(57)【要約】  固定フレーム（４０）、並びにその上に配置された第１の計測機器（５０）、及び固定フレームマーク（２０）を有するマーク板（４１）と、移動ステージ（６０）、並びにその上に配置された基準マーク（３０）、移動ステージマーク（７０）及び第２の計測機器（１０）と、を含む二層位置合わせ装置が開示される。第１の計測機器（５０）は、基準マーク（３０）と移動ステージマーク（７０）との間の相対位置関係を計測するように構成され、第２の計測機器（１０）は、基準マーク（３０）と固定フレームマーク（２０）との間の相対位置関係を計測するように構成され、それらから移動ステージマーク（７０）と固定フレームマーク（２０）との間の最終的相対位置関係が導出され、それに基づいて移動ステージ（６０）が標的位置に動かされる。対応する二層位置合わせ方法がさらに開示される。装置内で、移動ステージ（６０）が唯一の可動構成要素である。さらに、座標関係は、位置合わせ精度を改善するように、移動ステージ（６０）の位置決め精度から校正精度が影響されないように静的な仕方で校正することができる。さらに、柔軟性及び位置合わせ効率の付加的な改善を可能にするために、２レンズ又は複数レンズ設計を用いることができる。【選択図】図１
2019515273.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定フレーム、並びにそれに配置される第１の計測機器、及び固定フレームマークを有するマーク板と、
移動ステージ、並びにそれに配置される基準マーク、移動ステージマーク及び第２の計測機器と、
を備える位置合わせ装置であって、
前記第１の計測機器は、前記基準マークと前記移動ステージマークとの間の第１の相対位置関係を計測するように構成され、前記第２の計測機器は、前記基準マークと前記固定フレームマークとの間の第２の相対位置関係を計測するように構成され、前記移動ステージは、前記第１及び第２の相対位置関係から導出される前記移動ステージマークと前記固定フレームマークとの間の第３の相対位置関係に基づいて、標的位置に移動させることができる、
位置合わせ装置。
【請求項２】
前記移動ステージマークは、前記移動ステージと共に可動であるように、前記移動ステージに支持され、位置合わせされる対象に配置される、請求項１に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項３】
前記第２の計測機器はビームスプリッタであって、前記固定フレームマークと前記基準マークとの相対位置が計測可能であるように、前記固定フレームマークと前記基準マークとが前記ビームスプリッタの２つのそれぞれの視界の中に同時に位置決めされることを可能する、請求項１に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項４】
前記固定フレームマークは２つのマーキング点を備え、これらは前記移動ステージの移動の結果として、前記第２の計測機器の同じ１つの視界の中に連続的に位置決め可能であり、ここで、前記２つのマーキング点と前記基準マークとの間のそれぞれの距離、並びに、前記２つのマーキング点を接続する線に対する前記移動の方向の回転の角度が算出され、それらに基づいて、前記固定フレームマークと前記基準マークとの間の第２の相対位置関係を得ることができる、請求項３に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項５】
前記移動ステージの移動の結果として、前記移動ステージマーク及び前記基準マークを前記第１の計測機器の一視界の中で連続的に位置決め可能であり、ここで、前記第１の計測機器は、前記移動ステージにある前記移動ステージマークの位置及び前記基準マークの位置を、それぞれ、計測し、それらに基づいて前記移動ステージマークと前記基準マークとの間の前記第１の相対位置関係を得ることができる、請求項３に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項６】
