(57)【要約】  太陽光を入射する側から順に、高分子フィルム層、金属酸化物を有するガスバリア層、及び、金属の反射層が配置されたフィルムミラーであって、該高分子フィルム層に対する該ガスバリア層の厚みの比率が０．１％〜５％の範囲であることを特徴とする太陽光を反射する機能を持つフィルムミラーその製造方法及び太陽光集光用ミラー。
2011096151.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽光を入射する側から順に、高分子フィルム層、金属酸化物を有するガスバリア層、及び、金属の反射層が配置されたフィルムミラーであって、該高分子フィルム層に対する該ガスバリア層の厚みの比率が０．１％〜５％の範囲であることを特徴とする太陽光を反射する機能を持つフィルムミラー。
【請求項２】
前記高分子フィルム層の膜厚は１０μｍ〜１２５μｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記ガスバリア層の金属酸化物が、酸化珪素、酸化アルミニウム、および酸化珪素と酸化アルミニウムの２種混合体、から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記反射層の金属が、銀であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記金属の反射層を、湿式めっきで作製したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
前記金属の反射層を、乾式めっきで作製したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項７】
前記高分子フィルム層に紫外線吸収剤が含有されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項８】
前記金属の反射層と接して、チオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、及び、チアジアゾール系から選ばれる少なくとも１種を含有する腐食防止剤層が設けられていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項９】
前記金属の反射層と接して、Ｃｕ層が設けられていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のフィルムミラーが、太陽光を入射する側の反対側に粘着層を有することを特徴とするフィルムミラー。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載のフィルムミラーの製造方法において、前記金属の反射層を銀蒸着によって形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載のフィルムミラーを、該フィルムミラーの粘着層を介して、支持体上に貼り付けて形成することを特徴とする太陽光集光用ミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラーに関し、更に詳しくは太陽光集光用のフィルムミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石炭エネルギー、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては現在、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。【０００３】
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。【０００４】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。【０００５】
反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損するといった衝撃性の問題、重いミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。【０００６】
そこで、上記問題を解決するために、反射層を銀とし、ガラス製であった表面封止層を樹脂製である高分子フィルムに置き換えたフィルムミラーが提案（例えば特許文献１、２参照）された。高分子フィルムは太陽光とくに３８０ｎｍ以下の紫外線によって劣化することが知られており、その対策として特許文献１および特許文献２に記載の高分子フィルムには紫外線吸収剤が配合されている。これらのフィルムミラーの正反射率を分光光度計にて２５００ｎｍから２５０ｎｍの範囲で測定してみると紫外域反射率とともに１６００ｎｍより長い波長の赤外域の反射率においても銀そのものの反射率より低下がみられた。（図２の１２５μｍＰＥＴ／Ａｇ）この赤外域の吸収は高分子の振動吸収によるもので樹脂材料固有の吸収である。【０００７】
図１に見られるように太陽光の照射スペクトルは２５００ｎｍから観測される。熱発電用に太陽光エネルギーを使用する場合、表面封止層に１６００ｎｍから２５００ｎｍの赤外域の吸収があると熱発電効率低下につながり好ましくない。さらにこの高分子フィルムは酸素、水蒸気といった気体に対してはガラスよりも透過性が高く、雨、露にさらされる環境では経年とともに金属反射層へ浸透してしまう。高分子フィルムそれぞれに気体拡散係数Ｄは異なるが、拡散時間は高分子フィルムの厚みに比例しており、厚いフィルムであればあるほど金属反射層を劣化させる気体の浸透は遅くなるため耐用年数は長くなる。しかし高分子フィルムの厚みが厚くなると上述した赤外域の吸収断面積が多くなるため、熱発電効率は低下する。耐久性向上と熱発電効率維持はトレードオフであった。【０００８】
そこで樹脂基板の表面に、金属酸化物で金属反射層を被覆するという射出成形プラスチックミラーが開発（例えば、特許文献３参照）された。この射出成形プラスチックミラーは紫外域から赤外域まで平均９０％以上の高い反射率を持っていた。そこで、大面積ミラーに対応させるために、特許文献２において、高分子フィルム表面に銀鏡を形成しその表面を金属酸化物で被覆する構成のフィルムミラーを作製した。しかし金属酸化物を最表面に配置する構成をフィルムに適用すると、フィルム屈曲時に金属酸化物にクラックが生じるということが分かった。特許文献３の技術は射出成形プラスチックミラーでは問題は無かったが大面積のフィルムを生産するためのロールｔｏロール方式には適応不可能であった。発生したクラックから酸素、水蒸気が入り込むことが分かり金属反射膜は腐食変色する。一旦クラックの入った金属酸化物被覆フィルムミラーは耐久性が無いことが分かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第３４４７１７５号明細書
