(57)【要約】  本発明は、透明基板と、この透明基板の表面側に対向配設され、裏面にレンチキュラーレンズアレイを有するレンチキュラー層と、このレンチキュラー層の裏面に積層され、感放射線性液晶配向剤により形成される液晶配向膜と、この液晶配向膜を介してレンチキュラー層の裏面側に積層される液晶レンズ層とを備える光指向性制御ユニットである。上記液晶レンズ層の裏面に積層され、感放射線性液晶配向剤により形成される他の液晶配向膜を備えるとよい。
2012020628.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
この透明基板の表面側に対向配設され、裏面にレンチキュラーレンズアレイを有するレンチキュラー層と、
このレンチキュラー層の裏面に積層され、感放射線性液晶配向剤により形成される液晶配向膜と、
この液晶配向膜を介してレンチキュラー層の裏面側に積層される液晶レンズ層と
を備える光指向性制御ユニット。
【請求項２】
上記液晶レンズ層の裏面に積層され、感放射線性液晶配向剤により形成される他の液晶配向膜を備える請求項１に記載の光指向性制御ユニット。
【請求項３】
上記液晶レンズ層の両面側に積層される一対の透明電極層を備える請求項１に記載の光指向性制御ユニット。
【請求項４】
上記透明基板に重畳される液晶層と、この液晶層の両面側に配設される一対の透明電極層とを備える請求項１に記載の光指向性制御ユニット。
【請求項５】
上記感放射線性液晶配向剤が、
［Ａ］光配向性基を有するポリオルガノシロキサン
を含有する請求項１に記載の光指向性制御ユニット。
【請求項６】
上記光配向性基が、桂皮酸構造を有する基である請求項５に記載の光指向性制御ユニット。
【請求項７】
上記桂皮酸構造を有する基が、下記式（１）で表される化合物に由来する基及び式（２）で表される化合物に由来する基からなる群より選択される少なくとも１種の基である請求項６に記載の光指向性制御ユニット。
【化１】
2012020628.tif 000024
（式（１）中、Ｒ１は、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。このフェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基及びシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基若しくは炭素数１〜１０のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基で置換されていてもよい。Ｒ２は、単結合、炭素数１〜３のアルカンジイル基、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。ａは、０〜３の整数である。但し、ａが２以上の場合、複数のＲ１及びＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３は、フッ素原子又はシアノ基である。ｂは、０〜４の整数である。
式（２）中、Ｒ４は、フェニレン基又はシクロヘキシレン基である。このフェニレン基及びシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部は、炭素数１〜１０の鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜１０の鎖状若しくは環状のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基で置換されていてもよい。Ｒ５は、単結合、炭素数１〜３のアルカンジイル基、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−である。ｃは、１〜３の整数である。但し、ｃが２以上の場合、複数のＲ４及びＲ５はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ６は、フッ素原子又はシアノ基である。ｄは、０〜４の整数である。Ｒ７は、酸素原子、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。Ｒ８は、２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基又は２価の縮合環式基である。Ｒ９は、単結合、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）ｆ−＊又は−Ｏ（ＣＨ２）ｇ−＊である。＊は、カルボキシル基との結合部位を示す。ｆ及びｇは、それぞれ１〜１０の整数である。ｅは、０〜３の整数である。但し、ｅが２以上の場合、複数のＲ７及びＲ８はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項８】
［Ａ］光配向性基を有するポリオルガノシロキサンが、
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物との反応生成物である請求項７に記載の光指向性制御ユニット。
【請求項９】
上記感放射線性液晶配向剤が、
［Ｃ］カルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、カルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造及びカルボン酸のｔ−ブチルエステル構造からなる群より選択される１種又は２種以上の構造を有し、この構造が１種の場合は複数有する化合物
をさらに含有する請求項５に記載の光指向性制御ユニット。
【請求項１０】
上記感放射線性液晶配向剤が、
［Ｂ］ポリアミック酸、ポリイミド、エチレン性不飽和化合物重合体及び光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンからなる群より選択される少なくとも１種の重合体
をさらに含有する請求項５に記載の光指向性制御ユニット。
【請求項１１】
表示パネルと、
請求項３に記載の光指向性制御ユニットと
を備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール。
【請求項１２】
透明基板と、この透明基板の表面側に対向配設され、裏面にレンチキュラーレンズアレイを有するレンチキュラー層と、このレンチキュラー層の裏面に積層される液晶配向膜と、この液晶配向膜を介してレンチキュラー層の裏面側に積層される液晶レンズ層とを備える光指向性制御ユニットの製造方法であって、
（１）レンチキュラー層の裏面に感放射線性液晶配向剤を塗布し、塗膜を形成する工程、
（２）上記塗膜への放射線の照射により液晶配向膜を形成する工程、及び
（３）この液晶配向膜及び透明基板間に液晶レンズ層を形成する工程
を有する光指向性制御ユニットの製造方法。
【請求項１３】
上記（３）工程が、
（３−１）この液晶配向膜と透明基板とを対向配設させ、これらに挟まれた空間を形成する工程、及び
（３−２）この空間に液晶材料を充填し、液晶レンズ層を形成する工程
を有する請求項１２に記載の光指向性制御ユニットの製造方法。
【請求項１４】
（３−２）工程が、
（３−２−１）この空間に重合性液晶を吸入する工程、及び
（３−２−２）この重合性液晶を重合させて液晶レンズ層を形成する工程
を有する請求項１３に記載の光指向性制御ユニットの製造方法。
【請求項１５】
上記（３）工程が、
（３−１’）この液晶配向膜の裏面側に液晶材料を塗布し、液晶レンズ層を形成する工程、及び
（３−２’）この液晶レンズ層の裏面側に透明基板を配設する工程
を有する請求項１２に記載の光指向性制御ユニットの製造方法。
【請求項１６】
上記（３−１’）工程が、
（３−１’−１）この液晶配向膜の裏面側に重合性液晶を塗布する工程、及び
（３−１’−２）この重合性液晶を重合させて液晶レンズ層を形成する工程
を有する請求項１５に記載の光指向性制御ユニットの製造方法。
【請求項１７】
２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの液晶レンズ層配向用液晶配向剤であって、
感放射線性を有することを特徴とする液晶配向剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光指向性制御ユニット及びその製造方法、２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール、並びに液晶配向剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、立体３次元（３Ｄ）表示を行う液晶表示装置として、視聴者側において特殊メガネ等の視覚的補助具を使用しなくても３Ｄ画像が認識される自動立体表示（オートステレオスコピック）モジュールが開発されている。このような自動立体表示モジュールの一例として、２次元液晶表示パネル上に縦方向かつ平行に延在する細長いレンチキュラー素子のアレイを備え、２次元（２Ｄ）モードと３次元（３Ｄステレオスコピック）モードとの切り替えが可能な表示モジュールが提案されている（特許文献１及び非特許文献１参照）。【０００３】
上述の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールにおいては、上記レンチキュラー素子は一般的に液晶で形成されているが、表示良好性を確保するため、この液晶の配向の均一性を高くする必要がある。そのため、従来は液晶の形成空間の周囲に液晶配向膜を形成して、ラビング処理を行った後に、液晶を形成させることにより、液晶の配向性を高めている。【０００４】
ラビング処理は通常、ローラーの外周面に貼り付けられたラビング布を用い、このローラーを回転させながら液晶配向膜表面にラビング布を接触させて、液晶配向膜を形成する面を擦ることにより行われる。このようなラビング処理は、凹型レンチキュラー等のように、微細な凹凸を有する面に対して行うと、処理の方向が不均一になり易い。従って、形成される液晶の配向の均一性を高くすることができず、その結果、得られる表示の解像度等が低下するという不都合を有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００９−５２８５６５号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】ＩＤＷ，Ｖｏｌ．１１，ｐｐ．１４９５−１４９６，２００４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は以上のような不都合を解消するためになされたものである。すなわち、本発明の主な目的は、配向均一性に優れる液晶レンズ層を備えることで、解像度等の良好な表示を得ることができる光指向性制御ユニット、及びこの光指向性制御ユニットを備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを提供することである。また、本発明の別の目的は、そのような光指向性制御ユニットの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するためになされた発明は、
透明基板と、
この透明基板の表面側に対向配設され、裏面にレンチキュラーレンズアレイを有するレンチキュラー層と、
このレンチキュラー層の裏面に積層され、感放射線性液晶配向剤により形成される液晶配向膜と、
この液晶配向膜を介してレンチキュラー層の裏面側に積層される液晶レンズ層と
を備える光指向性制御ユニットである。【０００９】
本発明の光指向性制御ユニットは、上記構成を有しており、レンチキュラー層と、一定方向に配向した液晶レンズ層とが積層されている。当該ユニットを通過する偏光の振動方向と、液晶レンズ層の液晶の配向方向とのなす角度によって、液晶の屈折率は変わってくる。すなわち、所定方向に振動する偏光に対しては、レンチキュラー層と液晶レンズ層の屈折率は同じであり、それと異なる振動面を有する偏光に対しては、レンチキュラー層と液晶レンズ層の屈折率は異なるよう構成することができる。このため、当該光指向性制御ユニットによれば、光が単純透過するか、液晶レンズ層において屈折するかにより、光の指向性を切り替えることができる。また、当該光指向性制御ユニットは、上記液晶配向膜が感放射線性液晶配向剤により形成されるため、従来のラビング処理を施した液晶配向膜に比べて、配向膜の配向均一性に優れる。それにより、当該光指向性制御ユニットにおいて、この液晶配向膜を介して形成される液晶レンズ層の配向均一性が高くなる。その結果、当該光指向性制御ユニットを備える２次元モードと３次元モードとの切替可能な表示モジュールは、その表示の良好性を高めることができる。【００１０】
当該光指向性制御ユニットにおいて、上記液晶レンズ層の裏面に積層され、感放射線性液晶配向剤により形成される他の液晶配向膜を備えるとよい。液晶レンズ層の表面側に加えて、裏面側も感放射線性液晶配向剤により形成される液晶配向膜を積層することで、当該光指向性制御ユニットにおける液晶レンズ層の液晶の配向均一性がさらに高まる。その結果、当該光指向性制御ユニットを備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの表示の良好性をさらに高めることができる。【００１１】
当該光指向性制御ユニットにおいては、上記液晶レンズ層の両面側に積層される一対の透明電極層を備えるとよい。当該光指向性制御ユニットによれば、上記液晶レンズ層の両面側に積層される一対の透明電極層を有することで、この透明電極層間の電圧印可の有無により、液晶レンズ層の液晶の配向性を変化させることによって、光指向性を切り替えることができる。【００１２】
当該光指向性制御ユニットにおいては、上記透明基板に重畳される液晶層と、この液晶層の両面側に配設される一対の透明電極層とを備えるとよい。上記液晶層と、この液晶の両面側に配設される一対の透明電極層との組み合わせは、この一対の透明電極層間の電圧印可の有無により、これら透明電極層間の液晶層の配向が変化し、進行する偏光の偏光面の回転角度を変えることができる液晶スイッチを構成する。従って、当該光指向性制御ユニットは、このような液晶スイッチをさらに有することにより、この一対の透明電極層間の電圧印可の有無によって光指向性を切り替えることができる。【００１３】
上記感放射線性液晶配向剤が、［Ａ］光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（以下、「［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン」と称することがある）を含有するとよい。上記［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンを含有する液晶配向剤から形成された塗膜に、放射線を照射することで得られる液晶配向膜においては、配向膜を形成する分子の配向性を高くすることができる。その結果、この液晶配向膜を介して形成される液晶レンズ層の配向均一性が向上する。【００１４】
上記光配向性基が、桂皮酸構造を有する基であることが好ましい。光配向性基として桂皮酸又はその誘導体を基本骨格とする桂皮酸構造を有する基を用いることで、上記液晶配向剤におけるポリオルガノシロキサンへの光配向性基の導入が容易となり、かつそのような液晶配向剤から形成される液晶配向膜は、さらに高い光配向性能を有する。その結果、当該光指向性制御ユニットにおける液晶レンズ層の配向均一性をさらに高くすることができる。【００１５】
上記桂皮酸構造を有する基が下記式（１）で表される化合物に由来する基及び式（２）で表される化合物に由来する基からなる群より選択される少なくとも１種の基であるとよい。
【化１】
2012020628.tif 000003
（式（１）中、Ｒ１は、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。このフェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基及びシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基若しくは炭素数１〜１０のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基で置換されていてもよい。Ｒ２は、単結合、炭素数１〜３のアルカンジイル基、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。ａは０〜３の整数である。但し、ａが２以上の場合、複数のＲ１及びＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３は、フッ素原子又はシアノ基である。ｂは０〜４の整数である。
式（２）中、Ｒ４は、フェニレン基又はシクロヘキシレン基である。このフェニレン基及びシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部は、炭素数１〜１０の鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜１０の鎖状若しくは環状のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基で置換されていてもよい。Ｒ５は、単結合、炭素数１〜３のアルカンジイル基、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−である。ｃは、１〜３の整数である。但し、ｃが２以上の場合、複数のＲ４及びＲ５はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ６は、フッ素原子又はシアノ基である。ｄは、０〜４の整数である。Ｒ７は、酸素原子、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。Ｒ８は、２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基又は２価の縮合環式基である。Ｒ９は、単結合、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）ｆ−＊又は−Ｏ（ＣＨ２）ｇ−＊である。＊は、カルボキシル基との結合部位を示す。ｆ及びｇは、それぞれ１〜１０の整数である。ｅは、０〜３の整数である。但し、ｅが２以上の場合、複数のＲ７及びＲ８はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）【００１６】
上記桂皮酸構造を有する基として上記特定桂皮酸誘導体に由来する基を用いることにより、得られる液晶配向膜の光配向性能をさらに向上でき、その結果、当該光指向性制御ユニットにおける液晶レンズ層の配向均一性をさらに向上することができる。【００１７】
［Ａ］光配向性基を有するポリオルガノシロキサンが、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物との反応生成物であることが好ましい。当該光指向性制御ユニットにおいて、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと特定桂皮酸誘導体との間の反応性を利用することにより、主鎖としてのポリオルガノシロキサンに光配向性基を有する特定桂皮酸誘導体に由来する側鎖基を容易に導入できる。【００１８】
上記液晶配向剤が、［Ｃ］カルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、カルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造及びカルボン酸のｔ−ブチルエステル構造からなる群より選択される少なくとも１種又は２種以上の構造を有し、この構造が１種の場合は複数有する化合物（以下、「［Ｃ］エステル構造含有化合物」と称することがある）をさらに含有することが好ましい。上記液晶配向剤が［Ｃ］エステル構造含有化合物を含有することにより、焼成工程（ポストベーク）において酸が発生し、発生した酸によって、［Ａ］ポリオルガノシロキサンの架橋を促進させ、その結果、得られる光指向性制御ユニットの耐熱性を向上することができる。【００１９】
上記液晶配向剤が、［Ｂ］ポリアミック酸、ポリイミド、エチレン性不飽和化合物重合体及び光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンからなる群より選択される少なくとも１種の重合体（以下、「［Ｂ］他の重合体」と称することがある）をさらに含有することが好ましい。上記液晶配向剤に他の重合体を含有させることにより上記液晶配向剤中における光配向性ポリオルガノシロキサンの含有量を減らしても、光配向性ポリオルガノシロキサンは液晶配向層表面に偏在するので、液晶配向膜の光配向性能を高くすることができ、その結果、液晶レンズ層の液晶の配向均一性を高く維持することができる。従って、製造コストの高い光配向性ポリオルガノシロキサンの上記液晶配向剤中における含有量を減らすことが可能となり、結果として、当該光指向性制御ユニットの製造コストを低減できる。【００２０】
本発明の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールは、
表示パネルと、
当該光指向性制御ユニットと
を備える。【００２１】
当該２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールは、液晶レンズ層の液晶の配向均一性に優れる上述の光指向性制御ユニットを備えているので、２次元及び３次元の表示の質のレベルをほとんど低下させることなく、視聴者に良好な表示を提供することができる。【００２２】
本発明の光指向性制御ユニットの製造方法は、
透明基板と、この透明基板の表面側に対向配設され、裏面にレンチキュラーレンズアレイを有するレンチキュラー層と、このレンチキュラー層の裏面に積層される液晶配向膜と、この液晶配向膜を介してレンチキュラー層の裏面側に積層される液晶レンズ層とを備える光指向性制御ユニットの製造方法であって、
（１）レンチキュラー層の裏面に感放射線性液晶配向剤を塗布し、塗膜を形成する工程、
