(57)【要約】  吸水シートの消費量を低減しつつ、良好な拭き取り性を維持できる塗布装置を提供する。  基板９０に溶液をインクジェット方式によって塗布する塗布装置１００であり、基板９０に溶液を吐出するノズル１２を含むヘッドユニット１０と、ヘッドユニット１０におけるノズル１２をワイピングするワイピングユニット２０とを備える。ワイピングユニット２０は、ノズル１２の吐出面１２ａを拭き取る拭き取り部２０ａを有し、拭き取り部２０ａは、吐出面１２ａに残存する溶液を掻き取るブレード部２１と、吐出面１２ａに残存する溶液を吸収する吸水シート部２２とを含み、ブレード部２１の高さ（２１ｔ）は、吸水シート部の高さ（２２ｔ）よりも低い。
2011033863.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する塗布装置であって、
前記基板に前記溶液を吐出するノズルを含むヘッドユニットと、
前記ヘッドユニットにおける前記ノズルをワイピングするワイピングユニットと
を備え、
前記ワイピングユニットは、前記ノズルの吐出面を拭き取る拭き取り部を有しており、
前記拭き取り部は、
前記吐出面に残存する前記溶液を掻き取るブレード部と、
前記吐出面に残存する溶液を吸収する吸水シート部と
を含んでおり、
前記ブレード部の高さは、前記吸水シート部の高さよりも低いことを特徴とする、塗布装置。
【請求項２】
前記拭き取り部が前記吐出面を拭き取る際において、前記ブレード部は、前記吸水シート部よりも前記拭き取り部の進行方向の前方に配置されており、
前記ブレード部は、前記吐出面に非接触で前記溶液を掻き取るように前記拭き取り部において配置され、
前記吸水シート部は、前記吐出面に接触しながら前記溶液を吸収するように前記拭き取り部において配置されている、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
さらに、前記基板を保持するステージユニットを備え、
前記基板は、液晶パネル用のガラス基板であり、
前記溶液は、ポリイミド液である、請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する塗布方法であって、
ノズルを用いて前記基板に溶液を吐出する工程と、
前記ノズルの吐出面をワイピングする工程と
を含み、
前記ワイピング工程において、
前記ノズルの吐出面に残留する溶液を、ブレード部で掻き取った後に、吸水シートから構成された吸水シート部で接触させて吸収するステップを実行することを特徴とする、塗布方法。
【請求項５】
前記ブレード部は、前記吐出面に対して非接触な状態で前記溶液を掻き取り、
前記吸水シート部は、前記吐出面に押し付けるように接触されて、前記溶液を吸収することを特徴とする、請求項４に記載の塗布方法。
【請求項６】
前記基板は、液晶パネル用のガラス基板であり、
前記吐出する工程において、配向膜が形成される、請求項４または５に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置および塗布方法に関し、特に、基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する塗布装置および塗布方法に関する。さらには、本発明は、液晶パネルの配向膜などをインクジェット方式によって形成する塗布装置および塗布方法に関する。
なお、本出願は２００９年９月１５日に出願された日本国特許出願２００９−２１３４７３号に基づく優先権を主張しており、その出願の全内容は本明細書中に参照として組み入れられている。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の構成部品である液晶パネルは、一対の基板を所定のギャップを確保した状態で対向させた構造を有している。この基板間のギャップには、液晶分子を含む液晶層が封入されている。また、両基板の液晶層側の表面には、液晶分子を配向させる配向膜が形成されている。【０００３】
この配向膜は、ポリイミドを含んだ溶液を基板の表面に塗布することによって形成される。ポリイミド溶液を基板に塗布する方法としては、スピンコート法およびスプレー法の他に、インクジェット法が提案されている（例えば、特許文献１、２など）。【０００４】
