(57)【要約】  優れた耐湿熱性等を有し、光記録媒体に用いられる式（Ｉ）[式中、Ｒ１およびＲ３は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基等を表し、Ｒ２は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基等を表し、Ｒ４は式（ＩＩＩ）(式中、環Ａはさらに置換基を有していてもよい)等を表す]で表される化合物と、金属と、アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種と、からなる錯化合物等を提供する。2011142329.tif 0000252011142329.tif 000026
2011142329.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2011142329.tif 000021
[式中、Ｒ１及びＲ３は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表し、Ｒ２は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表し、Ｒ４は式（ＩＩ）
【化２】
2011142329.tif 000022
(式中、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す)、または式（ＩＩＩ）
【化３】
2011142329.tif 000023
(式中、環Ａはさらに置換基を有していてもよい)を表す]で表される化合物と、金属と、アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種と、からなる錯化合物。
【請求項２】
Ｒ１が置換基を有していてもよいアリール基である請求項１に記載の錯化合物。
【請求項３】
Ｒ２が置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基である請求項１または２に記載の錯化合物。
【請求項４】
Ｒ３が水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基である請求項１〜３のいずれかに記載の錯化合物。
【請求項５】
Ｒ４が式（ＩＩ）である請求項１〜４のいずれかに記載の錯化合物。
【請求項６】
Ｒ５が置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよい複素環基である請求項５に記載の錯化合物。
【請求項７】
Ｒ４が式（ＩＩＩ）である請求項１〜４のいずれかに記載の錯化合物。
【請求項８】
式（ＩＩＩ）が式（ＩＶ）
【化４】
2011142329.tif 000024
(式中、Ｒ６は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す)で表される請求項７に記載の錯化合物。
【請求項９】
金属がコバルト、ロジウム、イリジウム、アルミニウム、ガリウムまたは鉄である請求項１〜８のいずれかに記載の錯化合物。
【請求項１０】
金属がコバルトである請求項１〜８のいずれかに記載の錯化合物。
【請求項１１】
アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種が、アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオンである請求項１〜１０のいずれかに記載の錯化合物。
【請求項１２】
アミンが置換基を有していてもよい脂肪族第３アミンである請求項１１に記載の錯化合物。
【請求項１３】
アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種が、第４級アンモニウムイオンである請求項１〜１０のいずれかに記載の錯化合物。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載の錯化合物を含有する光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体等に用いられる錯化合物等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、対物レンズの開口数ＮＡを大きくする技術、レーザー波長λを小さくする技術等を用い、さらに超高密度記録が可能となる光記録媒体の開発が進んでいる。例えば、ＨＤＴＶ(高精細度テレビ)の映像情報を２時間以上記録するためには、ＤＶＤと同サイズで少なくとも２３ＧＢ以上の容量をもつ光記録媒体が要望されている。こういった要望に応えるために、青紫色レーザー光を使用し、対物レンズのＮＡを０．８５とし、レーザースポット径を小さくすることによって、より高密度の情報を記録する光記録媒体、いわゆるＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（ＢＤ）が開発された。【０００３】
このような光記録媒体に用いられる色素には、優れた耐湿熱性等の特性が求められる。
光学記録媒体の記録層形成用色素として、ヒドラジド化合物のリガンドと遷移金属カチオンからなる錯体(特許文献１参照)、ヒドラジド化合物と金属原子からなる金属キレート錯体化合物(特許文献２参照)などが知られている。しかし、これらの化合物における耐湿熱性等の特性は十分でない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２２３２８９号公報
【特許文献２】特開２００８−４５０９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、優れた耐湿熱性等を有する光記録媒体に用いられる錯化合物等を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の[１]〜[１４]を提供する。
[１]式（Ｉ）
【化１】
2011142329.tif 000003
[式中、Ｒ１及びＲ３は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表し、Ｒ２は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表し、Ｒ４は式（ＩＩ）
【化２】
2011142329.tif 000004
(式中、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す)、または式（ＩＩＩ）
【化３】
2011142329.tif 000005
(式中、環Ａはさらに置換基を有していてもよい)を表す]で表される化合物と、金属と、アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種と、からなる錯化合物。
[２]Ｒ１が置換基を有していてもよいアリール基である[１]に記載の錯化合物。
[３]Ｒ２が置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基である[１]または[２]に記載の錯化合物。
[４]Ｒ３が水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基である[１]〜[３]のいずれかに記載の錯化合物。
[５]Ｒ４が式（ＩＩ）である[１]〜[４]のいずれかに記載の錯化合物。
[６]Ｒ５が置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよい複素環基である[５]に記載の錯化合物。
[７]Ｒ４が式（ＩＩＩ）である[１]〜[４]のいずれかに記載の錯化合物。
[８]式（ＩＩＩ）が式（ＩＶ）
【化４】
2011142329.tif 000006
(式中、Ｒ６は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す)で表される[７]に記載の錯化合物。
[９]金属がコバルト、ロジウム、イリジウム、アルミニウム、ガリウムまたは鉄である[１]〜[８]のいずれかに記載の錯化合物。
[１０]金属がコバルトである[１]〜[８]のいずれかに記載の錯化合物。
[１１]アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種が、アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオンである[１]〜[１０]のいずれかに記載の錯化合物。
[１２]アミンが置換基を有していてもよい脂肪族第３アミンである[１１]に記載の錯化合物。
[１３]アミンに１つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種が、第４級アンモニウムイオンである[１]〜[１０]のいずれかに記載の錯化合物。
[１４][１]〜[１３]のいずれかに記載の錯化合物を含有する光記録媒体。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、優れた耐湿熱性等を有する光記録媒体に用いられる錯化合物等を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、式（Ｉ）で表される化合物を化合物（Ｉ）という。他の式番号の化合物についても同様である。
【０００９】
一般式の各基の定義において、アルキル基およびアルコキシル基のアルキル部分としては、例えば、直鎖または分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、１−イソプロピル−２−メチルプロピル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、エイコシル基等が挙げられ、中でも炭素数が１〜１０であるものが好ましい。
【００１０】
アルケニル基としては、例えば、直鎖または分岐状の炭素数２〜２０のアルケニル基が挙げられ、具体的には、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、１−エチル−２−プロペニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、エイコセニル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、例えば、炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
【００１１】
アリール基としては、例えば、炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基における脂環式炭化水素としては、例えば、炭素数３〜８のシクロアルカン、炭素数３〜８のシクロアルケン、３〜８員の環が縮合した二環または三環性の脂環式炭化水素等が挙げられる。
炭素数３〜８のシクロアルカンの具体例としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等が挙げられる。
炭素数３〜８のシクロアルケンの具体例としては、例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等が挙げられる。
３〜８員の環が縮合した二環または三環性の脂環式炭化水素の具体例としては、例えば、ジヒドロペンタレン、ジヒドロインデン、テトラヒドロナフタレン、ヘキサヒドロフルオレン等が挙げられる。
【００１２】
複素環基における複素環としては、芳香族複素環および脂環式複素環が挙げられる。
芳香族複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む５員または６員の単環性芳香族複素環、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性芳香族複素環等が挙げられ、具体的には、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、シンノリン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、トリアジン環、テトラゾール環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、プリン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、フェナントロリン環等が挙げられる。
【００１３】
脂環式複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む５〜８員の単環性脂環式複素環、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性脂環式複素環等が挙げられ、具体的には、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、ホモピペリジン環、ホモピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロベンゾフラン環、インドリン環、テトラヒドロカルバゾール環、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン環等が挙げられる。
【００１４】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
環Ａとしては、例えば、前記に挙げた複素環のうち−ＣＨ＝Ｎ−を有するもの等が挙げられ、具体的には、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、シンノリン環、ピロール環(２Ｈ−ピロール環、３Ｈ−ピロール環)、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、トリアジン環、テトラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、インドール環(３Ｈ−インドール環)、イソインドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、プリン環、テトラヒドロピリジン環(２，３，４，５−テトラヒドロピリジン環)等が挙げられる。
【００１５】
アミノ基の置換基としては、１個または２個のアルキル基等が挙げられる。ここで、アルキル基は、前記と同義である。アミノ基が２個のアルキル基を有するとき、該２個のアルキル基は同一でも異なっていてもよい。
【００１６】
アルキル基およびアルコキシル基の置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアミノ基、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、複素環基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアミノ基、アルコキシル基および複素環基は、それぞれ前記と同義である。アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基およびアルコキシカルボニル基のアルキル部分は、それぞれ前記のアルキル基と同義である。アルコキシアルコキシル基の２つのアルコキシ部分は、それぞれ前記のアルコキシル基と同義である。アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基およびアリールオキシカルボニル基のアリール部分は、それぞれ前記のアリール基と同義である。
【００１７】
アラルキル基、アリール基および脂環式炭化水素基の置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、アルケニル基、アラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、脂環式炭化水素基、複素環基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、アルケニル基、アラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、脂環式炭化水素基および複素環基は、それぞれ前記と同義である。
アルケニル基の置換基としては、例えば、アルキル基の置換基として前記に挙げた基、置換基を有してもよいアリール基等が挙げられる。ここで、置換基を有してもよいアリール基は、前記と同義である。
【００１８】
複素環基の置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、オキソ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、アラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、複素環基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、アラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基および複素環基は、それぞれ前記と同義である。
【００１９】
