(57)【要約】  本発明は、液体金属を真空チャンバ内の蒸発装置に供給するための装置に関するものであり、液体金属を収容するように構成された容器と、密閉容器から蒸発装置への供給管（１５）と、供給管に設けられた電磁ポンプ（１６）とを備え、該電磁ポンプは真空筐体（１８）内に配置される、液体金属を真空チャンバ内の蒸発装置に供給するための装置に関するものである。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内の蒸発装置に液体金属を供給するための装置であって、液体金属を収容するように構成された容器と、前記容器から蒸発装置への供給管と、前記供給管に設けられた電磁ポンプとをさらに備え、前記電磁ポンプを収容する真空筐体が設けられていることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記真空筐体は、前記供給管の少なくとも一部を包囲する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記真空筐体は、前記真空チャンバおよび／または前記容器に接続される、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記真空筐体は、可撓性接続部材によって、前記真空チャンバおよび／または液体金属を包囲するように構成された前記容器に接続される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記電磁ポンプが少なくとも部分的に導電材料から形成される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記電磁ポンプは、少なくとも部分的にグラファイトから形成される、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記電磁ポンプの前記電極は前記ポンプに対して設けられる、請求項５または６に記載の装置。
【請求項８】
制御手段が設けられ、前記液体金属を収容するように構成された前記容器内の前記液体金属への力を制御する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
液体金属を収容するように構成された前記容器は密閉容器であり、前記制御手段は前記密閉容器内のガスの圧力を制御する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記電磁ポンプの前記磁場を制御する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記電磁ポンプに対する前記磁極の距離を制御し、および／または、前記磁場が直流電磁石または交流電磁石によって供給される場合に、前記電磁石の前記コイルを通る前記電流を制御する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記磁石が前記真空筐体の外側に設けられている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
前記電磁ポンプに磁場を印加するための前記磁石が永久磁石を備える、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
前記電磁ポンプと前記蒸発装置との間の前記供給管に弁が設けられている、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
戻り管と、前記戻り管内の電磁ポンプとが設けられており、前記戻り管は、前記蒸発装置から前記容器へと敷設されている、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記供給管内の前記電磁ポンプと前記戻り管内の前記電磁ポンプは互いに隣接して配置され、両電磁ポンプのための前記磁場は同じ磁石によって供給される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記供給管内の前記電磁ポンプと前記戻り管内の前記電磁ポンプは互いに隣接して配置され、両電磁ポンプのための前記電流は同じ電源によって供給される、請求項１５に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空チャンバ内の蒸発装置に液体金属を供給するための装置に関する。このような装置は、例えば、物理的蒸着（ＰＶＤ）による基板上への金属コーティングの蒸着に使用される。
【背景技術】
【０００２】
