(57)【要約】【課題】ガスの脱酸の分野において、ＣＯ２を上回ってＨ２Ｓを選択的に除去するための良好な候補であり、低い作業コスト（再生エネルギーを含む）および投資コスト（吸収塔の費用を含む）での動作を可能にする化合物の提供。【解決手段】本発明は、水および以下の一般式（Ｉ）： 2019506290.tif 000021（式中、基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ、メチル基およびヒドロキシエチル基の中から無差別に選択され、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちの少なくとも１つの基はメチル基である）の少なくとも１種のジアミンを含む吸収溶液、並びにこの溶液を使用して、ガス状流出物に含まれる酸性化合物を除去する方法に関する。【選択図】図１
2019506290.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス状流出物に含まれる酸性化合物を除去するための吸収溶液であって、
水、
以下の一般式（Ｉ）を有する少なくとも１種の窒素化合物：
【化１】
2019506290.tif 000016
（式中、基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ、メチル基およびヒドロキシエチル基のうちから無差別に選択され、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちの少なくとも１つの基はメチル基である）、
を含む、吸収溶液。
【請求項２】
前記少なくとも１種の化合物が、以下の化合物：
次式（Ｉ１）のＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【化２】
2019506290.tif 000017
次式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【化３】
2019506290.tif 000018
次式（Ｉ３）のＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【化４】
2019506290.tif 000019
次式（Ｉ４）のＮ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【化５】
2019506290.tif 000020
から選択される、請求項１に記載の吸収溶液。
【請求項３】
前記化合物が、式（Ｉ１）のＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンまたは式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンである、請求項２に記載の吸収溶液。
【請求項４】
５重量％〜９５重量％の前記窒素化合物、好ましくは１０重量％〜９０重量％の前記窒素化合物、および５重量％〜９５重量％の水、好ましくは１０重量％〜９０重量％の水を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の吸収溶液。
【請求項５】
２０重量％〜５０重量％の前記窒素化合物、および５０重量％〜８０重量％の水を含む、請求項４に記載の吸収溶液。
【請求項６】
５重量％〜９５重量％の少なくとも１種の追加のアミンをさらに含み、前記追加のアミンが、２個の第２級炭素を窒素アルファ位に有するまたは少なくとも１個の第３級炭素を窒素アルファ位に有する第３級アミンまたは第２級アミンのいずれかである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の吸収溶液。
【請求項７】
前記追加のアミンが、
Ｎ−メチルジエタノールアミン、
トリエタノールアミン、
ジエチルモノエタノールアミン、
ジメチルモノエタノールアミン、および
エチルジエタノールアミン
からなる群から選択される第３級アミンである、請求項６に記載の吸収溶液。
【請求項８】
ゼロ以外の量の、３０重量％未満の少なくとも１種の第１級または第２級アミンをさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の吸収溶液。
【請求項９】
前記第１級または第２級アミンが、
モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、
Ｎ−ブチルエタノールアミン、
アミノエチルエタノールアミン、
ジグリコールアミン、
ピペラジン、
１−メチルピペラジン、
２−メチルピペラジン、
ホモピペラジン、
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、
Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラジン、
モルホリン、
３−（メチルアミノ）プロピルアミン、
１，６−ヘキサンジアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン、
Ｎ−メチル−１，６−ヘキサンジアミン、および
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチル−１，６−ヘキサンジアミン
からなる群から選択される、請求項８に記載の吸収溶液。
【請求項１０】
メタノール、エタノール、２−エトキシエタノール、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ペンタエチレングリコールジメチルエーテル、ヘキサエチレングリコールジメチルエーテル、ヘプタエチレングリコールジメチルエーテル、オクタエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールブトキシアセテート、三酢酸グリセロール、スルホラン、Ｎ−メチル−ピロリドン、Ｎ−メチルモルホリン−３−オン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−イミダゾリジン−２−オン、Ｎ−メチルイミダゾール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、チオジグリコール、炭酸プロピレン、およびリン酸トリブチルからなる群から選択される少なくとも１種の物理溶剤をさらに含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の吸収溶液。
【請求項１１】
ガス状流出物に含まれる酸性化合物を除去する方法であって、酸性化合物の吸収工程が、前記ガス状流出物を、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の吸収溶液と接触させることによって実施される、方法。
【請求項１２】
前記酸性化合物の吸収工程が、１バール〜２００バールの範囲の圧力および２０℃〜１００℃の範囲の温度で実施される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
酸性化合物を含んだ吸収溶液が、吸収工程の後に得られ、前記酸性化合物を含む吸収溶液を再生する少なくとも１つの工程が、１バール〜１０バールの範囲の圧力および１００℃〜１８０℃の範囲の温度で実施される、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記ガス状流出物が、天然ガス、合成ガス、燃焼ガス、精油所ガス、アミンプラント由来の酸性ガス、クラウステイルガス、バイオマス発酵ガス、セメントプラントガス、および焼却炉ガスの中から選択される、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
−Ｈ２Ｓおよび−ＣＯ２を含むガス状流出物、好ましくは天然ガスから−ＣＯ２を上回って−Ｈ２Ｓを選択的に除去するために実行される、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス状排出物の脱酸方法の分野に関する。本発明は、有利には、工業起源のガスおよび天然ガスの処理に適用される。
【背景技術】
【０００２】
アミン水溶液を使用して、ガス中に存在する酸性化合物、特に二酸化炭素（ＣＯ２）、硫化水素（Ｈ２Ｓ）、硫化カルボニル（ＣＯＳ）、二硫化炭素（ＣＳ２）、二酸化硫黄（ＳＯ２）並びにメチルメルカプタン（ＣＨ３ＳＨ）、エチルメルカプタン（ＣＨ３ＣＨ２ＳＨ）およびプロピルメルカプタン（ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ）等のメルカプタン（ＲＳＨ）を除去するガス脱酸方法が、一般に用いられる。ガスは、吸収溶液と接触させることによって脱酸され、次いで吸収溶液は熱によって再生される。
