(57)【要約】  Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ、前記相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下であることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。スパッタリング時のパーティクルの発生を抑制できるとともに、漏洩磁束を向上させて、マグネトロンスパッタリング装置で安定した放電が可能な強磁性材スパッタリングターゲットを得る。
2012011294.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ、前記相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下あることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項２】
Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、Ｐｔが５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に酸化物からなる非磁性材量粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ前記相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下であることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項３】
前記金属相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に占める酸化物の平均長径が１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項４】
前記金属相（Ｂ）の平均アスペクト比が１：２〜１：１０であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項５】
前記金属相（Ｂ）は、Ｃｒ含有率が１０ｗｔ％以下であるＣｏ合金相である扁平状の相であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項６】
添加元素としてＢ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗから選択した１元素以上を、０．５ｍｏｌ％以上１０ｍｏｌ％以下含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項７】
スパッタリングターゲットの断面において、扁平状の前記金属相（Ｂ）の占める面積率が、１５〜５０％であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の磁性体薄膜、特に垂直磁気記録方式を採用したハードディスクの磁気記録層の成膜に使用される強磁性材スパッタリングターゲットに関し、漏洩磁束が大きくマグネトロンスパッタ装置でスパッタする際に安定した放電が得られる、パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲットに関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブに代表される磁気記録の分野では、記録を担う磁性薄膜の材料として、強磁性金属であるＣｏ、Ｆｅ、あるいはＮｉをベースとした材料が用いられている。例えば、面内磁気記録方式を採用するハードディスクの記録層にはＣｏを主成分とするＣｏ−Ｃｒ系やＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系の強磁性合金が用いられてきた。
また、近年実用化された垂直磁気記録方式を採用するハードディスクの記録層には、Ｃｏを主成分とするＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系の強磁性合金と非磁性の無機物からなる複合材料が多く用いられている。【０００３】
そしてハードディスクなどの磁気記録媒体の磁性薄膜は、生産性の高さから、上記の材料を成分とする強磁性材スパッタリングターゲットをスパッタリングして作製されることが多い。【０００４】
このような強磁性材スパッタリングターゲットの作製方法としては、溶解法や粉末冶金法が考えられる。どちらの手法で作製するかは、要求される特性によるので一概には言えないが、垂直磁気記録方式のハードディスクの記録層に使用される、強磁性合金と非磁性の無機物粒子からなるスパッタリングターゲットは、一般に粉末冶金法によって作製されている。これは無機物粒子を合金素地中に均一に分散させる必要があるため、溶解法では作製することが困難だからである。【０００５】
例えば、磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットにおいて、素地中に絶対最大長５μｍを超えるクロム酸化物凝集体が５００個／ｍｍ２以下であること、絶対最大長１０μｍを超えるクロム酸化物凝集体が存在しないことにより、パーティクル発生を抑制する方法が提案されている（特許文献１〜３）。【０００６】
しかし、上記文献の場合、Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末、Ｃｒ−Ｐｔ合金粉末を原料に用いることで絶対最大長５μｍを超えるクロム酸化物凝集体が５００個／ｍｍ２以下であること、絶対最大長１０μｍを超えるクロム酸化物凝集体が存在しないとあるが、パーティクル発生を十分に抑制できているとはいえない。【０００７】
スパッタリング装置には様々な方式のものがあるが、上記の磁気記録膜の成膜では、生産性の高さからＤＣ電源を備えたマグネトロンスパッタリング装置が広く用いられている。スパッタリング法とは、正の電極となる基板と負の電極となるターゲットを対向させ、不活性ガス雰囲気下で、該基板とターゲット間に高電圧を印加して電場を発生させるものである。【０００８】
この時、不活性ガスが電離し、電子と陽イオンからなるプラズマが形成されるが、このプラズマ中の陽イオンがターゲット（負の電極）の表面に衝突するとターゲットを構成する原子が叩き出されるが、この飛び出した原子が対向する基板表面に付着して膜が形成される。このような一連の動作により、ターゲットを構成する材料が基板上に成膜されるという原理を用いたものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００８−２４００１号公報
【特許文献２】特開２００８−８８５４６号公報
【特許文献３】特開２００７−２９１５１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
一般に、マグネトロンスパッタ装置で強磁性材スパッタリングターゲットをスパッタしようとすると、磁石からの磁束の多くは強磁性体であるターゲット内部を通過してしまうため、漏洩磁束が少なくなり、スパッタ時に放電が立たない、あるいは放電しても放電が安定しないという大きな問題が生じる。
この問題を解決するには、スパッタリングターゲットの製造工程で３０〜１５０μｍ程度の母相と成分組成が異なるように考慮して金属粗粒を投入し、ターゲットの組織を意図的に不均一にすることが知られている。【００１１】
これにより、焼結後に前記金属粗粒は母相とは成分組成が異なる金属相を形成し、スパッタリングターゲットの比透磁率を小さくして、漏洩磁束を多くすることより、安定的な放電を得ることができた。しかし、この金属相を形成させると、パーティクルが増加する傾向にあった。
本発明は上記問題を鑑みて、マグネトロンスパッタ装置で安定した放電が得られるとともに、スパッタ時のパーティクル発生が少ない、漏洩磁束を向上させた強磁性材スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を行った結果、ターゲットの組織構造を調整することにより、漏洩磁束の大きく、かつ、パーティクル発生の少ないターゲットが得られることを見出した。【００１３】
このような知見に基づき、本発明は、