インクジェット法によって配向膜を形成する場合、インクジェットヘッドの吐出面にポリイミド溶液が残存していると、次の塗布工程の際に、ポリイミド溶液の吐出を妨げて、不均一に塗布される部分が発生し得る。そのようなことが生じないように、ゴムからなる弾性体ブレードをインクジェットヘッドの吐出面に押し付けながら、余剰のポリイミド溶液（塗布液）を掻き取る手法が採用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２６４５９７号公報
【特許文献２】特開２００６−２４８１０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、弾性体ブレードを用いるものでは、インクジェットヘッドの噴霧面と弾性体ブレードとの摩擦によって弾性体ブレードが削れ、弾性体の粉が発生するおそれがある。発生した弾性体粉がノズルに侵入したり、ノズル面に付着すると、それが塗布液に混入して、基板に形成される膜の品質を損ねてしまうことがある。また、弾性体ブレードの劣化等によって掻き取りが不完全になる場合がある。さらには、弾性体ブレード自体に付着した余剰塗布液を除去することが難しいことがあり、そして、掻き取った余剰液が再びインクジェットヘッドのノズル面に付着してしまうことがある。【０００７】
そのような弾性体ブレードの問題を避けるべく、特許文献２では、吸水性を有する帯状の清掃体を間欠搬送して、ヘッドのノズル面に押し付ける手法が提案されている。この手法によれば、ヘッドのノズル面に余剰吐出液が残ることを防止できるので、拭き取った後のノズル面からの溶液の吐出を安定させることができる。また、清掃体を間欠搬送させることによって、溶液の付着していない清掃体でノズル面を清掃することができるので、拭き取り性能を向上させることができる。【０００８】
ただし、特許文献２に開示された手法では、帯状の清掃体を間欠搬送してノズル面に押し付けることから、インクジェット塗布装置の構造が複雑になるという問題がある。すなわち、帯状の清掃体を供給するための供給リール、帯状の清掃体をノズル面の前面に繰り出す繰り出し機構、その清掃体をノズル面に押し付けるローラ、清掃体の巻取リールなどが必要となる。【０００９】
インクジェット塗布装置の構造が複雑になると、装置のコストが上がるだけでなく、装置の故障の要因も増えることになる。また、清掃体を間欠搬送した場合、確かに拭き取り性能は向上させることができるが、清掃体の消費量が増大してコスト高になってしまう。このことは、ひいては、液晶パネルの製造コストの増大につながる。【００１０】
本願発明者は、清掃体の消費量を抑えるべく、帯状の清掃体を供給リールから供給するのではなく、吸水シートで凸状形状を作り、それによって、インクジェットヘッドのノズル面をワイピングする手法を検討した。【００１１】
図１は、本願発明者が検討したワイピング手法を説明するための工程断面図（模式図）である。図１には、複数のインクジェットヘッド１０００が示されており、ヘッド１０００の下面にはノズル面（吐出面）１１００が位置している。塗布液（例えば、ポリイミド液）を吸収可能な吸水シート１２１０からなる拭き取り部１２００は凸状形状をしており、吸水シート１２１０は保持部１２５０によって保持されている。【００１２】
ヘッド１０００のノズル面１１００から塗布液の吐出が終わると、ノズル面１１００に残存している余剰の塗布液を掻き取るために、矢印１５００のように拭き取り部１２００を移動させて、ワイピング動作をする。このワイピングによって、凸状形状の拭き取り部１２００の先端がノズル面１１００に接触して、拭き取り部１２００による拭き取りが行われる。【００１３】
吸水シート１２１０からなる拭き取り部１２００を用いたワイピング手法によれば、清掃体（吸水シート）の消費量を大幅に低減することができる。すなわち、吸水シート１２１０からなる拭き取り部１２００は、余剰塗布液を何度も拭き取って吸収することができるので、繰り返しワイピング動作を行うことができる。また、吸水シート１２１０からなる拭き取り部１２００は弾力性もあるため、その弾力性を利用して、凸状形状の拭き取り部１２００の先端をノズル面１１００に押し込み、それによって、良好に拭き取りを行うことができる。【００１４】