【０００３】
これらの酸性ガスの脱酸方法は、「化学的」と見なされる溶剤を使用した「溶剤スクラビング」としても一般に知られ、化学反応に基づかない吸収のため「物理的」と見なされる溶剤の使用とは対照的である。
【０００４】
化学溶剤は、処理するガス中に存在する酸性化合物（−Ｈ２Ｓ、−ＣＯ２、−ＣＯＳ、−ＣＳ２等）と選択的に反応して塩を形成するが、ガス中の他の非酸性化合物とは反応しない反応物質を含む水溶液である。溶剤と接触した後、処理するガスは、酸性化合物を消耗し、塩として選択的に溶剤中に移動する。化学反応は可逆性であり、例えば熱の作用下で、酸性化合物を多く含む溶剤を続けて脱酸させ、したがって、一方では、ガスの形態の酸性化合物を放出し、次いでこれを保存、転換または様々な用途に使用することができ、他方では、初期状態に戻る溶剤を再生し、したがって処理しようとする酸性ガスとの新しい反応工程に再度使用することができる。溶剤と酸性ガスとの反応工程は一般に吸収工程と呼ばれ、溶剤が脱酸される工程を溶剤再生工程と呼ぶ。
【０００５】
一般に、この関連での酸性化合物のガスからの分離性能は、主に、選択された可逆性反応の性質によって決まる。従来の酸性ガスの脱酸方法は一般に、「アミン法」と呼ばれ、すなわち溶液中のアミンを用いた酸性化合物の反応に基づく。これらの反応は、酸塩基反応の全体のフレームワークの一部である。例えば、−Ｈ２Ｓ、−ＣＯ２または−ＣＯＳは、特に水の存在下での酸性化合物であるのに対して、アミンは塩基性化合物である。反応機構および得られる塩の性質は一般に、使用するアミンの構造によって決まる。
【０００６】
例えば、特許文献１は、水−Ｎ−メチルジエタノールアミンまたは水−トリエタノールアミン吸収溶液を、高比率の、以下の群：ピペラジンおよび／またはメチルピペラジンおよび／またはモルホリン、に属する少なくとも１種の化合物と一緒に使用して、炭化水素から酸性化合物を除去する方法を記載している。
【０００７】
アミンスクラビングを用いた酸性ガスの脱酸方法の性能は、直接、溶剤中に存在するアミンの性質によって決まる。これらのアミンは、第１級、第２級または第３級であってよい。これらは、１分子当たり１つ以上の同じアミン官能基または異なるアミン官能基を有することができる。
【０００８】
脱酸方法の性能を改善するために、いっそう有効なアミンが継続的に求められている。
【０００９】
脱酸用途において一般に使用される吸収溶液の一欠点は、ＣＯ２を上回る十分なＨ２Ｓ吸収選択性ではないことである。実際、いくつかの天然ガスの脱酸の場合では、最大ＣＯ２吸収まで限定して選択的なＨ２Ｓ除去を得ようと努めている。この制約は、処理しようとするガスが所望の規格以下のＣＯ２含有量を既に有する場合に特に重要である。ひいては最大Ｈ２Ｓ吸収容量は、ＣＯ２を上回る最大Ｈ２Ｓ吸収選択性を用いて探し求められる。この選択性により、処理ガスの量を最大限にし、再生器の出口で可能な限り最高のＨ２Ｓの濃度を有する酸性ガスを回収することが可能になり、処理から下流の硫黄チェーンユニット（sulfur chain unit）のサイズを制限し、より良好な操作を保証する。場合によっては、Ｈ２Ｓの形の酸性ガスを濃縮するためのＨ２Ｓ富化ユニットが必要とされる。この場合、最も選択的なアミンも模索される。ＣＯ２とゆっくりした反応速度論(kinetics)を示すＮ−メチルジエタノールアミン等の第３級アミンまたはヒンダード第２級アミンが一般に使用されるが、高Ｈ２Ｓローディングでの選択性は制限されている。
【００１０】
立体障害が大きい第３級アミンまたは第２級アミンが、立体障害が小さい第１級または第２級アミンより遅い−ＣＯ２捕捉速度論を有することは、当業者に周知である。一方、立体障害が大きい第３級または第２級アミンは、即時のＨ２Ｓ捕捉速度論を有し、特有の速度論性能に基づいて選択的なＨ２Ｓ除去を実現させることができる。
【００１１】
様々な文献で、酸性ガスを脱酸する溶液中での、ヒンダード第３級または第２級アミン、特にヒンダード第３級または第２級ジアミンの使用が提案されている。
【００１２】
立体障害が大きい第３級または第２級アミンの用途のうち、
文献２は、少なくとも１つのアミン官能基が第３級であり、他のアミン官能基が立体障害の大きい第３級または第２級であり、後者の場合、窒素原子が少なくとも１個の第３級炭素原子または２個の第２級炭素原子のいずれかに結合しているジアミノエーテルを含有する吸収剤を用いた硫黄含有ガスの選択的吸収の方法を記載している。２つのアミン官能基および主鎖の炭素は、アルキル基またはヒドロキシアルキル基によって置換され得る。
【００１３】
特許文献３もまた、２つの第２級アミン官能基が上記と同様に大きな立体障害を示すジアミノエーテルを含有する吸収剤を用いて、Ｈ２ＳおよびＣＯ２を含有するガス中のＨ２Ｓを選択的に除去する方法について記載している。アミン官能基および主鎖の炭素の置換基は、アルキル基およびヒドロキシアルキル基によって置換され得る。
【００１４】
脱酸用途全体において通常使用される吸収溶液の別の欠点は、ＣＯ２またはＣＯＳ捕捉速度論が遅過ぎる点である。所望のＣＯ２またはＣＯＳ規格レベルが非常に高い場合、吸収塔の高さを低減するために可能な限り最速の反応速度論が探し求められる。実際、加圧下のこの装置は、プロセスの投資コストのかなりの部分を占める。
【００１５】
脱酸用途全体における最大ＣＯ２およびＣＯＳ捕捉速度論を求めるにしても、または選択的用途における最低ＣＯ２捕捉速度論を求めるにしても、可能な限り最大限の循環容量（cyclic capacity）を有する吸収溶液を使用することが常に望ましい。この循環容量は、Δαで表され、吸収塔の底部から排出された吸収溶液と前記塔に供給される吸収溶液との間のローディング差に対応する（αは、吸収した酸性化合物のモル数（吸収溶液１キログラム当たりのｎ酸性ガス）を示す）。実際、吸収溶液の循環容量が多いほど、処理しようとするガスを脱酸するのに必要な吸収溶液の流量が少なくなる。ガス処理法において、吸収溶液の流量の減少もまた、特に吸収塔のサイズ調整に関する投資削減に大きな影響がある。
【００１６】
溶剤を使用したガスまたは工場排ガスの処理操作の別の本質的な態様には、分離剤の再生が残っている。「ストリッピングガス」と呼ばれる蒸発ガスによる膨張および／または蒸留および／または同伴による再生が一般に、吸収タイプ（物理的および／または化学的）に応じて考慮される。溶剤の再生に必要とされるエネルギー消費は、特に酸性ガスの分圧が低い場合に非常に高くなり得、ＣＯ２捕捉プロセスのかなりの作業コストを占め得る。
【００１７】
アミン溶液の蒸留による再生に必要なエネルギーを、３つの異なる項目：再生器の上部と底部との間の吸収溶液を加熱するために必要なエネルギー、ストリッピングガスの蒸発による再生器中の酸性ガスの分圧を低減するために必要なエネルギー、および最後に、アミンとＣＯ２との間の化学結合を破壊するために必要なエネルギーに分けることができることは当業者に周知である。
【００１８】
これらの最初の２つの項目は、所与の規格を実現するためにプラント中で循環される吸収溶液の流れに比例する。したがって溶剤の再生に関連しているエネルギー消費を低減するために、溶剤の循環容量を再度最大限にすることが好ましい。実際、吸収溶液の循環容量が多いほど、処理しようとするガスを脱酸するために必要な吸収溶液の流量が少なくなる。
【００１９】
したがって、ガスの脱酸の分野において、ガス状排出物から酸性化合物を除去するための、特に、しかし非限定的に、ＣＯ２を上回ってＨ２Ｓを選択的に除去するための良好な候補であり、低い作業コスト（再生エネルギーを含む）および投資コスト（吸収塔の費用を含む）での操作を可能にする化合物が必要とされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２０】
【特許文献１】米国特許第６，８５２，１４４号明細書
【特許文献２】米国特許第４，４０５，５８２号明細書
【特許文献３】米国特許第４，４０５，５８３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
本発明者らは、立体障害が大きい第３級または第２級ジアミンは、産業プロセスにおける酸性ガス処理用の吸収溶液製剤中で使用するための性能の面で同等ではないことを発見した。
【００２２】
本発明の目的は、ガスの脱酸の分野における、水溶液中の以下に挙げる一般式（Ｉ）のジアミンの使用であり、ここでのジアミンは、１，６−ヘキサンジアミンのヒドロキシル誘導体である。
【００２３】
本発明者らは、これらの化合物の使用が、循環的な酸性ガスの吸収容量およびＨ２Ｓに対する吸収選択性の面で良好な性能を得ることを可能にし、特に同等またはより多くの循環的な酸性ガスの吸収容量のためにＮ−メチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）等の参照アミンより高いＨ２Ｓに対する吸収選択性を得ることを可能にすることを発見した。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
