(57)【要約】【課題】屈曲可能な表示基板薄膜及びその製造方法、表示装置が開示される。【解決手段】該屈曲可能な表示基板薄膜は、上面に複数の凸部（１０）を有するガラス薄膜（１）と、前記ガラス薄膜（１）を被覆するように形成される、下面に複数の前記凸部（１０）を収納するための凹部（２０）を有するプラスチック薄膜（２）と、を備え、複数の凸部（１０）はガラス薄膜（１）の上面において横方向、縦方向或いはマトリクス状に配列される。本発明は、製造プロセスが簡単で、優れたガスバリア性を有する。機械衝撃と熱衝撃によるガラス薄膜の断裂やひびの発生を回避するため、屈曲可能な表示基板薄膜の軽量化とプラスチック薄膜を用いて衝撃を緩衝するようにし、これにより屈曲可能な表示基板薄膜の耐落下衝撃性と耐衝撃性を著しく向上させた。【選択図】図２
2019516139.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に複数の凸部を有するガラス薄膜と、
前記ガラス薄膜を被覆するプラスチック薄膜と、を備え、
前記プラスチック薄膜は、下面に複数の前記凸部を収納するための凹部を有する、ことを特徴とする屈曲可能な表示基板薄膜。
【請求項２】
複数の前記凸部はガラス薄膜の上面において、横方向、縦方向、或いはマトリクス状に配列されることを特徴とする請求項１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【請求項３】
前記複数の凸部がガラス薄膜の上面において横方向或いは縦方向に配列される時、前記ガラス薄膜の縁から所定距離を有する範囲内に前記凸部が設けられ、前記複数の凸部がガラス薄膜の上面においてマトリクス状に配列される時、前記ガラス薄膜の縁から所定距離を有する範囲内に縁部突起が設けられることを特徴とする請求項２に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【請求項４】
前記複数の凸部がガラス薄膜の上面に横方向或いは縦方向に配列される時、前記凸部は半円柱形状、三角柱形状、四角柱形状、直方体形状或いは立方体形状であり、前記複数の凸部がガラス薄膜の上面にマトリクス状に配列される時、前記凸部は四角錐形状、四角錐台形状、球冠形状或いは立方体形状であることを特徴とする請求項１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【請求項５】
前記プラスチック薄膜は、前記ガラス薄膜の上面に対向して設置されるカバー部と前記ガラス薄膜の側面に対向して設置される縁部を備えることを特徴とする請求項１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【請求項６】
前記凸部の突起の高さ、及び凹部の陥凹の深さはいずれも１００μｍ以下であり、前記ガラス薄膜の凸部以外の部分の厚さは１００μｍ以下であり、
前記屈曲可能な表示基板薄膜は、
ガラス薄膜の下面及び／或いはプラスチック薄膜の上面に配置される電極と、
ガラス薄膜の下面及び／或いはプラスチック薄膜の上面に配置される薄膜トランジスタと、をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【請求項７】
前記縁部の幅は１００μｍより大きく、前記カバー部の凹部以外の部分の厚さは４００μｍ以下であり、前記ガラス薄膜の表面うねりは０．５μｍ／２０ｍｍ以下であり、前記プラスチック薄膜の表面粗さは２ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【請求項８】
請求項１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜の製造に用いる製造方法であって、
圧延法或いは蝕刻法で、上面に複数の凸部を有するガラス薄膜を成型するステップと、
成型されたガラス薄膜に対して、レーザー切断を行って、所要寸法のガラス薄膜を得るステップと、
ガラス薄膜とプラスチック薄膜に対して、洗浄及び乾燥処理を行うステップと、
プラスチック薄膜をガラス薄膜上に被覆するステップと、
ラミネート法で、ガラス薄膜とプラスチック薄膜を一体に結合させるステップであって、その中で、ラミネート処理を行う時、加熱温度がプラスチック薄膜の軟化点温度より高く、且つガラス薄膜の軟化点温度より低くなるようにする、ステップと、
ガラス薄膜と一体に結合されたプラスチック薄膜に対して、レーザー切断を行って、所要寸法の縁部を得るステップ、とを含むことを特徴とする屈曲可能な表示基板薄膜の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の屈曲可能な表示基板薄膜を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
前記表示装置は、液晶表示装置、有機発光ダイオード表示装置或いは電子ペーパー表示装置であることを特徴とする請求項９に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は屈曲可能な表示基板薄膜及びその製造方法、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯端末表示装置とテレビなどの需要に仕掛けて、液晶表示装置（ＬＣＤ，Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、有機発光ダイオード表示装置（ＯＬＥＤ，Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）及び電子ペーパー表示装置（Ｅ−ｐａｐｅｒ，Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｐａｐｅｒ）などのディスプレイパネルの薄型化、軽量化及び軟質化において進展を続けている。現在、迫真の臨場感を求める大型パネルの曲面表示及び携帯性、利便性と安全性を求める携帯端末装置の可撓性化にとっては、フレキシビリティと耐衝撃性とを兼備する基板薄膜が不可欠となっている。
【０００３】
従来技術におけるフラットパネルディスプレイに広く使用されている基板はガラス基板であり、ガラス基板にフレキシビリティを付与して軟質化の表示を実現するため、基板の厚さを下げることで基板が屈曲可能な特性を有するようにすることは可能である。ガラス基板の厚さが０．１ｍｍ以下である時、ガラス基板は屈曲可能な基板薄膜の特性を有し、すなわちガラス薄膜は、プラスチック薄膜と類似する、ある程度の可撓性を有する。しかしながら、ガラス薄膜は依然として、屈曲の度合いと耐衝撃性が弱くて、ガラス基板薄膜がディスプレイパネルの製造工程において割れやすく、使用過程でディスプレイパネルが割れることが常にあり、特に瞬間的な曲げすぎによりガラス薄膜の潜性欠陥が生じ、今後の加工過程と使用過程において亀裂の発生などの厳しい問題点を抱えている。したがって、ガラス基板薄膜の代わり、耐衝撃性に優れ、軽量かつ軟質化に優れたプラスチック薄膜をディスプレイパネル基板用の薄膜として使用することについての研究も重要な研究方向の一つとなっている。しかし、プラスチック薄膜だけ使用すれば、薄膜の熱変形による表示への悪影響を回避することが難しく、ディスプレイパネルが薄膜の酸素や水蒸気を遮断する性能に対する要求（例えば、酸素バリア性、水蒸気バリア性）も満足できない。したがって、通常の方法はプラスチック薄膜に無機材料からなるフィルム層を蒸着するが、このようなフィルム層はコストが高い上、効果も理想的ではないので、ディスプレイのコストを下げることやディスプレイパネルの寿命を向上させることに不利であり、屈曲可能なディスプレイパネルの更なる広い応用を妨げる。プラスチック薄膜の酸素や水蒸気を遮断する性能を向上させるため、特許文献１（特開２００４−８２５９８号公報）において、基材に金属酸化物膜と有機材料層が積層されてなるガスバリア性を有する積層材を開示した。これは一つの代表的なやり方であるが、酸素や水蒸気を遮断する性能が要求される有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、上記の特許文献１に記載された積層材のガスバリア性はまだ十分ではない。
【０００４】
これにより、多層に積層することで、フレキシビリティ性に優れ、ガスバリア性が良いフレキシブルフィルムを得るというのは容易に案じることであり、例えば、無機ガラス及び該無機ガラスの両側に配置された樹脂基材層を含み、その中の一つの樹脂基材層の、無機ガラスが配置されていない側に無機薄膜を配置し、かつ該無機薄膜は対応する樹脂基材層の少なくとも一つの面の周縁部に形成する方案が容易に考えられる。しかしながら、このような積層された薄膜は依然として、例えば、ガラス薄膜が薄過ぎれば、耐衝撃性が足りないので、欠陥が生じやすく、ガラス薄膜が厚過ぎれば、可屈曲性が著しく低下される等の問題が存在する。このように、簡単的にガラス薄膜とプラスチック薄膜を積層することやフィルムコーティングする等の方案は、いずれも屈曲可能な基板薄膜の可撓性と耐衝撃性の不足により、欠陥が生じやすくなるとの強度の問題を解決することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−８２５９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記従来技術の問題点を鑑みてなされたもので、本発明の目的は優れた可撓性とガスバリア性を有する屈曲可能な表示基板薄膜及びその製造方法、表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様である屈曲可能な表示基板薄膜は、
