(57)【要約】  リソグラフィシステム１００および方法は、より洗練され最適化されたやり方でシステムのメトロロジ測定に対応するために、印刷ツール９０内の一体型メトロロジツール１０５を幅広く利用することに基づいて強化された性能を備える。追加の動作チャネルが開示され、一体型メトロロジツール１０５が、印刷ツール９０の規定の時間的制限に対する一体型メトロロジツール自体によるメトロロジ測定および独立型メトロロジツール８０によるメトロロジ測定を監視および／または割当てできるようにし、メトロロジ測定レシピを調整および最適化できるようにし、印刷ツール９０のプロセスパラメータを最適化するために、よりよいプロセス制御を実現できるようにするとともに、メトロロジ測定ランドスケープに応じて、印刷ツールのプロセスパラメータをグループ化できるようにする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一体型メトロロジツールを有する印刷ツールと、
前記印刷ツールに接続され、前記印刷ツールによって製造されるウエハ上でメトロロジ測定を実行するように構成された独立型メトロロジツールと、
を備えるリソグラフィシステムであって、
前記リソグラフィシステムが、前記一体型メトロロジツールを前記独立型メトロロジツールに接続する監視チャネルをさらに備え、前記一体型メトロロジツールが、前記一体型メトロロジツールと前記独立型メトロロジツールの間でメトロロジ測定を割り当て、前記印刷ツールの規定の時間的制限に対する前記割当ておよび前記メトロロジ測定を監視するようにさらに構成されるリソグラフィシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のリソグラフィシステムであって、前記監視することが、前記規定の時間的制限に応じて、メトロロジ測定レシピを調整することを含むリソグラフィシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のリソグラフィシステムであって、前記リソグラフィシステムのためにメトロロジ測定レシピを最適化するように構成されたメトロロジツールに、前記一体型メトロロジツールを接続する最適化チャネルをさらに備えるリソグラフィシステム。
【請求項４】
請求項１に記載のリソグラフィシステムであって、前記メトロロジツールが前記独立型メトロロジツールであるリソグラフィシステム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のリソグラフィシステムであって、前記印刷ツールのプロセスパラメータを最適化するように構成されたプロセス制御ソフトウェアに、前記一体型メトロロジツールを接続するプロセス制御チャネルをさらに備えるリソグラフィシステム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のリソグラフィシステムであって、メトロロジ測定ランドスケープに応じて前記印刷ツールのプロセスパラメータをグループ化するように構成されたグループ化モジュールに、前記一体型メトロロジツールを接続するグループ化チャネルをさらに備えるリソグラフィシステム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のリソグラフィシステムであって、メトロロジ測定ランドスケープに応じて前記印刷ツールのプロセスパラメータをグループ化するように構成されたグループ化モジュールに、前記独立型メトロロジツールを接続するグループ化チャネルをさらに備えるリソグラフィシステム。
【請求項８】
請求項６または７に記載のリソグラフィシステムであって、前記メトロロジ測定ランドスケープが、前記それぞれのメトロロジツールによって導き出された、少なくとも１つのレシピパラメータに対する少なくとも１つのメトロロジメトリックの少なくとも部分的に連続した依存性であるリソグラフィシステム。
【請求項９】
リソグラフィ印刷ツールの一体型メトロロジツールによって、前記印刷ツールの規定の時間的制限に対する前記一体型メトロロジツールおよび独立型メトロロジツールによるメトロロジ測定を、割当ておよび監視するステップを含む方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、前記監視するステップが、前記規定の時間的制限に応じて、メトロロジ測定レシピを調整するステップを含む方法。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の方法であって、少なくとも前記一体型メトロロジツールによるメトロロジ測定に基づいて、前記印刷ツールのプロセスパラメータをプロセス制御ソフトウェアによって最適化するステップをさらに含む方法。
