(57)【要約】  本開示は射線校正装置及びその操作方法並びに放射線撮像システム及びその操作方法を提供し、放射線撮像技術の分野に属する。本開示は、校正の効率が低く、比較的大きな空間が必要になるという既存の校正装置の問題を解決する。本開示の射線校正装置は駆動部と、カム部と、校正部とを含み、前記校正部は前記カム部の下に位置し、前記駆動部は前記カム部を駆動して回転させるように適合され、前記カム部は前記校正部に力を及ぼして前記校正部を下方の射線領域内に移動させるよう適合されている。
2019506585.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動部と、カム部と、校正部とを含む射線校正装置であって、
前記校正部は前記カム部の下に位置し、
前記駆動部は前記カム部を駆動して回転させるよう適合され、
前記カム部は前記校正部に力を及ぼして前記校正部を下方の射線領域内に移動させることができるよう適合されている、射線校正装置。
【請求項２】
前記校正部は校正接続ユニット及び校正ブロックを含み、該校正ブロックは該校正接続ユニットの下に設けられ且つ該校正接続ユニットに固定接続され、
前記カム部は前記校正接続ユニットに力を及ぼして前記校正接続ユニットを下方に移動させることができるよう適合され、
前記校正接続ユニットは、前記校正ブロックを駆動して下方の前記射線領域内に移動させることができるよう適合されている、請求項１に記載の射線校正装置。
【請求項３】
前記校正部は復帰部をさらに含み、該復帰部は前記校正接続ユニットの下に位置し且つ前記校正接続ユニットに接続され、
前記復帰部は、前記校正接続ユニットが前記校正ブロックを駆動して初期位置に戻すようにするために前記校正接続ユニットのために上方への復元力を提供するよう適合されている、請求項２に記載の射線校正装置。
【請求項４】
前記射線校正装置は遮蔽部をさらに含み、前記復帰部は復帰バネを含み、該復帰バネの一端は前記校正接続ユニットに接続され、該復帰バネの他端は前記遮蔽部に接続されている、請求項３に記載の射線校正装置。
【請求項５】
ガイドスライドレールをさらに含み、前記校正接続ユニットには該ガイドスライドレールと係合するようにスライドブロックが設けられ、前記校正接続ユニットは該スライドブロックを通じて前記ガイドスライドレールに摺動可能に接続され、
前記校正接続ユニットは前記スライドブロックを通じて垂直方向に沿って前記ガイドスライドレール上を移動する、請求項２に記載の射線校正装置。
【請求項６】
前記校正接続ユニットにはローラーが設けられ、
前記ローラーは、前記カム部が前記校正接続ユニットに力を及ぼした場合に、前記校正接続ユニットと前記カム部との間の摩擦力を低減するために回転するよう適合されている、請求項２に記載の射線校正装置。
【請求項７】
前記カム部は少なくとも１つのサブカムを含み、各該サブカムはベース円形部及び基本ブロックを含み、該基本ブロックは該ベース円形部上に位置し、前記基本ブロックの前端は傾斜構造を有し、前記基本ブロックの後端は傾斜構造を有し、
前記基本ブロックは前記校正接続ユニットを下方に押圧するよう適合されている、請求項１に記載の射線校正装置。
【請求項８】
各前記サブカムは少なくとも１つの追加ブロックを含み、該追加ブロックは前記ベース円形部上に設けられ且つ前記基本ブロックの後ろに位置し、前記追加ブロックの前端は、前記基本ブロックの後端の傾斜構造と嵌合するために逆傾斜構造を有し、前記追加ブロックの後端は傾斜構造を有する、請求項７に記載の射線校正装置。
【請求項９】
前記サブカムの基本ブロックの構造は同一である、請求項７に記載の射線校正装置。
【請求項１０】
前記サブカムの追加ブロックの構造は同一である、請求項８に記載の射線校正装置。
【請求項１１】
前記カム部は少なくとも１つのサブカムを含み、少なくとも１つの校正部が存在し、各該校正部は１つのサブカムに対応する、請求項１に記載の射線校正装置。
【請求項１２】
前記カム部は複数のサブカムを含み、該複数のサブカムの追加ブロックの数は異なる、請求項８に記載の射線校正装置。
【請求項１３】
駆動シャフトをさらに含み、前記ベース円形部は、前記サブカムが該駆動シャフト上に設けられるように前記駆動シャフトにスリーブ接続されている、請求項７に記載の射線校正装置。
【請求項１４】
前記駆動部はモーター、駆動チェーンホイール、被駆動チェーンホイール及び伝達用チェーンを含み、該伝達用チェーンは前記駆動チェーンホイール及び前記被駆動チェーンホイールにスリーブ接続され、前記被駆動チェーンホイールは前記駆動シャフトにスリーブ接続され、
前記モーターは前記駆動チェーンホイールを駆動して、前記伝達用チェーンを通じて前記被駆動チェーンホイールを回転及び駆動させて前記駆動シャフトを回転させるよう適合されている、請求項１３に記載の射線校正装置。
【請求項１５】
線源と射線校正装置とを含む放射線撮像システムであって、
