(57)【要約】  透明ＯＬＥＤディスプレイ及びその製造方法を提供する。陰極（１２）と陽極（２２）をそれぞれ異なる２つの基板上に作製することにより、ＯＬＥＤ頂部陽極をスパッタリングにより形成するときに有機発光材料で作製された発光層に対する破壊を有効に防止することができ、製品の良品率が向上する。透明導電性金属酸化物でＯＬＥＤデバイスの陰極及び陽極を作製することにより、透明ＯＬＥＤディスプレイを製造するときに高導電性、高透明性を有する電極材料が必要である、という問題を有効に解決することができる。また、製造過程において、上下２つの基板を同時に生産してからプレス接合することができるため、生産効率が大幅に向上する。本発明の提供する透明ＯＬＥＤディスプレイは、製造が容易で製品の性能が良好である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下のステップ１〜ステップ３を含む透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法であって、
ステップ１において、薄膜トランジスタアレイ基板を提供し、前記薄膜トランジスタアレイ基板上に、陰極、電子輸送層、発光層、及び正孔輸送層を順次作製することで下基板を作製し、
前記陰極は、透明電極であり、
前記正孔輸送層の材料は、正電荷基を有する有機材料を含み、
ステップ２において、パッケージカバーを提供し、前記パッケージカバー上に、陽極及び正孔注入層を順次作製することで上基板を作製し、
前記陽極は、透明電極であり、
前記正孔注入層の材料は、負電荷基を有する有機材料を含み、
前記ステップ１及びステップ２の順序は、任意調整することができ、
ステップ３において、前記上基板と下基板とを、前記正孔輸送層と正孔注入層が対応して貼り合わせられるようにプレス接合し、前記正孔輸送層の表面の正電荷基と前記正孔注入層の表面の負電荷基がクーロン力の作用下で互いに吸引し、化学反応が発生することで、前記上基板と下基板とが緊密に貼り合わせられて透明ＯＬＥＤディスプレイを形成する透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記正電荷基は、ＮＨ３＋及びＨ＋の少なくとも１種を含み、前記負電荷基は、ＣＯＯ−、ＯＨ−及びＣｌ−の少なくとも１種を含む請求項１に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項３】
前記ステップ１において、スピンコート又はスプレーコートの方法により前記陰極上に電子輸送層を作製し、スピンコート又は蒸着の方法により前記電子輸送層上に発光層を作製し、スピンコート又はスプレーコートの方法により前記発光層上に正孔輸送層を作製する請求項１に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項４】
前記陰極の材料及び前記陽極の材料は、いずれも透明導電性金属酸化物を含む請求項１に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項５】
前記電子輸送層の材料は、酸化亜鉛及びポリ［９，９−ジオクチルフルオレン−９，９−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）フルオレン］の少なくとも１種を含む請求項１に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記ステップ３は、真空環境、加熱の条件下で行われ、加熱温度の範囲は、１００℃〜４００℃である請求項１に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項７】
透明ＯＬＥＤディスプレイであって、
対向して貼り合わせた上基板及び下基板を含み、
前記上基板は、パッケージカバー、前記パッケージカバー上に設けられた陽極、及び前記陽極上に設けられた正孔注入層を含み、
前記下基板は、薄膜トランジスタアレイ基板、前記薄膜トランジスタアレイ基板上に設けられた陰極、前記陰極上に設けられた電子輸送層、前記電子輸送層上に設けられた発光層、及び前記発光層上に設けられた正孔輸送層を含み、
