(57)【要約】  ケイ素、アルミニウム、窒素、及び、任意には酸素を含む傷がつきにくい光透過性材料の実施形態を開示する。一つ以上の実施形態では、材料は、４００ｎｍの波長で約１×１０−３未満の吸光係数（ｋ）、及び、約０．４マイクロメートルの厚さを有する材料を介して測定されると約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８０％以上の平均透過率を示す。一つ以上の実施形態では、材料は約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって約４００ｎｍの厚さを有する材料の主表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の固有の最大硬度、低圧縮応力、及び、低粗さ（Ｒａ）を有する。該材料を組み込む物品及び装置も開示する。
2019520303.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性材料であって、
ケイ素、アルミニウム、及び、窒素を含む組成物と、
４００ｎｍの波長で約１×１０−３未満の吸光係数（ｋ）、及び、約２マイクロメートルの厚さを有する材料を介して測定されると約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８０％以上の平均透過率、
約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって約４００ｎｍの厚さを有する材料の主表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の固有の最大硬度と
を有する光透過性材料。
【請求項２】
前記組成物は酸素を更に含む、請求項１記載の光透過性材料。
【請求項３】
少なくとも前記材料の一つは、５５０ｎｍの波長で測定されると、約２．０以上の屈折率を有し、
前記材料は、２マイクロメートル対２マイクロメートルの寸法を有する撮像域に沿って前記主表面で原子間力顕微鏡によって測定されると１．５ｎｍ未満の粗さ（Ｒａ）を有する、請求項１又は２記載の光透過性材料。
【請求項４】
光透過性材料であって、
約２５原子％以下の量のケイ素、約０原子％乃至約１５原子％の範囲の量のアルミニウム及び酸素、及び、窒素を有する組成物と、
２マイクロメートルの厚さを有する材料を介して測定されると約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８０％以上の平均透過率と、
約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって約４００ｎｍの厚さを有する材料の主表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の固有の最大硬度と
を有する光透過性材料。
【請求項５】
前記組成物は、約５原子％乃至約２５原子％の範囲の量のケイ素、約２５原子％乃至約４５原子％の範囲の量のアルミニウム、約０原子％乃至約１５原子％の範囲の量の酸素、及び、約３５原子％乃至約５０原子％の範囲の量の窒素を有する、請求項４記載の光透過性材料。
【請求項６】
前記組成物は、少なくとも約０．１原子％の酸素を有する、請求項４又は５記載の材料。
【請求項７】
少なくとも前記材料の一つは、約４００ｎｍの厚さを有する材料を介して測定されると、４００ｎｍの波長で約１×１０−３未満の吸光係数（ｋ）を有し、
前記材料は、５５０ｎｍの波長で測定されると約２．０以上の屈折率を有し、
前記材料は、２マイクロメートル対２マイクロメートルの寸法を有する撮像域に沿って前記主表面で原子間力顕微鏡によって測定されると１．５ｎｍ未満の粗さ（Ｒａ）を有する、請求項４乃至６のうちいずれか一項記載の光透過性材料。
【請求項８】
物品であって、
主表面、基板透過色座標（ａ＊基板，ｂ＊基板）及び基板反射色座標（ａ＊基板，ｂ＊基板）を有し、該基板透過色座標及び該基板反射色座標は（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムで国際照明委員会の下直角入射から５度の入射照明角度で測定される基板と、
前記主表面上に堆積されてコーティングされた表面を形成する約２００ｎｍ乃至約３マイクロメートルの範囲の厚さを有する光学フィルムであって、ケイ素、アルミニウム、及び、窒素を含む光透過性材料を有する光学フィルムと、
を備え、
前記物品は、約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって前記コーティングされた表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
前記物品は、約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８％以下の前記コーティングされた表面で測定される片側平均明暗視反射率を示し、以下のいずれか一方又は両方を示し、
前記（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムにおける物品透過色座標であって、国際照明委員会の下直角入射の入射照明角度で測定された場合に、基準点から約２未満の基準点色ずれを有し、該基準点は色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）及び前記基板透過色座標の一方を含み、
前記（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムにおける物品反射色座標であって、国際照明委員会の下直角入射から５度の入射照明角度で前記コーティングされた表面で測定された場合に、反射防止面で測定されると基準点から約５度未満の基準点色ずれを示し、該基準点は色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝−２，ｂ＊＝−２）及び前記基板反射色座標の少なくとも一つを含み、
前記基準点が色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ）２）によって定義され、
前記基準点が色座標（ａ＊＝−２，ｂ＊＝−２）の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ＋２）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ＋２）２）によって定義され、
前記基準点が前記基板の色座標の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ−ａ＊基板）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ−ｂ＊基板）２）によって定義される物品。
【請求項９】
前記光透過性材料はさらに酸素を含む、請求項８記載の物品。
【請求項１０】
前記光透過性材料は約―１０００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａの範囲の圧縮応力を有する、請求項８又は９記載の物品。
【請求項１１】
前記光透過性材料は第一の層を有し、前記光学フィルムはさらに第二の層を有する、請求項８乃至１０のうちいずれか一項記載の物品。
【請求項１２】
前記第一の層は前記基板の前記主表面上に堆積され、前記第二の層は該第一の層上に堆積され、
前記第二の層は前記基板の前記主表面上に堆積され、前記第一の層は該第二の層上に堆積される請求項１１記載の物品。
【請求項１３】
前記透過性材料は前記第二の層の屈折率よりも大きい屈折率を有し、前記光学フィルムは交互になる複数の第一の層及び第二の層を有する、請求項１１記載の物品。
【請求項１４】
少なくとも前記物品の前記片側平均明暗視反射率の一つは約６度乃至約４０度の範囲の視野角度で光波長レジームについて約２％以下であり、
前記基板は約６０ＧＰａ以上のヤング率を有し、
前記ガラスは強化され、また、該強化されたガラスの表面から約１０μｍ以上の圧縮深さまで延在する少なくとも２００ＭＰａの表面ＣＳを有する圧縮応力（ＣＳ）層を有し、
前記第一の層は約０．４マイクロメートル乃至約３マイクロメートルの範囲の厚さを有する、請求項８乃至１３のうちいずれか一項記載の物品。
【請求項１５】
前面、後面、及び、側面を有する筐体と、
前記筐体内に少なくとも部分的に配置される電気部品と、
前記筐体の前記前面において或いは前記前面に隣接して設けられるディスプレイと、
前記ディスプレイ上に配置されるカバー物品であって、請求項８乃至１４のうちいずれか一項記載の物品を有するカバー物品と、
を備える装置。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の説明】
【０００１】
本出願は、２０１６年６月１３日に出願された米国特許仮出願第６２／３４９５０６号の米国特許法第３５条１１９項の下で優先権の恩恵を主張するものであり、その内容は、その全体が参照により依拠され、本明細書に援用される。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、低光吸収率、高硬度、及び、低圧縮応力を示す材料、特に、低光吸収率、高硬度、及び、低圧縮応力や調節可能な圧縮応力を示すケイ素、アルミニウム、窒素、及び、任意には酸素を有する材料、及び、これら材料を含む物品に関わる。
【背景技術】
【０００３】
カバー物品は、電気製品内の重要な装置を保護し、入力及び／又はディスプレイ用のユーザインターフェイス、及び／又は、多数の他の機能を提供するためにしばしば使用される。このような製品は、スマートフォン、ｍｐ３プレイヤー、ラップトップ、及び、コンピュータタブレット等の移動装置を含む。カバー物品は、建築物品、輸送物品（例えば、自動車用途、電車、航空機、船舶等）、電化製品物品、又は、幾らかの透明性、耐擦傷性、低応力、又は、その組み合わせを必要とする全ての物品も含む。これらの用途は、最大光透過率及び最小反射率に関して、耐擦傷性や強い光学性能特徴をしばしば要求する。更に、幾つかのカバー用途では、反射及び／又は透過において示される或いは感じられる色が、視野角度が変化したときに認識できるほどに変化しないことが要求される。これは、ディスプレイ用途では、視野角度と共に反射又は透過における色が認識可能な程度に変化すると、ディスプレイの色又は明るさにおける変化を製品のユーザが感じ、ディスプレイの認識できる質を失わせ得るからである。他の用途では、色の変化は、美観的要件や他の機能的要件に悪影響を及ぼし得る。
【０００４】
カバー物品の光学性能は、様々な反射防止コーティングを用いて改善され得るが、公知の反射防止コーティングは擦り減りや摩耗を受けやすい。そのような摩耗は、反射防止コーティングによって実現される全ての光学性能の改善を犠牲にし得る。例えば、光学フィルタは、異なる屈折率を有し、光学的に透明な誘電材料（例えば、酸化物、窒化物、及び、フッ化物）よりなる多層コーティングからしばしば形成される。このような光学フィルタに使用される典型的な酸化物の多くは、移動装置、建築物品、輸送物品、又は、電化製品物品において使用するための必要な機械的特性、例えば、硬度を有さないワイドバンドギャップ材料である。窒化物及びダイアモンド状コーティングは、高い硬度値を示すが、これら材料は上記用途に必要な透過度を示さない。
【０００５】
摩耗損傷は、対向する対象物（例えば、指）からの往復摺動接触を含み得る。更に、摩耗損傷は、熱を生成し得、熱によりフィルム材料の化学結合が劣化され、剥落やカバーガラスへの他の種類の損傷が生じ得る。摩耗損傷は、傷を生ずる単一の事象よりも長い期間にわたって受けられるため、摩耗損傷を受ける配設されたコーティング材料も酸化され得、コーティングの耐久性が更に劣化される。
【０００６】
