Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面と、反対側の第２主面と、第１のパターンを形成すると共に前記第１主面から前記第２主面まで延びる第１の複数の空隙と、を有する多孔質バッキング層を含む、取り付け層と、
第３主面及び反対側の第４主面を有する研磨層であって、
硬化組成物と、
前記硬化組成物中に少なくとも部分的に埋め込まれた研磨粒子と、
前記硬化組成物がなく、前記第３主面から前記第４主面まで延びると共に第２のパターンを形成する第２の複数の空隙と、
を含み、前記第２のパターンが前記第１のパターンとは無関係である、研磨層と、
を含む、研磨物品であって、
前記取り付け層の前記第１主面が前記研磨層の前記第３主面に隣接している、
研磨物品。
【請求項２】
前記取り付け層が、前記多孔質バッキング層と一体形成された２部の相互連結取り付け機構の一方を含む、請求項１に記載の研磨物品。
【請求項３】
前記取り付け層が、前記第２主面に隣接した２部の相互連結取り付け機構層の一方を含む、請求項１に記載の研磨物品。
【請求項４】
前記研磨層の前記第４主面の表面トポグラフィが、前記取り付け層の前記第１主面のトポグラフィとは無関係である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の研磨物品。
【請求項５】
空気が少なくとも１．０Ｌ／ｓの速度で前記物品を通過し、使用時に、前記研磨物品を通して研磨面から粉塵を除去することができる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨物品。
【請求項６】
前記取り付け層の前記第１主面と前記研磨層の前記第３主面との間に配置された多孔質接着剤層を更に含み、前記多孔質接着剤層が、前記取り付け層と硬化研磨層との間の流体連通を可能にする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の研磨物品。
【請求項７】
研磨物品の製造方法であって、
第１主面と、反対側の第２主面と、第１のパターンを形成すると共に前記第１主面から前記第２主面まで延びる第１の複数の空隙と、を有する多孔質バッキング層を含む、取り付け層を供給することと、
第３主面及び反対側の第４主面を有する硬化性研磨層を、前記取り付け層上に配置することであって、前記取り付け層の前記第１主面が前記硬化性研磨層の前記第３主面に隣接しており、前記硬化性研磨層が、
硬化性組成物と、
前記硬化性組成物中に少なくとも部分的に埋め込まれた研磨粒子と、
前記硬化性組成物がなく、前記第３主面から前記第４主面まで延びると共に第２のパターンを形成する第２の複数の空隙と、を含み、前記第２のパターンが前記第１のパターンとは無関係である、配置することと、
前記硬化性組成物を硬化させて、硬化研磨層を形成することと、
を含む、製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月22日(2021.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも約９７重量％の以下の３つの化合物を含む冷媒であって、各化合物が、
６３〜７２重量％のトリフルオロヨードメタン（ＣＦ３Ｉ）、
６〜１５重量％の１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）、及び
１５〜２２重量％のジフルオロメタン（ＨＦＣ−３２）である、相対百分率で存在する、冷媒。
【請求項２】
少なくとも約９８．５重量％の前記３つの化合物を含む、請求項１に記載の冷媒。
【請求項３】
前記３つの化合物からなる、請求項１に記載の冷媒。
【請求項４】
少なくとも約９８．５重量％の前記３つの化合物を含み、各化合物が、
約６９．５重量％のトリフルオロヨードメタン（ＣＦ３Ｉ）、
約９重量％の１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）、及び
２１．５±０．５重量％のジフルオロメタン（ＨＦＣ−３２）である、相対百分率で存在する、請求項１に記載の冷媒。
【請求項５】
少なくとも約９８．５重量％の前記３つの化合物を含み、各化合物が、
６９．５±１重量％のトリフルオロヨードメタン（ＣＦ３Ｉ）、９±１重量％１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）、及び
２１±１重量％のジフルオロメタン（ＨＦＣ−３２）である、相対百分率で存在する、請求項１に記載の冷媒。
【請求項６】
少なくとも約９８．５重量％の前記３つの化合物を含み、各化合物が、
約６３〜約７２重量％のトリフルオロヨードメタン（ＣＦ３Ｉ）、
約６〜約１５重量％の１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）、及び
約１５〜約２２重量％のジフルオロメタン（ＨＦＣ−３２）である、相対百分率で存在し、前記冷媒が不燃性であり、１５０以下のＧＷＰを有する、請求項１に記載の冷媒。
【請求項７】
請求項１に記載の冷媒と、
アルキル化ナフタレン、ジエン系化合物、フェノール化合物、及びこれらのうち２つ以上の組み合わせから選択される安定化剤と、ポリオールエステル（ＰＯＥ）、鉱物油、アルキルベンゼン（ＡＢ）及びポリビニルエーテル（ＰＶＥ）からなる群から選択される潤滑剤と、を含む、熱伝達組成物。
【請求項８】
冷媒液を蒸発させて冷媒蒸気を生成することと、前記冷媒蒸気の少なくとも一部分を圧縮機で圧縮することと、冷媒蒸気を凝縮することと、を含む種類の熱を伝達する方法であって、
（ａ）少なくとも約９７重量％の以下の３つの化合物を含む冷媒を提供することであって、各化合物が、
６３〜７２重量％のトリフルオロヨードメタン（ＣＦ３Ｉ）、
６〜１５重量％の１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）、及び
１５〜２２重量％のジフルオロメタン（ＨＦＣ−３２）である、相対百分率で存在する、ことと、
（ｂ）約−４０℃〜約＋１０℃の温度で前記冷媒を蒸発させることと、を含む、方法。
【請求項９】
前記圧縮機用の潤滑剤を提供することと、前記冷媒の少なくとも一部及び／又は少なくとも前記潤滑剤の少なくとも一部を、封鎖材料に曝露することと、を更に含み、前記封鎖材料が、
ｉ．活性アルミナ、又は
ｉｉ．銅、銀、鉛、若しくはこれらの組み合わせを含むゼオライトモレキュラーシーブ、又は
ｉｉｉ．陰イオン交換樹脂、又は
ｉｖ．水分除去材料、好ましくは水分除去モレキュラーシーブ、又は
ｖ．上記のうちの２つ以上の組み合わせを含む、請求項８に記載に記載の方法。
【請求項１０】
システム中に蒸発器、圧縮機、及び冷媒を含む種類の熱伝達システムであって、
（ａ）少なくとも約９７重量％の以下の３つの化合物を含む前記冷媒であって、各化合物が、
６３〜７２重量％のトリフルオロヨードメタン（ＣＦ３Ｉ）、
６〜１５重量％の１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）、及び
１５〜２２重量％のジフルオロメタン（ＨＦＣ−３２）である、相対百分率で存在する、冷媒と、
（ｂ）封鎖材料であって、
ｉ．活性アルミナ、及び
ｉｉ．銅、銀、鉛、若しくはこれらの組み合わせを含むゼオライトモレキュラーシーブ、及び
ｉｉｉ．陰イオン交換樹脂、及び
ｉｖ．水分除去材料、好ましくは水分除去モレキュラーシーブを含む、封鎖材料と、を含む、システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．少なくとも０．０５重量％の硬化部位を含むフッ素化エラストマーガムであって、前記硬化部位が、臭素、ヨウ素、ニトリルのうちの少なくとも１つ、又はこれらの組み合わせを含む、フッ素化エラストマーガムと、