上面に複数の凸部を有するガラス薄膜と、
前記ガラス薄膜を被覆するプラスチック薄膜とを備え、
前記プラスチック薄膜は下面に複数の前記凸部を収納するための凹部を有する。
【０００８】
上記屈曲可能な表示基板薄膜において、複数の前記凸部はガラス薄膜の上面において横方向、縦方向、或いはマトリクス状に配列される。
【０００９】
さらに、上記屈曲可能な表示基板薄膜において、複数の凸部がガラス薄膜の上面において横方向や縦方向に配列される時、前記ガラス薄膜の縁から所定距離を有する範囲内に前記凸部が設けられ、複数の凸部がガラス薄膜の上面においてマトリクス状に配列される時、前記ガラス薄膜の縁から所定距離を有する範囲内に縁部突起が設けられる。
【００１０】
さらに、上記屈曲可能な表示基板薄膜において、複数の凸部がガラス薄膜の上面において横方向や縦方向に配列される時、前記凸部は半円柱形状、三角柱形状、四角柱形状、直方体形状或いは立方体形状であり、複数の凸部がガラス薄膜の上面においてマトリクス状に配列される時、前記凸部は四角錐形状、四角錐台形状、球冠形状或いは立方体形状である。
【００１１】
さらに、上記屈曲可能な表示基板薄膜において、前記プラスチック薄膜は、前記ガラス薄膜の上面に対向して設置されるカバー部と前記ガラス薄膜の側面に対向して設置される縁部を備える。
【００１２】
さらに、上記屈曲可能な表示基板薄膜において、前記凸部の突起の高さ、および凹部の陥凹の深さは１００μｍ以下であり、前記ガラス薄膜の凸部以外の部分の厚さは１００μｍ以下である。
さらに、上記屈曲可能な表示基板薄膜において、前記屈曲可能な表示基板薄膜は、ガラス薄膜の下面及び／或いはプラスチック薄膜の上面に配置された電極と、
ガラス薄膜の下面及び／或いはプラスチック薄膜の上面に配置された薄膜トランジスタとをさらに備える。
【００１３】
さらに、上記屈曲可能な表示基板薄膜において、前記縁部の幅は１００μｍより大きく、前記カバー部の凹部以外の部分の厚さは４００μｍ以下であり、前記ガラス薄膜の表面うねりは０．５μｍ／２０ｍｍ以下であり、前記プラスチック薄膜の表面粗さは２ｎｍ以下である。
【００１４】
本発明の他の態様である屈曲可能な表示基板薄膜製造方法は、上記に記載の屈曲可能な表示基板薄膜の製造に用いる製造方法であって、
圧延法或いは蝕刻法で、上面に複数の凸部を有するガラス薄膜を成型するステップと、
成型されたガラス薄膜に対して、レーザー切断を行って、所要寸法のガラス薄膜を得るステップと、
ガラス薄膜とプラスチック薄膜に対して、洗浄及び乾燥処理を行うステップと、
プラスチック薄膜をガラス薄膜上に被覆するステップと、
ラミネート法で、ガラス薄膜とプラスチック薄膜を一体に結合させるステップであって、その中で、ラミネート処理を行う時の加熱温度がプラスチック薄膜の軟化点温度より高く、かつガラス薄膜の軟化点温度より低い、ステップと、
ガラス薄膜と一体に結合されたプラスチック薄膜に対して、レーザー切断を行って、所要寸法の縁部を得るステップとを含む。
【００１５】
本発明のさらなる他の態様である表示装置は、上記のいずれかに記載の屈曲可能な表示基板薄膜を備える。
【００１６】
上記の表示装置において、上記表示装置は、液晶表示装置、有機発光ダイオード表示装置或いは電子ペーパー表示装置である。
【発明の効果】
【００１７】
上記の態様を用いたため、本発明が提供する屈曲可能な表示基板薄膜及びその製造方法と表示装置は、製造プロセスが簡単で、かつ優れたガスバリア性を有する。機械衝撃と熱衝撃によるガラス薄膜断裂やひびの発生を回避するために、屈曲可能な表示基板薄膜を軽量化し、かつプラスチック薄膜を介して振動を緩衝するようにしており、これにより屈曲可能な表示基板薄膜の耐落下衝撃性と耐衝撃性を著しく向上させた。ガラス薄膜の縁に凸部を設けることに加えて、プラスチック薄膜で被覆することにより、縁の欠陥の発生を有効に回避した。ガラス薄膜に凸部を、プラスチック薄膜に凹部を設置することで、曲げすぎの欠陥を有効に回避することができ、屈曲可能な表示基板薄膜の耐熱衝撃と機械衝撃の性能を向上させるとともに、ガラス薄膜は水蒸気や酸素を遮断する役割を果たすこともできる。プラスチック薄膜を内側表面とする場合、ガラス薄膜の縁における凸部や縁部突起の設置により、プラスチックの縁からの酸素と水分の浸み込みが低下又は遮断されるようになり、屈曲可能な表示基板薄膜もガラス基板薄膜と類似するガスバリア性を有する。
【００１８】
本発明は、真空コーティングが必要ないので、屈曲可能な表示装置の低いコスト製造を実現することができる。単なるガラス薄膜と比べて、可撓性により優れるし、同じ寿命という表示性能を有し、特に長寿命の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造に適応する。ガラス薄膜の凸部とプラスチック薄膜の凹部は高い線膨張係数を有するプラスチック薄膜の熱膨張を抑えることができ、ガラス薄膜を表示基準面として用いることにより、線膨張係数が低い表示基板薄膜を得ることができる。一般的に、ガラス薄膜の断裂は応力集中によって表面の微小な欠陥が発生されて引き起こされることであり、ガラス薄膜の厚さが薄くなるほど割れやすくなるため、ガラス薄膜の薄型化が難しい。本発明に記載の表示基板薄膜において、ガラス薄膜の表面に形状が適当で、かつ密度が適当の凸部が配置することで、ガラス薄膜自身の耐衝撃性を著しく上向させるとともに、プラスチック薄膜及びその表面に付着された支持突起により、外力衝撃を緩衝することができ、変形時に欠陥引裂方向に向けての応力を抑えることができ、柔軟性に優れた屈曲可能な表示基板薄膜が得られる。また、現在の製造プロセスに適応でき、表示装置の加工過程における環境の温度と変形及び運搬過程における衝撃によって、欠陥が発生する確率が低い。上記の記載によれば、表示基板薄膜のガスバリア性を実現するには、複雑な薄膜の構成を必要とせず、かつガラス薄膜の欠陥を回避することができ、製造プロセスの環境に対する耐性を高め、製造コストが安い。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に記載の表示基板薄膜の構成を示す概略図。
【図２】本発明の実施形態に係る表示基板薄膜の構成を示す概略図。
【図３】本発明の実施形態に係るガラス薄膜の構成を示す概略図。
【図４】本発明の実施形態に係る表示基板薄膜の構成を示す概略図。
【図５】本発明の実施形態に係るガラス薄膜の構成を示す概略図。
【図６】本発明の実施形態に係るガラス薄膜の構成を示す概略図。
【図７】本発明の実施形態に係るガラス薄膜の構成を示す概略図。
【図８】本発明の実施形態に係る表示基板薄膜の構成を示す概略図。
【図９】本発明の実施形態に係るガラス薄膜の構成を示す概略図。
【図１０】本発明に記載の製造方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１、図２、図３、図４、図５、図６、図７、図８及び図９に示すように、屈曲可能な表示基板薄膜は、上面に複数の凸部１０を有するガラス薄膜１と、前記ガラス薄膜１を被覆するプラスチック薄膜２とを含み、前記プラスチック薄膜２は、下面に複数の前記凸部１０を収納するための凹部２０を有する。
【００２１】
複数の前記凸部１０はガラス薄膜１の上面に横方向、縦方向或いはマトリクス状に配列される。複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面に横方向や縦方向に配列される時、前記ガラス薄膜１の縁から所定距離を有する範囲内に前記凸部１０が設けられ、複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面にマトリクス状に配列される時、前記ガラス薄膜１の縁から所定距離の範囲内に縁部突起１１が設けられる。
【００２２】
複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面に横方向や縦方向に配列される時、前記凸部１０は半円柱形状、三角柱形状、四角柱形状、直方体形状或いは立方体形状であり、複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面にマトリクス状に配列される時、前記凸部１０は四角錐形状、四角錐台形状、球冠形状或いは立方体形状であるのが良い。
【００２３】
前記プラスチック薄膜２は前記ガラス薄膜１の上面に対向して設置されるカバー部２１と前記ガラス薄膜１の側面に対向して設置される縁部２２を有する。前記凸部１０の突起の高さ及び凹部２０の陥凹の深さは１００μｍ以下であり、前記ガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さは１００μｍ以下であるのが良い。
【００２４】
前記屈曲可能な表示基板薄膜はガラス薄膜１の下面及び／或いはプラスチック薄膜２の上面に配置される電極とガラス薄膜１の下面及び／或いはプラスチック薄膜２の上面に配置される薄膜トランジスタとをさらに有する。前記縁部２２の幅は１００μｍより大きく、前記カバー部２１の凹部２０以外の部分の厚さは４００μｍ以下であるのが良い。
