(57)【要約】  本発明は、基板（２００）を露光するための装置（１）にして、電磁的な光線のための光線発生機（２ｂ）を含む少なくとも１つの露光ユニット（２）、及び、電磁的な光線にとって少なくとも部分的に透過的なマスク（１００）にして、当該マクス（１００）に含まれる構造又は情報を基板（２００）上に転写するためのマスク（１００）、を備えている装置（１）に関している。その際、マスク（１００）が、受容保持装置（６）を介して露光ユニット（２）と接続されており、また、負圧によってそこで保持されており、その際、マスク（１００）が、複数の支持要素（７０、８０）を介して、平坦にそして前記基板（２００）に対して平行に調整されて、支持されていること、が提案される。
2019514071.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（２００）を露光するための装置にして、
電磁的な光線のための光線発生機（２ｂ）を含む少なくとも１つの露光ユニット（２）、及び、前記電磁的な光線にとって少なくとも部分的に透過的なマスク（１００）にして、当該マクス（１００）に含まれる構造又は情報を前記基板（２００）上に転写するためのマスク（１００）、を備えている装置において、
前記マスク（１００）が、受容保持装置（６）を介して少なくとも１つの前記露光ユニット（２）と接続されており、また、負圧によってそこで保持されており、その際、前記マスク（１００）が、複数の支持要素（７０、８０）を介して、平坦にそして前記基板（２００）に対して平行に調整されて、支持されていること、
を特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、
少なくとも１つの前記露光ユニット（２）が負圧チャンバ（３）の片側に配設されており、また、前記マスク（１００）用の前記受容保持装置（６）が前記負圧チャンバ（３）の反対側にある他方側に配設されていること、
を特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の装置において、
前記マスク（１００）が、特には交換可能な保持フレームに受容されていること、
を特徴とする装置。
【請求項４】
請求項１から３の何れか一項に記載の装置において、
前記マスク（１００）を支持する複数の前記支持要素（７０、８０）を受容及び固定するための複数の保持部（６０、６１、９）が設けられていること、
を特徴とする装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の装置において、
複数の前記支持要素（７０、８０）が前記保持フレーム内で可変的に位置決め可能及び固定可能であること、
を特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１から５の何れか一項に記載の装置において、
前記支持要素（７０、８０）が、同一又は異なる断面を有する複数の棒状部材として設計されていること、
を特徴とする装置。
【請求項７】
請求項１から６の何れか一項に記載の装置において、
前記支持要素（７０、８０）が複数の凹部を備えており、また、当該凹部を介して格子構造へと互いに接続可能であること、
を特徴とする装置。
【請求項８】
請求項１から７の何れか一項に記載の装置において、
前記支持要素（７０、８０）が、直線状の又は点状の支えを介して、前記マスク（１００）を支持していること
を特徴とする装置。
【請求項９】
請求項１から８の何れか一項に記載の装置において、
前記露光ユニット（２）が前記マスク（１００）への方向で調整可能な複数の固定要素にして前記マスク（１００）上へ垂直に作用する棒形状の前記支持要素（７０、８０）を固定するための固定要素、を有していること、
を特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項１から９の何れか一項に記載の装置において、
前記支持要素（７０、８０）が用いられる光線にとって透過的な材料から構成されていること、
を特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項１から１０の何れか一項に記載の装置において、
前記マスク（１００）が複数のパターン部分に分割されていること、及び、複数の前記支持要素（７０、８０）が前記パターン部分の間の分断領域にて前記マスク（１００）を支持していること、
