(57)【要約】本発明は、金属化層を製造して、ガラス基板についてテンパリング又は熱強化処理を行うステップ（１）と、金属半田を金属化層に置くステップ（２）と、ガラス基板を積層して、鋼化ガラスユニットを形成するステップ（３）と、鋼化ガラスユニットを６０℃〜２３０℃に加熱するステップ（４）と、真空室において鋼化ガラスユニットをステップ（４）の加熱温度範囲に保持して、真空室を所定真空度になるまで吸引するステップ（５）と、金属半田付けプロセスにより金属化層を気密条件下で封着するステップ（６）とを含む鋼化真空ガラスの製造方法を開示する。本発明は、二枚のガラス基板の間の封着時の応力を大幅に低下させて、接続強度を向上させるだけでなく、該温度範囲で排気することができ、排気効率、排気効果がより高くなり、高真空度の真空ガラスを製造して耐用年数を延ばす。本発明はさらに、上記製造方法を用いた鋼化真空ガラスの生産ラインを開示する。
2019500306.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼化真空ガラスの製造方法であって、
ガラス基板の封着対象領域に金属化層を製造して、前記ガラス基板についてテンパリング又は熱強化処理を行うステップ（１）と、
金属半田を前記金属化層に置くステップ（２）と、
二枚のガラス基板をそれぞれ６０℃〜２３０℃に加熱して、次に二枚のガラス基板の封着対象領域にある金属化層を対向させるように、ガラス基板を積層し、前記金属半田を封着対象領域の金属化層の間に介在させる方法ａ．と、
二枚のガラス基板の封着対象領域にある金属化層を対向させるように、ガラス基板を積層し、前記金属半田を封着対象領域の金属化層の間に介在させ、次に積層後の二枚のガラス基板全体を６０℃〜２３０℃に加熱する方法ｂ．とのうちのいずれかの方法により前記ガラス基板を予熱して積層するステップ（３）と、
真空室において鋼化ガラスユニットを加熱し続けて、ステップ（３）の加熱温度範囲に保温し、真空室を所定真空度になるまで吸引するステップ（４）と、
真空室において金属半田付けプロセスにより金属化層を気密条件下で封着して、鋼化真空ガラスの製造過程を完了するステップ（５）とを含むことを特徴とする鋼化真空ガラスの製造方法。
【請求項２】
前記ステップ（３）までに、積層後の二枚のガラス基板全体の温度を８０℃〜１８０℃に維持することを特徴とする請求項１に記載の鋼化真空ガラスの製造方法。
【請求項３】
前記ガラス基板がコーティングガラス基板である場合、金属化層を予め形成する前に、コーティングガラス基板の封着対象領域について被膜除去を行うことを特徴とする請求項１に記載の鋼化真空ガラスの製造方法。
【請求項４】
前記ステップ（１）において、前記キャビティを支持する支持物を製造するステップをさらに含み、具体的には、まず、ペースト状ガラス釉薬を一方のガラス基板の所定位置に印刷して点状突起配列を形成し、次に、高温焼結プロセスにより、ガラス釉薬を焼結してガラス基板に固着された支持物を形成することを特徴とする請求項１に記載の鋼化真空ガラスの製造方法。
【請求項５】
二枚のガラス基板を積層する前に支持物を配置するステップをさらに含み、具体的には、固体状支持物を一方のガラス基板の所定位置に配置することを特徴とする請求項１前記的鋼化真空ガラス製造方法。
【請求項６】
前記ステップ（５）において、前記金属半田付けプロセスにより封着対象領域について局所加熱をレーザ加熱、炎加熱、電流加熱、誘導加熱、マイクロ波加熱、放射加熱又は対流加熱で行うことを特徴とする請求項１に記載の鋼化真空ガラスの製造方法。
【請求項７】
前記ステップ（３）において、二枚のガラス基板の間にセパレータを設置して、積層後のガラス基板の間に排気用の隙間を残し、真空室が所定真空度になると、前記セパレータを取り外すことを特徴とする請求項１に記載の鋼化真空ガラスの製造方法。
【請求項８】
前記ステップ（３）において、二枚のガラス基板を積層する前、少なくとも１枚の前記ガラス基板に吸気剤を配置して、前記ステップ（４）終了後、前記吸気剤を活性化させることを特徴とする請求項１に記載の鋼化真空ガラスの製造方法。
【請求項９】
請求項１−８のいずれか一項に記載の鋼化真空ガラスの生産ラインであって、
