(57)【要約】  本発明の目的は、ハードコートフィルムの断裁加工時に剥離やクラックなどの発生が少なく、広幅でかつ均一で優れた表面硬度を有するハードコートフィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置を提供することにある。  本発明のハードコートフィルムは、セルロースアシレートフィルムにハードコート層が積層されたハードコートフィルムにおいて、該セルロースアシレートフィルムが、アシル基置換度が２．０以上２．５未満のセルロースアセテートと弾性体微粒子とを含有し、かつ該セルロースアシレートフィルムの２０℃から２００℃までのフィルム温度に対する、ｔａｎδ（損失弾性率／貯蔵弾性率）の最大値が０．８０以上２．００以下であることを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースアシレートフィルムにハードコート層が積層されたハードコートフィルムにおいて、該セルロースアシレートフィルムが、アシル基置換度が２．０以上２．５未満のセルロースアセテートと弾性体微粒子とを含有し、かつ該セルロースアシレートフィルムの２０℃から２００℃までのフィルム温度に対する、ｔａｎδ（損失弾性率／貯蔵弾性率）の最大値が０．８０以上２．００以下であることを特徴とするハードコートフィルム。
【請求項２】
前記弾性体微粒子が平均粒子径０．０１μｍ〜１．０μｍの架橋アクリル微粒子であることを特徴とする請求項１に記載のハードコートフィルム。
【請求項３】
前記セルロースアシレートフィルムが少なくとも糖エステル化合物、または下記一般式（Ｉ）で示される構造を有するエステル化合物を含有することを特徴とする請求項１または２に記載のハードコートフィルム。
Ｐ１−（Ｇ２−Ｔ１）ｎ−Ｇ３−Ｐ２  （Ｉ）
（式中、Ｐ１及びＰ２は、それぞれ独立してモノカルボン酸残基を表し、Ｇ２及びＧ３は、それぞれ独立して２個以上の炭素原子を有するグリコール残基を表し、Ｔ１はカルボン酸残基を表し、ｎは１以上の整数を表す。また、Ｇ２、Ｔ１は複数種類の残基を含んでいてもよい。）
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを偏光子の両面のうち少なくともいずれかの一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。
【請求項５】
請求項４に記載の偏光板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はハードコートフィルム、偏光板及び液晶表示装置に関し、より詳しくはハードコートフィルムの断裁加工時に剥離やクラックなどの発生が少なく、広幅でかつ均一で優れた表面硬度を有するハードコートフィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ノートパソコン、携帯電話等のフルカラー化あるいはディスプレイの高精細化等に伴って反射防止機能、帯電防止機能等の付与された高機能の光学フィルムが求められている。ディスプレイの表面は手で触れる機会も多く、傷が付かないことが求められており、ハードコート層を有するハードコートフィルムが設けられている。【０００３】
ハードコートフィルムは、ハードコート層の硬度などの高い物理強度を有するとともに、表示装置の大画面化の要求に付随してフィルム幅の広いものが求められている（特許文献１参照。）。【０００４】
一方、広幅のハードコートフィルムにおいては断裁加工時に、フィルムに剥離やクラックなどが発生してしまう場合があり、品質の低下や、歩留まり低下の問題がある。このような断裁加工時の剥離やクラックは、特に広幅にするために高い延伸率で延伸したフィルムで顕著化し、解決が難しいことがわかった。特許文献１の技術はイオン液体を含有させることにより、広幅のハードコートフィルムの筋状の塗布ムラや反射色のムラを改善するものであるが、高い延伸率で延伸したフィルムを用いたハードコートフィルムの断裁加工時の剥離やクラック防止については新たな技術が必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１９１５４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って本発明の目的は、ハードコートフィルムの断裁加工時に剥離やクラックなどの発生が少なく、広幅でかつ均一で優れた表面硬度を有するハードコートフィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。【０００８】
１．セルロースアシレートフィルムにハードコート層が積層されたハードコートフィルムにおいて、該セルロースアシレートフィルムが、アシル基置換度が２．０以上２．５未満のセルロースアセテートと弾性体微粒子とを含有し、かつ該セルロースアシレートフィルムの２０℃から２００℃までのフィルム温度に対する、ｔａｎδ（損失弾性率／貯蔵弾性率）の最大値が０．８０以上２．００以下であることを特徴とするハードコートフィルム。【０００９】
２．前記弾性体微粒子が平均粒子径０．０１μｍ〜１．０μｍの架橋アクリル微粒子であることを特徴とする前記１に記載のハードコートフィルム。【００１０】
３．前記セルロースアシレートフィルムが少なくとも糖エステル化合物、または下記一般式（Ｉ）で示される構造を有するエステル化合物を含有することを特徴とする前記１または２に記載のハードコートフィルム。【００１１】
Ｐ１−（Ｇ２−Ｔ１）ｎ−Ｇ３−Ｐ２  （Ｉ）
（式中、Ｐ１及びＰ２は、それぞれ独立してモノカルボン酸残基を表し、Ｇ２及びＧ３は、それぞれ独立して２個以上の炭素原子を有するグリコール残基を表し、Ｔ１はカルボン酸残基を表し、ｎは１以上の整数を表す。また、Ｇ２、Ｔ１は複数種類の残基を含んでいてもよい。）
４．前記１〜３のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを偏光子の両面のうち少なくともいずれかの一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。【００１２】
５．前記４に記載の偏光板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ハードコートフィルムの断裁加工時に剥離やクラックなどの発生が少なく、広幅でかつ均一で優れた表面硬度を有するハードコートフィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１５】
本発明者は上記課題に対して鋭意検討した結果、特に広幅でのハードコートフィルムにおける断裁加工時の剥離やクラックが、フィルムの延伸加工時の粘弾性に依存することをつきとめ、その改善手段として本発明に至った。本発明においてはさらに、本発明の構成を有するハードコートフィルムによって、広幅に必要な透明樹脂フィルムの延伸適性を向上させ、なおかつ均一で優れた表面硬度を有するハードコートフィルムを作製することができることも見出した。
【００１６】
即ち、請求項１では、セルロースアシレートフィルムにハードコート層が積層されたハードコートフィルムにおいて、該セルロースアシレートフィルムが、アシル基置換度が２．０以上２．５未満のセルロースアセテートと弾性体微粒子とを含有し、かつ該セルロースアシレートフィルムの２０℃から２００℃までのフィルム温度に対する、ｔａｎδ（損失弾性率／貯蔵弾性率）の最大値が０．８０以上２．００以下と従来よりも大きい範囲のｔａｎδを満たすことで断裁加工時の剥離やクラックを改善できるものである。
【００１７】
以下に作用機構を述べる。
【００１８】
ｔａｎδはフィルム延伸時の粘弾性に相関するパラメータである。本発明では、２０℃から２００℃までのフィルム温度に対する、ｔａｎδ（損失弾性率／貯蔵弾性率）の最大値を、０．８０以上２．００以下と従来よりも大きい値にすることにより、断裁加工時の剥離やクラックを改善するものである。このようなｔａｎδ（損失弾性率／貯蔵弾性率）の最大値は、特定のアシル基置換度のセルロースアセテートと弾性体微粒子を含有させることにより達成することが可能となったものである。上記弾性体微粒子の種類や量、さらに特定構造の可塑剤等の添加剤の種類や量を適宜組み合わせることにより、ｔａｎδの値をより調整しやすくできる。本発明者は鋭意検討した結果、ｔａｎδが０．８０以下であると延伸時の粘性が低く、延伸後のフィルムは硬脆くなってしまい、その結果、切断加工時に剥離やクラックを生じやすい。一方、ｔａｎδが２．００以上の場合は延伸時の粘性が高く、延伸の際にフィルムの弾性率や膜厚にムラが生じてしまう。その結果、ハードコートフィルムの硬度の均一性が損なわれてしまうことを見出し、従ってｔａｎδを制御することで本発明の効果が得られることを突き止めた。
【００１９】
請求項２では、弾性体微粒子が粒径０．０１μｍ〜１．０μｍの架橋アクリル微粒子であること、請求項３では、前記セルロースアシレートフィルムに糖エステル化合物、または一般式（Ｉ）で示される構造を有するエステル化合物を含有することを特徴とし、いずれも上記ｔａｎδを制御するものであり、これらの構成によって、加工時の剥離やクラックがより少なく、かつ延伸適性や硬度の優れたハードコートフィルムが作製できる。
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
＜ｔａｎδ＞
ｔａｎδとは、損失正接とも呼ばれ、ｔａｎδ＝Ｇ’／Ｇ”（Ｇ’：貯蔵弾性率、Ｇ”：損失弾性率）として定義される値である。貯蔵弾性率（Ｇ’）及び損失弾性率（Ｇ”）は、動的粘弾性測定装置ＤＶＡ−２２５（アイティー計測制御（株）製）で透明フィルムを測定することによって得られる。貯蔵弾性率（Ｇ’）および損失弾性率（Ｇ”）とは、試料に対し振動により正弦波形のひずみ（変形）を与えたときに生ずる複素弾性率の中の、ひずみと同位相でひずみのエネルギーが応力として貯蔵される実数成分、ひずみγより９０°位相が進んでおりひずみエネルギーが他のエネルギーに変換されるなどして損失を発生させる虚数成分を表している。なお、本発明におけるｔａｎδは測定周波数１Ｈｚでの値である。動的粘弾性の測定は、特に限定しないが、機械方向または機械方向に垂直な方向で行うことが好ましい。本発明において「機械方向」とは、例えば、後述のソルベントキャスト法によりフィルムを作製する場合においてはフィルムの流延方向と同じ方向を意味し、この場合、機械的方向はフィルムの長手方向に一致する。
【００２２】
ｔａｎδの最大値とは、ｔａｎδ−温度（℃）吸収曲線（温度範囲２０〜２００℃）における最も高いｔａｎδをいう。ｔａｎδのピーク値を０．８０以上２．００以下の範囲内とすることには、前記フィルム処方の調整手段により行うことができる。更にｔａｎδの最大値は０．９０以上１．９０以下であることが特に好ましい。
【００２３】
セルロースアシレートフィルムのｔａｎδの値が上記の範囲内にあるとき、剥離やクラックなどの発生が少なく、広幅でかつ均一で優れた表面硬度を有するハードコートフィルムを作製することができる。
【００２４】
