(57)【要約】  真空チャンバ内でキャリア（１０）を上げ又は下げるためのアセンブリ（１００）が提供される。アセンブリ（１００）は、上向き又は下向きの方向に移動可能なキャリア支持体（２０）、及びキャリアの上向き又は下向きの動きの間にキャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成された保持デバイス（３０）を含む。更に、キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリを含む、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置が説明される。更に、真空チャンバ内でキャリアを上げ又は下げるための方法が説明される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内でキャリア（１０）を上げ又は下げるためのアセンブリ（１００）であって、
本質的に垂直方向（Ｖ）へ移動可能なキャリア支持体（２０）、及び
前記キャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成された保持デバイス（３０）を備える、アセンブリ。
【請求項２】
前記保持デバイス（３０）が、２つの安定化部分であって、前記２つの安定化部分の間に前記キャリアの前記上側部分を非接触方式で保持するように構成された、２つの安定化部分を備える、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
前記保持デバイス（３０）が、前記キャリアの前記上側部分と磁気的に相互作用するように構成された少なくとも１つの磁石ユニットを備える、請求項１又は２に記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記保持デバイス（３０）が、第１の側から前記キャリアに反発する磁力を加えるための第１の磁石ユニット（３３）、及び前記第１の側とは反対の第２の側から前記キャリアの前記上側部分に反発する磁力を加えるための第２の磁石ユニット（３４）を備える、請求項３に記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記保持デバイス（３０）が、水平方向に、特に、経路切り替え方向（Ｓ）に移動可能である、請求項１から４のいずれか一項に記載のアセンブリ。
【請求項６】
前記保持デバイス（３０）が、第１のアーム（３１）と第２のアーム（３２）を備え、前記第１のアームと前記第２のアームが、互いから独立して水平方向に移動可能である、請求項１から５のいずれか一項に記載のアセンブリ。
【請求項７】
前記第１のアーム（３１）の第１の安定化部分（３７）が、前記キャリアの第１の側に向けて移動可能であり、前記第２のアーム（３２）の第２の安定化部分（３８）が、前記第１の側とは反対の前記キャリアの第２の側に向けて移動可能である、請求項６に記載のアセンブリ。
【請求項８】
真空チャンバ内でキャリア（１０）を搬送するための装置（４００）であって、
第１の搬送経路（Ｔ１）に沿って搬送方向（Ｔ）に設けられた第１の搬送システム（１１２）と、
前記第１の搬送経路（Ｔ１）から離れるように経路切り替え方向（Ｓ）へ前記キャリアを移動させるように構成された経路切り替えアセンブリ（１５０）とを備え、前記経路切り替えアセンブリ（１５０）が、
本質的に垂直方向（Ｖ）へ移動可能なキャリア支持体（２０）、及び
前記キャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成された保持デバイス（３０）を備える、装置。
【請求項９】
前記第１の搬送システム（１１２）が、下側トラックセクション（１２１）と上側トラックセクション（１２２）を備えた、磁気浮揚システムであり、前記キャリア支持体（２０）が、前記下側トラックセクション（１２１）と連結され又は一体的に形成されている、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記経路切り替えアセンブリ（１５０）が、経路切り替え支持体（１５２）であって、前記経路切り替え支持体（１５２）によって保持された前記キャリア（１０）を前記経路切り替え方向（Ｓ）へ移動させるために前記経路切り替え方向（Ｓ）へ移動可能である、経路切り替え支持体（１５２）を更に備える、請求項８又は９に記載の装置。
【請求項１１】
前記保持デバイス（３０）が、前記経路切り替え支持体（１５２）と共に前記経路切り替え方向（Ｓ）へ移動可能である、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１の搬送経路（Ｔ１）から水平にオフセットされた第２の搬送経路（Ｔ２）に沿って設けられた第２の搬送システム（１１４）を更に備え、前記経路切り替え支持体（１５２）が、前記第１の搬送経路（Ｔ１）から前記第２の搬送経路（Ｔ２）と前記第１及び第２の搬送経路から水平にオフセットされた処理位置（Ｔ３）とのうちの少なくとも一方へ、前記経路切り替え方向（Ｓ）に移動可能である、請求項１０又は１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第２の搬送システム（１１４）が、前記本質的に垂直方向（Ｖ）へ移動可能な第２の下側トラックセクション（１２３）を備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
キャリア（１０）を上げ又は下げるための方法であって、
キャリア支持体（２０）上にキャリア（１０）を配置すること、及び
前記キャリアを上げ又は下げるために本質的に垂直方向（Ｖ）へ前記キャリア支持体（２０）を移動させることを含み、
前記キャリアを上げ又は下げている間に、前記キャリアの上側部分が、保持デバイス（３０）によって非接触方式で保持されている、方法。
【請求項１５】
前記キャリアが、ディスプレイ製造のための大面積基板、特に、１ｍ２以上又は５ｍ２以上のサイズを有する基板を運搬する、請求項１４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、真空チャンバ内でキャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、基板を真空処理するためのシステム、及びキャリアを上げ又は下げるための方法に関する。本開示の実施形態は、少なくとも１つの堆積源、及び、第１の搬送経路と第２の搬送経路との間でキャリアを移動させるように構成された経路切り替えアセンブリ、を有する真空処理システムに関する。具体的には、真空チャンバ内でキャリアのトラックを変更するための方法が説明される。
【背景技術】
【０００２】
基板上での層堆積のための技術は、例えば、スパッタ堆積、蒸散（evaporation）、及び化学気相堆積（CVD）を含む。スパッタ堆積プロセスは、基板上に絶縁材料又は導電性材料の層などの材料層を堆積させるために使用され得る。
【０００３】
多重層スタックを堆積させるために、処理モジュールのインライン構成が使用され得る。インライン処理システムは、堆積モジュールなどの複数の後続の処理モジュール、任意選択的に、更なる処理モジュール、例えば、洗浄モジュール及び／又はエッチングモジュールを含む。複数の処理態様が、次から次へ処理モジュール内で行われる。それによって、複数の基板が、インライン処理システム内で連続的に又は準連続的に処理され得る。
【０００４】
処理中に、基板は、キャリア、すなわち、基板を運搬するための運搬デバイスによって運搬され得る。キャリアは、通常、１以上の搬送システムを使用して真空チャンバを通して搬送される。搬送システムは、１以上の搬送経路に沿ってキャリアを運ぶように構成され得る。真空システム内には、少なくとも２つの搬送経路が、互いの隣りに設けられ得る。例えば、キャリアを前方向へ搬送するための第１の搬送経路、及びキャリアを前方向とは反対の戻る方向へ搬送するための第２の搬送経路である。
【０００５】
搬送システムは、搬送経路に沿って且つ／又は（「経路切り替え」若しくは「トラック切り替え」とも称される）１つの搬送経路から別の１つの搬送経路へ、キャリアを支持し運ぶように構成されたローラ又は他の支持体を有し得る。更に、キャリアは、例えば、キャリアの垂直高さを修正又は変更するために、上向き又は下向きの方向へ移動され得る（キャリアを「上げる」又は「下げる」とも称される）。キャリアの移動中のキャリアとキャリア支持体との間の摩擦は、真空システムの内側の真空状態に悪影響を与え得る粒子を生成し得る。粒子は、基板上に堆積した層を汚染し、堆積した層の品質が低減され得る。
【０００６】
上述の観点から、真空チャンバ内でキャリアを上げ又は下げるための改良されたアセンブリ、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための改良された装置、及び、真空チャンバ内での粒子の生成を低減させる、キャリアを上げ又は下げるための改良された方法が必要である。真空チャンバ内の少なくとも２つの搬送経路の間の容易な経路切り替えを提供する、新しい装置、システム、及び方法も必要とされる。
