(57)【要約】  本発明は、炭素に結合した塩素を有している有機化合物を含んでなる反応ガスを、シリコン、銅触媒および助触媒を含んでなる触媒組成物と反応させることによる、流動床反応でのオルガノクロロシランの製造方法であって、  当該流動床反応が、  当該流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄ、  当該流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬおよび  当該触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２が、  ＡｒがＲｅに対してプロットされるデカルト座標系で、表面が、方程式１および２、  方程式１：Ａｒ＝２・１０−５・Ｒｅ２＋０．０８＊Ｒｅ−１２０  方程式２：Ａｒ＝２・１０−５・Ｒｅ２−１．０７＊Ｒｅ＋１４１００    ［式中、  下限のＡｒは０．５であり、かつ  上限のＡｒは３０００である］  ここでＡｒおよびＲｅは請求項１に記載のとおり定義されるものである、方程式１および２によって制限される表面に点が形成されるように選択される、流動床反応器内で行われる方法に関する。また本発明は、オルガノクロロシランを製造するための、反応パラメーターを選択する方法にも関する。
2019519473.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素に結合した塩素を有している有機化合物を含んでなる反応ガスを、シリコン、銅触媒および助触媒を含んでなる触媒組成物と反応させることによる、流動床反応でのオルガノクロロシランの製造方法であって、
該流動床反応が、
該流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄ、
該流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬおよび
該触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２が、
ＡｒがＲｅに対してプロットされるデカルト座標系で、表面が、方程式１および２、
方程式１：Ａｒ＝２・１０−５・Ｒｅ２＋０．０８＊Ｒｅ−１２０
方程式２：Ａｒ＝２・１０−５・Ｒｅ２−１．０７＊Ｒｅ＋１４１００
［式中、
下限のＡｒは０．５であり、かつ
上限のＡｒは３０００である］
ここでＡｒは方程式３：
【数１】
2019519473.tif 000010
［式中、
ｇは、重力加速度［ｍ／ｓ２］であり、
ｄ３２はＳａｕｔｅｒ粒径［ｍ］であり、
ρＰは粒子固相密度［ｋｇ／ｍ３］であり、
ρＦは流体密度［ｋｇ／ｍ３］であり、
νＦは流体の動粘性率［ｍ２／ｓ］である］
によって決定される無次元アルキメデス数であり、
ここでＲｅは方程式４：
【数２】
2019519473.tif 000011
［式中、
ｕＬは、流動床反応器内の表層ガス速度［ｍ／ｓ］であり、
ｄｈｙｄは、方程式５：
【数３】
2019519473.tif 000012
（式中、Ａｑ，ｆｒｅｅは、流動床反応器内の自由断面流［ｍ２］であり、
Ｕｇｅｓ，ｗｅｔは、流動床反応器内の全ての内容物のそれぞれの場合のウェット周囲に相当する）によって決定される、流動床反応器内の水力プラント直径［ｍ］である］
によって決定される無次元レイノルズ数である、方程式１および２によって制限される表面に点が形成されるように選択される、流動床反応器内で行われる方法。
【請求項２】
前記流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄ、
前記流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬおよび
前記触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２が、請求項１に記載のように選択される、炭素に結合した塩素を有している有機化合物を、シリコン、銅触媒および助触媒を含んでなる触媒組成物と反応させることによる、流動床反応でオルガノクロロシランを製造するための、反応パラメーターを選択する方法。
【請求項３】
