(57)【要約】  広帯域分光計（１）を用いて、軟Ｘ線から赤外線波長までの波長範囲の光を生成するＸＵＶ光源によって生成される光（７）のスペクトルを測定して処理する方法であって、前記処理することは、測定されたスペクトルにおける波長範囲の評価に基づくものであり、該測定されたスペクトルは、上記波長範囲より長い波長に対してごくわずかに高次の寄与を有する方法である。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
広帯域分光計（１）を用いて、軟Ｘ線から赤外線波長までの波長範囲の光のスペクトルを測定して処理する方法であって、前記処理することは、
（ａ）測定されたスペクトルにおいて最長波長λ０を評価し、該最長波長λ０より短い波長に対する前記スペクトルの比較的高い回折次数の、λ０より長い波長に対する前記スペクトルの部分に対する寄与は、事前に定義された値未満である、ステップ
を含むことを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記広帯域分光計（１）は、シャッタ（２）と、ピンホール（４）及びスリットのうちの一方と、少なくとも１つの透過型回折格子（５）と、カメラ（６）とを備え、前記処理することは、
（ｂ）λ０＜λ＜２λ０によって与えられる範囲における波長λに対して、前記ピンホール（４）又は前記スリットに起因する、前記カメラ（６）によって記録された前記光の強度の広がりを除去し、結果としての波長範囲における前記強度を、前記回折格子（５）及び前記カメラ（６）の効率で割り、したがって、第１のスペクトル範囲の回復されたスペクトルを得るステップと、
（ｃ）λ０＜λ＜２λ０によって与えられる前記範囲における全ての比較的高次の回折の、２λ０＜λ＜４λ０によって与えられる範囲に対する寄与を計算し、これらの寄与を、前記カメラ（６）によって記録された前記光の前記強度から減じ、したがって、２λ０＜λ＜４λ０によって与えられる前記範囲の波長λに対する回復されたスペクトル範囲を得るステップと、
（ｄ）前記カメラ（６）によって記録された完全なスペクトルが処理され、光源からの前記スペクトルが回復されるまで、次の隣接する波長範囲に対してステップ（ｂ）及び（ｃ）による計算を繰り返し、したがって、次の隣接する範囲の波長λに対する次の隣接する回復されたスペクトル範囲を得るステップと
を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記広帯域分光計（１）は、少なくとも１つのスペクトルフィルタ（３）を更に備え、λ０＜λ＜２λ０によって与えられる前記範囲の波長λに対して、前記カメラ（６）によって記録された前記光の前記強度の広がりを除去する前記（ｂ）のステップは、前記波長範囲における前記強度を前記フィルタ（３）の透過効率で割ることを更に含むことを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記光源はＥＵＶ光であり、該ＥＵＶ光の前記スペクトルを測定する前記ステップは、１３．５ｎｍの波長の放射線に対する低透過特性と帯域外波長の放射線に対する高透過特性とを有するスペクトルフィルタ（４）を使用することによって、帯域外スペクトルの測定を含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記分光計（１）のスペクトル分解能は、前記分光計（１）内で前記ピンホール（４）又は前記スリット及び前記回折格子（５）を前記カメラ（６）から最大距離に配置することによって最大化される、請求項２〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
軟Ｘ線から赤外線波長までの波長範囲の光のスペクトルを測定して処理する装置（１０）であって、広帯域分光計（１）を備えており、該広帯域分光計（１）は、シャッタ（２）と、ピンホール（４）及びスリットのうちの一方と、少なくとも１つの透過型回折格子（５）と、カメラ（６）とを備える装置（１０）であり、測定されたスペクトルにおいて最長波長λ０を評価し、該最長波長λ０より短い波長に対する前記スペクトルの比較的高い回折次数の、λ０より長い波長に対する該スペクトルの部分に対する寄与は、事前に定義された値未満である処理手段（１８）が設けられていることを特徴とする、装置。
【請求項７】