１）Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ、前記金属相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下あることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。【００１４】
また、本発明は、
２）Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、Ｐｔが５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ、前記金属相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下あることあることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。【００１５】
さらに、本発明は、
３）前記金属相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に占める酸化物の平均長径が１０μｍ以下であることを特徴とする上記１又は２に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。【００１６】
さらに、本発明は、
４）前記金属相（Ｂ）は、平均アスペクト比が１：２〜１：１０である扁平状の相であることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。【００１７】
さらに、本発明は、
５）前記金属相（Ｂ）のＣｒ含有率が１０ｗｔ％以下であるＣｏ合金相であることを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。【００１８】
さらに、本発明は、
６）添加元素としてＢ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗから選択した１元素以上を、０．５ｍｏｌ％以上１０ｍｏｌ％以下含有することを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。【００１９】
さらに、本発明は、
７）スパッタリングターゲットの断面において、前記金属相（Ｂ）の占める面積率が、１５〜５０％であることを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【発明の効果】
【００２０】
このように調整したターゲットは、漏洩磁束が大きく、マグネトロンスパッタ装置で使用したとき、不活性ガスの電離促進が効率的に進み、安定した放電が得られるので、
ターゲットの厚みを厚くすることができるため、ターゲットの交換頻度が少なくなり、低コストで磁性体薄膜を製造できるというメリットがある。また、パーティクル発生が少ないため、スパッタ成膜した磁気記録膜の不良品が少なくなり、コスト削減が可能となるというメリットがある。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施例１のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像である。
【図２】比較例１のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像である。
【図３】実施例２のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像である。
【図４】比較例２のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の強磁性材スパッタリングターゲットを構成する主要成分は、Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである金属と、またはＣｒが２０ｍｏｌ％以下、Ｐｔが５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである金属である。
なお、前記Ｃｒは必須成分として添加するものであり、０ｍｏｌ％を除く。すなわち、分析可能な下限値以上のＣｒ量を含有させるものである。Ｃｒ量が２０ｍｏｌ％以下であれば、微量添加する場合においても効果がある。本願発明は、これらを包含する。
これらは、磁気記録媒体として必要とされる成分であり、配合割合は上記範囲内で様々であるが、いずれも有効な磁気記録媒体としての特性を維持することができる。
【００２３】
本発明において重要なことは、ターゲットの組織が、周囲の組織と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ、前記金属相（Ｂ）の平均粒径が、１０μｍ以上１５０μｍ以下あることである。
【００２４】
さらに、前記相（Ｂ）の最外周より２μｍ以内に占める酸化物の平均長径が１０μｍ以下であることが望ましい。最外周より１μｍ以内の酸化物の長径が１０μｍを超えると、相（Ａ）と相（Ｂ）の焼結が不十分となり、スパッタリング時において前記相（Ｂ）の脱離を助長し、パーティクルが発生する原因となるからである。
【００２５】
本発明において使用する扁平状とは、例えば、楔（くさび）、三日月、上弦の月のような形状、若しくは、このような形状のものが２以上連結してなる形状のものを言う。また、これらの形状を定量的に規定した場合、短径と長径の比（以下、アスペクト比と称す。）が、平均で１：２〜１：１０のものがこれに該当する。
なお、扁平状とは、上から見たときの形状であり、凹凸がなく完全に平べったい状態を意味するものではない。すなわち、多少の起伏又は凹凸があるものも含まれる。
【００２６】
このような組織を有するターゲットにおいて、Ｃｏアトマイズ粉を楔のような形状にすることによって、まさに楔の効果で金属相の脱離によるパーティクル発生を防ぐことができる。また、球形を破壊することによって、アトマイズ粉が球形のときに生じたエロージョン速度の偏りを軽減することができ、エロージョン速度の異なる境界起因のパーティクル発生を抑制することができる。  
【００２７】
金属相（Ｂ）は、平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下とするのが望ましい。直径が１０μｍ未満の場合は、ターゲット素材を焼結させる際に、金属元素の拡散が進み、相（Ａ）と相（Ｂ）の合金組成が均一になってしまい、相（Ｂ）の存在が不明確になってしまう。一方、１５０μｍを超える場合には、スパッタリングが進むにつれてターゲット表面の平滑性が失われ、パーティクルの問題が発生しやすくなることがある。
【００２８】
また、金属相（Ｂ）の周囲の酸化物が周囲の組織の中で相対的に多く存在することになり、金属相（Ｂ）の脱離が進みやすくなるので、スパッタ時のパーティクル発生の原因になる可能性が高くなる。従って金属相（Ｂ）の大きさは１０μｍ以上１５０μｍ以下とするのが望ましい。
【００２９】
また、本発明において、金属相（Ｂ）は、Ｃｒ含有率が１０ｗｔ％以下であるＣｏ合金相であることが望ましい。この場合、Ｃｒの酸化物は標準生成自由エネルギーが低いので相（Ａ）中の酸化物を還元し、Ｃｒ酸化物として金属相（Ｂ）の外周に存在しやすくなるためである。
【００３０】
また、本発明において、添加元素としてＢ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗから選択した１元素以上を０．５ｍｏｌ％以上１０ｍｏｌ％以下の配合比で含有させることも可能である。
これらは磁気記録媒体としての特性を向上させるために、必要に応じて添加される元素である。
【００３１】
さらに、本発明の強磁性材スパッタリングターゲットは、酸化物からなる無機物材料を、金属素地中に分散した状態で含有することができる。この場合、グラニュラー構造をもつ磁気記録膜、特に垂直磁気記録方式を採用したハードディスクドライブの記録膜の材料に好適な特性を備える。
【００３２】
なお、前記酸化物からなる無機物材料に替えて、酸化物以外に、窒化物、炭化物、炭窒化物を用いることもできる。また、これらの無機物材料を複合して使用することもできる。これらは、酸化物と同等の機能を保有させることができる。
【００３３】
このように調整したターゲットは、漏洩磁束の大きいターゲットとなり、マグネトロンスパッタ装置で使用したとき、不活性ガスの電離促進が効率的に進み、安定した放電が得られる。またターゲットの厚みを厚くすることができるため、ターゲットの交換頻度が少なくなり、低コストで磁性体薄膜を製造できるというメリットがある。