第１の態様によると、本発明は、ガス状流出物に含まれる酸性化合物を除去するための吸収溶液であって、
−  水、
−  以下の一般式（Ｉ）を有する少なくとも１種の窒素化合物：
【００２５】
【化１】
2019506290.tif 000003
【００２６】
（式中、基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ、メチル基およびヒドロキシエチル基のうちから無差別に選択され、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちの少なくとも１つの基はメチル基である）
を含む、吸収溶液に関する。
【００２７】
本発明によると、窒素化合物は、以下の化合物：
−  以下の式（Ｉ１）を有するＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【００２８】
【化２】
2019506290.tif 000004
【００２９】
−  式（Ｉ２）を有するＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【００３０】
【化３】
2019506290.tif 000005
【００３１】
−  式（Ｉ３）を有するＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【００３２】
【化４】
2019506290.tif 000006
【００３３】
−  式（Ｉ４）を有するＮ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【００３４】
【化５】
2019506290.tif 000007
【００３５】
から選択することができる。
【００３６】
好ましくは、窒素化合物は、式（Ｉ１）を有するＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンまたは式（Ｉ２）を有するＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンである。
【００３７】
本発明によると、吸収溶液は、５重量％〜９５重量％の窒素化合物、好ましくは１０重量％〜９０重量％の窒素化合物、および５重量％〜９５重量％の水、好ましくは１０重量％〜９０重量％の水を含むことができる。
【００３８】
溶液は、有利には、２０重量％〜５０重量％の窒素化合物、および５０重量％〜８０重量％の水を含む。
【００３９】
さらに、吸収溶液は、５重量％〜９５重量％の少なくとも１種の追加のアミンを含むことができ、前記追加のアミンは、２個の第２級炭素を窒素アルファ位に有するまたは少なくとも１個の第３級炭素を窒素アルファ位に有する第３級アミンまたは第２級アミンのいずれかである。
【００４０】
追加のアミンは、
−  Ｎ−メチルジエタノールアミン、
−  トリエタノールアミン、
−  ジエチルモノエタノールアミン、
−  ジメチルモノエタノールアミン、および
−  エチルジエタノールアミン
からなる群から選択される第３級アミンであってよい。
【００４１】
吸収溶液はまた、ゼロではない量の、３０重量％未満の少なくとも１種の第１級または第２級アミンも含むことができる。
【００４２】
第１級または第２級アミンは、
−  モノエタノールアミン、
−  ジエタノールアミン、
−  Ｎ−ブチルエタノールアミン、
−  アミノエチルエタノールアミン、
−  ジグリコールアミン、
−  ピペラジン、
−  １−メチルピペラジン、
−  ２−メチルピペラジン、
−  ホモピペラジン、
−  Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、
−  Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラジン、
−  モルホリン、
−  ３−（メチルアミノ）プロピルアミン、
−  １，６−ヘキサンジアミン、
−  Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン、
−  Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン、
−  Ｎ−メチル−１，６−ヘキサンジアミン、および
−  Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチル−１，６−ヘキサンジアミン
からなる群から選択することができる。
【００４３】
吸収溶液は、メタノール、エタノール、２−エトキシエタノール、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ペンタエチレングリコールジメチルエーテル、ヘキサエチレングリコールジメチルエーテル、ヘプタエチレングリコールジメチルエーテル、オクタエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールブトキシアセテート、三酢酸グリセロール、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−メチルモルホリン−３−オン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジン−２−オン、Ｎ−メチルイミダゾール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、チオジグリコール、炭酸プロピレンおよびリン酸トリブチルからなる群から選択される少なくとも１種の物理溶剤をさらに含むことができる。
【００４４】
第２の態様によると、本発明は、ガス状流出物中に含まれる酸性化合物を除去する方法であって、酸性化合物の吸収工程が、ガス状流出物を、本発明による吸収溶液と接触させることによって実施される、方法に関する。
【００４５】
好ましくは、酸性化合物の吸収工程は、１バール〜２００バールの範囲の圧力および２０℃〜１００℃の範囲の温度で実施される。
【００４６】
好ましくは、酸性化合物を多く含んだ吸収溶液は、吸収工程の後に得られ、酸性化合物を多く含んだ吸収溶液を再生する少なくとも１つの工程が、１バール〜１０バールの範囲の圧力および１００℃〜１８０℃の範囲の温度で実施される。
【００４７】
ガス状流出物は、天然ガス、合成ガス、燃焼ガス、精油所ガス、アミンプラント由来の酸性ガス、クラウステイルガス、バイオマス発酵ガス、セメントプラントガス、および焼却炉ガスの中から選択され得る。
【００４８】
本発明による方法は、Ｈ２ＳおよびＣＯ２を含むガス状流出物からＣＯ２を上回ってＨ２Ｓを選択的に除去するために実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
本発明のその他の特徴および利点については、添付の図面を参照しながら、非限定的な例を通して列挙する実施形態の以下の説明を読めば明らかになるであろう。
【図１】酸性ガスの処理方法の実施の構成図である。
【図２】図２Ａおよび図２Ｂは２つの変形形態による１，６−ヘキサンジアミンから一般式（Ｉ）の化合物を合成する方法を示す。
【図３】１，６−ヘキサンジオールから２工程でＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］を合成する経路を示す。
【図４】アジポアルデヒドから３工程でＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］を合成する経路を示す。
【図５】アジポアルデヒドからＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］を合成する経路を示す。
【図６】アジピン酸ジメチルまたはアジピン酸から２工程でＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］を合成する経路を示す。
【図７】アジピン酸ジメチルまたはアジピン酸から３工程でＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］を合成する経路を示す。
【図８】１，６−ジハロヘキサンから一般式（Ｉ）の化合物を合成する経路を示す。
【００５０】
図２〜図８では、略語「ｃａｔ」は触媒を意味し、矢印は反応工程を表す。これらは、合成を行うために必要な成分の全てを含んだものではない反応スキームである。本発明を理解するために必要な要素のみを示す。
【発明を実施するための形態】
【００５１】
（詳細な説明）
