(57)【要約】  組織治療デバイスは、すべて筐体内に置かれた、駆動回路と、電極と、プラズマアーク収束要素とを備える。駆動回路は、プラズマアーク源信号を生成する。電極は、プラズマアーク源信号に応答して、プラズマストリームを生成する。プラズマアーク収束要素は、プラズマストリームを収束させて、目的組織の温熱療法のために、筐体の出口穴を通し、治療対象の目的組織上の目的スポット上に向ける。いくつかの実施形態では、駆動回路は、目的組織の温度上昇を、プラズマアーク源信号の基礎周波数、出力レベル、脈動周波数、及び／または脈動デューティサイクルを変調することによって制御する。
2019506947.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
出口穴を含む筐体と、
前記筐体内に置かれ、プラズマアーク源信号を生成する駆動回路と、
前記筐体内に置かれ、前記プラズマアーク源信号を受信し、プラズマストリームを、前記プラズマアーク源信号に応答して生成する電極と、
前記筐体内で前記電極と前記出口穴とに隣接して置かれ、前記プラズマストリームを、前記出口穴に通し、治療対象の目的組織上の目的スポット上に、前記目的組織の温熱療法のために収束させる、プラズマアーク収束要素とを備える、組織治療デバイス。
【請求項２】
前記筐体内で前記電極と前記出口穴とに隣接して置かれ、前記プラズマストリームの方向を制御して、前記目的スポットよりも大きなエリア上で前記目的スポットをスキャンする、プラズマアーク誘導要素をさらに備える、請求項１に記載の組織治療デバイス。
【請求項３】
前記プラズマアーク収束要素及び前記プラズマアーク誘導要素が、１つの磁場コイルを備える、請求項２に記載の組織治療デバイス。
【請求項４】
前記プラズマアーク収束要素が、第１の磁場コイルを備え、
前記プラズマアーク誘導要素が、第２の磁場コイルを備える、請求項２に記載の組織治療デバイス。
【請求項５】
前記プラズマアーク収束要素が、前記プラズマストリームを、前記目的スポットに対して直径２ｍｍ以下に絞る、請求項１に記載の組織治療デバイス。
【請求項６】
前記駆動回路が、前記プラズマストリームによって引き起こされる前記目的組織の温度上昇を、前記プラズマアーク源信号の基礎周波数と出力レベルとを変調することによって制御する、請求項１に記載の組織治療デバイス。
【請求項７】
前記駆動回路が、前記温度上昇を、前記プラズマアーク源信号が脈動する脈動周波数と脈動デューティサイクルとを変調することによって、さらに制御する、請求項６に記載の組織治療デバイス。
【請求項８】
前記プラズマストリームが、キャビテーション圧力波を、前記目的スポットの前記目的組織の表面下に生成することができる、請求項１に記載の組織治療デバイス。
【請求項９】
前記温熱療法が、真菌感染症と細菌感染症とにきびと単純ヘルペスとのうちの少なくとも１つである、前記目的組織の病状を治療することができる、請求項１に記載の組織治療デバイス。
【請求項１０】
前記駆動回路に前記筐体を通して電気的に接続された接地パッドであって、電気的帰還路を形成するために前記治療対象の皮膚表面に接することができる、接地パッドをさらに備える、請求項１に記載の組織治療デバイス。
【請求項１１】
前記筐体内に置かれ、前記出口穴に流れる不活性ガスを含むガス室であって、前記プラズマストリームが、前記不活性ガス内に生成される、ガス室をさらに備える、請求項１に記載の組織治療デバイス。
【請求項１２】
前記筐体内に置かれ、電力を前記駆動回路に提供して前記プラズマアーク源信号を生成するために、前記駆動回路に電気的に接続されている電力貯蔵源をさらに備える、請求項１に記載の組織治療デバイス。
【請求項１３】
出口穴を含む筐体と、
前記筐体内に置かれ、プラズマアーク源信号を生成する駆動回路と、
前記筐体内に置かれ、前記プラズマアーク源信号を受信し、プラズマストリームを前記プラズマアーク源信号に応答して生成する電極とを備え、
前記プラズマストリームが、前記出口穴を通り、治療対象の目的組織上の目的スポットに、前記目的組織の温熱療法のために向けられ、
前記駆動回路が、前記プラズマストリームによって引き起こされる前記目的組織の温度上昇を、前記プラズマアーク源信号の出力レベルを変調することによって制御する、組織治療デバイス。
【請求項１４】
前記駆動回路が、前記温度上昇を、前記プラズマアーク源信号の基礎周波数を変調することによってさらに制御する、請求項１３に記載の組織治療デバイス。
【請求項１５】
前記駆動回路が、前記温度上昇を、前記プラズマアーク源信号が脈動する脈動周波数または脈動デューティサイクルを変調することによってさらに制御する、請求項１４に記載の組織治療デバイス。
【請求項１６】
前記筐体内で前記電極と前記出口穴とに隣接して置かれ、前記プラズマストリームを、前記出口穴を通して前記目的スポットに収束させるプラズマアーク収束要素をさらに備える、請求項１３に記載の組織治療デバイス。
【請求項１７】
組織治療デバイスの筐体内に置かれた駆動回路によって、プラズマアーク源信号を生成することと、
前記筐体内に置かれた電極によって、プラズマストリームを、前記プラズマアーク源信号に応答して生成することと、
前記筐体内に置かれたプラズマアーク収束要素によって、磁場源信号を生成することと、
前記磁場源信号によって、前記プラズマストリームを、前記筐体の出口穴に通し、治療対象の目的組織上の予め決められた大きさの目的スポット上に、前記目的組織の温熱療法のために向けることとを備える、方法。
【請求項１８】
前記プラズマストリームの前記方向を変えて、前記目的スポットよりも大きなエリア上で前記目的スポットをスキャンすることをさらに備える、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記プラズマストリームによって引き起こされる前記目的組織の温度上昇を、前記駆動回路によって、前記プラズマアーク源信号の基礎周波数と出力レベルとを変調することによって制御することをさらに備える、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記温度上昇を、前記プラズマアーク源信号が脈動する脈動周波数と脈動デューティサイクルとを変調することによって制御することをさらに備える、請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
関連出願
本出願は、２０１６年２月１９日に出願された、「Ｔｉｓｓｕｅ  Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ  ｗｉｔｈ  Ｐｌａｓｍａ  Ａｒｃ  Ｓｔｒｅａｍ」という題名の、Ｕ．Ｓ．  Ｐｒｏｖｉｓｉｏｎａｌ  Ｐａｔｅｎｔ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｎｏ．  ６２／２９７，６３３の利益を主張し、それは、参照により、すべての目的のために本明細書に組み込まれる。
【０００２】
ある種の病状は、非常にしつこく、治療が困難または高価であり得る。たとえば、人の足の爪の真菌の治療は、通常、医師のオフィスで、高価なレーザーデバイスを用いて行われる。代替的に、抗真菌剤クリームまたは軟膏が、感染エリアに何カ月の期間にも渡って塗布される。迅速で、低コストで、使用が容易な改善治療が必要とされている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
