膜２を単結晶基板１から剥離して分離する（図８（Ｃ）参照）。エピタキシャル成長により自立可能な３００μｍ以上の膜厚まで結晶性膜２を形成することにより、分離の際に厚膜から構成される結晶性基板２を形成することが出来る。従って、膜厚３００μｍ以上を有するクラックが皆無な結晶性膜２を得ることが可能となる。
【００９７】
図１５に示すように、結晶性膜２付き単結晶基板１において、梨地非形成面１ａに面する単結晶性膜２ａの表面の他方の表面に、凹凸を形成しても良い。単結晶性膜２ａの表面を凹凸状とすることにより、ＬＥＤと云った発光素子の光取出効率を向上させることが可能となる。
【００９８】
単結晶性膜２ａの表面の凹凸形状の形成方法には、一例としてエッチングが適用可能である。そのエッチング処理としてはドライエッチングを用いることも可能だが、ウエットエッチングがより好ましい。その理由は、ドライエッチングに比べ、低コストで、単結晶基板１の表面に与える損傷も、ドライエッチングに比べて抑制することが出来るためである。
【００９９】
図１５では劣化結晶性膜２ｂがエッチング処理により完全に除去された結晶性膜２付き単結晶基板１の例を図示しているが、単結晶性膜２ａの表面に所望の凹凸形状が形成されるのであれば、劣化結晶性膜２ｂは残存していても構わない。
【０１００】
更に、エッチングにより、劣化結晶性膜２ｂの少なくとも一部を除去することで、単結晶性膜２ａの側面を露出し、その側面を図１６に示すように角度θで傾斜するように形成しても良い。角度θは単結晶基板１の表面の法線方向を基準とした角度と定義する。角度θは、単結晶性膜２ａを形成する材料の屈折率ｎ２ａと、単結晶性膜２ａの外部の大気の屈折率ｎａとで決定する臨界角｛ｓｉｎ−１（ｎａ／ｎ２ａ）｝以上の角度に設定される。臨界角以上の入射角をもつ光を単結晶性膜２ａの側面と、単結晶性膜２ａの表面とで複数回反射させることで、外部へ取り出しできる確率を向上させることができる。従って、（屈折率ｎ２ａ＞屈折率ｎａ）の関係が成立していなければならないので、単結晶性膜２ａを、大気の屈折率ｎａを超える屈折率を有する材料で形成する。一例として、単結晶性膜２ａがＧａＮで形成される場合は、角度θは２４度以上に設定される。
【０１０１】
なお、図１５又は図１６において梨地１ｂの幅ｔを０μｍ超かつ８０μｍ以下（より好ましくは０μｍ超かつ１０μｍ以下）に設定して形成することも可能である。
【０１０２】
更に図９（Ａ）に示すように、単結晶基板１から分離することで得られる結晶性膜２の劣化結晶性膜２ｂの表面上の一部に、マスク３をパターニング形成する。マスク３材としてはＳｉＯ２が用いられる。次に、図８で示した結晶性膜２のエピタキシャル成長条件と同等の条件のＨＶＰＥ法により、図９（Ｂ）に示すように第２の単結晶性膜２ａ１を、単結晶性膜２ａの表面上並びにマスク３の表面上に、所定の厚さまで形成する。この時、第２の単結晶性膜２ａ１はマスク３の表面上にはエピタキシャル成長しないため、マスク３で覆われていない単結晶性膜２ａの表面上からは第２の単結晶性膜２ａ１がエピタキシャル成長する。更に成長を続けると、第２の単結晶性膜２ａ１は単結晶性膜２ａから、結晶性膜２表面に平行な方向（図９（Ａ）及び図９（Ｂ）の横方向）に、エピタキシャル成長する。
【０１０３】
一方、図８で示した結晶性膜２のエピタキシャル成長条件と同等の条件のＨＶＰＥ法により、マスク３が形成されていない劣化結晶性膜２ｂの表面上には、第２の単結晶性膜２ａ１よりも結晶性が劣る結晶性膜（以下、「第２の劣化結晶性膜」）２ｂ１を所定の厚さまでエピタキシャル成長させる。
【０１０４】
第２の単結晶性膜２ａ１及び第２の劣化結晶性膜２ｂ１を形成後、更に図９（Ｃ）に示すように第２の劣化結晶性膜２ｂ１表面上にマスク３をパターニング形成する。そして、前記と同等の条件のＨＶＰＥ法により、第２の単結晶性膜２ａ１の表面上とマスク３表面上に、第３の単結晶性膜２ａ２を形成する。この時、第３の単結晶性膜２ａ２はマスク３表面上にはエピタキシャル成長しないため、マスク３で覆われていない第２の単結晶性膜２ａ１から第３の単結晶性膜２ａ２がエピタキシャル成長する。更に成長を続けると、第３の単結晶性膜２ａ２は単結晶性膜２ａ１から、結晶性膜２表面に平行な方向（図９（Ｃ）及び図９（Ｄ）の横方向）に、エピタキシャル成長する。
【０１０５】
マスクの形成から、所定の厚さでの単結晶性膜及び劣化結晶性膜のエピタキシャル成長工程を繰り返して、劣化結晶性膜の形成部分をマスクの形成の度に縮小していく。そして、図９（Ｃ）に示すように、マスクを形成したときに全ての劣化結晶性膜表面がマスクによって完全に覆われる。続いて、図９（Ｄ）に示すように単結晶性膜（図９（Ｄ）では２ａ２）をエピタキシャル成長させた時に劣化結晶性膜の形成部分が皆無となるまで、マスク形成〜単結晶性膜及び劣化結晶性膜のエピタキシャル成長工程を繰り返す。
【０１０６】
第３の単結晶性膜２ａ２から、単結晶性膜のみから形成される結晶性基板４を得る。このときの結晶性基板４は、単結晶基板１に直径２インチ以上の基板を用いている場合は径が２インチ以上で、その厚さは約５００μｍであり、クラックや周縁部に欠けた部分が無い状態で存在する。以上のように、厚さ３００μｍ以上の結晶性膜２は、第２の単結晶性膜２ａ１及び第２の劣化結晶性膜２ｂ１のエピタキシャル成長用基板として用いるため、図１５又は図１６に示すような単結晶性膜２ａの表面が凹凸形状に形成されていないものを用いることとする。
【０１０７】
