(57)【要約】  液浸部材は、露光光の光路が液体で満たされるように、移動可能な物体との間に液浸空間を形成する。液浸部材は、光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１プレートと、光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１プレートの下面の少なくとも一部に対向する上面及び物体が対向可能な下面を有する第２プレートと、光路に対して第１プレートの外側に配置され、少なくとも一部に物体が対向可能であり、第２プレートの上面が面する第１空間及び第２プレートの下面が面する第２空間からの液体の少なくとも一部を回収する回収口とを備える。
2011083724.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光の光路が液体で満たされるように、移動可能な物体との間に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１プレートと、
前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１プレートの下面の少なくとも一部に対向する上面及び前記物体が対向可能な下面を有する第２プレートと、
前記光路に対して前記第１プレートの外側に配置され、少なくとも一部に前記物体が対向可能であり、前記第２プレートの上面が面する第１空間及び前記第２プレートの下面が面する第２空間からの液体の少なくとも一部を回収する回収口と、を備える液浸部材。
【請求項２】
前記回収口の少なくとも一部は、前記光路に対する放射方向に関して、前記第２プレートよりも外側に配置される請求項１記載の液浸部材。
【請求項３】
前記回収口は、前記回収口と前記物体との間において合流した前記第１空間からの液体及び前記第２空間からの液体の少なくとも一部を回収する請求項１又は２記載の液浸部材。
【請求項４】
前記第２プレートの内側エッジは、前記光路に対する放射方向に関して、前記第１プレートよりも内側に配置される請求項１〜３のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５】
前記第１プレートの上面が面する空間の液体の少なくとも一部が、前記第１プレートの内側エッジで少なくとも一部が規定される第１開口を介して、前記第２プレートの上面に流れる請求項４記載の液浸部材。
【請求項６】
前記第１プレートの下面と前記第２プレートの上面とはほぼ平行である請求項１〜５のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項７】
前記第２プレートの上面の外縁領域は、前記光路に対する放射方向に関して外側に向かって前記第１プレートに近づく請求項１〜５のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項８】
前記第１プレートの下面と前記第２プレートの上面との間の第１ギャップは、前記第２プレートの下面と前記物体の表面との間の第２ギャップよりも大きい請求項１〜７のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項９】
前記第２プレートの下面の外形は、前記第１プレートの下面の外形と異なる請求項１〜８のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１０】
前記第２プレートの上面及び下面の少なくとも一部は、前記液体に対して親液性である請求項１〜９のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１１】
前記第１プレートに対して所定位置に配置されるように前記第２プレートを支持する支持機構を備える請求項１〜１０のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１２】
前記支持機構は、前記第２プレートを前記第１プレートに連結する連結部材を含む請求項１１記載の液浸部材。
【請求項１３】
前記光路は、投影光学系の射出面から射出される露光光の光路であって、
前記第１プレートの下面と前記第２プレートの上面との間の第１ギャップは、前記第２プレートの下面と前記投影光学系の像面に配置される前記物体の表面との間の第２ギャップよりも大きい請求項１〜１２のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１４】
前記第２プレートが駆動システムにより移動される請求項１〜１３のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１５】
前記第２プレートは、前記第１プレートの下面とほぼ平行に移動される請求項１３記載の液浸部材。
【請求項１６】
前記回収口に配置される多孔部材を備え、
前記多孔部材の孔を介して液体が回収される請求項１〜１５のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１７】
前記第１プレートの上方に配置され、液体を供給する供給口を有する請求項１〜１６のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１８】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
請求項１〜１７のいずれか一項記載の液浸部材を備える露光装置。
【請求項１９】
前記液浸部材と前記物体との間に液浸空間が形成された状態で、前記第２プレートの下面とほぼ平行な所定面内において前記物体が移動される請求項１８記載の露光装置。
【請求項２０】
移動される前記物体は、前記基板及び前記基板を保持して移動する基板ステージの少なくとも一方を含む請求項１９記載の露光装置。
【請求項２１】
請求項１８〜２０のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２２】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
光学部材の射出面と前記基板の表面との間の前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面からの前記露光光を前記基板に照射することと、
前記光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１プレートの下面と前記光路の周囲の少なくとも一部に配置される第２プレートの上面との間の第１空間、及び前記第２プレートの下面と前記基板の表面との間の第２空間からの液体の少なくとも一部を、前記光路に対して前記第１プレートの外側に配置され、少なくとも一部に前記基板が対向可能な回収口から回収することと、
を含む露光方法。
【請求項２３】
請求項２２のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法に関する。
