Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年11月24日(2021.11.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
治療用ビームは、方位角次元（azimuthal dimension）においてビームラインに沿って分布してもよく、一方でまた、方位方向に拡張したこのビーム焦点を仰角次元（elevation dimension）において動的に再ポジショニングする能力も有していてもよい。このことは、患者の処置部位の大きな領域を治療用ビームで系統的に走査することを可能にし、それにより、同種異系トランスフェクションのプロセスを増強するという目的のため、意図される患者の処置領域を比較的均一に超音波照射することが可能となる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
大きなアレイの超音波照射を実現するため、拡張ビームは任意の数の方式で掃引されてもよい；これらの方法には、（a）方位角方向および仰角方向の両方における、低速もしくは高速の集中的焦点の掃引（例えばラスター走査）；（b）仰角方向における、低速もしくは高速の、方位角方向拡張焦点の走査；または、（c）最も有効な超音波照射を作り出すための、（a）と（b）との組み合わせ；が含まれる。ビームの音響強度は、焦点形状にかかわらず、望ましい強度（典型的に約30 mW/cm2）に維持されてもよい。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
図2Bにおいて、治療用アレイ200の中心軸に沿って位置合わせされていることを示している、撮像用アレイ230が追加されている。図に示すように、この大きなアレイ230の鍵となる設計局面は、（厳密に球面の一部である表面であることよりむしろ）その長い方位角方向の寸法である；これは、アレイの、方位角方向の拡張焦点を作り出す能力を増強するために行われる。さらに鍵となる局面は、撮像用アレイを使用するための収容部（中央キャビティ）である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
図2Cは、撮像平面240と、治療用アレイ200によって作り出された拡張焦点領域である円柱形領域250とを示している。比較的標準的な撮像用アレイをガイド用に用いることに加えて、本デバイスの鍵となる局面は、方位角次元においてビームラインに沿って分布するビームを作り出せる能力であり、一方でまた、方位角方向に拡張したこのビーム焦点を、仰角次元において動的に再ポジショニングする能力も有することである。この様式において、非常に大きな領域を系統的に走査することができ、それにより、同種異系トランスフェクションのプロセスを増強するという目的のため、意図される領域を比較的均一に超音波照射することが可能となる。大きなアレイの超音波照射を実現するため、拡張ビームは任意の数の方式で掃引されてもよい；これらの方法には、（a）方位角方向および仰角方向の両方における、低速もしくは高速の集中的焦点の掃引（例えばラスター走査）；（b）仰角方向における、低速もしくは高速の、方位角方向拡張焦点の走査；または、（c）最も有効な超音波照射を作り出すための、（a）と（b）との組み合わせ；が含まれる。ビームの音響強度は、焦点形状にかかわらず、望ましい強度（典型的に約30 mW/cm2）に維持されてもよい。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５７】
図2Dは、（例えば図2Cに示したような）拡張焦点領域が、仰角方向の平面内で操舵されてもよいことを示しており、このことは、治療用超音波照射の正味のアレイを大きくすることを可能にする。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
図4に、本開示の原理に基づく操舵可能な治療用アレイの例を示す。用途に適した曲面および曲率半径を伴う、（図に示すような）操舵可能な治療用アレイ（例えば、図1に描写されているような膝関節用途には、50〜75 mmの範囲内のROCが適している）。本発明の治療アレイは高強度をもたらさないので、治療アレイ素子区域410は比較的小さいが、事実上いかなる方向においても低周波数操舵を行えるよう、各素子を位相調整することを可能にする。治療サブアレイの4つのグループ間の広いギャップは「グレーティングローブ」を生成するが、これらはほとんど影響をもたらさないと考えられる；これは一般的な設計例であるので、素子の正確な数および分布はフレキシブルである。撮像用素子（黄色）は6 MHzでの撮像を可能にし、それにより、最大10 cmの深度まで、方位角方向および仰角方向の両方において良好なフォーカシングが可能になる。+/--15度の仰角方向操舵を容易に行えるよう、仰角方向のフォーカシングにおいて撮像平面が位相調整されてもよい；これは、撮像周波数の低下または仰角方向ピッチの低減のいずれかによって、必要に応じて増大されてもよい。この設計における、ここに示す撮像は、リニアアレイの標準的な移動アパーチャによって、または、合成アパーチャの実現においてサブアパーチャを総合することによって、実現されてもよい。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１】
2020510452.tif 000001
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図２Ｃ
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図２Ｃ】
2020510452.tif 000002
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図４】
2020510452.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月17日(2021.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量流量コントローラーにおいて、
第１と第２の空所を備える、該質量流量コントローラーを通る流路と、
前記第１と第２の空所に隣接する層流要素であって、前記第１の空所は該層流要素の上流にあり、前記第２の空所は該層流要素の下流に配設されている層流要素と、
絶対圧差圧複合トランスデューサー組立体であって、
前記第１の空所に連通する第３の空所と、
絶対圧隔離膜を有し、前記第３の空所内で絶対圧を受ける絶対圧トランスデューサーと、
第１と第２の差圧隔離膜を有し、前記第３の空所と前記第２の空所との間の差圧を受ける差圧トランスデューサーとを備えた絶対圧差圧複合トランスデューサー組立体と、
前記流路を通る流体の流量を制御する流量制御弁組立体とを具備し、
前記流量制御弁組立体が、前記層流要素及び前記絶対圧差圧複合トランスデューサー組立体の下流に配設されている質量流量コントローラー。
【請求項２】
入口オリフィスブロックを更に備える請求項１に記載の質量流量コントローラー。
【請求項３】
前記入口オリフィスブロックは０．０１０インチ〜０．０７０インチの入口径を備える請求項２に記載の質量流量コントローラー。
【請求項４】
ＰＩＤコントローラーを更に備える請求項１に記載の質量流量コントローラー。
【請求項５】
前記ＰＩＤコントローラーは、前記絶対圧、前記差圧、並びに、流体特性及び層流要素特徴の知識を、前記層流要素を通る質量流量を示す信号に変換し、前記層流要素を通る所望の流量を示す設定点信号を受信し、前記層流要素を通る質量流量を示す前記信号が、前記受信した設定点信号に実質的に一致するように弁の駆動信号を制御する請求項４に記載の質量流量コントローラー。