工業規模での連続または半連続的なＰＶＤコーティングの工程では、経年的に多量のコーティング材料を処理することができる真空コーティング設備が必要とされている。さらに、熱蒸発を使用する場合、蒸発装置内の液体の温度は、蒸発させる材料の融点よりもはるかに高い温度である必要がある。したがって、小型蒸発装置を有すること、および蒸発装置に材料を供給して需要を満たすことが望ましく、費用対効果が高い。材料は、固体または液体のいずれかの状態で供給を行うことができる。しかし、最良の方法は、蒸発器中の酸化物含有量が最小化するという利点、および溶融物の潜熱や材料の比熱を蒸発装置で補う必要がないという利点を有する大型液体リザーバから液体金属を供給することである。
【０００３】
米国特許第２６６４８５２号明細書に開示されたＰＶＤコーティング装置は、真空チャンバ内に液体金属用のリザーバを有する。この設備では、作用期間の最大値は非常に限られている。より最近のＰＶＤコーティング装置において、液体金属リザーバは、真空チャンバの外側に配置されるが、例えば国際公開第２０１２０８１７３８号パンフレットを参照されたい。しかし、蒸発装置での真空と液体金属リザーバとの圧力差により、制御すべきリザーバ内の液体金属に対して力がかかる。この力は、リザーバ内の液体レベルが低下するか、蒸発装置における真空圧力が変化するか、或いは、蒸発装置内のレベルが変化したために蒸発装置への一定の供給を維持して一定の蒸発を確保する制御が必要となったときに変化する。
【０００４】
液体金属容器から蒸発装置への液体金属の供給は、異なる方法で制御することができる。米国特許第３０５９６１２号明細書では、蒸発装置内の液体金属表面と液体金属容器内のレベルとの間の高さの差を一定に維持するために、液体金属の容器を上昇させることが開示されている。しかし、気圧の変化により、ただでさえ蒸発装置におけるレベルが変わるため、結果として蒸発の変化を生じさせることになる。
【０００５】
米国特許第３５８１７６６号明細書では、主液体金属容器と蒸発装置との間に追加のリザーバが設けられる。この中間リザーバでは、液体が中間リザーバから主液体金属容器に戻るオーバーフロードレインによって、レベルが一定に保たれる。しかし、気圧が変化する問題は依然として存在しており、真空を破ることなくシステムを開始または停止する方法は困難であることが明らかにされている。したがって、まず、液体金属容器と蒸発装置との間には、弁が必要とされるが、例えば、国際公開第２０１２０８１７３８号パンフレットを参照されたい。このような弁を使用して流量を制御することが試みられているが、これは実用的ではなく、また、真空を破らずに実験の最後に蒸発装置を空にすることは不可能である。国際公開第２０１３１４３６９２号パンフレットでは、流れを制御するために弁とポンプの両方を使用するという、より良い解決法が開示されている。
【０００６】
しかし、上記の公報には記載されていない他の問題も依然として存在する。真空チャンバの外側に配置されたリザーバの問題の１つは、供給管が真空チャンバの壁を通過する必要があるということに関連している。供給管による供給は、設備全体の加熱中に生じる膨張差を吸収できなければならないが、チャンバ内の真空状態に影響を与えるべきではない。これは、ベローズ型の接続によって達成できるが、（例えば、英国特許第１２２００２０号明細書を参照）、この設備は、溶融物を凍結させ、閉塞などを生じさせる可能性のあるコールドスポットを生成しないことが重要である。
【０００７】
もう１つの要件は、全ての管および電磁ポンプが必要な温度に加熱され、運転中にその温度に維持されるべきであるということである。特に、電磁ポンプの加熱は、電磁ポンプの構造上、ポンプ内にコールドスポットが起こりやすいため、特別な注意が必要である。
【０００８】
リザーバが外側に配置されていることによる別の問題は、蒸発器または管に導入され、蒸発または閉塞の問題を引き起こし得る液体容器からの酸化物による供給システムの汚染の可能性である。特開昭５９３８３７９号では、還元性ガスを使用して酸化物を除去する開始手順が記載されている。しかし、これはあらゆる種類の液体に対して機能するわけではなく、真空はこの工程中に変化する。
【０００９】
また別の要件は、全ての管が必要な温度に加熱されるべきであり、さらに米国特許第３４０８２２４号明細書で述べられているように、蒸着前に液体材料を脱気して、蒸発工程を妨害し得る脱気が蒸発器に生じないようにする必要があることである。
【００１０】
最後に、国際公開第２０１５０６７６６２号パンフレットに開示された方法により、真空を破ることなく蒸発器を排水できるようになるが、それは、追加の対策なしには、システム内の全ての管を空にすることはできない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】米国特許第２６６４８５２号明細書