環Ａがさらに置換基を有するときの該置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、オキソ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有してもよい脂環式炭化水素基および置換基を有してもよい複素環基は、それぞれ前記と同義である。
【００２０】
式（Ｉ）の各基において、
Ｒ１としては、置換基を有していてもよいアリール基が好ましい。
Ｒ２としては、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、置換基を有していてもよいアルキル基がより好ましい。
Ｒ３としては、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、置換基を有していてもよいアリール基がより好ましい。
Ｒ４が式（ＩＩ）であるとき、Ｒ５としては、置換基を有していてもよいアリール基および置換基を有していてもよい複素環基が好ましい。
Ｒ４が式（ＩＩＩ）であるとき、式（ＩＩＩ）の環Ａとしては、テトラゾール環およびベンゾオキサゾール環が好ましく、テトラゾール環がより好ましい。
Ｒ４が式（ＩＩＩ）であるとき、式（ＩＩＩ）としては、式（ＩＶ）が好ましい。Ｒ６としては、置換基を有していてもよいアリール基が好ましい。
化合物（Ｉ）としては、上記で示した好ましいＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の基がそれぞれ組み合わされた化合物が好ましい。
金属としては、例えば、コバルト、ロジウム、イリジウム、アルミニウム、ガリウム、鉄等が挙げられ、中でもコバルトが好ましい。
【００２１】
アミンに１つまたはそれ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン(以下、アミンの陽イオンという)におけるアミンしては、塩基性の窒素原子を１個有するもの(モノアミン)または塩基性の窒素原子を２個以上有するもの(ポリアミン)を使用することができる。アミンの具体例としては、例えば、置換基を有していてもよい脂肪族第１アミンで炭素数１〜３０のもの(例えば、ブチルアミン、エタノールアミン、エチレンジアミン等)、置換基を有していてもよい脂肪族第２アミンで炭素数２〜３０のもの(例えば、ジブチルアミン、ジエタノールアミン等)、置換基を有していてもよい脂肪族第３アミンで炭素数３〜３０のもの(例えば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジイソプロピルエチルアミン等)、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の脂環式アミン、置換基を有していてもよい芳香族アミン、置換基を有していてもよい塩基性の含窒素複素環化合物(例えば、ピリジン、キノリン、インドール、ベンゾチアゾール、ビピリジン、フェナントロリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン等)、ケイ素を含有するアミン(例えば、ヘプタメチルジシラザン等)等が挙げられる。
【００２２】
脂環式アミンとしては、例えば、３〜８員の単環性脂環式炭化水素環を有し、塩基性の窒素原子上に脂肪族鎖を有していてもよく、塩基性の窒素原子と該単環性脂環式炭化水素環との間に脂肪族鎖を有していてもよいアミン等が挙げられる。ここで、塩基性の窒素原子上に有していてもよい脂肪族鎖としては、例えば、アルキル基として前記に挙げた基が例示される。塩基性の窒素原子と該単環性脂環式炭化水素環との間に有していてもよい脂肪族鎖としては、例えば、アルキル基として前記に挙げた基から炭素上の水素原子を１個除くことに生じるアルキレン基等が例示される。脂環式アミンの具体例としては、例えば、シクロヘキシルアミン、(シクロへキシルメチル)アミン等が挙げられる。
【００２３】
芳香族アミンとしては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等の芳香族炭化水素環を有し、塩基性の窒素原子上に脂肪族鎖を有していてもよく、塩基性の窒素原子と該芳香族炭化水素環との間に脂肪族鎖を有していてもよいアミン等が挙げられる。ここで、塩基性の窒素原子上に有していてもよい脂肪族鎖は前記と同義である。塩基性の窒素原子と該芳香族炭化水素環との間に有していてもよい脂肪族鎖としては、例えば、塩基性の窒素原子と該単環性脂環式炭化水素環との間に有していてもよい脂肪族鎖として前記に挙げた基等が例示される。芳香族アミンの具体例としては、例えば、アニリン、ナフチルアミン、ベンジルアミン、トリベンジルアミン等が挙げられる。
【００２４】
脂肪族第１アミン、脂肪族第２アミンおよび脂肪族第３アミンの置換基としては、例えば、同一または異なって置換数１〜５の置換基、具体的にはヒドロキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基およびアルコキシカルボニル基は、それぞれ前記と同義である。
【００２５】
脂環式アミンおよび芳香族アミンの置換基のうち、脂環式アミンにおける環および芳香族アミンにおける環の置換基としては、例えば、脂肪族第１アミン、脂肪族第２アミンおよび脂肪族第３アミンの置換基として前記に挙げた基、置換基を有していてもよいアルキル基等が例示される。ここで、置換基を有していてもよいアルキル基は前記と同義である。脂環式アミンおよび芳香族アミンが脂肪族鎖を有するときの該脂肪族鎖の置換基としては、例えば、脂肪族第１アミン、脂肪族第２アミンおよび脂肪族第３アミンの置換基として前記に挙げた基等が例示される。
【００２６】
塩基性の含窒素複素環化合物の置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、オキソ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、アラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、アラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基およびアリールオキシカルボニル基は、それぞれ前記と同義である。
【００２７】
第４級アンモニウムイオンとしては、例えば、式（Ｘ）
【化５】
2011142329.tif 000007
(式中、Ｌ１およびＬ２は、同一または異なって、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基または置換基を有してもよいアロイル基を表し、ｐおよびｑは、同一または異なって、０〜５の整数を表し、ｐが２〜５の整数のとき、Ｌ１のそれぞれは同一または異なってもよく、２つのＬ１とそれらが隣接する２つの炭素原子とが一緒になって置換基を有していてもよいベンゼン環を形成してもよく、ｑが２〜５の整数のとき、Ｌ２のそれぞれは同一または異なってもよく、２つのＬ２とそれらが隣接する２つの炭素原子とが一緒になって置換基を有していてもよいベンゼン環を形成してもよい)で表されるイオン等が挙げられる。
【００２８】
ここで、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、アリールオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基およびアロイル基は、それぞれ前記と同義である。アリールオキシ基、アロイル基およびベンゼン環の置換基としては、例えば、アラルキル基、アリール基および脂環式炭化水素基の置換基として前記に挙げた基等が挙げられる。
【００２９】
Ｌ１およびＬ２としては、フッ素原子、フッ素置換アルキル基またはフッ素置換アルコキシル基が好ましい。
フッ素置換アルキル基としては、例えば、前記にアルキル基として挙げた基の１〜５個の水素原子が、フッ素原子に置換された基等が挙げられる。
フッ素置換アルコキシル基のフッ素置換アルキル部分は、前記のフッ素置換アルキル基と同義である。
【００３０】
第４級アンモニウムイオンの具体例を以下に示す。式中、Ｐｈはフェニル基を表す。
【化６】
2011142329.tif 000008
【００３１】
化合物（Ｉ）と、金属と、アミンの陽イオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種と、からなる錯化合物としては、例えば、式（Ｙ）
【化７】
2011142329.tif 000009
(式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ前記と同義であり、Ｍは金属を表し、Ｑｎ＋はアミンの陽イオン、アンモニウムイオンおよび第４級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる１種を表し、ｎは１〜３の整数を表す)で表される化合物等が挙げられる。ここで、金属、アミンおよび第４級アンモニウムイオンは、それぞれ前記と同義である。ｎは１または２であるのが好ましい。
【００３２】
次に、化合物（Ｉ）の製造法について例を挙げて説明する。
化合物（Ｉ）は、例えば、反応式（１）
【化８】
2011142329.tif 000010
(式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ前記と同義である)に従って製造することができる。具体的には、化合物（ＶＩＩ）と化合物（Ｖ）とを、要すれば化合物（ＶＩＩ）に対して０．１〜１０倍モルの酢酸の存在下、溶媒中、１０〜１００℃で、０．５〜３０時間反応させて化合物（Ｉ）を製造することができる。
化合物(ＶＩＩ)の使用量は、化合物（Ｖ）に対して０．５〜５倍モル量であるのが好ましい。
【００３３】
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、オクタノール等のアルコール系溶媒、ヘキサン、デカン、テトラデカン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メトキシベンゼン、ジフェニルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等の含硫黄系溶媒、アセトニトリル等が挙げられる。
【００３４】
化合物（ＶＩＩ）のうち、Ｒ３が置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基であるものは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、「Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ」,２００６年，第６８巻，ｐ．１８２５−１８３５、「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，２００３年，第６８巻，第２１号,ｐ．７９４３−７９５０、「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」,１９８７年，第３０巻，第１０号，ｐ．１８０７−１８１２、「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，２００６年，第４９巻，第５号，ｐ．１５６２−１５７５等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
化合物（ＶＩＩ）のうち、Ｒ３が水素原子であるものは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、「Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ」,１９９９年，第４０巻，第１８号，ｐ．３５３５−３５３８、「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ  ａｎｄ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」,２００９年，第１７巻，第１５号，ｐ．５７１６−５７２１等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
【００３５】
化合物（Ｖ）のうちＲ４が式（ＩＩＩ）であるものは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、社団法人日本化学会編，「実験化学講座(第２０巻)」，第４版，丸善株式会社，１９９１年，ｐ．３０−４６，ｐ．１１２−１８５，ｐ．２７９−２９０，ｐ．３３８−３４２、社団法人日本化学会編，「実験化学講座(第１３巻)」，第５版，丸善株式会社，１９９１年，ｐ．３７４−４１６、社団法人日本化学会編，「実験化学講座(第１４巻)」，第５版，丸善株式会社，２００３年，ｐ．２８９−３２０、Ｂｕｅｈｌｅｒ  ＆  Ｐｅａｒｓｏｎ編，「Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ(第１巻)」，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９７０年，ｐ．４１１−５１２、Ｂｕｅｈｌｅｒ  ＆  Ｐｅａｒｓｏｎ編，「Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ(第２巻)」，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９７７年，ｐ．８１２−８５３、Ｓａｕｌ  Ｐａｔａｉ編，「Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ａｍｉｎｏ  ｇｒｏｕｐ」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９６８年，ｐ．２７７−３４７等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
【００３６】
化合物（Ｖ）のうちＲ４が式（ＩＩ）であるものは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、社団法人日本化学会編，「実験化学講座(第２０巻)有機化合物の合成と反応ＩＩ」，第１版，丸善株式会社，１９５６年，ｐ．３４７−３８９、社団法人日本化学会編，「新実験化学講座(第１４巻)  有機化合物の合成と反応ＩＩＩ」，第２版，丸善株式会社，１９７８年，ｐ．１５７３−１５８４、Ｓａｕｌ  Ｐａｔａｉ編，「Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｈｙｄｒａｚｏ，  ａｚｏ，  ａｎｄ  ａｚｏｘｙ  ｇｒｏｕｐ(第１巻)」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９７５年，ｐ．６９−１０７、Ｓａｕｌ  Ｐａｔａｉ編，「Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｈｙｄｒａｚｏ，  ａｚｏ，  ａｎｄ  ａｚｏｘｙ  ｇｒｏｕｐ(第２巻)」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９７５年，ｐ．５９９−７２３、Ｇｉｌｍａｎ編，「Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｖｅ（第１巻）」，Ｓｈｒｉｎｅｒ  ＆  Ｓｈｒｉｎｅｒ，１９３２年，ｐ．４５０−４５３、Ｂｌａｔｔ編，「Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｖｅ(第２巻)」，Ｓｈｒｉｎｅｒ  ＆  Ｓｈｒｉｎｅｒ，１９４３年，ｐ．８５−８７、Ｂａｕｍｇａｒｔｅｎ編，「Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｖｅ(第５巻)」，Ｓｈｒｉｎｅｒ  ＆  Ｓｈｒｉｎｅｒ，１９７３年，ｐ．１６６−１７０、Ｂｒｙａｎ  Ｌｉ他著，「Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ(第８１巻)」，２００５年，ｐ．１１０８−１１１１等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
反応後、必要に応じて、化合物（Ｉ）を有機合成化学で通常用いられる方法(各種クロマトグラフィー法、再結晶法、蒸留法等)で精製してもよい。
【００３７】
化合物（Ｉ）のうちＲ３が水素原子であるもの[化合物（Ｉａ）]は、例えば、反応式（２）
【化９】
2011142329.tif 000011
(式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ４は、それぞれ前記と同義であり、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ同一または異なって、炭素数１〜４のアルキル基等を表す)に従って製造することもできる。具体的には、化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）とを、要すれば化合物（ＶＩ）に対して０．１〜１０倍モルの酢酸の存在下、溶媒中、１０〜１００℃で、０．５〜３０時間反応させて化合物（Ｉａ）を製造することができる。
