(57)【要約】  化学強化処理による化学強化層を備え、周方向のＴＩＲが十分に小さい情報記録媒体用ガラス基板の提供のために、記録層を形成する表面に化学強化層を有し、化学強化層を除く部分は、ＳｉＯ２：５５〜７５質量％、Ａｌ２Ｏ３：５〜１８質量％、Ｌｉ２Ｏ：１〜１０質量％、Ｎａ２Ｏ：３〜１５質量％、Ｋ２Ｏ：０．１〜５質量％、但し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの総量：１０〜２５質量％、ＭｇＯ：０．１〜５質量％、ＣａＯ：０．１〜５質量％、ＺｒＯ２：０〜８質量％であり、（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比が、０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦０．８０の範囲のガラス組成物からなる円板状のガラス基板であって、外周の半径をｒ１としたとき、研磨工程による研磨後の周方向１周分のＴＩＲが、表面の中心から０．７５ｒ１の位置において１μｍ以下である情報記録媒体用ガラス基板とする。
2011096310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録層を形成するための表面に化学強化層を有する円板状の情報記録媒体用ガラス基板であって、
前記化学強化層を除いた部分は、
ＳｉＯ２：５５〜７５質量％、
Ａｌ２Ｏ３：５〜１８質量％、
Ｌｉ２Ｏ：１〜１０質量％、
Ｎａ２Ｏ：３〜１５質量％、
Ｋ２Ｏ：０．１〜５質量％、
但し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの総量：１０〜２５質量％、
ＭｇＯ：０．１〜５質量％、
ＣａＯ：０．１〜５質量％、
ＺｒＯ２：０〜８質量％であり、
（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比が、
０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）
≦０．８０
の範囲であるガラス組成物からなり、
前記ガラス基板の外周の半径をｒ１としたとき、前記表面の中心から０．７５ｒ１の位置における周方向１周分のＴＩＲが１μｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
前記ガラス基板は前記表面の中心部に内孔を有し、
前記ガラス基板の外周の半径をｒ１、前記内孔の半径をｒ０としたとき、前記表面の中心から（２ｒ０＋ｒ１）／３の位置における周方向１周分のＴＩＲが０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
前記ガラス組成物は、Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）をいずれも含有していないことを特徴とする請求項１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
前記ガラス組成物は、Ｖ（バナジウム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｐ（リン）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｓｎ（スズ）、Ｃｅ（セリウム）、Ｔａ（タンタル）及びＢｉ（ビスマス）の中から選ばれる少なくとも１種の多価元素を含有していることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
前記ガラス組成物は、Ｐ（リン）、Ｓｎ（スズ）及びＣｅ（セリウム）の中から選ばれる少なくとも１種の多価元素を含有していることを特徴とする請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項６】
厚みが０．６３５ｍｍ〜２ｍｍであることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項７】
ＳｉＯ２：５５〜７５質量％、
Ａｌ２Ｏ３：５〜１８質量％、
Ｌｉ２Ｏ：１〜１０質量％、
Ｎａ２Ｏ：３〜１５質量％、
Ｋ２Ｏ：０．１〜５質量％、
但し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの総量：１０〜２５質量％、
ＭｇＯ：０．１〜５質量％、
ＣａＯ：０．１〜５質量％、
ＺｒＯ２：０〜８質量％であり、
（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比が、
０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）
≦０．８０
の範囲であるガラス組成物からなるガラス基板を研削して所定の厚みに加工する研削工程と、
前記ガラス基板の、記録層を形成するための表面を研磨して表面粗さを減少させる研磨工程と、
イオン交換によって前記ガラス基板を強化する化学強化処理工程と、を有する円板状の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の外周の半径をｒ１としたとき、前記研磨工程による研磨後の周方向１周分のＴＩＲが、前記表面の中心から０．７５ｒ１の位置において１μｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記化学強化処理工程は、前記研削工程より後に行うことを特徴とする請求項７に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記化学強化処理工程の後に前記研磨工程を行うことにより、イオン交換によって強化された前記ガラス基板の表面の表面粗さを減少させることを特徴とする請求項７又は８に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
前記研磨工程における研磨量は０．５μｍ〜１０μｍであることを特徴とする請求項９に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１１】
前記研磨工程の後に前記化学強化処理工程を行うことにより、研磨によって表面粗さが減少した前記ガラス基板の表面のイオン交換を行うことを特徴とする請求項７又は８に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
前記研磨工程における研磨量は３０μｍ以上であることを特徴とする請求項１１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１３】
前記化学強化処理工程の後、更に第２の研磨工程を行うことにより、イオン交換によって強化された前記ガラス基板の表面の表面粗さを、更に減少させることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１４】
