(57)【要約】  少なくとも２つの層である内層（１５）及び外層（１４）を含み、且つ反射係数Ｒｅを有する干渉コーティングで被覆された光学製品（２０）を、マーキングスポット（Ｐ）において、マーキング波長のレーザビームにより、内層及び基板からさらに離れた任意の層を除去するような方法で内層（１５）を曝露することによってマーキングする方法であって、除去された領域は、Ｒｅと少なくとも１％だけ異なる反射係数Ｒｍを有し、内層は、基板からさらに離れた任意の層より多くマーキング波長を吸収する、方法。本発明は、少なくとも２つの層である内層及び外層を有する干渉コーティングで被覆された光学製品であって、レーザの局所的欠如によって形成されるマーキングパターンを含む、光学製品にも関する。【選択図】図９
2019523447.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学製品（１、２０）をマーキングする方法であって、前記光学製品（１、２０）上でマーキングマシンを使用する少なくとも１つのステップを有し、
前記マーキングマシンは、電磁ビーム（２３）、好ましくはレーザビームでマーキングするマーキングマシンであり、前記マーキングマシンは、マーキング波長と呼ばれる設定放射波長を有するビームを発するように構成された電磁波源、好ましくはレーザ源を有し、
前記光学製品は、干渉コーティング（２、３、４、５；１４、１５、１６、１７、１８、１９）で被覆された主要面を有する基板（６、２１）を有する光学製品（１、２０）であり、前記干渉コーティングは、内層（４、１５）及び外層（２、１４）と呼ばれる少なくとも２つの重ね合わされた層を有し、前記内層は、前記基板と前記外層との間にあり、前記干渉コーティングは、前記干渉コーティングが可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）において反射係数Ｒｅを有するようなものであり、
前記使用は、少なくとも、マーキングスポット（２５、Ｐ）と呼ばれる所与のスポットにおいて、前記マーキング波長の前記レーザビームを前記内層（４、１５）に照射して、前記マーキングスポットにおいて、前記内層の厚さの少なくとも一部にわたる前記内層と前記電磁波源と前記内層との間にある任意の層とを除去することを有し、且つ前記除去された領域が前記可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）において反射係数Ｒｍを有するようなものであり、Ｒｍは、Ｒｅと少なくとも１％だけ異なり、
前記内層は、前記電磁波源と前記内層との間にある任意の層よりも多く前記マーキング波長を吸収する、マーキング方法。
【請求項２】
ＲｍとＲｅとの間の差は、絶対値で３％より大きく、さらにより好ましくは５％より大きいようなものである、請求項１に記載のマーキング方法。
【請求項３】
前記照射することは、少なくとも以下のパラメータの
−  ２００〜４００ｎｍ、好ましくは２００〜３００ｎｍの区間に含まれる放射波長、及び
−  ０．１〜５ｎｓの区間に含まれるパルス持続時間、及び
−  ０．１〜１０μＪの区間に含まれる、好ましくは０．５〜３μＪの区間に含まれる１パルスあたりのエネルギー、及び
−  前記マーキングスポット（２４、Ｐ）における、５〜５０μｍの区間に含まれるビーム径、を有するパルス状紫外レーザ放射の焦点ビームを発することによって実行されるようなものである、請求項１又は２に記載のマーキング方法。
【請求項４】
前記照射することを実行する前記パルス状紫外レーザ放射のビームの放射波長が２００〜３００ｎｍの区間に含まれる場合、前記内層（４、１５）は、好ましくは基本的に錫からなり、好ましくは酸化錫、さらにより好ましくは二酸化錫ＳｎＯ２を主成分とするようなものである、請求項１〜３の何れか一項に記載のマーキング方法。
【請求項５】
前記内層（４、１５）は、１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜２５ｎｍ、さらにより好ましくは４〜１５ｎｍの区間に含まれる厚さを有し、前記内層（４、１５）及び前記外層（２、１４）の厚さの合計は、５〜３００ｎｍ、好ましくは４５〜１７５ｎｍに含まれるようなものである、請求項１〜４の何れか一項に記載のマーキング方法。
【請求項６】
前記干渉コーティング（２、３、４、５）は、少なくとも１つの吸光層（３）を有するようなものである、請求項１〜５の何れか一項に記載のマーキング方法。
【請求項７】
前記内層から前記外層までカウントされる層のすべては、透過された可視光の少なくとも０．５％を共同で吸収し、且つＲｅとＲｍとの間の前記差の絶対値の０．５〜１．５倍、好ましくは０．９〜１．１倍の区間に含まれる吸光度を有するようなものである、請求項６に記載のマーキング方法。
【請求項８】
前記除去された領域及び除去されていない領域によって透過される光の量の間の差は、−０．５×（Ｒｍ−Ｒｅ）〜０．５×（Ｒｍ−Ｒｅ）に含まれ、（Ｒｍ−Ｒｅ）は、ＲｅとＲｍとの間の前記差の前記絶対値を表すと理解されるようなものである、請求項１〜７の何れか一項に記載のマーキング方法。
【請求項９】
前記干渉コーティングは、反射防止コーティング（１４、１５、１６、１７、１８）であり、且つ前記基板の表面又は前記基板上に存在するニスから外側に、厚さ５〜４０ｎｍのＺｒＯ２の層（１８）、厚さ１０〜５５ｎｍのＳｉＯ２の層（１７）、厚さ２０〜１５０ｎｍのＺｒＯ２の層（１６）、厚さ４〜１５ｎｍのＳｎＯ２の内層（１５）、及び厚さ５０〜１２０ｎｍのＳｉＯ２の外層（１４）を有するようなものである、請求項１〜８の何れか一項に記載のマーキング方法。
【請求項１０】
前記干渉コーティングは、それ自体が撥水コーティング、曇り防止コーティング、汚れ防止コーティング及び／又は保護材料の少なくとも１つの層等の表面コーティング（１３、１２、１１）で被覆されるようなものである、請求項１〜９の何れか一項に記載のマーキング方法。
【請求項１１】
前記照射することは、複数のマーキングスポットによって前記光学製品の前記基板の前記主要面の領域を局所的にマーキングするために必要な数のマーキングスポットで実行され、前記領域は、マーキングパターンと呼ばれる所定のパターンを形成するようなものである、請求項１〜１０の何れか一項に記載のマーキング方法。
【請求項１２】
前記マーキングパターンを形成する前記領域を画定する前記マーキングスポット間に連続性があり、前記領域は、好ましくは、前記除去された層からの単位面積あたり１％未満の残留部分を有するようなものである、請求項１１に記載のマーキング方法。
【請求項１３】
前記マーキングは、前記マーキングスポットの寸法以下である寸法のピッチで実行されるようなものである、請求項１１又は１２に記載のマーキング方法。
【請求項１４】
前記マーキングスポットにおける反射は、前記除去されていない領域の前記反射のものと彩度及び／又は色相において異なる色を有するようなものである、請求項１〜１３の何れか一項に記載のマーキング方法。
【請求項１５】
干渉コーティング（１４、１５、１６、１７、１８）で被覆された主要面を有する基板（２１）を有し、前記干渉コーティングは、内層（１５）及び外層（１４）と呼ばれる少なくとも２つの重ね合わされた材料層を有し、前記内層は、前記基板と前記外層との間にあり、前記干渉コーティングは、前記干渉コーティングが可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）において反射係数Ｒｅを有するようなものである、光学製品（３０）であって、
前記干渉コーティングの表面上にマーキングパターン（２２）を有し、前記マーキングパターン（２２）は、複数の実質的に同一のマーキングスポット（Ｐ）によって形成され、各マーキングスポットは、前記内層（１５）の厚さの少なくとも一部及び前記表面と前記内層との間にある任意の層（１４、１３、１２、１１）が局所的に存在しないことに対応し、除去された領域は、前記可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）において反射係数Ｒｍを有し、Ｒｅは、Ｒｍと少なくとも１％だけ異なるようなものであり、前記マーキングパターン（２２）は、好ましくは、連続している、光学製品（３０）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層干渉コーティングで被覆された光学製品、典型的には眼鏡レンズの永久的可視マーキングの一般的分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズ等の眼鏡レンズに様々な製造ステップが施されることが知られている。これらのステップの１つは、眼鏡レンズのその面の一方に永久マーキングと呼ばれるものを付すステップを含む。これらの永久的な技術的マーキングは、エングレービング又はマイクロエングレービングから形成され、点又は十字を表し、特定の点（例えば、眼鏡レンズの光学中心又は累進レンズのプリズム基準点）、又は軸線（例えば、それに沿って乱視が矯正される水平軸を示すため）、又は特定の領域の境界の形状（例えば、累進レンズの場合の近用領域又は遠用領域）を特定する。
