(57)【要約】  コーティング済み物品は、基板及び光学コーティングを備えてよい。上記基板は、第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有してよい。上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなくてよい。上記光学コーティングは、上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置されてよい。上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示してよい。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有する、基板であって、前記大表面の前記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、前記大表面の前記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、前記第１の方向と前記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
前記大表面の少なくとも前記第１の部分及び前記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、前記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
前記コーティング済み物品は、前記基板の前記第１の部分及び前記基板の前記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
前記コーティング済み物品は、前記反射防止表面において測定した場合に、前記基板の前記第１の部分において約８％以下の単一側面平均光反射率を示し、前記第１の部分の前記単一側面平均光反射率は、前記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、前記第１の入射照明角度は、前記第１の方向から約０°〜約６０°であり；
前記コーティング済み物品は、前記反射防止表面において測定した場合に、前記基板の前記第２の部分において約８％以下の単一側面平均光反射率を示し、前記第２の部分の前記単一側面平均光反射率は、前記第２の方向に対する第２の入射照明角度で測定され、前記第２の入射照明角度は、前記第２の方向から約０°〜約６０°であり；
前記第１の部分及び前記第２の部分における前記単一側面平均光反射率は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長レジームにわたって測定される、コーティング済み物品。
【請求項２】
前記コーティング済み物品は、前記基板の前記第１の部分の前記反射防止表面において測定した場合に、約０°〜約６０°の全ての角度に関して約８％以下の単一側面平均光反射率を示し；
前記コーティング済み物品は、前記基板の前記第２の部分の前記反射防止表面において測定した場合に、約０°〜約６０°の全ての角度に関して約８％以下の単一側面平均光反射率を示す、請求項１に記載のコーティング済み物品。
【請求項３】
前記コーティング済み物品は、前記基板の前記第１の部分の前記反射防止表面において測定した場合に、約５％以下の単一側面平均光反射率を示し；
前記コーティング済み物品は、前記基板の前記第２の部分の前記反射防止表面において測定した場合に、約５％以下の単一側面平均光反射率を示す、請求項１又は２に記載のコーティング済み物品。
【請求項４】
大表面を有する基板であって、前記大表面は、第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有し、前記大表面の前記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、前記大表面の前記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、前記第１の方向と前記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
前記大表面の少なくとも前記第１の部分及び前記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、前記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
前記コーティング済み物品は、前記基板の前記第１の部分及び前記基板の前記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
前記基板の前記第１の部分と前記基板の前記第２の部分との間の、前記コーティング済み物品の反射色の差異は、国際照明委員会規格の光源下において（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系の反射色座標によって測定した場合に約１０以下であり、前記反射色の前記差異は、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）として定義され、前記第１の部分における前記反射色は、前記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、前記第１の入射照明角度は、前記第１の方向から約０°〜約６０°であり、前記第２の部分における前記反射色は、前記第２の方向に対する第２の入射照明角度で測定され、前記第２の入射照明角度は、前記第２の方向から約０°〜約６０°である、コーティング済み物品。
【請求項５】
前記第１の入射照明角度は第１の方向から約０°〜約１０°の角度であり；
前記第２の入射照明角度は第２の方向から約０°〜約１０°の角度である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のコーティング済み物品。
【請求項６】
前記基板の前記第１の部分と前記基板の前記第２の部分との間の、前記コーティング済み物品の反射色の前記差異は、約０°〜約６０°の全ての前記第１の入射照明角度に関して、及び約０°〜約６０°の全ての前記第２の入射照明角度に関して、約１０以下である、請求項４又は５に記載のコーティング済み物品。
【請求項７】
前記第１の部分の基準点の色は約１０以下であり、前記第２の部分の基準点の色は約１０以下であり、前記第１の部分の前記基準点の色は前記第１の入射照明角度で測定され、前記第２の部分の前記基準点の色は前記第２の入射照明角度で測定され、前記基準点は、（ａ＊，ｂ＊）＝（０，０）、（−２，−２）、又は（−４，−４）である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のコーティング済み物品。
【請求項８】
大表面を有する基板であって、前記大表面は第１の部分及び第２の部分を備え、前記大表面の前記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、前記大表面の前記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、前記第１の方向と前記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
前記大表面の少なくとも前記第１の部分及び前記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、前記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
前記コーティング済み物品は、前記基板の前記第１の部分及び前記基板の前記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって前記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
前記基板の前記第１の部分と前記基板の前記第２の部分との間の、前記コーティング済み物品の反射色の差異は、国際照明委員会規格の光源下において（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系の反射色座標によって測定した場合に約１０以下であり、前記反射色の前記差異は、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）として定義され、前記第１の部分における前記反射色は、前記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、前記第１の入射照明角度は、前記第１の方向から約０°〜約６０°であり、前記第２の部分における前記反射色は、第２の入射照明角度で測定され、前記第２の入射照明角度は、前記第１の部分及び前記第２の部分における前記反射色が同一の視認方向で測定されるよう、前記第１の入射照明角度の方向と同一の方向である、コーティング済み物品。
【請求項９】
前記光学コーティングは、前記基板と接触する第１の勾配層、前記第１の勾配層を覆う耐擦傷性層、及び前記耐擦傷性層を覆う第２の勾配層を備え、前記第２の勾配層は前記反射防止表面を画定し；
前記基板における前記第１の勾配層の屈折率は、前記基板の屈折率の０．２以内であり；
前記耐擦傷性層における前記第１の勾配層の屈折率は、前記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
前記耐擦傷性層における前記第２の勾配層の屈折率は、前記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
前記反射防止表面における前記第２の勾配層の屈折率は、約１．３５〜約１．７である、請求項１〜８のいずれか１項に記載のコーティング済み物品。
【請求項１０】
前記光学コーティングは、第１の反射防止コーティング、前記第１の反射防止コーティングを覆う耐擦傷性層、及び前記耐擦傷性層を覆う第２の反射防止コーティングを備え、前記第２の反射防止コーティングは前記反射防止表面を画定し、前記第１の反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備え、前記第２の反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備える、請求項１〜８のいずれか１項に記載のコーティング済み物品。
【請求項１１】
前記光学コーティングは、前記基板と接触する勾配層、前記勾配層を覆う耐擦傷性層、及び前記耐擦傷性層を覆う反射防止コーティングを備え、前記反射防止コーティングは前記反射防止表面を画定し；
前記基板における前記勾配層の屈折率は、前記基板の屈折率の０．２以内であり；
前記耐擦傷性層における前記勾配層の屈折率は、前記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
前記反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備える、請求項１〜８のいずれか１項に記載のコーティング済み物品。
【請求項１２】
前記光学コーティングは、前記基板と接触する反射防止コーティング、前記反射防止コーティングを覆う耐擦傷性層、及び前記耐擦傷性層を覆う勾配層を備え、前記勾配層は前記反射防止表面を画定し；
前記反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備え；
前記耐擦傷性層における前記反射防止コーティングの屈折率は、前記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
前記反射防止表面における前記勾配層の屈折率は、約１．３５〜約１．７である、請求項１〜８のいずれか１項に記載のコーティング済み物品。
【請求項１３】
前面、背面及び側面を有する、ハウジング；
少なくとも部分的に前記ハウジング内にある、電子構成部品であって、前記電子構成部品は、少なくともコントローラ、メモリ及びディスプレイを含み、前記ディスプレイは、前記ハウジングの前記前面にあるか、又は前記前面に隣接する、電子構成部品；並びに
前記ディスプレイを覆うように配置された、カバー基板
を備える、消費者向け電子製品であって、
前記ハウジングの一部分又は前記カバー基板のうちの少なくとも一方は、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のコーティング済み物品を備える、消費者向け製品。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、米国特許法第１１９条の下で、２０１６年７月１１日出願の米国仮特許出願第６２／３６０，６８７号の優先権の利益を主張するものであり、上記仮特許出願の内容は信頼できるものであり、参照によりその全体が本出願に援用される。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、高耐久性かつ耐擦傷性の反射防止物品、及びその作製方法に関し、より詳細には、非平面基板上の耐久性及び／又は耐擦傷性光学コーティングに関する。
【背景技術】
【０００３】
カバー物品は、入力及び／又は表示及び／又は多数の他の機能のためのユーザインタフェースを提供するための、電子製品内の重要なデバイスを保護するために、使用されることが多い。このような製品としては、スマートフォン、ｍｐ３プレイヤー及びコンピュータタブレットといった移動体デバイスが挙げられる。カバー物品は、建築用物品、輸送用物品（例えば自動車用途、鉄道、航空機、海洋船舶等で使用される物品）、家電物品、又はある程度の透明性、耐擦傷性、耐摩耗性若しくはこれらの組み合わせが必要ないずれの物品も含む。これらの用途は、耐擦傷性、並びに最大光線透過率及び最小反射率に関する優れた光学的性能特性を必要とする場合がある。更に一部のカバー用途は、反射及び／又は透過時に呈する又は感知される色が、視野角の変化に従って明らかには変化しないことを必要とする。ディスプレイ用途では、これは、反射又は透過時の色が視野角と共に明らかな程度まで変化すると、該製品のユーザがディスプレイの色又は明度の変化を知覚することになり、知覚されるディスプレイの品質が低下し得るためである。他の用途では、色の変化は、審美的要件又は他の機能的要件に悪影響を及ぼし得る。
【０００４】
カバー物品の光学的性能は、様々な反射防止コーティングを用いて改善できる；しかしながら公知の反射防止コーティングは、摩滅又は摩耗を受け易い。このような摩耗は、反射防止コーティングによって達成されるいずれの光学的性能の改善を損ない得る。例えば光学フィルタは、光学的に透明な誘電性材料（例えば酸化物、窒化物及びフッ化物）からなる、異なる屈折率を有する多層コーティングからなる場合が多い。このような光学フィルタのために使用される典型的な酸化物の大半は、バンドギャップが広い材料であり、これは、移動体デバイス、建築用物品、輸送用物品又は家電物品における使用のために必要な硬度等の機械的特性を有しない。窒化物及びダイヤモンド様コーティングは、高い硬度値を呈し得るものの、このような材料は典型的には、このような用途に必要な透過率を呈さない。
【０００５】
摩耗損傷は、対面する物体（例えば指）からの、反復して摺動する接触を含む場合がある。更に、摩耗損傷は熱を生成する場合があり、これはフィルムの材料の化学的結合を劣化させて、カバーガラスに剥離及び他のタイプの損傷を引き起こし得る。摩耗損傷は、擦傷を引き起こす単一のイベントよりも長期間に亘って発生することが多いため、摩耗損傷を受ける配置されたコーティング材料は酸化する場合もあり、これによりコーティングの耐久性は更に劣化する。
【０００６】
公知の反射防止コーティングは擦傷損傷も受け易く、また多くの場合、上にこのようなコーティングが配置された下層の基板よりも更に擦傷損傷を受け易い。いくつかの例では、このような擦傷損傷の大部分は、微小展延性（ｍｉｃｒｏｄｕｃｔｉｌｅ）擦傷を含み、これは典型的には、長さが長く深さが約１００ｎｍ〜約５００ｎｍである、材料中の単一の溝を含む。微小展延性擦傷は、表面下割れ、摩擦による割れ、欠け及び／又は摩滅といった、他のタイプの視認可能な損傷を伴う場合もある。このような擦傷及び他の視認可能な損傷の大半は、単一の接触イベント中に発生する鋭い接触によって引き起こされることが、エビデンスによって示唆されている。カバー基板上に相当な擦傷が現れると、この擦傷が光散乱の増加を引き起こし、ディスプレイ上の画像の明度、鮮明度及びコントラストの有意な低下を引き起こし得るため、物品の外見は劣化する。有意な擦傷はまた、タッチ感受性ディスプレイを含む物品の精度及び信頼性にも影響を及ぼし得る。単一イベントの擦傷損傷は、摩耗損傷と対比できる。単一イベントの擦傷損傷は、硬質の対面する物体（例えば砂、砂利及びサンドペーパー）からの、反復して摺動する接触といった、複数の接触イベントによって引き起こされることはなく、また典型的には、フィルムの材料の化学的結合を劣化させて剥離及び他のタイプの損傷を引き起こし得る熱を生成することはない。更に、単一イベントの擦傷は典型的には酸化を引き起こさず、又は摩耗損傷を引き起こす条件と同一の条件を伴わず、従って、摩耗損傷を防止するために利用されることがある解決策は、擦傷も防止することはできない。更に、公知の擦傷及び摩耗損傷の解決策は、光学的特性を損なうことが多い。
【０００７】
一部のエレクトロニクスは、非平面カバー物品を組み込む。例えばスマートフォンのタッチスクリーンは非平面である場合があり、この場合上記カバー物品の少なくとも一部分はその表面において湾曲する。非平面物品の組み込みにより、カバー物品上のコーティングの光学性能は変化し得る。例えば、基板が湾曲している場合、コーティングは上記基板の異なる複数の部分において、２つの異なる角度で視認される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、耐摩耗性であり、耐擦傷性であり、及び／又は光学的性能が改善された、非平面カバー物品及びその製造方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
一実施形態によると、コーティング済み物品は基板及び光学コーティングを備えてよい。上記基板は、第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有してよい。上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなくてよい。上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°であってよい。上記光学コーティングは、上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置されてよい。上記光学コーティングは、反射防止表面を形成してよい。上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示してよい。上記コーティング済み物品は、上記反射防止表面において測定した場合に、上記基板の上記第１の部分において約８％以下の単一側面平均光反射率を示してよく、上記第１の部分の上記単一側面平均光反射率は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定される。上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°であってよい。上記コーティング済み物品は、上記反射防止表面において測定した場合に、上記基板の上記第２の部分において約８％以下の単一側面平均光反射率を示してよく、上記第２の部分の上記単一側面平均光反射率は、上記第２の方向に対する第２の入射照明角度で測定される。上記第２の入射照明角度は、上記第２の方向から約０°〜約６０°であってよい。上記第１の部分及び上記第２の部分における上記単一側面平均光反射率は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長レジームにわたって測定してよい。
【００１０】
別の実施形態によると、コーティング済み物品は基板及び光学コーティングを備えてよい。上記基板は、第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有してよい。上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなくてよい。上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約８０°であってよい。上記光学コーティングは、上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置されてよい。上記光学コーティングは、反射防止表面を形成してよい。上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示してよい。上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の差異は、国際照明委員会規格の光源下において（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系の反射色座標によって測定した場合に約１０以下であってよい。上記反射色の上記差異は、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）として定義してよい。上記第１の部分における上記反射色は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定してよく、上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°である。上記第２の部分における上記反射色は、上記第２の方向に対する第２の入射照明角度で測定してよく、上記第２の入射照明角度は、上記第２の方向から約０°〜約６０°である。
