(57)【要約】  熱膨張係数が制御されたガラス積層板を製造するための装置および方法が開示されている。１つの実施の形態において、ガラス積層板は、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア、第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層を備える。第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層は、ガラスコアが第１のガラスクラッド層と第２のガラスクラッド層との間に配置されるように配列されている。第１のガラスクラッド層は、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有し、第２のガラスクラッド層は、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する。ガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有し、この積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）により定義される。
2019515867.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス積層板において、
コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア、
第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有する第１のガラスクラッド層、並びに
第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する第２のガラスクラッド層、
を備え、
前記ガラスコアは前記第１のガラスクラッド層と前記第２のガラスクラッドとの間に配置され、
前記ガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有し、該積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）
により定義される、ガラス積層板。
【請求項２】
前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）が同じである、請求項１記載のガラス積層板。
【請求項３】
前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）が同じである、請求項１または２記載のガラス積層板。
【請求項４】
前記コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）が、前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）より高い、請求項１から３いずれか１項記載のガラス積層板。
【請求項５】
積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有するガラス積層板を製造する方法において、
ガラスコアの第１のコア表面を第１のガラスクラッド層の第１のクラッド表面に結合させる工程、および
前記ガラスコアの第２のコア表面を第２のガラスクラッド層の第３のクラッド表面に結合して、前記ガラス積層板を形成する工程、
を有してなり、
前記ガラスコアは、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有し、
前記第１のガラスクラッド層は、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有し、
前記第２のガラスクラッド層は、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有し、
前記積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）により定義され、
前記コア厚（Ｔコア）、前記コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）、前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）、前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）、前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）は、前記積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）が、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内にあるようなものである、方法。
【請求項６】
前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）が同じであり、前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）が同じである、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記第１のガラスクラッド層の第２のクラッド表面を第１の担体に結合する工程、および
前記第２のガラスクラッド層の第４のクラッド表面を第２の担体に結合する工程、
をさらに含む、請求項５または６記載の方法。
【請求項８】
前記第１のガラスクラッド層および前記第２のガラスクラッド層を前記ガラスコアに、該第１と第２のガラスクラッド層および該ガラスコアの軟化温度より低い温度で、接着剤を用いずに、結合する工程、および
前記ガラス積層板を熱に曝して、前記第１のガラスクラッド層と前記ガラスコアとの間、および前記第２のガラスクラッド層と該ガラスコアとの間に永久結合を形成する工程、
をさらに含む、請求項５から７いずれか１項記載の方法。
【請求項９】
ガラス積層板アセンブリにおいて、
ガラス積層板上に配置された、シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）を有するシリコンウエハー、
を備え、
前記ガラス積層板は、
コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア、
第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有する第１のガラスクラッド層、および
第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する第２のガラスクラッド層、
を備え、
前記ガラスコアは、前記第１のガラスクラッド層と前記第２のガラスクラッド層との間に配置され、
前記ガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有し、
該積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）
により定義され、
前記シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）は、前記積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）と実質的に同じである、ガラス積層板アセンブリ。
【請求項１０】
前記コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）が、前記クラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）より高い、請求項９記載のガラス積層板アセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の説明】
【０００１】
本出願は、その内容が依拠され、ここに全て引用される、２０１６年５月９日に出願された米国仮特許出願第６２／３３３３９４号の米国法典第３５編第１１９条の下での優先権の恩恵を主張するものである。
【技術分野】
【０００２】
本明細書は、広く、ガラス積層板に関し、より詳しくは、熱膨張係数が制御されたガラス積層板およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
ガラスウエハーが、集積回路の製造のためにシリコンウエハーの担体として使用されることがある。シリコンウエハーは、ガラスウエハー上に配置され、次に、所望の厚さに裏面研削される。ウエハーの裏面研削中に、シリコンウエハーの厚さは、集積回路の積層と高密度実装を可能にするように減少する。そのような集積回路を製造する間、ガラスウエハーの熱膨張係数がシリコンウエハーの正味の熱膨張係数と一致することが重要であろう。
【０００４】
