(57)【要約】  本発明は、高い耐傷性及び耐候性を有し、かつ高い生産性を有するフィルムミラー、その製造方法及びそのフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーを提供する。このフィルムミラーは、樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有するフィルムミラーにおいて、該メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が８０°以上１７０°未満であり、かつ動摩擦係数が０．１０以上０．３５以下であることを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有するフィルムミラーにおいて、該メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が８０°以上１７０°未満であり、かつ動摩擦係数が０．１０以上０．３５以下であることを特徴とするフィルムミラー。
【請求項２】
前記最表層の鉛筆硬度がＨ以上７Ｈ以下であることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記動摩擦係数が０．１５以上０．２５以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記銀反射層よりも光源側にガスバリア層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記樹脂基材が銀反射層よりも光源側に位置することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
前記樹脂基材または樹脂基材上の少なくともいずれか一層が紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項７】
前記銀反射層と隣接する層が銀の腐食防止剤を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着プロセスによって形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のフィルムミラー、または請求項８に記載のフィルムミラーの製造方法により得られたフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーであって、前記樹脂基材に対し前記銀反射層側の面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に前記フィルムミラーを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽光反射用ミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い耐傷性及び耐候性を有し、かつ高い生産性を有するフィルムミラー、その製造方法及びそのフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展し、将来の人類の生存すら脅かされる可能性がでてきている。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。従って近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。【０００３】
化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。特に世界のサンベルト地帯と呼ばれている赤道近くには、広大な砂漠が広がっており、ここに降りそそぐ太陽エネルギーは正に無尽蔵と言える。これに関して、米国南西部に拡がる砂漠のわずか数％を使えば、実に７，０００ＧＷものエネルギーを得ることが可能であると考えられている。また、アラビア半島、北アフリカの砂漠のわずか数％を使えば、全人類の使うエネルギーを全て賄うことができるとも考えられている。【０００４】
このように、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを社会活動の中で活用するためには、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。【０００５】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な集光装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。【０００６】
集光装置は太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来から、ガラス製ミラーが用いられてきた。しかし、ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損したり、重いためミラーを設置する架台の強度を持たせるため、プラントの建設費がかさむといった問題があった。【０００７】
上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換えることが考えられてきた（例えば、特許文献１参照）が、樹脂は耐傷性に劣り、砂や埃を取り除くために、モップ等の清掃具を用いて水洗浄すると、表面に傷が付いて反射率が低下するという問題があった。また、反射層に銀等の金属を用いると、樹脂層を介して酸素や水蒸気、硫化水素等が透過し、銀を腐食してしまうといった問題や、紫外線により樹脂層が劣化し、変色や膜剥がれが生じる等の問題も生じ、樹脂製ミラーの適用は困難であった。【０００８】
上記のような問題に対して、耐候性に優れ、屋外で使用可能なシリカ層を設けたハードコートフィルムが開示されている（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、上記のようなシリカ層を表面に持ってくると、表面が親水性になるため、水洗浄時に水のきれが悪く、砂や埃による研磨作用によって、直ぐに傷がついてしまうといった問題があった。【０００９】
また、反射層に銀等の金属層を用いる場合の腐食については、反射層よりも光源側に、バリア層として無機酸化物層を設ける方法（例えば、特許文献３参照）が知られているが、上記耐傷性の問題については触れられていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００５−５９３８２号公報
【特許文献２】特開２００４−１８８６０９号公報
【特許文献３】特許第３３１１１７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、高い耐傷性及び耐候性を有し、かつ高い生産性を有するフィルムミラー、その製造方法及びそのフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。【００１３】
１．樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有するフィルムミラーにおいて、該メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が８０°以上１７０°未満であり、かつ動摩擦係数が０．１０以上０．３５以下であることを特徴とするフィルムミラー。【００１４】
２．前記最表層の鉛筆硬度がＨ以上７Ｈ以下であることを特徴とする前記１に記載のフィルムミラー。【００１５】
３．前記動摩擦係数が０．１５以上０．２５以下であることを特徴とする前記１または２に記載のフィルムミラー。【００１６】
４．前記銀反射層よりも光源側にガスバリア層を有することを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。【００１７】
