(57)【要約】  プラズマディスプレイパネルは、前面板の周縁部と背面板の周縁部とを封着部材（２２）により封着した封着部（２０）を有する。封着部（２１）は、前面板（５０）と背面板（６０）の周縁部の間隙を規制するビーズ（２１）を含む。表示電極の延長方向側の封着部（２０）において、誘電体層（５）はビーズ（２１）が配置される位置まで形成される。かつ、絶縁体層（７）はビーズ（２１）が配置される位置には形成されない。データ電極の延長方向側の封着部（２０）において、絶縁体層（７）はビーズ（２１）が配置される位置まで形成される。かつ、誘電体層（５）はビーズ（２１）が配置される位置には形成されない。ビーズ（２１）の直径は、誘電体層（５）の厚みと隔壁（９）の高さとの和よりも大きく、誘電体層（５）の厚みと隔壁（９）の高さとの和の２倍以下である。
2011096180.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面板と、前記前面板と対向配置された背面板とを有する、プラズマディスプレイパネルを、備え
前記プラズマディスプレイパネルは、前記前面板の周縁部と前記背面板の周縁部とを封着部材により封着した封着部を有し、
前記前面板は、表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、を有し、
前記背面板は、電極と、前記電極を覆う絶縁体層と、前記絶縁体層上に形成された隔壁とを、有し
前記封着部は、前記前面板と前記背面板の周縁部の間隙を規制する球状部材を含み、
前記表示電極の延長方向側の封着部において、前記誘電体層は前記球状部材が配置される位置まで形成され、かつ、前記絶縁体層は前記球状部材が配置される位置には形成されず、
前記電極の延長方向側の封着部において、前記絶縁体層は前記球状部材が配置される位置まで形成され、かつ前記誘電体層は前記球状部材が配置される位置には形成されず、
前記球状部材の直径は、前記誘電体層の厚みと前記隔壁の高さとの和よりも大きく、前記誘電体層の厚みと前記隔壁の高さとの和の２倍以下である、
プラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
前記表示電極の延長方向側の封着部の間隙が前記電極の延長方向側の封着部の間隙より広い、請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ここに開示された技術は、表示デバイスなどに用いられるプラズマディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称する）を表示デバイスとして用いるプラズマディスプレイ装置は、アルミニウムなどの金属製のシャーシ部材の前面側にＰＤＰを保持している。さらに、プラズマディスプレイ装置は、ＰＤＰを発光させるための駆動電圧を発生させる駆動回路を構成する駆動回路基板を有する（例えば、特許文献１参照）。【０００３】
ＰＤＰは、前面板と背面板とで構成される。前面板は、ガラス基板と、ガラス基板の一方の主面上に形成された表示電極と、表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、誘電体層上に形成された酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層とで構成されている。一方、背面板は、ガラス基板と、ガラス基板の一方の主面上に形成されたデータ電極と、データ電極を覆う絶縁体層と、絶縁体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色および青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−１３１５８０号公報
【発明の概要】
【０００５】
プラズマディスプレイ装置は、前面板と、前面板と対向配置された背面板とを有するＰＤＰを備える。ＰＤＰは、前面板の周縁部と背面板の周縁部とを封着部材により封着した封着部を有する。前面板は、表示電極と、表示電極を覆う誘電体層と、を有する。背面板は、電極と、電極を覆う絶縁体層と、絶縁体層上に形成された隔壁とを、有する。封着部は、前面板と背面板の周縁部の間隙を規制する球状部材を含む。表示電極の延長方向側の封着部において、誘電体層は球状部材が配置される位置まで形成される。かつ、絶縁体層は球状部材が配置される位置には形成されない。電極の延長方向側の封着部において、絶縁体層は球状部材が配置される位置まで形成される。かつ、誘電体層は球状部材が配置される位置には形成されない。球状部材の直径は、誘電体層の厚みと隔壁の高さとの和よりも大きく、誘電体層の厚みと隔壁の高さとの和の２倍以下である。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は実施の形態に係るＰＤＰの構造を示す斜視図である。
