(57)【要約】  マスクデバイス（１０）を取り扱う方法が記載される。実施形態によれば、方法は、マスクデバイス（１０）を、マスクデバイスを保持するための保持装置（２０）の上に積載すること（Ｘ１）と；保持装置（２０）を、第１の状態から非水平状態である第２の状態に移動させること（Ｘ２）と；保持装置（２０）をマスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｘ３）と；マスクデバイス（１０）を、保持装置（２０）からマスクキャリア（１５）に移送すること（Ｘ４）とを含む。更に、マスクキャリアからマスクデバイスを交換するための装置（１００）だけではなく、そのような装置を含む真空システムもまた記載される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクデバイス（１０）を取り扱う方法であって、
−前記マスクデバイス（１０）を、前記マスクデバイスを保持するための保持装置（２０）の上に積載すること（Ｘ１）と、
−前記保持装置（２０）を、第１の状態から非水平状態である第２の状態に移動させること（Ｘ２）と、
−前記保持装置（２０）をマスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｘ３）と、
−前記マスクデバイス（１０）を、前記保持装置（２０）から前記マスクキャリア（１５）に移送すること（Ｘ４）と
を含む方法。
【請求項２】
マスクデバイス（１０）を取り扱う方法であって、
−第２の状態にある保持装置（２０）を前記マスクデバイス（１０）を保持するマスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｙ１）と、
−前記マスクデバイス（１０）を、前記マスクキャリア（１５）から前記保持装置（２０）に移送すること（Ｙ２）と、
−前記保持装置（２０）を、非水平状態である前記第２の状態から第１の状態に移動させること（Ｙ３）と
を含む方法。
【請求項３】
前記保持装置（２０）を前記マスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）が、一又は複数の位置合わせ要素（２２）を前記保持装置（２０）に対して移動させること（Ｚ２）を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記保持装置（２０）を前記マスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）が、一又は複数の位置合わせ要素（２２）を前記マスクキャリア（１５）に係合させることを含む、請求項１から３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記保持装置（２０）を前記マスクキャリアと位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）が、前記マスクキャリアを持ち上げること（Ｚ１）、特に、前記マスクキャリア（１５）に作用する磁力を生成するための電磁気装置（３５）を使用することによって、前記マスクキャリアを持ち上げること（Ｚ１）を含む、請求項１から４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記マスクデバイス（１０）を移送すること（Ｘ４，Ｙ２）が、前記マスクデバイス（１０）に作用する磁力を提供するための一又は複数の電磁気要素（２３）を使用することを含む、請求項１から５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の状態が略水平状態であり、特に前記第１の状態が、前記マスクデバイスの主要面と水平面との間の角度が３０°以下の状態である、請求項１から６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第２の状態が略垂直状態であり、特に前記第２の状態が、前記マスクデバイス（１０）の主要面と重力ベクトルとの間の角度が＋１０°から−１０°の間の状態である、請求項１から７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記保持装置（２０）を移動させること（Ｘ２，Ｙ２）が、前記保持装置を回転軸（２５）周囲で回転させることを含み、特に、前記回転軸が水平面にある、請求項１から８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
マスクキャリア（１５）からマスクデバイス（１０）を交換する方法であって、
−第１のマスクデバイス（１１）であるマスクデバイスを取り扱う、請求項２から９の何れか一項に記載の方法を実行することと、
−第２のマスクデバイス（１２）であるマスクデバイスを取り扱う、請求項１及び３から９の何れか一項に記載の方法を実行することと
を含む方法。
【請求項１１】
マスクキャリア（１５）からマスクデバイス（１０）を交換するための装置（１００）であって、
−前記マスクデバイス（１０）を保持するための保持装置（２０）と、
−前記保持装置（２０）を第１の状態と非水平状態である第２の状態との間で移動させるための機構（２４）と、
−前記保持装置（２０）を前記マスクキャリア（１５）と位置合わせするための位置合わせアセンブリ（２６）と
を含む装置（１００）。
【請求項１２】
前記位置合わせアセンブリ（２６）が、前記保持装置（２０）に対して移動可能である一又は複数の位置合わせ要素（２２）を含む、請求項１１に記載の装置（１００）。
【請求項１３】
前記保持装置（２０）が、磁力によって前記マスクデバイス（１０）を保持するための一又は複数の電磁気要素（２２）を含む、請求項１１又は１２に記載の装置（１００）。
【請求項１４】
前記第１の状態が略水平状態であり、特に前記第１の状態が、前記マスクデバイスの主要面と水平面との間の角度が３０°以下の状態である、請求項１１から１３の何れか一項に記載の装置（１００）。
【請求項１５】
前記第２の状態が略垂直状態であり、特に前記第２の状態が、前記マスクデバイス（１０）の主要面と重力ベクトルとの間の角度が＋１０°から−１０°の間の状態である、請求項１０から１３の何れか一項に記載の装置（１００）。
【請求項１６】
マスク交換チャンバ（３００）であって、
−マスクキャリア（１５）を保持するように構成された磁気浮上システム（３５０）と、
−請求項１１から１５の何れか一項に記載の、マスクキャリア（１５）からマスクデバイス（１０）を交換するための装置（１００）と
を含むマスク交換チャンバ（３００）。
【請求項１７】
材料を基板の上に堆積させるための真空システム（７００）であって、
−請求項１６に記載のマスク交換チャンバ（３００）と、
−少なくとも１つの堆積チャンバ（７１０）と、
−使用対象となるマスクデバイス及び使用済みのマスクデバイスを、前記マスク交換チャンバ（３００）と前記少なくとも１つの堆積チャンバ（７１０）との間で、非水平配向で搬送するように構成されたマスク搬送システム（７２０）と
を含む真空システム（７００）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、マスクデバイスを取り扱う方法に関する。特に、本開示の実施形態は、真空システム内の基板上にマスク堆積するように構成されたマスクデバイスを取り扱う方法に関する。更なる実施形態は、真空システムで用いられるマスクキャリアからマスクデバイスを交換するための装置に関する。更なる実施形態は、マスクキャリアからマスクデバイスを交換するための装置を含む、基板の上に材料を堆積させるための真空システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機材料を利用する光電子デバイスは、数々の理由により人気が高まっている。かかるデバイスの作製に使用される材料の多くは比較的安価であるため、有機光電子デバイスは、無機デバイスに対してコスト面で優位に立つ可能性を有している。有機材料の可撓性などの固有特性は、フレキシブル基板又は非フレキシブル基板への堆積向けなどの応用に、有利でありうる。有機光電子デバイスの例は、有機発光デバイス（ＯＬＥＤ）、有機フォトトランジスタ、有機光起電力セル、及び有機光検出器を含む。
【０００３】
ＯＬＥＤに関しては、有機材料が、従来材料を凌駕する性能上の利点を有しうる。例えば、有機発光層が発光する波長は、適切なドーパントで容易に調整されうる。ＯＬＥＤは、電圧がデバイス全体に印加されると光を発する、薄型有機膜を利用する。ＯＬＥＤは、フラットパネルディスプレイ、照明、及びバックライトなどの応用で使用する上で、益々興味深い技術になりつつある。
