(57)【要約】  本発明は単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス及びその製造方法に関するものである。本発明は、単一光ファイバに少なくとも２つ以上の段付き加工によりレーザビームを２つ以上のリング状に光ファイバの長手方向から放射状に広がって照射されるようにすることができる。これにより、一つのリング状の光プロファイルよりも二つのリング状の光プロファイルを用いれば、エネルギー分散効果によりガラス管へのエネルギー負担を減らすことができ、それにより、ガラス管の破損の危険から回避することができ、安全な施術の効果を提供することができる。また、本発明の一実施例によって、二つの光ファイバを用いることよりも一つの光ファイバで二つのリングが作られれば、不要な工程の過程がなくなって製作が容易となり、コストも削減できるメリットを提供する効果を奏する。なお、本発明の他の実施例によって、一つの光ファイバで二つ以上のリング状の光プロファイルを提供することにより、ガラス管の大きさを減らすことができる効果を奏する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一光ファイバに少なくとも２つ以上の段付き加工によりレーザビームを２つ以上のリング状に光ファイバの長手方向から放射状に広がって照射されるようにすることを特徴とする単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項２】
内部へ光ファイバを被覆するために形成される光ファイバの外皮（１１０）と、
光ファイバの外皮（１１０）により被覆された光ファイバの一部であって、光ファイバの外皮（１１０）により被覆されない領域に２つ以上の段付き加工を通じて形成されるマルチリング光ファイバ（１２０）と、
ガラス管の入口（１３１）の内径（ｄ１）をガラス管本体（１３２）の内径（ｄ２）よりも広く加工して光ファイバの外皮（１１０）の外径がガラス管の入口（１３１）へ挿入可能な構造を提供するガラス管（１３０）とで構成されることを特徴とする請求項１に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項３】
マルチリング光ファイバ（１２０）は、
光ファイバを通じて照射されるレーザビームの進行方向（ｐ１）に対して直交する方向にリング（ｒｉｎｇ）状の光プロファイルを光ファイバの中心軸に沿って３６０°回転する面積の円筒形側面として形成することを特徴とする請求項２に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項４】
マルチリング光ファイバ（１２０）は、
マルチリング光ファイバ（１２０）上に円筒状の光ファイバの中心軸に向かって狭くなる形態で円筒の断面上で傾斜角を有するように加工して形成された傾斜面に該当する１次リング加工領域（１２１）と、
前記傾斜面の加工を行う時、１次リング加工領域（１２１）の傾斜角領域の中間領域に光ファイバの中心軸と平行な平面に対する加工を通じて生成される１次リング形成領域（１２１ａ）とを含むことを特徴とする請求項２に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項５】
マルチリング光ファイバ（１２０）は、
傾斜面に該当する１次リング加工領域（１２１）のうち直径の最も小さい先端から予め設定された距離だけの平面を形成する切削加工を行って形成され、光ファイバの中心軸と平行な平面に対する加工を通じて生成される２次リング加工領域（１２２）をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項６】
１次リング形成領域（１２１ａ）及び２次リング形成領域（１２２）は、光ファイバの中心軸に沿って３６０°回転して形成される面積である円筒形側面の面積だけ形成されることを特徴とする請求項５に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項７】
マルチリング光ファイバ（１２０）は、
２次リング加工領域（１２２）の両先端のうち１次リング加工領域（１２１）と当接する先端ではなく、他方の先端に形成され、光ファイバの先端を円錐状（ｃｏｎｉｆｏｒｍ）に加工して、円錐状の傾斜面を通じてレーザビームが前面へ放射状に広がるようにする３次リング加工領域（１２３）をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項８】
１次リング形成領域（１２１ａ）に比べて２次リング加工領域（１２２）が広く形成されることを特徴とする請求項５に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項９】
ガラス管（１３０）の内周面と光ファイバの外皮（１１０）の外周面とが当接する領域には接着物質を利用して形成される接着部（１４０）をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項１０】
