【手続補正書】
【提出日】令和3年11月16日(2021.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化合物３８
【化１】
2021503464.tif 000001
、またはその薬学的に許容される塩の製造方法であって、
前記化合物３８は、化合物Ａ
【化２】
2021503464.tif 000002
を少なくとも約９８．０％の鏡像体過剰率で含有し、
前記製造方法は中間化合物を調製する合成方法を含み、前記中間化合物は式（ＸＩａ）
【化３】
2021503464.tif 000003
、またはその水和物もしくは溶媒和物であって、
前記中間化合物は、式（ＸＩ）の化合物
【化４】
2021503464.tif 000004
、またはその水和物もしくは溶媒和物を少なくとも約８０．０％の鏡像体過剰率で含有し、
前記中間化合物を調製する合成方法は、
式（ＸＩＩ）の化合物
【化５】
2021503464.tif 000005
、またはその溶媒和物を、
ａ）前記中間化合物が調製されるように、ＣＨ２Ｉ２、Ｅｔ２Ｚｎ、ＺｎＩ２、および式（ＸＶ）のエナンチオ選択的な誘導物質もしくはその鏡像異性体
【化６】
2021503464.tif 000006
、またはその溶媒和物と接触させる、あるいは、
ｂ）（ｉ）式（ＸＩＩＩ）のエナンチオ選択的な誘導物質
【化７】
2021503464.tif 000007
、またはその溶媒和物と、
ＣＨ２Ｉ２およびＥｔ２Ｚｎが存在する溶液中で接触させ、式（ＸＩＩ）の化合物の反応生成物、またはその溶媒和物を形成し、
（ｉｉ）続いて、前記中間化合物が調製されるように、ステップ（ｉ）の溶液をＨ２Ｏ２と接触させる、あるいは、
ｃ）前記中間化合物が調製されるように、式（ＸＩＶ）のエナンチオ選択的な誘導物質もしくはその鏡像異性体
【化８】
2021503464.tif 000008
、またはその溶媒和物と、
ＣＨ２Ｉ２およびジアルキル亜鉛の存在下で接触させる、
ことを含む製造方法。
【請求項２】
前記中間化合物を調製する合成方法が、
前記中間化合物が調製されるように、
式（ＸＩＩ）の化合物
【化９】
2021503464.tif 000009
、またはその溶媒和物を、
ＣＨ２Ｉ２、Ｅｔ２Ｚｎ、ＺｎＩ２、および式（ＸＶ）のエナンチオ選択的な誘導物質もしくはその鏡像異性体
【化１０】
2021503464.tif 000010
、またはその溶媒和物と接触させることを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エナンチオ選択的な誘導物質、またはその溶媒和物が、
【化１１】
2021503464.tif 000011
、またはその溶媒和物である、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記中間化合物を調製する合成方法が、
（ｉ）式（ＸＩＩ）の化合物
【化１２】
2021503464.tif 000012
、またはその溶媒和物を、
式（ＸＩＩＩ）のエナンチオ選択的な誘導物質
【化１３】
2021503464.tif 000013
、またはその溶媒和物と、
ＣＨ２Ｉ２およびＥｔ２Ｚｎが存在する溶液中で接触させ、式（ＸＩＩ）の化合物の反応生成物、またはその溶媒和物を形成し、
（ｉｉ）続いて、前記中間化合物が調製されるように、ステップ（ｉ）の溶液をＨ２Ｏ２と接触させることを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記中間化合物を調製する合成方法が、
前記中間化合物が調製されるように、
式（ＸＩＩ）の化合物
【化１４】
2021503464.tif 000014
、またはその溶媒和物を、
ＣＨ２Ｉ２およびジアルキル亜鉛の存在下で、
式（ＸＩＶ）のエナンチオ選択的な誘導物質もしくはその鏡像異性体
【化１５】
2021503464.tif 000015
、またはその溶媒和物と接触させることを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ＺｎＩ２は、Ｅｔ２ＺｎをＩ２と反応させることで形成される、
請求項２に記載の方法。
【請求項７】
その鏡像異性体に関して少なくとも約８５％の鏡像体過剰率を有する式（ＸＩ）の化合物
【化１６】
2021503464.tif 000016
、またはその水和物もしくは溶媒和物を合成および増やす方法であって、
