(57)【要約】  本発明の実施形態にかかる半導体成長用基板は、基板の主面に、該主面の一部が上方に隆起した、上面を持つ突起を複数備え、該突起は、前記上面が半導体結晶を成長させるための結晶成長面であり、下方から上方に向かうにつれて横断面積が小さくなっているとともに、側面が、高さの異なる多数の柱状結晶が重なり合って構成されているテクスチャーを有している。
2011105557.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の主面に、該主面の一部が上方に隆起した、上面を持つ突起を複数備え、
該突起は、前記上面が半導体結晶を成長させるための結晶成長面であり、下方から上方に向かうにつれて横断面積が小さくなっているとともに、側面が、高さの異なる多数の柱状結晶が重なり合って構成されているテクスチャーを有している半導体成長用基板。
【請求項２】
多数の前記柱状結晶のうち高さが前記側面の途中までのものは、上方へ向かうにつれて先端が小さくなっている請求項１に記載の半導体成長用基板。
【請求項３】
多数の前記柱状結晶は、側面視して、上方に向かうにつれて幅が小さくなっている請求項１または２に記載の半導体成長用基板。
【請求項４】
多数の前記柱状結晶は、横断面積が上方に向かうにつれて小さくなっている請求項１〜３のいずれかに記載の半導体成長用基板。
【請求項５】
前記基板の前記主面に、隆起した前記突起を取り囲むように環状の凹部が形成されている請求項１〜４のいずれかに記載の半導体成長用基板。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の半導体成長用基板と、該半導体成長用基板上に、前記突起を被覆するように成長させた光半導体層とを備えた発光素子。
【請求項７】
前記光半導体層は、前記半導体成長用基板から延びる転位を複数有し、
前記基板の前記主面から延びる前記転位の数よりも前記突起の前記側面から延びる前記転位の数が少ない請求項６に記載の発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体成長用基板と、当該半導体成長用基板を用いた発光素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、半導体成長用基板上に、紫外光、青色光、緑色光等を発光する光半導体層から構成される発光素子を形成する技術が提案されている。そのような発光素子としては、例えば特開2005−277374号公報に開示されている。【０００３】
発光素子の開発において、発光むらや発光効率を改善するために、半導体成長用基板上に光半導体層を成長させる際に、光半導体層の厚み方向に延在する転位を減らす必要があった。
【発明の概要】
【０００４】
本発明の実施形態は、発光効率を向上させることができる半導体成長用基板、およびかかる半導体成長用基板上に光半導体層を成長させた発光素子を提供することを目的とする。
【０００５】
本発明の実施形態にかかる半導体成長用基板は、基板の主面に、該主面の一部が上方に隆起した、上面を持つ突起を複数備え、該突起は、前記上面が半導体結晶を成長させるための結晶成長面であり、下方から上方に向かうにつれて横断面積が小さくなっているとともに、側面が高さの異なる多数の柱状結晶が重なり合って構成されているテクスチャーを有している。
【０００６】
また本発明の実施形態にかかる発光素子は、上述の半導体成長用基板上に、前記突起を被覆するように成長させた光半導体層を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の実施形態にかかる発光素子を実装した発光装置を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’線で切断したときの断面図である。
【図２】図１に示す発光素子の斜視図である。
【図３】図２に示す発光素子の断面図であり、図２のＢ−Ｂ’線で切断したときの断面に相当する。
【図４】本発明の実施形態にかかる半導体成長用基板の突起を走査型電子顕微鏡により観察した時の図面代用写真であり、（ａ）はかかる突起を斜視したとき、（ｂ）は突起を側面視したときに該当する。
【図５】本発明の実施形態にかかる半導体成長用基板の製造工程の一工程を示す断面図であり、図２のＢ−Ｂ’線で切断したときの断面に相当する。
