(57)【要約】  フィルタを保持するフィルタボックスは、フィルタを保持するフレームと、フレームに設けられた取っ手部とを備え、フレームの側面の少なくとも一部に設けられ、フレームの２つの端面のうち、一方の端面側から他方の端面側に向かい、かつそのフレームの外側に変化した形状変化部を有する。フィルタの設置を効率的に、又は容易に位置決めできるように行うことができる。
2011125975.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルタを保持するフィルタボックスであって、
前記フィルタを保持するフレームと、
前記フレームに設けられた第１取っ手部とを備え、
前記フレームの側面の少なくとも一部に設けられ、前記フレームの２つの端面のうち、一方の端面側から他方の端面側に向かい、かつ前記フレームの外側に変化した形状変化部を有することを特徴とするフィルタボックス。
【請求項２】
前記形状変化部は、前記フレームの側面の少なくとも一部に形成され、前記フレームの前記２つの端面のうち、前記一方の端面側から前記他方の端面側に向かって、前記フレームの外側に次第に傾斜する第１傾斜部を有することを特徴とする請求項１に記載のフィルタボックス。
【請求項３】
前記フレームは、矩形状に形成され、かつ複数の側面を備え、
前記第１傾斜部は、前記複数の側面のうち、第１側面に形成されることを特徴とする請求項２に記載のフィルタボックス。
【請求項４】
前記フィルタに関して前記フレームの前記第１側面と反対側の第２側面の少なくとも一部に設けられ、前記一方の端面側から前記他方の端面側に向かって、前記フレームの外側に次第に傾斜する第２傾斜部を有することを特徴とする請求項３に記載のフィルタボックス。
【請求項５】
前記第１傾斜部と前記第２傾斜部とは対称に傾斜していることを特徴とする請求項４に記載のフィルタボックス。
【請求項６】
前記第１傾斜部及び前記第２傾斜部はそれぞれ前記第１側面及び前記第２側面の全面に形成されたことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のフィルタボックス。
【請求項７】
前記第１傾斜部の傾斜面及び前記第２傾斜部の傾斜面は、直線状又は曲線状に形成されることを特徴とする請求項４から請求項６のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
【請求項８】
前記第１取っ手部は前記フレームの前記第１側面に設けられることを特徴とする請求項３から請求項７のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
【請求項９】
前記第１取っ手部は前記フレームの前記第１傾斜部に設けられることを特徴とする請求項８に記載のフィルタボックス。
【請求項１０】
前記第１取っ手部は前記第１傾斜部に設けられる凸部であることを特徴とする請求項９に記載のフィルタボックス。
【請求項１１】
前記第１取っ手部は前記第１傾斜部に設けられる凹部であることを特徴とする請求項９に記載のフィルタボックス。
【請求項１２】
前記第１側面における第１取っ手部の位置は、前記第１傾斜部の傾斜方向とは異なる方向に沿って可変であることを特徴とする請求項８から請求項１１のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
【請求項１３】
前記第１傾斜部は、前記第１側面において２つの部分に分離され、
前記第１取っ手部は、分離された前記第１傾斜部の間に配置されることを特徴とする請求項８に記載のフィルタボックス。
【請求項１４】
前記フレームの前記第２側面に設けられる第２取っ手部を有することを特徴とする請求項４から請求項７のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
【請求項１５】
前記第２取っ手部は前記第２傾斜部に設けられることを特徴とする請求項１４に記載のフィルタボックス。
【請求項１６】
前記第２取っ手部は前記第２傾斜部に設けられる凸部であることを特徴とする請求項１５に記載のフィルタボックス。
【請求項１７】
前記第２取っ手部は前記第２傾斜部に設けられる凹部であることを特徴とする請求項１５に記載のフィルタボックス。
【請求項１８】
前記第２側面における前記第２取っ手部の位置は、前記第２傾斜部の傾斜がない方向に沿って可変であることを特徴とする請求項１４から請求項１７のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
【請求項１９】
前記第２傾斜部は、前記第２側面において２つの部分に分離され、
前記第２取っ手部は、分離された前記第２傾斜部の間に配置されることを特徴とする請求項１４に記載のフィルタボックス。
【請求項２０】
前記フィルタは、前記フィルタを通過する気体中の有機物を除去することを特徴とする請求項１から請求項１９のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
【請求項２１】
前記フィルタは、前記フィルタを通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去することを特徴とする請求項１から請求項２０のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
【請求項２２】
前記フレームの２つの端面のうち、他方の端面に設けられたシール部材を有することを特徴とする請求項１から請求項２１のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
【請求項２３】
露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置において、
前記基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、
請求項１から請求項２２のいずれか一項に記載の少なくとも一つのフィルタボックスと、
前記チャンバの外部から取り込まれた気体を前記フィルタボックスを介して前記チャンバ内に送風する空調装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２４】
前記フィルタボックスは前記気体の流路に沿って複数個配置されることを特徴とする請求項２３に記載の露光装置。
【請求項２５】
請求項２３又は請求項２４に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば気体中の不純物等を除去するためのフィルタを保持するフィルタボックス、このフィルタボックスを備える露光装置、及びこの露光装置を用いて例えば半導体素子、液晶表示素子、又は撮像素子等を製造するためのデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するためのリソグラフィー工程で使用される露光装置において、高い露光精度（解像度及び位置決め精度等）を得るためには、照明光学系の照明特性及び投影光学系の結像特性を所定の状態に維持し、かつレチクル（又はフォトマスク等）、投影光学系、及びウエハ（又はガラスプレート等）が設置される空間を所定の環境に維持する必要がある。そのため、従来より、露光装置の照明光学系の一部、レチクルステージ、投影光学系、及びウエハステージ等を含む露光本体部は、箱型のチャンバ内に設置され、このチャンバ内に、所定温度に制御されて、かつ防塵フィルタを通過した清浄な気体（例えば空気）をダウンフロー方式及びサイドフロー方式で供給する空調装置が備えられている。【０００３】
また、露光装置では、近年の回路パターンの著しい微細化要求に対応すべく、露光光の短波長化が進められており、最近では、露光光としてＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、及びさらにほぼ真空紫外域のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）が使用されている。このような短波長の露光光を用いる場合、露光光が通過する空間（例えば、鏡筒の内部空間）内に微量な有機物のガス（有機系ガス）が存在すると、露光光の透過率が低下するとともに、露光光と有機系ガスとの反応によって、レンズエレメント等の光学素子の表面に曇り物質を生ずる恐れがある。さらに、チャンバ内に供給する気体からは、ウエハに塗布されたフォトレジスト（感光材料）と反応するアルカリ性物質のガス（アルカリ系ガス）等も除去することが望ましい。【０００４】
そこで、従来より、露光装置の空調装置の気体の取り込み部には、チャンバ内に供給される気体から有機系ガス及び／又はアルカリ系ガス等を除去するための複数のケミカルフィルタが設けられている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００４／１０８２５２号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の露光装置において、ケミカルフィルタをケーシング内に設置する場合、例えばケミカルフィルタを収納する平板状のフレームを横置き（フィルタ面が鉛直方向となる向き）でケーシング内の側壁に突き当たるまで搬入した後、所定の設置位置まで、作業者がそのフレームをその側壁に沿ってフィルタ面に対して法線方向に移動していた。この場合、フレームの端面と、そのケーシングの通気用の開口が形成された仕切り部材の面との間に隙間があると、ケミカルフィルタを通過せずに、この隙間を介して不純物を含む気体が露光本体部に供給される恐れがある。そのため、そのフレームをその設置位置に正確に位置決めするための時間が長くなり、ひいては使用済みのケミカルフィルタの交換時間も長くなっていた。【０００７】
さらに、露光装置においては、要求される露光精度の一層の向上に対応して、設置するケミカルフィルタの数が増加しているため、ケミカルフィルタの交換を正確にかつ効率的に行う必要がある。
本発明は、このような事情に鑑み、フィルタの設置を容易に位置決めできるように行うことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様によれば、フィルタを保持するフィルタボックスであって、そのフィルタを保持するフレームと、そのフレームに設けられた第１取っ手部とを備え、そのフレームの側面の少なくとも一部に設けられ、そのフレームの２つの端面のうち、一方の端面側から他方の端面側に向かい、かつそのフレームの外側に変化した形状変化部を有するフィルタボックスが提供される。【０００９】
また、本発明の第２の態様によれば、露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置において、その基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、本発明の少なくとも一つのフィルタボックスと、そのチャンバの外部から取り込まれた気体をそのフィルタボックスを介してそのチャンバ内に送風する空調装置と、を備える露光装置が提供される。
また、本発明の第３の態様によれば、本発明の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、フィルタの設置を容易に位置決めできるように行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施形態の一例の露光装置の構成を示す一部が切り欠かれた図である。
