【手続補正書】
【提出日】令和3年11月19日(2021.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
未変換重油をアップグレーディングするためのプロセスであって：
水素化処理システムから未変換重油供給原料を提供し、前記未変換重油供給原料は水素化分解装置残油を含むこと；
場合により、第１の芳香族供給原料を前記未変換重油供給原料に添加して混合物を形成すること；
前記未変換重油供給原料または混合物を直接分離プロセスに送り不溶物を除去し、それにより未変換重油流を形成すること；
場合により、第２の芳香族供給原料を前記未変換重油流と組み合わせて第２の混合物を形成すること；
前記未変換重油流または第２の混合物を重油水素化処理プロセスに送り、それにより前記未変換重油流または前記第２の混合物から水素化処理重油流を形成すること；
ここで、前記第１または前記第２の芳香族供給原料の少なくとも１つが、前記未変換重油供給原料または前記未変換重油流と組み合わされること；および、
場合により、
前記水素化処理重油流は回収またはさらに処理されること
を含む、プロセス。
【請求項２】
前記水素化処理システムが、沸騰床水素化分解を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記未変換重油が、水素化分解および脱金属化に供されている、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記プロセスが、ＩＭＯ仕様を満たす低硫黄燃料油で使用するための生成物を提供する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
前記低硫黄燃料油が、０．５重量％未満、または０．３重量％未満、または０．１重量％未満の硫黄含有量を有する、請求項４に記載のプロセス。
【請求項６】
請求項１に記載のプロセスから生成された低硫黄燃料油。
【請求項７】
前記プロセスが、成熟または熟成プロセスまたは沈殿プロセスを除外する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】
前記未変換重油供給原料が、沸騰床水素化分解プロセスからの底部生成物を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】
前記未変換重油供給原料が、大気中残渣、真空中残渣、溶剤脱歴ユニットからのタール、大気中ガス油、真空ガスオイル、脱歴油、タールサンドまたはビチューメンに由来する油、石炭に由来する油、重質原油、再生油廃棄物およびポリマーに由来する油、またはそれらの組み合わせから得られる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記分離プロセスが、メッシュ、スクリーン、クロスフロー濾過、逆洗濾過、またはそれらの組み合わせから選択される濾過を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記濾過が、１０ミクロン未満の平均細孔径を有する濾過膜を含む、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記濾過が、５ミクロン未満の平均細孔径を有する濾過膜を含む、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記濾過が、２ミクロン未満の平均細孔径を有する濾過膜を含む、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記濾過膜が、金属、ポリマー材料、セラミック、ガラス、ナノ材料、またはそれらの組み合わせから選択される材料から構成される、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記濾過膜が、ステンレス鋼、チタン、青銅、アルミニウム、ニッケル、銅およびそれらの合金から選択される金属から構成される、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記膜が、無機金属酸化物コーティングでさらにコーティングされる、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記芳香族供給原料が、ライトサイクルオイル、ミディアムサイクルオイル、ヘビーサイクルオイル、スラリーオイル、真空ガスオイル、またはそれらの混合物から選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記芳香族供給原料が、２０体積％を超える芳香族、または３０体積％を超える芳香族、または５０体積％を超える芳香族、または７０体積％を超える芳香族、または９０体積％を超える芳香族を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記水素化処理プロセスへの前記供給原料が、以下：−５〜１５の範囲のＡＰＩ、０．