ｂ．式Ｉの共剤又はその塩であって、式Ｉが、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２−Ｌ１−Ｒｆ−Ｌ２−（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ（Ｈ）２−ｎ
［式中、Ｌ１は、−ＮＳＯ２−又は−ＮＣＯ−であり、Ｌ２は、−ＳＯ２Ｎ−又は−ＣＯＮ−であり、ｎは、１又は２であり、Ｒｆは、任意に少なくとも１つのエーテル結合を含む二価のペルフルオロ炭素基である］である、共剤又はその塩と、
を含む、組成物。
【請求項２】
前記式Ｉの塩が、１、２、又は３の価数を有する塩形成カチオンを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記共剤が、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＳＯ２Ｃ３Ｆ６ＳＯ２Ｎ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＳＯ２Ｃ４Ｆ８ＳＯ２Ｎ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＳＯ２Ｃ６Ｆ１０ＳＯ２Ｎ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＳＯ２Ｃ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＳＯ２Ｎ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＣＯＣ４Ｆ８ＣＯＮ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＮ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＮ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２、
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＣＯＣ３Ｆ６ＳＯ２Ｎ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２、
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＮＨＳＯ２Ｃ３Ｆ６ＣＯＮ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２及びその塩、並びに
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２ＮＳＯ２Ｃ３Ｆ６ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２及びその塩のうちの少なくとも１つを含む、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
Ｒｆが、分岐鎖又は環式である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項５】
前記フッ素化エラストマーガムが、少なくとも１つのＡブロックと、少なくとも１つのＢブロックと、を含むブロックコポリマーである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記フッ素化エラストマーガムが、最大で５重量％の前記硬化部位を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
前記フッ素化エラストマーガム１００重量部当たり、少なくとも３〜最大１０重量部の前記共剤を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
硬化した請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物を含む、物品。
【請求項９】
フッ素化エラストマーガムを硬化させる方法であって、
硬化部位を含むフッ素化エラストマーガムを得ることであって、前記硬化部位が、Ｂｒ、Ｉ、又はニトリルのうちの少なくとも１つを含む、ことと、
前記フッ素化エラストマーガムを、過酸化物及び共剤で硬化させることであって、前記共剤が、式Ｉ：
（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）２−Ｌ１−Ｒｆ−Ｌ２−（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ（Ｈ）２−ｎ
［式中、Ｌ１は、−ＮＳＯ２−又は−ＮＣＯ−であり、Ｌ２は、−ＳＯ２Ｎ−又は−ＣＯＮ−であり、ｎは、１又は２であり、Ｒｆは、任意に少なくとも１つのエーテル結合を含む二価のペルフルオロ炭素基である］によるものである、ことと、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月26日(2021.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高転写効率塗布器を利用して基板に塗布するための被覆組成物であって、前記被覆組成物は、ＡＳＴＭ  Ｄ２３６９に従って測定されたときに前記被覆組成物の総重量に基づいて約１５〜約７０重量％の固形分を有し、
前記被覆組成物が、
キャリアと、
前記被覆組成物の総重量に基づいて１５〜約７０重量パーセントの量で存在するバインダと、
前記被覆組成物の総重量に基づいて約０．１〜約２５重量パーセントの量で存在する架橋剤と、を含み、
前記被覆組成物は、約０．０１〜約１２．６のオーネゾルゲ数（Ｏｈ）を有し、
前記被覆組成物は、約０．０２〜約６，２００のレイノルズ数（Ｒｅ）を有し、
前記被覆組成物は、０よりも大きく約１７３０までのデボラ数（Ｄｅ）を有し、
前記被覆組成物は、１０００ｓｅｃ−１の剪断速度で円錐平板又は平行板を用いてＡＳＴＭ７８６７−１３に従って測定されたときに約０．００２Ｐａ＊ｓ〜約０．２Ｐａ＊ｓの粘度を有し、
前記被覆組成物は、約８３８ｋｇ／ｍ3〜約１５５７ｋｇ／ｍ3の密度を有し、前記被覆組成物は、約０．０１５Ｎ／ｍ〜約０．０５Ｎ／ｍの表面張力を有し、及び前記被覆組成物は、約０．０００５ｓ〜約０．０２ｓの緩和時間を有する、
ことを特徴とする被覆組成物。
【請求項２】
前記オーネゾルゲ数（Ｏｈ）は、０．０１〜約１２．６であり、前記レイノルズ数（Ｒｅ）を考慮して以下の式Ｖ及びＶＩ：
Ｏｈは１０＾（−０．５００６＊ｌｏｇ（Ｒｅ）＋１．２１３５）以下      （Ｖ）、及び
Ｏｈは少なくとも０＾（−０．５４３５＊ｌｏｇ（Ｒｅ）−１．０３２４）      （ＶＩ）、
に基づいて定められ、
前記レイノルズ数（Ｒｅ）は０．０２〜６，２００である、
請求項１に記載の被覆組成物。
【請求項３】
前記被覆組成物は、約０．０５〜約１．８のオーネゾルゲ数（Ｏｈ）を有し、前記被覆組成物は、約０．３〜約６６０のレイノルズ数（Ｒｅ）を有し、及び前記被覆組成物は、０よりも大きく約４６までのデボラ数（Ｄｅ）を有する、
請求項１に記載の被覆組成物。
【請求項４】
前記オーネゾルゲ数（Ｏｈ）は、０．０５〜１．８であり、前記レイノルズ数（Ｒｅ）を考慮して以下の式ＶＩＩ及びＶＩＩＩ：
Ｏｈは１０＾（−０．５０６７＊ｌｏｇ（Ｒｅ）＋０．７０６）以下      （ＶＩＩ）、及び
Ｏｈは少なくとも１０＾（−０．５７２４＊ｌｏｇ（Ｒｅ）−０．４８７６）      （ＶＩＩＩ）、
に基づいて定められ、
前記レイノルズ数（Ｒｅ）は０．３〜６６０である、
請求項３に記載の被覆組成物。
【請求項５】