【００１１】
別の実施形態によると、コーティング済み物品は基板及び光学コーティングを備えてよい。上記基板は、第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有してよい。上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなくてよい。上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°であってよい。上記光学コーティングは、上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置されてよい。上記光学コーティングは、反射防止表面を形成してよい。上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示してよい。上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の差異は、国際照明委員会規格の光源下において（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系の反射色座標によって測定した場合に約１０以下であってよい。上記反射色の上記差異は、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）として定義してよい。上記第１の部分における上記反射色は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定してよく、上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°である。上記第２の部分における上記反射色は、第２の入射照明角度で測定してよく、上記第２の入射照明角度は、上記第１の部分及び上記第２の部分における上記反射色が同一の視認方向で測定されるよう、上記第１の入射照明角度の方向と同一の方向であってよい。
【００１２】
別の実施形態によると、コーティング済み物品は光学コーティングを備えてよく、上記光学コーティングは、上記基板と接触する第１の勾配層、上記第１の勾配層を覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う第２の勾配層を備えてよく、上記第２の勾配層は上記反射防止表面を画定する。上記基板における上記第１の勾配層の屈折率は、上記基板の屈折率の０．２以内であってよい。上記耐擦傷性層における上記第１の勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であってよい。上記耐擦傷性層における上記第２の勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であってよい。上記反射防止表面における上記第２の勾配層の屈折率は、約１．３５〜約１．７であってよい。
【００１３】
更に別の実施形態によると、コーティング済み物品は光学コーティングを備えてよく、上記光学コーティングは、第１の反射防止コーティング、上記第１の反射防止コーティングを覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う第２の反射防止コーティングを備えてよく、上記第２の反射防止コーティングは上記反射防止表面を画定する。上記第１の反射防止コーティングは、少なくとも１つの低屈折率（「ＲＩ」）層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備えてよく、上記第２の反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備えてよい。
【００１４】
更に別の実施形態によると、コーティング済み物品は光学コーティングを備えてよく、上記光学コーティングは、上記基板と接触する勾配層、上記勾配層を覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う反射防止コーティングを備えてよく、上記反射防止コーティングは上記反射防止表面を画定する。上記基板における上記勾配層の屈折率は、上記基板の屈折率の０．２以内であってよい。上記耐擦傷性層における上記勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であってよい。上記反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備えてよい。
【００１５】
更に別の実施形態によると、コーティング済み物品は光学コーティングを備えてよく、上記光学コーティングは、上記基板と接触する反射防止コーティング、上記第１の勾配層を覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う勾配層を備えてよく、上記勾配層は反射防止表面を画定する。上記反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備えてよい。上記耐擦傷性層における上記勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であってよい。上記反射防止表面における上記第２の勾配層の屈折率は、約１．３５〜約１．７であってよい。
【００１６】
更なる特徴及び利点は、以下の「発明を実施するための形態」に記載され、またその一部は、当業者には「発明を実施するための形態」から容易に明らかとなるか、又は以下の「発明を実施するための形態」、特許請求の範囲及び添付の図面を含む本明細書に記載された実施形態を実施することによって認識されるだろう。
【００１７】
以上の「発明の概要」及び以下の「発明を実施するための形態」はいずれの単なる例示であり、特許請求の範囲の性質及び特徴を理解するための概観又は枠組みを提供することを意図したものであることを理解されたい。添付の図面は更なる理解を提供するために含まれており、本明細書に組み込まれて本明細書の一部を構成する。これらの図面は１つ以上の実施形態を図示し、本説明と併せて、様々な実施形態の原理及び動作を説明する役割を果たす。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品の断面側面図
【図２】本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品の断面側面図
【図３】本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品の断面側面図
【図４】本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品の断面側面図
【図５】本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品の断面側面図
【図６】本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品の断面側面図
【図７】本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品の断面側面図
【図８】本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品の断面側面図
【図９】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、法線に対する視野角を変化させた、比較例Ａの光学コーティングに関する、波長の関数としての反射率のグラフ
【図１０】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、垂直な視野角において観察した場合に層厚さを変化させた、比較例Ａの光学コーティングに関する、波長の関数としての反射率のグラフ
【図１１】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、法線に対する８°の視野角における、実施例１及び比較例Ｂの光学コーティングに関する、波長の関数としての反射率のグラフ
【図１２】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、設計されたままの状態の実施例１の光学コーティングと、垂直な入射角において視認した場合に堆積角度３５°を表す低減された層厚さを有する実施例１の光学コーティングとに関する、波長の関数としての反射率のグラフ
【図１３】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、設計されたままの状態の実施例１の光学コーティングと、垂直な入射角から６０°までにおいて視認した場合に増大した堆積角度を表す低減された層厚さを有する実施例１の光学コーティングとに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における反射色のａ＊対ｂ＊のグラフ
【図１４】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、様々な視野角に関する、実施例２の光学コーティングに関する第１の表面の反射率のグラフ
【図１５】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、異なる複数の視野角における様々な上部勾配コーティング厚さを有する実施例２の光学コーティングに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における反射Ｄ６５色のａ＊対ｂ＊のグラフ
【図１６】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、垂直な視野角における様々な上部勾配コーティング厚さを有する実施例２の光学コーティングに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における透過したＤ６５色のａ＊対ｂ＊のグラフ
【図１７】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、実施例２のコーティングに関する上側勾配層プロファイルのグラフ
【図１８】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、上側勾配層厚さを変化させて実施例２として調製した試料の硬度プロファイル
【図１９】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、様々な形態パラメータを有する実施例２のコーティングに関する上側勾配層プロファイルのグラフ
【図２０】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、様々な上側勾配層の形態パラメータを有する実施例２として調製した試料の硬度プロファイル
【図２１】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、異なる複数の視野角における、様々な上部勾配コーティングの形態パラメータを有する実施例２の光学コーティングに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における反射Ｄ６５色のａ＊対ｂ＊のグラフ
【図２２】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、垂直な視野角における、様々な上部勾配コーティングの形態パラメータを有する実施例２の光学コーティングに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における透過したＤ６５色のａ＊対ｂ＊のグラフ
【図２３】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、様々な上側勾配層の形態パラメータを有する実施例２のコーティングに関する平均明所視透過率及び平均明所視反射率を示すグラフ
【図２４】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、様々な上側勾配層厚さを有する実施例２のコーティングに関する平均明所視透過率及び平均明所視反射率を示すグラフ
【図２５】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、物品の断面側面図
【図２６】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、勾配層を有するコーティング済み物品に関する屈折率プロファイルの概略図
【図２７】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、勾配層を有するコーティング済み物品に関する屈折率プロファイルの概略図
【図２８】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、勾配層を有するコーティング済み物品に関する屈折率プロファイルの概略図
【図２９】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、実施例２の一実施形態に関する、時間の関数としての様々な成分の流量のグラフ
【図３０】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、図２９のコーティングに関するＸＰＳ組成プロファイルのグラフ
【図３１】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、図２９のコーティングの、算出された屈折率のグラフ
【図３２】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、変化する下側勾配層厚さに関する、波長の関数としての反射率のグラフ
【図３３】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、変化する下側勾配層プロファイル形状に関する、波長の関数としての反射率のグラフ
【図３４Ａ】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、様々な上側勾配層厚さの関数としての反射色のグラフ
【図３４Ｂ】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、様々な上側勾配層厚さの関数としての透過色のグラフ
【図３５】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、上部勾配コーティング厚さの関数としての１面反射色のグラフ
【図３６】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、上部勾配コーティング厚さの関数としての２面反射色のグラフ
【図３７】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、上部勾配コーティング厚さの関数としての、コーティングの弾性率及び硬度のグラフ
【図３８】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、上部勾配コーティング厚さの関数としての、コーティングの透過色のグラフ
【図３９】実施例２のコーティング済み物品の硬度及び明所視透過率のグラフ
【図４０】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、法線に対する視野角を変化させた実施例３の光学コーティングに関する、波長の関数としての反射率のグラフ
【図４１】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、法線に対する視野角を変化させた実施例４の光学コーティングに関する、波長の関数としての反射率のグラフ
【図４２】本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、実施例３及び４のコーティングに関する、視野入射角を変化させた場合のａ＊及びｂ＊のグラフ
【図４３Ａ】本明細書で開示されているコーティング済み物品のうちのいずれを組み込んだ例示的な電子デバイスの平面図
【図４３Ｂ】図４３Ａの例示的な電子デバイスの斜視図
【発明を実施するための形態】
【００１９】
これより、コーティング済み物品の様々な実施形態を詳細に参照する。これらの実施形態の例は、添付の図面に図示されている。図１を参照すると、本明細書で開示される１つ以上の実施形態によるコーティング済み物品１００は、非平面基板１１０及びこの基板上に配置された光学コーティング１２０を含んでよい。非平面基板１１０は、対向する大表面１１２、１１４及び対向する小表面１１６、１１８を含んでよい。光学コーティング１２０は図１において、第１の対向する大表面１１２上に配置されているものとして示されている；しかしながら、光学コーティング１２０は、第１の対向する大表面１１２上に配置するのに加えて、又はこれに代えて、第２の対向する大表面１１４、及び／又は上記対向する小表面のうちの一方若しくは両方の上に配置してよい。光学コーティング１２０は、反射防止表面１２２を形成する。反射防止表面１２２は空気境界面を形成し、また一般に、光学コーティング１２０の縁部及びコーティング済み物品１００全体の縁部を画定する。本明細書に記載されるように、基板１１０は略透明であってよい。
【００２０】
本明細書に記載の実施形態によると、基板１１０は非平面である。本明細書中で使用される場合、「非平面基板（ｎｏｎ‐ｐｌａｎａｒ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）」は、基板１１０の大表面１１２、１１４のうちの少なくとも１つが幾何学的に平坦な形状ではない基板を指す。例えば図１に示すように、大表面１１２の一部分が湾曲したジオメトリを備えてよい。大表面１１２の曲率の程度は様々であってよい。例えば複数の実施形態は、約１ｍｍ〜数メートル（即ち略平面）、例えば約３ｍｍ〜約３０ｍｍ、又は約５ｍｍ〜約１０ｍｍの近似半径によって測定される曲率を有してよい。実施形態では、非平面基板は、図１に示すように平面部分を備えてよい。例えば携帯用電子デバイスのためのタッチスクリーンは、その中央又は中央付近の略平面状の表面と、その縁部付近の湾曲した（即ち非平面）部分とを備えてよい。このような基板の例としては、Ａｐｐｌｅ  ｉＰｈｏｎｅ（登録商標）６スマートフォン又はＳａｍｓｕｎｇ  Ｇａｌａｘｙ  Ｓ６  Ｅｄｇｅスマートフォンのカバーガラスが挙げられる。非平面基板のいくつかの実施形態が図示されているが、非平面基板は、例えば湾曲したシート、又は管状のシートでさえある、多様な形状を取ることができることを理解されたい。
【００２１】
非平面基板１１０は大表面１１２を備え、これは少なくとも２つの部分、即ち第１の部分１１３及び第２の部分１１５を備え、これらは互いに対して平坦ではない。方向ｎ１は、大表面１１２の第１の部分１１３に対して垂直であり、方向ｎ２は、大表面１１２の第２の部分１１５に対して垂直である。第１の部分１１３に対して垂直な方向ｎ１及び第２の部分１１５に対して垂直な方向ｎ２は、同一ではない。実施形態では、ｎ１とｎ２との間の角度は、少なくとも約５°、少なくとも約１０°、少なくとも約１５°、少なくとも約２０°、少なくとも約２５°、少なくとも約３０°、少なくとも約３５°、少なくとも約４０°、少なくとも約４５°、少なくとも約５０°、少なくとも約５５°、少なくとも約６０°、少なくとも約７０°、少なくとも約８０°、少なくとも約９０°、少なくとも約１２０°、少なくとも約１５０°、又は少なくとも約１８０°でさえあってよい（例えばｎ１とｎ２との間の角度は、管状基板に関しては１８０°であってよい）。例えばｎ１とｎ２との間の角度は、約１０°〜約３０°、約１０°〜約４５°、約１０°〜約６０°、約１０°〜約７５°、約１０°〜約９０°、約１０°〜約１２０°、約１０°〜約１５０°、又は約１０°〜約１８０°であってよい。更なる実施形態では、ｎ１とｎ２との間の角度は、約１０°〜約８０°、約２０°〜約８０°、約３０°〜約８０°、約４０°〜約８０°、約５０°〜約８０°、約６０°〜約８０°、約７０°〜約８０°、約２０°〜約１８０°、約３０°〜約１８０°、約４０°〜約１８０°、約５０°〜約１８０°、約６０°〜約１８０°、約７０°〜約１５０°、又は約８０°〜約１８０°であってよい。
【００２２】
コーティング済み物品１００を透過する又はコーティング済み物品１００によって反射される光は、図１に示すような視認方向ｖ（即ちｎ１に関するｖ１及びｎ２に関するｖ２）において測定してよく、これらは基板１１０の大表面１１２に対して垂直でなくてよい。上記視認方向は、角表面の法線から測定される場合、入射照明角度と呼ばれる場合もある。例えば本明細書中で説明されるように、反射色、透過色、平均光反射率、平均光透過率、明所視反射率及び明所視透過率。視認方向ｖは、基板表面ｎに対して垂直な方向と視認方向ｖとの間の角度である入射照明角度θを画定する（即ち、θ１は法線方向ｎ１と視認方向ｖ１との間の入射照明角度であり、θ２は法線方向ｎ２と視認方向ｖ２との間の入射照明角度である）。図１は０°でない入射照明角度を図示しているが、いくつかの実施形態では、入射照明角度は約０°となってよく、これによりｖはｎと等しくなることを理解されたい。コーティング済み物品１００の一部分の光学特性は、入射照明角度θが変化すると異なるものとなり得る。
【００２３】
