【手続補正書】
【提出日】令和3年11月16日(2021.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、
（ａ）本質的にコバルトイオンから構成される金属イオン、及び
（ｂ）式Ｌ１
［Ｂ］ｎ［Ａ］ｐ        （Ｌ１）
の化合物を含むか、又は式Ｌ２
【化１】
2021503560.tif 000001
の化合物であるか、又は式Ｌ３ａ又はＬ３ｂ
【化２】
2021503560.tif 000002
の構造を含むか、又は式Ｌ４
φ−Ｒ１                （Ｌ４）
の構造、及びその塩を有するレベリング剤を含み、
Ｒ１が、Ｘ１−ＣＯ−Ｏ−Ｒ１１、Ｘ１−ＳＯ２−Ｏ−Ｒ１１、Ｘ１−ＰＯ（ＯＲ１１）２、及びＸ１−ＳＯ−Ｏ−Ｒ１１から選ばれ、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４が、独立して、Ｒ１、及び（ｉ）Ｈ、（ｉｉ）アリール、（ｉｉｉ）Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、（ｉｖ）アリールアルキル、（ｖ）アルキルアリール、及び（ｖｉ）−（Ｏ−Ｃ２Ｈ３Ｒ１２）ｍ−ＯＨから選ばれ、但し、Ｒ２、Ｒ３、又はＲ４の１つが、Ｒ１から選ばれた場合、他の基Ｒ２、Ｒ３、又はＲ４が、Ｒ１とは異なるという条件であり、
φが、Ｃ６〜Ｃ１４炭素環式、又はＣ３〜Ｃ１０窒素又は酸素含有複素環式アリール基であり、これらは未置換であっても良く、又は３個以下のＣ１〜Ｃ１２アルキル基、又は２個以下のＯＨ、ＮＨ２、又はＮＯ２基で置換されていても良く、
Ｒ３１が、Ｒ１、Ｈ、ＯＲ３２及びＲ３２から選ばれ、
Ｒ３２が、（ｉ）Ｈ、及び（ｉｉ）Ｃ１〜Ｃ６アルキルから選ばれ、
Ｘ１が、（ｉ）化学結合、（ｉｉ）アリール、（ｉｉｉ）Ｏ原子によって遮断されていても良いＣ１〜Ｃ１２アルカンジイル、（ｉｖ）アリールアルキル基−Ｘ１１−Ｘ１２−、（ｖ）アルキルアリール基−Ｘ１２−Ｘ１１−、及び（ｖｉ）−（Ｏ−Ｃ２Ｈ３Ｒ１２）ｍＯ−から選ばれる二価の基であり、
Ｘ２が、（ｉ）化学結合、又は（ｉｉ）メタンジイルであり、
Ｒ１１が、Ｈ、及びＣ１〜Ｃ４アルキルから選ばれ、
Ｒ１２が、Ｈ、及びＣ１〜Ｃ４アルキルから選ばれ、
Ｘ１２が、二価のアリール基であり、
Ｘ１１が、二価のＣ１〜Ｃ１５アルカンジイル基であり、
Ａが、任意に、（ポリ）エトキシル化されて良いビニルアルコール、及びアクリルアミドから選ばれるコモノマーであり、
Ｂが、式Ｌ１ａ
【化３】
2021503560.tif 000003
から選ばれ、ここで
ｎが、２〜１００００の整数であり、
ｍが、２〜５０の整数であり、
ｏが、２〜１０００の整数であり、
ｐが、０、又は１〜１００００の整数であり、
本質的に分散された粒子を含まないことを特徴とする組成物。
【請求項２】
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４が、Ｈ、メチル、エチル、又はプロピルから選ばれることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
Ｒ２及び、Ｒ３又はＲ４の一方が、Ｈ、メチル、エチル、又はプロピルから選ばれ、及びＲ３又はＲ４の他方の基が、Ｒ１から選ばれることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
Ｒ３及びＲ４が、Ｈ、メチル、エチル、又はプロピルから選ばれ、及びＲ２が、Ｒ１から選ばれることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
レベラーが、式Ｌ４ａ
【化４】
2021503560.tif 000004
の化合物であり、ここでＲ５、Ｒ６、Ｒ７及び、Ｒ９が、独立して、（ｉ）Ｈ、及び（ｉｉ）Ｃ１〜Ｃ６アルキルから選ばれ、好ましくはＨ、メチル、エチル、又はプロピルから選ばれることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
Ｒ１１が、Ｈであることを特徴とする、請求項１〜５の何れか１項に記載の組成物。
【請求項７】
ｎ＋ｐが１０〜５０００の整数であり、及びｍが２〜３０の整数であることを特徴とする、請求項１〜４又は６の何れか１項に記載の組成物。
【請求項８】
レベラーが、ポリアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸アクリル酸コポリマー、イタコン酸アクリル酸コポリマー、ポリホスホン酸、及びポリスルホン酸から選ばれることを特徴とする、請求項１〜７の何れか１項に記載の組成物。
