(57)【要約】  データ源間にばらつきのある複数のデータ源（３０２、３０４）からのレコードをそれらのデータの整合品質の点で整合させる方法であって、方法は、整合したレコード（３２０、３２２）を取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理する（３１４〜３１８）ことを含み、整合ルールは、整合品質のばらつきに基づいて規定される。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ源間にばらつきのある複数の前記データ源からのレコードをそれらのデータの整合品質の点で整合させる方法であって、整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、前記データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することを含み、前記整合ルールは、前記整合品質の前記ばらつきに基づいて規定される、方法。
【請求項２】
前記整合したレコードを取得するために使用された前記整合ルールの厳密さに対応する整合品質インジケータに、前記整合したレコードを関連付けることをさらに含む、請求項１に記載の整合方法。
【請求項３】
整合品質における前記データ源間の前記ばらつきには、それらのデータの精度における前記データ源間の相違が含まれる、請求項１に記載の整合方法。
【請求項４】
前記整合ルールは、様々なデータ源のフィールド間の隔たり尺度に基づいて規定される、請求項１に記載の整合方法。
【請求項５】
前記隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間の時間差が含まれる、請求項４に記載の整合方法。
【請求項６】
前記隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間のエラー識別子の出現の相対頻度の逆数の差が含まれる、請求項４に記載の整合方法。
【請求項７】
前記整合に先立って、前記データの少なくとも一部を変換する、または分割することをさらに含む、請求項１に記載の整合方法。
【請求項８】
（ａ）前記複数のデータ源からフィールドセットを選択するステップと、
（ｂ）前記フィールド間で１つまたは複数の隔たり尺度を規定するステップと、
（ｃ）前記規定した隔たり尺度に基づいて、厳密さが異なる整合ルールのセットを規定するステップと、
をさらに含み、
前記データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することは、
（ｄ）前記整合ルールのセットの最も厳密なものを使用して前記データ源に照会し、それによって得られた整合したレコードを、高い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
（ｅ）前記整合ルールのセットの厳密さが緩いルールを使用して前記データ源に照会し、それによって得られた整合したレコードを、低い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
を含む、請求項１に記載の整合方法。
【請求項９】
製造システムの少なくとも一部分における１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成する方法であって、
整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することで、前記データ源間にばらつきのある複数の前記データ源からのレコードをそれらのデータの整合品質の点で整合させるステップであって、前記整合ルールは、前記整合品質の前記ばらつきに基づいて規定される、ステップと、
前記整合したレコードを使用して、前記製造システムの一部で実施される１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成するステップと、
を含む、スケジュールを作成する方法。
【請求項１０】
１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成することは、前記整合したレコードを使用して、予測障害モデルを実行することを含む、請求項９に記載のスケジュールを作成する方法。
【請求項１１】
前記レコードは、スケジューラを使用して整合し、前記方法は、前記製造システムの一部において、前記スケジューラを使用して、前記１つまたは複数の保守作業の実施を制御することをさらに含む、請求項９に記載のスケジュールを作成する方法。
【請求項１２】
リソグラフィプロセスに関連する装置であって、
整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することで、前記データ源間にばらつきのある複数の前記データ源からのデータを含むレコードをそれらのデータの整合品質の点で整合させるように構成された処理ユニットであって、前記整合ルールは、前記整合品質の前記ばらつきに基づいて規定される、処理ユニットを備え、
前記装置は、前記整合したレコードを使用して、前記装置で実施される１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成する、装置。
【請求項１３】
前記整合ルールは、様々なデータ源のフィールド間の隔たり尺度に基づいて規定される、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間の時間差が含まれる、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間のエラー識別子の出現の相対頻度の逆数の差が含まれる、請求項１３に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
[0001]  本願は、２０１６年４月２０日に出願された欧州特許出願公開第１６１６６２１８．４号の優先権を主張するものであり、この特許は、参照によりその全体を本明細書に援用される。
【０００２】
[0002]  本発明は、レコードを整合させる方法と、スケジュールを作成する方法と、関連するコンピュータプログラム製品と、リソグラフィプロセスに関連する装置とに関する。方法は、例えば、半導体デバイスを製造するためにリソグラフィプロセスを使用するものなどの製造システムで使用可能である。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置は、基板に、通常は基板のターゲット部分に所望のパターンを付加する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。その際に、代替としてマスクまたはレチクルとも称されるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層に形成される回路パターンを発生させることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）のターゲット部分（例えば、１つまたは複数のダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けられた放射感応性材料（レジスト）層への結像による。一般に、単一の基板は、連続的にパターン形成された、隣接したターゲット部分のネットワークを含む。
【０００４】
[0004]  リソグラフィ装置は、リソグラフィプロセスに関連する装置の例である。リソグラフィプロセスに関連する他の装置には、基板にレジストを被覆するためのトラックと、クリティカルディメンジョン（ＣＤ）、層間オーバーレイ、およびリソグラフィ装置の焦点距離を測定するメトロロジツールとがある。
【０００５】