第一輸送装置により順次に接続される、金属化層製造装置、半田配置装置、ガラス基板結合装置、第一予熱装置、真空吸引システム及びエッジ熔接封止装置を含み、
その内で、前記真空吸引システムは、ガラス輸送方向に沿って順次に接続される、空気抜き装置を有する複数の真空室を含み、前記真空室内に第二予熱装置と前記エッジ熔接封止装置が設置され、前記第一予熱装置と前記第二予熱装置は鋼化ガラスユニットを６０℃〜２３０℃に加熱することを特徴とする生産ライン。
【請求項１０】
前記真空室は、前記第一輸送装置に設置されたフロント補助真空室と第一輸送装置の一側に位置する主真空室とを含み、前記フロント補助真空室と前記主真空室の間に真空バルブが設置され、前記第二予熱装置と前記エッジ熔接封止装置は前記主真空室に位置することを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１１】
一つの真空室が配置される場合、前記フロント補助真空室の下流側にリア補助真空室が接続され、複数の真空室が配置される場合、最後の前記フロント補助真空室を通過する下流側にリア補助真空室が接続されることを特徴とする請求項１０に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１２】
前記ガラス基板結合装置は、前記第一輸送装置の一側に設置された昇降機構を含み、前記昇降機構にリフトアームが設置され、前記リフトアームに真空チャック又は挟持装置を有する反転機構が取り付けられ、ガラス基板結合装置が作動するときに、前記真空チャック又は挟持装置は第二ガラス基板を把持し、昇降機構は第二ガラス基板を所定高さに持ち上げて反転させ、反転後、第一ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了することを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１３】
前記第一輸送装置の側面に第二輸送装置が設置され、前記第一輸送装置は第一ガラス基板を搬送し、前記第二輸送装置は第二ガラス基板を搬送することを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１４】
前記ガラス基板結合装置は第一、第二輸送装置の間に設置された回転軸を含み、前記回転軸に第二輸送装置の隙間を通して第二ガラス基板の下方に挿入された振りアームが接続され、前記振りアームに真空チャック又は挟持装置画取り付けられ、
作動時、前記真空チャック又は挟持装置は第二ガラス基板を把持して、回転軸を巡って振りアームを反転させて、第二ガラス基板を第一輸送装置における第一ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了することを特徴とする請求項１３に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１５】
前記ガラス基板結合装置は、第一輸送装置の上方に設置された吊り輸送装置を含み、前記吊り輸送装置は、第二ガラス基板を搬送するものであり、輸送機構を含み、前記輸送機構に真空チャック又は挟持機構を有するリフト装置が設置され、
作動時、前記リフト装置は、降下して真空チャック又は挟持機構により第一輸送装置における第二ガラス基板を把持して固定し、リフト装置は、上昇して、第二ガラス基板を積層すべき第一ガラス基板の上方に輸送し、第二ガラス基板を第一ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了することを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１６】
前記ガラス基板結合装置は、前記第一輸送装置の一側に設置された多自由度マニピュレータを含み、前記マニピュレータは真空チャック又は挟持装置を有し、
ガラス基板結合装置の作動時、前記真空チャック又は挟持装置は第二ガラス基板を把持して、第二ガラス基を反転させた後、第一ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了することを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１７】