以上に説明した製造方法を経て作製された、結晶性膜２付き単結晶基板１又は結晶性基板４に対し、更に各種の後工程を実施することにより各種素子を作製することが出来る。この場合、後工程において、結晶性膜２付き単結晶基板１の結晶性膜２又は結晶性基板４に対し、少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、素子部分と当該素子部分に略対応するサイズを有する結晶性膜２付き単結晶基板１又は結晶性基板４とを含む素子を製造することが出来る。又、素子の製造に際して、後工程として素子部分形成工程以外に、研磨工程、分割予定ライン形成工程及び分割工程をこの順に実施しても良い。
【０１０８】
この場合、結晶性膜２付き単結晶基板１又は結晶性基板４を用いた素子製造方法は、具体的には以下の（１）〜（４）に示す工程を少なくとも順次実施することで、素子部分と当該素子部分に略対応するサイズを有する、結晶性膜２付き単結晶基板１又は結晶性基板４とを含む素子を作製することが出来る。
（１）結晶性膜２付き単結晶基板１の結晶性膜２又は結晶性基板４をパターニングして、個々の素子部分を形成する素子部分形成工程
（２）素子部分が片面に形成された、素子部分付き結晶性膜２付き単結晶基板１、又は素子部分付き結晶性基板４の、素子部分が形成されていない面を研磨する研磨工程
（３）研磨工程において研磨された面側から、個々の素子部分の境界ラインに沿って、レーザを照射したり、あるいは、スクライバなどにより切り目を入れることで分割予定ラインを形成する分割予定ライン形成工程
（４）分割予定ライン形成工程において形成された分割予定ラインに沿って外力を加えることで、素子部分付きの結晶性膜２付き単結晶基板１又は結晶性基板４を、素子部分単位で分割する分割工程
【０１０９】
以上により、素子部分に略対応するサイズを有する、結晶性膜２付き単結晶基板１又は結晶性基板４を備えた素子部分を得ることが可能となるため、その素子部分を用いてＬＥＤ等の発光素子、光発電素子、半導体素子の何れかの素子を得ることが出来る。従って、クラックや周縁部に欠けた部分が無い結晶性膜２付き単結晶基板１又は結晶性基板４を用いることで、品質及び歩留まりの向上した各種素子を提供することが出来る。
【０１１０】
結晶性膜２付き単結晶基板１を用いる場合、前記のように梨地１ｂの幅ｔを０μｍ超かつ８０μｍ以下または０μｍ超かつ１０μｍ以下で形成しておけば、梨地部分をそのまま分割予定ラインとして使用することが可能となる。
【０１１１】
又、素子製造工程に図１５に示すように、膜表面に凹凸部を形成した結晶性膜２付き単結晶基板１を用いることにより、ＬＥＤと云った発光素子の光取出効率を向上させることが可能となるため好適である。
【０１１２】
更に、素子製造工程に図１６に示すように、角度θでもっと単結晶性膜２ａの側面を斜めに形成した結晶性膜２付き単結晶基板１を用いることにより、ＬＥＤと云った発光素子外部へ光を取り出しできる確率を向上させることが可能となり、より好ましい。
【実施例】
【０１１３】
次に、本発明の実施例を説明するが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。【０１１４】
（実施例１〜４）
実施例１〜４として、図２で示したような梨地１ｂの形成のパターン形状が、単結晶基板１のオリフラ面に対して垂直及び平行に形成して十字形状に設定された単結晶基板１に、バッファ層、及びｎ−ＧａＮ系層とＩｎＧａＮ系活性層とを積層して形成する結晶性膜２をエピタキシャル成長させた際の単結晶基板１の曲率挙動を示す。【０１１５】
評価用サンプルとして、図２に示す梨地パターン形状を有するサファイアからなる単結晶基板１の結晶成長面とした片面に、バッファ層、及びｎ−ＧａＮ系層とＩｎＧａＮ系活性層とから形成される結晶性膜２が形成された結晶性膜２付き単結晶基板１を作製した。その結晶性膜成膜後における単結晶基板１の曲率について評価を行った。以下に、テスト条件及び評価結果の詳細を説明する。【０１１６】
−単結晶基板−
単結晶基板１としては、オリフラ面付きの円形状のサファイア基板（直径：２インチ（５０ｍｍ）、厚み：４３０μｍ）を用いた。なお、このサファイア基板は、片面が表面粗さＲａ＝０．１ｎｍの鏡面状に研磨されたものであり、結晶性膜２はこの鏡面研磨された面を結晶成長面として形成される。また、何らの成膜処理を行わない状態でのサファイア基板の反り量は、±１０μｍの範囲内である。【０１１７】
−梨地パターン形状の構成及び梨地形成条件−
サファイア基板の結晶成長面上には、図２に示すようなパターン形状の梨地１ｂを形成した。梨地１ｂは、サファイア基板のオリフラ面に対し垂直及び平行に十字形状に形成されると共に、オリフラ面に対し垂直及び平行に形成した、それぞれの梨地の幅中央部は、サファイア基板の中心点を通るように形成され、且つそれぞれの梨地１ｂは互いに９０度に交差している。また、サファイア基板の結晶成長面はＣ面とし、結晶成長面上の梨地１ｂの形成部分の表面粗さＲａは２μｍとした。更に、梨地１ｂの形成方法にはブラスト加工を用い、サファイア基板の結晶成長面のマスキングはフォトリソにより行い、マスキング材にはフォトレジストを使用した。更に、ブラスト加工の噴射材には平均粒径２０μｍ〜８０μｍを有するアルミナ材からなる研磨材を使用した。ブラスト加工後には結晶成長面の噴射材を除去するため、結晶成長面の洗浄を行った。本実施例では梨地形成部分の幅ｔを変更したサンプルを４つ作製した。幅ｔとしては、０．１ｍｍ，０．５ｍｍ，１．０ｍｍ，２．０ｍｍとした。【０１１８】