ガラスウエハーは、フュージョンドロー法などのダウンドロー法を使用して製造されることがある。ガラスウエハーの熱膨張係数を目標の熱膨張係数に一致させるために、フュージョンドロー法に使用されるガラスの組成を、シリコンウエハーの熱膨張係数に一致するように変えなければならない。しかしながら、フュージョンドロー法から得られるガラスの体積は現行の体積よりも著しく大きく、シリコンウエハー担体として使用するためのガラスウエハーに様々な熱膨張係数が要求されるので、フュージョンドロー法におけるガラスの組成の変更は、非現実的な解決策であろう。その上、シリコンウエハーの正味の熱膨張係数と一致するガラスウエハーを製造するためにガラスの組成を変えることは、複雑であろう。これらと他の理由のために、担体が様々な特定の熱膨張係数を達成する場合（すなわち、各々が異なる熱膨張係数を有する多数の製品）、シリコンウエハーの担体として使用するためのガラスウエハーを得ることは困難であった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、設計され指定された熱膨張係数を有する、シリコンウエハーの担体として使用されるガラスウエハーを製造するための代わりの装置および方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
１つの実施の形態によれば、ガラス積層板は、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア、並びに第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層を備える。第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層は、ガラスコアが第１のガラスクラッド層と第２のガラスクラッド層との間に配置されるように配列されている。第１のガラスクラッド層は、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有し、第２のガラスクラッド層は、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する。ガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有し、この積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）
により定義される。
【０００７】
別の実施の形態において、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有するガラス積層板を製造する方法は、ガラスコアの第１のコア表面を第１のクラッドガラスの第１のクラッド表面に結合させる工程、およびそのガラスコアの第２のコア表面を第２のクラッドガラスの第３のクラッド表面に結合して、ガラス積層板を形成する工程を有してなる。そのガラス積層板は、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア、第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層を備える。第１のガラスクラッド層は、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有し、第２のガラスクラッド層は、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する。積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）
により定義され、コア厚（Ｔコア）、コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）、第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）は、ガラス積層板が、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有するようなものである。
【０００８】
別の実施の形態において、ガラス積層板アセンブリは、ガラス積層板上に配置された、シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）を有するシリコンウエハーを備える。そのガラス積層板は、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア、第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層を備える。このガラスコアは、第１のガラスクラッド層と第２のガラスクラッド層との間に配置されている。第１のガラスクラッド層は、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有し、第２のガラスクラッド層は、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する。このガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有する。この積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）
により定義され、よって、シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）は、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）と実質的に同じである。
【０００９】
ここに記載されたシリコンウエハー担体用のガラス積層板のための装置および方法の追加の特徴および利点が、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここの記載された実施の形態を実施することによって、認識されるであろう。
【００１０】
先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、様々な実施の形態を記載しており、請求項の主題の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供する目的であることが理解されよう。添付図面は、様々な実施の形態のさらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、ここに記載された様々な実施の形態を示しており、説明と共に、請求項の主題の原理および動作を説明する働きをする。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】ここに示され記載された１つ以上の実施の形態による、ガラスコア、第１のガラスクラッド層、および第２のガラスクラッド層を有する例示のガラス積層板の概略図
【図２】ここに示され記載された１つ以上の実施の形態による、コア厚、第１のクラッド厚および第２のクラッド厚が変えられ、積層板厚が一定に維持された場合の、積層板熱膨張係数の変化を示すグラフ
【図３】ここに示され記載された１つ以上の実施の形態による、コア厚が変えられ、第１のクラッド厚および第２のクラッド厚の各々が１００μｍおよび２００μｍで一定に保持された場合の、積層板熱膨張係数の変化を示すグラフ
【図４】ここに示され記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス積層板を製造する例示の方法を示す流れ図
【図５】ここに示され記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス積層板上に配置されたシリコンウエハーを示す例示のガラス積層板アセンブリの概略図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
ここで、その例が添付図面に示された、ガラス積層板およびその製造方法の実施の形態を詳しく参照する。できるときはいつでも、同じまたは同様の部分を指すために、図面に亘り、同じ参照番号が使用される。手短に図５を参照すると、ガラス積層板上に配置されたシリコンウエハーの概略図が示されている。そのガラス積層板は、シリコンウエハーの担体として使用される。このガラス積層板は、２つのクラッド層の間に配置されたコアを備える。そのガラス積層板は、ガラス積層板の熱膨張係数がシリコンウエハーの熱膨張係数と実質的に一致するような様式で製造される。シリコンは、一般に、約３５×１０−７／℃の熱膨張係数を有する。しかしながら、薄層化後のシリコンウエハーの熱膨張係数は、シリコンウエハーの厚さ、およびシリコンウエハー上に被覆される様々な金属と金属酸化物または窒化物の膜およびトランジスタに応じて、約６０×１０−７／℃以上に増加することがある。そのような場合、半導体業界は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の熱膨張係数を有する担体を要求することが知られている。
【００１３】
図５に示されるような、例示のガラス積層板アセンブリは、裏面研削（薄層化）が完了した後に、その上に配置されるシリコンウエハーの熱膨張係数と実質的に同じである熱膨張係数を有するように構成される。ここに用いたように、熱膨張係数に関する「実質的に同じ」という用語は、積層板の熱膨張係数が、シリコンウエハーの裏面研削（薄層化）が完了した後に、シリコンウエハーの熱膨張係数の±１×１０−７／℃以内にあることを意味する。
【００１４】
ガラス積層板の熱膨張係数は、シリコンウエハーの熱膨張係数と一致するように所望の範囲内にある熱膨張係数を得るように、ガラスコアおよびガラスクラッド層の厚さを選択することによって決定される。シリコンウエハー担体用のガラス積層板およびその製造方法が、添付図面を具体的に参照して、ここにより詳しく記載されている。