【図２】図２は実施の形態に係るＰＤＰの放電セル構成を示す断面図である。
【図３】図３は同ＰＤＰの電極配列図である。
【図４】図４は実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置のブロック回路図である。
【図５】図５は同プラズマディスプレイ装置の駆動電圧波形図である。
【図６】図６は実施の形態に係るＰＤＰの平面図である。
【図７】図７は図６におけるＡ−Ａ断面図である。
【図８】図８は図６におけるＢ−Ｂ断面図である。
【図９】図９は実施の形態に係るＰＤＰにおける長辺側の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
［１．ＰＤＰ１００の構成］
本実施の形態に係るＰＤＰ１００は、交流面放電型ＰＤＰである。図１および図２に示すように、ＰＤＰ１００は、一例として、ガラス製の前面基板１と背面基板２とを、その間に放電空間を形成するように対向配置することにより構成されている。前面基板１上には表示電極を構成する走査電極３と維持電極４とが間に放電ギャップを設けて互いに平行に対をなして複数形成されている。そして、走査電極３および維持電極４を被覆するガラス材料などからなる誘電体層５が形成されている。誘電体層５上には酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層６が形成されている。走査電極３は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透明電極３ａと、透明電極３ａに積層された銀（Ａｇ）などからなるバス電極３ｂとから構成されている。維持電極４は、ＩＴＯなどの透明電極４ａと、透明電極４ａに積層されたＡｇなどからなるバス電極４ｂとから構成されている。前面板５０は、前面基板１に上述の構成物が形成されたものである。なお、走査電極３と維持電極４とから表示電極１９が構成される。
【０００８】
背面基板２上には、駆動電圧を印加する複数のデータ電極８と、データ電極８を被覆する絶縁体層７が設けられている。絶縁体層７上には、井桁状の隔壁９が設けられている。隔壁９は、データ電極８と平行な縦隔壁９ａと、縦隔壁９ａと直交する横隔壁９ｂとから構成されている。隔壁９は、前面基板１と背面基板２との間の放電空間を放電セルとして区画する。絶縁体層７の表面および隔壁９の側面に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に発光する蛍光体層１０が設けられている。背面板６０は、背面基板２に上述の構成物が形成されたものである。
【０００９】
また、走査電極３および維持電極４とデータ電極８とが交差するように前面板５０と背面板６０とが対向配置されている。前面板５０と背面板６０の間に形成される放電空間には、放電ガスとして、例えばネオン（Ｎｅ）とキセノン（Ｘｅ）の混合ガスが５３ｋＰａ（４００Ｔｏｒｒ）〜８０ｋＰａ（６００Ｔｏｒｒ）の圧力で封入されている。
【００１０】
なお、本実施の形態において、放電空間に封入される放電ガスは、１０体積％以上３０％体積以下のＸｅを含む。
【００１１】
［２．プラズマディスプレイ装置２００の構成］
図３および図４に示すように、プラズマディスプレイ装置２００は、ＰＤＰ１００を有する。図２に示すように、ＰＤＰ１００は、行方向に延伸して配列されたｎ本の走査電極ＳＣ１、ＳＣ２、ＳＣ３・・・ＳＣｎ（図１における３）を有する。ＰＤＰ１００は、行方向に延伸して配列されたｎ本の維持電極ＳＵ１、ＳＵ２、ＳＵ３・・・ＳＵｎ（図１における４）を有する。ＰＤＰ１００は、列方向に延伸して配列されたｍ本のデータ電極Ｄ１・・・Ｄｍ（図１における８）を有する。そして、１対の走査電極ＳＣ１および維持電極ＳＵ１と１つのデータ電極Ｄ１とが交差した部分に放電セル３０が形成されている。放電セル３０は放電空間内にｍ×ｎ個形成されている。走査電極および維持電極は、前面板の画像表示領域外の周辺端部に設けられた接続端子に接続されている。
【００１２】
さらに図３および図４に示すように、プラズマディスプレイ装置２００は、データ電極駆動回路１３を有する。データ電極駆動回路１３は、データ電極８の一端に接続され、かつデータ電極８に電圧を供給するための半導体素子からなる複数のデータドライバ（図示せず）を有している。
【００１３】