−結晶性膜の層構成及び成膜条件−
サファイア基板の結晶成長面には、バッファ層及び結晶性膜から構成される多層膜を形成した。結晶性膜２はｎ−ＧａＮ系層上にＩｎＧａＮ系活性層が積層形成された二層構成である。なお、具体的な成膜条件は以下の通りであり、以下に示す（１）〜（５）の順にプロセスを実施した。また、結晶性膜２の膜厚は３．９０８μｍとした。
（１）サーマルクリーニング
サファイア基板をＭＯＣＶＤ装置内に配置した後、結晶成長面のサーマルクリーニングを、基板温度１１００℃にて約１２０秒間実施した。
（２）バッファ層の形成
成膜時の基板温度を５３０℃とし、成膜レート０．１６ｎｍ／ｓにて膜厚が３０ｎｍとなるまでバッファ層を形成した。
（３）ｎ−ＧａＮ系層の形成
成膜時の基板温度を１０５０℃とし、成膜レート２０００ｎｍ／ｈｒにて膜厚が３５００ｎｍとなるまでｎ−ＧａＮ系層を形成した。
（４）ＩｎＧａＮ系活性層の形成
成膜時の基板温度を７５０℃とし、成膜レート１５ｎｍ／ｍｉｎにて、膜厚が４０８ｎｍとなるまでＩｎＧａＮ系活性層を形成した。
（５）クールダウン
バッファ層、ｎ−ＧａＮ系層及びＩｎＧａＮ系活性層をこの順に形成したサファイア基板を常温近傍まで冷却した。【０１１９】
（評価結果）
−サファイア基板の曲率の評価−
図１１に、梨地１ｂの形成部分の幅ｔを変更したサンプル毎の多層膜成膜工程におけるサファイア基板の曲率挙動の測定結果を示す。図１１に示されるように梨地１ｂの形成部分の幅ｔが太くなり、サファイア基板の結晶成長面上における梨地１ｂの形成面積の割合が増加するほど、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率（または反り量）を減少させられることが判った。幅ｔが０．１ｍｍのサファイア基板（Ｎｏ．１／実施例１）の曲率は１５３．１ｋｍ−１、幅ｔが０．５ｍｍのサファイア基板（Ｎｏ．２／実施例２）の曲率は１４０．６ｋｍ−１、幅ｔが１．０ｍｍのサファイア基板（Ｎｏ．３／実施例３）の曲率は１２５．０ｋｍ−１、幅ｔが２．０ｍｍのサファイア基板（Ｎｏ．４／実施例４）の曲率は１１８．８ｋｍ−１であった。なお、図１１に示す曲率挙動は、Ｉｎ−ｓｉｔｕ観察方法で観察した。【０１２０】
−梨地形成面積に対する結晶性膜成膜後のサファイア基板の曲率評価−
また図１１に示すサンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．４ごとに、サファイア基板表面（結晶成長面）の全面積に対する梨地１ｂの形成面積の割合を算出し、その割合に対する多層膜成膜後のサファイア基板の曲率を記したグラフを図１２に示す。図１２から明らかなように、結晶成長面の全面積に対する梨地１ｂの形成面積の割合と、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率との間には比例関係が成立し、梨地１ｂの形成面積が増加するほど、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率を減少可能であることが判明した。即ち、梨地１ｂの形成面積を増加するほど劣化結晶性膜部分が増加し、その結果、結晶性膜２の全体に発生する内部応力を結晶性膜２の外部へと開放し、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率が減少したことが判った。【０１２１】
（比較例１）
次に比較例１を説明する。実施例１〜４に対する比較例１の相違点は、比較例１のサファイア基板に梨地１ｂが形成されていない点である。その他の条件は実施例１〜４と同一であるため、記述は省略する。【０１２２】
図１１に、比較例１（梨地形成部分の幅ｔ＝０）のサンプルでの、多層膜成膜工程におけるサファイア基板の曲率挙動の測定結果を示す。実施例１〜４と比較すると、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率（または反り量）が最も大きいことが判った。比較例１でのサファイア基板の曲率は１５６．３ｋｍ−１であった。なお、比較例１の曲率挙動も、Ｉｎ−ｓｉｔｕ観察方法で観察した。【０１２３】
また、図１２に比較例１における多層膜成膜後のサファイア基板の曲率を示した。図１２から明らかなように、比較例も比例関係上にプロットされることが判明した。【０１２４】
（実施例５〜７）
以下に実施例５〜７として、図３で示したような梨地１ｂの形成のパターン形状が、単結晶基板１のオリフラ面に対して垂直及び平行に形成して十字形状に設定された単結晶基板１に、バッファ層、及びｎ−ＧａＮ系層とＩｎＧａＮ系活性層とを積層して形成する結晶性膜２をエピタキシャル成長させた際の単結晶基板１の曲率挙動を示す。【０１２５】
評価用サンプルとして、図３に示す梨地パターン形状を有するサファイアからなる単結晶基板１の結晶成長面とした片面に、バッファ層、及びｎ−ＧａＮ系層とＩｎＧａＮ系活性層とから形成される結晶性膜２が形成された結晶性膜２付き単結晶基板１を作製した。その結晶性膜２の成膜後における単結晶基板１の曲率について評価を行った。以下に、テスト条件及び評価結果の詳細を説明する。【０１２６】
−単結晶基板−