【００１５】
ここに用いたように、「熱膨張係数」という用語は、ＡＳＴＭ  Ｅ２２８−１１にしたがってプッシュ・ロッド膨脹計を使用して決定される、０℃から３００℃の範囲の温度での定圧での線熱膨張係数を意味する。
【００１６】
図１を参照すると、例示のガラス積層板１００が示されている。ガラス積層板１００は、ガラスコア１１０が第１のガラスクラッド層１２０と第２のガラスクラッド層１３０との間に配置されるように、ガラスコア１１０、第１のガラスクラッド層１２０、および第２のガラスクラッド層１３０を備える。ガラスコア１１０は、第１のコア表面１１２および第２のコア表面１１４を有し、第１のコア表面１１２は第２のコア表面１１４と反対の表面である。第１のガラスクラッド層１２０は、第１のクラッド表面１２２および第２のクラッド表面１２４を有し、よって、第１のクラッド表面１２２と第２のクラッド表面１２４は互いに反対の表面である。同様に、第２のガラスクラッド層１３０は、第３のクラッド表面１３２および第４のクラッド表面１３４を有し、よって、第３のクラッド表面１３２と第４のクラッド表面１３４は互いに反対の表面である。ガラスコア１１０は第１のガラスクラッド層１２０と第２のガラスクラッド層１３０との間に配置されて、ガラス積層板１００を形成している。実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０の第１のクラッド表面１２２は、ガラスコア１１０の第１のコア表面１１２上に配置されている。さらに、ガラスコア１１０の第２のコア表面１１４は、第２のガラスクラッド層１３０の第３のクラッド表面１３２上に配置されている。ここに用いたように、「上に配置されている」という句は、ガラス層（ガラスコア１１０またはガラスクラッド層１２０、１３０）を表面上に、そのガラス層がその表面と直接接触するように配置することを含むか、あるいは、そのガラス層が表面上に、１つ以上の介在材料または中間層がそのガラス層とその表面との間に配置されて、置かれた実施の形態を含む。
【００１７】
図１を参照すると、ガラス積層板１００は、ガラスコア１１０を第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０に結合することにより形成される。実施の形態において、結合は、ガラスコア１１０と第１のガラスクラッド層１２０との間、およびガラスコア１１０と第２のガラスクラッド層１３０との間に接着剤の中間層を配置することによって、行われることがある。公知のまたはまだ開発されていない接着剤を使用してよいことを理解すべきである。接着剤の中間層は、片側でガラスコア１１０の第１のコア表面１１２と、他方の側で第１のクラッド表面１２２との間に配置される。いくつかの実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０の第１のクラッド表面１２２は、水結合(water bond)を使用してガラスコア１１０の第１のコア表面１１２に結合される。水結合は２つのガラス層を、これらのガラス層の軟化温度より低い温度で、接着剤を使用せずに結合する。水結合に関するさらなる記載が、ここに引用する、米国特許出願公開第２００３／００７９５０３号明細書に見つかるであろう。他の公知のまたはまだ開発されていない結合方法も使用してよいことを理解すべきである。
【００１８】
ガラス積層板１００は、コア厚（Ｔコア）、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）の合計により与えられる、積層板厚（ＴＬ）を有する。実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の各々は等しい厚さを有することがある（Ｔクラッド１＝Ｔクラッド２）。いくつかの実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の各々は異なる厚さを有することがある（Ｔクラッド１≠Ｔクラッド２）。非限定例として、積層板厚（ＴＬ）は、約１００μｍから約２ｍｍ、または約１００μｍから約１．５ｍｍ、または約２００μｍから約１．２ｍｍの範囲内にある。さらなる非限定例として、積層板厚（ＴＬ）は、約４００μｍから約１ｍｍ、または約５００μｍから約９００μｍ、または約６００μｍから約８００μｍの範囲内にある。
【００１９】
ガラス積層板１００は、ガラスコア１１０、第１のガラスクラッド層１２０、および第２のガラスクラッド層１３０の熱膨張係数に基づく積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有する。この積層板熱膨張係数は、下記の式（１）：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）
により与えられ、式中、ＣＴＥコアはガラスコア１１０の熱膨張係数であり、ＣＴＥクラッド１およびＣＴＥクラッド２は、それぞれ、第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層の熱膨張係数である。
【００２０】
式（１）が示すように、ガラス積層板１００の熱膨張係数は、コア厚（Ｔコア）、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）の加重平均により決定される。式（１）を使用して、裏面研削後にガラス積層板１００上に配置されるべきシリコンウエハーの熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）と同じまたは実質的に同じであることがある積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有するガラス積層板１００を設計してよく、ここで、シリコンウエハーは、裏面研削操作中にガラス積層板１００上に配置される。
【００２１】
集積回路を製造する過程中、複合体シリコンウエハー用の担体として使用されるガラス積層板は、シリコンウエハーの熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）と同じまたは実質的に同じ熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を好ましくは有するべきであることが分かった。これにより、その後のはんだリフロー過程などの、裏面研削過程後に集積回路が熱に曝されるときに、シリコンウエハーと担体のガラス積層板との間で同程度の膨張の量が確実になり、それによって、熱により与えられる応力のためにシリコンウエハーが機械的に破損するのが防がれる。したがって、シリコンウエハーの熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）に基づいて、ガラス積層板１００は、ガラス積層板の熱膨張係数（ＣＴＥＬ）が、薄層化されたシリコンウエハーおよびこのウエハー上の回路の複合体の熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）と同じ、または実質的に同じであるように構成されることがある。具体的に、そのようなガラス積層板１００の構築は、ガラスコア１１０のコア厚（Ｔコア）およびガラスクラッド層１２０、１３０のクラッド厚（Ｔクラッド）を変え、シリコンウエハーの熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）と同じ、または実質的に同じであるような積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を得ることによって、行われることがある。非限定例として、シリコンウエハーの熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内にあることがあり、したがって、同程度の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有するガラス積層板１００が望ましい。さらなる非限定例において、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、約４０×１０−７／℃から約７０×１０−７／℃、または約４５×１０−７／℃から約８０×１０−７／℃の範囲内にあることがある。いくつかの実施の形態において、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、例えば、約５０×１０−７／℃から約６０×１０−７／℃、または約５５×１０−７／℃から約７５×１０−７／℃の範囲内にある。目標とする積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、破損せずに、効率的な裏面研削およびその後の熱加工（例えば、はんだリフロー）のために、および積層板ガラスウエハーからのシリコンウエハーの最終的な除去のために、シリコンウエハー上の特定の回路に対して最適化される。
【００２２】
