(57)【要約】  本発明は、ウェル（２０）を含むプレート（１０）を観察するためのシステム（１５）に関し、プレート（１０）はそれぞれのウェル（２０）について、・光線を発生させることができる発光ダイオード（６０）、ピンホール（７０）および光積分器（６５）を含む光源（４０）、・ウェル（２０）からの光学的信号を収集することができる光学センサ（１８５）、を含んでおり、このシステム（１５）は、以下のようなものである、・それぞれの光積分器（６５）の長さおよび平均の横方向の寸法（Ｄｔ）の間の比が、２．２以上であるか、または、・少なくとも１つの光学軸は、伝搬経路に対して中心を外れており、積分器の長さと平均の横方向の寸法との間の比は１．５以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一連のウェル（２０）を含むプレート（１０）を観察するためのシステム（１５）であって、光学軸（ＯＡ１）がそれぞれのウェル（２０）について規定されており、観察システム（１５）は、それぞれのウェル（２０）について、
・伝搬経路（Ｌ）に沿って伝搬する光源（４０）、光源（４０）は、
・光線（Ｒ）を発生させることができる発光ダイオード（６０），
・ピンホール（７０）、および、
・前記光を２つの末端（Ｅ１、Ｅ２）の間で導くことができる光積分器（６５）、第１の末端（Ｅ１）は、発光ダイオード（６０）からの放射（Ｒ）を収集し、そして第２の末端（Ｅ２）は、ピンホール（７０）に向かい合っており、光積分器（６５）は、２つの末端（Ｅ１，Ｅ２）の間の距離として規定される長さ（ｌ）および平均の横方向の寸法（Ｄｔ）を有しており、積分器（６５）は、積分器（６５）の出口における放射（Ｒ）が２５パーセントより大きな強度勾配を有さないように構成される、
を含んでいる、
・ウェル（２０）からの光学的信号を収集することができる光学センサ（１８５）、光学軸（ＯＡ３）が光学センサ（１８５）について規定される、
を含んでなり、
観察システム（１５）では、光学軸（ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３）が互いに平行であり、そして以下の特徴の少なくとも１つが実証されている、
・それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）と平均の横方向の寸法（Ｄｔ）との間の比が２．２以上であるか、または、
・観察システム（１５）は、それぞれの光源（４０）について、放射（Ｒ）をウェル（２０）に向けて焦点に集めることができるレンズ（１４）を含み、光学軸（ＯＡ２）はこれらのレンズ（１４０）について規定され、そして少なくとも１つの光学軸（ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３）は伝搬経路（Ｌ）に対して中心を外れており、積分器（６５）の長さ（ｌ）および平均の横方向の寸法（Ｄｔ）の間の比は１．５以上である、
観察システム（１５）。
【請求項２】
それぞれの積分器（６５）が伝搬経路（Ｌ）に沿って延在しているロッド（７５）を含み、それぞれのロッド（７５）は第１の末端（Ｅ１）と第２の末端（Ｅ２）とによって、伝搬経路（Ｌ）にそって範囲を定められており、それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）と平均の横方向の寸法（Ｄｔ）との間の比は６０．０未満、そして有利には１３．３以下である、請求項１記載の観察システム（１５）。
【請求項３】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）と平均の横方向の寸法（Ｄｔ）との間の比は１０以下、そして好ましくは８．９以下である、請求項２記載の観察システム（１５）。
【請求項４】
観察システム（１５）が、それぞれの発光ダイオード（６０）を、互いの発光ダイオード（６０）と独立に、電源オンおよびオフするように命令するように構成された命令装置（４５）を更に含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項５】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）が、６０ミリメートル以下、好ましくは３０ミリメートル以下である、請求項１〜４のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項６】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）が、４．５ミリメートル〜５０ミリメートルの範囲である、請求項１〜５のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項７】
発光ダイオード（６０）が全ての発光ダイオード（６０）によって共有された単一の基材（５０）上に搭載される、請求項１〜６のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項８】
全ての発光積分器（６５）が互いに一体となっている、請求項１〜７のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項９】
全てのピンホール（７０）が単一の不透明のプレート（１０５）に配置されている、請求項１〜８のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１０】
カバー（３５）がウェルプレート（１０）に固定されるかウェルプレート（１０）上に配置された場合にそれぞれのウェル（２０）を閉じるように構成されたカバー（３５）を更に含み、カバー（３５）が、放射（Ｒ）に対して透明な、そして加熱層に電流が通された場合にカバー（３５）を加熱するように構成された加熱層（２００）を含む、請求項１〜９のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１１】
カバー（３５）がウェルプレート（１０）に固定されるかウェルプレート（１０）上に配置された場合にそれぞれのウェル（２０）を少なくとも部分的に隠蔽するように構成されたカバー（３５）を更に含み、カバー（３５）が、放射（Ｒ）を通過させないように構成された隠蔽層（２０５）、それぞれが放射（Ｒ）を通過するように構成され、一方で隠蔽層（２０５）中に配置された複数のデフレクタ（２２）を含む、請求項１〜１０のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１２】
それぞれの積分器（６５）が伝搬経路（Ｌ）に沿って延在するロッド（７５）を含み、それぞれのロッド（７５）は第１の末端（Ｅ１）と第２の末端（Ｅ２）とによって、伝搬経路（Ｌ）に沿って範囲を定められ、それぞれの積分器（６５）は、ロッド（７５）と一体となった２対の補強材（８０）を更に含み、同じ対の２つの補強材（８０）は、伝搬経路（Ｌ）を含む面に沿って互いに対称であり、第１の末端（Ｅ１）は、それぞれの対の補強材（８０）の間に挿入されている、請求項１〜１１のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１３】
それぞれのピンホール（７０）が、不透明のプレート（１０５）を伝搬経路（Ｌ）に沿って貫通する孔（１００）および孔（１００）と共軸の座ぐり（１２０）含み、座ぐり（１２０）は対応する積分器（６５）の第２の末端（Ｅ２）を収容するように与えられている、請求項１〜１２のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１４】
それぞれのウェル（２０）について、放射（Ｒ）を散乱することができる光散乱器を更に含む、請求項１〜１３のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１５】
少なくとも１つの光学軸（ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３）と対応する伝搬経路（Ｌ）との間の偏差が、光学軸ＯＡ１およびＯＡ３について０〜３０ミリメートルの範囲であり、そして光学軸ＯＡ２について０．２〜１８ミリメートルの範囲である、請求項１〜１４のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１６】
レンス（１４０）の光学軸（ＯＡ２）が伝搬経路（Ｌ）に対して中心を外れており、関連するウェル（２０）と光学センサ（１８５）の光学軸（ＯＡ１，ＯＡ３）が、伝搬経路（Ｌ）と一体となっている、請求項１〜１５のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェルプレートの観察のためのシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
生物学または化学の分野においては、一連の試料が、光学的方法を用いて観察されるように、透明な底を備えた支持体中に形成されたウェル（「ウェルプレート」とも称される）中にしばしば配置される。
【０００３】
特には、ウェルの中に置かれた試料を通過した光線が、試料を通過していない光線に干渉するホログラフィー顕微鏡法がしばしば用いられている。そのような技術には、輻射線の空間的および時間的な準コヒーレント性を維持するために、試料を照明するのに用いられる光線への良好な専門知識が必要とされる。他の非ホログラフィーの観察方法もまた用いられる。
【０００４】
しかしながら、試料を照明する輻射線が試料の表面に亘って均一でない場合には、観察システムによって取得された画像の解析を困難にする。事実、画像の中で光の強度に変動がある場合には、それらが、試料の均質性の欠如によって引き起こされているのか、または不均一な照明によって引き起こされているのかのいずれであるかを決定することが困難である。
【０００５】
不均一な照明は、しばしばウェルの側壁での輻射線の反射によって引き起こされる。他の不均一な照明は、光源の均質性の物理的な欠陥によって、例えば、放射された輻射線が特定の方向に沿って優先的に放射される場合に、引き起こされる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、従来技術の観察システムによって発生される輻射線よりもより均一である空間的な準コヒーレント性輻射線でそれぞれのウェルを照明することを可能にするウェルプレートの観察システムへの必要性が存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的のために、それぞれのウェルに１つの光学軸が規定された、一連のウェルを含むプレートを観察するシステムが提案されており、この観察システムは、それぞれのウェルについて、伝搬経路に沿って伝搬する光源を含んでおり、この光源は光線を発生することができる発光ダイオード、ピンホール、および２つの末端の間で光を導く事ができる光積分器を含んでおり、そして第１の末端は発光ダイオードからの輻射線を収集し、そして第２の末端はピンホールの向かいにあり、光積分器は２つの末端の間の距離として規定される長さおよび平均の横方向の寸法を有しており、光積分器は、積分器の出口における輻射線が２５パーセント超の強度勾配を有さないように構成される。このシステムは、ウェルからの光学的信号を収集することができる光学的センサを含み、光学軸がこの光学的センサについて規定されており、このシステムは光学軸が互いに平行であり、そして以下の特徴の少なくとも１つが確認されているものである：それぞれの光積分器の長さと平均の横方向の寸法との間の比が２．２以上であるか、または観察システムが、それぞれの光源について、ウェルに向かう輻射線を焦点に集めることができるレンズを含み、光学軸がレンズに対して規定されており、少なくとも１つの光学軸が伝搬経路に対して中心を外れており、積分器の長さと平均の横方向の寸法との間の比が１．５以上である。
【０００８】
特定の態様によれば、観察システムはまた、以下の特徴の１つもしくは２つ以上を、単独で、または技術的に可能ないずれかの組み合わせで、含んでいる。
【０００９】
・それぞれの積分器は、伝搬経路に沿って延在するロッドを含み、それぞれのロッドは、伝搬経路に沿って、第１の末端および第２の末端によって範囲を定められており、それぞれの光積分器の長さと平均の横方向の寸法との間の比は６０．０未満、そして有利には１３．３以下である。
・それぞれの光積分器の長さと平均の横方向の寸法との間の比は１０以下、そして好ましくは８．９以下である。
・観察システムは、それぞれの発光ダイオードの電源オンおよびオフを、互いの発光ダイオードとは独立して、命令するように構成されたコマンド装置を更に含む。
【００１０】
・それぞれの光積分器の長さは、６０ミリメートル以下、好ましくは３０ミリメートル以下である。
・それぞれの光積分器の長さは、４．５ミリメートル〜５０ミリメートルの範囲である。
・発光ダイオードは、全ての発光ダイオードによって共有された単一の基材上に搭載されている。
・全ての光積分器は、互いに一体をなしている。
・全てのピンホールは、単一の不透明なプレートに配置されている。
【００１１】
・カバーがウェルプレートに固定またはウェルプレート上に配置された場合にはそれぞれのウェルを閉じるように構成されたカバー、このカバーは、輻射線に対して透明であり、そして電流が加熱層を通過した場合には、このカバーを加熱するように構成された加熱層を含む。
・カバーがウェルプレートに固定またはウェルプレート上に配置された場合に、それぞれのウェルを少なくとも部分的に隠蔽されるように構成されたカバー、このカバーは輻射線によって通過されないように構成された隠蔽層、それぞれが輻射線によって通過されるように構成され、一方で隠蔽層中に配置された、複数のデフレクタを含む。
【００１２】
・それぞれの積分器は、伝搬経路に沿って延在するロッドを含み、それぞれのロッドは、伝搬経路に沿って第１の末端および第２の末端によって範囲を定められており、それぞれの積分器は、ロッドと一体となった２対の補強材を更に含んでおり、この同じ対の２つの補強材は、伝搬経路を含む面に沿って互いに対称的であり、第１の末端は、それぞれの対の補強材の間に挿入されている。
【００１３】