【特許文献２】国際公開第２０１２０８１７３８号パンフレット
【特許文献３】米国特許第３０５９６１２号明細書
【特許文献４】国際公開第２０１３１４３６９２号パンフレット
【特許文献５】英国特許第１２２００２０号明細書
【特許文献６】特開昭５９３８３７９号
【特許文献７】国際公開第２０１５０６７６６２号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、十分に加熱した電磁ポンプを有する蒸発装置に液体金属を供給するための装置を提供することである。
【００１３】
本発明の別の目的は、十分に加熱したシステムの管を有する蒸発装置に液体金属を供給するための装置を提供することである。
【００１４】
本発明の別の目的は、電磁ポンプとシステムの管の熱損失がさらに制限された蒸発装置に液体金属を供給するための装置を提供することである。
【００１５】
本発明の別の目的は、供給管を通して供給することによる真空チャンバの圧力損失をできる限り防止した蒸発装置に液体金属を供給するための装置を提供することである。
【００１６】
本発明の別の目的は、供給管を通して供給することによる液体金属容器の圧力損失をできる限り防止した蒸発装置に液体金属を供給するための装置を提供することである。
【００１７】
本発明の別の目的は、真空チャンバ内の真空を損失することなく、供給管と電磁ポンプを空にすることができる蒸発装置に液体金属を供給するための装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の第１の態様によると、さらに、液体金属を収容するように構成された容器と、容器から蒸発装置への供給管と、供給管に設けられた電磁ポンプを備え、電磁ポンプを収容する真空筐体が設けられた真空チャンバ内の蒸発装置に液体金属を供給するための装置を提供することにより、本発明の１つ以上の目的が実現する。
【００１９】
このような真空筐体では熱対流による熱損失が大きく減少するため、電磁ポンプの熱損失が小さくなる。
【００２０】
本発明のさらなる態様によれば、真空筐体は、供給管の少なくとも一部を包囲することを特徴とする。供給管の少なくとも一部は、液体金属および真空チャンバを含むように構成された密閉容器の外側にある限り、供給管に部分的または全体的に関係する。
【００２１】
真空筐体は、真空チャンバおよび／または密閉容器に接続されることが好ましい。この設備により、密閉容器と真空チャンバの外側にある供給管全体が真空筐体内にある。
【００２２】
本発明のさらなる態様によれば、真空筐体は、可撓性接続部材によって真空チャンバおよび／または容器に接続されることを特徴とするものである。この機能により、密閉容器、真空筐体、真空チャンバの各々または全ての膨張分を収容することができるようになる。
【００２３】
真空筐体内の電磁ポンプと供給管とにより、対流を介した熱損失は、密閉容器と真空チャンバとの間で最も多くの熱損失を与えるのみに制限されている。このようにして、電磁ポンプと供給管のコールドスポットが防止され、液体金属の流れが制限されたり、目詰まりが生じたりすることが防止される。
【００２４】
真空筐体内の圧力は１ミリバールから大気圧の範囲であり、これはおおよそ１０００ミリバールである。運転サイクルまたは装置のキャンペーンの開始と終了、すなわち供給管および電磁ポンプの充填と排出をそれぞれ伴う、真空筐体内の圧力は、おおよそ大気圧である。運転中、真空筐体内の圧力は、好ましくは、１〜２００ミリバールの範囲内に維持される。真空筐体内の圧力を低真空域に維持することにより、真空チャンバ内のガス漏れは、真空筐体がない場合よりもはるかに小さくなる。真空チャンバ内のこのような圧力損失は、供給管の真空チャンバ内への供給時に発生し、設備全体の異なる組成物の膨張差に影響される。
【００２５】
本発明のさらなる態様によると、電磁ポンプは、少なくとも部分的に導電材料で形成される。この特徴により、電磁ポンプに対して抵抗加熱を適用することができる。導電材料は、液体金属を圧送する用途にも適しているべきである。電磁ポンプは、１つ以上の導電材料から構成されている場合は、実用的ではなく、利点を有するよりも多くの問題を生じさせるが、その限りではない。
【００２６】
適した実施形態では、電磁ポンプは、少なくとも部分的にグラファイトで構成される。グラファイトは導電材料であり、高温に耐えることが可能であるとともに、亜鉛およびマグネシウムのような液体金属の化学的侵食に耐えることが可能である。
【００２７】