【図２】図１のフィルタ装置２６を示す斜視図である。
【図３】図２のフィルタ装置２６を示す断面図である。
【図４】（Ａ）は図３中のフィルタボックス３８を示す斜視図、（Ｂ）は図３中のフィルタボックス４０を示す斜視図である。
【図５】（Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれフィルタボックス３８とケーシング２８との相対位置の変化を示す一部が切り欠かれた平面図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれフィルタボックス３８，４０とケーシング２８との相対位置の変化を示す一部が切り欠かれた平面図である。
【図７】（Ａ）は第１変形例のフィルタボックス３８Ａを示す斜視図、（Ｂ）は第１変形例のフィルタボックス４０Ａを示す斜視図である。
【図８】（Ａ）は第２変形例のフィルタボックス３８Ｂを示す斜視図、（Ｂ）は第２変形例のフィルタボックス４０Ｂを示す斜視図である。
【図９】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ第３変形例、第４変形例、及び第５変形例のフィルタボックスを示す平面図である。
【図１０】（Ａ）は他の例のフィルタ装置を示す断面図、（Ｂ）は図１０（Ａ）中のフィルタボックスを示す斜視図である。
【図１１】電子デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の好ましい実施形態の一例につき図１〜図６を参照して説明する。
図１は、本実施形態のスキャニングステッパーよりなる走査露光型の露光装置ＥＸを示す一部を切り欠いた図である。図１において、露光装置ＥＸは、露光光（露光用の照明光）ＥＬを発生する光源部２と、露光光ＥＬでレチクルＲ（マスク）を照明する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲを保持して移動するレチクルステージＲＳＴと、レチクルＲのパターンの像をフォトレジスト（感光材料）が塗布されたウエハＷ（基板）の表面に投影する投影光学系ＰＬとを備えている。さらに、露光装置ＥＸは、ウエハＷを保持して移動するウエハステージＷＳＴと、その他の駆動機構及びセンサ類等と、複数枚のレチクルを保管するレチクルライブラリ９と、複数枚の未露光及び／又は露光済みのウエハを保管するウエハカセット７と、露光装置ＥＸの動作を統括的に制御する主制御装置（不図示）とを備えている。これらの光源部２から主制御装置（不図示）までの部材は、例えば半導体デバイス製造工場のクリーンルーム内の第１の床ＦＬ１の上面に設置されている。
【００１３】
また、露光装置ＥＸは、床ＦＬ１上に設置された箱状の気密性の高いチャンバ１０を備え、チャンバ１０の内部は、例えばシャッタ２４Ｒ及び２４Ｗで開閉される２つの開口を有する仕切り部材１０ｄによって、露光室１０ａとローダ室１０ｂとに区画されている。そして、露光室１０ａ内に、照明光学系ＩＬＳ、レチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、及びウエハステージＷＳＴを含む露光本体部４が設置され、ローダ室１０ｂ内に、レチクルライブラリ９及びウエハカセット７をそれぞれ含むレチクルローダ系及びウエハローダ系が設置されている。
【００１４】
また、露光装置ＥＸは、チャンバ１０の内部全体の空調を行うための全体空調システムを備えている。この全体空調システムは、第１の床ＦＬ１の階下の機械室の第２の床ＦＬ２の上面に設置されて、直列に配置された複数のケミカルフィルタを有するフィルタ装置２６と、床ＦＬ２の上面に設置された空調本体部３１を有する空調装置３０と、露光室１０ａの上部に設置された大型の吹き出し口１８と、照明光学系ＩＬＳを収納するサブチャンバ２２の底面に配置された小型の吹き出し口１９Ｒと、投影光学系ＰＬの近傍に配置された小型の吹き出し口１９Ｗとを備えている。フィルタ装置２６は、配管２５を介して供給される空調用の気体である空気ＡＲから所定の不純物を除去し、不純物を除去した空気を矢印Ａ１で示すように第１ダクト３２を介して空調本体部３１に供給する（詳細後述）。
【００１５】
空調装置３０は、第１ダクト３２と、空調本体部３１と、空調本体部３１とチャンバ１０の内部とを床ＦＬ１に設けられた開口を通して連結する第２ダクト３５と、例えば第２ダクト３５の途中に配置されて、内部を流れる空気から微小な粒子（パーティクル）を除去するＵＬＰＡフィルタ（Ultra Low Penetration Air-filter）等の防塵フィルタ３６とを備えている。ダクト３２，３５及び配管２５は、例えばステンレス鋼又はフッ素樹脂など、汚染物質の発生量の少ない材料を用いて形成されている。
【００１６】
空調本体部３１は、第１ダクト３２を介して供給される空気の温度を制御する温度制御部３３Ａと、その空気の湿度を制御する湿度制御部３３Ｂと、その空気を第２ダクト３５側に送風するファンモータ３４とを備えている。その空気は、温度が２０℃〜３０℃の範囲内の例えば２３℃に制御されて、第２ダクト３５及び吹き出し口１８を介して露光室１０ａの内部にダウンフロー方式で供給される。チャンバ１０の内部は、この空気の供給によって陽圧状態に設定される。また、第２ダクト３５内の空気は、分岐管３５ａ及び３５ｂと、対応する吹き出し口１９Ｗ及び吹き出し口１９Ｒとを介して露光室１０ａ内に供給される。露光室１０ａ内の空気の一部はローダ室１０ｂにも流入する。
【００１７】
一例として、チャンバ１０の内部（露光室１０ａ）を流れた空気は、チャンバ１０の底面に設けられた多数の開口４５ａ及び床ＦＬ１に設けられた多数の開口４５ｂを通して床下の排気ダクト４４内に流れ、排気ダクト４４内の空気は、不図示のフィルタを介して清浄化された後、排気される。なお、排気ダクト４４に流れた空気の全部又は一部を配管２５側に戻して再利用することも可能である。
【００１８】
以下、図１において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面（本実施形態ではほぼ水平面に平行である）内で図１の紙面に垂直にＸ軸を、図１の紙面に平行にＹ軸を取って説明する。本実施形態では、走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向はＹ方向である。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の回りの回転方向をθｘ、θｙ、θｚ方向とも呼ぶ。
【００１９】
先ず、チャンバ１０の外側の床ＦＬ１上に設置された光源部２は、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を発生する露光光源と、その露光光ＥＬを照明光学系ＩＬＳに導くビーム送光光学系とを備えている。光源部２の露光光ＥＬの射出端は、チャンバ１０の＋Ｙ方向の側面上部の開口を通して露光室１０ａ内に配置されている。なお、露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ光源（波長２４８ｎｍ）などの紫外パルスレーザ光源、ＹＡＧレーザの高調波発生光源、固体レーザ（半導体レーザなど）の高調波発生装置、又は水銀ランプ（ｉ線等）なども使用できる。
【００２０】
また、チャンバ１０内の上部に配置された照明光学系ＩＬＳは、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、レチクルブラインド、及びコンデンサ光学系等を備えている。照明光学系ＩＬＳは、レチクルブラインドで規定されたレチクルＲのパターン面のＸ方向に細長いスリット状の照明領域を露光光ＥＬによりほぼ均一な照度で照明する。
【００２１】
レチクルＲに形成されたパターン領域のうち、照明領域内のパターンの像は、両側テレセントリックで投影倍率βが縮小倍率（例えば１／４）の投影光学系ＰＬを介してウエハＷの表面に結像投影される。
また、チャンバ１０の露光室１０ａ内の床ＦＬ１上に、複数の台座１１を介して下部フレーム１２が設置され、下部フレーム１２の中央部に平板状のベース部材１３が固定され、ベース部材１３上に例えば３箇所の防振台１４を介して平板状のウエハベースＷＢが支持され、ウエハベースＷＢのＸＹ平面に平行な上面にエアベアリングを介してウエハステージＷＳＴがＸ方向、Ｙ方向に移動可能に、かつθｚ方向に回転可能に載置されている。また、下部フレーム１２の上端に、ウエハベースＷＢを囲むように配置された例えば３箇所の防振台１５を介して光学系フレーム１６が支持されている。光学系フレーム１６の中央部の開口に投影光学系ＰＬが配置され、光学系フレーム１６上に投影光学系ＰＬを囲むように上部フレーム１７が固定されている。
【００２２】
また、光学系フレーム１６の底面の＋Ｙ方向の端部にＹ軸のレーザ干渉計２１ＷＹが固定され、その底面の＋Ｘ方向の端部にＸ軸のレーザ干渉計（不図示）が固定されている。これらの干渉計よりなるウエハ干渉計は、それぞれウエハステージＷＳＴの側面の反射面（又は移動鏡）に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系ＰＬの側面の参照鏡（不図示）を基準として、ウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｘ、θｙ、θｚ方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置（不図示）に供給する。
【００２３】
主制御装置（不図示）内のステージ制御系が、上記のウエハ干渉計の計測値及びオートフォーカスセンサ（不図示）の計測値等に基づいて、リニアモータ等を含む駆動機構（不図示）を介してウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置及び速度とθｚ方向の回転角とを制御するとともに、ウエハＷの表面が投影光学系ＰＬの像面に合焦されるように、ウエハステージＷＳＴ内のＺステージ（不図示）を制御する。また、レチクルＲ及びウエハＷのアライメントを行うためのアライメント系ＡＬＧ等も設けられている。
【００２４】
一方、上部フレーム１７の＋Ｙ方向の上部に、照明光学系ＩＬＳを収納するサブチャンバ２２が固定されている。さらに、上部フレーム１７のＸＹ平面に平行な上面にエアベアリングを介して、レチクルステージＲＳＴがＹ方向に定速移動可能に、かつＸ方向への移動及びθｚへの回転が可能に載置されている。
また、上部フレーム１７の上面の＋Ｙ方向の端部にＹ軸のレーザ干渉計２１ＲＹが固定され、その上面の＋Ｘ方向の端部にＸ軸のレーザ干渉計（不図示）が固定されている。これらの干渉計よりなるレチクル干渉計は、それぞれレチクルステージＲＳＴに設けられた移動鏡２１ＭＹ等に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系ＰＬの側面の参照鏡（不図示）を基準として、レチクルステージＲＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ、θｘ、θｙ方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置（不図示）に供給する。
