(57)【要約】  太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する太陽光反射用フィルムミラーであって、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。
2011158677.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する太陽光反射用フィルムミラーであって、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項２】
前記高分子フィルム基材と反射層との間に、下塗り層を有することを特徴とする請求項１記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項３】
前記銀錯体化合物が、下記一般式（１）で表される銀化合物と、下記一般式（２）〜（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種とを反応させて得られることを特徴とする請求項１又は２に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
一般式（１）
ＡｇｎＸ
〔式中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、シアノ基、シアネート基、カーボネート基、ニトレート基、ニトライト基、サルフェート基、ホスフェート基、チオシアネート基、クロレート基、パークロレート基、テトラフルオロボレート基、アセチルアセトネート基、カルボキシレート基及びこれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種であり、ｎは１〜４の整数である。〕
【化１】
2011158677.tif 000007
〔式中、Ｒ１〜Ｒ６は、互いに独立して、水素原子、炭素数が１〜３０の脂肪族アルキル基、炭素数が１〜３０の脂環族アルキル基、アリール基、アラルキル基、官能基が置換されたアルキル基、官能基が置換されたアリール基、ヘテロ環化合物基、高分子化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種である。〕
【請求項４】
前記高分子フィルム基材の厚さが、９μｍ以上、１７５μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項５】
前記高分子フィルム基材が、アクリル系樹脂フィルムまたはポリオレフィン系樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項６】
前記高分子フィルム基材が、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項７】
前記高分子フィルム基材が、酸化防止剤または安定剤を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項８】
保持部材上に、粘着層を介して請求項１〜７のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラーを配置したことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コーティング銀を有する反射層を備えた太陽光反射用フィルムミラーとそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展し、将来の人類の生存すら脅かされる可能性がでてきている。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。従って近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。【０００３】
石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては、現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。【０００４】
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、及び（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが問題となると考えられる。【０００５】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。【０００６】
反射装置は、太陽熱による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損する、大型のガラス製ミラーになると、かなり質量となるため、ミラーを設置する架台の強度を持たせる必要があり、プラントの建設費がかさむといった問題を抱えていた。更に、ガラス製ミラーは破損しやすく、交換時には破損部でけがをしない様な配慮が必要となり、また、多くの場合、屋内に設置されている場合が多く、作業環境（風雨、砂、埃等）による影響もあり、交換時には交換作業に熟練が要求されている。【０００７】
上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製の反射シートに置き換える方法が、例えば、特開２００５−５９３８２号公報等に開示されている。【０００８】
しかしながら、太陽熱発電用光反射フィルム（以下、「太陽光反射用フィルムミラー」、「フィルムミラー」、あるいは単に「ミラー」ともいう）として用いる場合、樹脂フィルムを用いたフィルムミラーでは、ガラス製ミラーに比べ、様々な要因により、反射率及び正反射率が劣化する問題が顕在化する。【０００９】
例えば、樹脂フィルム上に銀メッキ法により反射層を形成する方法では、銀メッキ時に樹脂フィルムの裏面側にも銀メッキ層が形成されてしまう場合があり、それを拭き取るため硝酸等を使用すると、樹脂フィルムの劣化を引き起こすことになる。また、メッキ法で形成した反射層と樹脂フィルムとの間での密着性を確保することができない。【００１０】
一方、樹脂フィルム上に下引き層を形成し、その上に銅メッキ層を形成した後、イオン化傾向の違いを利用した置換メッキ法により銀メッキ層を形成する反射用フィルムミラーが知られているが、この方法では、環境上課題を抱えている銅化合物を使用すること、置換メッキ法における置換メッキ速度を制御することが難しく、形成した銀メッキ層の平滑性や均一性を確保できにくいため、高い正反射率を得ることができない。【００１１】
一方、プラスチックフィルム上に、下塗り層、金属反射層、プラーマー層、耐候性樹脂層を形成した反射フィルムが記載されている（例えば、特許文献１参照）が、塗布方式で形成した表面均一性に欠ける下塗り層上に、蒸着法により金属反射層を形成しうる方法であり、光線反射面である金属反射層とプラーマー層の界面では、平滑性が十分でなく所望の正反射率を得ることができない。加えて、反射層の形成方法として、蒸着法を用いる方法の検討もなされてはいるが、蒸着を行うための真空チャンバー等の大型の専用設備が必要となり、製造設備としての負荷が大きい。【００１２】
上記課題に対し、基材上に、下塗り層を形成した後、その上に有機銀錯体化合物を含有する反射膜コーティング液組成物を用いて湿式法により反射層を形成し、必要に応じてその上にポストコート層、透明上塗り層を形成する方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。確かに、湿式塗布法により反射層を形成する方法では、蒸着法のように大型の専用設備が不要となり生産性という観点では優れている反面、湿式塗布法ゆえに、下層である下塗り層の表面プロファイルの影響を受けるため、光線反射面である反射層表面の平滑性が損なわれるため、高い正反射率を得ることができないこと、加えて、太陽光や大気に直接晒される透明上塗り層が劣化するという耐久性に課題を抱えており、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率、優れた耐候性及び耐擦過性を備えた太陽光反射用フィルムミラーの開発が切望されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００５−２８０１３１号公報
【特許文献２】特表２００９−５３５６６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦過性及び密着性を備えた太陽光反射用フィルムミラーとそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。【００１６】