７〜３．５重量％の範囲の硫黄含有量、８〜３５重量％のマイクロカーボン残油含有量、または１５０ｐｐｍ未満のＮｉおよびＶの総含有量、の１つまたは複数を満たす、請求項１に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記水素化処理プロセスからの前記水素化処理重油流が、以下：２〜１８の範囲のＡＰＩ、０．０５〜０．７０重量％の範囲の硫黄含有量、３〜１８重量％のマイクロカーボン残油含有量、または３０ｐｐｍ未満のＮｉおよびＶの総含有量、の１つまたは複数を満たす、請求項１に記載のプロセス。
【請求項２１】
前記重油水素化処理プロセスが、脱金属化触媒、脱硫触媒、またはそれらの組み合わせから選択される触媒を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記重油水素化処理プロセスが、５〜２０体積％のグレーディングおよび脱金属化触媒、１０〜３０体積％の遷移変換触媒、および５０〜８０体積％の深層変換触媒を含む触媒組成物を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記重油水素化処理プロセスが、１０〜１５体積％のグレーディングおよび脱金属化触媒、２０〜２５体積％の遷移変換触媒、および６０〜７０体積％の深層変換触媒を含む触媒組成物を含む、請求項１に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
本発明の任意の特定の実施形態および組み込まれた公開情報を含む本発明の前述の説明は、主に例示を目的とするものであり、本発明の本質を依然として組み込む変形例が使用され得ることが認識される。本発明の範囲を決定する際には、以下の特許請求の範囲を参照すべきである。
なお、下記［１］から［６２］は、いずれも本発明の一形態又は一態様である。
［１］
未変換重油をアップグレーディングするためのプロセスであって：
水素化処理システムから未変換重油供給原料を提供し、前記未変換重油供給原料は水素化分解装置残油を含むこと；
場合により、第１の芳香族供給原料を前記未変換重油供給原料に添加して混合物を形成すること；
前記未変換重油供給原料または混合物を直接分離プロセスに送り不溶物を除去し、それにより未変換重油流を形成すること；
場合により、第２の芳香族供給原料を前記未変換重油流と組み合わせて第２の混合物を形成すること；
前記未変換重油流または第２の混合物を重油水素化処理プロセスに送り、それにより前記未変換重油流または前記第２の混合物から水素化処理重油流を形成すること；
ここで、前記第１または前記第２の芳香族供給原料の少なくとも１つが、前記未変換重油供給原料または前記未変換重油流と組み合わされること；および、
場合により、
前記水素化処理重油流は回収またはさらに処理されること
を含む、プロセス。
［２］
未変換重油から低硫黄燃料油を生成するためのプロセスであって：
水素化処理システムから未変換重油供給原料を提供し、前記未変換重油供給原料は水素化分解装置残油を含むこと；
場合により、第１の芳香族供給原料を前記未変換重油供給原料に添加して混合物を形成すること；
前記未変換重油供給原料または混合物を直接分離プロセスに送り不溶物を除去し、それにより未変換重油流を形成すること；
場合により、第２の芳香族供給原料を前記未変換重油流と組み合わせて第２の混合物を形成すること；
前記未変換重油流または第２の混合物を重油水素化処理プロセスに送り、それにより前記未変換重油流または前記第２の混合物から水素化処理重油流を形成すること；
ここで、前記第１または前記第２の芳香族供給原料の少なくとも１つが、前記未変換重油供給原料または前記未変換重油流と組み合わされること；
前記水素化処理重油流を分留装置に送ること；および
低硫黄燃料油生成物を回収すること
を含む、プロセス。
［３］
水素化処理システムをアップグレーディングするためのプロセスであって：
水素化処理システムから未変換重油供給原料を提供し、前記未変換重油供給原料は水素化分解装置残油を含むこと；
場合により、第１の芳香族供給原料を前記未変換重油供給原料に添加して混合物を形成すること；
前記未変換重油供給原料または混合物を直接分離プロセスに送り不溶物を除去し、それにより未変換重油流を形成すること；
場合により、第２の芳香族供給原料を前記未変換重油流と組み合わせて第２の混合物を形成すること；