前記陰極及び陽極は、いずれも透明電極であり、前記正孔輸送層の材料は、正電荷基を有する有機材料を含み、前記正孔注入層の材料は、負電荷基を有する有機材料を含み、
前記上基板と下基板は、前記正孔輸送層と正孔注入層とが対応して貼り合わせられるようにプレス接合され、前記正孔輸送層の表面の正電荷基と前記正孔注入層の表面の負電荷基がクーロン力の作用下で互いに吸引し、化学反応が発生することで、前記上基板と下基板が緊密に貼り合わせられる透明ＯＬＥＤディスプレイ。
【請求項８】
前記正電荷基は、ＮＨ３＋及びＨ＋の少なくとも１種を含み、前記負電荷基は、ＣＯＯ−、ＯＨ−及びＣｌ−の少なくとも１種を含む請求項７に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイ。
【請求項９】
前記陰極の材料及び前記陽極の材料は、いずれも透明導電性金属酸化物を含む請求項７に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイ。
【請求項１０】
前記電子輸送層の材料は、酸化亜鉛及びポリ［９，９−ジオクチルフルオレン−９，９−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）フルオレン］の少なくとも１種を含む請求項７に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイ。
【請求項１１】
以下のステップ１〜ステップ３を含む透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法であって、
ステップ１において、薄膜トランジスタアレイ基板を提供し、前記薄膜トランジスタアレイ基板上に、陰極、電子輸送層、発光層、及び正孔輸送層を順次作製することで下基板を作製し、
前記陰極は、透明電極であり、
前記正孔輸送層の材料は、正電荷基を有する有機材料を含み、
ステップ２において、パッケージカバーを提供し、前記パッケージカバー上に、陽極及び正孔注入層を順次作製することで上基板を作製し、
前記陽極は、透明電極であり、
前記正孔注入層の材料は、負電荷基を有する有機材料を含み、
前記ステップ１及びステップ２の順序は、任意に調整することができ、
ステップ３において、前記上基板と下基板とを、前記正孔輸送層と正孔注入層が対応して貼り合わせられるようにプレス接合し、前記正孔輸送層の表面の正電荷基と前記正孔注入層の表面の負電荷基がクーロン力の作用下で互いに吸引し、化学反応が発生することで、前記上基板と下基板が緊密に貼り合わせられて透明ＯＬＥＤディスプレイを形成し、
前記正電荷基は、ＮＨ３＋及びＨ＋の少なくとも１種を含み、前記負電荷基は、ＣＯＯ−、ＯＨ−及びＣｌ−の少なくとも１種を含み、
前記ステップ１において、スピンコート又はスプレーコートの方法により前記陰極上に電子輸送層を作製し、スピンコート又は蒸着の方法により前記電子輸送層上に発光層を作製し、スピンコート又はスプレーコートの方法により前記発光層上に正孔輸送層を作製する透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
前記陰極の材料及び前記陽極の材料は、いずれも透明導電性金属酸化物を含む請求項１１に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
前記電子輸送層の材料は、酸化亜鉛及びポリ［９，９−ジオクチルフルオレン−９，９−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）フルオレン］の少なくとも１種を含む請求項１１に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項１４】
前記ステップ３は、真空環境、加熱の条件下で行われ、加熱温度の範囲は、１００℃〜４００℃である請求項１１に記載の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示技術分野に関し、特に、透明ＯＬＥＤディスプレイ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）ディスプレイは、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイとも呼ばれる新規なフラットパネルディスプレイ装置である。有機発光ダイオードディスプレイは、その製造プロセスが簡単で、コストが低く、消費電力が低く、輝度が高く、動作温度範囲が広く、体積が小さく、応答速度が速く、カラー表示及び大画面表示を実現しやすく、集積回路ドライバに適合しやすく、フレキシブル表示を実現しやすい等の利点を有するため、広い応用の見込みを有する。