５．前記樹脂基材が銀反射層よりも光源側に位置することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。【００１８】
６．前記樹脂基材または樹脂基材上の少なくともいずれか一層が紫外線吸収剤を含有することを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。【００１９】
７．前記銀反射層と隣接する層が銀の腐食防止剤を含有することを特徴とする前記１〜６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。【００２０】
８．前記１〜７のいずれか１項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着プロセスによって形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。【００２１】
９．前記１〜７のいずれか１項に記載のフィルムミラー、または前記８に記載のフィルムミラーの製造方法により得られたフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーであって、前記樹脂基材に対し前記銀反射層側の面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に前記フィルムミラーを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽光反射用ミラー。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、高い耐傷性及び耐候性を有し、かつ高い生産性を有するフィルムミラー、その製造方法及びそのフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーを提供することができた。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有するフィルムミラーにおいて、該メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が８０°以上１７０°未満であり、かつ動摩擦係数が０．１０以上０．３５以下であることを特徴とするフィルムミラーにより、高い耐傷性及び耐候性を有し、かつ高い生産性を有するフィルムミラーが得られることを見出し、本発明に至った次第である。
【００２４】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細に説明する。
【００２５】
〔メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層〕
本発明のフィルムミラーは、銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有することが特徴である。
【００２６】
メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層は、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミ等のポリメトキサン、またはポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、下記一般式（１）で表されるポリシロキサン等を塗布乾燥して形成することができる。
【００２７】
【化１】
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【００２８】
式中、Ｒ１１、Ｒ１２は同一であっても異なっていてもよく、水素もしくはアルキル基またはアリール基等の有機基を表す。
【００２９】
本発明のフィルムミラーは、銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角が８０°以上１７０°未満であり、かつ動摩擦係数が０．１０以上０．３５以下であることが特徴である。
【００３０】
メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層塗布液に、メタロキサン骨格を有する材料の０．１〜１０質量％の撥水化剤、レベリング剤等の表面処理剤を添加して表面エネルギーを低くし、塗布、乾燥して最表層の水の接触角を８０°以上１７０°未満にすることができる。また、メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層に表面処理剤を塗布または表面処理剤溶液に浸漬して、最表層の水の接触角を８０°以上１７０°未満にすることもできる。
【００３１】
表面処理剤としては、ポリアルキルアクリレート等のポリアクリレート系ポリマー；ポリアルキルビニルエーテル等のポリビニルエーテル系ポリマー；ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、さらにはポリエーテル、ポリエステル、アラルキル等が導入された有機変性ポリシロキサン等のシリコーン系ポリマー等が例示されるが、本発明で使用できるレベリング剤はこれらのポリマーにフッ素原子を含有するものである。フッ素原子を有するレベリング剤は、例えばフッ素含有基を有するモノマーを共重合させることにより得ることができる。
【００３２】
具体的商品としては、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（何れも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（何れもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−４７０」、「ＲＳ−７５」、「ＲＳ−７２−Ｋ」（いずれもＤＩＣ株式会社製）、ＢＹＫ３４０（ビックケミー・ジャパン社製）、「ＺＸ−０４９」、「ＺＸ−００１」、「ＺＸ−０１７」（何れも富士化成工業社製）等を挙げることができる。
【００３３】
また、メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層に、フッ素化合物及び珪素化合物の混合ガス、またフッ素及び珪素を有する化合物を用いた蒸着により、表面エネルギーを低くし、最表層の水の接触角を８０°以上１７０°未満にすることができる。
【００３４】
蒸着法で表面処理してメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層上に薄膜形成するには、大気圧プラズマ放電処理が好ましい。
【００３５】
薄膜形成性ガスは気体の場合は、そのまま放電空間に導入できるが、液体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の手段により気化させて使用される。或いは溶媒によって希釈して使用されてもよく、この場合、希ガス中へ気化器等により気化して混合ガスに使用すればよい。溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ｎ−ヘキサン、アセトン等の有機溶媒及びこれらの混合溶媒が使用できる。特に、これらのみに限定されない。
【００３６】
薄膜形成性ガスについて、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜を形成する観点から、混合ガス中の含有率は、０．０１〜１０体積％で有することが好ましいが、さらに好ましくは、０．０１〜１体積％である。
【００３７】
これらは予め調製されたガスとして放電空間に供給してもよいし、放電空間近傍で２種以上のガスを混合してもよい。水素、酸素等の添加ガスは予め窒素もしくは希ガス等によって希釈されたものを放電空間に導入することが、連続製膜の際に薄膜の物性が安定するため好ましい。