前記第２の研磨工程における研磨量は０．５μｍ〜１０μｍであることを特徴とする請求項１３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１５】
前記研磨工程は、研磨速度の大きい粗研磨工程と、該粗研磨工程よりも研磨速度の小さい精研磨工程とを含むことを特徴とする請求項７から１４のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１６】
前記研磨工程は、オスカータイプの研磨機が用いられることを特徴とする請求項７から１５のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１７】
前記研削工程における研削量は１００μｍ以上であることを特徴とする請求項７から１６のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１８】
請求項１から６のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板と、
前記情報記録媒体用ガラス基板の前記表面に設けられた、情報を記録するための記録層と、を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１９】
前記記録層は、磁気によって情報を記録する磁性層であることを特徴とする請求項１８に記載の情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気、光、光磁気等の性質を利用して情報を記録する記録層を有する情報記録媒体に用いる情報記録媒体用ガラス基板、該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気、光、光磁気等の性質を利用して情報を記録する記録層を有する情報記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来アルミニウム基板が広く用いられていた。しかし、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請に伴い、アルミニウム基板よりも表面の平滑性に優れ、しかも表面欠陥が少ないことから磁気ヘッド浮上量の低減を図ることができるガラス基板を磁気ディスク用基板として用いる割合が増えてきている。【０００３】
このような磁気ディスク等の情報記録媒体用ガラス基板には、高い耐衝撃性や耐振動性が要求される。そのため、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏなどを含有するアルミノシリケートガラスに化学強化処理を行って表面を強化することで耐衝撃性や耐振動性を向上させたガラス基板が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−６３０６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
化学強化処理は、ガラス基板に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンを、これらのイオンよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンでイオン交換することで、ガラス基板の表面に圧縮応力層（化学強化層）を形成してガラス基板を強化する方法である。通常は、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによって行われる。【０００６】
特許文献１の記載によれば、アルミノシリケートガラスに、このような化学強化処理と研磨処理とを所定の方法で行うことにより、表面が強化され、かつ、表面粗さの小さいガラス基板を得ることができるとされている。【０００７】
一方、磁気ヘッド浮上量を更に低減させるためには、ガラス基板の表面粗さを小さくするだけでは不十分であり、ガラス基板の平坦度を示す指標である、周方向のＴＩＲ（Ｔｏｔａｌ  Ｉｎｄｉｃａｔｅｄ  Ｒｕｎｏｕｔ）を小さくすることが重要であることが分かった。【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、化学強化処理の際のイオン交換の均一性が十分でないため、表面に働く圧縮応力のバランスが崩れて平坦度が悪化し、周方向のＴＩＲを十分に小さくすることが困難であるという問題がある。更に、化学強化処理の際のガラス基板の熱変形によって、周方向のＴＩＲを悪化させる場合があるという問題もある。【０００９】
本発明は上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、化学強化処理による化学強化層を備えると共に、周方向のＴＩＲが十分に小さい情報記録媒体用ガラス基板、該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。【００１１】
１．記録層を形成するための表面に化学強化層を有する円板状のガラス基板であって、
前記化学強化層を除いた部分は、
ＳｉＯ２：５５〜７５質量％、
Ａｌ２Ｏ３：５〜１８質量％、
Ｌｉ２Ｏ：１〜１０質量％、
Ｎａ２Ｏ：３〜１５質量％、
Ｋ２Ｏ：０．１〜５質量％、
但し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの総量：１０〜２５質量％、
ＭｇＯ：０．１〜５質量％、
ＣａＯ：０．１〜５質量％、
ＺｒＯ２：０〜８質量％であり、
（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比が、
０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦０．８０の範囲であるガラス組成物からなり、
前記ガラス基板の外周の半径をｒ１としたとき、前記表面の中心から０．７５ｒ１の位置における周方向１周分のＴＩＲが１μｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。【００１２】
２．前記ガラス基板は前記表面の中心部に内孔を有し、
前記ガラス基板の外周の半径をｒ１、前記内孔の半径をｒ０としたとき、前記表面の中心から（２ｒ０＋ｒ１）／３の位置における周方向１周分のＴＩＲが０．５μｍ以下であることを特徴とする前記１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。【００１３】
３．前記ガラス組成物は、Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）をいずれも含有していないことを特徴とする前記１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板。【００１４】