【請求項１２】
請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法であって、メトロロジ測定のランドスケープに応じて、前記印刷ツールのプロセスパラメータをグループ化するステップをさらに含む方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、少なくとも前記一体型メトロロジツールにより、前記メトロロジ測定のランドスケープを導き出すステップをさらに含む方法。
【請求項１４】
請求項９〜１３のいずれか１項に記載の方法であって、少なくとも部分的にコンピュータプロセッサによって実行される方法。
【請求項１５】
コンピュータ読取り可能プログラムを有する非一時的なコンピュータ読取り可能記憶媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータ読取り可能プログラムが、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の方法を実行するように構成されることを特徴とするコンピュータプログラム製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はメトロロジの分野に関し、より詳細には、最適化されたリソグラフィシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
本願は、２０１６年１１月１４日に出願された米国仮特許出願第６２／４２１，９３２号の利益を主張し、その全体が参照により本願に組み込まれる。
【０００３】
リソグラフィシステムは、ますます短くなる印刷時間要件のなかで、絶え間なく進む複雑化、ますます小さくなる印刷ノード、および増加するメトロロジ入力に対応しなくてはならない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１４／０１９９７９１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ますます短くなる印刷時間要件のなかで、絶え間なく進む複雑化、ますます小さくなる印刷ノード、および増加するメトロロジ入力に対応するリソグラフィシステムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以下は、本発明の最初の理解をもたらす簡単な概要である。概要は必ずしも本発明の重要な要素を特定するものでも、その範囲を限定するものでもなく、単に以下の説明の前置きとしての役割を果たすに過ぎない。
【０００７】
本発明の一態様は、リソグラフィシステムであって、一体型メトロロジツールを有する印刷ツールと、印刷ツールに接続され、印刷ツールによって製造されるウエハ上でメトロロジ測定を実行するように構成された独立型メトロロジツールとを備え、リソグラフィシステムが、一体型メトロロジツールを独立型メトロロジツールに接続する監視チャネルをさらに備え、一体型メトロロジツールが、一体型メトロロジツールと独立型メトロロジツールの間でメトロロジ測定を割り当て、印刷ツールの規定の時間的制限に対する割当ておよびメトロロジ測定を監視するようにさらに構成された、リソグラフィシステムを提供する。
【０００８】
本発明の上記の、追加的な、ならびに／または他の態様および／もしくは利点は、以下の詳細な説明に記載され、おそらくその詳細な説明から推測可能であり、かつ／または本発明を実施することによって学習可能である。
【０００９】
本発明の実施形態をよりよく理解し、同実施形態をどのように実行に移すことができるかを示すために、ここで純粋に例として添付図面を参照する。図面では、同様の参照符号は全体を通して対応する要素または区分を指す。
【００１０】
添付図面は以下の通りである。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】先行技術によるリソグラフィシステムの高レベル概略ブロック図である。
【図２】本発明のいくつかの実施形態による、プロセス追跡およびメトロロジ測定分析が改善されたリソグラフィシステムを示す高レベル概略ブロック図である。
【図３】本発明のいくつかの実施形態による、一体型メトロロジツールのレベルでレシピ最適化されるリソグラフィシステムを示す高レベル概略ブロック図である。
【図４】本発明のいくつかの実施形態による、一体型メトロロジツールのレベルでレシピ最適化されるリソグラフィシステムを示す高レベル概略ブロック図である。
