(57)【要約】  本発明は、透明基板と、散乱層と、第１の電極と、有機層と、第２の電極とを順次有する有機ＬＥＤ素子であって、前記散乱層は、第１のガラス材、及び前記第１のガラス材中に分散され、前記第１のガラス材と異なる屈折率を有する第２のガラス材を含む有機ＬＥＤ素子に関する。
2011046190.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、散乱層と、第１の電極と、有機層と、第２の電極とを順次有する有機ＬＥＤ素子であって、
前記散乱層は、第１のガラス材、及び前記第１のガラス材中に分散され、前記第１のガラス材と異なる屈折率を有する第２のガラス材を含む有機ＬＥＤ素子。
【請求項２】
前記散乱層は、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ系ガラスで構成され、
前記第２のガラス材は、酸化物基準のモル％表示で、前記第１のガラス材よりも、ＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、Ｂｉ２Ｏ３含有量が少ない請求項１に記載の有機ＬＥＤ素子。
【請求項３】
前記散乱層は、酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を０．１〜１４％、Ｂｉ２Ｏ３を１０〜２８％、Ｂ２Ｏ３を１５〜６３％、ＺｎＯを１４〜５０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で０〜６％含有するガラスで構成される請求項１又は２に記載の有機ＬＥＤ素子。
【請求項４】
前記第１の電極は、透明電極である請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＬＥＤ素子。
【請求項５】
少なくとも第１のガラスの粉末と第２のガラスの粉末とからなる、有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリットであって、
前記第１のガラスは、Ｈｅランプｄ線（波長：５８７．６ｎｍ）で２５℃で測定した屈折率が１．８０以上であり、
前記第２のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、前記第１のガラスよりも、ＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が少なく、
前記ガラスフリットに占める前記第１のガラスの粉末の割合が７０〜９９体積％である有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリット。
【請求項６】
前記第１のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ２Ｏ３を１５〜２８％、Ｂ２Ｏ３を１５〜６０％、ＺｎＯを２０〜５０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏを合計で０〜２％、ＴｉＯ２及びＷＯ３を合計で０〜１２％、ＺｒＯ２を０〜５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを合計で０〜１０％含有するガラスである請求項５に記載の有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリット。
【請求項７】
前記第２のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を１８〜４５％、Ｂ２Ｏ３を４０〜７０％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で９〜１８％、ＺｎＯを０〜１５％含有するガラスである請求項５または６に記載の有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリット。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか一項に記載の有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリットを用いて散乱層を形成することを含む、有機ＬＥＤ素子の散乱層の製造方法。
【請求項９】
透明基板と、散乱層と、第１の電極と、有機層と、第２の電極とを順次有する有機ＬＥＤ素子であって、
前記散乱層は、第１のガラス材、及び前記第１のガラス材中に分散され、前記第１のガラス材と異なる屈折率を有する第２のガラス材を含み、
前記散乱層は、酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１５〜６３％、Ｂｉ２Ｏ３を１０〜３７％、ＺｎＯを１０〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜１３％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で０〜２％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを合計で０〜１０％を含有するガラスである有機ＬＥＤ素子。
【請求項１０】
前記第１のガラス材は、酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１５〜６３％、Ｂｉ２Ｏ３を１５〜３７％、ＺｎＯを５〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜１５％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で０〜２％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを合計で０〜１０％を含有し、Ｐ２Ｏ５の含有量をＺｎＯの含有量で割った値が０．４８未満であり、Ｐ２Ｏ５とＢ２Ｏ３の含有量の合量が３０〜６０％であり、Ｐ２Ｏ５とＢ２Ｏ３の含有量の合量が５０％を超えるときはＰ２Ｏ５の含有量は１０％以下である請求項９に記載の有機ＬＥＤ素子。
【請求項１１】
前記第２のガラス材は、酸化物基準のモル％表示で、前記第１のガラス材よりも、ＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、Ｂｉ２Ｏ３含有量が少なく、Ｂ２Ｏ３を１５〜５５％、Ｂｉ２Ｏ３を１０〜２８％、ＺｎＯを１０〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜５％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で０〜２％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを合計で０〜１０％を含有する請求項９又は１０に記載の有機ＬＥＤ素子。
【請求項１２】
少なくとも第１のガラスの粉末と第２のガラスの粉末とからなる、有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリットであって、
前記第１のガラスは、Ｈｅランプｄ線（波長：５８７．６ｎｍ）で２５℃で測定した屈折率が１．８０以上であり、  
前記第２のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、前記第１のガラスよりも、ＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が少なく、
前記ガラスフリットに占める前記第１のガラスの粉末の割合が１５〜９９体積％である有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリット。
【請求項１３】
前記第１のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１５〜６３％、Ｂｉ２Ｏ３を１５〜３７％、ＺｎＯを５〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜１５％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で０〜２％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを合計で０〜１０％を含有し、Ｐ２Ｏ５の含有量をＺｎＯの含有量で割った値が０．４８未満であり、Ｐ２Ｏ５とＢ２Ｏ３の含有量の合量が３０〜６０％であり、Ｐ２Ｏ５とＢ２Ｏ３の含有量の合量が５０％を超えるときはＰ２Ｏ５の含有量は１０％以下であるガラスである請求項１２に記載の有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリット。
【請求項１４】
前記第２のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、前記第１のガラスよりも、ＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、Ｂｉ２Ｏ３含有量が少なく、Ｂ２Ｏ３を１５〜５５％、Ｂｉ２Ｏ３を１０〜２８％、ＺｎＯを１０〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜５％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で０〜２％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを合計で０〜１０％を含有する請求項１２又は１３に記載の有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリット。
【請求項１５】