公知の反射防止コーティングはまた、傷損傷を受けやすく、このようなコーティングが上に設けられるコーティングの下にある基板よりも傷損傷をしばしば受けやすい。幾つかの場合では、このような傷損傷の相当部分は、材料において、延長した長さを有し、約１００ｎｍ乃至約５００ｎｍの範囲の深さを有する単一の溝を典型的には含むマイクロダクタイル傷を含む。マイクロダクタイル傷は、サブ表面割れ、摩擦による割れ、チッピング、及び／又は擦り減り等の他の種類の可視損傷を伴うことがある。このような傷や他の可視損傷の大部分が単一接触の事象において生ずる鋭い接触によって生ずることが証拠からわかっている。一旦カバー基板に顕著な傷が現れると、傷により光拡散が増加するため物品の見掛けが劣化し、それにより、ディスプレイ上の画像の明るさ、明瞭性、及び、コントラストが顕著に低下し得る。顕著な傷は、タッチ感応ディスプレイを含む物品の正確性や信頼性にも影響を及ぼし得る。単一事象の傷損傷は、摩耗損傷と対比される。単一事象の傷損傷は、固い対向する対象物（例えば、砂、砂利、サンドペーパー）からの往復摺動接触等の多数の接触事象によって生じず、フィルム材料における化学結合を劣化させ剥落や他の種類の損傷を生じ得る熱を典型的には生成しない。更に、単一事象の傷は、典型的には酸化を生じさせず、摩耗損傷を生じさせるのと同じ条件も伴わないため、摩耗損傷を防止するためにしばしば利用される解決策も傷を防止しない。更に、公知の傷及び摩耗損傷の解決策は、光学特性をしばしば犠牲する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、傷がつきにくく、低圧縮応力値や低表面粗さを示し、光学性能が改善された新しいカバー物品、及び、それを製造する方法が必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示の第一の態様は、ケイ素、アルミニウム、及び、窒素を含む組成物を有する光透過性材料に関わる。一つ以上の実施形態では、組成物は、約２５原子％以下の量のケイ素、約０原子％乃至約１５原子％の量の範囲のアルミニウム及び酸素、及び、窒素を有する。一つ以上の実施形態では、組成物は酸素を含む。例えば、組成物は、少なくとも約０．１原子％の酸素を含んでもよい。一つ以上の実施形態では、組成物は、約５原子％乃至約２５原子％の範囲の量のケイ素、約２５原子％乃至約４５原子％の範囲の量のアルミニウム、約０原子％乃至約１５原子％の範囲の量の酸素、及び、約３５原子％乃至約５０原子％の範囲の量の窒素を有する。一つ以上の実施形態では、組成物は、約７原子％乃至約１７原子％の範囲の量のケイ素、約３３原子％乃至約４３原子％の範囲の量のアルミニウム、約０原子％乃至約１０原子％の範囲の量の酸素、及び、約４０原子％乃至約５０原子％の範囲の量の窒素を有する。
【０００９】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、４００ｎｍの波長で約１×１０−３未満の吸光係数（ｋ）、及び、約２マイクロメートルの厚さを有する材料を介して測定されると約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８０％以上の平均透過率を有する。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって約４００ｎｍの厚さを有する材料の主表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の固有の最大硬度を示す。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、基板上に堆積された場合に約―１０００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ（或いは、約―３００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ）の範囲であり得る調節可能な圧縮応力を示す。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、５５０ｎｍの波長で測定されると約２．０以上の屈折率を有する。
【００１０】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、２マイクロメートル対２マイクロメートルの寸法を有する撮像域に沿って主表面で原子間力顕微鏡によって測定されると１．５ｎｍ未満の粗さ（Ｒａ）を有する。
【００１１】
本開示の第二の態様は、主表面を有する基板、及び、主表面に堆積されてコーティングされた表面を形成する光学フィルムを有する物品に関わる。一つ以上の実施形態では、光学フィルムは本願記載の光透過性材料を有する。一つ以上の実施形態では、基板は、基板透過色座標（ａ＊基板，ｂ＊基板）及び基板反射色座標（ａ＊基板，ｂ＊基板）を有し、それぞれ（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムで国際照明委員会の下直角入射から５度の入射照明角度で測定される。一つ以上の実施形態では、物品は、（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムにおける物品透過色座標であって、国際照明委員会の下直角入射の入射照明角度で測定された場合に、基準点から約２未満の基準点色ずれを有し、基準点は色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）及び基板透過色座標の一方を含む物品透過色座標を示す。一つ以上の実施形態では、（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムにおける物品反射色座標であって、国際照明委員会の下直角入射から５度の入射照明角度でコーティングされた表面で測定された場合に、反射防止面で測定されると基準点から約５度未満の基準点色ずれを示し、基準点は色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝−２，ｂ＊＝−２）及び基板反射色座標の少なくとも一つを含む、物品反射色座標を示す。基準点が色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ）２）によって定義される。基準点が色座標（ａ＊＝−２，ｂ＊＝−２）の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ＋２）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ＋２）２）によって定義される。基準点が基板の色座標の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ−ａ＊基板）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ−ｂ＊基板）２）によって定義される。
【００１２】
一つ以上の実施形態では、光学フィルムは約２００ｎｍ乃至約３マイクロメートルの範囲の厚さを有してもよい。一つ以上の実施形態では、物品は、約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によってコーティングされた表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の最大硬度を示す。一つ以上の実施形態では、物品は、約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８％以下のコーティングされた表面で測定される片側平均明暗視反射率を示す。一つ以上の実施形態では、物品の片側平均明暗視反射率は約６度乃至約４０度の範囲の視野角度で光波長レジームについて約２％以下である。
【００１３】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は第一の層を有し、光学フィルムは第二の層を更に有する。一実施形態では、第一の層は基板の主表面上に堆積され、第二の層は第一の層上に堆積される。別の実施形態では、第二の層は基板の主表面上に堆積され、第一の層は第二の層上に堆積される。一つ以上の実施形態では、第一の層又は第二の層は約０．４マイクロメートル乃至約３マイクロメートルの範囲の厚さを有する。
【００１４】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、第二の層の屈折率よりも大きい屈折率を有し、光学フィルムは交互になる複数の第一の層及び第二の層を有する。
【００１５】
幾つかの実施形態では、基板は約６０ＧＰａ以上のヤング率を有する。一つ以上の実施形態による基板は、アモルファス基板又は結晶基板を有してもよい。例示的なアモルファス基板は、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリ含有ボロシリケートガラス、及び、アルカリアルミノボロシリケートガラス等のガラスを含む。幾つかの実施形態では、基板は、強化ガラスであり、強化ガラスは強化ガラスの表面から約１０μｍ以上の圧縮の深さまで延在する少なくとも２００ＭＰａの表面ＣＳを含む圧縮応力（ＣＳ）層を有する。
【００１６】
本開示の第三の態様は、前面、後面、及び、側面を有する筐体と、筐体内に少なくとも部分的に配置される電気部品と、筐体の前面において或いは前面に隣接して設けられるディスプレイと、ディスプレイ上に配置されるカバー物品を備える装置に関わる。カバー物品は、本願記載の物品を有してもよい。
【００１７】
追加的な特徴及び利点は以下の詳細な説明に記載し、その一部は該説明から当業者には容易に明らかとなり、又は以下の詳細な説明、特許請求の範囲、ならび、添付の図面を含む本願記載の実施形態を実施することで認識されるであろう。
【００１８】
前述の一般的な説明及び以下の詳細な説明は例示的に過ぎず、請求項の性質及び特徴を理解するための概観又は骨組みを提供することを意図している。添付の図面は、更なる理解を提供するために含まれ、本明細書の組み込まれてその一部を構成する。図面は、一つ以上の実施形態を例示し、説明と共に様々な実施形態の原理及び作用を説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】一つ以上の実施形態による物品の側面図である。
【図２】一つ以上の特定の実施形態による物品の側面図である。
【図３】一つ以上の実施形態による装置の正面図である。
【図４】一つ以上の実施形態による光透過性材料の硬度及びヤング率を示すグラフである。
【図５】光透過性材料の様々な実施形態の粗さ（Ｒａ）を示すグラフである。
【図６】凹み深さの関数として硬度測定を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
ここで、様々な実施形態を詳細に参照する。
【００２１】
本開示の第一の様態は、高硬度、約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲の光波長レジームについて高透過率、及び、約４００ｎｍの波長において低光吸収率を示す光透過性材料に関わる。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、低表面粗さや低圧縮応力（表面に形成された場合）も示す。
【００２２】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、ケイ素、アルミニウム、及び、窒素を含む組成物を有する。一つ以上の実施形態では、組成物は酸素を含む。
【００２３】
一つ以上の実施形態による光透過性材料の組成物は、約２５原子％以下の量でケイ素を含んでもよい。幾つかの実施形態では、組成物中のケイ素の量は、約５原子％乃至約２５原子％、約６原子％乃至約２５原子％、約８原子％乃至約２５原子％、約１０原子％乃至約２５原子％、約１２原子％乃至約２５原子％、約１４原子％乃至約２５原子％、約５原子％乃至約２４原子％、約５原子％乃至約２２原子％、約５原子％乃至約２０原子％、約５原子％乃至約１８原子％、約５原子％乃至約１６原子％、約５原子％乃至約１４原子％、約５原子％乃至約２５原子％、又は、約７原子％乃至約１７原子％の範囲でもよい。
【００２４】
