(57)【要約】  帯状可撓性基板の搬送時の弛みあるいは巻取りロールに対する巻取り時のずれを防止し得る薄膜積層体の製造装置を提供する。  ロール状に巻かれた帯状可撓性基板の幅方向が縦姿勢になるようにして、帯状可撓性基板を横方向に搬送し、該帯状可撓性基板の搬送方向に成膜室を設け、該成膜室に、帯状可撓性基板を搬送して、成膜室に設けられた成膜装置によって帯状可撓性基板に薄膜を成膜して薄膜積層体をロール状に巻き取る薄膜積層体の製造装置において、前記薄膜積層体１Ａをロール状に巻き取る巻取り装置４の前段に調整ロール９を設け、この調整ロール９の前段に、前記薄膜積層体１Ａの少なくとも上端部を挟持して一定の高さを保持して搬送する一対のグリップローラ７，８を配置したことにある。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロール状に巻かれた帯状可撓性基板の幅方向が縦姿勢になるようにして、帯状可撓性基板を横方向に搬送し、該帯状可撓性基板の搬送方向に成膜室を設け、該成膜室に、帯状可撓性基板を搬送して、成膜室に設けられた成膜装置によって帯状可撓性基板に薄膜を成膜して薄膜積層体をロール状に巻き取る薄膜積層体の製造装置において、前記薄膜積層体をロール状に巻き取る巻取り装置の前段にグリップローラと巻取り装置との間で生じる帯状可撓性基板の弛みを防止することができるとともに、巻取り時の巻取りロール径増加による抱き角変化と帯状可撓性基板の搬送軌道の影響を抑制する調整ロールを設け、この調整ロールの前段に、前記薄膜積層体の少なくとも上端部を挟持して一定の高さを保持して搬送する一対のグリップローラを配置したことを特徴とする薄膜積層体の製造装置。
【請求項２】
前記調整ロールに対する薄膜積層体の進入角度を検出する検出装置を設け、該検出装置の検出データに基づいて前記グリップローラの傾斜角度あるいは加圧力の少なくともいずれかを制御したことを特徴とする請求項１に記載の薄膜積層体の製造装置。
【請求項３】
前記巻取りロールに、帯状可撓性基板の幅方向に位置移動が可能なＬＰＣロールを用いたことを特徴とする請求項２に記載の薄膜積層体の製造装置。
【請求項４】
ロール状に巻かれた帯状可撓性基板を上下方向に搬送し、該帯状可撓性基板の搬送方向に成膜室あるいは、帯状可撓性基板へのパターニング加工を行う加工処理室である基板処理工程部を設け、該基板処理工程部に、帯状可撓性基板を搬送して、前記基板処理工程部は、成膜室に設けられた成膜装置によって帯状可撓性基板に薄膜を成膜、あるいは加工処理室に設けられたパターニング装置によって帯状可撓性基板にパターニング加工する上下方向搬送系を少なくとも一部に有して薄膜積層体を帯状可撓性基板の幅方向が横姿勢あるいは縦姿勢のいずれかでロール状に巻き取る薄膜積層体の製造装置において、前記薄膜積層体をロール状に巻き取る巻取り装置の前段にグリップローラと巻取り装置との間で生じる帯状可撓性基板の弛みを防止することができるとともに、巻取り時の巻取りロール径増加による抱き角変化と帯状可撓性基板の搬送軌道の影響を抑制する調整ロールを設け、この調整ロールの前段に、前記薄膜積層体の幅方向の少なくとも一端部を挟持して搬送する一対のグリップローラを配置したことを特徴とする薄膜積層体の製造装置。
【請求項５】
前記調整ロールに対する薄膜積層体の進入角度を検出する検出装置を設け、該検出装置の検出データに基づいて前記グリップローラの傾斜角度あるいは加圧力の少なくともいずれかを制御したことを特徴とする請求項４に記載の薄膜積層体の製造装置。
【請求項６】
