(57)【要約】  エア浮上式基板搬送装置(１)は、搬送方向に対して直交する方向に所定の間隔を置いて互いに並列に配置され、エアを噴出して基板(１０)を浮上させた状態に維持する複数の支持部(３)と、支持部(３)の上方に浮上している基板(１０)を搬送方向に送る搬送部(６)とを備えている。また、エア浮上式基板搬送装置(１)は、搬送部(６)により所定の位置に送られた基板(１０)を、支持部(３)の上方に浮上させた状態で、基板(１０)の中心を回転中心として回転させる駆動部(９)を備えている。上記所定の位置において基板(１０)が回転する際の基板(１０)の角部が通過する、隣り合う支持部(３)同士の間の位置の少なくとも一部に、基板(１０)を支持するボールベア(１４)が設けられている。このような構成にすることにより、基板(１０)に割れまたは傷が発生することを防止して製品の歩留まりを向上させることができる。
2011016369.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状の基板(１０)に該基板(１０)の下方からエアを噴きつけることにより浮上させた状態で、前記基板(１０)を搬送するエア浮上式基板搬送装置(１)であって、
前記搬送方向に対して直交する方向に所定の間隔を置いて互いに並列に配置され、エアを噴出して前記基板(１０)を浮上させた状態に維持する複数の支持部(３)と、
前記支持部(３)の上方に浮上している前記基板(１０)を搬送方向に送る搬送部(６)と、
前記搬送部(６)により所定の位置に送られた前記基板(１０)を、前記支持部(３)の上方に浮上させた状態で、前記基板(１０)の中心を回転中心として回転させる駆動部(９)と
を備え、
前記所定の位置において前記基板(１０)が回転する際の前記基板(１０)の角部が通過する、隣り合う前記支持部(３)同士の間の位置の少なくとも一部に、前記基板(１０)を支持する補助支持部が設けられた、エア浮上式基板搬送装置(１)。
【請求項２】
前記支持部(３)同士の間の位置であって、前記所定の位置において前記基板(１０)が回転する際に前記基板(１０)の角部が通過する位置の中で、前記基板(１０)の搬送方向に直交する方向において前記基板(１０)の中心から最も離れた位置に前記補助支持部が設けられている、請求の範囲第１項に記載のエア浮上式基板搬送装置(１)。
【請求項３】
前記補助支持部は、前記支持部(３)により前記基板(１０)が浮上させられた状態における高さで前記基板(１０)を支持する、請求の範囲第１項または第２項に記載のエア浮上式基板搬送装置(１)。
【請求項４】
前記補助支持部は、上下方向に移動可能である、請求の範囲第１項から第３項のいずれかに記載のエア浮上式基板搬送装置。
【請求項５】
前記基板(１０)を回転させる際に、前記基板(１０)を支持する高さに前記補助支持部が位置するように前記補助支持部を上昇させ、前記基板(１０)の回転が完了した後に、前記基板(１０)から離れるように前記補助支持部を下降させる、制御部(２５)を備えた、請求の範囲第４項に記載のエア浮上式基板搬送装置(１)。
【請求項６】
前記補助支持部が、全方向に回転可能な球により前記基板(１０)を支持するボールベア(１４)を有する、請求の範囲第１項から第５項のいずれかに記載のエア浮上式基板搬送装置。
【請求項７】
前記補助支持部が、前記基板(１０)に下方からエアを噴きつけて前記基板(１０)を支持するエアノズル(３１，３２)を有する、請求の範囲第１項から第６項のいずれかに記載のエア浮上式基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エア浮上式基板搬送装置に関し、特に、装置内で基板を回転させるエア浮上式基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶パネルに使用されるガラス基板などを処理する装置には、ガラス基板の下方から高圧のエアを噴付けることによりガラス基板を浮上させた状態で支持するエア浮上式基板支持装置が使用されている。このような基板支持装置を開示した先行文献として、特開２００８−１４７２９３号公報がある。【０００３】