【請求項６】
前記設定点信号の前記所望の流量は１０％以下である請求項５に記載の質量流量コントローラー。
【請求項７】
前記流路は出口を更に備え、前記出口は13.8kPa-a(2psia)より大きい圧力を含む請求項６に記載の質量流量コントローラー。
【請求項８】
回路基板を更に備える請求項１に記載の質量流量コントローラー。
【請求項９】
前記絶対圧差圧複合トランスデューサー組立体は、前記流量制御弁組立体の上流の前記絶対圧及び前記差圧を検知する請求項１に記載の質量流量コントローラー。
【請求項１０】
前記第３の空所は流体で充填される請求項１に記載の質量流量コントローラー。
【請求項１１】
流体の流量を制御する方法において、
質量流量コントローラーであって、該質量流量コントローラーは、
第１と第２の空所を備える、前記質量流量コントローラーを通る流路と、
前記第１と第２の空所に隣接する層流要素であって、前記第１の空所は該層流要素の上流にあり、前記第２の空所は該層流要素の下流に配設されている、層流要素と、
絶対圧差圧複合トランスデューサー組立体であって、
前記第１の空所に連通する第３の空所と、
絶対圧隔離膜を有し、前記第３の空所内で絶対圧を受ける絶対圧トランスデューサーと、
第１と第２の差圧隔離膜を有し、前記第３の空所と前記第２の空所との間の差圧を受ける差圧トランスデューサーとを備えた絶対圧差圧複合トランスデューサー組立体と、
制御弁を備え、前記流路を通る流体の流量を制御する流量制御弁組立体であって、該流量制御弁組立体は前記層流要素及び前記絶対圧差圧複合トランスデューサー組立体の下流に配設されている、流量制御弁組立体とを備えた質量流量コントローラーを準備することと、
前記流路を通って流体を流通させることと、
前記制御弁を作動させることとを含む方法。
【請求項１２】
前記質量流量コントローラーは入口を更に備え、入口オリフィスブロックは前記入口内に配設される請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記入口オリフィスブロックは０．０１０インチ〜０．０７０インチの入口径を備える請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
ＰＩＤコントローラーを更に備える請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記ＰＩＤコントローラーは、前記絶対圧、前記差圧、並びに、流体特性及び層流要素特徴の知識を、前記層流要素を通る質量流量を示す信号に変換し、前記層流要素を通る所望の流量を示す設定点信号を受信し、前記層流要素を通る質量流量を示す前記信号が、前記受信した設定点信号に実質的に一致するように弁の駆動信号を制御する請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記設定点信号の前記所望の流量は１０％以下である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記流路は出口を更に備え、前記出口は13.8kPa-a(2psia)より大きい圧力を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
回路基板を更に備える請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記絶対圧差圧複合トランスデューサー組立体は、前記流量制御弁組立体の上流の前記絶対圧及び前記差圧を検知する請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
前記第３の空所は流体で充填される請求項１１に記載の方法。
【請求項２１】
前記流体は半導体プロセスにおいて使用される流体である請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月6日(2021.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するための支持部;
前記支持部の上側に配置された第1電極部；
前記第1電極部の上側に配置された第2電極部；
前記第1電極部を貫通するように形成された生成孔;および
前記生成孔に対応する位置で前記第2電極部から下方に突出するように前記第2電極部に結合した突出電極を含み、
前記突出電極が、上下方向を基準に前記第1電極部に比べてより短い長さに形成され、
前記第1電極部が、前記上下方向を基準としてL（Lは0よりも大きい実数）の長さで形成され、
前記上下方向を基準に、前記突出電極の全体の長さから前記第1電極部と前記第2電極部との間隔を減算した長さは、0.5Lであることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記突出電極が、前記支持部を向くように最下端に配置された対向面を含み、
前記対向面は、前記第1電極部の内側に配置されるように前記生成孔に挿入されたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記突出電極が、前記支持部を向くように最下端に配置された対向面を含み、
前記対向面は、前記上下方向を基準に前記第1電極部の上面から0.5Lの距離で離隔した位置に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記突出電極が、前記生成孔にプロセスガスを噴射するための噴射孔を含むことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記突出電極が、前記上下方向に対して垂直な水平方向を基準に、前記生成孔に比べて、より小さな直径で形成されたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第1電極部が、電源を供給するプラズマ電源に接続し、
前記第2電極部及び前記突出電極は、接地（Ground）したことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月30日(2021.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
再構成可能な非経口医薬組成物であって、
（ｉ）式（Ｉ）
【化１】
2021512864.tif 000001
（式中、Ｒ１はＨ又はＣ１〜４アルキルである）の化合物又はその医薬として許容される塩、溶媒和物又はプロドラッグ；及び
（ｉｉ）グリセロール、グリセリン、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール３００、ポリエチレングリコール４００、リシノレートベースの溶解剤、シクロデキストリン、コリフォールＨＳ１５（ソルトールＨＳ１５）、コリフォールＥＬ（クレモフォールＥＬ）、コリフォールＲＨ６０（クレモフォールＲＨ６０）、ポリソルベート８０（Ｔｗｅｅｎ８０）、ヒマシ油、綿実油、トリグリセリド、ゴマ油、大豆油、又はベニバナ油を含む群から選択される少なくとも１種の溶解剤であって、前記組成物の全重量に基づいて約１０％〜約９９．８％ｗｔ／ｗｔの量で前記組成物中に存在する少なくとも１種の溶解剤、
を含む、再構成可能な非経口医薬組成物。
【請求項２】
前記式（Ｉ）の化合物が、前記組成物の全重量に基づいて約０.２％〜約１.８％ｗｔ／ｗｔの量で前記組成物中に存在する、請求項１に記載の再構成可能な非経口医薬組成物。
【請求項３】
前記式（Ｉ）の化合物又はその医薬として許容される塩、溶媒和物又はプロドラッグの溶解剤に対するｗｔ／ｗｔ比が、約１：４０〜約１：２５０である、請求項１又は２に記載の再構成可能な非経口医薬組成物。
【請求項４】
前記組成物が、再構成可能な静脈内医薬組成物である、請求項１に記載の再構成可能な非経口医薬組成物。