いくつかの実施形態では、組織治療デバイスは、筐体と、駆動回路と、電極と、プラズマアーク収束要素と、を含む。筐体は、出口穴を含む。駆動回路は、筐体内に置かれ、プラズマアーク源信号を生成する。電極は、筐体内に置かれ、プラズマアーク源信号を受信し、プラズマストリームを、プラズマアーク源信号に応答して生成する。プラズマアーク収束要素は、筐体内で、電極と出口穴とに隣接して置かれる。プラズマアーク収束要素は、プラズマストリームを、目的組織の温熱療法のために、出口穴に通し、治療対象の目的組織の目的スポットに収束させる。いくつかの実施形態では、組織治療デバイスは、さらに、筐体内で電極と出口穴とに隣接して置かれたプラズマアーク誘導要素を含む。いくつかの実施形態では、プラズマアーク誘導要素は、目的スポットよりも大きなエリア上で目的スポットをスキャンするように、プラズマストリームの方向を制御する。いくつかの実施形態では、プラズマアーク収束要素及びプラズマアーク誘導要素は、１つの磁場コイルである。いくつかの実施形態では、プラズマアーク収束要素は、第１の磁場コイルであり、プラズマアーク誘導要素は、第２の磁場コイルである。いくつかの実施形態では、プラズマアーク収束要素は、プラズマストリームを、目的スポットに対して、直径２ミリ以下に絞る。いくつかの実施形態では、駆動回路は、プラズマストリームによって引き起こされる目的組織の温度上昇を、プラズマアーク源信号の基礎周波数と出力レベルとを変調することによって制御する。いくつかの実施形態では、駆動回路は、さらに、温度上昇を、プラズマアーク源信号が脈動する脈動周波数と脈動デューティサイクルとを変調することによって制御する。いくつかの実施形態では、プラズマストリームは、キャビテーション圧力波を、目的スポットにおける目的組織の表面下に生成することができる。いくつかの実施形態では、温熱療法は、真菌感染症、細菌感染症、にきび、または単純ヘルペスなどの、目的組織の病状を治療することができる。いくつかの実施形態では、組織治療デバイスは、さらに、治療対象の皮膚表面に接して電気的帰還路を形成することができる接地パッドを含む。いくつかの実施形態では、組織治療デバイスは、さらに、筐体内に置かれ、出口穴に流れる不活性ガスを収めるガス室を含み、プラズマストリームは、不活性ガス内に生成される。いくつかの実施形態では、組織治療デバイスは、さらに、筐体内に置かれ、電力を駆動回路に提供してプラズマアーク源信号を生成するために駆動回路に電気的に接続された、電力貯蔵源を含む。
【０００４】
いくつかの実施形態では、組織治療デバイスは、筐体と、駆動回路と、電極と、を含む。筐体は、出口穴を含む。駆動回路は、筐体内に置かれ、プラズマアーク源信号を生成する。電極は、筐体内に置かれ、プラズマアーク源信号を受信し、プラズマストリームをプラズマアーク源信号に応答して生成する。プラズマストリームは、目的組織の温熱療法のために、出口穴を通り、治療対象の目的組織上の目的スポットに向かう。駆動回路は、プラズマストリームによって引き起こされる目的組織の温度上昇を、プラズマアーク源信号の出力レベルを変調することによって制御する。いくつかの実施形態では、駆動回路は、さらに、温度上昇を、プラズマアーク源信号の基礎周波数を変調することによって制御する。いくつかの実施形態では、駆動回路は、さらに、温度上昇を、プラズマアーク源信号が脈動する脈動周波数または脈動デューティサイクルを変調することによって制御する。いくつかの実施形態では、組織治療デバイスは、さらに、筐体内で電極と出口穴とに隣接して置かれ、プラズマストリームを出口穴に通し目的スポット上に収束させる、プラズマアーク収束要素を含む。
【０００５】
いくつかの実施形態は、（組織治療デバイスの筐体内に置かれた）駆動回路がプラズマアーク源信号を生成する方法によって特徴付けられる。（筐体内に置かれた）電極は、プラズマストリームを、プラズマアーク源信号に応答して生成する。（筐体内に置かれた）プラズマアーク収束要素は、磁場源信号を生成する。磁場源信号は、目的組織の温熱療法のために、プラズマストリームを、筐体の出口穴に通し、治療対象の目的組織上の予め決められた大きさの目的スポットに収束させ、向ける。いくつかの実施形態では、プラズマストリームの方向は、目的スポットよりも大きなエリア上で目的スポットをスキャンするために変更される。いくつかの実施形態では、（プラズマストリームによって引き起こされる）目的組織の温度上昇は、プラズマアーク源信号の基礎周波数と出力レベルとを変調する駆動回路によって制御される。いくつかの実施形態では、温度上昇は、また、プラズマアーク源信号が脈動する脈動周波数と脈動デューティサイクルとを変調することによって制御される。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】本発明の実施形態による、生体組織を、プラズマアークストリームを用いて治療するための例示的治療デバイスの簡易計画図である。
【図２】本発明の実施形態による、図１に示した例示的治療デバイスの簡易概略ブロック図である。
【図３】本発明の別の実施形態による、図１に示した例示的治療デバイスの簡易概略ブロック図である。
【図４】本発明の実施形態による、生体組織を、プラズマアークストリームを用いて治療するための、別の例示的治療デバイスの簡易計画図である。
【図５】本発明の実施形態による、図４に示した例示的治療デバイスの簡易概略ブロック図である。
【図６】本発明の別の実施形態による、図４に示した例示的治療デバイスの簡易概略ブロック図である。
【図７】本発明の実施形態による、生体組織を、プラズマアークストリームを用いて治療するための、別の例示的治療デバイスの簡易計画図である。
【図８】本発明の実施形態による、図７に示した例示的治療デバイスの簡易概略ブロック図である。
【図９】本発明の別の実施形態による、図７に示した例示的治療デバイスの簡易概略ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
図１〜９は、生体組織を、プラズマアークストリームを用いて治療するための治療デバイスの、例示的実施形態を示している。各例示的治療デバイスは、簡単な家庭または医院での治療として消費者によって使用されるのに適した、迅速で低費用の足爪真菌治療を可能にする。
【０００８】
各例示的治療デバイスは、人間の足爪の表面上の真菌感染症を治療するために使用されるものとして説明される。しかしながら、治療デバイスのいくつかの実施形態は、また、任意の適切な症状の任意の適切な組織を治療するためにも使用され得る。治療可能な適切な症状のいくつかの例は、とりわけ、真菌感染症、細菌感染症、にきび、足爪真菌、爪甲真菌症、水虫、及び単純ヘルペスである。
【０００９】
図１、２、及び３は、生体組織のピンポイント目的エリア（たとえば、人間の足、つま先、または足爪）の病状を、プラズマアークストリームを用いて治療する（たとえば、真菌感染症を殺す）ための例示的治療デバイス１００を示している。図１の例示の実施形態では、治療デバイス１００は、一般的に、細長い筐体１０１と、電源（たとえば、バッテリ）１０２と、駆動回路（または駆動回路ボード）１０３と、１つまたは複数の電極１０４と、１つまたは複数の絶縁体１０５と、プラズマ室１０６と、開始／停止スイッチ１０７と、接地パッド１１２と、を含む。追加的な構成要素も含まれ得るが、簡易化のために示さない。
【００１０】
いくつかの実施形態では、筐体１０１は、一般的に、チューブ状の形状を有し、その長さのほとんどに渡って、他の構成要素のほとんどを含むように適切な直径を有するが、一端の出口穴１０８の近くではより小さな直径に先細になっている。筐体１０１の一般的な形状は、人の手で持つのに適切なものである。筐体１０１は、一般的に、アルミニウム、他の金属、プラスチック等の任意の適切な材料から作られる。いくつかの実施形態では、筐体１０１は、プラズマ室１０６と駆動回路ボード１０３とバッテリ１０２との間の電気的接地帰還路としての役割を果たす。筐体１０１は、バッテリ１０２と、駆動回路ボード１０３と、絶縁体１０５と、プラズマ室１０６と、開始／停止スイッチ１０７と、電極１０４とを含み、それらのための取り付けサポートを提供する。いくつかの実施形態では、プラズマ室１０６は、定められた体積（つまり、プラズマ領域）であり、プラズマは、出口穴１０８に最も近い筐体１０１の内部の中で生成される。
【００１１】