さらに、前記金属化層製造装置と前記エッジ熔接封止装置の間にあるワークステーションに設置された支持物配置装置が設置されることを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１８】
さらに、前記半田配置装置と前記ガラス基板結合装置の間にあるワークステーションに設置される支持物配置装置が設置されることを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項１９】
さらに、金属化層製造装置と半田配置装置の間に設置された支持物製造装置を含み、前記支持物製造装置はスクリーン印刷装置、乾燥装置及び焼結装置を含むことを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項２０】
前記ガラス基板がコーティングガラス基板である場合、該コーティングガラス基板の封着対象領域について被膜除去を行う被膜除去装置をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項２１】
前記エッジ熔接封止装置は、レーザ加熱装置、マイクロ波加熱装置、炎加熱装置、誘導加熱装置又は対流加熱装置であることを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項２２】
さらに、前記金属化層製造装置と前記半田配置装置の間にあるワークステーションに設置されたガラステンパリング装置を備えることを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項２３】
前記金属化層製造装置は、スクリーン印刷装置、乾燥装置及び焼結装置を含むことを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項２４】
さらに、前記真空室内に設置された吸気剤活性化装置を備えることを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項２５】
複数の前記真空室が配置される場合、真空室は、ガラス輸送方向に順次に接続されておることを特徴とする請求項９に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【請求項２６】
前記真空室は、ガラス輸送方向に沿って順次に接続される、フロント補助真空室、主真空室及びリア補助真空室を含み、前記第二予熱装置と前記エッジ熔接封止装置は前記主真空室に位置することを特徴とする請求項２５に記載の鋼化真空ガラスの生産ライン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空ガラスの製造分野に属し、特に鋼化真空ガラスの製造方法、及び該製造方法を用いた鋼化真空ガラスの生産ラインに関する。
【背景技術】
【０００２】
真空ガラスは、優良な保温性、遮音性、省エネルギー効果を有し、次世代の省エネルギー建築ガラスの発展方向を代表して、幅広く普及されつつある。真空ガラスの最も初期の研究が二十世紀の九十年代から始まり、たとえば、出願番号ＡＵ９４１９２６６７．２のオーストラリア特許において、真空ガラスの製造方法が開示されており、真空ガラスの研究の端緒となる。それ以降、中国および海外で該技術を中心に研究を行ったが、技術的な問題により、製造された真空ガラスは鋼化真空ガラスではないため、建築安全ガラスの標準を満足できないことから、真空ガラスの高層ビルや特別な用途への応用が極めて大きく制限されてしまう。鋼化真空ガラスを製造することは、中国および海外で盛んに行っている研究である。それに対して、本出願人は、出願番号２０１０１０５０８４２１．７の中国発明特許においてガラス板の複合封着方法を開示し、低融点金属を用いて真空ガラスの周辺を封着することにより、ほかの封着プロセスによれば鋼化ガラス基板のデテンパリングを引き起こしやすいという世界的な難問を解決し、鋼化真空ガラスの製造に成功して、真空ガラスの発展及び普及を進ませる。
【０００３】