ｔａｎδの測定の一例を示すと、試料をあらかじめ２３℃５５％ＲＨの雰囲気下２４時間調湿したものを使用し、湿度５５％ＲＨ、下記条件で昇温させながら、または温度設定して測定する。
【００２５】
測定装置：動的粘弾性測定装置ＤＶＡ−２２５（アイティー計測制御（株）製）
試料：幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍに設定）
測定条件：引張モード
測定温度：２０〜２００℃
昇温条件：５℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ
＜セルロースアシレートフィルム＞
本発明に係るハードコートフィルムに用いる基材フィルムは、アシル基置換度が２．０以上２．５未満のセルロースアセテートを含有したセルロースアシレートフィルムである。該アシル基置換度は、より好ましくは２．２〜２．４５である。
【００２６】
該セルロースアセテートは単独或いは異なった置換度を有するセルロースアセテートを混合して用いることができる。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することが出来る。
【００２７】
また、該セルロースアセテートの数平均分子量（Ｍｎ）は１２５０００以上、１５５０００未満、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２６５０００以上３１００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．９〜２．１であることが好ましい。
【００２８】
セルロースアセテートの数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下の通りである。
【００２９】
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）
Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００３０】
本発明に係るセルロースアセテートは公知の方法で合成することができる。
【００３１】
該セルロースアセテートの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることが出来る。またそれらから得られたセルロースアセテートはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。これらのセルロースアセテートは、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることが出来る。
【００３２】
アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ３ＣＯＣｌ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＣｌ、Ｃ３Ｈ７ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号に記載の方法等を参考にして合成することが出来る。
【００３３】
（弾性体微粒子）
本発明に係る弾性体微粒子とは、コアシェル構造を有する重合体微粒子で、ゴム状重合体微粒子（コア（芯）部）にメチルメタクリレート系などの硬質の外縁部に持つ微粒子であることが好ましい。特に、平均粒子径が０．０１μｍ〜１．０μｍの架橋アクリル微粒子であることが好ましい。該弾性体微粒子は、通常はシード乳化重合より形成する方法が知られている。製造方法は特開平７−７０２５５号公報、国際公開第２００５／０１２４２５号等に提案されているものを使用できる。
【００３４】
弾性体微粒子の芯部はゴム状重合体微粒子で、アルキルアクリレート系ゴムが好ましく、該アルキルアクリレート系モノマーとしては、アルキル基の炭素数が２〜８であるアルキルアクリレートまたは該アルキルアクリレート及びこれと共重合可能なモノマーが好適に用いられる。この場合、架橋性モノマー及び／またはグラフト化モノマーを用いることが望ましい。
【００３５】
該アルキル基の炭素数が２〜８であるアルキルアクリレートとしては、例えばエチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等を挙げることができる。ブチルアクリレートが好ましく用いられる。該アルキルアクリレートと共重合可能なモノマーとしては、例えばスチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル、芳香族ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル、シアン化ビニリデン、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート等が挙げられる。また、該架橋性モノマーとしては、例えばジビニルベンゼン等の芳香族ジビニルモノマー、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、オリゴエチレングリコールジアクリレート、オリゴエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等のアルカンポリオールポリアクリレートまたはアルカンポリオールポリメタクリレート等を挙げることができる。ブチレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレートが好ましく用いられる。
【００３６】
該グラフト化モノマーとしては、例えばアリルアクリレート、アリルメタクリレート、ジアリルマレエート、ジアリルフマレート、ジアリルイタコネート等の不飽和カルボン酸アリルエステル等を挙げることができる。アリルメタクリレートが好ましく用いられる。このような架橋性モノマー、グラフト化モノマーは、それぞれコアラテックスの全モノマー量の約０．０５〜２質量％、好ましくは約０．１〜１質量％の範囲で用いられる。得られるコア（芯）部ポリマーは、ガラス転移温度が好ましくは−３０℃以下のゴム状のポリマーである。ガラス転移温度が−３０℃を越えるときは延伸時のクレーズが改善できない場合がある。コアラテックスの質量比は、コアシェルポリマー全体に対し４０〜７０質量％の範囲にあることが望ましい。コアシェル部の比率が高い方が、クレーズ改良効果に優れ、コアシェル比率の低い方が、滑り性に優れる。
【００３７】
次いで行うメチルメタクリレート系ガラス状シェル部の重合は、コアラテックスの存在下、メチルメタクリレート系モノマーを乳化重合することにより行う。該メチルメタクリレート系モノマーとしては、メチルメタクリレートまたは、該メチルメタクリレート及びこれと共重合可能なモノマーが好適に用いられる。
【００３８】
該メチルメタクリレートと共重合可能なモノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル、芳香族ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル、シアン化ビニリデン等のビニル重合性モノマーを挙げることができる。エチルアクリレート、スチレン又はアクリロニトリルが好ましく用いられる。シェル部の重合においても、必要に応じて、上記モノマーに加えて、共重合モノマーとして、架橋性モノマーを少量用いてもよく、このようにして熱可塑性樹脂に一層高い耐衝撃性を付与し得るコアシェルポリマーを得ることができる場合がある。この場合、架橋性モノマーとしては、コアの形成のための重合において用いられたものと同じものを用いることができ、また、そのような架橋性モノマーは、通常、シェル部の重合に用いられる全モノマー量の０．０１〜２質量％、好ましくは０．１〜１質量％の範囲で用いられる。得られるシェル部ポリマーは、ガラス転移温度が好ましくは６０℃以上のガラス状ポリマーである。ガラス転移温度が６０℃に満たないときは、粒子同士の凝集が大きくなり、分散が悪化する場合がある。また、シェル部はエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレートなどのメタアクリル酸エステル系架橋剤などで架橋させた方が、耐溶剤性に優れるため好ましい。
【００３９】
微粒子がコアシェル構造になっていることの確認方法としては、コア微粒子の大きさと重合後の微粒子の大きさを比較し、大きくなっていることで確認できる。また、シェル部分に架橋構造を有する微粒子はコア微粒子と重合後の微粒子の耐溶剤性を比較し、耐溶剤性が付与されたことで確認できる。また微粒子を樹脂で包埋し、断層の切片を作製して電顕等で確認することもできる。この場合、観察しやすいように、シェル部分、またはコア部分に着色しても良い。
【００４０】
本発明に係る弾性体微粒子の平均粒子径は、０．０１〜１．０μｍの範囲であることが好ましく、平均粒子径が０．０１μｍより小さいと、十分な延伸適性を発揮できず、平均粒子径が１．０μｍより大きいと粒子による散乱でハードコートフィルムのヘイズが悪化し、コントラストを低下させるため、この範囲であることが本発明の効果を得る上で必要である。
【００４１】
平均粒子径は、例えば、微粒子を電子顕微鏡で観察し、１００個の任意の粒子の粒径から求められる。ここで、個々の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定した時の直径で表したものである。或いは微粒子を溶媒に希釈し、動的光散乱法式粒子径測定装置ゼータサイザー１０００ＨＳ（マルバーン社製）を用いて測定して求めることもできる。
【００４２】
弾性体微粒子の平均粒子径は、シード重合の回数を調整し粒子を成長させる方法、ソープフリー重合によって重合体を得る方法、乳化剤の量を制限する方法、乳化力の弱い乳化剤又は保護コロイド等を用いる方法、さらに水を主成分とする媒体中でシード粒子分散液を得るときの溶媒量を調整する方法等によって調整することが好ましい。
【００４３】
屈折率は、基材となる透明フィルムの屈折率と近い方がヘイズ上昇が少なく好ましい。セルロースエステルフィルムの屈折率は１．４７〜１．４９程度なので、弾性体微粒子の屈折率も１．４６から１．５０が好ましく、１．４７から１．４９が更に好ましい。
【００４４】
弾性体微粒子の弾性については、一般に知られている方法では微粒子状のため測定できないが、簡便法として下記に示す方法により熱機械測定装置を使用して、微粒子の乾式充填体の荷重に対する圧縮変位率を求め、微粒子の弾性を求めることができる。本発明でいう弾性体微粒子とは、圧縮変位率で０．５〜２０％、より好ましくは１〜１０％、最も好ましくは１〜２％である。
【００４５】
（圧縮変位率）
熱機械測定装置（商品名ＴＭＡ−１０、セイコー電子工業（株）製）を用い、面積２４ｍｍ２、高さ２ｍｍに充填した円柱状サンプルに、３０ｇの荷重をかけた時の高さの圧縮変位量（ｍｍ）を測定し、次式により圧縮変位率を求めた。
【００４６】
圧縮変位率（％）＝圧縮変位量（ｍｍ）÷２（ｍｍ）×１００
