(57)【要約】  本発明は、平板導波管のフレーム側切断面に２〜１０μｍの厚さに、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜１．０の光学密度（ＯＤ）を有する遮光膜が形成されている導波管及びその製造方法に関するものである。
2019535028.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板導波管のフレーム側切断面に２〜１０μｍの厚さに、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜１．０の光学密度（ＯＤ）を有する遮光膜が形成されている導波管。
【請求項２】
前記遮光膜は、カーボンブラック、黒鉛、金属酸化物、及び有機ブラック顔料からなる群から選択される１つ以上のブラックインク顔料を含む請求項１に記載の導波管。
【請求項３】
前記ブラックインク顔料の含量は、前記遮光膜の総重量に対して１０〜２５重量％である請求項２に記載の導波管。
【請求項４】
前記遮光膜の厚さは、３〜７μｍである請求項１から３のいずれか一項に記載の導波管。
【請求項５】
前記遮光膜の厚さが２〜５μｍであれば、前記遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．８０〜１．０である請求項１から３のいずれか一項に記載の導波管。
【請求項６】
前記遮光膜の厚さが５〜１０μｍであれば、前記遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７０〜０．９０である請求項１から３のいずれか一項に記載の導波管。
【請求項７】
前記遮光膜の導波管に対する付着力が、４Ｂ〜５Ｂである請求項１から６のいずれか一項に記載の導波管。
【請求項８】
前記遮光膜が形成されている導波管の切断面は、平面、曲面または傾斜面に加工された請求項１から７のいずれか一項に記載の導波管。
【請求項９】
前記遮光膜は、導波管の切断面の横面及びフレームに形成された請求項１から８のいずれか一項に記載の導波管。
【請求項１０】
ａ）硬化型インク組成物を使用して、平板導波管のフレーム側切断面に２〜１０μｍの厚さに遮光膜のコーティング層を形成する段階と、
ｂ）前記遮光膜のパターンを硬化して遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜１．０の光学密度（ＯＤ）を有する遮光膜を形成する段階と、
を含む導波管の製造方法。
【請求項１１】
前記硬化型インク組成物は、着色剤、エポキシ化合物、オキセタン化合物、光重合開始剤及び沸点が１９０〜２８０℃である溶媒を含む請求項１０に記載の導波管の製造方法。
【請求項１２】
前記ａ）段階で平板導波管のフレーム側切断面に遮光膜コーティング層を形成する方法は、インクジェット印刷またはディスペンサ工程を利用する請求項１０または１１に記載の導波管の製造方法。
【請求項１３】
前記ｂ）段階の硬化は、紫外線硬化である請求項１０から１２のいずれか一項に記載の導波管の製造方法。
【請求項１４】
前記遮光膜の厚さは、３〜７μｍである請求項１０から１３のいずれか一項に記載の導波管の製造方法。
【請求項１５】
前記遮光膜の厚さが２〜５μｍであれば、前記遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．８〜１．０である請求項１０から１３のいずれか一項に記載の導波管の製造方法。
【請求項１６】
前記遮光膜の厚さが５〜１０μｍであれば、前記遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜０．９である請求項１０から１３のいずれか一項に記載の導波管の製造方法。
【請求項１７】
前記遮光膜の導波管に対する付着力が、４Ｂ〜５Ｂである請求項１０から１６のいずれか一項に記載の導波管の製造方法。
【請求項１８】
前記遮光膜が形成されている導波管の切断面は、平面、曲面または傾斜面に加工された請求項１０から１７のいずれか一項に記載の導波管の製造方法。
【請求項１９】
前記遮光膜は、導波管の切断面の横面及びフレームに形成された請求項１０から１８のいずれか一項に記載の導波管の製造方法。
【請求項２０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の導波管を含む導波管モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２０１６年１２月１４日付の韓国特許出願第１０−２０１６−０１７０７９７号に基づいた優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたあらゆる内容は、本明細書の一部として含まれる。
【０００２】
本発明は、遮光膜が形成されている導波管に係り、より具体的には、光漏れ及び外光流入を抑制するための遮光層を含んでいる導波管に関する。
【背景技術】
【０００３】
拡張現実（ＡＲ）メガネに代表されるウェアラブル拡張現実装置は、デジタルイメージをユーザの目に伝達するために、近眼ディスプレイ（Ｎｅａｒ−Ｅｙｅ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＮＥＤ）が必要であり、ＮＥＤの構成要素の１つとして平板導波管（ｗａｖｅｇｕｉｄｅ）が使われる。このような導波管に入射された光線は、導波管面に平行な方向に伝達されて格子（ｇｒａｔｉｎｇ）またはハーフミラー（ｈａｌｆ−ｍｉｒｒｏｒ）などに反射後、ユーザの目に到逹するが、この際、一部光線は、導波管の先端部まで伝播され、導波管の縁部に発散されて、ＮＥＤ駆動時に、図１から見られる光漏れ現象を引き起こす。このような光漏れ現象は、製品駆動時に、ユーザの便宜と美観とを阻害するために改善しなければならない事項である。また、導波管の縁部から導波管内に流入される外光は、意図していない光干渉を誘発して、イメージ品質の低下をもたらしうる。
【０００４】
したがって、導波管の縁部の切断部に遮光コーティングすれば、このような外光流入を抑制して、ＮＥＤから出力されるイメージ品質低下を抑制することができて、従来には、導波管にプラスチックケースを被せるか、フレームにテープを貼り付けて遮光する方法などを使用した。
【０００５】