前記流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄが０．１ｍ〜１．５ｍである、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬが０．０２ｍ／ｓ〜０．４ｍ／ｓである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２が５μｍ〜３００μｍである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記シリコンの粒径が０．５〜６５０マイクロメートルである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記反応ガスが少なくとも５０容積％の炭素に結合した塩素を有している有機化合物を含んでなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記炭素に結合した塩素を有している有機化合物がクロロメタンであり、かつ製造されたオルガノクロロシランがメチルクロロシランである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クロロメタンを含む反応ガスを触媒組成物と反応させることによる流動床反応でのオルガノクロロシランの製造方法であって、流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄ、流動床反応器における表層ガス速度ｕＬおよび触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径（particle Sauter diameter）ｄ３２が具体的に選択される方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｍｕｌｌｅｒ−Ｒｏｃｈｏｗ直接合成では、炭素に結合した塩素を有する有機化合物は、銅触媒および好適な助触媒の存在下でシリコンと反応し、オルガノクロロシラン、特にメチルクロロシラン（ＭＣＳ）がもたらされるが、ここでは最大級の生産性（単位時間あたりに形成されるシランの量および反応容積）、最大級の選択性（最も重要な目的生成物である（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２に対して）、および最大級のシリコンの使用が要求される。オルガノクロロシランは、流動床反応によって産業的に製造される。ＭＣＳ流動床反応は、非常に多くの異なる影響を及ぼす要因と専門知識の分野が集約されていて、非常に複雑な方法である。ＭＣＳ合成の文脈において、ＤＥ２７０４９７５Ａには、発熱反応の反応熱を消散させることを目的とした、それによって一定の反応温度を達成するための熱交換内部が記載されている。
【発明の概要】
【０００３】
本発明は、炭素に結合した塩素を有している有機化合物を含んでなる反応ガスを、シリコン、銅触媒および助触媒を含んでなる触媒組成物と反応させることによる、流動床反応でのオルガノクロロシランの製造方法であって、
この流動床反応が、
この流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄ、
この流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬおよび
この触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２が、
ＡｒがＲｅに対してプロットされるデカルト座標系で、表面が、方程式１および２、
方程式１：Ａｒ＝２・１０−５・Ｒｅ２＋０．０８＊Ｒｅ−１２０
方程式２：Ａｒ＝２・１０−５・Ｒｅ２−１．０７＊Ｒｅ＋１４１００
［式中、
下限のＡｒは０．５であり、かつ
上限のＡｒは３０００である］
ここでＡｒは方程式３：
【数１】
2019519473.tif 000003
［式中、
ｇは、重力加速度［ｍ／ｓ２］であり、
ｄ３２はＳａｕｔｅｒ粒径［ｍ］であり、
ρＰは粒子固相密度［ｋｇ／ｍ３］であり、
ρＦは流体密度［ｋｇ／ｍ３］であり、
νＦは流体の動粘性率［ｍ２／ｓ］である］
によって決定される無次元アルキメデス数であり、
ここでＲｅは方程式４：
【数２】
2019519473.tif 000004
［式中、
ｕＬは、流動床反応器内の表層ガス速度［ｍ／ｓ］であり、
ｄｈｙｄは、方程式５：
【数３】
2019519473.tif 000005
（式中、Ａｑ，ｆｒｅｅは、流動床反応器内の自由断面流（free cross-sectional flow）［ｍ２］であり、
