(57)【要約】  液状の金属の製造のためのプロセスおよび炉プラント。炉は、炉ガスを処理する装置（１）を備えている。この装置は、湿式スクラバ、好適にはエアギャップスクラバなどのベンチュリスクラバ（６）を有しており、ミスト除去装置（７）に接続された出口を有しており、ミスト除去装置は、例えばSulzer Mellachevron（商標）である非スワール分離装置（３０，３６）と、選択的に第２の非スワール分離装置とを有しており、第２の非スワール分離装置は、第２のSulzer Mellachevron（商標）と組み合わされたニットメッシュを有している。選択的に、ミスト除去装置（７）は、特にShell Schoepentoeter（商標）（２２）であるベーン式の入口装置などの入口ディフューザを有していてよい。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉プラント（１）であって、液状の金属を製造するための炉（２）と、湿式スクラバ、好適にはベンチュリスクラバ（６）を備えた、炉ガス用の排出ラインと、前記湿式スクラバの下流にあるミスト除去装置（７）と、を有しており、前記ミスト除去装置は、少なくとも１つの非スワール分離装置（３０，３６）を有している、炉プラント（１）。
【請求項２】
前記ミスト除去装置（７）は、入口ディフューザを、例えばベーン式の入口装置、特にShell Schoepentoeter（商標）（２２）を有している、請求項１記載の炉プラント。
【請求項３】
前記非スワール分離装置は、比較的大きな液滴用の上流非スワール分離装置（３０）と、比較的小さな液滴用の下流非スワール分離装置（３６）とから成る直列の配列を有している、請求項１または２記載の炉プラント。
【請求項４】
前記上流非スワール分離装置（３０）は、Sulzer Mellachevron（商標）ミスト除去装置などの、ジグザグの流路を画成するように成形された複数の平行なバッフルから成る少なくとも１つの列を有している、請求項３記載の炉プラント。
【請求項５】
前記下流非スワール分離装置は、Sulzer Mellachevron（商標）ミスト除去装置と組み合わされるSulzer Knitmesh（商標）ミスト除去装置などの、第２のベーン式のミスト除去装置を備えた格子状メッシュおよび／またはニットメッシュ（３６）を有している、請求項３または４記載の炉プラント。
【請求項６】
前記湿式スクラバは、例えば環状ギャップスクラバ（６）であるベンチュリスクラバを有している、請求項１から５までのいずれか１項記載の炉プラント。
【請求項７】
前記液状の金属は、鋼、鉄、アルミニウム、ニッケル、亜鉛、または銅、好適には鋼または鉄である、請求項１から６までのいずれか１項記載の炉プラント。
【請求項８】
金属を製造するための炉（２）から排出される炉ガスを処理するプロセスであって、
前記ガスを最初に、湿式スクラバ（６）内で、好適にはベンチュリスクラバ内で処理し、次いで、少なくとも１つの非スワール分離装置（３０，３６）を有するミスト除去装置内で処理する、炉ガスを処理するプロセス。
【請求項９】
前記ミスト除去装置は、少なくとも１つの上流非スワール分離装置（３０）と、下流非スワール分離装置（３６）とから成る直列の配列を有している、請求項８記載のプロセス。
【請求項１０】
前記上流分離装置は、Sulzer Mellachevron（商標）ミスト除去装置（３０）などのベーン式のミスト除去装置を有している、請求項８または９記載のプロセス。
【請求項１１】
前記下流非スワール分離装置は、Sulzer Knitmesh（商標）ミスト除去装置およびSulzer Mellachevron（商標）ミスト除去装置などのベーン式のミスト除去装置を備えた格子状メッシュおよび／またはニットメッシュ（３６）を有している、請求項８または９または１０記載のプロセス。
【請求項１２】
前記ベンチュリスクラバは環状ギャップスクラバ（６）である、請求項８から１１までのいずれか１項記載のプロセス。
【請求項１３】
前記ベンチュリスクラバの下流かつ前記非スワール分離装置の上流で、例えばShell Schoepentoeter（商標）（２２）などの入口ディフューザを用いて、炉ガス流を水平にする、請求項８から１２までのいずれか１項記載のプロセス。
【請求項１４】
