(57)【要約】ガラス基板を洗浄する装置および方法が開示され、装置は、シュラウド組立体のシュラウド部分の開口部がガラス基板に隣接するようにガラス基板の搬送路に沿って配置されたシュラウド組立体を含む。シュラウド組立体の中空内部空間内に収容されたノズル組立体は、ガスの噴射をガラス基板に向けている間に回転し、粒子状物質を払い落とす。真空は、シュラウドの周りに延びるスカート部分によって画定された第２の内部の空中空間に印加され、その結果、払い落とされた粒子状物質が除去される。第２の真空は、シュラウドに蓄積された粒子状物質を除去するために、シュラウドの背面部分に印加される。装置は、シュラウド組立体に隣接して配置されたガスナイフおよび、シュラウド組立体の下方に配置された真空経路をさらに含んでもよい。
2019526437.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を洗浄する装置において
シュラウド組立体
を備え、該シュラウド組立体が、
第１の中空内部空間を画定するシュラウドであって、該シュラウドは、該第１の中空内部空間への第１の開口部を画定する第１の端部と、該第１の端部の反対側の、該第１の中空内部空間への第２の開口部を画定する第２の端部とを含む、シュラウド、
前記中空内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なノズル部材であって、  該ノズル部材は、ガスの第１の流れを前記ガラス基板の方に導くように配置された第１のガス抜きを含む、ノズル部材、
スカート部分であって、環状の第２の中空内部空間が該スカート部分と前記シュラウドとの間に形成されるように前記第１の端部に隣接して該シュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分、および
前記第２の開口部を介して前記第１の内部空間と流体連通する第１の真空孔および前記環状の第２の内部空間と流体連通する第２の真空孔、
を含む、装置。
【請求項２】
前記シュラウドが、円錐形部分を含む、請求項１に記載の装置、
【請求項３】
前記第１のガス抜きが、前記ガスの第１の流れを前記回転軸に向う方向に導くように配置されている、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記シュラウド組立体に近接して配置され、ガスの第３の流れを前記基板に向う方向に導くように配置された少なくとも１つのガスナイフをさらに備える請求項１から３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記シュラウド組立体より下方に配置された真空経路をさらに備える、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記第１の開口部が前記基板の主要面に隣接して配置されるように実質的に垂直の配向で該基板を搬送するように構成された搬送装置をさらに備え、該搬送装置は、
搬送部材、
前記搬送部材に結合され、搬送方向に該搬送部材の長さに沿って移動可能なキャリッジ組立体、
前記キャリッジ組立体に結合された１対の延伸装置であって、該１対の延伸装置の各延伸装置は、前記搬送方向と実質的に平行な方向に該延伸装置から延びるガイドアームを含み、該ガイドアームは、該搬送方向と直交する横方向に沿って移動可能である、１対の延伸装置、
前記ガラス基板の前縁を第１の位置で検出するために配置される第１のセンサー、
および
前記キャリッジ組立体および前記１対の延伸装置の移動を制御および調整するように構成されたコントローラ、
を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記ガラス基板の前縁を前記搬送方向に対して前記第１の位置の下流側で第２の位置で検出するために配置された第２のセンサーをさらに備える、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
ガラス基板を洗浄する方法において
前記ガラス基板を搬送方向に搬送するステップであって、該ガラス基板が、シュラウド組立体を備えるガラス洗浄装置に隣接して通り、該シュラウド組立体が、
第１の中空内部空間を画定するシュラウドであって、該シュラウドは、該第１の中空内部空間への第１の開口部を画定する第１の端部と、該第１の端部の反対側の第２の端部とを含み、該第２の端部が、該第１の中空内部空間への第２の開口部を画定し、該第２の開口部の直径が、該第１の開口部の直径未満である、シュラウド、
前記内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なガスノズル部材であって、該ガスノズル部材が、ガスの第１の流れを前記ガラス基板の主要面に向う方向に導くように配置された第１のガス抜きを含む、ガスノズル部材、
スカート部分であって、環状の第２の中空内部空間が該スカート部分と前記シュラウドとの間に形成されるように前記第１の開口部に隣接して該シュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分、および
前記環状第２の中空内部空間と流体連通する第１の真空孔、
を含む、ステップと、
前記ガスの第１の流れが、円形路を前記第１の開口部を通って前記ガラス基板の表面にわたって掃引し、粒子状物質を該ガラス基板の表面から払い落とすように前記ガスノズル部材を前記回転軸周りに回転させるステップ、および
吸引を前記第１の真空孔に印加し、それによって、前記払い落とされた粒子状物質を該第１の真空孔を介して排出するステップ
を含む、方法。
【請求項９】
前記第１の真空孔を介して排出されたガスの速度が、約１メートル／秒以下である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記シュラウドが、前記第２の開口部を介して前記第１の中空内部空間と流体連通する第２の真空孔を含み、前記方法は、前記ガラス基板が前記シュラウド組立体に隣接していないときに限り吸引を該第２の真空孔に印加することをさらに含む、請求項８または９記載の方法。
【請求項１１】
前記シュラウド組立体が前記ガラス基板に隣接していないときに前記第１のガス抜きを通る前記ガスの第１の流れを停止することをさらに含む、請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記搬送するステップが、
前記ガラス基板の前縁の位置を前記搬送方向に対して感知するステップ、
前記前縁の前記感知された位置を用いて搬送速度を判定するステップ、
前記ガラス基板の前記感知された位置に応答してキャリッジ組立体を前記搬送速度で前記搬送方向に移動するステップであって、該キャリッジ組立体は、該組立体に結合され、該搬送方向と実質的に平行な方向に該組立体から延びる１対の対向するガイドアームを備える、ステップ、
前記ガイドアームを開放位置から制約する位置まで前記搬送方向と直交する横方向に移動し、それによって、該ガイドアーム間の隙間を低減して該搬送方向と直交する方向の前記ガラス基板の移動を制約するステップ、
を含む、請求項１１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、２０１６年８月２５日に出願された米国特許仮出願第６２／３７９,３１５号の優先権の恩恵を主張するものであり、この内容が、その全体に依存され、完全に以下に記載されているがごとくここに全て引用される。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、基板、例えば、平面ガラス基板を洗浄する方法および装置、より詳細には、基板搬送時の基板表面からの粒子状物質および他のデブリの除去に一般に関する。
【背景技術】
【０００３】
製造プロセスにおける粒子（以下、「粒子状物質」）の生成は、回避不能かもしれない。多くの業界において、これは、問題とならないかもしれない。しかしながら、特定の他の業界において、例えば、平面ガラス基板からのガラスディスプレイパネルの製造において、ガラス基板上に沈殿した粒子状物質は、動作不能なディスプレイパネルの生産に至ることがある。ガラスの脆性のために、ガラス粒子状物質の生成は、特にガラスの切断、例えば、より長いガラスリボンからの個々のガラス板の切断を伴うプロセス中には回避しにくい。ガラス粒子状物質がガラス板の表面上に堆積した直後に除去されなかった場合、ガラス粒子状物質は、強力に表面に付着し得、ガラス粒子状物質は、完全に除去するのが実質的に不可能となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって、そのような除去を目指した取り組みをできるだけ粒子状物質生成プロセス、および、ガラスの初期汚染近くで展開する必要がある。さらに、粒子状物質状除去プロセスでは、粒子状物質をガラス板の表面から払い落とし、粒子状物質をガラス板面の付近から除去し、粒子状物質がガラス板表面上に再び堆積するのを防止する必要がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示は、粒子状物質を基板および特にガラス基材の表面から除去する装置および方法を説明する。ここでの実施形態ではガラス洗浄装置を説明するが、ガラス洗浄装置は、ガラス基板がシュラウド組立体を過ぎて搬送されるとき、シュラウド内に配置された回転ガスジェットがシュラウドに隣接したガラス基板の表面上の粒子状物質を払い落とすように配置された１つ以上のシュラウド組立体を備える。ガスジェットの回転特性は、粒子状物質がガスジェットによってすべての角度から攻撃され、その結果、粒子状物質を払い落とすガスジェットの能力が増大することを確実にする。さらに、ガラス基板に最も近いシュラウドの端部の周りに配置されたスカート部分は、真空が印加されるスカート部分とシュラウドとの間の環状空間を形成する。リング真空としてここで説明されるが、環状空間内で印加されたリング真空は、払い落とされた粒子状物質を回収して環状空間と流体連通する排気口を介して排出する。シュラウド組立体の周りに配置されたガスナイフは、ガス、例えば空気の幕をシュラウド組立体とガラス基板の表面との間の隙間内で導き、その結果、リング真空を免れたかもしれない粒子状物質は、粒子状物質がリング真空によって捕捉されるようにシュラウド組立体とガラス基板との間に押し戻される。シュラウドの後部に設けられた真空孔は、シュラウド内に蓄積したかもしれない粒子状物質のシュラウドを空にするために使用することができる。中央真空としてここで説明されるが、シュラウドの後部から印加された中央真空は、好ましくはガラス基板間に印加される。すなわち、ガラス基板が順次にシュラウド組立体を過ぎて搬送されるとき、中央真空は、ガラス基板がシュラウド組立体に隣接して呈示される前にはオフされており、その後、ガラス基板がシュラウド組立体を通過した後に再びオンされる。ガラス基板がガラス基板の直近にある間にリング真空およびガスジェットと同時に中央真空を操作すると、シュラウド内のガス（例えば、空気）の流れを乱すことが判明したが、これは、粒子状物質をガラス基板面から払い落として排出するシュラウド組立体の能力に悪影響を与える。シュラウド組立体より下方に配置された真空経路は、リング真空によって排出することなく落ちる大型の粒子状物質を回収するために使用することができる。
【０００６】
したがって、平面の基板を洗浄する装置が開示され、装置は、第１の中空内部空間を画定するシュラウドを備えるシュラウド組立体を備え、シュラウドは、内部空間への第１の開口部を画定する第１の端部と、第１の端部の反対側の、内部空間への第２の開口部を画定する第２の端部とをさらに含む。装置は、内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なノズル部材をさらに備え、ノズル部材は、ガスの第１の流れを基板の方に導くように配置された第１のガス抜きを含む。ノズル部材は、ガスの第２の流れを回転軸と直交する方向に導き、その結果、ガスノズルを回転軸周りに回転させるスラストを印加するように配置された第２のガス抜きも含むことがある。シュラウド組立体は、環状の第２の中空内部空間がスカート部分とシュラウドとの間に形成されるように第１の開口部に隣接するシュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分を含むことがある。シュラウド組立体は、第２の開口部を介して第１の内部空間と流体連通する第１の真空孔および環状の第２の中空内部空間と流体連通する第２の真空孔も含むことがある。シュラウドは、少なくとも１つの円錐形部分を備えることがある。