接地パッド１１２は、筐体１０１または（筐体１０１を通して）駆動回路ボード１０３に、導体１１３、たとえば、ワイヤを介して電気的に接続されている。いくつかの実施形態では、接地パッド１１２は、治療対象の皮膚表面（たとえば、治療する目的組織を有する人、動物、等）に、治療対象から導体１１３を通って筐体１０１または駆動回路ボード１０３への地帰路として接する。地帰路は、プラズマアークを治療対象の目的組織に向けるのに役立つ。いくつかの実施形態では、接地パッド１１２は、治療対象に、たとえば、目的組織近くの治療対象の皮膚のエリアに、導電接着剤を用いて付けられる。たとえば、目的組織が人の足の爪である場合、接地パッド１１２を、示す通り、目的の足の爪に比較的近い人の足１１４に付けることができる。
【００１２】
いくつかの実施形態では、駆動回路ボード１０３は、ＩＣ（集積回路）チップ及び／またはＰＣＢ（プリント基板）に取り付けられた、固体集積半導体の受動素子と能動素子とから作られる。駆動回路ボード１０３は、バッテリ１０２と、電極１０４と、筐体１０１と、に電気的に接続されている。バッテリ１０２によって電力を供給され、駆動回路ボード１０３は、電極１０４に掛けられる高電圧、低電流プラズマアーク源信号を作る。いくつかの実施形態では、電極１０４に供給される電力は、０．１Ｗから１０Ｗ、または４Ｗから７Ｗ、または３Ｗから５Ｗである。
【００１３】
いくつかの実施形態では、電極１０４は、プラズマアーク中心電極である。電極１０４は、ステンレススチール、プラチナ、金、銀、他の金属、導電性セラミック、金属の混合的結合等、任意の適切な材料から作られている。電極１０４は、駆動回路ボード１０３に電気的に接続されている。加えて、電極１０４の一端は、プラズマ室１０６内またはプラズマ室１０６に隣接して置かれている。駆動回路ボード１０３から受信した高電圧、低電流プラズマアーク源信号は、電極１０４に、プラズマを、プラズマ室１０６内の気体（たとえば、酸素、ヘリウム、アルゴン、窒素、等）内に出させる、または生成させる。いくつかの実施形態では、プラズマアークストリームは、気体の電離と反応とから形成される反応種を備える。反応種は、気体の組成を変えることによって、及び／または電極１０４に提供されるプラズマアーク源信号のパラメータ（たとえば、電圧、電流、出力、基礎周波数、脈動周波数、脈動デューティサイクル、パルス形状、等）を調整することによって、調整することができる。いくつかの実施形態では、プラズマ室１０６は、プラズマからの反応に対して抵抗力のある材料から構成されている。プラズマ室１０６を作ることができる材料のいくつかの例は、アルミニウム、ステンレススチール、導電ガラス、導電性プラスチック、等を含む。
【００１４】
いくつかの実施形態では、絶縁体１０５は、絶縁プラスチック材料、セラミック、ガラス、または他の適切な絶縁材から作られている。絶縁体１０５は、筐体１０１の内面と電極１０４の外面と（電極１０４の２つの端部の近く）に接して、筐体１０１に対して間隔を開けた、一般的に同心の、電極１０４を支える。絶縁体１０５は、したがって、電極１０４を、筐体１０１の内面から電気的及び熱的に絶縁する。
【００１５】
いくつかの実施形態では、バッテリ１０２は、適切な電圧（たとえば、０．８ボルトＤＣから７．４ボルトＤＣ）を生成することができる、任意の適切な充電可能または非充電可能な電力貯蔵源（たとえば、リチウムイオンバッテリ、アルカリバッテリ、等）である。バッテリ１０２は、電力を駆動回路ボード１０３に提供するために、駆動回路ボード１０３に電気的に接続されている。
【００１６】
いくつかの実施形態では、開始／停止スイッチ（またはボタン）１０７は、筐体１０１を通して付けられており、それが筐体１０１の外側に露出し、アクセス可能なようになっている。筐体１０１の内部で、開始／停止スイッチ１０７は、駆動回路ボード１０３に電気的に接続されている。（たとえば、ユーザによって押されまたは切り替えられることによって）オンまたはオフにされた時、開始／停止スイッチ１０７は、駆動回路ボード１０３の動作を、それぞれ、作動または停止させる。
【００１７】
作動した時、駆動回路ボード１０３は、プラズマアーク源信号を電極１０４に提供する。それに応じて、電極１０４は、プラズマを、プラズマ室１０６内の気体中に生成する。気体がプラズマ室１０６を流れるにつれて、生成されたプラズマは、プラズマアークストリーム１０９として、出口穴１０８を通って出る。出口穴１０８が目的組織１１０（たとえば、人の足の爪）の近くに維持されている時、プラズマアークストリーム１０９は、（たとえば、目的組織１１０の真菌１１１を殺すために）目的組織を温熱療法する。いくつかの実施形態では、治療する目的組織１１０の「目的温度」は、治療中、１００°Ｆよりも高く、または１１０°Ｆよりも高く、または１２０°Ｆよりも高く、または１３０°Ｆよりも高く、または１４０°Ｆよりも高く、または１５０°Ｆよりも高く、または１６０°Ｆよりも高く、または１００°Ｆから１８０°Ｆに、または１２０°Ｆから１８０°Ｆに、または１２０°Ｆから１６０°Ｆに、または１３０°Ｆから１５０°Ｆに、上がる。いくつかの実施形態では、目的組織１１０の温度上昇の温度差は、３０°Ｆから１００°Ｆの間である。
【００１８】
いくつかの実施形態では、プラズマアークストリームとの作用により目的組織１１０内に生成される熱は、治療する組織内の圧力の変化を引き起こし、それにより、周囲の組織を破壊する空洞現象をもたらすことができる。空洞現象は、本明細書で使用される通り、流体内に蒸気空洞を形成することであり、それは、流体上に作用する力の結果である。空洞現象は、一般的に、流体が圧力の急激な変化にさらされた時に起こり、圧力が比較的低い場所で空洞の形成を引き起こす。それが無いところから高圧力にさらされた時、空間が内破し、強いショック波、またはキャビテーション圧力波を、目的スポットの目的組織の表面下に生成することができる。本開示の文脈内で、ショック波は、プラズマと作用する目的組織１１０の周辺の組織にダメージを与えまたは破壊することができる。
【００１９】
いくつかの実施形態では、駆動回路ボード１０３から電極１０４に提供されるプラズマアーク源信号は、連続波または脈動している。いくつかの実施形態では、プラズマを生成している電極１０４に提供されるプラズマアーク源信号は、０．１Ｗから１０Ｗ、または４Ｗから７Ｗの時間平均出力を有する。いくつかの実施形態では、プラズマを生成している電極１０４に提供されるプラズマアーク源信号は、１０ｋＨｚから１ＭＨｚ、または５０ｋＨｚから５００ｋＨｚの基礎周波数を有し、または約１００ｋＨｚである。いくつかの実施形態では、プラズマを生成している電極１０４に提供されるプラズマアーク源信号は、５Ｈｚから１００Ｈｚ、または１５Ｈｚから５００Ｈｚの、反複的な、変調周波数または脈動周波数で脈動している。いくつかの実施形態では、プラズマを生成している電極１０４に提供されるプラズマアーク源信号は、脈動しており、１％から１０％、または１０％から９０％、または２０％から８０％、または３０％から７０％、または４０％から６０％、または１０％から５０％、または５０％から９０％、または１０％から３０％、または７０％から９０％の脈動デューティサイクルを有する（つまり、プラズマアーク源信号がオンである瞬間出力の期間を、プラズマアーク源信号がオフである瞬間出力の期間で除算する）。いくつかの実施形態では、電極１０４に提供されるプラズマアーク源信号は、５０ｎｓから２００マイクロ秒、または１０ｎｓから３００マイクロ秒のパルス持続時間で脈動している。いくつかの実施形態では、プラズマを生成している電極１０４に提供される周波数変調プラズマアーク源信号のパルスの形状は、矩形パルス、方形パルス、鋸歯パルス、三角パルス、または他の形状である。理論により限定されることなく、時間平均出力と、基礎周波数と、脈動周波数と、脈動デューティサイクルと、パルス形状と、の組み合わせが、一般的に、プラズマアークストリームと作用する目的組織の平均温度上昇を決定する。いくつかの実施形態では、電極１０４に提供されるプラズマアーク源信号の時間平均出力、基礎周波数、脈動周波数、脈動デューティサイクル、及びパルス形状は、特定の予め決められた平均温度上昇を、結果として生じるプラズマアークストリームと作用する目的組織内に生成するために、選択または調整される。このようにして、駆動回路ボード１０３は、目的組織の温度または温度上昇を、これらのパラメータを制御、調整、または変調することによって制御する。いくつかの実施形態では、目的温度は、異なってよい。たとえば、真菌感染症を破壊するのに通常必要な温度は、細菌感染症を破壊するのに通常必要な温度とは異なる。いくつかの実施形態では、異なるプラズマパラメータ（たとえば、時間平均出力、脈動周波数、等）が、特定の予め決められた目的温度を、プラズマアークストリームと作用する目的組織内に生成するために必要である。たとえば、足の爪の下の真菌感染症は、１４０°Ｆの目的温度を生成するために、にきび組織よりもより多くの時間平均出力を必要とする。