前記液状の金属は、鋼、鉄、アルミニウム、ニッケル、亜鉛、または銅、好適には鋼または鉄である、請求項８から１３までのいずれか１項記載のプロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液状の金属を製造するための炉プラント、およびこのような炉により生成された炉ガスを処理するためのプロセスに関する。このようなプロセスは、高炉プロセス、アーク炉（ＥＡＦ）プロセス、塩基性酸素転炉（ＢＯＦ）プロセス、または直接還元鉄（ＤＲＩ）プロセスを含む。
【背景技術】
【０００２】
高炉を出た高炉ガスは、固体の粉塵粒子を含む汚染物質を含有しており、これは除去されなければならない。別の溶鋼または溶鉄の製造プロセスにより発生したガスによっても同じ問題が生じる。これらの成分の除去は、典型的には、環状ギャップスクラバのようなベンチュリスクラバを使用して、湿式洗浄により行われる。
【０００３】
ベンチュリスクラバは、一種の湿式スクラバであって、ガス流を洗浄するために使用される液体を噴霧するために入口ガス流を利用している。ベンチュリスクラバは典型的には、収束区分、スロート、発散区分を有している。ガス流は収束区分に入る。流れ方向で、面積が減少するにつれガス流速は上昇する。洗浄液は典型的にはスロートまたは収束区分への入口で導入される。ガス流は、極めて高い流速でスロートを通過し、洗浄液を噴霧して、微細な液滴の霧を生成する。粉塵は、発散区分でガス流から除去され、発散区分では粉塵は霧と混合される。発散区分ではガス流は再び減速する。環状ギャップスクラバは、調節可能な環状のスロートを有する特殊な形式のベンチュリスクラバである。スロートの面積は、スロート内でプランジャを上下に動かすことにより調節される。ガスは、環状ギャップを通って流れ、液体を霧化し、これはプランジャ上へと噴霧されるか、または上方からスワール状に進む。このような環状ギャップスクラバの一例は、英国特許第１３６２３０６号明細書に開示されている。
【０００４】
ベンチュリスクラバを出たガスは、洗浄水内で連行された気体または固体の汚染物質を含んでおり、このような洗浄水は、小さな液滴としてガス流によって運ばれる。このような液滴は、汚染物質を含む水であり、これはガス流から分離しなければならず、さらなる処理のために捕集されなければならない。液滴含量はさらに、例えば膨張タービンの例えば下流のバーナでのさらなる使用のためのガスの適合性を減じる。膨張タービン内での液滴の気化により、固体を含んでいる液滴が、タービンブレード上に堆積物を生成し、これによりタービン内で振動や不均衡が生じる。バーナ内ではガス中の液滴が蒸発する傾向にあり、これにより熱損失が生じる。
【０００５】
従来は、スクラバから出ていくガス中に含まれる液滴は、特にベンチュリスクラバを出ていく霧状のミストにおける液滴サイズが極めて小さいという観点から、静的なスワーラを備えたサイクロンミスト除去装置（ミストエリミネータ）を使用して減じられている。そのうえ、サイクロンは通常、メンテナンスを殆ど必要としない。サイクロンでは、液滴は、スワーラによって与えられる遠心力によって分離される。ミスト除去装置を備えた環状ギャップスクラバを有するガスクリーニング設備の例は、ウェブサイトhttp://seaisi.orgで入手可能である、F. ReuferおよびC. Davidi著「Modern Blast Furnace (BF) And Converter (BOF) Gas Cleaning - A Report of State-of-the-art Technology」に開示されている。このような炉の別の例は、Journal of the Air Pollution Control Association, 18:5の３３８〜３４２頁に掲載のH.C. Henschenによる記事「Wet vs Dry Gas Cleaning In The Steel Industry」により開示されている。
【０００６】