それぞれのピンホールは、伝搬経路に沿って不透明なプレートを貫通する孔およびこの孔と共軸の座ぐりを含んでおり、そして座ぐりは、対応する積分器の第２の末端を収容するように提供される。
・それぞれのウェルに、輻射線を散乱することができる光散乱器。
【００１４】
・少なくとも光学軸と対応する伝搬経路との間の偏差が、光学軸ＯＡ１とＯＡ３では０〜３０ミリメートルの範囲であり、そして光学軸ＯＡ２では０，２〜１８ミリメートルの範囲である。
・レンズの光学軸は、伝搬経路に対して中心から外れており、関連するウェルの光学軸および光学センサは、伝搬経路と一体となっている。
【００１５】
本発明の他の特徴および利点は、例としてのみに、そして図面を参照して提供された、本発明の態様の以下の説明を読むことによって明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、ウェルプレートおよびウェルプレートを観察するための例示の装置の概略断面図である。
【図２】図２は、図１のウェルプレートの断面図である。
【図３】図３は、図２のウェルの拡大図である。
【図４】図４は、図１の照明装置の一部の概略底面図である。
【図５】図５は、例示の光集積器の透視図である。
【図６】図６は、他の例の光集積器の透視図である。
【図７】図７は、図５の例示の集積器の断面図である。
【図８】図８は、図６の例示の集積器の断面図である。
【図９】図９および１０は、他の例示の光積分器の断面図である。
【図１０】図９および１０は、他の例示の光積分器の断面図である。
【図１１】図１１は、他の例示の光積分器の透視図である。
【図１２】図１２は、一連の光積分器の透視図である。
【図１３】図１３は、一連のピンホールを含む例示のプレートの透視図である。
【図１４】図１４は、一連のピンホールを含む他の例示のプレートの透視図である。
【図１５】図１５は、図１４の例示のプレートの断面図である。
【図１６】図１６は、図１４の例示のプレートの拡大された断面図である。
【図１７】図１７は、発光ダイオードマトリックスを制御することを可能にする装置の例示の電気回路図である。
【図１８】図１８〜２１は、図１３の例示のプレーットを製造する例示の方法の工程である。
【図１９】図１８〜２１は、図１３の例示のプレーットを製造する例示の方法の工程である。
【図２０】図１８〜２１は、図１３の例示のプレーットを製造する例示の方法の工程である。
【図２１】図１８〜２１は、図１３の例示のプレーットを製造する例示の方法の工程である。
【図２２】図２２は、例示の光積分器中の輻射線の伝搬のデジタルシミュレーションである。
【図２３】図２３は、他の例示の観察システムの断面図である。
【図２４】図２４は、他の例示の観察システムの断面図である。
【図２５】図２５は、他の例示の光積分器中の輻射線の伝搬のデジタルシミュレーションである。
【図２６】図２６〜３０は、５つの他の例示の観察システムの概略断面図である。
【図２７】図２６〜３０は、５つの他の例示の観察システムの概略断面図である。
【図２８】図２６〜３０は、５つの他の例示の観察システムの概略断面図である。
【図２９】図２６〜３０は、５つの他の例示の観察システムの概略断面図である。
【図３０】図２６〜３０は、５つの他の例示の観察システムの概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
ウェルプレート１０およびウェルプレート１０の観察システム１５の他の例が図１に示されている。
ウェルプレート１０が、図２に観察システム１５なしで示されている。
ウェルプレート１０は、複数のウェル２０を画定する。
【００１８】
特には、ウェルプレート１０は、第１の方向Ｘに沿って第１の寸法を、第２の方向Ｙに沿って第２の寸法を、そして第３の方向に沿って第３の寸法を有しており、それぞれの方向は、他の２つの方向に対して垂直であり、そして第３の寸法は、他の２つの寸法の四分の一よりも厳密に小さい。言い換えれば、ウェルプレート１０は、第３の方向Ｚに対して垂直な２つの面によって、そして第３の寸法だけ離れて範囲を定められている。第３の方向Ｚは、それゆえにウェルプレート１０に垂直であると称される。
【００１９】
ウェルプレート１０は、前面１７および裏面１８を有している。
ウェルプレート１０は、少なくとも部分的にはプラスチックで作られている。例えば、ウェルプレート１０は、ポリスチレンまたはポリカーボネートで作られている。ウェルプレート１０は、例えば、ポリスチレン、ポリカーボネート、フルオロカーバイド（fluorocarbure）またはガラスから作られた底を有している。
複数のウェル２０は、２次元のマトリックスを形成する。ウェル２０のこのマトリックスは、例えば正方形のマトリックスである。
ウェル２０のマトリックスは、第１のピッチＰ１を有している。第１のピッチＰ１は、例えば、９ミリメートル（ｍｍ）に等しい。
あるいは、第１のピッチＰ１は、４．５ｍｍに等しい。
【００２０】
ウェル２０のマトリックスは、例えば、８個のウェル２０の１２の列、または合計で９６個のウェル２０を含むマトリックスである。あるいは、ウェル２０のマトリックは、１６個のウェルの２４列、または合計で３８４個のウェルを含むマトリックスである。
【００２１】
それぞれのウェル２０は、ウェル２０のマトリックス中のその行およびその列によって識別される。例えば、ウェル２０のマトリックスのそれぞれの行は、Ａ〜Ｈの間の文字によって表される。ウェル２０のマトリックスのそれぞれの列は、１〜１２の間の数によって表される。従って、それぞれのウェル２０は、ウェル２０の行と列にそれぞれ関連付けられた文字と数字の組み合わせ、例えば「ウェルＡ１」、「ウェルＢ３」または「ウェルＤ６」によって識別される。
【００２２】
「ウェル２０」は、ウェルプレート１０に配置され、そして分析される試料を受容することが可能であるように配置された割れ目（anfractuosite）を表す。特には、それぞれのウェル２０は抜けてはいない、すなわち、それぞれのウェル２０は、密閉された底２１を有している。
【００２３】
分析される試料は、例えば流体である。あるいは、試料は液体、または溶液、または懸濁液である。
あるいは、試料は、微粒子およびナノ粒子を含む媒質である。
【００２４】
例えば、粒子は、生体細胞および／または生物学的要素および／または細胞産物、特には細胞系および／または初代細胞および／または幹細胞および／または血球および／またはオルガノイドおよび／または球状体および／または腺房および／またはニューロスフェアおよび／またはリポソームおよび／または細胞核および／または染色体および／またはＤＮＡもしくはＲＮＡ鎖および／またはヌクレオチドおよび／またはリボソームおよび／または酵素および／または抗体および／またはプロチド（protides）および／またはタンパク質および／またはペプチドおよび／または活性成分および／または寄生体および／または細菌および／またはウイルスおよび／または花粉および／または酵母菌および／または真菌および／または藻類および／またはポリマーおよび／または生物学的因子および／または刺激薬および／または成長阻害物質および／または液体中の懸濁液中のビーズおよび／または溶液中の懸濁液中の生体粒子および／または分子であるか、ならびに／あるいはそれらを含んでいる。
【００２５】
これらの粒子としては、例えば、液体に不溶性の固体粒子、例えば磁性粒子、または誘電体粒子、例えばラテックスマイクロビーズ、または伝導性粒子、または機能性粒子、または顔料、例えばインク顔料、または染料、またはタンパク質結晶、または粉末、またはポリマー構造、または不溶性医薬物質、または繊維、または糸、または炭素繊維、またはコロイドの凝集によって形成される小クラスタ、または随意選択的に生物学的成分もしくは試薬を含むポリマーカプセルが挙げられる。
【００２６】
分析される試料としては、例えば、蛍光体、または発色団、または試薬、または活性成分、マーカー、または培養液、または化学製品、抗体、ＤＮＡ配列、または酵素、またはプロチド（protid）、またはタンパク質、または生物学的因子、または刺激剤、または成長阻害物質が挙げられる。
【００２７】
それぞれのウェルは、ウェルプレート１０中に配置され、そして分析される試料のウェル２０中への注入を可能とする開口部２２を更に有している。それぞれのウェル２０の開口部２２は、前面１７に開口している。
側壁２３が、それぞれのウェル２０について画定されている。側壁２３は、対応するウェル２０を法線Ｚに垂直な面中で取り囲んでいる。側壁２３は、法線Ｚに垂直な面中で、対応するウェル２０の範囲を定める。
第１の光学軸ＯＡ１が、それぞれのウェル２０について画定される。それぞれの第１の光学軸ＯＡ１は、法線Ｚに平行である。
【００２８】
図３の例によれば、それぞれのウェル２０は、円形の基部を有するまっすぐの円錐台の形態である。このことは、それぞれのウェル２０の底部２１および開口部２２は、それぞれ円盤の形状であり、そして側壁２３は、円形の基部を有する円錐形であることを意味している。
それぞれのウェル２０の底部２１および開口部２２は、それぞれ対象のウェル２０の第１の光学軸ＯＡ１対して垂直である。
それぞれのウェル２０の底部２１は、第１の直径Ｄ１を有している。第１の直径Ｄ１は、例えば６．３５ｍｍに等しい。
それぞれのウェル２０の開口部２２は、第２の直径Ｄ２を有している。第２の直径Ｄ２は、第１の直径Ｄ１よりも厳密に大きい。第２の直径Ｄ２は、例えば６．８６ｍｍに等しい。それぞれのウェルの側壁は、それゆえ対応する第１の光学軸ＯＡ１と１．１度（°）に等しい角度αを形成する。
【００２９】
あるいは、それぞれのウェル２０は、対応する第１の光学軸ＯＡ１の周りで円筒形、例えば、円形の基部を有する円筒形である。第１の直径Ｄ１は、更に第２の直径Ｄ２に等しい。
「円形の基部を有する円筒形」は、ウェル２０が、２つの平行な面によって、そして母線と称され、この２つの面に垂直な円筒形の曲線を画定する動点を通過する、直線によって画定される表面によって範囲を定められていることを意味している。
「第１の光学軸ＯＡ１の周りに円形の基部を有する円筒形」は、第１の光学軸ＯＡ１が、それらの面のそれぞれに亘る母線の垂直投影によって範囲を定められる、２つの円盤のそれぞれの中心を通過することを意味している。言い換えれば、第１の光学軸ＯＡ１は、それぞれのウェル２０の開口部２２の中心および底部２１の中心を通過する。
【００３０】
あるいは、それぞれのウェル２０の底部２１および開口部２２は、正方形または矩形であり、そしてそれぞれ２つの対角線を有している。
正方形または矩形の中心は、その２つの対角線の交差する点に相当する。この場合には、第１の直径Ｄ１は、底部２１の対角線の長さに等しく、そして第２の直径Ｄ２は、開口部２２の対角線の長さに等しい。
第２の直径Ｄ２は、第１の直径Ｄ１と等しいか、またはそれより長く、底部２１の対角線の長さは、開口部２２の対角線の長さよりも厳密に小さい。従って、ウェル２０は、角錐台の形状である。
壁２３は、更に正方形または矩形の基部を有する角錐台の側面である。
第１の軸ＯＡ１は、法線Ｚに平行であり、それぞれのウェル２０の正方形または矩形の開口部２２および底部２１の正方形もしくは矩形中心を通過する。
【００３１】
ウェル２０のマトリックスは一連の仕切り２４を画定する。それぞれの仕切り２４は、１つのウェル２０を他のウェル２０から分離する。
それぞれの仕切り２４は、少なくとも２つの隣接するウェル２０の側壁２３によって範囲を定められる。
観察システム１５は、照明装置２５、画像形成装置３０およびカバー３５を含んでいる。
照明装置２５は、それぞれのウェル２０をそれぞれの光放射Ｒで照明するように構成される。
照明装置２５は、ウェルプレート１０に向かって配置される。例えば、照明装置２５およびウェルプレート１０は、第３の方向Ｚに沿って並べられる。
【００３２】
図１の例によれば、照明装置２５は、ウェルプレート１０の上にあり、すなわち、ウェル２０の底部２１、当該ウェル２０の開口部２２および対応する照明装置２５は、第３の方向Ｚに沿って動く観察者によってその順序で遭遇される。
【００３３】
あるいは、照明装置２５は、ウェルプレート１０の下にある。
照明装置２５は、複数の光源４０、命令装置４５、基材５０および焦点調整装置５５を含んでいる。あるいは、照明装置２５は、焦点調整装置５５を含まない。
それぞれの光源４０は、対応する光放射Ｒを放射するように構成される。
【００３４】
伝搬経路Ｌが、それぞれの光放射Ｒについて画定される。伝搬経路Ｌは、対象の光放射Ｒがそれに沿って伝搬する直線として画定される。例えば、伝搬経路Ｌは、放射Ｒの対称軸である。
それぞれの光源４０によって放射された放射Ｒについて画定される伝搬経路Ｌは、例えばそれぞれの他の光源４０によって放射される放射Ｒについて画定される伝搬経路Ｌに平行である。例えば、それぞれの伝搬経路Ｌは第３の方向Ｚと平行である。
それぞれの光源４０は、対応するウェル２０の向かいにある。図１の例によれば、それぞれの光源４０の伝搬経路Ｌは、対応するウェル２０の第１の光学軸ＯＡ１と一体とされる。
複数の光源４０は、例えば、それぞれのウェル２０に対して１つの光源４０を含んでいる。
【００３５】
あるいは、複数の光源４０は、４つのウェル２０に対して１つの光源４０を含んでいる。例えば、ウェルプレート１０が３８４個のウェル２０を含む場合には、照明装置２５は、９６個の光源４０を含んでいる。
複数の光源４０は、光源４０のマトリックスを形成する。
例えば、複数の光源４０は、周期的な正方形網目のマトリックスを形成する。
光源４０のマトリックスは、第２のピッチＰ２を有している。第２のピッチＰ２は、第１のピッチＰ１と等しい。第２のピッチＰ２は、例えば９ミリメートル（ｍｍ）に等しい。
あるいは、第２のピッチＰ２は、４．５ｍｍに等しい。
【００３６】
例えば、それぞれの光源４０は、他の光源４０と同じである。光源４０は、以下に説明されている。
光源４０は、発光ダイオード６０、光積分器６５およびピンホール７０を含んでいる。図１の例によれば、光源４０は、抽出装置７２を更に含んでいる。
【００３７】
発光ダイオード６０、光積分器６５およびピンホール７０は、伝搬経路Ｌに沿って並べられている。例えば、発光ダイオード６０、光積分器６５およびピンホール７０は、第３の方向Ｚに沿って並べられている。