【００３８】
また、ガスは室温〜２００℃に加温して放電空間に供給されることが好ましく、さらに好ましくは５０〜１５０℃であり、さらに好ましくは７０〜１２０℃であり、特に９０〜１１０℃であることが好ましい。温度が高いほど得られる薄膜が緻密で、硬度に優れた膜が得られるが高すぎると基材が変形することがある。大気圧プラズマ放電処理の処理強度を調整することで、最表層の水の接触角を７０°以上１７０°未満の範囲にすることができる。
【００３９】
最表層の水の接触角は７０°以上１７０°未満であることが必要であり、好ましくは９０°〜１５０°である。７０°未満では撥水性が不十分であり、１７０°以上は困難である。
【００４０】
また、最表層は耐傷性を向上するために、動摩擦係数が０．１０以上０．３５以下であることが必要であり、好ましくは０．１５〜０．２５の範囲である。動摩擦係数が０．３５を超えると実質的に耐傷性に対する効果を得ることができず、０．１０未満では表面の滑り性が高過ぎて、生産工程においてフィルムの巻きずれを引き起こす等するため、好ましくない。
【００４１】
上記珪素、チタン、ジルコニウム、アルミ等のポリメトキサン、ポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、ポリシロキサン等を用いることで、フィルム表面同士の動摩擦係数を０．１０以上０．３５以下にすることができる。
【００４２】
本発明の水の接触角は、協和界面科学製接触角ＣＡ−Ｗを用いて２３℃、５５％ＲＨの環境の下で、３μｌの水滴をフィルムミラーに滴下して測定できる。
【００４３】
本発明の動摩擦係数は、新東科学社製表面性測定機（ＨＥＩＤＯＮ−１４Ｄ）を用い、試料台に最表層を上にして１枚のフィルムミラーを貼り付け、圧子に他の１枚の同じフィルムミラーを取り付け、２枚のフィルムミラーの最表面同士が接触するように重ね合わせ、その上に約１６０ｇ／ｃｍ２の荷重を加えて３ｍ／ｍｉｎの速度で１０回往復摺動させ、１０往復の平均動摩擦係数として算出する。
【００４４】
本発明において、メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層とは、該最表層を上記、撥水化剤、レベリング剤等の表面処理剤で処理した最表層、フッ素及び珪素を有する化合物等を用いて蒸着処理した最表層も含む。
【００４５】
〔フィルムミラーの構成〕
本発明のフィルムミラーは、樹脂基材と、その上に銀反射層、及び該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層より構成され、最表層の接触角が７０°以上１５０°未満であり、かつ動摩擦係数が０．１０以上０．３５以下のフィルムミラーであることを特徴とする。構成層として、樹脂基材、銀反射層、及びメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の他に、ガスバリア層、腐食防止剤層、紫外線吸収層、上部隣接層等の特別な機能層を設けることも好ましい態様である。ここで上部隣接層とは、銀反射層の樹脂基材から遠い側に隣接し、銀の腐食劣化を防ぐとともに、銀反射層の傷防止、及び上部隣接層の外側に形成されるバリア層や傷防止層との接着力向上に寄与する層である。
【００４６】
（樹脂基材）
本発明に係る樹脂基材としては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
【００４７】
特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００４８】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
【００４９】
（銀反射層）
本発明に係る銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
【００５０】
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応等がある。
【００５１】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
【００５２】
銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００５３】
本発明において、銀反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあってもよいが、支持体が樹脂であることから、光線による樹脂劣化を防止する目的から、光線入射側に位置する方が好ましい。
【００５４】
（腐食防止剤）
本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤には、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
【００５５】
ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００５６】
本発明のフィルムミラーは、前記接着層が酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様であることが好ましい。
【００５７】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００５８】
〈銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００５９】
アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６０】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６１】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６２】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６３】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６４】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６５】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６６】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６７】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６８】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００６９】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【００７０】
〈酸化防止剤〉
本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
【００７１】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
【００７２】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【００７３】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
【００７４】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【００７５】