引き続き図１を参照すると、いくつかの実施形態では、基板の大表面１１２に対して垂直な方向において測定した光学コーティング１２０の厚さは、基板１１０の第１の部分１１３及び第２の部分１１５を覆うように配置された光学コーティング１２０の複数の部分間で異なり得る。例えば光学コーティング１２０は、例えば化学蒸着（例えばプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学蒸着、大気圧化学蒸着及びプラズマ強化大気圧化学蒸着）、物理蒸着（例えば反応性若しくは非反応性スパッタリング、若しくはレーザアブレーション）、熱若しくは電子ビーム蒸発、及び／又は原子層堆積といった真空堆積技法によって、非平面基板１１０上に堆積させてよい。噴霧、浸漬、スピンコート又は（例えばゾル‐ゲル材料を用いた）スロットコートといった、液体ベースの方法も使用してよい。一般に、蒸着技法としては、薄膜の生産に使用できる多様な真空堆積方法が挙げられる。例えば物理蒸着は、物理的プロセス（例えば加熱又はスパッタリング）を用いて材料の蒸気を生成し、次にこれを、コーティングされる対象物上に堆積させる。このような蒸着法は、「照準線（ｌｉｎｅ‐ｏｆ‐ｓｉｇｈｔ）」堆積スキームを利用してよく、ここでは、堆積された材料は、堆積方向と基板表面に対して垂直な角度との間の角度にかかわらず、基板への堆積中に均一な方向に移動する。
【００２４】
図１を参照すると、矢印ｄは照準線堆積方向を示す。図１の堆積方向ｄは、光学コーティング１２０の堆積中に基板が大表面１１４上に静置されるシステムにおいて一般的となり得るように、基板１１０の大表面１１４に対して垂直である。線ｄの矢印は、照準線堆積の方向を指す。線ｔは、基板１１０の大表面１１２に対して垂直な方向を示す。大表面１１２に対して垂直な方向において測定した場合の光学コーティング１２０の垂直厚さは、線ｔの長さによって表される。堆積角度φは、堆積方向ｄと大表面に対して垂直な方向ｄとの間の角度として定義される。光学コーティング１２０を、理論上の照準線堆積によって堆積させた場合、光学コーティング１２０の一部分の厚さは、φのコサインとして決定できる。従ってφが増大するに従って光学コーティング１２０の厚さは減少する。蒸着によって堆積した光学コーティング１２０の実際の厚さは、コサインφのスカラー量によって決定されるものとは異なる場合があるが、これは、非平面基板１１０に適用した場合に良好な性能を有し得る光学コーティングの設計をモデリングするために有用な推定値を提供する。更に、ｎ１及びｄは図１では同一方向であるが、これらは全ての実施形態において同一方向である必要はない。
【００２５】
本開示全体を通して、特段の記載がない限り、光学コーティング１２０の厚さは法線方向ｎにおいて測定されることを理解されたい。
【００２６】
実施形態によると、本明細書に記載されているように、コーティング済み物品１００の様々な部分は、互いに同等と思われる、光反射率、光透過率、反射色及び／又は透過色といった光学特性を有してよい。例えば第１の部分１１３の光学特性と、第２の部分１１５の光学特性とは、各部分１１３、１１５において基板１１０に対して略垂直な方向でそれぞれを視認した場合（即ちθ１が約０であり、θ２が約０である場合）に、同様であってよい。他の実施形態では、第１の部分１１３の光学特性と、第２の部分１１５の光学特性とは、各部分１１３、１１５において法線に対して指定された範囲内の入射照明角度でそれぞれを視認した場合（例えばθ１が約０°〜約６０°であり、θ２が約０°〜約６０°である場合）に、同様であってよい。更なる実施形態では、第１の部分１１３の光学特性と、第２の部分１１５の光学特性とは、略同一の方向においてそれぞれを視認した場合（例えばｖ１とｖ２との間の角度が略０°である場合）に、同様であってよい。
【００２７】
光学コーティング１２０は、少なくとも１つの材料の少なくとも１つの層を含む。用語「層（ｌａｙｅｒ）」は、単一の層を含んでよく、又は１つ以上の副層を含んでよい。このような副層は、互いに直接接触していてよい。上記副層は、同一の材料、又は２つ以上の異なる材料から形成してよい。１つ以上の代替実施形態では、このような副層は、間に配置された異なる材料の介在層を有してよい。１つ以上の実施形態では、層は、１つ以上の連続する断絶していない層及び／又は１つ以上の不連続な断絶した層（即ち互いに隣接して形成された異なる複数の材料を有する層）を含んでよい。層又は副層は、個別堆積又は連続堆積プロセスを含む、当該技術分野において公知のいずれの方法で形成してよい。１つ以上の実施形態では、層は、連続堆積プロセスのみ、あるいは個別堆積プロセスのみを用いて形成してよい。
【００２８】
光学コーティング１２０の厚さは、堆積の方向において約１μｍ以上であってよいが、それでも依然として、本明細書に記載の光学的特性を呈する物品を提供する。いくつかの例では、堆積の方向における光学コーティング厚さは、約１μｍ〜約２０μｍ（例えば約１μｍ〜約１０μｍ又は約１μｍ〜約５μｍ）であってよい。
【００２９】
本明細書中で使用される場合、用語「配置する（ｄｉｓｐｏｓｅ）」は、当該技術分野において公知のいずれの方法を用いて、材料を表面上にコーティング、堆積及び／又は形成することを含む。配置された材料は、本明細書において定義されているような層を構成し得る。句「…上に配置された（ｄｉｓｐｏｓｅｄ  ｏｎ）」は、材料を表面上に、上記材料が上記表面に直接接触するように形成する例を含み、また、上記材料が表面上に、堆積される上記材料と上記表面との間に１つ以上の介在材料を伴って形成される例も含む。上記１つ以上の介在材料は、本明細書において定義されているような層を構成し得る。更に、図２〜８は平面基板を概略図で示しているが、図２〜８は図１に示されているような非平面基板を有するものと見做されるべきものであり、各図の教示の概念を簡略化するために平面として図示されていることを理解されたい。
【００３０】
図２に示すように、光学コーティング１２０は反射防止コーティング１３０を含み、これは複数の層（１３０Ａ、１３０Ｂ）を含んでよい。１つ以上の実施形態では、反射防止コーティング１３０は、２つ以上の層を含む区間１３２を含んでよい。１つ以上の実施形態では、上記２つ以上の層は、互いに異なる屈折率を有することを特徴としてよい。一実施形態では、区間１３２は、及び第１の低ＲＩ層１３０Ａ及び第２の高ＲＩ層１３０Ｂを含む。上記第１の低ＲＩ層と上記第２の高ＲＩ層との屈折率の差は、約０．０１以上、約０．０５以上、約０．１以上、又は約０．２以上でさえあってよい。
【００３１】
図２に示すように、反射防止コーティング１３０は、複数の区間１３２を含んでよい。単一の区間１３２は、複数の区間１３２が設けられる場合に第１の低ＲＩ層１３０Ａ（例示として「Ｌ」で表す）及び第２の高ＲＩ層１３０Ｂ（例示として「Ｈ」で表す）が、以下のような層のシーケンス：Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ又はＨ／Ｌ／Ｈ／Ｌで交互になるように、１つの第１の低ＲＩ層１３０Ａ及び１つの第２の高ＲＩ層１３０Ｂを含んでよく、これにより、第１の低ＲＩ層１３０Ａ及び第２の高ＲＩ層１３０Ｂが、光学コーティング１２０の物理的厚さに沿って交互に現れる。図２の例では、反射防止コーティング１３０は３つの区間１３２を含む。いくつかの実施形態では、反射防止コーティング１３０は最大２５個の区間１３２を含んでよい。例えば反射防止コーティング１３０は、約２〜約２０個の区間１３２、約２〜約１５個の区間１３２、約２〜約１０個の区間１３２、約２〜約１２個の区間１３２、約３〜約８個の区間１３２、又は約３〜約６個の区間１３２を含んでよい。
【００３２】
図３に示す例では、反射防止コーティング１３０は追加のキャッピング層１３１を含んでよく、これは、第２の高ＲＩ層１３０Ｂより低屈折率の材料を含んでよい。いくつかの実施形態では、図３に示すように、区間１３２は、１つ以上の第３の層１３０Ｃを含んでよい。１つ以上の第３の層１３０Ｃは、低いＲＩ、高いＲＩ又は中程度のＲＩを有してよい。いくつかの実施形態では、１つ以上の第３の層１３０Ｃは、第１の低ＲＩ層１３０Ａ又は第２の高ＲＩ層１３０Ｂと同一のＲＩを有してよい。他の実施形態では、１つ以上の第３の層１３０Ｃは、第１の低ＲＩ層１３０ＡのＲＩと第２の高ＲＩ層１３０ＢのＲＩとの間の中程度のＲＩを有してよい。あるいは１つ以上の第３の層１３０Ｃは、第２の高ＲＩ層１３０Ｂを超える屈折率を有してよい。第３の層１３０Ｃは、光学コーティング１２０中に、以下の例示的構成：Ｌ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ；Ｈ第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ；Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ第３の層；Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ第３の層；Ｌ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ第３の層；Ｈ第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ第３の層；Ｌ第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ；Ｈ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ；Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｌ第３の層；Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｈ第３の層；Ｌ第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｈ第３の層；Ｈ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｌ第３の層；Ｌ／Ｍ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｍ／Ｈ；Ｈ／Ｍ／Ｌ／Ｈ／Ｍ／Ｌ；Ｍ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｍ；及び他の組み合わせで設けてよい。これらの構成において、いずれの添字を有しない「Ｌ」は第１の低ＲＩ層を指し、いずれの添字を有しない「Ｈ」は第２の高ＲＩ層を指す。「Ｌ第３の副層」という言及は、低いＲＩを有する第３の層を指し、「Ｈ第３の副層」という言及は、高いＲＩを有する第３の層を指し、「Ｍ」は、中程度のＲＩを有する第３の層を指し、これらは全て上記第１の層及び上記第２の層に対してのものである。
【００３３】
本明細書中で使用される場合、用語「低ＲＩ、低いＲＩ（ｌｏｗ  ＲＩ）」、「高ＲＩ、高いＲＩ（ｈｉｇｈ  ＲＩ）」及び「中ＲＩ、中程度のＲＩ（ｍｅｄｉｕｍ  ＲＩ）」は、別の１項に対するＲＩの相対値を指す（例えば低ＲＩ＜中ＲＩ＜高ＲＩ）。１つ以上の実施形態では、第１の低ＲＩ層又は第３の層と共に使用される用語「低ＲＩ」は、約１．３〜約１．７又は１．７５を含む。１つ以上の実施形態では、第２の高ＲＩ層又は第３の層と共に使用される用語「高ＲＩ」は、約１．７〜約２．５（例えば約１．８５以上）を含む。いくつかの実施形態では、第３の層と共に使用される用語「中ＲＩ」は、約１．５５〜約１．８を含む。いくつかの例では、低ＲＩ、高ＲＩ及び中ＲＩに関する範囲は重なり合う場合がある；しかしながらほとんどの場合、反射防止コーティング１３０の層は、ＲＩに関する一般的な関係：低ＲＩ＜中ＲＩ＜高ＲＩを有する。
【００３４】
１つ以上の第３の層１３０Ｃは、区間１３２とは別個の層として設けてよく、図４に示すように、１つ以上の区間１３２とキャッピング層１３１との間に配置してよい。上記１つ以上の第３の層もまた、区間１３２とは別個の層として設けてよく、図５に示すように、基板１１０と複数の区間１３２との間に配置してよい。１つ以上の第３の層１３０Ｃは、図６に示すように、追加のコーティング１４０に加えて、キャッピング層１３１の代わりに、又はキャッピング層１３１に加えて、使用してよい。
【００３５】
反射防止コーティング１３０中での使用に好適な材料としては：ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＡｌＮ、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ２、ＢａＦ２，ＣａＦ２、ＳｎＯ２、ＨｆＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹＦ３、ＣｅＦ３、ポリマー、フルオロポリマー、プラズマ重合ポリマー、シロキサンポリマー、シルセスキオキサン、ポリイミド、フッ化ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリルポリマー、ウレタンポリマー、ポリメチルメタクリレート、耐擦傷性層中での使用に好適なものとして以下に挙げられている材料、及び当該技術分野において公知の他の材料が挙げられる。第１の低ＲＩ層中での使用に好適な材料のいくつかの例としては：ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＭｇＦ２、ＢａＦ２、ＣａＦ２、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹＦ３、及びＣｅＦ３が挙げられる。第１の低ＲＩ層中での使用のための上記材料の窒素含有量は、（例えばＡｌ２Ｏ３及びＭｇＡｌ２Ｏ４等の材料において）最小化できる。第２の高ＲＩ層中での使用に好適な材料のいくつかの例としては：ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘ：Ｈｙ、ＨｆＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｏＯ３及びダイヤモンド様炭素が挙げられる。複数の例では、高ＲＩ層は、高硬度層又は耐擦傷性層であってもよく、また上に列挙した高ＲＩ材料は、高い硬度又は耐擦傷性を備えてもよい。第２の高ＲＩ層及び／又は耐擦傷性層のための材料の酸素含有量は、特にＳｉＮｘ又はＡｌＮｘ材料において最小化できる。ＡｌＯｘＮｙ材料は、酸素ドープＡｌＮｘであると見做すことができ、即ちこれらは、ＡｌＮｘ結晶構造を有してよく（例えばウルツ鉱）、ＡｌＯＮ結晶構造を有する必要はない。例示的なＡｌＯｘＮｙ高ＲＩ材料は、約０原子％〜約２０原子％の酸素、又は約５原子％〜約１５原子％の酸素を含んでよく、その一方で３０原子％〜約５０原子％の窒素を含む。例示的な好ましいＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ高ＲＩ材料は、約１０原子％〜約３０原子％又は約１５原子％〜約２５原子％のケイ素、約２０原子％〜約４０原子％又は約２５原子％〜約３５原子％のアルミニウム、約０原子％〜約２０原子％又は約１原子％〜約２０原子％の酸素、及び約３０原子％〜約５０原子％の窒素を含んでよい。上述の材料は、最大約３０重量％まで水素化され得る。中程度の屈折率を有する材料が望ましい場合、いくつかの実施形態はＡｌＮ及び／又はＳｉＯｘＮｙを利用してよい。第２の高ＲＩ層及び／又は耐擦傷性層の硬度は、具体的に特性決定できる。いくつかの実施形態では、バーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合の、第２の高ＲＩ層及び／又は耐擦傷性層の最大硬度は、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、約１２ＧＰａ以上、約１５ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、又は約２０ＧＰａ以上であってよい。場合によっては、第２の高ＲＩ層材料は、単一の層として堆積させてよく、また耐擦傷性層であることを特徴としてよく、この単一の層は、反復可能な硬度決定のために、約５００〜２０００ｎｍの厚さを有してよい。
【００３６】
１つ以上の実施形態では、反射防止コーティング１３０の１つ以上の層のうちの少なくとも１つは、ある特定の光学的厚さ範囲を含んでよい。本明細書中で使用される場合、用語「光学的厚さ（ｏｐｔｉｃａｌ  ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）」は、層の物理的厚さと屈折率との合計を指す。１つ以上の実施形態では、反射防止コーティング１３０の複数の層のうちの少なくとも１つは、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを含んでよい。いくつかの実施形態では、反射防止コーティング１３０の全ての層はそれぞれ、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを有してよい。場合によっては、反射防止コーティング１３０の少なくとも１つの層は、約５０ｎｍ以上の光学的厚さを有する。場合によっては、第１の低ＲＩ層はそれぞれ約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを有する。他の場合には、第２の高ＲＩ層はそれぞれ、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを有する。更に他の場合には、第３の層はそれぞれ、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１５〜約５００ｎｍ又は約１５〜約５０００ｎｍの光学的厚さを有する。
【００３７】
いくつかの実施形態では、最上部の空気側層は、これもまた高い硬度を呈する高ＲＩ層を備えてよい。いくつかの実施形態では、追加のコーティング１４０を、この最上部の空気側高ＲＩ層の上に配置してよい（例えばこの追加のコーティングは、低摩擦コーティング、疎油性コーティング、又は清掃が容易なコーティングを含んでよい）。厚さが極めて薄い（例えば約１０ｎｍ以下、約５ｎｍ以下又は約２ｎｍ以下）の低ＲＩ層の追加は、高ＲＩ層を含む最上部の空気側層に追加される場合、光学的性能に対して最小の影響しか有しない。厚さが極めて薄いこの低ＲＩ層は、ＳｉＯ２、疎油性若しくは低摩擦層、又はＳｉＯ２と疎油性材料との組み合わせを含んでよい。例示的な低摩擦層は、ダイヤモンド様炭素を含んでよく、このような材料（又は光学コーティングの１つ以上の層）は、０．４未満、０．３未満、０．２未満又は更には０．１未満の摩擦係数を呈してよい。
【００３８】
１つ以上の実施形態では、反射防止コーティング１３０は、約８００ｎｍ以下の物理的厚さを有してよい。反射防止コーティング１３０は、約１０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１５０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約７５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約７００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約６５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約６００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約４５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約３５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約３００ｎｍ、約５０〜約３００、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲の、物理的厚さを有してよい。
【００３９】
１つ以上の実施形態では、１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合物理的厚さを特性決定できる。例えば、いくつかの実施形態では、１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合厚さは、約１００ｎｍ以上、約１５０ｎｍ以上、約２００ｎｍ以上、又は約５００ｎｍ以上でさえあってよい。上記複合厚さは、１つ以上の低ＲＩ層又は１つ以上の他の層が存在する場合であっても、反射防止コーティング１３０中の複数の高ＲＩ層それぞれの厚さの、算出された合計である。いくつかの実施形態では、高硬度材料（例えば窒化物又は酸窒化物）も含んでよい１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合物理的厚さは、上記反射防止コーティング全体の物理的厚さの３０％超であってよい。例えば、１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合物理的厚さは、上記反射防止コーティング全体の物理的厚さの約４０％以上、約５０％以上、約６０％以上、約７０％以上、約７５％以上又は約８０％以上でさえあってよい。更に、又はあるいは、光学コーティング中に含まれる、高硬度材料でもあり得る高屈折率材料の量は物品又は光学コーティング１２０の最上部（即ちユーザ側、又は光学コーティングの、基板と反対側）の物理的厚さ５００ｎｍの百分率として特性決定できる。物品又は光学コーティングの最上部５００ｎｍの百分率として表現した場合、１つ以上の第２の高ＲＩ層の複合物理的厚さ（又は高屈折率材料の厚さ）は、約５０％以上、約６０％以上、約７０％以上、約８０％以上、又は約９０％以上でさえあってよい。いくつかの実施形態では、上記反射防止コーティング内の、比較的高い比率の硬質かつ高屈折率材料を同時に作製することによって、本明細書中の他の箇所で更に説明されるような低い反射率、弱い色及び高い耐摩耗性を呈することもできる。１つ以上の実施形態では、第２の高ＲＩ層は、約１．８５超の屈折率を有する材料を含んでよく、第１の低ＲＩ層は、約１．７５未満の屈折率を有する材料を含んでよい。いくつかの実施形態では、第２の高ＲＩ層は、窒化物又は酸窒化物材料を含んでよい。いくつかの例では、光学コーティング中の（又は光学コーティングの最も厚い第２の高ＲＩ層上に配置された層中の）全ての第１の低ＲＩ層の複合厚さは、約２００ｎｍ以下（例えば約１５０ｎｍ以下、約１００ｎｍ以下、約７５ｎｍ以下又は約５０ｎｍ以下）であってよい。
【００４０】