（２）上記塗膜への放射線の照射により液晶配向膜を形成する工程、及び
（３）この液晶配向膜及び透明基板間に液晶レンズ層を形成する工程
を有する。【００２３】
また、上記（３）工程が、
（３−１）この液晶配向膜と透明基板とを対向配設させ、これらに挟まれた空間を形成する工程、及び
（３−２）この空間に液晶材料を充填し、液晶レンズ層を形成する工程
を有することが好ましい。【００２４】
さらに、（３−２）工程が、
（３−２−１）この空間に重合性液晶を吸入する工程、及び
（３−２−２）この重合性液晶を重合させて液晶レンズ層を形成する工程
を有することがより好ましい。【００２５】
また、上記（３）工程が、
（３−１’）この液晶配向膜の裏面側に液晶材料を塗布し、液晶レンズ層を形成する工程、及び
（３−２’）この液晶レンズ層の裏面側に透明基板を配設する工程
を有することが好ましい。【００２６】
さらに、上記（３−１’）工程が、
（３−１’−１）この液晶配向膜の裏面側に重合性液晶を塗布する工程、及び
（３−１’−２）この重合性液晶を重合させて液晶レンズ層を形成する工程
を有することがより好ましい。【００２７】
本発明の製造方法によれば、液晶レンズ層の配向均一性に優れる光指向性制御ユニットを効率よく製造でき、生産性の向上及び製造コストの低減化を促進することができる。【００２８】
本発明の液晶配向剤は、
２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの液晶レンズ層配向用液晶配向剤であって、
感放射線性を有することを特徴とする。【００２９】
本発明の液晶配向剤によれば、２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの光指向性制御ユニットの液晶レンズ層に積層される液晶配向膜の配向性を高めることができ、その結果、液晶レンズ層の配向均一性を高めることができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の光指向性制御ユニットによれば、液晶レンズ層の配向均一性を向上させることができ、その結果、これを用いる２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの解像度等の表示精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る光指向性制御ユニットの断面図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る光指向性制御ユニットの断面図である。
【図３】本発明の第３実施形態に係る光指向性制御ユニットの断面図である。
【図４】本発明の第４実施形態に係る光指向性制御ユニットの断面図である。
【図５】本発明の第１実施形態の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール断面図である。
【図７】本発明の第３実施形態の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール断面図である。
【図８】本発明の第４実施形態の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
＜光指向性制御ユニット＞
まず、第１実施形態に係る光指向性制御ユニットについて、図１を参照しつつ、以下説明する。光指向性制御ユニット１は、一対の透明基板１１、１２と、レンチキュラー層１３と、液晶レンズ層１４と、２つの液晶配向膜１５、１６を有している。この光指向性制御ユニット１は、レンチキュラー層１３の屈折率よりも、液晶レンズ層１４の異常屈折率（液晶の光軸に平行な方向に振動する偏光に対する屈折率）が大きい場合の形態である。図１の光指向性制御ユニットにおいて、一方の透明基板１２側が裏側、すなわち、表示パネルからの光が入射する側であり、他方の透明基板１１側が表側、すなわち、光が視聴者へ向けて出射する側である。
【００３３】
上記一対の透明基板１１、１２は、対向して配設されており、一方の透明基板１２の表面側に他方の透明基板１１が略平行に配設されている。この透明基板１１の裏面には、レンチキュラー層１３が積層されている。レンチキュラー層１３は、裏面に凹型のレンチキュラーレンズアレイを有している。このレンチキュラーレンズ層１３の稜線方向は一方向となるよう構成されている。液晶配向膜１５が、レンチキュラー層１３の裏面の凹型レンチキュラーレンズアレイの面に積層され、液晶配向膜１６が、一方の透明基板１２の表面に積層されている。液晶レンズ層１４は、上記２つの液晶配向膜１５、１６の間に形成されている。
【００３４】
上記レンチキュラー層１３の裏面及び透明基板１２の表面にそれぞれ形成された２つの液晶配向膜は、放射線照射により同一方向、すなわちどちらもｚ方向の液晶配向能を有している。
【００３５】
上記液晶レンズ層１４は、上記２つの液晶配向層１５、１６の間に充填される液晶から構成され、その結果、液晶レンズ層１４は、その表面にレンチキュラー層１３とは凹凸が逆のレンチキュラーレンズアレイを有している。この液晶レンズ層１４の液晶は、上記液晶配向膜１５、１６の液晶配向能に従って、ｚ方向に配向している。従って、液晶レンズ層１４の屈折率は、振動方向がｚ方向の偏光に対しては高く、一方、振動方向がｘ方向の偏光に対しては低く、レンチキュラー層１３とほぼ同等の屈折率を有している。
【００３６】
光指向性制御ユニット１は、液晶レンズ層１４を形成する液晶の配向方向がｚ方向であるので、光指向性制御ユニット１に入射する偏光の振動方向がｚ方向である場合は、液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３との屈折率が異なり、液晶レンズ層１４の屈折率の方が大きいため、液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３との組み合わせは、液晶レンズ層１４の形状を有するレンチキュラーレンズとして機能し、光指向性制御ユニット１は、屈折型の光指向性機能を提供する。一方、光指向性制御ユニット１に入射する偏光の方向がｘ方向である場合は、液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３の屈折率はほぼ同じであるため、液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３との組み合わせにおいては、光は屈折することなく単純透過し、光指向性制御ユニット１は、通過型の光指向性機能を提供する。なお、上記２つの液晶配向膜の有する液晶配向能としては、ｚ方向以外にもｘ方向であってもよいが、ｚ方向が好ましい。
【００３７】
本発明の第２実施形態に係る光指向性制御ユニット２について、図２を参照しつつ、以下説明する。光指向性制御ユニット２は、一対の透明基板１１、１２と、レンチキュラー層１３と、液晶レンズ層１４と、２つの液晶配向膜１５、１６と、透明基板（スイッチ透明基板）２１と、一対の透明電極層（スイッチ透明電極）２２、２３と、液晶層（スイッチ液晶層）２４とを有している。スイッチ透明基板２１と、一対のスイッチ透明電極層２２、２３と、スイッチ液晶層２４との組み合わせは、一対のスイッチ透明電極層２２、２３間の電圧印可の有無により、スイッチ液晶層２４を形成する液晶の配向方向が変わることで円偏光の回転が０°と９０°との間で変化する「液晶スイッチ」として機能する。すなわち、光指向性制御ユニット２は、第１実施形態の光指向性制御ユニット１の構成に、液晶スイッチが付加された構成を有している。図２において、第１実施形態の光指向性制御ユニット１と同様の構成は、同一番号を付して説明を省略する。なお、本明細書において、液晶スイッチを構成する透明基板、透明電極層及び液晶層をそれぞれスイッチ透明基板、スイッチ透明電極層及びスイッチ液晶層ともいう。
【００３８】
光指向性制御ユニット２においては、透明基板１１の表面側に、スイッチ透明基板２１が対向して配設される。透明基板１１及びスイッチ透明基板２１のそれぞれ対向する面に一対の透明電極層２２、２３が一定の隙間をもって配置され、これら一対の透明導電層２２、２３の間に、スイッチ液晶層２４が配設される。
【００３９】
光指向性制御ユニット２は、光指向性制御ユニット１の構成に加えて、上記液晶スイッチの構成をさらに有しているので、透明電極層２２、２３間の電圧印可の有無によって、液晶レンズ層１４に入射する所望の振動方向の偏光が、光指向性制御ユニット２から出射するように切り替えることができる。すなわち、光指向性制御ユニット２によれば、ｚ方向に偏光した入射光を液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３とにより屈折させた後、液晶スイッチにより所望する方向に偏光させて出射させることができ、また、ｘ方向に偏光した入射光を液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３とにより単純透過させた後、液晶スイッチにより所望する方向に偏光させて出射させることができる。従って、光指向性制御ユニット２によれば、所望の振動方向を有する出射光について、透過型と屈折型の光指向性機能を切り替えることができる。
【００４０】
本発明の第３実施形態に係る光指向性制御ユニット３について、図３を参照しつつ、以下説明する。光指向性制御ユニット３は、一対の透明基板１１、１２と、レンチキュラー層１３と、液晶レンズ層１４と、２つの液晶配向膜１５、１６と、スイッチ透明電極基板２５、透明電極層２６と、スイッチ液晶層２４とを有している。スイッチ透明電極基板２５は、透明基板の裏面側に透明電極層を積層させたものである。すなわち、光指向性制御ユニット３は、第１実施形態の光指向性制御ユニット１の構成に、スイッチ透明電極基板２５、透明電極層２６及びスイッチ液晶層２４による液晶スイッチが付加された構成を有している。図３において、第１実施形態の光指向性制御ユニット１と同様の構成は、同一番号を付して説明を省略する。
【００４１】
光指向性制御ユニット３は、第１実施形態の光指向性制御ユニット１における液晶配向膜１６と一方の透明基板１２の間に、スイッチ透明電極基板２５、スイッチ液晶層２４及び透明電極層２６がこの順に配置された構成を有する。これらのスイッチ透明電極基板２５及び透明電極層２６、並びにこれらの間に挟持されるスイッチ液晶層２４は、上述のように液晶スイッチとして機能する。従って、光指向性制御ユニット３は、第２実施形態の光指向性制御ユニット２と同様に、スイッチ透明電極基板２５及び透明電極層２６間の電圧印可の有無により、所望の振動方向を有する出射光について、透過型と屈折型の光指向性機能を切り替えることができる。すなわち、光指向性制御ユニット３によれば、ｘ−ｚ平面上の特定方向に偏光した入射光を液晶スイッチによりｚ方向の偏光とし、液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３とにより屈折させて出射させることができ、また、ｘ−ｚ平面上の特定方向に偏光した入射光を液晶スイッチによりｘ方向の偏光とし、液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３とにより単純透過させて出射させることができる。
【００４２】
本発明の第４実施形態に係る光指向性制御ユニット４について、図４を参照しつつ、以下説明する。光指向性制御ユニット４は、一対の透明基板１１、１２と、レンチキュラー１３と、液晶レンズ層１４と、２つの液晶配向膜１５、１６と、一対の透明電極層２７、２８を有している。すなわち、光指向性制御ユニット４は、第１実施形態の光指向性制御ユニット１の構成に、一対の透明導電層２７、２８が付加された構成を有している。図４において、第１実施形態の光指向性制御ユニット１と同様の構成は、同一番号を付して説明を省略する。
【００４３】
光指向性制御ユニット４においては、一対の透明基板１１、１２には、その対向する面側にそれぞれ透明電極層２７、２８が積層されている。そして、一方の透明電極層２７の裏面には、レンチキュラー層１３が積層されている。また、他方の透明電極層２８の表面には、液晶配向膜１６が積層されている。光指向性制御ユニット４においては、一対の透明電極層２７、２８の間の電圧印可の有無により、その間に配置する液晶レンズ層１４を形成する液晶の配向方向を変化させることができる。従って、光指向性制御ユニット４によれば、所定の振動方向の入射光について、液晶レンズ層１４とレンチキュラー層１３との組み合わせによるレンズ機能を切り替えることができ、透過型と屈折型の光指向性機能を切り替えることができる。
【００４４】
上記透明基板１１、１２としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス基材、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、環状オレフィンの開環重合体及びその水素添加物、環状オレフィンの付加重合体、芳香族ポリエーテル等のプラスチック基材を含む透明基板等が挙げられる。
【００４５】
レンチキュラー層１３を形成する材料としては、その屈折率が、液晶レンズ層１４の常光屈折率と同程度であることが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン等の樹脂が好適に用いられる。
【００４６】
なお、上記透明基板の裏面を、凸状や凹状のレンチキュラー形状とし、透明基板とレンチキュラー層とを一体化させてもよい。
【００４７】
＜液晶配向膜＞
上述したいずれの実施形態の光指向性制御ユニットにおいても、液晶配向膜１５、１６を有している。液晶配向膜は、それに隣接して形成される液晶の配向方向を規制し、配向性を高める機能を有する。本発明においては、液晶レンズ層１４の表面、すなわち、レンチキュラー層１３の裏面に積層される液晶配向膜１５は、感放射線性液晶配向剤により形成される液晶配向膜であることを要する。感放射線性液晶配向剤は、通常のラビング処理の代わりに、所定の振動方向の偏光を用いて、配向膜形成分子の配向性を高め、液晶配向性能を高めるものである。感放射線性液晶配向剤を用いることで、ラビング処理が困難なレンチキュラー層裏面の微細な凹凸表面等に対しても、配向性に優れる液晶配向膜を形成することができ、その結果、得られる液晶レンズ層の配向均一性を高めることができる。
【００４８】
また、液晶レンズ層１４の裏面側、すなわち、透明基板１２の表面上等に形成される液晶配向膜１６についても、感放射線性液晶配向剤により形成されることが好ましい。液晶レンズ層１４の裏面に積層される液晶配向膜も、感放射線性液晶配向剤により形成することにより、液晶レンズ層１４の配向均一性をさらに高めることができ、その結果、当該光指向性制御ユニットを備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの解像度等の表示精度をさらに向上させることができる。
【００４９】
＜感放射線性液晶配向剤＞
液晶配向膜１５は、感放射線性液晶配向剤（以下、単に「液晶配向剤」ともいう。）から形成される。感放射線性液晶配向剤から形成されることによって、レンチキュラー層の微細な凹凸表面に形成され、ラビング処理によっては配向性を高めることが困難であると考えられる液晶配向膜１５でも、配向膜形成分子の配向性を高めることができ、その結果、得られる液晶レンズ層１４の配向均一性を向上させることができる。従って、当該光指向性制御ユニットを備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの解像度等の表示精度をさらに向上させることができる。液晶配向膜１６も、感放射線性液晶配向剤から形成することができる。液晶レンズ層１４の両面側に積層させる一対の液晶配向膜１５、１６をどちらも感放射線性液晶配向剤を用い、かつ同一の偏光放射線によって配向させると、一対の液晶配向膜１５、１６の両膜における配向膜形成分子の配向方向の高いレベルで一致させることができ、その結果、得られる液晶レンズ層１４の配向均一性をさらに高めることができるため好ましい。
【００５０】
上記液晶配向剤としては、感放射線性である限り特に限定されず、種々の液晶配向剤を用いることができ、例えば、特開平９−２９７３１３号公報に記載されている特定のポリイミド樹脂を含有するもの、特開平６−２８７４５３号公報に記載されている光化学的異性化／二量化を起こすことができる分子単位を有するポリマーを含有するもの等が挙げられる。
【００５１】
上記液晶配向剤としては、光配向性基を有する無機高分子を含有する液晶配向剤が好ましい。光配向性基を有する無機高分子を含有する液晶配向剤を用いることにより、液晶配向性能及び熱安定性に優れる液晶配向膜を形成することができる。
【００５２】
また、上記光配向性基を有する無機高分子を含有する液晶配向剤の中でも［Ａ］光配向性基を有するポリオルガノシロキサンを含有する液晶配向剤がより好ましい。上記液晶配向剤が［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンを含有することで、さらに、透明性に優れる液晶配向膜を形成することができ、高感度の光配向性により配向に必要な光照射量を低減することができる。焼成温度を低くすることができるので用いる基板の選択の幅を広げることができ、さらに、放射線照射中及び照射後の加熱工程が不要なため効率よく液晶配向膜を形成することができる。
【００５３】
［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンを含有する液晶配向剤は、［Ｂ］他の重合体、［Ｃ］エステル構造含有化合物を含有することが好ましく、さらに本発明の効果を損なわない限り、その他の任意成分を含有してもよい。以下、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン、［Ｂ］他の重合体、［Ｃ］エステル構造含有化合物及び任意成分について詳述する。
【００５４】
＜［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン＞
［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンは、主鎖としてのポリオルガノシロキサン、その加水分解物及びその加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種に由来する部分に、光配向性基が導入されている。光配向性基により、光配向の感度が良好となり、低光照射量を実現でき、また液晶配向膜の液晶配向性に優れる。また、主鎖としてポリオルガノシロキサンを採用しているので、上記液晶配向剤から形成される液晶配向膜は、優れた化学的安定性・熱的安定性を有する。
【００５５】
光配向性基としては、光配向性を示す種々の化合物由来の基を採用でき、例えばアゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含有するアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含有する桂皮酸構造を有する基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含有するカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含有するベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として有するクマリン含有基等が挙げられる。これらの光配向性基のうち、高い配向能と導入の容易性を考慮すると、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含有する桂皮酸構造を有する基が好ましい。
【００５６】
桂皮酸構造を有する基の構造は、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含有していれば特に限定されないが、上記特定桂皮酸誘導体に由来する基が好ましい。なお、Ｒ１は、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。このフェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基及びシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基若しくは炭素数１〜１０のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基で置換されていてもよい。Ｒ２は、単結合、炭素数１〜３のアルカンジイル基、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。ａは、０〜３の整数である。但し、ａが２以上の場合、複数のＲ１及びＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３はフッ素原子又はシアノ基である。ｂは０〜４の整数である。
【００５７】
上記式（１）で表される化合物としては例えば下記式で表される化合物が挙げられる。
【００５８】
【化２】
2012020628.tif 000004
【００５９】
これらのうちＲ１としては、無置換のフェニレン基、又はフッ素原子若しくは炭素数１〜３のアルキル基で置換されたフェニレン基が好ましい。Ｒ２は単結合、酸素原子又は−ＣＨ２＝ＣＨ２−が好ましい。ｂは０〜１が好ましい。ａが１〜３のときはｂが０であることが特に好ましい。
【００６０】