１．太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する太陽光反射用フィルムミラーであって、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。【００１７】
２．前記高分子フィルム基材と反射層との間に、下塗り層を有することを特徴とする前記１記載の太陽光反射用フィルムミラー。【００１８】
３．前記銀錯体化合物が、下記一般式（１）で表される銀化合物と、下記一般式（２）〜（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種とを反応させて得られることを特徴とする前記１又は２に記載の太陽光反射用フィルムミラー。【００１９】
一般式（１）
ＡｇｎＸ
〔式中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、シアノ基、シアネート基、カーボネート基、ニトレート基、ニトライト基、サルフェート基、ホスフェート基、チオシアネート基、クロレート基、パークロレート基、テトラフルオロボレート基、アセチルアセトネート基、カルボキシレート基及びこれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種であり、ｎは１〜４の整数である。〕【００２０】
【化１】
2011158677.tif 000003
〔式中、Ｒ１〜Ｒ６は、互いに独立して、水素原子、炭素数が１〜３０の脂肪族アルキル基、炭素数が１〜３０の脂環族アルキル基、アリール基、アラルキル基、官能基が置換されたアルキル基、官能基が置換されたアリール基、ヘテロ環化合物基、高分子化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種である。〕【００２１】
４．前記高分子フィルム基材の厚さが、９μｍ以上、１７５μｍ以下であることを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。【００２２】
５．前記高分子フィルム基材が、アクリル系樹脂フィルムまたはポリオレフィン系樹脂フィルムであることを特徴とする前記１〜４のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。【００２３】
６．前記高分子フィルム基材が、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする前記１〜５のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。【００２４】
７．前記高分子フィルム基材が、酸化防止剤または安定剤を含有することを特徴とする前記１〜６のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。【００２５】
８．保持部材上に、粘着層を介して前記１〜７のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラーを配置したことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００２６】
本発明により、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦過性及び密着性を備えた太陽光反射用フィルムミラーとそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１Ａ】本発明の太陽光反射用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。
【図１Ｂ】本発明の太陽光反射用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。
【図１Ｃ】本発明の太陽光反射用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。
【図２Ａ】比較例の太陽光反射用フィルムミラーの層構成の一例を示す概略断面図である。
【図２Ｂ】比較例の太陽光反射用フィルムミラーの層構成の一例を示す概略断面図である。
【図３】実施例のスポット径に用いるオートコリメーターの内部構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【００２９】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する太陽光反射用フィルムミラーであって、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラーにより、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦過性及び密着性を備えた太陽光反射用フィルムミラーを実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。
【００３０】
以下、本発明の太陽光反射用フィルムミラーの詳細について説明する。
【００３１】
（太陽光反射用フィルムミラー、太陽熱発電用反射装置の構成）
本発明の太陽光反射用フィルムミラーは、太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する構成であることを特徴とする。
【００３２】
図１Ａから図１Ｃは、本発明の太陽光反射用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。
【００３３】
図１Ａには、本発明の太陽光反射用フィルムミラーの構成の一例を示してある。
【００３４】
図１Ａに示した構成では、太陽光反射用フィルムミラー１は、太陽光の入射側である紙面上部より、高分子フィルム基材２上に、本発明に係るコーティング銀から構成される反射層３を、銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成する。次いで、反射層３上に、コーティング銀から構成される反射層３を外気から遮断し、保護する保護コーティング層４から構成されている。
【００３５】
本発明で規定するように、太陽光の入射側に極めて表面平滑性が高い高分子フィルム基材２を配置し、その上に湿式塗布方式により銀錯体化合物を含有する塗布液を塗布して反射層３を形成することにより、太陽光の反射面である高分子フィルム基材２に接する反射層３に、極めて平滑性に優れ、高い正反射を備えた反射面を形成することができる。加えて、反射層３は、外気に対し、高分子フィルム基材２と保護コーティング層４により遮断され、耐久性に優れ、更に太陽光入射側に、高分子フィルム基材２を配置することにより、優れた耐光性を実現することができたものである。
【００３６】
また、図１Ｂに示した太陽光反射用フィルムミラー１では、高分子フィルム基材２と、本発明に係るコーティング銀から構成される反射層３との間に、高分子フィルム基材２と反射層３との密着性を向上させる目的で、下塗り層５を設けた構成を示してある。この様な構成とする場合には、高い表面平滑性を有する高分子フィルム基材２の表面プロファイルを損なうことなく、反射層３面に伝達する観点から、下塗り層５は極力薄膜構成とすることが好ましい。従って、下塗り層５の膜厚は、１０ｎｍ以上、１．０μｍ以下であることが好ましい。
【００３７】
図１Ｃは、本発明の太陽光反射用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。
【００３８】
図１Ｂに示した太陽光反射用フィルムミラー１を、粘着層７を介して保持部材８、例えば、アルミニウム支持体等の金属製部材に固定して、太陽熱発電用反射装置６を形成する。
【００３９】
（太陽光反射用フィルムミラー）
次いで、本発明の太陽光反射用フィルムミラーの各構成要素について説明する。
【００４０】
（高分子フィルム基材）
高分子フィルム基材の材料としては、フレキシブル性や軽量化の点で、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィン（特に、シクロオレフィン樹脂）、セルロース、ポリアミドのいずれかを含む単層フィルムまたは共押し出しフィルムが好ましい。これらの中でも、耐候性に優れ、特に、少なくとも２種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体、またはシクロオレフィン樹脂が好適である。
【００４１】