マルチリング光ファイバ（１２０）の直径は１００μｍ〜１０００μｍに形成されることを特徴とする請求項２に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項１１】
マルチリング光ファイバ（１２０）を含む光ファイバへ最初に伝達されるレーザビームの波長は２００ｎｍ〜３０００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１０に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項１２】
ガラス管（１３０）の外径は、
０．５ｍｍ〜５０ｍｍの範囲であり、
ガラス管（１３０）の内径は、
０．２ｍｍ〜２ｍｍの範囲を用いることを特徴とする請求項１１に記載の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス。
【請求項１３】
単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスに対する製造時、
マルチリング光ファイバ（１２０）の加工過程、ガラス管（１３０）の加工過程、光ファイバの外皮（１１０）をガラス管（１３０）の内部へ挿入する過程、挿入領域に接触部（１４０）を形成して固定する過程が順次に行われることを特徴とする単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスに関し、より具体的には、下肢静脈瘤のように血管内のレーザ治療などに用いる医療機器用光ファイバにおいて、直進するレーザビームの照射角を９０°程度直交する方向に転換を通じて光ファイバの中心軸の３６０°円形方向に照射可能とするための単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
下肢静脈瘤治療のような血管内のレーザ照射が必要なレーザ治療のためには様々なレーザ波長を用いている。
【０００３】
しかしながら、このようなレーザビームを利用した血管治療時、神経に損傷を与える恐れがあり、レーザ施術を忌避している。
【０００４】
これにより、光ファイバを通じて伝達されるレーザビームの直進性により血管内のいずれか一方にエネルギーが集中せず、エネルギーが放射するようにすることにより、エネルギー分散効果により血管のいずれか一領域にレーザビームが集中する副作用を解消すべきものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】韓国特許公開公報  第１０−２０１４−０１４３６６７号「下肢静脈レーザ手術方法」
【０００６】
【特許文献２】韓国特許登録公報  第１０−１００４３７３号「レーザ照射部が装着された電気刺激経血治療器」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は前記問題点を解決するためのものであって、単一光ファイバに少なくとも２つ以上の段付き加工によりレーザビームを２つ以上のリング状に光ファイバから放射状に広がって照射されるようにするための単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス及びその製造方法を提供するためのものである。
【０００８】
また、本発明は一つのリング状の光プロファイルよりも二つ以上のリング状の光プロファイルを用いることにより、エネルギー分散効果によりガラス管へのエネルギー負担を減らすための単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス及びその製造方法を提供するためのものである。
【０００９】
また、本発明は単一の光ファイバで二つ以上のリング状の光プロファイルが生成されるようにして、二つ以上の光ファイバを用いる不要な工程の過程とガラス管の大きさを拡張する必要がないようにするための単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス及びその製造方法を提供するためのものである。
【００１０】
しかしながら、本発明の目的は前述の目的に制限されず、言及されていないまた他の目的は以下の記載により当業者にとって明確に理解されるべきである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記目的を達成するために、本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスは、単一光ファイバに少なくとも２つ以上の段付き加工によりレーザビームを２つ以上のリング状に光ファイバの長手方向から放射状に広がって照射されるようにすることができる。
【００１２】
この時、本発明の他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスは、内部へ光ファイバを被覆するために形成される光ファイバの外皮１１０と、光ファイバの外皮１１０により被覆された光ファイバの一部であって、光ファイバの外皮１１０により被覆されない領域に２つ以上の段付き加工を通じて形成されるマルチリング光ファイバ１２０と、ガラス管の入口１３１の内径ｄ１をガラス管本体１３２の内径ｄ２よりも広く加工して光ファイバの外皮１１０の外径がガラス管の入口１３１へ挿入可能な構造を提供するガラス管１３０とで構成されることができる。