【０００７】
いくつかの実施形態において、第１のガス抜きは、ガスの第１の流れを回転軸に向う方向に内方に導くように配置されてもよい。
【０００８】
装置は、シュラウド組立体に近接して配置され、ガスの第３の流れを基板に向う方向に導くように配置された少なくとも１つのガスナイフをさらに備えることがある。
【０００９】
いくつかの実施形態において、装置は、シュラウド組立体より下方に配置され、シュラウド組立体の付近から落ちる大きい粒子状物質を回収するように構成された真空経路をさらに備えることがある。
【００１０】
による装置は、基板がシュラウド組立体を過ぎて搬送されるときに第１の開口部が基板の主要面に隣接して配置されるように基板を実質的に垂直の配向で搬送するように構成された搬送装置をさらに備えることがある。
【００１１】
いくつかの実施形態において、ガラス洗浄装置は、平面基板が１対の対向するシュラウド組立体の間で搬送されるように配置された１対の対向するシュラウド組立体を含んでも差し支えなく、１対のシュラウド組立体は、基板の両方の主要面の少なくとも一部を同時に洗浄する。
【００１２】
いくつかの実施形態において、第１の開口部上の第２の開口部の突出部は、第１の開口部と同心である。すなわち、ノズル部材の回転軸と一致するシュラウドの長手軸は、第１および第２の開口部の両方の中央部を貫通する。
【００１３】
いくつかの実施形態において、シュラウドの少なくとも一部は、円筒形である。
【００１４】
搬送装置は、搬送部材、搬送部材に結合され、搬送方向に搬送部材の長さに沿って移動可能なキャリッジ組立体、および、キャリッジ組立体に結合された１対の延伸装置を含むことがあり、１対の延伸装置の各延伸装置は、延伸装置から搬送方向と実質的に平行な方向に延びるガイドアームを含み、ガイドアームは、搬送方向と直交する横方向に沿って移動可能である。搬送装置は、ガラス板の前縁を第１の位置で検出するために配置されたる第１のセンサー、例えば、光センサー、および、キャリッジ組立体および１対の延伸装置の移動を制御および調整するように構成されたコントローラをさらに備えることがある。各ガイドアームは、ガイドアームの長さに沿って配置された複数のローラーを備えることができる。いくつかの実施形態において、各ガイドアームは、加圧ガスの供給源と流体連通する複数のガスポートを含んでも差し支えない。装置は、ガラス板の前縁を搬送方向に対して第１の位置の下流側で第２の位置で検出するために配置された第２のセンサーをさらに備えることがある。いくつかの実施形態において、装置は、ガラス板の前縁を第３の位置で検出するために配置された第３のセンサーを含んでもよく、第３のセンサーは、第１のセンサーと垂直に位置合わせされている。例えば、第３のセンサーは、ガラス板の前縁をガラス板の下縁部で検出するために配置されてもよい。
【００１５】
別の実施形態において、ガラス基板を洗浄する方法が開示され、この方法は、ガラス基板を搬送方向に搬送するステップを含み、ガラス基板は、シュラウド組立体を備えるガラス洗浄装置に隣接して通り、シュラウド組立体は、第１の中空内部空間を画定するシュラウドを含み、シュラウドは、第１の中空内部空間への第１の開口部を画定する第１の端部、および、第１の端部の反対側の第２の端部を含み、第２の端部は、第１の中空内部空間への第２の開口部を画定し、第２の開口部の直径は、第１の開口部の直径未満である。シュラウド組立体は、内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なノズル部材をさらに含むことがあり、ノズル部材は、ガスの第１の流れをガラス基板の主要面に向う方向に導くように配置された第１のガス抜きを備える。シュラウド組立体は、環状の第２の中空内部空間がスカート部分とシュラウドとの間に形成されるように、第１の開口部に隣接するシュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分をなおもさらに含むことがある。シュラウド組立体は、環状第２の中空内部空間と流体連通する第１の真空孔をなおもさらに含むことがあり、方法は、ガスの第１の流れが、円形路を第１の開口部を通ってガラス基板の表面にわたって掃引し、粒子状物質をガラス基板の表面から払い落とすようにノズル部材を回転軸周りに回転させるステップ、および、吸引を第１の真空孔に印加し、それによって、払い落とされた粒子状物質を第２の真空孔を介して排出するステップをさらに含む。
【００１６】
シュラウドは、第２の開口部を介して第１の中空内部空間と流体連通する第２の真空孔を含むことがあり、方法は、ガラス基板がシュラウド組立体に隣接していないときに限り吸引を第２の真空孔に印加することをさらに含む。
【００１７】
いくつかの実施形態において、ノズル部材を回転させることは、ガスの第２の流れを回転軸と直交する方向に導くように構成されたガスノズル部材の第２のガス抜きを介してガスの第２の流れを導き、それによってノズル部材を回転させることを備えても差し支えない。
【００１８】
いくつかの実施形態において、第１の開口部上への第２の開口部の突出部は、第１の開口部と同心である。
【００１９】
いくつかの実施形態において、シュラウドは、少なくとも１つの円錐形部分を備える。
【００２０】
いくつかの実施形態において、ガラス基板は、実質的に垂直の配向でガラス基板の頂部から支持されている間に搬送されてもよく、搬送することは、ガラス基板の前縁の位置を搬送方向に対して感知して、搬送速度を判定するために前縁の感知された位置を使用することを含む。方法は、ガラス基板の感知された位置に応答してキャリッジ組立体を搬送速度で搬送方向に移動するステップをさらに含むことがあり、キャリッジ組立体は、該組立体に結合され、搬送方向と実質的に平行な方向に該組立体から延びる１対の対向するガイドアームを備える。方法は、ガイドアームを開放位置から制約する位置まで搬送方向と直交する横方向に移動し、それによってガイドアーム間の隙間を低減することと、および
搬送方向と直交する方向のガラス基板の移動を制約することをなおもさらに含むことがある。
【００２１】
ここで開示された実施形態のさらなる特徴および利点は、以下の詳細な記載において述べ、ある程度、その記載から当業者には容易に明らかになるか、または、以下の詳細な記載、特許請求の範囲、ならびに、添付図面を含め、本発明をここで説明されたように実施することによって認識されるであろう。
【００２２】
前出の概要および以下の詳細な記載の両方は、権利主張された本発明の性質および特性を理解するための概要つまりフレームワークを提供することが意図されている実施形態を提示していると理解すべきである。添付図面は、さらなる理解をもたらすために含まれ、本明細書の一部に組み込まれて本明細書の一部を成す。図面は、本開示の様々な実施の形態を説明し、記載とともに、その原理および作用を説明する役目をする。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】例示のガラス製造装置の概略図である。
【図２】図１のガラス製造装置と共に使用してもよいガラス基板処理ステーションの斜視図である。
【図３】図２のガラス基板処理ステーションの搬送装置の一部の上面図である。
【図４】実施形態による、図２および図３のガラス基板処理ステーションの搬送装置の一部の斜視図である。
【図５】別の実施形態による、図２および図３のガラス基板処理ステーションの搬送部分の一部の斜視図である。
【図６】センサー制御を示す図１のガラス製造装置と共に使用してもよいガラス基板処理ステーションの搬送部分の斜視図である。
【図７】ここで開示された実施形態による、ガラス基板処理ステーションを備えるガラス基板洗浄ステーションの構成要素の構成の概略図である。
【図８】ここで開示された実施形態による例示のシュラウド組立体の断面図である。
【図９Ａ】ここで開示された実施形態による代替シュラウドの斜視図である。
【図９Ｂ】ここで開示された実施形態による別の代替シュラウドの斜視図である。
【図１０】例示のノズル部材の底面図である。
【図１１Ａ】ここで開示された実施形態による例示のシュラウド組立体の、シュラウド組立体内のガス流を示す断面図である。
【図１１Ｂ】図１０に示されたノズル部材のガス抜きからのガス流の、傾斜ガス流を示す概略図である。
【図１１Ｃ】図１０に示されたノズル部材のガス抜きからのガス流の、傾斜非対称ガス流を示す概略図である。
【図１２Ａ】例示のガラス基板洗浄装置を通り過ぎたガラス基板の進行の概略図である。
【図１２Ｂ】例示のガラス基板洗浄装置を通り過ぎたガラス基板の進行の概略図である。
【図１２Ｃ】例示のガラス基板洗浄装置を通り過ぎたガラス基板の進行の概略図である。
【図１２Ｄ】例示のガラス基板洗浄装置を通り過ぎたガラス基板の進行の概略図である。
【図１３】間に搬送されたガラス基板の両側に対向する関係で配置された１対のシュラウド組立体の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本開示の選択された実施形態をここで詳細に参照し、これらの実施形態の実施例が添付図に例示されている。可能な限り、同じまたは同様の部品を指すために同じ参照番号を、図面を通して使用する。
【００２５】
範囲は、「約」１つの特定の値から、および／または「約」別の特定の値までとここで表され得る。そのような範囲が表されるとき、別の実施形態は、一方の特定の値からおよび／または他方の特定の値までを含む。同様に、値が先行語「約」の使用によって近似として表されるとき、特定の値は、別の態様を成すことが理解されよう。
【００２６】
ここで用いられたときの方向の用語−例えば、上、下、右、左、前、後ろ、頂部、底部−は、描写されたときの図を参照してのみ成され、別段の記載がない限り、絶対定位を意味することは意図されていない。
【００２７】
別段に明示的に記載されていない限り、ここに記載された何らかの方法は、複数のステップが特定の順序で実行されることを必要とし、また、何らかの装置について、特定の配向が必要であると解釈されることは決して意図されていない。したがって、方法の請求項ではステップによって従われる順序が実際には記載されていないか、または、
何らかの装置の請求項では、個々の構成要素に対する順序または配向が実際には記載されていないか、または、ステップは、特定の順序に限定されることが、特許請求の範囲または説明において別段に具体的な記載されていないか、または、装置の構成要素に対する特定の順序または配向が記載されていない場合、順序または配向を何らかの点において推論することは決して意図されていない。これは、ステップの構成、動作フロー、構成要素の順番または構成要素の配向に関する論理の問題、文法構成または句読法から導出された明白な意味、および、本明細書で説明された実施形態の数または形式を含め、解釈のための一切の考えられる不明確な根拠に当てはまる。
【００２８】
ここで使用されるとき、単数形「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、文脈上で他に明確な指示がない限り、複数の指示物を含む。したがって、例えば、「１つの」構成要素への言及は、文脈上で別段に明瞭に示されていない限り、２つ以上のそのような構成要素を有する態様を含む。
【００２９】
以下の開示は、粒子状物質、例えば、ガラス粒子状物質をガラス基板、例えば、２つの対向する主要面を備える個々の板ガラスの表面から除去するという文脈において提示されているが、本開示の教示を他の基板、例えば、セラミック基板、ガラスセラミック基板、セラミック基板、ポリマー基板などの洗浄に適用し得ることを理解すべきである。
