(57)【要約】  本発明は、（ａ）第１の反応器；（ｂ）好ましくは真空ポンプ、圧縮機、ブロワ、エジェクタ又はこれらの組み合わせから選択される減圧装置と接続された少なくとも１つの容器を含む、第１の反応器及び第２の反応器の間に配置された水素除去ユニットであって、減圧装置が、運転圧力を１００〜２００ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内の圧力に調節することを可能にする水素除去ユニット；（ｃ）第２の反応器；及び（ｄ）第３の反応器を含む、多峰性ポリエチレン重合プロセスのための反応器システム、並びにそのフィルムの使用に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
多峰性ポリエチレン重合プロセスのための反応器システムであって、
（ａ）第１の反応器；
（ｂ）好ましくは真空ポンプ、圧縮機、ブロワ、エジェクタ又はこれらの組み合わせから選択される減圧装置と接続された少なくとも１つの容器を含む、前記第１の反応器及び第２の反応器の間に配置された水素除去ユニットであって、前記減圧装置が運転圧力を１００〜２００ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内の圧力に調節することを可能にする、水素除去ユニット；
（ｃ）前記第２の反応器；及び
（ｄ）第３の反応器
を含む、反応器システム。
【請求項２】
前記減圧装置が、前記水素除去ユニット内の前記運転圧力を１０３〜１４５ｋＰａ（ａｂｓ）、好ましくは１０４〜１３０ｋＰａ（ａｂｓ）、最も好ましくは１０５〜１１５ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内の圧力に調節することを可能にする、請求項１に記載の反応器システム。
【請求項３】
前記水素除去ユニットがさらに、水素及び液体希釈剤の分離のためのストリップ塔を含む、請求項１又は２に記載の反応器システム。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の反応器システム内で多峰性ポリエチレン組成物を製造するためのプロセスであって、
（ａ）前記第１の反応器内で、チーグラー・ナッタ触媒又はメタロセンから選択される触媒系の存在下、及び前記第１の反応器内の気相中に存在する全気体に対して０．１〜９５ｍｏｌ％の量の水素の存在下で、不活性炭化水素媒体中のエチレンを重合して、２０，０００〜９０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する低分子量ポリエチレン又は９０，０００超〜１５０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する中分子量ポリエチレンを得る工程であって、前記低分子量ポリエチレン、それぞれ前記中分子量ポリエチレンが少なくとも０．９６５ｇ／ｃｍ３の密度を有し、且つ前記低分子量ポリエチレンが１０〜１，０００ｇ／１０分の範囲内のＭＩ２を有し、且つ前記中分子量ポリエチレンが０．１〜１０ｇ／１０分の範囲内のＭＩ２を有する工程；
（ｂ）前記水素除去ユニット内で、１０３〜１４５ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内の圧力の前記第１の反応器から得られたスラリー混合物に含まれる９８．０〜９９．８重量％の前記水素を除去し、且つ前記得られた残留混合物を前記第２の反応器に移送する工程；
（ｃ）前記第２の反応器内で、チーグラー・ナッタ触媒又はメタロセンから選択される触媒系の存在下、及び工程（ｂ）において得られた量の水素の存在下で、エチレン及び任意選択でＣ４〜Ｃ１２α−オレフィンコモノマーを重合して、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する第１の高分子量ポリエチレン又は１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有するホモポリマー若しくはコポリマーの形態の第１の超高分子量ポリエチレンを得、且つ得られた混合物を前記第３の反応器に移送する工程；及び
（ｄ）前記第３の反応器内で、チーグラー・ナッタ触媒又はメタロセンから選択される触媒系の存在下、及び前記第３の反応器内の水素の量が、前記第３の反応器内の気相中に存在する全気体に対して０．１〜７０ｍｏｌ％、好ましくは０．１〜６０ｍｏｌ％の範囲内である水素の存在下で、又は任意選択で水素の実質的な不在下で、エチレン及び任意選択でＣ４〜Ｃ１２α−オレフィンコモノマーを重合して、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する第２の高分子量ポリエチレン又は１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有するホモポリマー若しくはコポリマーの形態の第２の超高分子量ポリエチレンを得る工程
を含む、プロセス。
【請求項５】
前記除去が、前記水素の９８．０〜９９．８重量％、より好ましくは９８．０〜９９．５重量％、最も好ましくは９８．０〜９９．１重量％の除去である、請求項４に記載のプロセス。
【請求項６】
前記水素除去ユニット内の前記運転圧力が、１０３〜１４５ｋＰａ（ａｂｓ）、より好ましくは１０４〜１３０ｋＰａ（ａｂｓ）、最も好ましくは１０５〜１１５ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内である、請求項４又は請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
請求項４から６のいずれか一項に記載のプロセスによって得ることができる多峰性ポリエチレン組成物であって、
（Ａ）３０〜６５重量部、好ましくは４０〜６５重量部、好ましくは４３〜５２重量部、最も好ましくは４４〜５０重量部の前記低分子量ポリエチレンであって、２０，０００〜９０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有し、且つＡＳＴＭ  Ｄ１２３８による５００〜１，０００ｇ／１０分のＭＩ２を有する前記低分子量ポリエチレン；
（Ｂ）８〜３０重量部、８〜２０重量部、好ましくは１０〜１８重量部、最も好ましくは１０〜１５重量部の、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する前記第１の高分子量ポリエチレン又は１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する前記第１の超高分子量ポリエチレン；及び
（Ｃ）３０〜５０重量部、好ましくは３７〜４７重量部、最も好ましくは３９〜４５重量部の、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する前記第２の高分子量ポリエチレン又は１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する前記第２の超高分子量ポリエチレン
を含み、
前記第１の高分子量ポリエチレン又は前記第１の超高分子量ポリエチレン及び前記第２の高分子量ポリエチレン又は前記第２の超高分子量ポリエチレンの密度が、０．９２０〜０．９５０ｇ／ｃｍ３の範囲内であり、且つ