【０００４】
材料、具体的には有機材料は、典型的には、準大気圧下の真空システム内で基板に堆積される。堆積中、マスクデバイスは、基板の前に配置され、このマスクデバイスは、例えば蒸着によって基板に堆積されるべき材料パターンに対応する開口パターンを画定する、少なくとも１つの開口又は複数の開口を有しうる。基板は、典型的には、堆積中にマスクデバイスの背後に配置され、かつ、マスクデバイスに対して位置合わせされる。例えば、マスクキャリアは、真空システムの堆積チャンバ内にマスクデバイスを搬送するために使用され、基板キャリアは、マスクデバイスの背後に基板を配置するように堆積チャンバ内に基板を搬送するために使用されうる。
【０００５】
例えば洗浄、マスク交換、又は使用済みマスクデバイスのメンテナンスのために、規則的な時間間隔で真空システムから使用済みのマスクデバイスを除去することは、有利でありうる。更に、例えばマスク交換のため、又は、システム内にクリーンな若しくは未使用のマスクを提供するために、規則的な時間間隔で、真空システム内に使用対象となるマスクデバイスを積載することは、有利でありうる。しかし、マスク交換は、時間がかかり、所有コストを増大させるシステムのアイドルタイムにつながりうる。
【０００６】
したがって、真空システム内での迅速かつ効率的なマスクの取り扱いのための方法及び装置が必要とされている。特に、基板へのマスク堆積向けに構成された真空システム内で、マスク交換を簡略化し、促進することが、有利になろう。
【発明の概要】
【０００７】
上記に鑑み、マスクデバイスを取り扱う方法、マスクキャリアからマスクデバイスを交換する方法、マスクキャリアからマスクデバイスを交換するための装置、マスク交換チャンバ、更には材料を基板の上に堆積させるための真空システムが提供される。
【０００８】
本開示の態様によれば、マスクデバイスを取り扱う方法が提供される。方法は、マスクデバイスを、マスクデバイスを保持するための保持装置の上に積載することと；保持装置を、第１の状態から非水平状態である第２の状態に移動させることと；保持装置をマスクキャリアと位置合わせすることと；マスクデバイスを、保持装置からマスクキャリアに移送することとを含む。
【０００９】
本開示の更なる態様によれば、マスクデバイスを取り扱う方法が提供される。方法は、マスクデバイスを、マスクデバイスを保持するための保持装置の上に積載することと；保持装置を、第１の配向又は第１の位置から非水平配向又は非水平位置である第２の配向又は第２の位置内に移動させることと；保持装置をマスクキャリアと位置合わせすることと；マスクデバイスを保持装置からマスクキャリアに移送することとを含む。
【００１０】
本開示の更なる態様によれば、マスクデバイスを取り扱う方法が提供される。方法は、第２の状態にある保持装置をマスクデバイスを保持するマスクキャリアと位置合わせすることと；マスクデバイスをマスクキャリアから保持装置に移送することと、保持装置を、非水平状態である第２の状態から第１の状態に移動させることとを含む。
【００１１】
本開示の更なる態様によれば、マスクデバイスを取り扱う方法が提供される。方法は、第２の配向又は第２の位置にある保持装置を、マスクデバイスを保持するマスクキャリアと位置合わせすることと；マスクデバイスをマスクキャリアから保持装置に移送することと、保持装置を、非水平配向又は非水平位置である第２の配向又は第２の位置から第１の配向又は第１の位置内に移動させることとを含む。
【００１２】
本開示の更なる態様によれば、マスクキャリアからマスクデバイスを交換する方法が提供される。方法は、第２の状態にある保持装置を、第１のマスクデバイスであるマスクデバイスを保持するマスクキャリアと位置合わせすることと；第１のマスクデバイスをマスクキャリアから保持装置に移送することと、保持装置を非水平状態である第２の状態から第１の状態に移動させることとを含む。更に、方法は、第２のマスクデバイスであるマスクデバイスを、マスクデバイスを保持するための保持装置の上に積載することと；保持装置を、第１の状態から非水平状態である第２の状態に移動させることと；保持装置をマスクキャリアと位置合わせすることと；第２のマスクデバイスを保持装置からマスクキャリアに移送することとを含む。
【００１３】
本開示の更なる態様によれば、マスクキャリアからマスクデバイスを交換する方法が提供される。方法は、第２の配向又は第２の位置にある保持装置を、第１のマスクデバイスであるマスクデバイスを保持するマスクキャリアと位置合わせすることと；第１のマスクデバイスをマスクキャリアから保持装置に移送することと、保持装置を、非水平配向又は非水平位置である第２の配向又は第２の位置から第１の配向又は第１の位置内に移動させることとを含む。更に、方法は、第２のマスクデバイスであるマスクデバイスを、マスクデバイスを保持するための保持装置の上に積載することと；保持装置を、第１の配向又は第１の位置から非水平配向又は非水平位置である第２の配向又は第２の位置内に移動させることと；保持装置をマスクキャリアと位置合わせすることと；第２のマスクデバイスを保持装置からマスクキャリアに移送することとを含む。
【００１４】
本開示の更なる態様によれば、マスクキャリアからマスクデバイスを交換するための装置が提供される。装置は、マスクデバイスを保持するための保持装置と；保持装置を第１の状態と非水平状態である第２の状態との間で移動させるための機構と；保持装置をマスクキャリアと位置合わせするための位置合わせアセンブリと含む。
【００１５】
本開示の更なる態様によれば、マスクキャリアからマスクデバイスを交換するための装置が提供される。装置は、マスクデバイスを保持するための保持装置と；保持装置を第１の配向又は第１の位置と非水平配向又は非水平位置である第２の配向又は第２の位置との間で移動させるための機構と；保持装置をマスクキャリアと位置合わせするための位置合わせアセンブリとを含む。
【００１６】
本開示の更なる態様によれば、マスク交換チャンバが提供される。マスク交換チャンバは、マスクキャリアを保持するように構成された磁気浮上システムと；本明細書に記載の任意の実施形態によるマスクキャリアからマスクデバイスを交換するための装置を含む。
【００１７】
本開示の更なる態様によれば、材料を基板の上に堆積させるための真空システムが提供される。真空システムは、本明細書に記載の任意の実施形態によるマスク交換チャンバと、少なくとも１つの堆積チャンバと、使用対象となるマスクデバイス及び使用済みのマスクデバイスを、マスク交換チャンバと少なくとも１つの堆積チャンバとの間で、非水平配向で搬送するように構成されたマスク搬送システムとを含む。
【００１８】
本開示の更なる態様、利点及び特徴は、明細書及び添付の図面から明らかになる。
【００１９】
本開示の上記の特徴を詳細に理解することができるように、実施形態を参照することによって、上で簡単に概説した本開示のより具体的な説明を得ることができる。添付の図面は、本開示の実施形態に関するものであり、以下で説明される。図面に典型的な実施形態を示し、以下に詳細を説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイスを取り扱う方法の連続的な段階（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の概略図である。
【図２】本明細書に記載の更なる実施形態による、マスクデバイスを取り扱う方法の連続的な段階（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の概略図である。
【図３】ａ及びｂは、本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイスを取り扱う方法の２つの異なる段階の概略図であり、ｃは、本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイスおよびマスクキャリアの概略図であり、マスクキャリアからマスクデバイスを搬出する段階を示している。
【図４】本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイスを取り扱う方法を示すためのフロー図である。
【図５】本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイスを取り扱う方法を示すためのフロー図である。
