(57)【要約】  透明性、かつ、耐熱性・耐湿熱性に優れた近赤外線遮断フィルターを得ることができる近赤外線吸収色素を提供することを課題とする。  該近赤外線吸収色素は、下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩の非晶質体からなることを特徴とする。2011074619.tif 000017
2011074619.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩の非晶質体からなる近赤外線吸収色素。
【化１】
2011074619.tif 000016
（式中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ同一でも異なっていても良い有機基を表し、Ｘ−はアニオンを示す。）
【請求項２】
一般式（１）中の有機基Ｒ１〜Ｒ８が、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基及びシクロヘキシルメチル基からなる群より選ばれる一種であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収色素。
【請求項３】
一般式（１）中の有機基Ｒ１〜Ｒ８が、それぞれ異なる二種以上の有機基であり、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基及びシクロヘキシルメチル基からなる群より選ばれる、少なくとも二種以上の有機基であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収色素。
【請求項４】
一般式（１）中の有機基Ｒ１〜Ｒ８が、異なる二種の有機基であり、二種の有機基のうち、一種がシクロヘキシルメチル基であって、もう一種がｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基及びｎ−ヘキシル基からなる群より選ばれる一種の有機基であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収色素。
【請求項５】
一般式（１）中の各アミノ基における二個の有機基が、異なる二種の有機基の組み合わせである請求項４に記載の近赤外線吸収色素。
【請求項６】
一般式（１）中のＸ−が、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン及びビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンからなる群より選ばれる一種であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかの項に記載の近赤外線吸収色素。
【請求項７】
一般式（１）で表されるジイモニウム塩の非晶質体が、当該ジイモニウム塩の結晶性固体を乾式粉砕することにより得られることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の近赤外線吸収色素。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかの項に記載の近赤外線吸収色素を粘着剤中に固体状態で含有することを特徴とする近赤外線吸収粘着剤組成物。
【請求項９】
請求項８に記載の近赤外線吸収粘着剤組成物により形成された粘着剤層を含むことを特徴とする近赤外線遮断フィルター。
【請求項１０】
請求項１ないし７のいずれかの項に記載の近赤外線吸収色素を活性エネルギー線硬化性樹脂中に固体状態で含有することを特徴とする近赤外線吸収ハードコート用樹脂組成物。
【請求項１１】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂が、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂及びポリオレフィン系樹脂からなる群から選択された少なくとも一種の樹脂であることを特徴とする請求項１０に記載のハードコート用樹脂組成物。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載のハードコート用樹脂組成物を活性エネルギー線照射によって硬化させてなるハードコート層を含む近赤外線吸収性ハードコート材。
【請求項１３】
前記ハードコート層が、透明基材の少なくとも一方の面に形成されてなる請求項１２に記載の近赤外線吸収性ハードコート材。
【請求項１４】
前記透明基材が、ガラス、ＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム及び電磁波シールドフィルムからなる群より選ばれる少なくとも一種の透明基材であることを特徴とする請求項１３に記載の近赤外線吸収性ハードコート材。
【請求項１５】
請求項１２ないし１４のいずれかの項に記載の近赤外線吸収性ハードコート材を用いてなる近赤外線遮断フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジイモニウム塩の非晶質体からなる近赤外線吸収色素とそれを用いた近赤外線吸収粘着剤組成物、及び近赤外線吸収ハードコート用樹脂組成物に関し、さらに詳細には、可視光領域の透明性と近赤外線吸収効果に優れるとともに、高い耐熱性・耐湿熱性を備えた近赤外線吸収組成物及び該近赤外線吸収組成物を利用した近赤外線遮断フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレーの大型化、薄型化の要求が高まる中、プラズマディスプレーパネル（以下、「ＰＤＰ」と略記する）が一般に広く普及している。ＰＤＰからは近赤外線が放出され、近赤外線リモコンを使用した電子機器が誤動作を起こしてしまうことから、近赤外線吸収剤を含むフィルターで近赤外線を遮断する必要がある。また、ＣＣＤカメラ等に使用される光半導体素子は近赤外線領域の感度が高いため、近赤外線の除去が必要である。更に近赤外線吸収剤は、太陽光の熱線吸収効果を示し、自動車用ガラス、建材用ガラス等の用途に熱線遮断フィルムとして利用されており、太陽電池モジュールにおける温度上昇による出力低下を防止するためにも熱線遮断が必要である。これらの用途に用いられる近赤外線遮断フィルターは、可視光領域を透過しつつ、効果的に近赤外光領域を吸収でき、更に、高い耐熱性及び耐湿熱性が要求される。【０００３】
近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素としては、従来、シアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、無機酸化物粒子等が使用されている（特許文献１，２）。【０００４】
ところで、ＰＤＰに用いられる近赤外線遮断フィルターには、通常近赤外線吸収層の他に、電磁波遮蔽層、反射防止層、ハードコート層等が設けられている。このため、ＰＤＰ用近赤外線遮断フィルターは、近赤外線吸収フィルム、電磁波遮蔽フィルム及び反射防止フィルムを、支持体であるガラスや衝撃吸収材の上に積層して作製されることが一般的である。このようなＰＤＰ用近赤外線遮断フィルターは、ＰＤＰの前面側に載置され、接着剤や粘着剤を用いて、支持体であるガラスや衝撃吸収材の上に直接貼合わされて使用される。【０００５】
近年、近赤外線遮断フィルターの薄層化や、近赤外線遮断フィルターの製造工程を簡略化することを目的として、粘着剤に近赤外線吸収色素を含有させることにより、近赤外線吸収層と粘着剤層とを一体化させる試みがなされている（特許文献３）。【０００６】
ところが、近赤外線吸収色素として使用されているシアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素等の化合物は、低極性溶剤や低極性の樹脂に対する溶解性が劣るという問題がある。特に粘着剤は低極性である場合が多く、これらの粘着剤に極性が近い近赤外線吸収色素を配合すると、経時で色素が析出し塗膜の外観や透明性が損なわれるという問題がある。【０００７】
また、ジイモニウム系色素に代表される近赤外線吸収色素を粘着剤層に含有すると、ポリエステル樹脂やアクリル樹脂等の高分子体からなる塗布用バインダー樹脂への含有とは異なり、耐熱試験あるいは耐湿熱試験後の色素の劣化が大きく近赤外線吸収性能が損なわれてしまうという粘着剤特有の問題があり、これまで、粘着剤層中で不安定な近赤外線吸収色素の安定化には種々の検討が行われている。【０００８】
特許文献４では、粘着剤層に近赤外線吸収色素及び膨潤性層状粘土鉱物を含有することで、近赤外線吸収色素の安定化を試みているが、膨潤性層状粘土鉱物を含有させることにより、フィルムの透明性が損なわれてしまう欠点があった。【０００９】
また、特許文献５では、樹脂の極性が乏しく色素を溶解させることの出来ない粘着剤組成物等に対して有効と思われる、近赤外線吸収色素であるジイモニウム塩を微粒子状態にて樹脂中に含有させることを特徴とする赤外光吸収膜が開示されている。しかし、ジイモニウム塩の微粒子によって光の散乱を生じてしまい、フィルムの透明性が損なわれる欠点があった。さらに、ジイモニウム塩の顔料化により色素の近赤外吸収効率が低下する問題があった。【００１０】
一方、前記したとおり、通常の光学フィルターの構成においては近赤外線吸収層とハードコート層も、それぞれ別々に設けられている。例えば、特許文献６に開示された近赤外線吸収層は、ハードコート性を備えていないため、耐傷付き性の高い光学フィルターを得るためには、ハードコート層を別途設ける必要がある。これに対し、ハードコート層に近赤外線吸収能を持たせることにより、使用するフィルムの削減や工程の省略が可能となるため、ハードコート層中に近赤外線吸収色素を含有させる試みがなされている。【００１１】
例えば、特許文献７には、透明樹脂層の少なくとも一方の面に、塗工により設けられた近赤外線吸収剤を含有するハードコート層を有する樹脂成形品であって、近赤外線吸収剤が、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物の少なくとも１種を含有する２種以上の近赤外線吸収剤であることを特徴とする近赤外線吸収性樹脂成形品が開示されている。【００１２】
ここでハードコート層は、一般にハードコート樹脂に紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより形成される。よってハードコート層に近赤外線吸収剤を含有させた場合、近赤外線吸収剤にも活性エネルギー線が照射される。特許文献７に開示されている従来のジイモニウム塩化合物は紫外線により分解しやすく、この分解により近赤外線吸収能が大きく低下することが判明した。さらに、重合開始剤などの硬化促進剤とジイモニウム塩化合物との副反応により、樹脂の硬化阻害が発生するという問題点があった。【００１３】
また、特許文献８にフタロシアニン系化合物またはナフタロシアニン系化合物を近赤外線吸収剤として用いたハードコート用樹脂組成物が開示されている。しかし、フタロシアニン系化合物またはナフタロシアニン系化合物は近赤外線吸収領域が狭く、十分な近赤外線吸収能を得るには、吸収波長の異なる複数種の近赤外線吸収色素を用いなければならないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００３−９６０４０号公報
【特許文献２】特開２０００−８００７１号公報
【特許文献３】特許第３６２１３２２号公報
【特許文献４】特開２００８−０５８４７２号公報
【特許文献５】特許第３９８７２４０号公報
【特許文献６】特開２００４−３０９６５５号公報
【特許文献７】特許第３７８８６５２号公報
【特許文献８】特開２００８−２６８２６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
したがって、近赤外線吸収色素を含有していながら、透明性および耐熱性・耐湿熱性に優れた粘着剤層およびハードコート層を形成し得る近赤外線吸収組成物が切望されており、本発明はそのような近赤外線吸収粘着剤組成物及び近赤外線吸収ハードコート用樹脂組成物、並びにこれらを利用した近赤外線遮断フィルターを提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、ジイモニウム塩の非晶質体からなる近赤外線吸収色素を粘着剤中に含有させることで、透明性に優れた近赤外線吸収粘着剤組成物が得られ、さらに該近赤外吸収粘着剤組成物を用いた近赤外線遮断フィルターが優れた透明性及び耐熱性・耐湿熱性を持つことを見出した。
また、活性エネルギー線硬化性樹脂中に含有させたジイモニウム塩の非晶質体は、紫外線等活性エネルギーを照射しても、ジイモニウム塩の分解が起こらず、優れた透明性及び耐熱性・耐湿熱性を備えたハードコート層を形成し得ることを見出し本発明の完成に至った。【００１７】
すなわち、本発明は以下に示すものである。【００１８】
第一の発明は、下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩の非晶質体からなる近赤外線吸収色素である。【００１９】