【発明の概要】
【０００７】
上述のことに照らしてみると、真空チャンバ内でキャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、基板を真空処理するためのシステム、及び真空チャンバ内でキャリアを上げ又は下げるための方法が提供される。本開示の更なる態様、利点、及び特徴は、特許請求の範囲、明細書の説明、及び添付図面から明らかになる。
【０００８】
本開示の一態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを上げ又は下げるためのアセンブリが提供される。該アセンブリは、本質的に垂直方向へ移動可能なキャリア支持体、及びキャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成された保持デバイスを含む。
【０００９】
キャリア支持体は、キャリアを支持するように構成されている。それによって、キャリア支持体が上向きの方向又は下向きの方向へ移動するときに、キャリアは上げ又は下げられる。保持デバイスが、キャリアを上げ又は下げている間に、キャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成されている。
【００１０】
本開示の一態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置が提供される。該装置は、第１の搬送経路に沿って搬送方向に設けられた第１の搬送システム、及び第１の搬送経路から離れるように搬送方向を横切る経路切り替え方向へキャリアを移動させるように構成された経路切り替えアセンブリを含む。経路切り替えアセンブリは、本質的に垂直方向へ移動可能なキャリア支持体、及びキャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成された保持デバイスを含む。
【００１１】
本開示の別の一態様によれば、基板を真空処理するためのシステムが提供される。該システムは、真空チャンバ、本明細書で説明される実施形態の何れかによる真空チャンバ内でキャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ、並びに、真空チャンバ内に配置され、堆積源、蒸発源、スパッタ源、表面処理ツール、加熱デバイス、洗浄デバイス、エッチングツール、及びそれらの組み合わせから成る群から選択された、１以上の処理ツールを含む。
【００１２】
本開示の更に別の一態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを上げる又は下げるための方法が提供される。該方法は、キャリア支持体上にキャリアを配置すること、及びキャリアを上げ又は下げるために本質的に垂直方向へキャリア支持体を移動させることを含む。その場合、キャリアを上げ又は下げている間に、キャリアの上側部分は、保持デバイスによって非接触方式で保持されている。
【００１３】
実施形態は、本開示の方法を実行するための装置も対象としており、各説明される方法態様を実行するための装置部分を含む。これらの方法態様は、ハードウェア構成要素を用いて、適切なソフトウェアによってプログラミングされたコンピュータを用いて、これらの２つの任意の組合せによって、又はそれ以外の任意のやり方で実行され得る。更に、本開示による実施形態は、説明される装置を操作するための方法も対象とする。説明される装置を操作するための方法は、装置のあらゆる機能を実施するための方法態様を含む。
【００１４】
本開示の上記の特徴を詳細に理解することができるように、実施形態を参照することによって、上で簡単に概説した本開示のより具体的な説明を得ることができる。添付の図面は本開示の実施形態に関連し、以下の記述において説明される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリの概略断面図を示す。
【図２Ａ】本明細書で説明される実施形態による、アセンブリを用いてキャリアを上げ又は下げるための方法の一段階を示す。
【図２Ｂ】本明細書で説明される実施形態による、アセンブリを用いてキャリアを上げ又は下げるための方法の一段階を示す。
【図２Ｃ】本明細書で説明される実施形態による、アセンブリを用いてキャリアを上げ又は下げるための方法の一段階を示す。
【図２Ｄ】本明細書で説明される実施形態による、アセンブリを用いてキャリアを上げ又は下げるための方法の一段階を示す。
【図３】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリの概略断面図を示す。
【図４Ａ】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを搬送するための装置によって実行される一段階を示す。
【図４Ｂ】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを搬送するための装置によって実行される一段階を示す。
【図４Ｃ】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを搬送するための装置によって実行される一段階を示す。
【図４Ｄ】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを搬送するための装置によって実行される一段階を示す。
【図４Ｅ】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを搬送するための装置によって実行される一段階を示す。
【図４Ｆ】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを搬送するための装置によって実行される一段階を示す。
【図５】本明細書で説明される実施形態による、基板を真空処理するためのシステムの概略断面図を示す。
【図６】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを上げ又は下げるための方法を示すためのフロー図である。
【図７】本明細書で説明される実施形態による、キャリアを搬送するための方法を示すためのフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
ここから、本開示の種々の実施形態が詳細に参照されることになり、そのうちの１以上の例が図示される。図面に関する以下の説明の中で、同じ参照番号は同じ構成要素を指している。概して、個々の実施形態に対する相違のみが説明される。本開示の説明として各実施例が与えられているが、これは本開示を限定することを意図しているわけではない。更に、一実施形態の一部として図示又は説明されている特徴を、他の実施形態で用いてもよく、或いは他の実施形態と併用してもよい。それにより、更に別の一実施形態が生み出される。本説明には、このような修正例及び変形例が含まれることが意図されている。
【００１７】
図１は、本明細書で説明される実施形態による、キャリア１０を上げ又は下げるためのアセンブリ１００の概略断面図を示している。アセンブリ１００は、（本明細書で「本質的に垂直方向Ｖ」とも称される）上向きの方向又は下向きの方向に移動可能なキャリア支持体２０を含む。該アセンブリは、キャリア１０の上側部分を非接触方式で保持するように構成された保持デバイス３０を更に含む。
【００１８】
キャリア１０は、キャリア支持体２０上に配置され支持され得る。キャリア支持体２０は、その上に支持されたキャリア１０を下げるために下向きの方向へ移動可能である。代替的に又は更に、キャリア支持体２０は、その上に支持されたキャリアを上げるために上向きの方向へ移動可能である。ある実施形態では、キャリア支持体２０が、キャリアを上げるために上向きの方向へ、キャリアを下げるために下向きの方向へ、の両方に移動可能であり得る。キャリア支持体２０を移動させるために、アクチュエータ２５が設けられ得る。
【００１９】
キャリア１０は、真空チャンバ内で搬送経路に沿って基板１１又は別の１つの物体を運搬するために使用され得る。キャリア１０は、搬送中及び／又は真空チャンバ内で基板上に被覆材料が堆積されている間に基板１１を保持し得る。例えば、基板１１は、キャリア１０の基板保持面において本質的に垂直配向で保持され得る。基板を保持するキャリアは、真空チャンバを通して移動され得る。キャリアは、基板１１を運搬するように構成された基板キャリアであり得る。代替的に、キャリアは、異なる物体、例えば、マスク又は遮蔽デバイスを運搬し搬送するように構成され得る。
【００２０】
