(57)【要約】本明細書に記載されているのは、プラズマ処理システムから取得された光学発光分光法（ＯＥＳ）データのエンドポイントを判定するための構造、プラットフォーム、及び方法である。ＯＥＳデータは、たとえば、吸着ステップ処理、脱着ステップ処理、またはそれらの組合せを含んでいる。この実施例では、ＯＥＳデータは、エンドポイントの判定の前に、信号の同期と過渡信号のフィルタリングを経る。このことは、移動平均フィルタの適用を通して実施される場合がある。
2019526939.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理システムにおける処理エンドポイントのデータを判定するための方法であって、
基板の複数ステップのプラズマ処理を実施する前記プラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバから光学発光分光法（ＯＥＳ）データを受信することであって、周期的な前記複数ステップのプラズマ処理が、周期的に繰り返される少なくとも２つの処理ステップを含んでいる、前記受信することと、
前記受信したＯＥＳデータの第１の不動部分を判定することであって、前記第１の不動部分が、前記複数ステップのプラズマ処理のフィルタリングされた処理ステップの平均である、前記判定することと、
前記判定された第１の不動部分の第１のエンドポイントを判定することと、を含む、方法。
【請求項２】
前記複数ステップのプラズマ処理が、原子層エッチング（ＡＬＥ）処理である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも２つの処理ステップが、吸着ステップと脱着ステップとを含み、前記フィルタリングされた処理ステップが、過渡信号のフィルタリングされた吸着ステップまたは過渡信号のフィルタリングされた脱着ステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記光学発光分光法（ＯＥＳ）データを受信することが、周期的に繰り返される、前記少なくとも２つの処理ステップと同期している、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の不動部分の判定の前に、前記少なくとも２つの処理ステップの切替えに関連する過渡部分を除去することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の不動部分が、前記複数ステップのプラズマ処理の前記少なくとも２つの処理ステップの選択された処理ステップの間に取得された前記ＯＥＳデータの上側エンベロープから得られる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記選択された処理ステップが、原子層エッチング（ＡＬＥ）処理の吸着ステップである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記受信されたＯＥＳデータの第２の不動部分を判定することであって、前記第２の不動部分が、原子層エッチング（ＡＬＥ）処理の脱着ステップの平均である、前記判定することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の不動部分と前記第２の不動部分との平均を判定することをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記エンドポイントを判定することが、前記判定された第２の不動部分に基づく、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記エンドポイントを判定することが、前記第１の不動部分と前記第２の不動部分との前記平均に基づく、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の不動部分を前記判定することが、移動平均フィルタを前記フィルタリングされた処理ステップに適用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
第２の不動信号に基づいて前記エンドポイントを前記判定する前に、前記受信したＯＥＳデータの過渡信号を除去することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第２の不動データに基づく第２のエンドポイントの判定が、主成分分析を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１のエンドポイントを判定することが、主成分分析を含んでいる、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１のエンドポイントを判定することが、
予め計算され、貯蔵された平均光学発光分光法（ＯＥＳ）データマトリクス［Ｓａｖｇ］を提供することと、
予め計算され、貯蔵された主要構成要素の重みベクトル［Ｐ］を提供することと、
前記周期的な複数ステップのプラズマ処理の間の所定のタイムインターバルにおける第１の不動信号から光学発光分光法（ＯＥＳ）データセットを形成することと、
光学発光分光法（ＯＥＳ）データセットの各々から、前記予め提供された平均光学発光分光法（ＯＥＳ）データマトリクス［Ｓａｖｇ］を減じて、光学発光分光法（ＯＥＳ）データセットの各々を低減することと、
前記提供された主成分の重みベクトル［Ｐ］を使用して、変換された光学発光分光法（ＯＥＳ）データベクトル［Ｔ］の少なくとも１つの要素を計算することにより、低減され、かつ、平準化されていない光学発光分光法（ＯＥＳ）データセットの各々を、変換された光学発光分光法（ＯＥＳ）データに変換させることと、
前記変換された光学発光分光法（ＯＥＳ）データベクトル［Ｔ］の前記計算された少なくとも１つの要素から、トレンド変数ｆ（Ｔｉ）をさらに計算することと、
前記周期的な複数ステップのプラズマ処理の間の、前記トレンド変数ｆ（Ｔｉ）の前記計算された値から前記周期的な複数ステップのプラズマ処理の前記第１のエンドポイントを検出することと、をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
１つまたは複数のコントローラに、