弾性体微粒子の分散は、一般的な分散機が使用できる。例えば、サンドミルまたは高圧ホモジナイザーが好ましく使用される。サンドミルは、０．３〜３ｍｍφのビーズとミルベースを入れ、ディスクを３００〜３０００ｒｐｍで回転させ、ビーズの遠心力を利用して、衝突と剪断を起こし分散するものである。使用されるビーズには、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、スチールビーズなどがあり、本発明では、コンタミの少ないジルコニアビーズやコンタミしても問題にならないガラスビーズが特に好ましい。また、サンドミルには、縦型、横型、アニュラー型などいろいろな形状のサンドミルがあり、本発明では、分散剪断力がより均一な横型やアニュラー型のサンドミルが特に好ましい。また、サンドミルは、ディスクやシャフト、分散容器内部が、ビーズによって削られ、コンタミとなる場合が多い。そのため、ディスクやシャフト、分散容器内部にセラミックコーティングやテフロン（登録商標）コーティングを施し、コンタミを最小限に抑えることが好ましい。
【００４７】
サンドミルの例としては、ダイノミル（Ｗ．Ａ．Ｂａｃｈｏｆｅｎ社）、ＮＥＷマイミル（三井鉱山（株））、ＳＣミル（三井鉱山（株））、ナノグレンミル（浅田鉄工（株））などがある。
【００４８】
高圧ホモジナイザーは、ミルベースを細管やオリフィスを高速通過させたり、ミルベース同士を衝突させたりすることで、剪断力や衝突の衝撃力によって分散するメディアレスの分散機である。１０〜３００ＭＰａの高圧でミルベース同士を衝突させたり、５０〜２０００μｍの細管やオリフィスを通過させる。
【００４９】
高圧ホモジナイザーの例としては、マイクロフルイダイザー（みずほ工業（株））、アルティマイザー（スギノマシン（株））、ナノマイザー（吉田機械工業（株））、クリアミックス、クリアミックスＷモーション（エムテクニック（株））などがある。
【００５０】
超音波分散機、ボールミル、高速ディスパー、アトライター、三本ロールミル、ヘンシェエルミキサー、ニーダー等の分散機も使用は可能である。
【００５１】
微粒子の添加方法は微粒子の分散液をセルロースアシレートフィルム形成組成物に直接添加する方法が、異物の発生が少ないことから好ましい。また、予め少量の樹脂を含む液中に添加してからセルロースアシレートフィルム形成組成物に添加することもできる。
【００５２】
弾性体微粒子の添加量は、上記セルロースアセテートに対して０．１〜５０質量％、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲である。
【００５３】
〈糖エステル化合物〉
本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１〜１２個結合した化合物中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物（糖エステル化合物）を含むことが好ましい。好ましい糖エステル化合物としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されない。
【００５４】
グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、セロビオース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースなどが挙げられ、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有するものが好ましい。例としてはスクロースが挙げられる。
【００５５】
本発明に用いられる糖エステル化合物を合成する際に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等が挙げられる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。
【００５６】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【００５７】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【００５８】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に１〜５個のアルキル基もしくはアルコキシ基等の置換基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができ、特に安息香酸が好ましい。
【００５９】
これらの化合物の製造方法の詳細は、特開昭６２−４２９９６号公報及び特開平１０−２３７０８４号公報に記載されている。
【００６０】
〈添加剤〉
本発明の効果を高める上で、前記一般式（Ｉ）で示した、分子両末端に芳香族モノカルボン酸残基を有し、かつ２〜５個の炭素原子を有するグリコール、及びテレフタル酸またはナフタレンジカルボン酸によって構成された繰り返し単位を有する化合物を添加剤として含有させることも好ましい。
【００６１】
前記一般式（Ｉ）中のＰ１及びＰ２は、それぞれ独立して芳香族モノカルボン酸残基であって、なかでも安息香酸残基であることがより好ましい。一般式（Ｉ）中のＰ１及びＰ２が前記残基であるエステル化合物を使用することによって、セルロースエステル樹脂に優れた耐透湿性及び高Ｒｔを付与でき、該エステル化合物とセルロースエステル樹脂との相溶性を更に向上することができる。
【００６２】
また、前記一般式（Ｉ）中のＧ２及びＧ３は、それぞれ独立して１，２−プロピレングリコール残基、２−メチルプロパンジオール残基、及びネオペンチルグリコール残基からなる群より選ばれる少なくとも１種からなるグリコール残基であることが好ましい。一般式（Ｉ）中のＧ２及びＧ３が前記残基であるエステル化合物を使用することによって、該エステル化合物とセルロースエステル樹脂との相溶性、及び得られるフィルムの耐透湿性を更に向上することができる。
【００６３】
また、前記一般式（Ｉ）中のｎは、１以上の整数であればよいが、１〜１５の範囲の整数であることが好ましい。
【００６４】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、４００〜１５００の範囲内の数平均分子量を有することが好ましく、４００〜１３００の数平均分子量を有することがより好ましく、４００〜１０００の数平均分子量を有することがさらに好ましい。なお、前記数平均分子量は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶離液として使用し、ポリスチレン換算によるゲル・パーミエイション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）により測定した値である。
【００６５】
また、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の酸価を有するものを使用することが好ましい。該化合物が上記範囲の酸価を有する場合、フィルムに優れた耐透湿性を付与し、かつ該改質剤自身の安定である。
【００６６】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えばグリコールとテレフタル酸またはナフタレンジカルボン酸とを反応して得られた分子両末端に水酸基を有するポリエステルと、芳香族モノカルボン酸とを反応することによって製造することができる。
【００６７】
前記グリコールとしては、例えばエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール等を単独で使用又は２種以上併用することができ、なかでも１，２−プロピレングリコール、２−メチル１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコールを使用することが好ましく、特に１，２−プロピレングリコールを使用することが高温多湿下における耐ブリード性に優れ、優れた耐透湿性を付与可能なセルロースエステル樹脂用改質剤を得る上で好ましい。
【００６８】
また、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の製造に使用可能なテレフタル酸またはナフタレンジカルボン酸としては、例えばテレフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸等や、これらのエステル化物、及び酸塩化物、１，８−ナフタレンジカルボン酸の酸無水物等を単独で使用又は２種以上併用することができ、なかでもテレフタル酸及びテレフタル酸ジメチルからなる群より選ばれる少なくとも１種を使用することが、セルロースアシレートフィルムに優れた耐透湿性を付与でき好ましい。
【００６９】
また、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の製造に使用可能な芳香族モノカルボン酸としては、例えば安息香酸、ジメチル安息香酸、トリメチル安息香酸、テトラメチル安息香酸、エチル安息香酸、プロピル安息香酸、ブチル安息香酸、クミン酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、エトキシ安息香酸、プロポキシ安息香酸、ナフトエ酸、ニコチン酸、フロ酸、アニス酸等や、これらのメチルエステル及び酸塩化物等を単独で使用又は２種以上併用することができ、なかでも安息香酸を使用することが、セルロースアシレートフィルムに優れた耐透湿性を付与でき好ましい。
【００７０】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、前記グリコールと、前記テレフタル酸及び／またはナフタレンジカルボン酸及び／またはそれらのエステル化物と、前記芳香族モノカルボン酸とを、必要に応じてエステル化触媒の存在下で、例えば１８０〜２５０℃の温度範囲内で、１０〜２５時間、周知慣用の方法でエステル化反応させることによって製造することができる。
【００７１】
また、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、上記セルロースアセテートに対して１〜４０質量％含むことが好ましく、５〜３５質量％含むことがより好ましく、５〜２０質量％含むことが最も好ましい。
【００７２】
〈その他の添加剤〉
セルロースアシレートフィルムには、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、他の可塑剤を併用することもできる。可塑剤としては、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、あるいはエポキシ系等が挙げられる。
【００７３】
また、セルロースアシレートフィルムは、紫外線吸収剤を含有することも好ましく、用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系またはサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。ここで、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
