(57)【要約】  本発明は、新規トキシン及びその中間体の製造方法に関する。具体的には、本発明は、新規トキシン及びその中間体（III）及び（IV）の製造方法、及び一般式（I）で示されるものを合成するための製造方法に関する。該方法は、一般式（I）で示される化合物を得るために一般式（III）で示されるキラル化合物を一連の保護基の付加反応、保護基の除去反応及びアミド化に付すことを含んでいる。本方法は、マイルドな反応条件、シンプルな操作、高い光学純度及び高い合成収率の利点を有し、大規模製造に適している。2019510000.tif 000057【選択図】なし
2019510000.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（III）の化合物、
【化１】
2019510000.tif 000040
（式中：
Aは、3〜8員環、好ましくは3員環であり；
R1は、水素又はアミノ保護基、好ましくはBoc, Fmoc, Alloc, Troc, Teoc, CBz, Tosyl, Nosyl及びt-Buであり；そして
R2は、水素又はカルボキシル保護基、好ましくはDMB, Bn, Allyl, PfP, Me, PMB, MEM及びt-Buである）。
【請求項２】
キラル補助基（R3）を含む式（II）のキラル化合物をアルカリ条件下に加水分解し、又は任意に次いでカルボキシル保護基を付加して式（III）の化合物を得る：
【化２】
2019510000.tif 000041
（式中：
キラル補助基（R3）は、
【化３】
2019510000.tif 000042
から成る群より選択され；
Xは、硫黄又は酸素であり；
アルカリ試薬は、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム又は水酸化リチウム、より好ましくは水酸化リチウムであり；そして
R1〜R2は、請求項１で定義した通りである。）
ことを特徴とする、請求項１に記載の式（III）の化合物の製造方法。
【請求項３】
式（IV）の化合物、
【化４】
2019510000.tif 000043
（式中：
Aは、3〜8員環、好ましくは3員環であり；
R1は、水素又はアミノ保護基、好ましくはBoc, Fmoc, Alloc, Troc, Teoc, CBz, Tosyl, Nosyl及びt-Buであり；
R2は、カルボキシル保護基、好ましくはDMB, Bn, Allyl, PfP, Me, PMB, MEM及びt-Buであり；そして
Rxは、アルキル及びシクロアルキルから成る群より選択され、該アルキル及びシクロアルキルは、それぞれ独立してアルキル、ハロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールから成る群より選択される1以上の基で任意に置換されていてもよく；好ましくは、Rxはメチルである）。
【請求項４】
式（III）の化合物をアルキル化剤と反応させて式（IV）の化合物を得る、
【化５】
2019510000.tif 000044
（式中：
アルキル化剤が、ハロゲン化アルキル、硫酸ジメチル、炭酸ジメチル、スルホン酸エステル、リン酸トリメチル及びMe3+BF4-；好ましくはヨウ化メチル及びMe3+BF4-から成る群より選択され；そして
A, R1, R2及びRxは、請求項３で定義した通りである。）
ことを特徴とする、請求項３に記載の式（IV）の化合物の製造方法。
【請求項５】
式（IV）の化合物のカルボキシル保護基を除去して式（V）の化合物を得る、
【化６】
2019510000.tif 000045
（式中：
A, R1, R2及びRxは、請求項３で定義した通りである。）
ことを特徴とする、請求項３に記載の式（IV）の化合物を用いる式（V）の化合物の製造方法。
【請求項６】
式（III）の化合物から式（IV）の化合物を製造するステップ：
【化７】
2019510000.tif 000046
（式中：
A, R1, R2及びRxは、請求項３で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項５に記載の式（V）の化合物の製造方法。
【請求項７】
式（II）の化合物から式（III）の化合物を製造するステップ：
【化８】
2019510000.tif 000047
（式中：
A, R1, R2及びRxは、請求項３で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項５に記載の式（V）の化合物の製造方法。
【請求項８】
方法が、キラル補助基（R３）を含む式（II）のキラル化合物をアルカリ条件下で加水分解し、又は任意に次いでカルボキシル保護基を付加して式（III）の化合物を得る；式（III）の化合物をアルキル化剤でアルキル化して式（IV）の化合物を得る；式（IV）の化合物のカルボキシル保護基を除去して式（V）の化合物を得る；及び式（V）の化合物からの一連の反応を行って式（I）の化合物を得るステップ：
【化９】
2019510000.tif 000048
（式中：
Aは、3〜8員環、好ましくは3員環であり；
Rは、ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素、臭素又はヨウ素、最も好ましくはフッ素であり；
R1は、アミノ保護基、好ましくはBoc, Fmoc, Alloc, Troc, Teoc, CBz, Tosyl, Nosyl及びt-Buであり；
R2は、カルボキシル保護基、好ましくはDMB, Bn, Allyl, PfP, Me, PMB, MEM及びt-Buであり；
Rxは、アルキル及びシクロアルキルから成る群より選択され、該アルキル及びシクロアルキルは、それぞれ独立してアルキル、ハロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールから成る群より選択される1以上の基で任意に置換されていてもよく；好ましくは、Rxはメチルであり；そして
nは、1、2、3、4又は5である。）
を含むことを特徴とする、式（I）の化合物：
【化１０】
2019510000.tif 000049
の製造方法。
【請求項９】
式（V）の化合物のアミノ保護基を除去して式（VI）の化合物を得るステップ：
【化１１】
2019510000.tif 000050
（式中：
A, R1及びRxは、請求項８で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項８に記載の式（I）の化合物の製造方法。
【請求項１０】
式（VI）の化合物にFmocの保護基を付加して式（VIII）の化合物を得るステップ：
【化１２】
2019510000.tif 000051
（式中：
A及びRxは、請求項８で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項８又は９に記載の式（I）の化合物の製造方法。
【請求項１１】
以下のステップ：式（IX）の化合物にカルボキシル保護基を付加して式（X）の化合物を得る、そして式（X）の化合物のFmocを除去して式（XI）の化合物を得る：
【化１３】
2019510000.tif 000052
（式中：
R４は、カルボキシル保護基、好ましくはDMBであり；そして
R及びnは、請求項８で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の式（I）の化合物の製造方法。
【請求項１２】
以下のステップ：縮合剤の存在下に式（XI）の化合物で式（VIII）の化合物をアミド化して式（XII）の化合物を得る：
【化１４】
2019510000.tif 000053
（ここで、縮合剤は、好ましくは1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール、1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩又はベンゾトリアゾール-1-イル-オキシトリピロリジノ-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩；より好ましくは2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；そして
A、R、R4、Rx及びnは、請求項８で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の式（I）の化合物の製造方法。
【請求項１３】
以下のステップ：
【化１５】
2019510000.tif 000054
１）アルカリ条件下、式（XII）の化合物のFmoc保護基を除去して式（I-E）の化合物を得る；
２）縮合剤の存在下、式（I-D）の化合物で式（I-E）の化合物をアミド化して式（I-C）のキラル中間体を得る：
３）アルカリ条件下、式（I-C）の化合物のFmocの保護基を除去して式（I-B）のキラル化合物を得る；
４）縮合剤の存在下、6-マレイミドヘキサン酸で式（I-B）の化合物をアミド化して式（I-A）の化合物を得る：
５）酸性条件下、式（I-A）の化合物のカルボキシル保護基を除去して目的の式（I）の化合物を得る；
（上記で：
R４は、カルボキシル保護基、好ましくはDMBであり；
ステップ１）又はステップ３）におけるアルカリ条件を供給する試薬には有機塩基及び無機塩基が含まれ、該有機塩基は、好ましくはトリエチルアミン、ジエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、n-ブチルリチウム、カリウムtert-ブトキシド又はテトラブチルアンモニウムブロミドであり、該無機塩基は、好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸セシウムであり、より好ましくはジエチルアミンであり；
ステップ２）又はステップ４）における縮合剤は、好ましくは1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール、1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩又はベンゾトリアゾール-1-イル-オキシトリピロリジノ-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；より好ましくは2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；
ステップ５）で酸性条件を供給する試薬が、好ましくは塩化水素溶液、塩酸、硝酸、リン酸、p-トルエンスルホン酸、Me3SiCl、TMSOTf、トリフルオロ酢酸又は硫酸、より好ましくはトリフルオロ酢酸であり；そして
A、R、Rx及びnは、請求項８で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項８〜１２のいずれか１項に記載の式（I）の化合物の製造方法。
【請求項１４】
縮合剤の存在下で式（V）の化合物を式（XI）の化合物でアミド化して式（VII）の化合物を得るステップ：
【化１６】
2019510000.tif 000055
（上記で：
縮合剤は、好ましくは1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール、1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩又はベンゾトリアゾール-1-イル-オキシトリピロリジノ-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩、より好ましくは2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；そして
A、R、R１、R４、Rx及びnは、請求項８で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項８に記載の式（I）の化合物の製造方法。
【請求項１５】
以下のステップ：
【化１７】
2019510000.tif 000056
１）縮合剤の存在下、式（V）の化合物を式（XI）の化合物でアミド化して式（VII）の化合物を得る；
２）アルカリ条件下、式（VII）の化合物のアミノ保護基を除去して式（I-E）の化合物を得る；
３）縮合剤の存在下、式（I-D）の化合物で式（I-E）の化合物をアミド化して式（I-C）のキラル中間体を得る；
４）アルカリ条件下、式（I-C）の化合物のFmocの保護基を除去して式（I-B）のキラル化合物を得る；
５）縮合剤の存在下、6-マレイミドヘキサン酸で式（I-B）の化合物をアミド化して式（I-A）の化合物を得る；
６）酸性条件下、式（I-A）の化合物のカルボキシル保護基を除去して目的の式（I）の化合物を得る；
（上記で：
ステップ１）、ステップ３）又はステップ５）における縮合剤は、好ましくは1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール、1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩又はベンゾトリアゾール-1-イル-オキシトリピロリジノ-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；より好ましくは2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；
ステップ２）又はステップ４）でアルカリ条件を供給する試薬には有機塩基及び無機塩基が含まれ、該有機塩基は、好ましくはトリエチルアミン、ジエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、n-ブチルリチウム、カリウムtert-ブトキシド又はテトラブチルアンモニウムブロミドであり、該無機塩基は、好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸セシウムであり、より好ましくはジエチルアミンであり；