ＡＳＴＭ  Ｄ４７５２に従って無孔質基板上に少なくとも５つの二重ＭＥＫｒｕｂの耐溶剤性と；
ＡＳＴＭ５０２６−１５に従って少なくとも１００ＭＰａのフィルム引張係数と、
ＡＳＴＭ２８１３に従って２０度の鏡面反射角で少なくとも７５の光沢値と、
ＡＳＴＭ  Ｄ７８６９に従って耐候性曝露の２０００時間後に初期光沢値の少なくとも７０％の光沢保持と、
ＡＳＴＭ  Ｄ５０２６−１５に従って少なくとも０．５ミリモル／ｃｍ3の架橋密度と、
を有する、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の被覆組成物から形成される被覆層。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微小電気機械システムのピストンモード空間光変調器においてミラーの変位を増加させるための装置であって、
ばね脚部を備える電極と、
ベース電極と、
前記電極を変位距離だけ動かすための命令を受信するように構成されるレシーバと、
前記レシーバに結合されるミラー変位判定器であって、前記変位距離が前記電極の不安定点を越えるかを判定し、前記変位距離に対応する周期信号を判定するように構成される、前記ミラー変位判定器と、
前記周期信号に応答して周期電圧を前記ベース電極に出力するための電圧源であって、前記周期電圧が、前記ばね脚部に、前記周期電圧に応じて前記ベース電極に対する前記電極の変位を変動させるためのものであり、前記変位が前記不安定点を越える距離を含む、前記電圧源と、
を含む、装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって、
周期電圧データ又はサンプリングデータの少なくとも一方を受信デバイスに送信するように構成される送信器を更に含む、装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置であって、
前記周期電圧が、前記電極が陥没なしに前記不安定点を越えて変位できるようにするためのものである、装置。
【請求項４】
請求項１に記載の装置であって、
前記周期電圧が、デジタルパルス信号又は正弦曲線の少なくとも一方である、装置。
【請求項５】
請求項１に記載の装置であって、
前記命令が、前記電極の前記不安定点より小さい変位距離のためのものである場合に、
前記ミラー変位判定器が、前記変位距離に対応する安定信号を判定するためのものであり、
前記安定信号に応答して、前記電圧源が、前記ばね脚部に前記電極を前記変位距離まで変位させるために安定電圧を前記ベース電極に出力するためのものである、装置。
【請求項６】
請求項１に記載の装置であって、
前記電極が、前記ミラーに結合される、装置。
【請求項７】
微小電気機械システムのピストンモード空間光変調器においてミラーの変位を増加させるための方法であって、
電極の不安定点を越える、画素の前記電極の変位距離に対応する周期信号を判定することと、
前記周期信号に応答して周期電圧をベース電極に出力することであって、前記周期電圧が、前記電極のばね脚部に前記周期電圧に応じて前記ベース電極に対する前記電極の変位を変動させ、前記変位が前記不安定点を越える距離を含む、前記周期電圧を出力することと、
を含む、方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、
周期電圧データ又はサンプリングデータの少なくとも一方を受信デバイスに送信することを更に含む、方法。
【請求項９】
請求項７に記載の方法であって、
前記周期電圧を出力することが、前記ばね脚部が陥没なしに前記不安定点を越えて前記電極を変位できるようにする、方法。
【請求項１０】
請求項７に記載の方法であって、
前記周期電圧が、デジタルパルス信号又は正弦曲線の少なくとも一方である、方法。
【請求項１１】
請求項７に記載の方法であって、
前記変位距離が前記電極の前記不安定点より小さい場合に、
前記変位距離に対応する安定信号を判定することと、
前記安定信号に応答して前記ばね脚部に前記電極を前記変位距離まで変位させるために安定電圧を前記ベース電極に出力することと、
を更に含む、方法。
【請求項１２】
請求項７に記載の方法であって、
前記電極が、前記ミラーに結合される、方法。
【請求項１３】
命令実行装置によって処理可能であって前記装置に方法を実行させるための命令をストアする非一時的コンピュータ可読媒体であって、前記命令が、
電極の不安定点を越える画素の前記電極の変位距離に対応する周期信号を判定することと、
前記周期信号に応答して周期電圧をベース電極に出力することであって、前記周期電圧が前記電極のばね脚部に前記周期電圧に応じて前記ベース電極に対する前記電極の変位を変動させ、前記変位が前記不安定点を越える距離を含む、前記周期電圧を出力することと、
を含む、非一時的コンピュータ可読媒体。
【請求項１４】
請求項１３に記載のコンピュータ可読ストレージ媒体であって、
前記方法が、周期電圧データ又はサンプリングデータの少なくとも一方を受信デバイスに送信することを更に含む、コンピュータ可読ストレージ媒体。
【請求項１５】
請求項１３に記載のコンピュータ可読ストレージ媒体であって、
前記周期電圧を出力することが、前記ばね脚部が陥没なしに前記不安定点を越えて前記電極を変位できるようにする、コンピュータ可読ストレージ媒体。
【請求項１６】
請求項１３に記載のコンピュータ可読ストレージ媒体であって、
前記周期電圧が、デジタルパルス信号又は正弦曲線の少なくとも一方である、コンピュータ可読ストレージ媒体。
【請求項１７】
請求項１３に記載のコンピュータ可読ストレージ媒体であって、
前記方法が、
前記変位距離が前記電極の前記不安定点より小さい場合に、
前記変位距離に対応する安定信号を判定することと、
前記安定信号に応答して前記ばね脚部に前記電極を前記変位距離まで変位させるために安定電圧を前記ベース電極に出力することと、
を更に含む、コンピュータ可読ストレージ媒体。
【請求項１８】
請求項１３に記載のコンピュータ可読ストレージ媒体であって、
前記電極が、前記ミラーに結合される、コンピュータ可読ストレージ媒体。
【請求項１９】
微小電気機械システムのピストンモード空間光変調器の効率を高めて光学帯域幅を増加させるための装置であって、
ミラーと、
前記ミラーに取り付けられる電極であって、
剛体と、
前記電極に印加される静電力に応答して前記剛体を変位させるために前記剛体に結合される３つのばね脚部と、
を含む、前記電極と、
を含む、装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の装置であって、
前記電極が、六角形形状を含む、装置。
【請求項２１】
請求項１９に記載の装置であって、
前記３つのばね脚部が、前記剛体の外周周辺に部分的に巻き付く、装置。
【請求項２２】
請求項１９に記載の装置であって、
前記静電力を生じさせるために電圧を印加するためのベース電極を更に含む、装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の装置であって、
前記ベース電極が、前記電極の前記剛体から離れて湾曲する、装置。
【請求項２４】
請求項２２に記載の装置であって、
前記剛体が、前記ベース電極から離れて湾曲する、装置。
【請求項２５】
請求項１９に記載の装置であって、
前記ミラーを前記電極に結合するためのミラーアタッチメントを更に含む、装置。
【請求項２６】
請求項２５に記載の装置であって、
前記ばね脚部をベースに取り付けるためのばねアタッチメントを更に含み、
前記電極と前記ミラーアタッチメントと前記ばねアタッチメントとが、同じ材料でつくられる、装置。
【請求項２７】
請求項２６に記載の装置であって、
前記ばねアタッチメントが、接地に結合される、装置。
【請求項２８】