【００２０】
図２は、バッテリ１０２と、駆動回路ボード１０３と、１つまたは複数の電極１０４と、プラズマ（アーク）室１０６と、開始／停止スイッチ１０７と、を有する治療デバイス１００の実施形態を示している。いくつかの実施形態では、これらの構成要素は、一般的に、図１を参照して上記で説明した（同じ参照番号を有する）構成要素と同じまたは類似である。加えて、いくつかの実施形態では、治療デバイス１００は、また、プラズマアーク地帰路２００を有する。さらに、いくつかの実施形態では、駆動回路ボード１０３は、一般的に、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ２０１と、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ２０２と、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器２０３と、高電圧電流制限要素２０４と、を有する。
【００２１】
いくつかの実施形態では、プラズマアーク地帰路２００は、電気回路を完成させるために、プラズマアーク室１０６と、駆動回路ボード１０３と、バッテリ１０２と、の間に伸び、それらを電気的に接続する、ワイヤまたは他の導体である。いくつかの実施形態では、筐体１０１は、プラズマアーク地帰路２００としての役割を果たす。いくつかの実施形態では、（図２に示さない）別の地帰路が、上記で説明した通り、プラズマアークストリームが目的組織に確実に到達することを補助するために、治療対象に付けられた接地パッド１１２に提供される。
【００２２】
いくつかの実施形態では、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ２０１は、電圧をバッテリ１０２から受け取り、それを、駆動回路ボード１０３の構成要素によって活用されるＤＣ電圧に変換する。
【００２３】
いくつかの実施形態では、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ２０２は、ＤＣ電圧をＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ２０１から受け取り、プラズマアーク信号生成のために必要なＡＣ高周波電圧信号を生成するための比較的小さなパッケージサイズにおいて、比較的効率的な手段である。
【００２４】
いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器２０３は、ＡＣ高周波電圧信号を受信し、電圧をさらに高くするためにそれを変換し、それをＤＣ電圧に整流する。
【００２５】
いくつかの実施形態では、高電圧電流制限要素２０４は、ＤＣ電圧を受け取り、プラズマアークの出力を制限して、目的組織１１０を目的温度よりも高い温度から保護する。
【００２６】
図３は、バッテリ１０２、駆動回路ボード１０３と、１つまたは複数の電極１０４と、プラズマ（アーク）室１０６と、開始／停止スイッチ１０７と、プラズマアーク地帰路２００と、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ２０１と、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ２０２と、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器２０３と、高電圧電流制限要素２０４と、を有する治療デバイス１００の実施形態を示している。いくつかの実施形態では、これらの構成要素は、一般的に、図１と図２とを参照して上記で説明した、（同じ参照番号を有する）構成要素と同じまたは類似である。いくつかの実施形態では、治療デバイス１００は、また、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ３００とバッテリ充電回路３０１とを有する、またはそれらに接続されている。
【００２７】
いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ３００は、バッテリ１０２が完全または部分的に放電した際にＡＣコンセントに差し込まれた時、バッテリ１０２を充電することと、治療デバイス１００に電力を供給することと、のために使用される。いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ３００は、筐体１０１の外部または内部である。
【００２８】
いくつかの実施形態では、バッテリ充電回路３０１は、バッテリ１０２の迅速な充電のために、駆動回路ボード１０３上に組み込まれている。いくつかの実施形態では、バッテリ充電回路３０１は、筐体１０１の外部または内部である。
【００２９】
図４、５、及び６は、生体組織のピンポイント目的エリア（たとえば、人間の足、つま先、または足の爪）の病状を、プラズマアークストリームを用いて治療する（たとえば、真菌感染症を殺す）ための、別の例示的治療デバイス４００を示している。図４の例示の実施形態では、治療デバイス４００は、一般的に、細長い筐体４０１と、電源（たとえば、バッテリ）４０２と、駆動回路（または駆動回路ボード）４０３と、１つまたは複数の電極４０４と、１つまたは複数の絶縁体４０５と、プラズマ室４０６と、開始／停止スイッチ４０７と、１つまたは複数の磁場（誘導または収束）コイル４０８と、接地パッド４１４と、を含む。追加的な構成要素も含まれ得るが、簡易にするために示さない。
【００３０】
いくつかの実施形態では、筐体４０１は、一般的に、チューブ状の形状を有し、その長さのほとんどに渡って、他の構成要素のほとんどを含むために適切な直径を有するが、一端の出口穴４０９の近くではより小さな直径に先細になっている。筐体４０１の一般的な形状は、人の手に持つのに適切である。筐体４０１は、一般的に、アルミニウム、他の金蔵、プラスチック、等の任意の適切な材料から作られている。いくつかの実施形態では、筐体４０１は、プラズマ室４０６と、駆動回路ボード４０３と、バッテリ４０２と、の間の電気的接地帰還路としての役割を果たす。筐体４０１は、バッテリ４０２と、駆動回路ボード４０３と、絶縁体４０５と、プラズマ室４０６と、開始／停止スイッチ４０７と、電極４０４と、磁場コイル４０８と、を含み、それらのための取り付けサポートを提供する。いくつかの実施形態では、プラズマ室４０６は、定められた体積（つまり、プラズマ領域）であり、プラズマは、出口穴４０９に最も近い筐体４０１の内部で生成される。
【００３１】
接地パッド４１４は、筐体４０１または（筐体４０１を通して）駆動回路ボード４０３に、導体４１５、たとえば、ワイヤを介して電気的に接続されている。いくつかの実施形態では、接地パッド４１４は、治療対象（たとえば、治療する目的組織を有する人、動物、等）の皮膚表面に、治療対象から導体４１５を通って筐体４０１または駆動回路ボード４０３への地帰路として接する。地帰路は、プラズマアークを治療対象の目的組織に向ける助けとなる。いくつかの実施形態では、接地パッド４１４は、治療対象に、たとえば、導電接着剤を用いて、目的組織近くの治療対象の皮膚のエリアに付けられる。たとえば、目的組織が人の足の爪の場合、接地パッド４１４は、示す通り、目的の足の爪に比較的近い人の足４１６に付けることができる。
【００３２】
