(57)【要約】  シール組立体（１０）が、固定要素（１１）と、回転要素（１２）と、硬い環状補強部（１４）、及び弾性材料からなりかつ摺動面（１６）と接触するシール（１５）を備えるシール部材（１３）と、を備える。摺動面（１６）が、０．１５μｍ以上でありかつ０．５μｍよりも小さい算術平均粗さ（Ｒａ）を有する。摺動面（１６）が、１以上である粗さ比率（Ｒ）を有する。粗さ比率（Ｒ）が、摺動面にわたる、山の量に対応する第２パラメータに対する、谷の量に対応する第１パラメータの比率である。
2019534429.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−  固定要素（１１）と；
−  回転軸（Ｘ）周りで前記固定要素に対して回転可能となるよう意図された回転要素（１２）と；
−  前記固定要素及び前記回転要素のうちの一方の要素に固定して取り付けられた硬い環状補強部（１４）と、前記環状補強部（１４）に固定されたシール（１５）と、を備えるシール部材（１３）であって、前記シール（１５）が、弾性材料から作られ、前記固定要素及び前記回転要素のうちの他方の要素の摺動面（１６）と接触する、シール部材（１３）と；
を備えるシール組立体（１０）において、
−  前記摺動面（１６）が、０．１５μｍ以上でありかつ０．５μｍよりも小さい算術平均粗さ（Ｒａ）を有し；
−  前記摺動面（１６）が、１以上である粗さ比率（Ｒ）を有し、前記粗さ比率（Ｒ）が、前記摺動面にわたる外形の山の量に対応する第２パラメータに対する、前記摺動面にわたる前記外形の谷の量に対応する第１パラメータの比率であることを特徴とする組立体。
【請求項２】
前記第１パラメータがＲｖｋパラメータであり、前記第２パラメータがＲｐｋパラメータであり、前記Ｒｖｋパラメータ及び前記Ｒｐｋパラメータが規格ＩＳＯ１３５６５に従って規定及び決定されることを特徴とする請求項１に記載の組立体。
【請求項３】
前記粗さ比率（Ｒ）が、１．５以上であり、好ましくは２以上であることを特徴とする請求項１に記載の組立体。
【請求項４】
前記算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．２μｍ以上でありかつ０．３μｍよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の組立体。
【請求項５】
前記組立体が、前記他方の要素に固定された環状リング（１７）をさらに備え、前記摺動面（１６）が、前記環状リング（１７）上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の組立体。
【請求項６】
−  前記環状リング（１７）が、前記固定要素及び前記回転要素のうちの前記他方の要素に固定して取り付けられたシリンダ状部分（１７ａ）と、前記シリンダ状部分の一端から前記回転軸（Ｘ）に対して径方向に延在するフランジ部分（１７ｂ）と、を備え；
−  前記シール（１５）が、前記シリンダ状部分に含まれる前記摺動面と接触するために前記環状補強部（１４）から出て前記シリンダ状部分（１７ａ）へ径方向に延在する第１リップ（１５ｂ）と、前記フランジ部分に含まれる摺動面と接触するために前記環状補強部（１４）から前記フランジ部分（１７ｂ）へ軸方向に延在する第２リップ（１５ｃ）と、を備え；
−  前記環状リング（１７）と、前記第１シールリップ（１５ａ）及び前記第２シールリップ（１５ｂ）と、が内部容積を規定することを特徴とする請求項５に記載の組立体。
【請求項７】
前記内側容積が、少なくとも部分的にグリースで充填されることを特徴とする請求項６に記載の組立体。
【請求項８】
前記グリースが、５センチストークスから４０センチストークスの間に含まれる、４０℃での動粘性を有することを特徴とする請求項７に記載の組立体。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載のシール組立体（１０）と、前記回転軸周りでの前記固定要素に対する前記回転要素の相対回転を可能とするために転動空間内に配置された転動体（４）と、を備えることを特徴とするころ軸受（１）。