請求項２６に記載の装置であって、
前記ミラーアタッチメントが、前記ばねアタッチメントより短い、装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月18日(2021.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトまたは動物の有機体により吸収されるか、または有機体中に存在する、複数の相を有する物体において、
異なる電子スピン共鳴スペクトルを有する少なくとも２つの相を有することを特徴とする、物体。
【請求項２】
少なくとも１つの相が、純粋な常磁性中心、好ましくはＳラジカル、好適にはウルトラマリンから選択されるものを有する、請求項１記載の物体。
【請求項３】
少なくとも１つの相が、少なくとも１つの集合的に秩序化する状態を有し、
強磁性、フェリ磁性、および／または反強磁性から選択され、
好適には、鉄−酸素化合物から選択され、
特に好ましくは、マグネタイトから、またはＦｅ−Ｏ相を有する材料から選択される、
請求項１または２記載の物体。
【請求項４】
少なくとも１つの相が、少なくとも１つのさらなる相に包まれている、請求項１から３までのいずれか１項記載の物体。
【請求項５】
少なくとも２つの相が、混合されて存在している、請求項１から４までのいずれか１項記載の物体。
【請求項６】
少なくとも３つの相を有し、１つの相が好適には常磁性であり、好適には（フェン）ＣｕＣｌ２から選択される、請求項１記載の物体。
【請求項７】
少なくとも１つの相が、常磁性中心、好適には単離されたラジカルを有する少なくとも１つの医療技術ポリマーを有する、請求項１から６までのいずれか１項記載の物体。
【請求項８】
前記物体は、医療用インプラント、および栄養補助用、食事療法用もしくは治療用製剤の経口投与形態の機能性コーティングから選択される、請求項１から７までのいずれか１項記載の物体。
【請求項９】
得られたＥＳＲスペクトルが、データ記憶装置に保存され、かつ保存されたデータが、好適には要求信号を受信したら受信装置に送信される、請求項１から８までのいずれか１項記載の物体の使用。
【請求項１０】
データ管理ネットワークにおける、請求項９記載の使用。
【請求項１１】
指紋分光法における、著作権保護における、および／または栄養学における、請求項９記載の使用。
【請求項１２】
ヒトまたは動物の有機体における分解プロセスの監視に使用するための、少なくとも３つの相を有する請求項１記載の本発明による物体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月1日(2021.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トカマクで使用するための磁石アセンブリであって、
内側ポロイダル磁場コイル及び外側ポロイダル磁場コイルを含むポロイダル磁場コイルアセンブリと
超伝導材料を含むトロイダル磁場コイルと、
コントローラと
を含み、
前記内側ポロイダル磁場コイルは、前記トロイダル磁場コイルの内側に設置され、
前記外側ポロイダル磁場コイルは、前記トロイダル磁場コイルの外側に設置され、
前記コントローラは、前記内側ポロイダル磁場コイル及び前記外側ポロイダル磁場コイルによって生成される合成磁場が前記トロイダル磁場コイルにおいてゼロを有するように、電流を前記内側ポロイダル磁場コイル及び前記外側ポロイダル磁場コイルに供給させるように構成される、磁石アセンブリ。
【請求項２】
各ポロイダル磁場コイルは高温超伝導体を含む、請求項１に記載の磁石アセンブリ。
【請求項３】
前記トロイダル磁場コイルはジョイントを含み、前記内側ポロイダル磁場コイル及び前記外側ポロイダル磁場コイルは、前記内側ポロイダル磁場コイル及び前記外側ポロイダル磁場コイルによって生成される合成磁場が前記ジョイントにおいてゼロを有するように配置される、請求項１又は２に記載の磁石アセンブリ。
【請求項４】
トロイダルプラズマチャンバと、請求項１から３のいずれか一項に記載の磁石アセンブリとを含む、トカマク。
【請求項５】
前記トカマクは球状トカマクである、請求項４に記載のトカマク。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月18日(2021.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクチュエータアセンブリであって、
被制御部材を作動させるために伸縮可能に構成された駆動アームアセンブリを含む駆動アセンブリを有し、前記駆動アームアセンブリは、作動部材と、解放部材と、を含み、
さらに、加圧ガスの供給源を有し、
さらに、前記作動部材の作動を制御するように構成されたブレーキを有し、
通常操作モードにおいて、前記作動部材及び前記解放部材は、固定機構と係合して、一体的に作動し、前記被制御部材を伸長させるように構成されており、
非常操作モードにおいて、前記作動部材が前記被制御部材を伸長させるために、加圧ガスにより前記作動部材を前記解放部材から自動的に切り離して、別々に移動させるように構成されており、
前記固定機構は、前記非常操作モードにおいて、前記作動部材を最大伸長位置にロックするように構成されていることを特徴とするアクチュエータアセンブリ。
【請求項２】
前記ブレーキは、前記非常操作モードにおいて、前記作動部材が前記解放部材を通過するときに前記作動部材の動作を制御するように構成されたドラッグブレーキアセンブリを備えており、
このドラッグブレーキアセンブリは、少なくとも１つのブレーキコンポーネントを含む請求項１記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項３】
前記少なくとも１つのブレーキコンポーネントは、少なくとも１つのブレーキシュー及び少なくとも１つのブレーキディスクを含む請求項２記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項４】
前記ドラッグブレーキアセンブリは、互いに係合するように構成されたドラッグブレーキピニオン及びドラッグブレーキラックを含む請求項３記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項５】
前記ドラッグブレーキピニオンは、回転可能に構成されていると共に、非常操作モードにおいて、前記少なくとも１つのブレーキシュー及び前記少なくとも１つのブレーキディスクによって制動されるように構成されている請求項４記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項６】
さらに、外周に軌道を備えたボールねじと、前記軌道に載るベアリングを収容するボールナットと、を有し、このボールナットは、通常操作モードにおいて前記作動部材に連結されており、前記ボールねじの回転方向により、前記作動部材がハウジングから伸長しているか、又は、引っ込んでいるかが決定されるように構成されている請求項１記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項７】
前記固定機構は、通常操作モードにおいて、前記作動部材と前記解放部材とが係合して１つのアセンブリとして一体的に移動するように、前記作動部材を前記解放部材に対して解放可能にロックするように構成されている請求項１記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項８】
さらに、前記作動部材を覆うカバー管と、このカバー管の端部に設けられて前記作動部材が貫いて延びるエンドキャップと、前記作動部材の端部を閉鎖するように設けられたシーリングプラグと、を有し、
