(57)【要約】  本明細書に開示されるのは、感光性樹脂組成物及びそれから調製される有機絶縁膜である。アルカリ溶解性樹脂の重量平均分子量及び感光性樹脂組成物の各成分の量を最適化することにより、それから得られる塗膜は、高い平面特性及び高解像度を有するパターンを有することができる。したがって、本感光性樹脂組成物は、有機絶縁膜の材料として使用されることができ、同時に液晶ディスプレイの白のピクセルとして機能する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性樹脂組成物であって、
（１）重量平均分子量１，０００〜５，０００を有するアルカリ溶解性樹脂と、
（２）光重合性化合物と、
（３）光重合開始剤と、を含み、
前記成分（１）、（２）、及び（３）が、前記感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、それぞれ、３〜４８重量％、５０〜９５重量％、及び０．５〜１５重量％の量で含まれる、感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記アルカリ溶解性樹脂（１）が、（１−１）エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物から誘導される構造単位、及び（１−２）芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位、を含むコポリマーである、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記アルカリ溶解性樹脂（１）が、重量平均分子量３，０００〜５，０００を有する、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記感光性樹脂組成物が、前記感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、前記成分（１）、（２）、及び（３）をそれぞれ８〜３８重量％、６０〜９０重量％、及び１〜１０重量％の量で含む、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記光重合開始剤が、オキシム化合物である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載される前記感光性樹脂組成物を使用して形成される、有機絶縁膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物及びそれから調製された有機絶縁膜、特に、高い平面性及び高解像度を有するパターンを有する膜の形成のためのネガ型感光性樹脂組成物、ならびにそれを使用して調製される、液晶ディスプレイの白のピクセルとして同時に機能することができる有機絶縁膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶ディスプレイなどのディスプレイでは、保護及びＴＦＴ回路絶縁のために有機絶縁膜が使用されている。近年、ディスプレイ用の高い解像度要求に適合するため、ピクセルサイズは徐々に減少する傾向にあり、これにより開口率の望ましくない減少が起こる場合がある。この問題を解決するために、青、緑及び赤のピクセルに加え、白のピクセルがディスプレイに導入されている。しかしながら、このような場合、白のピクセルを導入するための更なるプロセスが必要である。
【０００３】
したがって、有機絶縁膜の使用による、白のピクセルの導入方法が、非常に脚光を浴びている。すなわち、基板の一部に着色膜を形成後、着色膜が形成される領域、及び着色膜が形成されない領域の両方を有する基板全体に、透明有機絶縁膜用の組成物をコートし、次に硬化する。着色膜が形成されない領域では、硬化膜は、白のピクセル及び有機絶縁膜の両方として機能することができる。しかしながら、この方法では、着色膜を有する領域及び着色膜のない領域間の段差のため、有機絶縁膜の表面が不均等に形成され、それにより液晶ディスプレイに欠陥が増加する。
【０００４】
白のピクセル及び保護膜の両方の機能を有する膜を調製するために使用されることができる種々の組成物の中で、韓国特許第１０−１３３６３０５号は、重量平均分子量５，０００〜１０，０００を有するバインダ樹脂、多官能性モノマー及び他の添加剤を含む熱硬化性保護膜用の樹脂組成物を開示している。しかしながら、熱硬化性樹脂組成物に相当するこの特許の組成物は、光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物ではなく、この組成物を使用することにより調製される膜は、パターン形成が困難であるため、高解像度パターンを有することができない。
【０００５】
本発明の開示
技術的な問題
本発明の目的は、高い平面性及び高解像度の両方を満たすパターンを作製することができる感光性樹脂組成物、ならびにそれから製造された有機絶縁膜を提供することにある。
【０００６】
問題の解決方法
本発明の一態様に従い、（１）重量平均分子量１，０００〜５，０００を有するアルカリ溶解性樹脂、（２）光重合性化合物、及び（３）光重合開始剤、を含む感光性樹脂組成物が提供され、成分（１）、（２）及び（３）は、感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、それぞれ、３〜４８重量％、５０〜９５重量％、及び０．５〜１５重量％の量で感光性樹脂組成物に含まれる。
【０００７】
加えて、その感光性樹脂組成物を使用して形成された有機絶縁膜が提供される。
【０００８】
本発明の有利な効果
本発明の感光性樹脂組成物は、高い平面性及び高解像度のパターンを有する膜を作製することができ、有機絶縁膜などの材料として使用されることができ、液晶ディスプレイの有機絶縁膜及び白のピクセルの両方の機能達成に適切である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】感光性樹脂組成物を使用して製造された有機絶縁膜の平面性の測定方法を示す。（１０：有機絶縁膜、２０：下方硬化膜、及び３０：基板）