それぞれの発光ダイオード６０は、光放射Ｒを生成することができる。また、この発光ダイオードは、頭字語ＬＥＤとしても知られている。
例えば、それぞれのＬＥＤ６０は、単色の放射Ｒ、例えば赤、琥珀色、緑、青または紫外線を発生することができる。
【００３８】
あるいは、それぞれのＬＥＤ６０は、幾つかの波長を有する放射Ｒを発生することができる。例えば、それぞれのＬＥＤ６０は、広範囲な波長に亘って連続したスペクトル、例えば、白色光、を放射することができ、または赤、緑および青で放射することができ、組み合わされた波長による照明は、同時であるかまたは同時ではない。
【００３９】
１つの特定の例によれば、それぞれのＬＥＤ６０は、ＲＧＢ（「赤緑青」）ダイオードまたはＲＧＢＷ（「赤緑青白」）ダイオードである。
他の例によれば、それぞれのＬＥＤ６０の放射Ｒは、照明装置２５が照明することができるウェル２０中に収容された対象物に好適である。そのような対象物は、例えば蛍光体である。
【００４０】
それぞれのＬＥＤ６０は、１０００ミリカンデラ（ｍＣｄ）超の光強度を生成することができる。カンデラは、光源の光強度を測定する典型的な単位である。カンデラは、国際単位系（ＩＡＳ）の７つの基本単位の１つである。
ＬＥＤ６０は、小さな寸法を有する、安価である、そして種々の光スペクトルを利用可能である、という利点を有している。更に、ＬＥＤ６０の反応時間は短い。事実、ＬＥＤ６０は、数十ナノ秒で入りまたは切りができ、すなわちシャッタよりも速い。
【００４１】
好ましくは、複数の光源４０の全てのＬＥＤ６０は、波長および放射角度に関して同一の発光プロファイルを有する。
ＯＮ開口数が、それぞれのＬＥＤ６０について画定される。ＯＮ開口数は、それに従って光線が光学システムに入るまたは光学システムから出る法線に対して最大の角度を特徴付ける、光学システムの典型的な特徴である。
ＯＮ開口数は、例えば全てのＬＥＤ６０について同じである。
ＯＮ開口数は、例えば０．９９に等しい。
それぞれのＬＥＤ６０は、電流ＣがＬＥＤ６０を通過するときに、対応する放射Ｒを放射するように構成される。
【００４２】
図４の例によれば、それぞれのＬＥＤ６０は、表面に搭載された部品である（しばしば、頭字語ＳＭＣを用いて表される）。特には、それぞれのＬＥＤ６０は、基材５０に搭載されている。
それぞれのＬＥＤ６０は、平行六面体である。
それぞれのＬＥＤ６０は、伝搬経路Ｌに対して垂直な面で正方形の断面を有している。
それぞれのＬＥＤ６０は、伝搬経路Ｌに対して垂直な面で測定され、９ｍｍよりも厳密に短く、好ましくは４．５ｍｍよりも厳密に短い、側長ｌｃを有している。
例えば、側長ｌｃは、４．２０ｍｍに等しい。あるいは、側長ｌｃは、３．２ｍｍに等しい。他の態様によれば、側長ｌｃは、２．８ｍｍに等しい。他の態様によれば、側長ｌｃは、１．６ｍｍに等しい。
【００４３】
あるいは、少なくとも１つの側の長さｌｃは、少なくとも１つの他の側の長さと異なっている。例えば、それぞれのＬＥＤ６０は、伝搬経路Ｌに対して垂直な面において矩形の断面を有している。
それぞれのＬＥＤ６０は、伝搬経路Ｌに対して垂直である。例えば、ＬＥＤ６０が平行六面体である場合には、ＬＥＤ６０の１つの面は伝搬経路Ｌに対して垂直である。
【００４４】
例えば、それぞれのＬＥＤ６０について中心が画定され、そして伝搬経路ＬがＬＥＤ６０の中心を通過する。ＬＥＤ６０が平行六面体である場合には、ＬＥＤ６０の中心は、その菱面体の対角線の交点である。
それぞれのＬＥＤ６０は、カソードとアノードを含んでいる。
光源４０のＬＥＤ６０は、二次元のマトリックスを形成する。
図４の例では、９６個のＬＥＤ６０のマトリックスが示されている。
【００４５】
ＬＥＤ６０は、１２列および８行に分配されている。図４の例によれば、同じ行のＬＥＤ６０は、第１の方向Ｘに沿って並べられており、そして同じ列のＬＥＤ６０は、第２の方向Ｙに沿って並べられている。
ＬＥＤ６０のマトリックスは、例えば正方形のマトリックスである。
ＬＥＤ６０のマトリックスは、第２のピッチＰ２を有している。
それぞれのＬＥＤ６０は、基材５０に搭載されている。
それぞれのＬＥＤ６０は、ＬＥＤ６０のマトリックス中のその行およびその列によって識別される。
【００４６】
例えば、照明装置２５が９６個の光源４０を含む場合には、ＬＥＤ６０のマトリックスのそれぞれの行はＡ〜Ｈの間の文字によって表される。ＬＥＤ６０のマトリックスのそれぞれの列は、更には１〜１２の間の数によって表される。従って、それぞれのＬＥＤ６０は、ＬＥＤ６０の行と列にそれぞれ関連付けられた文字および数の組み合わせによって、例えば「ＬＥＤＡ１」、「ＬＥＤＢ３」または「ＬＥＤＤ６」と識別される。
照明装置２５が３８４個の光源４０を含む場合には、ＬＥＤ６０は、１〜２４の数によってそれぞれ識別される２４個の列およびＡ〜Ｐの間の文字によってそれぞれ識別される１６個の行に分配される。
【００４７】
ＬＥＤＡ１は、ウェルＡ１の向かいに配置され、ＬＥＤＡ２はウェルＡ２の向かいに配置される。特には、それぞれのＬＥＤ６０は、文字と数字の同じ組み合わせによって識別されるウェル２０と、第３の方向Ｚに沿って並べられる。
同じ列のそれぞれのＬＥＤ６０のアノードは、好ましくは第１のそれぞれの電気的経路ＰＥ１に電気的に接続されている。従って、第１の電気的経路ＰＥ１が所定の電位にされた場合には、対応する列のそれぞれのＬＥＤ６０のアノードは、所定の電位にされる。
【００４８】
同様に、同じ行のそれぞれのＬＥＤ６０のカソードは、好ましくは第２のそれぞれの電気的経路ＰＥ２に電気的に接続されている。従って、第２の電気的経路ＰＥ２が所定の電位にされた場合には、対応する行のそれぞれのＬＥＤ６０のカソードは、所定の電位にされる。
それぞれのＬＥＤ６０は、従って対応する第１の電気的経路ＰＥ１の電流Ｃを受容し、そして電流Ｃを対応する第２の電気的経路ＰＥ２へと伝搬するのに好適である。
それぞれの光積分器６５は、対応するＬＥＤ６０からの放射Ｒを受容し、そして放射Ｒを同じ光源４０に属するピンホール７０へと送るように構成されている。
【００４９】
特には、それぞれの積分器６５は、第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２を有しており、そして第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２の間で放射Ｒを導くことができる。
それぞれの光積分器６５は、放射Ｒを空間的に均質化するように更に構成されている。特には、それぞれの光積分器６５は、放射Ｒが光積分器６５の出口において、光積分器６５の入口におけるよりもより空間的に均質であるように構成されている。
【００５０】
従って、光積分器６５は、積分器６５中に導かれる光を均質化することができる導光器である。
それぞれの光積分器６５は、ロッド７５を含んでいる。随意選択的な付加物として、それぞれの光積分器６５は、４つの補強材８０を更に含んでいる。
それぞれの光積分器６５は、放射Ｒに対して透明な材料で作られている。「透明」とは、その材料を通過する放射Ｒの１０％以下しか吸収しない材料を表す。
それぞれの光積分器６５は、ガラスで作られている。例えば、それぞれの積分器６５は、Ｎ−ＢＫ７ガラスで作られている。Ｎ−ＢＫ７は、可視スペクトルおよび近赤外における用途に非常に広範囲に用いられているホウケイ酸クラウンガラスに与えられた商標である。
【００５１】
あるいは、用いられるガラスは、石英である。
あるいは、それぞれの光積分器６５は、透明のポリマー、例えばポリメチルメタクリレートで作られている。ポリメチルメタクリレート（しばしばＰＭＭＡと省略される）は、重付加によって得られる透明な熱可塑性ポリマーであり、そのモノマーは、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）である。よく用いられるＰＭＭＡの１つは、Altuglasである。
【００５２】
あるいは、ポリマーはポリカーボネートである。
それぞれの光積分器６５は、一体形である。特には、それぞれの光積分器６５が４つの補強材８０を含む場合には、それぞれの光積分器６５のロッド７５は、同じ積分器６５の４つの補強材８０と一体である。
【００５３】
好ましくは、それぞれの光積分器６５は、照明装置２５の他の積分器６５と一体である。例えば積分器６５は、積分器６５の正方形のマトリックスを形成する。
それぞれのロッド７５は、伝搬経路Ｌに沿って延在する。特には、それぞれのロッド７５は、第３の方向Ｚに沿って延在する。
それぞれのロッド７５は、第３の方向Ｚに沿って、第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２によって範囲を定められている。従って、それぞれのロッド７５は、伝搬経路Ｌに沿って、第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２によって範囲を定められている。
それぞれのロッド７５は、第１の側面８５を更に有している。
【００５４】
第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２は、伝搬経路Ｌの反対の位置にある。例えば、第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２は、伝搬経路Ｌに沿って並べられている。
第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２の中で、第１の末端Ｅ１は対応するＬＥＤ６０に最も近接している。第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２の中で、第２の末端Ｅ２は、ウェルプレート１０に最も近接している。
【００５５】
それぞれのロッド７５は、関連するＬＥＤ６０によって放射される放射Ｒを受容し、そして第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２の間で放射Ｒを導くように構成されている。
それぞれのロッド７５は、第３の方向Ｚに垂直な面における断面を有している。
それぞれのロッド７５について１つの軸が画定される。ロッド７５のこの軸は、第１の末端Ｅ１の中心を第２の末端Ｅ２の中心に結合する線であるように画定される。
【００５６】
ロッド７５のこの軸は、対応する伝搬経路Ｌと一体となっている。
ロッド７５の断面は円形である。図５の例によれば、ロッド７５の断面は、円形の基部を有する円盤であり、そしてこの円盤の直径は、第３の方向Ｚに沿って測定された、その面と第１の末端Ｅ１との間の距離には依存しない。言い換えれば、それぞれのロッド７５は、円形の基部を有する円筒形であり、ロッド７５の軸は、第３の方向Ｚと平行である。
【００５７】
あるいは、それぞれのロッド７５は、円錐台の形状である。特には、図６に示されているように、それぞれのロッド７５は、回転による円錐体の胴部である。
真っ直ぐな円形の円錐体または回転による円錐体は、固定された軸に対する直線の割線の、固定された軸の周りでの回転によって生じる表面である。切片がそれに対して割線である軸の周りの切片の回転は、円錐体の胴部と称される。
【００５８】
ロッド７５が円錐台の形状である場合には、第３の方向に垂直な面におけるロッド７５の断面の表面は、第３の方向Ｚに沿って測定されたその面と第１の末端Ｅ１との間の距離の一次関数である。この関数は、第１の末端Ｅ１から第２の末端Ｅ２への減少関数である。
あるいは、ロッド７５の断面は円形ではない。例えば、ロッド７５の断面は、多角形である。この場合には、ロッド７５は、例えば角柱である。あるいは、ロッド７５は多角形の基部を有する角錐台の形状である。
この多角形は、例えば正方形である。あるいは、この多角形は、六角形である。
【００５９】
それぞれのロッド７５について長さｌが画定される。長さｌは、第３の方向Ｚに沿って、第１の末端Ｅ１と第２の末端Ｅ２との間で測定される。長さｌは、例えば４．５ｍｍ〜５０ｍｍの範囲である。
第１の末端Ｅ１は、関連するＬＥＤ６０によって放射された放射Ｒを収集するように構成される。
第１の末端Ｅ１は、同じ光源４０に属するＬＥＤ６０に向かい合っている。例えば、第１の末端Ｅ１は、同じ光源４０に属する抽出装置７２に向かい合っている。
【００６０】
あるいは、第１の末端Ｅ１は、対応する抽出装置７２に接触していない。
第１の末端Ｅ１とＬＥＤ６０との間に、第１の距離ｄ１が画定される。第１の距離ｄ１は、第３の方向Ｚに沿って測定される。
第１の距離ｄ１は、０ｍｍ〜３ｍｍの範囲である。例えば、第１の距離ｄ１は、０．５ｍｍに等しい。
【００６１】
図５〜８の例によれば、第１の末端Ｅ１は平面である。特には、第１の末端Ｅ１は円盤である。
第１の末端Ｅ１が平面である例示の円筒形のロッド７５が、図７に側面が示されている。
第１の末端Ｅ１が平面である例示の円錐形のロッド７５が、図８に側面が示されている。
【００６２】
あるいは、第１の末端Ｅ１は凹面である。
例えば、第１の末端Ｅ１は、対応するＬＥＤ６０を収容するように構成されている。従って、第１の末端Ｅ１は、ＬＥＤ６０を第３の方向Ｚに垂直な面で取り囲み、そしてＬＥＤ６０を収容するように構成されている。
【００６３】
あるいは、第１の末端Ｅ１は、対応する抽出装置７２を収容するように構成されている。
例えば、第１の末端Ｅ１１は、球状の蓋の形態である。
第１の凹面の末端Ｅ１を有する、それぞれ円筒形および円錐形のロッド７５の例が、図９および１０に示されている。
第１の末端Ｅ１は、第１の表面を有している。
第１の末端Ｅ１について第３の直径Ｄ３が画定される。第３の直径Ｄ３は、第３の方向Ｚに垂直な面において測定される。第３の直径Ｄ３は、０．５ｍｍ〜７．０ｍｍの範囲であり、例えば３．０ｍｍに等しい。
【００６４】
第２の末端Ｅ２は、ピンホール７０に向かい合っている。第２の末端Ｅ２は円盤である。
第２の末端Ｅ２は、第２の表面を有している。第２の表面の面積は、第１の表面の面積よりも小さいか、または等しい。
第２の末端Ｅ２について第４の直径Ｄ４が画定される。第４の直径Ｄ４は、第３の方向Ｚに垂直な面で測定される。ロッド７５が円筒形である場合には、第４の直径Ｄ４は、第３の直径Ｄ３に等しい。
【００６５】