【請求項５】
前記少なくとも１種の溶解剤が、グリセロール、グリセリン、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール３００、ポリエチレングリコール４００、リシノレートベースの溶解剤、シクロデキストリン、コリフォールＨＳ１５（ソルトールＨＳ１５）、コリフォールＥＬ（クレモフォールＥＬ）、コリフォールＲＨ６０（クレモフォールＲＨ６０）、又はポリソルベート８０（Ｔｗｅｅｎ８０）を含む群から選択される、請求項４に記載の再構成可能な静脈内医薬組成物。
【請求項６】
前記溶解剤がプロピレングリコールであり、前記プロピレングリコールが、前記組成物の全重量に基づいて約５０％〜約９９.８％ｗｔ／ｗｔの量で前記組成物中に存在する、請求項４又は請求項５に記載の再構成可能な静脈内医薬組成物。
【請求項７】
前記組成物が、約３〜約７のｐＨで維持される、請求項４に記載の再構成可能な静脈内医薬組成物。
【請求項８】
（ｉ）式（Ｉ）
【化２】
2021512864.tif 000002
（式中、Ｒ１はＨ又はＣ１〜４アルキルである）の化合物又はその医薬として許容される塩、溶媒和物又はプロドラッグ；
（ｉｉ）グリセロール、グリセリン、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール３００、ポリエチレングリコール４００、リシノレートベースの溶解剤、シクロデキストリン、コリフォールＨＳ１５（ソルトールＨＳ１５）、コリフォールＥＬ（クレモフォールＥＬ）、コリフォールＲＨ６０（クレモフォールＲＨ６０）、ポリソルベート８０（Ｔｗｅｅｎ８０）、ヒマシ油、綿実油、トリグリセリド、ゴマ油、大豆油、又はベニバナ油を含む群から選択される少なくとも１種の溶解剤；及び
（ｉｉｉ）水、生理食塩水、カリウム溶液、グルコース（デキストロース）溶液、グルコース生理食塩水、平衡化クリスタロイド溶液、ハルトマン溶液、リンゲル溶液、乳酸リンゲル溶液、酢酸リンゲル溶液、ノルモゾルＲ、ノルモゾルＭ、プラズマライト、血漿、ヒトアルブミン、ヒドロキシエチルデンプン、デキストラン、全血、オキシグロビン又はそれらの組み合わせを含む群から選択される注入流体、
を含む、非経口医薬組成物。
【請求項９】
前記組成物が、約２００ｍＯｓｍ／ｋｇ〜約６５０ｍＯｓｍ／ｋｇの浸透圧モル濃度を有し、
前記式（Ｉ）の化合物又はその医薬として許容される塩、溶媒和物又はプロドラッグの溶解剤に対するｗｔ／ｗｔ比が、約１：４０〜約１：２５０である、請求項８に記載の非経口医薬組成物。
【請求項１０】
前記少なくとも１種の溶解剤の前記注入流体に対するｗｔ／ｗｔ比が、約１：１０〜約１：２０００であり、
前記組成物が約３〜約７のｐＨで維持される、請求項８に記載の非経口医薬組成物。
【請求項１１】
前記注入流体が５％グルコース溶液である、請求項８に記載の非経口医薬組成物。
【請求項１２】
前記式（Ｉ）の化合物が、
【化３】
2021512864.tif 000003
である、請求項１又は８に記載の組成物。
【請求項１３】
それを必要とする対象において上昇した頭蓋内圧を治療するための医薬組成物であって、前記医薬組成物は、
（ｉ）式（Ｉ）
【化４】
2021512864.tif 000004
（式中、Ｒ１はＨ又はＣ１〜４アルキルである）の化合物又はその医薬として許容される塩、溶媒和物又はプロドラッグ；
（ｉｉ）グリセロール、グリセリン、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール３００、ポリエチレングリコール４００、リシノレートベースの溶解剤、シクロデキストリン、コリフォールＨＳ１５（ソルトールＨＳ１５）、コリフォールＥＬ（クレモフォールＥＬ）、コリフォールＲＨ６０（クレモフォールＲＨ６０）、ポリソルベート８０（Ｔｗｅｅｎ８０）、ヒマシ油、綿実油、トリグリセリド、ゴマ油、大豆油、又はベニバナ油を含む群から選択される少なくとも１種の溶解剤；及び
（ｉｉｉ）水、生理食塩水、カリウム溶液、グルコース（デキストロース）溶液、グルコース生理食塩水、平衡化クリスタロイド溶液、ハルトマン溶液、リンゲル溶液、乳酸リンゲル溶液、酢酸リンゲル溶液、ノルモゾルＲ、ノルモゾルＭ、プラズマライト、血漿、ヒトアルブミン、ヒドロキシエチルデンプン、デキストラン、全血、オキシグロビン又はそれらの組み合わせを含む群から選択される注入流体、
を含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
アルキルの例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、３−メチルヘキシル、２，２−ジメチルペンチル、２，３−ジメチルペンチル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデセニル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−イコシルを挙げることができるが、これに限定されない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
より好ましくは、上で記載されているような式Ｉ、式ＩＩまたは式ＩＩａのＲ１およびＲ３は、ｎ−ドデセニル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシルまたはｎ−イコシルから独立して選択される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
このプロトコルに従って、ステンレス鋼ワイヤ、シリコン片、外科用糸、カテーテル、経鼻胃チューブ、外科用マーカおよび医療用ガーゼを試験済コーティング溶液によってコーティングする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月30日(2021.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の血管内の動脈瘤にわたって植込み可能な拡張型デバイスであって、
複数の網状ストランドで形成される略管状の構造を含み、前記管状構造が、近位端、遠位端、および前記近位端と前記遠位端との間の長さを有し、
前記複数のストランドの各々が、０．００２インチ（０．０５０８ｍｍ）以下の直径を有し、前記複数のストランドのうちの少なくともいくつかの各々が、０．０００９インチ（０．０２２８６ｍｍ）以下の直径を有し、
前記拡張型デバイスが、圧縮状態および拡張状態を有し、前記圧縮状態から前記拡張状態へと自己拡張可能であり、前記拡張状態において、前記拡張型デバイスが、少なくとも１．７５ｍｍの拡張状態時直径を有する、拡張型デバイス。
【請求項２】
前記拡張型デバイスが、前記拡張状態から前記圧縮状態へと圧縮可能であり、前記圧縮状態において、前記拡張型デバイスが、０．０２７インチ（０．６８５８ｍｍ）以下の直径を有する、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項３】
前記拡張型デバイスが、前記拡張状態から前記圧縮状態へと圧縮可能であり、前記圧縮状態において、前記拡張型デバイスが、０．０２１インチ（０．５３３４ｍｍ）以下の直径を有する、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項４】
前記拡張型デバイスが、前記拡張状態から前記圧縮状態へと圧縮可能であり、前記圧縮状態において、前記拡張型デバイスが、０．０１７インチ（０．４３１８ｍｍ）以下の直径を有する、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項５】