前記未変換重油流または第２の混合物を重油水素化処理プロセスに送り、それにより前記未変換重油流または前記第２の混合物から水素化処理重油流を形成すること；
ここで、前記第１または前記第２の芳香族供給原料の少なくとも１つが、前記未変換重油供給原料または前記未変換重油流と組み合わされること；および、場合により、
前記水素化処理重油流を回収またはさらに処理すること
を含む、プロセス。
［４］
約０．５重量％未満の固形分を含む未変換重油を安定化するためのプロセスであって：
水素化処理システムから未変換重油供給原料を提供し、前記未変換重油供給原料は約０．５重量％未満の固形分を有する水素化分解装置残油を含むこと；
場合により、芳香族供給原料を前記未変換重油供給原料に添加して混合物を形成すること；
前記未変換重油供給原料または混合物を直接濾過プロセスに送り不溶物を除去し、それにより未変換重油流を形成すること；および
前記未変換重油流を回収すること；
ここで、前記未変換重油流は、さらなる水素化処理に適するように安定化されること、
を含む、プロセス。
［５］
未変換重油を水素化処理するためのプロセスであって：
水素化処理システムから未変換重油供給原料を提供し、前記未変換重油供給原料は水素化分解装置残油を含むこと；
前記未変換重油供給原料を重油水素化処理プロセスに送り、それにより前記未変換重油供給原料から水素化処理重油流を形成すること；および
前記水素化処理重油流を回収またはさらに処理すること
を含む、プロセス。
［６］
前記未変換重油が、前記水素化処理システムを通過し、未変換のままである油である、［１］〜［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［７］
前記水素化処理システムが、沸騰床水素化分解を含む、［１］〜［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［８］
前記未変換重油が、水素化分解および脱金属化に供されている、［１］〜［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［９］
前記プロセスが、ＩＭＯ仕様を満たす低硫黄燃料油で使用するための生成物を提供する、［１］〜［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１０］
前記低硫黄燃料油が、０．５重量％未満、または０．３重量％未満、または０．１重量％未満の硫黄含有量を有する、［９］に記載のプロセス。
［１１］
［１］〜［３］または［５］のいずれか一項に記載のプロセスから生成された低硫黄燃料油。
［１２］
前記プロセスが、成熟または熟成プロセスを除外する、［１］〜［３］または［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１３］
前記プロセスが、沈殿プロセスを除外する、［１］〜［３］または［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１４］
前記未変換重油供給原料が、水素化処理システムから直接濾過プロセスに送られ、不溶物が除去され、それにより前記未変換重油供給原料が形成される、［５］に記載のプロセス。
［１５］
前記未変換重油供給原料が、沸騰床水素化分解プロセスからの底部生成物を含む、［１］〜［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１６］
前記未変換重油供給原料が、大気中残渣、真空中残渣、溶剤脱歴ユニットからのタール、大気中ガス油、真空ガスオイル、脱歴油、タールサンドまたはビチューメンに由来する油、石炭に由来する油、重質原油、再生油廃棄物およびポリマーに由来する油、またはそれらの組み合わせから得られる、［１］〜［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１７］
前記分離プロセスが、メッシュ、スクリーン、クロスフロー濾過、逆洗濾過、またはそれらの組み合わせから選択される濾過を含む、［１］〜［４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１８］
前記濾過が、１０ミクロン未満の平均細孔径を有する濾過膜を含む、［１７］に記載のプロセス。
［１９］
前記濾過が、５ミクロン未満の平均細孔径を有する濾過膜を含む、［１７］に記載のプロセス。
［２０］
前記濾過が、２ミクロン未満の平均細孔径を有する濾過膜を含む、［１７］に記載のプロセス。
［２１］
前記濾過膜が、金属、ポリマー材料、セラミック、ガラス、ナノ材料、またはそれらの組み合わせから選択される材料から構成される、［１８］に記載のプロセス。