【０００３】
ＯＬＥＤは、駆動方式によってパッシブマトリックス型ＯＬＥＤ（Ｐａｓｓｉｖｅ  Ｍａｔｒｉｘ  ＯＬＥＤ、ＰＭＯＬＥＤ）及びアクティブマトリクス型ＯＬＥＤ（Ａｃｔｉｖｅ  Ｍａｔｒｉｘ  ＯＬＥＤ、ＡＭＯＬＥＤ）、即ち、直接アドレス指定及び薄膜トランジスタマトリックスアドレス指定の２種類に大別され得る。ＡＭＯＬＥＤは、アレイ状に配置された画像を有し、アクティブ表示タイプに属し、発光効率が高く、通常、高精細の大型表示装置に用いられている。
【０００４】
ＯＬＥＤは、通常、基板、基板上に設けられた陽極、陽極上に設けられた正孔注入層（Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｃｔ  Ｌａｙｅｒ、ＨＩＬ）、正孔注入層上に設けられた正孔輸送層（Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ、ＨＴＬ）、正孔輸送層上に設けられた発光層、発光層上に設けられた電子輸送層（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ、ＥＴＬ）、電子輸送層上に設けられた電子注入層（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔ  Ｌａｙｅｒ，ＥＩＬ）、及び電子注入層上に設けられた陰極を含む。ＯＬＥＤディスプレイデバイスの発光原理は、半導体材料及び有機発光材料が電界による駆動下で、キャリアを介して注入されて結合することにより発光することである。具体的には、ＯＬＥＤディスプレイデバイスでは、通常ＩＴＯ画像電極及び金属電極をそれぞれデバイスの陽極及び陰極として使用し、電子及び正孔は、一定の駆動電圧下でそれぞれ陰極及び陽極から電子輸送層及び正孔輸送層に注入され、それぞれ電子輸送層及び正孔輸送層を経て発光層に移動し、発光層中で結合して励起子を形成し、発光分子を励起し、発光分子が放射緩和により可視光を発する。
【０００５】
表示技術の発展に伴い、透明表示装置は、新しい表示手段として提案された。このような透明表示装置は、スクリーンの正面から表示画像を見ることができると共に、スクリーンを介して透明表示装置の背面の物を見ることができる。透明ディスプレイは、例えば、建物や自動車の窓及びショッピングモールのショーウインドー等に使用されることができる。これらの大型設備への応用に加えて、ハンドヘルドタブレットのような小型機器にも使用されることができる。従来のディスプレイ市場は、例えば、建物、広告及び公共情報などの様々な分野では透明ディスプレイに取って代わられると考えられている
【０００６】
液晶ディスプレイ（ＴＦＴ−ＬＣＤ）に比べて、ＯＬＥＤの最大の利点は、大型、超薄型、フレキシブル及び透明なディスプレイデバイスを製造できることである。透明ＯＬＥＤディスプレイを製造するためには、透明電極の問題を解決する必要がある。透明電極材料には、高導電性に加えて高透過率が要求されている。現在用いられている透明電極材料は主に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）であり、ＩＴＯは通常スパッタリング法により調製されている。スパッタリングパワーが高すぎると、ＯＬＥＤの有机発光層に損傷を与える場合がある。しかし、スパッタリングパワーが低すぎると、成膜時間が長くなりすぎるため、生産効率が非常に低い。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法を提出することで、製品の良品率及び生産効率を向上させることを目的とする。
【０００８】
本発明は、製造が容易で製品の性能が良好である透明ＯＬＥＤディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するために、本発明は、まず透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法を提供する。該方法は、以下のステップ１〜３を含む。