本願は、２０１０年１月０８日に出願された米国仮出願６１／２８２，２５５号に基づき優先権を主張しその内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００６／０１０３８１７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、基板等の物体上に液浸空間が形成されている状態で、例えば物体を高速で移動させる場合、あるいは長距離を移動させる場合、液体が流出したり、物体上に液体（膜、滴等）が残留したりする可能性がある。その結果、露光不良が発生したり、不良デバイスが発生したりする可能性がある。【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、露光光の光路が液体で満たされるように、移動可能な物体との間に液浸空間を形成する液浸部材であって、光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１プレートと、光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１プレートの下面の少なくとも一部に対向する上面及び物体が対向可能な下面を有する第２プレートと、光路に対して第１プレートの外側に配置され、少なくとも一部に物体が対向可能であり、第２プレートの上面が面する第１空間及び第２プレートの下面が面する第２空間からの液体の少なくとも一部を回収する回収口と、を備える液浸部材が提供される。【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１の態様の液浸部材を備える露光装置が提供される。【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、第２の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の射出面と基板の表面との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面からの露光光を基板に照射することと、光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１プレートの下面と光路の周囲の少なくとも一部に配置される第２プレートの上面との間の第１空間、及び第２プレートの下面と基板の表面との間の第２空間からの液体の少なくとも一部を、光路に対して第１プレートの外側に配置され、少なくとも一部に基板が対向可能な回収口から回収することと、を含む露光方法が提供される。【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、第４の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材の一例を下側から見た図である。
【図４】図２の一部を拡大した図である。
【図５】図４の一部を拡大した図である。
【図６】比較例に係る液浸部材を説明するための模式図である。
【図７】第１実施形態に係る液浸部材を説明するための模式図である。
【図８】第１実施形態に係る液浸部材の一例を下側から見た図である。
【図９】第１実施形態に係る液浸部材の一例を下側から見た図である。
【図１０】第１実施形態に係る液浸部材の一例の一部を示す側断面図である。
【図１１】第２実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１２】マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１４】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間は、液体で満たされた部分（空間、領域）である。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００１５】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成する液浸部材３と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置４とを備えている。
【００１６】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００１７】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００１８】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００１９】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含むベース部材５のガイド面５Ｇ上を移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システムの作動により移動する。平面モータは、マスクステージ１に配置された可動子と、ベース部材５に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、マスクステージ１は、駆動システムの作動により、ガイド面５Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００２０】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００２１】
投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面６を有する。射出面６は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子７に配置されている。投影領域ＰＲは、射出面６から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面６は、−Ｚ方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面６は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。射出面６から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。
【００２２】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、投影領域ＰＲを含むベース部材８のガイド面８Ｇ上を移動可能である。基板ステージ２は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システムの作動により移動する。平面モータは、基板ステージ２に配置された可動子と、ベース部材８に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、基板ステージ２は、駆動システムの作動により、ガイド面８Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００２３】
基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する基板保持部９を有する。基板保持部９は、基板Ｐの表面が＋Ｚ方向を向くように基板Ｐを保持する。本実施形態において、基板保持部９は、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。本実施形態において、基板保持部９に保持された基板Ｐの表面と、その基板Ｐの周囲に配置される基板ステージ２の上面１０とは、同一平面内に配置される（面一である）。上面１０は、平坦である。本実施形態において、基板保持部９に保持された基板Ｐの表面、及び基板ステージ２の上面１０は、ＸＹ平面とほぼ平行である。
【００２４】
また、本実施形態において、基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、及び米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、プレート部材Ｔをリリース可能に保持するプレート部材保持部１１を有する。本実施形態において、基板ステージ２の上面１０は、プレート部材保持部１１に保持されたプレート部材Ｔの上面を含む。