【００１３】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスにおいて、マルチリング光ファイバ１２０は、光ファイバを通じて照射されるレーザビームの進行方向ｐ１に対して直交する方向にリング（ｒｉｎｇ）状の光プロファイルを１次リング形成領域１２１ａ及び２次リング加工領域１２２を光ファイバの中心軸に沿って３６０°回転する面積の円筒形側面として形成することができる。
【００１４】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスにおいて、マルチリング光ファイバ１２０は、マルチリング光ファイバ１２０上に円筒状の光ファイバの中心軸に向かって狭くなる形態で円筒の断面上で傾斜角を有するように加工して形成された傾斜面に該当する１次リング加工領域１２１と、前記傾斜面加工を行う時、１次リング加工領域１２１の傾斜角領域の中間領域に光ファイバの中心軸と平行な平面に対する加工を通じて生成される１次リング形成領域１２１ａとを含むことができる。
【００１５】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスにおいて、マルチリング光ファイバ１２０は、傾斜面に該当する１次リング加工領域１２１のうち直径の最も小さい先端から予め設定された距離だけの平面を形成する切削加工を行って形成され、光ファイバの中心軸と平行な平面に対する加工を通じて生成される２次リング加工領域１２２をさらに含むことができる。
【００１６】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスにおいて、１次リング形成領域１２１ａ及び２次リング形成領域１２２は、光ファイバの中心軸に沿って３６０°回転して形成される面積である円筒形側面の面積だけ形成されることができる。
【００１７】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスにおいて、マルチリング光ファイバ１２０は、２次リング加工領域１２２の両先端のうち１次リング加工領域１２１と当接する先端ではなく、他方の先端に形成され、光ファイバの先端を円錐状（Ｃｏｎｉｆｏｒｍ）に加工して、円錐状の傾斜面を通じてレーザビームが前面へ放射状に広がるようにする３次リング加工領域１２３をさらに含むことができる。
【００１８】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスにおいて、１次リング形成領域１２１ａに比べて２次リング加工領域１２２が広く形成されることができる。
【００１９】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスは、ガラス管１３０の内周面と光ファイバの外皮１１０の外周面とが当接する領域は接着物質を利用して形成される接着部１４０をさらに含むことができる。
【００２０】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスにおいて、マルチリング光ファイバ１２０の直径は１００μｍ〜１０００μｍに形成されることができる。
【００２１】
また、本発明のまた他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスにおいて、マルチリング光ファイバ１２０を含む光ファイバへ最初に伝達されるレーザビームの波長は２００ｎｍ〜３０００ｎｍの範囲であり、ガラス管１３０の外径は、０．５ｍｍ〜５０ｍｍの範囲で、ガラス管１３０の内径は、０．２ｍｍ〜２ｍｍの範囲を用いることができる。
【００２２】
前記目的を達成するために、本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスの製造方法は、前述のいずれか一つの単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスを製造時、マルチリング光ファイバ１２０の加工過程、ガラス管１３０の加工過程、光ファイバの外皮１１０をガラス管１３０の内部へ挿入する過程、挿入領域に接触部１４０を形成して固定する過程が順次に行われることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスは、一つのリング状の光プロファイルよりも二つのリング状の光プロファイルを用いれば、エネルギー分散効果によりガラス管へのエネルギー負担を減らすことができ、ガラス管の破損の危険から回避することができるので安全な施術の効果を提供することができる。
【００２４】