コーティング済み物品１００は、上記反射防止コーティング上に配置された１つ以上の追加のコーティング１４０を含んでよい。１つ以上の実施形態では、この追加のコーティングは、清掃が容易なコーティングを含んでよい。好適な清掃が容易なコーティングの例は、２０１２年１１月３０日出願の米国特許出願第１３／６９０，９０４号明細書「ＰＲＯＣＥＳＳ  ＦＯＲ  ＭＡＫＩＮＧ  ＯＦ  ＧＬＡＳＳ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ  ＷＩＴＨ  ＯＰＴＩＣＡＬ  及び  ＥＡＳＹ‐ＴＯ‐ＣＬＥＡＮ  ＣＯＡＴＩＮＧＳ」に記載されており、この特許出願は参照によりその全体が本出願に援用される。上記清掃が容易なコーティングは、厚さ約５ｎｍ〜約５０ｎｍであってよく、またフルオロシラン等の公知の材料を含んでよい。あるいは、又は更に、上記清掃が容易なコーティングは、低摩擦コーティング又は表面処理を含んでよい。例示的な低摩擦コーティング材料としては、ダイヤモンド様炭素、シラン（例えばフルオロシラン）、ホスホネート、アルケン及びアルキンが挙げられる。いくつかの実施形態では、上記清掃が容易なコーティングは、約１ｎｍ〜約４０ｎｍ、約１ｎｍ〜約３０ｎｍ、約１ｎｍ〜約２５ｎｍ、約１ｎｍ〜約２０ｎｍ、約１ｎｍ〜約１５ｎｍ、約１ｎｍ〜約１０ｎｍ、約５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約７ｎｍ〜約２０ｎｍ、約７ｎｍ〜約１５ｎｍ、約７ｎｍ〜約１２ｎｍ又は約７ｎｍ〜約１０ｎｍ、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲の厚さを有する。
【００４１】
追加のコーティング１４０は、１つ以上の耐擦傷性層を含んでよい。いくつかの実施形態では、追加のコーティング１４０は、清掃が容易な材料と耐擦傷性材料との組み合わせを含む。一例では、この組み合わせは、清掃が容易な材料、及びダイヤモンド様炭素を含む。このような追加のコーティング１４０は、厚さ約５ｎｍ〜約２０ｎｍであってよい。追加のコーティング１４０の成分は、別個の層において提供してよい。例えばダイヤモンド様炭素は第１の層として配置してよく、清掃が容易な層は、ダイヤモンド様炭素の第１の層の上に、第２の層として配置できる。第１の層及び第２の層の厚さは、上記追加のコーティングに関して上で提示した範囲であってよい。例えば、ダイヤモンド様炭素の第１の層は、厚さ約１ｎｍ〜約２０ｎｍ又は約４ｎｍ〜約１５ｎｍ（又はより具体的には約１０ｎｍ）であってよく、また清掃が容易な層の第２の層は、厚さ約１ｎｍ〜約１０ｎｍ（又はより具体的には約６ｎｍ）とすることができる。ダイヤモンド様コーティングは、四面体非晶質炭素（Ｔａ‐Ｃ）、Ｔａ‐Ｃ：Ｈ、及び／又はａ‐Ｃ‐Ｈを含んでよい。
【００４２】
本明細書に記載されているように、光学コーティング１２０は耐擦傷性層１５０を含んでよく、これは、反射防止コーティング１３０と基板１１０との間に配置してよい。いくつかの実施形態では、耐擦傷性層１５０は、（図７に示されている１５０のように）反射防止コーティング１３０の層の間に配置される。反射防止コーティングの２つのセクション（即ち耐擦傷性層１５０と基板１１０との間に配置される第１のセクション、及び上記耐擦傷性層上に配置される第２のセクション）は、互いに異なる厚さを有してよく、又は互いに本質的に同一の厚さを有してよい。反射防止コーティング１３０の上記２つのセクションの層は、組成、順序、厚さ及び構成において互いに同一であってよく、又は互いに異なっていてよい。
【００４３】
耐擦傷性層１５０（又は追加のコーティング１４０として使用される耐擦傷性層）に使用される例示的な材料は、無機カーバイド、窒化物、酸化物、ダイヤモンド様材料、又はこれらの組み合わせを含んでよい。耐擦傷性層１５０のために好適な材料の例としては、酸化金属、窒化金属、酸窒化金属、炭化金属、酸炭化金属及び／又はこれらの組み合わせが挙げられる。例示的な金属としては、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ及びＷが挙げられる。耐擦傷性層１５０に利用できる材料の具体例としては、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、ＡｌＯｘＮｙ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ダイヤモンド、ダイヤモンド様炭素、ＳｉｘＣｙ、ＳｉｘＯｙＣｚ、ＺｒＯ２、ＴｉＯｘＮｙ及びこれらの組み合わせが挙げられる。耐擦傷性層１５０はまた、硬度、靭性又は耐摩耗／摩滅性を改善するために、ナノ複合材料、又は制御された微小構造を有する材料も含んでよい。例えば耐擦傷性層１５０は、約５ｎｍ〜約３０ｎｍのサイズのナノ微結晶を含んでよい。実施形態では、耐擦傷性層１５０は、変態強化ジルコニア、部分安定化ジルコニア、又はジルコニア‐強化アルミナを含んでよい。実施形態では、耐擦傷性層１５０は、約１ＭＰａ√ｍ超の破壊靭性を呈し、また同時に約８Ｇａ超の硬度値を呈する。
【００４４】
耐擦傷性層１５０は、（図７に示すような）単一の層、又は屈折率勾配を呈する複数の副層若しくは単一の層を含んでよい。複数の層が使用される場合、このような層は耐擦傷性コーティングを形成する。例えば耐擦傷性層１５０は、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙの組成勾配を含んでよく、ここでは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ及びＮのうちのいずれの１つ以上の濃度が変化することによって、屈折率が増大又は低下する。この屈折率勾配は、多孔性を用いて形成してもよい。このような勾配は、２０１４年４月２８日出願の米国特許出願第１４／２６２２２４号明細書「Ｓｃｒａｔｃｈ‐Ｒｅｓｉｓｔａｎｔ  Ａｒｔｉｃｌｅｓ  ｗｉｔｈ  ａ  Ｇｒａｄｉｅｎｔ  Ｌａｙｅｒ」に更に十分に記載されており、この特許出願は、参照によりその全体が本出願に援用される。
【００４５】
図８に示されている一実施形態では、光学コーティング１２０は、高ＲＩ層として組み込まれた耐擦傷性層１５０を含んでよく、１つ以上の低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂは、耐擦傷性層１５０を覆うように位置決めしてよく、任意のキャッピング層１３１が低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂを覆うように位置決めされ、ここでキャッピング層１３１は、低ＲＩ材料を含む。あるいは耐擦傷性層１５０は、光学コーティング１２０全体の中で、又はコーティング済み物品１００全体の中で、最も厚い硬質層又は最も厚い高ＲＩ層として定義できる。理論によって束縛されるものではないが、比較的少量の材料が耐擦傷性層１５０を覆うように堆積される場合に、コーティング済み物品１００は押込み深さとして増大した硬度を呈し得ると考えられる。しかしながら、耐擦傷性層１５０の上に低ＲＩ及び高ＲＩ層を含むことにより、コーティング済み物品１００の光学的特性を増強できる。いくつかの実施形態では、比較的少数の層（例えば１、２、３、４又は５層のみ）を、耐擦傷性層１５０を覆うように位置決めしてよく、これらの各層は比較的薄くてよい（例えば１００ｎｍ未満、７５ｎｍ未満、５０ｎｍ未満、又は２５ｎｍ未満でさえある）。
【００４６】
実施形態では、耐擦傷性層１５０を覆うように（即ち耐擦傷性層１５０の空気側の上に）堆積した層は、約１０００ｎｍ以下、約５００ｎｍ以下、約４５０ｎｍ以下、約４００ｎｍ以下、約３５０ｎｍ以下、約３００ｎｍ以下、約２５０ｎｍ以下、約２２５ｎｍ以下、約２００ｎｍ以下、約１７５ｎｍ以下、約１５０ｎｍ以下、約１２５ｎｍ以下、約１００ｎｍ以下、約９０ｎｍ以下、約８０ｎｍ以下、約７０ｎｍ以下、約６０ｎｍ以下、又は約５０ｎｍ以下でさえある合計厚さを有してよい。
【００４７】
実施形態では、耐擦傷性層１５０を覆うように（即ち耐擦傷性層１５０の空気側の上に）位置決めされた１つ以上の低ＲＩ層の合計厚さ（低ＲＩ層が接していない場合であっても、全ての低ＲＩ層の厚さの合計）は、約５００ｎｍ以下、約４５０ｎｍ以下、約４００ｎｍ以下、約３５０ｎｍ以下、約３００ｎｍ以下、約２５０ｎｍ以下、約２２５ｎｍ以下、約２００ｎｍ以下、約１７５ｎｍ以下、約１５０ｎｍ以下、約１２５ｎｍ以下、約１００ｎｍ以下、約９０ｎｍ以下、約８０ｎｍ以下、約７０ｎｍ以下、約６０ｎｍ以下、約５０ｎｍ以下、約４０ｎｍ以下、約３０ｎｍ以下、約２０ｎｍ以下、又は約１０ｎｍ以下でさえあってよい。
【００４８】
１つ以上の実施形態では、光学コーティング１２０は１つ以上の勾配層を備えてよく、これはそれぞれ、図２５に示すように、それぞれの厚さに沿った組成勾配を備えてよい。一実施形態では、光学コーティング１２０は、下側勾配層１７０、（上述のような）耐擦傷性層１５０、及び上側勾配層１６０を備えてよい。下側勾配層１７０は、基板１１０と直接接触して位置決めしてよい。耐擦傷性層１５０は下側勾配層１７０を覆ってよく、上側勾配層は耐擦傷性層１５０に直接接触してこれを覆ってよい。耐擦傷性層１５０は、ＳｉＮｘ、ＳｉＡｌＯＮ、ＳｉＯＮ等の、高い屈折率を有する１つ以上の比較的硬質の材料を含んでよい。実施形態では、耐擦傷性層１５０の厚さは、他の実施形態の耐擦傷性層１５０に関して記載されているように、約２００ｎｍ〜数マイクロメートルであってよい。下側勾配層１７０は、おおよそ、基板１１０に接触している部分における基板の屈折率（これは比較的低いものとなり得る）から、耐擦傷性層１５０に接触している部分における耐擦傷性層１５０の屈折率（これは比較的高いものとなり得る）まで変化する屈折率を有してよい。下側勾配層１７０の厚さは、約１０ｎｍ〜数マイクロメートル、例えば５０ｎｍ〜１０００ｎｍ、１００ｎｍ〜１０００ｎｍ、又は５００ｎｍ〜１０００ｎｍであってよい。上側勾配層１６０は、おおよそ、耐擦傷性層１５０に接触している部分における耐擦傷性層１５０の屈折率（これは比較的高いものとなり得る）から、反射防止表面１２２における空気境界面の比較的低い屈折率まで変化する屈折率を有してよい。（反射防止表面１２２における）上側勾配層１６０の最上部は、シリケートガラス、シリカ、リンガラス又はフッ化マグネシウムといった、屈折率が１．３８〜１．５５の材料を含んでよい。上側勾配層１６０の最上部はまた、限定するものではないがＡｌ２Ｏ３、ＳｉｕＡｌｖＯｘ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ＳｉｖＯｘＮｙ、又はＡｌｖＯｘＮｙといった、約１．３８〜１．７の屈折率及び操作された硬度を有する材料を含んでよい。高い硬度及び低い屈折率は、反射防止表面１２２において望ましいものとなり得る。図２６は、図２５の光学コーティング１２０の例示的な屈折率プロファイルを示す。基板１１０、下側勾配層１７０、耐擦傷性層１５０、及び上側勾配層１６０は、図２６の屈折率プロファイルに対応する部分にマーキングされている。
【００４９】
１つ以上の実施形態では、基板１１０における下側勾配層１７０の屈折率は、基板１１０の屈折率の０．２以内（例えば０．１５、０．１、０．０５、０．０２、又は０．０１倍以内）であってよい。耐擦傷性層における下側勾配層１７０の屈折率は、耐擦傷性層１５０の屈折率の０．２以内（例えば０．１５、０．１、０．０５、０．０２、又は０．０１倍以内）であってよい。耐擦傷性層１５０における上側勾配層１６０の屈折率は、耐擦傷性層１５０の屈折率の０．２以内（例えば０．１５、０．１、０．０５、０．０２、又は０．０１倍以内）であってよい。反射防止表面１２２における上側勾配層１６０の屈折率は、約１．３８〜約１．５５であってよい。実施形態では、耐擦傷性層１５０の屈折率は少なくとも約１．７５、１．８、又は１．９でさえあってよい。
【００５０】
１つ以上の実施形態では、下側勾配層１７０、上側勾配層１６０、又はこれら両方は、（非線形屈折率プロファイルをもたらす）非線形濃度プロファイルを有してよ。例えば、図２７及び２８は、非線形上側勾配層１６０を示す。このような非線形上側勾配層１６０は、以下の実施例において説明されるように、形態パラメータによって定量化できる。形態パラメータ１は、線形屈折率プロファイルに対応する。１未満の形態パラメータは、勾配層の幾何学的中点における屈折率が、勾配層の上側及び下側表面における屈折率の平均より大きくなる、非線形屈折率プロファイルを指す。図２７は、１未満の形態パラメータを有する上側勾配層１６０を示す。１より大きい形態パラメータは、勾配層の幾何学的中点における屈折率が、勾配層の上側及び下側表面における屈折率の平均より小さくなる、非線形屈折率プロファイルを指す。図２８は、１より大きい形態パラメータを有する上側勾配層１６０を示す。１未満の形態パラメータを有するコーティング済み物品１００は、勾配層全体にわたって硬質材料の濃度が高くなるため、高い硬度を有することができる。
【００５１】
１つ以上の実施形態によると、コーティング済み物品１００は、図２６の勾配を含む構造と、図７の高ＲＩ／低ＲＩを交互に含む構造との間のハイブリッドである構造を含んでよい。例えば図７では、耐擦傷性層は、交互の高ＲＩ／低ＲＩ層を有する２つの反射防止コーティング１３０で挟まれ、図２６は、これらの交互の高ＲＩ／低ＲＩ層を、勾配層で置換する。ハイブリッドコーティングは、耐擦傷性層の下側の勾配層と、耐擦傷性層を覆う交互の高ＲＩ／低ＲＩコーティングとを含んでよい。代替実施形態では、ハイブリッドコーティングは、耐擦傷性層を覆う勾配層と、耐擦傷性層の下側の交互の高ＲＩ／低ＲＩコーティングとを含んでよい。勾配層を含む実施形態及び交互の高ＲＩ／低ＲＩコーティングの実施形態（反射防止コーティングの実施形態と呼ばれる場合もある）に関して本明細書で提示される教示を、組み合わせる、及び交換することによって、上記２つの設計のハイブリッドを生産できることを理解されたい。
【００５２】
光学コーティング１２０及び／又はコーティング済み物品１００について、バーコビッチ圧子硬度試験で測定された硬度に関して説明できる。本明細書中で使用される場合、「バーコビッチ圧子硬度試験（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔ）」は、材料の硬度をその表面において、上記表面をダイヤモンドバーコビッチ圧子で押し込むことによって測定するステップを含む。バーコビッチ圧子硬度試験は、コーティング済み物品１００の反射防止表面１２２、又は光学コーティング１２０内の層のうちのいずれの１つ以上を、ダイヤモンドバーコビッチ圧子で、約５０ｎｍ〜約１０００ｎｍの押込み深さ（又は光学コーティング１２０若しくはその層のうち薄い方の全体の厚さ）まで押し込むステップと、押込み深さ範囲全体又はこの押込み深さの（例えば約１００ｎｍ〜約６００ｎｍの範囲の）あるセグメントに沿ったこの押込みから、一般にはＯｌｉｖｅｒ，  Ｗ．Ｃ．；  Ｐｈａｒｒ，  Ｇ．  Ｍ．  Ａｎ  ｉｍｐｒｏｖｅｄ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ  ｆｏｒ  ｄｅｔｅｒｍｉｎｉｎｇ  ｈａｒｄｎｅｓｓ  及び  ｅｌａｓｔｉｃ  ｍｏｄｕｌｕｓ  ｕｓｉｎｇ  ｌｏａｄ  及び  ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ  ｓｅｎｓｉｎｇ  ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ  ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ．  Ｊ．  Ｍａｔｅｒ．  Ｒｅｓ．，  Ｖｏｌ．  ７，  Ｎｏ．  ６，  １９９２，  １５６４‐１５８３；及び  Ｏｌｉｖｅｒ，  Ｗ．Ｃ．；  Ｐｈａｒｒ，  Ｇ．Ｍ．  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  及び  Ｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌｕｓ  ｂｙ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ  Ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ：  Ａｄｖａｎｃｅｓ  ｉｎ  Ｕｎｄｅｒｓｔａｎｄｉｎｇ  及び  Ｒｅｆｉｎｅｍｅｎｔｓ  ｔｏ  Ｍｅｔｈｏｄｏｌｏｇｙ．  Ｊ．  Ｍａｔｅｒ．  Ｒｅｓ．，  Ｖｏｌ．  １９，  Ｎｏ．  １，  ２００４，  ３‐２０に記載の方法を用いて、最大硬度を測定するステップを含む。本明細書中で使用される場合、硬度は平均硬度ではなく最大硬度を指す。
【００５３】
典型的には、下層の基板より高い硬度を有するコーティングの（バーコビッチ圧子を用いるもの等の）ナノ押込み測定方法では、測定される硬度は、浅い押込み深さにおける可塑性ゾーンの発生により、初めは増大するように見える場合があり、その後増大して、より深い押込み深さにおいて最大値又は平坦域に達する。その後硬度は、下層の基板の影響により、更に深い押込み深さにおいて低下し始める。コーティングより硬度が高い基板を利用している場合、同一の影響を観察できる。しかしながら、硬度は、下層の基板の影響により、更に深い押込み深さにおいて増大する。
【００５４】
押込み深さ範囲、及び１つ以上の特定の押込み深さ範囲における硬度値は、下層の基板の影響なしに、本明細書に記載の光学フィルム構造及びその層の特定の硬度応答を識別できるように選択できる。（光学フィルム構造が基板上に配置されているときに）バーコビッチ圧子で光学フィルム構造の硬度を測定する場合、材料の恒久的変形領域（可塑性ゾーン）は、上記材料の硬度に関連する。押込み中、弾性応力場は、この恒久的変形領域をはるかに超えて延在する。押込み深さが増大するにつれて、見かけの硬度及び弾性率は、下層の基板との応力場の相互作用によって影響を受ける。硬度に対する基板の影響は、比較的深い押込み深さにおいて（即ち典型的には、光学フィルム構造又は層の厚さの約１０％超の深さにおいて）発生する。更に、押込みプロセス中に完全な可塑性を発生させるために、硬度応答がある一定の最小負荷を必要とすることが、更なる問題となる。このある一定の最小負荷の前、上記硬度は概ね増大する傾向を示す。
【００５５】
小さい押込み深さ（これは小さい負荷として特性決定することもできる）（例えば最大約５０ｎｍ）では、材料の見かけの硬度は、押込み深さに対して劇的に増大するように見える。この小さい押込み深さのレジームは、硬度の本当の尺度を表すわけではないが、その代わりに上述の可塑性ゾーンの発生を反映しており、これは圧子の有限曲率半径に関係する。中程度の押込み深さでは、見かけの硬度は最大レベルに近づく。より深い押込み深さでは、押込み深さが増大するにつれて基板の影響がより甚大になる。押込み深さが、光学コーティング１２０の厚さ又は層の厚さの約３０％を超えると、硬度は劇的に低下し始める場合がある。
【００５６】
いくつかの実施形態では、コーティング済み物品１００は、反射防止表面１２２において測定した場合に、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上又は約１２ＧＰａ以上（例えば約１４ＧＰａ以上、約１６ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、又は約２０ＧＰａ以上）の硬度を呈してよい。コーティング済み物品１００の硬度は、最大約２０ＧＰａ又は３０ＧＰａでさえあってよい。このような測定された硬度値は、約５０ｎｍ以上又は約１００ｎｍ以上（例えば約５０ｎｍ〜約３００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約４００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約５００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約６００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍ又は約２００ｎｍ〜約６００ｎｍ）の押込み深さに沿って、光学コーティング１２０及び／又はコーティング済み物品１００が呈し得る。１つ以上の実施形態では、上記物品は、（反射防止表面の反対側の表面において測定できる）上記基板の硬度より高い硬度を呈する。
【００５７】
実施形態によると、硬度は、コーティング済み物品１００の異なる複数の部分で測定してよい。例えばコーティング済み物品は、第１の部分１１３及び第２の部分１１５の反射防止表面１２２において少なくとも約５０ｎｍ以上の押込み深さで、少なくとも８ＧＰａ以上の硬度を示すことができる。例えば、第１の部分１１３及び第２の部分１１５の硬度は、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、又は約１２ＧＰａ以上（例えば約１４ＧＰａ以上、約１６ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、又は約２０ＧＰａ以上）であってよい。
【００５８】
実施形態によると、本明細書に記載のコーティング済み物品は、第１の部分１１３及び第２の部分１１５といったコーティング済み物品１００の様々な部分において望ましい光学特性（低い反射率及び無色に近い色等）を有することができる。例えば光反射率は、第１の部分１１３及び第２の部分１１５において、各部分に対して略垂直な入射照明角度で視認した場合に、それぞれ比較的低くなり得る（また透過率は比較的高くなり得る）。別の実施形態では、各部分を略垂直な入射照明角度で視認した場合に、２つの部分の間の色の差異は、裸眼にとって微小なものとなり得る。別の実施形態では、これらの部分を同一の方向を有する入射照明角度で視認した場合、色の差異は裸眼にとって微小なものとなり得、また各部分において比較的低い反射率が存在し得る（即ち各部分の表面に対する入射照明角度は、これらの部分が互いに対して角度を有するため異なるが、照明方向は同一である）。光学特性としては、平均光透過率、平均光反射率、明所視反射率、明所視透過率、（例えばＬ＊ａ＊ｂ＊色座標における）反射色、及び（例えばＬ＊ａ＊ｂ＊色座標における）透過色が挙げられる。