【００３０】
図１に例示のガラス製造装置１０が示されている。いくつかの実施形態において、ガラス製造装置１０は、溶融槽１４をさらに含み得るガラス溶融炉１２を備え得る。溶融槽１４に加えて、ガラス溶融炉１２は、原材料を溶融槽内で加熱して原材料を溶融ガラスに変換するように構成された発熱体（例えば、燃焼バーナーまたは電極）などの１または２以上のさらなる構成要素を任意選択的に含み得る。さらなる実施例において、ガラス溶融炉１２は、溶融槽の付近から失われる熱を低減するように配置された熱管理装置（例えば、断熱構成要素）を含んでもよい。なおもさらなる実施例において、ガラス溶融炉１２は、ガラス溶融物への原材料の溶融を容易にするように構成された電子装置および／または電気機械装置を含んでもよい。なおもさらに、ガラス溶融炉１２は、支持構造体（例えば、支持シャーシ、支持部材など）または他の構成要素を含んでもよい。
【００３１】
ガラス溶融槽１４は、典型的には、耐火性セラミック材料、例えば、アルミナまたはジルコニアを含む耐火性セラミック材料など、炉材で構成されている。いくつかの実施例において、ガラス溶融槽１４は、耐火性セラミックレンガから構築してもよい。
【００３２】
いくつかの実施例において、ガラス溶融炉は、ガラス基板、例えば、不確定の長さのガラスリボンを製作するように構成されたガラス製造装置の構成要素として組み込まれてもよい。いくつかの実施例において、ガラス溶融炉は、フロート槽装置を備えるガラス製造装置、ダウンドロー装置（例えば、フュージョン装置またはスロットドロー装置）、アップドロー装置、プレス圧延装置、管引き装置、または、ここで開示された実施形態から恩恵を受けると思われる任意の他のガラス製造装置の構成要素として組み込まれてもよい。一例として、図１は、ガラスリボンフュージョンドロー用フュージョンダウンドローガラス製造装置１０の構成要素としてのガラス溶融炉１２を概略的に示す。ガラスリボンは、例えば、ガラスリボンをスプールに巻回することによってロールに巻装しても差し支えないか、または、ガラスリボンは、ガラスリボンを切断することによって個々のガラス板に処理しても差し支えない。
【００３３】
ガラス製造装置１０（例えば、フュージョンダウンドロー装置１０）は、溶融ガラスの流れ方向に対してガラス溶融槽１４の上流側に配置された上流側ガラス製造装置１６を任意選択的に含んでも差し支えない。いくつかの実施例において、上流側ガラス製造装置１６の一部または全体は、ガラス溶融炉１２の一部として組み込まれてもよい。
【００３４】
図１の示された実施例に示されているように、上流側ガラス製造装置１６は、原材料貯蔵ビン１８、原材料送達装置２０、および、原材料送達装置に接続されたモーター２２を含むことができる。貯蔵ビン１８は、矢印２６によって示されているように、ガラス溶融炉１２の溶融槽１４内に供給することができる量の原材料２４を貯蔵することがある。原材料２４は、典型的には１つ以上のガラス形成金属酸化物および１つ以上の改質剤を含む。原材料２４は、清澄剤など、他の添加物をさらに含んでもよく、廃棄ガラス（すなわち、カレット）をさらに含んでもよい。いくつかの実施例において、原材料送達装置２０は、原材料送達装置２０が所定の量の原材料２４を貯蔵ビン１８から溶融槽１４まで送達するようにモーター２２によって給電しても差し支えない。さらなる実施例において、モーター２２は、溶融槽１４から下流側で感知された溶融ガラスのレベルに基づいて制御された速度で原材料２４を導入するために原材料送達装置２０に給電しても差し支えない。溶融槽１４内の原材料２４をその後加熱して溶融ガラス２８を形成しても差し支えない。
【００３５】
ガラス製造装置１０は、ガラス溶融炉１２の下流側に配置された下流側ガラス製造装置３０も任意選択的に含んでも差し支えない。いくつかの実施例において、下流側ガラス製造装置３０の一部は、ガラス溶融炉１２の一部として組み込まれることがある。例えば、いくつかの実施形態において、以下で論じられる第１の連結管３２または下流側ガラス製造装置３０の他の部分が、ガラス溶融炉１２の一部として組み込まれてもよい。第１の連結管３２を含め、下流側ガラス製造装置３０の複数の要素が、貴金属から形成されることがある。適切な貴金属としては、白金、イリジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、パラジウムおよびそれらの合金から成る金属の群から選択された白金族金属を挙げることができる。例えば、ガラス製造装置の下流側構成要素は、約７０％重量から約９０％重量までの白金および約１０％重量から約３０％重量までのロジウムを含む白金−ロジウム合金から形成されることがある。しかしながら、他の適切な金属としては、モリブデン、レニウム、タンタル、チタン、タングステンおよびそれらの合金を挙げることができる。
【００３６】
下流側ガラス製造装置３０は、溶融槽１４から下流側に位置して先に参照された第１の連結管３２によって溶融槽１４に結合された、清澄槽３４など、第１の調整（すなわち、処理）槽を含むことができる。いくつかの実施例において、溶融ガラス２８は、第１の連結管３２によって溶融槽１４から清澄槽３４まで重力供給されることがある。例えば、重力は、溶融ガラス２８を第１の連結管３２の内部の通路を通って溶融槽１４から清澄槽３４まで駆動することがある。しかしながら、他の調整容器を例えば、溶融槽１４と清澄槽３４との間に溶融槽１４の下流側に配置してもよいことを理解すべきである。いくつかの実施形態において、調整槽は、溶融槽と清澄槽との間に採用されることがあり、１次溶融槽からの溶融ガラスをさらに加熱して溶融プロセスを続行するか、または、清澄槽３４に入る前に、溶融槽１４内の溶融ガラスの温度よりも低い温度に冷却する。
【００３７】
気泡が、様々な技法によって清澄槽３４内の溶融ガラス２８から除去されてもよい。例えば、原材料２４は、加熱されたとき、化学還元反応を経て酸素を放出する酸化錫などの多価化合物（すなわち、清澄剤）を含むことがある。他の適切な清澄剤としては、ヒ素、アンチモン、鉄、およびセリウムが制限なしに挙げられる。清澄槽３４内の溶融ガラスは、溶融槽１４内の溶融ガラスの温度よりも大きい温度に加熱され、その結果、１つ以上の清澄剤が加熱される。清澄剤の温度によって誘発された化学還元によって生成された酸素気泡は、清澄槽３４内の溶融ガラスを通って上昇し、溶融槽１４内で生成された溶融ガラス内のガスは、集合するか、または、清澄剤によって生成された酸素気泡に拡散し得る。拡大した気泡は、その後、清澄槽内の溶融ガラスの自由表面まで上昇すると、その後、清澄槽から排出することができる。酸素気泡は、泡が溶融ガラスを通って上昇するときに清澄槽内の溶融ガラスの機械的な混合をさらに生成し得る。
【００３８】
下流側ガラス製造装置３０は、溶融ガラスを混合する混合装置３６など、清澄槽３４から下流側に位置することもある別の調整槽をさらに含むことができる。混合装置３６を使用して、均質の溶融ガラス組成物をもたらすことができ、その結果、そうでない場合は清澄槽３４を出る清澄した溶融ガラス内に存在するかもしれない化学的なまたは熱的な不均一性が低減される。図示されているように、清澄槽３４は、第２の連結管３８によって溶融ガラス混合装置３６に結合されることがある。いくつかの実施例において、溶融ガラス２８は、第２の連結管３８によって清澄槽３４から混合装置３６まで重力供給されることがある。例えば、重力は、溶融ガラス２８を第２の連結管３８の内部の通路を通って清澄槽３４から混合装置３６まで駆動することがある。混合装置３６は清澄槽３４の下流側に示されているが、混合装置３６は、清澄槽３４から上流側に配置されることがあることに留意すべきである。いくつかの実施形態において、下流側ガラス製造装置３０は、複数の混合装置、例えば、清澄槽３４から上流側の混合装置および清澄槽３４から下流側の混合装置を含むことがある。これらの複数の混合装置は、同じデザインであってもよいか、または、異なるデザインであってもよい。
【００３９】
下流側ガラス製造装置３０は、混合装置３６から下流側に位置することがある送達容器４０などの別の調整槽をさらに含むことができる。送達容器４０は、下流側形成装置内に供給されるように溶融ガラス２８を条件づけることがある。例えば、送達容器４０は、一貫した流量の溶融ガラス２８を調整して出口導管４４によって形成体４２に供給するアキュームレータおよび／または流量コントローラとして機能することができる。図示されているように、混合装置３６は、第３の連結管４６によって送達容器４０に結合されることがある。いくつかの実施例において、溶融ガラス２８は、第３の連結管４６によって混合装置３６から送達容器４０まで重力供給されることがある。例えば、重力は、溶融ガラス２８を第３の連結管４６の内部通路を通って混合装置３６から送達容器４０まで駆動することがある。
【００４０】
下流側ガラス製造装置３０は、先に参照した形成体４２を備えて入口導管５０を含む形成装置４８をさらに含むことができる。出口導管４４は、入口導管５０を通って送達容器４０から形成体４２まで溶融ガラス２８を送達するように配置することができる。形成体４２は、形成体の上面内に配置されて入口導管５０から溶融ガラスを受容するように構成されたトラフ５２、および、形成体の下縁部５６に沿って延伸方向に収束する１対の収束形成面５４を備えることができる。送達容器４０、出口導管４４および入口導管５０を介して形成体トラフに送達された溶融ガラスは、トラフの壁部を越流して溶融ガラスの別個の流れとして収束形成面５４に沿って下る。溶融ガラスの別個の流れは、ガラス５８の単一のリボンを生成するために下縁部５６より下方でかつ下縁部５６に沿って合流し、ガラス５８の単一のリボンは、ガラスが冷却してガラスの粘度が増大するときにガラスリボンの寸法を制御するために、重力、エッジロールおよびプルロール（図示せず）によってなど、張力をガラスリボンに印加することによって下縁部５６から延伸方向６０に引き出される。したがって、ガラスリボン５８が冷却するとき、ガラスは、粘弾性遷移を経てガラスリボン５８に安定した寸法特性を与える機械的性質を取得する。ガラスリボン５８は、いくつかの実施形態において、機械的またはレーザー切目入および切断技術によってガラスリボンの弾性域においてガラス分離装置（図示せず）によって個々のガラス基板６２に分離されることがある。これらの個々のガラス基板は、その後、エッジトリミング装置などのその後の下流側装置、および／または、ここで以下により詳細に説明されるように、ガラス板の表面上に蓄積したかもしれないガラス粒子状物質および他のデブリの除去用装置に移送されることがある。例えば、いくつかの実施形態において、ガラス基板６２は、ガラス基板の上縁部を保持する把持機構部を使用してガラス基板を垂直の配向で搬送する搬送装置で、形成装置４８から移送されることがあり、ガラス基板は、移送中に把持機構部から名目上垂直の配向で下向きに吊着している。ガラス基材は、その後、その後の下流側処理設備に案内されることがある。
【００４１】
ディスプレイガラス業界における効率利得は、望ましくはガラス出力向上で、品質の劣化または資本支出の増加なしに、例えば、溶融流量の増加を使用することによって、処理速度高速化にある程度依存してきた。溶融ガラス流量の増大をガラス板肉薄化と組み合わせることは、単位時間当たりのガラス板の増加を意味し、これには、ひいては、ガラス板搬送速度が増す必要がある。ガラス肉薄化は、搬送速度の増加と結合すると、基板の移送中に上縁部抑制のみを使用するときにガラス基板の揺れの増大が発生し得る。ガラス基板の揺れの増大によって、固定式ガイダンス装置を使用する下流側プロセス設備へのガラス基板の案内がより難しくなり、ガラス基板損傷のリスクが増大する。ここで使用されているとき、揺れは、ガラス基板の主要面と概ね直交する方向での左右の揺れ（例えば、ガラス基板の制約されたエッジ周りの回転）を指す。
【００４２】