上記式（２）中、Ｒ４はフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。このフェニレン基又はシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部は、炭素数１〜１０の鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜１０の鎖状若しくは環状のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基で置換されていてもよい。Ｒ５は単結合、炭素数１〜３のアルカンジイル基、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−である。ｃは１〜３の整数である。但し、ｃが２以上の場合、複数のＲ４及びＲ５はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ６はフッ素原子又はシアノ基である。ｄは０〜４の整数である。Ｒ７は酸素原子、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。Ｒ８は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基又は２価の縮合環式基である。Ｒ９は単結合、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）ｆ−＊又は−Ｏ（ＣＨ２）ｇ−＊である。＊は、カルボキシル基との結合部位を示す。ｆ及びｇはそれぞれ１〜１０の整数である。ｅは０〜３の整数である。但し、ｅが２以上の場合、複数のＲ７及びＲ８はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００６１】
上記式（２）で表される化合物としては、例えば下記式（２−１）〜（２−２）で表される化合物が挙げられる。
【００６２】
【化３】
2012020628.tif 000005
（式中、Ｑは炭素数１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基、炭素数１〜１０の鎖状又は環状のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基である。ｆは、式（２）と同義である。）
【００６３】
特定桂皮酸誘導体の合成手順は特に限定されず、従来公知の方法を組み合わせて行うことができる。代表的な合成手順としては、例えば、（ｉ）塩基性条件下、ハロゲン原子で置換されたベンゼン環骨格を有する化合物と、アクリル酸とを遷移金属触媒存在下で反応させて特定桂皮酸誘導体を得る方法、（ｉｉ）塩基性条件下、ベンゼン環の水素原子がハロゲン原子で置換された桂皮酸と、ハロゲン原子で置換されたベンゼン環骨格を有する化合物とを遷移金属触媒存在下で反応させて特定桂皮酸誘導体とする方法等が挙げられる。
【００６４】
［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンに主鎖として含まれるポリオルガノシロキサン、その加水分解物及びその加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種に由来する部分としては、それ自体に上記光配向性基を導入し得る構造に由来した部分を有する限り特に限定されない。［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンは、このようなポリオルガノシロキサン、その加水分解物、その加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種に由来する部分と、上記光配向性を示す化合物に由来する基とを有する。
【００６５】
上記光配向性基を導入し得る構造としては、例えば水酸基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、エステル基、アミド基等が挙げられる。この中でも、導入及び調製の容易性を考慮すると、エポキシ基が好ましい。
【００６６】
［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンは、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式（１）及び／又は（２）で表される化合物との反応生成物であることが好ましい。上記液晶配向剤において、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと特定桂皮酸誘導体との間の反応性を利用することにより、主鎖としてのポリオルガノシロキサンに光配向性を有する特定桂皮酸誘導体に由来する基を容易に導入することができる。
【００６７】
上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサンに側鎖としてエポキシ基が導入されていれば特に限定されない。上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの加水分解物であってもよく、その加水分解物の縮合物であってもよい。上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンとしては、下記式（３）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物及びその加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００６８】
【化４】
2012020628.tif 000006
（式（３）中、Ｘ１はエポキシ基を有する１価の有機基である。Ｙ１は水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基である。）
【００６９】
なお、上記式（３）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサンの加水分解縮合物は、そのポリオルガノシロキサン同士の加水分解縮合物だけでなく、上記式（３）で表される構造単位の加水分解縮合によりポリオルガノシロキサンが生成される過程において、主鎖の枝分かれや架橋等が生じて得られるポリオルガノシロキサンが上記式（３）で表される構造単位を有する場合の加水分解縮合物をも含む概念である。
【００７０】
上記式（３）におけるＸ１は、エポキシ基を有する１価の有機基であれば特に限定されず、例えばグリシジル基、グリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基を含む基等が挙げられる。Ｘ１としては、下記式（Ｘ１−１）又は（Ｘ１−２）で表されることが好ましい。
【００７１】
【化５】
2012020628.tif 000007
（式（Ｘ１−１）中、Ａは酸素原子又は単結合である。ｈは１〜３の整数である。ｉは０〜６の整数である。但し、ｉが０の場合、Ａは単結合である。
式（Ｘ１−２）中、ｊは１〜６の整数である。
式（Ｘ１−１）及び（Ｘ１−２）中、＊はそれぞれ結合手であることを示す。）
【００７２】
さらに上記式（Ｘ１−１）又は（Ｘ１−２）で表されるエポキシ基のうち、下記式（Ｘ１−１−１）又は（Ｘ１−２−１）で表される基が好ましい。
【００７３】
【化６】
2012020628.tif 000008
（式（Ｘ１−１−１）又は式（Ｘ１−２−１）中、＊は結合手であることを示す。）
【００７４】
上記式（３）中のＹ１において、
炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等；
炭素数１〜２０のアルキル基として、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基等；
炭素数６〜２０のアリール基としては、例えばフェニル基等が挙げられる。
【００７５】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、５００〜１００，０００が好ましく、１，０００〜１０，０００がより好ましく、１，０００〜５，０００が特に好ましい。
なお、本明細書におけるＭｗは、下記仕様のＧＰＣにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム：東ソー製、ＴＳＫｇｅｌＧＲＣＸＬＩＩ
溶媒：テトラヒドロフラン
温度：４０℃
圧力：６．８ＭＰａ
【００７６】
このようなエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、好ましくはエポキシ基を有するシラン化合物、又はエポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物の混合物を、好ましくは適当な有機溶媒、水及び触媒の存在下において加水分解又は加水分解・縮合することにより合成できる。
【００７７】
上記エポキシ基を有するシラン化合物としては、例えば３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００７８】
上記他のシラン化合物としては、例えばテトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、トリクロロシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−ｎ−プロポキシシラン、トリ−ｉ−プロポキシシラン、トリ−ｎ−ブトキシシラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フルオロトリクロロシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−ｎ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｉ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｎ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリクロロシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリメトキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリエトキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、２−（トリフルオロメチル）エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリクロロシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシル）エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリクロロシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリメトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリエトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリクロロシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリクロロシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリクロロシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ−ｎ−プロポキシシラン、アリルトリ−ｉ−プロポキシシラン、アリルトリ−ｎ−ブトキシシラン、アリルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルジクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジ−ｎ−プロポキシシラン、メチルジ−ｉ−プロポキシシラン、メチルジ−ｎ−ブトキシシラン、メチルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ジメチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジクロロシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジメトキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジエメトキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジ−ｎ−プロポキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジ−ｉ−プロポキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジ−ｎ−ブトキシシラン、（メチル）〔２−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）エチル〕ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジクロロシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジメトキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジエトキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジ−ｎ−プロポキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジ−ｉ−プロポキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジ−ｎ−ブトキシシラン、（メチル）（３−メルカプトプロピル）ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジクロロシラン、（メチル）（ビニル）ジメトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジエトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ−ｎ−プロポキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ−ｉ−プロポキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ−ｎ−ブトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジビニルジ−ｉ−プロポキシシラン、ジビニルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジビニルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、ジフェニルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、クロロジメチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン、ヨードトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ｎ−プロポキシトリメチルシラン、ｉ−プロポキシトリメチルシラン、ｎ−ブトキシトリメチルシラン、ｓｅｃ−ブトキシトリメチルシラン、ｔ−ブトキシトリメチルシラン、（クロロ）（ビニル）ジメチルシラン、（メトキシ）（ビニル）ジメチルシラン、（エトキシ）（ビニル）ジメチルシラン、（クロロ）（メチル）ジフェニルシラン、（メトキシ）（メチル）ジフェニルシラン、（エトキシ）（メチル）ジフェニルシラン等のケイ素原子を１個有するシラン化合物等が挙げられる。
【００７９】
市販品としては、例えば
ＫＣ−８９、ＫＣ−８９Ｓ、Ｘ−２１−３１５３、Ｘ−２１−５８４１、Ｘ−２１−５８４２、Ｘ−２１−５８４３、Ｘ−２１−５８４４、Ｘ−２１−５８４５、Ｘ−２１−５８４６、Ｘ−２１−５８４７、Ｘ−２１−５８４８、Ｘ−２２−１６０ＡＳ、Ｘ−２２−１７０Ｂ、Ｘ−２２−１７０ＢＸ、Ｘ−２２−１７０Ｄ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｂ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｆ、Ｘ−４０−２３０８、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、Ｘ−４０−２６７１、Ｘ−４０−２６７２、Ｘ−４０−９２２０、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２４７、Ｘ−４０−９２５０、Ｘ−４０−９３２３、Ｘ−４１−１０５３、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１０、ＫＦ６００１、ＫＦ６００２、ＫＦ６００３、ＫＲ２１２、ＫＲ−２１３、ＫＲ−２１７、ＫＲ２２０Ｌ、ＫＲ２４２Ａ、ＫＲ２７１、ＫＲ２８２、ＫＲ３００、ＫＲ３１１、ＫＲ４０１Ｎ、ＫＲ５００、ＫＲ５１０、ＫＲ５２０６、ＫＲ５２３０、ＫＲ５２３５、ＫＲ９２１８、ＫＲ９７０６（以上、信越化学工業製）；
グラスレジン（昭和電工製）；
ＳＨ８０４、ＳＨ８０５、ＳＨ８０６Ａ、ＳＨ８４０、ＳＲ２４００、ＳＲ２４０２、ＳＲ２４０５、ＳＲ２４０６、ＳＲ２４１０、ＳＲ２４１１、ＳＲ２４１６、ＳＲ２４２０（以上、東レ・ダウコーニング製）；
ＦＺ３７１１、ＦＺ３７２２（以上、日本ユニカー製）；
ＤＭＳ−Ｓ１２、ＤＭＳ−Ｓ１５、ＤＭＳ−Ｓ２１、ＤＭＳ−Ｓ２７、ＤＭＳ−Ｓ３１、ＤＭＳ−Ｓ３２、ＤＭＳ−Ｓ３３、ＤＭＳ−Ｓ３５、ＤＭＳ−Ｓ３８、ＤＭＳ−Ｓ４２、ＤＭＳ−Ｓ４５、ＤＭＳ−Ｓ５１、ＤＭＳ−２２７、ＰＳＤ−０３３２、ＰＤＳ−１６１５、ＰＤＳ−９９３１、ＸＭＳ−５０２５（以上、チッソ製）；
メチルシリケートＭＳ５１、メチルシリケートＭＳ５６（以上、三菱化学製）；
エチルシリケート２８、エチルシリケート４０、エチルシリケート４８（以上、コルコート製）；
ＧＲ１００、ＧＲ６５０、ＧＲ９０８、ＧＲ９５０（以上、昭和電工製）等の部分縮合物が挙げられる。
【００８０】
これらの他のシラン化合物のうち、得られる液晶配向膜の配向性及び化学的安定性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン又はジメチルジエトキシシランが好ましい。
【００８１】
本発明に用いられるエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、光配向性を有する側鎖を充分な量で導入しつつ、エポキシ基の導入量が過剰となることによる意図しない副反応等を抑制するために、そのエポキシ当量としては１００ｇ／モル〜１０，０００ｇ／モルが好ましく、１５０ｇ／モル〜１，０００ｇ／モルがより好ましい。従って、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成するにあたっては、エポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物との使用割合を、得られるポリオルガノシロキサンのエポキシ当量が上記の範囲となるように調製することが好ましい。
【００８２】
具体的には、このような他のシラン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと他のシラン化合物との合計に対して０質量％〜５０質量％用いることが好ましく、５質量％〜３０質量％用いることがより好ましい。
【００８３】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成するにあたって使用することのできる有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、ケトン化合物、エステル化合物、エーテル化合物、アルコール化合物等が挙げられる。
【００８４】
上記炭化水素化合物としては、例えばトルエン、キシレン等；上記ケトンとしては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−アミルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等；上記エステルとしては、例えば酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、乳酸エチル等；上記エーテルとしては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等；上記アルコールとしては、例えば１−ヘキサノール、４−メチル−２−ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル等が挙げられる。これらのうち非水溶性のものが好ましい。これらの有機溶媒は、単独で又は２種以上を混合して使用できる。
【００８５】
有機溶媒の使用量としては、全シラン化合物１００質量部に対して、１０質量部〜１０，０００質量部が好ましく、５０質量部〜１，０００質量部がより好ましい。また、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを製造する際の水の使用量としては、全シラン化合物に対して、０．５倍モル〜１００倍モルが好ましく、１倍モル〜３０倍モルがより好ましい。
【００８６】
上記触媒としては例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物等を用いることができる。
【００８７】
上記アルカリ金属化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド等が挙げられる。
【００８８】
上記有機塩基としては、例えば
エチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロール等の１〜２級有機アミン；
トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセン等の３級の有機アミン；
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の４級の有機アンモニウム塩等が挙げられる。これらの有機塩基のうち、反応が穏やかに進行する点を考慮して、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の３級の有機アミン；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の４級の有機アンモニウム塩が好ましい。