を特徴とする装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前提部分に従う装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報又は平面的な構造を基板（サブストレート）上へ転写するための光学的なマスクの使用は既知であり、例えばトランジスタや組み込まれる回路のような導体経路又は半導体構造を製造するための半導体工業分野で用いられている。特にマスクはディスプレイを製造するためにも用いられており、その際それに関して一度のプロセスステップで例えばマスクの導体経路配置を光構造化可能なディスプレイガラス上に又はディスプレイガラス上に存在する感光性の層上に転写するために、数平方メートルの大きさを有するガラスマスク又は石英マスク（クォーツマスク）が部分的に使用される。その際通常、ディスプレイガラスは対応する個別の製品用の複数のプロダクトパネルを含んでいるので、１度のプロセスステップで例えば８枚のディスプレイが、それぞれ例えば６５インチの大きさを備えて、加工され得る。
【０００３】
この場合、構造の転写は、先行するステップでディスプレイガラス上に載せられた感光性の層をマスク越しに露光することによって行われ、それにより、マスクに含まれる平面構造がディスプレイガラスの感光層上へと転写される。後続のステップではその後、露光されていない領域のフォトレジストが取り除かれ、そしてその後露わになった領域に例えば導電路が載せられる。その後引き続き、露光されたフォトレジストが取り除かれ、そしてディスプレイガラスは、例えば半導体層を載せるための更なるプロセスステップのために使用可能である。
【０００４】
その際、プロセスエンジニアリング的には、マスクが水平姿勢で保持されること、及び、複数のランプ及び適宜適応された光学系から構成されている露光ユニットがマスクの上方に配設されていることが有利であり、その結果、マスクは上部から垂直に照射される。従って、露光されるべき基板は、露光プロセスの間、下方からマスクに接近され、また露光プロセスの間、一定の姿勢で保持される。
【０００５】
その際、可能な限り輪郭が明確な結像を達成するためには、また、可能な限り精密な構造を実現するためには、マスクと基板の間の間隔を、加工領域全体に渡って一定にそして可能な限り狭く、維持することが必要である。これに関して、可能な限り僅かな湾曲又は可能な限り僅かな波打ちを達成するために、水平に配設されたマスクを高い平坦度（平面性）で保持することが、特に必要である。それらの湾曲や波打ちは、基板に対して局所的に異なる間隔を導き、また従って局所的に異なる露光結果をもたらし得るものである。
【０００６】
その場合には、使用されるマスクがそれぞれ薄いガラスデスクであって、その厚さが１０分の数ミリメートルから数ミリメートルの範囲にありまたその大きさは数平方メートルであり得ることは、困難である。従って、マスクの自重に基づくたわみを許容可能な程度まで減少させるために、それぞれのマスクをそれらの複数の縁部分のみにおいて保持及び調整するのではなく、それらの面に渡って分布している複数の領域においても同様に保持及び調整することが必要である。
【０００７】
これに関連して、特許文献１では、透明な支持プレートを用いることが提案されており、当該支持プレートはマスクに対して向かい合う面に１つ又は複数の溝を有しており、当該溝を介して支持プレート及びマスクの間に真空が発生され得て、それにより、マスクは支持プレートに平坦に押し付けられる。この場合の欠点は、特には数平方メートルの面積の、非常に大きなマスクを用いる際には、その側での支持プレートが非常に大きくそして重くなること、また加えて、非常に高い平坦性を有していなければならないこと、である。また、その種の支持プレートが極端に製造面でコスト高でありまた従って経済的でないことも、不利である。
【０００８】
特許文献２では代替的に、光透過性の複数の棒状部材を用いてマスクを保持することが提案されている。これに関しては、それぞれの棒状部材はマスク側に向けられた溝を有しており、そこには真空が作用され得て、それにより、マスクは吸着されそして保持される。この場合の欠点は、光透過性の棒状部材が露光プロセスの間に光学要素として作用し、それによりプロセス平面での照射の均一性が損なわれ、また、局所的に異なる露光結果がもたらされることである。更に問題であることは、プロセス平面でのマスクの必要な平面性を保証するために、棒状部材がその長さに渡って高い直線性、平面性、及び剛性を有していなければならないことである。更に、パターン（パターン領域）の数及び配置が異なるマスクでの上述の真空出力の適応は実現出来ない又は非常に困難であり、その結果、個々のパターンが光学的な光線経路にある支持棒の影響によって最適には露光されないことが不利である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】ＪＰ００２００９２３７４４２Ａ