前記射線校正装置は請求項１に記載の射線校正装置であり、
前記線源は前記校正部が前記射線領域に入った場合に前記校正部に射線を出射するよう適合されている、放射線撮像システム。
【請求項１６】
射線校正装置の操作方法であって、該射線校正装置は駆動部と、カム部と、校正部とを含み、該校正部は該カム部の下に位置し、当該操作方法は、
前記駆動部により前記カム部を駆動して回転させるステップと、
前記カム部により前記校正部に力を及ぼして前記校正部を下方の射線領域内に移動させるステップと、
を含む射線校正装置の操作方法。
【請求項１７】
前記校正部の校正接続ユニットが校正ブロックを駆動して初期位置に戻すようにするために、前記校正接続ユニットのために上方への復元力を復帰部により提供するステップをさらに含む、請求項１６に記載の射線校正装置の操作方法。
【請求項１８】
放射線撮像システムの操作方法であって、該放射線撮像システムは線源と射線校正装置とを含み、該射線校正装置は駆動部と、カム部と、校正部とを含み、該校正部は該カム部の下に位置し、当該操作方法は、
前記駆動部により前記カム部を駆動して回転させるステップと、
前記カム部により前記校正部に力を及ぼして前記校正部を下方の射線領域内に移動させるステップと、
前記校正部が前記射線領域に入った場合に前記校正部に前記線源により射線を出射するステップと、
前記校正部を貫通する射線により前記放射線撮像システムのパラメータを観察するステップと、
を含む操作方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は放射線撮像技術の分野に属し、具体的には射線校正装置（ray  calibration  device）及びその操作方法並びに放射線撮像システム（radiation  imaging  system）及びその操作方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、射線撮像プロセスでは、射線が貫通する物質の性能は、該射線及び画像パラメータを適切に調整して妥当な検出画像を得るために校正する必要がある。現存の射線撮像技術において、一般的な射線校正装置は独立した校正装置（independent  calibration  device）と、加速器（線源）と統合された校正装置とに分かれる。独立した校正装置とは、校正装置が線源と検出器との間に配置された構成のものを言う。この校正装置は概して体積及び重量が比較的大きく、比較的大きな空間や場所がある環境に概して適している。加速器（線源）と統合された校正装置とは、校正装置と加速器（線源）とが１つの部品に統合された構成のものを言う。そのため、該射線校正装置は構造がコンパクトで、車載のコンテナ検出システムの一般的な用途や様々な物質の校正要件に適合できる。
【０００３】
加速器（線源）と統合された校正装置のうち、段毎に走査する（stage  by  stage  scanning）校正装置及び層毎に重畳する（layer  by  layer  superimposition）校正装置が一般的であるが、それらの構造においては押圧ブロック（pressing  blocks）を往復動作させる駆動力を提供するためにリードネジが必要となる。押圧ブロックを往復動作させるそのような構造により、校正の効率が低く、必要となる空間も比較的大きいため、加速器の体積を低減するのにも好ましくない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
校正の効率が低く、比較的大きな空間を要するという既存の校正装置の問題に鑑み、本開示は構造がコンパクトで、空間占有が小さく、校正の効率が高い射線校正装置及びその操作方法に加えて、放射線撮像システム及びその操作方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示において、上記の技術的な課題を解決するよう適合された技術的な解決手段は、駆動部と、カム部と、校正部（calibration  part）とを含む線校正装置である。校正部はカム部の下に位置し、
駆動部はカム部を駆動して回転させるよう適合され、
カム部は校正部に力を及ぼして校正部を下方の射線領域（ray  area）内に移動させることができるよう適合されている。
【０００６】
前記校正部は校正接続ユニット（calibration  connecting  unit）及び校正ブロック（calibration  block）を含み、該校正ブロックは該校正接続ユニットの下に設けられ且つ該校正接続ユニットに固定接続され、
前記カム部は前記校正接続ユニットに力を及ぼして前記校正接続ユニットを下方に移動させることができるよう適合され、
前記校正接続ユニットは、前記校正ブロックを駆動して下方の前記射線領域内に移動させることができるよう適合されている。
【０００７】
前記校正部は復帰部（reset  part）をさらに含み、該復帰部は前記校正接続ユニットの下に位置し且つ前記校正接続ユニットに接続され、
