(57)【要約】  本発明は、反射層である粘着層の劣化による正反射率の低下を防止すると共に、軽量で柔軟性があり、耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、とその製造方法及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供する。この太陽熱発電用フィルムミラーは、屈折率が２．４以下の無機ＵＶ吸収剤を含む１層以上のＵＶ吸収層と、銀から構成される銀反射層とを有し、該銀反射層に対し反入射光側に支持体に貼り合わせるための粘着層を有することを特徴とする。
2011096284.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率が２．４以下の無機ＵＶ吸収剤を含む１層以上のＵＶ吸収層と、銀から構成される銀反射層とを有し、該銀反射層に対し反入射光側に粘着層を有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項２】
前記無機ＵＶ吸収剤が、平均粒径が１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の微粒子であることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項３】
前記無機ＵＶ吸収剤が、表面被覆された平均粒径が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の微粒子であることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項４】
前記ＵＶ吸収層が、更に有機ＵＶ吸収剤を含有していることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項５】
更に、有機ＵＶ吸収剤を含有した有機ＵＶ吸収剤層を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項６】
前記有機ＵＶ吸収剤層が、前記銀反射層よりも入射光側に配置され、無機ＵＶ吸収剤層が、前記銀反射層よりも反入射光側に配置されていることを特徴とする請求項５に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項７】
前記無機ＵＶ吸収剤層が、前記銀反射層よりも入射光側に配置され、前記有機ＵＶ吸収剤層が、前記銀反射層よりも反入射光側に配置されていることを特徴とする請求項５に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを製造する太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法であって、銀反射層を銀の蒸着により形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
【請求項９】
請求項１から７のいずれか１項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを、支持体上に粘着層を介して貼り合せて構成されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規の太陽熱発電用フィルムミラーとその製造方法及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わるエネルギーとしては現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、太陽エネルギー等の自然エネルギーの検討がなされているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられている。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が問題となると考えられる。【０００３】
太陽エネルギーの上記課題に対し、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決する方法が提案されている。反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは、環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損すること、あるいは重いため、ミラーを設置する架台の強度を持たせる必要があり、その結果、プラントの建設費がかさむといった問題があった。【０００４】
上記問題を解決するため、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換える方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、提案されている方法では、使用している樹脂が外部環境に対して弱く、また反射層に銀などの金属を用いると、樹脂層を介して酸素や水蒸気、硫化水素などが透過し、銀を腐食してしまうといった問題もあり、樹脂製ミラーの適用は困難であった。【０００５】
一方、太陽光を集光する目的において、高い反射率を得るという観点から、銀反射層よりも入射光側に位置している樹脂層に、ベンズトリアゾール系の紫外線吸収剤（以下、ＵＶ吸収剤ともいう）を多量に添加することで、樹脂のＵＶ光による光劣化で生じる変色による樹脂層の光透過率低下の抑制を行う方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。また、特開昭６１−１５４９４２号公報においては、銀反射層の上層に、銀の腐食防止剤を含む層を積層して、銀腐食による反射率低下の抑制を行い、さらに腐食防止剤層の上層にベンズトリアゾール系のＵＶ吸収剤層を設けることで樹脂層の光透過率低下の抑制を行う方法が開示されている。【０００６】
しかしながら、上記特許文献２等に記載されている方法では、耐候性としては決して十分ではなく、太陽光の照射に伴い、フィルムミラーを支持体に貼り付けるために設けてある粘着層が劣化を起こし、粘着層の剥離や歪みが生じてしまうことが判明した。この粘着層の剥離や歪みは、フィルムミラーの正反射率の低下、しいては発電効率の低下につながる問題であり、早急な改良が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−５９３８２号公報
【特許文献２】米国特許出願公開第７，５０７，７７６Ｂ２明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、反射層である粘着層の劣化による正反射率の低下を防止すると共に、軽量で柔軟性があり、耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、とその製造方法及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題に関し鋭意検討を行った結果、太陽熱発電用フィルムミラーを構成する粘着層の劣化は、粘着層に含まれる樹脂の低分子量成分、残留重合開始剤また残留モノマーの紫外線による分解が起因であることが判明した。更には、上記各成分を分解させる紫外光としては、とりわけＵＶ−Ｂ領域（２９０−３２０ｎｍ）の光線であることが分かった。このような課題は特に、反射層として銀を用いた場合に顕在化する。銀は、可視光における反射率はアルミニウム等の金属に対して優れているものの、波長３２０ｎｍ以下の光を反射できず、ＵＶ−Ｂ領域の光を透過してしまう性質がある。従って、従来は紫外線による劣化を考慮する際には、反射層の光入射側の層の劣化を考慮すればよかったが、銀反射層を用いた場合は、それでは十分ではなく、銀反射層を透過したＵＶ−Ｂ領域の光線による反射層の反対側の層の劣化抑制も必要になることがわかった。そして、更なる検討を進めた結果、ＵＶ−Ｂ領域の光線をカットするには、有機ＵＶ吸収剤単独ではでは不十分であることが判明した。また、有機ＵＶ吸収剤にＵＶ−Ｂ領域の光線に対して吸収性を持たせた場合、有機ＵＶ吸収剤自体が劣化することで、次第にＵＶ吸収機能が低下して、上記の粘着層の分解を引き起こして正反射率を定価させる問題を引き起こすだけではなく、有機ＵＶ吸収剤自体の変質による着色やＵＶ吸収剤の添加された層の変形等により反射率の低下を引き起こすことが明らかになった。そこで、更なる検討を行った結果、無機のＵＶ吸収剤を含有する層を設けた場合には、ＵＶ−Ｂ領域の紫外線に対して、十分な吸収性を持たせることが可能であるとともに、ＵＶ−Ｂ領域の紫外線によるＵＶ吸収剤自体の劣化を抑制することが可能となり、粘着層の劣化を抑えることができ、結果として正反射率の低下を抑制することができるということを見出し、本発明に至った次第である。【００１０】
すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。【００１１】
１．屈折率が２．４以下の無機ＵＶ吸収剤を含む１層以上のＵＶ吸収層と、銀から構成される銀反射層とを有し、該銀反射層に対し反入射光側に粘着層を有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。【００１２】
２．前記無機ＵＶ吸収剤が、平均粒径が１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の微粒子であることを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１３】
３．前記無機ＵＶ吸収剤が、表面被覆された平均粒径が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の微粒子であることを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１４】
４．前記ＵＶ吸収層が、更に有機ＵＶ吸収剤を含有していることを特徴とする前記１から３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１５】
５．更に、有機ＵＶ吸収剤を含有した有機ＵＶ吸収剤層を有することを特徴とする前記１から４のいずれか１項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１６】
６．前記有機ＵＶ吸収剤層が、前記銀反射層よりも入射光側に配置され、無機ＵＶ吸収剤層が、前記銀反射層よりも反入射光側に配置されていることを特徴とする前記５に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１７】
７．前記無機ＵＶ吸収剤層が、前記銀反射層よりも入射光側に配置され、前記有機ＵＶ吸収剤層が、前記銀反射層よりも反入射光側に配置されていることを特徴とする前記５に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１８】
８．前記１から７のいずれか１項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを製造する太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法であって、銀反射層を銀の蒸着により形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。【００１９】
９．前記１から７のいずれか１項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを、金属支持体上に粘着層を介して貼り合せて構成されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００２０】
本発明により、非常に過酷な環境下で太陽熱発電用フィルムミラーとして用いられた場合であっても、粘着層は劣化することは無く、高い正反射率を長期間にわたり維持することが可能な太陽熱発電用フィルムミラーとなる。これは、屈折率が２．４以下の無機ＵＶ吸収剤を含有した層を粘着層よりも入射側に設けることで得られた効果であると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の他の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の他の一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の他の一例を示す概略断面図である。
【図５】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の他の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２３】
本発明者らは鋭意検討の結果、屈折率が２．４以下の無機ＵＶ吸収剤を含む１層以上のＵＶ吸収層と、銀から構成される銀反射層とを有し、該銀反射層に対し反入射光側に、金属支持体等に接着させて太陽熱発電用反射装置を形成するための粘着層を有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーにより、粘着層の剥離やゆがみに起因するフィルムミラーの正反射率の低下という課題は解決されることが判明した。これは、屈折率が２．４以下の無機ＵＶ吸収剤が、乱反射を起こすことなく、ＵＶ−Ｂ領域の波長を吸収し、粘着層樹脂の低分子量成分、残留重合開始剤また残留モノマーの分解を抑制したことに起因するものと考えられる。
【００２４】
以下、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの具体的な構成例について、図を用いて説明する。
【００２５】
図１には、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの代表的な構成の一例を示す。
【００２６】
図１に記載の本発明の太陽熱発電用フィルムミラー１では、入射光側（図面の上部）からハードコート層２、無機ＵＶ吸収剤８を含有するＵＶ吸収層３、腐食防止層４、銀反射層５、樹脂支持体層６、粘着層７の順で積層されている。
【００２７】
また、図２〜図５に、より好ましい本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成例を示す。
【００２８】
図２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー１は、入射光側（図面の上部）からハードコート層２、無機ＵＶ吸収剤８及び有機ＵＶ吸収剤９を含有したＵＶ吸収層３′、腐食防止剤層４、銀反射層５、樹脂支持体層６、粘着層７の順で積層された構成である。
【００２９】
図２に記載の構成では、ＵＶ吸収層３′として無機ＵＶ吸収剤８及び有機ＵＶ吸収剤９を併用することにより、粘着層７の劣化を抑えつつ、有機ＵＶ吸収剤９よりも透過率が低い無機ＵＶ吸収剤８の含有量を減らすことが可能となり、結果として反射率の向上につながることになる。
【００３０】
図３に記載の太陽熱発電用フィルムミラー１では、入射光側（図面の上部）からハードコート層２、有機ＵＶ吸収剤９を含有する有機ＵＶ吸収剤含有層１０、腐食防止剤層４、銀反射層５、無機ＵＶ吸収剤８を含有する無機ＵＶ吸収剤含有層１１、樹脂支持体層６、粘着層７の順で積層された構成である。図３に示す構成では、無機ＵＶ吸収剤含有層１１が銀反射層５よりも反入射光側（図面の下部）に存在しているため、反射率は高まる。また、有機ＵＶ吸収剤含有層１０により、下部に位置する腐食防止剤層４の樹脂劣化を防ぐことができる。さらに、銀反射層５を透過する３２０ｎｍ以下の光線を、銀反射層５の反入射光側にある無機ＵＶ吸収剤含有層１１が吸収するため、粘着層７の劣化を抑えることができる。このとき、無機ＵＶ吸収剤含有層１１においては、無機ＵＶ吸収剤８を透明度が低下するほど多量に含有させることができ、粘着層７の耐光性はより向上することになる。
【００３１】
図４に記載の太陽熱発電用フィルムミラー１では、入射光側からハードコート層２、無機ＵＶ吸収剤８を含有する無機ＵＶ吸収剤含有層１１、腐食防止剤層４、銀反射層５、有機ＵＶ吸収剤９を含有する有機ＵＶ吸収剤含有層１０、樹脂支持体層６、粘着層７の順で積層された構成である。図４に記載の構成では、有機ＵＶ吸収剤含有層１０によるＵＶ吸収寄与があるので、粘着層７の劣化を抑えつつ、有機ＵＶ吸収剤９よりも透過率が低い無機ＵＶ吸収剤８の含有量を減らすことが可能となり、結果として反射率の向上につながることになる。
【００３２】
図５に記載の太陽熱発電用フィルムミラー１では、入射光側からハードコート層２、無機ＵＶ吸収剤８を含有する無機ＵＶ吸収剤含有層１１、腐食防止剤層４、銀反射層５、樹脂支持体層６、有機ＵＶ吸収剤９を含有する有機ＵＶ吸収剤含有層１０、粘着層７の順で積層された構成である。図５に記載の構成でも、有機ＵＶ吸収剤含有層１０によるＵＶ吸収寄与があるので、粘着層７の劣化を抑えつつ、有機ＵＶ吸収剤９よりも透過率が低い無機ＵＶ吸収剤８の含有量を減らすことが可能となり、結果として反射率の向上につながることになる。
【００３３】
以下、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの各構成要素の詳細について説明する。
【００３４】
〔ハードコート層〕