前記分光計（１）は、少なくとも１つのスペクトルフィルタ（３）を備えることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記シャッタ（２）は、入来するビーム（７）に対して横切る方向（８）に移動するように電動並進ステージ（３２）に取り付けられているキャリア（２２）に保持されていることを特徴とする、請求項６又は７に記載の装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つのスペクトルフィルタ（３）は、帯域内波長の光に対する低透過特性と帯域外の波長の光に対する高透過特性とを有することを特徴とする、請求項７又は８に記載の装置。
【請求項１０】
前記分光計はＥＵＶ分光計であり、前記帯域内は１３．５ｎｍの中心波長の周辺の２％の波長を表すものである、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記スペクトルフィルタ（３）は、セットから選択可能なスペクトルフィルタであり、該セットはキャリア（２３）に保持されていることを特徴とする、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記スペクトルフィルタ（３）のセットを保持する前記キャリア（２３）は、入来するビーム（７）に対して横切る方向（８、９）に移動するように電動並進ステージ（３３、４３）に取り付けられていることを特徴とする、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記ピンホール（４）又は前記スリットは、入来するビーム（７）に対して横切る方向（８）及び長手方向（１１）に移動するように電動並進ステージ（３４、５５）に取り付けられているキャリア（２４）に保持されていることを特徴とする、請求項６〜１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
前記透過型回折格子（５）はセットから選択可能な透過型回折格子であり、該セットはキャリア（２５）に保持されていることを特徴とする、請求項６〜１３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記透過型回折格子（５）のセットを保持する前記キャリア（２５）は、入来するビーム（７）に対して横切る方向（８、９）及び長手方向（１１）に移動するように電動並進ステージ（３５、４５、５５）に取り付けられていることを特徴とする、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記透過型回折格子（５）のセットは、個々の透過型回折格子を含むアレイを示すマイクロチップによって提供されることを特徴とする、請求項１４又は１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記アレイは、３×７行列であり、該行列において、前記個々の透過型回折格子は、それぞれ１ｍｍにつき５００本、７８０本、１０００本、１５００本、１８５０本、２０００本、２５００本の線の線密度と、１ｍｍにつき１０００本の線の増分で３０００本から開始して１００００本までの線の線密度とを有することを特徴とする、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記ピンホール（４）又は前記スリット及び前記回折格子（５）は、前記カメラ（６）に対して先端側の位置に配置されていることを特徴とする、請求項６〜１７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
前記カメラ（６）はＣＣＤチップを備え、
前記分光計（１）は、光ビーム（７）の経路に対して垂直位置で前記回折格子（５）と前記カメラ（６）との間に配置された、前記ＣＣＤチップの表面寸法に対応する開口部を有する黒化プレートを備えることを特徴とする、請求項６〜１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】
前記処理手段（１８）は、ＸＵＶ光源（２０）のスペクトルを最適化するために、ＸＵＶ光源を制御するように適合されていることを特徴とする、請求項６〜１９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２１】
コンピュータ上で実行されると請求項２〜５のいずれか一項に記載の方法を実施するものである、コンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、広帯域分光計を用いて軟Ｘ線から赤外線波長までの波長範囲の光のスペクトルを測定し処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