【請求項１０】
ａ）−  固定要素と；
−  回転軸周りで前記固定要素に対して回転可能となるよう意図された回転要素と；
−  前記固定要素及び前記回転要素のうちの一方の要素に固定して取り付けられた硬い環状補強部と、前記環状補強部に固定されたシールと、を備えるシール部材であって、前記シールが、弾性材料から作られ、前記固定要素及び前記回転要素のうちの他方の要素の摺動面と接触する、シール部材と；
を備えるシール組立体を提供するステップと；
ｂ）−  前記摺動面上に谷を形成するためのショットブラストサブステップと；
−  前記摺動面上の山を少なくとも部分的に除去するためのポリッシュサブステップと；
の少なくとも一方によって前記摺動面が処理されるステップと；
を含む、シール組立体を製造するための方法。
【請求項１１】
前記ショットブラストサブステップが、５分から１５分の間に含まれる時間の間、５０μｍから４２３μｍの間に含まれる直径を有するガラスビーズで、前記摺動面に衝撃を与えるステップからなることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ポリッシュサブステップが、仕上げ媒体の存在下で前記摺動面を振動させるステップからなることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ポリッシュサブステップが、１５分から４５分の間に含まれる時間の間なされることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記シール組立体が、環状でありかつ前記他方の要素に固定されるよう意図されたリングをさらに備え、前記摺動面が、前記環状リング上に形成されていることを特徴とする請求項１０から１３のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シール組立体に関する。
【０００２】
より具体的に、本発明は、
−  固定要素と；
−  回転軸周りで固定要素に対して回転可能となるよう意図された回転要素と；
−  固定要素及び回転要素のうちの一方の要素に固定して取り付けられた硬い環状補強部と、補強部に固定されたシールと、を備えるシール部材であって、前記シールが、弾性材料から作られ、固定要素及び回転要素のうちの他方の要素の摺動面と接触する、シール部材と；
を備えるシール組立体に関する。
【背景技術】
【０００３】
このタイプの組立体の多くの例が公知である。
【０００４】
このようなシール組立体は、例えば軸受に使用され、例えば自動車ホイール軸受に使用される。特にこのシール組立体により、潤滑流体が、低摩擦での軸受の動作を提供するために軸受の内部に保持され得る。
【０００５】
残念なことに、このシール組立体は、回転摩擦トルクを意味する摩擦を増大させることに寄与する。この現象は、回転中の機械的エネルギーのロスの一部である。これらのロスを減少させるために、シールを維持することも可能にする低摩擦の解決法が求められる。
【０００６】
特許文献１は、このようなシール組立体の例を説明し、このシール組立体では、摺動面は、谷を作り出すために０．５μｍ以上の算術平均粗さ（Ｒａ）を有し、４０℃で１０ｍｍ２／ｓから６０ｍｍ２／ｓの間に含まれる動粘性を有するグリースが、使用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】欧州特許出願公開第１８３００８６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、特に摩擦トルクを減少させながら優れたシールを保つために、このタイプのシール組立体を改良することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