図４に示すように、プラズマディスプレイ装置２００は、ＰＤＰ１００、画像信号処理回路１２、データ電極駆動回路１３、走査電極駆動回路１４、維持電極駆動回路１５、タイミング発生回路１６および電源回路（図示せず）を備えている。ここで、走査電極駆動回路１４および維持電極駆動回路１５は、維持パルス発生部１７を備えている。
【００１４】
画像信号処理回路１２は、画像信号ｓｉｇをサブフィールド毎の画像データに変換する。データ電極駆動回路１３は、サブフィールド毎の画像データを各データ電極Ｄ１〜Ｄｍに対応する信号に変換し、各データ電極Ｄ１〜Ｄｍを駆動する。タイミング発生回路１６は、水平同期信号Ｈおよび垂直同期信号Ｖに基づいて各種のタイミング信号を発生し、各駆動回路ブロックに供給している。走査電極駆動回路１４は、タイミング信号に基づいて走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎに駆動電圧波形を供給している。維持電極駆動回路１５は、タイミング信号に基づいて維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎに駆動電圧波形を供給している。
【００１５】
次に、ＰＤＰ１００を駆動するための駆動電圧波形とその動作について図４を用いて説明する。
【００１６】
［２−１．プラズマディスプレイ装置２００の駆動方法］
図５に示すように本実施の形態におけるプラズマディスプレイ装置２００は、１フィールドを複数のサブフィールドにより構成する。サブフィールドは、初期化期間と、書込み期間と、維持期間とを有する。初期化期間は放電セルにおいて初期化放電を発生させる期間である。書込み期間は、初期化期間のあと、発光させる放電セルを選択する書込み放電を発生させる期間である。維持期間は、書込み期間において選択された放電セルに維持放電を発生させる期間である。
【００１７】
［２−１−１．初期化期間］
第１サブフィールドの初期化期間では、データ電極Ｄ１〜Ｄｍおよび維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎが０（Ｖ）に保持される。また、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎに対して放電開始電圧以下となる電圧Ｖｉ１（Ｖ）から放電開始電圧を超える電圧Ｖｉ２（Ｖ）に向かって緩やかに上昇するランプ電圧が印加される。すると、全ての放電セルにおいて１回目の微弱な初期化放電が発生する。初期化放電によって、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ上に負の壁電圧が蓄えられる。維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ上およびデータ電極Ｄ１〜Ｄｍ上に正の壁電圧が蓄えられる。壁電圧とは保護層６や蛍光体層１０上などに蓄積した壁電荷により生じる電圧である。
【００１８】
その後、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎが正の電圧Ｖｈ（Ｖ）に保たれる。走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎに電圧Ｖｉ３（Ｖ）から電圧Ｖｉ４（Ｖ）に向かって緩やかに下降するランプ電圧が印加される。すると、すべての放電セルにおいて２回目の微弱な初期化放電が発生する。走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ上と維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ上との間の壁電圧が弱められる。データ電極Ｄ１〜Ｄｍ上の壁電圧が書込み動作に適した値に調整される。
【００１９】
［２−１−２．書込み期間］
続く書込み期間では、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎが、一旦Ｖｒ（Ｖ）に保持される。次に、１行目の走査電極ＳＣ１に負の走査パルス電圧Ｖａ（Ｖ）が印加される。さらに、データ電極Ｄ１〜Ｄｍのうち１行目に表示すべき放電セルのデータ電極Ｄｋ（ｋ＝１〜ｍ）に正の書込みパルス電圧Ｖｄ（Ｖ）が印加される。このときデータ電極Ｄｋと走査電極ＳＣ１との交差部の電圧は、外部印加電圧（Ｖｄ−Ｖａ）（Ｖ）にデータ電極Ｄｋ上の壁電圧と走査電極ＳＣ１上の壁電圧とが加算されたものとなる。つまり、データ電極Ｄｋと走査電極ＳＣ１との交差部の電圧は、放電開始電圧を超える。そして、データ電極Ｄｋと走査電極ＳＣ１との間および維持電極ＳＵ１と走査電極ＳＣ１との間に書込み放電が発生する。書込み放電が発生した放電セルの走査電極ＳＣ１上には正の壁電圧が蓄積される。書込み放電が発生した放電セルの維持電極ＳＵ１上には負の壁電圧が蓄積される。書込み放電が発生した放電セルのデータ電極Ｄｋ上には負の壁電圧が蓄積される。