前記復帰部は、前記校正接続ユニットが前記校正ブロックを駆動して初期位置に戻すようにするために前記校正接続ユニットのために上方への復元力を提供するよう適合されている。
【０００８】
前記射線校正装置は遮蔽部をさらに含み、前記復帰部は復帰バネ（reset  spring）を含み、該復帰バネの一端は前記校正接続ユニットに接続され、該復帰バネの他端は前記遮蔽部に接続されている。
【０００９】
前記射線校正装置はガイドスライドレールをさらに含み、前記校正接続ユニットには該ガイドスライドレールと係合するようにスライドブロックが設けられ、前記校正接続ユニットは該スライドブロックを通じて前記ガイドスライドレールに摺動可能に接続され、
前記校正接続ユニットは前記スライドブロックを通じて垂直方向に沿って前記ガイドスライドレール上を移動する。
【００１０】
前記校正接続ユニットにはローラーが設けられ、
前記ローラーは、前記カム部が前記校正接続ユニットに力を及ぼした場合に、前記校正接続ユニットと前記カム部との間の摩擦力を低減するために回転するよう適合されている。
【００１１】
前記カム部は少なくとも１つのサブカムを含み、各該サブカムはベース円形部及び基本ブロックを含み、該基本ブロックは該ベース円形部上に位置し、前記基本ブロックの前端は傾斜構造を有し、前記基本ブロックの後端は傾斜構造を有し、
前記基本ブロックは前記校正接続ユニットを下方に押圧するよう適合されている。
【００１２】
各前記サブカムは少なくとも１つの追加ブロックを含み、該追加ブロックは前記ベース円形部上に設けられ且つ前記基本ブロックの後ろに位置し、前記追加ブロックの前端は、前記基本ブロックの後端の傾斜構造と嵌合するために逆傾斜構造を有し、前記追加ブロックの後端は傾斜構造を有する。
【００１３】
前記サブカムの基本ブロックの構造は同一である。
【００１４】
少なくとも１つの校正部が存在し、各該校正部は１つのサブカムに対応する。
【００１５】
前記カム部は複数のサブカムを含み、該複数のサブカムの追加ブロックの数は異なる。
【００１６】
前記射線校正装置は駆動シャフトをさらに含み、前記ベース円形部は、前記サブカムが該駆動シャフト上に設けられるように前記駆動シャフトにスリーブ接続されている（sleeved  on）。
【００１７】
複数のサブカムが存在し、該複数のサブカムは前記駆動シャフト上に連続して設けられている。
【００１８】
前記駆動部はモーター、駆動チェーンホイール、被駆動チェーンホイール（driven  chain  wheel）及び伝達用チェーンを含み、該伝達用チェーンは前記駆動チェーンホイール及び前記被駆動チェーンホイールにスリーブ接続され、前記被駆動チェーンホイールは前記駆動シャフトにスリーブ接続され、
前記モーターは前記駆動チェーンホイールを駆動して、前記伝達用チェーンを通じて前記被駆動チェーンホイールを回転及び駆動させて前記駆動シャフトを回転させるよう適合されている。
【００１９】
別の技術的解決手段として、本開示は線源と射線校正装置とを含む放射線撮像システムをさらに提供する。前記射線校正装置は上述したいずれかの射線校正装置であり、
前記線源は前記校正部が前記射線領域に入った場合に前記校正部に射線を出射するよう適合されている。
【００２０】
別の技術的解決手段として、本開示は射線校正装置の操作方法をさらに提供する。該射線校正装置は駆動部と、カム部と、校正部とを含み、該校正部は該カム部の下に位置し、当該操作方法は、
前記駆動部により前記カム部を駆動して回転させるステップと、
前記カム部により前記校正部に力を及ぼして前記校正部を下方の射線領域内に移動させるステップと、を含む。
【００２１】
前記射線校正装置の操作方法は、
前記校正部の校正接続ユニットが校正ブロックを駆動して初期位置に戻すようにするために、前記校正接続ユニットのために上方への復元力を復帰部により提供するステップをさらに含む。
【００２２】
別の技術的解決手段として、本開示は放射線撮像システムの操作方法をさらに提供する。該放射線撮像システムは線源と射線校正装置とを含み、該射線校正装置は駆動部と、カム部と、校正部とを含み、該校正部は該カム部の下に位置し、当該操作方法は、
前記駆動部により前記カム部を駆動して回転させるステップと、
前記カム部により前記校正部に力を及ぼして前記カム部を下方の射線領域内に移動させるステップと、
前記校正部が前記射線領域に入った場合に前記校正部に前記線源により射線を出射するステップと、
前記校正部を貫通する射線により前記放射線撮像システムのパラメータを観察するステップと、を含む。
【００２３】
