(57)【要約】  本明細書中、少なくとも１つのミクロポーラス材料（例えば、ゼオライト）と、オルガノシリカ材料結合剤と、少なくとも１つの触媒金属とを含む触媒が提供される。本明細書中、触媒を製造する方法、好ましくは界面活性剤を用いずに触媒を製造する方法や、触媒のプロセス、例えば芳香族水素化のための触媒のプロセスも提供される。
2019518598.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒の製造方法であり、以下の（ａ）〜（ｆ）：
（ａ）  溶液を形成するために、構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物に、以下の（ｉ）および（ｉｉ）：
（ｉ）    式    ［Ｚ１Ｚ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）
［式中、
各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す］
の化合物、
（ｉｉ）  式
【化１】
2019518598.tif 000046
［式中、
各Ｒ３は、独立して、Ｘ１ＯＸ２Ｘ３ＳｉＸ４基であり、式中、
各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｘ４は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式化合物
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物を添加すること、
（ｂ）  プレ生成物を形成するために、前記溶液と、少なくとも１つのミクロポーラス材料とを混合すること、
（ｃ）  触媒粒子を形成するために、前記プレ生成物を成形すること、
（ｄ）  前記触媒粒子を硬化させること、
（ｅ）  前記触媒粒子を乾燥させることであって、前記触媒粒子は、前記少なくとも１つのミクロポーラス材料を含み、前記ミクロポーラス材料は、ポリマーと結合したものであり、前記ポリマーが、以下の（ｉ）および（ｉｉ）：
（ｉ）    式    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
のモノマー、
（ｉｉ）  式
【化２】
2019518598.tif 000047
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー
からなる群から選択される少なくとも１つのモノマーの独立単位を含むものである、こと、
（ｆ）  前記少なくとも１つのミクロポーラス材料、前記触媒粒子、またはそれらの組合せの細孔内に少なくとも１つの触媒金属を組み込ませること
を含む、方法。
【請求項２】
各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表す、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表す、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表す、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つの式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、
Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、
各Ｘ４は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
各Ｘ５は、水素原子、メチル、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を表す、
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記水性混合物に、以下の（ｉ）〜（ｖｉ）：
（ｉ）      追加の式（Ｉａ）の化合物、
（ｉｉ）    追加の式（ＩＩａ）の化合物、
（ｉｉｉ）  式    Ｚ１７ＯＺ１８Ｚ１９Ｚ２０Ｓｉ（ＩＩＩａ）
［式中、
各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の化合物、
（ｉｖ）    式    Ｚ２１Ｚ２２Ｚ２３Ｓｉ−Ｒ１−ＳｉＺ２１Ｚ２３Ｚ２４（ＩＶａ）
［式中、
各Ｚ２１は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の化合物、
（ｖ）      三価金属酸化物の供給源、および
（ｖｉ）    それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物を添加することをさらに含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの化合物は、追加の式（Ｉａ）の化合物であり、式中、
各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基を表す、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
式（Ｉａ）の化合物は、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンである、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの化合物は、式（ＩＩＩａ）の化合物であり、式中、
各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、
Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される、
請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
式（ＩＩＩａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート、メチルトリエトキシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジン、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジン、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、および（３−アミノプロピル）トリエトキシシランからなる群から選択される、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの化合物は、式（ＩＶａ）の化合物であり、式中、
各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、
Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、またはＣ１〜Ｃ２アルキル基を表し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、および窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択される、
請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
式（ＩＶａ）の化合物は、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミン、およびビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンからなる群から選択される、請求項１２〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの化合物は、三価金属酸化物の供給源であり、前記三価金属酸化物の供給源が、以下の（ｉｉｉ）または（ｉｖ）：
（ｉｉｉ）  式    Ｍ３（ＯＺ２４）３（Ｖａ）
［式中、
Ｍ３は、第１３族金属を表し、
各Ｚ２４は、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の化合物、
（ｉｖ）    式    （Ｚ２５Ｏ）２-Ｍ４−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ２６）３（ＶＩａ）
［式中、
Ｍ４は、第１３族金属を表し、
Ｚ２５およびＺ２６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の化合物
の少なくとも１つである、請求項１２〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
前記三価金属酸化物の供給源は、式（Ｖａ）の化合物であり、式中、
Ｍ３は、ＡｌまたはＢであり、
各Ｚ２４は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、
請求項１２〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記三価金属酸化物の供給源は、式（ＶＩａ）の化合物であり、式中、
Ｍ４は、ＡｌまたはＢであり、
Ｚ２５およびＺ２６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、
請求項１２〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記三価金属酸化物の供給源は、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、およびアルミニウム−トリ−ｓｅｃ−ブトキシドからなる群から選択される、請求項１２〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
前記水性混合物は、塩基（例えば、水酸化アンモニウム、水酸化金属）を含み、約８〜約１４のｐＨを有する、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
前記水性混合物は、酸（例えば、塩酸などの無機酸）を含み、約０．０１〜約６．０のｐＨを有する、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
前記少なくとも１つのミクロポーラス材料および前記溶液は、約０．１０時間〜約１０時間にわたって、ステップ（ｂ）において混合される、請求項１〜２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
前記触媒粒子は、約０℃〜約１５０℃の温度で硬化される、請求項１〜２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
前記触媒粒子は、約−２０℃〜約２００℃の温度で乾燥される、請求項１〜２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
前記少なくとも１つの触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０族金属、およびそれらの組合せからなる群から選択され、特に、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓおよびそれらの組合せからなる群から選択され、より特別には、Ｐｔ、Ｐｄおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１〜２７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２９】
前記少なくとも１つの触媒金属は、前記触媒粒子の乾燥後に前記触媒粒子の細孔内に組み込まれるか、または前記少なくとも１つの触媒金属は、それが前記溶液と混合される前に前記少なくとも１つのミクロポーラス材料の細孔内に組み込まれる、請求項１〜２８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
前記少なくとも１つのミクロポーラス材料は、ゼオライト、ＳＡＰＯ、ＡＬＰＯおよびそれらの組合せからなる群から選択され、特に、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５０、ＺＳＭ−５７、ＭＣＭ−４９、ＭＣＭ−２２、ＳＡＰＯ−１１、ＳＡＰＯ−４１、ＡｌＰＯ−１１、ＡｌＰＯ−Ｈ２およびＡｌＰＯ−４からなる群から選択される、請求項１〜２９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３１】
前記プレ生成物を形成するために、前記少なくとも１つのミクロポーラス材料および前記溶液に、追加のオルガノシリカ材料を添加することをさらに含み、前記追加のオルガノシリカ材料は、以下の（ｉ）および（ｉｉ）：
（ｉ）    式（Ｉ）のモノマー、
（ｉｉ）  式（ＩＩ）の環式ポリ尿素モノマー
からなる群から選択される少なくとも１つのモノマーの独立単位を含むポリマーである、請求項１〜３０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３２】
前記オルガノシリカ材料が、以下の（ｉ）〜（ｖｉ）：
（ｉ）      式    ［Ｚ３ＯＺ４ＳｉＣＨ２］３（ＩＩＩ）
［式中、
各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｉ）    式    Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（ＩＶ）
［式中、
各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｉｉ）  式    Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（Ｖ）
［式中、
各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｖ）    式    Ｍ１（ＯＺ１２）３（ＶＩ）
［式中、
Ｍ１は、第１３族金属を表し、
各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｖ）      式    （Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（ＶＩＩ）
［式中、
Ｍ２は、第１３族金属を表し、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の少なくとも１つの独立単位、および
（ｖｉ）  それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの他のモノマーをさらに含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記プレ生成物を成形することが、押出成形、ミル粉砕、噴霧乾燥、またはそれらの組合せを含む、請求項１〜３２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３４】
請求項１〜３３のいずれか１項に記載の方法によって製造された触媒。
【請求項３５】
以下の（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）：
（ｉ）        少なくとも１つのミクロポーラス材料、
（ｉｉ）      オルガノシリカ材料結合剤であって、以下の（ａ）および（ｂ）：
（ａ）  式    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
のモノマー、
（ｂ）  式
【化３】
2019518598.tif 000048
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー
からなる群から選択されるモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料結合剤、
（ｉｉｉ）  少なくとも１つの触媒金属
を含む、触媒。
【請求項３６】
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
請求項３５に記載の触媒。
【請求項３７】
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
請求項３５または３６に記載の触媒。
【請求項３８】
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す、
求項３５〜３７のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項３９】
各Ｘ５は、水素原子、メチル、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を表す、
請求項３５〜３８のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項４０】
前記オルガノシリカ材料結合剤は、以下の（ｉ）〜（ｖｉ）：
（ｉ）      式    ［Ｚ３ＯＺ４ＳｉＣＨ２］３（ＩＩＩ）
［式中、
各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｉ）    式    Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（ＩＶ）
［式中、
各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｉｉ）  式    Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（Ｖ）
［式中、
各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｖ）    式    Ｍ１（ＯＺ１２）３（ＶＩ）
［式中、
Ｍ１は、第１３族金属を表し、
各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｖ）      式    （Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（ＶＩＩ）
［式中、
Ｍ２は、第１３族金属を表し、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の少なくとも１つの独立単位、および
（ｖｉ）    それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの他のモノマーをさらに含む、請求項３５〜３９のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項４１】
式（ＩＩＩ）の少なくとも１つの独立単位が存在し、式中、
各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のシロキサンモノマーのケイ素原子への結合を表し、
各Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表す、
請求項４０に記載の触媒。
【請求項４２】
各Ｚ３は、水素原子、エチル、または別のシロキサンモノマーのケイ素原子への結合を表し、
各Ｚ４は、メチルを表す、
請求項４０または４１に記載の触媒。
【請求項４３】
式（ＩＶ）の少なくとも１つの独立単位が存在し、式中、
各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、
請求項４０〜４２のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項４４】
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、請求項４０〜４３のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項４５】
各Ｚ５は、水素原子、メチル、エチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、メトキシ、エトキシ、
【化４】
2019518598.tif 000049
、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、
請求項４０〜４４のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項４６】
式（Ｖ）の少なくとも１つの独立単位が存在し、式中、
各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される、
請求項４０〜４５、請求項４６のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項４７】
各Ｚ９は、ヒドロキシル基、メトキシ、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、エトキシ、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｒが、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化５】
2019518598.tif 000050
からなる群から選択される、
請求項４０〜４６のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項４８】
式（ＶＩ）の少なくとも１つの独立単位が存在し、式中、
Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり、
各Ｚ１２は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、
請求項４０〜４７のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項４９】
式（ＶＩＩ）の少なくとも１つの単位が存在し、式中、
Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、
請求項４０〜４８のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項５０】
前記オルガノシリカ材料結合剤は、約５．０重量％〜約９９重量％の量で前記触媒中に存在する、請求項３５〜４９のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項５１】
前記ミクロポーラス材料は、多くても約９５．０重量％の量で前記触媒中に存在する、請求項３５〜５０のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項５２】
前記少なくとも１つの触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０族金属、およびそれらの組合せからなる群から選択され、特に、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、およびそれらの組合せからなる群から選択され、より特別には、Ｐｔ、Ｐｄおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項３５〜５１のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項５３】
前記少なくとも１つのミクロポーラス材料は、ゼオライト、ＳＡＰＯ、ＡＬＰＯおよびそれらの組合せからなる群から選択され、特に、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５０、ＺＳＭ−５７、ＭＣＭ−４９、ＭＣＭ−２２、ＳＡＰＯ−１１、ＳＡＰＯ−４１、ＡｌＰＯ−１１、ＡｌＰＯ−Ｈ２およびＡｌＰＯ−４１からなる群から選択される、請求項３５〜５２のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項５４】
前記触媒は、約３００ｍ２／ｇ〜約１５００ｍ２／ｇの全表面積を有する、請求項３５〜５３のいずれか１項に記載の触媒。
【請求項５５】
前記触媒は、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇの細孔体積を有する、請求項３５〜５４のいずれか１項に記載の触媒。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、オルガノシリカ材料成分を含有する触媒および上記触媒の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
（発明の背景）
多孔性無機固体は、工業的応用のための触媒および分離媒体として大いに有益であることが見出されている。特に、メソ細孔の周期的配列を有するシリカおよびアルミナなどのメソポーラス材料は、それらの均一かつ調整可能な細孔、高い表面積および大きい細孔体積のため、触媒プロセスでの使用に魅力的な材料である。そのようなメソポーラス材料は、大きい比表面積（例えば、１０００ｍ２／ｇ）および大きい細孔体積（例えば、１ｃｍ３／ｇ）を有することが知られている。これらの理由のため、そのようなメソポーラス材料によって、反応性触媒が可能となる。
【０００３】
例えば、水素化仕上技術では、メソポーラス支持体上の卑金属および貴金属触媒の両方が使用されている。貴金属触媒によって、卑金属触媒を使用する場合に必要とされるものよりも小さい反応器体積を用いて、より低い圧力および温度において、優れた色および酸化安定性を達成することができる。より高い加工温度においては、十分な酸化安定性を達成するために、色品質が犠牲になる。貴金属触媒によって、優れた色安定度（ウォーターホワイト）、優れた酸化安定性およびほぼ完全な芳香族の除去を得ることが可能である。
【０００４】
しかしながら、触媒結合剤として使用され得るメソポーラスオルガノシリカは、慣例的に、構造指向剤、ポロゲンおよび／またはフレームワーク要素の存在下でのシルセキオキサン（ｓｉｌｓｅｑｕｉｏｘａｎｅ）前駆体の自己集合によって形成される。この前駆体は、加水分解性であり、かつ構造指向剤の周囲で凝縮する。これらの材料は、平行配列されたメソスケールチャネルの周期的配列の存在のため、周期的メソポーラスオルガノシリケート（Ｐｅｒｉｏｄｉｃ  Ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ  Ｏｒｇａｎｏｓｉｌｉｃａｔｅ）（ＰＭＯ）と呼ばれている。例えば、非特許文献１は、Ｒが架橋性有機基であるＳｉＯ３ＲまたはＳｉＯ２Ｒ２ビルディングブロックからなる周期的メソポーラスフレームワークを有する、架橋されたオルガノシリカであるＰＭＯを形成するための、塩基および構造指向剤、セチルトリメチルアンモニウムブロミドの存在下での１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３の自己集合を報告する。ＰＭＯ中、有機基は、細孔壁中に均一に分配されることが可能である。特許文献１は、ＮａＡｌＯ２および塩基の存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンから形成された結晶質ハイブリッド有機−無機シリケートの調製を報告する。特許文献２は、プロピレングリコールモノメチルエーテルの存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンから形成された組成物の調製を報告する。
【０００５】
しかしながら、オルガノシリカ材料の調製において、界面活性剤などの構造指向剤を使用することによって、調製プロセスの最後に構造指向剤を除去するための複雑で、エネルギー集約的プロセスが必要となる。例えば、構造指向剤を処分するために、焼成、ならびに廃水処分ステップおよび関連費用が必要とされ得る。このことによって、工業的応用のためにプロセスの規模を大きくする能力が限定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１２／００５９１８１号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００７／００３４９２号明細書
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｌａｎｄｓｋｒｏｎ，Ｋ．ら［Ｓｃｉｅｎｃｅ，３０２：２６６−２６９（２００３）］
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、構造指向剤、ポロゲンまたは界面活性剤の不在下で実行可能な方法によって調製することが可能であるオルガノシリカ材料を使用する、改良された触媒および／または触媒の製造方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（発明の要旨）
所望の細孔直径（又はポア直径（pore diameter））、細孔体積（又はポア体積（pore volume））および表面積を有するオルガノシリカ材料（又は有機シリカ材料（organosilica material））と結合した、ミクロポーラス材料（又はミクロ細孔材料（microporous material））（例えば、ゼオライト）を含む触媒が達成できることが見出された。さらに、このような触媒は、構造指向剤（structure directing agent）、ポロゲン（porogen）または界面活性剤を必要とすることなく、首尾よく調製することができる。
【００１０】
従って、一態様において、本発明の実施形態は、触媒の製造方法を提供する。当該方法は、以下の（ａ）〜（ｆ）を含む：
（ａ）  溶液を形成するために、構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物に、以下の（ｉ）および（ｉｉ）： 
（ｉ）    式    ［Ｚ１Ｚ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）
［式中、
各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す］
の化合物、
（ｉｉ）  式
【化１】
2019518598.tif 000003
［式中、
各Ｒ３は、独立して、Ｘ１ＯＸ２Ｘ３ＳｉＸ４基であり、式中、
各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｘ４は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ8アルキレン基を表す］
の環式化合物
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物を添加すること（又は工程又はステップ）、
（ｂ）  プレ生成物を形成するために、上記溶液と少なくとも１つのミクロポーラス材料とを混合すること（又は工程又はステップ）、
（ｃ）  触媒粒子を形成するために、プレ生成物を成形すること（又は工程又はステップ）、
（ｄ）  触媒粒子を硬化させること（又は工程又はステップ）、
（ｅ）  触媒粒子を乾燥させること（又は工程又はステップ）であって、この触媒粒子は、少なくとも１つのミクロポーラス材料を含み、このミクロポーラス材料は、ポリマーと結合したものであり、このポリマーが、以下の（ｉ）および（ｉｉ）：
（ｉ）    式    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
のモノマー、
（ｉｉ）  式
【化２】
2019518598.tif 000004
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー
からなる群から選択される少なくとも１つのモノマーの独立単位を含むものである、こと（又は工程又はステップ）、および
（ｆ）  少なくとも１つのミクロポーラス材料、触媒粒子、またはそれらの組合せの細孔内に少なくとも１つの触媒金属を組み込ませること（又は工程又はステップ）。
【００１１】
さらに別の態様において、本発明の実施形態は、本明細書中に記載された方法で製造された触媒を提供する。
【００１２】
さらに別の態様において、本発明の実施形態は、以下の（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）を含む触媒を提供する：
（ｉ）      少なくとも１つのミクロポーラス材料、
（ｉｉ）    以下の（ａ）および（ｂ）：
（ａ）    式    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
のモノマー、
（ｂ）    式
【化３】
2019518598.tif 000005
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー
からなる群から選択されるモノマーの独立単位を含むポリマーであるオルガノシリカ材料結合剤、
（ｉｉｉ）  少なくとも１つの触媒金属。
【００１３】
上記で簡単に述べられた実施形態の特定の態様を含む他の実施形態は、以下の詳細な説明から明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】触媒の製造方法の一実施形態のプロセスフローダイアグラムを例示する。
【図２】触媒の製造方法の別の実施形態のプロセスフローダイアグラムを例示する。
【図３】約８８重量％のＺＳＭ−４８および約１２重量％の、実施例１Ｈに従って製造されたオルガノシリカ材料結合剤を有する円柱形触媒粒子（試料Ｇ）を例示する。
【図４】約８８重量％のＺＳＭ−５および約１２重量％の、実施例１Ｉに従って製造されたオルガノシリカ材料結合剤を有する円柱形触媒粒子（試料Ｈ）を例示する。
【図５】約６８重量％のＭＣＭ−４９および約３２重量％の、実施例１Ｊに従って製造されたオルガノシリカ材料結合剤を有するクアドリローブ形触媒粒子（試料Ｉ）を例示する。
【図６Ａ】様々な倍率における、約９２重量％のＺＳＭ−４８および約８．０重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）断面像を例示する。
【図６Ｂ】様々な倍率における、約９２重量％のＺＳＭ−４８および約８．０重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）断面像を例示する。
【図６Ｃ】様々な倍率における、約９２重量％のＺＳＭ−４８および約８．０重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）断面像を例示する。
【図６Ｄ】様々な倍率における、約９２重量％のＺＳＭ−４８および約８．０重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒表面（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）側面像を例示する。
【図６Ｅ】様々な倍率における、約９２重量％のＺＳＭ−４８および約８．０重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒表面（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）側面像を例示する。