【００２５】
なお、プレート部材Ｔがリリース可能でなくてもよい。その場合、プレート部材保持部１１は省略可能である。また、基板保持部９に保持された基板Ｐの表面と上面１０とが同一平面内に配置されてなくてもよいし、基板Ｐの表面及び上面１０の少なくとも一方がＸＹ平面と非平行でもよい。
【００２６】
本実施形態において、マスクステージ１及び基板ステージ２の位置が、レーザ干渉計ユニット１２Ａ、１２Ｂを含む干渉計システム１２によって計測される。レーザ干渉計ユニット１２Ａは、マスクステージ１に配置された計測ミラーを用いてマスクステージ１の位置を計測可能である。レーザ干渉計ユニット１２Ｂは、基板ステージ２に配置された計測ミラーを用いて基板ステージ２の位置を計測可能である。基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置４は、干渉計システム１２の計測結果に基づいて、マスクステージ１（マスクＭ）及び基板ステージ２（基板Ｐ）の位置制御を実行する。
【００２７】
本実施形態において、露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置４は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【００２８】
次に、図２〜図５を参照して、液浸部材３について説明する。図２は、本実施形態に係る液浸部材３の一例を示す側断面図、図３は、液浸部材３を−Ｚ側（下側）から見た図、図４は、図２の一部を拡大した図、図５は、図４の一部を拡大した図である。
【００２９】
液浸部材３は、投影領域ＰＲに配置される物体との間で液体ＬＱを保持して、その物体に照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、終端光学素子７と物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。本実施形態において、投影領域ＰＲに配置可能な物体は、投影領域ＰＲに対して移動可能な物体を含む。本実施形態において、その物体は、基板ステージ２（プレート部材Ｔ）、及び基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。液浸部材３は、露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、その移動可能な物体との間に液浸空間ＬＳを形成する。基板Ｐの露光において、液浸部材３は、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持して液浸空間ＬＳを形成する。図２〜図５を用いる以下の説明においては、液浸部材３が基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成する場合を例にして説明するが、例えば基板ステージ２（プレート部材Ｔ）との間に液浸空間ＬＳを形成することもできる。
【００３０】
本実施形態において、液浸部材３は、射出面６から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される第１プレート部２１と、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、第１プレート部２１の下面２１Ｂの少なくとも一部に対向する上面２２Ａ及び基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２２Ｂを有する第２プレート部２２と、光路Ｋに対して第１プレート部２１の外側に配置され、少なくとも一部に基板Ｐが対向可能であり、第２プレート部２２の上面２２Ａが面する第１空間Ｓ１及び第２プレート部２２の下面２２Ｂが面する第２空間Ｓ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口３２とを備えている。また、液浸部材３は、少なくとも一部が終端光学素子７の周囲に配置される本体部２０を備えている。本実施形態において、本体部２０と第１プレート部２１とは一体である。第２プレート部２２は、第１プレート部２１と別体である。
【００３１】
本実施形態において、本体部２０及び第１プレート部２１は、環状の部材である。本体部２０の少なくとも一部は、終端光学素子７の周囲に配置される。第１プレート部２１は、光路Ｋの周囲に配置される。また、本実施形態においては、第２プレート部２２も、環状の部材である。第２プレート部２２は、光路Ｋの周囲に配置される。
【００３２】
なお、本体部２０、第１プレート部２１、及び第２プレート部２２の少なくとも一つが、環状の部材でなくてもよい。例えば、第２プレート部２２が、光路Ｋの周囲の一部に配置されていてもよい。
【００３３】
本体部２０は、終端光学素子７の側面１３と対向する内側面２０Ａを備えている。側面１３は、射出面６の周囲に配置されている。側面１３は、露光光ＥＬを射出しない面である。本実施形態において、側面１３は、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって＋Ｚ方向に傾斜している。＋Ｚ方向は、射出面６から射出される露光光ＥＬが進行する方向（−Ｚ方向）とは逆の方向である。
【００３４】
第１プレート部２１は、上面２１Ａと、上面２１Ａの反対方向を向く下面２１Ｂとを有する。上面２１Ａは、＋Ｚ方向を向く面である。下面２１Ｂは、−Ｚ方向を向く面である。上面２１Ａの少なくとも一部は、射出面６と対向する。また、第１プレート部２１は、射出面６から射出される露光光ＥＬが通過可能な開口２１Ｋを有する。上面２１Ａ及び下面２１Ｂは、光路Ｋ（開口２１Ｋ）の周囲に配置される。
【００３５】
本実施形態において、上面２１Ａは、平坦であり、ＸＹ平面とほぼ平行である。下面２１Ｂも、平坦であり、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、上面２１Ａと下面２１Ｂは平行でなくてもよいし、Ｚ軸方向に関して厚さが異なる部分を有していてもよい。
【００３６】
第２プレート部２２は、上面２２Ａと、上面２２Ａの反対方向を向く下面２２Ｂとを有する。上面２２Ａは、＋Ｚ方向を向く面である。下面２２Ｂは、−Ｚ方向を向く面である。上面２２Ａの少なくとも一部は、下面２１Ｂと対向する。基板Ｐは、下面２２Ｂに対向可能である。また、第２プレート部２２は、射出面６から射出される露光光ＥＬが通過可能な開口２２Ｋを有する。上面２２Ａ及び下面２２Ｂは、光路Ｋ（開口２２Ｋ）の周囲に配置される。
【００３７】
基板Ｐの露光において、射出面６から射出される露光光ＥＬは、開口２１Ｋ及び開口２２Ｋを通過して、基板Ｐに照射される。
【００３８】
本実施形態において、上面２２Ａは、平坦であり、ＸＹ平面とほぼ平行である。下面２２Ｂも、平坦であり、ＸＹ平面とほぼ平行である。本実施形態において、第１プレート部２１の下面２１Ｂと、第２プレート部２２の上面２２Ａとは、ほぼ平行である。なお、上面２２Ａと下面２２Ｂは平行でなくてもよいし、Ｚ軸方向に関して厚さが異なる部分を有していてもよい。
【００３９】
なお、下面２１Ｂと上面２２Ａとが非平行でもよい。なお、上面２１Ａ及び下面２１Ｂの少なくとも一方が、ＸＹ平面と非平行でもよい。また、上面２１Ａ及び下面２１Ｂの少なくとも一方が、曲面を含んでもよい。また、上面２２Ａ及び下面２２Ｂの少なくとも一方が、ＸＹ平面と非平行でもよい。また、上面２２Ａ及び下面２２Ｂの少なくとも一方が、曲面を含んでもよい。
【００４０】