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、最外層として、ハードコート層を設けることができる。本発明に係るハードコート層は、傷防止のために設けられる。
【００３５】
本発明に係るハードコート層は、バインダーとして、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。更に、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂を適用することが好ましい。
【００３６】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【００３７】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
【００３８】
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【００３９】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、例えば、三菱レイヨン株式会社製の「ダイヤビームシリーズ」、長瀬産業株式会社製の「デナコールシリーズ」、新中村株式会社製の「ＮＫエステルシリーズ」、ＤＩＣ株式会社製の「ＵＮＩＤＩＣシリーズ」、東亞合成株式会社製の「アロニックスシリーズ」、日本油脂株式会社製の「ブレンマーシリーズ」、日本化薬株式会社製の「ＫＡＹＡＲＡＤシリーズ」、共栄社化学株式会社製の「ライトエステルシリーズ」、「ライトアクリレートシリーズ」等を挙げることができる。
【００４０】
本発明に係るハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、ＵＶ吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤などを用いることができる。
【００４１】
レベリング剤は、特に、ハードコート層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば、東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【００４２】
〔ＵＶ吸収層〕
本発明に係るＵＶ吸収層は、無機酸化物中または樹脂中にＵＶ吸収剤を粒子状に分散した構成のものである。
【００４３】
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、少なくとも１層の屈折率が２．４以下の無機ＵＶ吸収剤を含有したＵＶ吸収層を有していることを特徴とする。また、本発明に係るＵＶ吸収層は、無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤の両者を含有した層であってもよいし、無機ＵＶ吸収剤を含む無機ＵＶ剤含有層と有機ＵＶ吸収剤を含有する有機ＵＶ剤含有層とが、それぞれ個別に独立して存在する構成であってもよい。
【００４４】
また、無機ＵＶ吸収剤を含有するＵＶ吸収層は、ＵＶカット能とフィルムの巻き性の観点から、３．０μｍ以上、１５０μｍ以下であることが好ましい。
【００４５】
〈無機酸化物〉
本発明に係るＵＶ吸収層の１つの形態としては、ＵＶ吸収剤粒子が無機酸化物中に分散された構成である。無機酸化物としては、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものを用いることが好ましい。したがって、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることが好ましい。
【００４６】
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等であり、好ましくは、酸化ケイ素である。
【００４７】
本発明において、有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。
【００４８】
〈ゾル−ゲル法〉
本発明でいうゾル−ゲル法とは、金属アルコキシド等の有機金属化合物溶液や無機化合物溶液から金属酸化物もしくは水酸化物ゾルを得、さらにこれをゲル化し、このゲルを加熱することによりセラミックスやガラスを作製する方法である。シリコンアルコキシドをアルコール溶媒中で加水分解させ、縮合重合させてゾルを得たのち、このゾルを薄膜状に形成し、次いで該ゾル薄膜を加熱焼成する工程からなる二酸化ケイ素薄膜の製法は、ゾル−ゲル法による二酸化ケイ素薄膜の製法として既に知られ、実用化されている。
【００４９】
ゾル−ゲル法による二酸化ケイ素薄膜の一般的な製造法では、テトラメトキシケイ素、テトラエトキシケイ素、テトラ−ｎ−プロポキシケイ素、テトライソプロポキシケイ素、テトラ−ｎ−ブトキシケイ素、テトライソブトキシケイ素、テトラ−ｔ−ブトキシケイ素などのテトラアルコキシケイ素、或はその誘導体を、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノールなどの低級脂肪族アルコール溶媒に溶解させ、これに水を加えて、室温にて、あるいは所望により加温しながら、攪拌混合することにより、テトラアルコキシケイ素あるいはその誘導体の少なくとも一部が加水分解し、ついでその加水分解物間の縮合重合反応が生起し、縮合重合物が生成する。そして、その縮合重合の進展が充分でない状態である低粘度のゾルの状態にて、これを薄膜状に成形する方法である。
【００５０】
〈ポリシラザンを塗布する方法〉
ポリシラザンを塗布する方法とは、下記式（１）で表される少なくとも一種のパーヒドロポリシラザンを含む溶液を塗布液として使用し、光照射で硬化させることによって酸化ケイ素膜を形成する方法である。
【００５１】
式（１）
−（ＳｉＨ２ＮＨ）−
このようにポリシラザンが溶媒中に分散した塗布液を塗布して光照射で硬化することによって、短時間で緻密な酸化ケイ素膜等とすることができる。
【００５２】
さらに、別の好ましい態様の一つとしては、下記式（２）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含む溶液を使用する。
【００５３】
式（２）
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基、または（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ及びｐは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００５４】
特に好ましいものは、１）Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が各々水素原子を表し、そしてＲ２、Ｒ４及びＲ５が各々メチル基を表す化合物、２）Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が各々水素原子を表し、そしてＲ２、Ｒ４が各々メチル基を表し、そしてＲ５がビニル基を表す化合物、３）Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が各々水素原子を表し、そしてＲ２及びＲ５が各々メチル基を表す化合物である。
【００５５】
また、次式（３）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含有する溶液も同様に好ましい。
【００５６】
式（３）
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−（ＳｉＲ７Ｒ８−ＮＲ９）ｑ−
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基、または（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００５７】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が各々水素原子を表し、そしてＲ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８が各々メチル基を表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピル基を表し、そしてＲ７がアルキル基または水素原子を表す化合物である。
【００５８】