前記複数のストランドのうちの少なくともいくつかの各々が、外側材料によって取り巻かれたコア材料を含む、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項６】
前記コア材料が第１の金属材料であり、前記外側材料が第２の金属材料であり、前記第１の金属材料が、前記第２の金属材料よりも放射線不透過性である、請求項５に記載の拡張型デバイス。
【請求項７】
前記複数のストランドが、４８個のストランドで構成される、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項８】
前記拡張状態にある前記拡張型デバイスのＰＰＩが、約２５０ＰＰＩ〜約２７５ＰＰＩである、請求項７に記載の拡張型デバイス。
【請求項９】
前記複数のストランドが、６４個のストランドで構成される、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項１０】
前記拡張状態にある前記拡張型デバイスの前記ＰＰＩが、約１５０ＰＰＩ〜約２００ＰＰＩである、請求項９に記載の拡張型デバイス。
【請求項１１】
前記拡張状態時直径が約２．５ｍｍ〜約３．５ｍｍである、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項１２】
前記拡張状態時直径が約４ｍｍ〜約６ｍｍである、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項１３】
前記拡張型デバイスが、血管動脈瘤の隣に展開されるようにサイズ決定され、前記拡張型デバイスの側壁が、前記側壁を通過して前記動脈瘤に入る血流を、血栓形成および前記動脈瘤の治癒を生じさせるのに十分な程度に阻害するように構成されている多孔度を有する、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項１４】
前記拡張型デバイスが、血管動脈瘤の隣に展開されるようにサイズ決定され、前記拡張型デバイスの側壁が、前記側壁を通過して前記動脈瘤に入る血流を、血栓形成および前記動脈瘤の治癒を生じさせるのに十分な程度に阻害するように構成されている細孔径を有する、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項１５】
前記管状構造が、内腔を画定し、前記管状構造の前記近位端および前記遠位端に開口部を有する、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項１６】
前記内腔が非濾過性であり、液体が中を通って流動できる、請求項１５に記載の拡張型デバイス。
【請求項１７】
前記管状構造が前記網状ストランドからなる、請求項１に記載の拡張型デバイス。
【請求項１８】
システムであって、
コアアセンブリと、
コアアセンブリ上に配設された略管状の構造と、を備え、
前記管状構造が、複数の網状ストランドで形成され、近位端、遠位端、および前記近位端と前記遠位端との間の長さを有し、
前記複数のストランドの各々が、０．００２インチ（０．０５０８ｍｍ）以下の直径を有し、前記複数のストランドのうちの少なくともいくつかの各々が、０．０００９インチ（０．０２２８６ｍｍ）以下の直径を有し、
前記管状構造が、圧縮状態および拡張状態を有し、前記圧縮状態から前記拡張状態へと自己拡張可能であり、前記拡張状態において、前記管状構造が、少なくとも１．７５ｍｍの拡張状態時直径を有する、システム。
【請求項１９】
管状シースをさらに備え、前記コアアセンブリおよび前記管状構造が前記管状シースの内腔内に配設されている、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記管状構造が、前記拡張状態から前記圧縮状態へと圧縮可能であり、前記圧縮状態において、前記管状構造が、０．０２７インチ（０．６８５８ｍｍ）以下の直径を有する、請求１８に記載のシステム。
【請求項２１】
前記管状構造が、前記拡張状態から前記圧縮状態へと圧縮可能であり、前記圧縮状態において、前記管状構造が、０．０２１インチ（０．５３３４ｍｍ）以下の直径を有する、請求１８に記載のシステム。
【請求項２２】
前記管状構造が、前記拡張状態から前記圧縮状態へと圧縮可能であり、前記圧縮状態において、前記管状構造が、０．０１７インチ（０．４３１８ｍｍ）以下の直径を有する、請求１８に記載のシステム。
【請求項２３】
前記拡張状態時直径が約２．５ｍｍ〜約３．５ｍｍである、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２４】
前記拡張状態時直径が約４ｍｍ〜約６ｍｍである、請求項１８に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月2日(2021.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電流センサを含むプリント回路基板と、
前記プリント回路基板に装着された第１の空芯インダクタコイルの一部分とを含む、空芯インダクタアセンブリであって、
前記電流センサが前記プリント回路基板と一体化して形成され、前記第１の空芯インダクタコイルの前記一部分が前記電流センサの近くに配列されて使用中に電磁結合を行い、それにより、前記電流センサが、前記第１の空芯インダクタコイルに存在する磁束の測定を行うことができる、空芯インダクタアセンブリ。
【請求項２】
前記電流センサが、プリント回路基板トレースから形成される、請求項１に記載の空芯インダクタアセンブリ。
【請求項３】
前記プリント回路基板トレースが、前記第１の空芯インダクタコイルの前記一部分の外径によって規定された前記プリント回路基板の一部分の内部に、ループ、螺旋、又は矩形螺旋トラックを形成する、請求項２に記載の空芯インダクタアセンブリ。
【請求項４】
前記電流センサが前記第１の空芯インダクタコイルの前記一部分の外側の部分と電磁結合を行うように、前記プリント回路基板トレースが、前記第１の空芯インダクタコイルの前記一部分の前記外径によって規定された前記プリント回路基板の前記一部分の前記外側に、端子直径まで、ループ、螺旋、又は矩形螺旋トラックを形成する、請求項３に記載の空芯インダクタアセンブリ。
【請求項５】
前記プリント回路基板が、前記第１の空芯インダクタコイルの前記一部分の外径によって規定された前記プリント回路基板の一部分の内部に貫通孔をさらに含み、
前記第１の空芯インダクタコイルのワイヤ接続が、前記貫通孔を介して前記プリント回路基板の反対側まで通される、請求項１から４のいずれか一項に記載の空芯インダクタアセンブリ。
【請求項６】
前記プリント回路基板が多層プリント回路基板であり、前記電流センサが、複数の多層に配置された複数のプリント回路基板トレースから形成され、前記複数のプリント回路基板トレースが、前記層間のプリント回路基板バイアを使用して直列又は並列構成で接続される、請求項１から５のいずれか一項に記載の空芯インダクタアセンブリ。
【請求項７】
第２の空芯インダクタコイルをさらに含み、
前記第２の空芯インダクタコイルが、前記第１の空芯インダクタコイルに対して前記プリント回路基板の反対側に配設され、前記第１の空芯インダクタコイルと位置合わせされて、それにより、前記第１の空芯インダクタコイルと前記第２の空芯インダクタコイルとの間の磁束結合が可能になる、請求項１から６のいずれか一項に記載の空芯インダクタアセンブリ。
【請求項８】
第１のコイル支持体をさらに含み、
前記第１のコイル支持体が前記プリント回路基板で支持され、前記第１の空芯インダクタコイルが前記第１のコイル支持体で支持される、請求項１から７のいずれか一項に記載の空芯インダクタアセンブリ。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の空芯インダクタアセンブリを含む、共振電源アセンブリ。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか一項に記載の空芯インダクタアセンブリである第１及び第２の空芯インダクタアセンブリ