【００２５】
主制御装置（不図示）内のステージ制御系は、そのレチクル干渉計の計測値等に基づいてリニアモータ等を含む駆動機構（不図示）を介してレチクルステージＲＳＴのＹ方向の速度及び位置、Ｘ方向の位置、並びにθｚ方向の回転角等を制御する。
また、本実施形態の露光装置ＥＸが液浸型である場合には、投影光学系ＰＬの下端の光学部材の下面に配置される例えばリング状のノズルヘッドを含む局所液浸機構（不図示）から、投影光学系ＰＬの先端の光学部材とウエハＷとの間の局所的な液浸領域に所定の液体（純水等）が供給される。その局所液浸機構としては、例えば米国特許出願公開第２００７／２４２２４７号明細書等に開示されている液浸機構を使用できる。なお、露光装置ＥＸがドライ型である場合には、その液浸機構を備える必要はない。
【００２６】
また、ローダ室１０ｂの内部において、上方の支持台６７の上面にレチクルライブラリ９及び水平多関節型ロボットであるレチクルローダ８が設置されている。レチクルローダ８は、仕切り部材１０ｄのシャッタ２４Ｒで開閉される開口を通して、レチクルライブラリ９とレチクルステージＲＳＴとの間でレチクルＲの交換を行う。
また、ローダ室１０ｂの内部において、下方の支持台６８の上面にウエハカセット７と、ウエハカセット７との間でウエハの出し入れを行う水平多関節型ロボット６ａとが設置されている。水平多関節型ロボット６ａの上方には、水平多関節型ロボット６ａとともにウエハローダ６を構成するウエハ搬送装置６ｂが設置されている。ウエハ搬送装置６ｂは、仕切り部材１０ｄのシャッタ２４Ｗで開閉される開口を通して、水平多関節型ロボット６ａとウエハステージＷＳＴとの間でウエハＷを搬送する。
【００２７】
そして、露光装置ＥＸの露光時には、先ずレチクルＲ及びウエハＷのアライメントが行われる。その後、レチクルＲへの露光光ＥＬの照射を開始して、投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンの一部の像をウエハＷの表面の一つのショット領域に投影しつつ、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとを投影光学系ＰＬの投影倍率βを速度比としてＹ方向に同期して移動（同期走査）する走査露光動作によって、そのショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。その後、ウエハステージＷＳＴを介してウエハＷをＸ方向、Ｙ方向にステップ移動する動作と、上記の走査露光動作とを繰り返すことによって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷの全部のショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。
【００２８】
次に、本実施形態の露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬＳの照明特性（照度均一性等）及び投影光学系の結像特性（解像度等）を所定の状態に維持し、かつレチクルＲ、投影光学系ＰＬ、及びウエハＷが設置される雰囲気（空間）を所定の環境に維持して高い露光精度（解像度、位置決め精度等）で露光を行うために、上述のように、チャンバ１０の内部に温度制御された清浄な空気をダウンフロー方式で供給する空調装置３０を含む全体空調システムを備えている。
【００２９】
また、その全体空調システムは局所空調部を備えている。即ち、第２ダクト３５の分岐管３５ｂ及び３５ａからそれぞれサブチャンバ２２の底面の吹き出し部１９Ｒ、及び光学系フレーム１６の底面の吹き出し部１９Ｗに温度制御された清浄な空気が供給されている。この場合、吹き出し部１９Ｒ及び１９Ｗは、それぞれレチクルステージＲＳＴ用のＹ軸のレーザ干渉計２１ＲＹ及びウエハステージＷＳＴ用のＹ軸のレーザ干渉計２１ＷＹの計測用ビームの光路上に配置されている。吹き出し部１９Ｒ，１９Ｗは、それぞれ温度制御された空気を、ほぼ均一な風速分布で計測用ビームの光路上にダウンフロー方式（又はサイドフロー方式でもよい）で吹き出す。同様に、Ｘ軸のレーザ干渉計の計測用ビームの光路にも温度制御された空気が局所的に供給される。これによって、レチクル干渉計２１Ｒ及びウエハ干渉計２１Ｗ等によってレチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴの位置を高精度に計測できる。
【００３０】
また、ローダ室１０ｂ内に局所空調装置６０が設置されている。局所空調装置６０は、支持台６８の底面に配置された小型のファンモータ６１と、ファンモータ６１で送風された空気を上部に供給するダクト６２と、レチクルライブラリ９及びウエハカセット７の上方に配置された吹き出し口６５及び６６とを備えている。ダクト６２の先端部はそれぞれ吹き出し口６５及び６６に空気を供給する分岐管６２Ｒ及び６２Ｗに分かれている。また、吹き出し口６５及び６６の空気の流入口の近傍にそれぞれＵＬＰＡフィルタ等の防塵フィルタが設置され、ファンモータ６１の近傍のダクト６２内に、所定の不純物を除去するケミカルフィルタを収納するフィルタボックス６３，６４が設置されている。一例として、フィルタボックス６３のケミカルフィルタは、有機系ガス（有機物のガス）を除去し、フィルタボックス６４のケミカルフィルタは、アルカリ系ガス（アルカリ性物質のガス）及び酸性ガス（酸性物質のガス）を除去する。
【００３１】
ローダ室１０ｂ内で局所空調装置６０を動作させると、ファンモータ６１から送風された空気は、フィルタボックス６３，６４及びダクト６２を介して吹き出し口６５及び６６からそれぞれダウンフロー方式でレチクルライブラリ９及びウエハカセット７が配置された空間に供給される。そして、レチクルライブラリ９の周囲を流れた空気は、支持台６７の周囲、支持台６７の下方のウエハカセット７の周囲、及び支持台６８の周囲を経てファンモータ６１に戻される。また、吹き出し口６６からウエハカセット７の周囲に供給された空気は、支持台６８の周囲を経てファンモータ６１に戻される。そして、ファンモータ６１に戻された空気は、再びフィルタボックス６３，６４及び防塵フィルタを介して吹き出し口６５，６６からローダ室１０ｂ内に供給される。このように、局所空調装置６０によって、ローダ室１０ｄ内の空気は清浄な状態に保たれる。
【００３２】
次に、本実施形態の全体空調システムにおいて、空調装置３０に連結されるフィルタ装置２６の構成及び作用につき説明する。フィルタ装置２６は、Ｙ方向に細長い気密化された箱状のケーシング２８と、ケーシング２８内の空間をほぼ水平面内でＹ方向に４個の空間に分けるＸＺ平面に平行な仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃと、仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃのそれぞれの一方の面（図１では＋Ｙ方向の面）に密着させて設置される第１の種類のフィルタボックス３８、第２の種類のフィルタボックス４０、及び第１の種類のフィルタボックス３８とを有する。フィルタ装置２６は、２種類で３個（３段）の直列に配置されたフィルタボックス３８，４０を有する。以下では、第１の種類のフィルタボックス３８を第１のフィルタボックス３８とも呼び、第２の種類のフィルタボックス４０を第２のフィルタボックス４０とも呼ぶ。
本実施形態において、フィルタボックスは、フィルタ面が水平方向に対して交差する方向、例えば、フィルタボックスのフィルタ面がＸＺ面内に設置される。なお、フィルタボックスのフィルタ面は、ＸＺ面に対して傾斜して設置されてもよい。この場合、フィルタボックスのフレームの設置面にテーパを形成したり、またはケーシング２８の底板２８ｈにテーパ部材を設けたりすればよい。
本実施形態では、このフィルタボックスの設置状態を横置きとして、以下説明する。
【００３３】
さらに、フィルタ装置２６は、フィルタボックス３８，４０の挿入時又は交換時に、フィルタボックス３８，４０を出し入れするための窓部２８ｂ（図２参照）を開くために、ケーシング２８に複数箇所でヒンジ機構２９ｈ（図３参照）を介して開閉可能に装着されたドア２９を有する。ケーシング２８の＋Ｙ方向の端部の第１の空間の上板には、開口２８ａが形成されており、この開口２８ａに空調用の空気ＡＲを取り込む配管２５の端部が取り付けられている。ケーシング２８の−Ｙ方向の側壁に開口２８ｇが形成され、ケーシング２８の−Ｙ方向の端部の第４の空間に開口２８ｇを通して第１ダクト３２が連結されている。
【００３４】
図２は、図１中のケーシング２８のドア２９を開いた状態のフィルタ装置２６を示す。図２において、説明の便宜上、ケーシング２８、ドア２９、及び仕切り板４２Ａ〜４２Ｃは２点鎖線で表している。図２において、ドア２９には、ドア２９でケーシング２８の窓部２８ｂを閉じたときに、窓部２８ｂの周辺及び仕切り板４２Ａ〜４２Ｃの端部とドア２９との間を密閉するためのガスケット４６が固定されている。ガスケット４６は、耐食性に優れ、かつ脱ガスの少ない材料、例えばテフロン（デュポン社の登録商標）のシート、又はシリコンゴムのシート等から形成できる。
【００３５】
また、ケーシング２８の内部において、−Ｙ方向の端部の仕切り板４２Ａ及び＋Ｙ方向の端部の仕切り板４２にそれぞれ密着するように横置きされた第１のフィルタボックス３８は、フレーム５０の開口５０ｆ（図３参照）に有機系ガス（有機物のガス）を除去するケミカルフィルタ５１を保持したものである。また、中央の仕切り板４２Ｂに密着するように横置きされた第２のフィルタボックス４０は、フレーム５５の開口５５ｆ（図３参照）にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガス（アルカリ性物質のガス）及び酸性ガス（酸性物質のガス）を除去するケミカルフィルタ５６を保持したものである。
【００３６】
各フィルタボックス３８，４０のＹ方向の幅は例えば２００〜４００ｍｍであり、各フィルタボックス３８，４０の重量は例えば１０〜２０ｋｇ程度である。
有機系ガス除去用のケミカルフィルタ５１としては、例えば活性炭型フィルタ又はセラミックス型フィルタ等が使用可能である。また、アルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のケミカルフィルタ５６としては、添着剤活性炭型フィルタ、イオン交換樹脂型フィルタ、イオン交換繊維型フィルタ、又は添着剤セラミックス型フィルタ等を使用することができる。また、フレーム５０，５５、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃ、ケーシング２８、及びドア２９は、それぞれ耐食性があり脱ガス等の少ない材料、例えば表面に酸化皮膜（酸化アルミニウム等）が形成されたアルミニウム（アルマイト処理されたアルミニウム）、又はステンレス鋼等から形成されている。なお、フレーム５０，５５等は、耐食性があり脱ガスの少ない樹脂材料を含む材料（ポリエチレンで覆った合板、又はフッ素系樹脂等）等で形成することも可能である。
【００３７】