【図６】本発明の実施形態にかかる半導体成長用基板の製造工程の一工程を示す断面図である。
【図７】本発明の実施形態にかかる半導体成長用基板の製造工程の一工程を示す断面図である。
【図８】本発明の実施形態にかかる半導体成長用基板の製造工程の一工程を示す断面図である。
【図９】本発明の実施形態にかかる発光素子の製造工程の一工程を示す断面図である。
【図１０】図５〜８に示す半導体成長用基板の製造工程の変形例を示す断面図である。
【図１１】図８に示す半導体成長用基板の変形例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の実施形態の要旨を逸脱しない範囲内で種々変更を施すことができる。
【０００９】
＜発光装置＞
図１（ａ）は本実施形態にかかる発光素子１を実装した発光装置２の斜視図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）に示す発光装置２の断面図であり、図１（ａ）のＡ−Ａ’線で切断した時の断面に相当する。
【００１０】
発光装置２は、図１（ｂ）に示すように、引き出し電極３が設けられた実装基体４と、実装基体４上に実装された発光素子１と、を有している。
【００１１】
実装基体４は、実装基体４の実装面４Ａから引き出し面４Ｂまで導通をとるための引き出し電極３を有している。このような実装基体４は、セラミック材料などを積層することにより形成することができる。
【００１２】
第１接合電極５および第２接合電極６は、それぞれ後述する発光素子１の第１電極層７および第２電極層８と引き出し電極３との間に介在し、それぞれが電気的に接合するように設けられている。このような第１接合電極５および第２接合電極６は、例えば金−スズ等のはんだ、ペースト、金、ニッケル、アルミニウム、チタンまたはクロムなどの導電性材料などを用いることができる。
【００１３】
発光素子１は、上述した第１接合電極５および第２接合電極６を介して電気的に引き出し電極３と接続されて、実装面４Ａ上に実装される。本実施形態において発光素子１は、後述する半導体成長用基板10から光半導体層11で発した光を取り出すようにフリップチップ接続による配置で実装されている。
【００１４】
モールド樹脂９は、実装基体４に実装された発光素子１を被覆するように、実装基体４の開口部に充填されている。このように発光素子１をモールド樹脂９によって被覆することで、電気的に周囲と絶縁させることができ、信頼性を向上させることができる。
【００１５】
［発光素子の構造］
発光装置２に実装される発光素子１を、図面を参考にしつつ以下に詳細に説明する。
【００１６】
図２は本実施形態にかかる発光素子１の斜視図、図３は図２に示す発光素子１の断面図であり、図２のＢ−Ｂ’線で切断したときの断面に相当する。
【００１７】
発光素子１は、図２および３に示すように、半導体成長用基板10と、半導体成長用基板10上に成長させた光半導体層11とを有する。
【００１８】
半導体成長用基板10は、主面10Ａから隆起した突起10ｂを持つ単結晶基板10ａから構成されている。半導体成長用基板10は、光半導体層11を成長させることが可能な材料を用いることができ、例えばサファイア、窒化ガリウム、窒化アルミニウムまたは酸化亜鉛などの結晶性材料を用いることができる。
【００１９】
半導体成長用基板10は、平面視形状が例えば長方形状などの多角形状や円形状などに設定される。半導体成長用基板10の厚みは、例えば２μｍ以上1000μｍ以下に設定される。ここで、半導体成長用基板10の厚みは、単結晶基板10ａの下面10Ｂから突起10ｂの上面10Ａ’までの厚みを指す。本実施形態のように、発光素子１をフリップチップ実装する場合、半導体成長用基板10として除去することが容易な材料や透光性の材料を用いてもよい。このような材料で半導体成長用基板10を形成することにより、発光層11ｂで発した光を、発光層11ｂの半導体成長用基板10側から効率よく取り出すことができる。
【００２０】
突起10ｂは、単結晶基板10ａの主面10Ａから上方に隆起するよう単結晶基板10ａと一体的に設けられている。突起10ｂの上面10Ａ’は、結晶成長面となっている。結晶成長面とは半導体が成長しやすくなるように、結晶格子の結晶面を揃えた平面を指す。結晶成長面としては、例えばサファイアを用いた場合だと、結晶格子のＡ面、Ｃ面またはＲ面などの結晶面を用いることができる。