ステップ１において、薄膜トランジスタアレイ基板を提供し、上記薄膜トランジスタアレイ基板上に依次制作陰極、電子輸送層、発光層、及び正孔輸送層を順次作製することで下基板を作製し、
上記陰極は、透明電極であり、
上記正孔輸送層の材料は、正電荷基を有する有機材料を含む。
【００１０】
ステップ２において、パッケージカバーを提供し、上記パッケージカバー上に順次陽極及び正孔注入層を作製することで上基板を作製し、
上記陽極は、透明電極であり、
上記正孔注入層の材料は、負電荷基を有する有機材料を含み、
上記ステップ１及びステップ２の順序は、任意に調整することができる。
【００１１】
ステップ３において、上記上基板と下基板とを、上記正孔輸送層と正孔注入層が対応して貼り合わせられるようにプレス接合し、上記正孔輸送層の表面の正電荷基と上記正孔注入層の表面の負電荷基がクーロン力の作用下で互いに吸引し、化学反応が発生することで、上記上基板と下基板とが緊密に貼り合わせられて透明ＯＬＥＤディスプレイを形成し、
上記正電荷基は、ＮＨ３＋及びＨ＋の少なくとも１種を含み、上記負電荷基は、ＣＯＯ−、ＯＨ−及びＣｌ−の少なくとも１種を含む。
【００１２】
上記ステップ１において、スピンコート又はスプレーコートの方法により上記陰極上に電子輸送層を作製し、スピンコート又は蒸着の方法により上記電子輸送層上に発光層を作製し、スピンコート又はスプレーコートの方法により上記発光層上に正孔輸送層を作製する。
【００１３】
上記陰極の材料及び上記陽極の材料は、いずれも透明導電性金属酸化物を含む。
【００１４】
上記電子輸送層の材料は、酸化亜鉛及びポリ［９，９−ジオクチルフルオレン−９，９−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）フルオレン］の少なくとも１種を含む。
【００１５】
上記ステップ３は、真空環境、加熱の条件下で行われ、加熱温度の範囲は、１００℃〜４００℃である。
【００１６】
本発明は、透明ＯＬＥＤディスプレイをさらに提供する。該透明ＯＬＥＤディスプレイは、対向して貼り合わせた上基板と下基板を含み、
上記上基板は、パッケージカバー、上記パッケージカバー上に設けられた陽極、及び上記陽極上に設けられた正孔注入層を含み、
上記下基板は、薄膜トランジスタアレイ基板、上記薄膜トランジスタアレイ基板上に設けられた陰極、上記陰極上に設けられた電子輸送層、上記電子輸送層上に設けられた発光層、及び上記発光層上に設けられた正孔輸送層を含み、
上記陰極及び陽極は、いずれも透明電極であり、上記正孔輸送層の材料は、正電荷基を有する有機材料を含み、上記正孔注入層の材料は、負電荷基を有する有機材料を含み、
上記上基板と下基板は、上記正孔輸送層と正孔注入層が対応して貼り合わせられるようにプレス接合され、上記正孔輸送層の表面の正電荷基と上記正孔注入層の表面の負電荷基がクーロン力の作用下で互いに吸引し、化学反応が発生することで、上記上基板と下基板とが緊密に貼り合わせられる。
【００１７】
上記正電荷基は、ＮＨ３＋及びＨ＋の少なくとも１種を含み、上記負電荷基は、ＣＯＯ−、ＯＨ−及びＣｌ−の少なくとも１種を含む。
【００１８】
上記陰極の材料及び上記陽極の材料は、いずれも透明導電性金属酸化物を含む。
【００１９】
上記電子輸送層の材料は、酸化亜鉛及びポリ［９，９−ジオクチルフルオレン−９，９−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）フルオレン］の少なくとも１種を含む。
【００２０】
本発明は、透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法をさらに提供する。該方法は、以下のステップ１〜ステップ３を含む。
【００２１】
ステップ１において、薄膜トランジスタアレイ基板を提供し、上記薄膜トランジスタアレイ基板上に、陰極、電子輸送層、発光層、及び正孔輸送層を順次作製することで下基板を作成し、
上記陰極は、透明電極であり、
上記正孔輸送層の材料は、正電荷基を有する有機材料を含む。
【００２２】