【化１】
2011074619.tif 000003
（式中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ同一でも異なっていても良い有機基を表し、Ｘ−はアニオンを示す。）【００２０】
第二の発明は、一般式（１）中の有機基Ｒ１〜Ｒ８が、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシルメチル基からなる群より選ばれる一種であることを特徴とする第一の発明に記載の近赤外線吸収色素である。【００２１】
第三の発明は、一般式（１）中の有機基Ｒ１〜Ｒ８が、それぞれ異なる二種以上の有機基であり、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシルメチル基からなる群より選ばれる、少なくとも二種以上の有機基であることを特徴とする第一の発明に記載の近赤外線吸収色素である。【００２２】
第四の発明は、一般式（１）中の有機基Ｒ１〜Ｒ８が、異なる二種の有機基であり、二種の有機基のうち、一種がシクロヘキシルメチル基であって、もう一種がｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基及びｎ−ヘキシル基からなる群より選ばれる一種の有機基であることを特徴とする第一の発明に記載の近赤外線吸収色素である。【００２３】
第五の発明は、一般式（１）中の各アミノ基における二個の有機基が、異なる二種の有機基の組み合わせである第四の発明に記載の近赤外線吸収色素である。【００２４】
第六の発明は、一般式（１）中のＸ−が、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンからなる群より選ばれる一種であることを特徴とする第一から第五の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収色素である。【００２５】
第七の発明は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩の非晶質体が、当該ジイモニウム塩の結晶性固体を乾式粉砕することにより得られることを特徴とする第一から第六の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収色素である。【００２６】
第八の発明は、第一から第七の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収色素を粘着剤中に固体状態で含有することを特徴とする近赤外線吸収粘着剤組成物である。【００２７】
第九の発明は、第八の発明に記載の近赤外線吸収粘着剤組成物により形成された粘着剤層を含むことを特徴とする近赤外線遮断フィルターである。【００２８】
第十の発明は、第一から第七の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収色素を活性エネルギー線硬化性樹脂中に固体状態で含有することを特徴とする近赤外線吸収ハードコート用樹脂組成物である。【００２９】
第十一の発明は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂が、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂からなる群から選択された少なくとも一種の樹脂であることを特徴とする第十の発明に記載のハードコート用樹脂組成物である。【００３０】
第十二の発明は、第十又は第十一に記載のハードコート用樹脂組成物を活性エネルギー線照射によって硬化させてなるハードコート層を含む近赤外線吸収性ハードコート材である。【００３１】
第十三の発明は、上記ハードコート層が、透明基材の少なくとも一方の面に形成されてなる第十二の発明に記載の近赤外線吸収性ハードコート材である。【００３２】
第十四の発明は、上記透明基材が、ガラス、ＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム及び電磁波シールドフィルムからなる群より選ばれる少なくとも一種の透明基材であることを特徴とする第十三の発明に記載の近赤外線吸収性ハードコート材である。【００３３】
第十五の発明は、第十二から第十四の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収性ハードコート材を用いてなる近赤外線遮断フィルターである。
【発明の効果】
【００３４】
本発明のジイモニウム塩の非晶質体からなる近赤外線吸収色素は、粘着剤中にて安定に存在しうることから、耐熱性・耐湿熱性に優れ、さらに透明性も高いため、耐久性、透明性に優れた近赤外線遮断フィルターを得ることができる。
また、ジイモニウム塩の非晶質体からなる近赤外線吸収色素は、紫外線等活性エネルギー線の照射により分解が起こらず、また活性エネルギー線硬化性樹脂中で安定に存在し、透明性も高いため、近赤外線吸収能に優れ、高い耐久性および透明性を備えたハードコート層を形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明のジイモニウム塩の非晶質体からなる近赤外線吸収色素について説明する。
【００３６】
［近赤外線吸収色素］
本発明に係る近赤外線吸収色素は非晶質体のジイモニウム塩からなることを特徴としている。なお、本発明において、近赤外線とは、波長７５０〜２０００ｎｍの範囲の光を意味する。
本発明で用いるジイモニウム塩は下記一般式（１）で表される（以下、「ジイモニウム塩（１）」ということがある）。
【００３７】
【化２】
2011074619.tif 000004
【００３８】
上記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ８はそれぞれ同一でも異なっていても良い有機基を表し、Ｘ−はアニオンを示す。
【００３９】
Ｒ１〜Ｒ８の好ましい有機基としては、ハロゲン原子で置換されても良い直鎖又は分岐状のＣ１−１０のアルキル基、Ｃ３−１２のシクロアルキル基、シクロアルキル環が置換されていてもよいＣ３−１２シクロアルキル−Ｃ１−１０のアルキル基等が挙げられる。
【００４０】
直鎖又は分岐状のＣ１−１０アルキル基として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉｓｏ−アミル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基等が例示できる。これらのうち、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基は、ジイモニウム塩（１）の結晶性が低くなり、非晶質体になりやすいために好ましい。また、このような低極性のアルキル基を有することにより、粘着剤との極性が近くなり、混合しやすくなる点でも好ましい。
【００４１】
Ｃ３−１２のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００４２】
Ｃ３-１２シクロアルキル−Ｃ１-１０アルキル基としては、シクロアルキル環が置換されていても非置換であってもよく、置換され得る置換基としては、アルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、またはハロゲン原子等が挙げられるが、好ましくは非置換であり、下記一般式（２）で表されるシクロアルキル−アルキル基は、粘着剤やハードコート用樹脂等に用いられるアクリル系樹脂等に対する溶解性が小さいために好ましい。
【００４３】
【化３】
2011074619.tif 000005
【００４４】
上記一般式（２）中、Ａは炭素数１〜１０の直鎖または分岐状のアルキル基を示し、ｍは３〜１２の整数を示す。
Ａの炭素数は１〜４であることが好ましく、ｍは５〜８が好ましく、特に５又は６であることが好ましい。
【００４５】
上記一般式（２）のシクロアルキル−アルキル基として、具体的には、シクロペンチルメチル基、２−シクロペンチルエチル基、２−シクロペンチルプロピル基、３−シクロペンチルプロピル基、４−シクロペンチルブチル基、２−シクロヘキシルメチル基、２−シクロヘキシルエチル基、３−シクロヘキシルプロピル基、４−シクロヘキシルブチル基等が例示でき、これらの中でもシクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロヘキシルプロピル基、３−シクロヘキシルプロピル基、４−シクロヘキシルブチル基が好ましく、より好ましくはシクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基であり、特にシクロヘキシルメチル基は、粘着剤やハードコート用樹脂等に用いられるアクリル系樹脂等に対する溶解性が低く、低極性となるためより好ましい。
【００４６】
また、ハロゲン原子で置換された直鎖又は分岐状のＣ１−１０アルキル基としては、２−ハロゲノエチル基、２，２−ジハロゲノエチル基、２，２，２−トリハロゲノエチル基、３−ハロゲノプロピル基、３，３−ジハロゲノプロピル基、３，３，３−トリハロゲノプロピル基、４−ハロゲノブチル基、４，４−ジハロゲノブチル基、４，４，４−トリハロゲノブチル基、５−ハロゲノペンチル基、５，５−ジハロゲノペンチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。中でも下記一般式（３）で表されるモノハロゲン化アルキル基が好ましいものとして挙げられる。
【００４７】
【化４】
2011074619.tif 000006
【００４８】
上記一般式（３）中、ｎは１〜９の整数を示し、Ｙはハロゲン原子を示す。
【００４９】
ｎは１〜９が好ましく、１〜４がさらに好ましく、Ｙがフッ素原子であることが特に好ましい。具体的には、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基等のモノフルオロアルキル基が挙げられる。
【００５０】
一般式（１）中のＲ１〜Ｒ８は、全て同一の有機基であってもよいが、異なる二種以上の有機基であってもよく、好ましくは異なる二種の有機基である。特に、Ｒ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６、およびＲ７とＲ８のそれぞれの組み合わせが、異なる二種の有機基の組み合わせであるものが好ましい。つまり、各アミノ基における二個の有機基が、異なる二種の有機基の組み合わせであるジイモニウム塩（１）が好適である。
【００５１】
二種の有機基は、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基およびシクロヘキシルメチル基からなる群より選ばれる有機基であるのが好ましく、さらに好ましくは、一種の有機基がシクロヘキシルメチル基であり、もう一種の有機基がｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基およびｎ−ヘキシル基からなる群より選ばれる有機基である。
【００５２】
一個のアミノ基の有機基が、異なる二種の有機基の組み合わせであることにより、ジイモニウム塩（１）の結晶性が低くなり、非晶質体となりやすい。特に二種の有機基のうち、一種がシクロヘキシルメチル基であると、立体障害により結晶性が低下して、より非晶質体となりやすいため、好ましい。
【００５３】
一般式（１）中のＸ−はジイモニウムカチオンの電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、有機酸アニオン、無機アニオン等が使用できる。
アニオンとして具体的には、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオン等が挙げられる。
【００５４】
これらのうち、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンが特に好ましく用いられる。得られる近赤外線遮断フィルターの耐熱性・耐湿熱性が高いためである。特に、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンは無機性が大きいことにより、得られるジイモニウム塩が、粘着剤やハードコート用樹脂等に用いられるアクリル系樹脂等に対する溶解性が低くなるため、より好ましい。
【００５５】
本発明に用いる一般式（１）で表されるジイモニウム塩として具体的には、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム等が耐熱性・耐湿熱性と透明性に優れる点より好ましく、特にヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム等は結晶性が低くく、より非晶質体となりやすいという点で好ましい。
【００５６】