【００２１】
突起10ｂは、平面視形状が、例えば、六角形状もしくは長方形状などの多角形状または円形状などである。突起10ｂは、上面10Ａ’の面積が、例えば0.2μｍ２以上15μｍ２以下となるように設定することができる。また、突起10ｂの上面10Ａ’は、単結晶基板10ａの主面10Ａに対して占める面積が、例えば20％以上80％以下となるように設けることができる。
【００２２】
さらに突起10ａは、下方から上方に向かうにつれて、上下方向と垂直な方向の横断面の面積である横断面積が小さくなるように設けることができる。そのため、突起10ａは、上下方向の縦断面の形状が、例えば台形状または四角形状などの多角形状である。なお、突起10ｂは、単結晶基板10ａの主面10Ａから突起10ｂの上面10Ａ’までの高さが、例えば0.5μｍ以上200μｍ以下となるように設定することができる。
【００２３】
突起10ｂの外側面は、図４に示すように、柱状結晶12’が重なり合って構成されたテクスチャー12を有している。図４（ａ）は突起10ｂを斜視したＳＥＭ写真を示し、図４（ｂ）は突起10ｂを側面視したＳＥＭ写真を示している。なお、当該ＳＥＭ写真は、サファイアからなる単結晶基板に突起を設けた後、表面全体に導電材料を10ｎｍ以下積層させた単結晶基板を観察したものである。かかるテクスチャー12は、図４（ｂ）に示すように、突起10ｂの下端から上端までの間に、下端から上方に向けて多数の柱状結晶12’が延在して重なり合うように設けられている。
【００２４】
テクスチャー12は、このように多数の柱状結晶12’が重なり合うようにして構成されていることにより、いわゆる鱗片状となっている。また、複数の柱状結晶12’は突起10ｂと一体的に設けられていることから、突起10ｂの外側面全体が柱状結晶12’によって段差を有する構造となっている。
【００２５】
柱状結晶12’は、下端から上端までの長さが異なるように設けられている。これにより複数の柱状結晶12’は、その頂面が、単結晶基板10ａの主面10Ａからの高さ位置が異なるように配置されている。複数の柱状結晶12’は、その頂面が突起10ｂの上面10Ａと同じ高さ位置にまで延出されているもの、またはその頂面が突起10ｂの高さよりも低くなるように設けられているものを含んでいる。頂面が突起10ｂの高さよりも低く設けられた柱状結晶12’は、単結晶基板10ａの主面10Ａから頂面までの高さが、例えば0.5μｍ以上10μｍ以下となるように設定することができる。なお、柱状結晶12’の高さは、突起10ｂと単結晶基板10ａとの境界からの高さを用いればよい。
【００２６】
また柱状結晶12’は、柱状結晶12’の下方に位置する部分と、柱状結晶12’の上方に位置する部分とを比較した場合に、突起10ｂの下方にあるものほど、側面視したときの横幅が大きくなるように設定されている。柱状結晶12’は、側面視したときの横幅を、例えば50ｎｍ以上500ｎｍ以下に設定することができる。
【００２７】
柱状結晶12’は、突起10ｂの外側面に下方から上方にわたって様々な方向に向かって延びる複数の溝によって外側面の一部が突出するように、突起10ｂと一体的に設けられている。突起10ｂは、このような複数の柱状結晶12’が折り重なるように配置されることによるテクスチャー12を有している。
【００２８】
突起10ｂの外側面に設けられる複数の溝は、例えば突起10ｂを横断面視したときに、Ｖ字状または四角形状など種々の形状で切り欠かれた形状からなる。突起10ｂの外側面から内部までの溝の深さは、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下に設定することができる。また、複数の溝は、隣接する溝の間隔を、例えば10ｎｍ以上１μｍ以下に設定することができる。
【００２９】
半導体成長用基板10上には、図３に示すように、光半導体層11が設けられている。光半導体層11は、第１半導体層11ａ、発光層11ｂおよび第２半導体層11ｃを順次積層することによって構成されている。なお、光半導体層11は、全体の厚みが例えば0.1μｍ以上20μｍ以下に形成されている。光半導体層11は、各層の屈折率が、窒化ガリウムを用いた場合には例えば1.80以上2.70以下に設定することができる。