単結晶基板１としては、オリフラ面付きの円形状のサファイア基板（直径：２インチ（５０ｍｍ）、厚み：４３０μｍ）を用いた。なお、このサファイア基板は、片面が表面粗さＲａ＝０．１ｎｍの鏡面状に研磨されたものであり、結晶性膜２はこの鏡面研磨された面を結晶成長面として形成される。また、何らの成膜処理を行わない状態でのサファイア基板の反り量は、±１０μｍの範囲内である。【０１２７】
−梨地パターン形状の構成及び梨地形成条件−
サファイア基板の結晶成長面上には、図３に示すようなパターン形状の梨地１ｂを形成した。梨地１ｂは、サファイア基板のオリフラ面に対し垂直及び平行に十字形状に形成されると共に、前記オリフラ面に対し垂直及び平行に形成した。それぞれの梨地１ｂは互いに９０度に交差している。また、サファイア基板１Ｓの結晶成長面はＣ面とし、結晶成長面上の梨地１ｂの形成部分の表面粗さＲａは０．５μｍとした。更に、梨地１ｂの形成方法にはドライエッチング加工を用い、サファイア基板の結晶成長面のマスキングはフォトリソにより行い、マスキング材にはＮｉ膜とフォトレジストを使用した。本実施例では梨地１ｂの形成部分の各間隔を３００ｕｍとし、梨地幅ｔを変更したサンプルを４つ作製した。前記幅ｔとしては、４ｕｍ，８ｕｍ，１６ｕｍとした。【０１２８】
−結晶性膜の層構成及び成膜条件−
サファイア基板の結晶成長面には、バッファ層及び結晶性膜２から構成される多層膜を形成した。結晶性膜２はｎ−ＧａＮ系層上にＩｎＧａＮ系活性層が積層形成された二層構成である。なお、具体的な成膜条件は以下の通りであり、以下に示す（１）〜（５）の順にプロセスを実施した。また、結晶性膜２の膜厚は３．９０８μｍとした。
（１）サーマルクリーニング
サファイア基板をＭＯＣＶＤ装置内に配置した後、結晶成長面のサーマルクリーニングを、基板温度１１００℃にて約１２０秒間実施した。
（２）バッファ層の形成
成膜時の基板温度を５３０℃とし、成膜レート０．１６ｎｍ／ｓにて膜厚が３０ｎｍとなるまでバッファ層を形成した。
（３）ｎ−ＧａＮ系層の形成
成膜時の基板温度を１０５０℃とし、成膜レート２０００ｎｍ／ｈｒにて膜厚が３５００ｎｍとなるまでｎ−ＧａＮ系層を形成した。
（４）ＩｎＧａＮ系活性層の形成
成膜時の基板温度を７５０℃とし、成膜レート１５ｎｍ／ｍｉｎにて、膜厚が４０８ｎｍとなるまでＩｎＧａＮ系活性層を形成した。
（５）クールダウン
バッファ層、ｎ−ＧａＮ系層及びＩｎＧａＮ系活性層をこの順に形成したサファイア基板を常温近傍まで冷却した。【０１２９】
（評価結果）
−サファイア基板の曲率の評価−
図１７に、梨地１ｂの形成部分の幅ｔを変更したサンプル毎の多層膜成膜工程におけるサファイア基板の曲率挙動の測定結果を示す。図１７に示されるように梨地１ｂの形成部分の幅ｔが太くなり、サファイア基板の結晶成長面上における梨地１ｂの形成面積の割合が増加するほど、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率（または反り量）を減少させられることが判った。前記幅ｔが４ｕｍのサファイア基板（Ｎｏ．５／実施例５）の曲率は１３７．５ｋｍ−１、前記幅ｔが８ｕｍのサファイア基板（Ｎｏ．６／実施例６）の曲率は１２８．１ｋｍ−１、前記幅ｔが１６ｕｍのサファイア基板（Ｎｏ．７／実施例７）の曲率は１１５．６ｋｍ−１、であった。なお、図１７に示す曲率挙動は、Ｉｎ−ｓｉｔｕ観察方法で観察した。【０１３０】
−梨地形成面積に対する結晶性膜成膜後のサファイア基板の曲率評価−
また図１７に示すサンプルＮｏ．５〜Ｎｏ．７ごとに、サファイア基板表面（結晶成長面）の全面積に対する梨地１ｂの形成面積の割合を算出し、その割合に対する多層膜成膜後のサファイア基板の曲率を記したグラフを図１８に示す。図１８から明らかなように、結晶成長面の全面積に対する梨地１ｂの形成面積の割合と、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率との間には比例関係が成立し、梨地１ｂの形成面積が増加するほど、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率を減少可能であることが判明した。即ち、梨地１ｂの形成面積を増加するほど劣化結晶性膜部分が増加し、その結果、結晶性膜２全体に発生する内部応力を結晶性膜２の外部へと開放し、結晶性膜２の成膜後のサファイア基板の曲率が減少したことが判った。【０１３１】
（比較例２）
次に比較例２を説明する。実施例５〜７に対する比較例２の相違点は、比較例２のサファイア基板に梨地１ｂが形成されていない点である。その他の条件は実施例５〜７と同一であるため、記述は省略する。【０１３２】
図１７に、比較例２（梨地１ｂの形成部分の幅ｔ＝０）のサンプルでの、多層膜成膜工程におけるサファイア基板の曲率挙動の測定結果を示す。実施例５〜７と比較すると、結晶性膜成膜後のサファイア基板の曲率（または反り量）が最も大きいことが判った。比較例２でのサファイア基板の曲率は１５６．３ｋｍ−１であった。なお、比較例の曲率挙動も、Ｉｎ−ｓｉｔｕ観察方法で観察した。【０１３３】
また、図１８に比較例２における多層膜成膜後のサファイア基板の曲率を示した。図１８から明らかなように、比較例２も比例関係上にプロットされることが判明した。
【符号の説明】
【０１３４】
１  エピタキシャル成長用単結晶基板
１ａ  梨地非形成面
１ｂ  梨地
２  結晶性膜
２ａ  単結晶性膜
２ａ１  第２の単結晶性膜
２ａ２  第３の単結晶性膜
２ｂ  単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜（劣化結晶性膜）