【０００３】
これらの永久マーキングは、技術的マーキング又は商業的マーキングを問わず、眼鏡レンズの片面（前面又は後面）上に生成されることが多く、特定のマーキングは、場合により前面に、及び他のマーキングは、後面に生成される。基板の「後面」又は「内面」（一般的に凹面）は、製品の使用中に装用者の眼に最も近い面を意味する。逆に、基板の「前面」又は「外面」（一般に凸面）は、製品の使用中に装用者の眼から最も遠い面を意味する。
【０００４】
現時点で最も広く普及している光学製品のマーキング方法は、インクマーキング及びレーザマーキング（すなわちレーザビームを用いたマーキング）である。
【０００５】
インクマーキングには、何れの種類の眼鏡レンズ面にも適合する永久インクを見つけることが困難であり、及びこの種のマーキングは、外から見る人に見えるだけでなく、眼鏡レンズの装用者にも見えるという欠点がある。
【０００６】
文献Ｊａｘ  Ｈｏｌｄｉｎｇｓ  Ｉｎｃ．の米国特許出願公開第２００４／００９５６４５号明細書及び欧州特許第０６７７７６４号明細書は、透明基板上に層を連続的に堆積させることによって干渉コーティングを構成し、その間に、パターンを形成するマスクが、次の層が堆積される前に下地層上に印刷される方法を記載している。マスクは、溶剤を用いて消すように構成されたインクで印刷される。マスクは、次の層が堆積される前に除去され、それにより、マスクがあった部分で干渉コーティングの厚さがより薄くなる。コーティングは、その厚さに応じて異なる反射特性を有し、それがパターンを可視化する。このような技術は、時間がかかり、コストが高く、複雑な機械を使用する必要がある。
【０００７】
レーザマーキングは、表面をエングレービングするアブレーション（すなわち、ある量の材料を除去すること）によって行われ得る。したがって、マーキングは、一般に、マーキングポイント又はスポットと呼ばれる一連の点によって形成され、各マーキングスポットは、１つ又は複数のレーザパルスによって生成される。この場合、マーキングは、可視性を有し、それは、マーキングスポットの深さ及び幅並びに除去された１つ又は複数の層の厚さ及び性質によって異なる。このマーキングはまた、眼鏡レンズの装用者の視野の外に位置付けて、その視覚の障害とならないようにしなければならない。
【０００８】
文献米国特許出願公開第２０１４／００１６０８３号明細書は、後者の技術の改良を記載しており、それによれば、マーキングは、薄い酸化物層のコーティングを真空蒸着した後に眼鏡レンズの凸面上にレーザビームで生成され得る。これらの薄い層は、特定の順序で形成され、その後、連続的にレーザビームに曝され、したがって連続的に除去される。したがって、処理された表面は、処理されていない表面と異なる可視性を有する。それにより、外から見ている人に見えるマーキングを生成することができ、なぜなら、白光で照明された場合、外から見る人から異なる色が見えるからである。
【０００９】
しかしながら、レーザビームによって実行されるこのアブレーションによる方法には、マーキングの主として深さ方向の制御が難しいという大きい問題がある。したがって、あるピクセルに属する様々な点でマーキングステップを繰り返すことによって生成されるマーキングスポットは、一般的に連続せず、これは、マーキングが連続していないことを意味する。この文献によれば、あるピクセルで連続的に複数回の部分的アブレーションを行うことにより、エングレービングが深すぎる（すなわち、ある位置においてレーザビームが深く照射されすぎる）という問題を避けることができ、この問題は、眼鏡レンズのコーティング、例えば反射防止コーティング又は実際に傷防止コーティングが部分的又は完全にレーザビームによって攻撃されるという望ましくない効果につながり得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的の１つは、先行技術における欠点、特に光学製品のコーティングの全部又は一部が望ましくなく除去されるという問題を軽減させる、光学製品をマーキングする方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
したがって、本発明の主題は、第一の態様によれば、光学製品をマーキングする方法であって、前記方法は、光学製品上でマーキングマシンを使用する少なくとも１つのステップを含み、
マーキングマシンは、電磁ビーム、好ましくはレーザビームでマーキングするマーキングマシンであり、前記マーキングマシンは、マーキング波長と呼ばれる設定放射波長を有するビームを発するように構成された電磁波源、好ましくはレーザ源を含み、
光学製品は、干渉コーティングで被覆された主要面を有する基板を含む光学製品であり、前記干渉コーティングは、内層及び外層と呼ばれる少なくとも２つの重ね合わされた層を含み、内層は、基板と外層との間にあり、干渉コーティングは、それが可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）において反射係数Ｒｅを有するようなものであり、
使用は、少なくとも、マーキングスポットと呼ばれるあるスポットにおいて、マーキング波長のレーザビームを内層に照射して、マーキングスポットにおいて、内層の厚さの少なくとも一部にわたる内層と、電磁波源と内層との間にある任意の層とを除去することを含み、且つ除去された領域が可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）において反射係数Ｒｍを有するようなものであり、Ｒｍは、Ｒｅと少なくとも１％だけ異なり、
内層は、電磁波源と内層との間にある任意の層よりも多くマーキング波長を吸収する、方法である。
【００１２】
本発明の主題はまた、第二の態様によれば、内層及び外層と呼ばれる２つの重ね合わされた材料層を含む干渉コーティングで被覆された基板を含み、内層は、基板と外層との間にあり、干渉コーティングは、それが可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）において反射係数Ｒｅを有するようなものである、光学製品であって、
干渉コーティングの表面上にマーキングパターンを含み、マーキングパターンは、複数の実質的に同一のマーキングスポットによって形成され、各マーキングスポットは、内層及び前記表面と内層との間にある任意の層が局所的に存在しないことに対応し、除去された領域は、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）において反射係数Ｒｍを有し、それにより、Ｒｅは、Ｒｍと少なくとも１％だけ異なり、マーキングパターンは、好ましくは、連続している、光学製品である。好ましくは、このような光学製品は、本発明によるマーキング方法を用いて得られる。
【００１３】
本発明は、以下でより詳細に説明される。
【００１４】
したがって、本発明による方法は、マーキングスポットにおいて、内層の少なくとも一部の直接的な局所的アブレーションと、電磁波源と内層との間にある層の間接的な局所的アブレーションとを可能にする。
【００１５】
したがって、本発明は、有利には、マーキング方法、特にエングレービングの深さを制御することを可能にし、これは、先行技術の方法に関して非常に有利である。いかなる１つの理論にも拘束されることを望まないが、本出願人は、これが、主として、存在する他の層と比較して放射の波長での吸収性が非常に高い材料から作られる内層を電磁ビームが問題なく照射するという事実によると考えている。
【００１６】
具体的には、本発明によれば、電磁波源と内層との間に含まれる層の各々は、マーキング波長において少なくとも部分的に透過性を有し、すなわち、それは、このマーキング波長において少なくとも部分的に吸光性を有さない。好ましくは、この層は、このマーキング波長で少なくとも半透過性を有し、すなわち、それは、このマーキング波長のエネルギーの半分より多くを透過させる。
【００１７】
したがって、電磁ビームへの曝露中、この内層は、透過したエネルギーのほとんどを受け取り、したがって選択的に分解される。内層と電磁波源との間に含まれる層は、一般に非常に薄い酸化物層であることから、内層の分解又はさらに昇華は、これらの層を剥離させ、それが後に除去され得る。
【００１８】
