(57)【要約】  少なくとも１つの追加的な環式モノマーと任意選択的に組み合わせて重合させるために反応性であるシリカの供給源を少なくとも含むモノマーから製造されたオルガノシリカ材料。このようなオルガノシリカ材料を製造する方法についても本明細書中に記載する。
2019523746.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オルガノシリカ材料の製造方法であり、
（ａ）  構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物を提供すること、
（ｂ）  溶液を形成するために、前記水性混合物に、以下の（ｉ）および／または（ｉｉ）および（ｉｉｉ）：
（ｉ）  式（Ｉ）    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３
［式中、
各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり、
各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能である］
、
（ｉｉ）  式（ＩＶ）
【化１】
2019523746.tif 000027
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー、
（ｉｉｉ）  式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物の少なくとも１つと重合するために反応性であるシリカの供給源を含む追加のコモノマー
の少なくとも１つの化合物を添加すること、
（ｃ）  プレ生成物を製造するために、前記溶液をエイジングさせること、および
（ｄ）  少なくとも１つのシリルエーテル結合を介して前記シリカに連結される本明細書中に記載されるような式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の独立モノマーの少なくとも１つを含むポリマーであるオルガノシリカ材料を得るために、前記プレ生成物を乾燥させること
を含む、方法。
【請求項２】
式（Ｉ）の化合物の少なくとも１つを前記水性混合物に添加し、以下の条件：
各Ｚ１５が、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表すこと、
各Ｚ１６が、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表すこと、
各Ｚ１６が、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表すこと、
式（Ｉ）の化合物の少なくともつが、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンであること、
各Ｚ１５が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、各Ｚ１６が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表すこと、および
各Ｚ１５が、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、各Ｚ１６が、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表すこと
の１つ以上を満たす、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式（ＩＶ）の化合物の少なくとも１つを前記水性混合物に添加し、以下の条件：
各Ｘ５が、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、各Ｘ８が、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表すこと、
式（ＩＶ）の化合物の少なくとも１つが、トリス（３−トリメトキシシリル−プロピル）イソシアヌレートであること、
各Ｘ５が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、Ｘ８が、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表すこと、および
各Ｘ５が、水素原子、メチル、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、Ｘ８が、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を表すこと
の１つ以上を満たす、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記シリカの供給源が、粒状シリカを含み、前記粒状シリカは、最大で約１５０ｎｍ（例えば、約３ｎｍ〜約５０ｎｍ）の平均粒径を有し、かつ／または、前記粒状シリカは、ｄ９５が最大で約２５０ｎｍ（例えば、約５ｎｍ〜約６０ｎｍ）であるような粒径分布を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記シリカの供給源が、コロイド状シリカを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
以下の（ｉ）〜（ｖｉｉ）：
（ｉ）      追加の式（Ｉ）の化合物、
（ｉｉ）    追加の式（ＩＶ）の化合物、
（ｉｉｉ）  式（ＩＩ）    Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ
［式中、
各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である］
の化合物、
（ｉｖ）    式（ＩＩＩ）    Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１
［式中、
各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である］
の化合物、
（ｖ）      式（Ｖ）    Ｍ１（ＯＺ１２）３
［式中、
Ｍ１は、第１３族金属を表し、
各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の化合物、
（ｖｉ）    式（ＶＩ）    （Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３
［式中、
Ｍ２は、第１３族金属を表し、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の化合物、および
（ｖｉｉ）  それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物を、前記水性混合物に添加することをさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記水性混合物は、塩基（例えば、水酸化アンモニウム、水酸化金属、または炭酸水素金属）を含み、約８〜約１４のｐＨを有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記水性混合物は、酸（例えば、無機酸）を含み、約０．０１〜約６．０のｐＨを有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法に従って製造されたオルガノシリカ材料。
【請求項１０】
以下の（ｉ）および／または（ｉｉ）および（ｉｉｉ）：
（ｉ）  式（Ｉ）    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３
［式中、
各Ｚ１５は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
各Ｚ１６は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である］
のモノマー、
（ｉｉ）  式（ＩＶ）
【化２】
2019523746.tif 000028
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー、
（ｉｉｉ）  少なくとも１つの独立モノマーと重合するために反応性であるシリカの供給源を含む追加のモノマー
を含む少なくとも１つの独立モノマーのポリマーを含む、オルガノシリカ材料。
【請求項１１】
式（Ｉ）のモノマーの少なくとも１つが存在し、式中、
各Ｚ１５が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基（例えば、エトキシ）、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基（例えば、エトキシ）、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
請求項１０に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項１２】
式（ＩＶ）のモノマーの少なくとも１つが存在し、式中、
各Ｘ５が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基（例えば、メチル）、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基（例えば、メトキシ）、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８が、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基（例えば、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）を表す、
請求項１０または請求項１１に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項１３】
前記シリカの供給源は、粒状シリカを含み、前記粒状シリカは、最大で約１５０ｎｍ（例えば、約３ｎｍ〜約５０ｎｍ）の平均粒径を有し、かつ／または、前記粒状シリカは、ｄ９５が最大で約２５０ｎｍ（例えば、約５ｎｍ〜約６０ｎｍ）であるような粒径分布を有する、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項１４】
前記シリカの供給源は、コロイド状シリカを含む、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項１５】
以下の（ｉ）〜（ｖｉｉ）：
（ｉ）      追加の式（Ｉ）の化合物、
（ｉｉ）    追加の式（ＩＶ）の化合物、
（ｉｉｉ）  式（ＩＩ）    Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ
［式中、
各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である］
の化合物、
（ｉｖ）    式（ＩＩＩ）    Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１
［式中、
各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である］
の化合物、
（ｖ）      式（Ｖ）    Ｍ１（ＯＺ１２）３
［式中、
Ｍ１は、第１３族金属を表し、
各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の化合物、
（ｖｉ）    式（ＶＩ）    （Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３
［式中、
Ｍ２は、第１３族金属を表し、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の化合物、および
（ｖｉｉ）  それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含む、請求項１０〜１４のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項１６】
前記各モノマーが、少なくとも１つのシリルエーテル結合を介して互いに連結され、それによって、前記ポリマーを形成する、請求項１０〜１５のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項１７】
前記オルガノシリカ材料が、
約３．０ｎｍ〜約１３ｎｍの平均細孔直径、
約３００ｍ２／ｇ〜約１３００ｍ２／ｇの全表面積、
約１〜約４度の２θに１つのピークを有し、かつ／または約４〜約３０度の２θの範囲において実質的にピークを有さない粉末Ｘ線回折パターン、および
約３０％〜約６０％のシラノール含有量
の１つ以上（例えば、１つ、２つ、３つ、または全て）を有するか又は示す、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法またはオルガノシリカ材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、オルガノシリカ材料、その製造方法および使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
（発明の背景）
多孔性無機固体は、工業的応用のための触媒および分離媒体として大いに有益であることが見出されている。特に、メソ細孔の周期的配列を有するシリカおよびアルミナなどのメソポーラス材料は、それらの均一かつ調整可能な細孔、高い表面積および大きい細孔体積のため、触媒プロセスでの使用に魅力的な材料である。そのようなメソポーラス材料は、大きい比表面積（例えば、１０００ｍ２／ｇ）および大きい細孔体積（例えば、１ｃｍ３／ｇ）を有することが知られている。これらの理由のため、そのようなメソポーラス材料によって、反応性触媒が可能となる。
【０００３】
メソポーラスオルガノシリカ材料は、慣例的に、構造指向剤、ポロゲンおよび／またはフレームワーク要素の存在下でのシルセキオキサン（ｓｉｌｓｅｑｕｉｏｘａｎｅ）前駆体の自己集合によって形成される。この前駆体は、加水分解性であり、かつ構造指向剤の周囲で凝縮する。これらの材料は、平行配列されたメソスケールチャネルの周期的配列の存在のため、周期的メソポーラスオルガノシリケート（Ｐｅｒｉｏｄｉｃ  Ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ  Ｏｒｇａｎｏｓｉｌｉｃａｔｅ）（ＰＭＯ）と呼ばれている。例えば、非特許文献１は、Ｒが架橋性有機基であるＳｉＯ３ＲまたはＳｉＯ２Ｒ２ビルディングブロックからなる周期的メソポーラスフレームワークを有する、架橋されたオルガノシリカであるＰＭＯを形成するための、塩基および構造指向剤、セチルトリメチルアンモニウムブロミドの存在下での１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３の自己集合を報告する。ＰＭＯ中、有機基は、細孔壁中に均一に分配されることが可能である。特許文献１は、ＮａＡｌＯ２および塩基の存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンから形成された結晶質ハイブリッド有機−無機シリケートの調製を報告する。特許文献２は、プロピレングリコールモノメチルエーテルの存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンから形成された組成物の調製を報告する。
【０００４】
しかしながら、オルガノシリカ材料の調製において、界面活性剤などの構造指向剤を使用することによって、調製プロセスの最後に構造指向剤を除去するための複雑で、エネルギー集約的プロセスが必要となる。例えば、構造指向剤を処分するために、焼成、ならびに廃水処分ステップおよび関連費用が必要とされ得る。このことによって、工業的応用のためにプロセスの規模を大きくする能力が限定される。追加的に、複雑な有機−無機ハイブリッドの珪質（モノマー）材料の相対的な費用のため、シリカなどのそれほど高価でない反応物を同時に組み込むことによって、費用を低下させながら、比較的高価な珪質反応物から製造された材料の構造および特性のできる限り多くを維持することは有利であろう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１２／００５９１８１号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００７／００３４９２号明細書
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｌａｎｄｓｋｒｏｎ，Ｋ．ら［Ｓｃｉｅｎｃｅ，３０２：２６６−２６９（２００３）］
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、構造指向剤、ポロゲンまたは界面活性剤の不在下で実行可能な方法によって、可能な限り低費用で調製することが可能であるオルガノシリカ材料を使用する、改良された触媒／吸着剤および／または触媒の製造プロセスが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（発明の要旨）
一態様において、本発明の実施形態は、オルガノシリカ材料の製造方法を提供する。当該方法は、有利に、構造指向剤（structure directing agent）および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物（aqueous mixture）を提供する工程（又はステップ）を含むことが可能である。以下の（ｉ）および／または（ｉｉ）および（ｉｉｉ）の化合物の少なくとも１つを上記水性混合物に添加することができる：
（ｉ）  式（Ｉ）    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３
［式中、
各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり、
各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能である］
、
（ｉｉ）  式（ＩＶ）
【０００９】
【化１】
2019523746.tif 000003
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素（又はサイクリックポリウレア（cyclic polyurea））の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー、
（ｉｉｉ）  シリカの供給源を含む追加のコモノマーであって、上記シリカが、式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物の少なくとも１つと重合するために反応性である、コモノマー。
このようにして形成された溶液を、次いで、エイジング（又は老化）させて、プレ生成物を製造することが可能であり、上記プレ生成物を乾燥させることができて、オルガノシリカ材料を得ることが可能であり、上記オルガノシリカ材料は、本明細書中に記載されるような式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の独立モノマーの少なくとも１つを含むポリマーであり、かかるモノマーは、少なくとも１つのシリルエーテル結合を介して上記シリカに連結されるものである。
【００１０】
別の態様において、本発明の方法に従って製造されたオルガノシリカ材料を提供する。追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、以下の（ｉ）および／または（ｉｉ）および（ｉｉｉ）を含む少なくとも１つの独立モノマーのポリマーを含むことができる：
（ｉ）  式（Ｉ）    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３
［式中、
各Ｚ１５は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
各Ｚ１６は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である］
のモノマー、
（ｉｉ）  式（ＩＶ）
【００１１】
【化２】
2019523746.tif 000004
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー、
（ｉｉｉ）  シリカの供給源を含む追加のモノマーであって、上記シリカが、少なくとも１つの独立モノマーと重合するために反応性である、モノマー。
【００１２】
上記で要約された実施形態の特定の態様を含む他の実施形態は、以下の詳細な説明から明白となるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカを使用して、実施例２〜８に従って製造されたオルガノシリカ材料のＸ線回折（ＸＲＤ）スペクトルを示す。
【図２】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＨＳ−４０コロイド性シリカを使用して、実施例９〜１３に従って製造されたオルガノシリカ材料のＸ線回折（ＸＲＤ）スペクトルを示す。
【図３Ａ】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカを使用して、実施例２に従って製造されたオルガノシリカ材料の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。
【図３Ｂ】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカを使用して、実施例２に従って製造されたオルガノシリカ材料の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。
【図３Ｃ】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカを使用して、実施例２に従って製造されたオルガノシリカ材料の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。
【図３Ｄ】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカを使用して、実施例２に従って製造されたオルガノシリカ材料の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。
【図４Ａ】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカおよび１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（ＨＥＴＳＣＨ）を使用して、実施例４に従って製造されたオルガノシリカ材料の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。
【図４Ｂ】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカおよび１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（ＨＥＴＳＣＨ）を使用して、実施例４に従って製造されたオルガノシリカ材料の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。
【図４Ｃ】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカおよび１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（ＨＥＴＳＣＨ）を使用して、実施例４に従って製造されたオルガノシリカ材料の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。
【図４Ｄ】ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド性シリカおよび１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（ＨＥＴＳＣＨ）を使用して、実施例４に従って製造されたオルガノシリカ材料の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（発明の詳細な説明）
本発明の種々の態様において、オルガノシリカ材料を製造するためのオルガノシリカ材料および方法が提供される。
【００１５】
Ｉ．定義
本発明およびそれに対する請求の範囲の目的のため、周期表の命番方式は、ＩＵＰＡＣ元素周期表による。
【００１６】
本明細書中、「Ａおよび／またはＢ」などの句で使用される「および／または」という用語は、「ＡおよびＢ」、「ＡまたはＢ」、「Ａ」および「Ｂ」を含むように意図される。
【００１７】
「置換基」、「ラジカル」、「基」および「部分」という用語は、互換的に使用され得る。
【００１８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「Ｃｎ」という用語は、１分子あたりｎ個の炭素原子を有する炭化水素を意味し、ｎは正整数である。