そして、さらには、エロージョン速度の偏りを軽減でき、金属相の脱離を防止することができるため、歩留まり低下の原因となるパーティクルの発生量を低減させることができるというメリットがある。
【００３４】
本発明の強磁性材スパッタリングターゲットは、溶解法または粉末冶金法によって作製される。粉末冶金法の場合は、まず各金属元素の粉末と、さらに必要に応じて添加金属元素の粉末を用意する。これらの粉末は最大粒径が２０μｍ以下のものを用いることが望ましい。また、各金属元素の粉末の代わりにこれら金属の合金粉末を用意してもよいが、その場合も最大粒径が２０μｍ以下とすることが望ましい。
【００３５】
一方、小さ過ぎると、酸化が促進されて成分組成が範囲内に入らないなどの問題があるため、０．１μｍ以上とすることがさらに望ましい。
そして、これらの金属粉末を所望の組成になるように秤量し、ボールミル等の公知の手法を用いて粉砕を兼ねて混合する。無機物粉末を添加する場合は、この段階で金属粉末と混合すればよい。
【００３６】
無機物粉末としては炭素粉末、酸化物粉末、窒化物粉末、炭化物粉末または炭窒化物粉末を用意するが、無機物粉末は最大粒径が５μｍ以下のものを用いることが望ましい。一方、小さ過ぎると凝集しやすくなるため、０．１μｍ以上のものを用いることがさらに望ましい。
【００３７】
さらに、直径が１０〜３００μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉末を用意し、高エネルギーボールミルを用いて、Ｃｏアトマイズ粉と上記の混合粉末とを粉砕・混合する。ここで、使用する高エネルギーボールミルは、ボールミルや振動ミルに比べて、短時間で原料粉末の粉砕・混合をすることができる。
【００３８】
または、用意した直径が５０〜３００μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉末を個別で粉砕して粗粒を作製し、上記の混合粉末と混合することができる。混合装置としては、粉砕力を有していない、ミキサー、乳鉢などが好ましい。また、混合中の酸化の問題を考慮すると、不活性ガス雰囲気中あるいは真空中で混合することが好ましい。
【００３９】
このようにして得られた粉末を、真空ホットプレス装置を用いて成型・焼結し、所望の形状へ切削加工することで、本発明の強磁性材スパッタリングターゲットが作製される。また、成型・焼結は、ホットプレスに限らず、プラズマ放電焼結法、熱間静水圧焼結法を使用することもできる。焼結時の保持温度はターゲットが十分緻密化する温度域のうち最も低い温度に設定するのが好ましい。
ターゲットの組成にもよるが、多くの場合、８００〜１２００°Ｃの温度範囲にある。焼結温度を低めに抑えることによって、焼結体の結晶成長を抑制することができるからである。また、焼結時の圧力は３００〜５００ｋｇ／ｃｍ２であることが好ましい。
【実施例】
【００４０】
以下、実施例および比較例に基づいて説明する。なお、本実施例はあくまで一例であり、この例によって何ら制限されるものではない。すなわち、本発明は特許請求の範囲によってのみ制限されるものであり、本発明に含まれる実施例以外の種々の変形を包含するものである。【００４１】
（実施例１、比較例１）
実施例１では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が８０．７Ｃｏ−１２Ｃｒ−７．３ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏアトマイズ粉末を秤量した。【００４２】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＳｉＯ２粉末とＣｏアトマイズ粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で切削加工して直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットを得た。【００４３】
（パーティクル数の評価について）
パーティクル数の評価は、通常、製品で用いる膜厚（記録層の厚さは５〜１０ｎｍ）ではパーティクル数の差が見えにくいため、膜厚を通常の２００倍程度に厚膜にして（厚さは１０００ｎｍ）、パーティクルの絶対数を増やすことで評価した。この結果を、表１に記載した。【００４４】
（漏洩磁束の測定方法について）
また、漏洩磁束の測定は、ＡＳＴＭ  Ｆ２０８６−０１（Standard Test Method for  Pass Through Flux of Circular Magnetic Sputtering Targets, Method 2）に則して実施した。ターゲットの中心を固定し、０度、３０度、６０度、９０度、１２０度と回転させて測定した漏洩磁束密度を、ＡＳＴＭで定義されているreference fieldの値で割り返し、１００を掛けてパーセントで表した。そしてこれら５点について平均した結果を、平均漏洩磁束密度（ＰＴＦ（％））として表１に記載した。【００４５】
（酸化物の面積率の測定方法について）
また、金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に酸化物の占める面積率の測定は、焼結体（スパッタリングターゲットを含む）の切断面を用いて、２２０倍の視野において存在する前記酸化物の面積（の合計）を測定し、これを金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内の面積（の合計）で割った。これを任意の５視野において実施し、平均とした。なお、視野に一部分のみ含まれる金属相（Ｂ）は除いた。また、金属相（Ｂ）は、短径４μｍ以上のものについて測定した。この結果を、表１に記載した。【００４６】
（酸化物の平均長径の測定方法について）
また、金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に存在する酸化物の長径は、焼結体（スパッタリングターゲットを含む）の切断面を用いて、２２０倍の視野において存在する前記酸化物の長径を測定し、平均した。これを任意の５視野において実施し、平均とした。なお、視野に一部分のみ含まれる金属相（Ｂ）は除いた。また、金属相（Ｂ）は、短径４μｍ以上のものについて測定した。この結果を、表１に記載した。【００４７】
（金属相（Ｂ）の大きさの測定方法について）
また、金属相（Ｂ）の大きさの測定は、焼結体（スパッタリングターゲットを含む）の切断面を用いて、２２０倍に拡大した写真上において、３０ｃｍの線分によって切断される金属相（Ｂ）の数をかぞえ、その切断長さの平均値（μｍ）により求めた。これの結果を、平均粒径として表１に記載した。【００４８】
（金属相（Ｂ）のアスペクト比の測定方法について）
また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は、焼結体（スパッタリングターゲットを含む）の切断面を顕微鏡で観察し、２２０倍の視野において存在する金属相（Ｂ）の短径と長径を測定し、これらを平均した。そしてこれを任意の５視野において実施し平均とした。なお、視野の一部分のみに含まれる金属相（Ｂ）は除いた。また、金属相（Ｂ）は、短径４μｍ以上のものについて測定した。この結果を、表１に記載した。【００４９】
なお、表には記載していないが、金属相（Ｂ）の占める面積率は、焼結体（スパッタリングターゲットを含む）の切断面を顕微鏡で観察し、２２０倍の視野において存在する金属相（Ｂ）の面積を測定し、これを視野全体の面積で割ることにより求めることができる。また、精度を上げるために任意の５視野において実施し平均とすることができる。なお、アスペクト比の測定と同様に、視野の一部分のみに含まれる金属相（Ｂ）は除いた。また、金属相（Ｂ）は、短径４μｍ以上のものについて測定した。その結果、１５〜５０％となった。【００５０】
なお、表には記載していないが、金属相（Ｂ）のうち目的形状となっている粒子の存在比率は、焼結体の切断面を顕微鏡で観察し、２２０倍の視野において存在する金属相（Ｂ）のうち目的形状（楔状などを含む扁平状）となっている個数を計測し、これを視野全体に存在する金属相（Ｂ）の個数で割った。これを任意の５視野において実施し、平均とした。なお、視野の一部分のみに含まれる金属相（Ｂ）は除いた。また、金属相（Ｂ）は、短径４μｍ以上のものについて測定した。その結果、９０％以上となった。【００５１】