【００８９】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを製造する際の触媒としては、アルカリ金属化合物又は有機塩基が好ましい。アルカリ金属化合物又は有機塩基を触媒として用いることにより、エポキシ基の開環等の副反応を生じることなく、高い加水分解・縮合速度で目的とするポリオルガノシロキサンを得ることができることになり、生産安定性に優れることとなって好ましい。また、触媒としてアルカリ金属化合物又は有機塩基を用いて合成されたエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと特定桂皮酸誘導体との反応生成物を含有する上記感放射線性液晶配向剤は、保存安定性が極めて優れるため好都合である。
【００９０】
その理由は、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗｓ、９５巻、ｐ１４０９（１９９５年）に指摘されているように、加水分解、縮合反応において触媒としてアルカリ金属化合物又は有機塩基を用いると、ランダム構造、はしご型構造又はかご型構造が形成され、シラノール基の含有割合が少ないポリオルガノシロキサンが得られるためではないかと推察される。シラノール基の含有割合が少ないため、シラノール基同士の縮合反応が抑えられ、さらに、本発明の有機半導体配向用組成物が後述の他の重合体を含有するものである場合には、シラノール基と他の重合体との縮合反応が抑えられるため、保存安定性に優れる結果になるものと推察される。
【００９１】
触媒としては、特に有機塩基が好ましい。有機塩基の使用量は、有機塩基の種類、温度等の反応条件等により異なり、適宜に設定することができる。有機塩基の具体的な使用量としては、例えば全シラン化合物に対して、好ましくは０．０１倍モル〜３倍モルであり、より好ましくは０．０５倍モル〜１倍モルである。
【００９２】
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを製造する際の加水分解又は加水分解・縮合反応は、エポキシ基を有するシラン化合物と必要に応じて他のシラン化合物とを有機溶媒に溶解し、この溶液を有機塩基及び水と混合して、例えば油浴等により加熱することにより実施することが好ましい。
【００９３】
加水分解・縮合反応時には、油浴の加熱温度を好ましくは１３０℃以下、より好ましくは４０℃〜１００℃として、好ましくは０．５時間〜１２時間、より好ましくは１時間〜８時間加熱するのが望ましい。加熱中は、混合液を撹拌してもよいし、還流下に置いてもよい。
【００９４】
反応終了後、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。この洗浄に際しては、洗浄操作が容易になる点で、少量の塩を含む水、例えば０．２質量％程度の硝酸アンモニウム水溶液等で洗浄することが好ましい。洗浄は洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブス等の乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを得ることができる。
【００９５】
本発明においては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンとして市販されているものを用いてもよい。このような市販品としては、例えばＤＭＳ−Ｅ０１、ＤＭＳ−Ｅ１２、ＤＭＳ−Ｅ２１、ＥＭＳ−３２（以上、チッソ製）等が挙げられる。
【００９６】
［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン化合物は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン自体が加水分解されて生じる加水分解物に由来する部分や、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン同士が加水分解縮合した加水分解縮合物に由来する部分を含んでいてもよい。上記部分の構成材料であるこれらの加水分解物や加水分解縮合物もエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの加水分解ないし縮合条件と同様に調製することができる。
【００９７】
＜［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンの合成方法＞
本発明で使用される［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンは、例えば上記のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと特定桂皮酸誘導体とを、好ましくは触媒の存在下に反応させることにより合成できる。
【００９８】
ここで特定桂皮酸誘導体の使用量としては、ポリオルガノシロキサンの有するエポキシ基１モルに対して０．００１モル〜１０モルが好ましく、０．０１モル〜５モルがより好ましく、０．０５モル〜２モルが特に好ましい。
【００９９】
上記触媒としては、有機塩基、又はエポキシ化合物と酸無水物との反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物を用いることができる。上記有機塩基としては、例えば上述したものと同様のものが挙げられる。
【０１００】
上記硬化促進剤としては、例えば
ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエタノールアミン等の３級アミン；
２−メチルイミダゾール、２−ｎ−ヘプチルイミダゾール、２−ｎ−ウンデシルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−メチルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−ｎ−ウンデシルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジ（ヒドロキシメチル）イミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−フェニル−４，５−ジ〔（２’−シアノエトキシ）メチル〕イミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−ｎ−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、１−（２−シアノエチル）−２−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾリウムトリメリテート、２，４−ジアミノ−６−〔２’−メチルイミダゾリル−（１’）〕エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−（２’−ｎ−ウンデシルイミダゾリル）エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−〔２’−エチル−４’−メチルイミダゾリル−（１’）〕エチル−ｓ−トリアジン、２−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、２−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、及び２，４−ジアミノ−６−〔２’−メチルイミダゾリル−（１’）〕エチル−ｓ−トリアジンのイソシアヌル酸付加物等のイミダゾール化合物；
ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、亜リン酸トリフェニル等の有機リン化合物；
ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムブロマイド、メチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、テトラフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムｏ，ｏ−ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムベンゾトリアゾレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムテトラフルオロボレート、テトラ−ｎ−ブチルフォスフォニウムテトラフェニルボレート等の４級フォスフォニウム塩；
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７やその有機酸塩等のジアザビシクロアルケン；
オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体等の有機金属化合物；
テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩；
三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニル等のホウ素化合物；
塩化亜鉛、塩化第二錫等の金属ハロゲン化合物；
ジシアンジアミドやアミンとエポキシ樹脂との付加物等のアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤；
上記イミダゾール化合物、有機リン化合物や４級フォスフォニウム塩等の硬化促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤；
アミン塩型潜在性硬化促進剤；
ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等の潜在性硬化促進剤等が挙げられる。
【０１０１】
これらの触媒の中でも、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩が好ましい。
【０１０２】
触媒の使用量としては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１００質量部に対して１００質量部以下が好ましく、０．０１質量部〜１００質量部がより好ましく、０．１質量部〜２０質量部が特に好ましい。
【０１０３】
反応温度としては、０℃〜２００℃が好ましく、５０℃〜１５０℃がより好ましい。反応時間としては、０．１時間〜５０時間が好ましく、０．５時間〜２０時間がより好ましい。
【０１０４】
［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンは、必要に応じて有機溶媒の存在下に合成できる。かかる有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アミド化合物、アルコール化合物等が挙げられる。これらのうち、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物が、原料及び生成物の溶解性並びに生成物の精製のし易さの観点から好ましい。溶媒は、固形分濃度（反応溶液中の溶媒以外の成分の質量が溶液の全質量に占める割合）が、好ましくは０．１質量％以上７０質量％以下、より好ましくは５質量％以上５０質量％以下となる量で使用される。
【０１０５】
このようにして得られた［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンのＭｗとしては、特に限定されないが、１，０００〜２０，０００が好ましく、３，０００〜１５，０００がより好ましい。このような分子量範囲とすることで、液晶配向膜の良好な配向性及び安定性を確保できる。
【０１０６】
［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンは、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンに、特定桂皮酸誘導体のカルボキシル基のエポキシへの開環付加により特定桂皮酸誘導体に由来する構造を導入している。この製造方法は簡便であり、しかも特定桂皮酸誘導体に由来する構造の導入率を高くすることができる点で極めて好適な方法である。
【０１０７】
本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲で上記特定桂皮酸誘導体の一部を下記式（４）で表される化合物で置き換えて使用してもよい。この場合、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン化合物の合成は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、特定桂皮酸誘導体及び下記式（４）で表される化合物の混合物とを反応させることにより行われる。
【０１０８】
【化７】
2012020628.tif 000009
【０１０９】
上記式（４）におけるＲ１０としては、炭素数８〜２０のアルキル基若しくはアルコキシ基、又は炭素数４〜２１のフルオロアルキル基若しくはフルオロアルコキシ基であることが好ましい。Ｒ１１としては、単結合、１，４−シクロヘキシレン基又は１，４−フェニレン基であることが好ましい。Ｒ１２としてはカルボキシル基であることが好ましい。
【０１１０】
上記式（４）で表される化合物としては、例えば下記式（４−１）〜式（４−３）で表される化合物が挙げられる。
【０１１１】
【化８】
2012020628.tif 000010
【０１１２】
上記式（４）で表される化合物は、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンの活性部位を失活させて上記液晶配向剤の安定性向上に寄与し得る。本発明において、特定桂皮酸誘導体とともに上記式（４）で表される化合物を使用する場合、特定桂皮酸誘導体及び上記式（４）で表される化合物の合計の使用割合としては、ポリオルガノシロキサンの有するエポキシ基１モルに対して０．００１モル〜１．５モルが好ましく、０．０１モル〜１モルがより好ましく、０．０５モル〜０．９モルが特に好ましい。この場合、上記式（４）で表される化合物の使用量としては、特定桂皮酸誘導体との合計に対して５０モル％以下が好ましく、２５モル％以下がより好ましい。上記式（４）で表される化合物の使用割合が５０モル％を超えると、液晶配向膜における配向性が低下する不具合を生じるおそれがある。
【０１１３】
＜［Ｂ］他の重合体＞
上記液晶配向剤は、好適成分として［Ｂ］他の重合体を含有できる。［Ｂ］他の重合体としては、ポリアミック酸、ポリイミド、エチレン性不飽和化合物重合体、光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンからなる群より選択される少なくとも１種が挙げられる。これら［Ｂ］他の重合体を含有する場合、上記液晶配向剤から形成される液晶配向膜においては、その表層付近に光配向性ポリオルガノシロキサンが偏在することが明らかとなっている。この為、他の重合体の含有量を増やすことにより上記液晶配向剤中における光配向性ポリオルガノシロキサンの含有量を減らしても、光配向性ポリオルガノシロキサンは配向膜表面に偏在するので、十分な液晶配向性が得られる。従って、本発明では製造コストの高い光配向性ポリオルガノシロキサンの上記液晶配向剤中における含有量を減らすことが可能となり、結果として上記液晶配向剤の製造コストを低下できる。
【０１１４】
［ポリアミック酸］
ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させることにより得られる。
【０１１５】
テトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【０１１６】
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【０１１７】
脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、３−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン）、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、３，５，６−トリカルボキシ−２−カルボキシメチルノルボルナン−２：３，５：６−二無水物、２，４，６，８−テトラカルボキシビシクロ［３．３．０］オクタン−２：４，６：８−二無水物、４，９−ジオキサトリシクロ［５．３．１．０２，６］ウンデカン−３，５，８，１０−テトラオン等が挙げられる。
【０１１８】
芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物等が挙げられる他、特開２０１０−９７１８８号に記載のテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【０１１９】
これらのテトラカルボン酸二無水物のうち、脂環式テトラカルボン酸二無水物が好ましく、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物又は１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物がより好ましく、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物が特に好ましい。
【０１２０】
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物又は１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物の使用量としては、全テトラカルボン酸二無水物に対して、１０モル％以上が好ましく、２０モル％以上がより好ましく、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物又は１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物のみからなることが、特に好ましい。
【０１２１】
ジアミン化合物としては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。これらジアミン化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【０１２２】
脂肪族ジアミンとしては、例えばメタキシリレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。
【０１２３】
脂環式ジアミンとしては、例えば１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン等が挙げられる。
【０１２４】
芳香族ジアミンとしては、例えばｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、３，６−ジアミノアクリジン、３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−メチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−エチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−フェニル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−ベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチルベンジジン、１，４−ビス−（４−アミノフェニル）−ピペラジン、３，５−ジアミノ安息香酸、ドデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−２，５−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−３，５−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−３，５−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、３，５−ジアミノ安息香酸コレスタニル、３，５−ジアミノ安息香酸コレステニル、３，５−ジアミノ安息香酸ラノスタニル、３，６−ビス（４−アミノベンゾイルオキシ）コレスタン、３，６−ビス（４−アミノフェノキシ）コレスタン、４−（４’−トリフルオロメトキシベンゾイロキシ）シクロヘキシル−３，５−ジアミノベンゾエート、４−（４’−トリフルオロメチルベンゾイロキシ）シクロヘキシル−３，５−ジアミノベンゾエート、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−ブチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−ヘプチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェノキシ）メチル）フェニル）−４−ヘプチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−（４−ヘプチルシクロヘキシル）シクロヘキサン、２，４−ジアミノーＮ，Ｎ―ジアリルアニリン、４−アミノベンジルアミン、３−アミノベンジルアミン及び下記式（Ａ−１）で表されるジアミン化合物等が挙げられる。
【０１２５】
【化９】
2012020628.tif 000011
（式（Ａ−１）中、ＸＩは炭素数１〜３のアルキル基、＊−Ｏ−、＊−ＣＯＯ−又は＊−ＯＣＯ−である。但し、＊を付した結合手がジアミノフェニル基と結合する。ｒは０又は１である。ｓは０〜２の整数である。ｔは１〜２０の整数である。）
【０１２６】
ジアミノオルガノシロキサンとしては、例えば、１，３−ビス（３−アミノプロピル）−テトラメチルジシロキサン等が挙げられる他、特開２０１０−９７１８８号に記載のジアミンが挙げられる。