【００３８】
炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
化合物（ＶＩ）の使用量は、化合物（Ｖ）に対して０．５〜５倍モル量であるのが好ましい。
溶媒としては、反応式（１）で使用できる溶媒として挙げたもの等が例示される。
化合物（ＶＩ）は、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、「Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ」,２００３年，第６１巻，ｐ．１９７−２２４、「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，２００１年，第３８巻，第４号，ｐ．９８９−９９２等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
反応後、必要に応じて、化合物（Ｉａ）を有機合成化学で通常用いられる方法(各種クロマトグラフィー法、再結晶法、蒸留法等)で精製してもよい。
【００３９】
次に、本発明の錯化合物の製造法について、例を挙げて説明する。
化合物（Ｉ）とコバルトとアミンの陽イオンとからなる錯化合物は、例えば、化合物（Ｉ）と、コバルトの塩または有機コバルト化合物と、アミンとを、溶媒中、酸素の存在下、０〜１２０℃の温度で、０．５〜３０時間反応させることにより製造することができる(以下、この方法を製造法１という)。
【００４０】
コバルトの塩としては、例えば、酢酸コバルト（ＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩ）、炭酸コバルト（ＩＩ）、シアン化コバルト（ＩＩ）、これらの水和物等が挙げられる。
有機コバルト化合物としては、例えば、トリス(カルボネート)コバルト（ＩＩＩ）酸ナトリウム、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトネート水和物、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトネート等が挙げられる。
【００４１】
アミンは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、社団法人日本化学会編，「実験化学講座(第２０巻)  有機化合物の合成と反応ＩＩ」，第１版，丸善株式会社，１９５６年，ｐ．３９１−５８２、社団法人日本化学会編，「新実験化学講座(第１４巻)有機化合物の合成と反応ＩＩＩ」，第２版，丸善株式会社，１９７８年，ｐ．１３３２−１３９９、社団法人日本化学会編，「新実験化学講座(第２０巻)  有機合成ＩＩ」，第４版，丸善株式会社，１９９２年，ｐ．２９９−３１３、社団法人日本化学会編，「新実験化学講座(第１４巻)  有機化合物の合成ＩＩ」，第５版，丸善株式会社，２００５年，ｐ．３５１−３７７、Ｂｕｅｈｌｅｒ  ＆  Ｐｅａｒｓｏｎ編，「Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ(第１巻)」，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９７０年，ｐ．４１１−５１２、Ｂｕｅｈｌｅｒ  ＆  Ｐｅａｒｓｏｎ編，「Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ(第２巻)」，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９７７年，ｐ．３９１−４５９、Ｓａｕｌ  Ｐａｔａｉ編，「Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ａｍｉｎｏ  ｇｒｏｕｐ」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９６８年，ｐ．３７−６９、Ｂａｒｔｏｎ  ＆  Ｏｌｌｉｓ編，「Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｔｈｅ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ａｎｄ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ(第２巻)」，Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ，１９７９年，ｐ．１−１８１、Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ  ＆  Ｒｅｅｓ編，「Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ，１９８４年，ｐ．５２５−５２８等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
【００４２】
化合物（Ｉ）の使用量は、コバルトの塩または有機コバルト化合物におけるコバルト原子に対して０．３〜４倍モル量であるのが好ましい。
塩基性の窒素原子をｍ個有するアミンを使用するとき、該アミンの使用量は、コバルトの塩または有機コバルト化合物におけるコバルト原子に対して０．３／ｍ〜２０／ｍ倍モル量であるのが好ましい。
【００４３】
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル、これらの混合溶媒等が挙げられる。
反応後、必要に応じて、有機合成化学で通常用いられる方法(各種カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、溶媒による洗浄等)で得られた錯化合物を精製してもよい。
【００４４】
コバルトの塩または有機コバルト化合物の代わりに、コバルト以外の金属の塩または有機金属化合物であって金属がコバルト以外であるものを用いる以外は製造法１と同様に操作して、化合物（Ｉ）とコバルト以外の金属(例えば、ロジウム、イリジウム、アルミニウム、ガリウム、鉄等)とアミンの陽イオンとからなる錯化合物を製造することができる(以下、この方法を製造法２という)。
【００４５】
コバルト以外の金属の塩または有機金属化合物であって金属がコバルト以外であるものとしては、例えば、ロジウムの塩、有機ロジウム化合物、イリジウムの塩、有機イリジウム化合物、アルミニウムの塩、有機アルミニウム化合物、ガリウムの塩、有機ガリウム化合物、鉄の塩、有機鉄化合物等が挙げられる。
【００４６】
ロジウムの塩としては、例えば、酢酸ロジウム（ＩＩ）二量体、塩化ロジウム（ＩＩＩ）、これらの水和物等が挙げられる。
有機ロジウム化合物としては、例えば、ロジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、ロジウム（ＩＩ）ヘキサノネート等が挙げられる。
イリジウムの塩としては、例えば、塩化イリジウム（ＩＩＩ）、臭化イリジウム（ＩＩＩ）、これらの水和物等が挙げられる。
有機イリジウム化合物としては、例えば、イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトネート等が挙げられる。
【００４７】
アルミニウムの塩としては、例えば、酢酸アルミニウム（ＩＩＩ）、塩化アルミニウム（ＩＩＩ）、塩化アルミニウム（ＩＩＩ）＝テトラヒドロフラン錯体、臭化アルミニウム（ＩＩＩ）、ヨウ化アルミニウム（ＩＩＩ）、水酸化アルミニウム（ＩＩＩ）、これらの水和物等が挙げられる。
有機アルミニウム化合物としては、例えば、アルミニウム（ＩＩＩ）トリス(アセチルアセトネート)、アルミニウム（ＩＩＩ）トリス(エチルアセトアセトネート)、アルミニウム（ＩＩＩ）イソプロポキシド、アルミニウム（ＩＩＩ）エチルアセトアセトネート=ジイソプロポキシド、アルミニウム（ＩＩＩ）イソプロポキシド、アルミニウムｓｅｃ−ブトキシド、アルミニウムエトキシド等が挙げられる。
【００４８】
ガリウムの塩としては、例えば、塩化ガリウム（ＩＩＩ）、臭化ガリウム（ＩＩＩ）、ヨウ化ガリウム（ＩＩＩ）、これらの水和物等が挙げられる。
有機ガリウム化合物としては、例えば、ガリウム（ＩＩＩ）アセチルアセトネート等が挙げられる。
【００４９】
鉄の塩としては、例えば、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩ）、これらの水和物等が挙げられる。
有機鉄化合物としては、例えば、鉄（ＩＩ）アセチルアセトネート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、鉄（ＩＩＩ）エトキシド等が挙げられる。
【００５０】
アミンの代わりにアンモニアを用いる以外は製造法１と同様に操作して、本発明の錯化合物のうち、化合物（Ｉ）とコバルトとアンモニウムイオンとからなる錯化合物を製造することができる。
アミンの代わりにアンモニアを用いる以外は製造法２と同様に操作して、化合物（Ｉ）とコバルト以外の金属とアンモニウムイオンとからなる錯化合物を製造することができる。
【００５１】
化合物（Ｉ）と金属と第4級アンモニウムイオンとからなる錯化合物は、例えば、化合物（Ｉ）と金属とアミンの陽イオンとからなる錯化合物と、対応する第４級アンモニウム塩とを溶媒中、０〜１２０℃で、０．５〜３０時間反応させることにより製造することができる。ここで、化合物（Ｉ）と金属とアミンの陽イオンとからなる錯化合物は、製造法１または２に準じて製造することにより得ることができる。
第４級アンモニウム塩における陰イオンとしては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、酢酸イオン等が挙げられる。
第４級アンモニウム塩は、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、Ｓａｕｌ  Ｐａｔａｉ編，「Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ａｍｉｎｏ  ｇｒｏｕｐ」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９６８年，ｐ．１６１−１９９、Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ  ＆  Ｒｅｅｓ編，「Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ，１９８４年，ｐ．９９−１６４およびｐ．５１５−５２８等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
【００５２】
化合物（Ｉ）と金属とアミンの陽イオンとからなる錯化合物(ここで、アミンの陽イオンにおけるアミンは、塩基性の窒素原子をｍ個有する)と、ｎ価の第４級アンモニウム塩とを反応させて、化合物（Ｉ）と金属とｎ価の第４級アンモニウムイオンとからなる錯化合物を製造するとき、使用するｎ価の第４級アンモニウム塩に含まれる第４級アンモニウムイオンと、使用する化合物（Ｉ）と金属とアミンの陽イオンとからなる錯化合物に含まれるアミンの陽イオンとのモル比は、０．３ｍ／ｎ〜１０ｍ／ｎ(第４級アンモニウムイオン／アミンの陽イオン)であるのが好ましい。
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、これらの混合溶媒等が挙げられる。
反応後、必要に応じて、有機合成化学で通常用いられる方法(各種カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、溶媒による洗浄等)で得られた錯化合物を精製してもよい。
【００５３】
以下に、化合物（Ｉ）の具体例を例示する。式中、Ｐｈはフェニル基を表し、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基を表し、ｎ−Ｐｒはプロピル基を表す。
【化１０】
2011142329.tif 000012
【００５４】
以下、化合物番号（Ｉ−１）の化合物を化合物（Ｉ−１）という。その他の化合物番号の化合物についても同様である。
本発明の錯化合物の具体例を、表１〜２に示す。
表１〜２中、陽イオンは、アミンの陽イオンまたは第４級アンモニウムイオンを表し、モル比は、本発明の錯化合物中における各成分のモル比[化合物（Ｉ）：金属:陽イオン]を表す。
表１〜２中、Ａ１およびＡ２は以下のアミンの陽イオンを表す。式中、Ｅｔはエチル基を表し、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基を表す。
【化１１】
2011142329.tif 000013
【００５５】
【表１】
2011142329.tif 000014
【００５６】
【表２】
2011142329.tif 000015
【００５７】
本発明の錯化合物は、光記録媒体用色素、紫外線吸収剤、三次元記録材料としての二光子吸収用色素、短波長レーザー(例えば青紫色レーザー等)光対応の増感色素等として使用することができる。本発明の錯化合物は優れた溶解性、優れた塗膜性、優れた耐光性、優れた耐水性、優れた耐湿熱性、溶液中での優れた保存安定性等の特性を有する。
本発明の光記録媒体は本発明の錯化合物を含有し、優れた耐光性、優れた耐水性、優れた耐湿熱性、優れた記録再生特性等を有する。
【００５８】
本発明の光記録媒体としては、例えば、基板、反射層、記録層、透明保護層およびカバー層を備えているもの等が挙げられ、基板上に、反射層、記録層、透明保護層およびカバー層がこの順に設けられているものが好ましい。本発明の光記録媒体としては、例えば、本発明の錯化合物を含有する記録層を有するもの等が挙げられる。本発明の錯化合物を用いて該記録層を形成するとき、本発明の錯化合物は単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００５９】
本発明の錯化合物と他の色素とを併用して用いてもよい。他の色素としては、記録用のレーザー光の波長域に吸収を有するものが好ましい。また、情報記録(記録層、反射層または透明保護層、およびカバー層における熱的変形によりレーザー照射箇所に形成される記録マーク等)の形成が阻害されないようなものを他の色素として用いることが好ましい。他の色素としては、本発明の錯化合物以外の含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。他の色素のうち７７０〜８３０ｎｍの近赤外レーザー光、６２０〜６９０ｎｍの赤色レーザー光等のレーザー光を用いた記録に適する色素と本発明の錯化合物とを併用して、複数の波長域のレーザー光での記録が可能である光記録媒体を作製することもできる。
【００６０】
記録層は、必要に応じてバインダーを含有してもよい。バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００６１】
また、記録層は、記録層の安定性や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーや記録感度向上剤等を含有してもよい。
一重項酸素クエンチャーとしては、遷移金属キレート化合物(例えば、アセチルアセトネート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等と遷移金属とのキレート化合物等)等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００６２】
記録感度向上剤としては、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものをいい、例えば、エチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトネート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体等の有機金属化合物等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００６３】
本発明の光記録媒体の記録層の厚みは、１ｎｍ〜５μｍが好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましく、１５〜６０ｎｍが更に好ましい。
記録層は、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の公知の薄膜形成法で形成することができるが、量産性、コスト面からスピンコート法が好ましい。スピンコート法により記録層を形成する場合、適切な膜厚を得るために、本発明の錯化合物の濃度を０．３〜２．５重量％に調整した溶液を用いることが好ましく、回転数を５００〜１０，０００ｒｐｍにするのが好ましい。スピンコート法により溶液を塗布した後、加熱、減圧乾燥、溶媒蒸気への曝露等の処理を行ってもよい。
【００６４】