前記固定フレームマークは、前記第２の計測機器と前記固定フレームとの間の座標関係の静的校正のために構成された第１の校正マークを備え、前記基準マークは、前記第１の計測機器と前記移動ステージとの間の座標関係の静的校正のために構成された第２の校正マークを備える、請求項５に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項７】
前記移動ステージにある前記移動ステージマーク及び前記基準マークの位置を同時に計測するための、複数の第１の計測機器を備える、請求項５に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項８】
それぞれ、前記第２の計測機器及び前記第１の計測機器に接続され、前記第２の計測機器及び前記第１の計測機器の照明視界をもたらすように構成された、第１の光源及び第２の光源をさらに備える、請求項５に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項９】
それぞれ、前記第２の計測機器及び前記第１の計測機器に接続される２つのカメラをさらに備え、前記カメラは、前記固定フレームマーク、前記移動ステージマーク及び前記基準マークを映すように構成される、請求項５に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項１０】
前記第２の計測機器は、
前記固定フレームマーク及び前記基準マークを、前記第１の光源からの光を反射することによって、位置決め可能である２つのそれぞれの視界を形成するように構成された２つの反射体であって、前記固定フレームマーク及び前記基準マークを結像光によってもたらすようにさらに構成される２つの反射体と、
それぞれ、入射光及び前記結像光を透過させるように構成された２つのレンズと、
を備える、請求項８に記載の二層位置合わせ装置。
【請求項１１】
固定フレーム、並びにそれに配置された第１の計測機器、及び固定フレームマークを有するマーク板を準備するステップと、
移動ステージ、並びにそれに配置された基準マーク、移動ステージマーク及び第２の計測機器を準備するステップと、
前記基準マークと前記移動ステージマークとの間の第１の相対位置関係を前記第１の計測機器によって計測するステップと、
前記基準マークと前記固定フレームマークとの間の第２の相対位置関係を前記第２の計測機器によって計測するステップと、
前記移動ステージマークと前記固定フレームマークとの間の第３の相対位置関係を、前記第１及び第２の相対位置関係から導出するステップと、
前記第３の相対位置関係に基づいて、前記移動ステージを標的位置に動かすステップと、
を含む二層位置合わせ方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はフォトリソグラフィの分野、特に二層位置合わせ装置及び二層位置合わせ方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体フォトリソグラフィ設備において、位置合わせは、その精度が半導体フォトリソグラフィ設備のオーバレイ精度を決定する傾向にあるので、重要なサブシステムである。マシンビジョンに基づく位置合わせシステムは、簡単な構造、高速及び高精度などの広範な利点のために、広く使用されている。
【０００３】
フォトリソグラフィ用具には、レチクル座標をウェハ座標に関連付けるために対物レンズが使用される。しかし、対物レンズのような高精度の光学部材が存在しないため、構造的により簡単な準リソグラフィ装置は、二層位置合わせのための専用の光学及び制御システムに依拠する必要がある。
【０００４】
特許文献１は、互いに位置合わせされる二層の物体の間に可動ビームスプリッタが配置される二層位置合わせ解決策を開示している。このビームスプリッタは、上層及び底層の両方の上にマークの像を造ることができる。位置合わせの位置に向かって、または位置合わせの位置から、レンズが移動ステージによって運ばれる。しかし、この解決策においては、移動ステージとレンズが互いに独立しているので、システムは構造及び移動制御の点で複雑であり、このことは、位置合わせ精度及び信頼度に対して好ましくない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／０２５１６９９（Ａ１）号
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