を含む共振多段フィルタであって、
前記第１の空芯インダクタアセンブリが負荷要素に直列に接続可能であり、前記第２の空芯インダクタアセンブリが前記負荷要素に並列に接続可能であり、それにより、前記第１及び第２の空芯インダクタアセンブリの前記電流センサによって供給される磁束の測定値に基づいて、複素電力メトリックを計算することができる、共振多段フィルタ。
【請求項１１】
空芯導体アセンブリを製造するための方法であって、前記方法は、
ａ）プリント回路基板に一体化して形成された電流センサを有する前記プリント回路基板を製造するステップと、
ｂ）前記プリント回路基板に装着される第１の空芯インダクタコイルの一部分を設けるステップであって、前記第１の空芯インダクタコイルの前記一部分が前記電流センサの近くに配列され、それにより、前記電流センサが、使用中に前記第１の空芯インダクタコイルに存在する磁束の測定を行うことができる、設けるステップと
を有する、方法。
【請求項１２】
請求項１から８のいずれか一項に記載の第１の空芯インダクタコイル及びプリント回路基板を含む、部品のキット。
【請求項１３】
プリント回路基板トレースが、前記第１の空芯インダクタコイルの前記一部分の外径によって規定された前記プリント回路基板の一部分の内部に、ループ、螺旋、又は矩形螺旋トラックとして設けられる、請求項１２に記載の部品のキット。
【請求項１４】
命令を含むコンピュータプログラムであって、前記命令は、実行されたとき、プリント回路基板設計プログラムが、電流センサと、プリント回路基板に装着される第１の空芯インダクタコイルのための装着パッドとを含む前記プリント回路基板を製造するための命令を生成できるようにし、前記電流センサが前記プリント回路基板と一体化して形成され、前記第１の空芯インダクタコイルを装着するための前記装着パッドが前記電流センサの近くに配列されて、使用中に前記電流センサと前記第１の空芯インダクタコイルとの間の電磁結合が行われ、それにより、前記電流センサが、前記第１の空芯インダクタコイルに存在する磁束の測定を行うことができる、コンピュータプログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のコンピュータプログラムを格納した、コンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月26日(2021.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
基板支持体１０６は、エッジリング１８０を備える。本開示の原理に従ったエッジリング１８０は、基板１０８に対して移動可能（例えば、垂直方向に上下に移動可能）である。例えば、エッジリング１８０は、コントローラ１６０に応答して、アクチュエータを介して制御されてよい。いくつかの例では、ユーザが、ユーザインターフェース１８４を介してコントローラ１６０に制御パラメータ（例えば、腐食速度）を入力してもよく、ユーザインターフェース１８４は、１以上の入力メカニズム、ディスプレイ、などを含んでよい。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月17日(2021.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクセスポイントの熱制御の方法であって、
無線ネットワーク接続を行うアクセスポイントにおいて、その中で動作する複数の無線チップを含む前記アクセスポイントと関連する温度を決定することと、
第１の閾値を超える前記温度に応答して、前記複数の無線チップのうちの１つ以上の無線チップの動作条件を変更するために１つ又は複数の熱低減技法を実行することと、
前記温度が第２の閾値よりも低いことに応答して、前記アクセスポイントによる前記１つ又は複数の熱低減技法を復旧させることを含む方法。
【請求項２】
前記１つ又は複数の熱低減技法は、前記複数の無線チップ上の多重入力多重出力（ＭＩＭＯ）ディメンションを低減することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ＭＩＭＯディメンションは、送信時のみに低減され、受信時には低減されない、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記１つ又は複数の熱低減技法は、前記複数の無線チップのいずれかをオフにすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記１つ又は複数の熱低減技法は、前記複数の無線チップに関連する送信機の電力を低減することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記１つ又は複数の熱低減技法は、前記複数の無線チップに関連する送信機のデューティサイクルを制御することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記デューティサイクルが、オフチャネルスキャンによって制御される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記デューティサイクルが、ソフトウェア及び低レベルハードウェアメカニズムによって制御される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記デューティサイクルが、前記決定に基づいて、前記デューティサイクルを継続的に調整するフィードバックループにおいて、１００％から０％の間で制御される、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記１つ又は複数の熱低減技法は、連続的な態様で動作する制御ループを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の閾値は、前記熱制御における安定性を維持するヒステリシスバンドのため、前記第１の閾値と異なる、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記温度は、前記アクセスポイント内の複数のポイントで決定され、前記１つ又は複数の熱低減技法は、どの温度が前記第１の閾値を超えるかに基づいて選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記１つ又は複数の熱低減技法は、クライアントデバイスを、１つの無線機から前記複数の無線機のうちの異なる無線機に移動させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記１つ又は複数の熱低減技法は、前記アクセスポイントをシャットダウンさせること、及びリブートすることのいずれかを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
複数の温度閾値が存在し、複数の熱低減技法の一つは、どの閾値を超えたかに応じてトリガーされる、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記温度は、デューティサイクルを観察することによって決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記アクセスポイントは、１つ又は複数の追加のアクセスポイントを備えた分散型Ｗｉ−Ｆｉシステムの一部であり、前記アクセスポイントによって、前記１つ又は複数の追加のアクセスポイントのそれぞれに対してさらに熱低減を実行する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