このために、シール組立体は、
−  摺動面が、０．１５μｍ以上でありかつ０．５μｍよりも小さい算術平均粗さ（Ｒａ）を有し；
−  摺動面が、１以上である粗さ比率（Ｒ）を有し、前記粗さ比率（Ｒ）が、摺動面にわたる外形(profile)の山の量に対応する第２パラメータに対する、摺動面にわたる前記外形の谷の量に対応する第１パラメータの比率である；
ことを特徴とする。
【００１０】
これらの構成に起因して、摺動面が、シールの摩損を回避するのに十分に滑らかでありかつ潤滑されることが保証される。従って、固定要素と回転要素との間での摩擦トルクの大きな減少が得られる。この摩擦トルクは、複数の部分について、より一致した（再現可能な）値を有する。
【００１１】
これらの構成は、接触面、特にシールの摩耗を減少させるとともにシール組立体の寿命を増大させる効果も有する。
【００１２】
これらの構成は、シール性能を維持するとともに複数の部分にわたるこのシール性能の再現性を改善する効果も有する。
【００１３】
シール組立体のさまざまな実施形態では、以下の構成のうちの１つの構成及び／又は別の構成が使用されてもよい。
【００１４】
一側面によれば、第１パラメータがＲｖｋパラメータであり、第２パラメータがＲｐｋパラメータであり、前記Ｒｖｋパラメータ及び前記Ｒｐｋパラメータが規格ＩＳＯ１３５６５に従って規定及び決定される。
【００１５】
一側面によれば、粗さ比率が、１．５以上であり、好ましくは２以上である。
【００１６】
一側面によれば、算術平均粗さが、０．２μｍ以上でありかつ０．３μｍよりも小さい。
【００１７】
一側面によれば、組立体が、他方の要素に固定された環状リングをさらに備え、摺動面が、前記環状リング上に形成されている。
【００１８】
一側面によれば、
−  環状リングが、固定要素及び回転要素のうちの他方の要素に固定して取り付けられたシリンダ状部分と、前記シリンダ状部分の一端から回転軸に対して径方向に延在するフランジ部分と、を備え；
−  シールが、前記シリンダ状部分に含まれる摺動面と接触するために環状補強部から出てシリンダ状部分へ径方向に延在する第１リップと、前記フランジ部分に含まれる摺動面と接触するために環状補強部からフランジ部分へ軸方向に延在する第２リップと、を備え；
−  前記環状リングと、前記第１シールリップ及び前記第２シールリップと、が内部容積を規定する。
【００１９】
一側面によれば、内側容積が、少なくとも部分的にグリースで充填される。
【００２０】
一側面によれば、グリースが、５センチストークスから４０センチストークスの間に含まれる、４０℃での動粘性を有する。
【００２１】
本発明は、前述の特徴によるシール組立体と、回転軸周りでの固定要素に対する回転要素の相対回転を可能とするために転動空間内に配置された転動体と、を備えるころ軸受にも関する。
【００２２】
本発明は、
ａ）−  固定要素と；
−  回転軸周りで固定要素に対して回転可能となるよう意図された回転要素と；
−  固定要素及び回転要素のうちの一方の要素に固定して取り付けられた硬い環状補強部と、補強部に固定されたシールと、を備えるシール部材であって、前記シールが、弾性材料から作られ、固定要素及び回転要素のうちの他方の要素の摺動面と接触する、シール部材と；
を備えるシール組立体を提供するステップと；
ｂ）−  摺動面上に谷を形成するためのショットブラストサブステップと；
−  摺動面上の山を少なくとも部分的に除去するためのポリッシュサブステップと；
の少なくとも一方によって摺動面が処理されるステップと；
を含む、シール組立体を製造するための方法にも関する。
【００２３】
方法のさまざまな実施形態では、以下の構成の１つの構成及び／又は別の構成が使用されてもよい。
【００２４】
一側面によれば、ショットブラストサブステップが、５分から１５分の間に含まれる時間の間、５０μｍから４２３μｍの間に含まれる直径を有するガラスビーズで、摺動面に衝撃を与えるステップからなる。