４．前記ガラス組成物は、Ｖ（バナジウム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｐ（リン）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｓｎ（スズ）、Ｃｅ（セリウム）、Ｔａ（タンタル）及びＢｉ（ビスマス）の中から選ばれる少なくとも１種の多価元素を含有していることを特徴とする前記１から３のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。【００１５】
５．前記ガラス組成物は、Ｐ（リン）、Ｓｎ（スズ）及びＣｅ（セリウム）の中から選ばれる少なくとも１種の多価元素を含有していることを特徴とする前記４に記載の情報記録媒体用ガラス基板。【００１６】
６．厚みが０．６３５ｍｍ〜２ｍｍであることを特徴とする前記１から５のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。【００１７】
７．ＳｉＯ２：５５〜７５質量％、
Ａｌ２Ｏ３：５〜１８質量％、
Ｌｉ２Ｏ：１〜１０質量％、
Ｎａ２Ｏ：３〜１５質量％、
Ｋ２Ｏ：０．１〜５質量％、
但し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの総量：１０〜２５質量％、
ＭｇＯ：０．１〜５質量％、
ＣａＯ：０．１〜５質量％、
ＺｒＯ２：０〜８質量％であり、
（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比が、
０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦０．８０の範囲であるガラス組成物からなるガラス基板を研削して所定の厚みに加工する研削工程と、
前記ガラス基板の、記録層を形成するための表面を研磨して表面粗さを減少させる研磨工程と、
イオン交換によって前記ガラス基板を強化する化学強化処理工程と、を有する円板状の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の外周の半径をｒ１としたとき、前記研磨工程による研磨後の周方向１周分のＴＩＲが、前記表面の中心から０．７５ｒ１の位置において１μｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００１８】
８．前記化学強化処理工程は、前記研削工程より後に行うことを特徴とする前記７に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００１９】
９．前記化学強化処理工程の後に前記研磨工程を行うことにより、イオン交換によって強化された前記ガラス基板の表面の表面粗さを減少させることを特徴とする前記７又は８に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２０】
１０．前記研磨工程における研磨量は０．５μｍ〜１０μｍであることを特徴とする前記９に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２１】
１１．前記研磨工程の後に前記化学強化処理工程を行うことにより、研磨によって表面粗さが減少した前記ガラス基板の表面のイオン交換を行うことを特徴とする前記７又は８に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２２】
１２．前記研磨工程における研磨量は３０μｍ以上であることを特徴とする前記１１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２３】
１３．前記化学強化処理工程の後、更に第２の研磨工程を行うことにより、イオン交換によって強化された前記ガラス基板の表面の表面粗さを、更に減少させることを特徴とする前記１１又は１２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２４】
１４．前記第２の研磨工程における研磨量は０．５μｍ〜１０μｍであることを特徴とする前記１３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２５】
１５．前記研磨工程は、研磨速度の大きい粗研磨工程と、該粗研磨工程よりも研磨速度の小さい精研磨工程とを含むことを特徴とする前記７から１４のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２６】
１６．前記研磨工程は、オスカータイプの研磨機が用いられることを特徴とする前記７から１５のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２７】
１７．前記研削工程における研削量は１００μｍ以上であることを特徴とする前記７から１６のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。【００２８】
１８．前記１から６のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板と、
前記情報記録媒体用ガラス基板の前記表面に設けられた、情報を記録するための記録層と、を有することを特徴とする情報記録媒体。【００２９】
１９．前記記録層は、磁気によって情報を記録する磁性層であることを特徴とする前記１８に記載の情報記録媒体。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、上記の成分を有するアルミノシリケートガラスについて、アルカリ金属成分（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対するアルカリ土類金属成分（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比を上記の範囲としている。そのため、化学強化処理の際のイオン交換の均一性が高く、ガラス基板の表面に圧縮応力を均等に働かせることができる。また、適度な耐熱性を有し、化学強化処理の際のガラス基板の熱変形が抑制される。これにより、化学強化処理による化学強化層を備えると共に、周方向のＴＩＲが十分に小さい情報記録媒体用ガラス基板、該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本実施形態の情報記録媒体用ガラス基板の模式図である。
【図２】研削工程、研磨工程及び化学強化処理工程の順序を示すフローチャートである。
【図３】オスカー両面研磨機の構成を示す断面図である。
【図４】オスカー両面研磨機における上下の研磨皿とガラス基板の動きを模式的に示す図である。