ステップ２において、パッケージカバーを提供し、上記パッケージカバー上に、陽極及び正孔注入層を順次作製することで上基板を作製し、
上記陽極は、透明電極であり、
上記正孔注入層の材料は、負電荷基を有する有機材料を含み、
上記ステップ１及びステップ２の順序は、任意に調整することができる。
【００２３】
ステップ３において、上記上基板と下基板とを、上記正孔輸送層と正孔注入層とが対応して貼り合わせられるようにプレス接合し、上記正孔輸送層の表面の正電荷基と上記正孔注入層の表面の負電荷基がクーロン力の作用下で互いに吸引し、化学反応が発生することで、上記上基板と下基板が緊密に貼り合わせられて透明ＯＬＥＤディスプレイを形成し、
上記正電荷基は、ＮＨ３＋及びＨ＋の少なくとも１種を含み、上記負電荷基は、ＣＯＯ−、ＯＨ−及びＣｌ−の少なくとも１種を含む。
上記ステップ１において、スピンコート又はスプレーコートの方法により上記陰極上に電子輸送層を作製し、スピンコート又は蒸着の方法により上記電子輸送層上に発光層を作製し、スピンコート又はスプレーコートの方法により上記発光層上に正孔輸送層を作製する。
【００２４】
本発明の有益な効果は、以下の通りである。本発明が提供する透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法は、陰極と陽極をそれぞれ異なる２つの基板上に作製することにより、ＯＬＥＤ頂部陽極をスパッタリングにより形成するときに有機発光材料で作製された発光層に対する破壊を有効に防止することができ、製品の良品率が向上する。透明導電性金属酸化物でＯＬＥＤデバイスの陰極及び陽極を作製することにより、透明ＯＬＥＤディスプレイを製造するときに高導電性、高透明性を有する電極材料が必要である、という問題を有効に解決することができる。また、製造過程において、上下２つの基板を同時に生産してからプレス接合することができるため、生産効率が大幅に向上する。本発明の提供する透明ＯＬＥＤディスプレイは、製造が容易で製品の性能が良好である。
【００２５】
本発明の特徴及び技術内容をより理解できるために、以下の本発明に関する詳細な説明及び図面を参照されたい。しかし、図面は、参考及び説明に供されるものにすぎず、本発明を制限するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
本発明の技術態様及び他の有益な効果を明確にするために、以下、図面を参照しながら、本発明の具体的な実施形態を詳しく説明する。
【図１】本発明の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法のフローチャートである。
【図２】本発明の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法のステップ１の模式図である。
【図３】本発明の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法のステップ２の模式図である。
【図４】本発明の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法のステップ３の模式図であって、本発明の透明ＯＬＥＤディスプレイの構造模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明で用いられる技術手段及びその效果をさらに述べるために、以下、本発明の好適な実施例及びその図面を使用して詳しく説明する。
【００２８】
図１を参照されたい。本発明は、まず透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法を提供する。該方法は、以下のステップ１〜ステップ３を含む。
【００２９】
ステップ１において、図２に示すように、薄膜トランジスタアレイ基板１１を提供し、上記薄膜トランジスタアレイ基板１１上に、陰極１２、電子輸送層１３、発光層１４、及び正孔輸送層１５を順次作製することで下基板１０を作製し、
上記陰極１２は、透明電極であり、
上記正孔輸送層１５の材料は、正電荷基を有する有機材料を含む。
好ましくは、上記正電荷基は、ＮＨ３＋及びＨ＋の少なくとも１種を含む。
【００３０】