多峰性ポリエチレン組成物の分子量分布が、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、１３〜６０、好ましくは２０〜２８、好ましくは２４〜２８である、
多峰性ポリエチレン組成物。
【請求項８】
前記ＭＩ２が６００〜８００ｇ／１０ｍｉｎである、請求項７に記載の多峰性ポリエチレン組成物。
【請求項９】
前記分子量分布が、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、２３〜２８、好ましくは２４〜２６、より好ましくは２５〜２６である、請求項７又は８に記載の多峰性ポリエチレン組成物。
【請求項１０】
前記多峰性ポリエチレン組成物が、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、８０，０００〜１，３００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１５０，０００〜４００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは２００，０００〜３５０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量を有する、請求項７から９のいずれか一項に記載の多峰性ポリエチレン組成物。
【請求項１１】
前記多峰性ポリエチレン組成物が、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、５，０００〜３０，０００ｇ／ｍｏｌ、５，０００〜１５，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは７，０００〜１２，０００ｇ／ｍｏｌの数平均分子量を有する、請求項７から１０のいずれか一項に記載の多峰性ポリエチレン組成物。
【請求項１２】
前記多峰性ポリエチレン組成物が、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、９００，０００〜６，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、１，０００，０００〜３，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１，０００，０００〜２，５００，０００ｇ／ｍｏｌのＺ平均分子量を有する、請求項７から１１のいずれか一項に記載の多峰性ポリエチレン組成物。
【請求項１３】
前記多峰性ポリエチレン組成物が、ＡＳＴＭ  Ｄ１５０５による０．９５０〜０．９６２ｇ／ｃｍ３、好ましくは０．９５３〜０．９５９ｇ／ｃｍ３の密度、並びに／或いは０．０１〜５０ｇ／１０分のメルトフローインデックスＭＩ５、及び／又は０．０３〜０．１５ｇ／１０分、好ましくは０．０３〜０．１０ｇ／１０分のＭＩ２を有する、請求項７から１２のいずれか一項に記載のポリエチレン組成物。
【請求項１４】
前記ＭＩ５が０．０１〜１ｇ／１０分である、請求項１３に記載のポリエチレン組成物。
【請求項１５】
請求項７から１４のいずれか一項に記載の多峰性ポリエチレン組成物を含むフィルムであって、４〜４０μｍ、好ましくは４〜３０μｍ、最も好ましくは４〜２０μｍの厚さを有する、フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多峰性ポリエチレン重合プロセスのための反応器システム、前記反応器システムを使用して多峰性ポリエチレン組成物を製造するためのプロセス、このようにして得ることができる多峰性ポリエチレン組成物、及び前記多峰性ポリエチレン組成物を含むフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエチレン樹脂の需要は、様々な用途においてますます使用されている。ポリエチレンの高性能が比較的新しいプラスチックに必要であるため、重合プロセス技術が、新しいポリマー材料製造を支援するために開発された。加工性と、エチレンコポリマーの物理特性のバランスをとるために、多峰性の重合プロセスにおける開発が調査された。
【０００３】
先行技術では、多峰性ポリエチレン重合を用いて、別々の反応器内で各樹脂画分を生成することによって、異なる分子量を有するポリマーを製造する。低分子量画分は、最終ポリマーの良好な加工性を与えるのに適したポリマーの分子量を制御するために過剰な水素を使用して、反応器内で生成される。高分子量画分は、物理特性に影響し、低水素濃度の重合条件下で生成される。低分子量ポリマーが第１の反応器内で好ましく製造されることは当分野において周知である。良好な物理特性を持つ多峰性ポリマーを得るために、第１の反応器からのすべての水素は、重合されたスラリーポリマーが、高分子量ポリマーの製造が行われる第２の反応器に移送される前に除去されるべきである。
【０００４】
米国特許出願公開第２０１０／００９２７０９号には、二峰性ポリエチレンコポリマーを調製するためのプロセスが記載されている。第２の反応器内の重合が、改善された耐応力亀裂性及び溶融強度を有する樹脂を得るために、高温で、エチレンに対するコモノマーの比は低く、エチレンに対する水素の比は低く運転される。
【０００５】
米国特許第６７１６９３６号には、二峰性ポリエチレンコポリマーを製造するためのプロセスが記載されている。第２の反応器が、第１の反応器からのポリエチレンスラリー流を水素除去システムに導くことによって、水素欠乏ポリエチレン重合下で運転される。第１及び第２の両方の反応器内の重合は、プロパン又はイソブタンを軽質溶媒として使用することによって、泡立ち点で運転される。プロセスは、非常に均質な高分子量樹脂用の二峰性ポリエチレンの製造に適している。
【０００６】
米国特許第６２９１６０１号には、比較的高分子量のポリエチレンを用いた二峰性コポリマーを製造するためのプロセスが記載されている。水素化触媒が、水素をエタンに変換することによって第１の反応器からの残留水素ガスを消費し、第２の反応器内の低水素濃度を導くために、第２の反応器に導入される。この技術を使用すると、水素及びエチレン両方の原料消費のコストが、未反応のガスの変換のために高くなる。
【０００７】
米国特許出願公開第２００３／０１９１２５１号には、軽質溶媒を希釈剤として使用するカスケード反応器の間に配置された２つのフラッシュドラムを使用することによって残留水素をポリマースラリーから除去するプロセスが開示されている。スラリーによる移送ポンプの閉塞を防ぐために、第１のフラッシュドラム出口への補給溶媒の添加が必要である。さらに、スラリーを次のフラッシュドラム内に移送する前に、温かい補給溶媒が必要である。
【０００８】
欧州特許出願公開第１６５５３３４号には、ＭｇＣｌ２系チーグラー・ナッタ触媒を用いた多段階プロセスにおいて製造されるエチレンポリマーの多峰性の製造が開示されている。重合段階は、最初に超高分子量ポリマーを得て、続いて低分子量ポリマーを得て、最後に、最後の工程において高分子量ポリマーを得る順番で実施される。重合触媒は、超高分子量画分を調製するために、予備重合工程に投入される。
【０００９】
国際公開第２０１３／１４４３２８号には、チーグラー・ナッタ触媒を使用して製造される、成形用途における使用のための多峰性高密度ポリエチレンの組成物が記載されている。１５重量％未満の超高ポリエチレンのごく一部が第３の反応器内で製造される。