【００２０】
一方、書込みパルス電圧Ｖｄ（Ｖ）が印加されなかったデータ電極Ｄ１〜Ｄｍと走査電極ＳＣ１との交差部の電圧は放電開始電圧を超えない。よって、書込み放電は発生しない。以上の書込み動作がｎ行目の放電セルに至るまで順次行われる。書込み期間の終了は、ｎ行目の放電セルの書込み動作が終了したときである。
【００２１】
［２−１−３．維持期間］
続く維持期間では、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎには第１の電圧として正の維持パルス電圧Ｖｓ（Ｖ）が印加される。維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎには第２の電圧として接地電位、すなわち０（Ｖ）が印加される。このとき書込み放電が発生した放電セルにおいては、走査電極ＳＣｉ上と維持電極ＳＵｉ上との間の電圧は維持パルス電圧Ｖｓ（Ｖ）に走査電極ＳＣｉ上の壁電圧と維持電極ＳＵｉ上の壁電圧とが加算されたものとなり、放電開始電圧を超える。そして、走査電極ＳＣｉと維持電極ＳＵｉとの間に維持放電が発生する。維持放電により発生した紫外線により蛍光体層が励起されて発光する。そして走査電極ＳＣｉ上に負の壁電圧が蓄積される。維持電極ＳＵｉ上に正の壁電圧が蓄積される。データ電極Ｄｋ上には正の壁電圧が蓄積される。
【００２２】
書込み期間において書込み放電が発生しなかった放電セルでは、維持放電は発生しない。よって、初期化期間の終了時における壁電圧が保持される。続いて、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎには第２の電圧である０（Ｖ）が印加される。維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎには第１の電圧である維持パルス電圧Ｖｓ（Ｖ）が印加される。すると、維持放電が発生した放電セルでは、維持電極ＳＵｉ上と走査電極ＳＣｉ上との間の電圧が放電開始電圧を超える。したがって、再び維持電極ＳＵｉと走査電極ＳＣｉとの間に維持放電が発生する。つまり、維持電極ＳＵｉ上に負の壁電圧が蓄積される。走査電極ＳＣｉ上に正の壁電圧が蓄積される。
【００２３】
以降同様に、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎとに交互に輝度重みに応じた数の維持パルス電圧Ｖｓ（Ｖ）が印加されることにより、書込み期間において書込み放電が発生した放電セルで維持放電が継続して発生する。所定の数の維持パルス電圧Ｖｓ（Ｖ）の印加が完了すると維持期間における維持動作が終了する。
【００２４】
［２−１−４．第２サブフィールド以降］
続く第２サブフィールド以降における初期化期間、書込み期間、維持期間の動作も、第１サブフィールドにおける動作とほぼ同様である。よって、詳細な説明は省略される。なお、第２サブフィールド以降においては、前のサブフィールドにおいて維持放電を起こした放電セルのみで選択的に初期化放電を発生させる選択初期化動作が行われてもよい。全セル初期化動作と選択初期化動作について、本実施の形態では、第１サブフィールドとその他のサブフィールドとの間で使い分けわれる。しかし、全セル初期化動作が第１サブフィールド以外のサブフィールドにおける初期化期間で行われてもよい。さらに、全セル初期化動作が、数フィールドに１回の頻度で行われてもよい。
【００２５】
また、書込み期間、維持期間における動作は、上述した第１サブフィールドにおける動作と同様である。しかし、維持期間における動作は、上述した第１サブフィールドにおける動作と必ずしも同様ではない。画像信号ｓｉｇに対応した輝度が得られるような維持放電を発生させるために、維持放電パルスＶｓ（Ｖ）の数が変化する。すなわち、維持期間は、サブフィールド毎の輝度を制御するように駆動される。
【００２６】
［３．ＰＤＰ１００の製造方法］
［３−１．前面板５０の製造方法］
フォトリソグラフィ法によって、前面基板１上に、走査電極３および維持電極４が形成される。走査電極３は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透明電極３ａと、透明電極３ａに積層された銀（Ａｇ）などからなるバス電極３ｂとから構成されている。維持電極４は、ＩＴＯなどの透明電極４ａと、透明電極４ａに積層されたＡｇなどからなるバス電極４ｂとから構成されている。
【００２７】
