(57)【要約】  システム２００は、入射ビーム２０３を調整して補正されたビームを形成するように構成されたビーム操縦組立体２０４と、補正されたビーム２０５の１つ以上のオフセットパラメータを含む、補正されたビーム２０５に関する監視データを生成するように構成されたビーム監視組立体２０６と、制御装置２１０であって、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータを記憶し、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の少なくとも１つの差違を算出し、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の少なくとも１つの差違に基づいて、入射ビーム２０３の１つ以上のビーム位置調整を決定し、１つ以上のモータ駆動装置２２０を介してビーム操縦組立体２０４に指示して１つ以上のモータを作動させて入射ビーム２０３を調整して補正されたビーム２０５を形成するように構成された制御装置２１０とを含む。
2019523981.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムであって、
入射ビームを調整して補正されたビームを形成するように構成されたビーム操縦組立体と、
前記ビーム操縦組立体に光学的に結合されたビーム監視組立体であって、前記補正されたビームに関する監視データを生成するように構成され、前記監視データは、前記補正されたビームの１つ以上のオフセットパラメータを含む、ビーム監視組立体と、
前記ビーム監視組立体および前記ビーム操縦組立体に通信可能に結合された制御装置であって、メモリ内に記憶されたプログラム命令のセットを実行するように構成された１つ以上の処理装置を含み、前記プログラム命令は、前記１つ以上の処理装置に、
前記補正されたビームの１つ以上のゼロパラメータを記憶させ、
前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の少なくとも１つの差違を算出させ、
前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記少なくとも１つの差違に基づいて、前記入射ビームの１つ以上のビーム位置調整を決定させ、
１つ以上のモータ駆動装置を介して前記ビーム操縦組立体に対して指示させて１つ以上のモータを作動させて前記入射ビームを調整して前記補正されたビームを形成するように構成される、制御装置とを備えることを特徴とする、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、前記補正されたビームの前記１つ以上のオフセットパラメータが、
前記補正されたビームのオフセット位置のオフセット照準成分、前記補正されたビームの前記オフセット位置のオフセット並進成分、オフセットビームサイズ、またはオフセットビームブリージングデータの少なくとも１つを含むことを特徴とする、システム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、前記補正されたビームの前記オフセット位置の前記オフセット照準成分、前記補正されたビームの前記オフセット位置の前記オフセット並進成分、前記オフセットビームサイズ、または前記オフセットビームブリージングデータの少なくとも１つが、ｘ方向成分またはｙ方向成分の少なくとも１つを含むことを特徴とする、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータが、
前記補正されたビームのゼロ位置のゼロ照準成分、前記補正されたビームの前記ゼロ位置のゼロ並進成分、ゼロビームサイズ、またはゼロビームブリージングデータの少なくとも１つを含むことを特徴とする、システム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、前記補正されたビームの前記ゼロ位置の前記ゼロ照準成分、前記補正されたビームの前記ゼロ位置の前記ゼロ並進成分、前記ゼロビームサイズ、または前記ゼロビームブリージングデータの少なくとも１つが、ｘ方向成分またはｙ方向成分の少なくとも１つを含むことを特徴とする、システム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムであって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記差違を算出することが、前記補正されたビームのゼロ位置のゼロ照準成分と、前記補正されたビームのオフセット位置のオフセット照準成分との間の照準差違を算出することを含むことを特徴とする、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記差違を算出することが、前記補正されたビームのゼロ位置のゼロ並進成分と、前記補正されたビームのオフセット位置のオフセット並進位置との間の並進差違を算出することを含むことを特徴とする、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムであって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記差違を算出することが、ゼロビームサイズとオフセットビームサイズとの間のビームサイズ差違を算出することを含むことを特徴とする、システム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムであって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記差違を算出することが、ゼロビームブリージングデータとオフセットビームブリージングデータとの間のビームブリージングデータ差違を算出することを含むことを特徴とする、システム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム操縦組立体が、さらに
前記１つ以上のモータの作動に続いて前記１つ以上のモータに関するエンコーダデータを生成するように構成されることを特徴とする、システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のシステムであって、前記プログラム命令が、さらに
前記エンコーダデータによる前記１つ以上のビーム位置調整に応答した前記１つ以上のモータの前記作動を確認するように構成されることを特徴とする、システム。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム操縦組立体が、
前記１つ以上のモータに結合された少なくとも２つのプリズムを備え、
前記１つ以上のモータを作動させて前記２つのプリズム間の距離を前記１つ以上のモータによって変更することで、前記入射ビームの位置の並進成分を調整して前記補正されたビームを形成し、
前記１つ以上のモータを作動させて前記２つのプリズムの少なくとも１つを前記１つ以上のモータによって傾斜させることで、前記入射ビームの前記位置の照準成分を調整して前記補正されたビームを形成し、
前記１つ以上のモータを作動させて同時に前記１つ以上のモータによって前記２つのプリズム間の前記距離を変更し、前記２つのプリズムの少なくとも１つを傾斜させることで、前記入射ビームのビームサイズを調整して前記補正されたビームを形成することを特徴とする、システム。
【請求項１３】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム操縦組立体が、
前記１つ以上のモータに結合された反射鏡を備え、
前記反射鏡を前記１つ以上のモータによって変位させることで、前記入射ビームの位置の照準成分を調整して前記補正されたビームを形成することを特徴とする、システム。
【請求項１４】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム操縦組立体が、
前記１つ以上のモータに結合された少なくとも１つのプリズムを備え、
前記プリズムを前記１つ以上のモータによって回転させることで、前記入射ビームの位置の並進成分を調整して前記補正されたビームを形成することを特徴とする、システム。
【請求項１５】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム監視組立体が、
前記補正されたビームの少なくとも一部分を反射させ、
前記補正されたビームの少なくとも一部分を送信するように構成されたリーク鏡と、
前記補正されたビームの少なくとも一部分を少なくとも第１の光学要素を通して第１の撮像装置に送信し、
前記補正されたビームの少なくとも一部分を少なくとも第２の光学要素を通して第２の撮像装置に反射させるように構成されたビーム分割器とを備えることを特徴とする、システム。
【請求項１６】
請求項１５に記載のシステムであって、前記第１の撮像装置および前記第２の撮像装置がカメラであり、各カメラは、前記補正されたビームをｘ方向またはｙ方向の少なくとも１つにおいて測定することができることを特徴とする、システム。
【請求項１７】
請求項１６に記載のシステムであって、第１のカメラが、前記補正されたビームの位置の並進成分と、前記補正されたビームの前記位置の照準成分とを少なくとも測定し、第２のカメラが、前記補正されたビームの前記位置の前記照準成分を測定することを特徴とする、システム。
【請求項１８】
請求項１５に記載のシステムであって、前記第１の撮像装置および前記第２の撮像装置の少なくとも１つが、バイセル検出器であり、各バイセル検出器は、前記補正されたビームをｘ方向またはｙ方向において測定することができることを特徴とする、システム。
【請求項１９】
請求項１８に記載のシステムであって、第１のバイセル検出器が、前記補正されたビームの位置の並進成分と、前記補正されたビームの前記位置の照準成分とを少なくとも測定し、第２のバイセル検出器が、前記補正されたビームの前記位置の前記照準成分を測定することを特徴とする、システム。
【請求項２０】
請求項１５に記載のシステムであって、さらに
ビーム変調器であって、前記リーク鏡によって反射された前記補正されたビームの部分を受信する、ビーム変調器を備えることを特徴とする、システム。
【請求項２１】
請求項１に記載のシステムであって、前記１つ以上のモータが
直接駆動モータ、ステッパモータ、ブラシレスモータ、圧電モータ、またはサーボモータの少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項１に記載のシステム。
【請求項２２】
請求項１に記載のシステムであって、さらに
前記入射ビームを生成するように構成された少なくとも１つの照明源を備えることを特徴とする、システム。
【請求項２３】
方法であって、
入射ビームを受信するステップと、
ビーム操縦組立体によって、前記入射ビームを調整して補正されたビームを形成するステップと、
前記補正されたビームに関する監視データを生成するステップであって、前記監視データは、ビーム監視組立体による、前記補正されたビームの１つ以上のオフセットパラメータを含む、生成するステップと、
前記補正されたビームの１つ以上のゼロパラメータを記憶するステップと、
前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の少なくとも１つの差違を算出するステップと、