本発明の好ましい実施形態によれば、電磁ポンプの電極はポンプに対して設けられる。ポンプ本体の外部またはポンプ本体の凹部に電極を有することにより、電磁ポンプの制御に必要な電流は、電磁ポンプの本体を介した部分、そして、電磁ポンプで制御される液体金属を介した部分に対して伝導することができる。
【００２８】
電磁ポンプは、印加された磁場と液体金属を通る電流とに依存する液体金属に作用するローレンツ力によって、液体金属の流れを制御する。電磁ポンプを加熱するためには、液体金属の流れの制御とは無関係に電流を制御できることが必要である。これは、印加された磁場を制御することによって、または容器内の液体金属に作用する力を制御することによって、または両方を制御することによって、実施することができる。磁場の制御は、電磁ポンプ本体への磁極の距離を制御することによって、また、直流電磁石または交流電磁石の場合には、電磁石のコイルを通る電流を制御することによって行われる。
【００２９】
本発明のさらなる態様によれば、液体金属を収容するように構成された容器内の液体金属への力を制御する制御手段が設けられる。さらなる態様によると、液体金属を収容するように構成された容器は密閉された容器であり、制御手段は密閉容器内のガスの圧力を制御するものである。「密閉容器」という用語は、容器内のガスの圧力および／または組成が制御されるまたは制御できる容器を意味する。
【００３０】
密閉容器内の液体金属の圧力を変化させることにより、蒸発装置への液体金属の流量を変化させることができる。電磁ポンプを通る電流を変化させることによって、液体金属に作用する力が変化し、それにより流量が変化する。電磁ポンプの温度を調整する必要がある場合には、電磁ポンプを通る電流は調整しなければならず、また、同時に流量を調節する必要がある場合には、密閉容器内の液体金属の圧力を調整しなければならない場合もある。
【００３１】
特定の実施形態によれば、密閉容器内の液体金属の圧力は、電磁ポンプによって液体金属に作用する力が、蒸発装置への液体金属の流れ方向に対抗する力となるように制御される。この場合、電磁ポンプによる流量の制御は、蒸発装置への流れ方向に対抗する力によって決定される。この構成の利点は、流量が下がると自動的に温度が上昇することである。
流量が高い程、コールドスポットが凍結や閉塞の問題を引き起こすような変化が少なくなる。
【００３２】
本発明のさらなる態様によれば、制御手段が設けられ、電磁ポンプの磁場を制御する。磁場を変化させることにより、電磁ポンプによって液体金属に作用する力が変化する。
【００３３】
本発明のさらなる態様によれば、制御手段は、電磁ポンプに対する磁極の距離を制御し、および／または、磁場が直流電磁石または交流電磁石によって供給される場合に、電磁石のコイルを通る電流を制御する。
【００３４】
さらに、電磁ポンプの磁場を印加するための磁石が真空筐体の外側に設けられている。利点は、真空筐体のサイズが小さくなること、電磁石の場合にはフィードスルーが不要であること、永久磁石を使用する場合に特に関連する高温を有する空間の外側に磁石が存在することである。また、電磁ポンプへの磁極の距離を制御することにより磁場を制御する場合には、真空筐体の外側の磁石に対して施工が複雑化することが少なくなる。
【００３５】
電磁ポンプに磁場を印加する磁石を設けることによって、永久磁石をより簡単に構成することができる。
【００３６】
本発明のさらに別の態様によれば、電磁ポンプと蒸発装置との間の供給管に弁が設けられる。弁を使用すると、供給管が排水された後に供給管を閉じ、真空チャンバが密閉容器内の低真空または大気圧と接触することを防ぐことができる。
【００３７】
本発明のさらに別の態様によれば、戻り管と、戻り管内の電磁ポンプとが設けられており、戻り管は、蒸発装置から液体金属を収容するように構成された容器へと敷設されている。供給管と戻り管とを用いて、蒸発装置内の液体金属の組成を制御することができる。組成物の制御とは、組成物が可能な限り一定を保つことを意味し、成分の蒸発速度が異なることにより変化することはない。
【００３８】
本発明のさらなる態様によると、供給管内の電磁ポンプと戻り管内の電磁ポンプは互いに隣接して配置され、両電磁ポンプのための磁場は同じ磁石によって供給される。本発明の別の実施形態によると、供給管内の電磁ポンプと戻り管内の電磁ポンプは互いに隣接して配置され、両電磁ポンプのための電流は同じ電源によって供給される。
【００３９】
本発明について、下記の図に示す例によってさらに説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】液体金属用容器、真空筐体内の電磁ポンプおよび真空チャンバを備えた装置の概略図である。
【図２Ａ】供給管の電磁ポンプの概略図を示す。