【００２５】
前記ガラス薄膜１の表面うねりは０．５μｍ／２０ｍｍ以下であって、前記プラスチック薄膜２の表面の粗さは２ｎｍ以下であるのが良い。図１は本発明に記載の表示基板薄膜の構成を示す概略図である。図１において、異なるパターンで塗り潰されている部分はそれぞれプラスチック薄膜２における凹部２０とガラス薄膜１における凸部１０を示す。
【００２６】
図１０に示す屈曲可能な表示基板薄膜製造方法は、上記に記載の屈曲可能な表示基板薄膜の製造に用いる方法であって、
圧延法或いは蝕刻法で、上面に複数の凸部１０を有するガラス薄膜１を成型するステップと、
成型されたガラス薄膜１に対して、レーザー切断を行うことで、所要寸法のガラス薄膜１を得るステップと、
ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２に対して、洗浄及び乾燥処理を行うステップと、
プラスチック薄膜２をガラス薄膜１に被覆するステップと、
ラミネート法で、ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２を一体に結合させるステップであって、その中で、ラミネート処理を行う時の加熱温度がプラスチック薄膜２の軟化点温度より高く、かつガラス薄膜１の軟化点温度より低い、ステップと、
ガラス薄膜１と一体に結合されたプラスチック薄膜２に対して、レーザー切断を行うことで、所要寸法の縁部２２を得るステップとを含む。
【００２７】
表示装置であって、該表示装置は、上記に記載の屈曲可能な表示基板薄膜を有する。
表示装置は液晶表示装置、有機発光ダイオード表示装置或いは電子ペーパー表示装置から構成される。
【００２８】
本発明の屈曲可能な表示基板薄膜の屈曲性能は、ガラス薄膜１の材質、プラスチック薄膜２の材質、ガラス薄膜１の厚さ、プラスチック薄膜２の厚さ、凸部１０の形状、凸部１０の分布密度のいずれとも直接な関係がある。具体的には、ガラス薄膜１にとって、ガラス薄膜１の厚さが厚くなるほど、曲げにくくなり、重さも重くなる一方、外力の衝撃を受けても優性の欠陥と劣性の欠陥が生じにくいので、ガラス薄膜１の厚さを増えさせることは、ガスバリア性の改善に対して必要ではない。それは、ガラス薄膜１の厚さが１μｍであっても、非常に高いガスバリア能力があるためである。ガラス薄膜１における凸部１０の分布密度を増えることも、ガラス薄膜１の厚さを増えることと同じく、ガラス薄膜１の重さを増えることができるが、このように、表示基板薄膜の可屈曲性に対する影響がわずかである。
【００２９】
プラスチック薄膜２にとっては、プラスチック薄膜２の厚さを増加させると、重さも増えるが、ガラス薄膜１の耐機械衝撃の能力を向上させることに対して有利であって、かつ水蒸気バリア性や酸素バリア性が改善できる。ガラス薄膜１は充分なガスバリア性と水蒸気バリア性を有するため、プラスチック薄膜２の厚さにとっては、ただ耐機械衝撃力の特性を考慮すればよい。なお、プラスチック薄膜２の厚さが増加されると、表示基板の透過率が低くなり、屈曲可能な表示基板薄膜の表示装置の厚さを下げようとする努力を相殺する。以上のように、表示基板薄膜の水蒸気バリア性とガスバリア性能を向上させるため、薄いガラス薄膜１だけを使っても要求に達することができ、かつガラス薄膜１の厚さが薄くなることと伴い、可撓性もよくなる。しかし、簡単にガラス薄膜１とプラスチック薄膜２を積層すると、優性や劣性の欠陥の発生を回避することが困難である。機械力の衝撃の他に、熱衝撃、ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２の膨張率の相違、ガラス薄膜１の応力の蓄積、屈曲する時のガラス薄膜１とプラスチック薄膜２の弾性の相違などの原因で、皹欠陥の発生を回避することが困難である。ガラス薄膜１の表面に凸部１０を設けられることで、ガラス薄膜１の部分的に厚さを増えさせて、ガラス薄膜１が外力衝撃と熱衝撃を受けた時に、厚いガラス薄膜１と類似する強度を有するようにする。ガラス薄膜１における凸部１０がプラスチック薄膜２における凹部２０の中に収納されるモザイク構造を構成したので、膨張率の相違に起因したシフトの縮小に有利であり、ガラス薄膜１の応力を放出することで、応力の蓄積しすぎを防止でき、屈曲する時のガラス薄膜１とプラスチック薄膜２との弾性の相違を補い、剥離力の発生を回避できる。
【００３０】
本発明に記載の凸部１０はガラス薄膜１の上面において横方向、縦方向、或いはマトリクス状に配列され、前記凸部１０は四角錐形状、四角錐台形状、球冠形状、半円柱形状、三角柱形状、四角柱形状、直方体形状或いは立方体形状である。以下、凸部１０の異なる構成が表示基板薄膜の屈曲性に対する影響に関連して、説明する。
【００３１】
図２は、本発明の実施形態に係る表示基板薄膜の構成を示す概略図であって、図３は、本発明の実施形態に係るガラス薄膜１の構成を示す概略図である。図２、３に示すように、好ましい実施形態として、ガラス薄膜１における凸部１０は三角柱形状であって、縦断面が二等辺三角形の三角柱形状であるのが好ましく、かつ複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面において、横方向に配列されるように設置される。ガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さをｔｇ、プラスチック薄膜２の凹部２０以外の部分の厚さをｔｐ、凸部１０の高さと凹部２０の深さをｈと仮定する場合、表示基板薄膜の全厚さはｔ＝ｔｇ＋ｔｐ＋ｈである。隣接する凸部１０の間の中心間距離がＷで、凸部１０の最大幅がＷｇで、プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０の間の支持突起２３の最大幅がＷｐで、凸部１０の曲率半径がＲｇで、隣接する凹部２０の間の支持突起２３の曲率半径がＲｐである。通常の場合、屈曲可能な表示基板薄膜の曲率半径はプラスチック薄膜２の曲率半径より大きい、すなわちＲ≧Ｒｐである。本発明の表示基板薄膜は縦方向への可撓性を有しており、Ｗ＝（Ｗｇ＋Ｗｐ）／２である場合、プラスチック薄膜２が自由に圧縮できると仮定して、表示基板薄膜がプラスチック薄膜２の一側に向けて曲げられる時に（ガラス薄膜１が下に、プラスチック薄膜２が上に位置するように仮定すれば、表示基板薄膜が上に向けて曲げられることを指す）、凸部１０の曲率半径はＲｇ＝（ｈ２＋Ｗｇ２／４）０．５であるが、同様に表示基板がガラス薄膜１の一側に曲げられる時の（ガラス薄膜１が下に、プラスチック薄膜２が上に位置するように仮定すれば、表示基板薄膜が下に向けて曲げられることを指す）凸部１０の曲率半径をさらに解析することができる。Ｗ＝（Ｗｇ＋Ｗｐ）／２である場合、ガラス薄膜１を省略する条件下で、プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０の間に設置された支持突起２３の曲率半径はＲｐ＝（ｈ２＋Ｗｐ２／４）０．５となる。もしＷｐ＝Ｗｇであれば、プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０の間に設置された支持突起２３と凸部１０は同じ曲率半径を有し、それは、主に材料の変形を省略して、単純に凸部１０の幾何学的形状だけを考慮した時に得られる結論である。
【００３２】
実際は、プラスチックの弾性変形の範囲が大きいので、実際の応用過程において、Ｒｐがガラス薄膜１の曲率半径よりかなり小さいので、プラスチック薄膜２はガラス薄膜１の屈曲に対して影響を与えることはない。もし、凸部１０の突起の高さ値は［１μｍ、１００μｍ］で、凸部１０の最大幅（二等辺三角形の辺長）Ｗｇは［１μｍ、１００μｍ］である場合、凸部１０の曲率半径Ｒｇと支持突起２３の曲率半径Ｒｐはいずれも１２０μｍより小さく、該数値は厚さが１００μｍのガラス薄膜１の曲率半径（ミリメートル級）よりかなり小さいので、凸部１０の設置がガラス薄膜１自身の屈曲特性に影響を与えることはなく、隣接する凹部２０の間の支持突起２３もプラスチック薄膜２自身の屈曲特性に影響を与えない。表示基板薄膜がプラスチック薄膜２の一側に曲げられる時、プラスチック薄膜２の存在により、曲げられた後プラスチック薄膜２の塑性変形を省略する条件下で、プラスチック薄膜２において隣接する凹部２０の間の支持突起２３がガラス薄膜１を支持する役割を果たすので、ガラス薄膜１の過度の屈曲が生じないことが確保できる。同様に表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる状況を解析してみると、ガラス薄膜１には凸部１０が設けられ、かつガラス薄膜１の塑性変形を省略してもよいので、表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる時、ガラス薄膜１における凸部１０はプラスチック薄膜２を支持する作用を有し、屈曲可能な表示基板薄膜も同様に過度の屈曲が発生できなくなり、ガラス薄膜１に欠陥が発生しないことが確保できる。
【００３３】