一つ以上の実施形態による光透過性材料の組成物は、幾らかの量のアルミニウムを含んでもよい。一つ以上の実施形態では、組成物は、約２５原子％乃至約４５原子％、約２６原子％乃至約４５原子％、約２８原子％乃至約４５原子％、約３０原子％乃至約４５原子％、約３２原子％乃至約４５原子％、約３４原子％乃至約４５原子％、約３６原子％乃至約４５原子％、約３８原子％乃至約４５原子％、約４０原子％乃至約４５原子％、約２５原子％乃至約４４原子％、約２５原子％乃至約４２原子％、約２５原子％乃至約４０原子％、約２５原子％乃至約３８原子％、約２５原子％乃至約３６原子％、約２５原子％乃至約３４原子％、約３２原子％乃至約４４原子％、又は、約３３原子％乃至約４３原子％の範囲でアルミニウムを含む。
【００２５】
一つ以上の実施形態による光透過性材料の組成物は、幾らかの量の窒素を含んでもよい。一つ以上の実施形態では、組成物は、約３５原子％乃至約５０原子％、約３６原子％乃至約５０原子％、約３８原子％乃至約５０原子％、約４０原子％乃至約５０原子％、約４２原子％乃至約５０原子％、約４４原子％乃至約５０原子％、約４６原子％乃至約５０原子％、約３５原子％乃至約４８原子％、約３５原子％乃至約４６原子％、約３５原子％乃至約４４原子％、約３５原子％乃至約５０原子％、約３５原子％乃至約５０原子％、約３５原子％乃至約５０原子％、又は、約３５原子％乃至約５０原子％の範囲で窒素を含む。
【００２６】
一つ以上の実施形態によると、光透過性材料の組成物は酸素を含んでもよい。幾つかの実施形態では、酸素の量は、約０．１原子％より大きい。幾つかの実施形態では、酸素の量は、約１５原子％以下でもよい。一つ以上の実施形態では、組成物は、約０原子％乃至約１５原子％、約０原子％乃至約１４原子％、約０原子％乃至約１２原子％、約０原子％乃至約１０原子％、約０原子％乃至約８原子％、約０．１原子％乃至約１５原子％、約０．５原子％乃至約１５原子％、約１原子％乃至約１５原子％、約２原子％乃至約１５原子％、約４原子％乃至約１５原子％、約５原子％乃至約１５原子％、約６原子％乃至約１５原子％、又は、約７原子％乃至約１５原子％の範囲の量で酸素を含む。
【００２７】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、低吸収率を示す。例えば、一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、１マイクロメートル又は２マイクロメートルの光透過性材料の厚さに対して測定した場合に、４００ｎｍの波長において約１×１０−３未満又は１×１０−４未満の吸光係数（ｋ）を有する。幾つかの実施形態では、該厚さにおける３００ｎｍ又は４００ｎｍの波長での吸光係数（ｋ）は約９×１０−４以下、約８×１０−４以下、約７×１０−４以下、約６×１０−４以下、約５×１０−４以下、約４×１０−４以下、約３×１０−４以下、約２×１０−４以下、約１×１０−４以下、約９×１０−５以下、約８×１０−５以下、約７×１０−５以下、約６×１０−５以下、又は、約５×１０−５以下である。
【００２８】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、１マイクロメートル又は２マイクロメートルの光透過性材料の厚さに対して測定された場合に高い透過率を示す。例えば、光透過性材料は、約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲における光波長レジームについて約８０％以上の平均透過率を示す（「光波長レジーム」）。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、光波長レジーム全体にわたり、１マイクロメートルの厚さに対して測定されると、約８２％以上、約８４％以上、約８６％以上、約８８％以上、約９０％以上、約９２％以上、約９４％以上、約９５％以上、又は、約９６％以上の平均透過率を示す。
【００２９】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、材料の表面で測定された場合に低反射率を示す。例えば、光透過性材料は、光波長レジームについて約１５％以下の平均反射率を示す。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、光波長レジーム全体について、約２０％以下、約１８％以下、約１６％以下、約１５％以下、約１４％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、又は、約０．５％以下の平均反射率を示す。
【００３０】
本願で使用されるように、「透過率」といった用語は、材料（例えば、光透過性材料、物品、基板、又は、その部分）を介して透過される所与の波長範囲内の入射光パワーの割合として定義される。「反射率」といった用語は、表面（例えば、光透過性材料の表面、物品の表面、基板の表面、又は、その部分）から反射される所与の波長範囲内の入射光パワーの割合として同様に定義される。透過率と反射率は、特定の線幅を用いて測定される。一つ以上の実施形態では、透過率及び反射率の特徴のスペクトル解像度は５ｎｍ又は０．０２ｅＶ未満である。
【００３１】
光透過性材料（及びこのような材料を含む物品）は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定される硬度に関して説明され得る。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、約１００ナノメートル以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により４００ナノメートル、５００ナノメートル、１マイクロメートル、又は、２マイクロメートルの厚さを有する材料の主表面で測定されると、約１２ＧＰａ以上の固有の最大硬度を示す。固有の最大硬度とは、材料が配置され得る、全ての下にある基板又は表面に関わりない材料自体の硬度である。
【００３２】
本願で使用されるように、「バーコビッチ圧子硬度試験」は、ダイアモンドバーコビッチ圧子を用いて表面に凹みをつけることで、その表面上の材料の硬度を測定することを含む。バーコビッチ圧子硬度試験は、ダイアモンドバーコビッチ圧子を用いて材料の主表面又は物品のコーティング表面１２２（或いは、本願記載の全ての一層以上の層の表面）に凹みをつけて、特定される凹み深さまで凹みを形成し（或いは、試験される材料の全厚さ、いずれか小さい方）、Ｏｌｉｖｅｒ，Ｗ．Ｃ．；Ｐｈａｒｒ，Ｇ．Ｍ．による「負荷及び変位感知凹み実験を用いて硬度及び弾性率を決定する改良された技術（  Ａｎ  ｉｍｐｒｏｖｅｄ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ  ｆｏｒ  ｄｅｔｅｒｍｉｎｉｎｇ  ｈａｒｄｎｅｓｓ  ａｎｄ  ｅｌａｓｔｉｃ  ｍｏｄｕｌｕｓ  ｕｓｉｎｇ  ｌｏａｄ  ａｎｄ  ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ  ｓｅｎｓｉｎｇ  ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ  ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ）」、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．，Ｖｏｌ．７，Ｎｏ．６，１９９２年、１５６４−１５８３、及び、Ｏｌｉｖｅｒ，Ｗ．Ｃ．；Ｐｈａｒｒ，Ｇ．Ｍ．による「機器の凹みによる硬度及び弾性率の測定：方法への理解及び改良の進歩（Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  ａｎｄ  Ｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌｕｓ  ｂｙ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ  Ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ：  Ａｄｖａｎｃｅｓ  ｉｎ  Ｕｎｄｅｒｓｔａｎｄｉｎｇ  ａｎｄ  Ｒｅｆｉｎｅｍｅｎｔｓ  ｔｏ  Ｍｅｔｈｏｄｏｌｏｇｙ．）」、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．，Ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．１，２００４年、３−２０記載の方法を用いて識別される凹み深さ範囲全体又は該凹み深さの識別されるセグメント（例えば、約１００ｎｍ乃至６００ｎｍの範囲）に沿って該凹みから最大硬度を測定することを含む。本願で使用されるように、硬度は平均硬度ではなく最大硬度を意味する。従って、凹み深さの関数としての固有最大硬度又は最大硬度が図６に示される。図６では、各曲線は５０ｎｍより大きい、又は、１００ｎｍより大きい凹み深さに沿って１２ＧＰａの最大硬度を示す。硬度は凹み深さが深くなると低下するが、凹み範囲に沿って測定された最大硬度は１２ＧＰａ以上、１５ＧＰａ以上、又は、１６ＧＰａ以上である。
【００３３】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、ｘ線回折や透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定されると略アモルファスな構造を有する。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、１マイクロメートルの厚さに沿ってＴＥＭ画像によって測定されると、非柱状形態を有する。
【００３４】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、約−１０００ＭＰａ乃至１００ＭＰａの範囲の圧縮応力を有する。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、約−１０００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−９００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−８００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−７００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−６００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−５００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−４００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−３００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−２００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−１００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、又は、約−５０ＭＰａ乃至約５０ＭＰａの範囲の圧縮応力を有する。光透過性材料の圧縮応力を決定するために、１マイクロメートルの厚さの材料の層が基板上に配置され、層が形成される前後に側面計を用いて下の基板の湾曲率が測定される。層は、真空蒸着技術を用いて形成される。光透過性材料が配置される基板は、約１ｍｍの厚さと、５ｃｍ×５ｃｍの寸法の長さと幅を有する。
【００３５】
一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、５５０ｎｍの波長で測定されると約２．０以上の屈折率を有する。幾つかの実施形態では、屈折率は、５５０ｎｍの波長で測定されると約２．０５以上、２．１以上、２．１５以上、又は、２．２以上でもよい。