比較例１では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏ−Ｃｒアトマイズ粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が８０．７Ｃｏ−１２Ｃｒ−７．３ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏ−Ｃｒアトマイズ粉末を秤量した。【００５２】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【００５３】
【表１】
2012011294.tif 000003
【００５４】
表１に示すとおり、実施例１の定常状態のパーティクル数が２９．３個であり、比較例１の１６６．７個より著しく減少していることが確認された。また、実施例１の平均漏洩磁束密度は６０．６％であり、比較例１の５２．６％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例１の酸化物の面積率６５％であり、比較例１の８５％より小さいターゲットが得られた。【００５５】
さらに、実施例１の金属相（Ｂ）の平均粒径は７０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：１と真球になっていることが確認された。実施例１のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像を図１に示す。これに対し、比較例１では金属相（Ｂ）の平均粒径は７０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：１と真球になっていた。比較例１のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像を図２に示す。【００５６】
このように実施例１においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【００５７】
（実施例２、比較例２）
実施例２では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が８０．７Ｃｏ−１２Ｃｒ−７．３ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【００５８】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＳｉＯ２粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【００５９】
比較例２では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｒ−Ｃｏ粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が８０．７Ｃｏ−１２Ｃｒ−７．３ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ−Ｃｏ粉砕粉を秤量した。【００６０】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【００６１】
表１に示すとおり、実施例２の定常状態のパーティクル数が１２．３個であり、比較例２の２２．３個より減少していることが確認された。また、実施例２の平均漏洩磁束密度は５４．０％であり、比較例２の４９．７％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例２の酸化物の面積率６５％であり、比較例２の８５％より小さいターゲットが得られた。【００６２】
さらに、実施例２の金属相（Ｂ）の平均粒径は３０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：５と扁平状になっていることが確認された。実施例２のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像を図３に示す。これに対し、比較例２では、金属相（Ｂ）の平均粒径は５０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：３と扁平状になっていた。比較例２のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像を図４に示す。【００６３】
このように実施例２においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【００６４】
（実施例３、比較例３）
実施例３では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｒ２Ｏ３粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６６Ｃｏ−１０Ｃｒ−１５Ｐｔ−３ＴｉＯ２−２ＳｉＯ２−４Ｃｒ２Ｏ３（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【００６５】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【００６６】
比較例３では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｒ２Ｏ３粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｒ−Ｃｏアトマイズ粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６６Ｃｏ−１０Ｃｒ−１５Ｐｔ−３ＴｉＯ２−２ＳｉＯ２−４Ｃｒ２Ｏ３（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、Ｃｒ−Ｃｏアトマイズ粉を秤量した。【００６７】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【００６８】
表１に示すとおり、実施例３の定常状態のパーティクル数が２．５個であり、比較例３の４９．７個より減少していることが確認された。また、実施例３の平均漏洩磁束密度は５２％であり、比較例３の５０．９％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例３の酸化物の面積率５５％であり、比較例３の９０％より小さいターゲットが得られた。【００６９】
さらに、実施例３の金属相（Ｂ）の平均粒径は１００μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：５と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例２では、金属相（Ｂ）の平均粒径７０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：１と扁平状になっていた。【００７０】
このように実施例３においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【００７１】
（実施例４、比較例４）
実施例４では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径５μｍのＣｏ−Ｂ粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６２Ｃｏ−１４Ｃｒ−１５Ｐｔ−２．５Ｂ−６．５ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｂ粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【００７２】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、Ｂ粉末、ＳｉＯ２粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。【００７３】
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【００７４】