【特許文献２】特表２００９−５２０１７４号公報
【特許文献３】特許第３２０６９５７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、耐久性が向上し熱発電効率を長期に維持できるフィルムミラーを提供し、更に、該フィルムミラーを用いた太陽光集光用フィルムミラーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。【００１２】
１．太陽光を入射する側から順に、高分子フィルム層、金属酸化物を有するガスバリア層、及び、金属の反射層が配置されたフィルムミラーであって、該高分子フィルム層に対する該ガスバリア層の厚みの比率が０．１％〜５％の範囲であることを特徴とする太陽光を反射する機能を持つフィルムミラー。【００１３】
２．前記高分子フィルム層の膜厚は１０μｍ〜１２５μｍの範囲であることを特徴とする前記１に記載のフィルムミラー。【００１４】
３．前記ガスバリア層の金属酸化物が、酸化珪素、酸化アルミニウム、および酸化珪素と酸化アルミニウムの２種混合体、から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記１又は２に記載のフィルムミラー。【００１５】
４．前記反射層の金属が、銀であることを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載のフィルムミラー。【００１６】
５．前記金属の反射層を、湿式めっきで作製したことを特徴とする前記１〜４のいずれか一項に記載のフィルムミラー。【００１７】
６．前記金属の反射層を、乾式めっきで作製したことを特徴とする前記１〜４のいずれか一項に記載のフィルムミラー。【００１８】
７．前記高分子フィルム層に紫外線吸収剤が含有されていることを特徴とする前記１〜６のいずれか一項に記載のフィルムミラー。【００１９】
８．前記金属の反射層と接して、チオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、及び、チアジアゾール系から選ばれる少なくとも１種を含有する腐食防止剤層が設けられていることを特徴とする前記１〜７のいずれか一項に記載のフィルムミラー。【００２０】
９．前記金属の反射層と接して、Ｃｕ層が設けられていることを特徴とする前記１〜８のいずれか一項に記載のフィルムミラー。【００２１】
１０．前記１〜９のいずれか一項に記載のフィルムミラーが、太陽光を入射する側の反対側に粘着層を有することを特徴とするフィルムミラー。【００２２】
１１．前記１〜１０のいずれか一項に記載のフィルムミラーの製造方法において、前記金属の反射層を銀蒸着によって形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。【００２３】
１２．前記１０に記載のフィルムミラーを、該フィルムミラーの粘着層を介して、支持体上に貼り付けて形成することを特徴とする太陽光集光用ミラー。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の上記手段により、金属反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽光集光用フィルムミラーを提供することができた。【００２５】
本発明によれば、高分子フィルム層と金属酸化物を有するガスバリア層を金属の反射層を被覆する配置で設けることによって、ガスバリア性を付与して耐用年数を長くさせ、交換コストを下げることができる。従来の高分子フィルム被覆フィルムミラーと比較して赤外域の吸収を減少させ、熱発電効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】太陽光の照射スペクトル範囲を示す図である。
【図２】ミラーの分光反射率を示す図である。
【図３】本発明の代表的なフィルムミラーの一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明は、上記課題を鑑み、高分子ポリマーの上に金属酸化物の膜を形成するのではなく、高分子ポリマーで金属酸化物の膜を被覆することで耐衝撃性を高め、被覆する高分子ポリマーは赤外域の吸収を減少する方向で薄くする。高分子膜を薄くした分、ガスバリア機能をもった金属酸化物の膜をつけることで、耐久性向上と熱発電効率維持を達成した。
【００２８】
本発明の一態様によれば、太陽光を入射する側から順に
ａ）高分子フィルム層、
ｂ）金属酸化物を有するガスバリア層、
ｃ）金属の反射層が配置され上記ａ）に対するｂ）の厚みの比率が０．１％〜５％の範囲であるフィルムミラーにより、上記効果を奏した。
【００２９】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３０】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００３１】
図３は、本発明に係る太陽光を反射する機能を持つフィルムミラーの一例を示す断面図である。
【００３２】
図３に示すように、フィルムミラーＦは太陽光側から順番に、高分子フィルム層１、金属酸化物を有するガスバリア層２、金属の反射層（Ａｇ層）３、粘着層４が積層されてなる。粘着層４の下側の表面には剥離フィルム５をつけて、粘着させたい時に適宜剥離フィルム５を剥がして支持体である金属板や樹脂板に密着させることができる。
【００３３】
なお、本発明のフィルムミラーは、図３に示す構成に限らず、様々な機能層を付加することが好ましい。また、上記構成であってもそれぞれの層に機能性を付与することができる。以下に、機能層を付加した、本発明の実施の態様を説明する。また、本発明はこれらの態様のみに限定されない。更に、以下の説明で上は太陽光が入射する側を意味し、下はその反対側を意味する。
【００３４】