環状ギャップスクラバおよびサイクロンミスト除去装置を使用する従来技術の鋼製造現場のガス処理システムでは、液滴濃度は典型的には約５０００ｍｇ／Ｎｍ３に低減される。これは液滴含有量のかなりの低減ではあるが、炉ガスの液滴含有量をさらに低減する必要が依然としてある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、炉ガス中の残留粉塵を含む液滴含有量の実質的なさらなる低減を達成することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的は、炉プラントであって、液状の金属を製造するための炉と、湿式スクラバ、好適にはベンチュリスクラバ（６）を備えた、炉ガス用の排出ラインと、湿式スクラバの下流にあるミスト除去装置（７）と、を備える炉プラントによって達成される。ミスト除去装置は、少なくとも１つの非スワール分離装置を有している。このような非スワール分離装置は、例えば、スワーラおよびサイクロンを除く、メッシュ式の、かつ／またはベーン式の分離装置であってよい。非スワール分離装置は、ガス流中の液滴を捕捉し、例えば、表面に液滴を衝突させるように成形されたメッシュおよび／またはベーンを備えていてよい。捕捉された液滴は衝突によって分離され、遠心力によってではなく重力によって排水される。ベンチュリスクラバによる圧力降下は、極めて小さい液滴を有するミストを生成する。このような粉塵を含む霧化された液滴は、非スワールミスト除去装置を使用して極めて効率的に分離できることがわかった。
【０００９】
特定の実施形態では、ミスト除去装置は、ガス流が非スワール分離装置を通過する前に、ガス流を水平にするための入口ディフューザを有していてよい。このようなディフューザは、例えば、Ｓｕｌｚｅｒ社から市販されているShell Schoepentoeter（商標）またはSchoepentoeter Plus（商標）などのベーン式の入口ディフューザであってよい。このような装置の例は、英国特許第１１１９６９９号明細書、米国特許第８０７０１４１号明細書および欧州特許出願公開第２２４３５２９号明細書に開示されている。ガス流の拡散および水平化は、下流の分離装置の分離効率を改善する。加えて、ディフューザ自体も、液滴を捕捉し、分離し、液滴含有量を減じる。
【００１０】
完全性を期すために、Techim社による２０１１年７月２７日版の製品報告書「. demisters R us」には、ベーン式の入口装置と、メッシュ式ミスト除去装置およびベーン式ミスト除去装置との組み合わせが開示されていることに注意されたい。この刊行物で使用されている表現「demister」は、「ミスト除去装置」という表現の同義語として当技術分野で使用されている。同様の組み合わせは、米国特許第８６５７８９７号明細書にも開示されている。これまで、ベンチュリスクラバとのこのような組み合わせ、または鋼または鉄製造炉とのこのような組み合わせを使用することは、またはこのような組み合わせを、ガス流から固体粒子を除去するために使用することは、提案されていなかった。
【００１１】
米国特許第６０８３３０２号明細書には、ガス流の脱硫のための下流のミスト除去装置を備えた湿式スクラバが開示されている。鋼または鉄の製造炉と共にこのような組み合わせを使用すること、または、ガス流から固体粒子を除去するためにこのような組み合わせを使用することは、開示も示唆もされていない。
【００１２】
サイクロンではなくて、非スワール分離装置を使用することの１つの利点は、多段階分離が実施可能であることにある。例えば、非スワール分離装置は、比較的大きな液滴用の上流非スワール分離装置と、比較的小さな液滴用の下流非スワール分離装置とから成る直列の配列を有していてよい。これにより、液滴除去効率が著しく改善されることがわかった。
【００１３】
上流非スワール分離装置が、ベーン式ミスト除去装置、例えばジグザグの流路を画成するように成形された平行な複数のバッフルから成る少なくとも１つの列を有する、シェブロン型のコアレッサなどのミスト除去装置を有しているならば、極めて良好な結果が得られる。適したシェブロン型のコアレッサは例えば、Ｓｕｌｚｅｒ社製のMellachevron（登録商標）コアレッサである。このような分離装置は、比較的大きな液滴、例えば少なくとも約１５μｍの液滴サイズを有する液滴のために特に効果的である。シェブロン型のコアレッサによる圧力降下は、一般的に少なくとも約２．９ｍｂａｒであり、例えば最大約３．６ｍｂａｒであろう。
【００１４】