Ｕｇｅｓ，ｗｅｔは、流動床反応器内の全ての内容物（internal）のそれぞれの場合のウェット周囲（wet circumference）に相当する）によって決定される、流動床反応器内の水力プラント直径［ｍ］である］
によって決定される無次元レイノルズ数である、方程式１および２によって制限される表面に点が形成されるように選択される、流動床反応器内で行われる方法に関する。
【０００４】
図１は、ＡｒがＲｅに対してプロットされているデカルト座標系を示している。
【０００５】
本発明は、構造的特徴（内容物）と、使用される触媒組成物の成分の粒径と、流動床反応器内の運転条件との間の相関を作り出し、それによって有機塩素化合物合成のための最適な範囲を決定することができる。これは、オルガノクロロシランを製造するための流動床反応を最適化することを可能にする。
【０００６】
流動床反応器（１）は図２で図解されている。
反応ガス（２）は、好ましくは下から触媒組成物へ吹き込まれ、それによって触媒組成物の粒子は流動化し、オルガノクロロシランを製造するための化学反応が触媒組成物と流動床（３）の範囲内の気相との間に発生する。粒子の一部は、流動床（３）からガス流でフリーボード（freeboard）（４）へ送られる。フリーボード（４）は非常に低い固体密度を特徴とし、これは反応器出口の方向に低下する。ガス流で反応器から抜け出す粒子の割合は、排出粒子（５）と呼ばれる。
【０００７】
熱交換内容物を有する流動床反応器内の流体力学の詳細な検証では、これらの内容物は構造的特徴に依存して流動床の流体力学に、そして従って流動床反応器の生産性にも影響を及ぼすことが見出された。
【０００８】
この場合に発見された相関は第一に、炭素に結合した塩素（特にクロロメタン）を有している反応性有機化合物の流動床反応器内の滞留時間（１）、および第二に、流動床反応器からのシリコン粒子（２）の排出に影響を与える：
（１）滞留時間が多ければ多く、かつ流動床反応器内の反応ガスの分配が均一であればあるほど、炭素に結合した塩素を有している有機化合物がより多く変換される（即ち、流動床反応器はより生産的である）。内容物の表面が増加すると、上昇するガス泡が減速するのでガス滞留時間が増加する。
（２）ガス流でのシリコン粒子の「同伴」によって生じる、流動床反応器からのＳｉ粒子放出は、粒径、流動床反応器内の充填レベル、連続的に供給される反応ガスの量（ガス流速）、システムの圧力、および反応器内容物に依存する。
【０００９】
流動床反応器の生産性は原則的に、触媒組成物の充填レベルの増加、ガス流速の増加、およびより小さな粒径の触媒組成物（より大きな反応表面）の使用で増加する。内容物による流動床反応器内のガス滞留時間に対する影響に加えて、シート状内容物とシリコン粒子の排出との間にも相関がある。ここでの排出は二つの機序によって影響を受ける。第一に、ガス泡は増加する内容物の表面積で減速するために流動床表面で放出される粒子シリカがより少ない。第二に、より粗い粒子シリカはより多くの内容物の表面積によってフリーボード内で、特に減速するので、流動床内で保持される。内容物の特定の改良によって、その後、ガス流速および／または触媒組成物の充填レベルを増加させることによってか、または触媒組成物粒子の粒径を減少させることにより、流動床反応器の生産性を増加させることができる。これらの量の関係（これは互いに関連し合い、それは互いに影響を及ぼす）は、無次元のパラメーターによって理解され得る。これに基づき、オルガノクロロシランが流動床反応器内で効果的かつ経済的に製造され得る処理範囲が決定される。
【００１０】
流動床反応器の水力プラント直径として表される内容物の形状と、流動床反応器内の表層ガス速度および触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径の２つの操作パラメーターとの間の関係は、２つの無次元パラメーター、アルキメデス数およびレイノルズ数によって、図１によるダイアグラムに描写することができる。
方程式３を使用して決定されたアルキメデス数は、触媒組成物の関係するＳａｕｔｅｒ粒径の、流動床反応器内の流体力学に対する影響について説明する。
【００１１】
方程式４を使用して決定されたレイノルズ数は、流動床反応器内の表層ガス速度、そしてしたがって反応ガスの量を表わし、特徴的な参考長さとして、流動床反応器内の水力プラント直径による流動床反応器内容物に関係性をもたらす。一定のレイノルズ数は、水力プラント直径がより多くの内容物表面積によって減少する場合に、ガス流速、したがって、反応ガスの容積流は一定の開放した反応器断面で増加し得ると解釈することができる。