［２２］
前記濾過膜が、ステンレス鋼、チタン、青銅、アルミニウム、ニッケル、銅およびそれらの合金から選択される金属から構成される、［１８］に記載のプロセス。
［２３］
前記膜が、無機金属酸化物コーティングでさらにコーティングされる、［１８］に記載のプロセス。
［２４］
前記芳香族供給原料が、ライトサイクルオイル、ミディアムサイクルオイル、ヘビーサイクルオイル、スラリーオイル、真空ガスオイル、またはそれらの混合物から選択される、［１］〜［４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２５］
前記芳香族供給原料が、約２０体積％を超える芳香族、または約３０体積％を超える芳香族、または約５０体積％を超える芳香族、または約７０体積％を超える芳香族、または約９０体積％を超える芳香族を含む、［１］〜［４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２６］
前記水素化処理プロセスへの前記供給原料が、以下：−５〜１５の範囲のＡＰＩ、０．７〜３．５重量％の範囲の硫黄含有量、８〜３５重量％のマイクロカーボン残油含有量、または１５０ｐｐｍ未満のＮｉおよびＶの総含有量、の１つまたは複数を満たす、［１］〜［３］または［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２７］
前記水素化処理プロセスからの前記水素化処理重油流が、以下：２〜１８の範囲のＡＰＩ、０．０５〜０．７０重量％の範囲の硫黄含有量、３〜１８重量％のマイクロカーボン残油含有量、または３０ｐｐｍ未満のＮｉおよびＶの総含有量、の１つまたは複数を満たす、［１］〜［３］または［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２８］
前記重油水素化処理プロセスが、脱金属化触媒、脱硫触媒、またはそれらの組み合わせから選択される触媒を含む、［１］〜［３］および［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２９］
前記重油水素化処理プロセスが、約５〜２０体積％のグレーディングおよび脱金属化触媒、約１０〜３０体積％の遷移変換触媒、および約５０〜８０体積％の深層変換触媒を含む触媒組成物を含む、［１］〜［３］および［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［３０］
前記重油水素化処理プロセスが、約１０〜１５体積％のグレーディングおよび脱金属化触媒、約２０〜２５体積％の遷移変換触媒、および約６０〜７０体積％の深層変換触媒を含む触媒組成物を含む、［１］〜［３］および［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［３１］
［１］〜［３］および［５］のいずれか一項に記載のプロセスによる未変換重油をアップグレーディングするための水素化処理システムであって、前記プロセスは、以下の水素化処理ユニットを含む：統合された重油処理装置（ＨＯＴ）、濾過システム（ＦＳ）、重油ストリッパー（ＨＯＳ）、１つまたは複数の高圧高温分離器（ＨＰＨＴ）、１つまたは複数の中圧高温分離器（ＭＰＨＴ）、大気圧カラム分留装置（ＡＣＦ）、場合により真空カラム分留装置（ＶＣＦ）、および場合によりＨＯＴストリッパー；
ここで、前記水素化処理システムユニットは、炭化水素系供給流の水素化処理による流れのために、流体連通し、流体的に接続され、前記水素化処理システムユニットは、以下の条件に従って配置される：
ＦＳユニットはＨＯＴユニットの上流およびＨＯＳユニットの下流に位置する；
ＨＰＨＴユニットはＭＰＨＴユニットの上流に位置する；
ＨＯＳユニットはＶＣＦユニットの上流に位置する；
ＨＯＴストリッパーはＨＯＴユニットの下流に位置する；
ＨＰＨＴユニットおよびＭＰＨＴユニットはＨＯＳユニットの上流に位置する；
ＨＰＨＴユニット、および場合によりＭＰＨＴユニットはＨＯＴユニットの上流に位置する；
ＨＰＨＴユニット、および場合によりＭＰＨＴユニットはＡＣＦおよびＶＣＦユニットの上流に位置する；および
ＡＣＦユニット、および場合によりＶＣＦユニットはＨＯＴユニットの下流に位置する、水素化処理システム。
［３２］
前記システムユニットが、以下のフロースルーシーケンスで配置される：ＨＯＳユニット、その後にＦＳユニット、その後にＶＣＦユニット、その後にＨＯＴユニット、およびその後にＡＣＦユニットが続く、［３１］に記載の水素化処理システム。
［３３］
前記システムユニットが、以下のフロースルーシーケンスで配置される：ＨＯＳユニット、その後にＶＣＦユニット、その後にＦＳユニット、その後にＨＯＴユニット、およびその後にＡＣＦユニットが続く、［３１］に記載の水素化処理システム。