【００２５】
一側面によれば、ポリッシュサブステップが、仕上げ媒体の存在下で摺動面を振動させるステップからなる。
【００２６】
一側面によれば、ポリッシュサブステップが、１５分から４５分の間に含まれる時間の間なされる。
【００２７】
一側面によれば、シール組立体が、環状でありかつ他方の要素に固定されるよう意図されたリングをさらに備え、前記摺動面が、前記環状リング上に形成されている。
【００２８】
本発明の他の特徴及び利点は、非限定的な例として与えられる、添付の図面を参照する本発明の一実施形態の１つの以下の説明の中でより明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の第１実施形態によるシール組立体の横断面図である。
【図２】本発明の第２実施形態によるシール組立体の横断面図である。
【図３】摺動面上での線の外形の曲線である。
【図４】図３の外形をカバーする長さレート曲線である。
【図５】本発明によるシール組立体を備えるころ軸受である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
さまざまな図では、同じ参照符号は、同一の又は類似する要素を特定する。
【００３１】
図１は、
−  固定要素１１と；
−  回転軸Ｘ周りで固定要素に対して回転可能な回転要素１２と；
−  硬い環状補強部１４と、補強部に固定されたシール１５と、を備えるシール部材１３と；
を備えるシール組立体１０の第１実施形態を示し、前記シール１５は、弾性材料から作られ、摺動面１６と接触する。
【００３２】
補強部１４は、固定要素１１及び回転要素１２のうちの一方の要素に固定して取り付けられている。
【００３３】
摺動面１６が、固定要素１１及び回転要素１２のうちの他方の要素に接続されている。
【００３４】
特に、固定要素１１は、外側要素、すなわち回転軸Ｘから最も遠い要素、すなわち内側要素である回転要素１２周りに配置された要素である。これは、旋回シャフトである回転要素１２を使用する場合である（図１）。
【００３５】
一方、固定要素１１は、内側要素、すなわち回転軸Ｘに最も近い要素、外側要素である回転要素の内部に配置された要素とすることができる。
【００３６】
本説明の簡略化のために、補強部１４は、外側固定要素１１に接続され、摺動面１６は、他方の要素、すなわち内側回転要素１２に接続されているとみなされる。しかしながら、当然ながら、他の使用も、本発明に適している。
【００３７】
シール１５は、
−  少なくとも１つの補強面１４に取り付けられた取付部分１５ａであって、例えば前記補強部１４にオーバーモールドすることによって、有利には前記補強面上での事前の接着コーティングにより、少なくとも１つの補強面１４に取り付けられた取付部分１５ａと、
−  リップの一端１５ｄにおいて摺動面１６と接触するために、環状補強部１４から摺動面１６へ径方向に延在する第１リップ１５ｂと、
を備えている。
【００３８】
図１のこの実施形態では、摺動面１６は、回転要素１２の一体部分であり、特に回転要素１２のシリンダ状外面１２ａの一体部分である。この摺動面１６は、環状でありかつ回転軸Ｘの長手方向において長さｃに沿って延在する、シリンダ状面１２ａの一部分に対応する。摺動面部分１６は、シール１５のリップの端部１５ｄが前記摺動面１６と接触するように、（長手方向において）シール部材１３と対応して位置決めされている。
【００３９】
変形例として、摺動面１６は、環状タイプのリング（図示せず）上に形成され、他方の要素（回転要素１２）に固定されている。例えば、このリングは、金属パーツである。このリングは、回転要素１２とシール１５との間に配置されている。シール１５のリップ端部１５ｄは、回転要素１２とともに旋回するこのリングの外面と摺動タイプの接触をする。
【００４０】
本発明によれば、摺動面１６は、