請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリットを用いて散乱層を形成することを含む有機ＬＥＤ素子の散乱層の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＬＥＤ素子、有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリット及び有機ＬＥＤ素子の散乱層の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＬＥＤ素子は、有機発光層を有する。有機ＬＥＤ素子には、有機発光層により生成された光を透明基板から取り出すボトムエミッションタイプや両面エミッションタイプがある。【０００３】
有機ＬＥＤ素子の外部に取り出せる光の量は、発光光の２０％足らずになっているのが現状である。
そこで、有機ＬＥＤ素子内にガラス材料からなる散乱層を設け、光の取り出し効率を向上させることを記載した文献がある（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第０９／０１７０３５号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１では、散乱材として気泡を用いているので、散乱材の大きさや分布を一定に保つことが容易ではなく、大量生産を行った場合に、素子特性の再現性にばらつきが生じるという可能性がある。【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、発光効率が高く、素子特性の再現性が良い有機ＬＥＤ素子、その散乱層用のガラスフリットを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を解決するため、本発明の有機ＬＥＤ素子は、
透明基板と、散乱層と、第１の電極と、有機層と、第２の電極とを順次有する有機ＬＥＤ素子であって、
前記散乱層は、第１のガラス材、及び前記第１のガラス材中に分散され、前記第１のガラス材と異なる屈折率を有する第２のガラス材を含む。【０００８】
また、本発明の他の有機ＬＥＤ素子は、
透明基板と、散乱層と、第１の電極と、有機層と、第２の電極とを順次有する有機ＬＥＤ素子であって、
前記散乱層は、第１のガラス材、及び前記第１のガラス材中に分散され、前記第１のガラス材と異なる屈折率を有する第２のガラス材を含み、
前記散乱層は、酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１５〜６３％、Ｂｉ２Ｏ３を１０〜３７％、ＺｎＯを１０〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜１３％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で０〜２％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを合計で０〜１０％を含有するガラスである。【０００９】
また、本発明の有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリットは、
少なくとも第１のガラスの粉末と第２のガラスの粉末とからなる、有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリットであって、
前記第１のガラスは、Ｈｅランプｄ線（波長：５８７．６ｎｍ）で２５℃で測定した屈折率が１．８０以上であり、  
前記第２のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、前記第１のガラスよりも、ＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が少なく、
前記ガラスフリットに占める前記第１のガラスの粉末の割合が７０〜９９体積％である。【００１０】
さらに、本発明の有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリットは、
少なくとも第１のガラスの粉末と第２のガラスの粉末とからなる、有機ＬＥＤ素子の散乱層用のガラスフリットであって、
前記第１のガラスは、Ｈｅランプｄ線（波長：５８７．６ｎｍ）で２５℃で測定した屈折率が１．８０以上であり、  
前記第２のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、前記第１のガラスよりも、ＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が少なく、
前記ガラスフリットに占める前記第１のガラスの粉末の割合が１５〜９９体積％である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、発光効率が高く、素子特性の再現性が良い有機ＬＥＤ素子、その散乱層用のガラスフリットを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の有機ＬＥＤ素子の一例を示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の有機ＬＥＤ素子の別の例を示す断面図である。
【図３】図３は、本発明のガラスフリットに占めるベース材ガラスの割合と、そのガラスフリットを用いて作製した有機ＬＥＤ素子の光取り出し効率の関係の一例を示したグラフである。
【図４】図４は、実施例１１の散乱層付きガラス基板を用いた有機ＬＥＤ素子の一例の正面図である。
【図５】図５は、図４の有機ＬＥＤ素子の発光状態図である。
【図６】図６は、図４の有機ＬＥＤ素子に対する比較例の発光状態図である。
【図７】図７は、図４の有機ＬＥＤ素子に用いられるＩＴＯの屈折率、およびベース材６の屈折率の特性図である。
【図８】図８は、図４の有機ＬＥＤ素子およびその比較例の電流・電圧特性図である。
【図９】図９は、図４の有機ＬＥＤ素子およびその比較例の電流・光束特性図である。
【図１０】図１０は、発光の角度依存性の評価方法の説明図である。
【図１１】図１１は、図４の有機ＬＥＤ素子およびその比較例の発光輝度の特性図である。
【図１２】図１２は、図４の有機ＬＥＤ素子およびその比較例において角度θを０°から７０°まで変化させたときの色度変化を示す色度図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。尚、以下の実施形態は、一例として示されたものであって、本発明の目的を逸脱しない範囲で種々の変形をして実施することが可能である。
【００１４】
（有機ＬＥＤ素子）
図１は、本発明の有機ＬＥＤ素子の一例を示す断面図である。
【００１５】
図１に示す例では、有機ＬＥＤ素子は、ボトムエミッションタイプの有機ＬＥＤ素子であって、透明基板１１０と、散乱層１２０と、第１の電極１３０と、有機層１４０と、第２の電極１５０とを順次有する。第１の電極１３０は、透明電極（陽極）であり、有機層１４０から発光された光を散乱層１２０へ伝えるための透明性を有する。一方、第２の電極１５０は、反射電極（陰極）であり、有機層１４０から発光された光を反射して有機層１４０へ戻すための反射性を有する。
【００１６】
尚、図１に示す例では、第１の電極１３０を陽極とし、第２の電極１５０を陰極としたが、第１の電極１３０を陰極とし、第２の電極１５０を陽極としても良い。
【００１７】
図２は、本発明の有機ＬＥＤ素子の別の例を示す断面図である。尚、図２において、図１と同一構成については同一符号を付して説明を省略する。
【００１８】
図２に示す例では、有機ＬＥＤ素子は、両面エミッションタイプの有機ＬＥＤ素子であって、透明基板１１０と、散乱層１２０と、第１の電極１３０と、有機層１４０と、第２の電極２１０とを順次有する。この有機ＬＥＤ素子は、図１に示す第２の電極１５０である反射電極の代わりに、第２の電極２１０である透明電極を有する。第２の電極２１０は、有機層１４０から発光された光を有機層１４０に対向している面とは反対の面へ伝える役割を果たす。この有機ＬＥＤ素子は、表裏面の両面から光が発光する照明用途として用いられる。
【００１９】
以下、代表して、図１に示す有機ＬＥＤ素子の各構成について詳細に説明する。
【００２０】
（透明基板）
透明基板１１０は、可視光に対する透過率が高い材料で構成され、例えばガラスやプラスチックで構成される。透明基板１１０は、一般的にはソーダライムガラスで構成される。一般的なソーダライムガラスは、５０℃〜３００℃における平均線膨張係数（以下、単に「平均線膨張係数」ともいう）が８７×１０−７／℃程度であり、徐冷点が５５０℃程度である。このようなソーダライムガラスで構成された透明基板１１０は、５５０℃以上の温度で熱処理すると変形するおそれがあるので、散乱層１２０等を５５０℃よりも低い温度で形成することが好ましい。
【００２１】
透明基板１１０の厚さは、通常０．１ｍｍ〜２．０ｍｍである。透明基板１１０であるガラス基板が薄い場合には強度が不足するおそれがある。透明基板１１０であるガラス基板の厚さは、０．５ｍｍ〜１．０ｍｍであることが特に好ましい。
【００２２】
透明基板１１０上には、散乱層１２０が形成されている。透明基板１１０上の散乱層形成面は、シリカコーティング等の表面処理が施されたものであってもよい。即ち、透明基板１１０と散乱層１２０との間には、シリカ膜等が形成されていてもよい。
【００２３】
（散乱層）
散乱層１２０は、透明基板１１０と第１の電極１３０との間に設けられる。
【００２４】
散乱層１２０を介さずに、透明基板１１０上に第１の電極１３０を形成した場合、一般に、透明基板１１０は第１の電極１３０よりも屈折率が低いので、透明基板１１０に浅い角度で進入しようとした光は、スネルの法則により有機層１４０側に全反射される。全反射された光は、第２の電極１５０である反射電極で再び反射され、透明基板１１０に再び到達する。このとき、透明基板１１０への再入射角度が変わらなければ、有機ＬＥＤ素子の外部に光を取り出せなくなる。