約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を得るために、ガラスコア１１０は、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するように選択される。非限定例として、コア厚（Ｔコア）は、約０μｍから約１．５ｍｍ、または約５０μｍから約１．２ｍｍ、または約１００μｍから約１ｍｍの範囲内にあるように選択されることがある。さらなる非限定例において、コア厚（Ｔコア）は、５００μｍから約９００μｍ、または約７００μｍから約８００μｍの範囲内にあることがある。非限定例として、ガラスコア１１０は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃、または約５０×１０−７／℃から約８０×１０−７／℃の範囲内のコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するように選択されることがある。さらなる非限定例として、コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）は約６０×１０−７／℃から約７０×１０−７／℃の範囲内にあることがある。いくつかの実施の形態において、ガラスコア１１０はイオン交換可能なガラスであることがある。制限なく、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸塩ガラス、アルカリアルミノホウケイ酸塩ガラス、およびソーダ石灰ガラスなどの所望の熱膨張係数を有するどのガラスをガラスコア１１０として利用してもよい。１つの非限定例として、そのガラスコアは、ニューヨーク州、コーニング所在のＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）により製造されているＧｏｒｉｌｌａ（登録商標）Ｇｌａｓｓから製造されることがある。ガラスコア１１０は、強化または非強化ガラスから製造されてもよい。
【００２３】
さらに図１を参照すると、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を得るために、第１のガラスクラッド層１２０は、この第１のガラスクラッド層が第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有するように選択される。第２のガラスクラッド層１３０は、この第２のガラスクラッド層が第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有するように選択される。これは、選択されたガラスコア１１０の性質にしたがって、所望の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を達成するために行われる。非限定例として、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）は、それが、約０μｍから約１．５ｍｍ、または約１００μｍから約１．２ｍｍ、または約２００μｍから約１ｍｍの範囲内にあるように選択されることがある。さらなる非限定例において、クラッド厚（Ｔクラッド）は、約５００μｍから約９００μｍ、または約７００μｍから約８００μｍの範囲内にあることがある。
【００２４】
非限定例として、第１と第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１、ＣＴＥクラッド２）は、各々が、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃、または約５０×１０−７／℃から約８０×１０−７／℃の範囲内にあるように選択されることがある。さらなる非限定例において、第１と第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１、ＣＴＥクラッド２）は、約６０×１０−７／℃から約７０×１０−７／℃の範囲内にあることがある。
【００２５】
第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０が、アルカリイオンを含まないガラスから製造されることが望ましいことがあることに留意のこと。ガラス積層板１００がシリコンウエハー用の担体として使用されている場合、ガラスクラッド層１２０、１３０に無アルカリガラスを使用することが都合よいであろう。何故ならば、第２のクラッド表面１２４および第４のクラッド表面１３４内のアルカリイオンが、ガラス積層板１００上に配置されるシリコンウエハー中に移動または浸出し、潜在的に、シリコンウエハーを損なうかもしれないからである。第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０は、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸塩ガラス、ソーダ石灰ガラスなどから製造してよい。無アルカリガラスの非限定例に、ニューヨーク州、コーニング所在の「Ｃｏｒｎｉｎｇ」により製造されている、Ｅａｇｌｅ  ＸＧ（登録商標）がある。
【００２６】
さらに図１を参照すると、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０は同じであることがある。すなわち、いくつかの実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の各々は、同じ厚さ（Ｔクラッド）および同じクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）を有することがある。いくつかの実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の各々は、同じ厚さ（Ｔクラッド）、または同じクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）を有することがある。いくつかの実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０は第２のガラスクラッド層１３０と異なることがある。第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の差は、その厚さ（すなわち、Ｔクラッド１≠Ｔクラッド２）による、またはその熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１≠ＣＴＥクラッド２）、もしくはその両方によることがある。そのような異なるガラスクラッド層１２０、１３０が使用される場合、クラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）およびクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１、ＣＴＥクラッド２）は、第１のガラスクラッド層１２０、第２のガラスクラッド層１３０、およびガラスコア１１０の間に生じる力が釣り合うように選択されるであろう。そのような力の釣り合いは、ガラス積層板１００が、それに熱が印加されたときに反らないことを確実にするために望ましい。
【００２７】
図２は、ガラス積層板の全厚（ＴＬ）が一定に保持された場合の、結果としての積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）に対するコア厚（Ｔコア）および第１と第２のクラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）をプロットしている。曲線２００はコア厚を示し、曲線２０２は各ガラスクラッド層のクラッド厚を示す。ガラスクラッド層として、「Ｃｏｒｎｉｎｇ」「Ｅａｇｌｅ  ＸＧ」が使用され、コアガラスとして「Ｃｏｒｎｉｎｇ」「Ｇｏｒｉｌｌａ」ガラスが使用される。５００μｍで一定に保持された積層板厚（ＴＬ）について、積層板の熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、約４６×１０−７／℃から約６８×１０−７／℃の範囲内にあったことが観察される。例えば、コア厚（Ｔコア）（曲線２００）が１００μｍである場合、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の各々のクラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）（曲線２０２）は２００μｍとなり、積層板厚（ＴＬ）は５００μｍとなる。この場合、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は約４６×１０−７／℃であることが観察される。別の例として、コア厚（Ｔコア）（曲線２００）が２００μｍである場合、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の各々のクラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）（曲線２０２）は１５０μｍとなり、積層板厚（ＴＬ）は５００μｍとなる。この場合、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は約５７×１０−７／℃であることが観察される。図２に示された例において、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、コア厚（Ｔコア）が増加するにつれて、増加する。さらに、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、クラッド厚（Ｔクラッド）が増加するにつれて、減少する。このようにして、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は変えられる。下記の表１は、積層板厚（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）が５００μｍとなるような所定のコア厚（Ｔコア）および第１と第２のクラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）についての積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を示している。