【請求項９】
レベラーが、アクリル酸、イタコン酸、ビニルホスホン酸、及びビニルスルホン酸から選ばれることを特徴とする、請求項１〜６の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
Ｒ１がスルホネート基であり、及びＲ３１がＯＨであることを特徴とする、請求項１〜６の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
レベラーが、ｐ−トルオールスルホネートであることを特徴とする、請求項１〜６の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
更に、ヒドロキシアルキン、又はアミノアルキンから選ばれる抑制剤を含むことを特徴とする、請求項１〜１１の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
式Ｌ１
［Ｂ］ｎ［Ａ］ｐ        （Ｌ１）
の構造的要素を含むか、又は式Ｌ２
【化５】
2021503560.tif 000005
の構造を有するか、又は式Ｌ３ａ又はＬ３ｂ
【化６】
2021503560.tif 000006
の構造を含むか、又は式Ｌ４
φ−Ｒ１                （Ｌ４）
の構造、及びその塩を含む化合物を、アパーチャー寸法が１００ｎｍ未満、好ましくは５０ｎｍ未満の凹部フィーチャーを含む半導体基材上に本質的に、コバルトから構成される金属を堆積させるために使用する方法であり、
Ｒ１が、Ｘ１−ＣＯ−Ｏ−Ｒ１１、Ｘ１−ＳＯ２−Ｏ−Ｒ１１、Ｘ１−ＰＯ（ＯＲ１１）２、及びＸ１−ＳＯ−Ｏ−Ｒ１１から選ばれ、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４が、独立して、Ｒ１、及び（ｉ）Ｈ、（ｉｉ）アリール、（ｉｉｉ）Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、（ｉｖ）アリールアルキル、（ｖ）アルキルアリール、及び（ｖｉ）−（Ｏ−Ｃ２Ｈ３Ｒ１２）ｍ−ＯＨから選ばれ、但し、Ｒ２、Ｒ３、又はＲ４の１つが、Ｒ１から選ばれる場合、他の基Ｒ２、Ｒ３、又はＲ４が、Ｒ１とは異なるという条件であり、
φが、Ｃ６〜Ｃ１４炭素環式、又はＣ３〜Ｃ１０窒素又は酸素含有複素環式アリール基であり、これらは未置換であっても良く、又は３個以下のＣ１〜Ｃ１２アルキル基、又は２個以下のＯＨ、ＮＨ２、又はＮＯ２基で置換されていても良く、
Ｒ３１が、Ｒ１、Ｈ、ＯＲ３２及びＲ３２から選ばれ、
Ｒ３２が、（ｉ）Ｈ、及び（ｉｉ）Ｃ１〜Ｃ６アルキルから選ばれ、
Ｘ１が、（ｉ）化学結合、（ｉｉ）アリール、（ｉｉｉ）Ｏ原子によって遮断されていても良いＣ１〜Ｃ１２アルカンジイル、（ｉｖ）アリールアルキル基−Ｘ１１−Ｘ１２−、（ｖ）アルキルアリール基−Ｘ１２−Ｘ１１−、及び（ｖｉ）−（Ｏ−Ｃ２Ｈ３Ｒ１２）ｍＯ−から選ばれる二価の基であり、
Ｘ２が、（ｉ）化学結合、又は（ｉｉ）メタンジイルであり、
Ｒ１１が、Ｈ、及びＣ１〜Ｃ４アルキルから選ばれ、
Ｒ１２が、Ｈ、及びＣ１〜Ｃ４アルキルから選ばれ、
Ｘ１２が、二価のアリール基であり、
Ｘ１１が、二価のＣ１〜Ｃ１５アルカンジイル基であり、
Ａが、任意に、（ポリ）エトキシル化されて良いビニルアルコール、及びアクリルアミドから選ばれるコモノマーであり、
Ｂが、式Ｌ１ａ
【化７】
2021503560.tif 000007
から選ばれ、ここで
ｎが、２〜１００００の整数であり、
ｍが、２〜５０の整数であり、
ｏが、２〜１０００の整数であり、
ｐが、０、又は１〜１００００の整数である、方法。
【請求項１４】
コバルトを、アパーチャー寸法が１００ｎｍ未満の凹部フィーチャーを含む半導体基材の上に堆積させる方法であって、
（ａ）請求項１〜１１の何れか１項に記載の組成物を半導体基材と接触させる工程、
（ｂ）凹部フィーチャーをコバルトで満たすのに十分な時間、電位を与える工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１５】
工程（ａ）の前に、
工程（ａ１）凹部フィーチャーの誘電体表面上にコバルトシードを堆積させることを含む工程、
を含むことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
凹部フィーチャーが、３０ｎｍ以下、好ましくは１５ｎｍ以下のアパーチャー寸法を有することを特徴とする請求項１４又は１５に記載の方法。