比較例４では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径５μｍのＣｏ−Ｂ粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｒ−Ｃｏアトマイズ粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６２Ｃｏ−１４Ｃｒ−１５Ｐｔ−２．５Ｂ−６．５ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｂ粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ−Ｃｏアトマイズ粉を秤量した。【００７５】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【００７６】
表１に示すとおり、実施例４の定常状態のパーティクル数が５．５個であり、比較例４の１８５．５個より減少していることが確認された。また、実施例４の平均漏洩磁束密度は５５．２％であり、比較例４の５１．２％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例４の酸化物の面積率７０％であり、比較例３の８５％より小さいターゲットが得られた。【００７７】
さらに、実施例４の金属相（Ｂ）の平均粒径は１２０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：６と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例２では、金属相（Ｂ）の平均粒径７０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：１と扁平状になっていた。【００７８】
このように実施例４においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【００７９】
（実施例５、比較例５）
実施例５では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｒ２Ｏ３粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が７３Ｃｏ−１７Ｐｔ−５ＴｉＯ２−５Ｃｒ２Ｏ３（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【００８０】
次に、Ｃｏ粉末とＰｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【００８１】
比較例５では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が７３Ｃｏ−１７Ｐｔ−５ＴｉＯ２−５Ｃｒ２Ｏ３（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末を秤量した。【００８２】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【００８３】
表１に示すとおり、実施例５の定常状態のパーティクル数が３．７個であり、比較例５の４．５個より減少していることが確認された。また、実施例５の平均漏洩磁束密度は３３．６％であり、比較例５の２８％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例５の酸化物の面積率６５％であった。【００８４】
さらに、実施例５の金属相（Ｂ）の平均粒径は１００μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：１０と扁平状になっていることが確認された。【００８５】
このように実施例５においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【００８６】
（実施例６、比較例６）
実施例６では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径８μｍのＲｕ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｒ２Ｏ３粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６８Ｃｏ−１７Ｐｔ−５Ｒｕ−５ＴｉＯ２−５Ｃｒ２Ｏ３（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末、Ｒｕ粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【００８７】
次に、Ｃｏ粉末とＰｔ粉末、Ｒｕ粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【００８８】
比較例６では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径８μｍのＲｕ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｒ２Ｏ３粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６８Ｃｏ−１７Ｐｔ−５Ｒｕ−５ＴｉＯ２−５Ｃｒ２Ｏ３（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末、Ｒｕ粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末を秤量した。【００８９】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【００９０】
表１に示すとおり、実施例６の定常状態のパーティクル数が２．６個であり、比較例５の３．５個より減少していることが確認された。また、実施例６の平均漏洩磁束密度は３８．８％であり、比較例６の３２．９％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例６の酸化物の面積率６０％であった。【００９１】
さらに、実施例６の金属相（Ｂ）の平均粒径は７０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：６と扁平状になっていることが確認された。【００９２】
このように実施例６においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【００９３】
（実施例７、比較例７）
実施例７では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｒ２Ｏ３粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−２ＴｉＯ２−３ＳｉＯ２−５Ｃｒ２Ｏ３（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【００９４】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【００９５】
比較例７では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｒ２Ｏ３粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏ−Ｃｒアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−２ＴｉＯ２−３ＳｉＯ２−５Ｃｒ２Ｏ３（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、Ｃｏ−Ｃｒアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【００９６】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【００９７】
表１に示すとおり、実施例７の定常状態のパーティクル数が９．１個であり、比較例７の１２０．５個より減少していることが確認された。また、実施例７の平均漏洩磁束密度は３８．２％であり、比較例７の３６．５％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例７の酸化物の面積率７０％であり、比較例７の８５％より小さいターゲットが得られた。【００９８】