前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記少なくとも１つの差違に基づいて、前記入射ビームの１つ以上のビーム位置調整を決定するステップと、
前記ビーム操縦組立体に１つ以上のモータ駆動装置を介して指示して、前記１つ以上のビーム位置調整に基づいて１つ以上のモータを作動させて前記入射ビームを調整して前記補正されたビームを形成するステップとを含むことを特徴とする、方法。
【請求項２４】
請求項２３に記載の方法であって、前記補正されたビームの前記１つ以上のオフセットパラメータが、
前記補正されたビームのオフセット位置のオフセット照準成分、前記補正されたビームの前記オフセット位置のオフセット並進成分、オフセットビームサイズ、またはオフセットビームブリージングデータの少なくとも１つを含むことを特徴とする、方法。
【請求項２５】
請求項２４に記載の方法であって、前記補正されたビームの前記オフセット位置の前記オフセット照準成分、前記補正されたビームの前記オフセット位置の前記オフセット並進成分、前記オフセットビームサイズ、または前記オフセットビームブリージングデータの少なくとも１つが、ｘ方向成分またはｙ方向成分の少なくとも１つを含むことを特徴とする、方法。
【請求項２６】
請求項２３に記載の方法であって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータが、
前記補正されたビームのゼロ位置のゼロ照準成分、前記補正されたビームの前記ゼロ位置のゼロ並進成分、ゼロビームサイズ、またはゼロビームブリージングデータの少なくとも１つを含むことを特徴とする、方法。
【請求項２７】
請求項２６に記載の方法であって、前記補正されたビームの前記ゼロ位置の前記ゼロ照準成分、前記補正されたビームの前記ゼロ位置の前記ゼロ並進成分、前記ゼロビームサイズ、または前記ゼロビームブリージングデータの少なくとも１つが、ｘ方向成分またはｙ方向成分の少なくとも１つを含むことを特徴とする、方法。
【請求項２８】
請求項２３に記載の方法であって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記差違を算出するステップが、前記補正されたビームのゼロ位置のゼロ照準成分と、前記補正されたビームのオフセット位置のオフセット照準成分との間の照準差違を算出するステップを含むことを特徴とする、方法。
【請求項２９】
請求項２３に記載の方法であって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記差違を算出するステップが、前記補正されたビームのゼロ位置のゼロ並進成分と、前記補正されたビームのオフセット位置のオフセット並進成分との間の並進差違を算出するステップを含むことを特徴とする、方法。
【請求項３０】
請求項２３に記載の方法であって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記差違を算出するステップが、ゼロビームサイズとオフセットビームサイズとの間のビームサイズ差違を算出するステップを含むことを特徴とする、方法。
【請求項３１】
請求項２３に記載の方法であって、前記補正されたビームの前記１つ以上のゼロパラメータと前記１つ以上のオフセットパラメータとの間の前記差違を算出するステップが、ゼロビームブリージングデータとオフセットビームブリージングデータとの間のビームブリージングデータ差違を算出するステップを含むことを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項３２】
請求項２３に記載の方法であって、さらに
前記１つ以上のモータの作動に続いて前記１つ以上のモータに関するエンコーダデータを生成するステップを含むことを特徴とする、方法。
【請求項３３】
請求項３２に記載の方法であって、さらに
前記エンコーダデータに基づいて前記１つ以上のモータの前記作動を確認するステップを含むことを特徴とする、方法。
【請求項３４】
請求項２３に記載の方法であって、前記ビーム操縦組立体が
前記１つ以上のモータに結合された少なくとも２つのプリズムを備え、
前記１つ以上のモータを作動させて前記２つのプリズム間の前記距離を前記１つ以上のモータによって変更することで、前記入射ビームの位置の並進成分を調整して前記補正されたビームを形成し、
前記１つ以上のモータを作動させて前記２つのプリズムの少なくとも１つを前記１つ以上のモータによって傾斜させることで、前記入射ビームの前記位置の照準成分を調整して前記補正されたビームを形成し、
前記１つ以上のモータを作動させて同時に前記１つ以上のモータによって前記２つのプリズム間の前記距離を変更し、前記２つのプリズムの少なくとも１つを傾斜させることで、前記入射ビームのビームサイズを調整して前記補正されたビームを形成することを特徴とする、方法。
【請求項３５】
請求項２３に記載の方法であって、前記ビーム操縦組立体が、
前記１つ以上のモータに結合された反射鏡を備え、
前記反射鏡を前記１つ以上のモータによって変位させることで、前記入射ビームの位置の照準成分を調整して前記補正されたビームを形成することを特徴とする、方法。
【請求項３６】
請求項２３に記載の方法であって、前記ビーム操縦組立体が、
前記１つ以上のモータに結合された少なくとも１つのプリズムを備え、
前記１つ以上のモータによって前記プリズムを回転させることで、前記入射ビームの位置の並進成分を調整して前記補正されたビームを形成することを特徴とする、方法。
【請求項３７】
請求項２３に記載の方法であって、前記ビーム監視組立体が、
前記補正されたビームの少なくとも一部分を反射させ、
前記補正されたビームの少なくとも一部分を送信するように構成されたリーク鏡と、
前記補正されたビームの少なくとも一部分を少なくとも第１の光学要素を通して第１の撮像装置に送信し、
前記補正されたビームの少なくとも一部分を少なくとも第２の光学要素を通して第２の撮像装置に反射させるように構成されたビーム分割器とを備えることを特徴とする、方法。
【請求項３８】
請求項３７に記載の方法であって、前記第１の撮像装置および前記第２の撮像装置がカメラであり、各カメラは、前記補正されたビームをｘ方向またはｙ方向の少なくとも１つにおいて測定することができることを特徴とする、方法。
【請求項３９】
請求項３８に記載の方法であって、第１のカメラが、前記補正されたビームの位置の並進成分と、前記補正されたビームの前記位置の照準成分とを少なくとも測定し、第２のカメラが、前記補正されたビームの前記位置の前記照準成分を測定することを特徴とする、方法。
【請求項４０】
請求項３７に記載の方法であって、前記第１の撮像装置および前記第２の撮像装置の少なくとも１つが、バイセル検出器であり、各バイセル検出器は、前記補正されたビームをｘ方向またはｙ方向において測定することができることを特徴とする、方法。
【請求項４１】
請求項４０に記載の方法であって、第１のバイセル検出器が、前記補正されたビームの位置の並進成分と、前記補正されたビームの前記位置の照準成分とを少なくとも測定し、第２のバイセル検出器が、前記補正されたビームの前記位置の前記照準成分を測定することを特徴とする、方法。
【請求項４２】
請求項３７に記載の方法であって、さらに
前記リーク鏡からの前記補正されたビームの少なくとも前記部分をビーム変調器に反射させるステップを含むことを特徴とする、方法。
【請求項４３】
請求項２３に記載の方法であって、前記１つ以上のモータが、
直接駆動モータ、ステッパモータ、ブラシレスモータ、圧電モータ、またはサーボモータの少なくとも１つを含むことを特徴とする、方法。
【請求項４４】
請求項２３に記載の方法であって、前記入射ビームが、前記入射ビームを生成するように構成された照明源から受信されることを特徴とする、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、ウエハ検査および精査に関し、詳細には検査システム内の照明ビームを調整して位置ずれを補償することに関する。
【背景技術】
【０００２】
関連出願の相互参照
本出願は、発明者であるフランク  リー（Ｆｒａｎｋ  Ｌｉ）、スティーブ  スゥー（Ｓｔｅｖｅ  Ｘｕ）、ティム  スイッシャー（Ｔｉｍ  Ｓｗｉｓｈｅｒ）、クワン  オーヨン（Ｋｗａｎ  Ａｕｙｅｕｎｇ）、およびユリー  ユディツキー（Ｙｕｒｙ  Ｙｕｄｉｔｓｋｙ）による、「ＭＥＴＨＯＤ  ＡＮＤ  ＳＹＳＴＥＭ  ＦＯＲ  ＡＣＴＩＶＥ  ＣＯＭＰＥＮＳＡＴＩＯＮ  ＯＦ  ＩＬＬＵＭＩＮＡＴＩＯＮ  ＬＡＳＥＲ  ＢＥＡＭ  ＪＩＴＴＥＲ  ＦＯＲ  ＷＡＦＥＲ  ＩＮＳＰＥＣＴＩＯＮ  ＳＹＳＴＥＭ」と題する２０１６年５月２日出願の米国仮特許出願第６２／３３０，７５６号の米国特許法１１９条（ｅ）下における優先権を主張し、本文献を全体的に本願に引用して援用する。
【０００３】
論理装置およびメモリ装置などの半導体装置を製作することは、通常、半導体装置のさまざまな特徴および複数のレベルを形成するために、数多くの半導体製作プロセスを使用して半導体ウエハなどの基板を処理することを含む。複数の半導体装置は、単一の半導体ウエハ上に配置されて製作され、次いで、個々の半導体装置に分離され得る。
【０００４】
半導体装置は、製作プロセス中、欠陥を生じ得る。小さくなり続ける特徴を有する集積回路に対する需要が高まり続けるにつれて、これらの縮小し続ける装置の改良された検査システムに対する必要性が増し続けている。微小のシステムジッタでも小さくなり続ける装置の捕捉率に直接影響を与え得るため、これらの改良された検査システム内の照明ビームの位置ずれの補償は、ますます重要になってきている。
【０００５】
システムジッタは、０．１Ｈｚから１００Ｈｚの範囲のジッタ周波数分布を生じさせる複数の源から発生し得る。１つのシステムジッタ源は、照明ビーム経路に沿った「空気のゆれ」または乱流気流であり、これは、パージ用空気が圧力変化のゾーンを作り出し、空気の屈折率を変更することによって引き起こされ、それによって５Ｈｚから１００Ｈｚの周波数範囲内で照明ビームの位置の照準成分および並進成分に影響を与える。別のシステムジッタ源は、０．５から１０Ｈｚの周波数の範囲の固有の不安定性を有する照明光源である。第３のシステムジッタ源は、さまざまな外部力によって潜在的に励起される、光学装着体などの検査システム構成要素の機械的振動および機械的接触であり、これによって０．１Ｈｚから１００Ｈｚの周波数範囲内で照明ビームの位置の照準成分および並進成分に影響を与える。
【０００６】
これらのシステムジッタ源は、しばしば、検査システムから効果的に取り除くことが非常に難しく、これは、改良された検査システム内で補償されない場合に照明ビームは位置ずれしたままであることを意味する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００６／０２０２１１５号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、上記で特定したものなどのこれまでの方法の欠点を矯正するためのシステムおよび方法を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