【００２５】
尚、図２に示す例では、第２の電極２１０は透明性が要求されるので、第１の電極１３０と同様にＩＴＯ等で構成されるが、一般に透明な導電体は屈折率が高いため、透明電極に浅い角度で光が入射した場合には全反射によって光が反射される。したがって、図１に示す例の場合と同様の理由で、散乱層１２０を設けなければ光の取り出し効率が低下する。
【００２６】
これに対し、本実施形態では、散乱層１２０が透明基板１１０と第１の電極１３０との間に設けられているので、透明基板１１０への再入射角度を変えることができ、有機ＬＥＤ素子の光取り出し効率を高めることができる。
【００２７】
散乱層１２０は、図１に示すように、第１のガラス材１２１中に、第１のガラス材１２１と異なる屈折率を有する第２のガラス材１２２が分散されたものである。即ち、散乱層１２０内には、第１のガラス組成を有する部分と第２のガラス組成を有する部分が分布している。組成の異なる部分が分散していることにより、優れた散乱特性を有する。加えて、全体がガラスで構成されていることにより、表面の平滑性と透明性を再現性よく実現することができる。よって、本発明の散乱層１２０によれば、発光デバイスなどの光出射面側に用いることで極めて高効率の光取り出しを再現性よく実現することができる。なお、表面が平滑でなく局所的な凹凸がある場合、有機ＬＥＤの電極間短絡の原因となる。
【００２８】
なお、第２のガラス材１２２は、１種に限定されるものではなく、複数種であっても良いことは言うまでもない。即ち、散乱層１２０は、第１のガラス材１２１中に、第１のガラス材１２１と異なる屈折率を有する複数種のガラス材が分散されたものであってもよい。
【００２９】
第１のガラス材１２１（以下、「ベース材１２１」ともいう）の屈折率は、第１の電極１３０の屈折率と同等若しくは高いことが好ましい。ベース材１２１の屈折率が低い場合、散乱層１２０と第１の電極１３０との界面において、全反射による損失が生じてしまうために光取り出し効率が低下するからである。ベース材１２１の屈折率は、少なくとも有機層１４０の発光スペクトル範囲における一部分（例えば、赤、青、緑など）において上回っていれば良いが、発光スペクトル範囲全域（４３０ｎｍ〜６５０ｎｍ）に亘って上回っていることが好ましく、可視光の波長範囲全域（３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）に亘って上回っていることがより好ましい。なお、以下では特に断らない限り、「屈折率」とは、Ｈｅランプｄ線（波長：５８７．６ｎｍ）で２５℃で測定した屈折率を意味する。
【００３０】
尚、ベース材１２１の屈折率は、第１の電極１３０の屈折率との差が０．２以内であれば、第１の電極１３０の屈折率よりも低くてもよい。
【００３１】
第２のガラス材１２２（以下、「散乱材１２２」ともいう）とベース材１２１の屈折率の差は、少なくとも発光層の発光スペクトル範囲における一部分において０．２以上であることが好ましい。十分な散乱特性を得るために、屈折率の差は、発光スペクトル範囲全域（４３０ｎｍ〜６５０ｎｍ）若しくは可視光の波長範囲全域（３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）に亘って０．２以上であることがより好ましい。
【００３２】
散乱材１２２の屈折率はベース材１２１の屈折率よりも、少なくとも発光層の発光スペクトル範囲における一部分において、０．０５以上小さいことが好ましい。十分な散乱特性を得るために、発光スペクトル範囲全域（４３０ｎｍ〜６５０ｎｍ）若しくは可視光の波長範囲全域（３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）に亘って、散乱材１２２の屈折率はベース材１２１の屈折率よりも０．０５以上小さいことがより好ましい。散乱性を得るためには、ベース材１２１よりも屈折率の大きいガラスを散乱材１２２として用いることも可能であるが、ベース材１２１の屈折率が第１の電極１３０の屈折率と同等若しくは高いことが好ましいので、散乱材１２２として極めて屈折率の大きいガラスを用いることになる。そのようなガラスは一般に、高価な原料を用いなければ得ることが困難である。また、そのようなガラスは不安定となり、または、好ましくない着色が生じることがある。
【００３３】
散乱材１２２は、散乱層１２０に占める割合が１〜８５体積％であることが好ましい。１体積％未満であると、十分な散乱効果が得られず、光取り出し効率の向上効果も少ないからである。より好ましくは、２０体積％以上である。一方、８５体積％より多過ぎると、光取り出し効率が低下するおそれがある。より好ましくは、８０体積％以下である。さらに好ましくは３０体積％以下である。
【００３４】
ここで、散乱層１２０に占める散乱材１２２の割合とは、散乱層１２０中に複数種の散乱材が分散されている場合、全ての散乱材の割合の合計をいう。
【００３５】
散乱材１２２の形状は、特に制限されないが、散乱材１２２が球形である場合、その直径の平均値は０．１〜１０μｍであることが好ましい。０．１μｍより小さいと、光散乱材として十分に機能しない。一方、１０μｍより大きいと、散乱層１２０全体に均質に存在させることが困難になり、光取り出し効率のムラが発生する。また、相対的に散乱材１２２の数が少なくなる部分において、散乱性が低下する。散乱材１２２は、最大長さが１０μｍ以上のものの割合が１５体積％以下であることがより望ましい。さらに望ましくは１０体積％以下である。
【００３６】
散乱層１２０上には、第１の電極１３０が形成されている。散乱層１２０上の第１の電極形成面の表面粗さＲａは、３０ｎｍ以下であるのが好ましく、１０ｎｍ以下であるのがより好ましく、１ｎｍ以下であるのが特に好ましい。３０ｎｍを超えると、第１の電極１３０や有機層１４０の平坦性が損なわれ、第１の電極１３０と第２の電極１５０との間で短絡が発生するおそれがある。ここで、表面粗さＲａとは、微視的にみた表面粗さであり、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−２００１に規定されている輪郭曲線フィルタの長波長カットオフ値λｃを１０μｍとした値であって、例えば原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などで測定されるものである。
【００３７】
（第１の電極）
第１の電極（陽極）１３０は、有機層１４０で発生した光を外部に取り出すために、８０％以上の透光性が要求される。また、多くの正孔を注入するため、仕事関数が高いものが要求される。具体的には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＡＺＯ（ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３：アルミニウムがドーピングされた亜鉛酸化物）、ＧＺＯ（ＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３：ガリウムがドーピングされた亜鉛酸化物）、ＮｂドープＴｉＯ２、ＴａドープＴｉＯ２などの材料が用いられる。
【００３８】
第１の電極１３０の厚さは、１００ｎｍ〜１μｍであることが好ましい。１μｍ超では透明基板１１０が反ったり、透光性が低下する。一方、１００ｎｍ未満では、電気抵抗が高くなる。
【００３９】
第１の電極１３０の屈折率は、通常、１．９〜２．２である。第１の電極１３０であるＩＴＯの屈折率を低下させるため、ＩＴＯのキャリア濃度を増加させてもよい。具体的には、ＩＴＯのＳｎ濃度を増やすことで、ＩＴＯの屈折率を下げることができる。但し、Ｓｎ濃度を増やすと、移動度及び透過率が低下するので、これらのバランスをとって、Ｓｎ濃度を決める必要がある。
【００４０】
第１の電極１３０上には、有機層１４０が形成されている。
【００４１】
（有機層）
有機層１４０は、発光機能を有する層であり、例えば、正孔注入層と、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、電子注入層とにより構成される。
【００４２】
正孔注入層は、陽極からの正孔注入障壁を低くするために、イオン化ポテンシャルの差が小さいものが要求される。正孔注入層における電極界面からの電荷の注入効率の向上は、素子の駆動電圧を下げるとともに、電荷の注入効率を高める。高分子では、ポリスチレンスルフォン酸（ＰＳＳ）がドープされたポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）、低分子ではフタロシアニン系の銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）が広く用いられる。
【００４３】
正孔輸送層は、正孔注入層から注入された正孔を発光層に輸送する役割をする。適切なイオン化ポテンシャルと正孔移動度を有することが必要である。正孔輸送層は、具体的には、トリフェニルアミン誘導体、Ｎ，Ｎ'−ビス（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−１，１'−ビフェニル−４，４'−ジアミン（ＮＰＤ）、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス［Ｎ−フェニル−Ｎ−（２−ナフチル）−４'−アミノビフェニル−４−イル］−１，１'−ビフェニル−４，４'−ジアミン（ＮＰＴＥ）、１，１−ビス［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＨＴＭ２）及びＮ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス（３−メチルフェニル）−１，１'−ジフェニル−４，４'−ジアミン（ＴＰＤ）などが用いられる。正孔輸送層の厚さは、１０ｎｍ〜１５０ｎｍが好ましい。厚さは薄ければ薄いほど低電圧化できるが、電極間短絡の問題から１０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。