【００２８】
【表１】
2019515867.tif 000003
【００２９】
今度は図３を参照すると、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）の各々が一定に保持され、コア厚（Ｔコア）が変えられた場合の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）の変動を示すグラフが示されている。ガラスクラッド層として、「Ｃｏｒｎｉｎｇ」「Ｅａｇｌｅ  ＸＧ」が使用され、コアガラスとして「Ｃｏｒｎｉｎｇ」「Ｇｏｒｉｌｌａ」ガラスが使用される。積層板厚（ＴＬ）が２００μｍと８００μｍとの間で変動する（この例において、最小のコア厚（Ｔコア）および／または最小のクラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）の各々は１００μｍである）ように、コア厚（Ｔコア）を変動させ、各クラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）を一定にすることにより、積層板熱膨張係数は、約３５×１０−７／℃から約７６×１０−７／℃の間で変動することが観察される。二組の例を計算する。第一組において、第１と第２のクラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）の各々は１００μｍに一定に保持され、コア厚（Ｔコア）は変えられる（曲線３００）。コア厚（Ｔコア）が１００μｍであるときに、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は約５３．３×１０−７／℃であり、コア厚（Ｔコア）が６００μｍであるときに、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は約７６．２×１０−７／℃であるのが分かる。図３に示された曲線３００に関する積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）の値が、下記の表２に示されている。
【００３０】
【表２】
2019515867.tif 000004
【００３１】
さらに、図３の第２の例において、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）の各々は２００μｍに一定に保持され、コア厚（Ｔコア）は変えられる（曲線３０２）。コア厚（Ｔコア）が１００μｍであるときに、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は約４６×１０−７／℃であるのが分かる。別の場合では、コア厚（Ｔコア）が６００μｍであるときに、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は約６８×１０−７／℃であるのが分かる。下記の表３は、曲線３０２に示されるように、第１と第２のクラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）の各々が２００に保持された場合の変動するコア厚（Ｔコア）についての積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を示している。
【００３２】
【表３】
2019515867.tif 000005
【００３３】
図４は、ガラス積層板１００を製造する例示の方法の流れ図を示している。図１および４を参照すると、ブロック４００で、ガラスコア１１０が提供される。ガラスコア１１０は、第１のコア表面１１２および第２のコア表面１１４を有し、第１のコア表面１１２は第２のコア表面１１４と反対の表面である。さらに、ガラスコア１１０は、このガラスコア１１０がコア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するように選択される。
【００３４】
ブロック４０５で、ガラスコア１１０の第２のコア表面１１４がコア担体に結合される。担体は、ガラス積層板１００を形成するためにガラス層の正確な結合を容易にするための土台として使用できる基板である。実施の形態において、ガラスコア１１０の第２のコア表面１１４は、コア担体に一時的に結合されることがある。一時的な結合は、ガラスコア１１０にどのような損傷も与えずに、後になって取り外せる取付け部材を使用することによって行える。例えば、１つの実施の形態において、コア担体は、以下に限られないが、接着剤の使用、またはファンデルワールス力の依存を含む、当該技術分野で公知の手段を使用して、ガラスコア１１０の第２のコア表面１１４に一時的に結合されることがある。さらに、ブロック４１０で、ガラスコア１１０上のどのような外来からの微粒子または不純物も除去するために、ガラスコア１１０の第１のコア表面１１２が洗浄される。第１のコア表面１１２は、洗浄剤により洗浄されることがある。洗浄剤の非限定例としては、ディスプレイ業界、ブラシ洗浄、超音波またはメガソニック撹拌洗浄に公知の洗浄剤が挙げられる。実施の形態において、ガラスコア１１０のコア厚（Ｔコア）は、第２のコア表面１１４をコア担体に結合した後であって、コア担体からガラスコア１１０を取り外す前に、酸エッチングまたは酸磨きを使用して、ガラスコア１１０を薄層化することによって、減少するであろう。
【００３５】
さらに図１および４を参照すると、ブロック４１５で、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０が提供される。第１のガラスクラッド層１２０は、第１のクラッド表面１２２および第２のクラッド表面１２４を有し、よって、第１のクラッド表面１２２と第２のクラッド表面１２４は互いに反対の表面である。同様に、第２のガラスクラッド層１３０は、第３のクラッド表面１３２および第４のクラッド表面１３４を有し、よって、第３のクラッド表面１３２と第４のクラッド表面１３４は互いに反対の表面である。第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０は、ガラスクラッド層１２０、１３０の各々が、所望のクラッド厚（Ｔクラッド）および所望のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）を有するように選択される。いくつかの実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の各々は、同じ厚さ（Ｔクラッド）および同じクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）を有することがある。実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０の各々は、同じ厚さ（Ｔクラッド）または同じクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）を有することがある。他の実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０は異なり、それによって、異なる厚さ（すなわち、Ｔクラッド１≠Ｔクラッド２）、および／または異なる熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１≠ＣＴＥクラッド２）を有することがある。
【００３６】
ブロック４２０で、第１のガラスクラッド層１２０の第２のクラッド表面１２４が第１の担体に結合される。さらに、第２のガラスクラッド層１３０の第４のクラッド表面１３４が第２の担体に結合される。その第１の担体および第２の担体は、上述したコア担体と類似していてよい。実施の形態において、第２のクラッド表面１２４および第４のクラッド表面１３４は、それぞれ、第１の担体および第２の担体に一時的に結合されることがある。一時的な結合は、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０にどのような損傷も与えずに、後になって取り外せる、以下に限られないが、接着剤の使用、またはファンデルワールス力の依存を含む、当該技術分野で公知の手段を使用することにより行われることがある。第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０は、第１のガラスクラッド層１２０を第１の担体に結合した後であって、第２のガラスクラッド層１３０を第２の担体に結合した後、酸エッチングまたは酸磨きが施されることがある。所望の第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）を達成するために、第１と第２のガラスクラッド層１２０、１３０の薄層化が行われることがある。実施の形態において、薄層化は、ガラス積層板１００が組み立てられた後に、第１のガラスクラッド層１２０および第２のガラスクラッド層１３０に行われることがある。
