(57)【要約】  光学部材の材料によらずに、テラヘルツ波の反射率の低減効果があり、かつテラヘルツ波の反射率の波長依存性が小さい反射防止構造を有する光学部材を提供する。  基材１２の表面に、互いに平行にかつ所定のピッチＰで形成された、長さ方向に直交する断面の形状が三角形の複数の凸条１４（凸部）からなる反射防止構造を有する、テラヘルツ波用の光学部材１０であって、凸部１４のピッチＰが５０μｍ以上３００μｍ未満である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
テラヘルツ波用の光学部材であって、
複数の凸部からなる反射防止構造を表面に有し、
前記凸部は互いに平行にかつ所定のピッチで形成された、長尺の凸条からなり、
前記凸部のピッチが、５０μｍ以上であり、３００μｍ未満である、光学部材。
【請求項２】
前記凸条の長手方向に直交する断面の形状が三角形である、請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記凸部の底部の幅が凸部のピッチに対して１倍である、請求項１または２に記載の光学部材。
【請求項４】
前記凸部が、屈折率１．６６以下の合成樹脂からなる、請求項１〜３のいずれかに記載の光学部材。
【請求項５】
前記凸部が、フッ素樹脂からなる、請求項１〜４のいずれかに記載の光学部材。
【請求項６】
前記フッ素樹脂が、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体である、請求項５に記載の光学部材。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学部材に、テラヘルツ波の光を斜めから入射させて、テラヘルツ波の反射を防止する方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学部材に、テラヘルツ波の偏光を偏光方向と凸条の長手方向が平行となるように入射させて、テラヘルツ波の反射を防止する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テラヘルツ波用の光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
テラヘルツ波は、周波数が約０．１ＴＨｚ〜１０ＴＨｚ（波長が約３０μｍ〜３ｍｍ）の電磁波であり、医療機器、宇宙観測機器等の各種機器への利用が期待されている。該機器においては、テラヘルツ波の測定、検出のための分光装置等の光学系が備えられており、該光学系には、テラヘルツ波の吸収が少ない高抵抗シリコン等からなる光学部材（レンズ、窓材、偏光子、フィルタ等）が用いられている。【０００３】
該光学部材においては、表面におけるテラヘルツ波の反射を抑えてテラヘルツ波の透過率をできるだけ高くすることが求められている。
そこで、光学部材の表面におけるテラヘルツ波の反射率を低減するために、光学部材の表面に、複数の凸部（断面三角形の凸条、円錐形、角錐形、角錐台形等の突起等）からなる反射防止構造（モスアイ構造等）を形成することが提案されている（特許文献１、２参照）。特許文献１においては、凸部の幅（ピッチと同じ）を４５μｍ以下、高さを６０μｍ以上とすることによって、テラヘルツ波の反射率が、表面に反射防止構造のない平板に比べ低減するとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本特開２００９−２１７０８５号公報
【特許文献２】日本特開２００９−２０４９００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１においては、光学部材の材料が高抵抗シリコンの場合、かつ入射角０゜のテラヘルツ波の反射率のみを評価しており、光学部材の材料によらずに、凸部のピッチが４５μｍ以下の反射防止構造で、テラヘルツ波の反射率の低減効果が発揮されることが確認されているわけではない。
たとえば、光学部材の材料がフッ素樹脂の場合、凸部のピッチが４５μｍ以下の反射防止構造では、テラヘルツ波の反射率が、入射角０〜８０°の全体にわたって、表面に反射防止構造のない平板に比べ大きくなる場合がある、すなわち反射率の低減効果がない場合がある。
また、高抵抗シリコンで、かつ凸部のピッチが４５μｍ超の反射防止構造、すなわち特許文献１ではテラヘルツ波の反射率の低減効果がないとされている場合であっても、テラヘルツ波の反射率の低減効果が、入射角０゜のときには発揮されなくても、それ以外の入射角では発揮される場合がある。【０００６】
