【手続補正書】
【提出日】令和3年11月17日(2021.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁放射線を２次元視野内の特定場所に向けるようにステアリングするように構成された電磁放射線ステアリング機構であって、
前記２次元視野内で第１のステアリング軸の第１の座標を変化させるために第１の光学要素を第１の回転軸の周りに回転させるように構成された関連の第１のアクチュエータを有する該第１の光学要素と、
前記２次元視野内で第２のステアリング軸の第２の座標を変化させるために第２の光学要素を第２の回転軸の周りに回転させるように構成された関連の第２のアクチュエータを有する該第２の光学要素と、
光学的に前記第１及び第２の光学要素の間に配置された電磁放射線マニピュレータと、
を含み、
第１の角度が、前記第１及び第２の回転軸の間に定められ、
第２の角度が、前記第１及び第２のステアリング軸の間に定められ、
前記電磁放射線マニピュレータは、前記第１の角度と前記第２の角度の間に差を導入するように構成され、
前記電磁放射線マニピュレータは、第１のミラーと第２のミラーを含み、前記第１のミラーと前記第２のミラーは、互いに対して固定される、
ことを特徴とする電磁放射線ステアリング機構。
【請求項２】
前記第１の回転軸と前記第２の回転軸は、非直角であることを特徴とする請求項１に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項３】
前記第１の回転軸と前記第２の回転軸は、実質的に平行であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項４】
前記第１の角度は、約４５°よりも小さく、
又は、前記第１の角度は、約１０°よりも小さく、
又は、前記第１の角度は、約５°よりも小さく、
又は、前記第１の角度は、約２°よりも小さく、
又は、前記第１の角度は、約０°である、
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項５】
前記第１のステアリング軸と前記第２のステアリング軸は、実質的に直角であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項６】
前記第２の角度は、約７０°と約１１０°の間であり、
又は、前記第２の角度は、約８０°と約１００°の間であり、
又は、前記第２の角度は、約８５°と約９５°の間であり、
又は、前記第２の角度は、約９０°である、
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項７】
前記電磁放射線マニピュレータは、前記第１の角度と前記第２の角度の間に約４５°よりも大きい差を導入するように構成され、
又は、前記電磁放射線マニピュレータは、前記第１の角度と前記第２の角度の間に約７０°よりも大きい差を導入するように構成され、
又は、前記電磁放射線マニピュレータは、前記第１の角度と前記第２の角度の間に約９０°の差を導入するように構成される、
ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項８】
前記第１の光学要素及び前記第２の光学要素のうちの少なくとも一方が反射性であり、
前記第１の光学要素は、前記電磁放射線を受け入れるように構成された第１の反射面を含み、
前記第２の光学要素は、前記電磁放射線を受け入れるように構成された第２の反射面を含み、
前記第１の回転軸と前記第１の反射面は、実質的に平行であり、
前記第２の回転軸と前記第２の反射面は、実質的に平行であることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項９】
前記第１の光学要素及び前記第２の光学要素のうちの少なくとも一方が屈折性である、又は、
前記第１及び第２の光学要素のうちの少なくとも一方が回折性である、又は、
前記第１及び第２の光学要素のうちの少なくとも一方が偏光性である、
ことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項１０】
前記第１のミラーは、前記電磁放射線が前記第１の光学要素と相互作用した後で該電磁放射線を受け入れて該電磁放射線を前記第２のミラーに向けるように構成され、
前記第２のミラーは、前記電磁放射線が前記第１のミラーと相互作用した後で該電磁放射線を受け入れて該電磁放射線を前記第２の光学要素に向けるように構成されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項１１】
前記第１のミラーは、前記電磁放射線の方向に約９０°の変化を加えるように配置され、
前記第２のミラーは、前記電磁放射線の方向に約９０°の変化を加えるように配置されることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項１２】
前記第１のミラーによって引き起こされる前記電磁放射線の方向の前記９０°の変化は、第１の反射軸の周りで起こり、前記第２のミラーによって引き起こされる該電磁放射線の方向の前記９０°の変化は、第２の反射軸の周りで起こり、
前記第１の反射軸と前記第２の反射軸は、非平行であり、
前記第１の反射軸と前記第２の反射軸は、実質的に垂直であることを特徴とする請求項１１に記載の電磁放射線ステアリング機構。
【請求項１３】
製品をマーキングするためのレーザマーキングシステムであって、
マーキングヘッドと
請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の前記電磁放射線ステアリング機構と、
を含むことを特徴とするレーザマーキングシステム。
【請求項１４】
前記第１の回転軸と前記第２の回転軸は、実質的に平行であり、
前記電磁放射線ステアリング機構は、前記マーキングヘッドの長さが前記第１及び第２の回転軸に対して実質的に平行であるようにレーザマーキングシステムの該マーキングヘッドに対して実質的に平行に設置される、
ことを特徴とする請求項１３に記載のレーザマーキングシステム。