【図５】本発明のいくつかの実施形態による、プロセス制御が改善されたリソグラフィシステムの高レベル概略ブロック図である。
【図６】本発明のいくつかの実施形態による、ランドスケープベースのグループ化を行うリソグラフィシステムの高レベル概略ブロック図である。
【図７】本発明のいくつかの実施形態による、上で開示したチャネルの様々な構成を有するリソグラフィシステムの高レベル概略ブロック図である。
【図８】本発明のいくつかの実施形態による方法を示す高レベルフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下の説明において、本発明の様々な態様を説明する。本発明の完全な理解をもたらすために、説明を目的として具体的な構成および詳細事項を記載する。しかし、本明細書に提示する具体的な詳細事項がなくても本発明を実施できることが、当業者には明らかでもある。さらに、よく知られた特徴は、本発明を曖昧にしないように省略または簡素化されていることがある。具体的に図面を参照すると、示される細部は例であり、本発明を例示的に考察することのみを目的としており、本発明の原理および概念的態様の最も有用で容易に理解される説明だと考えられるものを提供するために提示されることが強調される。これに関して、本発明を基本的に理解するために必要な本発明の構造的詳細事項よりもさらに詳しくこれらの事項を示そうとはせず、図面に付随する説明は、本発明のいくつかの形態を実際にどのように具現化できるかを当業者に明らかにするものである。
【００１３】
本発明の少なくとも一実施形態を詳細に説明する前に、本発明はその適用において、以下の説明または示される図面に記載される構成要素の構造および配置の詳細事項に限定されないことが、理解されるべきである。本発明は、開示する実施形態の組合せのみならず、様々なやり方で実施または実行できる他の実施形態にも適用可能である。また、本明細書で使用する言い回しおよび用語は、説明を目的としたものであり、限定するものとみなされるべきではないことを理解すべきである。
【００１４】
別段の記載がない限り、以下の考察から明らかなように、明細書全体を通して「処理する」、「コンピューティング」、「計算する」、「判定する」、「強化する」、「導き出す」などの用語を用いることは、コンピューティングシステムのレジスタ、および／またはメモリ内の物理量、たとえば電子的な量などとして表されるデータを、コンピューティングシステムのメモリ、レジスタ、または他のそうした情報の記憶デバイス、送信デバイス、もしくは表示デバイス内の、同じく物理量として表される他のデータに操作および／または変換するコンピュータまたはコンピューティングシステム、または同様の電子コンピューティングデバイスの動作および／またはプロセスを指すことが理解される。
【００１５】
リソグラフィシステムおよび方法は、印刷ツール内の一体型メトロロジツールを幅広く利用することに基づき強化された性能が設けられて、より洗練され最適化されたやり方でシステムのメトロロジ測定に対応する。追加的な動作チャネルが開示され、一体型メトロロジツールが、印刷ツールの規定の時間的制限に対する一体型メトロロジツール自体によるメトロロジ測定および独立型メトロロジツールによるメトロロジ測定を監視および／または割当てできるようにし、メトロロジ測定レシピを調整および最適化できるようにし、印刷ツールのプロセスパラメータを最適化するために、よりよいプロセス制御を実現できるようにするとともに、メトロロジ測定ランドスケープに応じて、印刷ツールのプロセスパラメータをグループ化できるようにする。
【００１６】
図１は、先行技術によるリソグラフィシステム７０の高レベル概略ブロック図である。現行のリソグラフィシステム７０は、印刷ツール９０（たとえば、スキャナ、場合によってはステッパ、または任意の他の印刷ツール）との間に通信チャネル１１５を備え、それにより独立型メトロロジツール８０が印刷ツール９０に接続される。独立型メトロロジツール８０は、印刷ツール９０によって製造されたウエハに対してメトロロジ測定を実行するように構成され、たとえば、独立型メトロロジツール８０によるメトロロジ測定値に基づき、補正を計算し印刷ツール９０にフィードバックを提供するように構成される。たとえば、現行の慣例では、独立型メトロロジツール８０はフープ（ＦＯＵＰ：ｆｒｏｎｔ  ｏｐｅｎｉｎｇ  ｕｎｉｆｉｅｄ  ｐｏｄ、たとえば２５枚のウエハ）あたりいくつかのウエハを測定し、オーバーレイバジェットに適合するのに必要なスキャナ補正を計算するように適用される。次いで、補正が印刷ツール９０にフィードバックされて、その動作においてオーバーレイが改善される。印刷ツール９０の特定の先行技術の構成は、スキャナの露光時間制限に適合するために、メトロロジ測定のためのサンプリングの持続時間を短縮するように構成された一体型メトロロジ（ＩＭ）ツール９５を含む。一体型メトロロジツール９５は、独立型メトロロジツール８０の代わりに、またはそれに加えて、先行技術で使用されてもよい。