【００１９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「炭化水素」という用語は、炭素に結合した水素を含有する化合物の種類を意味して、かつ（ｉ）飽和炭化水素化合物、（ｉｉ）不飽和炭化水素化合物、ならびに（ｉｉｉ）異なるｎ値を有する炭化水素化合物の混合物を含む、（飽和および／または不飽和の）炭化水素化合物の混合物が包括される。
【００２０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキル」という用語は、１〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル）、特に１〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ８アルキル）、特に１〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ６アルキル）、特に１〜４個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ４アルキル）を有する飽和炭化水素基を意味する。アルキル基の例としては、限定されないが、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシルなどが含まれる。アルキル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。「アルキル」は、アルキル基の全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、本明細書で使用される場合、プロピルは、ｎ−プロピルおよびイソプロプルの両方を含み、ブチルは、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなどを含む。本明細書で使用される場合、「Ｃ１アルキル」はメチル（−ＣＨ３）を指し、「Ｃ２アルキル」はエチル（−ＣＨ２ＣＨ３）を指し、「Ｃ３アルキル」はプロピル（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）を指し、そして「Ｃ４アルキル」はブチル（例えば、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−（ＣＨ３）ＣＨＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２など）を指す。さらに、本明細書で使用される場合、「Ｍｅ」はメチルを指し、そして「Ｅｔ」はエチルを指し、「ｉ−Ｐｒ」はイソプロプルを指し、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチルを指し、そして「Ｎｐ」はネオペンチルを指す。
【００２１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキレン」という用語は、長さにおいて１〜１２個の炭素原子を含有する二価アルキル部分（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルキレンとしては、限定されないが、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「窒素含有アルキル」という用語は、アルキル基中の１個以上の炭素原子が、窒素原子、または２〜１０個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ１０炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）によって置換されている、本明細書に定義されたアルキル基を指す。窒素含有環式炭化水素は、１個以上の窒素原子を有していてもよい。窒素原子は、任意選択的に、１個または２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキルは、１〜１２個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキル）、特に１〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に２〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜８個の炭素原子を有することが可能である（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）。窒素含有アルキルの例としては、限定されないが、
【００２３】
【化３】
2019523746.tif 000005
が含まれる。
【００２４】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「窒素含有アルキレン」という用語は、アルキル基中の１個以上の炭素原子が、窒素原子によって置換されている、本明細書に定義されたアルキレン基を指す。窒素原子は、任意選択的に、１個または２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキレンは、１〜１２個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキレン）、特に２〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に４〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ４〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜８個の炭素原子を有することが可能である（すなわち、Ｃ３〜Ｃ８窒素含有アルキル）。窒素含有アルキレンの例としては、限定されないが、
【００２５】
【化４】
2019523746.tif 000006
が含まれる。
【００２６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルケニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル）を有し、かつ１個以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルケニル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。アルケニルの例としては、限定されないが、エテニル（ビニル）、２−プロペニル、３−プロペニル、１，４−ペンタジエニル、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルが含まれる。「アルケニル」は、アルケニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブテニルには、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルなどが含まれる。
【００２７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルケニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルケニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルケニレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルキニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル）を有し、かつ１個以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素三重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルキニル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。アルキニルの例としては、限定されないが、エチニル、１−プロピニル、２−ブチニルおよび１，３−ブタジイニルが含まれる。「アルキニル」は、アルキニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブチニルは、２−ブチニルおよび１，３−ブタジイニルを包含し、かつプロピニルは、１−プロピニルおよび２−プロピニル（プロパルギル）を包含する。
【００２９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルキニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡ＣＣＨ２−、−Ｃ≡ＣＣＨ２Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキニレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００３０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルコキシ」という用語は、１〜約１０個の炭素原子を含有する−Ｏ−アルキルを指す。アルコキシは、直鎖または分枝鎖であってよい。非限定的な例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシおよびヘキソキシが含まれる。「Ｃ１アルコキシ」はメトキシを指し、「Ｃ２アルコキシ」はエトキシを指し、「Ｃ３アルコキシ」はプロポキシを指し、そして「Ｃ４アルコキシ」はブトキシを指す。さらに、本明細書で使用される場合、「ＯＭｅ」はメトキシを指し、そして「ＯＥｔ」はエトキシを指す。
【００３１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「芳香族」という用語は、非局在化共役π系を有し、かつ５〜２０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ２０炭素原子）、特に５〜１２個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）、特に５〜１０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）を有する、不飽和環式炭化水素を指す。代表的な芳香族としては、限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クメン、ナフタレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン、アセナフタレン、アントラセン、フェナントレン、テトラフェン、ナフタセン、ベンズアントラセン、フルオラントレン、ピレン、クリセン、トリフェニレンなど、およびそれらの組合せが含まれる。加えて、芳香族は、１個以上のヘテロ原子を含んでもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素、酸素および／または硫黄が含まれる。１個以上のヘテロ原子を有する芳香族としては、限定されないが、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、オキサゾール、チアゾールなど、およびそれらの組合せが含まれる。芳香族は、単環式、二環式、三環式および／または多環式環（いくつかの実施形態において、少なくとも単環式環、単環式および二環式環のみ、または単環式環のみ）を含んでもよく、かつ縮合環であってもよい。
【００３２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アリール」という用語は、少なくとも１個の環が芳香族炭化水素である、６〜１４個の炭素環原子を含有する、いずれかの単環式または多環式環化炭素基を指す。アリールの例としては、限定されないが、フェニル、ナフチル、ピリジニルおよびインオリルが含まれる。
【００３３】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アラルキル」という用語は、アリール基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。アラルキル基の例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチルおよびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、１個以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、かつ「ヘテロアルキル」と呼ばれてもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロアラルキル）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロアラルキル）および／または硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロアラルキル）が含まれる。ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、インドリルメチル、フリルエチルおよびキノリニルプロピルが含まれる。
【００３４】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヘテロシクロ」という用語は、４〜２０個の炭素環原子を含有し、かつ１個以上のヘテロ原子を含有する、完全飽和、部分的飽和または不飽和、あるいは多環式環化炭素基を指す。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロシクロ）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロシクロ）および／または硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロシクロ）が含まれる。ヘテロシクロの例としては、限定されないが、チエニル、フリル、ピロリル、ピペラジニル、ピリジル、ベンゾキサゾリル、キノリニル、イミダゾリル、ピロリジニルおよびピペリジニルが含まれる。
【００３５】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヘテロシクロアルキル」という用語は、ヘテロシクロ基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピルおよびイミダゾリルプロピルが含まれる。
【００３６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヒドロキシル」という用語は−ＯＨ基を指す。
【００３７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「メソポーラス」という用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。
【００３８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「オルガノシリカ」という用語は、２個以上のケイ素原子に結合した１個以上の有機基を含むオルガノシロキサン化合物を指す。
【００３９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「シラノール」という用語は、Ｓｉ−ＯＨ基を指す。
【００４０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「シラノール含有量」という用語は、化合物中のＳｉ−ＯＨ基のパーセントを指し、そしてＮＭＲなどの標準法によって算出することが可能である。
【００４１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「構造指向剤」、「ＳＤＡ」および／または「ポロゲン」という用語は、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導するために合成媒体に添加される１種以上の化合物を指す。さらに、「ポロゲン」は、得られるオルガノシリカ材料フレームワーク中に空隙または細孔を形成することが可能な化合物であると理解される。本明細書で使用される場合、「構造指向剤」は、「鋳型剤」および「テンプレート」という用語を包括し、かつそれらと同意語であり、かつそれらと交換可能である。
【００４２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「吸着」という用語には、物理収着、化学吸着および固体材料への凝縮、ならびにそれらの組合せが含まれる。
【００４３】
ＩＩ．オルガノシリカ材料
本発明は、オルガノシリカ材料に関する。第１の実施形態において、オルガノシリカ材料は、（ｉ）式（Ｉ）［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（式中、各Ｚ１５は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である）のモノマー；および／または（ｉｉ）式（ＩＶ）
【００４４】
【化５】
2019523746.tif 000007
（式中、各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し；かつ各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）の環式ポリ尿素モノマー；（ｉｉｉ）上記少なくとも１種の独立モノマーと重合するように反応性であるシリカの供給源を含む追加のコモノマー；ならびに任意選択的に、（ｉｖ）式（ＩＩ）Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（式中、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である）のモノマー；および／または（ｖ）式（ＩＩＩ）Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（式中、各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつＲは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である）の独立単位を含む１種以上の追加のコモノマーを含む少なくとも１種の独立モノマーのポリマーであり得る。
【００４５】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「別のモノマーのケイ素原子への結合」は、結合が、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）に有利に置き換わることが可能であって、別のモノマーのケイ素原子に直接結合が存在し得、それによって、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって、２つのモノマーが連結することを意味する。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子」は、酸素原子が、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）に有利に置き換わることが可能であって、酸素原子が別のモノマーのケイ素原子に直接結合し得、それによって、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって、２つのモノマーが連結することを意味する。明快さのために、上記の結合状態において、「別のモノマー」は、同一種類のモノマーまたは異なる種類のモノマーであることが可能である。
【００４６】
Ａ．式（Ｉ）のモノマー
種々の態様において、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（式中、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）のモノマーの独立単位を含むポリマーであることが可能である。
【００４７】
一実施形態において、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００４８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【００４９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００５０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００５１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００５２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【００５３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００５４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００５５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００５６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００５７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００５８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００５９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、メチルであることが可能である。追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、かつ各Ｚ１５は、メチルであることが可能である。
【００６０】
Ｂ．式（ＩＶ）のモノマー
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、式（ＩＶ）
【００６１】
【化６】
2019523746.tif 000008
（式中、各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し；かつ各Ｘ８は、ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）のモノマーの独立単位を含むポリマーであることが可能である。
【００６２】
種々の実施形態において、各Ｘ５は、水素原子であることが可能である。
【００６３】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００６４】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００６５】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００６６】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００６７】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００６８】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【００６９】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００７０】
追加的に、または代わりに、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００７１】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＸ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００７２】
追加的に、または代わりに、各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ７アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ７アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ６アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ３アルキレン基、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ２アルキレン基、または環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ--２−であることが可能である。
【００７３】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【００７４】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【００７５】
追加的に、または代わりに、各Ｘ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【００７６】