【００５９】
本明細書中で使用される場合、用語「透過率（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）」は、材料（例えば物品、基板又は光学フィルム若しくはその一部）を通過する所与の波長範囲内の入射光強度の百分率として定義される。用語「反射率（反射率）」は同様に、材料（例えば物品、基板又は光学フィルム若しくはその一部）から反射される所与の波長範囲内の入射光強度の百分率として定義される。反射率は、反射防止表面１２２のみにおいて測定される場合（例えば、物品のコーティングされていない裏面（例えば図１の１１４）からの反射を、吸収材と結合させた裏面上に屈折率適合用オイルを用いることによって、又は他の公知の方法によって、除去した場合）、単一側面反射率として測定してよい。１つ以上の実施形態では、透過率及び反射率の特性決定のスペクトル解像度は、５ｎｍ又は０．０２ｅＶ未満である。色は、反射においてより強くなり得る。角度色は、反射において、入射照明角度によるスペクトル反射率振動のシフトにより、視野角と共にシフトする。視野角による透過における角度色シフトもまた、入射照明角度によるスペクトル透過率振動の同一のシフトによるものである。入射照明角度による観察される色及び角度色シフトは、特に蛍光照明及び一部のＬＥＤ照明等の鋭いスペクトル特徴を有する照明下において、デバイスのユーザにとって、気が散る原因となる、又は不快なものとなることが多い。透過における角度色シフトはまた、反射における色シフトの因子としても作用する場合があり、その逆もあり得る。透過及び／又は反射における角度色シフトの因子としては、視野角による角度色シフト、又は特定の光源又は試験システムによって定義される（角度とはある程度独立した）材料の吸収によって引き起こされ得る特定の白色点から離れる角度色シフトも挙げられる。
【００６０】
平均光反射率及び平均光透過率は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの波長レジームにわたって測定してよい。更なる実施形態では、上記波長レジームは、約４５０ｎｍ〜約６５０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約６８０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約７００ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約７４０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約８５０ｎｍ、又は約４２０ｎｍ〜約９５０ｎｍといった波長範囲を含んでよい。
【００６１】
コーティング済み物品１００は、様々な部分における明所視透過率及び反射率によって特性決定することもできる。本明細書中で使用される場合、「明所視反射率（ｐｈｏｔｏｐｉｃ  ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）」は、ヒトの眼の感度に従って波長スペクトルに対して反射率を重み付けすることにより、ヒトの眼の応答を模倣する。明所視反射率はまた、ＣＩＥ色空間の慣習等の公知の慣習に従って、反射光の輝度値又は三刺激Ｙ値として定義してもよい。平均明所視反射率は、以下の等式において、スペクトル反射率Ｒ（λ）に光源スペクトルＩ（λ）及び眼のスペクトル応答に関連するＣＩＥの等色関数
【００６２】
【数１】
2019526071.tif 000003
【００６３】
を積算したものとして定義される：
【００６４】
【数２】
2019526071.tif 000004
【００６５】
平均明所視透過率は、以下の等式において、スペクトル透過率Ｔ（λ）に光源スペクトルＩ（λ）及び眼のスペクトル応答に関連するＣＩＥの等色関数
【００６６】
【数３】
2019526071.tif 000005
【００６７】
を積算したものとして定義される：
【００６８】
【数４】
2019526071.tif 000006
【００６９】
一実施形態によると、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第１の部分１１３の反射防止表面１２２において測定した場合に、約８％以下の単一側面平均光反射率を示すことができ、第１の部分１１３の単一側面平均光反射率は、ｎ１に対する第１の入射照明角度θ１で測定され、第１の入射照明角度θ１は、ｎ１から約０°〜約６０°の角度を含む。更なる実施形態では、第１の入射照明角度θ１は、ｎ１から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の角度を含む。更なる実施形態では、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第１の部分１１３の反射防止表面１２２において測定した場合に、ｎ１から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の全ての入射照明角度θ１に関して、約８％以下の単一側面平均光反射率を示すことができる。更なる実施形態では、入射照明角度θ１の上述の範囲のうちのいずれの場合において、基板１１０の第１の部分１１３の反射防止表面１２２において測定した単一側面平均光反射率は、光波長レジーム全体にわたって、約１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、又は約０．８％以下であってよい。例えば単一側面平均光反射率は、約０．４％〜約９％、約０．４％〜約８％、約０．４％〜約７％、約０．４％〜約６％、又は約０．４％〜約５％、及びこれらの間の全ての範囲内であってよい。
【００７０】
一実施形態によると、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第２の部分１１５の反射防止表面１２２において測定した場合に、約８％以下の単一側面平均光反射率を示すことができ、第２の部分１１５の単一側面平均光反射率は、ｎ２に対する第１の入射照明角度θ２で測定され、第１の入射照明角度θ２は、ｎ２から約０°〜約６０°の角度を含む。更なる実施形態では、第１の入射照明角度θ２は、ｎ２から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の角度を含む。更なる実施形態では、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第２の部分１１５の反射防止表面１２２において測定した場合に、ｎ２から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の全ての入射照明角度θ２に関して、約８％以下の単一側面平均光反射率を示すことができる。更なる実施形態では、入射照明角度θ２の上述の範囲のうちのいずれの場合において、基板１１０の第２の部分１１５の反射防止表面１２２において測定した単一側面平均光反射率は、光波長レジーム全体にわたって、約１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、又は約０．８％以下であってよい。例えば単一側面平均光反射率は、約０．４％〜約９％、約０．４％〜約８％、約０．４％〜約７％、約０．４％〜約６％、又は約０．４％〜約５％、及びこれらの間の全ての範囲内であってよい。
【００７１】
別の実施形態では、本開示の角度範囲のうちのいずれにわたって、基板１１０の第１の部分１１３の反射防止表面１２２において測定した場合の単一側面平均光反射率と、本開示の角度範囲のうちのいずれにわたって、基板１１０の第２の部分１１５の反射防止表面１２２において測定した場合の単一側面平均光反射率との間の差異は、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下、又は１％以下でさえある。
【００７２】
別の実施形態では、第１の部分１１３及び／又は第２の部分１１５における明所視反射率は、本開示のある角度範囲にわたって、単一側面平均光反射率に関して開示されている範囲内である。
【００７３】
一実施形態によると、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第１の部分１１３の反射防止表面１２２において測定した場合に、約８％以下の平均光透過率を示すことができ、第１の部分１１３の平均光透過率は、ｎ１に対する第１の入射照明角度θ１で測定され、第１の入射照明角度θ１は、ｎ１から約０°〜約６０°の角度を含む。更なる実施形態では、第１の入射照明角度θ１は、ｎ１から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の角度を含む。更なる実施形態では、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第１の部分１１３の反射防止表面１２２において測定した場合に、ｎ１から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の全ての入射照明角度θ１に関して、約８％以下の平均光透過率を示すことができる。更なる実施形態では、入射照明角度θ１の上述の範囲のうちのいずれの場合において、基板１１０の第１の部分１１３の反射防止表面１２２において測定した平均光透過率は、光波長レジーム全体にわたって、約９０％以上、９１％以上、９２％以上、９３％以上、９４％以上、９５％以上、９６％以上、９７％以上、又は９８％以上であってよい。例えば平均光透過率は、約９０％〜約９５．５％、約９１％〜約９５．５％、約９２％〜約９５．５％、約９３％〜約９５．５％、約９４％〜約９５．５％、約９５％〜約９５．５％、約９６％〜約９５．５％、及びこれらの間の全ての範囲内であってよい。
【００７４】
一実施形態によると、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第２の部分１１５の反射防止表面１２２において測定した場合に、約８％以下の平均光透過率を示すことができ、第２の部分１１５の平均光透過率は、ｎ２に対する第１の入射照明角度θ２で測定され、第１の入射照明角度θ２は、ｎ２から約０°〜約６０°の角度を含む。更なる実施形態では、第１の入射照明角度θ２は、ｎ２から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の角度を含む。更なる実施形態では、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第２の部分１１５の反射防止表面１２２において測定した場合に、ｎ２から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の全ての入射照明角度θ２に関して、約８％以下の平均光透過率を示すことができる。更なる実施形態では、入射照明角度θ２の上述の範囲のうちのいずれの場合において、基板１１０の第２の部分１１５の反射防止表面１２２において測定した平均光透過率は、光波長レジーム全体にわたって、約９０％以上、９１％以上、９２％以上、９３％以上、９４％以上、９５％以上、９６％以上、９７％以上、又は９８％以上であってよい。例えば平均光透過率は、約９０％〜約９５．５％、約９１％〜約９５．５％、約９２％〜約９５．５％、約９３％〜約９５．５％、約９４％〜約９５．５％、約９５％〜約９５．５％、約９６％〜約９５．５％、及びこれらの間の全ての範囲内であってよい。
【００７５】
別の実施形態では、本開示の角度範囲のうちのいずれにわたって、基板１１０の第１の部分１１３の反射防止表面１２２において測定した場合の平均光透過率と、本開示の角度範囲のうちのいずれにわたって、基板１１０の第２の部分１１５の反射防止表面１２２において測定した場合の平均光透過率との間の差異は、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下、又は１％以下でさえある。
【００７６】
別の実施形態では、第１の部分１１３及び／又は第２の部分１１５における明所視透過率は、本開示のある角度範囲にわたって、平均光透過率に関して開示されている範囲内である。
【００７７】
別の実施形態によると、単一側面平均光反射率、平均光透過率、明所視反射率、明所視透過率、反射色、及び透過色のうちの１つ以上は、第１の部分１１３及び第２の部分１１５において測定してよく、第１の入射照明角度θ１はｎ１から約０°〜約６０°の角度を含み、第２の部分１１５の所与の光学特性は第２の入射照明角度θ２で測定され、第２の入射照明角度θ２は、第１の入射照明角度の方向ｖ１と同一の方向とし、これにより第１の部分１１３及び第２の部分１１５の光学特性は同一の視認方向で測定される（即ちｖ１はｖ２と等しいが、ｎ１がｎ２と等しくないためθ１はθ２と等しくない）。
【００７８】
光学コーティング１２０／空気境界面及び光学コーティング１２０／基板１１０境界面からの反射波の間の光干渉は、コーティング済み物品１００の見た目の色を生成する、スペクトル反射率及び／又は透過率の発振を引き起こし得る。１つ以上の実施形態では、コーティング済み物品１００は第１の部分１１３において、法線ｎ１と入射照明角度θ１における視認方向ｖ１との間で測定した場合に、約１０以下の反射率及び／又は透過率の角度色シフトを示し得る。更に１つ以上の実施形態では、コーティング済み物品１００は第２の部分１１５において、法線ｎ２と入射照明角度θ２における視認方向ｖ２との間で測定した場合に、約１０以下の反射率及び／又は透過率の角度色シフトを示し得る。
【００７９】
１つ以上の実施形態によると、第１の部分１１３及び第２の部分１１５の基準点の色は、約１０未満であってよい（例えば約９以下、約８以下、約７以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、又は約２以下でさえあってよい）。本明細書中で使用される場合、句「基準点の色（ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ  ｐｏｉｎｔ  ｃｏｌｏｒ）」は、基準色に対する反射率及び／又は透過率の、ＣＩＥ  Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊測色系におけるａ＊及びｂ＊を指す。基準色（ａ＊，ｂ＊）は、＝（０，０）、（−２，−２）、（−４，−４）、又は基板１１０の色座標であってよい。基準点の色は、入射照明角度θ１及びθ２を変化させて測定してよい。基準（０，０）において、基準点の色は√（（ａ＊物品）２＋（ｂ＊物品）２）として定義され、基準（−２，−２）において、基準点の色は√（（ａ＊物品＋２）２＋（ｂ＊物品＋２）２）として定義され、基準（−４，−４）において、基準点の色は√（（ａ＊物品＋４）２＋（ｂ＊物品＋４）２）として定義され、基板１１０の色座標としての基準において、基準点の色は√（（ａ＊物品−ａ＊基板）２＋（ｂ＊物品−ｂ＊基板）２）として定義される。実施形態では、基準点の色は複数の角度範囲にわたって測定してよく、これにより入射照明角度θ１及びθ２は、ｎ１又はｎ２から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の角度を含んでよい。別の実施形態では、本開示の入射照明角度範囲のいずれに関して、第１の部分１１３、第２の部分１１５、又はこれら両方において、ａ＊は約２以下であってよく、ｂ＊は約２以下であってよい。
【００８０】
本明細書中で使用される場合、句「角度色シフト（ａｎｇｕｌａｒ  ｃｏｌｏｒ  ｓｈｉｆｔ）」は、入射照明角度をシフトさせた場合の、反射率及び／又は透過率の、ＣＩＥ  Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊測色におけるａ＊及びｂ＊両方の変化を指す。なお、そうでないことが注記されていない限り、本明細書に記載の物品のＬ＊座標は、いずれの角度又は基準点において同一であり、色シフトに影響を及ぼさない。例えば角度色シフトは、コーティング済み基板１００のある特定の位置において、以下の式：
√（（ａ＊ｖ−ａ＊ｎ）２＋（ｂ＊ｖ−ｂ＊ｎ）２）、
を用いて決定でき、ここでａ＊ｖ及びｂ＊ｖは、入射照明角度において観察した場合の上記物品のａ＊及びｂ＊座標を表し、ａ＊ｎ及びｂ＊ｎは、法線又は法線付近において観察した場合の上記物品のａ＊及びｂ＊座標を表す。
【００８１】
１つ以上の実施形態では、第１の部分１１３の角度色シフトは、約１０以下、約９以下、約８以下、約７以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、又は約２以下でさえあってよい。同様に、第２の部分１１５の角度色シフトは、約１０以下、約９以下、約８以下、約７以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、又は約２以下でさえあってよい。入射照明角度θ１及びθ２はそれぞれ、ｎ１又はｎ２から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の角度を含んでよい。更なる実施形態では、コーティング済み物品１００は、基板１１０の第１の部分１１３及び第２の部分１１５において、ｎ１から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の全ての入射照明角度θ１に関して、約１０以下の反射又は透過色シフトを有してよい。いくつかの実施形態では、角度色シフトは約０であってよい。
【００８２】
光源は、ＣＩＥによって決定される標準的な光源を含むことができ、これはＡ光源（タングステンフィラメント照明を表す）、Ｂ光源（日光シミュレート光源）、Ｃ光源（日光シミュレート光源）、Ｄシリーズ光源（自然日光を表す）、及びＦシリーズ光源（様々なタイプの蛍光照明を表す）を含む。
【００８３】
別の実施形態では、基板１１０の第１の部分１１３と基板１１０の第２の部分１１５との間の、コーティング済み物品１００の反射色の差異は、約１０以下であり（例えば約９以下、約８以下、約７以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、又は約１以下でさえあってよく）、この反射色の差異は：
√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）
として定義され、第１の部分１１３の反射色は、ｎ１に対する第１の入射照明角度θ１で測定され、第２の部分１１５の反射色は、ｎ２に対して測定された第２の入射照明角度θ２で測定される。入射照明角度θ１及びθ２はそれぞれ、ｎ１又はｎ２から約０°〜約６０°、約０°〜約５０°、約０°〜約４０°、約０°〜約３０°、約０°〜約２０°、又は約０°〜約１０°の角度を含んでよい。別の実施形態では、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）で定義される反射色の差異は、第２の入射照明角度θ２が第１の入射照明角度の方向ｖ１と同一の方向となるように測定してよく、これにより、第１の部分１１３及び第２の部分１１５の光学特性は同一の視認方向で測定される（即ちｖ１はｖ２と等しいが、ｎ１がｎ２と等しくないためθ１はθ２と等しくない）。
【００８４】
基板１１０は、無機材料を含んでよく、また非晶質基板、結晶質基板又はこれらの組み合わせを含んでよい。基板１１０は、人工材料並びに／又は天然材料（例えば石英及びポリマー）から形成してよい。例えば、いくつかの例では、基板１１０は、無機質であることを特徴としてよく、また具体的にはポリマー性であることを特徴としてよい。好適なポリマーの実施例としては、限定するものではないが：ポリスチレン（ＰＳ）（スチレンコポリマー及び混合物を含む）、ポリカーボネート（ＰＣ）（コポリマー及び混合物を含む）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンテレフタレートコポリマーといったコポリマー及び混合物を含む）、ポリオレフィン（ＰＯ）、並びにシクロポリオレフィン（環状ＰＯ）を含む、熱可塑性プラスチック；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（コポリマー及び混合物を含む）を含むアクリルポリマー；熱可塑性ウレタン（ＴＰＵ）；ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）；並びにこれらのポリマーの混合物が挙げられる。他の例示的なポリマーとしては、エポキシ、スチレン、フェノール、メラミン及びシリコーン樹脂が挙げられる。
【００８５】
いくつかの具体的な実施形態では、基板１１０は、特にポリマー、プラスチック及び／又は金属材料を含まなくてよい。基板１１０は、アルカリ含有基板であることを特徴としてよい（即ち上記基板は１つ以上のアルカリを含む）。１つ以上の実施形態では、基板１１０は、約１．４５〜約１．５５の屈折率を呈する。具体的な実施形態では、基板１１０は、少なくとも５、少なくとも１０、少なくとも１５又は少なくとも２０個の試料を用いたボール・オン・リング試験を用いて測定した場合に、０．５％以上、０．６％以上、０．７％以上、０．８％以上、０．９％以上、１％以上、１．１％以上、１．２％以上、１．３％以上、１．４％以上１．５％以上又は２％以上でさえある、１つ以上の対向する大表面上のある表面における平均破損歪みを呈してよい。具体的な実施形態では、基板１１０は、約１．２％、約１．４％、約１．６％、約１．８％、約２．２％、約２．４％、約２．６％、約２．８％又は約３％以上の、１つ以上の対向する大表面上のその表面における平均破損歪みを呈してよい。
【００８６】