従来の解決策に付随する問題を克服するために、本発明は、
固定フレーム、並びに、その上に配置される、第１の計測機器、及び固定フレームマークを有するマーク板と、
移動ステージ、並びに、その上に配置される、基準マーク、移動ステージマーク及び第２の計測機器と、
を含む位置合わせ装置を提供し、ここで、第１の計測機器は、基準マークと移動ステージマークとの間の第１の相対位置関係を計測するように構成され、第２の計測機器は、基準マークと固定フレームマークとの間の第２の相対位置関係を計測するように適合され、移動ステージは、第１及び第２の相対位置関係から導出される、移動ステージマークと固定フレームマークとの間の第３の相対位置関係に基づいて、標的位置に移動可能である。
【０００７】
オプションとして、移動ステージマークは、移動ステージと共に可動であるように、移動ステージ上に支持される位置合わせされる対象の上に、配置することができる。
【０００８】
オプションとして、第２の計測機器はビームスプリッタとして、固定フレームマークと基準マークとの相対位置を計測できるように、ビームスプリッタの２つのそれぞれの視界の中に固定フレームマーク及び基準マークが同時に位置決めされるのを可能にすることができる。
【０００９】
オプションとして、固定フレームマークは、２つのマーキング点を含むことができ、これらは移動ステージの移動の結果として、第２の計測機器の視界の同じ１つの中で連続的に位置決め可能であり、ここで、２つのマーキング点と基準マークとの間の相対距離、及び２つのマーキング点を接続する線に対する移動の方向の回転の角度が算出され、それらに基づいて、固定フレームマークと基準マークとの間の第２の相対位置関係を得ることができる。
【００１０】
オプションとして、移動ステージの移動の結果として、移動ステージマーク及び基準マークは、第１の計測機器の視界の中で連続的に位置決め可能であってよく、ここで第１の計測機器は移動ステージマークの位置及び移動ステージ上の基準マークの位置をそれぞれ計測し、それらに基づいて、移動ステージマークと基準マークとの間の第１の相対位置関係を得ることができる。
【００１１】
オプションとして、固定フレームマークは、第２の計測機器と固定フレームとの間の座標関係の静的校正のために構成された第１の校正マークを含むことができ、ここで、基準マークは、第１の計測機器と移動ステージとの間の座標関係の静的校正のために構成された第２の校正マークを含む。
【００１２】
オプションとして、移動ステージマーク及び移動ステージ上の基準マークの位置を同時に計測するように、複数の第１の計測機器を含めることができる。
【００１３】
オプションとして、二層位置合わせ装置は第１の光源及び第２の光源をさらに含むことができ、これらはそれぞれ第２の計測機器及び第１の計測機器に接続され、第２の計測機器及び第１の計測機器の照明視界をもたらすように構成される。
【００１４】
オプションとして、二層位置合わせ装置は、それぞれ第２の計測機器及び第１の計測機器に接続される２つのカメラであって、固定フレームマーク、移動ステージマーク及び基準マークを映すように構成されたカメラをさらに含むことができる。
【００１５】
オプションとして、第２の計測機器は、
固定フレームマーク及び基準マークが位置決め可能である２つのそれぞれの視界を、第１の光源からの光を反射することによって形成するように構成された２つの反射体であって、結像光により固定フレームマーク及び基準マークをもたらすようにさらに構成される、２つの反射体と、
入射光及び結像光をそれぞれ透過させるように構成された２つのレンズと、
を含むことができる。
【００１６】
本発明はさらに、二層位置合わせ方法であって、
固定フレーム、並びに、その上に配置される、第１の計測機器、及び固定フレームマークを有するマーク板を準備するステップと、
移動ステージ、並びに、その上に配置される、基準マーク、移動ステージマーク及び第２の計測機器を準備するステップと、
基準マークと移動ステージマークとの間の第１の相対位置関係を、第１の計測機器によって計測するステップと、
基準マークと固定フレームマークとの間の第２の相対位置関係を、第２の計測機器によって計測するステップと、