前記解放部材は、前記最大伸長位置においてロックされている前記作動部材に向かって移動し、前記解放部材を前記作動部材でリセットし、その後、前記解放部材及び前記作動部材が通常操作モードで作動するように構成されている請求項７記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項９】
さらに、解放ピストンを有し、この解放ピストンは、前記作動部材内の前記解放ピストンと前記シーリングプラグとの間に拡張チャンバを形成する請求項８記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項１０】
加圧ガスが前記拡張チャンバに放出されたときに、前記解放部材が駆動されて前記固定機構のロックを解除し、前記作動部材を解放して前記解放部材を通過させる請求項９記載のアクチュエータアセンブリ。
【請求項１１】
電気機械式アクチュエータであって、
作動部材及び解放部材を含む電気機械式駆動システムと、
加圧ガスによって作動する一体型バックアップシステムと、
前記作動部材の作動を制御するように構成されたブレーキと、を有し、
通常操作モードにおいて、前記作動部材及び前記解放部材は、固定機構と係合して、一体的に作動し、前記被制御部材を所定位置まで伸長させるように構成されており、
非常操作モードにおいて、前記一体型バックアップシステムが作動しているときに、前記電気機械式駆動システムが切り離され、前記作動部材及び前記解放部材が別々に移動し、前記作動部材が前記被制御部材を前記所定位置まで伸長させて、前記固定機構が前記所定位置の前記被制御部材を機械的にロックするように構成されていることを特徴とする電気機械式アクチュエータ。
【請求項１２】
前記ブレーキは、前記作動部材の動きを制御して、前記非常操作モードにおいて前記解放部材を通過させるように構成されたドラッグブレーキアセンブリを備えており、このドラッグブレーキアセンブリは、少なくとも１つのブレーキコンポーネントを含む請求項１１記載の電気機械式アクチュエータ。
【請求項１３】
前記少なくとも１つのブレーキコンポーネントは、少なくとも１つのブレーキシュー及び少なくとも１つのブレーキディスクを含む請求項１２記載の電気機械式アクチュエータ。
【請求項１４】
前記ドラッグブレーキアセンブリは、互いに係合するように構成された構成されたドラッグブレーキピニオン及びドラッグブレーキラックを含む請求項１３記載の電気機械式アクチュエータ。
【請求項１５】
前記ドラッグブレーキピニオンは、回転可能に構成されていると共に、非常操作モードにおいて、前記少なくとも１つのブレーキシュー及び前記少なくとも１つのブレーキディスクによって制動されるように構成されている請求項１４記載の電気機械式アクチュエータ。
【請求項１６】
前記電気機械式駆動システムは、外周に軌道を備えたボールねじと、前記軌道に載るベアリングを収容するボールナットと、を有し、このボールナットは、通常操作モードにおいて前記作動部材に連結されている請求項１１記載の電気機械式アクチュエータ。
【請求項１７】
前記加圧ガスは、加圧窒素である請求項１１記載の電気機械式アクチュエータ。
【請求項１８】
前記電気機械式駆動システムは、前記加圧ガスを収容するための拡張チャンバを形成する解放ピストンを備えている請求項１１に記載の電気機械式アクチュエータ。
【請求項１９】
前記固定機構は、前記電気機械式駆動システムの駆動アーム上のリング溝に係合するように付勢された拡張可能保持リングを含む請求項１１に記載の電気機械式アクチュエータ。
【請求項２０】
請求項１１記載の電気機械式アクチュエータを含む航空機用の着陸装置ユニット。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月30日(2021.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトにおいて筋層非浸潤性膀胱がんを処置する方法において使用するための、ヒトインターフェロンを含む組成物であって、前記方法は、
ａ．  ヒトにおいて筋層非浸潤性膀胱がんを診断する工程、および次いで、
ｂ．  前記ヒトのＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程、および次いで、
ｃ．  膀胱の内腔へと、前記組成物を滴注する工程、
を包含する、組成物。
【請求項２】
前記膀胱がんは、高グレードである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記インターフェロンは、非複製ベクターとして投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記非複製ベクターは、インターフェロン導入遺伝子を担持する複製欠損ウイルスベクターを含む、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記インターフェロン導入遺伝子を担持する複製欠損ウイルスベクターは、ナドファラジーン・フィラデノベクを含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記ヒトのＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、膀胱組織サンプルを採取する工程および前記組織サンプル中のＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程を要する、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記ヒトのＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、尿サンプルを採取する工程および前記尿サンプル中のＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程を要する、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記ＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、前記尿サンプル中のエキソソームを分析する工程を包含する、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記ＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、前記尿サンプル中の遊離ＤＮＡを分析する工程を包含する、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
前記方法は、前記ＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程の後に、チェックポイントインヒビターを前記ヒトに投与する工程をさらに包含する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ヒトのＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、ＣＤＫＮ２Ａの一部とハイブリダイズし得るプローブを使用して、蛍光インサイチュハイブリダイゼーションを使用する工程を包含する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
前記プローブは、ＣＤＫＮ２Ａに含まれる少なくとも１つのエキソンとハイブリダイズする一部を含む、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記プローブは、約４０ｂｐの長さである、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１４】