【００１０】
本発明実行のための最良のモード
本発明は、（１）重量平均分子量１，０００〜５，０００を有するアルカリ溶解性樹脂、（２）光重合性化合物、及び（３）光重合開始剤、を含む感光性樹脂組成物を提供し、成分（１）、（２）及び（３）は、感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、それぞれ、３〜４８重量％、５０〜９５重量％、及び０．５〜１５重量％の量で感光性樹脂組成物に含まれる。
【００１１】
以下、感光性樹脂組成物を詳細に説明する。
【００１２】
本発明の記載では、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」及び／または「メタクリル」を意味し、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」及び／または「メタクリレート」を意味する。
【００１３】
（１）アルカリ溶解性樹脂
本発明の感光性樹脂組成物は、ランダムコポリマーであってもよいアルカリ溶解性樹脂を含んでもよい。
【００１４】
アルカリ溶解性樹脂は、（１−１）エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物から誘導される構造単位、及び（１−２）芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位、を含むコポリマーであってもよく、ならびに選択的に構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位（１−３）を含んでもよい。アルカリ溶解性樹脂は、現像ステップ中の所望の現像性を達成することができ、コーティング後の膜形成のための基礎支持体、及び最終パターンの構造体、の両方として機能することができる。
【００１５】
（１−１）エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物から誘導される構造単位
本発明では、構造単位（１−１）は、エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物から誘導される。エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物は、１分子に少なくとも１つのカルボキシ基を有する重合性不飽和モノマーである。それらの例としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、アルファ−クロロアクリル酸、及びケイ皮酸などの不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸及びメサコン酸などの不飽和ジカルボン酸及びそれらの無水物；３価以上の不飽和ポリカルボン酸及びその無水物；ならびに、モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］サクシネート、及びモノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］フタレートなどの、２価以上のポリカルボン酸のモノ［（メタ）アクリロイルオキシアルキル］エステル、などが挙げられるが、これらに限定されない。現像性の観点から、（メタ）アクリル酸が、それらの中で好ましい。
【００１６】
良好な現像性を維持するために、エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物から誘導される構造単位（１−１）の量は、アルカリ溶解性樹脂を構成する構造単位の合計モル数に基づき、５〜９８モル％、好ましくは１５〜５０モル％であってもよい。
【００１７】
（１−２）芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位
本発明では、構造単位（１−２）は、芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導され、芳香族を含有するエチレン系不飽和化合物の例としては、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート；スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、及びオクチルスチレンなどのアルキル置換基を有するスチレン；フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、及びヨードスチレンなどのハロゲンを有するスチレン；メトキシスチレン、エトキシスチレン、及びプロポキシスチレンなどのアルコキシ置換基を有するスチレン；４−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、アセチルスチレン；ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルフェノール、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、及びｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、から成る群から選択される少なくとも１つであってもよく、及び好ましくは、重合特性を考慮して、スチレン化合物であってもよい。
【００１８】
芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位（１−２）の量は、アルカリ溶解性樹脂を構成する構造単位の合計モル数に基づき、２〜９５モル％、耐化学性を考慮して好ましくは１０〜６０モル％であってもよい。
【００１９】
本発明のアルカリ溶解性樹脂は、構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位（１−３）を更に含んでもよい。