なお、本発明においては、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。
【００７６】
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【００７７】
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２′−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
【００７８】
特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【００７９】
（ガスバリア層）
本発明のフィルムミラーは、ガスバリア層を有することが好ましい。
【００８０】
本発明に係るガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。本発明においては、前記銀反射層の上側に、ガスバリア層を設けることが好ましい。
【００８１】
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、さらに好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるように当該ガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｃｍ３／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【００８２】
本発明に係るガスバリア層に関しては、その形成方法において特に制約はないが、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／または紫外線照射により、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
【００８３】
〈セラミック前駆体〉
本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物またはポリシラザンが好ましい。
【００８４】
〈有機金属化合物〉
本発明に係る有機金属化合物は、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）、及びニオブ（Ｎｂ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、及びバリウム（Ｂａ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びリチウム（Ｌｉ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
【００８５】
有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。
【００８６】
前記金属アルコキシドは、下記一般式（Ｉ）で表される。
【００８７】
一般式（Ｉ）：ＭＲ２ｍ（ＯＲ１）ｎ−ｍ
前記一般式（Ｉ）において、Ｍは、酸化数ｎの金属を表す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基を表す。ｍは、０〜（ｎ−１）の整数を表す。Ｒ１及びＲ２は、同一でもよく、異なっていてもよい。Ｒ１及びＲ２としては、炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基ＣＨ３（以下、Ｍｅで表す。）、エチル基Ｃ２Ｈ５（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ３Ｈ７（以下、Ｐｒで表す。）、イソプロピル基ｉ−Ｃ３Ｈ７（以下、ｉ−Ｐｒで表す。）、ブチル基Ｃ４Ｈ９（以下、Ｂｕで表す）、イソブチル基ｉ−Ｃ４Ｈ９（以下、ｉ−Ｂｕで表す）等の低級アルキル基がより好ましい。
【００８８】
前記一般式（Ｉ）で表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）５、マグネシウムイソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ−ｉ）２、アルミニウムイソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ−ｉ）３、亜鉛プロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）２、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）４、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ−ｉ）４、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）２、バリウムイソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ−ｉ）２、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３、ジルコニウムプロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）４、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）３、イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）３、鉛イソプロポキシドＰｂ（ＯＰｒ−ｉ）２等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。また、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。
【００８９】
〈無機酸化物〉
本発明に係る無機酸化物は、上記有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものであることを特徴とする。従って、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることを特徴とする。
【００９０】
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。
【００９１】
本発明において、有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。
【００９２】
〈ゾル−ゲル法〉
ここで、「ゾル−ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
【００９３】
具体的には、下記工程を有するゾル−ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。
【００９４】
すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及び該反応生成物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル−ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から、特に好ましい。
【００９５】
前記ゾル−ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、前記金属アルコキシドが挙げられる。
【００９６】
上記ゾル−ゲル法において、前記有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、前記有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒等を使用することもできる。