ステップ６）で酸性条件を供給する試薬は、好ましくは塩化水素溶液、塩酸、硝酸、リン酸、p-トルエンスルホン酸、Me3SiCl、TMSOTf、トリフルオロ酢酸又は硫酸、より好ましくはトリフルオロ酢酸であり；
R４は、カルボキシル保護基、好ましくはDMBであり；そして
A、R、R１、Rx及びnは、請求項８で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、請求項８〜１４のいずれか１項に記載の式（I）の化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規のトキシン及びその中間体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
発明者らは、特許文献１において新しいタイプのリガンド-細胞傷害性薬物複合体を開示している。該リガンド-細胞傷害性薬物複合体及びそれを含有する医薬組成物は、受容体制御によって癌を治療するための薬物の製造に使用すると、優れた効果を有している。そのようなリガンド-細胞傷害性薬物複合体の合成において、本発明の式（I）の化合物は、重要な中間体である。
2019510000.tif 000003
【０００３】
この中間体は、Mc-MMAFの合成ルートを開示しているが、その合成ルートにはFmoc-ドラプロイン(Fmoc-Dap)の具体的合成方法や出発物質の詳細な記載がないSeattle Genetics (U.S.A.)による特許出願（特許文献２）に初めて開示されたMc-MMAFに類似の構造を有している。Fmoc-ドラプロイン（Fmoc-Dap）は、本発明の式（I）の化合物の製造に用いられる式（IV）のキーとなる中間体に類似した化学構造を有している。
2019510000.tif 000004
【０００４】
従って、発明者らは、現在のFmoc-ドラプロイン(Fmoc-Dap)合成の先行技術中に関連する合成ルートを見つけ出した。例えば、George R. Pettit及びMatthew P. Grealishは、非特許文献１で直接メチルを付加する合成方法（スキーム1参照）、及び非特許文献２で加水分解後にメチルを付加する合成方法（スキーム２参照）を報告している。
2019510000.tif 000005
【０００５】
本発明の式（IV）の縮合環基質の合成の際に、発明者らは、元の基質に基づいて比較的高い収率を有するFmoc-ドラプロイン(Fmoc-Dap)を合成する上記の合成方法を用いた。しかしながら、本発明の式（IV）の縮合環基質を製造する場合、目的生成物の収率は低く、大量のラセミ体が生成した。それ故、大スケールで式（I）の化合物を合成するための既存の合成方法の使用には、まだ多くの困難と欠点がある。高収率を有し、且つ、式（I）の化合物の大規模合成に適した方法を開発する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】WO2016/127790
【特許文献２】WO2005/038392
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】J. Org. Chem. 2001, 66, 8964-8642
【非特許文献２】Synthesis. 1996. 720
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
新規トキシン及びその中間体の合成方法の不都合を考慮して、本発明は、式（III）のキラル化合物を用いて一連の保護基の付加、保護基の除去そしてアミド化反応を行って式（I）の化合物を得ることを含む、式（I）の化合物の新しい合成ルートを提供する。この方法は、基質についての先行技術の限界を克服し、マイルドな反応条件、シンプルな操作、高光学純度及び高い合成収率の利点を有していて、大スケール製造に適している。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、式（III）の化合物に関する。
2019510000.tif 000006
（式中：
Aは、3〜8員環、好ましくは3員環であり；
R1は、水素又はアミノ保護基、好ましくはBoc, Fmoc, Alloc, Troc, Teoc, CBz, Tosyl, Nosyl及びt-Buであり；そして
R2は、水素又はカルボキシル保護基、好ましくはDMB, Bn, Allyl, PfP, Me, PMB, MEM及びt-Buである）。
【００１０】
本発明は、また、キラル補助基（R3）を含む式（II）のキラル化合物をアルカリ条件下に加水分解し、又は任意に次いでカルボキシル保護基を付加して式（III）の化合物を得る：
2019510000.tif 000007
（式中：
キラル補助基（R3）は、
2019510000.tif 000008
から成る群より選択され；
Xは、S又はOであり；
アルカリ試薬は、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム又は水酸化リチウム、より好ましくは水酸化リチウムであり；そして
R1〜R2は、式（III）で定義した通りである。）
ことを特徴とする、式（III）の化合物の製造方法に関する。
【００１１】
本発明は、また、式（IV）の化合物に関する。
2019510000.tif 000009
（式中：
Aは、3〜8員環、好ましくは3員環であり；
R1は、水素又はアミノ保護基、好ましくはBoc, Fmoc, Alloc, Troc, CBz, Teoc, Tosyl, Nosyl及びt-Buであり；
R2は、カルボキシル保護基、好ましくはDMB, Bn, Allyl, PfP, Me, PMB, MEM及びt-Buであり；そして
Rxは、アルキル及びシクロアルキルから成る群より選択され、該アルキル及びシクロアルキルは、それぞれ独立してアルキル、ハロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールから成る群より選択される1以上の基；好ましくはメチルで任意に置換されていてもよい）。
【００１２】
本発明は、また、式（III）の化合物をアルキル化剤と反応させて式（IV）の化合物を得る：
2019510000.tif 000010
（式中：
アルキル化剤は、ハロゲン化アルキル、硫酸ジメチル、炭酸ジメチル、スルホン酸エステル、リン酸トリメチル及びMe3+BF4-から成る群；好ましくはヨウ化メチル及びMe3+BF4-から選択され；そして
A, R1, R2及びRxは、式（IV）で定義した通りである。）
ことを特徴とする、式（IV）の化合物の製造方法に関する。
【００１３】
本発明は、また、式（IV）の化合物のカルボキシル保護基を除去して式（V）の化合物を得る：
2019510000.tif 000011
（式中：
A, R1, R2及びRxは、式（IV）で定義した通りである。）
ことを特徴とする、式（IV）の化合物から式（V）の化合物を製造する方法に関する。
【００１４】
本発明は、また、式（IV）の化合物を製造するステップ：
【化１２】
2019510000.tif 000012
（式中：
A, R1, R2及びRxは、式（IV）で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、式（V）の化合物を製造する方法に関する。
【００１５】
本発明は、また、式（III）の化合物を製造するステップ：
2019510000.tif 000013
（式中：
A, R1, R2及びRxは、式（IV）で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、式（V）の化合物を製造する方法に関する。
【００１６】
本発明は、また、方法がキラル補助基（R３）を含む式（II）のキラル化合物をアルカリ条件下で加水分解し、又は任意に次いでカルボキシル保護基を付加して式（III）の化合物を得る；式（III）の化合物をアルキル化剤でアルキル化して式（IV）の化合物を得る；式（IV）の化合物のカルボキシル保護基を除去して式（V）の化合物を得る；及び式（V）の化合物を用いて一連の反応を行って式（I）の化合物を得るステップ：
【化１４】
2019510000.tif 000014
（式中：
Aは、3〜8員環、好ましくは3員環であり；
Rは、ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素、臭素又はヨウ素、最も好ましくはフッ素であり；
R1はアミノ保護基、好ましくはBoc, Fmoc, Alloc, Troc, CBz, Teoc, Tosyl, Nosyl及びt-Buであり；
R2は、カルボキシル保護基、好ましくはDMB, Bn, Allyl, PfP, Me, PMB, MEM及びt-Buであり；
Rxは、アルキル及びシクロアルキルから成る群より選択され、該アルキル及びシクロアルキルは、それぞれ独立してアルキル、ハロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールから成る群より選択される1以上の基で任意に置換されていてもよく；好ましくは、Rxはメチルであり；そして
nは、1、2、3、4又は5である。）
を含むことを特徴とする、式（I）の化合物：
2019510000.tif 000015
（式中、nは、1、2、3、4又は5である。）
の製造方法に関する。
【００１７】
本発明は、また、式（V）の化合物のアミノ保護基を除去して式（VI）の化合物を得るステップ：
2019510000.tif 000016
（式中：
A, R1及びRxは、式（I）で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００１８】
本発明は、また、式（VI）の化合物にFmocの保護基を付加して式（VIII）の化合物を得るステップ：
2019510000.tif 000017
（式中：
A及びRxは、式（I）で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００１９】
本発明は、また、以下のステップ：式（IX）の化合物にカルボキシル保護基を付加して式（X）の化合物を得る、そして式（X）の化合物のFmocを除去して式（XI）の化合物を得る：
2019510000.tif 000018
（式中：R４は、カルボキシル保護基、好ましくはDMBであり；そして
R及びnは、式（I）で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００２０】
本発明は、また、以下のステップ：縮合剤の存在下に式（XI）の化合物で式（VIII）の化合物をアミド化して式（XII）の化合物を得る：
2019510000.tif 000019
（上記で、縮合剤は、好ましくは1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール、1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール、O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩又はベンゾトリアゾール-1-イル-オキシトリピロリジノ-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩；より好ましくは2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N, N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；そして
A、R、R4、Rx及びnは、式（I）で定義した通りである。）
ことを更に含むことを特徴とする、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００２１】
本発明は、また、以下のステップ：
2019510000.tif 000020
（上記で、
１）アルカリ条件下、式（XII）の化合物のFmoc保護基を除去して式（I-E）の化合物を得る；
２）縮合剤の存在下、式（I-D）の化合物で式（I-E）の化合物をアミド化して式（I-C）のキラル中間体を得る：
３）アルカリ条件下、式（I-C）の化合物のFmocの保護基を除去して式（I-B）のキラル化合物を得る；
４）縮合剤の存在下、6-マレイミドヘキサン酸で式（I-B）の化合物をアミド化して式（I-A）の化合物を得る：
５）酸性条件下、式（I-A）の化合物のカルボキシル保護基を除去して目的の式（I）の化合物を得る；
R４は、カルボキシル保護基、好ましくはDMBであり；
A、R、Rx及びnは、式（I）で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００２２】
本発明は、また、ステップ１）又はステップ３）におけるアルカリ条件を供給する試薬には有機塩基及び無機塩基が含まれ、該有機塩基が、好ましくはトリエチルアミン、ジエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、n-ブチルリチウム、カリウムtert-ブトキシド及びテトラブチルアンモニウムブロミドであり、該無機塩基が、好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸セシウムであり、より好ましくはジエチルアミンである、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００２３】