第１及び第２の相対位置関係から、移動ステージマークと固定フレームマークとの間の第３の相対位置関係を導出するステップと、
第３の相対位置関係に基づいて、移動ステージを標的位置に動かすステップと、
を含む方法を提供する。
【００１７】
要約すれば、本発明は、固定フレーム、並びに、その上に配置される、第１の計測機器、及び固定フレームマークを有するマーク板と、移動ステージ、並びに、その上に配置される、基準マーク、移動ステージマーク及び第２の計測機器と、を含む位置合わせ装置を提供し、ここで、第１の計測機器は、基準マークと移動ステージマークとの間の相対位置関係を計測するように構成され、第２の計測機器は、基準マークと固定フレームマークとの間の相対位置関係を計測するように適合され、上記の２つの相対位置関係から、移動ステージマークと固定フレームマークとの間の最終的相対位置関係が導出され、それに基づいて移動ステージが標的位置に動かされる。本発明はさらに、対応する二層位置合わせ方法を提供する。移動ステージの上に配置されるビームスプリッタは、２つの光路の同時の画像化を可能にする。装置内で、移動ステージは唯一の可動構成要素である。さらに、座標関係を、移動ステージの位置決め精度から校正精度が影響されないように、静的な仕方で校正することができる。これらの理由により、位置合わせ精度の改善を達成することができる。さらに、柔軟性及び位置合わせ効率の付加的な改善を可能にするために、２レンズ又は複数レンズ設計を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態による二層位置合わせ装置の略図である。
【図２】本発明の一実施形態による二層位置合わせ装置の中の第２の計測機器の略図である。
【図３】本発明の一実施形態による二層位置合わせ装置の中の固定フレームマークの略図である。
【図４】本発明の一実施形態による二層位置合わせ装置の中の基準マークの略図である。
【図５】本発明の一実施形態による二層位置合わせ方法の流れ図である。
【図６】本発明の一実施形態による二層位置合わせ方法の詳細な流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明は、以下で、添付の図面に関連して読まれるべき２、３の特定の実施形態に関して非常に詳細に説明されることになる。本発明の特徴及び利点は、以下の詳細な説明から、及び添付の請求項からより明白となる。これらの図面は、幾つかの実施形態を説明する上で便利且つ明白にすることのみを目的として、非常に簡略な形態で与えられ、必ずしも一定の尺度で描かれていないことに留意されたい。
【００２０】
図１を参照すると、本発明は、
固定フレーム４０、固定フレーム４０上に配置された、第１の計測機器５０、及び固定フレームマーク２０がその上に固定されたマーク板４１と、
移動ステージ６０、移動ステージ６０の上に配置された、基準マーク３０、移動ステージマーク７０、及び第２の計測機器１０と、
を含む二層位置合わせ装置を提供する。第１の計測機器５０は、基準マーク３０と移動ステージマーク７０との間の相対位置関係を計測するように構成される。第２の計測機器１０は、基準マーク３０と固定フレームマーク２０との間の相対位置関係を計測するように適合される。これら２つの相対位置関係から、移動ステージマーク７０と固定フレームマーク２０との間の最終的相対位置関係を導出することができ、それに基づいて移動ステージ７０を標的位置に移動させることができる。
【００２１】
一実施形態において、第２の計測機器１０はビームスプリッタとして、及び第１の計測機器５０はレンズとして実装される。この場合、二層位置合わせ装置は、ビームスプリッタ１０、固定フレームマーク２０、基準マーク３０、固定フレーム４０、マーク板４１、レンズ５０、移動ステージ６０、移動ステージマーク７０、第２の光源８０、第１の光源８１、及びカメラ９０、９１から成る。固定フレームマーク２０は、固定フレーム上に固定され、非可動であり、他方、基準マーク３０は移動ステージ６０の上に固定され、移動ステージ６０と共に可動である。固定フレーム４０はカメラ９０、第２の光源８０、レンズ５０、マーク板４１及び他の構成要素を固定するように準備される。マーク板４１は固定フレーム４０に接続され、固定フレームマーク２０を支持するように構成される。第１の光源８１及び第２の光源８０は、それぞれ、ビームスプリッタ１０及びレンズ５０のための光源及び視界をもたらすように、ビームスプリッタ１０及びレンズ５０に接続される。