【００１０】
米国特許出願公開第２００９／０１０５４２２号には、多峰性ポリエチレンを製造するためのプロセスが記載されている。重合は、３つのカスケード反応器内で実施され、各反応器内のポリマーの分子量は、水素の存在によって制御される。各反応器内の水素の濃度は、第１の反応器内で最も高い水素濃度にし、第３の反応器内で最も低い水素濃度にすることによって、その後、低くなる。
【００１１】
国際公開第２０１３／１１３７９７号には、第１の反応器、第２の反応器及び第３の反応器の順番に従って、それぞれ、より低い分子量のエチレンポリマー、第１のより高い分子量のエチレンポリマー及び第２のより高い分子量のエチレンポリマーを用いてポリエチレンを得るための、重合されたエチレン及び少なくとも１つの他のα−オレフィンの３つの主な一連の工程を含む、ポリエチレンの調製のためのプロセスが記載されている。
【００１２】
多峰性ポリエチレンを調製するための多くのプロセスが公知であり、記述されてきたが、多峰性の重合のための、特にポリエチレン組成物の機械特性をさらに改善するための新しいプロセスを開発することが依然として必要とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１０／００９２７０９号
【特許文献２】米国特許第６７１６９３６号
【特許文献３】米国特許第６２９１６０１号
【特許文献４】米国特許出願公開第２００３／０１９１２５１号
【特許文献５】欧州特許出願公開第１６５５３３４号
【特許文献６】国際公開第２０１３／１４４３２８号
【特許文献７】米国特許出願公開第２００９／０１０５４２２号
【特許文献８】国際公開第２０１３／１１３７９７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
したがって、本発明の目的は、先行技術の欠点を克服する多峰性ポリエチレンを調製するための反応器システム及びプロセスを、特に、このような反応器に含まれる水素除去ユニットの性能を向上させるために提供することである。
【００１５】
別の目的は、先行技術の欠点を克服する、特に、改善された機械特性、例えばシャルピー値を有する多峰性ポリエチレン組成物を提供することである。
【００１６】
単層として、或いは多層フィルムのコア又は表面に適用されてもよい様々なフィルムが当分野において公知である。同じく、様々なポリマー組成物、特にポリエチレン組成物が、このようなフィルムを製造するために記述されている。
【００１７】
国際公開第２０１３／１４４３２４号には、特定のＭＦＲ５、密度及び分子量分布のホモポリマー、第１のコポリマー及び第２のコポリマーを含むポリマー組成物が開示されている。ポリマー組成物は、スラリーループ反応器及び２つの気相反応器を伴うプロセスにおいて調製される。
【００１８】
国際公開第２００６／０９２３７８号には、特定のＭＦＲ５及び密度を有し、且つ３つの成分、すなわち、ホモポリマー及び２つの異なるコポリマーを含むポリマー組成物から調製されたフィルムが開示されている。
【００１９】
米国特許出願公開第２０１５／００５１３６４号は、少なくとも３つの成分を含み、且つ特定の密度及びＭＦＲ２１を有する多峰性ポリエチレンコポリマーに関する。３つの成分のうちの少なくとも１つはコポリマーである。
【００２０】
米国特許出願公開第２０１０／００１６５２６号は、特定の密度を有する二峰性ＨＤＰＥポリマーから製造され得る薄フィルムに関する。組成物は、混合触媒系を使用する系列を伴う２段階のカスケード重合によって調製される。
【００２１】
しかし、上述の先行技術に照らして、先行技術の欠点を克服する、フィルムを調製するための多峰性ポリエチレン組成物、並びに多峰性ポリエチレン組成物、特に、４〜４０ミクロン又は好ましくはそれ未満のフィルム厚で、高出力、良好なバブル安定性、高い機械強度及び高い靱性に関して改善された特性を持つブローフィルムのための高密度ポリエチレン組成物を使用することによって調製されたフィルムを提供することが依然として必要とされている。
【００２２】
したがって、本発明の別の目的は、先行技術の欠点を克服する、特に上述の欠点を克服する、フィルムを調製するための多峰性ポリエチレン組成物、及びこのようにして調製されたフィルムを提供することである。
【００２３】
この目的は、独立請求項の主題による本発明に従って達成される。好ましい実施形態は、従属請求項から得られる。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
この目的はまず第一に、
（ａ）第１の反応器；
（ｂ）好ましくは真空ポンプ、圧縮機、ブロワ、エジェクタ又はこれらの組み合わせから選択される減圧装置と接続された少なくとも１つの容器を含む、第１の反応器及び第２の反応器の間に配置された水素除去ユニットであって、減圧装置が、運転圧力を１００〜２００ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内の圧力に調節することを可能にする水素除去ユニット；
（ｄ）第２の反応器；及び
（ｅ）第３の反応器
を含む、多峰性ポリエチレン重合プロセスのための反応器システムによって達成される。
【００２５】
好ましくは、減圧装置は、水素除去ユニット内の運転圧力を１０３〜１４５ｋＰａ（ａｂｓ）、好ましくは１０４〜１３０ｋＰａ（ａｂｓ）、最も好ましくは１０５〜１１５ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内の圧力に調節することを可能にする。
【００２６】
好ましくは、水素除去ユニットはさらに、水素及び液体希釈剤の分離のためのストリップ塔を含む。
【００２７】
この目的はさらに、
（ａ）第１の反応器内で、チーグラー・ナッタ触媒又はメタロセンから選択される触媒系の存在下、及び第１の反応器内の気相中に存在する全気体に対して０．１〜９５ｍｏｌ％の量の水素の存在下で、不活性炭化水素媒体中のエチレンを重合して、２０，０００〜９０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する低分子量ポリエチレン又は９０，０００超〜１５０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する中分子量ポリエチレンを得る工程であって、低分子量ポリエチレン、それぞれ中分子量ポリエチレンが少なくとも０．９６５ｇ／ｃｍ３の密度を有し、且つ低分子量ポリエチレンが１０〜１，０００ｇ／１０ｍｉｎの範囲内のＭＩ２を有し、且つ中分子量ポリエチレンが０．１〜１０ｇ／１０ｍｉｎの範囲内のＭＩ２を有する工程；
（ｂ）水素除去ユニット内で、１０３〜１４５ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内の圧力の第１の反応器から得られたスラリー混合物に含まれる９８．０〜９９．８重量％の水素を除去し、且つ得られた残留混合物を第２の反応器に移送する工程；
（ｃ）第２の反応器内で、チーグラー・ナッタ触媒又はメタロセンから選択される触媒系の存在下、及び工程（ｂ）において得られた量の水素の存在下で、エチレン及び任意選択でＣ４〜Ｃ１２α−オレフィンコモノマーを重合して、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する第１の高分子量ポリエチレン又は１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有するホモポリマー若しくはコポリマーの形態の第１の超高分子量ポリエチレンを得、且つ得られた混合物を第３の反応器に移送する工程；及び