バス電極３ｂ、４ｂの材料には、銀（Ａｇ）と銀を結着させるためのガラスフリットと感光性樹脂と溶剤などを含む電極ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法などによって、電極ペーストが、透明電極３ａ、４ａが形成された前面基板１に塗布される。次に、乾燥炉によって、電極ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、電極ペーストが露光される。
【００２８】
次に、電極ペーストが現像され、バス電極パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、バス電極パターンが所定の温度で焼成される。つまり、電極パターン中の感光性樹脂が除去される。また、電極パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、バス電極３ｂ、４ｂが形成される。
【００２９】
ここで、電極ペースト電極ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法などを用いることができる。
【００３０】
次に、誘電体層５が形成される。誘電体層５の材料には、誘電体ガラスフリットと樹脂と溶剤などを含む誘電体ペーストが用いられる。まずダイコート法などによって、誘電体ペーストが所定の厚みで走査電極３、維持電極４を覆うように前面基板１上に塗布される。次に、乾燥炉によって、誘電体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、誘電体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、誘電体ペースト中の樹脂が除去される。また、誘電体ガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた誘電体ガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、誘電体層５が形成される。ここで、誘電体ペーストをダイコートする方法以外にも、スクリーン印刷法、スピンコート法などを用いることができる。また、誘電体ペーストを用いずに、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などによって、誘電体層５となる膜を形成することもできる。
【００３１】
次に、誘電体層５上に保護層６が形成される。
【００３２】
以上の工程により前面基板１上に走査電極３、維持電極４、誘電体層５および保護層６を有する前面板５０が完成する。
【００３３】
［３−２．背面板６０の製造方法］
フォトリソグラフィ法によって、背面基板２上に、データ電極８が形成される。データ電極８の材料には、導電性を確保するための銀（Ａｇ）と銀を結着させるためのガラスフリットと感光性樹脂と溶剤などを含むデータ電極ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法などによって、データ電極ペーストが所定の厚みで背面基板２上に塗布される。次に、乾燥炉によって、データ電極ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、データ電極ペーストが露光される。次に、データ電極ペーストが現像され、データ電極パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、データ電極パターンが所定の温度で焼成される。つまり、データ電極パターン中の感光性樹脂が除去される。また、データ電極パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、データ電極８が形成される。ここで、データ電極ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法などを用いることができる。
【００３４】
次に、絶縁体層７が形成される。絶縁体層７の材料には、絶縁体ガラスフリットと樹脂と溶剤などを含む絶縁体ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法などによって、絶縁体ペーストが所定の厚みでデータ電極８が形成された背面基板２上にデータ電極８を覆うように塗布される。次に、乾燥炉によって、絶縁体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、絶縁体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、絶縁体ペースト中の樹脂が除去される。また、絶縁体ガラスフリットが溶融するその後、室温まで冷却することにより、溶融していた絶縁体ガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、絶縁体層７が形成される。ここで、絶縁体ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、ダイコート法、スピンコート法などを用いることができる。また、絶縁体ペーストを用いずに、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などによって、絶縁体層７となる膜を形成することもできる。