【００７４】
分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。
【００７５】
さらに、セルロースアシレートフィルムには、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、セルロースアシレートフィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。
【００７６】
セルロースアシレートフィルムには、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。
【００７７】
ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。
【００７８】
具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
【００７９】
また本発明において、セルロースアイレートフィルム中に本発明の効果を阻害しない範囲で従来の微粒子マット剤を含有することができる。微粒子のマット剤としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることができる。
【００８０】
セルロースアシレートフィルムは、「延性破壊が起こらないフィルム」であることが好ましい。ここで、延性破壊とは、ある材料が有する強度よりも、大きな応力が作用することで生じる破断のことであり、最終破断までに材料の著しい伸びや絞りを伴う破壊と定義される。その破面には、ディンプルと呼ばれる窪みが無数に形成される特徴がある。
【００８１】
「延性破壊が起こらないフィルム」であるか否かは、フィルムを２つに折り曲げるような大きな応力を作用させても破断等の破壊がみられないことにより評価するものとする。
【００８２】
液晶表示装置が大型化され、バックライト光源の輝度が益々高くなっていることに加え、デジタルサイネージ等の屋外用途への利用により、より高い輝度が求められていることから、セルロースアシレートフィルムはより高温の環境下での使用に耐えられることが求められており、セルロースアシレートフィルムは張力軟化点が、１０５℃〜１４５℃であれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき好ましく、特に１１０℃〜１３０℃に制御することが好ましい。
【００８３】
張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。
【００８４】
また、耐熱性の観点で、セルロースアシレートフィルムは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であることが好ましい。より好ましくは１２０℃以上である。特に好ましくは１５０℃以上である。
【００８５】
尚、ここでいうガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。
【００８６】
また、液晶表示装置の偏光板用保護フィルムとしてセルロースアシレートフィルムが用いられる場合は、吸湿による寸法変化によりムラや位相差値の変化が発生してしまい、コントラストの低下や色むらといった問題を発生させる。特に屋外で使用される液晶表示装置に用いられる偏光板保護フィルムであれば、上記の問題は顕著となる。このため、寸法変化率（％）は０．５％未満が好ましく、更に、０．３％未満であることが好ましい。
【００８７】
また、セルロースアシレートフィルムは、フィルム面内の直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。
【００８８】
ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。
【００８９】
欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認する。
【００９０】
なお、反射光で観察する場合に、欠点の大きさが不明瞭であれば、表面にアルミや白金を蒸着して観察する。
【００９１】
かかる欠点頻度にて表される品位に優れたフィルムを生産性よく得るには、ポリマー溶液を流延直前に高精度濾過することや、流延機周辺のクリーン度を高くすること、また、流延後の乾燥条件を段階的に設定し、効率よくかつ発泡を抑えて乾燥させることが有効である。
【００９２】
欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。
【００９３】
また、目視で確認できない場合でも、該フィルム上にハードコート層などを形成したときに、塗剤が均一に形成できず欠点（塗布抜け）となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）を言う。
【００９４】
また、セルロースアシレートフィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。
【００９５】
破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。
【００９６】
セルロースアシレートフィルムの厚みは、２０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは３０μｍ以上である。厚みの上限は特に限定される物ではないが、溶液流延製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルムの厚みは用途により適宜選定することができる。
【００９７】
セルロースアシレートフィルムは、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。
【００９８】
また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。
【００９９】
セルロースアシレートフィルムの屈折率は、１．３０〜１．７０であることが好ましく、１．４０〜１．６５であることがより好ましい。屈折率は、アタゴ社製  アッペ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ  Ｋ７１４２の方法で測定する。
【０１００】
〈セルロースアシレートフィルムの製膜〉
セルロースアシレートフィルムの製膜方法の例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１０１】
セルロースアシレートフィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。
【０１０２】
本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、溶液流延製膜法でも溶融流延製膜法でもどちらの製膜法を採用してもよい。それぞれの特徴として、セルロースアセテートを溶解に用いた溶媒の残留抑制の点からは、溶融流延製膜法で作製する方法が好ましい。また、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは、溶液流延製膜法が好ましい。
【０１０３】
また、本発明では、フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上またはエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延製膜法として含まれる。
【０１０４】
（有機溶媒）
セルロースアシレートフィルムを溶液流延製膜法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースアセテート、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることが出来る。
【０１０５】
例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。
【０１０６】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースアセテートの溶解を促進する役割もある。
【０１０７】
特に、メチレンクロライド、及び炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、セルロースアセテートと弾性体微粒子、及びその他の添加剤を、少なくとも計１５〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。
【０１０８】
炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることが出来る。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。
【０１０９】
（溶液流延法）
セルロースアシレートフィルムは、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂および添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
【０１１０】
ドープ中のセルロースアセテートの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースアセテートの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０１１１】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
【０１１２】
キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０１１３】
好ましい金属支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。
【０１１４】
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
【０１１５】
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０１１６】
特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度および乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０１１７】
セルロースアシレートフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。
【０１１８】
残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１１９】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０１２０】