溶液を塗布することにより記録層を形成する場合(例えば、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等)に用いる溶液の溶媒としては、基板および記録層を塗布する前に基板上に形成した層(例えば、反射層等)を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のフルオロアルキルアルコール系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００６５】
本発明の光記録媒体の基板は、レーザー光による記録再生のため、表面上に螺旋状に形成される案内溝が形成されているものが好ましい。基板としては、狭トラックピッチである微細な溝を形成しやすいものが好ましく、具体的には、ガラス、プラスチック等が挙げられる。プラスチックとしては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂等が挙げられるが、高生産性、コスト、耐吸湿性等の点からポリカーボネート樹脂であるのが好ましい。
【００６６】
基板は前記のプラスチックを射出成形して作製するのが好ましい。射出成形により基板を作製する方法としては、案内溝が形成されたＮｉ等の金属からなるスタンパーを用いる方法等が挙げられる。
該スタンパーを作製するための原盤は、例えば、以下のようにして作製される。円盤状のガラス基板の表面を平滑になるよう研磨する。その基板上に所望の溝深さに応じて厚さを調整したフォトレジストを塗布する。次いで青紫色レーザー光よりも短い波長のレーザー光または電子ビームを用いてフォトレジストを露光し、現像を行うことにより、案内溝が形成された原盤を作製する。
次いで、この原盤表面にＮｉ等の導電膜を真空製膜し、メッキ工程を経て、案内溝が形成されたＮｉ等の金属からなるスタンパーを作製する。このスタンパーを用いて前記のプラスチックを射出成形することにより、表面上に案内溝が形成された基板を作製する。
【００６７】
該案内溝としては、凹凸の頂点面と底辺面の高低差(溝深さ)は１５〜８０ｎｍが好ましく、２５〜５０ｎｍがより好ましい。凸部と凹部の幅の比率としては４０％：６０％〜６０％：４０％(凸部：凹部)の範囲であるのが好ましい。
反射層は金属であるのが好ましい。金属としては、金、銀、アルミニウムまたはそれらの合金等が挙げられるが、５５０ｎｍ以下の波長のレーザー光に対する反射率や表面の平滑性の点から、銀または銀を主成分とする合金が好ましい。該銀を主成分とする合金は銀を９０％程度以上含むものが好ましく、銀以外の成分としてＣｕ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ａｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、ＢｉおよびＭｏの群から選ばれる１種類以上を含むものが好ましい。反射層は、例えば、蒸着法、スパッタリング法(例えば、ＤＣスパッタリング法等)、イオンプレーティング法等によって基板上に形成することができる。記録再生特性を向上させるため、または反射率を調整する等の目的で、反射層と記録層との間に中間層を設けてもよい。中間層としては、具体的には金属、金属酸化物、金属窒化物等が挙げられる。反射層の膜厚は５〜３００ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましい。
【００６８】
透明保護層としては、記録再生時に使用するレーザー光に対して吸収を有しないか、わずかな吸収しか有しないものが好ましく、屈折率の実数部が比較的大きく、１．５〜２．０前後の値を有するものが好ましい。透明保護層としては、具体的には金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物およびこれらの混合物等が挙げられる。
透明保護層の厚さは、５〜５０ｎｍが好ましい。保護層の厚さが５ｎｍ以上の場合には、記録層に変形を生じさせて形成した記録マークがこの記録マーク間の未記録部分と明確に分離できるためより良好な信号が得られる。また、保護層の厚さが５０ｎｍ以下の場合には、透明保護層の変形が生じやすいためより良好な信号が得られる。透明保護層はスパッタリング法(例えば、ＲＦスパッタリング法等)等によって記録層の上に形成することができる。透明保護層をスパッタリング法で形成する際に用いるターゲット材としては、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、酸化インジウムスズ(ＩＴＯ)等が挙げられる。
【００６９】
カバー層は、例えば、表面に記録再生レーザー光に対して透明、かつ、粘着力のある接着層を有する厚さ約０．１ｍｍのポリカーボネート樹脂製のシートを用い、接着層を介してシートを透明保護層に加圧接着することにより、透明保護層の上に形成することができる。接着層としては、情報記録の際に記録層および透明保護層の変形を阻害しないものが好ましい。カバー層は紫外線硬化樹脂を用いて形成することもでき、該紫外線硬化樹脂としては、接着層と同様に、情報記録の際に記録層および透明保護層の変形を阻害しないものが好ましい。
カバー層の上にハードコートを形成することが好ましい。
【００７０】
本発明の光記録媒体は本発明の錯化合物を含有することから、記録時に使用するレーザー光の波長は３５０〜５３０ｎｍが好ましい。一般的に、記録時に使用するレーザー光の波長が短いほど高密度な記録が可能となる。
レーザー光の具体例としては、例えば、中心波長が４０５ｎｍ、４１０ｎｍ等である青紫色レーザー光、中心波長が５１５ｎｍである青緑色の高出力半導体レーザー光等が挙げられ、中でも中心波長が４０５ｎｍである青緑色の高出力半導体レーザー光が好ましい。
基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍである連続発振可能な半導体レーザー光、半導体レーザー光によって励起されかつ基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍである連続発振可能な固体レーザー光等を、第二高調波発生素子(ＳＨＧ)により波長変換することによって得られる光を用いてもよい。ＳＨＧとしては、反射対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ（ＫＨ２ＰＯ４）、ＡＤＰ（ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４）、ＢＮＮ（Ｂａ２ＮａＮｂ５Ｏ１５)、ＫＮ（ＫＮｂＯ３）、ＬＢＯ（ＬｉＢ３Ｏ５）、化合物半導体等が好ましい。
【００７１】
ＳＨＧにより波長変換することによって得られる光(第二高調波)の具体例としては、基本発振波長が８６０ｎｍである半導体レーザー光を波長変換した４３０ｎｍ光、基本発振波長が８６０ｎｍである半導体レーザー励起の固体レーザー光を波長変換した４３０ｎｍ光等が挙げられる。
本発明の光記録媒体はＢＤであるのが好ましい。ＢＤは波長４０５ｎｍの青紫色レーザーを使用し、対物レンズのＮＡを０．８５とすることによりレーザースポット径を小さくして、より高密度の情報を記録する光記録媒体である。ＢＤ−Ｒでは基板上に反射層と、記録層と、透明保護層と、基板よりも薄いカバー層とが順次積層されている。カバー層側から青紫色レーザー光を照射して記録再生を行う。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例および試験例により、本発明をさらに具体的に説明する。
略号の説明を、以下に示す。
ＴＦＰ：２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＤＢＵ：１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン【００７３】
［化合物（Ｉ）の原料の製造]
「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ  ａｎｄ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｔｔｅｒｓ」，２００７年，第１７巻，ｐ．１１８９−１１９２に記載の方法に準じて、フェニルヒドラジンと４−メトキシベンゾイル酢酸エチルを反応させることにより３−（４−メトキシフェニル)−１−フェニル−５−ピラゾロンを得た。３−(４−メトキシフェニル)−１−フェニル−５−ピラゾロンの製造方法と同様にして、１−フェニル−３−(トリフルオロメチル)−５−ピラゾロン、３−メチル−１−フェニル−５−ピラゾロン、３−イソプロピル−１−フェニル−５−ピラゾロン、１，３−ジフェニル−５−ピラゾロンおよび１−フェニル−３−プロピル−５−ピラゾロンを得た。【００７４】
「Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ」，２００６年，第６８巻，ｐ．１８２５−１８３５に記載の方法に準じて、３−（４−メトキシフェニル）−１−フェニル−５−ピラゾロンとオルト酢酸トリメチルを反応させることにより４−アセチル−３−（４−メトキシフェニル）−１−フェニル−５−ピラゾロンを得た。４−アセチル−３−（４−メトキシフェニル）−１−フェニル−５−ピラゾロンの製造方法と同様にして、４−アセチル−１−フェニル−３−（トリフルオロメチル）−５−ピラゾロン、４−アセチル−３−メチル−１−フェニル−５−ピラゾロン、４−アセチル−３−イソプロピル−１−フェニル−５−ピラゾロン、４−アセチル−１，３−ジフェニル−５−ピラゾロンおよび４−アセチル−１−フェニル−３−プロピル−５−ピラゾロンを得た。【００７５】
「Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ」,２００３年，第６１巻，ｐ．１９７−２２４に記載の方法に準じて、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールと１，３−ジフェニル−５−ピラゾロンを反応させることにより４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン）−１，３−ジフェニル−５−ピラゾロンを得た。４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン）−１，３−ジフェニル−５−ピラゾロンの製造方法と同様にして、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン）−３−（４−メトキシフェニル）−１−フェニル−５−ピラゾロンを得た。【００７６】
「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｙ」，１９９９年，第６４巻，ｐ．５６４４−５６４９に記載の方法に準じて、２−クロロピリミジンとヒドラジン水和物とを反応させることにより２−ヒドラジノピリミジンを得た。２−ヒドラジノピリミジンの製造方法と同様にして、５−ヒドラジノ−1−フェニル−１Ｈ−テトラゾールを得た。【００７７】
「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ」，１９５３年，第７５巻，ｐ．７１２に記載の方法に準じて２−クロロベンゾオキサゾールとヒドラジン水和物とを反応させることにより２−ヒドラジノベンゾオキサゾールを得た。【００７８】
「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ  ａｎｄ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，２００３年，第１１巻，ｐ．１３８１−１３８７に記載の方法に準じて４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)安息香酸エチルとヒドラジン水和物とを反応させることにより４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)ベンゾヒドラジドを得た。４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)ベンゾヒドラジドの製造方法と同様にして、３−（１−プロピルインドール)カルボヒドラジドを得た。【００７９】
[第４級アンモニウム塩の製造]
「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，２００６年，第１６巻，ｐ．３４５−３４７に記載の方法に準じて、１，１’−ビス（２，４−ジニトロフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリドと４−フェノキシアニリンとを反応させることにより１，１’−ビス（４−フェノキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリドを得た。１，１’−ビス（４−フェノキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリドの製法方法と同様にして、１，１’−ビス[４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)フェニル]−４，４’−ビピリジニウムジクロリド、１，１’−ビス（４−メトキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド、１，１’−ビス（４−ベンゾイルフェニル)−４，４’−ビピリジニウムジクロリド、１，１’−ビス（３−フルオロフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド、１，１’−ビス[４−(トリフルオロメトキシ)フェニル]−４，４’−ビピリジニウムジクロリド、および１，１’−ビス（３−メトキシフェニル)−４，４’−ビピリジニウムジクロリドを得た。【００８０】
[化合物（Ｉ）の製造]
合成例１：化合物（Ｉ−１）の製造
４−ベンゾイル−３−メチル−１−フェニル−５−ピラゾロン(東京化成工業株式会社製)１．００ｇ、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾヒドラジド０．７１ｇ、酢酸０．２２ｇおよびメタノール１５ｍｌを混合し、５０℃で１時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−１）１．３６ｇ（収率８６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．４１（３Ｈ，ｓ）,２．９２（６Ｈ，ｓ）,６．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）,７．１３−７．６８（１０Ｈ，ｍ）,７．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）,１０．５６（１Ｈ，ｓ）.【００８１】
合成例２：化合物（Ｉ−２）の製造
４−ベンゾイル−３−メチル−１−フェニル−５−ピラゾロン（東京化成工業株式会社製）５．００ｇ、５−ヒドラジノ−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール３．１６ｇ、酢酸１．０８ｇおよびメタノール５０ｍｌを混合し、５０℃で４時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−２）６．６８ｇ（収率８５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．７０（３Ｈ，ｓ）,７．１５−８．００（１５Ｈ，ｍ）,９．８５（１Ｈ，ｓ）．【００８２】
合成例３：化合物（Ｉ−３）の製造
４−アセチル−３−（４−メトキシフェニル）−１−フェニル−５−ピラゾロン２．００ｇ、５−ヒドラジノ−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール１．１４ｇ、酢酸０．３９ｇおよびメタノール２０ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−３）１．８１ｇ（収率６２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．０８（３Ｈ，ｓ）,３．８２（３Ｈ，ｓ）,７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）,７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．４１−７．７０（９Ｈ，ｍ）,８．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,１０．０２（１Ｈ，ｓ）.【００８３】
合成例４：化合物（Ｉ−４）の製造
