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【手続補正書】
【提出日】令和3年11月30日(2021.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）ｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌまたはその塩と、ｂ）デキサメタゾンまたはその塩と、ｃ）薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物。
【請求項２】
前記医薬組成物におけるｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、（ａ）１５０ｍｇ〜７５０ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）４００ｍｇ〜６５０ｍｇの範囲にあるか、（ｃ）６００ｍｇであるか、または（ｄ）４５０ｍｇである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記医薬組成物におけるデキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記医薬組成物におけるｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、約１５０ｍｇ〜７５０ｍｇの範囲にあり、前記医薬組成物におけるデキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記医薬組成物におけるｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、約４００ｍｇ〜６５０ｍｇの範囲にあり、前記医薬組成物におけるデキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記医薬組成物におけるｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、６００ｍｇであり、前記医薬組成物におけるデキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記医薬組成物におけるｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、４５０ｍｇであり、前記医薬組成物におけるデキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前立腺癌または乳癌の処置のための投与レジメンであって、ｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌまたはその塩およびデキサメタゾンまたはその塩を含む、投与レジメン。
【請求項９】
前記ｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、（ａ）１５０ｍｇ〜７５０ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）４００ｍｇ〜６５０ｍｇの範囲にあるか、（ｃ）６００ｍｇであるか、または（ｄ）４５０ｍｇである、請求項８に記載の投与レジメン。
【請求項１０】
前記デキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項８に記載の投与レジメン。
【請求項１１】
前記ｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、約１５０ｍｇ〜７５０ｍｇの範囲にあり、前記デキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項８に記載の投与レジメン。
【請求項１２】
前記ｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、約４００ｍｇ〜６５０ｍｇの範囲にあり、前記デキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項８に記載の投与レジメン。
【請求項１３】
前記ｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、６００ｍｇであり、前記デキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項８に記載の投与レジメン。
【請求項１４】
前記ｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌの量が、４５０ｍｇであり、前記デキサメタゾンの量が、（ａ）０．２５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲にあるか、（ｂ）０．４０ｍｇ〜０．６０ｍｇの範囲にあるか、または（ｃ）０．５ｍｇである、請求項８に記載の投与レジメン。
【請求項１５】
前記ｓｅｖｉｔｅｒｏｎｅｌおよび前記デキサメタゾンが、（ａ）同時に、または（ｂ）連続的に投与される、請求項８に記載の投与レジメン。
【請求項１６】
対象の乳癌または前立腺癌を処置するのに使用するための、請求項１〜７のいずれか１項に記載の医薬組成物または請求項８〜１５のいずれか１項に記載の投与レジメン。
【請求項１７】
乳癌または前立腺癌を罹患しているかまたは罹患しやすい対象を処置するのに使用するための、請求項１〜７のいずれか１項に記載の医薬組成物または請求項８〜１５のいずれか１項に記載の投与レジメン。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月30日(2021.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象における疾患の治療または予防での使用のための受容体相互作用セリン／スレオニンタンパク質キナーゼ１（ＲＩＰＫ１）阻害剤を含む医薬であって、該疾患はκB阻害剤（IκB）キナーゼ（ＩＫＫ）／核因子κB（NFκB）−シグナル阻害剤での対象の治療による副作用として引き起こされる病理学的または無秩序な免疫応答である、医薬。
【請求項２】
疾患が、ＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤での対象の治療による副作用として引き起こされる全身性好中球増加症または増加したインターロイキン−１（IL-1）放出である、請求項１に記載の医薬。
【請求項３】
対象が炎症性疾患に苦しむ、請求項２に記載の医薬。
【請求項４】
治療または予防が、ＲＩＰＫ１阻害剤およびＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤の両方の治療有効量の対象への連続的または同時の投与を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項５】
ＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤がＩＫＫ阻害剤、またはＩＫＫ２／ＩＫＫβ阻害剤である、請求項２〜４のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項６】