【００２０】
（１−３）構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位
本発明では、構造単位（１−３）は、構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン系不飽和化合物から誘導され、構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン系不飽和化合物は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、メチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、エチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、及びジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル；グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、４，５−エポキシペンチル（メタ）アクリレート、５，６−エポキシヘキシル（メタ）アクリレート、６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロペンチル（メタ）アクリレート、及び３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートなどのエポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール及びＮ−ビニルモルホリンのようなＮ−ビニル基を含有する三級アミン；ビニルメチルエーテル及びビニルエチルエーテルなどの不飽和エーテル；アリルグリシジルエーテル、及び２−メチルアリルグリシジルエーテルなどのエポキシ基を含有する不飽和エーテル；ならびにマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、及びＮ−シクロヘキシルマレイミドなどの不飽和イミド、から成る群から選択される少なくとも１つであってもよい。特に、構造単位（１−３）は、共重合特性及び絶縁膜の強度の改善を考慮して、エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物、好ましくは、メチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリ���ジルエーテル、または３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートであってもよい。より好ましくは、耐化学性及び保持率を考慮して、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートが使用されてもよい。
【００２１】
構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位（１−３）の量は、アルカリ溶解性樹脂を構成する構造単位の合計モル数に基づき、０〜７５モル％、好ましくは１０〜６５モル％であってもよい。この量の範囲内で、組成物の貯蔵安定性が維持されることができ、保持率が改善されることができる。
【００２２】
アルカリ溶解性樹脂（１）は、（メタ）アクリル酸／スチレンコポリマー、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレート／３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル／３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミドコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミドコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／ｎ−ブチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミドコポリマー、またはそれらの混合物を含んでもよい。１つまたは２つ以上のアルカリ溶解性樹脂が、感光性樹脂組成物に含まれてもよい。
【００２３】
アルカリ溶解性樹脂（１）は、分子量制御剤、ラジカル重合開始剤、溶媒、及び構造単位（１−１）、（１−２）、及び（１−３）を提供するそれぞれの化合物の充填、窒素の導入、及び混合物に緩速攪拌を用いて重合を施すことにより、調製されてもよい。アルカリ溶解性樹脂（１）は、ランダムコポリマーとして調製されてもよい。
【００２４】
分子量制御剤は、ブチルメルカプタン及びオクチルメルカプタンなどのメルカプタン化合物またはα−メチルスチレンダイマーであってもよいが、これらに限定されない。
【００２５】
ラジカル重合開始剤は、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、及び２，２′−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、などのアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウリル、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、ならびに１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、から成る群から選択される少なくとも１つであってもよいが、これらに限定されない。
【００２６】
また、溶媒は、アルカリ溶解性樹脂の製造に通常使用される任意の従来の溶媒であってもよく、たとえば、メチル３−メトキシプロピオネートまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を含んでもよい。
【００２７】