前記巻取りロールに、帯状可撓性基板の幅方向の位置移動が可能なＬＰＣロールを用いたことを特徴とする請求項５に記載の薄膜積層体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム状の可撓性基板を、幅方向を縦姿勢にした状態で横方向に搬送して、真空室内のガス雰囲気中において高周波電源によるプラズマ放電を発生させて薄膜を形成する薄膜積層体の製造装置に関し、薄膜積層体を搬送する際に発生する張力皺、加圧皺と言った局部的な皺、弛みを抑制する機構と、薄膜積層体の巻取り時の巻きずれを抑制する機構を有する薄膜積層体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体薄膜などの薄膜積層体の基板には、通常、高剛性の基板が用いられている。しかしながら、例えば太陽電池等に使用される光電変換素子の基板には、軽量で取り扱いが容易であるといった利便性や、大量生産によるコスト低減のため、樹脂などの可撓性基板が用いられている。【０００３】
このような可撓性基板を用いて薄膜積層体を製造する装置として、連続して配列された複数の成膜室に、帯状の可撓性基板を通し、各成膜室で停止した状態の前記可撓性基板上に成膜し、次いでこの可撓性基板を次の成膜室の位置まで搬送する操作を繰り返し、前記可撓性基板の上に複数の異なる性質の薄膜を積層するという成膜装置が開発されている。【０００４】
このような成膜装置では、帯状可撓性基板の幅方向を水平方向に保持して、可撓性基板を水平方向に搬送して成膜を行うタイプと、帯状可撓性基板の幅方向を鉛直方向に保持して、可撓性基板を水平方向に搬送して成膜を行うタイプなどがある。後者のタイプは、前者のタイプに比べ、可撓性基板表面が汚染されにくい等の利点があるが、成膜室の数が多くなると、重力や可撓性基板の自重による伸びにより、可撓性基板の表面に皺が発生したり、可撓性基板が幅方向に蛇行したり、下方へ垂れ下がったりするという問題がある。【０００５】
このような問題を解消するため、多数配列された成膜室のうちの中央に位置する２室の成膜室の間に中間室を配置し、ここで可撓性基板の幅方向の全面にわたって可撓性基板表面と接触する側端位置制御（ＥＰＣ：ｅｄｇｅ ｐｏｓｉｔｉｏｎ ｃｏｎｔｒｏｌ）ローラを設けることが提案されている。ＥＰＣローラについては、特開２００９−４６２８５号公報（特許文献１）が知られている。
しかしながら、通常、成膜は比較的に高い温度で行われることから、このようなステンレス製のＥＰＣローラを成膜室の間に配置すると、可撓性基板が急冷され、皺が発生するなどの問題がある。
また、巻取りロールの巻きずれを防止するためには、ＥＰＣロールを採用することが望ましいが、ＥＰＣロールでは、可撓性基板に働く張力のバランスが崩れるため、折れ皺が発生し易い。また、通常、搬送ロールに比べＥＰＣロールは高価である。【０００６】
そこで、複数の成膜室のそれぞれの間に帯状可撓性基板の鉛直方向上側の端部を挟む複数対のグリップローラを設け、複数対のグリップローラが、各ローラの回転方向を、帯状可撓性基板の搬送方向に対して上方に傾けて設置した成膜装置が開発されている（特許文献２を参照）。
このように、複数の成膜室のそれぞれの間に、帯状可撓性基板の鉛直方向上側の端部を挟む少なくとも一対のグリップローラを配置し、これら複数対の鉛直方向上側端部のグリップローラを、各ローラの回転方向が、帯状可撓性基板の搬送方向に対して上方に傾くように設置することで、帯状可撓性基板が水平方向に搬送される際に、可撓性基板を上方に持ち上げる力が発生する。よって、帯状可撓性基板を複数の成膜室の間を長い距離にわたって搬送しても、可撓性基板に皺が発生したり、可撓性基板が幅方向に蛇行したり、可撓性基板が下方へ垂れ下がったりするのを防ぐことができ、帯状可撓性基板の鉛直方向における位置を精度高く維持することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−４６２８５号公報
【特許文献２】特開２００９−３８２７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そして、最終的に薄膜を成膜された帯状可撓性基板、すなわち、薄膜積層体を巻取りロールによって巻き取る際に、巻取りロールは、拘束力が非常に大きいため、グリップローラで帯状可撓性基板の高さを制御するためには、巻取りロールとグリップローラ間で、距離をとる必要があるが、距離をとると帯状可撓性基板、すなわち薄膜積層体に弛みがでてしまう。また、薄膜積層体の位置が下がると巻取りロールに巻かれるときにずれが生じ、均一に巻き取ることができなくなってしまう。【０００９】