図３において、高分子フィルム層１に紫外線吸収剤を添加し、その下のガスバリア層２を水蒸気バリア層として機能させ、更にその下の反射層３は銀蒸着層からなり、該銀蒸着層の下に、粘着層４と剥離フィルム５を積層した構成を有するフィルムミラーを、本発明のフィルムミラー１とする。高分子フィルム層に紫外線吸収剤を添加することにより、耐久性が増加する。
【００３５】
また、上記フィルムミラー１において、反射層３と粘着層４との間に腐食防止剤層（腐食防止剤入り高分子層）を設けたフィルムミラーを、本発明のフィルムミラー２とする。腐食防止剤層を付加することで、フィルムミラーの酸素、硫化水素ガス、塩分に対する劣化防止及び平滑な光学面を長期間提供することができる。
【００３６】
前記フィルムミラー１において、ガスバリア層２と反射層３との間に太陽光を入射する側から順に接着層と腐食防止剤層を積層し、更に、反射層３と粘着層４との間に高分子フィルム層を設けたフィルムミラーを、本発明のフィルムミラー３とする。
【００３７】
前記フィルムミラー２において、紫外線吸収剤が添加された高分子フィルム層１の代わりに、太陽光を入射する側から順にハードコート層と高分子フィルム層を積層したフィルムミラーを、本発明のフィルムミラー４とする。ハードコート層は紫外線吸収剤等を含有することが好ましい。
【００３８】
上記フィルムミラー４において、ハードコート層の代わりに高分子フィルム層の上に、紫外線反射層を設けたフィルムミラーを、本発明の本発明のフィルムミラー５とする。
【００３９】
前記フィルムミラー２において、腐食防止剤層の代わりに、犠牲防食層を設けたフィルムミラーを、本発明のフィルムミラー６とする。
【００４０】
続いて、本発明のフィルムミラーの各層及び各層に用いられる素材について説明する。
【００４１】
（高分子フィルム層）
高分子フィルム層のフィルム材料としては、フレキシブル性や軽量化の点で、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィン、セルロース、ポリアミドのいずれかを含むことが好ましい。これらの中で耐候性に優れ、特に、少なくとも２種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体が好適である。
【００４２】
好適なアクリル系共重合体としては、具体的には例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー（以下、非官能性モノマーという）から選ばれる１種または２種以上のモノマーを主成分とし、これに２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる１種または２種以上のモノマーの側鎖中にＯＨやＣＯＯＨなどの官能性基を有するモノマー（以下、官能性モノマーという）の１種または２種以上を組合せて、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の重合法により共重合させることにより得られる重量平均分子量が４万ないし１００万、好ましくは１０万ないし４０万のアクリル系共重合体が挙げられ、中でも、エチルアクリレート、メチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの低いポリマーを与える非官能性モノマーを５０〜９０質量％、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの高いポリマーを与える非官能性モノマーを１０〜５０質量％、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸、イタコン酸等の官能性モノマーを０〜１０質量％含有するようなアクリル系重合体が最も好適である。
【００４３】
フィルムの形状は、平面、拡散面、凹面、凸面、台形等、各種のフィルムミラーの表面被覆材として求められる形状であればよい。
【００４４】
フィルム基材の厚さは、１０〜１２５μｍが好ましい。１０μｍより薄いとフィルムにコシがなくなるためフィルムにシワが入りやすく、外観上好ましくない上に反射性能も落ちる傾向にあり、１２５μｍよりも厚いと１６００ｎｍ〜２５００ｎｍの範囲の平均反射率が８０％を下回る。
【００４５】
高分子フィルム層表面は、金属酸化物層、ハードコート層、誘電体コーティング層等との密着性を向上させるために、コロナ放電処理、プラズマ処理等が施されていてもよい。
【００４６】
また、フィルム基材には、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、シアノアクリレート系、ポリマー型の紫外線吸収剤のうちいずれかを含むことが好ましい。
【００４７】
（紫外線吸収剤）
高分子フィルム層に使用される紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ太陽光利用の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【００４８】
本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
【００４９】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【００５０】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもＢＡＳＦジャパン社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学製）が挙げられる。
【００５１】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
（金属酸化物を有するガスバリア層）
金属酸化物を有するガスバリア層は、酸化珪素、酸化アルミニウム、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化クロム等が挙げられ、特に水蒸気バリア性の観点から酸化珪素、酸化アルミニウム、または珪素、アルミニウムを出発材料とした複合酸化物が好ましい。そのほか波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３５から１．８の低屈折率層と、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８５から２．８である高屈折率膜を交互に積層した多層膜であっても良い。低屈折率膜材料としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどが挙げられる。高屈折率膜材料としては、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウムなどが挙げられる。これらは真空蒸着法、スパッター法、イオンブレーティングなどのＰＶＤ法（物理蒸着法）、あるいは、ＣＶＤ法（化学蒸着法）などの真空プロセスにより形成される。金属酸化物を有するガスバリア層の厚さは５〜８００ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは１０〜３００ｎｍの範囲である。