しかし、前記方法は、遮光層の厚さが数十μｍ〜数ｍｍに厚く、遮光コーティングの幅を数百ｎｍ〜数μｍのレベルに薄くかつ精巧に調節するのが困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】韓国公開特許公報  １０−２０１２−００７６９７３  Ａ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
遮光膜の形成にインクを使用する方式において、従来の接触式印刷方式であるスクリーンプリンティングなどの手段としては、導波管の狭い切断面にコーティングしにくく、導波管の切断面が曲面または傾斜面に加工された場合、さらに従来の方式で精巧に遮光層をコーティングすることが困難であった。しかし、インクジェットプリンティング方式は、非接触式印刷方式であって、曲面または傾斜面の加工になっている狭い切断部領域にも、精巧な印刷が可能である。
【０００８】
これにより、本発明の目的は、従来技術の問題点を解決するために、導波管の切断面にブラックインクをコーティングして遮光膜を形成することにより、導波管フレームで発生する光漏れ現象及び導波管内への外光流入を防止する導波管を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明は、平板導波管のフレーム側切断面に２〜１０μｍの厚さに、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜１．０の光学密度（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ、ＯＤ）を有する遮光膜が形成されている導波管を提供する。
【００１０】
また、本発明は、ａ）硬化型インク組成物を使用して、平板導波管のフレーム側切断面に２〜１０μｍの厚さに遮光膜コーティング層を形成する段階；及びｂ）前記遮光膜パターンを硬化して遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜１．０の光学密度（ＯＤ）を有する遮光膜を形成する段階；を含む導波管の製造方法を提供する。
【００１１】
また、本発明は、前記導波管を含む導波管モジュールを提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、薄肉の遮光膜を形成するにも拘らず、優れた光学密度と優れた付着力とを有するために、導波管フレームで発生する光漏れ現象及び導波管内への外光流入を防止することができるという長所がある。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】導波管の使用及び光漏れ現象を示す模式図である。
【図２】本発明の導波管による光の移動経路を示す模式図である。
【図３】本発明の導波管の遮光膜の形成過程を示す模式図である。
【図４】本発明の導波管の切断面の形態による形成方法を示す模式図である。
【図５】本発明の実施例によって製造された導波管の断面を示す模式図である。
【図６】本発明の実施例によって製造された導波管の正面を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明をより詳しく説明する。
【００１５】
本発明は、平板導波管のフレーム側切断面に遮光膜が形成されている導波管を提供する。
【００１６】
平板導波管を使用する場合、光が入射して導波管の内部の壁を反射して移動するが、この際、切断面に何らの適切な遮光膜が形成されていなければ、内光が発散されるという問題（光漏れ現象）が発生するか、外部から不要な光が流入されるという問題が発生する。
【００１７】
これにより、本発明の導波管は、図２に示すように、平板導波管のフレーム側切断面に、薄肉の、優れた光学密度（ＯＤ）を有する遮光膜を形成して、内光発散を遮断し、また、外光流入を遮断することができる。
【００１８】
前記遮光膜が形成されている導波管の切断面は、平面、曲面または傾斜面に加工されている。本発明は、後述する製造方法によって製造することにより、多様な形状に対して遮光膜を形成しうる。
【００１９】
また、前記遮光膜は、導波管の切断面の横面及びフレームに形成されうる。単純に横面だけではなく、フレーム（エッジ含む）にも遮光膜を形成することにより、内光発散を遮断し、また、外光流入を遮断することができる。
【００２０】
前記遮光膜は、カーボンブラック、黒鉛、金属酸化物、及び有機ブラック顔料からなる群から選択される１つ以上のブラックインク顔料を含む。
【００２１】
カーボンブラックの例としては、シスト５ＨＩＩＳＡＦ−ＨＳ、シストＫＨ、シスト３ＨＨＡＦ−ＨＳ、シストＮＨ、シスト３Ｍ、シスト３００ＨＡＦ−ＬＳ、シスト１１６ＨＭＭＡＦ−ＨＳ、シスト１１６ＭＡＦ、シストＦＭＦＥＦ−ＨＳ、シストＳＯＦＥＦ、シストＶＧＰＦ、シストＳＶＨＳＲＦ−ＨＳ及びシストＳＳＲＦ（東海カーボン（株式会社））；ダイヤグラムブラックＩＩ、ダイヤグラムブラックＮ３３９、ダイヤグラムブラックＳＨ、ダイヤグラムブラックＨ、ダイヤグラムＬＨ、ダイヤグラムＨＡ、ダイヤグラムＳＦ、ダイヤグラムＮ５５０Ｍ、ダイヤグラムＭ、ダイヤグラムＥ、ダイヤグラムＧ、ダイヤグラムＲ、ダイヤグラムＮ７６０Ｍ、ダイヤグラムＬＲ、＃２７００、＃２６００、＃２４００、＃２３５０、＃２３００、＃２２００、＃１０００、＃９８０、＃９００、ＭＣＦ８８、＃５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃４５Ｌ、＃２５、＃ＣＦ９、＃９５、＃３０３０、＃３０５０、ＭＡ７、ＭＡ７７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ４０、ＯＩＬ７Ｂ、ＯＩＬ９Ｂ、ＯＩＬ１１Ｂ、ＯＩＬ３０Ｂ及びＯＩＬ３１Ｂ（三菱化学（株式会社））；ＰＲＩＮＴＥＸ−Ｕ、ＰＲＩＮＴＥＸ−Ｖ、ＰＲＩＮＴＥＸ−１４０Ｕ、ＰＲＩＮＴＥＸ−１４０Ｖ、ＰＲＩＮＴＥＸ−９５、ＰＲＩＮＴＥＸ−８５、ＰＲＩＮＴＥＸ−７５、ＰＲＩＮＴＥＸ−５５、ＰＲＩＮＴＥＸ−４５、ＰＲＩＮＴＥＸ−３００、ＰＲＩＮＴＥＸ−３５、ＰＲＩＮＴＥＸ−２５、ＰＲＩＮＴＥＸ−２００、ＰＲＩＮＴＥＸ−４０、ＰＲＩＮＴＥＸ−３０、ＰＲＩＮＴＥＸ−３、ＰＲＩＮＴＥＸ−Ａ、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ−５５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ−３５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ−２５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ−１００、及びＬＡＭＰ  