実験で同定された関係に基づき、処理範囲は、この２つの無次元アルキメデス数とレイノルズ数を用いて定義することができ、オルガノクロロシランは効果的かつ生産的に製造することができる。
この範囲は、一方では０．５〜３０００の間のアルキメデス数によって、および他方では下限が方程式１によって定義され、または上限が方程式２によって定義されるレイノルズ数によって特徴づけられ、かつ制限される。
【００１２】
この処理範囲は、ＡｒがＲｅに対してプロットされるデカルト座標系において描写することができる。この目的のために、方程式１および２、ならびにＡｒの上限および下限は、表面を画定する曲線を形成する。表面上の点が、オルガノクロロシランが効果的かつ経済的に製造され得る、流動床反応器の水力プラント直径により特徴づけられる内容物の形状と、流動床反応器内の表層ガス速度と、触媒組成物の対応するＳａｕｔｅｒ粒径との関連する組み合わせである処理範囲を形成する。
【００１３】
粒径を特徴づけるためには、Ｓａｕｔｅｒ直径を使用する（即ち、問題の粒子の平均の、等量の粒径）。
【００１４】
無次元パラメーター：
無次元アルキメデス数は浮力と摩擦力との間の比として解釈され得、流体化層中の異なる粒子の挙動を特徴づける役目をする。この場合、ｇは重力加速度［ｍ／ｓ２］に相当し、ｄ３２はＳａｕｔｅｒ粒径［ｍ］に相当し、ρＰは粒子固相密度［ｋｇ／ｍ３］に相当し、ρＦは流体密度［ｋｇ／ｍ３］に相当し、νＦは流体の動粘性率［ｍ２／ｓ］に相当する。
【数４】
2019519473.tif 000006
【００１５】
無次元レイノルズ数を使用することで、流体の流動状態を説明することができる。レイノルズ数は粘性力に対する慣性力として解釈され得る。レイノルズ数の定義として必要な特徴的な長さとして水力反応器またはプラント直径が使用されるので、反応器内容物の影響についての言及が生じる。この場合、ｕＬは、流動床反応器内の表層ガス速度［ｍ／ｓ］に相当し、ｄｈｙｄは水力反応器またはプラント直径（方程式５）［ｍ］に相当し、かつνＦは流体の動粘性率［ｍ２／ｓ］に相当する。
【数５】
2019519473.tif 000007
流動床反応器内の水力プラント直径［ｍ］は、エンジニアリング用語であり、これは流動性機械摩擦および内容物の表面積の影響、チャンネルまたは異なる形状を説明することができるものであり、これらは等しい管直径の結果（図３を参照）である。水力直径は方程式５によって計算され、ここでＡｑ，ｆｒｅｅは、流動床反応器［ｍ］内の自由断面流［ｍ２］であり、Ｕｇｅｓ，ｗｅｔは、流動床反応器内の全ての内容物のそれぞれの場合のウェット周囲に相当する。
【数６】
2019519473.tif 000008
【００１６】
また本発明は、流動床反応が流動床反応器内で行なわれる、炭素に結合した塩素を有している有機化合物を、シリコン、銅触媒および助触媒を含む触媒組成物と反応させることによる流動床反応においてオルガノクロロシランを製造するための反応パラメーターを選択する方法であって、
流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄ、
流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬ［ｍ／ｓ］、および
触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径［ｍ］ｄ３２が上記のように選択される方法に関する。
【００１７】
流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄは、好ましくは０．１ｍ〜１．５ｍ、特に好ましくは０．１５ｍ〜１．３ｍ、特に０．２ｍ〜１．１ｍである。
【００１８】
流動床反応器の表層ガス速度ｕＬは、好ましくは０．０２ｍ／ｓ〜０．４ｍ／ｓ、特に好ましくは０．０５ｍ／ｓ〜０．３６ｍ／ｓ、特に０．０８ｍ／ｓ〜０．３２ｍ／ｓである。
【００１９】
触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２は、好ましくは５μｍ〜３００μｍ、特に好ましくは１０μｍ〜２８０μｍ、特に１５μｍ〜２５０μｍである。
【００２０】
触媒組成物は、シリコン、銅触媒および助触媒を含む固形粒子の混合物である。
【００２１】