したがって、電磁ビームは、有利には、内層を除去するためのものであり、電磁波源と内層との間にある任意の層及びしたがって特に外層が、最も多くの場合には剥離によって除去されることを間接的に可能にする。換言すれば、内層は、ビームによって（部分的又は完全に）破壊され、ビームと内層との間に含まれる層は、内層の破壊の付随的効果によって破壊／除去される。
【００１９】
アブレーションは、それによって生じる１つのマーキングスポットが一般に実質的に円柱形を有するようなものであり、その軸は、内層が除去される前に基板から最も遠い内層の表面に実質的に垂直である。
【００２０】
本発明が、反射防止コーティングを含む眼鏡レンズに応用される場合、反射強度の値が、除去された領域と除去されていない領域との間で異なるだけでなく、追加的な実施形態では、Ｌ，ａ＊，ｂ＊空間で表現される色度が２つの領域間で異なることに留意されたい。除去されていない領域は、したがって、例えば反射率約０．８％のＣｒｉｚａｌ  Ｆｏｒｔｅ（登録商標）コーティングを含むレンズの場合、反射において薄緑色の残留色を有し得、除去された領域は、反射においてむしろ薄青色の色を有し得る。
【００２１】
より一般的に、本発明によるマーキング方法は、有利には、マーキングスポットの反射が、除去されていない領域の反射のものと彩度（色相：ｈ＊）及び色相（色度：Ｃ＊）において異なる色を有するようなものである。
【００２２】
したがって、除去された領域と除去されていない領域との間の、パターンが見えるようにするためのコントラストは、主として反射強度の違いに基づき、反射における色の違いによって改良され得る。本発明による光学製品は、必ずしもサングラスのような低透過率製品であるとはかぎらない。それは、ほとんど透明であり得る。
【００２３】
しかしながら、レーザビームの焦点は、必ずしも干渉コーティングの内層中にあるとはかぎらない点に留意されたい。それは、さらにより多くの場合、後者の外部、典型的には後者の１〜２ｍｍ外側、例えば光学製品より２ｍｍ上にある。これは、例えば、本出願人の特許出願の国際公開第２０１５／０４０３３８号パンフレットに記載されている。
【００２４】
「ＡとＢとの間に含まれる要素」は、特に別段の明示がないかぎり、その要素がＡとＢとの間にあるが、ＡでもＢでもないことを意味する。
【００２５】
「Ａ〜Ｂの区間に含まれる要素」又は「Ａ〜Ｂの要素」は、特に別段の明示がないかぎり、その要素がＡとＢとの間にあり、Ａ又はＢであり得ることを意味する。「ＡからＢにカウントされる要素のすべて」は、特に別段の明示がないかぎり、Ａから、Ｂから、及びＡとＢとの間にある任意の要素から形成される組合せであることを意味する。
【００２６】
「照射する」は、本発明によれば、電磁ビームに曝露させることを意味する。これは、材料、すなわち除去される材料の除去につながる。照射は、本発明によれは、マーキングマシンによって行われる。
【００２７】
「除去されていない領域」は、本発明によれば、主要面のうち、照射されなかった、したがって除去されなかったあらゆる部分を意味する。
【００２８】
「干渉コーティング」（干渉フィルタ又はダイクロイックフィルタとも呼ばれる）は、本発明によれば、光学製品の表面の反射係数を、可視光、すなわち区間（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）に含まれる波長の全部又は一部において、増加的又は減殺的干渉メカニズムを介して減衰及び／又は増幅させるようなインデックス及び厚さを有する少なくとも２層のあらゆるコーティングを意味する。したがって、この反射フィルタは、薄い層の連続からなり、その動作原理は、遭遇する光屈折界面の各々からの連続的な反射の干渉に基づく。干渉は、層の厚さ及び波長によって増加的又は減殺的であり得る。透過されない部分は、反射される。反射防止コーティングの場合、様々な反射が干渉して、大きく減衰される。それに対して、反射のすべてが一致している場合、非常に反射率の高いミラー状の干渉コーティングが得られる。
【００２９】
「反射防止コーティング」は、光学製品の表面に堆積された、使用可能な状態となった製品の反射防止特性を改善するコーティングと定義される。それにより、可視スペクトルの比較的広い部分について、製品と空気との界面における光の反射を低減させることが可能となる。
【００３０】
反射防止コーティングは、当技術分野でよく知られており、特定の例が特許出願の米国特許出願公開第２００８／０２０６４７０号明細書に記載されている。本発明の反射防止コーティングは、可視スペクトルの少なくとも一部について最終光学製品の反射防止特性を改善することにより、光の透過を増大させ、光学製品と空気との界面における表面の反射を減少させる任意の層又は層のコーティングを含み得る。
【００３１】
前述のように、本発明は、ミラー型の干渉コーティングにも関する。
【００３２】
本発明による光学製品の干渉コーティングは、それが反射防止コーティングであるか否かを問わず、上で定義されたような本発明による干渉コーティングを含む。
【００３３】
特に、本発明において理解されるように、「干渉コーティング」は、何れの汚れ防止、及び／又は曇り防止、及び／又は撥水性、及び／又は疎水性、及び／又は撥油性、及び／又は親水性コーティングも含まず、これらのコーティングは、一般に、厚さが２ｎｍ以下であり、特に反射の減衰又は増幅に無視できる程度にのみ関与する。したがって、干渉コーティングの各層が干渉メカニズムに対する影響を有する。
【００３４】
本発明によれば、「内」は、基板に最も近い側を指し、「外」は、基板から最も遠い側を指す。したがって、「内層」及び「外層」は、特に別段の明記がないかぎり、それぞれ「干渉コーティングの層のうち、基板に最も近い干渉コーティングの層」及び「干渉コーティングの層のうち、基板から最も遠い干渉コーティングの層」である。
【００３５】
「外層」は、任意の追加的な汚れ防止、若しくは撥水性、若しくは曇り防止層、又はさらに例えば縁取りステップのための接着性を増大させる役割を有し、光学製品が最終使用者によって使用される前に除去されることが意図される一時的な層で覆われ得る。このような追加の層は、従来、トップコートとして知られ、前述のように本発明で理解される干渉コーティングに含まれない。
【００３６】
「内層は、電磁波源と内層との間にある任意の層より多くマーキング波長を吸収する」は、本発明によれば、内層のマーキング波長の吸収係数が、電磁波源と内層との間にある他の任意の層のマーキング波長の吸収係数より少なくとも１０％、好ましくは２０％高いことを意味する。
【００３７】
「吸収係数」は、可視スペクトルの波長の吸収を表し、本発明によれば、ある媒体におけるある波長（ここでは可視領域）の電磁ビームに関する吸光度Ａと光路Ｌとの比（＝Ａ／Ｌ）と定義される。この比は、特にＩＳＯ／ＣＤ  １１５５１の規格に従ってｍ−１又はｃｍ−１で表現される。
【００３８】
「より多く」は、本発明によれば、ある意味において、本発明によって追求される目的を達成するのに適当である、当業者であればどのように定義すべきかを知っているものを意味する。
【００３９】
「反射係数」（本発明によればＲｅ又はＲｍ）は、本発明によれば、可視スペクトルの少なくとも全部をカバーする光源、例えば太陽光源又は光源Ｄ６５によって照明された、光学製品の表面によって反射される光の量である。反射の量は、好ましくは、２°又は１０°の角度で入射する光線で測定される。明示されていない場合、反射係数は、可視光、すなわち３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに含まれる波長を有する光のみを考慮する。
【００４０】
「透過率」Τｖ（タウインデックスｖ）は、可視スペクトルの少なくとも全部をカバーする光源、例えば太陽光源又は光源Ｄ６５によって照明されたときの、波長に関する光学製品を透過する光束部分に対応する。透過率は、標準化された国際定義（標準ＩＳＯ  １３９６６：１９９８）に対応し、標準ＩＳＯ  ８９８０−３に従って測定される。それは、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲で定義される。
【００４１】
「透明」は、本発明によれば、可視範囲［３８０〜７００ｎｍ］の波長で吸光性を有さないこと、すなわち、換言すれば、透明とされた製品を通して観察される像が、コントラスト又は品質が大きく損なわれずに知覚されることを意味する。
【００４２】
内層は、干渉コーティングのうちの基板に最も近い層である。それは、基板と干渉層の外層との間にあるが、必ずしも基板又は外層と接触するとはかぎらない。したがって、１つ又は複数の中間コーティングの１つ又は複数の層が基板と内層との間及び内層と外層との間に置かれ得る。加えて、内層は、必ずしも基板を完全に覆うとはかぎらないが、好ましくは、前記層は、前記基板を覆う。
【００４３】