【００４４】
発光層は、注入された電子と正孔が再結合する場を提供し、かつ、発光効率の高い材料を用いる。詳細に説明すると、発光層に用いられる発光ホスト材料及び発光色素のドーピング材料は、陽極及び陰極から注入された正孔及び電子の再結合中心として機能する、また、発光層におけるホスト材料への発光色素のドーピングは、高い発光効率を得ると共に、発光波長を変換させる。これらは電荷注入のための適切なエネルギーレベルを有すること、化学的安定性や耐熱性に優れ、均質なアモルファス薄膜を形成することなどが求められる。また、発光色の種類や色純度が優れていることや発光効率の高いことが求められる。有機材料である発光材料には、低分子系と高分子系の材料がある。さらに、発光機構によって、蛍光材料、りん光材料に分類される。発光層は、具体的には、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）、ビス（８−ヒドロキシ）キナルジンアルミニウムフェノキサイド（Ａｌｑ′２ＯＰｈ）、ビス（８−ヒドロキシ）キナルジンアルミニウム−２，５−ジメチルフェノキサイド（ＢＡｌｑ）、モノ（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオナート）リチウム錯体（Ｌｉｑ）、モノ（８−キノリノラート）ナトリウム錯体（Ｎａｑ）、モノ（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオナート）リチウム錯体、モノ（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオナート）ナトリウム錯体及びビス（８−キノリノラート）カルシウム錯体（Ｃａｑ２）などのキノリン誘導体の金属錯体、テトラフェニルブタジエン、フェニルキナクドリン（ＱＤ）、アントラセン、ペリレン並びにコロネンなどの蛍光性物質が挙げられる。ホスト材料としては、キノリノラート錯体が好ましく、特に、８−キノリノール及びその誘導体を配位子としたアルミニウム錯体が好ましい。
【００４５】
電子輸送層は、電極から注入された電子を輸送するという役割をする。電子輸送層は、具体的には、キノリノールアルミニウム錯体（Ａｌｑ３）、オキサジアゾール誘導体（例えば、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）及び２−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−（４−ビフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）など）、トリアゾール誘導体、バソフェナントロリン誘導体、シロール誘導体などが用いられる。
【００４６】
電子注入層は、電子の注入効率を高めるものが要求される。電子注入層は、具体的には、陰極界面にリチウム（Ｌｉ）、セシウム（Ｃｓ）等のアルカリ金属をドープした層を設ける。
【００４７】
有機層１４０の屈折率は、通常、１．７〜１．８である。
【００４８】
有機層１４０上には、第２の電極１５０が形成されている。
【００４９】
（第２の電極）
第２の電極（陰極）１５０は、反射性が要求されるので、仕事関数の小さな金属またはその合金が用いられる。第２の電極１５０は、具体的には、アルカリ金属、アルカリ土類金属及び周期表第３族の金属などが挙げられる。このうち、安価で化学的安定性の良い材料であることから、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銀（Ａｇ）またはこれらの合金などが好ましく用いられる。また、Ａｌ、ＭｇＡｇの共蒸着膜、ＬｉＦまたはＬｉ２Ｏの薄膜蒸着膜の上にＡｌを蒸着した積層電極等が用いられる。また、高分子系では、カルシウム（Ｃａ）またはバリウム（Ｂａ）とアルミニウム（Ａｌ）の積層等が用いられる。
【００５０】
（散乱層のガラス）
散乱層１２０のガラスは、５５０℃以下の低温での熱処理によって軟化するガラスであることが好ましい。そのためには、散乱層１２０のガラスは、ガラス転移点が５００℃以下であることが好ましい。これにより、透明基板１１０であるソーダライムガラス基板の熱変形を抑制することができる。
【００５１】
また、散乱層１２０のガラスは、平均線膨張係数が６０〜１００×１０−７／℃であることが好ましく、６５〜９０×１０−７／℃であることがより好ましい。これにより、散乱層１２０と透明基板１１０であるソーダライムガラス基板との平均線膨張係数の差を小さくすることができ、加熱冷却時の反りや破損を抑制することができる。
【００５２】
更に、散乱層１２０のガラスは、屈折率が１．７５以上であることが好ましい。１．７５未満であると、散乱層１２０と第１の電極１３０との界面において、全反射による損失が大きく、光取り出し効率が低下しやすい。また、屈折率が２．２０以下であることが好ましい。２．２０超であると、散乱層１２０と透明基板１１０の間で、短波長領域において全反射が起こりやすく、光取り出し効率が低下するおそれがある。
【００５３】
そのようなガラスとしては、例えば、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ系ガラスやＢ２Ｏ３−Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ系ガラスが挙げられる。
【００５４】
散乱層１２０のガラスは、酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１５〜６３％、Ｂｉ２Ｏ３を１０〜３７％、ＺｎＯを６〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜１３％、アルカリ金属酸化物を合計で０〜２％、アルカリ土類金属酸化物を合計で０〜１０％を含有することが好ましい。
【００５５】
次に、このガラス組成について説明する。なお、以下において、％はモル％を意味する。
【００５６】
Ｂ２Ｏ３は、ガラスの安定性を高める必須成分である。Ｂ２Ｏ３含有量は、１５〜６３％が好ましい。１５％未満であると、効果が不十分である。一方、６３％超であると、耐水性が低下する。Ｂ２Ｏ３含有量は、１５〜５５％であることがより好ましい。
【００５７】
Ｂｉ２Ｏ３は、屈折率を高くするとともに、粘性を下げる必須成分である。Ｂｉ２Ｏ３含有量は、１０〜３７％が好ましく、１０〜２８％がより好ましい。１０％未満であると、屈折率が低くなり、光取り出し効率が低下するおそれがある。一方、３７％超であると、平均線膨張係数が大きくなりすぎるとともに、焼成工程で結晶化しやすい。
【００５８】
ＺｎＯは、ガラスを安定化させるとともに、屈折率を上げ、ガラス転移点と軟化点を低下させる必須成分である。ＺｎＯ含有量は、６〜５０％が好ましく、１４〜５０％がより好ましい。６％未満では、ガラス成形時に失透しやすく、屈折率が低下するおそれがある。またフリット化した後の焼成時に結晶化しやすくなる。焼成時に結晶が析出すると、散乱層１２０の光透過率が低下したり、散乱層１２０の表面平滑性が不十分になったりする。一方、５０％超では、平均線膨張係数が上がりすぎるとともに、ガラス成形時に失透しやすくなる。また耐酸性が低下する。第一の電極１３０をパターニングする際に、酸でエッチングする方法が一般的であるが、散乱層１２０の耐酸性が低下すると、散乱層１２０も侵食されて表面平滑性が失われるおそれがある。
【００５９】
ＳｉＯ２は、ガラスの安定性を高めるとともに、平均線膨張係数を小さくする任意成分である。ＳｉＯ２含有量は、０〜２０％が好ましく、０．１〜１４％がより好ましい。２０％超であると、屈折率が低下し過ぎるおそれがある。
【００６０】
Ａｌ２Ｏ３は、ガラスの安定性を高める任意成分である。Ａｌ２Ｏ３の含有量は、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、ガラス成形時に失透しやすくなるとともに、屈折率が低下し過ぎるおそれがある。
【００６１】
Ｐ２Ｏ５はガラスの骨格となる成分であり、耐酸性を向上させる任意成分である。Ｐ２Ｏ５含有量は、０〜２０％が好ましい。２０％超では、ガラス成形時に失透しやすく、フリット化した後の焼成時に結晶化しやすくなる。また、屈折率が低下する。
【００６２】
ＺｒＯ２は、ガラスの耐候性と耐酸性を高める任意成分である。ＺｒＯ２の含有量は、０〜５％が好ましい。５％超であると、結晶化しやすくなるとともに、ガラス転移点が高くなり過ぎるおそれがある。
【００６３】
Ｇｄ２Ｏ３は、平均線膨張係数を低く抑えながら屈折率を上げる任意成分である。Ｇｄ２Ｏ３の含有量は、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、ガラス転移点と軟化点が上がるおそれがある。
【００６４】
ＴｉＯ２は、屈折率を上げる任意成分である。ＴｉＯ２の含有量は、０〜１３％が好ましい。１３％超であると、結晶化し易く、ガラス転移点と軟化点が上がるおそれがある。
【００６５】
アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）は、いずれもガラスの粘性を下げる任意成分であって、単独で又は組み合わせて用いられる。アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）の含有量の合量は、６％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。２％超であると、平均線膨張係数が大きくなり、熱処理工程で透明基板１１０が変形しやすくなるとともに、アルカリの拡散による素子への悪影響が懸念される。アルカリ金属酸化物は実質的に含有しないことがより好ましい。