【図６】本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイスを交換する方法を示すためのフロー図である。
【図７】本明細書に記載の実施形態による、マスク交換チャンバの概略図である。
【図８】本明細書に記載の実施形態による、真空システムの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
これより様々な実施形態を詳細に参照するが、それらの一又は複数の実施例が図面に示される。各実施例は、説明のために提示されており、限定を意味するものではない。例えば、１つの実施形態の一部として図示又は説明される特徴は、他の任意の実施形態に使用又は併用され、更なる実施形態を生み出す可能性がある。本開示はかかる修正例及び変形例を含むことが意図されている。
【００２２】
図面についての以下の説明の中で、同じ参照番号は同じ又は類似の構成要素を指す。概して、個々の実施形態に関しての相違点のみが説明される。別段の指定がない限り、１つの実施形態における一部分又は一態様の説明は、別の実施形態における対応する部分又は態様にも同様に当てはまる。
【００２３】
本開示の様々な実施形態を更に詳細に説明する前に、本明細書で使用するいくつかの用語及び表現に対するいくつかの態様を説明する。
【００２４】
図１は、本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイス１０を取り扱う方法の連続的な段階（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）を概略的に示す。本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、方法は、マスクデバイス１０を、マスクデバイスを保持するための保持装置２０の上に積載すること（Ｘ１）と；保持装置２０を、第１の状態から非水平状態である第２の状態に移動させること（Ｘ２）と；保持装置２０をマスクキャリア１５と位置合わせすること（Ｘ３）と；マスクデバイス１０を、保持装置２０からマスクキャリア１５に移送すること（Ｘ４）とを含む。
【００２５】
本開示において、「状態（ｓｔａｔｅ）」という用語は、「配向（ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）」及び／又は「位置（ｐｏｓｉｔｉｏｎ）」を指すことがある。特に、「第１の状態」は、第１の配向及び／又は第１の位置を指すことがある。したがって、「第２の状態」は、第２の配向及び／又は第２の位置を指すことがある。
【００２６】
したがって、図１の連続的な段階（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は、マスクデバイスを運ぶためのマスクキャリア上にマスクデバイスが積載されるマスクデバイスを取り扱う方法を概略的に図示する。特に、図１を参照して例示的に説明されるマスクデバイスを取り扱う方法は、有利には、マスクデバイスをマスクキャリアの上に積載する改良された方法を提供する。典型的には、マスクデバイス１０を保持装置２０の上に積載すること（Ｘ１）は、新しい、未使用の又は洗浄されたマスクを保持装置の上に積載することを含む。
【００２７】
図２は、本明細書に記載の更なる実施形態による、マスクデバイスを取り扱う方法の連続的な段階（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）を概略的に示す。本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、方法は、第２の状態にある保持装置２０をマスクデバイス１０を保持するマスクキャリア１５と位置合わせすること（Ｙ１）と；マスクデバイス１０をマスクキャリア１５から保持装置２０に移送すること（Ｙ２）と、保持装置２０を、非水平状態である第２の状態から第１の状態に移動させること（Ｙ３）とを含む。
【００２８】
したがって、図２の連続的な段階（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は、マスクデバイスがマスクキャリアから搬出されるマスクデバイスを取り扱う方法を概略的に示す。特に、図２を参照して例示的に説明されるマスクデバイスを取り扱う方法は、有利には、マスクデバイスをマスクキャリアから搬出する改良された方法を提供する。典型的には、マスクデバイスをマスクキャリアから搬出することは、使用済みのマスクを搬出することを含み、即ちマスクされた基板堆積のためのものである。
【００２９】
特に、本明細書に記載のマスクデバイスを取り扱う方法の実施形態は、本明細書に記載の実施形態によるマスクデバイス１０を交換するための装置１００を使用することを含むと理解すべきである。更に、図２を参照して例示的に説明するマスクデバイスを取り扱う方法を、図１を参照して例示的に説明するマスクデバイスを取り扱う方法と組み合わせることによって、マスクデバイスを交換する改良された方法が提供できると理解すべきである。したがって、本明細書に記載のマスクデバイスを交換することによって、使用済みのマスクは、例えば洗浄のために、マスクキャリアから積み下ろしすることができ、新しい又は洗浄されたマスクをマスクキャリア上に積載することができる。
【００３０】
本開示において、「マスクデバイス」は、基板上でのマスク堆積のために構成されたマスクデバイスと理解すべきである。特に、マスクデバイスは、マスクデバイスによって画定される材料パターンでコーティングされるべき基板の前に配置されるように構成される。例えば、マスクデバイスは、マスク蒸発プロセスのために構成され、材料パターンは、蒸発によって基板の上に形成される。いくつかの実施形態では、蒸発した材料は、有機化合物を含みうる。例えば、ＯＬＥＤデバイスが製造されうる。
【００３１】
いくつかの実施形態では、マスクデバイスは、マスク及びマスク支持体を含みうる。マスク支持体は、典型的には壊れやすい構成要素であるマスクを支持し、保持するように構成されうる。例えば、マスク支持体は、マスクを囲み、かつフレーム形状を有する、マスクフレームでありうる。マスクは、例えば溶接によってマスクフレームに恒久的に固定されうるか、又は、マスクフレームに取り外し可能に固定されうる。マスクの外周エッジが、マスクフレームに固定されうる。
【００３２】
マスクは、パターンに形成されており、かつ、マスク堆積プロセスによって対応する材料パターンを基板に堆積させるよう構成された、複数の開口を含みうる。堆積中、マスクは、基板の前に近距離で、又は基板の前面と直接接触して配置されうる。例えば、マスクは、複数の開口（例えば、１０００００以上の開口）を有する微細金属マスク（ｆｉｎｅ  ｍｅｔａｌ  ｍａｓｋ：ＦＭＭ）でありうる。例えば、有機ピクセルのパターンが基板上に堆積されうる。エッジ除外マスクなどの他の種類のマスクでもよい。
【００３３】
いくつかの実施形態では、マスクデバイスは、少なくとも部分的に、金属で（例えばインバー（ｉｎｖａｒ）などの熱膨張係数が小さい金属で）作製されうる。マスクは、堆積中にマスクが基板に向かって磁気的に誘引されうるように、磁気材料を含みうる。代替的又は追加的には、マスクデバイスが磁力を介してマスクキャリアへ誘引されうるように、マスクフレームが磁気材料を含みうる。
【００３４】
マスクデバイスは、０．５ｍ2以上、特に１ｍ2以上の面積を有しうる。例えば、マスクデバイスの高さが０．５ｍ以上、具体的には１ｍであってよく、及び／又は、マスクデバイスの幅が０．５ｍ以上、具体的には１ｍ以上でありうる。マスクデバイスの厚さは１ｃｍ以下であってよく、マスクフレームはマスクよりも厚くなりうる。
【００３５】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態による、図１（ｃ）及び図２（ａ）を例示的に参照すると、保持装置２０をマスクキャリア１５と位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）は、一又は複数の位置合わせ要素２２を保持装置２０に対して移動させること（Ｚ２）を含む。特に、図１（ｃ）及び図２（ａ）に例示的に示すように、一又は複数の位置合わせ要素２２は、マスクキャリア１５に向かう方向に移動させることができる。典型的には、保持装置２０の一又は複数の位置合わせ要素２２は、保持装置２０とマスクキャリア１５との間で位置合わせを行うために、マスクキャリアの一又は複数の対応する位置合わせ要素１６と係合するように構成される。例えば、保持装置２０の一又は複数の位置合わせ要素２２は、一又は複数の位置合わせピン２７を含むことができる。マスクキャリアの一又は複数の対応する位置合わせ要素１６は、保持装置２０の一又は複数の位置合わせ要素２２、特に一又は複数の位置合わせピン２７を受けるように構成された一又は複数の凹部を含むことができる。