システムが、本開示の１つ以上の実施形態によって開示される。１つの例示的な実施形態では、システムは、入射ビームを調整して補正されたビームを形成するように構成されたビーム操縦組立体を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、ビーム操縦組立体に光学的に結合されたビーム監視組立体を含む。別の例示的な実施形態では、ビーム監視組立体は、補正されたビームに関する監視データを生成するように構成される。別の例示的な実施形態では、監視データは、補正されたビームの１つ以上のオフセットパラメータを含む。別の例示的な実施形態では、システムは、ビーム監視組立体およびビーム操縦組立体に通信可能に結合された制御装置を含む。別の例示的な実施形態では、制御装置は、メモリ内に記憶されたプログラム命令のセットを実行するように構成された１つ以上の処理装置を含む。別の例示的な実施形態では、プログラム命令は、１つ以上の処理装置に、補正されたビームの１つ以上のゼロパラメータを記憶させるように構成される。別の例示的な実施形態では、プログラム命令は、１つ以上の処理装置に、補正されたビームの１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の少なくとも１つの差違を算出させるように構成される。別の例示的な実施形態では、プログラム命令は、１つ以上の処理装置に、補正されたビームの１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の少なくとも１つの差違に基づいて、入射ビームの１つ以上のビーム位置調整を決定させるように構成される。別の例示的な実施形態では、プログラム命令は、１つ以上の処理装置に、１つ以上のモータ駆動装置を介してビーム操縦組立体に対して指示させて１つ以上のモータを作動させて入射ビームを調整して補正されたビームを形成するように構成される。
【００１０】
方法が、本開示の１つ以上の実施形態によって開示される。１つの実施形態では、方法は、それだけに限定されないが、入射ビームを受信するステップを含むことができる。別の実施形態では、方法は、それだけに限定されないが、ビーム操縦組立体によって入射ビームを調整して補正されたビームを形成するステップを含むことができる。別の実施形態では、方法は、それだけに限定されないが、補正されたビームに関する監視データを生成するステップを含むことができる。別の例示的な実施形態では、監視データは、ビーム監視組立体による、補正されたビームの１つ以上オフセットパラメータを含む。別の実施形態では、方法は、それだけに限定されないが、補正されたビームの１つ以上のゼロパラメータを記憶するステップを含むことができる。別の実施形態では、方法は、それだけに限定されないが、補正されたビームの１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の少なくとも１つの差違を算出するステップを含むことができる。別の実施形態では、方法は、それだけに限定されないが、補正されたビームの１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の少なくとも１つの差違に基づいて、入射ビームの１つ以上のビーム位置調整を決定するステップを含むことができる。別の実施形態では、方法は、それだけに限定されないが、１つ以上のモータ駆動装置を介してビーム操縦組立体に指示して１つ以上のモータを１つ以上の位置調整に基づいて作動させて入射ビームを調整して補正されたビームを形成するステップを含むことができる。
【００１１】
前述の全般的な説明および以下の詳細な説明の両方は、例示的および説明的なものにすぎず、本開示を必ずしも制限するものではないことを理解されたい。特徴に組み込まれた、またはその一部を構成する添付の図は、本開示の主題を示す。説明および図は一緒になって、本開示の原理を説明する役割を果たす。
【００１２】
本開示の数多くの利点は、添付の図を参照することによって当業者により良好に理解され得る。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】本開示の１つ以上の実施形態による、ガウス照明ビームプロファイルに関する相対的強度対ビーム位置のグラフである。
【図１Ｂ】本開示の１つ以上の実施形態による、ガウス照明ビームからビーム変調器によって生成された平坦頂の照明ビームプロファイルに関する相対的強度対ビーム位置のグラフである。
【図１Ｃ】本開示の１つ以上の実施形態による、オフセットガウス照明ビームからビーム変調器によって生成されたモデル化された平坦頂の照明ビームプロファイルに関する、相対的強度対ビーム位置のグラフである。
【図１Ｄ】本開示の１つ以上の実施形態による、オフセットガウス照明ビームからビーム変調器によって生成されたモデル化された平坦頂の照明ビームプロファイルに関する、相対的強度対ビーム位置のグラフである。
【図１Ｅ】本開示の１つ以上の実施形態による、複数の中心を外したガウス照明ビームからビーム変調器によって生成された複数の平坦頂の照明ビームプロファイルに関する、相対的強度対ビーム位置のグラフである。
【図１Ｆ】本開示の１つ以上の実施形態による、検査システム内の時間の関数として測定されたジッタのグラフである。
【図１Ｇ】本開示の１つ以上の実施形態による、検査システム内のジッタの相対的振幅対ジッタの周波数のグラフである。
【図２】本開示の１つ以上の実施形態による、照明ビーム位置ずれを補正するためのシステムのブロック図である。
【図３Ａ】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体のブロック図である。
【図３Ｂ】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体のブロック図である。
【図３Ｃ】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体のブロック図である。
【図３Ｄ】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体のブロック図である。
【図３Ｅ】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体のブロック図である。
【図４】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体のブロック図である。
【図５】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体のブロック図である。
【図６Ａ】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム監視組立体のブロック図である。
【図６Ｂ】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム監視組立体のブロック図である。
【図６Ｃ】本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム監視組立体のブロック図である。
【図７】本開示の１つ以上の実施形態による、照明ビームの位置ずれを補償するための方法を示す流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
次に、添付の図に示された、開示する主題を詳細に参照する。
【００１５】
図１Ａから７を参照すれば、照明ビームの位置ずれを補償するためのシステムおよび方法が、本開示の１つ以上の実施形態によって開示される。
【００１６】
一部の場合、検査システムは、ガウスビーム焦点面に焦点合わせされた照明ビームを使用する。焦点面に焦点合わせされることで、これらの検査システムは、検査システム内の並進ジッタからの照明ビーム位置の最小限の影響しか観察しない。図１Ａは、データ１０２および適合曲線１０４を用いた、ガウス照明ビームプロファイルに関する相対的強度対ビーム位置（μｍ）のグラフ１００を示す。
【００１７】
改良された検査システムは、その代わりに、ガウス照明ビームにビーム変調器を通過させることによって形成された平坦頂の照明ビームを使用する。図１Ｂは、データ１１２を用いた、平坦頂の照明ビームプロファイルに関する相対的強度対ビーム位置（μｍ）のグラフ１１０を示す。
【００１８】
平坦頂の照明ビームプロファイルの品質は、ビーム変調器上のガウスビームの位置に相関付けられる。ガウスビームが中心からずれている場合、平坦頂プロファイルは、平坦頂プロファイルの縁上に望ましくない傾斜特徴部をオフセット方向に有する。図１Ｃは、データ１２２、適合曲線１２４、および比較曲線１２６を用いた、−０．１ｍｍだけオフセットガウス照明ビームからビーム変調器によって生成された、モデル化された平坦頂の照明ビームプロファイルに関する、相対的強度対ビーム位置（ｍｍ）のグラフ１２０を示す。図１Ｄは、データ１３２、適合曲線１３４、および比較曲線１３６を用いた、＋０．１ｍｍだけオフセットガウス照明ビームからビーム変調器によって生成された、モデル化された平坦頂の照明ビームプロファイルに関する、相対的強度対ビーム位置（ｍｍ）のグラフ１３０を示す。
【００１９】
入力ガウス照明ビーム内の照準または並進ジッタはどのようなものも、ビーム変調器上に実時間で平坦頂プロファイルを用いて、入力ガウス照明ビーム内の照準または並進ジッタの周波数に類似する周波数でその縁部が揺れるように示される。図１Ｅは、複数のオフセットガウス照明ビームからビーム変調器によって生成された複数のモデル化された、平坦頂の照明ビームプロファイルに関する、相対的強度対ビーム位置のグラフ１４０を示す。たとえば、データ１４２ａおよび適合曲線１４２ｂは、−１５０μｍのビームオフセットを示す。別の例として、データ１４４ａおよび適合曲線１４４ｂは、−３００μｍのビームオフセットを示す。別の例として、データ１４６ａおよび適合曲線１４６ｂは、−５０μｍのビームオフセットを示す。別の例として、データ１４８ａおよび適合曲線１４８ｂは、１５０μｍのビームオフセットを示す。別の例として、データ１５０ａおよび適合曲線１５０ｂは、３００μｍのビームオフセットを示す。別の例として、データ１５２ａおよび適合曲線１５２ｂは、５０μｍのビームオフセットを示す。
【００２０】
改良された検査システム内のジッタの約９９％は、臨界光学面において＞１００μｍであり、その結果、検査システム信号の安定性および捕捉率に影響するサイズ設定の不安定性を生じさせる。図１Ｆは、データ１６２を用いた、検査システム内で時間（秒）の関数として測定されたジッタ（μｍ）のグラフ１６０を示す。図１Ｇは、データ１７２を用いた、検査システム内のジッタの相対的振幅対ジッタの周波数（Ｈｚ）のグラフ１７０を示す。
【００２１】
したがって、照明ビームの位置ずれを補償することによってシステムジッタを低減する能力を有する、改良された検査システムを提供することが望ましい。たとえば、改良された検査システムがシステムジッタを約１０倍低減できることが望ましい。
【００２２】
本開示の実施形態は、照明ビームの位置ずれを補償するためのシステムおよび方法を対象とする。本開示の実施形態はまた、照明ビームの位置の並進成分、照明ビームの位置の照準成分、照明ビームサイズおよび／または照明ビームブリージングデータの１つ以上を測定することを対象とする。本開示の実施形態はまた、測定されたデータに基づいて１つ以上の照明ビーム調整を決定することを対象とする。本開示の実施形態はまた、照明ビームの位置の並進成分、照明ビームの位置の照準成分、照明ビームのサイズの揺れ、および／または照明ビームブリージングデータにおける不一致の１つ以上を調整することによって補正された照明ビームを形成することを対象とする。本開示の実施形態はまた、照明ビームを測定するステップ、照明ビームの調整を決定するステップ、および照明ビームを調整してｘ方向および／またはｙ方向の１つ以上の補正されたビームを形成するステップを対象とする。