ＲＩＰＫ１阻害剤が、小分子、ポリペプチド、ペプチド、糖タンパク質、ペプチド模倣物、抗原結合タンパク質（ABP）（ここでABPは、抗体、抗体様分子または他の抗原結合誘導体、またはその抗原結合断片に代表されるもの）、ペプチド核酸（PNA）などの核酸の変異体または誘導体、CRISPR/Cas9コンストラクトなどの標的遺伝子編集用の遺伝子コンストラクト、および／またはガイド核酸（gRNAまたはgDNA）および／またはtracrRNAを含む、DNAまたはRNAのような核酸、または、アンチセンスまたは阻害性のDNAまたはRNA、リボザイム、RNAまたはDNAアプタマー、RNAi、siRNA、shRNAなどから選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項７】
炎症性疾患の予防または治療に使用するためのＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤を含む医薬であって、該予防または治療はＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤およびＲＩＰＫ１阻害剤の同時または連続の投与を含む、医薬。
【請求項８】
ＲＩＰＫ１阻害剤が請求項１〜６のいずれか一項に記載の医薬である、請求項７に記載の医薬。
【請求項９】
ＩＫＫ阻害剤、またはＩＫＫ２／ＩＫＫβ阻害剤である、請求項７または８に記載の医薬。
【請求項１０】
炎症性疾患の治療または予防に使用するための組み合わせを特徴とする医薬であって、該組み合わせは、ＲＩＰＫ１阻害剤およびＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤を含む、医薬。
【請求項１１】
治療または予防が、炎症性疾患に苦しむ対象へのＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤の治療有効量の投与を含む、請求項１０に記載の医薬。
【請求項１２】
治療または予防が、対象へのＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤の投与によって引き起こされる副作用を抑制または防ぐために、対象へＲＩＰＫ１阻害剤の有効量を投与することを含む、請求項１０または１１に記載の医薬。
【請求項１３】
ＲＩＰＫ１阻害剤が請求項１〜６のいずれか一項に記載の医薬であり、および／または、ＩＫＫ／NFκB−シグナル阻害剤が請求項７〜９のいずれか一項に記載の医薬である、請求項１０または１１に記載の医薬。
【請求項１４】
疾患の治療または予防に使用するための医薬組成物であって、該疾患が、対象のＩＫＫ阻害剤治療の副作用、または増加したインターロイキン−１（IL-1）放出または全身性好中球増加症であり、該医薬組成物は請求項１〜６のいずれか一項に記載の医薬、および／または請求項７〜９のいずれか一項に記載の医薬、および／または請求項１０〜１３に記載の医薬を、薬学的に許容される担体および／または賦形剤と共に含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象におけるアルギナーゼ１（ＡＲＧ１）欠損症（ＡＲＧ１−Ｄ）の治療に使用するためのヒトアルギナーゼ１であって、前記アルギナーゼが、マンガン金属補因子の代わりにコバルト金属補因子を有し、前記アルギナーゼ１が、毎週投与され、かつ前記アルギナーゼ１が、約０．００５〜約１．００ｍｇ／ｋｇ対象体重の用量で、前記対象へ静脈内投与されるか、又は０．０１〜１．５０ｍｇ／ｋｇ対象体重の用量で、前記対象へ筋肉内又は皮下投与される、ヒトアルギナーゼ１。
【請求項２】
前記アルギナーゼが、野生型アルギナーゼ１のアミノ酸配列を有して発現される、請求項１に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項３】
前記アルギナーゼが、配列番号２のアミノ酸配列を含む、請求項２に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項４】
前記アルギナーゼが、ＰＥＧ化アルギナーゼ１である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項５】
前記アルギナーゼ１が、約０．００５〜約０．５０ｍｇ／ｋｇ対象体重の用量で、前記対象へ静脈内投与される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項６】
前記アルギナーゼ１が、約０．００５〜約０．２０ｍｇ／ｋｇ対象体重の用量で、前記対象へ静脈内投与される、請求項５に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項７】
前記アルギナーゼが、０．０１５〜０．７５ｍｇ／ｋｇ対象体重の用量で、前記対象へ皮下に皮下投与される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項８】
前記アルギナーゼが、０．０１５〜０．３０ｍｇ／ｋｇ対象体重の用量で、前記対象へ皮下に皮下投与される、請求項７に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項９】
ＰＥＧ化アルギナーゼが、初回は０．００５ｍｇ／ｋｇ〜１．００ｍｇ／ｋｇの用量で静脈内投与され、その後は毎週皮下又は静脈内のいずれかに投与される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項１０】
前記ＰＥＧ化アルギナーゼが、初回は０．００５ｍｇ／ｋｇ〜０．２０ｍｇ／ｋｇの用量で静脈内投与され、その後は毎週皮下又は静脈内のいずれかに投与される、請求項９に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項１１】
ＰＥＧ化アルギナーゼが、初回は０．０１ｍｇ／ｋｇ〜１．５０ｍｇ／ｋｇで皮下投与され、その後は毎週皮下又は静脈内のいずれかに投与される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項１２】
前記ＰＥＧ化アルギナーゼが、初回は０．０１５ｍｇ／ｋｇ〜０．３０ｍｇ／ｋｇで皮下投与され、その後は毎週皮下又は静脈内のいずれかに投与される、請求項１１に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【請求項１３】
前記アルギナーゼ１が、ＰＥＧ化され、かつ５ｍＭリン酸カリウム、５０ｍＭ塩化ナトリウム、及び１．５％グリセロール（ｗ／ｖ）を含むｐＨ７．４の緩衝液中で製剤化されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のためのヒトアルギナーゼ１。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発作障害を治療するための、有効成分としてマイクロＲＮＡ−１０１、プリｍｉＲ１０１またはプレｍｉＲ１０１を含む医薬組成物であって、ここで、該組成物がそれを必要とする患者に投与された後に、該患者の脳内のマイクロＲＮＡ−１０１分子レベルが増加される、医薬組成物。
【請求項２】
発作障害を治療するための、有効成分としてマイクロＲＮＡ−１０１、プリｍｉＲ１０１またはプレｍｉＲ１０１をコードする核酸を含むベクターを含む医薬組成物であって、ここで、該組成物がそれを必要とする患者に投与された後に、該患者の脳内のマイクロＲＮＡ−１０１分子レベルが増加される、医薬組成物。
【請求項３】
投与後にマイクロＲＮＡ−１０１、プリｍｉＲ１０１またはプレｍｉＲ１０１が発現され、患者におけるマイクロＲＮＡ−１０１、プリｍｉＲ１０１またはプレｍｉＲ１０１の発現の増加が、発作障害の症状の減少と関連している、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