好適な基板１１０は、約３０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａの弾性率（又はヤング率）を呈してよい。いくつかの例では、基板の弾性率は、約３０ＧＰａ〜約１１０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約１００ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約９０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約８０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約７０ＧＰａ、約４０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約５０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約６０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約７０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、並びにこれらの間の全ての範囲及び部分範囲であってよい。
【００８７】
１つ以上の実施形態では、非晶質基板はガラスを含んでよく、これは強化されていてもいなくてもよい。好適なガラスの例としては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、及びアルカリアルミノホウケイ酸ガラスが挙げられる。いくつかの変形例では、ガラスは酸化リチウムを含まなくてよい。１つ以上の代替実施形態では、基板１１０は、（強化されていてもいなくてもよい）ガラスセラミック基板といった結晶質基板を含んでよく、又はサファイアといった単結晶構造を含んでよい。１つ以上の具体的な実施形態では、基板１１０は、非晶質基材（例えばガラス）並びに結晶質クラッド（例えばサファイア層、多結晶アルミナ層及び／又はスピネル（ＭｇＡｌ２Ｏ４）層）を含む。
【００８８】
１つ以上の実施形態の基板１１０は、（本明細書に記載のバーコビッチ圧子硬度試験で測定した場合に）コーティング済み物品１００全体の硬度より低い硬度を有してよい。基板１１０の硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験又はビッカース硬度試験を含むがこれらに限定されない、当該技術分野において公知の方法を用いて測定してよい。
【００８９】
基板１１０は実質的に、光学的に透明であり、透過性であり、光散乱要素を含まないものであってよい。このような実施形態では、基板は、約８５％以上、約８６％以上、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上又は約９２％以上の、光波長領域に亘る平均光透過率を呈してよい。１つ以上の代替実施形態では、基板１１０は不透明であってよく、又は約１０％未満、約９％未満、約８％未満、約７％未満、約６％未満、約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満、約１％未満若しくは約０．５％未満の、光波長領域に亘る平均光透過率を呈してよい。いくつかの実施形態では、これらの光線反射率及び透過率値は、（基板の両方の大表面における反射率若しくは透過率を考慮した）合計反射率若しくは合計透過率であってよく、又は基板の単一側面において（即ち反対側の表面を考慮せず、反射防止表面１２２のみにおいて）観察されるものであってよい。そうでないことが明記されていない限り、基板単独の平均反射率又は透過率は、基板の大表面１１２に対して０°の入射照明角度において測定される（しかしながら、このような測定を４５°又は６０°の入射照明角度において提供してもよい）。基板１１０は任意に、白色、黒色、赤色、青色、緑色、黄色、橙色等といった色を呈してよい。
【００９０】
更に、又はあるいは、基板１１０の物理的厚さは、審美的及び／又は機能的な理由により、その寸法のうちの１つ以上に沿って変化してよい。例えば、基板１１０の縁部は、基板１１０の比較的中央の領域に比べて厚くてよい。基板１１０の長さ、幅及び物理的厚さ寸法もまた、コーティング済み物品１００の用途又は使用に応じて変化させてよい。
【００９１】
基板１１０は、多様な異なる複数のプロセスを用いて提供できる。例えば基板１１０がガラス等の非晶質基板を含む場合、様々な形成方法として、フロートガラスプロセス、並びにフュージョンドロー及びスロットドロー等のダウンドロープロセスが挙げられる。
【００９２】
形成後、基板１１０を強化して、強化基板を形成してよい。本明細書中で使用される場合、用語「強化基板（ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）」は、例えば基板の表面の比較的小さなイオンを比較的大きなイオンでイオン交換することによって、化学強化された基板を指してよい。しかしながら、熱強化、又は基板の複数の部分間の熱膨張係数の不一致を利用して圧縮応力領域及び中央張力領域を生成するステップといった、当該技術分野において公知の他の強化方法を利用して、強化基板を形成してもよい。
【００９３】
イオン交換プロセスで基板１１０を化学強化する場合、基板の表面層のイオンは、同一価又は酸化状態の、より大きなイオンで置換（即ち交換）される。イオン交換プロセスは典型的には、基板中の比較的小さなイオンと交換されることになる比較的大きなイオンを含有する溶融塩浴に基板を浸漬することによって実行される。浴の組成及び温度；浸漬時間；塩浴（又は複数の塩浴）中の基板の浸漬数；複数の塩浴の使用；アニーリングや洗浄といった追加のステップを含むがこれらに限定されない、イオン交換プロセスに関するパラメータは、一般に、基板の組成及び所望の圧縮応力（ＣＳ）、強化作業によって得られる基板の圧縮応力層の深さ（又は層深さＤＯＬ、若しくは圧縮深さＤＯＣ）によって決定されることは、当業者には理解されるだろう。例えばアルカリ金属含有ガラス基板のイオン交換は、限定するものではないが、比較的大きなアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩及び塩化物といった塩を含有する、少なくとも１つの溶融浴中での浸漬によって達成できる。溶融塩浴の温度は典型的には約３８０℃〜最大約４５０℃であり、その一方で浸漬時間は約１５分〜最大約４０時間である。しかしながら、上述のものとは異なる温度及び浸漬時間も使用してよい。
【００９４】
更に、ガラス基板を、浸漬と浸漬の間に洗浄及び／又はアニーリングステップを伴って、複数のイオン交換浴に浸漬させるイオン交換プロセスの非限定的な例は：２００８年７月１１日出願の米国仮特許出願第６１／０７９，９９５号明細書からの優先権を主張する、Ｄｏｕｇｌａｓ  Ｃ。Ａｌｌａｎ  ｅｔ  ａｌ．による２００９年７月１０日出願の米国特許出願第１２／５００，６５０号明細書「Ｇｌａｓｓ  ｗｉｔｈ  Ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ  Ｓｕｒｆａｃｅ  ｆｏｒ  Ｃｏｎｓｕｍｅｒ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」（ここではガラス基板は、濃度が異なる複数の塩浴中での複数回の連続したイオン交換処理における浸漬によって強化される）；及び２００８年７月２９日出願の米国仮特許出願第６１／０８４，３９８号明細書からの優先権を主張する、Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈｅｒ  Ｍ。Ｌｅｅ  ｅｔ  ａｌ．による２０１２年１１月２０日出願の米国特許第８，３１２，７３９号明細書「Ｄｕａｌ  Ｓｔａｇｅ  Ｉｏｎ  Ｅｘｃｈａｎｇｅ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｉｎｇ  ｏｆ  Ｇｌａｓｓ」（ここではガラス基板は、流出イオンで希釈された第１の浴中でのイオン交換と、それに続く、第１の浴より低濃度の流出イオンを含む第２の浴中での浸漬とによって強化される）に記載されている。米国特許出願第１２／５００，６５０号明細書、及び米国特許第８，３１２，７３９号明細書の内容は、参照によりその全体が本出願に援用される。
【００９５】
イオン交換によって達成される化学強化の程度は、中央張力（ＣＴ）、表面ＣＳ及び圧縮深さ（ＤＯＣ）のパラメータに基づいて定量化できる。圧縮応力（表面ＣＳを含む）は、有限会社折原製作所（日本）製ＦＳＭ‐６０００等の市販の機器を用いて、表面応力計（ｓｕｒｆａｃｅ  ｓｔｒｅｓｓ  ｍｅｔｅｒ：ＦＳＭ）によって測定される。表面応力測定は、ガラスの複屈折に関連する応力光係数（ｓｔｒｅｓｓ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ：ＳＯＣ）の精密測定に依存する。ＳＯＣは、「ガラスの応力光係数の測定のための標準試験法（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｇｌａｓｓ  Ｓｔｒｅｓｓ‐Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）」というタイトルのＡＳＴＭ規格Ｃ７７０‐１６（その内容は、参照によりその全体が本出願に援用される）に記載の手順Ｃ（ガラスディスク法）に従って測定される。最大ＣＴ値は、当該技術分野で公知の散乱光偏向鏡（ｓｃａｔｔｅｒｅｄ  ｌｉｇｈｔ  ｐｏｌａｒｉｓｃｏｐｅ：ＳＣＡＬＰ）技法を用いて測定される。本明細書中で使用される場合、ＤＯＣは、本明細書に記載の化学強化アルカリアルミノシリケートガラス物品内の応力が圧縮応力から引張応力に変化する深さを意味する。ＤＯＣは、イオン交換処理に応じてＦＳＭ又はＳＣＡＬＰで測定してよい。ガラス物品内の応力が、ガラス物品内へのカリウムイオンの交換によって生成される場合は、ＦＳＭを用いてＤＯＣを測定する。上記応力が、ガラス物品内へのナトリウムイオンの交換によって生成される場合は、ＳＣＡＬＰを用いてＤＯＣを測定する。ガラス物品内の応力が、ガラス内へのカリウム及びナトリウム両方のイオンの交換によって生成される場合は、ナトリウムイオンの交換深さがＤＯＣを示し、カリウムイオンの交換深さが圧縮応力の大きさの変化（ただし圧縮応力から引張応力への応力の変化ではない）を示すと考えられるため、ＤＯＣはＳＣＡＬＰで測定され、上記ガラス物品内でのカリウムイオンの交換深さはＦＳＭで測定される。
【００９６】
一実施形態では、基板１１０は、２５０ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上、例えば４００ＭＰａ以上、４５０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、５５０ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、６５０ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、７５０ＭＰａ以上又は８００ＭＰａ以上の表面ＣＳを有することができる。強化基板は、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上（例えば２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ以上）のＤＯＣ（以前のＤＯＬ）、及び／又は１０ＭＰａ以上、２０ＭＰａ以上、３０ＭＰａ以上、４０ＭＰａ以上（例えば４２ＭＰａ、４５ＭＰａ若しくは５０ＭＰａ以上）、ただし１００ＭＰａ未満（例えば９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５ＭＰａ以下）のＣＴを有してよい。１つ以上の具体的な実施形態では、強化基板は以下のうちの１つ以上を有する：５００ＭＰａ超の表面ＣＳ、１５μｍ超のＤＯＣ（以前のＤＯＬ）及び１８ＭＰａ超のＣＴ。
【００９７】
基板１１０に使用してよい例示的なガラスは、アルカリアルミノケイ酸ガラス組成物又はアルカリホウケイ酸ガラス組成物を含んでよいが、他のガラス組成物も考えられる。このようなガラス組成物は、イオン交換プロセスによって化学強化できる。ある例示的なガラス組成物は、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３及びＮａ２Ｏを含み、（ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３）≧６６モル％及びＮａ２Ｏ≧９モル％である。ある実施形態では、このガラス組成物は、少なくとも６重量％の酸化アルミニウムを含む。更なる実施形態では、基板は、１つ以上のアルカリ土類酸化物を、このアルカリ土類酸化物の含有量が少なくとも５重量％となるように有する、ガラス組成物を含む。いくつかの実施形態では、好適なガラス組成物は更に、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ及びＣａＯのうちの少なくとも１つを含む。ある特定の実施形態では、基板に使用されるガラス組成物は、６１〜７５モル％のＳｉＯ２；７〜１５モル％のＡｌ２Ｏ３；０〜１２モル％のＢ２Ｏ３；９〜２１モル％のＮａ２Ｏ；０〜４モル％のＫ２Ｏ；０〜７モル％のＭｇＯ；及び０〜３モル％のＣａＯを含むことができる。
【００９８】
基板１１０に好適な更なる例示的なガラス組成物は：６０〜７０モル％のＳｉＯ２；６〜１４モル％のＡｌ２Ｏ３；０〜１５モル％のＢ２Ｏ３；０〜１５モル％のＬｉ２Ｏ；０〜２０モル％のＮａ２Ｏ；０〜１０モル％のＫ２Ｏ；０〜８モル％のＭｇＯ；０〜１０モル％のＣａＯ；０〜５モル％のＺｒＯ２；０〜１モル％のＳｎＯ２；０〜１モル％のＣｅＯ２；５０ｐｐｍ未満のＡｓ２Ｏ３；及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ２Ｏ３を含み、１２モル％≦（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦２０モル％、及び０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。
【００９９】
基板１１０に好適な、また更なる例示的なガラス組成物は：６３．５〜６６．５モル％のＳｉＯ２；８〜１２モル％のＡｌ２Ｏ３；０〜３モル％のＢ２Ｏ３；０〜５モル％のＬｉ２Ｏ；８〜１８モル％のＮａ２Ｏ；０〜５モル％のＫ２Ｏ；１〜７モル％のＭｇＯ；０〜２．５モル％のＣａＯ；０〜３モル％のＺｒＯ２；０．０５〜０．２５モル％のＳｎＯ２；０．０５〜０．５モル％のＣｅＯ２；５０ｐｐｍ未満のＡｓ２Ｏ３；及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ２Ｏ３を含み、１４モル％≦（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦１８モル％、及び２モル％の≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。
【０１００】
ある特定の実施形態では、基板１１０に好適なアルカリアルミノケイ酸ガラス組成物は、アルミナ、少なくとも１つのアルカリ金属、並びにいくつかの実施形態では、５０モル％超のＳｉＯ２、他の実施形態では少なくとも５８モル％のＳｉＯ２、及び更に他の実施形態少なくとも６０モル％のＳｉＯ２を含み、比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ改質剤（即ち改質剤の合計）は１超であり、この比において、組成物はモル％で表され、改質剤はアルカリ金属酸化物である。特定の実施形態では、このガラス組成物は：５８〜７２モル％のＳｉＯ２；９〜１７モル％のＡｌ２Ｏ３；２〜１２モル％のＢ２Ｏ３；８〜１６モル％のＮａ２Ｏ；及び０〜４モル％のＫ２Ｏを含み、（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ改質剤（即ち改質剤の合計）の比は１超である。
【０１０１】
更に別の実施形態では、基板１１０は：６４〜６８モル％のＳｉＯ２；１２〜１６モル％のＮａ２Ｏ；８〜１２モル％のＡｌ２Ｏ３；０〜３モル％のＢ２Ｏ３；２〜５モル％のＫ２Ｏ；４〜６モル％のＭｇＯ；及び０〜５モル％のＣａＯを含むアルカリアルミノケイ酸ガラス組成物を含んでよく、ここで：６６モル％≦ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋ＣａＯ≦６９モル％；Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＋Ｂ２Ｏ３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％；５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％；（Ｎａ２Ｏ＋Ｂ２Ｏ３）‐Ａｌ２Ｏ３≦２モル％；２モル％≦Ｎａ２Ｏ‐Ａｌ２Ｏ３≦６モル％；及び４モル％≦（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）‐Ａｌ２Ｏ３≦１０モル％である。
【０１０２】
ある代替実施形態では、基板１１０は：２モル％以上のＡｌ２Ｏ３及び／若しくはＺｒＯ２、又は４モル％以上のＡｌ２Ｏ３及び／若しくはＺｒＯ２を含む、アルカリアルミノケイ酸ガラス組成物を含んでよい。
【０１０３】
基板１１０が結晶質基板を含む場合、この基板は単結晶を含んでよく、上記単結晶はＡｌ２Ｏ３を含んでよい。この単結晶基板はサファイアと呼ばれる。結晶質基板のための他の好適な材料は、多結晶質アルミナ層及び／又はスピネル（ＭｇＡｌ２Ｏ４）を含む。
【０１０４】
任意に、基板１１０は結晶質であってよく、またガラスセラミック基板を含んでよく、これは強化されていてもいなくてもよい。好適なガラスセラミックの例としては、Ｌｉ２Ｏ‐Ａｌ２Ｏ３‐ＳｉＯ２系（即ちＬＡＳ系）ガラスセラミック、ＭｇＯ‐Ａｌ２Ｏ３‐ＳｉＯ２系（即ちＭＡＳ系）ガラスセラミック、並びに／又はβ石英固溶体、βスポジュメンｓｓ、コーディエライト及び二ケイ酸リチウムを含む主要な結晶相を含むガラスセラミックが挙げられる。ガラスセラミック基板は、本明細書で開示されている化学強化プロセスを用いて強化してよい。１つ以上の実施形態では、ＭＡＳ系ガラスセラミック基板は、Ｌｉ２ＳＯ４溶融塩中で強化してよく、これにより２Ｌｉ＋によるＭｇ２＋の交換を発生させることができる。
【０１０５】
１つ以上の実施形態による基板１１０は、基板１１０の様々な部分において、約１００μｍ〜約５ｍｍの物理的厚さを有することができる。例示的な基板１１０の物理的厚さは、約１００μｍ〜約５００μｍ（例えば１００、２００、３００、４００又は５００μｍ）である。更なる例示的な基板１１０の物理的厚さは、約５００μｍ〜約１０００μｍ（例えば５００、６００、７００、８００、９００又は１０００μｍ）である。基板１１０は、約１ｍｍ超（例えば約２、３、４又は５ｍｍ）の物理的厚さを有してよい。１つ以上の具体的な実施形態では、基板１１０は、２ｍｍ以下又は１ｍｍ未満の物理的厚さを有してよい。基板１１０は、酸研磨又は他の方法で処置してよく、これにより表面のきずの影響を除去又は低減できる。
【０１０６】
本明細書で開示されているコーティング済み物品は、ディスプレイを備えた物品（即ちディスプレイ物品）（例えば携帯電話、タブレット、コンピュータ、ナビゲーションシステム等を含む消費者向け電子機器）、建築用物品、輸送用物品（例えば自動車、鉄道、航空機、船舶等）、家電物品、又はある程度の透明性、耐擦傷性、耐摩擦性若しくはこれらの組み合わせを必要とするいずれの物品といった、別の物品に組み込むことができる。本明細書で開示されているコーティング済み物品のいずれを組み込んだ例示的な物品を、図４３Ａ及び４３Ｂに示す。具体的には、図４３Ａ及び４３Ｂは：前面４１０４、背面４１０６及び側面４１０８を有するハウジング４１０２；少なくとも部分的に又は全体的に上記ハウジング内にある、少なくともコントローラ、メモリ及びディスプレイ４１１０を上記ハウジングの前面に又は前面に隣接して含む、電子構成部品（図示せず）；並びに上記ハウジングの前面に又は前面全体にわたり、上記ディスプレイを覆うように配置されたカバー基板４１１２を含む、消費者向け電子デバイス４１００を示す。いくつかの実施形態では、カバー基板４１１２又はハウジング４１０２の一部分のうちの少なくとも一方は、本明細書で開示されているコーティング済み物品のいずれを含んでよい。
【実施例】
【０１０７】
以下の実施例によって様々な実施形態を更に明らかにする。実施例の光学特性は、計算を用いてモデル化した。この計算は、アリゾナ州ツーソンのＴｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｃｅｎｔｅｒ，  Ｉｎｃ．製の薄膜設計プログラム「Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ  Ｍａｃｌｅｏｄ」を用いて実施した。スペクトル透過率は、選択された波長に関して１ｎｍ間隔で計算された。所与のコーティング済み物品の各波長における透過率は、入力を受ける層の厚さ及び各層の屈折率に基づいて計算された。コーティングの材料に関する屈折率の値は、経験的に得られたか、又は入手可能な文献において発見された。材料の屈折率を実験で決定するために、コーティング材料の材料に関する分散曲線を用意した。イオンアシストを用い、約５０℃の温度で、ケイ素、アルミニウム、組み合わせた若しくは同時スパッタリングしたケイ素及びアルミニウム、又はフッ化マグネシウム標的（それぞれ）から、ＤＣ、ＲＦ、又はＲＦ重畳ＤＣ反応性スパッタリングによって、各コーティング材料の層を、ケイ素ウェハ上に形成した。いくつかの層の堆積中、ウェハを２００℃まで加熱し、また直径３インチ（７．６２ｃｍ）の標的を使用した。使用した反応性ガスは、窒素、フッ素及び酸素を含み、アルゴンを不活性ガスとして使用した。ＲＦ電力をケイ素標的に１３．５６ＭＨｚで供給し、またＤＣ電力をＳｉ標的、Ａｌ標的及び他の標的に供給した。