アルカリ溶解性樹脂（１）は、溶媒を除く感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、３〜４８重量％、好ましくは８〜３８重量％の量で使用されてもよい。この範囲内で、組成物は、保持率及び耐化学性などの特性が改善された、現像後の良好なプロファイルを有するパターンが描かれた膜を作製するであろう。
【００２８】
このように調製されたアルカリ溶解性樹脂（１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ポリスチレンを基準としたゲル透過クロマトグラフィー（溶出液としてテトラヒドロフランを使用するＧＰＣ）により測定される場合、１，０００〜５，０００、好ましくは３，０００〜５，０００の範囲であってもよい。この範囲内で、組成物は、平面性の所望の改善及び現像後の良好なパターンプロファイルを有するであろう。
【００２９】
（２）光重合性化合物
本発明の感光性樹脂組成物は、光重合性化合物を含んでもよい。
【００３０】
光重合性化合物は、重合開始剤により重合される任意の化合物であってもよく、少なくとも１つのエチレン系不飽和基を有するアクリル酸またはメタクリル酸の単官能性または多官能性エステル化合物であってもよい。少なくとも２つの官能基を有する多官能性化合物は、耐化学性を考慮して、好ましい場合がある。
【００３１】
光重合性化合物は、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート及びコハク酸のモノマー、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びコハク酸のモノマー、カプロラクトン変性ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート（ペンタエリトリトールトリアクリレート及びヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物）、トリペンタエリトリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリトリトールオクタ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシアクリレート、及びエチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、から成る群から選択されてもよいが、これらに限定されない。
【００３２】
上述の例の他に、光重合性化合物は、直鎖アルキレン基、脂環式構造及び少なくとも２つのイソシアネート基を有する化合物と、１分子に少なくとも１つのヒドロキシ基、３、４または５つのアクリロイルオキシ基及び／またはメタクリロイルオキシ基を有する化合物との反応から得られた多官能性ウレタンアクリレート化合物であってもよいが、これらに限定されない。
【００３３】
市販の光重合性化合物の例としては、（ｉ）Ｔｏａｇｏｓｅｉ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＡｒｏｎｉｘ  Ｍ−１０１、Ｍ−１１１、及びＭ−１１４、Ｎｉｐｐｏｎ  Ｋａｙａｋｕ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＫＡＹＡＲＡＤ  Ｔ４−１１０Ｓ、及びＴ４−１２０Ｓ、ならびにＯｓａｋａ  Ｙｕｋｉ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＶ−１５８、及びＶ−２３１１、などの単官能性（メタ）アクリレート、（ｉｉ）Ｔｏａｇｏｓｅｉ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＡｒｏｎｉｘ  Ｍ−２１０、Ｍ−２４０、及びＭ−６２００、Ｎｉｐｐｏｎ  Ｋａｙａｋｕ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ、ＨＸ−２２０、及びＲ−６０４、ならびにＯｓａｋａ  Ｙｕｋｉ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＶ−２６０、Ｖ−３１２、及びＶ−３３５ＨＰ、などの２官能性（メタ）アクリレート、ならびに（ｉｉｉ）Ｔｏａｇｏｓｅｉ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＡｒｏｎｉｘ  Ｍ−３０９、Ｍ−４００、Ｍ−４０３、Ｍ−４０５、Ｍ−４５０、Ｍ−７１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、及びＴＯ−１３８２、Ｎｉｐｐｏｎ  Ｋａｙａｋｕ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、ＤＰＨＡ、ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、及びＤＰＣＡ−１２０、ならびにＯｓａｋａ  Ｙｕｋｉ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＶ−２９５、Ｖ−３００、Ｖ−３６０、Ｖ−ＧＰＴ、Ｖ−３ＰＡ、Ｖ−４００、及びＶ−８０２、などの３官能性以上の（メタ）アクリレート、が挙げられる。
【００３４】
光重合性化合物（２）は、単独、または２つ以上のそれらの組み合わせで使用されてもよい。
【００３５】
光重合性化合物（２）の量は、感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、５０〜９５重量％、好ましくは６０〜９０重量％であってもよい。この範囲内で、樹脂組成物は、良好な感度及び平面性を有する膜を形成するであろう。
【００３６】
（３）光重合開始剤