プロセスで使用されるシリコンは、好ましくは最大５重量％、特に好ましくは最大２重量％、特に最大１重量％の、不純物としての他の元素を含む。少なくとも０．０１重量％を構成する不純物は、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃａ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃ、Ｖ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｂ、Ｐ、Ｏから好ましくは選択される元素である。
【００２２】
触媒用の銅は、金属銅、銅合金または銅化合物から選択してもよい。銅化合物は、好ましくは酸化銅および塩化銅、特にＣｕＯ、Ｃｕ２ＯおよびＣｕＣｌ、ならびに銅−リン化合物（ＣｕＰ合金）から選択される。酸化銅は例えば、酸化銅混合物の形態および酸化銅（ＩＩ）の形態の銅でもよい。塩化銅はＣｕＣｌの形態またはＣｕＣｌ２の形態で使用してもよく、適当な混合物も可能である。好ましい実施態様では、銅はＣｕＣｌとして使用される。
シリコンによる１００重量部に対して、好ましくは少なくとも０．１重量部、特に好ましくは１重量部の銅触媒、およびそれぞれの場合に金属銅に対して、好ましくは最大１０重量部、特に最大８重量部の銅触媒が使用される。
【００２３】
触媒組成物は、亜鉛および塩化亜鉛から好ましくは選択される１種以上の亜鉛助触媒を好ましくは含む。シリコン１００重量部に対して、好ましくは少なくとも０．０１重量部の亜鉛助触媒、特に好ましくは少なくとも０．０５重量部の亜鉛助触媒、およびそれぞれの場合に金属亜鉛に対して、好ましくは最大１重量部の亜鉛助触媒、特に最大０．５重量部の亜鉛助触媒が使用される。
【００２４】
触媒組成物は、スズおよび塩化スズから好ましくは選択される１種以上のスズ所触媒を好ましくは含む。シリコン１００重量部に対して、好ましくは少なくとも０．００１重量部のスズ助触媒、特に好ましくは少なくとも０．００２重量部のスズ助触媒、およびそれぞれの場合に金属スズに対して、好ましくは最大０．２重量部の亜鉛助触媒、特に最大０．１重量部の亜鉛助触媒が使用される。
【００２５】
触媒組成物は、好ましくは亜鉛助触媒およびスズ助触媒の組み合わせ、特に追加的にリン助触媒を含む。
【００２６】
亜鉛および／またはスズ助触媒に加えて、リン、セシウム、バリウム、マンガン、鉄、およびアンチモンの元素ならびにそれらの化合物から好ましくは選択される追加の助触媒が使用されてもよい。
Ｐ助触媒は、好ましくはＣｕＰ合金から選択される。
【００２７】
流動床反応器内の圧力は、好ましくは少なくとも１ｂａｒ、特に少なくとも１．５ｂａｒおよび好ましくは最大５ｂａｒ、特に最大３ｂａｒであり、これは各場合に絶対圧として記している。
【００２８】
炭素に結合した塩素を有している有機化合物は、好ましくはクロロ−Ｃ１−Ｃ６−アルカン、特にクロロメタンである。
製造されたオルガノクロロシランは好ましくはＣ１−Ｃ６−アルキルクロロシラン、特にメチルクロロシランである。製造されたメチルクロロシランは、好ましくは、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、トリメチルクロロシラン、ジメチルクロロシランおよびメチルジクロロシランから選択される。特に好ましいのはジメチルジクロロシランである。
【００２９】
流動床反応器ｄｈｙｄの水力直径、流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬおよび触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２は、好ましくは、流動床反応において製造されるオルガノクロロシランのために高い生産性および／または選択性が達成されるように選択される。これらはジメチルジクロロシランのために、高い生産性および／または選択性が達成されるように好ましくは選択される。
【００３０】
クロロメタンに加えて、反応ガスはＮ２およびＡｒなどの貴ガスから選択される担体ガスを含んでいてもよい。反応ガスは、好ましくは少なくとも５０容積％、特に好ましくは少なくとも７０容積％、特に少なくとも９０容積％のクロロメタンを含む。
【００３１】
上記の式の上記の記号のすべては各々互いに独立して定義される。
【００３２】
以下の例では、其々の場合に反対の指示がない限り、全ての量および百分率は重量を指し、全ての圧力は０．１０ＭＰａ（絶対圧）を指し、すべての温度は２０℃を指す。