広帯域分光計は、一般に、特定の光源の波長範囲に適合された、ＸＵＶ光源によって放射される光のスペクトルを測定する分光計である。ＸＵＶ光源の波長範囲は、特に、約０．１ｎｍ〜約５ｎｍの波長の軟Ｘ線範囲と、約５ｎｍ〜約４０ｎｍの波長の超紫外線（ＥＵＶ）範囲と、約３０ｎｍ〜約１２０ｎｍの波長の真空紫外線（ＶＵＶ）範囲と、約１２０ｎｍ〜約４００ｎｍの波長の紫外線（ＵＶ）範囲とにわたる。文献では、これらの範囲の学術用語は、明確に定義されておらず、部分的にオーバーラップする範囲に対して異なる名称が使用される場合がある。
【０００３】
ＸＵＶ光源は、自由電子レーザ研究、天文学、蛍光元素分析及びフォトリソグラフィ等の多数の科学的かつハイテク応用に対して、目下大きな関心が持たれている。
【０００４】
軟Ｘ線光源は、例えば、未知の物質組成を有するサンプルの組成を求めるために物質特有の吸収及び蛍光を使用する物質分析に使用される。こうした分析では、光源の光は、分析対象のサンプルの上に突き当たり、サンプルから部分的に反射され、分光計によりスペクトルが記録される。
【０００５】
特に、ＥＵＶフォトリソグラフィツールは、それらのウェハスループットを最大限にするために、約１３．５ｎｍ波長の狭帯域（中心波長の２％）、すなわち帯域内スペクトルで放射するようにそれらの光源の最適化を必要とする。これに関して、ＥＵＶフォトリソグラフィツールのスペクトルモニタリングは、これらのツールの最適な生産性に向かう極めて重大なステップである。目下、ＥＵＶフォトリソグラフィの光源は、光源放射をフィルタリングするＥＵＶ反射ミラーとフォトダイオードとを使用してモニタリングされる。この測定方式は、帯域内ＥＵＶパワーは正確に測定することができるが、目標ＥＵＶ帯域外の放射パワーは正確に測定することができない。帯域外放射線は、軟Ｘ線（５ｎｍ未満）から赤外線波長（７００ｎｍを超える）まで広がる非常に広い波長範囲に及び、ＥＵＶミラーに対して、フォトレジストの寄生露光及び過度の熱負荷等の危険な影響を与える可能性がある。帯域外放射線を評価するために、極めて広帯域の検出方式が必要とされる。
【０００６】
回折格子は、固有の特性に起因してスペクトル帯域幅が限られている。回折格子は、入来する放射線を、回折格子方程式
【数１】
2019537008.tif 000003
に従って一組の回折次数に回折させる。ここで、ｍは、回折次数を表す整数であり、λは波長であり、ｄは回折格子周期であり、θｉは入射角であり、θｍは、波長ｍλに対する回折角である。回折格子方程式の１つの示唆は、短い波長の比較的高次の（すなわち、２次以上の）回折次数は、より長い波長の１次回折次数と同じ角度に回折する、ということである。明示的に、λ１の２次回折次数は、波長２λ１の１次回折次数と同じ角度に回折する。波長のこのオーバーラップにより、完全な帯域外スペクトルの正確な評価が妨げられる。
【０００７】
市販のＥＵＶ分光計の別の問題は、分光計で使用されるＣＣＤカメラの強度計数の数が限られていることから生じる。通常、帯域内１３．５ｎｍピークの強度レベルは、帯域外スペクトルの強度レベルより何桁も大きい。このため、帯域内スペクトルは、容易にカメラを飽和させ、帯域外範囲の非常に低い強度の記録を妨げる可能性がある。
【０００８】
特許文献１は、半導体製造で使用されるＥＵＶ光源の動作をモニタリングし制御するシステム及び方法を開示している。方法は、帯域内及び帯域外放射線を放射する光源を有する半導体製造装置を準備することと、第１の帯域外放射線測定を行うことと、第２の帯域外放射線測定を行うことと、少なくとも一部には、第１の帯域外測定値及び第２の帯域外測定値の比較に基づき、光源の帯域内放射線を制御することとを含む。装置は、ＥＵＶプラズマ光源によって放射される帯域外ＥＵＶ放射線を検出するように動作可能な検出器と、電磁検出器に結合され、検出された帯域外ＥＵＶ放射線に基づいて少なくとも１つの帯域外放射線パラメータを測定するように動作可能な分光計と、分光計に結合され、帯域外測定値に基づいてＥＵＶプラズマ光源の動作をモニタリングし制御するように動作可能なコントローラとを備える。
【０００９】