また、本発明の他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスは、二つの光ファイバを用いることよりも一つの光ファイバで二つのリングが作られれば、不要な工程の過程がなくなって製作が容易となり、コストも削減できるメリットを提供する効果を奏する。
【００２５】
なお、本発明の他の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスは、一つの光ファイバで二つ以上のリング状の光プロファイルを提供することにより、ガラス管の大きさを減らすことができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００を示す断面図である。
【図２】図１の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００のうちマルチリング光ファイバ１２０を示す断面図である。
【図３】本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００の製造工程を示す図である。
【図４】本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００の製造方法を示すフロー図である。
【図５】図４の本発明の実施例に係る方法によって製造された単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００のプロトタイプを示す参照図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明は多様な変更を加えることができ、様々な実施例を有することができるところ、特定の実施例を図面に例示して詳細に説明する。しかしながら、これは本発明を特定の実施形態に対して限定しようとするものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物ないし代替物を含むものとして理解されるべきである。
【００２８】
「第１、第２」などのように序数を含む用語は多様な構成要素を説明するのに用いられることができるが、前記構成要素は前記用語により限定されない。前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的としてのみ用いられる。
【００２９】
例えば、本発明の権利範囲を逸脱せずに「第１構成要素」は「第２構成要素」と命名されることができ、同様に「第２構成要素」も「第１構成要素」と命名されることができる。「及び／または」という用語は複数の関連する記載項目の組み合わせまたは複数の関連する記載項目のうちいずれかの項目を含む。
【００３０】
特に断りのない限り、技術的または科学的な用語を含めて、ここで用いられる全ての用語は、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者により一般的に理解されるものと同じ意味がある。一般的に用いられる辞書に定義されているような用語は、関連技術の文脈上有する意味と一致する意味があるものと解釈されるべきであり、本出願で明白に定義しない限り、理想的または過度に形式的な意味として解釈されてはならない。
【００３１】
以下、添付の図面を参照して本発明に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイスの好ましい実施例を添付の図面を参照して説明する。この過程で図面に示された線の厚さや構成要素の大きさ等は説明の明瞭性と便宜上、誇張して図示され得る。また、後述する用語は、本発明における機能を考慮して定義された用語であって、これは使用者、運用者の意図または慣例によって変わることができる。そのため、このような用語に対する定義は、本明細書全般にわたる内容に基づいて下されるべきである。
【００３２】
図１は、本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００を示す断面図である。図２は、図１の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００のうちマルチリング光ファイバ１２０を示す断面図である。
【００３３】
まず、図１及び図２を参照すれば、単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００は光ファイバの外皮１１０、マルチリング光ファイバ１２０、ガラス管１３０を含み、マルチリング光ファイバ１２０は１次リング加工領域１２１、２次リング加工領域１２２、そして３次加工領域１２３を備える。
【００３４】
光ファイバの外皮１１０は内部へ光ファイバを被覆するために形成され、ガラス管１３０の内部へ締結される。
【００３５】
マルチリング光ファイバ１２０は光ファイバの外皮１１０により被覆された光ファイバの一部であって、光ファイバの外皮１１０により被覆されない領域に該当し、すなわち、光ファイバのうち光ファイバの外皮１１０とガラス管１３０を接合時、ガラス管１３０へ挿入される領域として加工された光ファイバを意味する。
【００３６】