４−アセチル−３−メチル−１−フェニル−５−ピラゾロン０．５０ｇ、２−ヒドラジノベンゾチアゾール（東京化成工業株式会社製）０．３８ｇ、酢酸１ｍｌおよびメタノール１５ｍｌを混合し、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−４）０．５２ｇ（収率６２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．３５（３Ｈ，ｓ）,２．５４（３Ｈ，ｓ）,７．０５−７．１５（３Ｈ，ｍ）,７．２９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,８．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,１１．９８（１Ｈ，ｂｓ）.【００８４】
合成例５：化合物（Ｉ−５）の製造
４−アセチル−１−フェニル−３−(トリフルオロメチル)−５−ピラゾロン１．００ｇ、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾヒドラジド０．６６ｇ、酢酸０．２２ｇおよびメタノール１５ｍｌを混合し、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−５）１．３０ｇ（収率８２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：３．０２（６Ｈ，ｓ）,３．１８（３Ｈ，ｓ）,６．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．２９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．４７−７．５１（２Ｈ，ｍ）,７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,１１．２６（１Ｈ，ｂｓ）.【００８５】
合成例６：化合物（Ｉ−６）の製造
４−アセチル−３−イソプロピル−１−フェニル−５−ピラゾロン１．００ｇ、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾヒドラジド０．７３ｇ、酢酸０．２５ｇおよびメタノール１０ｍｌを混合し、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−６）１．１５ｇ(収率６９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．２９（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．４５（３Ｈ，ｓ），３．１５−３．２２（１Ｈ，ｍ）,３．３１（６Ｈ，ｓ）,６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．１４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．３８−７．４３（２Ｈ，ｍ）,７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,８．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,１０．８６（１Ｈ，ｓ）,１２．８４（１Ｈ，ｂｓ）.【００８６】
合成例７：化合物（Ｉ−７）の製造
４−アセチル−１，３−ジフェニル−５−ピラゾロン１．００ｇ、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)ベンゾヒドラジド０．６５ｇ、酢酸０．２２ｇおよびメタノール１０ｍｌを混合し、５０℃で１．５時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−７）０．９２ｇ（収率５８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．０５（３Ｈ，ｓ）,３．００（６Ｈ，ｓ）,６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．４１−７．４５（２Ｈ，ｍ）,７．４９−７．５６（５Ｈ，ｍ）,７．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,８．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,１０．９３（１Ｈ，ｓ）,１２．８２（１Ｈ，ｂｓ）.【００８７】
合成例８：化合物（Ｉ−８）の製造
４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン）−１，３−ジフェニル−５−ピラゾロン１．００ｇ、２−ヒドラジノベンゾオキサゾール０．５２ｇ、酢酸０．２１ｇおよびメタノール１０ｍｌを混合し、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−８）０．８８ｇ（収率６４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：７．０７−７．１２（１Ｈ，ｍ）,７．１９−７．２１（２Ｈ，ｍ）,７．４４−７．５３（７Ｈ，ｍ）,７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）,８．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）,８．２９（１Ｈ，ｓ）,１１．９２（１Ｈ，ｂｓ）.【００８８】
合成例９：化合物（Ｉ−９）の製造
４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン）−１，３−ジフェニル−５−ピラゾロン０．７０ｇ、２−ヒドラジノピリミジン０．２７ｇ、酢酸０．１５ｇおよびメタノール７ｍｌを混合し、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水１４ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比２：１）で洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−９）０．７７ｇ（収率９０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：７．３９−７．５３（７Ｈ，ｍ）,７．７３−７．７６（２Ｈ，ｍ）,８．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,８．２１（１Ｈ，ｓ）,８．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）,１０．５２（１Ｈ，ｂｓ）.【００８９】
合成例１０：化合物（Ｉ−１０）の製造
４−アセチル−３−（４−メトキシフェニル）−１−フェニル−５−ピラゾロン１．００ｇ、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾヒドラジド０．５８ｇ、酢酸０．２０ｇおよびメタノール７ｍｌを混合し、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−１０）０．９４ｇ（収率６２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．０７（３Ｈ，ｓ）,３．００（６Ｈ，ｓ）,３．８２（３Ｈ，ｓ）,６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）,７．１５−７．１９（１Ｈ，ｍ）,７．４０−７．４５（２Ｈ，ｍ）,７．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）,７．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,８．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,１０．９０（１Ｈ，ｓ）,１２．８１（１Ｈ，ｂｓ）.【００９０】
合成例１１：化合物（Ｉ−１１）の製造
４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン）−３−（４−メトキシフェニル）−１−フェニル−５−ピラゾロン１．００ｇ、２−ヒドラジノピリミジン０．３４ｇ、酢酸０．１９ｇおよびメタノール７ｍｌを混合し、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−１１）０．８８ｇ（収率７３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：６．８９−６．９３（１Ｈ，ｍ）,７．０４−７．０９（２Ｈ，ｍ）,７．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．４０−７．４６（２Ｈ，ｍ）,７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,８．０４−８．０９（２Ｈ，ｍ）,８．１６（１Ｈ，ｓ）,８．５０−８．５２（２Ｈ，ｍ）,１０．４３（１Ｈ，ｂｓ）.【００９１】
合成例１２：化合物（Ｉ−１２）の製造
４−アセチル−１−フェニル−３−プロピル−５−ピラゾロン０．８０ｇ、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾヒドラジド０．５９ｇ、酢酸０．２０ｇおよびメタノール７ｍｌを混合し、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−１２）０．９８ｇ（収率７３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．００（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）,１．６７−１．７３（２Ｈ，ｍ）,２．４１（３Ｈ，ｓ）,２．７０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,３．００（６Ｈ，ｓ）,６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．１１−７．１４（１Ｈ，ｍ）,７．３７−７．４１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,１０．８６（１Ｈ，ｓ）,１２．６４（１Ｈ，ｂｓ）.【００９２】
合成例１３：化合物（Ｉ−１３）の製造
４−アセチル−１−フェニル−３−プロピル−５−ピラゾロン１．００ｇ、３−（１−プロピルインドール)カルボヒドラジド０．８９ｇ、酢酸０．２５ｇおよびメタノール１０ｍｌを混合し、５０℃で２時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（Ｉ−１３）１．４５ｇ（収率８０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．６８−１．７４（２Ｈ，ｍ）,１．８０−１．８６（２Ｈ，ｍ）,２．４６（３Ｈ，ｓ）,２．７１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,４．２３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）,７．１１−７．１５（１Ｈ，ｍ）,７．１４−７．２６（２Ｈ，ｍ）,７．３７−７．４２（２Ｈ，ｍ）,７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）,８．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,８．１９（１Ｈ，ｓ）,１０．６９（１Ｈ，ｓ）,１２．７１（１Ｈ，ｂｓ）.【００９３】
[錯化合物の製造]
（実施例１）
化合物（Ｉ−１）１．００ｇ、ＤＢＵ  ０．６９ｇおよびメタノール１０ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．２８ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水１０ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比１：１）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１）１．０９ｇ（収率８８％）を得た。
吸収極大波長(ＴＦＰ)：３７４．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５１（６Ｈ，ｓ）,１．５６−１．８７（３Ｈ，ｍ）,１．８７（１Ｈ，ｍ）,２．５９（１Ｈ，ｓ）,２．８２（１２Ｈ，ｓ）,３．２０−３．４９（１１Ｈ，ｍ）,６．４６（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．２３（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,７．４４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．５９−７．７６（１４Ｈ，ｍ）.【００９４】
（実施例２）
錯化合物（１）０．３０ｇ、１，１’−ビス（４−フェノキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０８ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２）０．２６ｇ（収率８０％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）:３７６．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５０（１２Ｈ，ｓ）,２．８２（２４Ｈ，ｓ）,６．４５（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．０２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．１６−７．３２（１４Ｈ，ｍ）,７．４４（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．５２−７．７４（３６Ｈ，ｍ）,７．９６（４Ｈ，ｂｓ）,９．０１（４Ｈ，ｂｓ）,９．６２（４Ｈ，ｂｓ）.【００９５】
（実施例３）
錯化合物（１）０．５０ｇ、１，１’−ビス［４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)フェニル）−４，４‘−ビピリジニウムジクロリド０．１１ｇおよびメタノール１５ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（３）０．４８ｇ（収率９２％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）:３７５．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５０（１２Ｈ，ｓ）,２．８２（２４Ｈ，ｓ）,３．００（１２Ｈ，ｓ）,６．４５（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．０２（８Ｈ，ｍ）,７．２１−７．２５（８Ｈ，ｍ）,７．４４（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．６０−７．７５（３２Ｈ，ｍ）,８．６１（４Ｈ，ｂｓ）,９．２０（４Ｈ，ｂｓ）.【００９６】
（実施例４）
化合物（Ｉ−２）２．５０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン１．４８ｇおよびアセトニトリル２５ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．７１ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を７０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水３７ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とアセトニトリルの混合溶媒（体積比３：２）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（４）２．８４ｇ（収率９４％）を得た。
吸収極大波長(ＴＦＰ):３５９．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．２２−１．２５（１５Ｈ，ｍ）,１．５２（６Ｈ，ｓ）,３．１２（２Ｈ，ｍ）,３．５９（２Ｈ，ｍ）,７．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．１８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．２５−７．３５（８Ｈ，ｍ）,７．６２−７．７８（１８Ｈ，ｍ）,８．１３（１Ｈ，ｂｓ）.【００９７】
（実施例５）