好適なアクリル系共重合体としては、具体的には例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー（以下、非官能性モノマーという）から選ばれる１種または２種以上のモノマーを主成分とし、これに２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる１種または２種以上のモノマーの側鎖中にＯＨやＣＯＯＨなどの官能性基を有するモノマー（以下、官能性モノマーという）の１種または２種以上を組合せて、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の重合法により共重合させることにより得られる重量平均分子量が４万ないし１００万、好ましくは１０万ないし４０万のアクリル系共重合体が挙げられ、中でも、エチルアクリレート、メチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの低いポリマーを与える非官能性モノマーを５０〜９０質量％、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの高いポリマーを与える非官能性モノマーを１０〜５０質量％、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸、イタコン酸等の官能性モノマーを０〜１０質量％含有するようなアクリル系重合体が最も好適である。
【００４２】
また、本発明に係る高分子フィルム基材に好適に用いることのできるシクロオレフィン樹脂は、脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。
【００４３】
好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテンなどのエチレン又はα−オレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
【００４４】
シクロオレフィン樹脂として、下記のノルボルネン系樹脂も挙げられる。ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、例えば、特開２００３−１３９９５０号公報、特開２００３−１４９０１号公報、特開２００３−１６１８３２号公報、特開２００３−１９５２６８号公報、特開２００３−２１１５８８号公報、特開２００３−２１１５８９号公報、特開２００３−２６８１８７号公報、特開２００４−１３３２０９号公報、特開２００４−３０９９７９号公報、特開２００５−１２１８１３号公報、特開２００５−１６４６３２号公報、特開２００６−７２３０９号公報、特開２００６−１７８１９１号公報、特開２００６−２１５３３３号公報、特開２００６−２６８０６５号公報、特開２００６−２９９１９９号公報等に記載されたものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
【００４５】
高分子フィルムの厚さは、特に制限はないが、９μｍ以上、１７５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１２μｍ以上、１００μｍ以下である。
【００４６】
厚さが９μｍ以上であれば、太陽光反射用フィルムミラー加工時のしわの発生や破損を防止することができ、１７５μｍ以下であれば偏肉やたるみを防止でき均一性の高い基材を形成することができる。
【００４７】
高分子フィルム基材表面は、反射層あるいは下塗り層との密着性を向上させる観点から、コロナ放電処理、プラズマ処理等が施されていてもよい。
【００４８】
（紫外線吸収剤）
本発明に係る高分子フィルム基材においては、耐候性並びに耐光性向上の観点から紫外線吸収剤を含有することが好ましい。本発明に係る高分子フィルム基材に使用される紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ太陽光利用の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【００４９】
本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
【００５０】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【００５１】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ・ジャパン社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学製）が挙げられる。
【００５２】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５３】
（酸化防止剤、安定剤）
本発明に係る高分子フィルム基材においては、酸化防止剤または安定剤を含有することが好ましい。本発明に係る高分子フィルム基材に好ましく適用することのできる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤を挙げることができる。
【００５４】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３′、５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３′、５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【００５５】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
【００５６】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【００５７】
また、本発明に係る高分子フィルム基材においては、上記酸化防止剤と共に、下記の光安定剤を用いることもできる。
【００５８】
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【００５９】
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２′−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
【００６０】
特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【００６１】
（反射層）
本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、高分子フィルム基材上にコーティング銀から構成される反射層を有し、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする。
【００６２】
本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、前述のように、太陽光の入射側に極めて表面平滑性が高い高分子フィルム基材を配置し、その上に湿式塗布方式により銀錯体化合物を含有する塗布液を塗布、焼成して反射層を形成することにより、太陽光の反射面である高分子フィルム基材に接する反射層面に、極めて平滑性に優れ、高い正反射を備えた反射面を形成することができるものである。
【００６３】
本発明に係る反射層では、銀錯体化合物を含有する塗布液を用いて形成されたものであれば、特に制限はないが、用いる銀錯体化合物として、下記一般式（１）で表される銀化合物と、下記一般式（２）〜（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種とを反応させて得られる銀錯体化合物を用いることが好ましい。
【００６４】
（一般式（１）〜（４）で表される化合物）
以下、一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）〜（４）で表される化合物の詳細について説明する。
【００６５】
はじめに、一般式（１）で表される銀化合物について説明する。
【００６６】
一般式（１）
ＡｇｎＸ
上記一般式（１）において、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、シアノ基、シアネート基、カーボネート基、ニトレート基、ニトライト基、サルフェート基、ホスフェート基、チオシアネート基、クロレート基、パークロレート基、テトラフルオロボレート基、アセチルアセトネート基、カルボキシレート基及びこれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種であり、具体的には、例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。ｎは１〜４の整数である。