本発明は、以下に詳述する組成の水溶液を使用してガス状流出物から酸性化合物を除去することを目的とする。
吸収溶液の組成
ガス状流出物中に含まれる酸性化合物を除去するために使用される吸収溶液は、
−  水、
−  以下の一般式（Ｉ）を有する少なくとも１種の窒素化合物：
【００５２】
【化６】
2019506290.tif 000008
【００５３】
（式中、基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ、メチル基およびヒドロキシエチル基のうちから無差別に選択され、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちの少なくとも１つの基はメチル基である）
を含む。
【００５４】
好ましくは、基Ｒ１およびＲ３はメチル基であり、基Ｒ２はメチル基またはヒドロキシエチル基である。
【００５５】
より好ましくは、基Ｒ１およびＲ３はメチル基であり、基Ｒ２はヒドロキシエチル基である。
【００５６】
本発明による吸収溶液は、有利には、以下の化合物のうちの少なくとも１つを含むことができる：
−  以下の式（Ｉ１）を有するＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【００５７】
【化７】
2019506290.tif 000009
【００５８】
−  以下の式（Ｉ２）を有するＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【００５９】
【化８】
2019506290.tif 000010
【００６０】
−  以下の式（Ｉ３）を有するＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【００６１】
【化９】
2019506290.tif 000011
【００６２】
−  以下の式（Ｉ４）を有するＮ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン：
【００６３】
【化１０】
2019506290.tif 000012
【００６４】
一般式（Ｉ）の窒素化合物は、吸収溶液中で、例えば５重量％〜９５重量％、好ましくは１０重量％〜９０重量％、より好ましくは２０重量％〜５０重量％（両端を含む）の範囲で変動する濃度でよい。
【００６５】
吸収溶液は、５重量％〜９５重量％、好ましくは１０重量％〜９０重量％、より好ましくは５０重量％〜８０重量％（両端を含む）の水を含有することができる。
【００６６】
様々な吸収溶液化合物の重量％で表す質量分率の合計は、１００重量％の吸収溶液である。
【００６７】
一実施形態によると、吸収溶液は、窒素アルファ位の２個の第２級炭素若しくは窒素アルファ位の少なくとも１個の第３級炭素のいずれかによって規定される立体障害(hindrance)において、その立体障害が大きい、Ｎ−メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルモノエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン若しくはエチルジエタノールアミン等の第３級アミン、または第２級アミンである少なくとも１種の追加のアミンをさらに含有することができる。前記追加のアミンは、少なくとも１つの立体障害が大きい第３級または第２級アミン官能基を有する任意の化合物であると理解される。吸収溶液中の前記立体障害の大きい追加の第３級または第２級アミンの濃度は、５重量％〜９５重量％、好ましくは５重量％〜５０重量％、より好ましくは５重量％〜３０重量％の範囲でよい。
【００６８】
実施形態によると、一般式（Ｉ）のアミンを、少なくとも１つの第１級または第２級アミン官能基を含有する１種以上の化合物と一緒に製剤化することができる。例えば、吸収溶液は、最大３０重量％、好ましくは１５重量％未満、好ましくは１０重量％未満の濃度の、少なくとも１つの第１級または第２級アミン官能基を含む前記化合物を含む。好ましくは、吸収溶液は、少なくとも０．５重量％の、少なくとも１つの第１級または第２級アミン官能基を含む前記化合物を含む。前記化合物は、処理しようとするガス中に含まれるＣＯ２の、また、ある場合にはＣＯＳの吸収速度論を加速させる。
【００６９】
製剤に入れることができる少なくとも１つの第１級または第２級アミン官能基を含む化合物の限定的なリストを以下に挙げる：
−  モノエタノールアミン、
−  ジエタノールアミン、
−  Ｎ−ブチルエタノールアミン、
−  アミノエチルエタノールアミン、
−  ジグリコールアミン、
−  ピペラジン、
−  １−メチルピペラジン、
−  ２−メチルピペラジン、
−  ホモピペラジン、
−  Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、
−  Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラジン、
−  モルホリン、
−  ３−（メチルアミノ）プロピルアミン、
−  １，６−ヘキサンジアミンおよびこれらの種々のＮ−アルキル化誘導体の全て、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン、Ｎ−メチル−１，６−ヘキサンジアミンまたはＮ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチル−１，６−ヘキサンジアミン等。
【００７０】
本発明によると、一般式（Ｉ）の窒素化合物を含む吸収溶液は、上記の追加のアミンの混合物を含有することができる。
【００７１】
実施形態によると、吸収溶液は、ガス状流出物の少なくとも１種以上の酸性化合物の溶解性を向上させる、酸性化合物に対して非反応性の有機化合物（通常、「物理溶剤」と呼ばれる）を含有することができる。例えば、吸収溶液は、アルコール、エーテル、エーテルアルコール、グリコールおよびポリエチレングリコールエーテル、グリコールチオエーテル、グリコールおよびポリエチレングリコールエステルおよびアルコキシエステル、グリセロールエステル、ラクトン、ラクタム、Ｎ−アルキル化ピロリドン、モルホリン誘導体、モルホリン−３−オン、イミダゾールおよびイミダゾリジノン、Ｎ−アルキル化ピペリドン、シクロテトラメチレンスルホン、Ｎ−アルキルホルムアミド、Ｎ−アルキルアセトアミド、エーテルケトン、炭酸アルキルまたはリン酸アルキル並びにこれらの誘導体等の５重量％〜５０重量％の物理溶剤を含むことができる。非限定的な例として、メタノール、エタノール、２−エトキシエタノール、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ペンタエチレングリコールジメチルエーテル、ヘキサエチレングリコールジメチルエーテル、ヘプタエチレングリコールジメチルエーテル、オクタエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールブトキシアセテート、三酢酸グリセロール、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−メチルモルホリン−３−オン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジン−２−オン、Ｎ−メチルイミダゾール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、チオジグリコール、炭酸プロピレン、リン酸トリブチルがあり得る。
一般式を有する窒素化合物の合成
本発明の一般式を有する化合物は、有機化学に認められた任意の方法に従って、特に以下の方法の手段によって合成することができる。
方法１：１，６−ヘキサンジアミンからの合成
第１の方法は、１，６−ヘキサンジアミンから連続する２段階の反応工程からなる。
【００７２】
図２Ａは、式（ＩＩＩ）の１，６−ヘキサンジアミンからの少なくとも１種の一般式（Ｉ）の化合物の合成を示す。
【００７３】
第１の工程は、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン（式ＩＩ１）、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン（式ＩＩ２）、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン（式ＩＩ３）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン（式ＩＩ４）、またはこれらの分子の混合物等の部分的にエトキシ化された１，６−ヘキサンジアミンのいずれかを得るのに好適な量および条件で１，６−ヘキサンジアミンをエチレンオキシド（式ＩＶ）と反応させるものである。これらの式（ＩＩ１）〜（ＩＩ４）の部分的にエトキシ化された１，６−ヘキサンジアミンは、この合成様式における中間体生成物である。