【００５３】
本発明の方法は、高分子フィルム上でガスバリア層を作製することによって、このようにして得られる酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層は酸素、二酸化炭素、空気などのガスまたは水蒸気に対する高いバリア作用に優れる。
【００５４】
また、酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層と高分子フィルムの積層体は、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が１×１０−２ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましい。水蒸気透過度はＭＯＣＯＮ社製の水蒸気透過度測定装置ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３−３３にて測定できる。
【００５５】
さらに、酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層は、膜厚がそれぞれ１μｍ以下であり、それぞれの光線透過率の平均値は９０％以上であることが好ましい。これによって、光損失がなく、太陽光を効率よく反射することができる。
【００５６】
（高分子フィルム層と金属酸化物を有するガスバリア層の厚みの比率）
本発明において、高分子フィルム層と金属酸化物を有するガスバリア層の厚みの比率は０．１％〜５％の範囲である。比率が０．１％よりも小さい、すなわち高分子フィルムに対するガスバリア層の厚みが薄くなると、十分なガスバリア性が得られず劣化進行を抑える機能が発揮されない。比率が５％よりも大きい、すなわち高分子フィルムに対するガスバリア層の厚みが厚くなると、外部からの曲げの力が加わったときに金属酸化物にクラックが入り、結果ガスバリア性が得られず劣化進行を抑える機能が発揮されない。
【００５７】
（金属の反射層）
本発明に係る金属の反射層としては、例えば、銀または銀合金、その他、金、銅、アルミニウム、これらの合金も用いることができる。特に、銀を使用することが好ましい。このような反射層は、光を反射させる反射膜としての役割を果たす。反射層を銀または銀合金の膜とすることにより、フィルムミラーの赤外域から可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。赤外域から可視光領域とは、２５００〜４００ｎｍの波長領域を意味する。入射角とは、膜面に対して垂直な線（法線）に対する角度を意味する。
【００５８】
銀合金としては、反射層の耐久性が向上する点から、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタンおよびビスマスの群から選ばれる１種以上の他の金属との合金が好ましい。他の金属としては、高温耐湿性、反射率の点から、金が特に好ましい。
【００５９】
反射層が銀合金の膜である場合、銀は、反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０〜９９．８原子％が好ましい。また、他の金属は、耐久性の点から０．２〜１０原子％が好ましい。
【００６０】
また、反射層の膜厚は、６０〜３００ｎｍが好ましく、８０〜２００ｎｍが特に好ましい。反射層の膜厚が６０ｎｍ未満では、膜厚が薄く、光を透過してしまうため、フィルムミラーの可視光領域での反射率が低下するおそれがある。２００ｎｍ程度までは膜厚に比例して反射率も大きくなるが、２００ｎｍ以上は膜厚に依存しない。むしろ反射層の膜厚が３００ｎｍを超えると、反射層の表面に凹凸が発生しやすくなり、これにより光の散乱が生じてしまい、可視光領域での反射率が低下するおそれがある。
【００６１】
フィルムミラーには光沢が求められるが、金属箔を作製して接着する方法では表面凹凸があるために光沢を失う。広い面積範囲で均一な表面粗さを求められるフィルムミラーでは金属箔ラミネートは製造方法として好ましくない。金属の反射層は、湿式めっきや、真空蒸着等の乾式めっきで形成することが好ましい。
【００６２】
（粘着層）
本発明の粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。粘着層の厚さは通常１〜５０μｍ程度の範囲から選ばれる。厚さが１μｍ未満では充分な粘着効果が得られず、一方５０μｍを超えると粘着剤層が厚すぎて乾燥速度が遅くなり、非能率的である。しかも本来の粘着力が得られず、溶剤が残留するなどの弊害が生じるので好ましくない。
【００６３】
（剥離フィルム）
本発明で用いることの出来る剥離フィルムは、基材と、基材上に設けられた剥離剤層とを有している。
【００６４】
剥離フィルムは、その外表面が高い平滑性を有している。剥離フィルムを構成する剥離剤としては、例えば、シリコーン系樹脂、長鎖アルキル系樹脂、フッ素系樹脂、フルオロシリコーン樹脂、長鎖アルキル変性アルキド樹脂、シリコーン変性アルキド樹脂等のアルキド系樹脂等が挙げられる。
【００６５】
上述した中でも、シリコーン樹脂を剥離剤の材料として用いた場合、より優れた剥離性を発揮する。シリコーン樹脂としては、付加型、縮合型、無溶剤型等いずれのものでも用いることができる。
【００６６】
剥離フィルムを構成する剥離剤の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１〜０．３μｍであるのが好ましく、０．０５〜０．２μｍであるのがより好ましい。剥離剤層の平均厚さが前記下限値未満であると、剥離剤層としての機能が十分に発揮されない場合がある。一方、剥離剤層の平均厚さが前記上限値を超えると、剥離フィルムをロール状に巻き取った際に、ブロッキングが発生し、繰り出しに不具合を生じる場合がある。