特定の実施形態において、各Ｘ５は、水素原子、メチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である。
【００７７】
別の特定の実施形態において、各Ｘ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＸ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である。
【００７８】
Ｃ．反応性シリカの供給源
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、それと重合するように反応性であるシリカの供給源である、式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の独立単位と組み合わせて、追加のモノマーをさらに含む。他のモノマーとの（縮合）重合反応に関与するために、シリカは、典型的に、いくつかのヒドロキシル基官能性を有するべき（または、有するように処理されるべき）である。シリカ供給源の例は、限定されないが、（Ｃｏｌｕｍｂｉａ，ＭＤ，ＵＳＡのＷ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ  ＆  Ｃｏ．から商品名ＬＵＤＯＸ（商標）で市販されるものなどの）コロイド性シリカ、および／または十分に小さい粒径を有する他の粒状シリカを含むことが可能である。シリカの粒径は、球形（または、ほぼ球形）粒子の直径として概算することができる。粒子が実質的に非球形である場合、それらの粒径は、本明細書中、３つの寸法（多角形および／または楕円形粒子に関しては長さ／幅／高さ、円形円柱形粒子に関しては直径／高さ、あるいはいくつかの他の形状に関しては他の適切な寸法）の径の単純な平均であることが可能である。追加的に、または代わりに、シリカ供給源は、前もって重合された／前もってオリゴマー化された種類の粒状シリカを含むことが可能であり、これは、１個以上、好ましくは、２個以上のそのケイ素原子に結合したヒドロキシル基の存在による縮合を介して互いに連結することが可能である。
【００７９】
微粒／コロイド性シリカ供給源の代表的な平均粒径は、約４００ｎｍまで、例えば、約２５０ｎｍまで、約１５０ｎｍまで、約１２０ｎｍまで、約１００ｎｍまで、約８０ｎｍまで、約６０ｎｍまで、約５０ｎｍまで、約４０ｎｍまで、約３０ｎｍまで、約２５ｎｍまで、約２０ｎｍまで、約１５ｎｍまで、または約１０ｎｍまでであることが可能である。特に、平均粒径は、約１５０ｎｍまで、約１００ｎｍまで、約５０ｎｍまで、約３０ｎｍまで、または約２５ｎｍまでであることが可能である。最小粒径は、ほとんどの実施形態において重要であるとは考えられておらず、いくつかの実施形態において、実際の最小平均粒径は、約５ｎｍまたは約３ｎｍであることが可能である。特に、平均粒径は、約３ｎｍ〜約１５０ｎｍ、約３ｎｍ〜約１００ｎｍ、約３ｎｍ〜約５０ｎｍ、または約５ｎｍ〜約３０ｎｍであることが可能である。追加的に、または代わりに、シリカ供給源は、ｄ９５（すなわち、分布中の粒子の約９５％が適合するか、または超過する直径）が、約５００ｎｍまで、例えば、約２５０ｎｍまで、約２００ｎｍまで、約１７５ｎｍまで、約１５０ｎｍまで、約１２５ｎｍまで、約１００ｎｍまで、約８０ｎｍまで、約６０ｎｍまで、約５０ｎｍまで、約４０ｎｍまで、約３０ｎｍまで、約２５ｎｍまで、約２０ｎｍまで、約１５ｎｍまで、または約１０ｎｍまでであることが可能であるような粒径分布を有することが可能であり；任意選択的に、そのような実施形態において、粒径分布のｄ９５は、例えば、少なくとも約３ｎｍ、例えば、少なくとも約５ｎｍ、少なくとも約１０ｎｍ、少なくとも約１５ｎｍ、少なくとも約２０ｎｍ、または少なくとも約２５ｎｍであることが可能である。特に、粒径分布のｄ９５は、約３ｎｍ〜約２００ｎｍ、約５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約５ｎｍ〜約６０ｎｍ、または約１０ｎｍ〜約５０ｎｍであることが可能である。
【００８０】
重合反応のために適切であるか、または追加のヒドロキシル基官能性を達成するために、シリカ供給源の処理が必要であるか、または所望である場合、それは典型的に、塩基性ｐＨ条件下で達成されることが可能である。そのような処理は、ｄ９５および／または平均粒径を含むシリカ供給源の粒径分布の態様に影響を与え得、その場合、処理された値が使用される。さらに、本発明によるシリカ供給源は、典型的に、シリカ供給源が反応して、主に（すなわち、５０モル％より多い）Ｓｉ（ＯＨ）４を形成するほど多くのヒドロキシル基官能性を有するように処理されない。
【００８１】
Ｄ．式（ＩＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の独立単位、ならびにそれと重合するように反応性であるシリカの供給源と組み合わせて、式（ＩＩ）Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（式中、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である）の少なくとも１種の独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含み得る。
【００８２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および／または窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【００８３】
種々の態様において、各Ｚ５は、水素原子であることが可能である。
【００８４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００８５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【００８６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００８７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００８８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、エチル、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００８９】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００９０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００９１】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００９２】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【００９３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【００９４】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【００９５】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立してヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基およびＣ１〜Ｃ２アルコキシ基、からなる群から選択されることが可能である。
【００９６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基およびＣ１〜Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択されることが可能である。
【００９７】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ９アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ７アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、またはメチルアミンであることが可能である。特に、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ９アルキル基、または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。上記窒素含有アルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の例としては、限定されないが、
【００９８】
【化７】
2019523746.tif 000009
が含まれる。
【００９９】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基および窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１００】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基および窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１０１】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロアラルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、ピリジニルプロピル、ピリジニルメチル、インドリルメチル、ピラジニルエチル、およびピラジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロアラルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。
【０１０２】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基および窒素含有ヘテロアラルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１０３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基および窒素含有ヘテロアラルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１０４】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、ヘテロシクロアルキル基が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基によって任意選択的に置換されていてもよい窒素含有ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、ピペラジニルエチル、ピペラジニルプロピル、ピペリジニルエチル、ピペリジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。
【０１０５】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１０６】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１０７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１０８】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合したハイドラン（ｈｙｄｒａｎ）酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１０９】
追加的に、または代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１１０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有し、任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１１１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、窒素を含有し、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１１２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、窒素を含有し、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１１３】
特定の実施形態において、各Ｚ５は水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合、であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１１４】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＺ８は、メチルであることが可能である。
【０１１５】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【０１１６】
【化８】
2019523746.tif 000010
であることが可能である。
【０１１７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【０１１８】
【化９】
2019523746.tif 000011
であることが可能である。
【０１１９】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【０１２０】
【化１０】
2019523746.tif 000012
であることが可能である。
【０１２１】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【０１２２】
【化１１】
2019523746.tif 000013
であることが可能である。
【０１２３】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【０１２４】
【化１２】
2019523746.tif 000014
であることが可能である。
【０１２５】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ８は、
【０１２６】
【化１３】
2019523746.tif 000015
であることが可能である。
【０１２７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、メチル、エチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、メトキシ、エトキシ、
【０１２８】
【化１４】
2019523746.tif 000016
および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２９】
Ｅ．式（ＩＩＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の独立単位ならびに任意選択的に式（ＩＩ）の独立単位、ならびにそれと重合するように反応性であるシリカの供給源と組み合わせて、式（ＩＩＩ）Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である）の少なくとも１つの独立単位を有する別のモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでもよい。
【０１３０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、およびＣ２〜Ｃ８アルキニレン基からなる群から選択されることが可能である。追加的に、または代わりに、Ｒは、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび／または任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０１３１】
種々の態様において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１３２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０１３３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０１３４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１３５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１３６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１３７】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１３８】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０１３９】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０１４０】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０１４１】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１４２】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４３】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４４】
追加的に、または代わりに、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＺ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＺ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＺ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４８】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ７アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ３アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基または−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１４９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【０１５０】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ７アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルケニレン基、または−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０１５１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基およびＣ２〜Ｃ４アルケニレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１５２】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ７アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルキニレン基、または−Ｃ≡Ｃ−であることが可能である。
【０１５３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基およびＣ２〜Ｃ４アルキニレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１５４】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４-〜Ｃ９アルキレン基、窒素含有Ｃ４-〜Ｃ８アルキレン基、または窒素含有Ｃ３-〜Ｃ８アルキレン基であることが可能である。上記窒素含有アルキレン基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。窒素含有アルキレン基の例としては、限定されないが、
【０１５５】
【化１５】
2019523746.tif 000017
が含まれる。
【０１５６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基および窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１５７】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１４アラルキル、または任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。Ｃ６〜Ｃ２０アラルキルの例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチル、およびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基によって置換されていてもよい。
【０１５８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基および任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルからなる群から選択されることが可能である。
【０１５９】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１６ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、または任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピル、およびイミダゾリルプロピルが含まれる。ヘテロシクロアルキルは、任意選択的にＣ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基によって置換されていてもよい。
【０１６０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルおよび任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１６１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ１０アラルキルおよび任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１６２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシ、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【０１６３】
【化１６】
2019523746.tif 000018
からなる群から選択されることが可能である。
【０１６４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【０１６５】
【化１７】
2019523746.tif 000019
からなる群から選択されることが可能である。
【０１６６】
特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１０は、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１１は、メチルであることが可能であり；かつ各Ｒは、−ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である。
【０１６７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＲは、−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１６８】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＲは、−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０１６９】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｒは、
【０１７０】
【化１８】
2019523746.tif 000020
であることが可能である。
【０１７１】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０は、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１１は、メチルであることが可能であり；かつ各Ｒは、