錯化合物（４）０．３０ｇ、１，１’−ビス（４−メトキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０６ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（５）０．２８ｇ（収率８２％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５６．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５０（１２Ｈ，ｓ）,３．３２（６Ｈ，ｂｓ）,７．０４（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．１７（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．２３−７．３４（１６Ｈ，ｍ）,７．６１−７．７６（４０Ｈ，ｍ）,７．９５（４Ｈ，ｂｓ）,９．０４（４Ｈ，ｂｓ）,９．６８（４Ｈ，ｂｓ）.【００９８】
（実施例６）
錯化合物（４）０．３０ｇ、１，１’−ビス（４−ベンゾイルフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０８ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（６）０．３０ｇ（収率９０％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ)：３５５．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５１（１２Ｈ，ｓ）,７．０６（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．１８（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．２５−７．３４（１６Ｈ，ｍ）,７．６３−７．８３（５０Ｈ，ｍ）,８．１３（４Ｈ，ｂｓ）,９．０９（４Ｈ，ｂｓ）,９．７７（４Ｈ，ｂｓ）.【００９９】
（実施例７）
錯化合物（４）０．３０ｇ、１，１’−ビス（３−フルオロフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０６ｇおよびエタノール９ｍｌを混合し、７０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（７）０．２６ｇ（収率８５％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）:３５７．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５１（１２Ｈ，ｓ）,７．０５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．１８（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．２５−７．３５（１６Ｈ，ｍ）,７．６２−７．９３（４４Ｈ，ｍ）,９．０８（４Ｈ，ｂｓ）,９．７０（４Ｈ，ｂｓ）.
ＦＡＢ−ＭＳ［マトリックス:ｍ−ニトロベンジルアルコール]:（＋）３４６,（−）９２７
元素分析:実測値（％）Ｃ：６４．０，Ｈ：３．９，Ｎ：２１．６【０１００】
（実施例８）
化合物（Ｉ−３）０．５０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン０．２８ｇおよびアセトニトリル５ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．１３ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を７０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水８ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とアセトニトリルの混合溶媒（体積比３：２）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（８）０．５８ｇ（収率９６％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５０．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．２２−１．２５（１５Ｈ，ｍ）,２．７５（６Ｈ，ｓ）,３．１２（２Ｈ，ｍ）,３．６０（２Ｈ，ｍ）,３．８７（６Ｈ，ｓ）,７．０４−７．２２（１２Ｈ，ｍ）,７．５２−７．６３（１２Ｈ，ｍ）,８．０４−８．１０（５Ｈ，ｍ）.【０１０１】
（実施例９）
錯化合物（８）０．３０ｇ、１，１’−ビス（４−フェノキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０８ｇおよびエタノール１０ｍｌを混合し、７０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（９）０．３１ｇ（収率９８％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５７．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．７４（１２Ｈ，ｓ）,３．８６（１２Ｈ，ｓ）,７．０２−７．３０（３４Ｈ，ｍ）,７．４９−７．５４（２０Ｈ，ｍ）,７．６２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,８．０３−８．０５（１２Ｈ，ｍ）,９．０１（４Ｈ，ｂｓ）,９．６２（４Ｈ，ｂｓ）.【０１０２】
（実施例１０）
化合物（Ｉ−４）０．２０ｇ、ＤＢＵ  ０．１７ｇおよびメタノール４ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．０７ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水８ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比２：１）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１０）０．２２ｇ（収率８６％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３７５．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５９−１．６３（６Ｈ，ｍ）,１．８８−１９１（２Ｈ，ｍ）,２．４０（６Ｈ，ｓ）,２．６０−２．６３（２Ｈ，ｍ）,３．１１（６Ｈ，ｓ）,３．２３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）,３．４５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）,３．５１−３．５４（２Ｈ，ｍ）,６．６０−６，６３（２Ｈ，ｍ）,６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）,６．９２−６．９６（２Ｈ，ｍ）,６．９９−７．０３（２Ｈ，ｍ）,７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．２４（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）,７．６５（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）.【０１０３】
（実施例１１）
錯化合物（１０）０．２０ｇ、１，１’−ビス［４−（トリフルオロメトキシ)フェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０６ｇおよびメタノール６ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１１）０．１９ｇ（収率８２％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３７４．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．３９（１２Ｈ，ｓ），３．１０（１２Ｈ，ｓ）,６．５８−６．６２（４Ｈ，ｍ）,６．７６（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９０−６．９５（４Ｈ，ｍ）,６．９７−７．０２（４Ｈ，ｍ）,７．１４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２０−７．２４（８Ｈ，ｍ）,７．６４（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,７．８５（４Ｈ，ｂｓ）,８．１０（４Ｈ，ｂｓ）,９．０７（４Ｈ，ｂｓ）,９．６８（４Ｈ，ｂｓ）.【０１０４】
（実施例１２）
化合物（Ｉ−５）０．５０ｇ、ＤＢＵ  ０．３５ｇおよびメタノール７ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．１４ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１２）０．４２ｇ（収率７９％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６３．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．６０−１．６４（６Ｈ，ｍ）,１．８８−１．９２（２Ｈ，ｍ）,２．６０−２．６３（２Ｈ，ｍ）,２．８８（１２Ｈ，ｓ），３．１９（６Ｈ，ｓ），３．２４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），３．４６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），３．５２−３．５４（２Ｈ，ｍ），６．５６（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１５−７．２２（６Ｈ，ｍ），７．３２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６９（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）.【０１０５】
（実施例１３）
錯化合物（１２）０．２５ｇ、１，１’−ビス（４−メトキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０６ｇおよびメタノール７ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１３）０．２４ｇ（収率７８％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６４．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．８８（２４Ｈ，ｓ）,３．１８（１２Ｈ，ｓ）,３．９１（６Ｈ，ｂｓ）,６．５５（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．１４−７．２２（１２Ｈ，ｍ）,７．３１−７．３３（１２Ｈ，ｍ）,７．６９（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．９２（４Ｈ，ｂｓ）,８．９８（４Ｈ，ｂｓ）,９．６０（４Ｈ，ｂｓ）．【０１０６】
（実施例１４）
錯化合物（１２）０．３０ｇ、１，１’−ビス［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０９ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１４）０．３０ｇ（収率７５％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６０．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．８８（２４Ｈ，ｓ）,３．１８（１２Ｈ，ｓ）,６．５５（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．１４−７．２２（１２Ｈ，ｍ）,７．３２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．６９（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．８８（４Ｈ，ｂｓ）,８．１２（４Ｈ，ｂｓ）,９．０８（４Ｈ，ｂｓ）,９．７０（４Ｈ，ｂｓ）.【０１０７】
（実施例１５）
化合物（Ｉ−６）０．５０ｇ、ＤＢＵ  ０．３７ｇおよびメタノール７ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．１５ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１５）０．５７ｇ（収率９３％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６６．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．３５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）,１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）,１．５９−１．６４（６Ｈ，ｍ）,１．８６−１．９０（２Ｈ，ｍ）,２．５０−２．５９（２Ｈ，ｍ）,２．８７（１２Ｈ，ｓ）,３．２２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）,３．２６（６Ｈ，ｓ）,３．４４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）,３．５０−３．５５（４Ｈ，ｍ）,６．５４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,６．９３−６．９７（２Ｈ，ｍ）,７．１０−７．１４（４Ｈ，ｍ）,７．５３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,７．６８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）.【０１０８】
（実施例１６）
錯化合物（１５）０．３０ｇ、１，１’−ビス［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０８ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１６）０．３０ｇ（収率９０％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６５．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．３４−１．３８（２４Ｈ，ｍ）,２．８６（２４Ｈ，ｓ）,３．２５（１２Ｈ，ｓ）,３．５１−３．５５（４Ｈ，ｍ）,６．５３（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,６．９２−６．９６（４Ｈ，ｍ）,７．０９−７．１４（８Ｈ，ｍ）,７．５２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．６７（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．８６（４Ｈ，ｂｓ）,８．１１（４Ｈ，ｂｓ）,９．０４（４Ｈ，ｂｓ）,９．６７（４Ｈ，ｂｓ）.【０１０９】
（実施例１７）
化合物（Ｉ−７）０．３０ｇ、ＤＢＵ  ０．３１ｇおよびメタノール５ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．０８ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で４時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水２ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比１：２）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１７）０．３２ｇ（収率８６％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６６．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５９−１．６６（６Ｈ，ｍ）,１．８７−１．９１（２Ｈ，ｍ）,２．６０−２．６３（２Ｈ，ｍ）,２．７４（６Ｈ，ｓ）,２．８７（１２Ｈ，ｓ）,３．２３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）,３．４５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）,３．５１−３，５３（２Ｈ，ｍ）,６．５４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．００−７．０５（２Ｈ，ｍ）,７．１９−７．２３（４Ｈ，ｍ）,７．４９−７．５３（２Ｈ，ｍ）,７．５４−７．５８（４Ｈ，ｍ）,７．６１−７．６３（８Ｈ，ｍ）,７．６８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）.【０１１０】