本発明の目的は、光学部材の材料によらずに、テラヘルツ波の反射率の低減効果があり、かつテラヘルツ波の反射率の波長依存性が小さい反射防止構造を有する光学部材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の光学部材は、テラヘルツ波用の光学部材であって、複数の凸部からなる反射防止構造を表面に有し、前記凸部は互いに平行にかつ所定のピッチで形成された、長尺の凸条からなり、前記凸部のピッチが、５０μｍ以上であり、３００μｍ未満であることを特徴とする。【０００８】
前記凸条の長手方向に直交する断面の形状は、三角形であることが好ましい。
前記凸部は、フッ素樹脂からなることが好ましい。
前記フッ素樹脂は、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体であることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光学部材は、光学部材の材料によらずに、テラヘルツ波の反射率の低減効果があり、かつテラヘルツ波の反射率の波長依存性を小さくすることができ、医療機器、宇宙観測機器などの各種機器における光学部材（レンズ、窓材、偏光子、フィルタ等）として好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の光学部材の一例を示す斜視図である。
【図２】本発明の光学部材の他の例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜光学部材＞
本発明の光学部材は、テラヘルツ波を取り扱う光学系に用いられる光学部材であって、所定のピッチの複数の凸部からなる反射防止構造を表面に有するものである。具体的には、基材の表面に複数の凸部からなる反射防止構造が形成されたものであり、基材の裏面側に支持基材を有していてもよい。
【００１２】
（基材）
基材の材料としては、高抵抗シリコン、水晶、合成樹脂（フッ素樹脂、シクロオレフィン樹脂等）等が挙げられる。テラヘルツ波の反射率が低くなる点から、屈折率が低い合成樹脂（フッ素樹脂、シクロオレフィン樹脂等）が好ましく、合成樹脂の中でもフッ素樹脂等がより好ましい。
合成樹脂の屈折率は１．６６以下が好ましく、１．６０以下がより好ましく、１．５５以下がさらに好ましく、１．５０以下が特に好ましい。
基材の形状としては、フィルム状、シート状、平板状、曲板状、半球状等が挙げられる。
基材の厚さは、光学部材の用途に応じて適宜設計すればよい。
【００１３】
（凸部）
凸部の材料としては、高抵抗シリコン、水晶、合成樹脂（フッ素樹脂、シクロオレフィン樹脂等）等が挙げられる。テラヘルツ波の反射率が低くなる点から、屈折率が低い合成樹脂（フッ素樹脂、シクロオレフィン樹脂等）が好ましく、合成樹脂の中でもフッ素樹脂等がより好ましい。
合成樹脂の屈折率は１．６６以下が好ましく、１．６０以下がより好ましく、１．５５以下がさらに好ましく、１．５０以下が特に好ましい。
凸部は、基材との界面の存在による反射を抑える点から、基材と同じ材料からなり、基材と一体に形成されていることが好ましい。
【００１４】
凸部としては、基材の表面に延在する長尺の凸条が挙げられる。
凸条の形状としては、直線、曲線、折れ曲がり形状等が挙げられ、反射防止の点から、直線が好ましい。凸条は、反射防止の点から、複数が平行に存在して縞状をなしていることが好ましい。
凸条の長手方向に直交する断面の形状としては、三角形、台形、長方形、半円形等が挙げられ、反射防止の点から、三角形または台形が好ましく、特に三角形が好ましい。凸条の頂部における反射を低減させ、広い波長範囲で反射率が低いからである。
【００１５】
凸部のピッチＰは、５０μｍ以上であり、３００μｍ未満である。凸部のピッチＰが５０μｍ以上であれば、光学部材の材料によらずに、テラヘルツ波の反射率の低減効果があり、かつテラヘルツ波の反射率の波長依存性が小さくなる。
凸部のピッチＰは、光学部材が用いられる光学系で取り扱うテラヘルツ波の波長、すなわち使用波長以下が好ましく、回折光の発生を抑える点からは、３００μｍ未満がより好ましく、回折光の発生を充分に抑える点からは、７５μｍ以下がさらに好ましい。
凸部のピッチＰとは、凸部の底部の幅と、凸部間に形成される溝の底部の幅との合計である。