【００７４】
反応条件は、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンを得ず、残留１，６−ヘキサンジアミンの量を最小限にするのに適したものである。したがって、エチレンオキシドの１，６−ヘキサンジアミンに対するモル比は３／１以下、好ましくは２．５／１以下で操作することが有利である。エチレンオキシドと１，６−ヘキサンジアミンとの間のモル比の選択は、得られる生成物の組成をコントロールする。
【００７５】
残留１，６−ヘキサンジアミンが存在する場合、これを例えば蒸留によって媒体から除去することができ、場合によってはリサイクルされる。
【００７６】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンが生じた場合、これを例えば蒸留によって媒体から除去することができる。
【００７７】
中間体化合物の混合物を得た場合、そのまま第２の工程を実施することができる、または例えば蒸留によって分離して、一般式（Ｉ）の化合物のうちの１つ
またはこれらの化合物（式Ｉ１〜Ｉ４）の組み合わせを第２の工程の最後に得ることができる。
【００７８】
第２の工程は、第１の工程で得られた（式ＩＩ１〜ＩＩ４の）中間体生成物の第１級または第２級アミン官能基をメチル化して、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン（式Ｉ１）および／またはＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン（式Ｉ２）および／またはＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン（式Ｉ３）および／またはＮ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン（式Ｉ４）を得るものである。
【００７９】
アミン官能基のメチル化は、当業者に既知の任意の手段を用いて、特に好適な触媒の存在下でホルムアルデヒドと水素との反応（図２Ａに示す）または例えばエシュヴァイラー‐クラーク反応として知られる反応に従ってホルムアルデヒドとギ酸との反応を通して達成することができる。
【００８０】
１，６−ヘキサンジアミンからの代替の合成経路によると、エトキシ化およびメチル化の工程は、上記のおよび図２Ａに示す経路に対して逆行させることができる。この場合、水素化触媒の存在下でホルムアルデヒドおよび水素と反応させることによる第１の工程の１，６−ヘキサンジアミンの部分的メチル化により、Ｎ−メチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＩＩ’４）］および／またはＮ，Ｎ−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＩＩ’３）］および／またはＮ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＩＩ’２）］および／またはＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＩＩ’１）］が生成される。次いで、第２の工程において、エチレンオキシド［式（ＩＶ）］との反応によって第１級および第２級アミン官能基がエトキシ化される。この第１の合成方法のこの変形形態を図２Ｂに示す。
方法２：１，６−ヘキサンジオールからの合成
一般式（Ｉ）の化合物を、１，６−ヘキサンジオール［式（Ｖ）］から合成することができる。
【００８１】
図３は、一般式（Ｉ）の化合物の一例である式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンの、式（Ｖ）の１，６−ヘキサンジオールからの合成を示す。
【００８２】
合成は、一連の２段階反応工程：一般に水素および好適な触媒の存在下で過剰に使用されるメチルアミン（ＭｅＮＨ２）を用いた１，６−ヘキサンジオールの縮合によってＮ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＶＩ）］を生成し、これを後続してエチレンオキシド［式（ＩＶ）］とのエトキシ化反応を通してＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］に転換することからなる。
方法３：アジポアルデヒドからの合成
一般式（Ｉ）の化合物は、アジポアルデヒドから合成することができる。
３段階反応工程における合成
一般式（Ｉ）の化合物は、アジポアルデヒド［式（ＶＩＩ）］からの３段階の反応工程において合成することができる。
【００８３】
図４は、３段階反応工程における合成方法による、一般式（Ｉ）の化合物の一例である式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンの、式（ＶＩＩ）のアジポアルデヒドからの合成を示す。
【００８４】
合成は、一連の３段階反応工程からなる。
【００８５】
第１の工程は、アジポアルデヒド［式（ＶＩＩ）］とメチルアミンとの縮合反応によって、１，６−ビス（メチルイミノ）−ヘキサン［式（ＶＩＩＩ）］を生成するものである。
【００８６】
第２の反応工程は、１，６−ビス（メチルイミノ）−ヘキサン［式（ＶＩＩＩ）］をＮ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＶＩ）］に還元するものである。
【００８７】
第３の反応工程は、エチレンオキシド［式（ＩＶ）］を用いてＮ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＶＩ）］をエトキシ化し、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］を形成するものである。
１段階反応工程における合成
一般式（Ｉ）の化合物は、アジポアルデヒドから一段階工程で合成することができる。
【００８８】
図５は、１段階工程における合成方法による、一般式（Ｉ）の化合物の一例である式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンの、アジポアルデヒド［式（ＶＩＩ）］からの合成を示す。
【００８９】
合成は、水素および好適な水素化触媒の存在下でのアジポアルデヒド［式（ＶＩＩ）］とＮ−メチル−２−アミノエタノール［式（ＩＸ）］との縮合によって、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］を生成するものである。
【００９０】
この転換は、還元的アミノ化とも呼ばれ、第２級アミンとアルデヒドを縮合してアミンを得ることと、次いでそれを第３級アミンに水素化することからなる一連の２段階反応によってもたらされる。
方法４：アジピン酸またはアジピン酸ジエステルからの合成
一般式（Ｉ）の化合物は、アジピン酸から、またはアジピン酸ジエステルから合成することができる。
２段階反応工程における合成
一般式（Ｉ）の化合物は、アジピン酸［式（ＸＩ）］からまたはアジピン酸ジメチル［式（Ｘ）］等のアジピン酸ジエステルからの２段階反応工程において合成することができる。
【００９１】
図６は、２段階反応工程における合成方法による、一般式（Ｉ）の化合物の一例である式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンの、アジピン酸［式（ＸＩ）］からまたはアジピン酸ジメチル［式（Ｘ）］等のアジピン酸ジエステルからの合成を示す。
【００９２】
第１の工程は、Ｎ−メチル−２−アミノエタノール［式（ＩＸ）］と、アジピン酸［式（ＸＩ）］または非限定的な例としてアジピン酸ジメチル［式（Ｘ）］若しくはアジピン酸ジエチル等のアジピン酸ジエステルのいずれかとの縮合反応からなる。得られた縮合生成物は、ジアミド、すなわちＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）アジパミド［式（ＸＩＩ）］である。
【００９３】
第２の工程は、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）アジパミド［式（ＸＩＩ）］のアミド官能基の、第３級アミン官能基への還元によって、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］を生成するものである。
【００９４】
この還元は、接触水素化による還元または水素化リチウムおよびアルミニウム等の水素化物の作用等の任意の既知の手段によって実施することができる。
３段階反応工程における合成