（実施例１８）
錯化合物（１７）０．３０ｇ、１，１’−ビス（４−フェノキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０８ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１８）０．２４ｇ（収率７３％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６７．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．７３（１２Ｈ，ｓ）,２．８５（２４Ｈ，ｓ）,６．５２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．００−７．０４（４Ｈ，ｍ）,７．１４−７．２２（１２Ｈ，ｍ）,７．２６−７．３０（６Ｈ，ｍ）,７．４７−７．６１（３２Ｈ，ｍ）,７．６６（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．９５（４Ｈ，ｂｓ）,８．９８（４Ｈ，ｂｓ）,９．５６（４Ｈ，ｂｓ）.【０１１１】
（実施例１９）
錯化合物（１７）０．２５ｇ、１，１’−ビス［４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル］−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０６ｇおよびメタノール７ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（１９）０．２１ｇ（収率７９％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６６．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．７２（１２Ｈ，ｓ）,２．８５（２４Ｈ，ｓ）,３．０５（１２Ｈ，ｂｓ）,６．５２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）,６．９５（４Ｈ，ｂｓ）,７．００−７．２１（４Ｈ，ｍ）,７．１７−７．２１（８Ｈ，ｍ）,７．４９−７．６１（２８Ｈ，ｍ）,７．６６（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）,７．７３（４Ｈ，ｂｓ）,８．８０（４Ｈ，ｂｓ）,９．４４（４Ｈ，ｂｓ）.【０１１２】
（実施例２０）
錯化合物（１７）０．２５ｇ、１，１’−ビス［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０７ｇおよびメタノール８ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２０）０．２１ｇ（収率７５％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５７．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．７４（１２Ｈ，ｓ）,２．８６（２４Ｈ，ｓ）,６．５４（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）,７．０１−７．０５（４Ｈ，ｍ）,７．１９−７．２３（８Ｈ，ｍ）,７．４８−７．６２（２８Ｈ，ｍ）,７．６７（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）,７．８４（４Ｈ，ｂｓ）,８．０９（４Ｈ，ｂｓ）,９．０５（４Ｈ，ｂｓ）,９．６７（４Ｈ，ｂｓ）.【０１１３】
（実施例２１）
化合物（Ｉ−８）０．５０ｇ、ＤＢＵ  ０．５８ｇおよびメタノール８ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．１６ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水４ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比１：２）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２１）０．５９ｇ（収率９３％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６８．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５８（６Ｈ，ｍ）,１．８８（２Ｈ，ｍ）,２．５９（２Ｈ，ｍ）,３．２２（２Ｈ，ｍ）,３．４３（２Ｈ，ｍ）,３．５０（２Ｈ，ｍ）,６．６６（２Ｈ，ｍ）,６．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）,６．９２（２Ｈ，ｍ）,６．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）,７．０６（２Ｈ，ｍ）,７．２７（４Ｈ，ｍ）,７．５０−７．５３（２Ｈ，ｍ）,７．６１（４Ｈ，ｍ）,７．７８−７．８４（８Ｈ，ｍ）,８．７１（２Ｈ，ｓ）.【０１１４】
（実施例２２）
錯化合物（２１）０．２５ｇ、１，１’−ビス（３−メトキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０６ｇおよびメタノール７ｍｌを混合し、５０℃で４時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２２）０．２１ｇ（収率７８％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６８．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：３．９１（６Ｈ，ｓ）,６．６６（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,６．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,６．８９−６．９３（４Ｈ，ｍ）,６．９７（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,７．０３−７．０８（４Ｈ，ｍ）,７．２４−７．２９（８Ｈ，ｍ）,７．３６（４Ｈ，ｂｓ）,７．４８−７．５２（４Ｈ，ｍ）,７．５８−７．６２（８Ｈ，ｍ）,７．７０（４Ｈ，ｂｓ）,７．７８（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,７．８２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）,８．７１（４Ｈ，ｓ）,９．０４（４Ｈ，ｂｓ）,９．６９（４Ｈ，ｂｓ）.【０１１５】
（実施例２３）
化合物（Ｉ−９）０．３０ｇ、ＤＢＵ  ０．３８ｇおよびメタノール５ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．１０ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水１０ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比２：１）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２３）０．３３ｇ（収率８６％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５８．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５９（６Ｈ，ｍ）,１．８７（２Ｈ，ｍ）,２．５８（２Ｈ，ｍ）,３．２２（２Ｈ，ｍ）,３．４２（２Ｈ，ｍ）,３．４８（２Ｈ，ｍ）,５．８６（２Ｈ，ｂｓ）,７．０４（４Ｈ，ｍ）,７．２３（４Ｈ，ｍ）,７．５０（２Ｈ，ｍ）,７．６０（４Ｈ，ｍ）,７．７２−７．７４（４Ｈ，ｍ）,７．８４（６Ｈ，ｍ）,８．６３（２Ｈ，ｓ）.【０１１６】
（実施例２４）
錯化合物（２３）０．３０ｇ、１，１’−ビス（４−フェノキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．１０ｇおよびメタノール１０ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水５ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比２：１）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２４）０．２６ｇ（収率７５％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５８．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：５．８６（４Ｈ，ｓ）,７．０３（８Ｈ，ｍ）,７．１７（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,７．２２（８Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）,７．２８−７．３６（６Ｈ，ｍ）,７．４８−７．５４（８Ｈ，ｍ）,７．５７−７．６０（８Ｈ，ｍ）,７．７３（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）,７．８４（１２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）,７．９５（４Ｈ，ｂｓ）,８．６４（４Ｈ，ｓ）,９．０３（４Ｈ，ｓ）,９．６５（４Ｈ，ｓ）.【０１１７】
（実施例２５）
化合物（Ｉ−１０）０．７０ｇ、ＤＢＵ  ０．６９ｇおよびメタノール７ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．１９ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２５）０．７５ｇ（収率８７％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６２．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５９−１．６７（６Ｈ，ｍ）,１．８８−１．９２（２Ｈ，ｍ）,２．６０−２．６３（２Ｈ，ｍ）,２．７６（６Ｈ，ｓ）,２．８７（１２Ｈ，ｓ）,３．２４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）,３．４６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）,３．５２−３．５５（２Ｈ，ｍ）,３．８８（６Ｈ，ｓ）,６．５４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ）,７．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．１２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．２０−７．２２（４Ｈ，ｍ）,７．５２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．６１（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．６７（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ）.【０１１８】
（実施例２６）
錯化合物（２５）０．３０ｇ、１，１’−ビス［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０７ｇおよびメタノール８ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２６）０．２９ｇ（収率９２％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６３．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：２．７７（１２Ｈ，ｓ）,２．８６（２４Ｈ，ｓ）,３．８８（１２Ｈ，ｓ）,６．５４（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．０２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）,７．１２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．１９−７．２１（８Ｈ，ｍ）,７．５１（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．６０（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．６７（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．９８（８Ｈ，ｂｓ）,９．０４（４Ｈ，ｂｓ）,９．６４（４Ｈ，ｂｓ）.【０１１９】
（実施例２７）
化合物（Ｉ−１１）０．７０ｇ、ＤＢＵ  ０．８２ｇおよびメタノール５ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．２２ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水２５ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比４：１）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２７）０．８６ｇ（収率９７％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５８．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．５８（６Ｈ，ｍ）,１．８７（２Ｈ，ｍ）,２．５８（２Ｈ，ｍ）,３．２２（２Ｈ，ｍ）,３．４２（２Ｈ，ｍ）,３．４８（２Ｈ，ｍ）,３．８６（６Ｈ，ｓ）,５．８５（２Ｈ，ｓ）,７．０１−７．２１（１２Ｈ，ｍ）,７．７０−７．８２（１０Ｈ，ｍ）,８．６０（２Ｈ，ｓ）.【０１２０】
（実施例２８）
錯化合物（２７）０．３０ｇ、１，１’−ビス（４−フェノキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０８ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２８）０．２７ｇ（収率８３％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５９．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：３．８６（１２Ｈ，ｓ）,５．８２−５．８５（４Ｈ，ｍ）,６．９８−７．０３（８Ｈ，ｍ）,７．１２−７．２２（２０Ｈ，ｍ）,７．２８−７．３０（６Ｈ，ｍ）,７．４９−７．５２（４Ｈ，ｍ）,７．６９（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）,７．７５（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）,７．８１（４Ｈ，ｍ）,７．９５（４Ｈ，ｂｓ）,８．５８（４Ｈ，ｓ）,９．０１（４Ｈ，ｂｓ）,９．６４（４Ｈ，ｂｓ）.【０１２１】
（実施例２９）