【図６Ｆ】様々な倍率における、約９２重量％のＺＳＭ−４８および約８．０重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒表面（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）側面像を例示する。
【図７Ａ】様々な倍率における、約８８重量％のＺＳＭ−４８および約１２重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）断面像を例示する。
【図７Ｂ】様々な倍率における、約８８重量％のＺＳＭ−４８および約１２重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）断面像を例示する。
【図７Ｃ】様々な倍率における、約８８重量％のＺＳＭ−４８および約１２重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）断面像を例示する。
【図７Ｄ】様々な倍率における、約８８重量％のＺＳＭ−４８および約１２重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒表面（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）側面像を例示する。
【図７Ｅ】様々な倍率における、約８８重量％のＺＳＭ−４８および約１２重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒表面（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）側面像を例示する。
【図７Ｆ】様々な倍率における、約８８重量％のＺＳＭ−４８および約１２重量％のオルガノシリカ材料結合剤を有する触媒表面（実施例１Ｋに従って製造された、試料Ｊ）の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）側面像を例示する。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
（発明の詳細な説明）
本発明の種々の態様において、触媒を調製するための触媒および方法が提供される。
【００１６】
Ｉ．定義
本発明およびそれに対する請求の範囲の目的のため、周期表の命番方式は、ＩＵＰＡＣ元素周期表による。
【００１７】
本明細書中、「Ａおよび／またはＢ」などの句で使用される「および／または」という用語は、「ＡおよびＢ」、「ＡまたはＢ」、「Ａ」および「Ｂ」を含むように意図される。
【００１８】
「置換基」、「ラジカル」、「基」および「部分」という用語は、互換的に使用され得る。
【００１９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「Ｃｎ」という用語は、１分子あたりｎ個の炭素原子を有する炭化水素を意味し、ｎは正整数である。
【００２０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「炭化水素」という用語は、炭素に結合した水素を含有する化合物の種類を意味して、かつ（ｉ）飽和炭化水素化合物、（ｉｉ）不飽和炭化水素化合物、ならびに（ｉｉｉ）異なるｎ値を有する炭化水素化合物の混合物を含む、（飽和および／または不飽和の）炭化水素化合物の混合物が包括される。
【００２１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキル」という用語は、１〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル）、特に１〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ８アルキル）、特に１〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ６アルキル）、特に１〜４個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ４アルキル）を有する飽和炭化水素基を意味する。アルキル基の例としては、限定されないが、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシルなどが含まれる。アルキル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。「アルキル」は、アルキル基の全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、本明細書で使用される場合、プロピルは、ｎ−プロピルおよびイソプロプルの両方を含み、ブチルは、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなどを含む。本明細書で使用される場合、「Ｃ１アルキル」はメチル（−ＣＨ３）を指し、「Ｃ２アルキル」はエチル（−ＣＨ２ＣＨ３）を指し、「Ｃ３アルキル」はプロピル（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）を指し、そして「Ｃ４アルキル」はブチル（例えば、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−（ＣＨ３）ＣＨＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２など）を指す。さらに、本明細書で使用される場合、「Ｍｅ」はメチルを指し、そして「Ｅｔ」はエチルを指し、「ｉ−Ｐｒ」はイソプロプルを指し、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチルを指し、そして「Ｎｐ」はネオペンチルを指す。
【００２２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキレン」という用語は、長さにおいて１〜１２個の炭素原子を含有する二価アルキル部分（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルキレンとしては、限定されないが、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２３】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「窒素含有アルキル」という用語は、アルキル基中の１個以上の炭素原子が、窒素原子、または２〜１０個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ１０炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）によって置換されている、本明細書に定義されたアルキル基を指す。窒素含有環式炭化水素は、１個以上の窒素原子を有していてもよい。窒素原子は、任意選択的に、１個または２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキルは、１〜１２個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキル）、特に１〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に２〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜８個の炭素原子を有することが可能である（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）。窒素含有アルキルの例としては、限定されないが、
【化４】
2019518598.tif 000006
が含まれる。
【００２４】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「窒素含有アルキレン」という用語は、アルキル基中の１個以上の炭素原子が、窒素原子によって置換されている、本明細書に定義されたアルキレン基を指す。窒素原子は、任意選択的に、１個または２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキレンは、１〜１２個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキレン）、特に２〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に４〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ４〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜８個の炭素原子を有することが可能である（すなわち、Ｃ３〜Ｃ８窒素含有アルキル）。窒素含有アルキレンの例としては、限定されないが、
【化５】
2019518598.tif 000007
が含まれる。
【００２５】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルケニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル）を有し、かつ１個以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルケニル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。アルケニルの例としては、限定されないが、エテニル（ビニル）、２−プロペニル、３−プロペニル、１，４−ペンタジエニル、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルが含まれる。「アルケニル」は、アルケニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブテニルには、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルなどが含まれる。
【００２６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルケニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルケニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルケニレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルキニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル）を有し、かつ１個以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素三重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルキニル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。アルキニルの例としては、限定されないが、エチニル、１−プロピニル、２−ブチニルおよび１，３−ブタジイニルが含まれる。「アルキニル」は、アルキニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブチニルは、２−ブチニルおよび１，３−ブタジイニルを包含し、かつプロピニルは、１−プロピニルおよび２−プロピニル（プロパルギル）を包含する。
【００２８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルキニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡ＣＣＨ２−、−Ｃ≡ＣＣＨ２Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキニレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルコキシ」という用語は、１〜約１０個の炭素原子を含有する−Ｏ−アルキルを指す。アルコキシは、直鎖または分枝鎖であってよい。非限定的な例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシおよびヘキソキシが含まれる。「Ｃ１アルコキシ」はメトキシを指し、「Ｃ２アルコキシ」はエトキシを指し、「Ｃ３アルコキシ」はプロポキシを指し、そして「Ｃ４アルコキシ」はブトキシを指す。さらに、本明細書で使用される場合、「ＯＭｅ」はメトキシを指し、そして「ＯＥｔ」はエトキシを指す。
【００３０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「芳香族」という用語は、非局在化共役π系を有し、かつ５〜２０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ２０炭素原子）、特に５〜１２個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）、特に５〜１０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）を有する、不飽和環式炭化水素を指す。代表的な芳香族としては、限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クメン、ナフタレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン、アセナフタレン、アントラセン、フェナントレン、テトラフェン、ナフタセン、ベンズアントラセン、フルオラントレン、ピレン、クリセン、トリフェニレンなど、およびそれらの組合せが含まれる。加えて、芳香族は、１個以上のヘテロ原子を含んでもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素、酸素および／または硫黄が含まれる。１個以上のヘテロ原子を有する芳香族としては、限定されないが、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、オキサゾール、チアゾールなど、およびそれらの組合せが含まれる。芳香族は、単環式、二環式、三環式および／または多環式環（いくつかの実施形態において、少なくとも単環式環、単環式および二環式環のみ、または単環式環のみ）を含んでもよく、かつ縮合環であってもよい。
【００３１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アリール」という用語は、少なくとも１個の環が芳香族炭化水素である、６〜１４個の炭素環原子を含有する、いずれかの単環式または多環式環化炭素基を指す。アリールの例としては、限定されないが、フェニル、ナフチル、ピリジニルおよびインオリルが含まれる。
【００３２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アラルキル」という用語は、アリール基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。アラルキル基の例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチルおよびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、１個以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、かつ「ヘテロアルキル」と呼ばれてもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロアラルキル）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロアラルキル）および／または硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロアラルキル）が含まれる。ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、インドリルメチル、フリルエチルおよびキノリニルプロピルが含まれる。
【００３３】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヘテロシクロ」という用語は、４〜２０個の炭素環原子を含有し、かつ１個以上のヘテロ原子を含有する、完全飽和、部分的飽和または不飽和、あるいは多環式環化炭素基を指す。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロシクロ）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロシクロ）および／または硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロシクロ）が含まれる。ヘテロシクロの例としては、限定されないが、チエニル、フリル、ピロリル、ピペラジニル、ピリジル、ベンゾキサゾリル、キノリニル、イミダゾリル、ピロリジニルおよびピペリジニルが含まれる。
【００３４】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヘテロシクロアルキル」という用語は、ヘテロシクロ基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピルおよびイミダゾリルプロピルが含まれる。
【００３５】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヒドロキシル」という用語は−ＯＨ基を指す。
【００３６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「メソポーラス」という用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。
【００３７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「オルガノシリカ」という用語は、２個以上のケイ素原子に結合した１個以上の有機基を含むオルガノシロキサン化合物を指す。
【００３８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「シラノール」という用語は、Ｓｉ−ＯＨ基を指す。
【００３９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「シラノール含有量」という用語は、化合物中のＳｉ−ＯＨ基のパーセントを指し、そしてＮＭＲなどの標準法によって算出することが可能である。
【００４０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「構造指向剤」、「ＳＤＡ」および／または「ポロゲン」という用語は、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導するために合成媒体に添加される１種以上の化合物を指す。さらに、「ポロゲン」は、得られるオルガノシリカ材料フレームワーク中に空隙または細孔を形成することが可能な化合物であると理解される。本明細書で使用される場合、「構造指向剤」は、「鋳型剤」および「テンプレート」という用語を包括し、かつそれらと同意語であり、かつそれらと交換可能である。
【００４１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「吸着」という用語には、物理収着、化学吸着および固体材料への凝縮、ならびにそれらの組合せが含まれる。
【００４２】
ＩＩ．触媒
本発明は、オルガノシリカ材料結合剤を含む触媒に関する。第１の実施形態において、（ｉ）少なくとも１種のミクロポーラス材料と；（ｉｉ）（ａ）式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）（式中、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）のモノマー；ならびに（ｂ）式
【化６】
2019518598.tif 000008
（式中、各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し；かつ各Ｘ８は、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）の環式ポリ尿素モノマー；からなる群から選択されるモノマーの独立単位を含むポリマーであるオルガノシリカ材料結合剤と；（ｉｉｉ）少なくとも１種の触媒金属とを含む触媒が提供される。
【００４３】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「別のモノマーのケイ素原子への結合」は、結合が、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）に有利に置き換わることが可能であって、別のモノマーのケイ素原子に直接結合が存在し得、それによって、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって、２つのモノマーが連結することを意味する。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子」は、酸素原子が、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）に有利に置き換わることが可能であって、酸素原子が別のモノマーのケイ素原子に直接結合し得、それによって、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって、２つのモノマーが連結することを意味する。明快さのために、上記の結合状態において、「別のモノマー」は、同一種類のモノマーまたは異なる種類のモノマーであることが可能である。
【００４４】
ＩＩ．Ａ．ミクロポーラス材料
典型的に、触媒は、次のフレームワーク型：ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＧ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＣＡＧ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、ＣＨＩ、ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＲＢ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＩＡ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＦＲＬ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＲ、ＴＨＷ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＨ、ＩＴＷ、ＴＷＲ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＣＳ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＺ、ＲＨＯ、ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＳ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、ＳＴＴ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＮＩおよびＺＯＮから選択されるフレームワーク型を有し得る、少なくとも１種のミクロポーラス材料を含む。これらのフレームワーク型の特定の例としては、ＡＥＬ、ＡＦＯ、ＡＨＴ、ＡＴＯ、ＣＡＮ、ＥＵＯ、ＦＥＲ、ＨＥＵ、ＩＭＦ、ＩＴＨ、ＬＡＵ、ＭＥＬ、ＭＦＩ、ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＴＴ、ＮＥＳ、ＯＢＷ、ＯＳＩ、ＰＯＮ、ＲＲＯ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、ＳＺＲ、ＴＯＮ、ＴＵＮおよびＶＥＴを含むことができる。
【００４５】
適切なミクロポーラス材料は、上記フレームワーク型を有するゼオライトであり得る。一般に、本触媒組成物中で利用されるゼオライトは、典型的に、少なくとも２０、例えば、約２０〜約２００のアルミナに対するシリカのモル比を有することが可能である。適切なゼオライトは、必ずしも限定されないが、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−１２、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５０、ＺＳＭ−５７、ＭＣＭ−４９、ＭＣＭ−２２など、ならびにその相互成長および組合せを含むことが可能である。特定の実施形態において、ゼオライトは、ＺＳＭ−５を含むことが可能であるか、またはそれから本質的になることが可能であるか、またはそれであることが可能である。
【００４６】
追加的に、または代わりに、ゼオライトは、触媒（例えば、ＨＺＳＭ−５）中で少なくとも部分的に水素型で存在していてもよい。ゼオライトを合成するために使用される条件次第で、これには、例えば、アルカリ（例えば、ナトリウム）型からゼオライトを変換するステップが関連し得る。これは、例えば、イオン交換によってゼオライトをアンモニウム型に変換し、それに続いて、約４００℃〜約７００℃の温度において空気または不活性雰囲気中で焼成することによって、アンモニウム型を活性水素型に変換することによって達成することができる。ゼオライトの合成で有機構造指向剤が使用される場合、有機構造指向剤を除去するために、追加の焼成が望ましくなり得る。
【００４７】
追加的に、または代わりに、ミクロポーラス材料は、アルミノホスフェート（すなわち、ＡＬＰＯ）であり得る。適切なＡＬＰＯは、必ずしも限定されないが、ＡｌＰＯ−１１、ＡｌＰＯ−Ｈ２、ＡｌＰＯ−３１およびＡｌＰＯ−４１を含むことが可能である。
【００４８】
追加的に、または代わりに、ミクロポーラス材料は、シリコアルミノホスフェート（すなわち、ＳＡＰＯ）であり得る。適切なＳＡＰＯは、必ずしも限定されないが、ＳＡＰＯ−１１、ＳＡＰＯ−４１およびＳＡＰＯ−３１を含むことが可能である。
【００４９】
種々の態様において、少なくとも１種のミクロポーラス材料は、ゼオライト、ＳＡＰＯ、ＡＬＰＯおよびそれらの組合せからなる群から選択されてもよい。特に、少なくとも１種のミクロポーラス材料は、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−１２、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３４、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５０、ＺＳＭ−５７、ＺＳＭ−５８、ＭＣＭ−９、ＭＣＭ−４１、ＭＣＭ−４９、ＭＣＭ−２２、ＳＡＰＯ−１１、ＳＡＰＯ−４１、ＡｌＰＯ−１１、ＡｌＰＯ−Ｈ２およびＡｌＰＯ−４１からなる群から選択されてもよい。
【００５０】
当業者は、上記フレーム構造およびモレキュラーシーブの製造方法を知っている。例えば、ｗｗｗ．ｉｚａ−ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ．ｏｒｇ／ｄａｔａｂａｓｅｓに見られるゼオライト構造のＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｚｅｏｌｉｔｅ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎのデータベースに提供される参考を参照のこと。
【００５１】
種々の態様において、ミクロポーラス材料は、少なくとも１．０重量％、少なくとも５．０重量％、少なくとも１０重量％、少なくとも２０重量％、少なくとも３０重量％、少なくとも４０重量％、少なくとも５０重量％、少なくとも６０重量％、少なくとも７０重量％、少なくとも８０重量％または少なくとも９０重量％の量で、触媒中に存在し得る。追加的に、または代わりに、ミクロポーラス材料は、多くとも９５重量％、多くとも９０重量％、多くとも８０重量％、多くとも７０重量％、多くとも６０重量％、多くとも５０重量％、多くとも４０重量％、多くとも３０重量％、多くとも２０重量％、多くとも１０重量％または多くとも５．０重量％の量で、触媒中に存在し得る。特に、ミクロポーラス材料は、多くとも９５重量％の量で、触媒中に存在し得る。
【００５２】
追加的に、または代わりに、ミクロポーラス材料は、約１．０重量％〜約９５重量％、約１．０重量％〜約９０重量％、約１．０重量％〜約８０重量％、約１．０重量％〜約７０重量％、約１．０重量％〜約６０重量％、約１．０重量％〜約５０重量％、約１．０重量％〜約４０重量％、約１．０重量％〜約３０重量％、約１．０重量％〜約２０重量％、約１．０重量％〜約１０重量％、約１．０重量％〜約５．０重量％、約５．０重量％〜約９５重量％、約５．０重量％〜約９０重量％、約５．０重量％〜約８０重量％、約５．０重量％〜約７０重量％、約５．０重量％〜約６０重量％、約５．０重量％〜約５０重量％、約５．０重量％〜約４０重量％、約５．０重量％〜約３０重量％、約５．０重量％〜約２０重量％、約５．０重量％〜約１０重量％、約１０重量％〜約９５重量％、約１０重量％〜約９０重量％、約１０重量％〜約８０重量％、約１０重量％〜約７０重量％、約１０重量％〜約６０重量％、約１０重量％〜約５０重量％、約１０重量％〜約４０重量％、約１０重量％〜約３０重量％、約１０重量％〜約２０重量％、約２０重量％〜約９５重量％、約２０重量％〜約９０重量％、約２０重量％〜約８０重量％、約２０重量％〜約７０重量％、約２０重量％〜約６０重量％、約２０重量％〜約５０重量％、約２０重量％〜約４０重量％、約２０重量％〜約３０重量％、約３０重量％〜約９５重量％、約３０重量％〜約９０重量％、約３０重量％〜約８０重量％、約３０重量％〜約７０重量％、約３０重量％〜約６０重量％、約３０重量％〜約５０重量％、約３０重量％〜約４０重量％、約４０重量％〜約９５重量％、約４０重量％〜約９０重量％、約４０重量％〜約８０重量％、約４０重量％〜約７０重量％、約４０重量％〜約６０重量％、約４０重量％〜約５０重量％、約５０重量％〜約９５重量％、約５０重量％〜約９０重量％、約５０重量％〜約８０重量％、約５０重量％〜約７０重量％、約５０重量％〜約６０重量％、約６０重量％〜約９５重量％、約６０重量％〜約９０重量％、約６０重量％〜約８０重量％、約６０重量％〜約７０重量％、約７０重量％〜約９５重量％、約７０重量％〜約９０重量％、約７０重量％〜約８０重量％、８０重量％〜約９５重量％、約８０重量％〜約９０重量％または約９０重量％〜約９５重量％の量で、触媒中に存在し得る。
【００５３】
ＩＩ．Ｂ．オルガノシリカ材料結合剤
本明細書で考察される触媒には、オルガノシリカ材料結合剤と結合した、上記のミクロポーラス材料が含まれる。オルガノシリカ材料結合剤は、以下に詳細で記載される種々のモノマーの独立単位を含むポリマーであり得る。
【００５４】
種々の態様において、オルガノシリカ材料結合剤は、少なくとも１．０重量％、少なくとも５．０重量％、少なくとも１０重量％、少なくとも２０重量％、少なくとも３０重量％、少なくとも４０重量％、少なくとも５０重量％、少なくとも６０重量％、少なくとも７０重量％、少なくとも８０重量％、少なくとも９０重量％または少なくとも９５重量％の量で、触媒中に存在し得る。追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料結合剤は、多くとも９９重量％、多くとも９５重量％、多くとも９０重量％、多くとも８０重量％、多くとも７０重量％、多くとも６０重量％、多くとも５０重量％、多くとも４０重量％、多くとも３０重量％、多くとも２０重量％、多くとも１０重量％または多くとも５．０重量％の量で、触媒中に存在し得る。
【００５５】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料結合剤は、約１．０重量％〜約９９重量％、約１．０重量％〜約９５重量％、約１．０重量％〜約９０重量％、約１．０重量％〜約８０重量％、約１．０重量％〜約７０重量％、約１．０重量％〜約６０重量％、約１．０重量％〜約５０重量％、約１．０重量％〜約４０重量％、約１．０重量％〜約３０重量％、約１．０重量％〜約２０重量％、約１．０重量％〜約１０重量％、約１．０重量％〜約５．０重量％、約５．０重量％〜約９９重量％、約５．０重量％〜約９５重量％、約５．０重量％〜約９０重量％、約５．０重量％〜約８０重量％、約５．０重量％〜約７０重量％、約５．０重量％〜約６０重量％、約５．０重量％〜約５０重量％、約５．０重量％〜約４０重量％、約５．０重量％〜約３０重量％、約５．０重量％〜約２０重量％、約５．０重量％〜約１０重量％、約１０重量％〜約９９重量％、約１０重量％〜約９５重量％、約１０重量％〜約９０重量％、約１０重量％〜約８０重量％、約１０重量％〜約７０重量％、約１０重量％〜約６０重量％、約１０重量％〜約５０重量％、約１０重量％〜約４０重量％、約１０重量％〜約３０重量％、約１０重量％〜約２０重量％、約２０重量％〜約９９重量％、約２０重量％〜約９５重量％、約２０重量％〜約９０重量％、約２０重量％〜約８０重量％、約２０重量％〜約７０重量％、約２０重量％〜約６０重量％、約２０重量％〜約５０重量％、約２０重量％〜約４０重量％、約２０重量％〜約３０重量％、約３０重量％〜約９９重量％、約３０重量％〜約９５重量％、約３０重量％〜約９０重量％、約３０重量％〜約８０重量％、約３０重量％〜約７０重量％、約３０重量％〜約６０重量％、約３０重量％〜約５０重量％、約３０重量％〜約４０重量％、約４０重量％〜約９９重量％、約４０重量％〜約９５重量％、約４０重量％〜約９０重量％、約４０重量％〜約８０重量％、約４０重量％〜約７０重量％、約４０重量％〜約６０重量％、約４０重量％〜約５０重量％、約５０重量％〜約９９重量％、約５０重量％〜約９５重量％、約５０重量％〜約９０重量％、約５０重量％〜約８０重量％、約５０重量％〜約７０重量％、約５０重量％〜約６０重量％、約６０重量％〜約９９重量％、約６０重量％〜約９５重量％、約６０重量％〜約９０重量％、約６０重量％〜約８０重量％、約６０重量％〜約７０重量％、約７０重量％〜約９９重量％、約７０重量％〜約９５重量％、約７０重量％〜約９０重量％、約７０重量％〜約８０重量％、約８０重量％〜約９９重量％、８０重量％〜約９５重量％、約８０重量％〜約９０重量％、約９０重量％〜約９９重量％、約９０重量％〜約９５重量％または約９５重量％〜約９９重量％の量で、触媒中に存在し得る。特に、オルガノシリカ材料結合剤は、約５．０重量％〜約９９重量％の量で、触媒中に存在し得る。
【００５６】
１．式（Ｉ）のモノマー
種々の態様において、オルガノシリカ材料結合剤は、式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）（式中、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）のモノマーの独立単位を含むポリマーであることが可能である。
【００５７】