２ｂ１  第２の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜（第２の劣化結晶性膜）
３  マスク
４  結晶性基板
ｔ  梨地形成部分の幅
【図１】
2011129246.tif 000003
【図２】
2011129246.tif 000004
【図３】
2011129246.tif 000005
【図４】
2011129246.tif 000006
【図５】
2011129246.tif 000007
【図６】
2011129246.tif 000008
【図７】
2011129246.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【手続補正書】
【提出日】平成24年12月28日(2012.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単結晶基板の表面の少なくとも一部の領域に梨地が形成されていることを特徴とする単結晶基板。
【請求項２】
前記梨地が前記単結晶基板表面に、ストライプ形状、十字形状、格子形状、複数の多角形を配置した形状、同心円状、螺旋形状、前記単結晶基板の中心点を通る直線に対して線対称、及び前記単結晶基板の中心点に対して点対称な形状、の何れかで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の単結晶基板。
【請求項３】
前記梨地が不連続に前記単結晶基板表面に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の単結晶基板。
【請求項４】
前記梨地が相互に独立した複数の部分に亘って前記単結晶基板表面に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の単結晶基板。
【請求項５】
前記単結晶基板の直径が２インチ以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の単結晶基板。
【請求項６】
前記単結晶基板の直径が２インチ以上であることを特徴とする請求項４に記載の単結晶基板。
【請求項７】
前記梨地の幅が、０μｍ超かつ８０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から３又は５のいずれか１項に記載の単結晶基板。
【請求項８】
前記梨地の幅が、０μｍ超かつ１０μｍ以下であることを特徴とする請求項７に記載の単結晶基板。
【請求項９】
前記単結晶基板表面の全面積に占める前記梨地の形成されている領域の面積が０％超かつ５０％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の単結晶基板。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の単結晶基板の、前記梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜が形成されていると共に、
前記梨地が形成された梨地形成面上には前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜が形成され、
更に、少なくとも前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成される結晶性膜と、前記単結晶基板とで形成されていることを特徴とする結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１１】
前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜が、窒化物半導体膜であることを特徴とする請求項１０に記載の結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１２】
前記単結晶基板の材料が、サファイアであることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１３】
前記梨地非形成面に面する前記単結晶性膜表面の他方の表面に、凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１０から１２のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１４】
前記単結晶性膜の側面が、前記単結晶性膜の材料の屈折率と、前記単結晶性膜外部の大気の屈折率とで決定する臨界角以上の角度（但し、前記臨界角は前記単結晶基板表面の法線方向を基準とした角度）で傾斜して形成されていることを特徴とする請求項１３に記載の結晶性膜付き単結晶基板。
【請求項１５】
請求項１０から１２のいずれか１項に記載の前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で形成され、前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の膜厚が３００μｍ以上であることを特徴とする結晶性膜。
【請求項１６】
エピタキシャル成長により形成される結晶性膜の成膜に用いられる単結晶基板の、基板表面の少なくとも一部の領域に梨地を形成し、
次いで、前記梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜をエピタキシャル成長により形成すると共に、