溶剤中におけるポリシラザンの割合は、一般的にはポリシラザンとして１〜８０質量％、好ましくは５〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えば、ヒドロキシル基またはアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系で、好ましくは非プロトン性の溶剤である。これは、例えば、脂肪族または芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば、酢酸エチルまたは酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトンまたはメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフランまたはジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）またはこれらの溶剤からなる混合物である。
【００５９】
上記ポリシラザン溶液の追加の成分としては、塗料の製造に慣用されているもののような更に別のバインダーである。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテートまたはセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、または合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、またはポリシロキサンである。ポリシラザン調合物の更に別の成分としては、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用または排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２またはＡｌ２Ｏ３であることができる。このような方法を用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリア作用に優れる緻密なガラス用の層を製造することができる。酸化ケイ素層またはアルキル基含有酸化ケイ素層、酸化ケイ素を含むポリマー層は、ポリシラザン溶液（酸化ケイ素前駆体を含む液）を塗布した後、１５０ｎｍ〜２５０ｎｍの波長の光を照射させて形成することが好ましい。好適な放射線源は、約１７２ｎｍに最大放射を有するエキシマラジエータ、約１８５ｎｍに輝線を有する低圧水銀蒸気ランプ、並びに２３０ｎｍ以下の波長成分を有する中圧及び高圧水銀蒸気ランプ、及び約２２２ｎｍに最大放射を有するエキシマランプである。
【００６０】
１８０ｎｍ以下の波長の放射線成分を有する放射線源、例えば、約１７２ｎｍに最大放射を有するＸｅ２＊エキシマラジエータを使用すると、酸素及び／または水蒸気の存在下において、上記の波長範囲におけるこれらのガスの高い吸光係数の故に光分解によってオゾン並びに酸素ラジカル及びヒドロキシルラジカルが非常に効率よく生じ、これらがポリシラザン層の酸化を促進する。しかし、両機序、すなわちＳｉ−Ｎ結合の解裂と、オゾン、酸素ラジカル及びヒドロキシルラジカルの作用は、ポリシラザン層の表面上にもＶＵＶ放射線が到達して初めて起こり得る。
【００６１】
また、酸化ケイ素層またはアルキル基含有酸化ケイ素層、酸化ケイ素を含むポリマー層は、ポリシラザン溶液（酸化ケイ素前駆体を含む液）を塗布した後、１μｍ〜３μｍの波長の光を照射させて形成してもよい。具体的には、赤外線パルス光で照射し硬化させる。この場合、反射層である銀面によって熱線は反射されるので基材であるフィルムにはダメージなく効率よく硬化することができる。
【００６２】
〈ＵＶ吸収剤含有のバインダー樹脂〉
本発明に係るＵＶ吸収層の他の形態としては、従来公知の種々の樹脂中にＵＶ吸収剤粒子を分散させたフィルムを挙げることができる。基材となる樹脂フィルムとしては、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
【００６３】
特に、アクリルフィルムを用いることが好ましい。また溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００６４】
〈無機ＵＶ吸収剤〉
本発明に係る無機ＵＶ吸収剤とは、主には金属酸化物顔料であり、アクリル樹脂に２０質量％以上の濃度で分散させて、６μｍ厚のフィルムを形成し、ＵＶ−Ｂ域（２９０−３２０ｎｍ）域における光線透過率を１０％以下にする機能を備えた化合物が好ましい。本発明に適用可能な無機ＵＶ吸収剤としては、特に、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化セリウムまたはこれらの混合物から選択されることが好ましい。
【００６５】
また、本発明に係る無機ＵＶ吸収剤は、屈折率が２．４以下であることを特徴とする。屈折率が２．４よりも大きい無機ＵＶ吸収剤では乱反射が大きく、ＵＶ吸収層の透明度の低下及び正反射率の低下を引き起こすため、太陽熱発電用フィルムミラーのＵＶ吸収剤として好ましくない。また、本発明に係る無機ＵＶ吸収剤は、好ましくは屈折率が１．５以上２．４以下のものである。ここで、屈折率とは、ナトリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）の波長で２５℃の温度で測定した数値を指す。また、無機ＵＶ吸収剤含有層の透明性を向上させる点から、平均粒径が５ｎｍと５００ｎｍとの間の平均基本粒子径であるものが好ましく、特に好ましくは１０ｎｍと１００ｎｍとの間の平均基本粒子径であって、粒径分布の最大粒径が１５０ｎｍ以下の金属酸化物粒子である。この種の被覆または非被覆金属酸化物顔料は、より詳細に、特許出願ＥＰ−Ａ−０  ５１８  ７７３に記載されている。
【００６６】
また、本発明においては、無機酸化物の光触媒能による隣接樹脂の酸化劣化作用を抑える観点から、無機ＵＶ吸収剤が、表面被覆した平均粒径が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の無機ＵＶ吸収剤微粒子であることが好ましい。また、表面被覆には無機ＵＶ吸収剤粒子の分散性を向上させる効果もあるため、なお好ましい。ここでいう表面被覆された無機ＵＶ吸収剤とは、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩、鉄塩またはアルミニウム塩、金属アルコキシド（チタンまたはアルミニウムの）、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物あるいはヘキサメタリン酸ナトリウムのような化合物により、化学的、電子工学的、メカノケミストリー的または機械的な特質の１つまたは複数の手段により表面処理を受けた無機ＵＶ吸収剤である。
【００６７】
また、表面被覆には無機ＵＶ吸収剤粒子の屈折率を調整する効果がある。例えば、高屈折率の無機ＵＶ吸収剤粒子を、低屈折率の材料を用いて表面被覆することで、表面被覆ＵＶ吸収剤粒子自体の屈折率を下げることができる。表面被覆ＵＶ吸収剤粒子の屈折率は、主には、表面被覆する材料の種類と被覆量により制御することができる。
【００６８】
無機ＵＶ吸収剤を単独で用いる場合の使用量は、ＵＶ吸収層の全質量に対し１〜３０質量％、好ましくは５〜２５質量％、さらに好ましくは１５〜２０質量％である。３０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【００６９】
また、無機ＵＶ吸収剤を後述する有機ＵＶ吸収剤と併用して用いる場合、ＵＶ吸収層の全質量に対し、無機ＵＶ吸収剤の使用量は３〜２０質量％、好ましくは５〜１０質量％であり、有機ＵＶ吸収剤の使用量は０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％である。前記の使用量の範囲で無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤とを併用すると、ＵＶ吸収層の透明度は高く、耐侯性も良好となる。
【００７０】
〈有機ＵＶ吸収剤〉
本発明に適用可能な有機ＵＶ吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
【００７１】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００７２】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００７３】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、例えば、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
【００７４】
ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【００７５】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００７６】