【図２Ｂ】供給管の電磁ポンプおよび戻り管の電磁ポンプの概略図を示す。
【図２Ｃ】供給管の電磁ポンプおよび戻り管の電磁ポンプの概略図を示す。
【図３Ａ】電磁ポンプへの磁極の距離を制御するための２つの構成を概略的に示す。
【図３Ｂ】電磁ポンプへの磁極の距離を制御するための２つの構成を概略的に示す。
【図４】加熱手段を用いた供給管の詳細を概略的に示す。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
＜図面の詳細な説明＞
図１は、両側に真空ロック２、３を備える真空チャンバ１を備えた装置の概略図であり、ストリップ４は該装置を貫通するように誘導される。蒸発装置５は、真空チャンバ１の内側に配置され、蒸気分配器６に接続されている。誘導コイルなどの蒸発装置に十分なエネルギーを供給する手段も、真空チャンバの内部に配置される。理解を容易にするため、これらの手段は図面には示されていない。真空チャンバはさらに、真空ポンプ７と、圧力計８とを備えている。
【００４２】
図１の底部では、密閉容器９は容器内部に液体金属を保持する容器１０が設けられている。密閉容器９はさらにポンプ１１、圧力計１２、および過圧中継装置１３を備えている。容器には加熱手段（図示せず）が設けられ、金属を加熱して溶融させ、および／または液体金属を一定の温度で維持する。弁３２を有するガス源３１は密閉容器９に接続され、容器９内に最初から存在する空気を、例えば、Ｎ２などの非酸化性ガスと置換する。昇降手段１４が設けられ、容器１０を昇降させて、供給管１５の端部を液体金属の中に浸漬したり、液体金属から取り出したりする。昇降手段１４は、昇降させることにより、容器内の液体レベルと、蒸発装置内の液体レベルの距離が変わるので、液体金属の蒸発装置５への流量を制御するために使用することもできる。
【００４３】
容器１０は、容器１０の内容物の重量を連続的に測定することができる重量測定装置３５上に配置され、液体金属の流量および蒸発速度に関する付加的な情報を提供する。
【００４４】
ポンプ１１は、密閉容器内の圧力を低下させるために使用される。容器中の液体金属の酸化を防止するために、密閉容器内の空気を除去し、完全にまたは部分的に不活性ガスと置換することができる。この操作により、まず空気が、不活性ガスと置換される前に部分的に除去されて減圧され、その後、密閉容器内の圧力が調整および制御されて、蒸発装置への液体金属の流量を制御する。
【００４５】
供給管１５は、密閉容器９内の容器１０から上方向に、蒸発装置５に向かって敷設されており、供給管内には電磁ポンプ１６と弁１７が設けられている。電磁ポンプ１６および弁１７は、真空筐体１８の内部に配置されている。真空筐体１８は、運転中に低真空に維持されることにより、電磁ポンプ１６からの対流、および供給管１５からの対流による熱損失を大幅に防止する。そのために、真空筐体１８は真空ポンプ３４と圧力計３５、またはこれらの配列とを備えている。
【００４６】
真空筐体１８は、ベローズ１９、２０によって密閉容器９および真空チャンバ１に接続する。ベローズ１９、２０による接続は、密閉容器９および真空チャンバ１の外側であり、容器９および真空チャンバ１の内部空間は接続していない。しかし真空筐体１８内の真空度が低いため、供給管１５の真空チャンバ１内への供給時の避けられない真空漏れは非常に小さい。
【００４７】
電磁ポンプ１６であるポンプには、永久磁石２１が設けられており、電磁ポンプ内の液体金属を通して電流を流すための磁場および電源を生成する。磁場と電流によって生じるローレンツ力は液体金属に力を与え、液体金属の流量の制御に用いられる。ローレンツ力は、液体金属が電磁ポンプの電極２２と接触し、永久磁石２１の磁場中に存在する場合にのみ作用する。結果として、液体金属が下向きに押し出されると、液体金属レベルを電極の高さ付近のレベルより低くすることはできない。
【００４８】
磁石２１は、過熱されると磁場の強度を減少させるため、過熱されないことが重要である。そのため、磁石２１は真空筐体１８の外側に配置され、少なくとも磁石とその磁場の位置は非強磁性材料で形成されている。
【００４９】
液体金属の上向きの力は、下式により圧力差とカラムの高さによって求める。
Ｐ３−Ｐ１−（Ｘ−Ｙ）＊密度液体
（式中、
Ｐ３＝密閉容器内の圧力であり、
Ｐ１＝真空チャンバ内の圧力であり、
Ｘ＝蒸発装置または供給管内のどこかに存在する可能性がある液体金属の高さの上部レベルであり、
Ｙ＝密閉容器内の容器内の液体金属の高さレベルである。）
【００５０】
蒸発装置内の液体金属の蒸発が開始されると、液体金属の駆動力は次式のようになる。
Ｐ３−Ｐ４−（Ｘ−Ｙ）＊密度液体