液浸部材３は、内側面２０Ａの少なくとも一部と側面１３とがギャップＧ４を介して対向するように配置される。また、液浸部材３は、上面２１Ａの少なくとも一部と射出面６とがギャップＧ３を介して対向するように配置される。また、第２プレート部２２は、上面２２Ａの少なくとも一部と下面２１ＢとがギャップＧ１を介して対向するように配置される。基板Ｐは、その基板Ｐの表面と下面２２ＢとがギャップＧ２を介して対向するように配置される。
【００４１】
本実施形態において、下面２１Ｂと上面２２Ａとの間に第１空間Ｓ１が形成される。下面２２Ｂと基板Ｐの表面との間に第２空間Ｓ２が形成される。射出面６と上面２１Ａとの間に第３空間Ｓ３が形成される。内側面２０Ａと側面１３との間に第４空間Ｓ４が形成される。
【００４２】
本実施形態において、液浸部材３は、第１プレート部２１に対して所定位置に配置されるように第２プレート部２２を支持する支持機構２３を備えている。本実施形態において、支持機構２３は、第２プレート部２２を第１プレート部２１に連結する連結部材２３Ｃを含む。連結部材２３Ｃは、ロッド状の部材である。連結部材２３Ｃは、ＸＹ平面内において複数配置される。支持機構２３は、複数の連結部材２３Ｃを用いて、下面２１Ｂの複数の位置と上面２２Ａの複数の位置とをそれぞれ連結する。支持機構２３は、下面２１Ｂと上面２２ＡとがギャップＧ１を介して対向するように、第２プレート部２２を支持する。
【００４３】
なお、支持機構２３が、本体部２０と第２プレート部２２とを連結する連結部材を備えていてもよい。その場合、第１プレート部２１と第２プレート部２２とを連結する連結部材２３Ｃを省略してもよいし、省略しなくてもよい。また、第２プレート部２２が、本体部２０及び第１プレート部２１の少なくとも一方と連結されなくてもよい。例えば、投影光学系ＰＬを支持する支持部材に、所定の支持機構を介して第２プレート部２２が支持されてもよい。
【００４４】
本実施形態において、第１プレート部２１の下面２１Ｂと第２プレート部２２の上面２２Ａとの間のギャップＧ１は、第２プレート部２２の下面２２Ｂと基板Ｐの表面との間のギャップＧ２よりも大きい。本実施形態において、ギャップＧ２は、第２プレート部２２の下面２２Ｂと投影光学系ＰＬの像面に配置される基板Ｐ（物体）の表面との間のギャップを含む。
【００４５】
また、本実施形態において、上面２１Ａと下面２１Ｂとの距離は、上面２２Ａと下面２２Ｂとの距離よりも大きい。換言すれば、第１プレート部２１は、第２プレート部２２よりも厚い。
【００４６】
本実施形態において、下面２１Ｂは、液体ＬＱに対して親液性である。本実施形態において、液体ＬＱと下面２１Ｂとの接触角は、９０度よりも小さい。本実施形態において、第１プレート部２１は、チタン製である。下面２１Ｂは、チタンの表面である。
【００４７】
本実施形態において、上面２２Ａは、液体ＬＱに対して親液性である。また、本実施形態においては、下面２２Ｂも、液体ＬＱに対して親液性である。液体ＬＱと上面２２Ａとの接触角は、９０度よりも小さい。また、液体ＬＱと下面２２Ｂとの接触角は、９０度よりも小さい。本実施形態において、第２プレート部２２は、チタン製である。上面２２Ａ及び下面２２Ｂは、チタンの表面である。なお、液体ＬＱと上面２２Ａとの接触角と、液体ＬＱと下面２２Ｂとの接触角とが異なっていてもよい。換言すれば、液体ＬＱに対する親和性（親液性）が、上面２２Ａと下面２２Ｂとで異なっていてもよい。
【００４８】
また、液体ＬＱと下面２１Ｂとの接触角と、液体ＬＱと上面２２Ａとの接触角とは、同じでもよいし、異なっていてもよい。また、液体ＬＱと下面２１Ｂとの接触角と、液体ＬＱと下面２２Ｂとの接触角とは、同じでもよいし、異なっていてもよい。
【００４９】
なお、上面２２Ａ及び下面２２Ｂの少なくとも一方が、液体ＬＱに対して撥液性でもよい。例えば、液体ＬＱと上面２２Ａとの接触角が、９０度以上でもよいし、液体ＬＱと下面２２Ｂとの接触角が、９０度以上でもよい。
【００５０】
本実施形態において、第１プレート部２１は、内側エッジＥａと、外側エッジＥｂとを有する。内側エッジＥａは、光路Ｋに近いエッジである。外側エッジＥｂは、光路Ｋから遠いエッジである。内側エッジＥａは、開口２１Ｋを規定する。
【００５１】
第２プレート部２２は、内側エッジＥｃと、外側エッジＥｄとを有する。内側エッジＥｃは、光路Ｋに近いエッジである。外側エッジＥｄは、光路Ｋから遠いエッジである。内側エッジＥｃは、開口２２Ｋを規定する。
【００５２】
本実施形態において、第２プレート部２２の内側エッジＥｃは、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１プレート部２１よりも内側に配置される。すなわち、第２プレート部２２の内側エッジＥｃは、第１プレート部２１の内側エッジＥａよりも光路Ｋに近い。本実施形態において、開口２２Ｋは、開口２１Ｋよりも小さい。
【００５３】
図３に示すように、本実施形態においては、ＸＹ平面内における第１プレート部２１の下面２１Ｂの外形と、第２プレート部２２の下面２２Ｂの外形とは、ほぼ等しい。本実施形態において、下面２１Ｂの外形及び下面２２Ｂの外形は、矩形状である。なお、下面２１Ｂの外形及び下面２２Ｂの外形が、例えば円形でもよいし、八角形でもよい。
【００５４】
本実施形態において、回収口３２は、光路Ｋに対して第１プレート部２１の外側に配置されている。本実施形態において、回収口３２は、基板Ｐの表面に面するように本体部２０に形成された開口の端部である。回収口３２は、基板Ｐ上の液体ＬＱを回収可能である。
【００５５】
また、本実施形態において、回収口３２は、光路Ｋに対する放射方向に関して、第２プレート部２２よりも外側に配置されている。換言すれば、回収口３２は、第２プレート部２２の外側エッジＥｄよりも外側に配置されている。
【００５６】
本実施形態において、回収口３２は、光路Ｋ（下面２１Ｂ）を囲むように配置される。本実施形態において、回収口３２は、輪帯状である。なお、回収口３２は、光路Ｋの周囲の一部に配置されてもよい。また、回収口３２が、光路Ｋの周囲において所定間隔で複数配置されてもよい。
【００５７】
本実施形態において、液浸部材３は、回収口３２に配置される多孔部材３３を備えている。多孔部材３３は、液体ＬＱが流通可能な複数の孔３３Ｈを有する。本実施形態において、多孔部材３３は、プレート状の部材である。多孔部材３３は、上面３３Ａ及び下面３３Ｂを有する。孔３３Ｈは、上面３３Ａと下面３３Ｂとを結ぶように形成される。多孔部材３３の下面３３Ｂに、基板Ｐの表面が対向する。本実施形態においては、多孔部材３３の孔３３Ｈを介して、基板Ｐ上の液体ＬＱが回収される。なお、多孔部材３３が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。本実施形態において、多孔部材３３の下面３３Ｂは、下面２１Ｂの周囲に配置される。なお、下面３３Ｂが、下面２１Ｂの周囲の一部に配置されてもよい。なお、回収口３２に多孔部材３３が配置されていなくてもよい。
【００５８】
本実施形態において、液浸部材３は、下面３３Ｂの内側エッジＥｆと下面２１Ｂの外側エッジＥｂとを結ぶ斜面３４を有する。斜面３４は、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって＋Ｚ方向に傾斜している。本実施形態において、下面３３Ｂの内側エッジＥｆは、下面２１Ｂの外側エッジＥｂよりも＋Ｚ側に配置されている。また、本実施形態においては、下面３３Ｂは、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって−Ｚ方向に傾斜している。なお、下面３３Ｂは光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって＋Ｚ方向に傾斜していてもよい。また、下面３３Ｂは平坦でなくてもよく、曲面あるいは段差を有していてもよい。