熱制御のために構成されたアクセスポイントであって、前記アクセスポイントは、
無線ネットワーク接続を実行させる複数の無線機と、
前記複数の無線機に通信可能に結合されたプロセッサであって、
前記プロセッサは、
その中で動作する前記複数の無線機に関連する温度を決定し、
前記温度が第１の閾値を超えることに応答して、前記複数の無線機の動作条件を変更するために１つ又は複数の熱低減技法を実行し、
前記温度が第２の閾値よりも低いことに応答して、前記１つ又は複数の熱低減技法を復旧させる
ように構成されているプロセッサと、
を備えるアクセスポイント。
【請求項１９】
前記温度は、前記アクセスポイント内の複数のポイントで決定され、前記１つ又は複数の熱低減技法は、どの温度が前記第１の閾値を超えるかに基づいて選択される、請求項１８に記載のアクセスポイント。
【請求項２０】
含まれている種々のノードにおいて熱制御を実行するように構成されている分散型Ｗｉ−Ｆｉネットワークであって、
互いに接続されて無線ネットワーク接続を提供する前記分散型Ｗｉ−Ｆｉネットワークを形成する複数のアクセスポイントを備え、
前記複数のアクセスポイントは、それぞれ、
その中で動作する複数の無線機に関する温度を決定し、
前記温度が第１の閾値を超えることに応答して、前記複数の無線機の動作条件を変更するために前記対応するアクセスポイントによって１つ又は複数の熱低減技法を実行し、
前記温度が第２の閾値より低いことに応答して、前記対応するアクセスポイントによって前記１つ又は複数の熱低減技法を復旧させるように構成されている、分散型Ｗｉ−Ｆｉネットワーク。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月24日(2021.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体上に複数のマイクロニードルを備えた、塩形態の鎮痛薬、特に塩酸ブプレノルフィンの皮内送達で使用するためのマイクロニードルアレイであって、該マイクロニードルは、アプリケーターシステムによって適用され、該アプリケーターシステムは、トリガデバイスを備え、該マイクロニードルは、少なくとも１種の塩形態の鎮痛薬、特に塩酸ブプレノルフィンおよび少なくとも１種の水溶性ポリマーを含有する製剤を含むことを特徴とする、前記マイクロニードルアレイ。
【請求項２】
アプリケーターシステムは、プランジャ、押し込みボタンまたはねじを備えたトリガデバイスを備えることを特徴とする、請求項１に記載の塩形態の鎮痛薬の皮内送達で使用するためのマイクロニードルアレイ。
【請求項３】
生分解性ポリマーは、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、セルロース、デキストラン、乳酸および／またはグリコール酸のようなアルファヒドロキシ酸由来のポリマー、ポリラクチド、ポリグリコリド、ポリラクチド−ｃｏ−グリコリド、ならびにそれらとポリエチレングリコールとのコポリマー、ポリ酸無水物、ポリ（オルト）エステル、ポリウレタン、ポリ酪酸、ポリ吉草酸およびポリラクチド−ｃｏ−カプロラクトンからなる群から選択されることを特徴とする、請求項１または２に記載の皮内送達で使用するためのマイクロニードルアレイ。
【請求項４】
マイクロニードルアレイは、平面であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の皮内送達で使用するためのマイクロニードルアレイ。
【請求項５】
担体上のマイクロニードルの密度は、５個／ｃｍ２〜５０００個／ｃｍ２であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の皮内送達で使用するためのマイクロニードルアレイ。
【請求項６】
マイクロニードルアレイは、特に接着性の細片、パッチ、バンド、弾性バンド、ゴムまたはストラップからなる群から選択される固定手段を備えることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の使用のためのマイクロニードルアレイ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の皮内送達で使用するためのマイクロニードルアレイを備えるアプリケーターシステムであって、該アプリケーターシステムは、トリガ機構を備えることを特徴とする、前記アプリケーターシステム。
【請求項８】
トリガ機構は、プランジャ、押し込みボタンまたはねじを備えることを特徴とする、請求項７に記載の皮内送達で使用するためのマイクロニードルアレイを備えるアプリケーターシステム。
【請求項９】
トリガ機構は、電気的または機械的に制御されることを特徴とする、請求項７に記載の皮内送達で使用するためのマイクロニードルアレイを備えるアプリケーターシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月22日(2021.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の配列を含むペプチド：
Ｘ1Ｘ2Ｘ3Ｘ4Ｘ5Ｘ6ＰＸ7ＹＸ8Ｘ9ＶＸ10Ｘ11Ｘ12(配列番号７５)、ここで、
Ｘ1は、Ｓ、Ｐ、Ａから選択される；
Ｘ2は、Ｔ、Ｓ、Ａから選択される；
Ｘ3は、Ａ、Ｔから選択される；
Ｘ4は、Ａ、Ｔ、Ｉ、Ｓから選択される；
Ｘ5は、Ｃ、Ｓ、Ｆから選択される；
Ｘ6は、Ｐ、Ｌから選択される；
Ｘ7は、任意のアミノ酸残基である；
Ｘ8は、Ｅ、Ｄ、Ｙから選択される；
Ｘ9は、Ｓ、Ｒから選択される；
Ｘ10は、Ｔ、Ａ、Ｅ、Ｄから選択され、Ｔはリン化されていてもよい；
Ｘ11は、Ｋ、Ｒから選択され；及び
Ｘ12は、Ｐ、Ａ、Ｇから選択される。
ここで、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4、Ｘ10、Ｘ11、又はそれらの組み合わせは、アシル化されている。
【請求項２】
アシル基が、
2021506794.tif 000001
であり、ｎは４〜１８である、請求項１に記載のペプチド。
【請求項３】
アシル基がミリストイル基である、請求項２に記載のペプチド。
【請求項４】
Ｘ1がＳ又はＰである、請求項３に記載のペプチド。
【請求項５】
ペプチドが、配列番号１〜７、１５〜２１から選択される配列を有する、請求項４に記載のペプチド。
【請求項６】
ペプチドが、配列番号８〜１４、２２〜３５から選択される配列を有する、請求項４に記載のペプチド。
【請求項７】
Ｘ6がＰであり、及び／又は、Ｘ1がＳである、請求項４に記載のペプチド。
【請求項８】
ペプチドが、以下の配列を有する、請求項１に記載のペプチド：
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＴＫＰ（配列番号６）、
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＴＲＧ（配列番号７）、
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＴＫＰ（配列番号１３）、
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＴＲＧ（配列番号１４）、
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＡＫＰ（配列番号２０）、
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＡＲＧ（配列番号２１）、
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＥＫＰ（配列番号２７）、