【実施例】
【００３３】
例：
上で記載した、内容物、粒径、粒子排出の間の関係は、当初は化学反応なしで試験的流動床内にて確認された。これは、ここで水力の反応器またはプラント直径と粒子排出との間に指数関数的な関係があることを示した。この関係は異なる内容物と粒度分布のために測定され確認された。
【００３４】
一般例：
既存の反応器内の一定の触媒組成物粒径での流動床反応器の生産性を増加させる：水力プラント直径を減少させる（追加的なシート状内容物または熱交換管による）ことによって、反応器からの粒子放出は初期に減少する。ガス流速を増加させることにより、粒子排出の追加の範囲（latitude）を使用してもよく、そうするとすぐにその同定された範囲の生産性が増加した。
既存の反応器内の触媒組成物粒径を減少させることにより、反応器生産性を増加させる：より低い粒径は反応器からのより高い粒子放出につながる。これは、水力プラント直径を縮小することにより減少させることができ、より大きな表面積を有する生産性粒径が使用され得、またはシリコン損失を縮小する。
【００３５】
新規の流動床反応器の設計：前述の専門知識を考慮に入れて、新規の合成反応器は、寸法、内容物、および操作設定に関して、（最適な）触媒組成物粒径に最適に変更し得る。これらの組み合わせは図１に示された部分に相当する。
【００３６】
実験：ＭＣＳ合成の生産性に対する得られた専門知識および関係性の適用を可能にするため、および影響を及ぼす因子の前述の制限を定義するために、様々な連続的操作の流動床反応器および反応器サイズの詳細な検証を行なった。水力プラント直径ｄｈｙｄを０．１ｍと１．０ｍの間、表層ガス速度ｕＬを０．０３ｍ／ｓと０．３ｍ／ｓの間、およびＳａｕｔｅｒ粒径を１５μｍと２５０μｍの間に変更することによって、対応するレイノルズ数およびアルキメデス数とともに、表１に示される実験結果が達成された。選択したレイノルズ数およびアルキメデス数の組み合わせの制限に対する生産性の基準は、触媒組成物反応器含有量［ｋｇ］に対する、１時間あたりに生産されたジクロロジメチルシランの量［ｋｇ／ｈ］に基づくものであり、即ち、［ｋｇ／（ｋｇ＊ｈ）］であり、０．１５ｋｇ／（ｋｇ＊ｈ）を超過した。図４にまとめられたこれらの検証の結果は、測定結果のグラフ式分類を示す。第一に示されているのは、定義された範囲内の測定（四角、Ｖ４−Ｖ１０＆Ｖ１２）であり、その生産性は０．１５ｋｇ／（ｋｇ＊ｈ）を超過し、それに対する測定結果はひし形（Ｖ１−３およびＶ１１＆Ｖ１３）として描かれ、より低い生産性を有していた（即ち、０．１５ｋｇ／（ｋｇ＊ｈ）未満）。
【００３７】
【表１】
2019519473.tif 000009
【００３８】
低いレイノルズ数（方程式１）の範囲の限界は、低いガス流速および／または非常に低い水力反応器直径の組み合わせが生産量の低下につながることを特徴とする。この効果は、増加する粒径（アルキメデス数）と共に増加し、その理由としては、より粗い粒子には、流動化のために比較的より高いガス流速が必要であるためであり、これは曲線の形状（方程式１、図１）から見受けられる。高いレイノルズ数（方程式２）のための範囲限界は、例えば、粒子排出が水力反応器直径の調節によってもはや補填できないように、非常に高いガス流速によって特徴づけられている。ここでは、より粗い粒子（より高いアルキメデス数）については、比較的広範囲を指定することができることも見受けられ、その理由としては、例えば粒子排出が、比較的高いガス流速と水力プラント直径との組み合わせにおいてのみ生産性に悪影響を及ぼすためである。アルキメデス数に関する定義された範囲（図４）の限界は＜０．５であり、即ち、一方で微細粒子には、粒子排出が水力プラント直径を縮小することによってはもはや十分に償うことができないことをもたらし、経済的ではないプラントの運転がもたらされ、他方ではこの範囲内では触媒組成物の効果的な流動化能の限界が達成され、減少したガス／固体接触に起因する生産性の低下がもたらされる。アルキメデス数の範囲の上端（＞３０００）では、第一に比較的高い流動化速度を要する、かつ第二に特定のより低い粒子表面積に起因する高い生産性の経済的範囲を逸脱する、より粗い粒子である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】ＡｒがＲｅに対してプロットされているデカルト座標系を示す。
【図２】流動床反応器（１）を表す。
【図３】流動床反応器内の水力プラント直径を表す。