ある実施形態では、キャリア１０が、チャッキングデバイス、例えば、基板１１又は別の１つの物体をキャリア１０の保持面に向けて引き付けるための磁気チャック又は静電チャックを含む。キャリア１０は、基板１１を本質的に垂直配向で保持するように構成され得る。言い換えると、キャリアの移動中の基板１１の主要面と重力ベクトルとの間の角度は、通常、２０度未満である。例えば、基板の主要面と重力ベクトルとの間の角度は、−１０度から＋１０度、特に、本質的に０度であり得る。その場合に、負の角度は、下向きに面する基板を示していることを意味する。
【００２１】
キャリア支持体２０は、その上で本質的に垂直配向のキャリア１０を支持するように構成され得る。キャリア支持体２０を垂直方向Ｖに移動させることによって、本質的に垂直配向のキャリアが上げ又は下げられ得る。
【００２２】
キャリア１０は、大面積基板、特に、ディスプレイ製造のための大面積基板を運搬するように構成され得る。実施形態では、基板１１が、１ｍ２以上、特に、５ｍ２以上、又は１０ｍ２以上でさえある処理されるべき表面積を有し得る。この理由のために、キャリアは、１ｍ２以上、特に、５ｍ２以上、又は１０ｍ２以上でさえあるサイズを有する基板保持面を有し得る。
【００２３】
例えば、キャリア１０の高さは、１ｍ以上、特に、２ｍ以上であってよく、且つ／又は、キャリア１０の幅が、１ｍ以上、特に、２ｍ以上であってもよい。キャリアの高さは、キャリア支持体２０上に支持されたキャリアの垂直な寸法として理解することができる。
【００２４】
キャリア支持体２０を垂直方向Ｖに移動させるためのアクチュエータ２５が設けられ得る。アクチュエータ２５は、キャリア支持体２０を上げ又は下げるための駆動デバイス、例えば、モータ、液圧デバイス、又はガス圧デバイスを含み得る。アクチュエータ２５は、第１の垂直高さと第２の垂直高さとの間でキャリア支持体２０を移動させるように構成され得る。その場合に、第１の垂直高さは、第２の垂直高さよりも５ｍｍ以上だけ高くなり得る。特に、第１の垂直高さは、第２の垂直高さよりも２０ｍｍ以上、特に、４０ｍｍ以上、更に特に、１００ｍｍ以上だけ高くてもよい。
【００２５】
キャリアの厚さは、キャリアの高さ及び／又は幅よりもかなり小さくなり得る。したがって、キャリアが本質的に垂直配向でキャリア支持体２０上に支持されているとき、キャリア支持体からキャリアが傾く又は落下する危険性が存在し得る。したがって、上げ又は下げている間に、キャリアの上側部分を安定させる保持デバイスを設けることが有益であり得る。
【００２６】
キャリア支持体からキャリアが傾く又は落下することを妨げるために、キャリアの上側部分に接触しキャリアの上側部分を保持するための、バネが取り付けられたフィンガ又はクランプなどの機械的なホルダが設けられてもよい。例えば、機械的なホルダは、上方からキャリアに接触しキャリアを掴み得る。しかし、キャリアの垂直移動中に機械的なホルダとキャリアとの間の一定且つ確実な接触を維持することは困難であり得る。例えば、キャリアがバネ支持体から離れるように移動するときに、バネの保持力は減少し得る。更に、機械的なホルダとキャリアとの間の機械的な摺動接触のために粒子が生成され得る。それは、真空チャンバ内の真空状態に悪影響を与え得る。
【００２７】
キャリアの上側部分のために機械的なホルダを設けることは可能である。その場合に、機械的なホルダは、垂直方向Ｖへ移動可能に取り付けられる。言い換えると、機械的なホルダは、キャリアと共に上げ下げされ、本質的に一定な保持力を維持し得る。しかし、垂直に移動可能なホルダは、複雑で大きくなり得る。更に、上げている間に、例えば、機械的なホルダとキャリア支持体が同調して且つ同じ速度で移動しないときに、真空チャンバ内で粒子が生成され得る。
【００２８】
本明細書で説明される実施形態によれば、キャリアを上げ又は下げている間にキャリア１０の上側部分を非接触方式で保持するための保持デバイス３０が設けられる。言い換えると、保持デバイス３０は、キャリアの上側部分と接触することなしに、キャリアの上側部分を保持し安定させるように構成されている。したがって、キャリア支持体２０からキャリア１０が傾く又は落下することは妨げられ得る。一方で、保持デバイスとキャリアとの間の摩擦接触による粒子の生成は、低減され又は避けられ得る。例えば、保持デバイス３０は、キャリアの上側部分と磁気的に又は静電的に相互作用し得る。
【００２９】
図１で概略的に描かれているように、保持デバイス３０は、キャリアの垂直移動中、例えば、キャリアが下向きに移動している間に、キャリアの垂直配向を非接触方式で安定させることができる。保持デバイス３０は、キャリア支持体２０と共に垂直方向Ｖへ移動しないだろう。例えば、保持デバイス３０は、キャリア支持体２０の垂直移動中に静止していてもよい。保持デバイス３０は、キャリア１０が保持デバイス３０に対して垂直に移動している間に、キャリアの上側部分を非接触方式で安定させるように構成され得る。真空チャンバ内の粒子の生成が低減され、単純で空間を節約した保持デバイスが設けられ得る。
【００３０】
保持デバイス３０は、キャリア支持体２０の本質的に上方に配置され得る。キャリアを受け入れるためのキャリア搬送空間は、キャリア支持体２０と保持デバイス３０との間で垂直に延在し得る。例えば、保持デバイス３０は、例えば、上げ又は下げられるべきキャリアの高さが１ｍを超えるときに、キャリア支持体２０の上方へ１ｍを超えた位置に配置され得る。
【００３１】
保持デバイス３０は、特に、（本明細書で「トラック切り替え方向Ｓ」とも称される）水平方向Ｓにおいて、キャリアの上側部分を非接触方式で安定させるように構成され得る。言い換えると、保持デバイスは、例えば、キャリアを上げ又は下げている間にキャリアが傾くように移動する危険性を低減させるために、キャリア１０の上側部分へ水平に作用する安定化力を加え得る。
【００３２】
「キャリアの上側部分」は、垂直配向のキャリアの高さの上側５０％、特に、上側２０％を含む、垂直配向のキャリア１０の上側部分として理解され得る。例えば、キャリアの傾きを妨げるために、保持デバイス３０はキャリアの上側端を安定させ得る。保持デバイス３０は、キャリアの上側部分と非接触方式で相互作用する少なくとも１つの安定化部分を含み得る。非接触方式で相互作用するように構成された少なくとも１つの安定化部分の相手が、キャリアの上側部分に固定され得る。例えば、保持デバイス３０は、２つの対向する側からキャリア上へ、反対に向けられた水平安定化力を加えることによってキャリアを安定させ得る。
【００３３】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、保持デバイス３０が、２つの安定化部分の間にキャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成された２つの安定化部分を備える。例えば、第１の安定化部分３７は、キャリアの第１の側に（すなわち、キャリア搬送空間の第１の側に）配置され得る。そして、第２の安定化部分３８は、第１の側とは反対のキャリアの第２の側に（すなわち、キャリア搬送空間の第２の側に）配置され得る。第２の側は、基板１１が保持されるキャリアの前側に一致し得る。そして、第１の側は、前側とは反対のキャリアの後ろ側に一致し得る。
【００３４】
キャリアが、保持デバイス３０の第１の安定化部分３７と第２の安定化部分３８との間に保持されているときに、両側方向へのキャリアの傾きは、キャリアの前記２つの側の安定化によって妨げられ得る。
【００３５】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、保持デバイス３０が、キャリアの上側部分と磁気的に相互作用するように構成された少なくとも１つの磁石ユニットを含む。例えば、保持デバイスの少なくとも１つの磁石ユニットと磁気的に相互作用するための磁気カウンターユニットである相手が、キャリアの上側部分に固定され得る。キャリアの上側部分は、磁力を介して非接触方式で安定し得る。磁石ユニットは、確実で、費用効果に優れ、大きな安定化力を提供することができる。
【００３６】
特に、少なくとも１つの磁石ユニットは、永久磁石を含み得る。保持デバイスの複雑さは低減され、エネルギーが節約され得る。何故ならば、永久磁石は、外部電源なしに磁力を提供するからである。
【００３７】
ある実施形態では、少なくとも１つの磁石ユニットが、３０ｍｍ以上、特に、５０ｍｍ以上の垂直な延在を有する。大きな垂直延在を有する磁石ユニットは、キャリアと保持デバイスとの間の種々の相対的な垂直位置において、キャリア１０と保持デバイス３０との間の磁気的相互作用を確実なものとし得る。したがって、保持デバイス３０は、キャリア支持体２０の垂直移動中に一定の垂直位置にあり続けてよい。
【００３８】
保持デバイス３０は、キャリアの上側部分に反発する磁力を加えるための少なくとも１つの磁石ユニットを含み得る。本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、保持デバイス３０が、第１の側からキャリア１０の上側部分に反発する磁力を加えるための第１の磁石ユニット３３、及び第１の側とは反対の第２の側からキャリア１０の上側部分に反発する磁力を加えるための第２の磁石ユニット３４を含む。