特許文献１によれば、深ＵＶスペクトルに対して、グレージング（入射）角反射分光計が利用され、それにより、かさばる設計となり、位置合せ手続きが困難となり、回折格子及び検出器のコンタミネーションに対する感度が高くなる。方法は、特に、第１の帯域外放射線測定を行うステップと、第２の帯域外放射線測定を行うステップとを含む。図示する表から、これらの従来技術による方法及び装置は、約３０ｎｍ〜約１６０ｎｍの帯域外範囲に関して言及しておらず、そうした範囲は、ＥＵＶミラーに対してフォトレジストの寄生露光及び過度の熱負荷等の危険な影響を及ぼす可能性がある放射線パワーの比較的高い寄与を含む可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／００４６２７３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、小型で位置合せが容易であり、かつ比較的高い回折次数による望ましくないコンタミネーションを軽減する手段によって提供される広帯域分光計を用いて、軟Ｘ線から赤外線波長までのＥＵＶ光源のスペクトルを測定し最適化する装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前文において指定されるタイプの方法により、この目的は達成され、他の利益が具現化され、上記方法では、本発明により、処理は、（ａ）測定されたスペクトルにおいて最長波長λ０を評価し、最長波長λ０より短い波長のスペクトルの比較的高い回折次数の、λ０より長い波長に対するスペクトルの部分に対する寄与は、事前に定義された値未満である、ステップを含む。事前に定義された値は、例えば、最長波長λ０より短い波長に対する比較的高い回折次数がλ０より長い波長に対するスペクトルの部分に寄与する、パーセンテージとして選択することができる。
【００１３】
上記最長波長の評価に基づいてスペクトルを処理することにより、いかなる波長も、例えば、上述した従来技術による方法によって除外される範囲３０ｎｍ〜１６０ｎｍを除外することなく、完全なスペクトルの再構築が可能になることが判明している。
【００１４】
本発明による方法の一実施形態では、広帯域分光計は、シャッタと、ピンホール及びスリットのうちの一方と、少なくとも１つの透過型回折格子と、カメラとを備え、処理は、（ｂ）λ０＜λ＜２λ０によって与えられる範囲における波長λに対して、ピンホール又はスリットに起因する、カメラによって記録された光の強度の広がりを除去し、結果としての波長範囲における強度を、回折格子及びカメラの効率で割り、したがって、第１のスペクトル範囲の回復されたスペクトルを得るステップと、（ｃ）λ０＜λ＜２λ０によって与えられる範囲における全ての比較的高次の回折の、２λ０＜λ＜４λ０によって与えられる範囲に対する寄与を計算し、これらの寄与を、カメラ（６）によって記録された光の強度から減じ、したがって、２λ０＜λ＜４λ０によって与えられる範囲の波長λに対する回復されたスペクトル範囲を得るステップと、（ｄ）カメラによって記録された完全なスペクトルが処理され、光源からのスペクトルが回復されるまで、次の隣接する波長範囲に対してステップ（ｂ）及び（ｃ）による計算を繰り返し、したがって、次の隣接する範囲の波長λに対する次の隣接する回復されたスペクトル範囲を得るステップとを更に含む。
【００１５】
広帯域分光計が、少なくとも１つのスペクトルフィルタを更に備える一実施形態では、方法のステップ（ｂ）は、結果として得られる波長範囲における強度をフィルタの効率で割ることを更に含む。
【００１６】
本発明による方法は、コンピュータに記録する前にスペクトルに影響を及ぼす４つの物理的プロセスの効果を考慮する。第１の物理的プロセスは、スペクトルフィルタに起因するスペクトルの減衰である。第２のプロセスは、ピンホール／スリットに起因するスペクトル特徴の広がりである。第３のプロセスは、透過型回折格子に起因するいくつかの回折次数へのスペクトルの回折である。第４のプロセスは、カメラ、例えばＣＣＤカメラによる検出である。これらの４つのプロセスは、
【数２】
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として数学的に書くことができ、式中、Ｉｒは記録された強度であり、Ｓは、ＣＣＤ上にスペクトル線の広がりをもたらす、空間座標におけるピンホール／スリット関数である。この広がりは、式（１）における畳み込み演算＊によって表される。文字ｍは回折の次数を表し、ｎは、回折格子によって達成可能な最高回折次数を表す。係数１／ｍは、回折次数の増大による分散の増大を表す。Ｉｉは分光計に入射する強度であり、ηｍは、ｍ次に対する回折格子の回折効率であり、ηｆは、フィルタの透過効率であり、ηＣＣＤはＣＣＤの量子効率である。