本発明の光重合開始剤は、可視光線、紫外線、及び遠紫外線などへ露光すると、硬化性モノマーの重合を開始する化合物であってもよい。光重合開始剤はラジカル開始剤であってもよく、特に限定するものではないが、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾイル化合物、キサントン化合物、トリアジン化合物、ハロメチルオキサジアゾール化合物、及びロフィンダイマー化合物から成る群から選択される少なくとも１つであってもよい。
【００３７】
光重合開始剤の特定の例としては、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウリル、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ジエチルチオキサントン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキシフェニル−ｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキソジアゾール、９−フェニルアクリジン、３−メチル−５−アミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリルダイマー、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−オクタン−１，２−ジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、ｏ−ベンゾイル−４′−（ベンズメルカプト）ベンゾイル−ヘキシル−ケトキシム、２，４，６−トリメチルフェニルカルボニル−ジフェニルホスホニルオキシド、ヘキサフルオロホスホロ−トリアルキルフェニルスルホニウム塩、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，２′−ベンゾチアゾリルジスルフィド、及びそれらの混合物、が挙げられるが、これらに限定されない。
【００３８】
あるいは、光重合開始剤は、オキシム化合物の少なくとも一種を含んでもよい。オキシム化合物は、特に限定はなくオキシム構造を有する任意のラジカル反応開始剤を含んでもよく、たとえば、オキシムエステル化合物を含んでもよい。
【００３９】
高感度を考慮して、高感度のために好ましいのは、韓国公開特許公報第２００４−０００７７００号、２００５−００８４１４９号、２００８−００８３６５０号、２００８−００８０２０８号、２００７−００４４０６２号、２００７−００９１１１０号、２００７−００４４７５３号、２００９−０００９９９１号、２００９−００９３９３３号、２０１０−００９７６５８号、２０１１−００５９５２５号、２０１１−００９１７４２号、２０１１−００２６４６７号、及び２０１１−００１５６８３号、ならびに国際公開ＷＯ２０１０／１０２５０２及びＷＯ２０１０／１３３０７７に開示の、１つまたは２つ以上のオキシム化合物である。市販の光重合開始剤の特定の例としては、ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ  Ｃｏ．）、ＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ  Ｃｏ．）、ＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦ  Ｃｏ．）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ  Ｃｏ．）、ＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ  Ｃｏ．）、ＮＣＩ−８３１（ＡＤＥＫＡ  Ｃｏ．）などが挙げられる。
【００４０】
光重合開始剤（３）は、感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、０．５〜１５重量％、好ましくは１〜１０重量％の量で含まれてもよい。この範囲内で、良好なパターン現像性及び被覆性を有する高感度なパターンを得ることができる。
【００４１】
（４）溶媒
本発明の感光性樹脂組成物は、上述の成分を溶媒（４）と混合し、液相組成物を得ることにより調製されてもよい。
【００４２】
溶媒（４）は、組成物の各成分と適合し、化学的に安定である限り限定されず、感光性樹脂組成物に使用される公知の任意の溶媒が使用されてもよい。
【００４３】
溶媒の例としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及びエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、及びプロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル；プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、及びプロピレングリコールジブチルエーテルなどのプロピレングリコールジアルキルエーテル；ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエーテル；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、及びプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート；エチルセロソルブ及びブチルセロソルブなどのセロソルブ；ブチルカルビトールなどのカルビトール；乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ノルマル−プロピル及び乳酸イソプロピルなどの乳酸エステル；エチルアセテート、ｎ−プロピルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、イソブチルアセテート、ｎ−アミルアセテート、イソアミルアセテート、イソプロピルプロピオネート、ｎ−ブチルプロピオネート、及びイソブチルプロピオネートなどの脂肪族カルボン酸；メチル３−メトキシプロピオネート、エチル３−メトキシプロピオネート、メチル３−エトキシプロピオネート、エチル３−エトキシプロピオネート、メチルピルベート、及びエチルピルベートなどのエステル；トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素；２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、及びシクロヘキサノンなどのケトン；Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、及びＮ−メチルピロリドンなどのイミド；γ−ブチロラクトンなどのラクトン；ならびにこれらの混合物、などが挙げられるが、これらに限定されない。