化合物（Ｉ−１２）０．８０ｇ、ＤＢＵ  ０．６１ｇおよびメタノール６ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．２５ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水１０ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比１：１）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（２９）０．９８ｇ（収率９９％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６４．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．０５（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．５８−１．６４（６Ｈ，ｍ）,１．７５−１．８２（４Ｈ，ｍ）,１．８４−１．８８（２Ｈ，ｍ）,２．５８（２Ｈ，ｍ）,２．７８−２．９３（１６Ｈ，ｍ）,３．２１（８Ｈ，ｍ）,３．４１−３．４３（２Ｈ，ｍ）,３．４９（２Ｈ，ｍ）,６．５３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,６．９２−６．９６（２Ｈ，ｍ）,７．１２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．５１（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．６６（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）.【０１２２】
（実施例３０）
錯化合物（２９）０．３０ｇ、１，１’−ビス［４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル］−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０７ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（３０）０．２４ｇ（収率７５％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６４．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．０４（１２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．７４−１．８２（８Ｈ，ｍ）,２．７６−２．９４（３２Ｈ，ｍ）,３．０５（１２Ｈ，ｂｓ）,３．２９（１２Ｈ，ｓ）,６．５２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,６．９２−６．９５（８Ｈ，ｍ）,７．０９−７．１３（８Ｈ，ｍ）,７．５０（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）),７．６６（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．７３（４Ｈ，ｂｓ）,８．８１（４Ｈ，ｂｓ）,９．４３（４Ｈ，ｂｓ）.【０１２３】
（実施例３１）
錯化合物（２９）０．３０ｇ、１，１’−ビス［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０８ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（３１）０．２５ｇ（収率７５％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３６１．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：１．０４（１２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．７４−１．８２（８Ｈ，ｍ）,２．８０−２．９１（３２Ｈ，ｍ）,３．２０（１２Ｈ，ｓ）,６．５２（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,６．９２−６．９６（４Ｈ，ｍ）,７．０９−７．１３（８Ｈ，ｍ）,７．５０（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．６６（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）,７．８５（４Ｈ，ｂｓ）,８．１０（４Ｈ，ｂｓ）,９．０３（４Ｈ，ｂｓ）,９．６７（４Ｈ，ｂｓ）.【０１２４】
（実施例３２）
化合物（Ｉ−１３）１．００ｇ、ＤＢＵ  ０．６９ｇおよびメタノール７ｍｌの混合物に酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物０．２８ｇを加え、空気雰囲気下、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水５ｍｌを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒（体積比１：１）で洗浄後、乾燥することにより錯化合物（３２）１．１６ｇ（収率９４％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５２．５ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：０．７１（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．０７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．５９−１．６８（１０Ｈ，ｍ）,１．７８−１．９０（６Ｈ，ｍ）,２．５９−２．６２（２Ｈ，ｍ）,２．８５−２．９６（４Ｈ，ｍ）,３．２３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）,３．３２（６Ｈ，ｓ）,３．４４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）,３．５０−３．５３（２Ｈ，ｍ）,４．０２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）,６．９１−６．９４（２Ｈ，ｍ）,７．０９−７．１６（８Ｈ，ｍ）,７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,７．５６−７．５８（６Ｈ，ｍ）,８．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）.【０１２５】
（実施例３３）
錯化合物（３２）０．３０ｇ、１，１’−ビス（４−フェノキシフェニル）−４，４’−ビピリジニウムジクロリド０．０８ｇおよびメタノール９ｍｌを混合し、５０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物（３３）０．２７ｇ（収率８６％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３５５．０ｎｍ
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｐｐｍ：０．６９（１２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．０７（１２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）,１．６０−１．６７（８Ｈ，ｍ）,１．７６−１．８７（８Ｈ，ｍ）,２．８１−２．９６（８Ｈ，ｍ）,３．３３（１２Ｈ，ｓ）,４．００（８Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）,６．９０−６．９４（４Ｈ，ｍ）,７．０９−７．１８（２０Ｈ，ｍ）,７．２９−７．３３（６Ｈ，ｍ）,７．３８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）,７．５１−７．５７（１６Ｈ，ｍ）,７．９３（４Ｈ，ｂｓ）,８．４３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）,８．９３（４Ｈ，ｂｓ）,９．５７（４Ｈ，ｂｓ）.【０１２６】
(試験例１)
−溶解性試験−
２０ｍｇの錯化合物（１）〜（３３）のそれぞれに９８０ｍｇのＴＦＰを加え、室温で３分間超音波振動を加えた。２０ｍｇの錯化合物（１）〜（３３）が９８０ｍｇのＴＦＰに完全に溶解していることを目視により確認した。【０１２７】
(試験例２)
−塗膜性試験−
２０ｍｇの錯化合物（１）〜（３３）のそれぞれを９８０ｍｇのＴＦＰに溶解し、テフロン（登録商標）製フィルター（Ｗｈａｔｍａｎ社製、孔径０．２０μｍ）で濾過し、錯化合物（１）〜（３３）の溶液をそれぞれ得た。基板としてポリカーボネート樹脂製の板（太佑機材社製；直径２インチ、厚さ１ｍｍ）を用いて、ミカサ社製１Ｈ−ＳＸを用いてスピンコート法（３０００ｒｐｍ、３０秒間、溶液の使用量;０．２５〜０．３０ｇ）にて該溶液を基板上に塗布し、該基板を７０℃で３０分間オーブン中にて乾燥して、錯化合物の薄膜をそれぞれ得た。得られた錯化合物（１）〜（３３）の薄膜にはむらがなく、均質に製膜されていることを目視により確認した。【０１２８】
(試験例３)
−耐光性試験−
基板としてポリカーボネート樹脂製の板の代わりにガラス板（太佑機材社製；２ｃｍ×２ｃｍ、厚さ２ｍｍ）を用いる以外は塗膜性試験と同様にして、錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）の薄膜をそれぞれ得た。紫外線蛍光燈（スガ試験機社製、ＳＵＧＡ−ＦＳ４０:ピーク波長３１３ｎｍ、照度分布２８２〜３７３ｎｍ）を備えたスガ試験機社製デューパネル光コントロールウェザーメーターＤＰＷＬ−５Ｒ型を用いて、該薄膜に１５Ｗ／ｍ２の光量にて４５℃で１０時間光照射した。耐光性試験の前後の薄膜において、分光光度計を用いて紫外可視吸収スペクトルを測定した。耐光性試験前の吸収極大波長における吸光度（Ｉａ０）に対する耐光性試験後の吸収極大波長における吸光度(Ｉａ)の比(Ｉａ／Ｉａ０)を表３に示す。ここで、耐光性試験後の吸収極大波長は、耐光性試験後の吸収スペクトルにおける吸収極大波長を表す。Ｉａ／Ｉａ０が大きいものほど、優れた耐光性を有することを表す。
錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）の薄膜は、それぞれ優れた耐光性を有することがわかる。【０１２９】
【表３】
2011142329.tif 000016
【０１３０】
(試験例４)
−耐水性試験−
塗膜性試験と同様にして、錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）の薄膜をそれぞれ得た。該薄膜を７５℃の水に３０分間浸した。耐水性試験の前後の薄膜において、分光光度計を用いて紫外可視吸収スペクトルを測定した。耐水性試験前の吸収極大波長における吸光度(Ｉｂ０)に対する耐水性試験後の吸収極大波長における吸光度(Ｉｂ)の比(Ｉｂ／Ｉｂ０)、および耐水性試験前後の吸収極大波長の変化［Δλｍａｘ（ｂ）]を表４に示す。ここで、耐水性試験後の吸収極大波長は、耐水性試験後の吸収スペクトルにおける吸収極大波長を表す。Ｉｂ／Ｉｂ０が１に近いものほど、また、Δλｍａｘ（ｂ）が小さいものほど、優れた耐水性を有することを表す。
錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）の薄膜は、それぞれ優れた耐水性を有することがわかる。【０１３１】
【表４】
2011142329.tif 000017
【０１３２】
(試験例５)
−耐湿熱性試験−
塗膜性試験と同様にして、錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）の薄膜をそれぞれ得た。サタケ化学機械工業社製恒温恒湿槽ＫＨＷＩＩ−４０ＨＰを用いて、該薄膜を温度８０℃、相対湿度８０％の雰囲気に１００時間曝露した。耐湿熱性試験の前後の薄膜において、分光光度計を用いて紫外可視吸収スペクトルを測定した。耐湿熱性試験前の吸収極大波長における吸光度(ＩＣ０）に対する耐湿熱性試験後の吸収極大波長における吸光度（Ｉｃ）の比（ＩＣ／ＩＣ０）、および耐湿熱性試験前後の吸収極大波長の変化［Δλｍａｘ（ｃ）］を表５に示す。ここで、耐湿熱性試験後の吸収極大波長は、耐湿熱性試験後の吸収スペクトルにおける吸収極大波長を表す。ＩＣ／ＩＣ０が１に近いほど、また、Δλｍａｘ（ｃ）が小さいほど、優れた耐湿熱性を有することを表す。
錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）の薄膜は、それぞれ優れた耐湿熱性を有することがわかる。【０１３３】
【表５】
2011142329.tif 000018
【０１３４】
(試験例６)
−溶液中での保存安定性試験−
１３ｍｇの錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）のそれぞれを１ｍｌのＴＦＰに溶解し、テフロン(登録商標)製フィルター(Ｗｈａｔｍａｎ社製、孔径０．２０μｍ)で濾過して、錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）の溶液をそれぞれ得た。得られた溶液のそれぞれを蓋の付いた褐色瓶に移して、２５℃で３日間保存した。保存安定性試験前後において、分光光度計を用いて、錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）の溶液を１２５０倍に希釈したものの紫外可視吸収スペクトルを測定した。保存安定性試験前の吸収極大波長における吸光度（Ｉｄ０）に対する保存安定性試験後の吸収極大波長における吸光度（Ｉｄ）の比(Ｉｄ／Ｉｄ０)、および保存安定性試験前後の吸収極大波長の変化［Δλｍａｘ（ｄ）]を表６に示す。ここで、保存安定性試験後の吸収極大波長は、保存安定性試験後の吸収スペクトルにおける吸収極大波長を表す。Ｉｄ／Ｉｄ０が１に近いほど、また、Δλｍａｘ（ｄ）が小さいほど、溶液中での優れた保存安定性を有することを表す。
錯化合物（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）は、それぞれ溶液中での優れた保存安定性を有することがわかる。【０１３５】
【表６】
2011142329.tif 000019
【０１３６】
（実施例３４）
−記録媒体の製造−
基板として、中央に貫通孔を有し、かつ表面にトラックピッチ０．３２μｍ、溝幅１８０ｎｍ、溝深さ３２ｎｍの案内溝を有する外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート樹脂製の円盤を用いた。該基板の案内溝が形成された面の上に、スパッタリング法により４０〜６０ｎｍの厚さのＡｇ合金の反射層を形成した。
２０ｍｇの錯化合物（２）を１９８０ｍｇのＴＦＰに溶解し、テフロン(登録商標)製フィルター（Ｗｈａｔｍａｎ社製、孔径０．２０μｍ）で濾過して、錯化合物（２）の溶液を得た。該溶液をミカサ社製１Ｈ−ＳＸを用いてスピンコート法（１２００ｒｐｍから５０００ｒｐｍ、１０秒間、溶液の使用量；１ｍｌ）により該反射層の上に塗布し、７０℃、３０分間オーブン中にて該基板を乾燥して、記録層を形成した。次いで、該記録層の上に、ＺｎＳ−ＳｉＯ２（組成比；ＺｎＳ／ＳｉＯ２＝８０重量％／２０重量％）をターゲット材として用いたＲＦスパッタリング法により、１０〜１５ｎｍの厚さの透明保護層を形成した。次いで、該保護層の上に、リンテック社製カバーフィルム貼付装置（Ｏｐｔｅｒｉａ  ＭＯＤＥＬ３００ｍ／ＳＴ）を用い、同社製カバーフィルム（Ｄ−９００）を貼付けることにより、記録媒体（２）を製造した。
錯化合物（２）を用いる代わりに、錯化合物（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）または（３３）を用いる以外は、記録媒体（２）の製造法と同様にして、記録媒体（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）または（３３）を製造した。【０１３７】
（試験例７）
−記録媒体の記録再生特性評価試験−
記録媒体（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）について、記録再生装置（パルステック工業社製、ＯＤＵ−１０００）を用いて、記録用レーザー光の記録パワーが３〜８ｍＷの範囲で、記録パワーにおけるジッタの依存性を測定した［測定条件：波長４０５ｎｍ、開口数（ＮＡ）０．８５、記録速度４．９２ｍ／ｓ］。得られた記録パワーにおけるジッタの依存性において、記録パワーが３〜８ｍＷの範囲で最小のジッタをボトムジッタとした。得られたボトムジッタを表７に示す。ボトムジッタが小さいほど優れた記録再生特性を有することを表す。
記録媒体（２）、（５）、（６）、（７）、（９）、（１９）、（２０）、（２６）、（３０）および（３３）は、それぞれ優れた記録再生特性を有することがわかる。中でも、記録媒体（５）、（６）、（７）、（９）、（２０）および（２６）は、より優れた記録再生特性を有することがわかる。【０１３８】
【表７】
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【産業上の利用可能性】
【０１３９】
本発明により、優れた耐湿熱性等を有する光記録媒体に用いられる錯化合物等を提供できる。
【国際調査報告】
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