ロッド７５が円錐体の胴部である場合には、第４の直径Ｄ４は第３の直径Ｄ３よりも厳密に小さい。例えば、第４の直径Ｄ４は、０．５ｍｍ〜５．０ｍｍの範囲である。
平均の横方向の寸法Ｄｔがロッド７５について画定される。ロッド７５が円形の断面である場合には、平均の横方向の寸法Ｄｔは、例えば、ロッド７５と同じ長さｌおよびロッド７５の体積に等しい体積を有する円筒の直径に等しい。
従って、ロッド７５が円形の基部を有する円筒である場合には、平均の横方向の寸法Ｄｔは第３の直径Ｄ３および第４の直径Ｄ４と等しい。ロッド７５が円形の基部を有する円錐体である場合には、平均の横方向の寸法Ｄｔは、第３の直径Ｄ３と第４の直径Ｄ４の合計の半分に等しい。
【００６６】
ロッド７５が矩形の菱面体であり、それぞれの面が第１の方向Ｘ、第２の方向Ｙまたは第３の方向Ｚの１つに垂直である場合には、平均の横方向の寸法Ｄｔは、次の式に従って計算される。
【数１】
2019518945.tif 000003
【００６７】
式中、ａおよびｂは、第３の方向Ｚに垂直な面で測定されたロッド７５の側面のそれぞれの長さである。
【００６８】
平均の横方向の寸法Ｄｔは、ロッド７５の長さｌの１１分の５よりも小さいか、または等しい。このことは、ロッド７５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの間の比が、２．２よりも大きいか、または等しいことを意味している。
例えば、平均の横方向の寸法Ｄｔは、長さｌの１０分の１と長さｌの１１分の５の範囲である。このことは、長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの間の比が、２．２〜１０の範囲であることを意味している。
【００６９】
第１の側面８５は、第３の方向Ｚに垂直な面においてロッド７５の範囲を定める。
第１の側面８５は、ロッド７５内部で、放射Ｒを反射させることを可能とする。例えば、第１の側面８５は研磨されている。
第１の側面８５は、例えば透明である。特には、第１の側面８５に被覆は適用されていない。
【００７０】
あるいは、第１の側面８５は、不透明である。例えば、放射Ｒを反射することができる被覆が、第１の側面８５を被覆する。この被覆は、例えば金属の被覆である。
好ましくは、それぞれのロッド７５の第１の末端Ｅ１は、第３の方向Ｚに垂直な面において、４つの補強剤８０によって取り囲まれている。例えば、それぞれの第１の末端Ｅ１は、第２の方向Ｙに沿って、１対の２つの補強材８０によって、そして第１の方向Ｘに沿って１対の２つの他の補強材８０によって範囲を定められている。
それぞれの補強材８０は、台形の基部を有する全反射するプリズムの形態である。それぞれの補強材８０の基部は、直角台形である。
【００７１】
一定方向の母線と称される直線が、多角形に沿って動き、角柱面と称される表面を描く。角柱は、この表面によって、そして２つの平行な面によって範囲を定められた立体である。この２つの面によって範囲を定められた断面は、角柱の基部と称される。２つの基部を分離する距離は、角柱の高さと称される。２つの基部の面が母線に垂直である場合には、角柱は全反射プリズムと称される。角柱が全反射である場合には、側面は矩形である。
【００７２】
それぞれの補強材８０の母線は、第２の方向Ｙまたは第１の方向Ｘのいずれかに平行である。好ましくは、対のそれぞれの補強材８０の母線は、その対の他の補強材８０の母線に平行であり、２つの異なる対に属する２つの補強材８０の母線は互いに垂直である。
好ましくは、それぞれの補強材８０は、同じ光積分器のロッド７５と、そして他の光積分器６５に属する補強材８０と一体である。
例えば、それぞれの補強材８０は、対象の補強材８０の母線に、そして第３の方向Ｚに垂直な方向に沿って、同じ光積分器のロッド７５によって、そして他の光積分器６５に属する補強材８０によって、範囲を定められている。
【００７３】
図１１の例によれば、それぞれの補強材８０は、２つの基部９０および、第２の側面９５Ａ、９５Ｂ、９５Ｃと称される３つの側面を有している。
同じ対の補強材８０は、伝搬経路Ｌを含む面に対して２つずつ対称的である。
それぞれの補強材８０の基部９０は、補強材８０の母線にそれぞれ垂直である。
【００７４】
それぞれの補強材８０の第２の側面の１つは、入力側面９５Ａと称され、第３の方向Ｚに垂直である。入力側面９５Ａは、基材５０に向かい合っている。入力側面９５Ａは、放射Ｒに対して透明である。
それぞれの補強材８０の他の第２の側面は、鏡面９５Ｂと称され、放射Ｒの一部をロッド７５の方に導くように構成されている。例えば、鏡面９５Ｂは、鏡面９５Ｂの中心とロッド７５の軸を結合する線分に垂直である。好ましくは、考慮される線分とロッド７５の交点は、第１の末端Ｅ１から、考慮される鏡面９５Ｂの中心と第１の末端Ｅ１との間の、第３の方向Ｚに沿って測定された距離よりも厳密に小さい、第３の方向Ｚに沿って測定された距離だけ離れている。
【００７５】
それぞれの鏡面９５Ｂは、例えば放射Ｒを反射することができる被覆によって覆われている。
他の第２の側面は、連結面９５Ｃと称され、第３の方向Ｚに平行であり、そしてロッド７５の反対の位置にある。
連結面９５Ｃは、少なくとも２つの別個の縁を有しており、その一方は、入力側面９５Ａと共有されており、そしてその他方は、鏡面９５Ｂと共有されている。
連結面９５Ｃは、隣接する光積分器６５の補強材８０の連結面と結合されている。従って、問題の補強材８０は、隣接する積分器６５の補強材８０と一体である。
言い換えれば、それぞれの鏡面９６Ｂは、他の補強材８０の鏡面９５Ｂと共有された縁を有している。
【００７６】
補強材８０の母線は、第３の直径Ｄ３以上の長さを有している。
補強材８０の入力側面９５Ａの組み合わせは、連続した平坦な表面を形成する。
「ピンホール７０」は、対応する積分器６５の第２の末端Ｅ２を離れた放射Ｒの一部の伝搬を妨げるように与えられ、そして問題の放射Ｒの他の一部の、伝搬経路Ｌに沿った伝搬を可能にする小さな直径を有する孔を含む、装置を表している。
【００７７】
それぞれのピンホール７０は、不透明のプレート１０５中に配置された孔１００を含んでいる。
ピンホール７０は、互いに一体となっている。特には、不透明のプレート１０５は、唯一のものであり、そして孔１００の全ては、同じ不透明のプレート１０５中に配置されている。
それぞれの孔１００は、放射Ｒの少なくとも一部が、第３の方向Ｚに沿って通過することを可能にさせる。それぞれの孔１００は、従って貫通孔である。
【００７８】
それぞれの孔１００は、第３の方向Ｚに沿って、対応する積分器６５の第２の末端Ｅ２と一列に並んでいる。
それぞれの孔１００は、例えば、円形の基部を有する円筒形である。それぞれの孔１００の軸は、伝搬経路Ｌに平行である。好ましくは、それぞれの孔１００の軸は、光源４０と関連する伝搬経路Ｌと一体となっている。
それぞれの孔１００は、第５の直径Ｄ５を有している。第５の直径Ｄ５は、１ｍｍ以下である。例えば、第５の直径Ｄ５は、１マイクロメートル（μｍ）〜６００μｍの範囲である。例えば、第５の直径Ｄ５は１５０μｍに等しい。
【００７９】
第５の直径Ｄ５は、全ての孔１００について同じである。
それぞれの孔１００は、第１の深さｐ１を有している。第１の深さｐ１は、それぞれの孔１００について同じである。第１の深さｐ１は、第３の方向Ｚに沿って測定される。
第１の深さｐ１は、５０ｎｍ〜５００μｍの範囲である。
不透明のプレート１０５は、照明装置２５の全てのピンポール７０によって共有されている。言い換えれば、全ての孔１０５は、単一の不透明のプレート１０５中に配置されている。
不透明のプレート１０５は平坦である。不透明のプレート１０５は、第３の方向Ｚに垂直である。
不透明のプレート１０５は、それぞれのピンホール７０および焦点調整装置５５の間に挿入されている。
【００８０】
図１３の例によれば、孔１００は、不透明のプレート１０５上に孔１００のマトリックスを形成する。孔１００のマトリックスは、例えば１２列の８個の孔１００を含んでいる。孔１００のマトリックスは、例えば正方形のマトリックスである。
孔１００のマトリックは、第２のピッチＰ２を有している。
不透明のプレート１０５は、孔１００の位置以外では、第３の方向Ｚに沿って、放射Ｒを通過させないように構成される。
不透明のプレート１０５は、第１の面１０７および第２の面１０８を含んでいる。
【００８１】
第１の面１０７および第２の面１０８は、第３の方向Ｚに沿って、互いに反対の位置に在る。第１の面１０７および第２の面１０８は、互いに平行である。例えば、第１の面１０７および第２の面１０８は、第３の方向Ｚに両方ともが垂直である。
第１の面１０７および第２の面１０８は平坦である。
第１の面１０７は、基材５０の向かいにある。特には、第１の面１０７および第２の面１０８の中で、第１の面１０７は、それぞれの光積分器６５に最も近い。
【００８２】
図１３の例によれば、不透明のプレート１０５は、ガラスプレート１１０および金属層１１５を含んでいる。
ガラスプレート１１０は、放射Ｒに対して透明である。特には、ガラスプレート１１０は、第３の方向Ｚに沿って、それぞれの放射Ｒを通過するように与えられている。
ガラスプレート１１０は、例えば石英プレートである。あるいは、ガラスプレート１１０は、ホウケイ酸ガラスで作られている。幾つかのホウケイ酸ガラスは、広範囲の波長に亘って良好な透明性能を有している。
ガラスプレート１１０は、第３の方向Ｚに沿って測定された０．４ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲の、例えば０．５ｍｍに等しい、第１の厚さｅ１を有している。
ガラスプレート１１０は、第３の方向Ｚに垂直である。例えば、ガラスプレートは、円形の基部を備えた円柱であり、その軸は第３の方向Ｚに平行である。ガラスプレート１１０の直径は、第３の方向Ｚに垂直な面で測定され、例えば１５０ｍｍに等しい。
【００８３】
あるいは、ガラスプレート１１０は、矩形の菱面体であり、その矩形の基部は第３の方向Ｚに垂直である。矩形の基部の辺の長さは、第３の方向Ｚに垂直な面で測定されて、例えば１１７ｍｍおよび８１ｍｍに等しい。
ガラスプレート１１０は、第３の面１１７を有している。第３の面１１７は、金属層１１５によって部分的に被覆されている。
第３の面１１７は平坦である。例えば、第３の面１１７は研磨されている。
第３の面１１７は、第３の方向Ｚに沿って第２の面１０８の反対側に位置している。第３の面１１７は、第３の方向Ｚに垂直である。
【００８４】
ガラスプレート１１０は、第３の方向Ｚに沿って、金属層１１５によって、そして第２の面１０８によって、範囲を定められている。
金属層１１５は、例えばアルミニウムの層である。あるいは、金属層１１５は、他の金属、例えばクロムで作られている。
金属層１１５は、５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の、例えば７５ｎｍに等しい第２の厚さｅ２を有している。第２の厚さｅ２は均一である。
金属層１１５は、第３の方向Ｚに沿って、ガラスプレート１１０によって、そして第１の面１０７によって範囲を定められている。金属層１１５は、従ってガラスプレート１１０をそれぞれの積分器６５から分離している。
【００８５】
不透明プレート１０５が金属層１１５およびガラスプレート１１０を含む場合には、それぞれの孔１００は、第３の方向Ｚに沿って金属層１１５を貫通する。ガラスプレート１１０は放射Ｒに対して透明であり、孔１００が、ガラスプレート１００に延びることは必要ではない。
それぞれの孔１００の第１の深さｐ１は、従って金属層１１５の第２の厚さｅ２と等しい。
【００８６】
他の例示の不透明のプレート１０５が、図１４に示されている。
不透明のプレート１０５は、一体となっている。プレート１０５は、例えば金属プレートである。
不透明のプレート１０５は、第３の方向Ｚに沿って測定して、０．１ｍｍ〜１０．０ｍｍの範囲の第３の厚さｅ３を有している。
それぞれのピンホール７０は、更に孔１００に加えて、座ぐり１２０を含んでいる。座ぐり１２０は、図１５において見ることができる。
座ぐり１２０は、ピンホール７０の貫通孔１００と共軸の非貫通孔である。
【００８７】
それぞれの座ぐり１２０は、第１の面１０７から第２の面１０８に向けて、第３の方向Ｚに沿って延在している。それぞれの座ぐり１２０は非貫通孔であり、座ぐり１２０は、第１の面１０７から第２の面１０８へと、不透明のプレート１０５を、１つも通過していない。
それぞれの座ぐり１２０は、円形の基部を有する円筒形である。それぞれの座ぐり１２０は、関連する積分器６５の第２の末端Ｅ２を収容するように与えられる。
それぞれの座ぐり１２０は、同じピンホール７０の貫通孔１００と共軸である。従って、それぞれの座ぐり１２０の軸は、ピンホール７０を含む光源４０と関連する伝搬経路Ｌである。
それぞれの座ぐり１２０は、第２の深さｐ２および第６の直径Ｄ６を有している。
第２の深さｐ２は、図１６に示されている。第２の深さｐ２は、０．５ｍｍ〜５．０ｍｍの範囲である。
【００８８】
第２の深さｐ２は、例えばそれぞれの座ぐり１２０について同じである。
第６の直径Ｄ６は、第４の直径Ｄ４よりも厳密に大きい。
それぞれの座ぐり１２０は、周縁の内面１２５および軸方向の内面１３０を有している。
積分器６５の第２の末端Ｅ２が対応する座ぐり１２０中に収容されている場合には、周縁の内面１２５は、第３の方向Ｚに垂直な面において第２の末端Ｅ２を取り囲む。
【００８９】
軸方向の内面１３０は、第３の方向Ｚに沿って、座ぐり１２０の範囲を定める。従って、軸方向の内面１３０は、座ぐり１２０の底部を構成する。
軸方向の内面１３０は平坦である。
それぞれのピンホール７０の貫通孔１００は、不透明のプレート１０５を通して、対応する座ぐり１２０の軸方向の内面１３０から、第２の面１０８へと延在する。
光積分器６５は、積分器６５を出た放射Ｒが、２５％超の強度勾配を有さないように構成されている。
【００９０】
「２５％超の強度勾配を有さない」とは、１５０μｍに等しい第５の直径Ｄ５を有し、そして２５μｍに等しい第１の深さｐ１を有するピンホール７０が積分器６５の第２の末端Ｅ２と接触して配置されている場合には、そして第１の撮像装置がピンホール７０の向かいに配置され、この第１の撮像装置が、第２の末端Ｅ２を出て、そしてピンホール７０を通過する放射Ｒの一部によって照明される場合には、第１の撮像装置によって取得される第１の画像Ｉｍ１は、高い強度勾配を備えた領域を有しない、ことを意味している。