具体的には、上記ステップ１において、スピンコート又はスプレーコート等の方法により上記陰極１２上に電子輸送層１３を作製し、スピンコート又は蒸着等の方法により上記電子輸送層１３上に発光層１４を作製し、スピンコート又はスプレーコート等の方法により上記発光層１４上に正孔輸送層１５を作製する。
【００３１】
好ましくは、上記電子輸送層１３の材料は、酸化亜鉛（ＺｎＯ）及びポリ［９，９−ジオクチルフルオレン−９，９−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）フルオレン］（ＰＦＮ）の少なくとも１種を含む。
具体的には、上記発光層１４の材料は、有機発光材料を含む。
【００３２】
必要に応じて、上記ステップ１は、陰極１２と電子輸送層１３との間に電子注入層を作製することをさらに含む。
【００３３】
ステップ２において、図３に示すように、パッケージカバー２１を提供し、上記パッケージカバー２１上に、陽極２２及び正孔注入層２３を順次作製することで上基板２０を作製し、
上記陽極２２は、透明電極であり、
上記正孔注入層２３の材料は、負電荷基を有する有機材料を含む。
【００３４】
具体的には、上記ステップ１及びステップ２の順序は、任意に調整することができる。
【００３５】
好ましくは、上記負電荷基は、ＣＯＯ−、ＯＨ−及び  Ｃｌ−の少なくとも１種を含む。
【００３６】
具体的には、上記陰極１２の材料及び上記陽極２２の材料は、いずれも透明導電性金属酸化物を含み、上記透明導電性金属酸化物は、酸化インジウムスズであることが好ましい。
【００３７】
具体的には、上記正孔輸送層１５における正電荷基を有する有機材料及び上記正孔注入層２３における負電荷基を有する有機材料は、それぞれ従来技術で常用されている正孔輸送材料及び正孔注入材料であり、これらの材料を化学処理することにより、それぞれに正電荷基及び負電荷基を持たせることができる。
【００３８】
具体的には、上記パッケージカバー２１は、ガラス基板又はプラスチック基板である。
【００３９】
ステップ３において、図４に示すように、上記上基板２０と下基板１０とを、上記正孔輸送層１５と正孔注入層２３が対応して貼り合わせられるようにプレス接合し、上記正孔輸送層１５の表面の正電荷基と上記正孔注入層２３の表面の負電荷基がクーロン力の作用下で互いに吸引し、化学反応が発生することで、上記上基板２０と下基板１０とが緊密に貼り合わせられて透明ＯＬＥＤディスプレイを形成する。
【００４０】
好ましくは、上記ステップ３は、真空環境、加熱の条件下で行われ、加熱温度の範囲は、１００℃〜４００℃であり、好ましくは２００℃である。加熱方式は、一般には、ホットプレート加熱であり、つまり、上記上基板２０をホットプレート上に置き、そして上記下基板１０を上記上基板２０上に置き、プレス接合を行うことである。
【００４１】
具体的には、上記ステップ３において、上記上基板２０と下基板１０を加熱することにより、上記上基板２０と下基板１０との結合をより緊密にすることができる。
【００４２】
上記透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法では、陰極１２と陽極２２をそれぞれ異なる２つの基板上に作製することにより、ＯＬＥＤ頂部陽極２２をスパッタリングにより形成するときに有機発光材料で作製された発光層１４に対する破壊を有効に防止することができ、製品の良品率が向上する。透明導電性金属酸化物でＯＬＥＤデバイスの陰極１２及び陽極２２を作製することにより、透明ＯＬＥＤディスプレイを製造するときに高導電性、高透明性を有する電極材料が必要である、という問題を有効に解決することができる。また、製造過程において、上下２つの基板を同時に生産してからプレス接合することができるため、生産効率が大幅に向上する。
【００４３】
図４を参照されたい。上記透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法に基づいて、本発明は、透明ＯＬＥＤディスプレイをさらに提供する。該透明ＯＬＥＤディスプレイは、対向して貼り合わせた上基板２０及び下基板１０を含み、
上記上基板２０は、パッケージカバー２１、上記パッケージカバー２１上に設けられた陽極２２、及び上記陽極２２上に設けられた正孔注入層２３を含み、