式（ＸＩ）の前記化合物は、式（ＸＩＩ）の化合物
【化１７】
2021503464.tif 000017
、またはその溶媒和物を、
ａ）式（ＸＩ）の前記化合物が調製されるように、ＣＨ２Ｉ２、Ｅｔ２Ｚｎ、ＺｎＩ２、および式（ＸＶ）のエナンチオ選択的な誘導物質もしくはその鏡像異性体
【化１８】
2021503464.tif 000018
、またはその溶媒和物と接触させる、あるいは、
ｂ）（ｉ）式（ＸＩＩＩ）のエナンチオ選択的な誘導物質
【化１９】
2021503464.tif 000019
、またはその溶媒和物と、
ＣＨ２Ｉ２およびＥｔ２Ｚｎが存在する溶液中で接触させ、式（ＸＩＩ）の化合物の反応生成物、またはその溶媒和物を形成し、
（ｉｉ）続いて、式（ＸＩ）の前記化合物が調製されるように、ステップ（ｉ）の溶液をＨ２Ｏ２と接触させる、あるいは、
ｃ）式（ＸＩ）の前記化合物が調製されるように、式（ＸＩＶ）のエナンチオ選択的な誘導物質もしくはその鏡像異性体
【化２０】
2021503464.tif 000020
、またはその溶媒和物と、
ＣＨ２Ｉ２およびジアルキル亜鉛の存在下で接触させる、
ことを含む方法で調製される、方法。
【請求項８】
式（ＸＩ）の前記化合物が、その鏡像異性体に関して少なくとも約９８．０％の鏡像体過剰率で存在する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
式（ＸＩ）の前記化合物が、
式（ＸＩ）の前記化合物が調製されるように、
式（ＸＩＩ）の化合物
【化２１】
2021503464.tif 000021
、またはその溶媒和物を、
ＣＨ２Ｉ２、Ｅｔ２Ｚｎ、ＺｎＩ２、および式（ＸＶ）のエナンチオ選択的な誘導物質もしくはその鏡像異性体
【化２２】
2021503464.tif 000022
、またはその溶媒和物と接触させることを含む方法によって合成され、増やされる、
請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
式（ＸＩ）の前記化合物が調製されるように、
前記エナンチオ選択的な誘導物質またはその溶媒和物が、
【化２３】
2021503464.tif 000023
、またはその溶媒和物である、
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
式（ＸＩ）の前記化合物が、
（ｉ）式（ＸＩＩ）の化合物
【化２４】
2021503464.tif 000024
、またはその溶媒和物を、
式（ＸＩＩＩ）のエナンチオ選択的な誘導物質
【化２５】
2021503464.tif 000025
、またはその溶媒和物と、
ＣＨ２Ｉ２およびＥｔ２Ｚｎが存在する溶液中で接触させ、式（ＸＩＩ）の化合物の反応生成物、またはその溶媒和物を形成することと、
（ｉｉ）続いて、式（ＸＩ）の前記化合物が調製されるように、ステップ（ｉ）の溶液をＨ２Ｏ２と接触させることと、
を含む方法により合成され、増やされる、
請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
式（ＸＩ）の前記化合物が、
式（ＸＩ）の前記化合物が調製されるように、
式（ＸＩＩ）の化合物
【化２６】
2021503464.tif 000026
、またはその溶媒和物を、
ＣＨ２Ｉ２およびジアルキル亜鉛の存在下で、
式（ＸＩＶ）のエナンチオ選択的な誘導物質もしくはその鏡像異性体
【化２７】
2021503464.tif 000027
、またはその溶媒和物と接触させること、
を含む方法により合成され、増やされる、
請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記ＺｎＩ２は、Ｅｔ２ＺｎをＩ２と反応させることで形成される、
請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
式（ＸＩＩ）の前記化合物から式（ＸＩ）の前記化合物を調製する方法は、１つの合成ステップを含む、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
式（ＸＩ）の前記化合物の精製をさらに含み、前記精製は、溶媒ストリッピング、濾過、抽出、蒸留、蒸発、再結晶、またはそれらの組み合わせからなる、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レチノイドＸ受容体特異的なレチノイドの調製のための合成方法