比較的小さな液滴の除去のために特に効果的であるのは、格子状メッシュまたはニットメッシュなどの、ワイヤメッシュの組み合わせを有する流入区分と、ベーン式ミスト除去装置、特にシェブロン型のコアレッサ、特にSulzer Mellachevron（登録商標）コアレッサを有する流出区分を備えた非スワール分離装置である。市販されている適切なワイヤメッシュ分離装置の例は、KnitMesh（商標）Wire Mesh Mist Eliminators、Sulzer KnitMesh V- MISTER（商標）、KnitMesh XCOAT（商標）、またはHigh-Performance KnitMesh（商標） 9797 Mist Eliminatorであり、全てSulzer社から入手できる。このようなワイヤメッシュ分離装置では、小さな液滴が合体して、より大きな液滴を形成し、このより大きな液滴を、後続のベーン式の分離装置でより効率的に分離することができる。このようなニットメッシュのコアレッサによる圧力降下は、一般的に少なくとも約３．６ｍｂａｒであり、例えば最大で約６ｍｂａｒであろう。
【００１５】
処理されるガスの流れ方向で見て、以下の一連の配列、すなわち、上流のベーン式の入口装置、特にShell Schoepentoeter（商標）またはSchoepentoeter Plus（商標）と、続く第１のシェブロン型のミスト除去装置、特にSulzer Mellachevron（商標）と、それに続く非スワール分離装置であって、ニットメッシュの分離装置、特にSulzer Knitmesh（商標）ミスト除去装置を有する入口区分、および第２のシェブロン型のミスト除去装置、特にSulzer Mellachevron（商標）を有する出口区分を備えた非スワール分離装置とから成る一連の配列を収容する容器を有するミスト除去装置を使用することにより、極めて良好な結果が得られた。このような配列により、液滴濃度を、約１００ｍｇ／Ｎｍ３と同等の低さのレベルまで減じることができ、これは軸方向流サイクロンミスト除去装置を使用する従来のシステムよりも約５０倍低いことがわかった。
【００１６】
Shell Schoepentoeter（商標）による圧力降下は、一般的に少なくとも約９．３ｍｂａｒであり、例えば最大で約１１．２ｍｂａｒであろう。Shell Schoepentoeter（商標）入口装置、シェブロン型のコアレッサ、およびニットメッシュの組み合わせによる全体の圧力降下は、一般的に少なくとも約２１．７ｍｂａｒであり、例えば最大で約２７．４ｍｂａｒであろう。
【００１７】
非スワール分離装置を通るガス流が実質的に鉛直であるならば、良好な結果が得られる。しかしながら、所望される場合には、水平の配置などの別の配置も使用することができる。
【００１８】
ミスト除去装置の入口、より詳細にはベーン式の入口装置の入口では、圧力は例えば典型的には約３ｂａｒ未満である。
【００１９】
湿式スクラバは例えば、環状ギャップスクラバであってよい。このような環状ギャップスクラバの一例は、米国特許第４３７５４３９号明細書に開示されている。
【００２０】
選択的に、炉は、湿式スクラバの上流に、１つ以上の乾式粉塵キャッチャを有していてよい。このような粉塵キャッチャは例えば、重力粉塵キャッチャおよび／またはサイクロンを有していてよい。
【００２１】
本発明は、液状金属製造炉プラント自体のみに関するものではなく、液状金属製造のための炉から排出される炉ガスを処理するプロセスにも関する。上述したように、ガスは最初に、湿式スクラバで、好適にはベンチュリスクラバで、より好適には環状ギャップスクラバで処理され、次いで、少なくとも１つの非スワール分離装置を有するミスト除去装置内で処理される。比較的大きな液滴は、例えば上流の分離装置で分離することができ、次いで比較的小さな液滴は、下流の分離装置で分離される。選択的に、炉ガスはまずは、Shell Schoepentoeter（商標）などの入口ディフューザを通過する。
【００２２】
炉ガスは典型的には、少なくとも１５体積％の一酸化炭素、例えば最大８０体積％の一酸化炭素と、少なくとも約１０体積％の二酸化炭素、例えば最大３０体積％の二酸化炭素と、約０〜約２０体積％の水素を含む。例えば高炉ガスは通常、約１５〜３５体積％の一酸化炭素と、約２０〜３０体積％の二酸化炭素と、約３〜２０体積％の水素とを含む。塩基性酸素転炉からのガスは通常、約５０〜８０体積％の一酸化炭素と、約１０〜３０体積％の二酸化炭素とを含む。低位発熱量（ＬＨＶ）は、約３〜約１２ＭＪ／Ｎｍ３であってよい。高炉ガスのＬＨＶは、例えば典型的には約３〜５ＭＪ／Ｎｍ３であり、塩基性酸素転炉からのガスのＬＨＶは典型的には約９〜１２ＭＪ／Ｎｍ３である。
【００２３】