【００３６】
図１（ｄ）及び図２（ａ）に例示的に示されるように、マスクキャリア１５は、マスクデバイス１０を非水平配向（Ｖ）に保持しうる。例えば、マスクデバイス１０は、例えば、搬送中及び／又は堆積中に、本質的に垂直な配向で、マスクキャリア１５によって保持されうる。
【００３７】
本明細書で使用される「本質的に垂直な配向（ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ  ｖｅｒｔｉｃａｌ  ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）」とは、マスクデバイス１０の配向であって、マスクデバイス１０の主要面と重力ベクトルとの間の角度が＋１０°から−１０°、具体的には０°から−５°である、配向として理解されうる。いくつかの実施形態では、マスクの配向は、例えば、搬送中及び／又は堆積中に、（厳密に）垂直ではないが、垂直軸に対して若干、例えば０°から−５°の傾斜角だけ傾斜しうる。負の角度は、マスクデバイスが下向きに傾斜するマスクデバイスの配向を指す。堆積中にマスク（及び基板）配向が重力ベクトルからずれていることは、有利であり、かつ、より安定的な堆積プロセスをもたらしうるか、或いは、下を向いた配向は、堆積中に基板上の粒子を減少させるのに好適でありうる。しかし、例えば、搬送中及び／又は堆積中に、マスクデバイスを厳密に垂直な配向（＋／−１°）にしてもよい。
【００３８】
例えば、搬送中及び／又は堆積中の重力ベクトルとマスクデバイスとの間の角度を、より大きくしてもよい。本明細書で使用されるように、０°から＋／−８０°の角度が、「マスクデバイスの非水平配向」として理解されうる。例えば、マスクデバイスを非水平配向で搬送することは、スペースを節約し、より小さい真空チャンバを可能にするための利点を有しうる。
【００３９】
特に、図１及び図２に例示的に示されるように、一又は複数の位置合わせ要素２２は、２以上の位置合わせ要素を含みうる。例えば、図１（ｄ）及び図２（ｂ）を例示的に参照すると、マスクキャリア１５内に提供された、第１の対応する位置合わせ要素１６Ａ、例えば第１の凹部と、係合するように配置及び構成される、第１の位置合わせ要素２２Ａ、例えば第１の位置合わせピンが、提供されうる。更に、マスクキャリア１５に提供される第２の対応する位置合わせ要素１６Ｂ、例えば第２の凹部と係合するように配置及び構成される、第２の位置合わせ要素２２Ｂ、例えば第２の位置合わせピンが、提供されうる。実施例によれば、マスクデバイスを交換するための装置１００は、４つの位置合わせ要素の各々を移動させるためのそれぞれのアクチュエータに結合された４つの位置合わせ要素を含みうる。したがって、マスクキャリア１５は、４つの位置合わせ要素、特に４つの位置合わせ要素のそれぞれの位置合わせピン２７を受けるように構成された、４つの対応する位置合わせ要素を含みうる。
【００４０】
図１（ｄ）及び図２（ｂ）に例示的に示されるように、保持装置２０の第１の位置合わせ要素２２Ａは、保持装置２０の第１の端部２０Ａに提供することができ、第２の位置合わせ要素２２Ｂは、保持装置２０の第２の端部２０Ｂに提供することができる。典型的には、保持装置２０の第２の端部２０Ｂは、保持装置２０の第１の端部２０Ａの反対側にある。マスクキャリア１５の第１の対応する位置合わせ要素１６Ａは、マスクキャリア１５の第１の端部１５Ａに提供することができ、第２の対応する位置合わせ要素１６Ｂは、マスクキャリア１５の第２の端部１５Ｂに提供することができる。典型的には、マスクキャリア１５の第１の端部１５Ａは、マスクキャリア１５の第２の端部１５Ｂの反対側にある。図１（ｄ）及び図２（ｂ）に例示的に示すように、例えば、マスクキャリア１５の第１の端部１５Ａは、マスクキャリア１５の上端部とすることができ、マスクキャリア１５の第２の端部１５Ｂは、マスクキャリア１５の下端部とすることができる。
【００４１】
したがって、本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、保持装置２０をマスクキャリア１５と位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）は、図１及び図２に例示的に示すように、一又は複数の位置合わせ要素２２をマスクキャリア１５と、特にマスクキャリア１５の一又は複数の対応する位置合わせ要素１６と係合させることを含みうる。
【００４２】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、保持装置２０をマスクキャリアと位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）は、図１（ｃ）及び図２（ａ）に例示的に示されるように、マスクキャリアを持ち上げること（Ｚ１）を含むことができる。特に、マスクキャリアを持ち上げること（Ｚ１）は、マスクキャリア１５に作用する磁力を生成するための電磁気装置３５を使用することを含みうる。本開示の図面では、陰影を付けて参照番号の後ろにダッシュを付けることによって、即ち３５’によって、作動した電磁気装置が示される。例えば、電磁気装置３５は、本明細書で説明される真空システム内のマスクキャリアを搬送するためのマスク搬送システムの一部でありうる。追加的に又は代替的には、電磁気装置３５は、上からの磁力によってマスクキャリア１５の重量の少なくとも一部を保持するように構成された磁気浮上システムとすることができる。
【００４３】
特に、マスクキャリアを持ち上げることは、マスクキャリア１５の支持要素１８とマスクキャリア１５を特に垂直方向に支持するための支持装置４０との間の接点を解放することを含むことができる。更に、マスクキャリアを持ち上げること（Ｚ１）によって、キャリア位置合わせピン１７は、図１（ｃ）及び図２（ａ）に例示的に示すように、マスクデバイス１０に設けられる受容部１３内を移動させることができる。特に、マスクキャリアを持ち上げること（Ｚ１）によって、キャリア位置合わせピン１７は、受容部１３の第１の表面から受容部１３の第２の表面まで移動しうる。典型的には、受容部１３の第１の表面及び受容部１３の第２の表面は、当接面をキャリア位置合わせピン１７に提供する。
【００４４】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、マスクデバイス１０を移送すること（Ｘ４，Ｙ２）は、マスクデバイス１０に作用する磁力を提供するための一又は複数の電磁気要素２３を使用することを含む。本開示の図面では、陰影を付けて参照番号の後ろにアポストロフィを付けることによって、即ち２３’によって、作動した電磁気要素が示される。
【００４５】
特に、図１（ｄ）に例示的に示されるように、マスクデバイス１０を保持装置２０からマスクキャリア１５に移送するために、保持装置の電磁気要素２３の作動が停止され、マスクキャリア１５の電磁気要素２３’が作動される。したがって、図２（ｂ）に例示的に示されるように、マスクデバイス１０をマスクキャリア１５から保持装置２０に移送するために、マスクキャリア１５の電磁気要素２３の作動が停止され、保持装置２０の電磁気要素２３’が作動される。
【００４６】
したがって、保持装置２０は、保持装置２０でマスクデバイス１０を保持するように構成された、一又は複数の電磁気要素２３を含みうる。更に、マスクキャリア１５は、マスクキャリア１５でマスクデバイス１０を保持するように構成された、一又は複数の電磁気要素２３含みうる。例えば、マスクキャリア１５の一又は複数の電磁気要素２３は、マスクキャリア１５内に統合することができる。
【００４７】
図２（ｃ）を例示的に参照すると、保持装置（２０）を第２の状態から第１の状態に移動させる（Ｙ３）前に、方法は、一又は複数の位置合わせ要素２２をマスクキャリア１５から後退させること（Ｙ２３）を含みうる。
【００４８】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第１の状態は、図１（ａ）及び図２（ｄ）に例示的に示されるように、略水平状態（Ｈ）である。特に、第１の状態は、マスクデバイスの主要面と水平面との間の角度が３０°以下である状態である。