有機ＵＶ吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。更には、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の有機ＵＶ吸収剤を使用する場合は、有機ＵＶ吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
【００７７】
通常の有機ＵＶ吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【００７８】
有機ＵＶ吸収剤の使用量は、ＵＶ吸収層の全質量に対し０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【００７９】
〔腐食防止層〕
本発明に係る腐食防止層の構成としては、腐食防止剤のみから形成される層または腐食防止剤を含有した樹脂からなる層を挙げることができるが、腐食防止剤を含有した樹脂層であることが好ましい。さらに好ましくは、腐食防止剤が０．０１質量％から１０質量％含有した樹脂層を用いるのがよい。
【００８０】
さらに、腐食防止剤層に用いる樹脂は、接着剤層としても機能を有するものがよく、銀反射層と樹脂基材層（樹脂フィルム）との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、腐食防止剤層に用いる樹脂は、樹脂基材（樹脂フィルム）と銀反射層とを密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００８１】
本発明に係る腐食防止剤層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば、特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００８２】
本発明に係る腐食防止剤層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００８３】
腐食防止剤層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００８４】
（腐食防止剤）
銀反射層の腐食防止を目的とする本発明に係る腐食防止層に用いられる腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
【００８５】
ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか、若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００８６】
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーでは、後述する接着層が酸化防止剤を含有し、かつ銀反射層の上部隣接層として、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している腐食防止層を設ける態様であることが好ましい。
【００８７】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００８８】
〈銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
本発明に適用可能な銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、例えば、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００８９】
アミン類及びその誘導体としては、例えば、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９０】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９１】
トリアゾール環を有する化合物としては、例えば、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９２】
ピラゾール環を有する化合物としては、例えば、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９３】
チアゾール環を有する化合物としては、例えば、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９４】
イミダゾール環を有する化合物としては、例えば、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９５】
インダゾール環を有する化合物としては、例えば、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９６】
銅キレート化合物類としては、例えば、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９７】
チオ尿素類としては、例えば、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９８】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、例えば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９９】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１００】
〔銀反射層〕
本発明に係る銀反射層の形成方法としては、湿式法及び乾式法のいずれの方法も適用することができる。
【０１０１】
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させて銀膜を形成する方法であり、具体例としては、銀鏡反応などを挙げることができる。
【０１０２】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的な方法を例示するとすれば、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などが挙げられる。とりわけ、本発明においては、連続的に成膜するロールツーロール方式を適用することが可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーを製造する太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法においては、本発明に係る銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を用いて形成する態様である。
【０１０３】
本発明に係る銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【０１０４】
本発明において、銀反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあっても良いが、支持体が樹脂であることから、光線による樹脂劣化を防止する目的から、支持体に対し光線入射側に位置する方が好ましい。
【０１０５】
〔樹脂基材〕
本発明に係る樹脂基材としては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
【０１０６】
中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１０７】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、更に好ましくは３０〜１００μｍである。
【０１０８】
〔粘着層〕
本発明に係る粘着層の構成としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
【０１０９】
例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
【０１１０】
ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１１１】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１１２】
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと貼り合せられる他基材としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングして金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