本発明は、また、ステップ２）又はステップ４）における縮合剤が、好ましくは1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩；N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド；N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド；O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート；1-ヒドロキシベンゾトリアゾール；1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール；O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩；ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩又はベンゾトリアゾール-1-イル-オキシトリピロリジノ-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；より好ましくは2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩である、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００２４】
本発明は、また、ステップ５）で酸性条件を供給する試薬が、好ましくは塩化水素溶液、塩酸、硝酸、リン酸、p-トルエンスルホン酸、Me3SiCl、TMSOTf、トリフルオロ酢酸又は硫酸、より好ましくはトリフルオロ酢酸である、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００２５】
本発明は、また、縮合剤の存在下で式（V）の化合物を式（XI）の化合物でアミド化して式（VII）の化合物を得る：
2019510000.tif 000021
（上記で：
縮合剤は、好ましくは1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩；N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド；N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド；O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート；1-ヒドロキシベンゾトリアゾール；1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール；O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩；ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩又はベンゾトリアゾール-1-イル-オキシトリピロリジノ-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり、より好ましくは2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；そして
A、R１、R、R４、Rx及びnは、式（I）で定義した通りである。）
ステップを更に含むことを特徴とする、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００２６】
本発明は、また、以下のステップ：
2019510000.tif 000022
１）縮合剤の存在下、式（V）の化合物を式（XI）の化合物でアミド化して式（VII）の化合物を得る；
２）アルカリ条件下、式（VII）の化合物のアミノ保護基を除去して式（I-E）の化合物を得る；
３）縮合剤の存在下、式（I-D）の化合物で式（I-E）の化合物をアミド化して式（I-C）のキラル中間体を得る；
４）アルカリ条件下、式（I-C）の化合物のFmocの保護基を除去して式（I-B）のキラル化合物を得る；
５）縮合剤の存在下、6-マレイミドヘキサン酸で式（I-B）の化合物をアミド化して式（I-A）の化合物を得る；
６）酸性条件下、式（I-A）の化合物のカルボキシル保護基を除去して目的の式（I）の化合物を得る；
（上記で：
ステップ１）、ステップ３）又はステップ５）における縮合剤は、好ましくは1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩；N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド；N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド；O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート；1-ヒドロキシベンゾトリアゾール；1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール；O-ベンゾトリアゾール-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩；ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩又はベンゾトリアゾール-1-イル-オキシトリピロリジノ-ホスホニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；より好ましくは2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩であり；
ステップ２）又はステップ４）でアルカリ条件を供給する試薬には有機塩基及び無機塩基が含まれ、該有機塩基は、好ましくはトリエチルアミン、ジエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、n-ブチルリチウム、カリウムtert-ブトキシド又はテトラブチルアンモニウムブロミドであり、該無機塩基が、好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸セシウムであり、より好ましくはジエチルアミンであり；
ステップ６）で酸性条件を供給する試薬は、好ましくは塩化水素溶液、塩酸、硝酸、リン酸、p-トルエンスルホン酸、Me3SiCl、TMSOTf、トリフルオロ酢酸又は硫酸、より好ましくはトリフルオロ酢酸であり；
R４は、カルボキシル保護基、好ましくはDMBであり；そして
A、R１、R、Rx及びnは、式（I）で定義した通りである。）
を更に含むことを特徴とする、式（I）の化合物の製造方法に関する。
【００２７】
本発明の式（VIII）の化合物は、式（IV）の化合物のカルボキシル及びアミノ保護基を除去し、次いでFmocの保護基を付加して式（VIII）の化合物を得るステップ：
2019510000.tif 000023
（式中：
A、R１、R２及びRxは、式（I）で定義した通りである。）
を含む、ワンポット法によって合成することができる。
【００２８】
本発明による式（I）の新規トキシンの製造方法は、シンプルな操作、マイルドな反応条件、高い光学純度、高い合成効率、高い合成収率、工業生産への適合性、著しい社会的、経済的利点に関する特徴を有している。
【００２９】
本発明の好ましい実施態様において、各式の化合物で、環Aは、3〜8員環、好ましくは3員環から選択される同じ構造を有し；具体的には、環は、シクロアルキル環である。
発明の詳細な説明
【００３０】
他に記載がない限り、本明細書及び請求項で使用される用語は、以下に記載される意味を有する。
【００３１】
「アルキル」とは、C1〜C20の直鎖及び分岐鎖基を含む飽和脂肪族炭化水素基をいう。好ましくは1〜12個の炭素原子を有するアルキルであり、また、より好ましくは1〜6個の炭素原子を有するアルキルである。代表例としては、これらに限定されないが、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、sec-ブチル、n-ペンチル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロピル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、n-ヘキシル、1-エチル-2-メチルプロピル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、2,3-ジメチルブチル、n-ヘプチル、2-メチルヘキシル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチルヘキシル、2,3-ジメチルペンチル、2,4-ジメチルペンチル、2,2-ジメチルペンチル、3,3-ジメチルペンチル、2-エチルペンチル、3-エチルペンチル、n-オクチル、2,3-ジメチルヘキシル、2,4-ジメチルヘキシル、2,5-ジメチルヘキシル、2,2-ジメチルヘキシル、3,3-ジメチルヘキシル、4,4-ジメチルヘキシル、2-エチルヘキシル、3-エチルヘキシル、4-エチルヘキシル、2-メチル-2-エチルペンチル、2-メチル-3-エチルペンチル、n-ノニル、2-メチル-2-エチルヘキシル、2-メチル-3-エチルヘキシル、2,2-ジエチルペンチル、n-デシル、3,3-ジエチルヘキシル、2,2-ジエチルヘキシル及びそれらの分岐異性体鎖が含まれる。より好ましくは、アルキル基は、1〜6個の炭素原子を有する低級アルキルである。代表例としては、これらに限定されないが、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、sec-ブチル、n-ペンチル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロピル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、n-ヘキシル、1-エチル-2-メチルプロピル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、2,3-ジメチルブチル等が含まれる。アルキル基は置換されていても、また無置換のものでもよい。置換されている場合には、置換基は任意な結合可能なポイントで置換してもよく、好ましくは、置換基は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、ハロゲン、チオール、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、シクロアルキルチオ、ヘテロ環式アルキルチオ、オキソ基、カルボキシル及びアルコキシカルボニルから成る群より独立して選択される１つ又はそれ以上の基である。
【００３２】
「シクロアルキル」とは、3〜20個の炭素原子、好ましくは3〜12個の炭素原子、より好ましくは3〜6個の炭素原子を有する飽和及び/又は部分的に不飽和の単環式又は多環式炭化水素基をいう。単環式シクロアルキルの代表例としては、これらに限定されないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロペンテニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、シクロヘプチル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクチル等が含まれる。多環式シクロアルキルには、スピロ環、縮合環又は架橋環を有するシクロアルキルが含まれる。
【００３３】
「スピロシクロアルキル」とは、１つの共通の炭素原子(スピロ原子と呼ばれる)を通じてつながっている環を持つ５〜２０員の多環式基であって、ここで１つ又はそれ以上の環は１つ又はそれ以上の二重結合を含んでいてもよいが、環のどれも完全に共役したπ電子系を持たないものをいう。好ましくはスピロシクロアルキルは６〜１４員、より好ましくは７〜１０員である。環で共通されるスピロ原子の数によって、スピロシクロアルキルは単環式スピロ環、双環式スピロ環又は多環式スピロ環のものに分けられるが、好ましくは単環式スピロシクロアルキル又は双環式スピロシクロアルキルであり、より好ましくは４員／４員、４員／５員、４員／６員、５員／５員又は５員／６員の単環式スピロシクロアルキルである。スピロシクロアルキルの代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000024
【００３４】
「縮合シクロアルキル」とは、５〜２０員の全炭素多環式基であって、系内の各環が隣接した一対の炭素原子を他の環と共有していて、ここで１つ又はそれ以上の環が１つ又はそれ以上の二重結合を含んでいてもよいが、環のどれも完全に共役したπ電子系を持たないものをいう。好ましくは６〜１４員の縮合シクロアルキルであり、より好ましくは７〜１０員の縮合シクロアルキルである。構成する環の数により、縮合シクロアルキルは二環式、三環式、四環式及び多環式縮合シクロアルキルに分けられるが、好ましくは二環式又は三環式縮合シクロアルキルであり、より好ましくは５員／５員又は５員／６員の二環式縮合シクロアルキルである。縮合シクロアルキルの代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000025
【００３５】
「架橋シクロアルキル」とは、５〜２０員の全炭素多環式基であって、ここで系内のそれぞれ二つの環が２つの連結していない原子を共有していて、これらの環は１つ又はそれ以上の二重結合を含んでいてもよいが、環のどれも完全に共役したπ電子系を持たないものをいう。好ましくは、架橋シクロアルキルは６〜１４員、より好ましくは７〜１０員のものである。構成する環の数により、架橋シクロアルキルは二環式、三環式、四環式及び多環式架橋シクロアルキルに分けられるが、好ましくは二環式、三環式又は四環式架橋シクロアルキルであり、より好ましくは二環式又は三環式架橋シクロアルキルである。架橋シクロアルキルの代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000026