【００６７】
本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは７５〜２５０μｍが好ましく、更に好ましくは９０〜２３０μｍ、更に好ましくは１００〜２２０μｍである。厚さが７５μｍ以下では、フィルムミラーを金属基材に貼り付けた時に、ミラーがたわんでしまって、十分な正反射率を得ることができず、また２５０μｍより厚いと取り扱い性が悪くなるため、好ましくない。
【００６８】
（腐食防止剤層）
本発明の態様として前述したフィルムミラー２〜５に設置される腐食防止剤層は、金属の反射層（具体的にはＡｇ層）の変色防止として機能し、例えばチオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、チアジアゾール系が挙げられる。
【００６９】
腐食防止剤層は、大別して銀との吸着基を有する腐食防止剤と、酸化防止剤が好ましく用いられる。以下、これらの腐食防止剤と酸化防止剤について具体例を挙げる。
【００７０】
《銀との吸着基を有する腐食防止剤》
銀との吸着基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する物、トリアゾール環を有する物、ピラゾール環を有する物、チアゾール環を有する物、イミダゾール環を有する物、インダゾール環を有する物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００７１】
アミン類およびその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７２】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７３】
トリアゾール環を有する物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７４】
ピラゾール環を有する物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７５】
チアゾール環を有する物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７６】
イミダゾール環を有する物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７７】
インダゾール環を有する物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７８】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７９】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８０】
メルカプト基を有する物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８１】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【００８２】
《酸化防止剤》
本発明に係る腐食防止剤層に用いることの出来る酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。
【００８３】
特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【００８４】
本発明の態様のフィルムミラー３は、高分子フィルム（Ａ）の上の表面に、金属の反射層を形成し、更に、その上に腐食防止剤層を積層する。高分子フィルム（Ａ）の下の表面に粘着層と、剥離フィルムとを積層した後、高分子フィルム（Ａ）の上の表面、すなわち腐食防止剤層の上に接着層を形成する。別の高分子フィルム（Ｂ）の下の表面に、ガスバリア層を成膜し、高分子フィルム（Ｂ）のガスバリア層と上記高分子フィルム（Ａ）の接着層を対面させて張り合わせて作製する。
【００８５】
（接着層）
本発明の態様のフィルムミラー３に設置される接着層としては、樹脂からなり、フィルムと上述の紫外線吸収剤入りの高分子フィルム層とを密着するものである。従って、接着層はフィルムと紫外線吸収剤含有高分子フィルム層とを密着する密着性、及びの金属の反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性、透明性が必要である。
【００８６】
接着層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００８７】
接着層の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。厚さが、０．０１μｍより薄いと、密着性が悪くなり接着層を形成した効果がなく、またフィルム基材表面の凹凸を覆い隠すことができ難くなり、平滑性が悪くなるので好ましくない。厚さが、３μｍより厚くても、密着性の向上は望めず、かえって塗りムラの発生により平滑性が悪くなったり、接着層の硬化が不充分となる場合があるので好ましくない。
【００８８】
接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００８９】
（ハードコート層）
本発明においては、フィルムミラーの最外層として、ハードコート層を設けることができる。ハードコート層は、傷防止のために設けられる。ハードコート層を用いる態様としては、上述したフィルムミラー４を挙げることができる。
【００９０】
ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等で構成することができる。特に、硬度と耐久性等の点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。
【００９１】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【００９２】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート等であり、また、メラミンやイソシアヌール酸等の剛直な骨格にアクリル基を結合したもの等も用いられ得る。
【００９３】