「撮像装置」は、２次元の画像を発生することができる光学センサを表す。
【００９１】
放射Ｒの均一性を決定するために、１５０μｍに等しい第５の直径Ｄ５を有し、そして２５μｍに等しい第１の深さｐ１を有するピンホール７０が、積分器６５の第２の末端Ｅ２と接触して配置される。孔１００の軸は、伝搬経路Ｌと一体となっている。言い換えれば、孔１００の軸およびロッド７５の軸は一体となっている。ピンホール７０は、第２の末端２と第１の撮像装置との間に挿入される。
【００９２】
特には、伝搬経路Ｌに沿った、第１の撮像装置とピンホール７０との間の距離が３０ｍｍに等しい場合には、第１の撮像装置は互いに２．２μｍに等しいピッチで互いに分離された検出要素のマトリックスを含み、第１の撮像装置によって取得された第１の画像Ｉｍ１は、高い強度勾配領域を有さない。
第１の画像Ｉｍ１は、複数のピクセルを含んでいる。ピクセル（しばしばｐｘと省略される）は、行列状のデジタル画像の解像度を測定することを可能にする基本単位である。その名前は用語「画素」に由来する。それぞれのピクセルは、例えば第１の撮像装置の検出要素によって取得される。
【００９３】
第１の撮像装置の全体の強度振幅は、第１の撮像装置が取得することができる最も明るいピクセルの光強度と、第１の撮像装置が取得することができる最も暗いピクセルの光強度との間の差異として規定される。
例えば、第１の撮像装置は、第１の撮像装置の検出器要素によって測定された電圧または荷電数から、その画像のそれぞれの対応するピクセルの強度水準を割り当てるマッチテーブルを含んでいる。ｎビット（ｎは正の整数である）にコード化された第１の撮像装置は、２ｎ強度水準のマッチテーブルを有しており、そして従って全体の強度振幅は、２ｎに等しい。例えば、８ビットにコード化された第１の撮像装置は、２５６水準のマッチテーブルを有しており、そして従って第１の撮像装置の全体の強度振幅は２５６に等しい。
【００９４】
第１の撮像装置の全体の強度振幅は、画像形成装置３０の光学センサ１８５の全体の強度振幅に等しい。
第１の画像Ｉｍ１は、複数のピクセルのセットを含んでいる。特には、ピクセルのセットは、第１の画像Ｉｍ１のそれぞれのピクセルについて規定される。ピクセルのそれぞれのセットは、問題のピクセルから少なくとも３つの他のピクセルによって分離されたピクセルによって形成されている。
それぞれの問題のピクセルのセットは、更に画像上に円盤を形成するピクセルのセットであり、この円盤は５ピクセルの半径を有している。
【００９５】
局所的な強度は、ピクセルのそれぞれのセットについて規定される。ピクセルのセットの局所的な強度は、ピクセルの当該セットを作るピクセルの平均の強度である。
局所的な強度は、従って、第１の画像Ｉｍ１のそれぞれのピクセルについて定められる。
最小の局所的強度は、第１の画像Ｉｍ１の最も低い局所的強度である。最大の局所的強度は、第１の画像Ｉｍ１の最も高い局所的強度である。
「高い強度勾配区域」とは、最大の局所的強度と最小の局所的強度との間の差異が、第１の撮像装置の全体の強度振幅の四分の一よりも厳密に大きいピクセルのセットを表す。
【００９６】
抽出装置７２は、ＬＥＤ６０の外側の放射Ｒの抽出を促進するように構成されている。例えば、抽出装置７２は、ＬＥＤと空気との間の界面における放射Ｒの反射を制限するように構成される。
抽出装置７２は、例えば放射Ｒに対して透明な材料で作られた、半球状のドームまたは回転楕円体部分である。抽出装置７２の平坦な面は、更にはＬＥＤ６０の面と接触している。
抽出装置７２は、例えばシリコーンで作られている。
抽出装置７２は、ＬＥＤ６０と積分器６５との間に挿入されている。
【００９７】
基材５０は、それぞれのＬＥＤ６０を適切な位置に保持するように構成されている。
基材５０は、例えばFR-4（Flame Resistant 4）、すなわち印刷回路基板を製造するのに通常用いられるガラス繊維で補強されたエポキシ樹脂複合材で作られたカードである。
基材５０は、主面１３５を有しており、その上にＬＥＤ６０が固定されている。
【００９８】
主面１３５は平坦である。主面１３５は、第３の方向Ｚに対して垂直である。
焦点調整装置５５は、それぞれの第２の末端Ｅ２によってウェルプレート１０に向けて放射される放射Ｒを焦点に集めるように構成されている。
焦点調整装置５５は、複数のレンズ１４０を含んでいる。好ましくは、焦点調整装置５５はそれぞれの光源４０についてレンズ１４０を含んでいる。
焦点調整装置５５は、一体物である。例えば、焦点調整装置５５は、プレートの形態であり、その少なくとも１つの面は、レンズ１４０を形成するように構成されている。
【００９９】
焦点調整装置５５は、不透明のプレート１０５とウェルプレート１０との間に挿入されている。カバー３５がウェルプレート１０と不透明プレート１０５との間に挿入されている場合には、焦点調整装置５５は、不透明プレート１０５とカバー３５との間に挿入される。
焦点調整装置５５は、放射Ｒに対して透明な材料で作られている。例えば、焦点調整装置５５は、ホウケイ酸ガラスで作られている。あるいは、焦点調整装置５５は、放射Ｒに対して透明な樹脂またはポリマー、例えばアクリレート、メタクリレート、シロキサンまたはスチレン誘導体から作られたポリマー、で作られている。
焦点調整装置５５は、屈折率ｉを有する材料から作られている。屈折率ｉは１よりも厳密に大きい。
焦点調整装置５５は、第４の面１４５および第５の面１５０を有している。
【０１００】
第４の面１４５は、第４の面１４５と第５の面１５０との間で、不透明なプレート１０５に最も近い面である。
好ましくは、第４の面１４５は平坦である。
第４の面１４５は、第３の方向Ｚに対して垂直である。
第４の面１４５は、それぞれの放射Ｒによって、第３の方向Ｚに沿って、通過されるように構成される。
【０１０１】
第２の距離ｄ２は、放射Ｒの、ピンホール７０と第４の面１４５との間の、第３の方向Ｚに沿って測定された、光学的経路の長さとして規定される。
不透明のプレート１０５が図１４〜１６に示されたプレートのように金属プレートである場合には、第２の距離ｄ２は、第２の面１０８と第４の面１４５との間の距離に等しい。
不透明のプレート１０５が、図１３の例に従って、ガラスプレート１１０と金属層１１５を含む場合には、第２の距離ｄ２は、第２の面１０８と第４の面１４５との間の距離およびガラスプレート１１０内の放射Ｒの光学的経路の長さＬＣＯの合計に等しい。
【０１０２】
光学的経路ＬＣＯの長さは、以下の式によって規定される。
【数２】
2019518945.tif 000004
式中、nairは、空気の光学指数であり、ほぼ１に等しく、そしてnverreは、ガラスプレートの光学指数であり、１よりも厳密に大きい。
第５の面は、ウェルプレート１０に向かい合っている。
第５の面は、第４の面１４５の反対側である。
【０１０３】
それぞれのレンズ１４０は、放射Ｒを対応するウェル２０に向けて焦点に集めるように構成される。
それぞれのレンズ１４０は、第５の面１５０上に配置される。
それぞれのレンズ１４０は、例えば、第５の面１５０上に配置された凸上の突出部を含んでいる。それぞれのレンズ１４０は、更には平面−凸面レンズである。
あるいは、それぞれのレンズ１４０は、第５の面１４５上に配置された凸上の突出部を更に含んでいる。それぞれのレンズ１４０は、更には両凸面レンズである。
それぞれのレンズ１４０は、例えば、非球面である。
【０１０４】
焦点距離ｆは、それぞれのレンズ１４０について規定される。焦点距離ｆは、４ｍｍ〜５０ｍｍの範囲である。例えば、焦点距離ｆは、２７ｍｍに等しい。
焦点距離ｆは、それぞれのレンズ１４０について等しい。
【０１０５】
焦点距離ｆは、例えば焦点調整装置５５の第４の面１４５とピンホール７０との間の放射Ｒの光学的経路の第２の距離ｄ２に等しい。
第２の光学的軸ＯＡ２は、焦点調整システム５５のそれぞれのレンズ１４０について規定される。
レンズ１４０は、レンズ１４０の二次元のマトリクスを形成する。レンズ１４０のこのマトリックスは、例えば正方形のマトリックスである。レンズ１４０のマトリックスは、第２のピッチＰ２を有している。
それぞれのレンズ１４０は、対応する光源４０の第２の末端Ｅ２と一列に並んでいる。例えば、それぞれの第２の光学軸ＯＡ２は、対応する光源４０の伝搬経路Ｌに平行である。
【０１０６】
図１の例によれば、それぞれの第２の光学軸ＯＡ２は、対応する光源４０の伝搬経路Ｌと一体となっている。
命令装置４５は、それぞれのＬＥＤ６０の電力オンおよびオフを命令するように構成されている。
好ましくは、命令装置４５は、それぞれのＬＥＤ６０を、それぞれ他のＬＥＤ６０とは独立して、電力オンおよびオフを命令するように構成されている。
【０１０７】
命令装置４５は、例えば、それぞれのＬＥＤ６０への電流Ｃの供給を命令するように構成されている。
それぞれの電流ＣはＤＣ電流である。
それぞれの電流Ｃは、電圧Ｖｃｃおよび強度を有している。
【０１０８】
命令装置４５は、電圧Ｖｃｃの値および／またはそれぞれの電流Ｃの強度を変更するように構成されている。命令装置４５は、好ましくは、電圧Ｖｃｃの値および／またはそれぞれの電流Ｃの強度の値を変更するように構成されている。
命令装置４５は、例えばそれぞれの電流Ｃの電圧Ｖｃｃの値を、０〜５ボルト（Ｖ）の範囲で変更するように構成されている。
命令装置４５は、例えば、それぞれの電流Ｃの強度の値を、０ミリアンペア（ｍＡ）〜５００ｍＡの範囲で変更するように構成される。例えば、命令装置４５は、それぞれの電流Ｃの強度Ｉの値を、１５ｍＡに等しく設定するように構成されている。
【０１０９】
命令装置４５は、電子的コマンドカード１６０を含んでいる。
カード１６０は、例えば基材５０に固定されている。
図１７の例によれば、カード１６０は、それぞれの列について第１のトランジスタ１６５、それぞれの行について第２のトランジスタ１６７、電気入力経路１７０、少なくとも１つの電気出力経路１７５、発電機および制御器を含んでいる。
【０１１０】
図１７では、それぞれのトランジスタ１６５、１６７は、列によって、または対応する行によって識別される。第１のトランジスタ１６５は、従って、１〜１２の番号を付けられ、そして第２のトランジスタ１６７は、それぞれＡ〜Ｈの文字によって識別される。
それぞれのトランジスタ１６５、１６７は、例えばＣＭＯＳトランジスタまたはＭＯＳＦＥＴトランジスタである。
それぞれの第１のトランジスタ１６５は、入力電気経路１７０を、ＬＥＤ６０のマトリックスの同じ列に関連付けられた第１の電気経路ＰＥ１に、電気的に接続することができる。
【０１１１】
それぞれの第１のトランジスタ１６５は、入力電気経路１７０と、ＬＥＤ６０のマトリックスの同じ列に関連付けられる第１の電気経路ＰＥ１との間の電流Ｃの通過を更に防止することができる。
それぞれの第２のトランジスタ１６７は、出力電気経路１７５を、ＬＥＤ６０のマトリックスの同じ行に関連付けられる第２の電気経路ＰＥ２へと電気的に接続することができる。
それぞれの第２のトランジスタ１６７は、ＬＥＤ６０のマトリックスの同じ行に関連付けられる第２の電気経路ＰＥ２と、対応する出力電気経路１７５との間の電流Ｃの通過を更に防止することができる。
【０１１２】
入力電気経路１７０は、発電機に接続される。
それぞれの出力電気経路１７５は、例えば地面に接続されている。
発電機は、電圧Ｖｃｃを、入力電気経路１７０とそれぞれの出力電気経路１７５との間に加えることができる。
【０１１３】
制御器は、それぞれのトランジスタ１６５、１６７を、問題のトランジスタ１６５、１６７が、対応する入力１７０もしくは出力１７５電気経路と、第１の電気経路ＰＥ１もしくは対応する第２の電気経路ＰＥ２との間に電流Ｃを通過させることができるオン状態と、トランジスタ１６５、１６７が、電流Ｃの通過を防止するオフ状態との間で切り替えるように構成されている。
従って、制御器は、トランジスタ１６５、１６７を切り替えることによって、それぞれのＬＥＤに電流Ｃを、他のＬＥＤ６０とは独立して供給するように命令するように構成される。
制御器は、例えばコンピュータである。
【０１１４】
画像形成装置３０は、ウェル２０が照射Ｒで照明された場合に、少なくとも１つのウェル２０の第２の画像Ｉｍ２を取得するように構成される。好ましくは、画像形成装置３０は、ウェル２０が放射Ｒで照明された場合に、それぞれのウェル２０の第２の画像Ｉｍ２を取得するように構成される。
画像形成装置３０は、例えば支持体１９０によって保持された複数の光学センサ１８５を含んでいる。
特には、画像形成装置３０は、照明装置２５が照明することができるそれぞれのウェル２０について光学センサ１８５を含んでいる。例えば、画像形成装置３０は、それぞれの光源４０について光学センサ１８５を含んでいる。
【０１１５】
第２の画像Ｉｍ２は、問題の光学センサ１８５の向かいにあるウェル２０の画像である。
それぞれの光学センサ１８５は、対応するウェル２０の向かいにある。例えば、それぞれの光学センサ１８５は、対応するウェル２０と、そして対応する光源４０と、第３の方向Ｚに沿って一列に並んでいる。
それぞれのウェル２０は、光学センサ１８５と不透明のプレート１０５との間に挿入されている。
【０１１６】
それぞれの光学センサ１８５は、ウェル２０が放射Ｒで照明された場合に、対応するウェル２０からの光学信号を収集することができる。例えば、それぞれの光学センサ１８５は、ウェル２０が対応する放射Ｒで照明された場合に、単一のウェル２０の第２の画像Ｉｍ２を取得するように構成される。
それぞれの光学センサ１８５は第２の撮像装置である。例えば、それぞれの光学センサ１８５は、複数の検出要素を含んでおり、それぞれの検出要素は、第２の画像Ｉｍ２のピクセルを発生することができる。
それぞれの光学センサ１８５は、例えばＣＣＤ撮像装置である。ＣＣＤ（電荷結合デバイス）光学センサは、製造するのが単純な画像センサである。
【０１１７】
あるいは、光学センサ１８５は、ＣＭＯＳ型のセンサである。ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）センサは、伝統的な超小形電子技術を用いたセンサである。