ガラス基板が垂直に吊着しているガラス基板のそうでない場合は制約されない下縁部の一部を案内するために採用された固定された位置のガイドと接触したとき、ガラス基板の損傷（例えば、ガラス基板の前縁の欠け落ち）の可能性がある。固定されたガイドと移動中のガラス基板との間の相対運動に起因するガラス基板の一方または両方の主要面上の欠けまたは擦過傷など、他の損傷も、発生することがある。
【００４３】
座屈がより起こりやすいより肉薄のガラス基板の傾向に加えて、肉薄ガラス基板は、縁部、例えば、研削または研磨（例えば、面取りまたは円形化）プロセスステップの恩恵を有していなかった切断後のガラス基板縁部が「切断されたままの」ときにさらに一層衝撃による損傷が起こりやすく、研削または研磨（例えば、面取りまたは円形化）プロセスステップは、疵を基板エッジおよびエッジ面から低減または除去し、それによってエッジ強さを向上させることがある。個々のガラス基材は、典型的には形状が矩形であり、未処理切断エッジ、特に隅部は、衝撃を受けた場合には、損傷、例えば、擦り傷、欠け落ちおよび破断がより起こりやすい。ディスプレイ業界において、より大きな解像度、すなわち、より小さい画素サイズおよび／または画素密度を示すディスプレイパネルの生産の傾向もあり、その結果、ガラス面清浄度は、従来の要件よりもさらに良好である必要がある。固定式ガイドは、ガラス基板主要面に付着し得るガラス粒子となる擦過傷および／または欠けを引き起こし得る。これらの付着したガラス粒子は、最終的なディスプレイパネルの欠陥を引き起こし得る。したがって、ガラス基板製造プロセス内のガラス粒子生成を低減することができる装置および方法は、非常に望ましい。したがって、切断されたままの前縁（例えば、隅部）に接触しないガラス基板案内システムを使用することによって、損傷、したがって、粒子生成、可能性を低減することができる。
【００４４】
自然な進行を垂直形成プロセス、例えば、フュージョンダウンドロー法から下流側処理設備に行いながらガラス基板の移送速度増大を容易にすることができる装置および方法がここで説明されるが、ここで説明された装置および方法は、同様に、ガラス板を形成するスロットドロー法、ロール法およびフロート法を含むがこれらに限定されず、他のガラス形成プロセスに有益であることがあることを理解すべきである。ここで開示された装置および方法は、ガラス基板に付着する粒子状物質の量を、排除するなど、減少させるために使用されることもある。
【００４５】
したがって、下流側ガラス製造装置３０は、ガラス基板洗浄プロセスステーション６４をさらに備えることがある。図２は、ガラス基板を１つの処理ステーションから別の処理ステーションまで、例えば、形成装置４８からガラス基板洗浄プロセスステーション６４まで移動する移送組立体１０２を含む搬送装置１００を備える例示のガラス基板洗浄プロセスステーション６４を示す。移送組立体１０２は、レールまたは軌道１０４、例えば、天井レールシステム、および、移動可能な取り付け台組立体１０６含むことがあり、移動可能な取り付け台組立体１０６は、搬送方向１０８にレール１０４に沿って進むように構成されている。取り付け台組立体１０６は、ガラス基板６２に装着する、例えば、クランプするクランプ装置１１０を備えることがあり、取り付け台組立体１０６は、ガラス基板６２を下流側目的地、例えば、ガラス基板洗浄プロセスステーション６４などの下流側ガラス処理ステーションに移送することがある。取り付け台組立体１０６は、リニアモーター、チェーンまたはプーリー（ベルト）駆動装置などを含め、任意の適切手段によって駆動されてもよい。取り付け台組立体１０６の移動は、以下でより完全に説明されるコントローラによって制御されることがある。取り付け台組立体１０６は、一定速度で移動されてもよいか、または、取り付け台組立体１０６は、可変速度で移動されてもよい。例えば、いくつかの実施形態において、下流側ガラス処理ステーション、例えば、洗浄プロセスステーション６４でのガラス基板６２の処理を達成することができるように取り付け台組立体１０６、したがって、移送中のガラス基板を減速または停止することが必要であることがあるが、他の実施形態において、取り付け台組立体１０６は、レール１０４に沿って連続的に移動されることがある。
【００４６】
搬送装置１００は、搬送方向１０８に搬送部材１１２の長さに沿って移動可能なキャリッジ組立体１１４を含む搬送部材１１２をさらに備えることがある。キャリッジ組立体１１４は、キャリッジ組立体１１４を例えば、搬送方向１０８に、および、搬送方向１０８の反対の戻り方向に搬送部材１１２の長さに沿って搬送するのに適した、例えばリニアモーター、サーボモーターまたは他の搬送装置を備える駆動組立体１１６に結合されてもよい。搬送部材１１２は、例えば、搬送方向および戻り方向のキャリッジ組立体１１４の支持および案内運動が可能である軌道、レールまたは任意の他の適切な案内機構部を備えてもよい。
【００４７】
図３および図４をここで参照すると、例示の実施形態において、キャリッジ組立体１１４は、キャリッジ組立体１１４に装着された第１の延伸装置１１８、および第２の延伸装置１２０を備えることがあり、第１の延伸装置１１８および第２の延伸装置１２０は、延伸装置から延び、他方のガイドアームとの対向する関係で、例えば、搬送方向１０８と実質的に平行な方向に配置された第１のガイドアーム１２２および第２のガイドアーム１２４をそれぞれ備える。いくつかの実施形態において、延伸装置１１８、１２０は、支持部材１１２に向ってまたは支持部材１１２から離れるように搬送方向１０８と直交する横方向１２７に沿って延びる空圧スライドであっても差し支えない。さらなる実施形態において、第１および第２の延伸装置１１８、１２０は、サーボモーターを備えることがある。図３および図４に示された実施形態において、第１の延伸装置１１８は、第１の延伸装置１１８が延びるとき、（図３および図４では支持部材１１２に対して「外側」ガイドアームである）第１のガイドアーム１２２は、支持部材１１２から離れるように移動し、第１の延伸装置１１８が退縮するとき、第１のガイドアーム１２２は、支持部材１１２に向って移動するように配置されている。同様に、第２の延伸装置１２０は、第２の延伸装置１２０が延びるとき、（図３および図４では支持部材１１２に対して「内側」ガイドアームである）第２のガイドアーム１２４は、支持部材１１２から離れるように移動し、第２の延伸装置１２０が退縮するとき、第２のガイドアーム１２４は、支持部材１１２に向って移動するように配置されている。第１および第２の延伸装置１１８、１２０は、一方の延伸装置が延びるとき、他方の延伸装置が退縮するように互いに反対に使用することができ、したがって、第１および第２のガイドアームは、併せて開閉動作を実行する。例えば、第１の延伸装置１１８が延び、第２の延伸装置１２０が退縮する場合、ガイドアーム１２２、１２４は、開放動作を実行することになる。逆に、第１の延伸装置１１８が退縮し、第２の延伸装置１２０が延びる場合、ガイドアーム１２２、１２４は、閉鎖動作を実行することになる。
【００４８】
搬送装置１００は、コントローラ１２６（例えば、図２を参照）をさらに備えることがあり、コントローラ１２６は、駆動組立体１１６を、制御ライン１１７を介して、延伸装置１１８、１２０を、それぞれ制御ライン１１９、１２１を介して制御することによって、キャリッジ組立体１１４およびガイドアーム１２２、１２４の移動を制御および調整する。コントローラ１２６は、取り付け台組立体１０６の移動を、制御ライン１２３を介してなどさらに制御することがあるが、さらなる実施形態において、取り付け台組立体１０６は、第２のコントローラによって制御されることがある。ここで使用されるとき、「コントローラ」または「プロセッサ」という用語は、実施形態によってプログラマブルプロセッサ、コンピュータ、または、複数のプロセッサまたはコンピュータを含め、データを処理するすべての装置、デバイスおよびマシンを包含し得る。プロセッサは、ハードウェアに加えて、当該のコンピュータプログラムの実行環境を作成するコード、例えば、プロセッサファームウェア、プロトコルスタック、データベース管理システム、オペレーティングシステム、またはそれらの内の１つ以上の組み合わせを構成するコードを含んでいても差し支えない。
【００４９】
実施形態およびここで説明された機能動作は、本明細書で開示された構造およびそれらの構造同等物を含め、デジタル電子回路において、または、コンピュータソフトウェア、ファームウェアまたはハードウェアにおいて、または、それらの内の１つ以上の組み合わせで実行されても差し支えない。ここで説明された実施形態は、１つ以上のコンピュータプログラム製品、すなわち、データ処理装置による実行のために、または、データ処理装置の動作を制御するために有形のプログラムキャリア上で符号化されたコンピュータプログラム命令の１つ以上のモジュールを組み込んでも差し支えない。有形のプログラムキャリアは、コンピュータ可読媒体であり得る。コンピュータ可読媒体は、機械可読記憶装置、機械可読記憶装置基板、メモリー素子、または、それらの内の１つ以上の組み合わせであっても差し支えない。
【００５０】
（プログラム、ソフトウェア、ソフトウェアアプリケーション、スクリプトまたはコードとしても知られている）コンピュータプログラムが、コンパイルまたは解釈された言語または宣言型または手続き型言語を含め、任意の形のプログラミング言語で書かれても差し支えなく、独立型プログラムとして、または、コンピューティング環境での使用に適したモジュール、構成要素、サブルーチンまたは他のユニットとしてを含め、任意の形態で展開されても差し支えない。コンピュータプログラムは、ファイルシステム内のファイルに必ずしも対応するというわけではない。プログラムは、他のプログラムまたはデータを保持するファイルの一部（例えば、マークアップ言語ドキュメントに記憶された１つ以上のスクリプト）に、当該のプログラム専用の単一ファイルに、または、複数の調整されたファイル（例えば、１つ以上のモジュール、サブプログラムまたはコードの部分を記憶するファイル）に記憶されても差し支えない。コンピュータプログラムは、１つのコンピュータ上で、または、１つのサイトに位置するか、または、複数のサイトにわたって分散されて通信ネットワークによって相互接続された複数のコンピュータ上で実行されるように展開されても差し支えない。
【００５１】
ここで説明されたプロセスは、入力データで動作して出力を生成することによって諸機能を実行するために１つ以上のコンピュータプログラムを実行する１つ以上のプログラマブルプロセッサを使用して実行されても差し支えない。プロセスおよび論理フローは、また、専用論理回路、少し例を挙げれば、例えば、ＦＰＧＡ（フィールドプログラマブルゲートアレイ）またはＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）によって実行されても差し支えなく、装置も、少し例を挙げれば、例えば、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）または特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）として実行されても差し支えない。
【００５２】
コンピュータプログラムの実行に適したプロセッサとしては、実施形態によって、汎用マイクロプロセッサおよび専用マイクロプロセッサの両方、および、任意の種類のデジタルコンピュータの内の任意の１つ以上のプロセッサが挙げられる。一般的に、プロセッサは、命令およびデータを読み取り専用メモリーまたはランダムアクセスメモリーまたはその両方から受信することになる。コンピュータの必須要素は、命令を実行するプロセッサ、および、命令およびデータを記憶する１つ以上のデータメモリー装置である。一般的に、コンピュータは、また、データを記憶する１つ以上の大容量記憶装置、例えば、磁気ディスク、光磁気ディスクまたは光ディスクを含むことになるか、または、データを該記憶装置から受信するか、または、データを該記憶装置に伝達するか、または、その両方を行うために作動可能に結合されることになる。しかしながら、コンピュータは、そのようなデバイスを有する必要はない。
【００５３】