特開２００８−１４７２９３号公報に記載された基板支持装置は、Ｘ方向移動装置、θ方向回転装置およびエア浮上装置などを備えている。この基板支持装置においては、エア浮上装置に供給されるエアの温度を一定に維持することにより、基板の温度変化を抑制して基板の伸縮を防止し、基板処理の加工精度を向上させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１４７２９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一般に、エア浮上装置は、特開２００８−１４７２９３号公報の図１に記載されているように、基板の搬送方向に対して直交する方向において、所定の間隔を置いて配置されている。これは、基板が基板支持装置に搬入、または基板支持装置から払出される際に、基板がロボットアームにより搬送されるためである。ロボットアームは、櫛歯状のアームを有しており、その歯の幅より大きな間隔でエア浮上装置を配置することにより、基板の搬入または払出しの際に、エア浮上装置とロボットアームとが干渉することを防止している。【０００６】
特許文献１に記載の基板支持装置においては、アライメント処理するために、θ方向回転装置により基板が回転させられている。このとき、エア浮上装置により基板が浮上させられた状態で回転させらているが、上記のようにエア浮上装置が間隔を置いて配置されているため、回転中の基板には、エアが噴付けられていない箇所が存在する。【０００７】
基板の角部周辺にエアが噴付けられていないときには、基板の角部周辺に、基板の自重によるたわみが発生する。また、基板の端部において、エアの噴き付けがアンバランスになっている場合、基板の端部は傾斜して支持される。基板の角部にたわみが発生している、または、基板の端部が傾斜して支持されている状態において、基板が回転させられると、基板の角部とエア浮上装置の上部とが接触する場合がある。この場合、基板に割れまたは傷が発生して不良品となるため、製品の歩留まりが低下する問題があった。【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたものであって、基板を浮上させた状態で基板を回転させる際に基板がエア浮上装置に接触することによる、基板の割れまたは傷の発生を抑制して製品の歩留まりの向上を図れる、エア浮上式基板搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に基づくエア浮上式基板搬送装置は、矩形状の基板に下方からエアを噴きつけることにより浮上させた状態で、基板を搬送する装置である。このエア浮上式基板搬送装置においては、搬送方向に対して直交する方向に所定の間隔を置いて互いに並列に配置され、エアを噴出して基板を浮上させた状態に維持する複数の支持部と、支持部の上方に浮上している基板を搬送方向に送る搬送部とを備えている。また、エア浮上式基板搬送装置は、搬送部により所定の位置に送られた基板を、支持部の上方に浮上させた状態で、基板の中心を回転中心として回転させる駆動部を備えている。上記所定の位置において基板が回転する際の基板の角部が通過する、隣り合う支持部同士の間の位置の少なくとも一部に、基板の浮上した状態における高さに基板を支持する補助支持部が設けられている。【００１０】
上記の構成によると、基板を浮上させた状態で回転させる際に、支持部同士の間のエアが噴出されない位置において、基板の角部を補助支持部で支持することができる。よって、基板の角部にたわみが発生すること、および、基板の端部が傾斜して支持されることを抑制することができる。その結果、基板が支持部に接触することによる基板の割れまたは傷の発生を抑制して、製品の歩留まりの向上を図ることができる。【００１１】
好ましくは、エア浮上式基板搬送装置には、支持部同士の間の位置であって、上記の所定の位置において基板が回転する際に基板の角部が通過する位置の中で、基板の搬送方向に直交する方向において、基板の中心から最も離れた位置に補助支持部が設けられている。【００１２】
この場合、基板の端部に最もアンバランスにエアが噴きつけられる位置において、エアが噴き付けられていない基板の角部を補助支持部により支持することができるため、基板の角部にたわみが発生すること、および、基板の端部を傾斜して支持することを効果的に抑制することができる。【００１３】
好ましくは、補助支持部は、支持部により基板が浮上させられた状態における高さで基板を支持する。この場合、基板の角部にたわみが発生すること、および、基板の端部を傾斜して支持することを防止することができる。【００１４】
好ましくは、補助支持部は上下方向に移動可能である。この場合、基板を回転させる際には、基板を支持する高さに補助支持部は位置し、基板を回転させる際以外には、基板から離れるように補助支持部は下降している。よって、基板がエア浮上式基板搬送装置に搬入または装置から払出される際に、基板を搬送するロボットアームと補助支持部とが干渉することを防止することができる。【００１５】
好ましくは、エア浮上式基板搬送装置においては、基板を回転させる際に、基板を支持する高さに補助支持部が位置するように補助支持部を上昇させ、基板の回転が完了した後に、基板から離れるように補助支持部を下降させる、制御部を備えている。この場合、制御部により駆動部の動作と補助支持部の動作とを同期させることができるため、効率よく基板を処理して、処理タクトを短くすることができる。【００１６】