【００２３】
図２は、本開示の１つ以上の実施形態による、照明ビームの位置ずれを補償するためのシステム２００のブロック図を示す。１つの実施形態では、システム２００は、照明源２０２を含む。別の実施形態では、システム２００は、ビーム操縦組立体２０４を含む。別の実施形態では、システム２００は、ビーム監視組立体２０６を含む。別の実施形態では、システム２００は、制御装置２１０を含む。別の実施形態では、システム２００は、１つ以上のモータ駆動装置２２０を含む。別の実施形態では、システム２００は、ビーム変調器２３０を含む。
【００２４】
照明源２０２は、それだけに限定されないが、広帯域光源または狭帯域光源を含む、当技術で知られている任意の照明源を含むことができる。１つの実施形態では、照明源２０２は、１つ以上のレーザを含む。たとえば、照明源２０２は、電磁スペクトラムの赤外、可視および／または紫外部分の放射を出射することができる当技術で知られている任意のレーザまたはレーザシステムを含むことができる。たとえば、照明源２０２は、それだけ限定されないが、１つ以上のダイオードレーザ、１つ以上の連続波（ＣＷ）レーザ、１つ以上のイオンレーザなどを含むことができる。
【００２５】
１つの実施形態では、照明源２０２は、入射ビーム２０３を生成する。別の実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、照明源２０２に光学的に結合される。この点に関して、照明源２０２は、入射ビーム２０３を生成し、入射ビーム２０３をビーム操縦組立体２０４に向ける。たとえば、照明源２０２は、入射ビーム２０３を、光学要素組立体２４０を通してビーム操縦組立体２０４に向けることができる。たとえば、光学要素組立体２４０は、それだけ限定されないが、操縦光学系、鏡、ビーム分割器、レンズ、収集開口、フィルタなどの光学技術で知られている１つ以上の光学要素を含むことができる。
【００２６】
別の実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、入射ビーム２０３を調整して、補正されたビーム２０５を形成する。別の実施形態では、ビーム監視組立体２０６は、ビーム操縦組立体２０４に光学的に結合される。別の実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、補正されたビーム２０５をビーム監視組立体２０６に向ける。たとえば、ビーム操縦組立体２０４は、補正されたビーム２０５を、光学要素組立体２５０を通してビーム監視組立体２０６に向けることができる。たとえば、光学要素組立体２５０は、それだけ限定されないが、操縦光学系、鏡、ビーム分割器、レンズ、収集開口、フィルタなどの光学技術で知られている１つ以上の光学要素を含むことができる。
【００２７】
別の実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、制御装置２１０の１つ以上および１つ以上のモータ駆動装置２２０に通信可能に結合される。
【００２８】
別の実施形態では、ビーム監視組立体２０６は、補正されたビーム２０５の少なくとも一部分をビーム変調器２３０に向ける。たとえば、ビーム変調器２３０は、それだけに限定されないが、ビーム成形光学要素を含むことができる。たとえば、ビーム成形光学要素は、それだけに限定されないが、多段湾曲レンズまたは回折光学要素を含むことができる。別の例として、ビーム監視組立体２０６は、補正されたビーム２０５を、光学要素組立体２６０を通してビーム変調器２３０に向けることができる。たとえば、光学要素組立体２６０は、それだけに限定されないが、操縦光学系、鏡、ビーム分割器、レンズ、収集開口、フィルタなどの光学技術で知られている１つ以上の光学要素を含むことができる。
【００２９】
別の実施形態では、ビーム監視組立体２０６は、制御装置２１０に通信可能に結合される。別の実施形態では、ビーム監視組立体２０６は、補正されたビーム２０５に関する監視データの１つ以上のセットを生成する。たとえば、監視データの１つ以上のセットは、１つ以上のビーム監視センサによって生成される。たとえば、１つ以上のビーム監視センサは、それだけに限定されないが、本明細書でさらに詳細に説明する、１つ以上のカメラ、または１つ以上のバイセル検出器を含むことができる。
【００３０】
別の実施形態では、監視データの１つ以上のセットは、補正されたビーム２０５の１つ以上のオフセットパラメータを含む。たとえば、１つ以上のオフセットパラメータは、それだけに限定されないが、補正されたビーム２０５のオフセット位置のオフセット照準成分を含むことができる。別の例として、１つ以上のオフセットパラメータは、それだけに限定されないが、補正されたビーム２０５のオフセット位置のオフセット並進成分を含むことができる。別の例として、１つ以上のオフセットパラメータは、それだけに限定されないが、オフセットビームサイズを含むことができる。別の例として、１つ以上のオフセットパラメータは、それだけに限定されないが、オフセットビームブリージングデータを含むことができる。別の実施形態では、補正されたビーム２０５の１つ以上のオフセットパラメータは、ｘ方向成分および／またはｙ方向成分の１つ以上を含む。別の実施形態では、ビーム監視組立体２０６は、補正されたビーム２０５に関する監視データの１つ以上のセットを制御装置２１０に送信する。
【００３１】
１つの実施形態では、１つ以上のモータ駆動装置２２０は、ビーム操縦組立体２０４および制御装置２１０の１つ以上に通信可能に結合される。別の実施形態では、１つ以上のモータ駆動装置２２０は、本明細書においてさらに詳細に説明するように、制御装置２１０から受信された１つ以上のビーム位置調整に基づいて、ビーム操縦組立体２０４内の１つ以上のモータを作動させる。
【００３２】
別の実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、１つ以上のエンコーダを含む。別の実施形態では、エンコーダは、１つ以上のモータの作動に続いてデータを生成する。別の実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、生成されたエンコーダデータを制御装置２１０に送信する前に統合し（ａｇｇｒｅｇａｔｅ）、制御装置２１０は、受信時に統合されたエンコーダデータを分離して元に戻す（ｄｅ−ａｇｇｒｅｇａｔｅ）。別の実施形態では、システム２００は、生成されたエンコーダデータを統合されない形態で受信する。
【００３３】
１つの実施形態では、制御装置２１０は、１つ以上の処理装置２１２およびメモリ媒体２１４を含む。別の実施形態では、プログラム命令２１６の１つ以上のセットが、メモリ媒体２１４内に記憶される。別の実施形態では、１つ以上の処理装置２１２は、プログラム命令２１６のセットを実行して、本開示を通して説明するさまざまなステップの１つ以上を行うように構成される。
【００３４】
別の実施形態では、制御装置２１０は、ビーム操縦組立体２０４、ビーム監視組立体２０６、および１つ以上のモータ駆動装置２２０の１つ以上に通信可能に結合される。別の実施形態では、制御装置２１０は、他のシステムまたは組立体からデータまたは情報（たとえば、ビーム監視組立体２０６からの監視データの１つ以上のセット、ビーム操縦組立体２０４からのエンコーダデータの１つ以上のセット、またはユーザインターフェースを介して受信された１つ以上のユーザ入力）を、有線および／または無線部分を含むことができる送信媒体によって受信するおよび／または取得するように構成される。別の実施形態では、システム２００の制御装置２１０は、データまたは情報（たとえば本明細書に開示する１つ以上の手順の出力）を１つ以上のシステムまたは組立体に（たとえば１つ以上の指令を１つ以上のモータ駆動装置２２０、ビーム操縦組立体２０４、ビーム監視組立体２０６、またはユーザインターフェースに）、有線および／または無線部分を含むことができる送信媒体によって送信するように構成される。この点に関して、送信媒体は、制御装置２１０とシステム２００の他の組立体との間のデータリンクとしての役割を果たすことができる。別の実施形態では、制御装置２１０は、送信媒体を介してデータを外部システムに送るように構成される（たとえばネットワーク接続）。
【００３５】
１つの実施形態では、プログラム命令２１６のセットは、１つ以上の処理装置２１２に、補正されたビーム２０５に関する１つ以上のゼロパラメータを記憶させるようにプログラムされる。たとえば、１つ以上のゼロパラメータは、それだけ限定されないが、補正されたビーム２０５のゼロ位置のゼロ照準成分を含むことができる。別の例として、１つ以上のゼロパラメータは、それだけに限定されないが、補正されたビーム２０５のゼロ位置のゼロ並進成分を含むことができる。別の例として、１つ以上のゼロパラメータは、それだけ限定されないが、ゼロビームサイズを含むことができる。別の例として、１つ以上のゼロパラメータは、それだけ限定されないが、ゼロビームブリージングデータを含むことができる。別の実施形態では、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータは、ｘ方向成分および／またはｙ方向成分の１つ以上を含む。
【００３６】
別の実施形態では、プログラム命令２１６のセットは、１つ以上の処理装置２１２に、監視データの１つ以上のセットをビーム監視組立体２０６から受信させるようにプログラムされる。別の実施形態では、制御装置２１０は、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の１つ以上の差違を算出する。たとえば、１つ以上の差違を算出するステップは、補正されたビーム２０５のゼロ位置のゼロ照準成分と、補正されたビーム２０５のオフセット位置のオフセット照準成分との間の照準差違を算出することを含むことができる。別の例として、１つ以上の差違を算出するステップは、補正されたビーム２０５のゼロ位置のゼロ並進成分と、補正されたビーム２０５のオフセット位置のオフセット並進成分との間の並進差違を算出することを含むことができる。別の例として、１つ以上の差違を算出するステップは、ゼロビームサイズとオフセットビームサイズとの間のビームサイズ差違を算出することを含むことができる。別の例として、１つ以上の差違を算出するステップは、ゼロビームブリージングデータとオフセットビームブリージングデータとの間のビームブリージングデータ差違を算出することを含むことができる。
【００３７】
別の実施形態では、プログラム命令２１６のセットは、１つ以上の処理装置２１２に、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータと、１つ以上のオフセットパラメータとの間の算出された１つ以上の差違に基づいて、入射ビーム２０３の１つ以上のビーム位置調整を決定させるようにプログラムされる。別の実施形態では、制御装置２１０は、１つ以上のビーム位置調整を１つ以上のモータ駆動装置２２０に送信する。
【００３８】
別の実施形態では、プログラム命令２１６のセットは、１つ以上の処理装置２１２に、１つ以上のモータ駆動装置２２０を介してビーム操縦組立体２０４に対して指示させて１つ以上のモータを作動させ、入射ビーム２０３を調整して補正されたビーム２０５を形成するようにプログラムされる。たとえば、１つ以上のモータ駆動装置２２０は、１つ以上のビーム位置調整に基づいて入射ビーム２０３を調整することができる。たとえば、１つ以上のビーム位置調整は、ビーム操縦組立体２０４の１つ以上の光学構成要素に結合された１つ以上のモータを作動させるための１つ以上の指令を含むことができ、１つ以上の光学構成要素は、本明細書においてさらに詳細に説明される。