基板の複数ステップのプラズマ処理を実施するプラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバから光学発光分光法（ＯＥＳ）データを受信することであって、前記複数ステップのプラズマ処理が、周期的に繰り返される少なくとも２つの処理ステップを含んでいる、前記受信することと、
各処理ステップの過渡信号をフィルタリングすることと、
前記受信したＯＥＳデータの第１の不動部分を判定することであって、前記第１の不動部分が、前記複数ステップのプラズマ処理の前記フィルタリングされた処理ステップの平均である、前記判定することと、
前記判定された第１の不動部分のエンドポイントを判定することと、
を含む、プラズマ処理のエンドポイントを判定する処理を実行させるプログラムを貯蔵した、非一時的なコンピュータ可読媒体。
【請求項１８】
基板の複数ステップのプラズマ処理を実施するためのプラズマ処理チャンバであって、前記複数ステップのプラズマ処理が、周期的に繰り返される少なくとも２つの処理ステップを含んでいる、前記プラズマ処理チャンバと、
前記プラズマ処理チャンバに結合されたセンサであって、前記センサが、光学発光分光法（ＯＥＳ）データによって示された前記少なくとも２つの処理ステップを検出する、前記センサと、
前記センサ及び前記プラズマ処理チャンバに結合されたＯＥＳモジュールであって、前記ＯＥＳモジュールが、
前記センサから前記ＯＥＳデータを受信するステップと、
前記受信したＯＥＳデータの過渡信号を除去するステップと、
前記ＯＥＳデータの第１の不動部分を判定するステップと、
前記第１の不動部分のエンドポイントを検出するステップと、
を実施するように構成されている、前記ＯＥＳモジュールと、を備えた、プラズマ処理システム。
【請求項１９】
前記複数ステップのプラズマ処理が、原子層エッチング（ＡＬＥ）処理である、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記少なくとも２つの処理ステップが、吸着ステップと脱着ステップとを含んでいる、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記ＯＥＳモジュールが、前記センサによる前記ＯＥＳデータの取得を、前記複数ステップのプラズマ処理の前記周期的に繰り返される処理ステップと同期させるステップを実施するように構成されている、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２２】
前記ＯＥＳモジュールが、前記ＯＥＳデータの第２の不動部分を判定するステップであって、前記第２の不動部分が、前記複数ステップのプラズマ処理のフィルタリングされた脱着ステップ処理の平均である、前記判定するステップを実施するように構成されている、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２３】
前記第１の不動部分が、前記複数ステップのプラズマ処理のフィルタリングされた吸着ステップ処理の平均である、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２４】
前記吸着ステップ処理が、原子層エッチング（ＡＬＥ）処理である、請求項２３に記載のシステム。
【請求項２５】
前記エンドポイントを判定することが、主成分分析を含んでいる、請求項１８に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
原子層エッチング（ＡＬＥ）は、層毎のエッチングを原子スケールの正確さで可能にするプラズマエッチング技術である。ＡＬＥは、たとえば、吸着反応と脱着反応との間で連続する複数ステップのサイクルを使用して薄い材料層を除去するための技術を実施する。ＡＬＥは、連続エッチングを代替するものであり、原子層の堆積に対する重要な同等物と見られている。
【０００２】
エンドポイントの検出（ＥＰＤ）は、エッチングされた材料が、下の層に対して取り除かれたことを検出することにより、プラズマエッチング処理を停止するか変更するために使用される。エッチングされた材料のタイプ、及び、エッチング処理のパラメータに応じて、エッチング処理のエンドポイントにおけるプラズマの光放射スペクトルの変化が発せられ、検出が比較的容易である場合があり、逆に、希薄で、検出が比較的困難である場合がある。たとえば、開いている比率が低い材料のエッチングは、光学発光分光法（ＯＥＳ）データの処理のための現在のアルゴリズムを使用した、エンドポイントの検出を困難にする場合がある。したがって、光学発光分光法（ＯＥＳ）データに基づくエッチングのエンドポイントの検出を、そのような困難なエッチング処理の条件においてより強固にすることに、向上が必要である。
【０００３】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１６年９月２日に出願された、「ＥＮＤＰＯＩＮＴ  ＤＥＴＥＣＴＩＯＮ  ＡＬＧＯＲＩＴＨＭ  ＦＯＲ  ＡＴＯＭＩＣ  ＬＡＹＥＲ  ＥＴＣＨＩＮＧ」と題する、同時係属中の米国仮特許出願第６２／３８２，９０４号に基づくとともに、優先権を主張する。この文献の内容は、その全体が、本明細書に組み込まれる。本出願は、２０１６年２月２５日に出願され、「ＭＥＴＨＯＤ  ＯＦ  ＥＮＤＰＯＩＮＴ  ＤＥＴＥＣＴＩＯＮ  ＯＦ  ＰＬＡＳＭＡ  ＥＴＣＨＩＮＧ  ＰＲＯＣＥＳＳ  ＵＳＩＮＧ  ＭＵＬＴＩＶＡＲＩＡＴＥ  ＡＮＡＬＹＳＩＳ」と題する、同時係属中の米国非仮特許出願第１５／０５３，３６８号（参照番号ＴＴＩ−２４０ＵＳ２−ＣＯＮ）に関連する。この出願は、現在は米国特許第９，３３０，９９０号である、２０１３年１０月１７日に出願され、「ＭＥＴＨＯＤ  ＯＦ  ＥＮＤＰＯＩＮＴ  ＤＥＴＥＣＴＩＯＮ  ＯＦ  ＰＬＡＳＭＡ  ＥＴＣＨＩＮＧ  ＰＲＯＣＥＳＳ  ＵＳＩＮＧ  ＭＵＬＴＩＶＡＲＩＡＴＥ  ＡＮＡＬＹＳＩＳ」と題する、同時係属中の米国非仮特許出願第１４／０５６，０５９号（参照番号ＴＴＩ−２４０）の継続出願である。この出願は、２０１２年１０月１７日に出願され、「ＭＥＴＨＯＤ  ＯＦ  ＥＮＤＰＯＩＮＴ  ＤＥＴＥＣＴＩＯＮ  ＯＦ  ＰＬＡＳＭＡ  ＥＴＣＨＩＮＧ  ＰＲＯＣＥＳＳ  ＵＳＩＮＧ  ＭＵＬＴＩＶＡＲＩＡＴＥ  ＡＮＡＬＹＳＩＳ」と題する、米国仮特許出願第６１／７１５，０４７号（参照番号ＴＴＩ−２４０ＰＲＯＶ）に基づくとともに、その優先権を主張する。この文献は、その全体が、参照することによって本明細書に組み込まれる。
【０００４】