本明細書において、非晶質体とは、原子又は分子が規則的な周期的配列をした結晶を形成せずに固体となっている状態である。固体の結晶性の有無については、粉末Ｘ線回折装置にて回折パターンを測定することにより求められる。すなわち、非晶質体は粉末Ｘ線回折装置にて得られる回折パターンに、結晶性を示す明確な回折ピークが検出されない状態のことである。例えば、粉末Ｘ線回折装置にて回折ピークを測定し、検出される最大強度のピークにて、ベースラインからピークトップを取った際のピークの半値幅が２θ＝１°以上となるものである。このような固体は、実質的に結晶は含まれておらず、非晶質体のみから構成されたものである。
【００５７】
本発明の近赤外線吸収色素は、上記ジイモニウム塩（１）の結晶性固体を乾式粉砕して非晶質化させることで得ることができる。ここで、「乾式粉砕」とは溶媒を用いずに粉砕する操作である。「粉砕」とは固体に機械的な圧力を加えて結晶構造を破壊する処理のことを言う。粉砕は一般的にボールミル、サンドミル、ペイントシェーカー、アトライター、ハンマーミル、ロールミル、ニーダー、エクストルーダー及び自動乳鉢のような結晶に圧力を加えながら粉砕する粉砕装置を用いて行うことができる。必要に応じてガラスビーズ、スチールビーズ、ジルコニアビーズ及びアルミナビーズのような粉砕媒体を用いることができる。また、ローラコンパクタのような乾式圧縮造粒機を用いることができる。
上記乾式粉砕により、ジイモニウム塩（１）の結晶性固体は結晶性を失い非晶質体となる。
【００５８】
乾式粉砕はジイモニウム塩（１）の結晶性が消失するまで行う。つまり、前述の粉末Ｘ線回折装置による回折パターンから、明確な回折ピークが検出されなくなるまで行う。より具体的には、例えば、粉末Ｘ線回折装置にて回折ピークを測定し、検出される最大強度のピークにて、ベースラインからピークトップを取った際のピークの半値幅が２θ＝１°以上となるまで行えばよい。
【００５９】
このようにして得られた非晶質体を近赤外線吸収色素として用いることで、結晶又は会合体のような結晶性を有する状態と比較して、近赤外線吸収粘着剤組成物及びそれを用いた近赤外線遮断フィルターとした場合に、耐熱性・耐湿熱性が高く、かつ、透明性に優れる特徴を有する。
【００６０】
このようにして得られたジイモニウム塩（１）の非晶質体からなる近赤外線吸収色素は、任意の溶媒に混和して用いることが出来る。「混和」とは粉体を溶媒の存在下に攪拌して溶媒中に混ぜ合わせることであり、「湿式粉砕」は含まれない。「湿式粉砕」とは溶媒の存在下に粉砕する操作をいい、必要に応じてガラスビーズ、スチールビーズ、ジルコニアビーズ又はアルミナビーズのような粉砕媒体を用いる場合も含む。ジイモニウム塩（１）の結晶性固体を非晶質化させる際に「湿式粉砕」を行うこともできるが、湿式粉砕では、結晶性固体に対して圧力をかけにくく、非晶質体の生成に時間を必要とする。また、湿式粉砕では会合体が形成されたり、湿式粉砕特有の現象である、過分散による再凝集が発生するなどの問題があり、本発明の近赤外線吸収色素を得ることは難しい。
【００６１】
上記混和に用いる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤：エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体等のグリコール系溶剤：前記グリコール系溶剤のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノイソプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のエーテルアルコール系溶剤：前記グリコール系溶剤のジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル等のポリエーテル系溶剤：メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤等：ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤等が例示でき、これらの溶媒は１種で使用されても良く、２種以上の混合溶媒として使用されても良い。これらのうち、沸点２００℃以下の有機溶媒が近赤外線吸収組成物の塗工性を高めるという点で好ましい。このような溶剤に対し、ジイモニウム塩（１）の非晶質体からなる近赤外線吸収色素を０．０１〜８０質量％、好ましくは０．５〜５０質量％添加して撹拌することにより、ジイモニウム塩（１）が非晶質体として固体状態で分散した混和物を調製することができる。
【００６２】
ジイモニウム塩（１）の結晶性固体は、以下の方法によって製造することができる。
【００６３】
すなわち、ウルマン反応及び還元反応で得られる、下記一般式（４）で表されるアミノ体を、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下、「ＮＭＰ」と略記する）、ジメチルホルムアミド（以下、「ＤＭＦ」と略記する）等の極性溶剤中、Ｒ１〜Ｒ８に対応するヨウ化物と、脱ヨウ素化剤としてアルキル金属の炭酸塩を加え、３０℃〜１５０℃、好ましくは７０〜１２０℃で反応させ、下記一般式（５）で表されるジイモニウム塩前駆体を得る。例えば、Ｒ１〜Ｒ８がすべてシクロヘキシルメチル基の場合は、対応するヨウ化物としてヨウ化シクロヘキシルアルカンを反応させる。一方、Ｒ１〜Ｒ８が、２種以上の異なる有機基である場合は、それぞれの有機基の数に対応するモル数のヨウ化物を上記と同様にして順次反応させるか、またはこれらを同時に添加して反応させることにより得られる。例えば、Ｒ１〜Ｒ８がシクロヘキシルメチル基とその他の有機基である場合には、置換基の数に対応するモル数のヨウ化シクロヘキシルアルカンを添加し、反応後、順次対応するモル数のヨウ化物（例えば、ヨウ化フルオロアルカン、ヨードアルカン、アルコキシヨード、ヨウ化ベンゼン、ヨウ化ベンジル、ヨウ化フェネチル等のフェニル−１−ヨードアルカン等）を加え反応させるか、又はこれらの異種のヨウ化物を同時に加えて反応させることによって得ることができる。
【００６４】
また、一個のアミノ基の二個の置換基が、異なる二種の有機基の組み合わせであるジイモニウム塩（１）を製造する場合は、下記一般式（４）で表されるアミノ体を、トルエン中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７に対応するアルキルアルデヒド化合物を反応させて、下記一般式（６）のイミン体とした後、水素雰囲気下にてパラジウム炭素触媒を用いた還元反応にて、下記一般式（７）で示される二級アミン体を得る。さらに、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ８に対応するアルキルヨウ化物を上記と同様に反応させることで、Ｒ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６、およびＲ７とＲ８のそれぞれの組み合わせが、異なる二種の有機基の組み合わせである下記一般式（５）で表されるジイモニウム塩前駆体を得る。
【００６５】
【化５】
2011074619.tif 000007
【００６６】
【化６】
2011074619.tif 000008
【００６７】
【化７】
2011074619.tif 000009
【００６８】
【化８】
2011074619.tif 000010
【００６９】
上式中、Ｒ１〜Ｒ８は、前記の通りである。
【００７０】
次いで、一般式（５）で示されるジイモニウム塩及び対応するアニオンＸ−の銀塩を、ＮＭＰ、ＤＭＦ、アセトニトリル等の有機溶媒中、温度３０〜１５０℃、好ましくは４０〜８０℃で反応させ、析出した銀を濾別した後、水、酢酸エチル、ヘキサン等の溶媒を加え生じた沈殿を濾過して、一般式（１）で表されるジイモニウム塩の結晶性固体を得ることができる。
【００７１】
上記のようにして得られたジイモニウム塩（１）の結晶性固体を乾式粉砕することによってジイモニウム塩（１）の非晶質体を得ることができる。
【００７２】
例えば、自動乳鉢ＡＭＮ−２００（日陶科学社製）にて、１５０ｍｍのメノウ乳鉢に上記のようにして得られたジイモニウム塩の結晶性固体を入れて、乳棒１００ｒｐｍ、乳鉢６ｒｐｍにて１０〜１２０分間程度乾式粉砕することで、ジイモニウム塩の非晶質体を得られる。得られた粉砕物はＣｕＫα線をＸ線源とした粉末Ｘ線回折装置（理学電気社製、ＲＩＮＴ２２００）を使用し、管電圧を４０ｋＶ、管電流を２０ｍＡ、走査範囲（２θ）を３°〜６０°、発散スリットを１／２°、散乱スリットを１／２°、受光スリットを０．１５ｍｍ、サンプリング幅を０．０２°、スキャンスピードを４°／ｍｉｎとした条件で回折ピークを測定し、明確な回折ピークが検出されなくなるまで粉砕する。例えば、検出される最大強度のピークにて、ベースラインからピークトップを取った際のピークの半値幅が２θ＝１°以上となるまで粉砕する。
【００７３】
[粘着剤組成物]
（粘着剤）
本発明の近赤外線吸収粘着剤組成物に用いる粘着剤としては、透明基材の表面に透明な層を形成し、光学フィルターとしての機能を損なわないものであれば特に限定されないが、アクリル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系、ゴム系又はシリコン系等の粘着剤が挙げられ、透明性、接着性、耐熱性等に優れている点でアクリル系粘着剤が好適である。
【００７４】
アクリル系粘着剤としては、好ましくは炭素数１〜１４のアルキル基を有するアクリレート又はメタクリレートを主成分とするアクリル系ポリマーを含有したものが挙げられ、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。  
【００７５】
アクリル系ポリマーを用いる場合、アクリル系ポリマーを適宜架橋することで、耐熱性に優れた粘着シート類が得られる。架橋方法の具体的手段としてはポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物等のアクリル系ポリマーに適宜架橋化基点として含ませたヒドロキシル基、アミノ基、アミド基等と反応しうる基を有する化合物を添加し反応させるいわゆる架橋剤を用いる方法がある。中でも、ポリイソシアネート化合物やエポキシ化合物が特に好ましく用いられる。
【００７６】
上記のアクリル系粘着剤は粘着力、凝集力に優れると共に、ポリマー中に不飽和結合がないため光や酸素に対する安定性が高く、また、モノマーの種類や分子量の選択の自由度が高いという理由からも好ましく、透明支持フィルムへの密着性を保持するために分子量（重合度）の高いもの、即ち、主ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は６０万〜２００万程度が好ましく、より好ましくは８０万〜１８０万程度である。
【００７７】
本発明の近赤外線吸収粘着剤組成物において、本発明の近赤外線吸収色素の粘着剤に対する配合割合は特に制限されない。この配合割合は、所望の性質、特に効率のよい近赤外線吸収能、可視光領域における優れた透明性、耐熱性・耐湿熱性が達成できるように調整されれば良い。例えば、粘着剤層が１０〜３０μｍに設定される場合、好ましい近赤外線吸収色素の配合割合は、粘着剤固形分１００質量部に対して、０．０１〜５０質量部、より好ましくは０．１〜２０質量部、最も好ましくは１〜１０質量部である。この配合割合が０．０１質量部未満であると優れた近赤外線吸収能が得られにくく、逆に、配合割合が５０質量部を超えた場合、添加量に見合う上記性能の向上が認められず経済的でなく、更に可視領域の透明性が失われる可能性がある。なお、本発明の近赤外線吸収色素の配合割合は、目的とする粘着剤等における可視及び近赤外域の透過率の設定や粘着剤層の厚みによって変えることができる。また必要に応じて他の１種類以上の近赤外線吸収色素と併用してもよく、そのような他の近赤外線吸収色素の配合割合は、粘着剤固形分１００質量部に対して０．０１〜１０質量部程度である。また本発明の効果を損ねない限りにおいて、他の近赤外線吸収色素は、粘着剤中に溶解していても、微粒子あるいは会合体等の固体状態で分散していてもよく、このような非晶質体以外の状態のジイモニウム塩（１）も包含されうる。
【００７８】
（溶媒）
本発明の近赤外線吸収粘着剤組成物は、溶媒を含んでいてもよい。塗工性を高める観点から、粘着剤組成物が塗布される際には、溶媒が用いられるのが好ましい。
溶媒は特に限定されず、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤：エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体等のグリコール系溶剤：前記グリコール系溶剤のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノイソプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のエーテルアルコール系溶剤：前記グリコール系溶剤のジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル等のポリエーテル系溶剤：メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤等：ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤等が挙げられる。