基板と内層との間にある何れの任意選択的な層も、マーキング波長で少なくとも部分的に透明であり、すなわち、このマーキング波長で少なくとも部分的に吸光性を有さない。好ましくは、この層は、このマーキング波長で少なくとも半透明であり、すなわち、それは、このマーキング波長のエネルギーの半分より多くを透過させる。
【００４４】
同様に、外装は、必ずしも内層と接触するとはかぎらない。さらに、前述のように、１つ又は複数の追加の層が外層の上に置かれ得る。換言すれば、外層は、必ずしも光学製品の基板から最も遠い層であるとはかぎらない。これらの追加の層は、例えば、製造に関して使用されるが、最終使用者が使用する光学製品上に存在することは意図されていない一時的な層である。例えば、これは、眼鏡レンズの場合、レンズをフレームの形状に合わせて縁取りできるようにするために使用されるコーティングであり得、前記追加の層は、成形作業後に除去される。
【００４５】
本発明による光学製品は、スクリーン、グレージングユニット、特に作業環境で使用可能な保護眼鏡又はミラー等、任意の種類の製品であり得るが、好ましくは眼鏡レンズ、さらにより好ましくは眼鏡のための眼鏡レンズ、半加工光学レンズ等のブランク眼鏡レンズ、及び特に眼鏡である。レンズは、透明、偏光若しくは着色レンズ又はフォトクロミックレンズであり得、或いは拡張現実デバイス等のアクティブ要素又はエレクトロクロミック若しくは電子焦点デバイスと組み合わされ得る。レンズは、光学屈折力を有さないレンズ、単純若しくは複合的な光学屈折力を有するレンズ、又はさらに累進、若しくは二焦点、若しくは多焦点レンズであり得る。
【００４６】
光学製品は、一般に、外層の基板から最も遠い側において、当技術分野で知られているような干渉コーティング、好ましくは本来であれば眼鏡レンズの装用者及びその人と対話する人にとって不快となり得る寄生反射の形成を防止する反射防止コーティングを有する。本発明によるマーキング方法によってマーキングされるのは、この干渉コーティングである。
【００４７】
したがって、典型的には、眼鏡レンズには、一般的に鉱物材料製の単層又は多層反射防止コーティングが設けられる。このような干渉コーティングは、非限定的に、反射防止コーティング、反射（ミラー状）コーティング、赤外線フィルタ若しくは紫外線フィルタ、又は発光スペクトルの一部では反射防止コーティングとして機能し、１つ若しくは複数の波長範囲の付近では部分的なミラーとして機能する干渉コーティングであり得、好ましくは反射防止コーティングである。
【００４８】
基板は、可視光の波長［３８０〜７８０ｎｍ］に対して透過性を有し、前後の主要面を有する。
【００４９】
本発明による基板は、好ましくは、例えば熱可塑性又は熱硬化性プラスチック製の有機レンズである。干渉コーティングが、任意選択的に例えば少なくとも１つの耐摩耗及び／又は傷防止コーティング層で被覆された基板上に堆積された後、前記任意選択的に被覆された基板の表面に、干渉コーティングの接着力を増大させるための物理化学的活性化処理を施すことが一般的である。
【００５０】
本発明による干渉コーティングは、露出した（すなわちコーティングされていない）基板の主要面の少なくとも１つの表面又は少なくとも１つの機能性コーティング層ですでに被覆された基板の主要面の少なくとも１つに存在し得る。しかしながら、それは、光学製品の基板の主要面の両方の表面上に存在し得る。
【００５１】
「機能性コーティング」は、本発明によれば、傷防止コーティング、耐衝撃コーティング若しくは接着性を向上させるコーティング、着色コーティング、（特に）静電防止コーティング、偏光機能若しくはフォトクロミック機能を果たすフィルム若しくはコーティング、又は実際には活性機能、例えばエレクトロクロミック機能を可能にする構造を含む非限定的なリストから選択される少なくとも１つのコーティングを意味する。
【００５２】
よく知られているように、干渉コーティング、好ましくは反射防止コーティングは、従来、通常、高屈折率（ＨＩ）層及び低屈折率（ＬＩ）層を含む多層コーティングである。
【００５３】
ＨＩ層は、当技術分野でよく知られている。これらは、一般に１種又は複数の酸化鉱物を含み、これは、例えば、ジルコニア（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ５）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化プラゼオジム（ＰｒＴｉＯ３）、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、酸化インジウムＩｎ２Ｏ３、又は酸化錫ＳｎＯ２であり、これらに限定されない。好ましい材料は、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＰｒＴｉＯ３、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３及びその混合物である。
【００５４】
ＬＩ層もよく知られており、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＳｒＦ４、少量のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、ＡｌＦ３、及びその混合物を含み得るが、これらに限定されず、好ましくはＳｉＯ２である。
【００５５】
これらの層の少なくとも１つは、導電性を有し得る。したがって、これによって光学製品を静電防止性とすることができる。「静電防止性」は、相当程度の静電気を保持及び／又は生成しない特性を意味する。光学製品は、一般に、これらの表面の１つを適当な布で擦った後、それが塵埃又は小さい粒子を吸引又は保持しない場合、容認可能な静電防止特性を有すると考えられる。導電層は、干渉コーティング中の様々な場所にあり得、その際、光学製品の干渉特性、例えば反射防止特性がそれによって不利な影響を受けないことが条件となる。それは、干渉コーティングの見掛けの透明性に不利な影響を与えないように十分に薄くなければならない。一般に、その厚さは、０〜１００ｎｍ、好ましくは２〜２５ｎｍの区間内、さらにより好ましくは４〜１５ｎｍの区間内で変化する。導電層は、干渉コーティングの一部をなし、好ましくは、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、及びそれらの混合物から選択される金属酸化物を含む。酸化インジウム錫（酸化インジウムがドープされた錫、Ｉｎ２Ｏ３：Ｓｎ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、及び酸化錫ＳｎＯ２が好ましい。
【００５６】
例えば、本出願人の仏国特許出願の仏国特許（仏国特許発明）第２９４３７９８号明細書は、静電防止及び反射防止又は反射特性を備える光学製品を記載しており、これは、反射防止又は反射コーティングで被覆された少なくとも１つの主要面を有する基板を含み、前記コーティングは、酸化錫を主成分とする少なくとも１つの導電層を含み、すなわち導電層の総重量に関して少なくとも３０重量％の酸化錫を含む。このような光学製品は、有利な態様として、本発明によるマーキング方法でマーキングされ得、導電層は、特に特定のマーキング波長での本発明による内層であることに適している。
【００５７】
干渉コーティングは、前記コーティングの耐摩耗性及び／又は耐傷性を改善することを目的とした、且つ／又は基板若しくはその下のコーティングとのその接着性を向上させるための下層（すなわち比較的厚いコーティング）も含み得る。このような下層は、干渉コーティングの一部を形成し、一般に、その厚さは、１００〜２００ｎｍである。これは、一般に、事実上、完全に鉱物であり、例えば二酸化シリコンＳｉＯ２からなる。
【００５８】
一般に、ＨＩ層は、１０〜１２０ｎｍの厚さを有し、ＬＩ層は、１０〜１００ｎｍの厚さを有する。
【００５９】
好ましくは、本発明によれば、干渉コーティングの全体厚さは、１μｍ未満であり、より良好には７８０ｎｍ以下であり、さらにより良好には５００ｎｍ以下である。干渉コーティングの全体厚さは、一般に１００ｎｍより大きく、好ましくは１５０ｎｍより大きい。
【００６０】
マーキングマシンは、例えば、本出願人の特許出願の国際公開第２０１５／０４０３３８号パンフレットに記載されており、最も具体的には２３０〜２９０ｎｍ、好ましくは約２６６ｎｍの利用波長でのＮｄ−ＹＡＧレーザの使用が記載されている。
【００６１】
例えば、Ｎｄ−ＹＡＧレーザは、本発明によれば、１ｎｓのパルスで２６６ｎｍ、３μＪの１パルスあたりのエネルギー、及び直径１０μｍのマーキングスポット面積で使用され得る。
【００６２】
このようにマーキングレーザをパラメータ化することにより、有利には、ＳｎＯ２層を標的とし、照射されたときに、基板を通らずにＳｎＯ２層を少なくとも部分的に除去することができるだけでなく、ＳｎＯ２層のその部分の除去中、ＳｎＯ２層の上方にある１つ又は複数の層も除去することができる。これは、下記の例で実証する。