詳細な説明は、添付図面を参照して記載される。図中、参照符号のもっとも左の数字（複数可）は、その参照符号が最初に現れる図を示している。同じ数が、同様の特徴及び構成要素を参照するために、図面を通して使用される。
【図面の簡単な説明】
【０００５】
【図１】本明細書の実施態様に記載されるようなエッチング処理の間の、エンドポイントの検出の概観を示す例示的シナリオである。
【図２】本明細書の実施態様に記載されるような光学発光分光法（ＯＥＳ）モジュールの例示的な概略ブロック図である。
【図３】本明細書の実施態様に記載されるような、ＯＥＳモジュールによって処理される入力信号の例示的グラフの表示である。
【図４】プラズマエッチング処理システムの複数処理のステップの例示的なエンドポイント検出を示す例示的処理チャートである。
【図５】本明細書に記載の、例示的なエンドポイント検出を示す例示的処理チャートである。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
本明細書に記載されるのは、複数処理のステップのプラズマエッチング処理システムにおける、処理ステップまたは処理ステップの組合せの、エンドポイントの検出のための構造、プラットフォーム、及び方法である。複数処理のステップの処理システムは、たとえば、原子層エッチング（ＡＬＥ）処理であり、ＡＬＥ処理は、プラズマエッチング処理システムからの、検出された、または得られた光学発光分光法（ＯＥＳ）データとしての、連続信号カーブによって示される場合がある。この実施例では、連続信号カーブ（すなわち、検出されたＯＥＳデータ）は、過渡信号（たとえば、処理ステップ間のスパイクまたはノイズ）を含む場合があり、したがって、連続信号カーブは、本明細書に記載のエンドポイントの検出を実施する前に、さらに同期、フィルタリング、及び平均化される場合がある。
【０００７】
一実施態様では、同期され、フィルタリングされ、かつ平均化された連続信号カーブは、さらに、たとえば、複数処理のステップの吸着ステップ処理の平均を示す場合がある第１の不動部分、及び／または、たとえば、複数処理のステップの脱着ステップ処理の平均を示す場合がある、第２の不動部分を提供するように輪郭が描かれ、及び／または、識別される場合がある。この実施態様では、エンドポイント検出処理は、第１の不動部分のみ、第２の不動部分のみ、または、第１の不動部分と第２の不動部分との平均に基づく場合がある。他の実施態様では、過渡部／ノイズの値を無視できる場合、エンドポイント検出は、検出された連続信号カーブを直接利用する場合がある。すなわち、過渡信号を無視できる、検出された、同期された連続信号カーブまたはＯＥＳのデータである。
【０００８】
本明細書に記載のように、第１の不動部分は、連続信号カーブまたはＯＥＳデータのフィルタリングされた上側エンベロープ（すなわち、吸着ステップ処理）の平均を示す場合がある。一方、第２の不動部分は、連続信号カーブまたはＯＥＳデータのフィルタリングされた下側エンベロープ（すなわち、脱着ステップ処理）の平均を示す場合がある。
【０００９】
フィルタリングされた上側エンベロープとフィルタリングされた下側エンベロープとは、ＯＥＳデータの上側エンベロープと下側エンベロープとのそれぞれに現れ得る、過渡信号の除去を示している。
【００１０】
一実施形態では、ＯＥＳデータは、センサにより、エッチング処理ブロックから、特に、プラズマエッチング処理システムのプラズマ処理チャンバから検出及び取得される。センサによる検出及び取得は、プラズマ処理チャンバで、たとえば、ステップ処理（たとえば、吸着ステップ処理または脱着ステップ処理）の開始に関して同期され、及び／または、複数処理のステップの周期的な切替え（たとえば、吸着ステップ処理と脱着ステップ処理との間の切替え）と同期される。この実施例では、同期は、ハードウェア、ソフトウェア、またはハードウェアとソフトウェアとの両方の組合せによって実施される場合がある。
【００１１】
同期したＯＥＳデータにより、平滑化またはフィルタリング、平均化、及びエンドポイントの検出がその後に実施され得る。特に、過渡信号のフィルタリングは、たとえば、過渡信号が存在する、識別された期間（複数可）または信号の部分（複数可）を除くことによって実施され得る。過渡信号のフィルタリングの後に、移動平均フィルタなどのフィルタを使用することによって平均化を実施して、第１の不動部分、第２の不動部分、または第１の不動部分と第２の不動部分との両方の平均を生成する場合がある。
【００１２】
したがって、第１の不動部分、第２の不動部分、または第１の不動部分と第２の不動部分との両方の平均に基づき、エンドポイントの検出は、参照出願（すなわち、米国出願第６１／７１５，０４７号、米国出願第１４／０５６，０５９号、及び米国出願第１５／０５３，３６８号）に記載のような統合アルゴリズムなどの主成分分析（ＰＣＡ）を使用して、または、他の技術のＰＣＡではない方法を使用することにより、判定される場合がある。
【００１３】
図１は、本明細書の実施形態に記載されるようなエッチング処理の間の、エンドポイントの検出の概観を示す例示的シナリオ１００である。シナリオ１００は、プラズマ処理システム、または、ＡＬＥ処理などの、周期的に繰り返される複数ステップのプラズマ処理を利用する、任意の他のタイプのエッチングシステムである場合がある。
【００１４】
図示のように、ＯＥＳモジュール１０２は、エッチング処理ブロック１０４に、有線または無線接続１０８を通して接続されている場合がある。エッチング処理ブロック１０４は、本明細書では、プラズマエッチングまたは、プラズマベースの処理である任意の他の処理を実施するブロック機構として簡略化されている。さらに、エッチング処理ブロック１０４は、たとえば、エッチング処理ブロック１０４において、エッチング処理の操作の間、ＯＥＳデータ（または連続信号カーブ）を検出及び取得するセンサ１０６を含む場合がある。この実施例では、センサ１０６は、さらなる処理のために、取得したデータをＯＥＳモジュール１０２に送信する。
【００１５】
本明細書に記載のように、センサ１０６によるＯＥＳデータの取得は、エッチング処理ブロック１０４によって実施されるエッチング処理と同期される場合がある。その理由は、エンドポイントの検出が、処理ステップ（吸着ステップの処理など）が別の処理ステップ（脱着ステップの処理など）にシフトするか切り替わる、またはその逆の際の特定の時間または期間を認識しているためである。これに関し、エンドポイントの検出は、２つの方法で特定の時間または期間を認識することである。第１の方法は、ハードウェア構成要素を通してＯＥＳデータを直接受信することによるものであり、第２の方法は、過渡信号を確認し、過渡信号をフィルタリングし、以下にさらに論じるように、平均化された第１の不動部分と第２の不動部分とを提供するように構成されたソフトウェアを使用することによるものである。