【００２２】
移動ステージ６０は、ビームスプリッタ１０、基準マーク３０及び移動ステージマーク７０を、６自由度、即ち、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒｚ、Ｒｘ、及びＲｙ、において動くように運ぶことができる。移動ステージマーク７０は、移動ステージ６０の上に置かれた位置合わせされる対象の上に配置することができ、移動ステージ６０と共に移動することができる。レンズ５０は、基準マーク３０又は移動ステージマーク７０をカメラ９０の標的面の上に映すことができる。
【００２３】
本発明の二層位置合わせ装置は、マーク板４１と移動ステージ６０上の対象との間の相対位置関係、即ち、固定フレームマーク２０と移動ステージマーク７０との間の相対位置関係を決定する（座標変換により）ことを目的とする。本発明により、位置合わせは、専用の光学機械手段、並びに、位置合わせのため及び座標変換関係の校正のための方策及びプロセスフロー、によって成し遂げられる。
【００２４】
具体的には、固定フレームマーク２０と移動ステージマーク７０との間の相対位置関係は、固定フレームマーク２０と基準マーク３０との間の相対位置関係及び移動ステージマーク７０と基準マーク３０との間の相対位置関係から導出される。
【００２５】
本発明により、固定フレームマーク２０と移動ステージマーク７０との間の相対位置関係の決定は、以下で詳述するステップを含む位置合わせプロセスによって成し遂げることができる。
【００２６】
ステップ１において、固定フレーム４０と移動ステージ６０との間の相対位置関係、即ち固定フレームマーク２０と基準マーク３０との間の相対位置関係が算出される。これは、固定フレームマーク２０及び基準マーク３０を、ビームスプリッタ１０の２つのそれぞれの視界の中で同時に位置決めすることによって、行うことができ、ここで、固定フレームマーク２０と基準マーク３０との相対位置が計測される。図３に示されるように、固定フレームマーク２０は２つのマーキング点２０１、２０２を含むことができ、これらは移動ステージ６０の移動の結果として、ビームスプリッタ１０の１つの視界の中で連続的に位置決めされてよく、ここで、基準マーク３０からのそれらそれぞれの距離及び移動方向に対する回転の角度が算出され、それらに基づいて固定フレームマーク２０と基準マーク３０との相対位置を得ることができる。
【００２７】
ステップ１は、具体的には、
１）移動ステージ６０の移動の結果として、マーキング点２０１をビームスプリッタ１０の視界のうちの１つの中に、及び、基準マーク３０をビームスプリッタ１０の他の視界の中に、位置決めし、マーキング点２０１と基準マーク３０のマーキング点３０２との間の距離を計測するステップと（図４に示されるように、基準マーク３０はマーキング点３０２を含む）、
２）マーキング点３０２がビームスプリッタ１０の他の視界の中に依然として留まるような、マーキング点２０１、２０２の間の名目上の距離に等しい距離の、移動ステージ６０のさらに別の移動の結果として、ビームスプリッタ１０の同じ視界の中にマーキング点２０２を位置決めし、マーキング点２０２、３０２の間の距離を計測するステップと、
３）１）及び２）において得られた距離計測値から、固定フレームマーク２０と基準マーク３０内のマーキング点３０２との間の相対位置関係を導出し、マーキング点２０１、２０２のＲｚ方向における回転の角度、即ち、移動ステージ６０に対する固定フレーム４０のＲｚ方向における回転の量、並びに、基準マーク３０に対する固定フレームマーク２０の位置を算出するステップと、
を含む。
【００２８】
ステップ２において、レンズ５０が取り付けられる位置を基準として、移動ステージマーク７０と基準マーク３０との相対位置が計測される。ここで、移動ステージ６０は、移動ステージマーク７０と基準マーク３０とがレンズ５０の視界の中に連続的に位置決めされるように、移動され、ここで、レンズ５０は、移動ステージ６０上の移動ステージマーク７０及び基準マーク３０の位置を計測し、それらから移動ステージマーク７０と基準マーク３０との間の相対位置関係を得ることができる。