また、セルロースアシレートフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０１２１】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１２２】
（延伸工程）
本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、広幅化する為に高倍率で延伸することが好ましい。
【０１２３】
延伸工程では、フィルムの長手方向（ＭＤ方向）、及び幅手方向（ＴＤ方向）に対して、逐次または同時に延伸することができる。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１００％〜２００％、ＴＤ方向に１１０％〜２００％の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１００％〜１５０％、ＴＤ方向に１２０％〜２００％の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、或いはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げてＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。
【０１２４】
製膜工程のこれらの幅保持或いは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０１２５】
テンター内などの製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍがさらに好ましい。１４０Ｎ／ｍ〜１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。
【０１２６】
延伸する際は、セルロースアシレートフィルムのガラス転移温度をＴｇとすると（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃、さらに好ましく（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃である。
【０１２７】
セルロースアシレートフィルムのＴｇは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。本発明の用途においてはフィルムの乾燥時のＴｇは１１０℃以上が好ましく、さらに１２０℃以上が好ましい。
【０１２８】
従ってガラス転移温度は１９０℃以下、より好ましくは１７０℃以下であることが好ましい。このとき、フィルムのＴｇはＪＩＳ  Ｋ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。
【０１２９】
延伸する際の温度は適宜決めることができるが、ガラス転移温度の関係上、１５０℃以上であることが好ましい。
【０１３０】
セルロースアシレートフィルムの幅は特に制限されるものではないが、本発明の目的からは１．５ｍ〜４ｍの範囲であることが好ましく、１．７ｍ〜３．５ｍの範囲であることがより好ましく、２ｍ〜３ｍの範囲であることが、大サイズの液晶表示装置の生産性の観点から特に好ましい。
【０１３１】
（溶融流延製膜法）
セルロースアシレートフィルムは、溶融流延製膜法によって製膜しても良い。溶融流延製膜法は、樹脂および可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースアセテートを含む溶融物を流延することをいう。
【０１３２】
加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度および表面精度などの点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。
【０１３３】
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースアセテートや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。
【０１３４】
添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。
【０１３５】
粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
【０１３６】
押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
【０１３７】
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
【０１３８】
上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップされ、冷却ロール上で固化させる。
【０１３９】
供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。
【０１４０】
押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
【０１４１】
可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。
【０１４２】
冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。
【０１４３】
弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、特許３１９４９０４号、特許３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。これらは市販されているものを用いることもできる。
【０１４４】
冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
【０１４５】
また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。
【０１４６】
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。
【０１４７】
巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
【０１４８】
＜ハードコートフィルム＞
本発明のハードコートフィルムは、アシル基置換度が２．０以上２．５未満のセルロースアセテートを含有したセルロースアシレートフィルムとハードコート層によって構成されており、該ハードコート層は活性線硬化樹脂を含有し、紫外線や電子線のような活性線（活性エネルギー線ともいう）照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層であることが好ましい。
【０１４９】
活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。
【０１５０】
活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。
【０１５１】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【０１５２】
紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
【０１５３】
多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。
【０１５４】
また、多官能アクリレートの粘度は、２５℃における粘度が３０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、１５００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましい。特に好ましくは、１０００ｍＰａ・ｓ以下である。このような低粘度樹脂としては、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどを挙げることが出来る。
【０１５５】
このような低粘度の樹脂を用いることで、乾燥工程において樹脂組成物の十分な流動性が得られるため、ハードコート層に突起形状が、形成しやすい。なお、上記粘度は、Ｅ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。
【０１５６】
また、本発明に係るハードコート層は単官能アクリレートを、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート：単官能アクリレート＝８０：２０〜９９：２で含有することで、より過酷な耐久試験においても本発明の目的効果をより発揮する観点から好ましい。
【０１５７】
単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。単官能アクリレートとしては、新中村化学工業株式会社や大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。
【０１５８】
また、ハードコート層には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００で含有することが好ましい。
【０１５９】
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等および、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１６０】
本発明に係るハードコート層は、無機微粒子を含有することも好ましく、無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。
【０１６１】
これら無機微粒子は、ハードコートフィルムの透明性を維持しつつ耐擦傷性が向上することから、表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆されたものが好ましい。表面の一部に反応性官能基を有する有機成分を被覆する方法としては、例えば、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に１個又は２個以上の無機微粒子を含有する態様などが挙げられる。
【０１６２】
また、有機微粒子を用いることもでき、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を添加することができる。
【０１６３】
好ましい微粒子は、架橋ポリスチレン粒子（例えば、綜研化学製ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、ポリメチルメタクリレート系粒子（例えば、綜研化学製ＭＸ１５０、ＭＸ３００）、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製：ＦＳ−７０１等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ−４０００、アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ−１２００、ＭＧ−２５１等が挙げられる。