【００３５】
次に、フォトリソグラフィ法によって、隔壁９が形成される。隔壁９の材料には、フィラーと、フィラーを結着させるためのガラスフリットと、感光性樹脂と、溶剤などを含む隔壁ペーストが用いられる。まず、ダイコート法などによって、隔壁ペーストが所定の厚みで絶縁体層７上に塗布される。次に、乾燥炉によって、隔壁ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、隔壁ペーストが露光される。次に、隔壁ペーストが現像され、隔壁パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、隔壁パターンが所定の温度で焼成される。つまり、隔壁パターン中の感光性樹脂が除去される。また、隔壁パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、隔壁９が形成される。ここで、フォトリソグラフィ法以外にも、サンドブラスト法などを用いることができる。
【００３６】
次に、蛍光体層１０が形成される。蛍光体層１０の材料には、蛍光体粒子とバインダと溶剤などとを含む蛍光体ペーストが用いられる。まず、ディスペンス法などによって、蛍光体ペーストが所定の厚みで隣接する複数の隔壁９間の絶縁体層７上および隔壁９の側面に塗布される。次に、乾燥炉によって、蛍光体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、蛍光体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、蛍光体ペースト中の樹脂が除去される。以上の工程によって、蛍光体層１０が形成される。ここで、ディスペンス法以外にも、スクリーン印刷法などを用いることができる。
【００３７】
以上の工程により、背面基板２上に、データ電極８、絶縁体層７、隔壁９および蛍光体層１０を有する背面板６０が完成する。
【００３８】
［３−３．前面板５０と背面板６０との組立方法］
まず、ディスペンス法などによって、背面板６０の周囲に封着ペーストが塗布される。封着ペーストは、図７および図８で示されるビーズ２１と低融点ガラス材料とバインダと溶剤などを含む。塗布された封着ペーストは、封着ペースト層（図示せず）を形成する。次に乾燥炉によって、封着ペースト層中の溶剤が除去される。その後、封着ペースト層は、約３５０℃の温度で仮焼成される。仮焼成によって、封着ペースト層中の樹脂成分などが除去される。次に、表示電極１９とデータ電極８とが直交するように、前面板５０と背面板６０とが対向配置される。
【００３９】
さらに、前面板５０と背面板６０の周縁部が、クリップなどにより押圧した状態で保持される。この状態で、所定の温度で焼成することにより、低融点ガラス材料が溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた低融点ガラス材料がガラス化する。これにより、前面板５０と背面板６０とが気密封着される。最後に、放電空間にＮｅ、Ｘｅなどを含む放電ガスが封入されることによりＰＤＰ１００が完成する。
【００４０】
［４．封着部２０の構成］
図６に示すように、ＰＤＰ１００の周縁部には、封着部２０が形成されている。本実施の形態におけるＰＤＰ１００は、前面板５０の長辺は、背面板６０の長辺より長い。一方、前面板５０の短辺は、背面板６０の短辺より短い。つまり、背面板６０の短辺は、前面板５０の短辺より長い。前面板５０は、長辺方向に形成された複数の表示電極１９を有する。つまり、表示電極１９の端子を短辺の縁に設けるためである。背面板６０は、短辺方向に形成された複数のデータ電極８を有する。つまり、データ電極８の端子を長辺の縁に設けるためである。
【００４１】
よって、封着部２０は、前面板５０における２つの長辺側の縁と、背面板６０における２つの短辺側の縁を結ぶように形成されている。さらに、封着部２０は、ＰＤＰ１００の表示領域の外側に形成されている。
【００４２】