【図５】本実施形態の情報記録媒体の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明の実施の形態について図１〜図５を参照しつつ詳細に説明するが、本発明は該実施の形態に限られるものではない。
【００３３】
（ガラス組成物）
本実施形態の情報記録媒体用ガラス基板は、表面の化学強化層を除いた部分が、
ＳｉＯ２：５５〜７５質量％、
Ａｌ２Ｏ３：５〜１８質量％、
Ｌｉ２Ｏ：１〜１０質量％、
Ｎａ２Ｏ：３〜１５質量％、
Ｋ２Ｏ：０．１〜５質量％、
但し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの総量：１０〜２５質量％、
ＭｇＯ：０．１〜５質量％、
ＣａＯ：０．１〜５質量％、
ＺｒＯ２：０〜８質量％であり、
（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比が、
０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦０．８０の範囲であるガラス組成物からなる。
【００３４】
各成分を上記範囲に限定した理由は、以下の通りである。
【００３５】
ＳｉＯ２は、ガラスの網目構造を形成する重要な成分であり、化学的耐久性にも寄与するところが大きい。ＳｉＯ２の含有量が５５質量％より少ないと化学的耐久性が悪化する恐れがある。逆に７５質量％を超えると溶融温度が高くなりすぎてしまう。そのためＳｉＯ２の含有量は５５〜７５質量％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは６０〜７０質量％の範囲である。
【００３６】
Ａｌ２Ｏ３は、ＳｉＯ２と共に網目構造を形成する重要な成分であり、化学的耐久性を向上させるだけではなく、イオン交換性能を向上させる働きを有している。Ａｌ２Ｏ３の含有量が５質量％より少ないと、化学的耐久性やイオン交換性能が低下する恐れがある。逆に１８質量％を超えると、耐失透性が悪化してしまう。このためＡｌ２Ｏ３の含有量は５〜１８質量％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは７〜１６質量％の範囲である。
【００３７】
Ｌｉ２Ｏは、イオン交換による化学強化処理を施すために必要な成分である。化学強化処理においては、ガラス中のＬｉ＋イオンが、化学強化処理液中のＮａ＋イオンやＫ＋イオンとイオン交換されることによってガラス基板が強化される。Ｌｉ２Ｏの含有量が１質量％より少ないと、このイオン交換性能が低下し、溶融性の改善効果が得られない。逆に１０質量％を超えると、耐失透性や化学的耐久性が悪化してしまう。そのため、Ｌｉ２Ｏの含有量は１〜１０質量％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは３〜６質量％の範囲である。
【００３８】
Ｎａ２Ｏは、イオン交換による化学強化処理を施すために必要な成分である。化学強化処理においては、ガラス中のＮａ＋イオンが、化学強化処理液中のＫ＋イオンとイオン交換されることによってガラス基板が強化される。Ｎａ２Ｏの含有量が３質量％より少ないと、このイオン交換性能が低下すると共に、溶融性・耐失透性が悪化する。逆に１５質量％を超えると、化学的耐久性が低下してしまう。そのためＮａ２Ｏの含有量は３〜１５質量％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは６〜１０質量％の範囲である。
【００３９】
Ｋ２Ｏは溶融性を改善する効果を持っている。Ｋ２Ｏの含有量が０．１質量％未満では溶融性を改善する効果が得られず、逆に５質量％を超えると化学的耐久性が低下してしまう。そのためＫ２Ｏの含有量は０．１〜５質量％の範囲とした。その中でも好ましくは０．１〜３質量％の範囲である。
【００４０】
そして、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの総量を１０〜２５質量％の範囲とした。この総量が１０質量％より少ないと十分な溶融性の改善効果が得られず、またアルカリ混合効果も得られないため化学的耐久性も低下する。逆に総量が２５質量％を超えると化学的耐久性が低下してしまう。より好ましくは１２〜２３質量％の範囲である。
【００４１】
ＭｇＯは、剛性を上げると共に溶融性を改善する効果を持っている。ＭｇＯの含有量が０．１質量％未満では、剛性を上げる効果と溶融性を改善する効果が得られず、逆に含有量が５質量％を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまう。そのためＭｇＯの含有量は０．１〜５質量％の範囲とした。その中でも好ましくは０．３〜３．５質量％の範囲である。
【００４２】
ＣａＯは線熱膨張係数及び剛性を上げると共に溶融性を改善する効果を持つ。ＣａＯの含有量が０．１質量％未満では線熱膨張係数及び剛性を上げる効果が十分に得られず、逆に含有量が５質量％を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまう。そのためＣａＯの含有量は０．１〜５質量％の範囲とした。その中でも好ましくは０．５〜４．０質量％の範囲である。
【００４３】
ＺｒＯ２は化学的耐久性を向上させると共に剛性を上げる効果を持つので、必要に応じて含有させて良い。しかし、ＺｒＯ２の含有量が８質量％を超えると、耐失透性が悪化してしまう。そのためＺｒＯ２の含有量は０〜８質量％の範囲とした。その中でも好ましくは０〜７質量％の範囲である。
【００４４】
更に、（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比を、０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦０．８０とした。アルカリ金属成分（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する、アルカリ土類金属成分（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比を上記の範囲とすることで、ガラス材料が適度な耐熱性を持ち、強化処理中の熱変形を防ぐことができる。また、イオン交換の均一性が高く、ガラス基板表面に均等な圧縮応力を働かせることができるので、基板の平坦度（周方向ＴＩＲ）を抑えることができる。
【００４５】
上記質量比が０．１０未満では、ガラス材料の耐熱性が低すぎることで強化処理中の熱変形が避けられず、しかもガラス材料としての化学的耐久性の劣化を招く。上記質量比が０．８０を超えると、圧縮応力が基板表面で均等に働くようにイオン交換を行うことが困難となり、場合によっては、ガラス材料の耐熱性が高すぎることでイオン交換自体を行うことが困難となる。よって、（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比は、０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦０．８０とすることが重要となる。