前記シクロアルキルはアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクリルの環に縮合していてもよく、ここで親構造と結合する環がシクロアルキルである。代表例としては、これらに限定されないが、インダニル、テトラヒドロナフチル及びベンゾシクロヘプチル等が含まれる。シクロアルキルは任意に置換されていても、又は無置換のものでもよい。置換されている場合、置換基は好ましくはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、ハロゲン、チオール、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、シクロアルキルチオ、複素環アルキルチオ、オキソ基、カルボキシ及びアルコキシカルボニルから成る群より独立して選択される１つ又はそれ以上の基である。
【００３６】
「ヘテロシクリル」とは、３〜２０員の飽和及び/又は部分的に不飽和の単環式又は多環式炭化水素基であって、環原子としてＮ、Ｏ及びＳ(Ｏ)ｍ(式中、ｍは０〜２の間の整数である)から成る群より選択される１つ又はそれ以上のヘテロ原子を有するが、環内に−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ−又は−Ｓ−Ｓ−はなく、残りの環原子が炭素原子であるものをいう。ヘテロシクリルは、好ましくは３〜１２個の原子を有し、うち１〜４個の原子がヘテロ原子であり、より好ましくは３〜８個の原子を有し、うち１〜３個の原子がヘテロ原子であり、最も好ましくは５〜６個の原子を有し、うち１〜２個又は１〜３個の原子がヘテロ原子である。単環式ヘテロシクリルの代表例としては、これらに限定されないが、ピロリジル、イミダゾリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ジヒドロイミダゾリル、ジヒドロフラニル、ジヒドロピラゾリル、ジヒドロピロリル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ホモピペラジニル、ピラニル、アゼチジニル等が含まれる。好ましくは1,2,5-オキサジアゾリル、ピラニル、ピペリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル又はモルホリニルである。多環式ヘテロシクリルには、スピロ環、縮合環又は架橋環を持つヘテロシクリルが含まれる。
【００３７】
「スピロヘテロシクリル」とは、１つの共通原子(スピロ原子と呼ばれる)を通じて結合している環を持つ５〜２０員の多環式ヘテロシクリルであって、ここで該環は環原子としてＮ、Ｏ及びＳ(Ｏ)ｍ(式中、ｍは０〜２の間の整数である)から成る群より選択される１つ又はそれ以上のヘテロ原子を有し、残りの環原子は炭素原子であって、１つ又はそれ以上の環は１つ又はそれ以上の二重結合を含んでいてもよいが、環のどれも完全に共役したπ電子系を持たないものをいう。好ましくは、スピロヘテロシクリルは６〜１４員、より好ましくは７〜１０員のものである。環で共通されるスピロ原子の数により、スピロヘテロシクリルは単環式スピロヘテロシクリル、双環式スピロヘテロシクリル及び多環式スピロヘテロシクリルに分けられるが、好ましくは単環式スピロヘテロシクリル又は双環式スピロヘテロシクリルであり、より好ましくは４員／４員、４員／５員、４員／６員、５員／５員又は５員／６員の単環式スピロヘテロシクリルである。スピロヘテロシクリルの代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000027
【００３８】
「縮合ヘテロシクリル」とは、５〜２０員の多環式ヘテロシクリル基であって、ここで系内の各環が隣接した一対の炭素原子を他の環と共有していて、１つ又はそれ以上の環が１つ又はそれ以上の二重結合を含んでいてもよいが、環のどれも完全に共役したπ電子系を持たず、該環は環原子としてＮ、Ｏ及びＳ(Ｏ)ｐ(式中、ｐは０〜２の間の整数である)から成る群より選択される１つ又はそれ以上のヘテロ原子を有し、残りの環原子は炭素原子であるものをいう。縮合ヘテロシクリルは、好ましくは６〜１４員、より好ましくは７〜１０員のものである。構成する環の数により、縮合ヘテロシクリルは二環式、三環式、四環式及び多環式縮合ヘテロシクリルに分けられるが、好ましくは二環式又は三環式縮合ヘテロシクリルであり、より好ましくは５員／５員又は５員／６員の二環式縮合ヘテロシクリルである。縮合ヘテロシクリルの代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000028
【００３９】
「架橋ヘテロシクリル」とは、５〜１４員の多環式ヘテロシクリル基であって、ここで系内のそれぞれ二つの環が２つの連結していない原子を共有していて、これらの環は１つ又はそれ以上の二重結合を持っていてもよいが、環のどれも完全に共役したπ電子系は持たず、そしてこれらの環は環原子としてＮ、Ｏ及びＳ(Ｏ)ｍ(式中、ｍは０〜２の間の整数である)から成る群より選択される１つ又はそれ以上のヘテロ原子を有し、残りの環原子は炭素原子であるものをいう。架橋ヘテロシクリルは、好ましくは６〜１４員、より好ましくは７〜１０員のものである。構成する環の数により、架橋ヘテロシクリルは二環式、三環式、四環式及び多環式架橋ヘテロシクリルに分けられるが、好ましくは二環式、三環式又は四環式架橋ヘテロシクリルであり、より好ましくは二環式又は三環式架橋ヘテロシクリルである。架橋ヘテロシクリルの代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000029
ヘテロシクリル環はアリール、ヘテロアリール又はシクロアルキルの環に縮合していてもよいが、ここで親構造と結合する環がヘテロシクリルである。代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000030
ヘテロシクリルは任意に置換されていても、また無置換のものでもよい。置換されている場合、置換基は、好ましくはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、ハロゲン、チオール、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、シクロアルキルチオ、複素環アルキルチオ、オキソ基、カルボキシ及びアルコキシカルボニルから成る群より独立して選択される１つ又はそれ以上の基である。
【００４０】
「アリール」とは、６〜１４員の全て炭素の単環式環又は多環式縮合環(即ち、系内の各環が隣り合った炭素原子対を系内の他の環と共有している)であって、完全に共役したπ電子系を持っているものをいう。好ましくは６〜１０員のものであり、例えば、フェニル及びナフチルである。最も好ましくはフェニルである。アリール環は、ヘテロアリール、ヘテロシクリル又はシクロアルキルの環に縮合していてもよく、ここでは親構造に結合する環がアリール環である。代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000031
アリール基は任意に置換されていても、また無置換のものでもよい。置換されている場合、置換基は好ましくはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、ハロゲン、チオール、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルコキシ、複素環式アルコキシ、シクロアルキルチオ、複素環式アルキルチオ、カルボキシ及びアルコキシカルボニルから成る群より独立して選択される１つ又はそれ以上の基である。
【００４１】
「ヘテロアリール」とは、Ｏ、Ｓ及びＮから成る群より選択される１〜４個のヘテロ原子を環原子として持つ、５〜１４員のヘテロ芳香族系をいう。ヘテロアリールは、好ましくは１〜３個のヘテロ原子を有する５〜１０員のものであり；より好ましくは１〜２個のヘテロ原子を有する５員又は６員のものである。例えば、イミダゾリル、フリル、チエニル、チアゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、ピロリル、テトラゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、チアジアゾール及びピラジニル等。好ましくはイミダゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、ピリミジニル又はチアゾリルであり、より好ましくはピラゾリル又はチアゾリルである。ヘテロアリールは、アリール、ヘテロシクリル又はシクロアルキルの環に縮合してもよく、ここでは親構造に結合する環がヘテロアリール環である。代表例としては、これらに限定されないが、以下のものが含まれる。
2019510000.tif 000032
2019510000.tif 000033
ヘテロアリールは任意に置換されていても、また無置換のものでもよい。置換されている場合、置換基は好ましくはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、ハロゲン、チオール、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルコキシ、複素環式アルコキシ、シクロアルキルチオ、複素環式アルキルチオ、カルボキシ及びアルコキシカルボニルから成る群から独立して選択される１つ又はそれ以上の基である。
【００４２】
「ヒドロキシ」とは、−ＯＨ基をいう。
「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素をいう。
「アミノ」とは、−ＮＨ２基をいう。
「オキソ基」とは、＝Ｏ基をいう。
【００４３】
3〜8員環は、複素環が、Ｎ、Ｏ及びＳのようないくつかのヘテロ原子を含む炭素環及び複素環から成る群から選択される。
【００４４】
「任意の」又は「任意に」は、続いて記載した出来事や状況が生じても、生じなくてもよいことを意味する。そのような記載は出来事や状況が生じても、生じなくてもよいことを含んでいる。例えば、「アルキルで任意に置換されたヘテロシクリル基」は、アルキル基が存在しても、しなくてもよいことを意味する。その記載はアルキルで置換されているヘテロシクリルとアルキルで置換されていないヘテロシクリルの場合を含んでいる。
【００４５】
「置換された」とは、基内の１つ又はそれ以上の水素原子、好ましくは５個まで、より好ましくは１〜３個の水素原子が、対応する数の置換基でそれぞれ独立して置換されていることをいう。置換基はそれらの化学的に可能な位置にのみ存在することは言うまでもない。当業者は過剰な努力を払うことなく、実験や理論により置換が可能かどうか判断することができる。例えば、フリーの水素を持つアミノ又はヒドロキシル基が不飽和結合を持つ炭素原子(例、オレフィン)と結合する場合は不安定となりうる。
【００４６】
本発明において、「ＸはＡ、Ｂ又はＣから成る群より選択される。」、「ＸはＡ、Ｂ及びＣから成る群より選択される。」、「ＸはＡ、Ｂ又はＣである。」及び「ＸはＡ、Ｂ及びＣである。」のような異なる用語は同様な意味を有し、ＸはＡ、Ｂ又はＣの中の任意の１つ又はそれ以上のものであることを意味する。
【００４７】
略語表
2019510000.tif 000034
【００４８】
好ましい実施様態
当業者が本発明をより完全に理解できるように、以下の実施例を参照して本発明を更に説明する。具体的な実施例は、本発明の技術的解決策を説明するためにのみ使用するもので、いずれにしても本発明を限定するものではない。
【００４９】
実施例
化合物の構造は、核磁気共鳴(NMR)及び/又は質量分析(MS)で同定する。NMRケミカルシフト(δ)は10-6(ppm)で示す。NMRはBruker AVANCE-400装置で測定する。測定に用いた溶媒は重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO-d6)、重水素化クロロホルム(CDCl3)及び重水素化メタノール(CD3OD)である。また、内部標準はテトラメチルシラン(TMS)である。
MSはFINNIGAN LCQAd(ESI)質量分析計(メーカー：Thermo、型式：Finnigan LCQ advantage MAX)で測定する。
高速液体クロマトグラフィー(HPLC)はAgilent 1200DAD 高圧液体クロマトグラフィー装置(Sunfire C18 150×4.6 mm クロマトグラフィーカラム)及びWaters 2695-2996高圧液体クロマトグラフィー装置(Gimini C18 150×4.6 mmクロマトグラフィーカラム)で測定する。
キラルHPLC分析はLC-10A vp(島津)又はSFC-analytical(Berger Instruments Inc.)で測定する。
薄層シリカゲルクロマトグラフィー(TLC)には、Yantai Huanghai HSGF254又はQingdao GF254シリカゲルプレートを使用する。TLC用のシリカゲルプレートの寸法は0.15 mm〜0.2 mmであり、生成物精製用のシリカゲルプレートの寸法は0.4 mm〜0.5 mmである。
カラムクロマトグラフィー用の担体として、Yantai Huanghai 200〜300メッシュのシリカゲルを使用する。
キラル調製用カラムクロマトグラフィーには、Prep Star SD-1 (Varian Instruments Inc.)又はSFC-multigram (Berger Instruments Inc.)を使用する。
平均酵素阻害率及びIC50値はNovoStar ELISA(BMG Co.,ドイツ)で測定する。
【００５０】
本発明の公知原料は、当業における通常の合成法により調製でき、又は、ABCR GmbH & Co. KG、Acros Organics、Aldrich Chemical Company、Accela ChemBio Inc.又はDari Chemical Company等から購入できる。
特に明記しない限り、反応は窒素雰囲気下又はアルゴン雰囲気下で行う。
用語「窒素雰囲気」又は「アルゴン雰囲気」は、反応フラスコが１Ｌの窒素又はアルゴン風船を備えていることを意味する。