【０１２７】
ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の使用割合としては、ジアミン化合物に含まれるアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２当量〜２当量が好ましく、０．３当量〜１．２当量がより好ましい。
【０１２８】
合成反応は、有機溶媒中において行うことが好ましい。反応温度としては、−２０℃〜１５０℃が好ましく、０℃〜１００℃がより好ましい。反応時間としては、０．５時間〜２４時間が好ましく、２時間〜１２時間がより好ましい。
【０１２９】
有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール系溶媒が挙げられる。
【０１３０】
有機溶媒の使用量（ａ）としては、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の総量（ｂ）と有機溶媒の使用量（ａ）の合計（ａ＋ｂ）に対して、０．１質量％〜５０質量％が好ましく、５質量％〜３０質量％がより好ましい。
【０１３１】
反応後に得られるポリアミック酸溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離した上で液晶配向剤の調製に供してもよく、単離したポリアミック酸を精製した上で液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸の単離方法としては、例えば反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで得られる析出物を減圧下乾燥する方法、反応溶液をエバポレーターで減圧留去する方法等が挙げられる。ポリアミック酸の精製方法としては、単離したポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解し、貧溶媒で析出させる方法、エバポレーターで有機溶媒等を減圧留去する工程を１回若しくは複数回行う方法が挙げられる。
【０１３２】
［ポリイミド］
ポリイミドは、上記ポリアミック酸の有するアミック酸構造を脱水閉環してイミド化することにより製造できる。ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有しているアミック酸構造の全てを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存している部分イミド化物であってもよい。
【０１３３】
ポリイミドの合成方法としては、例えば（ｉ）ポリアミック酸を加熱する方法（以下、「方法（ｉ）」と称することがある）、（ｉｉ）ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し、必要に応じて加熱する方法（以下、「方法（ｉｉ）」と称することがある）等のポリアミック酸の脱水閉環反応による方法が挙げられる。
【０１３４】
方法（ｉ）における反応温度としては、５０℃〜２００℃が好ましく、６０℃〜１７０℃がより好ましい。反応温度が５０℃未満では、脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が２００℃を超えると得られるポリイミドの分子量が低下することがある。反応時間としては、０．５時間〜４８時間が好ましく、２時間〜２０時間がより好ましい。
【０１３５】
方法（ｉ）において得られるポリイミドはそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離した上で液晶配向剤の調製に供してもよく又は単離したポリイミドを精製した上で又は得られるポリイミドを精製した上で液晶配向剤の調製に供してもよい。
【０１３６】
方法（ｉｉ）における脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物が挙げられる。
【０１３７】
脱水剤の使用量としては、所望のイミド化率により適宜選択されるが、ポリアミック酸のアミック酸構造１モルに対して０．０１モル〜２０モルが好ましい。
【０１３８】
方法（ｉｉ）における脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等が挙げられる。
【０１３９】
脱水閉環触媒の使用量としては、含有する脱水剤１モルに対して０．０１モル〜１０モルが好ましい。なお、イミド化率は上記脱水剤及び脱水閉環剤の含有量が多いほど高くできる。
【０１４０】
方法（ｉｉ）に用いられる有機溶媒としては、例えばポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒と同様の有機溶媒等が挙げられる。
【０１４１】
方法（ｉｉ）における反応温度としては、０℃〜１８０℃が好ましく、１０℃〜１５０℃がより好ましい。反応時間としては、０．５時間〜２０時間が好ましく、１時間〜８時間がより好ましい。反応条件を上記範囲とすることで、脱水閉環反応が十分に進行し、また、得られるポリイミドの分子量を適切なものとできる。
【０１４２】
方法（ｉｉ）においてはポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液をそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離した上で液晶配向剤の調製に供してもよく又は単離したポリイミドを精製した上で液晶配向剤の調製に供してもよい。反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除く方法としては、例えば溶媒置換の方法等が挙げられる。ポリイミドの単離方法及び精製方法としては、例えばポリアミック酸の単離方法及び精製方法として例示したものと同様の方法等が挙げられる。
【０１４３】
［エチレン性不飽和化合物重合体］
［Ｂ］他の重合体としてのエチレン性不飽和化合物重合体は、公知のエチレン性不飽和化合物を公知の方法で重合させることにより得られる。例えば、（ａ）エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物（以下、「（ａ）不飽和化合物」と称することがある）と（ｂ１）エチレン性不飽和カルボン酸及び／又は重合性不飽和多価カルボン酸無水物（以下、「（ｂ１）不飽和化合物」と称することがある）と（ａ）不飽和化合物及び（ｂ１）不飽和化合物以外の重合性不飽和化合物（以下、「（ｂ２）不飽和化合物」と称することがある）とを共重合することで得られる。（この共重合により得られる共重合体を、以下、「（Ｂ１）共重合体」と称することがある）
【０１４４】
（ａ）不飽和化合物としては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、α−エチルアクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル等が挙げられる。
【０１４５】
（ｂ１）不飽和化合物としては、例えば
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−エチルアクリル酸、α−ｎ−プロピルアクリル酸、α−ｎ−ブチルアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類；
無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物等の不飽和多価カルボン酸無水物類等が挙げられる。
【０１４６】
（ｂ２）不飽和化合物としては、例えば
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類；
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；
（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル（以下、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルを「ジシクロペンタニル」という。）、（メタ）アクリル酸２−ジシクロペンタニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸イソボロニル等の（メタ）アクリル酸脂環式エステル類；
（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ベンジル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル類；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等の不飽和ジカルボン酸ジエステル類；
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジル）マレイミド等の不飽和ジカルボニルイミド誘導体；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の不飽和アミド化合物；
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物；
インデン、１−メチルインデン等のインデン誘導体類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等の共役ジエン系化合物の他、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等が挙げられる。
【０１４７】
（Ｂ１）共重合体において、（ａ）不飽和化合物に由来する構造単位の含有率としては、全構造単位に対して、１０質量％〜７０質量％が好ましく、２０質量％〜６０質量％がより好ましく、（ｂ１）不飽和化合物に由来する構造単位の合計含有率としては、全構造単位に対して、５質量％〜４０質量％が好ましく、１０質量％〜３０質量％がより好ましく、（ｂ２）不飽和化合物に由来する構造単位の含有率としては、全構造単位に対して、１０質量％〜７０質量％が好ましく、２０質量％〜５０質量％がより好ましい。
【０１４８】
（Ｂ１）共重合体は、各不飽和化合物を、適当な溶媒及び重合開始剤の存在下、例えばラジカル重合によって合成することができる。有機溶媒としては、例えばポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒と同様の有機溶媒等が挙げられる。
【０１４９】
重合開始剤としては、例えば
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；
ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；
過酸化水素；
これらの過酸化物と還元剤とからなるレドックス型開始剤等が挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【０１５０】
［光配向性基を有さないポリオルガノシロキサン］
上記液晶配向剤は、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン以外にも［Ｂ］他の重合体としての光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンをさらに含有していてもよい。光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンとしては、下記式（５）で表される構造単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物及び加水分解物の縮合物よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。なお、上記液晶配向剤が光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンを含む場合、光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンの大部分は、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンとは独立して存在していればその一部は［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンとの縮合物として存在していても良い。
【０１５１】
【化１０】
2012020628.tif 000012
【０１５２】
上記式（５）中、Ｘ２は水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリール基である。Ｙ２は水酸基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基である。
【０１５３】
炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば直鎖状又は分岐状の、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ラウリル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。
【０１５４】
炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基等が挙げられる。
【０１５５】
炭素数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【０１５６】
光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンは、例えばアルコキシシラン化合物及びハロゲン化シラン化合物からなる群より選択される少なくとも１種のシラン化合物（以下、「原料シラン化合物」と称することがある）を、好ましくは適当な有機溶媒中で、水及び触媒の存在下において加水分解又は加水分解・縮合することにより合成できる。
【０１５７】
原料シラン化合物としては、例えば
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラクロロシラン等；
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン等；
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン等；
トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルクロロシラン等が挙げられる。
【０１５８】
これらのうち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン又はトリメチルエトキシシランが好ましい。
【０１５９】
光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンを合成する際に、任意的に使用できる有機溶媒としては、例えば、アルコール化合物、ケトン化合物、アミド化合物、エステル化合物又はその他の非プロトン性化合物が挙げられる。これらは単独で又は２種以上組合せて使用できる。
【０１６０】
光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンの合成に際して使用する水の量としては、原料シラン化合物の有するアルコキシ基及びハロゲン原子の合計１モルに対して、０．０１モル〜１００モルが好ましく、０．１モル〜３０モルがより好ましく、１モル〜１．５モルが特に好ましい。
【０１６１】
光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンの合成に際して使用できる触媒としては、例えば金属キレート化合物、有機酸、無機酸、有機塩基、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アンモニア等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上組合せて使用できる。
【０１６２】
触媒の使用量としては、原料シラン化合物１００質量部に対して０．００１質量部〜１０質量部が好ましく、０．００１質量部〜１質量部がより好ましい。
【０１６３】
光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンの合成に際して添加される水は、原料であるシラン化合物中又はシラン化合物を有機溶媒に溶解した溶液中に、断続的又は連続的に添加できる。触媒は、原料であるシラン化合物中又はシラン化合物を有機溶媒に溶解した溶液中に予め添加しておいてもよく、添加される水中に溶解又は分散させておいてもよい。
【０１６４】
光配向性基を有さないポリオルガノシロキサンの合成の際の反応温度としては、０℃〜１００℃が好ましく、１５℃〜８０℃がより好ましい。反応時間としては、０．５時間〜２４時間が好ましく、１時間〜８時間がより好ましい。
【０１６５】
上記液晶配向剤が、［Ｂ］他の重合体を含有する場合、［Ｂ］他の重合体の含有割合としては、［Ｂ］他の重合体の種類により異なるが、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して１０，０００質量部以下が好ましく、５，０００質量部以下がより好ましく、２，０００質量部以下がさらに好ましい。
【０１６６】
＜［Ｃ］エステル構造含有化合物＞
上記液晶配向剤は［Ｃ］エステル構造含有化合物を含むことにより、耐熱性等に優れる液晶配向膜を形成し得る。また、上記液晶配向剤に［Ｃ］エステル構造含有化合物を含有させることにより、液晶配向膜をより低温で焼成することが可能になるので、液晶配向膜を形成する基板の選択の幅が広がる。
【０１６７】
［Ｃ］エステル構造含有化合物は、分子内にカルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、カルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造及びカルボン酸のｔ−ブチルエステル構造からなる群より選択される１種又は２種以上を有し、この構造が１種の場合は複数有する化合物である。すなわち、［Ｃ］エステル構造含有化合物は、これらの構造のうちの同じ種類の構造を２個以上有する化合物であってもよく、これらの構造のうちの異なる種類の構造を合わせて２個以上有する化合物であってもよい。上記カルボン酸のアセタールエステル構造を含む基としては、下記式（Ｃ−１）及び式（Ｃ−２）で表される基が挙げられる。
【０１６８】
【化１１】
2012020628.tif 000013
（式（Ｃ−１）中、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０の脂環式基、炭素数６〜１０のアリール基又は炭素数７〜１０のアラルキル基である。
式（Ｃ−２）中、ｎ１は２〜１０の整数である。）
【０１６９】
上記式（Ｃ−１）におけるＲ１３において、炭素数１〜２０のアルキル基としてはメチル基が好ましく、炭素数３〜１０の脂環式基としてはシクロヘキシル基が好ましく、炭素数６〜１０のアリール基としてはフェニル基が好ましく、炭素数７〜１０のアラルキル基としてはベンジル基が好ましい。Ｒ１４の炭素数１〜２０のアルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数３〜１０の脂環式基としては炭素数６〜１０の脂環式基が好ましく、炭素数６〜１０のアリール基としてはフェニル基が好ましく、炭素数７〜１０のアラルキル基としてはベンジル基又は２−フェニルエチル基が好ましい。式（Ｃ−２）におけるｎ１としては、３又は４が好ましい。
【０１７０】
上記式（Ｃ−１）で表される基としては、例えば１−メトキシエトキシカルボニル基、１−エトキシエトキシカルボニル基、１−ｎ−プロポキシエトキシカルボニル基、１−ｎ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−ｉ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−ｓｅｃ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−ｔ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基、１−ノルボルニルオキシエトキシカルボニル基、１−フェノキシエトキシカルボニル基、（シクロヘキシル）（メトキシ）メトキシカルボニル基、（シクロヘキシル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシカルボニル基、（シクロヘキシル）（フェノキシ）メトキシカルボニル基、（シクロヘキシル）（ベンジルオキシ）メトキシカルボニル基、（フェニル）（メトキシ）メトキシカルボニル基、（フェニル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシカルボニル基、（フェニル）（フェノキシ）メトキシカルボニル基、（フェニル）（ベンジルオキシ）メトキシカルボニル基、（ベンジル）（メトキシ）メトキシカルボニル基、（ベンジル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシカルボニル基、（ベンジル）（フェノキシ）メトキシカルボニル基、（ベンジル）（ベンジルオキシ）メトキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１７１】
上記式（Ｃ−２）で表される基としては、例えば２−テトラヒドロフラニルオキシカルボニル基、２−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１７２】
これらのうち、１−エトキシエトキシカルボニル基、１−ｎ−プロポキシエトキシカルボニル基、１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基、２−テトラヒドロフラニルオキシカルボニル基、２−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル基が好ましい。