【００１６】
凸部のアスペクト比（Ｈ／Ｐ）（凸部の高さＨ／凸部のピッチＰ）は特に限定はないが、０．３〜５であることが好ましい。０．５〜３であることが特に好ましい。
【００１７】
凸部の底部の幅Ｗは、凸部が隙間なく配列している場合は、凸部のピッチＰと同じになる。凸部の底部の幅Ｗは、凸部のピッチＰに対して、０．５〜１倍が好ましく、１倍が特に好ましい。凸部の底部に平坦な部分が存在すると、その部分から反射光が発生し、反射低減効果が小さくなるためである。
凸部の底部の幅Ｗとは、長手方向に直交する断面における底辺の長さである。
【００１８】
（支持基材）
支持基材の材料としては、従来のテラヘルツ波用の光学部材の材料として用いられているものが挙げられる。たとえば、高抵抗シリコン、水晶、ガリウム−ゲルマニウム合金、合成石英、樹脂（ポリエチレン、ポリフルオロエチレン等）等が挙げられ、高抵抗シリコン、水晶等が好ましく用いられる。
支持基材の形状としては、フィルム状、シート状、平板状、曲板状、半球状等が挙げられる。
支持基材の厚さは、光学部材の用途に応じて適宜設計すればよい。
【００１９】
（フッ素樹脂）
フッ素樹脂としては、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、プロピレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ビニルエーテル−クロロトリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン−トリフルオロエチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等が挙げられる。屈折率が低い点から、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体またはＥＴＦＥが好ましく、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体が特に好ましい。
【００２０】
主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体は、無定形または非結晶性の重合体である。
主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するとは、重合体における含フッ素脂肪族環の環を構成する炭素原子の１個以上が重合体の主鎖を構成する炭素原子であることをいう。含フッ素脂肪族環の環を構成する原子は、炭素原子以外に酸素原子、窒素原子等を含んでいてもよい。含フッ素脂肪族環としては、１〜２個の酸素原子を有する含フッ素脂肪族環が好ましい。含フッ素脂肪族環を構成する原子の数は、４〜７個が好ましい。
【００２１】
主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体は、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成し得る含フッ素単量体を含む単量体成分を重合して得られる。該含フッ素単量体としては、炭素−炭素二重結合および含フッ素脂肪族環構造を有し、かつ炭素−炭素二重結合を構成する少なくとも１つの炭素原子が含フッ素脂肪族環構造の一部を構成する環状単量体、または炭素−炭素二重結合を２つ有する線状のジエン系単量体が挙げられる。
【００２２】
主鎖を構成する炭素原子は、環状単量体を重合させて得た重合体である場合には炭素−炭素二重結合の炭素原子に由来し、ジエン系単量体を環化重合させて得た重合体である場合には２個の炭素−炭素二重結合の４個の炭素原子に由来する。
【００２３】
環状単量体およびジエン系単量体において、炭素原子に結合した水素原子および炭素原子に結合したフッ素原子の合計数に対する炭素原子に結合したフッ素原子の数の割合は、それぞれ、８０％以上が好ましく、１００％が特に好ましい。
【００２４】
環状単量体としては、化合物（１）または化合物（２）が好ましい。
【００２５】
【化１】
2012005220.tif 000003
【００２６】
ただし、Ｘ１は、フッ素原子または炭素原子数１〜３のペルフルオロアルコキシ基を示し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれフッ素原子または炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基を示し、Ｘ２およびＸ３は、それぞれフッ素原子または炭素原子数１〜９のペルフルオロアルキル基を示す。