前記単結晶基板の前記梨地が形成された梨地形成面上には前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜をエピタキシャル成長により形成して、
少なくとも前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成する前記結晶性膜と、前記単結晶基板とで結晶性膜付き単結晶基板を形成することを特徴とする結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項１７】
前記単結晶基板表面に、ストライプ形状、十字形状、格子形状、複数の多角形を配置した形状、同心円状、螺旋形状、前記単結晶基板の中心点を通る直線に対して線対称、及び前記単結晶基板の中心点に対して点対称な形状、の何れかで前記梨地を形成することを特徴とする請求項１６に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項１８】
前記梨地を不連続に前記単結晶基板表面に形成することを特徴とする請求項１７に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項１９】
前記梨地を相互に独立した複数の部分に亘って前記単結晶基板表面に形成することを特徴とする請求項１６に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２０】
前記単結晶基板として、直径が２インチ以上の単結晶基板を用いることを特徴とする請求項１６から１８のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２１】
前記単結晶基板として、直径が２インチ以上の単結晶基板を用いることを特徴とする請求項１９に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２２】
前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を、窒化物半導体膜とすることを特徴とする請求項１６から１８、２０のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２３】
前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を、窒化物半導体膜とすることを特徴とする請求項１９又は２１に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２４】
前記単結晶基板の材料を、サファイアとすることを特徴とする請求項１６から１８、２０、２２のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２５】
前記単結晶基板の材料を、サファイアとすることを特徴とする請求項１９、２１、２３のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２６】
前記梨地非形成面に面する前記単結晶性膜表面の他方の表面に、エッチングにより凹凸を形成することを特徴とする請求項１６から１８、２０、２２、２４のいずれか1項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２７】
前記梨地非形成面に面する前記単結晶性膜表面の他方の表面に、エッチングにより凹凸を形成することを特徴とする請求項１９、２１、２３、２５のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２８】
前記エッチングがウエットエッチングであることを特徴とする請求項２６に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項２９】
前記エッチングがウエットエッチングであることを特徴とする請求項２７に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３０】
前記エッチングにより、前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の少なくとも一部を除去することで、前記単結晶性膜の側面を露出し、
前記側面を、前記単結晶性膜の材料の屈折率と、前記単結晶性膜外部の大気の屈折率とで決定する臨界角以上の角度（但し、前記臨界角は前記単結晶基板表面の法線方向を基準とした角度）で傾斜して形成することを特徴とする請求項２６又は２８に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３１】
前記エッチングにより、前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の少なくとも一部を除去することで、前記単結晶性膜の側面を露出し、
前記側面を、前記単結晶性膜の材料の屈折率と、前記単結晶性膜外部の大気の屈折率とで決定する臨界角以上の角度（但し、前記臨界角は前記単結晶基板表面の法線方向を基準とした角度）で傾斜して形成することを特徴とする請求項２７又は２９に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３２】