【０１７３】
上記カルボン酸のケタールエステル構造を含む基としては、例えば下記式（Ｃ−３）〜（Ｃ−５）で表される基が挙げられる。
【０１７４】
【化１２】
2012020628.tif 000014
（式（Ｃ−３）中、Ｒ１５は炭素数１〜１２のアルキル基である。Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜２０の脂環式基、炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数７〜２０のアラルキル基である。
式（Ｃ−４）中、Ｒ１８は炭素数１〜１２のアルキル基である。ｎ２は２〜８の整数である。
式（Ｃ−５）中、Ｒ１９は炭素数１〜１２のアルキル基である。ｎ３は２〜８の整数である。）
【０１７５】
上記式（Ｃ−３）におけるＲ１５の炭素数１〜１２のアルキル基としてはメチル基が好ましく、Ｒ１６における炭素数１〜１２のアルキル基としてはメチル基が好ましく、炭素数３〜２０の脂環式基としてはシクロヘキシル基が好ましく、炭素数６〜２０のアリール基としてはフェニル基が好ましく、炭素数７〜２０のアラルキル基としてはベンジル基が好ましい。Ｒ１７における炭素数７〜２０のアルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。炭素数３〜２０の脂環式基としては炭素数６〜１０の脂環式基が好ましい。炭素数６〜２０のアリール基としてはフェニル基が好ましい。炭素数７〜２０のアラルキル基としてはベンジル基又は２−フェニルエチル基が好ましい。式（Ｃ−４）におけるＲ１８の炭素数１〜１２のアルキル基としてはメチル基が好ましい。ｎ２としては３又は４が好ましい。式（Ｃ−５）におけるＲ１９の炭素数１〜１２のアルキル基としてはメチル基が好ましい。ｎ３としては３又は４が好ましい。
【０１７６】
上記式（Ｃ−３）で表される基としては、例えば１−メチル−１−メトキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−ｎ−プロポキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−ｎ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−ｉ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−ｓｅｃ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−ｔ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−ノルボルニルオキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−フェノキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−ベンジルオキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−フェネチルオキシエトキシカルボニル基、１−シクロヘキシル−１−メトキシエトキシカルボニル基、１−シクロヘキシル−１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基、１−シクロヘキシル−１−フェノキシエトキシカルボニル基、１−フェニル−１−メトキシエトキシカルボニル基、１−フェニル−１−エトキシエトキシカルボニル基、１−フェニル−１−フェノキシエトキシカルボニル基、１−フェニル−１−ベンジルオキシエトキシカルボニル基、１−ベンジル−１−メトキシエトキシカルボニル基、１−ベンジル−１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基、１−ベンジル−１−フェノキシエトキシカルボニル基、１−ベンジル−１−ベンジルオキシエトキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１７７】
上記式（Ｃ−４）で表される基としては、例えば２−（２−メチルテトラヒドロフラニル）オキシカルボニル基、２−（２−メチルテトラヒドロピラニル）オキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１７８】
上記式（Ｃ−５）で表される基としては、例えば１−メトキシシクロペンチルオキシカルボニル基、１−メトキシシクロヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１７９】
これらのうち、１−メチル−１−メトキシエトキシカルボニル基、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基が好ましい。
【０１８０】
上記カルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造を含む基としては、例えば下記式（Ｃ−６）で表される基が挙げられる。
【０１８１】
【化１３】
2012020628.tif 000015
（式（Ｃ−６）中、Ｒ２０は炭素数１〜１２のアルキル基である。ｎ４は１〜８の整数である。）
【０１８２】
上記式（Ｃ−６）におけるＲ２０の炭素数１〜１２のアルキル基としては炭素数１〜１０のアルキル基が好ましい。
【０１８３】
上記式（Ｃ−６）で表される基としては、例えば１−メチルシクロプロポキシカルボニル基、１−メチルシクロブトキシカルボニル基、１−メチルシクロペントキシカルボニル基、１−メチルシクロへキシロキシカルボニル基、１−メチルシクロデシロキシカルボニル基、１−エチルシクロブトキシカルボニル基、１−エチルシクロペントキシカルボニル基、１−エチルシクロヘキシロキシカルボニル基、１−エチルシクロデシロキシカルボニル基、１−（イソ）プロピルシクロプロポキシカルボニル基、１−（イソ）プロピルシクロブトキシカルボニル基、１−（イソ）プロピルシクロデシロキシカルボニル基、１−（イソ）ブチルシクロブトキシカルボニル基、１−（イソ）ブチルシクロペントキシカルボニル基、１−（イソ）ブチルシクロヘキシロキシカルボニル基、１−（イソ）ブチルシクロヘプチロキシカルボニル基、１−（イソ）ブチルシクロデシロキシカルボニル基、１−（イソ）ペンチルシクロヘプチロキシカルボニル基、１−（イソ）ペンチルシクロオクチロキシカルボニル基、１−（イソ）ヘキシルシクロプロポキシカルボニル基、１−（イソ）ヘキシルシクロブトキシカルボニル基、１−（イソ）ヘキシルシクロペントキシカルボニル基、１−（イソ）ヘキシルシクロヘキシロキシカルボニル基、１−（イソ）ヘキシルシクロノニロキシカルボニル基、１−（イソ）ヘキシルシクロデシロキシカルボニル基、１−（イソ）オクチルシクロプロポキシカルボニル基、１−（イソ）オクチルシクロブトキシカルボニル基、１−（イソ）オクチルシクロペントキシカルボニル基、１−（イソ）オクチルシクロヘキシロキシカルボニル基、１−（イソ）オクチルシクロヘプチロキシカルボニル基、１−（イソ）オクチルシクロオクチロキシカルボニル基、１−（イソ）オクチルシクロデシロキシカルボニル基等を挙げることができる。
【０１８４】
上記カルボン酸のｔ−ブチルエステル構造を含む基とは、ｔ−ブトキシカルボニル基である。
【０１８５】
本発明における［Ｃ］エステル構造含有化合物としては、下記式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
【０１８６】
ＴｎＲ      （Ｃ）
（式（Ｃ）中、Ｔは上記式（Ｃ−１）〜（Ｃ−６）のいずれかで表される基若しくはｔ−ブトキシカルボニル基であり、ｎが２であってＲが単結合であるか、又はｎが２〜１０の整数であってＲが炭素数３〜１０の複素環化合物から水素を除去して得られるｎ価の基若しくは炭素数１〜１８のｎ価の炭化水素基である。）
【０１８７】
ｎは、２又は３が好ましい。
【０１８８】
上記式（Ｃ）におけるＲとしてはｎが２である場合としては単結合、炭素数１〜１２のアルカンジイル基、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、２，６−ナフタレニル基、５−ナトリウムスルホ−１，３−フェニレン基、５−テトラブチルホスホニウムスルホ−１，３−フェニレン基等が挙げられる。
【０１８９】
ｎが３である場合、上記Ｒとしては下記式で表される基、ベンゼン−１，３，５−トリイル基等が挙げられる。
【０１９０】
【化１４】
2012020628.tif 000016
【０１９１】
上記アルカンジイル基としては、直鎖状が好ましい。
【０１９２】
上記式（Ｃ）で表される［Ｃ］エステル構造含有化合物は、有機化学の定法により、又は有機化学の定法を適宜に組み合わせることにより合成できる。
【０１９３】
例えば上記式（Ｃ）におけるＴが上記式（Ｃ−１）で表される基である化合物（但し、Ｒ１３がフェニル基である場合を除く）は、好ましくはリン酸触媒の存在下で化合物Ｒ−（ＣＯＯＨ）ｎ（但し、Ｒ及びｎは、それぞれ上記式（Ｃ）と同義である）及び化合物Ｒ１４−Ｏ−ＣＨ＝Ｒ１３’（但し、Ｒ１４は上記式（Ｃ−１）と同義である。Ｒ１３’は上記式（Ｃ−１）におけるＲ１３の一位炭素から水素原子を除去して得られる基である）を付加することにより合成できる。
【０１９４】
上記式（Ｃ）におけるＴが上記式（Ｃ−２）で表される基である化合物は、好ましくはｐ−トルエンスルホン酸触媒の存在下で、化合物Ｒ−（ＣＯＯＨ）ｎ（但し、Ｒ及びｎは上記式（Ｃ）と同義である）及び下記式で表される化合物を付加することにより合成できる。
【０１９５】
【化１５】
2012020628.tif 000017
（式中、ｎ１は上記式（Ｃ−２）と同義である。）
【０１９６】
上記液晶配向剤中の［Ｃ］エステル構造含有化合物の含有量としては、要求される耐熱性等を考慮して決めれば特に限定されないが、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して［Ｃ］エステル構造含有化合物０．１質量部〜５０質量部が好ましく、１質量部〜２０質量部がより好ましく、２質量部〜１０質量部が特に好ましい。
【０１９７】
＜その他の任意成分＞
上記液晶配向剤は、上記の他に、本発明の効果を損なわない範囲で硬化剤、硬化触媒、硬化促進剤、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物（以下、「エポキシ化合物」と称することがある）、官能性シラン化合物、界面活性剤、光増感剤等を含有できる。以下、これらのその他の任意成分について詳述する。
【０１９８】
［硬化剤、硬化触媒及び硬化促進剤］
硬化剤及び硬化触媒は、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンの架橋反応をより強固にする目的で上記液晶配向剤に含有できる。また、上記硬化促進剤は、硬化剤の司る硬化反応を促進する目的で上記液晶配向剤に含有できる。
【０１９９】
硬化剤としては、エポキシ基を有する硬化性化合物又はエポキシ基を有する化合物を含有する硬化性組成物の硬化用として一般に用いられている硬化剤を用いることができ、例えば多価アミン、多価カルボン酸無水物、多価カルボン酸等が挙げられる。
【０２００】
多価カルボン酸無水物としては、例えばシクロヘキサントリカルボン酸の無水物及びその他の多価カルボン酸無水物等が挙げられる。シクロヘキサントリカルボン酸無水物としては、例えばシクロヘキサン−１，２，４−トリカルボン酸、シクロヘキサン−１，３，５−トリカルボン酸、シクロヘキサン−１，２，３−トリカルボン酸、シクロヘキサン−１，３，４−トリカルボン酸−３，４−無水物、シクロヘキサン−１，３，５−トリカルボン酸−３，５−無水物、シクロヘキサン−１，２，３−トリカルボン酸−２，３−酸無水物等が挙げられる。
【０２０１】
その他の多価カルボン酸無水物としては、例えば４−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、無水こはく酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水トリメリット酸、下記式（６）で表される化合物、及びポリアミック酸の合成に一般に用いられるテトラカルボン酸二無水物の他、α−テルピネン、アロオシメン等の共役二重結合を有する脂環式化合物と無水マレイン酸とのディールス・アルダー反応生成物及びこれらの水素添加物等が挙げられる。
【０２０２】
【化１６】
2012020628.tif 000018
（式（６）中、ｐは１〜２０の整数である。）
【０２０３】
硬化触媒としては、例えばジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルミニウムアルコレート、アルミニウムキレート等が挙げられる。市販品としては、ＡＭＥＲＩＣＵＲＥ（ＢＦ４）（ＡＣＣ製のジアゾニウム塩）、ＵＬＴＲＡＳＥＴ（ＢＦ４，ＰＦ６）（旭電化工業製のジアゾニウム塩）、ＵＶＥシリーズ（ＧＥ製のヨードニウム塩）、Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ２０７４（（Ｃ６Ｆ６）４Ｂ）（ローヌ・プーラン製のヨードニウム塩）、ＣＹＲＡＣＵＲＥ  ＵＶＩ−６９７４、ＣＹＲＡＣＵＲＥ  ＵＶＩ−６９９０（以上、ＵＣＣ製のスルホニウム塩）、ＵＶＩ−５０８、ＵＶＩ−５０９（以上、ＧＥ製のスルホニウム塩）、ＯＰＴＯＭＥＲ  ＳＰ−１５０、ＯＰＴＯＭＥＲ  ＳＰ−１７０（旭電化工業製のスルホニウム塩）、サンエイド  ＳＩ−６０Ｌ、サンエイド  ＳＩ−８０Ｌ、サンエイド  ＳＩ−１００Ｌ（以上、三新化学工業製のスルホニウム塩）、ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ  ２６１（チバガイギー製のメタロセン化合物）、アルミキレートＡ（Ｗ）（川研ファインケミカル製）等が挙げられる。これらの硬化触媒は、単独でも２種類以上の混合物であってもよい。
【０２０４】
硬化触媒の使用割合としては、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。上記液晶配向剤が硬化触媒を含有する場合、その含有割合としては、上記の［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンと任意的に使用される［Ｂ］他の重合体の合計１００質量部に対して、３０質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。
【０２０５】
これらの硬化触媒のうち、スルホニウム塩、アルミニウムキレートが好ましく、スルホニウム塩のうち、アニオン種として６フッ化アンチモン、６フッ化リン等を含む化合物がより好ましい。これらのスルホニウム塩としては、例えばメチルフェニルジメチルスルホニウムのヘキサフルオロアンチモン塩、エチルフェニルジメチルスルホニウムのヘキサフルオロアンチモン塩、メチルフェニルジメチルスルホニウムのヘキサフルオロホスフェート塩等が挙げられる。これらのスルホニウム塩は、単独でも２種類以上の混合物であってもよい。これらのスルホニム塩の市販品としては、サンエイドＳＩ−６０Ｌ、サンエイドＳＩ−８０Ｌ、サンエイドＳＩ−１００Ｌ（以上、三新化学工業製）、ＵＶＩ−６９９０、ＵＶＩ−６９９２、ＵＶＩ−６９７４（以上、ユニオンカーバイド製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトンＣＰ−６６、アデカオプトンＣＰ−７７（以上、旭電化工業製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２６１（チバガイギー製）等が挙げられる。
【０２０６】
硬化促進剤としては、例えば
イミダゾール化合物；
４級リン化合物；
４級アミン化合物；
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７やその有機酸塩の如きジアザビシクロアルケン；
オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体の如き有機金属化合物；
三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニルの如きホウ素化合物；塩化亜鉛、塩化第二錫の如き金属ハロゲン化合物；
ジシアンジアミド、アミンとエポキシ樹脂との付加物の如きアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤；
４級フォスフォニウム塩等の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤；
アミン塩型潜在性硬化促進剤；
ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩の如き高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等が挙げられる。
【０２０７】
硬化促進剤の使用割合としては、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましい。
【０２０８】
上記液晶配向剤が硬化剤及び硬化触媒を含有する場合、その含有割合としては、上記の［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンと任意的に使用される［Ｂ］他の重合体の合計１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましく、１質量部以下がより好ましい。
【０２０９】
［エポキシ化合物］
エポキシ化合物は、形成される液晶配向膜の基板表面に対する接着性をより向上する目的で上記液晶配向剤に含有できる。
【０２１０】
エポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン等が挙げられる。
【０２１１】
エポキシ化合物の含有割合としては、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンと任意に含有される［Ｂ］他の重合体との合計１００質量部に対して、４０質量部以下が好ましく、０．１質量部〜３０質量部がより好ましい。なお、上記液晶配向剤がエポキシ化合物を含有する場合、架橋反応を効率良く起こす目的で、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール等の塩基触媒を併用してもよい。
【０２１２】
［官能性シラン化合物］
上記官能性シラン化合物は、形成される液晶配向膜の基板表面に対する接着性を向上する目的で使用できる。
【０２１３】
官能性シラン化合物としては、例えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、テトラカルボン酸二無水物とアミノ基を有するシラン化合物との反応物等の他、特開昭６３−２９１９２２号公報に記載されている、テトラカルボン酸二無水物とアミノ基を有するシラン化合物との反応物等が挙げられる。
【０２１４】
官能性シラン化合物の含有割合としては、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンと任意に含有される［Ｂ］他の重合体との合計１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。
【０２１５】
［界面活性剤］
界面活性剤としては、例えばノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、含フッ素界面活性剤等が挙げられる。
【０２１６】
界面活性剤の使用割合としては、上記液晶配向剤の全体１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましく、１質量部以下がより好ましい。
【０２１７】
［光増感剤］
上記液晶配向剤に含有され得る光増感性剤は、カルボキシル基、水酸基、−ＳＨ、−ＮＣＯ、−ＮＨＲ（但し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基である）、−ＣＨ＝ＣＨ２及びＳＯ２Ｃｌからなる群より選択される少なくとも１種の基並びに光増感性構造を有する化合物である。上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、特定桂皮酸誘導体及び光増感性剤の混合物とを反応させることにより、上記液晶配向剤に含有される［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンは、特定桂皮酸誘導体に由来する感光性構造（桂皮酸構造）と光増感性剤に由来する光増感性構造とを併有することとなる。この光増感性構造は、光の照射により励起し、この励起エネルギーを重合体内で近接する感光性構造に与える機能を有する。この励起状態は一重項であってもよく、三重項であってもよいが、長寿命や効率的なエネルギー移動に鑑み、三重項であることが好ましい。上記光増感性構造が吸収する光は、波長１５０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の紫外線又は可視光線であることが好ましい。波長が上記下限より短い光は、通常の光学系で取り扱うことができないため、光配向法に好適に用いることができない。一方、上記上限より波長の長い光は、エネルギーが小さく、上記光増感性構造の励起状態を誘起し難い。
【０２１８】