一般式（Ｉ）の化合物は、アジピン酸［式（ＸＩ）］から、またはアジピン酸ジメチル［式（Ｘ）］等のアジピン酸ジエステルからの３段階反応工程において合成することができる。
【００９５】
図７は、３段階反応工程における合成方法による、一般式（Ｉ）の化合物の一例である式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンの、アジピン酸［式（ＸＩ）］からまたはアジピン酸ジメチル［式（Ｘ）］等のアジピン酸ジエステルからの合成を示す。
【００９６】
第１の工程は、メチルアミン（ＭｅＮＨ２）とアジピン酸［式（ＸＩ）］または非限定的な例としてアジピン酸ジメチル［式（Ｘ）］若しくはアジピン酸ジエチル等のアジピン酸ジエステルのいずれかとの縮合からなる。得られる縮合生成物は、ジアミド：式（ＸＩＩＩ）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−アジパミドである。
【００９７】
第２の工程は、式（ＸＩＩＩ）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−アジパミドのアミド官能基の、第３級アミン官能基への還元によって、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＶＩ）］が生成されるものである。この還元は、接触水素化による還元または水素化リチウムおよびアルミニウム等の水素化物の作用等の任意の既知の手段によって実施することができる。
【００９８】
第３の工程は、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン［式（ＶＩ）］の第２級アミン官能基とエチレンオキシド［式（ＩＶ）］とのエトキシ化によって、式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンが生成されるものである。
【００９９】
上記の方法１〜４は、水素化ハロゲン化酸を生成しないハロゲン原子を含まない前駆体ファミリーから一般式（Ｉ）の化合物を合成することを可能にする。これらの合成方法において要する反応は、分離および除去される塩を生じない。水および／または少量のアルコール等の副生成物のみが生じる。ハロゲン化生成物に関与し塩を生じる方法とは異なり、これらの合成方法は、多量の塩の管理および除去の必要性が排除され、したがって工業規模の製造に適した無公害かつ持続性のある化学物質に関する現状を満たす。
方法５：１，６−ジハロヘキサンからの合成
一般式（Ｉ）の化合物は、１，６−ジハロヘキサン［式（ＸＶ）］から合成することができる。図８は、このような方法を示す。
【０１００】
式（ＸＶ）中、Ｘは、塩素、臭素またはヨウ素原子を表す。したがって１，６−ジハロヘキサンは、１，６−ジクロロヘキサン、１，６−ジブロモヘキサンまたは１，６−ジヨードヘキサンであってもよい。
【０１０１】
図８に示すように、式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンは、Ｎ−メチル−２−アミノエタノール［式（ＩＸ）］と式（ＸＶ）の１，６−ジハロヘキサンとの縮合反応によって得ることができる。この反応は、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−１−ハロ−６−ヘキシルアミン［式（ＸＶＩ）］も生成することができる。
【０１０２】
この方法は、適当な方法で、Ｎ−メチル−２−アミノエタノール［式（ＩＸ）］、ジメチルアミン（Ｍｅ２ＮＨ）およびジエタノールアミン（ＨＯＣＨ２ＣＨ２）２ＮＨを連続的にまたは同時に使用して反応を実施することによって、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ１）］またはＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ３）］またはＮ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ４）］の合成にも適用することができる。別の経路は、適当な方法で、Ｎ−メチル−２−アミノエタノール［式（ＩＸ）］を単独で使用する代わりに、ジメチルアミン（Ｍｅ２ＮＨ）およびジエタノールアミン（ＨＯＣＨ２ＣＨ２）２ＮＨを連続的にまたは同時に使用して縮合反応を実施するものである。式（ＸＶＩ）の化合物およびＮ，Ｎ−ジメチル−１−ハロ−６−ヘキシルアミン［式（ＸＶＩＩ）］は、これらの反応中に形成することができ、したがってＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ１）］、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ３）］またはＮ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ４）］の生成につながる。
ガス状流出物の性質
本発明によると、以下のガス状流出物：天然ガス、合成ガス、燃焼ガス、精油所ガス、アミンプラント由来の酸性ガス、クラウステイルガス、バイオマス発酵ガス、セメントプラントガス、および焼却炉ガスを脱酸するために吸収溶液を使用することができる。これらのガス状流出物は、以下の酸性化合物：ＣＯ２、Ｈ２Ｓ、メルカプタン（例えば、メチルメルカプタン（ＣＨ３ＳＨ）、エチルメルカプタン（ＣＨ３ＣＨ２ＳＨ）、プロピルメルカプタン（ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ））、ＣＯＳ、ＣＳ２、ＳＯ２のうちの１種以上を含有する。
【０１０３】
燃焼ガスは、例えば電気を生産するために、特に炭化水素、バイオガス、ボイラー中のまたは燃焼ガスタービン用の石炭によって発生させる。例として、本発明による脱酸方法を実施して、燃焼ガスに含まれる少なくとも７０％、好ましくは少なくとも８０％、またはさらには少なくとも９０％のＣＯ２を吸収することができる。これらのガスは一般に、２０℃〜６０℃の範囲の温度、１〜５バールの範囲の圧力を有し、５０％〜８０％の窒素、５％〜４０％の二酸化炭素、１％〜２０％の酸素、およびＳＯＸおよびＮＯＸ等のいくつかの不純物（脱酸プロセスの上流で除去されなかった場合）を含み得る。特に、本発明による脱酸方法は、低いＣＯ２分圧、例えば２００ｍｂａｒ未満のＣＯ２分圧を有する燃焼ガスに含まれるＣＯ２の吸収に特によく適している。
【０１０４】
本発明による脱酸方法を実施して、合成ガスを脱酸することができる。合成ガスは、一酸化炭素ＣＯ、水素Ｈ２（一般にＨ２／ＣＯ比は２である）、水蒸気（一般に、洗浄が行われる温度で飽和状態）および二酸化炭素ＣＯ２（約１０％）を含有する。圧力は一般に、２０〜３０バールの範囲であるが、最大７０バールに達することもある。また、硫黄含有（Ｈ２Ｓ、ＣＯＳ等）、窒素含有（ＮＨ３、ＨＣＮ）およびハロゲン化不純物も含有し得る。
【０１０５】
本発明による脱酸方法を実施して、天然ガスを脱酸することができる。天然ガスは、主に、ガス状炭化水素からなるが、以下の酸性化合物：ＣＯ２、Ｈ２Ｓ、メルカプタン、ＣＯＳ、ＣＳ２のいくつかを含有し得る。これらの酸性化合物の割合は非常に変わりやすく、ＣＯ２は最大７０容量％、Ｈ２Ｓは最大４０容量％に達し得る。天然ガスの温度は、２０℃〜１００℃の範囲であり得る。処理しようとする天然ガスの圧力は、１０〜２００バールの範囲であってよい。本発明を実施して、脱酸ガスに一般に課される規格、すなわち２％未満のＣＯ２またはさらには５０ｐｐｍ未満のＣＯ２に到達させることで、後続して合計硫黄の容量で４ｐｐｍ未満のＨ２Ｓおよび５０ｐｐｍ未満またはさらには１０ｐｐｍ未満を含む天然ガスを液化することができる。
ガス状流出物から酸性化合物を除去する方法
ガス状流出物を脱酸するための、少なくとも１種の一般式（Ｉ）の窒素化合物を含む水溶液の使用は、例えば図１に示すように、吸収工程を実施し、後続して再生工程を実施することによって概略的に行われる。
【０１０６】
図１を参照して、本発明によるガス状流出物を脱酸するプラントは、ガスと液体を接触させる手段、例えばランダムパッキング、構造パッキングまたはトレイを備えた吸収塔Ｃ１を含む。処理しようとするガス状流出物を塔Ｃ１の底部へ通じるライン１に通して供給する。ライン４は、吸収溶液を塔Ｃ１の上部への供給を可能にする。ライン２は、処理（脱酸）ガスを排出させ、ライン３は、吸収後の酸性化合物を多く含む吸収溶液を再生塔Ｃ２に送ることを可能にする。この再生塔Ｃ２は、ガス／液体接触内部構造体（gas-liquid contacting internals）、例えばトレイ、ランダムまたは構造パッキングを備える。塔Ｃ２の底部には、吸収溶液分画を蒸発させることによって再生するために必要な熱を加えるリボイラーＲ１が装備されている。酸性化合物富化溶液は、ライン５を通して再生塔Ｃ２の上部に供給される。ライン７は、塔Ｃ２の上部から、再生時に放出される酸性化合物に富むガスを排出させ、塔Ｃ２の底部に配置されるライン６は、再生された吸収溶液を吸収塔Ｃ１に送ることを可能にする。熱交換器Ｅ１は、塔Ｃ２からの再生された吸収溶液の熱を回収し、それによって、吸収塔Ｃ１を出る酸性化合物富化吸収溶液を加熱する。