なお、有機系ガスを除去することで、チャンバ１０の露光室１０ａ内で露光光ＥＬの透過率が向上し、かつ有機系ガスと露光光ＥＬとの相互作用によって光学素子に表面に形成される曇り物質の発生が抑制される。また、アルカリ系ガス及び酸性ガスを除去することによって、ウエハＷのフォトレジストの特性の変化等が抑制される。特に、フォトレジストが化学増幅型フォトレジストである場合には、空気中にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスがあると、発生した酸が反応してフォトレジスト表面に難溶化層ができる恐れがある。従って、特にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスの除去が有効である。
【００３８】
なお、図１のローダ室１０ｂ内のフィルタボックス６３，６４内のケミカルフィルタの構成は、ケミカルフィルタ５１，５６の構成と同様である。ただし、フィルタボックス６３，６４はフィルタボックス３８，４０より小型でもよい。
また、フィルタ装置２６は、ケーシング２８の−Ｘ方向の側壁２８ｉに固定されて、それぞれ仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃに対してフィルタボックス３８，４０，３８を位置決めするための位置決めブロック４８Ａ，４８Ｂ，４８Ｃと、位置決めブロック４８Ａ，４８Ｂ，４８Ｃに対してそれぞれフィルタボックス３８，４０，３８をＺ方向の中央付近で付勢するための移動用レバー５８Ａ，５８Ｂ，５８Ｃと、を有する。位置決めブロック４８Ａ，４８Ｂ，４８Ｃは、それぞれＺＹ平面に対して時計回りに所定のテーパ角φ（図３参照）で傾斜した平面よりなるテーパ部４８Ａａ，４８Ｂａ，４８Ｃａを有する。
【００３９】
図３は、図２のケーシング２８のドア２９を閉じた状態のフィルタ装置２６を示す平面の断面図である。ただし、図３においては、ケーシング２８の上板に形成されている空気取り込み用の開口２８ａを２点鎖線で示している。図３において、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃにはそれぞれフィルタボックス３８，４０を通過した空気を通す開口４２Ａａ，４２Ｂａ，４２Ｃａが形成されている。また、ケーシング２８内の空間は、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃによって、＋Ｙ方向から順に４個の空間２８ｃ，２８ｄ，２８ｅ，２８ｆに別れ、第１空間２８ｃが開口２８ａを通して図１の配管２５に連通し、第４空間２８ｆが開口２８ｇを通して図１の第１ダクト３２に連通している。さらに、位置決めブロック４８Ａ〜４８Ｃのテーパ部４８Ａａ〜４８Ｃａのテーパ角φは互いに等しく、テーパ角φは例えば２０°〜４０°であり、一例としてテーパ角φは３０°である。
【００４０】
また、互いに同じ構成の移動用レバー５８Ａ，５８Ｂ，５８Ｃはそれぞれ仕切り板４２Ｂ，４２Ｃ及びケーシング２８の＋Ｙ方向の側壁に固定された支点部材５９Ａ，５９Ｂ，５９Ｃに対してＺ軸に平行な軸の回り（θｚ方向）に回転可能に連結されている。一例として、移動用レバー５８Ａは、支点部材５９Ａに回転可能に連結されたロッド５８Ａ１と、ロッド５８Ａ１の先端部のそれぞれフィルタボックス３８側及びこれと反対側に固定された半球状の当接部材５８Ａ２及び取っ手５８Ａ３とを有する。
【００４１】
次に、フィルタボックス３８及び４０の構成につき、図２の仕切り板４２Ａ及び４２Ｂ側からそれぞれフィルタボックス３８及び４０を見たときの斜視図である図４（Ａ）及び図４（Ｂ）を参照して説明する。図４（Ａ）及び図４（Ｂ）中の直交座標系（Ｘ，Ｙ，Ｚ）は、それぞれフィルタボックス３８及び４０がフィルタ装置２６内で目標とする位置に設置された状態における座標系を表している。
【００４２】
図４（Ａ）に示すように、第１のフィルタボックス３８は、中央部にほぼ正方形の開口５０ｆが設けられたほぼ環状のフレーム５０と、開口５０ｆ内に保持されたケミカルフィルタ５１と、フレーム５０に固定された１対の凸の取っ手部７０Ａとを有する。ガスケット５４の材料はガスケット４６と同様である。
さらに、本実施形態において、フレーム５０のＸＺ平面に平行な−Ｙ方向の第１の端面５０ａに、開口５０ｆを囲むように接着等で固定されたほぼ正方形の環状のガスケット５４（シール部材）を設けている。なお、ガスケット５４は、第１の端面５０ａが密着する相手側（例えば、仕切り板）に設けてもよい。
なお、第１のフィルタボックス３８の開口５０ｆは、四角形等の矩形状であっても、多角形状であってもよい。また、フレーム５０の形状も正方形に限らず、長方形や多角形状であってもよい。
【００４３】
また、フィルタボックス３８は、フレーム５０の４つの側面のうち、−Ｘ方向側の第１側面及び＋Ｘ方向側の第２側面の全面に、それぞれフレーム５０のＸＺ平面に平行な＋Ｙ方向の第２の端面５０ｇから第１の端面５０ａ側に向かって、フレーム５０の外側に傾斜するように形成された平面よりなる対称な第１テーパ部５０ｂ及び第２テーパ部５０ｃを有する。この第２側面は、ケミカルフィルタ５６（又はフレーム５０の開口５０ｆ）に関して第１側面と反対側の面である。第１テーパ部５０ｂはＺＹ平面に対して時計回りにテーパ角φで傾斜し、第２テーパ部５０ｃはＺＹ平面に対して反時計回りにテーパ角φで傾斜している。テーパ角φは、図３の位置決めブロック４８Ａ〜４８Ｃのテーパ部４８Ａａ〜４８Ｃａのテーパ角と等しい。従って、図３において、フレーム５０の端面５０ａに対して第１テーパ部５０ｂがなす角度をαとすると、角度αとテーパ角φとの和は９０°である。
【００４４】
図４（Ａ）において、フレーム５０の第１テーパ部５０ｂの中央部から−Ｚ方向にずれた位置に取っ手部７０Ａが固定され、第２テーパ部５０ｃの中央部から＋Ｚ方向にずれた位置に取っ手部７０Ａが固定されている。即ち、フレーム５０の中心に対して１対の取っ手部７０Ａはほぼ点対称な位置にある。また、フレーム５０の−Ｚ方向及び＋Ｚ方向の第３側面及び第４側面がそれぞれＸＹ平面に平行な設置面５０ｄ及び５０ｅである。
【００４５】
フィルタボックス３８のフレーム５０の設置面５０ｄをケーシング２８の第３空間２８ｅの底板２８ｈの上面に載置し、図３に示すように、フレーム５０の第１テーパ部５０ｂを位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａに接触させて、かつフレーム５０の端面５０ａをガスケット５４を介して仕切り板４２Ａに密着させた状態が、第３空間２８ｅ内のフィルタボックス３８の設置位置Ｑ１である。フィルタボックス３８は、横置きで自重によって安定に静止している。この場合、位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａの取っ手部７０Ａに対向する位置には凹部４８Ａｂが形成されているため、取っ手部７０Ａがあってもテーパ部４８Ａａにテーパ部５０ｂを密着可能である。
【００４６】
同様に、ケーシング２８の第１空間２８ｃ内の設置位置Ｑ３においても、フィルタボックス３８のフレーム５０の設置面５０ｄが底板２８ｈの上面に載置され、フレーム５０の第１テーパ部５０ｂが位置決めブロック４８Ｃのテーパ部４８Ｃａに接触し、かつ端面５０ａがガスケット５４を介して仕切り板４２Ｃに密着している。また、第１テーパ部５０ｂに設けた取っ手部７０Ａが位置決めブロック４８Ｃのテーパ部４８Ｃａの凹部４８Ｃｂ内に収まっている。
【００４７】
さらに、フィルタボックス３８は、１対の取っ手部７０Ａを取り外した状態において、Ｙ軸に平行な軸の回り（θｙ方向）に１８０°回転しても形状が同じであるため、フレーム５０の他方の設置面５０ｅをケーシング２８の底板２８ｈ上に載置することも可能である。このように設置面５０ｅを底板２８ｈ上に載置したときには、フレーム５０の第２テーパ部５０ｃが位置決めブロック４８Ａ（４８Ｃ）のテーパ部４８Ａａ（４８Ｃａ）に接触し、第２テーパ部５０ｃに設けた取っ手部７０Ａが凹部４８Ａｂ（４８Ｃｂ）内に収まるため、フィルタボックス３８は正確に設置位置Ｑ１又はＱ３に設置できる。
【００４８】
図４（Ｂ）に示すように、第２のフィルタボックス４０は、フレーム５０と同じ形状の中央部に開口５５ｆが設けられた環状のフレーム５５と、開口５５ｆ内に保持されたケミカルフィルタ５６とを有する。また、フィルタボックス４０は、フレーム５５の−Ｘ方向側の第１側面及び＋Ｘ方向の第２側面の全面に、それぞれ＋Ｙ方向の第２の端面５５ｇから−Ｙ方向の第１の端面５５ａ側に向かって、フレーム５５の外側にテーパ角φで傾斜するように対称に形成された第１テーパ部５５ｂ及び第２テーパ部５５ｃを有する。第２のフィルタボックス４０は、第１のフィルタボックス３８と同様、フレーム５５の−Ｙ方向の第１の端面５５ａに、開口５５ｆを囲むようにガスケット５４を固定してもよい。また、第２のフィルタボックス４０の開口５５ｆも、第１のフィルタボックス３８と同様、四角形等の矩形状であっても、多角形状であってもよい。また、フレーム５５の形状も正方形に限らず、長方形や多角形状であってもよい。
なお、フレーム５０，５５は、例えばモールド成形等によって製造可能である。
【００４９】
さらに、フィルタボックス４０は、第１テーパ部５５ｂの中央から＋Ｚ方向にずれた位置、及びこの位置とフレーム５５の中心に関してほぼ点対称な第２テーパ部５５ｃ上の位置に固定された１対の取っ手部７０Ｂを有する。また、フレーム５５の−Ｚ方向及び＋Ｚ方向の第３側面及び第４側面がそれぞれ設置面５５ｄ及び５５ｅである。
本実施形態では、第１のフィルタボックス３８及び第２のフィルタボックス４０の形状は、それぞれの１対の取っ手部７０Ａ及び７０Ｂの位置がＺ方向に沿って逆方向にずれている点が異なっている。また、この形状の相違は、フィルタボックス３８，４０をθｙ方向に１８０°回転しても維持される。従って、作業者は、外観からフィルタボックス３８，４０を容易に互いに識別可能である。さらに、図４（Ａ）のフレーム５０の１対の取っ手部７０Ａは例えばボルト（不図示）でテーパ部５０ｂ，５０ｃのネジ穴に固定され、テーパ部５０ｂ，５０ｃの中心から取っ手部７０ＡとＺ方向に対称な位置に取っ手部７０Ａを取り付け可能なネジ穴が形成された取り付け領域Ｅ１，Ｅ２が設定されている。このため、１対の取っ手部７０Ａのテーパ部５０ｂ，５０ａに対する取り付け位置は、傾斜方向とは異なる方向、本実施形態では、傾斜方向に対して直交する方向に沿って可変である。従って、取っ手部７０Ａをフレーム５０の取り付け領域Ｅ１，Ｅ２に取り付けることによって、フレーム５０は第２のフィルタボックス４０用のフレーム５５として使用可能である。
【００５０】
同様に、図４（Ｂ）において、１対の取っ手部７０Ｂのフレーム５５のテーパ部５５ｂ，５５ａに対する取り付け位置は、取り付け領域Ｅ３，Ｅ４との間で傾斜がない方向に沿って可変である。従って、取っ手部７０Ｂをフレーム５５の取り付け領域Ｅ３，Ｅ４に取り付けることによって、フレーム５５は第１のフィルタボックス３８用のフレーム５０として使用可能である。
【００５１】
フィルタボックス４０のフレーム５５の設置面５５ｄをケーシング２８の第２空間２８ｄの底板２８ｈの上面に載置し、図３に示すように、フレーム５５の第１テーパ部５５ｂを位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４８Ｂａに接触させて、かつフレーム５５の端面５５ａをガスケット５４を介して仕切り板４２Ｂに密着させた状態が、第２空間２８ｄ内のフィルタボックス４０の設置位置Ｑ２である。フィルタボックス４０も、横置きで自重によって安定に静止している。この場合、位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４８Ｂａの取っ手部７０Ｂに対向する位置には凹部４８Ｂｂが形成されているため、取っ手部７０Ｂがあってもテーパ部４８Ｂａにテーパ部５５ｂを密着可能である。