鋼化真空ガラスを製造する時には、二枚のガラス基板の封着強度は、鋼化真空ガラスの重要な性能パラメータである。当業者は、従来技術の障壁を絶え間なく打ち破り、より完全な解決手段を提供し、鋼化真空ガラス産業の発展を促進するため、努力を重ねている。このため、当業者は封着強度の向上に取り組んでいる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
実用際、出願人は、封着時に半田と金属化層の膨脹係数が違うことだけで、冷却硬化後に応力が生じることを見出した。従来技術に存在する問題に対し、本発明の第一目的は、二枚のガラス基板同士の封着時に生じた応力を減少させて、接続強度を向上させるだけでなく、該温度範囲下で排気することができ、排気効率、排気効果がより高くなり、高真空度の真空ガラスを製造して耐用年数を延長させ、排気口無し鋼化真空ガラスの製造に用いられるものである鋼化真空ガラスの製造方法を提供することであり、本発明の第二目的は、量産のために必要な装置として、鋼化真空ガラスの連続化、自動化生産ラインを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成させるために、本発明は、鋼化真空ガラスの製造方法において、
ガラス基板の封着対象領域に金属化層を製造して、前記ガラス基板についてテンパリング又は熱強化処理を行うステップ（１）と、
金属半田を前記金属化層に置くステップ（２）と、
二枚のガラス基板をそれぞれ６０℃〜２３０℃に加熱して、次に二枚のガラス基板の封着対象領域にある金属化層を対向させるように、ガラス基板を積層し、前記金属半田を封着対象領域の金属化層の間に介在させる方法ａ．と、
二枚のガラス基板の封着対象領域にある金属化層を対向させるように、ガラス基板を積層し、前記金属半田を封着対象領域の金属化層の間に介在させ、次に積層後の二枚のガラス基板全体を６０℃〜230℃に加熱する方法ｂ．とのうちのいずれかの方法により前記ガラス基板を予熱して積層するステップ（３）と、
真空室において鋼化ガラスユニットを加熱し続けて、ステップ（３）の加熱温度範囲に保温し、真空室を所定真空度になるまで吸引するステップ（４）と、
真空室において金属半田付けプロセスにより金属化層を気密条件下で封着して、鋼化真空ガラスの製造過程を完了するステップ（５）とを含む鋼化真空ガラスの製造方法を提供する。
【０００６】
さらに、前記ステップ（３）の加熱温度は８０℃〜１８０℃である。
【０００７】
さらに、前記ガラス基板がコーティングガラス基板である場合、金属化層を予め形成する前に、コーティングガラス基板の封着対象領域について被膜除去を行う。
【０００８】
さらに、前記ステップ（１）において、前記キャビティを支持する支持物を製造するステップをさらに含み、具体的には、まず、ペースト状ガラス釉薬を一方のガラス基板の所定位置に印刷して点状突起配列を形成し、次に、高温焼結プロセスにより、ガラス釉薬を焼結してガラス基板に固着された支持物を形成する。
【０００９】
さらに、二枚のガラス基板を積層する前に支持物を配置するステップをさらに含み、固体状支持物を一方のガラス基板の所定位置に配置する。
【００１０】
さらに、前記ステップ（５）において、前記金属半田付けプロセスにより封着対象領域について局所加熱をレーザ加熱、炎加熱、電流加熱、誘導加熱、マイクロ波加熱、放射加熱又は対流加熱で行う。
【００１１】
さらに、前記ステップ（３）において、二枚のガラス基板の間にセパレータを設置して、積層後のガラス基板の間に排気用の隙間を残し、真空室が所定真空度になると、前記セパレータを取り外す。
【００１２】
さらに、前記ステップ（３）の前に、少なくとも１枚の前記ガラス基板に吸気剤を配置して、前記ステップ（４）終了後、前記吸気剤を活性化させる。
【００１３】
上記製造方法を用いた鋼化真空ガラスの生産ラインであって、第一輸送装置により順次に接続される、金属化層製造装置、半田配置装置、ガラス基板結合装置、第一予熱装置、真空吸引システム及びエッジ熔接封止装置を含み、その内で、前記真空吸引システムは、ガラス輸送方向に沿って順次に接続される空気抜き装置を有する複数の真空室が設置され、前記真空室内に第二予熱装置と前記エッジ熔接封止装置が設置され、前記第一予熱装置と前記第二予熱装置は鋼化ガラスユニットを６０℃〜２３０℃に加熱する。
【００１４】