炉ガスの粉塵含有量は、湿式スクラバに入る前は１５ｇ／ｍ３程度の高さであってよい。ミスト除去装置を出てからは、粉塵含有量は、５ｍｇ／Ｎｍ３程度の低さ、またはそれよりも低くすることができる。
【００２４】
炉ガスによって生じる粉塵は、ＩＳＯ１３３２０：２００９に準拠して測定した、１０μｍ未満の平均粒径（Ｄ５０）を有している。
【００２５】
液状の鋼または鉄の製造では、炉ガス中の粉塵は主として、酸化鉄（ＩＩＩ）と炭素と５重量％未満の亜鉛との混合物を含む。
【００２６】
本開示によるプラントは、液状の金属、特に液状の鋼または鉄の製造のために使用されるが、アルミニウム、ニッケル、亜鉛、銅などの別の液状の金属のために使用することもできる。
【００２７】
例示実施形態を示す添付の図面を参照しながら本発明をさらに説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】液状の鋼または鉄の製造のための炉プラントを示す図である。
【図２】図１の炉のミスト除去装置を示す図である。
【図３】図２のミスト除去装置のShell Schoepentoeter（商標）を示す図である。
【図４】図２のミスト除去装置の第１の非スワール分離装置を示す図である。
【図５】図４の装置の内部を概略的に示す図である。
【図６】図２のミスト除去装置の第２の非スワール分離装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
図１には、鋼または鉄の製造のための炉プラント１が示されている。炉プラント１は高炉２を有しており、高炉２は、その上端部で、高炉ガス排出のために排出ライン３に接続されている。排出ライン３は、下方に向かって乾式粉塵キャッチャ４内へと開口しており、乾式粉塵キャッチャにおいて、粉塵の第１の部分が重力によって分離される。代わりにまたは加えて、１つ以上のサイクロンをここで使用することができる。次いで、残りのガスは、第２の排出ライン５を通って環状ギャップスクラバ６へと流れる。環状ギャップスクラバ６の下流で、ガスはミスト除去装置７内へと流れる。
【００３０】
環状ギャップスクラバ６は、炉ガス出口１０と、上端部にある炉ガス入口１１とを備えた垂直円筒容器９を有している。この容器９の内部には、環状ギャップ装置１３が位置している。環状ギャップ装置１３は、先細りしており、円錐台形の栓１４を有しており、この栓は、栓１４と環状ギャップ装置１３との間の環状ギャップの幅を調節するために移動することができる。環状ギャップ装置１３の上流には、予備スクラバにおける一連の噴霧ノズル１６が位置している。
【００３１】
ミスト除去装置７は、図２により詳しく示されており、垂直円筒容器１７を有している。この容器１７は、容器１７の下方側に横方向入口１８を、容器１７の上側に出口２０を備えている。入口１８は、Shell Schoepentoeter Plus（商標）入口ディフューザ２２を有している（図３により詳しく示されている）。
【００３２】
平面図で見て、Shell Schoepentoeter Plus（商標）２２は、容器１７の入口側から反対側へと収束する。Shell Schoepentoeter Plus（商標）２２は、閉じられた上面２４および底面２５と、上面２４と底面２５との間の、一連の垂直な平行ベーン２７によって画成された２つの垂直側面と、を有している。垂直ベーン２７には、分離された液滴の再連行の危険を減じるために、傾斜した捕捉リム２９（図３には図示せず）の列が設けられている。このようなリム２９は、米国特許第８０７０１４１号明細書および欧州特許第２２４３５２９号明細書に詳細に開示されている。
【００３３】
Shell Schoepentoeter Plus（商標）２２の上方かつ下流に所定の距離を置いて、流れ方向で約１４０ｍｍの高さを有する、第１のSulzer Mellachevron（商標）ミスト除去装置３０が存在している。この点での流速は例えば約４〜５ｍ／ｓである。圧力降下は、典型的には約２．５〜３．５ミリバールである。
【００３４】
Sulzer Mellachevron（商標）ミスト除去装置３０は、図４により詳しく示されている。図示した実施形態では、この装置は、四角形に配置された４つの垂直フィルタエレメント３１を有している。ガスは、開放底面を介して四角形内へと流入し、次いでフィルタエレメント３１を通って流れる（図２の矢印参照）。フィルタエレメント３１の別の配置も使用することができる。