用語「水素雰囲気」は、反応フラスコが１Ｌの水素風船を備えていることを意味する。
高圧水素化反応は、Parr 3916EKX型水素化装置及びQL-500型水素発生器又はHC2-SS型水素化装置で行う。
水素化反応では、反応系を通常真空にして水素で満たし、前記の操作を３回繰り返して行う。
マイクロ波反応には、CEM Discover-S 908860型マイクロ波反応器を使用する。
特に明記しない限り、反応に使用する溶液とは、水溶液をいう。
特に明記しない限り、反応における反応温度とは、20℃〜30℃の室温をいう。
【００５１】
反応の進行は薄層クロマトグラフィー(TLC)でモニターした。展開の溶媒系としては、Ａ：ジクロロメタンとメタノール系、Ｂ：ｎ−ヘキサンと酢酸エチル系、Ｃ：石油エーテルと酢酸エチル系及びＤ：アセトンが含まれる。溶媒の容積比は化合物の極性に応じて調節できる。
化合物の精製に用いるカラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー及びCombiFlashフラッシュ迅速調剤器の溶出系としては、Ａ：ジクロロメタンとメタノール系、Ｂ：ｎ−ヘキサンと酢酸エチル系及びＣ：ジクロロメタンとアセトン系が含まれる。溶媒の容積比は化合物の極性に応じて調節でき、また時には、トリエチルアミンのようなアルカリ性試薬、又は酢酸のような酸性試薬を少量に添加してもよい。
【００５２】
合成例１方法１
(S)-2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-2-((S)-2-(6-(2,5ジオキソ-2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-1-イル)-N-メチルヘキサンアミド)-3-メチルブタンアミド)-N,3-ジメチルブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸
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【００５３】
ステップ１
(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-((1R,2R)-1-ヒドロキシ-2-メチル-3-((4R,5S)-4-メチル-2-オキソ-5-フェニルオキサゾリジン-3-イル)-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩
（4R,5S)-4-メチル-5-フェニル-3-プロピオニルオキサゾリジン-2-オン1b(14.7 g, 63.1 mmol)を120 mLのジクロロメタンに溶解し、氷浴中で0℃に冷却した。トリエチルアミン(9.7 mL, 72.6 mmol)及びジブチルボロントリフルオロメタンスルホン酸塩(65 mL, 65 mmol)を加えた。添加を完了した後、該反応を１時間撹拌した。ドライアイスーアセトン浴中で該反応溶液を-78℃に冷却した。(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-ホルミル-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩1a(12 g, 56.8 mmol,特許出願“WO2008081399”に開示された方法で調製)を10 mLのジクロロメタンに溶解し、該反応溶液に上記溶液を加えた。添加を完了した後、該反応を2時間攪拌した。該ドライアイスーアセトン浴を撤去し、該反応溶液を0℃まで自然加熱し、0℃で1.5時間反応した。該反応溶液に100 mLのリン酸塩緩衝液(pH=7.0)とメタノールの混合液(V:V=1:3)を加えた後、100 mLのメタノールと過酸化水素(30%)の混合液(V:V=2:1)を加えた。該反応溶液を30分間攪拌した後、減圧下で有機層を蒸発して除去した。残留の水層をジクロロメタン(150 mL×3)で抽出した。有機層を合わせ、水(100 mL×2)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(100 mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ｃを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1c(15.6 g, 白色粉末)を72.3%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 445.4 [M+1]
【００５４】
ステップ２
(2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-(tert-ブトキシカルボニル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-ヒドロキシ-2-メチルプロパン酸
500 mLのテトラヒドロフランに1c(15.7 g, 35.3mmol)を加えた。氷浴中で過酸化水素(15.3 g, 134 mmol)をゆっくり加え、反応溶液の温度を0℃に制御し、水酸化リチウム(2.5 g, 60 mmol)を加えた。添加を完了した後、氷浴を撤去し、該反応溶液を室温まで自然加熱した。該反応を16時間攪拌した。氷浴中で亜硫酸ナトリウム(17.8 g, 141.2 mmol)を数回に分けて上記反応にゆっくり加えた。添加を完了した後、該反応を30分間攪拌し、150 mLの水を加えた。氷浴を撤去し、減圧下で有機層を蒸発して除去した。残留の水層をジクロロメタン(150 mL×3)で洗浄した。氷浴中で2N塩酸を滴加し、pHを2〜3に調整した。該混合物を酢酸エチル(100 mL×3)で抽出し、水(500 mL)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(500 mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、該標記生成物1d (9.3 g, 白色固体)を92%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 284.3 [M-1]
【００５５】
ステップ３
(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-((1R,2R)-3-(ベンジルオキシ)-1-ヒドロキシ-2-メチル-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩
1d(9.3 g, 32.6 mmol)を120 mLのN,N-ジメチルホルムアミドに溶解した。氷浴中で0℃に冷却した後、重炭酸ナトリウム(15.06 g, 179.3 mmol)及びベンジルブロミド(27.9 g, 163.1 mmol)を加えた。添加を完了した後、氷浴を撤去し、該反応を20℃で16時間攪拌した。氷浴中で200 mLの塩化アモニウム飽和溶液を加え、反応を停止させた。該反応溶液を酢酸エチル(150 mL×3)で抽出した。有機層を水(200 mL)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(150 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ｃを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1e(10.3g, 油)を84.2%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 376.4 [M+1]
【００５６】
ステップ４
(1S,3S,5S)-tert-ブチル 3-((1R,2R)-3-(ベンジルオキシ)-1-メトキシ-2-メチル-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩
1e(10.3 g, 27.4 mmol)を90 mLのN-メチルピロリドンに溶解した。ヨウ化メチル(18 mL, 234 mmol)を加え、60%水素化ナトリウム(1.28 g, 32.1 mmol)を数回に分けて加え、該反応を30分間攪拌した。氷浴中で200 mLの塩化アモニウムの飽和溶液を0℃に冷却し、該反応溶液に加え、10分間撹拌した。該反応を酢酸エチル(300 mL×3)で抽出した。有機層を水(200 mL×2)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(200 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を濃縮し、溶出系Ｃを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1f(9.3g, 油)を87.2%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 390.4 [M+1]
【００５７】
ステップ５
(2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-(tert-ブトキシカルボニル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパン酸
1f(9.3 g, 23.88 mmol)を90 mLのテトラヒドロフランに溶解し、パラジウム-炭素(10%, 1.86 g)を加えた。該反応系を水素で３回パージした。該反応溶液を35℃に加熱し、30分間攪拌した。該反応溶液をセライトに通して濾過した。濾液を濃縮し、乾燥し、該標記生成物の粗製品1g (8.2 g, 油)を約100%の粗収率で得た。該生成物を更に精製せずに次のステップで直接に用いた。
【００５８】
ステップ６
(2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパン酸塩酸塩
粗製品1g(8.3 g, 27.7 mmol)を塩酸の1,4-ジオキサン溶液(5.0 M, 50 mL)に溶解し、30分間攪拌した。該反応溶液を減圧下で濃縮し、乾燥し、該標記生成物1hの粗製品(8.2 g,淡い黄色の液体)を約100%の粗収率で得た。該生成物を更に精製せずに次のステップで直接に用いた。
【００５９】
ステップ７
(2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-(((9H-フルオレン-9-イル)メトキシ)カルボニル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパン酸
粗製品1h(8.2 g, 41.2 mmol)を70 mLの水に溶解し、70 mLの1,4-ジオキサンを加えた。氷浴中で0℃に冷却した後、N, N-ジイソプロピルエチルアミン(31.9 g, 247.2 mmol)を上記反応に加えた。N-(9-フルオレニルメトキシカルボニルオキシ)スクシンイミド(18.06 g, 53.56 mmol)を70 mLの1,4-ジオキサンに溶解した。該反応溶液に上記溶液を加えた。添加を完了した後、氷浴を撤去し、該反応溶液を室温まで自然加熱した。そして、該反応を2.5時間攪拌した。減圧下で有機層を蒸発して除去した後、該反応溶液に100 mLの水を加えた。1N塩酸を滴加し、該反応溶液のpHを2に調整した。該混合物をジクロロメタン(300 mL×3)で抽出した。有機層を水(300 mL×2)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(300 mL)で順次の洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1i(8.7 g, 白色の泡状固体)を85%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 422.4 [M+1]
【００６０】
ステップ８
(S)-2,4-ジメトキシベンジル2-((((9H-フルオレン-9-イル)メトキシ)カルボニル)アミノ)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
(S)-2-((((9H-フルオレン-9-イル)メトキシ)カルボニル)アミノ)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸1j(13 g, 32.6 mmol)を50 mLのジクロロメタンに溶解し、3,5-ジメタノキシベンジルアルコール(5.93 g, 35.27 mmol)を加えた後、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(8.9 mL, 36.8 mmol)を滴加した。滴加を完了した後、該反応を40時間攪拌した。該反応溶液を水(50 mL)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(50 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ｃを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1k (34.2 g, 白色固体)を約100%の粗収率で得た。該生成物を更に精製せずに次のステップで直接に用いた。
MS m/z (ESI): 556.4 [M+1]
【００６１】
ステップ９
(S)-2,4-ジメトキシベンジル2-アミノ-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
1k(17 g, 30.6 mmol)を40 mLのジクロロメタンに溶解した後、ジエチルアミン(80 mL, 0.78 mmol)を加え、3時間攪拌した。該反応溶液を減圧下で濃縮し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1l(7.8 g, 白色の粘性物質)を76.4%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 334.3 [M+1]