前記梨地を０μｍ超かつ８０μｍ以下の幅で形成することを特徴とする請求項１６から１８、２０、２２、２４、２６、２８、３０のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３３】
前記梨地を０μｍ超かつ１０μｍ以下の幅で形成することを特徴とする請求項３２に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３４】
前記単結晶基板表面の全面積に占める前記梨地の形成されている領域の面積が０％超かつ５０％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１６に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法。
【請求項３５】
請求項１６から２５のいずれか１項に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により製造された結晶性膜の前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜表面の一部にマスクを形成後、
前記単結晶性膜表面上及び前記マスク表面上に第２の単結晶性膜を形成すると共に、
前記マスク非形成の前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜表面上に、第２の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を形成し、
所定の厚さまで前記第２の単結晶性膜及び前記第２の単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜を形成後、
以下、前記マスクの形成から所定の厚さでの前記単結晶性膜及び前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜形成工程を繰り返すことにより、
前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の形成箇所を前記マスクの形成の度に縮小していき、
前記単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜の形成箇所を皆無として、前記単結晶性膜のみから形成される結晶性基板を形成することを特徴とする結晶性基板の製造方法。
【請求項３６】
請求項１６から３１のいずれか１項記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により結晶性膜付き単結晶基板を製造し、
更に、その結晶性膜に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と前記素子部分に略対応するサイズを有する結晶性膜付き単結晶基板とを含む素子を製造することを特徴とする素子製造方法。
【請求項３７】
請求項３５に記載の結晶性基板の製造方法により結晶性基板を製造し、
更に、結晶性基板に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と前記素子部分に略対応するサイズを有する結晶性基板とを含む素子を製造することを特徴とする素子製造方法。
【請求項３８】
請求項３２又は３３に記載の結晶性膜付き単結晶基板の製造方法により結晶性膜付き単結晶基板を製造し、
更に、その結晶性膜に対して少なくともパターニング処理を施すことにより、発光素子、光発電素子、半導体素子から選択される何れか１つの素子として機能する素子部分を作製する素子部分形成工程を少なくとも経て、
素子部分と前記素子部分に略対応するサイズを有する結晶性膜付き単結晶基板とを含む素子を製造することを特徴とする素子製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
更に本発明の単結晶基板の一実施形態は、梨地が単結晶基板表面に、ストライプ形状、十字形状、格子形状、複数の多角形を配置した形状、同心円状、螺旋形状、単結晶基板の中心点を通る直線に対して線対称、及び単結晶基板の中心点に対して点対称な形状、の何れかで形成されていることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
更に本発明の結晶性膜付き単結晶基板は、
梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜が形成されていると共に、
梨地が形成された梨地形成面上には単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜が形成され、
更に、少なくとも単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成される結晶性膜と、単結晶基板とで形成されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
又、本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法は、エピタキシャル成長により形成される結晶性膜の成膜に用いられる単結晶基板の、基板表面の少なくとも一部の領域に梨地を形成し、
次いで、梨地が形成されていない梨地非形成面上に単結晶性膜をエピタキシャル成長により形成すると共に、単結晶基板の梨地が形成された梨地形成面上には単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜をエピタキシャル成長により形成して、