上記下基板１０は、薄膜トランジスタアレイ基板１１、上記薄膜トランジスタアレイ基板１１上に設けられた陰極１２、上記陰極１２上に設けられた電子輸送層１３、上記電子輸送層１３上に設けられた発光層１４、及び上記発光層１４上に設けられた正孔輸送層１５を含み、
上記陰極１２及び陽極２２は、いずれも透明電極であり、上記正孔輸送層１５の材料は、正電荷基を有する有機材料を含み、上記正孔注入層２３の材料は、負電荷基を有する有機材料を含み、
上記上基板２０と下基板１０とは、上記正孔輸送層１５と正孔注入層２３が対応して貼り合わせられるようにプレス接合され、上記正孔輸送層１５の表面の正電荷基と上記正孔注入層２３の表面の負電荷基がクーロン力の作用下で互いに吸引し、化学反応が発生することで、上記上基板２０と下基板１０が緊密に貼り合わせられる。
【００４４】
好ましくは、上記正電荷基は、ＮＨ３＋及びＨ＋の少なくとも１種を含み、上記負電荷基は、ＣＯＯ−、ＯＨ−及びＣｌ−の少なくとも１種を含む。
【００４５】
好ましくは、上記陰極１２及び上記陽極２２の材料は、いずれも透明導電性金属酸化物を含み、上記透明導電性金属酸化物は、酸化インジウムスズであることが好ましい。
【００４６】
好ましくは、上記電子輸送層１３の材料は、酸化亜鉛（ＺｎＯ）及びポリ［９，９−ジオクチルフルオレン−９，９−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）フルオレン］（ＰＦＮ）の少なくとも１種を含む。
【００４７】
具体的には、上記発光層１４の材料は、有機発光材料を含む。
【００４８】
具体的には、上記下基板１０中では、上記陰極１２と電子輸送層１３との間に電子注入層が設けられていてもよい。
【００４９】
具体的には、上記パッケージカバー２１は、ガラス基板又はプラスチック基板である。
【００５０】
上記透明ＯＬＥＤディスプレイは、製造が容易で製品の性能が良好である。また、陰極１２を薄膜トランジスタアレイ基板１１上に設け、頂部電極を陽極２２として設ける。つまり、倒立型ＯＬＥＤデバイス構造を使用することにより、ＯＬＥＤディスプレイの使用寿命を延長することができる。理由は以下の通りである。ＩＴＯで陰極１２が作製された倒立型ＯＬＥＤデバイスは、アルミニウムなどの材料で陰極１２が作製された一般的なＯＬＥＤに比べて、陰極１２の大気安定性が大幅に向上する。また、陰極１２上の電子注入層又は電子輸送層１３に不活性材料を使用することにより、耐酸素性及び耐水性を実現することができる。このような利点は、高バリア性硬質パッケージ材料を使用する必要性を低減できるため、フレキシブルＯＬＥＤディスプレイに特に顕著である。さらに、倒立型ＯＬＥＤデバイスを用いることにより、ｎ型ＴＦＴのアクティブマトリックス（ＡＭ）型ディスプレイの駆動安定性を向上させることができる。
【００５１】
上述のとおり、本発明は、透明ＯＬＥＤディスプレイ及びその製造方法を提供する。本発明の透明ＯＬＥＤディスプレイの製造方法は、陰極と陽極をそれぞれ異なる２つの基板上に作製することにより、ＯＬＥＤ頂部陽極をスパッタリングにより形成するときに有機発光材料で作製された発光層に対する破壊を有効に防止することができ、製品の良品率が向上する。透明導電性金属酸化物でＯＬＥＤデバイスの陰極及び陽極を作製することにより、透明ＯＬＥＤディスプレイを製造するときに高導電性、高透明性を有する電極材料が必要である、という問題を有効に解決することができる。また、製造過程において、上下２つの基板を同時に生産してからプレス接合することができるため、生産効率が大幅に向上する。本発明の透明ＯＬＥＤディスプレイは、製造が容易で製品の性能が良好である。
【００５２】
以上の説明については、当業者であれば、本発明の技術態様及び技術思想に基づいて様々な変更又は変形を行うことができ、これらの変更及び変形は、すべて本発明の特許請求の範囲に含まれるべきである。
【図１】
2019537201.tif 000003
【図２】
2019537201.tif 000004
【図３】
2019537201.tif 000005
【図４】
2019537201.tif 000006
【国際調査報告】
2019537201.tif 000007
2019537201.tif 000008
2019537201.tif 000009
2019537201.tif 000010