本開示の射線校正装置及びその操作方法並びに放射線撮像システム及びその操作方法では、射線校正装置は駆動部と、カム部と、校正部とを含み、駆動部はカム部を駆動して回転させるよう適合され、カム部は校正部に力を及ぼして下方の射線領域内に移動させることができるよう適合されている。駆動力を提供するのにリードネジが必要ないため、押圧ブロックは往復運動する必要はない。そのため、校正の効率が改善される。加えて、リードネジは線形であり、そのようなリードネジを設ける必要はないため、射線校正装置の構造をよりコンパクトにでき、空間占有面積を低減できる。
【００２４】
本開示の射線校正装置は、射線校正装置が加速器（線源）と統合された放射線撮像システムに好適である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、本開示の第１の実施形態の射線校正装置の概略構造図である。
【図２】図２は、図１の射線校正装置の作動状態の概略図である。
【図３】図３は、図１のカム部の前面図である。
【図４】図４は、図１のカム部の側面図である。
【図５】図５は、図１のサブカムの概略構造図である。
【図６】図６は、本開示の第２の実施形態の放射線撮像システムの概略構造図である。
【図７】図７は、本開示の第３の実施形態の射線校正装置の操作方法の概略フロー図である。
【図８】図８は、本開示の第４の実施形態の射線校正装置の操作方法の概略フロー図である。
【００２６】
参照符号は下記の通りである。
１  駆動部
１１  モーター
１２  駆動チェーンホイール
１３  伝達用チェーン
１４  被駆動チェーンホイール
２  カム部
２１  サブカム
２１１  ベース円形部
２１２  追加ブロック
２１３  基本ブロック
３  校正部
３１  校正接続ユニット
３１１  ローラー
３２  校正ブロック
３３  復帰部
４  遮蔽部
５  ガイドスライドレール
６  駆動シャフト
１００  射線校正装置
２００  線源
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本開示の技術的な解決方法を当業者がより良く理解することができるように、添付の図面及び具体的な実施形態と組み合わせて本開示を以下でさらに詳細に説明する。
【００２８】
第１の実施形態
図１〜図５を参照して、本実施形態は、駆動部１、カム部２及び校正部３を含む射線校正装置を提供する。校正部３はカム部２の下に位置し、駆動部１はカム部２を駆動して回転させるように適合され、カム部２は、校正部３に力を及ぼして校正部３を下方の射線領域内に移動させるように適合されている。
【００２９】
校正部３は校正接続ユニット３１及び校正ブロック３２を含み、校正ブロック３２は校正接続ユニット３１の下に配置され、校正接続ユニット３１に固定接続されていることが好ましい。
【００３０】
図１から分かるように、校正接続ユニット３１は、校正ブロック３２の上のカム部２に近い側に配置されている。当然ながら、校正接続ユニット３１及び校正ブロック３２は、校正接続ユニット３１及び校正ブロック３２をお互いに対して固定できれば、２つの別個の構造を有していてもよいし、一体構造、具体的には一体的に形成されていてもよい。
【００３１】
カム部２は、校正接続ユニット３１に力を及ぼして校正接続ユニット３１を下方に移動させるように適合されており、校正接続ユニット３１は校正ブロック３２を駆動して下方の射線領域内に移動させるように適合されている。
【００３２】
校正接続ユニット３１は校正ブロック３２の上に配置されており、カム部２によって及ぼされる力は校正ブロック３２よりも先に校正接続ユニット３１に作用するため、校正接続ユニット３１はカム部２によって及ぼされる力によって先に下方に移動する。校正接続ユニット３１は校正ブロック３２に固定接続されているため、校正接続ユニット３１は下方に移動して、力の作用の下で校正ブロック３２を駆動して射線領域に入るように移動させる。
【００３３】
校正部３は復帰部３３をさらに含み、復帰部３３は校正接続ユニット３１の下に位置し、校正接続ユニット３１に接続されていることが好ましい。復帰部３３は、校正接続ユニット３１が校正ブロック３２を駆動して初期位置に戻すようにするために校正接続ユニット３１のために上方への復元力を提供する。ここでは、初期位置は校正ブロック３２が射線領域から離れて射線によって貫通されない位置のことを言う。
【００３４】
射線校正装置は遮蔽部４をさらに含むことが好ましい。復帰部３３は復帰バネを含む。復帰バネの一端は校正接続ユニット３１に接続され、復帰バネの他端は遮蔽部４に接続されている。復帰バネが選択される理由は、復帰バネは圧迫及び伸長させるのが容易であり、復元力を提供するために作用力の付与及び消滅に反応して自動で変形できるからである。当然ながら、復帰部３３は復帰バネに限定されておらず、復元力を提供する効果を得ることができさえすれば他の構造を採用することもできる。そのような他の構造の説明はここでは省略する。
【００３５】
校正接続ユニット３１にローラー３１１が設けられ、ローラー３１１は、カム部２が校正接続ユニット３１に力を及ぼした場合に校正接続ユニット３１とカム部２との間の摩擦力を低減するために回転するように適合されていることが好ましい。