【００４４】
溶媒は、単独、または２つ以上のそれらの組み合わせで使用されてもよい。
【００４５】
本発明の感光性樹脂組成物の溶媒（４）の量は、特に限定されない。感光性樹脂組成物の良好な被覆性及び安定性のために、溶媒は、組成物の合計重量に基づき、組成物の固体含有量が５〜７０重量％、好ましくは１０〜５５重量％の範囲であるような量で含有されてもよい。ここで、固体含有量とは、樹脂組成物の溶媒を除く成分の量を意味する。
【００４６】
（５）界面活性剤
本発明の感光性樹脂組成物は、その被覆性の向上及び欠陥形成の防止が必要な場合、界面活性剤を更に含んでもよい。
【００４７】
界面活性剤は限定されないが、好ましくは、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、非イオン界面活性剤、などである。
【００４８】
界面活性剤の例としては、ＢＭ  ＣＨＥＭＩＥ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＢＭ−１０００、及びＢＭ−１１００、Ｄａｉ  Ｎｉｐｐｏｎ  Ｉｎｋ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＭｅｇａｐａｃｋ６−１４２Ｄ、６−１７２、６−１７３、６−１８３、Ｆ−４７０、Ｆ−４７１、Ｆ−４７５、Ｆ−４８２、及びＦ−４８９、Ｓｕｍｉｔｏｍｏ  ３Ｍ  Ｌｔｄ．により製造されたＦｌｏｒａｄ  Ｆ４−１３５、Ｆ４−１７０Ｃ、ＦＣ−４３０、及びＦＣ−４３１、Ａｓａｈｉ  Ｇｌａｓｓ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＳｕｆｒｏｎ  Ｓ−１１２、Ｓ−１１３、Ｓ−１３１、Ｓ−１４１、Ｓ−１４５、Ｓ−３８２、Ｓ４−１０１、Ｓ４−１０２、Ｓ４−１０３、Ｓ４−１０４、Ｓ４−１０５、及びＳ４−１０６、Ｓｈｉｎａｋｉｄａ  Ｋａｓｅｉ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＥｆｔｏｐ  ＥＦ３０１、ＥＦ３０３、及びＥＦ３５２、Ｔｏｒａｙ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、及びＤ４−１９０、Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｔｏｒａｙ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＤＣ３ＰＡ、ＤＣ７ＰＡ、ＳＨ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ８４００、ＦＺ−２１００、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２２２２、及びＦＺ−２２３３、ＧＥ  Ｔｏｓｈｉｂａ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、及びＴＳＦ−４４５２、ならびにＢＹＫ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＢＹＫ−３３３、などのフッ素系及びシリコン系界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、などを含むポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、などを含むポリオキシエチレンアリールエーテル、及びポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート、などを含むポリオキシエチレンジアルキルエステル、などの非イオン界面活性剤；ならびにオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．により製造）、（メタ）アクリレート系コポリマーＰｏｌｙｆｌｏｗＮｏ．５７及び９５（Ｋｙｏｅｉ  Ｙｕｊｉ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．）、などが挙げられる。
【００４９】
これらの界面活性剤は、単独、または２つ以上のそれらの組み合わせで使用されてもよい。
【００５０】
界面活性剤（５）は、感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、０．００１〜２．５重量％、好ましくは０．０２５〜０．５重量％の量で含有されてもよい。この量の範囲内で、組成物は、容易にコートされることができる。
【００５１】
（６）粘着補助剤
本発明の感光性樹脂組成物は、基板へのコーティングの接着性を改善するため、粘着補助剤を更に含んでもよい。
【００５２】
粘着補助剤は、特定の種類に限定されないが、しかしながら、たとえば、カルボキシ基、（メタ）アクリロイル基、イソシアネート基、アミノ基、メルカプト基、ビニル基及びエポキシ基から成る群から選択される少なくとも１つの反応性基を含有するシランカップリング剤を含んでもよい。
【００５３】