（式中、Ｐ４は、真空チャンバ内の圧力よりも高くなる蒸気分配器６内の圧力である。）
【００５１】
電磁ポンプが液体金属の上向き流れに対して力を加えると、力は次式のようにして求められる。
Ｐ３−Ｐ１−（Ｘ−Ｙ）＊密度液体−Ｂ＊Ｉ＊Ｃ
（式中、Ｂは磁場であり、Ｉは液体金属を通る電流であり、Ｃは定数である。）蒸発が開始すると、式は次のように変化する。
Ｐ３−Ｐ４−（Ｘ−Ｙ）＊密度液体−Ｂ＊Ｉ＊Ｃ
【００５２】
電磁ポンプの加熱を増加させる必要がある場合、上向きの流れに対してより大きなローレンツ力を必要とするＰ３を増加させることにより、上向きの流れを一定に保つ。ローレンツ力をより大きくすることにより、電磁ポンプおよび液体金属を通して電流を増加させることができ、これにより抵抗加熱を更に提供することになる。
【００５３】
図２Ａは、電磁ポンプ１６の本体に対して対向する両側の電極２２を有する供給管１５用の電磁ポンプ１６の概略図である。電極２２は電源２３、この場合には可変ＤＣ電源に接続されている。
【００５４】
磁石２１の極は電極２２に対して垂直であり、この構成では磁石２１はヨーク（図示せず）によって接続された２つの永久磁石である。永久磁石の代わりに、電磁石を使用することも可能であり、例えばＤＣコイルを有する電磁石を使用することも可能である。コイルを通して電流を変化させることによって磁場を変化させることができる。
【００５５】
可変ＤＣ電源およびＤＣコイルの代わりに、電磁石に対して可変ＡＣ電源およびＡＣコイルを使用することも可能である。
【００５６】
図２Ｂは、互いに隣接する供給管１５および戻り管２４と、供給管１５および戻り管２４のそれぞれための電磁ポンプ１８および２５とを備えた、構成を示す。供給管１５と戻り管２４の両方の磁場は、同じ永久磁石２１を備えている。また、ローレンツ力は逆方向であるため、各電極に逆接続された供給管１５と戻り管２４とのそれぞれには別の可変ＤＣ電源２３および２６が設けられている。供給管１５と戻り管２４は、互いに熱的に接触しているが、互いに電気的に絶縁されている。戻り管の流量は、蒸発速度によって、供給管内の流量とは異なり、そのため、戻り管２４を通る電流は、供給管１５を通る電流よりも大きくなる。
【００５７】
図２Ｃは、供給管１５の電極２２と供給管２４の電極２２とが直列に接続され、そのため一方の電源２３のみが必要であり、同じ電流が両方の供給管を通過する構成を示す図である。各管内の流量を制御するために、各管１５および２４内の磁石２１および３６の磁場は別々に制御される。
【００５８】
図３Ａおよび３Ｂは、磁束を短絡させることによって、または磁極の電磁ポンプへの距離を変更することによって、永久磁石の磁場の強度を制御するための概略的な２つの構成を示す。図３Ａによる構成では、磁石２１の極間の磁束は、第２の脚部３８により磁束を短絡させることによって変化させることができる。磁束は、この第２の脚部の極間の距離を変化させることによって変化する。このため、ヨークの脚部３８は、このような直線的な変位を可能にするように設計されている。
【００５９】
図３Ｂによる構成では、磁石２１の極間の距離を変化させることによって、磁気強度を変化させることができる。これは、回転または直線変位によって変化させることができる。回転変位は図３Ｂに示されるが、ヨーク３７は旋回点３９と、回転を制御すると同時に磁石２１の極間の距離の変化を制御することができるスピンドル装置４０を備える。
【００６０】
図４は、チャネル２７および２つの異なる加熱形態を有する供給管１５のセグメントを概略的に示している。第１の加熱方法は、供給管の材料が抵抗として働く電源２８を用いた抵抗加熱による供給管の加熱である。第２の加熱方法は、供給管１５の穴または凹部に設けられている、電源３０を備えたシースヒータ２９による加熱である。電源２８および３０はＤＣまたはＡＣ電源であってもよい。これは実際には抵抗加熱であり、抵抗はシース内に封入され、供給管から電気的に絶縁される。
【００６１】
全ての管は、液体金属の融点より高い温度に加熱されなければならないが、溶融温度より４０℃高ければ概ね十分である。
【図１】
2019515141.tif 000003
【図２Ａ】
2019515141.tif 000004
【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３Ａ】
2019515141.tif 000007
【図３Ｂ】
2019515141.tif 000008
【図４】
2019515141.tif 000009
【国際調査報告】
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2019515141.tif 000011