【００４９】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第２の状態は、図１（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に例示的に示されるように、略垂直状態（Ｖ）である。特に、図３に例示的に示すように、第２の状態は、マスクデバイス１０の主要面１０Ａと重力ベクトルＧとの間の角度αが＋１０°から−１０°までの間である状態とすることができる。特に、マスクデバイス１０の主要面１０Ａと重力ベクトルＧとの間の角度αは、＋５°から−５°までの間とすることができる。実施例によれば、角度αは、α＝＋３°又はα＝−３°である。
【００５０】
図１（ｂ）及び図２（ｄ）を例示的に参照すると、本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、保持装置２０を移動させること（Ｘ２，Ｙ３）は、特に本明細書に記載の保持装置２０を移動させるための機構２４を使用することによって、保持装置を回転軸２５の周囲で回転させること（又はスイングすること）を含む。特に、回転軸２５は、水平面内にありうる。
【００５１】
図３ａ及び図３ｂは、本明細書に記載の実施形態による、マスクキャリアからマスクデバイスを交換するための方法の２つの異なる段階を示す。特に、図３（ａ）は、マスクキャリア１５に作用する磁力を生成するための電磁気装置３５’が作動され、マスクキャリアが浮上する段階を示す。図３（ｂ）は、マスクキャリア１５に作用する磁力を生成するための電磁気装置３５の作動が停止され、マスクキャリアが支持装置４０の上に落とされる段階を示す。したがって、マスクデバイス１０をマスクキャリア１５から保持装置２０に移送し（Ｙ２）、一又は複数の位置合わせ要素２２を後退させた（Ｙ２３）後に、マスクデバイスをマスクキャリアから搬出することは、例えば、マスクキャリア１５を支持するための支持装置４０の上に、マスクキャリアを落とすこと（Ｚ３）を含むことができる。特に、マスクキャリアを落とすこと（Ｚ３）は、マスクキャリア１５に作用する磁力を生成するための電磁気装置３５を作動停止することを含みうる。
【００５２】
マスクデバイス１０及びマスクキャリア１５の図３（ｃ）における概略図から理解できるように、マスクデバイス１０の主要面１０Ａと重力ベクトルＧとの間の角度αが提供される第２の状態、即ち、マスクデバイス及びマスクキャリアが重力ベクトルＧに対して傾斜しているような第２の状態を提供することにより、例えばマスクキャリアを落とすこと（Ｚ３）によってマスクデバイスがマスクエリアから分離されている間に、マスクデバイスとマスクキャリアとの間の表面対表面の接触による摩擦を回避することができるという利点がある。
【００５３】
図４は、本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイスを取り扱う方法４００を示すためのフロー図である。ボックス４１０は、図１（ａ）を参照して例示的に説明されたように、マスクデバイス１０を、マスクデバイスを保持するための保持装置２０の上に積載する（Ｘ１）動作を表す。ボックス４２０は、図１（ｂ）を参照して例示的に説明されたように、保持装置２０を第１の状態から非水平状態である第２の状態に移動させる（Ｘ２）動作を表す。ボックス４３０は、図１（ｃ）を参照して例示的に説明されたように、保持装置２０をマスクキャリア１５と位置合わせする（Ｘ３）動作を表す。ボックス４４０は、図１（ｄ）を参照して例示的に説明されたように、マスクデバイス１０を保持装置２０からマスクキャリア１５に移送する（Ｘ４）動作を表す。
【００５４】
図５に示すフロー図を例示的に参照すると、本明細書に記載の更なる実施形態によるマスクデバイスを取り扱う方法５００が示される。ボックス５１０は、図２（ａ）を参照して例示的に説明されたように、第２の状態にある保持装置２０を、マスクデバイス１０を保持するマスクキャリア１５と位置合わせする（Ｙ１）動作を表す。ボックス５２０は、図２（ｂ）を参照して例示的に説明されたように、マスクデバイス１０をマスクキャリア１５から保持装置２０に移送する（Ｙ２）動作を表す。ボックス５３０は、図２（ｂ）を参照して例示的に説明されたように、保持装置２０を非水平状態である第２の状態から第１の状態に移動させる（Ｙ３）動作を表す。
【００５５】
図６は、本明細書に記載の実施形態による、マスクデバイスを交換する方法６００を示すためのフロー図である。方法６００は、図２及び図５を参照して例示的に説明された、第１のマスクデバイスであるマスクデバイスを取り扱う方法５００を実行することを含む。更に、方法６００は、図１及び図４を参照して例示的に説明された、マスクデバイスを取り扱う方法４００を実行することを含み、マスクデバイスは第２のマスクデバイスである。例えば、第１のマスクデバイスは、使用済みのマスクデバイスとすることができ、第２のマスクデバイスは、使用対象となるマスクデバイスとすることができる。
【００５６】
本明細書で使用される「使用対象となるマスクデバイス（ｍａｓｋ  ｄｅｖｉｃｅｓ  ｔｏ  ｂｅ  ｕｓｅｄ）」は、少なくとも１つの堆積チャンバ内に搬送され、基板上でのマスク堆積に使用されるべきマスクデバイスと理解されうる。いくつかの実施形態では、使用対象となるマスクデバイスは、新しいマスクデバイス、洗浄されたマスクデバイス、又は保守点検若しくはメンテナンスを受けたマスクデバイスでありうる。
【００５７】
本明細書で使用される「使用済みのマスクデバイス」は、堆積チャンバ内でのマスク堆積に使用されたマスクデバイスと理解することができる。使用済みのマスクデバイスは、例えば、洗浄又はメンテナンスのために、堆積チャンバから搬送されることになる。例えば、使用済みのマスクデバイスは、例えば、大気圧下での洗浄のために、真空システムから搬出されることになる。一又は複数の基板上のマスク堆積にマスクデバイスを使用することによって、使用対象となるマスクデバイスは、使用済みのマスクデバイスになる。典型的には、マスクデバイスは、１０以上の基板上のマスク堆積に使用され、洗浄されうる。洗浄後、マスクデバイスは、再び真空システム内に搬入され、マスク堆積に使用することができる。
【００５８】
特に、マスクデバイスを交換する方法６００は、典型的には、第２の状態にある保持装置２０を、第１のマスクデバイスであるマスクデバイス１０を保持するマスクキャリア１５と位置合わせすること（Ｙ１）と；第１のマスクデバイスをマスクキャリア１５から保持装置２０に移送すること（Ｙ２）と、保持装置２０を、非水平状態である第２の状態から第１の状態に移動させること（Ｙ３）とを含む。更に、方法６００は、第２のマスクデバイスであるマスクデバイス１０を、マスクデバイス１０を保持するための保持装置２０の上に積載すること（Ｘ１）と；保持装置２０を、第１の状態から非水平状態である第２の状態に移動させること（Ｘ２）と；保持装置２０をマスクキャリア１５と位置合わせすること（Ｘ３）と；第２のマスクデバイスを保持装置２０からマスクキャリア１５に移送すること（Ｘ４）とを含む。
【００５９】
図１から図３を参照して例示的に説明されたように、本開示の態様によれば、マスクキャリア１５からマスクデバイス１０を交換するための装置１００が提供される。特に、本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、装置１００は、マスクデバイス１０を保持するための保持装置２０と；保持装置２０を第１の状態と非水平状態である第２の状態との間で移動させるための機構２４と；保持装置２０をマスクキャリア１５と位置合わせするための位置合わせアセンブリ２６と含む。例えば、保持装置２０を移動させるための機構２４は、保持装置２０を回転軸２５の周囲で回転させるための回転機構とすることができる。より具体的には、保持装置２０を移動させるための機構２４は、自動機構でありうる。例えば、保持装置２０は、磁力を使用するなどして、マスクデバイスを保持するように構成されているロボットアームを含むことができる。
【００６０】
特に、図１（ａ）及び図２（ｄ）を例示的に参照すると、第１の状態は、略水平状態とすることができる。より具体的には、第１の状態は、マスクデバイスの主要面と水平面との間の角度が３０°以下である状態とすることができる。第２の状態は、図１（ｂ）及び図２（ａ）に例示的に示されるように、略垂直状態とすることができる。より具体的には、第２の状態は、マスクデバイスの主要面と重力ベクトルとの間の角度が＋１０°から−１０°までの間である状態とすることができる。