【特許文献２】ＪＰ００２０１１１５５１０８Ａ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の課題は、上述の欠点を解消し、また、パターンの露光が妨げられることなく、異なる数のパターンを選択的に備える大面積のマスクにも用いることが出来る、マスク用の露光装置を達成することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この課題を解決するために、請求項１に記載の事項の組み合わせが提案される。本発明の有利な構成及び発展は、従属請求項から得られる。
【００１２】
それに応じて、本発明に従い、マスクが受容保持装置を介して少なくとも１つの露光ユニットと接続されており、また、受容保持装置にて負圧により保持されており、その際、マスクは支持要素を介して平坦でまた基板に対して平行な配向で支持されていることが提案される。
【００１３】
有利には、露光装置は真空チャンバ或いは負圧チャンバの片側に配設されている一方で、マスク用の受容保持装置が負圧チャンバの反対側に配設されている。有利にはマスクは負圧チャンバの光線通過口（以下「開口部」と称する）を閉じており、その結果負圧作用は維持される。
【００１４】
特に有利な実施は、受容保持装置としての保持フレーム内に、好ましくは交換可能な保持フレーム内に、マスクを受容することを企図している。保持フレームは光線の通過用のフレーム開口部を画定し、そして、保持フレーム側で真空チャンバに接して取り外し可能に固定されている。マスクは同時にフレーム開口部を閉じている。
【００１５】
有利には、マスクを支持する支持要素を受容及び固定するために、保持フレーム又は露光ユニットでの保持が企図されている。合目的には、保持フレームでの保持は、フレーム内側で周りに延びている支持要素を変位させるためのノッチによって、及び、ノッチ内で支持要素を固定するための固定要素によって、形成されている。マスクに対して垂直に配向されている棒形状（スティック形状）の複数の支持要素によっても保持部は形成され得る。
【００１６】
マスクのその都度の構造へ有利に適合させることを可能とするためには、支持要素が保持フレームの開口部領域にて自由に或いは可変的に位置決め可能及び固定可能である場合が有利である。
【００１７】
複数の支持要素が同一の又は異なる断面積を有する棒状部材として設計されている場合も有利である。その際、支持要素は複数の凹部を備えられていてもよく、また、当該凹部を介して格子構造へと互いに接続可能である。
【００１８】
別の改良は、支持要素がマスクを点状又は線状の載置領域を介して支持していることを、企図している。
【００１９】
可能な限り平坦な支持を達成するためには、マスクの方向で調整可能な固定要素であってマスクに垂直に作用する棒形状の支持要素を固定するための固定要素を、露光ユニットが有している場合が有利である。
【００２０】
均一な露光のためには、支持要素が用いられる光線にとって透過的な部品（材料）から構成されている場合が有利である。
【００２１】
露光を妨げないために、複数のパターン部分（子基板用パターン部分、パネルパターン部分）に分割されているマスクにおいて、支持要素がパターン部分の間の分離領域でマスクを支持している場合が有利である。
【００２２】
合目的には、真空チャンバの上面は用いられるべき光線にとって少なくとも部分的に透過的である。その際、露光装置は真空チャンバの上面を通過して真空チャンバの下面を形成しているマスクを全面的に露光することが出来る。
【００２３】
更に、本発明に従い以下の事項が、個別の特徴として、又は、特徴を組み合わせて、企図されていてもよい、即ち、
−真空チャンバのベース面がマスクのベース面よりも大きいこと、
−真空チャンバの上側が真空チャンバの下側と平行に配向されていること、
−真空チャンバが平行６面体又は角錐台であること、
−真空チャンバの幅に対する高さの比率が、１：１００から１：２の範囲にあること、
−真空チャンバの下側がマスクの形状に適合された開口部を有していること、
−マスクがその外側角で開口部の縁上に一様に乗りまたこの開口部を閉じるように、開口部がマスクの形状に適合されていること、
−マスクが真空チャンバ内で発生可能な負圧を介して真空チャンバの下側に引きつけられ、そしてそこで保持されること、
−マスクが周りを取り囲むシーリングを用いて真空チャンバの下側にてその縁部で真空チャンバに対して密閉されていること、
−真空チャンバがその下側にてマスクの位置決め及び／又は固定のために、例えば機械的なガイド及び／又は配向要素及び／又は挟保持器といった機械的な装置を有していること、
−真空チャンバの上側が、少なくとも部分的に、例えば石英ガラス（クオーツガラス）又はガラス又は合成物質といった光学的に透明な器具（材料）から、構成されていること、
−上側の光学的に透明な器具が平行平面板であること、
−上側の光学的に透明な器具が調光及び／又は導光のための光学的な要素を含んでいること