【００１６】
図１を引き続き参照すると、ＯＥＳモジュール１０２による処理には、たとえば、トランシーバ構成要素（図示せず）を通して取得されたＯＥＳデータを受信することと、受信されたＯＥＳデータを同期させることと、受信されたＯＥＳデータに存在し得る過渡信号のフィルタリングまたはカットオフと、周期的に繰り返される複数ステップのプラズマ処理における各処理ステップの平均の判定（たとえば、移動平均フィルタの使用）と、平滑化されたＯＥＳデータのエンドポイントを判定するためのアルゴリズム（たとえば、統合アルゴリズム）の適用と、が含まれる場合がある。この実施例では、ＯＥＳモジュール１０２は、本発明の範囲を逸脱することなく、任意の適切なハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、またはこれらの組合せで実施され得る。さらに、ＯＥＳモジュール１０２は、たとえば、エッチング処理ブロック１０４などの、プラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバに直接結合されるか組み込まれている場合がある。
【００１７】
エッチング処理ブロック１０４は、たとえば、ＡＬＥ処理を含む、プラズマベースの処理システムを利用する場合がある。ＡＬＥ処理は、周期的に繰り返される吸着ステップ（すなわち、連続信号カーブの上側エンベロープ）と、周期的に繰り返される脱着ステップ（すなわち、連続信号カーブの下側エンベロープ）にさらに輪郭が描かれる場合がある、複数ステップの処理（すなわち、連続信号カーブによって示される）を含む場合がある。この実施例では、エッチング処理ブロック１０４に接続されたセンサ１０６は、処理ブロック１０４によって実施されたプラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバから、複数ステップの処理データ（すなわち、ＯＥＳデータ）を検出及び取得する場合がある。ＯＥＳデータが取得されると、センサ１０６は、取得されたＯＥＳデータをＯＥＳモジュール１０２に、有線または無線接続１０８を通して送信する場合がある。
【００１８】
ＯＥＳモジュール１０２は、センサ１０６を通して取得されたＯＥＳデータを受信するトランシーバ（図示せず）を含む場合がある。一実施態様では、ＯＥＳモジュール１０２は、ＯＥＳデータの取得における同期を促進するように構成されている場合がある。たとえば、センサ１０６は、エッチング処理ブロック１０４上の周期的な複数ステップのプラズマ処理の処理ステップの周期的な切替えに関し、ＯＥＳデータのサンプリングの取得を同期させるために、エッチング処理ブロック１０４の操作と同期する。
【００１９】
さらに、ＯＥＳモジュール１０２は、ＯＥＳデータのプラズマステップ処理を同期させ、同期したＯＥＳデータ（または、ＡＬＥ処理信号と呼ばれる場合がある）上の過渡信号のフィルタリングを促進し、フィルタリングされたＯＥＳデータの平均化を促進し、最後に、平滑化したＡＬＥ処理信号またはＯＥＳデータのエンドポイントの判定を促進するように構成されている場合がある。
【００２０】
本明細書に記載のように、ＯＥＳデータの同期、フィルタリングなどは、エンドポイントの分析または判定の前のデータの平滑化と呼ばれる場合がある。さらに、エンドポイントの検出には、相互参照する関連出願に記載の方法が利用される場合がある。特に、統合アルゴリズムが、複数ステップのプラズマ処理の各ステップ処理（すなわち、第１の不動部分または第２の不動部分）に基づくか、以下にさらに論じるように、複数ステップのプラズマ処理の少なくとも２つのステップ処理の平均（すなわち、第１の不動部分と第２の不動部分との平均）に基づいて、適用される場合がある。
【００２１】
さらに、ＯＥＳモジュール１０２は、処理されたＯＥＳデータに基づいて制御パラメータを出力するように構成されている場合がある。出力された制御パラメータは、たとえば、エッチング処理ブロック１０４により、プラズマ処理システムの動作の間に、パラメータの調整のために、利用される場合がある。たとえば、センサ１０６によるＯＥＳデータのサンプリングの取得には、周期的な複数ステップのプラズマ処理の処理ステップの周期的な切替えに関する同期が必要である場合がある。換言すると、センサ１０６は、周期的な複数ステップのプラズマ処理の処理ステップの周期的な切替えに関するＯＥＳデータの取得の調整のために、出力制御パラメータを受信する場合がある。
【００２２】
ＯＥＳデータの取得において、センサ１０６は、たとえば、エッチング処理ブロック１０４におけるプラズマ処理システムのスペクトル（すなわち、ＯＥＳデータ）を測定する分光計を含む場合がある。スペクトルは、この実施例では、波長または周波数の関数としての光の強度を含む場合がある。センサ１０６は、他の光検出器がプラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバにおける光の強度を測定するために利用される場合があることから、分光計には限定されない場合がある。
【００２３】
本明細書に記載の実施形態が、同期され、フィルタリングされるなどするデータのソースとしてプラズマ処理システムを参照しているが、他のエッチング処理システムが、エッチング処理ブロック１０４において利用され得、また、本明細書に記載のものと同じ処理が、エンドポイントの判定の前に、信号をより強固にするために適用される場合がある。
【００２４】
図２は、本明細書の本実施態様に記載されるようなＯＥＳモジュール１０２の例示的な概略ブロック図である。図示のように、ＯＥＳモジュール１０２は、トランシーバ２００と、信号同期装置２０２と、フィルタ２０４と、メモリ２０６と、プロセッサ２０８とを含む場合がある。ＯＥＳモジュール１０２は、入力信号２１０及び出力信号２１２をさらに示している。ＯＥＳモジュール１０２は、信号同期装置２０２、フィルタ２０４、及びメモリ２０６などのハードウェア構成要素によって実施されているものであるが、プロセッサ２０８は、これらハードウェア構成要素の機能を実行するソフトウェアアルゴリズムを実施するように構成されている場合がある。