【０１７２】
【化１９】
2019523746.tif 000021
であることが可能である。
【０１７３】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０は、ヒドロキシル基、メトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１１は、メチルであることが可能であり；かつ各Ｒは、
【０１７４】
【化２０】
2019523746.tif 000022
であることが可能である。
【０１７５】
別の特定の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、式（ＩＩＩ）の独立単位および式（ＩＶ）の独立単位を含み得、かつ式（Ｉ）の独立単位を含み得ない。特に、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり、かつ各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＲは、−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１７６】
Ｆ．式（Ｖ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の独立単位、および任意選択的に、式（ＩＩ）および／または式（ＩＩＩ）の独立単位、ならびにそれと重合するように反応性であるシリカの供給源と組み合わせて、式（Ｖ）Ｍ１（ＯＺ１２）３（式中、各Ｍ１は、第１３族金属を表し、かつ各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す）の少なくとも１種の独立単位を有するさらなるモノマーなどのさらなる追加のモノマーをさらに任意選択的に含み得る。
【０１７７】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、ＩＮ、Ｔｌ、またはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【０１７８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、水素原子であることが可能である。
【０１７９】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつＺ３は、水素原子であることが可能である。
【０１８０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ３は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０１８１】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつＺ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０１８２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８３】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８４】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８５】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８６】
特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８７】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８８】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、プロピルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１８９】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１２は、水素原子、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９０】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ１２は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９１】
Ｇ．式（ＶＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の独立単位、および任意選択的に、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）および／または式（Ｖ）の独立単位、ならびにそれと重合するように反応性であるシリカの供給源と組み合わせて、式（ＶＩ）（Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（式中、各Ｍ２は、第１３族金属を表し、かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す）の少なくとも１種の独立単位を有する、なおさらなるモノマーなどの、なおさらなるモノマーをさらに任意選択的に含み得る。
【０１９２】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、ＩＮ、Ｔｌ、またはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【０１９３】
追加的に、または代わりに、Ｚ１３および／またはＺ１４は、それぞれ、水素原子であることが可能である。
【０１９４】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつＺ１３および／またはＺ１４は、それぞれ、水素原子であることが可能である。
【０１９５】
追加的に、または代わりに、Ｚ１３および／またはＺ１４は、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ１３および／またはＺ１４は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０１９６】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつＺ１３および／またはＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０１９７】
追加的に、または代わりに、Ｚ１３および／またはＺ１４は、それぞれ、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９８】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１９９】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２００】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０１】
特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０２】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０３】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、プロピルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０４】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０５】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつＺ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０２０６】
本明細書に記載されるオルガノシリカ材料は、以下の項目に記載される通りに特徴づけることが可能である。
【０２０７】
Ｈ．細孔径
本明細書に記載される、製造された、および／または最終処置されたオルガノシリカ材料は、有利にメソポーラス形態であり得る。上記の通り、メソポーラスという用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。オルガノシリカ材料の平均細孔直径は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することが可能である。
【０２０８】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約２．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約８．５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約８．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、または約３．０ｎｍ〜約４．０ｎｍの平均細孔直径を有することが可能である。特に、触媒は、約２．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８．０ｎｍ、または約３．０ｎｍ〜約１０ｎｍの平均細孔直径を有することが可能である。
【０２０９】
Ｉ．表面積
製造された、および／または最終処置されたオルガノシリカ材料の表面積は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することが可能である。この方法によって、全表面積、外部表面積およびミクロポーラス表面積が決定され得る。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「全表面積」は、ＢＥＴ法によって決定される全表面積を指す。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ミクロポーラス表面積」は、ＢＥＴ法によって決定されるミクロポーラス表面積を指す。
【０２１０】
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、約１００ｍ２／ｇ以上、約２００ｍ２／ｇ以上、約３００ｍ２／ｇ以上、約４００ｍ２／ｇ以上、約４５０ｍ２／ｇ以上、約５００ｍ２／ｇ以上、約５５０ｍ２／ｇ以上、約６００ｍ２／ｇ以上、約７００ｍ２／ｇ以上、約８００ｍ２／ｇ以上、約８５０ｍ２／ｇ以上、約９００ｍ２／ｇ以上、約１，０００ｍ２／ｇ以上、約１，０５０ｍ２／ｇ以上、約１，１００ｍ２／ｇ以上、約１，１５０ｍ２／ｇ以上、約１，２００ｍ２／ｇ以上、約１，２５０ｍ２／ｇ以上、約１，３００ｍ２／ｇ以上、約１，４００ｍ２／ｇ以上、約１，４５０ｍ２／ｇ以上、約１，５００ｍ２／ｇ以上、約１，５５０ｍ２／ｇ以上、約１，６００ｍ２／ｇ以上、約１，７００ｍ２／ｇ以上、約１，８００ｍ２／ｇ以上、約１，９００ｍ２／ｇ以上、約２，０００ｍ２／ｇ以上、約２，１００ｍ２／ｇ以上、約２，２００ｍ２／ｇ以上、約２，３００ｍ２／ｇまたは約２，５００ｍ２／ｇ以上の全表面積を有することが可能である。
【０２１１】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約５０ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約３００ｍ２／ｇ〜約４５０ｍ２／ｇ、または約３００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。特に、オルガノシリカ材料は、約３００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２ｇの全表面積を有し得る。
【０２１２】
Ｊ．細孔体積
本明細書に記載されるオルガノシリカ材料の細孔体積は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して、決定することが可能である。
【０２１３】
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、約０．１ｃｍ３／ｇ以上、約０．２ｃｍ３／ｇ以上、約０．３ｃｍ３／ｇ以上、約０．４ｃｍ３／ｇ以上、約０．５ｃｍ３／ｇ以上、約０．６ｃｍ３／ｇ以上、約０．７ｃｍ３／ｇ以上、約０．８ｃｍ３／ｇ以上、約０．９ｃｍ３／ｇ以上、約１．０ｃｍ３／ｇ以上、約１．１ｃｍ３／ｇ以上、約１．２ｃｍ３／ｇ以上、約１．３ｃｍ３／ｇ以上、約１．４ｃｍ３／ｇ以上、約１．５ｃｍ３／ｇ以上、約１．６ｃｍ３／ｇ以上、約１．７ｃｍ３／ｇ以上、約１．８ｃｍ３／ｇ以上、約１．９ｃｍ３／ｇ以上、約２．０ｃｍ３／ｇ以上、約２．５ｃｍ３／ｇ以上、約３．０ｃｍ３／ｇ以上、約３．５ｃｍ３／ｇ以上、約４．０ｃｍ３／ｇ以上、約５．０ｃｍ３／ｇ以上、約６．０ｃｍ３／ｇ以上、約７．０ｃｍ３／ｇ、または約１０．０ｃｍ３／ｇ以上の細孔体積を有することが可能である。
【０２１４】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．４ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．３ｃｍ３／ｇ、０．３ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇ、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約０．４ｃｍ３／ｇ、約０．６ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．６ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．６ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．６ｃｍ３／ｇ〜約１．１ｃｍ３／ｇ、または約０．６ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することが可能である。特に、オルガノシリカ材料は、約０．３ｃｍ３／ｇ〜約１．１ｃｍ３／ｇまたは約０．６ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することが可能である。
【０２１５】
本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料は、以下の項目で記載されるように特徴決定することが可能である。
【０２１６】
Ｋ．Ｘ線回折ピーク
本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、約１〜約６度２θの１つのピーク、特に、約１〜約４度２θ、約１〜約３度２θまたは約１〜約２度２θの１つのブロードピークを有する粉末Ｘ線回折パターンを示すことが可能である。追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約０．５〜約１０度２θ、約０．５〜約１２度２θ範囲、約０．５〜約１５度２θ、約０．５〜約２０度２θ、約０．５〜約３０度２θ、約０．５〜約４０度２θ、約０．５〜約５０度２θ、約０．５〜約６０度２θ、約０．５〜約７０度２θ、約２〜約１０度２θ、約２〜約１２度２θ範囲、約２〜約１５度２θ、約２〜約２０度２θ、約２〜約３０度２θ、約２〜約４０度２θ、約２〜約５０度２θ、約２〜約６０度２θ、約２〜約７０度２θ、約３〜約１０度２θ、約３〜約１２度２θ範囲、約３〜約１５度２θ、約３〜約２０度２θ、約３〜約３０度２θ、約３〜約４０度２θ、約３〜約５０度２θ、約３〜約６０度２θ、約３〜約７０度２θ、約４〜約１０度２θ、約４〜約１２度２θ範囲、約４〜約１５度２θ、約４〜約２０度２θ、約４〜約３０度２θ、約４〜約４０度２θ、約４〜約５０度２θ、約４〜約６０度２θ、または約４〜約７０度２θの範囲に本質的にピークを示さないことが可能である。
【０２１７】
Ｌ．シラノール含有量
本発明の方法によって入手可能なオルガノシリカ材料は、合成溶液の組成次第で、広範囲で変動するシラノール含有量を有することが可能である。シラノール含有量は、固体状態ケイ素ＮＭＲによって都合よく決定することが可能である。
【０２１８】
種々の態様において、オルガノシリカ材料は、約５％より高い、約１０％より高い、約１５％より高い、約２０％より高い、約２５％より高い、約３０％より高い、約３３％より高い、３５％より高い、約４０％より高い、約４１％より高い、約４４％より高い、約４５％より高い、約５０％より高い、約５５％より高い、約６０％より高い、約６５％より高い、約７０％より高い、約７５％より高い、または約８０％より高いシラノール含有量を有することが可能である。特定の実施形態において、シラノール含有量は、約３０％より高いか、または約４１％より高いことが可能である。
【０２１９】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約５％〜約８０％、約５％〜約７５％、約５％〜約７０％、約５％〜約６５％、約５％〜約６０％、約５％〜約５５％、約５％〜約５０％、約５％〜約４５％、約５％〜約４４％、約５％〜約４１％、約５％〜約４０％、約５％〜約３５％、約５％〜約３３％、約５％〜約３０％、約５％〜約２５％、約５％〜約２０％、約５％〜約１５％、約５％〜約１０％、約１０％〜約８０％、約１０％〜約７５％、約１０％〜約７０％、約１０％〜約６５％、約１０％〜約６０％、約１０％〜約５５％、約１０％〜約５０％、約１０％〜約４５％、約１０％〜約４４％、約１０％〜約４１％、約１０％〜約４０％、約１０％〜約３５％、約１０％〜約３３％、約１０％〜約３０％、約１０％〜約２５％、約１０％〜約２０％、約２０％〜約８０％、約２０％〜約７５％、約２０％〜約７０％、約２０％〜約６５％、約２０％〜約６０％、約２０％〜約５５％、約２０％〜約５０％、約２０％〜約４５％、約２０％〜約４４％、約２０％〜約４１％、約２０％〜約４０％、約２０％〜約３５％、約２０％〜約３３％、約２０％〜約３０％、約２０％〜約２５％、約３０％〜約８０％、約３０％〜約７５％、約３０％〜約７０％、約３０％〜約６５％、約３０％〜約６０％、約３０％〜約５５％、約３０％〜約５０％、約３０％〜約４５％、約３０％〜約４４％、約３０％〜約４１％、約３０％〜約４０％、約３０％〜約３５％、約３０％〜約３３％、約４０％〜約８０％、約４０％〜約７５％、約４０％〜約７０％、約４０％〜約６５％、約４０％〜約６０％、約４０％〜約５５％、約４０％〜約５０％、約４０％〜約４５％、約４０％〜約４４％、または約４０％〜約４１％のシラノール含有量を有し得る。
【０２２０】
Ｍ．触媒金属
オルガノシリカ材料は、特に、最終用途が触媒である実施形態において、少なくとも１種の触媒金属を含むようにさらに処理されてもよい。少なくとも１種の触媒金属は、オルガノシリカ材料上に析出され得、かつ都合よく、その細孔内に組み込まれてよい。例示的な触媒金属としては、限定されないが、第６族金属、第８族金属、第９族金属、第１０速金属またはその組合せが含まれることが可能である。例示的な第６族金属としては、限定されないが、クロム、モリブデンおよび／またはタングステンが含まれることが可能であり、特に、モリブデンおよび／またはタングステンが含まれる。例示的な第８族金属としては、限定されないが、鉄、ルテニウムおよび／またはオスミウムが含まれることが可能である。例示的な第９族金属としては、限定されないが、コバルト、ロジウムおよび／またはイリジウムが含まれることが可能であり、特に、コバルトが含まれる。例示的な第１０族金属としては、限定されないが、ニッケル、パラジウムおよび／またはプラチナが含まれることが可能である。
【０２２１】
特定の実施形態において、触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０速金属およびその組合せからなる群から選択される貴金属でもよい。追加的に、または代わりに、少なくとも１種の触媒金属は、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、レニウム（Ｒｅ）、ルテニウム（Ｒｕ）、オスミウム（Ｏｓ）またはその組合せ、特に、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）およびその混合物からなる群から選択されてもよい。
【０２２２】
触媒金属は、少なくとも約０．０１重量％、例えば、少なくとも約０．０５重量％、少なくとも約０．１重量％、少なくとも約０．２重量％、少なくとも約０．４重量％、少なくとも約０．５重量％、少なくとも約０．６重量％、少なくとも約０．８重量％、少なくとも約１．０重量％、少なくとも約１．２重量％、少なくとも約１．４重量％、少なくとも約１．５重量％、少なくとも約１．６重量％、少なくとも約１．８重量％、少なくとも約２．０重量％、少なくとも約２．２重量％、少なくとも約２．４重量％、少なくとも約２．６重量％、少なくとも約２．８重量％、少なくとも約３．０重量％、少なくとも約３．５重量％、または少なくとも約４．０重量％の量で存在し得る。追加的に、または代わりに、触媒金属は、多くとも約３５重量％、例えば、多くとも約３０重量％、多くとも約２５重量％、多くとも約２０重量％、多くとも約１５重量％、多くとも約１０重量％、多くとも約８．０重量％、多くとも約６．０重量％、多くとも約４．０重量％、多くとも約３．０重量％、多くとも約２．０重量％、または多くとも約１．０重量％の量で存在し得る。全ての触媒金属の重量パーセントは、支持体上である。「支持体上」とは、パーセントが、支持体、すなわち、オルガノシリカ材料の重量に基づくことを意味する。例えば、オルガノシリカ材料が約１００グラムの重量である場合、約２０重量％の触媒金属とは、約２０グラムの金属触媒が支持体上に添加されたことを意味するであろう。
【０２２３】
追加的に、または代わりに、触媒金属が貴金属である場合、それは、約０．０１重量％〜約４．０重量％、約０．０１重量％〜約３．５重量％、約０．０１重量％〜約３．０重量％、約０．０１重量％〜約２．８重量％、約０．０１重量％〜約２．６重量％、約０．０１重量％〜約２．４重量％、約０．０１重量％〜約２．２重量％、約０．０１重量％〜約２．０重量％、約０．０１重量％〜約１．８重量％、約０．０１重量％〜約１．６重量％、約０．０１重量％〜約１．５重量％、約０．０１重量％〜約１．４重量％、約０．０１重量％〜少なくとも約１．２重量％、約０．０１重量％〜約１．０重量％、約０．０１重量％〜約０．８重量％、約０．０１重量％〜約０．６重量％、約０．０１重量％〜約０．５重量％、約０．０１重量％〜約０．４重量％、約０．０１重量％〜約０．２重量％、約０．０１重量％〜約０．１重量％、約０．１重量％〜約４．０重量％、約０．１重量％〜約３．５重量％、約０．１重量％〜約３．０重量％、約０．１重量％〜約２．８重量％、約０．１重量％〜約２．６重量％、約０．１重量％〜約２．４重量％、約０．１重量％〜約２．２重量％、約０．１重量％〜約２．０重量％、約０．１重量％〜約１．８重量％、約０．１重量％〜約１．６重量％、約０．１重量％〜約１．５重量％、約０．１重量％〜約１．４重量％、約０．１重量％〜少なくとも約１．２重量％、約０．１重量％〜約１．０重量％、約０．１重量％〜約０．８重量％、約０．１重量％〜約０．６重量％、約０．１重量％〜約０．５重量％、約０．１重量％〜約０．４重量％、約０．１重量％〜約０．２重量％、約１．０重量％〜約４．０重量％、約１．０重量％〜約３．５重量％、約１．０重量％〜約３．０重量％、約１．０重量％〜約２．８重量％、約１．０重量％〜約２．６重量％、約１．０重量％〜約２．４重量％、約１．０重量％〜約２．２重量％、約１．０重量％〜約２．０重量％、約１．０重量％〜約１．８重量％、約１．０重量％〜約１．６重量％、約１．０重量％〜約１．５重量％、約１．０重量％〜約１．４重量％、または約１．０重量％〜少なくとも約１．２重量％の量で存在し得る。特に、触媒金属が貴金属である場合、それは、約０．０１重量％〜約４．０重量％、約０．０５重量％〜約３．５重量％、約０．１重量％〜約２．０重量％、または約０．１重量％〜約１．４重量％の量で存在し得る。
【０２２４】
別の特定の実施形態において、触媒金属は、少なくとも１種の第６族金属および少なくとも１種の第８〜１０族からの非貴金属を含み得る。追加的に、または代わりに、触媒金属は、クロム、モリブデンおよびタングステンの少なくとも１種（特に、モリブデンおよび／またはタングステンを含む）、ならびに鉄、コバルトおよびニッケルの少なくとも１種（特に、コバルトおよび／またはニッケルを含む）を含み得る。
【０２２５】
追加的に、または代わりに、触媒金属は、第６族金属および第８〜１０族非貴金属の組合せを含む。
【０２２６】
Ｎ．結合剤