【００３９】
それぞれ、第１の磁石ユニット３３及び第２の磁石ユニット３４と磁気的に相互作用するためなどに、キャリア１０の上側部分に、磁気カウンターユニットが固定され得る。特に、保持デバイス３０の第１の磁石ユニット３３は、キャリア１０の第１の側に固定された第１の磁気カウンターユニット１３に反発する磁力を加え得る。且つ／又は、保持デバイス３０の第２の磁石ユニット３４は、第１の側とは反対のキャリアの第２の側に固定された第２の磁気カウンターユニット１４に反発する磁力を加え得る。キャリアは、第１の磁石ユニット３３と第２の磁石ユニット３４との間の中央エリアに向けて非接触方式で促され得る。キャリアの両側に作用する反発する磁力によって、キャリア１０と保持デバイス３０との間の接触が避けられ得る。キャリアの確実な且つ非接触方式での安定化が提供され得る。
【００４０】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、保持デバイス３０が、第１のアーム、例えば、第１の片持梁３１、及び、第２のアーム、例えば、第２の片持梁３２を含み得る。第１のアームは、キャリア搬送空間の第１の側に第１の安定化部分３７を含み得る。そして、第２のアームは、キャリア搬送空間の第２の側に第２の安定化部分３８を含み得る。第１の磁石ユニット３３は、第１の片持梁３１、例えば、第１の片持梁３１の遠位端に固定され得る。そして、第２の磁石ユニット３４は、第２の片持梁３２、例えば、第２の片持梁３２の遠位端に固定され得る。
【００４１】
「片持梁」は、キャリアのそれぞれの側の近傍に保持デバイス３０の磁石ユニットを運ぶように構成された細長い取り付けデバイスであり得る。第１の磁石ユニット３３は、第１の片持梁３１の遠位端に配置され得る。そして、第１の片持梁３１は、第１の磁気カウンターユニット１３が設けられているキャリアの上側部分の近傍に運ばれるように構成され得る。第２の磁石ユニット３４は、第２の片持梁３２の遠位端に配置され得る。そして、第２の片持梁３２は、第２の磁気カウンターユニット１４が設けられているキャリアの上側部分の近傍に運ばれるように構成され得る。
【００４２】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、保持デバイス３０が、水平方向に、特に、キャリアの厚さ方向に一致し得るトラック切り替え方向Ｓに、移動可能であり得る。例えば、キャリアの上側部分を保持し且つ安定させるようにキャリアの近くに保持デバイス３０を運ぶために、保持デバイス３０は水平方向に移動可能であり得る。
【００４３】
ある実施形態では、第１の片持梁３１と第２の片持梁３２が、水平方向に、特に、互いから独立して移動可能である。例えば、（例えば、トラック切り替え方向Ｓにおいて前後に）第１の片持梁３１を水平に移動させるための第１のドライブが、第１の片持梁３１の近位端、例えば、真空チャンバの外側に設けられ得る。（例えば、トラック切り替え方向Ｓにおいて前後に）第２の片持梁３２を水平に移動させるための第２のドライブが、第２の片持梁３２の近位端、例えば、真空チャンバの外側に設けられ得る。第１のドライブと第２のドライブは、キャリア搬送空間の同じ側、例えば、真空チャンバの外側で互いに隣り合って配置され得る。
【００４４】
第１のドライブと第２のドライブは、互いから独立して操作可能であり得る。特に、第１のドライブと第２のドライブは、第１の片持梁と第２の片持梁を反対方向へ移動させるように構成され得る。代替的に又は更に、第１のドライブと第２のドライブは、一致した速度で同じ方向に第１の片持梁と第２の片持梁を同調して移動させるように構成され得る。
【００４５】
特に、第１の片持梁３１の第１の安定化部分３７は、キャリアの第１の側に向けて移動可能であり得る。そして、第２の片持梁３２の第２の安定化部分３８は、第１の側とは反対のキャリアの第２の側に向けて移動可能であり得る。第１の安定化部分３７をキャリアの第１の側に向けて移動させることによって、キャリアは、第１の安定化部分３７から離れるように第２の安定化部分３８に向けて磁気的に押され得る。第２の安定化部分３８をキャリアの第２の側に向けて移動させることによって、キャリアは、第２の安定化部分３８から離れるように第１の安定化部分３７に向けて反対方向へ磁気的に押され得る。したがって、キャリアは、非接触方式で安定し、第１の安定化部分３７と第２の安定化部分３８との間の所定の位置で保持され得る。
【００４６】
第１の片持梁３１と第２の片持梁３２は、それぞれ、本質的にＬ字形状であり得る。第１の片持梁３１の長い脚は、本質的に水平方向へ延在し得る。長い脚の遠位端に連結された短い脚は、下向きの方向に延在し、第１の安定化部分３７を含み得る。第２の片持梁３２の長い脚は、キャリア搬送空間の上方で、本質的に水平方向へ延在し得る。長い脚の遠位端に連結された短い脚は、下向きの方向に延在し、第２の安定化部分３８を含み得る。ある実施形態では、図１で概略的に描かれているように、第２の片持梁３２の長い脚が、第１の片持梁３１の長い脚の垂直高さの上方に配置され得る。
【００４７】
ある実施形態では、保持デバイス３０が、少なくとも２つの第１の片持梁及び／又は少なくとも２つの第２の片持梁を有し得る。それらは、それぞれ、水平方向に互いから間隔を空けられ得る。キャリアの上側部分を非接触方式で安定させるように構成された少なくとも１つの磁石ユニットが、第１及び第２の片持梁の各々の遠位端に設けられ得る。したがって、キャリアの安定した確実な安定化が、キャリアの全幅にわたり提供され得る。
【００４８】
実施形態によれば、キャリアが、以下の理由のうちの少なくとも１以上のためにアセンブリ１００を利用して垂直方向に移動され得る。すなわち、（ｉ）所定の垂直高さにキャリアを位置決めすること、（ｉｉ）キャリアの垂直高さを修正又は調整すること、（ｉｉｉ）例えば、アクティブ制御を介してキャリアの垂直高さを制御すること、（ｉｖ）キャリアを、特定の垂直高さに配置された搬送システムのトラック上に配置すること、（ｖ）キャリアを、経路切り替えを実行するために経路切り替え支持体上に下げること、及び（ｖｉ）キャリアを搬送システムのトラック上に戻して配置するために、キャリアを、経路切り替え支持体から上げること、である。
【００４９】
図２Ａ〜図２Ｄは、本明細書で説明される実施形態による、アセンブリ１００を用いてキャリアを上げ又は下げるための方法の幾つかの段階を示している。
【００５０】
図２Ａでは、キャリア１０がキャリア支持体２０上に配置されている。キャリア支持体２０は、キャリア１０がその上に支持された状態で、上向きの方向及び／又は下向きの方向に移動可能である。
【００５１】
保持デバイス３０は、キャリアの上側部分から間隔を空けて配置され得る。特に、保持デバイス３０は、保持デバイスによってキャリアに安定化力が加えられていない又は無視できる安定化力が加えられている後退位置に配置され得る。後退位置では、キャリアの第１の側（例えば、キャリアの後ろ側）に設けられた第１の安定化部分３７が、キャリアから１０ｃｍ以上の距離を置いて配置され、キャリアの第２の側（例えば、キャリアの前側）に設けられた第２の安定化部分が、キャリアから１０ｃｍ以上の距離を置いて配置されている。
【００５２】
第１の安定化部分３７は、例えば、第１のドライブを介して水平方向に移動可能な第１の片持梁３１の遠位端に設けられ得る。そして、第２の安定化部分３８は、例えば、特に、互いから独立して第２のドライブを介して水平方向に移動可能な第２の片持梁３２の遠位端に設けられ得る。
【００５３】
キャリア支持体２０が、例えば、下向きの方向へ垂直に移動されるときに、キャリアの上側部分は、保持デバイス３０によって保持され安定する。したがって、第１の安定化部分３７は、キャリアの第１の側に向けて移動され、第２の安定化部分３８は、キャリアの第２の側に向けて移動される。
【００５４】
図２Ｂで概略的に描かれているように、保持デバイス３０の保持状態では、保持デバイス３０とキャリアの上側部分との間の距離が、５ｃｍ以下、特に、１ｃｍ以下であり得る。特に、第１の安定化部分３７は、キャリアの第１の側の近くに移動されており、第２の安定化部分３８は、キャリアの第２の側の近くに移動されている。しかし、保持デバイス３０は、両方の安定化部分に設けられた磁石ユニットとキャリアの両側に設けられた磁気カウンターユニットとの間の反発する磁力のために、キャリアと接触しない。したがって、キャリアの上側部分は、保持デバイスの安定化部分の間で保持され安定し得る。
【００５５】
図２Ｃでは、キャリア支持体２０が、下向きの方向又は上向きの方向に移動する。したがって、キャリア支持体２０上に支持されたキャリアは、下げられ又は上げられる。キャリアは、保持デバイス３０によって下げられている又は上げられている間に安定している。