【００４６】
また、環境上及び健康上の観点から、Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）は、いずれも含有していないことが好ましい。ここで、含有しないとは、ガラスの原材料として意識的に含有させたものを排除する意味であって、他の成分の原料に不純物として含まれることによって不可避的に含有してしまう程度の微量であれば許容される。
【００４７】
また、Ｖ（バナジウム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｐ（リン）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｓｎ（スズ）、Ｃｅ（セリウム）、Ｔａ（タンタル）及びＢｉ（ビスマス）の中から選ばれる少なくとも１種の多価元素を含有していることが好ましい。これらの多価元素は清澄剤として機能し、溶融ガラス中の気泡を効果的に除去することができる。１種類の多価元素のみを単独で含有させてもよいし、２種以上の多価元素を含有させてもよい。中でも、Ｐ（リン）、Ｓｎ（スズ）及びＣｅ（セリウム）は、特に効果的に気泡を除去することができるため好ましい。
【００４８】
（情報記録媒体用ガラス基板）
図１に、本実施形態の情報記録媒体用のガラス基板の模式図を示す。図１（ａ）は一方の表面から見た上面図、図１（ｂ）は断面図である。
【００４９】
本実施形態の情報記録媒体用のガラス基板１０は、記録層を形成するための表面１１ａ、１１ｂに、それぞれ化学強化層１２ａ、１２ｂを有する円板状のガラス基板であり、中心部に内孔１３を有している。
【００５０】
ガラス基板１０は、イオン交換によって組成比の変化した化学強化層１２ａ、１２ｂを除いて、上記の成分を含有し、アルカリ金属成分（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する、アルカリ土類金属成分（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比が上記の範囲であるガラス組成物からなる。そのため、化学強化処理の際のイオン交換の均一性が高く、ガラス基板の表面に圧縮応力を均等に働かせることができる。また、適度な耐熱性を有し、化学強化処理の際のガラス基板の熱変形が抑制される。従って、周方向のＴＩＲを十分に小さくすることができる。
【００５１】
本実施形態において、ＴＩＲ（Ｔｏｔａｌ  Ｉｎｄｉｃａｔｅｄ  Ｒｕｎｏｕｔ）とは、ガラス基板１０の平坦度（うねり量）を表す指標であり、評価面（表面１１ａ、１１ｂ）の最小二乗平面から最高点までの距離と、最小二乗平面から最低点までの距離との合計のことを言う。
【００５２】
ヘッド浮上量の低減や、記録媒体の回転数の増大を更に進めるためには、ガラス基板１０の周方向のＴＩＲを抑えることが必要不可欠となる。ガラス基板１０の外周の半径をｒ１としたとき、表面１１ａ、１１ｂの半径ｒｏｕｔ＝０．７５ｒ１の位置における周方向１周分のＴＩＲ（以下、「外周ＴＩＲ」という）を１．０μｍ以下にするとヘッドの低浮上化や高速回転への対応が容易になり、安定して記録・再生を行うことができる。外周ＴＩＲが１．０μｍより大きいと、場合によってはヘッドと記録媒体との接触による記録・再生エラーが発生するおそれがある。よって、外周ＴＩＲは１．０μｍ以下であることが好ましい。その中でも好ましくは０．５μｍ以下である。
【００５３】
また、ＨＤＤでは、ヘッドの線速度が記録媒体の内周側と外周側とで異なっており、表面１１ａ、１１ｂの内周側部分は、外周側部分よりも更に高平坦度であることが要求される。そこで、ガラス基板１０の外周の半径をｒ１、内孔１３の半径をｒ０としたとき、表面１１ａ、１１ｂの半径ｒｉｎ＝（２ｒ０＋ｒ１）／３の位置における周方向１周分のＴＩＲ（以下、「内周ＴＩＲ」という）を０．５μｍ以下にするとヘッドの低浮上化や高速回転への対応が容易になり、安定して記録・再生を行うことができる。内周ＴＩＲが０．５μｍより大きいと、場合によってはヘッドと記録媒体との接触による記録・再生エラーが発生するおそれがある。よって、内周ＴＩＲは０．５μｍ以下であることが好ましい。その中でも好ましくは０．３μｍ以下である。内周ＴＩＲを小さく抑えることで、記録媒体の形状に起因した上記課題に対応できるのみでなく、通常のＨＤＤで一般に用いられているような周方向に線状で押しつけるクランプ方式において、クランプによって発生する記録媒体の歪を小さくすることができ、ヘッドと基板の接触の危険を一層回避することができる。
【００５４】
このような周方向のＴＩＲは、白色光の干渉を利用して表面形状を測定する方式（例えば、Ｐｈａｓｅ  Ｓｈｉｆｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製Ｏｐｔｉｆｌａｔ）や、被測定面に対して斜めにレーザー光を入射することで垂直入射方式に比べ高い反射率を得ることができ、粗い面形状においても測定が可能な方式（例えば、ＴＲＯＰＥＬ社製ＦｌａｔＭａｓｔｅｒ  ＦＭ１００ＸＲＡ）などにより測定することができる。
【００５５】
ガラス基板１０の厚みは０．６３５ｍｍが一般的である。本実施形態のガラス基板１０は、均一な圧縮応力層（化学強化層１２ａ、１２ｂ）を形成することができるため、周方向のＴＩＲを十分に小さくすることができる。また、機械的強度確保やフラッタリング量抑制のため、０．６３５ｍｍよりも厚いガラス基板１０が要求される場合もある。このようなガラス基板１０の厚みが０．６３５ｍｍよりも厚い場合に、強化処理時間を更に長くして、更に深く圧縮応力層を形成し基板の強度を高くする方法があるが、上記のガラス組成であれば化学強化処理を施すのに適した組成であるので、強化時間を長くし、圧縮応力層を深くするほど効果が顕著に現れる。特に、厚みが０．６３５ｍｍ〜２ｍｍの場合に有効である。
【００５６】
（情報記録媒体用ガラス基板の製造方法）
本実施形態の情報記録媒体用のガラス基板１０は、上記の成分を含有し、アルカリ金属成分（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）に対する、アルカリ土類金属成分（ＭｇＯ＋ＣａＯ）の質量比が上記の範囲であるガラス組成物からなる。そのため、製造のために複雑なプロセスや特殊な装置を必要とせず、公知の一般的な製造方法によって、周方向ＴＩＲの小さいガラス基板を製造することができる。
【００５７】