【００１７】
上記実施形態による方法は、事前に定義された値未満である、より長い波長に対する比較的高い次数の寄与を有する波長範囲を見つけるステップ（ａ）によって開始する。通常、０次に近い短い波長での強度は低く、これらの短い波長の比較的高い次数の寄与は更に低く、その理由は、比較的高い次数の回折効率は、１次より小さいためである。事前に定義された値未満の比較的高次の寄与を有する最長波長をλ０として示す場合、スペクトル範囲λ０＜λ＜２λ０は、ごくわずかな比較的高次のコンタミネーションを有すると結論付けることができる。このスペクトル範囲では、入射強度は、式（１）における１次回折次数のみを考慮することによって計算することができる。この状況では、式（１）は、以下のように変換することができる。
【数３】
2019537008.tif 000005
【００１８】
ステップ（ｂ）によれば、式（２）において、記録された強度は、最初に、ピンホール／スリット関数の逆関数、Ｓ−１で畳み込まれ、ピンホール／スリットの影響を除去するように、雑音抑制のための正則化技法が適用され、そして、記録された強度は、格子、フィルタ及びＣＣＤの効率によって割られる。
【００１９】
ステップ（ｃ）によれば、波長範囲λ０＜λ＜２λ０の全ての比較的高次の寄与が計算され、以下のように、記録された強度から減ぜられる。
【数４】
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【００２０】
このステップは、範囲２λ０＜λ＜４λ０の記録された強度を回復し、この回復された強度Ｉｒｃから、式（２）を使用して入射強度を計算することができる。
【００２１】
ステップ（ｄ）によれば、回復されたスペクトル範囲は、完全なスペクトルが回復されるまで、ステップ（ｂ）及び（ｃ）を繰り返すことによって拡張される。
【００２２】
光がＥＵＶ光である一実施形態において、ＥＵＶ光のスペクトルを測定するステップは、１３．５ｎｍの波長の放射線に対する低透過特性と帯域外波長の放射線に対する高透過特性とを有するスペクトルフィルタを使用することによる、帯域外スペクトルの測定を含む。こうしたフィルタの使用により、カメラの飽和なしにはるかに長い露光時間でのスペクトル記録が可能になる。露光時間が長くなることにより、信号対雑音比（ＳＮＲ）が増大する結果となり、このため、帯域外スペクトルにおける低強度の記録が可能になる。このように、カメラの限られた計数をより有効に利用することができる。
【００２３】
実際的に有利な実施形態では、分光計のスペクトル分解能は、分光計内でピンホール又はスリット及び回折格子をカメラから最大距離に配置することによって最大化される。実際の状況では、回折格子／ピンホール対及びピンホールは、好ましくは、分光計の入口に配置される。
【００２４】
本発明の方法は、プログラムコードを含むコンピュータプログラム製品として実装することができ、プログラムコードは、コンピュータプログラム製品がコンピュータで実行されるときに方法のうちの１つを実施するように動作する。プログラムコードは、例えば、機械可読担体に記憶することができる。
【００２５】
本発明の方法の一実施形態は、したがって、コンピュータプログラムがコンピュータ上で実行されるとき、本明細書に記載する方法のうちの１つを実施するプログラムコードを有するコンピュータプログラムである。
【００２６】
本発明は、軟Ｘ線から赤外線波長までの波長範囲の光のスペクトルを測定し処理する装置に更に関し、装置は、上述の方法による広帯域分光計を備え、分光計は、シャッタと、ピンホール及びスリットのうちの一方と、少なくとも１つの透過型回折格子と、カメラとを備え、装置には、測定されたスペクトルにおいて最長波長λ０を評価し、最長波長λ０より短い波長に対するスペクトルの比較的高い回折次数の、λ０より長い波長に対するスペクトルの部分に対する寄与は、事前に定義された値未満である、処理手段が設けられている。
【００２７】
好ましくは、分光計は少なくとも１つのスペクトルフィルタを備える。
【００２８】
本発明による装置の一実施形態では、シャッタは、入来するビームに対して横切る方向に移動するように電動並進ステージに取り付けられているキャリアに保持されている。
【００２９】
帯域外スペクトルでの低強度の記録を容易にするために、少なくとも１つのスペクトルフィルタは、一実施形態では、帯域内波長の光に対する低透過特性と帯域外波長の光に対する高透過特性とを有する。
【００３０】