【０１６４】
これらの微粒子粉末の平均粒子径は特に制限されないが、０．０１〜５μｍが好ましく、更には、０．０１〜１．０μｍであることが特に好ましい。また、粒径の異なる２種以上の微粒子を含有しても良い。微粒子の平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。
【０１６５】
紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、１０〜４００質量部となるように配合することが望ましく、更に望ましくは、５０〜２００質量部である。
【０１６６】
また本発明に係るハードコート層は、セルロースアシレートフィルムを膨潤または一部溶解をする溶剤で希釈したハードコート層塗布組成物を、以下の方法でフィルム基材上に塗布、乾燥、硬化して設けることがセルロースアシレートフィルムとハードコート層の密着性の観点から好ましい。セルロースアシレートフィルムを膨潤または一部溶解する溶剤としては、ケトンおよび／または酢酸エステルを含む溶剤が好ましい。また、塗布量はウェット膜厚として０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．１〜３０μｍ、好ましくは１〜２０μｍ、特に好ましくは６〜１５μｍである。
【０１６７】
ハードコート層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の塗布方法を用いて、ハードコート層を形成するハードコート塗布組成物をフィルム基材上に塗布し、塗布後、乾燥し、ＵＶ硬化処理、更に必要に応じて、ＵＶ硬化後に加熱処理することで形成できる。
【０１６８】
乾燥は、減率乾燥区間の温度を７０℃以上の高温処理を行うことが好ましく、８０℃以上がさらに好ましく、９０℃以上が特に好ましい。
【０１６９】
ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【０１７０】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０１７１】
また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。
【０１７２】
ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含んでも良く、好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。またハードコート層には、塗布性の観点、及び微粒子の均一な分散性の観点から、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤或いはポリオキシエーテル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフトポリマーを含有しても良い。フッ素−シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。またこれら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。
【０１７３】
ハードコート層は１層でも複数の層でもよい。ハードコート層のハードコート性、ヘイズ、算術表面粗さＲａを制御し易くする為に、２層以上に分割して設けても良い。
【０１７４】
２層以上設ける場合の最上層の膜厚は、０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましい。２層以上の積層は同時重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ  ｏｎ  ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成することである。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ  ｏｎ  ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。
【０１７５】
本発明のハードコートフィルムは、硬度の指標で有る鉛筆硬度が、Ｈ以上であり、より好ましくは３Ｈ以上である。３Ｈ以上であれば、液晶表示装置の偏光板化工程で、傷が付きにくいばかりではなく、屋外用途で用いられることが多い、大型の液晶表示装置や、デジタルサイネージ用液晶表示装置の表面保護フィルムとして用いた際も優れた膜強度を示す。鉛筆硬度は、作製したハードコートフィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
【０１７６】
本発明のハードコートフィルムのヘイズ値は、クリア性から０．７％以下が好ましい。ヘイズ測定はＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００；日本電色工業株式会社製）を用いて測定することができる。
【０１７７】
＜機能性層＞
本発明のハードコートフィルムには、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を設けることができる。
【０１７８】
〈バックコート層〉
本発明のハードコートフィルムは、セルロースアシレートフィルムのハードコート層を設けた側と反対側の面に、カールやくっつき防止の為にバックコート層を設けてもよい。
【０１７９】
バックコート層に添加される粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。
【０１８０】
バックコート層に含まれる粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％が好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１．５％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。
【０１８１】
バインダーとしては、ジアセチルセルロース等のセルロースアシレート樹脂が好ましい。
【０１８２】
〈反射防止層〉
本発明のハードコートフィルムは、ハードコート層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。
【０１８３】
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。
【０１８４】
反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成があるが、これに限定されるものではない。
【０１８５】
セルロースアシレートフィルム／ハードコート層／低屈折率層
セルロースアシレートフィルム／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
セルロースアシレートフィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
セルロースアシレートフィルム／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
セルロースアシレートフィルム／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層
反射防止フィルムには必須である低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、支持体であるセルロースアシレートフィルムの屈折率より低く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。
【０１８６】
低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。
【０１８７】
低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。
【０１８８】
なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。
【０１８９】
一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）４
前記一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
【０１９０】
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。
【０１９１】
＜偏光板＞
本発明のハードコートフィルムを用いた本発明の偏光板について述べる。偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明のハードコートフィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理したハードコートフィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
【０１９２】
もう一方の面に本発明のハードコートフィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明のハードコートフィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムとしては、セルローストリアセテートフィルムや、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースアシレート樹脂を含有し、該熱可塑性アクリル樹脂と該セルロースアシレート樹脂の含有質量比が、９５：５〜５０：５０であるフィルムを用いることなどが好ましい。例えば、特開２００３−１２８５９号記載のリターデーションＲｏが５９０ｎｍで０〜５ｎｍ、Ｒｔが−２０〜＋２０ｎｍの無配向フィルムが一例として挙げられる。
【０１９３】
また、他に面内リターデーションＲｏが５９０ｎｍで、２０〜７０ｎｍ、Ｒｔが７０〜４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）を用いて、視野角拡大可能な偏光板とすることもできる。これらは例えば、特開２００２−７１９５７号の方法で作製することができる。または、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。
【０１９４】
また、好ましく用いられる市販の偏光板保護フィルムとしては、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）等が挙げられる。
【０１９５】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。