上記のペルフルオロアルキル基は、直鎖状でも、分岐状でも、どちらでもよい。
【００２７】
化合物（１）の具体例としては、化合物（１−１）〜（１−３）が挙げられる。
【００２８】
【化２】
2012005220.tif 000004
【００２９】
化合物（２）の具体例としては、化合物（２−１）〜（２−２）が挙げられる。
【００３０】
【化３】
2012005220.tif 000005
【００３１】
ジエン系単量体としては、化合物（３）が好ましい。
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｑ−ＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３）
ただし、Ｑは、炭素原子数１〜３のペルフルオロアルキレン基（エーテル性酸素原子を有していてもよい。）を示す。エーテル性酸素原子を有するペルフルオロアルキレン基である場合、エーテル性酸素原子は該基の一方の末端に存在していてもよく、該基の両末端に存在していてもよく、該基の炭素原子の間に存在していてもよい。環化重合性の点からは、該基の一方の末端に存在しているのが好ましい。
【００３２】
化合物（３）の環化重合により、下式（Ｉ）〜（III）のうちの１種以上のモノマー単位を有する含フッ素重合体が得られる。
【００３３】
【化４】
2012005220.tif 000006
【００３４】
化合物（３）の具体例としては、化合物（３−１）〜（３−９）が挙げられる。
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−１）
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−２）
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−３）
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−４）
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−５）
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−６）
ＣＦ２＝ＣＦＯＣ（ＣＦ３）２ＯＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−７）
ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−８）
ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２  ・・・（３−９）
【００３５】
主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体において、全モノマー単位（１００モル％）に対する含フッ素脂肪族環構造を有するモノマー単位の割合は、２０モル％以上が好ましく、４０モル％以上がより好ましく、１００モル％が特に好ましい。含フッ素脂肪族環構造を有するモノマー単位とは、環状単量体の重合により形成されたモノマー単位、またはジエン系単量体の環化重合により形成されたモノマー単位である。
【００３６】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の光学部材の一例を示す斜視図である。
光学部材１０は、基材１２の表面に、互いに平行にかつ所定のピッチＰで形成された、長さ方向に直交する断面の形状が三角形の複数の凸条１４（凸部）からなる反射防止構造を有するものである。複数の凸条１４間には、断面Ｖ字形の溝が形成される。凸条１４と基材１２とは、一体化しており、同じ材料からなる。また、凸条１４のピッチＰは、５０μｍ以上であり、３００μｍ未満である。
【００３７】
（第２の実施形態）
図２は、本発明の光学部材の一例を示す斜視図である。
光学部材１１は、板状の支持基材２０の表面に形成された樹脂膜２２（基材）の表面に、互いに平行にかつ所定のピッチＰで形成された、長さ方向に直交する断面の形状が三角形の複数の凸条１４（凸部）からなる反射防止構造を有するものである。複数の凸条１４間には、断面Ｖ字形の溝が形成される。凸条１４と樹脂膜２２とは、一体化しており、同じ樹脂からなる。支持基材２０は、高抵抗シリコン等からなる。また、凸条１４のピッチＰは、５０μｍ以上であり、３００μｍ未満である。