−  摺動面１６が、０．１５μｍ以上でありかつ０．５μｍよりも小さい算術平均粗さＲａを有する、
−  摺動面１６が、１以上である粗さ比率Ｒを有し、前記粗さ比率Ｒが、摺動面１６にわたる外形の山の量に対応する第２パラメータに対する、摺動面１６にわたる前記外形の谷の量に対応する第１パラメータの比率である、
という特徴を有する。
【００４１】
好ましい変形例によれば、第１パラメータは、Ｒｖｋパラメータであり、第２パラメータは、Ｒｐｋパラメータであり、前記Ｒｖｋパラメータ及びＲｐｋパラメータは、Ｒ＝Ｒｖｋ／Ｒｐｋを示す規格ＩＳＯ１３５６５に従って規定及び決定される。
【００４２】
粗さ規格の詳細は、後述される。
【００４３】
さまざまな前述の構成に起因して、摺動面が、シールの摩損を回避するのにかつ摩擦トルクの減少を得るのに十分に滑らかでありかつ潤滑されることが保証される。シール組立体のシール性能は保たれる。シールの摩耗は減少され、組立体の寿命は改善される。
【００４４】
図２は、図１のシール組立体と同じ要素を備えるシール組立体１０の第２実施形態を示す。
【００４５】
シール組立体１０は、回転要素１２に固定されかつ回転要素１２とシール１５との間に配置された環状リング１７をさらに備える。シール１５のリップ端部１５ｄは、回転要素１２とともに旋回するこのリングの少なくとも１つの表面と摺動タイプの接触をする。
【００４６】
第２実施形態では、より具体的には、環状リング１７は、
−  例えば前記回転要素１２のシリンダ状面１２ａ上での締付嵌合によって回転要素１２に固定して取り付けられたシリンダ状部分１７ａと；
−  前記シリンダ状部分１７ａの一端から回転軸Ｘに対して径方向に延在するフランジ部分１７ｂと；
を備えている。
【００４７】
シール１５は、図１の第１実施形態のように、
−  少なくとも１つの補強面１４に取り付けられた取付部分１５ａと；
−  リップの一端１５ｄにおいて摺動面１６と接触するために、環状補強部１４から摺動面１６へ径方向に延在する第１リップ１５ｂと；
を備えている。
【００４８】
シール１５は、この第２実施形態では、第２リップ１５ｃも備え、第２リップ１５ｃは、環状補強部１４からフランジ部分１７ｂへ軸方向に延在し、これにより、リップの一端１５ｅにおいて、前記フランジ部分１７ｂに含まれる摺動面１６の第２部分と接触する。
【００４９】
従って、摺動面１６は、本実施形態では、回転要素１２に取り付けられた環状リング１７の一体部分を構成する。この摺動面１６は、例えば、補強部１４に向かって向けられた環状リング１７の外面のすべて又は一部に対応する。
【００５０】
摺動面１６は、例えば、
−  環状リング１７のシリンダ部分１７ａの第１部分であって、回転軸Ｘの長手方向において長さｃ１にわたってかつ第１リップ１５ｂに対応して（面して）延在する、第１部分と；
−  環状リング１７のフランジ部分１７ｂの第２部分であって、回転軸Ｘの長手方向と略垂直な方向において長さｃ２にわたってかつ第２リップ１５ｃに対応して（面して）延在する、第２部分と；
を備えている。
【００５１】
従って、第１リップの端部１５ｄ及び第２リップの端部１５ｅは、摺動面１６と摺動接触する。
【００５２】
本発明によれば、摺動面１６は、
−  摺動面１６が、０．１５μｍ以上でありかつ０．５μｍよりも小さい算術平均粗さＲａを有する；
−  摺動面１６が、１以上である粗さ比率Ｒを有し、前記粗さ比率Ｒが、摺動面１６にわたる外形の山の量に対応する第２パラメータに対する、摺動面１６にわたる前記外形の谷の量に対応する第１パラメータの比率である；
という特徴を有する。
【００５３】
好ましい変形例によれば、第１パラメータは、Ｒｖｋパラメータであり、第２パラメータは、Ｒｐｋパラメータであり、前記Ｒｖｋパラメータ及びＲｐｋパラメータは、Ｒ＝Ｒｖｋ／Ｒｐｋを示す規格ＩＳＯ１３５６５に従って規定及び決定される。
【００５４】
粗さ規格の詳細は、後述される。
【００５５】