さらに、前記真空室は、前記第一輸送装置に設置されたフロント補助真空室と第一輸送装置の一側に位置する主真空室とを含み、前記フロント補助真空室と前記主真空室の間に真空バルブが設置され、前記第二予熱装置と前記エッジ熔接封止装置は前記主真空室に位置する。
【００１５】
さらに、一つの真空室が配置される場合、前記フロント補助真空室の下流側にリア補助真空室が接続され、複数の真空室が配置される場合、最後の前記フロント補助真空室を通過する下流側にリア補助真空室が接続される。
【００１６】
さらに、前記ガラス基板結合装置は、前記第一輸送装置の一側に設置された昇降機構を含み、前記昇降機構にリフトアームが設置され、前記リフトアームに真空チャック又は挟持装置を有する反転機構が取り付けられ、ガラス基板結合装置が作動する時、前記真空チャック又は挟持装置は第二ガラス基板を把持し、昇降機構は第二ガラス基板を所定高さに持ち上げて反転させ、反転後、第一ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了する。
【００１７】
さらに、前記第一輸送装置の側面に第二輸送装置が設置され、前記第一輸送装置は第一ガラス基板を搬送し、前記第二輸送装置は第二ガラス基板を搬送する。
【００１８】
さらに、前記ガラス基板結合装置は、第一、第二輸送装置の間に設置された回転軸を含み、前記回転軸に第二輸送装置の隙間を通して第二ガラス基板の下方に挿入された振りアームが接続され、前記振りアームに真空チャック又は挟持装置が取り付けられ、作動時、前記真空チャック又は挟持装置は第二ガラス基板を把持して、回転軸を巡って振りアームを反転させて、第二ガラス基板を第一輸送装置における第一ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了する。
【００１９】
さらに、前記ガラス基板結合装置は、第一輸送装置の上方に設置された吊り輸送装置を含み、前記吊り輸送装置は、第二ガラス基板を搬送するものであり、輸送機構を含み、前記輸送機構に真空チャック又は挟持機構を有するリフト装置が設置され、作動時、前記リフト装置は、降下して真空チャック又は挟持機構により第一輸送装置における第二ガラス基板を把持して固定し、リフト装置は、上昇して、第二ガラス基板を積層すべき第一ガラス基板の上方に輸送し、第二ガラス基板を第一ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了する。
【００２０】
さらに、前記ガラス基板結合装置は、前記第一輸送装置の一側に設置された多自由度マニピュレータを含み、前記マニピュレータは真空チャック又は挟持装置を有し、ガラス基板結合装置の作動時、前記真空チャック又は挟持装置は第二ガラス基板を把持して、第二ガラス基板を反転させた後、第一ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了する。
【００２１】
さらに、該生産ラインにおいて、前記金属化層製造装置と前記エッジ熔接封止装置の間にあるワークステーションに設置される支持物配置装置が設置される。
【００２２】
さらに、該生産ラインにおいて、前記半田配置装置と前記ガラス基板結合装置の間にあるワークステーションに設置される支持物配置装置が設置される。
【００２３】
さらに、該生産ラインにおいて、金属化層製造装置と半田配置装置の間に設置された支持物製造装置をさらに含み、前記支持物製造装置はスクリーン印刷装置、乾燥装置及び焼結装置を含む。
【００２４】
さらに、前記ガラス基板がコーティングガラス基板である場合、該コーティングガラス基板の封着対象領域について被膜除去を行う被膜除去装置をさらに含む。
【００２５】
さらに、前記エッジ熔接封止装置はレーザ加熱装置、マイクロ波加熱装置、炎加熱装置、誘導加熱装置又は対流加熱装置である。
【００２６】
さらに、該生産ラインにおいて、前記金属化層製造装置と前記半田配置装置の間にあるワークステーションに設置されたガラステンパリング装置をさらに含む。
【００２７】
さらに、前記金属化層製造装置は、スクリーン印刷装置、乾燥装置及び焼結装置を含む。
【００２８】
さらに、該生産ラインにおいて、前記真空室内に設置された吸気剤活性化装置をさらに含む。
【００２９】
さらに、複数の前記真空室が配置される場合、真空室は、ガラス輸送方向に順次に接続されている。