さらに、実施例７の金属相（Ｂ）の平均粒径は３０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：８と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例７では、金属相（Ｂ）の平均粒径７０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：１と扁平状になっていた。【００９９】
このように実施例７においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【０１００】
（実施例８、比較例８）
実施例８では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径５μｍのＣｏ−Ｍｎ粉末、平均粒径１μｍのＴａ２Ｏ３粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６１Ｃｏ−１４Ｃｒ−１７Ｐｔ−２Ｍｎ−１Ｔａ２Ｏ３−５ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｍｎ粉末、Ｔａ２Ｏ３粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【０１０１】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、Ｍｎ粉末、Ｔａ２Ｏ３粉末、ＳｉＯ２粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【０１０２】
比較例８では、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径５μｍのＣｏ−Ｍｎ粉末、平均粒径１μｍのＴａ２Ｏ３粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏ−Ｃｒ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６１Ｃｏ−１４Ｃｒ−１７Ｐｔ−２Ｍｎ−１Ｔａ２Ｏ３−５ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｍｎ粉末、Ｔａ２Ｏ３粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏ−Ｃｒ粉砕粉を秤量した。【０１０３】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【０１０４】
表１に示すとおり、実施例８の定常状態のパーティクル数が１０．１個であり、比較例８の６０．２個より減少していることが確認された。また、実施例８の平均漏洩磁束密度は６７．４％であり、比較例８の６５．５％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例８の酸化物の面積率６５％であり、比較例８の９０％より小さいターゲットが得られた。【０１０５】
さらに、実施例８の金属相（Ｂ）の平均粒径は８０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：８と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例８では、金属相（Ｂ）の平均粒径５０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：３と扁平状になっていた。【０１０６】
このように実施例８においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【０１０７】
（実施例９、比較例９）
実施例９では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径５μｍのＭｏ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｏＯ粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６１．５Ｃｏ−７Ｃｒ−１６．５Ｐｔ−２Ｍｏ−４ＴｉＯ２−５ＳｉＯ２−４ＣｏＯ（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｍｏ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、ＣｏＯ粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【０１０８】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、Ｍｏ粉末、ＴiＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、ＣｏＯ粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【０１０９】
比較例９では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径５μｍのＭｏ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｏＯ粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏ−Ｃｒ粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６１．５Ｃｏ−７Ｃｒ−１６．５Ｐｔ−２Ｍｏ−４ＴｉＯ２−５ＳｉＯ２−４ＣｏＯ（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｍｏ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、ＣｏＯ粉末、Ｃｏ−Ｃｒ粉砕粉を秤量した。【０１１０】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【０１１１】
表１に示すとおり、実施例９の定常状態のパーティクル数が９．５個であり、比較例９の５１．５個より減少していることが確認された。また、実施例９の平均漏洩磁束密度は３９．５％であり、比較例９の３８．２％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例９の酸化物の面積率６０％であり、比較例９の９０％より小さいターゲットが得られた。【０１１２】
さらに、実施例９の金属相（Ｂ）の平均粒径は８０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：８と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例８では、金属相（Ｂ）の平均粒径５０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：３と扁平状になっていた。【０１１３】
このように実施例９においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【０１１４】
（実施例１０、比較例１０）
実施例１０では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６８Ｃｏ−１０Ｃｒ−１４Ｐｔ−８ＴｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【０１１５】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、ＴiＯ２粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【０１１６】
比較例１０では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏ−Ｃｒ粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６８Ｃｏ−１０Ｃｒ−１４Ｐｔ−８ＴｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、ＴｉＯ２粉末、Ｃｏ−Ｃｒ粉砕粉を秤量した。【０１１７】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【０１１８】