【００３７】
さらに、ブロック４２５で、第１のガラスクラッド層１２０の第１のクラッド表面１２２および第２のガラスクラッド層１３０の第３のクラッド表面１３２が洗浄される。限定ではなく、一例として、第１のクラッド表面１２２は、第１のガラスクラッド層１２０が第１の担体に結合されている間に洗浄される。同様に、第３のクラッド表面１３２は、第２のガラスクラッド層１３０が第２の担体に結合されている間に洗浄される。第１のクラッド表面１２２および第３のクラッド表面１３２は、上述した、ガラスコア１１０の第１のコア表面１１２の洗浄と同様の様式で洗浄してよい。
【００３８】
ブロック４３０で、ガラスコア１１０の第１のコア表面１１２が、第１のガラスクラッド層１２０の第１のクラッド表面１２２に結合される。結合は、ガラスコア１１０の第１のコア表面１１２と第１のクラッド表面１２２との間に接着剤の中間層を配置することによって行われることがある。接着剤のいくつかの例として、以下に限られないが、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、熱硬化性エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、および熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）が挙げられる。その接着剤の中間層は、片側でガラスコア１１０の第１のコア表面１１２と、他方の側で第１のクラッド表面１２２との間に配置される。次に、ガラスコア１１０および第１のガラスクラッド層１２０は、どのような空洞部分も排除するために、一連のローラ、真空バッグシステム、オーブン、またはオートクレーブに通されることがある。いくつかの実施の形態において、第１のガラスクラッド層１２０の第１のクラッド表面１２２は、水結合（すなわち、ガラス層の軟化温度より低い温度で、接着剤を使用しない）を使用して、ガラスコア１１０の第１のコア表面１１２に結合される。他の公知のまたはまだ開発されていない結合方法も使用してよいことを理解すべきである。
【００３９】
ブロック４３５で、そのコア担体は、ガラスコア１１０の第２のコア表面１１４から取り外される。例えば、１つの実施の形態において、ガラスコア１１０をコア担体に取り付けるために使用されるクランプが外される。
【００４０】
ブロック４４０で、ガラスコア１１０の第２のコア表面１１４が第２のガラスクラッド層１３０の第３のクラッド表面１３２に結合される。結合は、ガラスコア１１０の第２のコア表面１１４と第３のクラッド表面１３２との間に接着剤の中間層を配置することによって行われることがある。接着剤のいくつかの例として、以下に限られないが、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、熱硬化性エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、および熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）が挙げられる。その接着剤の中間層は、片側でガラスコア１１０の第２のコア表面１１４と、他方の側で第３のクラッド表面１３２との間に配置される。次に、ガラスコア１１０（すでに第１のガラスクラッド層１２０に結合されている）および第２のガラスクラッド層１３０は、どのような空洞部分も排除するために、一連のローラ、真空バッグシステム、オーブン、またはオートクレーブに通されることがある。いくつかの実施の形態において、第２のガラスクラッド層１３０の第３のクラッド表面１３２は、水結合（すなわち、ガラス層の軟化温度より低い温度で、接着剤を使用しない）を使用して、ガラスコア１１０の第２のコア表面１１４に結合される。他の公知のまたはまだ開発されていない結合方法も使用してよいことを理解すべきである。ブロック４４５で、第１のクラッド表面１２２がガラスコア１１０の第１のコア表面１１２に結合された後に、第１の担体が第１のガラスクラッド層１２０の第２のクラッド表面１２４から取り外される。同様に、第３のクラッド表面１３２がガラスコア１１０の第２のコア表面１１４に結合された後に、第２の担体が第２のガラスクラッド層１３０の第４のクラッド表面１３４から取り外される。第１の担体および第２の担体を取り外すことにより、図１に示されるような、ガラス積層板１００が得られる。
【００４１】
ここで図４を参照すると、ブロック４５０で、ガラス積層板１００は、必要に応じて、ガラスコア１１０、第１のガラスクラッド層１２０、および第２のガラスクラッド層１３０のそれぞれの表面の間の永久結合を確実にするために、追加の熱に施されることがある。実施の形態において、ガラス積層板１００は、オートクレーブ内の圧力下で熱に施されることがある。オーブン、または真空バッグシステムなどの他のタイプの装置も使用してよい。限定ではなく、一例として、１００℃から約５００℃の温度範囲で、熱を加えてもよい。
【００４２】
ここで図５を参照すると、ガラス積層板アセンブリ５００が示されている。ガラス積層板アセンブリ５００は、ガラス積層板１００上に配置されたシリコンウエハー１５０を備える。シリコンウエハー１５０は、シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）を有する。シリコンウエハー１５０は第１のシリコン表面１５２、および第２のシリコン表面１５４を有し、第１のシリコン表面１５２および第２のシリコン表面１５４は互いに反対の表面である。第１のシリコン表面１５２はガラス積層板１００上に配置されている。ガラス積層板１００は、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア１１０を備える。ガラスコア１１０は、第１のガラスクラッド層１２０と第２のガラスクラッド層１３０との間に配置されている。各ガラスクラッド層１２０、１３０は、クラッド厚（Ｔクラッド）およびクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）を有する。積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）が約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内にあるように、式（１）により定義される。さらに、ガラス積層板１００上に配置されたシリコンウエハー１５０は、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）と実質的に同じシリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）を有する。これにより、集積回路が熱にさらされたときに、シリコンウエハーと担体のガラス積層板との間の膨張の量が同程度となり、それによって、シリコンウエハーとその上の回路の機械的破壊が防がれる。
【００４３】
ガラス積層板が、２つのガラスクラッド層の間に配置されたガラスコアを含むことが、今では理解されよう。積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は、所望の積層板熱膨張係数が得られるように、ガラスコアのコア厚（Ｔコア）およびガラス積層板の第１と第２のクラッド厚（Ｔクラッド１、Ｔクラッド２）を調節することによって、調節することができる。具体的に、積層板熱膨張係数は、積層板熱膨張係数が、ガラス積層板上に配置されるシリコンウエハーのシリコンウエハー熱膨張係数と実質的に同じになるように、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内にあるように設計されることがある。
【００４４】
第１の態様において、ガラス積層板は、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア；第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有する第１のガラスクラッド層；並びに第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する第２のガラスクラッド層を備え、そのガラスコアは第１のガラスクラッド層と第２のガラスクラッドとの間に配置され、そのガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有し、その積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）により定義される。
【００４５】
積層板厚（ＴＬ）が約１００μｍから約１．５ｍｍの範囲内にあり、その積層板厚（ＴＬ）はコア厚（Ｔコア）、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）の合計である、第１の態様による第２の態様。
【００４６】
第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）が同じである、第１または第２の態様による第３の態様。