【００３６】
一つ以上の実施形態の光透過性材料は、１．５ｎｍ未満の固有の粗さ（Ｒａ）を有する。固有の粗さは、真空蒸着技術を用いて０．４マイクロメートル以上の厚さの光透過性材料の層を形成し、次に２マイクロメートル×２マイクロメートルの寸法を有する撮像域に沿って原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて層の主表面の粗さを測定することで測定される。一つ以上の実施形態では、光透過性材料は、約１．２ｎｍ以下、１ｎｍ以下、又は、０．８ｎｍ以下の固有の粗さ（Ｒａ）を有する。
【００３７】
図１を参照するに、本開示の第二の様態は、基板１１０と基板上に配置される光学フィルム１２０とを含む物品１００に関わる。基板１１０は、対向する主表面１１２、１１４及び対向する非主表面１１６、１１８を有する。光学フィルム１２０は、第一の対向する主表面１１２上に配置されるとして図１に示されるが、光学フィルム１２０は、第一の対向する主表面１１２に配置されることに加えて或いはその代わりに第二の対向する主表面１１４及び／又は対向する非主表面の片方または両方に配置されてもよい。光学フィルム１２０はコーティングされた表面１２２を形成する。
【００３８】
光学フィルム１２０の厚さは、本願記載の光学性能を示す物品を提供しつつ約４００ｎｍ以上でもよい。幾つかの例では、光学フィルム１２０の厚さは、約４００ｎｍ乃至約５μｍ（例えば、約４００ｎｍ乃至約５μｍ、約５００ｎｍ乃至約５μｍ、約６００ｎｍ乃至約５μｍ、約８００ｎｍ乃至約５μｍ、約１μｍ乃至約５μｍ、約１．２μｍ乃至約５μｍ、約１．４μｍ乃至約５μｍ、約１．５μｍ乃至約５μｍ、約１．６μｍ乃至約５μｍ、約１．８μｍ乃至約５μｍ、約２μｍ乃至約５μｍ）の範囲でもよい。
【００３９】
光学フィルム１２０は、本願記載の光透過性材料の一つ以上の実施形態を含む。光透過性材料は、別個の層として光学フィルム１２０に存在してもよい。「層」といった用語は、単一の層でもよく、又は、一層以上のサブ層を含んでもよい。サブ層は、互いと直接的に接触していてもよい。そのようなサブ層は、同じ材料から形成されるか二種類以上の異なる材料から形成されてもよい。一つ以上の代替の実施形態では、そのようなサブ層の間に異なる材料の介在層が設けられてもよい。一つ以上の実施形態では、層は、一層以上の連続的で中断されない層及び／又は一層以上の非連続的で中断される層（すなわち、異なる材料の層が互いと隣接して形成される）を含んでもよい。層又はサブ層は、不連続的蒸着又は連続的蒸着処理を含む当技術分野で公知の任意の方法によって形成され得る。一つ以上の実施形態では、層は、連続的蒸着処理だけ、或いは、不連続的蒸着処理だけを用いて形成されてもよい。
【００４０】
本願で使用するように、「配置」といった用語は、当技術分野で公知の任意の方法を用いて表面上に材料をコーティング、堆積、及び／又は形成することを含む。配置された材料は、本願で定義するように、層を構成してもよい。「上に配置される」といった表現は、材料が表面と直接接触するよう表面上に材料を形成する例と、さらに、一つ以上の介在材料が、配置された材料と表面との間に設けられた状態で材料が表面上に形成される例も含む。介在材料は、本願で定義するように、層を構成してもよい。
【００４１】
一つ以上の実施形態では、光学フィルム１２０は、第二の層１３２を含んでもよい。一つ以上の実施形態では、第二の層は、第一の層と異なる材料を含んでもよい。第一の層１３０が基板の主表面１１２上に直接配置され（どの介在層も設けられない）、第二の層１３２が第一の層１３０上に配置されてもよい。一つ以上の実施形態では、第二の層１３２が基板の主表面１１２上に直接配置され（どの介在層も設けられない）、第一の層１３０が第二の層１３２上に配置されてもよい。
【００４２】
図２に示すように、光学フィルム１２０は、第一の層１３０と第二の層１３２とを交互に含む。一つ以上の実施形態では、第二の層は、第一の層とは異なる材料から形成されてもよい。幾つかの実施形態では、第二の層は、第一の層を形成する光透過性材料よりも小さい屈折率を有し得る。第二の層に使用する好適な材料の例として、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＭｇＦ２、ＢａＦ２、ＣａＦ２、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹＦ３、及び、ＣｅＦ３が挙げられる。第二の層に使用する材料の窒素含有量は最小化してもよい（例えば、Ａｌ２Ｏ３及びＭｇＡｌ２Ｏ４等の材料）。
【００４３】
一つ以上の実施形態では、第一の層及び第二の層の少なくとも一方が特定の光学的厚さ範囲を有してもよい。本願で使用されるように、「光学的厚さ」は（ｎ＊ｄ）によって決定され、「ｎ」は層の屈折率、「ｄ」は層の物理的厚さを示す。一つ以上の実施形態では、第一の層及び第二の層の少なくとも一方は約２ｎｍ乃至約２００ｎｍ、約１０ｎｍ乃至１００ｎｍ、約１５ｎｍ乃至約１００ｎｍ、約１５乃至約５００ｎｍ、又は、約１５乃至約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有してもよい。幾つかの実施形態では、光学フィルム１２０における全ての層がそれぞれ約２ｎｍ乃至約２００ｎｍ、約１０ｎｍ乃至１００ｎｍ、約１５ｎｍ乃至約１００ｎｍ、約１５乃至約５００ｎｍ、又は、約１５乃至約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有してもよい。ある場合では、光学フィルム１２０の少なくとも一層は約５０ｎｍ以上の光学的厚さを有する。ある場合では、第一の層それぞれは、約２ｎｍ乃至約２００ｎｍ、約１０ｎｍ乃至１００ｎｍ、約１５ｎｍ乃至約１００ｎｍ、約１５乃至約５００ｎｍ、又は、約１５乃至約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有する。他の場合では、第二の層それぞれは、約２ｎｍ乃至約２００ｎｍ、約１０ｎｍ乃至１００ｎｍ、約１５ｎｍ乃至約１００ｎｍ、約１５乃至約５００ｎｍ、又は、約１５乃至約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有する。
【００４４】
幾つかの実施形態では、光学フィルム１２０の一層以上の厚さが最小化されてもよい。一つ以上の実施形態では、第一の層の厚さは、約５００ｎｍ未満となるよう最小化される。
【００４５】
幾つかの実施形態では、体積による第二の層の厚さ又は量が最小化されてもよい。理論によって制限されることなく、第二の層が第一の層よりも屈折率が低い場合、第二の層も、屈折率及び硬度に同時に影響を与える原子結合及び電子密度の性質により、典型的には低硬度材料より形成され、それにより、該材料を最小化して本願記載の反射率及び色性能を維持しながら光学フィルム及び物品の硬度を最大化することができる。光学コーティングの物理的厚さの一部分として表わすと、第二の層は光学フィルムの物理的厚さの約６０％未満、約５０％未満、約４０％未満、約３０％未満、約２０％未満、約１０％未満、又は、約５％未満を有してもよい。
【００４６】
光学フィルム１２０及び物品１００は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定される硬度について説明され得る。典型的には、下にある基板よりも硬いフィルムのナノ凹み測定方法（例えば、バーコビッチ圧子を用いて）では、測定された硬度は浅い凹み深さでプラスチックゾーンの発展により最初増加するように見られ、続いて、増加し、より深い凹み深さで最大値又は平坦域に達する。その後、硬度は、下にある基板の影響により、より深い凹み深さで低下し始める。フィルムと比べて増加した硬度を有する基板が利用される場合、同じ効果が得られるが、硬度は、下にある基板の影響によりより深い凹み深さで増加する。
【００４７】
凹み深さ範囲及びある凹み深さでの硬度値は、下にある基板に影響されることなく、本願に記載するように、光学フィルム構造及びその層の特定の硬度応答を識別するよう選択され得る。バーコビッチ圧子で光学フィルム構造（基板上に配置さえる場合）の硬度を測定する場合、材料の永久変形（プラスチックゾーン）の領域は、材料の硬度と関連付けられる。凹み中、弾性応力場は、永久変形の該領域をはるかに超えて延在する。凹み深さが増加すると、見掛け硬度及び係数は、下にある基板との応力場相互作用によって影響を及ぼされる。より深い凹み深さ（即ち、典型的には、光学フィルム構造又は層の厚さの約１０％より大きい深さ）で、硬度への基板の影響が生じる。更に、更なる問題は、硬度応答が凹み処理中に完全な可塑性を展開するために一定の最小限の負荷を必要とする。一定の最小限の負荷の前に、硬度は、略増加する傾向を示す。
【００４８】
小さい凹み深さ（小さい負荷としても特徴付けられる）（例えば、約５０ｎｍまで）では、材料の見掛け硬度は、凹み深さに対して劇的に増加するように見える。この小さい凹み深さレジームは、硬度の真のメートル法を表さず、代わりに、圧子の有限湾曲率半径に関連する前述のプラスチックゾーンの展開を反映する。中間の凹み深さでは、見掛け硬度は最大レベルに近づく。より深い凹み深さでは、基板の影響は、凹み深さが増加するにつれてより顕著になる。硬度は、凹み深さが光学フィルム構造の厚さ又は層の厚さの約３０％を一旦超えると劇的に低下する場合がある。
【００４９】
幾つかの実施形態では、光学フィルム１２０は、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、又は、約１２ＧＰａ以上（例えば、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上、１８ＧＰａ以上、２０ＧＰａ以上）の固有の最大硬度を示してもよい。光学フィルム１２０の固有の最大硬度は、約２０ＧＰａ又は３０ＧＰａまででもよい。本願に記載するように、光学フィルム１２０及び全ての追加的なコーティングを含む物品１００は、バーコビッチ圧子硬度試験によってコーティングされた表面１２２で測定されると、約５ＧＰａ以上、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、又は、約１２ＧＰａ以上（例えば、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上、１８ＧＰａ以上、２０ＧＰａ以上）の硬度を示す。このような測定された硬度値は、約５０ｎｍ以上又は約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍ乃至約３００ｎｍ、約１００ｎｍ乃至約４００ｎｍ、約１００ｎｍ乃至約５００ｎｍ、約１００ｎｍ乃至約６００ｎｍ、約２００ｎｍ乃至約３００ｎｍ、約２００ｎｍ乃至約４００ｎｍ、約２００ｎｍ乃至約５００ｎｍ、又は、約２００ｎｍ乃至約６００ｎｍ）の凹み深さに沿って光学フィルム１２０及び／又は物品１００によって示されてもよい。一つ以上の実施形態では、物品は基板の硬度（コーティングされた表面の反対表面で測定され得る）よりも大きい硬度を示す。上述の光学フィルムの固有の最大硬度と関連付けられる光学フィルムの厚さは、約２００ナノメートル乃至約２マイクロメートルの範囲にあってもよい。
【００５０】
一つ以上の実施形態では、光学フィルム１２０は、ｘ線回折及び透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定されると略アモルファスな構造を有する。一つ以上の実施形態では、光学フィルム１２０は、１マイクロメートルの厚さに沿ってＴＥＭ画像により測定されると、非柱状形態を有する。
【００５１】