（ｄ）第３の反応器内で、チーグラー・ナッタ触媒又はメタロセンから選択される触媒系の存在下、及び第３の反応器内の水素の量が、第３の反応器内の気相中に存在する全気体に対して０．１〜７０ｍｏｌ％、好ましくは０．１〜６０ｍｏｌ％の範囲内である水素の存在下で、又は任意選択で水素の実質的な不在下で、エチレン及び任意選択でＣ４〜Ｃ１２α−オレフィンコモノマーを重合して、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する第２の高分子量ポリエチレン又は１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有するホモポリマー若しくはコポリマーの形態の第２の超高分子量ポリエチレンを得る工程
を（この順番で）含む、本発明の反応器システム内で多峰性ポリエチレン組成物を製造するためのプロセスによって達成される。
【００２８】
「実質的な不在」はこの点に関して、水素が第３の反応器に、技術的手段によって避けることができない量でわずかに含まれることを意味する。
【００２９】
第１の反応器から得られ、水素除去ユニット内で水素を除去する工程が施されたスラリー混合物は、第１の反応器内で得られた固体成分及び液体成分、特に低分子量ポリエチレン又は中分子量ポリエチレンのすべてを含む。さらに、第１の反応器から得られたスラリー混合物は、第１の反応器内で使用される水素の量に関わらず、水素で飽和している。
【００３０】
好ましくは、除去は、９８．０〜９９．８重量％、より好ましくは９８．０〜９９．５重量％、最も好ましくは９８．０〜９９．１重量％の水素の除去である。
【００３１】
好ましくは、第２の反応器及び／又は第３の反応器に含まれるα−オレフィンコモノマーは、１−ブテン及び／又は１−ヘキセンから選択される。
【００３２】
好ましくは、水素除去ユニット内の運転圧力は、１０３〜１４５ｋＰａ（ａｂｓ）、より好ましくは１０４〜１３０ｋＰａ（ａｂｓ）、最も好ましくは１０５〜１１５ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲内である。
【００３３】
本明細書に記載の低分子量ポリエチレン、中分子量ポリエチレン、高分子量ポリエチレン及び超高分子量ポリエチレンの重量平均分子量（Ｍｗ）は、それぞれ２０，０００〜９０，０００ｇ／ｍｏｌ（低）、９０，０００超〜１５０，０００ｇ／ｍｏｌ（中）、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌ（高）及び１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌ（超高）の範囲内である。
【００３４】
最後に、この目的は、
（Ａ）３０〜６５重量部、好ましくは４０〜６５重量部、好ましくは４３〜５２重量部、最も好ましくは４４〜５０重量部の低分子量ポリエチレンであって、２０，０００〜９０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有し、且つＡＳＴＭ  Ｄ１２３８による５００〜１，０００ｇ／１０ｍｉｎ、好ましくは６００〜８００ｇ／１０ｍｉｎのＭＩ２を有する低分子量ポリエチレン；
（Ｂ）８〜３０重量部、好ましくは８〜２０重量部、好ましくは１０〜１８重量部、最も好ましくは１０〜１５重量部の、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する第１の高分子量ポリエチレン又は１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する第１の超高分子量ポリエチレン；及び
（Ｃ）３０〜５０重量部、好ましくは３７〜４７重量部、最も好ましくは３９〜４５重量部の、１５０，０００超〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する第２の高分子量ポリエチレン又は１，０００，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する第２の超高分子量ポリエチレン
を含み、
第１の高分子量ポリエチレン又は第１の超高分子量ポリエチレン及び第２の高分子量ポリエチレン又は第２の超高分子量ポリエチレンの密度が、０．９２０〜０．９５０ｇ／ｃｍ３の範囲内であり、且つ
多峰性ポリエチレン組成物の分子量分布が、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、１３〜６０、好ましくは２０〜６０、好ましくは２０〜２８、好ましくは２４〜２８である、
本発明のプロセスによって得ることができる多峰性ポリエチレン組成物によって達成される。
【００３５】
さらに好ましい実施形態において、分子量分布は、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、２４〜２６、好ましくは２５〜２６である。
【００３６】
好ましい実施形態において、多峰性ポリエチレン組成物は、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、８０，０００〜１，３００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１５０，０００〜４００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは２００，０００〜３５０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量を有する。
【００３７】
さらに、多峰性ポリエチレン組成物が、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、５，０００〜３０，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは５，０００〜１５，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは７，０００〜１２，０００ｇ／ｍｏｌの数平均分子量を有することが好ましい。
【００３８】
好ましくは、多峰性ポリエチレン組成物は、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される、９００，０００〜６，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１，０００，０００〜３，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１，０００，０００〜２，５００，０００ｇ／ｍｏｌのＺ平均分子量を有する。
【００３９】
好ましくは、多峰性ポリエチレン組成物は、ＡＳＴＭ  Ｄ１５０５による０．９５０〜０．９６２ｇ／ｃｍ３、好ましくは０．９５３〜０．９５９ｇ／ｃｍ３の密度、並びに／或いは０．０１〜５０ｇ／１０ｍｉｎのメルトフローインデックスＭＩ５、及び／又は０．０３〜０．１５ｇ／１０ｍｉｎ、好ましくは０．０３〜０．１０ｇ／１０ｍｉｎのＭＩ２を有する。