【０１０７】
吸収工程は、ライン１を通して送達されたガス状流出物を、ライン４を通して送達された吸収溶液と接触させるものである。接触させると、吸収溶液の分子のアミン官能基は、流出物に含まれる酸性化合物と反応し、酸性化合物を激減させたガス状流出物が得られ、これが塔Ｃ１の上部からライン２を通して排出され、塔Ｃ１の底部からライン３を通して排出される酸性化合物富化吸収溶液が再生される。
【０１０８】
酸性化合物吸収工程を実施することができる塔Ｃ１中の圧力は、１〜２００バールの範囲、好ましくは天然ガスの処理の場合は２０〜１００バール、好ましくは工場排ガスの処理の場合は１〜３バールであり、塔Ｃ１中の温度は、２０〜１００℃、好ましくは３０℃〜９０℃、またはさらには３０℃〜６０℃の範囲である。
【０１０９】
再生工程は、特に、酸性化合物富化吸収溶液を加熱し、任意選択により膨張させて、酸性化合物をガス形態で放出させるものである。塔Ｃ１から出る酸性化合物富化吸収溶液は、熱交換器Ｅ１に供給され、そこで再生塔Ｃ２から来てライン６中を循環する流れによって加熱される。加熱された溶液は、Ｅ１の出口からライン５を通って再生塔Ｃ２に供給される。
【０１１０】
再生塔Ｃ２において、ライン５を通って流れる吸収溶液とリボイラーによって作られた蒸気との接触の効果の下、酸性化合物がガス形態で放出され、塔Ｃ２の上部からライン７を通して排出される。再生された吸収溶液（すなわち酸性化合物を激減させた吸収溶液）は、ライン６を通して排出され、Ｅ１で冷却され、次いでライン４を通って吸収塔Ｃ１へ再循環される。
【０１１１】
再生工程は、任意選択により１つ以上の膨張工程によって補完された、熱再生によって実施することができる。例えば、ライン３を通って排出された酸性化合物富化吸収溶液を、熱交換器Ｅ１に送る前に、第１のフラッシュドラム（図示せず）に送ってもよい。天然ガスの場合、膨張によって、吸収溶液によって共に吸収された脂肪族炭化水素の大部分を含む、ドラムの上部から排出されたガスを得ることが可能になる。このガスを、任意選択により、再生された吸収溶液分画によって洗浄することができ、こうして得られたガスは燃料ガスとして使用することができる。フラッシュドラムは、好ましくは、吸収塔Ｃ１より低い圧力かつ再生塔Ｃ２より高い圧力で操作する。この圧力は一般に、燃料ガスの使用条件によって決定され、典型的には約５〜１５バールである。フラッシュドラムは、吸収塔Ｃ１の底部で得られる吸収溶液の温度と実質的に同等の温度で操作する。
【０１１２】
再生を実施することができる塔Ｃ２中の圧力は、１〜５バールの範囲、またはさらには最大１０バールであり、塔Ｃ２中の温度は、１００℃〜１８０℃、好ましくは１１０℃〜１７０℃、より好ましくは１２０℃〜１４０℃の範囲である。好ましくは、酸性ガスが再注入されることを意図した場合において、塔Ｃ２中の再生温度は、１５５℃〜１８０℃の範囲である。好ましくは、酸性ガスが大気にまたはクラウスプロセス若しくは排ガス処理プロセス等の下流処理プロセスに送られる場合において、塔Ｃ２中の再生温度は１１５℃〜１３０℃の範囲である。
【実施例】
【０１１３】
以下の実施例は、非限定的な例として、一般式（Ｉ）の窒素化合物の合成、およびガス状流出物と溶液とを接触させることによってガス状流出物に含まれるＣＯ２またはＨ２Ｓ等の酸性化合物を除去するための水溶液中に使用したときのこれらの化合物のいくつかの性能を説明する。
実施例１：Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンの合成
式（Ｉ２）のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンの合成を実験規模で実施する。
【０１１４】
１６０．５ｇ（１．０３５ｍｏｌ）の１，６−ジクロロヘキサンを２６２．５ｇ（３．５０ｍｏｌ）のＮ−メチルアミノエタノールと１００℃で３時間反応させる。周囲温度に戻した後、媒体を、水２４０．０ｇ中のソーダ８３．６ｇの溶液で中和し、次いで形成された塩の濾過を行う。水および過剰のＮ−メチルアミノエタノールを蒸発させた後、以下にまとめた１３Ｃ  ＮＭＲスペクトルがＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンのそれと一致する生成物１５８．１ｇを、減圧下で蒸留することによって単離する。
・２６．２ｐｐｍ：  ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ
・２６．５ｐｐｍ：  ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ
・４１．３ｐｐｍ：  ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ
・５７．２ｐｐｍ：  ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ
・５８．０ｐｐｍ：  ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ
・５８．５ｐｐｍ：  ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ
実施例２：Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンとＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンとの混合物の合成
１５５．０ｇ（１．０ｍｏｌ）の１，６−ジクロロヘキサンを、オートクレーブ中で、３００．０ｇ（４．０ｍｏｌ）のＮ−メチルアミノエタノールおよび９６．７５ｇの４０％ジメチルアミン水溶液と１００℃で４時間反応させる。周囲温度に戻した後、媒体を、水８０．０ｇ中のソーダ８０．０ｇの溶液で中和し、次いで形成された塩の濾過を行う。水並びに過剰のジメチルアミンおよびＮ−メチルアミノエタノールを蒸発させた後、７３％のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ２）］および２７％のＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン［式（Ｉ１）］を含有する生成物１８１．５ｇを、減圧下で蒸留することによって単離する。
実施例３：選択的吸収方法用のアミン製剤のＣＯ２吸収速度
種々の吸収溶液を用いて、比較ＣＯ２吸収試験を実施する：
−  本発明による、２０重量％のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン、３０重量％のＮ−メチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）および５０重量％の水の混合物を含む吸収溶液、
−  ガス処理において選択的に除去するための参照吸収溶液である、４７重量％のＭＤＥＡを含むＭＤＥＡ水溶液、
−  米国特許第４，４０５，５８２号の一般式による、第２級アミン官能基を有するジアミノエーテルであるが、アルコール官能基を含まず、一般式（Ｉ）の範囲内には入らない、５０重量％の１，２−ビス−（ピロリジニルエトキシ）−エタンを含む１，２−ビス−（ピロリジニルエトキシ）−エタンの水溶液、
−  米国特許第４，４０５，５８３号の一般式による、窒素原子の立体障害が大きい２つの第２級官能基を有するジアミノエーテルであるが、アルコール官能基を含まず、一般式（Ｉ）の範囲内には入らない、４０重量％の１，２−ビス−（テルチオブチルアミノエトキシ）−エタンを含む１，２−ビス−（テルチオブチルアミノエトキシ）−エタンの水溶液、
−  特許ＦＲ２，９３４，１７２で開示される第３級ジアミンであるが、アルコール官能基を持たず、一般式（Ｉ）の範囲内には入らない、５０重量％のＴＭＨＤＡを含むＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，６−ヘキサンジアミン（ＴＭＨＤＡ）の水溶液。
【０１１５】
それぞれの試験で、水性吸収溶液に吸収されたＣＯ２流を、ルイスセル型の密閉反応器中で測定する。２００ｇの溶液を、５０℃に制御された温度で密閉反応器中に供給する。２００ｃｍ３体積の反応器の蒸気相中、１００〜２００ｍｂａｒで連続的に４回ＣＯ２注入を行う。気相および液相を１００ｒｐｍで攪拌し、水力学的観点から全体を特徴付ける。注入ごとに、気相中の圧力変動を通してＣＯ２吸収速度を測定する。こうして４回の注入で得られた結果の手段を用いてグローバル・トランスファー係数ｋｇを決定する。