一つ以上の実施形態では、物品の光学フィルム１２０は、約−１０００ＭＰａ乃至１００ＭＰａの範囲の圧縮応力を有する。一つ以上の実施形態では、光学フィルムは、約−１０００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−９００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−８００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−７００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−６００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−５００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−４００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−３００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−２００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、約−１００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａ、又は、約−５０ＭＰａ乃至約５０ＭＰａの範囲の圧縮応力を有する。光学フィルムの圧縮応力は、光透過性材料を参照して上述したのと同様に測定されるが、光学フィルムが形成される前後に物品の基板１１０の湾曲率半径が測定される。
【００５２】
本開示の一つの様態は、発光体の下異なる入射照明角度で見た場合にでも反射率及び／又は透過率において無色を示す物品に関わる。一つ以上の実施形態では、物品は、本願記載の範囲における基準照明角度と全ての入射照明角度との間で約５以下又は約２以下の反射率及び／又は透過率における角度色ずれを示す。本願で使用するように、「色ずれ」（角度又は基準点）といった表現は、反射率及び／又は透過率におけるＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色システムの下、ａ＊及びｂ＊の両方における変化を意味する。ここで、特に記載しない限り、本願記載の物品のＬ＊座標は全ての角度又は基準点において同じであり、色ずれに影響を与えないことは理解されるであろう。例えば、角度色ずれは、次の式を用いて決定されてもよい：
√（（ａ＊２−ａ＊１）２＋（ｂ＊２−ｂ＊１）２）
このとき、入射照明角度が基準照明角度と異なり、幾つかの場合では、少なくとも約１度、２度、又は、約５度だけ基準照明角度と異なるとして、ａ＊１及びｂ＊１は、入射基準照明角度（直角入射を含んでもよい）で見た場合に物品のａ＊及びｂ＊座標を表し、ａ＊２及びｂ＊２は、入射基準照明角度で見た場合に物品のａ＊及びｂ＊座標を表わす。幾つかの場合では、発光体の下、基準照明角度から様々な入射照明角度で見た場合に、物品によって約１０以下（例えば、５以下、４以下、３以下、又は、２以下）の反射率及び／又は透過率における角度色ずれが示される。幾つかの場合では、反射率及び／又は透過率における角度色ずれは、約１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下、又は、０．１以下である。幾つかの実施形態では、角度色ずれは約０である。発光体は、Ａ発光体（タングステンフィラメント照明）、Ｂ発光体（発光体をシミュレートする昼光）、Ｃ発光体（発光体をシミュレートする昼光）、Ｄシリーズ発光体（自然昼光を表す）、及び、Ｆシリーズ発光体（様々なタイプの蛍光照明を表す）を含み、ＣＩＥによって決定されるような標準発光体を含んでもよい。特定の実施例では、物品は、ＣＩＥ  Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２、又は、Ｄ６５発光体の下、具体的には、ＣＩＥ  Ｆ２発光体の下で基準照明角度から入射照明角度で見た場合に約２以下の反射率及び／又は透過率における角度色ずれを示す。
【００５３】
基準照明角度は、基準照明角度と入射照明角度と基準照明角度との間の差における差が、少なくとも約１度、２度、又は、５度であるとして、直角入射（即ち、約０度乃至約１０度）、又は、直角入射から５度、直角入射から１０度、直角入射から１５度、直角入射から２０度、直角入射から２５度、直角入射から３０度、直角入射から３５度、直角入射から４０度、直角入射から５０度、直角入射から５５度、又は、直角入射から６０度を含んでもよい。入射照明角度は、基準照明角度に対して、約５度乃至約８０度、約５度乃至約７０度、約５度乃至約６５度、約５度乃至約６０度、約５度乃至約５５度、約５度乃至約５０度、約５度乃至約４５度、約５度乃至約４０度、約５度乃至約３５度、約５度乃至約３０度、約５度乃至約２５度、約５度乃至約２０度、約５度乃至約１５度の範囲、及び、その間の全ての範囲及びサブ範囲だけ基準照明角度から離れていてもよい。物品は、基準照明角度が直角入射の場合、約２度乃至約８０度（又は、約１０度乃至約８０度、又は、約２０度乃至約８０度）の範囲の全ての入射照明角度においてかつそれに沿って、本願に記載する反射率及び／又は透過率における角度色ずれを示してもよい。幾つかの実施形態では、物品は、入射照明角度と基準照明角度との間の差が少なくとも約１度、２度、又は、約５度の場合に、約２度乃至約８０度（又は、約１０度乃至約８０度、又は、約２０度乃至約８０度）の範囲の全ての入射照明角度においてかつそれに沿って、本願に記載する反射率及び／又は透過率における角度色ずれを示してもよい。一例では、物品は、直角入射に等しい基準照明角度から約２度乃至役６０度、約５度乃至約６０度、又は、約１０度乃至約６０離れた範囲における全ての入射照明角度において５以下（例えば、４以下、３以下、又は、約２以下）の反射率及び／又は透過率における角度色ずれを示してもよい。他の例では、物品は、基準照明角度が１０度であり、入射照明角度が基準照明角度から約１２度乃至役６０度、約１５度乃至約６０度、又は、約２０度乃至約６０離れた範囲における全ての角度の場合に、５以下（例えば、４以下、３以下、又は、約２以下）の反射率及び／又は透過率における角度色ずれを示してもよい。
【００５４】
幾つかの実施形態では、角度色ずれは、約２０度乃至約８０度の範囲において基準照明角度（例えば、直角入射）と入射照明角度との間の全ての角度において測定されてもよい。つまり、角度色ずれは測定されてもよく、約０度乃至２０度、約０度乃至約３０度、約０度乃至約４０度、約０度乃至約５０度、約０度乃至約６０度、又は、約０度乃至約８０度の範囲の全ての角度において約５未満又は約２未満でもよい。
【００５５】
一つ以上の実施形態では、物品は、発光体（Ａ発光体（タングステンフィラメント照明）、Ｂ発光体（発光体をシミュレートする昼光）、Ｃ発光体（発光体をシミュレートする昼光）、Ｄシリーズ発光体（自然昼光を表す）、及び、Ｆシリーズ発光体（様々なタイプの蛍光照明を表す）を含み、ＣＩＥによって決定されるような標準発光体を含んでもよい）の下、基準点から透過色又は反射色座標間の距離又は基準点の色ずれが約５以下又は約２以下となるよう反射率及び／又は透過率においてＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色システムにおいて色を示す。特定の実施例では、物品は、ＣＩＥ  Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２、又は、Ｄ６５発光体の下、具体的には、ＣＩＥ  Ｆ２発光体の下で基準照明角度から入射照明角度で見た場合に約２以下の反射率及び／又は透過率における色ずれを示す。別の言い方をすると、物品は、本願で定義するように、基準点から約２未満の基準点の色ずれを有するコーティングされた表面１２２で測定される透過色（又は、透過色座標）及び／又は反射色（又は反射色座標）を示してもよい。特に記載しない限り、透過色又は透過色座標は、物品のコーティングされた表面１２２及び反対側の素表面（即ち、１１４）を含む物品の二つの表面で測定される。特に記載しない限り、反射色又は反射色座標は、物品のコーティングされた表面１２２のみで測定される。しかしながら、本願記載の反射色又は反射色座標は、２−表面測定（物品の両側からの反射がそれぞれ含まれる）又は１−表面測定（物品のコーティングされた表面１２２からの反射だけが測定される）を用いて、物品のコーティングされた表面１２２及び物品の反対側（即ち、図１において主表面１１４）の両方で測定され得る。
【００５６】
一つ以上の実施形態では、基準点は、ＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色システム（又は、色座標ａ＊＝０，ｂ＊＝０）における原点（０，０）、座標（ａ＊＝−２，ｂ＊＝−２）、又は、基板の透過又は反射色座標でもよい。特に記載しない限り、本願記載の物品のＬ＊座標が基準点と同じであり、色ずれに影響を与えないことは理解されるであろう。基板に対して物品の基準点の色ずれが定義される場合、物品の透過色座標は基板の透過色座標と比較され、物品の反射色座標は基板の反射色座標と比較される。
【００５７】
一つ以上の具体的な実施形態では、透過色及び／又は反射色の基準点色ずれは１未満、又は、０．５未満であってもよい。一つ以上の具体的な実施形態では、透過色及び／又は反射色に対する基準点の色ずれは、１．８、１．６、１．４、１．２、０．８、０．６、０．４、０．２、０及びその間の全ての範囲及びサブ範囲でもよい。基準点が色座標ａ＊＝０，ｂ＊＝０の場合、基準点の色ずれは、基準点の色ずれ＝√ ((a＊article)2 + (b＊ article)2)の式によって計算される。
【００５８】
基準点が色座標ａ＊＝−２，ｂ＊＝−２の場合、基準点の色ずれは、基準点の色ずれ＝√((a＊ article +2)2 + (b＊ article +2)2)の式によって計算される。
【００５９】
基準点が基板の色座標の場合、基準点の色ずれは、基準点の色ずれ＝√((a＊article−a＊基板)2 + (b＊article−b＊基板)2)の式によって計算される。
【００６０】
幾つかの実施形態では、物品は、基準点が基板の色座標、色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０、及び、色座標ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２のいずれか一つである場合に基準点の色ずれが２未満であるように透過色（又は透過色座標）及び反射色（又は反射色座標）を示す。
【００６１】
一つ以上の実施形態では、物品は、約０乃至約６０度（又は約０度乃至約４０度或いは約０度乃至約３０度）の範囲における全ての入射照明角度でのＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色システムにおいて約―５乃至約１、約―５乃至約０、約―４乃至約１、又は、約―４乃至約０の範囲の反射率（コーティングされた表面のみで測定される）におけるｂ＊値を示してもよい。
【００６２】
一つ以上の実施形態では、物品は、約０乃至約６０度（又は約０度乃至約４０度或いは約０度乃至約３０度）の範囲における全ての入射照明角度でのＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色システムにおいて約２未満（又は約１．８以下、約１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．２以下、又は、約１以下）の透過率（物品のコーティングされた表面及び反対側の素表面で測定される）におけるｂ＊値を示してもよい。透過率におけるｂ＊値の下限は約―５でもよい。
【００６３】
幾つかの実施形態では、物品は、発光体Ｄ６５、Ａ、及び、Ｆ２の下で約０度乃至約６０度の範囲における入射照明角度で約−１．５乃至約１．５（例えば、−１．５乃至―１．２、−１．５乃至―１、−１．２乃至１．２、−１乃至１、−１乃至０．５、又は、−１乃至０）の範囲の透過率（コーティングされた表面及び反対側の素表面における）におけるａ＊値を示す。幾つかの実施形態では、物品は、発光体Ｄ６５、Ａ、及び、Ｆ２の下で約０度乃至約６０度の範囲における入射照明角度で約−１．５乃至約１．５（例えば、−１．５乃至―１．２、−１．５乃至―１、−１．２乃至１．２、−１乃至１、−１乃至０．５、又は、−１乃至０）の範囲の透過率（コーティングされた表面及び反対側の素表面における）におけるｂ＊値を示す。