【００２９】
具体的にはステップ２は、
１）移動ステージマーク７０のピクセル位置が算出される移動ステージ６０の移動の結果として、移動ステージマーク７０をレンズ５０の視界に中に位置決めし、移動ステージ６０の座標系における移動ステージマーク７０の位置を、移動ステージ６０の現在の位置に基づいて算出するステップと、
２）基準マーク３０のピクセル位置が算出される移動ステージ６０のさらに別の移動の結果として、基準マーク３０をレンズ５０の視界の中に位置決めし、移動ステージ６０の座標系における基準マーク３０の位置を、移動ステージ６０の現在の位置に基づいて算出するステップと、
３）移動ステージマーク７０と基準マーク３０との間の相対位置関係を、１）及び２）において得られた計算結果に基づいて、導出するステップと、
を含む。
【００３０】
ステップ３において、複数点位置合わせモデルのより高い精度のために、ステップ１及び２が複数点において繰り返される。典型的には、３つより多くの点の位置が計測される。二層位置合わせを可能にするための、固定フレームマーク２０と移動ステージマーク７０との間の相対位置関係が、固定フレームマーク２０と基準マーク３０との間の位置関係、及び基準マーク３０と移動ステージマーク７０との間の位置関係から導出される。
【００３１】
ステップ４において、移動ステージ６０がステップ３において計算された位置に動かされ、それにより位置合わせプロセスが完了する。
【００３２】
別の実施形態において、位置合わせ効率を高めるため、移動ステージマーク７０の位置と移動ステージ６０上の基準マーク３０の位置とを同時に計測するために複数のレンズ５０を含めることができる。即ち、位置合わせプロセスを加速するためにマーク位置計測を並行に行うことができる。
【００３３】
一実施形態において、図２に詳細に示されるように、ビームスプリッタ１０は、第１の光源８１からの光を反射することによって、固定フレームマーク２０及び基準マーク３０を位置決め可能である２つの視界を形成し、結像光によって固定フレームマーク２０及び基準マーク３０をもたらすように構成された２つの反射体１０２、１０４と、それぞれ、入射光及び結像光を透過させるように構成された２つのレンズ１０１、１０３とを含む。さらに、保護を与えるために筐体１０５を設けることができる。第１の光源８１からの光は、固定フレームマーク２０及び基準マーク３０の両方を照らすように、レンズ群によって反射及び屈折させることができる。固定フレームマーク２０及び基準マーク３０はカメラ９１によって同時に映すことができる。
【００３４】
本発明により、それぞれ、ビームスプリッタ１０のピクセル座標系とマーク板４１の物理座標系との間の関係、及びレンズ５０のピクセル座標系と移動ステージ６０の物理座標系との間の関係に対する、２つの校正が含まれてよい。移動ステージの位置決め精度から校正精度が影響されないように、校正は静的校正とすることができる。図３及び４に示されるように、固定フレームマーク２０は、ビームスプリッタ１０と固定フレーム４０との間の座標関係の静的校正のために構成された第１の校正マーク２０３を含むことができ、基準マーク３０は、レンズ５０と移動ステージ６０との間の座標関係の静的校正のために構成された第２の校正マーク３０１を含むことができる。ビームスプリッタ１０及びレンズ５０のための校正は、以下でより詳しく記述されることになる。
【００３５】
ビームスプリッタ１０：固定フレームマーク２０が図３に示され、校正マーク２０３は、内部の校正ドットの間の名目上のピッチを有することができる。レンズの倍率に基づいて、校正ドットの何れか１つから左上隅の第１の校正ドットまでの実際の物理的距離、即ち、後者に対する前者の物理的位置、を算出することができる。左上隅の第１の校正ドットに対する校正ドットのピクセル座標位置を決定するために、画像位置抽出アルゴリズムを実行することができる。次に、ピクセル座標位置を物理的位置に変換するために最小２乗法を用いることができる。さらに、マーク板４１が移動ステージ６０に対してＲｚ方向に回転する可能性があるので、予め、Ｒｚ方向における回転量を、例えば、位置合わせプロセスのステップ１に関連して上述したようなアプローチを用いて算出し、座標変換において考慮する必要がある。