【００３６】
図１及び図２を参照して、図１は射線校正装置の作動状態の概略図であり、図２は射線校正装置の別の作動状態の概略図である。射線校正装置が作動すると、カム部２は駆動部１の駆動の下で時計回りに回転し、図１における位置から図２における位置へと回転する。このとき、カム部２はローラー３１１と接触しており、ローラー３１１に力を及ぼして校正部３を駆動し、下方に移動させる。そのため、校正ブロック３２は下方に移動し、校正ブロック３２の一部分（即ち、図２における遮蔽部４の下で露出した領域）が射線領域に入るため、校正ブロック３２の射線領域に入った部分を射線が通過する。このとき、復帰部３３は変形し圧迫されている。駆動部１は時計回りに続けて回転してカム部２を駆動し、カム部２の後端（図１におけるローラー３１１から離れた方の端部）がローラー３１１を通り過ぎるまで回転させる。このとき、カム部２は校正部３に力を及ぼしておらず、復帰部３３は力なしにその初期形状に戻る。復帰部３３はその初期形状に戻るため、復帰部３３は校正接続ユニット３１が校正ブロック３２駆動して初期位置に、即ち図１における位置に戻すように校正接続ユニット３１のために上方への復元力を提供する。即ち、ローラー３１１がカム部２の力によってストレスをもはや受けていない場合、カム部２は図１における位置に回転するまで時計回りに続けて回転する。
【００３７】
射線校正装置はガイドスライドレール５をさらに含み、ガイドスライドレール５と係合するために校正接続ユニット３１にスライドブロックが設けられ、校正接続ユニット３１はスライドブロックを通じてガイドスライドレール５に摺動可能に接続されていることが好ましい。校正接続ユニット３１は、スライドブロックを通じて垂直方向に沿ってガイドスライドレール５上を移動するように適合されている。
【００３８】
ガイドスライドレール５は校正部３の一方側に位置している。スライドブロック（図示せず）は、ガイドスライドレール５と係合するために校正接続ユニット３１に設けられている。校正接続ユニット３１はスライドブロックを通じてガイドスライドレール５に摺動可能に接続されている。当然ながら、ガイドスライドレール５と同一のレールを校正接続ユニット３１に設け、校正接続ユニット３１のガイドスライドレール５及び前記同一のレールの間に１つ以上のボールを設けて該ボールを通じて校正接続ユニット３１をガイドスライドレール５に摺動可能に接続してもよい。校正接続ユニット３１及びガイドスライドレール５の摺動接続は、スライドブロックを通じて校正接続ユニット３１がガイドスライドレール５上を垂直方向に移動させることを保証できさえすれば様々な方法で実現してもよく、この点についての説明はここでは省略する。
【００３９】
図３〜図５に示すように、カム部２は少なくとも１つのサブカム２１を含み、各サブカム２１はベース円形部２１１及び基本ブロック２１３を含むことが好ましい。基本ブロック２１３はベース円形部２１１に位置している。基本ブロック２１３の前端は傾斜構造になっており、基本ブロック２１３の後端は傾斜構造になっている。基本ブロック２１３は校正接続ユニット３１を下方に押圧するように適合されている。
【００４０】
各サブカム２１は少なくとも１つの追加ブロック２１２を含み、追加ブロック２１２はベース円形部２１１に設けられるとともに基本ブロック２１３の後ろに位置していることが好ましい。追加ブロック２１２の前端は、基本ブロック２１３の後端の傾斜構造と嵌合するために逆傾斜構造を有し、追加ブロック２１２の後端は傾斜構造である。追加ブロック２１２は校正接続ユニット３１を下方に押圧するようにも適合されている。
【００４１】
基本ブロック２１３は各サブカム２１に設けられ、基本ブロック２１３は追加ブロック２１２の前に位置している。即ち、基本ブロック２１３は追加ブロック２１２よりも先にローラー３１１と接触する。基本ブロック２１３の前端は、基本ブロック２１３がローラー３１１と接触しているときにバッファーを提供するために傾斜構造を有する。基本ブロック２１３の前端が直角の場合、基本ブロックがローラー３１１と接触してもローラー３１１は基本ブロック２１３の垂直側から基本ブロック２１３の面に「回転」できないことが分かる。基本ブロック２１３の両端は傾斜構造として構成されているため、ローラー３１１が基本ブロック２１３の面に「回転」できない状況を回避でき、ローラー３１１が基本ブロック２１３の面に「回転」できるようバッファーが提供される。基本ブロック２１３及び追加ブロック２１２の後端は傾斜構造として構成されているため、サブカム２１に基本ブロック２１３が１つだけ設けられているか又は複数の追加ブロック２１２が基本ブロック２１３の後ろに設けられている場合でもローラー３１１がサブカム２１を離れるようにバッファー力を提供できる。
【００４２】