【００１７】
図２〜図７は、本発明のいくつかの実施形態によるリソグラフィシステム１００の高レベル概略ブロック図である。図２〜図７は、概略的に複数の手法を示し、これらが様々なやり方で組み合わされて、先行技術のリソグラフィシステム７０に比べてスループットおよび歩留まりを改善することができる。図２〜図７からの要素は、任意の動作可能な組合せで組み合わされてよく、特定の要素を特定の図に示すが他の図には示さないということは、単に説明を目的とした役割を果たすに過ぎず、限定することではない。１つまたは複数のプロセッサ１１２は、制御モジュール１１１（図７を参照）の任意の実施形態を実装するために使用されてもよい。また、本開示は、１つの独立型メトロロジツール、および印刷ツール内の１つの一体型メトロロジツールに関するが、開示するシステムおよび方法は、複数のメトロロジツールおよび／または印刷ツールを有するより複雑なシステムにも同じく適用できることに留意すべきである。
【００１８】
リソグラフィシステム１００は、リソグラフィシステム１００からの多数の独立したおよび／または相補的な要求に対して、一体型メトロロジツール９５をより高レベルに一体化し使用することによって性能を強化するためのいくつかの代替的および／または相補的なやり方を実証する。開示するリソグラフィシステム１００は、プロセス逸脱に対する反応時間を短縮することによってサイクル時間を改善するとともに、サンプリングの低減を回避することによってプロセス精度を改善するように構成されてもよく、サンプリングの低減は、先行技術のリソグラフィシステム７０ではスキャナのスループットに適合するために一般に必要とされるが、これはより大きいエラー（たとえばより大きい残渣および必要な補正）をもたらす恐れがある。その結果、開示するリソグラフィシステム１００は、プロセスの歩留まりを増加させ、コストを削減することができる。以下では、プロセス逸脱およびプロセスのばらつきの監視を改善し、レシピの最適化を改善し、オーバーレイ精度を改善し、露光フィールド毎補正（ＣＰＥ：Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ  Ｐｅｒ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ）を改善するための、潜在的に相乗的な手法およびシステムが開示される。
【００１９】
図２は、本発明のいくつかの実施形態による、プロセス追跡およびメトロロジ測定分析が改善されたリソグラフィシステム１００を示す高レベル概略ブロック図である。リソグラフィシステム１００は、プロセス逸脱に対する監視性能が強化されるように構成されてもよい。開示する実施形態では、修正された一体型メトロロジツール１０５と独立型メトロロジツール８０の間に監視チャネル１１０が確立されてもよく、一体型メトロロジツール１０５の制御モジュール１１１は、一体型メトロロジツール１０５および／または独立型メトロロジツール８０にメトロロジ測定を割り当て、そのメトロロジ測定ならびに決定および割当てプロセスを監視するように構成されてもよい。たとえば、考えられる逸脱は、制御モジュール１１１、独立型メトロロジツール８０、および／または任意の他のツールにより、オーバーレイの追跡、精度フラグ、および／または任意の他のパラメータのいずれかによって検出することができる。逸脱が検出された場合には、制御モジュール１１１は、疑わしい層の露出を可能にするように印刷ツール９０を保持し、より詳細な分析を実行するために、一体型メトロロジツール１０５を使用して、監視チャネル１１０を介して独立型メトロロジツール８０を使用して、オーバーレイを測定することを決定するように構成されてもよい。制御モジュール１１１および／または独立型メトロロジツール８０は、監視チャネル１１０によって、プロセスの変化を検出し、スキャナ露光時間制限内で一体型メトロロジツール１０５を使用してメトロロジ測定レシピを調整するようにさらに構成されてもよい。したがって、監視チャネル１１０は、メトロロジ測定を適用する際の適応性を提供し、それにより逸脱の迅速な特定が実現されるとともに、規定のスキャナ露光時間制限または他の要件にメトロロジ測定の品質を適合させる手段が提供される。