【００５２】
さらに、フィルタボックス４０も、θｙ方向に１８０°回転しても形状が同じであるため、１対の取っ手部７０Ｂを取り外した状態で、フレーム５５の他方の設置面５５ｅをケーシング２８の底板２８ｈ上に載置することも可能である。このように設置面５５ｅを底板２８ｈ上に載置したときには、フレーム５５の第２テーパ部５５ｃが位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４８Ｂａに接触し、第２テーパ部５５ｃに設けた取っ手部７０Ｂが凹部４８Ｂｂ内に収まるため、フィルタボックス４０は正確に設置位置Ｑ２に設置できる。
【００５３】
なお、図２に示すように、位置決めブロック４８Ｃの凹部４８Ｃｂの位置は取っ手部７０Ａに合わせて低い位置にあり（位置決めブロック４８Ａの凹部４８Ａｂも同様）、位置決めブロック４８Ｂの凹部４８Ｂｂの位置は取っ手部７０Ｂに合わせて高い位置にある。従って、空間２８ｃ又は２８ｅ内の設置位置Ｑ３又はＱ１に第２のフィルタボックス４０を設置しようとすると、フィルタボックス４０の取っ手部７０Ｂが位置決めブロック４８Ｃ又は４８Ａのテーパ部４８Ｃａ又は４８Ａａと機械的に干渉するため、設置位置Ｑ３，Ｑ１に誤ってフィルタボックス４０を設置することが防止できる。同様に、空間２８ｄ内の設置位置Ｑ２に第１のフィルタボックス３８を設置しようとすると、フィルタボックス３８の取っ手部７０Ａが位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４８Ｂａと機械的に干渉するため、設置位置Ｑ２に誤ってフィルタボックス３８を設置することが防止できる。このように本実施形態によれば、フィルタボックス３８の取っ手部７０Ａの位置とフィルタボックス４０の取っ手部７０Ｂの位置とが異なり、かつ対応するケーシング２８内の位置決めブロック４８Ａ，４８Ｃの凹部４８Ａａ，４８Ｃａの位置と位置決めブロック４８Ｂの凹部４８Ｂｂの位置とが異なっている。従って、仕切り板４２Ａ，４２Ｃの前面にアルカリ系ガス及び酸性ガスを除去するためのケミカルフィルタ５６を有するフィルタボックス４０を設置することが防止でき、逆に仕切り板４２Ｂの前面に有機系ガスを除去するためのケミカルフィルタ５１を有するフィルタボックス３８を設置することが防止できる。
【００５４】
そして、図３において、仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃの前面の設置位置Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３にそれぞれフィルタボックス３８，４０，３８を設置した後、移動用レバー５８Ａ，５８Ｂ，５８Ｃで、各フィルタボックス３８，４０，３８を仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃに付勢し、ケーシング２８のドア２９が閉じられた状態では、位置決めブロック４８Ａ〜４８Ｃ及び移動用レバー５８Ａ〜５８Ｃによって、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃとフィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５との間の気密性はガスケット５４によって高く維持されている。この結果、ケーシング２８の開口２８ａが形成された上板と仕切り板４２Ｃとで挟まれた第１空間２８ｃ内の気体は、必ずフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過した後、開口４２Ｃａを通って、仕切り板４２Ｂ及び４２Ｃで挟まれた第２空間２８ｄに流入する。同様に、空間２８ｄ内の気体は、必ずフィルタボックス４０のケミカルフィルタ５６を通過した後、開口４２Ｂａを通って、仕切り板４２Ａ及び４２Ｂで挟まれた第３空間２８ｅに流入する。同様に、空間２８ｅ内の気体は、必ずフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過した後、開口４２Ａａ、仕切り板４２Ａの裏面の第４空間２８ｆ、及びケーシング２８の側壁の開口２８ｇを通って、図２の第１ダクト３２に流れる。従って、ケーシング２８の＋Ｙ方向の上部の開口２８ａから流入する空気ＡＲは、必ず２つ（２段）の有機系ガス除去用のフィルタボックス３８及び一つ（１段）のアルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のフィルタボックス４０を通過して図１の空調装置３０に供給されるため、チャンバ１０内には不純物を高度に除去した空気が供給される。
【００５５】
次に、ケーシング２８に対するフィルタボックス３８，４０の設置動作及び交換動作の一例につき、図５（Ａ）〜図６（Ｂ）を参照して説明する。図５（Ａ）〜図６（Ｂ）は、それぞれケーシング２８を断面で表したフィルタ装置２６を示す平面図である。
まず、ケーシング２８に最初に２つのフィルタボックス３８及び一つのフィルタボックス４０を設置するときには、図４（Ａ）の未使用のケミカルフィルタ５１が充填された２つのフィルタボックス３８と、図４（Ｂ）の未使用のケミカルフィルタ５６が充填された一つのフィルタボックス４０とを用意する。次に、ケーシング２８のロック（不図示）を解除してドア２９を開いた後、図５（Ａ）において、矢印Ｂ１で示すように、移動用レバー５８Ａ〜５８Ｃを前方（ケーシング２８の窓部２８ｂの外側）に開く。
【００５６】
次に作業者は、１番目のフィルタボックス３８の取っ手部７０Ａを持ち、ケーシング２８の第３空間２８ｅ内の底板２８ｈ（図２参照）上にフィルタボックス３８（フレーム５０）の設置面５０ｄを載置する。そして、作業者は矢印Ｂ２で示すように、第３空間２８ｅ内にフィルタボックス３８を押し込む。次に、図５（Ｂ）に矢印Ｂ３で示すように作業者は、フィルタボックス３８の第１テーパ部５０ｂを位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａに係合（接触）させる。フィルタボックス３８の一方の取っ手部７０Ａは位置決めブロック４８Ａの凹部４８Ａｂ内に収まる。そして、矢印Ｂ４で示すように、フィルタボックス３８の第２テーパ部５０ｃに移動用レバー５８Ａを押し当てる。次に作業者は、図６（Ａ）に矢印Ｂ５で示すように移動用レバー５８Ａをさらに回転させて、フィルタボックス３８を−Ｘ方向及び−Ｙ方向に付勢する。これによって、矢印Ｂ６で示すように、フィルタボックス３８はケーシング２８内の設置位置Ｑ１まで移動し、フィルタボックス３８の端面５０ａがガスケット５４を介して仕切り板４２Ａに密着する。なお、フィルタボックス３８のガスケット５４が仕切り板４２Ａに接触した状態で、フィルタボックス３８の第２テーパ部５０ｃに、移動用レバー５８Ａを押し当てた後、移動用レバー５８Ａをさらに回転させてもよい。
【００５７】
作業者は、次に２番目のフィルタボックス４０の取っ手部７０Ｂを持ち、ケーシング２８の第２空間２８ｄ内の底板２８ｈ上にフィルタボックス４０（フレーム５５）の設置面５５ｄを載置する。そして、作業者は矢印Ｂ７で示すように、ケーシング２８の第２空間２８ｄ内にフィルタボックス４０を押し込む。次に作業者は図６（Ｂ）に示すように、フィルタボックス４０の第１テーパ部５５ｂを位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４８Ｂａに係合（接触）させ、フィルタボックス４０の第２テーパ部５５ｃに移動用レバー５８Ｂを押し当てる。フィルタボックス４０の一方の取っ手部７０Ｂは位置決めブロック４８Ｂの凹部４８Ｂｂ内に収まる。
【００５８】
次に作業者は、矢印Ｂ８で示すように移動用レバー５８Ｂをさらに回転して、矢印Ｂ９で示すようにフィルタボックス４０をケーシング２８内の設置位置Ｑ２まで移動させる。これにより、フィルタボックス４０の端面５５ａがガスケット５４を介して仕切り板４２Ｂに密着する。なお、フィルタボックス４０のガスケット５４が仕切り板４２Ｂに接触した状態で、フィルタボックス４０の第２テーパ部５５ｃに、移動用レバー５８Ｂを押し当てた後、移動用レバー５８Ｂをさらに回転させてもよい。
次に矢印Ｂ１０で示すように、ケーシング２８の第１空間２８ｃ内で３番目のフィルタボックス３８を移動し、移動用レバー５８Ｃを回転して、第１空間２８ｃ内の設置位置にフィルタボックス３８を設置する。次に、ケーシング２８のドア２９を閉じてロックすることで、フィルタボックス３８，４０の設置が完了する。
【００５９】
この際に、フィルタボックス３８（４０）の第１テーパ部５０ｂ（５５ｂ）を位置決めブロック４８Ａ（４８Ｂ）のテーパ部４８Ａａ（４８Ｂａ）に押し当てて、フィルタボックス３８（４０）を付勢するのみで、フィルタボックス３８（４０）は仕切り板４２Ａ（４２Ｂ）の前面の設置位置Ｑ１（Ｑ２）に短時間に設置される。従って、フィルタボックス３８（４０）、ひいてはこの内部のケミカルフィルタ５１（５６）の目標とする位置への設置を効率的に、かつ容易に位置決めできるように行うことができる。
【００６０】
次に、ケーシング２８内のフィルタボックス３８，４０の交換を行う場合、まず作業者は、ケーシング２８のロックを解除してドア２９を開き、図６（Ｂ）に矢印Ｄ１で示すように移動用レバー５８Ｃをフィルタボックス３８から外す。次に作業者は、第１空間２８ｃ内のフィルタボックス３８の取っ手部７０Ａを持ち、矢印Ｄ２で示すようにフィルタボックス３８を搬出する。次に、図６（Ａ）に矢印Ｄ３で示すように移動用レバー５８Ｂをフィルタボックス４０から外した後、作業者は、第２空間２８ｄ内のフィルタボックス４０の取っ手部７０Ｂを持ち、フィルタボックス４０の第１テーパ部５５ｂを位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４２Ｂａに沿って前方へ移動させる。次に作業者は矢印Ｄ４で示すように、フィルタボックス４０をケーシング２８の第２空間２８ｄから引き抜く。
【００６１】
次に、図５（Ｂ）に矢印Ｄ５で示すように移動用レバー５８Ａをフィルタボックス３８から外した後、作業者は、第３空間２８ｅ内のフィルタボックス３８の取っ手部７０Ａを持ち、取っ手部７０Ａを矢印Ｄ６で示す方向に引く。これによって、矢印Ｄ７で示すように、フィルタボックス３８の第１テーパ部５０ｂは、位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａに沿って前方へ移動する。次に作業者は、図５（Ａ）に矢印Ｄ８で示すように、フィルタボックス３８をケーシング２８の第３空間２８ｅから引き抜く。
【００６２】
次に、上記のフィルタボックス３８，４０の設置動作と同様の工程によって、作業者は新しいフィルタボックス３８，４０をケーシング２８内の目標とする位置に設置する。次に、ケーシング２８のドア２９を閉じてロックすることで、フィルタボックス３８，４０の交換が終了する。