【００４７】
第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）が同じである、第１から第３の態様のいずれかによる第４の態様。
【００４８】
第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）が異なる、第１、第２または第４の態様による第５の態様。
【００４９】
第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）が異なる、第１、第２、第３、または第５の態様による第６の態様。
【００５０】
コア厚（Ｔコア）、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）の各々が、０μｍ超から約１．５ｍｍの範囲内にある、第１から第６の態様のいずれかによる第７の態様。
【００５１】
コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）が、第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）より高い、第１から第７の態様のいずれかによる第８の態様。
【００５２】
第９の態様において、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有するガラス積層板を製造する方法は、ガラスコアの第１のコア表面を第１のガラスクラッド層の第１のクラッド表面に結合させる工程、およびそのガラスコアの第２のコア表面を第２のガラスクラッド層の第３のクラッド表面に結合して、ガラス積層板を形成する工程を有してなり；そのガラスコアは、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有し；第１のガラスクラッド層は、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有し；第２のガラスクラッド層は、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有し；積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）により定義され、コア厚（Ｔコア）、コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）、第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）は、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）が、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内にあるようなものである。
【００５３】
ガラスコアの第１のコア表面および第２のコア表面を洗浄する工程、および第１のガラスクラッド層の第１のクラッド表面および第２のガラスクラッド層の第３のクラッド表面を洗浄する工程をさらに含み、第１のコア表面と第２のコア表面、第１のクラッド表面および第３のクラッド表面が、ガラスコアを第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層に結合させる前に洗浄される、第９の態様による第１０の態様。
【００５４】
ガラスコアの第１のコア表面を洗浄する前に、ガラスコアの第２のコア表面をコア担体に結合させる工程、およびガラスコアの第２のコア表面を洗浄する前に、コア担体からガラスコアを取り外す工程をさらに含む、第９または１０の態様による第１１の態様。
【００５５】
カラスコアの第２のコア表面をコア担体に結合させた後であって、コア担体からガラスコアを取り外す前に、カラスコアのコア厚（Ｔコア）を酸エッチングまたは酸磨きにより薄層化する工程をさらに含む、第１１の態様による第１２の態様。
【００５６】
第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）が同じであり、第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）が同じである、第９から第１２の態様のいずれか１つによる第１３の態様。
【００５７】
第１のガラスクラッド層の第２のクラッド表面を第１の担体に結合する工程、および第２のガラスクラッド層の第４のクラッド表面を第２の担体に結合する工程をさらに含む、第１１から第１３の態様のいずれか１つによる第１４の態様。
【００５８】
第１のガラスクラッド層がガラスコアに結合された後に、第１の担体を取り外す工程、および第２のガラスクラッド層がガラスコアに結合された後に、第２の担体を取り外して、ガラス積層板を形成する工程をさらに含む、第１４の態様による第１５の態様。
【００５９】
第１のガラスクラッド層を第１の担体に、第２のガラスクラッド層を第２の担体に結合させた後、第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層を酸エッチングまたは酸磨きにより薄層化する工程をさらに含む、第１４または第１５の態様による第１６の態様。
【００６０】
第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層をガラスコアに、第１と第２のガラスクラッド層およびガラスコアの軟化温度より低い温度で、接着剤を用いずに、結合する工程、およびガラス積層板を熱に曝して、第１のガラスクラッド層とガラスコアとの間、および第２のガラスクラッド層とガラスコアとの間に永久結合を形成する工程をさらに含む、第９から第１６の態様のいずれか１つによる第１７の態様。
【００６１】
ガラスコアがイオン交換されていないガラスであり、第１のガラスクラッド層および第２のガラスクラッド層の各々が無アルカリガラスである、第９から第１７の態様のいずれか１つによる第１８の態様。
【００６２】
第１９の態様において、ガラス積層板アセンブリは、ガラス積層板上に配置された、シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）を有するシリコンウエハーを備え、そのガラス積層板は、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア；第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有する第１のガラスクラッド層；並びに第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する第２のガラスクラッド層を備え、そのガラスコアは、第１のガラスクラッド層と第２のガラスクラッド層との間に配置され、このガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有し、この積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）により定義され、シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）は、積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）と実質的に同じである。
【００６３】
コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）が、クラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）より高い、第１９の態様による第２０の態様。
【００６４】
請求項の主題の精神および範囲から逸脱せずに、ここに記載された実施の形態に様々な改変および変更を行えることが、当業者に明白であろう。それゆえ、本明細書は、ここに記載された様々な実施の形態の改変および変更を、そのような改変および変更が付随の特許請求の範囲およびその等価物の範囲に入るという条件で、包含することが意図されている。
【００６５】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【００６６】
実施形態１
ガラス積層板において、
コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア、
第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有する第１のガラスクラッド層、並びに
第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する第２のガラスクラッド層、
を備え、
前記ガラスコアは前記第１のガラスクラッド層と前記第２のガラスクラッドとの間に配置され、
前記ガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有し、該積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）
により定義される、ガラス積層板。
【００６７】
実施形態２
前記コア厚（Ｔコア）、前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）の合計が積層板厚（ＴＬ）であり、該積層板厚（ＴＬ）が約１００μｍから約１．５ｍｍの範囲内にある、実施形態１に記載のガラス積層板。