各サブカム２１はベース円形部２１１及び基本ブロック２１３を含み、基本ブロック２１３はベース円形部２１１に位置している。即ち、基本ブロック２１３はベース円形部２１１に固定して設けられている。しかしながら、ベース円形部２１１に設けられる追加ブロック２１２の数は変化し得る。即ち、追加ブロック２１２の数は実際の条件に従って増減してもよい。
【００４３】
射線校正装置は駆動シャフト６をさらに含み、サブカム２１が駆動シャフト６上に配置されるようにベース円形部２１１が駆動シャフト６にスリーブ接続されている。
【００４４】
なお、カム部２は駆動部１上に設けられ、駆動部１は駆動シャフト６の軸の周りでカム部２が回転するように駆動させる。射線領域は遮蔽部４の下に位置している。射線は線源によって出射される。射線が通り過ぎる領域が射線領域である。図１及び図２を参照して、射線方向は遮蔽部４に対して垂直であり、射線は紙面の内から紙面の外に垂直に出射される。遮蔽部４は校正部３を遮蔽するように適合されるとともに、射線校正装置における様々な部品を固定するための射線校正装置の取り付けフレームとしても用いられる。
【００４５】
複数のサブカム２１が存在する場合、複数のサブカム２１は駆動シャフト６上に連続して設けられていることが好ましい。図３〜図５を参照して、カム部２は少なくとも１つのサブカム２１を含み、サブカム２１の数は実際の需要に従って調整することができる。図３に示すように、１０個のサブカム２１が隣り合って駆動シャフト６にスリーブ接続されており、複数のサブカム２１が共に連続して設けられるように、駆動シャフト６は各サブカム２１のベース円形部２１１の中心の「孔」を貫通する。
【００４６】
追加ブロック２１２の数はサブカム２１の数に関連する。一例として１０個のサブカム２１の場合を考えてみる。図３を参照して、図の左側からサブカム２１には連続して番号が振られ、第１のサブカム、第２のサブカム、…、第１０のサブカムと表記される。本実施形態の射線校正装置は層毎の重畳モード（layer  by  layer  superimposition  mode）で射線を校正する。そのため、最後の校正ブロックが射線領域に入るまで先に射線領域に入った校正ブロックを射線領域内で維持すべきである。具体的には、第１のサブカムにある追加ブロックの数がサブカムの合計数−１等しい。即ち、第１０のサブカムに対応する校正ブロックが射線領域に入った場合に、第１のサブカムに対応する校正ブロックが射線領域内にまだあるようにするのを保証するために、少なくとも９個の追加ブロックを第１のサブカムに設けるべきである。同様に、第１０のサブカムに対応する校正ブロックが射線領域内に入った場合に、第２のサブカムに対応する校正ブロックが線領域内にまだあるようにするのを保証するために、少なくとも８個の追加ブロックを第２のサブカムに設けるべきである。第１０のサブカムには少なくとも基本ブロック２１３が設けられ、追加ブロック２１２は設けられていない。各サブカムに設ける必要がある追加ブロック２１２の数は上記の規則に従って得ることができるため、それについての説明はここでは省略する。図３においては、第１のサブカムから第６のサブカムまでの基本ブロック２１３に近いいくつかの追加ブロック２１２は対応する校正ブロック、即ち校正ブロックが射線領域内で維持された状態で通り過ぎ、他方、第７のサブカムから第１０のサブカムの基本ブロック２１３はベース円形部２１１の上端に到達しないため、第７のサブカムから第１０のサブカムの高さは第１のサブカムから第６のサブカムまでの高さよりも低い。
【００４７】
当然のことながら、１０個のサブカムがあっても、１０個のサブカムの全てを実際の作業で用いる必要はなく、２つ解決方法、即ち、一方は不必要なサブカムが駆動シャフト６から取り除かれ、他方は不必要なサブカムが駆動シャフト６から取り除かない、即ち１０個のサブカムの全てが維持される解決方法が利用可能であり、基本ブロック２１３及び必要な数の追加ブロック２１２のみが用いる必要のあるサブカムに設けられる。追加ブロック２１２の数は上記の規則に従って得ることができるため、ここではその説明を省略する。
【００４８】
そのような構成とする理由は、サブカム２１と、サブカム２１にある追加ブロック２１２とは増減できるため、使用の柔軟性が改善される。
【００４９】
サブカム２１の基本ブロック２１３の構造は同一であり、サブカム２１の追加ブロック２１２の構造は同一であることが好ましい。ここで言う構造は形状、サイズ及び他のパラメータを含む。そのような構成とする理由は、一方で各サブカム２１に対応する校正ブロック３２の射線領域に入る部分の高さが変わらないよう保証するために、同じサブカム２１の追加ブロック２１２の厚さは図５に示すように同一であるべきであり、他方で、追加される部品の種類を簡素化できる。即ち、全てのサブカム２１にある基本ブロック２１３は同一であり、全てのサブカム２１にある追加ブロック２１２は同一であるため、使用に当たり３種類の部品のみ、即ち、同一の基本ブロック２１３、同一の追加ブロック２１２及び１つのベース円形部２１１を用意するだけで済む。
【００５０】