【００３８】
（光学部材の製造方法）
本発明の光学部材を製造する方法としては、たとえば、下記の方法（α）〜（γ）が挙げられる。
（α）基材の表面に、ダイシングソー、パルスレーザ等を用いた切削加工によって複数の凸部を形成する方法。
（β）基材の表面に、フォトリソグラフィによって複数の凸部を形成する方法。
（γ）基材が樹脂の場合は、公知の樹脂の成形法によって複数の凸部を形成する方法。
【００３９】
方法（γ）としては、具体的には、下記の方法（γ１）〜（γ４）が挙げられる。
【００４０】
（γ１）光学部材の凸部を反転させた凹部を有するモールドの表面に、樹脂を形成し得る単量体を含む光硬化性組成物を塗布した状態（またはモールドと支持基材との間に光硬化性組成物を挟持した状態）にて、光硬化性組成物に放射線（紫外線、電子線等）を照射し、光硬化性組成物を硬化させ、モールドの凹部に対応する複数の凸部からなる反射防止構造を樹脂基材（または樹脂膜）の表面に有する光学部材を得る方法（光インプリント法）。
【００４１】
（γ２）樹脂基材（または支持基材の表面に形成された樹脂膜）に、光学部材の凸部を反転させた凹部を有するモールドを、樹脂基材（または樹脂膜）およびモールドの一方または両方を加熱した状態にて押し付け、モールドの凹部に対応する複数の凸部からなる反射防止構造を樹脂基材（または樹脂膜）の表面に有する光学部材を得る方法（熱インプリト法）。
【００４２】
（γ３）光学部材の凸部を反転させた凹部を有するモールドのキャビティ内に、溶融した樹脂を射出した後、冷却して、モールドの凹部に対応する複数の凸部からなる反射防止構造を樹脂基材の表面に有する光学部材を得る方法（射出成形法）。
【００４３】
（γ４）光学部材の凸部を反転させた凹部を有するモールドの表面に、樹脂を溶媒に溶解した塗布液を塗布した後、溶媒を揮発させて、モールドの凹部に対応する複数の凸部からなる反射防止構造を樹脂基材の表面に有する光学部材を得る方法（キャスト法）。
【００４４】
（光学部材の使用方法）
本発明の光学部材は、光の入射角の広範囲に渡って、反射率の低減効果があるため、本発明の光学部材に、テラヘルツ波の光を斜めから入射させて、テラヘルツ波の反射を防止することができる。
また、本発明の光学部材は、凸条の長手方向に平行な偏光の反射率の低減効果に優れるため、テラヘルツ波の偏光を偏光方向と凸条の長手方向が平行となるように入射させて、テラヘルツ波の反射を防止することができる。
【００４５】
（作用効果）
以上説明した本発明の光学部材にあっては、ピッチが５０μｍ以上であり、３００μｍ未満である複数の凸部からなる反射防止構造を表面に有しているため、光学部材の材料によらずに、テラヘルツ波の反射率の低減効果があり、かつテラヘルツ波の反射率の波長依存性が小さい。
また、凸部が、従来の高抵抗シリコン等に比べ、屈折率が充分に低い合成樹脂からなる場合、反射防止構造と空気との界面における屈折率の差が小さくなり、テラヘルツ波の反射率がさらに低くなる。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
例５〜９、１３〜１７、および１９〜２６は実施例であり、例１〜４、１０、１１、１２および１８は比較例である。【００４７】
〔例１〜１０〕
図１に示すような、基材１２の表面に、互いに平行にかつ所定のピッチＰで形成された、長さ方向に直交する断面の形状が三角形の複数の凸条１４（凸部）からなる反射防止構造を有する光学部材１０について、テラヘルツ波（１５０μｍまたは５００μｍ）の反射率を光学シミュレーションによって計算した。入射角については、０〜８０°の間で１０°間隔で変化させながら計算した。入射光については、凸条１４に平行な方向の偏光をｓ偏光とし、垂直な方向の偏光をｐ偏光とし、それぞれの偏光について計算した。【００４８】
光学シミュレーションには、ＧＳｏｌｖｅｒ（Ｇｒａｔｉｎｇ  Ｓｏｌｖｅｒ  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ  Ｃｏｍｐａｎｙ社製）を用いた。
基材１２および凸条１４の材料は、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２の単独重合体（旭硝子社製、サイトップ（登録商標）、屈折率：１．５）とした。