ＢＬＡＣＫ−１０１（テクサ（株式会社））；ＲＡＶＥＮ−１１００ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−１０８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−１０６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−１０４０、ＲＡＶＥＮ−１０３５、ＲＡＶＥＮ−１０２０、ＲＡＶＥＮ−１０００、ＲＡＶＥＮ−８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ−８９０、ＲＡＶＥＮ−８８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−８６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−８５０、ＲＡＶＥＮ−８２０、ＲＡＶＥＮ−７９０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−７８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−７６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−５２０、ＲＡＶＥＮ−５００、ＲＡＶＥＮ−４６０、ＲＡＶＥＮ−４５０、ＲＡＶＥＮ−４３０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−４２０、ＲＡＶＥＮ−４１０、ＲＡＶＥＮ−２５００ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−２０００、ＲＡＶＥＮ−１５００、ＲＡＶＥＮ−１２５５、ＲＡＶＥＮ−１２５０、ＲＡＶＥＮ−１２００、ＲＡＶＥＮ−１１９０ＵＬＴＲＡ、及びＲＡＶＥＮ−１１７０（コロンビアカーボン（株式会社））またはこれらの混合物などが挙げられる。
【００２２】
前記有機ブラック顔料としてアニリンブラック、ラクタムブラックまたはペリレンブラック系などを使用することができるが、これらに限定するものではない。
【００２３】
前記ブラックインク顔料の含量は、前記遮光膜の総重量に対して１０〜２５重量％に含まれうる。前記ブラックインク顔料の含量が、前記範囲を満足して初めて、インクの分散安定性及び保存安定性を確保し、フィルムの紫外線硬化を阻害しないながら、高い厚さ当たり光学密度を有する遮光膜を製造することができるという長所がある。
【００２４】
本発明の導波管は、図３でのように、導波管のフレーム側切断面に遮光膜を形成することにより、光漏れを抑制し、外光の流入を遮断することができる。
【００２５】
そのために、前述したように、前記遮光膜の厚さは、２〜１０μｍであり、より望ましくは、３〜７μｍであり得る。従来技術の遮光テープ付着方式またはケース付着方式では、このような薄肉の遮光膜を形成することが困難であったが、本発明の導波管は、後述する製造方法によって製造することにより、前記範囲の薄肉の遮光膜が形成されているにも拘らず、光漏れを抑制し、外光の流入を遮断することができる。
【００２６】
また、本発明の導波管は、光漏れを抑制し、外光の流入を遮断するために、前記遮光膜の全体光学密度（ＯＤ）は、２．５以上にすることができる。前記範囲を満足する時、遮光膜の遮蔽特性が十分になる。また、遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜１．０にすることが望ましい。
【００２７】
特に、前記遮光膜の厚さが２〜５μｍであれば、前記遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．８０〜１．０であり、前記遮光膜の厚さが５〜１０μｍであれば、前記遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７０〜０．９０であり得る。前記範囲を満足する時、本発明の遮光膜の遮蔽特性が最適になる。
【００２８】
また、前記遮光膜の導波管に対する付着力が、４Ｂ〜５Ｂであり、具体的には、ＡＳＴＭ  Ｄ３３５９規格で４Ｂ〜５Ｂであって、付着力及びコーティング性に優れている。
【００２９】
本発明は、前記のような導波管を製造するための方法であって、ａ）硬化型インク組成物を使用して、平板導波管のフレーム側切断面に遮光膜コーティング層を形成する段階；及びｂ）前記遮光膜パターンを硬化して遮光膜を形成する段階；を含む導波管の製造方法を提供する。
【００３０】
前記硬化型インク組成物は、着色剤、エポキシ化合物、オキセタン化合物、光重合開始剤及び沸点が１９０〜２８０℃である溶媒を含むことを特徴とする。
【００３１】
また、本発明の硬化型インク組成物は、界面活性剤、密着増進剤、希釈剤、及び光増減剤からなる群から選択される何れか１つ以上をさらに含みうる。
【００３２】
本発明の硬化型インク組成物には、通常のラジカル重合型化合物と陽イオン重合型化合物とが主に使われる。ラジカル重合型化合物の場合、酸素による硬化障害を受けるために、薄膜の硬化に適せず、また、硬化収縮が大きいために、ガラス基材との密着性が低くて、遮光膜の形成に適しない。一方、陽イオン重合型化合物の場合、通常の硬化収縮率が低く、酸素による影響が小さいために、薄膜の硬化に有利である。
【００３３】
本発明で使用する硬化型インク組成物は、陽イオン性硬化成分であって、エポキシ化合物を含む。前記エポキシ化合物は、具体的に、ビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、線形脂肪族エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物、及び指環式エポキシ化合物のうちから選択される１種または２種の混合物であり得る。