【００６８】
実施形態３
前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）が同じである、実施形態１または２に記載のガラス積層板。
【００６９】
実施形態４
前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）が同じである、実施形態１から３いずれか１つに記載のガラス積層板。
【００７０】
実施形態５
前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）が異なる、実施形態１、２または４に記載のガラス積層板。
【００７１】
実施形態６
前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）が異なる、実施形態１、２、３、または５に記載のガラス積層板。
【００７２】
実施形態７
前記コア厚（Ｔコア）、前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）の各々が、０μｍ超から約１．５ｍｍの範囲内にある、実施形態１から６いずれか１つに記載のガラス積層板。
【００７３】
実施形態８
前記コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）が、前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）より高い、実施形態１から７いずれか１つに記載のガラス積層板。
【００７４】
実施形態９
積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有するガラス積層板を製造する方法において、
ガラスコアの第１のコア表面を第１のガラスクラッド層の第１のクラッド表面に結合させる工程、および
前記ガラスコアの第２のコア表面を第２のガラスクラッド層の第３のクラッド表面に結合して、前記ガラス積層板を形成する工程、
を有してなり、
前記ガラスコアは、コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有し、
前記第１のガラスクラッド層は、第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有し、
前記第２のガラスクラッド層は、第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有し、
前記積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）により定義され、
前記コア厚（Ｔコア）、前記コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）、前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）、前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）、前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）は、前記積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）が、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内にあるようなものである、方法。
【００７５】
実施形態１０
前記ガラスコアの前記第１のコア表面および前記第２のコア表面を洗浄する工程、および
前記第１のガラスクラッド層の前記第１のクラッド表面および前記第２のガラスクラッド層の前記第３のクラッド表面を洗浄する工程、
をさらに含み、
前記第１のコア表面と前記第２のコア表面、前記第１のクラッド表面および前記第３のクラッド表面が、前記ガラスコアを前記第１のガラスクラッド層および前記第２のガラスクラッド層に結合させる前に洗浄される、実施形態９に記載の方法。
【００７６】
実施形態１１
前記ガラスコアの前記第１のコア表面を洗浄する前に、該ガラスコアの前記第２のコア表面をコア担体に結合させる工程、および
前記ガラスコアの前記第２のコア表面を洗浄する前に、前記コア担体から該ガラスコアを取り外す工程、
をさらに含む、実施形態１０に記載の方法。
【００７７】
実施形態１２
前記カラスコアの前記第２のコア表面を前記コア担体に結合させた後であって、該コア担体から該ガラスコアを取り外す前に、該カラスコアのコア厚（Ｔコア）を酸エッチングまたは酸磨きにより薄層化する工程をさらに含む、実施形態１１に記載の方法。
【００７８】
実施形態１３
前記第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および前記第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）が同じであり、前記第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）および前記第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）が同じである、実施形態９から１２いずれか１つに記載の方法。
【００７９】
実施形態１４
前記第１のガラスクラッド層の第２のクラッド表面を第１の担体に結合する工程、および
前記第２のガラスクラッド層の第４のクラッド表面を第２の担体に結合する工程、
をさらに含む、実施形態９から１３いずれか１つに記載の方法。
【００８０】
実施形態１５
前記第１のガラスクラッド層が前記ガラスコアに結合された後に、前記第１の担体を取り外す工程、および
前記第２のガラスクラッド層が前記ガラスコアに結合された後に、前記第２の担体を取り外して、前記ガラス積層板を形成する工程、
をさらに含む、実施形態１４に記載の方法。
【００８１】
実施形態１６
前記第１のガラスクラッド層を前記第１の担体に、前記第２のガラスクラッド層を前記第２の担体に結合させた後、該第１のガラスクラッド層および該第２のガラスクラッド層を酸エッチングまたは酸磨きにより薄層化する工程をさらに含む、実施形態１４または１５に記載の方法。
【００８２】
実施形態１７
前記第１のガラスクラッド層および前記第２のガラスクラッド層を前記ガラスコアに、該第１と第２のガラスクラッド層および該ガラスコアの軟化温度より低い温度で、接着剤を用いずに、結合する工程、および
前記ガラス積層板を熱に曝して、前記第１のガラスクラッド層と前記ガラスコアとの間、および前記第２のガラスクラッド層と該ガラスコアとの間に永久結合を形成する工程、
をさらに含む、実施形態９から１６いずれか１つに記載の方法。
【００８３】
実施形態１８
前記ガラスコアがイオン交換されていないガラスであり、前記第１のガラスクラッド層および前記第２のガラスクラッド層の各々が無アルカリガラスである、実施形態９から１７いずれか１つに記載の方法。
【００８４】
実施形態１９
ガラス積層板アセンブリにおいて、
ガラス積層板上に配置された、シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）を有するシリコンウエハー、
を備え、
前記ガラス積層板は、
コア厚（Ｔコア）およびコア熱膨張係数（ＣＴＥコア）を有するガラスコア、
第１のクラッド厚（Ｔクラッド１）および第１のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド１）を有する第１のガラスクラッド層、並びに
第２のクラッド厚（Ｔクラッド２）および第２のクラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド２）を有する第２のガラスクラッド層、
を備え、
前記ガラスコアは、前記第１のガラスクラッド層と前記第２のガラスクラッド層との間に配置され、
前記ガラス積層板は、約３５×１０−７／℃から約９０×１０−７／℃の範囲内の積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）を有し、
該積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）は：
ＣＴＥＬ＝（（ＣＴＥコア×Ｔコア）＋（ＣＴＥクラッド１×Ｔクラッド１）＋（ＣＴＥクラッド２×Ｔクラッド２））／（Ｔコア＋Ｔクラッド１＋Ｔクラッド２）
により定義され、
前記シリコンウエハー熱膨張係数（ＣＴＥＳｉ）は、前記積層板熱膨張係数（ＣＴＥＬ）と実質的に同じである、ガラス積層板アセンブリ。
【００８５】
実施形態２０
前記コア熱膨張係数（ＣＴＥコア）が、前記クラッド熱膨張係数（ＣＴＥクラッド）より高い、実施形態１９に記載のガラス積層板アセンブリ。
【符号の説明】
【００８６】
１００    ガラス積層板
１１０    ガラスコア
１２０    第１のガラスクラッド層
１３０    第２のガラスクラッド層
１５０    シリコンウエハー
５００    ガラス積層板アセンブリ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2019515867.tif 000012
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