【００４０】
最後に、この目的は、本発明の多峰性ポリエチレン組成物を含むフィルムによって達成され、フィルムは、４〜４０μｍ、好ましくは４〜３０μｍ、最も好ましくは４〜２０μｍの厚さを有する。
【００４１】
本発明の反応器システム、本発明のプロセス、本発明の多峰性ポリエチレン組成物及び本発明のフィルムの好ましい実施形態において、「を含む（comprising）」は「からなる（consisting of）」である。
【００４２】
本発明のフィルムに関して、フィルムが、本発明の多峰性ポリエチレン組成物を主に含むことが好ましく、これは、フィルムが別の成分を、出力、バブル安定性、機械強度、靱性などに関してフィルム特性に影響しない量でのみ含むことを意味する。最も好ましくは、フィルムは、本発明の多峰性ポリエチレン組成物からなる。
【００４３】
好ましい実施形態において、「重量部」は「重量パーセント」である。
【００４４】
好ましいと述べた上の実施形態は、得られた多峰性ポリエチレン組成物及びそれから調製されるフィルムのさらにいっそう改善された機械特性をもたらした。最良の結果は、２つ又はそれ以上の上述の好ましい実施形態を組み合わせることによって得られた。同じく、より好ましい、又は最も好ましいと上述した実施形態は、機械特性を最も良く改善した。
【発明を実施するための形態】
【００４５】
驚くべきことに、本発明のプロセスによって本発明の多峰性ポリエチレン組成物を製造するための本発明の反応器システムを使用することによって、先行技術よりも優れている本発明の組成物を使用して、本発明のフィルムを生成することが可能になることが明らかになった。特に、本発明の多峰性ポリエチレン組成物を使用することによって、高出力、良好なバブル安定性、高い機械強度及び高い靱性で、特に５〜１２ミクロンのフィルム厚でブローフィルムを調製できることが明らかになった。
【００４６】
本発明は、多峰性ポリエチレン重合のための反応器システムに関する。システムは、第１の反応器、第２の反応器、第３の反応器、並びに第１の反応器及び第２の反応器の間に配置された水素除去ユニットを含む。
【００４７】
第１の反応器からの水素欠乏ポリエチレンは、その後の反応器における高分子量の重合に影響する。特に、高分子量は、射出成形、ブロー成形及び押出を含む様々な製品用途にとって利点となるポリエチレンの改善された機械特性につながる。本発明の多峰性ポリエチレン樹脂を製造するための触媒は、チーグラー・ナッタ触媒、メタロセン系触媒及び非メタロセン系触媒を含むシングルサイト触媒、又はクロム系から選択され、好ましくは従来のチーグラー・ナッタ触媒又はシングルサイト触媒が使用できる。触媒は、典型的には、当分野において周知の共触媒と共に使用される。
【００４８】
不活性炭化水素は、好ましくは、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソブタンを含む脂肪族炭化水素である。好ましくは、ヘキサン（最も好ましくはｎ−ヘキサン）が使用される。配位触媒、エチレン、水素及び任意選択でα−オレフィンコモノマーが、第１の反応器内で重合される。第１の反応器から得られた全生成物は、次いで、９８．０〜９９．８重量％の水素、未反応のガス及び一部の揮発物を除去するために水素除去ユニットに移送された後、重合を継続するために第２の反応器に供給される。第２の反応器から得られたポリエチレンは、第１の反応器から得られた生成物及び第２の反応器の生成物の組み合わせである二峰性ポリエチレンである。この二峰性ポリエチレンは、次いで、重合を継続するために第３の反応器に供給される。第３の反応器から得られた最終的な多峰性（三峰性）ポリエチレンは、第１、第２及び第３の反応器からのポリマーの混合物である。
【００４９】
第１、第２及び第３の反応器における重合は、異なるプロセス条件下で実施される。これらは、気相中のエチレン及び水素の変化並びに濃度、各反応器に供給されるコモノマーの温度又は量であり得る。所望の特性の、特に所望の分子量の各ホモポリマー又はコポリマーを得るための適切な条件は、当分野において周知である。当業者は、その一般的な知識に基づいて、これに基づく各条件を選ぶことができる。その結果、各反応器内で得られたポリエチレンは、異なる分子量を有する。所望の特性の、特に所望の分子量の各ホモポリマー又はコポリマーを得るための適切な条件は、当分野において周知である。当業者は、その一般的な知識に基づいて、これに基づく各条件を選ぶことができる。好ましくは、低分子量ポリエチレンは、第１の反応器内で製造され、一方、超高又は及び分子量ポリエチレンは、第２及び第３の反応器内でそれぞれ製造される。
【００５０】
第１の反応器という用語は、低分子量ポリエチレン（ＬＭＷ）又は中分子量ポリエチレン（ＭＭＷ）が製造される段階を指す。第２の反応器という用語は、第１の高分子量又は超高分子量ポリエチレン（ＨＭＷ１）が製造される段階を指す。第３の反応器という用語は、第２の高分子量又は超高分子量ポリエチレン（ＨＭＷ２）が製造される段階を指す。
【００５１】
ＬＭＷという用語は、第１の反応器内で重合された、２０，０００〜９０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する低分子量ポリエチレンポリマーを指す。
【００５２】
ＭＭＷという用語は、第１の反応器内で重合された、９，０００〜１２，０００ｇ／ｍｏｌの数平均分子量（Ｍｎ）及び９０，０００超〜１５０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する中分子量ポリエチレンポリマーを指す。
【００５３】
ＨＭＷ１という用語は、第２の反応器内で重合された、１５０，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する高分子量又は超高分子量ポリエチレンポリマーを指す。
【００５４】
ＨＭＷ２という用語は、第３の反応器内で重合された、１５０，０００超〜５，０００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する高分子量又は超高分子量ポリエチレンポリマーを指す。
【００５５】
ＬＭＷ又はＭＭＷは、ホモポリマーを得るために、第１の反応器内でコモノマーの不在下で製造される。
【００５６】
本発明の改善されたポリエチレン特性を得るために、エチレンは、０．９６５ｇ／ｃｍ３以上の密度、及びＬＭＷについては１０〜１０００ｇ／１０ｍｉｎ、ＭＭＷについては０．１〜１０ｇ／１０ｍｉｎの範囲内のＭＩ２を有する高密度ＬＭＷ又はＭＭＷポリエチレンを得るために、第１の反応器内でコモノマーの不在下で重合される。目標密度及びＭＩを第１の反応器内で得るために、重合条件が制御及び調節される。第１の反応器内の温度は、６５〜９０℃、好ましくは６８〜８５℃の範囲である。水素が、ポリエチレンの分子量を制御するように、第１の反応器に供給される。気相中のエチレンに対する水素のモル比は、目標ＭＩに応じて変化させることができる。しかし、好ましいモル比は、０．５〜８．０、より好ましくは３．０〜６．０の範囲である。第１の反応器は、２５０〜９００ｋＰａの間、好ましくは４００〜８５０ｋＰａの圧力で運転される。第１の反応器の気相中に存在する水素の量は、２０〜９５モル％、好ましくは５０〜９０ｍｏｌ％の範囲内である。