【００６４】
幾つかの実施形態では、物品は、発光体Ｄ６５、Ａ、及び、Ｆ２の下で約５度乃至約６０度の範囲における入射照明角度で約−５乃至約２（例えば、−４．５乃至１．５、−３乃至０、−２．５乃至０．２５）の範囲の反射率（コーティングされた表面のみ）におけるａ＊値を示す。幾つかの実施形態では、物品は、発光体Ｄ６５、Ａ、及び、Ｆ２の下で約５度乃至約６０度の範囲における入射照明角度で約−７乃至約０の範囲の反射率（コーティングされた表面のみ）におけるｂ＊値を示す。
【００６５】
一つ以上の実施形態の物品は、光波長レジームについて約８０％以上の平均透過率を示してもよい。一つ以上の実施形態では、物品は、全ての光波長レジームについて約８２％以上、約８４％以上、約８６％以上、約８８％以上、約９０％以上、約９２％以上、約９４％以上、約９５％以上、又は約９６％以上、の平均透過率を示す。
【００６６】
一つ以上の実施形態では、物品は低平均反射率を示す。例えば、物品は光波長レジームについて約１５％以下（例えば、約２０％以下、約１８％以下、約１６％以下、約１５％以下、約１４％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、又は約０．５％以下）の平均反射率を示してもよい。
【００６７】
幾つかの実施形態では、これらの平均反射率及び平均透過率の値は、合計反射率又は合計透過率（コーティングされた表面１２２及び反対側の主表面１１４の両方における反射率又は透過率を考慮して）でもよい。幾つかの実施形態では、物品の報告された平均反射率は、コーティングされた表面１２２だけで測定されると（反対側の表面を考慮せず）、物品の平均片側反射率でもよい。特に記載しない限り、平均反射率は、垂直から５度の入射照明角度で測定され、平均透過率は直角入射で測定される。
【００６８】
基板
基板１１０は、無機材料を含んでもよく、アモルファス基板、結晶基板、又は、その組み合わせを含んでもよい。基板１１０は、人工材料及び／又は自然発生材料（例えば、クォーツ又はポリマー）より形成されてもよい。例えば、幾つかの場合では、基板１１０は有機的として特徴付けられ、具体的には高分子でもよい。好適なポリマーの例として、ポリスチレン（ＰＳ）（スチレンコポリマーや混合物を含む）、ポリカーボネート（ＰＣ）（コポリマーや混合物を含む）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンテレフタレートコポリマーを含むコポリマーや混合物を含む）、ポリオレフィン（ＰＯ）及び環状ポリオレフィン（環状ＰＯ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（コポリマー及び混合物を含む）を含むアクリルポリマー、熱可塑性ウレタン（ＴＰＵ）、ポリエチルイミド（ＰＥＩ），及び、これらポリマーの混合物を含む熱可塑性物質を含むがこれらに制限されない。他の例示的なポリマーはエポキシ、スチレン、フェノール、メラミン、及び、シリコーン樹脂を含む。
【００６９】
幾つかの特定の実施形態では、基板１１０はポリマー、プラスチック及び／又は金属基板を特定的に除外してもよい。基板は、アルカリ含有基板（即ち、一つ以上のアルカリを含む基板）として特徴付けられてもよい。一つ以上の実施形態では、基板は、約１．４５乃至約１．５５の範囲の屈折率を示す。具体的な実施形態では、基板１１０は、少なくとも５、少なくとも１０、少なくとも１５、又は、少なくとも２０個のサンプルを用いたボールオンリング試験で測定されると約０．５％以上、０．６％以上、０．７％以上、０．８％以上、０．９％以上、１％以上、１．１％以上、１．２％以上、１．３％以上、１．４％以上、１．５％以上、又は、２％以上の一つ以上の対向する主表面における表面での平均破損応力を示してもよい。特定の実施形態では、基板１１０は、約１．２％、約１．４％、約１．６％、約１．８％、約２．２％、約２．４％、約２．６％、約２．８％、又は約３％以上の一つ以上の対向する主表面における表面での平均破損応力を示してもよい。
【００７０】
好適な基板１１０は、約３０ＧＰａ乃至約１２０ＧＰａの範囲の弾性率（又はヤング率）を示してもよい。幾つかの場合では、基板の弾性率は、約３０ＧＰａ乃至約１１０ＧＰａ、約３０ＧＰａ乃至約１００ＧＰａ、約３０ＧＰａ乃至約９０ＧＰａ、約３０ＧＰａ乃至約約８０ＧＰａ、約３０ＧＰａ乃至約７０ＧＰａ、約４０ＧＰａ乃至約１２０ＧＰａ、約５０ＧＰａ乃至約１２０ＧＰａ、約６０ＧＰａ乃至約１２０ＧＰａ、約７０ＧＰａ乃至約１２０ＧＰａ、及び、間の全ての範囲及びサブ範囲の範囲でもよい。
【００７１】
一つ以上の実施形態では、アモルファス基板は、強化された、又は強化されていないガラスを含み得る。好適なガラスの例として、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリ含有ボロシリケートガラス、及び、アルカリアルミノボロシリケートガラスが挙げられる。幾つかの変形例では、ガラスは酸化リチウムを含まない。一つ以上の代替の実施形態では、基板１１０はガラスセラミック基板（又は強化されていても、又は強化されていなくてもよい）等の結晶基板を含んでもよく、又は、サファイアのような単一結晶構造を含んでもよい。一つ以上の特定の実施形態では、基板１１０はアモルファスベース（例えば、ガラス）及び結晶クラッディング（例えば、サファイア層、多結晶アルミナ層及び／又はスピネル（ＭｇＡｌ２Ｏ４）層）を含む。
【００７２】
一つ以上の実施形態の基板１１０は、（本願記載のバーコビッチ圧子硬度試験によって測定される）物品の硬度よりも小さい硬度を有してもよい。基板の硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験又はビッカーズ硬度試験を含むがこれに制限されない当技術分野で公知の方法を用いて測定されてもよい。
【００７３】
基板１１０は、略平面でもシート状でもよいが、他の実施形態は湾曲された或いはさもなければ成形された又は彫刻された基板を利用してもよい。基板１１０は、光学的にクリアで透明で光拡散がない。このような実施形態では、基板は、約８５％以上、約８６％以上、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上、又は約９２％以上の光波長レジームについての平均光透過率を示してもよい。一つ以上の代替の実施形態では、基板１１０は不透明か約１０％未満、約９％未満、約８％未満、約７％未満、約６％未満、約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満、約１％未満、又は約０％未満の光波長レジームについての平均光透過率を示してもよい。幾つかの実施形態では、これら光反射率及び透過率の値は、合計反射率又は合計透過率（基板の両主表面における反射率又は透過率を考慮して）でもよく、または基板の片側で観察されてもよい（即ち、反対側の表面を考慮することなく反射防止表面１２２においてのみ）。特に特定しない限り、平均反射率又は透過率は、０度の入射照明角度で測定される（しかしながら、このような測定は、４５度又は６０度の入射照明角度で提供されてもよい）。基板１１０は、白、黒、赤、青、緑、黄、オレンジ等の色を任意に示してもよい。
【００７４】
追加的には、又は、代替的には、基板１１０の物理的な厚さは、美観的及び／又は機能的理由のためその一つ以上の寸法に沿って変化してもよい。例えば、基板１１０のエッジは基板１１０のより中央領域と比べて厚くてもよい。基板１１０の長さ、幅、及び、物理的厚さ寸法は、物品１００の用途又は使用に応じて変化してもよい。
【００７５】
基板１１０は様々な異なる処理を用いて提供されてもよい。例えば、基板１１０がガラス等のアモルファス基板を含む場合、様々な形成方法はフロートガラス処理、フュージョンドローやスロットドロー等のダウンドロー処理を含み得る。
【００７６】
一旦形成されると、基板１１０は強化されて、強化基板が形成されてもよい。本願で使用するように、「強化基板」といった用語は、例えば、基板の表面における小さいイオンとの大きいイオンのイオン交換を通じて化学的に強化された基板を意味する。しかしながら、当技術分野で公知の他の強化方法、例えば、熱焼き戻し又は基板の部分間の熱膨張係数の不一致を利用して圧縮応力及び中央張力領域を形成することを利用して強化基板を形成してもよい。
【００７７】
強化度は、中央張力（ＣＴ）、表面圧縮応力（ＣＳ）、及び、圧縮の深さ（ＤＯＣ）のパラメータに基づいて定量化され得る。強化基板は、具体的には、第一の主表面１１２及び第二の主表面１１４の一方又は両方からＤＯＣまで延在するＣＳ層（表面ＣＳ値を有する）を含む。ＣＴ層又は領域は、ＤＯＣから基板の中央部分まで延在する。本願で使用するように、ＤＯＣは、基板内の応力が圧縮から引張に変化する深さを意味する。ＤＯＣにおいて、応力は正（圧縮）の応力から負（引張）の応力となり、したがってゼロの応力値を示す。
【００７８】
しかしながら、本説明を通じて、基板に対するＣＳは正又は絶対値、即ち、本願で記載するようにＣＳ＝｜ＣＳ｜として表される。
【００７９】
圧縮応力（表面ＣＳを含む）は、折原製作所（日本）によって製造されるＦＳＭ−６０００等の市販の機器を用いた表面応力計（ＦＳＭ）によって測定される。表面応力測定は、ガラスの複屈折に関連する応力光係数（ＳＯＣ）の正確な測定に依存する。ＳＯＣもまた、「ガラス応力光係数の測定に対する標準試験方法」なる名称のＡＳＴＭ規格Ｃ７７０−１６に記載される手順Ｃ（ガラスディスク方法）に応じて測定され、その内容は全体的が参照により本願に組み込まれる。
【００８０】
ＤＯＣ及びＣＴ値は、当技術分野で公知の散乱光偏光器（ＳＣＡＬＰ）を用いて測定される。
【００８１】
一実施形態では、強化基板１１０は、２５０ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上、例えば、４００ＭＰａ以上、４５０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、５５０ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、６５０ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、７５０ＭＰａ以上、又は８００ＭＰａ以上の表面ＣＳを有してもよい。強化基板は、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上（例えば、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ以上）のＤＯＣ及び／又は１０ＭＰａ以上、２０ＭＰａ以上、３０ＭＰａ以上、４０ＭＰａ以上、（例えば、４２ＭＰａ、４５ＭＰａ、又は、５０ＭＰａ以上）で１００ＭＰａ未満（例えば、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５ＭＰａ以下）のＣＴを有してもよい。一つ以上の特定の実施形態では、強化基板は、５００ＭＰａより大きい表面ＣＳ、１５μｍより大きいＤＯＣ、及び、１８ＭＰａより大きいＣＴの一つ以上を有する。
【００８２】
基板で使用され得る例示的なガラスは、アルカリアルミノシリケートガラス組成物又はアルカリアルミノボロシリケートガラス組成物を含んでもよいが他のガラス組成物も考えられ得る。このようなガラス組成物はイオン交換処理によって化学的に強化され得る。一つの例示的なガラス組成物は、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３及びＮａ２Ｏを有し、このとき（ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３）≧６６モル％及びＮａ２Ｏ≧９モル％である。一実施形態では、ガラス組成物は、少なくとも６重量％の酸化アルミニウムを含む。更なる実施形態では、基板は、一つ以上のアルカリ土類酸化物を有するガラス組成物を含み、例えば、アルカリ土類酸化物の含有量は少なくとも５重量％である。幾つかの実施形態では、好適なガラス組成物は、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ及びＣａＯの少なくとも一つを更に有する。特定の実施形態では、基板において使用されるガラス組成物は、６１乃至７５モル％のＳｉＯ２、７乃至１５モル％のＡｌ２Ｏ３、０乃至１２モル％のＢ２Ｏ３、９乃至２１モル％のＮａ２Ｏ、０乃至４モル％のＫ２Ｏ、０乃至７モル％のＭｇＯ、及び、０乃至３モル％のＣａＯを有してもよい。