【００６２】
ステップ１０
(1S,3S,5S)-(9H-フルオレン-9-イル)メチル3-((1R,2R)-3-(((S)-1-((2,4-ジメトキシベンジル)オキシ)-3-(2-フルオロフェニル)-1-オキソプロパン-2-イル)アミノ)-1-メトキシ-2-メチル-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩
条件１:
1i(2.5 g, 5.94 mmol)及び1l(2.04 g, 5.94 mmol)を36 mLのジクロロメタンとN,N-ジメチルホルムアミドの混合液(V:V=5:1)に溶解した後、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩(2.7 g, 7.13 mmol)及びN,N-ジイソプロピルエチルアミン(3.1 mL, 17.8 mmol)を加えた。添加を完了した後、該反応を20℃で１時間撹拌した。該反応溶液に100 mLの水を加えた。そして、該混合物を攪拌し、２つの層を分離した。有機層を水(100 mL×2)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(100 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ｃを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1m(3.9 g, 白色の泡状固体を89.2%の収率で得た。
条件２:
1i(9.1 g, 21.62 mmol)、1l(7.5 g, 22.69 mmol)及びHATU[2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩](9.9 g, 25.94 mmol)を120 mLのジクロロメタンとN,N-ジメチルホルムアミドの混合液(V:V=5:1)に溶解した後、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(8.4 g, 64.89 mmol)を加えた。該反応を20℃で１時間撹拌した。該反応溶液に80 mLの水を加えた。そして、該混合物を攪拌し、２つの層を分離した。水層をジクロロメタン(100 mL×2)で抽出し、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。溶出系Ｃを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1m(15.7 g, 白色固体)を98%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 737.5 [M+1]
【００６３】
ステップ１１
(S)-2,4-ジメトキシベンジル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
条件１:
1m(3.9 g, 5.29 mmol)を20 mLのジクロロメタンに溶解した後、ジエチルアミンを加え、20℃で2時間攪拌した。減圧下でジエチルアミンをほとんど蒸発した。10 mLのトルエンを加え、該混合物を減圧下で濃縮し、乾燥した。生成した残渣を100 mLのジクロロメタンに溶解し、水(100 mL×2)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(100 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物1n(2.31 g, オレンジ色の固体)を84.9%の収率で得た。
条件２:
1m(15.7g, 21.3 mmol)を100 mLのジクロロメタンに溶解した後、10〜15℃でジエチルアミン(150 mL, 1.5 mmol)をゆっくり加え、3時間攪拌した。該反応溶液を減圧下で濃縮し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物1n(10 g, 黄色の油)を91.7%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 515.4 [M+1]
【００６４】
ステップ１２
(S)-2,4-ジメトキシベンジル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((5S,8S,11S,12R)-11-((S)-sec-ブチル)-1-(9H-フルオレン-9-イル)-5,8-ジイソプロピル-12-メトキシ-4,10-ジメチル-3,6,9-トリオキソ-2-オキサ-4,7,10-トリアザテトラデカン-14-オイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
条件１:
1n(2.15 g, 4.18 mmol)及び(5S,8S,11S,12R)-11-((S)-sec-ブチル)-1-(9H-フルオレン-9-イル)-5,8-ジイソプロピル-12-メトキシ-4,10-ジメチル-3,6,9-トリオキソ-2-オキサ-4,7,10-トリアザテトラデカン-14-酸1o(2.66 g, 4.18 mmol,特許出願“WO 2013072813”に開示された方法で調製)を36 mLのジクロロメタンとN,N-ジメチルホルムアミドの混合液(V:V=5:1)に溶解し、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩 (1.9 g, 5.01 mmol)及びN,N-ジイソプロピルエチルアミン(2.18 mL, 12.54 mmol)を加えた。該混合物を20℃で１時間撹拌した。100 mLの水を加え、２つの層を分離した。有機層を水(100 mL×2)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(100 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物1p(3.55 g, 白色の泡状固体)を75.8%の収率で得た。
条件２:
1n(12.41 g, 19.46 mmol)を100 mLの無水アセトニトリルに溶解した後、氷浴中で2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩(8.8 g, 23.35 mmol)及びN,N-ジイソプロピルエチルアミン(7.6 g, 58.38 mmol)を加え、0〜5℃で10分間撹拌した。(5S,8S,11S,12R)-11 -((S)-sec-ブチル)-1-(9H-フルオレン-9-イル)-5,8-ジイソプロピル-12-メトキシ-4,10-ジメチル-3,6,9-トリオキソ-2-オキサ-4,7,10-トリアザテトラデカン-14-酸1oを加え、１時間撹拌した。該反応溶液に100 mLの水及び100 mLの酢酸エチルを加え、２つの層を分離した。有機層を50 mLの水で洗浄し、水層を酢酸エチル(100 mL×2)で抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物1p(21.7 g, 黄色の油)を約100%の粗収率で得た。該生成物を次のステップで直接的に用いた。
MS m/z (ESI): 1151.6 [M+18]
【００６５】
ステップ１３
(S)-2,4-ジメトキシベンジル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-N,3-ジメチル-2-((S)-3-メチル-2-(メチルアミノ)ブタンアミド)ブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
条件１:
1p(3.86 g, 3.4 mmol)を20 mLのジクロロメタンに溶解した後、ジエチルアミン(40 mL, 0.39 mmol)を加え、20℃で2時間攪拌した。減圧下でジエチルアミンをほとんど蒸発し、生成した残渣に10 mLのトルエンを加え、減圧下で該混合物を濃縮し、乾燥した。生成した残渣100 mLの水及び100 mLのジクロロメタンを加え、攪拌し、２つの層を分離した。有機層を水(100 mL×2)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(100 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物1q(2.73 g, 黄色泡状の固体)を87%の収率で得た。
条件２:
粗製品1p(21.7 g, 19.1 mmol)を100 mLの無水ジクロロメタンに溶解した後、ジエチルアミン(150 mL, 1.5 mmol)を加え、10〜15℃で3時間攪拌した。該反応溶液を減圧下で濃縮した。溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物1q(15.4 g, 黄色の粘性物質)を89%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 912.9 [M+1]
【００６６】
ステップ１４
(S)-2,4-ジメトキシベンジル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-2-((S)-2-(6-(2,5-ジオキソ-2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-1-イル)-N-メチルヘキサンアミド)-3-メチルブタンアミド-N,3-ジメチルブタンアミド)(3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
条件１:
1q(1.22 g, 1.34 mmol)を24 mLのジクロロメタンとN,N-ジメチルホルムアミド(V:V=5:1)の混合液に溶解した。6-マレイミドカプロン酸(282 mg, 1.34 mmol)、2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩(310 mg, 1.61 mmol)及びN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.7 mL, 4.02 mmol)を順次に加え、１時間撹拌した。該反応溶液に50 mLの水を加えた後、攪拌した。２つの層に分離し、有機層を水(50 mL×2)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(50 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物1r(780 mg, 白色の泡状固体)を52.8%の収率で得た。
条件２:
6-マレイミドカプロン酸(3.8 g, 17.98 mmol)を200 mLの無水アセトニトリルに溶解した。氷塩浴中で該反応溶液の温度を-5〜0℃に制御した。2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩(7.8 g, 20.68 mmol)及びN,N-ジイソプロピルエチルアミン(7.0g, 53.34 mmol)をゆっくり加え、15分間攪拌した。1q(15.4 g, 17.98 mmol)を加え、１時間撹拌した。該反応溶液に100 mLの水及び100 mLの酢酸エチルを加え、２つの層を分離した。有機層を50 mLの水で洗浄し、水層を酢酸エチル(100 mL×2)で抽出した後、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物1r(12 g, 白色固体)を60%の収率で得た。該生成物を次のステップで直接的に用いた。
MS m/z (ESI): 1122.7 [M+18]
【００６７】
ステップ１５
(S)-2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-2-((S)-2-(6-(2,5-ジオキソ-2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-1-イル)-N-メチルヘキサンアミド)-3-メチルブタンアミド)-N,3-ジメチルブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸
条件１:
1r(1.56 g, 1.41 mmol)をトリフルオロ酢酸のジクロロメタン溶液(2.5%, 40 mL)に溶解し、20分間攪拌した。氷浴中でジクロロメタンを減圧下で濃縮し、除去した。生成した残渣を減圧下で乾燥した後、ジクロロメタンに溶解した。湿った該混合物を負荷し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、該標記生成物1(960 mg, 白色の泡状固体)を71.1%の収率で得た。
条件２:
粗製品1r(12 g, 10.86 mmol)を50 mLの無水ジクロロメタンに溶解した。氷浴中でトリフルオロ酢酸のジクロロメタン溶液(2.5%, 150 mL)を加え、3時間攪拌した。低温で該反応溶液を減圧下で濃縮し、溶出系Ａを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物1(5.5g, 白色固体)を53.4%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 956.0 [M+1]