【００２５】
たとえば、ソフトウェアアルゴリズムは、センサ１０６による信号の検出及び取得（すなわち、連続信号カーブまたはＯＥＳデータの取得）の同期、及び、ＯＥＳデータの複数処理のステップ（たとえば、吸着のステップ処理及び脱着のステップ処理）の同期を実施する場合がある。さらに、ソフトウェアアルゴリズムは、ＯＥＳデータの過渡信号の検出、識別、及びフィルタリングと、フィルタリングされたＯＥＳデータの第１の不動部分（たとえば、吸着ステップ処理）を生成するための、フィルタリングされたＯＥＳデータの判定及び平均化と、フィルタリングされたＯＥＳデータの第２の不動部分（たとえば、脱着ステップ処理）を生成するための、フィルタリングされたデータの判定及び平均化とを実施する場合がある。
【００２６】
さらにまた、ソフトウェアアルゴリズムは、吸着ステップ処理（すなわち、第１の不動部分）の平均に基づくか、脱着ステップ処理（すなわち、第２の不動部分）の平均に基づくか、吸着ステップ処理の平均と脱着ステップ処理の平均との組合せの平均（すなわち、第１の不動部分と第２の不動部分との組合せの平均）に基づくエンドポイントの検出を実施する場合がある。さらに、ソフトウェアアルゴリズムは、過渡信号が存在しない（すなわち、無視できる過渡信号）場合では、検出された連続信号カーブまたはＯＥＳデータの原データの平均に基づくエンドポイントの検出を実施する場合がある。原データの平均は、この実施態様では、取得されたＯＥＳデータに存在する、無視できる過渡信号を除外しないか、フィルタリングしないことを示している。
【００２７】
図２を引き続き参照すると、トランシーバ２００は、センサ１０６から、連続信号カーブまたはＯＥＳデータ（プラズマ処理システムの間）などの入力信号２１０を受信する、回路、ソフトウェア、またはそれらの組合せを含む場合がある。トランシーバ２００による受信及び送信は、特定の予め規定された時間内に実施され得るか、構成される場合があるように、継続的方式で実施され得る。トランシーバ２００は、センサ１０６によるＯＥＳデータの同期及び制御信号の取得のため、ならびに、プラズマ処理条件の切替えの方式またはタイミングなど、エッチング処理ブロック１０４のさらなる同期及び制御操作のために、出力信号２１２（たとえば、出力制御パラメータ）を送信するようにさらに構成されている場合がある。たとえば、センサ１０６によるＯＥＳデータの検出及び取得は、エッチング処理ブロック１０４によって周期的に繰り返される少なくとも２つの処理ステップと同期される。この実施例では、出力信号２１２は、必要な制御パラメータに、センサ１０６及びエッチング処理ブロック１０４の動作を同期させることを促進する場合がある。
【００２８】
前述の実施例のハードウェア構成要素の代替形態として、ソフトウェアアルゴリズムが、ＯＥＳデータの同期を実施する場合がある。たとえば、プロセッサ２０８は、吸着ステップ処理、脱着ステップ処理、過渡信号部分、及び、ＯＥＳデータ上の条件の他の変更を示す場合がある、連続信号カーブの部分を識別するソフトウェアアルゴリズムを実施する場合がある。
【００２９】
一実施態様では、同期され、フィルタリングされ、かつ、平均化されることになる入力信号２１０は、エンドポイントの検出のための様々な態様を提供する場合がある。たとえば、これらの態様は、吸着ステップのみ（すなわち、第１の不動部分）の平均、脱着ステップのみ（すなわち、第２の時間に依存する光信号の部分）の平均、特定の時間内の吸着ステップと脱着ステップとの組合せ、第１の時間内の吸着ステップと第２の異なる時間内の脱着ステップとの組合せ、及び、他の異なる組合せを含んでいる。この実施例では、ソフトウェアアルゴリズムは、入力信号２１０の特定の態様に基づくエンドポイントの検出を実施する場合がある。さらに、各態様に関するエンドポイントの検出は、エンドポイントの検出の目的のための処理のために、信号２１０の可能性のあるベストな態様を得るために、比較される場合がある。
【００３０】
たとえば、ＯＥＳモジュール１０２は、第１の不動部分（すなわち、吸着ステップ処理）に基づくプラズマ処理システムのエンドポイントを判定するように構成されている。この実施例では、センサ１０６は、ＯＥＳデータ、特に、周期的に繰り返される吸着ステップ処理上のＯＥＳデータを取得するように構成される場合がある。すなわち、センサ１０６は、サイクルタイムの増大または減少、時間内の過渡信号、プラズマ塩素処理における反応のための吸着の速度定数の増大、作動温度などを検出するように構成されている場合がある。これらパラメータ（すなわち、作動温度、サイクル時間の増大または減少など）は、吸着強度信号によって示される場合があり、エンドポイントの判定のために、信号同期装置２０２、フィルタ（複数可）２０４、及びプロセッサ２０８によるさらなる処理のために、トランシーバ２００による入力信号２１０として受信される場合がある。
【００３１】
別の実施例では、ＯＥＳモジュール１０２は、時間に基づく吸着及び脱着のステップの信号の組合せなど、周期的に繰り返される複数ステップ処理の組合せに基づくプラズマ処理システムのエンドポイントを判定するように構成されている。この実施例では、センサ１０６は、周期的に繰り返される吸着及び脱着のステップ処理に関するＯＥＳデータを取得するように構成されている場合がある。すなわち、センサ１０６は、周期的な吸着及び脱着のステップ処理のそれぞれのサイクルタイムの増大または減少、周期的に繰り返される複数ステップのプラズマ処理の処理ステップ内の切替えに関連する、プラズマ処理ガス及び他のプラズマ処理条件の切替えに起因する時間内の過渡信号、プラズマ塩素処理の反応、温度に関する吸着及び／または脱着の速度定数の増大などを検出するように構成されている場合がある。
【００３２】
前述の実施例では、検出されたパラメータ（すなわち、温度、サイクルタイムの増大または減少など）は、単一の連続信号カーブまたはＯＥＳデータによって示される場合がある。一実施形態では、ハードウェア構成要素（すなわち、信号同期装置、フィルタなど）、またはソフトウェアアルゴリズム、またはそれらの組合せは、単一の連続信号カーブまたはＯＥＳデータの、吸着ステップ処理（すなわち、第１の不動部分）の平均と、脱着ステップ処理（すなわち、第２の不動部分）の平均との輪郭を描くとともに計算する場合がある。
【００３３】