しかしながら、拭き取り部１２００によるワイピング動作を繰り返すと、拭き取り部１２００を構成する吸水シート１２１０の吸水能力を超えてしまい、そのうちに、拭き取り部１２００の拭き取り能力が低下してしまう。拭き取り部１２００の拭き取り能力が低下すると、拭き取り不良が発生しやすくなり、その結果、膜形成の歩留まり低下をもたらす。したがって、ワイピング動作を連続して行う場合には、拭き取り部１２００の拭き取り能力が低下することを予測して、拭き取り部１２００を交換することが必要となる。拭き取り部１２００の交換は、製造ラインを停止して行う必要があるため、膜形成工程のスループットが低下してしまう。ここで、拭き取り部１２００が塗布液を吸収する能力を向上させることができれば、拭き取り部１２００の交換を減らすことができ、その結果、膜形成工程のスループットの低下を抑制することができる。【００１５】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、吸水シートの消費量を低減しつつ、良好な拭き取り性を維持できる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明に係る塗布装置は、基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する塗布装置であり、前記基板に前記溶液を吐出するノズルを含むヘッドユニットと、前記ヘッドユニットにおける前記ノズルをワイピングするワイピングユニットとを備え、前記ワイピングユニットは、前記ノズルの吐出面を拭き取る拭き取り部を有しており、前記拭き取り部は、前記吐出面に残存する前記溶液を掻き取るブレード部と、前記吐出面に残存する溶液を吸収する吸水シート部とを含んでおり、前記ブレード部の高さは、前記吸水シート部の高さよりも低い。
ある好適な実施形態において、前記拭き取り部が前記吐出面を拭き取る際において、前記ブレード部は、前記吸水シート部よりも前記拭き取り部の進行方向の前方に配置されており、前記ブレード部は、前記吐出面に非接触で前記溶液を掻き取るように前記拭き取り部において配置され、前記吸水シート部は、前記吐出面に接触しながら前記溶液を吸収するように前記拭き取り部において配置されている。
ある好適な実施形態において、さらに、前記基板を保持するステージユニットを備え、前記基板は、液晶パネル用のガラス基板であり、前記溶液は、ポリイミド液である。
本発明に係る塗布方法は、基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する塗布方法であり、ノズルを用いて前記基板に溶液を吐出する工程と、前記ノズルの吐出面をワイピングする工程とを含み、前記ワイピング工程において、前記ノズルの吐出面に残留する溶液を、ブレード部で掻き取った後に、吸水シートから構成された吸水シート部で接触させて吸収するステップを実行する。
ある好適な実施形態において、前記ブレード部は、前記吐出面に対して非接触な状態で前記溶液を掻き取り、前記吸水シート部は、前記吐出面に押し付けるように接触されて、前記溶液を吸収する。
ある好適な実施形態において、前記基板は、液晶パネル用のガラス基板であり、前記吐出する工程において、配向膜が形成される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、基板に溶液を吐出するノズルの吐出面を拭き取る拭き取り部が、ブレード部と吸水シート部とを含んでおり、ブレード部の高さが吸水シート部の高さよりも低くされているので、ブレード部で残存する溶液を掻き取った後に、吸水シート部で残りの溶液を拭き取ることができる。したがって、吸収シート部による吸収回数を向上させることができ、その結果、吸水シートの消費量を低減しつつ、良好な拭き取り性を維持することができる。
特に、ブレード部が吐出面に非接触で溶液を掻き取るようにした場合、ブレード部の厳密な位置合わせを大幅に簡略化することができ、それに加えて、吐出面とブレード部との摩擦を回避することができるので、ブレード部からの摩擦による粉体の発生を防止することができ、また、ブレード部の劣化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】ワイピング手法を説明するための工程断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る塗布装置１００の構成を説明するための側面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る塗布装置１００の構成を模式的に示した図である。