【請求項１５】
請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の前記電磁放射線ステアリング機構、
を含むことを特徴とする電磁放射線検出器。
【請求項１６】
前記第１の回転軸と前記第２の回転軸は、実質的に平行であり、
前記電磁放射線ステアリング機構は、電磁放射線検出器の長さが前記第１及び第２の回転軸に対して実質的に平行であるように電磁放射線検出器に対して実質的に平行に設置される、
ことを特徴とする請求項１５に記載の電磁放射線検出器。
【請求項１７】
請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の前記電磁放射線ステアリング機構、
を含むことを特徴とする光学スキャナ。
【請求項１８】
前記第１の回転軸と前記第２の回転軸は、実質的に平行であり、
前記電磁放射線ステアリング機構は、光学スキャナの長さが前記第１及び第２の回転軸に対して実質的に平行であるように光学スキャナに対して実質的に平行に設置される、及び／又は
前記電磁放射線を発生させてそれを前記第１及び第２の回転軸と平行な方向に向けるように構成されたレーザ源を含むことを特徴とする請求項１７に記載の光学スキャナ。
【請求項１９】
電磁放射線を２次元視野内の特定場所に向けるようにステアリングする方法であって、
前記２次元視野内で第１のステアリング軸の第１の座標を変化させるために第１の回転軸の周りに回転可能である第１の光学要素で電磁放射線を受け入れる段階と、
光学的に前記第１の光学要素及び第２の光学要素の間に配置された電磁放射線マニピュレータに前記電磁放射線を向ける段階と、
前記２次元視野内で第２のステアリング軸の第２の座標を変化させるために第２の回転軸の周りに回転可能である前記第２の光学要素に前記電磁放射線を向ける段階と、
前記第１及び第２の回転軸の間の第１の角度を定める段階と、
前記第１及び第２のステアリング軸の間の第２の角度を定める段階と、
前記電磁放射線マニピュレータを用いて前記第１の角度と前記第２の角度の間に差を導入する段階と、
を含み、
前記電磁放射線マニピュレータは、第１のミラーと第２のミラーを含み、前記第１のミラーと前記第２のミラーは、互いに対して固定される、ことを特徴とする方法。
【請求項２０】
電磁放射線ステアリング機構を用いて製品をマーキングする方法であって、
２次元視野内で第１のステアリング軸の第１の座標を変化させるために第１の回転軸の周りに回転可能である第１の光学要素で電磁放射線を受け入れる段階と、
光学的に前記第１の光学要素及び第２の光学要素の間に配置された電磁放射線マニピュレータに前記電磁放射線を向ける段階と、
前記２次元視野内で第２のステアリング軸の第２の座標を変化させるために第２の回転軸の周りに回転可能である前記第２の光学要素に前記電磁放射線を向ける段階と、
前記第１及び第２の回転軸の間の第１の角度を定める段階と、
前記第１及び第２のステアリング軸の間の第２の角度を定める段階と、
前記電磁放射線マニピュレータを用いて前記第１の角度と前記第２の角度の間に差を導入する段階と、
前記第１及び第２の光学要素を回転させることによって前記製品の周りで前記電磁放射線をステアリングする段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２１】
前記電磁放射線ステアリング機構は、レーザマーキングシステムのマーキングヘッド内に位置付けられ、
前記方法が、
前記マーキング中に前記マーキングヘッドを移動する段階、
を更に含む、
ことを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
電磁放射線を検出する方法であって、
２次元視野内で第１のステアリング軸の第１の座標を変化させるために第１の回転軸の周りに回転可能である第１の光学要素で電磁放射線を受け入れる段階と、
光学的に前記第１の光学要素及び第２の光学要素の間に配置された電磁放射線マニピュレータに前記電磁放射線を向ける段階と、
前記２次元視野内で第２のステアリング軸の第２の座標を変化させるために第２の回転軸の周りに回転可能である前記第２の光学要素に前記電磁放射線を向ける段階と、
前記第１及び第２の回転軸の間の第１の角度を定める段階と、
前記第１及び第２のステアリング軸の間の第２の角度を定める段階と、
前記電磁放射線マニピュレータを用いて前記第１の角度と前記第２の角度の間に差を導入する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２３】
前記電磁放射線を用いて物体を撮像する段階を更に含むことを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
電磁放射線ステアリング機構を組み立てる方法であって、
第１の光学要素と、２次元視野内で第１のステアリング軸の第１の座標を変化させるために第１の回転軸の周りに該第１の光学要素を回転させるように構成された関連の第１のアクチュエータとを装着する段階と、
前記２次元視野内で第２のステアリング軸の第２の座標を変化させるために第２の回転軸の周りに第２の光学要素を回転させるように構成された関連の第２のアクチュエータを有する該第２の光学要素を装着する段階と、
電磁放射線マニピュレータを光学的に前記第１及び第２の光学要素の間に配置する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２５】
連続インクジェットマーキングシステムを含む生産システムを換装する方法であって、
前記連続インクジェットマーキングシステムを請求項１３または請求項１４に記載の前記レーザマーキングシステムで置換する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２６】
入力から出力までの光路を定めるように構成された可変光路長アセンブリを更に含むことを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載のレーザマーキングシステム。