【００６６】
アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ）は、ガラスの粘性を下げる任意成分である。アルカリ土類金属酸化物の含有量の合量は、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、平均線膨張係数が大きくなり、屈折率が下がるおそれがある。アルカリ土類金属酸化物の含有量は７％以下であることがより好ましい。
【００６７】
尚、発光の色味を調整するために、微量の着色剤を含有していてもよい。着色剤としては、遷移金属酸化物、希土類金属酸化物、金属コロイドなどの公知のものが適宜用いられる。これらの着色剤は、単独であるいは組み合わせて用いられる。
【００６８】
この散乱層１２０のガラスは、組成分布を有しており、第１のガラス材１２１からなる第１相中に第２のガラス材１２２からなる第２相が分散されたガラスである。第２のガラス材１２２は、第１のガラス材１２１と異なる屈折率を有し、好ましくは、第１のガラス材１２１よりも低い屈折率を有する。第１のガラス材１２１よりも低い屈折率を有する第２のガラス材１２２としては、例えば、第１のガラス材１２１と比較して、酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、且つ、Ｂｉ２Ｏ３含有量が少ないガラスが挙げられる。
【００６９】
（ベース材ガラス）
ベース材ガラスは、１．８０以上の屈折率を有することが好ましい。ベース材ガラスの屈折率が１．８０よりも低い場合、散乱層１２０と第１の電極１３０との界面において、全反射による損失が生じやすく、光取り出し効率が低下しやすい。また、２．２０以下の屈折率を有することが好ましい。２．２０超であると、散乱層１２０と透明基板１１０の間で、短波長領域において全反射が起こりやすく、取出し光の色味が本来の発光色から変化しやすい。
【００７０】
また、ベース材ガラスは、結晶化し難いガラスが好ましい。結晶化しやすいと、散乱層１２０の光透過率が低下したり、散乱層１２０の表面平滑性が不十分になったりする。
【００７１】
また、ベース材ガラスは、平均線膨張係数が６０〜１００×１０−７／℃であることが好ましく、６５〜９０×１０−７／℃であることがより好ましい。これにより、透明基板１１０であるソーダライムガラス基板との平均線膨張係数の差を小さくすることができ、加熱冷却時の反りや破損を抑制することができる。
【００７２】
更に、ベース材ガラスは、５５０℃以下の低温での熱処理によって軟化するガラスであることが好ましい。そのためには、ベース材ガラスは、ガラス転移点が５００℃以下であることが好ましい。これにより、透明基板１１０であるソーダライムガラス基板の熱変形を抑制することができる。
【００７３】
これらの条件を満たすため、ベース材ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１５〜６３％、Ｂｉ２Ｏ３を１０〜３７％、ＺｎＯを５〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）を合計で０〜２％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ）を合計で０〜１０％を含有し、Ｐ２Ｏ５の含有量をＺｎＯの含有量で割った値が０．４８未満であり、Ｐ２Ｏ５とＢ２Ｏ３の含有量の合量が３０〜６０％であり、Ｐ２Ｏ５とＢ２Ｏ３の含有量の合量が５０％を超えるときはＰ２Ｏ５の含有量は１０％以下である。
【００７４】
次に、このガラス組成について説明する。なお、以下において、％はモル％を意味する。
【００７５】
Ｂ２Ｏ３含有量が１５％未満では、ガラス成形時に失透しやすく、フリット化した後の焼成時に結晶化しやすくなる。Ｂ２Ｏ３含有量が６３％超では、耐水性が低下する。Ｂ２Ｏ３含有量は、１５〜６０％であることが好ましく、１５〜５５％であることがより好ましい。
【００７６】
Ｂｉ２Ｏ３含有量が１０％未満では、散乱層１２０の屈折率が低くなり過ぎる。一方、Ｂｉ２Ｏ３含有量が３７％超では、平均線膨張係数が大きくなり過ぎるとともに、焼成工程で結晶化しやすい。Ｂｉ２Ｏ３含有量は１５〜２８％がより好ましい。
【００７７】
ＺｎＯ含有量が５％未満では、ガラス成形時に失透しやすくなるとともに、ガラス転移点が高くなり、フリット焼成膜の平滑性が得られなくなる。また、屈折率が低下し好ましくない。ＺｎＯ含有量が５０％超では、平均線膨張係数が大きくなるとともに、ガラス成形時に失透しやすくなる。耐候性が低下するおそれがある。ＺｎＯ含有量は２０〜５０％が好ましい。
【００７８】
ＳｉＯ２は、ガラスの安定性を高め、焼成工程での結晶化を抑制するとともに、平均線膨張係数を小さくする任意成分である。ＳｉＯ２含有量は、０〜２０％が好ましい。２０％超であると、屈折率が低下し過ぎるおそれがある。
【００７９】
Ａｌ２Ｏ３は、ガラスの安定性を高める任意成分である。Ａｌ２Ｏ３の含有量は、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、ガラス成形時に失透するおそれがある。
【００８０】
Ｐ２Ｏ５は、耐酸性を向上させるとともに、ガラスを安定化させる任意成分である。Ｐ２Ｏ５含有量は、０〜２０％が好ましい。２０％超では、ガラス成形時に失透しやすく、フリット化した後の焼成時に結晶化しやすくなる。また、屈折率が低下する。
【００８１】
ＺｒＯ２は任意成分であり、ＺｒＯ２の含有量は０〜５％が好ましい。５％超であると、結晶化しやすくなるとともに、ガラス転移点が高くなり過ぎるおそれがある。
【００８２】
Ｇｄ２Ｏ３は、平均線膨張係数を低く抑えながら屈折率を上げるとともに軟化点付近での結晶化を抑制する任意成分である。Ｇｄ２Ｏ３の含有量は、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、結晶化し易く、ガラス転移点と軟化点が上がるおそれがある。
【００８３】
ＴｉＯ２は、必須ではないが、屈折率を上げる成分であり、含有しても良い。ただし、過剰に含有すると、結晶化し易く、ガラス転移点と軟化点が上がるおそれがある。ＴｉＯ２の含有量は、０〜１５％が好ましい。なお、ＴｉＯ２の代わりに（または加えて）ＷＯ３を使用することも可能である。ＴｉＯ２とＷＯ３との含有量の合量は、０〜１２％であることが好ましい。
【００８４】
アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）は、いずれもガラスの粘性を下げる任意成分であって、単独で又は組み合わせて用いられる。アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）の含有量の合量は、２％以下が好ましい。２％超であると、平均線膨張係数が大きくなり、熱処理工程で透明基板が変形しやすくなるとともに、アルカリの拡散による素子への悪影響が懸念される。アルカリ金属酸化物は実質的に含有しないことがより好ましい。
【００８５】
アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ）は、ガラスの粘性を下げる任意成分である。アルカリ土類金属の含有量は合量で、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、平均線膨張係数が大きくなり、屈折率が下がるおそれがある。アルカリ土類金属の含有量は、０〜７％であることが、より好ましい。
【００８６】
Ｐ２Ｏ５の含有量をＺｎＯの含有量で割った値は、０．４８未満が好ましい。０．４８以上では失透し易くなり、結晶化し易くなるおそれがある。また、０．４８以上では屈折率が下がり、ガラス転移点と軟化点が上がるおそれがある。
【００８７】
Ｐ２Ｏ５とＢ２Ｏ３の含有量の合量は３０〜６０％が好ましい。３０％未満では失透し易くなり、結晶化し易くなり、安定性を損なうおそれがある。一方、６０％超では失透し易くなり、結晶化し易くなり、屈折率が下がるおそれがある。Ｐ２Ｏ５とＢ２Ｏ３の含有量の合量が５０％を超える場合、Ｐ２Ｏ５の含有量は１０％以下であることが好ましい。１０％超では失透し易くなり、結晶化し易くなる。
【００８８】
尚、発光の色味を調整するために、ベース材ガラスに微量の着色剤を添加してもよい。着色剤としては、遷移金属酸化物、希土類金属酸化物、金属コロイドなどの公知のものが用いられる。これらの着色剤は、単独であるいは組み合わせて用いられる。
【００８９】
このベース材ガラスは、酸化物、リン酸塩、メタリン酸塩、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等の原料を秤取し、混合した後、白金等の坩堝を用いて９００〜１４００℃の温度で溶解し、冷却することによって得ることができる。得られたベース材ガラスを乳鉢、ボールミル、ジェットミル等により粉砕し、必要に応じて分級することによってベース材ガラスの粉末が得られる。ベース材ガラスの粉末の表面を、界面活性剤やシランカップリング剤によって改質して用いても良い。
【００９０】
（散乱材ガラス）
散乱材ガラスは、上述の如く、ベース材ガラスよりも、少なくとも発光層の発光スペクトル範囲における一部分において０．０５以上低い屈折率を有するガラスであることが好ましい。十分な散乱特性を得るために、発光スペクトル範囲全域（４３０ｎｍ〜６５０ｎｍ）若しくは可視光の波長範囲全域（３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）に亘って、散乱材ガラスの屈折率はベース材ガラスの屈折率よりも０．０５以上低いことがより好ましい。