【００２０】
図３および図４は、本発明のいくつかの実施形態による、一体型メトロロジツール１０５のレベルでレシピ最適化されるリソグラフィシステム１００を示す高レベル概略ブロック図である。特定の実施形態では、一体型メトロロジツール１０５および／または制御モジュール１１１は、レシピ最適化を実行するように構成されてもよく、どの範囲のレシピ最適化が必要とされているかを判断し、より広範なレシピ最適化を、監視および最適化チャネル１２０を介して独立型メトロロジツール８０に転送し、かつ／またはより広範なレシピ最適化を、最適化チャネル１３０を介して追加のメトロロジツール１３５または他の外部ツール（たとえばシミュレーションツール）に転送するように構成されてもよい。制御モジュール１１１は、レシピ最適化の第１段階、たとえば波長の関数としてオーバーレイランドスケープを導き出し、最適な測定パラメータ（たとえば最適な波長、アペタイザー、または他の設定値）を示唆するための段階では、一体型メトロロジツール１０５を使用するように構成されてもよく、これは、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる米国特許出願公開第２０１６／０３１３６５８号および米国特許出願第１５／３２９６１８号のいずれかに開示されている通りである。ランドスケープは、シミュレーションによる、または予備測定における少なくとも１つのレシピパラメータに対する、少なくとも１つのメトロロジメトリック（たとえばオーバーレイランドスケープについてのオーバーレイ）の少なくとも部分的に連続した依存性に関係することに留意すべきである。導き出された依存性は、メトロロジ測定とプロセスパラメータを分析的に、またはシミュレーションによって関連付けるために使用することができる。次いで最適な測定パラメータが、監視および最適化チャネル１２０を介して独立型メトロロジツール８０に、および／または最適化チャネル１３０を介して追加のメトロロジツール１３５に転送されて、独立型メトロロジツール８０の性能が最適化され、サイクル時間が短縮され、精度が改善されてもよい。
【００２１】
図５は、本発明のいくつかの実施形態による、プロセス制御が改善されたリソグラフィシステム１００の高レベル概略ブロック図である。システム１００は、（たとえば、オーバーレイデータ、オプティカルＣＤ（ＯＣＤ：ｏｐｔｉｃａｌ  ｃｒｉｔｉｃａｌ  ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）データ、フォーカスおよび露光量データなどを受け取り、受け取ったデータを使用してプロセス制御を改善するモジュール内の）プロセス制御ソフトウェア６０に入力を提供するために、一体型メトロロジツール１０５および／または制御モジュール１１１を接続するプロセス制御チャネル１４０を備えてもよく、リソグラフィセルの外側でプロセス制御を改善するために使用されてもよい。制御モジュール１１１に関連付けられる、考えられるプロセッサ１１２は、プロセス制御ソフトウェア６０の少なくとも一部分を実行するように構成されてもよい。一体型メトロロジツール１０５は、プロセス制御に有用であり得るオーバーレイ、精度値、および他のプロセスパラメータなどの任意のプロセスパラメータを導き出すように構成されてもよく、プロセスパラメータを、プロセス制御チャネル１４０を介してプロセス制御ソフトウェア６０に提供してプロセス制御を改善してもよい。
【００２２】
図６は、本発明のいくつかの実施形態による、ランドスケープベースのグループ化を行うリソグラフィシステム１００の高レベル概略ブロック図である。システム１００は、ランドスケープ情報に基づく制御のグループ化のための入力を提供するために、一体型メトロロジツール１０５および／または制御モジュール１１１を接続するグループ化チャネル１５０を備えてもよい。グループ化は、外部で実装されるグループ化モジュール１０７によって、および／または一体型メトロロジツール１０５、制御モジュール１１１、および独立型メトロロジツール８０のうちのいずれかで実行されてもよい。システム１００は、ウエハ、チャック、プロセス、スキャナ動作、リソグラフィプロセスもしくはリソグラフィ後のプロセスなどのうちのいずれかの制御を、一体型メトロロジツール１０５および／または制御モジュール１１１からグループ化チャネル１５０を介して受け取ったメトロロジパラメータおよび／またはプロセスパラメータ（たとえば、オーバーレイ、精度値、または任意のプロセスパラメータ）、および代替的にもしくは相補的に独立型メトロロジツール８０からグループ化チャネル１５５を介して受け取ったメトロロジパラメータおよび／またはプロセスパラメータに応じて、グループ化するように構成されてもよい。グループ化は、任意の処理ユニット、場合によっては制御モジュール１１１によってさえ実行することができ、任意のランドスケープ情報またはパラメータ、たとえば波長シグニチャに基づいてもよく、これは参照によりその全体が本明細書に組み込まれる米国特許出願公開第２０１６／０３１３６５８号および米国特許出願第１５／３２９６１８号のいずれかに開示されている通りである。