【００３０】
光半導体層11としては、III−Ｖ族半導体を用いることができる。III−Ｖ族半導体としては、III族窒化物半導体、ガリウム燐またはガリウムヒ素などを例示することができる。III族窒化物半導体としては、ボロン、アルミニウム、ガリウムまたはインジウムのうち少なくとも１つの窒化物からなる混晶を用いることができ、例えば窒化ガリウムを用いることができる。
【００３１】
第１半導体層11ａは、突起10ｂを被覆するように単結晶基板10ａ上に設けられている。第１半導体層11ａは、単結晶基板10ａに結晶成長させて設けた場合には、厚み方向に転位13が延在するようになる。転位13は、半導体の結晶格子がずれることによって形成される。転位13には、例えば刃状転位またはらせん状転位などの種類がある。転位13すなわち結晶格子のずれは、第１半導体層11ａと単結晶基板10ａとが異なる格子定数を有することにより、起こりやすくなっている。なお、第１半導体層11ａは、厚みが１μｍ以上10μｍ以下に設定されている。
【００３２】
発光層11ｂは、第１半導体層11ａ上に設けられている。発光層11ｂは、禁制帯幅の広い障壁層と禁制帯幅の狭い井戸層とからなる量子井戸構造が複数回繰り返し規則的に積層された多層量子井戸構造（ＭＱＷ）を用いることができる。障壁層と井戸層としては、インジウムとガリウムの窒化物からなる混晶においてインジウムとガリウムの組成比を調整したものを用いることができる。このように構成された発光層11ｂでは、例えば350ｎｍ以上600ｎｍ以下の波長の光を発光する。発光層11ｂは、第１半導体層11ａ上に設けられることから、第１半導体層11ａに転位13が延在する場合にはその転位13が発光層11ｂにも引き継がれやすくなる。
【００３３】
第２半導体層11ｃは、発光層11ｂ上に設けられている。第２半導体層11ｃは、電子か正孔のどちらかを多数キャリアとすることにより、第１半導体層11ａとは逆導電型を呈するように設定されている。半導体層に導電型を付与する方法としては、例えばマグネシウムまたはシリコンを不純物として混ぜる方法を用いることができる。
【００３４】
第１電極層７は第１半導体層11ａ上に、第２電極層８は第２半導体層11ｃ上に、それぞれ設けられている。このような２つの電極層により、光半導体層11に電圧が印加される。電極層の材料としては、例えば、アルミニウム、チタン、ニッケル、クロム、インジウム、錫、モリブデン、銀、金、ニオブ、タンタル、バナジウム、白金、鉛またはベリリウムなどの金属、酸化錫、酸化インジウムもしくは酸化インジウム錫などの酸化物、または金−シリコン合金、金−ゲルマニウム合金、金−亜鉛合金もしくは金−ベリリウム合金などの合金膜を好適に用いることができる。また、このような電極層は、それぞれ上記材質の中から選択した層を多層積層しても構わない。
【００３５】
このように光半導体層11を、突起10ｂを有する単結晶基板10ａすなわち半導体成長用基板10上に結晶成長させた場合には、単結晶基板10ａから光半導体層11内に延在する転位13の数を制御することができる。
【００３６】
本実施形態においては、突起10ｂの外側面に、複数の柱状結晶12’から構成されているテクスチャー12を有している。そのため、突起10ｂの外側面の表面において、外側面の上下方向および外周方向に外側面を荒らして、単結晶基板10ａの結晶格子の結晶面を不揃いにすることができる。そのため、半導体成長用基板10上に光半導体層11を成長させた場合は、荒れた外側面には結晶を成長しにくくなることから、突起10ｂの外側面に結晶を成長させにくくすることができる。
【００３７】
具体的には、光半導体層11内に位置する半導体成長用基板10から延びる転位13を複数有し、単結晶基板10ａの主面10Ａから延びる転位13の数よりも突起10ｂの外側面から延びる転位13の数が少なくなっている。
【００３８】
その結果、突起10ｂの上面10Ａ’すなわち結晶成長面で結晶成長させつつ、突起10ｂの外側面では結晶成長させにくくすることができる。そのため、突起10ｂの外側面から延びる転位13を少なくすることができ、光半導体層11の厚み方向に延在する転位13の数を減らすことができる。
【００３９】