本発明に基づくエア浮上式基板搬送装置においては、補助支持部が、全方向に回転可能な球により基板を支持するボールベアを有するようにしてもよい。この場合、基板の角部の下面をボールベアの球の頂点で支持することにより、確実に基板の角部を支持することができる。よって、基板を回転させる際の回転速度が大きくなった場合にも、基板が支持部の上部に接触することを確実に防止することができる。【００１７】
または、補助支持部が、前記基板に下方からエアを噴きつけて前記基板を支持するエアノズルを有するようにしてもよい。この場合、エアノズルからエアを基板の角部の下面に噴きつけることにより、基板に直接接触することなく、基板の角部にたわみが発生すること、および、基板の端部が傾斜して支持されることを防止することができる。よって、基板の下面に傷または接触痕が発生することを防止することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により、基板を浮上させた状態で回転させる際に、支持部同士の間のエアが噴出されない位置において、基板の角部を補助支持部で支持することができる。よって、基板の角部にたわみが発生すること、および、基板の端部が傾斜して支持されることを抑制することができる。その結果、基板が支持部に接触することによる基板の割れまたは傷の発生を防止して、製品の歩留まりの向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施の形態１に係るエア浮上式基板搬送装置の構成を示す斜視図である。
【図２】同実施の形態に係るエア浮上式基板搬送装置において、基板が処理部に搬送された状態を示す斜視図である。
【図３Ａ】基板が所定の位置で処理された状態を示す平面図である。
【図３Ｂ】駆動部により基板が回転させられている状態を示す平面図である。
【図３Ｃ】駆動部により基板が９０°回転させられた状態を示す平面図である。
【図４】基板が駆動部により僅かに回転させられた状態を示す平面図である。
【図５】図４の基板の短手側の端部を矢印Ｖから見た図である。
【図６】補助支持部を設けていない場合における、図４のＶＩ部を基板の搬送方向の手前側から見た図である。
【図７】処理が完了した基板が回転させられている状態を示す平面図である。
【図８】ボールベアを設ける位置を示した平面図である。
【図９】同実施形態に係るボールベアの構成を示す斜視図である。
【図１０Ａ】基板の角部をボールベアが支持している状態を示す側面図である。
【図１０Ｂ】ボールベアが待機している状態を示す側面図である。
【図１１】補助支持部としてエアノズルを用いて、基板が回転させられている状態を示す側面図である。
【図１２Ａ】変形例のエアノズルにより基板が支持されている状態を示す側面図である。
【図１２Ｂ】変形例のエアノズルが待機している状態を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態１に係るエア浮上式基板搬送装置について、図を参照しながら説明する。
【００２１】
実施の形態１
図１は、本発明の実施の形態１に係るエア浮上式基板搬送装置の構成を示す斜視図である。図２は、本発明の実施の形態１に係るエア浮上式基板搬送装置において、基板が処理部に搬送された状態を示す斜視図である。本実施形態のエア浮上式基板搬送装置においては、図１に示す状態から図２に示す状態になるように、図２に示す矢印方向に基板１０が搬送される。
【００２２】
図１，２に示すように、本発明の実施の形態１に係るエア浮上式基板搬送装置１は、直方体形状を有する土台２の上面に、エアを噴出して矩形状の基板１０を浮上させた状態に維持する複数の支持部３が設けられている。矩形には、長方形および正方形も含まれる。
【００２３】
複数の支持部３の各々は、エア浮上式基板搬送装置１に基板１０を搬入する図示しないロボットアームと干渉しないために、基板１０の搬送方向に直交する方向において、互いに所定の間隔を置いて並列に配置されている。また、複数の支持部３の各々は、基板１０の搬送方向において、互いに僅かな隙間をあけて配置されている。本実施形態においては、基板１０の搬送方向において７列、基板の１０搬送方向に直交する方向において１０行の支持部３を配置したが、支持部３の配置はこれに限られない。
【００２４】
基板１０の搬送方向に直交する方向において、最も外側に配置された支持部３の外側に、基板１０を保持する保持部４の移動経路となる図示しないガイドレールおよびボールねじなどを含む案内部５が形成されている。２本の案内部５は、互いに対向するように形成され、基板１０の搬送方向に平行に配置されている。