【０１０８】
形成された層及びガラス基板それぞれの（波長の関数としての）屈折率を、分光エリプソメトリーを用いて測定した。このようにして測定した屈折率を用いて、実施例に関する反射率スペクトルを算出した。これらの実施例は、これらを説明する表において、利便性のために単一の屈折率値を使用する。これは、約５５０ｎｍの波長における分散曲線から選択される１点に対応するものである。
【０１０９】
本明細書に記載のコーティングの性能を、非平面基板上に堆積させた場合に低い光学性能を有し得る従来のコーティングと比較するために、比較例を供給する。
【０１１０】
比較例Ａ
平面ガラス基板を、表１のコーティングでコーティングした。図９は、垂直な入射角に対して視野角を変化させた、表１の光学コーティングに関する波長の関数としての反射率のグラフを示す。線２０２は０°の入射角に対応し、線２０４は１５°の入射角に対応し、線２０６は３０°の入射角に対応し、線２０８は４５°の入射角に対応し、線２１０は６０°の入射角に対応する。図９から確認できるように、視野角が変化するに従って、反射率（特に約６５０ｎｍ以上）が増大した。従ってこのコーティングは、非平面基板をコーティングした場合に、基板上の異なる複数の位置に関して観察可能な光学的差異を有し得る。更に表１のコーティングを、その各層を様々な堆積角度のコサインのスカラー量だけ薄くして、モデル化した。例えば１５°の堆積角度をモデル化するために、各層の厚さにコサイン１５°を積算した。図１０は、垂直な視野角において観察した場合の層厚さを変化させた、表１のコーティングに関する波長の関数としての反射率のグラフを示す。線２１２は０°の堆積角度に対応し（表１のコーティングと同一）、線２１４は１５°の堆積角度に対応し、線２１６は３０°の堆積角度に対応し、線２１８は４５°の堆積角度に対応し、線２２０は６０°の堆積角度に対応する。図１０に見られるように、堆積角度が０°から増大すると、反射率は可視スペクトルの複数の部分にわたって増大した。
【０１１１】
【表１】
2019526071.tif 000007
【０１１２】
比較例Ｂ
平面ガラス基板を表２のコーティングでコーティングした。図１１では、線２２２は、法線に対して８°の視野角における、比較例Ｂの光学コーティング（表２のコーティング）に関する波長の関数としての反射率のグラフを示す。
【０１１３】
【表２】
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【０１１４】
実施例１
平面ガラス基板を表３のコーティングでコーティングした。図１１の線２２４は、法線に対して８°の視野角における、実施例１の光学コーティングに関する波長の関数としての反射率のグラフを示す。図１１において確認できるように、実施例１のコーティングは、７００ｎｍを超える波長においては、比較例Ｂのコーティングに比べて第１の表面の反射率が低下した。
【０１１５】
【表３】
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【０１１６】
図１２は、設計されたままの状態の実施例１の光学コーティングと、垂直な入射角において視認した場合に堆積角度３５°を表す低減された層厚さを有する実施例１の光学コーティングとに関する、波長の関数としての反射率のグラフを示す。図１２から確認できるように、３５°のモデル化された堆積角度は、約７００ｎｍより大きい波長において反射率を増大させた。しかしながら、可視スペクトルにわたる反射率は比較的低かった。
【０１１７】
図１３は、設計されたままの状態の実施例１の光学コーティングと、垂直な入射角から６０°までにおいて視認した場合に増大した堆積角度を表す低減された層厚さを有する実施例１の光学コーティングとに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における反射率のａ＊対ｂ＊のグラフを示す。
【０１１８】
線２４０は、０°〜３０°のモデル化された堆積角度を表す。３０°までの堆積角度により、コーティングにはわずかな色の変化があった。線２４２は３５°の堆積角度に対応し、線２４４は４０°の堆積角度に対応し、線２４６は４５°の堆積角度に対応し、線２４８は５０°の堆積角度に対応し、線２５０は５５°の堆積角度に対応し、線２５２は６０°の堆積角度に対応する。モデル化する際、０°〜３０°の視野入射角に関して、ｂ＊は１０〜１であり、ａ＊は−５〜０である。また、０°〜６０°から視認した場合、０°〜４０°の堆積角度に関してｂ＊は２未満である。
【０１１９】
実施例２
平面ガラス基板を、下側勾配層、耐擦傷性層、及び上側勾配層を有する光学コーティングでコーティングした。下側勾配層をガラス基板上に形成した。Ｐｌａｓｍａ‐Ｔｈｅｒｍ製Ｖｅｒｓａｌｉｎｅ  ＨＤＰＣＶＤチャンバ内で、シラン、アルゴン、酸素及び窒素から堆積させたＳｉＯ２‐ＳｉＯＮ‐ＳｉＮｘ組成物を用いて、勾配層を堆積させた。勾配は、工程を多数の短いステップに分割することによって形成され、シラン流、酸素、窒素、圧力、アルゴン、コイルＲＦ電力、及びＲＦバイアス電力は、形態パラメータによってステップ間で変動し、１である形態パラメータは線形曲線であり、１を超えて増大した形態パラメータは、ますます下に凸の曲線を形成し、１未満の形態パラメータはますます上に凸の曲線を形成した。耐擦傷性層をＳｉＮｘで作製し、酸素を添加して、上方の下側勾配層内の勾配を達成した。
【０１２０】
図２９は、コーティングを堆積させるために使用される時間の関数としての、Ｎ２（参照番号３０６として示される）、Ｏ２（参照番号３０４として示される）及びＳｉＨ４（参照番号３０２として示される）の流量を示す。図２９の堆積スキームを利用して、５００ｎｍの下側勾配層（形態パラメータ＝３）、１８００ｎｍの耐擦傷性層、及び１２６ｎｍの上側勾配層を有する光学コーティングを生成した。図３０は図２９の条件で形成されたＸＰＳ組成プロファイルを示し、参照番号３０８は窒素を表し、参照番号３１０はケイ素を表し、参照番号３１２はアルミニウムを表し、参照番号３１４は酸素を表し、参照番号３１６はフッ素を表す。なお図２９では、下側勾配層は図の左側部分であり、上側勾配層は図の右側部分であるが、図３０では下側勾配層は図の右側部分であり、上側勾配層は図の左側部分である。図３１は、図２９の堆積条件によるコーティングに関する、算出された屈折率を示す。屈折率は、ＭＦＣ流から、硬質ＳｉＮｘ層からシリカまでの中間的な組成から得られた屈折率対ガス流のフィッティングに対して算出した。図２９に示した堆積は実施例２に関する基本の場合であり、特段の記載がない限り、実施例２のコーティングの１つのパラメータが修正される場合には、他の全てのパラメータは図２９のコーティングと一致したまま保持されることを理解されたい。
【０１２１】
図１４は、様々な視野角に関する、（図２９の条件で堆積させた）実施例２の光学コーティングに関する第１の表面の反射率のグラフを示し、線２６０は、６°の入射角での反射を表し、線２６２は、２０°の入射角での反射を表し、線２６４は、４０°の入射角での反射を表し、線２６６は、６０°の入射角での反射を表す。勾配構造は、波長の関数としての反射率の強度及び反射率の形状の両方について非コーティングガラスと略同様に見える、比較的特色が少ない屈折率曲線を生成することを観察できる。また、視野角の関数としての反射率の小変化にも留意されたい。勾配を有しない誘電体積層設計とは異なり、視野角によって色が変わるように通過帯域がシフトすることはない。反射率の〜２％の揺れは、勾配層／硬質層境界面における屈折率の階段状の変化によるものと考えられる。この階段状の変化は多くの方法で排除でき、そのうち最も明快なものは、必要な流れの範囲にわたる更なる酸素質量流量コントローラである。
【０１２２】
下側勾配層の厚さを変化させて複数の試料を調製し、耐擦傷性層は１８００ｎｍに維持し、そして上側勾配層は１２６ｎｍに維持した。図３２は波長の関数としての反射率を示し、参照番号３２０は７５０ｎｍの下側勾配層を表し、参照番号３２４は５００ｎｍの下側勾配層を表し、参照番号３２２は２５０ｎｍの下側勾配層を表す。インピーダンス整合勾配層厚さを２５０ｎｍから７５０ｎｍに変化させても、反射率の変化又は揺れはほとんど観察されない。
【０１２３】
最適な勾配の構造は典型的には、シグモイド関数に類似した定量的プロファイルを使用する。インピーダンス整合勾配層におけるシグモイド様屈折率分布は、逆の形態パラメータを有する２つのべき乗則勾配を付加することによって生成した。試料を、５００ｎｍの下側勾配層に関して勾配曲線を変化させて調製した。図３３は波長の関数としての反射率を示し、参照番号３２６は３次多項式フィッティング勾配を示し、参照番号３２４は３次曲線を用いてべき乗則プロファイルを付加することによって生成された２ステップシグモイド様形状を表し、参照番号３２０は、５次曲線を用いてべき乗則プロファイルを付加することによって生成された２ステップシグモイド様形状を表す。これらの様々な勾配曲線は、比較的類似した反射率をもたらす。
【０１２４】
図１５は、異なる複数の視野角における、様々な上部勾配コーティング厚さを有する実施例２の光学コーティングに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における反射Ｄ６５色のａ＊対ｂ＊のグラフを示す。白い円形は１２６ｎｍの上側勾配層を有する試料を表し、正方形は２５６ｎｍの上側勾配層を有する試料を表し、三角形は５０４ｎｍの厚さを有する試料を表す。各円形、三角形又は正方形は、異なる視野角（即ち６°、２０°、４０°、又は６０°）を表す。図１６は、垂直な視野角における、様々な上部勾配コーティング厚さを有する実施例２の光学コーティングに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における透過したＤ６５色のａ＊対ｂ＊のグラフを示す。「ｘ」は１２６ｎｍの上側勾配層を有する試料を表し、ひし形は２５６ｎｍの上側勾配層を有する試料を表し、正方形は５０４ｎｍの厚さを有する試料を表す。複数の試料において、上側勾配層が薄いほど、より無色に近いコーティングが得られた。図３４Ａ及び３４Ｂはそれぞれ、様々な勾配層厚さに関する、第１の表面の反射色及び透過色を示す。ｂ＊の全体としての変化はａ＊より大きい。より薄い上部コーティング勾配層の場合に、最も無色に近い点が得られる。
【０１２５】
図３５〜３８はそれぞれ、上部勾配コーティング厚さの関数としての、１面反射色、２面反射色、弾性率及び硬度、並びに透過色を示す。１面反射色に関して−２≦ａ＊≦０；−４≦ｂ＊≦０、及び透過率に関して−０．４≦ａ＊≦０．４；０≦ｂ＊≦０．５という目標が望まれる場合に、約１６０〜１８０ｎｍの上側勾配層厚さがこれらのパラメータを達成し得ることを確認できる。
【０１２６】
図１７は、厚さ１２６ｎｍ（参照番号２７４）、厚さ２５６ｎｍ（参照番号２７２）、及び厚さ５０４ｎｍ（参照番号２７０）に関する、厚さの関数としての上側勾配層の算出された屈折率を示す。
【０１２７】
図１８は、上側勾配層を変化させて調製した試料のバーコビッチ硬度プロファイルを示す。線２７６は、１２６ｎｍの上側勾配層を有する試料に関する硬度プロファイルを表し、線２７８は、２５６ｎｍの上側勾配層を有する試料に関する硬度プロファイルを表し、線２８０は、５０４ｎｍの上側勾配層を有する試料に関する硬度プロファイルを表す。薄い上側勾配層ほど高い硬度をもたらした。表４は、変化する上側勾配層の厚さの関数としての弾性率及び硬度を示す。
【０１２８】
【表４】
2019526071.tif 000010
【０１２９】
様々な形態パラメータを有する１２６ｎｍの上側勾配層を含む上述のコーティングを用いて、複数の試料を生産した。図１９は、様々な形態パラメータを有する実施例２のコーティングに関する上側勾配層プロファイルのグラフを示し、図２０は、様々な上側勾配層の形態パラメータを有する実施例２として調製した複数の試料の硬度プロファイルを示す。図１９及び２０では、線２８２は０．２の形態パラメータを表し、線２８４は０．５の形態パラメータを表し、線２８６は０．３の形態パラメータを表し、線２８８は０．５の形態パラメータを表す。一般に、より線形でない形態パラメータほど、高い硬度をもたらした。表５は、変化する形態パラメータの関数としての弾性率及び硬度を示す。
【０１３０】
【表５】
2019526071.tif 000011
【０１３１】
図２１は、異なる複数の視野角における、様々な上部勾配コーティングの形態パラメータを有する実施例２の光学コーティングに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における反射Ｄ６５色のａ＊対ｂ＊のグラフを示し、図２２は、本明細書に記載の１つ以上の実施形態による、垂直な視野角における、様々な上部勾配コーティングの形態パラメータを有する実施例２の光学コーティングに関する、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における透過したＤ６５色のａ＊対ｂ＊のグラフを示す。図２１では、白い円形は０．２の形態パラメータを表し、正方形は０．２５の形態パラメータを表し、三角形は０．３の形態パラメータを表し、「ｘ」は０．５の形態パラメータを表す。図２２では、「ｘ」は０．２の形態パラメータを表し、ひし形は０．２５の形態パラメータを表し、正方形は０．３の形態パラメータを表し、三角形は０．５の形態パラメータを表す。
【０１３２】
図２３は、様々な上側勾配層の形態パラメータを有する実施例２のコーティングに関する平均明所視透過率及び平均明所視反射率をグラフで示し、図２４は、様々な上側勾配層厚さを有する実施例２のコーティングに関する平均明所視透過率及び平均明所視反射率をグラフで示す。図２３及び２４の両方において、正方形は、４００ｎｍ〜７８０ｎｍのスペクトルにわたる平均明所視反射率を表し、ひし形は、４００ｎｍ〜７８０ｎｍのスペクトルにわたる平均明所視透過率を表す。更に図３９は、変化する上部勾配コーティングの厚さの関数としての実施例２のコーティングの硬度及び２面明所視透過率をグラフで示す。図３９に示すように、特定の実施形態は、２０ＧＰａに近い硬度（一部のイオン交換済みガラス基板の硬度の２倍超）を有しながら、非コーティングガラスの明所視透過率に近い９０％超の明所視透過率を有する。
【０１３３】
実施例３
６層インピーダンス整合積層体、２０００ｎｍの耐擦傷性コーティング、及び１２６ｎｍの上側勾配層を内包するガラス基板上に、コーティングを堆積させた。よって実施例３のコーティングは、実施例２の下側勾配層を実施例３では別個の層の積層体で置換したことを除いて、実施例２のコーティングと同様であった。実施例３のコーティングを表６に示す。このコーティングは、スパッタリング法で堆積させた。
【０１３４】
【表６】
2019526071.tif 000012
【０１３５】
図４０は、様々な視野入射角における、波長の関数としての実施例３の光学コーティングを示し、参照番号３５４は６°の入射角を表し、参照番号３５６は２０°の入射角を表し、参照番号３５２は４０°の入射角を表し、参照番号３５０は６０°の入射角を表す。図４２は、６°、２０°、４０°及び６０°の入射角における、実施例３のコーティング済み物品に関する第１の表面の反射色座標のａ＊及びｂ＊（２乗）を示す。実施例３のコーティング済み物品は、ａ＊＝−０．２５及びｂ＊＝−０．２５という透過色座標を有していた。
【０１３６】
実施例４
６層インピーダンス整合積層体、２０００ｎｍの耐擦傷性コーティング、及び１２６ｎｍの上側勾配層を内包するガラス基板上に、コーティングを堆積させた。よって実施例４のコーティングは、実施例２の下側勾配層を実施例４では別個の層の積層体で置換したことを除いて、実施例２のコーティングと同様であった。実施例４のコーティングを表７に示す。このコーティングは、ＰＥＣＶＤで堆積させた。
【０１３７】
【表７】
2019526071.tif 000013
【０１３８】
図４１は、様々な視野入射角における、波長の関数としての実施例４のコーティングの反射率を示し、参照番号３６０は６°の入射角を表し、参照番号３６２は２０°の入射角を表し、参照番号３６４は４０°の入射角を表し、参照番号３６６は６０°の入射角を表す。図４２は、６°、２０°、４０°及び６０°の入射角における、実施例４のコーティング済み物品に関する第１の表面の反射色座標のａ＊及びｂ＊（２乗）を示す。実施例４のコーティング済み物品は、ａ＊＝−０．２及びｂ＊＝０．７という透過色座標を有していた。
【０１３９】
表８は、３つのコーティング試料のコーティング済み物品に関する、硬度、弾性率、明所視透過率、及び明所視反射率を報告する。コーティング試料Ａ及びＢは、従来の６層インピーダンス整合積層体、２マイクロメートルの硬質コーティング、及び厚さ〜１２５ｎｍのＡＲ勾配層を有する。コーティング試料Ａは、ＳｉＯ２‐ＳｉＯＮ‐ＳｉＮｘ材料系を用いて、Ｐｌａｓｍａ‐Ｔｈｅｒｍ製ＨＤＰＣＶＤ上にＣＶＤによって堆積させた。コーティング試料Ｂは、ＳｉＡｌＯＮ‐ＳｉＯ２材料系を用いて、ＡＪＡ上にスパッタリングによって堆積させた。厚さ２５０ｎｍのインピーダンス整合勾配層、２μｍの硬質コーティング、及び厚さ１２５ｎｍのＡＲ勾配層を有するコーティング試料Ｃは、ＳｉＯ２‐ＳｉＯＮ‐ＳｉＮｘ材料系を用いて、Ｐｌａｓｍａ‐Ｔｈｅｒｍ製ＨＤＰＣＶＤ上にＣＶＤによって堆積させた。性能は略同一であった。
【０１４０】
【表８】
2019526071.tif 000014
【０１４１】
明細書に記載の様々な特徴は、例えば以下の実施の形態に記載されているように、いずれのあらゆる組み合わせで組み合わせてよい。
【０１４２】
実施の形態１
第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有する、基板であって、上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、上記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
上記コーティング済み物品は、上記反射防止表面において測定した場合に、上記基板の上記第１の部分において約８％以下の単一側面平均光反射率を示し、上記第１の部分の上記単一側面平均光反射率は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°であり；
上記コーティング済み物品は、上記反射防止表面において測定した場合に、上記基板の上記第２の部分において約８％以下の単一側面平均光反射率を示し、上記第２の部分の上記単一側面平均光反射率は、上記第２の方向に対する第２の入射照明角度で測定され、上記第２の入射照明角度は、上記第２の方向から約０°〜約６０°であり；
上記第１の部分及び上記第２の部分における上記単一側面平均光反射率は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長レジームにわたって測定される、コーティング済み物品。
【０１４３】
実施の形態２
上記第１の部分に対して垂直な上記第１の方向と、上記第２の部分に対して垂直な上記第２の方向との間の上記角度は、約１０°〜約９０°である、実施の形態１に記載のコーティング済み物品。
【０１４４】
実施の形態３
上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約１０°の角度であり；
上記第２の入射照明角度は、上記第２の方向から約０°〜約１０°の角度である、実施の形態１又は２に記載のコーティング済み物品。
【０１４５】
実施の形態４
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分の上記反射防止表面において測定した場合に、約０°〜約６０°の全ての角度に関して約８％以下の単一側面平均光反射率を示し；
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第２の部分の上記反射防止表面において測定した場合に、約０°〜約６０°の全ての角度に関して約８％以下の単一側面平均光反射率を示す、実施の形態１〜３のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１４６】
実施の形態５
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分の上記反射防止表面において測定した場合に、約５％以下の単一側面平均光反射率を示し；
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第２の部分の上記反射防止表面において測定した場合に、約５％以下の単一側面平均光反射率を示す、実施の形態１〜４のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１４７】
実施の形態６
大表面を有する基板であって、上記大表面は、第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有し、上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、上記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の差異は、国際照明委員会規格の光源下において（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系の反射色座標によって測定した場合に約１０以下であり、上記反射色の上記差異は、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）として定義され、上記第１の部分における上記反射色は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°であり、上記第２の部分における上記反射色は、上記第２の方向に対する第２の入射照明角度で測定され、上記第２の入射照明角度は、上記第２の方向から約０°〜約６０°である、コーティング済み物品。