マイクロＲＮＡ−１０１、プリｍｉＲ１０１またはプレｍｉＲ１０１をコードする前記核酸が、ＣＡＧプロモーター、ＣＭＶプロモーター、ヒトシナプシン１遺伝子プロモーター（ｈＳｙｎ）、ダイノルフィンプロモーター、エンセファリン（ｅｎｃｅｐｈａｌｉｎ）プロモーターおよびＣａＭＫＩＩプロモーターからなる群から選択されるプロモーターに動作可能に連結されている、請求項２または３に記載の組成物。
【請求項５】
前記ベクターが、ウッドチャック転写後調節因子（ＷＰＲＥ）を含む、請求項２から４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記ベクターが、ウシ成長ホルモンポリアデニル化配列（ＢＧＨｐＡ）を含む、請求項２から５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
前記ベクターが蛍光レポーターカセットを含む、請求項２から６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
前記ベクターがアデノ関連ウイルス（ＡＡＶ）である、請求項２から７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
前記アデノ関連ウイルスが、ＡＡＶ１、ＡＡＶ２、ＡＡＶ４、ＡＡＶ５、ＡＡＶ７、ＡＡＶ８、ＡＡＶ９またはＡＡＶＲｅｃ３である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ベクターがレンチウイルスである、請求項２から７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ベクターがｐＡＭ／ＣＢＡ−ｍｉＲ１０１−１−ＷＰＲＥ−ＢＧＨｐＡを含む、請求項２から１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
患者の脳内の標的位置に送達される、請求項１から１１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
経口、頬側、舌下、直腸、局所的、鼻腔内、膣および非経口からなる群から選択される経路を介して投与される、請求項１から１２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
前記発作障害が、てんかん、全般的な強直間代性発作を伴うてんかん、ミオクロニー欠神てんかん、前頭葉てんかん、側頭葉てんかん、後頭葉てんかん、頭頂葉てんかん、ランドウ・クレフナー症候群、ラスムッセン症候群、ドラベ症候群、ドゥーゼ症候群、ＣＤＫＬ５障害、点頭てんかん（ウェスト症候群）、若年性ミオクローヌスてんかん（ＪＭＥ）、ワクチン関連脳症、難治性小児てんかん（ＩＣＥ）、レノックス・ガストー症候群（ＬＧＳ）、レット症候群、大田原症候群、ＣＤＫＬ５障害、小児欠神てんかん、本態性振戦、急性反復性発作、良性ローランドてんかん、てんかん重積、難治性てんかん重積、超難治性てんかん重積（ＳＲＳＥ）、ＰＣＤＨ１９小児てんかん、脳腫瘍誘発性発作、過誤腫誘発性発作、薬物離脱誘発性発作、アルコール離脱誘発性発作、発作活動の増加およびブレークスルー発作からなる群から選択される、請求項１から１３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１５】
前記発作障害が焦点発作である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記発作障害が限局性皮質異形成である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１７】
失調、歩行機能障害、発話機能障害、啼鳴、不随意性の笑い、認知障害、異常運動活動、臨床性発作、無症候性発作、筋緊張低下、筋緊張亢進、流涎、しゃぶり行動、前兆、痙攣、反復運動、異常感覚、発作の頻度、および発作の重症度からなる群から選択される少なくとも一つの症状を改善するための、請求項１から１６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１８】
超音波が前記患者の脳の標的位置に適用されて、前記標的位置での前記患者の血液脳関門の浸透性が増強されることをさらに含み、前記ベクターあるいはマイクロＲＮＡ−１０１、プリｍｉＲ１０１またはプレｍｉＲ１０１が前記標的位置に送達される、請求項１から１７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１９】
ベクターが、非ウイルスベクターである、請求項２から７および１１から１８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２０】
前記非ウイルスベクターがリポソーム媒介性送達ベクターである、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
ＣＡＧプロモーター、ウッドチャック転写後調節因子（ＷＰＲＥ）およびウシ成長ホルモンポリアデニル化配列（ＢＧＨｐＡ）の制御下のマイクロＲＮＡ−１０１、プリｍｉＲ１０１またはプレｍｉＲ１０１をコードする核酸を含むベクター。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月25日(2021.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
下記段階：
（ｉ）水溶液中において、ラクタム環中に少なくとも３個の炭素原子を有する少なくとも１種のラクタムを、少なくとも１種の有機スルホン酸と反応させる段階；
（ｉｉ）少なくとも１個のヒドロキシル基を含有する少なくとも８個の炭素原子を有する少なくとも１種のアルコールを用いた、段階（ｉ）の反応生成物のエステル化段階；及び
（ｉｉｉ）任意の、水の除去及び／又は段階（ｉｉ）の過剰のアルコールの除去段階；を含む、アミノ酸エステルの有機スルホン酸塩の合成方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月19日(2021.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【図１】図１は、本開示の特定の実施形態による、レーザ光ビームのマルチスポットパターンを生成し、レーザ光ビームのマルチスポットパターンを照明光ビームと多重化し、且つ多重光ビームを外科用プローブに送出するためのシステムを示す。
【図２Ａ】図２Ａは、本開示の特定の実施形態によるレーザシステムポートアダプタを示す。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本開示の特定の実施形態による、外科用レーザシステム及び照明光源と結合されるレーザシステムポートアダプタを示す。
【図３】図３は、本開示の特定の実施形態による、レーザ光ビームのマルチスポットパターン及び照明光を多重化するための方法を示す。
【図４Ａ−４Ｂ】図４Ａ〜図４Ｂは、本開示の特定の実施形態による、レーザ源及び照明光源を含む光多重化コンポーネントを含むシステムを示す。
【図４Ｃ】図４Ｃは、本開示の特定の実施形態による、レーザ源を含むレーザ光多重化モジュールと、照明光源を含む照明モジュールとを含むシステムを示す。