そして、環状リング１７と、第１シールリップ１５ｂ及び第２シールリップ１５ｃと、は、シール組立体の内部に環状容積を規定する。
【００５６】
この内側容積は、少なくとも部分的にグリースで充填される。従って、摺動面１６の谷は前記グリースで充填され、摩擦トルクが減少される。
【００５７】
グリースは、好ましくは、５センチストークスから４０センチストークスの間に含まれる、４０℃での動粘性を有する。
【００５８】
さまざまな前述の構成に起因して、摺動面は、シールの摩損を回避するのにかつ摩擦トルクの減少を得るのに十分に滑らかでありかつ潤滑されることが保証される。シール組立体のシール性能は、保たれる。シールの摩耗は減少され、組立体の寿命は改善される。
【００５９】
変形例として、環状リング１７には、例えば弾性フェライトエンコーダといった磁気タイプのエンコード要素（図示せず）が設けられ得る。これらエンコード要素は、通常、交互の南北磁極を有する。そして、センサ要素が、所定の信号を発生することができ、この信号により、固定要素１１に対する回転要素１２の回転位置及び／又は速度を決定することができる。
【００６０】
前述の実施形態のいずれか１つにより、以下の特徴が可能である。
【００６１】
粗さ比率Ｒは、１．５以上であってもよく、例えば２以上であってもよく、これは、摺動面１６が、山よりも非常に大きい体積もしくは量の谷を備えることを意味する。従って、摺動面は、滑らかであり、十分に潤滑される。そして、摩擦トルクは減少される。
【００６２】
算術平均粗さＲａは、０．２μｍ以上でありかつ０．３μｍよりも小さいことを意味する減少された範囲内にある。このようにして、摩擦トルクが減少された、より滑らかな表面が可能である。
【００６３】
これから、本発明によるさまざまな実施形態の規定で使用される粗さ規格に関する説明をする。
【００６４】
図３は、表面のサンプル外形３０を示し、この外形は、表面分析器といった適切なデバイスにより測定された。外形３０は、長さＬにわたって延在する表面上での線の横軸ｘに沿って測定された、表面の連続的な高さｚ（ｘ）である。
【００６５】
二等分線３１は、外形の山と谷との間の中央の水平線である。この線は、例えばＩＳＯ１３５６５−１規格のフィルタリングプロセスによって規定されている。
【００６６】
算術平均粗さＲａは、好ましくはＩＳＯ４２８７規格に従って規定及び決定される。この算術平均粗さＲａは、外形３０の二等分線３１からのずれの絶対値の算術平均である。特に、算術平均粗さＲａは、通常、
【数１】
2019534429.tif 000003
によって計算され、
このうち、ｚ（ｘ）は、平均線３１からの外形３０のずれであり、
ｘは、横軸であり、
Ｌは、表面上での線の長さ又は二等分線の長さである。
【００６７】
最後に、この図３では、外形３０の山及び谷が、それらの重要性（量）を示すためにハッチングを有する。
【００６８】
ＩＳＯ１３５６５−２規格は、Ｒｖｋパラメータ及びＲｐｋパラメータの定義を説明する。これらのパラメータは、図３の外形３０とは反対側の、図４に示された支持長さ比率曲線(bearing length ratio curve)４０によって決定される。この曲線は、アボット−ファイヤストーン曲線とも称される。支持長さ比率は、全長Ｌに対する、高さｈでの外形３０からの支持長さ（高さｈでのものの水平セグメント）の和のパーセントの比率である。
【００６９】
同等直線Ｄが、支持長さ比率曲線４０の中央ゾーンでの最小二乗法によって決定される。この中央ゾーンは、外形のポイントの４０％を表す。同等直線Ｄは、第１ポイントＰ１の０％で縦座標軸をカットし、第２ポイントＰ２の１００％で縦座標軸をカットする。このようにして、外形３０は、
−  第１ポイントＰ１の高さｈ１よりも大きい高さに配置された山を有するゾーンと；
−  第２ポイントＰ２の高さｈ２よりも小さい高さに配置された谷を有するゾーンと；