【０１９６】
偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍの偏光膜が好ましく用いられる。
【０１９７】
該偏光膜の面上に、本発明のハードコートフィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０１９８】
＜粘着層＞
液晶セルの基板と貼り合わせるために保護フィルムの片面に用いられる粘着剤層は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。
【０１９９】
具体的な粘着層としては、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘着剤等のポリマーを用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化せしめることができる。なかでも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れていて好ましく用いることができる。
【０２００】
＜液晶表示装置＞
本発明のハードコートフィルムを用いて作製した本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。
【０２０１】
本発明のハードコートフィルムは偏光板に組み込まれ、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置またはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置で好ましく用いられる。
【実施例】
【０２０２】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０２０３】
実施例１
最初に実施例で使用する弾性体微粒子の調製法を示す。【０２０４】
（弾性体微粒子Ａの製造方法）
１０リットルの還流冷却器付き重合容器内に脱イオン水１５００質量部、エマルゲン９５０（花王（株）製）の１０％水溶液７５質量部を仕込み、窒素気流下で撹拌しながら７０℃に昇温した。ここにエチルアクリレート７５質量部を加え、１０分間分散した後、２，２′−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩（和光純薬（株）製Ｖ−５０）の１０％水溶液６質量部を添加し、１時間撹拌して、シードラテックスを調製した。【０２０５】
このシードラテックスを７５℃に昇温、２，２′−アゾビス（２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン）（和光純薬（株）製ＶＡ−０６１）を１．３８質量部加え、更に下記のコア形成のモノマー乳化液を２００分かけて連続フィードし、シード重合を行った。【０２０６】
（コア形成のモノマー乳化液）
２−エチルヘキシルアクリレート                      ９２３質量部
ブチルアクリレート                                  ２４７質量部
アクリルメタクリレート                              ２．５質量部
１，４−ブチレングリコールジアクリレート            ２．５質量部
エマルゲン９５０（花王（株）製）の１０％水溶液      ７５０質量部
脱イオン水                                        ３７５０質量部
モノマー乳化液フィード後、９０℃に昇温し、１時間熟成し、コアの形成を行った。コアの質量平均粒子径は０．１０μｍであった。【０２０７】
これを７０℃に冷却し、２，２′−アゾビス（２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン）（和光純薬（株）製ＶＡ−０６１）１．２５質量部を添加し、下記のモノマー乳化液を４０分かけて連続フィードし、シェル形成のためのシード重合を行った。【０２０８】
メチルメタクリレート                                ８０５質量部
エチルアクリレート                                    ９５質量部
スチレン                                              ４８質量部
メタクリルアミド                                    ６．３質量部
ジエチレングリコールジメタクリレート                ４７６質量部
エマルゲン９８５（花王（株）製）の１０％水溶液      １９０質量部
脱イオン水                                          ３８１質量部
モノマー乳化液フィード後７５℃に昇温し、１時間熟成し、シェルの形成を行った。【０２０９】
これを冷却し濾過して、−３０℃で凍結、遠心機で脱水洗浄し、６０℃で送風乾燥してコアシェルタイプの弾性体微粒子Ａを得た。【０２１０】
微粒子の質量平均粒子径は、微粒子をエタノールを用いて質量で５０倍に希釈し、動的光散乱法式粒子径測定装置ゼータサイザー１０００ＨＳ（マルバーン社製）を用いて測定して求めた。【０２１１】
（弾性体微粒子Ｂの製造方法）
弾性体微粒子Ａのコア形成のモノマー乳化液の熟成時間を１０分とし、シェル形成のシード重合の乳化液量を１／２の質量部にして、かつ連続フィードの時間を１０分にした以外は同様にして、弾性体微粒子Ｂを得た。【０２１２】
（弾性体微粒子Ｃの製造方法）
弾性体微粒子Ａのシェル形成のシード重合の乳化液量を２／３の質量部にして、かつ連続フィードの時間を２７分にした以外は同様にして、弾性体微粒子Ｃを得た。【０２１３】
（弾性体微粒子Ｄの製造方法）
弾性体微粒子Ａのコア形成のモノマー乳化液の２−エチルヘキシルアクリレート９２３質量部を２１０質量部に変更し、ブチルアクリレート２４７質量部を９８５質量部に変更した以外は同様にして弾性体微粒子Ｄを得た。【０２１４】
（弾性体微粒子Ｅの製造方法）
弾性体微粒子Ｄのモノマー乳化液フィード後８０℃に昇温し、熟成時間を９０分にした以外は同様にして弾性体微粒子Ｅを得た。【０２１５】
（弾性体微粒子Ｆの製造方法）
弾性体微粒子Ｄのモノマー乳化液フィード後８５℃に昇温し、熟成時間を１２０分にした以外は同様にして弾性体微粒子Ｆを得た。【０２１６】
（比較微粒子Ｇ）
更に、比較として市販のシリカ微粒子（Ｒ９７２Ｖ（日本エアロジル製））を用いた。【０２１７】
（比較微粒子Ｈ）
更に、比較として市販のシリカ微粒子（シーホスターＫＥ−Ｐ１０  日本触媒（株）製）を用いた。【０２１８】
（比較微粒子Ｉ）
更に、比較として市販のシリカ微粒子（シーホスターＫＥ−Ｐ３０  日本触媒（株）製）を用いた。【０２１９】
以上の微粒子の質量平均粒子径、圧縮変位率、屈折率を表１に示した。【０２２０】
【表１】
2011083690.tif 000002
【０２２１】
〔ハードコートフィルム１の作製〕
〈セルロースアシレートフィルム１の作製〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクにジアセチルセルロース（アシル基置換度２．０）を添加し、加熱して完全に溶解させた後、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。【０２２２】
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクに上記セルロースエステルを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。【０２２３】
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド                                  ３８０質量部
エタノール                                            ７０質量部
ジアセチルセルロース（アシル基置換度２．０）        １００質量部
１０％アセトン分散弾性体微粒子Ａ                        ５質量部
添加剤Ａ                                                ８質量部
上記のように調製したドープ液を、３０℃に保温した流延ダイを通して、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる３０℃の支持体上に１．６ｍ幅で流延してウェブを形成し、支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が８０質量％になるまで支持体上で乾燥させた後、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。【０２２４】
次いで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で７０℃の乾燥風にて乾燥させ、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、１５０℃で幅方向に延伸前の幅に対して１３０％となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で１０５℃の乾燥風にて乾燥させ、残留溶媒量０．３質量％まで乾燥させてセルロースアシレートフィルム１を得た。更に得られたセルロースアシレートフィルム１を処理温度１０５℃で１５分間熱処理した。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向の延伸倍率は１１０％であった。【０２２５】
次いで下記バックコート層塗布組成物１を、３μｍの粒子捕捉効率が９９％以上のフィルターで濾過して調製した。このバックコート層塗布組成物１を、上記セルロースアシレートフィルム１のステンレスバンド支持体に接する面とは反対の面にエクストルージョンコーターにてウェット膜厚が１５μｍになるようにオンラインで塗布し、９０℃で３０秒間乾燥させた後、室温まで冷却して、耳部を切り取った後コアに巻き取り、膜厚８０μｍ、長さ３０００ｍ、幅１．８ｍ、屈折率１．４９の長尺状のセルロースアシレートフィルム１を作製した。【０２２６】
〈バックコート層塗布組成物１〉
ジアセチルセルロース（アセチル基置換度２．４）      ０．５質量部
アセトン                                              ７０質量部
メタノール                                            ２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
２％アセトン分散弾性体微粒子Ａ                      ０．２質量部
〈ハードコートフィルム１の作製〉