本発明は、帯状可撓性基板の搬送時の弛みあるいは巻取りロールに対する巻取り時のずれを防止し得る薄膜積層体の製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するため、ロール状に巻かれた帯状可撓性基板の幅方向が縦姿勢になるようにして、帯状可撓性基板を横方向に搬送し、該帯状可撓性基板の搬送方向に成膜室を設け、該成膜室に、帯状可撓性基板を搬送して、成膜室に設けられた成膜装置によって帯状可撓性基板に薄膜を成膜して薄膜積層体をロール状に巻き取る薄膜積層体の製造装置において、前記薄膜積層体をロール状に巻き取る巻取り装置の前段に、グリップローラと巻取り装置との間で生じる、帯状可撓性基板の弛みを防止することができるとともに、巻取り時の巻取りロール径増加による抱き角変化と帯状可撓性基板の搬送軌道の影響を抑制する調整ロールを設け、この調整ロールの前段に、前記薄膜積層体の少なくとも上端部を挟持して一定の高さを保持して搬送する一対のグリップローラを配置したことにある。
また、本発明は、前記調整ロールに対する薄膜積層体の進入角度を検出する検出装置を設け、該検出装置の検出データに基づいて前記グリップローラの傾斜角度あるいは加圧力の少なくともいずれかを制御したことにある。
さらに本発明は、前記巻取りロールに、帯状可撓性基板の幅方向に位置移動が可能なＬＰＣ（Ｌｉｎｅ  Ｐｏｓｉｔｉｏｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）ロールを用いたことにある。
またさらに、本発明は、ロール状に巻かれた帯状可撓性基板を上下方向に搬送し、該帯状可撓性基板の搬送方向に成膜室あるいは、帯状可撓性基板へのパターニング加工を行う加工処理室である基板処理工程部を設け、該基板処理工程部に、帯状可撓性基板を搬送して、前記基板処理工程部は、成膜室に設けられた成膜装置によって帯状可撓性基板に薄膜を成膜、あるいは加工処理室に設けられたパターニング装置によって帯状可撓性基板にパターニング加工する上下方向搬送系を少なくとも一部に有して薄膜積層体を帯状可撓性基板の幅方向が横姿勢あるいは縦姿勢のいずれかで、ロール状に巻き取る薄膜積層体の製造装置において、前記薄膜積層体をロール状に巻き取る巻取り装置の前段に、グリップローラと巻取り装置との間で生じる帯状可撓性基板の弛みを防止することができるとともに、巻取り時の巻取りロール径増加による抱き角変化と帯状可撓性基板の搬送軌道の影響を抑制する調整ロールを設け、この調整ロールの前段に、前記薄膜積層体の幅方向の少なくとも一端部を挟持して搬送する一対のグリップローラを配置したことにある。
また、本発明は、前記調整ロールに対する薄膜積層体の進入角度を検出する検出装置を設け、該検出装置の検出データに基づいて前記グリップローラの傾斜角度あるいは加圧力の少なくともいずれかを制御したことにある。
さらに、本発明は、前記巻取りロールに、帯状可撓性基板の幅方向の位置移動が可能なＬＰＣロールを用いたことにある。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１によれば、巻取り装置の前段に調整ロールを設けたので、グリップローラと巻取り装置との間で生じる帯状可撓性基板の弛みを防止することができるとともに、巻取り時の巻取りロール径増加による抱き角変化と帯状可撓性基板の搬送軌道の影響を抑制することができる。グリップローラと、調整ロールを組み合わせることで、ＥＰＣロールの代替構造とすることができる。また、ＥＰＣロールに比べて安価な構造となるので、経済的である。
請求項２によれば、薄膜積層体の進入角度を小さくして薄膜積層体を基準位置に保つことができる。