−  高さｈ１と高さｈ２との間に含まれる高さを有する外形ポイントを有する減少された、山の外形ゾーンと；
の３つのゾーンに分けられ得る。
【００７０】
そして、第１直角三角形Ａ１は、支持長さ比率曲線４０上でトレースされ、第１ポイントＰ１と支持長さ比率曲線４０との間で水平に延在する底辺と、高さＲｐｋにわたって第１ポイントＰ１から上方に縦座標軸（０％）上で延在する側辺と、を有し、このため、前記第１直角三角形Ａ１の表面積は、図３に示される山Ｓ１のゾーンの表面積に等しい。
【００７１】
次に、第２直角三角形Ａ２は、支持長さ比率曲線４０上でトレースされ、第２ポイントＰ２と支持長さ比率曲線４０との間で水平に延在する底辺と、高さＲｖｋにわたって第２ポイントＰ２から下方に縦座標軸（１００％）上で延在する側辺と、を有し、このため、前記第２直角三角形Ａ２の表面積は、図３に示される谷Ｓ２のゾーンの表面積に等しい。
【００７２】
パラメータＲｐｋは、第１直角三角形Ａ１の高さである。従って、このパラメータＲｐｋは、外形３０の山の量を定量化する。
【００７３】
パラメータＲｖｋは、第２直角三角形Ａ２の高さである。従って、このパラメータＲｖｋは、外形３０の谷の量を定量化する。
【００７４】
算術平均粗さＲａと、パラメータＲｐｋ及びＲｖｋと、は、有利には、本発明によるシール組立体１０の摺動面１６の特性を正確に規定するために使用される。
【００７５】
図５は、ころ軸受の内部の空間のシールを保証するために上述したシール組立体１０を少なくとも一方の側に備えるころ軸受１を示す。ころ軸受は、例えば、自動車用ころ軸受であり、より具体的に、例えば図５に示されるように自動車ホイールころ軸受である。
【００７６】
このころ軸受１は、特に、
−  固定部材２と；
−  シャフト５によって回転駆動される回転部材３であって、例えば車両ホイールが取り付けられた、回転部材３と；
−  固定部材と回転部材との間の相当な力を吸収しながら回転軸Ｘ周りでの固定部材２に対する回転部材３の相対回転を可能にするために、固定部材２と回転部材３との間に形成されたころ空間４ｅ内に配置された転動体４と；
を備えている。
【００７７】
シール組立体１０の固定要素１１は、まさに固定部材２であるか、又はころ軸受１の前記固定部材２上に取り付けられているかのいずれかである。
【００７８】
シール組立体１０の回転要素１２は、まさに回転部材３であるか、又はころ軸受１の前記回転部材３上に取り付けられているかのいずれかである。
【００７９】
転動体４は、玉もしくはころ又は任意の公知のタイプであってもよい。
【００８０】
本発明によるシール組立体１０に起因して、ころ軸受１は、従来技術よりも小さい摩擦トルクを有する。従って、このようなデバイスを備えた車両は、前進するのに、より少ないエネルギーを消費する。
【００８１】
シール組立体１０は、
ａ）−  固定要素１１と；
−  回転軸周りで固定要素に対して回転可能となるよう意図された回転要素１２と；
−  固定要素及び回転要素のうちの一方の要素に固定して取り付けられた環状補強部１４と、補強部に固定されたシール１５と、を備えるシール部材１３であって、前記シール１５が、弾性材料から作られ、固定要素及び回転要素のうちの他方の要素の摺動面１６と接触するよう意図されている、シール部材１３と；
を備えるシール組立体１０を提供するステップと；
ｂ）−  摺動面上に谷を形成するためのショットブラストサブステップと；
−  摺動面上の山を少なくとも部分的に除去するためのポリッシュサブステップと；
の少なくとも一方によって摺動面が処理されるステップと；
の製造方法により製造され得る。
【００８２】
ショットブラストサブステップは、例えば、金属もしくはガラスビーズ又は他のもので摺動面１６（すなわち前記摺動面を備える部分又は要素）に衝撃を与えるステップからなる。
【００８３】
例えば、このショットブラストのために、５０μｍから４２３μｍの間に含まれる直径を有するガラスビーズが、５分から１５分の間に含まれる時間の間使用される。