換言すると、光半導体層11および半導体成長用基板10を平面透視して、突起10ｂの上面10Ａ’と重ならない第１領域14における光半導体層11の厚み方向に延在する転位13の数を減らすことができる。その結果、第１領域14の光半導体層11の結晶品質を向上させることができ、発光素子１で発する光の発光効率を向上させることができる。なお、光半導体層11および半導体成長用基板10を平面透視して、突起10ｂの上面10Ａ’と重ならない領域は第１領域14を、突起10ｂの上面10Ａ’と重なる領域は第２領域15をそれぞれ示している。
【００４０】
一方、突起の外側面にかかるテクスチャーを有しない構成では、突起の外側面の結晶面が揃いやすくなる。そのため、突起の外側面にも光半導体層が成長することによって突起の外側面から延びる転位が発生し、光半導体層の厚み方向に転位が延びることとなる。その結果、光半導体層内に転位が多数存在することとなり、発光素子の発光効率の低下を招きやすくなる。さらに、光半導体層の厚み方向に多くの転位が延在することにより、発光素子に電圧を印加した際に、かかる転位が光半導体層のバルク抵抗より小さい電気抵抗値を有するようになって短絡や静電破壊などを起こしやすくなり、信頼性の低下を招きやすくなる。
【００４１】
また、突起10ｂの外側面のテクスチャー12が、複数の柱状結晶12’によって構成されている。そのため、光半導体層11で発した光を単結晶基板10ａ側から取り出す際に、光半導体層11で発した光が半導体成長用基板10との界面で光半導体層11側に反射されにくくすることができる。そのため、発光素子１の光取り出し効率を向上させることができる。
【００４２】
さらに、第１領域14の光半導体層11で発した光が、突起10ｂの外側面から単結晶基板10ａに入射しやすくすることができる。このように光半導体層11から単結晶基板10ａに入射しやすくなることにより、入射角よりも屈折角が大きくなるように屈折させることができるため、光半導体層11の第１領域14で発した光を第２領域15方向に屈折させることができる。そのことから、第１領域14の光半導体層11の発光効率が向上された場合でも、発光素子１の発光むらを抑制することができる。
【００４３】
このように本発明の実施形態にかかる半導体成長用基板10を用いることにより、光半導体層11の結晶品質を向上させるとともに、光取り出し効率を向上させることが可能な発光素子１を提供することができる。
【００４４】
（発光素子の変形例１）
多数の柱状結晶12’のうち、単結晶基板10ａの主面10Ａからの高さ位置が突起10ｂの側面の途中までのものは、上方へ向かうにつれて先端が部分的に小さくなっていてもよい。具体的に、柱状結晶12’は、平面透視して外郭断面積が上方へ向かうにつれて小さくなり、柱状結晶12’を側面視して、上方へ向かうにつれて柱状結晶12’の幅が小さくなるように設けられている。このように柱状結晶12’の先端が上方へ向かうにつれて小さくなっていることにより、柱状結晶12’の頂面が、単結晶基板10ａの主面10Ａに対して傾斜するようになっている。
【００４５】
柱状結晶12’は、上方へ向かうにつれて先端が小さくなっているときには、発光層11ｂで発した光が単結晶基板10ａとの界面で臨界角よりも小さい角度で入射しやすいものにすることができる。そのため、光半導体層11と単結晶基板10ａとの界面でさらに反射されにくくすることができる。その結果、光半導体層11で発した光を単結晶基板10ａ側から取り出す際に、発光素子１の光取出し効率を向上させることができる。
【００４６】
また、光半導体層11の第１領域14で発した光を、かかるテクスチャー12によって、第２領域15に入射させることができるため、発光むらをさらに改善することができる。
【００４７】
なお、柱状結晶12’の先端が上方へ向かうにつれて部分的に小さくなっている構造としては、柱状結晶12’は、横断面積が上方に向かうにつれて小さくなっている構造を用いればよい。そのような構造としては、例えば柱状結晶12’の先端（頂面）が上方に配置されたテーパー形状などを用いることができる。
【００４８】
（発光素子の変形例２）