本明細書に記載するように、信号同期装置２０２は、出力信号２１２をエッチング処理ブロック１０４及び／またはセンサ１０６に送信することにより、同期を実施するように構成されている場合がある。たとえば、少なくとも２つの周期的に繰り返される処理ステップの同期には、それらのそれぞれのサイクルタイムの調整、それらのそれぞれのサンプリング周期のインターバルの調整、作動温度、プラズマ塩素処理の反応に関する吸着及び／または脱着の速度定数の増大または減少などが含まれる場合がある。本実施例では、同期により、フィルタ２０４による処理の前に、入力信号２１０を同調または同期させるように、特定の基準ポイントまたはシークエンスが確立される場合がある。
【００３４】
別の実施例では、信号同期装置２０２は、周期的な複数ステップのプラズマ処理の処理ステップの周期的な切替え（すなわち、吸着ステップ処理から脱着ステップ処理へ、またはその逆）に関する正確なタイミングで、ＯＥＳ信号のサンプリングを生じさせるために、ＯＥＳデータの同期した取得と、プラズマ処理条件の切替えとを促進する場合がある。
【００３５】
入力信号２１０のエラーに起因して、信号同期装置２０２が、少なくとも２つの周期的に繰り返される処理ステップの同期を実施できないかもしれない場合、プロセッサ２０８は、必要な出力信号のパラメータをセンサ１０６に送信することにより、入力信号２１０内のエラーの収集を促進するように構成されている場合がある。
【００３６】
単一の周期的に繰り返されるステップ処理（すなわち、吸着ステップ処理または脱着ステップ処理）に関し、信号の同期が実施されない（すなわち、バイパスされる）場合があり、単一の周期的に繰り返されるステップ処理（すなわち、入力信号２１０）は、エンドポイントの検出の前に、過渡信号のフィルタリングを経る場合がある。このエンドポイントの検出は、統合アルゴリズムまたは主成分分析（ＰＣＡ）、または、任意の他のタイプのＰＣＡではない方法の適用を通して実施される。
【００３７】
本明細書に記載のように、相互参照する関連出願の統合アルゴリズムは、単一の周期的に繰り返される処理の個別のエンドポイントの判定に関して採用されている。さらに、統合アルゴリズムも、受信したＯＥＳデータの複数ステップ処理に関するエンドポイントの判定のために利用され得る。
【００３８】
同期された少なくとも２つの周期的に繰り返される処理ステップの、信号同期装置２０２の出力からの取得の後に、フィルタ（複数可）２０４は、吸着ステップ処理から脱着ステップ処理へ、及びその逆のプラズマシステムの周期的な切替えの間に生じる場合がある過渡信号を、カットオフするように構成されている場合がある。
【００３９】
たとえば、過渡信号は、受信されたＯＥＳデータのスペクトル内の、各サンプリングインターバルの開始時か、すべての時間の後に、生じるように検出される場合がある。別の実施例では、過渡信号は、吸着または脱着の強い光信号が、所定の閾値より上である場合に検出される場合がある。これら実施例では、フィルタ２０４は、各サンプリングインターバルの開始時、または、所定の閾値を使用する場合、検出された過渡信号が閾値を超えた場合に、過渡信号を除去するように構成されている場合がある。閾値は、この場合、過渡信号の存在を規定する。
【００４０】
過渡信号の除去または最小化により、フィルタリングされた吸着の強い光信号が、以下にさらに論じるような別のフィルタリング処理をさらに経る場合がある。同様に、脱着の強い光信号に関し、前の記載で論じたものと同じ手順（たとえば、閾値の使用）が、脱着の強い光信号から過渡信号をカットオフするために適用される場合がある。
【００４１】
吸着及び／または脱着の強い光信号からの過渡信号の除去の後に、フィルタ２０４は、別のアルゴリズムを実施するか、フィルタリングされたＯＥＳデータを平均化するように、フィルタ反応機能（たとえば、移動平均フィルタ）を適用するように構成されている場合がある。移動平均フィルタは、この場合、各データポイントを、特定のスパン内で規定された隣接するデータポイントの平均と置き換えることによってデータを平滑化する場合がある。さらに、移動平均フィルタは、以下に図３でさらに論じるように、第１の不動部分、第２の不動部分、または第１の不動部分と第２の不動部分との平均を生成する場合がある。
【００４２】
吸着及び／または脱着の強い光信号の平滑化及び平均化の後に、エンドポイントが、統合アルゴリズムによって検出される。相互参照した関連出願におけるエンドポイントの判定は、適用可能であり得るように、本明細書に採用される。
【００４３】
１つまたは複数のプロセッサ２０８は、単一の処理ユニットコントローラであるか、複数の処理ユニットコントローラである場合があり、それらのすべてが、単一もしくは複数の計算ユニットまたは複数のコアを含む場合がある。プロセッサ（複数可）２０８は、動作命令に基づき、周期的な複数ステップ処理信号を操作する場合がある、１つまたは複数のマイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ、マイクロコントローラ、デジタル信号プロセッサ、中央処理ユニット、ステートマシン、論理回路、及び／または任意のデバイスとして実施される場合がある。他の能力の内、プロセッサ（複数可）２０８は、メモリ２０６または他のコンピュータ可読記録媒体に貯蔵された、コンピュータ可読命令またはプロセッサアクセス可能命令をフェッチ及び実行するように構成されている場合がある。たとえば、プロセッサ（複数可）２０８は、吸着ステップ処理、脱着ステップ処理、またはこれら両方の組合せか平均に基づくエンドポイントの判定を判定するように構成されている場合がある。
【００４４】
メモリ２０６は、本明細書に記載の様々な機能を実施するように、プロセッサ（複数可）２０８によって実行される命令を貯蔵するための、非制定法のコンピュータ可読記録媒体の実施例である。たとえば、メモリ２０６は、概して、揮発性メモリと不揮発性メモリ（たとえば、ＲＡＭ、ＲＯＭなど）との両方を含む場合がある。メモリ２０６は、本明細書では、メモリまたはコンピュータ可読記録媒体と称される場合がある。メモリ２０６は、本明細書の実施態様に記載の動作及び機能を実行するために構成された特定のマシンのように、プロセッサ（複数可）２０８によって実行され得る、コンピュータ可読命令、プロセッサ実行可能プログラム指示をコンピュータプログラムコードとして貯蔵することが可能である。
【００４５】