かかる光増感性構造としては、例えばアセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造、フルオレン構造、ナフタレン構造、アントラセン構造、アクリジン構造、インドール構造等が挙げられ、これらを単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。これらの光増感性構造は、それぞれ、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アントラキノン、ビフェニル、カルバゾール、ニトロベンゼンもしくはジニトロベンゼン、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、アクリジン又はインドールから、１〜４個の水素原子を除去して得られる基からなる構造をいう。ここで、アセトフェノン構造、カルバゾール構造及びインドール構造のそれぞれは、アセトフェノン、カルバゾール又はインドールのベンゼン環が有する水素原子のうちの１〜４個を除去して得られる基からなる構造であることが好ましい。これらの光増感性構造のうち、アセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造及びナフタレン構造からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、アセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造及びニトロアリール構造からなる群より選択される少なくとも１種であることが特に好ましい。
【０２１９】
光増感性剤としては、カルボキシル基及び光増感性構造を有する化合物であることが好ましく、さらに好ましい化合物として、例えば下記式（Ｈ−１）〜（Ｈ−１０）で表される化合物等が挙げられる。
【０２２０】
【化１７】
2012020628.tif 000019
（式中、ｑは１〜６の整数である。）
【０２２１】
本発明で使用される光配向性ポリオルガノシロキサン化合物は、上記のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン及び特定桂皮酸誘導体に加え、光増感性剤を合わせて、好ましくは触媒の存在下において、好ましくは有機溶媒中で反応させることにより合成してもよい。
【０２２２】
この場合、特定桂皮酸誘導体の使用量としては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのケイ素原子１モルに対して、０．００１モル〜１０モルが好ましく、０．０１モル〜５モルがより好ましく、０．０５モル〜２モルが特に好ましい。光増感性剤の使用量としては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのケイ素原子１モルに対して、０．０００１モル〜０．５モルが好ましく、０．０００５モル〜０．２モルがより好ましく、０．００１モル〜０．１モルが特に好ましい。
【０２２３】
＜液晶配向剤の調製方法＞
上記液晶配向剤は、上述の通り、例えば、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンを含有し、必要に応じて好適成分、その他の任意成分を含有することができるが、好ましくは各成分が有機溶媒に溶解された溶液状の組成物として調製される。
【０２２４】
有機溶媒としては、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン及び任意に使用される他の成分を溶解し、これらと反応しないものが好ましい。上記液晶配向剤に好ましく使用できる有機溶媒としては、任意に含有される他の重合体の種類により異なる。
【０２２５】
上記液晶配向剤が［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンと、［Ｂ］他の重合体を含有するものである場合における好ましい有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。
【０２２６】
上記液晶配向剤の調製に用いられる好ましい溶媒は、他の重合体の使用の有無及びその種類に従い、上記した有機溶媒の１種又は２種以上を組み合わせて得られる。このような溶媒は、下記の好ましい固形分濃度において液晶配向剤に含有される各成分が析出せず、且つ液晶配向剤の表面張力が２５ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍの範囲となるものである。
【０２２７】
上記液晶配向剤の固形分濃度、すなわち上記液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の質量が液晶配向剤の全質量に占める割合は、粘性、揮発性等を考慮して選択されるが、好ましくは１質量％〜１０質量％である。固形分濃度が１質量％未満では、上記液晶配向剤から形成される液晶配向膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜が得られない場合がある。一方、固形分濃度が１０質量％を超えると、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得られない場合があり、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が不足する場合がある。好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に採用する方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合の固形分濃度の範囲としては、１．５質量％〜４．５質量％が好ましい。印刷法による場合、固形分濃度を３質量％〜９質量％の範囲とし、それによって溶液粘度を１２ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓの範囲とすることが好ましい。インクジェット法による場合、固形分濃度を１質量％〜５質量％の範囲とし、それによって溶液粘度を３ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓの範囲とすることが好ましい。
【０２２８】
上記液晶配向剤を調製する際の温度としては、０℃〜２００℃が好ましく、０℃〜４０℃がより好ましい。
【０２２９】
＜光指向性制御ユニットの製造方法＞
本発明の光指向性制御ユニットは、例えば以下のようにして製造できる。本発明の光指向性制御ユニットの製造方法は、
透明基板と、この透明基板の表面側に対向配設され、裏面にレンチキュラーレンズアレイを有するレンチキュラー層と、このレンチキュラー層の裏面に積層される液晶配向膜と、この液晶配向膜を介してレンチキュラー層の裏面側に積層される液晶レンズ層とを備える光指向性制御ユニットの製造方法であって、
（１）レンチキュラー層の裏面に感放射線性液晶配向剤を塗布し、塗膜を形成する工程、
（２）上記塗膜への放射線の照射により液晶配向膜を形成する工程、及び
（３）この液晶配向膜及び透明基板間に液晶レンズ層を形成する工程
を有する。
【０２３０】
（１）工程及び（２）工程では、感放射線性液晶配向剤により液晶配向膜を形成する。
【０２３１】
＜液晶配向膜の形成方法＞
当該光指向性制御ユニットにおいて、液晶配向膜１５、１６を形成する方法としては、例えば、レンチキュラー層１３の裏面のレンチキュラーレンズアレイが形成された面上、及び透明基板１２の表面上に、感放射線性液晶配向膜の塗膜を形成し、次いでこの塗膜に光配向法により液晶配向能を付与する方法が挙げられる。
【０２３２】
液晶配向膜は、上記液晶配向剤を利用して、例えば次の方法によって製造できる。上記液晶配向剤を、例えば、スプレーコーティング法、スリットコーティング法、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法、蒸着法等の適宜の塗布方法により基板に塗布する。次に、該塗布面を予備加熱（プレベーク）し、次いでポストベークすることにより塗膜を形成する。プレベーク条件としては、例えば４０℃〜１２０℃において０．１分〜５分である。ポストベーク条件としては、１２０℃〜３００℃が好ましく、１３０℃〜２２０℃がより好ましく、５分〜２００分が好ましく、１０分〜１００分がより好ましい。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、好ましくは０．００１μｍ〜１μｍであり、より好ましくは０．００５μｍ〜０．５μｍである。
【０２３３】
上記液晶配向剤の塗布に際しては、塗膜を形成する各層と塗膜との接着性をさらに良好にするために基板上に予め官能性シラン化合物、チタネート等を塗布しておいてもよい。
【０２３４】
次いで、上記塗膜に直線偏光若しくは部分偏光された放射線又は無偏光の放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する。放射線としては、例えば１５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、３００ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。用いる放射線が直線偏光又は部分偏光している場合には、照射は基板面に垂直の方向から行っても、プレチルト角を付与するために斜め方向から行ってもよく、また、これらを組み合わせて行ってもよい。無偏光の放射線を照射する場合には、照射の方向は斜め方向である必要がある。なお、本明細書における「プレチルト角」とは、基板面と平行な方向からの液晶分子の傾きの角度をいう。
【０２３５】
使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー水銀−キセノンランプ（Ｈｇ−Ｘｅランプ）等が挙げられる。上記の好ましい波長領域の紫外線は、上記光源を、例えばフィルター、回折格子等と併用する手段等により得られる。
【０２３６】
放射線の照射量としては、１Ｊ／ｍ２以上１０，０００Ｊ／ｍ２未満が好ましく、１０Ｊ／ｍ２〜３，０００Ｊ／ｍ２がより好ましい。なお、従来知られている液晶配向剤から形成される塗膜に光配向法により液晶配向能を付与する場合、１０，０００Ｊ／ｍ２以上の放射線照射量が必要であるところ、上記液晶配向剤を用いると、光配向法の際の放射線照射量が３，０００Ｊ／ｍ２以下、さらに１，０００Ｊ／ｍ２以下であっても良好な液晶配向能を付与でき液晶表示素子の製造コストの削減に資する。
【０２３７】
（３）工程では、液晶配向膜１５と透明基板１２との間（液晶配向膜１５、１６間）に液晶レンズ層を形成する。（３）工程を行う方法としては、例えば、（Ａ）液晶配向膜１５と透明基板１２との間とを接合して空間を形成させ、この空間に液晶材料を充填させて液晶レンズ層１４を形成させる方法、（Ｂ）液晶配向膜１５に隣接させて液晶材料を用い液晶レンズ層１４を形成させた後に、透明基板１２を配設させる方法等が挙げられる。
【０２３８】
上記方法（Ａ）の場合、（３）工程は、
（３−１）この液晶配向膜と透明基板とを対向配設させ、これらに挟まれた空間を形成する工程、及び
（３−２）この空間に液晶材料を充填し、液晶レンズ層を形成する工程
を有する。
【０２３９】
上記（３−１）工程では、液晶配向膜１５と透明基板１２とを対向配設して接合することにより、液晶配向膜１５と透明基板１２との間（液晶配向膜１５、１６間）に挟まれた空間を形成する。
【０２４０】
レンチキュラー層１３と透明基板１２等を接合する方法としては、特に限定されないが、接着剤を用いる方法、粘着剤を用いる方法、ヒートシール法、エキシマＵＶを用いる方法等が挙げられる。上記接着剤としては、アクリル系接着剤等が好適に用いられる。
【０２４１】
上記（３−２）工程では、液晶配向膜１５、１６間の空間に、液晶材料を充填し、液晶レンズ層１４を形成させる。
【０２４２】
上記液晶材料としては、液状の高分子液晶、重合性液晶、非重合性液晶等が挙げられる。液晶材料として重合性液晶を用いる場合には、後述するように、重合性液晶を重合させることが必要となる。
【０２４３】
液晶材料を充填する方法としては、例えば、液晶配向膜１５、１６間の空間を減圧とし、液晶材料を吸引する方法、液晶配向膜１５、１６間の空間を液晶材料中に浸漬して、毛細管現象等により液晶材料を充填させる方法、液晶材料を液晶配向膜１５、１６間の空間に注入する方法等が挙げられる。
【０２４４】
上記方法（Ｂ）の場合、（３）工程は、
（３−１’）この液晶配向膜の裏面側に液晶材料を塗布し、液晶レンズ層を形成する工程、及び
（３−２’）この液晶レンズ層の裏面側に透明基板を配設する工程
を有する。
【０２４５】
上記（３−１’）では、液晶配向膜１５の裏面側に液晶材料を塗布し、液晶レンズ層１４を形成させる。この液晶材料としては、例えば、上記（３−１）工程で用いられる液晶材料の例等が挙げられる。
【０２４６】
液晶材料を液晶配向膜１５の裏面側に塗布する方法としては、例えば、ピペットを用いて滴下する方法、ハケを用いる方法、スプレーコーティングによる方法、ロールコーティングによる方法等が挙げられる。
【０２４７】
上記（３−２’）では、上記形成した液晶レンズ層１４の裏面側に透明基板１２を配設し、例えば、レンチキュラー層１３と透明基板１２とを接合させる。この接合する方法としては、例えば、上記（３−１’）工程におけるレンチキュラー層１３と透明基板１２とを接合する方法の例等が挙げられる。
【０２４８】
上記（３−２）工程及び（３−１’）工程において、液晶材料として重合性材料を用いる場合には、加熱及び／又は非偏光の放射線照射等により重合性液晶を重合させる。すなわち、この場合、
上記（３−２）工程は、
（３−２−１）この空間に重合性液晶を吸入する工程、及び
（３−２−２）この重合性液晶を重合させて液晶レンズ層を形成する工程
を有する。
また、上記（３−１’）工程は、
（３−１’−１）この液晶配向膜の裏面側に重合性液晶を塗布する工程、及び
（３−１’−２）この重合性液晶を重合させて液晶レンズ層を形成する工程
を有する。  
【０２４９】
上記重合性液晶としては、加熱又は放射線照射によって重合できる化合物であれば特に限定されない。例えば、ＵＶキュアラブル液晶とその応用（液晶  第３巻  第１号  １９９９年  第３４頁〜第４２頁参照）に記載されているようなネマティック液晶化合物でも良く、複数の化合物との混合物でも良い。また公知の光重合開始剤又は熱重合開始剤を含んでいても良い。これらの重合性液晶化合物やその混合物は適切な溶媒に溶解して使用できる。さらに、カイラル剤等を加えることで基板に垂直方向でねじれたツイストネマティック配向をする液晶や、コレステリック液晶を用いても良く、ディスコティック液晶を用いても良い。
【０２５０】
重合性液晶を加熱する場合の温度としては、良好な配向が得られる温度を選択する。例えば、メルク製重合性液晶、ＲＭＳ０３−０１３Ｃを使用した場合では４０℃〜８０℃の範囲で選択される。
【０２５１】
上記放射線を照射する場合の放射線としては、例えば非偏光の紫外線等が挙げられる。放射線の照射量としては、１，０００Ｊ／ｍ２〜１００，０００Ｊ／ｍ２未満が好ましく、１０，０００Ｊ／ｍ２〜５０，０００Ｊ／ｍ２がより好ましい。
【０２５２】
上記重合性液晶の重合は空気下で行ってもよく、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、用いる重合性液晶の重合性基や開始剤によって適した条件を選択できる。
【０２５３】
このようにして得られた光指向性制御ユニットにおいては、均一性の高い配向状態で重合性液晶を固定化できる。従って、得られた光指向性制御ユニットは、液晶レンズ層の配向均一性に優れるので、当該光指向性制御ユニットを備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールは、解像度等の表示精度を高めることができる。
【０２５４】
＜２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール＞
本発明には、当該光指向性制御ユニットを備える切替可能表示モジュールも好適に含まれる。
【０２５５】
本発明の第１実施形態に係る光指向性制御ユニット１を備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７１について、図５を参照しつつ、以下説明する。２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７１は、上述した光指向性制御ユニット１と、表示パネル３１と、液晶スイッチユニット４１とを備えている。表示パネル３１は、液晶等による通常の表示装置（表示パネル本体）に加えて、入射光偏光子６１、及び出射光偏光子６２が含まれる。
【０２５６】
表示パネル３１（表示パネル本体）は、上記光指向性制御ユニット１の裏面側（視聴者の反対側）に配置されており、表示パネル本体裏面側には、入射光偏光子６１が取り付けられている。表示パネル３１は、液晶表示装置において通常用いられるものであり、例えば、裏面側に設けられたバックライトから光を画素ごとに透過の制御を行い得る液晶パネルから構成される。
【０２５７】
液晶スイッチユニット４１は、光指向性制御ユニット１の表面側（視聴者側）に配置されている。また、液晶スイッチユニット４１は、対向配置される一対のスイッチ透明基板５１、５２と、これら透明基板の内側に隣接して対向配置される一対の透明電極層５３、５４と、これら透明導電層の内側に挟持されるスイッチ液晶層５５とを備える。
【０２５８】
上記液晶スイッチユニット４１は、一対の透明電極層５３、５４の間の電圧印可の有無によって、円偏光の回転が０°と９０°との間で切り替えることができる。
【０２５９】
入射光偏光子６１は、振動方向がｘ方向である偏光のみを通過させるように配置されている。また、出射光偏光子６２は、振動方向がｘ方向である偏光のみを通過させるように配置されている。なお、出射光偏光子６２は、上記液晶スイッチユニット４１の視聴者側に配されている。
【０２６０】
当該２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールは、上記の構成を有しているので、液晶スイッチユニット４１の一対の透明電極層５３、５４に電圧印可をしない場合は、液晶スイッチユニット４１において偏光面の回転がないため、表示パネル３１から光指向性制御ユニット１に入射するｘ方向に振動する偏光が、出射光偏光子６２から出射する。この偏光に対しては、光指向性制御ユニット１は、通過型の光指向性を発揮するため、当該表示モジュールは、２Ｄ表示用とすることができる。また、液晶スイッチユニット４１の一対の透明電極層５３、５４に電圧印可する場合は、液晶スイッチユニット４１において偏光面が９０°回転させることができる。従って、表示パネル３１から光指向性制御ユニット１に入射するｚ方向に振動する偏光が、出射光偏光子６２から出射する。この偏光に対しては、光指向性制御ユニット１は、屈折型の光指向性を発揮するため、当該表示モジュールは、３Ｄ表示用とすることができる。このように、２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７１によれば、２Ｄ及び３Ｄ表示をそれぞれ切り替えて表示させることができる。
【０２６１】
本発明の第２実施形態の光指向性制御ユニット２を備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７２について、図６を参照しつつ、以下説明する。２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７２は、上述した光指向性制御ユニット２と、表示パネル３１とを備えている。表示パネル本体は、光指向性制御ユニット２の裏面側に、表示パネルの一部である入射光偏光子６１は、表示パネル本体の裏面側に、出射光偏光子６２は、光指向性制御ユニット２の表面側にそれぞれ配設される。なお、同一符号である場合、説明を省略する。
【０２６２】
本発明の第３実施形態の光指向性制御ユニット３を備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７３について、図７を参照しつつ、以下説明する。２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７３は、上述した光指向性制御ユニット３と、表示パネル３１を備えている。表示パネル３１は、光指向性制御ユニット３の裏面側に配設されている。表示パネル３１に含まれる入射光偏光子６１と、出射光偏光子６２とは、表示パネル３１（表示パネル本体）の裏面側と表面側にそれぞれ配設される。
【０２６３】
本発明の第４実施形態の光指向性制御ユニット４を備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７４について、図８を参照しつつ、以下説明する。２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７４は、上述した光指向性制御ユニット４と、表示パネル３１とを備えている。表示パネル３１は、光指向性制御ユニット４の裏面側に配設されている。表示パネル３１に含まれる入射光偏光子６１は、表示パネル３１（表示パネル本体）の裏面側に配設される。
【０２６４】
上記第２、第３及び第４実施形態に係る２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７２、７３及び７４においても、第１実施形態の場合と同様に、一対の透明電極層間の電圧印可の有無により、２Ｄ及び３Ｄ表示をそれぞれ切り替えて表示させることができる。
【０２６５】
これらの２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール７１〜７４によれば、液晶レンズ層の液晶の配向均一性に優れる光指向性制御ユニット１、２、３又は４を備えているので、表示パネルにおける２次元及び３次元の表示の質のレベルをほとんど低下させることなく、視聴者に良好な表示を提供することができる。
【０２６６】
なお、本発明の光指向性制御ユニットは、上記実施形態に限定されるものではなく、例えば、レンチキュラー層としては、レンチキュラー層を構成する材質の屈折率と、液晶レンズ層の異常屈折率の大小関係によっては、凹型の代わりに、凸型のものを使用することができる。また、本発明の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールは、上記実施形態に限定されるものではなく、例えば、表示パネルとして、液晶ディスプレイの代わりに、プラズマディスプレイを用いることもできる。