【００６７】
次いで、下記一般式（２）〜（４）で表される化合物について説明する。
【００６８】
【化２】
2011158677.tif 000004
【００６９】
上記一般式（２）〜（４）において、Ｒ１〜Ｒ６は、互いに独立して、水素原子、炭素数が１〜３０の脂肪族アルキル基、炭素数が１〜３０の脂環族アルキル基、アリール基、アラルキル基、置換基を有するアルキル基、置換基を有するアリール基、ヘテロ環化合物基、高分子化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種である。
【００７０】
また、Ｒ１〜Ｒ６で表される基としては、具体的には、例えば、水素原子や、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル等の各基及びその誘導体、ポリアリールアミンやポリエチレンアミンのような高分子化合物及びこれらの誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００７１】
具体的な化合物としては、例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体から選択される１種または２種以上の混合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００７２】
一方、上記のアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート系化合物の種類及び製造方法は、特に制限はなく、例えば、米国特許第４，５４２，２１４号（１９８５．９．１７）では、第１アミン、第２アミン、第３アミン、または少なくとも１つ以上のこれらの混合物と二酸化炭素からアンモニウムカルバメート系化合物が製造できると記述しており、前記アミン１モル当り水０．５モルをさらに添加すると、アンモニウムカーボネート系化合物が得られて、水１モル以上を添加する場合は、アンモニウムバイカーボネート系化合物を得ることができる。この際、常圧または加圧状態で特別な溶媒を使用せずに直接製造するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒またはこれらの混合溶媒などが挙げられて、二酸化炭素は、気相状態でバブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）するか、固体相ドライアイスを使用することができて、超臨界（ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ）状態でも反応することができる。本発明で使用されるアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート誘導体の製造には、上記の方法の他にも、最終物質の構造が同一であれば、公知のいかなる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度または触媒などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【００７３】
このように製造されたアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート系化合物と銀化合物とを反応して、有機銀錯体化合物を製造することができる。例えば、式１に示したような少なくとも一つ以上の銀化合物と、式２〜４に示したような少なくとも一つ以上のアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート誘導体及びこれらの混合物を、窒素雰囲気の常圧または加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒またはこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【００７４】
本発明で使用される銀錯体化合物の製造には、上記の方法の他に、本発明に係る一般式（１）で表される銀化合物と、一つ以上のアミン化合物とが混合された溶液を製造した後、二酸化炭素を反応して、銀錯体化合物を製造することもできる。上記のように、窒素雰囲気の常圧または加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用して反応することができる。しかしながら、最終物質の構造が同一であれば、公知の如何なる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度または触媒の使用有無などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【００７５】
本発明で使用される銀錯体化合物は、特表２００８−５３０００１号公報に記載の下記一般式（５）で表される構造の銀錯体化合物を挙げることができる。
【００７６】
一般式（５）
Ａｇ（Ａ）ｍ
上記一般式（５）において、Ａは、前記一般式（２）〜（４）で表される化合物であり、ｍは、０．５〜１．５である。
【００７７】
本発明に係る高反射で、かつ高光沢の反射層を形成のために使用される反射層形成用塗布液は、本発明に係る銀錯体化合物を含み、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤（Ｌｅｖｅｌｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明に係る反射層形成用塗布液に含むことができる。
【００７８】
反射層形成用塗布液に用いることのできる安定剤としては、例えば、第１アミン、第２アミンまたは第３アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、またはホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、ホスファイ（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスフェート（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）のようなリン化合物、チオール（ｔｈｉｏｌ）やスルフィド（ｓｕｌｆｉｄｅ）のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、２−エタノールアミン、メトキシエチルアミン、２−ヒドロキシプロピルアミン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、ｎ−ブトキシアミン、２−ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、２，２−（エチレンジオキシ）ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。
【００７９】
アンモニウムカルバメート、カーボネート、バイカーボネート系化合物として具体的に例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体などが挙げられる。
【００８０】
また、リン化合物としては、一般式として、Ｒ３Ｐ、（ＲＯ）３Ｐまたは（ＲＯ）３ＰＯで表されるリン化合物で挙げられる。ここでＲは、炭素数１〜２０のアルキルまたはアリール基を示し、具体的に例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジベンジルホスフェート、トリエチルホスフェートなどが挙げられる。
【００８１】
そして、硫黄化合物として、具体的に例えば、ブタンチオール、ｎ−ヘキサンチオール、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、アリールジスルフィド、２−メルカプトベンゾアゾール、テトラヒドロチオフェン、オクチルチオグリコレートなどが挙げられる。
【００８２】
このような安定剤の使用量は、特に制限する必要はない。しかしながら、その含量は、銀化合物に対し、モル比で０．１％〜９０％が好ましい。
【００８３】