通常は、情報記録媒体用のガラス基板１０の基になるブランク材を作製した後、内外周加工、研削・研磨加工、化学強化処理、洗浄などの工程を経て製造するのが一般的である。ブランク材の作製は、溶融ガラスをプレス成形して作製する方法や、シート状のガラスを切断して作製する方法が知られている。内外周加工は、内孔１３の穿孔加工、内外周の形状や寸法精度確保のための研削加工、内外周の研磨加工等を行う工程である。研削・研磨加工は、ガラス基板を研削して所定の厚みに加工する研削加工や、記録層を形成するための表面１１ａ、１１ｂを研磨して表面粗さを減少させる研磨加工を行う工程である。通常は、粗研削加工、精研削加工、粗研磨加工、精研磨加工といったようにいくつかの段階に分けて行われる場合が多い。化学強化処理は、化学強化処理液にガラス基板を浸漬し、イオン交換によってガラス基板１０を強化する工程である。また、洗浄は、ガラス基板１０の表面１１ａ、１１ｂに残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する工程である。
【００５８】
本実施形態の情報記録媒体用のガラス基板１０は、上記のガラス成分を含有するアルミノシリケートガラスからなるため、化学強化処理を施すことにより、高い耐衝撃性や耐振動性を確保することができる。化学強化処理は、加熱された化学強化処理液にガラス基板１０を浸漬することによってガラス基板１０の成分であるリチウムイオン、ナトリウムイオンをこれらのイオンよりイオン半径の大きなナトリウムイオン、カリウムイオン等と置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス基板１０の表面１１ａ、１１ｂが強化される。
【００５９】
化学強化処理液としては、ナトリウムイオンやカリウムイオンを含む溶融塩を用いることが一般的である。例えば、ナトリウムやカリウムの硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩や、これらの混合溶融塩が挙げられる。中でも、融点が低く、ガラス基板の変形を防止できるという観点から、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）と硝酸カリウム（ＫＮＯ３）の混合溶融塩を用いることが好ましい。
【００６０】
上述の各工程のうち、上記のガラス組成物からなるガラス基板１０を研削して所定の厚みに加工する研削工程、記録層を形成するための表面１１ａ、１１ｂを研磨して表面粗さを減少させる研磨工程、及び、イオン交換によってガラス基板１０を強化する化学強化処理工程の加工順序の好ましい例を図２（ａ）〜（ｅ）に示す。図２に示したいずれの工程で製造しても、平坦度の高い（周方向ＴＩＲの小さい）ガラス基板１０を製造できる。なお、図２においては、上述のブランク材の作製、内外周加工等を前工程、洗浄等を後工程としてある。
【００６１】
化学強化処理工程の後に研削加工を行うと、ガラス基板１０の上下の表面１１ａ、１１ｂに形成された化学強化層１２ａ、１２ｂを均一に残すことが難しく、基板の平坦度や機械的強度を確保することが困難になる場合がある。よって、化学強化処理工程は研削工程より後に行うことが望ましい。
【００６２】
化学強化処理工程より前に研削工程を行う場合、研削量が１００μｍ未満では、表面を平坦化する効果が十分に得られない場合がある。よって、この場合の研削工程における研削量は１００μｍ以上とすることが望ましい。その中でも好ましくは、１５０μｍ以上である。
【００６３】
研磨工程は、図２（ａ）、（ｂ）のように化学強化処理工程の後に行ってもよいし、図２（ｃ）、（ｅ）のように化学強化処理工程よりも前に行ってもよい。また、図２（ｄ）のように研磨工程の後に化学強化処理工程を行い、その後更に第２の研磨工程を行うことも好ましい。更に、図２（ｂ）、（ｅ）のように、研磨工程を、研磨速度の大きい粗研磨工程と、粗研磨工程よりも研磨速度の小さい精研磨工程の２段階の工程に分けて実施することも好ましい。
【００６４】
図２（ａ）、（ｂ）、（ｄ）のように化学強化処理工程の後に研磨工程（又は第２の研磨工程）を行って、イオン交換によって強化されたガラス基板１０の表面１１ａ、１１ｂの表面粗さを減少させる方法の場合、表面１１ａ、１１ｂの表面粗さをより小さくできるというメリットがある。この場合、研磨量を１０μｍ以下とすることで、上下の化学強化層１２ａ、１２ｂの応力のバランスを確保することが容易となり、高い平坦度を得ることができる。一方、研磨量を０．５μｍ以上とすることで、表面１１ａ、１１ｂを平滑化する効果が十分に確保することができる。よって、化学強化処理工程の後に行う研磨工程の研磨量は０．５μｍ〜１０μｍの範囲とすることが望ましく、その中でも好ましくは０．７μｍ〜８μｍの範囲である。図２（ｂ）のように、化学強化処理工程の後の研磨工程を粗研磨工程と精研磨工程とに分けて行う場合には、両方の工程の総研磨量を０．５μｍ〜１０μｍの範囲とすることが望ましく、その中でも好ましくは０．７μｍ〜８μｍの範囲である。
【００６５】
図２（ｃ）〜（ｅ）のように研磨工程の後に化学強化処理工程を行って、研磨によって表面粗さが減少したガラス基板１０の表面１１ａ、１１ｂのイオン交換を行う方法の場合、イオン交換の均一性をより高めることができるというメリットがある。この場合、研磨量を３０μｍ以上とすることで、表面を平坦化する効果を十分に確保することができる。よって、化学強化処理工程の前に行う研磨工程の研磨量は３０μｍ以上とすることが望ましい。その中でも好ましくは、３５μｍ以上である。図２（ｅ）のように、化学強化処理工程の前の研磨工程を粗研磨工程と精研磨工程とに分けて行う場合には、両方の工程の総研磨量を３０μｍ以上とすることが望ましく、その中でも好ましくは、３５μｍ以上である。
【００６６】
また、ガラス基板１０の平滑性を更に高め、外周ＴＩＲを１．０μｍ以下としたり、内周ＴＩＲを０．５μｍ以下としたりするためには、研磨工程においてオスカー両面研磨機を用いることが好ましい。図３はオスカー両面研磨機２０の構成を示す断面図である。また、図４は上下の研磨皿とガラス基板の動きを模式的に示す図であり、実線部分が下研磨皿２２とガラス基板１０を、破線部分が上研磨皿２１をそれぞれ示している。
【００６７】
図３及び図４に示すように、オスカー両面研磨機２０は、上研磨皿２１と下研磨皿２２とを備え、下研磨皿２２の凹部に載置されたガラス基板１０の表面１１ａ、１１ｂ（図１（ｂ）参照）を、各種の研磨材で研磨する装置である。下研磨皿２２は回転軸２３を中心に所定の回転速度ωで回転させるが、上研磨皿２１は回転させることなく、左右（図の矢印Ａ方向）の揺動のみ行う。そのため、ガラス基板１０は下研磨皿２２の回転によって自然にツレ回り（自転）しながら研磨されるため、特に周方向の平坦度を向上させることができ、周方向の外周ＴＩＲや内周ＴＩＲをより小さくすることができる。
【００６８】
使用する研磨剤や研磨パッドに特に制限はない。例えば、研磨材としては、酸化セリウム、ダイヤモンド、アルミナなどが好適であり、研磨パッドとしては、不織布、発泡ウレタン、スエードなどが好適である。