いくつかの実施形態では、駆動回路ボード４０３は、ＩＣ（集積回路）チップ及び／またはＰＣＢ（プリント基板）に付けられた固体集積半導体受動素子と能動素子とから作られている。駆動回路ボード４０３は、バッテリ４０２と、電極４０４と、磁場コイル４０８と、筐体４０１と、に電気的に接続されている。バッテリ４０２によって電力を供給されて、駆動回路ボード４０３は、電極４０４に供給される高電圧、低電流プラズマアーク源信号と、磁場コイル４０８に供給される磁場源信号と、を作る。電極４０４に提供される電力は、図１〜３の実施形態について上記で説明したものと同じまたは類似である。いくつかの実施形態では、磁場コイル４０８に提供される電流は、５０ｍＡから５００ｍＡ以上である。
【００３３】
いくつかの実施形態では、電極４０４は、プラズマアーク中心電極である。電極４０４は、ステンレススチール、プラチナ、金、銀、他の金属、導電性セラミック、金属の混合的結合、等の任意の適切な材料から作られている。電極４０４は、駆動回路ボード４０３に電気的に接続されている。加えて、電極４０４の一端は、プラズマ室４０６内またはそれに隣接して置かれている。駆動回路ボード４０３から受信するプラズマアーク源信号は、電極４０４に、プラズマを、プラズマ室４０６内の気体（たとえば、酸素、ヘリウム、アルゴン、窒素、等）中に、出させるまたは生成させる。いくつかの実施形態では、プラズマアークストリームは、気体の電離と反応とから形成される反応種を備える。反応種は、気体の組成を変更することによって、及び／または電極４０４に提供されるプラズマアーク源信号と磁場コイル４０８に供給される磁場源信号とのパラメータ（たとえば、電圧、電流、電力、基礎周波数、脈動周波数、脈動デューティサイクル、パルス形状、等）を調整することによって、調整することができる。いくつかの実施形態では、プラズマ室４０６は、たとえば、図１〜３の実施形態について上記で説明した、プラズマからの反応に抵抗性のある材料から成る。
【００３４】
いくつかの実施形態では、磁場コイル４０８は、ボビン（たとえば、スリーブ４１３）の周りに巻かれた複数巻銅線などの、任意の適切なプラズマアーク誘導要素及び／または収束要素である。磁場コイル４０８は、電極４０４、プラズマ室（領域）４０６、出口穴４０９、及び／またはプラズマアーク源信号の近くに、または隣接して置かれている。いくつかの実施形態では、磁場コイル４０８は、一般的に、出口穴４０９に隣接したプラズマ室４０６の相当な部分を囲む。駆動回路ボード４０３から受信する磁場源信号は、磁場コイル４０８に、プラズマアーク源信号の方向を制御させて、プラズマ室４０６からのプラズマ場を目的組織４１１上の目的スポット４１７に向ける。
【００３５】
いくつかの実施形態では、磁場コイル４０８は、少なくとも２つの別々のプラズマアーク誘導要素と収束要素とを表す。いくつかの実施形態では、誘導コイルと収束コイルとがあり、各々が磁場コイルを備える。
【００３６】
理論によって制限されることなく、スポットの大きさは、治療する目的組織に作用するプラズマアークストリームの電力密度を決定する際の主要な要因になる。いくつかの実施形態では、スポットの大きさは、特定の平均温度上昇を、目的スポット４１７内のプラズマアークストリームと作用する組織内で生成するために使用することができる。より小さな目的スポットの大きさでは、治療対象は、通常、より高い温度と関連する痛みに耐えることができる。いくつかの実施形態では、目的スポットの直径は、０．１ｍｍから１０ｍｍ、０．５から５ｍｍ、または１ｍｍから２ｍｍ、または１０，５または２ｍｍ以下の予め決められた大きさを有する。
【００３７】
いくつかの実施形態では、デバイスは、ユーザによって手動でスキャンされる（つまり、目的スポット４１７を手動で動かして、治療する意図の目的組織４１１のエリアのすべてと作用させる）。いくつかの実施形態では、プラズマアークストリームは、治療する組織の上を行ったり来たりラスターして、たとえば、誘導コイルを使用して、プラズマアークストリームの方向を変更または制御し、目的スポット４１７よりも大きなエリア上で目的スポット４１７をスキャンする。理論によって限定されることなく、プラズマアークストリームと作用する組織の温度は、最大で定常状態温度に達した時間の量まで、プラズマアークストリームが目的組織４１１と作用する時間の量によって影響または制御され得る。いくつかの実施形態では、治療する目的組織４１１上のプラズマアークストリームのスキャンレートは、特定の平均温度上昇を、プラズマアークストリームと作用する目的組織４１１内で生成するように選択される。
【００３８】
いくつかの実施形態では、絶縁体４０５は、絶縁プラスチック材料、セラミック、ガラス、または他の適切な絶縁材から作られている。絶縁体４０５は、筐体４０１の内面とスリーブ４１３の外面または電極４０４（電極４０４の２つの端部の近く）に接して、筐体４０１に対して間隔を開けた、一般的に同心の、電極４０４（と磁場コイル４０８と）をサポートする。絶縁体４０５は、したがって、電極４０４（と磁場コイル４０８と）を、筐体４０１の内面から電気的及び熱的に絶縁する。
【００３９】
いくつかの実施形態では、バッテリ４０２は、適切な電圧（たとえば、０．８ボルトＤＣから７．４ボルトＤＣ）を生成することができる、任意の適切な充電可能または非充電可能な電力貯蔵源（たとえば、リチウムイオンバッテリ、アルカリバッテリ、等）である。バッテリ４０２は、電力を駆動回路ボード４０３に提供するように、駆動回路ボード４０３に電気的に接続されている。
【００４０】
いくつかの実施形態では、開始／停止スイッチ（またはボタン）４０７は、筐体４０１を通して付けられており、筐体４０１の外側に露出し、アクセス可能なようになっている。筐体４０１内では、開始／停止スイッチ４０７は、駆動回路ボード４０３に電気的に接続されている。（たとえば、ユーザによって押されまたは切り替えられることによって）オンまたはオフになった時、開始／停止スイッチ４０７は、駆動回路ボード４０３の動作を、それぞれ、作動または停止させる。
【００４１】
作動した時、駆動回路ボード４０３は、プラズマアーク源信号を電極４０４に、磁場源信号を磁場コイル４０８に、提供する。それに応じて、電極４０４及び磁場コイル４０８は、プラズマを、プラズマ室４０６内の気体内に生成する。気体がプラズマ室４０６を通るにつれて、生成されたプラズマは、プラズマアークストリーム４１０として出口穴４０９を通り抜ける。出口穴４０９が目的組織４１１（たとえば、人の足の爪）の近くに維持されている時、プラズマアークストリーム４１０は、（たとえば、真菌４１２を目的組織４１１上で殺すために）目的組織を温熱療法する。いくつかの実施形態では、目的温度及び温度差は、図１〜３の実施形態について上記で説明したものと同じまたは類似である。いくつかの実施形態では、目的組織４１１内に生成された熱は、上記で説明した通り、空洞現象と結果として生じる効果とを引き起こす。
【００４２】
いくつかの実施形態では、駆動回路ボード４０３によって電極４０４に提供されるプラズマアーク源信号は、連続波または脈動している。いくつかの実施形態では、電極４０４に提供されるプラズマアーク源信号は、図１〜３の実施形態について上記で説明したパラメータと同じまたは類似の、時間平均出力、基礎周波数、脈動周波数、脈動デューティサイクル、パルス持続時間、及び／またはパルス形状を有する。理論によって限定されることなく、時間平均出力と基礎周波数と脈動周波数と脈動デューティサイクルとパルス形状との組み合わせは、一般的に、プラズマアークストリームと作用する目的組織の平均温度上昇を決定する。いくつかの実施形態では、電極４０４に提供されるプラズマアーク源信号の時間平均出力、基礎周波数、脈動周波数、脈動デューティサイクル、及びパルス形状は、特定の予め決められた平均温度上昇を、結果として生じるプラズマアークストリームと作用する目的組織において生成するために、選択または調整される。このようにして、駆動回路ボード４０３は、目的組織の温度または温度上昇を、これらのパラメータを制御、調整、または変調することによって制御する。いくつかの実施形態では、目的温度は、上記で説明した通り、異なってよい。いくつかの実施形態では、異なるプラズマパラメータ（たとえば、時間平均出力、脈動周波数、等）が、特定の予め決められた目的温度をプラズマアークストリームと作用する目的組織において生成するために必要である。