【００５６】
特に、保持デバイス３０に設けられた磁石ユニット及び／又はキャリアに設けられた磁気カウンターユニットは、保持デバイス３０とキャリア１０との間の相対的な垂直移動中に、保持デバイス３０とキャリアの上側部分との間の磁気的相互作用を確実する垂直の延在を有する。特に、保持デバイスに設けられた磁石ユニットとキャリアに設けられた磁気カウンターユニットは、図２Ｂで描かれているキャリアの上側垂直位置と図２Ｃで描かれているキャリアの下側垂直位置の両方において重なり合うことができる。
【００５７】
キャリアは、１０ｍｍ以上、２０ｍｍ以上、４０ｍｍ以上、又は１００ｍｍ以上でさえ、下げられ又は上げられ得る。
【００５８】
キャリアの垂直移動中に、保持デバイス３０は静止したままであり得る。
【００５９】
図２Ｄで概略的に描かれているように、上げ又は下げられた後で、保持デバイス３０は、キャリア１０から離れるように移動し得る。例えば、第１の安定化部分３７は、キャリアの第１の側から離れるように移動し、第２の安定化部分３８は、キャリアの第２の側から離れるように移動し得る。
【００６０】
図２Ｄでは、保持デバイス３０によってキャリア１０の上側部分を保持することは、もはや必要ではないだろう。何故ならば、例えば、（図２Ｄでは描かれていない）更なるキャリア保持デバイス又は磁気浮揚システムによって提供される磁気浮揚力が、キャリアを上げられた又は下げられた位置に保持し安定させ得るからである。
【００６１】
図３は、本明細書で説明される実施形態による、キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ２００の断面図である。アセンブリ２００は、図１のアセンブリ１００と本質的に一致している。したがって、上述の説明を参照することができ、ここで上述の説明は繰り返されない。
【００６２】
図３のアセンブリ２００は、第１の搬送経路Ｔ１に沿って搬送方向にキャリア１０を搬送するように構成された、第１の搬送システム１１２を含む。搬送方向は、図３の紙面に対して垂直である。第１の搬送システム１１２は、例えば、磁力を使用して、キャリアを搬送方向へ非接触方式で搬送するように構成され得る。言い換えると、第１の搬送システムは、キャリアを搬送するために機械的な力を使用し得ない。代わりに、第１の搬送システムは、搬送経路に沿って新しい位置に向けてキャリアを磁気的に押し又は引き付け得る。本開示の全体を通して使用される際に、「非接触方式」及び「非接触方式で移動させる」という用語は、キャリアが、キャリアと第１の搬送システムとの間の機械的な接触を使用して移動されないが、反発する磁力及び／又は引き付ける磁力によって磁気的に移動されるという意味において理解され得る。第１及び／又は第２の搬送経路に沿った搬送中に、装置とキャリアとの間に機械的な接触が全く存在し得ない。
【００６３】
ある実施形態では、第１の搬送システム１１２が、磁気浮揚システムであり得る。磁気浮揚システムは、上側トラックセクション１２２と下側トラックセクション１２１を含み得る。その場合に、キャリア１０は、上側トラックセクション１２２と下側トラックセクション１２１との間で本質的に垂直配向で搬送され得る。上側トラックセクション１２２は、下側トラックセクション１２１の上方に配置され得る。磁気浮揚システムの磁石及び／又は駆動ユニットは、上側トラックセクション１２２及び／又は下側トラックセクション１２１に配置され得る。例えば、上側トラックセクション１２２の下方にキャリアを非接触方式で保持するように構成されたアクティブ磁気ユニットが、上側トラックセクションに配置され得る。そして、トラックに沿ってキャリアを移動させるように構成された駆動ユニット、例えば、リニアモータが下側トラックセクション１２１に配置され得る。
【００６４】
キャリアを非接触方式で搬送することは、有益であり得る。何故ならば、キャリアの搬送中に、キャリアとローラなどの搬送システムのセクションとの間の機械的な接触により生成される粒子の数が、低減されるからである。したがって、真空チャンバ内の真空状態は、キャリアの搬送によって悪影響を受けない。基板上に堆積した層の純度が、改良され得る。何故ならば、とりわけ、非接触方式で搬送するように構成された搬送システムを使用するときに、粒子の生成が最小化され又は完全に避けられさえするからである。
【００６５】
該アセンブリは、アクチュエータ２５を介して垂直方向Ｖに移動可能なキャリア支持体２０のみならず、キャリアの垂直移動中にキャリア１０の上側部分を保持するための保持デバイス３０を更に含む。保持デバイス３０の詳細は、図１を参照しながら説明されており、ここでは繰り返されない。
【００６６】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、キャリア支持体２０が、第１の搬送システム１１２の下側トラックセクション１２１と連結され又は一体的に形成され得る。特に、図３で概略的に描かれているように、キャリア支持体２０は、下側トラックセクション１２１と共に垂直方向へ移動可能であるためなどに、下側トラックセクション１２１に連結されている。
【００６７】
第１の搬送システム１１２によってキャリアを搬送方向へ非接触方式で搬送している間に、キャリアは、上側トラックセクション１２２の下方且つ下側トラックセクション１２１の上方に非接触方式で保持されている。磁気浮揚システムは、キャリアの磁気側方安定化を更に提供し得る。言い換えると、磁気浮揚システムは、キャリアが上側トラックセクション１２２から離れるようにドリフトすることを妨げる、水平方向において（特に、トラック切り替え方向Ｓにおいて）キャリアに作用する磁力を提供し得る。したがって、磁気浮揚システムを用いてキャリアを搬送している間に、キャリアの上側部分は、磁気浮揚システムによって水平方向に保持され安定し得る。しかし、磁気浮揚システムの磁気側方安定化は、通常、特定の垂直高さに作用する。垂直に移動するキャリアの上側部分を保持し安定させることは、困難であり得る。
【００６８】
本明細書で説明される実施形態によれば、キャリアの垂直移動中にキャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成された保持デバイス３０が設けられる。保持デバイス３０は、保持デバイス３０が一定の垂直高さにあり続け得る間に、垂直に移動するキャリアの上側部分と磁気的に相互作用し得る。
【００６９】
したがって、第１の搬送システム１１２の磁気浮揚は、スイッチオフされ又は低減され得る。そして、キャリア１０は、キャリア支持体２０を下向きの方向へ移動させることによって下げられ得る。上側トラックセクション１２２とキャリア１０との間の距離は、キャリアを下げることによって増加する。上側トラックセクション１２２とキャリア１０との間の距離の増加によって、キャリア１０は、その後、第１の搬送経路Ｔ１から離れるように経路切り替え方向Ｓへ移動され得る。
【００７０】
図４Ａ〜図４Ｆは、本明細書で説明される実施形態による、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置４００の連続的な作動位置を示している。
【００７１】
装置４００は、第１の搬送経路Ｔ１に沿って搬送方向Ｔに設けられた第１の搬送システム１１２、及び第１の搬送経路Ｔ１から離れるように搬送方向Ｔと本質的に垂直な経路切り替え方向Ｓへキャリアを移動させるように構成された経路切り替えアセンブリ１５０を含む。
【００７２】
経路切り替えアセンブリ１５０は、本質的に垂直方向Ｖへ移動可能なキャリア支持体２０、及びキャリアの上側部分を非接触方式で保持するように構成された保持デバイス３０を含む。保持デバイス３０は、図１で描かれている保持デバイスに従って構成され得る。それによって、ここでは繰り返されない上述の説明に対する参照が可能である。特に、保持デバイス３０は、キャリア支持体上に支持されたキャリアを上げ又は下げている間に、キャリアの上側部分を保持するように構成されている。
【００７３】
トラック切り替え方向Ｓは、保持デバイス３０が移動可能な水平方向に一致し得る。特に、トラック切り替え方向Ｓは、保持デバイス３０によってキャリアの上側部分に加えられる安定化力の方向に一致し得る。
【００７４】
真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置４００は、１つ、２つ、又はそれを上回る数の搬送経路を設けることができる。その場合に、キャリアは、それらの搬送経路に沿って移動され又は運ばれ得る。第１の搬送経路Ｔ１は、例えば、第１の搬送経路Ｔ１と本質的に平行な第２の搬送経路Ｔ２の隣りで延在し得る。第１の搬送経路Ｔ１及び／又は第２の搬送経路Ｔ２は、経路切り替え方向Ｓと本質的に垂直な
水平方向であり得る搬送方向Ｔに延在し得る。
【００７５】