【００８４】
ショットブラストは、摺動面１６上に山及び谷を形成する。特に、結果として生じる算術平均粗さＲａは、このショットブラストサブステップの特性に依存している。
【００８５】
ポリッシュ又は仕上げサブステップは、仕上げ媒体の存在下で摺動面１６（すなわち前記摺動面を備える部分又は要素）を振動させるステップからなる。振動ボウル又はＳｐｉｒａｔｏｎ（登録商標）といった振動機は、このために使用される。
【００８６】
仕上げ媒体は、例えば、研磨剤から形成されたピースであり、例えばセラミック又は石である。これら仕上げ媒体は、例えば球形状又はシリンダ形状又はプリズム（例えば立方又は四面体）形状である。これら仕上げ媒体は、処理すべき部分のすべての部分をポリッシュするために適している（選択される）。
【００８７】
仕上げ媒体は、例えば、２ｍｍから８ｍｍの間に含まれる直径と、５ｍｍから１５ｍｍの間に含まれる長さと、を有するシリンダである。
【００８８】
仕上げ媒体は、２ｍｍから１５ｍｍの間に含まれる、各方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ）での寸法を有することができる。
【００８９】
さらに、ポリッシュサブステップは、１５分から４５分の間に含まれる時間の間なされる。
【００９０】
仕上げ媒体は、摺動面１６の上部を侵食し、これによりこの摺動面１６の外形から山の量を減少させる。従って、プロセスは、谷の量に対して山の量を減少させることができる。
【００９１】
特に、このポリッシュ又は仕上げサブステップにより、上述したように１以上又は１．５もしくは２以上として規定されるような粗さ比率Ｒが、望まれる場合に、得ることができる。
【００９２】
結果として、上述した製造プロセスにより、特に摺動面１６の処理ステップに起因して、好ましい粗さ特性が、シール組立体１０の摺動面１６に対して達成することができる。従って、摺動面１６は、０．１５μｍ以上でありかつ０．５μｍよりも小さい算術平均粗さ（Ｒａ）と、１以上である粗さ比率（Ｒ）と、を有するように処理され、粗さ比率（Ｒ）は、摺動面にわたる外形の山の量に対応する第２パラメータに対する、摺動面にわたる前記外形の谷の量に対応する第１パラメータの比率である。
【００９３】
そして、摺動面は、滑らかであり、かつ潤滑流体で充填されるよう意図されたキャビティを有する。
【００９４】
シール組立体１０は、上述したように環状リング１７を備えてもよく、摺動面１６は、その場合、この環状リング１７上に形成される。
【００９５】
環状リング１７の部分は、上記の製造方法によりなされた表面粗さ変化が、摺動面１６のゾーン上を意味する相補的部分にのみ有効であるように、マスクされ得る。
【００９６】
いくつかのサブ表面によって形成された摺動面１６を有し、各サブ表面が、互いに異なっていてもよい予め設定された粗さ特性を有することも可能である。
【００９７】
シール組立体１０の摺動面１６が、（０．１５μｍから０．５μｍの間に含まれる）小さい算術平均粗さと、山の量に対して谷の量が大きい粗さ比率Ｒと、を有するので、シール組立体の摩擦トルク又は抵抗トルクは、大きく減少されるとともに、優れたシールを保つ。
さらに、シールジョイント１５が、このシール特性のために優れた寿命も有する。
【符号の説明】
【００９８】
１  ころ軸受、４  転動体、１０  シール組立体、１１  固定要素、１２  回転要素、１３  シール部材、１４  環状補強部、１５  シール、１５ｂ  第１リップ、１５ｃ  第２リップ、１６  摺動面、１７  環状リング、１７ａ  シリンダ状部分、１７ｂ  フランジ部分、Ｒａ  算術平均粗さ、Ｒ  粗さ比率、Ｘ  回転軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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