Ｗ＞（Ｗｇ＋Ｗｐ）／２かつＷｐ＞Ｗｇである場合、プラスチック薄膜２の支持突起２３の最大幅はガラス薄膜１の凸部１０の最大幅より大きく、プラスチック薄膜２自身の特性で、支持突起２３によりプラスチック薄膜２の屈曲性能に対して影響を与えることなく、同時に凸部１０の寸法が大きい場合、表示基板薄膜が曲げられる時にプラスチック薄膜２における支持突起２３がガラス薄膜１の凸部１０から剥離される現象が発生しやすく、プラスチック薄膜２の膨張係数は有効に控えられず、ガラス材料とプラスチック材料の結合がしっかりしなくなり、ガラス薄膜１の応力放出に不利である。
【００３４】
Ｗｐ＜Ｗｇである場合、プラスチック薄膜２とガラス薄膜１が簡単に積層する状況に相当し、この状況による不良な結果は、上述に説明したとおりである。そのため、Ｗ＞（Ｗｇ＋Ｗｐ）／２かつＷｐ＜Ｗｇであるパラメータの状況を回避することが必要であり、ガラス薄膜１における凸部１０が大きすぎれば、屈曲の効果に影響を与えるとともに、表示基板薄膜の重さが増える。複数の凸部１０はガラス薄膜１の上面に縦方向に配列される時、表示基板薄膜の屈曲方向以外、横方向に配列された複数の凸部１０に対する説明と同じである。
【００３５】
図４は本発明の実施形態に係る表示基板薄膜の構成を示す概略図であって、図５は本発明の実施形態に係るガラス薄膜１の構成を示す概略図である。図４、図５に示すように、好ましい実施形態として、凸部１０は四角柱形状であって、縦断面が同脚台形の四角柱形状であることが好ましく、かつ複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面において横方向に配列され、同脚台形の上底幅がＷｇ０であり、プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０の間の支持突起２３の最少幅がＷｐ０であり、屈曲可能な表示基板薄膜は縦方向（垂直方向）への可撓性を有する。
【００３６】
Ｗ＞（Ｗｇ＋Ｗｐ）／２である場合、表示基板薄膜がプラスチック薄膜２の一側に曲げられる時、隣接する凸部１０の間の中心間距離をＷ、凸部１０の最大幅（同脚台形の下底幅）をＷｇ、プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０間の支持突起２３の最大幅をＷｐ、凸部１０の曲率半径をＲｇ、隣接する凹部２０の間の支持突起２３の曲率半径をＲｐとすると、プラスチック薄膜２の存在を省略する条件下で、ガラス薄膜１における凸部１０の曲率半径Ｒｇ＝[Ｗｇ２ｈ２／｛（Ｗｇ−Ｗｇ０）２＋Ｗｇ２／４｝]０．５である。同様に、表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる状況を解析すれば、Ｗ＝（Ｗｇ＋Ｗｐ）／２である場合、ガラス薄膜１の存在を省略する条件下で、プラスチック薄膜２における支持突起２３の曲率半径はＲｐ＝[Ｗｐ２ｈ２／｛（Ｗｐ−Ｗｐ０）２＋Ｗｐ２／４｝]０．５である。
【００３７】
もしＷｐ＝Ｗｇであれば、プラスチック薄膜２における支持突起２３とガラス薄膜１における凸部１０は同じ曲率半径を有するが、これは上記の説明と同じく変形を省略するとの仮定の条件に基づいて、単純に幾何学的形状だけを考慮したとき得られる結論である。実際は、プラスチック材料の弾性変形の範囲が大きいので、実際の応用過程においてＲｐがガラス薄膜１の曲率半径よりもかなり小さく、もし凸部１０の突起の高さ値が［１μｍ，１００μｍ］で、凸部１０の最大幅（同脚台形の下底幅）Ｗｇが［１μｍ，１００μｍ］である時、Ｗｐ０＝５０μｍであり、ＲｇとＲｐがそれぞれ２９０μｍより小さく、該数値は厚さが１００μｍのガラス薄膜１の曲率半径（ミリメートル級）よりかなり小さいので、凸部１０の設置はガラス薄膜１自身の屈曲特性に影響を与えることなく、隣接する凹部２０の間にある支持突起２３もプラスチック薄膜２自身の屈曲特性に影響を与えない。
【００３８】
表示基板薄膜がプラスチック薄膜２の一側に曲げられる時、曲げられた後、プラスチック薄膜２の存在により、プラスチック薄膜２の塑性変形を省略する条件下で、プラスチック薄膜２において隣接する凹部２０の間にある支持突起２３がガラス薄膜１を支持する役割を果たし、ガラス薄膜１の過度の屈曲が生じないことが確保できる。同様に表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる状況において、ガラス薄膜１には凸部１０が設けられ、かつガラス薄膜１の塑性変形を省略してもよいので、表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる時、ガラス薄膜１における凸部１０はプラスチック薄膜２を支持するとの役割を果たすので、屈曲可能な表示基板薄膜は同様に過度の屈曲が生じることができなくなり、ガラス薄膜１に欠陥が発生しないことが確保できる。
【００３９】
表示基板薄膜の曲率半径の形態によれば、凸部１０が四角柱形状である表示基板薄膜の曲率半径は凸部１０が三角柱形状である表示基板薄膜の曲率半径より大きいので、ガラス薄膜１の屈曲性能が低い場合、凸部１０が四角柱である構成を採用すれば、表示基板薄膜の過度の屈曲を回避することにはより有利である。Ｗ＞（Ｗｇ＋Ｗｐ）／２かつＷｐ＞Ｗｇである場合、表示基板薄膜の重さを下げることに有利であり、Ｗｐ＜２Ｗｇであるのが好ましく、欠陥の発生の防止に有利である。
【００４０】
プラスチック薄膜２の支持突起２３の最大幅はガラス薄膜１の凸部１０の最大幅より大きくて、プラスチック薄膜２自身の特性で、支持突起２３がプラスチック薄膜２の屈曲性能に影響を与えることなく、同時に凸部１０の寸法が大きい場合、表示基板薄膜に屈曲が生じる時に、プラスチック薄膜２における支持突起２３がガラス薄膜１の凸部１０から剥離される現象が発生しやすく、プラスチック薄膜２の膨張係数が有効に控えられず、ガラス材料とプラスチック材料がしっかりと結合できなくなるので、ガラス薄膜１の応力放出に不利である。
【００４１】
Ｗｐ＜Ｗｇである場合、プラスチック薄膜２とガラス薄膜１が簡単に積層する状況に相当し、この状況による不良な結果は、上述した通りである。そのため、Ｗ＞（Ｗｇ＋Ｗｐ）／２かつＷｐ＜Ｗｇであるパラメータの状況を回避することが必要であり、ガラス薄膜１における凸部１０が大きすぎれば、屈曲の効果に影響を与えるとともに、表示基板薄膜の重さが増える。複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面に縦方向に配列される時、表示基板薄膜の屈曲方向以外、横方向に配列された複数の凸部１０に対する説明と同じである。
【００４２】
図６は、本発明の実施形態に係るガラス薄膜１の構成を示す概略図である。図６に示すように、好ましい実施形態として、凸部１０が四角錐形状であって、かつ複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面にマトリクス状に配列されることが好ましく、表示基板薄膜は横方向に曲げられてもよく、縦方向に曲げられてもよいが、他の方向へ曲げられる時の曲げ効果が少し悪い。凸部１０の分布密度は空間の均等陳列分布であり、すなわち、各凸部１０の同一方向の底辺がそれぞれ平行され、各凸部１０の底面中心間の距離が相等しく、各凸部１０の頂点間の距離が相等しいので、表示基板薄膜の曲げの均一性が確保できる。
【００４３】
凸部１０が四角錐形状である表示基板薄膜の横方向と縦方向における屈曲特性はそれぞれ凸部１０が三角柱形状である表示基板薄膜の屈曲特性と類似しており、他の屈曲方向においては影響要因が複雑で、屈曲の効果が悪いため、当該実施形態に係る表示基板薄膜を他の方向に曲げることは勧められない。
【００４４】
図７は、本発明の実施形態に係るガラス薄膜１の構成を示す概略図である。図７に示すように、好ましい実施形態として、凸部１０が四角錐台形状であって、かつ複数の凸部１０がガラス薄膜１の上面においてマトリクス状に配列されることが好ましく、この場合、可撓性が少し悪いが、ガラス薄膜１の曲げすぎの発生を回避することにはより有利である。凸部１０の分布密度は空間の均等陳列分布であり、すなわち、各凸部１０の上下底面の辺がそれぞれ平行にされ、各凸部１０の隣接する上下底面の中心間の距離が相等しくて均一に分布されるので、表示基板薄膜の曲げの均一性が確保できる。
【００４５】
凸部１０が四角錐台形状である表示基板薄膜の横方向と縦方向における屈曲特性は、それぞれ凸部１０が四角柱形状である表示基板薄膜の屈曲特性と類似しており、他の屈曲方向においては影響要因が複雑で、屈曲の効果がよくないので、当該実施形態に係る表示基板薄膜を他の方向に曲げることは勧められない。
【００４６】
好ましい実施形態として、ガラス薄膜１における凸部１０が半円柱形状である場合、屈曲の効果は凸部１０が三角柱形状、四角柱形状である状況と類似しており、実際の表示基板薄膜の加工過程において、凸部１０の半径と分布密度を調整し、満足な屈曲性能を得るようにしてもよい。該好ましい実施形態において、凸部１０がガラス薄膜１の上面に横方向や縦方向に配列される場合の屈曲性能を解析する過程は同じであるが、表示基板薄膜の屈曲方向が異なる。
【００４７】