【図５Ａ−５Ｂ】図５Ａは、本開示の特定の実施形態によるマルチコア光ファイバケーブルの終端の平面図を示す。図５Ｂは、本開示の特定の実施形態によるマルチコア光ファイバケーブル上の複数の光円錐の界面の側面図を示す。
【図５Ｃ】図５Ｃは、本開示の特定の実施形態による本技術の幾つかの実施形態に従うマルチコア光ファイバケーブルの断面図を示す。
【図５Ｄ】図５Ｄは、本開示の特定の実施形態による、レーザビームスポットが内側コアと並び、照明光ビームスポットが外側コアと並んだマルチコア光ファイバケーブルの近位界面端を示す。
【図５Ｅ−５Ｇ】図５Ｅは、本開示の特定の実施形態による、３つのビームの全てがそれらのそれぞれのコアを完全に空間的に満たすように広がったマルチコア光ファイバケーブルの遠位端を示す。図５Ｆ〜図５Ｇは、本開示の特定の実施形態によるマルチコア光ファイバケーブルを通る多重光の伝播を示す。
【図５Ｈ−５Ｋ】図５Ｈ〜図５Ｋは、本開示の特定の実施形態によるマルチコア光ファイバケーブルを通る多重光の伝播を示す。
【図５Ｌ−５Ｎ】図５Ｌ〜図５Ｍは、本開示の特定の実施形態によるマルチコア光ファイバケーブルを通る多重光の伝播を示す。図５Ｎは、本開示の幾つかの実施形態による別のマルチコア光ファイバケーブルの断面図を示す。
【図６Ａ−６Ｂ】図６Ａ〜図６Ｂは、本開示の特定の実施形態による外科用ハンドプローブのチップの展開側面図を示す。
【図７】図７は、本開示の特定の実施形態によるレーザ光ビームのマルチスポットパターン及び照明光の多重ビームの画像を生成する方法を示す。
【図８Ａ】図８Ａは、本開示の特定の実施形態による、多重化されたレーザエイミング及び治療用ビーム並びにレーザ照明光ビームを送出するためのマルチルーメンチューブの端面図を示す。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本開示の特定の実施形態による、近位端においてそれらのそれぞれのファイバコアを空間的にアンダーフィルするレーザエイミング及び治療用ビーム並びにレーザ照明光ビームのそれぞれを示す。
【図８Ｃ】図８Ｃは、本開示の特定の実施形態による、遠位端においてそれらのコアを空間的に完全に満たすレーザエイミング及び治療用ビーム並びにレーザ照明光ビームのそれぞれを示す。
【図８Ｄ】図８Ｄは、本開示の特定の実施形態による、集束レンズにおいて又はその近傍でマルチルーメンチューブ内のガラスファイバのアレイを越えて延在するナノファイバの遠位端を示す。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月30日(2021.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の被覆組成物及び第２の被覆組成物を塗布するためのシステムであって、
霧化塗布器と、
ノズルオリフィスを定めるノズルを含む高転写効率塗布器と、
前記霧化塗布器と流体連通状態にあり、前記第１の被覆組成物を含有するように構成された第１のリザーバと、
前記高転写効率塗布器と流体連通状態にあり、前記第２の被覆組成物を含有するように構成された第２のリザーバと、
金属含有基板及びプラスチック含有基板を含み、該金属含有基板が前記プラスチック含有基板に結合された基板組立体と、
前記霧化塗布器は、前記第１のリザーバから前記第１の被覆組成物を受け取るように構成され、前記第１の被覆組成物を前記金属含有基板に塗布するように構成され、
前記高転写効率塗布器は、前記第２のリザーバから前記第２の被覆組成物を受け取るように構成され、第２のノズルオリフィスを通って前記プラスチック含有基板に前記第２の被覆組成物を放出するように構成される、
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記霧化塗布器は、前記第１の被覆組成物の霧化液滴の霧を生成するように構成され、前記霧化塗布器がＢｅｌｌ噴霧塗布器を有している、
請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第２の被覆組成物は、少なくとも１０ミクロンの粒度を有する液滴として前記高転写効率塗布器から放出され、任意選択的に、前記高転写効率塗布器から前記プラスチック含有基板に放出された前記第２の被覆組成物の液滴の少なくとも８０％は、前記プラスチック含有基板と接触後に単一液滴としてとどまる、
請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項４】
前記被覆組成物は、ＡＳＴＭ  Ｄ２３６９に従って前記被覆組成物の総重量に基づいて１５〜約７０重量％の固形分を有し、
任意選択的に前記被覆組成物の総重量に基づいて約０．１〜約２０重量％の量の基本的顔料を更に含み、
任意選択的に前記被覆組成物の総重量に基づいて約１５〜約７０重量％の量で前記バインダを含み、
任意選択的に前記被覆組成物の総重量に基づいて約０．１〜約２５重量％の量の架橋剤を含み、
任意選択的に約０．００２Ｐａ＊ｓ〜約０．２Ｐａ＊ｓの粘度を有し、前記被覆組成物は、約８３８ｋｇ／ｍ3〜約１５５７ｋｇ／ｍ3の密度を有し、前記被覆組成物は、約０．０１５Ｎ／ｍ〜約０．０５Ｎ／ｍの表面張力を有し、及び前記被覆組成物は、約０．０００５ｓ〜約０．０２ｓの緩和時間を有し、
前記被覆組成物は、約０．０１〜約１２．６のオーネゾルゲ数（Ｏｈ）を有し、前記被覆組成物は、約０．０２〜約６，２００のレイノルズ数（Ｒｅ）を有し、及び前記被覆組成物は、０よりも大きく約１７３０までのデボラ数（Ｄｅ）を有する、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
霧化塗布器及び高転写効率塗布器を利用して第１の被覆組成物及び第２の被覆組成物を塗布する方法であって、前記高転写効率塗布器が、ノズルオリフィスを定めるノズルを含み、前記方法が、
金属含有基板及びプラスチック含有基板を含み、該金属含有基板が前記プラスチック含有基板に結合された基板組立体を提供するステップと、
前記霧化塗布器を利用して前記第１の被覆組成物を前記金属含有基板に塗布するステップと、
前記高転写効率塗布器の前記ノズルオリフィスを通じて前記第２の被覆組成物を前記プラスチック含有基板に塗布するステップと、を含む、
ことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月30日(2021.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高転写効率塗布器を利用して、基板に被覆組成物を塗布する方法であって、
前記被覆組成物は、ＡＳＴＭ  Ｄ２３６９に従って測定されたときに前記被覆組成物の総重量に基づいて約１５〜約７０重量％の固形分を有し、
前記被覆組成物が、
キャリアと、
前記被覆組成物の総重量に基づいて１５〜約７０重量パーセントの量で存在するバインダと、
前記被覆組成物の総重量に基づいて約０．１〜約２５重量パーセントの量で存在する架橋剤と、を含み、
前記被覆組成物は、１０００ｓｅｃ−１の剪断速度で円錐平板又は平行板を用いてＡＳＴＭ７８６７−１３に従って測定されたときに約０．００２Ｐａ＊ｓ〜約０．２Ｐａ＊ｓの粘度、約８３８ｋｇ／ｍ３〜約１５５７ｋｇ／ｍ３の密度、約０．０１５Ｎ／ｍ〜約０．０５Ｎ／ｍの表面張力、及び約０．０００５ｓ〜約０．０２ｓの緩和時間を有し、
前記方法が、
約０．００００２ｍ〜０．０００４ｍのノズル直径を有するノズルオリフィスを定めるノズルを含む前記高転写効率塗布器に前記被覆組成物を提供するステップと、
被覆層を形成するように前記ノズルオリフィスを通って前記基板に前記被覆組成物を塗布するステップと、を含み、