種々の態様において、本明細書に記載されるオルガノシリカ材料は、結合剤とさらに組み合わせられてもよい。適切な結合剤としては、限定されないが、活性および不活性材料、合成または天然由来ゼオライト、ならびに無機材料、例えば、クレーおよび／または酸化物、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ−アルミナ、酸化セリウム、酸化マグネシウム、あるいはそれらの組合せが含まれる。特に、さらなる結合剤は、活性および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアまたはそれらの組合せからなる群から選択されてよい。特に、さらなる結合剤は、シリカ−アルミナ、アルミナおよび／またはジルコニア、特にアルミナであってよい。シリカ−アルミナは、天然由来であり得るか、あるいはシリカおよび酸化金属の混合物を含む、ゼラチン状沈殿物またはゲルの形態のいずれかであり得る。本明細書において、ゼオライト結合剤材料と関連する、すなわち、それと組み合わせて、またはその合成の間に存在する、それ自体が触媒的に活性である材料の使用は、最終触媒の変換および／または選択性を変更し得ることが認識されることは留意すべきである。本明細書において、不活性材料は、本発明がアルキル化プロセスに利用され、そして反応速度を制御するための他の手段を利用せずに経済的に、かつ秩序的にアルキル化製品を得ることができる場合、変換の量を制御するための希釈剤として適切に役立つことが可能であることも認識される。これらの不活性材料は、商業的な作動条件下での触媒の粉砕強度を改善するため、そして触媒のための結合剤またはマトリックスとして機能するために、天然由来のクレー、例えば、ベントナイトおよびカオリン中に組み込まれてよい。
【０２２７】
Ｏ．追加的な金属
いくつかの実施形態において、オルガノシリカ材料結合剤は、網目構造に組み込まれたカチオン性金属部位とさらに組み合わせられることが可能である。そのようなカチオン性金属部位は、含浸または有機前駆体による表面への錯化などのいずれかの都合のよい方法によって、あるいはいずれかの他の方法によって組み込まれてよい。このようなオルガノ金属材料は、石油精製または石油化学製品製造において実行される多くの炭化水素分離において使用され得る。石油化学製品／燃料から望ましく分離される、そのような化合物の例としては、オレフィン、パラフィン、芳香族などを含むことができる。
【０２２８】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、オルガノシリカ材料の細孔内の表面金属上／中に析出されることが可能である。表面金属は、第１族元素、第２族元素、第１３族元素およびそれらの組合せから選択されることが可能である。第１族元素が存在維する場合、それは、好ましくは、ナトリウムおよび／またはカリウムを含むことが可能であるか、あるいはそれらであることが可能である。第２族元素が存在維する場合、それは、限定されないが、マグネシウムおよび／またはカルシウムを含み得る。第１３族元素が存在維する場合、それは、限定されないが、ホウ素および／またはアルミニウムを含み得る。
【０２２９】
第１、２、６、８〜１０および／または１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料支持体の外部および／または内部表面上に存在し得る。例えば、第１、２および／または１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料上の第１の層に存在し得、かつ第６、８、９および／または１０族元素の１種以上は、第２の層に、例えば、少なくとも部分的に、第１、２および／または１３族元素の上部に存在し得る。追加的に、または代わりに、第６、８、９および／または１０族元素の１種以上のみが、オルガノシリカ材料の外部および／または内部表面上に存在し得る。表面金属は、含浸、析出、グラフト化、共縮合、イオン交換などの、いずれかの都合のよい方法によって、オルガノシリカ材料中／上に組み込まれることが可能である。特に、限定されないが、アルミニウムなどの第１３族金属は、オルガノシリカ材料支持体の表面上にグラフト化されてもよい。追加的に、または代わりに、限定されないが、チタン、ジルコニウムおよびハフニウムなどの第４族金属は、オルガノシリカ材料支持体の表面上にグラフト化されてもよい。
【０２３０】
ＩＩＩ．触媒の製造方法
別の実施形態において、本明細書に記載されるオルガノシリカ材料の製造方法を提供する。この方法は、有利に、
（ａ）構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物を提供すること；
（ｂ）この水性混合物に、（ｉ）式（Ｉ）［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（式中、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり、かつ各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能である）の化合物；および／または（ｉｉ）式（ＩＶ）
【０２３１】
【化２１】
2019523746.tif 000023
（式中、各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、各Ｘ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し；Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し；かつ各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したアルキレン基を表す）の環式ポリ尿素モノマーの少なくとも１種の化合物；ならびに（ｉｉｉ）式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の少なくとも１種の化合物と重合するように反応性であるシリカの供給源を含む追加のコモノマーを添加して、溶液を形成すること；
（ｃ）溶液を老化して、プレ生成物を製造すること；
（ｄ）プレ生成物を乾燥させて、少なくとも１個（好ましくは、少なくとも２個）のシリルエーテル結合を通してシリカ（および／または互い）に連結する、本明細書に記載の式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の少なくとも１種の独立モノマーを含むポリマーであるオルガノシリカ材料を得ること
を含むことが可能である。
【０２３２】
追加的に、または代わりに、式（Ｉ）の化合物および／または式（ＩＶ）の環式ポリ尿素モノマーの少なくとも一部は、ステップ（ｂ）において、各Ｚ１５が、より広範囲に、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表すことが可能であり、かつ各Ｚ１６が、より広範囲に、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表すことが可能であるように、かつ／または各Ｘ５が、より広範囲に、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表すことが可能であり；Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、より広範囲に、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表すことが可能であり；かつ各Ｘ８が、より広範囲に、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表すことが可能であるように、少なくとも部分的にヒドロキシル化されたものとして、かつ／または少なくとも部分的に重合／オリゴマー化されたものとして添加されることが可能である。言い換えると、式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）のモノマー化合物に加えて、またはその代わりに、ステップ（ｂ）において、未老化のプレ生成物を添加することが可能である。
【０２３３】
さらに追加的に、または代わりに、シリカの少なくとも一部（例えば、１個以上、好ましくは、２個以上のケイ素原子に結合したヒドロキシル基の存在による縮合によって、それ自体、あるいは式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の他の化合物に対して反応性であるもの）は、ステップ（ｂ）において、少なくとも部分的にヒドロキシル化されたものとして、かつ／または少なくとも部分的に重合／オリゴマー化されたものとして（すなわち、粒状シリカ供給源に加えて、またはその代わりに、未老化のプレ生成物として）添加されることが可能である。
【０２３４】
Ａ．水性混合物
本明細書に記載される触媒は、構造指向剤およびプロゲンを本質的に使用することなく製造され得る。したがって、水性混合物は、添加された構造指向剤および／または添加されたプロゲンを本質的に含有しなくてもよい。
【０２３５】
本明細書で使用される場合、「構造指向剤が添加されない」および「プロゲンが添加されない」は、（ｉ）オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導する成分がオルガノシリカ材料の合成において存在しないこと、あるいは（ｉｉ）、成分が、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導するとは言うことが不可能であるように、少量または非実質的な量または無視できる量で、そのような成分がオルガノシリカ材料の合成において存在することのいずれかを意味する。さらに、「構造指向剤が添加されない」は、「追加テンプレートがない」および「鋳型剤が添加されない」と類語である。
【０２３６】
１．構造指向剤
構造指向剤の例としては、限定されないが、非イオン性界面活性剤、イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ケイ素界面活性剤、両性界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、フルオロ界面活性剤、コロイド性結晶、ポリマー、ハイパー分枝状分子、星型分子、巨大分子、デンドリマーおよびそれらの組合せを含むことが可能である。追加的に、または代わりに、表面指向剤は、ポロキサマー、トリブロックポリマー、テトラアルキルアンモニウム塩、非イオン性ポリオキシエチレンアルキル、ジェミニ界面活性剤、またはそれらの混合物を含むことが可能であるか、あるいはそれらであることが可能である。テトラアルキルアンモニウム塩の例としては、限定されないが、セチルトリメチルアンモニウムクロリド（ＣＴＡＣ）、セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）およびオクタデシルトリメチルアンモニウムクロリドなどの、セチルトリメチルアンモニウムハライドを含むことが可能である。他の代表的な表面指向剤は、追加的に、または代わりに、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリドおよび／またはセチルピリジニウムブロミドを含むことが可能である。
【０２３７】
ポロキサマーは、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、より特に、ポリオキシエチレン（ポリ（エチレンオキシド））の２個の親水性鎖によって挾まれた、ポリオキシプロピレン（ポリ（プロピレンオキシド））の中央疎水性鎖からなる非イオン性トリブロックコポリマーである。特に、「ポロキサマー」という用語は、「ａ」および「ｂ」が、それぞれ、ポリオキシエチレンおよびポリオキシプロピレン単位の数を意味する、式ＨＯ（Ｃ２Ｈ４））ａ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａＨを有するポリマーを指す。ポロキサマーは、商標名Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）、例えば、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）１２３およびＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ１２７によっても既知である。追加的なトリブロックポリマーは、Ｂ５０−６６００である。
【０２３８】
非イオン性ポリオキシエチレンアルキルエーテルは、商標名Ｂｒｉｊ（登録商標）、例えば、Ｂｒｉｊ（登録商標）５６、Ｂｒｉｊ（登録商標）５８、Ｂｒｉｊ（登録商標）７６、Ｂｒｉｊ（登録商標）７８によっても既知である。ジェミニ界面活性剤は、１分子あたり、少なくとも２個の疎水基を有し、かつ少なくとも１個、または任意選択的に２個の親水基が導入された化合物である。
【０２３９】
２．ポロゲン
ポロゲン材料は、オルガノシリカ材料において、ドメイン、離散的領域、空隙および／または細孔を形成することが可能である。ポロゲンの例は、ブロックコポリマー（例えば、ジブロックポリマー）である。本明細書で使用される場合、ポロゲンとしては水を含まない。ポリマーポロゲンの例としては、限定されないが、ポリビニル芳香族、例えば、ポリスチレン、ポリビニルピリジン、水素化ポリビニル芳香族、ポリアクリロニトリル、ポリアルキレンオキシド、例えば、ポリエチレンオキシドおよびポリプロピレンオキシド、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン、ポリカプロラクタム、ポリウレタン、ポリメタクリレート、例えば、ポリメチルメタクリレートまたはポリメタクリルさん、ポリアクリレート、例えば、ポリメタクリレートおよびポリアクリル酸、ポリジエン、例えば、ポリブタジエンおよびポリイソプレン、ポリビニルクロリド、ポリアセタールおよびアミンキャップアルキレンオキシド、ならびにそれらの組合せを含むことができる。
【０２４０】
追加的に、または代わりに、ポロゲンは、熱可塑性ホモポリマーおよびランダム（ブロックとは対照的な）コポリマーであることが可能である。本明細書で使用される場合、「ホモポリマー」は、単一モノマーから繰返単位を含む化合物を意味する。適切な熱可塑性材料としては、限定されないが、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリフェニレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリテトラヒドロフラン、ポリエチレン、ポリシクロヘキシルエチレン、ポリエチルオキサゾリン、ポリビニルピリジン、ポリカプロラクトン、ポリ乳酸のホモポリマーまたはコポリマー、これらの材料のコポリマーおよびこれらの材料の混合物を含むことが可能である。ポリスチレンの例としては、限定されないが、アニオン重合ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、未置換および置換ポリスチレン（例えば、ポリ（α−メチルスチレン））が含まれる。熱可塑性材料は、天然で、線形、分岐状、超分岐状、樹状または星形であり得る。
【０２４１】
追加的に、または代わりにポロゲンは、溶媒であることが可能である。溶媒の例としては、限定されないが、ケトン（例えば、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、シクロヘキシルピロリジノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン）、カーボネート化合物（例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート）、複素環式化合物（例えば、３−メチル−２−オキサゾリジノン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン）、環式エーテル（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、鎖エーテル（例えば、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール）、多価アルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、ジプロピレングリコール）、ニトリル化合物（例えば、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エステル（例えば、エチルアセテート、ブチルアセテート、メチルラクテート、エチルラクテート、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート、メチルピルベート、エチルピルベート、プロピルピルベート、２−メトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチロラクトン、リン酸エステル、ホスホン酸エステル）、非プロトン性極性物質（例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、非極性溶媒（例えば、トルエン、キシレン、メシチレン）、塩素ベースの溶媒（例えば、メチレンジクロリド、エチレンジクロリド）、ベンゼン、ジクロロベンゼン、ナフタレン、ビフェニルエーテル、ジイソプロピルベンゼン、トリエチルアミン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、モノメチルエーテルアセテートヒドロキシエーテル、例えば、ジベンジルエーテル、ダイグライム、トリグライムおよびそれらの混合物を含むことが可能である。
【０２４２】
３．塩基／酸
種々の実施形態において、本明細書で提供される方法で使用される水性混合物は、塩基および／または酸を含むことが可能である。水性混合物のｐＨは、経時的に変化し得ることは理解される。
【０２４３】
水性混合物が塩基を含む特定の実施形態において、水性混合物は、約８〜約１５、約８〜約１４．５、約８〜約１４、約８〜約１３．５、約８〜約１３、約８〜約１２．５、約８〜約１２、約８〜約１１．５、約８〜約１１、約８〜約１０．５、約８〜約１０、約８〜約９．５、約８〜約９、約８〜約８．５、約８．５〜約１５、約８．５〜約１４．５、約８．５〜約１４、約８．５〜約１３．５、約８．５〜約１３、約８．５〜約１２．５、約８．５〜約１２、約８．５〜約１１．５、約８．５〜約１１、約８．５〜約１０．５、約８．５〜約１０、約８．５〜約９．５、約８．５〜約９、約９〜約１５、約９〜約１４．５、約９〜約１４、約９〜約１３．５、約９〜約１３、約９〜約１２．５、約９〜約１２、約９〜約１１．５、約９〜約１１、約９〜約１０．５、約９〜約１０、約９〜約９．５、約９．５〜約１５、約９．５〜約１４．５、約９．５〜約１４、約９．５〜約１３．５、約９．５〜約１３、約９．５〜約１２．５、約９．５〜約１２、約９．５〜約１１．５、約９．５〜約１１、約９．５〜約１０．５、約９．５〜約１０、約１０〜約１５、約１０〜約１４．５、約１０〜約１４、約１０〜約１３．５、約１０〜約１３、約１０〜約１２．５、約１０〜約１２、約１０〜約１１．５、約１０〜約１１、約１０〜約１０．５、約１０．５〜約１５、約１０．５〜約１４．５、約１０．５〜約１４、約１０．５〜約１３．５、約１０．５〜約１３、約１０．５〜約１２．５、約１０．５〜約１２、約１０．５〜約１１．５、約１０．５〜約１１、約１１〜約１５、約１１〜約１４．５、約１１〜約１４、約１１〜約１３．５、約１１〜約１３、約１１〜約１２．５、約１１〜約１２、約１１〜約１１．５、約１１．５〜約１５、約１１．５〜約１４．５、約１１．５〜約１４、約１１．５〜約１３．５、約１１．５〜約１３、約１１．５〜約１２．５、約１１．５〜約１２、約１２〜約１５、約１２〜約１４．５、約１２〜約１４、約１２〜約１３．５、約１２〜約１３、約１２〜約１２．５、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１３〜約１５、約１３〜約１４．５、約１３〜約１４、約１３〜約１３．５、約１３．５〜約１５、約１３．５〜約１４．５、約１３．５〜約１４、約１４〜約１５、約１４〜約１４．５および約１４．５〜約１５のｐＨを有することが可能である。
【０２４４】
塩基を含む特定の実施形態において、ｐＨは、約９〜約１５、約９〜約１４または約８〜約１４であることが可能である。
【０２４５】
代表的な塩基としては、限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデカン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、アンモニア、アンモニウムヒドロキシド、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリメチルイミジン、１−アミノ−３−メチルブタン、ジメチルグリシン、３−アミノ−３−メチルアミンなどを含むことができる。これらの塩基は、単一で、または組み合わせてのいずれかで使用されてよい。特定の実施形態において、塩基は、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウムおよび／または水酸化アンモニウムを含むことが可能であるか、またはそれらであることが可能である。
【０２４６】
水性混合物が酸を含む特定の実施形態において、水性混合物は、約０．０１〜約６．０、約０．０１〜約５、約０．０１〜約４、約０．０１〜約３、約０．０１〜約２、約０．０１〜約１、０．１〜約６．０、約０．１〜約５．５、約０．１〜約５．０、約０．１〜約４．８、約０．１〜約４．５、約０．１〜約４．２、約０．１〜約４．０、約０．１〜約３．８、約０．１〜約３．５、約０．１〜約３．２、約０．１〜約３．０、約０．１〜約２．８、約０．１〜約２．５、約０．１〜約２．２、約０．１〜約２．０、約０．１〜約１．８、約０．１〜約１．５、約０．１〜約１．２、約０．１〜約１．０、約０．１〜約０．８、約０．１〜約０．５、約０．１〜約０．２、約０．２〜約６．０、約０．２〜約５．５、約０．２〜約５、約０．２〜約４．８、約０．２〜約４．５、約０．２〜約４．２、約０．２〜約４．０、約０．２〜約３．８、約０．２〜約３．５、約０．２〜約３．２、約０．２〜約３．０、約０．２〜約２．８、約０．２〜約２．５、約０．２〜約２．２、約０．２〜約２．０、約０．２〜約１．８、約０．２〜約１．５、約０．２〜約１．２、約０．２〜約１．０、約０．２〜約０．８、約０．２〜約０．５、約０．５〜約６．０、約０．５〜約５．５、約０．５〜約５、約０．５〜約４．８、約０．５〜約４．５、約０．５〜約４．２、約０．５〜約４．０、約０．５〜約３．８、約０．５〜約３．５、約０．５〜約３．２、約０．５〜約３．０、約０．５〜約２．８、約０．５〜約２．５、約０．５〜約２．２、約０．５〜約２．０、約０．５〜約１．８、約０．５〜約１．５、約０．５〜約１．２、約０．５〜約１．０、約０．５〜約０．８、約０．８〜約６．０、約０．８〜約５．５、約０．８〜約５、約０．８〜約４．８、約０．８〜約４．５、約０．８〜約４．２、約０．８〜約４．０、約０．８〜約３．８、約０．８〜約３．５、約０．８〜約３．２、約０．８〜約３．０、約０．８〜約２．８、約０．８〜約２．５、約０．８〜約２．２、約０．８〜約２．０、約０．８〜約１．８、約０．８〜約１．５、約０．８〜約１．２、約０．８〜約１．０、約１．０〜約６．０、約１．０〜約５．５、約１．０〜約５．０、約１．０〜約４．８、約１．０〜約４．５、約１．０〜約４．２、約１．０〜約４．０、約１．０〜約３．８、約１．０〜約３．５、約１．０〜約３．２、約１．０〜約３．０、約１．０〜約２．８、約１．０〜約２．５、約１．０〜約２．２、約１．０〜約２．０、約１．０〜約１．８、約１．０〜約１．５、約１．０〜約１．２、約１．２〜約６．０、約１．２〜約５．５、約１．２〜約５．０、約１．２〜約４．８、約１．２〜約４．５、約１．２〜約４．２、約１．２〜約４．０、約１．２〜約３．８、約１．２〜約３．５、約１．２〜約３．２、約１．２〜約３．０、約１．２〜約２．８、約１．２〜約２．５、約１．２〜約２．２、約１．２〜約２．０、約１．２〜約１．８、約１．２〜約１．５、約１．５〜約６．０、約１．５〜約５．５、約１．５〜約５．０、約１．５〜約４．８、約１．５〜約４．５、約１．５〜約４．２、約１．５〜約４．０、約１．５〜約３．８、約１．５〜約３．５、約１．５〜約３．２、約１．５〜約３．０、約１．５〜約２．８、約１．５〜約２．５、約１．５〜約２．２、約１．５〜約２．０、約１．５〜約１．８、約１．８〜約６．０、約１．８〜約５．５、約１．８〜約５．０、約１．８〜約４．８、約１．８〜約４．５、約１．８〜約４．２、約１．８〜約４．０、約１．８〜約３．８、約１．８〜約３．５、約１．８〜約３．２、約１．８〜約３．０、約１．８〜約２．８、約１．８〜約２．５、約１．８〜約２．２、約１．８〜約２．０、約２．０〜約６．０、約２．０〜約５．５、約２．０〜約５．０、約２．０〜約４．８、約２．０〜約４．５、約２．０〜約４．２、約２．０〜約４．０、約２．０〜約３．８、約２．０〜約３．５、約２．０〜約３．２、約２．０〜約３．０、約２．０〜約２．８、約２．０〜約２．５、約２．０〜約２．２、約２．２〜約６．０、約２．２〜約５．５、約２．２〜約５．０、約２．２〜約４．８、約２．２〜約４．５、約２．２〜約４．２、約２．２〜約４．０、約２．２〜約３．８、約２．２〜約３．５、約２．２〜約３．２、約２．２〜約３．０、約２．２〜約２．８、約２．２〜約２．５、約２．５〜約６．０、約２．５〜約５．５、約２．５〜約５．０、約２．５〜約４．８、約２．５〜約４．５、約２．５〜約４．２、約２．５〜約４．０、約２．５〜約３．８、約２．５〜約３．５、約２．５〜約３．２、約２．５〜約３．０、約２．５〜約２．８、約２．８〜約６．０、約２．８〜約５．５、約２．８〜約５．０、約２．８〜約４．８、約２．８〜約４．５、約２．８〜約４．２、約２．８〜約４．０、約２．８〜約３．８、約２．８〜約３．５、約２．８〜約３．２、約２．８〜約３．０、約３．０〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．０〜約５．０、約３．０〜約４．８、約３．０〜約４．５、約３．０〜約４．２、約３．０〜約４．０、約３．０〜約３．８、約３．０〜約３．５、約３．０〜約３．２、約３．２〜約６．０、約３．２〜約５．５、約３．２〜約５、約３．２〜約４．８、約３．２〜約４．５、約３．２〜約４．２、約３．２〜約４．０、約３．２〜約３．８、約３．２〜約３．５、約３．５〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．５〜約５、約３．５〜約４．８、約３．５〜約４．５、約３．５〜約４．２、約３．５〜約４．０、約３．５〜約３．８、約３．８〜約５、約３．８〜約４．８、約３．８〜約４．５、約３．８〜約４．２、約３．８〜約４．０、約４．０〜約６．０、約４．０〜約５．５、約４．０〜約５、約４．０〜約４．８、約４．０〜約４．５、約４．０〜約４．２、約４．２〜約５、約４．２〜約４．８、約４．２〜約４．５、約４．５〜約５、約４．５〜約４．８または約４．８〜約５のｐＨを有することが可能である。