【００３５】
Sulzer Mellachevron（商標）ミスト除去装置３０のフィルタエレメント３１の内側は（図５参照）、垂直ジグザグ形状の通路３３を画成するように曲げられた一連の平行なバッフルまたは隔壁３２を有しており、この通路３３は、まっすぐな垂直方向のガス流を抑制し、ガス流Ｃを図２に概略的に示したように、蛇行状の流路に従ってガイドする。ジグザグ通路３３の曲がり角３４には、屈曲ストリップ３５が設けられており、このストリップの曲げられた上端は、逆流方向に向けられている。
【００３６】
Sulzer Mellachevron（商標）３０の下流には、図６により詳しく示されている第２の非スワール分離装置３６が位置している。この非スワール分離装置３６は、２つの対向する対称的に配置されたエレメント４０を有しており、両エレメントは、編まれた金属ワイヤ４３から成る垂直に配置された層を備えた流入区分４１と、第２のSulzer Mellachevron（商標）ミスト除去装置４４を有する流出区分４２とを有している。両エレメント４０は、流出区分４２が互いに向かい合うように垂直に配置される。編まれた金属ワイヤ４３の層とSulzer Mellachevron（商標）４４との間には空隙が存在している。この点での流速は例えば約４〜５ｍ／ｓである。ニットメッシュの厚さは、例えば約１００ｍｍであってよい。ニットメッシュの密度は例えば約１８０〜２００ｋｇ／ｍ３であってよく、例えば約１９２ｋｇ／ｍ３である。圧力降下は、典型的には約４．６〜６ミリバールである。
【００３７】
使用時には、新しい炉ガスが、炉ガス入口１１を介して環状ギャップスクラバ６に入る。噴霧装置１６は、ガス流内に並流の水のスプレーを噴霧する。ガスの全ては、環状ギャップ装置１３を通って流れる。水は、気体状および固体状の汚染物質を連行する。水の液滴は、ガス流と共に上方に流れ、出口１０に到る。
【００３８】
液滴を運ぶガス流は、出口１０で環状ギャップスクラバ６を出て、Shell Schoepentoeter Plus（商標）入口ディフューザ２２を介して、ミスト除去装置７に入る。Shell Schoepentoeter Plus（商標）の垂直ベーン２７がガス流を水平にする。ガス流中の液滴の第１の部分は、Shell Schoepentoeter Plus（商標）２２のベーン２７に衝突し、重力によって容器の底部３８へと排水され、そこで水出口４０を介して排出される。
【００３９】
次いで、ガス流は、Sulzer Mellachevron（商標）３０に到達する。ガスは四角形の装置内に流れ、フィルタエレメント３１を介してこの四角形の装置から出ていく。フィルタエレメント３１内では、ガス流は、ジグザグ通路３３内で複数回変向される。液滴は、バッフル３２および屈曲ストリップ３５に衝突し、重力によって垂直に排水される。これにより、特に比較的大きな液滴がガス流から分離される。分離された液滴は、容器の底部３８へと流れ、水出口４０を介して排出される。
【００４０】
Sulzer Mellachevron（商標）３０を出たガス流は、まだ極めて少量の粉塵を含む液滴を含んでいる。ガス流は上方へと流れ、第２の非スワール分離装置３６のニットメッシュの流入区分４１を通過するように強制され、この第２の非スワール分離装置では、小さな液滴が合体してより大きな液滴を形成する。ガス流は、より大きな液滴を、流出区分４２における下流のSulzer Mellachevron（商標）４４へと運び、ここで残っている液滴の殆どが、ガス流から分離される。第２の非スワール分離装置３６の下流では、ガス流は、出口２０からミスト除去装置７を出ていく。この段階で、排出されるガス流は、約１００ｍｇ／Ｎｍ３、またはそれ以下の液滴濃度を有する。これは、従来のサイクロンミスト除去装置を使用する液滴濃度の約１／５０である。高炉ガス排出の流量が６０００００Ｎｍ３／ｈであって、蒸発エンタルピが２５００ｋＪ／ｋｇの場合、熱エネルギの正味の利得は２０４２ｋＷとなる。年に３５５稼働日で、年間正味利得熱エネルギは、１７３９５ＭＷ／ｈとなり、正味利得電力６４３６ＭＷｈ／ｙに相当し、典型的な電気効率は３７％に相当する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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