それぞれの光学センサ１８５は、例えば平行六面体である。光学センサ１８５の検出要素は、例えば光学センサ１８５の主面によって保持されている。この主面は、第３の方向Ｚに対して垂直である。この主面は、ウェル２０の向かいにある。
【０１１８】
第３の光学軸ＯＡ３は、それぞれの光学センサ１８５について規定される。第３の光学軸ＯＡ３は、光学軸１８５の主面に対して垂直である。第３の光学軸ＯＡ３は、光学軸１８５の主面の中心を通過する。従って、第３の光学軸ＯＡ３上に位置している対象の点の画像は、第２の画像Ｉｍ２の中心に現れる。
それぞれの第３の光学軸ＯＡ３は、対応するウェル２０の第１の光学軸ＯＡ１と、そして対応するレンズ１４０の第２の光学軸ＯＡ２と平行である。それぞれの第３の光学軸ＯＡ３は、対応する光源４０の伝搬経路Ｌに更に平行である。
【０１１９】
図１の例によれば、それぞれの第３の光学軸ＯＡ３は、対応するウェル２０の第１の光学軸ＯＡ１と、そして対応するレンズ１４０の第２の光学軸ＯＡ２と、一体となっている。それぞれの第３の光学軸ＯＡ３は、更に対応する伝搬経路Ｌと一体となっている。
【０１２０】
第３の距離ｄ３は、それぞれのセンサ１８５について規定される。第３の距離ｄ３は、第３の方向Ｚに沿って測定された、光学センサ１８５と対応するピンホール７０との間の距離である。
第３の距離ｄ３は、１５ｍｍ〜１００ｍｍの範囲である。
【０１２１】
ウェルプレート１０のカバー３５は、少なくとも１つのウェル２０の開口部を閉じるように、そして従って、開口部２２を通した、ウェル２０とウェルプレート１０の外側との間の、材料の交換および気体の交換を防止するように、構成されている。
好ましくは、カバー３５は、それぞれのウェル２０の開口物を同時に閉じるように構成されている。例えば、カバー３５は、ウェルプレート１０の前面１７全体を被覆するように構成されている。
【０１２２】
カバー３５は、少なくとも１つのウェル２０を照射する放射Ｒを少なくとも部分的に隠すように更に構成されている。例えば、カバー３５は、放射Ｒによって透過されないように構成された少なくとも１つの部分を有しており、その部分はピンホール７０と対応するウェル２０との間に挿入される。
カバー３５は、それぞれのピンホール２０と焦点調整装置５５との間に挿入される。
カバー３５は、蓋１９５、加熱層２００および／または隠蔽層２０５を含んでいる。
【０１２３】
カバー１９５は、それぞれのウェル２０の開口部を同時に閉じるように構成される。例えば、カバー１９５は、ウェルプレート１０の前面１７の全体を覆うように構成される。
カバー１９５は、閉鎖プレート２１０および環２１５を含んでいる。
カバー１９５は、放射Ｒに対して透明な材料で作られている。例えば、カバー１９５は、ホウケイ酸塩ガラス、ポリスチレン、ポリカーボネートまたはフルオロカーボンから作られている。
カバー１９５は、一体物である。特には、閉鎖プレート２１０および環２１５は、互いに一体である。
【０１２４】
閉鎖プレート２１０は平坦である。閉鎖プレート２１０は、カバー３５がウェルプレート１０に固定された場合に、ウェルプレート１０の前面１７に支えられているように構成されている。
あるいは、閉鎖プレート２１０は、カバー３５がウェルプレート１０の上に、閉鎖位置に配置されているが、しかしながらウェルプレート１０には固定されていない場合には、ウェルプレート１０の前面１７に支えられているように構成されている。
あるいは、閉鎖プレート２１０は、カバー３５がウェルプレート１０に固定されている場合には、第３の方向Ｚに沿って測定された、ウェルプレート１０の前面１７と閉鎖プレート２１０との間の距離が０よりも厳密に大きく、そして２．０ｍｍよりも厳密に小さいように構成されている。
【０１２５】
カバー３５がウェルプレート１０に固定されるか、またはウェルプレート１０上に閉鎖位置で配置されている場合には、閉鎖プレート２１０は、異なるウェル２０間の材料の交換を防止するか、もしくは制限するように提供される。例えば、カバー３５がウェルプレート１０に固定されるか、またはウェルプレート１０上に閉鎖位置で配置されている場合には、閉鎖プレート２１０は、それぞれの仕切り２４に支えられているか、またはそれぞれの仕切り２４に対して２．０ｍｍ未満の、第３の方向Ｚに沿って測定された距離だけ持ち上げられている。
【０１２６】
閉鎖プレート２１０は、ウェル２０内に含まれるガスが、照明装置２５に到達することを防止するように、またはウェル２０とウェルプレート１０との間のガスの交換を制限するように、例えば、ウェル２０中に存在する液体の蒸発を制限するように、更に与えられる。
閉鎖プレート２１０は、１００μｍ〜３ｍｍの範囲の厚さを有している。例えば、閉鎖プレート２１０は、１２５μｍに等しい厚さを有している。あるいは、閉鎖プレート２１０の厚さは、２００μｍに等しい。他の代替案によれば、閉鎖プレート２１０の厚さは、５００μｍに等しい。
【０１２７】
環２１５は、カバー３５をウェルプレート１０に固定するように、そしてウェルプレート１０のウェル２０と周囲の気体との間のガスの交換を制限するように、与えられる。例えば、環２１５は、カバー３５がウェルプレート１０に固定されるか、またはウェルプレート１０上に閉鎖位置に配置される場合に、ウェルプレート１０を、第３の方向Ｚに対して垂直な面に把握するように構成されている。特には、環２１５は、カバー３５が、ウェルプレート１０に固定されているか、またはウェルプレート１０上に閉鎖位置に配置されている場合に、ウェルプレート１０を、第３の方向Ｚに対して垂直な面で取り囲むように構成されている。
【０１２８】
加熱層２００は、放射Ｒに対して透明である。
加熱層２００は、電導性である。
加熱層２００は、加熱層２００に電流が通された場合に、カバー１９５を加熱するように構成されている。
加熱層２００は、「加熱材料」と称される材料から作られている。この加熱材料は、例えばインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）である。ＩＴＯは、可視光に対して透明な電導性材料であり、しばしばディスプレイ用途、例えば触感スクリーンで電気接点として用いられている。
【０１２９】
あるいは、加熱材料は、例えばインジウム含有量が低いもしくはゼロの酸化物、伝導性ポリマー、カーボンナノチューブの薄い層、グラフェン、ナノワイヤまたはナノ構造の膜である。
【０１３０】
加熱層２００は、「支持材料」と称される材料を更に含んでおり、その上に加熱材料が堆積されている。この支持材料は、例えばガラス板または透明ポリマー膜、例えばポリエチレンテレフタレートである。
加熱層２００の加熱材料は、好ましくは閉鎖プレート２１０と接触している。加熱層２００は、例えば閉鎖プレート２１０と隠蔽層２０５との間に挿入されている。加熱層２００の支持材料は、更には好ましくは加熱層２００の加熱材料と隠蔽層２０５との間に配置されている。
あるいは、閉鎖プレート２１０は、第３の方向Ｚに沿って、加熱層２００および隠蔽層２０５によって範囲を定められている。加熱層２００の支持材料は、更には好ましくはウェルプレート１０と加熱層２００の加熱材料との間に配置されている。
【０１３１】
加熱層２００は、１オーム／スクエア（Ω／ｓｑ）〜５００Ω／ｓｑの範囲の表面抵抗を有している。表面抵抗は、実質的に均一な厚さを備えた薄膜の抵抗の測定値であり、しばしば半導体およびガラス被覆の分野において用いられている。長さ、厚さおよび幅を有する平行六面体の場合には、表面抵抗は、電流の通過に抗する電気抵抗と幅の積を長さで割り算したものに等しい。薄膜の表面抵抗は、四点法によって、またはファンデルポー法によって測定される。
表面抵抗は、例えば４Ω／ｓｑである。
【０１３２】
加熱材料および随意選択的な支持材料で作られた加熱層２００は、１０ｎｍ〜１．５ｍｍの範囲の、例えば１３０μｍに等しい厚さを有している。
加熱層２００は、第３の方向Ｚに対して垂直な面で、電流が通過するように与えられる。例えば、加熱層２００は、第１の方向Ｘに沿って、または第２の方向Ｙに沿って、互いに反対の位置にある少なくとも２つの電極を含んでいる。
好ましくは、制御器は、加熱層２００の２つの電極に電位差を加えるように更に構成されている。電位差は、１Ｖ〜５０Ｖの範囲、例えば３Ｖ〜５Ｖの範囲である。
【０１３３】
隠蔽層２０５は、放射Ｒが、第３の方向Ｚに沿って、カバー３５を通過するのを防止することができる。
隠蔽層２０５は、例えば不透明のポリマープレート、例えば黒色のポリオキシメチレン（ＰＯＭ）である。あるいは、隠蔽層２０５は、金属、例えばステンレス鋼または、ガラス板上に堆積されたアルミニウムもしくはクロムの層で作られる。
隠蔽層２０５は、５ｎｍ〜５ｍｍの範囲の、例えば５００μｍに等しい厚さを有している。隠蔽層２０５の厚さは均一である。
隠蔽層２０５は、隠蔽プレート２１０と照明装置２５との間に挿入される。
【０１３４】
複数のデフレクタ２２０が隠蔽層２０５中に配置される。好ましくは、デフレクタ２２０は、それぞれのウェル２０について、隠蔽層２０５中に配置される。
それぞれのデフレクタ２２０は、第３の方向Ｚに沿って、隠蔽層２０５を貫通する孔である。それぞれのデフレクタ２２０は、第３の方向Ｚに沿って、放射Ｒが通過するように構成される。
従って、隠蔽層２０５は、放射Ｒが、デフレクタ２２０を通過する以外には、第３の方向Ｚに沿って、カバー３５を通過するのを防止する。
【０１３５】
それぞれのデフレクタ２２０は、それぞれのウェル２０の向かいにある。好ましくは、それぞれのデフレクタ２２０は、第３の方向Ｚに沿って、対応するウェル２０と並んでいる。
それぞれのデフレクタ２２０は、例えば円形の基部を有する円筒形である。それぞれのデフレクタ２２０は、デフレクタが関連付けられるウェル２０と共軸である。言い換えれば、デフレクタ２２０は、第３の方向Ｚに対して垂直ないずれかの面で円形の断面を有しており、そしてデフレクタ２２０のそれぞれの断面の中心を通過する第１の光学軸ＯＡ１が、デフレクタ２２０を通過する。
【０１３６】
それぞれのデフレクタ２２０は、第７の直径Ｄ７を有している。
それぞれの第７の直径Ｄ７は、対応するウェル２０の第２の直径Ｄ２以下である。例えば、それぞれの第７の直径Ｄ７は、対応するウェル２０の第１の直径Ｄ１以下である。
例えば、それぞれの第７の直径Ｄ７は、６．３０ｍｍに等しい。
【０１３７】
ピンホール７０の製作が以下に説明される。
図１３の例による場合には、それぞれのピンホール７０は、ガラス板１１０によって支持された金属層１１５中に配置された孔１００を含み、これらのピンホールは例えば写真平版技術および金属の堆積によって製作される。
図１８に示された第１の工程の間に、フォトレジストフィルム２２５がガラス板１１０の第３の面１１７上に堆積される。
【０１３８】
フィルム２２５は、例えば遠心コーティング（スピンコーティングとしても知られている）によって堆積される。
スピンコーティングは、膜を堆積させる技術であり、この場合ガラス板１１０は、液相である樹脂がガラス板１１０の中心に堆積された後に、第３の方向Ｚの周りを回転される。ガラス板１１０の回転によってもたらされた遠心力が、フィルム２２５を、ガラス板１１０の表面上に形成させ、フィルム２２５の厚さは、回転速度によって、そして樹脂の粘度によって制御される。フィルム２２５は、通常は熱アニーリングによって迅速に硬化される。
【０１３９】
フィルム２２５は、第３の方向Ｚに沿って測定された、１００ｎｍ〜５μｍの範囲の厚さを有している。例えば、フィルム２２５は、８００ｎｍに等しい厚さを有している。
樹脂は、例えばその樹脂が適切な輻射線、例えば紫外線、に暴露された場合に第１の溶媒に可溶となるポジ型ポリマーである。あるいは、樹脂は、ネガ型樹脂、すなわち、その樹脂が暴露された場合に、第１の溶媒に不溶となる樹脂である。
マスクが、フィルム２２５の反対側に貼られ、そしてフィルム２２５は次いでマスクを通して紫外線に暴露される。
【０１４０】
次いで、フィルム２２５は、第１の溶媒に部分的に溶解される。この樹脂がポジ型樹脂である場合には、暴露の間にマスクによって保護された部分のみが、第１の溶媒によって溶解されない。この樹脂がネガ型樹脂である場合には、暴露の間にマスクによって保護された部分のみが第１の溶媒に溶解される。
従って、樹脂スタッド２３０が、ガラス板１１０の第３の面１１７上に配置される。図１９には、３つのスタッド２３０が示されている。
【０１４１】
それぞれのスタッド２３０は、円形の基部を備えた円筒形である。好ましくは、それぞれのスタッド２３０は、第５の直径Ｄ５を有している。それぞれのスタッド２３０の軸は、第３の方向Ｚに平行である。
スタッド２３０のマトリックスは、第２のピッチＰ２を有している。
次いで金属層１１５が、ガラス板１１０上に堆積される。例えば、金属層１１５は、真空堆積によって、または陰極スパッタによって堆積される。
【０１４２】
図２０の例によれば、金属層１１５は次いで、それぞれのスタッド２３０ならびにスタッド２３０によって被覆されていない第３の面１１７のそれぞれの部分を被覆する。
次いで、ガラス板１１０ならびに金属層１１およびスタッド２３０は、第２の溶媒中に浸漬される。第２の溶媒は、例えばアセトンである。
第２の溶媒は、第１の溶媒によって溶解されなかった樹脂を溶解することができる。例えば、第２の溶媒は、ＵＶ線によって架橋された樹脂を溶解することができる。
従って、スタッド２３０は、第２の溶媒に溶解される。
【０１４３】
ガラス板１１０および金属層１１５は、次いで第２の溶媒から取り除かれ、第３の溶媒、例えばイソプロピルアルコールですすがれ、そして例えば乾燥窒素流によって乾燥される。図２１に示されているように、乾燥工程の後に、金属層１１５だけが、スタッド２３０によって被覆されなかった第３の面１１７の部分に残っている。
金属層１１５を貫通する孔１００が、従って金属層１１５の堆積の間に、スタッド２３０によって被覆された第３の面１１７の部分と一列に形成される。
【０１４４】
ウェルプレート１０の観察システム１５の操作が、以下に説明される。
初期化工程の間に、制御器が観察システム１５の使用者Ｕによって作動される。制御器は、入力電気経路１７０とそれぞれの出力電気経路１７５との間に電圧Ｖｃｃを加える。