【０１４８】
実施の形態７
上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の上記差異は、約５以下である、実施の形態６に記載のコーティング済み物品。
【０１４９】
実施の形態８
上記第１の方向と上記第２の方向との間の上記角度は、約１０°〜約９０°である、実施の形態６又は７に記載のコーティング済み物品。
【０１５０】
実施の形態９
上記第１の入射照明角度は第１の方向から約０°〜約１０°の角度であり；
上記第２の入射照明角度は第２の方向から約０°〜約１０°の角度である、実施の形態６〜８のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１５１】
実施の形態１０
上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の上記差異は、約０°〜約６０°の全ての上記第１の入射照明角度に関して、及び約０°〜約６０°の全ての上記第２の入射照明角度に関して、約１０以下である、実施の形態６〜９のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１５２】
実施の形態１１
上記第１の部分の基準点の色は約１０以下であり、上記第２の部分の基準点の色は約１０以下であり、上記第１の部分の上記基準点の色は上記第１の入射照明角度で測定され、上記第２の部分の上記基準点の色は上記第２の入射照明角度で測定され、上記基準点は、（ａ＊，ｂ＊）＝（０，０）、（−２，−２）、又は（−４，−４）である、実施の形態６〜１０のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１５３】
実施の形態１２
上記第１の部分の基準点の色は約５以下であり、上記第２の部分の基準点の色は約５以下であり、上記第１の部分の上記基準点の色は上記第１の入射照明角度で測定され、上記第２の部分の上記基準点の色は上記第２の入射照明角度で測定され、上記基準点は、（ａ＊，ｂ＊）＝（０，０）、（−２，−２）、又は（−４，−４）である、実施の形態６〜１０のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１５４】
実施の形態１３
大表面を有する基板であって、上記大表面は第１の部分及び第２の部分を備え、上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、上記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の差異は、国際照明委員会規格の光源下において（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系の反射色座標によって測定した場合に約１０以下であり、上記反射色の上記差異は、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）として定義され、上記第１の部分における上記反射色は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°であり、上記第２の部分における上記反射色は、第２の入射照明角度で測定され、上記第２の入射照明角度は、上記第１の部分及び上記第２の部分における上記反射色が同一の視認方向で測定されるよう、上記第１の入射照明角度の方向と同一の方向である、コーティング済み物品。
【０１５５】
実施の形態１４
上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜１０°の角度である、実施の形態１〜１３のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１５６】
実施の形態１５
上記基板は、非晶質基板又は結晶質基板を含む、実施の形態１〜１４のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１５７】
実施の形態１６
上記光学コーティングは、上記基板と接触する第１の勾配層、上記第１の勾配層を覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う第２の勾配層を備え、上記第２の勾配層は上記反射防止表面を画定し；
上記基板における上記第１の勾配層の屈折率は、上記基板の屈折率の０．２以内であり；
上記耐擦傷性層における上記第１の勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
上記耐擦傷性層における上記第２の勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
上記反射防止表面における上記第２の勾配層の屈折率は、約１．３５〜約１．７である、実施の形態１〜１５のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１５８】
実施の形態１７
上記光学コーティングは、第１の反射防止コーティング、上記第１の反射防止コーティングを覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う第２の反射防止コーティングを備え、上記第２の反射防止コーティングは上記反射防止表面を画定し、上記第１の反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備え、上記第２の反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備える、実施の形態１〜１５のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１５９】
実施の形態１８
上記光学コーティングは、上記基板と接触する勾配層、上記勾配層を覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う反射防止コーティングを備え、上記反射防止コーティングは上記反射防止表面を画定し；
上記基板における上記勾配層の屈折率は、上記基板の屈折率の０．２以内であり；
上記耐擦傷性層における上記勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
上記反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備える、実施の形態１〜１５のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１６０】
実施の形態１９
上記光学コーティングは、上記基板と接触する反射防止コーティング、上記反射防止コーティングを覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う勾配層を備え、上記勾配層は上記反射防止表面を画定し；
上記反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備え；
上記耐擦傷性層における上記反射防止コーティングの屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
上記反射防止表面における上記勾配層の屈折率は、約１．３５〜約１．７である、実施の形態１〜１５のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１６１】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【０１６２】
実施形態１
第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有する、基板であって、上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、上記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
上記コーティング済み物品は、上記反射防止表面において測定した場合に、上記基板の上記第１の部分において約８％以下の単一側面平均光反射率を示し、上記第１の部分の上記単一側面平均光反射率は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°であり；
上記コーティング済み物品は、上記反射防止表面において測定した場合に、上記基板の上記第２の部分において約８％以下の単一側面平均光反射率を示し、上記第２の部分の上記単一側面平均光反射率は、上記第２の方向に対する第２の入射照明角度で測定され、上記第２の入射照明角度は、上記第２の方向から約０°〜約６０°であり；
上記第１の部分及び上記第２の部分における上記単一側面平均光反射率は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの光波長レジームにわたって測定される、コーティング済み物品。
【０１６３】
実施形態２
上記第１の部分に対して垂直な上記第１の方向と、上記第２の部分に対して垂直な上記第２の方向との間の上記角度は、約１０°〜約９０°である、実施形態１に記載のコーティング済み物品。
【０１６４】
実施形態３
上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約１０°の角度であり；
上記第２の入射照明角度は、上記第２の方向から約０°〜約１０°の角度である、実施形態１又は２に記載のコーティング済み物品。
【０１６５】
実施形態４
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分の上記反射防止表面において測定した場合に、約０°〜約６０°の全ての角度に関して約８％以下の単一側面平均光反射率を示し；
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第２の部分の上記反射防止表面において測定した場合に、約０°〜約６０°の全ての角度に関して約８％以下の単一側面平均光反射率を示す、実施形態１〜３のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１６６】
実施形態５
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分の上記反射防止表面において測定した場合に、約５％以下の単一側面平均光反射率を示し；
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第２の部分の上記反射防止表面において測定した場合に、約５％以下の単一側面平均光反射率を示す、実施形態１〜４のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１６７】
実施形態６
大表面を有する基板であって、上記大表面は、第１の部分及び第２の部分を備える大表面を有し、上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、上記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の差異は、国際照明委員会規格の光源下において（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系の反射色座標によって測定した場合に約１０以下であり、上記反射色の上記差異は、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）として定義され、上記第１の部分における上記反射色は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°であり、上記第２の部分における上記反射色は、上記第２の方向に対する第２の入射照明角度で測定され、上記第２の入射照明角度は、上記第２の方向から約０°〜約６０°である、コーティング済み物品。
【０１６８】
実施形態７
上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の上記差異は、約５以下である、実施形態６に記載のコーティング済み物品。
【０１６９】
実施形態８
上記第１の方向と上記第２の方向との間の上記角度は、約１０°〜約９０°である、実施形態６又は７に記載のコーティング済み物品。
【０１７０】
実施形態９
上記第１の入射照明角度は第１の方向から約０°〜約１０°の角度であり；
上記第２の入射照明角度は第２の方向から約０°〜約１０°の角度である、実施形態６〜８のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１７１】
実施形態１０
上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の上記差異は、約０°〜約６０°の全ての上記第１の入射照明角度に関して、及び約０°〜約６０°の全ての上記第２の入射照明角度に関して、約１０以下である、実施形態６〜９のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１７２】
実施形態１１
上記第１の部分の基準点の色は約１０以下であり、上記第２の部分の基準点の色は約１０以下であり、上記第１の部分の上記基準点の色は上記第１の入射照明角度で測定され、上記第２の部分の上記基準点の色は上記第２の入射照明角度で測定され、上記基準点は、（ａ＊，ｂ＊）＝（０，０）、（−２，−２）、又は（−４，−４）である、実施形態６〜１０のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１７３】
実施形態１２
上記第１の部分の基準点の色は約５以下であり、上記第２の部分の基準点の色は約５以下であり、上記第１の部分の上記基準点の色は上記第１の入射照明角度で測定され、上記第２の部分の上記基準点の色は上記第２の入射照明角度で測定され、上記基準点は、（ａ＊，ｂ＊）＝（０，０）、（−２，−２）、又は（−４，−４）である、実施形態６〜１０のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１７４】
実施形態１３
大表面を有する基板であって、上記大表面は第１の部分及び第２の部分を備え、上記大表面の上記第１の部分に対して垂直な第１の方向は、上記大表面の上記第２の部分に対して垂直な第２の方向と同一でなく、上記第１の方向と上記第２の方向との間の角度は約１０°〜約１８０°である、基板；並びに
上記大表面の少なくとも上記第１の部分及び上記第２の部分上に配置される、光学コーティングであって、上記光学コーティングは、反射防止表面を形成する、光学コーティング
を備える、コーティング済み物品であって：
上記コーティング済み物品は、上記基板の上記第１の部分及び上記基板の上記第２の部分において、バーコビッチ圧子硬度試験によって上記反射防止表面上で測定した場合に、約５０ｎｍ以上の押し込み深さにおいて約８ＧＰａ以上の硬度を示し；
上記基板の上記第１の部分と上記基板の上記第２の部分との間の、上記コーティング済み物品の反射色の差異は、国際照明委員会規格の光源下において（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）測色系の反射色座標によって測定した場合に約１０以下であり、上記反射色の上記差異は、√（（ａ＊第１の部分−ａ＊第２の部分）２＋（ｂ＊第１の部分−ｂ＊第２の部分）２）として定義され、上記第１の部分における上記反射色は、上記第１の方向に対する第１の入射照明角度で測定され、上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜約６０°であり、上記第２の部分における上記反射色は、第２の入射照明角度で測定され、上記第２の入射照明角度は、上記第１の部分及び上記第２の部分における上記反射色が同一の視認方向で測定されるよう、上記第１の入射照明角度の方向と同一の方向である、コーティング済み物品。
【０１７５】
実施形態１４
上記第１の入射照明角度は、上記第１の方向から約０°〜１０°の角度である、実施形態１〜１３のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１７６】
実施形態１５
上記基板は、非晶質基板又は結晶質基板を含む、実施形態１〜１４のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１７７】
実施形態１６
上記光学コーティングは、上記基板と接触する第１の勾配層、上記第１の勾配層を覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う第２の勾配層を備え、上記第２の勾配層は上記反射防止表面を画定し；
上記基板における上記第１の勾配層の屈折率は、上記基板の屈折率の０．２以内であり；
上記耐擦傷性層における上記第１の勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
上記耐擦傷性層における上記第２の勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
上記反射防止表面における上記第２の勾配層の屈折率は、約１．３５〜約１．７である、実施形態１〜１５のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１７８】
実施形態１７
上記光学コーティングは、第１の反射防止コーティング、上記第１の反射防止コーティングを覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う第２の反射防止コーティングを備え、上記第２の反射防止コーティングは上記反射防止表面を画定し、上記第１の反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備え、上記第２の反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備える、実施形態１〜１５のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１７９】
実施形態１８
上記光学コーティングは、上記基板と接触する勾配層、上記勾配層を覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う反射防止コーティングを備え、上記反射防止コーティングは上記反射防止表面を画定し；
上記基板における上記勾配層の屈折率は、上記基板の屈折率の０．２以内であり；
上記耐擦傷性層における上記勾配層の屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
上記反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備える、実施形態１〜１５のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１８０】
実施形態１９
上記光学コーティングは、上記基板と接触する反射防止コーティング、上記反射防止コーティングを覆う耐擦傷性層、及び上記耐擦傷性層を覆う勾配層を備え、上記勾配層は上記反射防止表面を画定し；
上記反射防止コーティングは、少なくとも１つの低ＲＩ層及び少なくとも１つの高ＲＩ層を備え；
上記耐擦傷性層における上記反射防止コーティングの屈折率は、上記耐擦傷性層の屈折率の０．２以内であり；
上記反射防止表面における上記勾配層の屈折率は、約１．３５〜約１．７である、実施形態１〜１５のいずれか１つに記載のコーティング済み物品。
【０１８１】
実施形態２０
前面、背面及び側面を有する、ハウジング；
少なくとも部分的に上記ハウジング内にある、電子構成部品であって、上記電子構成部品は、少なくともコントローラ、メモリ及びディスプレイを含み、上記ディスプレイは、上記ハウジングの上記前面にあるか、又は上記前面に隣接する、電子構成部品；並びに
上記ディスプレイを覆うように配置された、カバー基板
を備える、消費者向け電子製品であって、
上記ハウジングの一部分又は上記カバー基板のうちの少なくとも一方は、実施形態１〜１９のいずれか１つに記載のコーティング済み物品を備える、消費者向け製品。
【符号の説明】
【０１８２】
１００      コーティング済み物品
１１０      非平面基板
１１２      第１の大表面
１１３      大表面１１２の第１の部分
１１４      第２の大表面
１１５      大表面１１２の第２の部分
１１６      小表面
１１８      小表面
１２０      光学コーティング
１２２      反射防止表面
１３０      反射防止コーティング
１３０Ａ    第１の低ＲＩ層
１３０Ｂ    第２の高ＲＩ層
１３０Ｃ    第３の層
１３１      キャッピング層
１３２      区間
１４０      追加のコーティング
１５０      耐擦傷性層
１６０      高勾配層
１７０      低勾配層
４１００    消費者向け電子デバイス
４１０２    ハウジング
４１０４    前面
４１０６    背面
４１０８    側面
４１１０    ディスプレイ
４１１２    カバー基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４Ａ】
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【図３４Ｂ】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３Ａ】
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【図４３Ｂ】
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【国際調査報告】
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