前記高転写効率塗布器から放出された前記被覆組成物の液滴の少なくとも８０％は、前記基板と接触する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記基板は、過剰噴霧捕捉デバイスを含む環境内に配置され、空気流が、前記環境を通って前記過剰噴霧捕捉デバイスに移動し、前記高転写効率塗布器から放出された前記被覆組成物の２０重量％以下が、前記被覆組成物の総重量に基づいて前記過剰噴霧捕捉デバイスと接触する、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記高転写効率塗布器から前記基板に放出された前記被覆組成物の液滴の少なくとも８０％は、前記高転写効率塗布器のノズルオリフィスから放出後に単一液滴としてとどまる、
請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記高転写効率塗布器から放出された前記被覆組成物の液滴の少なくとも８０％は、前記液滴が２０％未満の粒度分布を有するように単分散される、
請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記高転写効率塗布器は、約０．２ｍ／ｓ〜約２０ｍ／ｓの衝撃速度で前記ノズルオリフィスを通って前記被覆組成物を放出するように構成される、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月2日(2021.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）接触区域で４５℃未満の温度で水性液体洗浄剤組成物と部品を接触させるステップであって、前記水性液体洗浄剤組成物は、少なくとも一つのアルコキシレート界面活性剤を含む、接触させるステップと、
ｂ）前記水性液体洗浄剤組成物の少なくとも一部を前記接触区域から分離ハウジングへと流すステップと、
ｃ）上側油性相、中間水性相および下側粒子相を形成するように、前記分離ハウジングで前記水性液体洗浄剤組成物を分離させるステップと、
ｄ）前記接触区域で前記水性液体洗浄剤組成物として使用するために前記中間水性相の少なくとも一部を取り出すステップと、
を含む、部品洗浄方法。
【請求項２】
前記分離ハウジングは、基部および排出口を備え、前記基部は、前記排出口を通じて前記下側粒子相を容易に取り出すことができるように構成されている、請求項１に記載の部品洗浄方法。
【請求項３】
廃棄するために前記下側粒子相を取り出すステップをさらに含む、請求項１または請求項２に記載の部品洗浄方法。
【請求項４】
前記中間水性相の一部は、前記接触区域で前記水性液体洗浄剤組成物として使用する前に濾過される、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【請求項５】
前記分離ハウジングは、前記接触区域で前記水性液体洗浄剤組成物として使用するために前記中間水性相を取り出すことができるように配置された追加排出口を備える、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【請求項６】
フィルタが前記追加排出口内に又は前記追加排出口に隣接して配置されている、請求項５に記載の部品洗浄方法。
【請求項７】
ステップａ）において、前記水性液体洗浄剤組成物は、ノズルを用いて前記部品に送られる、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【請求項８】
前記水性液体洗浄剤組成物は、泡として送られる、請求項７に記載の部品洗浄方法。
【請求項９】
前記接触区域は、浸漬槽を備える、請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【請求項１０】
前記部品および前記水性液体洗浄剤組成物は、前記浸漬槽に入れられ、超音波が前記浸漬槽内で前記水性液体洗浄剤組成物を通じて伝搬される、請求項９に記載の部品洗浄方法。
【請求項１１】
前記水性液体洗浄剤組成物内のアルコキシレート界面活性剤の総量は、１〜２０ｗｔ％である、請求項１に記載の部品洗浄方法。
【請求項１２】
少なくとも一つのアルコキシレート界面活性剤は、
（Ａ）モノヒドロキシアルカノールまたはアルキルフェノールと炭素原子２〜２０個とが反応することで作成されるエトキシル化非イオン界面活性剤と、
（Ｂ）１モルのアルコールに対して少なくとも１２モルのエチレンオキシド、および炭素原子１６〜２０個を有する直鎖脂肪アルコールと、
（Ｃ）ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロック共重合体ユニットを含む、エトキシル化モノヒドロキシアルカノールまたはアルキルフェノール界面活性剤と、
（Ｄ）化学式Ｒ１Ｏ［ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ］Ｘ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］Ｙ［ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）Ｒ２］の界面活性剤であって、Ｒ１は炭素原子４〜１８個を有する直鎖若しくは分岐鎖の脂肪族炭化水素基またはそれらの混合物を表し、Ｒ２は炭素原子２〜２６個を有する直鎖若しくは分岐鎖の脂肪族炭化水素基またはそれらの混合物を表し、ｘは０．５から１．５の間の値であり、ｙは少なくとも１５の値である、界面活性剤と、
から選択される、請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【請求項１３】
前記水性液体洗浄剤組成物は、少なくとも二つのエトキシル化界面活性剤を含む、請求項１から請求項１２のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【請求項１４】
前記水性液体洗浄剤組成物は、アニオン界面活性剤をさらに含む、請求項１３に記載の部品洗浄方法。
【請求項１５】
（ｉ）前記部品は、前記接触区域で１０℃から３５℃の温度で前記水性液体洗浄剤組成物と接触し、および／または、
（ｉｉ）前記分離させるステップは、１０℃から３５℃の温度で実行される、
請求項１から請求項１４のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【請求項１６】
ステップａ）からステップｄ）が複数サイクル繰り返される、請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【請求項１７】
前記水性液体洗浄剤組成物は、前記接触区域で前記部品と接触する前に、加熱されない、請求項１から請求項１６のいずれか一項に記載の部品洗浄方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月26日(2021.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の高転写効率塗布器及び第２の高転写効率塗布器を利用して第１の被覆組成物及び第２の被覆組成物を塗布する方法であって、前記第１の高転写効率塗布器が、第１のノズルオリフィスを定める第１のノズルを含み、前記第２の高転写効率塗布器が、第２のノズルオリフィスを定める第２のノズルを含み、
前記方法が、
第１の標的区域及び第２の標的区域を定める基板を提供するステップと、
前記第１のノズルオリフィスを通って前記基板の前記第１の標的区域に前記第１の被覆組成物を塗布するステップと、