請求項３によれば、巻取りロールに、ＬＰＣロールを用いたので、薄膜積層体の巻取りにともなうずれをなくすことができる。
請求項４によれば、巻取り装置の前段に調整ロールを設けたので、グリップローラと巻取り装置との間で生じる帯状可撓性基板の弛みを防止することができるとともに、巻取り時の巻取りロール径増加による抱き角変化と帯状可撓性基板の搬送軌道の影響を抑制することができる。グリップローラと、調整ロールを組み合わせることで、ＥＰＣロールの代替構造とすることができる。また、ＥＰＣロールに比べて安価な構造となるので、経済的である。
請求項５によれば、薄膜積層体の進入角度を小さくして薄膜積層体を基準位置に保つことができる。
請求項６によれば、巻取りロールに、ＬＰＣロールを用いたので、薄膜積層体の巻取りにともなうずれをなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態による薄膜積層体の製造装置を示し、（ａ）は、正面図、（ｂ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
【図２】（ａ）は図１（ａ）の部分拡大図、（ｂ）は、図２（ａ）の平面図である。
【図３】本発明の他の実施の形態を示し、（ａ）は、正面図、（ｂ）は、図３（ａ）の正面図である。
【図４】薄膜積層体を上下方向に搬送する本発明の他の実施の形態による薄膜積層体の製造装置を示し、（ａ）は、正面図、（ｂ）は、図４（ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。
【図５】（ａ）は図４（ａ）の部分拡大図、（ｂ）は、図５（ａ）の右側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態による薄膜積層体の製造装置を、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１４】
図１（ａ）（ｂ）は薄膜積層体の製造装置の一実施形態を示し、図２（ａ）（ｂ）は、図１（ａ）の巻取り装置部分を拡大して示したものである。
図１（ａ）は、帯状可撓性基板１をロール状に巻いた巻出しロール２と、帯状可撓性基板１に成膜を施す成膜室３と、成膜室３において成膜を施された薄膜積層体１Ａが搬送されて、この薄膜積層体１Ａを一定の高さを保持して巻き取る巻取りロール４とを示したものである。
【００１５】
図１および図２において、帯状可撓性基板１をロール状に巻いた巻出しロール２から、幅方向を鉛直方向に向けられて、水平方向に搬送される帯状可撓性基板１にガス雰囲気中の成膜室３で、プラズマ放電によって成膜を施された薄膜積層体１Ａは、巻取り装置である巻取りロール４によって順次巻き取られていくものである。成膜室３は、通常、高周波電極５と、ヒータを内蔵した接地電極６が対向して配置されており、この成膜室３内を真空引き状態にしてガス雰囲気中でプラズマ放電を発生させて、これら両電極５，６間に配置された可撓性基板１に成膜を施すものである。
巻取りロール４は垂直軸によって回転駆動されるもので、薄膜積層体１Ａの巻取りに従ってロール径が次第に増加するものである。この巻取りロール４の上流側には、上下一対のグリップローラ７，８が設けられ、これらグリップローラ７，８は、薄膜積層体１Ａの上端部および下端部を挟持しながら薄膜積層体１Ａを搬送するものであるが、本実施例のような可撓性基板幅方向を縦姿勢で搬送する場合には、上側のグリップ７で薄膜積層体１Ａの上端部だけを挟持して搬送しても良い。
巻取りロール４の前段、すなわち、巻取りロール４とグリップローラ７，８との間には、一定の径を有し、薄膜積層体１Ａが巻き付け角(抱角)を持って接して張力を付与する調整ロール９が設けられており、この調整ロール９は、薄膜積層体１Ａに張力を付与しながら一定の軌跡で巻取りロール４に薄膜積層体１Ａを送るものであり、具体的には、図２（ｂ）に示すように、調整ロール９で薄膜積層体１Ａが巻き付け角(抱角)を有して接することで、巻取りロール４に搬送する方向を変えるようして、巻取りロール４で張力が発生するようにする。