表１に示すとおり、実施例１０の定常状態のパーティクル数が４．２個であり、比較例１０の７１．２個より減少していることが確認された。また、実施例１０の平均漏洩磁束密度は４３．５％であり、比較例１０の４１．６％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例１０の酸化物の面積率６５％であり、比較例１０の８５％より小さいターゲットが得られた。【０１１９】
さらに、実施例１０の金属相（Ｂ）の平均粒径は３０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：６と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例８では、金属相（Ｂ）の平均粒径５０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：３と扁平状になっていた。【０１２０】
このように実施例１０においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【０１２１】
（実施例１１、比較例１１）
実施例１１では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴａ２Ｏ５粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６２Ｃｏ−１５Ｃｒ−１７Ｐｔ−２Ｔａ２Ｏ５−４ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【０１２２】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末、ＳｉＯ２粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【０１２３】
比較例１１では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１μｍのＴａ２Ｏ５粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏ−Ｃｒ粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６２Ｃｏ−１５Ｃｒ−１７Ｐｔ−２Ｔａ２Ｏ５−４ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏ−Ｃｒ粉砕粉を秤量した。【０１２４】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【０１２５】
表１に示すとおり、実施例１１の定常状態のパーティクル数が８個であり、比較例１１の５０．５個より減少していることが確認された。また、実施例１１の平均漏洩磁束密度は６０．１％であり、比較例１１の５８．２％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例１１の酸化物の面積率６０％であり、比較例１１の９０％より小さいターゲットが得られた。【０１２６】
さらに、実施例１１の金属相（Ｂ）の平均粒径は７０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：８と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例１１では、金属相（Ｂ）の平均粒径５０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：３と扁平状になっていた。【０１２７】
このように実施例１１においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【０１２８】
（実施例１２、比較例１２）
実施例１２では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径３０μｍのＴｉ粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｏＯ粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が５７Ｃｏ−１７Ｃｒ−１７Ｐｔ−２Ｔｉ−５ＳｉＯ２−２ＣｏＯ（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｔｉ粉末、ＳｉＯ２粉末、ＣｏＯ粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【０１２９】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、Ｔｉ粉末、ＳｉＯ２粉末、ＣｏＯ粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【０１３０】
比較例１２では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径３０μｍのＴｉ粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＣｏＯ粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏ−Ｃｒ粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が５７Ｃｏ−１７Ｃｒ−１７Ｐｔ−２Ｔｉ−５ＳｉＯ２−２ＣｏＯ（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｔｉ粉末、ＳｉＯ２粉末、ＣｏＯ粉末、Ｃｏ−Ｃｒ粉砕粉を秤量した。【０１３１】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【０１３２】
表１に示すとおり、実施例１２の定常状態のパーティクル数が１０．１個であり、比較例１２の９０．５個より減少していることが確認された。また、実施例１２の平均漏洩磁束密度は７２．１％であり、比較例１１の７０．８％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例１２の酸化物の面積率６５％であり、比較例１１の９０％より小さいターゲットが得られた。【０１３３】
さらに、実施例１２の金属相（Ｂ）の平均粒径は８０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：５と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例１２では、金属相（Ｂ）の平均粒径５０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：３と扁平状になっていた。【０１３４】
このように実施例１２においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。【０１３５】
（実施例１３、比較例１３）
実施例１３では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１００μｍのＴａ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が５０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６４Ｃｏ−１０Ｃｒ−１５Ｐｔ−１Ｔａ−５ＴｉＯ２−５ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｔａ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。【０１３６】
次に、Ｃｏ粉末とＣｒ粉末とＰｔ粉末、Ｔａ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とＣｏアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約７リットルの遊星運動型ミキサーで１０分間混合した。
この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１０５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表１に示す。【０１３７】