このような実施形態における分光計は、例えば、ＥＵＶ分光計であり、帯域内は、１３．５ｎｍの中心波長の周辺の２％の波長を表す。
【００３１】
好ましくは、スペクトルフィルタはセットから選択可能なスペクトルフィルタであり、セットはキャリアに保持されている。
【００３２】
スペクトルフィルタのセットを保持するキャリアは、例えば、入来するビームに対して横切る方向に移動するように電動並進ステージに取り付けられている。
【００３３】
更に別の実施形態において、ピンホール又はスリットは、入来するビームに対して横切る方向及び長手方向に移動するように電動並進ステージに取り付けられているキャリアに保持されている。
【００３４】
有利な実施形態において、透過型回折格子はセットから選択可能な透過型回折格子であり、セットはキャリアに保持されている。
【００３５】
透過型回折格子のセットを保持するキャリアは、入来するビームに対して横切る方向及び長手方向に移動するように電動並進ステージに取り付けることができる。
【００３６】
透過型回折格子のセットは、個々の透過型回折格子を含むアレイを示すマイクロチップによって提供することができ、アレイは、例えば、３×７行列であり、該行列において、個々の透過型回折格子は、それぞれ１ｍｍにつき５００本、７８０本、１０００本、１５００本、１８５０本、２０００本、２５００本の線の線密度と、１ｍｍにつき１０００本の線の増分で３０００本から開始して１００００本までの線の線密度とを有する。
【００３７】
好ましい実施形態において、ピンホール又はスリット及び回折格子は、カメラに対して先端側の位置に配置されている。
【００３８】
迷光を低減させるために、カメラがＣＣＤチップを備える一実施形態では、広帯域分光計は、光ビームの経路に対して垂直な位置で格子とカメラとの間に配置された、ＣＣＤチップの表面寸法に対応する開口部を有する黒化プレートを備える。
【００３９】
本発明による装置は、ＸＵＶ光源、例えば、ＥＵＶリソグラフィ用のデバイスで使用されるＥＵＶ光源を制御するのに特に適している。
【００４０】
したがって、好ましい施形態では、本発明による装置における制御手段は、ＸＵＶ光源を、こうした光源のスペクトルを最適化するために制御するように適合されている。
【００４１】
上記実施形態では、光源スペクトルは、例えば、駆動レーザ出力、パルス持続時間、一時的なパルス形状、焦点サイズ、焦点形状、ビーム位置決め、分極、先行パルスと主パルスとの間の時間遅延及びガス圧等の光源パラメータを調整することによって最適化することができる。
【００４２】
ここで、以下、図面を参照して例示的な実施形態に基づいて、本発明について説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明による方法の一実施形態のフローチャートである。
【図２】ＥＵＶ分光計に入射した、ＥＵＶ光源によって放射されたＥＵＶ光のビームのスペクトルを示す図である。
【図３】ＥＵＶ分光計によって記録された、図２に示すスペクトルを示す図である。
【図４ａ】本発明による処理のそれぞれの中間ステップの後の図３のスペクトルを示す図である。
【図４ｂ】本発明による処理のそれぞれの中間ステップの後の図３のスペクトルを示す図である。
【図４ｃ】本発明による処理のそれぞれの中間ステップの後の図３のスペクトルを示す図である。
【図４ｄ】本発明による処理のそれぞれの中間ステップの後の図３のスペクトルを示す図である。
【図４ｅ】本発明による処理のそれぞれの中間ステップの後の図３のスペクトルを示す図である。
【図４ｆ】本発明による処理のそれぞれの中間ステップの後の図３のスペクトルを示す図である。
【図４ｇ】本発明による処理のそれぞれの中間ステップの後の図３のスペクトルを示す図である。
【図４ｈ】本発明による処理のそれぞれの中間ステップの後の図３のスペクトルを示す図である。
【図５】本発明による処理によって回復された図２のスペクトルを示す図である。
【図６】ＥＵＶ分光計の概略図である。
【図７】本発明によるＥＵＶ光源及びコントローラと組み合わせた、図６に示すＥＵＶ分光計のブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
図において、対応する構成要素は、同じ参照数字を用いて示されている。
【００４５】
図１は、コンピュータプログラムとして実装することができるステップ（ｉ）〜（ｘｉｉｉ）を含む、本発明による方法の一実施形態のフローチャートを示す。
【００４６】