【００３０】
さらに、前記真空室は、ガラス輸送方向に沿って順次に接続されるフロント補助真空室、主真空室及びリア補助真空室を含み、前記第二予熱装置と前記エッジ熔接封止装置は前記主真空室に位置する。
【発明の効果】
【００３１】
本発明に係る鋼化真空ガラスの製造方法は、排気口無し鋼化真空ガラスの製造に用いられるものであり、封着前にガラス基板を６０℃〜２３０℃に加熱した後に半田付けによるエッジ封止を行うことにより、二枚のガラス基板の間の封着時の応力を大幅に低下させ、接続強度を向上させるだけでなく、該温度範囲下で排気することができ、排気効率、排気効果がより高くなり、高真空度の真空ガラスを製造して耐用年数を延長させる。また、本発明はさらに、この製造方法を用いた鋼化真空ガラスの生産ラインを開示する。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施例１の模式図である。
【図２】本発明の実施例２の模式図である。
【図３】本発明の実施例３の模式図である。
【図４】本発明の実施例４の模式図である。
【図５】本発明の実施例５の模式図である。
【図６】図５中のガラス基板結合装置３によるガラス基板結合時の模式図である。
【図７】本発明の実施例６の模式図である。
【図８】図７中のガラス基板結合装置３によるガラス基板結合時の模式図である。
【図９】金属化層製造装置１の模式図である。
【図１０】支持物製造装置８の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００３４】
実施例１
図１及び図９に、本発明に係る鋼化真空ガラスの生産ラインの第一実施形態が示されており、本実施例において、具体的には、たとえば輸送ローラで構成される第一輸送装置９、第一輸送装置９により順次に接続される、金属化層製造装置１、半田配置装置２、ガラス基板結合装置３、第一予熱装置５及び真空吸引システム６を含み、真空吸引システム６はガラス輸送方向に沿って順次に接続される空気抜き装置６−２を有する複数の真空室を含み、真空室内に第二予熱装置１１とエッジ熔接封止装置４が設置され、第一予熱装置５と第二予熱装置１１は鋼化ガラスユニットを６０℃〜２３０℃に加熱する。真空室は、ガラス輸送方向に沿って順次に接続される、フロント補助真空室６−１１、主真空室６−１２及びリア補助真空室６−１３を含み、第二予熱装置１１とエッジ熔接封止装置４は主真空室６−１２に位置する。フロント補助真空室６−１１、主真空室６−１２及びリア補助真空室６−１３の入口側と出口側のいずれにも真空バルブが設置され、主真空室６−１２内にさらに吸気剤活性化装置が設置される。
【００３５】
金属化層製造装置１は、スクリーン印刷装置１−１、乾燥装置１−２及び焼結装置１−３を含む。乾燥装置１−２と焼結装置１−３は一体型装置である。焼結装置１−３はガラステンパリング装置である。
【００３６】
第一予熱装置５は放射式ガラス板加熱炉又は対流式ガラス板加熱炉である。
【００３７】
鋼化真空ガラスは、二枚のガラス基板を含み、実施例１による生産ラインにおいて鋼化真空ガラスを製造する方法は、具体的には、下記ステップを含む。
ステップ（１）
ガラス基板の表面周辺をテープ状の封着対象領域にして、金属化層製造装置１を用いて、封着対象領域に金属化層を製造して、ガラス基板についてテンパリング又は熱鋼化処理を行う。金属化層を製造するための具体的なステップについて、本出願人の先願に開示されているため、ここで詳細な説明を省略する。
ステップ（２）
半田配置装置２を用いて、金属半田を金属化層に置く。
ステップ（３）
以下方法のいずれかを用いて、前記ガラス基板を予熱して積層する。
ａ．まず、第一予熱装置５を用いて、二枚のガラス基板をそれぞれ６０℃〜２３０℃に加熱して、次に、ガラス基板結合装置３を用いて、二枚のガラス基板の金属化層を対向させるように、ガラス基板を積層し、金属半田を金属化層間に介在させる。ガラス基板結合装置３は、具体的には、特許番号２０１４２０１１０４３５．７の中国発明特許に示されるように、輸送装置の一側に設置された昇降機構、たとえばスプロケット昇降機構、サーボピストンシリンダー昇降機構等を主に含み、昇降機構にローラの隙間を通して上層ガラス基板の下方に挿入されたリフトアームが設置され、リフトアームに真空チャックを有する反転機構が取り付けられ、作動時、真空チャックは通過する上層ガラス基板を把持し、昇降機構は、上層ガラス基板を所定高さまで持ち上げて反転させ、反転後、通過する下層ガラス基板に載置し、ガラス基板結合を完了する。