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【００９４】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズ等）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズ等）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズ等）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズ等）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズ等）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズ等）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズ等）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズ等）等の製品を利用することができる。
【００９５】
本発明において、ハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤等の安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤等を用いることができる。
【００９６】
レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【００９７】
［紫外反射層］
本発明の態様のフィルムミラー５に設置される紫外反射層は、紫外線を反射し可視光及び赤外光を透過する層のことである。紫外反射層は、３００ｎｍ〜４００ｎｍの電磁波（紫外線）に対する平均反射率が７５％以上であることが好ましい。また、紫外反射層は、４００ｎｍ〜２５００ｎｍの電磁波（可視光及び赤外光）に対する平均透過率が８０％以上であることが好ましい。
【００９８】
本発明に係るフィルムミラーは、金属反射層の太陽光を入射する側に高分子フィルム層を配置し、高分子フィルム層を通過した太陽光を金属反射層で反射するため、高分子フィルム層は常に太陽光に曝される。したがって、高分子フィルム層の太陽光を入射する側に紫外反射層を配置することにより、紫外線による高分子フィルム層の劣化、変色を防止でき、高分子フィルム層の光線透過率の低下を低減できるため、フィルムミラーの反射率低下を低減することが可能となる。また、高分子フィルム層の太陽光を入射する側に紫外反射層を設けることにより、太陽光の紫外線による高分子フィルム層の劣化に起因した、高分子フィルム層の防湿性の低下も低減できる。そのため、高分子フィルム層の防湿性の劣化に伴う金属反射層の劣化も防止できるため、フィルムミラーの反射率低下を低減することが可能となる。
【００９９】
紫外反射層としては特に限定されないが、屈折率の異なる２種類以上の誘電体物質の交互層の誘電体多層膜を用いることができる。本発明に係る誘電体多層膜としては、高屈折率の誘電体層と低屈折率の誘電体層を交互に２層以上６層以下積み重ねて構成することが好ましい。このように、誘電体層を積み重ねた多層構造にすることにより、誘電体多層膜の耐傷性を高めることができる。高屈折率の誘電体層は、屈折率が２．０〜２．６であることが好ましい。また、低屈折率の誘電体層は、屈折率が１．８以下であることが好ましい。
【０１００】
高屈折率の誘電体層としてはＺｒＯ２、ＴｉＯ２低屈折率の誘電体層としてはＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３を好ましく用いることができる。本発明で用いられる高屈折率の誘電体層としてはＴｉＯ２、低屈折率の誘電体層としてはＳｉＯ２をより好ましく用いることができる。ＴｉＯ２を高屈折率の誘電体操として、紫外反射層の最表面つまりフィルムミラーの最表面で用いる場合、ＴｉＯ２の光触媒効果によるミラー表面の防汚効果を得ることができるため、ミラー表面の汚れに起因したフィルムミラーの反射率の低下を低減することが可能となる。
【０１０１】
（犠牲防食層）
本発明の態様のフィルムミラー６に設置される犠牲防食層とは、金属反射層を犠牲防食により保護する層のことであり、犠牲防食層を金属反射層と保護層との間に配置することにより、金属反射層の耐食性を向上させることができる。本発明において、防食犠牲層としては銀よりもイオン化傾向の高い銅が好ましく、銅の防食犠牲層は銀から成る反射層の下に設けることによって、銀の劣化を抑制することができる。
【０１０２】
本発明のフィルムミラーは、以下のような工程にて製造することができる。
【０１０３】
［工程１］
高分子フィルムの基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ６０μｍ）を準備し、蒸着機内部に配置し、蒸着機内部を真空ポンプによって真空にする。真空蒸着機内には、ロール状に巻いた高分子フィルムを繰り出す繰り出し装置と、高分子フィルムに蒸着処理を施して金属蒸着された高分子フィルムを巻き取る巻き取り装置とが配置されている。繰り出し装置と巻き取り装置との間には、フィルムをそれぞれ案内するように、ロールが多数配置され、駆動手段により高分子フィルム走行と同期して回転駆動されるようになっている。
【０１０４】
［工程２］
高分子フィルム走行方向上流側部分と対向する位置には、金属酸化物の蒸着核蒸発源が配置されている。蒸着核蒸発源は、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、等の金属を高分子フィルムに蒸着するためのものであり、真空蒸着法等により金属蒸気を発生させ、フィルムの全幅に亘って均一に金属酸化物蒸着膜および金属蒸着膜を形成する。
【０１０５】
［工程３］
工程２で作製した金属蒸着膜の表面にポリエステル系の感圧粘着剤を５μｍ厚に塗布する。上記の作製順序に限らず、工程２の後に金属の劣化防止に効果のある腐食防止剤を塗布しても良いし、同じく金属の劣化防止に犠牲防食層、例えばＣｕを蒸着しても良い。
【０１０６】
また、強い紫外線から高分子フィルムを保護するために高分子フィルムやそのほか太陽光を入射する側に配置されるハードコート層に紫外線吸収剤を添加すれば、着色を防止し、反射効率を維持することができる。
【０１０７】
（太陽光集光ミラー）