また、反射層形成用塗布液に用いることのできる薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、または少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸（Ｂｕｔｙｒｉｃ  ａｃｉｄ）、吉草酸（Ｖａｌｅｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ピバル酸（Ｐｉｖａｌｉｃ  ａｃｉｄ）、ヘキサン酸、オクタン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ネオデカン酸（Ｎｅｏｄｅｃａｎｏｉｃ  ａｃｉｄ）、ラウリン酸（Ｌａｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、Ａｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｃｄ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ａｃ、Ｔｈなどのような金属を含むシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、２−エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、銀錯体化合物に対して、モル比で０．１〜２５％が好ましい。
【００８４】
反射層形成用塗布液に用いることのできる還元剤としては、ルイス酸または弱いブレンステッド酸（ｂｒｏｎｓｔｅｄ  ａｃｉｄ）が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、水酸化ホウ素ナトリウムまたは水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第１塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル−ｏ−ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含むこれらの混合物を挙げることができる。
【００８５】
反射層形成用塗布液に用いることのできる熱分解反応促進剤としては、具体的に例えば、エタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルエタノールアミンのようなヒドロキシアルキルアミン類、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、ピペラジン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルピペラジン、１−アミノ−４メチルピペラジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリンのようなアミン化合物、アセトンオキシム、ジメチルグリオキシム、２−ブタノンオキシム、２，３−ブタジオンモノオキシムのようなアルキルオキシム類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類、メトキシエチルアミン、エトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミンのようなアルコキシアルキルアミン類、メトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、アセトール、ジアセトンアルコールのようなケトンアルコール類、多価フェノール化合物、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ピロール、エチレンジオキシチオフェン（ＥＤＯＴ）のような酸化重合性樹脂などが挙げられる。
【００８６】
なお、反射層形成用塗布液の粘度調節や円滑な薄膜形成のために溶媒が必要な場合があるが、この際使用できる溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−メトキシプロパノール、ブタノール、エチルヘキシルアルコール、テルピネオールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートのようなアセテート類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン、パラフィンオイル、ミネラルスピリットのような炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、またはこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【００８７】
次いで、反射層形成用塗布液を用いた本発明に係る反射層の形成方法について説明する。
【００８８】
本発明において、高分子フィルム基材上に、本発明に係る銀錯体化合物を含有する反射層塗布液を塗布して反射層を形成するのに適用する塗布方式としては、湿式塗布方式であれば特に制限はなく、例えば、スピンコート塗布、ディップ塗布、エクストルージョン塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布、グラビア塗布、ワイヤーバー塗布、エアナイフ塗布、スライドポッパー塗布、カーテン塗布、スクリーン印刷法、インクジェット印字法等の公知の溶液を用いた塗布方法を適宜選択して用いることができる。
【００８９】
上記方法に従って、高分子フィルム基材上に、反射層を形成した後、焼成処理を施して反射鏡面を形成する。
【００９０】
焼成処理は、通常の不活性雰囲気下で熱処理をすることにより行うこともできるが、必要に応じて、空気、窒素、一酸化炭素中で、あるいは水素ガスと空気または他の不活性ガスとの混合ガスでも処理が可能である。熱処理は、適用する高分子フィルム基材の構成材料にもよるが、通常は８０〜４００℃の範囲であり、好ましくは９０〜３００℃、更には１００〜２５０℃の温度範囲で熱処理することが好ましい。付加的に上記温度範囲内で、低温と高温の２段階以上で加熱処理する方法が、反射膜の均一性の観点からは好ましい。例えば、８０〜１５０℃で１〜３０分間の処理を行った後、１５０〜３００℃で１〜３０分間の処理することができる。
【００９１】
（保護コーティング層）
本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、上記反射層上に保護コーティング層を有することを特徴とする。
【００９２】
保護コーティング層は、腐食防止剤を含み、反射層を形成する金属、例えば、銀の腐食劣化を防ぐとともに、太陽熱発電用反射装置を構成する際、保護コーティング層上に形成する粘着層との接着力向上に寄与するものである。
【００９３】
保護コーティング層の形成に用いることのできる樹脂としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００９４】
イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
【００９５】
保護コーティング層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００９６】
保護コーティング層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９７】
本発明に係る保護コーティング層が含有する反射層の腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００９８】
また、本発明に係るフィルムミラーにおいては、下塗り層が酸化防止剤を含有し、かつ保護コーティング層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様も好ましい。
【００９９】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１００】
（銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤）
本発明に適用可能な銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【０１０１】
アミン類およびその誘導体としては、例えば、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０２】
ピロール環を有する物としては、例えば、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０３】
トリアゾール環を有する化合物としては、例えば、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０４】