【００５９】
以下の説明において、下面２１Ｂ、斜面３４、及び下面３３Ｂを合わせて適宜、下面４０、と称する。投影領域ＰＲに配置される基板Ｐの表面は、下面４０の少なくとも一部に対向可能である。
【００６０】
下面４０は、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持することができる。一方側の射出面６及び下面４０と、他方側の基板Ｐの表面との間に液体ＬＱが保持されることによって、終端光学素子７と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００６１】
本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧの少なくとも一部は、下面４０と基板Ｐの表面との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。
【００６２】
また、液浸部材３は、液体ＬＱを供給する供給口３１を備えている。供給口３１は、第１プレート部２１の上方（＋Ｚ方向）に配置されている。本実施形態において、供給口３１の少なくとも一部は、第３空間Ｓ３に面するように配置されている。本実施形態において、供給口３１は、内側面２０Ａの少なくとも一部に配置されている。なお、供給口３１の少なくとも一部が、第４空間Ｓ４に面するように配置されてもよい。供給口３１から供給された液体ＬＱは、第３空間Ｓ３に流れる。
【００６３】
液浸部材３は、供給口３１に接続される供給流路３５を備えている。供給流路３５の少なくとも一部は、液浸部材３の内部に形成されている。供給口３１は、供給流路３５の端部に配置された開口である。供給流路３５の一端に供給口３１が配置される。供給流路３５の他端は、供給管が形成する流路を介して液体供給装置３６に接続される。
【００６４】
液体供給装置３６は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを送出可能である。液体供給装置３６から送出された液体ＬＱは、供給流路３５を介して供給口３１に供給される。
【００６５】
液浸部材３は、回収口３２に接続される回収流路３７を備えている。回収流路３７の少なくとも一部は、液浸部材３の内部に形成されている。回収口３２は、回収流路３７の端部に配置された開口である。回収流路３７の一端に回収口３２が配置される。回収流路３７の他端は、回収管が形成する流路を介して液体回収装置３８に接続される。
【００６６】
液体回収装置３８は、回収口３２を真空システムに接続可能であり、回収口３２を介して液体ＬＱを吸引可能である。液体回収装置３８は、回収流路３７を負圧にすることができる。回収流路３７が負圧にされることによって、基板Ｐ上の液体ＬＱが回収口３２（多孔部材３３の孔３３Ｈ）から回収される。基板Ｐ上の液体ＬＱは、回収口３２（孔３３Ｈ）を介して、回収流路３７に流入する。回収口３２から回収される液体ＬＱの少なくとも一部は、回収流路３７を流れる。回収流路３７の液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収装置３８に吸引（回収）される。
【００６７】
本実施形態において、制御装置４は、供給口３１からの液体ＬＱの供給動作と並行して、回収口３２からの液体ＬＱの回収動作を実行することによって、一方側の終端光学素子７及び液浸部材３と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００６８】
本実施形態においては、基板Ｐがほぼ静止している状態において、第２プレート部２２が液浸空間ＬＳに配置されるように、液浸空間ＬＳの大きさが調整される。すなわち、本実施形態においては、基板Ｐがほぼ静止している状態において、上面２２Ａ及び下面２２Ｂの全部が液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触するように、液浸空間ＬＳの大きさが調整される。換言すれば、光路Ｋに対する放射方向に関して第２プレート部２２の外側エッジＥｄの外側に界面ＬＧが配置されるように、液浸空間ＬＳの大きさが調整される。
【００６９】
制御装置４は、供給口３１からの単位時間当たりの液体供給量、及び回収口３２からの単位時間当たりの液体回収量の少なくとも一方を調整することによって、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの大きさを調整することができる。例えば、制御装置４は、供給口３１からの液体供給量を多くすることによって、液浸空間ＬＳを大きくすることができ、液体供給量を少なくすることによって、液浸空間ＬＳを小さくすることができる。また、制御装置４は、回収口３２からの液体回収量を多くすることによって、液浸空間ＬＳを小さくすることができ、液体回収量を少なくすることによって、液浸空間ＬＳを大きくすることができる。
【００７０】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
【００７１】
露光前の基板Ｐが基板保持部９に搬入（ロード）された後、制御装置４は、終端光学素子７の射出面６と基板Ｐの表面との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、液浸部材３の下面４０と基板Ｐの表面との間に液体ＬＱを保持して液浸空間ＬＳを形成する。
【００７２】
制御装置４は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置４は、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出し、その露光光ＥＬでマスクＭを露光する。露光光ＥＬで照明されたマスクＭからの露光光ＥＬは投影光学系ＰＬの射出面６から射出される。射出面６から射出された露光光ＥＬは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面６からの露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【００７３】
本実施形態において、供給口３１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１プレート部２１の上面２１Ａが面する第３空間Ｓ３に供給される。また、本実施形態において、第２プレート部２２の内側エッジＥｃは、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１プレート部２１よりも内側に配置されている。そのため、第１プレート部２１の上面２１Ａが面する第３空間Ｓ３の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１プレート部２１の内側エッジＥａで少なくとも一部が規定される開口２１Ｋを介して、第２プレート部２２の上面２２Ａに流れる。
【００７４】
第３空間Ｓ３から開口２１Ｋを介して上面２２Ａに流れた液体ＬＱの少なくとも一部は、第１空間Ｓ１に流れる。また、第３空間Ｓ３から開口２１Ｋを介して上面２２Ａに流れた液体ＬＱの少なくとも一部は、第２空間Ｓ２に流れる。第１空間Ｓ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって流れる。第２空間Ｓ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって流れる。なお、連結部材２３Ｃは、第１空間Ｓ１において所定位置に配置されたロッド状の部材であり、第１空間Ｓ１の液体ＬＱの流れを妨げない。