【００６１】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、位置合わせアセンブリ２６は、保持装置２０に対して移動可能である一又は複数の位置合わせ要素２２を含む。特に、図１（ｃ）及び図２（ａ）に例示的に示すように、一又は複数の位置合わせ要素２２は、マスクキャリア１５に向かう方向に移動可能であるように構成することができる。更に、図２（ｃ）に例示的に示されるように、一又は複数の位置合わせ要素２２は、マスクキャリア１５から離れる方向に移動可能であるように構成することができる。例えば、一又は複数の位置合わせ要素２２には、保持装置２０に対して一又は複数の位置合わせ要素を移動させるための、例えば線形アクチュエータといった駆動装置が提供されうる。
【００６２】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、保持装置２０の一又は複数の位置合わせ要素２２は、保持装置２０とマスクキャリア１５との間で位置合わせを行うための、マスクキャリアの一又は複数の対応する位置合わせ要素１６と係合するように構成される。例えば、保持装置２０の一又は複数の位置合わせ要素２２は、一又は複数の位置合わせピン２７を含むことができる。マスクキャリアの一又は複数の対応する位置合わせ要素１６は、保持装置２０の一又は複数の位置合わせ要素２２、特に一又は複数の位置合わせピン２７を受けるように構成された一又は複数の凹部を含むことができる。
【００６３】
１つの実施例によれば、マスクデバイス１０を交換するための装置１００は、それぞれの位置合わせ要素を移動させるためのそれぞれのアクチュエータに結合された４つの位置合わせ要素２２を含みうる。したがって、マスクキャリア１５は、４つの位置合わせ要素２２、特に４つの位置合わせ要素２２のそれぞれの位置合わせピン２７を受けるように構成された、４つの対応する位置合わせ要素１６を含みうる。
【００６４】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、保持装置２０は、磁力によってマスクデバイス１０を保持するための一又は複数の電磁気要素２３を含む。したがって、本開示では、本明細書に記載される「保持装置」は、特に保持装置のマスク保持部分とマスクデバイスとの間の磁気相互作用を使用して、マスクデバイスを保持するように構成されている装置と理解すべきである。
【００６５】
マスクデバイスを交換するための装置１００の実施形態に関して記載される特徴はまた、本明細書に記載の方法の実施形態にも適用することができると理解すべきである。
【００６６】
図７は、本明細書に記載の実施形態による、マスク交換チャンバ３００の概略図を示す。図７に例示的に示すように、マスク交換チャンバ３００は、マスクキャリア１５を保持するように構成された磁気浮上システム３５０を含む。更に、マスク交換チャンバ３００は、本明細書に記載の実施形態の何れかによる、マスクキャリア１５からマスクデバイス１０を交換するための装置１００を含む。したがって、マスクデバイスを交換するための装置１００は、マスク交換チャンバ３００内に配置することができる。
【００６７】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、マスク交換チャンバ３００は、マスク交換チャンバ３００の側壁３０５内に設けられた閉鎖可能な開口３１０を含みうる。したがって、マスクデバイス１０は、鎖可能な開口３１０を通って、例えば、複数のマスクデバイスを保管するよう構成されているマスクマガジン若しくは別のマスク保管デバイスから又はマスクマガジン若しくは別のマスク保管デバイスに、移動させてもよい。例えば、マスクマガジンは、ロードロックチャンバ内に配置されてもよい。本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、マスクデバイス１０を交換するための装置１００は、開口を通してマスクマガジン内に移動可能に構成されうる。
【００６８】
図８は、本明細書に記載の実施形態による、材料を基板の上に堆積させるための真空システム７００の概略図を示す。図８に例示的に示すように、真空システム７００は、本明細書に記載の実施形態による、マスク交換チャンバ３００と；少なくとも１つの堆積チャンバ７１０と；マスク交換チャンバ３００と少なくとも１つの堆積チャンバ７１０との間で、非水平配向に使用対象となるマスクデバイス及び使用済みのマスクデバイスを搬送するように構成されたマスク搬送システム７２０とを含む。例えば、マスク搬送システム７２０は、磁気浮上システムとして構成されうる。
【００６９】
図８を例示的に参照すると、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、マスク交換チャンバ３００は、マスクデバイスを交換するための第１の装置１００Ａ及びマスクデバイスを交換するための第２の装置１００Ｂを含みうる。例えば、マスクデバイスを交換するための第１の装置１００Ａは、第１のマスクハンドリングエリア７０１内に配置され、マスクデバイスを交換するための第２の装置１００Ｂは、第２のマスクハンドリングエリア７０２内に配置されうる。
【００７０】
第２のマスクハンドリングエリア７０２及び第１のマスクハンドリングエリア７０１は、マスク交換チャンバ３００の種々のセクションに対応し、これらの種々のセクションは、互いに隣接していてもよく、又は互いから離間されていてもよい。例えば、第１のマスクハンドリングエリア７０１及び第２のマスクハンドリングエリア７０２は、マスク交換チャンバ３００の反対側の部分でありうる。いくつかの実施形態では、第１のマスクハンドリングエリア７０１及び第２のマスクハンドリングエリア７０２は、マスクキャリア１５を搬送するように構成された搬送経路の反対側に位置する。例えば、第１の装置１００Ａを有する第１のマスクハンドリングエリア７０１は、使用対象となるマスクデバイス７１１を取り扱うように構成することができ、第２の装置１００Ｂを有する第２のマスクハンドリングエリア７０２は、使用済みのマスクデバイス７１２を取り扱うように構成することができる。
【００７１】
したがって、有利には、使用対象となるマスクデバイス７１１は、使用済みのマスクデバイス７１２とは別々に取り扱う（例えば、取り付ける、取り外す、搬入する、搬出する、保管する、移動させる、回転させる及び／又は平行移動させる）ことができ、このことは、洗浄したマスクデバイスの汚染を低減又は回避することができるといった利点を有する。
【００７２】
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい、いくつかの実施形態では、真空システムの主要搬送経路Ｚは、第１のマスクトラック７３１、第２のマスクトラック７３２、第１の基板トラック７３３及び第２の基板トラック７３４を含む、４つ以上のトラックを含む。更なるトラックが設けられてもよい。トラックは、真空システムの主要搬送方向において互いに平行に延びうる。第１の基板トラック７３３及び第２の基板トラック７３４は、外側トラックとして設けられ、第１のマスクトラック７３１及び第２のマスクトラック７３２は、基板トラック同士の間に配置される内側トラックとして設けられうる。他の配置も可能である。
【００７３】
例えば、第１のマスクトラック７３１及び第２のマスクトラック７３２は、真空システム７００を通してマスクキャリアを浮上させ及び／又は搬送するように構成された、磁気マスク浮上システムの一部とすることができる。第１の基板トラック７３３及び第２の基板トラック７３４は、真空システム７００を通して基板キャリアを浮上させ及び／又は搬送するように構成された、磁気基板浮上システムの一部とすることができる。
【００７４】
本明細書に記載の他の任意の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第１のマスクハンドリングエリア７０１に延びるマスク搬入通路が設けられ、例えば、第１のロードロックチャンバ７０３を介して、使用対象となるマスクデバイス７１１を真空システム７００に搬入するように構成されうる。更に、第２のマスクハンドリングエリア７０２から延びるマスク搬出通路が設けられ、例えば、第２のロードロックチャンバ７０４を介して、使用済みのマスクデバイス７１２を真空システム７００から搬出するように構成されうる。
【００７５】