【図４】（ａ）および（ｂ）は、本発明の実施形態に係るワイピング工程について説明する工程図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）は、本発明の実施形態に係るワイピング工程について説明する工程図である。
【図６】（ａ）および（ｂ）は、本発明の実施形態に係る塗布方法について説明する工程図である。
【図７】本発明の実施形態に係るワイピングユニット２０の改変例を説明するための側面図である。
【図８】本発明の実施形態に係るワイピングユニット２０の改変例を説明するための側面図である。
【図９】本発明の実施形態に係るワイピングユニット２０の改変例を説明するための側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。以下の図面においては、説明の簡潔化のために、実質的に同一の機能を有する構成要素を同一の参照符号で示す。なお、本発明は以下の実施形態に限定されない。
【００２０】
図２は、本実施形態の塗布装置１００の構成を模式的に示している。本実施形態の塗布装置１００は、基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する装置（インクジェット塗布装置）である。
【００２１】
本実施形態の塗布装置１００は、基板に溶液を吐出するノズル１２を含むヘッドユニット１０と、ヘッドユニット１０におけるノズル１２をワイピングするワイピングユニット２０とから構成されている。
【００２２】
ヘッドユニット１０は、基板に溶液を吐出するノズル１２が形成されたヘッド（インクジェットヘッド）１１を備えている。ヘッド１１は、ノズル１２から溶液が吐出される面（吐出面）１２ａを有している。１個のヘッド１１には、１つ又は複数のノズル１２が形成されており、図２に示した例では、２個のヘッド１１がヘッドカバー１３に収納された構造を示している。
【００２３】
ワイピングユニット２０は、ノズル１２の吐出面１２ａを拭き取る拭き取り部２０ａを有している。拭き取り部２０ａは、吐出面１２ａに残存する溶液を掻き取るブレード部２１と、吐出面１２ａに残存する溶液を吸収する吸水シート部２２とを含んでいる。ブレード部２１の高さ（２１ｔ）は、吸水シート部２２の高さ（２２ｔ）よりも低くなっている。
【００２４】
本実施形態では、吸水シート部２２の頂部（又は頂点）を吐出面１２ａに接触させると、ブレード部２１の頂部（又は頂点）は、吐出面１２ａとの間に隙間２５が生じるようになっている。なお、ここでの「ブレード部２１の高さ」および「吸水シート部２２の高さ」における「高さ」は、ブレード部２１および吸水シート部２２の本体の鉛直方向長さを意味するものではなく、吐出面１２ａを基準面（天井面）としたときの高さ（すなわち、吐出面１２ａに近い方が高いこと）を意味している。ブレード部２１の高さ（２１ｔ）と、吸水シート部２２の高さ（２２ｔ）との差（隙間２５）は、例えば４ｍｍである。
【００２５】
本実施形態におけるブレード部２１は、弾性体材料から構成されている。ブレード部２１は、保持部２４によって保持されて固定されている。このブレード部２１によって、吐出面１２ａに残存する溶液を掻き取ることができる。また、本実施形態の吸水シート部２２は、溶液（塗布液）を吸水可能な吸水シートから構成され、凸状形状をしている。吸水シート部２２は、保持部２４によって保持されて固定されている。吸水シートから構成された吸水シート部２２は、弾力性を有しており、吸水シート部２２を吐出面１２ａに接触させた際には、その弾力性を利用することによって、吐出面１２ａに残留する溶液（塗布液）の拭き取りを良好に行うことができる。
【００２６】