一実施形態において、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００５８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【００５９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００６０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００６１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００６２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【００６３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００６４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００６５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００６６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００６７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００６８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００６９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、メチルであることが可能である。追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１５は、メチルであることが可能である。
【００７０】
２．式（ＩＩ）のモノマー
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料結合剤は、式
【化７】
2019518598.tif 000009
（式中、各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し；かつ各Ｘ８は、ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）のモノマーの独立単位を含むポリマーであることが可能である。
【００７１】
種々の実施形態において、各Ｘ５は、水素原子であることが可能である。
【００７２】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００７３】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７４】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７５】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００７６】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００７７】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【００７８】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００７９】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００８０】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＸ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００８１】
追加的に、または代わりに、各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ７アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ７アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ６アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ３アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ２アルキレン基、または環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ--２−であることが可能である。
【００８２】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【００８３】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【００８４】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【００８５】
特定の実施形態において、各Ｘ５は、水素原子、メチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である。
【００８６】
別の特定の実施形態において、各Ｘ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である。
【００８７】
別の実施形態において、オルガノシリカ材料結合剤は、式（Ｉ）のモノマーおよび式（ＩＩ）のモノマーの独立単位を含んでもよい。
【００８８】
３．式（ＩＩＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料結合剤は、式（Ｉ）および／または式（ＩＩ）の独立単位と組み合わせて、式［Ｚ３ＯＺ４ＳｉＣＨ２］３（ＩＩＩ）（式中、各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、かつＺ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す）の少なくとも１つの独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでもよい。
【００８９】
種々の実施形態において、各Ｚ３は、水素原子であることが可能である。
【００９０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００９１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、水素原子またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【００９２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００９３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００９４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００９５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ４は、メチルであることが可能である。
【００９６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、かつ各Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルキルであることが可能である。
【００９７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、かつ各Ｚ４は、メチルであることが可能である。
【００９８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、かつ各Ｚ４は、メチルであることが可能である。
【００９９】
４．式（ＩＶ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料結合剤は、式（Ｉ）および／または式（ＩＩ）の独立単位ならびに任意選択的に式（ＩＩＩ）の独立単位と組み合わせて、式Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（ＩＶ）（式中、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、ならびに別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である）の少なくとも１つの独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでもよい。
【０１００】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および／または窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０１０１】
種々の態様において、各Ｚ５は、水素原子であることが可能である。
【０１０２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０１０３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１０４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１０５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１０６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、エチル、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１０７】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１０８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１０９】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０１１０】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１１１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１１２】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０１１３】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立してヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基およびＣ１〜Ｃ２アルコキシ基、からなる群から選択されることが可能である。
【０１１４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基およびＣ１〜Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１５】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ９アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ７アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、またはメチルアミンであることが可能である。特に、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ９アルキル基、または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。上記窒素含有アルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の例としては、限定されないが、
【化８】
2019518598.tif 000010
が含まれる。
【０１１６】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基および窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基および窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１８】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロアラルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、ピリジニルプロピル、ピリジニルメチル、インドリルメチル、ピラジニルエチル、およびピラジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロアラルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。
【０１１９】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基および窒素含有ヘテロアラルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１２０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基および窒素含有ヘテロアラルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１２１】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、ヘテロシクロアルキル基が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基によって任意選択的に置換されていてもよい窒素含有ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、ピペラジニルエチル、ピペラジニルプロピル、ピペリジニルエチル、ピペリジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。
【０１２２】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１２３】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１２５】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合したハイドラン（ｈｙｄｒａｎ）酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２６】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１２７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、窒素を含有し、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、窒素を含有し、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１３０】
特定の実施形態において、各Ｚ５は水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合、であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１３１】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＺ８は、メチルであることが可能である。
【０１３２】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【化９】
2019518598.tif 000011
であることが可能である。
【０１３３】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【化１０】
2019518598.tif 000012
であることが可能である。
【０１３４】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【化１１】
2019518598.tif 000013
であることが可能である。
【０１３５】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【化１２】
2019518598.tif 000014
であることが可能である。
【０１３６】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【化１３】
2019518598.tif 000015
であることが可能である。
【０１３７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【化１４】
2019518598.tif 000016
であることが可能である。
【０１３８】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、メチル、エチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、メトキシ、エトキシ、
【化１５】
2019518598.tif 000017
および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１３９】
５．式（Ｖ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）および／または式（ＩＩ）の独立単位ならびに任意選択的に式（ＩＩＩ）および／または式（ＩＶ）の独立単位と組み合わせて、式Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（Ｖ）（各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である）の少なくとも１つの独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでもよい。
【０１４０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、およびＣ２〜Ｃ８アルキニレン基からなる群から選択されることが可能である。追加的に、または代わりに、Ｒは、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび／または任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０１４１】
種々の態様において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１４２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０１４３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０１４４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４７】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１４８】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０１４９】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０１５０】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０１５１】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１５２】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５３】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５４】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＺ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＺ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＺ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５８】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ７アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ３アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基または−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１５９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【０１６０】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ７アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルケニレン基、または−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０１６１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基およびＣ２〜Ｃ４アルケニレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１６２】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ７アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルキニレン基、または−Ｃ≡Ｃ−であることが可能である。
【０１６３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基およびＣ２〜Ｃ４アルキニレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１６４】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４-〜Ｃ９アルキレン基、窒素含有Ｃ４-〜Ｃ８アルキレン基、または窒素含有Ｃ３-〜Ｃ８アルキレン基であることが可能である。上記窒素含有アルキレン基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。窒素含有アルキレン基の例としては、限定されないが、
【化１６】
2019518598.tif 000018
が含まれる。
【０１６５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基および窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１６６】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１４アラルキル、または任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。Ｃ６〜Ｃ２０アラルキルの例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチル、およびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基によって置換されていてもよい。
【０１６７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基および任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルからなる群から選択されることが可能である。
【０１６８】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１６ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、または任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピル、およびイミダゾリルプロピルが含まれる。ヘテロシクロアルキルは、任意選択的にＣ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基によって置換されていてもよい。
【０１６９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルおよび任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１７０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルおよび任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１７１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシ、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化１７】
2019518598.tif 000019
からなる群から選択されることが可能である。
【０１７２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化１８】
2019518598.tif 000020
からなる群から選択されることが可能である。
【０１７３】
特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１０は、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１１は、メチルであることが可能であり；かつ各Ｒは、−ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である。
【０１７４】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＲは、−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１７５】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＲは、−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０１７６】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｒは、
【化１９】
2019518598.tif 000021
であることが可能である。
【０１７７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０は、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１１は、メチルであることが可能であり；かつ各Ｒは、
【化２０】
2019518598.tif 000022
であることが可能である。
【０１７８】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０は、ヒドロキシル基、メトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１１は、メチルであることが可能であり；かつ各Ｒは、
【化２１】
2019518598.tif 000023
であることが可能である。
【０１７９】
別の特定の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、上記式（ＩＩＩ）の独立単位および上記式（ＩＶ）の独立単位を含み得、かつ上記式（Ｉ）の独立単位を含み得ない。特に、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり、かつ各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＲは、−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１８０】
６．式（ＶＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料結合剤は、式（Ｉ）および／または式（ＩＩ）の独立単位ならびに任意選択的に式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および／または式（Ｖ）の独立単位と組み合わせて、式Ｍ１（ＯＺ１２）３（ＶＩ）（式中、Ｍ１は、第１３族金属を表し、かつ各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合を表す）の少なくとも１つの独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでもよい。
【０１８１】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、ＩＮ、Ｔｌ、またはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【０１８２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、水素原子であることが可能である。
【０１８３】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつＺ３は、水素原子であることが可能である。
【０１８４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ３は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０１８５】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつＺ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０１８６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８７】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８８】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８９】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９０】
特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９１】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９２】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、プロピルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９３】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９４】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ１２は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９５】
７．式（ＶＩＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料結合剤は、式（Ｉ）および／または式（ＩＩ）の独立単位ならびに任意選択的に式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）および／または式（ＶＩ）の独立単位と組み合わせて、式（Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（ＶＩ）（式中、Ｍ２は、第１３族金属を表し、かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す）の少なくとも１つの独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでもよい。
【０１９６】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、ＩＮ、Ｔｌ、またはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【０１９７】
追加的に、または代わりに、Ｚ１３および／またはＺ１４は、それぞれ、水素原子であることが可能である。
【０１９８】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつＺ１３および／またはＺ１４は、それぞれ、水素原子であることが可能である。
【０１９９】
追加的に、または代わりに、Ｚ１３および／またはＺ１４は、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ１３および／またはＺ１４は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０２００】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつＺ１３および／またはＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０２０１】
追加的に、または代わりに、Ｚ１３および／またはＺ１４は、それぞれ、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０２】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０３】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０４】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０５】
特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０６】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０７】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、プロピルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０８】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０９】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２１０】