【０１１３】
貼り合わせフィルム又はシートの厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１１４】
また、これらの他基材は本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。
【０１１５】
〔太陽熱発電用フィルムミラーの厚さ〕
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５〜２５０μｍが好ましく、更に好ましくは９０〜２３０μｍ、特に好ましくは１００〜２２０μｍである。
【０１１６】
〔太陽熱発電用反射装置〕
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。太陽熱発電用フィルムミラー単体で太陽光集光ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材、特に金属支持体上に、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーを貼り付けて、本発明の太陽熱発電用反射装置として用いることである。
【０１１７】
太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーが特に好適に用いられる。
【０１１８】
〈支持体〉
本発明の太陽熱発電用反射装置に用いられる支持体としては、金属板、樹脂板または金属と樹脂の複合板を用いることができる。金属板としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。また、樹脂板としては、アクリル系樹脂板、ウレタン系樹脂板、ポリスチレン系樹脂板、ポリイミド系樹脂板、フェノール系樹脂板、ポリカーボネート系樹脂板、脂環式炭化水素系樹脂板、ポリプロピレン系樹脂板、ポリオレフィン系樹脂板、メラミン樹脂系樹脂板、ＡＢＳ系樹脂板を用いることができる。また、金属と樹脂の複合板としては、前記金属板および樹脂板を積層したものや、前記金属板と発泡性樹脂とを積層したもの等を用いることができる。ここで発泡性樹脂とは多孔質の樹脂を意味し、例えばポリスチレン系、ポリオレフィン系、ポリウレタン系、メラミン樹脂系、ポリイミド系の組成からなるものを挙げることができる。
【実施例】
【０１１９】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。【０１２０】
《太陽熱発電用反射装置の作製》
〔試料１の作製：実施例１〕
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、この銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とトルエンジイソシアナート系樹脂とを、樹脂固形分比率（質量比）で１０：２に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗設量が０．３ｇ／ｍ２となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの腐食防止層を形成した。【０１２１】
続いて、アクリル樹脂と、アクリル樹脂に対し１５質量％の平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄（日本カンタムデザイン株式会社製）を、固形分比率が１０：２となる条件で、メチレンクロライド溶媒を用いて溶解および分散させた塗工液を、グラビアコート法によりコーティングして厚さ３０μｍのＵＶ吸収層を形成した。次いで、形成したＵＶ吸収層上に、ＵＶ硬化型のハードコート液であるオプスター（ＪＳＲ社製）を、アプリケータを用いて塗布し、波長３５０ｎｍのＵＶ光を３０秒照射することで、厚さ１０μｍのハードコート層を形成した。【０１２２】
次いで、基材のポリエチレンテレフタレートフィルムの上記ハードコート層を形成した面とは反対側の面に、粘着層としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍでコートして、太陽熱発電用フィルムミラー１を作製した。【０１２３】
次いで、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上に、上記作製した太陽熱発電用フィルムミラー１の粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置である試料１を作製した。【０１２４】
〔試料２の作製：実施例２〕
上記試料１の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄粒子に代えて、平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．２の酸化セリウム（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー２を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料２を作製した。【０１２５】
〔試料３の作製：実施例３〕
上記試料１の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄粒子に代えて、平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が１．９の酸化亜鉛（堺化学工業株式会社製）を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー３を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料３を作製した。【０１２６】
〔試料４の作製：実施例４〕
上記試料１の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄粒子に代えて、平均粒径が５００ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄（日本カンタムデザイン株式会社製）を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー４を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料４を作製した。【０１２７】
〔試料５の作製：実施例５〕
上記試料１の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄粒子に代えて、平均粒径が５００ｎｍ、屈折率が２．２の酸化セリウム（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー５を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料５を作製した。【０１２８】
〔試料６の作製：実施例６〕
上記試料１の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄粒子に代えて、平均粒径が５００ｎｍ、屈折率が２．５の酸化亜鉛（堺化学工業株式会社製）を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー６を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料６を作製した。【０１２９】
〔試料７の作製：実施例７〕
上記試料１の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄粒子に代えて、平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化鉄を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー７を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料７を作製した。【０１３０】
なお、表面シリカ被覆酸化鉄は、平均粒径が１８ｎｍの酸化鉄（日本カンタムデザイン株式会社製）を、テトラエトキシシラン（シグマアルドリッチ社製）溶液中で３０分間撹拌した後、遠心分離とデカンテーションと純水添加を繰り返して洗浄を行うことにより調製した。【０１３１】
〔試料８の作製：実施例８〕