【００６３】
干渉コーティングが反射防止コーティングである場合、その反射係数Ｒｅは、好ましくは、１．４％未満であり、さらにより好ましくは０．８５％未満である。
【００６４】
本発明によるマーキング方法は、有利には、外から見ている人にとって良く見えるが、光学製品の装用者にとってあまり見えない、好ましくは全く見えないマーキングパターンを得ることを可能にする。現実には、ＲｅとＲｍとの間の反射係数の２％の差（Ｒｍ−Ｒｅ＝０．０２）は、反射角度に応じて約２００〜３００％の反射の局所的増大に対応し、反射の認知可能な増大は、以下のとおりである：（Ｒｍ−Ｒｅ）／Ｒｅ。
【００６５】
干渉コーティングが反射防止コーティングである場合、反射の認知可能な増大は、例えば、約０．０２／０．００８５［すなわち（Ｒｍ−Ｒｅ）／Ｒｅ］、すなわち２３５％である。
【００６６】
好ましくは、本発明によれば、ＲｍとＲｅとの間の差は、絶対値で３％より大きく、さらにより好ましくは５％より大きい（ある入射角の光に関する量）。一般に、ＲｍとＲｅとの間の差は、干渉コーティングがミラー状コーティングである場合を除き、反射係数Ｒｅの５０％未満である。
【００６７】
１つの実施形態によれば、ＲｍとＲｅとの間の差は、絶対値で５％〜２５％、好ましくは７％〜２０％に含まれる。
【００６８】
本発明の１つの実施形態によれば、照射ステップ後、照射ステップで除去された層の痕跡を除去するためのクリーニングステップが行われる。
【００６９】
本発明の１つの好ましい実施形態によれば、電磁ビームは、パルス状に発せられ、１パルスあたりのエネルギーは、０．１〜１０μＪの区間に含まれ、例えば０．５μＪ、１μＪ、２μＪ、又は５μＪに等しく、好ましくは０．１〜３μＪの区間に含まれ、例えば０．５μＪ、１μＪ、２μＪ、又は３μＪに等しい。
【００７０】
好ましくは、照射ステップは、少なくとも以下のパラメータ：
−  ２００〜４００ｎｍ、好ましくは２００〜３００ｎｍの区間に含まれる放射波長、
−  ０．５〜５ｎｓの区間に含まれるパルス持続時間、及び
−  ０．１〜１０μＪの区間に含まれる、好ましくは０．５〜３μＪの区間に含まれる１パルスあたりのエネルギー、及び
マーキングスポットにおける、５〜５０μｍの区間に含まれるビーム径
を有するパルス状紫外レーザ放射の焦点ビームを発することによって実行される。
【００７１】
本発明の１つの好ましい実施形態において、照射ステップを実行するパルス状紫外レーザ放射のビームの放射波長が２００〜３００ｎｍの区間に含まれる場合、内層は、好ましくは基本的に錫からなり、好ましくは酸化錫、さらにより好ましくは二酸化錫ＳｎＯ２を主成分とする（la couche inte’rieure est a` base, de pre’fe’rence constitue’e essentiellement, d'e’tain, de pre’fe’rence d'oxyde d'e’tain, de manie`re encore plus pre’fe’re’e de dioxyde d'e’tain SnO2）。
【００７２】
「主成分とする（基づく）（A base）」は、本発明によれば、内層が内層の総重量に関して少なくとも５０重量％の化合物を含むことを意味すると理解される。
【００７３】
「基本的に〜からなる（Constitue’e essentiellement）」は、本発明によれば、前記内層内の化合物の割合が７０％、７５％、８０％、９０％、９５％、９７％、９９％、９９．５％、９９．９５％の１つ以上であることを意味すると理解される。理想的には、前記内層は、二酸化錫ＳｎＯ２の層からなる。
【００７４】
本発明者らは、具体的には、錫、具体的には酸化錫、最も具体的には二酸化錫を主成分とする層が、前記層が本来であればシリカ又はジルコニアのみを主成分とする干渉コーティング中に存在する場合、２００〜３００ｎｍに含まれる波長を有するレーザビームによる照射中に選択的に反応することを認識した。この構成では、シリカ又はジルコニアを主成分とする層は、その波長に対して実質的に透過性を有するのに対し、錫を主成分とする層は、この波長において、この層のその厚さの少なくとも一部が局所的に破壊され、さらに除去されるのに十分な量のエネルギーを吸収する。
【００７５】
内層は、他の成分、特に金属酸化物、特に好ましくは透明の導電性金属酸化物を含み得る。それは、特に酸化チタン及び／又は酸化亜鉛を含み得る。好ましくは、内層は、インジウムを酸化物又は他の任意の形態で含まない。
【００７６】
好ましくは、内層は、１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜２５ｎｍ、さらにより好ましくは４〜１５ｎｍの区間に含まれる厚さを有し、内層の厚さと外層の厚さとの合計は、５〜３００ｎｍ、好ましくは４５〜１７５ｎｍに含まれる。
【００７７】
外層は、一般に、好ましくは基本的にシリコンからなり、好ましくは酸化シリコン、さらにより好ましくは二酸化シリコンＳｉＯ２を主成分とする。
【００７８】
本発明の１つの特定の実施形態によれば、任意選択的に被覆された干渉コーティングの可視範囲での透過率と、基板から外層までカウントされるすべての層の可視範囲での透過率とは、実質的に同一である。これは、一般に、可視範囲での吸光度が、除去された層の有無にかかわらず実質的に同一（すなわち０．１又は０．２％以内まで）であるために実現される。したがって、一般に、除去された領域（すなわち、少なくとも１つのマーキングスポットに含まれるマーキングされた領域、又はさらに本発明によるマーキング方法によって生成されたマーキングパターン）と、除去されていない領域（又はマーキングされていない領域、すなわちそのようなマーキングパターンを含まない領域）とによって透過される光の量の間の差は、主として、第一にこれらの領域の反射率の差に依存する。反射防止コーティングを含む透明な眼鏡レンズの場合、透過される可視光の量は、一般に、８５％、さらに９０％、又はさらに９５％より大きい。特に、可視範囲において、干渉コーティングの透過率は、（０．９９−Ｒｍ）に近く、ここで、Ｒｍは、コーティングの反射係数である。この場合、２つの領域の反射率の１％〜８％に含まれる差により、除去された領域において干渉コーティングを透過する光の量は、除去されていない領域においてコーティングを透過する光の量の０．９２倍〜０．９９倍に含まれることになる。マーキングパターンが装用者によく見えないか又は全く見えないようにするのは、この小さい差である。
【００７９】
本発明の１つの好ましい実施形態によれば、少なくとも１つの吸光層（すなわち少なくとも部分的に可視光を吸収する層）が本発明の干渉コーティングの中に存在し、電磁ビームによる内層の除去中に直接又は間接的に局所的に除去される。この場合、好ましくは、内層から外層までカウントされるすべての層がまとまって、透過された可視光の少なくとも０．５％、例えば透過光の少なくとも１％を吸収し、好ましくは、吸光層は、ＲｅとＲｍとの間の差の絶対値の０．５〜１．５倍、好ましくは０．９〜１．１倍の区間に含まれる吸光度（「Ａｂｓ」）（又は換言すれば吸収係数）を有する。これは、吸光層の厚さ及び吸収係数であるパラメータを介して実現される。
【００８０】
吸光層は、干渉コーティングの１層であり、干渉コーティングの反射特性に関与する。これは、内層、外層、又はこれらの２つの層間の別の層の位置であり得る。
【００８１】
この実施形態によれば、干渉コーティングを透過する光の量は、干渉コーティングの反射係数だけでなく、吸光層の固有の吸収にも依存しなくなる。したがって、除去されていない領域において干渉コーティングを透過する光の量は、約［１−Ｒｅ−Ａｂｓ］に対応し、ここで、Ａｂｓは、吸光層による光の吸収を表す。それに対して、照射中に吸光層が（直接又は間接的に）取り除かれた除去された領域において干渉コーティングを透過する光の量は、約［１−Ｒｍ］に対応する。特に、干渉コーティングのうち、吸光層以外の層の吸収は、第一に、ゼロと考えられる。
【００８２】
したがって、２つの領域の反射率の差は、［Ｒｅ−Ｒｍ］のままであり、対照的に、２つの領域によって透過される光の量の差は、したがって［Ｒｍ−Ｒｅ−Ａｂｓ］である。
【００８３】
対照的に、除去された領域と除去されていない領域とによって透過される光の量の間の差は小さくなる。これは、好ましくは、−０．５×（Ｒｍ−Ｒｅ）〜０．５×（Ｒｍ−Ｒｅ）に含まれ、（Ｒｍ−Ｒｅ）は、ＲｅとＲｍとの間の差の絶対値を表すと理解される。この値は、吸光層の吸収の値に依存する。このような場合、眼鏡の装用者による除去された領域の透過光の認識は、少なくとも半分に減る。
【００８４】