本明細書に記載されるオルガノシリカ材料結合剤は、以下の項目に記載される通りに特徴づけることが可能である。
【０２１１】
８．細孔径
本明細書に記載される触媒は、有利にメソポーラス形態であり得る。上記の通り、メソポーラスという用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。触媒の平均細孔直径は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することが可能である。
【０２１２】
追加的に、または代わりに、触媒は、有利に、約２．０ｎｍ、約２．５ｎｍ、約３．０ｎｍ、約３．５ｎｍ、約４．０ｎｍ、約４．５ｎｍ、約５．０ｎｍ、約６．０ｎｍ、約７．０ｎｍ、約７．５ｎｍ、約８．０ｎｍ、約８．５ｎｍ、約９ｎｍ、約１０ｎｍ、約１１ｎｍ、約１３ｎｍ、約１５ｎｍ、約２０ｎｍ、約２５ｎｍ、約３０ｎｍ、約４０ｎｍ、約４５ｎｍまたは約５０ｎｍのメソ細孔範囲内の平均細孔直径を有することが可能である。
【０２１３】
追加的に、または代わりに、触媒は、約２．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約８．５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約８ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．５ｎｍまたは約３．０ｎｍ〜約４．０ｎｍの平均細孔直径を有することが可能である。特に、触媒は、約２．０ｎｍ〜約２０ｎｍの平均細孔直径を有することが可能である。
【０２１４】
９．表面積
触媒の表面積は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することが可能である。この方法によって、全表面積、外部表面積およびミクロポーラス表面積が決定され得る。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「全表面積」は、ＢＥＴ法によって決定される全表面積を指す。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ミクロポーラス表面積」は、ＢＥＴ法によって決定されるミクロポーラス表面積を指す。
【０２１５】
様々な実施形態において、触媒は、約１００ｍ２／ｇ以上、約２００ｍ２／ｇ以上、約３００ｍ２／ｇ以上、約４００ｍ２／ｇ以上、約４５０ｍ２／ｇ以上、約５００ｍ２／ｇ以上、約５５０ｍ２／ｇ以上、約６００ｍ２／ｇ以上、約７００ｍ２／ｇ以上、約８００ｍ２／ｇ以上、約８５０ｍ２／ｇ以上、約９００ｍ２／ｇ以上、約１，０００ｍ２／ｇ以上、約１，０５０ｍ２／ｇ以上、約１，１００ｍ２／ｇ以上、約１，１５０ｍ２／ｇ以上、約１，２００ｍ２／ｇ以上、約１，２５０ｍ２／ｇ以上、約１，３００ｍ２／ｇ以上、約１，４００ｍ２／ｇ以上、約１，４５０ｍ２／ｇ以上、約１，５００ｍ２／ｇ以上、約１，５５０ｍ２／ｇ以上、約１，６００ｍ２／ｇ以上、約１，７００ｍ２／ｇ以上または約１，８００ｍ２／ｇ以上の全表面積を有することが可能である。
【０２１６】
追加的に、または代わりに、触媒は、約５０ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約４５０ｍ２／ｇまたは約３００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。特に、触媒は、約３００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。
【０２１７】
１０．細孔体積
本明細書に記載の触媒の細孔体積は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して、決定することが可能である。
【０２１８】
様々な実施形態において、触媒は、約０．１ｃｍ３／ｇ以上、約０．２ｃｍ３／ｇ以上、約０．３ｃｍ３／ｇ以上、約０．４ｃｍ３／ｇ以上、約０．５ｃｍ３／ｇ以上、約０．６ｃｍ３／ｇ以上、約０．７ｃｍ３／ｇ以上、約０．８ｃｍ３／ｇ以上、約０．９ｃｍ３／ｇ以上、約１．０ｃｍ３／ｇ以上、約１．１ｃｍ３／ｇ以上、約１．２ｃｍ３／ｇ以上、約１．３ｃｍ３／ｇ以上、約１．４ｃｍ３／ｇ以上または約１．５ｃｍ３／ｇ以上の細孔体積を有することが可能である。
【０２１９】
追加的に、または代わりに、触媒は、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．４ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．３ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇまたは約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．４ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することが可能である。特に、触媒は、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することが可能である。
【０２２０】
ＩＩ．Ｃ．触媒金属
触媒は、少なくとも１種の触媒金属をさらに含んでいてもよい。少なくとも１種の触媒金属は、オルガノシリカ材料結合剤の細孔内および／またはミクロポーラス材料（例えば、ゼオライト）の細孔内に組み込まれていてもよい。例示的な触媒金属としては、限定されないが、第６族金属、第８族金属、第９族金属、第１０速金属またはそれらの組合せが含まれることが可能である。例示的な第６族金属としては、限定されないが、クロム、モリブデンおよび／またはタングステンが含まれることが可能であり、特に、モリブデンおよび／またはタングステンが含まれる。例示的な第８族金属としては、限定されないが、鉄、ルテニウムおよび／またはオスミウムが含まれることが可能である。例示的な第９族金属としては、限定されないが、コバルト、ロジウムおよび／またはイリジウムが含まれることが可能であり、特に、コバルトが含まれる。例示的な第１０族金属としては、限定されないが、ニッケル、パラジウムおよび／またはプラチナが含まれることが可能である。
【０２２１】
特定の実施形態において、触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０速金属およびそれらの組合せからなる群から選択されてもよい。追加的に、または代わりに、少なくとも１種の触媒金属は、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、レニウム（Ｒｅ）、ルテニウム（Ｒｕ）、オスミウム（Ｏｓ）またはそれらの組合せ、特に、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）およびそれらの混合物からなる群から選択されてもよい。
【０２２２】
追加的に、または代わりに、触媒金属は、少なくとも約０．０１０重量％、少なくとも約０．０５０重量％、少なくとも約０．１０重量％、少なくとも約０．２０重量％、少なくとも約０．４０重量％、少なくとも約０．５０重量％、少なくとも約０．６０重量％、少なくとも約０．８０重量％、少なくとも約１．０重量％、少なくとも約１．２重量％、少なくとも約１．４重量％、少なくとも約１．５重量％、少なくとも約１．６重量％、少なくとも約１．８重量％、少なくとも約２．０重量％、少なくとも約２．２重量％、少なくとも約２．４重量％、少なくとも約２．６重量％、少なくとも約２．８重量％、少なくとも約３．０重量％、少なくとも約３．５重量％、少なくとも約４．０重量％、少なくとも約５．０重量％、少なくとも約７．０重量％、少なくとも約１０重量％、少なくとも約１２重量％、少なくとも約１５重量％、少なくとも約１７重量％または少なくとも２０重量％の量で存在していてもよい。全ての金属の重量パーセントは、支持体上である。「支持体上」とは、パーセントが、支持体、すなわち、ミクロポーラス材料（例えば、ゼオライト）および／またはオルガノシリカ材料結合剤の重量に基づくことを意味する。例えば、支持体が１００グラムの重量である場合、２０重量％の触媒金属とは、２０グラムの金属触媒が支持体上に存在することを意味するであろう。
【０２２３】
追加的に、または代わりに、触媒金属は、約０．０１０重量％〜約２０重量％、約０．０１０重量％〜約１５重量％、約０．０１０重量％〜約１０重量％、約０．０１０重量％〜約５．０重量％、約０．０１０重量％〜約４．０重量％、約０．０１０重量％〜約３．５重量％、約０．０１０重量％〜約３．０重量％、約０．０１０重量％〜約２．８重量％、約０．０１０重量％〜約２．６重量％、約０．０１０重量％〜約２．４重量％、約０．０１０重量％〜約２．２重量％、約０．０１０重量％〜約２．０重量％、約０．０１０重量％〜約１．８重量％、約０．０１０重量％〜約１．６重量％、約０．０１０重量％〜約１．５重量％、約０．０１０重量％〜約１．４重量％、約０．０１０重量％〜少なくとも約１．２重量％、約０．０１０重量％〜約１．０重量％、約０．０１０重量％〜約０．８０重量％、約０．０１０重量％〜約０．６０重量％、約０．０１０重量％〜約０．５０重量％、約０．０１０重量％〜約０．４０重量％、約０．０１０重量％〜約０．２０重量％、約０．０１０重量％〜約０．１０重量％、約０．１０重量％〜約２０重量％、約０．１０重量％〜約１５重量％、約０．１０重量％〜約１０重量％、約０．１０重量％〜約５．０重量％、約０．１０重量％〜約４．０重量％、約０．１０重量％〜約３．５重量％、約０．１０重量％〜約３．０重量％、約０．１０重量％〜約２．８重量％、約０．１０重量％〜約２．６重量％、約０．１０重量％〜約２．４重量％、約０．１０重量％〜約２．２重量％、約０．１０重量％〜約２．０重量％、約０．１０重量％〜約１．８重量％、約０．１０重量％〜約１．６重量％、約０．１０重量％〜約１．５重量％、約０．１０重量％〜約１．４重量％、約０．１０重量％〜少なくとも約１．２重量％、約０．１０重量％〜約１．０重量％、約０．１０重量％〜約０．８０重量％、約０．１０重量％〜約０．６０重量％、約０．１０重量％〜約０．５０重量％、約０．１０重量％〜約０．４０重量％、約０．１０重量％〜約０．２０重量％、約１．０重量％〜約２０重量％、約１．０重量％〜約１５重量％、約１．０重量％〜約１０重量％、約１．０重量％〜約５．０重量％、約１．０重量％〜約４．０重量％、約１．０重量％〜約３．５重量％、約１．０重量％〜約３．０重量％、約１．０重量％〜約２．８重量％、約１．０重量％〜約２．６重量％、約１．０重量％〜約２．４重量％、約１．０重量％〜約２．２重量％、約１．０重量％〜約２．０重量％、約１．０重量％〜約１．８重量％、約１．０重量％〜約１．６重量％、約１．０重量％〜約１．５重量％、約１．０重量％〜約１．４重量％または約１．０重量％〜少なくとも約１．２重量％の量で存在していてもよい。
【０２２４】
特に、触媒金属は、約０．０１０重量％〜約２０重量％、約０．０１０重量％〜約１０重量％、約０．０１０重量％〜約４．０重量％、約０．０５重量％〜約３．５重量％、約０．１重量％〜約２．０重量％または約０．１重量％〜約１．４重量％の量で存在していてもよい。
【０２２５】
ＩＩ．Ｄ．さらなる結合剤材料
種々の態様において、触媒は、上記されるオルガノシリカ材料結合剤に加えて、さらなる結合剤をさらに含んでもよい。適切なさらなる結合剤としては、限定されないが、活性および不活性材料、合成または天然由来ゼオライト、ならびに無機材料、例えば、クレーおよび／または酸化物、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ−アルミナ、酸化セリウム、酸化マグネシウム、あるいはそれらの組合せが含まれる。特に、さらなる結合剤は、活性および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアまたはそれらの組合せからなる群から選択されてよい。特に、さらなる結合剤は、シリカ−アルミナ、アルミナおよび／またはジルコニア、特にアルミナであってよい。シリカ−アルミナは、天然由来であり得るか、あるいはシリカおよび酸化金属の混合物を含む、ゼラチン状沈殿物またはゲルの形態のいずれかであり得る。本明細書において、ゼオライト結合剤材料と関連する、すなわち、それと組み合わせて、またはその合成の間に存在する、それ自体が触媒的に活性である材料の使用は、最終触媒の変換および／または選択性を変更し得ることが認識されることは留意すべきである。本明細書において、不活性材料は、本発明がアルキル化プロセスに利用され、そして反応速度を制御するための他の手段を利用せずに経済的に、かつ秩序的にアルキル化製品を得ることができる場合、変換の量を制御するための希釈剤として適切に役立つことが可能であることも認識される。これらの不活性材料は、商業的な作動条件下での触媒の粉砕強度を改善するため、そして触媒のための結合剤またはマトリックスとして機能するために、天然由来のクレー、例えば、ベントナイトおよびカオリン中に組み込まれてよい。
【０２２６】
ＩＩ．Ｅ．さらなる金属
いくつかの実施形態において、オルガノシリカ材料結合剤は、網目構造に組み込まれたカチオン性金属部位をさらに含むことが可能である。そのようなカチオン性金属部位は、含浸または有機前駆体による表面への錯化などのいずれかの都合のよい方法によって、あるいはいずれかの他の方法によって組み込まれてよい。このようなオルガノ金属材料は、石油精製または石油化学製品製造において実行される多くの炭化水素分離において使用され得る。石油化学製品／燃料から望ましく分離される、そのような化合物の例としては、オレフィン、パラフィン、芳香族などを含むことができる。
【０２２７】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料支持体は、オルガノシリカ材料の細孔内に組み込まれた表面金属をさらに含むことが可能である。表面金属は、第１族元素、第２族元素、第１３族元素およびそれらの組合せから選択されることが可能である。第１族元素が存在維する場合、それは、好ましくは、ナトリウムおよび／またはカリウムを含むことが可能であるか、あるいはそれらであることが可能である。第２族元素が存在維する場合、それは、限定されないが、マグネシウムおよび／またはカルシウムを含み得る。第１３族元素が存在維する場合、それは、限定されないが、ホウ素および／またはアルミニウムを含み得る。
【０２２８】
第１、２、６、８〜１０および／または１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料支持体の外部および／または内部表面上に存在し得る。例えば、第１、２および／または１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料上の第１の層に存在し得、かつ第６、８、９および／または１０族元素の１種以上は、第２の層に、例えば、少なくとも部分的に、第１、２および／または１３族元素の上部に存在し得る。追加的に、または代わりに、第６、８、９および／または１０族元素の１種以上のみが、オルガノシリカ材料の外部および／または内部表面上に存在し得る。表面金属は、含浸、析出、グラフト化、共縮合、イオン交換などの、いずれかの都合のよい方法によって、オルガノシリカ材料中／上に組み込まれることが可能である。特に、限定されないが、アルミニウムなどの第１３族金属は、オルガノシリカ材料支持体の表面上にグラフト化されてもよい。追加的に、または代わりに、限定されないが、チタン、ジルコニウムおよびハフニウムなどの第４族金属は、オルガノシリカ材料支持体の表面上にグラフト化されてもよい。
【０２２９】
ＩＩＩ．触媒の製造方法
別の実施形態において、本明細書に記載される触媒の製造方法を提供する。この方法は、
（ａ）（ｉ）式［Ｚ１Ｚ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）（式中、各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、かつ各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す）の化合物；ならびに
（ｉｉ）式
【化２２】
2019518598.tif 000024
（式中、各Ｒ３は、独立して、Ｘ１ＯＸ２Ｘ３ＳｉＸ４基であり、各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し；Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し；かつ各Ｘ４は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）の環式化合物
からなる群から選択される少なくとも１種の化合物（オルガノシリカ材料結合剤前駆体とも記載される）を、構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物中に添加して、溶液を形成することと；
（ｂ）少なくとも１種のミクロポーラス材料を溶液と混合して、プレ生成物を形成することと；
（ｃ）プレ生成物を成形して、触媒粒子を形成することと；
（ｄ）触媒粒子を硬化することと；
（ｅ）（ｉ）式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）（式中、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）のモノマー；ならびに
（ｉｉ）式
【化２３】
2019518598.tif 000025
（式中、各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し；かつ各Ｘ８は、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）の環式ポリ尿素モノマー
からなる群から選択される少なくとも１種のモノマーを含むポリマーと結合した、少なくとも１種のミクロポーラス材料を含む触媒粒子を乾燥させることと；
（ｆ）少なくとも１種の触媒金属を、少なくとも１種のミクロポーラス材料、触媒粒子またはそれらの組合せの細孔中に組み込むことと
を含むことが可能である。
【０２３０】
ＩＩＩ．Ａ．水性混合物
本明細書に記載される触媒は、構造指向剤およびプロゲンを本質的に使用することなく製造され得る。したがって、水性混合物は、添加された構造指向剤および／または添加されたプロゲンを本質的に含有しない。
【０２３１】
本明細書で使用される場合、「構造指向剤が添加されない」および「プロゲンが添加されない」は、（ｉ）オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導する成分がオルガノシリカ材料の合成において存在しないこと、あるいは（ｉｉ）、成分が、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導するとは言うことが不可能であるように、少量または非実質的な量または無視できる量で、そのような成分がオルガノシリカ材料の合成において存在することのいずれかを意味する。さらに、「構造指向剤が添加されない」は、「追加テンプレートがない」および「鋳型剤が添加されない」と類語である。
【０２３２】
１．構造指向剤
構造指向剤の例としては、限定されないが、非イオン性界面活性剤、イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ケイ素界面活性剤、両性界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、フルオロ界面活性剤、コロイド性結晶、ポリマー、ハイパー分枝状分子、星型分子、巨大分子、デンドリマーおよびそれらの組合せを含むことが可能である。追加的に、または代わりに、表面指向剤は、ポロキサマー、トリブロックポリマー、テトラアルキルアンモニウム塩、非イオン性ポリオキシエチレンアルキル、ジェミニ界面活性剤、またはそれらの混合物を含むことが可能であるか、あるいはそれらであることが可能である。テトラアルキルアンモニウム塩の例としては、限定されないが、セチルトリメチルアンモニウムクロリド（ＣＴＡＣ）、セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）およびオクタデシルトリメチルアンモニウムクロリドなどの、セチルトリメチルアンモニウムハライドを含むことが可能である。他の代表的な表面指向剤は、追加的に、または代わりに、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリドおよび／またはセチルピリジニウムブロミドを含むことが可能である。
【０２３３】
ポロキサマーは、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、より特に、ポリオキシエチレン（ポリ（エチレンオキシド））の２個の親水性鎖によって挾まれた、ポリオキシプロピレン（ポリ（プロピレンオキシド））の中央疎水性鎖からなる非イオン性トリブロックコポリマーである。特に、「ポロキサマー」という用語は、「ａ」および「ｂ」が、それぞれ、ポリオキシエチレンおよびポリオキシプロピレン単位の数を意味する、式ＨＯ（Ｃ２Ｈ４））ａ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａＨを有するポリマーを指す。ポロキサマーは、商標名Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）、例えば、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）１２３およびＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ１２７によっても既知である。追加的なトリブロックポリマーは、Ｂ５０−６６００である。
【０２３４】
非イオン性ポリオキシエチレンアルキルエーテルは、商標名Ｂｒｉｊ（登録商標）、例えば、Ｂｒｉｊ（登録商標）５６、Ｂｒｉｊ（登録商標）５８、Ｂｒｉｊ（登録商標）７６、Ｂｒｉｊ（登録商標）７８によっても既知である。ジェミニ界面活性剤は、１分子あたり、少なくとも２個の疎水基を有し、かつ少なくとも１個、または任意選択的に２個の親水基が導入された化合物である。
【０２３５】
２．ポロゲン
ポロゲン材料は、オルガノシリカ材料において、ドメイン、離散的領域、空隙および／または細孔を形成することが可能である。ポロゲンの例は、ブロックコポリマー（例えば、ジブロックポリマー）である。本明細書で使用される場合、ポロゲンとしては水を含まない。ポリマーポロゲンの例としては、限定されないが、ポリビニル芳香族、例えば、ポリスチレン、ポリビニルピリジン、水素化ポリビニル芳香族、ポリアクリロニトリル、ポリアルキレンオキシド、例えば、ポリエチレンオキシドおよびポリプロピレンオキシド、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン、ポリカプロラクタム、ポリウレタン、ポリメタクリレート、例えば、ポリメチルメタクリレートまたはポリメタクリルさん、ポリアクリレート、例えば、ポリメタクリレートおよびポリアクリル酸、ポリジエン、例えば、ポリブタジエンおよびポリイソプレン、ポリビニルクロリド、ポリアセタールおよびアミンキャップアルキレンオキシド、ならびにそれらの組合せを含むことができる。
【０２３６】
追加的に、または代わりに、ポロゲンは、熱可塑性ホモポリマーおよびランダム（ブロックとは対照的な）コポリマーであることが可能である。本明細書で使用される場合、「ホモポリマー」は、単一モノマーから繰返単位を含む化合物を意味する。適切な熱可塑性材料としては、限定されないが、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリフェニレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリテトラヒドロフラン、ポリエチレン、ポリシクロヘキシルエチレン、ポリエチルオキサゾリン、ポリビニルピリジン、ポリカプロラクトン、ポリ乳酸のホモポリマーまたはコポリマー、これらの材料のコポリマーおよびこれらの材料の混合物を含むことが可能である。ポリスチレンの例としては、限定されないが、アニオン重合ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、未置換および置換ポリスチレン（例えば、ポリ（α−メチルスチレン））が含まれる。熱可塑性材料は、天然で、線形、分岐状、超分岐状、樹状または星形であり得る。
【０２３７】
追加的に、または代わりにポロゲンは、溶媒であることが可能である。溶媒の例としては、限定されないが、ケトン（例えば、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、シクロヘキシルピロリジノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン）、カーボネート化合物（例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート）、複素環式化合物（例えば、３−メチル−２−オキサゾリジノン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン）、環式エーテル（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、鎖エーテル（例えば、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール）、多価アルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、ジプロピレングリコール）、ニトリル化合物（例えば、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エステル（例えば、エチルアセテート、ブチルアセテート、メチルラクテート、エチルラクテート、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート、メチルピルベート、エチルピルベート、プロピルピルベート、２−メトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチロラクトン、リン酸エステル、ホスホン酸エステル）、非プロトン性極性物質（例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、非極性溶媒（例えば、トルエン、キシレン、メシチレン）、塩素ベースの溶媒（例えば、メチレンジクロリド、エチレンジクロリド）、ベンゼン、ジクロロベンゼン、ナフタレン、ビフェニルエーテル、ジイソプロピルベンゼン、トリエチルアミン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、モノメチルエーテルアセテートヒドロキシエーテル、例えば、ジベンジルエーテル、ダイグライム、トリグライムおよびそれらの混合物を含むことが可能である。
【０２３８】
３．塩基／酸
種々の実施形態において、本明細書で提供される方法で使用される水性混合物は、塩基および／または酸を含むことが可能である。水性混合物のｐＨは、経時的に変化し得ることは理解される。
【０２３９】
水性混合物が塩基を含む特定の実施形態において、水性混合物は、約８〜約１５、約８〜約１４．５、約８〜約１４、約８〜約１３．５、約８〜約１３、約８〜約１２．５、約８〜約１２、約８〜約１１．５、約８〜約１１、約８〜約１０．５、約８〜約１０、約８〜約９．５、約８〜約９、約８〜約８．５、約８．５〜約１５、約８．５〜約１４．５、約８．５〜約１４、約８．５〜約１３．５、約８．５〜約１３、約８．５〜約１２．５、約８．５〜約１２、約８．５〜約１１．５、約８．５〜約１１、約８．５〜約１０．５、約８．５〜約１０、約８．５〜約９．５、約８．５〜約９、約９〜約１５、約９〜約１４．５、約９〜約１４、約９〜約１３．５、約９〜約１３、約９〜約１２．５、約９〜約１２、約９〜約１１．５、約９〜約１１、約９〜約１０．５、約９〜約１０、約９〜約９．５、約９．５〜約１５、約９．５〜約１４．５、約９．５〜約１４、約９．５〜約１３．５、約９．５〜約１３、約９．５〜約１２．５、約９．５〜約１２、約９．５〜約１１．５、約９．５〜約１１、約９．５〜約１０．５、約９．５〜約１０、約１０〜約１５、約１０〜約１４．５、約１０〜約１４、約１０〜約１３．５、約１０〜約１３、約１０〜約１２．５、約１０〜約１２、約１０〜約１１．５、約１０〜約１１、約１０〜約１０．５、約１０．５〜約１５、約１０．５〜約１４．５、約１０．５〜約１４、約１０．５〜約１３．５、約１０．５〜約１３、約１０．５〜約１２．５、約１０．５〜約１２、約１０．５〜約１１．５、約１０．５〜約１１、約１１〜約１５、約１１〜約１４．５、約１１〜約１４、約１１〜約１３．５、約１１〜約１３、約１１〜約１２．５、約１１〜約１２、約１１〜約１１．５、約１１．５〜約１５、約１１．５〜約１４．５、約１１．５〜約１４、約１１．５〜約１３．５、約１１．５〜約１３、約１１．５〜約１２．５、約１１．５〜約１２、約１２〜約１５、約１２〜約１４．５、約１２〜約１４、約１２〜約１３．５、約１２〜約１３、約１２〜約１２．５、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１３〜約１５、約１３〜約１４．５、約１３〜約１４、約１３〜約１３．５、約１３．５〜約１５、約１３．５〜約１４．５、約１３．５〜約１４、約１４〜約１５、約１４〜約１４．５および約１４．５〜約１５のｐＨを有することが可能である。
【０２４０】
塩基を含む特定の実施形態において、ｐＨは、約９〜約１５、約９〜約１４または約８〜約１４であることが可能である。
【０２４１】
代表的な塩基としては、限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデカン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、アンモニア、アンモニウムヒドロキシド、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリメチルイミジン、１−アミノ−３−メチルブタン、ジメチルグリシン、３−アミノ−３−メチルアミンなどを含むことができる。これらの塩基は、単一で、または組み合わせてのいずれかで使用されてよい。特定の実施形態において、塩基は、水酸化ナトリウムおよび／または水酸化アンモニウムを含むことが可能であるか、またはそれらであることが可能である。
【０２４２】
水性混合物が酸を含む特定の実施形態において、水性混合物は、約０．０１〜約６．０、約０．０１〜約５、約０．０１〜約４、約０．０１〜約３、約０．０１〜約２、約０．０１〜約１、０．１〜約６．０、約０．１〜約５．５、約０．１〜約５．０、約０．１〜約４．８、約０．１〜約４．５、約０．１〜約４．２、約０．１〜約４．０、約０．１〜約３．８、約０．１〜約３．５、約０．１〜約３．２、約０．１〜約３．０、約０．１〜約２．８、約０．１〜約２．５、約０．１〜約２．２、約０．１〜約２．０、約０．１〜約１．８、約０．１〜約１．５、約０．１〜約１．２、約０．１〜約１．０、約０．１〜約０．８、約０．１〜約０．５、約０．１〜約０．２、約０．２〜約６．０、約０．２〜約５．５、約０．２〜約５、約０．２〜約４．８、約０．２〜約４．５、約０．２〜約４．２、約０．２〜約４．０、約０．２〜約３．８、約０．２〜約３．５、約０．２〜約３．２、約０．２〜約３．０、約０．２〜約２．８、約０．２〜約２．５、約０．２〜約２．２、約０．２〜約２．０、約０．２〜約１．８、約０．２〜約１．５、約０．２〜約１．２、約０．２〜約１．０、約０．２〜約０．８、約０．２〜約０．５、約０．５〜約６．０、約０．５〜約５．５、約０．５〜約５、約０．５〜約４．８、約０．５〜約４．５、約０．５〜約４．２、約０．５〜約４．０、約０．５〜約３．８、約０．５〜約３．５、約０．５〜約３．２、約０．５〜約３．０、約０．５〜約２．８、約０．５〜約２．５、約０．５〜約２．２、約０．５〜約２．０、約０．５〜約１．８、約０．５〜約１．５、約０．５〜約１．２、約０．５〜約１．０、約０．５〜約０．８、約０．８〜約６．０、約０．８〜約５．５、約０．８〜約５、約０．８〜約４．８、約０．８〜約４．５、約０．８〜約４．２、約０．８〜約４．０、約０．８〜約３．８、約０．８〜約３．５、約０．８〜約３．２、約０．８〜約３．０、約０．８〜約２．８、約０．８〜約２．５、約０．８〜約２．２、約０．８〜約２．０、約０．８〜約１．８、約０．８〜約１．５、約０．８〜約１．２、約０．８〜約１．０、約１．０〜約６．０、約１．０〜約５．５、約１．０〜約５．０、約１．０〜約４．８、約１．０〜約４．５、約１．０〜約４．２、約１．０〜約４．０、約１．０〜約３．８、約１．０〜約３．５、約１．０〜約３．２、約１．０〜約３．０、約１．０〜約２．８、約１．０〜約２．５、約１．０〜約２．２、約１．０〜約２．０、約１．０〜約１．８、約１．０〜約１．５、約１．０〜約１．２、約１．２〜約６．０、約１．２〜約５．５、約１．２〜約５．０、約１．２〜約４．８、約１．２〜約４．５、約１．２〜約４．２、約１．２〜約４．０、約１．２〜約３．８、約１．２〜約３．５、約１．２〜約３．２、約１．２〜約３．０、約１．２〜約２．８、約１．２〜約２．５、約１．２〜約２．２、約１．２〜約２．０、約１．２〜約１．８、約１．２〜約１．５、約１．５〜約６．０、約１．５〜約５．５、約１．５〜約５．０、約１．５〜約４．８、約１．５〜約４．５、約１．５〜約４．２、約１．５〜約４．０、約１．５〜約３．８、約１．５〜約３．５、約１．５〜約３．２、約１．５〜約３．０、約１．５〜約２．８、約１．５〜約２．５、約１．５〜約２．２、約１．５〜約２．０、約１．５〜約１．８、約１．８〜約６．０、約１．８〜約５．５、約１．８〜約５．０、約１．８〜約４．８、約１．８〜約４．５、約１．８〜約４．２、約１．８〜約４．０、約１．８〜約３．８、約１．８〜約３．５、約１．８〜約３．２、約１．８〜約３．０、約１．８〜約２．８、約１．８〜約２．５、約１．８〜約２．２、約１．８〜約２．０、約２．０〜約６．０、約２．０〜約５．５、約２．０〜約５．０、約２．０〜約４．８、約２．０〜約４．５、約２．０〜約４．２、約２．０〜約４．０、約２．０〜約３．８、約２．０〜約３．５、約２．０〜約３．２、約２．０〜約３．０、約２．０〜約２．８、約２．０〜約２．５、約２．０〜約２．２、約２．２〜約６．０、約２．２〜約５．５、約２．２〜約５．０、約２．２〜約４．８、約２．２〜約４．５、約２．２〜約４．２、約２．２〜約４．０、約２．２〜約３．８、約２．２〜約３．５、約２．２〜約３．２、約２．２〜約３．０、約２．２〜約２．８、約２．２〜約２．５、約２．５〜約６．０、約２．５〜約５．５、約２．５〜約５．０、約２．５〜約４．８、約２．５〜約４．５、約２．５〜約４．２、約２．５〜約４．０、約２．５〜約３．８、約２．５〜約３．５、約２．５〜約３．２、約２．５〜約３．０、約２．５〜約２．８、約２．８〜約６．０、約２．８〜約５．５、約２．８〜約５．０、約２．８〜約４．８、約２．８〜約４．５、約２．８〜約４．２、約２．８〜約４．０、約２．８〜約３．８、約２．８〜約３．５、約２．８〜約３．２、約２．８〜約３．０、約３．０〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．０〜約５．０、約３．０〜約４．８、約３．０〜約４．５、約３．０〜約４．２、約３．０〜約４．０、約３．０〜約３．８、約３．０〜約３．５、約３．０〜約３．２、約３．２〜約６．０、約３．２〜約５．５、約３．２〜約５、約３．２〜約４．８、約３．２〜約４．５、約３．２〜約４．２、約３．２〜約４．０、約３．２〜約３．８、約３．２〜約３．５、約３．５〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．５〜約５、約３．５〜約４．８、約３．５〜約４．５、約３．５〜約４．２、約３．５〜約４．０、約３．５〜約３．８、約３．８〜約５、約３．８〜約４．８、約３．８〜約４．５、約３．８〜約４．２、約３．８〜約４．０、約４．０〜約６．０、約４．０〜約５．５、約４．０〜約５、約４．０〜約４．８、約４．０〜約４．５、約４．０〜約４．２、約４．２〜約５、約４．２〜約４．８、約４．２〜約４．５、約４．５〜約５、約４．５〜約４．８または約４．８〜約５のｐＨを有することが可能である。