【００１６】
前記グリップローラ７，８は、幅方向を鉛直方向に向けられて搬送される薄膜積層体１Ａの上部側、すなわち一側の両面を挟持してガイドする一対の上部側グリップローラ７と、薄膜積層体１の下部側、すなわち他側の両面を挟持してガイドする一対の下部側グリップローラ８とから構成されている。一対の上部側グリップローラ７は、それぞれ垂直軸によって互いに逆方向に回転駆動されるもので、薄膜積層体１の上部側の一側の両面を一定の圧力で挟持して搬送するものである。同様に、一対の下部側グリップローラ８も、上部側グリップローラ７と同様に、それぞれ垂直軸によって互いに逆方向に回転駆動されるもので、薄膜積層体１Ａの下部側の他側の両面を一定の圧力で挟持して搬送するものである。
【００１７】
前記調整ロール９の前段と後段には、位置を検出するセンサ１０，１１がそれぞれ設けられており、これらセンサ１０，１１は、例えば、光センサ等が用いられている。そして、センサ１０によって、薄膜積層体１Ａの調整ロール９への進入角度を検出し、センサ１１によって、巻取りロール４への進入角度を検出している。この進入角度の検出結果に基づいて前記グリップローラ７，８の加圧力を調整する。センサ１０，１１は、例えばそれぞれの薄膜積層体１Ａに対する位置を検出し、その位置の差から薄膜積層体１Ａに対する進入角度を検出することができる。
前記グリップローラ７，８の加圧力は、制御装置１２によってそれぞれ制御されており、制御装置１２は、センサ１０，１１からの検出結果により必要な加圧力を算定するものである。
【００１８】
上記実施の形態によると、幅方向を鉛直方向に向けられて搬送されてきた帯状可撓性基板１は成膜室３で、プラズマ放電によって成膜を施され、薄膜積層体１Ａとしてグリップローラ７，８によって挟持されながら送られてくる。そして、この薄膜積層体１Ａは、調整ロール９を経由して巻取りロール４に巻き付けられていく。このとき、調整ロール９に進入する進入角度をセンサ１０，１１によって検出し、検出結果を制御装置１２に送り、調整ロール９の前段に設けられたグリップローラ７，８の加圧力を調整する。こうして、薄膜積層体１Ａの弛みあるいは垂れ下がりを防ぎ、一定の高さで薄膜積層体１Ａが巻取りロール４に巻き付けられる。
【００１９】
図３（ａ）（ｂ）は、図２（ａ）（ｂ）と同一部分は同符号を付して同一部分の説明は省略して説明する本発明の他の実施の形態を示す概念図である。この場合、巻取りロール１３にＬＰＣロールを採用したもので、他の装置の構成および作用は図２（ａ）（ｂ）と同様である。
【００２０】
この場合、巻取りロール１３にＬＰＣロールを採用しているため、巻取りに際して、図示、二点鎖線のように、昇降して巻取りロール１３の位置を変えることができるので、薄膜積層体１Ａの搬送されてきた高さに応じて、巻取りロール１３の高さを調整して、薄膜積層体１Ａの巻取りロール１３での巻きずれを防止することができる。また、グリップローラ７，８によって薄膜積層体１Ａの高さを制御して調整ロール９への薄膜積層体１Ａの進入角の発生を制御することができる。巻取りロール１３は調整ロール９と巻取りロール１３との間に設置したセンサ１１による薄膜積層体１Ａの高さ位置に対応して巻取りロール１３自身の位置を変えることができる。グリップローラ７，８によって抑制しきれなかった調整ロール９への薄膜積層体１Ａの進入角による薄膜積層体１Ａの高さ変化をセンサ１０によって測定し、巻取りロール１３の高さを調整することができる。このように、調整ロール９への薄膜積層体１Ａの進入角の抑制と、巻取りロール１３への巻取り高さ調整を同時に行うことで、巻取りロール１３での巻取り精度をより向上することができる。巻取りロール１３にＬＰＣロールを採用することで、コスト増となるがＥＰＣロールに比べて安価となる。
【００２１】