前記第２のノズルオリフィスを通って前記基板の前記第２の標的区域に前記第２の被覆組成物を塗布するステップと、
を含み、
前記第１の被覆組成物が、ＡＳＴＭ  Ｄ２３６９に従って測定したときに前記第１の被覆組成物の総重量に基づいて約１５〜約７０重量％の固形分を有し、
前記第１の被覆組成物が、キャリアと、前記第１の被覆組成物の総重量に基づいて１５〜約７０重量パーセントの量で存在するバインダと、前記第１の被覆組成物の総重量に基づいて約０．１〜約２５重量パーセントの量で存在する架橋剤と、を含み、
前記第１の被覆組成物は、１０００ｓｅｃ−１の剪断速度で円錐平板又は平行板を用いてＡＳＴＭ７８６７−１３に従って測定されたときに約０．００２Ｐａ＊ｓ〜約０．２Ｐａ＊ｓの粘度を有する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１の標的区域が前記第２の標的区域に隣接している、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の高転写効率塗布器は、複数の第１のノズルを含み、該第１のノズルの各々が前記第１のノズルオリフィスを定め、前記第２の高転写効率塗布器は、複数の第２のノズルを含み、該第２のノズルの各々が前記第２のノズルオリフィスを定め、前記第１の被覆組成物を塗布するステップが更に、互いに独立した前記第１のノズルオリフィスの各々を通って前記第１の被覆組成物を放出するステップとして定められ、前記第２の被覆組成物を塗布するステップが更に、互いに独立した前記第２のノズルオリフィスの各々を通って前記第２の被覆組成物を放出するステップとして定められる、
請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記基板が、第１の端部及び第２の端部を含み、前記第１の端部及び前記第２の端部の間に前記基板の前記第１の標的区域及び前記基板の前記第２の標的区域が配置されており、
前記方法が、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器を前記第１の端部から前記第２の端部に移動させるステップを更に含み、互いに独立した前記第１のノズルオリフィスを通って前記第１の被覆組成物を放出するステップ及び互いに独立した前記第２のノズルオリフィスを通って前記第２の被覆組成物を放出するステップが、前記第１の端部から前記第２の端部まで単一パスに沿って実施される、
請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の端部と前記第２の端部との間に延びる経路が定められ、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記経路に沿って移動し、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記経路に沿って単一パス中に前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記第１の被覆組成物及び前記第２の被覆組成物を放出し、
前記基板の第１の標的区域及び前記基板の第２の標的区域が協働して迷彩パターンを形成し、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記第１の被覆組成物及び前記第２の被覆組成物を前記第１の標的区域及び前記第２の標的区域に放出して、前記単一パス中に前記迷彩パターンを有する被覆層を形成し、
前記基板の第１の標的区域及び前記基板の第２の標的区域が協働してツートンカラーパターンを形成し、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記第１の被覆組成物及び前記第２の被覆組成物を前記第１の標的区域及び前記第２の標的区域に放出して、前記単一パス中に前記ツートンカラーパターンを有する被覆層を形成し、
前記基板の第１の標的区域及び前記基板の第２の標的区域が協働して縞模様パターンを形成し、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記第１の被覆組成物及び前記第２の被覆組成物を前記第１の標的区域及び前記第２の標的区域に放出して、前記単一パス中に前記縞模様パターンを有する被覆層を形成し、
前記基板の第１の標的区域及び前記基板の第２の標的区域が協働して不規則パターンを形成し、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記第１の被覆組成物及び前記第２の被覆組成物を前記第１の標的区域及び前記第２の標的区域に放出して、前記単一パス中に前記不規則パターンを有する被覆層を形成し、
前記基板の第１の標的区域及び前記基板の第２の標的区域が協働して前記第１の標的区域と前記第２の標的区域との間を交互する矩形アレイを形成し、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記第１の被覆組成物及び前記第２の被覆組成物を前記第１の標的区域及び前記第２の標的区域に放出して、前記単一パス中に被覆層を形成する、
請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月26日(2021.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の高転写効率塗布器及び第２の高転写効率塗布器を利用して被覆組成物を塗布する方法であって、前記第１の高転写効率塗布器が、第１のノズルオリフィスを定める第１のノズルを含み、前記第２の高転写効率塗布器が、第２のノズルオリフィスを定める第２のノズルを含み、
前記方法が、
第１の標的区域及び第２の標的区域を定める基板を提供するステップと、
前記第１のノズルオリフィスを通って前記基板の前記第１の標的区域に前記被覆組成物を塗布するステップと、
前記第２のノズルオリフィスを通って前記基板の前記第２の標的区域に前記被覆組成物を塗布するステップと、を含み、
前記被覆組成物が、ＡＳＴＭ  Ｄ２３６９に従って測定したときに前記被覆組成物の総重量に基づいて約１５〜約７０重量％の固形分を有し、前記被覆組成物が、キャリアと、前記被覆組成物の総重量に基づいて１５〜約７０重量パーセントの量で存在するバインダと、前記被覆組成物の総重量に基づいて約０．１〜約２５重量パーセントの量で存在する架橋剤と、を含み、
前記被覆組成物は、１０００ｓｅｃ−１の剪断速度で円錐平板又は平行板を用いてＡＳＴＭ７８６７−１３に従って測定されたときに約０．００２Ｐａ＊ｓ〜約０．２Ｐａ＊ｓの粘度を有し、
前記第１の高転写効率塗布器が、前記第２の高転写効率塗布器に結合され、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器が協働して、単体構成要素である高転写効率塗布器組立体を形成する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１の標的区域が前記第２の標的区域に隣接している、
請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第１の高転写効率塗布器は、複数の第１のノズルを含み、該第１のノズルの各々が前記第１のノズルオリフィスを定め、前記第２の高転写効率塗布器は、複数の第２のノズルを含み、該第２のノズルの各々が前記第２のノズルオリフィスを定め、前記第１の被覆組成物を塗布するステップが更に、互いに独立した前記第１のノズルオリフィスの各々を通って前記被覆組成物を放出するステップとして定められ、前記第２の被覆組成物を塗布するステップが更に、互いに独立した前記第２のノズルオリフィスの各々を通って前記第２の被覆組成物を放出するステップとして定められる、