【０２４３】
酸を含む特定の実施形態において、ｐＨは、約０．０１〜約６．０、０．２〜約６．０、約０．２〜約５．０または約０．２〜約４．５であることが可能である。
【０２４４】
代表的な酸としては、限定されないが、塩酸、硝酸、硫酸、フッ化水素酸、リン酸、ホウ酸およびシュウ酸などの無機酸；ならびに酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリト酸、アラキドン酸、シキミ酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−アミノ−安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、リンゴ酸、グルタル酸の加水分解物、無水マレイン酸の加水分解物、無水フタル酸の加水分解物などの有機酸などを含むことが可能である。これらの酸は、単一で、または組み合わせてのいずれかで使用されてよい。特定の実施形態において、酸は、塩酸を含むことが可能であるか、またはそれらであることが可能である。
【０２４５】
上記ｐＨは、少なくとも１種の化合物（前駆体）の添加前、間および／または後の水性混合物のｐＨに相当し得る。
【０２４６】
ＩＩＩ．Ｂ．式（Ｉａ）の化合物
本明細書において提供される方法は、各Ｚ１が、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり、かつ各Ｚ２が、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能である、少なくとも１種の式［Ｚ１Ｚ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物を、水性混合物中に添加して、溶液を形成するステップを含む。
【０２４７】
一実施形態において、各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシまたはＣ１〜Ｃ２アルコキシまたはメトキシまたはエトキシであることが可能である。
【０２４８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシまたはＣ１〜Ｃ２アルコキシまたはメトキシまたはエトキシであることが可能である。追加的に、または代わりに、各Ｚ２は、メチル、エチルまたはプロピル、例えば、メチルまたはエチルを含むことが可能である。
【０２４９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、かつＺ２は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０２５０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１は、メトキシまたはエトキシであることが可能であり、かつ各Ｚ２は、メチルまたはエチルであることが可能である。
【０２５１】
特定の実施形態において、式（Ｉａ）に相当する化合物が、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン、（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であるように、Ｚ１およびＺ２は、エトキシであることが可能である。
【０２５２】
特定の実施形態において、式（Ｉａ）に相当する化合物が、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン、（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であるように、Ｚ１は、エトキシであることが可能であり、かつＺ２は、メチルであることが可能である。
【０２５３】
追加的に、または代わりに、この方法は、同一であっても、または異なっていてもよい、式（Ｉａ）のさらなる化合物を、水性混合物に添加することをさらに含むことが可能である。例えば、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン、（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）および１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン、（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３）を水性混合物に添加してもよい。
【０２５４】
１種以上の式（Ｉａ）の化合物を使用する場合、それぞれの化合物は、広範囲の様々なモル比で使用されてよい。例えば、２種の式（Ｉａ）の化合物が使用される場合、各化合物のモル比は、１：９９〜９９：１、例えば、１０：９０〜９０：１０で変動し得る。異なる式（Ｉａ）の化合物の使用によって、本発明のプロセスによって製造される触媒の特性を調整することが可能となる。これについては、実施例において、および本発明の方法によって製造された触媒の特性を説明する本明細書の項目においてさらに説明されるであろう。
【０２５５】
ＩＩＩ．Ｃ．式（ＩＩａ）の化合物
追加的に、または代わりに、本明細書において提供される方法は、少なくとも１種の式
【化２４】
2019518598.tif 000026
（式中、各Ｒ３は、独立して、Ｘ１ＯＸ２Ｘ３ＳｉＸ４基であり、各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し；Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立してＣ１〜Ｃ４アルキル基またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し；かつ各Ｘ４は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）の環式化合物を添加するステップを含む。
【０２５６】
種々の実施形態において、各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ２アルキルまたはメチルであることが可能である。
【０２５７】
追加的に、または代わりに、各Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０２５８】
追加的に、または代わりに、各Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０２５９】
追加的に、または代わりに、各Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０２６０】
追加的に、または代わりに、各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつＸ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０２６１】
追加的に、または代わりに、各Ｘ４は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ７アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ７アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ６アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ３アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ２アルキレン基または環式化合物の窒素原子に結合した−ＣＨ--２−であることが可能である。
【０２６２】
追加的に、または代わりに、各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；かつＸ４は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【０２６３】
特定の実施形態において、式（ＩＩａ）に相当する化合物が、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であるように、各Ｘ１は、メチルであることが可能であり；Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、メトキシであることが可能であり；かつＸ４は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である。
【０２６４】
ＩＩＩ．Ｄ．式（ＩＩＩａ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書において提供される方法は、各Ｚ１７が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である、式Ｚ１７ＯＺ１８Ｚ１９Ｚ２０Ｓｉ（ＩＩＩａ）の化合物を水性溶液に添加することをさらに含むことが可能である。
【０２６５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基およびＣ１〜Ｃ６アルコキシ基からなる群から選択されることが可能である。追加的に、または代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０２６６】
種々の態様において、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ１７は、メチルまたはエチルであることが可能である。
【０２６７】
追加的に、または代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０２６８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０２６９】
追加的に、または代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０２７０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０２７１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０２７２】
追加的に、または代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ１〜Ｃ９アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ７アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルアミンであることが可能である。特に、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ９アルキル基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。上記窒素含有アルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の例としては、限定されないが、
【化２５】
2019518598.tif 000027
が含まれる。
【０２７３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。
【０２７４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。
【０２７５】
追加的に、または代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロアラルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、ピリジニルプロピル、ピリジニルメチル、インドリルメチル、ピラジニルエチルおよびピラジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロアラルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。
【０２７６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。
【０２７７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基または窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。
【０２７８】
追加的に、または代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロシクロアルキル基であることが可能であり、ヘテロシクロアルキル基は、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、ピペラジニルエチル、ピペラジニルプロピル、ピペリジニルエチル、ピペリジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。
【０２７９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０２８０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基または窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０２８１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素を含有し、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０２８２】
特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）に相当する化合物が、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｚ１７は、エチルであることが可能であり、かつＺ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、エトキシであることが可能である。
【０２８３】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であることが可能である。
【０２８４】
別の特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）に相当する化合物が、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３-Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｚ１７は、エチルであることが可能であり、Ｚ１８は、メチルであることが可能であり、かつＺ１９およびＺ２０は、エトキシであることが可能である。
【０２８５】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３-Ｓｉ）であることが可能である。
【０２８６】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３-Ｓｉ）であることが可能である。
【０２８７】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であることが可能である。
【０２８８】
別の特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）に相当する化合物が、（３−アミノプロピル）トリエトキシシラン（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３（ＥｔＯ）３Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｚ１７は、エチルであることが可能であり、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであることが可能であり、かつＺ２０が、
【化２６】
2019518598.tif 000028
であることが可能である。
【０２８９】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、（３−アミノプロピル）トリエトキシシラン（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３（ＥｔＯ）３Ｓｉ）であることが可能である。
【０２９０】
別の特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）に相当する化合物が、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン（（（ＣＨ３）２Ｎ（ＣＨ２）３）（ＭｅＯ）３Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｚ１７は、メチルであることが可能であり、Ｚ１８およびＺ１９は、メトキシであることが可能であり、かつＺ２０が、
【化２７】
2019518598.tif 000029
であることが可能である。
【０２９１】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン（（（ＣＨ３）２Ｎ（ＣＨ２）３）（ＭｅＯ）３Ｓｉ）であることが可能である。
【０２９２】
別の特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）に相当する化合物が、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン（（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３）（ＥｔＯ）２-Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｚ１７は、エチルであることが可能であり、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであることが可能であり、かつＺ２０が、
【化２８】
2019518598.tif 000030
であることが可能である。
【０２９３】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン（（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３）（ＥｔＯ）２-Ｓｉ）であることが可能である。
【０２９４】
別の特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）に相当する化合物が、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジンであることが可能であるように、Ｚ１７は、エチルであることが可能であり、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであることが可能であり、かつＺ２０は、
【化２９】
2019518598.tif 000031
であることが可能である。
【０２９５】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジンであることが可能である。
【０２９６】
別の特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）に相当する化合物が、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジンであることが可能であるように、Ｚ１７は、エチルであることが可能であり、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであることが可能であり、かつＺ２０が、
【化３０】
2019518598.tif 000032
であることが可能である。
【０２９７】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジンであることが可能である。
【０２９８】
別の特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）に相当する化合物が、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールであることが可能であるように、Ｚ１７は、エチルであることが可能であり、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであることが可能であり、かつＺ２０が、
【化３１】
2019518598.tif 000033
であることが可能である。
【０２９９】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールであることが可能である。
【０３００】
別の特定の実施形態において、式（ＩＩＩａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート、メチルトリエトキシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジン、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジン、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールおよび（３−アミノプロピル）トリエトキシシランからなる群から選択される。
【０３０１】
式（Ｉａ）の化合物対式（ＩＩＩａ）の化合物のモル比は、広範囲内で変動し得、例えば、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３であってよい。例えば、式（Ｉａ）の化合物対式（ＩＩＩａ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４または約２．５：１〜約１：２．５、約２：１〜約１：２、例えば、約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０３０２】
式（ＩＩａ）の化合物対式（ＩＩＩａ）の化合物のモル比は、広範囲内で変動し得、例えば、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３であってよい。例えば、式（ＩＩａ）の化合物対式（ＩＩＩａ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４または約２．５：１〜約１：２．５、約２：１〜約１：２、例えば、約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０３０３】
ＩＩＩ．Ｅ．式（ＩＶａ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書において提供される方法は、各Ｚ２１が、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１が、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ２-〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル基、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である、式Ｚ２１Ｚ２２Ｚ２３Ｓｉ−Ｒ１−ＳｉＺ２１Ｚ２３Ｚ２４（ＩＶａ）の化合物を水性溶液に添加することをさらに含むことが可能である。
【０３０４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、およびＣ２〜Ｃ８アルキニレン基からなる群から選択されることが可能である。追加的に、または代わりに、Ｒ１は、任意選択的に、窒素含有Ｃ１-〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル基、および／または任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０３０５】
種々の実施形態において、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０３０６】
追加的に、または代わりに、Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０３０７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、かつＺ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０３０８】
追加的に、または代わりに、Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０３０９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、かつＺ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０３１０】
追加的に、または代わりに、Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、かつＺ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０３１１】
追加的に、または代わりに、各Ｒ１は、Ｃ１-〜Ｃ７アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ６アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ５アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ３アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ２アルキレン基または−ＣＨ２−であることが可能である。
【０３１２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基であることが可能である。
【０３１３】
追加的に、または代わりに、各Ｒ１は、Ｃ２-〜Ｃ７アルケニレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルケニレン基、Ｃ２-〜Ｃ５アルケニレン基、Ｃ２-〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２-〜Ｃ３アルケニレン基または−ＣＨ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０３１４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルケニレン基であることが可能である。
【０３１５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基またはＣ１〜Ｃ２アルケニレン基であることが可能である。
【０３１６】
追加的に、または代わりに、各Ｒ１は、Ｃ２-〜Ｃ７アルキニレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ２-〜Ｃ５アルキニレン基、Ｃ２-〜Ｃ４アルキニレン基、Ｃ２-〜Ｃ３アルキニレン基または−Ｃ≡Ｃ−であることが可能である。
【０３１７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつＲ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基であることが可能である。
【０３１８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基またはＣ２〜Ｃ４アルキニレン基であることが可能である。
【０３１９】
追加的に、または代わりに、各Ｒ１は、窒素含有Ｃ２-〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４-〜Ｃ９アルキレン基、窒素含有Ｃ４-〜Ｃ８アルキレン基または窒素含有Ｃ３-〜Ｃ８アルキレン基であることが可能である。上記窒素含有アルキレン基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。窒素含有アルキレン基の例としては、限定されないが、
【化３２】
2019518598.tif 000034
が含まれる。
【０３２０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基であることが可能である。
【０３２１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基であることが可能である。
【０３２２】
追加的に、または代わりに、各Ｒ１は、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１４アラルキルまたは任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。Ｃ６〜Ｃ２０アラルキルの例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチル、およびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０３２３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。
【０３２４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基または任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。
【０３２５】
追加的に、または代わりに、Ｒ１は、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１６ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基または任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピル、およびイミダゾリルプロピルが含まれる。ヘテロシクロアルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０３２６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつＲ１は、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０３２７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；かつ各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルまたは任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０３２８】
特定の実施形態において、式（ＩＶａ）に相当する化合物が、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン（ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３）であることが可能であるように、Ｚ２１およびＺ２２は、エトキシであることが可能であり、Ｚ２３は、メチルであることが可能であり、かつＲ１は、−ＣＨ２ＣＨ２-−であることが可能である。
【０３２９】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＶａ）の化合物は、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン（ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３）であることが可能である。
【０３３０】
別の特定の実施形態において、式（ＩＶａ）に相当する化合物が、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能であるように、Ｚ２１、Ｚ２２およびＺ２３は、エトキシであることが可能であり、かつＲ１は、−ＣＨ２−であることが可能である。
【０３３１】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＶａ）の化合物は、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能である。
【０３３２】
別の特定の実施形態において、式（ＩＶａ）に相当する化合物が、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＨＣ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能であるように、Ｚ２１、Ｚ２２およびＺ２３は、エトキシであることが可能であり、かつＲ１は、−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０３３３】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＶａ）の化合物は、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＨＣ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能である。
【０３３４】
別の特定の実施形態において、式（ＩＶａ）の化合物は、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＩＩａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であることが可能である。
【０３３５】