ここで、マルチリング光ファイバ１２０を含む光ファイバの材質はＳｉＯ２（シリカ）などの材質を用い、マルチリング光ファイバ１２０の直径は１００μｍ〜１０００μｍに形成される一つの単一光ファイバであって、少なくとも２リング以上のレーザビーム出力のために用いられる。ここで、マルチリング光ファイバ１２０を含む光ファイバに伝達されるレーザビームの波長は２００ｎｍ〜３０００ｎｍの範囲で用いることが好ましい。
【００３７】
一方、本発明の一実施例に係るマルチリング光ファイバ１２０は１次リング加工領域１２１、２次リング加工領域１２２及び３次加工領域１２３を備えることができる。
【００３８】
ここで、１次リング加工領域１２１はマルチリング光ファイバ１２０上に円筒状の光ファイバの中心軸に向かって狭くなる形態で円筒の断面上で傾斜角を有するようにして傾斜面加工を通じて形成される。このような傾斜面加工を行う時、１次リング加工領域１２１の傾斜角領域の中間領域に光ファイバの中心軸と平行な平面である１次リング形成領域１２１ａを形成する加工を共に行うことにより、光ファイバを通じて照射されるレーザビームの進行方向ｐ１に対して直交する方向にリング（ｒｉｎｇ）状の光プロファイルを、１次リング形成領域１２１ａを光ファイバの中心軸に沿って３６０°回転する面積の円筒形側面として形成することができる。
【００３９】
すなわち、１次リング加工領域１２１の傾斜面により屈折角度の差別化を行うだけでなく、中間に１次リング形成領域１２１ａによりリング状の第１光プロファイルを形成することができる効果を奏する。
【００４０】
２次リング加工領域１２２は傾斜面に該当する１次リング加工領域１２１のうち直径の最も小さい先端から予め設定された距離だけの平面を形成する切削加工を行って形成される。すなわち、１次リング加工領域１２１の１次リング形成領域１２１ａと同様に、光ファイバの中心軸と平行な平面である２次リング加工領域１２２を形成する加工を共に行うが、光ファイバを通じて照射されるレーザビームの進行方向ｐ１に対して直交する方向にリング（ｒｉｎｇ）状の光プロファイルを形成することができる。このような２次リング形成領域１２２は光ファイバの中心軸に沿って３６０°回転して形成される面積である円筒形側面の面積だけ形成することができる。
【００４１】
３次リング加工領域１２３は２次リング加工領域１２２の両先端のうち１次リング加工領域１２１と当接する先端ではなく、他方の先端に形成され、光ファイバの先端を円錐状（ｃｏｎｉｆｏｒｍ）に加工することにより、円錐状の傾斜面を通じてレーザビームが前面へ放射状に広がることができる効果を奏する。
【００４２】
一方、１次リング形成領域１２１ａと２次リング加工領域１２２は図１及び図２に示されたように、１次リング形成領域１２１ａに比べて２次リング加工領域１２２が広く形成されることにより、ガラス管１３０の胴体よりも前面の先端領域でさらにレーザビームが照射されるリング（ｒｉｎｇ）状の光プロファイルが大きく形成されることができる。
【００４３】
ガラス管１３０はガラス管の入口１３１の内径ｄ１をガラス管本体１３２の内径ｄ２よりも広く加工して光ファイバの外皮１１０の外径がガラス管の入口１３１へ挿入可能な構造を提供する。
【００４４】
一方、ガラス管１３０の内周面と光ファイバの外皮１１０の外周面とが当接する領域にはボンド、接着パッドなどの接着物質を利用した接着部１４０を用いて固定することにより、マルチリング光ファイバ１２０とガラス管１３０の中心軸と一致されるようにする。
【００４５】
ここで、ガラス管１３０はマルチリング光ファイバ１２０を保護するために用いられ、石英（ＳｉＯ２）を溶融凝固して得られた石英ガラス（ｑｕａｒｔｚ  ｇｌａｓｓ）や透明なアクリル材質に代替して形成されることができる。
【００４６】
一方、ガラス管１３０の外径は０．５ｍｍ〜５０ｍｍの範囲であり、ガラス管１３０の内径は０．２ｍｍ〜２ｍｍの範囲を用いることが好ましく、内径は前述のガラス管の入口１３１の内径であるｄ１、ガラス管本体１３２の内径であるｄ２、そして図１ｂのようにガラス管の入口１３１とガラス管本体１３２との間に少なくとも一つ以上の中心軸に向かって段差をさらに形成することにより、マルチリング光ファイバ１２０から出力されたレーザビームの反射角を多角化することができる。
【００４７】
このような構造を通じて単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００は、医療機器用光ファイバにおいて直進性を有するレーザビームを直進方向に対して約９０°程度の直角方向にリング（ｒｉｎｇ）状の光プロファイルを２つ形成したマルチリング光ファイバ１２０を利用して、３６０°円形方向にレーザビームを照射することができるようにする。
【００４８】
この時、マルチリング光ファイバ１２０は一つの円形ビーム状ではなく、２つまたはそれ以上の円形ビーム状に照射を行うことにより、単一筋の光ファイバを利用して二つ以上の光ファイバを用いたものと同じ効果を提供することができる。
【００４９】