本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光集光ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、支持体に粘着層を介して、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽光集光ミラーとして用いることである。
【０１０８】
（支持体）
本発明の太陽光集光用ミラーの支持体としては、樹脂材料又は金属材料を挙げることができる。
【０１０９】
樹脂材料としては、ポリカーボネード樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ＡＢＳ樹脂等の樹脂材料が特に制限されることなく用いられる。
【０１１０】
また、金属材料としては、アルミ板、アルミ合金板、真鍮板、ステンレス板、鋼板等が挙げられる。
【実施例】
【０１１１】
以下、本発明について実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。【０１１２】
実施例１
（フィルムミラーのサンプル１の作製）
高分子フィルムとして、紫外線吸収剤のベンゾトリアゾールを含有した２軸延伸アクリルフィルム（厚み６０μｍ）を用いた。上記アクリルフィルムの片面に、金属酸化物を有する水蒸気バリア層として酸化珪素と酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物を厚み８０ｎｍで蒸着した。酸化珪素と酸化アルミニウムの蒸着材料は８０対２０の割合の混合比で電子ビーム蒸着法にて製膜した。金属反射層として、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、粘着剤としてアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を５μｍ厚に塗布し、剥離フィルムをつけて本発明の実施態様のフィルムミラー１該当のサンプル１を得た。【０１１３】
（フィルムミラーのサンプル２の作製）
高分子フィルムとして、紫外線吸収剤のベンゾトリアゾールを含有した２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み５０μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、金属酸化物を有する水蒸気バリア層として珪素とアルミニウムを出発材料とした複合酸化物を厚み３００ｎｍで蒸着した。酸化珪素と酸化アルミニウムの蒸着材料は９０対１０の割合の混合比で電子ビーム蒸着法にて製膜した。【０１１４】
金属反射層として、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層の上面にアクリル系フィルムを６０μｍの厚みで塗布した。アクリル系フィルムには腐食防止剤のジメルカプトアセテートが含有されている。さらにその上からアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を５μｍの厚みで塗布したし、剥離フィルムをつけて本発明の実施態様のフィルムミラー２該当のサンプル２を得た。【０１１５】
（フィルムミラーのサンプル３の作製）
高分子フィルムとして、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み５０μｍ）を高分子フィルム２とした。その上に金属反射層として、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層の上面にアクリル系フィルムを６０μｍの厚みで塗布した。アクリル系フィルムには腐食防止剤のジメルカプトアセテートが含有されている。銀反射層とは逆の面に粘着剤としてアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を５μｍ厚に塗布し剥離フィルムをつけた。ここまでに作製したサンプルをサンプルＡとした。別工程で紫外線吸収剤のベンゾトリアゾールを含有した高分子フィルム１（厚み２５μｍ）に金属酸化物を有する水蒸気バリア層として珪素とアルミニウムを出発材料とした複合酸化物を厚み３００ｎｍで蒸着した。酸化珪素と酸化アルミニウムの蒸着材料は９０対１０の割合の混合比で電子ビーム蒸着法にて製膜した。この別工程で作製した水蒸気バリア層付き高分子フィルム１をサンプルＢとした。サンプルＡとサンプルＢをポリエステル系の接着層を介して接着し本発明の実施態様のフィルムミラー３該当のサンプル３を得た。【０１１６】
（フィルムミラーのサンプル４の作製）
高分子フィルムとして、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み１２μｍ）を高分子フィルム１とした。上記高分子フィルム１の片面に、化学気相成長（ＣＶＤ）装置を使用して、テトラメチレンジシロキサン、酸素、ヘリウムを１：２０：１０（ｓｌｍ）の比を原料とし圧力１００×１０−４Ｔｏｒｒ、蒸着速度５０ｎｍ／Ｓ、膜厚１０ｎｍの条件でＣＶＤ法で行い、金属酸化物を有する水蒸気バリア層として珪素酸化物（ＳｉＯｘ、Ｘ＜２）の薄膜を厚み６０ｎｍで形成した。その上に金属反射層として、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層の上面にアクリル系フィルムを６０μｍの厚みで塗布した。アクリル系フィルムには腐食防止剤のジメルカプトアセテートが含有されている。粘着剤としてアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を５μｍ厚に塗布し、剥離フィルムをつけた。銀反射層が無いほうの高分子フィルム１表面上にメチルアクリレート：ブチルアクリレート共重合体（比率６４：３６、紫外線硬化樹脂）にＴＩＮＵＶＩＮ３２８（紫外線吸収剤、ＢＡＳＦジャパン社製）を５質量％混合したトルエン溶液をグラビアコート法によりコーティングし、８０℃で３０秒間乾燥した後に積算光量が５０００ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して紫外線吸収剤含有ハードコート層を形成し本発明の実施態様のフィルムミラー４該当のサンプルを４得た。【０１１７】
（フィルムミラーのサンプル５の作製）
紫外線吸収剤含有ハードコート層に替えて紫外線反射層を金属酸化物で作製した以外は実施例４と同様の操作で本発明の実施態様のフィルムミラー５該当のサンプル５を得た。紫外線反射層は、誘電体多層膜で構成されており、真空蒸着によって高屈折率の誘電体層ＴｉＯ２（厚み３７ｎｍ）、低屈折率の誘電体層ＳｉＯ２（厚み６５ｎｍ）を交互に６層積み重ねて構成している。紫外線反射層全体の厚みは３０６ｎｍである。【０１１８】