上記作製したセルロースアシレートフィルム１上に、下記の紫外線硬化型樹脂組成物１を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、マイクログラビアコーターを用いてセルロースアシレートフィルム１のバックコート層を塗設した面とは反対側の面に塗布し、恒率乾燥区間温度９５℃、減率乾燥区間温度９５℃で乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚７μｍのハードコート層を形成した後、巻き取ってロール状のハードコートフィルム１を作製した。【０２２７】
〈フッ素−シロキサングラフトポリマーの調製〉
フッ素−シロキサングラフトポリマーの調製に用いた素材の市販品名を示す。【０２２８】
ラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）：セフラルコートＣＦ−８０３（水酸基価６０、数平均分子量１５，０００；セントラル硝子（株）製）
片末端ラジカル重合性ポリシロキサン（Ｂ）：サイラプレーンＦＭ−０７２１（数平均分子量５，０００；チッソ（株）製）
ラジカル重合開始剤：パーブチルＯ（ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート；日本油脂（株）製）
硬化剤：スミジュールＮ３２００（ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型プレポリマー；住化バイエルウレタン（株）製）
（ラジカル重合性フッ素樹脂の合成）
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、セフラルコートＣＦ−８０３（１５５４質量部）、キシレン（２３３質量部）、及び２−イソシアナトエチルメタクリレート（６．３質量部）を入れ、乾燥窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。８０℃で２時間反応し、サンプリング物の赤外吸収スペクトルによりイソシアネートの吸収が消失したことを確認した後、反応混合物を取り出し、ウレタン結合を介して５０質量％のラジカル重合性フッ素樹脂を得た。【０２２９】
（フッ素−シロキサングラフトポリマーの調製）
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、上記合成したラジカル重合性フッ素樹脂（２６．１質量部）、キシレン（１９．５質量部）、酢酸ｎ−ブチル（１６．３質量部）、メチルメタクリレート（２．４質量部）、ｎ−ブチルメタクリレート（１．８質量部）、ラウリルメタクリレート（１．８質量部）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（１．８質量部）、ＦＭ−０７２１（５．２質量部）、及びパーブチルＯ（０．１質量部）を入れ、窒素雰囲気中で９０℃まで加熱した後、９０℃で２時間保持した。パーブチルＯ（０．１部）を追加し、さらに９０℃で５時間保持することによって、重量平均分子量が１７１，０００である３５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマーの溶液を得た。重量平均分子量はＧＰＣにより求めた。また、フッ素−シロキサングラフトポリマーの質量％はＨＰＬＣ（液体クロマトグラフィー）により求めた。【０２３０】
〈紫外線硬化型樹脂組成物１〉
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、新中村化学工業（株）製）                    １００質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）          ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマー（３５質量％）        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １０質量部
酢酸メチル                                            ５０質量部
メチルエチルケトン                                    ５０質量部
〔ハードコートフィルム２〜２７の作製〕
ハードコートフィルム１の作製に用いたセルロースアシレートフィルム１を、表３に記載のアシル基置換度であるセルロースアセテート、弾性体微粒子、添加剤の種類、量に変化させてセルロースアシレートフィルム２〜２７を作製し、その表面に紫外線硬化型樹脂組成物１を塗設した以外はハードコートフィルム１の作製と同様にして、ハードコートフィルム２〜２７を作製した。【０２３１】
セルロースアシレートフィルムに用いた添加剤の種類を表２に、セルロースアシレートフィルム、ハードコートフィルムの構成を表３に示した。【０２３２】
【表２】
2011083690.tif 000003
【０２３３】
【化１】
2011083690.tif 000004
【０２３４】
【表３】
2011083690.tif 000005
【０２３５】
《評価１》
（ｔａｎδ）
下記条件で上記作製したセルロースアシレートフィルム１〜２７の動的粘弾性を測定し、ｔａｎδの最大値を求めた。試料はあらかじめ２３℃５５％ＲＨの雰囲気下２４時間調湿したものを使用し、湿度５５％ＲＨ、下記条件で昇温させながら測定した。【０２３６】
測定装置：ティーエイインスツルメント社製  ＲＳＡIII
試料：幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍに設定）
測定条件：引張モード
測定温度：２０〜２００℃
昇温条件：５℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ
測定方向：フィルムの長手方向
（幅広適性）
セルロースアシレートフィルムを１５０℃で４０％での延伸を行って延伸できるかどうか、また延伸できたものはフィルムを２つ折にしてみて割れたり亀裂が生じるか、を以下のように評価し表３に示した。【０２３７】
◎：フィルムが破断することがほとんど無く、フィルムを２つ折にしても割れたり亀裂が生じることはない
○：フィルムが破断することがほとんど無いが、フィルムを２つ折にすると割れたり亀裂が生じる場合がある
△：破断することが多く、フィルムを２つ折にすると割れたり亀裂が生じる場合がある
×：破断してしまい延伸できない
（ヘイズ）
〈３枚値〉
ハードコートフィルム試料３枚を重ね合わせ、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京電色工業（株）製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定した。【０２３８】
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ  Ｋ５４０１に準じて測定を実施した。４Ｈ鉛筆を４５度の角度として、５００ｇの荷重をかけて、各ハードコートフィルム試料表面の引っ掻き試験を行った。５回の引っ掻き試験を１セットとして、３セット実施し、各セットで傷の付き方を評価した。【０２３９】
◎：硬度は非常に高く、かつ均一である
○：硬度は十分に高く、かつ均一である
△：硬度は高いが、不均一である
×：硬度が低く、不均一である
（剥離、クラック）
剥離、クラックはハードコートフィルムを断裁して、以下の観察で評価した。【０２４０】
◎：断裁面に基材とハードコートフィルムの剥離している部分がなく、亀裂（クラック）も見つからない
○：断裁面に基材とハードコートフィルムの剥離している部分が多少あるが、亀裂（クラック）は見つからない
×：断裁面に基材とハードコートフィルムの剥離している部分がある、あるいは亀裂（クラック）がある【０２４１】
【表４】
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【０２４２】
表３、表４より本発明のセルロースアシレートフィルム、ハードコートフィルムは比較例に対し、延伸による幅広化適性、ヘイズ、鉛筆硬度、ハードコートの剥離、クラックに優れていることが明らかである。【０２４３】
実施例２
（偏光板の作製）
〈偏光子の作製〉
１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で４倍に延伸して幅１．４ｍの偏光子を作製した。膜厚は２５μｍであった。【０２４４】
〈偏光板の作製〉
作製したハードコートフィルム試料１〜２７と市販の偏光板保護フィルムであるコニカミノルタタック  ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製、膜厚８０μｍ）を下記に示すアルカリケン化処理条件でケン化処理を行った。【０２４５】
次に上記作製した偏光子を用いて、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を使用して、上記作製したハードコートフィルム、偏光子、ＫＣ４ＵＥの順で積層して、偏光板１〜２７を作製した。【０２４６】
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程    ２Ｎ−ＮａＯＨ      ５０℃  ９０秒
水洗工程          水              ３０℃  ４５秒
中和工程      １０質量％ＨＣｌ    ３０℃  ４５秒
水洗工程          水              ３０℃  ４５秒
上記条件でフィルム試料をケン化、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。【０２４７】
《評価２》
（偏光板加工適性）
偏光板試料作製時における、偏光子と位相差フィルム試料との貼合時の異物故障の有無を目視で観察した。【０２４８】
◎：貼合時に異物故障がなく歩留まりがよい
○：貼合時に異物故障がややあるが、実用上歩留まりに問題がない
×：貼合時に異物故障があり、歩留まりが低い
（液晶パネル加工適性）
上記で得られた本発明及び比較例の偏光板を、ＳＯＮＹ製３２型液晶テレビＫＤＬ−３２Ｖ２０００の予め貼合されていた偏光板を剥がし、本発明及び比較例の偏光板の吸収軸を予め貼合されていた偏光板の吸収軸と同じ方向になるよう貼合し、液晶表示パネル１〜２７を作製し、加工する際のハードコートフィルムの剥離、クラックの有無を評価した
◎：加工時にクラック、異物故障がなく歩留まりがよい
○：加工時にクラック、異物故障がややあるが、実用上歩留まりに問題がない
×：加工時にクラック、異物故障があり、歩留まりが低い【０２４９】
【表５】
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【０２５０】
本発明の偏光板、液晶表示パネルは、比較例に対し、偏光板加工適性、液晶表示パネル加工適性に優れていることが分かる。
【国際調査報告】
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