【００２５】
それぞれの案内部５の上面に、基板１０を保持する保持部４が配置され、本実施形態では、２つの保持部４により基板１０の角部を保持して搬送している。２つの保持部４は、並進して搬送方向に移動することができるため、基板の１０のアライメントを維持しつつ、基板１０を搬送することができる。案内部５と保持部４とから搬送部６が構成されている。搬送部６により、支持部３の上方に浮上している基板１０が搬送方向に送られる。
【００２６】
エア浮上式基板搬送装置１における基板１０の搬送方向先端側において、土台２の長辺側の両方の側面に対向するように、四角柱の形状を有する２本の支柱１１が配置されている。２本の支柱１１の間を橋渡しするように、四角柱の形状を有する横梁１２が、それぞれの支柱１１の上部に配置されている。
【００２７】
横梁１２の側面には、下方に向けて光を照射して露光させる処理部１３が設けられている。処理部１３は、基板１０の幅より長くなるように形成されているため、処理部１３の下方に搬送された基板１０の幅方向全体を一度に処理することができる。
【００２８】
処理部１３により基板１０を処理するために、基板１０は、搬送部６により所定の位置に送られる。所定の位置に送られた基板１０の中心位置の下方には、基板１０を基板１０の中心を回転中心として回転させる駆動部９が配置されている。駆動部９は、基板１０の下面を吸着して基板１０を把握するチャッキング７と、チャッキング７の上面からエアを吸引または噴射させるための配管が内部に形成された軸部８と、軸部８に接続された図示しない駆動制御部とから構成されている。
【００２９】
チャッキング７の上面には、軸部８の上記配管と連通してエア用通過口となる図示しない開口部が形成されている。基板１０を吸引する際には、基板１０の下面とチャッキング７の上面が接触した状態で、開口部からエアが吸引される。基板１０の吸引を外す際には、開口部からエアが噴射される。基板１０の回転が終了した後、駆動部９は、僅かに基板１０の下方に下降して待機する。次に基板１０を回転させる際には、チャッキング７の上面が基板１０の下面に接触するまで上昇するように、駆動部９が駆動制御部により制御される。
【００３０】
本実施形態のチャッキング７は、互いに直交する２本の直線部から形成されているが、チャッキング７の形状はこれに限られず、基板１０を把握する平面が上面に形成されていればよい。駆動部９が基板１０を把握して回転することにより、基板１０は、支持部３の上方に浮上した状態で回転させられる。
【００３１】
上記の所定の位置において基板１０が回転する際の基板１０の角部が通過する、隣り合う支持部３同士の間の位置の少なくとも一部に、基板１０を支持する補助支持部であるボールベア１４が設けられている。本実施形態におけるボールベア１４の配置については、後述する。
【００３２】
以下、本実施形態のボールベア１４を配置する目的を説明するために、エア浮上式基板搬送装置の動作について説明する。
【００３３】
図１に示すように、エア浮上式基板搬送装置１に搬入された基板１０は、支持部３から噴出されるエアを下面に受けて浮上した状態で維持される。図２に示すように、基板１０は、搬送部６により処理部１３の下方の所定の位置に搬送される。
【００３４】
図３Ａは、基板が所定の位置で処理された状態を示す平面図である。図３Ｂは、駆動部により基板が回転させられている状態を示す平面図である。図３Ｃは、駆動部により基板が９０°回転させられた状態を示す平面図である。
【００３５】
本実施形態では、基板１０の上面に光硬化性のレジストが形成されており、基板１０の周囲の端部を露光させる必要がある。そのため、まず、図３Ａに示すように、処理部１３から照射される光により、基板１０の長手側の両端部１５を露光する。露光する際には、両端部１５を同時に露光してもよいし、それぞれの端部を別々に露光してもよい。
【００３６】
両端部１５の露光が完了した後は、露光されていない短手側の両端部を露光する必要がある。そのため、図３Ｂに示すように、基板１０は、支持部３の上方に浮上させられた状態で、駆動部９により回転させられる。図３Ｃに示すように、基板１０が９０°回転させられた状態で、駆動部９による回転が終了する。この状態において、基板１０の短手側の両端部は、図２に示す処理部１３と平行に配置されているため、処理部１３から照射される光により、基板１０の短手側の両端部を露光することができる。露光する際に、基板１０の短手側の両端部を同時に露光してもよいし、それぞれの端部を別々に露光してもよい。
【００３７】