単結晶基板10の主面10Ａに、図４（ａ）に示すように、隆起した突起10ｂを取り囲むように環状の凹部16が形成されている。このような凹部16は、単結晶基板10の主面10Ａから凹部16の下端部までの深さが、例えば0.1μｍ以上３μｍ以下となるように設けることができる。また、突起10ｂを取り囲むように形成された環状の凹部16は、突起10ｂの外側面と接するように配置されている。そのため、突起10ｂは、外側面の下端が凹部16の下端部となるように、上方に隆起するように設けられている。
【００４９】
このような凹部16を単結晶基板10ａの主面10Ａに形成することにより、発光層11ｂで発した光が凹部16で光半導体層11側に反射されにくいものにすることができるため、発光層11ｂで発した光を単結晶基板10ａ側から効率的に取り出すことができる。その結果、発光素子１の光取り出し効率を向上させることができる。
【００５０】
［発光素子の製造方法］
次に、発光素子１の製造方法を説明する。図５から図10は、発光素子１の製造方法を説明するための断面図であり、図２に示す発光素子１のＡ―Ａ’線における断面に相当する部分を示している。
【００５１】
（半導体成長用基板の製造工程）
図５に示すように、単結晶基板10ａ上に、単結晶基板10ａの一部が露出した貫通孔17ａを有するレジストパターン17を形成する。レジストパターン17としては、後に容易に除去することができる材料を選択することができ、厚みは例えば0.1μｍ以上10μｍ以下に設定することができる。このようなレジストパターン17は、従来のフォトレジスト法などによって設けることができる。
【００５２】
このような貫通孔17を有するレジストパターン17を形成することにより、単結晶基板10ａの上面10Ａ’の一部を露出させることができる。なお、単結晶基板10ａの一部が露出した領域を、第１露出領域18ａとする。貫通孔17の平面形状は、突起10ｂの上面10Ａ’の形状に設定すればよい。
【００５３】
次に、図６に示すように、単結晶基板10ａの第１露出領域18ａにマスク材料を埋めることによって積層膜19を形成する。積層膜19の厚みは、マスク材料とエッチングする深さとの選択比から設定すればよく、例えば400ｎｍ以上900ｎｍ以下に設定することができる。なお、単結晶基板10ａとしてサファイアを用いてドライエッチングを行なう場合は、サファイアと反応しやすい塩素系ガスを反応ガスとして好適に用いることができるが、この場合のマスク材料としては、チタン、ニッケルもしくはクロムなどの金属材料または酸化シリコンなどの耐塩素性の無機材料を用いることが望ましい。
【００５４】
マスク材料を単結晶基板10ａ上に積層する方法としては、例えばスパッタリング法、蒸着法などを用いることができ、スパッタリング法を用いた場合には、貫通孔17ａに被覆性よくマスク材料を埋めることができる。
【００５５】
また、異なるマスク材料を複数積層することによって積層膜19を形成してもよい。積層膜19を異なるマスク材料を積層することによって設けることにより、後述する単結晶基板10ａのエッチングの際に、エッチング速度をそれぞれのマスク材料の層によって変えることができる。このようにエッチング速度を変えて単結晶基板10ａをエッチングすることにより、単結晶基板10ａに突起10ｂを形成するとともに、突起10ｂに複数の柱状結晶12’から構成されているテクスチャー12を形成することができる。
【００５６】
その後、図７に示すように、レジストパターン17を除去することにより、単結晶基板10ａの一部を露出させた第２露出領域18ｂを有するマスクパターン20を形成する。本実施形態では、マスク材料として金属材料を用いてマスクパターン20を形成することにより、レジストパターン17を除去した際にマスクパターン20を構成するそれぞれのマスク20ａの外周面の一部も合わせて除去される。
【００５７】
そのため、マスクパターン20を構成するそれぞれのマスク20ａの外周面に複数の溝が形成される。このような複数の溝は、マスク20ａの下端から上端に沿って設けられている。溝の幅は、例えば10ｎｍ以上１μｍ以下となるように設定することができる。このようにマスク20ａの外周面に複数の溝が形成されやすいのは、金属材料を用いたマスクパターン20が結晶塊を有しているためである。
【００５８】
次に、単結晶基板10ａの第２露出領域18ｂおよびマスクパターン20をエッチングによって厚み方向に単結晶基板10ａを一部除去する。これにより、単結晶基板10ａに突起10ｂを設けるとともに、突起10ｂの外側面に複数の柱状結晶12’によって構成されるテクスチャー12を形成する。