図７、図８に示すように、封着部２０は、ビーズ２１と封着部材２２とを含む。ビーズ２１は、一例として、ガラス材料からなる球状部材である。ここで、「球状」とは、幾何学的に完全な「球」である必要はない。つまり、「球状」とは、顕微鏡などによる観察において、概ね「球」と判断されるものを意味する。封着部材２２は、低融点ガラス材料が主成分である。ビーズ２１におけるガラス材料の軟化点は、封着部材２２における低融点ガラス材料の軟化点より高いことが好ましい。さらに、ビーズ２１におけるガラス材料の融点は、封着部材２２における低融点ガラス材料の融点より高いことが好ましい。封着時の焼成温度は、封着部材２２における低融点ガラス材料の融点より高く、ビーズ２１におけるガラス材料の融点より低いことが好ましい。ビーズ２１は、焼成後においても、当初の形状を保つことができる。したがって、ビーズ２１は、前面板５０と背面板６０の間隙を規制することができる。つまり、封着部２０における前面板５０と背面板６０の間隙は、ビーズ２１の大きさによって決定される。
【００４３】
図７に示すように、データ電極８の延長方向側の縁に形成された封着部２０において、絶縁体層７はビーズ２１が配置された位置まで達するように形成されている。一方、誘電体層５はビーズ２１が配置された位置まで達しないように形成されている。
【００４４】
図８に示すように、表示電極１９の延長方向側の縁に形成された封着部２０において、誘電体層５はビーズ２１が配置された位置まで達するように形成されている。一方、絶縁体層７はビーズ２１が配置された位置まで達しないように形成されている。
【００４５】
さらに、図９に示すように、ビーズ２１の直径は、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さとの和よりも大きく、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さとの和の２倍以下であることが好ましい。
【００４６】
なお、説明の便宜のために、図７、図８および図９において、縦方向の縮尺は、横方向の縮尺よりも大きい。つまり実製品における封着部２０の幅は、ビーズ２１の直径より大きい。
【００４７】
［５．まとめ］
本実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置２００は、前面板５０と、前面板５０と対向配置された背面板６０とを有するＰＤＰ１００を備える。ＰＤＰ１００は、前面板５０の周縁部と背面板６０の周縁部とを封着部材２２により封着した封着部２０を有する。前面板５０は、表示電極１９と、表示電極１９を覆う誘電体層５と、を有する。背面板６０は、電極であるデータ電極８と、データ電極８を覆う絶縁体層７と、絶縁体層７上に形成された隔壁９とを、有する。封着部２０は、前面板５０と背面板６０の周縁部の間隙を規制する球状部材であるビーズ２１を含む。表示電極１９の延長方向側の封着部２０において、誘電体層５はビーズ２１が配置される位置まで形成される。かつ、絶縁体層７はビーズ２１が配置される位置には形成されない。データ電極８の延長方向側の封着部２０において、絶縁体層７はビーズ２１が配置される位置まで形成される。かつ、誘電体層５はビーズ２１が配置される位置には形成されない。ビーズ２１の直径は、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さとの和よりも大きく、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さとの和の２倍以下である。
【００４８】
本実施の形態における封着部２０のビーズ２１が配置される位置には、誘電体層５または絶縁体層７が存在している。ここで、ビーズ２１が配置される位置に、誘電体層５または絶縁体層７が存在していないと、前面板５０においては、表示電極１９が存在する領域と前面基板１のみが存在する領域とが混在する。背面板６０においては、データ電極８が存在する領域と背面基板２のみが存在する領域とが混在する。この場合、封着部２０において、ビーズ２１が配置される領域は一様ではなくなる。しかし、本実施の形態においては、封着部２０において、ビーズ２１が配置される領域には、誘電体層５または絶縁体層７が存在している。つまり、封着部２０において、表示電極１９は、誘電体層５によって被覆されている。封着部２０において、データ電極８は、絶縁体層７によって被覆されている。したがって、ビーズ２１が配置される位置にばらつきが発生しにくくなる。よって、複数のプラズマディスプレイ装置の間での封着部２０の間隙のばらつきが少なくなる。
【００４９】