図４（ａ）（ｂ）は薄膜積層体を上下方向に搬送する薄膜積層体の製造装置の他の実施の形態を示したもので、図１（ａ）（ｂ）と同一部分は同符号を付して説明する。図５（ａ）（ｂ）は、図４（ａ）の巻取り装置部分を拡大して示したものである。
図４（ａ）は、帯状可撓性基板２１を上下方向に搬送するように帯状可撓性基板２１をロール状に巻いた巻出しロール２２と、帯状可撓性基板２１に成膜を施す成膜室もしくは帯状可撓性基板２１にパターニングを行う加工処理室である基板処理工程部２３と、基板処理工程部２３において成膜を施された薄膜積層体２１Ａが搬送されて、この薄膜積層体２１Ａを巻き取る巻取りロール２４とを示したものである。
【００２２】
図４および図５において、帯状可撓性基板２１をロール状に巻いた巻出しロール２２は、その搬送過程の少なくとも一部において、帯状可撓性基板２１を上下方向に、天井から床方向あるいは床から天井方向に搬送するように配置されている。
例えば、天井から床方向に搬送されてくる帯状可撓性基板２１の途中に基板処理工程部２３が配置され、帯状可撓性基板２１をガス雰囲気中の成膜室で、プラズマ放電によって成膜を施すか、レーザパターニング装置によって、帯状可撓性基板２１にパターニング処理を施すものである。プラズマ放電によって成膜を施こされたか、レーザパターニング処理された薄膜積層体２１Ａは、床側に配置された巻取り装置である巻取りロール２４によって順次巻き取られていくものである。成膜室は、前記実施の形態と同様に、この成膜室２３内を真空引き状態にして、ガス雰囲気中でプラズマ放電を発生させて、これら両電極２５，２６間に配置された可撓性基板２１に成膜を施すものである。
巻取りロール２４は薄膜積層体２１Ａの幅方向の軸によって回転駆動されるもので、薄膜積層体２１Ａの巻取りに従ってロール径が次第に増加するものである。この巻取りロール２４の上流側には、幅方向で各一対のグリップローラ２７，２８が設けられ、これらグリップローラ２７，２８は、薄膜積層体２１Ａの上端部および下端部を挟持しながら薄膜積層体２１Ａを搬送するものである。巻取りロール２４の前段、すなわち、巻取りロール２４とグリップローラ２７，２８との間には、一定の径を有し、グリップローラと巻取り装置との間で生じる帯状可撓性基板の弛みを防止することができるとともに、巻取り時の巻取りロール径増加による抱き角変化と帯状可撓性基板の搬送軌道の影響を抑制する調整ロール２９が設けられており、この調整ロール２９は薄膜積層体２１Ａに張力を付与しながら一定の軌跡で巻取りロール２４に薄膜積層体２１Ａを送るものである。
本実施形態においては、巻出しロール２２と巻取りロール２４を、帯状可撓性基板２１、薄膜積層体２１Ａの幅方向が床と水平方向になるように配置する構成としているが、これに限定されるものではなく、巻出しロール２２と巻取りロール２４は、帯状可撓性基板２１、薄膜積層体２１Ａの幅方向が縦姿勢となっていて、基板処理工程部２３が上下方向に搬送する形態でも良い。
また、帯状可撓性基板２１、薄膜積層体２１Ａの搬送姿勢が、縦姿勢の場合は、グリップローラ２７は、少なくとも上側が配置されていれば良く、搬送方向が上下の場合には、グリップローラ２７，２８によって、帯状可撓性基板２１、薄膜積層体２１Ａの幅方向の両側を挟持する必要がある。
【００２３】
前記グリップローラ２７，２８は、幅方向を横方向に向けられて上下方向に搬送される薄膜積層体２１Ａの幅方向の一側の両面を挟持してガイドする一対の一側側グリップローラ２７と、薄膜積層体２１Ａの幅方向の他側の両面を挟持してガイドする一対の他側側グリップローラ２８とから構成されている。一対の一側側グリップローラ２７は、それぞれ薄膜積層体２１Ａの幅方向の軸、すなわち横方向軸によって互いに逆方向に回転駆動されるもので、薄膜積層体２１の一側の両面を一定の圧力で挟持して搬送するものである。同様に、一対の他側側グリップローラ２８も、一側側グリップローラ２７と同様に、それぞれ薄膜積層体２１Ａの幅方向の軸によって互いに逆方向に回転駆動されるもので、薄膜積層体２１Ａの幅方向の他側の両面を一定の圧力で挟持して搬送するものである。