メモリ２０６は、本明細書に記載のエンドポイントの判定のための１つまたは複数のアプリケーション（図示せず）をさらに貯蔵する場合がある。このアプリケーションは、予め構成され／インストールされ、かつ、ダウンロード可能なアプリケーションを含む場合がある。さらに、メモリ２０６は、本明細書に記載のように、エンドポイントの判定のための処理を経るＯＥＳデータを貯蔵する場合がある。たとえば、メモリ２０６は、信号同期装置２０２、フィルタ（複数可）２０４などの出力を貯蔵する。
【００４６】
図３は、本明細書に記載のＯＥＳモジュールによって収集及び処理されたＯＥＳデータ３００の例示的なグラフ表示である。ＯＥＳデータ３００は、時間またはサイクルにわたって光強度の量が異なる単一の連続信号カーブ３０２を含む場合がある。光強度の量は、垂直な「Ｙ」軸により、時間にわたって示されている。この時間は、水平な「Ｘ」軸によって示される場合がある。さらに、単一の連続信号カーブ３０２の上側エンベロープと下側エンベロープとは、吸着ステップ処理と脱着ステップ処理とのそれぞれなど、周期的な複数ステップ処理を示す場合がある。
【００４７】
単一の連続信号カーブ３０２は、さらに、上側エンベロープに存在する場合がある、過渡信号３０４−２、３０４−４、…、３０４−ｎを含み、これにより、単一の連続信号カーブ３０２の吸着ステップ処理が示される。同様に、過渡信号３０６−２、３０６−４、…、３０６−ｎが下側エンベロープに存在する場合があり、これにより、単一の連続信号カーブ３０２の脱着ステップ処理が示される。これら過渡信号３０４及び３０６は、複数ステップのプラズマ処理の周期的な切替えの間、または、サイクルの特定の持続時間にわたって周期的に生じる場合がある、ノイズ、スパイク、または不要な信号を示す場合がある。
【００４８】
一実施形態では、フィルタ２０４は、フィルタ２０４による平均化（たとえば、移動平均フィルタの適用）の前に、単一の連続信号カーブ３０２を平滑化するように、過渡信号３０４及び３０６をカットオフするか除去するように構成されている場合がある。たとえば、プロセッサ２０８は、周期的な切替えステップ処理の各々の始点からの特定の時間の間に生じる過渡信号３０４及び３０６を検出する場合がある。この実施例では、フィルタ２０４は、サイクルの特定の時間内にある単一の連続信号カーブ３０２の一部をカットオフする場合がある。別の実施例では、プロセッサ２０８は、所定の閾値を使用して、過渡信号３０４及び３０６の存在を検出する場合がある。この他の実施例では、フィルタ２０４は、過渡信号の存在を示す、所定の閾値の上の単一の連続信号カーブ３０２の一部をカットオフする場合がある。
【００４９】
過渡信号３０４及び３０６の除去の後に、フィルタ２０４は、たとえば、移動平均フィルタを適用して、単一の連続信号カーブ３０２の残りの上側エンベロープ及び残りの下側エンベロープの平均を計算する場合がある。図３に示すように、吸着ステップ処理を示す残りの上側エンベロープの平均は、第１の不動部分３０８の称される場合があり、一方、脱着ステップ処理を示す残りの下側エンベロープの平均は、第２の不動部分３１０と称される場合がある。
【００５０】
一実施形態では、第１の不動部分３０８は、過渡信号３０４を除去した後の、吸着ステップ処理の信号部分の平均を含んでいる。同様に、第２の不動部分３１０は、過渡信号３０６を除去した後の、脱着ステップ処理の信号部分の平均を含んでいる。さらに、図３は、第１の不動部分３０８と第２の不動部分３１０との組合せの、計算された平均を示す場合がある平均信号３１２を示している。
【００５１】
別の実施態様では、過渡信号３０４及び３０６の値が無視できる場合、第１の不動部分３０８及び第２の不動部分３１０は、過渡信号３０４及び３０６をフィルタリングする必要なく、直接計算される場合がある。この他の実施態様では、平均信号３１２は、受信した単一の連続信号カーブ３０２に直接基づく場合がある。
【００５２】
上述の図２のＯＥＳモジュール１０２を参照すると、ＯＥＳモジュール１０２は、第１の不動部分３０８、第２の不動部分３１０、及び／または平均信号３１２に基づくエンドポイントの検出を実施する場合がある。エンドポイントの検出を参照すると、相互参照した関連出願の統合アルゴリズムは、ＯＥＳデータ３００のエンドポイントを判定するために利用される場合がある。
【００５３】
図４は、プラズマエッチング処理システムにおける周期的に繰り返される複数処理のステップのエンドポイントの検出のための例示的処理４００を示している。本方法が記載される順番は、限定として解釈されることは意図しておらず、任意の数の記載の方法のブロックを、本方法、または代替的方法を実施する任意の順番で組み合わせることができる。さらに、個別のブロックは、本明細書に記載の主題の精神及び範囲から逸脱することなく、本方法から除去される場合がある。さらに、本方法は、本発明の範囲を逸脱することなく、任意の適切なハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、またはこれらの組合せで実施され得る。
【００５４】
ブロック４０２では、データの検出及び取得が実施される。たとえば、プラズマ処理システムに関し、光検出デバイス（すなわち、センサ１０６）が、光学発光分光法（ＯＥＳ）データ（たとえば、ＯＥＳデータ３００）を、１つまたは複数のエッチング処理の実行のセットから取得するために利用される場合がある。相互参照した出願にさらに論じるように、スペクトルは、プラズマエッチング処理の実行のエッチングの各々の間に、ｎ回取得される場合がある。ここで、ｎは２以上の整数である。連続したＯＥＳデータの取得（すなわち、スペクトルの取得）間のサンプリングインターバルは、０．０１秒から１．０秒に変化する場合がある。取得されたＯＥＳデータのセットの各々、すなわち、スペクトルは、ＣＣＤ（電荷結合デバイス）光検出デバイスのｍピクセルに対応する、ｍの測定された光強度を含む場合があり、ｍピクセルの各ピクセルは、センサ１０６において光散乱デバイスとして通常は採用される回折格子によってピクセル上に投影された特定の光の波長に対応する。
【００５５】
前述の実施例では、取得されたＯＥＳデータ３００は、トランシーバ２００を通してＯＥＳモジュール１０２によって受信される場合がある。
【００５６】
ブロック４０４では、ＯＥＳが複数ステップ処理を含むかを判定する。
【００５７】