ピラゾール環を有する化合物としては、例えば、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０５】
チアゾール環を有する化合物としては、例えば、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０６】
イミダゾール環を有する化合物としては、例えば、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０７】
インダゾール環を有する化合物としては、例えば、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０８】
銅キレート化合物類としては、例えば、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０９】
チオ尿素類としては、例えば、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１１０】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１１１】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１１２】
本発明に係る保護コーティング層に用いられる反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤、安定剤を用いることもできる。酸化防止剤、安定剤としては、先に説明した高分子フィルム基材に適用可能な酸化防止剤及び安定剤と同様のものを挙げることができる。
【０１１３】
（下塗り層）
本発明の太陽光反射用フィルムにおいては、高分子フィルム基材と反射層との密着性を向上させる観点から、高分子フィルム基材と反射層間に下塗り層を設けることが好ましい。
【０１１４】
本発明に係る下塗り層に使用する樹脂では、上記密着性の他、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【０１１５】
本発明において、下塗り層の厚さは、密着性、平滑性、反射層の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【０１１６】
下塗り層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知の湿式コーティング方法が使用できる。
【０１１７】
（その他の構成要素）
本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、必要に応じ、下記の示す各機能層を形成してもよい。
【０１１８】
（傷防止層）
本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、フィルムミラーの最外層として、傷防止層を設けることができる。この傷防止層は、傷防止のために設けられる。
【０１１９】
傷防止層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
【０１２０】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【０１２１】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
【０１２２】
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【０１２３】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、ＤＩＣ（株）；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
【０１２４】
本発明において、傷防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。
【０１２５】
レベリング剤は、特に、傷防止層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば、東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【０１２６】
（ガスバリア層）
本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、湿度の変動、特に高湿度によるフィルム基材及びフィルム基材で保護される各種機能層の劣化を防止することを目的として、ガスバリア層を設けることができる。
【０１２７】
本発明において、ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、更に好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるようにガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。水蒸気透過度は、例えば、ＭＯＣＯＮ社製の水蒸気透過度測定装置ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３−３３にて測定できる。
【０１２８】
本発明に適用可能なガスバリア層は、主には金属酸化物により形成されるが、金属酸化物からなるガスバリア層としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化クロム等が挙げられ、特に水蒸気バリア性の観点から酸化珪素、酸化アルミニウム、または珪素、アルミニウムを出発材料とした複合酸化物が好ましい。そのほか波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３５から１．８の低屈折率層と、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８５から２．８である高屈折率膜を交互に積層した多層膜であっても良い。低屈折率膜材料としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどが挙げられる。高屈折率膜材料としては、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウムなどが挙げられる。これらは真空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティングなどのＰＶＤ法（物理蒸着法）、あるいは、ＣＶＤ法（化学蒸着法）などの真空プロセスにより形成される。金属酸化物からなるガスバリア層の厚さは５〜８００ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは１０〜３００ｎｍの範囲である。
【０１２９】
本発明において、フィルム基材上に酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料として形成した複合酸化物からなるガスバリア層は、酸素、二酸化炭素、空気などのガスまたは水蒸気に対する高いバリア作用に優れる。
【０１３０】
さらに、酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層は、膜厚がそれぞれ１μｍ以下であり、それぞれの光線透過率の平均値は９０％以上であることが好ましい。これによって、光損失がなく、太陽光を効率よく反射することができる。
【０１３１】
（犠牲防食層）
本発明の太陽光反射用フィルムミラーには、犠牲防食層を設けることができる。本発明でいう犠牲防食層とは、金属から構成される反射層を犠牲防食により保護する層のことであり、犠牲防食層を反射層とフィルム基材との間に配置することにより、金属からなる反射層の耐食性を向上させることができる。本発明において、犠牲防食層としては、銀よりもイオン化傾向の高い銅が好ましく、銅の犠牲防食層は、銀から構成される反射層の下に設けることによって、銀の劣化を抑制することができる。
【０１３２】
（太陽熱発電用反射装置）
次いで、本発明の太陽光反射用フィルムミラーを適用した太陽熱発電用反射装置について、説明する。
【０１３３】
本発明の太陽熱発電用反射装置は、図１Ｃで示したように、太陽光反射用フィルムミラー１を、粘着層７を介して保持部材８、例えば、アルミニウム支持体等の金属製部材に固定することにより形成されている。
【０１３４】
（粘着層）
粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウェットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。
【０１３５】