【００３４】
前記指環式エポキシ化合物は、エポキシ化脂肪族環基を１つ以上含む化合物を意味する。
【００３５】
エポキシ化脂肪族環基を含む前記指環族エポキシ化合物で、前記エポキシ化脂肪族環基は、指環式環に結合されたエポキシ基を意味するものであって、例えば、３，４−エポキシシクロペンチル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、３，４−エポキシシクロペンチルメチル基、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル基、２−（３，４−エポキシシクロペンチル）エチル基、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、３−（３，４−エポキシシクロペンチル）プロピル基または３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピル基などの官能基が例示されうる。前記で指環式環を構成する水素原子は、任意的にアルキル基などの置換基によって置換されることもある。前記指環式エポキシ化合物としては、例えば、以下で具体的に例示される化合物を使用することができるが、使えるエポキシ化合物が、下記の種類に制限されるものではない。
【００３６】
例えば、ジシクロペンタジエンジオキシド、シクロヘキセンオキシド、４−ビニル−１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキセンジオキシド、リモネンモノオキシド、リモネンジオキシド、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸塩、３−ビニルシクロヘキセンオキシド、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアルコール、（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボン酸塩、エチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル、３，４−エポキシシクロヘキセンカルボン酸エチレングリコールジエステル、（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ダイセル社のセロキサイド８０００などを使用することができる。
【００３７】
前記エポキシ化合物の含量は、前記硬化型インク組成物の総重量に対して５〜４０重量％であることが望ましく、より望ましくは、１０〜３０重量％であり得る。４０重量％を超過すれば、組成物の粘度が上昇し、５重量％未満であれば、硬化感度が低下する。
【００３８】
前記硬化型インク組成物は、他の陽イオン重合性単量体としてオキセタン化合物を含む。
【００３９】
オキセタン化合物は、分子構造内に４員環状エーテル基を有する化合物であって、陽イオン性硬化されたインク組成物の粘度を低める（一例として、２５℃で５０ｃＰｓ未満）作用ができる。
【００４０】
具体的には、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、ジ［（３−エチル−３−オキセタニル）メチル］エーテル、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−シクロヘキシルオキシメチルオキセタンまたはフェノールノボラックオキセタンなどが例示されうる。オキセタン化合物としては、例えば、東亞合成（株式会社）の「アロンオキセタンＯＸＴ−１０１」、「アロンオキセタンＯＸＴ−１２１」、「アロンオキセタンＯＸＴ−２１１」、「アロンオキセタンＯＸＴ−２２１」または「アロンオキセタンＯＸＴ−２１２」などを使用することができる。これらは、単独で、あるいは２種以上を組合わせで利用することができる。
【００４１】
前記オキセタン化合物の含量は、前記硬化型インク組成物の総重量に対して２０〜７０重量％であることが望ましく、より望ましくは、４０〜６０重量％であり得る。７０重量％を超過すれば、硬化感度が低く、２０重量％未満であれば、粘度が上昇して、コーティング性が低下する。
【００４２】
また、本発明のオキセタン化合物は、１個のオキセタン環を有するオキセタン化合物及び２個のオキセタン環を有するオキセタン化合物を含んで使用することができる。前記１個のオキセタン環を有するオキセタン化合物及び２個のオキセタン環を有するオキセタン化合物を共に使用する場合には、粘度及び膜の柔軟性を調節することができるという長所がある。前記のように、２種のオキセタン化合物を共に使用する場合、１個のオキセタン環を有するオキセタン化合物：２個のオキセタン環を有するオキセタン化合物の含量範囲は、１：１６〜１：３の範囲に使用することが望ましい。
【００４３】
本発明のインク組成物は、陽イオン性光重合開始剤であって、紫外線の照射によって陽イオン（ｃａｔｉｏｎ）種やブレンステッド酸を作り出す化合物、例えば、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩などを含んでいるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００４４】
前記ヨードニウム塩またはスルホニウム塩は、紫外線硬化過程でインクに含有された不飽和二重結合を有するモノマーが反応して高分子を形成する硬化反応が起こるようにし、重合効率によって光増減剤を使用することもできる。
【００４５】
一例として、前記光重合開始剤は、ＳｂＦ６−、ＡｓＦ６−、ＢＦ６−、（Ｃ６Ｆ５）４Ｂ−、ＰＦ６−あるいはＲｆｎＦ６−ｎに表示される陰イオンを有するものであるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００４６】
前記光重合開始剤は、硬化型インク組成物の総重量に対して０．５〜１０重量％に含まれることが望ましい。光重合開始剤の含量が０．５重量％未満であれば、硬化反応が十分ではなく、１０重量％超過であれば、いずれも溶解されないか、粘度が増加して、コーティング性が低下する。
【００４７】