前記プローブは、約４０ｂｐの長さである、請求項１２に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
我々は、ＢＣＧ不応性のおよび再燃しているＮＭＩＢＣを有する患者のｒＡｄ−ＩＦＮα／Ｓｙｎ３のフェーズＩ用量漸増研究を行った。サイトメガロウイルスプロモーターの下でヒトインターフェロンアルファ−２ｂ（ＩＦＮα−２ｂ）  ｃＤＮＡを発現した第１世代複製欠損血清型５アデノウイルスベクターを、以前に記載されるとおりであるが、そのプロセスにわずかな改変をして、２９３細胞において医薬品等の製造管理および品質管理に関する基準の条件の下で生成した。それを、エンドトキシン、微生物汚染、および他の不純物がないことを検査した。上記ベクターの構造を、配列決定によって検証した。組換えＩＦＮα−２ｂの生成を、免疫学的方法で各生成ロットから検証した。賦形剤Ｓｙｎ３は、膀胱上皮へのアデノウイルス遺伝子移入を増強するポリアミド界面活性剤である。用量依存性アデノウイルス遺伝子移入およびＩＦＮα−２ｂの尿濃度を、確認した。測定可能な尿ＩＦＮαを生じたｒＡｄ−ＩＦＮα／Ｓｙｎ３の用量レベルで処置した１４名の患者のうち、６名（４３％）は、３ヶ月で再発なしであり、用量制限毒性がなく、２名の患者は、２９ヶ月および３９ヶ月で無病のままであった。
本発明は、例えば以下の項目を提供する。
（項目１）
ヒトにおいて筋層非浸潤性膀胱がんを処置する方法であって、前記方法は、
ａ．  ヒトにおいて筋層非浸潤性膀胱がんを診断する工程、および次いで、
ｂ．  前記ヒトのＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程、および次いで、
ｃ．  前記ヒトの膀胱の内腔へと、インターフェロンを滴注する工程、
を包含する方法。
（項目２）
前記膀胱がんは、高グレードである、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記インターフェロンは、非複製ベクターとして投与される、項目１に記載の方法。
（項目４）
前記非複製ベクターは、インターフェロン導入遺伝子を担持する複製欠損ウイルスベクターを含む、項目３に記載の方法。
（項目５）
前記インターフェロン導入遺伝子を担持する複製欠損ウイルスベクターは、ナドファラジーン・フィラデノベクを含む、項目４に記載の方法。
（項目８）
前記ヒトのＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、膀胱組織サンプルを採取する工程および前記組織サンプル中のＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程を要する、項目１に記載の方法。
（項目９）
前記ヒトのＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、尿サンプルを採取する工程および前記尿サンプル中のＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程を要する、項目１に記載の方法。
（項目１０）
前記ＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、前記尿サンプル中のエキソソームを分析する工程を包含する、項目９に記載の方法。
（項目１１）
前記ＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、前記尿サンプル中の遊離ＤＮＡを分析する工程を包含する、項目９に記載の方法。
（項目１２）
前記ＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程の後に、チェックポイントインヒビターを前記ヒトに投与する工程をさらに包含する、項目１に記載の方法。
（項目１３）
前記ヒトのＣＤＫＮ２Ａ発現レベルを測定する工程は、ＣＤＫＮ２Ａの一部とハイブリダイズし得るプローブを使用して、蛍光インサイチュハイブリダイゼーションを使用する工程を包含する、項目１に記載の方法。
（項目１４）
前記プローブは、ＣＤＫＮ２Ａに含まれる少なくとも１つのエキソンとハイブリダイズする一部を含む、項目１３に記載の方法。
（項目１５）
前記プローブは、約４０ｂｐの長さである、項目１３に記載の方法。
（項目１６）
前記プローブは、約４０ｂｐの長さである、項目１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉの化合物。
【化１】
2021505671.tif 000001
（式中、
Ｒ１は、水素、（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル、−Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビルおよび−ＳＯ２（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビルから選択され、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ８は、水素、ハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、フルオロ（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、ニトロ、−ＳＯ３Ｈおよび−Ｎ＋ＨＲ５Ｒ６から独立して選択され、但し（１）Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ８のうち少なくとも１つは水素以外である必要があり、及び（２）Ｒ２またはＲ４がフッ素である場合、フェニル上の残りの置換基のうち少なくとも１つが、水素以外である必要があり、
Ｒ５およびＲ６は、（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビルから選択され、場合によりフルオロで置換されており、またはそれらが結合している窒素と一緒になって、Ｒ５およびＲ６が、５員、６員または７員の非芳香族複素環を形成し、場合によりフルオロまたは（Ｃ１−Ｃ４）アルキルで置換される。）
【請求項２】
Ｒ８が水素であり、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の１つが水素であり、前記残りの２つが水素、ハロゲン、フルオロ（Ｃ１−Ｃ４）アルキルおよび（Ｃ１−Ｃ３）アルキルから選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうち２つが水素であり、前記残りの１つが、クロロ、フルオロ、トリフルオロメチルおよびメチルから選択される、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ１が水素である、請求項２に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１が、（Ｃ１−Ｃ７）ヒドロカルビルおよび−ＳＯ２（Ｃ１−Ｃ８）ヒドロカルビルから選択される、請求項２に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ１が、（Ｃ１−Ｃ７）アルキル、ベンジルおよび−ＳＯ２（Ｃ１−Ｃ３）アルキルから選択される、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ１が−ＳＯ２（Ｃ１−Ｃ３）アルキルである、請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ７）ヒドロカルビルである、請求項５に記載の化合物。