コンピュータプログラム命令およびデータの記憶に適したコンピュータ可読媒体としては、実施形態によって、半導体メモリー装置、例えば、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭおよびフラッシュメモリー装置、磁気ディスク、例えば、内蔵ハードディスクまたは取り外し可能ディスク、光磁気ディスク、および、ＣＤ−ＲＯＭディスクおよびＤＶＤ−ＲＯＭディスクを含め、不揮発性メモリー、媒体およびメモリー素子を含む全くの形のデータメモリーが挙げられる。プロセッサおよびメモリーは、専用論理回路によって補充されるか、または、専用論理回路に組み込まれても差し支えない。
【００５４】
ユーザーとの対話に備えるために、ここで説明された実施形態は、表示デバイス、例えば、情報をユーザーに表示するＬＣＤ（液晶ディスプレイ）モニターなど、および、キーボードおよびポインティング装置、例えば、ユーザーが入力をコンピュータに供給することができるマウスまたはトラックボール、またはタッチスクリーンを備えるコンピュータ上で実行されても差し支えない。他の装置が、同様に、ユーザーとの対話に備えるために使用さされても差し支えなく、例えば、ユーザーからの入力は、音響入力、音声入力または触覚型入力を含め、任意の形で受信されても差し支えない。
【００５５】
ここで説明された実施形態は、バックエンドコンポーネントを例えば、データサーバとして含むか、または、ミドルウェアコンポーネント、例えば、アプリケーションサーバーを含むか、または、フロントエンドコンポーネント、例えば、グラフィカルユーザーインターフェース、または、ユーザーがここで説明された主題の実行例と対話することができるウェブブラウザを有するクライアントコンピュータを含むか、または、１つ以上のそのようなバックエンドコンポーネント、ミドルウェアコンポーネントまたはフロントエンドコンポーネントの任意の組み合わせを含むコンピューティングシステム含んでも差し支えない。システムのコンポーネントは、任意の形式および／または媒体のデジタルデータ通信、例えば、通信ネットワークによって相互接続されても差し支えない。通信ネットワークの実施形態としては、ローカルエリアネットワーク（「ＬＡＮ」）および広域ネットワーク（「ＷＡＮ」）、例えば、インターネットが挙げられる。
【００５６】
コンピューティングシステムは、クライアントおよびサーバーを含むことができる。クライアントおよびサーバーは、一般的に互いから遠く離れ、典型的には通信ネットワークを介して対話する。クライアントおよびサーバーの関係は、それぞれのコンピュータ上で実行され、互いにクライアントサーバ関係を有するコンピュータプログラムによって生じる。
【００５７】
したがって、コントローラ１２６は、キャリッジ組立体１１４および延伸装置１１８、１２０の移動を、予めプログラムされたコンピュータ可読媒体内または上に収容され、コントローラ、例えば、プロセッサによって実行された命令を介して制御することがある。他の実施形態において、コントローラ１２６は、キャリッジ組立体１１４および延伸装置１１８、１２０の移動を外部入力、例えばセンサー入力に応答して制御してもよい。さらに他の実施形態において、コントローラ１２６は、キャリッジ組立体１１４および延伸装置１１８、１２０の移動を予めプログラムされた命令およびセンサー入力の両方に応答して制御してもよい。例えば、搬送装置１００は、搬送方向１０８に対するガラス基板６２の前縁１２８および／または後縁１３０の任意の１つまたは全て、例えば、前縁の頂部、前縁の底部、後縁の頂部および／または後縁の底部を含め、ガラス基板６２またはその一部の位置を検出するセンサーを含むことがある。そのために、搬送装置１００は、搬送方向１０８に対するガラス基板６２の前縁１２８を検出するように配置された第１のセンサー１３２ａ（図６を参照）を含むことがある。第１のセンサー１３２ａは、非接触センサー、例えば、光センサーであることがあるが、さらなる実施形態において、第１のセンサー１３２ａは、接触スタイルのセンサーであってもよい。第１のセンサー１３２ａは、光源１３４ａ、反射ターゲット１３６ａおよび検出器１３８ａを含むことがある。第１のセンサー１３２ａは、（以下でさらに詳細に論じられているように）キャリッジ組立体１１４の開始位置の上流側に配置することができ、光源１３４ａおよび検出器１３８ａは、ガラス基板搬送路の片側上に配置され、反射ターゲット１３６ａは、ガラス基板６２またはその一部が光源１３４ａと反射ターゲット１３６ａの間を通るように搬送路の反対側上に配置されている。光源１３４ａからの光ビーム１４０ａは、搬送路全体にわたって投射されると反射ターゲット１３６ａによって反射される。その後、反射光は、検出器１３８ａによって受光される。ガラス基板６２が光源と反射ターゲットとの間を通る場合、光ビーム１４０ａは乱れる。検出器１３８ａでの光ビーム１４０ａの乱れによって示されたガラス基板の有無は、データライン１４２ａで適切な信号を介してコントローラ１２６に通信され、適切な信号が受信されると、コントローラ１２６は、予めプログラムされた命令を実行することができる。
【００５８】
第１のセンサー１３２ａは、異なる構成で配置することができることが明らかであるはずである。例えば、検出器１３８ａは、ガラス基板６２が光源１３４ａと検出器１３８ａとの間を進行するように光源１３４ａの反対側に配置することができ、その結果、反射ターゲット１３６ａが不要である。
【００５９】
各ガイドアーム１２２、１２４は、ガイドアーム間に配置された名目上垂直のガラス基板の移動を抑制するために配置されることがある。例えば、図４に示された実施形態など、いくつかの実施形態において、各ガイドアーム１２２、１２４は、ガイドアーム間の隙間Ｇが低減されるようにガイドアームが横方向１２７に沿って反対方向に移動するとき、ガラス基板６２がローラーに接触してもよいように各ガイドアームの長さに沿って配置された複数のローラー１４４を備えてもよい。例えば、対向する案内部材間の隙間Ｇの幅または間隔に応じて、ガラス基板６２は、散発的にのみ、例えば、ガラス基板の左右揺れ中にローラーに接触してもよく、その結果、ガラス基板下縁部の移動は、隙間Ｇ内にあるように制限される。他の実施形態において、ガイドアーム１２２、１２４は、ガラス基板６２がガイドアーム間に配置され、したがって、ローラー１４４がガラス基板と連続的に接触している時間中にガイドアームがガラス基板の下縁部を挟んで締め付けるように配置してもよい。さらなる実施形態において、非接触抑制が採用されてもよく、ガイドアーム１２２、１２４は、各々、図５に示されているように複数のガス抜き１４６を備えてもよい。ガス供給管路１４８、１５０を介してガイドアームに供給された加圧ガスは、その後、対向するガイドアームのガス抜き１４６に強制通風されてもよく、その結果、ガラス基板の側方移動が抑制される。いくつかの実施形態において、加圧ガスは、空気であってもよいが、さらなる実施形態において、ガスは、異なるガスであってもよい。
【００６０】
搬送装置１００を操作する方法がここで論じられることになる。図２および図６を参照すると、１つの実施形態において、移送組立体１０２がレール１０４に沿ってガラス基板６２を移動するとき、第１のセンサー１３２ａからの光源１３４ａは、光ビーム１４０ａを投射しており、光ビーム１４０ａは、反射ターゲット１３６ａから反射して検出器１３８ａによって受光される。それに反応して、検出器１３８ａが、適切電気信号でコントローラ１２６に、搬送路が空いている（すなわち、ガラス基板の不在がある）ことを示す。キャリッジ組立体１１４は、初期開始位置に（例えば、図２および図６では支持部材１１２の右端部寄りに）あり、案内部材１２２、１２４は、例えば、開放位置にあり、隙間Ｇは、ガラス基板の厚さよりも大きい。例えば、開放位置での隙間Ｇは、２００ミリメートル以上であることがあるが、さらなる実施形態において、隙間Ｇは、２００ミリメートル未満、ただし、ガラス基板の厚さよりも大きくてもよい。ガラス基板６２が搬送方向１０８に移動し続けるとき、ガラス基板６２の前縁１２８は、光ビーム１４０ａと交差し、この時点で、検出器１３８ａは、十分な反射光を反射ターゲット１３６ａから受信することができない。したがって、検出器１３８ａは、ガラス基板の存在を登録して適切な信号をコントローラ１２６に送る。応答して、コントローラ１２６は、キャリッジ組立体１１４に搬送方向１０８に移動し始めるように指示する。
【００６１】
いくつかの実施形態において、搬送装置１００は、第１のセンサー１３２ａより下方に配置された第２のセンサー１３２ｂをさらに備えることがあり、第２のセンサー１３２ｂは、第１のセンサー１３２ａと同様の構成要素を備える。例えば、第２のセンサー１３２ｂは、光源１３４ｂ、反射ターゲット１３６ｂ、および、（例えば、第１のセンサー１３２ａの光ビーム１４０ａと類似の）光ビームを反射ターゲット１３６ｂから反射された光源１３４ｂから受光するように配置された検出器１３８ｂを備えることがある。第２のセンサー１３２ｂは、前縁１２８を第１のセンサー１３２ａと同時に検出するように配置されることがある。すなわち、矩形ガラス基板について、および、クランプ装置１１０内でのガラス基板の上縁部の適切な整合を仮定して、前縁１２８は、垂直ラインを呈示すべきである。結果として、前縁１２８は、第１および第２のセンサー組立体１３２ａ、１３２ｂの両方からの光ビームを実質的に同時に「破断する」べきである。コントローラ１２６が（所定の差での）前縁の同時の検出が取得されなかったことを示す信号を受信した場合、考えられる原因は、ガラス基板が破断していることがあり得る。コントローラは、その後、ガラス基板６２が除去されてもよいように搬送装置１００の停止または減速を含むが、これらに限定されず、さらなるアクションを開始することがある。あるいは、または加えて、搬送装置１００は、ガラス基板６２を搬送し続けてもよいが、コントローラ１２６は、下流側アクション、例えば、人間のオペレータによるさらなる検査を行うことができるように（搬送されてもよい他のガラス基板に対する）ガラス基板の位置を登録する。他方、前縁の同時の検出が取得された場合、搬送装置は、ガラス基板を次の処理ステーションに搬送方向に移動するように進む。
【００６２】
前縁１２８の検出は、搬送方向１０８のキャリッジ組立体１１４の移動を始めるためにコントローラ１２６によって使用され得る。いくつかの実施形態において、搬送方向のガラス基板６２の速度は、取り付け台組立体１０６からコントローラ１２６によって直に取得されてもよい。しかしながら、他の実施形態において、搬送装置１００は、第１のセンサー１３２ａから下流側に配置された第３のセンサー１３２ｃを含んでもよい。第１および第２のセンサー１３２ａ、１３２ｂと同様に、第３のセンサー１３２ｃは、光源１３４ｃ、反射ターゲット１３６ｃ、および検出器１３８ｃを含んでもよく、第１および第２のセンサー１３２ａ、１３２ｂと同じまたは同様に動作してもよい。コントローラ１２６は、第１のセンサー１３２ａ（および／または第２のセンサー１３２ｂ）からの「ガラス存在」信号と第３のセンサー１３２ｃからの「ガラス存在」信号との間の時間を計算することができ、コントローラに予めプログラムされた所与のガラス基板サイズについて、搬送方向のガラス基板の速度を計算することができる。したがって、コントローラ１２６がガラス基板の搬送速度を計算すると、コントローラ１２６は、キャリッジ組立体１１４の速度をガラス基板６２の速度に適合させることができる。コントローラ１２６は、また、閉鎖を始めるように延伸装置１１８、１２０に報せることがあり、その結果、隙間Ｇが低減または増大する。
【００６３】