好ましい粘着補助剤は、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、またはそれらの混合物、を含んでもよく、より好ましくは、保持率を増加することができ、基板へのコーティングの良好な接着性を有する、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、などを含んでもよい。加えて、耐化学性を改善するため、イソシアネート基を含有するγ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン（Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＫＢＥ−９００７など）を使用してもよい。
【００５４】
粘着補助剤（６）は、感光性樹脂組成物の合計固体含有量に基づき、０．００１〜２．５重量％、好ましくは０．０２５〜０．５重量％の量で含有されてもよい。この量の範囲内で、基板へのコーティングの接着性が更に改善されることができる。
【００５５】
上述の成分の他に、本発明の感光性樹脂組成物は、組成物の物理的特性が悪影響を受けない限り、酸化防止剤、安定剤、及びラジカル捕捉剤などの他の添加剤を更に含んでもよい。
【００５６】
本発明の感光性樹脂組成物は、ネガ型感光性樹脂組成物として使用されることができる。特に、感光性樹脂組成物は、基板上にコーティングされ、硬化され、絶縁膜を製造することができる。
【００５７】
絶縁膜は、当業者に公知の従来の方法により調製されてもよい。たとえば、感光性樹脂組成物は、スピンコーティング方法によりシリコン基板上にコートされ、溶媒を除去するため、たとえば６０〜１３０℃の温度で６０〜１３０秒間予備焼成を施され、所望のパターンを有するフォトマスクを使用して露光され、現像主薬、たとえば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）溶液を使用して現像を施され、塗膜上にパターンを形成してもよい。露光は、露光強度１０〜１００ｍＪ／ｃｍ２で、２００〜４５０ｎｍの範囲の波長で実行されてもよい。次に、このようにパターンが描かれた塗膜に、１５０〜３００℃の温度で１０分〜５時間ポストベークを施し、所望の絶縁膜を製造する。
【００５８】
本発明の感光性樹脂組成物は、塗膜の形成中、高い平面性及び高解像度を有するパターンを作成することができる。したがって、液晶ディスプレイに使用される有機絶縁膜の材料として好適であり、好ましくは、同時に、白のピクセルとして機能する有機絶縁膜の調製に使用される。更に、種々の分野の電子部品または機器の材料として有用である。
【００５９】
本発明の形態
以下、本発明を、次の実施例を参照しつつ詳細に説明する。本実施例は、本発明を更に説明することを意図し、その範囲を限定するものではない。
【００６０】
次の実施例では、重量平均分子量を、ポリスチレン基準物質を使用するゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定する。
【００６１】
実施例１の調製：アルカリ溶解性樹脂の調製（１−１）
乾燥管を含む凝縮器を装備した３つ口フラスコを、自動温度制御器を有する撹拌器に設置した。次に、１００重量部のモノマー混合物に基づき、２重量部のオクチルメルカプタン、３重量部の２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、及び１００重量部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをフラスコに添加し、窒素をそこへ充填した。この場合、モノマー混合物を、２２モル％のメタクリル酸（ＭＡＡ）、１０モル％のグリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、４６モル％のスチレン（Ｓｔｙ）、及び２２モル％のメチルメタクリレート（ＭＭＡ）で構成した。次に、緩速攪拌しながら反応混合物の温度を６０℃まで昇温し、５時間重合を維持し、重量平均分子量３，８００を有するアルカリ溶解性樹脂溶液を得た。
【００６２】
調製例２〜４アルカリ溶解性樹脂（１−２）〜（１−４）の調製
以下の表１に示す重量平均分子量を有するアルカリ溶解性樹脂溶液を、重合時間を延長したことを除き、調製例１に記載と同じ方法に従い、重合反応により得た。
【００６３】
【表１】
2019500637.tif 000003
【００６４】
次の実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を、調製例で調製された化合物を使用し調製した。
【００６５】
次の化合物を、他の成分として使用した。
光重合性化合物（２−１）：トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）
光重合開始剤（３−１）：ＢＡＳＦ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＯＸＥ−０１
光重合開始剤（３−２）：ＢＡＳＦ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＯＸＥ−０２
溶媒（４−１）：Ｃｈｅｍｔｒｏｎｉｃｓ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
界面活性剤（５−１）：Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｔｏｒａｙ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたＦＺ−２１１０
粘着補助剤（６−１）：Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．により製造されたγ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン
【００６６】
実施例１：感光性樹脂組成物の調製
固体含有量に基づき、調製例１で得た３１．５重量％のアルカリ溶解性樹脂（１−１）、６０重量％の光重合性化合物（２−１）、６重量％の光重合開始剤（３−１）、２重量％の光重合開始剤（３−２）、０．２重量％の界面活性剤（５−１）、及び０．３重量％の粘着補助剤（６−１）を混合し、混合物の合計固体含有量が２５重量％であるような量で溶媒（４−１）をそこへ添加した。混合物を振とう器を用い２時間混和し、液相感光性樹脂組成物を調製した。