第１の搬送経路Ｔ１と第２の搬送経路Ｔ２は、経路切り替え方向Ｓにおいて互いから水平にオフセットされ得る。経路切り替え方向Ｓにおける第１の搬送経路Ｔ１と第２の搬送経路Ｔ２との間の距離は、１０ｃｍ以上、特に、２０ｃｍ以上、且つ／又は、１００ｃｍ以下、特に、５０ｃｍ以下であり得る。
【００７６】
装置４００は、インライン処理システムなどの真空処理システムの一部分であり得る。それによって、基板は、連続的又は準連続的に処理され得る。装置４００は、第１の搬送経路Ｔ１から離れるように、第２の搬送経路Ｔ２及び／又は基板が処理され得る処理位置Ｔ３へ、キャリアを動かし又は移動させるように構成され得る。具体的には、装置４００が、経路切り替え方向Ｓに、第１の搬送経路Ｔ１上の第１の位置から、第１のトラックから離れた第２の位置へ、キャリアを側方へ動かし得る。経路切り替え方向Ｓは、搬送方向と本質的に垂直であり得る。経路切り替え方向Ｓに、１つの搬送経路から別の１つの搬送経路へキャリアが移動されるときに、前記移動は、「経路切り替え」又は「トラック切り替え」とも称され得る。
【００７７】
第１の搬送システム１１２は、第１の搬送経路Ｔ１に沿って搬送方向Ｔにキャリア１０を非接触方式で搬送するように構成され得る。第１の搬送システム１１２は、第１の搬送経路Ｔ１に沿ってキャリアを非接触方式で搬送するように構成された第１の磁気浮揚システムであり得る。ある実施形態では、第１の搬送システム１１２が、下側トラックセクション１２１と上側トラックセクション１２２を含む。キャリアは、下側トラックセクション１２１と上側トラックセクション１２２との間のキャリア搬送空間内で、特に、本質的に垂直配向で搬送され得る。
【００７８】
ある実施形態では、経路切り替えアセンブリ１５０のキャリア支持体２０が、第１の搬送システム１１２の下側トラックセクション１２１と連結され又は一体的に形成される。キャリア支持体２０は、下側トラックセクション１２１と共に垂直方向Ｖへ移動可能であり得る。特に、キャリア支持体２０と共に下側トラックセクション１２１を垂直に移動させるために、アクチュエータ２５が設けられ得る。
【００７９】
上側トラックセクション１２２は、下側トラックセクション１２１の本質的に上方に配置され得る。第１の搬送システム１１２の磁気ユニットは、下側トラックセクション１２１及び／又は上側トラックセクション１２２に配置され得る。例えば、上側トラックセクション１２２の下方で、キャリア１０を非接触方式で保持するために、複数の動的に制御される磁気ユニットが、上側トラックセクション１２２に配置され得る。
【００８０】
上側トラックセクション１２２は、第１の搬送経路Ｔ１に沿って搬送方向Ｔに延在する上側ガイディングレールとして構成された上側トラックの一部分であり得る。磁気ベアリングを介して上側トラックセクション１２２の下方でキャリアを非接触方式で搬送する間に、上側トラックセクション１２２とキャリアとの間の間隙は、５ｍｍ以下、特に、約２ｍｍの幅を有し得る。第１の搬送システム１１２のアクティブ磁気ユニット及び／又はパッシブ磁気ユニットは、上側トラックセクション１２２に固定され得る。
【００８１】
下側トラックセクション１２１は、第１の搬送経路Ｔ１に沿って搬送方向Ｔに延在する下側ガイディングレールとして構成された下側トラックの一部分であり得る。第１の搬送システム１１２によって下側トラックセクション１２１の上方でキャリアを非接触方式で搬送する間に、下側トラックセクション１２１とキャリアとの間の間隙は、５ｍｍ以下、特に、約２ｍｍの幅を有し得る。搬送方向Ｔにキャリアを非接触方式で搬送するように構成された第１の搬送システムの駆動ユニットは、下側トラックセクション１２１に固定され得る。
【００８２】
装置４００は、経路切り替えアセンブリ１５０を更に含む。経路切り替えアセンブリ１５０は、第１の搬送経路Ｔ１から離れるように搬送方向Ｔを横切る経路切り替え方向Ｓへ、キャリアを移動させるように構成され得る。例えば、経路切り替えアセンブリ１５０は、第１の搬送経路Ｔ１から第２の搬送経路Ｔ２へ経路切り替え方向Ｓに、キャリアを移動させるように構成され得る。代替的に又は更に、経路切り替えアセンブリ１５０は、キャリアが処理される、例えば、被覆される処理位置Ｔ３へキャリアを移動させるように構成され得る。処理位置Ｔ３は、第１及び第２の搬送経路から水平にオフセットされ得る。
【００８３】
図４Ｄで概略的に描かれているように、例えば、キャリアが処理位置Ｔ３に配置されたときに、キャリア１０によって保持された基板１１を処理するために、真空チャンバ内に処理ツール１０５が配置され得る。処理ツール１０５は、基板上に被覆材料を堆積させるように構成された堆積源であり得る。
【００８４】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、経路切り替えアセンブリ１５０が、経路切り替え支持体１５２を含む。経路切り替え支持体１５２は、キャリア１０を経路切り替え方向Ｓへ移動させるために、経路切り替え方向Ｓへ移動可能であり得る。例えば、キャリア１０は、経路切り替え支持体１５２上に支持され得る。図４Ｃでは、キャリア１０が、経路切り替え支持体１５２によって下方から支持されている。すなわち、キャリア１０は、経路切り替え支持体１５２の上端上に配置され得る。他の実施形態では、経路切り替え支持体１５２が、側方からキャリアを保持し得る。例えば、経路切り替え支持体１５２は、キャリアの側面と磁気的に係合するための磁気的なチャックを含み得る。
【００８５】
第１の搬送経路Ｔ１から、第２の搬送経路Ｔ２及び／又は処理位置Ｔ３へ、キャリアを移動させるために、経路切り替え支持体１５２を経路切り替え方向Ｓへ移動させるために、駆動デバイスが設けられ得る。（図面では描かれていない）駆動デバイスは、真空チャンバの外側に配置され得る。そして、経路切り替え支持体１５２は、真空チャンバの壁を通って延在し得る。代替的に、駆動デバイスが、真空チャンバの内側に配置され得る。
【００８６】
駆動デバイスは、第１の搬送経路Ｔ１から第２の搬送経路Ｔ２及び／又は処理位置Ｔ３へ、１０ｃｍ以上、特に、２５ｃｍ以上の距離だけ、経路切り替え方向Ｓに経路切り替え支持体１５２を移動させるように構成され得る。例えば、第１の搬送経路Ｔ１と第２の搬送経路Ｔ２との間の距離は、２５ｃｍ以上且つ１００ｃｍ以下であり得る。
【００８７】
図４Ａで描かれている実施形態の経路切り替え支持体１５２は、キャリアを支持面上に位置決めするための支持面を含む。キャリア１０は、キャリア支持体２０によって下向きの方向に移動され、経路切り替え支持体１５２の支持面上に位置決めされ得る。その後、第１の搬送経路Ｔ１から離れるようにキャリアを移動させるために、経路切り替え支持体１５２が、経路切り替え方向Ｓに移動され得る。
【００８８】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、第２の搬送経路Ｔ２に沿ってキャリア１０を搬送するために、第２の搬送システム１１４が設けられ得る。第２の搬送システム１１４は、第２の搬送経路Ｔ２に沿って設けられた第２の磁気浮揚システムであり得る。第２の搬送経路Ｔ２は、第１の搬送経路Ｔ１から水平にオフセットされ得る。特に、第１の搬送経路Ｔ１から、第２の搬送経路Ｔ２及び／又は第１の搬送経路と第２の搬送経路の両方から水平にオフセットされた処理位置Ｔ３へ、キャリア１０を移動させるために、経路切り替え支持体１５２が、経路切り替え方向Ｓに移動可能であり得る。
【００８９】
第１の搬送システム１１２と同様に、第２の搬送システム１１４は、第２の下側トラックセクション１２３と第２の上側トラックセクション１２４を含み得る。その場合に、キャリアは、第２の下側トラックセクション１２３と第２の上側トラックセクション１２４との間で、第２の搬送経路Ｔ２に沿って搬送され得る。
【００９０】
ある実施形態では、第２の下側トラックセクション１２３が、垂直方向Ｖに移動可能であり得る。したがって、第２の下側トラックセクション１２３上に配置されたキャリアは、第２の下側トラックセクション１２３を上向きの方向又は下向きの方向へ移動させることによって上下され得る。ある実施態様では、第１の搬送システム１１２の下側トラックセクション１２１が、第２の搬送システム１１４の第２の下側トラックセクション１２３から独立して、垂直方向Ｖに移動可能であり得る。
【００９１】
図４Ａでは、第１の搬送システム１１２によって、第１の搬送経路Ｔ１に沿って搬送方向Ｔにキャリアが搬送される。搬送は、非接触方式の搬送であり得る。キャリア１０は、磁力、例えば、下方から作用する反発する磁力及び／又は上方から作用する引き付ける磁力によって、上側トラックセクション１２２の下方へ距離（例えば、約２ｍｍの距離）を置いて、下側トラックセクション１２１の上方へ距離（例えば、約２ｍｍの距離）を置いて保持され得る。キャリア１０は、経路切り替えアセンブリ１５０が配置されている、図４Ａで描かれている第１の搬送経路Ｔ１上の位置に搬送される。
【００９２】