【図４】測定結果のグラフ式分類を示す。
【図１】
2019519473.tif 000013
【図２】
2019519473.tif 000014
【図３】
2019519473.tif 000015
【図４】
2019519473.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月11日(2017.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素に結合した塩素を有している有機化合物を含んでなる反応ガスを、シリコン、銅触媒および助触媒を含んでなる触媒組成物と反応させることによる、流動床反応でのオルガノクロロシランの製造方法であって、
該流動床反応が、
該流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄ、
該流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬおよび
該触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２が、
ＡｒがＲｅに対してプロットされるデカルト座標系で、表面が、方程式１および２、
方程式１：Ａｒ＝２・１０−５・Ｒｅ２＋０．０８＊Ｒｅ−１２０
方程式２：Ａｒ＝２・１０−５・Ｒｅ２−１．０７＊Ｒｅ＋１４１００
［式中、
下限のＡｒは０．５であり、かつ
上限のＡｒは３０００である］
ここでＡｒは方程式３：
【数１】
2019519473.tif 000017
［式中、
ｇは、重力加速度［ｍ／ｓ２］であり、
ｄ３２はＳａｕｔｅｒ粒径［ｍ］であり、
ρＰは粒子固相密度［ｋｇ／ｍ３］であり、
ρＦは流体密度［ｋｇ／ｍ３］であり、
νＦは流体の動粘性率［ｍ２／ｓ］である］
によって決定される無次元アルキメデス数であり、
ここでＲｅは方程式４：
【数２】
2019519473.tif 000018
［式中、
ｕＬは、流動床反応器内の表層ガス速度［ｍ／ｓ］であり、
ｄｈｙｄは、方程式５：
【数３】
2019519473.tif 000019
（式中、Ａｑ，ｆｒｅｅは、流動床反応器内の自由断面流［ｍ２］であり、
Ｕｇｅｓ，ｗｅｔは、流動床反応器内の全ての内容物のそれぞれの場合のウェット周囲に相当する）によって決定される、流動床反応器内の水力プラント直径［ｍ］である］
によって決定される無次元レイノルズ数である、方程式１および２によって制限される表面に点が形成されるように選択される、流動床反応器内で行われ、かつ
該流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄが、０．２ｍ〜１．５ｍである、方法。
【請求項２】
前記流動床反応器の水力直径ｄｈｙｄ、
前記流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬおよび
前記触媒組成物のＳａｕｔｅｒ粒径ｄ３２が、請求項１に記載のように選択される、炭素に結合した塩素を有している有機化合物を、シリコン、銅触媒および助触媒を含んでなる触媒組成物と反応させることによる、流動床反応でオルガノクロロシランを製造するための、反応パラメーターを選択する方法。
【請求項３】
前記流動床反応器内の表層ガス速度ｕＬが０．０２ｍ／ｓ〜０．４ｍ／ｓである、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記触媒組成物Ｓａｕｔｅｒ粒径ｄ３２が５μｍ〜３００μｍである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記シリコンの粒径が０．５〜６５０マイクロメートルである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記反応ガスが少なくとも５０容積％の炭素に結合した塩素を有している有機化合物を含んでなる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記炭素に結合した塩素を有している有機化合物がクロロメタンであり、かつ製造されたオルガノクロロシランがメチルクロロシランである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【国際調査報告】
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