1H NMR (400 MHz, CD3OD): d 7.36-7.30(m, 1H), 7.29-7.21(m, 1H), 7.17-7.02(m, 2H), 6.83-6.79(m, 2H), 4.81-4.71(m, 2H), 4.69-4.55 (m, 2H), 4.25-4.15(m, 1H), 4.13-4.04(m, 1H), 3.96-3.85(m, 2H), 3.70-3.61(m, 1H), 3.55-3.46(m, 3H), 3.40-3.21 (m, 4H), 3.18-3.10(m, 2H), 3.07-2.96(m, 4H), 2.67-2.56(m, 2H), 2.54-2.34(m, 3H), 2.29-2.17(m, 2H), 2.10-1.99(m, 1H), 1.89-1.57(m, 7H), 1.52-1.28(m, 6H), 1.21-1.11 (m, 4H), 1.07-0.96(m, 6H), 0.95-0.81(m, 12H), 0.80-0.69(m, 1H).
【００６８】
WO2016/127790に開示された本発明者らによる実施例１の化合物１の合成法
(S)-2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-2-((S)-2-(6-(2,5-ジオキソ-2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-1-イル)-N-メチルヘキサンアミド)-3-メチルブタンアミド)-N,3-ジメチルブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸
2019510000.tif 000036
2019510000.tif 000037
【００６９】
ステップ１
(S)-tert-ブチル 2-アミノ-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
原料(S)-2-アミノ-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸1s(400 mg, 2.18 mmol, “高度合成と触媒作用, 2012, 354(17), 3327-3332”に開示された方法で調製)を10 mLのTBAに溶解した後、過塩素酸(300 mg (70%), 3.3 mmol)を加え、室温で16時間攪拌した。該反応が完了した後、6 mLの水を加え、２つの層を分離した。有機層を重炭酸ナトリウムの飽和溶液(5 mL)で洗浄した。重炭酸ナトリウムの飽和溶液で水層をpH=8に調整し、ジクロロメタン(5 mL×3)で抽出した。有機層を合わせ、水(3 mL)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(5 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、該標記生成物(S)-tert-ブチル2-アミノ-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
1t(390 mg, 黄色の油)の粗製品を得た。該生成物を更に精製せずに次のステップで直接に用いた。
【００７０】
ステップ２
(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-((1R,2R)-3-(((S)-1-(tert-ブトキシ)-3-(2-フルオロフェニル)-1-オキソプロパン-2-イル)アミノ)-1-メトキシ-2-メチル-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩
原料(2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-(tert-ブトキシカルボニル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパン酸1g(100 mg, 0.334 mmol)を6 mLのジクロロメタンとジメチルホルムアミド(V/V=5:1)の混合溶媒に溶解した後、(S)-tert-ブチル2-アミノ-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩1tの粗製品(80 mg, 0.334 mmol)を加え、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.29 mL, 1.67 mmol)及び2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩(152.3 mg, 0.40 mmol)を加えた。アルゴン雰囲気下で該反応系を室温で1時間攪拌した。該反応が完了した後、10 mLの水を加え、撹拌し、２つの層を分離した。ジクロロメタン層を塩化ナトリウムの飽和溶液(10 mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ｂを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物(1S,3S,5S)-tert-ブチル 3-((1R,2R)-3-(((S)-1-(tert-ブトキシ)-3-(2-フルオロフェニル)-1-オキソプロパン-2-イル)アミノ)-1-メトキシ-2-メチル-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩1u(173 mg, 無色液体)を99.5%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 521.2 [M+1]
【００７１】
ステップ３
(S)-tert-ブチル 2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
原料(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-((1R,2R)-3-(((S)-1-(tert-ブトキシ)-3-(2-フルオロフェニル)-1-オキソプロパン-2-イル)アミノ)-1-メトキシ-2-メチル-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩1u(173 mg, 0.33 mmol)を2 mLの1,4-ジオキサンに溶解した後、5.6 M塩化水素のジオキサン溶液(0.21 mL, 1.16 mmol)を加えた。アルゴン雰囲気下及び室温で該混合物を１時間撹拌した後、0℃で冷蔵庫に12時間放置した。該反応が完了した後、該反応溶液を減圧下で濃縮し、5 mLのジクロロメタン及び10 mLの重炭酸ナトリウムの飽和溶液を加えた後、10分間撹拌し、２つの層を分離した。水層をジクロロメタン(5 mL×3)で抽出した。該ジクロロメタン層を合わせ、塩化ナトリウムの飽和溶液(10 mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、該標記生成物(S)-tert-ブチル 2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩1vの粗製品(77 mg, 黄色液体)を得た。該生成物を更に精製せずに次のステップで直接に用いた。
MS m/z (ESI): 421.2 [M+1]
【００７２】
ステップ４
(S)-tert-ブチル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((5S,8S,11S,12R)-11-((S)- sec-ブチル)-1-(9H-フルオレン-9-イル)-5,8-ジイソプロピル-12-メトキシ-4,10-ジメチル-3,6,9-トリオキソ-2-オキサ-4,7,10-トリアザテトラデカン-14-オイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
粗製品(S)-tert-ブチル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩1v(77 mg, 0.183 mmol)及び(5S,8S,11S,12R)-11-((S)-sec-ブチル)-1-(9H-フルオレン-9-イル)-5,8-ジイソプロピル-12-メトキシ-4,10-ジメチル-3,6,9-トリオキソ-2-オキサ-4,7,10-トリアザテトラデカン-14-酸1o(116.8 mg, 0.183 mmol)を6 mLのジクロロメタンとジメチルホルムアミドの混合溶媒(V/V=5:1)に溶解した後、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.16 mL, 0.915 mmol)及び2-(7-アザベンゾトリアゾール)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロリン酸塩(84 mg, 0.22 mmol)を加えた。アルゴン雰囲気下及び室温で該反応系を１時間撹拌した。該反応が完了した後、10 mLの水を加え、撹拌し、２つの層を分離した。ジクロロメタン層を塩化ナトリウムの飽和溶液(10 mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ｂを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物(S)-tert-ブチル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S) -2-((5S,8S,11S,12R)-11-((S)-sec-ブチル)-1-(9H-フルオレン-9-イル)-5,8-ジイソプロピル-12-メトキシ-4,10-ジメチル-3,6,9-トリオキソ-2-オキサ-4,7,10-トリアザテトラデカン-14-オイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩1w(190.5 mg, 黄色の粘性物質)を100%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 1040.6 [M+1]
【００７３】
ステップ５
(S)-tert-ブチル 2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-N,3-ジメチル-2-((S)-3-メチル-2-(メチルアミノ)ブタンアミド)ブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩
原料(S)-tert-ブチル 2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((5S,8S,11S,12R) -11-((S)-sec-ブチル)-1-(9H-フルオレン-9-イル)-5,8-ジイソプロピル-12-メトキシ-4,10-ジメチル-3,6,9-トリオキソ-2-オキサ-4,7,10-トリアザテトラデカン-14-オイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩1w(190.5 mg, 0.183 mmol)を1.5 mLのジクロロメタンに溶解した後、2 mLのジエチルアミンを加えた。アルゴン雰囲気下及び室温で該反応系を3時間攪拌した。該反応が完了した後、該反応溶液を減圧下で濃縮し、該標記生成物(S)-tert-ブチル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-N,3-ジメチル-2-((S)-3-メチル-2-(メチルアミノ)ブタンアミド)ブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩の粗製品1x(150 mg, 黄色の粘性物質)を得た。該生成物を更に精製せずに次のステップで直接に用いた。
MS m/z (ESI): 818.5 [M+1]
【００７４】
ステップ６
(S)-2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-N,3-ジメチル-2-((S)- 3-メチル-2-(メチルアミノ)ブタンアミド)ブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸
粗製品(S)-tert-ブチル2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S) -4-((S)-N,3-ジメチル-2-((S)-3-メチル-2-(メチルアミノ)ブタンアミド)ブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸塩1x(150 mg, 0.183 mmol)を1 mLの1,4-ジオキサンに溶解した後、3 mLの5.6 M塩化水素のジオキサン溶液を加えた。アルゴン雰囲気下及び室温で該混合物を12時間攪拌した。該反応が完了した後、該反応溶液を減圧下で濃縮し、残留した溶媒をジエチルエーテルで回転蒸発した。生成した残渣を高速液体クロマトグラフィーで精製し、該標記生成物(S)-2-((2R,3R)-3- ((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-N,3-ジメチル-2-((S)-3-メチル-2-(メチルアミノ)ブタンアミド)ブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸1y(28 mg, 白色の粉末状固体)を20%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 762.7 [M+1]
1H NMR (400 MHz, CD3OD): d 7.38-7.18(m, 2H), 7.13-7.01(m, 2H), 4.80-4.67(m, 2H), 4.30-4.15(m, 1H), 4.13-4.01(m, 1H), 3.96-3.83(m, 2H), 3.75-3.60(m, 2H), 3.42-3.11(m, 9H), 3.06-2.95(m, 1H), 2.70-2.58(m, 4H), 2.28-2.01 (m, 4H), 1.88-1.70(m, 3H), 1.57-1.25 (m, 4H), 1.22-0.95(m, 18H), 0.92-0.80(m, 4H), 0.78-0.65(m, 1H).