［３４］
前記システムユニットが、以下のフロースルーシーケンスで配置される：ＨＯＳユニット、その後にＦＳユニット、その後にＨＯＴユニット、およびその後にＡＣＦユニットが続く、［３１］に記載の水素化処理システム。
［３５］
前記システムユニットが、以下のフロースルーシーケンスで配置される：ＨＯＳユニット、その後にＦＳユニット、その後にＨＯＴユニット、その後にＡＣＦユニット、およびその後にＶＣＦユニットが続く、［３１］に記載の水素化処理システム。
［３６］
前記システムユニットが、以下のフロースルーシーケンスで配置される：ＨＯＳユニット、その後にＦＳユニット、およびその後にＶＣＦユニットが続き；ならびにＨＯＴユニット、その後にＡＣＦユニットが続き、ここで、ＶＣＦユニットは、前記ＨＯＴユニットへの供給流接続への底部画分再循環流体接続を含む、［３１］に記載の水素化処理システム。
［３７］
前記システムユニットが、以下のフロースルーシーケンスで配置される：ＨＯＳユニット、その後にＦＳユニット、その後にＨＯＴユニット、その後にＡＣＦユニット、およびその後にＶＣＦユニットが続く、［３１］に記載の水素化処理システム。
［３８］
前記システムユニットが、以下のフロースルーシーケンスで配置される：ＨＯＳユニット、その後にＦＳユニット、その後にＶＣＦユニット、その後に第１のＨＯＴユニット、その後にＨＰＨＴユニット、およびその後にＨＯＴストリッパーユニットが続き、ここで、前記ＨＯＴストリッパーユニットは、前記ＨＯＳユニットへの供給流接続へのオーバーヘッド画分再循環流体接続を含み；ならびに第２のＨＯＴユニット、その後にＡＣＦユニットが続き；ここで、前記第１のＨＯＴユニットに続く前記ＨＰＨＴユニットは、前記第１のＨＯＴユニットへの供給流接続へのオーバーヘッド画分再循環流体接続を含む、［３１］に記載の水素化処理システム。
［３９］
ＨＰＨＴユニットおよびＭＰＨＴユニットが、前記ＨＯＴユニットの下流および前記ＡＣＦユニットの上流に位置する、［３１］〜［３５］または［３７］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［４０］
ＨＰＨＴユニットが前記ＨＯＴユニットの上流に位置し、ＨＰＨＴユニットが前記ＨＯＴユニットの下流および前記ＡＣＦユニットの上流に位置する、［３６］に記載の水素化処理システム。
［４１］
ＨＰＨＴユニットが前記第２のＨＯＴユニットの上流に位置し、ＨＰＨＴユニットが前記第２のＨＯＴユニットの下流および前記ＡＣＦユニットの上流に位置する、［３８］に記載の水素化処理システム。
［４２］
前記システムが、水素の前記添加、追加の供給流、クエンチガスまたは液体、あるいはそれらの組み合わせを、１つまたは複数の前記システムユニット、あるいはユニット間の流体接続に提供するように構成される、［３１］〜［４１］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［４３］
前記ＶＣＦユニットが、前記ＨＯＴユニットへの供給流接続への底部画分再循環流体接続および／または沸騰床反応器システムの供給流接続への底部画分再循環流体接続を含む、［３５］または［３７］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［４４］
前記システムが、流体接続を含み、前記ＨＯＳユニットの上流、および場合により前記ＨＯＳユニットの下流の前記システムへの供給流導入のために構成される、［３１］〜［４３］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［４５］
前記システムが、流体接続を含み、未変換重油、未変換真空中残渣、沸騰床水素化分解装置から生成された未変換真空中残渣、希釈剤またはカッターと組み合わされた沸騰床水素化分解装置から生成された未変換真空中残渣、沸騰床水素化分解装置から生成された未変換大気中残渣、あるいは希釈剤またはカッターと組み合わされた沸騰床水素化分解装置から生成された未変換大気中残渣から選択される供給流のために構成される、［３１］〜［４４］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［４６］
前記希釈剤またはカッターが、灯油、ディーゼル、ＦＣＣ／ＲＦＣＣライトサイクルオイル、またはＦＣＣ／ＲＦＣＣヘビーサイクルオイル、ＦＣＣ／ＲＦＣＣ希釈原油（ＤＣＯ）／スラリーオイル、真空ガスオイル（ＶＧＯ）、大気中残渣（ＡＲ）、真空中残渣（ＶＲ）、またはそれらの組み合わせから選択される、［４５］に記載の水素化処理システム。
［４７］