【００７５】
例えば図５に示すように、第１空間Ｓ１の液体ＬＱの少なくとも一部、及び第２空間Ｓ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、第２プレート部２２の外側エッジＥｄの外側において合流する。本実施形態においては、第１空間Ｓ１の液体ＬＱの少なくとも一部、及び第２空間Ｓ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、例えば第２プレート部２２の外側エッジＥｄの外側、かつ、下面４０と基板Ｐの表面との間の第５空間Ｓ５において合流する。
【００７６】
本実施形態において、回収口３２は、第１空間Ｓ１及び第２空間Ｓ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。本実施形態において、回収口３２は、回収口３２（下面３３Ｂ）と基板Ｐとの間において合流した第１空間Ｓ１からの液体ＬＱ及び第２空間Ｓ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【００７７】
ところで、液浸部材３と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰがＸＹ平面内において高速で移動したり、長距離を移動したりした場合、液浸部材３と基板Ｐとの間の空間の外側に液体ＬＱが流出してしまう可能性がある。
【００７８】
液浸空間ＬＳは、界面ＬＧにおける液体ＬＱの表面張力によって維持される。液浸部材３と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが高速で移動したり、長距離を移動したりした場合、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの運動量が大きくなる可能性がある。液体ＬＱの運動量が大きくなると、その液体ＬＱの運動量に起因して、液体ＬＱの表面張力によって液浸空間ＬＳを維持することが困難となる可能性がある。その結果、液浸部材３と基板Ｐとの間の空間の外側に液体ＬＱが流出してしまう可能性がある。
【００７９】
本実施形態においては、第２プレート部２２が配置されているので、液浸部材３と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰがＸＹ平面内において高速で移動したり、長距離を移動したりした場合でも、液浸部材３と基板Ｐとの間の空間の外側に液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ上に液体ＬＱ（膜、滴等）が残留したりすることを抑制することができる。
【００８０】
図６は、比較例に係る液浸部材３ｊと基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳｊが形成されている状態で、基板Ｐを−Ｙ方向に移動した場合の液体ＬＱの状態の一例を示す模式図である。図７は、本実施形態に係る液浸部材３と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐを−Ｙ方向に移動した場合の液体ＬＱの状態の一例を示す模式図である。液浸部材３ｊは、第２プレート部を有していない。
【００８１】
図６及び図７において、液浸空間ＬＳｊ、ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが移動した場合、例えば液体ＬＱの粘性の作用等により、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに矢印Ｆｊ、Ｆｓで示すような速度分布を有する液体ＬＱの流れが生成される。
【００８２】
液体ＬＱの運動量は、液体ＬＱの質量（体積）と液体ＬＱの速度（流速）との積である。したがって、図６及び図７のそれぞれに示す例において、基板Ｐの移動に基づく液浸空間ＬＳの液体ＬＱの運動量は、面積Ａｊ、Ａｓに相当する。
【００８３】
すなわち、第２プレート部２２が配置されることによって、基板Ｐの移動に基づく液浸空間ＬＳの液体ＬＱの運動量が大きくなることを抑えることができる。換言すれば、第２プレート部２２が配置されることによって、移動する基板Ｐの影響を受ける液体ＬＱの質量（体積）を抑えることができる。
【００８４】
図６に示す例においては、光路Ｋに対して−Ｙ側の界面ＬＧｊに作用する液体ＬＱの運動量は、大きい。その結果、界面ＬＧｊにおける液体ＬＱの表面張力によって液浸空間ＬＳｊを維持することが困難となり、液体ＬＱが流出してしまう可能性が高くなる。
【００８５】
一方、図７に示す例においては、光路Ｋに対して−Ｙ側の界面ＬＧに作用する液体ＬＱの運動量は、小さい。そのため、界面ＬＧにおける液体ＬＱの表面張力によって液浸空間ＬＳを維持することができる。
【００８６】
図５は、液浸部材３と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐが−Ｙ方向に高速で移動するときの液浸空間ＬＳの液体ＬＱの状態の一例を示す。図５において、基板Ｐが−Ｙ方向に高速で移動する場合、液浸空間ＬＳにおいて、図５中、矢印Ｆａ、Ｆｂ、Ｆｃ、Ｆｄ、Ｆｅで示すような液体ＬＱの流れが生成される。本実施形態においては、第２プレート部２２が配置されているので、液浸部材３と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが−Ｙ方向に高速で移動した場合でも、第１空間Ｓ１の液体ＬＱは、その移動する基板Ｐの影響をあまり受けない。第１空間Ｓ１における液体ＬＱの流速は、例えば開口２１Ｋから上面２２Ａに流れる液体ＬＱの流速に応じた値である。第１空間Ｓ１においては、矢印Ｆａで示すように、液体ＬＱは自由に流れることができる。
【００８７】
一方、第２空間Ｓ２の液体ＬＱは、移動する基板Ｐの影響を受ける。第２空間Ｓ２においては、液体ＬＱの粘性の作用等により、基板Ｐの移動に応じた液体ＬＱの流れが生成される。第２空間Ｓ２における液体ＬＱの流速は、基板Ｐの移動速度に応じた値である。第２空間Ｓ２においては、矢印Ｆｂで示すように、液体ＬＱは基板Ｐの移動速度に応じて高速で流れる。
【００８８】
本実施形態においては、ギャップＧ２は小さく、第２空間Ｓ２における液体ＬＱの体積（質量）は小さい。そのため、第２空間Ｓ２の液体ＬＱの運動量は、比較的小さい。
【００８９】
第１空間Ｓ１の液体ＬＱの少なくとも一部と第２空間Ｓ２の液体ＬＱの少なくとも一部とは、下面４０（回収口３２）と基板Ｐとの間の第５空間Ｓ５において合流する。第１空間Ｓ１から第５空間Ｓ５に流入する液体ＬＱの流速は低く、運動量は小さい。第２空間Ｓ２から第５空間Ｓ５に流入する液体ＬＱの流速は高いものの、質量が小さいため、運動量は小さい。第１空間Ｓ１からの液体ＬＱと第２空間Ｓ２からの液体ＬＱとが第５空間Ｓ５において合流することによって、第５空間Ｓ５においては、例えば矢印Ｆｃ、Ｆｄ、Ｆｅで示す液体ＬＱの流れが生成される。そのため、図５において光路Ｋに対して−Ｙ側の界面ＬＧに作用する液体ＬＱの運動量を小さくすることができる。したがって、界面ＬＧにおける液体ＬＱの表面張力によって液浸空間ＬＳを維持することができる。
【００９０】
また、第５空間Ｓ５において合流した第１空間Ｓ１及び第２空間Ｓ２からの液体ＬＱは、回収口３２から回収される。これにより、図５中、例えば矢印Ｆｄで示すような液体ＬＱの流れが生成される。したがって、界面ＬＧに作用する液体ＬＱの運動量をさらに小さくすることができる。