ワイピングユニット２０による拭き取り動作（ワイピング動作）は、拭き取り部２０ａを吐出面１２ａに近接した状態で矢印５０の方向（ワイピング方向）に移動させることによって実行することができる。具体的には、拭き取り部２０ａが吐出面１２ａの拭き取りを行う際に、ブレード部２１は、吸水シート部２２よりも、拭き取り部２０ａの進行方向（ワイピング方向）５０の前方に配置されている。本実施形態の構成では、ブレード部２１は、吐出面１２ａに非接触で溶液を掻き取るように、保持部２４で固定されている。また、吸水シート部２２は、吐出面１２ａに接触しながら溶液を吸収するように保持部２４で固定されている。
【００２７】
本実施形態の構成によれば、一回のワイピング動作で、まず、ブレード部２１が吐出面１２ａにおいて残存する溶液を掻き取り、次いで、吸水シート部２２で残りの溶液を拭き取ることができる。先に、ブレード部２１で溶液を掻き取った後に、吸水シート部２２で吸水するので、ブレード部２１なしで吸水シート部２２だけで吸水する場合と比較して、一回のワイピング動作において、吸水シート部２２の溶液の吸収量を減らすことができる。したがって、吸収シート部２２による吸収回数を向上させることができ、その結果、吸水シートの消費量を低減しつつ、良好な拭き取り性を維持することができる。換言すると、吸水シート部２２の連続ワイピング動作時間を延ばすことができる結果、良好な拭き取り性を維持しながら吸水シート部２２の交換時期を延ばすことができるので、吸水シート部２２を構成する吸水シートの消費量を低減することができる。さらには、帯状の吸水シートを間欠搬送してワイピング動作する手法と比較すると、吸水シートの消費量をさらに大幅に低減することができる。
【００２８】
さらに、本実施形態の構成では、ブレード部２１の高さが吸水シート部２２の高さよりも低くされているので、吸水シート部２２は吐出面１２ａに接触させるとともに、吸水シート部２２よりも先にワイピングするブレード部２１は、吐出面１２ａに接触させない状態で、吐出面１２ａに残留した溶液を掻き取ることができる。
【００２９】
また、本実施形態の構成では、ブレード部２１の厳密な位置合わせを大幅に簡略化することができる。さらに説明すると、ブレード部２１だけで、吐出面１２ａに残留する溶液を掻き取る場合には、ブレード部２１の先端と吐出面１２ａとの位置合わせを厳密に行わないと良好なワイピングをすることができない。しかしながら、本実施形態の構成では、ブレード部２１のワイピングの後に、吸水シート部２２のワイピングを実行するので、最初のブレード部２１のワイピングだけで吐出面１２ａに残留する溶液を完全に除去してしまわなくてもよい。したがって、ブレード部２１の厳密な位置合わせを簡略化することが可能となる。
【００３０】
加えて、ブレード部２１が吐出面１２ａに対して非接触で溶液を掻き取るようにした場合には、吐出面１２ａとブレード部２１との摩擦を回避することができる。したがって、ブレード部２１からの摩擦によって生じる粉体の発生を防止することができ、また、ブレード部２１の劣化を抑制することができる。
【００３１】
なお、吸水シート部２２のワイピングにおいては、吸水シート部２２を吐出面１２ａの側に押し込んで押圧した状態にすることも多い。その場合には、押圧させる前の吸水シート部２２の頂部とブレード部２１の頂部との高さの差（隙間２５）が生じていても、押圧時においては、吸水シート部２２とブレード部２１とを共に吐出面１２ａに接触させることが可能である。また、塗布装置１００の動作の公差（誤差）によっては、ブレード部２１が吐出面１２ａに接触する場合もあり得るが、もともと、ブレード部２１は、吐出面１２ａに接触させて残留した溶液を掻き取るものであるので、ブレード部２１が吐出面１２ａに接触したとしても、問題なくワイピング動作を行うことができる。
【００３２】
次に、図３を参照しながら、本実施形態のインクジェット塗布装置１００の一例を説明する。図３は、本実施形態のインクジェット塗布装置１００の構成を模式的に示した図である。
【００３３】
図３に示したインクジェット塗布装置１００は、インクジェットヘッド１１を含むヘッドユニット１０と、ヘッド１１のノズル１２をワイピングするワイピングユニット２０とから構成されている。ノズル１２から吐出された溶液（塗布液）によって塗布が実行される基板９０は、ステージユニット３０にて保持される。
【００３４】