【００９７】
前記有機金属化合物において、金属がＣａ、Ｍｇ、Ａｌ等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ３２−が存在すると炭酸塩を生成して沈殿を生ずるため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの前記有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ましく、５〜７０質量％の範囲に希釈して使用することがより好ましい。
【００９８】
前記ゾル−ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。前記有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、前記有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。前記脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。前記反応液において、水の割合としては、水の濃度として０．２〜５０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【００９９】
前記ゾル−ゲル法においては、前記反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。前記ホウ素イオンＢ３＋を与える化合物としては、トリアルコキシボランＢ（ＯＲ）３が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３がより好ましい。また、前記反応液中のＢ３＋イオン濃度としては、１．０〜１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【０１００】
前記ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び／または塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記反応液中でフッ素イオン及び／または塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムＮＨ４ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムＮＨ４Ｃｌ等が好適に挙げられる。
【０１０１】
前記反応液中の前記ハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含む前記反応液の合計質量に対して、０．００１〜２ｍｏｌ／ｋｇ、特に０．００２〜０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。またハロゲンイオンの濃度が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリックス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いずれも好ましくない。
【０１０２】
なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ２Ｏ３成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、またはメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。
【０１０３】
前記有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の前記有機金属化合物を所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量の前記ハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸またはアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。前記ホウ素化合物は、主剤溶液または反応液に予め所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。
【０１０４】
前記反応溶液のｐＨは、目的によって選択され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する無機組成物からなる膜（フィルム）の形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５〜５の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
【０１０５】
なお、前記ゾル−ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ３＋及びハロゲンイオンを含む。）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、前記反応溶液の濃度は±５０質量％の範囲で、水（酸またはアルカリを含む。）の濃度は、±３０質量％の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができる。
【０１０６】
次に、前工程で得られた反応生成物（熟成後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０〜７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後さらに昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、７０〜１５０℃が好ましく、８０〜１３０℃がより好ましい。
【０１０７】
〈ポリシラザンを塗布する方法〉
本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜の局所的加熱により形成された無機酸化物を含有することも好ましい。
【０１０８】
セラミック前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記式（Ｉ）で表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含む溶液で樹脂基材を被覆し、そして、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって樹脂基材上に０．０５〜３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、当該樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
【０１０９】
式（Ｉ）：−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−
式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一または異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニルまたは３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表し、この際、ｎは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１１０】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミンまたはＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