−上側の光学的に透明な器具が、例えば光学的なフィルタ特性といった、波長選択的な特性を有していること、
−上面が光学的に透明な複数の要素から構成されていること、
−真空チャンバが接続部を介して負圧発生機と接続されていること、
−真空チャンバが換気装置を有していること、
−支持要素用の保持装置が、マスクを受容するためのフレームに又は真空チャンバの内部に配設されていること、
−保持装置は、同一又は異なる設計の支持要素を受容することが出来ること、
−保持装置は、光学的なパターン照射用の少なくとも部分的に透明な器具から構成されていること、
−支持要素がパターン照射にとって透過的な器具から構成されていること、
−支持要素の配置及び組み合わせが変更可能であること、
−支持要素が光学的な機能を有していること、
−支持要素が導光器として及び／又はレンズとして作用すること、
−支持要素の少なくとも複数の部分が鏡として作用すること、
−支持要素が枠縁又は棒状部材（支え棒、横木）として設計されていること、
−支持要素が、垂直に又点状にマスクを支持する、円筒状又は円錐状に形成された棒又は円錐であること、
が個別の特徴として、又は、特徴を組み合わせて、企図されていてもよい。
【００２４】
以下において図中に概略的に示された実施例を用いて本発明がより詳細に説明される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】基板を露光或いは照射するための装置を側面図で示す。
【図２】図１の装置を上面図で示す。
【図３】露光装置の別の詳細な断面図を示す。
【図４】照射装置を斜視図で、部分的に切断して示す。
【図５】マスクのための異なる支持形態を斜視図で示す。
【図６】別の支持バリエーションを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図中に示されている露光システム１は、縦長の複数の露光ユニット２を含んでおり、当該露光ユニット２はチャンバ３の上部側（上面）３ａに側方に並んで配設されている。チャンバ３はその下部側（下面）３ｂに開口部３ｃを有しており、当該開口部３ｃは駆動時にはマスク１００を用いて閉じられているので、その結果、チャンバ３は負圧を用いた作用を受けることが出来る。それに関して、チャンバ３は、接続ソケット５及び図示されていない接続ラインを介して、図示されていない負圧発生機に接続されている。負圧はその際、例えばバキュームポンプ、又は吸引ブロワ、又は類似の方法を用いて、発生され得る。製造プロセスにおける基板（サブストレート）の露光のための露光マスク１００は、要求に応じて、基盤に対して、０．１ｍｍから０．５ｍｍの僅かな公差と共に０．１ｍｍから２ｍｍの間の僅かな間隔のみを有することが許されるので、マスク１００が、チャンバ３の外側で、その下部側３ｂに配置され少なくともそこで固定されることが必要となる。
【００２７】
これに関してマスク１００は、図３に図示されているように、その外側輪郭部１０１で一回りして、収容保持装置として一回りするフレーム６と当接している。当該収容保持装置は、開口部３ｃ内へ入れることが可能であり、また、この開口部３ｃ内で不図示の適切な保持要素を介して固定され得て、またその際、気密的な接続が達成される。マスク１００の外側輪郭部１０１はその際、フレーム６のノッチ内へ入れられている周りを取り囲むシーリング要素６ａに、以下のように当接している、即ち、チャンバ３の内部空間に負圧が作用される場合に、マスクがシーリング要素６ａに押し付けられまた従ってフレーム６にも押し付けられるように、そして、マスクがチャンバ３を外部空間に対して閉鎖するように、当接している。負圧の作用が十分である場合、それにより、マスク１００がフレーム６に固定保持されることも保証される。
【００２８】
特にはマスク１００の交換時に、フレーム６に対するマスク１００の位置に関してマスク１００を配置するためにそしてマスク１００の固定を支援するために、更に、複数の機械的な支持棒７及び複数の不図示のストッパー縁部又は複数の配向要素が設けられており、それらは制御された駆動部７ａを用いて、始動又は停止され得る。支持棒７はその際マスク１００の外側縁部１０１を、程度の僅かな圧力で、後に続いてチャンバ３に負圧を作用させることは問題なく行われ得るように、シーリング要素６ａに押し付ける。
【００２９】
基板２００に対するマスク１００の平坦な配置及びマスク１００の間隔を可能な限り狭い制限で保持するための要求に基づいて、特にマスクサイズが数平方メートルである場合には、追加の支持要素をフレーム６或いはチャンバ３の内側に配設及び設計することが企図されるが、それは、より詳しく後述するように、露光プロセスがマスクの全体面に渡って複数の支持要素によって実質的に妨げられないように、行われる。
【００３０】