凸部のピッチＰ、およびアスペクト比（Ｈ／Ｐ）は、表１に示す値とした。凸部の底部の幅は凸部のピッチに対して１倍である。【００４９】
テラヘルツ波の反射率の低減効果については、表面に反射防止構造を有さない平滑な基材（リファレンス）について、光学部材１０と同様にしてテラヘルツ波の反射率を光学シミュレーションによって計算し、リファレンスの反射率と光学部材１０の反射率とを比較して、下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
○：光学部材１０の反射率が、入射角０〜８０°の全体にわたって、リファレンスの反射率よりも低い。
△：光学部材１０の反射率が、入射角０〜８０°のうち一部の角度において、リファレンスの反射率よりも低い。
×：光学部材１０の反射率が、入射角０〜８０°のほぼ全体にわたって、リファレンスの反射率と同等またはリファレンスの反射率よりも高い。【００５０】
また、テラヘルツ波の反射率の計算の際に、回折光が発生していないかについてもあわせて調べ、下記の基準にて評価した。結果を表１に示す。
○：入射角０〜８０°の全体にわたって、回折光の発生なし。
△：低入射角において回折光の発生はないが、高入射角において回折光の発生がある。
×：入射角０〜８０°の全体にわたって、回折光の発生あり。【００５１】
【表１】
2012005220.tif 000007
【００５２】
〔例１１〜１８〕
基材１２および凸条１４の材料を、高抵抗シリコン（屈折率：３．４）とした以外は、例１〜１０と同様にしてテラヘルツ波（１５０μｍまたは５００μｍ）の反射率を光学シミュレーションによって計算し、評価を行った。結果を表２に示す。【００５３】
【表２】
2012005220.tif 000008
【００５４】
〔例１９〕
図１に示すような、基材１２の表面に、互いに平行にかつ所定のピッチＰで形成された、長さ方向に直交する断面の形状が、三角形の複数の凸条１４からなる反射防止構造を有する光学部材１０について、テラヘルツ波（１５０μｍ〜５００μｍ）の反射率を光学シミュレーションによって計算した。
基材１２および凸条１４の材料を、水晶（屈折率：２．１０８）とした。
凸条のピッチＰは５０μｍ、アスペクト比（Ｈ／Ｐ）は２とした。凸部の底部の幅は凸部のピッチに対して１倍である。【００５５】
〔例２０〜２６〕
また、上記長さ方向に直交する断面の形状を、三角形に替えて台形とした凸条からなる反射防止構造を有する、例１９と同じ材料の光学部材についても、同様に、テラヘルツ波（１５０μｍ〜５００μｍ）の反射率を光学シミュレーションによって計算した。台形の上辺をＴ、台形の下辺をＢとしたとき、Ｔ／Ｂ＝０．１、０．２、０．３、０．４、０．５、０．６、および０．７の７サンプルを対象として使用した。【００５６】
【表３】
2012005220.tif 000009
【００５７】
波長１５０μｍ以上３００μｍ以下において、凸条断面の形状が三角形であるサンプルが、凸条断面の形状が台形であるサンプル７点よりも反射率が低かった。
波長３００μｍ超４４０μｍ以下において、凸条断面の形状が三角形であるサンプルが、凸条断面の形状が台形であるサンプル４点よりも反射率が低かった。
波長４４０μｍ超５００μｍ以下において、凸条断面の形状が三角形であるサンプルが、凸条断面の形状が台形であるサンプルよりも反射率が高かった。
以上より、広範囲の波長において、凸条の断面の形状は、台形よりも三角形であるほうが、反射率が低いことがわかった。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の光学部材は、テラヘルツ波を取り扱う光学系に用いられる光学部材（レンズ、窓材、偏光子、フィルタ等）として有用である。
なお、２０１０年７月５日に出願された日本特許出願２０１０−１５３０１１号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【符号の説明】
【００５９】
１０  光学部材
１１  光学部材
１２  基材
１４  凸条（凸部）
２０  支持基材
２２  樹脂膜（基材）
【図１】
2012005220.tif 000010
【図２】
2012005220.tif 000011
【国際調査報告】
2012005220.tif 000012
2012005220.tif 000013