【００８３】
基板に好適な更なる例示的なガラス組成物は、６０乃至７０モル％のＳｉＯ２、６乃至１４モル％のＡｌ２Ｏ３、０乃至１５モル％のＢ２Ｏ３、０乃至１５モル％のＬｉ２Ｏ、０乃至２０モル％のＮａ２Ｏ、０乃至１０モル％のＫ２Ｏ、０乃至８モル％のＭｇＯ、０乃至１０モル％のＣａＯ、０乃至５モル％のＺｒＯ２、０乃至１モル％のＳｎＯ２、０乃至１モル％のＣｅＯ２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ２Ｏ３、及び、５０ｐｐｍ未満のＳｂ２Ｏ３を有し、このとき１２モル％≦（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦２０モル％及び０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。
【００８４】
基板に好適な更なる例示的なガラス組成物は。６３．５乃至６６．５モル％のＳｉＯ２、８乃至１２モル％のＡｌ２Ｏ３、０乃至３モル％のＢ２Ｏ３、０乃至５モル％のＬｉ２Ｏ、８乃至１８モル％のＮａ２Ｏ、０乃至５モル％のＫ２Ｏ、１乃至７モル％のＭｇＯ、０乃至２．５モル％のＣａＯ、０乃至３モル％のＺｒＯ２、０．０５乃至０．２５モル％のＳｎＯ２、０．０５乃至０．５モル％のＣｅＯ２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ２Ｏ３及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ２Ｏ３を有し、このとき１４モル％≦（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦１８モル％及び２モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。
【００８５】
特定の実施形態では、基板に好適なアルカリアルミノシリケートガラス組成物は、アルミナ、少なくとも一つのアルカリ金属を含み、幾つかの実施形態では、５０モル％を超えるＳｉＯ２、他の実施形態では少なくとも５８モル％のＳｉＯ２、更に、他の実施形態では、少なくとも６０モル％のＳｉＯ２を含み、このとき比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ変性剤（即ち、変性剤の合計）は１よりも大きく、該比では、成分はモル％で表され変性剤はアルカリ金属酸化物である。特定の実施形態におけるガラス組成物は、５８乃至７２モル％のＳｉＯ２、９乃至１７モル％のＡｌ２Ｏ３、２乃至１２モル％のＢ２Ｏ３、８乃至１６モル％のＮａ２Ｏ、及び、０乃至４モル％のＫ２Ｏを有し、このとき比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ変性剤（即ち、変性剤の合計）は１よりも大きい。
【００８６】
更なる別の実施形態では、基板は、６４乃至６８モル％のＳｉＯ２、１２乃至１６モル％のＮａ２Ｏ、８乃至１２モル％のＡｌ２Ｏ３、０乃至３モル％のＢ２Ｏ３、２乃至５モル％のＫ２Ｏ、４乃至６モル％のＭｇＯ、及び、０乃至５モル％のＣａＯを含むアルカリアルミノシリケートガラス組成物を含んでもよく、このとき６６モル％≦ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋ＣａＯ≦６９モル％、Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＋Ｂ２Ｏ３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％、５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％、（Ｎａ２Ｏ＋Ｂ２Ｏ３）−Ａｌ２Ｏ３≦２モル％、２モル％≦Ｎａ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３≦６モル％、及び４モル％≦（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）−Ａｌ２Ｏ３≦１０モル％である。
【００８７】
代替の実施形態では、基板は、２モル％以上のＡｌ２Ｏ３及び／又はＺｒＯ２、或いは、４モル％以上のＡｌ２Ｏ３及び／又はＺｒＯ２を含むアルカリアルミノシリケートガラス組成物を有してもよい。
【００８８】
基板１１０が結晶基板の場合、基板はＡｌ２Ｏ３を含み得る単一結晶を含んでもよい。このような単一結晶基板はサファイアと呼ばれる。結晶基板の他の好適な材料は、多結晶アルミナ層及び／又はスピネル（ＭｇＡｌ２Ｏ４）を含む。
【００８９】
任意には、結晶基板１１０は、強化されても強化されなくてもよいガラスセラミック基板を含んでもよい。好適なガラスセラミックの例として、Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系（即ち、ＬＡＳ系）ガラスセラミック、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系（即ち、ＭＡＳ系）ガラスセラミック及び／又は、βクォーツ固溶体、β−スポジュメンｓｓ、コーディエライト、及び、二ケイ酸リチウムを含む主結晶相を含むガラスセラミックを挙げることができる。ガラスセラミック基板は、本願記載の化学的強化処理を用いて強化されてもよい。一つ以上の実施形態では、ＭＡＳ系ガラスセラミック基板は、Ｌｉ２ＳＯ４溶融塩で強化されてもよく、それにより２Ｌｉ＋とＭｇ２＋の交換が生じ得る。
【００９０】
一つ以上の実施形態による基板１１０は、約１００μｍ乃至約５ｍｍの範囲の物理的厚さを有し得る。例示的な基板１１０の物理的厚さは約１００μｍ乃至約５００μｍ（例えば、１００、２００、３００、４００、又は、５００μｍ）の範囲にある。更なる例示的な基板１１０の物理的厚さは約５００μｍ乃至約１０００μｍ（例えば、５００、６００、７００、８００、９００、又は、１０００μｍ）の範囲にある。基板１１０は、約１ｍｍ（例えば、約２、３、４、又は、５ｍｍ）よりも大きい物理的厚さを有してもよい。一つ以上の特定の実施形態では、基板１１０は２ｍｍ以下又は１ｍｍ未満の物理的厚さを有してもよい。基板１１０は、表面の欠陥の影響を除去又は減少させるために酸研磨、さもなければ、処置されてもよい。
【００９１】
一つ以上の実施形態では、基板は基板透過色座標（ａ＊基板，ｂ＊基板）及び基板反射色座標（ａ＊基板，ｂ＊基板）を有してもよく、このとき、基板透過色座標及び基板反射色座標は(L＊, a＊, b＊) 測色システムにあり、国際照明委員会の下直角入射から５度の入射照明角度で測定される。これらの値は、上述の通り、物品の基準点色ずれを計算するために使用されてもよい。
【００９２】
本開示の第三の様態は、本願記載の物品を含む装置に関わる。例えば、装置は、ディスプレイを含むか強化薄ガラスを必要とする全ての装置を含んでもよい。一つ以上の実施形態では、装置は、携帯電話、ラップトップ、タブレット、ｍｐ３プレイヤー、ナビゲーション装置等の移動装置、又は、コンピュータ、電子ディスプレイ、車載情報／エンターテインメントシステム、ビルボード、ポイントオブセールシステム、ナビゲーションシステム等のステーショナリ装置を含み得る電子装置である。幾つかの実施形態では、本願記載の物品１００は、建築的物品（壁、取付具、パネル、窓等）、輸送物品（例えば、自動車用途、電車、航空機、船舶等における艶出し又は内表面）、電化製品（例えば、洗濯機、乾燥機、食洗器、冷蔵庫等）、又は、幾らかの破壊抵抗を必要とする全ての物品に組み込まれてもよい。
【００９３】
図３に示すように、電子装置１０００は、本願記載の一つ以上の実施形態による物品１００を含んでもよい。装置１０００は、前面１０４０、後面１０６０、及び、側面１０８０を含む筐体１０２０と、筐体内に少なくとも部分的に設けられる或いは全体的に設けられ、少なくともコントローラ、メモリ、及び、ディスプレイ１１２０を筐体の前面において或いは前面に隣接して含む電気部品（図示せず）とを備える。物品１００は、ディスプレイ１１２０を覆うように筐体の前面において或いは前面上に配置されるカバーとして示される。幾つかの実施形態では、物品はバックカバーとして使用されてもよい。
【実施例】
【００９４】
様々な実施形態が以下の実施例によってより明白になるであろう。
【００９５】
実施例１乃至２２
実施例１乃至２２は、可変量のケイ素、アルミニウム、酸素、及び、窒素を含む組成物よりなる単一層の光透過性材料を含んでいた。層は、ＡＪＡ工業により提供される真空室における物理蒸着処理を用いて１ｍｍの厚さの化学強化アルカリアルミノシリケートガラス基板上に形成された。実施例１乃至２２それぞれに対する堆積条件、結果として得られる厚さ（ｎｍ）、及び、成長率（ＧＲ）（ｎｍ／秒）を表１に示す。層は、ケイ素源（ターゲット）に対するＲＦスパッタリングと組み合わされたアルミニウム源（ターゲット）に対するＤＣ反応スパッタリングを用いて形成された。ターゲットは、３インチ（７．６２ｃｍ）直径のケイ素と３インチ（７．６２ｃｍ）直径のアルミニウムであった。二つのアルミニウムターゲット（共にＤＣ励起を用いる）と、一つのケイ素ターゲット（ＲＦ励起を用いる）が提供された。反応ガスは、窒素と酸素であり、“作動（又は不活性）ガスはアルゴンであった。ケイ素に供給された電力（ワット）は１３．５６ＭＨｚでのラジオ周波数（ＲＦ）であった。アルミニウムに供給された電力はＤＣ（ワット）であった。
【００９６】
表２は、測定された屈折率値（ｎ）（５５０ｎｍの波長）、吸光係数値（ｋ）（４００ｎｍの波長及びまた３００ｎｍの波長）、２マイクロメートル対２マイクロメートルの撮像域からのＲａ粗さ（ＡＦＭによって測定）、圧縮応力（本願記載のように測定）、及び、最大硬度（１００ｎｍ以上の深さまでバーコビッチ圧子硬度試験によって測定）を示す。表３は、ケイ素、アルミニウム、酸素、及び、窒素の原子％での組成物を示す。
【００９７】
【表１】
2019520303.tif 000003
【００９８】
【表２】
2019520303.tif 000004
【００９９】
【表３】
2019520303.tif 000005
【０１００】
上述したように、実施例８及び２２は低圧縮応力と低Ｒａ粗さを示した。
【０１０１】
実施例２３乃至２７
実施例２３乃至２７は、ケイ素、アルミニウム、酸素、及び、窒素を有する組成物を含む光透過性材料の単一層であり、ケイ素の量は、実施例２３から実施例２７まで増加される。実施例１乃至２２のように層は、物理蒸着処理及び真空室を用いて同じ基板上に形成された。層は、アルミニウム源又はターゲット（単一のアルミニウムターゲット）についてＲＦと組み合わされたＤＣ反応性スパッタリング（「ＲＦ重畳ＤＣ」と呼ばれる）、及び、ケイ素源又はターゲットについてＲＦ励起を用いて形成された。ターゲットは、３インチ（７．６２ｃｍ）直径のケイ素と３インチ（７．６２ｃｍ）直径のアルミニウムであった。反応ガスは、窒素と酸素であり、“作動（又は不活性）ガスはアルゴンであった。ケイ素に供給された電力（ワット）は１３．５６ＭＨｚでのラジオ周波数（ＲＦ）であった。アルミニウムに供給された電力はＤＣ（ワット）であった。
【０１０２】
表４は、実施例２３乃至２７それぞれに対する堆積条件を示す。図４は、左軸に硬度（ＧＰａ）を示し、右軸に比Ｅ／Ｈ（ＧＰａ単位でのヤング率／ＧＰａでの硬度）を示し、それぞれケイ素ターゲットに供給される電力（ワット）の関数として示される。表５は実施例２３乃至２７の各、測定された硬度、ヤング率、Ｅ／Ｈ、厚さ（ｎｍ）、屈折率（５５０ｎｍの波長）、４００ｎｍの波長及び３００ｎｍの波長における吸光係数、及び、圧縮応力（Ｐａ）を示す。