少なくとも単結晶性膜及び単結晶性膜よりも結晶性が劣る結晶性膜で構成する結晶性膜と、単結晶基板とで結晶性膜付き単結晶基板を形成することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
更に本発明に係る結晶性膜付き単結晶基板の製造方法の一実施形態は、単結晶基板表面に、ストライプ形状、十字形状、格子形状、複数の多角形を配置した形状、同心円状、螺旋形状、単結晶基板の中心点を通る直線に対して線対称、及び単結晶基板の中心点に対して点対称な形状、の何れかで梨地を形成することが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
更に請求項２，１７に記載の発明によれば、単結晶基板表面における梨地形成部分のパターン形状を、単結晶基板の中心点に対し点対称に形成することにより、結晶性膜の全面に亘って均一に内部応力を開放させることが可能となる。又、パターン形状を、ストライプ形状、螺旋形状、線対称なパターンとすることにより、結晶性膜の内部応力の開放に縦横方向で偏りを持たせることも可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
このように、単結晶基板１表面に梨地１ｂ形成面と梨地非形成面（平滑面）１ａをそれぞれ設けることで、成膜形成する結晶性膜２にも単結晶性膜２ａ部分と劣化結晶性膜２ｂ部分を設けることが可能となる。このように劣化結晶性膜２ｂを結晶性膜２に部分的に設けることで、単結晶基板１との格子定数差及び熱膨張値差に起因して結晶性膜２全体に発生する内部応力を、劣化結晶性膜２ｂ部分から結晶性膜２の外部へと開放することが可能となる。従って、結晶性膜２の反り量が減少又は皆無となり、従来技術と比べて各素子製造時のフォトリソグラフィ工程の均一性が改善され、また結晶性膜２内部でのクラックの発生が防止される。反り量が減少されることで結晶性膜２ができるだけ平坦な状態に近づくことが基本的に望ましいが、結晶性膜２の成膜に起因して生じた、単結晶基板１及び結晶性膜２の反りの向きは同じままで、反り量の程度が多少小さくなっているだけでも良い。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
パターン形状は、結晶性膜２の反り状態の対称性に影響を与えるため、結晶性膜２の全面に亘って均一に内部応力を開放したい場合には、図２〜図４又は同心円状のように、パターン形状の平面形状が単結晶基板１の中心点に対して、点対称であることが好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
又は図５に示すように、単結晶基板１の表面において各々の梨地１ｂの形成部分が、相互に独立した複数の円形状部分となるように形成しても良い。図５のパターン形状の場合、梨地１ｂの形成部分は単結晶基板１の平面方向に亘って、明らかな偏りが生じないように形成することが、結晶性膜２の全面に亘る内部応力の均一な緩和又は解消という点で好ましい。従って、図５のように、パターン形状の平面形状が単結晶基板１の中心点に対して、点対称であることが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
結晶性膜２を成膜形成する単結晶基板１がサファイアの場合、その結晶成長面として好ましくはＣ面であるが、これに限定されず、Ｒ面、Ｍ面、Ａ面など、Ｃ面以外の面も使用可能である。なお、結晶成長面はＣ面に対して僅かに傾斜していても良い。又、Ｃ面に対する結晶成長面の傾斜方向としてはｍ軸方向又はａ軸方向が挙げられるが、これに限定されない。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
図１３は結晶性膜２付き単結晶基板１の曲率から、結晶性膜２付き単結晶基板１の反り量を計算する方法を説明する模式説明図である。図１３においては、結晶性膜２付き単結晶基板１の曲率半径をＲ、曲率１／Ｒを有する結晶性膜２付き単結晶基板の反り量Ｘ、結晶性膜２付き単結晶基板１の直径を近似的にＤとして示した。これらの値の関係性として、三平方の定理を用いることで，（１／Ｒ）２＝（（１／Ｒ）−Ｘ）２＋（Ｄ／２）２）と示すことができる。この式から、単結晶基板１の直径が２インチ（５０ｍｍ）の場合は、０．３２２×曲率（ｋｍ−１）、単結晶基板１の直径が４インチ（１００ｍｍ）の場合は、１．２５０×曲率（ｋｍ−１）として反り量（μｍ）を求めることができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
また、結晶性膜２が自立可能な厚さ３００μｍ以上を有するＧａＮの場合は、更に結晶性膜２を単結晶基板１から剥離して分離する（図８（Ｃ）参照）。エピタキシャル成長により自立可能な３００μｍ以上の膜厚まで結晶性膜２を形成することにより、分離の際に厚膜から構成される結晶性膜２を形成することが出来る。従って、膜厚３００μｍ以上を有するクラックが皆無な結晶性膜２を得ることが可能となる。
【国際調査報告】
2011129246.tif 000021
2011129246.tif 000022
2011129246.tif 000023
2011129246.tif 000024
2011129246.tif 000025
2011129246.tif 000026