第１の搬送システム１１２によってキャリアを搬送している間に、キャリアの上側部分は、第１の搬送システム１１２によって提供された磁力によって保持され安定し得る。保持デバイス３０は、キャリアの上側部分から間隔を空けて配置され得る。
【００９３】
図４Ｂで描かれているように、保持デバイス３０は、キャリア１０に向けて水平方向へ移動され得る。保持デバイス３０の第１の安定化部分は、キャリアの第１の側（例えば、キャリアの後ろ側）に向けて移動され得る。そして、保持デバイス３０の第２の安定化部分は、キャリアの第２の側（例えば、キャリアの前側）に向けて移動され得る。その後、キャリアは、保持デバイスによって非接触方式で保持され安定する。磁力が、保持デバイス３０の安定化部分とキャリアの上側部分との間でトラック切り替え方向Ｓに作用し得る。
【００９４】
図４Ｂで更に描かれているように、磁気浮揚力は、キャリア支持体２０上にキャリアを配置するために、スイッチオフ又は低減され得る。磁気浮揚力は、キャリアがキャリア支持体２０上に滑らかに配置されるように、徐々に低減され得る。キャリアの上側部分は、保持デバイス３０によって非接触方式で保持される。
【００９５】
図４Ｃで概略的に描かれているように、キャリア支持体２０は、その後、アクチュエータ２５によって、例えば、４０ｍｍ以上の距離だけ下向きの方向へ移動され得る。キャリア１０は、経路切り替え支持体１５２上に下げられ配置される。下げている間に、キャリア１０の上側部分は、保持デバイス３０によって非接触方式で保持されている。実施形態では、保持デバイス３０が、キャリアを下げている間に本質的に静止したままであり得る。
【００９６】
経路切り替え方向Ｓへの経路切り替え支持体１５２の邪魔されない経路切り替え動作を可能にするために、キャリアが経路切り替え支持体１５２上に配置されたときに、キャリア支持体２０は、更に下向きに移動され得る。
【００９７】
図４Ｂ及び図４Ｃで概略的に描かれているように、キャリア支持体２０と経路切り替えアセンブリ１５０の経路切り替え支持体１５２は、下方からキャリア１０を支持するように構成され得る。キャリア１０の底面は、先ず、キャリア支持体上に配置され（図４Ｂ）、次に、経路切り替え支持体１５２上に配置され得る（図４Ｃ）。キャリア支持体２０上に支持されたキャリア１０の下向きの動きのために、キャリア１０と上側トラックセクション１２２との間の距離は増加され得る。経路切り替え支持体１５２によって支持されたキャリア１０に対するキャリア支持体２０の下向きの動きのために、キャリアと下側トラックセクション１２１との間の距離は増加され得る。経路切り替え中のキャリア１０の上方及びキャリアの下方の自由空間が増加されるので、経路切り替え方向Ｓにおけるキャリアの移動動作が容易にされ得る。
【００９８】
図４Ｄで概略的に描かれているように、経路切り替え支持体１５２上に支持されたキャリア１０を有する経路切り替え支持体１５２は、第１の搬送経路Ｔ１から第２の搬送経路Ｔ２及び／又は処理位置Ｔ３（図４Ｄ）へ経路切り替え方向Ｓに移動され得る。処理位置Ｔ３では、基板が、処理ツール１０５によって処理され得る。
【００９９】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、保持デバイス３０が、経路切り替え支持体１５２と共に経路切り替え方向Ｓへ移動可能である。保持デバイス３０は、キャリアの経路切り替え方向Ｓへの移動中に、キャリア１０の上側部分を非接触方式で保持し安定させ得る。保持デバイス３０は、経路切り替え支持体１５２と本質的に同調して且つ経路切り替え支持体１５２と本質的に同じ速度で、経路切り替え方向Ｓに移動可能であり得る。特に、キャリアの経路切り替え動作中にキャリア１０の上側部分の確実な安定化を提供するために、第１の片持梁３１と第２の片持梁３２は、経路切り替え支持体１５２と同調して且つ経路切り替え支持体１５２と同じ速度で経路切り替え方向Ｓへ移動し得る。保持デバイス３０の第１の磁石ユニット３３と第２の磁石ユニット３４との間の中央位置に、キャリアの上側部分が非接触方式で保持され得る。
【０１００】
図４Ｅで概略的に描かれているように、キャリアは、経路切り替え支持体１５２によって第２の搬送経路Ｔ２へ移動され得る。一方で、キャリアの上側部分は、保持デバイス３０によって非接触方式で保持されている。保持デバイス３０は、経路切り替え支持体と同じ速度で移動し得る。
【０１０１】
本明細書で説明される他の実施形態と組み合わされ得る、ある実施形態では、第２の搬送システム１１４が、本質的に垂直方向へ移動可能な第２の下側トラックセクション１２３を含み得る。第２のキャリア支持体上に支持されたキャリアを上げ又は下げるように構成された第２のキャリア支持体は、第２の下側トラックセクション１２３と連結され又は一体的に形成され得る。
【０１０２】
図４Ｅで描かれているように、第２の搬送システム１１４の第２の下側トラックセクション１２３は、その後、上向きの方向へ移動され得る。それは、キャリアが、経路切り替え支持体１５２から上げられ、第２の搬送システム１１４の第２の上側トラックセクション１２４に向けて上向きに移動されるまでである。キャリア１０を上げている間に、キャリアの上側部分は、保持デバイス３０によって非接触方式で保持され得る。
【０１０３】
キャリアが所定の垂直高さに上げられたときに、第２の搬送システム１１４の磁気浮揚がスイッチオンされ得る。その後、キャリアは、第２の搬送システム１１４のそれぞれの反発する磁気ベアリングによって、第２の上側トラックセクション１２４の下方且つ第２の下側トラックセクション１２３の上方に、非接触方式で保持され得る。第２の搬送システム１１４の磁力は、更に、キャリアの上側部分の側方安定化を提供し得る。
【０１０４】
図４Ｆで概略的に描かれているように、キャリアの上側部分の側方安定化が磁気浮揚システムによって提供されたときに、保持デバイス３０は、キャリアから離れるように水平方向へ移動され得る。
【０１０５】
その後、キャリアは、例えば、更なる処理モジュールに向けて、又はキャリア積み出しチャンバに向けて戻るように、第２の搬送システム１１４によって第２の搬送経路Ｔ２に沿って搬送方向Ｔへ非接触方式で搬送され得る。
【０１０６】
図５は、本明細書で説明される実施形態による、キャリアを搬送するための装置を含むシステム５００の概略上面図を示している。該装置は、図４Ａ〜図４Ｆで描かれている装置４００に一致し得る。したがって、上述の説明を参照することができ、ここで上述の説明は繰り返されない。
【０１０７】
本明細書で説明される実施形態による、基板を真空処理するためのシステム５００が、真空チャンバ１０１、本明細書で説明される実施形態の何れかによるキャリアを搬送するための装置、及び真空チャンバ１０１内に配置される１以上の処理ツール１０５を含む。１以上の処理ツールは、堆積源、スパッタ源、蒸発源、表面処理ツール、加熱デバイス、洗浄デバイス、エッチングツール、及びそれらの任意の組み合わせから成る群から選択され得る。
【０１０８】
第１の搬送経路Ｔ１と、第１の搬送経路Ｔ１から水平にオフセットされた第２の搬送経路Ｔ２とが、少なくとも部分的に真空チャンバ１０１を通って延在する。任意選択的に、第１の搬送経路Ｔ１及び第２の搬送経路Ｔ２から水平にオフセットされた、基板が処理され得る処理位置Ｔ３が設けられる。ある実施形態では、処理位置Ｔ３と処理ツール１０５との間に、マスク１２が設けられる。マスク１２は、例えば、端部除外マスク又はファインメタルマスクであり得る。例えば、マスク１２は、基板の一部分が被覆されることを妨げ、且つ／又は、マスクは、基板上に堆積されるべき材料パターンに対応した開口パターンを有し得る。
【０１０９】
該装置は、第１の搬送経路Ｔ１に沿ってキャリア１０を非接触方式で搬送するための第１の搬送システム１１２、第２の搬送経路Ｔ２に沿ってキャリア１０を非接触方式で搬送するための第２の搬送システム１１４、及び、第１の搬送経路Ｔ１から第２の搬送経路Ｔ２及び／又は処理位置Ｔ３へ、経路切り替え方向Ｓにキャリア１０を移動させるように構成された経路切り替えアセンブリ１５０を含む。
【０１１０】
経路切り替えアセンブリ１５０は、キャリアを上げ又は下げるために垂直方向へ移動可能な（図５では破線で描かれている）キャリア支持体２０を含む。キャリア支持体２０は、キャリア搬送空間の下方に配置され得る。それによって、キャリアは、第１の搬送システム１１２の磁気浮揚力を低減させることによってキャリア支持体２０上に配置され得る。
【０１１１】
経路切り替えアセンブリ１５０は、キャリア１０を支持するように構成された（図５では破線で描かれている）経路切り替え支持体１５２を更に含む。搬送経路の間でキャリアを移動させるために、経路切り替え支持体１５２が経路切り替え方向Ｓへ移動可能である。キャリア支持体２０と経路切り替え支持体１５２の両方が、下方からキャリアを支持するように構成され得る。図５の実施形態では、２つの経路切り替え支持体１５２が設けられている。それらは、搬送方向Ｔにおいて互いから、例えば、１ｍ以上の距離だけ間隔を空けられている。他の実施形態では、２つを上回る数の経路切り替え支持体が設けられ得る。