【００６７】
実施例２及び３、ならびに比較例１〜４：感光性樹脂組成物の調製
アルカリ溶解性樹脂の種類及び量、ならびに光重合性化合物の種類及び量を以下の表２に示すように変更したことを除き、実施例１に記載と同じ手順に従い、感光性樹脂組成物を調製した。
【００６８】
【表２】
2019500637.tif 000004
【００６９】
参照実施例
固体含有量に基づき、１００重量部のアルカリ溶解性樹脂（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート、４０／３０／３０モル％、Ｍｗ２０，０００）、６５重量部の光重合性化合物（２−１）、４重量部の光重合開始剤（３−１）、１．２重量部の光重合開始剤（３−２）、０．３重量部の界面活性剤（５−１）、及び０．５重量部の粘着補助剤（６−１）を混合し、ならびに３０重量部の青色顔料分散剤（３０重量％の固体含有量を含有する）及び溶媒（４−１）を、混合物の合計固体含有量が２５重量％であるような量でそこへ添加した。混合物を振とう器を用い２時間混和し、感光性樹脂組成物を調製した。
【００７０】
実施例及び比較例で調製された感光性樹脂組成物に対し、次の項目を評価した。
【００７１】
実験例１：平面性評価
ステップ（１）下方硬化膜の製造
参照実施例で得た感光性樹脂組成物を、ガラス基板上へコートし、１００℃の温度を有するホットプレート上で１００秒間予備焼成し、厚み３μｍで予備焼成した膜を形成した。予備焼成した膜上に、基板からの距離が２００μｍとなるように、厚み１００μｍを有する線が３００μｍの間隔で配置された離間した線のパターンが有するマスクを適用した。次に、整列試験器（モデル：ＭＡ６）から照射した、波長３６５ｎｍに基づき露光強度１００ｍＪ／ｃｍ２の２００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲の波長で、膜を露光した。現像主薬として、０．０４重量％ＫＯＨの水性溶液により、スプレーノズルを介し２３℃で１２０秒間膜を現像した。引き続き、このように現像した膜を、２３０℃の対流式オーブンで３０分間加熱し、厚み２．５μｍで下方硬化膜を作製した。
【００７２】
ステップ（２）有機絶縁膜の製造
実施例及び比較例で得た各感光性樹脂組成物を、スピンコーティングにより下方硬化膜上にコートした。コートした基板を１０５℃の温度を有するホットプレート上で９０秒間予備焼成し、厚み約５μｍで予備焼成膜を形成した。予備焼成した膜を前述の予備焼成膜形成に使用した同じ整列試験器を用い、３６５ｎｍの波長に基づき露光強度２０ｍＪ／ｃｍ２で、一定時間膜を露光した。引き続き、このように得た膜を、２３０℃の対流式オーブンで３０分間加熱し、硬化膜（有機絶縁膜）を作製した。
【００７３】
ステップ（３）平面性（段差）測定
図１を参照すると、下方硬化膜（２０）がステップ（１）により基板上（３０）に形成され、有機絶縁膜（１０）がステップ（２）により下方硬化膜（２０）上に形成された。加えて、下方硬化膜（２０）に形成された離間した線のパターンにより、下方硬化膜（２０）が形成された領域及び下方硬化膜（２０）が形成されなかった領域が、基板（３０）の表面上に同時に存在した。この場合、有機絶縁膜（１０）の表面へ下方硬化膜（２０）が形成されなかった基板（３０）の表面から測定した高さ（Ｔ２）は、有機絶縁膜（１０）の表面へ下方硬化膜（２０）が形成された基板（３０）の表面から測定した高さ（Ｔ１）よりも低い場合がある。したがって、有機絶縁膜の表面は平面ではない場合がある。
【００７４】
３次元表面測定装置（ＳＮＵ  ｐｒｅｃｉｓｉｏｎにより製造されたＳＩＳ−２０００）を使用して高さ（Ｔ１及びＴ２）を測定し、次の数式１に従い有機絶縁膜の平面性を算出した。段差の値が小さいほど、平面性がより良好である。
【００７５】
［数式１］
段差（Å）＝Ｔ１−Ｔ２
【００７６】
実験例２：解像度の評価
実施例及び比較例で調製した各組成物を、スピンコーティングによりガラス基板上へコートし、コートした基板を、１０５℃の温度を有するホットプレート上で９０秒間予備焼成し、厚み４μｍで予備焼成した膜を形成した。基板からの距離が１０μｍであるように、２０μｍのサイズを有する正方形のパターンを有するマスクを配置後、波長２００ｎｍ〜４５０ｎｍを有する光を照射する整列試験器（モデル名：ＭＡ６）を用い、３６５ｎｍの波長に基づき露光強度２０ｍＪ／ｃｍ２で、一定時間予備焼成した膜を露光した。次に、ストリームノズルを介し２３℃で７０秒間、２．３８重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム水性現像主薬を使用して、膜を現像した。このように現像した膜を、次に、２３０℃の対流式オーブンで３０分間加熱し、硬化膜を得た。
【００７７】
２０μｍのサイズを有する正方形のパターンを有するマスクを使用して、硬化膜に形成された穴のパターンの限界寸法（ＣＤ、線幅、μｍ）を、３次元表面測定装置（ＳＮＵ  ｐｒｅｃｉｓｉｏｎにより製造されたＳＩＳ−２０００）を使用して測定し、次の数式２に従い解像度（％）を算出した。解像度の値（％）が低いほど、解像度はより良好である。
【００７８】
［数式２］
解像度（％）＝［（２０μｍ−穴のパターンのＣＤ（μｍ））／２０μｍ］ｘ１００
【００７９】
上述の実験例で得た結果の値を、以下の表３に示す項目に従い評価し、以下の表４にまとめた。
【００８０】
【表３】
2019500637.tif 000005
【００８１】
【表４】
2019500637.tif 000006
【００８２】
表４に示されるように、実施例に従った組成物は、良好な平面性及び解像度を示した。対照的に、比較例に従った組成物は、低品質な平面性を示した。
【図１】
2019500637.tif 000007
【国際調査報告】
2019500637.tif 000008
2019500637.tif 000009