ある特定の場合、吸光層の厚さ及び吸収係数は、吸光層による光の吸収が反射率の差に近付き、（Ｒｅ−Ｒｍ）の絶対値の０．９倍〜１．１倍に含まれるように決定される。この場合、除去された領域は、透過光において目に見えないと考えることができる。
【００８５】
本発明の１つの実施形態によれば、干渉コーティングは、反射防止コーティングである。この場合、反射防止コーティングは、好ましくは、任意選択的に被覆された基板の表面から外側に、厚さ５〜４０ｎｍのＺｒＯ２の層、厚さ１０〜５５ｎｍのＳｉＯ２の層、厚さ２０〜１５０ｎｍのＺｒＯ２の層、厚さ４〜１５ｎｍのＳｎＯ２の内層、及び厚さ５０〜１２０ｎｍのＳｉＯ２の外層を含む。
【００８６】
本発明の１つの実施形態において、干渉コーティング自体は、（基板から最も遠い面において）保護材料のコーティング、例えば撥水コーティング、曇り防止コーティング、及び／又は汚れ防止コーティングで被覆され、したがって前記マーキング方法後、一般的に、この場合には前記マーキング方法後に実行される脱保護ステップが続き、前記脱保護ステップは、この保護材料のコーティングを除去することを含む。
【００８７】
本発明による１つの特定の実施形態によれば、照射ステップは、複数のマーキングスポットによって光学製品の基板の主要面の領域を局所的にマーキングするために必要な数のマーキングスポットで実行され、前記領域は、マーキングパターンと呼ばれる所定のパターンを形成する。この場合、好ましくは、マーキングパターンを形成する領域を画定するマーキングスポット間に連続性がある。このようなマーキング領域は、好ましくは、除去された層（すなわち直接又は間接照射によって除去された層）からの単位面積あたり１％未満の残留部分を含む。このような仕上げは、マーキング方法後に直接得ることができるか、又は実際には当業者であれば実行可能なブラッシング及び除去の追加のステップを必要とし得る。これは、注目すべきことに且つ有利には、先行技術の実施形態と異なる。
【００８８】
このような場合、好ましくは、マーキングは、マーキングスポットの寸法以下である、すなわち１つのマーキングスポットで除去される領域の平均直径以下である寸法のピッチで実行され、それにより、マーキングスポットは、部分的な重複を示す。例えば、マーキングのピッチは、ビームがパルス状に発せられる場合、ビームのパルスのマーキング直径の０．５〜１倍に含まれる。パルスが電磁波源によって毎回同一に再現される場合、１つの特定の実施形態は、マーキングピッチがマーキングの直径に等しいようなものである。これは、最も具体的には且つ有利には、本発明によれば、消費する電磁エネルギーが最小限で済む連続的なマーキング方法を実行することを可能にする。これは、電磁ビームがパルス状に発せられ、０．１〜３μＪの区間に含まれ、例えば０．５μＪ、１μＪ、２μＪ、又は３μＪに等しい１パルスあたりのエネルギーを有する場合に最も特に有効である。
【００８９】
「ピッチ」は、本発明によれば、連続して生成される２つのマーキングスポットの中心間の最短距離を意味する。
【００９０】
好ましくは、１つのマーキングスポットに１つのパルスが必要である。
【００９１】
本発明は、多層干渉コーティングで被覆された主要面を有する基板を含む光学製品にも関し、前記干渉コーティングは、内層及び外層と呼ばれる少なくとも２つの重ねられた材料層を含み、内層は、基板と外層との間にあり、前記製品は、干渉コーティングの表面上にマーキングパターンを含み、マーキングパターンは、複数の実質的に同一のマーキングスポットによって形成され、各マーキングスポットは、内層の厚さの少なくとも一部及び前記表面と内層との間にある任意の層の全体が局所的に存在しないことに対応し、マーキングパターンは、好ましくは、連続的である。
【００９２】
好ましくは、このような光学製品は、本発明によるマーキング方法によって得られ、その方法において、照射ステップは、複数回繰り返される。
【００９３】
マーキング領域は、複数のマーキングスポットから形成され、各マーキングスポットは、電磁ビームで内層の厚さの少なくとも一部の除去が達成されるように照射することによって得られる。
【００９４】
「干渉コーティングの表面上」は、前記コーティング自体が少なくとも１つのコーティング層で被覆されていない場合には干渉コーティングの表面上、又は前記コーティング自体が少なくとも１つのコーティング層で被覆されている場合にはコーティング層のうちの基板から最も遠い表面上を意味する。
【００９５】
「連続的マーキングパターン」は、本発明によれば、何れかのマーキングパターンが複数の連続するマーキングスポットから形成され、連続する２つのマーキングスポット間のピッチが、これらの２つのマーキングスポットの寸法の最も小さいもの以下の寸法であることを意味する。
【００９６】
干渉コーティング、特に内層及び外層の特徴は、本発明によるマーキング方法について上述したものと同様である。
【００９７】
好ましくは、本発明による光学製品は、可視光を吸収しないか又は可視光をほとんど吸収しない。本特許出願において、これは、可視光の相対透過率とも呼ばれる可視光の透過率Τｖが９％より高く、好ましくは９５％より高く、より好ましくは９７％より高く、さらにより好ましくは９９％より高いことを意味すると理解される。
【００９８】
特に好ましくは、本発明による光学製品の光吸収率は、１以下である。
【００９９】
代替的に、光学製品は、着色されたいわゆるサングラスレンズであり得、例えばサングラスの分類の国際的スケールでの分類に応じて５％〜５０％に含まれる透過率を有する。
【０１００】
本発明は、添付の図面に照らしてよりよく理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明によるマーキング方法の第一の実施形態を概略的に示し、その実行前のマーキング方法の原理を断面図で概略的に示す図である。
【図２】本発明によるマーキング方法の第一の実施形態を概略的に示し、実行中の過程のマーキング方法を断面図で概略的に示す図である。
【図３】本発明によるマーキング方法の第一の実施形態を概略的に示し、その実行の終了時のマーキング方法を断面図で概略的に示す図である。
【図４】図１〜３の第一の実施形態によって得られた眼鏡レンズ（１）に関する、眼鏡レンズの表面のマーキングスポット（２５）の領域及び他の領域における反射率（Ｒ）及び透過率（％）で得られた結果を示す図である。
【図５】図１〜３の第一の実施形態によって得られた眼鏡レンズ（１）に関する、眼鏡レンズの表面のマーキングスポット（２５）の領域及び他の領域における反射率（Ｒ）及び透過率（％）で得られた結果を示す図である。
【図６】本発明によるマーキング方法の第二の実施形態を概略的に示し、マーキング方法が実行される前の眼鏡レンズを示し、より正確には、マーキング方法が実行される前の眼鏡レンズの概観を示す図である。
【図７】本発明によるマーキング方法の第二の実施形態を概略的に示し、マーキング方法が実行される前の眼鏡レンズを示し、より正確には、マーキング方法が実行される前の眼鏡レンズ上にある層の断片を斜視図で示す図である。
【図８】本発明によるマーキング方法の第二の実施形態を概略的に示し、マーキング方法が実行された後の眼鏡レンズを示し、より正確には、マーキング方法が実行された後の眼鏡レンズの概観を示す図である。
【図９】本発明によるマーキング方法の第二の実施形態を概略的に示し、マーキング方法が実行された後の眼鏡レンズを示し、より正確には、マーキング方法が実行された後の眼鏡レンズ上に存在する層の断片を斜視図で示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０１０２】
本発明は、前述の添付の図面を参照すれば、以下の例示的な実施形態に照らしてよりよく理解されるであろう。図１〜９は、以下の実施例においてより詳細に説明される。
【実施例】
【０１０３】
以下の実施例は、本発明を例示するが、その範囲を限定しない。
【０１０４】
以下の２つの例示的な実施形態において、内層は、二酸化錫ＳｎＯ２から製作され、外層は、酸化シリコン、すなわち一酸化シリコンＳｉＯ又は二酸化シリコンＳｉＯ２の何れかから製作され、電磁ビームは、２６６ｎｍの（ＵＶ）レーザビームである。したがって、マーキング波長は、２６６ｎｍである。
【０１０５】
実施例１：基板と、クロムの第一の層（「Ｃｒ１」）と、ＳｎＯ２の内層と、クロムの吸光性の第二の層（「Ｃｒ２」）と、ＳｉＯ２の外層と、からなる眼鏡レンズのマーキング
眼鏡レンズ（１）は、基板（６）であって、その上に（クロム、「Ｃｒ１」の）第一の金属層（５）、二酸化錫ＳｎＯ２の内層（４）、（クロム、「Ｃｒ２」の）第二の金属層（３）又は吸光層、及び一酸化シリコンＳｉＯの外層（２）が重ねられる基板（６）からなる。基板（６）は、ここで、Ｍｉｔｈｒｉｌ（登録商標）という商標の傷防止コーティングを含む偏光又は着色基板である。