本実施形態では、ヘッドユニット１０とワイピングユニット２０とステージユニット３０とは、フィルタ付きのクリーンルーム内に設置することができる。ヘッドユニット１０は、タンクユニット（不図示）と接続されており、タンクユニットからヘッドユニット１０に溶液（塗布液）が供給される。タンクユニットには廃液タンクを配置することが可能である。また、インクジェット塗布装置１００の塗布工程およびワイピング工程は、クリーンルームの外に配置されたコンピュータ（例えば、パーソナルコンピュータ）によって制御することができる。
【００３５】
ノズル１２からの溶液で成膜される基板９０は、ステージユニット３０のステージ３２の上に載置される。また、ステージユニット３０は、基板９０をステージ３２に載置した状態で移動可能なステージ移動機構３５を備えている。ステージ移動機構３５によって、インクジェットヘッド１１のノズル１２の直下に基板９０を移動させることができる。
【００３６】
基板９０は、例えば、ガラス基板であり、本実施形態における基板９０は、液晶パネル用のガラス基板である。また、基板９０は、液晶パネルの寸法に切り出す前のマザーガラスであってもよいし、切り出した後の液晶パネルのサイズのガラスであってもよい。さらに、基板９０は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が作製されるアレイ基板（またはその作製途中のもの）であってもよいし、カラーフィルタ（ＣＦ）が形成されるＣＦ基板（またはその作製途中のもの）であってもよい。なお、基板９０は、ガラス基板の他、樹脂基板や、ウェハのような他の薄板であっても構わない。加えて、液晶パネル用の基板９０に限らず、ＰＤＰ、有機ＥＬパネル、その他フラットパネルディスプレイまたは電子デバイスを製作する上での薄型の基板であってもよい。
【００３７】
ワイピングユニット２０には、ブレード部２１と吸水シート部２２とが設けられており、ブレード部２１と吸水シート部２２とによって拭き取り部２０ａが構成されている。ブレード部２１と吸水シート部２２とは、保持部２４によって保持されている。ブレード部２１と吸水シート部２２は、一つの保持部２４によって固定されていてもよいし、別々の保持部２４を合わせた形態で両者を固定してもよい。
【００３８】
図示した例では、ワイピングユニット２０は、ステージ移動機構３５に連結されており、ステージ移動機構３５によってワイピングユニット２０を移動させることが可能である。なお、ワイピングユニット２０をステージ移動機構３５に連結せずに、ワイピングユニット２０を移動させる機構を設けた構成にすることも可能である。また、ステージ移動機構３５によって基板９０をインクジェットヘッド１１の直下に移動させる構成でなく、インクジェットヘッド１１を移動させる構成を採用することも可能である。
【００３９】
次に、図４（ａ）から図５（ｂ）を参照しながら、ノズル１２をワイピングする工程について説明する。図４（ａ）から図５（ｂ）は、本実施形態のワイピング工程を説明するための工程図である。
【００４０】
インクジェットヘッド１１のノズル１２の吐出面１２ａに、溶液（塗布液）が残留していると、ノズル１２の吐出口（オリフィス）の液面が不均一になり、その結果、ノズル１２から吐出される液滴が安定しなくなる。それゆえ、前回の塗布工程が終了したら、次の塗布工程を実行する前に、ノズル１２のワイピングが実行される。
【００４１】
まず、図４（ａ）に示すように、ノズル１２の近傍に、ワイピングユニット２０を配置する。ワイピングユニット２０には、ブレード部２１と吸水シート部２２とを含む拭き取り部２０ａが設けられている。
【００４２】
次に、図４（ｂ）に示すように、ワイピングユニット２０のブレード部２１を、吐出面（ノズル面）１２ａに近接させて、吐出面１２ａに残留している溶液を掻き取る。具体的には、吐出面１２ａに僅かに距離（例えば、１ｍｍ〜５ｍｍ）をあけてブレード部２１の先端を配置し、その状態で、矢印５０の方向（ワイピング方向）に移動させる。すると、ブレード部２１によるワイピング動作が実行され、吐出面１２ａに残留していた溶液（例えば、ポリイミド溶液）が掻き取られる。
【００４３】