【００９１】
以上、液浸部材３との間に液浸空間ＬＳを形成する移動可能な物体が基板Ｐである場合を例にして説明した。上述のように、その物体は、例えば基板ステージ２（プレート部材Ｔ）でもよい。
【００９２】
以上説明したように、本実施形態によれば、第２プレート部２２を設けたので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐを高速で移動したり、長距離を移動させたりした場合でも、液体ＬＱの流出、残留等を抑制することができる。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生を抑制することができる。
【００９３】
すなわち、本実施形態においては、ほぼ静止している第１プレート部２１と移動する基板Ｐとの間に第２プレート部２２を配置して、移動する基板Ｐの影響をあまり受けない液体ＬＱが流れる第１空間Ｓ１と、移動する基板Ｐの影響を受ける液体ＬＱが流れる第２空間Ｓ２とに分けているので、界面ＬＧに作用する液体ＬＱの運動量を小さくすることができる。
【００９４】
本実施形態においては、ギャップＧ２は、ギャップＧ１よりも小さいため、移動する基板Ｐの影響を受ける第２空間Ｓ２の液体ＬＱの質量（体積）を小さくすることができる。そのため、界面ＬＧに作用する液体ＬＱの運動量を小さくすることができる。
【００９５】
また、本実施形態においては、回収口３２が、光路Ｋに対する放射方向に関して第２プレート部２２よりも外側に配置されているので、図５中、矢印Ｆｄで示したような液体ＬＱの流れ、すなわち、界面ＬＧに向かわずに回収口３２（上方）へ向かう液体ＬＱの流れを生成することができる。したがって、界面ＬＧに作用する液体ＬＱの運動量を小さくすることができる。
【００９６】
なお、回収口３２の一部が、光路Ｋに対する放射方向に関して、第２プレート部２２の外側エッジＥｄよりも内側に配置されていてもよい。すなわち、回収口３２の少なくとも一部が第２プレート部２２の外側エッジＥｄよりも外側に形成されていればよい。
【００９７】
また、本実施形態においては、第２プレート部２２の内側エッジＥｃが、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１プレート部２１よりも内側に配置されているので、第３空間Ｓ３の液体ＬＱの少なくとも一部は、開口２１Ｋを介して、上面２２Ａに流れることができる。これにより、投影領域ＰＲに配置される物体に作用する液体ＬＱの運動量を小さくすることができる。すなわち、第３空間Ｓ３の液体ＬＱが開口２１Ｋを介して投影領域ＰＲに配置される物体に直接的に流れる場合、例えば高い流速の液体ＬＱが物体に当たる可能性がある。その結果、物体に作用する液体ＬＱの運動量が大きくなる可能性がある。投影領域ＰＲに、例えば基板Ｐとプレート部材Ｔとの境界（ギャップ）が配置された場合、その境界に作用する液体ＬＱの運動量が大きくなると、その境界に液体ＬＱが浸入してしまう可能性が高くなる。本実施形態においては、第２プレート部２２の内側エッジＥｃが、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１プレート部２１よりも内側に配置されているので、物体に作用する液体ＬＱの運動量を小さくすることができる。
【００９８】
なお、本実施形態においては、第２プレート部２２の下面２２Ｂの外形が、第１プレート部２１の下面２１Ｂの外形とほぼ同じであることとしたが、異なってもよい。例えば、Ｙ軸方向に関する下面２１Ｂの寸法と、下面２２Ｂの寸法とが異なってもよい。また、Ｘ軸方向に関する下面２１Ｂの寸法と、下面２２Ｂの寸法とが異なってもよい。
【００９９】
例えば、図８に示す液浸部材３０１のように、第２プレート部２２１の下面２２１Ｂがほぼ矩形（ひし形）であり、その下面２２１Ｂの辺が、第１プレート部２１の下面２１Ｂの辺と交差するように配置されてもよい。
【０１００】
また、図９に示す液浸部材３０２ように、光路Ｋに対して第２プレート部２２２の下面２２２Ｂの＋Ｙ側及び−Ｙ側の辺が、曲線を含んでいてもよい。もちろん、光路Ｋに対して下面２２２Ｂの＋Ｘ側及び−Ｘ側の辺が、曲線を含んでもよい。
【０１０１】
なお、上述の実施形態においては、第２プレート部２２の上面２２Ａ及び下面２２Ｂが平坦であり、上面２２Ａと下面２２Ｂとが平行であることとしたが、例えば図１０に示す液浸部材３０３のように、第２プレート部２２３の上面２２３Ａの外縁領域ＡＥ１が、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって第１プレート部２１に近づいてもよい。換言すれば、外縁領域ＡＥ１が、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって上方（＋Ｚ方向）に傾斜していてもよい。図１０に示す例では、外縁領域ＡＥ１における上面２２３Ａは、曲面を含む。本実施形態において、上面２２３Ａの外縁領域ＡＥ１は、上面２２３Ａの外側エッジを含む輪帯状の領域を含む。光路Ｋに対する放射方向に関して、外縁領域ＡＥ１の寸法は、外縁領域ＡＥ１以外の領域の寸法よりも小さい。なお、外縁領域ＡＥ１以外の領域は、上面２２３Ａの内側エッジを含む内縁領域を含む。内縁領域は、上面２２３Ａの内側エッジを含む輪帯状の領域である。
【０１０２】
上面２２３Ａの外縁領域ＡＥ１が、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって第１プレート部２１（回収口３２）に近づくように傾斜している（曲げられている）ので、第５空間Ｓ５において、上方（回収口３２）に向かう液体ＬＱの流れを生成することができる。これにより、界面ＬＧに作用する液体ＬＱの運動量をより一層小さくすることができる。
【０１０３】
なお、第２プレート部２２３の下面２２３Ｂの外縁領域ＡＥ２が、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって上方に向かって傾斜していてもよいし、曲げられていてもよい。こうすることによっても、第５空間Ｓ５において、上方（回収口３２側）に向かう液体ＬＱの流れを生成することができる。
【０１０４】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の第１実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１０５】
図１１は、第２実施形態に係る液浸部材３０４の一例を示す模式図である。液浸部材３０４は、本体部２０及び第１プレート部２１と、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、第１プレート部２１の下面２１Ｂの少なくとも一部に対向する上面２２４Ａ及び基板Ｐが対向可能な下面２２４Ｂを有する第２プレート部２２４とを備えている。上述の第１実施形態と異なる第２実施形態の特徴的な部分は、第２プレート部２２４が駆動システム５０によって移動される点にある。
【０１０６】
本実施形態において、本体部２０及び第１プレート部２１と第２プレート部２２４とは、離れている。第２プレート部２２４は、駆動システム５０によって、第１プレート部２１の下面２１Ｂとほぼ平行に移動される。
【０１０７】