【００３９】
別の実施形態では、プログラム命令２１６のセットは、１つ以上の処理装置２１２に、ビーム操縦組立体２０４から受信された、生成されたエンコーダデータに基づいて１つ以上のモータの作動を確認させるようにプログラムされる。
【００４０】
１つの実施形態では、制御装置２１０の１つ以上の処理装置２１２は、当技術で知られている任意の１つ以上の処理要素を含む。この意味において、１つ以上の処理装置２１２は、アルゴリズムおよび／または命令を実行するように構成された任意のマイクロ処理装置を含むことができる。たとえば、１つ以上の処理装置２１２は、デスクトップコンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列処理装置、車両搭載コンピュータ、携帯用コンピュータ（たとえば、タブレット、スマートフォン、またはファブレット）、または本開示を通じて説明するような、システム２００を作動させるように構成されたプログラムを実行するように構成された他のコンピュータシステム（たとえばネットワーク化されたコンピュータ）からなることができる。本開示を通じて説明するステップが、単一のコンピュータシステムまたは代替的に複数のコンピュータシステムによって行われてよいことを認識されたい。「処理装置」という用語は、非一時的メモリ媒体（たとえばメモリ２１４）からのプログラム命令２１６を実行する、１つ以上の処理要素を有する任意の装置を包含するように広く定義され得る。さらに、システム２００の種々の組立体（たとえば、ビーム操縦組立体２０４、ビーム監視組立体２０６、１つ以上のモータ駆動装置２２０、またはユーザインターフェース）は、本開示を通じて説明するステップの少なくとも一部分を実施するのに適した処理装置または論理要素を含むことができる。したがって、上記の説明は、本開示に対する限定として解釈されてはならず、単なる例示として解釈されなければならない。
【００４１】
１つの実施形態では、制御装置２１０のメモリ媒体２１４は、関連する１つ以上の処理装置２１２によって実行可能なプログラム命令２１６を記憶するのに適した、当技術で知られている任意のメモリ媒体を含む。たとえば、メモリ媒体２１４は、非一時的メモリ媒体を含むことができる。たとえば、メモリ媒体２１４は、それだけに限定されないが、読み取り専用メモリ、ランダムアクセスメモリ、磁気または光学メモリ装置（たとえばディスク）、磁気テープ、ソリッドステートドライブなどを含むことができる。別の実施形態では、本明細書では、メモリ２１４が、ディスプレイ情報をディスプレイデバイスに提供し、および／または本明細書に説明するさまざまステップの出力を提供するように構成されることが、留意される。さらに、メモリ２１４が１つ以上の処理装置２１２を有する共通の制御装置ハウジング内に収容されてよいことが、留意される。代替の実施形態では、メモリ２１４は、処理装置２１２および制御装置２１０の物理的場所に対して遠隔に位置してもよい。たとえば、制御装置２１０の１つ以上の処理装置２１２は、ネットワーク（たとえばインターネット、イントラネットなど）を介してアクセス可能な遠隔メモリ（たとえばサーバ）にアクセスすることができる。別の実施形態では、メモリ媒体２１４は、１つ以上の処理装置２１２に、本開示を通じて説明するさまざまなステップを実施させるためのプログラム命令２１６を記憶する。
【００４２】
追加の実施形態では、システム２００は、ユーザインターフェースを含む。別の実施形態では、ユーザインターフェースは、制御装置２１０の１つ以上の処理装置２１２に通信可能に結合される。別の実施形態では、ユーザインターフェースは、ディスプレイ装置（たとえば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、陰極線管（ＣＲＴ）ディスプレイなど）を含む。別の実施形態では、ユーザインターフェースは、ユーザ入力装置（たとえば、キーパッド、マウス、タッチスクリーンなど）を含む。
【００４３】
追加の実施形態では、システム２００は、試料を固定するように構成された試料台を含むことができる。別の実施形態では、ビーム変調器２３０によって生成された照明ビームは、試料台上に固定された試料を照明する。別の実施形態では、試料はウエハを含む。たとえば、試料は、それだけに限定されないが、半導体ウエハを含むことができる。本開示を通じて使用する「ウエハ」という用語は、半導体のおよび／または半導体ではない材料から形成された基板を指す。たとえば、半導体または半導体材料は、それだけ限定されないが、単結晶シリコン、ヒ化ガリウム、およびリン化インジウムを含むことができる。
【００４４】
別の実施形態では、試料台は、当技術で知られている任意の適切な機械的および／またはロボット組立体を含むことができる。別の実施形態では、制御装置２１０（またはシステム２００内の別の制御装置）は、試料台を作動させることができる。たとえば、試料台は、制御装置２１０（またはシステム２００内の別の制御装置）によって試料を選択された位置または配向に作動させるように構成され得る。たとえば、試料台は、それだけに限定されないが、モータまたはサーボを含む１つ以上の作動装置を含むことができ、または作動装置に機械的に結合されてよく、この場合、１つ以上の作動装置は、当技術においていくつかが知られている選択された検査または度量衡学アルゴリズムにしたがって位置決め、焦点合わせ、および走査を行うために、試料を並進または回転させるように構成される。
【００４５】
追加の実施形態では、システム２００は、試料の表面から反射されたおよび／または散乱された照明を１つ以上の検出器に向けるように構成された１つ以上の光学構成要素を含むことができる。たとえば、検出器は、当技術で知られている任意の適切な検出器を含むことができる。たとえば、検出器は、それだけに限定されないが、１つ以上の光電子増倍管（ＰＭＴ）、電荷結合素子（ＣＣＤ）、時間差積分（ＴＤＩ）カメラなどを含むことができる。加えて、検出器の出力部は、制御装置２１０に通信可能に結合され得る。
【００４６】
１つの例では、検出器は、制御装置２１０が検出器によって生成された出力を受信することができるように、任意の適切な方法で（たとえば図１に示す点線によって示す１つ以上の送信媒体によって）制御装置２１０に結合され得る。別の例として、複数の検出器が存在する場合、制御装置２１０は、上記で説明したような複数の検出器に結合され得る。本明細書では、制御装置２１０が、検出器によって収集され送信された検出データを使用し、ウエハ上の欠陥を検出するための当技術で知られている任意の方法および／またはアルゴリズムを利用して、試料の１つ以上の欠陥を検出するように構成され得ることが、留意される。たとえば、検出器は、それだけに限定されないが、制御装置２１０を含むシステム２００の別の組立体から命令を受けるように構成され得る。
【００４７】
本明細書では、検出器は、試料の表面から反射され、散乱され、回折され、および／または放射された照明を収集し、分析して１つ以上の欠陥を位置特定するように構成された任意の検出器を含むことができることが留意される。本開示の目的のため、欠陥は、空隙、短絡、粒子、残留物、浮き泡、または当技術で知られている任意の他の欠陥として分類され得る。
【００４８】
本明細書では、ビーム監視組立体２０６による監視データの生成、および監視データから制御装置２１０によって決定された１つ以上のビーム調整に基づく、１つ以上のモータ駆動装置２２０による補正されたビーム２０３を形成するための入射ビーム２０３の調整を含むシステム２００の部分は、本開示の目的のために閉補償ループであることが留意される。しかし、システム２００のこれまで説明してきた部分が、その代わりに開補償ループとすることができるように、１つ以上の外部源がシステム２００上に作用してもよいことが企図される。したがって、上記の説明は、本開示に対する限定として解釈されてはならず、単なる例示として解釈されなければならない。
【００４９】
図２に示すシステム２００の実施形態は、さらに、本明細書に説明するように構成され得る。加えて、システム２００は、本明細書において説明するシステムおよび方法実施形態の任意の他のステップを実施するように構成され得る。
【００５０】
図３Ａから５は、本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体２０４ａ、２０４ｂ、および２０４ｃを示す。本明細書では、特記しない限り、本開示を通じて説明する実施形態および例は、図３ａ〜５のビーム操縦組立体２０４ａ、２０４ｂ、および２０４ｃまで及ぶように解釈されなければならないことが留意される。
【００５１】
図３Ａから３Ｅは、本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体２０４ａを示す。１つの実施形態では、ビーム操縦組立体２０４ａは、１つ以上のモータ３０４に結合された第１のプリズム３０２を含む。別の実施形態では、１つ以上のモータ３０４は、１つ以上のモータ駆動装置２２０に結合される。別の実施形態では、ビーム操縦組立体２０４ａは、１つ以上のモータ３０８に結合された第２のプリズム３０６を含む。別の実施形態では、１つ以上のモータ３０８は、１つ以上のモータ駆動装置２２０に結合される。
【００５２】
図３Ｂ〜３Ｅは、プリズム３０２またはプリズム３０６の１つ以上を並進および／または傾斜させることで、入射ビームを調整して補正されたビーム２０５を形成する様子を示す。１つの実施形態では、プリズム３０２とプリズム３０６との間の距離を変更することで、入射ビーム２０３の位置の並進成分を調整して補正されたビーム２０５を形成する。別の実施形態では、プリズム３０２およびプリズム３０６の１つ以上を傾斜させることで、入射ビーム２０３の位置の照準成分を調整して補正されたビーム２０５を形成する。たとえば、図３Ｅは、プリズム位置（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）によるプリズム３０２およびプリズム３０６の両方の傾斜を示す。別の実施形態では、プリズム３０２とプリズム３０６との間の距離を変更することおよびプリズム３０２およびプリズム３０６の１つ以上を傾斜させることを組み合わせて、入射ビーム２０３のサイズを調整して補正されたビーム２０５を形成する。
【００５３】
別の実施形態では、プリズム３０２および／またはプリズム３０６の線形動作は、１つ以上のダイレクトドライブモータ３０４および／または３０８それぞれによって駆動される。別の実施形態では、プリズム３０２および／またはプリズム３０６の回転動作は、ブラシレスモードで作動する１つ以上のステッパモータ３０４および／または３０８それぞれによって駆動される。線形動作用の１つ以上のダイレクトドライブモータおよび回転動作用のブラシレスモードで作動する１つ以上のステッパモータの組み合わせは、十分な速さで入射ビーム２０３を能動的に調整して、プリズム３０２および３０６の１つ以上の並進または回転の１つ以上によって補正されたビーム２０５を形成することが企図される。
【００５４】