これらの溶媒は１種で使用されても良く、２種以上の混合溶媒として使用されても良い。好ましくは沸点２００℃以下の有機溶媒がよい。溶媒の水分含有量は５質量％以下であることが望ましい。
本発明の赤外線吸収粘着剤組成物における溶媒の含有量は、通常２０〜９０質量％、好ましくは５０〜８０質量％程度である。
【００７９】
（添加剤）
本発明の近赤外線吸収粘着剤組成物は、目的に応じて、適切な添加剤を含有しても良い。添加剤の具体例としては、硬化剤、硬化促進剤、粘着付与剤、粘性改質剤、レベリング剤、滴下防止剤、顔料、顔料分散剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、光増感剤、抗酸化剤、耐光安定剤、防食剤、防錆剤、過酸化物分解剤、充填剤、補強材、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、蛍光性増白剤、有機防炎剤、無機防炎剤、静電防止剤、消泡剤、シランカップリング剤、アンチブロッキング剤等が挙げられる。
【００８０】
本発明の近赤外線吸収粘着剤組成物は、任意の適切な有機微粒子又は無機微粒子を含有してもよい。典型的には、これらの有機微粒子又は無機微粒子は、目的に応じた機能（屈折率調整、導電性等）を付与するために用いられる。
粘着剤組成物よりなる層の高屈折率化や導電性付与に有用な微粒子の具体例として、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモン等が挙げられる。粘着剤組成物よりなる層の低屈折率化に有用な微粒子の具体例として、フッ化マグネシウム、シリカ、中空シリカ等が挙げられる。これらの微粒子は、単独で用いられても良く、２種以上が組み合わされても良い。
本発明の赤外線吸収粘着剤組成物における有機微粒子又は無機微粒子の含有量は、通常０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜３０質量％である。
【００８１】
本発明の赤外線吸収粘着剤組成物は、上記本発明の近赤外線吸収色素又はその溶媒混和物を粘着剤に添加し、必要に応じて溶媒や硬化剤等の添加剤を加え常法に従って混合することにより調製することができる。
【００８２】
［近赤外線遮断フィルター］
本発明の近赤外線遮断フィルターは、透明基材と粘着剤層とを含む構造であり、波長８００〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率が２０％以下になるよう設計されるのが好ましい。
【００８３】
（透明基材）
透明基材として、シート状、フィルム状又は板状の透明基材が用いられうる。透明基材の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、メチルメタクリレート系共重合物などのアクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリルイミド樹脂、ガラス等が挙げられる。
【００８４】
透明基材には、易接着処理がされていても良い。例えば、ＰＥＴフィルムは、易接着処理が施されたフィルム（易接着ＰＥＴフィルム）であっても良い。易接着処理は、少なくとも粘着剤層が設けられる側の表面に施されるのが好ましい。易接着処理としては、易接着層を設ける処理、基材表面にコロナ処理を施す方法が挙げられる。易接着層としては、易接着用樹脂層等が挙げられる。
特に好ましい透明基材は、ガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムである。
【００８５】
本発明の近赤外線遮断フィルターを製造するには、上記本発明の近赤外線吸収粘着剤組成物を、透明基材上に塗工し、乾燥すれば良い。
【００８６】
粘着剤組成物の塗工は、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法、リップコート法又はダイコーター法等の公知の塗工方法で、仕上がりの膜厚が通常５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μｍとなるように塗付され、８０〜１４０℃、好ましくは１００〜１３０℃で乾燥することによって粘着剤層が固定される。通常、この後エージング処理が行われる。エージング処理の条件は使用する樹脂と架橋剤の種類によって条件が異なるが、本発明の近赤外線吸収粘着剤組成物については２５〜５０℃の恒温槽中、１日〜１週間程度保管するのが好ましい。
【００８７】
上記本発明の粘着剤組成物を用いた本発明の赤外線遮断フィルターは、透明基材上に当該粘着剤組成物から形成される粘着剤層が設けられている構成を最低の構成要件として、必要に応じて、その他の機能を有する透明基材、硝子、フィルター等を、積層して得られる。
【００８８】
［ハードコート用樹脂組成物］
本発明のハードコート用樹脂組成物は、本発明の近赤外線吸収色素及び基材となる樹脂を含有し、その他、必要に応じて重合開始剤等の任意成分を配合することができる。
【００８９】
(活性エネルギー線硬化性樹脂（ハードコート樹脂成分）)
ハードコート用樹脂組成物の基材樹脂は、透明性及び活性エネルギー線硬化性を有する限り特に限定されない。このハードコート樹脂成分は、活性エネルギー硬化性を有する。即ちこのハードコート樹脂成分は、活性エネルギーの照射によって硬化しうる活性エネルギー線硬化性樹脂である。なお、活性エネルギー線は特に限定されず、電子線、紫外線、可視光線、赤外線等が例示される。エネルギー量が高く樹脂を硬化させやすい観点から、好ましい活性エネルギー線は紫外線又は電子線であり、より好ましくは紫外線である。
活性エネルギー線硬化性の観点から、好ましいハードコート樹脂成分は、ラジカル重合性樹脂である。このようなラジカル重合性樹脂としては特に限定されるものではないが、分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性樹脂が好ましく、例えば、ポリエステル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等が好適に用いられる。また本発明の目的を逸脱しない範囲内で、所望により、反応性希釈剤などとして、上記分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性樹脂以外のエネルギー線硬化性ラジカル重合性樹脂を用いることもできる。
【００９０】
上記（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルを単量体として用いて重合された（メタ）アクリル系重合体をいう。（メタ）アクリル系重合体は、１種の（メタ）アクリル酸エステルを単量体として用いて重合されてもよく、２種以上の（メタ）アクリル酸エステルを単量体として用いて重合されてもよく、（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸エステルに共重合可能な化合物（以下、「共重合可能な化合物とも記載する）とを単量体として用いて重合されてもよい。単量体として用いられる（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレート及びその置換体；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基含有（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のアリール（メタ）アクリレート；メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシプロピル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物（メタ）アクリレート、ノニルフェノールプロピレンオキサイド（ＰＯ）付加物（メタ）アクリレート等の、アルコールのオキシアルキレン付加物の（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の、シクロアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ただし、これらの化合物以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いてもよい。上記（メタ）アクリル酸エステルは、単独で使用されてもよいし、２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。必要に応じて単量体として用いられる共重合可能な化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和結合を有する化合物とは、エチレン（ＣＨ２＝ＣＨ２）の水素原子が置換された化合物を意味する。（メタ）アクリル酸エステルに共重合可能であり、本発明の効果を妨げないのであれば、他の化合物が単量体として用いられてもよい。共重合可能な化合物の他の例としては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ハロゲン化スチレン等の芳香族ビニル単量体；酢酸ビニル等のビニルエステル単量体；塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニル単量体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ���ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド等のアミド基含有ビニル単量体；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル基含有単量体；ビニルエーテル系単量体等が挙げられる。
【００９１】
（近赤外線吸収色素）
本発明のハードコート用組成物において、ハードコート樹脂成分に対する本発明の近赤外線吸収色素の配合割合は特に制限されない。この配合割合は、所望の性質、特に効率のよい近赤外線吸収能、可視光領域における優れた透明性、耐熱性・耐湿熱性が達成できるように調整されれば良い。例えば、ハードコート樹脂固形分１００質量部に対して本発明の近赤外線吸収色を、０．０１〜５０質量部、より好ましくは０．１〜３０質量部、最も好ましくは１〜２０質量部配合する。この配合量が０．０１質量部未満であると優れた近赤外線吸収能が得られにくく、逆に、配合量が５０質量部を超えた場合、添加量に見合う上記性能の向上が認められず経済的でなく、更に可視領域の透明性が失われる可能性がある。なお、本発明の近赤外線吸収色素の配合割合は、目的とするハードコート材等における可視及び近赤外域の透過率の設定やハードコート層の厚みによって変えることができる。必要に応じて他の１種類以上の近赤外線吸収色素と併用してもよく、そのような他の近赤外線吸収色素の配合割合は、ハードコート樹脂成分１００質量部に対して０．０１〜２０質量部程度である。また本発明の効果を損ねない限りにおいて、他の近赤外線吸収色素は、ハードコート樹脂成分中に溶解していても、微粒子あるいは会合体等の固体状態で分散していてもよく、このような非晶質体以外の状態のジイモニウム塩（１）も包含されうる。
【００９２】
（重合開始剤）
本発明のハードコート用樹脂組成物は、重合開始剤を含むのが好ましい。この重合開始剤としては、エネルギー線感受性ラジカル重合開始剤が好ましく、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物などのケトン系化合物が好適なものとして例示される。
【００９３】
上記アセトフェノン系化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４'−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシメチル−２−メチルプロピオフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ターシャリブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ターシャリブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
【００９４】
上記ベンジル系化合物としては、ベンジル、アニシル等が挙げられる。
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、４，４'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチルジフェニルスルフィドなどが挙げられる。
【００９５】
チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。
【００９６】