【０１１１】
好ましい態様の一つでは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【０１１２】
さらに別の好ましい態様の一つでは、本発明によるコーティングは、次式（III）の少なくとも一種のポリシラザンを含む。
【０１１３】
式（III）：−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ及びｐは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１１４】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４及びＲ５がメチルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４がメチルを表し、そしてＲ５がビニルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２及びＲ５がメチルを表す化合物である。
【０１１５】
また、次式（IV）の少なくとも一種のポリシラザンを含む溶液も同様に好ましい。
【０１１６】
式（IV）：−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−（ＳｉＲ７Ｒ８−ＮＲ９）ｑ−
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１１７】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がメチルを表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ７がアルキルまたは水素を表す化合物である。
【０１１８】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０質量％、好ましくは５〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１１９】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基またはアミン基）を含まずそしてポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族または芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチルまたは酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトンまたはメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフランまたはジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）またはこれらの溶剤からなる混合物である。
【０１２０】
上記ポリシラザン溶液の追加の成分は、塗料の製造に慣用されているもののようなさらに別のバインダーであることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテートまたはセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、または合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、またはポリシロキサンである。
【０１２１】
ポリシラザン調合物のさらに別の成分は、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用または排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２またはＡｌ２Ｏ３であることができる。
【０１２２】
本発明の方法を用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリア作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。
【０１２３】
形成される被膜の厚さは、１００ｎｍ〜２μｍの範囲内にすることが好ましい。
【０１２４】
（紫外線吸収剤）
本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を添加することができる。前記樹脂基材上に設けられた構成層のうちいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【０１２５】
紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
【０１２６】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１２７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１２８】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【０１２９】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【０１３０】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
【０１３１】
通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【０１３２】
紫外線吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【０１３３】
（フィルムミラー全体の厚さ）
本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５〜２５０μｍが好ましく、さらに好ましくは９０〜２３０μｍ、さらに好ましくは１００〜２２０μｍである。
【０１３４】
（太陽光反射用ミラー）
本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光反射用ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、フィルムミラーの光源側から見て最下層に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、フィルムミラーを貼り付けて太陽光反射用ミラーとして用いることである。
【０１３５】
太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められるため、本発明のフィルムミラーが特に好適に用いられる。
【０１３６】
〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。
【０１３７】
例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。
【０１３８】
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１３９】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１４０】