本開示の実施形態は、２つのプリズム３０２および３０６を有するビーム操縦組立体２０４ａを対象とするが、本明細書では、ビーム操縦組立体２０４ａは、２つのプリズム３０２および３０６に限定されないことが、留意される。たとえば、ビーム操縦組立体２０４ａは、最大Ｎ個のプリズムを含むことができる。たとえば、ビーム操縦組立体２０４ａは、１ビーム調整方向につき１つ以上の対のプリズムを含むことができる（すなわち、Ｘ方向およびｙ方向の両方において入射ビーム２０３を調整して補正されたビーム２０５を形成するための少なくとも４つのプリズム、またはｘ方向またはｙ方向において入射ビーム２０３を調整して補正されたビーム２０５を形成するための少なくとも２つのプリズム）。したがって、上記の説明は、本開示に対する限定として解釈されてはならず、単なる例示として解釈されなければならない。
【００５５】
単一のモータ駆動装置２２０が、１つ以上のモータ３０４および１つ以上のモータ３０８を制御するものとして図３Ａ〜３Ｅに示されているが、本明細書では、１つ以上のモータ３０４および１つ以上のモータ３０８の少なくとも一部が、モータ固有のモータ駆動装置２２０によって制御され得ることが、留意される。したがって、上記の説明は、本開示に対する限定として解釈されてはならず、単なる例示として解釈されなければならない。
【００５６】
図４は、本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体２０４ｂを示す。１つの実施形態では、ビーム操縦組立体２０４ｂは、１つ以上のモータ４０４に結合された反射鏡４０２を含む。たとえば、１つ以上のモータ４０４は、圧電モータでよい。別の実施形態では、１つ以上のモータ４０４は、モータ駆動装置２２０に結合される。本明細書では、複数のモータ４０４が存在する場合、複数のモータ４０４の少なくとも一部が、モータ固有のモータ駆動装置２２０によって制御され得ることが、留意される。
【００５７】
別の実施形態では、位置（ａ）にある反射鏡４０２は、入射ビーム２０３を調整せずにビーム監視組立体２０６に反射させる。別の実施形態では、反射鏡４０２を位置（ａ）から位置（ｂ）に移動させることで、入射ビーム２０３の位置の照準成分を調整してｘ方向および／またはｙ方向の１つ以上の補正されたビーム２０５を形成する。しかし、反射鏡４０２を位置（ａ）から位置（ｂ）まで移動させることは、入射ビーム２０３の位置の並進成分を調整して補正されたビーム２０５を形成するものではないことが、留意される。
【００５８】
図５は、本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム操縦組立体２０４ｃを示す。１つの実施形態では、ビーム操縦組立体２０４ｃは、１つ以上のモータ５０４に結合された矩形プリズム５０２を含む。たとえば、１つ以上のモータ５０４は、サーボモータであってよい。別の実施形態では、１つ以上のモータ５０４は、モータ駆動装置２２０に結合される。本明細書では、複数のモータ５０４が存在する場合、複数のモータ５０４の少なくとも一部が、モータ固有のモータ駆動装置２２０によって制御され得ることが、留意される。
【００５９】
別の実施形態では、位置（ａ）にあるプリズム５０２は、入射ビーム２０３を調整せずにビーム監視組立体２０６に向ける。別の実施形態では、プリズム５０２を位置（ａ）から位置（ｂ）に回転させることで、入射ビーム２０３の位置の並進成分を調整して、ｘ方向および／またはｙ方向の１つ以上の補正されたビーム２０５を形成する。しかし、プリズム５０２を位置（ａ）から位置（ｂ）に回転させることは、入射ビーム２０３の位置の照準成分を調整して補正されたビーム２０５を形成するものではないことが、留意される。
【００６０】
本明細書では、ビーム操縦組立体２０４ａ、２０４ｂ、および２０４ｃは、これまで開示したタイプのモータ３０４、３０８、４０４、または５０４に限定されないことが、留意される。たとえば、モータ３０４、３０８、４０４、または５０４は、ダイレクトドライブモータ、ステッパモータ、ブラシレスモードで作動するステッパモータ、圧電モータ、サーボモータ、または当技術で知られている任意の他のモータの任意のものであってよい。したがって、上記の説明は、本開示に対する限定として解釈されてはならず、単なる例示として解釈されなければならない。
【００６１】
図６Ａ〜６Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、ビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃを示す。本明細書では、本開示を通じて説明する実施形態および例が、特記しない限り、図６Ａ〜６Ｃのビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃまで及ぶように解釈されなければならないことが、留意される。
【００６２】
１つの実施形態では、ビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃは、補正されたビーム２０５を受信する。別の実施形態では、ビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃは、リーク鏡６０２を含む。別の実施形態では、リーク鏡６０２は、補正されたビーム２０５の少なくとも一部分をビーム変調器２３０に反射させる。別の実施形態では、リーク鏡６０２は、補正されたビーム２０５の少なくとも一部分をビーム分割器６０４に向ける。
【００６３】
本明細書では、ビーム変調器２３０に反射された、補正されたビーム２０５対ビーム分割器６０４に向けられた、補正されたビーム２０５の部分の比は、＞９９％：＜１％であってよいことが、留意される。しかし、リーク鏡６０２は、補正されたビーム２０５を任意の比で反射させる／向けることができることが、企図される。したがって、上記の説明は、本開示に対する限定として解釈されてはならず、単なる例示として解釈されなければならない。
【００６４】
別の実施形態では、ビーム分割器６０４は、リーク鏡６０２によって向けられた補正されたビーム２０５の少なくとも一部分を、少なくとも１つの光学要素６０６を通して第１の撮像装置６１０に向ける。たとえば、少なくとも１つの光学要素６０６は、それだけに限定されないが、伸縮式ビームエクスパンダを含むことができる。たとえば、伸縮式ビームエクスパンダ６０６は、補正されたビーム２０５の分割器に向けられた部分のビーム平行化を維持しながら、サイズを増大させることができる。別の例として、少なくとも１つの光学要素６０６は、当技術で知られている任意の光学要素であってよい。
【００６５】
別の実施形態では、ビーム分割器６０４は、リーク鏡６０２によって向けられた補正されたビーム２０５の少なくとも一部分を、少なくとも１つの光学要素６０８を通して第２の撮像装置６１２に反射させる。たとえば、少なくとも１つの光学要素６０８は、それだけ限定されないが、焦点合わせレンズを含むことができる。たとえば、撮像装置６１２は、焦点合わせレンズの焦点面上にある。別の例として、少なくとも１つの光学要素６０８は、当技術で知られている任意の光学要素であってよい。
【００６６】
本明細書では、第１の撮像装置６１０に向けられた、補正されたビーム２０５対第２の撮像装置６１２に反射された、補正されたビーム２０５の部分の比は、５０／５０であってよいことが、留意される。しかし、ビーム分割器６０４は、補正されたビーム２０５を任意の比で反射する／向けることができることが、企図される。したがって、上記の説明は、本開示に対する限定として解釈されてはならず、単なる例示として解釈されなければならない。
【００６７】
図６Ａに示すような１つの実施形態では、撮像装置６１０および６１２は、照明ビーム並進ジッタ、照明ビーム照準ジッタ、照明ビームサイズ、および照明ビームブリージングデータの１つ以上をｘ方向およびｙ方向両方において測定することができるカメラ（すなわち二次元カメラ）である。別の実施形態では、カメラ６１０および６１２は、時間の関数として、補正されたビーム２０５の並進ジッタおよび照準ジッタの１つ以上を監視する。たとえば、カメラ６１０は、並進ジッタ、照準ジッタ、およびビームサイズをｘ方向およびｙ方向の両方において測定することができる。別の例として、カメラ６１２は、照準ジッタをｘ方向およびｙ方向の両方において測定することができる。別の実施形態では、カメラ６１０および６１２によってとられた測定値は、デジタル信号処理装置（ＤＳＰ）コードによって処理され得る。たとえば、カメラ６１０および６１２によって測定された照明ビームの重心位置適合は、ＤＳＰコードによって決定され得る。別の実施形態では、カメラ６１０および６１２によってとられた測定値内の並進ジッタおよび照準ジッタの切り離しは、ＤＳＰコードによって実時間で行われ得る。
【００６８】
図６Ｂに示すような１つの実施形態では、撮像装置６２０および６２２は、照明ビーム並進ジッタ、照明ビーム照準ジッタ、照明ビームサイズ、および照明ビームブリージングデータの１つ以上をｘ方向またはｙ方向において測定することができるカメラ（すなわち一次元カメラ）である。別の実施形態では、カメラ６２０および６２２は、時間の関数として、補正されたビーム２０５の並進ジッタおよび照準ジッタの１つ以上を監視する。たとえば、カメラ６２０は、並進ジッタ、照準ジッタ、およびビームサイズをｘ方向またはｙ方向において測定することができる。別の例として、カメラ６２２は、照準ジッタをｘ方向またはｙ方向において測定することができる。別の実施形態では、カメラ６２０および６２２によってとられた測定値は、ＤＳＰコードによって処理され得る。たとえば、カメラ６２０および６２２によって測定された照明ビームの重心位置適合は、ＤＳＰコードによって決定され得る。別の例として、カメラ６２０および６２２によってとられた照明ビーム測定値内の並進ジッタまたは照準ジッタの切り離しは、ＤＳＰコードによって実時間で行われ得る。
【００６９】
本明細書では、二次元カメラ６１０および６１２の代わりに一次元カメラ６２０および６２２を利用した結果、より低いデータ速度でより高速の測定性能を得ることができることが、留意される。さらに、本明細書では、１つの照準ジッタのみが必要とされる場合、図６Ａおよび６Ｂのカメラ６１２または６２２それぞれにつながる光学支系は除去されてよいことが、留意される。
【００７０】
図６Ｃに示すような１つの実施形態では、撮像装置６３０および６３２は、照明ビーム並進ジッタおよび照明ビーム照準ジッタの１つ以上をｘ方向またはｙ方向において測定することができるバイセル検出器である。別の実施形態では、バイセル検出器６３０および６３２は、時間の関数として、補正されたビーム２０５の並進ジッタまたは照準ジッタを監視する。別の実施形態では、バイセル検出器６３０は、バイセルの第１の半分に関してバイセル信号Ａを測定し、バイセル検出器６３２は、バイセルの第２の半分に関してバイセル信号Ｂを測定する。別の実施形態では、バイセル検出器６３０および６３２によって測定された照明ビームの位置は、方程式（１）によって決定される。
【数１】
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別の実施形態では、カメラ６３０および６３２の測定値は、ＤＳＰコードによって処理され得る。たとえば、バイセル検出器６３０および６３２の測定によって測定された照明ビーム内の並進ジッタまたは照準ジッタの切り離しは、実時間でＤＳＰコードによって行われ得る。
【００７１】