【００６９】
本実施形態のガラス基板は上記の組成比を有するガラス組成物からなるため、化学強化処理を施すのに適しており、化学強化処理の際のイオン交換の均一性が高いものの、ガラス基板の両面に完全に均一な圧縮応力層（化学強化層１２ａ、１２ｂ（図１（ｂ）参照））が形成されない限り、少なくともガラス基板の外側には多少の反りが生じる。しかし、上述のオスカー両面研磨機２０を用いてガラス基板１０を自然にツレ回りさせながら研磨することにより、ガラス基板の外側の反りも顕著に低減することができ、より小さい外周ＴＩＲを実現することができる。なお、ガラス基板の内周よりも外周の方が周方向長さが長いということもあり、基本的には周方向ＴＩＲは、内周ＴＩＲ＜外周ＴＩＲの関係を満たす場合が多い。
【００７０】
（情報記録媒体）
図５に本実施形態の情報記録媒体を模式的に示す。図５（ａ）は表面１１ａの側から見た上面図、図５（ｂ）は断面図である。情報記録媒体３０は、上述の情報記録媒体用のガラス基板１０の表面１１ａ、１１ｂに、情報を記録するための記録層３１を備えている。
【００７１】
記録層３１は、ガラス基板１０の２つの表面１１ａ、１１ｂのうち、少なくとも一方に備えていればよい。記録層３１の種類は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層３１を用いることができるが、特に磁性層を記録層３１として用いた情報記録媒体３０（磁気ディスク）に好適である。
【００７２】
磁性層に用いる磁性材料としては特に制限はなく公知の材料を適宜選択して用いることができるが、高い保持力を得るため、結晶異方性の高いＣｏを主成分とするＣｏ系合金などが好適である。具体的には、ＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。また、磁性層を非磁性材料（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａなど）としてもよい。
【００７３】
磁性層として、上記のＣｏ系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、ＳｉＯ２、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型及び垂直型の何れの記録形式であってもよい。
【００７４】
磁性層の形成方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を、情報記録媒体用のガラス基板１０にスピンコートする方法や、スパッタリングによる方法、無電解メッキによる方法が挙げられる。磁性層の薄膜化、高密度化の観点からは、スパッタリングによる方法や無電解メッキによる方法が好ましい。
【００７５】
磁気ディスクには、更に必要により下地層を設けてもよい。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどの非磁性金属が挙げられる。磁性層がＣｏを主成分とする場合には、磁気特性向上等の観点から、下地層の材料はＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の材料からなる層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等が挙げられる。
【００７６】
また、磁性層の表面に、磁性層の摩耗や腐食を防止するための保護層を設けてもよい。保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ＺｒＯ２層、ＳｉＯ２層などが挙げられる。保護層は、単層でもよいし、同一又は異種の層からなる多層構成でもよい。これらの保護層は、下地層、磁性層などと共に、インライン型スパッタ装置で連続して形成することも可能である。また、Ｃｒ層の上にＳｉＯ２層を積層した保護膜を形成する場合、テトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈してコロイダルシリカ微粒子を分散させた溶液を、Ｃｒ層の上に塗布し、さらに焼成することでＳｉＯ２層を形成してもよい。
【００７７】
また、磁性層や保護層の表面に、磁気ヘッドの滑りをよくするための潤滑層を設けてもよい。潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
【実施例】
【００７８】
以下、本発明の効果を確認するために行った実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００７９】
所定量の原料粉末を秤量して白金坩堝に入れ、混合した後、電気炉中で１５００℃で溶解した。原料が十分に溶解した後、撹拌羽をガラス融液に挿入し、約１時間撹拌した。その後、撹拌羽を取り出し、３０分間静置した後、治具に融液を流し込むことによってガラスブロックを得た。その後、各ガラスのガラス転移点付近までガラスブロックを再加熱し、徐冷して歪取りを行った。【００８０】
得られたガラスブロックを約１ｍｍの厚さ、２．５インチの円盤形状にスライスし、内周、外周が同心円となるようにカッターを用いて切り出した。そして、図２（ａ）〜（ｅ）に示したそれぞれの工程に従って、研削加工、粗研磨加工、精研磨加工、化学強化処理を行い、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚み０．６３５ｍｍのガラス基板を作製した。【００８１】
研削加工及び研磨加工は、図３、図４に示したオスカー両面研磨機を用いる方法（研磨方法Ａ）と、研磨機の太陽歯車と内歯車に噛み合うようなギア部を備えた研磨用キャリアに基板を設置し、上研磨皿と下研磨皿とを互いに逆方向に回転させることによって研磨する方法（研磨方法Ｂ）の２通りの方法により行った。いずれの場合も、研削加工ではダイヤモンドペレットを用い、研磨加工では酸化セリウムを研磨剤として用いた。粗研磨加工ではポリウレタン製の研磨パッド、精研磨加工ではスエード製の研磨パッドを用いた。【００８２】
なお、表２〜表５に記載の実施例及び比較例は、オスカー両面研磨機を用いる研磨方法Ａで加工を行った。【００８３】
化学強化処理は、３５０℃に加熱した硝酸ソーダ（ＮａＮＯ３）と硝酸カリウム（ＫＮＯ３）を１：１のモル比で混合させた硝酸塩混合溶液に所定時間（３０分又は６０分）浸漬させることで行い、最後に洗浄を行うことで研磨剤や硝酸塩混合溶液を取り除き、実施例及び比較例のサンプルとした。表中に記載が無い場合の化学強化処理の時間（浸漬時間）は３０分である。【００８４】
図２（ｅ）の工程で作製したガラス基板について外周ＴＩＲ及び内周ＴＩＲの評価（表１）と、残留する気泡数の評価（表２）を行った。【００８５】
また、図２（ａ）〜（ｅ）に示した工程別に外周ＴＩＲの評価（表３）と、研削・研磨量を変えたときの外周ＴＩＲの評価（表４）を行った。【００８６】