図４は、基板が駆動部により僅かに回転させられた状態を示す平面図である。図４に示すように、基板１０の長手方向と基板１０の搬送方向に直交する方向とが一致するように基板１０が配置されている状態から、僅かに基板１０を回転させると、基板１０の短手側の両端部には、それぞれ２つの領域が発生する。
【００３８】
第１の領域１６は、基板１０の下方に支持部３が存在して、基板１０の下面に支持部３からエアが噴きつけられている領域である。第２の領域１７は、基板１０の下方に支持部３が存在せず、基板１０の下面に支持部３からエアが噴きつけられていない領域である。このように、第１領域１６と第２領域１７とが基板１０の短手側の両端部に発生することにより、基板１０の短手側の両端部において、エアの噴きつけによる基板１０の支持がアンバランスになっている。
【００３９】
図５は、図４の基板の短手側の端部を矢印Ｖから見た図である。図５に示すように、基板１０の短手側の両端部においては、支持部３から噴出されるエア１８を受ける量の違いにより、位置によって基板１０が支持される高さが異なり傾斜している。また、第２領域１７には、基板１０の下面にエアが噴きつけられていないため、基板１０の角部の自重によるたわみが発生しやすい。たとえば、長辺の長さが約３ｍ、厚さが０．７ｍｍの基板１０を支持部３により０．５ｍｍ浮上させている場合、１ｍｍ〜２ｍｍ程度のたわみが発生する。
【００４０】
図６は、補助支持部を設けていない場合における、図４のＶＩ部を基板の搬送方向の手前側から見た図である。図６に示すように基板１０の短手側の端部が傾斜して支持されている状態、または、基板１０の角部にたわみが発生している状態で、基板１０が回転させられた場合には、基板１０の先端部が支持部３の上部に接触する。この場合、基板１０に割れ、または、基板１０の下面に傷が発生する。
【００４１】
基板１０の短手側の両端部の処理が終了した後、基板１０は、上記の所定の位置に基板１０が搬送された状態から１回転して、基板１０の長手方向と基板１０の搬送方向に直交する方向とが一致するように、駆動部９により回転させられる。
【００４２】
図７は、処理が完了した基板が回転させられている状態を示す平面図である。図７に示すように、基板１０の長手方向と基板１０の搬送方向に直交する方向とが一致するように、基板１０が配置される状態になる直前において、基板１０の短手側の端部のそれぞれには、第１領域１６および第２領域１７が発生する。
【００４３】
この場合も図４に示した場合と同様に、基板１０の短手側の両端部においては、エアの噴きつけによる基板１０の支持がアンバランスになっているため、位置によって基板１０が支持される高さが異なり傾斜している。また、第２領域１７においては、基板１０の下面にエアが噴きつけられていないため、基板１０の角部の自重によりたわみが発生しやすい。
【００４４】
図８は、ボールベアを設ける位置を示した平面図である。図８に示すように、本実施形態のエア浮上式基板搬送装置１においては、図４に示した基板１０の第２領域１７の位置と、図７に示した基板１０の第２領域１７の位置に、補助支持部であるボールベア１４が配置されている。
【００４５】
上記の位置に、ボールベア１４が配置されている理由は、以下の通りである。上記の位置が、基板１０を回転させる間において、基板１０の端部の下面に噴きつけられるエア量のアンバランスの度合いが最も大きくなる領域の中で、基板１０の角部の下面にエアが噴きつけられない位置となるためである。具体的には、上記の位置が、基板１０の短手側の端部という短い区間において、エアによる浮力が急激に変化している領域の中で、支持部３同士の間のエアが噴出されていない位置となるからである。
【００４６】
このため、基板１０の短手側の端部は、上記の位置において最も傾斜して支持されることになる。また、基板１０の短手側の端部は、駆動部９により固定支持されている基板１０の中心から最も離れているため、変形自由度が大きくたわみが発生しやすい。
【００４７】
よって本実施形態では、ボールベア１４が、支持部３同士の間の位置であって、上記の所定の位置において基板１０が回転する際に基板１０の角部が通過する位置の中で、基板１０の搬送方向に直交する方向において基板１０の中心から最も離れた位置に配置されている。
【００４８】
言い換えると、ボールベア１４は、上記の所定の位置において基板１０が回転する際の基板１０の中心から、支持部３同士の間の位置でかつ基板１０の角部が通過する位置までの距離ベクトルにおいて、基板１０の搬送方向に直交する方向における成分が、最も大きくなる位置に設けられている。
【００４９】
ボールベア１４を上記の位置に配置することにより、基板１０の角部にたわみが発生すること、および、基板１０の短手側の端部が傾斜して支持されることを効果的に抑制することができる。その結果、基板１０の角部と支持部３の上部とが接触することを防ぐことができる。