先述されたように、ガイドアーム１２２、１２４は、ガラス基板６２との連続的な接触を生成することなく、隙間Ｇを低減することがあり、その結果、ガイドアームの部分間のガラス基板の下端の隙間Ｇによって定義された最大移動エンベロープが形成される。すなわち、隙間Ｇは、全開間隙距離を下回るが、ガラス基板の下縁部が、プロセスに影響を与え（例えば、ガラス基板の損傷を引き起こさ）ないために判定されたある程度の小量の側方移動（搬送方向と直交する移動）を許容されるように十分に大きい値に低減されることがある。例えば、隙間Ｇは、約１０ｍｍから約１００ｍｍの範囲、例えば、約２０ｍｍから約９０ｍｍの範囲の間隙距離に低減されることがある。先述されたように、ガイドアーム１２２、１２４は、ガラス基板６２が接触してもよい接触面を提供するローラー１４４を備えることがある。ローラー１４４によって、ガラス基板とガイドアームと間の相対運動が、ガラス基板の表面をマーキングまたは損傷することがあり得るガイドアームとガラス基板との間の摺動を生成するのではなくローラーがガラス基板の主要面に当接して転動することによって対応されることが確実にされる。しかしながら、他の実施形態において、隙間Ｇは、ガイドアーム１２２、１２４がガラス基板６２と連続的に接触するまで低減されてもよく、その結果、ガラス基板は、対向するガイドアーム間に挟まれて締め付けられる。ガイドアーム１２２、１２４が連続的な接触するか、または、間欠的にのみ接触するかは、下流側プロセスの内容によって指定されてもよい。例えば、連続的な接触は、前縁が下流側プロセスに入るときに前縁の非常に正確な位置に必要であることがある。さらに、ガラス基板下縁部とガイドアーム間の連続的な接触は、下流側プロセスに入るときに問題を示す湾曲部（すなわち、「反り」）をガラス基板が示した場合にガラス基板を平坦化するために使用することができる。例えば、湾曲部によって、ガラス基板の前縁と下流側処理設備との破壊的接触の見込みが増大することがある。
【００６４】
さらに他の実施形態において、各ガイドアームは、１つ以上の無端ベルト（図示せず）が取り付けられていてもよく、ベルトは、ローラー１４４と同様に機能する。
【００６５】
他の実施形態において、ガイドアーム１２２、１２４は、空気圧を使用してガラス基板をガイドアーム間の所定の移動エンベロープに押し進めてもよい。例えば、各ガイドアームは、複数のガス抜き１４６をガラス基板に対向する各ガイドアームの面に含んでもよい。加圧ガスは、その後、ガス抜きから押し進めてガラス基板の主要面に導くことができる。ガス圧力は、ガラス基板が、隙間Ｇの中央になど、ガイドアーム間の所望の場所に配置されるように２つのガイドアーム間でバランス調整することができる。あるいはまたは加えて、ガラス基板主要面に対向するガイドアームの面は、多くの通路を含む多孔質材料、例えば、黒鉛、高密度に多孔性のポリマーまたは金属、または、ガスをガラス基板６２で出射してガラス基板６２の位置を隙間Ｇ内に維持することに適した任意の他の微多孔質材料を備えてもよい。
【００６６】
前縁１２８は、ガラス基板の他の部分よりも接触による損傷が発生しやすいことがあることから、ガイドアーム１２２、１２４が前縁１２８でガラス基板に接触しないことが望ましいことを理解すべきである。したがって、コントローラ１２６は、ガイドアームが最終的な案内位置に着いたときに（例えば、隙間Ｇが予定値に設定されてもはや低減しないときに）ガイドアーム（ガイドアームの先端）の極下流端が搬送方向１０８に対して前縁から上流側に配置されるようにプログラムされてもよい。すなわち、ガイドアームの端部は、搬送方向１０８に対して前縁から後方に配置されるべきである。例えば、コントローラ１２６は、ガイドアームの先端は、搬送方向１０８に対して、全ての範囲およびその間の部分範囲を含め、例えば、約１０ｍｍから約１００ｍｍの範囲で、例えば、約１０ｍｍから約６０ｍｍの範囲で、前縁の少なくとも１０ｍｍ後方にあるようにガイドアーム１２２、１２４を配置するためにキャリッジ組立体１１４を駆動するようにプログラムすることができる。
【００６７】
図１および図２に戻ると、ガラス基板洗浄プロセスステーション６４は、ガラス洗浄装置２００をさらに備えることがある。ガラス洗浄装置２００は、ガラス基板が搬送装置１００によって搬送されるときにシュラウド組立体がガラス基板６２の第１の主要面２０４に近接して配置されるように配置されたシュラウド組立体２０２を備える。例えば、図２に示された実施形態において、ガラス基板６２は、ガラス基板の頂部によって支えられた垂直の配向で搬送されてガイドアーム１２２、１２４によってガラス基板の底部で案内され、シュラウド組立体２０２は、ガラス基板６２の第１の主要面２０４に隣接して配置されている。いくつかの実施形態において、ガラス洗浄装置２００は、複数のシュラウド組立体２０２を含んでもよい。例えば、図２に例示する実施形態において、少なくとも２つのシュラウド組立体２０２が示されており、少なくとも２つのシュラウド組立体の両方は、ガラス基板が搬送方向１０８に搬送されるときにガラス基板６２の同じ主要面、例えば、第１の主要面２０４に沿ってかつ隣接して配置されている。しかしながら、さらなる実施形態において、少なくとも２つのシュラウド組立体２０２は、ガラス基板６２が搬送方向１０８（例えば、図１３を参照）に沿って搬送されるときに１対の対向するシュラウド組立体２０２をガラス基板６２の両側に形成するために例えば、互いの真反対にガラス基板の対向する主要面に隣接してもよい。さらに別の実施形態において、複数の対の対向するシュラウド組立体を利用してもよい。例えば、２つのシュラウド組立体が、ガラス基板の第１の主要面２０４に隣接して配置され、別の対のシュラウド組立体が、ガラス基板の対向する第２の主要面２０６に隣接して配置され、第１の対のシュラウド組立体と（直反対で）位置合わせされている。ガラス基板が搬送方向１０８に沿って搬送されるときにガラス基板の１つの主要面に隣接して配置された複数のシュラウド組立体は、ガラス基板に沿って同じ垂直高さに配置される必要はない。例えば、図７は、各シュラウドの中央部から測定されたときに距離δだけ互いから垂直に変位した側から見たときの２つのシュラウド組立体２０２を示す。さらに別の実施形態において、複数のシュラウド組立体は、ガラス基板がシュラウド組立体を過ぎて移送されるときに主要面全体（または、両方の主要面）がシュラウド組立体によって掃引されるように配置されてもよい。
【００６８】
図８をここで参照すると、シュラウド組立体２０２は、シュラウド２１０を備える。シュラウド２１０は、いくつかの実施形態において、内部容積部２１４を画定する概ね円錐形の中空体、以下ファンネル２１２を備えてもよい。ファンネル２１２は、第１の円形開口部２１８を画定する第１の端部２１６、および、第１の端部２１６の反対側の、第２の円形開口部２２２を画定する第２の端部２２０を含み、第２の開口部２２２は、第１の開口部２１８の直径よりも小さい直径を備える。要件ではないが、第１および第２の開口部２１８および２２２は、第１の開口部２１８上の第２の開口部２２２の突出部が第１の開口部２１８と同心であるように位置合わせされてもよい。すなわち、長手軸２２４は、第１および第２の開口部２１８、２２２の両方の中央部を通って延びてもよい。例えば、第１の開口部２１８および第２の開口部２２２は、ファンネル２１２の長手軸である長手軸２２４と同心であってもよい。さらに要件ではないが、第１の開口部２１８が完全にある第１の平面２２６は、第２の開口部２２２が完全にある平面２２８と平行であってもよい。したがって、長手軸２２４は平面２２６および平面２２８と直交してもよい。
【００６９】
シュラウド２１０は、いくつかの実施形態において、第２の端部２２０でファンネル２１２に装着された中空ネック部分２３０をさらに備えてもよく、中空ネック部分２３０は、ファンネル２１２から外方に延び、ネック部分２３０は、ファンネル２１２の中空内部２１４と流体連通する通路２３２を形成する。ネック部分２３０は、例えば、第２の端部２２０から離れて延びる概ね円筒形のチューブまたはパイプであってもよく、長手軸２２４と同心であってもよい。
【００７０】
シュラウド２１０は、いくつかの実施形態において、フランジ２３６を含むスカート部分２３４も備えてもよく、スカート部分２３４は、ファンネル２１２の第１の端部２１６の周りに延びて該端部から離間されて、フランジ２３６によってファンネル２１２に接続されたさらなるシュラウド部材を備え、スカート部分２３４は、ファンネル２１２とスカート部分２３４との間の環状内部空間２３８および第１の端部２１６の周りに延びる第３の開口部２４０を画定する。スカート部分２３４は、スカート部分２３４に装着され、スカート部分２３４を通って延びる通路２４４を画定する少なくとも１つの中空排気管２４２も含んでもよく、少なくとも１つの排気管は、通過２４４を介して内部空間２３８と流体連通するが、さらなる実施形態において、スカート部分２３４は複数の排気管を含んでもよく、各排気管は、同様に通路２４４を介して内部空間２３８と流体連通する。スカート部分２３４は、長手軸２２４と平行な方向にファンネル２１２の第１の端部２１６を例えば、距離Ｒだけ延びてもよい。
【００７１】
あるいは、シュラウド組立体２０２は、図９Ａに示されているようにシュラウド３１０を備えてもよい。シュラウド３１０は、第１の開口部３１６を画定する第１の端部３１２および実質的に閉鎖された第２の端部３１８を含む概ね円筒形の中空体を備えてもよく、第２の端部３１８は、例えば、（第１の開口部３１６に対して）小さい第２の開口部３２２を備える平面またはドーム状端部部材３２０で閉鎖されていてもよい。すなわち、第２の開口部３２２の直径は、第１の開口部３１６の直径未満であってもよい。シュラウド３１０は、第２の開口部３２２で端部部材３２０に装着され、端部部材３２０から外方に延びる中空ネック部分３２４をさらに備えてもよく、ネック部分３２４は、シュラウド３１０の中空内部と流体連通する通路を形成する。ネック部分３２４は、例えば、端部部材３２０から離れて延びる概ね円筒形のチューブまたはパイプであってもよい。いくつかの実施形態において、第１の開口部３１６が完全にある平面上の第２の開口部３２２の突出部は、第１の開口部３１６と同心であってもよいが、さらなる実施形態において、平面上の第２の開口部３２２の突出部は、第１の開口部３１６から横方向に偏倚されていてもよい。
【００７２】
図９Ｂに示されたさらに他の実施形態において、シュラウド４１０は、図８に示されたファンネル２１２と類似の円錐体であってもよく、第１の開口部４１６を画定する第１の端部４１４および、端部部材４２０、例えば、平面またはドーム状部材によって実質的に閉鎖された第２の端部４１８を備える。端部部材４２０は、第１の開口部４１６の直径未満の直径を有する第２の開口部４２２を画定してもよい。図９Ａの実施形態のように、シュラウド４１０は、端部部材４２０に装着され、端部部材４２０から外方に延びる中空ネック部分４２４をさらに含んでもよく、ネック部分４２４は、シュラウド４１０の中空内部と流体連通する通路を形成する。ネック部分４２４は、例えば、端部部材４２０から離れて延びる概ね円筒形のチューブまたはパイプであってもよい。第１の開口部４１６が完全にある平面上の第２の開口部４２２の突出部は、第１の開口部４１６と同心である。説明のためであって制限するものではなく、以下の本開示は、図８に示されているようなファンネルの形のシュラウド２１２の文脈で提示されている。
【００７３】