【請求項９】
オクタヒドロ−１Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピラジンの環接合がトランスであり、−ＮＲ５Ｒ６が、前記環接合において隣接した水素に対してシスである、請求項１に記載の化合物。
【請求項１０】
−ＮＲ５Ｒ６が、
【化２】
2021505671.tif 000002
であり、式中、Ｒ７が、水素、フルオロおよび（Ｃ１−Ｃ３）アルキルから選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ１は、水素、（Ｃ１−Ｃ７）ヒドロカルビル、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（Ｃ１−Ｃ３）ヒドロカルビルおよび−ＳＯ２（Ｃ１−Ｃ８）ヒドロカルビルから選択され、
Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、水素、ハロゲン、（Ｃ１−Ｃ３）アルキルおよびフルオロ（Ｃ１−Ｃ３）アルキルから独立して選択され、
Ｒ５およびＲ６は、（Ｃ１−Ｃ６）ヒドロカルビルから選択されるか、またはそれらが結合している窒素と一緒になって、Ｒ５およびＲ６が、５、６または７員の非芳香族複素環を形成し、そして
Ｒ８は水素である、
請求項１に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ１は、水素、（Ｃ３−Ｃ４）アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（Ｃ１−Ｃ３）ヒドロカルビルおよび−ＳＯ２（Ｃ１−Ｃ８）ヒドロカルビルから選択され、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３およびＲ４は、水素、ハロゲン、（Ｃ１−Ｃ３）アルキルおよびフルオロ（Ｃ１−Ｃ３）アルキルから独立して選択され、
Ｒ５およびＲ６は、それらが結合している窒素と一緒になって、５員、６員または７員の非芳香族複素環を形成する、
請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ１はメチルまたは（Ｃ５−Ｃ７）ヒドロカルビルである、
請求項１１に記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ１は−ＣＨ２Ｒ１０であり、Ｒ１０は水素または（Ｃ４−Ｃ６）炭素環である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１５】
Ｒ１はＨであり、Ｒ５はメチルであり、Ｒ６はメチルまたはシクロプロピルメチルである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１６】
Ｒ２およびＲ４が水素である場合、Ｒ３はフルオロ（Ｃ１−Ｃ３）アルキルである、
請求項１１に記載の化合物。
【請求項１７】
窒素と一緒のＲ５およびＲ６は、ピロリジン環を形成する、
請求項１１に記載の化合物。
【請求項１８】
カッパオピオイド受容体を活性化するための方法であって、カッパオピオイド受容体と請求項１〜１７のいずれかに記載の化合物とを、接触させることを含む、方法。
【請求項１９】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の化合物を含む、中毒症治療用医薬組成物。
【請求項２０】
前記中毒症が、コカインに対する中毒症である、請求項１９に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
前記化合物が、請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の化合物である、請求項１９に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の化合物を含む、気分障害治療用医薬組成物。
【請求項２３】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の化合物を含む、掻痒症治療用医薬組成物。
【請求項２４】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の化合物を含む、疼痛治療用医薬組成物。
【請求項２５】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の化合物を含む、炎症治療用医薬組成物。
【請求項２６】
薬学的に許容される担体および請求項１〜１７のいずれか一項に記載の化合物を含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月29日(2021.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カングレロール四ナトリウムの調製方法であって、
【化１】
2021505601.tif 000001
有機溶媒の中で、化合物Ｃを、オキシ塩化リンと反応させ、化合物Ｂを含む反応液が得られるステップ（１）、
前記ステップ（１）で得られた前記化合物Ｂを含む反応液を、酸結合剤の存在下で、クロドロン酸またはその単塩と反応させた後、重炭酸ナトリウムと反応させて、カングレロール四ナトリウムを含む反応液が得られるステップ（２）、及び、
前記ステップ（２）で得られた前記カングレロール四ナトリウムを含む反応液から、カングレロール四ナトリウムを得るステップ（３）を含み、
ここで、前記ステップ（３）の中、好ましくは、前記ステップ（２）で得られた前記カングレロール四ナトリウムを含む反応液を、カラムクロマトグラフィーにより分離精製し、溶離剤で溶離して、ＨＰＬＣ純度≧９９．５％のカングレロール四ナトリウムの溶離液を回収し、凍結乾燥して、カングレロール四ナトリウムが得られ；
より好ましくは、前記カラムクロマトグラフィーは、Ｃ１８シリカゲルカラムクロマトグラフィーであり；
最も好ましくは、前記ステップ（２）で得られた前記カングレロール四ナトリウムを含む反応溶液を、カラムクロマトグラフィーにより一回だけで分離精製し、溶離剤で溶離して、ＨＰＬＣ純度≧９９．５％のカングレロール四ナトリウム塩の溶離液が得られ、凍結乾燥することにより、カングレロール四ナトリウム塩を得る、調製方法。
【請求項２】
前記ステップ（１）において、前記有機溶媒は、アセトニトリル、リン酸トリエチル又はリン酸トリメチルからなる群より選ばれる一種又はそれらの任意の組み合わせであり、
前記化合物Ｃと前記オキシ塩化リンとのモル比が１：１〜１：３であり、
前記化合物Ｃを、塩基存在下でオキシ塩化リンと反応させ、
前記塩基は、１，８−ビス−ジメチルアミノナフタレン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンからなる群より選ばれる一種又はそれらの任意の組み合わせであり、
前記化合物Ｃと前記塩基とのモル比は１：０．１〜１：２であり、
前記ステップ（１）における反応温度が−３０〜２０℃であり、反応時間が１〜２４時間であり、好ましくは、前記ステップ（１）における反応温度が−１０〜１０℃であり、反応時間が３〜１０時間であることを特徴とする、請求項１に記載の調製方法。
【請求項３】
前記ステップ（２）において、前記酸結合剤はトリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン又はＮ、Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンからなる群より選ばれる一種又はそれらの任意の組み合わせであり、前記化合物Ｃと前記酸結合剤とのモル比は１：２〜１：８であり、