【０１１２】
経路切り替えアセンブリ１５０は、特に、キャリアの両側からキャリアに磁気安定化力を加えることによって、キャリアの上側部分を非接触方式で安定させるように構成された保持デバイス３０を更に含む。
【０１１３】
図５で描かれている保持デバイス３０は、搬送方向Ｔにおいて互いから、例えば、２ｍ以上且つ４ｍ以下の距離だけ間隔を空けられている、２つの第１の片持梁３１を含む。キャリアの後ろ側と相互作用するように構成された少なくとも１つの磁石ユニットが、各第１の片持梁３１の遠位端に固定され得る。２つの第１の片持梁は、共通の駆動ユニットによって又は２つの分離した駆動ユニットによって、キャリアの後ろ側に向けて経路切り替え方向Ｓへ移動可能であり得る。他の実施形態では、２つを上回る数の第１の片持梁が設けられ得る。
【０１１４】
図５で描かれている保持デバイス３０は、搬送方向Ｔにおいて互いから、例えば、５０ｃｍ以上且つ１５０ｃｍ以下の距離だけ間隔を空けられている、２つの第２の片持梁３２を含む。キャリアの前側と相互作用するように構成された少なくとも１つの磁石ユニットが、各第２の片持梁３２の遠位端に固定され得る。２つの第２の片持梁は、共通の駆動ユニットによって又は２つの分離した駆動ユニットによって、キャリアの前側に向けて経路切り替え方向Ｓへ移動可能であり得る。他の実施形態では、２つを上回る数の第２の片持梁が設けられ得る。
【０１１５】
経路切り替え中に、２つの経路切り替え支持体１５２、２つの第１の片持梁３１、及び２つの第２の片持梁３２が、処理ツール１０５に向けて経路切り替え方向Ｓへ共に且つ同調して移動可能であり得る。素早く確実な経路切り替えが実行され得る。
【０１１６】
水平の経路切り替え動作中と同様にキャリアを上下させている間にキャリアの上側部分を非接触方式で保持することによって、真空チャンバ内での粒子の生成が低減され、処理結果が改良され得る。
【０１１７】
図６は、本明細書で説明される実施形態による、真空チャンバ内でキャリアを上げ又は下げる方法を示すフロー図である。
【０１１８】
ボックス６１０では、キャリアがキャリア支持体上に配置される。該キャリア支持体は、下方からキャリアを支持し得る。
【０１１９】
該キャリアは、垂直に方向付けられたキャリアであり、特に、本質的に垂直配向の大面積基板を運搬する基板キャリアであり得る。
【０１２０】
該キャリアは、１ｍ以上、特に、２ｍ以上の高さを有し、１ｍ以上の幅、特に、２ｍ以上の幅を有し、且つ／又は、５０ｃｍ以下、特に、２０ｃｍ以下の厚さを有し得る。キャリアの「厚さ」は、経路切り替え方向Ｓに一致する水平方向におけるキャリアの寸法であり得る。
【０１２１】
（任意選択的な）ボックス６２０では、保持デバイス３０が、キャリア支持体上に支持されたキャリアに向けて水平方向に移動される。特に、保持デバイスの第１の安定化部分は、キャリアの第１の側に向けて移動され得る。そして、保持デバイスの第２の安定化部分は、第１の側とは反対のキャリアの第２の側に向けて移動され得る。第２の側は、基板が保持されているキャリアの前側に一致し得る。第１の側は、キャリアの後ろ側に一致し得る。したがって、キャリアは、第１の安定化部分と第２の安定化部分との間に保持されている。それらは、キャリアの両側からキャリアに反発する磁力を加え得る。したがって、キャリアは、第１の安定化部分と第２の安定化部分との間の中央位置で磁気的に安定し得る。
【０１２２】
ボックス６３０では、キャリア支持体が、キャリアを上げ又は下げるために本質的に垂直方向へ移動され得る。上げ又は下げている間に、キャリアの上側部分は、保持デバイスによって非接触方式で支持されている。保持デバイスは、キャリアを上げ又は下げている間に本質的に静止したままであり得る。
【０１２３】
（任意選択的な）ボックス６４０では、保持デバイスが、キャリアから離れるように水平方向へ移動される。特に、保持デバイスの第１の安定化部分は、キャリアの第１の側から離れるように移動され、保持デバイスの第２の安定化部分は、キャリアの第２の側から離れるように移動される。その後、該キャリアは、更に搬送され、例えば、キャリア支持体から経路切り替え方向Ｓに一致し得る水平方向へ除去され得る。
【０１２４】
ある実施態様では、該キャリアが、真空チャンバ内で処理されるべきディスプレイ製造のための大面積基板を運搬する。基板は、１ｍ2以上、特に、５ｍ2以上のサイズを有し得る。
【０１２５】
基板は、例えば、蒸着によって、スパッタリングによって、且つ／又は化学気相堆積によって、基板上に被覆材料を堆積させることによって、真空チャンバ内で処理され得る。
【０１２６】
図７は、本明細書で説明される実施形態による、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための方法を示しているフロー図である。
【０１２７】
ボックス７１０では、第１の搬送システムによって、特に、第１の磁気浮揚システムによって、第１の搬送経路に沿って真空チャンバ内へ、キャリアが非接触方式で搬送される。キャリアは、経路切り替えアセンブリが配置されている第１の搬送経路の位置で停止される。前記位置において、キャリアは、垂直方向に移動可能なキャリア支持体の上方へ配置され得る。
【０１２８】
ボックス７２０では、保持デバイス３０が、上側部分を非接触方式で保持するために、特に、保持デバイスの２つの安定化部分の間でキャリアの上側部分を非接触方式で安定させるために、キャリアの上側部分に向けて移動される。
【０１２９】
ボックス７３０では、キャリアがキャリア支持体と機械的に接触するように、キャリアをキャリア支持体上に配置するために、第１の搬送システムの磁気浮揚力がスイッチオフされ又は低減され得る。
【０１３０】
ボックス７４０では、キャリア支持体が、その上に支持されたキャリアを下げるために垂直方向へ移動される。下げている間に、キャリアの上側部分は、保持デバイスによって非接触方式で保持されている。保持デバイスは、キャリアに水平安定化力を加え得る。該キャリアは、特に、搬送方向と本質的に垂直な経路切り替え方向Ｓへ移動可能な経路切り替え支持体上に下げられ得る。
【０１３１】
ボックス７５０では、第１の搬送経路から第２の搬送経路及び／又は処理位置へキャリアを移動させるために、経路切り替え支持体が経路切り替え方向へ移動される。保持デバイスは、経路切り替え支持体と共に且つ同調して、経路切り替え方向へ移動する。（任意選択的な）処理位置において、キャリアによって運搬される基板は、処理され、例えば、被覆材料で被覆され得る。
【０１３２】
該キャリアは、第２の搬送システムの垂直に移動可能な第２の下側トラックセクションの上方にキャリアが配置され得る第２の搬送経路へ移動され得る。
【０１３３】
ボックス７６０では、該キャリアが第２の搬送経路上に配置されたときに、第２の下側トラックセクションが上向きの方向へ移動される。該キャリアは、上向きに移動する第２の下側トラックセクションによって経路切り替え支持体から上げられ得る。第２の下側トラックセクションは、キャリアの上側端が第２の搬送システムの第２の上側トラックセクションから近い距離において配置され得る所定の垂直高さにキャリアを位置決めし得る。キャリアが上向きに移動している間に、キャリアの上側部分は、保持デバイスによって非接触方式で保持されている。
【０１３４】
ボックス７７０では、第２の搬送経路に沿って設けられた第２の搬送デバイスの磁気浮揚力がスイッチオンされ得る。保持デバイスは、キャリアの上側部分から除去され得る。その後、キャリアは、第２の搬送システムによって第２の搬送経路Ｔ２に沿って搬送方向へ非接触方式で搬送され得る。
【０１３５】
以上の説明は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲を逸脱することなく本開示の他の更なる実施形態を考案することができ、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって定められる。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
2019537236.tif 000005
【図２Ｃ】
2019537236.tif 000006
【図２Ｄ】
2019537236.tif 000007
【図３】
2019537236.tif 000008
【図４Ａ】
2019537236.tif 000009
【図４Ｂ】
2019537236.tif 000010
【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【図４Ｆ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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