図８は、本発明の実施形態に係る表示基板薄膜の構成を示す概略図であって、図９は、本発明の実施形態に係るガラス薄膜１の構成を示す概略図である。図８、図９に示すように、好ましい実施形態として、ガラス薄膜１における凸部１０が球冠形状である場合、凸部１０がいずれかの方向において相等しい屈曲能力を有するので、凸部１０の曲率半径に対して定量分析を行うことが難しい。表示基板薄膜の縦方向や横方向の屈曲特性は凸部１０が半円柱形状である表示基板薄膜の屈曲特性と類似しており、実際の表示基板薄膜の加工過程において、凸部１０の半径と分布密度を調整することで、満足な屈曲性能を得ることができる。
【００４８】
マトリクス状に配列される時、ガラス薄膜１の上面の縁部領域に分布される凸部１０の数はガラス薄膜１の上面の縁部以外の領域に分布される凸部１０の数より多い。ガラス薄膜１の最も弱い領域、最も欠陥が生じやすい領域はガラス薄膜１の縁から内の方へ数ミリメートル延在した面積範囲であり、該領域に凸部１０を設置する目的は、縁の欠陥を回避させるためであり、各種の欠陥の発生を有効に低下させることができる。
【００４９】
凸部１０の形状は実際の状況に応じて、断面が三角形、台形、円弧形状、半円形或いは半楕円形状に設けることができる。ガラス薄膜１の厚さと凸部１０の高さとの加算値が、０．１ｍｍより大きい場合、屈曲性に影響を与えないように、ガラス薄膜１の縁の領域に布設される複数の凸部１０とガラス薄膜１の縁以外の領域（内部領域）に布設される複数の凸部１０との屈曲方向及び配列密度が一致するようにする。複数の凸部１０が縦方向や横方向に配列される時、ガラス薄膜１の縁の領域に凸部１０を有するようにし、屈曲特性を保証することが優先で、その次が耐衝撃力を保証することである。複数の凸部１０がマトリクス状に配列される時、縁の領域に分布される凸部１０の数が縁以外の領域に分布される凸部１０の数より多いようにし、屈曲可能な特性を保証することが優先で、その次が耐衝撃力を保証することである。ガラス薄膜１の厚さと凸部１０の高さとの加算値が０．１ｍｍよりも大きい場合、可撓性が高いので、ガラス薄膜１の縁を全閉型や大部分密閉型に設けるようにすることを考慮してもよいが、内部の凸部１０の構成の形態を考慮しなくてもよい。このような表示基板薄膜はより強い縁の耐衝撃能力を有するが、屈曲特性が弱い。
【００５０】
好ましい実施形態として、前記凸部１０の高さと凹部２０の深さは１００μｍ以下である。ガラス薄膜１における凸部１０の高さが高くなるほど、ガラス薄膜１自身の機械安定性の保持に有利である一方、欠点は屈曲性が悪くなり、重さも重くなることである。プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０間の支持突起２３の作用はガラス薄膜１を支持することであり、支持突起２３が厚くなるほど、その支持作用が強い。
【００５１】
好ましい実施形態として、前記ガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さは１００μｍ以下である。実験により、各種アルカリガラスや無アルカリガラスの厚さが１００μｍより小さい場合、いずれもよい屈曲可能な特性を有することが認められた。
【００５２】
好ましい実施形態として、前記プラスチック薄膜２は、前記ガラス薄膜１に対向して設置されるカバー部２１とそれぞれカバー部２１の両側に設置される２つの縁部２２を含み、前記カバー部２１の凹部２０以外の部分の厚さは４００μｍ以下であり、ガラス薄膜１に対する包みを満足する時、プラスチック薄膜２の厚さは薄いほどよく、透過率が増加され、屈曲性にもより有利である。
【００５３】
好ましい実施形態として、前記縁部２２の幅は１００μｍより大きく、厚さは６００μｍ以下であり、縁部２２の厚さはプラスチック薄膜２のカバー部２１の厚さとガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さとの加算値と等しい。ガラス薄膜１の外縁の縁の領域を被覆することにより、欠陥の発生率を有効に低下させることができる。
【００５４】
好ましい実施形態として、前記表示基板薄膜の各所の厚さは均一であり、すなわち、ガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さと、凸部１０の突起の高さと、カバー部２１の凹部２０以外の部分の厚さとの合計は表示基板薄膜の厚さに等しく、プラスチック薄膜２の縁部２２の厚さも表示基板薄膜の厚さに相等しく、かつ６００μｍ以下である。表示基板薄膜の厚さが薄いほど、屈曲性がよりよい。一般的に、ガラス薄膜１の厚さを下げることで、表示基板薄膜全体の厚さを低下させて、可撓性を向上させるとともに表示基板薄膜全体の重さを低下させることができ、耐落下性を向上させることができる。ガラス薄膜１の厚さはただ数ミクロンである場合、表示基板薄膜の屈曲特性がプラスチック薄膜２の屈曲特性に近づく、かつガスバリア性は相変わらず普通のガラス基板に匹敵することができる。プラスチック薄膜２の厚さは表示基板薄膜の透過率に影響を与えるし、表示基板薄膜を背板以外の用途として使う場合、できるだけプラスチック薄膜２の厚さを下げて、基板全体の透過率を向上させる。
【００５５】
好ましい実施形態として、前記ガラス薄膜１の表面うねりは０．５μｍ／２０ｍｍ以下である。前記プラスチック薄膜２の表面の粗さは２ｎｍ以下である。ガラス薄膜１の下面を表示基準面とすると、研磨によりうねりを有効に下げ、表示が基板薄膜に対する要求を満たすことができる。プラスチック薄膜２は曲げやすいので、うねりはプロセス加工過程において補正しやすく、うねりに対し、表面の粗さはもっと関心すべき指標である。
【００５６】
好ましい実施形態として、前記表示基板薄膜はガラス薄膜１の下面及び／或いはプラスチック薄膜２の上面に配置される電極をさらに含む。該電極は透明電極と非透明電極に分けられる。透明電極はＩＴＯ材料、ＰＥＤＯＴ材料、カーボンナノチューブ材料或いはグラフェン材料などより製造できる。非透明電極は金属電極より構成され、具体的に、例えば、アルミニウム、銀、銅などの金属電極である。電極がガラス薄膜１の表面に付着されるようにする設計の利点は高温の加工過程に耐えられることができ、表示基板薄膜の熱安定性が良いことである。温度が変化される時、プラスチック薄膜２の寸法が変更される場合でも、電極の幾何学的寸法に影響を与えることなく、高い熱安定性を有し、表示装置の解像度の向上に有利である。電極がプラスチック薄膜２の表面に付着される時に、より低い工程温度が必要であるが、電極はかなり良い屈曲可能な特性を有しており、特に有機電極材料、例えばＰＥＤＯＴ材料により製造された電極がプラスチック薄膜２の表面に付着される時に、より良い粘着力があり、かつ電極薄膜の均一性もよい。
【００５７】
好ましい実施形態として、前記表示基板薄膜ガラス薄膜１の下面及び／或いはプラスチック薄膜２の上面に配置される薄膜トランジスタをさらに含む。該薄膜トランジスタは必要に応じて有機薄膜トランジスタ或いは無機薄膜トランジスタを用いることができ、無機薄膜トランジスタを用いる場合、ガラス薄膜１の一側に設けられると有利であり、ガラス薄膜１はより高い温度の処理過程に耐えられることができ、形状が変わらない。具体的には、例えば、ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）薄膜トランジスタ、ｐ−Ｓｉ（ポリシリコン）薄膜トランジスタ、ＬＴＰＳ（低温ポリシリコン）薄膜トランジスタ、ＩＧＺＯ（酸化インジウムガリウム亜鉛）薄膜トランジスタなどがガラス一側に設置されて、現在の製造工程の環境に適応できる。有機ＴＦＴすなわちＯＴＦＴ（有機薄膜トランジスタ）を採用する場合、ガラス薄膜１或いはプラスチック薄膜２の一側に設置すれば、製造工程の環境を満たすことができるが、ガラス薄膜１の一側に設置すると、製造した能動素子の寸法の安定性及び均一性が高いので、高い解像度のディスプレイの実現に有利である。薄膜トランジスタをプラスチック薄膜２の上面に配置し、かつ無機薄膜トランジスタを用いる場合、高温の製造プロセスの要求を満たすために、プラスチック薄膜２は耐高温材料、例えばＰＩ薄膜或いはＰＥＮ薄膜を選択するとともに、材料の熱安定性の要求を満たすように、製造プロセスに対する適当な調整が必要である。
【００５８】
本発明は表示装置をさらに提供する。該表示装置は上記のいずれか一つの実施形態に記載の屈曲可能な表示基板薄膜を含む。前記表示装置は液晶表示装置、有機発光ダイオード表示装置或いは電子ペーパー表示装置であるのが好ましい。表示装置が液晶表示装置である場合、ＴＮ（ツイステッド・ネマチック型）、ＳＴＮ（スーパーツイステッド・ネマチック型）、ＩＰＳ、ＰＤＬＣ、Ｃｈ−ＬＣＤ、ＶＡとＦＬＣなどの異なる表示モードの液晶表示装置を作成することができる。その中で、ＴＮ表示モードである液晶表示装置は受動と能動の二種類に分けられる。受動表示の時に、プラスチック薄膜２の一側を液晶セルの内表面としてもよいし、ガラス薄膜１の一側を内表面、或いはプラスチック薄膜２の一側とガラス薄膜１の一側をそれぞれ内表面としてもよい。液晶セルの内表面の組み合わせは製造プロセス環境の温度が低いので、液晶セルの厚さの均一性に対する要求が高くない。能動表示の時に、ガラス薄膜１を液晶セルの内表面として使うことが好ましくて、液晶セルの製造過程における製造プロセス環境はいずれも満たすことができ、膨張率が低いので、能動素子の精度を精確に控えることができ、均等の能動素子が形成される。
【００５９】