前記インク組成物は、インクの粘度を低下させて流動性を増加させることにより、コーティング性を改善し、単位厚さ当たり遮光密度の低下を防止するために、沸点が１９０〜２８０℃である溶媒を含み、より望ましくは、沸点が２１０〜２６０℃である溶媒を含みうる。本発明は、前記のように、沸点が１９０〜２８０℃である溶媒を使用することにより、インクジェット印刷時に、ノズル乾燥が発生せずとも、硬化速度に低下を誘発しなくて、塗膜の硬化に問題を発生させない。
【００４８】
本発明において、前記溶媒としては、沸点が１９０〜２８０℃であるアルコール、グリコール、及びグリコール系エーテルからなる群から選択される何れか１つ以上を使用することができる。
【００４９】
前記沸点が１９０〜２８０℃であるグリコール系エーテルは、アルキルグリコール部の炭素原子数がＣ１〜Ｃ６であるアルキレングリコールアルキルエーテルであり、より望ましくは、エチレングリコールアルキルエーテル、ジエチレングリコールアルキルエーテル、トリエチレングリコールアルキルエーテル、テトラエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテル、ジプロピレングリコールアルキルエーテル、及びグリコールジアルキレンエーテルからなる群から選択される何れか１つ以上を使用し、最も望ましくは、アルキルエーテル部の炭素原子数がＣ１〜Ｃ４のアルキル基を１個を有するモノアルキルエーテルであるか、またはアルキルエーテル部の炭素原子数がＣ１〜Ｃ４のアルキル基を２個を有するジアルキルエーテルを使用することができる。
【００５０】
前記溶媒の含量は、硬化型インク組成物の総重量に対して１〜４０重量％であることが望ましい。前記溶媒の含量が４０重量％超過であれば、硬化感度が低下する。
【００５１】
前記硬化型インク組成物は、着色剤を含む。
【００５２】
前記着色剤としては、１種以上の顔料、染料またはこれらの混合物を含む顔料分散液の形態で使用し、必要による色を発現することができるならば、特に限定するものではない。
【００５３】
本発明の一具体例としては、前記顔料としてカーボンブラック、黒鉛、金属酸化物、有機ブラック顔料などを使用することができる。
【００５４】
カーボンブラックの例としては、シスト５ＨＩＩＳＡＦ−ＨＳ、シストＫＨ、シスト３ＨＨＡＦ−ＨＳ、シストＮＨ、シスト３Ｍ、シスト３００ＨＡＦ−ＬＳ、シスト１１６ＨＭＭＡＦ−ＨＳ、シスト１１６ＭＡＦ、シストＦＭＦＥＦ−ＨＳ、シストＳＯＦＥＦ、シストＶＧＰＦ、シストＳＶＨＳＲＦ−ＨＳ及びシストＳＳＲＦ（東海カーボン（株式会社））；ダイヤグラムブラックＩＩ、ダイヤグラムブラックＮ３３９、ダイヤグラムブラックＳＨ、ダイヤグラムブラックＨ、ダイヤグラムＬＨ、ダイヤグラムＨＡ、ダイヤグラムＳＦ、ダイヤグラムＮ５５０Ｍ、ダイヤグラムＭ、ダイヤグラムＥ、ダイヤグラムＧ、ダイヤグラムＲ、ダイヤグラムＮ７６０Ｍ、ダイヤグラムＬＲ、＃２７００、＃２６００、＃２４００、＃２３５０、＃２３００、＃２２００、＃１０００、＃９８０、＃９００、ＭＣＦ８８、＃５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃４５Ｌ、＃２５、＃ＣＦ９、＃９５、＃３０３０、＃３０５０、ＭＡ７、ＭＡ７７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ４０、ＯＩＬ７Ｂ、ＯＩＬ９Ｂ、ＯＩＬ１１Ｂ、ＯＩＬ３０Ｂ及びＯＩＬ３１Ｂ（三菱化学（株式会社））；ＰＲＩＮＴＥＸ−Ｕ、ＰＲＩＮＴＥＸ−Ｖ、ＰＲＩＮＴＥＸ−１４０Ｕ、ＰＲＩＮＴＥＸ−１４０Ｖ、ＰＲＩＮＴＥＸ−９５、ＰＲＩＮＴＥＸ−８５、ＰＲＩＮＴＥＸ−７５、ＰＲＩＮＴＥＸ−５５、ＰＲＩＮＴＥＸ−４５、ＰＲＩＮＴＥＸ−３００、ＰＲＩＮＴＥＸ−３５、ＰＲＩＮＴＥＸ−２５、ＰＲＩＮＴＥＸ−２００、ＰＲＩＮＴＥＸ−４０、ＰＲＩＮＴＥＸ−３０、ＰＲＩＮＴＥＸ−３、ＰＲＩＮＴＥＸ−Ａ、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ−５５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ−３５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ−２５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ−１００、及びＬＡＭＰ  ＢＬＡＣＫ−１０１（テクサ（株式会社））；ＲＡＶＥＮ−１１００ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−１０８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−１０６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−１０４０、ＲＡＶＥＮ−１０３５、ＲＡＶＥＮ−１０２０、ＲＡＶＥＮ−１０００、ＲＡＶＥＮ−８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ−８９０、ＲＡＶＥＮ−８８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−８６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−８５０、ＲＡＶＥＮ−８２０、ＲＡＶＥＮ−７９０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−７８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−７６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−５２０、ＲＡＶＥＮ−５００、ＲＡＶＥＮ−４６０、ＲＡＶＥＮ−４５０、ＲＡＶＥＮ−４３０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−４２０、ＲＡＶＥＮ−４１０、ＲＡＶＥＮ−２５００ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ−２０００、ＲＡＶＥＮ−１５００、ＲＡＶＥＮ−１２５５、ＲＡＶＥＮ−１２５０、ＲＡＶＥＮ−１２００、ＲＡＶＥＮ−１１９０ＵＬＴＲＡ、及びＲＡＶＥＮ−１１７０（コロンビアカーボン（株式会社））またはこれらの混合物などが挙げられる。