【００５９】
このようなエッチングとしては、ウエットエッチングやドライエッチングなどを用いることができる。単結晶基板10ａとしてサファイアを用いてドライエッチングを行なう場合には、サファイアと反応しやすい塩素系ガス雰囲気中でドライエッチングを行なうことによって生産性を向上させることができる。
【００６０】
突起10ｂの外側面に設けるテクスチャー12は、例えば単結晶基板10ａに金属材料からなるマスクパターン20を形成した場合であれば、単結晶基板10ａの上方からドライエッチングをすることによって形成することができる。これは、マスク20ａの外周面に形成された溝および結晶塊で単結晶基板10ａのエッチング速度を部分的に変化させることができるためである。
【００６１】
この後、マスクパターン20をエッチングなどで除去することにより、図８に示すように、突起10ｂの外側面に複数の柱状結晶12’により構成されるテクスチャー12を形成した半導体成長用基板10を作製することができる。
【００６２】
（発光素子の製造工程）
次に、図９に示すように、光半導体層11を、半導体成長用基板10の突起10ｂ上に横方向成長を用いて形成する。光半導体層11を横方向成長させる方法としては、それぞれの層において組成比、成長温度および成長圧力などの成長条件を調整すればよい。このように成長条件を調整することにより、第１半導体層11ａの成長速度を単結晶基板10ａの主面10Ａに対する垂直方向と水平方向とで制御することができ、第１半導体層11ａを横方向成長させることができる。
【００６３】
突起10ｂの外側面には複数の柱状結晶12’によって構成されるテクスチャー12が設けられている。そのため、半導体成長用基板10上に第１半導体層11ａを成長させる場合に、突起10ｂの外側面には第１半導体層11ａが成長しにくくなっている。すなわち、突起10ｂの外側面から第１半導体層11ａの厚み方向に延びる転位13が発生することを抑制することができる。半導体成長用基板10上に第１半導体層11ａを横方向成長させた場合には、露出した単結晶基板10ａの主面10Ａに第１半導体層11ａが成長する。その結果、隣接する突起10ｂとの間の空間が、単結晶基板10ｂの主面10Ａ上に成長した第１半導体層11ａによって埋められる。その後、第１半導体層11ａ上に、発光層11ｂおよび第２半導体層11ｃを成長させる。
【００６４】
光半導体層11すなわち第１半導体層11ａ、発光層11ｂおよび第２半導体層11ｃを成長させる方法として、有機金属気相成長法、分子線エピタキシー法、ハイドライド気相成長法またはパルスレーザデポジション法などを用いることができる。
【００６５】
このように第１半導体層11ａを横方向成長させることにより、発光層11ｂにまで延在する転位13の数および位置を制御しつつ成長速度を早めることができるため、光半導体層11の生産性を向上させることができる。
【００６６】
（半導体成長用基板の製造方法の変形例１）
突起10ｂの外側面のテクスチャー12が、上方へ向かうにつれて先端が小さくなった柱状結晶12’によって構成されていてもよい。このように柱状結晶12’を形成した場合は、先端が上方に向かうにつれて小さくなっていることから、隣接する突起10ｂ同士の間の空間を、単結晶基板10ａの主面10Ａから半導体を密着性よく成長させて埋めることができる。
【００６７】
その結果、光半導体層11と単結晶基板10ａとの間に、単結晶基板10ａよりも屈折率が小さい空隙が形成されるのを抑制することができるため、光半導体層11で発した光を、効率よく単結晶基板10ａ内に通過させることができる。そのため、発光素子１の光取り出し効率を向上させることができる。
【００６８】
（半導体成長用基板の製造方法の変形例２）
図４（ａ）に示すように、単結晶基板10ａの主面10Ａに、突起10ｂを取り囲むような凹部16を形成してもよい。このように単結晶基板10ａの主面10Ａに凹部16を形成した場合は、隣接する２つの突起10ｂの間の単結晶基板10ａ表面が断面視して平坦とならなくなるため、かかる単結晶基板10ａの表面で第１半導体層11ａを結晶成長させにくくすることができる。その結果、隣接する２つの突起10ｂの間の単結晶基板10表面から延びる転位を減らすことができ、光半導体層11の第２領域における結晶品質をさらに向上させることができる。