この際に、フィルタボックス３８，４０は、設置位置から容易に引く抜くことができるため、ケーシング２８におけるフィルタボックス３８，４０の交換を容易に、かつ効率的に行うことができる。
【００６３】
本実施形態の効果等は以下の通りである。
（１）本実施形態の露光装置ＥＸは、フィルタ装置２６及び空調装置３０を含む全体空調システムを備え、フィルタ装置２６は２つの第１のフィルタボックス３８及び一つの第２のフィルタボックス４０を備えている。
そして、ケミカルフィルタ５１を保持する第１のフィルタボックス３８は、ケミカルフィルタ５１を保持するフレーム５０と、フレーム５０に設けられた取っ手部７０Ａ（第１取っ手部）と、フレーム５０の側面の少なくとも一部に形成され、フレーム５０の第２の端面５０ｇから第１の端面５０ａ側に向かって、フレーム５０の外側に次第に傾斜する第１テーパ部５０ｂ（形状変化部としての第１傾斜部）と、を有する。また、第２のフィルタボックス４０も同様に構成され、フィルタボックス４０のフレーム５５には第１テーパ部５５ｂが設けられている。
さらに、フレーム５０の２つの端面のうち第１の端面５０ａには、ガスケット５４（シール部材）が設けられている。
【００６４】
本実施形態によれば、フィルタボックス３８，４０を収納するケーシング２８内の設置位置の近傍に、第１テーパ部５０ｂ，５５ｂと同じ傾斜角のテーパ部４８Ａａ，４８Ｂａが設けられた位置決めブロック４８Ａ，４８Ｂが設けられている。そして、ケーシング２８のテーパ部４８Ａａ，４８Ｂａに沿ってフレーム５０，５５の第１テーパ部５０ｂ，５５ｂが移動するように、フレーム５０，５５を付勢する（移動する）ことによって、フィルタボックス３８，４０（ケミカルフィルタ５１，５６）のケーシング２８内の目標位置に対する設置を効率的に、及び容易に位置決めできるように行うことができる。言い換えると、フィルタボックス３８，４０の第１テーパ部５０ｂ，５５ｂは、移動及び位置決めの２つの機能を果たすことができる。
【００６５】
（２）また、第１のフィルタボックス３８は、ケミカルフィルタ５１に関してフレーム５０の第１側面と反対側の第２側面に形成され、第２の端面５０ｇから第１の端面５０ａ側に向かって、第１テーパ部５０ｂと対称にフレーム５０の外側に次第に傾斜する第２テーパ部５０ｃを有する。同様に、第２のフィルタボックス４０も、フレーム５５に第１テーパ部５５ｂと対称に形成された第２テーパ部５５ｃを有する。
【００６６】
従って、フィルタボックス３８，４０を１８０°回転した場合でも、フレーム５０，５５の第２テーパ部５０ｃ，５５ｃをケーシング２８のテーパ部４８Ａａ，４８Ｂａに沿って移動させることで、フィルタボックス３８，４０（ケミカルフィルタ５１，５６）のケーシング２８内の目標位置に対する設置を効率的に行うことができる。
（３）また、フレーム５０の第１テーパ部５０ｂ及び第２テーパ部５０ｃはフレーム５０の第１側面及び第２側面の全面に形成され、フレーム５５の第１テーパ部５５ｂ及び第２テーパ部５５ｃはフレーム５５の第１側面及び第２側面の全面に形成されている。従って、テーパ部５０ｂ，５０ｃ等の加工が容易である。
【００６７】
なお、テーパ部５０ｂ，５０ｃはフレーム５０の第１側面及び第２側面の一部にのみ形成してもよい。この場合には、ケーシング２８側の対応する位置決めブロック４８Ａ，４８Ｃには、テーパ部５０ｂに対応する部分にのみテーパ部を形成しておいてもよい。これはテーパ部５５ｂ，５５ｃも同様である。
（４）また、フィルタボックス３８（フレーム５０）のテーパ部５０ｂ，５０ｃ及びフィルタボックス４０（フレーム５５）のテーパ部５５ｂ，５５ｃはそれぞれ平面、即ち直線状に形成されており、これらに対応する位置決めブロック４８Ａ，４８Ｂのテーパ部４８Ａａ，４８Ｂａも平面に形成されているため、テーパ部５０ｂ，５０ｃ等の形成が容易である。
【００６８】
しかしながら、テーパ部５０ｂ，５０ｃ及びテーパ部５５ｂ，５５ｃを凸又は凹の球面状、即ち曲線状に形成してもよい。この場合には、これらに対応する位置決めブロック４８Ａ，４８Ｂのテーパ部４８Ａａ，４８Ｂａは凹又は凸の球面状に形成することで、上記の実施形態と同様に位置決めブロック４８Ａ，４８Ｂを用いてフィルタボックス３８，４０の移動及び位置決めを行うことができる。
【００６９】
（５）また、図４（Ａ）のフィルタボックス３８のフレーム５０の−Ｘ方向の第１側面に設けた凸の取っ手部７０Ａ（第１取っ手部）は、第１テーパ部５０ｂに設けられており、これに対応するケーシング２８内の位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａには取っ手部７０Ａが通過可能な凹部４８Ａｂが設けられている。従って、取っ手部７０Ａがあっても、フレーム５０の第１テーパ部５０ｂを位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａに密着させて移動できる。これはフィルタボックス４０の第１テーパ部５５ｂの取っ手部７０Ｂについても同様である。
【００７０】
（６）また、図４（Ａ）のフィルタボックス３８のフレーム５０の＋Ｘ方向の第２側面に設けた凸の取っ手部７０Ａ（第２取っ手部）は、第２テーパ部５０ｃに設けられている。この場合、２つの取っ手部７０Ａがあるため、フィルタボックス３８の搬送が容易であるとともに、フィルタボックス３８を１８０°回転した場合でも、フレーム５０の第２テーパ部５０ｃを位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａに密着させて移動できる。これはフィルタボックス４０の第２テーパ部５５ｃの取っ手部７０Ｂについても同様である。
【００７１】
また、フィルタボックス３８のフレーム５０に対する取っ手部７０Ａの位置関係と、フィルタボックス４０のフレーム５５に対する取っ手部７０Ｂの位置関係とは異なっているため、外観のみでフィルタボックス３８，４０を容易に識別可能である。
また、図４（Ａ）において、第１のフィルタボックス３８のフレーム５０の第２テーパ部５０ｃの中央付近で、端面５０ａに近い位置Ｆ２に取っ手部７０Ａを設け、第１テーパ部５０ｂの位置Ｆ２と対称な位置に取っ手部７０Ａを設けてもよい。この場合には、図２の位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａの対応する位置に凹部４８Ａｂを形成しておく。また、図４（Ｂ）において、第２のフィルタボックス４０のフレーム５５の第２テーパ部５５ｃの中央付近で、端面５０ａから離れた位置Ｆ４に取っ手部７０Ｂを設け、第１テーパ部５５ｂの位置Ｆ４と対称な位置に取っ手部７０Ｂを設ける。さらに、図２の位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４８Ｂａの対応する位置に凹部４８Ｂｂを形成しておく。この場合には、フレーム５０，５５に対する取っ手部７０Ａ，７０Ｂの位置関係は端面５０ａ，５５ａとの距離が異なっている。従って、作業者は、フレーム５０，５５に対する取っ手部７０Ａ，７０Ｂの位置からフィルタボックス３８，４０を識別可能である。
なお、例えばフレーム５０，５５に種類が識別可能なラベル等を貼着して、フレーム５０に対する取っ手部７０Ａの位置関係とフレーム５５に対する取っ手部７０Ｂの位置関係とを同じにしてもよい。
【００７２】
（７）また、フィルタ装置２６は、ケーシング２８内でフィルタボックス３８，４０を位置決めブロック４８Ａ〜４８Ｃ側に付勢する移動用レバー５８Ａ〜５８Ｃを備えているため、フィルタボックス３８，４０の移動を円滑に行うことができる。
なお、移動用レバー５８Ａ〜５８Ｃは必ずしも設ける必要はない。
また、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃは、鉛直線を含む面にほぼ平行（ほぼ水平面に垂直）であるが、本実施形態では、位置決めブロック４８Ａ〜４８Ｃがあるため、フィルタボックス３８，４０の移動及び位置決めを円滑に行うことができる。なお、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃは、例えば鉛直線を含む面に対して斜めに傾斜していてもよい。
（８）また、フィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１（濾材）は、その中を通過する気体中の有機系ガス（有機物）を除去し、フィルタボックス４０のケミカルフィルタ５６（濾材）は、その中を通過する気体中のアルカリ性ガス及び酸性ガスを除去しているため、露光本体部４が収納されるチャンバ１０内に不純物が高度に除去された空気を供給できる。
【００７３】
なお、フィルタボックス４０内のフィルタは、例えばその中を通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去するフィルタでもよい。また、ケミカルフィルタが除去する不純物は任意であり、例えば一つのケミカルフィルタによって、有機系ガスとアルカリ性ガス及び酸性ガスとを吸収するようにしてもよい。
さらに、フィルタボックス３８，４０内のフィルタは、ケミカルフィルタ以外の任意のフィルタ（濾材）を使用できる。例えば、フィルタボックス３８，４０のフィルタとしては、ＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタのような微小な粒子（パーティクル）を除去するための防塵フィルタを用いることも可能である。
【００７４】
（９）さらに、本実施形態のフィルタ装置２６には、２つのフィルタボックス３８及び一つフィルタボックス４０が設置されているが、フィルタ装置２６が備えるフィルタボックス３８，４０の個数は任意である。また、フィルタ装置２６には、一つ若しくは複数のフィルタボックス３８、又は一つ若しくは複数のフィルタボックス４０を設置するのみでもよい。
【００７５】
また、フィルタ装置２６のケーシング２８は仕切り板４２Ａ〜４２Ｃで複数の空間に仕切られているが、ケーシング２８内を仕切り板４２Ａ〜４２Ｃで仕切ることなく、単にフィルタボックス３８及び４０を例えば交互に積み重ねることも可能である。
（１０）また、本実施形態の露光装置ＥＸは、露光光ＥＬでレチクルＲのパターン及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷ（基板）を露光する露光装置において、ウエハＷを露光する露光本体部４を収納するチャンバ１０と、本実施形態のフィルタボックス３８，４０と、チャンバ１０の外部から取り込まれた空気をフィルタボックス３８，４０を介してチャンバ１０内に送風する空調装置３０と、を備えている。
【００７６】
本実施形態によれば、フィルタボックス３８，４０の交換を効率的に行うことができ、フィルタボックス３８，４０間の位置決めを高精度に行うことができるため、露光装置のメンテナンスを効率的に行うことができ、かつチャンバ１０内の空気の不純物を高精度に除去できる。
なお、本実施形態において、ローダ室１０ｂ内の局所空調装置６０のフィルタボックス６３，６４のフレームとしても、フィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５と同様のテーパ部が形成されたフレームを使用し、フィルタボックス６３，６４を位置決めブロック４８Ａ〜４８Ｃと相似型のテーパ部が形成された位置決めブロックを備えたケーシングに収納してもよい。
【００７７】