本発明に適宜採用される本発明のフィルムミラーと貼り合せられる他基材としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルムまたはシート、ポリカーボネートフィルムまたはシート、ポリアリレートフィルムまたはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムまたはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはシート、フッ素フィルム等のプラスチックフィルムまたはシート、または酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉等を練り込んだ樹脂フィルムまたはシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着等の表面加工を施した樹脂フィルムまたはシートが用いられる。
【０１４１】
貼り合わせフィルムまたはシートの厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１４２】
また、これらの他基材は本発明のフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。
【０１４３】
〈金属基材〉
本発明に係る太陽光集光ミラーの金属基材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。
【０１４４】
本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板等にすることが好ましい。
【実施例】
【０１４５】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１４６】
〔フィルムミラーの作製〕
（フィルムミラー１の作製）
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１  日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０  ＤＩＣ社製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの上部隣接層を形成し、比較例のフィルムミラー１を得た。【０１４７】
（フィルムミラー２の作製）
フィルムミラー１の作製において、ポリエスエルフィルムの銀反射層に対する反対面上に下記ハードコート層を設けた以外は同様にして、比較例のフィルムミラー２を得た。【０１４８】
〈ハードコート層〉
塗布液として下記組成のハードコート層用塗布液を調製し、前記ポリエステルフィルムの上に、硬化後の膜厚が３μｍとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布し、溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて０．２Ｊ／ｃｍ２の紫外線照射により硬化させハード層を形成した。【０１４９】
〈ハードコート層用塗布液〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                ７０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート                  ３０質量部
光反応開始剤（イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン社製））
４質量部
酢酸エチル                                            １５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １５０質量部
シリコン化合物（ＢＹＫ−３０７（ビックケミージャパン社製））
０．４質量部
（フィルムミラー３の作製）
フィルムミラー１の作製において、真空蒸着装置を用い、チャンバーの到達真空度が３．０×１０−５ｔｏｒｒ（４．０×１０−３Ｐａ）になるまで排気した後、酸素ガスをコーティングドラムの近傍に、チャンバー内の圧力を３．０×１０−４ｔｏｒｒ（４．０×１０−２Ｐａ）に保って導入し、蒸発源の一酸化ケイ素をピアス型電子銃により、約１０ｋＷの電力で加熱して蒸着させ、コーティングドラム上を１２０ｍ／ｍｉｎの速度で走行するポリエステルフィルムの銀反射層に対する反対面上に、厚さ１μｍの酸化ケイ素層を形成した以外は同様にして、比較例のフィルムミラー３を得た。【０１５０】
（フィルムミラー４の作製）
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、上記ポリエステル系樹脂、上記メラミン系樹脂、上記ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート、上記ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂をグラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成した。さらに接着層上に、銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの上部隣接層を形成した。さらに上記ポリエステルフィルムの銀反射層に対して反対面側に、ジブチルエーテル中の３％パーヒドロポリシラザン液（ＡＺエレクトリックマテリアル社製  ＮＬ１２０）を用いて、乾燥後の膜の厚さが５００ｎｍとなるようにバーコーティングし、３分間自然乾燥した後、９０℃のオーブンで３０分間アニールし、ハードコート層を設け、比較例のフィルムミラー４を得た。【０１５１】
（フィルムミラー５の作製）
フィルムミラー４の作製において、パーヒドロポリシラザン液を有機ポリシラザン（ＭＨＰＳ−２０ＤＢ）に替えた以外は同様にして、比較例のフィルムミラー５を得た。【０１５２】
（フィルムミラー６の作製）
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、上記ポリエステル系樹脂、上記メラミン系樹脂、上記ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート、上記ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂をグラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成した。さらに接着層上に、銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの上部隣接層を形成した。さらに上記ポリエステルフィルムの銀反射層に対して反対面側に、ジブチルエーテル中の３％パーヒドロポリシラザン液（ＡＺエレクトリックマテリアル社製  ＮＬ１２０）を用いて、乾燥後の膜の厚さが５００ｎｍとなるようにバーコーティングし、３分間自然乾燥した後、９０℃のオーブンで３０分間アニールし、ハードコート層（最表層）を設けた。さらにハードコート層表面に撥水化剤（ＡＺエレクトリックマテリアル社製アクアノラン）をバーコーティングすることにより、最表層を改質し、本発明のフィルムミラー６を得た。【０１５３】
（フィルムミラー７の作製）
フィルムミラー６の作製において、ハードコート層を有機ポリシラザン（ＭＨＰＳ−２０ＤＢ）に替えた以外は同様にして、本発明のフィルムミラー７を得た。【０１５４】
（フィルムミラー８の作製）
フィルムミラー６の作製において、ハードコート層を下記ゾルゲル法により形成した以外は同様にして、本発明のフィルムミラー８を得た。【０１５５】
〈ゾルゲル法によるハードコート層の形成：シリカ層の形成〉