請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記基板が、第１の端部及び第２の端部を含み、前記第１の端部及び前記第２の端部の間に前記基板の前記第１の標的区域及び前記基板の前記第２の標的区域が配置されており、
前記方法が、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器を前記第１の端部から前記第２の端部に移動させるステップを更に含み、前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記被覆組成物を放出するステップが、前記第１の端部から前記第２の端部まで単一パスに沿って実施される、
請求項３に記載の方法。
【請求項５】
（１）前記第１の端部と前記第２の端部との間に延びる経路が定められ、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記経路に沿って移動し、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記経路に沿って単一パス中に前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記被覆組成物を放出し、
（２）前記基板の第１の標的区域及び前記基板の第２の標的区域が協働して、前記第１の標的区域と前記第２の標的区域との間を交互する矩形アレイを形成し、前記第１の高転写効率塗布器及び前記第２の高転写効率塗布器は、前記第１のノズルオリフィス及び前記第２のノズルオリフィスを通って前記被覆組成物を前記第１の標的区域及び前記第２の標的区域に放出して、前記単一パス中に被覆層を形成し、
（３）前記第１の高転写効率塗布器の前記複数の第１のノズルは、第１の軸に沿って互いに対して線形構成で配列され、前記第２の高転写効率塗布器の前記複数の第２のノズルは、第２の軸に沿って互いに対して線形構成で配列され、前記第１の軸及び前記第２の軸が互いに平行であり、
（ａ）前記複数の第１のノズルは、第１のノズルＡと、該第１のノズルＡに隣接する第１のノズルＢとを含むことができ、前記第１のノズルＡ及び前記第１のノズルＢは、あるノズル距離で互いに離間することができ、前記複数の第２のノズルは、前記第１のノズルＡに隣接する第２のノズルＡを含むことができ、前記第１のノズルＡ及び前記第２のノズルＡが、高転写効率塗布器距離で互いに離間することができ、前記高転写効率塗布器距離が、第１のノズル距離と実質的に同じとすることができ、
（ｂ）前記複数の第１のノズル及び前記複数の第２のノズルが、矩形アレイを形成するように互いに対して離間することができ、前記複数の第１のノズル及び前記複数の第２のノズルが、前記矩形アレイの隣接する前記第１及び第２のノズル間で前記被覆組成物の放出を変更することができる、
請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
骨片の能動的圧縮を生成するための能動的圧縮骨ねじ器具であって、
遠位骨係合部と、
近位骨係合部と、
前記器具の前記骨片中への回転の際、前記器具の軸方向の伸長および半径方向の回転を促進するように構成された螺旋状のストラットと、
前記螺旋状のストラットは、前記近位骨係合部と前記遠位骨係合部との間に介在し、前記器具の側壁を貫通する孔によって形成され、
前記螺旋状のストラットに沿って複数形成され、それぞれが、前記螺旋状のストラットの互いに対向する側面によって画定された非対称形状の受容部と当該受容部に対応する非対称形状の突出部とによって形成される半径方向変形制限特徴部とを備え、
前記受容部の第１の直線的側面及び当該第１の直線的側面に対応する前記突出部の第１の直線的側面と、前記受容部の前記第１の直線的側面の反対側にある前記受容部の第２の直線的側面及び前記突出部の前記第１の直線的側面の反対側にあって前記受容部の前記第２の直線的側面に対応する前記突出部の第２の直線的側面とが、前記器具の長手方向中心軸線に対して同じ方向に傾斜し、互いに非平行である、
器具。
【請求項２】
前記遠位骨係合部は、ねじ山を備える、請求項１に記載の器具。
【請求項３】
前記近位骨係合部は、前記螺旋状のストラットの外径よりも大きい外径を備える、請求項１に記載の器具。
【請求項４】
前記孔は、前記器具の長手方向中心軸線に垂直で、かつ前記器具のシャフトの半径方向に平行に、前記器具の前記側壁を貫通して形成される、請求項１に記載の器具。
【請求項５】
前記孔は、前記器具が弛緩した非変形状態にあるときに、前記孔の遠位端と近位端との間に不均一な幅を備える、請求項１に記載の器具。
【請求項６】
前記螺旋状のストラットは、超弾性合金から構成される、請求項１に記載の器具。
【請求項７】
複数の前記半径方向変形制限特徴部のそれぞれは、３つの直線的側面のみを有する、請求項１に記載の器具。
【請求項８】
複数の前記半径方向変形制限特徴部のそれぞれは、４つから９つの直線的側面を有する、請求項１に記載の器具。
【請求項９】
複数の前記半径方向変形制限特徴部のうちの第１の半径方向変形制限特徴部の受容部の第１の直線的側面は、長手方向長さ制限突起を備え、当該長手方向長さ制限突起は、前記第１の半径方向変形制限特徴部の対応する突出部の対応する第１の直線的側面の対応する長手方向長さ制限突起と係合する、請求項１に記載の器具。
【請求項１０】
前記受容部の前記第１の直線的側面の前記長手方向長さ制限突起と、前記突出部の前記第１の直線的側面の前記長手方向長さ制限突起との間の寸法は、０．０１０〜０．１００インチの範囲内にある、請求項９に記載の器具。
【請求項１１】
前記遠位骨係合部は、前記螺旋状のストラットが巻き付く方向とは逆方向に巻き付く螺旋状のねじ山を備える、請求項１に記載の器具。
【請求項１２】
骨片の能動的圧縮を生成するための能動的圧縮骨ねじ器具であって、
遠位骨係合部と、
近位骨係合部と、
前記器具の前記骨片中への回転の際、前記器具の軸方向の伸長および半径方向の回転を促進するように構成された螺旋状のストラットと、
前記螺旋状のストラットは、前記近位骨係合部と前記遠位骨係合部との間に介在し、前記器具の側壁を貫通する孔によって形成され、
前記螺旋状のストラットに沿って複数形成され、それぞれが、非対称形状の受容部と非対称形状の突出部とにより形成された半径方向変形制限特徴部とを備え、
前記受容部の第１の直線的側面及び当該第１の直線的側面に対応する前記突出部の第１の直線的側面と、前記受容部の前記第１の直線的側面の反対側にある前記受容部の第２の直線的側面及び前記突出部の前記第１の直線的側面の反対側にあって前記受容部の前記第２の直線的側面に対応する前記突出部の第２の直線的側面とが、前記器具の長手方向中心軸線に対して同じ方向に傾斜し、互いに非平行である、
器具。
【請求項１３】
前記遠位骨係合部は、ねじ山を備える、請求項１２に記載の器具。
【請求項１４】
前記近位骨係合部は、前記螺旋状のストラットの外径よりも大きい外径を備える、請求項１２に記載の器具。
【請求項１５】
前記孔は、前記器具の長手方向中心軸線に垂直で、かつ前記器具のシャフトの半径方向に平行に、前記器具の前記側壁を貫通して形成される、請求項１２に記載の器具。
【請求項１６】
前記螺旋状のストラットは、５０％を超えるニッケルによる合金から構成される、請求項１２に記載の器具。
【請求項１７】