【０２４７】
酸を含む特定の実施形態において、ｐＨは、約０．０１〜約６．０、０．２〜約６．０、約０．２〜約５．０または約０．２〜約４．５であることが可能である。
【０２４８】
代表的な酸としては、限定されないが、塩酸、塩化アンモニウム、フッ化アンモニウム、硝酸、硫酸、フッ化水素酸、リン酸、ホウ酸、シュウ酸およびそれらの組合せなどの無機酸；ならびに酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリト酸、アラキドン酸、シキミ酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−アミノ−安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、リンゴ酸、グルタル酸の加水分解物、無水マレイン酸の加水分解物、無水フタル酸の加水分解物などの有機酸およびそれらの組合せなどを含むことが可能である。特定の実施形態において、酸は、塩酸または塩化アンモニウムを含むことが可能であるか、またはそれらであることが可能である。
【０２４９】
４．モル比
２種以上の式（Ｉ）の化合物が使用される場合、それぞれの化合物は、広範囲の種々のモル比で使用されてよい。例えば、２種の式（Ｉ）の化合物が使用される場合、各化合物のモル比は、１：９９〜９９：１、例えば、１０：９０〜９０：１０で変動してよい。式（Ｉ）の異なる化合物の使用によって、本発明のプロセスによって製造されたオルガノシリカ材料の特性を調整することが可能となる。
【０２５０】
２種以上の式（ＩＶ）の化合物が使用される場合、それぞれの化合物は、広範囲の種々のモル比で使用されてよい。例えば、２種の式（ＩＶ）の化合物が使用される場合、各化合物のモル比は、１：９９〜９９：１、例えば、１０：９０〜９０：１０で変動してよい。式（ＩＶ）の異なる化合物の使用によって、本発明のプロセスによって製造されたオルガノシリカ材料の特性を調整することが可能となる。
【０２５１】
式（Ｉ）および（ＩＶ）の両方の化合物が使用される場合、それぞれの化合物は、広範囲の種々のモル比で使用されてよい。例えば、式（Ｉ）の化合物のモル比は、１：９９〜９９：１、例えば、１０：９０〜９０：１０で変動してよく、かつ式（ＩＶ）の化合物のモル比は、１：９９〜９９：１、例えば、１０：９０〜９０：１０で変動してよい。式（Ｉ）および（ＩＶ）の化合物の組合せの使用によって、本発明のプロセスによって製造されたオルガノシリカ材料の特性を調整することが可能となる。
【０２５２】
５．任意選択の追加的な（コ）モノマー
いくつかの実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性混合物に、式（ＩＩ）Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉの化合物および／または式（ＩＩＩ）Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１の化合物を添加することをさらに含むことが可能である。
【０２５３】
水性混合物中に存在する場合、式（ＩＩ）の化合物対式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物のモル比は、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３などの広い範囲内で変動し得る。例えば、式（ＩＩ）の化合物対式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４、約２．５：１〜約１：２．５、約２：１〜約１：２または約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０２５４】
水性混合物中に存在する場合、式（ＩＩＩ）の化合物対式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物のモル比は、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３などの広い範囲内で変動し得る。例えば、式（ＩＩＩ）の化合物対式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４、約２．５：１〜約１：２．５、約２：１〜約１：２または約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０２５５】
追加的に、または代わりに、本明細書で提供される方法は、水性混合物に、式（Ｖ）Ｍ１（ＯＺ１２）３の化合物および／または式（ＶＩ）（Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３の化合物を添加することをさらに含むことが可能である。
【０２５６】
水性混合物中に存在する場合、式（Ｖ）の化合物対式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物のモル比は、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３などの広い範囲内で変動し得る。例えば、式（Ｖ）の化合物対式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４、約２．５：１〜約１：２．５、約２：１〜約１：２または約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０２５７】
水性混合物中に存在する場合、式（ＶＩ）の化合物対式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物のモル比は、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３などの広い範囲内で変動し得る。例えば、式（ＶＩ）の化合物対式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４、約２．５：１〜約１：２．５、約２：１〜約１：２または約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０２５８】
Ｂ．溶液の老化
本明細書に記載される方法において形成される溶液は、少なくとも約４時間、少なくとも約６時間、少なくとも約１２時間、少なくとも約１８時間、少なくとも約２４時間（１日）、少なくとも約３０時間、少なくとも約３６時間、少なくとも約４２時間、少なくとも約４８時間（２日）、少なくとも約５４時間、少なくとも約６０時間、少なくとも約６６時間、少なくとも約７２時間（３日）、少なくとも約９６時間（４日）、少なくとも約１２０時間（５日）または少なくとも約１４４時間（６日）、老化されることが可能である。
【０２５９】
追加的に、または代わりに、本明細書に記載される方法において形成される溶液は、約４時間〜約１４４時間（６日）、約４時間〜約１２０時間（５日）、約４時間〜約９６時間（４日）、約４時間〜約７２時間（３日）、約４時間〜約６６時間、約４時間〜約６０時間、約４時間〜約５４時間、約４時間〜約４８時間（２日）、約４時間〜約４２時間、約４時間〜約３６時間、約４時間〜約３０時間、約４時間〜約２４時間（１日）、約４時間〜約１８時間、約４時間〜約１２時間、約４時間〜約６時間、約６時間〜約１４４時間（６日）、約６時間〜約１２０時間（５日）、約６時間〜約９６時間（４日）、約６時間〜約７２時間（３日）、約６時間〜約６６時間、約６時間〜約６０時間、約６時間〜約５４時間、約６時間〜約４８時間（２日）、約６時間〜約４２時間、約６時間〜約３６時間、約６時間〜約３０時間、約６時間〜約２４時間（１日）、約６時間〜約１８時間、約６時間〜約１２時間、約１２時間〜約１４４時間（６日）、約１２時間〜約１２０時間（５日）、約１２時間〜約９６時間（４日）、約１２時間〜約７２時間（３日）、約１２時間〜約６６時間、約１２時間〜約６０時間、約１２時間〜約５４時間、約１２時間〜約４８時間（２日）、約１２時間〜約４２時間、約１２時間〜約３６時間、約１２時間〜約３０時間、約１２時間〜約２４時間（１日）、約１２時間〜約１８時間、約１８時間〜約１４４時間（６日）、約１８時間〜約１２０時間（５日）、約１８時間〜約９６時間（４日）、約１８時間〜約７２時間（３日）、約１８時間〜約６６時間、約１８時間〜約６０時間、約１８時間〜約５４時間、約１８時間〜約４８時間（２日）、約１８時間〜約４２時間、約１８時間〜約３６時間、約１８時間〜約３０時間、約１８時間〜約２４時間（１日）、約２４時間（１日）〜約１４４時間（６日）、約２４（１日）時間（１日）〜約１２０時間（５日）、約２４時間（１日）〜約９６時間（４日）、約２４時間（１日）〜約７２時間（３日）、約２４時間（１日）〜約６６時間、約２４時間（１日）〜約６０時間、約２４時間（１日）〜約５４時間、約２４時間（１日）〜約４８時間（２日）、約２４時間（１日）〜約４２時間、約２４時間（１日）〜約３６時間、約２４時間（１日）〜約３０時間、約３０時間〜約１４４時間（６日）、約３０時間〜約１２０時間（５日）、約３０時間〜約９６時間（４日）、約３０時間〜約７２時間（３日）、約３０時間〜約６６時間、約３０時間〜約６０時間、約３０時間〜約５４時間、約３０時間〜約４８時間（２日）、約３０時間〜約４２時間、約３０時間〜約３６時間、約３６時間〜約１４４時間（６日）、約３６時間〜約１２０時間（５日）、約３６時間〜約９６時間（４日）、約３６時間〜約７２時間（３日）、約３６時間〜約６６時間、約３６時間〜約６０時間、約３６時間〜約５４時間、約３６時間〜約４８時間（２日）、約３６時間〜約４２時間、約４２時間〜約１４４時間（６日）、約４２時間〜約１２０時間（５日）、約４２時間〜約９６時間（４日）、約４２時間〜約７２時間（３日）、約４２時間〜約６６時間、約４２時間〜約６０時間、約４２時間〜約５４時間、約４２時間〜約４８時間（２日）、約４８時間（２日）〜約１４４時間（６日）、約４８時間（２日）〜約１２０時間（５日）、約４８時間（２日）〜約９６時間（４日）、約４８時間（２日）〜約７２時間（３日）、約４８時間（２日）〜約６６時間、約４８時間（２日）〜約６０時間、約４８時間（２日）〜約５４時間、約５４時間〜約１４４時間（６日）、約５４時間〜約１２０時間（５日）、約５４時間〜約９６時間（４日）、約５４時間〜約７２時間（３日）、約５４時間〜約６６時間、約５４時間〜約６０時間、約６０時間〜約１４４時間（６日）、約６０時間〜約１２０時間（５日）、約６０時間〜約９６時間（４日）、約６０時間〜約７２時間（３日）、約６０時間〜約６６時間、約６６時間〜約１４４時間（６日）、約６６時間〜約１２０時間（５日）、約６６時間〜約９６時間（４日）、約６６時間〜約７２時間（３日）、約７２時間（３日）〜約１４４時間（６日）、約７２時間（３日）〜約１２０時間（５日）、約７２時間（３日）〜約９６時間（４日）、約９６時間（４日）〜約１４４時間（６日）、約９６時間（４日）〜約１２０時間（５日）または約１２０時間（５日）〜約１４４時間（６日）、老化されることが可能である。
【０２６０】
追加的に、または代わりに、本方法において形成される溶液は、少なくとも約１０℃、少なくとも約２０℃、少なくとも約３０℃、少なくとも約４０℃、少なくとも約５０℃、少なくとも約６０℃、少なくとも約７０℃、少なくとも約８０℃、少なくとも約９０℃、少なくとも約１００℃、少なくとも約１１０℃、少なくとも約１２０℃、少なくとも約１３０℃、少なくとも約１４０℃、少なくとも約１５０℃、少なくとも約１７５℃、少なくとも約２００℃、少なくとも約２５０℃または約３００℃の温度で老化されることが可能である。
【０２６１】
追加的に、または代わりに、本方法において形成される溶液は、約１０℃〜約３００℃、約１０℃〜約２５０℃、約１０℃〜約２００℃、約１０℃〜約１７５℃、約１０℃〜約１５０℃、約１０℃〜約１４０℃、約１０℃〜約１３０℃、約１０℃〜約１２０℃、約１０℃〜約１１０℃、約１０℃〜約１００℃、約１０℃〜約９０℃、約１０℃〜約８０℃、約１０℃〜約７０℃、約１０℃〜約６０℃、約１０℃〜約５０℃、約２０℃〜約３００℃、約２０℃〜約２５０℃、約２０℃〜約２００℃、約２０℃〜約１７５℃、約２０℃〜約１５０℃、約２０℃〜約１４０℃、約２０℃〜約１３０℃、約２０℃〜約１２０℃、約２０℃〜約１１０℃、約２０℃〜約１００℃、約２０℃〜約９０℃、約２０℃〜約８０℃、約２０℃〜約７０℃、約２０℃〜約６０℃、約２０℃〜約５０℃、約３０℃〜約３００℃、約３０℃〜約２５０℃、約３０℃〜約２００℃、約３０℃〜約１７５℃、約３０℃〜約１５０℃、約３０℃〜約１４０℃、約３０℃〜約１３０℃、約３０℃〜約１２０℃、約３０℃〜約１１０℃、約３０℃〜約１００℃、約３０℃〜約９０℃、約３０℃〜約８０℃、約３０℃〜約７０℃、約３０℃〜約６０℃、約３０℃〜約５０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１７５℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１４０℃、約５０℃〜約１３０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約９０℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約５０℃〜約６０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１７５℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１４０℃、約７０℃〜約１３０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約９０℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１７５℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１４０℃、約８０℃〜約１３０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃、約８０℃〜約１００℃、約８０℃〜約９０℃、約９０℃〜約３００℃、約９０℃〜約２５０℃、約９０℃〜約２００℃、約９０℃〜約１７５℃、約９０℃〜約１５０℃、約９０℃〜約１４０℃、約９０℃〜約１３０℃、約９０℃〜約１２０℃、約９０℃〜約１１０℃、約９０℃〜約１００℃、約１００℃〜約３００℃、約１００℃〜約２５０℃、約１００℃〜約２００℃、約１００℃〜約１７５℃、約１００℃〜約１５０℃、約１００℃〜約１４０℃、約１００℃〜約１３０℃、約１００℃〜約１２０℃、約１００℃〜約１１０℃、約１１０℃〜約３００℃、約１１０℃〜約２５０℃、約１１０℃〜約２００℃、約１１０℃〜約１７５℃、約１１０℃〜約１５０℃、約１１０℃〜約１４０℃、約１１０℃〜約１３０℃、約１１０℃〜約１２０℃、約１２０℃〜約３００℃、約１２０℃〜約２５０℃、約１２０℃〜約２００℃、約１２０℃〜約１７５℃、約１２０℃〜約１５０℃、約１２０℃〜約１４０℃、約１２０℃〜約１３０℃、約１３０℃〜約３００℃、約１３０℃〜約２５０℃、約１３０℃〜約２００℃、約１３０℃〜約１７５℃、約１３０℃〜約１５０℃または約１３０℃〜約１４０℃の温度で老化されることが可能である。
【０２６２】
種々の態様において、本明細書に記載される方法で形成される溶液の老化時間および／または老化温度を調節することは、製造されるオルガノシリカ材料の全表面積、ミクロポーラス表面積、細孔体積、細孔半径および細孔直径に影響を与えることが可能である。したがって、オルガノシリカ材料の多孔性は、老化時間および／または温度を調節することによって調節され得る。
【０２６３】
例えば、溶液を、約１時間〜約７時間（例えば、１、２、３、４、５、６時間）、約８０℃〜約１００℃（例えば、８０℃、８５℃、９０℃、９５℃など）の温度で老化する場合、オルガノシリカ材料は、
（ｉ）約２００ｍ２／ｇ〜約１４００ｍ２／ｇ、特に、約４００ｍ２／ｇ〜約１３００ｍ２／ｇ、特に、約４００ｍ２／ｇ〜約１２００ｍ２／ｇの全表面積；
（ｉｉ）約２００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、特に、約２００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇのミクロポーラス表面積；
（ｉｉｉ）約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、特に、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇの細孔体積；および
（ｉｖ）約０．５ｎｍ〜約２．０ｎｍ、特に、約０．５ｎｍ〜約２．０ｎｍ、特に、約１．０ｎｍ〜約１．５ｎｍの平均細孔半径
の１つ以上を有し得る。
【０２６４】
追加的に、または代わりに、溶液を、約７時間より長く、約１５０時間まで（例えば、２３、４８、７２、１４４時間）、約８０℃〜約１００℃（例えば、８０℃、８５℃、９０℃、９５℃など）の温度で老化する場合、オルガノシリカ材料は、
（ｉ）約６００ｍ２／ｇ〜約１４００ｍ２／ｇ、特に、約８００ｍ２／ｇ〜約１４００ｍ２／ｇ、特に、約８００ｍ２／ｇ〜約１２００ｍ２／ｇの全表面積；
（ｉｉ）実質的にゼロのミクロポーラス表面積；
（ｉｉｉ）約０．８ｃｍ３／ｇ〜約１．４ｃｍ３／ｇ、特に、約０．９ｃｍ３／ｇ〜約１．４ｃｍ３／ｇの細孔体積；および
（ｉｖ）約１．０ｎｍ〜約４．０ｎｍ、特に、約１．０ｎｍ〜約４．０ｎｍの平均細孔半径
の１つ以上を有し得る。
【０２６５】
追加的に、または代わりに、溶液を、約１時間〜約７時間（例えば、１、２、３、４、５、６時間）、約１１０℃〜約１３０℃（例えば、１１０℃、１１５℃、１２０℃、１２５℃など）の温度で老化する場合、オルガノシリカ材料は、
（ｉ）約１．０ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、特に、約１．２ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、特に、約１．４ｃｍ３／ｇ〜約１．７ｃｍ３／ｇの細孔体積；および
（ｉｉ）約２．０ｎｍ〜約８．０ｎｍ、特に、４．０ｎｍ〜約６．０ｎｍの平均細孔直径
の１つ以上を有し得る。
【０２６６】
追加的に、または代わりに、溶液を、約７時間より長く、約１５０時間まで（例えば、２３、４８、７２、１４４時間）、約１１０℃〜約１３０℃（例えば、１１０℃、１１５℃、１２０℃、１２５℃など）の温度で老化する場合、オルガノシリカ材料は、
（ｉ）約１．０ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、特に、約１．２ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇの細孔体積；および
（ｉｉ）約８．０ｎｍ〜約１６．０ｎｍ、特に、約１０．０ｎｍ〜約１６．０ｎｍ、特に、約１０．０ｎｍ〜約１４．０ｎｍの平均細孔直径
の１つ以上を有し得る。
【０２６７】
したがって、より短い老化時間（例えば、７、６、５、４時間など）においては、製造されたオルガノシリカ材料の表面積は、ミクロポーラスおよびメソポーラスであるが、老化時間が増加すると、表面積は、主に、メソポーラスに移行する。さらに、老化時間が増加すると、細孔体積、平均細孔半径および平均細孔直径が増加する。老化時間とともに老化温度が増加すると、上記表面積移行、ならびに細孔体積、平均細孔半径および平均細孔直径の増加が促進される。
【０２６８】
Ｃ．プレ生成物の乾燥
本明細書に記載の方法は、プレ生成物（例えば、ゲル）を乾燥させ、オルガノシリカ材料を製造するステップを含む。
【０２６９】
いくつかの実施形態において、本方法で製造されたプレ生成物（例えば、ゲル）は、約５０℃以上、約７０℃以上、約８０℃以上、約１００℃以上、約１１０℃以上、約１２０℃以上、約１５０℃以上、約２００℃以上、約２５０℃以上、約３００℃以上、約３５０℃以上、約４００℃以上、約４５０℃以上、約５００℃以上、約５５０℃以上または約６００℃以上の温度で乾燥させることが可能である。
【０２７０】
追加的に、または代わりに、本方法で製造されたプレ生成物（例えば、ゲル）は、約５０℃〜約６００℃、約５０℃〜約５５０℃、約５０℃〜約５００℃、約５０℃〜約４５０℃、約５０℃〜約４００℃、約５０℃〜約３５０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約７０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約７０℃〜約５００℃、約７０℃〜約４５０℃、約７０℃〜約４００℃、約７０℃〜約３５０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約８０℃〜約５００℃、約８０℃〜約４５０℃、約８０℃〜約４００℃、約８０℃〜約３５０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃または約８０℃〜約１００℃の温度で乾燥させることが可能である。
【０２７１】
特定の実施形態において、本方法で製造されたプレ生成物（例えば、ゲル）は、約７０℃〜約２００℃の温度で乾燥させることが可能である。
【０２７２】
追加的に、または代わりに、本方法で製造されたプレ生成物（例えば、ゲル）は、Ｎ２および／または空気雰囲気中で乾燥させることが可能である。
【０２７３】
Ｄ．任意選択のさらなるステップ
いくつかの実施形態において、上記方法は、オルガノシリカ材料を焼成して、シリカ材料を得ることをさらに含むことが可能である。焼成は、空気、または窒素もしくは窒素が豊富な空気などの不活性気体中で実行可能である。焼成は、少なくとも約３００℃、少なくとも約３５０℃、少なくとも約４００℃、少なくとも約４５０℃、少なくとも約５００℃、少なくとも約５５０℃、少なくとも約６００℃または少なくとも約６５０℃、例えば、少なくとも約４００℃の温度で実行可能である。追加的に、または代わりに、焼成は、約３００℃〜約６５０℃、約３００℃〜約６００℃、約３００℃〜約５５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約４５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約３５０℃、約３５０℃〜約６５０℃、約３５０℃〜約６００℃、約３５０℃〜約５５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約３５０℃〜約４５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約４００℃〜約６５０℃、約４００℃〜約６００℃、約４００℃〜約５５０℃、約４００℃〜約５００℃、約４００℃〜約４５０℃、約４５０℃〜約６５０℃、約４５０℃〜約６００℃、約４５０℃〜約５５０℃、約４５０℃〜約５００℃、約５００℃〜約６５０℃、約５００℃〜約６００℃、約５００℃〜約５５０℃、約５５０℃〜約６５０℃、約５５０℃〜約６００℃または約６００℃〜約６５０℃の温度で実行可能である。
【０２７４】
いくつかの実施形態において、本方法は、触媒金属をオルガノシリカ材料の細孔内に組み込むステップをさらに含むことが可能である。代表的な触媒金属としては、限定されないが、第６族元素、第８族元素、第９族元素、第１０族元素またはそれらの組合せを含むことが可能である。代表的な第６族元素としては、限定されないが、クロム、モリブデンおよび／またはタングステンが含まれ、特にモリブデンおよび／またはタングステンを含むことが可能である。代表的な第８族元素としては、限定されないが、鉄、ルテニウムおよび／またはオスミウムを含むことが可能である。代表的な第９族元素としては、限定されないが、コバルト、ロジウムおよび／またはイリジウムが含まれ、特にコバルトを含むことが可能である。代表的な第１０族元素としては、限定されないが、ニッケル、パラジウムおよび／または白金を含むことが可能である。
【０２７５】
触媒金属は、含浸によって、イオン交換によって、または表面部位への錯化によってなどのいずれかの慣例的な方法によって、オルガノシリカ材料中に組み込むことが可能である。そのようにして組み込まれた触媒金属は、一般に石油精製または石油化学製品製造で実行される多数の触媒変換のいずれか１つを促進するために利用され得る。そのような触媒プロセスの例としては、限定されないが、水素化、脱水素、芳香族化、芳香族飽和、水素化脱硫、オレフィンオリゴマー形成、重合、水素化脱窒素、水素化分解、ナフサ改質、パラフィン異性化、芳香族アルキル交換、二重／三重結合の飽和など、ならびにそれらの組合せを含むことが可能である。