上記試料７の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー７のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化鉄に代えて、平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化セリウムを用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー８を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料８を作製した。【０１３２】
なお、表面シリカ被覆酸化セリウムは、平均粒径が１８ｎｍの酸化セリウム（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を用いた以外は上記表面シリカ被覆酸化鉄の調製方法と同様にして調製した。【０１３３】
〔試料９の作製：実施例９〕
上記試料７の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー７のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化鉄に代えて、平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化亜鉛を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー９を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料９を作製した。【０１３４】
なお、表面シリカ被覆酸化亜鉛は、平均粒径が１８ｎｍの酸化亜鉛（堺化学工業株式会社製）を用いた以外は上記表面シリカ被覆酸化鉄の調製方法と同様にして調製した。【０１３５】
〔試料１０の作製：実施例１０〕
上記試料７の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー７のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化鉄に代えて、平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化チタンを用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー１０を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料１０を作製した。【０１３６】
なお、表面シリカ被覆酸化チタンは、平均粒径が１８ｎｍの酸化チタン（マックスライト  ＴＳ  昭和電工株式会社製）を用いた以外は、上記表面シリカ被覆酸化鉄の調製方法と同様にして調製した。【０１３７】
〔試料１１の作製：実施例１１〕
上記試料１の作製に用いた太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成において、平均粒径が２０ｎｍの酸化鉄粒子を樹脂に対して１５質量％添加した条件に代えて、平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化亜鉛（堺化学工業株式会社製）を樹脂に対して６質量％，有機ＵＶ吸収剤としてＴＩＮＵＮＩＮ２３４（ＢＡＳＦジャパン社製）を樹脂に対して３質量％添加する条件に変更した以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー１１を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料１１を作製した。【０１３８】
〔試料１２の作製：実施例１２〕
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、アクリル樹脂とアクリル樹脂に対して、有機ＵＶ吸収剤として３質量％のＴＩＮＵＮＩＮ２３４（ＢＡＳＦジャパン社製）を固形分比率で１０：２となるようにメチレンクロライド溶媒で溶解および分散させて調製した塗工液を、グラビアコート法によりコーティングすることで、銀反射層よりも反入射光側に配置となる厚さ３０μｍの有機ＵＶ吸収層を形成した。次いで、形成した有機ＵＶ吸収層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、この銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とトルエンジイソシアナート系樹脂とを、樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗設量が０．３ｇ／ｍ２となる条件で添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの腐食防止層を形成した。続いて、アクリル樹脂とアクリル樹脂に対して無機ＵＶ吸収剤として６質量％の平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化亜鉛（堺化学工業株式会社製）を固形分比率で１０：２となるようにメチレンクロライド溶媒で溶解および分散させた塗工液を、グラビアコート法によりコーティングすることで厚さ３０μｍの無機ＵＶ吸収層を、銀反射層よりも入射光側に配置して形成した。続いて、ＵＶ吸収層の上に、ＵＶ硬化型のハードコート液であるオプスター（ＪＳＲ社製）をアプリケータにより塗布し、波長３５０ｎｍのＵＶ光を３０秒照射することで、厚さ１０μｍのハードコート層を形成した。【０１３９】
続いて、基材のポリエチレンテレフタレートフィルムの上記ハードコート層を形成した面とは反対側の面に、粘着層としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートして、図４に記載の層構成からなる太陽熱発電用フィルムミラー１２を作製した。【０１４０】
次いで、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上に、上記作製した太陽熱発電用フィルムミラー１２の粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置である試料１２を作製した。【０１４１】
〔試料１３の作製：実施例１３〕
上記太陽熱発電用フィルムミラー１２において、無機ＵＶ吸収層（図４に記載の１１の位置）の形成に用いた無機ＵＶ吸収剤である平均粒径が２０ｎｍの表面シリカ被覆酸化亜鉛に代えて、有機ＵＶ吸収剤として３質量％のＴＩＮＵＮＩＮ２３４（ＢＡＳＦジャパン社製）を用いて、図３に記載の有機ＵＶ吸収剤層１０とし、有機ＵＶ吸収層（図４に記載の１０の位置）の形成の用いた有機ＵＶ吸収剤であるＴＩＮＵＮＩＮ２３４に代えて、無機ＵＶ吸収剤として２０質量％の表面シリカ被覆酸化亜鉛（堺化学工業株式会社製）を用いて、図３に記載の無機ＵＶ吸収剤層１１とした以外は同様にして、図３に記載の構成からなる太陽熱発電用フィルムミラー１３を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料１３を作製した。【０１４２】
〔試料１４の作製：比較例１〕
前記試料１の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄粒子に代えて、平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．５の酸化チタン（堺化学工業株式会社製）を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー１４を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料１４を作製した。【０１４３】
〔試料１５の作製：比較例２〕
上記試料１の作製において、太陽熱発電用フィルムミラー１のＵＶ吸収層の形成に用いた平均粒径が２０ｎｍ、屈折率が２．４の酸化鉄粒子に代えて、有機ＵＶ吸収剤として５質量％のＴＩＮＵＮＩＮ２３４（ＢＡＳＦジャパン社製）を用いた以外は同様にして、太陽熱発電用フィルムミラー１５を作製し、これを用いて太陽熱発電用反射装置である試料１５を作製した。【０１４４】
《太陽熱発電用フィルムミラーの作製に用いた無機ＵＶ吸収剤の特性値の測定》
〔無機ＵＶ吸収剤の屈折率測定〕
無機ＵＶ吸収剤の１０質量％水分散液を用意した。続いて、各水分散液にポリビニルピロリドンを無機ＵＶ吸収剤に対する質量比が１となるように加え、この液をスピンコートして１２０℃で乾燥後、２５℃下でナトリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）の波長の屈折率を、エリプソメータであるＶＡＳＥ（ウーラム社製）を用いて測定した。なお、屈折率は、含有される固形分の体積分率から固形分の屈折率として求めた。【０１４５】
〔無機ＵＶ吸収剤の粒径測定〕