第１のロードロックチャンバ７０３及び第２のロードロックチャンバ７０４は、マスク交換チャンバ３００の２つの反対の側で、マスク交換チャンバ３００に隣接して設けられうる。例えば、図８に概略的に描かれているように、第１のロードロックチャンバ７０３は、マスク交換チャンバ３００の第１の側に配置され、第２のロードロックチャンバ７０４は、第１の側と反対側のマスク交換チャンバ３００の第２の側に配置されうる。特に、第１のロードロックチャンバ７０３及び第２のロードロックチャンバ７０４は、マスクキャリアを案内するように構成されたマスクトラックの反対側に配置されうる。
【００７６】
典型的には、真空システム７００は、一又は複数の真空チャンバを含む。例えば、マスク交換チャンバ３００及び／又は少なくとも１つの堆積チャンバ７１０は、真空チャンバとして構成することができる。本明細書で使用される「真空チャンバ」（「真空モジュール」とも称される）は、準大気圧で提供することができる真空システム内の特定領域と理解されうる。必ずというわけではないが、典型的には、２つの隣接する真空チャンバ又は真空モジュール同士の間の通路は、隣接する真空チャンバをフラッドすることなく一方の真空チャンバの保守点検又はメンテナンスのために閉鎖することができる。したがって、準大気圧が真空システム７００内に提供されうる。例えば、真空システム７００の内部空間は、１００ｍｂａｒ以下、特に１０ｍｂａｒ以下、より具体的には１ｍｂａｒ以下の圧力、又はそれをいっそう下回る圧力まで、ポンプダウンされうる。特に、真空システムの真空チャンバは、堆積中に１０ｍｂａｒ以下の低い絶対圧で提供されうる。
【００７７】
図８に例示的に示すように、材料を基板上にマスク堆積させるための堆積源７１５は、少なくとも１つの堆積チャンバ７１０内に設けることができる。例えば、堆積源７１５は、蒸発源とすることができる。しかしながら、本開示は、蒸発源を有する真空システムに限定されない。例えば、化学気相堆積（ＣＶＤ）システム、物理的気相堆積（ＰＶＤ）システム（例えば、スパッタシステム）、及び／又は蒸発システムが、堆積チャンバ内で、例えば、ディスプレイ用途のために、基板（例えば、薄いガラス基板）をコーティングするように開発された。典型的な真空システムでは、基板は、基板キャリアによって保持され、基板キャリアは、基板搬送システムによって、真空チャンバを通して搬送されうる。基板キャリアは、基板の主要面の少なくとも一部がコーティングデバイス（例えば、スパッタデバイス又は蒸発デバイス）に向けて露出されるように、基板搬送システムによって移動されうる。基板が、所定のスピードで基板を通過する蒸発源の前に位置付けられる間に、基板の主要面が薄いコーティング層でコーティングされてもよい。代替的には、基板は、所定のスピードでコーティングデバイスを通過するように搬送されてもよい。
【００７８】
基板は、ウエハ、サファイアなどの透明結晶体のスライス、ガラス基板、又はセラミックプレートといった、非フレキシブル基板でありうる。しかしながら、本開示はこれに限定されず、「基板」という用語は、ウェブ又は箔（例えば金属箔又はプラスチック箔）などのフレキシブル基板も包含しうる。
【００７９】
いくつかの実施形態では、基板は大面積基板でありうる。大面積基板は、０．５ｍ２以上の表面積を有しうる。特に、大面積基板は、ディスプレイ製造に使用され、かつ、ガラス基板又はプラスチック基板であってもよい。例えば、本明細書に記載の基板は、典型的にはＬＣＤ（液晶ディスプレイ）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などに使用される基板を包含するものとする。例えば、大面積基板は、面積が１ｍ２以上の主要面を有しうる。いくつかの実施形態では、大面積基板は、約０．６７ｍ２の基板（０．７３ｍ×０．９２ｍ）に対応するＧＥＮ４．５、約１．４ｍ２の基板（１．１ｍ×１．３ｍ）に対応するＧＥＮ５、又はそれ以上のものでありうる。大面積基板は、更に、約４．２９ｍ２の基板（１．９５ｍ×２．２ｍ）に対応するＧＥＮ７．５、約５．７ｍ２の基板（２．２ｍ×２．５ｍ）に対応するＧＥＮ８．５、又は約８．７ｍ２の基板（２．８５ｍ×３．０５ｍ）に対応するＧＥＮ１０であってもよい。ＧＥＮ１１及びＧＥＮ１２などの更に大きな世代及びそれに相当する基板面積を同様に実装してもよい。いくつかの実施態様では、数ｃｍ２（例えば、２ｃｍ×４ｃｍ）に至るまでの表面積、及び／又は、様々な個別形状を有する、より小さなサイズの基板のアレイが、単一の基板支持体上に位置付けられうる。マスクデバイスは、いくつかの実施形態では、堆積中に基板との完全な重複をもたらすために、基板よりも大きくなりうる。
【００８０】
いくつかの実施態様では、基板の主要面に対して直角方向の基板の厚さは、１ｍｍ以下（例えば、０．１ｍｍから１ｍｍ）、具体的には０．３ｍｍから０．６ｍｍ（例えば、０．５ｍｍ）でありうる。更に薄い基板も可能である。
【００８１】
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態では、真空システム７００は、マスク交換チャンバ３００と、少なくとも１つの堆積チャンバ７１０と、第２の堆積チャンバ７１３との間に配置されているルーティングチャンバ７０８を更に含みうる。ルーティングチャンバ７０８は、マスク交換チャンバ３００と少なくとも１つの堆積チャンバ７１０との間で、かつマスク交換チャンバ３００と第２堆積チャンバ７１３との間で、使用対象となるマスクデバイス７１１及び使用済みのマスクデバイス７１２をルーティングするように構成された、ルーティングデバイス７０９（例えば回転デバイス）を含みうる。例えば、マスクキャリア及び基板キャリアが、主要搬送経路Ｚと堆積チャンバとの間の交差部において、本質的に垂直な回転軸の周囲で回転することになるように、少なくとも１つの堆積チャンバ７１０及び第２堆積チャンバ７１３の配向は、真空システムの主要搬送経路Ｚに対して垂直になりうる。マスクキャリア及び／又は基板キャリアは、ルーティングチャンバ７０８内で回転しうる。
【００８２】
いくつかの実施形態では、更なる堆積チャンバ、移行チャンバ、及び／又はルーティングチャンバが、例えば、図８の上側で、マスク交換チャンバ３００と別の側に設けられてもよい。
【００８３】
本明細書に記載の実施形態によれば、比較的軽量のマスクデバイスは、周囲環境から真空システム内に搬入することができ、マスクデバイスは、真空システム内でマスクキャリアに迅速に取り付けることができる。したがって、マスクの取り扱いを加速することができ、システムのアイドル時間を短縮することができる。
【００８４】
特に、マスクデバイスのマスクフレームは、真空システム内で直接マスクキャリアから取り外すことができる。したがって、マスクデバイスだけが、例えば頭上搬送ビークルによって、真空システムの外に搬送されることになる。マスクキャリアは、マスクデバイスよりもずっと長い時間にわたって真空システム内に留まる可能性があるシールドセグメントと一緒に、真空下に留まることになろう。真空システムの外で取り扱われる必要があるマスクごとの最大重量は、例えば、マスクキャリアの約３００ｋｇ以上から、マスクキャリアを伴わないマスクデバイスの１５０ｋｇ以下に、劇的に減少する。したがって、典型的な頭上搬送ビークルは、７つ以上のマスクデバイスを（ずっと少ない数のマスクキャリアの代わりに）容易に搬送することができる。マスク交換を加速することができ、かつ頭上搬送システムの数、マスクキャリアの数、及び／又はマスクストッカの数を削減することができる。したがって、コストも削減することができ、空間要件を改善することができる。マスクキャリアは、例えばそれに装着されたシールドと一緒に、より長い時間にわたって真空下に留まることができ、したがって、メンテナンス労力が著しく削減される。シールドが洗浄又は交換される際に、マスクキャリアを大気中に送り出すことができる。したがって、マスクキャリアの総数を削減することができる。
【００８５】
本明細書に記載の実施形態によれば、マスクデバイス及び／又は基板は、真空システム内で本質的に垂直配向に搬送される。マスクデバイス及び／又は基板が本質的に水平な配向で搬送され処理されるという概念と比較すると、垂直搬送という概念は、より大型サイズの基板を取り扱うことを可能にする。本質的に垂直な配向でマスクデバイス及び／又は基板を搬送することは、マスクデバイス及び／又は基板をそれぞれのキャリアに装着することによって、容易になりうる。本明細書に記載の実施形態によれば、マスクデバイスのマスクキャリアへの取り付け、又はマスクキャリアからの取り外しは、大気条件下ではなく、真空システムの内部で実行される。したがって、真空システムの外で取り扱われる必要がある重量を削減することができる。
【００８６】