図８に戻って参照すると、シュラウド組立体２０２は、内部容積部２１４内に配置されたガス送達装置２４６をさらに備えることがある。例えば、ガス送達装置２４６は、ガス送達通路２５０を含む中央シャフト２４８および中央シャフト２４８に回転結合されたノズル部材２５２を備えることがある。ノズル部材２５２は、示されているように、長手軸２２４と一致する回転中心から外方に延びる２つのアームを含み、棒状であることがあるか、または、ノズル部材２５２は、２つ超えのアームを備えることがある。いくつかの実施形態において、ノズル部材２５２は、ディスクまたは回転軸周りの回転運動が可能な任意の他の形状の部材を備えてもよい。ガス送達装置２４６は、ファンネル２１２の内面と接続されている支持部材２５４によって内部容積部２１４内に装着され、内部容積部２１４内に支持されてもよい。いくつかの実施形態において、ノズル部材２５２は、支持部材２５４に直におよび回転可能に結合されてもよい。いくつかの実施形態において、中央シャフト２４８は、ノズル部材２５２に剛性結合されてもよく、シャフト部材２５２は、支持部材２５２に回転結合されている。ガス送達通路２５０は、加圧ガス２５６がガス供給管路２５８およびガス送達通路２５０を通ってノズル部材２５２に導かれるように加圧ガス２５６の供給源（図示せず）と流体連通する。ガス送達装置２４６は、ガス送達装置２４６に加圧空気など、加圧ガスが供給されるとき、ガスは、ガラス基板６２に向う方向にノズル部材２５２のガス抜き２５４から出るように、ガス流路およびノズル部材２５２内に配置された複数のガス抜き２５４を含んでもよい。例えば、図１１Ｂに示された実施形態において、ガス抜き２５４は、ガス２５６が軸線２２４に対して所定の角度でガス抜き２５４を出るように配置することができる。例えば、ガス２５６は、軸線２２４に対してほぼ０°の角度αで（即ち、ガラス基板６２の表面２０４に垂直に）、または、軸線２２４に対してゼロよりも大きいから約６０°の範囲の任意の角度でガス抜き２５４から出てもよい。いくつかの実施形態において、ガスは、必ずしも軸２２４と交差する方向というわけではないが、軸線２２４の方に内向きに出てもよい。例えば、いくつかの実施形態において、ガスは、内方に、ただし、軸線２２４から偏った方向（図１１Ｃを参照）に出てもよい。いくつかの実施形態において、ガス送達装置２４６は、ガラス基板に向う方向にガスの流れを導くように構成された複数のガス抜きを備えてもよい。例えば、ノズル部材２５２は、ノズル部材の両端に位置し、ガラス基板の主要面に垂直に、または、主要面に斜めにガスの流れを概ねガラス基板６２に導くように配置された複数のガス抜き２５４を含んでもよい。
【００７４】
図１０を参照すると、ノズル部材２５２は、ガスが、矢印２５８によって示されているように、ガラス基板と実質的に平行な方向にノズル部材を出るように配置された第２の複数のガス抜き２５６をさらに備えることがあり、その結果、軸線２２４周りの円形方向に回転可能ノズル部材を推進するスラストが得られる。したがって、ノズル部材２５２は、内部空間２１４内で回転されることがある。ノズル部材２５２が内部空間２１４内で回転するとき、第１の複数のガス抜き２５４から出るガスは、円形パターンをたどってシュラウド組立体２０２に隣接して配置されたガラス基板の方に導かれる。第１の複数のガス抜き２５４が全体的に軸線２２４の方向に斜めにガスの流れを導くように構成されている実施形態によれば、ガス流は、ガラス基板上の粒子状物質を払い落として粒子状物質をファンネル２１２の中心軸の方に、および、ファンネル２１２の縁部から離れるように吹き飛ばす。
【００７５】
図８および図１１Ａを参照すると、ネック部材２３０は、空気２６０の流れが第１の開口部２１８を通ってファンネル２１２へ引き込まれ、空気の流れは、さらにファンネル２１２から引き出されて、ネック部分２３０を通って排気されるように真空源（図示せず）と流体連通する。すなわち、吸引が、ネック部材２３０を介して内部空間２１４に印加される。さらに、スカート部分２３４と接続された少なくとも１つの排気管２４２は、空気２６２の流れがスカート部分２３４とファンネル２１２との間の内部空間２３８へ引き込まれ、排気管２４２を通って内部空間２３８から引き出されるように、真空源と流体連通する。
【００７６】
図７および図１１Ａを参照すると、ガラス洗浄装置２００は、ガスナイフ２６４（例えば、エアナイフ）をさらに備えることがあり、ガスナイフ２６４は、加圧ガス、例えば、空気が供給され、このガスは、矢印２６６によって示されているように、高速でガスナイフのスロットから排出される。ガスナイフから排出されたガスは、シュラウド組立体２０２から出る粒子状物質が、シュラウド組立体の方に戻る方向に押されてガラス基板の表面から除去されるようにガラス洗浄装置２００に隣接するガラス基板６２の主要面に向けられる。図１１Ａに示されているように、ガスナイフ２６４を出るガスは、シュラウド２１２とガラス基板６２の第１の表面２０４の間の隙間Ｆに向う方向に導かれる。いくつかの実施形態において、１つ超えのガスナイフが、各ガラス洗浄装置に関連付けられてもよい。例えば、図７は、２つのシュラウド組立体２０２の各々に関連した少なくとも２つのガスナイフ２６４、つまり、搬送方向１０８と平行に位置合わせされたガスナイフおよび搬送方向１０８と直交して配置されたガスナイフを示す。
【００７７】
要約すると、ガラス基板６２がガイドアーム１２２、１２４によって案内されたガラス洗浄組立体２００を過ぎて搬送方向１０８に移動するとき、回転ノズル２５２が回転し、円形パターンが第１の主要面２０４にわたって掃引される。回転ノズルのガス抜き２５４を出るガスは、ガラス基板６２の第１の主要面２０４に当たるとガラスデブリなど、粒子状物質を第１の主要面から持ち上げる。スカート部分２３４とファンネル２１２との間に画定された内部空間２３８に印加された吸引は、ガス抜き２５４を出るガスによってファンネル２１２の内部から離れる方向に吹き飛ばされるかもしれない粒子状物質を捕捉し、粒子状物質がシュラウド組立体２０２の経路の外側で第１の主要面２０４上に再付着しないように粒子状物質を、排気管２４２を介して排出する。
【００７８】
さらに、ガスナイフ２６４は、粒子状物質が排気管２４２を通って適用された吸引によって排出されてもよい第３の開口部２４０に向う方向にデブリを吹き戻す。
【００７９】
いくつかの実施形態において、ガラス洗浄装置２００は、シュラウド組立体２０２より下方に、例えば、ガラス基板下縁部の搬送路に沿ってガラス基板６２より下方に配置され、搬送路に沿って延びる真空経路２７０をさらに備えてもよい。真空経路２７０は、真空源と流体連通する１つ以上の真空通路を備えてもよい。真空経路２７０は、シュラウド組立体２０２を出るかもしれない粒子状物質を捕捉するために配置されている。そうでなければ、その粒子状物質、例えば、ファンネル２１２を通るガス流が、粒子をファンネルに引き込み、ファンネルから引き出すのに不十分であるほど十分な重量の大きい粒子は、重力によって下方に引かれるかもしれない。真空経路２７０によって捕捉された粒子状物質は、その後、矢印２７４（図１１Ａを参照）によって示されているように、通路２７２を介して真空経路２７０から引き出され、その後、例えば、フィルタ装置、例えば、フィルタバッグに捕捉されてもよい。
【００８０】
シュラウド組立体２０２の粒状除去効率のモデル化では、粒径および排気管２４２を介してスカート部分２３４内から除去されるガスの速度の両方を検討した。幅が約１００マイクロメートルの粒子（例えば、同等の直径）について、粒子は、一般的にシュラウド組立体２０２によって影響を受けず下方に落ち、粒子は、真空経路２７０によって捕捉することができることがわかった。６０マイクロメートル以下の幅を有する、例えば、１０マイクロメートルの幅を含め、３０マイクロメートル以下の幅を有する粒子については、排気管２４０を通る約２メートル／秒以上のガス流速は、粒子をガラス基板に対して跳ねさせる傾向があり、その結果、基板損傷の状況が示された。したがって、排気管２４２を通るガスの速度を２メートル／秒未満、例えば、約０．０５メートル／秒から２メートル／秒未満の範囲の速度に維持すると、ガラス基板に対する粒子状物質の跳ね返りを引き起こすことなく、１００マイクロメートル未満、例えば、約６０マイクロメートル以下の粒子状物質を除去することができることがわかった。最適性能は、約１メートル／秒以下の、例えば、約０．０５メートル／秒から約１メートル／秒の範囲で、例えば、約０．１メートル／秒から約０．７メートル／秒の範囲で排気管２４０を通る排気速度で達成された。
【００８１】
モデル化によって、ネック部材２３０を介してファンネル２１２の内部空間２１４に印加された吸引（以下、中央真空という）は、回転ノズルの粒状除去機能、およびスカート部分２３４で印加される（以下、リング真空という）に悪影響を及ぼすことがわかった。ガラス洗浄装置２００の好適な操作方法は、ガラス基板がファンネル２１２に隣接する間には中央真空をオフし、その後、ファンネルに隣接するガラスがない期間中に、ファンネルの内部を洗浄するために中央真空を利用することである。これは、図１２Ａ−図１２Ｄを使用して可視化することができる。
【００８２】
図１２Ａを参照すると、破線２８０は、搬送方向１０８に進む前進中のガラス基板６２に最も近い、特に、スカート部分２３４最も近いシュラウド組立体２０２上の地点に接する平面を表す。接平面２８０は、搬送方向１０８と直交している。前縁１２８が接平面２８０に到達する前に、吸引がネック部分２３０を介して容積部２１４上で引き出されるように中央真空を起動させてもよく、その結果、シュラウド組立体２０２を過ぎて搬送された前のガラス基板から累積していたかもしれない粒子状物質がファンネル２１２から除去される。前縁１２８が接平面２８０に到達したとき、または、前縁１２８が接平面２８０に到達する前の何らかの時間に、中央真空は、シュラウド組立体２０２がガラス基板６２に直に対向している時間中に中央真空が機能していないようにオフされる。いくつかの実施形態において、ノズル組立体２４６に対するガス圧力は、前縁１２８が接平面２８０に到達する前に、または、到達したときにオフされてもよく、その後、前縁１２８が接平面２８２（接平面２８０に接する地点の反対側のシュラウド組立体２０２上の地点に接する平面）に到達し、シュラウド組立体２０２が、図１２Ｂに示されているように、ガラス基板６２に完全に隣接して配置されたとき、ノズル組立体２４６に対するガス圧力は、再確立されてもよい。
【００８３】
図１２Ｃをここで参照すると、後縁１３０が接平面２８０に到達したとき、ノズル組立体２４６に対するガス圧力は、停止されることがある。その後、ガラス基板は搬送方向１０８に沿って移動し続けるので、後縁１３０が図１２Ｄに示されているように接平面２８２に到達したとき、（シュラウド組立体２０２がもはやガラス基板６２に対向していないとき）または、その後、中央真空は、ファンネル２１２内で回収されるかもしれない粒子状物質の除去を助けるためにオンされてもよい。
【００８４】
イベントの前出のシーケンス中、１つ以上のガスナイフ２６４は、連続的に操作されることがある。同様に、イベントの前出のシーケンス中、真空経路２７０は、連続的に操作されることがある。いくつかの実施形態において、吸引は、前出のシーケンスを通して連続的に真空孔２４２を通って印加されてもよいが、さらなる実施形態において、真空孔２４２を通る吸引は、同時にまたはほぼ同時に切り替えてオンおよびオフされてもよく、ノズル部材２５２に対する加圧ガスは切り替えられる。
【００８５】
ガラス基板６２が下流側プロセスステーション６４に移動し、例えば、ガラス洗浄装置２００および前縁１２８が下流側プロセス設備の損傷する態様を通過すると、コントローラ１２６は、延伸装置１１８、１２０にガイドアーム１２２を延伸し、ガイドアーム１２４を退縮させることによってガイドアーム１２２、１２４間の隙間Ｇを開くように指示することができる。さらに、コントローラ１２６は、キャリッジ組立体１１４が次のガラス基板を待つために開始位置に戻るまで、駆動組立体１１６に搬送方向１０８の反対の戻り方向にキャリッジ組立体１１４を移動するように指示することができ、その後、プロセスサイクルは繰り返す。
【００８６】
様々な改変および変形を、本開示の精神および範囲から逸脱することなく本開示の実施形態に行うことができることが当業者には明らかであろう。したがって、本開示は、添付の特許請求の範囲および均等物の範囲に該当することを条件としてかかる改変および変更を包含することが意図されている。
【００８７】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【００８８】
実施形態１
平面の基板を洗浄する装置において
シュラウド組立体
を備え、当該シュラウド組立体が、
第１の中空内部空間を画定するシュラウドであって、当該シュラウドが、当該第１の中空内部空間への第１の開口部を画定する第１の端部、当該第１の端部の反対側の、当該第１の中空内部空間への第２の開口部を画定する第２の端部を含む、シュラウド、
前記中空内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なノズル部材であって、当該ノズル部材が、ガスの第１の流れを前記基板の方に導くように配置された第１のガス抜きを含む、ノズル部材、