【００５７】
第２の反応器に供給される前に、好ましくはヘキサン中のＬＭＷ又はＭＭＷポリエチレンを含む第１の反応器から得られたスラリーは、水素除去ユニットに移送され、この水素除去ユニットは、揮発物、未反応のガス及び水素がスラリー流から除去されるように、フラッシュドラム内の圧力が下げられる真空ポンプ、圧縮機、ブロワ及びエジェクタのうちの１つ又は組み合わせを好ましくは含む減圧装置と接続されたフラッシュドラムを有してもよい。水素除去ユニットの運転圧力は、典型的には、９８．０〜９９．８重量％、好ましくは９８．０〜９９．５重量％の水素を除去できる、１０３〜１４５ｋＰａ（ａｂｓ）、好ましくは１０４〜１３０ｋＰａ（ａｂｓ）の範囲である。
【００５８】
本発明において、これらの水素含有量の条件下で９８．０〜９９．８重量％の水素が除去され、重合が起こるとき、非常に高分子量のポリマーがこのようにして得られ、シャルピー衝撃及び曲げ弾性率が改善される。驚くべきことに、９８．０〜９９．８重量％の水素除去の範囲外で運転すると、非常に高分子量のポリマーを得て、シャルピー衝撃及び曲げ弾性率を改善する本発明の効果は同程度に観察されないことが明らかになった。効果は、好ましいと述べた範囲内でより顕著であった。
【００５９】
第２の反応器の重合条件は、第１の反応器の重合条件とは著しく異なる。第２の反応器内の温度は、７０〜９０℃、好ましくは７０〜８０℃の範囲である。エチレンに対する水素のモル比は、この反応器内では制御されないが、その理由は、水素が第２の反応器内に供給されないからである。第２の反応器内の水素は、水素除去ユニットにおいてフラッシングされた後にスラリー流内に残る第１の反応器からの残留水素である。第２の反応器内の重合圧力は、１００〜３０００ｋＰａ、好ましくは１５０〜９００ｋＰａ、より好ましくは１５０〜４００ｋＰａの範囲であり、不活性ガス、例えば窒素の添加によって制御される。
【００６０】
水素除去は、水素除去ユニット通過前後のスラリー混合物中に存在する水素の量の比較結果である。水素除去の計算は、ガスクロマトグラフィーによる第１及び第２の反応器内のガス組成の測定に従って実施される。
【００６１】
本発明の濃度を得るために相当量の水素が除去された後、水素除去ユニットからのスラリーは、重合を継続するために第２の反応器に移送される。この反応器内で、エチレンをα−オレフィンコモノマーあり、又はなしで重合して、第１の反応器から得られたＬＭＷ又はＭＭＷポリエチレンの存在下でＨＭＷ１ポリエチレンを生成できる。共重合に有用であるα−オレフィンコモノマーには、Ｃ４−１２、好ましくは１−ブテン及び／又は１−ヘキセン、より好ましくは１−ブテンが含まれる。
【００６２】
第２の反応器内の重合後、得られたスラリーは、重合を継続するために第３の反応器に移送される。
【００６３】
ＨＭＷ２は、第１及び第２の反応器から得られるＬＭＷ及びＨＷＭ１の存在下、エチレンを任意選択でα−オレフィンコモノマーと共重合することによって第３の反応器内で製造される。共重合に有用であるα−オレフィンコモノマーには、Ｃ４−１２、好ましくは１−ブテン及び／又は１−ヘキセン、より好ましくは１−ブテンが含まれる。
【００６４】
目標密度及び目標ＭＩを第３の反応器内で得るために、重合条件が制御及び調節される。しかし、第３の反応器の重合条件は、第１及び第２の反応器とは著しく異なる。第３の反応器内の温度は、６８〜９０℃、好ましくは６８〜８０℃の範囲である。水素は、ポリエチレンの分子量を制御するように、第３の反応器に供給される。エチレンに対する水素のモル比は、目標ＭＩに応じて変化させることができる。しかし、好ましいモル比は、０．０１〜２．０の範囲である。第３の反応器内の重合圧力は、１５０〜９００ｋＰａ、好ましくは１５０〜４００ｋＰａの範囲であり、不活性ガス、例えば窒素の添加によって制御される。
【００６５】
本発明の多峰性ポリエチレン組成物中に存在するＬＭＷの量は４０〜６５重量部である。本発明のポリエチレン中に存在するＨＭＷ１は８〜２０重量部であり、本発明のポリエチレン中に存在するＨＭＷ２は３０〜５０重量部である。
【００６６】
最終的な（自由流動）多峰性ポリエチレン組成物は、第３の反応器から排出されたスラリーからヘキサンを分離することによって得られる。
【００６７】
得られたポリエチレン粉末は、次いで、押し出され、ペレットに造粒される前に、酸化防止剤及び任意選択で添加剤と混合されてもよい。
【００６８】
ペレットを、次いで、従来の管状のインフレーションフィルムプロセスを使用して異なる厚さでフィルムに延伸し、フィルム特性についてさらに評価した。
【００６９】
定義及び測定方法
【００７０】
ＭＩ２、ＭＩ５、ＭＩ２１．６：ポリエチレンのメルトフローインデックス（ＭＦＲ）を、１９０℃、荷重２．１６ｋｇ、５ｋｇ及び２１．６ｋｇそれぞれの試験条件下でのポリマーの流動性を測定するＡＳＴＭ  Ｄ１２３８に従って測定し、ｇ／１０ｍｉｎで表した。
【００７１】
密度：ペレットが液柱勾配管に沈むレベルを公知の密度の標準と比べて観察することによって、ポリエチレンの密度を測定した。この方法は、ＡＳＴＭ  Ｄ１５０５に従った、１２０℃でアニーリングした後の固体プラスチックの測定である。
【００７２】
分子量及び多分散性指数（ＰＤＩ）：重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）及びＺ平均分子量（ＭＺ）（ｇ／ｍｏｌ）をゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析した。多分散性指数はＭｗ／Ｍｎにより計算した。
【００７３】
約８ｍｇのサンプルを８ｍｌの１，２，４−トリクロロベンゼンに１６０℃で９０分間溶解した。次いで、サンプル溶液２００μｌを、ＩＲ５、赤外線検出器（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈａｒ（スペイン））を備えた高温ＧＰＣに、カラムゾーン内は１４５℃、検出器ゾーン内は１６０℃で、０．５ｍｌ／ｍｉｎの流量で注入した。データは、ＧＰＣ  Ｏｎｅ（登録商標）ソフトウェア（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈａｒ（スペイン））により処理した。
【００７４】
固有粘度（ＩＶ）
この試験方法は、１３５℃のＨＤＰＥ又は１５０℃の超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）の希薄溶液粘度の測定を対象とする。ポリマー溶液は、０．２％ｗｔ／ｖｏｌ 安定剤（Ｉｒｇａｎｏｘ  １０１０又は同等物）を含むデカリンにポリマーを溶解させることによって調製した。詳細は、ＡＳＴＭ  Ｄ２５１５に従ったＩＶの測定について記述されている。
【００７５】
結晶化度：結晶化度はしばしば、ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８に従った示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）による特性評価に使用される。サンプルをピーク温度及びエンタルピーによって同定すると共に、％結晶化度をピーク面積から計算した。
【００７６】
シャルピー衝撃強さ：シャルピー衝撃強さは、ＩＳＯ１７９に従って２３℃、０℃及び−２０℃で測定され、単位ｋＪ／ｍ２で示される。