【０２７６】
したがって、別の実施形態において、本明細書に記載されるオルガノシリカ材料を含む触媒材料が提供される。触媒材料は、任意選択的に、結合剤を含み得るか、または自己結合し得る。適切な結合剤としては、限定されないが、活性および不活性材料、合成または天然由来ゼオライト、ならびに無機材料、例えば、クレーおよび／または酸化物、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ−アルミナ、酸化セリウム、酸化マグネシウム、あるいはそれらの組合せが含まれる。特に、結合剤は、シリカ−アルミナ、アルミナおよび／またはゼオライト、特にアルミナであってよい。シリカ−アルミナは、天然由来であり得るか、あるいはシリカおよび酸化金属の混合物を含む、ゼラチン状沈殿物またはゲルの形態のいずれかであり得る。本明細書において、ゼオライト結合剤材料と関連する、すなわち、それと組み合わせて、またはその合成の間に存在する、それ自体が触媒的に活性である材料の使用は、最終触媒の変換および／または選択性を変更し得ることが認識されることは留意すべきである。本明細書において、不活性材料は、本発明がアルキル化プロセスに利用され、そして反応速度を制御するための他の手段を利用せずに経済的に、かつ秩序的にアルキル化製品を得ることができる場合、変換の量を制御するための希釈剤として適切に役立つことが可能であることも認識される。これらの不活性材料は、商業的な作動条件下での触媒の粉砕強度を改善するため、そして触媒のための結合剤またはマトリックスとして機能するために、天然由来のクレー、例えば、ベントナイトおよびカオリン中に組み込まれてよい。本明細書に記載される触媒は、典型的に、複合化された形態で、約１００部の支持体材料対約０部の結合剤材料；約９９部の支持体材料対約１部の結合剤材料；約９５部の支持体材料対約５部の結合剤材料の支持体材料対結合剤材料の比率を含むことが可能である。追加的に、または代わりに、本明細書に記載される触媒は、複合化された形態で、約９０部の支持体材料対１０部の結合剤材料〜１０部の支持体材料対９０部の結合剤材料；約８５部の支持体材料対１５部の結合剤材料〜１５部の支持体材料対８５部の結合剤材料；約８０部の支持体材料対２０部の結合剤材料〜２０部の支持体材料対８０部の結合剤材料の範囲の支持体材料対結合剤材料の比率を含むことが可能である。全ての比率は重量によるものであり、典型的に、８０：２０〜５０：５０、好ましくは６５：３５〜３５：６５の支持体材料：結合剤材料である。複合化は、材料を一緒に混練することを含む従来の手段によって、そしてそれに続いて、所望の最終触媒粒子へとペレット化する押出成形によって実行され得る。
【０２７７】
いくつかの実施形態において、本方法は、含浸または有機前駆体による表面への錯化などのいずれかの都合のよい方法によって、あるいはいずれかの他の方法によって、網目構造にカチオン性金属部位を組み込むステップさらに含むことが可能である。このようなオルガノ金属材料は、石油精製または石油化学製品製造において実行される多くの炭化水素分離において使用され得る。石油化学製品／燃料から望ましく分離される、そのような化合物の例としては、オレフィン、パラフィン、芳香族などを含むことができる。
【０２７８】
追加的に、または代わりに、本法は、オルガノシリカ材料の細孔内に表面金属を組み込むステップをさらに含むことが可能である。表面金属は、第１族元素、第２族元素、第１３族元素およびそれらの組合せから選択されることが可能である。第１族元素が存在維する場合、それは、好ましくは、ナトリウムおよび／またはカリウムを含むことが可能であるか、あるいはそれらであることが可能である。第２族元素が存在維する場合、それは、限定されないが、マグネシウムおよび／またはカルシウムを含み得る。第１３族元素が存在維する場合、それは、限定されないが、ホウ素および／またはアルミニウムを含み得る。
【０２７９】
第１、２、６、８〜１０および／または１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料の外部および／または内部表面上に存在し得る。例えば、第１、２および／または１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料上の第１の層に存在し得、かつ第６、８、９および／または１０族元素の１種以上は、第２の層に、例えば、少なくとも部分的に、第１、２および／または１３族元素の上部に存在し得る。追加的に、または代わりに、第６、８、９および／または１０族元素の１種以上のみが、オルガノシリカ材料の外部および／または内部表面上に存在し得る。表面金属は、含浸、析出、グラフト化、共縮合、イオン交換などの、いずれかの都合のよい方法によって、オルガノシリカ材料中／上に組み込まれることが可能である。
【０２８０】
ＩＶ．オルガノシリカ材料の使用
本明細書に記載されるオルガノシリカ材料は、いくつかの分野において使用が見出される。
【０２８１】
特定の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、分離および／または触媒プロセス用の吸着剤または支持体マトリックスとして使用することが可能である。
【０２８２】
Ａ．気体分離プロセス
いくつかの場合、オルガノシリカ材料は、本明細書に提供される気体分離プロセスにおいて使用されることが可能である。気体分離プロセスは、少なくとも１種の汚染物質を含有する気体混合物を、本明細書に記載の方法に従って調製された、本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させるステップを含むことが可能である。
【０２８３】
様々な実施形態において、気体分離プロセスは、圧力スイングプロセス（ＰＳＡ）および温度スイングプロセス（ＴＳＡ）などのスイング吸着プロセスによって達成することが可能である。全てのスイング吸着プロセスは、典型的に、（典型的に気相中の）供給混合物が吸着剤上に流されて、容易に吸着されない成分と比較して、より容易に吸着される成分が優先的に吸着する。成分は、吸着剤の動態学的または平衡的特性のために、より容易に吸着され得る。吸着剤は、典型的に、スイング吸着ユニットの一部であるコンタクタに含まれることが可能である。コンタクタは、典型的に、設計された構造化吸着剤床または微粒状吸着剤床を含有することが可能である。床は、吸着剤、ならびに吸着および脱着の熱からの温度逸脱を緩和するために使用される他の吸着剤、メソ細孔充てん剤材料および／または不活性材料などの他の材料を含有することが可能である。スイング吸着ユニット中の他の成分は、限定されないが、バルブ、パイプ、タンクおよび他のコンタクタを含むことが可能である。スイング吸着プロセスは、それぞれ参照によって本明細書に組み込まれる米国特許第８，７８４，５３３号明細書、同第８，７８４，５３４号明細書、同第８，８５８，６８３号明細書および同第８，７８４，５３５明細書に詳細に記載される。別々に、または組み合わせて本明細書において使用することが可能であるプロセスの例は、ＰＳＡ、ＴＳＡ、圧力温度スイング吸着（ＰＴＳＡ）、部分パージ置換スイング吸着（ＰＰＳＡ）、ＰＰＴＳＡ、急速サイクルＰＳＡ（ＲＣＰＳＡ）、ＲＣＴＳＡ、ＲＣＰＰＳＡおよびＲＣＰＴＳＡである。
【０２８４】
スイング吸着プロセスは、広範囲の気体混合物から、「汚染気体」とも呼ばれる様々な標的気体を除去するために適用されることが可能である。典型的に、２進分離システムにおいて、「軽質成分」は、本明細書で利用される場合、プロセスの吸着ステップで吸着剤によって優先的に取り込まれない種または分子成分であるとみなされる。逆に、このような２進システムにおいて、「重質成分」は、本明細書で利用される場合、プロセスの吸着ステップで吸着剤によって優先的に取り込まれる種または分子成分であるとみなされる。しかしながら、優先的に吸着された成分が、優先的に吸着されない成分よりも低い分子量を有する２進分離システムにおいて、それらの記載は、必ずしも上記で開示されるように相互関係しなくてもよい。
【０２８５】
本明細書に記載の方法において分離することが可能である気体混合物の例は、天然ガス流などのＣＨ４を含む気体混合物である。ＣＨ４を含む気体混合物は、有意な量のＨ２Ｏ、Ｈ２Ｓ、ＣＯ２、Ｎ２、メルカプタンおよび／または重質炭化水素などの汚染物質を含有する可能性がある。追加的に、または代わりに、気体混合物は、廃棄気体流、送気管気流および湿潤気流など、汚染物質としてＮＯｘおよび／またはＳＯｘ種を含む可能性がある。本明細書で使用される場合、「ＮＯｘ」および「ＮＯｘ」種という用語は、燃焼プロセスからの廃棄気体などの廃棄気体中に存在し得る窒素の種々の酸化物を意味する。この用語は、限定されないが、酸化窒素（ＮＯ）、二酸化窒素（ＮＯ２）、二酸化窒素（Ｎ２Ｏ）、五酸化窒素（Ｎ２Ｏ５）およびそれらの混合物を含む窒素の種々の酸化物の全てを意味する。本明細書で使用される場合、「ＳＯｘ」および「ＳＯｘ種」という用語は、燃焼プロセスからの廃棄気体などの廃棄気体中に存在し得る硫黄の種々の酸化物を意味する。この用語は、限定されないが、ＳＯ、ＳＯ２、ＳＯ３、ＳＯ４、Ｓ７Ｏ２およびＳ６Ｏ２を含む硫黄の種々の酸化物の全てを意味する。したがって、汚染物質の例としては、限定されないが、Ｈ２Ｏ、Ｈ２Ｓ、ＣＯ２、Ｎ２、メルカプタン、重質炭化水素、ＮＯｘおよび／またはＳＯｘ種が含まれる。
【０２８６】
Ｂ．芳香族水素化プロセス
本明細書に記載される方法に従って製造されたオルガノシリカ材料は、水素化触媒における支持体材料として使用可能である。特に、水素化触媒は、細孔表面上に組み込まれた少なくとも１種の触媒金属を有するオルガノシリカ材料を支持体材料として含むことが可能である。少なくとも１種の触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０族金属、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｕまたはその組合せであり得る。水素化触媒は、限定されないが、活性および不活性材料、無機材料、クレー、セラミック、活性炭、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化ニオブ、酸化タンタルまたはそれらの組合せ、特に、シリカ−アルミナ、アルミナ、チタニアまたはジルコニアなどの結合剤をさらに含むことが可能である。水素化触媒は、供給流の水素化または芳香族飽和の両方に使用することが可能である。
【０２８７】
種々の実施形態において、水素化プロセスは、芳香族含有量の減少した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、炭化水素供給流と、本明細書に記載の水素化触媒とを接触させるステップによって達成することが可能である。
【０２８８】
水素化プロセスでの使用に適切な水素含有処理気体は、実質的に純粋な水素から構成されることが可能であるか、または典型的に精製所水素流で見出される他の成分の混合物であることが可能である。水素含有処理気体流が、少量のみの硫化水素を含有する、より好ましくは、硫化水素を含有しないことが好ましい。水素含有処理気体流の純度は、有利には、最良の結果のために、少なくとも５０体積％の水素、例えば、少なくとも７５体積％の水素または少なくとも９０体積％の水素であることが可能である。多くの実施形態において、水素含有流は、実質的に純粋な水素である。
【０２８９】
本明細書に記載の水素化触媒による水素化に適切な供給流は、水素化または芳香族飽和が望ましい、いずれの従来の炭化水素供給流も含む。典型的に、芳香族飽和プロセスのためのインプット供給物は、燃料または潤滑剤ベースストック製造のための水素化分解などの以前の種類の水素化処理からの生成物または副産物として製造可能である。広範囲の石油および化学工業原料が水素化処理可能である。そのような供給流としては、炭化水素流体、ディーゼル、灯油、潤滑油供給流、重コーカー気体油（ＨＫＧＯ）、脱アスファルト化油（ＤＡＯ）、ＦＣＣメインカラムボトム（ＭＣＢ）、蒸気クラッカータールを含むことができる。そのような供給流としては、他の凝縮物供給流、例えば、初期凝縮物を含む、軽質〜重質留分、ワックス含有供給流、例えば、粗製油、シェール油およびタールサンドから誘導された供給物を含むことが可能である。フィッシャー−トロプシュ法から誘導されたものなどの合成供給物も、本明細書に記載の水素化触媒を使用して、芳香族飽和が可能である。潤滑剤ベース油の調製のための典型的なワックス含有供給原料は、約３１５℃以上の初期沸点を有し、かつ全石油原油および減少石油原油、水素化分解生成物、ラフィネート、水素化処理された油、軽油（大気気体油、減圧気体油およびコーカー気体油など）、大気および減圧残留物、脱アスファルト化油／残留物（例えば、プロパン脱アスファルト化残留物、ブライトストック、サイクルオイル）、脱蝋油、スラックワックスおよびフィッシャー−トロプシュワックス、ならびにそれらの材料の混合物などの供給物を含む。そのような供給物は、蒸留塔（大気および減圧）、水素化分解装置、水素化処理装置および溶媒抽出ユニットから誘導されてよく、かつ５０％以上までのワックス含有量を有してもよい。例示的な潤滑油沸騰範囲供給流は、６５０〜１１００°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。ディーゼル沸騰範囲供給流は、４８０〜６６０°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含み得る。灯油沸騰範囲供給流は、３５０〜６１７°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含み得る。
【０２９０】
本明細書での使用に適切な炭化水素供給流は、芳香族ならびに窒素および硫黄汚染物質を含有する。供給流に基づき、０．２重量％までの窒素、３．０重量％までの硫黄および５０重量％までの芳香族を含有する供給流を本プロセスにおいて使用することができる。種々の実施形態において、供給流の硫黄含有量は、約５００ｗｐｐｍ未満、または約３００ｗｐｐｍ未満、または約２００ｗｐｐｍ未満、または約１００ｗｐｐｍ未満、または約５０ｗｐｐｍ未満、または約１５ｗｐｐｍ未満であることが可能である。芳香族水素化プロセスの間に使用される圧力は、供給流の予想される硫黄含有量に基づいて変動可能である。高いワックス含有量を有する供給物は、典型的に、２００以上までの高い粘度指数を有する。硫黄および窒素含有量は、それぞれ、標準的なＡＳＴＭ法Ｄ２６２２（硫黄）ならびにＤ５４５３および／またはＤ４６２９（窒素）によって測定されてよい。
【０２９１】
有効水素化条件は、その条件下で、炭化水素供給流に存在する芳香族の少なくとも一部が飽和され、好ましくは芳香族の少なくとも約５０重量％が飽和され、より好ましくは約７５重量％が飽和される条件であると考えられてよい。有効水素化条件は、１５０℃〜４００℃の温度、１００〜３０００ｐｓｉｇ（７００〜２０１００ｋＰａ）の水素分圧、０．１〜１０時間−１の液体毎時空間速度（ＬＨＳＶ）の空間速度および５００〜１００００ｓｃｆ／Ｂ（８５〜１７００ｍ３／ｍ３）の水素対供給物比を含むことが可能である。
【０２９２】
追加的に、または代わりとして、有効水素化条件は、窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、ならびに上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体潤滑油沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０２９３】
追加的に、または代わりとして、有効水素化条件は、窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、ならびに上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、ディーゼル沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体ディーゼル沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０２９４】
上記の通り、いくつかの場合、炭化水素供給流（例えば、潤滑油沸騰範囲）は、硫黄汚染物質を約５００ｗｐｐｍ未満、特に約３００ｗｐｐｍ未満、特に約２００ｗｐｐｍ未満または特に約１００ｗｐｐｍ未満まで低下させるために水素化処理されてもよい。そのような実施形態において、プロセスは、少なくとも２つの反応段階を含んでもよく、有効水素化処理条件下で操作される水素化処理触媒を含有する第１の反応状態および水素化触媒を含有する第２の反応状態は、上記の有効水素化条件下で操作される。したがって、そのような実施形態において、炭化水素供給流を、最初に、供給流の硫黄含有量を上記範囲内まで低下させるために有効な水素化処理条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、水素化処理触媒と接触させることができる。したがって、「水素化処理」という用語は、本明細書で使用される場合、硫黄および窒素などのヘテロ原子の除去のために活性である適切な触媒の存在下で、水素含有処理気体が使用されるプロセスを示す。本発明での使用のために適切な水素化処理触媒は、いずれかの従来の水素化処理触媒であり、かつ少なくとも１種の第８族金属、好ましくは、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉ、より好ましくは、Ｃｏおよび／またはＮｉ、最も好ましくは、Ｎｉ、ならびに少なくとも１種の第６族金属、好ましくは、ＭｏおよびＷ、より好ましくは、Ｍｏを高表面積支持体材料、好ましくはアルミナ上で含むものが含まれる。追加的に、または代わりとして、同反応容器中で２種以上の水素化処理触媒が使用されることが可能である。第８族金属は、典型的に、約２〜２０重量％、好ましくは、約４〜１２重量％の範囲の量で存在してよい。第６族金属は、典型的に、約５〜５０重量％、好ましくは、約１０〜４０重量％、より好ましくは、約２０〜３０重量％の範囲の量で存在してよい。全ての金属の重量パーセントは、上記の通り、「支持体上」である。
【０２９５】
有効水素化処理条件は、供給流の硫黄含有量（例えば、潤滑油沸騰範囲）を、上記された範囲内まで有効に低下させることが可能であるそれらの条件であると考えられてよい。典型的な有効水素化処理条件としては、約１５０℃〜約４２５℃、好ましくは、約２００℃〜約３７０℃、より好ましくは、約２３０℃〜約３５０℃の範囲の温度を含むことが可能である。典型的な重量毎時空間速度（「ＷＨＳＶ」）は、約０．１〜約２０時間−１、好ましくは、約０．５〜約５時間−１の範囲であってよい。いずれかの有効圧力も利用可能であり、かつ圧力は、典型的に、４１０〜７１００ｋＰａ（約４〜約７０気圧）、例えば、１０００〜４１００ｋＰａ（約１０〜約４０気圧）の範囲であることが可能である。特定の実施形態において、上記有効水素化処理条件は、上記有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、および上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも反応生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０２９６】
炭化水素供給流を水素化処理触媒と接触させることによって、少なくとも１種の蒸気生成物および液体生成物を含む反応生成物が製造され得る。蒸気生成物は、典型的に、Ｈ２Ｓなどの気体状反応製品を含んでもよく、そして液体反応生成物は、典型的に、窒素および硫黄汚染物質の減少した濃度を有する液体炭化水素を含んでもよい。完全反応生成物は、第２の反応段階へと直接通すことが可能であるが、気体状および液体反応生成物が分離され、そして液体反応生成物が第２の反応段階に導入されることが好ましくなり得る。したがって、一実施形態において、蒸気生成物および液体生成物は、分離されてもよく、そして液体生成物は、第２の反応段階に導入されてよい。液体生成物から蒸気生成物を分離する方法は、気体状および液体反応生成物を分離することにおいて有効であることが既知であるいずれかの手段によって達成可能である。例えば、ストリッピングタワーまたは反応ゾーンを使用して、蒸気生成物を液体生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）から分離することができる。そのようにして第２の反応段階に導入される液体生成物は、約５００ｗｐｐｍ範囲内、特に約３００ｗｐｐｍ未満、または特に約２００ｗｐｐｍ未満または特に約１００ｗｐｐｍ未満の硫黄濃度を有することができる。
【０２９７】
なお、他の実施形態において、本明細書に記載の水素化触媒は、統合された水素化処理法において使用可能である。本明細書に記載の水素化触媒に関する水素化仕上および／または芳香族水素化／飽和プロセスに加えて、統合された水素化処理法は、水素化処理、水素化分解、触媒脱蝋（例えば、水素化脱蝋）および／または溶媒脱蝋の種々の組合せを含むことができる。上記の水素化処理と、それに続く水素化仕上のスキームは、総合プロセスフローの１種を表す。別の統合されたプロセス例は、触媒脱蝋または溶媒脱蝋のいずれかによる脱蝋ステップと、それに続く本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理を有するものである。なお別の例は、水素化処理、（触媒または溶媒）脱蝋、次いで、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理に関係するプロセススキームである。なお別の例は、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理と、それに続く（触媒または溶媒）脱蝋である。代わりに、複数の水素化仕上および／または芳香族水素化ステップが、水素化処理、水素化分解または脱蝋ステップとともに利用されることが可能である。そのようなプロセスフローの例は、水素化仕上、（触媒または溶媒）脱蝋、次いで再び水素化仕上であり、そしてそこで、水素化仕上ステップの少なくとも１回は、本明細書に記載の水素化触媒を使用するものであってよい。触媒脱蝋が関係するプロセスに関して、有効触媒脱蝋条件は、１５０℃〜４００℃、好ましくは、２５０℃〜３５０℃の温度、１００〜３０００ｐｓｉｇ（７００〜２１０００ｋＰａ）、例えば、２００〜２５００ｐｓｉｇ（１４００〜１７５００ｋＰａ）の圧力、０．１〜１０時間−１、例えば、０．１〜５時間−１の液体毎時空間速度、および２５０〜１００００ｓｃｆ／Ｂ（４０〜１７００ｍ３／ｍ３）、例えば、５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ（８５〜８５０ｍ３／ｍ３）の水素処理気体速度を含むことができる。いずれの適切な脱蝋触媒も使用されてよい。
【０２９８】
芳香族飽和プロセスの生成物が潤滑剤ベース油であろう実施形態において、インプット供給物も適切な潤滑剤ベース油特性を有するべきである。例えば、第Ｉ族または第ＩＩ族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約８０、好ましくは少なくとも約９０または好ましくは少なくとも９５の粘度指数（ＶＩ）を有することが可能である。第Ｉ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１００のＶＩを有することが可能であるが、第ＩＩ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１１０のＶＩを有することが可能である。インプット供給物の粘度は、１００℃において少なくとも２ｃＳｔ、または１００℃において少なくとも４ｃＳｔ、または１００℃において少なくとも６ｃＳｔであることが可能である。
【０２９９】
Ｖ．さらなる実施形態
本発明は、追加的に、または代わりとして、以下の実施形態の１つ以上を含むことができる。
【０３００】
実施形態１
オルガノシリカ材料（organosilica material）の製造方法であり、
（ａ）  構造指向剤（structure directing agent）および／またはポロゲン（porogen）を本質的に含有しない水性混合物（aqueous mixture）を提供すること（又は工程又はステップ）、
（ｂ）  溶液を形成するために、上記水性混合物に、以下の（ｉ）および／または（ｉｉ）および（ｉｉｉ）：
（ｉ）  式（Ｉ）    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３
［式中、
各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり、
各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能である］
、
（ｉｉ）  式（ＩＶ）
【０３０１】
【化２２】
2019523746.tif 000024
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基またはＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素（又はサイクリックポリウレア（cyclic polyurea））の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー、
