【手続補正書】
【提出日】令和3年5月24日(2021.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陰圧を用いて組織部位を治療するためのドレッシングにおいて、
ポリマーフィルムを備える第１層であって、前記ポリマーフィルムが、前記ポリマーフィルムにわたる圧力勾配に応答して拡張するように構成されている、前記ポリマーフィルムを貫通する複数の流体制限部を有する、第１層と、
前記第１層に結合された第２層であって、マニホールドを備える第２層と、
前記第１層とは反対側で前記第２層に結合された第３層であって、ポリマードレープを備える第３層と、
を備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項２】
請求項１に記載のドレッシングにおいて、前記第１層が、前記マニホールドと前記組織部位との間に挿入され、少なくとも部分的に前記組織部位に露出されるように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のドレッシングにおいて、前記第２層とは反対側で前記第１層に結合された第４層をさらに備え、前記第４層が、複数のアパーチャを有する疎水性ゲルを備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項４】
請求項３に記載のドレッシングにおいて、前記第３層及び前記第４層が、前記第１層及び前記第２層を封入することを特徴とするドレッシング。
【請求項５】
請求項３に記載のドレッシングにおいて、前記第３層及び前記第４層が、前記第１層及び前記第２層を封入し、前記第４層が、前記組織部位と接触するように適合されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項６】
請求項１又は２に記載のドレッシングにおいて、前記第２層とは反対側で前記第１層に結合された第４層をさらに備え、前記第４層が、前記第１層における前記複数の流体制限部のうちの少なくともいくつかと位置合わせされた複数のアパーチャを有する疎水性ゲルを備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項７】
請求項３乃至５の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記複数のアパーチャが前記流体制限部と位置合わせされていることを特徴とするドレッシング。
【請求項８】
請求項３乃至５の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記複数のアパーチャが、各々、前記流体制限部のうちの１つの少なくとも一部を露出させることを特徴とするドレッシング。
【請求項９】
請求項１又は２に記載のドレッシングにおいて、前記第２層の反対側で前記第１層に結合された第４層をさらに備え、前記第４層が、前記第２層と同一の広がりを有する複数のアパーチャを有する疎水性ゲルを備え、実質的にすべての前記複数のアパーチャが、前記第１層において前記流体制限部と位置合わせされていることを特徴とするドレッシング。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第４層が、前記マニホールドと前記組織部位との間に挿入されるように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項１１】
請求項３乃至１０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記流体制限部が、前記アパーチャの平均寸法を実質的に超えない平均長さを有することを特徴とするドレッシング。
【請求項１２】
請求項３乃至１０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記アパーチャが、前記流体制限部の有効サイズを制限することを特徴とするドレッシング。
【請求項１３】
請求項３乃至１０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記アパーチャの各々が、前記流体制限部のうちの２つ以下を露出させるようなサイズであることを特徴とするドレッシング。
【請求項１４】
請求項１又は２に記載のドレッシングにおいて、前記第２層とは反対側で前記第１層に結合された第４層をさらに備え、前記第４層が、複数のアパーチャと、３００グラム／平方メートル未満の面密度とを有する疎水性ゲルを備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項１５】
請求項３乃至１０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記疎水性ゲルがシリコーンゲルであることを特徴とするドレッシング。
【請求項１６】
請求項１乃至１５の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記ポリマードレープが、前記第１層及び前記第２層を超えて延在する外縁部と、前記外縁部に配置された接着剤層とを備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項１７】
請求項１乃至１６の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記マニホールドがフォームを含むことを特徴とするドレッシング。
【請求項１８】
請求項１７に記載のドレッシングにおいて、前記フォームがポリマーフォームであることを特徴とするドレッシング。
【請求項１９】
請求項１７に記載のドレッシングにおいて、前記フォームがポリウレタンエーテルフォームであることを特徴とするドレッシング。
【請求項２０】
請求項１７に記載のドレッシングにおいて、前記フォームが網状であることを特徴とするドレッシング。
【請求項２１】
請求項１７に記載のドレッシングにおいて、前記フォームが網状ポリマーフォームであることを特徴とするドレッシング。
【請求項２２】