【００９１】
また、散乱材ガラスは、ベース材ガラスの焼成温度で軟化するガラスであることが好ましい。具体的には、散乱材ガラスのガラス転移点は、ベース材ガラスのガラス転移点を基準として、−５０℃から＋５０℃の範囲であることが好ましい。
【００９２】
そのような散乱材ガラスとしては、酸化物基準のモル％表示で、ベース材ガラスよりもＳｉＯ２またはＢ２Ｏ３の含有量が多く、Ｂｉ２Ｏ３含有量が少ないガラスが挙げられる。
【００９３】
具体的には、散乱材ガラスは、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）を合計で９％以上含むガラスとアルカリ金属酸化物を合計で２％までしか含まないガラスの２通りがある。
【００９４】
アルカリ金属酸化物を合計で９％以上含む散乱材ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を１８〜４５％、Ｂ２Ｏ３を４０〜７０％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを合計で９〜１８％、ＺｎＯを０〜１５％含有することが好ましい。
【００９５】
次に、このガラス組成について説明する。なお、以下において、％はモル％を意味する。
【００９６】
ＳｉＯ２含有量が１８％未満であると、ベース材ガラスとの反応性が高く、相互拡散しやすくなるおそれがある。また、散乱材ガラスの屈折率が大きくなり、散乱材としての機能が低下する。より好ましくは２５％以上である。さらに好ましくは３０％以上である。一方、ＳｉＯ２含有量が４５％超であると、ガラス転移点が高くなりすぎ、熱処理温度が５５０℃以下では平坦な表面が得られ難い。より好ましくは３６％以下である。
【００９７】
Ｂ２Ｏ３含有量が４０％未満の場合、ガラス転移点が高くなり過ぎる。一方、Ｂ２Ｏ３含有量が７０％超では、化学的耐久性の低下が顕著であるとともに、欠陥となる気泡が発生しやすくなる。
【００９８】
ここで、Ｂ２Ｏ３及びＳｉＯ２の含有量の合量は６７〜９１％であることが好ましい。より好ましくは７６〜８８％である。さらに好ましくは７９〜８４％である。焼成温度を低くしたい場合にはＢ２Ｏ３含有量が５２％以上であることがより好ましい。化学的耐久性を高くしたい場合にはＳｉＯ２含有量が３０％以上であることがより好ましい。
【００９９】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの含有量の合量が９％未満では、ガラス転移点が高くなり過ぎる。一方、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの含有量の合量が１８％超の場合、ベース材ガラスとの反応性が高く、アルカリ成分の拡散によるガラス基板の変形や、素子への悪影響が懸念される。
【０１００】
ＺｎＯはガラスの安定性を高める成分であるが、含有量が１５％超であると、ガラス転移点が高くなりすぎ、熱処理温度が５５０℃以下では平坦な表面が得られ難い。
【０１０１】
この散乱材ガラスは、ガラスの安定性を高めたり、屈折率や平均線膨張係数を調節するため、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを合計で１５％まで含有することができる。
【０１０２】
一方、アルカリ金属酸化物を合計で２％までしか含まない散乱材ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１５〜５５％、Ｂｉ２Ｏ３を１０〜２８％、ＺｎＯを１０〜５０％、ＳｉＯ２を０〜２０％、Ａｌ２Ｏ３を０〜１０％、Ｐ２Ｏ５を０〜２０％、ＺｒＯ２を０〜５％、Ｇｄ２Ｏ３を０〜１０％、ＴｉＯ２を０〜５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）を合計で０〜２％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ）を合計で０〜１０％を含有する。
【０１０３】
次に、このガラス組成について説明する。なお、以下において、％はモル％を意味する。
【０１０４】
Ｂ２Ｏ３含有量が１５％未満の場合、ガラス成形時に失透しやすい。一方、Ｂ２Ｏ３含有量が５５％超では、化学的耐久性の低下が顕著であるとともに、欠陥となる気泡が発生しやすくなる。
【０１０５】
Ｂｉ２Ｏ３は必須成分であり、Ｂｉ２Ｏ３の含有量は、１０〜２８％が好ましい。１０％未満であると、ガラス転移点と軟化点が上昇し、焼成温度で十分に軟化しないおそれがある。一方、２８％超であると、焼成工程で結晶化するおそれがあるとともに、屈折率が上がりすぎるおそれがある。
【０１０６】
ＺｎＯは必須成分であり、ＺｎＯの含有量は、１０〜５０％が好ましい。１０％未満であると、ガラス成形時に失透しやすくなるとともに、ガラス転移点が高くなるおそれがある。一方、５０％超であると、焼成時に結晶化しやすくなるおそれがある。
【０１０７】
ＳｉＯ２は、ガラスの安定性を高め、焼成工程での結晶化を抑制するとともに、平均線膨張係数を小さくする任意成分である。ＳｉＯ２の含有量は、０〜２０％が好ましい。２０％超であると、ガラス転移点が上がりすぎるおそれがある。
【０１０８】
Ａｌ２Ｏ３は、ガラスの安定性を高める任意成分である。Ａｌ２Ｏ３の含有量は、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、ガラス成形時に失透するおそれがある。
【０１０９】
Ｐ２Ｏ５は、ガラスの安定性を高めるとともに、屈折率を下げる任意成分である。Ｐ２Ｏ５の含有量は、０〜２０％が好ましい。２０％超であると、ガラス成形時に失透するか焼成工程で結晶化するおそれがある。また、ガラス転移点が上がりすぎるおそれがある。
【０１１０】
ＺｒＯ２は任意成分であり、ＺｒＯ２の含有量は０〜５％が好ましい。５％超であると、結晶化しやすくなるとともに、ガラス転移点が高くなり過ぎるおそれがある。
【０１１１】
Ｇｄ２Ｏ３は、任意成分である。Ｇｄ２Ｏ３の含有量は、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、結晶化し易く、ガラス転移点と軟化点が上がるおそれがあるとともに、屈折率が上がりすぎるおそれがある。
【０１１２】
ＴｉＯ２は任意成分であり、ＴｉＯ２の含有量は、０〜５％が好ましい。５％超であると、ガラス転移点が高くなり過ぎるおそれがあるとともに、屈折率が上がりすぎるおそれがある。
【０１１３】
アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）は、いずれもガラスの粘性を下げる任意成分であって、単独で又は組み合わせて用いられる。アルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏ）の含有量の合量は、２％以下が好ましい。２％超であると、平均線膨張係数が大きくなり、熱処理工程で透明基板が変形しやすくなるとともに、アルカリの拡散による素子への悪影響が懸念される。アルカリ金属酸化物は実質的に含有しないことがより好ましい。
【０１１４】
アルカリ土類金属酸化物は、ガラスの粘性を下げる任意成分である。アルカリ土類金属酸化物の含有量の合量は、０〜１０％が好ましい。１０％超であると、平均線膨張係数が大きくなり、熱処理工程で透明基板が変形しやすくなる。
【０１１５】
散乱材ガラスは、酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等の原料を秤取し、混合した後、白金等の坩堝を用いて９５０〜１５００℃の温度で溶解し、鋳型に鋳込むか双ロールの隙間に注いで急冷すること等によって得ることができる。得られた散乱材ガラスを乳鉢、ボールミル、ジェットミル等により粉砕し、必要に応じて分級することによって散乱材ガラスの粉末が得られる。散乱材ガラスの粉末の表面を、界面活性剤やシランカップリング剤によって改質して用いても良い。
【０１１６】
（散乱層の製造方法）
散乱層１２０は、屈折率の異なる２種類以上のガラス粉末を混合したガラスフリットを、ビヒクルと混合しガラスペーストとして、透明基板１１０上に塗布し、焼成することによって形成することができる。
【０１１７】
（１）ガラスフリット
ガラスフリットは、少なくとも、１．８０以上の屈折率を有する第１のガラス（以下、「ベース材ガラス」ともいう）の粉末、第１のガラスよりも低い屈折率を有する第２のガラス（以下、「散乱材ガラス」ともいう）の粉末からなることが好ましい。
【０１１８】
図３は、本発明のガラスフリットに占めるベース材ガラスの粉末の割合と、そのガラスフリットを用いて作製した有機ＬＥＤ素子の光取り出し効率の関係の一例を示したグラフである。
【０１１９】
ガラスフリットに占める散乱材ガラスの粉末の割合は、１〜８５体積％であることが好ましい。１体積％未満であると、十分な散乱効果が得られにくく、十分な光取り出し効率が得られない。より好ましくは２０体積％以上である。一方、８５体積％超であると、光取り出し効率が低下するおそれがある。より好ましくは８０体積％以下であり、さらに好ましくは３０体積％以下である。ここで、ガラスフリットに占める散乱材ガラスの粉末の割合とは、複数種の散乱材ガラスの粉末を用いる場合、全ての散乱材ガラスの粉末の割合の合計をいう。
【０１２０】
言い換えると、ガラスフリットに占めるベース材ガラスの粉末の割合は、１５〜９９体積％であることが好ましい。１５体積％未満であると、光取り出し効率が低下するおそれがある。より好ましくは２０体積％以上であり、さらに好ましくは７０体積％以上である。一方、９９体積％超であると、十分な光取り出し効率が得られない。より好ましくは８０体積％以下である。
【０１２１】