本開示の実施形態は、２つのカメラまたは２つのバイセル検出器を備えたビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃを対象とするが、本明細書では、ビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃは、２つのカメラまたは２つのバイセル検出器に限定されないことが、留意される。たとえば、ビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃは、１つのカメラまたはバイセル検出器のみを含むことができる。別の例として、ビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃは、最大Ｎ個のカメラまたはバイセル検出器を含むことができる。別の例として、ビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、および２０６ｃは、混合された数のカメラおよびバイセル検出器を含むことができる。したがって、上記の説明は、本開示に対する限定として解釈されてはならず、単なる例示として解釈されなければならない。
【００７２】
本開示の実施形態の利点は、ｘ方向および／またはｙ方向の１つ以上の照明ビームの位置ずれを補償することを含むことができる。本開示の実施形態の利点はまた、照明ビームの位置の並進成分、照明ビームの位置の照準成分、照明ビームのサイズ、および／または照明ビームブリージングデータの１つ以上を測定することを含む。本開示の実施形態の利点はまた、照明ビームの位置の並進成分、照明ビームの位置の照準成分、および照明ビームのサイズの揺れの１つ以上を調整することによって照明ビームから補正されたビームを形成することを含む。
【００７３】
本明細書では、システム２００は、ｘ方向およびｙ方向の両方に作動する第１のセットの能力に合わせて構成され得る。１つの実施形態では、第１のセットの能力は、照明ビームの位置の並進成分、照明ビームの位置の照準成分、照明ビームのサイズ、および照明ビームブリージングデータの１つ以上を測定することを含む。別の実施形態では、照明ビームの位置の並進成分、照明ビームの位置の照準成分、および照明ビームのサイズの揺れの１つ以上を調整することによる照明ビームからの補正されたビームの第１のセットを含む。
【００７４】
さらに、本明細書では、システム２００は、ｘ方向またはｙ方向に作動する第２のセットの能力を備えて構成され得ることが、留意される。１つの実施形態では、第２のセットの能力は、照明ビームの位置の並進成分および／または照明ビームの位置の照準成分の１つ以上を測定することを含む。別の実施形態では、第２のセットの能力は、照明ビームの位置の並進成分および／または照明ビームの位置の照準成分の１つ以上を調整することによって照明ビームから補正されたビームを形成することを含む。
【００７５】
さらに、本明細書では、システム２００が、ｘ方向および／またはｙ方向の１つ以上に作動する少なくとも第３のセットの能力を備えて構成され得ることが、留意される。１つの実施形態では、少なくとも第３の能力は、第１のセットの能力および／または第２のセットの能力の１つ以上を含む。
【００７６】
図７は、照明ビームの位置ずれを補償するための方法７００を示すプロセス流れ図を示す。方法はまた、出力取得サブシステムおよび／またはコンピュータサブシステムまたは本明細書において説明するシステムによって実施され得る任意の他のステップを含むこともできる。ステップは、本明細書に説明する実施形態のいずれかによって構成され得る、１つ以上のコンピュータシステムによって実施され得る。本明細書では、方法７００のステップは、システム２００によってすべてまたは部分的に実施され得ることが、留意される。しかし、方法７００は、追加のまたは代替のシステムレベルの実施形態が、方法７００のステップのすべてまたは一部によって行われてよいという点で、システム２００に限定されないことが認識される。
【００７７】
ステップ７０２では、入射ビーム２０３は、補正されたビーム２０５を形成するように調整される。１つの実施形態では、入射ビーム２０３は、照明源２０２からビーム操縦組立体２０４によって受信される。別の実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、入射ビーム２０３を調整して補正されたビーム２０５を形成する。たとえば、システム２００は、ビーム操縦組立体２０４ａ、２０４ｂ、または２０４ｃのいずれかを実装して入射ビーム２０３を調整して補正されたビーム２０５を形成することができる。別の実施形態では、補正されたビーム２０５は、ビーム操縦組立体２０４によってビーム監視組立体２０６に向けられる。
【００７８】
ステップ７０４では、監視データが生成される。１つの実施形態では、監視データは、ビーム監視組立体２０６によって生成される。たとえば、システム２００は、ビーム監視組立体２０６ａ、２０６ｂ、または２０６ｃのいずれかを実装して監視データを生成することができる。別の実施形態では、監視データは、補正されたビーム２０５の１つ以上のオフセットパラメータを含む。別の実施形態では、監視データの１つ以上のセットは、補正されたビーム２０５の１つ以上のオフセットパラメータを含む。たとえば、１つ以上のオフセットパラメータは、それだけに限定されないが、補正されたビーム２０５のオフセット位置のオフセット照準成分を含むことができる。別の例として、１つ以上のオフセットパラメータは、それだけに限定されないが、補正されたビーム２０５のオフセット位置のオフセット並進成分を含むことができる。別の例として、１つ以上のオフセットパラメータは、それだけに限定されないが、オフセットビームサイズを含むことができる。別の例として、１つ以上のオフセットパラメータは、それだけ限定されないが、オフセットビームブリージングデータを含むことができる。別の実施形態では、補正されたビーム２０５の１つ以上のオフセットパラメータは、ｘ方向成分および／またはｙ方向成分の１つ以上を含む。別の実施形態では、ビーム監視組立体２０６は、補正されたビーム２０５に関する監視データの１つ以上のセットを制御装置２１０に送信する。
【００７９】
ステップ７０６では、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータが記憶される。１つの実施形態では、１つ以上のゼロパラメータは、制御装置２１０によって記憶される。たとえば、１つ以上のゼロパラメータは、それだけに限定されないが、補正されたビーム２０５のゼロ位置のゼロ照準成分を含むことができる。別の例として、ゼロパラメータは、補正されたビーム２０５のゼロ位置のゼロ並進成分を含むことができる。別の例として、１つ以上のゼロパラメータは、それだけに限定されないが、ゼロビームサイズを含むことができる。別の例として、１つ以上のゼロパラメータは、それだけ限定されないが、ゼロビームブリージングデータを含むことができる。別の実施形態では、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータは、ｘ方向成分および／またはｙ方向成分の１つ以上を含む。
【００８０】
ステップ７０８では、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の１つ以上の差違が、算出される。１つの実施形態では、１つ以上のオフセットパラメータは、制御装置２１０によってビーム監視組立体２０６から受信される。別の実施形態では、制御装置２１０は、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の１つ以上の差違を算出する。たとえば、１つ以上の差違を算出するステップは、補正されたビーム２０５のゼロ位置のゼロ照準成分と、補正されたビーム２０５のオフセット位置のオフセット照準成分との間の照準差違を算出することを含むことができる。別の例として、１つ以上の差違を算出するステップは、補正されたビーム２０５のゼロ位置のゼロ並進成分と、補正されたビーム２０５のオフセット位置のオフセット並進成分との間の並進差違を算出することを含むことができる。別の例として、１つ以上の差違を算出するステップは、ゼロビームサイズとオフセットビームサイズとの間のビームサイズ差違を算出することを含むことができる。別の例として、１つ以上の差違を算出するステップは、ゼロビームブリージングデータとオフセットビームブリージングデータとの間のビームブリージングデータ差違を算出することを含むことができる。
【００８１】
ステップ７１０では、入射ビーム２０３の１つ以上のビーム位置調整が、決定される。１つの実施形態では、入射ビーム２０３の１つ以上のビーム位置調整は、制御装置２１０によって決定される。別の実施形態では、１つ以上のビーム調整は、補正されたビーム２０５の１つ以上のゼロパラメータと１つ以上のオフセットパラメータとの間の算出された１つ以上の差違に基づく。別の実施形態では、１つ以上のビーム位置調整は、制御装置２１０によって１つ以上のモータ駆動装置２２０に送信される。
【００８２】
ステップ７１２では、ビーム操縦組立体は、入射ビーム２０３を調整して補正されたビーム２０５を形成するように指示される。１つの実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、１つ以上の光学構成要素に結合された１つ以上のモータを含む。たとえば、１つ以上のモータは、１つ以上のモータ駆動装置２２０によって作動される。別の実施形態では、１つ以上のビーム位置調整は、１つ以上のモータ駆動装置２２０によって受信される。たとえば、１つ以上のビーム調整は、ビーム操縦組立体２０４の１つ以上のモータを作動させるための１つ以上の指令を含むことができる。たとえば、１つ以上のモータを作動させることで、１つ以上の光学構成要素を移動させ、それによって入射ビーム２０３を調整して補正されたビーム２０５を形成する。
【００８３】
追加のステップでは、１つ以上のモータの作動に続いて１つ以上のモータのエンコーダデータが、生成される。１つの実施形態では、ビーム操縦組立体２０４は、１つ以上のエンコーダを含む。別の実施形態では、１つ以上のビーム位置調整に基づく、１つ以上のモータ駆動装置２２０による１つ以上のモータの作動は、１つ以上のエンコーダによってエンコーダデータとして記録される。別の実施形態では、エンコーダデータは、制御装置２１０に送信される。
【００８４】
追加のステップでは、１つ以上のモータの作動は、エンコーダデータに基づいて確認される。１つの実施形態では、制御装置２１０は、エンコーダデータを受信する。別の実施形態では、制御装置２１０は、エンコーダデータ内に記録された１つ以上のモータの作動と、１つ以上のモータ駆動装置２２０に送信された１つ以上のビーム位置調整を比較する。
【００８５】
本明細書において説明する方法のすべては、方法実施形態の１つ以上のステップの結果をメモリ媒体内に記憶するステップを含むことができる。結果は、本明細書において説明する結果の任意のものを含むことができ、当技術で知られている任意の方法で記憶され得る。メモリ媒体は、本明細書において説明するいずれかのメモリ媒体、または当技術で知られている任意の他の適切なメモリ媒体を含むことができる。結果が記憶された後、メモリ媒体内の結果にアクセスし、これを本明細書において説明する方法またはシステム実施形態のいずれかによって使用し、ユーザへの表示のためにフォーマット化し、別のソフトウェアモジュール、方法、またはシステムなどによって使用することができる。さらに、結果は、「恒久的に」、「半恒久的に」、一時的に、またはいくらかの期間記憶されてよい。たとえば、メモリ媒体は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）でよく、結果は、必ずしもメモリ媒体内に無期限に持続しなくてよい。
【００８６】