次に、図５（ａ）に示すように、ブレード部２１による掻き取りに続いて、ワイピングユニット２０の吸水シート部２２による拭き取りを実行する。具体的には、吸水シート部２２を吐出面１２ａに接触させ、その状態で、矢印５０の方向（ワイピング方向）に移動させる。すると、吸水シート部２２によるワイピング動作が実行され、ブレード部２１の掻き取りの後でも残留している溶液を吸収して、吐出面１２ａから溶液を除去することができる。また、本実施形態の構成では、吸水シート部２２は弾力性を有しているので、その弾力性を利用して、吸水シート部２２が吐出面１２ａに押し当てられた時に、ノズル１２の吐出口への密着性を良好にすることが可能である。
【００４４】
その後は、図５（ｂ）に示すように、ワイピングユニット２０は、インクジェットヘッド１１から離れていく。図４（ａ）から図５（ｂ）に示した一連のワイピング工程が実行されるごとに、ブレード部２１が溶液を掻き取るとともに、吸水シート部２２が溶液を吸収していく。ただし、本実施形態の構成では、先にブレード部２１の掻き取りの後に、吸水シート部２２の吸収が実行されるので、吸水シート部２２の吸水力（溶液保持能力）に変化がなくとも、ワイピング一回における溶液吸収量が少ないので、吸水シート部２２の連続使用時間を顕著に長くすることができる。
【００４５】
次に、図６（ａ）および（ｂ）を参照しながら、本実施形態の塗布方法について説明する。図６（ａ）および（ｂ）は、本実施形態の塗布方法を説明するための工程図である。
【００４６】
まず、図６（ａ）に示すように、これから塗布を実行する基板９０をステージ３２の上に配置する。この基板９０を準備した状態で、ワイピングユニット２０を用いてインクジェットヘッド１１のワイピングを行う。具体的には、図４（ａ）から図５（ｂ）に示したようにして、ブレード部２１と吸水シート部２２とを含む拭き取り部２０ａを用いてノズル１２の吐出面１２ａのワイピングを実行し、吐出面１２ａに残留している溶液（塗布液）の拭き取りを行う。
【００４７】
図６（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド１１のノズル１２から溶液１６を吐出することによって、基板９０上に機能膜（例えば、ポリイミドからなる配向膜）を形成する。具体的には、ステージ３２上に配置された基板９０を移動させて（矢印５５参照）、所定領域に機能膜を形成していく。なお、基板９０を移動させる手法に限らず、インクジェットヘッド１１を移動させて、機能膜を形成しても構わない。また、インクジェットヘッド１１による機能膜の形成が完了した後に、次の成膜工程を実行する場合には、再び、図６（ａ）に示したようなワイピング工程が実行される。
【００４８】
本実施形態の塗布方法によれば、ノズル１２を用いて基板９０に溶液（塗布液）を吐出する工程と、ノズル１２をワイピングする工程とを含んでおり、ワイピング工程において、ノズル１２の吐出面１２ａに残留する溶液（塗布液）を、ブレード部２１で掻き取った後に、吸水シート部２２で接触させて吸収するステップを実行する。したがって、ワイピング工程を繰り返し行っても、ブレード部２１が存在しない場合と比較して、吸水シート部２２の連続ワイピング回数を増加させることができるので、拭き取り部２０ａの連続動作時間を長くすることができる。その結果、吸水シートの消費量を低減しつつ、ワイピング工程における良好な拭き取り性を維持することができるとともに、吸水シート部２２の交換期間を長くすることができるので、製造品（例えば、液晶パネル）のスループットを向上させることができる。もちろん、ワイピング工程における吸水シートの消費量を減らすことができるので、製造品（例えば、液晶パネル）の製造コストの増大を抑制することができる。
【００４９】
以上、本発明を好適な実施形態により説明してきたが、こうした記述は限定事項ではなく、勿論、種々の改変が可能である。例えば、ブレード部２１は、図２に示した形状（進行方向５０に向かって高さが低くなるテーパー形状）に限らず、他の形状のものを採用することが可能である。
【００５０】
図７に示した構成例は、ブレード部２１の頂部が平担な形状を有しているものである。なお、図７に示したブレード部２１の本体は、湾曲した構成となっている。また、図８に示した構成例では、ブレード部２１の先端部の形状が、進行方向５０の逆方向に向かって高さが低くなるテーパー形状を有している。さらに、図９示した構成例では、ブレード部２１の先端部の形状が尖った形状を有している。
【００５１】