したがって、上記に鑑み、本明細書に記載の実施形態は、迅速かつ効率的なマスク交換を提供すると理解すべきである。特に、本明細書に記載の実施形態は、基板上でのマスク堆積のために構成された真空システムにおけるマスク交換を単純化し、加速するという利点を有する。
【００８７】
以上の説明は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲を逸脱することなく、本開示の他の更なる実施形態を考案することができ、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。
【００８８】
特に、本明細書は、ベストモードを含む本開示を公開し、また当業者が、任意のデバイス又はシステムを作成及び使用し、かつ任意の組み込まれた方法を実行することを含む、記載された主題を実施できるようにするために、実施例を使用する。前述において様々な特定の実施形態を開示してきたが、上記実施形態の相互に非排他的な特徴は、互いに組み合わせることが可能である。特許性のある範囲は、特許請求の範囲によって規定され、その他の実施例は、特許請求の範囲が特許請求の範囲の文字通りの文言と相違しない構造要素を有する場合、又は特許請求の範囲が特許請求の範囲の文字通りの文言とは実質的な違いがない均等の構造要素を含む場合には、特許請求の範囲内にあるものとする。
【図１（ａ）】
2019531399.tif 000003
【図１（ｂ）】
2019531399.tif 000004
【図１（ｃ）】
2019531399.tif 000005
【図１（ｄ）】
2019531399.tif 000006
【図２（ａ）】
2019531399.tif 000007
【図２（ｂ）】
2019531399.tif 000008
【図２（ｃ）】
2019531399.tif 000009
【図２（ｄ）】
2019531399.tif 000010
【図３（ａ）】
2019531399.tif 000011
【図３（ｂ）】
2019531399.tif 000012
【図３（ｃ）】
2019531399.tif 000013
【図４】
2019531399.tif 000014
【図５】
2019531399.tif 000015
【図６】
2019531399.tif 000016
【図７】
2019531399.tif 000017
【図８】
2019531399.tif 000018
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月16日(2018.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクデバイス（１０）を取り扱う方法であって、
前記マスクデバイス（１０）を、前記マスクデバイスを保持するための保持装置（２０）の上に積載すること（Ｘ１）と、
前記保持装置（２０）を、第１の状態から非水平状態である第２の状態に移動させること（Ｘ２）と、
前記保持装置（２０）をマスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｘ３）と、
前記マスクデバイス（１０）を、前記保持装置（２０）から前記マスクキャリア（１５）に移送すること（Ｘ４）と
を含む方法。
【請求項２】
マスクデバイス（１０）を取り扱う方法であって、
第２の状態にある保持装置（２０）を前記マスクデバイス（１０）を保持するマスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｙ１）と、
前記マスクデバイス（１０）を、前記マスクキャリア（１５）から前記保持装置（２０）に移送すること（Ｙ２）と、
前記保持装置（２０）を、非水平状態である前記第２の状態から第１の状態に移動させること（Ｙ３）と
を含む方法。
【請求項３】
前記保持装置（２０）を前記マスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）が、一又は複数の位置合わせ要素（２２）を前記保持装置（２０）に対して移動させること（Ｚ２）を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記保持装置（２０）を前記マスクキャリア（１５）と位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）が、一又は複数の位置合わせ要素（２２）を前記マスクキャリア（１５）に係合させることを含む、請求項１から３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記保持装置（２０）を前記マスクキャリアと位置合わせすること（Ｘ３，Ｙ１）が、前記マスクキャリア（１５）に作用する磁力を生成するための電磁気装置（３５）を使用することによって、前記マスクキャリアを持ち上げること（Ｚ１）を含む、請求項１から４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記マスクデバイス（１０）を移送すること（Ｘ４，Ｙ２）が、前記マスクデバイス（１０）に作用する磁力を提供するための一又は複数の電磁気要素（２３）を使用することを含む、請求項１から５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の状態が、前記マスクデバイスの主要面と水平面との間の角度が３０°以下の状態である、及び／又は、前記第２の状態が、前記マスクデバイス（１０）の主要面と重力ベクトルとの間の角度が＋１０°から−１０°の間の状態である、請求項１から６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記保持装置（２０）を移動させること（Ｘ２，Ｙ２）が、前記保持装置を回転軸（２５）周囲で回転させることを含む、請求項１から７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
マスクキャリア（１５）からマスクデバイス（１０）を交換する方法であって、
第１のマスクデバイス（１１）であるマスクデバイスを取り扱う、請求項２から８の何れか一項に記載の方法を実行することと、
第２のマスクデバイス（１２）であるマスクデバイスを取り扱う、請求項１及び３から８の何れか一項に記載の方法を実行することと
を含む方法。
【請求項１０】
マスクキャリア（１５）からマスクデバイス（１０）を交換するための装置（１００）であって、
前記マスクデバイス（１０）を保持するための保持装置（２０）と、
前記保持装置（２０）を第１の状態と非水平状態である第２の状態との間で移動させるための機構（２４）と、
前記保持装置（２０）を前記マスクキャリア（１５）と位置合わせするための位置合わせアセンブリ（２６）と
を含む装置（１００）。
【請求項１１】
前記位置合わせアセンブリ（２６）が、前記保持装置（２０）に対して移動可能である一又は複数の位置合わせ要素（２２）を含む、請求項１０に記載の装置（１００）。
【請求項１２】
前記保持装置（２０）が、磁力によって前記マスクデバイス（１０）を保持するための一又は複数の電磁気要素（２２）を含む、請求項１０又は１１に記載の装置（１００）。
【請求項１３】
前記第１の状態が、前記マスクデバイスの主要面と水平面との間の角度が３０°以下の状態である、及び／又は、前記第２の状態が、前記マスクデバイス（１０）の主要面と重力ベクトルとの間の角度が＋１０°から−１０°の間の状態である、請求項１０から１２の何れか一項に記載の装置（１００）。
【請求項１４】
マスク交換チャンバ（３００）であって、
マスクキャリア（１５）を保持するように構成された磁気浮上システム（３５０）と、
請求項１０から１３の何れか一項に記載の、マスクキャリア（１５）からマスクデバイス（１０）を交換するための装置（１００）と
を含むマスク交換チャンバ（３００）。
【請求項１５】
材料を基板の上に堆積させるための真空システム（７００）であって、
請求項１４に記載のマスク交換チャンバ（３００）と、
少なくとも１つの堆積チャンバ（７１０）と、
使用対象となるマスクデバイス及び使用済みのマスクデバイスを、前記マスク交換チャンバ（３００）と前記少なくとも１つの堆積チャンバ（７１０）との間で、非水平配向で搬送するように構成されたマスク搬送システム（７２０）と
を含む真空システム（７００）。
【国際調査報告】
2019531399.tif 000019
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