【００２４】
前記調整ロール２９の前段と後段には、図１の実施の形態と同様に、位置を検出するセンサ１０，１１がそれぞれ設けられており、これらセンサ１０，１１は、例えば、光センサ等が用いられ、薄膜積層体２１Ａの調整ロール２９への進入角度を検出している。この進入角度の検出結果に基づいて前記グリップローラ２７，２８の加圧力を調整する。センサ１０，１１は、例えばそれぞれの薄膜積層体２１Ａに対する位置を検出し、その位置の差から薄膜積層体２１Ａに対する進入角度を検出することができる。
前記グリップローラ２７，２８の加圧力は、制御装置１２によってそれぞれ制御されており、制御装置１２は、センサ１０，１１からの検出結果により必要な加圧力を算定するものである。
【００２５】
上記実施の形態によると、帯状可撓性基板２１をロール状に巻いた巻出しロール２２から帯状可撓性基板２１は上下方向に、天井から床方向に搬送される。天井から床方向に搬送されてきた帯状可撓性基板２１は基板処理工程部２３で、プラズマ放電によって成膜を施され、薄膜積層体２１Ａとしてグリップローラ２７，２８によって挟持されながら送られてくる。そして、この薄膜積層体２１Ａは、調整ロール２９を経由して巻取りロール２４に巻き付けられていく。このとき、調整ロール２９に進入する進入角度をセンサ１０，１１によって検出し、検出結果を制御装置１２に送り、調整ロール２９の前段に設けられたグリップローラ２７，２８の加圧力を調整する。こうして、薄膜積層体２１Ａの弛みあるいは垂れ下がりを防ぎ、薄膜積層体２１Ａが巻取りロール２４に巻き付けられる。
なお、上記実施の形態では、巻取りロール２４に、図３の実施の形態で説明した、ＬＰＣロールを採用することもできる。
この場合、巻取りロール２４にＬＰＣロールを採用することで、巻取りに際して、図示二点鎖線のように昇降して位置を変えることができるので、薄膜積層体２１Ａの幅方向の位置を調整して薄膜積層体２１Ａの巻きずれを防止することができる。
【００２６】
なお、本発明は、上記実施の形態のみに限定されるものではなく、例えば、図１の実施の形態では、薄膜積層体１Ａの高さを制御するのに、グリップローラ７，８の加圧力を調整したが、上下それぞれ一対のグリップローラ７，８の回転軸を傾けることによって傾斜角度を調整して、薄膜積層体１Ａの高さを制御することもできる。この場合、上部側の一対のグリップローラ７の傾斜角度を薄膜積層体１Ａの高さを維持するために通常は上方側に薄膜積層体１Ａをガイドするように調整されている。一方、下部側の一対のグリップローラ８は、薄膜積層体１Ａに皺がよらないように、上部側のグリップローラ７に対して、下部側に引っ張るように傾斜させている。しかし、薄膜積層体１Ａがそれでも下がってくる場合には、下部側の一対のグリップローラ８は水平を維持するようにグリップローラ８の傾斜角度を設定することもできる。なお、グリップローラ７，８は加圧力の調整と、傾斜角度の調整を併用することもできる。
また、上記実施の形態では、センサ１０，１１によって進入角を検出しているが、他の方法によって進入角を検出しても良い。また、上記実施の形態では、単方向への搬送について説明したが双方向に搬送する場合にも適用することができる。この場合、巻き出しロール２，２２にも調整ロール９，２９およびグリップローラ７，８，２７，２８を設けることで同様の作用を得ることができる。また、センサ１０，１１についても調整ロール９，２９を挟んで配設することができるなど、その他、本発明の要旨を変更しない範囲内で、適宜、変更して実施し得ることは言うまでもない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2011016471.tif 000009
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