少なくとも１つの校正部３があり、各校正部３は１つのサブカム２１に対応することが好ましい。校正部３の数はサブカム２１の数と同一であるべきである。即ち、本実施形態においては、１０個のサブカム２１がある場合、１０個の校正部３が１０個のサブカム２１に対応するように設けられるべきである。
【００５１】
上述したように、１０個のサブカム２１の全てを実際の作業で用いる必要がない場合は、用いる必要のないサブカム２１に基本ブロック２１３又は追加ブロック２１２が設けられない。このようにすることで、サブカム２１に基本ブロック２１３又は追加ブロック２１２が設けられていないことから、校正部３のローラー３１１は下方に押圧されないため、校正部３の校正ブロック３２は射線領域内に押圧されない。
【００５２】
駆動部１はモーター１１、駆動チェーンホイール１２、被駆動チェーンホイール１４及び伝動用チェーン１３を含み、伝動用チェーン１３は駆動チェーンホイール１２及び被駆動チェーンホイール１４にスリーブ接続されていることが好ましい。モーター１１は、駆動シャフト６を回転させるために、駆動チェーンホイール１２を駆動して伝動用チェーン１３を通じて被駆動チェーンホイール１４を回転及び駆動させるように適合されている。
【００５３】
モーター１１は駆動チェーンホイール１２を駆動し、伝動用チェーン１３を通じて被チェーンホイールを回転及び駆動させる。被駆動チェーンホイール１４は駆動シャフト６上に位置しているため、被駆動チェーンホイール１４の回転により駆動シャフト６を駆動して回転させることができ、カム部２を駆動及び回転させて校正部３に力が及ばされる。
【００５４】
そのような構成とするための理由は、自転車のチェーンホイールと同様の駆動モードが採用されているため、射線校正装置においてリードネジ装置を設ける必要がなく、空間占有面積を効果的に低減でき、射線校正装置の構造をよりコンパクトにできる。
【００５５】
本実施形態における射線校正装置は駆動部１、カム部２及び校正部３を含む。駆動部１はカム部２を駆動して回転させるように適合され、カム部２は校正部３に力を及ぼして校正部３が下方の射線領域内に移動できるようにする。駆動力を提供するのにリードネジが必要ないため押圧ブロックは往復運動する必要はない。そのため校正の効率が改善する。加えて、リードネジは線形（linear）であり、そのリードネジを設ける必要がないため、射線校正装置の構造をよりコンパクトにでき、空間占有面積を低減できる。他方、サブカム２１にある基本ブロック２１３の構造は同一であり、追加ブロック２１２の構造も同一であるため、各サブカム２１に対応する校正ブロック３２の射線領域に入る部分の高さが変化しないよう保証できるだけでなく、追加すべき部品の種類を簡略化できる。全てのサブカム２１にある基本ブロック２１３は同一であり、全てのサブカム２１にある追加ブロック２１２は同一であるため、使用に当たって３種類の部品、即ち同一の基本ブロック２１３、同一の追加ブロック２１２及び１のベース円形部２１１を用意するだけで済む。
【００５６】
第２の実施形態
図６を参照して、本実施形態は線源２００及び射線校正装置１００を含む放射線撮像システムを提供する。射線校正装置１００は第１の実施形態における射線校正装置であり、線源２００は、校正部３が射線領域に入った場合に校正部３に射線を出射するよう適合されている。
【００５７】
本実施形態における放射線撮像システムは線源及び射線校正装置を含む。射線校正装置は駆動部、カム部及び校正部を含む。駆動部はカム部を駆動して回転させるよう適合され、カム部は校正部に力を及ぼして校正部が下方の射線領域内に移動させるように適合されている。駆動力を提供するのにリードネジが必要ないため、押圧ブロックは往復運動する必要がなく、校正の効率が改善する。加えて、リードネジは線形であり、そのようなリードネジを設ける必要がないため、射光線校正装置の構造をよりコンパクトにすることができる。これにより、放射線撮像システムの統合構造をよりコンパクトにでき空間占有面積を低減できる。一方、サブカム２１にある基本ブロック２１３の構造は同一であり、追加ブロック２１２の構造も同一であるため、各サブカム２１に対応する校正ブロック３２の射線領域に入る部分の高さが変化しないよう保証できるだけでなく、追加すべき部品の種類を簡素化できる。全てのサブカム２１にある基本ブロック２１３は同一であり、全てのサブカム２１にある追加ブロック２１２は同一であるため、使用に当たり３種類の部品、即ち、同一の基本ブロック２１３、同一の追加ブロック２１２及び１つのベース円形部２１１を用意するだけで済む。
【００５８】
第３の実施形態
図７を参照して、本実施形態は射線校正装置の操作方法を提供する。射線校正装置１００は駆動部１、カム部２及び校正部３を含み、校正部３はカム部２の下に位置する。操作方法は、駆動部１がカム部２を駆動し回転させるステップ１０１を含む。
【００５９】