【００６９】
（半導体成長用基板の製造方法の変形例３）
金属材料からなるマスクパターン20を設ける際に、逆メサ形状の端面17’を持つレジストパターン17を用いてもよい。このように逆メサ形状の端面17’を持つレジストパターン17を用いて、突起10ｂを設ける工程について図９を用いて説明する。
【００７０】
まず、図９（ａ）に示すように、レジストパターン17として感光性材料を用いた場合には、感光性材料を感光させて固化させることによってレジストパターン17を形成する際に、端面17’を逆メサ形状とすればよい。端面17’を逆メサ形状とする方法としては、感光性材料を単結晶基板10ａの上面10Ａ’上に塗布し、上面10Ａ’に対して垂直な方向から光を照射する方法を用いることができる。このように感光性材料に光を照射することにより、照射した光が外部と感光性材料との界面で屈折して感光性材料内に進入する。
【００７１】
そのため、感光性材料内に入った光は、単結晶基板10ａの上面10Ａ’に対して傾斜するようになる。逆メサ形状の端面17’としては、レジストパターン17の端面17’と単結晶基板10ａの主面10Ａとの内角を、例えば95°以上150°以下となるように設定することができる。逆メサ形状の端面17’は、感光性材料に照射する光の強度および感光性材料の屈折率を変化させることにより、単結晶基板10ａの主面10Ａとの内角を変化させることができる。
【００７２】
次に、図９（ｂ）に示すように、マスクパターン20となる金属材料を、単結晶基板10ａの上面10Ａおよびレジストパターン17上に金属層20’として積層する。この際に、レジストパターン17の端面17’が逆メサ形状であることから、積層する金属材料を段切れさせて、単結晶基板10ａの上面10ａにマスク20ａを形成することができる。また、段切れされたマスク20ａが設けられることにより、マスク20ａの上下方向の断面視形状が台形状または半円状となっている。
【００７３】
このような金属材料としては、レジストパターン17の厚みに対して、例えば10％以上70％以下となるように設定することができる。金属材料を積層する方法としては、例えば蒸着法またはスパッタリング法を用いることができる。その後、図９（ｃ）に示すように、レジストパターン17を除去して、単結晶基板10ａの上面10Ａにマスクパターン20を形成する。
【００７４】
さらにその後、単結晶基板10ａの上面10Ａ側からエッチングすることにより、図８に示すように、突起10ｂを形成するとともに、突起10ｂの外側面に複数の柱状結晶12’から構成されるテクスチャー12を形成することができる。このように金属材料からなるマスクパターン20をエッチングして、突起10ｂの外側面にテクスチャー12を形成することができるのは、マスク20ａの上下方向の断面視形状が台形状となっているとともに金属材料中に結晶塊を有しているため、エッチング速度にばらつきがでるためである。
【００７５】
このように、逆メサ形状のレジストパターン17を用いることにより、突起10ｂの外側面に複数の柱状結晶12’によって構成されるテクスチャー12を容易に形成することができる。
【００７６】
（半導体成長用基板の製造方法の変形例４）
単結晶基板10ａの主面10Ａに、図１１に示すような隆起した突起10ｂを取り囲むように環状の凹部16を形成してもよい。このような凹部16は、例えばマスクパターン20として金属材料を用いてドライエッチングを行なうことによって形成することができる。
【００７７】
このようにマスクパターン20として金属材料を用いると、単結晶基板10ａのエッチングを行なうイオンがマスク20ａの側面方向に進みやすくなる。その結果、突起10ｂの周りを取り囲む環状の凹部16が形成されやすくすることができる。なお、凹部16の深さは、例えば、単結晶基板10ａのエッチングされる量とマスクのエッチングされる量との選択比によって変化させることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図４】
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【国際調査報告】
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