前記供給流が、沸騰床反応器または大気圧カラムまたは重油ストリッパーからであり、場合により、動作条件が、約２ｐｓｉｇ〜約３００ｐｓｉｇおよび約１６０°Ｆ〜約７２０°Ｆの範囲の温度である、［４５］〜［４６］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［４８］
前記供給流が、沸騰床真空カラムからの底部生成物であり、場合により、前記動作条件が、約２０〜７００ｍｍＨｇの範囲の真空圧力の圧力および約１７６〜７２０°Ｆの範囲の温度である、［４５］〜［４６］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［４９］
前記供給流が、約１８０〜１０５０°Ｆ、または１０５０〜１７００°Ｆ、または１８０〜１７００°Ｆの沸騰範囲を有する精製プロセスユニット生成物をさらに含む、［４５］〜［４８］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［５０］
前記ＦＳユニットが、逆洗フィルター、クロスフローフィルター、カートリッジフィルター、またはそれらの組み合わせである、［３１］〜［４９］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［５１］
前記ＦＳユニットが、約１０〜６００ｐｓｉｇの範囲の圧力および約１７６〜７００°Ｆの範囲の温度で動作するように構成される、［５０］に記載の水素化処理システム。
［５２］
前記未変換重油供給流または供給流成分が、前記水素化処理システムで処理する前に、場合により、逆洗フィルター、クロスフローフィルター、カートリッジフィルター、またはそれらの組み合わせで濾過される、［３１］〜［５１］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［５３］
前記システムが、約１０００〜３５００ｐｓｉｇの範囲の圧力および約５００〜９００°Ｆ、または５００〜７５０°Ｆの温度で前記供給流を前記ＨＯＴユニットに提供するように構成される、［３１］〜［５２］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［５４］
前記ＨＯＴユニットが、上向流固定床反応器、下向流固定床反応器、またはそれらの組み合わせを含み、場合により、前記反応器のいずれかが、多触媒床反応器、または複数の単一触媒床反応器、またはそれらの組み合わせである、［３１］〜［５３］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［５５］
前記システムが、反応器または反応器床の間にクエンチガスおよび／またはクエンチ液を添加するために設けるように構成され、場合により、熱交換器がＨＯＴユニット反応器の間に配置される、［５４］に記載の水素化処理システム。
［５６］
前記ＨＯＴユニットからの流出物が、熱交換器で冷却されてもよく、オーバーヘッド流出物の約５５０〜８００°Ｆの範囲内の温度で前記ＨＰＨＴユニット内でフラッシュされる、［３］〜［５５］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［５７］
ＨＰＨＴユニットが、前記ＨＯＴユニットの下流および前記ＡＣＦユニットの上流に位置し、前記ＨＰＨＴユニットが、前記ＨＯＳユニットの上流に位置するＨＰＨＴユニットへの蒸気画分接続を含む、［３１］〜［３５］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［５８］
前記システムが、前記ＨＯＴユニットと前記ＡＣＦユニットとの間にＨＰＨＴユニットをさらに含み、前記システムが、前記ＨＰＨＴユニットからの蒸気をＨＯＴ高圧ループ冷却、水洗、硫化水素、およびアンモニアクリーンアップに送るための流体接続を含む、［３７］に記載の水素化処理システム。
［５９］
前記システムが、前記ＨＯＴユニットの上流にＨＰＨＴユニットをさらに含み、前記ＨＰＨＴユニットからのオーバーヘッド蒸気が前記ＨＯＴユニットへの部分的または完全なガス供給として使用される、［３６］に記載の水素化処理システム。
［６０］
前記システムが、ＡＣＦユニットの底部生成物、場合により、前記ＡＣＦユニットからの低硫黄燃料油生成物を生成するように構成される、［３１］〜［５９］のいずれか一項に記載の水素化処理システム。
［６１］
前記システムが、前記ＡＣＦユニットの底部生成物をＶＣＦユニットに送るように構成される、［６０］に記載の水素化処理システム。
［６２］
前記システムが、ＶＣＦユニットの底部生成物、場合により、前記ＶＣＦユニットからの低硫黄燃料油生成物を生成するように構成される、［６１］に記載の水素化処理システム。