【００７７】
曲げ弾性率：試験片を調製し、ＩＳＯ１７８に従って試験を実施した。曲げ試験は、３点曲げ治具を備えた万能試験機を用いて行った。
【００７８】
フィルムバブル安定性：これは、ブローフィルムプロセスの間に確認し、ニップロール巻取速度を増加させる間、フィルムバブルの軸方向振動が観察されたが、３０分を超えて継続する。良好なバブル安定性は、フィルムが振動せず、バブルが破壊しないときと定義される。
【００７９】
出力：フィルムを、ブローフィルム条件に従って延伸した。次いで、フィルムを１分間集め、秤量した。ｇ／ｍｉｎの単位によるフィルムの出力が次いで計算され、ｋｇ／ｈｒの単位で報告される。
【００８０】
ダート落下衝撃：この試験方法は、自由落下ダート衝撃の指定の条件下でプラスチックフィルムが不合格になるエネルギーの測定を対象に含むＡＳＴＭ  Ｄ１７０９のメソッドＡに従う。このエネルギーは、試験された試験片の５０％が不合格になる指定の高さ０．６６±０．０１ｍからの落下の重量によって表される。
【００８１】
突刺：この試験は自社の方法であり、試験片が、張力をかけずにＵＴＭ内のリングクランプアタッチメントの円板の間にクランプされる。力が、試験片の支持されていない部分の中央に対して、荷重指示計に取り付けられた棒鋼によって、試験片の破壊が起こるまで加えられる。記録される最大の力が突刺抵抗値である。
【００８２】
フィルムの引張特性及び伸び特性：この試験方法は、ＡＳＴＭ  Ｄ８８２に従ったフィルム（厚さ１．０ｍｍ未満）の引張特性の測定を対象に含む。試験では、一定のグリップ分離速度（５００ｍｍ／ｍｉｎ）を用いる。
【００８３】
引裂強さ：この試験方法は、プラスチックフィルムの指定の長さにわたって引裂きを伝える平均力の測定を対象とし、ＡＳＴＭ  Ｄ１９２２に従ったエルメンドルフ形引裂試験機を使用する。
【００８４】
溶融強度及びドローダウン比（ＤＤ）：これらは、ＧＯＥＦＦＥＲＴ  Ｒｈｅｏｔｅｎｓを使用して測定される。溶融押出は、ダイ直径２ｍｍの一軸スクリュー押出機によって、溶融温度１９０℃で実施される。押出物は、ランプ速度が制御されたＲｈｅｏｔｅｎｓ  ｈａｕｌ−ｏｆｆを通過する。引取力が記録される。力（Ｎ）が延伸比（ＤＤ）に応じて収集される。溶融強度及びドローダウン比は、破断力及び破断ドローダウン比（draw down ratio at break）とそれぞれ定義される。
【実施例】
【００８５】
組成物に関する実施例
中密度又は高密度ポリエチレンの調製を、直列の３つの反応器内で実施した。エチレン、水素、ヘキサン、触媒及びＴＥＡ（トリエチルアルミニウム）共触媒を第１の反応器内に表１に示した量で供給した。高活性チーグラー・ナッタ触媒を使用した。触媒の調製は、例えば、ハンガリー特許出願第０８００７７１Ｒ号に記載されている。第１の反応器内の重合を実施して、低分子量ポリエチレンを調製した。第１の反応器からの重合されたスラリーポリマーのすべてを、次いで、水素除去ユニットに移送して、未反応のガス及びヘキサンの一部をポリマーから除去した。水素除去ユニット内の運転圧力を１００〜１１５ｋＰａの範囲内で変化させ、第２の重合反応器に移送する前に、残留水素が、ヘキサンから９８重量％を超えて、ただし９９．８重量％を超えずに除去された。いくらかの新たなヘキサン、エチレン及び／又はコモノマーを第２の反応器内に供給して、第１の高分子量ポリエチレン（ＨＭＷ１）を製造した。第２の反応器からの重合されたポリマーのすべてを、第２の高分子量ポリエチレン（ＨＭＷ２）を製造する第３の反応器内に供給した。エチレン、コモノマー、ヘキサン及び／又は水素を第３の反応器内に供給した。
【００８６】
比較例１（ＣＥ１）
ホモポリマーを第１の反応器内で製造して、このようなポリマーを水素除去ユニットに移送する前に、低分子量部分を得た。反応混合物を水素除去ユニットに導入して、未反応の混合物をポリマーから分離した。水素除去ユニットを１５０ｋＰａの圧力で運転したとき、残留水素が９７．６重量％除去された。低分子量ポリマーを、次いで、第２の反応器に移送して、第１の高分子量ポリマーを製造した。第２の反応器からの最終的な製造されたポリマーを第３の反応器に移送して、第２の高分子量ポリマーを生成した。第３に、１−ブテンをコモノマーとして供給することによって共重合を実施した。
【００８７】
実施例１（Ｅ１）
実施例１を、比較例１と同じように実施した。ただし、水素除去ユニットを１１５ｋＰａの圧力で運転したことを除く。第１の反応器からの水素の残留分を９８．０重量％除去した。これらの多峰性ポリマーの特徴的な特性を表２に示した。見て分かる通り、除去された水素残留分の割合が比較例１の特性と比べて増加したとき、剛性−衝撃バランスの改善が観察された。
【００８８】
実施例２（Ｅ２）
実施例２を、比較例１と同じように実施した。ただし、水素除去ユニットを１０５ｋＰａの圧力で運転したことを除く。第１の反応器からの残留水素を９９．１重量％の程度まで除去した。水素除去ユニットのこの圧力下での運転は、ポリマー特性の範囲拡大につながる。表２に見られるように、Ｅ２の最終的なメルトフローレートは、ＣＥ１の最終的なメルトフローレートよりも低く、シャルピー衝撃の改善につながったが、曲げ弾性率は維持したままであった。
【００８９】
比較例２（ＣＥ２）
比較例２を、比較例１と同じように実施した。ただし、水素除去ユニットを１０２ｋＰａの圧力で運転したことを除く。第１の反応器からの水素の残留分を９９．９重量％の程度まで除去した。水素除去ユニットのこの圧力下での運転は、ポリマー特性の範囲拡大につながる。表２に見られるように、ＣＥ２の最終的なメルトフローレート及び密度は、Ｅ２の最終的なメルトフローレート及び密度によく似ていた。シャルピー衝撃の低下が、ＣＥ２においてＥ２と比べて示された。
【００９０】
比較例３（ＣＥ３）
ホモポリマーを第１の反応器内で製造して、ポリマーを水素除去ユニットに移送する前に、低分子量部分を得た。反応混合物を水素除去ユニットに導入して、未反応の混合物をポリマーから分離した。水素除去ユニットを１５０ｋＰａの圧力で運転したとき、水素残留分を９７．９重量％の程度まで除去した。低分子量ポリマーを、次いで、第２の反応器に移送して、第１の高分子量ポリマーを製造した。第２の反応器内で、１−ブテンをコモノマーとして供給することによって共重合を実施した。最後に、第２の反応器からのｉｎ−ｓｉｔｕ二峰性コポリマーを第３の反応器に移送して、第２の高分子量コポリマー部分を生成した。この多峰性ポリマーの特徴的な特性を表２に示した。コポリマーを第２及び第３の両方の反応器内で製造したとき、最終ポリマーの密度を低下させることによって、室温におけるシャルピー衝撃の著しい改善が得られた。
【００９１】
実施例３（Ｅ３）
実施例３を、比較例３と同じように実施した。ただし、水素除去ユニットを１０５ｋＰａの圧力で運転したことを除く。第１の反応器からの水素の残留分を９８．８重量％の程度まで除去した。このプロセス運転によって得られたポリマーのメルトフローレートは、ＣＥ３から得られるような値よりも低い０．１９５ｇ／１０ｍｉｎ（荷重５ｋｇ）であった。表２に見られるように、除去された水素残留分の割合が比較例３の特性と比べて増加するとき、剛性−衝撃バランスの改善が明らかになった。
【００９２】
比較例４（ＣＥ４）