【０１０３】
【表４】
2019520303.tif 000006
【０１０４】
【表５】
2019520303.tif 000007
【０１０５】
実施例２８乃至４３
実施例２８乃至４３は、様々な組成物を含む材料の単一層であった。層は、実施例２３乃至２７と同じ物理蒸着処理及び真空室を用いて形成された。層は、アルミニウム源（単一Ａｌターゲット）についてＲＦと組み合わされたＤＣ反応性スパッタリング（「ＲＦ重畳ＤＣ」と呼ばれる）、及び、ケイ素源又はターゲットについてＲＦ励起を用いて形成された。ターゲットは、３インチ（７．６２ｃｍ）直径のケイ素と３インチ（７．６２ｃｍ）直径のアルミニウムであった。反応ガスは、窒素と酸素であり、“作動”（又は不活性）ガスはアルゴンであった。ケイ素に供給された電力（ワット）は１３．５６ＭＨｚでのラジオ周波数（ＲＦ）であった。アルミニウムに供給された電力はＤＣ（ワット）であった。
【０１０６】
表６は、実施例２８乃至４３それぞれに対する堆積条件を示す。図５は、サンプルそれぞれの粗さ（Ｒａ）を示す。
【０１０７】
【表６】
2019520303.tif 000008
【０１０８】
当業者には、本発明の精神又は範囲から逸脱することなく様々な変更態様や変形例を含み得ることが明らかであろう。例えば、変形例は以下の実施形態を含んでもよい。
【０１０９】
実施形態１
光透過性材料であって、
ケイ素、アルミニウム、及び、窒素を含む組成物と、
４００ｎｍの波長で約１×１０−３未満の吸光係数（ｋ）、及び、約２マイクロメートルの厚さを有する材料を介して測定されると約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８０％以上の平均透過率と、
約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって約４００ｎｍの厚さを有する材料の主表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の固有の最大硬度と
を有する光透過性材料。
【０１１０】
実施形態２
前記組成物は酸素を更に含む、実施形態１記載の光透過性材料。
【０１１１】
実施形態３
前記材料は、基板上に堆積された場合に約―１０００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａの範囲の圧縮応力を有する、実施形態１又は実施形態２記載の光透過性材料。
【０１１２】
実施形態４
前記圧縮応力は約―３００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａの範囲にある、実施形態３記載の光透過性材料。
【０１１３】
実施形態５
前記材料は、５５０ｎｍの波長で測定されると、約２．０以上の屈折率を有する、実施形態１乃至４のうちいずれか一つ記載の光透過性材料。
【０１１４】
実施形態６
前記材料は、２マイクロメートル対２マイクロメートルの寸法を有する撮像域に沿って主表面で原子間力顕微鏡によって測定されると１．５ｎｍ未満の粗さ（Ｒａ）を有する、実施形態１乃至５のうちいずれか一つ記載の光透過性材料。
【０１１５】
実施形態７
光透過性材料であって、
約２５原子％以下の量のケイ素、約０原子％乃至約１５原子％の範囲の量のアルミニウム及び酸素、及び、窒素を有する組成物と、
２マイクロメートルの厚さを有する材料を介して測定されると約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８０％以上の平均透過率と、
約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって約４００ｎｍの厚さを有する材料の主表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の固有の最大硬度と
を有する光透過性材料。
【０１１６】
実施形態８
前記組成物は、約５原子％乃至約２５原子％の範囲の量のケイ素、約２５原子％乃至約４５原子％の範囲の量のアルミニウム、約０原子％乃至約１５原子％の範囲の量の酸素、及び、約３５原子％乃至約５０原子％の範囲の量の窒素を有する、実施形態７記載の光透過性材料。
【０１１７】
実施形態９
前記組成物は、約７原子％乃至約１７原子％の範囲の量のケイ素、約３３原子％乃至約４３原子％の範囲の量のアルミニウム、約０原子％乃至約１０原子％の範囲の量の酸素、及び、約４０原子％乃至約５０原子％の範囲の量の窒素を有する、実施形態７記載の光透過性材料。
【０１１８】
実施形態１０
前記組成物は、少なくとも約０．１原子％の酸素を有する、実施形態７乃至９のうちいずれか一つ記載の材料。
【０１１９】
実施形態１１
前記材料は、基板上に堆積された場合に、約−１０００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａの範囲の圧縮応力を有する、実施形態７乃至１０のうちいずれか一つ記載の光透過性材料。
【０１２０】
実施形態１２
前記材料は、約４００ｎｍの厚さを有する材料を介して測定されると、４００ｎｍの波長で約１×１０−３未満の吸光係数（ｋ）を有する、実施形態７乃至１１のうちいずれか一つ記載の光透過性材料。
【０１２１】
実施形態１３
前記材料は、５５０ｎｍの波長で測定されると約２．０以上の屈折率を有する、実施形態７乃至１２のうちいずれか一つ記載の光透過性材料。
【０１２２】
実施形態１４
前記材料は、２マイクロメートル対２マイクロメートルの寸法を有する撮像域に沿って主表面で原子間力顕微鏡によって測定されると１．５ｎｍ未満の粗さ（Ｒａ）を有する、実施形態７乃至１３のうちいずれか一つ記載の光透過性材料。
【０１２３】
実施形態１５
物品であって、
主表面、基板透過色座標（ａ＊基板，ｂ＊基板）及び基板反射色座標（ａ＊基板，ｂ＊基板）を有し、当該基板透過色座標及び当該基板反射色座標は（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムで国際照明委員会の下直角入射から５度の入射照明角度で測定される基板と、
前記主表面上に堆積されてコーティングされた表面を形成する約２００ｎｍ乃至約３マイクロメートルの範囲の厚さを有する光学フィルムであって、ケイ素、アルミニウム、及び、窒素を含む光透過性材料を有する光学フィルムと、
を備え、
前記物品は、約１００ｎｍ以上の凹み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験によって前記コーティングされた表面で測定されると約１２ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
前記物品は、約３８０ｎｍ乃至約７８０ｎｍの範囲で光波長レジームについて約８％以下の前記コーティングされた表面で測定されると片側平均明暗視反射率を示し、以下のいずれか一方又は両方を示し、
前記（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムにおける物品透過色座標であって、国際照明委員会の下直角入射の入射照明角度で測定された場合に、基準点から約２未満の基準点色ずれを有し、当該基準点は色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）及び前記基板透過色座標の一方を含む物品透過色座標、及び
前記（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色システムにおける物品反射色座標であって、国際照明委員会の下直角入射から５度の入射照明角度で前記コーティングされた表面で測定された場合に、反射防止面で測定されると基準点から約５度未満の基準点色ずれを示し、当該基準点は色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝−２，ｂ＊＝−２）及び前記基板反射色座標の少なくとも一つを含む物品反射色座標、
前記基準点が色座標（ａ＊＝０，ｂ＊＝０）の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ）２）によって定義され、
前記基準点が色座標（ａ＊＝−２，ｂ＊＝−２）の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ＋２）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ＋２）２）によって定義され、
前記基準点が前記基板の色座標の場合、色ずれは√（（ａ＊ａｒｔｉｃｌｅ−ａ＊基板）２＋（ｂ＊ａｒｔｉｃｌｅ−ｂ＊基板）２）によって定義される物品。
【０１２４】
実施形態１６
前記光透過性材料はさらに酸素を含む、実施形態１５記載の物品。
【０１２５】
実施形態１７
前記光透過性材料は約―１０００ＭＰａ乃至約１００ＭＰａの範囲の圧縮応力を有する、実施形態１５又は１６記載の物品。
【０１２６】
実施形態１８
前記光透過性材料は第一の層を有し、前記光学フィルムはさらに第二の層を有する、実施形態１５乃至１７のうちいずれか一つ記載の物品。
【０１２７】
実施形態１９
前記第一の層は前記基板の前記主表面上に堆積され、前記第二の層は当該第一の層上に堆積される実施形態１８記載の物品。
【０１２８】
実施形態２０
前記第二の層は前記基板の前記主表面上に堆積され、前記第一の層は当該第二の層上に堆積される実施形態１８記載の物品。
【０１２９】
実施形態２１
前記透過性材料は前記第二の層の屈折率よりも大きい屈折率を有し、前記光学フィルムは交互になる複数の第一の層及び第二の層を有する、実施形態１８記載の物品。
【０１３０】
実施形態２２
前記物品の前記片側平均明暗視反射率は約６度乃至約４０度の範囲の視野角度で光波長レジームについて約２％以下である、実施形態１５乃至２１のうちいずれか一つ記載の物品。
【０１３１】
実施形態２３
前記基板はアモルファス基板又は結晶基板を有する、実施形態１５乃至２２のうちいずれか一つ記載の物品。
【０１３２】
実施形態２４
前記基板は約６０ＧＰａ以上のヤング率を有する、実施形態１５乃至２３のうちいずれか一つ記載の物品。
【０１３３】
実施形態２５
前記アモルファス基板はソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリ含有ボロシリケートガラス、及び、アルカリアルミノボロシリケートガラスよりなる群から選択されるガラスを有する、実施形態１５乃至２４のうちいずれか一つ記載の物品。
【０１３４】
実施形態２６
前記ガラスは強化され、また当該強化されたガラスの表面から約１０μｍ以上の圧縮の深さまで延在する少なくとも２００ＭＰａの表面ＣＳを含む圧縮応力（ＣＳ）層を有する、実施形態２５記載の物品。
【０１３５】
実施形態２７
前記第一の層は約０．４マイクロメートル乃至約３マイクロメートルの範囲の厚さを有する、実施形態１５乃至２６のうちいずれか一つ記載の物品。
【０１３６】
実施形態２８
前面、後面、及び、側面を有する筐体と、
前記筐体内に少なくとも部分的に配置される電気部品と、
前記筐体の前記前面において或いは前記前面に隣接して設けられるディスプレイと、
前記ディスプレイ上に配置されるカバー物品であって、実施形態１５乃至２７のうちいずれか一つの物品を有するカバー物品と、
を備える装置。
【符号の説明】
【０１３７】
１００  物品
１１０  基板
１１２  主表面
１１４  主表面
１１６  非主表面
１１８  非主表面
１２０  光学フィルム
１２２  コーティングされた表面
１３０  第一の層
１３２  第二の層
１０００  電子装置
１０２０  筐体
１０４０  前面
１０６０  後面
１０８０  側面
１１２０  ディスプレイ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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