特定の実施形態において、式（ＩＶａ）に相当する化合物が、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンであることが可能であるように、Ｚ２１、Ｚ２２およびＺ２３は、メトキシであることが可能であり、かつＲ１は、
【化３３】
2019518598.tif 000035
であることが可能である。
【０３３６】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＶａ）の化合物は、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンであることが可能である。
【０３３７】
別の特定の実施形態において、式（ＩＶａ）に相当する化合物が、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミンであることが可能であるように、Ｚ２１およびＺ２２は、エトキシであることが可能であり、Ｚ２３は、メチルであることが可能であり、かつＲ１は、
【化３４】
2019518598.tif 000036
であることが可能である。
【０３３８】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＶａ）の化合物は、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミンであることが可能である。
【０３３９】
別の特定の実施形態において、式（ＩＶａ）に相当する化合物が、ビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンであることが可能であるように、Ｚ２１およびＺ２２は、メトキシであることが可能であり、Ｚ２３は、メチルであることが可能であり、かつＲ１は、
【化３５】
2019518598.tif 000037
であることが可能である。
【０３４０】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式（ＩＶａ）の化合物は、ビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンであることが可能であり、かつ任意選択的に、他の化合物は水性混合物に添加されない。
【０３４１】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミン、およびビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンからなる群から選択されることが可能である。
【０３４２】
式（Ｉａ）の化合物対式（ＩＶａ）の化合物のモル比は、広範囲内で変動し得、例えば、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３であってよい。例えば、式（Ｉａ）の化合物対式（ＩＶａ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４または約２．５：１〜１：２．５、約２：１〜約１：２、例えば、約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０３４３】
式（ＩＩａ）の化合物対式（ＩＶａ）の化合物のモル比は、広範囲内で変動し得、例えば、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３であってよい。例えば、式（ＩＩａ）の化合物対式（ＩＶａ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４または約２．５：１〜１：２．５、約２：１〜約１：２、例えば、約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０３４４】
ＩＩＩ．Ｆ．三価金属酸化物の供給源
追加的な実施形態において、本明細書において提供される方法は、三価金属酸化物の供給源を水性混合物に添加することを含むことが可能である。
【０３４５】
三価金属酸化物の供給源としては、限定されないが、三価金属の相当する塩、アルコキシド、オキシドおよび／またはヒドロキシド、例えば、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、コロイド性アルミナ、アルミニウムトリヒドロキシド、ヒドロキシル化アルミナ、Ａｌ２Ｏ３、ハロゲン化アルミニウム（例えば、ＡｌＣｌ３）、ＮａＡｌＯ２、窒化ホウ素、Ｂ２Ｏ３および／またはＨ３ＢＯ３を含むことが可能である。
【０３４６】
種々の実施形態において、三価金属酸化物の供給源は、Ｍ３が、第１３族金属であることが可能であり、かつ各Ｚ２４が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能である式Ｍ３（ＯＺ２４）３（Ｖａ）の化合物であってよい。
【０３４７】
一実施形態において、Ｍ３は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＩｌまたはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ３は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【０３４８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ１５は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０３４９】
追加的に、または代わりに、Ｍ３は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ２４は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０３５０】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリメトキシドであることが可能であるように、Ｍ３は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ２４は、メチルであることが可能である。
【０３５１】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリエトキシドであることが可能であるように、Ｍ３は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ２４は、エチルであることが可能である。
【０３５２】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、アルミニウムイソプロポキシドであることが可能であるように、Ｍ３は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ２４は、プロピルであることが可能である。
【０３５３】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であるように、Ｍ３は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ２４は、ブチルであることが可能である。
【０３５４】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン、（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式の化合物（Ｖａ）は、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムイソプロポキシドおよびアルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドからなる群から選択されることが可能である。
【０３５５】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ／または式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能であり、かつ／または式の化合物（Ｖａ）は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能である。
【０３５６】
追加的に、または代わりに、三価金属酸化物の供給源は、Ｍ４が、第１３族金属であることが可能であり、かつ各Ｚ２５および各Ｚ２６が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能である式（Ｚ１６Ｏ）２-Ｍ４−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１７）３（ＶＩａ）の化合物であってよい。
【０３５７】
一実施形態において、Ｍ４は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＩｌまたはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ４は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【０３５８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ２５および各Ｚ２６は、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ２５および各Ｚ２６は、独立して、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０３５９】
追加的に、または代わりに、Ｍ４は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ２５および各Ｚ２６は、独立して、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０３６０】
追加的に、または代わりに、三価金属酸化物の供給源は、式（Ｖａ）の化合物の供給源（例えば、ＡｌＣｌ３）および／または式（ＶＩａ）の化合物の供給源であってよい。
【０３６１】
式（Ｉａ）または式（Ｉｉａ）の化合物対三価金属酸化物のモル比は、広範囲内で変動し得、例えば、約９９：１〜約１：９９、約３０：１〜約１：１、約２５：１〜約１：１、約２０：１〜約３：１または約２０：１〜約５：１であってよい。
【０３６２】
ＩＩＩ．Ｇ．モル比
上記の方法において、約９９：１〜約１：９９、約７５：１〜約１：９９、約５０：１〜約１：９９、約２５：１〜約１：９９、約１５：１〜約１：９９、約５０：１〜約１：５０、約２５：１〜約１：２５または約１５：１〜約１：１５の式（Ｉａ）：式（Ｉａ）、式（Ｉａ）：式（ＩＩＩａ）、式（Ｉａ）：式（ＩＶａ）、式（ＩＶａ）：式（ＩＩＩａ）、式（Ｉａ）：式（Ｖａ）、式（Ｉａ）：式（ＩＩａ）、式（Ｉａ）：式（ＶＩａ）、式（ＩＩａ）：式（Ｉａ）、式（ＩＩａ）：式（ＩＩＩａ）のモル比が使用されてよい。例えば、約３：２、約４：１、約４：３、約５：１、約２：３、約１：１、約５：２および約１５：１のモル比が使用されてよい。例えば、式（Ｉａ）：式（Ｉａ）のモル比は、約３：２であることが可能である。式（Ｉａ）：式（ＩＩＩａ）のモル比は、約２：３、約４：３、約４：１または約３：２であることが可能である。式（Ｉａ）：式（ＩＶａ）のモル比は、約２：３および約４：１であることが可能である。式（ＩＶａ）：式（ＩＩＩａ）のモル比は、約５：２、約１：１、約１：２または約２：３であることが可能である。式（Ｉａ）：式（Ｖａ）および式（Ｉａ）：式（ＶＩａ）のモル比は、約１５：１または約５：１であることが可能である。式（ＩＩａ）：式（Ｉａ）および／または式（ＩＩａ）：式（ＩＩＩａ）のモル比は、約３：２であることが可能である。
【０３６３】
以下の考察のために、式（Ｉａ）、（ＩＩＩａ）および（ＩＶａ）の化合物は、集合的に出発シロキサンと呼ばれるであろう。出発材料の選択次第で、溶液は、様々な組成を有し得る。例えば、塩基が使用される場合、溶液は、１：５〜約１：２０、例えば、約１：５〜約１：１５もしくは約１：５〜１：１０、または約１：６〜１：２０の出発シロキサン対ＯＨ−のモル比を有し得る。酸が使用される場合、溶液は、５０：１〜約５：１、例えば、約４５：１〜約１０：１の出発シロキサン：Ｈ＋のモル比を有し得る。酸または塩基が使用される両ケースにおいて、出発シロキサン対Ｈ２Ｏのモル比は、約１：５０〜約１：１０００、例えば、約１：１００〜約１：５００に変動し得る。
【０３６４】
ＩＩＩ．Ｈ．ミクロポーラス材料
本明細書に記載の方法は、本明細書に記載の少なくとも１種のミクロポーラス材料と、溶液とを混合して、プレ生成物を形成することを含む。プレ生成物は、ペーストからなってもよい。
【０３６５】
本明細書で議論される通り、適切なミクロポーラス材料は、上記フレームワーク型を有するゼオライトであり得る。例えば、適切なゼオライトは、必ずしも限定されないが、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−１２、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５０、ＺＳＭ−５７、ＭＣＭ−４９、ＭＣＭ−２２など、ならびにその相互成長および組合せを含むことが可能である。
【０３６６】
追加的に、または代わりに、ミクロポーラス材料は、アルミノホスフェート（すなわち、ＡＬＰＯ）、例えば、限定されないが、ＡｌＰＯ−１１、ＡｌＰＯ−Ｈ２、ＡｌＰＯ−３１およびＡｌＰＯ−４１であり得る。追加的に、または代わりに、ミクロポーラス材料はシリコアルミノホスフェート（すなわち、ＳＡＰＯ）、例えば、限定されないが、ＳＡＰＯ−１１、ＳＡＰＯ−４１およびＳＡＰＯ−３１であり得る。
【０３６７】
種々の態様において、少なくとも１種のミクロポーラス材料は、ゼオライト、ＳＡＰＯ、ＡＬＰＯおよびそれらの組合せからなる群から選択されてよい。特に、少なくとも１種のミクロポーラス材料は、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５０、ＺＳＭ−５７、ＭＣＭ−４９、ＭＣＭ−２２、ＳＡＰＯ−１１、ＳＡＰＯ−４１、ＡｌＰＯ−１１、ＡｌＰＯ−Ｈ２およびＡｌＰＯ−４１からなる群から選択されてよい。
【０３６８】
ミクロポーラス材料および溶液は、プレ生成物を形成するために、適切ないずれかの時間量で混合されてよい。例えば、ミクロポーラス材料および溶液は、少なくとも約０．０５０時間、少なくとも約０．１０時間、少なくとも約０．２０時間、少なくとも約０．３０時間、少なくとも約０．４０時間、少なくとも約０．５０時間、少なくとも約０．６０時間、少なくとも約０．７０時間、少なくとも約０．８０時間、少なくとも約０．９０時間、少なくとも約１．０時間、少なくとも約２．０時間、少なくとも約５．０時間、少なくとも約１０時間、少なくとも約１５時間または少なくとも約２０時間、混合されてよい。
【０３６９】
追加的に、または代わりに、ミクロポーラス材料および溶液は、約０．０５０時間〜約２０時間、約０．０５０時間〜約１５時間、約０．０５０時間〜約１０時間、約０．０５０時間〜約５．０時間、約０．０５０時間〜約１．０時間、約０．０５０時間〜約０．５０時間、約０．１０時間〜約２０時間、約０．１０時間〜約１５時間、約０．１０時間〜約１０時間、約０．１０時間〜約５．０時間、約０．１０時間〜約１．０時間、約０．１０時間〜約０．５０時間、約０．５０時間〜約２０時間、約０．５０時間〜約１５時間、約０．５０時間〜約１０時間、約０．５０時間〜約５．０時間または約０．５０時間〜約１．０時間、混合されてよい。特に、ミクロポーラス材料および溶液は、約０．０５０時間〜約２０時間、約０．１０時間〜約２０時間、約０．１０時間〜約１０時間または約０．１０時間〜約１．０時間、混合されてよい。
【０３７０】
追加的に、または代わりに、ミクロポーラス材料および溶液は、少なくとも約１０℃、少なくとも約１２℃、少なくとも約１４℃、少なくとも約１６℃、少なくとも約１８℃、少なくとも約２０℃、少なくとも約２２℃、少なくとも約２４℃、少なくとも約２６℃、少なくとも約２８℃、少なくとも約３０℃、少なくとも約３２℃、少なくとも約３４℃、少なくとも約３６℃、少なくとも約３８℃または少なくとも約４０℃の温度で混合されてよい。特に、ミクロポーラス材料および溶液は、約１０℃〜約４０℃、特に、約１２℃〜約３４℃、特に、約１４℃〜約３０℃、特に、約１８℃〜約２８℃または特に、約２０℃〜約２８℃の温度で混合されてよい。
【０３７１】
ＩＩＩ．Ｉ．プレ生成物の成形
本明細書に記載される方法は、いずれかの適切な手段によって、プレ生成物を成形して、触媒粒子を形成することを含み得る。例えば、プレ生成物は、種々の成形触媒粒子へと押出成形されてもよい。触媒粒子の形状の例としては、限定されないが、円柱、球体、バイローブ、トリローブ、クアドラローブ（ｑｕａｄｒａｌｏｂｅ）、環およびモノリスが含まれる。
【０３７２】
追加的に、または代わりに、プレ生成物は、ミル粉砕および／または噴霧乾燥プロセスによって触媒粒子へと成形されてもよい。特に、プレ生成物の成形は、押出成形、ミル粉砕、噴霧乾燥およびそれらの組合せを含んでよい。
【０３７３】
ＩＩＩ．Ｊ．触媒粒子の硬化
本明細書に記載される方法は、例えば、オーブン中で、適切な温度において触媒粒子を硬化することをさらに含み得る。触媒粒子は、いずれかの適切な気体、例えば、空気の存在下で硬化されてもよい。触媒粒子は、少なくとも約０℃、少なくとも約１０℃、少なくとも約２０℃、少なくとも約３０℃、少なくとも約４０℃、少なくとも約５０℃、少なくとも約６０℃、少なくとも約７０℃、少なくとも約８０℃、少なくとも約９０℃、少なくとも約１００℃、少なくとも約１１０℃、少なくとも約１２０℃、少なくとも約１３０℃、少なくとも約１４０℃または少なくとも約１５０℃、少なくとも約１７５℃または少なくとも約２００℃の温度で硬化されてよい。
【０３７４】
追加的に、または代わりに、本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、約０℃〜約２００℃、約０℃〜約１７５℃、約０℃〜約１５０℃、約０℃〜約１４０℃、約０℃〜約１３０℃、約０℃〜約１２０℃、約０℃〜約１１０℃、約０℃〜約１００℃、約０℃〜約９０℃、約０℃〜約８０℃、約０℃〜約７０℃、約０℃〜約６０℃、約０℃〜約５０℃、約０℃〜約４０℃、約０℃〜約３０℃、約２０℃〜約２００℃、約２０℃〜約１７５℃、約２０℃〜約１５０℃、約２０℃〜約１４０℃、約２０℃〜約１３０℃、約２０℃〜約１２０℃、約２０℃〜約１１０℃、約２０℃〜約１００℃、約２０℃〜約９０℃、約２０℃〜約８０℃、約２０℃〜約７０℃、約２０℃〜約６０℃、約２０℃〜約５０℃、約２０℃〜約４０℃、約２０℃〜約３０℃、約４０℃〜約２００℃、約４０℃〜約１７５℃、約４０℃〜約１５０℃、約４０℃〜約１４０℃、約４０℃〜約１３０℃、約４０℃〜約１２０℃、約４０℃〜約１１０℃、約４０℃〜約１００℃、約４０℃〜約９０℃、約４０℃〜約８０℃、約４０℃〜約７０℃、約４０℃〜約６０℃、約４０℃〜約５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１７５℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１４０℃、約５０℃〜約１３０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約９０℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約５０℃〜約６０℃、約６０℃〜約２００℃、約６０℃〜約１７５℃、約６０℃〜約１５０℃、約６０℃〜約１４０℃、約６０℃〜約１３０℃、約６０℃〜約１２０℃、約６０℃〜約１１０℃、約６０℃〜約１００℃、約６０℃〜約９０℃、約６０℃〜約８０℃、約６０℃〜約７０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１７５℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１４０℃、約７０℃〜約１３０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約９０℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１７５℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１４０℃、約８０℃〜約１３０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃、約８０℃〜約１００℃または約８０℃〜約９０℃の温度で硬化されてよい。特に、触媒粒子は、約０℃〜約１５０℃、約４０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１５０℃または約６０℃〜約１１０℃の温度で硬化されてよい。
【０３７５】
追加的に、または代わりに、本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、任意選択的に、上記の温度において、少なくとも約．０１時間、少なくとも約１時間、少なくとも約４時間、少なくとも約６時間、少なくとも約１２時間、少なくとも約１８時間、少なくとも約２４時間（１日）、少なくとも約３０時間、少なくとも約３６時間、少なくとも約４２時間、少なくとも約４８時間（２日）、少なくとも約５４時間、少なくとも約６０時間、少なくとも約６６時間、少なくとも約７２時間（３日）、少なくとも約９６時間（４日）、少なくとも約１２０時間（５日）、少なくとも約１４４時間（６日）、少なくとも約２００時間、少なくとも約３００時間、少なくとも約４００時間、少なくとも約５００時間、少なくとも約６００時間、少なくとも約７００時間、少なくとも約８００時間、少なくとも約９００時間、少なくとも約１０００時間または少なくとも約１１００時間、硬化されることが可能である。
【０３７６】
追加的に、または代わりに、本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、任意選択的に、上記の温度において、約０．０１時間〜約１１００時間、約０．０１時間〜約１０００時間、約０．０１時間〜約８００時間、約０．０１時間〜約６００時間、約０．０１時間〜約５００時間、約０．０１時間〜約２００時間、約０．０１時間〜約１４４時間（６日）、約０．０１時間〜約１２０時間（５日）、約４時間〜約１１００時間、約４時間〜約１０００時間、約４時間〜約８００時間、約４時間〜約６００時間、約４時間〜約５００時間、約４時間〜約２００時間、約４時間〜約１４４時間（６日）、約４時間〜約１２０時間（５日）、約４時間〜約９６時間（４日）、約４時間〜約７２時間（３日）、約４時間〜約６６時間、約４時間〜約６０時間、約４時間〜約５４時間、約４時間〜約４８時間（２日）、約４時間〜約４２時間、約４時間〜約３６時間、約４時間〜約３０時間、約４時間〜約２４時間（１日）、約４時間〜約１８時間、約４時間〜約１２時間、約４時間〜約６時間、約６時間〜約１１００時間、約６時間〜約１０００時間、約６時間〜約８００時間、約６時間〜約６００時間、約６時間〜約５００時間、約６時間〜約２００時間、約６時間〜約１４４時間（６日）、約６時間〜約１２０時間（５日）、約６時間〜約９６時間（４日）、約６時間〜約７２時間（３日）、約６時間〜約６６時間、約６時間〜約６０時間、約６時間〜約５４時間、約６時間〜約４８時間（２日）、約６時間〜約４２時間、約６時間〜約３６時間、約６時間〜約３０時間、約６時間〜約２４時間（１日）、約６時間〜約１８時間、約６時間〜約１２時間、約１２時間〜約１０００時間、約１２時間〜約１４４時間（６日）、約１２時間〜約１２０時間（５日）、約１２時間〜約９６時間（４日）、約１２時間〜約７２時間（３日）、約１２時間〜約６６時間、約１２時間〜約６０時間、約１２時間〜約５４時間、約１２時間〜約４８時間（２日）、約１２時間〜約４２時間、約１２時間〜約３６時間、約１２時間〜約３０時間、約１２時間〜約２４時間（１日）、約１２時間〜約１８時間、約１８時間〜約１０００時間、約１８時間〜約１４４時間（６日）、約１８時間〜約１２０時間（５日）、約１８時間〜約９６時間（４日）、約１８時間〜約７２時間（３日）、約１８時間〜約６６時間、約１８時間〜約６０時間、約１８時間〜約５４時間、約１８時間〜約４８時間（２日）、約１８時間〜約４２時間、約１８時間〜約３６時間、約１８時間〜約３０時間、約１８時間〜約２４時間（１日）、約２４時間（１日）〜約１０００時間、約２４時間（１日）〜約１４４時間（６日）、約２４（１日）時間（１日）〜約１２０時間（５日）、約２４時間（１日）〜約９６時間（４日）、約２４時間（１日）〜約７２時間（３日）、約２４時間（１日）〜約６６時間、約２４時間（１日）〜約６０時間、約２４時間（１日）〜約５４時間、約２４時間（１日）〜約４８時間（２日）、約２４時間（１日）〜約４２時間、約２４時間（１日）〜約３６時間、約２４時間（１日）〜約３０時間、約３０時間〜約１０００時間、約３０時間〜約１４４時間（６日）、約３０時間〜約１２０時間（５日）、約３０時間〜約９６時間（４日）、約３０時間〜約７２時間（３日）、約３０時間〜約６６時間、約３０時間〜約６０時間、約３０時間〜約５４時間、約３０時間〜約４８時間（２日）、約３０時間〜約４２時間、約３０時間〜約３６時間、約３６時間〜約１４４時間（６日）、約３６時間〜約１２０時間（５日）、約３６時間〜約９６時間（４日）、約３６時間〜約７２時間（３日）、約３６時間〜約６６時間、約３６時間〜約６０時間、約３６時間〜約５４時間、約３６時間〜約４８時間（２日）、約３６時間〜約４２時間、約４２時間〜約１０００時間、約４２時間〜約１４４時間（６日）、約４２時間〜約１２０時間（５日）、約４２時間〜約９６時間（４日）、約４２時間〜約７２時間（３日）、約４２時間〜約６６時間、約４２時間〜約６０時間、約４２時間〜約５４時間、約４２時間〜約４８時間（２日）、約４８時間（２日）〜約１４４時間（６日）、約４８時間（２日）〜約１２０時間（５日）、約４８時間（２日）〜約９６時間（４日）、約４８時間（２日）〜約７２時間（３日）、約４８時間（２日）〜約６６時間、約４８時間（２日）〜約６０時間、約４８時間（２日）〜約５４時間、約５４時間〜約１０００時間、約５４時間〜約１４４時間（６日）、約５４時間〜約１２０時間（５日）、約５４時間〜約９６時間（４日）、約５４時間〜約７２時間（３日）、約５４時間〜約６６時間、約５４時間〜約６０時間、約６０時間〜約１０００時間、約６０時間〜約１４４時間（６日）、約６０時間〜約１２０時間（５日）、約６０時間〜約９６時間（４日）、約６０時間〜約７２時間（３日）、約６０時間〜約６６時間、約６６時間〜約１４４時間（６日）、約６６時間〜約１２０時間（５日）、約６６時間〜約９６時間（４日）、約６６時間〜約７２時間（３日）、約７２時間〜約１０００時間、約７２時間（３日）〜約１４４時間（６日）、約７２時間（３日）〜約１２０時間（５日）、約７２時間（３日）〜約９６時間（４日）、約９６時間（４日）〜約１０００時間、約９６時間（４日）〜約１４４時間（６日）、約９６時間（４日）〜約１２０時間（５日）、約１２０時間（５日）〜約１０００時間、約１２０時間（５日）〜約１４４時間（６日）、約１４４時間（６日）〜約１０００時間、約２００時間〜約１０００時間、約４００時間〜約１０００時間、約５００時間〜約１０００時間、約６００時間〜約１０００時間または約８００時間〜約１０００時間、硬化されることが可能である。
【０３７７】
特定の実施形態において、上記方法で形成された触媒粒子は、約０℃〜約１５０℃の温度で、および／または約０．１時間〜約１０００時間、硬化されることが可能である。
【０３７８】
ＩＩＩ．Ｋ．触媒粒子の乾燥
本明細書に記載される方法は、適切な温度において触媒粒子を乾燥させることをさらに含み得る。触媒粒子を、約−２０℃以上、約０℃以上、約２０℃以上、約５０℃以上、約５０℃以上、約７０℃以上、約８０℃以上、約１００℃以上、約１１０℃以上、約１２０℃以上、約１５０℃以上、約２００℃以上、約２５０℃以上、約３００℃以上、約３５０℃以上、約４００℃以上、約４５０℃以上、約５００℃以上、約５５０℃以上または約６００℃以上の温度で乾燥させてよい。
【０３７９】
追加的に、または代わりに、上記方法で形成された触媒粒子を、約−２０℃〜約６００℃、約−２０℃〜約５５０℃、約−２０℃〜約５００℃、約−２０℃〜約４５０℃、約−２０℃〜約４００℃、約−２０℃〜約３５０℃、約−２０℃〜約３００℃、約−２０℃〜約２５０℃、約−２０℃〜約２００℃、約−２０℃〜約１５０℃、約−２０℃〜約１２０℃、約−２０℃〜約１１０℃、約−２０℃〜約１００℃、約−２０℃〜約８０℃、約−２０℃〜約７０℃、約−２０℃〜約５０℃、約−２０℃〜約２０℃、約−２０℃〜約０℃、約０℃〜約６００℃、約０℃〜約５５０℃、約０℃〜約５００℃、約０℃〜約４５０℃、約０℃〜約４００℃、約０℃〜約３５０℃、約０℃〜約３００℃、約０℃〜約２５０℃、約０℃〜約２００℃、約０℃〜約１５０℃、約０℃〜約１２０℃、約０℃〜約１１０℃、約０℃〜約１００℃、約０℃〜約８０℃、約０℃〜約７０℃、約０℃〜約５０℃、約０℃〜約２０℃、約５０℃〜約６００℃、約５０℃〜約５５０℃、約５０℃〜約５００℃、約５０℃〜約４５０℃、約５０℃〜約４００℃、約５０℃〜約３５０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約７０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約７０℃〜約５００℃、約７０℃〜約４５０℃、約７０℃〜約４００℃、約７０℃〜約３５０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約８０℃〜約５００℃、約８０℃〜約４５０℃、約８０℃〜約４００℃、約８０℃〜約３５０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃または約８０℃〜約１００℃の温度で乾燥させることが可能である。特に、上記方法で形成された触媒粒子を、約−２０℃〜約２００℃の温度で乾燥させることが可能である。
【０３８０】
追加的に、または代わりに、上記方法で形成された触媒粒子を、第ＩＩＩ．Ｊ項に触媒粒子の硬化に関して上記された時間量で乾燥させることが可能である。特に、上記方法で形成された触媒粒子を、約０．１時間〜約１００時間、乾燥させることが可能である。
【０３８１】
特定の実施形態において、上記方法で形成された触媒粒子を、約−２０℃〜約２００℃の温度で、および／または約０．１時間〜約１００時間、乾燥させることが可能である。
【０３８２】
追加的に、または代わりに、上記方法で形成された触媒粒子を、Ｎ２、空気雰囲気中および／または減圧下で乾燥させることが可能である。
【０３８３】
ＩＩＩ．Ｌ．触媒粒子
本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、本明細書に記載される式（Ｉ）のモノマー、本明細書に記載される式（ＩＩ）の環式ポリ尿素モノマーおよびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種のモノマーの独立単位を含むポリマーと結合した少なくとも１種のミクロポーラス材料を含むことが可能である。
【０３８４】
種々の態様において、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す。
【０３８５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す。
【０３８６】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す。
【０３８７】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子、メチルまたは別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を表す。
【０３８８】
種々の実施形態において、本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、本明細書に記載される式（Ｉ）および／または本明細書に記載される式（ＩＩ）の独立単位と組み合わせて、本明細書に記載される式（ＩＩＩ）の少なくとも１種の独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含むポリマーと結合した少なくとも１種のミクロポーラス材料を含むことが可能である。
【０３８９】
種々の実施形態において、本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、本明細書に記載される式（Ｉ）および／または本明細書に記載される式（ＩＩ）の独立単位、ならびに任意選択的に、本明細書に記載される式（ＩＩＩ）の独立単位と組み合わせて、本明細書に記載される式（ＩＶ）の少なくとも１種の独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含むポリマーと結合した少なくとも１種のミクロポーラス材料を含むことが可能である。
【０３９０】
種々の実施形態において、本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、本明細書に記載される式（Ｉ）および／または本明細書に記載される式（ＩＩ）の独立単位、ならびに任意選択的に、本明細書に記載される式（ＩＩＩ）および／または本明細書に記載される式（ＩＶ）の独立単位と組み合わせて、本明細書に記載される式（Ｖ）の少なくとも１種の独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含むポリマーと結合した少なくとも１種のミクロポーラス材料を含むことが可能である。
【０３９１】
種々の実施形態において、本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、本明細書に記載される式（Ｉ）および／または本明細書に記載される式（ＩＩ）の独立単位、ならびに任意選択的に、本明細書に記載される式（ＩＩＩ）、本明細書に記載される式（ＩＶ）および／または本明細書に記載される式（Ｖ）の独立単位と組み合わせて、本明細書に記載される式（ＶＩ）の少なくとも１種の独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含むポリマーと結合した少なくとも１種のミクロポーラス材料を含むことが可能である。
【０３９２】
種々の実施形態において、本明細書に記載される方法で形成された触媒粒子は、本明細書に記載される式（Ｉ）および／または本明細書に記載される式（ＩＩ）の独立単位、ならびに任意選択的に、本明細書に記載される式（ＩＩＩ）、本明細書に記載される式（ＩＶ）、本明細書に記載される式（Ｖ）および／または本明細書に記載される式（ＶＩ）の独立単位と組み合わせて、本明細書に記載される式（ＶＩＩ）の少なくとも１種の独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含むポリマーと結合した少なくとも１種のミクロポーラス材料を含むことが可能である。
【０３９３】
ＩＩＩ．Ｍ．触媒金属の組み込み