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＥＲＧ（配列番号２８）、
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＤＫＰ（配列番号３４）、又は
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＤＲＧ（配列番号３５）、
ここで、下線を引いたＳはミリストイル化され、下線を引いたＴはリン酸化されている。
【請求項９】
請求項１に記載の１又は複数のペプチド、及び、薬学的に受容可能なキャリアを含む組成物。
【請求項１０】
１又は複数の鎮痛剤及び／又は１又は複数の麻酔剤をさらに含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
１又は複数の鎮痛剤及び／又は１又は複数の麻酔剤が、ブピバカイン、エチドカイン、レボブピバカイン、リドカイン、メピバカイン、プリロカイン、ロピバカイン、プロカイン、クロロプロカイン、メロキシカム、ケトロラク、ジクロフェナク、ケトプロフェン、ピロキシカム、メタミゾール、又はそれらの組み合わせである、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
Ｍａｇｉ-１ターゲティングｓｈＲＮＡ、及び／又は、Ｍａｇｉ-１ターゲティングｓｉＲＮＡをさらに含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１３】
治療有効量の請求項１に記載の１又は複数のペプチドを含む、治療を必要とする被験体において疼痛を治療するか又は疼痛感受性を増加させるための組成物。
【請求項１４】
１又は複数の鎮痛剤及び／又は１又は複数の麻酔剤と共に投与される、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
予想される疼痛の前に投与される、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１６】
治療を必要とする被験体が、損傷、慢性疾患、慢性炎症、モートン神経腫、手術／術後の疼痛、又はそれらの組み合わせを有する、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１７】
損傷が、脊髄損傷、神経損傷、熱傷、又はそれらの組み合わせである、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
慢性疾患が、糖尿病、帯状疱疹、大うつ病性障害、線維筋痛関節炎、筋萎縮性側索硬化症、多発性硬化症、統合失調症、自閉症スペクトラム症、癌、又はそれらの組み合わせである、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１９】
ナトリウム電流の増加又は減少を誘発するために投与される、請求項１３に記載の組成物。
【請求項２０】
被験体に投与されるペプチドが、配列番号１〜７、１５〜２１、及びそれらの組み合わせから選択される配列を有する、請求項１３に記載の組成物。
【請求項２１】
１回の投与工程後に１〜１２０時間、被験体の疼痛が改善される、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
１回の投与工程後に２４〜１２０時間、被験体の疼痛が改善される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】
前記ペプチドが、配列番号８〜１４、２２〜３５、及びそれらの組み合わせから選択される配列を有する、請求項１３に記載の組成物。
【請求項２４】
１回の投与工程後に１〜１２０時間、被験体の疼痛感受性が増加する、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
１回の投与工程後に２４〜１２０時間、被験体の疼痛感受性が増加する、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
前記組成物が、
配列番号１〜７、１５〜２１及びそれらの組み合わせから選択される配列を有するペプチドを含む、最初に投与される組成物と、
続いて投与される、配列番号８〜１４、２２〜３５及びそれらの組み合わせから選択される配列を有するペプチドを含む組成物
の組み合わせである、請求項１３に記載の組成物。
【請求項２７】
前記組成物が、
配列番号８〜１４、２２〜３５、及びそれらの組み合わせから選択される配列を有するペプチドを含む、最初に投与される組成物と、
続いて投与される、配列番号１〜７、１５〜２１及びそれらの組み合わせから選択される配列を有するペプチドを含む組成物
の組み合わせである、請求項１３に記載の組成物。
【請求項２８】
以下の配列を有する１又は複数のペプチドを含む、請求項１３に記載の組成物：
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＴＫＰ（配列番号６）、
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＴＲＧ（配列番号７）、
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＴＫＰ（配列番号１３）、
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＴＲＧ（配列番号１４）、
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＡＫＰ（配列番号２０）、
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＡＲＧ（配列番号２１）、
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＥＫＰ（配列番号２７）、
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＥＲＧ（配列番号２８）、
ＳＳＴＴＳＰＰＳＹＤＳＶＤＫＰ（配列番号３４）、又は
ＳＡＴＳＦＰＰＳＹＥＳＶＤＲＧ（配列番号３５）
ここで、下線を引いたＳはミリストイル化され、下線を引いたＴはリン酸化されている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月2日(2021.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒の存在下及び液相の存在下での一般式(II)のアルコールの酸化による一般式(I)のα,β不飽和アルデヒドの製造方法であって、
【化１】
2021506870.tif 000001
[式中、R1、R2及びR3は、互いに独立して、水素；NO2、CN、ハロゲン、C1-C6アルコキシ、(C1-C6-アルコキシ)カルボニル、C1-C6アシル、C1-C6アシルオキシ及びアリールから選択される1、2、3、又は4個の同一又は異なる置換基を場合により有するC1-C6-アルキル；並びにNO2、CN、ハロゲン、C1-C6アルコキシ、(C1-C6-アルコキシ)カルボニル、C1-C6アシル、C1-C6アシルオキシ及びアリールから選択される1、2、3、又は4個の同一又は異なる置換基を場合により有するC2-C6-アルケニルから選択される]
【化２】
2021506870.tif 000002
[式中、R1、R2及びR3は上記の意味を有する]
液相が、20℃の温度及び1バールの圧力で決定される、液相の総重量に基づいて少なくとも25重量%の水を含有し、
酸化剤が酸素であり、かつ
触媒が支持体上に触媒活性金属を含み、触媒活性金属が主に触媒の外殻に位置する、方法。