【００４３】
図５は、バッテリ４０２と、駆動回路ボード４０３と、１つまたは複数の電極４０４と、プラズマ（アーク）室４０６と、開始／停止スイッチ４０７と、磁場コイル４０８と、を有する治療デバイス４００の実施形態を示している。いくつかの実施形態では、これらの構成要素は、一般的に、図４を参照して上記で説明した（同じ参照番号を有する）構成要素と同じまたは類似である。加えて、いくつかの実施形態では、治療デバイス４００は、また、プラズマアーク地帰路５００を有する。さらに、いくつかの実施形態では、駆動回路ボード４０３は、一般的に、マイクロコントローラ５０１と、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ５０２と、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ５０３と、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器５０４と、高電圧電流制限要素５０５と、を有する。
【００４４】
いくつかの実施形態では、プラズマアーク地帰路５００は、電気回路を完成させるために、プラズマアーク室４０６と駆動回路ボード４０３とバッテリ４０２との間に伸び、電気的にそれらを接続するワイヤまたは他の導体である。いくつかの実施形態では、筐体４０１は、プラズマアーク地帰路５００としての役割を果たす。いくつかの実施形態では、（図５に示さない）別の地帰路が、上記で説明した通り、プラズマアークストリームが目的組織に確実に到達することを補助するために、治療対象に付けられた接地パッド４１４を提供される。
【００４５】
いくつかの実施形態では、マイクロコントローラ５０１は、磁場コイル４０８とプラズマアーク信号の方向とを含む、治療デバイス４００の動作の全機能を制御する。この制御下で、マイクロコントローラ５０１は、プラズマ場をピンポイントに絞る、またはより広い場に広げることができる。
【００４６】
いくつかの実施形態では、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ５０２は、電圧をバッテリ４０２から受け取り、それを、駆動回路ボード４０３の構成要素によって使用されるＤＣ電圧に変換する。
【００４７】
いくつかの実施形態では、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ５０３は、ＤＣ電圧をＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ５０２から受け取り、プラズマアーク信号を生成するために必要なＡＣ高周波電圧信号を生成するための比較的小さなパッケージサイズにおいて、比較的効率的な手段である。
【００４８】
いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器５０４は、ＡＣ高周波電圧信号を受信し、電圧をさらに高めるためにそれを変換し、それをＤＣ電圧に整流する。
【００４９】
いくつかの実施形態では、高電圧電流制限要素５０５は、ＤＣ電圧を受け取り、プラズマアークの出力を制限して、目的組織４１１を目的温度よりも高い温度から保護する。
【００５０】
図６は、バッテリ４０２と、駆動回路ボード４０３と、１つまたは複数の電極４０４と、プラズマ（アーク）室４０６と、開始／停止スイッチ４０７と、磁場コイル４０８と、プラズマアーク地帰路５００と、マイクロコントローラ５０１と、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ５０２と、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ５０３と、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器５０４と、高電圧電流制限要素５０５と、を有する治療デバイス４００の実施形態を示している。いくつかの実施形態では、これらの構成要素は、一般的に、図４と５とを参照して上記で説明した（同じ参照番号を有する）構成要素と同じまたは類似である。いくつかの実施形態では、治療デバイス４００は、また、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ６００とバッテリ充電回路６０１とを有する、またはそれらに接続されている。
【００５１】
いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ６００は、バッテリ４０２が完全または部分的に放電した際にＡＣコンセントを差した時に、バッテリ４０２を充電することと、治療デバイス４００に電力を供給することと、のために使用される。いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ６００は、筐体４０１の外部または内部である。
【００５２】
いくつかの実施形態では、バッテリ充電回路６０１は、バッテリ４０２を迅速に充電するために、駆動回路ボード４０３に組み込まれている。いくつかの実施形態では、バッテリ充電回路６０１は、筐体４０１の外部または内部である。
【００５３】
図７、８、及び９は、生体組織のピンポイント目的エリア（たとえば、人間の足、つま先、または足の爪）の病状を、プラズマアークストリームを用いて治療する（たとえば、真菌感染症を殺す）ための、別の例示的治療デバイス７００を示している。図７の例示の実施形態では、治療デバイス７００は、一般的に、細長い筐体７０１と、電源（たとえば、バッテリ）７０２と、駆動回路（または駆動回路ボード）７０３と、１つまたは複数の電極７０４と、１つまたは複数の絶縁体７０５と、プラズマ室７０６と、開始／停止スイッチ７０７と、１つまたは複数の磁場（誘導または収束）コイル７０８と、不活性ガス室７０９と、ガスチューブ７１０と、接地パッド７１９と、を含む。追加的な構成要素も含まれ得るが、簡易にするために示さない。
【００５４】
いくつかの実施形態では、筐体７０１は、一般的に、チューブ状の形状を有し、他の構成要素のほとんどを含むようにその長さのほとんどに渡って適切な直径を有するが、一端の出口穴７１１の近くではより小さな直径に先細になっている。筐体７０１の一般的な形状は、人の手に持つために適切である。筐体７０１は、一般的に、アルミニウム、他の金蔵、プラスチック、等の任意の適切な材料から作られている。いくつかの実施形態では、筐体７０１は、プラズマ室７０６と駆動回路ボード７０３とバッテリ７０２との間の電気的接地帰還路としての役割を果たす。筐体７０１は、バッテリ７０２と、駆動回路ボード７０３と、絶縁体７０５と、プラズマ室７０６と、開始／停止スイッチ７０７と、電極７０４と、磁場コイル７０８と、不活性ガス室７０９と、ガスチューブ７１０と、を含み、それらのための取り付けサポートを提供する。いくつかの実施形態では、プラズマ室７０６は、定められた体積（つまり、プラズマ領域）であり、プラズマは、出口穴７１１に最も近い筐体７０１の内部で生成される。
【００５５】
接地パッド７１９は、筐体７０１または（筐体７０１を通して）駆動回路ボード７０３に、導体７２０、たとえば、ワイヤを介して電気的に接続されている。いくつかの実施形態では、接地パッド７１９は、治療対象（たとえば、治療する目的組織を有する人、動物、等）の皮膚表面に、治療対象から導体７２０を通って筐体７０１または駆動回路ボード７０３への地帰路として接する。地帰路は、プラズマアークを治療対象の目的組織に向ける助けとなる。いくつかの実施形態では、接地パッド７１９は、たとえば、導電接着剤を用いて、目的組織近くの治療対象の皮膚のエリアに付けられる。たとえば、目的組織が人の足の爪の場合、接地パッド７１９は、示す通り、目的の足の爪に比較的近い人の足７２１に付けることができる。
【００５６】