【０１０６】
このような基板−金属−誘電体−金属−誘電体構造は、米国特許出願公開第２００４／００９５６４５号明細書の先行技術においてマーキングされたレンズのそれと同様であるが、例外として、本発明によれば、ＳｎＯ２層が層Ｃｒ１と層Ｃｒ２との間に追加されている。
【０１０７】
（２）ＳｉＯ、（３）Ｃｒ２、（４）ＳｎＯ２、及び（５）Ｃｒ１の層は、これらが形成するコーティングが、反射するミラーを形成するように反射率を増大させる干渉効果を生じさせるような性質であり、そのような厚さを有する。このコーティングの平均反射係数は、約１２〜１５％であり、反射は、紫において最大である。
【０１０８】
クロムＣｒ２の層（５）は、可視光において非常にわずかに吸光性であり、実質的にシステムの全体的透過率を低下させるが、これは、ここではサングラスレンズである使用される眼鏡レンズ（１）の場合に問題とならない。
【０１０９】
層の物理的及び光学的特性の性質を下表に示す。
【０１１０】
【表１】
2019523447.tif 000003
【０１１１】
本発明によるマーキングプロセスは、パルス持続時間１ｎｓ、１パルスあたりのエネルギー３μＪ、及びマーキングスポット面積の直径約１０μｍで波長２６６ｎｍのビームを発するパルスレーザによって行われた。
【０１１２】
図１〜３は、本発明によるマーキング方法のこの第一の例示的な実施形態を概略的に示す。レーザビーム２３は、内層４に集光される稲妻によりごく象徴的に示されている。
【０１１３】
図１は、それが眼鏡レンズ１上で実行される前のマーキング方法の原理を概略的に示す。この図では、その上にクロムＣｒ１の第一の層（５）が堆積されている基板（６）と、酸化錫ＳｎＯ２の内層（４）と、次にクロムＣｒ２の層（３）と、最後に一酸化シリコンＳｉＯの外層（２）と、であり、最後の３つは、前記第一の層上に重ねられることがわかる。
【０１１４】
図２は、ＳｎＯ２で製作された内層（４）を照射し、それを破壊する電磁ビーム（２３）で層（４）、（３）、及び（２）を局所的に除去することによって実行されている過程のマーキング方法を断面図で概略的に示しており、層（３）及び（２）は、層（４）の破壊中に間接的に除去されている。除去する過程の層（４）、（３）、及び（２）の部分（２４）は、図３のマーキングスポット（２５）となり、それが見えている。この断面図において、層（４）は、２つの部分（４’）及び（４’’）に分割され、層（３）は、２つの部分（３’）及び（３’’）に分割され、層（２）は、２つの部分（２’）及び（２’’）に分割される。マーキングが開始される眼鏡レンズ（１’）は、基板（６）上の層（５）も含む。
【０１１５】
図３は、その実行終了時のマーキング方法を断面図で概略的に示す。この断面図では、層（４）、（３）、及び（２）が電磁ビーム（２３）による照射後に除去されており、これらは、２つの部分（４’）及び（４’’）、２つの部分（３’）及び（３’’）、並びに２つの部分（２’）及び（２’’）にそれぞれ分割される。このようにして、エングレービングされた眼鏡レンズ（１０）が得られる。
【０１１６】
図のように行われる実施形態により、マーキングスポット（２５）を生成することができた。本発明の方法の照射ステップを繰り返すことにより、マーキングパターン、例えばロゴを形成する複数のマーキングスポットを生成できる。
【０１１７】
有利には、クロムＣｒ１の層（５）は、内層（４）と基板との間に含まれる層であり、レーザの波長（２６０ｎｍ）で発せられる光をわずかにのみ吸収するか又はさらにほとんど吸収せず、その結果、これは、実際にマーキング電磁ビームの影響を受けなくなる。したがって、それは、マーキングのための電磁ビームの照射によって破壊されない。したがって、２つのマーキングスポット間の重複部における過剰なエングレービングのリスクを生じさせずに、マーキングスポットを重ねることが可能となる。したがって、本発明による方法は、有利には、眼鏡レンズ（１）の表面上に連続的なマーキング、すなわち大きい面積の、すなわち均一な、すなわち「ドット状」ではないロゴ等のマーキングを生成することを可能にする。
【０１１８】
対照的に、レーザアブレーションにより、残留のないマーキングを生成することを目的とした先行技術の手法では、部分的に重複するマーキングスポットを作る必要があり、これは、パターンの残りの部分に関して、２つの連続的なマーキングスポットで局所的により深い過剰なエングレービングが行われることを示唆しており、それにより、例えば、少なくとも１つの追加の層、すなわちＣｒ１の層（５）が局所的に除去されることになる。
【０１１９】
図４は、図１〜３の第一の実施形態によって得られた眼鏡レンズ（１）に関する反射率（Ｒ）で得られる、マーキングスポット（２５）の除去された領域における結果：Ｒｍ、及び眼鏡レンズ（１）の表面の除去されていない領域において得られる結果：Ｒｅを示す。
【０１２０】
干渉コーティング（２、３、４、５）は、図４に示される特定の分光反射率Ｒｅによって特徴付けられることと、除去されていない領域では、約１２〜１５％の平均分光反射率Ｒｅｆ２は、紫においてわずかにより多く反射することとがわかり得る。また、傷防止材料上に存在するＣｒ１の層（５）のみにより、レンズは、局所的に、約３３％の反射係数Ｒｅｆ１（これは、Ｒｅｆ２より高い）を有することになり、これは、可視光範囲の波長において比較的均一であることもわかり得る。
【０１２１】
したがって、眼鏡レンズ（１）を見たとき、見ている人は、マーキングの領域においてより多くの反射を知覚し、これは、周囲の点の反射と対照的である。
【０１２２】
マーキングスポット（２５）と、眼鏡レンズ（１）の表面の他の（除去されていない）領域との間の反射係数の差は、したがって平均約１８％であり、それにより、眼鏡レンズの表面からの反射の、反射強度だけでなく色相及び色度における差を介してパターンを形成できることになる。具体的には、マーキングスポット（２５）の除去された領域によって形成されるパターンの反射係数Ｒｍと、眼鏡レンズ（１）の表面の除去されていない領域の反射係数と、の間には、可視光スペクトルの中心波長において約２．５倍もの係数がある。
【０１２３】
この色相及び色度におけるばらつきは、実施例１のもの以外の干渉コーティングを用いる本発明によっても実現され得る。
【０１２４】
さらに、上に示したデータから明らかなように、反射の色相及びこの色相の強度は、マーキングスポット（２５）の除去された領域と眼鏡レンズ（１）の表面の除去されていない領域との間で変化する。マーキングスポット（２５）は、可視光スペクトルにわたって実質的に均一な反射率を有し、これによって実質的に白い反射光又は何れにしても色相強度の低い反射光が得られる。対照的に、眼鏡レンズ（１）の表面の除去されていない領域は、より具体的には紫の光を反射し、これにより、眼鏡レンズ（１）は、全体としてむしろ紫の色相を帯びる。
【０１２５】
好ましくは、可視光におけるＣｒ２の層（３）の吸光度Ａ２は、次式が満たされるか又はそれに近付くようなものである：Ｒｅｆ２＋Ａ２＝Ｒｅｆ１。この場合、マーキングスポット（２５）の除去された領域において眼鏡レンズ（１）を透過する光の透過率は、眼鏡レンズ（１）の表面の除去されていない領域におけるマーキングの外の透過率と実質的に同一である。これにより、眼鏡レンズの装用者は、事実上、マーキングスポット（２５）との透過率のレベルのその差を知覚しないか、又はさらに差がないと知覚することが可能となる。したがって、後者は、外から見ている人に見え、眼鏡レンズ（１）の装用者に見えない。
【０１２６】
したがって、この例示的な実施形態によれば、Ｃｒ２の層（３）の可視光（３８０〜７８０ｎｍ）における吸光度は、それが、層（２）ＳｉＯ２、（３）Ｃｒ２、及び（４）ＳｎＯ２を有さない干渉コーティングの有効性の低下と均等であるようなものである。
【０１２７】
図５は、図１〜３の第一の実施形態によって得られた眼鏡レンズ（１）を通る波長に関して測定された、マーキングスポット（２５）の領域における透過率（Τ）：Τｍ、及び眼鏡レンズ（１）の表面の除去されていない領域における透過率：Τｅを示す。
【０１２８】
内層（４）の厚さの少なくとも一部の除去中、Ｃｒ２の層（３）も除去され、マーキングスポット（２５）の除去された領域において、光の吸収に関与しなくなることがわかり得る。したがって、図５の曲線から推測されるように、透過率は、マーキングスポット（２５）の除去された領域（曲線Τｍ）及び眼鏡レンズ（１）の表面の除去されていない領域（曲線Τｅ）において実質的に同一である。
【０１２９】
したがって、眼鏡レンズ（１）の表面の除去されていない領域におけるクロム層（３）Ｃｒ２の吸収に起因する、眼鏡レンズ（１）を透過する光の量の減少は、マーキングスポット（２５）の除去された領域におけるより高い反射係数の存在に起因する、眼鏡レンズ（１）を透過する光の量の減少とほぼ均等である。