ラミネート方法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１３６】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１３７】
（保持部材）
本発明の太陽熱発電用反射装置において、保持部材としては金属支持体を用いることが好ましく、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に、耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
【０１３８】
（太陽熱発電用反射装置）
本発明の太陽熱発電用反射装置は、太陽光を集光する目的の太陽熱発電用フィルムミラーとして適用することができる。太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用反射装置が特に好適に用いられる。
【実施例】
【０１３９】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。【０１４０】
「実施例１；太陽光反射用のフィルムミラーの作製」
（フィルムミラー１の作製：比較例）
（高分子フィルム基材１の準備）
高分子フィルム基材１として、厚さ６０μｍの２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を用いた。【０１４１】
（銀錯体化合物を含有する銀反射層塗布液１の調製）
攪拌器付き５００ｍｌのシュレンクフラスコに、アンモニウムカルバメート系化合物として２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルカルバメート（表１には、化合物１と記載）の６５．０ｇ（２１５ミリモル）を１５０．０ｇのイソプロパノールに溶解させた後、銀化合物として酸化銀の２０．０ｇ（８６．２ミリモル）を添加して、常温で反応させた。この反応溶液は、最初は黒色懸濁液として反応が進行し、銀錯体化合物の生成に伴い徐々に黒色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、２時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミンの２．５ｇと、溶媒としてｎ−ブタノールの８５．０ｇとアミルアルコールの５０．０ｇを添加して攪拌した後、濾過孔径０．４５μｍのメンブレンフィルタを使用して濾過し、熱分析（ＴＧＡ）した結果、銀含量が４．８７質量％の銀反射層塗布液１を調製した。【０１４２】
（フィルムミラーの作製）
上記高分子フィルム基材１上に、上記調製した銀反射層塗布液１をグラビアコート法により塗布した後、赤外線オーブンで、１５０℃、１０分間加熱、焼成して、厚さ１５０ｎｍの銀反射層１を形成した。【０１４３】
次いで、銀反射層１上に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）と、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後の付量が０．３ｇ／ｍ２となるよう調整したトップコート層塗布液を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのトップコート層を形成し、図２Ａに記載の層構成からなり、太陽光入射側がトップコート層面側であるフィルムミラー１を作製した。【０１４４】
（フィルムミラー２の作製：比較例）
上記フィルムミラー１の作製において、高分子フィルム基材１と銀反射層１との間に、下記に示す下塗り層及びプレコート層を形成した以外は同様にして、図２Ｂに記載の層構成からなり、太陽光入射側がトップコート層面側であるフィルムミラー２を作製した。【０１４５】
（下塗り層の形成）
硬化樹脂として酸価が３０〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇの固状ポリエステル３５０．０ｇと、ビスフェノールＡタイプとしてＥＥＷ６００〜１５００の固状エポキシ３５０．０ｇに、レベリング剤としてパウダーメート（アミド変性ポリエーテル；トロイ社製造）１０．０ｇ、付着増進剤としてアミドワックス（ルーブリゾール社製造）８．０ｇ、光安定剤としてチヌビン４０５（チバ・ジャパン社製）１０．０ｇ、着色顔料（白色）としてチタニウム酸化物２００．０ｇをヘンシェルミキサーに入れて、均一に混合した後、押出工程を経て、適切な大きさの粒子に粉砕した。この粉砕された粉体を、コロナ静電スプレーガンを使用して高分子フィルム基材１上に塗布した後、１５０℃のオーブンで３０分間処理し、下塗り面を形成した。【０１４６】
（プレコート層の形成）
上記形成した下塗り層上に、シリコーン系硬化樹脂であるＫＲ２５５（信越化学工業（株）製）を、スプレーガンを用いて塗装した後、１５０℃のオーブンで３時間処理し、プレコート層を形成した。【０１４７】
（フィルムミラー３の作製：比較例）
上記フィルムミラー２の作製において、トップコート層の形成に用いたトップコート層塗布液に、紫外線吸収剤としてＴＩＮＵＶＩＮ１７１（チバ・ジャパン社製）を０．０５ｇ／ｍ２となるように添加した以外が同様にして、フィルムミラー３を作製した。【０１４８】
（フィルムミラー４の作製：本発明）
高分子フィルム基材２として、厚さ６０μｍの２軸延伸の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００；以下、単にアクリルフィルムという）を用いた。【０１４９】
上記高分子フィルム基材２上に、前記銀反射層塗布液１をグラビアコート法により塗布した後、赤外線オーブンで、１００℃、１０分間加熱、焼成して、厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成した。【０１５０】
次いで、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）と、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後の付量が０．３ｇ／ｍ２となるよう調整した保護コーティング層塗布液を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの保護コーティング層を形成し、図１Ａに記載の層構成からなり、太陽光入射側が高分子フィルム基材側であるフィルムミラー４を作製した。【０１５１】
（フィルムミラー５の作製：比較例）
上記フィルムミラー４の作製において、銀反射層の形成を、銀反射層塗布液１を用いた湿式塗布法に代えて、従来公知の真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成した以外は同様にして、フィルムミラー５を作製した。【０１５２】
（フィルムミラー６の作製：本発明）
上記フィルムミラー４の作製において、高分子フィルム基材（アクリルフィルム）２と銀反射層との間に、下記に示す下塗り層を形成した以外は同様にして、図１Ｂに記載の層構成からなり、太陽光入射側が高分子フィルム基材面側であるフィルムミラー６を作製した。【０１５３】
（下塗り層の形成）
ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート，ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂中に、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後の付量が０．２ｇ／ｍ２となるよう調整した下塗り層塗布液を、高分子フィルム基材２の片面にグラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの下塗り層を形成した。【０１５４】
（フィルムミラー７の作製：本発明）
上記フィルムミラー６の作製において、高分子フィルム基材２に代えて、下記の紫外線吸収剤を含有するアクリルフィルムである高分子フィルム基材３を用いた以外は同様にして、フィルムミラー７を作製した。【０１５５】
（高分子フィルム基材３の作製）
２軸延伸の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００）であるアクリルフィルムの製膜時に、紫外線吸収剤としてＴＩＮＵＶＩＮ９２８（チバ・ジャパン社製）をアクリルフィルムに５質量％含有させて、厚さ６０μｍの高分子フィルム基材３を作製した。【０１５６】
（フィルムミラー８の作製：本発明）