【００５５】
前記有機ブラック顔料としてアニリンブラック、ラクタムブラックまたはペリレンブラック系などを使用することができるが、これらに限定するものではない。
【００５６】
本発明において、硬化型インク組成物は、紫外線（一例として、２５０または４５０ｎｍ）、より望ましくは、長波長の紫外線（一例として、３６０〜４１０ｎｍ）の照射によって硬化されて、一定レベルのＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）を有することを特徴とする。このために、前記着色剤の含量は、硬化型インク組成物の全体重量に対して５〜２０重量％であることが望ましく、より望ましくは、３〜１０重量％であり得る。着色剤の含量が５重量％未満である場合、遮光膜に適用するほどのレベルのＯＤが表われず、２０重量％超過である場合、過量の着色剤がインクに分散されず、沈殿物が形成されるか、コーティング後、フィルム内に紫外線透過が難しくて、フィルム深部まで十分に硬化にならないこともある。
【００５７】
前記硬化型インク組成物は、小さなテーパー角を示すためにインク組成物の表面張力を低める界面活性剤を含む。
【００５８】
前記界面活性剤としては、販売品を使用し、例えば、ＤＩＣ（ＤａｉＮｉｐｐｏｎ  Ｉｎｋ  ＆  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）社のＭｅｇａｆａｃｋ  Ｆ−４４４、Ｆ−４７５、Ｆ−４７８、Ｆ−４７９、Ｆ−４８４、Ｆ−５５０、Ｆ−５５２、Ｆ−５５３、Ｆ−５５５、Ｆ−５７０、ＲＳ−７５、または旭硝子社のＳｕｒｆｌｏｎ  Ｓ−１１１、Ｓ−１１２、Ｓ−１１３、Ｓ−１２１、Ｓ−１３１、Ｓ−１３２、Ｓ−１４１及びＳ−１４５、または住友スリーエム社のＦｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−９３、ＦＣ−９５、ＦＣ−９８、ＦＣ−１２９、ＦＣ−１３５、ＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−４３０及びＦＣ−４４３０、またはデュポン社のＺｏｎｙｌ  ＦＳ−３００、ＦＳＮ、ＦＳＮ−１００及びＦＳＯ、及びＢＹＫ社のＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３４２、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５６、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３５９、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７１、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−３８８、ＢＹＫ−３９２、ＢＹＫ−３９４、ＢＹＫ−３９９、ＢＹＫ−３４４０、ＢＹＫ−３４４１、ＢＹＫＥＴＯＬ−ＡＱ、ＢＹＫ−ＤＹＮＷＥＴ  ８００、ＢＹＫ−ＳＩＬＣＬＥＡＮ  ３７００及びＢＹＫ−ＵＶ  ３５７０、またはテゴ社のＲａｄ  ２１００、Ｒａｄ  ２０１１、Ｇｌｉｄｅ  １００、Ｇｌｉｄｅ  ４１０、Ｇｌｉｄｅ  ４５０、Ｆｌｏｗ  ３７０及びＦｌｏｗ  ４２５などからなる群から選択されるものを使用することができる。
【００５９】
前記界面活性剤は、硬化型インク組成物総重量に対して０．１〜５．０重量％、より望ましくは、０．５〜３．０重量％に含まれることが望ましい。前記界面活性剤の含量が０．１重量％未満である場合には、組成物の表面張力を低める効果が十分ではなくて、基材に組成物をコーティング時に、コーティング不良が発生し、５．０重量％を超過する場合には、界面活性剤が過量で使われて組成物の相溶性及び消泡性がむしろ減少するという問題点がある。
【００６０】
前記硬化型インク組成物は、長波長の活性エネルギー線での硬化性を補完するために、光増減剤をさらに含みうる。
【００６１】
前記光増減剤は、アントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセンなどのアントラセン系化合物；ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルアミノベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイル安息香酸、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、３，３，４，４−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物；アセトフェノン；ジメトキシアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、プロパノンなどのケトン系化合物；ペリレン；９−フルオレノン、２−クロロ−９−フルオレノン、２−メチル−９−フルオレノンなどのフルオレノン系化合物；チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルオキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）、ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン系化合物；キサントン、２−メチルキサントンなどのキサントン系化合物；アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２，６−ジクロロ−９，１０−アントラキノンなどのアントラキノン系化合物；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス（９−アクリジニルペンタン）、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパンなどのアクリジン系化合物；ベンジル、１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２，３−ジオン、９，１０−フェナントレンキノンなどのジカルボニル化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシドなどのホスフィンオキシド系化合物；メチル−４−（ジメチルアミノ）安息香酸、エチル−４−（ジメチルアミノ）安息香酸、２−ｎ−ブトキシエチル−４−（ジメチルアミノ）安息香酸などの安息香酸系化合物；２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）−４−メチル−シクロペンタノンなどのアミノシナジスト；３，３−カルボニルビニル−７−（ジエチルアミノ）クマリン、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−（ジエチルアミノ）クマリン、３−ベンゾイル−７−（ジエチルアミノ）クマリン、３−ベンゾイル−７−メトキシ−クマリン、１０，１０−カルボニルビス［１，１，７，７−テトラメチル−２，３，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ，５Ｈ，１１Ｈ−Ｃ１］−ベンゾピラノ−［６，７，８−ｉｊ］−キノリジン−１１−オンなどのクマリン系化合物；４−ジエチルアミノカルコン、４−アジドベンザルアセトフェノンなどのカルコン化合物；２−ベンゾイルメチレン；及び３−メチル−ｂ−ナフトチアゾリンからなる群から選択される１種であり得る。
【００６２】
前記光増減剤は、光重合開始剤１００重量部に対して、１〜２００重量部で含まれることが望ましく、さらに望ましくは、１０〜１００重量部で含まれる。１重量部未満である場合には、所望の波長での硬化感度の上昇作用を期待することができず、２００重量部超過である場合、光増減剤が溶解されず、パターンの接着力及び架橋密度を低下させる問題点がある。
【００６３】
前記硬化型インク組成物は、添加剤として密着増進剤をさらに含みうる。
【００６４】
導波管の切断面に付着された遮光膜は、温度と湿度など使用条件によって収縮と膨張とを繰り返すことにより、遮光膜に応力が加えられて遮光膜が導波管から脱落されうる。それを防止するために、密着増進剤としてアルコキシシラン系化合物、エポキシシラン系化合物、アミノフェニルシラン系化合物、アミノシラン系化合物、メルカプトシラン系化合物、及びビニルシラン系化合物からなる群から選択される１種以上のシラン系化合物を使用する場合、優れた結果を示す。
【００６５】
そのうちでも、エポキシシラン系化合物が、本発明の密着増進剤としてさらに望ましい。
【００６６】
前記密着増進剤は、インク組成物総重量に対して０．１〜１５重量％に含まれることが望ましく、より望ましくは、２〜１０重量％に含まれる。０．１重量％未満である場合には、遮光膜が導波管の切断面からの剥離を防止することができず、１５重量％超過である場合には、インク溶液の粘度が上昇し、分散性が低いという問題点がある。
【００６７】
本発明で使用する硬化型インク組成物は、塗布後、短時間内に広がりが起こって、優れた塗膜の特性を示し、硬化されて優れた接着特性を示す。したがって、前記硬化型インク組成物をインクジェットで適用する際には、インクジェットプリンティングと同時に、硬化が可能になるように、インクジェットヘッドの直裏にＵＶ−ｌａｍｐを設置することが望ましい。前記硬化型インク組成物は、硬化ドーズ量が１〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２、望ましくは、８０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２である。前記硬化型インク組成物は、２５０〜４５０ｎｍ、望ましくは、３６０〜４１０ｎｍの波長範囲で紫外線を吸収して硬化される。
【００６８】
前記硬化型インク組成物は、一例として、２５℃で１〜２０ｍＰａ・ｓの粘度を有することにより、インクジェット工程に適している。前記の粘度範囲を有する硬化型インク組成物は、工程温度での吐出が良好である。前記工程温度は、硬化型インク組成物の粘度が低くなるように加熱した温度を意味する。工程温度は、１０〜１００℃であり、望ましくは、２０〜７０℃であり得る。
【００６９】
また、前記硬化型インク組成物は、一例として、３５℃の対流オーブンで蒸発させた時、２時間経過後の残余質量が８５％以上であって、蒸発速度は、低いながらも、硬化速度及び膜の特性が不良ではない。
【００７０】
前記ａ）段階で平板導波管のフレーム側切断面に遮光膜コーティング層を形成する方法は、インクジェット（Ｉｎｋｊｅｔ）印刷またはディスペンサ工程を利用することができる。前記インクジェット印刷方法は、通常の方法で使用し、ディスペンサ工程は、微細吐出装置は空圧または圧電を利用したディスペンシング弁を利用することができるが、望ましくは、インクジェット印刷方法を使用することができる。
【００７１】
前記インクジェット印刷方法で遮光膜コーティング層を形成すれば、図４に記載されたように、平面（図４の（ａ））だけではなく、傾斜面（図４の（ｂ））または曲面（図４の（ｃ））で加工された導波管のフレーム側切断面にも、効果的に遮光膜コーティング層を形成させうる。
【００７２】
前記ｂ）段階の硬化は、紫外線硬化であり得る。前記紫外線硬化時に、２５０〜４５０ｎｍの光源を、より望ましくは、３６０〜４１０ｎｍの光を光源として使用することができる。
【００７３】
また、前記方法で製造された遮光膜の厚さは、２〜１０μｍであり、望ましくは、３〜７μｍであり得る。
【００７４】
前記方法で製造された遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜１．０であり得る。前記遮光膜の厚さが２〜５μｍであれば、前記遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．８〜１．０であり、前記遮光膜の厚さが５〜１０μｍであれば、前記遮光膜の光学密度（ＯＤ）は、遮光膜厚さ１．０μｍ基準に０．７〜０．９であり得る。
【００７５】
また、前記方法で製造された遮光膜の導波管に対する付着力は、４Ｂ〜５Ｂであり得る。
【００７６】
また、前記遮光膜が形成されている導波管のフレーム側切断面は、平面、曲面または傾斜面に加工され、前記遮光膜は、導波管のフレーム側切断面の横面及びフレームに形成されうる。
【００７７】
また、本発明は、前記導波管を含む導波管モジュールを提供する。前記導波管モジュールは、本発明の導波管が使われるものであれば、特に制限はないが、拡張現実（ＡＲ）メガネなどに使われる。