請求項１７に記載のドレッシングにおいて、前記フォームが網状ポリウレタンエーテルフォームであることを特徴とするドレッシング。
【請求項２３】
請求項１７乃至２２の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記フォームが網状であり、少なくとも９０％の自由体積を有することを特徴とするドレッシング。
【請求項２４】
請求項１７乃至２３の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記フォームが多孔質であり、４００〜６００ミクロンの範囲の平均細孔径を有することを特徴とするドレッシング。
【請求項２５】
請求項１乃至２４の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記マニホールドが、７ミリメートル未満の厚さを有することを特徴とするドレッシング。
【請求項２６】
請求項１乃至２５の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記マニホールドが疎水性であることを特徴とするドレッシング。
【請求項２７】
請求項１乃至２６の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記ポリマーフィルムが疎水性であることを特徴とするドレッシング。
【請求項２８】
請求項２７に記載のドレッシングにおいて、前記ポリマーフィルムが、９０度を超える水接触角を有することを特徴とするドレッシング。
【請求項２９】
請求項２７に記載のドレッシングにおいて、前記ポリマーフィルムがポリエチレンフィルムであることを特徴とするドレッシング。
【請求項３０】
請求項２７に記載のドレッシングにおいて、前記ポリマーフィルムが、３０グラム／平方メートル未満の面密度を有するポリエチレンフィルムであることを特徴とするドレッシング。
【請求項３１】
請求項１乃至３０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記流体制限部が複数のスロットを備え、前記スロットの各々が４ミリメートル未満の長さを有することを特徴とするドレッシング。
【請求項３２】
請求項１乃至３０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記流体制限部が複数のスロットを備え、前記スロットの各々が２ミリメートル未満の幅を有することを特徴とするドレッシング。
【請求項３３】
請求項１乃至３０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記流体制限部が複数のスロットを備え、前記スロットの各々が、４ミリメートル未満の長さと２ミリメートル未満の幅とを有することを特徴とするドレッシング。
【請求項３４】
請求３３に記載のドレッシングにおいて、前記幅が１ミリメートル未満であることを特徴とするドレッシング。
【請求項３５】
請求項３３に記載のドレッシングにおいて、前記長さが３ミリメートル未満であり、前記幅が１ミリメートル未満であることを特徴とするドレッシング。
【請求項３６】
請求項３３に記載のドレッシングにおいて、前記幅が少なくとも０．５ミリメートルであることを特徴とするドレッシング。
【請求項３７】
請求項３３に記載のドレッシングにおいて、前記長さが少なくとも２ミリメートルであることを特徴とするドレッシング。
【請求項３８】
請求項１乃至３７の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記流体制限部が前記ポリマーフィルムと同一の広がりを有することを特徴とするドレッシング。
【請求項３９】
請求項１乃至３７の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記流体制限部が前記マニホールドと同一の広がりを有することを特徴とするドレッシング。
【請求項４０】
請求項１乃至３９の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記ドレッシングの組織に面する面が平滑であることを特徴とするドレッシング。
【請求項４１】
請求項１乃至３９の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記ドレッシングの組織に面する面が艶消しであることを特徴とするドレッシング。
【請求項４２】
請求項１乃至３９の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記ドレッシングの組織に面する面が粗くないことを特徴とするドレッシング。
【請求項４３】
請求項１乃至４２の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第２層が、粗い組織に面する面を有し、且つ、前記ドレッシングが前記組織部位の上に配置されると組織に露出されないように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項４４】
請求項１乃至４３の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第４層が平滑な下面を有することを特徴とするドレッシング。
【請求項４５】
請求項１乃至４４の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記流体制限部が、均一なパターンで前記ポリマーフィルムにわたって分散されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項４６】
請求項４５に記載のドレッシングにおいて、前記均一なパターンが、平行な行及び列の格子を含むことを特徴とするドレッシング。
【請求項４７】
請求項１乃至４６の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、
前記流体制限部が、平行な行及び列で前記ポリマーフィルムにわたって分散されており、