【０１３０】
この第一の実施形態の様々な変形形態が想定され得、そのすべては、当業者が実施する能力の範囲内にある。これらの変形形態の特定のものを以下に説明する。
【０１３１】
したがって、Ｃｒ１の層（５）の代わりに、各々がマーキング波長をあまり吸収しすぎない特性を有する層のコーティングを使用し得る。
【０１３２】
同様に、ＳｉＯの層（２）及びＣｒ２の層（３）の代わりに、同様の層の別のコーティングを使用し得る。
【０１３３】
最後に、Ｃｒ２の層（３）が可視範囲（３８０〜７００ｎｍ）においてわずかでも吸収しないようにするか、又はそれが全く存在しないようにすることが可能である。これは、特に、内層（４）自体が、可視光の波長範囲で吸収性を有する材料から製作されるように選択されている場合に当てはまる。
【０１３４】
実施例２：基板と、ＺｒＯ２の層と、ＳｉＯ２の層と、ＺｒＯ２の層と、ＳｎＯ２の内層と、ＳｉＯ２の外層と、ＤＳＸの層と、二重の一時的層と、からなる眼鏡レンズのマーキング
眼鏡レンズ（２０）は、Ｍｉｔｈｒｉｌ（登録商標）という商標の傷防止コーティングを含む、Ｅｓｓｉｌｏｒ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ（登録商標）によるインデックス１．５のレンズである基板（２１）と、その上に重ねられた、基板上に存在するニスから開始して連続的に、酸化ジルコニウムＺｒＯ２の第一の層（１８）、二酸化シリコンＳｉＯ２の第一の層（１７）、二酸化ジルコニウムＺｒＯ２の第二の層（１６）、二酸化錫ＳｎＯ２の層（１５）又は内層、二酸化シリコンＳｉＯ２の第二の層（１４）又は外層、（疎水性及び／又は撥油性の）汚れ防止層（１３）、厚さ３７ｎｍの二フッ化マグネシウムＭｇＦ２の層（１２）、及び厚さ数ナノメートルの酸化マグネシウムＭｇＯの層（１１）を含むコーティングからなる干渉コーティングとからなる。
【０１３５】
一時的な層であるＭｇＦ２及びＭｇＯのそれぞれの層１２及び１１を考慮せず、層（１４、１５、１６、１７、及び１８）は、ここでは反射防止コーティングである干渉コーティングを共同で形成し、層の厚さは、当業者に知られたソフトウェアパッケージにより（これらの層の性質が考慮される）、全体の反射係数（Ｒｅ）が１％未満、例えば測定されるサンプルに応じて０．７又は０．８％となるように計算される。
【０１３６】
干渉コーティングの層の性質並びに物理的及び光学的特性を下表に示す。
【０１３７】
【表２】
2019523447.tif 000004
【０１３８】
本発明による方法を実行することにより、ＳｉＯ２の外層１４、ＳｉＯ２の外層の外にある層１３、１２、及び１１が局所的に除去され、ＳｎＯ２で製作される内層１５が少なくとも部分的に除去される。このマーキングスポット（Ｐ）において、除去された領域で測定された屈折率（Ｒｍ）の値は、約８．５％又はＲｅの約１０倍である。
【０１３９】
図６〜９は、本発明によるマーキング方法のこの第二の例示的な実施形態を概略的に示す。
【０１４０】
図６及び７は、マーキング方法が実行される前の眼鏡レンズを示し、図８及び９は、マーキング方法が実行された後の眼鏡レンズを示す。
【０１４１】
図６は、マーキング方法が実行される前の眼鏡レンズ（２０）の概観を概略的に示す。
【０１４２】
図８は、マーキング方法が実行された後の眼鏡レンズ（３０）の概観を概略的に示す。その中で、「Ｅｓｓｉｌｏｒ」という単語を形成するマーキングパターンのエングレービング又はマーキング（２２）がわかり得る。
【０１４３】
図７は、マーキング方法が実行される前の眼鏡レンズ（２０）上にある層の断片を斜視図で概略的に示す。
【０１４４】
この図では、基板（２１）がわかり得、その上に連続して、「ＵＬ」ＵＶフィルタ層（１９）、ＺｒＯ２の第一の層（１８）、ＳｉＯ２の第一の層（１７）、ＺｒＯ２の第二の層（１６）、ＳｎＯ２の内層（１５）、ＳｉＯ２の外側の第二の層（１４）、ＤＳＸコーティング層（１３）、ＭｇＦ２の層（１２）、及びＭｇＯの層（１１）が堆積されている。
【０１４５】
図９は、マーキング方法が実行された後の眼鏡レンズ（２０）の上に存在する層の断片を斜視図で概略的に示す。
【０１４６】
層（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、及び（１５）は、本発明の方法の照射ステップの繰返しによってマーキング（２２）の一部を形成するマーキングスポット（Ｐ）（ここでは２次元で概略的に示されているが、実際には、前述のように、これは、実質的に円柱形である）において除去されており、それによって層（１１’）、（１２’）、（１３’）、（１４’）、及び（１５’）が得られる。このようにして、エングレービングされた眼鏡レンズ（３０）が得られる。
【０１４７】
実際に、マーキングスポット（Ｐ）の底部において、わずかなマーキング（２５）（ここでは２次元で概略的に示されているが、実際には、これは、実質的に円柱形である）が、層（１５）の直下に存在する層（１６）及び（１７）中に存在していることがわかる。したがって、層（１６）の二酸化ジルコニウムＺｒＯ２及び層（１７）の二酸化シリコンＳｉＯ２は、マーキング波長をわずかに吸収する。結果として得られるマーキングから推測できるように、吸収は、比較的弱く、これは、マーキングの可視性に影響が及ばないため、本発明によるマーキング方法の実行に適合する。
【０１４８】
実施例３：基板と、ＳｉＯ２の下層と、ＺｒＯ２の層と、ＳｉＯ２の層と、ＺｒＯ２の層と、ＳｎＯ２の内層と、ＳｉＯ２の外層と、ＤＳＸの層と、二重の一時的層と、からなる眼鏡レンズのマーキング
図６〜９は、本発明によるマーキング方法のこの第三の例示的な実施形態を概略的に示しており、層（１９）の性質のみが第二の例示的な実施形態に関して変更されている。
【０１４９】
眼鏡レンズ（２０）は、基板（２１）からなり、これは、Ｍｉｔｈｒｉｌ（登録商標）という商標の傷防止コーティングを含む、Ｅｓｓｉｌｏｒ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ（登録商標）によるインデックス１．５のレンズであり、その上に、基板上に存在するニスから開始して連続的に、ＳｉＯ２の厚い層（１９）、酸化ジルコニウムＺｒＯ２の第一の層（１８）、二酸化シリコンＳｉＯ２の第一の層（１７）、二酸化ジルコニウムＺｒＯ２の第二の層（１６）、二酸化錫ＳｎＯ２の層（１５）又は内層、二酸化シリコンＳｉＯ２の第二の層（１４）又は外層、（疎水性及び／又は撥油性の）汚れ防止層（１３）、厚さ３７ｎｍの二フッ化マグネシウムＭｇＦ２の層（１２）、及び厚さ数ナノメートルの酸化マグネシウムＭｇＯの層（１１）を含む干渉コーティングを含む。
【０１５０】
一時的な層であるＭｇＦ２及びＭｇＯのそれぞれの層１２及び１１を考慮せず、層（１４、１５、１６、１７、及び１８）は、ここでは反射防止コーティングである干渉コーティングを共同で形成し、層の厚さは、当業者に知られたソフトウェアパッケージにより（これらの層の性質が考慮される）、全体の反射係数が１％未満、例えば測定されるサンプルに応じて０．７％又は０．８％となるように計算される。
【０１５１】
層の性質並びに物理的及び光学的特性を下表に示す。
【０１５２】
【表３】
2019523447.tif 000005
【０１５３】
本発明による方法のこの実施形態は、実施例１の動作条件下において、実施例２と同様に、ＳｉＯ２の外層１４、ＳｉＯ２の外層の外側の層１３、１２、及び１１の局所的除去と、電磁ビームによって除去される内層である、ＳｎＯ２で製作された内層１５の少なくとも部分的な除去と、により、眼鏡レンズの表面上にパターンを作る。このマーキングスポット（Ｐ）において、除去された領域で測定された反射率（Ｒｍ）の値は、サンプルに応じて約１０％又はより正確には９．５％〜１０．５％、すなわちＲｅの約１２倍である。
【図１】
2019523447.tif 000006
【図２】
2019523447.tif 000007
【図３】
2019523447.tif 000008
【図４】
2019523447.tif 000009
【図５】
2019523447.tif 000010
【図６】
2019523447.tif 000011
【図７】
2019523447.tif 000012
【図８】
2019523447.tif 000013
【図９】
2019523447.tif 000014
【国際調査報告】
2019523447.tif 000015
2019523447.tif 000016
2019523447.tif 000017
2019523447.tif 000018
2019523447.tif 000019
2019523447.tif 000020