【００２３】
たとえば一体型メトロロジツール１０５は、非限定な例として、異なるプロセスツールのｔ＝０の較正状態における、それらのツールのｔ＝０における組合せなど、知られている較正状態に対するプロセス変化の尺度を提供するように構成されてもよい。一体型メトロロジツール１０５によってプロセス変化が検出されると、プロセスツール（たとえば印刷ツール９０）の状態が、それらのｔ＝０の状態に戻るまで徐々に修正されてもよい。これは、メトロロジツール１０５、８０と、複数のプロセスツール（たとえば印刷ツール９０）との間のフィードバックループを使用して実現することができる。
【００２４】
特定の実施形態では、各プロセスツールの典型的な特徴が、メトロロジツール１０５および／または８０によって学習されてもよく、メトロロジツール１０５および／または８０は、各プロセスツールについての特定のフィードバックを提供するように構成されてもよい。
【００２５】
図７は、本発明のいくつかの実施形態による、上で開示したチャネル１１０〜１５０の様々な構成を有するリソグラフィシステム１００の高レベル概略ブロック図である。開示した様々な実施形態は、印刷ツール９０と独立型メトロロジツール８０の間の従来技術のチャネル８５に加えて、上で開示した監視チャネル１１０、監視および最適化チャネル１２０、最適化チャネル１３０、プロセス制御チャネル１４０、ならびに／またはグループ化チャネル１５０および／もしくは１５５のうちのいずれかを備える。それらの任意の組合せが、開示するリソグラフィシステム１００の構成として設定されてもよい。
【００２６】
図８は、本発明のいくつかの実施形態による方法２００を示す高レベルフローチャートである。この方法の段階は、上で説明したリソグラフィシステム１００に関して実行されてもよく、リソグラフィシステム１００は、方法２００を実装するように任意選択で構成されてもよい。方法２００は、たとえばメトロロジモジュール内の少なくとも１つのコンピュータプロセッサによって少なくとも部分的に実装されてもよい。特定の実施形態は、それにより具現化されるコンピュータ読取り可能プログラムを有するコンピュータ読取り可能記憶媒体を備えるコンピュータプログラム製品を備え、方法２００の関連段階を実行するように構成される。方法２００は、以下の段階をその順序に関係なく含んでもよい。
【００２７】
方法２００は、印刷ツールの規定の時間的制限に対する、一体型メトロロジツールおよび独立型メトロロジツールによるメトロロジ測定を、リソグラフィ印刷ツールの一体型メトロロジツールによって監視する（段階２１０）および／または割り当てる（段階２２０）ステップを含んでもよい。
【００２８】
方法２００は、規定の時間的制限に応じて、メトロロジ測定レシピを調整および／または最適化する（段階２３０）ステップを含んでもよい。
【００２９】
方法２００は、少なくとも一体型メトロロジツールによるメトロロジ測定に基づいて、印刷ツールのプロセスパラメータをプロセス制御ソフトウェアによって最適化する（段階２４０）ステップをさらに含んでもよい。
【００３０】
方法２００は、メトロロジ測定のランドスケープに応じて、印刷ツールのプロセスパラメータをグループ化する（段階２５０）ステップをさらに含んでもよい。
【００３１】
方法２００は、少なくとも一体型メトロロジツールにより、メトロロジ測定のランドスケープを導き出す（段階２６０）ステップをさらに含んでもよい。
【００３２】
本発明の態様は、本発明の実施形態による方法、装置（システム）、およびコンピュータプログラム製品のフローチャート図および／または部分図を参照しながら上で説明される。フローチャート図および／または部分図の各部分、ならびにフローチャート図および／または部分図の部分の組合せは、コンピュータプログラム命令によって実装できることが理解されよう。これらのコンピュータプログラム命令は、汎用コンピュータ、専用コンピュータ、または他のプログラム可能なデータ処理装置のプロセッサに提供されてマシンを生成し、それにより、コンピュータのプロセッサまたは他のプログラム可能なデータ処理装置によって実行される命令が、フローチャートおよび／または部分図、またはそれらの一部分において特定された機能／動作を実装するための手段を生成する。