図２は、（図６及び図７に概略的に示す）ＥＵＶ分光計１に入射する、ＥＵＶ光源によって放射されたＥＵＶ光のビームのスペクトルを示す。このスペクトルは、本発明の方法によって回復すべきスペクトルである。
【００４７】
図３は、（図６及び図７に概略的に示す）ＥＵＶ分光計１のＣＣＤカメラ６によって記録された図２のスペクトルを示す。このスペクトルは、ＥＵＶ分光計１の回折格子５に起因するいくつかの比較的高次の寄与と、ピンホール４に起因する広がりとを示す。ＣＣＤカメラ６によって（図７において線１７によって表す）記録されたスペクトルは、コントローラ、すなわちＣＰＵ（中央処理装置）１８に入力され、したがって、図１のフローチャートに示すような処理に対する第１のステップ（ｉ）開始に対してデータを提供する。
【００４８】
図４ａ〜図４ｈは、図１のフローチャートによる処理におけるいくつかの中間ステップ（ｖ）及び（ｖｉｉｉ）を示し（パラメータｋはｋ＝１からｋ＝８まで増大し、λ０＝５ｎｍである）、記録されたスペクトルの処理を例示する。
【００４９】
図５は、十分な量の反復の後に得られる、回復された入射スペクトルを示す。
【００５０】
図６は、ＥＵＶ分光計１を示し、ＥＵＶ分光計１は、その入口におけるシャッタ２と、光源スペクトルから特定の波長帯域を選択するフィルタアレイ３と、スリット又はピンホール４と、光７を散乱させる透過型回折格子チップ５と、スペクトルの検出用の裏面照射型ＣＣＤカメラである検出器６とを備える。シャッタ２は、キャリア２２に保持され、キャリア２２は、入来するビーム７に対して横切る方向（矢印８によって示す）に移動するように電動並進ステージ３２に取り付けられている。ＥＵＶ光源からの光７は、回折格子５に向けられ、回折格子５は、各波長をＣＣＤカメラ６に向かって異なる角度で回折させる。波長の長い光は、比較的大きい角度で回折する。したがって、入来するビーム７のスペクトル成分は、ＣＣＤカメラ６によって記録される画像から逆算することができる。分光計の全ての構成要素が、真空チャンバ（図示せず）内に収容される。フィルタ３は、セットから選択可能なフィルタであり、セットはキャリア２３に保持され、キャリア２３は、入来するビーム７に対して横切る方向（矢印８、９によって示す）に移動するように電動並進ステージ３３、４３に取り付けられている。ピンホール４又はスリットはキャリア２４に保持され、キャリア２４は、入来するビーム７に対して横切る方向８及び長手方向（矢印１１によって示す）に移動するように電動並進ステージ３４に取り付けられている。透過型回折格子５はセットから選択可能な透過型回折格子であり、セットはキャリア２５に保持され、キャリア２５は、入来するビーム７に対して横切る方向８、９及び長手方向１１に移動するように電動並進ステージ３５、４５に取り付けられている。上記並進ステージ３２、３３、４３、３４、３５、４５、５５の移動は、真空対応電動であり、グラフィカルユーザインタフェース（図７に概略的に示す）を用いてコンピュータによって制御することができる。制御システムにより、自動化された現場での位置合わせが可能になる。
【００５１】
図７は、ＥＵＶ光源２０及びコントローラ１８と組み合わせたＥＵＶ分光計１（破線）を示し、ＥＵＶ光源２０及びコントローラ１８はともに、シャッタ２、フィルタアレイ３、ピンホール４、回折格子５及びＣＣＤカメラ６をそれぞれ制御する制御信号１２、１３、１４、１５、１６を生成するとともに、ＣＣＤカメラ６の出力信号１７から、本発明の方法による回復されたスペクトル（出力信号１９として表す）を計算する。さらに、コントローラ１８は、光源２０によって放射される光のスペクトルを最適化するために光源２０を制御する制御信号２１を生成する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図４ｄ】
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【図４ｅ】
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【図４ｆ】
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【図４ｇ】
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【図４ｈ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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