ｂ．まず、ガラス基板結合装置３を用いて、二枚のガラス基板の金属化層を対向させるように、ガラス基板を積層し、金属半田を金属化層間に介在させ、次に、第一予熱装置１１を用いて、積層後の二枚のガラス基板全体を６０℃〜２３０℃に加熱する。
ステップ（４）
真空室において鋼化ガラスユニットを加熱し続けて、ステップ（３）の加熱温度範囲に保温し、真空室を所定真空度、たとえば１０−２〜１０−４Ｐａまで真空吸引し、真空吸引中、紫外線洗浄装置又はプラズマ衝撃装置を鋼化ガラスユニットに作用して、キャビティにおける残留不純物を分解し、分解後に生じた揮発性気体をキャビティから排気する。
ステップ（５）
主真空室６−１２において、エッジ熔接封止装置４を用いて、金属半田付けプロセスにより金属半田を加熱して熔融し、硬化させて、二枚のガラス基板の金属化層を気密条件下で封着して、鋼化真空ガラスの製造過程を完了する。金属半田付けプロセスにより封着対象領域について局所加熱を行うとき、加熱方式はレーザ加熱、炎加熱、電流加熱、誘導加熱、マイクロ波加熱、放射加熱又は対流加熱である。エッジ熔接封止装置４は、レーザ加熱装置、マイクロ波加熱装置、炎加熱装置、誘導加熱装置又は対流加熱装置である。
【００３８】
本発明の製造方法では、鋼化ガラスユニットが真空室に入る前に、ガラス基板を６０℃〜２３０℃に加熱し且つ真空室に入ってからも該温度を維持することは、本出願人が鋼化真空ガラスの製造プロセスを絶えずに改良する時に大量の実験データと組み合わせて見出す重要なプロセスパラメータである。真空室に入る前にガラス基板を加熱することにより、大気環境下での加熱効率が真空環境での加熱効率より高いため、ガラス基板が真空室に入った後の加熱時間を大幅に短縮させる。真空室に入ってからの排気過程に上記温度を維持することで、排気効率と排気効果を向上させ、さらに真空ガラスの生産効率と完成品の品質を向上させて、耐用年数を延長させる。下記グラフは各加熱温度による排気効率と排気効果への影響を示している。
温度曲線
表１−１
2019500306.tif 000003
真空度曲線
表１−２
2019500306.tif 000004
温度曲線
表２−１
2019500306.tif 000005
真空度曲線
表２−２
2019500306.tif 000006
温度曲線
表３−１
2019500306.tif 000007
真空度曲線
表３−２
2019500306.tif 000008
温度曲線
表４−１
2019500306.tif 000009
真空度曲線
表４−２
2019500306.tif 000010
温度曲線
表５−１
2019500306.tif 000011
真空度曲線
表５−２
2019500306.tif 000012
【００３９】
上記曲線から明らかなように、加熱温度の上昇に伴い、真空度は連続的に向上するとともに、排気効率は向上した。１５０℃程度に加熱されると、真空度は急に低下し、このことから、排気ピークになることが分かり、１５０℃保温すると、真空度は迅速に向上し、所定時間後、真空度は所定値に安定化され、このように、高真空度で且つ性能が安定的である鋼化真空ガラスは得られた。ただし、鉛フリー金属半田の場合、高融点（２３０℃程度）を有するため、加熱温度を２３０℃に上げることができる。好ましくは、ガラス基板を８０℃〜１８０℃に加熱し、それによって、後続の封着工程に影響を与えないとともに、排気効率を向上させる。
【００４０】
前記ガラス基板がコーティングガラス基板である場合、金属化層を予め形成する前に、コーティングガラス基板の封着対象領域について被膜除去を行う。被膜除去を行う場合、生産ラインにおいて、被膜除去装置をさらに含み、被膜除去装置は、生産ラインと独立して、生産ラインに入る前の前処理プロセスとして取り扱われてもよい。
【００４１】
ステップ（３）前、少なくとも一方のガラス基板に吸気剤を設置し、ステップ（４）終了後、吸気剤を活性化させる。
【００４２】