前記行が中心において約３ミリメートル間隔を空けて配置され、
前記行の各々における前記流体制限部が、中心において約３ミリメートル間隔を空けて配置されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項４８】
請求項４７に記載のドレッシングにおいて、隣接する行における前記流体制限部がずれていることを特徴とするドレッシング。
【請求項４９】
請求項１乃至４８の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記ポリマーフィルムが実質的に平坦な面を有することを特徴とするドレッシング。
【請求項５０】
請求項３乃至４９の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第４層が、約５ショアＯＯ〜約８０ショアＯＯの硬度を有することを特徴とするドレッシング。
【請求項５１】
請求項１乃至５０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記流体制限部が、前記ポリマーフィルムに、通常は閉鎖されているエラストマー弁を備えるか又は前記エラストマー弁から本質的に構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項５２】
請求項５１に記載のドレッシングにおいて、前記エラストマー弁が開窓であることを特徴とするドレッシング。
【請求項５３】
請求項１乃至５２の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第１層が前記第２層と同一の広がりを有することを特徴とするドレッシング。
【請求項５４】
請求項１乃至５３の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第２層が前記第１層に隣接し、前記第３層が、前記第１層とは反対側で前記第２層に隣接していることを特徴とするドレッシング。
【請求項５５】
請求項１乃至５４の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第３層に結合された流体ポートをさらに備え、前記流体ポートが流体伝導体に結合されるように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項５６】
請求項１乃至５５の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第３層及び前記第４層が流体密封シールを提供するように適合されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項５７】
組織部位を治療するためのシステムにおいて、
請求項１乃至５６の何れか一項に記載のドレッシングと、
前記ドレッシングに流体的に結合された陰圧源と、
を備えることを特徴とするシステム。
【請求項５８】
請求項５７に記載のシステムにおいて、前記ドレッシングと前記陰圧源との間に流体的に結合された流体容器をさらに備えることを特徴とするシステム。
【請求項５９】
陰圧を用いて組織部位を治療するためのドレッシングにおいて、
複数の不完全な弁を備える流体制御層であって、前記複数の不完全な弁が圧力勾配に応答するように構成されている、流体制御層と、
前記流体制御層に隣接するマニホールド層と、
前記流体制御層とは反対側で前記マニホールド層に隣接するカバーと、
前記マニホールド層とは反対側で前記流体制御層に隣接する封止層であって、前記複数の不完全な弁と位置合わせされた複数のアパーチャを備える封止層と、
を備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項６０】
陰圧を用いて組織部位を治療するためのドレッシングにおいて、
疎水性材料から形成されたフィルムを備える第１層と、
前記フィルムを貫通する複数の流体通路であって、前記フィルムにわたる圧力勾配に応答して拡張するように構成された複数の流体通路と、
前記第１層に結合された第２層であって、疎水性材料から形成されたマニホールドを備える第２層と、
前記第１層とは反対側で前記第２層に結合された第３層であって、ポリマードレープを備える第３層と、
前記第２層とは反対側で前記第１層に結合された第４層であって、３００グラム／平方メートル未満の面密度を有する疎水性ゲルを備える第４層と、
前記フィルムを通して前記複数の流体通路のうちの少なくともいくつかに流体的に結合された、前記第４層を貫通する複数のアパーチャと、
を備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項６１】
陰圧を用いて組織部位を治療するためのドレッシングにおいて、
平坦な表面性状を有するフィルムを備える第１層と、
前記フィルムを貫通する複数の流体制限部であって、前記フィルムにわたる圧力勾配に応答するように構成されている複数の流体制限部と、
前記第１層に結合された第２層であって、マニホールドを備える第２層と、
前記第１層とは反対側で前記第２層に結合された第３層であって、ポリマードレープを備える第３層と、
前記第２層とは反対側で前記第１層に結合された第４層であって、３００グラム／平方メートル未満の面密度と、約５ショアＯＯ〜約８０ショアＯＯの硬度とを有するゲルを備える第４層と、
前記フィルムを貫通する前記複数の流体制限部と位置合わせされた、前記第４層を貫通する複数のアパーチャと、
を備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項６２】
陰圧を用いて組織部位を治療するための装置において、
１センチメートルに対して０．２ミリメートル未満の高さのばらつきと、９０度を超える水接触角とを備えた表面を有するポリエチレンフィルムを備える第１層と、
通常は制限され、且つ前記第１層にわたる圧力勾配に応答して拡張するように構成された、前記第１層を貫通する複数の流体通路と、
前記第１層に結合された第２層であって、少なくとも９０％の自由体積と７ミリメートル未満の厚さとを有する網状ポリウレタンエーテルフォームを含む第２層と、