【００５０】
本実施形態では、４箇所の第２領域１７にボールベア１４が配置されているが、ボールベア１４が配置される位置および数量はこれに限られない。ボールベア１４は、所定の位置において基板１０が回転する際の基板１０の角部が通過する、隣り合う支持部３同士の間の位置の少なくとも一部に、基板１０を支持するように設けられていればよい。
【００５１】
図９は、本実施形態に係るボールベアの構成を示す斜視図である。図９に示すように、本実施形態に係るボールベア１４は、基板１０の下面に接触して基板１０を支持する球１９と、球１９を全方向に回転可能なように保持する収容部２０とを備えている。収容部２０により保持された全ての球１９の頂点の高さは、同一になるように配置されている。また、球１９は、回転している基板１０と接触した際に、基板１０と転がり接触するように、収容部２０により保持されている。
【００５２】
本実施形態では、球１９として、基板１０に傷が付きにくくするために、鋼球の表面に樹脂コーティングされているものが用いられているが、球１９として樹脂製の球が用いられてもよい。
【００５３】
収容部２０は、平板状の支持板２１の上面に形成されている。本実施形態では、収容部２０および球１９は、支持板２１の上面に９つ形成されているが、形成される収容部２０および球１９の数は、これに限られない。
【００５４】
支持板２１の下面には、軸部２２が接続されている。軸部２２は、図示しないガイドレールおよびボールねじなどが形成された案内部２３に接続されている。軸部２２は、案内部２３に沿って、上下方向にスライドすることが可能なように接続されている。案内部２３のボールねじは、ボールねじの駆動を制御する制御部であるステッピングモータ２５と配線２４により接続されている。
【００５５】
図１０Ａは、基板の角部をボールベアが支持している状態を示す側面図である。図１０Ｂは、ボールベアが待機している状態を示す側面図である。図１０Ａに示すように、基板１０が回転させられる際には、ボールベア１４は、基板１０の浮上した状態における基板１０の下面の高さに、球１９の頂点の高さが一致するように調節される。
【００５６】
具体的には、基板１０を回転させる際に、ステッピングモータ２５により案内部２３のボールねじが駆動され、軸部２２が上昇させられる。球１９の頂点の高さが、支持部３により浮上させられている基板１０の下面の高さと一致した時点で、ステッピングモータ２５が停止する。本実施形態のボールベア１４は、基板１０の浮上した状態における高さに基板１０を支持する。
【００５７】
よって、基板１０の角部にたわみが発生すること、および、基板１０の短手側の端部を傾斜して支持することを防止することができる。ただし、ボールベア１４により基板１０の角部を支持して、基板１０と支持部３の上部とが接触することが防止できればよく、ボールベア１４により基板１０を必ずしも基板１０の浮上した状態における高さに支持する必要はない。
【００５８】
図１０Ｂに示すように、基板１０が回転させられていないときには、ボールベア１４は、基板１０が浮上した状態における基板１０の下面より下方の位置において待機している。この待機している状態においては、ロボットアームなどが侵入してくる領域である回避領域２６にボールベア１４が位置しないように調整されている。
【００５９】
具体的には、基板１０の回転が完了した後に、ステッピングモータ２５により案内部２３のボールねじが駆動され、軸部２２が下降させられる。球１９の頂点の位置が、回避領域２６から外れた時点で、ステッピングモータ２５が停止する。
【００６０】
上記のように、制御部であるステッピングモータ２５によって、基板１０を回転させる際には、ボールベア１４が基板１０の支持位置に配置されるように上昇させされ、基板１０の回転が完了した後に、ボールベア１４が基板１０から離れるように下降させられる。このように、駆動部９の動作とボールベア１４の動作とが同期されている。その結果、効率よく基板１０が処理されて、基板１０の処理時間が短縮される。
【００６１】
また、基板１０の角部の下面がボールベア１４の球１９の頂点で支持されるため、基板１０の角部は確実に支持される。よって、基板１０を回転させる際の回転速度が大きくなった場合にも、基板１０が支持部３の上部に接触することが確実に防止される。
【００６２】
以下、本発明の実施の形態２に係るエア浮上式基板搬送装置について、図を参照しながら説明する。
【００６３】
実施の形態２