実施例２
生産ラインにおいて、複数の真空室が同時に配置され、真空室は第一輸送装置９に設置されたフロント補助真空室６−１１と第一輸送装置９の一側に位置する主真空室６−１２とを含み、フロント補助真空室６−１１と主真空室６−１２の間に真空バルブが設置され、第二予熱装置１１とエッジ熔接封止装置４は主真空室６−１２に位置し、最後のフロント補助真空室６−１１を通過する下流側にリア補助真空室６−１３が接続される以外、実施例１の構造と略同様な鋼化ガラスの生産ライン的第二実施形態が図２に示されている。
【００４３】
実施例３
半田配置装置２とガラス基板結合装置３の間にあるワークステーションに、予め製造された中間支持物をガラス基板に配置する支持物配置装置７が設置される以外、実施例１の構造と略同様な鋼化ガラスの生産ラインの第三実施形態が図３に示されている。勿論、支持物配置装置７は金属化層製造装置１と半田配置装置２の間にあるワークステーションに設置されてもよい。
【００４４】
実施例４
金属化層製造装置１と半田配置装置２の間に支持物製造装置８が設置され、支持物製造装置８はスクリーン印刷装置８−１、乾燥装置８−２及び焼結装置８−３を含み、乾燥装置８−２と焼結装置８−３は一体型装置、焼結装置８−３はガラステンパリング装置である以外、実施例１の構造と略同様な鋼化ガラスの生産ラインの第四実施形態が図４及び図１０に示されている。支持物製造装置８を用いて中間支持物を製造するステップとしては、まずスクリーン印刷装置８−１で、ペースト状ガラス釉薬を一方のガラス基板における所定位置に印刷して点状突起配列を形成し、次に、乾燥装置８−２と焼結装置８−３で、高温焼結プロセスにより、ガラス釉薬を焼結してガラス基板に固着された支持物を形成する。
【００４５】
実施例５
第一輸送装置９の側面に第二輸送装置１０、たとえば輸送ローラが設置され、第一輸送装置９は第一ガラス基板１００を搬送し、第二輸送装置１０は第二ガラス基板２００を搬送し、ガラス基板結合装置３は第一、第二輸送装置９、１０の間に設置された回転軸３−１を含み、回転軸３−１に第二輸送装置１０の隙間を通して第二ガラス基板２００の下方に挿入される振りアーム３−２が接続され、振りアーム３−２に真空チャック３−３又は挟持装置が取り付けられ、作動時、真空チャック３−３又は挟持装置は第二ガラス基板２００を把持して、回転軸３−１を巡って振りアーム３−２を反転させ、第二ガラス基板２００を第一輸送装置９における第一ガラス基板１００に載置し、ガラス基板結合を完了する以外、実施例１の構造と略同様な鋼化ガラスの生産ラインの第五実施形態が図５及び図６に示されている。
【００４６】
実施例６
ガラス基板結合装置３は第一輸送装置９の上方に設置された吊り輸送装置を含み、吊り輸送装置は上流へ延びて半田配置装置２の所在するワークステーションに接続され、第一輸送装置９は第一ガラス基板１００を搬送し、吊り輸送装置は第二ガラス基板２００を搬送し、吊り輸送装置は輸送機構３−４を含み、輸送機構３−４に真空チャック３−５又は挟持機構を有するリフト装置３−６、たとえばスクリュ昇降機構又はシリンダー等が設置され、作動時、リフト装置３−６は、降下して真空チャック３−５又は挟持機構により半田配置装置２の所在するワークステーションにおける第一輸送装置９での第二ガラス基板２００を把持して固定し、リフト装置３−６は、上昇して、第二ガラス基板２００を積層すべき第一ガラス基板１００の上方に輸送し、第二ガラス基板２００を第一ガラス基板１００に載置し、ガラス基板結合を完了する以外、実施例１の構造と略同様な鋼化ガラスの生産ラインの第六実施形態が図７及び図８に示されている。
【００４７】
勿論、ガラス基板結合装置３は第一輸送装置９の一側に設置された多自由度マニピュレータであってもよく、このように、マニピュレータガラス基板結合を完了する。
【００４８】
上記例は、本発明を説明するために過ぎず、本発明の実施形態はこれら例に制限されず、当業者が本発明の構想に基づいて実施する各種の実施形態はすべて本発明の保護範囲に属する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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