いくつかの実施形態では、駆動回路ボード７０３は、ＩＣ（集積回路）チップ及び／またはＰＣＢ（プリント基板）に付けられた固体集積半導体受動素子と能動素子とから作られている。駆動回路ボード７０３は、バッテリ７０２と、電極７０４と、磁場コイル７０８と、磁気ソレノイドガスフローバルブ７１７と、筐体７０１と、に電気的に接続されている。バッテリ７０２によって電力を供給されて、駆動回路ボード７０３は、電極７０４に供給される高電圧、低電流プラズマアーク源信号と、磁場コイル７０８に供給される磁場源信号と、ガスフローバルブ７１７に供給されるバルブ制御信号と、を作る。電極７０４及び／または磁場コイル７０８に提供される電圧、電流、及び／または電力は、図１〜３と図４〜６との実施形態について上記で説明したものと同じまたは類似である。
【００５７】
いくつかの実施形態では、電極７０４は、プラズマアーク中心電極である。電極７０４は、ステンレススチール、プラチナ、金、銀、他の金属、導電性セラミック、金属の混合的結合、等の任意の適切な材料から作られている。電極７０４は、駆動回路ボード７０３に電気的に接続されている。加えて、電極７０４の一端は、プラズマ室７０６内またはそれに隣接して置かれている。駆動回路ボード７０３から受信するプラズマアーク源信号は、電極７０４に、プラズマを、プラズマ室７０６内の気体（たとえば、酸素、ヘリウム、アルゴン、窒素、等）内に出させる、または生成させる。いくつかの実施形態では、プラズマアークストリームは、気体の電離と反応とから形成される反応種を備える。反応種は、気体の組成を変えることによって、及び／または電極７０４に提供されるプラズマアーク源信号と磁場コイル７０８に提供される磁場源信号とのパラメータ（たとえば、電圧、電流、電力、基礎周波数、脈動周波数、脈動デューティサイクル、パルス形状、等）を調整することによって、調整することができる。いくつかの実施形態では、プラズマ室７０６は、たとえば、図１〜３と図４〜６との実施形態について上記で説明した通り、プラズマからの反応に抵抗性のある材料から構成されている。
【００５８】
いくつかの実施形態では、磁場コイル７０８は、ボビン（たとえば、スリーブ７１８）の周りに巻かれた複数巻銅線などの、適切なプラズマアーク誘導要素及び／または収束要素である。磁場コイル７０８は、電極７０４、プラズマ室（領域）７０６、出口穴７１１、及び／またはプラズマアーク源信号の近くに置かれている。いくつかの実施形態では、磁場コイル７０８は、一般的に、出口穴７１１に隣接したプラズマ室７０６の相当な部分を囲む。駆動回路ボード７０３から受信する磁場源信号は、磁場コイル７０８に、プラズマアーク源信号の方向を制御させて、プラズマ室７０６からのプラズマ場を目的組織７１５上の目的スポット７２２に向ける。
【００５９】
いくつかの実施形態では、不活性ガス室７０９は、その中でプラズマが生成される（不活性）ガスまたは種の貯蔵所を含む。ガスチューブ７１０は、不活性ガス室７０９を、通路７１２の一端に、電極７０４を通して物理的に接続する。（いくつかの実施形態では、ガスチューブ７１０は、通路７１２を通って、電極７０４を通って伸びる。）ガスフローバルブ７１７がバルブ制御信号によって作動されると、不活性ガスは、不活性ガス室７０９を通り、ガスチューブ７１０を通り、通路７１２を通り、通路７１２の他方の端部の電極出口穴７１３から出、プラズマ室７０６に入る。いくつかの実施形態では、ガス室７０９に含まれる気体は、特定の反応種をプラズマ内に作成するように選択される。
【００６０】
いくつかの実施形態では、磁場コイル７０８は、少なくとも２つの別々のプラズマアーク誘導要素と収束要素とを表す。いくつかの実施形態では、誘導コイル及び収束コイルがあり、それぞれが磁場コイルを備える。
【００６１】
理論によって限定されることなく、スポットの大きさは、治療する目的組織と作用するプラズマアークストリームの電力密度を決定する際の、主要な要因である。いくつかの実施形態では、スポットの大きさは、特定の平均温度上昇を、目的スポット７２２内のプラズマアークストリームと作用する組織内で生成するために使用することができる。より小さな目的スポットサイズでは、治療対象は、通常、より高い温度と関連する痛みに耐えることができる。いくつかの実施形態では、目的スポットの直径は、０．１ｍｍから１０ｍｍ、０．５から５ｍｍ、または１ｍｍから２ｍｍ、または１０、５または２ｍｍ以下の予め決められた大きさを有する。
【００６２】
いくつかの実施形態では、デバイスは、ユーザによって手動でスキャンされる（つまり、治療しようとする目的組織７１５のエリアの全てに作用するように、目的スポット７２２を手動で動かす）。いくつかの実施形態では、プラズマアークストリームは、治療する組織の上を行ったり来たりラスターし、たとえば、誘導コイルを使用して、プラズマアークストリームの方向を制御し、目的スポット７２２よりも大きなエリア上で目的スポット７２２をスキャンする。理論によって限定されることなく、プラズマアークストリームと作用する組織の温度は、最大で定常状態温度に達する時間の量まで、プラズマアークストリームが目的組織７１５と作用する時間の量によって影響または制御される。いくつかの実施形態では、治療する目的組織７１５上のプラズマアークストリームのスキャンレートは、特定の平均温度上昇をプラズマアークストリームと作用する目的組織７１５内で生成するように選択される。
【００６３】
いくつかの実施形態では、絶縁体７０５は、絶縁プラスチック材料、セラミック、ガラス、または他の適切な絶縁材から作られている。絶縁体７０５は、筐体７０１の内面とスリーブ７１８の外面、または電極７０４（電極７０４の２つの端部の近く）に接して、筐体７０１に対して間隔を開けた、一般的に同心の、電極７０４（と磁場コイル７０８と）を支える。絶縁体７０５は、したがって、電極７０４（と磁場コイル７０８と）を筐体７０１の内面から電気的及び熱的に絶縁する。
【００６４】
いくつかの実施形態では、バッテリ７０２は、適切な電圧（たとえば、０．８ボルトＤＣから７．４ボルトＤＣ）を生成することができる、任意の適切な充電可能または非充電可能な電力貯蔵源（たとえば、リチウムイオンバッテリ、アルカリバッテリ、等）である。バッテリ７０２は、電力を駆動回路ボード７０３に提供するように、駆動回路ボード７０３に電気的に接続されている。
【００６５】
いくつかの実施形態では、開始／停止スイッチ（またはボタン）７０７は、筐体７０１を通して付けられており、筐体７０１の外側に露出し、アクセス可能なようになっている。筐体７０１の内部では、開始／停止スイッチ７０７は、駆動回路ボード７０３に電気的に接続されている。（たとえば、ユーザによって押されまたは切り替えられることによって）オンまたはオフになった時、開始／停止スイッチ７０７は、駆動回路ボード７０３の動作を、それぞれ、作動または停止させる。
【００６６】
作動した時、駆動回路ボード７０３は、プラズマアーク源信号を電極７０４に提供し、磁場源信号を磁場コイル７０８に提供し、バルブ制御信号をガスフローバルブ７１７に提供する。それに応答して、（上記で説明した通り）不活性ガスがプラズマ室７０６に流れ、電極７０４及び磁場コイル７０８が、プラズマを、プラズマ室７０６内の不活性ガス内に生成する。気体がプラズマ室７０６を通り抜けるにつれて、生成されたプラズマが、プラズマアークストリーム７１４として出口穴７１１を通り抜ける。出口穴７１１が目的組織７１５（たとえば、人の足の爪）の近くに維持されている時、プラズマアークストリーム７１４は、（たとえば、目的組織７１５の真菌７１６を殺すために）目的組織を温熱療法する。いくつかの実施形態では、ガス室７０９内に収容された気体は、プラズマの温度を調整するように選択され、次に、それが、プラズマと作用する間の治療する目的組織の目的温度に影響を与える。いくつかの実施形態では、目的温度及び温度差は、図１〜３及び／または図４〜６の実施形態について上記で説明したものと同じまたは類似である。いくつかの実施形態では、目的組織７１５内で生成される熱は、上記で説明した通り、空洞現象と結果として生じる効果とを引き起こす。
【００６７】