ガラスフリットの質量平均粒径は、０．１〜１０μｍであることが好ましい。０．１μｍ未満であると、ガラスフリットを後述のガラスペースト中に均一分散させることが難しくなるとともに、光散乱材として十分に機能しなくなる。一方、１０μｍ超であると、塗布焼成膜の表面平滑性が得られなくなる。
【０１２２】
ガラスフリットは、塗工性の観点から、ビヒクルや溶剤などと混練されたガラスペーストとして、基板に塗布されることが好ましい。
【０１２３】
（２）ガラスペースト
ガラスペーストは、ガラスフリットとビヒクルとを、プラネタリーミキサー等で混合し、均一に分散させて得られる。通常、ガラスフリットを７０〜８０質量％、ビヒクルを２０〜３０質量％の割合で混合する。
【０１２４】
ここで、ビヒクルとは、樹脂と溶剤を混合したものである。
【０１２５】
樹脂としては、エチルセルロース、ニトロセルロース、アクリル樹脂、酢酸ビニル、ブチラール樹脂、エポキシ樹脂などがあげられる。
【０１２６】
溶剤は、樹脂を溶解するためのものであり、通常、沸点が１９０℃から２８０℃程度の有機溶剤が用いられる。
【０１２７】
溶剤としては、例えば、２−（２−ｎ−ブトキシエトキシ）エタノール、酢酸２−（２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル、α−テルピネオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート等がある。これらの溶剤は、組み合わせて用いられることが多い。
【０１２８】
ガラスペーストは、ガラスフリットやビヒクルの他に、可塑剤、分散剤等を含有してもよい。
【０１２９】
（３）塗布
ガラスペーストを透明基板１１０上に塗布する方法としては、スクリーン印刷、ドクターブレード印刷、ダイコート印刷等が用いられる。また、ガラスペーストをＰＥＴフィルム等に塗布して乾燥してグリーンシートとし、グリーンシートを透明基板１１０上に熱圧着してもよい。
【０１３０】
スクリーン印刷を用いる場合、スクリーン版のメッシュ荒さ、乳剤の厚み、印刷時の押し圧、スキージ押し込み量などを調節することにより、塗布後のガラスペースト膜の膜厚を制御できる。
【０１３１】
ドクターブレード印刷、ダイコート印刷を用いる場合、スクリーン印刷を用いる場合と比較して、塗布後のガラスペースト膜の膜厚を厚くすることができる。
【０１３２】
尚、塗布、乾燥を繰り返し行うことで、ガラスペースト膜を厚くしてもよい。
【０１３３】
（４）焼成
透明基板１１０上に塗布されたガラスペーストを焼成する。焼成は、ガラスペースト中の樹脂を分解・消失させる脱バインダ処理と、該脱バインダ処理後のガラスペーストを焼結、軟化させる焼成処理とからなる。焼成温度（焼成処理温度）は、ベース材ガラスのガラス転移点より４０℃以上高い温度に設定される。焼成後、室温まで冷却することによって、ベース材ガラスからなる第１相中に、散乱材ガラスからなる第２相が分散した散乱層１２０が、透明基板１１０上に形成される。
【実施例】
【０１３４】
以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。【０１３５】
表１〜４に各実施例のべース材ガラスと散乱材ガラスについて、酸化物基準のモル％表示によるガラスの組成、屈折率（ｎｄ）、ガラス転移点（Ｔｇ）、５０℃〜３００℃における平均線膨張係数（α５０−３００）、ガラス軟化点（Ｔｓ）等を示す。【０１３６】
ベース材ガラス１〜４及び１１については、表中のモル％で示される組成となるように、Ｈ３ＢＯ３、ＺｎＯ、Ｂｉ２Ｏ３、Ｚｎ（ＰＯ３）２、ＢａＣＯ３の各粉末原料を合計で２００ｇとなるよう秤取し、混合した後、白金坩堝を用いて１０５０℃で１時間溶解し、続けて９５０℃で１時間溶解し、この融液の半量をカーボン鋳型に流しだしてバルク状のガラスを得、残りを双ロールの隙間に流しだして急冷しフレーク状のガラスを得た。また、バルク状ガラスは５００℃の電気炉に入れ、１時間あたり１００℃の速度で室温まで温度を下げることにより、歪みを取り除いた。【０１３７】
ベース材ガラス５〜１０及び１２については、表中のモル％で示される組成となるように、Ｈ３ＢＯ３、ＺｎＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｇｄ２Ｏ３、Ｚｎ（ＰＯ３）２の各粉末原料を合計で２００ｇとなるよう秤取し、混合した後、白金坩堝を用いて１２５０℃で１時間溶解し、続けて１１００℃で１時間溶解し、この融液の半量をカーボン鋳型に流しだしてバルク状のガラスを得、残りを双ロールの隙間に流しだして急冷しフレーク状のガラスを得た。また、バルク状ガラスは５００℃の電気炉に入れ、１時間あたり１００℃の速度で室温まで温度を下げることにより、歪みを取り除いた。【０１３８】
散乱材ガラス１〜６については、表中のモル％で示される組成となるように、Ｈ３ＢＯ３、ＺｎＯ、ＳｉＯ２、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３の各粉末原料を合計で１５０ｇとなるよう秤取し、混合した後、白金坩堝を用いて撹拌しながら１２５０℃で２時間溶解し、この融液の半量をカーボン鋳型に流しだしてバルク状のガラスを得、残りを双ロールの隙間に流しだして急冷しフレーク状のガラスを得た。また、バルク状ガラスは４５０℃の電気炉に入れ、１時間あたり１００℃の速度で室温まで温度を下げることにより、歪みを取り除いた。【０１３９】
散乱材ガラス１０及び１５については、表中のモル％で示される組成となるように、Ｈ３ＢＯ３、ＺｎＯ、Ｂｉ２Ｏ３、Ｚｎ（ＰＯ３）２の各粉末原料を合計で２００ｇとなるよう秤取し、混合した後、白金坩堝を用いて１０５０℃で１時間溶解し、続けて９５０℃で１時間溶解し、この融液の半量をカーボン鋳型に流しだしてバルク状のガラスを得、残りを双ロールの隙間に流しだして急冷しフレーク状のガラスを得た。また、バルク状ガラスは５００℃の電気炉に入れ、１時間あたり１００℃の速度で室温まで温度を下げることにより、歪みを取り除いた。【０１４０】
散乱材ガラス７〜９及び１１〜１４については、表中のモル％で示される組成となるように、Ｈ３ＢＯ３、ＺｎＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｚｎ（ＰＯ３）２、ＳｒＣＯ３の各粉末原料を合計で２００ｇとなるよう秤取し、混合した後、白金坩堝を用いて１２５０℃で１時間溶解し、続けて１１００℃で１時間溶解し、この融液の半量をカーボン鋳型に流しだしてバルク状のガラスを得、残りを双ロールの隙間に流しだして急冷しフレーク状のガラスを得た。また、バルク状ガラスは５００℃の電気炉に入れ、１時間あたり１００℃の速度で室温まで温度を下げることにより、歪みを取り除いた。【０１４１】
得られたガラスについて屈折率（ｎｄ）、ガラス転移点（Ｔｇ）、５０℃〜３００℃における平均線膨張係数（α５０−３００）、ガラス軟化点（Ｔｓ）を以下のようにして測定した。
１．屈折率（ｎｄ）
ガラスを研磨した後、カルニュー社製精密屈折計ＫＰＲ−２０００によって、Ｖブロック法で、測定波長５８７．６ｎｍで２５℃で測定した。
２．ガラス転移点（Ｔｇ）
ガラスを直径５ｍｍ長さ２００ｍｍの丸棒状に加工した後、ブルッカー・エイエックスエス社製熱膨張計ＴＤ５０００ＳＡによって、昇温速度を５℃／ｍｉｎにして測定した。
３．５０℃〜３００℃における平均線膨張係数（α５０−３００）
ガラスを直径５ｍｍ長さ２００ｍｍの丸棒状に加工した後、ブルッカー・エイエックスエス社製熱熱膨張計ＴＤ５０００ＳＡによって、昇温速度を５℃／ｍｉｎにして測定した。５０℃におけるガラス棒の長さをＬ５０とし、３００℃におけるガラス棒の長さをＬ３００としたとき、５０℃〜３００℃における平均線膨張係数（α５０−３００）は、α５０−３００＝｛（Ｌ３００／Ｌ５０）―１｝／（３００−５０）によって求められる。
４．ガラス軟化点（Ｔｓ）
ガラスをめのう乳鉢で粉砕した後、粒径７４μｍから１０６μｍまでのガラス粉末を篩い分け、この１２０ｍｇを白金パンに入れ、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製熱ＴＧ／ＤＴＡ  ＥＸＳＴＡＲ６０００によって昇温速度を１０℃／ｍｉｎにして測定し、ガラス転移点（Ｔｇ）よりも高温側に現れる軟化流動に伴うＤＴＡ曲線の屈曲点における温度をガラス軟化点（Ｔｓ）とした。【０１４２】
【表１】
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【０１４３】
【表２】
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【０１４４】
【表３】
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【０１４５】
【表４】
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次いで、表１〜４に示す組成の各ガラスが得られるように原料を秤量、混合し、溶融した後、その融液を双ロールの隙間に注いで急冷することによって各ガラスのフレークを作製した。作製した各フレークをアルミナ製のボールミルで１時間乾式粉砕して、各ガラスの粉末を得た。得られた各ガラスの粉末の質量平均粒径は、いずれも、３μｍであった。次いで、得られた各ガラスの粉末を表５〜８に示す体積百分率で配合して表９及び１０に示す組成の各ガラスフリットを作製した。【０１４６】
【表５】
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【０１４７】
【表６】
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【０１４８】
【表７】
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【０１４９】
【表８】