複数の前記半径方向変形制限特徴部のうちの第１の半径方向変形制限特徴部の受容部の前記第１の直線的側面は、長手方向長さ制限突起を備え、当該長手方向長さ制限突起は、前記第１の半径方向変形制限特徴部の対応する突出部の対応する前記第１の直線的側面の対応する長手方向長さ制限突起と係合する、請求項１２に記載の器具。
【請求項１８】
前記受容部の前記第１の直線的側面の前記長手方向長さ制限突起と、前記突出部の前記第１の直線的側面の前記長手方向長さ制限突起との間の寸法は、０．０１０〜０．２００インチの範囲内にある、請求項１７に記載の器具。
【請求項１９】
複数の前記半径方向変形制限特徴部のうちの前記第１の半径方向変形制限特徴部の前記受容部の前記第２の直線的側面は、長手方向長さ制限突起を備え、当該長手方向長さ制限突起は、前記第２の半径方向変形制限特徴部の対応する突出部の対応する前記第２の直線的側面の対応する長手方向長さ制限突起と係合する、請求項１７に記載の器具。
【請求項２０】
骨片の能動的圧縮を生成するための能動的圧縮骨ねじ器具であって、
遠位骨係合部と、
近位骨係合部と、
前記近位骨係合部と前記遠位骨係合部との間に介在し、前記器具の側壁を貫通する孔によって形成された螺旋状のストラットとを備え、
前記螺旋状のストラットは、前記螺旋状のストラットの互いに対向する側面によって画定された非対称形状の受容部と当該受容部に対応する非対称形状の突出部を有し、
前記螺旋状のストラットは、１〜１０ｍｍの範囲内の前記器具の長手方向の変形を許容するように構成され、
前記器具が長手方向に伸長した応力状態から長手方向に収縮して実質的に弛緩した状態に変形するときに、前記遠位骨係合部と前記近位骨係合部との間に１０〜１０００Ｎの範囲内の引張力を発生させる、
器具。
【請求項２１】
前記器具は、０．１〜６Ｎ・ｍの範囲内のねじり力に耐える、請求項２０に記載の器具。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月18日(2021.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザによって把持するための形状及びサイズにされたプローブ本体と、
目に挿入するように構成されたカニューレを含むプローブチップであって、前記カニューレは、
内部通路と、
前記内部通路を画定する内面と
を含む、プローブチップと、
少なくとも部分的に前記カニューレの前記内部通路を通して延在するマルチコア光ファイバケーブル（ＭＣＦ）であって、
複数のコアと、
前記複数のコアを取り囲むクラッドであって、前記複数のコアの１つ又は複数の屈折率は、前記クラッドの屈折率よりも大きい、クラッドと、
前記クラッドを取り囲む被覆と、
前記被覆を含まず、且つ減少直径を有する遠位端と
を含むマルチコア光ファイバケーブル（ＭＣＦ）と、
前記ＭＣＦの前記遠位端と前記カニューレの前記内面との間に形成された環状ギャップと、
前記カニューレの前記内部通路に対する前記ＭＣＦの前記遠位端の同心性を維持するために前記環状ギャップ内に配置されたリングと
を含むマルチスポットレーザプローブ。
【請求項２】
前記リングは、ポリイミド又は金属から形成される、請求項１に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項３】
前記リングの内径は、前記マルチコア光ファイバケーブルの前記遠位端の外径に一致する、請求項１に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項４】
前記リングの外径は、前記カニューレの前記内部通路の内径に一致する、請求項１に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項５】
前記マルチコア光ファイバケーブルの遠位側で前記カニューレの前記内部通路に配置されたレンズをさらに含む、請求項１に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項６】
前記レンズは、屈折率分布型（ＧＲＩＮ）レンズである、請求項５に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項７】
前記ＭＣＦの前記遠位端は、正圧で前記レンズに当接する、請求項５に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項８】
前記ＭＣＦの前記遠位端は、エアギャップによって前記レンズから分離される、請求項５に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項９】
前記レンズの遠位で且つ前記レンズに当接して前記カニューレの前記内部通路に少なくとも部分的に配置された窓をさらに含む、請求項５に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項１０】
目に挿入するように構成されたカニューレを含むプローブチップであって、前記カニューレは、第１の内径を画定する第１の部分及び前記第１の内径よりも大きい第２の内径を画定する第２の部分を含む内部通路を含む、プローブチップ、
マルチコア光ファイバケーブルであって、
複数のコアと、
前記複数のコアを取り囲むクラッドであって、前記複数のコアの１つ又は複数の屈折率は、前記クラッドの屈折率よりも大きい、クラッドと、
前記クラッドを取り囲む被覆と、
前記被覆を含まず、且つ減少直径を有する遠位端であって、少なくとも部分的に前記カニューレの前記内部通路の前記第１の部分を通して延在する遠位端と
を含むマルチコア光ファイバケーブル（ＭＣＦ）、
前記ＭＣＦの前記遠位端の遠位で且つ前記ＭＣＦの前記遠位端に隣接して前記内部通路の前記第２の部分に配置されたレンズ
を含むマルチスポットレーザプローブ。
【請求項１１】
前記レンズの遠位で且つ前記レンズに当接して前記カニューレの前記内部通路の前記第２の部分に少なくとも部分的に配置された窓をさらに含む、請求項１０に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項１２】
前記レンズは、屈折率分布型（ＧＲＩＮ）レンズである、請求項１０に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項１３】
前記内部通路の前記第２の部分は、前記カニューレの遠位端から近位側に延在するカウンタボアを画定する、請求項１０に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項１４】
前記カニューレは、前記内部通路の前記第１の部分を画定する圧着部分をさらに含む、請求項１０に記載のマルチスポットレーザプローブ。
【請求項１５】
マルチスポットレーザプローブを製造する方法であって、
目に挿入するように構成されたカニューレを含むプローブチップを提供するステップと、
レンズを前記カニューレ内に挿入するステップと、
前記レンズの近位の前記カニューレ内にマルチコア光ファイバケーブル（ＭＣＦ）を挿入するステップであって、前記ＭＣＦは、
複数のコア、
前記複数のコアを取り囲むクラッドであって、前記複数のコアの１つ又は複数の屈折率は、前記クラッドの屈折率よりも大きい、クラッド、
前記クラッドを取り囲む被覆、
前記被覆を含まず、且つ減少直径を有する遠位端
を含む、ステップと、
前記カニューレにくびれ部分を形成するステップであって、前記くびれ部分は、前記ＭＣＦの露出端部が前記カニューレ内で中心に位置することを維持する減少断面サイズを形成する、ステップと
を含む方法。