これらの重合開始剤は、１種あるいは２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、重合開始剤の配合量としては、ハードコート樹脂固形分に対して、０．０１〜２０質量％、好ましくは０．１〜１０質量％とするのがよい。重合開始剤の配合量が０．０１質量％未満の場合、組成物が十分に硬化しないことがある。逆に、重合開始剤の配合量が２０質量％を越えると、硬化物の物性がさらに向上することはなく、むしろ悪影響を及ぼす上、経済性を損なうことがある。
【００９７】
（溶媒）
本発明のハードコート用樹脂組成物は、溶媒を含んでいてもよい。塗工性を高める観点から、ハードコート用樹脂組成物が塗布される際には、溶媒が用いられるのが好ましい。この溶媒は特に限定されず、メタノール，エタノール，プロパノール，イソプロパノール，ブタノール等のアルコール系溶剤；エチレングリコール，プロピレングリコール，ブチレングリコール，ポリエチレングリコール，ポリプロピレングリコール，ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体等のグリコール系溶剤；前記グリコール系溶剤のモノメチルエーテル，モノエチルエーテル，モノプロピルエーテル，モノイソプロピルエーテル，モノブチルエーテル等のエーテルアルコール系溶剤；前記グリコール系溶剤のジメチルエーテル，ジエチルエーテル，ジプロピルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジブチルエーテル，メチルエチルエーテル，メチルプロピルエーテル，メチルイソプロピルエーテル，メチルブチルエーテル，エチルプロピルエーテル，エチルイソプロピルエーテル，エチルブチルエーテル等のポリエーテル系溶剤；メチルエチルケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸ブチル等のエステル系溶剤等；ヘキサン，ヘプタン，オクタン，シクロペンタン，シクロヘキサン，トルエン，キシレン等の炭化水素系溶剤等が例示される。これらの溶媒は１種で使用されてもよく、２種以上の混合溶媒として使用されてもよい。好ましくは沸点２００℃以下の有機溶媒がよい。溶媒の水分含有量は５質量％以下であることが望ましい。本発明のハードコート用樹脂組成物における溶媒の含有量は、通常１０〜９０質量％、好ましくは５０〜８０質量％である。
【００９８】
（単官能重合性化合物）
本発明のハードコート用樹脂組成物は、目的に応じて、適切な単官能重合性化合物をさらに含有しうる。単官能重合性化合物の具体例としては、アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、イソブトキシメチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエン（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、テトラクロロフェニル（メタ）アクリレート、２−テトラクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、テトラブロモフェニル（メタ）アクリレート、２−テトラブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−トリクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドンフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ブロキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタクロロフェニル（メタ）アクリレート、ペンタブロモフェニル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、メチルトリエチレンジグリコール（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
【００９９】
（添加剤）
本発明のハードコート用樹脂組成物は、目的に応じて、適切な添加剤を含有してもよい。添加剤の具体例としては、レベリング剤、顔料、顔料分散剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、充填剤、補強材、可塑剤、潤滑剤、防食剤、防錆剤、乳化剤、鋳型脱型剤、蛍光性増白剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、溶融流改質剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、光増感剤、表面改良剤、シランカップリング剤等が挙げられる。なお、紫外線吸収剤を用いる場合、この紫外線吸収剤は、ハードコート樹脂成分の硬化反応を阻害しない程度の量で用いられることはいうまでもない。
【０１００】
本発明のハードコート用樹脂組成物は、任意の適切な有機微粒子又は無機微粒子を含有してもよい。典型的には、これらの有機微粒子又は無機微粒子は、目的に応じた機能（例えば、屈折率調整、導電性、防眩性）を付与するために用いられる。ハードコート用樹脂組成物よりなる層の高屈折率化や導電性付与に有用な微粒子の具体例として、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモン等が挙げられる。ハードコート用樹脂組成物よりなる層の低屈折率化に有用な微粒子の具体例として、フッ化マグネシウム、シリカ、中空シリカ等が挙げられる。防眩性付与に有用な微粒子の具体例としては、上記の微粒子に加え、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン等の無機粒子；シリコン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアミン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂及びこれらの共重合樹脂等の有機微粒子が挙げられる。これらの微粒子は、単独で用いられても良く、２種以上が組み合わされても良い。本発明のハードコート用樹脂組成物における有機微粒子又は無機微粒子の含有量は、通常０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜３０質量％である。
【０１０１】
本発明のハードコート用樹脂組成物は、上記本発明の近赤外線吸収色素又はその溶媒混和物をハードコート樹脂成分に添加し、必要に応じて溶媒や重合開始剤等を加え常法に従って混合することにより調製することができる。
【０１０２】
［ハードコート材］
本発明に係るハードコート材は、上記ハードコート用樹脂組成物から形成されるハードコート層を含み、近赤外線吸収能を有する。このハードコート材は、ハードコート用樹脂組成物から形成されるハードコート層のみからなるものであってもよいし、ハードコート層と基材とを有するものであってもよい。ハードコート材は、例えば、プラスティック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスティック成形体等に用いられうる。ハードコート材に含まれる上記基材として、透明基材が例示される。
【０１０３】
このハードコート材では、ハードコート層自体が近赤外線吸収能をも有するため、ハードコート層と近赤外線吸収層とを別個に設ける必要がない。またハードコート層と近赤外線吸収層とを別個に設ける場合、近赤外線吸収層とハードコート層との間にＰＥＴフィルム等の基材フィルムが必要となるが、本発明ではこの基材フィルムが不要とされうる。
【０１０４】
（透明基材）
本発明に係る好ましいハードコート材は、透明基材とハードコート層とを有する。上記透明基材は、限定されない。透明基材として、シート状、フィルム状又は板状の透明基材が用いられうる。透明基材の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）；メチルメタクリレート系共重合物などのアクリル樹脂；スチレン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；塩化ビニル樹脂；ポリメタクリルイミド樹脂；ガラス等が挙げられる。更に、透明基材の材質として、ラクトン構造を有する化合物が挙げられる。特に好ましい透明基材は、ガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ラクトン構造を有する樹脂フィルムである。
【０１０５】
上記透明基材には、易接着処理がされていてもよい。例えばＰＥＴフィルムは、易接着処理が施されたフィルム（易接着ＰＥＴフィルム）であってもよい。易接着処理は、少なくともハードコート層が設けられる側の表面に施されるのが好ましい。易接着処理としては、易接着層を設ける処理、基材表面にコロナ処理を施す処理等が挙げられる。易接着層としては、易接着用樹脂層等が挙げられる。
【０１０６】
また、上記透明基材は、電磁波を遮蔽しうるよう処理された電磁波シールドフィルムであってもよく、このようなフィルムも好適に使用できる。電磁波シールドフィルムは、電磁波を遮蔽しうるフィルムであり、例えば、ディスプレー装置から発生する電磁波による生体や電子機器への悪影響を抑制しうる。電磁波シールドフィルムは、例えば電磁波を遮蔽しうる金属を含む。より好ましい電磁波シールドフィルムは、樹脂フィルムの表面に、電磁波を遮蔽しうる電磁波遮蔽層を有する。この電磁波遮蔽層として、薄膜、金属メッシュ層等が例示される。この薄膜として、銀、銅、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ等のような金属又は金属酸化物の薄膜が例示される。これらの薄膜は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の公知の方法により作製されうる。金属メッシュ層は、メッシュ状の穴が設けられた金属層である。この金属メッシュ層としては、銅や銀等よりなる金属メッシュ層が例示される。最も典型的な電磁波遮蔽層として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯと略記されることもある）の薄膜が挙げられる。他の電磁波遮蔽層として、誘電体層と金属層とを基材上に交互に積層させた積層体、等も好適である。この誘電体層としては、酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等が好適であり、上記金属層としては、銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的である。積層体は、通常、誘電体層よりはじまり３〜１３層程度の間で奇数層となるように積層される。
【０１０７】
電磁波シールドフィルムの具体例として、金属又は金属酸化物を蒸着してなる薄膜導電層が透明性基材上に形成された電磁波シールド材（特開平１−２７８８００号公報又は特開平５−３２３１０１号公報参照）、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報又は特開平５−２６９９１２号公報参照）、金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基材上に直接印刷してなる電磁波シールド材（特開昭６２−５７２９７号公報又は特開平２−５２４９９号公報参照）、透明基材上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成してなる電磁波シールド材（特開平５−２８３８８９号公報参照）等が挙げられる。
【０１０８】
本発明のハードコート材は、上記透明基材の上に、本発明のハードコート用樹脂組成物を塗工して樹脂組成物層を形成し、次いで、この樹脂組成物層に、紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射して、当該樹脂組成物層を硬化させることにより、ハードコート層を形成させることができる。樹脂組成物の塗工は、キャスト法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法、リップコート法又はダイコーター法等公知方法によって行うことができ、その仕上がり膜厚は、一般には、０．５ないし２０μｍ、好ましくは、１ないし１０μｍ程度である。活性エネルギーとして、例えば紫外線を照射する場合は、１８０ないし４００ｎｍ程度の波長の紫外線を、２０ないし２００ｍＪ／ｃｍ２程度の強度で使用すれば良い。
【０１０９】
［熱線遮断フィルム］
本発明に係る近赤外線遮断フィルターの一例である熱線遮断フィルムは、上記透明基材上に本発明のハードコート用樹脂組成物を、キャスト法等の公知方法で塗工した後、活性エネルギー線を照射してハードコート層を形成させることによって作製することができる。
【０１１０】