異なるマスクは、異なる数のパターン部分及び異なる配置のパターン部分を有しており、それぞれの分離領域上でパターン部分は互いに分断されているので、支持要素をパターン部分間の分離領域に置くことが有利である。それによって、支持要素がマスクを介してのパターンの均一な露光を妨げないことが保証される。
【００３１】
従って、数及び配置の異なる複数のパターン部分を備えるマスクでの支持要素の配置を適合させるために、フレーム６に複数の支持要素を配設しそして固定することが企図される。
【００３２】
図４に図示されているように、これに関してフレーム６は例えば周りを取り囲むノッチ６０を有しており、その中に棒状の支持要素７０がその両端側の端部を用いて挿入され得て、またそこで対応的な固定要素６１を用いて固定され得る。
【００３３】
互いに係合する支持要素７０を用いることによって、例えば図５に図示されているように、異なる支持部形状を選択的に実現することが可能である。その際、それぞれのマスクに適合され、異なった配置の支持要素及び支持形状を有する異なるフレーム６を保管しておき、そして、要求に応じて交換することも可能である。
【００３４】
支持要素７０はその際、円形又は長方形の断面を有する薄い棒状部材として構成されていてもよく、その結果、支持要素の水平方向の取り付け位置においてマスクは支持要素７０のそれぞれの縁部で突っ張っている。
【００３５】
図６に図示されているように、湾曲に抗ってマスクを支持するために、水平に或いは照射方向に対して横方向に支持要素７０を配設する代わりに、垂直に配設された複数の支持要素８０を用いることも企図され得て、その結果、複数の支持点８１を介した点状のマスク支持が行われる。これに関して、支持要素８０はフレーム６には固定されておらず、チャンバ３の上側近傍に配設されている保持部９に、個別に又は共同で固定されており、その結果、その長さ方向の膨張は基本的に、露光ユニット２のパターン光線の伝搬方向を示している。これに関して、保持部９は複数の固定装置９ａを有しており、当該固定装置９ａはそれぞれに少なくとも１つの垂直な支持部８０を固定するために用いられる。
【００３６】
その際、複数の露光装置９ａのそれぞれに、例えばマイクロメータネジといった高さ調整装置を設けることが合目的であり得て、それにより、プロセス平面でのマスクの最適な平面性を可能とするための、それぞれの支持点８１のマスク平面への追加的な適合が可能となる。それぞれ１つの対応的なモータ駆動の調整装置を用いることも可能であり、当該調整装置は、冒頭では記載していない単一点又は複数点の間隔測定システムを介して、マスクの平面性の自動的な後調整を可能とする。
【００３７】
その際、支持要素８０は、チャンバの上側近傍のその保持部からマスク平面までの十分な長さを有しており、その場合の直径は１ｍｍより大きく１０ｍｍ未満である。その際、支持要素８０をその長さの少なくとも部分領域で、特にはマスク載置部の領域で、円錐状に設計すること、が有利である。これにより、マスクを複数の個別の点で支持することが可能となり、その結果、支持要素８０による露光の阻害が最小化される。これに関して、マスク１００上の個々の点での大き過ぎる圧力によるマスク１００の機械的な破損を最小限にするために、支持要素８０の先端部８１は例えば、平坦面として又は球面として又は自由形状面として形成されている。その際、マスクの破損の危険性を更に低減するために、マスク１００上の複数の支持点８１も同様にパターン部分の分離領域に置き、また、支持点８１の載置面を面的に拡大することが合目的であり得る。
【００３８】
露光ユニット２自体は、１つ又は複数の光線発生装置を含んでおり、それは、例えば電球、又は、ガス放電灯、又は、半導体エミッタ、又は、ＬＥＤ、又は、レーザ、又は、所望の放射領域で十分な光線出力を放射する電磁光線用の類似の複数の発生装置である。その際光線は、ＥＵＶ領域、ＶＵＶ領域及び／又はＵＶ領域、及び／又は、可視領域、及び／又は、赤外領域にあってよい。
【００３９】
従って、露光プロセスのために例えばＵＶ光線が必要である場合には、露光ユニット２は、光線発生装置として例えば１つ又は複数の水銀灯２ｂを有することが可能であり、それらの光線について全体的な効率を高めるため露光窓２ｄに離背する側に追加的にリフレクタ２ｃを有していてもよい（図３）。特に中圧及び高圧水銀灯は、ＵＶから赤外の幅の広いスペクトルを放射するので、露光のためには、例えば光学的要素によって特定の波長領域のみを選択することが必要である。これに関しては、例えばリフレクタ２ｃが誘電体ミラーとして設計されており、それはほぼ所望のスペクトル領域のみを反射し、その一方で、露光窓２ｄは誘電体フィルタとして設計されており、それはほぼ所望のスペクトル領域のみだけを通過させる。
【００４０】