具体的には、モーター１１が駆動チェーンホイール１２を駆動して、伝動用チェーン１３を通じて被駆動チェーンホイール１４を回転及び駆動させる。被駆動チェーンホイール１４は駆動シャフト６上に位置しているため、被駆動チェーンホイール１４の回転により駆動シャフト６を回転させることができるため、カム部２を駆動及び回転させられる。
【００６０】
カム部２が校正部３に力を及ぼして校正部３を下方の射線領域内に移動させる（ステップ１０２）。
【００６１】
復帰部３３は、校正接続ユニット３１が校正ブロック３２を駆動して初期位置に戻すように校正接続ユニット３１のために上方への復元力を提供する（ステップ１０３）。
【００６２】
具体的には、図１及び図２を参照して、全体の動作方法は次のように理解することができる。射線校正装置が作動すると、カム部２は、駆動部１の駆動の下で図１における位置から図２における位置に回転する。このとき、カム部２はローラー３１１と接触しており、ローラー３１１に力を及ぼして校正部３を下方に移動させる。そして、校正ブロック３２が下方に移動するため、校正ブロック３２の一部（即ち、図２における遮蔽部４の下で露出した領域）が射線領域に入り、校正ブロック３２の射線領域に入った部分を射線が貫通する。このとき、復帰部３３は変形し圧迫されている。駆動部１は、カム部２の後端がローラー３１１を通り過ぎるまでカム部２を駆動及び回転させるために続けて回転する。このとき、カム部２は校正部３に力を及ぼしておらず、復帰部３３は力なしでその初期形状に戻る。復帰部３３がその初期形状に戻ると、復帰部３３は、校正接続ユニット３１が校正ブロック３２を駆動して初期位置、即ち、図１における位置に戻すようにするために校正接続ユニット３１のために上方への復元力を提供し、そして現在の校正が完了する。
【００６３】
本実施形態によって提供される射線校正装置の作動方法は、第１の実施形態における射線校正装置の校正動作にも適用できる。詳細な説明については第１の実施形態を参照することができため、その説明についてはここでは省略する。
【００６４】
本実施形態によって提供される射線校正装置の作動方法によれば、駆動部１がカム部２を駆動し回転させるため、カム部２は校正部３に力を及ぼして下方の射線領域内に移動できるようにする。力が消滅した後、復帰部３３は、校正接続ユニット３１が校正ブロック３２を駆動して初期位置に戻すように校正接続ユニット３１のために上方の復帰力を提供する。本方法では、駆動力を提供するのにリードネジを設ける必要はないため、押圧ブロックは往復運動する必要がない。そのため、校正の効率が改善される。カム部２は回転するよう駆動部１によって制御されるだけであるため、作動方法はより簡素で且つより信頼性が高いとともに操作コストも低い。
【００６５】
第４の実施形態
図８を参照して、本実施形態は放射線撮像システムの操作方法を提供する。放射線撮像システムは線源２００及び射線校正装置１００を含み、射線校正装置１００は駆動部１、カム部２及び校正部３を含み、校正部３はカム部２の下に位置している。操作方法は、駆動部１がカム部２を駆動し回転させるステップ２０１を含む。
【００６６】
カム部２は校正部３に力を及ぼして校正部３が下方の射線領域内に移動させる（ステップ２０２）
校正部３が射線領域に入ると、線源２００は校正部３に射線を出射する（ステップ２０３）。
【００６７】
上記ステップの具体的な方法に関しては第３の実施形態を参照できるため、その説明についてはここでは省略する。
【００６８】
校正部３を貫通する射線によって放射線撮像システムのパラメータが観察される（ステップ２０４）。
【００６９】
校正部３を貫通した後、射線は放射線撮像システムにおいて画像を形成する。放射線撮像システムのパラメータは画像の定義に従って観察できる。例えば画像が不鮮明の場合は、より細い校正部３等を選択でき、実際の条件に従って調整することができる。
【００７０】
本実施形態によって提供される放射線撮像システムの作動方法は、第２の実施形態における放射線撮像システムの校正作業に適用することができ、詳細な説明については第２の実施形態を参照することができるため、その説明についてはここでは省略する。
【００７１】
本実施形態によって提供される放射線撮像システムの作動方法によれば、校正部３を貫通する射線によって放射線撮像システムのパラメータを観察することができため、作動方法はより簡素で且つより信頼性が高いとともに操作コストも低い。
【００７２】
上記の実施形態は、本開示の原理を説明するために採用した例示の実施形態にすぎず、本開示はそれらに限定されないことが分かる。当業者であれば、本開示の精神及び本質から逸脱することなく様々な変更及び改良を加えることができ、これらの変更及び改良の全ては本開示の保護範囲に含まれるべきものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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