【０１１６】
４７重量％のＭＤＥＡを含む参照水性吸収溶液との比較による相対吸収速度において得られた結果を、以下の表１に示すが、この相対吸収速度は、試験した吸収溶液のグローバル・トランスファー係数と、参照吸収溶液（ＭＤＥＡ含有）のグローバル・トランスファー係数との比によって規定される。
【０１１７】
【表１】
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【０１１８】
結果は、これらの試験条件下で、ＭＤＥＡを含む参照製剤と比べて、また従来技術のいくつかの分子を含む吸収溶液と比べて、本発明による吸収溶液によるＣＯ２の吸収速度が遅いことを示す。したがって、本発明による例示的な化合物は、驚くべきことに、ＣＯ２吸収速度論が限定された、ガス状流出物の選択的脱酸の場合において、特別であり、さらに興味深いものであるように見える。
実施例４：酸性ガス処理方法用のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン製剤のＨ２Ｓ吸収容量
２０重量％のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンおよび３０重量％のＭＤＥＡを含有する本発明によるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン水溶液の４０℃でのＨ２Ｓ吸収容量性能を、Ｈ２Ｓ含有ガスを脱酸する参照吸収溶液である、５０重量％のＭＤＥＡを含有するＭＤＥＡ水溶液のそれと比較する。
【０１１９】
サーモスタット制御平衡セル中のアミン水溶液に対して４０℃で吸収試験を行う。この試験は、前もって脱気アミン水溶液で充填しておいた平衡セル中に既知量の酸性ガス、ここでは例えばＨ２Ｓを注入し、次いで平衡状態に達するまで待つものである。次いでアミン水溶液中に吸収された酸性ガスの量を、物質および体積バランスの手段による温度および圧力測定から推定する。溶解度は、通常、Ｈ２Ｓローディングの関数としてのＨ２Ｓ分圧（バール単位）の形態で表す（Ｈ２Ｓのモル数／吸収溶液１ｋｇおよびＨ２Ｓのモル数／アミン１モル）。
【０１２０】
天然ガスの処理における脱酸の場合では、酸性ガス中で遭遇するＨ２Ｓ分圧は、典型的には、４０℃の温度で０．１〜１バールの範囲である。例としては、この工業範囲において、以下の表２は、５０重量％のＭＤＥＡ吸収溶液と、２０重量％のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンおよび３０重量％のＭＤＥＡを含有する本発明によるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンの吸収溶液との間で種々のＨ２Ｓ分圧について４０℃で得られたＨ２Ｓローディングを比較する。
【０１２１】
【表２】
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【０１２２】
４０℃で、いかなるＨ２Ｓ分圧でも、本発明によるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン水溶液の吸収容量は、ＭＤＥＡ溶液より多い。
【０１２３】
０．１０バールのＨ２Ｓ分圧で、２つの吸収溶液のＨ２Ｓローディング間の差は０．５１ｍｏｌ／ｋｇであり、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン吸収溶液の吸収容量は、参照ＭＤＥＡ吸収溶液に対して５８％増加している。
【０１２４】
１バールのＨ２Ｓ分圧で、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン吸収溶液でさらに増加するＨ２Ｓローディングは、参照ＭＤＥＡ吸収溶液に対して１３％である。
【０１２５】
したがって、４０℃で、通常の工業条件を表す分圧範囲に対応する０．１〜１バールのＨ２Ｓ分圧範囲において、本発明によるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン水溶液が、参照の５０重量％ＭＤＥＡ水溶液より高いＨ２Ｓ吸収容量を有することを観察することができる。
【０１２６】
したがって、本発明によるこの例示的な分子が、Ｈ２Ｓ含有ガスを脱酸する用途において必要とされる吸収溶液の流量を、参照ＭＤＥＡ吸収溶液と比べて減少させるように見える。
【０１２７】
ＣＯ２の吸収は、本発明によるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン水溶液中で、ＭＤＥＡ水溶液中よりも遅く（上記の実施例３を参照）、酸性ガス、特にＨ２Ｓの吸収容量は、本発明の実施例で例示するように、ＭＤＥＡ水溶液に対して、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン吸収溶液と同等であるかまたはより多く、この本発明による例示的な分子は、参照ＭＤＥＡ吸収溶液に対して、選択的な脱酸の用途（ＣＯ２を上回るＨ２Ｓ）に必要な吸収溶液の流量を減少させて所与のＨ２Ｓ流を吸収すると同時に、共に吸収されたＣＯ２流を減少させるように見える。
実施例５：酸性ガス処理における全脱酸用途のためのＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン製剤のＣＯ２吸収容量
４２重量％のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンおよび５．３重量％のピペラジンを含有する本発明によるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン水溶液の４０℃でのＣＯ２吸収容量性能を、全体脱酸用途用の参照吸収溶液である３９重量％のＭＤＥＡおよび６．７重量％のピペラジンを含有するＭＤＥＡ水溶液のそれと比較する。
【０１２８】
酸性ガスをＨ２Ｓの代わりにＣＯ２にして、先の実施例に記載の操作方法に従って、４０℃で吸収試験を行う。
【０１２９】
天然ガスの処理における脱酸の場合では、酸性ガス中で遭遇するＣＯ２分圧は、典型的には、４０℃の温度で０．１〜１バールの範囲である。例としては、この工業範囲において、以下の表３は、３９重量％のＭＤＥＡおよび６．７重量％のピペラジンの吸収溶液と４２重量％のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミンおよび５．３重量％のピペラジンの吸収溶液との間で種々のＣＯ２分圧について４０℃で得られたＣＯ２ローディングを比較する。
【０１３０】
【表３】
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【０１３１】
４０℃で、いかなるＣＯ２分圧でも、本発明による５．３重量％のピペラジンで活性化されたＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン水溶液の吸収容量は、６．７重量％のピペラジンで活性化されたＭＤＥＡ溶液のそれより多い。
【０１３２】
０．１０バールのＣＯ２分圧で、２つの吸収溶液のＣＯ２ローディング間の差は０．５４ｍｏｌ／ｋｇであり、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン吸収溶液の吸収容量は、参照の活性化ＭＤＥＡ吸収溶液に対して３４％増加している。
【０１３３】
１バールのＣＯ２分圧で、活性化Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン吸収溶液でさらに増加するＣＯ２ローディングは、参照の活性化ＭＤＥＡ吸収溶液に対して２１％である。
【０１３４】
したがって、４０℃で、通常の工業条件を表す分圧範囲に対応する０．１〜１バールのＣＯ２分圧範囲において、５．３重量％のピペラジンで活性化された４２重量％のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−１，６−ヘキサンジアミン水溶液が、参照の６．７重量％のピペラジンで活性化された３９重量％のＭＤＥＡ水溶液より高いＣＯ２吸収容量を有することを観察することができる。
【０１３５】
したがって、この本発明による例示的な分子が、ＣＯ２含有ガスを脱酸する用途において必要とされる吸収溶液の流量を、参照の活性化ＭＤＥＡ吸収溶液と比べて減少させるように見える。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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2019506290.tif 000031
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