熱線遮断フィルムの作製にあたっては、本発明の近赤外線吸収剤のみを１種又は２種以上用いることも可能であるが、波長８５０ｎｍ付近の近赤外線遮断性能が若干不足する場合には、更に、フタロシアニン系色素類、ジチオール系金属錯体等の公知色素類を添加してもよい。また耐光性を向上させるために、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系等の紫外線吸収色素を、更に添加してもよい。また必要に応じて、可視光領域に吸収を持つ公知色素を添加させて色調を調えてもよい。
【０１１１】
［反射防止フィルム］
本発明に係る近赤外線遮断フィルターの一例である反射防止フィルムは、反射防止層を有する。反射防止層は、通常、最外層である。反射防止層は、反射防止フィルムの表面を構成する。
反射防止層として、（１）高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を交互に積層されてなる層、（２）前記低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有する中屈折率材料からなる層と高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を順次積層された層、（３）低屈折率材料からなる層単層、等が用いられうる。複数の層よりなる反射防止層の場合、上記「高屈折率」、「中屈折率」及び「低屈折率」は、それぞれ反射防止層中の層同士間での屈折率の大小関係を示す。具体的な反射防止層として、例えば、低屈折率層単層、高屈折率層／低屈折率層の順で積層された２層構造の層、高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で積層された４層構造の層、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で積層された３層構造の層などが挙げられる。光学設計により、平均反射率が低く、反射防止性能、視認性の優れたものとなるものであれば、いかなる反射防止層も採用されうる。
【０１１２】
反射防止層は、本発明のハードコート用樹脂組成物から形成されるハードコート層を含んでなるのが好ましい。この場合、ハードコート層が、反射防止層としても機能しうる。好ましい反射防止層は、ハードコート層と、このハードコート層とは屈折率の異なる層（以下、屈折率相違層ともいう）とを含む。屈折率相違層は、反射防止層の少なくとも１層を構成しうる。より好ましい反射防止フィルムは、ハードコート層と、ハードコート層の外側に積層され且つハードコート層よりも屈折率が低い低屈折率層とを含む。この場合、ハードコート層からなる高屈折率層と、その外側に積層された低屈折率層とにより、反射防止層が形成される。反射防止層は、ハードコート層とは別に設けられてもよい。
【０１１３】
反射率を低減する観点から、好ましくは、低屈折率層の屈折率は１．５以下とされる。
上記低屈折率層としては、ＭｇＦ２（屈折率；約１．４）、ＳｉＯ２（屈折率；約１．２〜１．５）、ＬｉＦ（屈折率；約１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（屈折率；約１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（屈折率；約１．３３）などを用いることができる。また、低屈折率層として、これらＭｇＦ２、ＳｉＯ２等の微粒子を紫外線および電子線硬化型樹脂や珪素アルコキシド系のマトリックスに分散させたものが用いられうるが、これに限定されるものではない。
【０１１４】
低屈折率層の形成方法としては、前記低屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、低屈折微粒子を含むマトリックスを、膜厚が、０．０１〜１μｍになるように塗工し、必要に応じて、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行う方法が採用されうる。
【０１１５】
低屈折率層の塗工方法としては公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロットなどの各種コーティング方法を用いることができる。
また、低屈折率層は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の方法により形成されてもよい。
【０１１６】
一方、高屈折率層には、ＴｉＯ２（屈折率；２．３〜２．７）、Ｙ２Ｏ３（屈折率；１．９）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率；２．０）、ＺｒＯ２（屈折率；２．１）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率；１．６）、Ｎｂ２Ｏ３（屈折率；１．９〜２．１）、Ｉｎ２Ｏ３（屈折率；１．９〜２．１）、Ｓｎ２Ｏ３（屈折率；１．９〜２．１）、Ｉｎ−Ｓｎ複合酸化物（ＩＴＯ屈折率；１．９〜２．１）などが用いられうる。高屈折率層として、これらＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｓｎ２Ｏ３、Ｉｎ−Ｓｎ複合酸化物等からなる微粒子をマトリックスに分散させたものが例示される。このマトリックスとしては、上記ハードコート樹脂成分の他、それ以外の紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、珪素アルコキシド系化合物等が挙げられる。これらの微粒子を含有させてなる上記ハードコート用樹脂組成物は、高屈折率層とされうる。
【０１１７】
前記高屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、高屈折率層は、高屈折微粒子を含むマトリックスを、膜厚が０．０１〜１μｍになるように塗工し、必要に応じて、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行うことにより形成できる。なお、塗工方法としては前記低屈折率層と同様の方法が用いられうる。
高屈折率層は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の方法により形成されてもよい。
中屈折率層として、用いられる低屈折率材料と高屈折率材料との中間の屈折率を有する物質が用いられうる。中屈折率層の形成方法は、前記低屈折率層又は高屈折率層の形成法方法と同様である。
【０１１８】
また、上記反射防止フィルムでは、さらに他の機能層が設けられても良い。機能層としては例えば、汚染防止層、帯電防止層、電磁波シールド層、ネオン光補正層などが設けられうる。これらの機能層は公知の材料を用い、公知の方法で形成することができる。また、一つの層で複数の機能を有していても良い。これらの機能層は、本発明に係る防眩フィルムや薄型ディスプレー用光学フィルムにも用いられうる。特にディスプレー用途に用いた場合、汚染防止層は、反射防止層よりも表面側に設けることが好ましい。
また、上記反射防止フィルムがプラズマディスプレー用途に用いられる場合、反射防止フィルムには、電磁波シールド層、ネオン光補正層のいずれか一つ以上または全部を設けることが好ましい。これらの層の配置は限定されないが、視認性などを考慮すると、基材に対して反射防止層を設けた側とは反対側に設けることが好ましい。これらの電磁波シールド層又はネオン光補正層は、上記防眩フィルムや薄型ディスプレー用光学フィルムにも用いられうる。
【０１１９】
［防眩フィルム］
本発明の近赤外線遮断フィルターの一例である防眩フィルムは、上記ハードコート材を用いてなる。この防眩フィルムは、例えば、微粒子を含有する本発明のハードコート用樹脂組成物により形成されるハードコート層と、透明基材とを有する。上記透明基材上に微粒子を含有する本発明のハードコート用樹脂組成物を、キャスト法等の公知方法で塗工した後、活性エネルギー線を照射してハードコート層を形成させることによって作製することができる。微粒子が添加されることにより、ハードコート用樹脂組成物よりなる層（ハードコート層）に防眩性が付与され、ハードコート層が防眩層としても機能しうる。ハードコート層とは別に防眩層が設けられてもよい。
【０１２０】
防眩性を付与するための微粒子は特に限定されない。好ましくは、この微粒子は透明性を有する。この微粒子として、有機微粒子又は無機微粒子が用いられうる。好ましい微粒子は、有機微粒子である。有機微粒子は特に限定されず、プラスチックビーズ等が挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。無機微粒子としては、シリカビーズが例示される。また、特開平１０−３３０４０９号や特開２００４−３０７６４４号公報に開示されている有機無機複合微粒子が用いられてもよい。防眩層の屈折率をより高める観点から、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫及びアンチモンよりなる群から選択される少なくとも一種の金属の酸化物が用いられるのが好ましい。この場合、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下の無機フィラーが用いられてもよい。
【０１２１】
ハードコート層（防眩層）には、レベリング剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、指紋付着防止剤等が使用されうる。このレベリング剤として、塗料などの塗膜形成用組成物に一般的に使用されるレベリング剤が用いられうる。
【０１２２】
［薄型ディスプレー用光学フィルター］
本発明の近赤外線遮断フィルターの一例である薄型ディスプレー用光学フィルターは、上記ハードコート材、上記反射防止フィルム又は上記防眩フィルムを用いてなる。
本発明のハードコート用樹脂組成物は、光学フィルターに好適である。上記ジイモニウム塩（１）の非晶質体に起因して、この光学フィルターは、近赤外線を効果的に吸収するとともに、可視領域の透明性が高い。例えば、可視領域の全光線透過率が４０％以上であるのが好ましく、より好ましくは５０％以上であり、波長８００〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率は３０％以下が好ましく、より好ましくは１５％以下である。
【０１２３】
上記光学フィルターには、上記ハードコート層の他、色調整層、ガラス等の支持体などが設けられていてもよい。例えば、ガラス等の支持体上に本発明のハードコート用樹脂組成物を、キャスト法等の公知方法で塗工した後、活性エネルギー線を照射してハードコート層を形成させることによって作製することができる。
光学フィルターの各層の構成は任意に選択されうる。好ましい光学フィルターは、反射防止層又は防眩層が最表層（人側）とされる。各層を張り合わせる際にはコロナ処理、プラズマ処理等の物理的な処理がなされてもよいし、ポリエチレンイミン、オキサゾリン系ポリマー、ポリエステル、セルロース等の公知の高極性ポリマーがアンカーコート剤として用いられてもよい。
【０１２４】
ハードコート層とは別個に電磁波遮蔽層が設けられてもよい。電磁波遮蔽層として、薄膜、金属メッシュ層等が例示される。この薄膜として、銀、銅、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ等のような金属又は金属酸化物の薄膜が例示される。これらの薄膜は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の公知の方法により作製されうる。金属メッシュ層は、メッシュ状の穴が設けられた金属層である。この金属メッシュ層としては、銅や銀等よりなる金属メッシュ層が例示される。最も典型的な電磁波遮蔽層として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯと略記されることもある）の薄膜が挙げられる。他の電磁波遮蔽層として、誘電体層と金属層とを基材上に交互に積層させた積層体、等も好適である。この誘電体層としては、酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等が好適であり、上記金属層としては、銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的である。積層体は、通常、誘電体層よりはじまり３〜１３層程度の間で奇数層となるように積層される。
【０１２５】
上記薄型ディスプレー用光学フィルターは、表示装置から離して設置してもよいし、表示装置に直接貼り付けてもよい。表示装置から離して設置する場合、支持体としてガラスが用いられるのが好ましい。表示装置に直接張り合わせる場合にはガラスを使用しない光学フィルターが好ましい。
【０１２６】
従来、ジイモニウム塩からなる近赤外線吸収色素を、ＰＤＰ用等の近赤外線遮断フィルターとして用いる際、耐熱性・耐湿熱性を向上させるため、ジイモニウム塩を樹脂に溶解させて使用するように置換基が工夫されている。
しかしながら、このような近赤外線吸収色素においても低極性溶剤や低極性の樹脂に対しては溶解性が悪く、特に粘着剤は低極性である場合が多いため、これらの粘着剤に近赤外線吸収色素を配合すると、経時で色素が析出し塗膜の外観や透明性が損なわれる。さらに、耐熱性・耐湿熱性試験後の色素の劣化が大きく近赤外線吸収性能が損なわれてしまうという粘着剤特有の問題がある。