【００７５】
ステップ７
原料(S)-2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-N,3-ジメチル-2-((S)-3-メチル-2-(メチルアミノ)ブタンアミド)ブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸1y(25 mg, 0.033 mmol)を3 mLのジクロロメタンに溶解した後、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.029 mL, 0.164 mmol)を加えた。氷浴の中、アルゴン雰囲気下で反応系に用時調製した6-(2,5-ジオキソ-2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-1-イル)塩化ヘキサノイルのジクロロメタン溶液(11.3 mg, 0.049 mmol)を滴加し、室温で3時間攪拌した。該反応が完了した後、5 mLの水を加え、20分間撹拌し、２つの層を分離した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、高速液体クロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物 (S)-2-((2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-((3R,4S,5S)-4-((S)-2-((S)-2-(6-(2,5-ジオキソ-2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-1-イル)-N-メチルヘキサンアミド)-3-メチルブタンアミド)-N,3-ジメチルブタンアミド)-3-メトキシ-5-メチルヘプタノイル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパンアミド)-3-(2-フルオロフェニル)プロパン酸1(7 mg, 黄色の粘性物質)を22.4%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 955.4 [M+1]
1H NMR (400 MHz, CD3OD): d 7.36-7.30(m, 1H), 7.29-7.21(m, 1H), 7.17-7.02(m, 2H), 6.83-6.79(m, 2H), 4.81-4.71(m, 2H), 4.69-4.55 (m, 2H), 4.25-4.15(m, 1H), 4.13-4.04(m, 1H), 3.96-3.85(m, 2H), 3.70-3.61(m, 1H), 3.55-3.46(m, 3H), 3.40-3.21 (m, 4H), 3.18-3.10(m, 2H), 3.07-2.96(m, 4H), 2.67-2.56(m, 2H), 2.54-2.34(m, 3H), 2.29-2.17(m, 2H), 2.10-1.99(m, 1H), 1.89-1.57(m, 7H), 1.52-1.28(m, 6H), 1.21-1.11 (m, 4H), 1.07-0.96(m, 6H), 0.95-0.81(m, 12H), 0.80-0.69(m, 1H).
【００７６】
以下のような本発明者らによるWO2016/127790に記載の先行技術の調製法を用いた本発明の基質化合物を調製するための具体的なステップ
2019510000.tif 000038
【００７７】
ステップ１
(1S,3S,5S)-tert-ブチル 3-((1R,2R)-1-ヒドロキシ-2-メチル-3-((4R,5S)-4-メチル-2-オキソ-5-フェニルオキサゾリジン-3-イル)-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩
原料(4R,5S)-4-メチル-5-フェニル-3-プロピオニルオキサゾリジン-2-オン1b(1.96 g, 9.26 mmol, “アメリカ化学会誌, 2003, 125(50), 15512-15520”に開示された方法で調製)を25 mLのジクロロメタンに溶解した後、アルゴン雰囲気下で該混合物を0℃に冷却した。0℃で該反応溶液にトリエチルアミン(1.49 mL, 10.93 mmol)及びジブチルボロントリフルオロメタンスルホン酸塩(9.7 mL, 9.72 mmol)を順次に滴加し、0℃で50分間攪拌した。ドライアイスーアセトン浴中で該反応溶液を-75℃に冷却し、7 mLの(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-ホルミル-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩1a(2.16 g, 9.26 mmol,特許出願“US20100249190”に開示された方法で調製)のジクロロメタン溶液を加えた。該混合物を-75℃で1.5時間攪拌し、0℃で2時間攪拌し、室温で１時間撹拌した。該反応が完了した後、36 mLのリン酸塩緩衝液(pH=7.0)とメタノールの混合液(V/V=1:3)を加え、36 mLのメタノールと過酸化水素(30%)の混合液(V/V=2:1)を加え、室温で１時間撹拌した。減圧下で濃縮し、有機層を除去し後、少量の水を加えた。該混合物をジエチルエーテル(50 mL×3)で抽出し、5%重炭酸ナトリウム溶液及び塩化ナトリウムの飽和溶液(150 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ｂを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで残渣を精製し、該標記生成物(1S,3S,5S)-tert-ブチル 3-((1R,2R)-1-ヒドロキシ-2-メチル-3-((4R,5S)-4-メチル-2-オキソ-5-フェニルオキサゾリジン-3-イル)-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩1c(2.4 g,白色の泡状固体)を58.5%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 345.1 [M-100+1]
【００７８】
ステップ２
(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-((1R,2R)-1-メトキシ-2-メチル-3-((4R,5S)-4-メチル-2-オキソ-5-フェニルオキサゾリジン-3-イル)-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩
原料(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-((1R,2R)-1-ヒドロキシ-2-メチル-3-((4R,5S)-4-メチル-2-オキソ-5-フェニルオキサゾリジン-3-イル)-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩1c(1.4 g, 3.15 mmol)を20 mLのジクロロメタンに溶解した後、1.4 gの粉砕した分子ふるいを加え、アルゴン雰囲気下及び0℃で1,8-ビス(ジメチルアミノ)ナフタレン(1.75 g, 8.19 mmol)及びトリメチルオキソニウムテトラフルオロホウ酸塩(1.16 g, 7.87 mmol)を加えた。該反応を遮光し、室温で40時間攪拌した。該反応が完了した後、該混合物を濾過し、濾過ケーキをジクロロメタンで洗浄した。濾液を塩化アモニウムの飽和溶液(50 mL×4)で洗浄し、過剰な1,8-ビス(ジメチルアミノ)ナフタレンを除去した後、塩化ナトリウムの飽和溶液(120 mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、溶出系Ｂを備えたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成した残渣を精製し、該標記生成物(1S,3S,5S)-tert-ブチル3-((1R,2R)-1-メトキシ-2-メチル-3-((4R,5S)-4-メチル-2-オキソ-5-フェニルオキサゾリジン-3-イル)-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩1d’(400 mg, 白色固体)を27.8%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 459.4 [M+1]
【００７９】
ステップ３
(2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-(tert-ブトキシカルボニル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパン酸
原料(1S,3S,5S)-tert-ブチル 3-((1R,2R)-1-メトキシ-2-メチル-3-((4R,5S) -4-メチル-2-オキソ-5-フェニルオキサゾリジン-3-イル)-3-オキソプロピル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボン酸塩1d'(400 mg, 0.87 mmol)を24 mLのテトラヒドロフランに溶解し、アルゴン雰囲気下で0℃に冷却した。30%過酸化水素(0.34 mL/0.38 g, 3.31 mmol)をゆっくり滴加した後、水酸化リチウム一水和物(62 mg, 1.48 mmol)を加えた。室温で該反応系を20時間攪拌した。該反応が完了した後、反応溶液に亜硫酸ナトリウムの固体(440 mg, 3.48 mmol)を加え、室温で１時間撹拌した。10 mLの水を加え、減圧下で濃縮し、有機層を除去した。生成した残渣をジクロロメタン(40 mL×2)で抽出した。水層に2N塩化水素を加え、該反応溶液のpHを3〜4に調整した。該混合物を酢酸エチル(25 mL×3)で抽出した。酢酸エチル層を水(50 mL)及び塩化ナトリウムの飽和溶液(50 mL)で順次に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、該標記生成物(2R,3R)-3-((1S,3S,5S)-2-(tert-ブトキシカルボニル)-2-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)-3-メトキシ-2-メチルプロパン酸1g(230 mg, 無色液体)を88.0%の収率で得た。
MS m/z (ESI): 200.1 [M-100+1]
【００８０】
2つの方法で調製された中間体1gの収率を比較し、以下の表に示す。
2019510000.tif 000039
上記の表から分かるように、本発明の方法はまずカルボキシルを保護し、次いでメチルを加える。該合成経路は先行技術のものより長いが、総収率は大きく上がり、約３倍となる。本発明の方法は、工業生産等に適した特性を有し、著しい社会的、経済的利点を有する。
本発明は具体的な実施形態により記載されていることから、それについての改良やそのに相当するものは当業者にとって明白であり、本発明の範囲に含まれる。
【国際調査報告】
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