追加的な実施形態において、触媒の製造方法は、少なくとも１種のミクロポーラス材料、触媒粒子またはそれらの組合せの細孔内に、本明細書に記載される少なくとも１種の触媒金属を組み込むことをさらに含むことが可能である。特に、少なくとも１種の触媒金属は、第６族元素、第８族元素、第９族元素、第１０族元素またはそれらの組合せ、特に、第８族、第９族および／または第１０族金属（例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓまたはそれらの組合せ）からなる群から選択されることが可能である。特に、少なくとも１種の触媒金属は、Ｐｔ、Ｐｄおよびそれらの混合物からなる群から選択されることが可能である。別の実施形態において、触媒金属成分は、非金属第ＶＩＩＩ族金属と、第ＶＩ族金属との組合せであることが可能である。適切な組合せとしては、Ｎｉ、Ｃｏ、ＦｅとＭｏまたはＷ、好ましくは、ＮｉとＭｏまたはＷが含まれることが可能である。
【０３９４】
種々の態様において、少なくとも１種の触媒金属は、触媒粒子の硬化および／または乾燥後に触媒粒子の細孔内に組み込まれてよい。追加的に、または代わりに、少なくとも１種の触媒金属は、それが溶液と混合される前に、少なくとも１種のミクロポーラス材料の細孔内に組み込まれてよい。
【０３９５】
触媒金属は、いずれかの都合のよい方法によって、例えば、含浸によって、インシピエントウェットネスによって、イオン交換によって、表面部位への錯化によって、ミクロポーラス材料および／または触媒粒子中に組み込まれることが可能であるか、あるいはミクロポーラス材料および／または触媒粒子と物理的に混合されることが可能である。触媒金属が、ミクロポーラス材料および／または触媒粒子中に含浸されるか、またはそれら上に交換される場合、それは、例えば、触媒金属を含有する適切なイオンによるミクロポーラス材料および／または触媒粒子の処理によって実行され得る。触媒金属が白金である場合、適切な白金化合物としては、クロロ白金酸、二塩化白金および白金アミン錯体を含有する種々の化合物が含まれる。触媒金属は、触媒金属が化合物のカチオンに存在するか、またはそれが化合物のアニオンに存在する化合物を利用することによって、ミクロポーラス材料および／または触媒粒子中、上、またはそれと一緒に組み込まれてもよい。カチオン性およびアニオン性化合物の両方が使用可能であることに留意すべきである。金属が、カチオンまたはカチオン性錯体の形態である適切なパラジウムまたは白金化合物の非限定的な例は、Ｐｄ（ＮＨ３）４Ｃｌ２またはＰｔ（ＮＨ３）４Ｃｌ２であり、アニオン性錯体の場合、バナジン酸およびメタタングステン酸イオンなどが特に有用である。それらが、結晶質材料上に交換され得るか、またはその中に含浸され得るため、他の金属のカチオン形態も非常に有用である。追加的に、または代わりに、触媒金属は、表面部位への錯化によって、またはマルミキシング（ｍｕｌｌｍｉｘｉｎｇ）の間に、ミクロポーラス材料および／または触媒粒子に組み込まれ得る。
【０３９６】
そのようにして組み込まれた触媒金属は、一般に、石油精製または石油化学製品製造において実行される多数の触媒的変換のいずれかを促進するために利用されてもよい。そのような触媒的プロセスの例としては、限定されないが、水素化、脱水素、芳香族化、芳香族飽和、水素化脱硫、オレフィンオリゴマー形成、重合、水素化脱窒素、水素化分解、ナフサ改質、パラフィン異性化、芳香族アルキル交換、二重／三重結合の飽和など、ならびにそれらの組合せが含まれることが可能である。特に、触媒金属は、芳香族水素化および／または飽和のために利用されてよい。
【０３９７】
ＩＩＩ．Ｎ．オルガノシリカ材料の添加
追加的な実施形態において、触媒の製造方法は、さらなるオルガノシリカ材料を、少なくとも１種のミクロポーラス材料および溶液に添加して、プレ生成物を形成することをさらに含むことが可能である（例えば、図２参照）。さらなるオルガノシリカ材料のこのような添加は、触媒に存在するオルガノシリカ材料結合剤の量を増加し得る。オルガノシリカ材料は、本明細書に記載される式（Ｉ）のモノマー、本明細書に記載される式（ＩＩ）の環式ポリ尿素モノマーおよびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種のモノマーの独立単位を含むポリマーであり得る。
【０３９８】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、
（ｉ）本明細書に記載される式（ＩＩＩ）の独立単位；
（ｉｉ）本明細書に記載される式（ＩＶ）の独立単位；
（ｉｉｉ）本明細書に記載される式（Ｖ）の独立単位；
（ｉｖ）本明細書に記載される式（ＶＩ）の独立単位；
（ｖ）本明細書に記載される式（ＶＩＩ）の独立単位；
（ｖｉ）それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１種の他のモノマーをさらに含み得る。
【０３９９】
本明細書に記載されるオルガノシリカ材料は、同時係属米国特許出願公開第１４／９６５，９９２号明細書、同第１４／９６６，００１号明細書、同第１４／９６６，０７１号明細書、同第１４／９６５，９８４号明細書、同第１４／９６６，３８３号明細書、同第１４／９６６，０１５号明細書、同第１４／９６６，２８４号明細書、同第１４／９６６，４０７号明細書、同第１４／９６６，４４５号明細書、同第１４／９６６，５３４号明細書および同第１４／９６６，７９０号明細書のいずれか１つに記載される方法によって製造され得る。上記特許出願のそれぞれは、参照によって本明細書に組み込まれる。
【０４００】
ＩＩＩ．Ｏ．結合剤の添加
追加的な実施形態において、触媒の製造方法は、本明細書に記載される追加的な結合剤材料を添加することをさらに含むことが可能である。特に、結合剤材料は、活性および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアまたはそれらの組合せからなる群から選択され得る。特に、結合剤は、シリカ−アルミナ、アルミナおよび／またはジルコニアであってよい。
【０４０１】
ＩＩＩ．Ｐ．さらなる金属
追加的な実施形態において、触媒の製造方法は、ミクロポーラス材料および／または触媒粒子の細孔内に組み込まれた、本明細書に記載される表面金属を添加することをさらに含むことが可能である。表面金属の添加は、触媒材料によるミクロポーラス材料および／または触媒粒子の含浸の前に実行可能である。表面金属は、上記の通り、第１族元素、第２族元素、第１３族元素およびそれらの組合せから選択されることが可能である。追加的に、または代わりに、表面金属の供給源は、本明細書に記載される式（Ｘ）そおよび／または（ＸＩ）の化合物であり得る。特に、本明細書に記載される方法は、ミクロポーラス材料および／または触媒粒子を含浸する前に、ミクロポーラス材料および／または触媒粒子の表面上にアルミニウムをグラフト化することをさらに含むことが可能である。
【０４０２】
ＩＩＩ．Ｑ．焼成
いくつかの実施形態において、上記方法は、触媒粒子を焼成して、シリカ材料を得ることをさらに含むことが可能である。焼成は、空気、または窒素もしくは窒素が豊富な空気などの不活性気体中で実行可能である。焼成は、少なくとも約３００℃、少なくとも約３５０℃、少なくとも約４００℃、少なくとも約４５０℃、少なくとも約５００℃、少なくとも約５５０℃、少なくとも約６００℃または少なくとも約６５０℃、例えば、少なくとも約４００℃の温度で実行可能である。追加的に、または代わりに、焼成は、約３００℃〜約６５０℃、約３００℃〜約６００℃、約３００℃〜約５５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約４５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約３５０℃、約３５０℃〜約６５０℃、約３５０℃〜約６００℃、約３５０℃〜約５５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約３５０℃〜約４５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約４００℃〜約６５０℃、約４００℃〜約６００℃、約４００℃〜約５５０℃、約４００℃〜約５００℃、約４００℃〜約４５０℃、約４５０℃〜約６５０℃、約４５０℃〜約６００℃、約４５０℃〜約５５０℃、約４５０℃〜約５００℃、約５００℃〜約６５０℃、約５００℃〜約６００℃、約５００℃〜約５５０℃、約５５０℃〜約６５０℃、約５５０℃〜約６００℃または約６００℃〜約６５０℃の温度で実行可能である。
【０４０３】
ＩＶ．触媒プロダクトバイプロセス
触媒は、本明細書に記載される方法から製造可能である。別の特定の実施形態において、触媒は、（ａ）本明細書に記載される式（Ｉａ）の化合物、本明細書に記載される式（ＩＩａ）の環式化合物およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の化合物を、本明細書に記載される構造指向剤またはポロゲンを本質的に含有しない、本明細書に記載される水性混合物中に添加して、本明細書に記載される溶液を形成することと；（ｂ）本明細書に記載される少なくとも１種のミクロポーラス材料を溶液と混合して、本明細書に記載されるプレ生成物を形成することと；（ｃ）プレ生成物を成形して、本明細書に記載される触媒粒子を形成することと；（ｄ）本明細書に記載される触媒粒子を硬化することと；（ｅ）本明細書に記載される触媒粒子を乾燥させることと；（ｆ）少なくとも１種の触媒金属を、本明細書に記載される少なくとも１種のミクロポーラス材料、触媒粒子またはそれらの組合せの細孔中に組み込むこととから製造可能であり、触媒粒子は、（ｉ）本明細書に記載される式（Ｉ）の単位を含むホモポリマー；（ｉｉ）本明細書に記載される式（ＩＩ）の単位を含むホモポリマー；（ｉｉｉ）本明細書に記載される式（Ｉ）の独立単位および本明細書に記載される式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）および／または（ＶＩＩ）の単位を含む少なくとも１種の他のモノマーを含むコポリマー；あるいは（ｉｖ）本明細書に記載される式（ＩＩ）の独立単位および本明細書に記載される式（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）および／または（ＶＩＩ）の単位を含む少なくとも１種の他のモノマーを含むコポリマーと結合した少なくとも１種のミクロポーラス材料を含み得る。
【０４０４】
Ｖ．芳香族水素化プロセス
種々の実施形態において、炭化水素供給流のための芳香族水素化プロセスが本明細書において提供される。芳香族水素化プロセスは、芳香族含有量の減少した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、炭化水素供給流と、本明細書に記載の触媒とを接触させることを含むことが可能である。本明細書において理解されるように、触媒は、供給流の水素化および芳香族飽和の両方のために使用することが可能である。同様に、水素化プロセスは、供給流の水素化または芳香族飽和のいずれかとして記載されることが可能である。
【０４０５】
種々の実施形態において、水素化プロセスは、芳香族含有量の減少した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、炭化水素供給流と、本明細書に記載の触媒とを接触させることによって達成可能である。
【０４０６】
水素化プロセスでの使用に適切な水素含有処理気体は、実質的に純粋な水素から構成されることが可能であるか、または典型的に精製所水素流で見出される他の成分の混合物であることが可能である。水素含有処理気体流が、少量のみの硫化水素を含有する、より好ましくは、硫化水素を含有しないことが好ましい。水素含有処理気体流の純度は、最良の結果のために、少なくとも５０体積％の水素、好ましくは少なくとも７５体積％の水素、より好ましくは少なくとも９０体積％の水素であるべきである。水素含有流が、実質的に純粋な水素であることが最も好ましい。
【０４０７】
本明細書に記載の水素化触媒による水素化に適切な供給流は、水素化または芳香族飽和が望ましい、いずれの従来の炭化水素供給流も含む。典型的に、芳香族飽和プロセスのためのインプット供給物は、燃料または潤滑剤ベースストック製造のための水素化分解などの以前の種類の水素化処理からの生成物または副産物として製造可能である。広範囲の石油および化学工業原料が水素化処理可能である。そのような供給流としては、炭化水素流体、ディーゼル、灯油、潤滑油供給流、重コーカー気体油（ＨＫＧＯ）、脱アスファルト化油（ＤＡＯ）、ＦＣＣメインカラムボトム（ＭＣＢ）、蒸気クラッカータールを含むことができる。そのような供給流としては、他の凝縮物供給流、例えば、初期凝縮物を含む、軽質〜重質留分、ワックス含有供給流、例えば、粗製油、シェール油およびタールサンドから誘導された供給物を含むことが可能である。フィッシャー−トロプシュ法から誘導されたものなどの合成供給物も、本明細書に記載の水素化触媒を使用して、芳香族飽和が可能である。潤滑剤ベース油の調製のための典型的なワックス含有供給原料は、約３１５℃以上の初期沸点を有し、かつ全石油原油および減少石油原油、水素化分解生成物、ラフィネート、水素化処理された油、軽油（大気気体油、減圧気体油およびコーカー気体油など）、大気および減圧残留物、脱アスファルト化油／残留物（例えば、プロパン脱アスファルト化残留物、ブライトストック、サイクルオイル）、脱蝋油、スラックワックスおよびフィッシャー−トロプシュワックス、ならびにそれらの材料の混合物などの供給物を含む。そのような供給物は、蒸留塔（大気および減圧）、水素化分解装置、水素化処理装置および溶媒抽出ユニットから誘導されてよく、かつ５０％以上までのワックス含有量を有してもよい。好ましい潤滑油沸騰範囲供給流は、６５０〜１１００°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。ディーゼル沸騰範囲供給流は、４８０〜６６０°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。灯油沸騰範囲供給流は、３５０〜６１７°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。
【０４０８】
本明細書での使用に適切な炭化水素供給流は、芳香族ならびに窒素および硫黄汚染物質を含有する。供給流に基づき、０．２重量％までの窒素、３．０重量％までの硫黄および５０重量％までの芳香族を含有する供給流を本プロセスにおいて使用することができる。種々の実施形態において、供給流の硫黄含有量は、約５００ｗｐｐｍ未満、または約３００ｗｐｐｍ未満、または約２００ｗｐｐｍ未満、または約１００ｗｐｐｍ未満、または約５０ｗｐｐｍ未満、または約１５ｗｐｐｍ未満であることが可能である。芳香族水素化プロセスの間に使用される圧力は、供給流の予想される硫黄含有量に基づいて変動可能である。高いワックス含有量を有する供給物は、典型的に、２００以上までの高い粘度指数を有する。硫黄および窒素含有量は、それぞれ、標準的なＡＳＴＭ法Ｄ２６２２（硫黄）ならびにＤ５４５３および／またはＤ４６２９（窒素）によって測定されてよい。
【０４０９】
有効水素化条件は、その条件下で、炭化水素供給流に存在する芳香族の少なくとも一部が飽和され、好ましくは芳香族の少なくとも約５０重量％が飽和され、より好ましくは約７５重量％が飽和される条件であると考えられてよい。有効水素化条件は、１５０℃〜４００℃の温度、１００〜３０００ｐｓｉｇ（７００〜２０１００ｋＰａ）の水素分圧、０．１〜１０時間−１の液体毎時空間速度（ＬＨＳＶ）の空間速度および５００〜１００００ｓｃｆ／Ｂ（８５〜１７００ｍ３／ｍ３）の水素対供給物比を含むことが可能である。
【０４１０】
追加的に、または代わりとして、有効水素化条件は、窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、ならびに上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体潤滑油沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０４１１】
追加的に、または代わりとして、有効水素化条件は、窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、ならびに上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、ディーゼル沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体ディーゼル沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０４１２】
上記の通り、いくつかの場合、炭化水素供給流（例えば、潤滑油沸騰範囲）は、硫黄汚染物質を約５００ｗｐｐｍ未満、特に約３００ｗｐｐｍ未満、特に約２００ｗｐｐｍ未満または特に約１００ｗｐｐｍ未満まで低下させるために水素化処理されてもよい。そのような実施形態において、プロセスは、少なくとも２つの反応段階を含んでよく、有効水素化処理条件下で操作される水素化処理触媒を含有する第１の反応状態および触媒を含有する第２の反応状態は、上記の有効水素化条件下で操作される。したがって、そのような実施形態において、炭化水素供給流を、最初に、供給流の硫黄含有量を上記範囲内まで低下させるために有効な水素化処理条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、水素化処理触媒と接触させることができる。したがって、「水素化処理」という用語は、本明細書で使用される場合、硫黄および窒素などのヘテロ原子の除去のために活性である適切な触媒の存在下で、水素含有処理気体が使用されるプロセスを示す。本発明での使用のために適切な水素化処理触媒は、いずれかの従来の水素化処理触媒であり、かつ少なくとも１種の第８族金属、好ましくは、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉ、より好ましくは、Ｃｏおよび／またはＮｉ、最も好ましくは、Ｎｉ、ならびに少なくとも１種の第６族金属、好ましくは、ＭｏおよびＷ、より好ましくは、Ｍｏを高表面積支持体材料、好ましくはアルミナ上で含むものが含まれる。追加的に、または代わりとして、同反応容器中で２種以上の水素化処理触媒が使用されることが可能である。第８族金属は、典型的に、約２〜２０重量％、好ましくは、約４〜１２重量％の範囲の量で存在してよい。第６族金属は、典型的に、約５〜５０重量％、好ましくは、約１０〜４０重量％、より好ましくは、約２０〜３０重量％の範囲の量で存在してよい。全ての金属の重量パーセントは、上記の通り、「支持体上」である。
【０４１３】
有効水素化処理条件は、供給流の硫黄含有量（例えば、潤滑油沸騰範囲）を、上記された範囲内まで有効に低下させることが可能であるそれらの条件であると考えられてよい。典型的な有効水素化処理条件としては、約１５０℃〜約４２５℃、好ましくは、約２００℃〜約３７０℃、より好ましくは、約２３０℃〜約３５０℃の範囲の温度を含むことが可能である。典型的な重量毎時空間速度（「ＷＨＳＶ」）は、約０．１〜約２０時間−１、好ましくは、約０．５〜約５時間−１の範囲であってよい。いずれかの有効圧力も利用可能であり、かつ圧力は、典型的に、４１０〜７１００ｋＰａ（約４〜約７０気圧）、例えば、１０００〜４１００ｋＰａ（約１０〜約４０気圧）の範囲であることが可能である。特定の実施形態において、上記有効水素化処理条件は、上記有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、および上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも反応生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０４１４】
炭化水素供給流を水素化処理触媒と接触させることによって、少なくとも１種の蒸気生成物および液体生成物を含む反応生成物が製造され得る。蒸気生成物は、典型的に、Ｈ２Ｓなどの気体状反応製品を含んでよく、そして液体反応生成物は、典型的に、窒素および硫黄汚染物質の減少した濃度を有する液体炭化水素を含んでよい。完全反応生成物は、第２の反応段階へと直接通すことが可能であるが、気体状および液体反応生成物が分離され、そして液体反応生成物が第２の反応段階に導入されることが好ましくなり得る。したがって、一実施形態において、蒸気生成物および液体生成物は、分離されてもよく、そして液体生成物は、第２の反応段階に導入されてよい。液体生成物から蒸気生成物を分離する方法は、気体状および液体反応生成物を分離することにおいて有効であることが既知であるいずれかの手段によって達成可能である。例えば、ストリッピングタワーまたは反応ゾーンを使用して、蒸気生成物を液体生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）から分離することができる。そのようにして第２の反応段階に導入される液体生成物は、約５００ｗｐｐｍ範囲内、特に約３００ｗｐｐｍ未満、または特に約２００ｗｐｐｍ未満または特に約１００ｗｐｐｍ未満の硫黄濃度を有することができる。
【０４１５】
有利には、本明細書に記載される触媒は、二重機能性であり得る。例えば、ミクロポーラス材料（例えば、ゼオライト）は、脱蝋機能を提供し得るが、オルガノシリカ材料結合剤は、芳香族飽和機能を提供し得る。したがって、本明細書に記載される触媒は、プロセス、例えば、芳香族飽和および触媒脱蝋以上に利用されてもよい。
【０４１６】
なお他の実施形態において、本明細書に記載の水素化触媒は、統合された水素化処理法において使用可能である。本明細書に記載の水素化触媒に関する水素化仕上および／または芳香族水素化／飽和プロセスに加えて、統合された水素化処理法は、水素化処理、水素化分解、触媒脱蝋（例えば、水素化脱蝋）および／または溶媒脱蝋の種々の組合せを含むことができる。上記の水素化処理と、それに続く水素化仕上のスキームは、総合プロセスフローの１種を表す。別の統合されたプロセス例は、触媒脱蝋または溶媒脱蝋のいずれかによる脱蝋ステップと、それに続く本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理を有するものである。なお別の例は、水素化処理、（触媒または溶媒）脱蝋、次いで、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理に関係するプロセススキームである。なお別の例は、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理と、それに続く（触媒または溶媒）脱蝋である。代わりに、複数の水素化仕上および／または芳香族水素化ステップが、水素化処理、水素化分解または脱蝋ステップとともに利用されることが可能である。そのようなプロセスフローの例は、水素化仕上、（触媒または溶媒）脱蝋、次いで再び水素化仕上であり、そしてそこで、水素化仕上ステップの少なくとも１回は、本明細書に記載の水素化触媒を使用するものであってよい。触媒脱蝋が関係するプロセスに関して、有効触媒脱蝋条件は、１５０℃〜４００℃、好ましくは、２５０℃〜３５０℃の温度、１００〜３０００ｐｓｉｇ（７００〜２１０００ｋＰａ）、例えば、２００〜２５００ｐｓｉｇ（１４００〜１７５００ｋＰａ）の圧力、０．１〜１０時間−１、例えば、０．１〜５時間−１の液体毎時空間速度、および２５０〜１００００ｓｃｆ／Ｂ（４０〜１７００ｍ３／ｍ３）、例えば、５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ（８５〜８５０ｍ３／ｍ３）の水素処理気体速度を含むことができる。いずれの適切な脱蝋触媒も使用されてよい。
【０４１７】
芳香族飽和プロセスの生成物が潤滑剤ベース油であろう実施形態において、インプット供給物も適切な潤滑剤ベース油特性を有するべきである。例えば、第Ｉ族または第ＩＩ族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約８０、好ましくは少なくとも約９０または好ましくは少なくとも９５の粘度指数（ＶＩ）を有することが可能である。第Ｉ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１００のＶＩを有することが可能であるが、第ＩＩ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１１０のＶＩを有することが可能である。インプット供給物の粘度は、１００℃において少なくとも２ｃＳｔ、または１００℃において少なくとも４ｃＳｔ、または１００℃において少なくとも６ｃＳｔであることが可能である。
【０４１８】
ＶＩ．さらなる実施形態
本発明は、追加的に、または代わりとして、以下の実施形態の１つ以上を含むことができる。
【０４１９】
実施形態１
触媒の製造方法であり、以下の（ａ）〜（ｆ）：
（ａ）  溶液を形成するために、構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物に、以下の（ｉ）および（ｉｉ）：
（ｉ）    式    ［Ｚ１Ｚ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）
［式中、
各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す］
の化合物、
（ｉｉ）  式
【化３６】
2019518598.tif 000038
［式中、
各Ｒ３は、独立して、Ｘ１ＯＸ２Ｘ３ＳｉＸ４基であり、式中、
各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｘ４は、環式化合物（又はサイクリック化合物（cyclic compound））の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式化合物
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物を添加すること（又は工程又はステップ）、
（ｂ）  プレ生成物（又は半製品又はプリプロダクト（pre-product））を形成するために、上記溶液と、少なくとも１つのミクロポーラス材料とを混合すること（又は工程又はステップ）、
（ｃ）  触媒粒子を形成するために、上記プレ生成物を成形すること（又は工程又はステップ）、
（ｄ）  上記触媒粒子を硬化させること（又は工程又はステップ）、
（ｅ）  上記触媒粒子を乾燥させることであって、上記触媒粒子は、上記少なくとも１つのミクロポーラス材料を含み、上記ミクロポーラス材料は、ポリマーと結合したものであり、上記ポリマーが、以下の（ｉ）および（ｉｉ）：
（ｉ）    式    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
のモノマー、
（ｉｉ）  式
【化３７】
2019518598.tif 000039
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素（又はサイクリックポリウレア（cyclic polyurea））の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー（又はサイクリックポリウレアモノマー（cyclic polyurea monomer））
からなる群から選択される少なくとも１つのモノマーの独立単位を含むものである、こと（又は工程又はステップ）、および
（ｆ）  上記少なくとも１つのミクロポーラス材料、上記触媒粒子、またはそれらの組合せの細孔（又はポア（pores））内に少なくとも１つの触媒金属を組み込ませること（又は工程又はステップ）
を含む、方法。
【０４２０】
実施形態２
各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表す、実施形態１の方法。
【０４２１】
実施形態３
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表す、実施形態１または２の方法。
【０４２２】
実施形態４
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表す、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４２３】
実施形態５
上記少なくとも１つの式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンである、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４２４】
実施形態６
各Ｘ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、
Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、
各Ｘ４は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す、
上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４２５】
実施形態７
上記少なくとも１つの式（ＩＩａ）の化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートである、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４２６】
実施形態８
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４２７】
実施形態９
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４２８】
実施形態１０
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す、
上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４２９】
実施形態１１
各Ｘ５は、水素原子、メチル、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を表す、
上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４３０】
実施形態１２
上記水性混合物に、以下の（ｉ）〜（ｖｉ）：
（ｉ）      追加の式（Ｉａ）の化合物、
（ｉｉ）    追加の式（ＩＩａ）の化合物、
（ｉｉｉ）  式  Ｚ１７ＯＺ１８Ｚ１９Ｚ２０Ｓｉ（ＩＩＩａ）
［式中、
各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の化合物、
（ｉｖ）    式    Ｚ２１Ｚ２２Ｚ２３Ｓｉ−Ｒ１−ＳｉＺ２１Ｚ２３Ｚ２４（ＩＶａ）
［式中、
各Ｚ２１は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の化合物、
（ｖ）      三価金属酸化物の供給源、および
（ｖｉ）    それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物を添加すること（又は工程又はステップ）をさらに含む、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４３１】
実施形態１３
上記少なくとも１つの化合物は、追加の式（Ｉａ）の化合物であり、式中、
各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、
各Ｚ２は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基を表す、
実施形態１２の方法。
【０４３２】
実施形態１４
式（Ｉａ）の化合物は、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンである、実施形態１２または１３の方法。
【０４３３】
実施形態１５
上記少なくとも１つの化合物は、式（ＩＩＩａ）の化合物であり、式中、
各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、
Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される、
実施形態１２〜１４のいずれか１つの方法。
【０４３４】
実施形態１６
式（ＩＩＩａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート、メチルトリエトキシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジン、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジン、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、および（３−アミノプロピル）トリエトキシシランからなる群から選択される、実施形態１２〜１５のいずれか１つの方法。
【０４３５】
実施形態１７
上記少なくとも１つの化合物は、式（ＩＶａ）の化合物であり、式中、
各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、
Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、またはＣ１〜Ｃ２アルキル基を表し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、および窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択される、
実施形態１２〜１６のいずれか１つの方法。
【０４３６】
実施形態１８
式（ＩＶａ）の化合物は、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミン、およびビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンからなる群から選択される、実施形態１２〜１７のいずれか１つの方法。
【０４３７】
実施形態１９
上記少なくとも１つの化合物は、三価金属酸化物の供給源であって、上記三価金属酸化物の供給源が、以下の（ｉ）または（ｉｉ）：
（ｉ）    式    Ｍ３（ＯＺ２４）３（Ｖａ）
［式中、
Ｍ３は、第１３族金属を表し、
各Ｚ２４は、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の化合物、
（ｉｉ）  式    （Ｚ２５Ｏ）２-Ｍ４−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ２６）３（ＶＩａ）
［式中、
Ｍ４は、第１３族金属を表し、
Ｚ２５およびＺ２６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の化合物
の少なくとも１つである、実施形態１２〜１８のいずれか１つの方法。
【０４３８】
実施形態２０
上記三価金属酸化物の供給源は、式（Ｖａ）の化合物であり、式中、
Ｍ３は、ＡｌまたはＢであり、
各Ｚ２４は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、
実施形態１２〜１９のいずれか１つの方法。
【０４３９】
実施形態２１
上記三価金属酸化物の供給源は、式（ＶＩａ）の化合物であり、式中、
Ｍ４は、ＡｌまたはＢであり、