更に、図２（ｅ）の工程で各種の厚みのガラス基板を作製し、それぞれ２種の時間で化学強化処理し外周ＴＩＲの評価（表５）を行った。【００８７】
なお、外周ＴＩＲ及び内周ＴＩＲは、白色光の干渉を利用して表面形状を測定する方式の、Ｐｈａｓｅ  Ｓｈｉｆｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製Ｏｐｔｉｆｌａｔを用いて測定した。周方向ＴＩＲの測定箇所は、外周ＴＩＲは基板中央より半径ｒｏｕｔ＝２４．３８ｍｍの位置、内周ＴＩＲは半径ｒｉｎ＝１７．５０ｍｍの位置とした。残留する気泡の数の評価は、ガラス基板の全面を対象とし、５０倍の光学顕微鏡を用いて、ガラス基板１枚あたりの気泡の数を測定することにより行った。【００８８】
これらの評価結果を、以下の表１〜５に示す。【００８９】
【表１】
2011096310.tif 000003
【００９０】
表１は、図２（ｅ）の工程により、同一の加工条件（２種類の研磨方法）で作製したガラス基板についての、外周ＴＩＲ及び内周ＴＩＲの測定結果である。【００９１】
表１の結果より、同一の研磨方法で比較した場合、０．１０≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦０．８０の範囲内である実施例２〜９のガラス基板は、範囲外の比較例１、１０のガラス基板よりも外周ＴＩＲ及び内周ＴＩＲが小さいことが確認された。【００９２】
また、研磨方法Ｂで加工するよりも、オスカー両面研磨機を用いる研磨方法Ａで加工する方がより高い平坦度を得られることが確認された。研磨方法Ａの場合、実施例２〜９のガラス基板は、いずれも、外周ＴＩＲが１μｍ以下、内周ＴＩＲが０．５μｍ以下であり、非常に高い平坦度を得ることができた。【００９３】
【表２】
2011096310.tif 000004
【００９４】
表２は、図２（ｅ）の工程により、同一の加工条件で作製したガラス基板についての、残留する気泡数の測定結果である。【００９５】
表２の結果より、上記のガラス組成に対して、Ｖ（バナジウム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｐ（リン）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｓｎ（スズ）、Ｃｅ（セリウム）、Ｔａ（タンタル）及びＢｉ（ビスマス）からなる群の中から選ばれる少なくとも１種の多価元素を含有させることで、ガラス中に残留する気泡の数が顕著に少なくなることが確認された。その中でもＳｎ、Ｃｅ、Ｐに関しては清澄効果が特に高いことが確認された。【００９６】
【表３】
2011096310.tif 000005
【００９７】
表３は、各種の工程順序で作製したガラス基板の外周ＴＩＲを測定した結果である。【００９８】
実施例２３〜２８は表１の実施例２のガラス組成を用い、比較例２９〜３４は表１の比較例１のガラス組成を用いた。また、実施例２３〜２７と比較例２９〜３３は、それぞれ図２（ａ）〜（ｅ）に示す工程順序で作製し、実施例２８及び比較例３４は化学強化処理工程を研削工程より先に行う工程順序で作製した。【００９９】
表３に示す外周ＴＩＲの測定結果より、同じ工程同士を比較した場合、比較例（表１の比較例１のガラス組成）よりも実施例（表１の実施例２のガラス組成）の方が外周ＴＩＲの小さいガラス基板が得られることが確認された。更に、図２（ａ）〜（ｅ）に示すような、化学強化処理工程を研削工程より後に行った実施例２３〜２７のガラス基板については、外周ＴＩＲを１μｍ以下の非常に小さい値にすることができた。【０１００】
【表４】
2011096310.tif 000006
【０１０１】
表４は、表１の実施例２のガラス組成の場合について、各工程別に研削・研磨量を変えたときの外周ＴＩＲの測定結果である。【０１０２】
表４の結果のように、いずれの場合においても、外周ＴＩＲの小さいガラス基板が得られることが確認された。【０１０３】
さらに、実施例３５、３６の比較より、化学処理工程より先に行われる研削工程では研削量を１００μｍ以上、望ましくは１５０μｍ以上とすれば外周ＴＩＲを１μｍ以下にできると想定される。【０１０４】
また、実施例３７、３８の比較及び実施例４１、４２の比較より、化学強化処理工程の後に行う研磨工程の総研磨量は０．５μｍ〜１０μｍの範囲、望ましくは０．７μｍ〜８μｍの範囲とすれば、外周ＴＩＲを１μｍ以下にできると想定される。【０１０５】
また、実施例３９、４０の比較より、化学強化処理工程の前に行う研磨工程の研磨量は３０μｍ以上、望ましくは３５μｍ以上とすれば、外周ＴＩＲを１μｍ以下にできると想定される。【０１０６】
また、実施例４３、４４の比較より、化学強化処理工程の前の研磨工程を粗研磨工程と精研磨工程とに分けて行う場合には、両方の工程の総研磨量を３０μｍ以上、望ましくは３５μｍ以上とすれば、外周ＴＩＲを１μｍ以下にできると想定される。【０１０７】
【表５】
2011096310.tif 000007
【０１０８】
表５は、図２（ｅ）の工程で作製したガラス基板の厚み別に外周ＴＩＲを測定した結果である。【０１０９】
ガラス基板の厚みは、０．６３５ｍｍ、０．８ｍｍ、１ｍｍ、１．２ｍｍ、１．５ｍｍ、２ｍｍの６種類とし、実施例４５〜５６は表１の実施例２のガラス組成を用いて作製し、比較例５７〜６８は表１の比較例１のガラス組成を用いて作製したものである。【０１１０】
表５の結果より、厚みが０．６３５ｍｍ〜２ｍｍの基板の場合において、同じ厚み同士を比較した場合、比較例よりも実施例の方が外周ＴＩＲの小さいガラス基板が得られることが確認された。また、比較例では化学強化処理時間を長くすると外周ＴＩＲが大きく悪化するのに対し、実施例では化学強化処理時間を長くしても外周ＴＩＲはほとんど変化しないことから、化学強化処理時間が長い場合に特に有利であるという結果が顕著に現れた。
【符号の説明】
【０１１１】
１０  ガラス基板
１１ａ、１１ｂ  表面
１２ａ、１２ｂ  化学強化層
１３  内孔
２０  オスカー両面研磨機
２１  上研磨皿
２２  下研磨皿
２３  回転軸
３０  情報記録媒体
３１  記録層
【図１】
2011096310.tif 000008
【図２】
2011096310.tif 000009
【図３】
2011096310.tif 000010
【図４】
2011096310.tif 000011
【図５】
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【国際調査報告】
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2011096310.tif 000014
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