比較例１２では、原料粉末として、平均粒径３μｍのＣｏ粉末、平均粒径５μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径１００μｍのＴａ粉末、平均粒径１μｍのＴｉＯ２粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、直径が３０〜１５０μｍの範囲にあるＣｏ−Ｃｒ粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が６４Ｃｏ−１０Ｃｒ−１５Ｐｔ−１Ｔａ−５ＴｉＯ２−５ＳｉＯ２（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｔａ粉末、ＴｉＯ２粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｏ−Ｃｒ粉砕粉を秤量した。【０１３８】
そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１００℃、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０ｍｍ、厚さが５ｍｍの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表１に示す。【０１３９】
表１に示すとおり、実施例１３の定常状態のパーティクル数が８．８個であり、比較例１３の９０．５個より減少していることが確認された。また、実施例１３の平均漏洩磁束密度は５９．８％であり、比較例１３の５７．１％に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例１３の酸化物の面積率６０％であり、比較例１３の８５％より小さいターゲットが得られた。【０１４０】
さらに、実施例１３の金属相（Ｂ）の平均粒径は７０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：６と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例１３では、金属相（Ｂ）の平均粒径５０μｍであり、また、金属相（Ｂ）のアスペクト比は１：３と扁平状になっていた。【０１４１】
このように実施例１３においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内にある酸化物の占める面積率が８０％以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１４２】
本発明は、強磁性材スパッタリングターゲットの組織構造を調整し、パーティクルの発生を著しく抑制できるとともに、漏洩磁束を向上させることを可能とする。したがって本発明のターゲットを使用すれば、マグネトロンスパッタ装置でスパッタリングする際に安定した放電が得られる。またターゲット厚みを厚くすることができるため、ターゲットライフが長くなり、低コストで磁性体薄膜を製造することが可能になる。さらに、スパッタリングにより形成した膜の品質を著しく向上できる。磁気記録媒体の磁性体薄膜、特にハードディスクドライブ記録層の成膜に使用される強磁性材スパッタリングターゲットとして有用である。
【図１】
2012011294.tif 000004
【図２】
2012011294.tif 000005
【図３】
2012011294.tif 000006
【図４】
2012011294.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月20日(2011.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ、前記相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下であることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項２】
Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、Ｐｔが５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ前記相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下であることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項３】
前記金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に占める酸化物の平均長径が１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項４】
前記金属相（Ｂ）の平均アスペクト比が１：２〜１：１０であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項５】
前記金属相（Ｂ）は、Ｃｒ含有率が１０ｗｔ％以下であるＣｏ合金相である扁平状の相であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項６】
添加元素としてＢ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗから選択した１元素以上を、０．５ｍｏｌ％以上１０ｍｏｌ％以下含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【請求項７】
スパッタリングターゲットの断面において、扁平状の前記金属相（Ｂ）の占める面積率が、１５〜５０％であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【特許文献１】特開２００８−２４００１１号公報
【特許文献２】特開２００８−８８５４６号公報
【特許文献３】特開２００７−２９１５１２号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このような知見に基づき、本願は、以下の発明を提供する。
１）Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ、前記相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下であることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、
２）Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、Ｐｔが５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属中に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相（Ａ）と、前記相（Ａ）の中に、金属素地と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ前記相（Ｂ）の平均粒径が１０μｍ以上１５０μｍ以下であることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、本発明は、
３）前記金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に占める酸化物の平均長径が１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明において重要なことは、ターゲットの組織が、周囲の組織と異なる成分組成の金属相（Ｂ）を有し、前記金属相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に酸化物が占める面積率が８０％以下で、かつ、前記金属相（Ｂ）の平均粒径が、１０μｍ以上１５０μｍ以下あることである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
さらに、前記相（Ｂ）の最外周より１μｍ以内に占める酸化物の平均長径が１０μｍ以下であることが望ましい。最外周より１μｍ以内の酸化物の長径が１０μｍを超えると、相（Ａ）と相（Ｂ）の焼結が不十分となり、スパッタリング時において前記相（Ｂ）の脱離を助長し、パーティクルが発生する原因となるからである。
【国際調査報告】
2012011294.tif 000008
2012011294.tif 000009