また、ハードコート樹脂の場合、紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより形成されるため、近赤外線吸収色素が紫外線により分解して近赤外線吸収能が大きく低下してしまう。さらに、重合開始剤などの硬化促進剤とジイモニウム塩化合物との副反応により、樹脂の硬化阻害が発生するという問題点がある。
一方で、近赤外線吸収色素を樹脂中に溶解させずに微粒子状態にて配合することで色素の劣化を防ぐ試みがされているが、色素微粒子による光の散乱が発生して透明性が損なわれ、フィルターとしての光学特性を満たさない。
【０１２７】
本発明はこのような問題点を鑑みて発明されたものであり、ジイモニウム塩を非晶質体の状態で、粘着剤組成物やハードコート樹脂組成物に含有せしめることによって、耐熱性・耐湿熱性、透明性に優れた粘着剤層やハードコート層を形成し得ることを見出したものである。
【実施例】
【０１２８】
以下、本発明について実施例を挙げ、より詳細に説明する。なお、本発明は本実施例により何ら限定されるものでない。【０１２９】
（製造例１）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
ＤＭＦ１００部にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン１０部、シクロヘキシルメチルヨーダイド６３部及び炭酸カリウム３０部を加え、１２０℃で１０時間反応させた。次いで、上記反応液を水５００部中に加え、生じた沈殿を濾過し、メチルアルコール５００部で洗浄後、１００℃で乾燥し、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部を得た。
得られたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部に、アセトニトリル２００部とヘキサフルオロリン酸銀７．９部を加えて、６０℃で３時間反応させ、生成した銀を濾別した。次いで、該濾液に水２００部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム２７．０部を得た。【０１３０】
（製造例２）
ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
ヘキサフルオロリン酸銀をビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸銀に代えた以外は製造例１と同様にして、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム３２部を得た。【０１３１】
（製造例３）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
シクロヘキシルメチルヨーダイドを１−ヨードプロパンに代えた以外は製造例１と同様にして、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム１９部を得た。【０１３２】
（製造例４）
ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
シクロヘキシルメチルヨーダイドを１−ヨードブタンに代えた以外は製造例１と同様にして、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン１８部を得た。
得られたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン１８部に、アセトニトリル２００部とヘキサフルオロアンチモン酸銀１２．９部を加えて、６０℃で３時間反応させ、生成した銀を濾別した。次いで、該濾液に水２００部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム２４．５部を得た。【０１３３】
（製造例５）
ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
１−ヨードブタンを１−ヨードペンタンに代えた以外は製造例４と同様にして、ヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム２６．５部を得た。【０１３４】
（製造例６）
ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
ヘキサフルオロアンチモン酸銀をビス（フルオロスルホニル）イミド酸銀に代えた以外は製造例４と同様にして、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム２７．５部を得た。【０１３５】
（製造例７）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
トルエン１００部にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン１０部、シクロヘキサンカルボキシアルデヒド１２部を加え、８０℃で５時間反応させた。次いで、室温まで冷却した後、パラジウム炭素触媒３部を加え、水素ガスを２時間吹き込み水素化反応させた後、１−ヨードプロパン１８部及び炭酸カリウム１５部を加え、１２０℃で６時間反応させた。上記反応液を濾過後、濾液にメチルアルコール５００部中に加え、生じた沈殿を濾過し、メチルアルコール５００部で洗浄後、１００℃で乾燥し、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部を得た。
得られたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部に、アセトニトリル２００部とヘキサフルオロリン酸銀７．９部を加えて、６０℃で３時間反応させ、生成した銀を濾別した。次いで、該濾液に水２００部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム２７．０部を得た。【０１３６】
（製造例８）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
１−ヨードプロパンを１−ヨードブタンに代えた以外は製造例７と同様にして、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム２８．０部を得た。【０１３７】
（製造例９）
ビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムの製造：
製造例１に記載のヘキサフルオロリン酸銀をビス（フルオロスルホニル）イミド酸銀に代えた以外は、製造例１と同様にしてビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム２７．０部を得た。【０１３８】
（実施例１）
製造例１で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを自動乳鉢ＡＭＮ−２００（日陶科学社製）にて、乳棒１００ｒｐｍ、乳鉢６ｒｐｍにて３０分間乾式粉砕して粉砕物を得た。得られた粉砕物はＣｕＫα線をＸ線源とした粉末Ｘ線回折装置（理学電気社製、ＲＩＮＴ２２００）を使用し、管電圧を４０ｋＶ、管電流を２０ｍＡ、走査範囲（２θ）を３°〜６０°、発散スリットを１／２°、散乱スリットを１／２°、受光スリットを０．１５ｍｍ、サンプリング幅を０．０２°、スキャンスピードを４°／ｍｉｎとした条件で測定した。測定結果を図１に示す。また、乾式粉砕前の色素も同様に粉末Ｘ線回折装置にて測定した。測定結果を図２に示す。測定の結果、乾式粉砕によって非晶質化し、結晶時に検出される２θにおける１５°〜２５°付近にある６本の鋭い回折ピークの強度が減少し、さらにブロードとなり、明確な回折ピークが得られなくなったことを確認した。それぞれについて、最大ピークの半値幅を求めたところ、乾式粉砕前は０．２１４（図４）、乾式粉砕後は、３．５６３（図３）であった。次に、得られた粉砕色素を０.５部、及びトルエン９．５部を５０ｍｌのガラス容器に添加し、マグネチックスターラーにて３０分間攪拌して、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１３９】
（実施例２）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例２で得られたビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は実施例１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４０】
（実施例３）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例３で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は実施例１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４１】
（実施例４）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例４で得られたヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は実施例１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４２】
（実施例５）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例５で得られたヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は実施例１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４３】
（実施例６）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例６で得られたビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は実施例１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４４】
（実施例７）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例７で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は実施例１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４５】
（実施例８）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例８で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は実施例１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４６】
（実施例９）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例９で得られたビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は実施例１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４７】
（比較例１−１）
製造例１で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを乾式粉砕せずにそのまま０.５部、及びトルエン９．５部を５０ｍｌのガラス容器に添加し、マグネチックスターラーにて３０分間攪拌して、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４８】
（比較例１−２）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例２で得られたビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例１−１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１４９】
（比較例１−３）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例３で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例１−１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１５０】