【００３６】
レンズ５０：レンズ５０の校正は、第２の校正マークを用いて同様に行うことができる。基準マーク３０は図４に示される。
【００３７】
図５に示されるように、本発明はさらに二層位置合わせ方法であって、
固定フレーム及びその上に配置される固定フレームマークを準備するステップと、
移動ステージ、移動ステージの上に配置される移動ステージマーク及び計測機器を準備するステップと、
固定フレームマークと移動ステージマークとの間の相対位置関係を計測機器によって計測するステップであって、計測はさらに移動ステージ上の基準マークと移動ステージマークとの間の相対位置関係を第１の計測機器で計測するステップと、基準マークと固定フレームマークとの間の相対位置関係を第２の計測機器によって計測するステップと、固定フレームマークと移動ステージマークとの間の相対位置関係を導出するステップとを含む、計測するステップと、
導出された相対位置関係に基づいて、移動ステージを標的位置に動かすステップと、
を含む方法を提供する。
【００３８】
二層位置合わせ方法は、上述の二層位置合わせ装置の全ての特徴を有することが認識されることになり、さらに詳しくは記述されないであろう。図６は、本発明の一実施形態による二層位置合わせ方法の詳細な流れ図を示す。
【００３９】
示されるように、固定フレームマーク２０と移動ステージマーク７０との間の座標関係は、それぞれ、固定フレームマーク２０と基準マーク３０との間、及び移動ステージマーク７０と基準マーク３０との間の計測された座標関係から導出される。
【００４０】
次に、移動ステージ６０が計算の結果によって示される位置に動かされる。
【００４１】
図６に示されるように、固定フレームマーク２０と基準マーク３０との間の座標関係は、マーキング点２０１と基準マーク３０との間の座標関係、及びマーキング点２０２と基準マーク３０との間の座標関係から導出され、移動ステージマーク７０と基準マーク３０との間の座標関係は、移動ステージマーク７０とレンズ５０との間の座標関係及び基準マーク３０とレンズ５０との間の座標関係から導出される。
【００４２】
本発明は、固定フレーム並びにその上に配置された第１の計測機器、及び固定フレームマークを有するマーク板と、移動ステージ並びにその上に配置された基準マーク、移動ステージマーク及び第２の計測機器と、を含む位置合わせ装置を提供し、ここで、第１の計測機器は、基準マークと移動ステージマークとの間の相対位置関係を計測するように構成され、第２の計測機器は、基準マークと固定フレームマークとの間の相対位置関係を計測するように適合され、上記の２つの相対位置関係から、移動ステージマークと固定フレームマークとの間の最終的な相対位置関係が導出され、それに基づいて移動ステージが標的位置に動かされる。本発明はさらに、対応する二層位置合わせ方法を提供する。その装置内で、移動ステージが唯一の可動構成要素である。さらに、座標関係は、移動ステージの位置決め精度から校正精度が影響されないように、静的な仕方で校正することができる。これらの理由のために位置合わせ精度の改善を達成することができる。さらに、柔軟性及び位置合わせ効率の付加的な改善を可能にするために２レンズ又は複数レンズ設計を用いることができる。
【００４３】
当業者であれば、本発明の様々な変更物及び変化物を、本発明の趣旨及び範囲から逸脱せずに、作ることができることは明白である。それ故に、本発明は、全てのそのような変更物及び変化物を、それらが添付の請求項及びそれらの等価物の範囲に入る場合に、包含することが意図されている。
【図１】
2019515273.tif 000003
【図２】
2019515273.tif 000004
【図３】
2019515273.tif 000005
【図４】
2019515273.tif 000006
【図５】
2019515273.tif 000007
【図６】
2019515273.tif 000008
【国際調査報告】
2019515273.tif 000009
2019515273.tif 000010
2019515273.tif 000011
2019515273.tif 000012