【実施例】
【０２６７】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。なお、以下の実施例において用いた原料化合物及び重合体の必要量は、下記の合成例に示す合成スケールでの原料化合物及び重合体の合成を必要に応じて繰り返すことにより確保した。【０２６８】
＜エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例１］
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（ＥＣＥＴＳ）１００．０ｇ、メチルイソブチルケトン５００ｇ及びトリエチルアミン１０．０ｇを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００ｇを滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機層を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄したのち、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘稠な透明液体として得た。【０２６９】
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ−ＮＭＲ分析を行なったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。得られたエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのＭｗは２，２００であり、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。【０２７０】
＜特定桂皮酸誘導体の合成＞
特定桂皮酸誘導体の合成反応は全て不活性雰囲気中で行った。【０２７１】
［合成例２］
冷却管を備えた３００ｍＬの三口フラスコに４−フルオロフェニルボロン酸６．５ｇ、４−ブロモ桂皮酸１０ｇ、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム２．７ｇ、炭酸ナトリウム４ｇ、テトラヒドロフラン８０ｍＬ、純水３９ｍＬを混合した。引き続き反応溶液を８０℃で８時間加熱撹拌し、反応終了をＴＬＣで確認した。反応溶液を室温まで冷却後、１Ｎ−塩酸水溶液２００ｍＬに注ぎ、析出固体をろ別した。得られた固体を酢酸エチルに溶解させ、１Ｎ−塩酸水溶液１００ｍＬ、純水１００ｍＬ、飽和食塩水１００ｍＬの順で分液洗浄した。次に有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた固体を真空乾燥し、下記式（Ｋ−１）で表される化合物（特定桂皮酸誘導体（Ｋ−１））を９ｇ得た。【０２７２】
【化１８】
2012020628.tif 000020
【０２７３】
［合成例３］
冷却管を備えた２００ｍＬの三口フラスコに４−ビニルビフェニル９．５ｇ、４−ブロモ桂皮酸１０ｇ、酢酸パラジウム０．０９９ｇ、トリス（２−トリル）ホスフィン０．５４ｇ、トリエチルアミン１８ｇ、ジメチルアセトアミド８０ｍＬを混合した。この溶液を１２０℃で３時間加熱撹拌し、ＴＬＣで反応の終了を確認した後、反応溶液を室温まで冷却した。沈殿物をろ別した後、ろ液を１Ｎ塩酸水溶液５００ｍＬに注ぎ、沈殿物を回収した。これらの沈殿物をジメチルアセトアミド、エタノール１：１溶液で再結晶することにより下記式（Ｋ−２）で表される化合物（特定桂皮酸誘導体（Ｋ−２））を１１ｇ得た。【０２７４】
【化１９】
2012020628.tif 000021
【０２７５】
＜［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例４］
１００ｍＬの三口フラスコに、合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン９．３ｇ、メチルイソブチルケトン２６ｇ、合成例２で得た特定桂皮酸誘導体（Ｋ−１）３ｇ及び４級アミン塩（サンアプロ製、ＵＣＡＴ  １８Ｘ）０．１０ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、メタノールで再沈殿を行い、沈殿物を酢酸エチルに溶解して溶液を得、この溶液を３回水洗した後、溶媒を留去することにより、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン（Ｓ−１）を白色粉末として６．３ｇ得た。光配向性ポリオルガノシロキサン化合物（Ｓ−１）の重量平均分子量Ｍｗは３，５００であった。【０２７６】
［合成例５］
合成例２で得た特定桂皮酸誘導体（Ｋ−２）３ｇを用いたこと以外は合成例４と同様に操作して、［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン（Ｓ−２）の白色粉末を７．０ｇ得た。光配向性ポリオルガノシロキサン化合物（Ｓ−２）の重量平均分子量Ｍｗは４，９００であった。【０２７７】
＜［Ｂ］他の重合体の合成＞
［合成例６］
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２２．４ｇ（０．１モル）とシクロヘキサンビス（メチルアミン）１４．２３ｇ（０．１モル）とをＮＭＰ３２９．３ｇに溶解し、６０℃で６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥することにより、ポリアミック酸（ＰＡ−２）を３２ｇ得た。
この（ＰＡ−２）を１７．５ｇとり、これにＮＭＰ２３２．５ｇ、ピリジン３．８ｇ及び無水酢酸４．９ｇを添加し、１２０℃において４時間反応させてイミド化を行った。次いで、反応混合液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下で１５時間乾燥することにより、ポリイミド（ＰＩ−１）を１５ｇ得た。【０２７８】
［合成例７］
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル（ＤＥＧＭＥ）２００質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル４０質量部、スチレン１０質量部、メタクリル酸３０質量部及びシクロヘキシルマレイミド２０質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに攪拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持しポリ（メタ）アクリレートの共重合体（ＭＡ−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は３３．１質量％であった。得られた重合体の数平均分子量は７，０００であった。【０２７９】
＜［Ｃ］エステル構造含有化合物の合成＞
下記スキームに従って、エステル構造含有化合物（Ｃ−１−１）を合成した。【０２８０】
【化２０】
2012020628.tif 000022
【０２８１】
［合成例８］
還流管、温度計及び窒素導入管を備えた５００ｍＬの三口フラスコにトリメシン酸２１ｇ、ｎ−ブチルビニルエーテル６０ｇ及びリン酸０．０９ｇを仕込み、５０℃で３０時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物にヘキサン５００ｍＬを加えて得た有機層につき、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液で２回及び水で３回、順次に分液洗浄した。その後、有機層から溶媒を留去することにより、エステル構造含有化合物（Ｃ−１−１）を無色透明の液体として５０ｇ得た。【０２８２】
＜液晶配向剤の調製＞
［実施例１］
［Ｂ］他の重合体として合成例６で得たポリイミド（ＰＩ−１）を含有する溶液を、これに含有されるポリイミド（ＰＩ−１）に換算して１，０００質量部に相当する量を取り、ここに合成例４で得た［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン（Ｓ−１）１００質量部を加え、さらにＮＭＰ及びジエチレングリコールメチルエチルエーテル（ＤＥＧＭＥ）を混合し、溶媒組成がＮＭＰ：ＤＥＧＭＥ＝９０：１０（質量比）、固形分濃度が４．０質量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過することにより、実施例１に係る液晶配向剤（Ａ−１）を調製した。【０２８３】
［実施例２］
［Ｂ］他の重合体として合成例７で得たポリ（メタ）アクリレートの共重合体（ＭＡ−１）を含有する溶液を、これに含有されるポリ（メタ）アクリレートの共重合体（ＭＡ−１）に換算して１，０００質量部に相当する量を取り、ここに合成例５で得た［Ａ］光配向性ポリオルガノシロキサン（Ｓ−２）１００質量部を加え、さらにＮＭＰ及びエチレングリコールモノブチルエーテル（ＥＧＭＢ）を混合し、溶媒組成がＮＭＰ：ＥＧＭＢ＝５０：５０（質量比）、固形分濃度が４．０質量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過することにより、実施例２に係る液晶配向剤（Ａ−２）を調製した。【０２８４】
［実施例３］
実施例１において、［Ｃ］エステル構造含有化合物として合成例８で得た（Ｃ−１−１）５０質量部をさらに加えた以外は、実施例１と同様にして、実施例３に係る液晶配向剤（Ａ−３）を調製した。【０２８５】
＜光指向性制御ユニットの製造＞
上記実施例で調製した液晶配向剤を用い、下記方法により、光指向性制御ユニットを製造した。【０２８６】
［実施例４］
透明ガラス基板（ａ）の片面に、凹型レンチキュラー形状を有するポリメチルメタクリレート製基板を接着し、この凹型面上に上記実施例１で調製した液晶配向剤（Ａ−１）を、スプレーコーティング法により塗布し、８０℃のホットプレート上で１分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換したオーブン中で１５０℃で３０分間ポストベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面にＨｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線３００Ｊ／ｍ２を、基板法線から垂直に照射して液晶配向膜を形成させた。また、透明ガラス基板（ｂ）の一面にも、ロールコーティング法を用いた以外は上記と同様の方法により、同様の液晶配向膜を形成させた。【０２８７】
上記凹型レンチキュラー形状基板の液晶配向膜が形成された凹部に、重合性液晶（メルク製、ＲＭＳ０３−０１３Ｃ）を孔径０．２μｍのフィルターで濾過した後、ピペットを用いて滴下し充填した。次いで、６０℃のホットプレートで１分間ベークを行った後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線３０，０００Ｊ／ｍ２を重合性液晶充填面に照射して、液晶を形成させた。【０２８８】
この液晶を形成させた凹型レンチキュラー形状基板の液晶側の面に、上記液晶配向膜形成透明ガラス基板の液晶配向膜側の面を重ねてから、両者を接合し、実施例４の光指向性制御ユニットを製造した。【０２８９】
［実施例５］
実施例４において、透明ガラス基板（ａ）の代わりに、液晶スイッチ素子（Ｉ）（ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶を挟持した一対のＩＴＯ（インジウム−スズ−酸化物）透明電極層の両外側に一対の透明ガラス基板を接合したもの）を用い、その一方の透明ガラス基板上に、凹型レンチキュラー形状基板を接着した以外は、実施例４と同様にして、実施例５の光指向性制御ユニットを製造した。【０２９０】
［実施例６］
実施例４において、透明ガラス基板（ｂ）の代わりに、液晶スイッチ素子（ＩＩ）（ＴＮ液晶を挟持した一対のＩＴＯ透明電極層の片方の外側に一枚の透明ガラス基板を接合したもの）を用い、そのＩＴＯ透明電極層の表面に液晶配向層を形成し、また液晶配向剤として、（Ａ−１）の代わりに、上記実施例２で調製した（Ａ−２）を用いた以外は実施例４と同様にして、実施例６の光指向性制御ユニットを製造した。【０２９１】
［実施例７］
実施例４において、透明ガラス基板（ａ）及び透明ガラス基板（ｂ）の代わりに、ＩＴＯ電極層が接合した透明ガラス基板を一対用い、両基板ともＩＴＯ電極層側に液晶配向膜を形成した以外は実施例４と同様にして、実施例７の光指向性制御ユニットを製造した。【０２９２】
［実施例８］
実施例７において、液晶配向剤として、（Ａ−１）の代わりに、上記実施例３で調製した（Ａ−３）を用い、また重合性液晶の代わりに、非重合性液晶（メルク製、ＭＬＣ−７０２８）を用いた以外は実施例７と同様にして、実施例８の光指向性制御ユニットを製造した。【０２９３】
［実施例９］
透明ガラス基板（ｃ）の片面に、凹型レンチキュラー形状を有するポリメチルメタクリレート製基板を接着し、この凹型面上に上記実施例３で調製した液晶配向剤（Ａ−３）を、スプレーコーティング法により塗布し、８０℃のホットプレート上で１分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換したオープン中で１５０℃で３０分間ポストベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面にＨｇ−Ｘｅランプ及びグランテラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線３００Ｊ／ｍ２を、基板法線から垂直に照射して液晶配向膜を形成させた。また、透明ガラス基板（ｄ）の一面にも、ロールコーティング法を用いた以外は上記と同様の方法により、同様の液晶配向膜を形成させた。【０２９４】
上記凹型レンチキュラー形状基板の液晶配向膜が形成された凹部側の面と、上記液晶配向膜形成透明ガラス基板の液晶配向膜側の面とを重ねてから、両者を接合した。次いで、上記基板間の空洞に、上記重合性液晶を減圧注入した。その後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線３０，０００Ｊ／ｍ２を液晶配向膜形成透明ガラス基板側から照射して液晶を形成させることにより、実施例９の光指向性制御ユニットを製造した。【０２９５】
［比較例１］
透明ガラス基板（ａ）の一面に、凹型レンチキュラー形状を有するポリメチルメタクリレート製基板を接着し、この凹型面上に液晶配向剤（ＪＳＲ製、ＡＬ３０４６）を、スプレーコーティング法により塗布し、８０℃のホットプレート上で１分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換したオーブン中で１５０℃で３０分間ポストベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面を、ナイロン布を外周に巻いたローラーを回転させながら擦りつけることによりラビング処理を行った。透明ガラス基板（ｂ）の一面にも、ロールコーティング法を用いて塗布した後ラビング処理した以外は上記同様の方法により、同様の液晶配向層を形成させた。この後は実施例４と同様の方法により、比較例１の光指向性制御ユニットを製造した。【０２９６】
［比較例２〜６］
実施例５〜９において、凹型レンチキュラー形状を有する基板上、及びガラス基板上又はＩＴＯ電極層上に液晶配向膜を形成する代わりに、比較例１と同様の方法によって、ラビング処理を行った液晶配向層を形成した以外は比較例１と同様にして、比較例２〜６の光指向性制御ユニットをそれぞれ製造した。【０２９７】
［液晶配向均一性の評価］
実施例４〜９及び比較例１〜６で製造した光指向性制御ユニットにつき、液晶レンズ層を、その厚さ方向の中心を通り、厚さ方向に垂直な平面で切断し研磨して得られた断面を偏光顕微鏡で観察した。液晶配向の均一性が高いと認められた場合は液晶配向均一性「Ａ」とし、液晶配向の均一性が低いと認められた場合は液晶配向均一性「Ｂ」として評価した。評価結果を下記表１に示す。【０２９８】
＜２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの製造＞
［実施例１０］
実施例４の光指向性制御ユニットと、表示パネルと、液晶スイッチユニット（Ｉ）とを、図５に示す配列で互いに接合することにより、実施例１０の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを製造した。【０２９９】
［実施例１１］
実施例５の光指向性制御ユニットと、上記表示パネルとを、図６に示す配列で互いに接合することにより、実施例１１の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを製造した。【０３００】
［実施例１２］
実施例６の光指向性制御ユニットと、上記表示パネルとを、図７に示す配列で互いに接合することにより、実施例１２の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを製造した。【０３０１】
［実施例１３］
実施例７の光指向性制御ユニットと、上記表示パネルとを、図８に示す配列で互いに接合することにより、実施例１３の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを製造した。【０３０２】
［実施例１４］
実施例８の光指向性制御ユニットと、上記表示パネルとを、図８に示す配列で互いに接合することにより、実施例１４の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを製造した。【０３０３】
［実施例１５］
実施例９の光指向性制御ユニットと、上記表示パネルとを、図５に示す配列で互いに接合することにより、実施例１５の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを製造した。【０３０４】
［比較例７〜１２］
実施例１０〜１５において、実施例４〜９の光指向性制御ユニットの代わりに、比較例１〜６の光指向性制御ユニットを用いた以外は、実施例１０〜１５とそれぞれ同様にして、比較例７〜１２の２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを製造した。【０３０５】
［２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールの表示良好性の評価］
実施例１０〜１５及び比較例７〜１２で製造した２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールにつき、２次元モードにおける表示の良好性を目視にて評価した。表示に不連続な部分が見られない場合は「Ａ」、表示に不連続な部分が見られた場合は「Ｂ」と評価した。評価結果を表１に示す。【０３０６】
【表１】
2012020628.tif 000023
【０３０７】
表１の結果から、液晶配向膜を有する光指向性制御ユニットは、液晶レンズ層の液晶の配向が均一であり、そのような光指向性制御ユニットを備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールは、表示が良好であることが示された。一方、感放射線性液晶配向剤から形成された液晶配向膜を有さず、ラビング処理を施した液晶配向膜を有する光指向性制御ユニットは、液晶配向の均一性が低く、このような光指向性制御ユニットを備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールは表示が不良になることが示された。
【産業上の利用可能性】
【０３０８】
本発明によれば、液晶配向の均一性が良好であり、２次元モードにおいても解像度に優れる表示が可能な光指向性制御ユニット及びその製造方法、並びにこの光指向性制御ユニットを備える２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュールを提供できる。
【符号の説明】
【０３０９】
１  光指向性制御ユニット（第１実施形態）
２  光指向性制御ユニット（第２実施形態）
３  光指向性制御ユニット（第３実施形態）
４  光指向性制御ユニット（第４実施形態）
１１  透明基板
１２  透明基板
１３  レンチキュラー層
１４  液晶レンズ層
１５  液晶配向膜
１６  液晶配向膜
２１  スイッチ透明基板
２２  透明電極層
２３  透明電極層
２４  スイッチ液晶層
２５  スイッチ透明電極基板
２６  透明電極層
２７  透明電極層
２８  透明電極層
３１  表示パネル
４１  液晶スイッチユニット
５１  スイッチ透明基板
５２  スイッチ透明基板
５３  透明電極層
５４  透明電極層
５５  スイッチ液晶層
６１  入射光偏光子
６２  出射光偏光子
７１  ２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール（第１実施形態）
７２  ２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール（第２実施形態）
７３  ２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール（第３実施形態）
７４  ２Ｄ／３Ｄ切替可能表示モジュール（第４実施形態）
【図１】
2012020628.tif 000025
【図２】
2012020628.tif 000026
【図３】
2012020628.tif 000027
【図４】
2012020628.tif 000028
【図５】
2012020628.tif 000029
【図６】
2012020628.tif 000030
【図７】
2012020628.tif 000031
【図８】
2012020628.tif 000032
【国際調査報告】
2012020628.tif 000033
2012020628.tif 000034
2012020628.tif 000035
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