ブロック４０４における条件が、単一ステップ処理、すなわち、吸着ステップ処理のみか、脱着ステップ処理のみである場合、ブロック４０６の「ＮＯ」の分枝を辿り、吸着ステップ処理または脱着ステップ処理の過渡信号の除去が、たとえば、ブロック４０８における移動平均フィルタの適用の前に、適用される場合がある。ブロック４０８における信号の平均化により、第１の不動部分３０８、第２の不動部分３１０、及び／または、組み合わせられた第１の不動部分と第２の不動部分との平均である、平均信号３１２が生成される。
【００５８】
ブロック４１０では、エンドポイントの検出が実施される。たとえば、エンドポイントの判定は、第１の不動部分３０８、第２の不動部分３１０、及び／または、平均信号３１２に基づく場合がある。
【００５９】
ブロック４０４における条件が、複数ステップ処理である場合、ブロック４１２の「ＹＥＳ」の分枝を辿り、受信したＯＥＳデータ（たとえば、ＯＥＳデータ３００）の同期が、信号同期装置２０２によって実施され得る。
【００６０】
ブロック４１４では、過渡信号の除去が実施される。たとえば、フィルタ２０４は、単一の連続信号カーブ３０２の検出された過渡信号３０４及び３０６をカットオフする。
【００６１】
ブロック４１４では、複数ステップ処理のエンドポイントの検出が実施される。たとえば、相互参照した出願に記載されるような統合アルゴリズムが、エンドポイントを検出するために利用される場合がある。別の実施例では、他の従来技術のエンドポイントの検出も利用される場合がある。これら実施例では、エンドポイントの検出は、第１の不動部分３０８、第２の不動部分３１０、及び／または、組み合わせられた第１の不動部分と第２の不動部分との平均である、平均信号３１２に基づいている。
【００６２】
本発明に係る実現は、特定の実施形態の文脈において記載されてきた。これら実施形態は、限定ではなく、説明的ものであることを意味している。多くの変形形態、変更形態、追加形態、及び向上形態が可能である。したがって、複数の例が、単一の例として、本明細書に記載の構成要素に関して提供される場合がある。様々な構成要素、操作、及びデータの貯蔵の間の境界は、いくぶん自由裁量によるものであり、特定の操作は、特定の説明的構成の文脈で説明される。機能の他の割当てが予見され、また、添付の特許請求の範囲の範囲内となり得る。最後に、様々な構成において別々の構成要素として提供された構造及び機能は、組み合わせられた構造または構成要素として実施される場合がある。これら及び他の変形形態、変更形態、追加形態、及び向上形態は、添付の特許請求の範囲に規定されるような本発明の範囲内にあり得る。
【００６３】
図５は、本明細書に記載のプラズマエッチング処理システムにおける周期的に繰り返される複数処理のステップのエンドポイントの検出のための例示的処理５００を示している。以下の例示的なエンドポイントの検出は、相互参照した出願に基づくものであり、それとして、読み手は、ブロック５０２からブロック５１４のさらなる議論及び説明に関し、相互参照した出願を見ることができる。さらに、エンドポイントの検出は、第１の不動部分３０８、第２の不動部分３１０、または、第１の不動部分と第２の不動部分との平均（すなわち、平均信号３１２）に適用される場合がある。さらにまた、当該技術の任意の他の方法が、本明細書に記載のように、エンドポイントを検出するために適用される場合がある。本方法が記載される順番は、限定として解釈されることは意図しておらず、任意の数の記載の方法のブロックを、本方法、または代替的方法を実施するための任意の順番で組み合わせることができる。さらに、個別のブロックは、本明細書に記載の主題の精神及び範囲から逸脱することなく、本方法から除去される場合がある。さらに、本方法は、本発明の範囲を逸脱することなく、任意の適切なハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、またはこれらの組合せで実施され得る。
【００６４】
ブロック５０２では、予め計算され、貯蔵された平均光学発光分光法（ＯＥＳ）データマトリクス［Ｓａｖｇ］の提供が実施される。
【００６５】
ブロック５０４では、予め計算され、貯蔵された構成要素の重みベクトル［Ｐ］の提供が実施される。
【００６６】
ブロック５０６では、周期的な複数ステップのプラズマ処理の間の所定のタイムインターバルにおける処理ステップからの光学発光分光法（ＯＥＳ）データセットの形成が実施される。
【００６７】
ブロック５０６では、光学発光分光法（ＯＥＳ）データセットの各々から、予め提供された平均光学発光分光法（ＯＥＳ）データマトリクス［Ｓａｖｇ］を減じて、光学発光分光法（ＯＥＳ）データセットの各々を低減する。
【００６８】
ブロック５０８では、提供された主成分の重みベクトル［Ｐ］を使用して、変換された光学発光分光法（ＯＥＳ）データベクトル［Ｔ］の少なくとも１つの要素を計算することにより、低減され、かつ、平準化されていない光学発光分光法（ＯＥＳ）データセットの各々を、変換された光学発光分光法（ＯＥＳ）データに変換させる。
【００６９】
ブロック５１０では、変換された光学発光分光法（ＯＥＳ）データベクトル［Ｔ］の計算された少なくとも１つの要素から、トレンド変数ｆ（Ｔｉ）のさらなる計算が実施される。
【００７０】
ブロック５１２では、周期的な複数ステップのプラズマ処理の間の、トレンド変数ｆ（Ｔｉ）の計算された値からの周期的な複数ステップのプラズマ処理の第１のエンドポイントの検出が実施される。
【００７１】
本発明に係る実現は、特定の実施形態の文脈において記載されてきた。これら実施形態は、限定ではなく、説明的なものであることを意味している。多くの変形形態、変更形態、追加形態、及び向上形態が可能である。したがって、複数の例が、単一の例として、本明細書に記載の構成要素に関して提供される場合がある。様々な構成要素、操作、及びデータの貯蔵の間の境界は、いくぶん自由裁量によるものであり、特定の操作は、特定の説明的構成の文脈で説明される。機能の他の割当てが予見され、また、添付の特許請求の範囲の範囲内となり得る。最後に、様々な構成において別々の構成要素として提供された構造及び機能は、組み合わせられた構造または構成要素として実施される場合がある。これら及び他の変形形態、変更形態、追加形態、及び向上形態は、添付の特許請求の範囲に規定されるような本発明の範囲内にあり得る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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