本実施形態の構成では、上述したように、ブレード部２１の先端を吐出面１２ａに非接触な状態でワイピング動作を実行させることが可能である。したがって、ブレード部２１を接触させてワイピング動作を実行させる形態と比較すると、ブレード部２１の設計自由度は比較的大きく、それゆえに、ワイピング動作の条件などに応じて、適宜好適な形状を採用することができる。また、吸水シート部２２の形状も、例えば図２に示したものに限らず、適切なワイピング動作を実行することができるのであれば、適宜好適なものを採用することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明によれば、吸水シートの消費量を低減しつつ、良好な拭き取り性を維持できる塗布装置および塗布方法を提供することができる。
【符号の説明】
【００５３】
１０ ヘッドユニット
１１ インクジェットヘッド
１２ ノズル
１２ａ 吐出面
１３ ヘッドカバー
１６ 溶液
２０ ワイピングユニット
２０ａ 拭き取り部
２１ ブレード部
２２ 吸水シート部
２４ 保持部
２５ 隙間
３０ ステージユニット
３２ ステージ
３５ ステージ移動機構
５０ 進行方向
９０ 基板
１００ インクジェット塗布装置
１０００ インクジェットヘッド
【図１】
2011033863.tif 000003
【図２】
2011033863.tif 000004
【図３】
2011033863.tif 000005
【図４】
2011033863.tif 000006
【図５】
2011033863.tif 000007
【図６】
2011033863.tif 000008
【図７】
2011033863.tif 000009
【図８】
2011033863.tif 000010
【図９】
2011033863.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月27日(2012.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する塗布装置であって、
前記基板に前記溶液を吐出するノズルを含むヘッドユニットと、
前記ヘッドユニットにおける前記ノズルをワイピングするワイピングユニットと
を備え、
前記ワイピングユニットは、前記ノズルの吐出面を拭き取る拭き取り部を有しており、
前記拭き取り部は、
前記吐出面に残存する前記溶液を掻き取るブレード部と、
前記吐出面に残存する溶液を吸収する吸水シート部と
を含んでおり、
前記ブレード部の高さは、前記吸水シート部の高さよりも低く、
前記拭き取り部が前記吐出面を拭き取る際において、前記ブレード部は、前記吸水シート部よりも前記拭き取り部の進行方向の前方に配置されており、
前記ブレード部は、前記吐出面に非接触で前記溶液を掻き取るように前記拭き取り部において配置され、
前記吸水シート部は、前記吐出面に接触しながら前記溶液を吸収するように前記拭き取り部において配置され、
前記ブレード部の先端は、前記吐出面に僅かに距離をあけて配置されている、塗布装置。
【請求項２】
さらに、前記基板を保持するステージユニットを備え、
前記基板は、液晶パネル用のガラス基板であり、
前記溶液は、ポリイミド液である、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する塗布方法であって、
ノズルを用いて前記基板に溶液を吐出する工程と、
前記ノズルの吐出面をワイピングする工程と
を含み、
前記ワイピング工程において、
前記ノズルの吐出面に残留する溶液を、ブレード部で掻き取った後に、吸水シートから構成された吸水シート部で接触させて吸収するステップを実行し、
前記ブレード部は、前記吐出面に対して非接触な状態で前記溶液を掻き取り、
前記吸水シート部は、前記吐出面に押し付けるように接触されて、前記溶液を吸収し、
前記ブレード部の先端は、前記吐出面に僅かに距離をあけて配置されている、塗布方法。
【請求項４】
前記基板は、液晶パネル用のガラス基板であり、
前記吐出する工程において、配向膜が形成される、請求項３に記載の塗布方法。
【国際調査報告】
2011033863.tif 000012
2011033863.tif 000013
2011033863.tif 000014
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