本実施形態においては、駆動システム５０は、基板Ｐの移動条件に応じて、第２プレート部２２４を移動する。本実施形態において、駆動システム５０は、基板Ｐが移動するときに、第２プレート部２２４を移動する。また、駆動システム５０は、基板Ｐの移動方向の逆方向に、第２プレート部２２４を移動する。図１１に示す例では、基板Ｐが−Ｙ方向に移動されている状態において、第２プレート部２２４は、＋Ｙ方向に移動される。また、駆動システム５０は、基板Ｐの移動速度よりも低い移動速度で第２プレート部２２４を移動する。例えば、第２プレート部２２４の移動速度は、基板Ｐの移動速度の１／２程度である。
【０１０８】
第２プレート部２２４は、射出面６から射出される露光光ＥＬを通過可能な開口２２４Ｋを有する。本実施形態において、開口２２４Ｋは、Ｙ軸方向に長い。これにより、基板ＰをＹ軸方向に移動しながらその基板Ｐに露光光ＥＬを照射する場合において、射出面６から射出される露光光ＥＬは、開口２２４Ｋを通過することができる。
【０１０９】
液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐの移動に応じて第２プレート部２２４が移動することにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに、図１１中、矢印Ｆｔで示すような速度分布を有する液体ＬＱの流れが生成される。第２プレート部２２４の上面２２４Ａが面する第１空間Ｓ１においては、＋Ｙ方向へ向かう液体ＬＱの流れが生成され、下面２２４Ｂが面する第２空間Ｓ２においては、−Ｙ方向へ向かう液体ＬＱの流れが生成される。これにより、例えば光路Ｋに対して＋Ｙ側の界面ＬＧの近傍において第１空間Ｓ１の液体ＬＱと第２空間Ｓ２の液体ＬＱとが合流することによって、その＋Ｙ側の界面ＬＧに作用する液体ＬＱの運動量を十分に小さくすることができる。光路Ｋに対して−Ｙ側の界面ＬＧについても同様である。
【０１１０】
なお、上述の各実施形態において、第１プレート部２１の下面２１Ｂに、第１プレート部２１と第２プレート部２２との間に液体ＬＱを供給する液体供給口があってもよい。また、第１プレート部２１の上面２１Ａが面する空間と下面２１Ｂが面する空間と連通するような貫通孔を第１プレート部２１に設けてもよい。
【０１１１】
また、上述の各実施形態において、液浸部材（３など）は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向の少なくとも一つの方向に移動可能であってもよい。
【０１１２】
また、上述の各実施形態において、第２プレート部２２が第１プレート部２１に対して、Ｚ軸方向、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向の少なくとも一つの方向に移動可能であってもよい。
【０１１３】
また、上述の各実施形態において、光路Ｋに対する放射方向に関して、回収口３２の外側に気体を供給する気体供給口を設けてもよい。この場合、供給された気体によって、液浸部材（３など）と対向する物体（基板Ｐなど）上に液体ＬＱが残留するのを抑制することができる。
【０１１４】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子７の射出側（像面側）の光路が液体ＬＱで満たされているが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号に開示されているように、終端光学素子７の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系ＰＬを採用することができる。
【０１１５】
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱとして水を用いているが、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱとしては、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）などの膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体を用いることも可能である。また、液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。
【０１１６】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【０１１７】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【０１１８】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０１１９】
また、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【０１２０】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。
【０１２１】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６８９７９６３号、米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載し、露光対象の基板を保持しない計測ステージとを備えた露光装置でもよい。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。この場合、液浸部材との間で液浸空間ＬＳを形成する移動可能な物体は、計測ステージを含む。
【０１２２】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１２３】
なお、上述の各実施形態においては、レーザ干渉計を含む干渉計システムを用いて各ステージの位置情報を計測するものとしたが、これに限らず、例えば各ステージに設けられるスケール（回折格子）を検出するエンコーダシステムを用いてもよい。
【０１２４】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。
【０１２５】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射することができる。
【０１２６】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１２７】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１２８】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１２に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０１２９】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０１３０】
２…基板ステージ、３…液浸部材、４…制御装置、６…射出面、２１…第１プレート部、２１Ａ…上面、２１Ｂ…下面、２１Ｋ…開口、２２…第２プレート部、２２Ａ…上面、２２Ｂ…下面、２２Ｋ…開口、２３…支持機構、２３Ｃ…連結部材、３１…供給口、３２…回収口、３３…多孔部材、３３Ｈ…孔、５０…駆動システム、ＡＥ１…外縁領域、Ｅａ…内側エッジ、Ｅｂ…外側エッジ、Ｅｃ…内側エッジ、Ｅｄ…外側エッジ、ＥＬ…露光光、Ｇ１…ギャップ、Ｇ２…ギャップ、Ｇ３…ギャップ、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＰＬ…投影光学系、Ｓ１…第１空間、Ｓ２…第２空間、Ｓ３…第３空間、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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