さらに、ＰＤＰ１００の製造上のばらつきに起因して、誘電体層５は完全な平面ではない。つまり、誘電体層５の厚みは、ばらつきを有する。加えて、隔壁９の高さも、ばらつきを有する。したがって、実製品においては、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さの合計は一定ではない。本実施の形態においては、ビーズ２１の直径が、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さとの和よりも大きく、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さとの和の２倍以下に設定することにより、上記のばらつきが存在したとしても、封着部２０における間隙を一定に保つことができる。
【００５０】
［６．実施例］
プラズマディスプレイ装置２００が作製された。作製されたプラズマディスプレイ装置２００に用いられたＰＤＰ１００は、４２インチクラスのフルハイビジョンテレビに適合するものである。すなわち、ＰＤＰ１００は、前面板５０と、前面板５０と対向配置された背面板６０と、を備える。また、前面板５０と背面板６０の周囲は、封着材で封着されている。前面板５０は、複数の走査電極３および複数の維持電極４と誘電体層５と保護層６とを有する。背面板６０は、データ電極８と、絶縁体層７と、隔壁９と、蛍光体層１０とを有する。ＰＤＰ１００には、キセノン（Ｘｅ）の含有量が１５体積％のネオン（Ｎｅ）−キセノン（Ｘｅ）系の混合ガスが、６０ｋＰａの内圧で封入された。また、誘電体層５の厚みの設定値は、３０μｍであった。隔壁９の高さの設定値は、１２０μｍであった。絶縁体層７の厚みの設定値は、１０μｍであった。ビーズ２１の直径は、１６０μｍであった。ここで直径は、平均粒径（体積累積平均径つまりＤ５０）のことである。また、平均粒径の測定には、レーザ回折式粒度分布測定装置ＭＴ−３３００（日機装株式会社製）が用いられた。
【００５１】
さらに、封着部２０において、表示電極１９の延長方向側の封着部２０の間隙は、データ電極８の延長方向側の封着部２０の間隙より広くなる構成としている。
【００５２】
なお、本発明者らは、ＰＤＰ１００における表示領域から封着部２０の内側端部までの距離が５ｍｍ〜３０ｍｍのときに、ビーズ２１の直径が、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さとの和よりも大きく、誘電体層５の厚みと隔壁９の高さとの和の２倍以下に設定すると、良好な結果が得られることを確認した。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
以上のように本実施の形態に開示された技術は、高品質のプラズマディスプレイ装置を実現する上で有用である。
【符号の説明】
【００５４】
１    前面基板
２    背面基板
３    走査電極
４    維持電極
３ａ，４ａ    透明電極
３ｂ，４ｂ    バス電極
５    誘電体層
６    保護層
７    絶縁体層
８    データ電極
９    隔壁
１０    蛍光体層
１２    画像信号処理回路
１３    データ電極駆動回路
１４    走査電極駆動回路
１５    維持電極駆動回路
１６    タイミング発生回路
１７    維持パルス発生部
１９    表示電極
２０    封着部
２１    ビーズ
２２    封着部材
３０    放電セル
５０    前面板
６０    背面板
１００    ＰＤＰ
２００    プラズマディスプレイ装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【手続補正書】
【提出日】平成23年7月4日(2011.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図３および図４に示すように、プラズマディスプレイ装置２００は、ＰＤＰ１００を有する。図３に示すように、ＰＤＰ１００は、行方向に延伸して配列されたｎ本の走査電極ＳＣ１、ＳＣ２、ＳＣ３・・・ＳＣｎ（図１における３）を有する。ＰＤＰ１００は、行方向に延伸して配列されたｎ本の維持電極ＳＵ１、ＳＵ２、ＳＵ３・・・ＳＵｎ（図１における４）を有する。ＰＤＰ１００は、列方向に延伸して配列されたｍ本のデータ電極Ｄ１・・・Ｄｍ（図１における８）を有する。そして、１対の走査電極ＳＣ１および維持電極ＳＵ１と１つのデータ電極Ｄ１とが交差した部分に放電セル３０が形成されている。放電セル３０は放電空間内にｍ×ｎ個形成されている。走査電極および維持電極は、前面板の画像表示領域外の周辺端部に設けられた接続端子に接続されている。
【国際調査報告】
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