（フィルムミラーのサンプル６の作製）
高分子フィルムとして、紫外線吸収剤のベンゾトリアゾールを含有した２軸延伸アクリルフィルム（厚み１０μｍ）を用いた。上記アクリルフィルムの片面に、金属酸化物を有する水蒸気バリア層として酸化アルミニウム層を厚み５００ｎｍで蒸着した。酸化アルミニウムの蒸着材料は電子ビーム蒸着法にて製膜した。金属反射層として、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、犠牲防食層として銅層を６０ｎｍの厚みで抵抗加熱によって蒸着した。銅層の上に粘着剤としてアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を５μｍ厚に塗布し、剥離フィルムをつけて本発明の実施態様のフィルムミラー６該当のサンプル６を得た。【０１１９】
（フィルムミラーの比較サンプル１の作製）
高分子フィルムとして、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み６０μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、金属反射層として、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層の上に珪素とアルミニウムを出発材料とした複合酸化物を厚み８０ｎｍで蒸着した。銀反射層とは逆側に粘着剤としてアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を５μｍ厚に塗布し、剥離フィルムをつけて比較サンプル１を得た。【０１２０】
（フィルムミラーの比較サンプル２の作製）
金属酸化物を有する水蒸気バリア層を形成する工程を行わなかった以外はサンプル１と同様の工程で作製した比較サンプル２を得た。【０１２１】
（フィルムミラーの比較サンプル３の作製）
高分子フィルムの厚みを１０μｍとし、金属酸化物を有する水蒸気バリア層として酸化珪素と酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物を厚み６００ｎｍで蒸着した以外はサンプル１と同様の工程で作製した比較サンプル３を得た。【０１２２】
［評価］
以上のように作製したサンプル１〜６及び比較サンプル１〜３について下記の試験を実施し、その結果を下記表１に示した。【０１２３】
（反射率測定）
得られた、それぞれのフィルムミラーのサンプルを、測定サイズの２．５ｃｍ角に切り出し、分光光度計Ｕ４０００（日立ハイテクノロジーズ製）の反射率測定モードを選択し、角度５°で入射した光の反射光を積分球に導き正反射率を測定した。波長範囲は２５００ｎｍ〜２５０ｎｍを測定し、反射率が落ちる波長範囲が無いかどうかを確認した。赤外光領域（２５００ｎｍ〜８００ｎｍ）、可視光領域（８００ｎｍ〜４００ｎｍ）の反射率を平均し、実施例と比較例のそれぞれの正反射平均値を得た。【０１２４】
○：正反射率平均値が９０％以上
△：正反射率平均値が８０％以上９０％未満
×：正反射率平均値が８０％未満
（保管条件）
得られた、それぞれのフィルムミラーのサンプルを、直径６ｃｍの巻き芯に巻きつけて２５℃５０％の環境下で３０日間保管した。保管後に劣化試験１〜３を実施した。【０１２５】
劣化試験１（耐湿試験）
温度８５℃、湿度８５％ＲＨの条件で恒温槽中に３０日間放置し、取り出してから前述した正反射率測定を実施した。正反射率の判定は上述したものと同じである。【０１２６】
劣化試験２（硫化アンモニウム試験）
ＪＩＳ−Ｋ８９４３に規定されている硫化アンモニウムを用いて、ＪＩＳ−Ｈ８６２３付属書２に記載の方法にそって試験を行った。硫化アンモニウム水溶液中に浸漬して２４時間放置した後にフィルムミラーの正反射率を測定した。正反射率の判定は上述したものと同じである。【０１２７】
劣化試験３（酢酸塩水噴霧試験）
ＪＩＳ−Ｚ２３７１：２０００に規定されている３５℃、５％塩化ナトリウムとｐＨ＝３の酢酸を用いて、ＪＩＳ−Ｚ２３７１：２０００に記載の方法にそって試験を行った。２４時間試験に投入した後にフィルムミラーの正反射率を測定した。正反射率の判定は上述したものと同じである。【０１２８】
【表１】
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【０１２９】
表１の結果から明らかなように、本発明のサンプル１〜６は比較サンプル１〜３に比べて、反射率の劣化においていずれも良好であった。比較サンプル１では表面の金属酸化物層に微細なクラックが生じ、ガスバリア性が失われ劣化試験後に反射率が低下したことが判明した。【０１３０】
実施例２
本発明のサンプル１〜６と比較サンプル１〜３を用い、以下の方法で、太陽光集光用ミラーを作製した。【０１３１】
〔太陽熱発電用フィルムミラーの作製〕
実際の太陽熱発電用フィルムミラーは形状として１辺が少なくとも１ｍを超える長さであり、そのままのサイズでは評価測定装置で評価できないことから、下記のような小サイズの太陽熱発電用反射装置を作製し、これを用いて太陽熱発電用フィルムミラーの評価を行った。【０１３２】
厚さ１ｍｍで、縦２５．４ｍｍ×横７６．２ｍｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）板に、上記作製した本発明のサンプル１〜６と比較サンプル１〜３を、厚さ５μｍの粘着層を介して貼り付け、それぞれ太陽熱熱発電用フィルムミラーを作製した。【０１３３】
本発明のサンプル１〜６は屋外に３年間曝露したが金属反射層の反射率は９０％以上あり問題はなかった。一方、金属酸化物を有する水蒸気バリアが無い比較サンプル２は屋外曝露１年間で金属反射層の劣化が発生した。比較サンプル１と３には金属酸化物層はあるが、クラックが生じたことによる水蒸気バリア性の低下により屋外曝露２年間で金属反射層の劣化が発生した。
【符号の説明】
【０１３４】
Ｅ  フィルムミラー
１  高分子フィルム層
２  ガスバリア層
３  反射層
４  粘着層
５  剥離フィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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