ＳＴＮ、ＰＤＬＣ、Ｃｈ−ＬＣＤ、受動ＶＡと受動ＦＬＣ液晶セルの配置方式は受動ＴＮ形式と類似し、ＩＰＳ、能動ＦＬＣと能動ＶＡはガラス薄膜１を内表面とすれば、有利であるが、このような配置方式が絶対的であるのではない。ＯＴＦＴ或いは有機透明電極を採用すれば、プラスチック薄膜２を液晶セルの内側表面としてもよく、液晶表示装置の屈曲可能な表示基板薄膜を２枚使ってもよいが、２枚の表示基板薄膜の屈曲方向が一致するという要求を満たす必要がある。具体的に、その中の一つの表示基板薄膜における複数の凸部１０がガラス薄膜１上に縦方向に配列されると仮定すれば、もう一つの表示基板薄膜における複数の凸部１０はガラス薄膜１に縦方向或いはマトリクス状に配列される。なお、その中の一つの表示基板薄膜における複数の凸部１０がガラス薄膜１上に横方向に配列されると仮定すれば、もう一つの表示基板薄膜における複数の凸部１０がガラス薄膜１上に横方向或いはマトリクス状に配列される。液晶表示装置は種類が多く、材料の組合せの選択性が広いので、実際の応用過程で、薄膜の特性と製造プロセス環境の要求に応じて、好ましい組合せを選択することができるが、ここでは詳しく列挙しない。どの組合せを採用しても、屈曲可能な表示基板薄膜は屈曲可能との目的を達成することができ、過度の屈曲による欠陥の発生を有効に回避できるとともに、ガスバリア性も単なるガラス基板薄膜液晶セルに比べても遜色ないレベルである。
【００６０】
好ましくは、前記表示装置は有機発光ダイオード表示装置でもよい。表示装置は有機発光ダイオード表示装置である場合、トップエミッション或いはボトムエミッションの表示装置に作成してもよい。有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は駆動原理により、能動表示と受動表示に分けられ、発光の材料により、高分子材料と低分子材料に分けられ、その中のパッシブ駆動は基板薄膜に対する要求が低くて、基板薄膜材料が表示の要求を満たしやすく、能動駆動のＯＬＥＤは能動駆動の液晶表示装置に比べて、ＯＬＥＤが電流型の素子であるため、電荷の移動度と均一性の面においてより厳しい要求がある。
【００６１】
なお、ＯＬＥＤを構成する材料、例えば、有機発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、および電子注入層などは全部有機材料であって、酸素分子と水分子に対してより敏感であるため、表示基板薄膜のガスバリア性に対する要求も高い。液晶表示装置に係る上記の説明からわかるように、屈曲可能な表示基板薄膜は非常に適合的な形式である。
【００６２】
ＯＬＥＤにおいて、屈曲可能な表示基板薄膜は単層、電極、表示材料は積層型を採用したので、屈曲形式は実現しやすいようであるが、実はそうではない。ガスバリア性に対する厳しい要求で、表示基板薄膜の他に、裏側の電極に対する保護は通常薄膜或いは基板薄膜により行うことが必要であり、屈曲可能な表示基板薄膜は表示基板薄膜として使うことだけでなく、裏側の電極を保護する基板薄膜として使ってもよく、そのコストも安い。
【００６３】
屈曲可能な表示基板薄膜の構成はガスバリア性薄膜の性能を有し、凸部１０の配列方向が表示基板薄膜に要求された屈曲方向と一致すると、ＯＬＥＤ表示装置全体の屈曲を実現できる。具体的には、表示基板薄膜が縦方向に曲げられる場合、ガラス薄膜１における複数の凸部１０は縦方向或いはマトリクス状に配列され、表示基板薄膜が横方向に曲げられる場合、ガラス薄膜１における複数の凸部１０は横方向或いはマトリクス状に配列される。フィルムコーティングのプロセスを必要とせず、効率的なガスバリア性を実現でき、ＯＬＥＤ表示装置のコストを低下させることができる。
【００６４】
好ましくは、前記表示装置は電子ペーパー表示装置であってもよい。上記の屈曲可能な表示基板薄膜を使って、駆動バッキングプレートを作成することができ、これでフレキシビリティ電子ペーパー表示のコストを有効に下げることができる。電子ペーパー表示は主にペーパーを替えるためであり、低コストは基本的な要求である。屈曲可能な表示基板薄膜は安いプラスチック薄膜２とガラス薄膜１を使用することで、該要求を満たすことができ、電子ペーパーの応用普及に条件を創造しうる。
【００６５】
本発明はさらに屈曲可能な表示基板薄膜製造方法を提供する。該方法は上記に記載の前記屈曲可能な表示基板薄膜の製造に用いる方法であって、圧延法或いは蝕刻法を利用して、上面に複数の凸部１０を有するガラス薄膜１を成型するステップと、所要寸法のガラス薄膜１が得られるように、成型されたガラス薄膜１に対してレーザー切断を行うステップと、ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２に対して、洗浄及び乾燥処理を行うステップと、プラスチック薄膜２をガラス薄膜１に被覆するステップと、ラミネート法を利用して、ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２を一体に結合させ、その中で、ラミネート処理を行う時の加熱温度はプラスチック薄膜２の軟化点温度より高くかつガラス薄膜１の軟化点温度より低いものであるステップと、所要寸法の縁部２２が得られるように、ガラス薄膜１と一体に結合されたプラスチック薄膜２に対して、レーザー切断を行うステップとを含む。ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２は板状材料を用いることが好ましく、これは精度の良い凸部１０の形成に有利であり、二種類の材料を結合させる時の密着度合いの増加にも有利である。
【００６６】
同時に、ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２において若干の欠陥があるとしても、製造方法の加熱加工過程において、自動的に修復できる。通常、積層過程において、接着剤を使う必要がなく、単なる加熱によって結合させることができるが、積層されたプラスチック薄膜２とガラス薄膜１が直接に粘着するのが難しい場合、透明接着剤を使って粘着してもよい。
【００６７】
本発明は、製造プロセスが簡単で、優れたガスバリア性を有し、コストも安い。ガラス薄膜１の厚さの調整が便利で、屈曲可能な表示基板薄膜の重さを下げやすく、薄膜を介した緩衝作用により、屈曲可能な表示基板薄膜の耐落下衝撃性と機械衝撃性能が著しく向上された。ガラス薄膜１の表面に凸部１０を付着することは、ガラス薄膜１の厚さを著しく増加させることに相当し、表示基板薄膜の耐熱衝撃の能力を向上させる。ガラス薄膜１の縁に凸部１０を布設することに加えて、プラスチック薄膜２で被覆することにより、縁の欠陥が生じることを有効に回避した。
【００６８】
ガラス薄膜１に凸部１０を設け、及びプラスチック薄膜２に凹部２０を設けることにより、曲げすぎの欠陥を有効に回避でき、屈曲可能な表示基板薄膜の耐熱衝撃と機械衝撃の性能を向上させる一方、ガラス薄膜１は水蒸気や酸素を遮断する役割を果たすことができる。
【００６９】
プラスチック薄膜２を内側表面とする場合、縁部突起１１の設置により、プラスチックの縁からの酸素、水分の浸み込みが低下またはほとんど遮断されるので、表示基板薄膜全体のガスバリア性を実現でき、高価の真空コーティング無機薄膜を用いる必要がない上、ガラス薄膜１の欠陥も回避でき、製造プロセス環境に対する耐性を向上させることができ、低コストの屈曲可能な表示を実現できる。
【００７０】
作成されたＯＬＥＤ表示装置は単一のガラス薄膜１と比べて、同じ寿命の表示性能を有するので、特に長寿命の表示装置の製造に適応できる。ガラス薄膜１の凸部１０とプラスチック薄膜２の凹部２０により高線膨張係数を有するプラスチック薄膜２の熱膨張が控えられ、線膨張係数が小さい表示基板薄膜材料を得ることができるので、高解像度の表示装置への応用に適応できる。
【００７１】
一般的に、ガラス薄膜１の断裂は、応力が表面の微小な欠陥に集中されて起こるものであり、ガラス薄膜１の厚さが薄くなるほど、断裂が生じやすくなるため、薄型化を実現することが難しい。本発明の表示基板薄膜はガラス薄膜１の表面に適当な形状と密度の凸部１０が設置されて、ガラス薄膜１自身の強さと靱性を著しく強化させるとともに、プラスチック薄膜２が外力の衝撃による影響を低減させ、変形する時、欠陥方向に向ける破断応力が緩和されるので、可撓性に優れた基板を得ることができ、さらに２次加工性と操作性を著しく向上させることができる。
【００７２】
本発明は、過度の屈曲による基板薄膜の欠陥の発生を回避でき、強い剛性、低い膨張率とよい平面の延性などの利点を有するとともに、優れた酸素や水蒸気を遮断する性能を兼備し、非透明或いは透明の形式いずれによっても実現できるし、製造工程が簡単で、低コスト、及び耐高温のプラスチック薄膜２材料を使うことで、基板薄膜にも耐高温性を有するようにする等の特徴がある。コストが安く、安定性が高くて、外力の衝撃による優性や劣性の欠陥を回避でき、強固耐用である。
【００７３】
本発明のガラス薄膜１の縁（側面）は全周に渡ってプラスチック薄膜２に囲まれており、プラスチック薄膜２とガラス薄膜１は加熱接着又は透明接着剤により一体に結合され、ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２の表面は平滑平面である。アルカリガラスと無アルカリガラスの材料でガラス薄膜１を作成するのが好ましく、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＴＡＣとＰＩなどの材料でプラスチック薄膜２を作成することが好ましい。