いくつかの実施形態では、駆動回路ボード７０３から電極７０４に提供されるプラズマアーク源信号は、連続波または脈動している。いくつかの実施形態では、電極７０４に提供されるプラズマアーク源信号は、図１〜３及び／または図４〜６の実施形態について上記で説明したパラメータと同じまたは類似の、時間平均出力、基礎周波数、脈動周波数、脈動デューティサイクル、パルス持続時間、及び／またはパルス形状を有する。理論によって限定されることなく、時間平均出力と基礎周波数と脈動周波数と脈動デューティサイクルとパルス形状との組み合わせは、一般的に、プラズマアークストリームと作用する目的組織の平均温度上昇を決定する。いくつかの実施形態では、電極７０４に提供されるプラズマアーク源信号の時間平均出力、基礎周波数、脈動周波数、脈動デューティサイクル、及びパルス形状は、特定の予め決められた平均温度上昇を、結果として生じるプラズマアークストリームと作用する目的組織において生成するために、選択または調整される。このようにして、駆動回路ボード７０３は、目的組織の温度または温度上昇を、これらのパラメータを制御、調整、または変調することによって制御する。いくつかの実施形態では、目的温度は、上記で説明した通り、異なってよい。いくつかの実施形態では、異なるプラズマパラメータ（たとえば、時間平均出力、脈動周波数、等）は、特定の予め決められた目的温度をプラズマアークストリームと作用する目的組織において生成するために必要である。
【００６８】
図８は、バッテリ７０２と、駆動回路ボード７０３と、１つまたは複数の電極７０４と、プラズマ（アーク）室７０６と、開始／停止スイッチ７０７と、磁場コイル７０８と、不活性ガス室７０９と、を有する治療デバイス７００の実施形態を示している。いくつかの実施形態では、これらの構成要素は、一般的に、図７を参照して上記で説明した（同じ参照番号を有する）構成要素と同じまたは類似である。加えて、いくつかの実施形態では、治療デバイス７００は、また、プラズマアーク地帰路８００を有する。さらに、いくつかの実施形態では、駆動回路ボード７０３は、一般的に、マイクロコントローラ８０１と、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ８０２と、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ８０３と、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器８０４と、高電圧電流制限要素８０５と、を有する。
【００６９】
いくつかの実施形態では、プラズマアーク地帰路８００は、電気回路を完成させるために、プラズマアーク室７０６と駆動回路ボード７０３とバッテリ７０２との間に伸びるワイヤまたは他の導体である。いくつかの実施形態では、筐体７０１は、プラズマアーク地帰路８００としての役割を果たす。いくつかの実施形態では、（図８に示さない）別の地帰路が、上記で説明した通り、プラズマアークストリームが目的組織に確実に到達することを補助するために、治療対象に付けられた接地パッド７１９に提供される。
【００７０】
いくつかの実施形態では、マイクロコントローラ８０１は、磁場コイル７０８とプラズマアーク信号の方向とを含む、治療デバイス７００の動作の全機能を制御する。この制御下で、マイクロコントローラ８０１は、プラズマ場をピンポイントに絞る、またはより広い場に広げることができる。
【００７１】
いくつかの実施形態では、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ８０２は、バッテリ７０２から電圧を受け取り、それを、駆動回路ボード７０３の構成要素によって使用されるＤＣ電圧に変換する。
【００７２】
いくつかの実施形態では、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ８０３は、ＤＣ電圧をＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ８０２から受け取り、プラズマアーク信号の生成に必要なＡＣ高周波電圧信号を生成するための比較的小さなパッケージにおいて、比較的効率的な手段である。
【００７３】
いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器８０４は、ＡＣ高周波電圧信号を受信し、電圧をさらに高めるためにそれを変換し、それをＤＣ電圧に整流する。
【００７４】
いくつかの実施形態では、高電圧電流制限要素８０５は、ＤＣ電圧を受信し、プラズマアークの出力を制限して、目的組織７１５を目的温度よりも高い温度から保護するようにする。
【００７５】
図９は、バッテリ７０２と、駆動回路ボード７０３と、１つまたは複数の電極７０４と、プラズマ（アーク）室７０６と、開始／停止スイッチ７０７と、磁場コイル７０８と、不活性ガス室７０９と、プラズマアーク地帰路８００と、マイクロコントローラ８０１と、ＤＣ／ＤＣ低電圧コンバータ８０２と、ＤＣ／ＡＣ高周波電圧コンバータ８０３と、ＡＣ／ＤＣ高電圧乗算器８０４と、高電圧電流制限要素８０５と、を有する治療デバイス７００の実施形態を示している。いくつかの実施形態では、これらの構成要素は、一般的に、図７と図８とを参照して上記で説明した（同じ参照番号を有する）構成要素と同じまたは類似である。いくつかの実施形態では、治療デバイス７００は、また、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ９００とバッテリ充電回路９０１とを有する、または接続されている。
【００７６】
いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ９００は、バッテリ７０２が完全または部分的に放電した際にＡＣコンセントを差した時、バッテリ７０２を充電することと、治療デバイス７００に電力を供給することと、のために使用される。いくつかの実施形態では、ＡＣ／ＤＣ電力アダプタ９００は、筐体７０１の外側または内側である。
【００７７】
いくつかの実施形態では、バッテリ充電回路９０１は、バッテリ７０２を迅速に充電するために、駆動回路ボード７０３に組み込まれている。いくつかの実施形態では、バッテリ充電回路９０１は、筐体７０１の外側または内側である。
【００７８】
本発明の実施形態を、その具体的な実施形態に主に関して説明したが、他の変形も可能である。説明したシステムのさまざまな構成を、本明細書で提示した構成の代わりに、またはそれに追加して、使用することができる。たとえば、追加的な構成要素を、適切な場合には、回路に含むことができる。別の例として、構成を、回路要素またはシステム構成要素の特定の種類及び組み合わせを一般に参照して説明したが、回路構成要素の他の種類及び／または組み合わせを、説明したものに追加して、またはそれらの代わりに使用することができる。
【００７９】
当業者は、前述の説明が例示のみであり、本発明を制限する意図がないことを理解する。本開示の何も、本発明が、示され、説明された特定の種類のデバイスを有するシステムに限定されることを示すものではない。本開示の何も、本発明が、明記されない限り、特定の形態の集積回路またはハードウェア構成要素を必要とするシステムに限定されることを示すものではない。一般的に、提示された任意の図は、１つの可能性のある構成を示すことを意図するのみであり、任意の変形が可能である。当業者は、また、本発明と一致する方法及びシステムが、広範囲に渡るアプリケーションでの使用に適切であることを理解する。
【００８０】
本明細書は、本発明の具体的な実施形態に関して詳細に説明したが、当業者は、前述の理解を得ることによって、これらの実施形態の変形物、変化物、及び同等物を容易に思い付くことできる、ということが理解される。本発明のこれら及び他の変形物及び変化物は、本発明の範囲から逸脱することなしに、当業者によって実施され得る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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