（比較例１−４）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例４で得られたヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例１−１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１５１】
（比較例１−５）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例５で得られたヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例１−１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１５２】
（比較例１−６）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例６で得られたビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例１−１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１５３】
（比較例１−７）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例７で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例１−１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１５４】
（比較例１−８）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例８で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例１−１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１５５】
（比較例１−９）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例９で得られたビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例１−１と同様にして、ジイモニウム塩とトルエンの混和物を得た。【０１５６】
（比較例２−１）
製造例１で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを０.５部、トルエン９．５部、粒径０．３ｍｍのジルコニアビーズ７０部を５０ｍｌのガラス容器に添加し、ペイントシェーカーで２時間振とうして湿式粉砕してなる、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１５７】
（比較例２−２）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例２で得られたビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例２−１と同様にして、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１５８】
（比較例２−３）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例３で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例２−１と同様にして、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１５９】
（比較例２−４）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例４で得られたヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例２−１と同様にして、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１６０】
（比較例２−５）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例５で得られたヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例２−１と同様にして、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１６１】
（比較例２−６）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例６で得られたビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例２−１と同様にして、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１６２】
（比較例２−７）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例７で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例２−１と同様にして、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１６３】
（比較例２−８）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例８で得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例２−１と同様にして、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１６４】
（比較例２−９）
ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムに代えて、製造例９で得られたビス（フルオロスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムを用いる以外は比較例２−１と同様にして、ジイモニウム塩のトルエン湿式分散液を得た。【０１６５】
（試験例１）
実施例１及び比較例１−１、２−１にて得られたジイモニウム塩とトルエンの混和物及びトルエン湿式分散液を、孔径０．１μｍのメンブレンフィルターにて濾別して、懸濁物を得た。得られた懸濁物を４０℃、１０Ｔｏｒｒの減圧下において４時間乾燥させた後、粉末Ｘ線回折装置にて測定した。測定結果を図５〜７に示す。それぞれについて、最大ピークの半値幅を求めたところ、実施例１は２．９０７（図８）、比較例１−１は０．２１４（図９）、比較例２−１は０．３６６（図１０）であった。【０１６６】
（試験例２）
実施例１〜９及び比較例１−１〜９、２−１〜９にて得られたジイモニウム塩とトルエンの混和物及びトルエン湿式分散液を、スピンコーター（ミサカ社製、１Ｈ−ＤＸ２）により、回転数２０００ｒｐｍにてガラス板上に均一にコーティングし、１００℃の熱風循環オーブン中にて１０秒間乾燥させて、懸濁物をガラス板上に製膜した。製膜したガラスのヘイズ（濁度）を濁度計ＮＤＨ５０００（日本電色工業社）にて測定した。測定結果を表１に示す。【０１６７】
（試験例３）
実施例１〜９及び比較例１−１〜９、２−１〜９にて得られたジイモニウム塩とトルエンの混和物１．１部又はトルエン湿式分散液１．１部をそれぞれアクリル系粘着剤ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学社製）９．８部、トルエン１．９部、酢酸エチル１．９部、硬化剤ＴＤ−７５（綜研化学社製）０．０２部の溶液中に加えて近赤外線吸収粘着剤組成物を得た。これを２５μｍ厚の離型フィルムＥ７００６（東洋紡績社製）にバーコーターＮｏ．６０を用いて塗工し、１００℃の熱風循環オーブン中にて３分間乾燥させた後、粘着剤層側に透明基材である５０μｍ厚のＰＥＴフィルムＡ４３００（東洋紡績社製）を貼り合せて、これを４０℃、２日間養生させた後、ガラスに貼り付けて近赤外線遮断フィルターを得た。【０１６８】
これらの近赤外線遮断フィルターは、温度８０℃の雰囲気下で５００時間保存して耐熱性試験を行い、所定時間経過後の波長１０００ｎｍ及び５５０ｎｍの透過率を分光光度計にて測定及びヘイズを濁度計にて測定した。更に、温度６０℃、湿度９５％の雰囲気下に５００時間保存して耐湿熱性試験を行い、耐熱性試験と同様に、波長１０００ｎｍ及び５５０ｎｍにおける透過率及びヘイズを測定した。測定結果を表２及び表３に示す。【０１６９】
【表１】
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【０１７０】
【表２】
2011074619.tif 000012
【０１７１】
【表３】
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【０１７２】
表１より、実施例と比較例１を比較すると、結晶より非晶質体の方が、ヘイズが低下することがわかる。また、実施例と比較例２を比較すると、湿式粉砕してもヘイズを低減させることが不十分であり、非晶質体の方が大幅に低下することがわかる。
表２、３より、比較例１では、ヘイズが高く、近赤外線吸収性能が大幅に劣っており、比較例２では、比較例１よりも近赤外線吸性能を有しているが、含まれているジイモニウム塩が結晶性を有しているため、ヘイズが高い結果であった。さらに、比較例２では、試験経過に伴い色素粒子の凝集が発生してヘイズが上昇し、近赤外線吸収性能の劣化が起こっていた。
以上より、ジイモニウム塩の非晶質体を用いることで、ヘイズが小さくなり、透明性と耐熱性・耐湿熱性に優れることがわかった。【０１７３】
（試験例４）
実施例１、６、８、９及び比較例１−１、６、８、９および２−１、６、８、９にて得られたジイモニウム塩とトルエンの混和物１４部又はトルエン湿式分散液１４部を、ウレタンアクリレート樹脂を主成分とする紫外線硬化型ハードコート剤ＵＮ−３３２０ＨＣ（根上工業株式会社製）２８部、メチルイソブチルケトン２８部、およびトルエン２８部の溶液中に加え、さらに光重合性開始剤であるイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ社製）加えてハードコート用樹脂組成物を得た。これを透明基材である１００μｍ厚のＰＥＴフィルム（Ａ４３００、東洋紡績株式会社製）にバーコーターＮｏ．１２を用いて塗工し、１００℃で１分間乾燥させた。この後、６０ｍＪ／ｃｍ２となるよう紫外線を照射して塗膜を重合硬化させ、近赤外線遮断フィルターを得た。
これらの近赤外線遮断フィルターは、試験例３と同様に耐熱性試験、及び耐湿熱性試験を行い、波長１０００ｎｍ及び５５０ｎｍにおける透過率及びヘイズを測定した。測定結果を表４、５に示す。【０１７４】
【表４】
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【０１７５】
【表５】
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【０１７６】
表４、５より、表２、３の結果と同様に比較例１では、ヘイズが高く、近赤外線吸収性能が大幅に劣っており、比較例２では、比較例１よりも近赤外線吸性能を有しているが、含まれているジイモニウム塩が結晶性を有しているため、ヘイズが高い結果であった。さらに、比較例２では、試験経過に伴い色素粒子の凝集が発生してヘイズが上昇し、近赤外線吸収性能の劣化が起こっていた。
以上より、ジイモニウム塩の非晶質体を用いることで、ヘイズが小さくなり、透明性と耐熱性・耐湿熱性に優れることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０１７７】
【図１】製造例１の乾式粉砕後のＸ線回析結果である。
【図２】製造例１の粉砕前のＸ線回析結果である。
【図３】製造例１の乾式粉砕後のＸ線回析結果において、最大ピークの半値幅を求めた図である。
【図４】製造例１の粉砕前のＸ線回析結果において、最大ピークの半値幅を求めた図である。
【図５】実施例１の試験例１のＸ線回析結果である。
【図６】比較例１−１の試験例１のＸ線回析結果である。
【図７】比較例２−１の試験例１のＸ線回析結果である。
【図８】実施例１の試験例１のＸ線回析結果において、最大ピークの半値幅を求めた図である。
【図９】比較例１−１の試験例１のＸ線回析結果において、最大ピークの半値幅を求めた図である。
【図１０】比較例２−１の試験例１のＸ線回析結果において、最大ピークの半値幅を求めた図である。
【産業上の利用可能性】
【０１７８】
本発明のジイモニウム塩の非晶質体からなる近赤外線吸収色素を用いた近赤外線吸収組成物は、耐熱性・耐湿熱性と透過性に優れ、長期間にわたって近赤外線吸能が低下しないものである。そのため、ＰＤＰ用、自動車ガラス用、建材ガラス用等種々の用途に用いることが可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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