図３は、本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００の製造工程を示す図である。図４は、本発明の実施例に係る単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００の製造方法を示すフロー図である。
【００５０】
以下では、図３及び図４を参照して単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００の製造方法について具体的に見ることとする。まず、図４を参照すれば、マルチリングレーザビームデバイス１００の製造時、マルチリング光ファイバ１２０の加工（Ｓ１１）、ガラス管１３０の加工（Ｓ１２）、光ファイバの外皮１１０をガラス管１３０の内部へ挿入する工程（Ｓ１３）、挿入領域に接触部１４０を形成して固定する工程（Ｓ１４）が順次に行われる。
【００５１】
マルチリング光ファイバ１２０の加工時（Ｓ１１）、光ファイバの外皮１１０のうちマルチリング光ファイバ１２０の形成区間に対する被覆を剥がす工程を行った後、被覆が剥がされた領域の光ファイバに対する１次リング加工領域１２１、２次リング加工領域１２２及び３次加工領域１２３それぞれの順次的な形成のための１次切削工程、２次切削工程及び３次切削工程を順次に行う。一方、３次切削工程で光ファイバの先端を円錐状（ｃｏｎｉｆｏｒｍ）に加工時、多角鏡面状を有する円錐状に処理することにより、先端で乱反射を誘発して乱反射の効果を極大化することができる。
【００５２】
段階（Ｓ１１）以降、ガラス管１３０の加工時（Ｓ１２）、ガラス管１３０の製造時に加工溝１３１が備えられたガラス管１３０を準備するか、ガラス管の入口１３１とガラス管本体１３２の内径と外径が同じガラス管１３０を準備してガラス管の口径加工装置を通じてガラス管の入口１３１である接合面から所定の長さだけの内径ｄ１をガラス管本体１３２の内径ｄ２よりも広く加工することにより、光ファイバの外皮１１０をガラス管の入口１３１へ挿入可能な構造への加工を行うことにより、図３ａのようなガラス管の入口１３１が加工されたガラス管１３０を獲得する（Ｓ１２）。
【００５３】
段階（Ｓ１２）以降、加工されたガラス管１３０のうちガラス管の入口１３１の内周面へ先端にマルチリング光ファイバ１２０が形成された光ファイバの外皮１１０を挿入することにより、図３ｂのような形態の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００の中間物を獲得する（Ｓ１３）。
【００５４】
段階（Ｓ１３）以降、光ファイバの外皮１２０がガラス管１３０へ挿入された領域のうち光ファイバ外部１２０の外周面とガラス管１３０の内周面とが当接する領域に接着部１４０を形成することにより、光ファイバの外皮１２０とガラス管１３０を固定することにより、図３ｃのような形態の単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００の最終結果物を獲得する（Ｓ１４）。
【００５５】
一方、図５は、図４の本発明の実施例に係る方法によって製造された単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス１００のプロトタイプを示す参照図である。
【００５６】
以上のように、本明細書と図面には本発明の好ましい実施例について開示しており、たとえ特定の用語が用いられているが、これは単に本発明の技術内容を分かり易く説明し、発明の理解を助けるための一般的な意味で用いられたものであり、本発明の範囲を限定しようとするものではない。ここに開示された実施例の他にも、本発明の技術的思想に基づいた他の変形例が実施可能であることは、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者にとって自明なものである。
【符号の説明】
【００５７】
１００…単一光ファイバ基盤のマルチリングレーザビームデバイス
１１０…光ファイバの外皮
１２０…マルチリング光ファイバ
１２１…１次リング加工領域
１２１ａ…１次リング形成領域
１２２…２次リング加工領域
１２３…３次加工領域
１３０…ガラス管
１３１…ガラス管の入口
１３２…ガラス管本体
１３３…ガラス管の曲面部
【図１（ａ）】
2019512725.tif 000003
【図１（ｂ）】
2019512725.tif 000004
【図２】
2019512725.tif 000005
【図３（ａ）】
2019512725.tif 000006
【図３（ｂ）】
2019512725.tif 000007
【図３（ｃ）】
2019512725.tif 000008
【図４】
2019512725.tif 000009
【図５】
2019512725.tif 000010
【国際調査報告】
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2019512725.tif 000012
2019512725.tif 000013
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