図１１は、補助支持部としてエアノズルを用いて、基板が回転させられている状態を示す側面図である。補助支持部以外の構成については、実施の形態１と同様であるため、説明を繰り返さない。図１１に示すように、本発明の実施の形態２に係るエア浮上式基板搬送装置では、補助支持部としてエアノズル３１が設けられている。
【００６４】
エアノズル３１は、エア２９を噴出する噴出口であるノズル部２７と、内部にエア用配管が形成された配管部２８とから構成されている。配管部２８は、エア２９を供給する図示しないポンプに接続されている。エアノズル３１は、隣り合う支持部３同士の間において、回避領域２６の外に配置されている。そのため、エアノズル３１には、必ずしも、エアノズル３１を上下方向に移動させる移動手段を設ける必要がないため、装置コストを削減することができる。
【００６５】
基板１０が回転させられる際には、エアノズル３１のノズル部２７からエア２９が上方に噴出される。基板１０が回転させられていないときは、エア２９の噴出は停止されている。この構成により、エアノズル３１は、基板１０の角部がエアノズル３１の上方を通過する際に、基板１０の下面にエア２９を噴きつけることができる。よって、図４または図７に示す第２領域１７において、基板１０の下面にエア２９を噴きつけることにより、エアの噴きつけのアンバランスを解消することができる。その結果、基板１０の角部にたわみが発生すること、および、基板１０の短手側の端部が傾斜して支持されることを抑制することができる。
【００６６】
このように、エアノズル３１によりエア２９を基板１０の下面に噴きつけて支持することにより、基板１０の下面に直接的に接触することなく基板１０を支持することができる。よって、基板１０の下面に傷および接触痕が発生することを防止することができる。
【００６７】
図１２Ａは、変形例のエアノズルにより基板が支持されている状態を示す側面図である。図１２Ｂは、変形例のエアノズルが待機している状態を示す側面図である。図１２Ａに示すように、変形例であるエアノズル３２は、エア２９を噴出する噴出口であるノズル部２７と、内部にエア用配管が形成された配管部２８とを備えている。配管部２８は、エア２９を供給する図示しないポンプに接続されている。
【００６８】
配管部２８は、図示しないガイドレールおよびボールねじが形成された案内部３０に接続されている。配管部２８は、案内部３０に沿って、スライド可能なように接続されており、制御部であるステッピングモータ２５により、上下方向に移動させられる。
【００６９】
変形例のエアノズル３２は、基板１０の回転方向において、先に上方を基板１０が通過する支持部３の側面近傍に配置される。また、ノズル部２７は、支持部３同士の間の中間の上方に向けられている。このように、エアノズル３２を配置することにより、支持部３から噴出されるエアによる浮力が最も少なくなる箇所にエア２９を噴きつけることができる。よって、基板１０の角部にたわみが発生すること、および、基板１０の短手側の端部が傾斜して支持されることを効果的に防止することができる。
【００７０】
図１２Ｂに示すように、基板１０の回転が完了した後に、エアノズル３２は、基板１０から離れるように下降させされる。具体的には、制御部であるステッピングモータ２５により配管部２８が案内部３０に沿ってスライドして、ノズル部２７の先端が回避領域２６の外に位置するまで下降させられる。このとき、ノズル部２７からのエア２９の噴出は停止されている。このように、基板１０が回転させられているとき以外には、エアノズル３２が待機させられていることにより、ロボットアームとエアノズル３２とが干渉することが防止できる。
【００７１】
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。したがって、本発明の技術的範囲は、上記した実施の形態のみによって解釈されるものではなく、請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【符号の説明】
【００７２】
１  エア浮上式基板搬送装置、２  土台、３  支持部、４  保持部、５  案内部、６  搬送部、７  チャッキング、８  軸部、９  駆動部、１０  基板、１１  支柱、１２  横梁、１３  処理部、１４  ボールベア、１５  両端部、１６  第１領域、１７  第２領域、１８，２９  エア、１９  球、２０  収容部、２１  支持板、２２  軸部、２３，３０
案内部、２４  配線、２５  ステッピングモータ、２６  回避領域、２７  ノズル部、２８  配管部、３１，３２  エアノズル。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【国際調査報告】
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