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【０１５０】
【表９】
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【０１５１】
【表１０】
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【０１５２】
各ガラスフリット７５ｇと、有機ビヒクル（α−テルピネオールにエチルセルロースを１０質量％溶解したもの）２５ｇとを混練して各ガラスペーストを作製した。この各ガラスペーストを、シリカ膜で表面コートされた大きさ２ｃｍ角、厚さ０．５５ｍｍのソーダライムガラス基板上に、焼成後の膜厚が３０μｍとなるよう均一に直径１ｃｍの円形サイズで中央に印刷した。これを１５０℃で３０分間乾燥した後、一旦室温に戻し、４５０℃まで３０分で昇温し、４５０℃で３０分間保持して、有機ビヒクルの樹脂を分解・消失させた。その後、表１１〜１４に示す焼成温度まで１２分で昇温し、表１１〜１４に示す焼成温度で３０分間保持して、各ガラスフリットを軟化させた。その後、室温まで３時間で降温し、ソーダライムガラス基板上に散乱層を形成した。【０１５３】
そして、各散乱層について、光学特性として、全光線透過率とヘイズを測定した。測定には、スガ試験機社製ヘイズコンピューター（ＨＺ−２）を用いた。【０１５４】
また、散乱層の表面状態をＳＥＭで観察した。散乱層の表面では、うねりはあるものの有機ＬＥＤの電極間短絡の原因となるような局所的な凹凸は見られなかった。【０１５５】
全光線透過率、ヘイズの測定、及び、表面平滑性の観察の結果を表１１〜１４に示す。表面平滑性においては、散乱材ガラスとベース材ガラスがともに平滑なものを○、散乱材ガラスがベース材ガラスの表面でうねりとなる凸形状になっているものを△とした。【０１５６】
【表１１】
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【０１５７】
【表１２】
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【０１５８】
【表１３】
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【０１５９】
【表１４】
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【０１６０】
表１１〜１４から明らかなように、実施例１〜２２における有機ＬＥＤ素子の散乱層は、高透過率でヘイズ値が大きく、すなわち、拡散透過率が大きいことがわかる。また、有機ＬＥＤ素子の散乱層は、散乱材の組成、大きさ、添加量の調整が容易であり、素子特性を均質的に向上することができ、信頼性を向上することができる。【０１６１】
以下に、光取り出し効率の向上の確認実験について説明する。【０１６２】
実施例１１の散乱層付ガラス基板を用意して、図４に示す有機ＥＬ素子を作製した。なお、図４では、対向基板の図示を省略してある。【０１６３】
実施例１１の散乱層付ガラス基板は、シリカ膜で表面コートされたガラス基板（旭硝子株式会社製ＰＤ２００）３１０上に、直径１ｃｍの円形パターンの散乱層３２０を印刷したものである。散乱層３２０は、ベース材として前述のベース材６を用い、散乱材として前述の散乱材７を用いている。【０１６４】
まず、透光性電極３３０としてＩＴＯをＤＣマグネトロンスパッタで１５０ｎｍ成膜した。スパッタの際にはマスクを用いて所望の形状にて成膜している。なお、ＩＴＯの屈折率と前述のベース材６の屈折率を併せて図７に示した。【０１６５】
ついで、純水およびＩＰＡを用いた超音波洗浄を行った後、エキシマＵＶ発生装置で紫外線を照射し、表面を清浄化した。【０１６６】
次に、真空蒸着装置を用いて、有機層３４０として、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ'−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−Ｎ，Ｎ'−ｂｉｓ（ｌ−ｎａｐｈｔｈｙｌ）−ｌ，ｌ'ｂｉｐｈｅｎｙｌ−４，４''ｄｉａｍｉｎｅ）を１００ｎｍ、Ａｌｑ３（ｔｒｉｓ８−ｈｙｄｒｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎｅ  ａｌｕｍｉｎｕｍ）を６０ｎｍ、ＬｉＦを０．５ｎｍ成膜し、反射電極３５０として、Ａｌを８０ｎｍ成膜した。このとき、α−ＮＰＤとＡｌｑ３はマスクを用いて直径１２ｍｍの円形パターン４００（図４参照）とし、ＬｉＦとＡｌは上記有機膜（α−ＮＰＤやＡｌｑ３）を介してＩＴＯパターン上に２ｍｍ□の領域５００（図４参照）を持つようなマスクを用いてパターンを形成し、素子基板を完成させた。【０１６７】
その後、別に用意したガラス基板（旭硝子株式会社製ＰＤ２００）にサンドブラスト処理を行うことで部分的に凹部を形成して対向基板を作製した。凹部周辺の土手には周辺シール用に感光性エポキシ樹脂を塗布した。【０１６８】
次に、窒素雰囲気にしたグローブボックス内に素子基板と対向基板を入れ、対向基板凹部にはＣａＯを含有した捕水材を貼り付けたあと、素子基板と対向基板とを貼り合わせ、紫外線を照射して周辺シール用の樹脂を硬化させて、有機ＥＬ素子３００を完成させた。【０１６９】
また、比較のため、上記散乱層３２０付きガラス基板３１０の代わりに、散乱層３２０のないガラス基板３１０を用いて同様に有機ＥＬ素子３００Ａ（図６参照）を作製した。【０１７０】
これらの素子３００、３００Ａが発光している様子を、図５および図６に示す。図５は、散乱層３２０のある素子３００の発光状態図であり、図６は、散乱層３２０のない素子３００Ａの発光状態図である。図５および図６において、ＩＴＯパターンなどを実線で示し、発光領域を点模様のパターンで示す。【０１７１】
散乱層３２０のある場合、図５に示すように、ＩＴＯパターンとＡｌパターンが交わって形成される概２ｍｍ□の領域５００だけでなく周辺領域（散乱層３２０に対応する領域）からも光が大気中に取り出されていることが分かった。【０１７２】
一方、散乱層３２０のない場合、図６に示すように、上記領域５００のみから発光が確認された。【０１７３】
その後、これらの素子３００、３００Ａの光学特性評価を行った。まず、全光束測定には、浜松ホトニクス社製ＥＬ特性測定機Ｃ９９２０−１２を用いた。散乱層３２０がある素子３００とない素子３００Ａでの電流・電圧特性を図８に示す。図８に示すように、散乱層３２０の有無に関わらず、ほぼ同程度の特性が得られており、散乱層３２０上に透光性電極３３０を形成した素子３００でも、大きなリーク電流が存在しないことが分かる。次に電流・光束特性を図９に示す。図９に示すように、散乱層３２０の有無に関わらず、光束量が電流に比例している。さらに、散乱層３２０がある場合にはない場合と比較して光束量が７１％アップしていることが確認できた。これは、図７に示すように、散乱層３２０のベース材の屈折率が、Ａｌｑ３の発光波長（４５０ｎｍから７００ｎｍ）において透光性電極であるＩＴＯの屈折率より高い為、Ａｌｑ３のＥＬ発光光が透光性電極３３０と散乱層３２０の界面で全反射するのを抑制し、効率よく光が大気中に取り出されていることを示している。【０１７４】
次に発光の角度依存性を評価した。測定には株式会社トプコンテクノハウス製の色彩輝度計（商品名：ＢＭ−７Ａ）６００を用い、輝度計６００に対して素子３００、３００Ａを回転させながら測定を行うことで、発光輝度の角度依存性の測定を行った。測定時には、素子に電流１ｍＡをかけ点灯させている。角度の定義は、素子３００、３００Ａの法線方向と素子３００、３００Ａから輝度計６００に向かう方向とのなす角を測定角度θ（単位：°）とした（図１０参照）。つまり、素子３００、３００Ａの正面に輝度計６００を設置した状態が０°となる。測定から得られた輝度データを図１１に示した。【０１７５】
図１１より、散乱層３２０がある場合のほうがない場合と比較してどの測定角度においても高い輝度を示していることが分かる。さらに、これらの輝度データを各立体角で積分することにより全光束を算出すると、散乱層３２０がある場合にはない場合と比較して光束量が７８％アップしていることが確認できた。これは前述の全光束測定装置での測定結果とほぼ同等であり、やはり散乱層３２０により素子の光束量が大きく向上していることを示している。【０１７６】
次に、図１２より、散乱層３２０なしの素子３００Ａでは測定角度θによって色度ｕ'、ｖ'が大きく変化しているのに対し、散乱層３２０ありの素子３００では変化が少なくなっていることが分かる。これらの結果より、素子に散乱層３２０を付与することによって、本来の目的である光取り出し効率の改善の効果以外にも、色の角度変化の緩和という更なる効果が得られることが分かった。色の角度変化が少ないということは、発光素子としては、見る角度が限定されないという大きな長所となる。【０１７７】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２００９年１０月１５日出願の日本特許出願２００９−２３８６７４及び２０１０年４月３０日出願の日本特許出願２０１０−１０５７１４に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１７８】
本発明によれば、発光効率が高く、素子特性の再現性が良い有機ＬＥＤ素子、その散乱層用のガラスフリットを提供することができる。
【符号の説明】
【０１７９】
１１０  透明基板
１２０  散乱層
１３０  第１の電極
１４０  有機層
１５０  第２の電極
２１０  第２の電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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