初期化工程の間に、それぞれのＬＥＤ６０は、オフにされる。特には、それぞれのトランジスタ１６５、１６７は、オフの状態にある。従って、いずれのＬＥＤ６０も対応する電流Ｃを供給されていない。
【０１４５】
初期化工程の間に、制御器は、加熱層２００を通過する電流を更に発生させる。次いで、制御器は加熱層２００の加熱を命令する。
例えば、制御器は、加熱層２００の温度を、所定の温度値、例えば３７℃の温度に設定する。
次いで、命令工程の間に、使用者Ｕは、制御器に、作動すべき少なくとも１つのＬＥＤ６０のリストを送付する。例えば、このリストには、単一のＬＥＤ６０の識別子が含まれている。それぞれの識別子は、作動すべきＬＥＤ６０の行を表す文字と、作動すべきＬＥＤ６０の列を表す数の組み合わせによって形成されている。
【０１４６】
あるいは、このリストには、少なくとも２つの異なるＬＥＤ６０の識別子が含まれている。例えば、このリストには、隣接していないＬＥＤ６０のみの識別子が含まれている。「隣接」とは、同じ行に（それぞれに同じ列に）属している、そして２つの隣接する列（それぞれに行）に属している２つのＬＥＤ６０を表している。
照明工程の間に、制御器は、リストのそれぞれのＬＥＤ６０に対応する第１のトランジスタ１６５および第２のトランジスタ１６７の「オン」状態への切り替えを命令する。例えば、そのリストがＬＥＤ６０の識別子「Ａ３」を含んでいる場合には、制御器は、列「３」に対応する第１のトランジスタ１６５および行「Ａ」に対応する第２のトランジスタ１６７を「オン」状態へと切り替えることを命令する。
【０１４７】
従って、このリストのそれぞれのＬＥＤ６０は、それぞれの電流Ｃによって作動される。従って、このリストのそれぞれのＬＥＤ６０は、対応する放射Ｒを放射する。
放射Ｒは、複数の光線Ｒａを含んでいる。例えば、光線Ｒａの第１のセット２３５、第２のセット２４０および第３のセット２５５が、放射Ｒについて規定される。
ＬＥＤ６０によって放射されたそれぞれの放射Ｒは、対応する光積分器６５を、第１の末端Ｅ１を通して、またはＬＥＤ６０の向かいにある第２の側面９５Ａの第１の末端Ｅ１を通して通り抜ける。放射Ｒは、ロッド７５を、第３の方向Ｚに沿って、第２の末端Ｅ２まで通過する。
放射Ｒは、次いで第２の末端Ｅ２を通過する。
【０１４８】
第１のセット２３５は、ロッド７５を、第３の方向Ｚに沿って、第１の末端Ｅ１から第２の末端Ｅ２へと、第１の末端Ｅ１および第２の末端Ｅ２以外の表面で反射されることなく、通過する光線Ｒａによって形成されている。言い換えれば、第１のセット２３５は、第１の末端Ｅ１、次いで第２の末端Ｅ２を、いずれかの他の表面を通過するか、もしくはいずれかの他の表面で反射されることなく通過する光Ｒａで作られている。放射Ｒを作る光線Ｒａの中で、第１のセット２３５の光線Ｒａは、従ってその方向が、第３の方向Ｚに最も近いものである。
【０１４９】
第２のセット２４０は、ロッド７５を、第１の末端Ｅ１から第３の方向Ｚに沿って第２の末端Ｅ２へと通過するが、一方で第１の側面８５で少なくとも１回の反射を受けるが、しかしながら潜在的に第１の末端Ｅ１または第２のＥ２での他は、他のいずれの反射も受けない、光Ｒａによって形成される。
【０１５０】
第３のセット２４５は、ロッド７５に侵入する前に、基部９０または補強材８０の１つの第２の側面９５Ａ、９５Ｂ、９５Ｃで少なくとも１回の反射を受ける光線Ｒａによって形成されている。従って、第３のセット２４５のそれぞれの光Ｒａは、補強材８０がなければ、ＬＥＤ６０と第２の末端Ｅ２との間で伝搬されないであろう。
ロッド７５中に注入される放射Ｒの光Ｒａの輪郭のデジタルシミュレーションの結果が、図２２に示されている。放射Ｒは、波長５１９ナノメートル（ｎｍ）を有する単色の輻射線である。このシミュレーションで用いられたＬＥＤは、０．９９の開口数を有しており、そして第１の末端Ｅ１から０．５ｍｍ離れている。ロッド７５は、円形の基部を備えた円筒形のロッドであり、ポリカーボネートで作られており、２．５ｍｍの直径および２ｍｍの長さを有している。
【０１５１】
図２２に示されているように、第２の末端Ｅ２の出口で放射Ｒを作る光Ｒａの空間的分布は、非常に均一である。
第２の末端Ｅ２を通過した後に、放射Ｒは対応するピンホール７０に到達する。
放射Ｒの一部が、不透明のプレート１０５中に配置された孔１００を通過する。放射Ｒの他の部分は、不透明のプレート１０５を通過しない。例えば、放射Ｒの他の部分は、不透明のプレート１０５に吸収されるかまたは反射される。
【０１５２】
放射Ｒは、次いで焦点調整装置５５を通過する。焦点距離ｆは、焦点調整装置５５と不透明プレート１０５との間の第２の距離ｄ２に等しく、放射Ｒは焦点調整装置５５とウェル２０との間で平行にされる。
「平行にされる」は、放射Ｒを作る光Ｒａが、互いに平行であることを意味している。
次いで、放射Ｒはカバー３５を照射する。
【０１５３】
カバー３５を照明する放射Ｒの一部は、ウェル２０と光源４０との間に挿入されたデフレクタ２２０を通過する。カバー３５を照明する放射Ｒの他の一部は、隠蔽層２０５を通過しない。例えば、放射Ｒの他の一部は、隠蔽層２０５によって吸収されるか、または反射される。
デフレクタ２２０を通過する放射Ｒの一部は、次いで考慮されるウェル２０の底２１を照明する。分析されるべき材料もしくは対象がウェル２０中に存在する場合には、分析されるべきその材料または対象は、従って放射Ｒで照明される。
【０１５４】
最後に、放射Ｒは、ウェル２０から光学センサ１８５へと伝播し、それによってウェル２０と光源４０とは一列に並ぶ。次いで、光学センサ１８５はウェル２０の第２の画像Ｉｍ２を取得する。
本発明によれば、ウェル２０の底２１の、または分析されるべき材料もしくは対象の照明は、非常に均一である。第２の画像Ｉｍ２の解析は、次いでより容易に行われる。
特には、ウェル２０が分析されるべきいずれの材料または対象を含まない場合には、第２の画像Ｉｍ２は、第２の画像Ｉｍ２の一部に、ウェル２０の底２１の３ｍｍの直径を有する円盤に少なくとも対応する、高い強度勾配領域を含まない。
【０１５５】
特には、光源４０によって放射されたいずれの光線Ｒａも、ウェル２０の底２１または分析されるべき対象もしくは材料を照明する前に、ウェル２０の側壁２３によって反射されない。このことは、放射Ｒは、焦点調整装置５５とウェル２０の間で平行であるという事実によって補強される。
ウェル２０の底部２１または分析されるべき材料もしくは対象の照明は、繰り返すが、より均一である。
【０１５６】
更には、カバー３５の加熱層２００が加熱されているので、観察システム１５は、ウェル２０の放射Ｒによる照明の間に、カバー３５への蒸気の凝縮を防止する。ウェル２０の底部２１の、または分析されるべき材料もしくは対象の照明は、繰り返すが、より均一であり、そして解析はより容易である。
カバー３５は、カード１６０および光学センサ１８５を、分析されるべき対象もしくは材料に含まれている可能性がある湿気から更に保護する。
【０１５７】
最後に、ピンホール７０および／またはデフレクタ２２０を用いることによって、ウェル２０が他のウェル２０を照明する放射Ｒによって、例えば照射Ｒの散乱によって、部分的に照明されることを防止することを可能とさせる。繰り返すが、それぞれのウェル２０の照明は、非常に均一である。
【０１５８】
観察システム１５の第２の例が図２３に示されている。図１の観察システム１５の第１の例と同じ要素は、再度記載はされない。相違点だけが示されている。
焦点調整装置５５と不透明なプレート１０５との間の第２の距離ｄ２は、焦点距離ｆよりも厳密に小さい。
焦点距離ｆよりも厳密に小さい第２の距離ｄ２の選択のために、放射Ｒが焦点調整装置５５と光学センサ１８５との間を伝播する場合に、放射Ｒは発散性放射である。それぞれのウェル２０の第２の画像Ｉｍ２は、従って拡大される。
【０１５９】
図２４に示された第３の例によれば、第２の距離ｄ２は、焦点距離ｆよりも厳密に大きい。
この第３の例によれば、照射Ｒは、焦点調整装置５５と光学センサ１８５との間の収束性放射である。
光学センサ１８５によって取得される第２の画像Ｉｍ２は、従ってより大きな視野の画像である。特には、第２の画像Ｉｍ２中に現れる領域は、第３の方向Ｚに対して垂直な面において、光学センサ１８５よりもより広い。
【０１６０】
従って、第３の例は、光学センサ１８５が小さい場合か、または第１の直径Ｄ１が大きい場合に特に好適である。
第４の例の観察システム１５に組み込まれた光積分器６５のロッド７５が、図２５に示されている。図１の観察システム１５の第１の例と同じ要素は、再度記載はされない。差異のみが示されている。
【０１６１】
第４の例では、平均の横方向の寸法Ｄｔは、長さｌの三分の二以下である。このことは、それぞれの光積分器６５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの比が１．５以上であることを意味している。特には、平均の横方向の寸法Ｄｔは、長さｌの六分の一から三分の二の間である。このことは、それぞれの光積分器６５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔの間の比が１．５〜６の範囲であることを意味している。
例えば、長さｌは、１２ｍｍに等しく、そして平均の横方向の寸法Ｄｔは３ｍｍに等しい。
【０１６２】
図２６の例によれば、第１の光学軸ＯＡ１、第２の光学軸ＯＡ２、および第３の光学軸ＯＡ３は、一体となっている。
あるいは、少なくとも１つの光学軸ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３は、対応する光源４０の伝搬経路Ｌに対して中心を外れている。
「中心を外れている」とは、問題の光学軸ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３が、伝搬経路Ｌに平行であるが、しかしながら伝搬経路Ｌとは一体となっていないことを意味している。
【０１６３】
図２７の例によれば、第２の軸ＯＡ２は、伝搬経路Ｌと一体となっているが、しかしながら第１の光学軸ＯＡ１および第３の光学軸ＯＡ３は、伝搬経路Ｌに対して中心を外れている。
図２８の例によれば、第１の光学軸ＯＡ１および第３の光学軸ＯＡ３は伝搬経路Ｌと一体となっているが、しかしながら第２の光学軸ＯＡ２は、伝搬経路Ｌに対して中心を外れている。
【０１６４】
図２９および３０の例によれば、第１の光学軸ＯＡ１、第２の光学軸ＯＡ２および第３の光学ＯＡ３は、伝搬経路Ｌに対して中心を外れている。
例えば、図２７〜２９に示されているように、第１の光学軸ＯＡ１および第３の光学軸ＯＡ３は、互いに一体となっているが、しかしながら第２の光学ＯＡ２は、第１の光学軸ＯＡ１と第３の光学軸ＯＡ３とは一体となってはいない。
【０１６５】
特には、図２９および３０に示されているように、第１の光学軸ＯＡ１、第３の光学軸ＯＡ３、第２の光学軸ＯＡ２および伝搬経路Ｌは、第３の方向Ｚに対して垂直な面で並んでおり、伝搬経路Ｌは、第１の光学軸ＯＡ１と第２の光学軸ＯＡ２との間に位置している。言い換えれば、第１の光学軸ＯＡ１および第２の光学軸ＯＡ２は、伝搬経路Ｌに対して反対の方向に中心を外れている。
【０１６６】
第１の偏差Ｄｃ１、第２の偏差Ｄｃ２および第３の偏差Ｄｃ３は、それぞれの第１の光学軸ＯＡ１、第２の光学軸ＯＡ２および第３の光学軸ＯＡ３について、それぞれ規定される。それぞれの偏差Ｄｃ１、Ｄｃ２、Ｄｃ３は、第３の方向に対して垂直な面において、問題の光学軸ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３と伝播経路Ｌとの間で測定される。
第１の偏差Ｄｃ１は、０〜３０ｍｍの範囲であり、例えば２０ｍｍに等しい。
第２の偏差Ｄｃ２は、０〜１８ｍｍの範囲であり、例えば２．０ｍｍに等しい。
第３の偏差Ｄｃ３は、０〜３０ｍｍの範囲であり、例えば２０ｍｍに等しい。
【０１６７】
図２５に示されているように、ロッド７５の出口おける放射Ｒは、部分的に均一である。特には、光線の密度は、第２の末端Ｅ２の向かいに位置するＡと表示された中心領域において、第３の方向Ｚに対して垂直な面においてその中心領域を取り囲むＢと表示された脇の領域よりも高い。光積分器６５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの間の比が、１．５以上であるこの態様では、第３の方向Ｚに沿ってコンパクトな光源４０を作り出すことを可能にする。好ましくは、第１の非零（non-nul）偏差Ｄｃ１および／または第２の非零偏差Ｄｃ２および／または第３の非零偏差Ｄｃ３が、第２の画像Ｉｍ２が、放射Ｒの横方向の領域Ｂ中の光学センサ１８５によって取得されるように、選択される。
【０１６８】
第５の例によれば、少なくとも１つの光源４０は、光散乱器を含んでいる。例えば、観察システム１５は、それぞれのウェル２０について光散乱器を含んでいる。
「光散乱器」とは、放射Ｒが通過することができ、そして光散乱器を通過する放射Ｒを散乱することができる装置を表す。
光散乱器は、例えば放射Ｒに対して透明で、その少なくとも１つの表面が放射Ｒを散乱するフィルムである。
【０１６９】
例えば、光散乱器は、プラスチックフィルム、例えば酢酸セルロース、塩化ビニルまたはポリプロピレンで作られた透明な接着性のリボンである。
あるいは、光散乱器は、すりガラス板である。
あるいは、光散乱器は、オパールガラス板である。
あるいは、光散乱器は、その少なくとも１つの表面が、写真平版技術によって、またはレーザによるスペックルパターンによって構造化された、透明な材料で作られたプレートである。
【０１７０】
光散乱器は、例えばＬＥＤ６０と積分器６５との間に差し挟まれる。「差し挟まれる」とは、ＬＥＤ６０によって放射された放射Ｒが、積分器６５に侵入する前に、光散乱器を通過することを意味している。
あるいは、光散乱器は、積分器６５とピンホール７０との間に差し挟まれる。
あるいは、光散乱器は、ピンホール７０と焦点調整装置５５との間に差し挟まれる。
あるいは、光散乱器は、焦点調整装置５５とカバー３５との間に差し挟まれる。
【０１７１】
それぞれの光源４０の光散乱器は、好ましくは互いに一体となっている。例えば、放射Ｒを散乱する単一のプレートが、光源４０と積分器６５との間に差し挟まれる。