有機金属化合物を原料とするゾル溶液を調製するため、テトラエトキシシラン（和光純薬製）０．０４ｍｏｌをポリプロピレンビーカーに秤量し、撹拌しながらエチルアルコール０．２５ｍｏｌを添加し、マグネチックスターラーにより１０分間撹拌した。さらに、純水０．２４ｍｏｌを添加し１０分間撹拌した後、１ｍｏｌ／ｌのＨＣｌ  １ｍｌを添加し、ゾル溶液−１を調製した。フィルムミラー６のポリエステルフィルムの銀反射層に対して反対面側に、前述のゾル溶液−１を、乾燥後の膜の厚さが５００ｎｍとなるようにバーコーティングし、ドライオーブンにて８０℃、３０分加熱乾燥した後、近赤外線乾燥機（日本電熱（株）製ペイントドライヤーＰＤＨ１０００）を用いて、１ｋＷの出力にて、塗布面から５０ｃｍの距離において、０．５秒間の赤外線照射を１０回繰り返し、ポリエステル基材上にハードコート層を形成した。【０１５６】
（フィルムミラー９の作製）
フィルムミラー６の作製において、ハードコート層を下記ゾルゲル法により形成したこと以外は同様にして、本発明のフィルムミラー９を得た。【０１５７】
〈ゾルゲル法によるハードコート層の形成：アルミナ層の形成〉
有機金属化合物を原料とするゾル溶液を調製するため、アルミニウムイソプロポキシド（和光純薬製）０．０４ｍｏｌをポリプロピレンビーカーに秤量し、撹拌しながらイソプロピルアルコール０．２５ｍｏｌを添加し、マグネチックスターラーにより１０分間撹拌した。さらに、純水０．２４ｍｏｌを添加し１０分間撹拌した後、１ｍｏｌ／ｌのＨＣｌ  １ｍｌを添加し、ゾル溶液−２を調製した。フィルムミラー６のポリエステルフィルムの銀反射層に対して反対面側に、前述のゾル溶液−２を、乾燥後の膜の厚さが５００ｎｍとなるようにバーコーティングし、ドライオーブンにて８０℃、３０分加熱乾燥した後、近赤外線乾燥機（日本電熱（株）製ペイントドライヤーＰＤＨ１０００）を用いて、１ｋＷの出力にて、塗布面から５０ｃｍの距離において、０．５秒間の赤外線照射を１０回繰り返し、フィルムミラー９を作製した。【０１５８】
（フィルムミラー１０の作製）
フィルムミラー６の作製において、撥水化剤をソフト９９製Ｂｅａｕｔｉｆｕｌ  Ｇ’ＺＯＸリアルガラスコートに替えた以外は同様にして、本発明のフィルムミラー１０を得た。【０１５９】
（フィルムミラー１１の作製）
フィルムミラー１０の作製において、ポリエステルフィルム上に接着層を塗布する前に、ポリエステルフィルムと接着層の間に、下記真空蒸着プロセスにより、酸化ケイ素のガスバリア層を形成した以外は同様にして、本発明のフィルムミラー１１を得た。【０１６０】
〈真空蒸着法によるガスバリア層の形成〉
真空蒸着装置を用い、チャンバーの到達真空度が３．０×１０−５ｔｏｒｒ（４．０×１０−３Ｐａ）になるまで排気した後、酸素ガスをコーティングドラムの近傍に、チャンバー内の圧力を３．０×１０−４ｔｏｒｒ（４．０×１０−２Ｐａ）に保って導入し、蒸発源の一酸化ケイ素をピアス型電子銃により、約１０ｋＷの電力で加熱して蒸着させ、コーティングドラム上を１２０ｍ／ｍｉｎの速度で走行するポリエステルフィルム上に、厚さ１００ｎｍの酸化ケイ素のガスバリア層を形成した。【０１６１】
（フィルムミラー１２の作製）
フィルムミラー１１の作製において、ポリエステルフィルム中に紫外線吸収剤として、Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８をポリエステル樹脂に対して質量比で１％含有させた後にポリエステルフィルムを樹脂基材として用いたこと以外は同様にして、本発明のフィルムミラー１２を得た。【０１６２】
（フィルムミラー１３の作製）
フィルムミラー１２の作製において、接着層と上部隣接層にそれぞれ腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に０．２ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加したこと以外は同様にして、本発明のフィルムミラー１３を得た。【０１６３】
（フィルムミラー１〜１３の測定）
上記作製したフィルムミラー１〜１３のポリエスエルフィルムに対し、銀反射層の反対側の最表層の水の接触角及び動摩擦係数を測定した。【０１６４】
フィルムミラーの内容と、最表層の水の接触角及び動摩擦係数を表１に示す。【０１６５】
【表１】
2011096309.tif 000003
【０１６６】
〔太陽光反射用ミラーの作製〕
（太陽光反射用ミラー１〜１３の作製）
上記作製したフィルムミラー１〜１３を縦４ｃｍ×横４ｃｍに切り出し、ポリエステルフィルムに対し銀反射層側の面を、厚さ３μｍの粘着層を介して、厚さ０．１ｍｍで縦４ｃｍ×横５ｃｍのアルミ板に貼り付け、それぞれ太陽光反射用ミラー１〜１３を作製した。【０１６７】
〔太陽光反射用ミラーの評価〕
上記作製した太陽光反射用ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性、鉛筆硬度、スチールウール試験及び黄色試験の評価を行った。【０１６８】
（正反射率の測定）
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。【０１６９】
（正反射率の耐候性試験）
８５℃、８５％ＲＨの条件で３０日間放置後の正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前の正反射率と強制劣化後の正反射率から、強制劣化による正反射率の低下率を算出し、下記基準で評価した。【０１７０】
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
（正反射率の耐光性試験）
岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行った後、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前後における正反射率の低下率を算出し、下記基準で評価した。【０１７１】
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
（鉛筆硬度試験）
ＪＩＳ−Ｋ５４００に基づいて、各サンプルの４５°傾斜、１ｋｇ荷重における鉛筆硬度を測定した。【０１７２】
（スチールウール試験）
表面に純水１０ｍｌを、霧吹きを用いて噴霧した後に、＃００００番のスチールウールを用いて、１０００ｇ／ｃｍ２の摩擦荷重で１０回往復摩擦し、その後の表面の傷跡の有無を目視観察し、下記基準で評価した。【０１７３】
５：全く傷が認められない
４：わずかに傷が認められる
３：傷は認められるが、実用に耐えうるレベルである
２：傷が多く、実用に耐えない
１：傷が著しい
（黄色変化）
岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行った後、目視により黄色変化を観察し、下記基準で評価した。【０１７４】
５：目視で色味の差が全く見えない
４：目視で色味の差がわずかに見える
３：目視で色味の差が見えるが、実用上問題ないレベルにある
２：目視で色味の差がはっきり見え、実用上問題のレベルにある
１：色味の差が著しい
評価の結果を表２に示す。【０１７５】
【表２】
2011096309.tif 000004
【０１７６】
表２から明らかなように、本発明のフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーの各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。すなわち、本発明の上記手段により、高い耐傷性及び耐候性を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽光反射用ミラーを提供できることが分かる。
【国際調査報告】
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2011096309.tif 000007
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