【００７８】
以下、本発明を実施例を挙げて詳細に説明する。下記の実施例は、本発明を説明するためのものであって、本発明の範囲は、下記の特許請求の範囲に記載の範囲及びその置き換え及び変更を含み、実施例の範囲に限定されるものではない。
【００７９】
実施例
【００８０】
＜製造例＞
カーボンブラック顔料分散液（ＢＫ−５２８２、Ｔｏｋｕｓｈｉｋｉ社、顔料含有量２５重量％）５５重量％、エポキシ化合物として３，４−エポキシシクロヘキシルカルボン酸塩（ＴＴＡ−２１Ｐ、Ｔｅｔｒａｃｈｅｍ）５重量％、オキセタン化合物として３−エチル−３−［（２−エチルヘキシルオキシ）メチル］オキセタン（ＧＡＳＯＮ  ＤＯＸ、Ｇｕａｒｓｏｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）１５重量％、光開始剤としてＵＶＩ−６９９２（Ｄｏｗ社）１重量％、密着増進剤としてＫＢＭ−３０３（２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、信越シリコン）１重量％及び溶媒としてＤＥＧＤＢＥ（ジエチルグリコールジブチルエテル、沸点２５１℃）２３重量％を混合して遮光膜形成用組成物を製造した。
【００８１】
＜実施例１＞
前記製造例で製造した組成物を洗浄された導波管のフレーム側切断面上に硬化後に、厚さが４μｍになるように、インクジェットコーティング方法でコーティングした。異物の付着を防止するために、コーティング後、１分以内にコーティング層を下記の条件で紫外線を照射して硬化することにより、遮光膜コーティング層を形成した。紫外線照射器は、高圧水銀灯を使用し、ＵＶ基準１０００ｍＪ／ｃｍ２の光量で照射した。
【００８２】
＜実施例２＞
前記製造例で製造した組成物を洗浄された導波管のフレーム側切断面上に硬化後に、厚さが９μｍになるように、インクジェットコーティング方法でコーティングした。異物の付着を防止するために、コーティング後、１分以内にコーティング層を下記の条件で紫外線を照射して硬化することにより、遮光膜コーティング層を形成した。紫外線照射器は、高圧水銀灯を使用し、ＵＶ基準１０００ｍＪ／ｃｍ２の光量で照射した。
【００８３】
＜比較例１＞
販売中であるＵＶ硬化型遮光インク組成物として、ＡＧＦＡ（アグファ）社のＪｅｔｉ  ＫＭ  Ｂｌａｃｋインクを用いて洗浄された導波管の切断面上に硬化後に、厚さが８０μｍになるように、ローラーコーティング方法でコーティングした。異物の付着を防止するために、コーティング後、１分以内にコーティング層を下記の条件で紫外線を照射して硬化することにより、遮光膜コーティング層を形成した。紫外線照射器は、高圧水銀灯を使用し、ＵＶ基準１０００ｍＪ／ｃｍ２の光量で照射した。
【００８４】
実験例
【００８５】
＜実験例１＞遮光膜のＯＤ評価
前記実施例１〜実施例２及び比較例１と同じ方法を用いて導波管平面上に同じ厚さに製造された遮光膜のＯＤをＸ−ｒｉｔｅ社のＯＤ測定器を用いて測定して、下記表１に示した。
【００８６】
＜実験例２＞クロスハッチ密着力
前記実施例１〜実施例２及び比較例１と同じ方法を用いて導波管平面上に同じ厚さに製造された遮光膜をクロスカット試験基準であるＡＳＴＭ  Ｄ３３５９の規格に準拠して、クロスカットテストを行った。具体的に、試片を１ｍｍの間隔で横及び縦方向にそれぞれ１１列ずつ刀で切りつけて横と縦とがそれぞれ１ｍｍである１００個の正方形格子を形成した。その後、Ｎｉｃｈｉｂａｎ社のＣＴ−２４接着テープを前記裁断面に付着した後、取り外す時に、共に剥がされる面の状態を測定して、下記の基準に評価して、下記表１に示した。
【００８７】
＜クロスハッチ接着力評価基準＞
５Ｂ：剥がされた面がない場合
４Ｂ：剥がされた面が総面積に比べて、５％以内である場合
３Ｂ：剥がされた面が総面積に比べて、５〜１５％である場合
２Ｂ：剥がされた面が総面積に比べて、１５〜３５％である場合
１Ｂ：剥がされた面が総面積に比べて、３５〜６５％である場合
０Ｂ：ほとんどが剥がされる場合
【表１】
2019535028.tif 000003
【００８８】
前記表１の結果から、本発明で使われたインク組成物で製造した実施例１〜実施例２では、遮光層１μｍ当たり光学密度がそれぞれ０．９０、０．７０に高いレベルを示して、１０μｍ以下の厚さにも、全体として３以上の光学密度を有する遮光層の製造が可能であるが、一方、従来の材料で製造した比較例１は、厚さ１μｍ当たり光学密度が０．０３７レベルに低くて、光学密度３．０の遮光のために、８０μｍの厚さに遮光層を製造しなければならなかった。すなわち、実施例１と実施例２との方法を利用すれば、比較例１よりも約１／１０レベルの薄肉の、高い光学密度を有する遮光層の形成が可能であることが分かった。
【００８９】
また、実施例１と実施例２とで製造した遮光層の場合、別途の熱処理なしも、５Ｂレベルの付着力が発現されるが、一方、比較例１で製造した遮光層の場合、１Ｂレベルの付着力を示して、実施例１〜実施例２から製造された遮光層が付着力の側面でも、従来の材料よりも優れていることを確認することができた。
【図１】
2019535028.tif 000004
【図２】
2019535028.tif 000005
【図３】
2019535028.tif 000006
【図４（ａ）】
2019535028.tif 000007
【図４（ｂ）】
2019535028.tif 000008
【図４（ｃ）】
2019535028.tif 000009
【図５】
2019535028.tif 000010
【図６】
2019535028.tif 000011
【国際調査報告】
2019535028.tif 000012
2019535028.tif 000013
2019535028.tif 000014
2019535028.tif 000015
2019535028.tif 000016
2019535028.tif 000017
2019535028.tif 000018
2019535028.tif 000019
2019535028.tif 000020
2019535028.tif 000021
2019535028.tif 000022
2019535028.tif 000023
2019535028.tif 000024
2019535028.tif 000025