（ｉｉｉ）  式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の化合物の少なくとも１つと重合するために反応性であるシリカの供給源を含む追加のコモノマー
の少なくとも１つの化合物を添加すること（又は工程又はステップ）、
（ｃ）  プレ生成物（又は半製品又はプリプロダクト（pre-product））を製造するために、上記溶液をエイジング（又は老化）させること（又は工程又はステップ）、および
（ｄ）  少なくとも１つのシリルエーテル結合を介して上記シリカに連結される本明細書中に記載されるような式（Ｉ）および／または式（ＩＶ）の独立モノマーの少なくとも１つを含むポリマーであるオルガノシリカ材料を得るために、上記プレ生成物を乾燥させること（又は工程又はステップ）
を含む、方法。
【０３０２】
実施形態２
式（Ｉ）の化合物の少なくとも１つを上記水性混合物に添加し、以下の条件：
各Ｚ１５が、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表すこと、
各Ｚ１６が、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表すこと、
各Ｚ１６が、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表すこと、
式（Ｉ）の化合物の少なくとも１つが、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンであること、
各Ｚ１５が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、各Ｚ１６が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表すこと、および
各Ｚ１５が、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、各Ｚ１６が、ヒドロキシル基、エトキシ、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表すこと
の１つ以上を満たす、実施形態１の方法。
【０３０３】
実施形態３
式（ＩＶ）の化合物の少なくとも１つを上記水性混合物に添加し、以下の条件：
各Ｘ５が、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、各Ｘ８が、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表すこと、
式（ＩＶ）の化合物の少なくとも１つが、トリス（３−トリメトキシシリル−プロピル）イソシアヌレートであること、
各Ｘ５が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、Ｘ８が、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表すこと、および
各Ｘ５が、水素原子、メチル、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、Ｘ８が、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を表すこと
の１つ以上を満たす、実施形態１または実施形態２の方法。
【０３０４】
実施形態４
上記シリカの供給源が、粒状シリカ（又は微粒子シリカ又は微粒シリカ（particulate silica））を含み、上記粒状シリカは、最大で約１５０ｎｍ（例えば、約３ｎｍ〜約５０ｎｍ）の平均粒径を有し、かつ／または、上記粒状シリカは、ｄ９５が最大で約２５０ｎｍ（例えば、約５ｎｍ〜約６０ｎｍ）であるような粒径分布を有する、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０３０５】
実施形態５
上記シリカの供給源が、コロイド状シリカを含む、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０３０６】
実施形態６
以下の（ｉ）〜（ｖｉｉ）：
（ｉ）      追加の式（Ｉ）の化合物、
（ｉｉ）    追加の式（ＩＶ）の化合物、
（ｉｉｉ）  式（ＩＩ）    Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ
［式中、
各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である］
の化合物、
（ｉｖ）    式（ＩＩＩ）    Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１
［式中、
各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である］
の化合物、
（ｖ）      式（Ｖ）    Ｍ１（ＯＺ１２）３
［式中、
Ｍ１は、第１３族金属を表し、
各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の化合物、
（ｖｉ）    式（ＶＩ）    （Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３
［式中、
Ｍ２は、第１３族金属を表し、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の化合物、および
（ｖｉｉ）  それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物を、上記水性混合物に添加すること（又は工程又はステップ）をさらに含む、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０３０７】
実施形態７
上記水性混合物は、塩基（例えば、水酸化アンモニウム、水酸化金属（又は水酸化メタル又はメタルヒドロキシド（metal hydroxide））、または炭酸水素金属（又は炭酸水素メタル又はメタルハイドロジェンカーボネート（metal hydrogen carbonate）））を含み、約８〜約１４のｐＨを有する、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０３０８】
実施形態８
上記水性混合物は、酸（例えば、無機酸）を含み、約０．０１〜約６．０のｐＨを有する、上記実施形態のいずれか１つの方法。
【０３０９】
実施形態９
上記実施形態のいずれか１つの方法に従って製造されたオルガノシリカ材料。
【０３１０】
実施形態１０
以下の（ｉ）および／または（ｉｉ）および（ｉｉｉ）：
（ｉ）  式（Ｉ）    ［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３
［式中、
各Ｚ１５は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
各Ｚ１６は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である］
のモノマー、
（ｉｉ）  式（ＩＶ）
【０３１１】
【化２３】
2019523746.tif 000025
［式中、
各Ｒ１は、独立して、Ｘ５ＯＸ６Ｘ７ＳｉＸ８基であり、式中、
各Ｘ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマー単位のケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｘ８は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す］
の環式ポリ尿素モノマー、
（ｉｉｉ）  少なくとも１つの独立モノマーと重合するために反応性であるシリカの供給源を含む追加のモノマー
を含む少なくとも１つの独立モノマーのポリマーを含む、オルガノシリカ材料。
【０３１２】
実施形態１１
式（Ｉ）のモノマーの少なくとも１つが存在し、式中、
各Ｚ１５が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基（例えば、エトキシ）、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
各Ｚ１６が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基（例えば、エトキシ）、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、
実施形態１０のオルガノシリカ材料。
【０３１３】
実施形態１２
式（ＩＶ）のモノマーの少なくとも１つが存在し、式中、
各Ｘ５が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基（例えば、メチル）、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、
Ｘ６およびＸ７が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基（例えば、メトキシ）、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、
Ｘ８が、環式ポリ尿素モノマーの窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基（例えば、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）を表す、
実施形態１０または実施形態１１のオルガノシリカ材料。
【０３１４】
実施形態１３
上記シリカの供給源は、粒状シリカを含み、上記粒状シリカは、最大で約１５０ｎｍ（例えば、約３ｎｍ〜約５０ｎｍ）の平均粒径を有し、かつ／または、上記粒状シリカは、ｄ９５が最大で約２５０ｎｍ（例えば、約５ｎｍ〜約６０ｎｍ）であるような粒径分布を有する、実施形態１０〜１２のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３１５】
実施形態１４
上記シリカの供給源は、コロイド状シリカを含む、実施形態１０〜１３のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３１６】
実施形態１５
以下の（ｉ）〜（ｖｉｉ）：
（ｉ）      追加の式（Ｉ）の化合物、
（ｉｉ）    追加の式（ＩＶ）の化合物、
（ｉｉｉ）  式（ＩＩ）    Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ
［式中、
各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有し任意選択的に置換され得るヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である］
の化合物、
（ｉｖ）    式（ＩＩＩ）    Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１
［式中、
各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、
各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換され得るＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意選択的に置換され得るＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である］
の化合物、
（ｖ）      式（Ｖ）    Ｍ１（ＯＺ１２）３
［式中、
Ｍ１は、第１３族金属を表し、
各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の化合物、
（ｖｉ）    式（ＶＩ）    （Ｚ１３Ｏ）２-Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３
［式中、
Ｍ２は、第１３族金属を表し、
Ｚ１３およびＺ１４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の化合物、および
（ｖｉｉ）  それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含む、実施形態１０〜１４のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３１７】
実施形態１６
上記各モノマーが、少なくとも１つのシリルエーテル結合を介して互いに連結され、それによって、上記ポリマーを形成する、実施形態１０〜１５のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３１８】
実施形態１７
上記オルガノシリカ材料が、
約３．０ｎｍ〜約１３ｎｍの平均細孔直径（又は平均ポア直径（average pore diameter））、
約３００ｍ２／ｇ〜約１３００ｍ２／ｇの全表面積（又は総表面積（total surface area））、
約１〜約４度の２θに１つのピークを有し、かつ／または約４〜約３０度の２θの範囲において実質的にピークを有さない粉末Ｘ線回折パターン、および
約３０％〜約６０％のシラノール含有量
の１つ以上（例えば、１つ、２つ、３つ、または全て）を有するか又は示す、上記実施形態のいずれか１つの方法またはオルガノシリカ材料。
【実施例】
【０３１９】
以下の実施例は、単なる例示であり、かつ本開示を過度に限定するように意図されない。
【０３２０】
比較例１
約３１．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨおよび約３９．９ｇの脱イオン（ＤＩ）水を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．６であった。この溶液に、約２０．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約４．０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２１のＯＨ：約２７０のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０３２１】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３２２】
実施例２
約６．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．２であった。これによって、
約２０のＳｉＯ２：約５１のＯＨ：約５００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３２３】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。図３Ａ、３Ｂ、３Ｃおよび３Ｄに、実施例２の生成物の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）像が見られる。
【０３２４】
実施例３
約６．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．２であった。この溶液に、約０．８８ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約２．２の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約５１のＯＨ：約５００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３２５】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３２６】
実施例４
約６．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．２であった。この溶液に、約０．０８ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約０．２の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約５１のＯＨ：約５００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３２７】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。図４Ａ、４Ｂ、４Ｃおよび４Ｄに、実施例４の生成物の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）像が見られる。
【０３２８】
実施例５
約６．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．２であった。この溶液に、約２．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約５の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約５１のＯＨ：約５００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３２９】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３３０】
実施例６
約１２．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約９．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．２であった。この溶液に、約５．３３ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約１３．３の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約１００のＯＨ：約１１００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３３１】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３３２】
実施例７
約２６．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約２３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．２であった。この溶液に、約８ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約２０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約２２０のＯＨ：約２４００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３３３】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３３４】
実施例８
約３３．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．２であった。この溶液に、約１２ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約２８０のＯＨ：約３１００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３３５】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３３６】
実施例９
約６．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．４であった。これによって、
約２０のＳｉＯ２：約５１のＯＨ：約５００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３３７】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３３８】
実施例１０
約６．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．４であった。この溶液に、約０．８８ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約２．２の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約５１のＯＨ：約５００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３３９】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３４０】
実施例１１
約６．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．４であった。この溶液に、約２．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約５の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約５１のＯＨ：約５００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物を製造した。
【０３４１】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３４２】
実施例１２
約１２．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約９．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．４であった。この溶液に、約５．３３ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約１３．３の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約１００のＯＨ：約１１００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３４３】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３４４】
実施例１３
約３３．０ｇの約３０％  ＮＨ４ＯＨ、約３０．０ｇの脱イオン（ＤＩ）水および約３．０ｇのコロイド状シリカ（ＬＵＤＯＸ（商標）ＡＳ−４０）を用いて、溶液を形成した。この溶液のｐＨは約１２．４であった。この溶液に、約１２ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
約３０の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：約２０のＳｉＯ２：約２８０のＯＨ：約３１００のＨ２Ｏ
のおよそのモル組成を有する混合物が生じた。
【０３４５】
この混合物を室温（約２０〜２５℃）で約１日撹拌し、オートクレーブに移して、そして約１日間、約９０℃で老化させ、ゲルを形成した。ゲルを約１日、減圧下、約１２０℃において乾燥させた。これによって、固化したゲルが生じ、それを粉砕して、白色粉末にした。表面指向剤およびポロゲンのいずれも使用しなかった。
【０３４６】
【表１】
2019523746.tif 000026
【０３４７】
上記表１のデータは、式（Ｉ）モノマーの含有量が増加するほど、および／またはコロイド状シリカの含有量が減少するほど、ＢＥＴ表面積および細孔体積が増加し、かつ平均細孔直径が減少することを示すように見える。式（Ｉ）モノマーのみを含有するホモポリマーオルガノシリカは、コロイド状シリカモノマーのみを含有するホモポリマーと同様に、比較のために提供される。
【０３４８】
図１は、ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０コロイド状シリカを使用する実施例２〜８のＸＲＤスペクトルを示し、そして図２は、ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＨＳ−４０コロイド状シリカを使用する実施例９〜１３のＸＲＤスペクトルを示す。これらのＸＲＤの結果は、より高い式（Ｉ）モノマー含有量および／またはより低いコロイド状シリカ含有量において、強化した低角度ピーク強度およびより高い回折角度へのシフトを示すように思われた。
【図１】
2019523746.tif 000029
【図２】
2019523746.tif 000030
【図３Ａ】
2019523746.tif 000031
【図３Ｂ】
2019523746.tif 000032
【図３Ｃ】
2019523746.tif 000033
【図３Ｄ】
2019523746.tif 000034
【図４Ａ】
2019523746.tif 000035
【図４Ｂ】
2019523746.tif 000036
【図４Ｃ】
2019523746.tif 000037
【図４Ｄ】
2019523746.tif 000038
【国際調査報告】
2019523746.tif 000039
2019523746.tif 000040