前記化合物Ｃと前記クロドロン酸又はその単塩とのモル比は１：１．１〜１：３．５であり、好ましくは、前記化合物Ｃと前記クロドロン酸又はその単塩とのモル比は１：１．４〜１：２であり、
前記クロドロン酸単塩は、クロドロン酸トリ−ｎ−ブチルアミン塩、クロドロン酸一ナトリウム塩、クロドロン酸一カリウム塩からなる群より選ばれる一種又はそれらの任意の組み合わせであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の調製方法。
【請求項４】
前記ステップ（２）において、前記化合物Ｃと前記重炭酸ナトリウムとのモル比は１：１０〜１：３０であり、好ましくは、前記化合物Ｃと前記重炭酸ナトリウムとのモル比は１：１５〜１：２０であり、
前記ステップ（２）において、前記ステップ（１）で得られた前記化合物Ｂを含む反応液を、前記クロドロン酸又はその塩と反応させる際の反応温度が−１０〜３０℃であり、反応時間が１〜５時間であり、重炭酸ナトリウムと反応させる際の反応温度が１０〜４０℃であり、反応時間が１０〜４０時間であることを特徴とする、請求項１〜３の何れかに記載の調製方法。
【請求項５】
前記ステップ（３）において、前記Ｃ１８シリカゲルフィラーの粒径は、２０〜１５０ミクロンの範囲であり、好ましくは、Ｃ１８シリカゲルフィラーの粒径は４０〜１００ミクロンの範囲であり、
前記Ｃ１８シリカゲルフィラーと前記化合物Ｃとの質量比は３５：１〜１３０：１であり、好ましくは、前記Ｃ１８シリカゲルフィラーと前記化合物Ｃとの質量比は６０：１〜９０：１であり、前記溶離剤は、メタノールの体積濃度が０．１％−１０％のメタノール水溶液、アセトニトリルの体積濃度が０．１％−１０％のアセトニトリル水溶液又は水から選ばれ、好ましくは、前記溶離剤は水であることを特徴とする、請求項１〜４の何れかに記載の調製方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月2日(2021.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機溶媒中、式ＶＩＩＩの化合物を式ＩＸの化合物に変換する下記工程と、
【化１】
2021505683.tif 000001
前記式ＩＸの化合物をエラゴリクス又はエラゴリクスナトリウムに変換する工程と、
を含む、化合物のエラゴリクス又はエラゴリクスナトリウムを作製する方法。
【請求項２】
前記有機溶媒が、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記有機溶媒がジメチルホルムアミド又はＮ−メチルピロリドンである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記式ＩＸの化合物をエラゴリクス又はエラゴリクスナトリウムに変換する工程が、
酢酸の存在下、前記式ＩＸの化合物をＮ−ヨードスクシンイミドと反応させることにより、式ＸＩＶの化合物を調製する下記工程と、
触媒としてメタンスルホナト［トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン（２’−アミノ−１，１’−ビフェニル−２−イル）］パラジウム（ＩＩ）の存在下、前記式ＸＩＶの化合物を式ＸＶの化合物と反応させることにより、式Ｘの化合物を調製する下記工程と、
【化２】
2021505683.tif 000002
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記式ＩＸの化合物をエラゴリクス又はエラゴリクスナトリウムに変換する工程が、溶媒中、前記式Ｘの化合物を式ＸＩの化合物と反応させることにより、式ＸＩＩの化合物を調製する下記工程をさらに含む、請求項４記載の方法。
【化３】
2021505683.tif 000003
【請求項６】
前記溶媒が、ジクロロメタン、トルエン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記溶媒がテトラヒドロフランである、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記式ＩＸの化合物をエラゴリクス又はエラゴリクスナトリウムに変換する工程が、前記式ＸＩＩの化合物を酸と反応させることにより、式ＸＩＩＩの化合物を調製する下記工程をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【化４】
2021505683.tif 000004
【請求項９】
前記酸が塩酸である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記式ＩＸの化合物をエラゴリクス又はエラゴリクスナトリウムに変換する工程が、ワンポットプロセスをさらに含み、前記ワンポットプロセスが、
前記式Ｘの化合物及び式ＸＩの化合物の光延反応により、式ＸＩＩの化合物を作製する下記工程と、前記式ＸＩＩの化合物のＢｏｃ基の酸脱保護により式ＸＩＩＩの化合物を作製する下記工程とを含む、請求項４に記載の方法。
【化５】
2021505683.tif 000005
【請求項１１】
前記酸脱保護が塩酸存在下に行われる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
Ｚ配置又はＥ配置又はこれらの混合物を有する式ＶＩＩＩの化合物。
【化６】
2021505683.tif 000006
【請求項１３】
溶媒中、式ＶＩＩの化合物を式Ｖの化合物又はその塩と反応させる下記工程を含む、請求項１２記載の前記式ＶＩＩＩの化合物を調製する方法。
【化７】
2021505683.tif 000007
【請求項１４】
前記溶媒が、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記溶媒がイソプロパノールである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
式ＩＶの化合物を酸と反応させることにより、式Ｖの化合物又はその塩を調製する下記工程を含む、請求項１３に記載の方法。
【化８】
2021505683.tif 000008
【請求項１７】
式ＩＩＩの化合物を、遷移金属触媒及びジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボナートの存在下、Ｈ2雰囲気下で水素化して、ＲがＨ、メチル又はエチルである前記式ＩＶの化合物を作製する下記工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【化９】
2021505683.tif 000009
【請求項１８】
前記遷移金属触媒がＰｄ／Ｃ又はラネーニッケルである、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
１つ又は複数のアミン及び有機リチウム試薬の存在下、式Ｉの化合物をホルミル化して、式ＩＩの化合物を作製する下記工程と、
前記式ＩＩの化合物をヒドロキシルアミン、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン、Ｏ−エチルヒドロキシルアミン又はこれらの塩と反応させて、ＲがＨ、メチル又はエチルである前記式ＩＩＩの化合物を作製する下記工程と、
【化１０】
2021505683.tif 000010
を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記アミンが、テトラメチルエチレンジアミン、ジイソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、及びこれらの組合せからなる群から選択される、請求項１９に記載の方法。