なお、上記の実施形態においては次のような変形が可能である。以下の変形例において、図３、図４（Ａ）、及び図５（Ｂ）に対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
（１）図７（Ａ）は、上記の実施形態の第１変形例の第１のフィルタボックス３８Ａ及びこれに対応する位置決めブロック４８Ａを示す斜視図、図７（Ｂ）は、その第１変形例の第２のフィルタボックス４０Ａ及びこれに対応する位置決めブロック４８Ｂを示す斜視図である。図７（Ａ）の位置決めブロック４８Ａ及び図７（Ｂ）の位置決めブロック４８Ｂをそれぞれ図２の位置決めブロック４８Ａ，４８Ｃ及び４８Ｂの代わりにケーシング２８内に設置することで、この第１変形例のフィルタボックス３８Ａ，４０Ａをケーシング２８内に設置することができる。
【００７８】
図７（Ａ）において、第１のフィルタボックス３８Ａは、ケミカルフィルタ５１を保持する環状のフレーム５０と、フレーム５０の第１の端面５０ａに設けられたガスケット５４Ａ（ガスケット５４の一部を切り欠いた形状）と、フレーム５０の第１側面に設けられた凹部よりなる取っ手部５０ｂ１（第１取っ手部）と、フレーム５０の第１側面に取っ手部５０ｂ１をＺ方向に挟むように形成され、フレーム５０の第２の端面５０ｇから第１の端面５０ａ側に向かって、フレーム５０の外側に次第に傾斜する２つの第１テーパ部５０ｂ２及び５０ｂ３（第１傾斜部の２つの部分）と、を有する。さらに、フィルタボックス３８Ａは、フレーム５０の第２側面に設けられた凹部よりなる取っ手部５０ｃ１（第２取っ手部）と、フレーム５０の第２側面に取っ手部５０ｃ１をＺ方向に挟むように形成され、第１テーパ部５０ｂ２，５０ｂ３と対称に傾斜する２つの第２テーパ部５０ｃ２，５０ｃ３（第２傾斜部の２つの部分）と、を有する。また、取っ手部５０ｂ１，５０ｃ１には作業者がさらに持ち易いようにグリップ部４９Ａが設けられている。
【００７９】
また、フレーム５０の設置面に対する取っ手部５０ｂ１のＺ方向の位置は、取っ手部５０ｃ１のＺ方向の位置よりも低く、取っ手部５０ｂ１，５０ｃ１は、フレーム５０の中心に対して回転対称な位置関係で設けられている。言い換えると、一方の取っ手部５０ｂ１のフレーム５０の下方の設置面からのＺ方向の距離と、他方の取っ手部５０ｃ１のフレーム５０の上方の設置面からのＺ方向の距離とは等しい。さらに、位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａの取っ手部５０ｂ１（及び５０ｃ１）に対応する位置に凸部４９Ｃが設けられている。凸部４９Ｃの高さは、テーパ部５０ｂ２，５０ｂ３からグリップ部４９Ａまでの深さよりも低く設定されている。従って、フレーム５０のテーパ部５０ｂ２，５０ｂ３（又は５０ｃ２，５０ｃ３）は、位置決めブロック４８Ａのテーパ部４８Ａａに密着させることができる。
【００８０】
また、図７（Ｂ）において、第２のフィルタボックス４０Ａは、ケミカルフィルタ５６を保持する環状のフレーム５５と、フレーム５５の第１の端面５５ａに設けられたガスケット５４Ｂ（ガスケット５４の一部を切り欠いた形状）と、フレーム５５の第１側面及び第２側面に設けられた凹部よりなる１対の取っ手部５５ｂ１，５５ｃ１（第１取っ手部及び第２取っ手部）と、フレーム５５の第１側面及び第２側面にそれぞれ取っ手部５５ｂ１，５５ｃ１をＺ方向に挟むように形成された、第１テーパ部５５ｂ２及び５５ｂ３（第１傾斜部の２つの部分）及び第２テーパ部５５ｃ２及び５５ｃ３（第２傾斜部の２つの部分）と、を有する。また、取っ手部５５ｂ１，５５ｃ１にはグリップ部４９Ｂが設けられている。
【００８１】
また、フレーム５５に対する取っ手部５５ｂ１，５５ｃ１のＺ方向の位置関係は、フレーム５０に対する取っ手部５０ｂ１，５０ｃ１のＺ方向の位置関係と逆になっている。言い換えると、一方の取っ手部５５ｂ１のフレーム５５の下方の設置面からのＺ方向の距離と、他方の取っ手部５５ｃ１のフレーム５５の上方の設置面からのＺ方向の距離とは等しい。さらに、フィルタボックス４０Ａの一方の取っ手部５５ｂ１のフレーム５５の下方の設置面からのＺ方向の距離と、フィルタボックス３８Ａの一方の取っ手部５０ｂ１のフレーム５０の下方の設置面からのＺ方向の距離とは互いに異なっている。さらに、位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４８Ｂａの取っ手部５５ｂ１（及び５５ｃ１）に対応する位置に凸部４９Ｄが設けられている。従って、位置決めブロック４８Ｂに誤って第１のフィルタボックス３８Ａのフレーム５０を接触させようとすると、凸部４９Ｄとフレーム５０の第１テーパ部５０ｂ２（又は５０ｃ２）とが機械的に干渉する。これに対して、フレーム５５のテーパ部５５ｂ２，５５ｂ３（又は５５ｃ２，５５ｃ３）は、位置決めブロック４８Ｂのテーパ部４８Ｂａに密着させることができる。逆に、図７（Ａ）の位置決めブロック４８Ａに誤って第２のフィルタボックス４０Ａのフレーム５５を接触させようとすると、凸部４９Ｃとフレーム５５の第１テーパ部５５ｂ２（又は５５ｃ２）とが機械的に干渉する。従って、この第１変形例においても、位置決めブロック４８Ａのある空間に誤って第２のフィルタボックス４０Ａを設置することが防止され、位置決めブロック４８Ｂのある空間に誤って第１のフィルタボックス３８Ａを設置することが防止される。
【００８２】
なお、この第１変形例において、フィルタボックス３８Ａのグリップ部４９Ａ及びフィルタボックス４０Ａのグリップ部４９Ｂは必ずしも設けなくともよい。
（２）次に、図８（Ａ）は、上記の実施形態の第２変形例の第１のフィルタボックス３８Ｂ及びこれに対応する位置決めブロック４８Ａ１を示す斜視図、図８（Ｂ）は、その第１変形例の第２のフィルタボックス４０Ｂ及びこれに対応する位置決めブロック４８Ａ２を示す斜視図である。図８（Ａ）の位置決めブロック４８Ａ１及び図８（Ｂ）の位置決めブロック４８Ａ１をそれぞれ図２の位置決めブロック４８Ａ，４８Ｃ及び４８Ｂの代わりにケーシング２８内に設置することで、この第２変形例のフィルタボックス３８Ｂ，４０Ｂをケーシング２８内に設置することができる。
【００８３】
図８（Ａ）において、第１のフィルタボックス３８Ｂは、ケミカルフィルタ５１を保持する環状のフレーム５０Ａと、フレーム５０Ａの−Ｙ方向の第１の端面に設けられたガスケット５４と、フレーム５０の＋Ｚ方向の第４側面に設けられた凸部よりなる取っ手部７０Ｃ（第１取っ手部）と、フレーム５０Ａの第１側面５０Ａｂの＋Ｚ方向側に形成され、ガスケット５４側に向かってフレーム５０Ａの外側にテーパ角φで傾斜する第１テーパ部５０Ａｂｔ（第１傾斜部）と、を有する。フレーム５０Ａの＋Ｘ方向の第２側面５０ＡｃはＺＹ平面に平行で傾斜していない。
【００８４】
さらに、位置決めブロック４８Ａ１のテーパ角φのテーパ部４８Ａ１ａはフレーム５０Ａの第１テーパ部５０ｂｔに対応する部分にのみ形成されている。従って、フレーム５０Ａの第１テーパ部５０Ａｂｔは、位置決めブロック４８Ａ１のテーパ部４８Ａ１ａに密着させることができる。
また、図８（Ｂ）において、第２のフィルタボックス４０Ｂは、ケミカルフィルタ５６を保持する環状のフレーム５５Ａと、フレーム５５Ａの第１の端面に設けられたガスケット５４と、フレーム５５の＋Ｚ方向の第４側面に設けられた凸部よりなる取っ手部７０Ｄ（第１取っ手部）と、フレーム５５Ａの第１側面５５Ａｂの−Ｚ方向側に形成され、ガスケット５４側に向かってフレーム５５Ａの外側にテーパ角φで傾斜する第１テーパ部５５Ａｂｔ（第１傾斜部）と、を有する。フレーム５５Ａの＋Ｘ方向の第２側面５５ＡｃはＺＹ平面に平行で傾斜していない。さらに、位置決めブロック４８Ａ２のテーパ角φのテーパ部４８Ａ２ａはフレーム５５Ａの第１テーパ部５５Ａｂｔに対応する部分にのみ形成されている。
【００８５】
この場合、フレーム５５Ａに対する第１テーパ部５５ＡｂｔのＺ方向の位置関係は、フレーム５０Ａに対する第１テーパ部５０ＡｂｔのＺ方向の位置関係と逆になっている。さらに、位置決めブロック４８Ａ１のテーパ部４８Ａ１ａと、位置決めブロック４８Ａ２のテーパ部４８Ａ２ａとはＺ方向の位置が異なっている。従って、位置決めブロック４８Ａ２のある空間に誤って第１のフィルタボックス３８Ｂを設置することが防止され、逆に、図８（Ａ）の位置決めブロック４８Ａ１のある空間に誤って第２のフィルタボックス４０Ｂを設置することが防止できる。
【００８６】
なお、この変形例において、一例として、第１のフィルタボックス３８Ｂのフレーム５０Ａの上面における取っ手部７０Ｃの第２側面５０Ａｃからの距離と、第２のフィルタボックス４０Ｂのフレーム５５Ａの上面における取っ手部７０Ｄの第２側面５０Ａｃからの距離とを異ならせてもよい。又は、取っ手部７０Ｃの端面５０Ａａからの距離と、取っ手部７０Ｄの端面５５Ａｃからの距離とを異ならせてもよい。
【００８７】
（３）次に、図９（Ａ）は、上記の実施形態の第３変形例の第１のフィルタボックス３８Ｃ及びこれに対応する位置決めブロック４８Ａを示す平面図である。フィルタボックス３８Ｃは、環状のフレーム５０Ｃ内にケミカルフィルタ５１を収納し、フレーム５０Ｃの端面にガスケット５４を固定したものである。また、フレーム５０Ｃの対向する第１側面５０Ｃｂ及び第２側面５０Ｃｃは平均的に対称に傾斜するとともに、それぞれ階段状の段差部が形成され、側面５０Ｃｂ，５０Ｃｃに取っ手部７０Ａが取り付けられている。
【００８８】
第１側面５０Ｃｂ又は第２側面５０Ｃｃを位置決めブロック４８Ａのテーパ部に接触させてフィルタボックス３８Ｃを移動することで、容易にケーシング２８内でフィルタボックス３８Ｃを仕切り板４２Ａに接触するように位置決めできる。
【００８９】
また、図９（Ｂ）は、第４変形例の第１のフィルタボックス３８Ｄ及びこれに対応する位置決めブロック４８Ａを示す平面図である。フィルタボックス３８Ｄは、環状のフレーム５０Ｄ内にケミカルフィルタ５１を収納し、フレーム５０Ｄの端面にガスケット５４を固定したものである。また、フレーム５０Ｄの対向する第１側面５０Ｄｂ及び第２側面５０Ｄｃは平均的に対称に傾斜するとともに、それぞれ外側に凸の複数の円弧部が形成され、側面５０Ｄｂ，５０Ｄｃに取っ手部７０Ａが取り付けられている。
【００９０】
第１側面５０Ｄｂ又は第２側面５０Ｄｃを位置決めブロック４８Ａのテーパ部に接触させてフィルタボックス３８Ｄを移動することで、容易にフィルタボックス３８Ｄを仕切り板４２Ａに接触するように位置決めできる。
【００９１】
また、図９（Ｃ）は、第５変形例の第１のフィルタボックス３８Ｅ及びこれに対応する位置決めブロック４８Ａを示す平面図である。フィルタボックス３８Ｅは、環状のフレーム５０Ｅ内にケミカルフィルタ５１を収納し、フレーム５０Ｅの端面にガスケット５４を固定したものである。また、フレーム５０Ｅの対向する第１側面５０Ｅｂ及び第２側面５０Ｅｃは平均的に対称に傾斜するとともに、それぞれ外側に凸の円弧部が形成され、側面５０Ｅｂ，５０Ｅｃに取っ手部７０Ａが取り付けられている。
【００９２】
第１側面５０Ｅｂ又は第２側面５０Ｅｃを位置決めブロック４８Ａのテーパ部に接触させてフィルタボックス３８Ｅを移動することで、容易にフィルタボックス３８Ｅを仕切り板４２Ａに接触するように位置決めできる。
なお、図９（Ｂ）の複数の円弧部、又は図９（Ｃ）の凸の円弧部を回転ローラで構成してもよい。
【００９３】