【００７４】
次に、各構造の具体的な寸法に関連して、本発明に記載の表示基板薄膜の応用例を説明する。具体的には、ガラス薄膜１（凸部１０を含む）は無アルカリガラスを用い、プラスチック薄膜２はＰＥＮ材料を用いる。
【００７５】
図２、図３に示すように、凸部１０は三角柱形状であって、かつガラス薄膜１の表面において横方向に配列されるように設定し、縦断面が二等辺三角形である三角柱形状であり、隣接する凸部１０間の中心間の距離Ｗが８０μｍであり、隣接する凹部２０の間の支持突起２３の最大幅が８０μｍであり、凸部１０の最大幅Ｗｇが８０μｍであり、凸部１０の高さｈが１００μｍである。
【００７６】
表示基板薄膜がプラスチック薄膜２の一側に曲げられる場合、プラスチック薄膜２を省略する条件下で、ガラス薄膜１の凸部１０の曲率半径Ｒｇは１０８μｍである。ガラス薄膜１の屈曲性能を解析する時、Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）Ｗｉｌｌｏｗ（登録商標）ガラスを参照として、厚さが１００μｍである場合の曲率半径は１８０ｍｍであり、厚さが２００μｍである場合の曲率半径は３７０ｍｍである。ガラス薄膜１の凸部１０の曲率半径Ｒｇ＝１０８μｍでかなり小さいので、凸部１０はガラス薄膜１の屈曲性能に影響を与えない。
【００７７】
プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０の間の支持突起２３がガラス薄膜１における凸部１０とともに作用して、１００μｍ程度の厚さの混合層を形成し、その屈曲性能は主にガラス薄膜１における凸部１０の屈曲性能によって決定される。
【００７８】
表示基板薄膜がプラスチック薄膜２の一側に曲げられる時、プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０の間にある支持突起２３は緩衝の作用を演じる。プラスチック薄膜２の塑性変形を省略する条件下において、プラスチック薄膜２の支持突起２３はガラス薄膜１を支持する作用を演じ、ガラス薄膜１の曲げ過ぎ欠陥が発生しないように確保する。同様に、表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる状況において、表示基板薄膜は縦方向への可撓性を有し、Ｗ＝Ｗｐ＝Ｗｇである場合、ガラス薄膜１の存在を省略する条件下で、プラスチック薄膜２の曲率半径はＲｐ＝（ｈ２＋Ｗｐ２／４）０．５となり、Ｒｐ＝１０８μｍが得られる。プラスチック薄膜２における支持突起２３とガラス薄膜１における凸部１０は同じ曲率半径を有するが、これは変形を省略するとの仮定条件に基づいて、幾何学的形状から考えて得られた結論である。
【００７９】
実際は、プラスチック材料の弾性変形の範囲が大きく、従って実際の応用過程においてＲｐが１０８μｍよりかなり小さい。ガラス薄膜１における凸部１０の存在、かつガラス薄膜１の塑性変形も省略してもよいので、表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる時、ガラス薄膜１における凸部１０がプラスチック薄膜２に対して、支持の役割を果たすので、プラスチック薄膜２は同様に過度の屈曲が生じることはなく、ガラス薄膜１に欠陥が発生しないことが確保できる。
【００８０】
ガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さｔｇは１００μｍであって、プラスチック薄膜２の凹部２０以外の部分の厚さｔｐは２００μｍである場合、表示基板薄膜全体の厚さは４００μｍであり、屈曲可能な曲率半径はガラス薄膜１の曲率半径に依存する。
【００８１】
図４、図５に示すように、凸部１０は四角柱形状で、かつガラス薄膜１の表面に横方向に配列される場合、縦断面が同脚台形である四角柱形状が好ましく、同脚台形の上底幅Ｗｇ０＝４０μｍであり、隣接する凸部１０の間の中心間距離Ｗ＝８０μｍであり、隣接する凹部２０の間の支持突起２３の最大幅Ｗｐ＝８０μｍであり、凸部１０の最大幅（同脚台形の下底幅）Ｗｇ＝８０μｍであり、凸部１０の高さｈ＝１００μｍであって、屈曲可能な表示基板薄膜が縦方向への可撓性を有する。
【００８２】
Ｗ＝Ｗｐ＝Ｗｇである場合、プラスチック薄膜２の存在を省略する条件下で、表示基板薄膜がプラスチック薄膜２の一側へ曲げられる場合、ガラス薄膜１の曲率半径がＲｇ＝[Ｗｇ２ｈ２／｛（Ｗｇ−Ｗｇ０）２＋Ｗｇ２／４｝]０．５＝２０４μｍとなる。該曲率半径は、三角柱形状の凸部１０の曲率半径１０８μｍより大きいが、厚さが１００μｍのガラス薄膜１の曲率半径よりはかなり小さいので、凸部１０がガラス薄膜１の屈曲性能に影響を与えない。
【００８３】
プラスチック薄膜２において、隣接する凹部２０の間の支持突起２３がガラス薄膜１における凸部１０とともに作用して、１００μｍ程度の厚さの混合層を形成し、その屈曲性能は主にガラス薄膜１における凸部１０の屈曲性能によって決定される。プラスチック薄膜２において隣接する凹部２０の間にある支持突起２３は緩衝作用を有し、プラスチック薄膜２の塑性変形を省略する条件下で、プラスチック薄膜２の支持突起２３はガラス薄膜１を支持する役割を果たすことで、ガラス薄膜１に過度の屈曲の欠陥が発生しないように確保する。
【００８４】
同様に、表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる状況において、表示基板薄膜が縦方向への可撓性を有し、Ｗ＝Ｗｐ＝Ｗｇである場合、ガラス薄膜１の存在を省略する条件下で、プラスチック薄膜２の曲率半径ＲＰ＝[ＷＰ２ｈ２／｛（ＷＰ−ＷＰ０）２＋ＷＰ２／４｝]０．５＝２０４μｍである。ガラス薄膜１において凸部１０が存在し、かつガラス薄膜１の塑性変形を省略してもよいので、表示基板薄膜がガラス薄膜１の一側に曲げられる時、ガラス薄膜１における凸部１０がプラスチック薄膜２に対して、支持の役割を果たすことになり、プラスチック薄膜２も同様に過度の屈曲が発生することなく、ガラス薄膜１に欠陥が発生しないように確保できる。
【００８５】
表示基板薄膜の曲率半径の点から見ると、四角柱形状の凸部１０の曲率半径が三角柱形状の凸部１０の曲率半径より大きいことが必要なので、ガラス薄膜１の屈曲性能が低い時、四角柱形状の凸部１０を採用すると、屈曲可能な表示基板薄膜の屈曲過ぎの発生をもっとよく回避することができる。ガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さｔｇが１００μｍであり、プラスチック薄膜２の凹部２０以外の部分の厚さｔｐが２００μｍである場合、表示基板薄膜全体の厚さは４００μｍになり、屈曲可能な曲率半径はガラス薄膜１の曲率半径に依存する。
【００８６】
図６に示すように、凸部１０が四角錐形状で、かつガラス薄膜１の表面においてマトリクス状に配列される場合、凸部１０の四角錐形状の幾何学的寸法は以下のとおりである。即ち、底面辺長が８０μｍであり、高さが１００μｍであり、各凸部１０の間の縦方向の中心間距離或いは横方向の中心間距離が１２０μｍであり、ガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さが１００μｍであり、プラスチック薄膜２の凹部２０以外の部分の厚さが２００μｍであって、プラスチック薄膜２の凹部２０においても、幾何学的寸法として、底面辺長が８０μｍで、高さが１００μｍである。表示基板薄膜全体の厚さは４００μｍで、曲率半径はガラス薄膜１によって決まれ、最も最適な屈曲方向は四角錐形状の底辺方向に沿う方向である。
【００８７】
図７に示すように、凸部１０が四角錐台形状で、かつガラス薄膜１の表面においてマトリクス状に配列される場合、凸部１０の四角錐台形状の幾何学的寸法が以下のとおりである。上底面の辺長が４０μｍであり、下底面の辺長が８０μｍであり、高さが１００μｍであり、各凸部１０の上底面の間の中心間距離が１２０μｍであり、或いは、各凸部１０の下底面の間の中心間距離が１２０μｍであり、ガラス薄膜１の凸部１０以外の厚さが１００μｍであり、プラスチック薄膜２の凹部２０以外の厚さが２００μｍであって、プラスチック薄膜２の凹部２０においても、幾何学的寸法として、上底面の辺長が４０μｍであり、下底面の辺長が８０μｍであり、高さが１００μｍである。屈曲可能な表示基板薄膜全体の厚さが４００μｍで、屈曲可能な曲率半径がガラス薄膜１によって決定され、最も好ましい屈曲方向は四角錐台の底辺後方に沿う方向である。
【００８８】
図８、図９に示すように、凸部１０が球冠形状で、かつガラス薄膜１の表面においてマトリクス状に配列される場合、凸部１０の球冠形状の幾何学的寸法は以下のとおりである。底面半径が１２０μｍであり、高さが１００μｍであり、各凸部１０の底面の間の中心間距離が１６０μｍであり、ガラス薄膜１の凸部１０以外の厚さが１００μｍであり、プラスチック薄膜２の凹部２０以外の厚さが２００μｍであって、プラスチック薄膜２の凹部２０の球冠形状においても、幾何学的寸法として、底面半径が１００μｍであり、高さが１００μｍであり、各凸部１０の底面中心間距離が１６０μｍである。屈曲可能な表示基板薄膜全体の厚さが４００μｍであり、屈曲可能な曲率半径はガラス薄膜１によって決定され、最も好ましい屈曲方向はなく、各屈曲方向においてほとんど同じである。