上記フィルムミラー６の作製において、高分子フィルム基材２に代えて、下記の酸化防止剤を含有するアクリルフィルムである高分子フィルム基材４を用いた以外は同様にして、フィルムミラー８を作製した。【０１５７】
（高分子フィルム基材４の作製）
２軸延伸の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００）であるアクリルフィルムの製膜時に、イオウ系酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）をアクリルフィルムに５質量％含有させて、厚さ６０μｍの高分子フィルム基材４を作製した。【０１５８】
（フィルムミラー９の作製：本発明）
上記フィルムミラー６の作製において、高分子フィルム基材２に代えて、下記の安定剤を含有するアクリルフィルムである高分子フィルム基材５を用いた以外は同様にして、フィルムミラー９を作製した。【０１５９】
（高分子フィルム基材５の作製）
２軸延伸の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００）であるアクリルフィルムの製膜時に、ヒンダードアミン系安定剤としてテトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレートをアクリルフィルムに５質量％含有させて、厚さ６０μｍの高分子フィルム基材５を作製した。【０１６０】
（フィルムミラー１０の作製：本発明）
上記フィルムミラー７の作製において、高分子フィルム基材３に代えて、特開２００８−３３５９号公報の段落〔０４７６〕〜〔０４８０〕記載の方法で作製した厚さ６０μｍのシクロオレフィン樹脂フィルムである高分子フィルム基材６を用いた以外は同様にして、フィルムミラー１０を作製した。【０１６１】
（フィルムミラー１１の作製：本発明）
上記フィルムミラー７の作製において、高分子フィルム基材３に代えて、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み６０μｍ）を高分子フィルム基材７として用いた以外は同様にして、フィルムミラー１１を作製した。【０１６２】
（フィルムミラー１２の作製：本発明）
上記フィルムミラー７の作製において、銀反射層の形成に用いたアンモニウムカルバメート系化合物として、化合物１である２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルカルバメートに代えて、化合物２としてモルホリニウム  モルホリンカルバメートを用いて銀反射層を形成した以外は同様にして、フィルムミラー１２を作製した。【０１６３】
（フィルムミラー１３の作製：本発明）
上記フィルムミラー７の作製において、銀反射層の形成に用いたアンモニウムカルバメート系化合物として、化合物１である２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルカルバメートに代えて、アンモニウムカーボネート系化合物としてジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート（化合物３）を用いて銀反射層を形成した以外は同様にして、フィルムミラー１３を作製した。【０１６４】
上記作製したフィルムミラー１〜１３の構成を、表１に示す。【０１６５】
【表１】
2011158677.tif 000005
【０１６６】
（フィルムミラーの評価）
（初期のスポット径の測定）
上記作製したフィルムミラーについて、図３に内部構成を示したニコンエンジニアリング社製の小型ワーキングオートコリメーターＷＶ−６０を用いて、反射スポットのスポット径を計測した。スポットは、有効観測領域が直径２８ｍｍの円形とし、フィルムミラー表面が鏡面で反射効率が高い場合は、フィルムミラーに入射した光束径と同じスポット径がＣＣＤセンサを通してモニター上に得られる。従って、初期スポット径が２８ｍｍに近いほど、反射効率に優れていることを表す。【０１６７】
（初期の５度正反射率の測定）
上記作製したフィルムミラーの太陽光入射面側における５度正反射率を測定した。日立社製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を使って、入射角５度の基準サンプルに対する相対反射率測定を行なった。波長範囲は２５０ｎｍ〜２５００ｎｍで測定し、部分的に反射率が落ちる波長範囲が無いかどうかを確認した。可視光領域（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）における反射率を平均し、これを５度正反射率とした。【０１６８】
（耐擦過性の評価）
上記作製したフィルムミラーの太陽光入射面側を、新東科学株式会社摩擦摩耗試験機（トライボステーションＴＹＰＥ：３２、移動速度４０００ｍｍ／ｍｉｎ．）を使用し、１０００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけた日本スチールウール株式会社製の品番＃００００のスチールウールを２０往復させた。次いで、２０往復後に、上記と同様の方法でスポット径の測定を行った。上記の初期のスポット径の測定値に対し、変動幅が少ないほど、耐擦過性に優れていることを表す。【０１６９】
（耐候性の評価）
上記作製したフィルムミラーを、温度８５℃、相対湿度８５％の環境下で３０日間放置後したのち、フィルムミラーの太陽光入射面側に対しキセノンランプ照射（スガ試験機  ＳＸ７５を用いて、放射強度１８０Ｗ／ｍ２  １６８時間）を行った。次いで、キセノンランプ照射後に上記と同様の方法で５度正反射率を測定した。上記の初期の５度正反射率に対し、変動幅が少ないほど、耐候性に優れていることを表す。【０１７０】
（密着性の評価）
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、反射層を形成した面側に、１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上にセロハンテープを貼り付け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数を測定し、下記の基準に従って、高分子フィルム基材と反射層との密着性評価を評価した。【０１７１】
Ａ：剥離がまったく認められない
Ｂ：剥離した碁盤目数が、１個以上、５個以下である
Ｃ：剥離した碁盤目数が、６個以上、１０個以下である
Ｄ：剥離した碁盤目数が、１１個以上、２０個以下である
Ｅ：剥離した碁盤目数が、２１個以上である
以上により得られた結果を、表２に示す。【０１７２】
【表２】
2011158677.tif 000006
【０１７３】
表２に記載の結果より明らかな様に、本発明のフィルムミラーは、比較例に対し、優れた正反射性を有すると共に、耐擦過性、耐候性及び密着性に優れていることが分かる。【０１７４】
「実施例２；太陽熱発電用反射装置の作製」
上記作製した各フィルムミラーの太陽光入射面とは反対側の面側に、アクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を、５μｍの厚さとなる様に塗布して粘着層を形成した後、保持部材として厚さ１ｍｍのアルミニウム支持体上に固着させて、太陽熱発電用反射装置を作製した。【０１７５】
（太陽熱発電用反射装置の評価）
上記作製した太陽熱発電用反射装置について、実施例１に記載の方法と同様にして、正反射性、耐擦過性、耐候性と、様々な温湿度環境下で耐久性を確認した結果、本発明のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置は、比較例に対し良好な結果を得ることができることを確認することができた。
【産業上の利用可能性】
【０１７６】
本発明は、以上のように構成されていることから、太陽光を反射する太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置として利用できる。
【符号の説明】
【０１７７】
１  太陽光反射用フィルムミラー
２  高分子フィルム基材
３  反射層
４  保護コーティング層
５  下塗り層
６  太陽熱発電用反射装置
７  粘着層
８  保持部材
９  プレコート層
【図１Ａ】
2011158677.tif 000008
【図１Ｂ】
2011158677.tif 000009
【図１Ｃ】
2011158677.tif 000010
【図２Ａ】
2011158677.tif 000011
【図２Ｂ】
2011158677.tif 000012
【図３】
2011158677.tif 000013
【国際調査報告】
2011158677.tif 000014
2011158677.tif 000015