前記第１層とは反対側で前記第２層に結合された第３層であって、ポリマードレープを備える第３層と、
前記第２層とは反対側で前記第１層に結合された第４層であって、３００グラム／平方メートル未満の面密度と、約５ショアＯＯ〜約８０ショアＯＯの硬度とを有するシリコーンゲルを備える第４層と、
前記第１層における前記複数の流体通路と位置合わせされた、前記第４層を貫通する複数のアパーチャと、
を備えることを特徴とする装置。
【請求項６３】
陰圧を用いて組織部位を治療するための装置において、
ポリエチレンフィルムを備える第１層と、
前記第１層における複数のスロットであって、前記スロットの各々が、２〜４ミリメートルの範囲の長さと０．５〜２ミリメートルの範囲の幅とを有し、且つ、前記第１層にわたる圧力勾配に応答して拡張するように構成されている、複数のスロットと、
前記第１層に結合された第２層であって、マニホールドを備える第２層と、
前記第１層とは反対側で前記第２層に結合された第３層であって、ポリマードレープを備える第３層と、
前記第２層とは反対側で前記第１層に結合された第４層であって、シリコーンゲルを備える第４層と、
前記第１層における前記複数のスロットのうちの少なくともいくつかと整列した、前記第４層を貫通する複数のアパーチャと、
を備えることを特徴とする装置。
【請求項６４】
陰圧を用いて組織部位を治療するためのドレッシングにおいて、
カバーと、
マニホールドと、
実質的に平坦な面を有する穿孔ポリマーフィルムと、
実質的に平坦な面を有する穿孔シリコーンゲルと、
を備え、
前記カバー、前記マニホールド、前記穿孔ポリマーフィルム及び前記穿孔シリコーンゲルが、前記カバー及び前記穿孔シリコーンゲルが前記マニホールド及び前記穿孔ポリマーフィルムを封入した状態で、積層関係で組み立てられ、前記穿孔シリコーンゲルが、前記組織部位と接触するように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項６５】
請求項６４に記載のドレッシングにおいて、前記穿孔ポリマーフィルム及び前記穿孔シリコーンゲルのうちの少なくとも一方が、前記マニホールドと前記組織部位との間に挿入されるように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項６６】
請求項６４又は６５に記載のドレッシングにおいて、
前記穿孔ポリマーフィルムの前記実質的に平坦な面が、１センチメートルに対して０．２ミリメートルを超えない高さのばらつきを有し、
前記穿孔シリコーンゲルの前記実質的に平坦な面が、１センチメートルに対して０．２ミリメートルを超えない高さのばらつきを有することを特徴とするドレッシング。
【請求項６７】
陰圧を用いて組織部位を治療するためのドレッシングにおいて、
マニホールドを備える第１層と、
疎水性フィルムを備える第２層であって、前記疎水性フィルムが、前記疎水性フィルムにわたる圧力勾配に応答して開放するように構成されている複数のエラストマー弁を有する、第２層と、
前記第１層とは反対側で前記第２層に結合された第３層であって、複数のアパーチャを有する疎水性ゲルを備える第３層と、
前記第２層とは反対側で前記第１層に結合されたカバーと、
を備えることを特徴とするドレッシング。
【請求項６８】
請求項６７に記載のドレッシングにおいて、前記第２層及び前記第３層のうちの少なくとも一方が、前記マニホールドと前記組織部位との間に挿入されるように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項６９】
請求項６７又は６８に記載のドレッシングにおいて、前記カバー及び前記第３層が、前記第１層及び前記第２層を封入することを特徴とするドレッシング。
【請求項７０】
請求項６７乃至６９の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第３層が前記組織部位と接触するように適合され、前記カバーが前記ドレッシングの最上面であることを特徴とするドレッシング。
【請求項７１】
請求項６７乃至７０の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記複数のアパーチャが、前記複数のエラストマー弁のうちの少なくともいくつかに流体的に結合されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項７２】
請求項６７乃至７１の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記アパーチャのうちの少なくともいくつかが、前記第２層の少なくとも幾分かを前記組織部位に露出させるように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項７３】
請求項６７乃至７１の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記アパーチャのうちの少なくともいくつがか、前記エラストマー弁のうちの少なくともいくつかを前記組織部位に露出させるように構成されていることを特徴とするドレッシング。
【請求項７４】
請求項６７乃至７２の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記第２層の少なくとも幾分かの部分が、前記第３層における前記アパーチャを通して露出していることを特徴とするドレッシング。
【請求項７５】
請求項６７乃至７４の何れか一項に記載のドレッシングにおいて、前記エラストマー弁の少なくとも幾分かの部分が、前記第３層における前記アパーチャを通して露出していることを特徴とするドレッシング。
【請求項７６】
陰圧源を用いて肉芽形成を促進するための少なくとも５日間の請求項１乃至７５の何れか一項に記載のドレッシング、装置、システム又は方法のうちの任意のものの使用。
【請求項７７】
陰圧源を用いて組織内部成長を最小限にするための少なくとも５日間の請求項１乃至７５の何れか一項に記載のドレッシング、装置、システム又は方法のうちの任意のものの使用。