【請求項２】
触媒の存在下及び液相の存在下での一般式(II)のアルコールの酸化による一般式(I)のα,β不飽和アルデヒドの製造方法であって、
【化３】
2021506870.tif 000003
[式中、R1、R2及びR3は、互いに独立して、水素；NO2、CN、ハロゲン、C1-C6アルコキシ、(C1-C6-アルコキシ)カルボニル、C1-C6アシル、C1-C6アシルオキシ及びアリールから選択される1、2、3、又は4個の同一又は異なる置換基を場合により有するC1-C6-アルキル；並びにNO2、CN、ハロゲン、C1-C6アルコキシ、(C1-C6-アルコキシ)カルボニル、C1-C6アシル、C1-C6アシルオキシ及びアリールから選択される1、2、3、又は4個の同一又は異なる置換基を場合により有するC2-C6-アルケニルから選択される]
【化４】
2021506870.tif 000004
[式中、R1、R2及びR3は上記の意味を有する]
液相が、20℃の温度及び1バールの圧力で決定される、液相の総重量に基づいて少なくとも25重量%の水を含有し、
酸化剤が酸素であり、かつ
a)支持体を準備し、
b)金属化合物を準備し、
c)金属化合物を支持体上に析出させ、
d)場合により、そうして得られた触媒前駆体をか焼し、
e)触媒前駆体を、好ましくは還元剤の溶液による触媒前駆体の処理により、還元し、かつ
f)場合により、触媒を回収する
ことによって得ることができる触媒が使用される、方法。
【請求項３】
R1、R2又はR3が、互いに独立して、H及びCH3から選択される式(II)のアルコールを使用する、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項４】
R3がHであり、R2及びR1がCH3である式(II)のアルコールを使用する、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
液相が、液相の総重量に基づいて少なくとも50重量%、好ましくは少なくとも70重量%の水を含有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
20℃〜100℃の温度、好ましくは20℃〜70℃の温度で酸化を行う、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
0.2〜8バールの酸素分圧で酸化を行う、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
触媒活性金属が、白金、パラジウム及び金からなる群から選択される元素、好ましくは白金から選択される、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
支持体が、炭素質材料及び酸化物材料からなる群から選択される、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
支持体が、アルファ酸化アルミニウム(α-Al2O3)、ベータ酸化アルミニウム(β-Al2O3)及びガンマ酸化アルミニウム(γ-Al2O3)からなる群から選択される、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月2日(2021.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィブロネクチンＩＩＩ型（ＦＮ３）ドメイン−ナノ粒子複合体を含む組成物であって、ナノ粒子の表面にコンジュゲートされたＦＮ３ドメインを含む、前記組成物。
【請求項２】
前記表面が前記ナノ粒子の外表面である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ナノ粒子が脂質ナノ粒子である、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ナノ粒子がポリ乳酸−グリコール酸共重合体（ＰＬＧＡ）ナノ粒子である、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項５】
前記ナノ粒子がシクロデキストリンポリマーナノ粒子（ＣＤＰ）である、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項６】
前記ナノ粒子がペグ化されている、先行する請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
前記ナノ粒子がポリヌクレオチドを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
前記ナノ粒子がポリヌクレオチドをカプセル化する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
前記ポリヌクレオチドが化学修飾されている、請求項７または８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ポリヌクレオチドが、ｓｉＲＮＡ、ｍＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡアンタゴニスト、ｄｓＲＮＡ、アンチセンスオリゴヌクレオチド（ＡＳＯ）、ＤＮＡ、Ｕ１アダプター、および免疫賦活性ポリヌクレオチドからなる群から選択される、請求項７または８に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ポリヌクレオチドが、アンドロゲン受容体、ＥＧＦＲおよび／またはＫＲａｓを標的としたｓｉＲＮＡ分子である、請求項７または８に記載の組成物。
【請求項１２】
ナノ粒子が、タンパク質、ペプチド、小分子化合物、および免疫賦活性剤からなる群から選択される追加の活性剤である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記ＦＮ３ドメインが、ＰＳＭＡ、ＥＧＦＲ、ＥｐＣＡＭ、ＣＤ２２、ＢＣＭＡ、ＣＤ３３、ＣＤ７１および／またはＣＤ８に結合する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
前記ＦＮ３ドメインが、ＣＤ７１、ＰＳＭＡまたはＥＧＦＲ、ＥｐＣＡＭ、ＣＤ２２、ＢＣＭＡ、ＣＤ３３および／もしくはＣＤ８に結合し、ナノ粒子が、ｓｉＲＮＡ分子であるポリヌクレオチドを含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１５】
前記ポリヌクレオチドがアンチセンスオリゴヌクレオチド（ＡＳＯ）であり、前記ＦＮ３ドメインが、ＣＤ７１、ＰＳＭＡ、ＥＧＦＲ、ＥｐＣＡＭ、ＣＤ２２、ＢＣＭＡ、ＣＤ３３および／またはＣＤ８に結合するＦＮ３ドメインである、請求項７に記載の組成物。
【請求項１６】
前記ＦＮ３ドメインが、クリックタイプの環化付加またはマレイミドコンジュゲーションを通じて前記ナノ粒子にコンジュゲートされている、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１７】
組成物が、ジベンゾシクロオクチン（ＤＢＣＯ）部分をさらに含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１８】
標的分子を発現する細胞を標的にする方法であって、細胞を請求項１〜１７のいずれか一項に記載の組成物に接触させることを含み、前記ＦＮ３ドメインは前記標的分子に結合するものである、前記方法。
【請求項１９】
前記標的分子が、ＣＤ７１、ＰＳＭＡまたはＥｐＣＡＭである、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
患者においてがんまたは自己免疫疾患を処置するための請求項１〜１７のいずれか一項に記載の組成物の使用。