ホモポリマーを第１の反応器内で製造して、このようなポリマーを水素除去ユニットに移送する前に、低分子量部分を得た。反応混合物を水素除去ユニットに導入して、未反応の混合物をポリマーから分離した。水素除去ユニットを１５０ｋＰａ（ａｂｓ）の圧力で運転したとき、残留水素が９７．６重量％除去された。低分子量ポリマーを、次いで、第２の反応器に移送して、第１の高分子量ポリマーを製造した。第２の反応器からの最終的な製造されたポリマーを第３の反応器に移送して、第２の高分子量ポリマーを生成した。第３に、１−ブテンをコモノマーとして供給することによって共重合を実施した。表２及び３に見られるように、ＣＥ４の最終的なメルトフローレートは、Ｅ５の最終的なメルトフローレートによく似ていた。シャルピー衝撃及び曲げ弾性率の低下が、ＣＥ４においてＥ５と比べて示されたが、さらに、Ｅ５のより低い密度が示された。
【００９３】
実施例５（Ｅ５）
実施例５を、比較例４と同じように実施した。ただし、水素除去ユニットを１１５ｋＰａ（ａｂｓ）の圧力で運転したことを除く。第１の反応器からの水素の残留分を９８．５重量％の程度まで除去した。このプロセス運転によって得られたポリマーのメルトフローレートは、ＣＥ３から得られるような値よりも低い４８ｇ／１０ｍｉｎ（荷重５ｋｇ）であった。表２に見られるように、除去された水素残留分の割合が比較例４の特性と比べて増加するとき、剛性−衝撃バランスの改善が明らかになった。
【００９４】
実施例６（Ｅ６）
実施例６を、実施例４と同じように実施した。ただし、第３の超高分子量ポリエチレンにおけるコモノマー供給を除く。このプロセスによって製造されたポリマーは、シャルピー衝撃強さの優れた改善につながるが、曲げ弾性率は維持したままであった。表２に示す通り、２３ｄｌ／ｇのＩＶを有する本発明の実施例６は、比較例のサンプルと比べて高い衝撃強さ（破壊のない１回のノッチ付き衝撃（one notched impact without break））及び曲げ弾性率を示すが、メルトフローインデックスは高粘度及び高Ｍｗのために測定できない。
【００９５】
【表１】
2019529584.tif 000002
【００９６】
【表２】
2019529584.tif 000003
【００９７】
フィルムに関する実施例
本発明のフィルムを上述の組成物から調製するために、本発明の反応器システムを使用して得ることができるある部分範囲の多峰性ポリエチレン組成物が特に好ましいことが明らかになった。詳細には、本発明のフィルムの生成に適した組成物は以下の通りであり、以下の特性を有する。以下の比較例は、フィルムに関する組成物に関係する。
【００９８】
本発明の実施例Ｅ７を、本発明のプロセスに従って製造し、表３に示す多峰性ポリエチレン組成物を調製した。特定の多峰性ポリエチレン組成物は、フィルムの優れた特性、特に薄フィルムを調製する能力を高める。薄フィルムは、厚さが薄い、例えば５ミクロンのフィルムである。これはまた、同等の特性を持つフィルム厚を従来のフィルム厚にダウンゲージする能力にも関係し得る。
【００９９】
本発明の実施例Ｅ８は、本発明のプロセスによって製造された、表５に示す特許請求の範囲内の０．１１４ｇ／１０ｍｉｎのＭＩ２及び０．９５７０ｇ／ｃｍ３の密度を有するポリマーを有する多峰性ポリエチレン組成物である。これは、フィルム製造における良好な加工及びより高い出力速度を示すと共に、１２ミクロンのフィルム厚で、特性、特にダート落下衝撃及び突刺抵抗を維持する。
【０１００】
【表３】
2019529584.tif 000004
【０１０１】
そのように調製された成形組成物から、フィルムを以下のように製造した。異なる厚さ及び出力を有するフィルムを、管状のインフレーションフィルム装置と接続している一軸スクリュー押出機を含む内部のブローフィルム装置で調製した。押出機からダイまでの温度設定は１７５〜２０５℃である。各実験において異なるフィルム厚を調製するためのスクリュー速度及びニップロール巻取速度は表４に記載されている。フィルムを、ブローアップ比４：１及びネック高さ３０ｃｍ並びにバブル直径２３ｃｍ及びフィルムレイフラット３９ｃｍで製造した。
【０１０２】
【表４】
2019529584.tif 000005
【０１０３】
比較例４（ＣＥ５）は、ＳＣＧ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ．，Ｃｏ．Ｌｔｄ．により製造された市販の樹脂ＥＬ−Ｌｅｎｅ（商標）Ｈ５６０４Ｆであり、０．０３ｇ／１０ｍｉｎのＭＩ２及び０．９５６７ｇ／ｃｍ３の密度を有する。これは、スラリーカスケードプロセスにおいて製造された二峰性ポリエチレンである。
【０１０４】
比較例５（ＣＥ６）は、ＣＥ４と、１．０ｇ／１０ｍｉｎのＭＩ２及び０．９１８０ｇ／ｃｍ３の密度を有する市販の樹脂ＬＬＤＰＥ（Ｄｏｗ（商標）Ｂｕｔｅｎｅ  １２１１）とのブレンドである。これは、フィルム製造において、より良いフィルム強度、特にダート落下衝撃及び引裂強さを得るための実際的な方法である。
【０１０５】
比較例６（ＣＥ７）は、本発明のプロセスによって製造された、薄フィルム用組成物の特定の範囲外の組成及び分子量分布を有する多峰性ポリエチレン組成物である。
【０１０６】
フィルムを、表５に示す通り、加工性及び機械特性について縦方向ＭＤ及び横方向ＴＤの両方でさらに評価した。
【０１０７】
【表５】
2019529584.tif 000006
【０１０８】
本発明の実施例７は、比較例ＣＥ５、ＣＥ６及びＣＥ７と比べて、同じ条件により調製された１２ミクロンのフィルムの優れた特性を示す。本発明のＥ８は、フィルム特性及びより高い出力並びに良好なバブル安定性の維持を示す。特に、フィルムの両方向のダート落下衝撃強さ、引張強さ及び突刺抵抗。また、フィルムは、より高い出力で製造される。
【０１０９】
薄フィルムを５ミクロンで調製する別の実験を実験２において実施した。本発明の実施例Ｅ７及びＥ８は、より良い延伸能をより高い出力で示し、容易に５ミクロンのフィルムに延伸できて、良好なバブル安定性及び良好な機械強度を持つ。同じ実験を比較例ＣＥ５に適用したが、バブル破壊が突然見られた。ＣＥ５を用いた５ミクロンのフィルムの調製は、実験３において実施したようにスクリュー速度及びニップロール巻取速度を下げて出力を低下させた場合のみ可能であった。これもまた、ｒｈｅｏｔｅｎにより測定される破断ドローダウンに関連する。本発明の実施例１  Ｅ７及びＥ８は、比較例ＣＥ５と比べてさらに高い破断ドローダウンを有する。
【０１１０】
さらに、実験２において本発明の実施例Ｅ７により調製された５ミクロンのフィルムの特性もまた、実験１でＣＥ５により調製された１２ミクロンのフィルムと同等である（特にダート落下衝撃強さ、引張破断強さ及び突刺抵抗）。これもまた、機械特性を犠牲にすることなくフィルム厚をダウンゲージできる能力を示した。また、ＬＬＤＰＥを使用せずに、比較例ＣＥ６と比べて良好な機械特性を得ることも可能であった。
【０１１１】
これらの結果は、本発明の多峰性ポリエチレン組成物が、薄フィルム調製のための機械強度と高出力のより良いバランスをもたらすことを支持する。
【０１１２】
以上の説明及び特許請求の範囲に開示されている特徴は、個別でも、任意の組み合わせでも、本発明をその多様な形態で実現するために重要であり得る。
【国際調査報告】
2019529584.tif 000007
2019529584.tif 000008