光散乱器によって、放射Ｒは、繰り返すが、それがウェル２０を照明する場合に、より均一である。
【０１７２】
第６の例によれば、少なくとも１つの光源４０は、光学フィルタを含んでいる。この光学フィルタは、帯域幅を有する。
光学フィルタは、この帯域幅に含まれる波長を有する電磁波を透過することができる。
光学フィルタは、この帯域幅に含まれない波長を有する電磁波の伝搬を防止することができる。
光学フィルタは、例えば異なる光学指数を有する一連の積層された層で作られた干渉フィルタである。帯域幅は、更には光学指数および異なる層の厚さの選択によって規定される。
光学フィルタは、例えばＬＥＤ６０と積分器６５との間に差し挟まれる。
【０１７３】
あるいは、光学フィルタは、積分器６５とピンホール７０との間に差し挟まれる。
あるいは、光学フィルは、ピンホール７０と焦点調整装置５５との間に差し挟まれる。
あるいは、光学フィルタは、焦点調整装置５５とカバー３５との間に差し挟まれる。
【０１７４】
それぞれの光源４０の光学フィルタは、好ましくは互いに一体である。例えば、放射Ｒの波長を濾波する単一のプレートが、ＬＥＤ６０と光源４０との間に差し挟まれる。
照明装置２５は、更には、ウェル２０およびその内容物を、特定の範囲の波長で照明することができ、一方で望まない波長での照明を回避する。
【０１７５】
上記の態様のそれぞれにおいて、観察システム１５は、以下の特徴の少なくとも１つが実証されたものであることに注目しなければならない。
・それぞれの光積分器６５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの間の比が、２．２以上であるか、または、
・観察システム１５は、それぞれの光源４０について、放射Ｒを、ウェル２０に向けて、焦点に集めることができるレンズ１４０を含んでおり、光学軸ＯＡ２が、レンズ１４０について規定され、少なくとも１つの光学軸ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３は、伝搬経路Ｌに対して中心を外れており、積分器６５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの間の比は、１．５以上である。
【０１７６】
更には、それぞれの積分器６５の平均の横方向の寸法Ｄｔは、第１のピッチＰ１よりも小さい。例えば、第１のピッチＰ１が９．０ｍｍである場合には、それぞれの積分器６５の平均の横方向の寸法Ｄｔは、７．０ｍｍ以下である。第１ピッチＰ１が４．５ｍｍである場合には、それぞれの積分器６５の平均の横方向の寸法Ｄｔは、２．５ｍｍ以下である。
従って、観察システム１５が、積分器６５の出口における放射Ｒが２５パーセントを超える強度勾配を有さず、そして観察システム１５が小型であることを保証することを可能にするように、長さｌには妥協が必要である。
【０１７７】
この目的のために、更には、それぞれの積分器６５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの間の比は、６０．０未満である。
好ましくは、それぞれの積分器６５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの間の比は、１３．３未満である。
好ましくは、それぞれの積分器６５の長さｌと平均の横方向の寸法Ｄｔとの間の比は、８．９未満である。
有利には、積分器６５の長さは、６０ｍｍ以下である。
【０１７８】
このことで、観察システム１５を、標準的な培養器中に挿入することを可能にさせることが可能となる。培養器は、生体細胞の生存と成長に好適な条件を提供する。例えば、培養器は、３７．０℃の温度設定、５．０％のＣＯ２水準の一般的な設定、および１００％に保持された空気中の湿度水準を同時に提供する。標準の培養器は、通常は１００ｍｍ〜２００ｍｍの範囲の距離によって分離された複数の棚を含んでいる。６０ｍｍ未満の長さｌは、観察システム１５をそのような棚に挿入することを可能にする。
【０１７９】
挿入をよりよくするために、積分器６５の長さｌは、好ましくは３０ｍｍ以下である。
有利には、少なくとも１つの光学軸ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３と対応する伝搬経路Ｌとの間に偏差が存在する場合には、伝搬経路との偏差は、第１および第３の光学軸ＯＡ１およびＯＡ３では０〜３０ミリメートルの範囲、そして第２の光学軸ＯＡ２では０．２〜１８ミリメートルの範囲である。このことは、伝搬経路Ｌに垂直な方向における観察システム１５の集約性を向上させることを可能にする。更には、集約性を向上させるために、全ての光積分器６５が互いに一体であるか否か、および全てのピンホール７０が単一の不透明のプレート１０５上に配置されているか否かにかかわらず、発光ダイオード６０が、全ての発光ダイオードによって共有される単一の基材５０に搭載されることが望ましい。このことは、単一のブロック内に配置することができなければならない照明装置２５の操作の促進を可能にする。
【０１８０】
上記の態様は、新たな態様を生み出すように組み合わせることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【手続補正書】
【提出日】平成31年2月7日(2019.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一連のウェル（２０）を含むプレート（１０）を観察するためのシステム（１５）であって、光学軸（ＯＡ１）がそれぞれのウェル（２０）について規定されており、観察システム（１５）は、それぞれのウェル（２０）について、
・伝搬経路（Ｌ）に沿って伝搬する光源（４０）、光源（４０）は、
・光線（Ｒ）を発生させることができる発光ダイオード（６０），
・ピンホール（７０）、および、
・前記光を２つの末端（Ｅ１、Ｅ２）の間で導くことができる光積分器（６５）、第１の末端（Ｅ１）は、発光ダイオード（６０）からの放射（Ｒ）を収集し、そして第２の末端（Ｅ２）は、ピンホール（７０）に向かい合っており、光積分器（６５）は、２つの末端（Ｅ１，Ｅ２）の間の距離として規定される長さ（ｌ）および平均の横方向の寸法（Ｄｔ）を有しており、積分器（６５）は、積分器（６５）の出口における放射（Ｒ）が２５パーセントより大きな強度勾配を有さないように構成される、
を含んでいる、
・ウェル（２０）からの光学的信号を収集することができる光学センサ（１８５）、光学軸（ＯＡ３）が光学センサ（１８５）について規定される、
を含んでなり、
観察システム（１５）では、光学軸（ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３）が互いに平行であり、そして以下の特徴の少なくとも１つが実証されている、
・それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）と平均の横方向の寸法（Ｄｔ）との間の比が２．２以上であるか、または、
・観察システム（１５）は、それぞれの光源（４０）について、放射（Ｒ）をウェル（２０）に向けて焦点に集めることができるレンズ（１４）を含み、光学軸（ＯＡ２）はこれらのレンズ（１４０）について規定され、そして少なくとも１つの光学軸（ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３）は伝搬経路（Ｌ）に対して中心を外れており、積分器（６５）の長さ（ｌ）および平均の横方向の寸法（Ｄｔ）の間の比は１．５以上である、
観察システム（１５）。
【請求項２】
それぞれの積分器（６５）が伝搬経路（Ｌ）に沿って延在しているロッド（７５）を含み、それぞれのロッド（７５）は第１の末端（Ｅ１）と第２の末端（Ｅ２）とによって、伝搬経路（Ｌ）にそって範囲を定められており、それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）と平均の横方向の寸法（Ｄｔ）との間の比は６０．０未満である、請求項１記載の観察システム（１５）。
【請求項３】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）と平均の横方向の寸法（Ｄｔ）との間の比は１３．３未満である、請求項２記載の観察システム（１５）。
【請求項４】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）と平均の横方向の寸法（Ｄｔ）との間の比は１０以下である、請求項２または３記載の観察システム（１５）。
【請求項５】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）と平均の横方向の寸法（Ｄｔ）との間の比は８．９以下である、請求項２〜４のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項６】
観察システム（１５）が、それぞれの発光ダイオード（６０）を、互いの発光ダイオード（６０）で独立に、電源オンおよびオフするように命令するように構成された命令装置（４５）を更に含む、請求項１〜５のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項７】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）が、６０ミリメートル以下である、請求項１〜６のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項８】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）が、３０ミリメートル以下である、請求項１〜７のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項９】
それぞれの光積分器（６５）の長さ（ｌ）が、４．５ミリメートル〜５０ミリメートルの範囲である、請求項１〜８のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１０】
発光ダイオード（６０）が全ての発光ダイオード（６０）によって共有された単一の基材（５０）上に搭載される、請求項１〜９のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１１】
全ての光積分器（６５）が互いに一体となっている、請求項１〜１０のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１２】
全てのピンホール（７０）が単一の不透明のプレート（１０５）に配置されている、請求項１〜１１のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１３】
カバー（３５）がウェルプレート（１０）に固定されるかウェルプレート（１０）上に配置された場合にそれぞれのウェル（２０）を閉じるように構成されたカバー（３５）を更に含み、カバー（３５）が、放射（Ｒ）に対して透明な、そして加熱層に電流が通された場合にカバー（３５）を加熱するように構成された加熱層（２００）を含む、請求項１〜１２のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１４】
カバー（３５）がウェルプレート（１０）に固定されるかウェルプレート（１０）上に配置された場合にそれぞれのウェル（２０）を少なくとも部分的に隠蔽するように構成されたカバー（３５）を更に含み、カバー（３５）が、放射（Ｒ）を通過させないように構成された隠蔽層（２０５）、それぞれが放射（Ｒ）を通過するように構成され、一方で隠蔽層（２０５）中に配置された複数のデフレクタ（２２）を含む、請求項１〜１３のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１５】
それぞれの積分器（６５）が伝搬経路（Ｌ）に沿って延在するロッド（７５）を含み、それぞれのロッド（７５）は第１の末端（Ｅ１）と第２の末端（Ｅ２）とによって、伝搬経路（Ｌ）に沿って範囲を定められ、それぞれの積分器（６５）は、ロッド（７５）と一体となった２対の補強材（８０）を更に含み、同じ対の２つの補強材（８０）は、伝搬経路（Ｌ）を含む面に沿って互いに対称であり、第１の末端（Ｅ１）は、それぞれの対の補強材（８０）の間に挿入されている、請求項１〜１４のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１６】
それぞれのピンホール（７０）が、不透明のプレート（１０５）を伝搬経路（Ｌ）に沿って貫通する孔（１００）および孔（１００）と共軸の座ぐり（１２０）含み、座ぐり（１２０）は対応する積分器（６５）の第２の末端（Ｅ２）を収容するように与えられている、請求項１〜１５のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１７】
それぞれのウェル（２０）について、放射（Ｒ）を散乱することができる光散乱器を更に含む、請求項１〜１６のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１８】
少なくとも１つの光学軸（ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３）と対応する伝搬経路（Ｌ）との間の偏差が、関連するウェル（２０）の光学軸（ＯＡ１、ＯＡ３）について０〜３０ミリメートルの範囲であり、そしてレンズ（１４０）の光学軸（ＯＡ２）について０．２〜１８ミリメートルの範囲である、請求項１〜１７のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【請求項１９】
レンス（１４０）の光学軸（ＯＡ２）が伝搬経路（Ｌ）に対して中心を外れており、関連するウェル（２０）と光学センサ（１８５）の光学軸（ＯＡ１，ＯＡ３）が、伝搬経路（Ｌ）と一体となっている、請求項１〜１８のいずれか１項記載の観察システム（１５）。
【国際調査報告】
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