【００３３】
これらのコンピュータプログラム命令は、コンピュータ、他のプログラム可能なデータ処理装置、または他のデバイスに特定のやり方で機能するように命じることができるコンピュータ読取り可能媒体にも記憶されてよく、それにより、コンピュータ読取り可能媒体に記憶された命令が、フローチャートおよび／または部分図、またはそれらの一部分において特定された機能／動作を実装する命令を含む製造物品を生成する。
【００３４】
またコンピュータプログラム命令は、コンピュータ、他のプログラム可能なデータ処理装置、または他のデバイスにロードされて、これらのコンピュータ、他のプログラム可能な装置、または他のデバイスにおいて一連の動作ステップを実行させて、コンピュータ実装プロセスを生成し、それにより、コンピュータ、または他のプログラム可能な処理装置上で実行される命令が、フローチャートおよび／または部分図、またはそれらの一部分において特定された機能／動作を実装するためのプロセスを提供してもよい。
【００３５】
前述のフローチャートおよび図は、本発明の様々な実施形態によるシステム、方法、およびコンピュータプログラム製品の考えられる実装形態のアーキテクチャ、機能、および動作を示す。この点に関し、フローチャートまたは部分図の各部分は、モジュール、区分、またはコードの一部分を表してもよく、これらは、特定された論理関数を実装するための１つまたは複数の実行可能命令を含む。また、いくつかの代替的な実施形態において、一部分で言及した機能は、図面内の順序とは無関係に行われてもよいことに留意すべきである。たとえば、連続して示された２つの部分は、実際、実質的に同時に実行されてもよく、または、これらの部分は、必要な機能に応じてときに反対の順序で実行されてもよい。また、部分図および／またはフローチャート図の各部分、ならびに部分図および／またはフローチャート図の部分の組合せは、特定の機能もしくは動作を実行する専用のハードウェアベースのシステム、または、専用のハードウェアとコンピュータ命令の組合せによって、実装できることにも留意すべきである。
【００３６】
上の説明では、実施形態は本発明の例または実装形態である。様々な箇所で出現する「一実施形態」、「実施形態」、「特定の実施形態」、または「いくつかの実施形態」の様々な装置は、必ずしもすべてが同じ実施形態を指すとは限らない。本発明の様々な特徴は、単一の実施形態の文脈で説明されてもよいが、これらの特徴は、別々に提供されてもよく、または任意の適切な組合せで提供されてもよい。それとは反対に、本発明は、わかりやすくするための別々の実施形態の文脈において本明細書で説明されてもよいが、本発明は単一の実施形態において実装することも可能である。本発明の特定の実施形態は、上で説明した異なる実施形態からの特徴を含んでもよく、特定の実施形態は、上で説明した他の実施形態からの要素を組み込んでもよい。特定の実施形態の文脈において本発明の要素を開示することは、これらの使用をこの特定の実施形態のみに限定するものとは受け取られない。さらに、本発明は、様々なやり方で実行または実施されてもよく、本発明は、上の説明で略述したものとは別の特定の実施形態で実装されてもよいことが理解されるべきである。
【００３７】
本発明は、これらの図またはそれに対応する説明に限定されない。たとえば、フローは、示された各ボックスまたは状態を通って移動する必要はなく、または示され説明されたのと全く同じ順序で移動する必要はない。本明細書で使用される技術的および専門的な用語の意味は、別段に定義されない限り、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じように理解される。本発明は、限られた数の実施形態に関して説明されたが、これらは本発明の範囲を限定するものとみなされるべきではなく、むしろいくつかの好ましい実施形態の例示としてみなされるべきである。他の考えられる変形形態、修正形態、および用途も、本発明の範囲内にある。したがって、本発明の範囲は、これまでに説明したものに限定されるべきではなく、添付の特許請求の範囲、およびそれらの法的な等価物によって限定されるべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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