無機ＵＶ吸収剤の０．０１質量％水分散液を用意した。続いて、各水分散液を動的光散乱粒形測定装置であるＬＢ−５５０（ＨＯＲＩＢＡ社製）を用いて粒子径分布を測定し、このときのピークトップの値を粒径として求めた。【０１４６】
《各試料の評価》
上記作製した各太陽熱発電用反射装置について、下記の方法に従って、初期状態の評価（初期正反射率）、耐光性の評価（正反射率安定性）及び粘着層の耐候性の評価を行った。【０１４７】
〔初期状態の評価：初期正反射率〕
島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５に、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料について劣化処理前の反射角５°での初期正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。【０１４８】
６：正反射率の平均値が、８５％以上である
５：正反射率の平均値が、８０％以上、８５％未満である
４：正反射率の平均値が、７５％以上、８０％未満である
３：正反射率の平均値が、７０％以上、７５％未満である
２：正反射率の平均値が、６５％以上、７０％未満である
１：正反射率の平均値が、６５％未満である
〔耐光性の評価：正反射率安定性〕
上記方法で初期正反射率を測定した各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行ったのち、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前の初期正反射率を１００％としたときの紫外線照射後の正反射率の平均値を算出し、下記の基準に従って、耐光性を評価した。【０１４９】
６：紫外線照射後の正反射率の平均値が、８５％以上である
５：紫外線照射後の正反射率の平均値が、８０％以上、８５％未満である
４：紫外線照射後の正反射率の平均値が、７５％以上、８０％未満である
３：紫外線照射後の正反射率の平均値が、７０％以上、７５％未満である
２：紫外線照射後の正反射率の平均値が、６５％以上、７０％未満である
１：紫外線照射後の正反射率の平均値が、６５％未満である
〔粘着層の耐候性の評価〕
岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行ったのち、粘着層の密着性の評価を、ＪＩＳ  Ｋ５４００の碁盤目セロハンテープ剥離試験に従って評価した。即ち、強制劣化後のサンプル表面にカッターナイフで１ｍｍ間隔の碁盤目状に切り込みを入れ、セロハンテープ（ニチバン社製）を貼り付けた後にはく離し、はく離部の割合を測定し、下記の基準に従って、接着層の耐候性を評価した。【０１５０】
◎：劣化試験後に膜はく離部の割合が２．０％未満
○：劣化試験後に膜はく離部の割合が２．０％以上、３．０％未満
×：劣化試験後に膜はく離部の割合が３．０％以上
〔技術的特徴の実証結果〕
上記方法に従って、各試料について評価した結果を、各太陽熱発電用反射装置（太陽熱発電用フィルムミラー）の構成技術の効果が判定できる組み合わせにて、以下順次説明する。【０１５１】
（ＵＶ吸収層に適用する無機ＵＶ吸収剤の平均粒径、屈折率の効果の確認）
上記作製した試料１〜６（本発明  実施例１〜６）及び試料１４、１５（比較例１、２）を用いて、本発明で規定するＵＶ吸収層に適用する無機ＵＶ吸収剤の平均粒径、屈折率の効果の実証結果について、表１に示す。【０１５２】
【表１】
2011096284.tif 000003
【０１５３】
表１に記載の結果より明らかな様に、本発明で規定する屈折率が２．４以下の無機ＵＶ吸収剤を含むＵＶ吸収層を有する試料１〜６（本発明  実施例１〜６）は、比較例である試料１４、１５に対し、初期状態（初期正反射率）、耐光性（正反射率安定性）及び粘着層の耐候性（密着性）に優れていることが明かである。これは、本発明の試料が、屈折率２．４以下の無機ＵＶ吸収剤を用いることで光散乱による反射率の低下を抑えつつ、粘着層劣化の原因であるＵＶ−Ｂ域（２９０−３２０ｎｍ）の光線を効果的に吸収できていることを示す結果である。また、平均粒径５００ｎｍの無機ＵＶ吸収剤を用いた試料４〜６よりも、平均粒径が２０ｎｍの無機ＵＶ吸収剤を用いた試料１〜３の方が、反射安定性により優れていることが分かる。すなわち、平均粒径がより小さいほど、無機ＵＶ吸収剤粒子の光散乱による正反射率の低下が抑えられている結果を示している。【０１５４】
（ＵＶ吸収層に適用する無機ＵＶ吸収剤の表面被覆による効果の確認）
上記作製した試料１〜３（本発明  実施例１〜６）及び試料７〜１０（本発明  実施例７〜１０）を用いて、本発明で規定するＵＶ吸収層に適用する無機ＵＶ吸収剤の表面被覆効果の実証結果について、表２に示す。【０１５５】
【表２】
2011096284.tif 000004
【０１５６】
表２に記載の結果より明らかな様に、表面を被覆した無機ＵＶ吸収剤粒子を用いた試料７〜１０は、被覆していない無機ＵＶ吸収剤粒子を用いた試料１〜３に対し、劣化処理後の正反射率変動が小さく、高い正反射率を維持していることが分かる。この結果は、無機ＵＶ吸収剤粒子の表面をシリカで被覆することにより、無機ＵＶ吸収剤粒子の光触媒活性は抑制され、隣接樹脂の劣化を抑えることができることを実証することができた。【０１５７】
（ＵＶ吸収層での無機ＵＶ吸収剤、有機ＵＶ吸収剤の併用による効果）
上記作製した同一のＵＶ吸収層で無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤との併用した試料１１（本発明  実施例１１）と、無機ＵＶ吸収剤のみを用いた試料３（実施例３）と、有機ＵＶ吸収剤のみを用いた試料１５（比較例２）を用いて、同一ＵＶ吸収層に無機ＵＶ吸収剤、有機ＵＶ吸収剤を併用することによる効果について、表３に示す。【０１５８】
【表３】
2011096284.tif 000005
【０１５９】
表３に記載の試料１１（実施例１１）は、図２に記載した無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤とを含有したＵＶ吸収剤層を有する形態の太陽熱発電用フィルムミラーである。表３に記載の結果より明らかな様に、無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤とを併用することにより、光散乱による反射率低下を起こす傾向にある無機ＵＶ吸収剤の使用量を低減させることができ、その結果、劣化処理後の正反射率変動が小さく、高い正反射率を維持できることがわかる。【０１６０】
（無機ＵＶ吸収剤層及び有機ＵＶ吸収剤層を独立に形成することによる効果）
無機ＵＶ吸収剤層と有機ＵＶ吸収剤層とを、それぞれ独立した位置に配置した試料１２、１３と、無機ＵＶ吸収剤層のみを形成した試料９を用いて、無機ＵＶ吸収剤層及び有機ＵＶ吸収剤層を独立に形成したことによる効果を、表４に示す。【０１６１】
【表４】
2011096284.tif 000006
【０１６２】
表４に記載の結果より明らかな様に、無機ＵＶ吸収剤を含有する無機ＵＶ吸収層と有機ＵＶ吸収剤を含有する有機ＵＶ吸収層を別々に有する構成である実施例１２および実施例１３は、図４、図３に記載した層構成の太陽熱発電用フィルムミラーである。図４に示す構成である実施例１２は、実施例１１と同様の理由で無機ＵＶ吸収剤の使用量を低減させることができるため、反射率がより高くなっていることがわかる。また、図３に示す構成である実施例１３では、銀反射層よりも反入射光側に無機ＵＶ吸収剤を含有した無機ＵＶ吸収剤層１１を配置した構成となっており、着色が起こるほど多量に無機ＵＶ吸収剤を添加しても問題が無い構成である。実際、実施例１３では無機ＵＶ吸収剤使用量を増やしたところ、粘着層剥離耐性がより向上したという結果が得られた。
【符号の説明】
【０１６３】
１  太陽熱発電用フィルムミラー
２  ハードコート層
３、３′  ＵＶ吸収層
４  腐食防止層
５  銀反射層
６  樹脂支持体層
７  粘着層
８  無機ＵＶ吸収剤
９  有機ＵＶ吸収剤
１０  有機ＵＶ吸収剤層
１１  無機ＵＶ吸収剤層
【図１】
2011096284.tif 000007
【図２】
2011096284.tif 000008
【図３】
2011096284.tif 000009
【図４】
2011096284.tif 000010
【図５】
2011096284.tif 000011
【国際調査報告】
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2011096284.tif 000013
2011096284.tif 000014
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