装置および／またはプロセスを本明細書において記載する形で説明し、その後、技術的実践を使用してそのように説明した装置および／またはプロセスをデータ処理システムに組み込むことが当技術において一般的であることを当業者は認識するであろう。すなわち、本明細書において説明する装置および／またはプロセスの少なくとも一部分は、適正な量の実験を経てデータ処理システムに組み込まれ得る。典型的なデータ処理システムは、通常、システムユニットハウジング、ディスプレイ装置、揮発性および不揮発性メモリなどのメモリ、マイクロ処理装置およびデジタル信号処理装置などの処理装置、オペレーティングシステム、ドライバ、グラフィカルユーザインターフェース、およびアプリケーションプログラムなどのコンピュータエンティティ、タッチパッドまたはスクリーンなどの１つ以上の相互作用装置、ならびに／あるいはフィードバックループおよび制御モータ（たとえば、位置および／または速度を感知するためのフィードバック；構成要素および／または量を移動させるおよび／または調整するための制御モータ）の１つ以上を含むことを当業者は認識するであろう。典型的なデータ処理システムは、データコンピューティング／データ通信システムおよび／またはネットワークコンピューティング／ネットワーク通信システムにおいて通常見出されるものなどの任意の適した市販の構成要素を利用して実装され得る。
【００８７】
本明細書において説明する構成要素（たとえば作動）、装置、対象物、およびこれらに伴う論議が、概念を明確にするために例として使用され、さまざまな構成の変形が企図されることを当業者は認識するであろう。その結果、本明細書では、記載された特有の例および付随する論議は、これらのより汎用的なクラスを表すよう意図される。通常、任意の特有の例の使用は、そのクラスを表すよう意図され、特有の構成要素（たとえば作動）、装置、および物体を含まないことを限定的に捉えてはならない。
【００８８】
本明細書の実質的にすべての複数および／または単数の用語の使用に関して、当業者は、文脈および／または用途に合わせて適宜、複数から単数、単数から複数に読み替えることができる。さまざまな単数／複数の順列は、明確にするために本明細書では明示的に記載されない。
【００８９】
本明細書に説明する主題は、異なる他の構成要素の中に含まれる、または異なる他の構成要素と連結される異なる構成要素を示すことがある。そのように示すアーキテクチャは例示的にすぎないこと、および実際には、同じ機能性を達成する多くの他のアーキテクチャが実装されてよいことを理解されたい。概念的な意味で、同じ機能性を達成するための構成要素の任意の配置は、所望される機能性が達成されるように効果的に「関連付けられる（ａｓｓｏｃｉａｔｅｄ）」。したがって、特定の機能性を達成するために本明細書で組み合わされる任意の２つの構成要素は、アーキテクチャまたは中間構成要素と関係なく所望の機能性が達成されるように、互いに「関連付けられている（ａｓｓｏｃｉａｔｅｄ  ｗｉｔｈ）」ものとして見ることができる。同様に、そのように関連付けられた任意の２つの構成要素もまた、所望される機能性を達成するために互いに「動作可能に連結されている（ｏｐｅｒａｂｌｙ  ｃｏｎｎｅｃｔｅｄ）」、または「動作可能に結合されている（ｏｐｅｒａｂｌｙ  ｃｏｕｐｌｅｄ）」と見なすことができ、そのように関連付けられることが可能な任意の２つの構成要素もまた、所望された機能性を達成するために互いに「動作可能に結合可能（ｏｐｅｒａｂｌｙ  ｃｏｕｐｌａｂｌｅ）」であると見なすことができる。動作可能に結合可能の特有の例は、それだけに限定されないが、物理的に対合可能および／または物理的に相互作用する構成要素、および／または無線で相互作用可能および／または無線で相互作用する構成要素、および／または論理的に相互作用するおよび／または論理的に相互作用可能な構成要素を含む。
【００９０】
一部の場合、１つ以上の構成要素は、本明細書では、「構成される（ｃｏｎｆｉｇｕｒｅｄ  ｔｏ）」、「構成可能である（ｃｏｎｆｉｇｕｒａｂｌｅ  ｔｏ）、「動作可能／動作する（ｏｐｅｒａｂｌｅ／ｏｐｅｒａｔｉｖｅ  ｔｏ）」、「適応される／適応可能である（ａｄａｐｔｅｄ／ａｄａｐｔａｂｌｅ）」、「することができる（ａｂｌｅ  ｔｏ）」、「適合可能／適合される（ｃｏｎｆｏｒｍａｂｌｅ／ｃｏｎｆｏｒｍｅｄ  ｔｏ）」ものとして示され得る。そのような用語（たとえば、「構成される（ｃｏｎｆｉｇｕｒｅｄ  ｔｏ）」が、文脈が別途要求しない限り、通常、動作状態の構成要素および／または停止状態の構成要素および／または待機状態の構成要素を包含できることを当業者は認識するであろう。
【００９１】
本明細書において説明する本発明の主題の特定の態様が示され説明されてきたが、本明細書の教示に基づき、本明細書において説明する主題およびそのより広い態様から逸出することなく、変更および変形が加えられてよく、したがって添付の特許請求の範囲は、すべてのそのような変更および変形をその範囲内に、本明細書において説明する主題の真の趣旨および範囲内に入るものとして包含するものであることが当業者に明らかになるであろう。通常、本明細書、特に添付の特許請求の範囲（たとえば添付の特許請求の範囲の本文）において使用する用語は、「無制限（ｏｐｅｎ）」用語として意図されることが当業者によって理解されるであろう（たとえば、「含んでいる（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」という用語は、「それだけに限定されないが、含んでいる（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ  ｂｕｔ  ｎｏｔ  ｌｉｍｉｔｅｄ  ｔｏ）」として解釈されなければならず、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語は、「少なくとも有する（ｈａｖｉｎｇ  ａｔ  ｌｅａｓｔ）」として解釈されなければならず、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅ）」という用語は、「それだけに限定されないが含む（ｉｎｃｌｕｄｅ  ｂｕｔ  ｎｏｔ  ｌｉｍｉｔｅｄ  ｔｏ）」として解釈されなければならない）。さらに、特有の番号の導入された請求項の列挙が意図される場合、そのような意図は、請求項内で明示的に列挙され、そのような列挙が無い場合、そのような意図は存在しないことが、当業者によってさらに理解されるであろう。たとえば、理解の補助として、添付の特許請求の範囲は、請求項の列挙を導入するために導入句「少なくとも１つの（ａｔ  ｌｅａｓｔ  ｏｎｅ）」および「１つ以上の（ｏｎｅ  ｏｒ  ｍｏｒｅ）」の使用を含むことができる。しかし、そのような語句の使用は、不定冠詞「ある（ａ）」または「ある（ａｎ）」による請求項の列挙の導入が、同じ請求項が「１つ以上」または「少なくとも１つの」という導入語句および「ある（ａ）」または「ある（ａｎ）」などの不定冠詞を含むときでも、そのように導入された請求項の列挙を含む任意の特定の請求項を、１つだけのそのような列挙を含む請求項に限定することを示唆するよう解釈されてはならない（たとえば、「ある（ａ）」および／または「ある（ａｎ）」は、通常、「少なくとも１つの」または「１つ以上の」を意味すると解釈されなければならない）。同じことは、請求項の列挙を導入するために使用される定冠詞の使用にも言える。加えて、導入される請求項の列挙の特有の番号が明示的に列挙される場合でも、そのような列挙が、通常、少なくとも列挙された番号を意味すると解釈されなければならないことを、当業者は認識するであろう（たとえば、他に修飾語のない、「２つの列挙」だけの記載は、通常、少なくとも２つの列挙、または２つ以上の列挙を意味する）。さらに、「Ａ、Ｂ、およびＣなどの少なくとも１つ」に類似する表記が使用される場合、通常、そのような構造は、当業者がその表記を理解するであろう意味で意図される（たとえば、「Ａ、Ｂ、およびＣの少なくとも１つを有するシステム」は、それだけに限定されないが、Ａ単独、Ｂ単独、Ｃ単独、ＡおよびＢの両方、ＡおよびＣの両方、ＢおよびＣの両方、および／またはＡおよびＢ��よびＣのすべてなどを有するシステムを含む）。「Ａ、Ｂ、またはＣなどの少なくとも１つ」に類似する表記が使用される場合、通常、そのような構造は、当業者がその表記を理解するであろう意味で意図される（たとえば、「Ａ、Ｂ、またはＣの少なくとも１つを有するシステム」は、それだけに限定されないが、Ａ単独、Ｂ単独、Ｃ単独、ＡおよびＢの両方、ＡおよびＣの両方、ＢおよびＣの両方、および／またはＡおよびＢおよびＣのすべて、などを有するシステムを含む）。さらに、通常、２つ以上の代替的な用語を表す離接語および／または離接語句は、別途文脈が要求しない限り、説明文、特許請求の範囲、または図面内に係わらず、その用語のうちの１つ、その用語のうちのいずれか、またはそれらの用語の両方を含む可能性を企図すると理解されなければならないことが、当業者によって理解されるであろう。たとえば、語句「ＡまたはＢ」は、通常、「Ａ」または「Ｂ」または「ＡおよびＢ」の可能性を含むよう理解される。
【００９２】
付属の特許請求の範囲に関して、ここにおいて列挙される作動は、通常、任意の順序で実施されてよいことを当業者は理解するであろう。また、さまざまな作動フローが順次提示されているが、さまざまな作動は、図示されるものとは異なる順序で実施されてよく、または同時に実施されてよいことを理解されたい。そのような代替の順序付けの例は、文脈が別途指示しない限り、重複、交互、割り込み、並び替え、増分的、準備的、追加的、同時、反転、または他の変形の順序づけを含むことができる。さらに「応答した」、「関連した」、または他の過去形の形容詞のような用語は、通常、文脈が別途指示しない限り、そのような変形を排除しないよう意図される。
【００９３】
本開示およびこれに伴う利点の多くが上述の説明によって理解されると考えられ、開示する主題から逸脱することなく、またはその重要な利点のすべてを犠牲にすることなく、構成要素の形態、構造、および配置においてさまざまな変更が加えられてよいことが明らかであろう。説明する形態は例示的にすぎず、特許請求の範囲の意図は、そのような変更を包含し、含むことである。したがって、本発明の範囲は、付属の特許請求の範囲によってのみ限定されなければならない。
【図１Ａ】
2019523981.tif 000004
【図１Ｂ】
2019523981.tif 000005
【図１Ｃ】
2019523981.tif 000006
【図１Ｄ】
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【図１Ｅ】
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【図１Ｆ】
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【図１Ｇ】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
2019523981.tif 000020
【図６Ｃ】
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【図７】
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【国際調査報告】
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2019523981.tif 000024