【００８９】
前記ガラス薄膜１の上面において、縁部突起１１がさらに設けられて、前記縁部突起１１は前記ガラス薄膜１の縁の所定距離範囲内に位置される。これらの縁部突起１１は、各種の欠陥の発生を有効に低下させることができる。実際状況に応じて、突起の断面の形状を三角形、台形、円弧形状、半円形或いは半楕円形状に設けることができる。具体的な実施例において、断面の形状は半円形に設けられ、その半径が１００μｍであり、高さが１００μｍである。縁部突起１１もガラス薄膜１における突起の形状、分布方向、密度の設置を参照して設けてもよいが、必ずしも最も好適な保護効果を持つものではないという欠点がある反面、利点としては任意の面積の基板薄膜と整合でき、且つ屈曲性能も基板薄膜と一致する。ガラス縁の突起の高さとガラス薄膜１の厚さの合計が１００μｍより小さい場合、縁部突起１１を密閉形状に設置すると、欠陥の発生をより有効に回避できるとともに、屈曲性能にも影響を与えない。
【００９０】
なお、受動の表示素子に対して、アルカリガラス、例えば、ナトリウムガラスと中性ホウケイ酸ガラスを用いれば、コストを有効に低下させることができる。能動素子に対しては、良い化学的安定性と電気的絶縁性を有する無アルカリガラス、主に無アルカリアルミノケイ酸塩ガラスを採用する。プラスチック薄膜２の縁部２２の幅は５００μｍを選択するのが好ましい。ガラス薄膜１の表面を表示基準面とする場合、研磨により、ガラス薄膜１の表面うねりを０．３μｍ／２０ｍｍになるようにする。
【００９１】
以下、具体的な製造方法のステップに関連して本発明に記載の表示基板薄膜の製造方法の応用例を説明する。
【００９２】
厚さが０．３ｍｍであるガラス基板を溶融して、圧延法で複数の三角柱形状の凸部１０を有するガラス薄膜１を形成し、その中に、ガラス薄膜１の凸部１０以外の厚さが１００μｍであり、凸部１０の高さが１００μｍであり、凸部１０の最大幅が１００μｍである。成型されたガラス薄膜１に対して、レーザー切断を行い、所要寸法のガラス薄膜１を得るが、その過程において、ガラス薄膜１の縁の縦方向が三角柱形状の突起形状となって、横方向の突起の分布密度と方向がガラス薄膜１の内部と一致するように確保する。
【００９３】
ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２に対して、洗浄及び乾燥を行った後、プラスチック薄膜２の外縁がガラス薄膜１より１ｍｍ大きいように、厚さが４００μｍのプラスチック薄膜２をガラス薄膜１に被覆する。続いて、ラミネート法でガラス薄膜１とプラスチック薄膜２を一体に結合させて、レーザー切断によりプラスチック薄膜２の縁部２２の幅が５００μｍ、プラスチック薄膜２の縁部２２の厚さが３５０μｍになるように補正を行う。その後、ガラス薄膜１の表面うねりが０．３μｍ／２０ｍｍ、屈曲可能な表示基板薄膜全体の厚さが３５０μｍとなるようにガラス薄膜１の表面に対して、研磨を行う。
【００９４】
蝕刻法で厚さが１００μｍのガラス基板上に複数の四角柱形状の凸部１０を形成し、その中で、ガラス薄膜１の凸部１０以外の部分の厚さが５０μｍ、凸部１０の高さが５０μｍ、凸部１０の最大幅が５０μｍであり、ガラス薄膜１の縁の密閉突起が三角柱形状であり、その高さが５０μｍ、幅が５０ミクロンである。成型されたガラス薄膜１に対して、レーザー切断を行うことで所要寸法のガラス薄膜１が得られるが、得られたガラスの周りが三角柱形状の突起で取り囲まれるようにする。
【００９５】
ガラス薄膜１とプラスチック薄膜２に対して、洗浄及び乾燥を行った後、プラスチック薄膜２の外縁がガラス薄膜１よりも１ｍｍ大きいように、厚さが２００μｍのプラスチック薄膜２をガラス薄膜１に被覆する。続いて、ラミネート法でガラス薄膜１とプラスチック薄膜２を一体に結合させて、レーザー切断によりプラスチック薄膜２の縁部２２の幅が５００μｍ、プラスチック薄膜２の縁部２２の厚さが２００μｍになるように補正を行う。その後、ガラス薄膜１の表面うねりが０．５μｍ／２０ｍｍ、屈曲可能な表示基板薄膜全体の厚さが２００μｍ、プラスチック薄膜２の厚さが１００μｍになるようにガラス薄膜１の表面に対して、研磨を行う。
【００９６】
上記の表示基板薄膜の製造方法において、前記プラスチック薄膜２はいずれもＰＥＮ材料を採用し、ラミネート法で薄膜を積層する時の温度は３００°Ｃにする。これによりプラスチック薄膜２をガラス薄膜１の表面に均一に被覆させた構造が形成される。
【００９７】
以上は、本発明の好適な実施形態に関連して説明したが、本発明の技術形態の範囲は上述したものに限らない。当業者であれば、本発明に開示した技術範囲内において、本発明の構成及び構想に基づいて行う同等な変わりと変更は本発明の技術形態の範囲内に含まれる。
【００９８】
（付記）
（付記１）
上面に複数の凸部を有するガラス薄膜と、
前記ガラス薄膜を被覆するプラスチック薄膜と、を備え、
前記プラスチック薄膜は、下面に複数の前記凸部を収納するための凹部を有する、ことを特徴とする屈曲可能な表示基板薄膜。
【００９９】
（付記２）
複数の前記凸部はガラス薄膜の上面において、横方向、縦方向、或いはマトリクス状に配列されることを特徴とする付記１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【０１００】
（付記３）
前記複数の凸部がガラス薄膜の上面において横方向或いは縦方向に配列される時、前記ガラス薄膜の縁から所定距離を有する範囲内に前記凸部が設けられ、前記複数の凸部がガラス薄膜の上面においてマトリクス状に配列される時、前記ガラス薄膜の縁から所定距離を有する範囲内に縁部突起が設けられることを特徴とする付記２に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【０１０１】
（付記４）
前記複数の凸部がガラス薄膜の上面に横方向或いは縦方向に配列される時、前記凸部は半円柱形状、三角柱形状、四角柱形状、直方体形状或いは立方体形状であり、前記複数の凸部がガラス薄膜の上面にマトリクス状に配列される時、前記凸部は四角錐形状、四角錐台形状、球冠形状或いは立方体形状であることを特徴とする付記１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【０１０２】
（付記５）
前記プラスチック薄膜は、前記ガラス薄膜の上面に対向して設置されるカバー部と前記ガラス薄膜の側面に対向して設置される縁部を備えることを特徴とする付記１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【０１０３】
（付記６）
前記凸部の突起の高さ、及び凹部の陥凹の深さはいずれも１００μｍ以下であり、前記ガラス薄膜の凸部以外の部分の厚さは１００μｍ以下であり、
前記屈曲可能な表示基板薄膜は、
ガラス薄膜の下面及び／或いはプラスチック薄膜の上面に配置される電極と、
ガラス薄膜の下面及び／或いはプラスチック薄膜の上面に配置される薄膜トランジスタと、をさらに備えることを特徴とする付記１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【０１０４】
（付記７）
前記縁部の幅は１００μｍより大きく、前記カバー部の凹部以外の部分の厚さは４００μｍ以下であり、前記ガラス薄膜の表面うねりは０．５μｍ／２０ｍｍ以下であり、前記プラスチック薄膜の表面粗さは２ｎｍ以下であることを特徴とする付記５に記載の屈曲可能な表示基板薄膜。
【０１０５】
（付記８）
付記１に記載の屈曲可能な表示基板薄膜の製造に用いる製造方法であって、
圧延法或いは蝕刻法で、上面に複数の凸部を有するガラス薄膜を成型するステップと、
成型されたガラス薄膜に対して、レーザー切断を行って、所要寸法のガラス薄膜を得るステップと、
ガラス薄膜とプラスチック薄膜に対して、洗浄及び乾燥処理を行うステップと、
プラスチック薄膜をガラス薄膜上に被覆するステップと、
ラミネート法で、ガラス薄膜とプラスチック薄膜を一体に結合させるステップであって、その中で、ラミネート処理を行う時、加熱温度がプラスチック薄膜の軟化点温度より高く、且つガラス薄膜の軟化点温度より低くなるようにする、ステップと、
ガラス薄膜と一体に結合されたプラスチック薄膜に対して、レーザー切断を行って、所要寸法の縁部を得るステップ、とを含むことを特徴とする屈曲可能な表示基板薄膜の製造方法。
【０１０６】
（付記９）
付記１〜７のいずれか１つに記載の屈曲可能な表示基板薄膜を備えることを特徴とする表示装置。
【０１０７】
（付記１０）
前記表示装置は、液晶表示装置、有機発光ダイオード表示装置或いは電子ペーパー表示装置であることを特徴とする付記９に記載の表示装置。
【符号の説明】
【０１０８】
１、  ガラス薄膜
２、  プラスチック薄膜
１０、凸部
１１、縁部突起
２０、凹部
２１、カバー部
２２、縁部
２３、支持突起
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
2019516139.tif 000013
2019516139.tif 000014
2019516139.tif 000015
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