スカート部分であって、環状の第２の中空内部空間が当該スカート部分と前記シュラウドとの間に形成されるように前記第１の端部に隣接して当該シュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分、および
前記第２の開口部を介して前記第１の内部空間と流体連通する第１の真空孔および前記環状の第２の内部空間と流体連通する第２の真空孔、
を含む、装置。
【００８９】
実施形態２
前記シュラウドが、円錐形部分を含む、実施形態１に記載の装置。
【００９０】
実施形態３
前記第１のガス抜きが、前記ガスの第１の流れを前記回転軸に向う方向に導くように配置されている、実施形態１に記載の装置。
【００９１】
実施形態４
前記シュラウド組立体に近接して配置され、ガスの第３の流れを前記基板に向う方向に導くように配置された少なくとも１つのガスナイフをさらに備える、実施形態１に記載の装置。
【００９２】
実施形態５
前記シュラウド組立体より下方に配置された真空経路をさらに備える、実施形態１に記載の装置。
【００９３】
実施形態６
前記第１の開口部が前記基板の主要面に隣接して配置されるように実質的に垂直の配向で当該基板を搬送するように構成された搬送装置をさらに備える、実施形態１に記載の装置。
【００９４】
実施形態７
前記ガラス洗浄装置が、１対の対向するシュラウド組立体を備え、前記平面基板が当該１対の対向するシュラウド組立体の間で搬送されるように配置された、実施形態６に記載の装置。
【００９５】
実施形態８
前記第１の開口部上の前記第２の開口部の突出部が、当該第１の開口部と同心である、実施形態１に記載の装置。
【００９６】
実施形態９
前記回転軸が、前記第１の開口部の中央部を貫通する、実施形態１に記載の装置。
【００９７】
実施形態１０
前記回転軸が、前記第２の開口部の中央部を貫通する、実施形態９に記載の装置。
【００９８】
実施形態１１
前記回転軸が、前記第２の開口部の中央部を貫通する、実施形態１に記載の装置。
【００９９】
実施形態１２
前記シュラウドが、円筒形シュラウドである、実施形態１に記載の装置。
【０１００】
実施形態１３
前記搬送装置が、
搬送部材、
前記搬送部材に結合され、搬送方向に当該搬送部材の長さに沿って移動可能なキャリッジ組立体、
前記キャリッジ組立体に結合された１対の延伸装置であって、当該１対の延伸装置の各延伸装置が、前記搬送方向と実質的に平行な方向に延伸装置から延びるガイドアームを含み、当該ガイドアームが、当該搬送方向と直交する横方向に沿って移動可能である、１対の延伸装置、
前記ガラス板の前縁を第１の位置で検出するために配置される第１のセンサー、および
前記キャリッジ組立体および前記１対の延伸装置の移動を制御および調整するように構成されたコントローラ、
を含む、実施形態６に記載の装置。
【０１０１】
実施形態１４
各ガイドアームが、当該ガイドアームの長さに沿って配置された複数のローラーを備える、実施形態１に記載の装置。
【０１０２】
実施形態１５
各ガイドアームが、加圧ガスの供給源と流体連通する複数のガスポートを含む、実施形態１に記載の装置。
【０１０３】
実施形態１６
前記第１のセンサーが、光センサーを含む、実施形態１に記載の装置。
【０１０４】
実施形態１７
前記ガラス板の前縁を前記搬送方向に対して前記第１の位置の下流側で第２の位置で検出するために配置された第２のセンサーをさらに備える、実施形態１に記載の装置。
【０１０５】
実施形態１８
前記ガラス板の前縁を第３の位置で検出するために配置される第３のセンサーをさらに備え、当該第３のセンサーが、前記第１のセンサーと垂直に位置合わせされている、実施形態１に記載の装置。
【０１０６】
実施形態１９
前記第３のセンサーが、前記ガラス板の前縁を当該ガラス板の下縁部で検出するために配置されている、実施形態１８に記載の装置。
【０１０７】
実施形態２０
ガラス基板を洗浄する方法において
前記ガラス基板を搬送方向に搬送するステップであって、当該ガラス基板が、シュラウド組立体を備えるガラス洗浄装置に隣接して通り、当該シュラウド組立体が、
第１の中空内部空間を画定するシュラウドであって、当該シュラウドが、当該第１の中空内部空間への第１の開口部を画定する第１の端部と、当該第１の端部の反対側の第２の端部とを含み、当該第２の端部が、当該第１の中空内部空間への第２の開口部を画定し、当該第２の開口部の直径が、当該第１の開口部の直径未満である、シュラウド、
前記内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なガスノズル部材であって、当該ガスノズル部材が、ガスの第１の流れを前記ガラス基板の主要面に向う方向に導くように配置された第１のガス抜きを含む、ガスノズル部材、
スカート部分であって、環状の第２の中空内部空間が当該スカート部分と前記シュラウドとの間に形成されるように前記第１の開口部に隣接して当該シュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分、および
前記環状第２の中空内部空間と流体連通する第１の真空孔、
を含む、ステップと、
前記ガスの第１の流れが、円形路を前記第１の開口部を通って前記ガラス基板の表面にわたって掃引し、粒子状物質を当該ガラス基板の表面から払い落とすように前記ガスノズル部材を前記回転軸周りに回転させるステップ、および
吸引を前記第１の真空孔に印加し、それによって、前記払い落とされた粒子状物質を当該第１の真空孔を介して排出するステップ
を含む、方法。
【０１０８】
実施形態２１
前記第１の真空孔を介して排出されたガスの速度が、約１メートル／秒以下である、実施形態２０に記載の方法。
【０１０９】
実施形態２２
前記第１の真空孔を介して排出されたガスの速度が、約０．０５メートル／秒から約１メートル／秒の範囲である、実施形態２１に記載の方法。
【０１１０】
実施形態２３
前記第１の真空孔を介して排出されたガスの速度が、約０．１メートル／秒から約０．７メートル／秒の範囲である、実施形態２２に記載の方法。
【０１１１】
実施形態２４
前記シュラウドが、前記第２の開口部を介して前記第１の中空内部空間と流体連通する第２の真空孔を含み、前記方法が、前記ガラス基板が前記シュラウド組立体に隣接していないときに限り吸引を当該第２の真空孔に印加することをさらに含む、実施形態２０に記載の方法。
【０１１２】
実施形態２５
前記第１のガス抜きを通る前記ガスの第１の流れが、前記シュラウド組立体が前記ガラス基板に隣接していないときに停止される、実施形態２０に記載の方法。
【０１１３】
実施形態２６
前記第１の開口部上への前記第２の開口部の突出部が、当該第１の開口部と同心である、実施形態２０に記載の方法。
【０１１４】
実施形態２７
前記シュラウドが、円錐形部分を含む、実施形態２０に記載の方法。
【０１１５】
実施形態２８
前記ガラス基板が、実質的に垂直の配向で当該ガラス基板の頂部から支持されている間に搬送される、実施形態２０に記載の方法。
【０１１６】
実施形態２９
前記搬送するステップが、
前記ガラス基板の前縁の位置を前記搬送方向に対して感知するステップ、
前記前縁の前記感知された位置を用いて搬送速度を判定するステップ、
前記ガラス板の前記感知された位置に応答してキャリッジ組立体を前記搬送速度で前記搬送方向に移動するステップであって、当該キャリッジ組立体は、当該組立体に結合され、当該搬送方向と実質的に平行な方向に当該組立体から延びる１対の対向するガイドアームを含む、ステップ、
前記ガイドアームを開放位置から制約する位置まで前記搬送方向と直交する横方向に移動し、それによって、当該ガイドアーム間の隙間を低減して当該搬送方向と直交する方向の前記ガラス基板の移動を制約するステップ、
を含む、実施形態２５に記載の方法。
【符号の説明】
【０１１７】
１０  ガラス製造装置
１２  ガラス溶融炉
１４  溶融槽
１６  上流側ガラス製造装置
１８  原材料貯蔵ビン
２０  原材料送達装置
２２  モーター
２４  原材料
２６  矢印
２８  溶融ガラス
３０  下流側ガラス製造装置
３２  第１の連結管
３４  清澄槽
３６  混合装置
３８  第２の連結管
４０  送達容器
４２  形成体
４４  出口導管
４６  第３の連結管
４８  形成装置
５０  入口導管
５２  トラフ
５４  １対の収束形成面
５６  形成体の下縁部
５８  ガラス
６０  延伸方向
６２  ガラス基板
６４  ガラス基板洗浄プロセスステーション
１００  搬送装置
１０２  移送組立体
１０４  レールまたは軌道
１０６  移動可能な取り付け台組立体
１０８  搬送方向
１１０  クランプ装置
１１２  搬送部材、支持部材
１１４  キャリッジ組立体
１１６  駆動組立体
１１７  制御ライン
１１８、１２０  延伸装置
１１９、１２１  制御ライン
１２２、１２４  ガイドアーム
１２３  制御ライン
１２６  コントローラ
１２７  横方向
１２８  前縁
１３０  後縁
１３２ａ  第１のセンサー
１３２ｂ  第２のセンサー
１３４ａ、１３４ｂ、１３４ｃ  光源
１３６ａ、１３６ｂ、１３６ｃ  反射ターゲット
１３８ａ、１３８ｂ、１３８ｃ  検出器
１４０ａ  光ビーム
１４２ａ，１４２ｂ，１４２ｃ  データライン
１４４  ローラー
１４６  ガス抜き
１４８、１５０  ガス供給管路
２００  ガラス洗浄装置
２０２  シュラウド組立体
２０４  第１の主要面
２０６  第２の主要面
２１０  シュラウド
２１２  ファンネル
２１４  内部容積部
２１６  第１の端部
２１８  第１の円形開口部
２２０  第２の端部
２２２  第２の開口部
２２４  長手軸
２２６  第１の平面
２２８  平面
２３０  中空ネック部分
２３２  通路
２３４  スカート部分
２３６  フランジ
２３８  環状内部空間
２４０  第３の開口部
Ｒ  距離
２４２  排気管、真空孔
２４４  通路
２４６  ガス送達装置
２４８  中央シャフト
２５０  ガス送達通路
２５２  ノズル部材、回転ノズル
２５４  支持部材、ガス抜き
２５６  加圧ガス、ガス抜き
２５８  ガス供給管路、矢印
α  角度
２６０、２６２  空気
２６４  ガスナイフ
２６６  矢印
２７０  真空経路
２７２  通路
２７４  矢印
２８０  破線、接平面
２８２  接平面
３１０  シュラウド
３１２  第１の端部
３１６  第１の開口部
３１８  第２の端部
３２０  平面またはドーム状端部部材
３２２  第２の開口部
３２４  中空ネック部分
４１０  シュラウド
４１４  第１の端部
４１６  第１の開口部
４１８  第２の端部
４２０  端部部材
４２２  第２の開口部
４２４  中空ネック部分
Ｆ  隙間
【図１】
2019526437.tif 000003
【図２】
2019526437.tif 000004
【図３】
2019526437.tif 000005
【図４】
2019526437.tif 000006
【図５】
2019526437.tif 000007
【図６】
2019526437.tif 000008
【図７】
2019526437.tif 000009
【図８】
2019526437.tif 000010
【図９Ａ】
2019526437.tif 000011
【図９Ｂ】
2019526437.tif 000012
【図１０】
2019526437.tif 000013
【図１１Ａ】
2019526437.tif 000014
【図１１Ｂ】
2019526437.tif 000015
【図１１Ｃ】
2019526437.tif 000016
【図１２Ａ】
2019526437.tif 000017
【図１２Ｂ】
2019526437.tif 000018
【図１２Ｃ】
2019526437.tif 000019
【図１２Ｄ】
2019526437.tif 000020
【図１３】
2019526437.tif 000021
【国際調査報告】
2019526437.tif 000022
2019526437.tif 000023