（４）次に、図１０（Ａ）は、上記の実施形態の別の例のフィルタ装置２６Ｂを示し、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）中の第１のフィルタボックス３８Ｆを示す。図１０（Ａ）のフィルタ装置２６Ｂにおいて、ケーシング２８内の仕切り板４２Ａのフィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆに対向する面に、ガスケット５４から容易に離すことが可能で、かつ滑り易いとともに、中央部に気体を通過させる開口が形成された平板状のカバー部材ＴＦ５が被着されている。カバー部材ＴＦ５は、例えば合成樹脂から形成され、具体的には例えばテフロン（デュポン社の登録商標）から形成されている。
【００９４】
また、仕切り板４２Ａに被着されたカバー部材ＴＦ５に密着するように第１のフィルタボックス３８Ｆが位置決めされ、このフィルタボックス３８Ｆに密着するように順次第２のフィルタボックス４０Ｆ、第１のフィルタボックス３８Ｆ、及び第２のフィルタボックス４０Ｆが位置決めされている。一列のフィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆ，３８Ｆ，４０Ｆは、それぞれケーシング２８の内面に固定された位置決めブロック４８Ａ３，４８Ｂ３，４８Ａ４，４８Ｂ４によって位置決めされている。位置決めブロック４８Ａ３，４８Ｂ３等のＹ方向の長さは、フィルタボックス３８Ｆ，４０ＦのＹ方向の高さよりも小さく設定されている。
【００９５】
また、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆは、それぞれ環状のフレーム５０Ｆ，５５Ｆ内にケミカルフィルタ５１，５６を収納し、フレーム５０Ｆ，５５Ｆの端面にガスケット５４を固定したものである。さらに、フレーム５０Ｆ，５５Ｆの対向する第１側面及び第２側面は対称に傾斜するテーパ面とされ、フレーム５０Ｆ，５５Ｆの第１側面、第２側面、及びガスケット５４が固定されている端面に対向する端面に沿って、ガスケット５４から容易に離すことが可能で、かつ滑り易いカバー部材ＴＦ１，ＴＦ２が被着されている。フレーム５０Ｆ，５５Ｆの第１側面及び第２側面に、カバー部材ＴＦ３，ＴＦ４を通して取っ手部７０Ａ，７０Ｂが固定されている。位置決めブロック４８Ａ３，４８Ａ４及び４８Ｂ３，４８Ｂ４のテーパ部にも、それぞれ平板状で一部に溝が形成されたカバー部材ＴＦ３及びＴＦ４が固定されている。カバー部材ＴＦ１，ＴＦ２，ＴＦ３，ＴＦ４の材料は、例えばカバー部材ＴＦ５の材料と同じである。
【００９６】
図１０（Ｂ）に示すように、フィルタボックス３８Ｆのカバー部材ＴＦ１のケミカルフィルタ５１に対向する部分には気体を通過させる矩形の開口ＴＦ１ｃが形成されている。フレーム５０Ｆの第１側面及び第２側面を覆うカバー部材ＴＦ１の部分は、対称に傾斜するテーパ部ＴＦ１ａ，ＴＦ１ｂとされている。フィルタボックス４０Ｆの構成も同様であるが、取っ手部７０Ｂの位置が取っ手部７０Ａの位置とは異なっている。
【００９７】
図１０（Ａ）において、ケーシング２８を閉じるドア２９の内側に移動用レバー部５８Ｇが設けられている。移動用レバー５８Ｇは、台座部５８Ｇ３と、Ｙ方向に沿って伸びるガイド部５８Ｇ４と、ガイド部５８Ｇ４に沿ってＹ方向に移動可能な傾斜面を持つレバー部５８Ｇ１と、台座部５８Ｇ３からレバー部５８Ｇ１を位置決めブロック４８Ｂ４に接触しているフィルタボックス４０Ｆのカバー部材ＴＦ２のテーパ部に付勢する圧縮コイルばね５８Ｇ２とを備えている。
【００９８】
この例のフィルタ装置２６Ｂにおいて、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆをケーシング２８内に収納する際には、位置決めブロック４８Ａ３，４８Ｂ３，４８Ａ４，４８Ｂ４を覆うカバー部材ＴＦ３，ＴＦ４に、それぞれフィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆのカバー部材ＴＦ１，ＴＦ２のテーパ部を接触させて、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆを順次ほぼ−Ｙ方向に移動させる。この際に、カバー部材ＴＦ１〜ＴＦ４は滑り易いため、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆを容易に移動可能である。
【００９９】
さらに、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆ，３８Ｆ，４０Ｆを位置決めした状態では、−Ｙ方向の端部のフィルタボックス３８Ｆのガスケット５４が仕切り板４２Ａを覆うカバー部材ＴＦ５に接触し、フィルタボックス３８Ｆ（４０Ｆ）のカバー部材ＴＦ１（ＴＦ２）にそれに隣接するフィルタボックス４０Ｆ（３８Ｆ）のガスケット５４が接触している。この状態で、ドア２９を閉じると、移動用レバー部５８Ｇによって、＋Ｙ方向の端部のフィルタボックス４０Ｆが−Ｙ方向に付勢されるため、仕切り板４２Ａ（カバー部材ＴＦ５）と、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆとは気密性を保って密着できる。従って、４段のフィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆを通して空調装置の送風部（不図示）に清浄な気体を供給できる。
【０１００】
また、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆを交換する場合には、ドア２９を開いて、順次フィルタボックス４０Ｆ，３８Ｆをケーシング２８から搬出する。この際に、例えばフィルタボックス４０Ｆのガスケット５４はフィルタボックス３８Ｆのカバー部材ＴＦ１から容易に離すことが可能であり、フィルタボックス３８Ｆのガスケット５４もカバー部材ＴＦ５から容易に離すことが可能であるため、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆの交換を容易に行うことができる。
【０１０１】
なお、フィルタ装置２６Ｂにおいて、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆの段数は任意である。また、位置決めブロック４８Ａ３，４８Ｂ３等のカバー部材ＴＦ３，ＴＦ４は省略可能である。さらに、位置決めブロック４８Ａ３，４８Ｂ３等のカバー部材ＴＦ３，ＴＦ４が設けられている場合には、フィルタボックス３８Ｆ，４０Ｆ側のカバー部材ＴＦ１，ＴＦ２のテーパ部を省略することも可能である。
さらに、カバー部材ＴＦ１〜ＴＦ４の代わりに、例えば滑り易い樹脂製の粘着テープを貼着してもよい。
【０１０２】
（５）上記の実施形態及び変形例においては、フィルタボックス３８〜３８Ｆ，４０〜４０Ｆのフレーム５０，５０Ａ〜５０Ｆ及び５５，５５Ａ〜５５Ｆの外形はほぼ正方形（ほぼ正方形の環状（枠状））である。しかしながら、フレーム５０，５０Ａ及び５５，５５Ａ等の外形は例えば長方形等のほぼ矩形状（ほぼ矩形の環状（枠状））、又はほぼ正方形状若しくは矩形状で角部に面取り等が施されていてもよい。
【０１０３】
また、上記の実施形態の露光装置ＥＸを用いて半導体デバイス等の電子デバイス（又はマイクロデバイス）を製造する場合、電子デバイスは、図１１に示すように、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップ２２１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２２２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造してレジストを塗布するステップ２２３、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板（感応基板）に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱（キュア）及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ２２４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２２５、並びに検査ステップ２２６等を経て製造される。
【０１０４】
従って、このデバイス製造方法は、上記の実施形態の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成された基板を処理すること（ステップ２２４）とを含んでいる。その露光装置によれば、メンテナンスコストを低減でき、露光精度を向上できるため、電子デバイスを安価に高精度に製造できる。
なお、上記の実施形態では、空調用の気体として空気が使用されているが、その代わりに窒素ガス若しくは希ガス（ヘリウム、ネオン等）、又はこれらの気体の混合気体等を使用してもよい。
【０１０５】
また、本発明は、走査露光型の投影露光装置のみならず、一括露光型（ステッパー型）の投影露光装置を用いて露光する場合にも適用することが可能である。
また、本発明は、投影光学系を使用しないプロキシミティ方式やコンタクト方式の露光装置等で露光を行う際にも適用できる。
また、本発明は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の製造プロセスや、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、ＭＥＭＳ(Microelectromechanical Systems：微小電気機械システム)、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスの製造プロセスにも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、製造工程にも適用することができる。
【０１０６】
このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。
また、本願に記載した上記公報、各国際公開パンフレット、米国特許、又は米国特許出願公開明細書における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む２０１０年４月５日付け提出の米国特許出願第６１／３２０，８３２号の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。
【符号の説明】
【０１０７】
ＥＸ…露光装置、Ｒ…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｗ…ウエハ、４…露光本体部、１０…チャンバ、２６…フィルタ装置、２８…ケーシング、３０…主空調装置、３８，４０…フィルタボックス、４２Ａ〜４２Ｃ…仕切り板、４８Ａ〜４８Ｃ…位置決めブロック、５０，５５…フレーム、５０ｂ，５５ｂ…第１テーパ部、５１，５６…ケミカルフィルタ、６０…局所空調装置、７０Ａ，７０Ｂ…取っ手部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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