Ｚ２５およびＺ２６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、
実施形態１２〜２０のいずれか１つの方法。
【０４４０】
実施形態２２
上記三価金属酸化物の供給源は、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、およびアルミニウム−トリ−ｓｅｃ−ブトキシドからなる群から選択される、実施形態１２〜２１のいずれか１つの方法。
【０４４１】
実施形態２３
上記水性混合物は、塩基（例えば、水酸化アンモニウム、水酸化金属（又は水酸化メタル（metal hydroxide）））を含み、約８〜約１４のｐＨを有する、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４４２】
実施形態２４
上記水性混合物は、酸（例えば、塩酸などの無機酸）を含み、約０．０１〜約６．０のｐＨを有する、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４４３】
実施形態２５
上記少なくとも１つのミクロポーラス材料および上記溶液は、約０．１０時間〜約１０時間にわたって、ステップ（ｂ）において混合される、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４４４】
実施形態２６
上記触媒粒子は、約０℃〜約１５０℃の温度で硬化される、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４４５】
実施形態２７
上記触媒粒子は、約−２０℃〜約２００℃の温度で乾燥される、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４４６】
実施形態２８
上記少なくとも１つの触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０族金属、およびそれらの組合せからなる群から選択され、特に、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓおよびそれらの組合せからなる群から選択され、より特別には、Ｐｔ、Ｐｄおよびそれらの混合物からなる群から選択される、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４４７】
実施形態２９
上記少なくとも１つの触媒金属は、上記触媒粒子の乾燥後に上記触媒粒子の細孔内に組み込まれるか、または上記少なくとも１つの触媒金属は、それが上記溶液と混合される前に上記少なくとも１つのミクロポーラス材料の細孔（又はポア（pores））内に組み込まれる、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４４８】
実施形態３０
上記少なくとも１つのミクロポーラス材料は、ゼオライト、ＳＡＰＯ、ＡＬＰＯおよびそれらの組合せからなる群から選択され、特に、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５０、ＺＳＭ−５７、ＭＣＭ−４９、ＭＣＭ−２２、ＳＡＰＯ−１１、ＳＡＰＯ−４１、ＡｌＰＯ−１１、ＡｌＰＯ−Ｈ２およびＡｌＰＯ−４からなる群から選択される、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４４９】
実施形態３１
上記プレ生成物を形成するために、上記少なくとも１つのミクロポーラス材料および上記溶液に、追加のオルガノシリカ材料を添加すること（又は工程又はステップ）をさらに含み、上記追加のオルガノシリカ材料は、以下の（ｉ）および（ｉｉ）：
（ｉ）    式（Ｉ）のモノマー、
（ｉｉ）  式（ＩＩ）の環式ポリ尿素モノマー
からなる群から選択される少なくとも１つのモノマーの独立単位を含むポリマーである、
上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４５０】
実施形態３２
上記オルガノシリカ材料が、以下の（ｉ）〜（ｖｉ）：
（ｉ）      式    ［Ｚ３ＯＺ４ＳｉＣＨ２］３（ＩＩＩ）
［式中、
各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｉ）    式    Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（ＩＶ）
［式中、
各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｉｉ）  式    Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（Ｖ）
［式中、
各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｖ）    式    Ｍ１（ＯＺ１２）３（ＶＩ）
［式中、
Ｍ１は、第１３族金属を表し、
各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｖ）      式    （Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（ＶＩＩ）
［式中、
Ｍ２は、第１３族金属を表し、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の少なくとも１つの独立単位、および
（ｖｉ）それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの他のモノマーをさらに含む、実施形態３１の方法。
【０４５１】
実施形態３３
上記プレ生成物を成形すること（shaping）が、押出成形（又は押出（extruding））、ミル粉砕（又はミリング（milling））、噴霧乾燥（又はスプレー乾燥（spray-drying））、またはそれらの組合せを含む、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０４５２】
実施形態３４
上記実施形態のいずれか１つの方法によって製造された触媒。
【０４５３】
実施形態３５
以下の（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）：
（ｉ）      少なくとも１つのミクロポーラス材料、
（ｉｉ）    オルガノシリカ材料結合剤（又はオルガノシリカ材料バインダー（organosilica material binder））であって、以下の（ａ）および（ｂ）：
（ａ）    式    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
のモノマー、
（ｂ）    式
【化３８】
2019518598.tif 000040
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー
からなる群から選択されるモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料結合剤、
（ｉｉｉ）  少なくとも１つの触媒金属
を含む、触媒。
【０４５４】
実施形態３６
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
実施形態３５の触媒。
【０４５５】
実施形態３７
各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
実施形態３５または３６の触媒。
【０４５６】
実施形態３８
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す、
実施形態３５〜３７のいずれか１つの触媒。
【０４５７】
実施形態３９
各Ｘ５は、水素原子、メチル、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を表す、
実施形態３５〜３８のいずれか１つの触媒。
【０４５８】
実施形態４０
上記オルガノシリカ材料結合剤は、以下の（ｉ）〜（ｖｉ）：
（ｉ）      式    ［Ｚ３ＯＺ４ＳｉＣＨ２］３（ＩＩＩ）
［式中、
各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｉ）    式    Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（ＩＶ）
［式中、
各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｉｉ）  式    Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（Ｖ）
［式中、
各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｉｖ）    式    Ｍ１（ＯＺ１２）３（ＶＩ）
［式中、
Ｍ１は、第１３族金属を表し、
各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の少なくとも１つの独立単位、
（ｖ）      式    （Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（ＶＩＩ）
［式中、
Ｍ２は、第１３族金属を表し、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の少なくとも１つの独立単位、および
（ｖｉ）    それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの他のモノマーをさらに含む、実施形態３５〜３９のいずれか１つの触媒。
【０４５９】
実施形態４１
式（ＩＩＩ）の少なくとも１つの独立単位が存在し、式中、
各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のシロキサンモノマーのケイ素原子への結合を表し、
各Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表す、
実施形態４０の触媒。
【０４６０】
実施形態４２
各Ｚ３は、水素原子、エチル、または別のシロキサンモノマーのケイ素原子への結合を表し、
各Ｚ４は、メチルを表す、
実施形態４０または４１の触媒。
【０４６１】
実施形態４３
式（ＩＶ）の少なくとも１つの独立単位が存在し、式中、
各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、
実施形態４０〜４２のいずれか１つの触媒。
【０４６２】
実施形態４４
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、実施形態４０〜４３のいずれか１つの触媒。
【０４６３】
実施形態４５
各Ｚ５は、水素原子、メチル、エチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、メトキシ、エトキシ、
【化３９】
2019518598.tif 000041
、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、
実施形態４０〜４４のいずれか１つの触媒。
【０４６４】
実施形態４６
式（Ｖ）の少なくとも１つの独立単位が存在し、式中、
各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される、
実施形態４０〜４５のいずれか１つの触媒。
【０４６５】
実施形態４７
各Ｚ９は、ヒドロキシル基、メトキシ、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、エトキシ、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、
Ｒは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化４０】
2019518598.tif 000042
からなる群から選択される、
実施形態４０〜４６のいずれか１つの触媒。
【０４６６】
実施形態４８
式（ＶＩ）の少なくとも１つの独立単位が存在し、式中、
Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり、
各Ｚ１２は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、
実施形態４０〜４７のいずれか１つの触媒。
【０４６７】
実施形態４９
式（ＶＩＩ）の少なくとも１つの単位が存在し、式中、
Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、
実施形態４０〜４８のいずれか１つの触媒。
【０４６８】
実施形態５０
上記オルガノシリカ材料結合剤は、約５．０重量％〜約９９重量％の量で上記触媒中に存在する、実施形態３５〜４９のいずれか１つの触媒。
【０４６９】
実施形態５１
上記ミクロポーラス材料は、多くても約９５．０重量％の量で上記触媒中に存在する、実施形態３５〜５０のいずれか１つの触媒。
【０４７０】
実施形態５２
上記少なくとも１つの触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０族金属、およびそれらの組合せからなる群から選択され、特に、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、およびそれらの組合せからなる群から選択され、より特別には、Ｐｔ、Ｐｄおよびそれらの混合物からなる群から選択される、実施形態３５〜５１のいずれか１つの触媒。
【０４７１】
実施形態５３
上記少なくとも１つのミクロポーラス材料は、ゼオライト、ＳＡＰＯ、ＡＬＰＯおよびそれらの組合せからなる群から選択され、特に、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５０、ＺＳＭ−５７、ＭＣＭ−４９、ＭＣＭ−２２、ＳＡＰＯ−１１、ＳＡＰＯ−４１、ＡｌＰＯ−１１、ＡｌＰＯ−Ｈ２およびＡｌＰＯ−４１からなる群から選択される、実施形態３５〜５２のいずれか１つの触媒。
【０４７２】
実施形態５４
上記触媒は、約３００ｍ２／ｇ〜約１５００ｍ２／ｇの全表面積（又は総表面積（total surface area））を有する、実施形態３５〜５３のいずれか１つの触媒。
【０４７３】
実施形態５５
上記触媒は、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇの細孔体積（又はポア体積（pore volume））を有する、実施形態３５〜５４のいずれか１つの触媒。
【実施例】
【０４７４】
実施例１−触媒合成実施例
比較例１Ａ
高表面積アルミナ結合（Ｖｅｒｓａｌ（商標）３００；ＳＡ＞約２００ｍ２／ｇ）ＺＳＭ−４８を、約６５％のＺＳＭ−４８を有する比較試料Ａとして使用した（この目的に関して、本明細書において参照によって組み込まれる米国特許出願公開第２０１１／０１９２７６６号明細書に記載されるような、以前に公開された方法に従って製造される）。
【０４７５】
実施例１Ｂ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４７６】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０４７７】
オルガノシリカ粉末は、約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水の溶液を形成することによって、別に製造された。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約１２．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約４．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４７８】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０４７９】
約１４．６ｇのゾル溶液を約２．４ｇのオルガノシリカ粉末および約６．５ｇのＨ型焼成ＺＳＭ−４８（１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱され、約１Ｎ  ＮＨ４ＯＨで洗浄され、そして１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱された）と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させ、約６５％のＺＳＭ−４８を有する試料Ａを形成した。
【０４８０】
実施例１Ｃ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４８１】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０４８２】
オルガノシリカ粉末は、約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水の溶液を形成することによって、別に製造された。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約１２．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約４．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４８３】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０４８４】
約１４．６ｇのゾル溶液を約２．４ｇのオルガノシリカ粉末および約６．５ｇのＨ型焼成ＺＳＭ−４８（１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱され、約１Ｎ  ＮＨ４ＯＨで洗浄され、そして１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱された）と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。この粒子を、約３時間、約１００％の蒸気中、約８９０°Ｆにおいてさらに蒸気処理し、約６５％のＺＳＭ−４８を有する試料Ｂを形成した。
【０４８５】
実施例１Ｄ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４８６】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０４８７】
オルガノシリカ粉末は、約８４ｇのＨＣｌ溶液および約６．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）の溶液を形成することによって、別に製造され、
約１５．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約０．８４のＨＣｌ：約４６００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４８８】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０４８９】
約１５ｇのゾル溶液を約２．１ｇのオルガノシリカ粉末および約７ｇのＨ型焼成ＺＳＭ−４８（１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱され、約１Ｎ  ＮＨ４ＯＨで洗浄され、そして１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱された）と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させ、約６８％のＺＳＭ−４８を有する試料Ｃを形成した。
【０４９０】
実施例１Ｅ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４９１】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０４９２】
約１４．４ｇのゾル溶液を約７ｇのＨ型焼成ＺＳＭ−４８（１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱され、約１Ｎ  ＮＨ４ＯＨで洗浄され、そして１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱された）と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させ、約８６％のＺＳＭ−４８を有する試料Ｄを形成した。
【０４９３】
実施例１Ｆ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４９４】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０４９５】
約１４．４ｇのゾル溶液を約７ｇのＨ型焼成ＺＳＭ−４８（１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱され、約１Ｎ  ＮＨ４ＯＨで洗浄され、そして１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱された）と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。この粒子を、約３時間、約１００％の蒸気中、約８９０°Ｆにおいてさらに蒸気処理し、約８６％のＺＳＭ−４８を有する試料Ｅを製造した。
【０４９６】
実施例１Ｇ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０４９７】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０４９８】
約１１．４ｇのゾル溶液を約７ｇのＨ型焼成／蒸気処理ＺＳＭ−５と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させ、約８８％のＺＳＭ−５を有する試料Ｆを形成した。
【０４９９】
実施例１Ｈ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０５００】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０５０１】
約１１．４ｇのゾル溶液を約７ｇのＨ型焼成ＺＳＭ−４８（１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱され、約１Ｎ  ＮＨ４ＯＨで洗浄され、そして１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱された）と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させ、約８８％のＺＳＭ−４８および約１２重量％のオルガノシリカ結合剤を有する試料Ｇを形成した。図３に、試料Ｇの円柱形触媒粒子を示す。
【０５０２】
実施例１Ｉ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０５０３】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０５０４】
約１１．４ｇのゾル溶液を約７ｇのＨ型焼成／蒸気処理ＺＳＭ−５と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させ、約８８％のＺＳＭ−５および約１２重量％のオルガノシリカ結合剤を有する試料Ｇを形成した。図４に、試料Ｈの円柱形触媒粒子を示す。
【０５０５】
実施例１Ｊ
約１８．６ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約２３．８ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約９．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０５０６】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０５０７】
オルガノシリカ粉末は、約８４ｇのＨＣｌ溶液および約６．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）の溶液を形成することによって、別に製造され、
約１５．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約０．８４のＨＣｌ：約４６００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０５０８】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０５０９】
約１５ｇのゾル溶液を約７ｇのＨ型焼成ＭＣＭ−４９および約２．１ｇのオルガノシリカ粉末と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（クアドルローブ（ｑｕａｄｒｕｌｏｂｅｓ））を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させ、約６８％のＭＣＭ−４９および約３２重量％のオルガノシリカ結合剤を有する試料Ｉを形成した。図５に、試料Ｉのクアドルローブ形触媒粒子を示す。
【０５１０】
実施例１Ｋ
約６．２１ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約７．９２ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約２．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約２．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０５１１】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、ゾル溶液を形成した。
【０５１２】
約１０．８ｇのゾル溶液を約７ｇのＨ型焼成ＺＳＭ−４８（１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱され、約１Ｎ  ＮＨ４ＯＨで洗浄され、そして１〜４時間、約１０００°Ｆまで加熱された）と混合し、押出成形用ペーストを製造した。押出成形ダイを通してペーストを押出成形し、成形粒子（円柱）を製造した。成形粒子を約１６〜２４時間、約７０℃においてオーブン中で硬化し、次いで、約１６〜２４時間、減圧下、約１２０℃において乾燥させ、約９２％のＺＳＭ−５および約８重量％のオルガノシリカ結合剤を有する試料Ｊを形成した。図６Ａ〜６Ｃは、試料Ｊの走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）断面像を提供する。図６Ｄ〜６Ｆは、試料Ｊの走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）側面像を例示する。
【０５１３】
実施例２−触媒特性分析
触媒試料上で、以下の種々の分析法が実行された。結果を表１〜３に提供する。
【０５１４】
窒素空孔率測定
窒素吸着／脱着分析は、種々の道具、例えば、ＴｒｉＳｔａｒ（商標）３０００、ＴｒｉＳｔａｒ  ＩＩ（商標）３０２０およびＡｕｔｏｓｏｒｂ（商標）−１で実行した。Ｎ２等温線を収集する前、全ての試料は、４時間、減圧下で１２０℃において前処理した。分析プログラムによって実験データを計算し、そしてＢＥＴ表面積（全表面積）、ミクロポーラス表面積（Ｓ）、全細孔体積、ミクロ細孔の細孔体積、細孔径分布（ｎｍ）、平均細孔直径（または半径）などを報告する。
【０５１５】
２，２−ジメチルブタン（２，２−ＤＭＢ）および２，３−ジメチルブタン（２，３−ＤＭＢ）収着および拡散率：
２，２−ＤＭＢおよび２，３−ＤＭＢ収着および拡散率は、その目的に関して参照によって組み込まれる米国特許第７，９０２，４１４号明細書および同第８，５０７，７４４号明細書に記載の通りに決定され得る。多孔性結晶質材料の拡散抵抗は、典型的に、拡散パラメーターＤ／ｒ２×１０６として報告される。ここで、Ｄは、拡散係数（ｃｍ２／秒）であり、かつｒは、結晶半径（ｃｍ）である。必要とされる拡散パラメーターは、平面シートモデルが拡散プロセスを示すという仮定のもと、収着測定から誘導可能である。したがって、所与のソルベート装てんＱに関して、Ｑ∞が平衡ソルベート装てんである値Ｑ／Ｑ∞は、ｔがソルベート装てんＱに達するために必要とされる時間（秒）である、（Ｄｔ／ｒ２）１／２に数学的に関連する。平面シートモデルのグラフ的解決策は、Ｊ．Ｃｒａｎｋによる、「Ｔｈｅ  Ｍａｔｈｅｍａｔｉｃｓ  ｏｆ  Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ」，Ｏｘｆｏｒｄ  Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  Ｐｒｅｓｓ，Ｅｌｙ  Ｈｏｕｓｅ，Ｌｏｎｄｏｎ，１９６７によって与えられる。
【０５１６】
特徴的拡散時間の逆数として表される炭化水素拡散率Ｄ／ｒ２は、表１〜３に示される触媒の２，２−ジメチルブタン（２，２−ＤＭＢ）取り込み速度によって決定された。炭化水素吸着の前、例えば、湿分およびいずれの炭化水素またはコークス不純物も除去するために、約５０ｍｇの試料を空気中で約５００℃まで加熱した。２，２−ＤＭＢ吸着のために、空気焼成ステップの後に試料を約１２０℃まで冷却し、次いで、窒素中、約６０トール（約８ｋＰａｇ）の２，２−ＤＭＢの流れに曝露した。
【０５１７】
メシチレン収着：
メシチレン収着は、米国特許第５，２４０，８９２号明細書に記載されるように決定され得る。多孔性結晶質シリケートの結晶表面積などの拡散特徴を測定するための１つの方法は、メシチレンを吸着することのその能力の決定による。そのような収着は、平衡をもたらすために必要とされる時間、圧力下で、室温においての静的条件下、例えば、約７２°Ｆの温度、約０．５ｍｍＨｇの圧力、約６時間実行される。この手順は、両方とも参照によって本明細書に組み込まれる、Ｗｕら、「Ｎｅｗ  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ  ｉｎ  Ｚｅｏｌｉｔｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  ｏｆ  ｔｈｅ  ７ｔｈ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｚｅｏｌｉｔｅ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎ，ｐｐ．５４７−５５４およびＧ．Ｒ．Ｌａｎｄｏｌｔ，Ａｎａｌ．Ｃｈｅｍ．（１９７１）４３，６１３にさらに記載される。
【０５１８】
メシチレン取り込みおよび収着速度は、約１００℃において、約０．２７ｋＰａａ（約２トール）のメシチレン分圧において蒸気メシチレンと接触させて、焼成モレキュラーシーブの重量が測定された試料を配置して計測された。分圧は、吸着チャンバーへと連続的に流れる蒸気メシチレンによって一定に保持された。重量の増加は、流れに関して時間で測定された。メシチレン取り込みの平衡量および取り込み速度は、「Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ  ａｎｄ  Ｐｒａｃｔｉｃｅ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｇｅｎｅｏｕｓ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ」、Ｊ．Ｍ．ＴｈｏｍａｓおよびＷ．Ｊ．Ｔｈｏｍａｓ編、初版、１９９７に記載の通りに算出された。
【０５１９】
コリジン数測定
モレキュラーシーブのコリジン数は、熱重量分析（ＴＧＡ）によって測定され得る。一定重量（１時間、±１％未満の重量変化）になるまで、試料を約２００℃において乾燥させることが可能である。次いで、乾燥試料ソルベートの重量を測定することができる。収着剤２，４，６−コリジンは、約３トールのコリジン分圧に維持されたスパージャによって送達可能であり、そして約６０分間、約２００ｍｌ／分において通過させた窒素によって試料を移動させた。コリジン数は、ソルベート１グラム当たり吸着されたもののミクロモルとして表される。
【０５２０】
ｎ−ヘキサン収着：
ｎ−ヘキサン収着は、米国特許第６，６１３，９５１号明細書に記載される通りに決定され得る。ミクロ細孔体積（ｎ−ヘキサン）測定は、コンピュータ制御（Ｖｉｓｔａ／Ｆｏｒｔｒａｎ）ｄｕＰｏｎｔ９５１（商標）Ｔｈｅｒｍａｌｇｒａｖｉｍｅｔｒｉｃ分析器上で実行された。等温線は、約９０℃において測定され、吸着値は、約７５トールｎ−ヘキサンにおいて採取された。拡散測定は、Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ  ２０００コントローラー、ガススイッチングアクセサリーおよび自動試料チェンジャーを備えたＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  ２９５０（商標）Ｔｈｅｒｍａｌｇｒａｖｉｍｅｔｒｉｃ分析器上で実行された。拡散測定は、約１２０℃および約６０トールにおいて実行され、かつデータは、時間の平方根に対する取り込みとしてプロットされた。
【０５２１】
アルファ試験：
アルファ値試験は、触媒の分解活性の基準であり、かつそれぞれ、それに関して、参照によって本明細書に組み込まれる、米国特許第３，３５４，０７８号明細書、ならびにＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ，Ｖｏｌ．４，ｐ．５２７（１９６５）；Ｖｏｌ．６，ｐ．２７８（１９６６）；およびＶｏｌ．６１，ｐ．３９５（１９８０）に記載されている。
【０５２２】
【表１】
2019518598.tif 000043
【０５２３】
【表２】
2019518598.tif 000044
【０５２４】
【表３】
2019518598.tif 000045
【図１】
2019518598.tif 000051
【図２】
2019518598.tif 000052
【図３】
2019518598.tif 000053
【図４】
2019518598.tif 000054
【図５】
2019518598.tif 000055
【図６Ａ】
2019518598.tif 000056
【図６Ｂ】
2019518598.tif 000057
【図６Ｃ】
2019518598.tif 000058
【図６Ｄ】
2019518598.tif 000059
【図６Ｅ】
2019518598.tif 000060
【図６Ｆ】
2019518598.tif 000061
【図７Ａ】
2019518598.tif 000062
【図７Ｂ】
2019518598.tif 000063
【図７Ｃ】
2019518598.tif 000064
【図７Ｄ】
2019518598.tif 000065
【図７Ｅ】
2019518598.tif 000066
【図７Ｆ】
2019518598.tif 000067
【国際調査報告】
2019518598.tif 000068
2019518598.tif 000069
2019518598.tif 000070