その際従って複数の露光ユニット２は、以下のように配設されている、すなわち、放射される光線が露光窓２ｄを通ってチャンバ３内部へ入射し、そして下側３ｄでは開口部３ｃを通ってマスク１００に当たり、そして透明な領域にてマスク１００を通過しチャンバ３の外部でマスク１００の直下に位置決めされている基板２００に当たるように、配設されている。
【符号の説明】
【００４１】
２              露光ユニット
２ｂ            光線発生機
３              負圧チャンバ
３ｃ            光線通過口、開口部
６              支持装置（保持装置）
９              支持部
６０            支持部
６１            支持部
７０            支持要素
８０            支持要素
１００            マスク
２００            基板
【図１】
2019514071.tif 000003
【図２】
2019514071.tif 000004
【図３】
2019514071.tif 000005
【図４】
2019514071.tif 000006
【図５】
2019514071.tif 000007
【図６】
2019514071.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月21日(2018.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（２００）を露光するための装置にして、
電磁的な光線のための光線発生機（２ｂ）を含む少なくとも１つの露光ユニット（２）、及び、前記電磁的な光線にとって少なくとも部分的に透過的なマスク（１００）にして、当該マクス（１００）に含まれる構造又は情報を前記基板（２００）上に転写するためのマスク、を備えている装置であって、
前記マスク（１００）が、受容保持装置（６）を介して少なくとも１つの前記露光ユニット（２）と接続されており、また、負圧によってそこで保持されている装置において、
少なくとも１つの前記露光ユニット（２）が負圧チャンバ（３）の片側に配設されており、また、受容保持装置（６）並びに前記マスク（１００）が前記負圧チャンバ（３）の反対側にある他方側に配設されていること、
前記支持要素（７０、８０）が、光線通過口（３ｃ）の領域内での直線状の又は点状の支えを介して、前記マスク（１００）を支持していること
を特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、
前記マスク（１００）が、特には交換可能な保持フレームに受容されていること、
を特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の装置において、
前記マスク（１００）を支持する複数の前記支持要素（７０、８０）を受容及び固定するための複数の保持部（６０、６１、９）が設けられていること、
を特徴とする装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の装置において、
複数の前記支持要素（７０、８０）が前記保持フレーム内で可変的に位置決め可能及び固定可能であること、
を特徴とする装置。
【請求項５】
請求項１から４の何れか一項に記載の装置において、
前記支持要素（７０、８０）が、同一又は異なる断面を有する複数の棒状部材として設計されていること、
を特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１から５の何れか一項に記載の装置において、
前記支持要素（７０、８０）が複数の凹部を備えており、また、当該凹部を介して格子構造へと互いに接続可能であること、
を特徴とする装置。
【請求項７】
請求項１から６の何れか一項に記載の装置において、
前記露光ユニット（２）が前記マスク（１００）への方向で調整可能な複数の固定要素にして前記マスク（１００）上へ垂直に作用する棒形状の前記支持要素（７０、８０）を固定するための固定要素、を有していること、
を特徴とする装置。
【請求項８】
請求項１から７の何れか一項に記載の装置において、
前記支持要素（７０、８０）が用いられる光線にとって透過的な材料から構成されていること、
を特徴とする装置。
【請求項９】
請求項１から８の何れか一項に記載の装置において、
前記マスク（１００）が複数のパターン部分に分割されていること、及び、複数の前記支持要素（７０、８０）が前記パターン部分の間の分断領域にて前記マスク（１００）を支持していること、
を特徴とする装置。
【国際調査報告】
2019514071.tif 000009
2019514071.tif 000010
2019514071.tif 000011
2019514071.tif 000012