[0005]  リソグラフィプロセスを実施するための基板処理システム（このシステムの実施形態は、多くの場合、リソグラフィセルとして公知である）は、リソグラフィプロセスに関連する装置を含む。通常、リソグラフィ装置およびトラックを含む基板処理システムでは、基板処理システムの機械が引き続き適切に動作するのを保証するために、保守を適時実施しなければならない。例えば、リソグラフィ装置では、定期的に（例えば、１時間に１回、１日に１回など）実施しなければならないキャリブレーションをリソグラフィ装置の保守スケジュールに従って、自動的に開始することができる。このため、実施に際して、各特定の保守は、その保守に対応する時間間隔（例えば、１日に１回）を有する。
【０００６】
[0006]  （例えば、信頼性中心の保守手法による）作業の費用の最適化を支援するために、コンピュータ制御による保守管理システム（ＣＭＭＳ）は必須条件であると考えられる。製造システム用の最適な保守方策を定めるために、ビジネス情報（例えば、運営費）、性能情報（例えば、構成要素の信頼性、保守時間）、および組織情報（例えば、人／機械比率）を合わせたものが使用される。このリストはこれに尽きるものではない。このＣＭＭＳは、関連するビジネス情報、性能情報、および組織情報をすべて含む。
【０００７】
[0007]  先行保守を改善するために、コンピュータモデルが使用される。非常に正確な保守情報を使用して、そのようなモデルを校正する。何が起こったか、いつ起こったか、およびビジネスへの影響はどれほどであったかを明らかにすることが重要である。検証を目的として、たとえ精度要求があまり厳しくないとしても、結果への深い調査がそれでも実施される。ＣＭＭＳを使用するフィールドで発生する問題のビジネス面、性能面、および組織面の包括的概要を作成することは、きわめて労働集約的な作業である。これは、データがＣＭＭＳに集中するのではなくて、異なるデータ源にわたって分散するためである。特定のデータベースで利用可能な各特定のタイプの情報は、特定の用途に最適化され、例えば、時間書込（タムシート）情報は、顧客に請求書を送るのに最適化され、作業の正確な開始時間はあまり関係しない。
【０００８】
[0008]  データ入力プロセスと、データ適用範囲と、データ適用範囲に関連して、必要とされるデータ精度とにおける相違は、これらの様々なデータ源からのデータを関連付けることを困難にし、時間がかかるようにする。
【発明の概要】
【０００９】
[0009]  本発明者は、レコードを整合させ、スケジュールを作成する方法を考案したが、この方法は、自動的に、様々なデータ源からのデータを統合および修正し、問題のビジネス面、性能面、および組織面を反映することを可能にする。それと同時に、関連付けたデータの品質を示すことができる。
【００１０】
[0010]  本発明は、第１の態様において、データ源間にばらつきのある複数のデータ源からのレコードをデータの整合品質の点で整合させる方法を提供し、方法は、整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することを含み、整合ルールは、整合品質のばらつきに基づいて規定される。
【００１１】
[0011]  整合方法は、
（ａ）複数のデータ源からフィールドセットを選択するステップと、
（ｂ）フィールド間で１つまたは複数の隔たり尺度を規定するステップと、
（ｃ）規定した隔たり尺度に基づいて、厳密さが異なる整合ルールのセットを規定するステップと、
をさらに含んでもよく、
データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することは、
（ｄ）整合ルールのセットの最も厳密なものを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合したレコードを、高い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
（ｅ）整合ルールのセットの厳密さの緩いルールを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合したレコードを、低い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
を含む。
【００１２】
[0012]  本発明は、第２の態様において、製造システムの少なくとも一部分での１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成する方法を提供し、その方法は、
整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することで、データ源間にばらつきのある複数のデータ源からのレコードをデータの整合品質の点で整合させるステップであって、整合ルールは、整合品質のばらつきに基づいて規定される、ステップと、
整合したレコードを使用して、製造システムの一部で実施される１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成するステップと、
を含む。
【００１３】
[0013]  スケジュールを作成する方法は、
（ａ）複数のデータ源からフィールドセットを選択するステップと、
（ｂ）フィールド間で１つまたは複数の隔たり尺度を規定するステップと、
（ｃ）規定した隔たり尺度に基づいて、厳密さが異なる整合ルールのセットを規定するステップと、
をさらに含んでもよく、
データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することは、
（ｄ）整合ルールのセットの最も厳密なものを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合したレコードを、高い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
（ｅ）整合ルールのセットの厳密さが緩いルールを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合したレコードを、低い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
を含む。
【００１４】
[0014]  本発明は、第３の態様において、プログラム可能なデータ処理装置に第１の態様による整合方法を実行させるための命令を含むコンピュータプログラム製品を提供する。
【００１５】
[0015]  本発明は、第４の態様において、プログラム可能なデータ処理装置に第２の態様によるスケジュールを作成する方法を実行させるための命令を含むコンピュータプログラム製品を提供する。
【００１６】
[0016]  本発明は、第５の態様において、リソグラフィプロセスに関連する装置を提供し、この装置は、
整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することで、データ源間にばらつきのある複数のデータ源からのデータを含むレコードをデータの整合品質の点で整合させるように構成された処理ユニットであって、整合ルールは、整合品質のばらつきに基づいて規定される、処理ユニットを備え、
整合したレコードを使用して、装置で実施される１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成する。
【００１７】
[0017]  処理ユニットは、
（ａ）複数のデータ源からフィールドセットを選択し、
（ｂ）フィールド間で１つまたは複数の隔たり尺度を規定し、
（ｃ）規定した隔たり尺度に基づいて、厳密さが異なる整合ルールのセットを規定する、
ようにさらに構成することができ、
処理ユニットは、
（ｄ）整合ルールのセットの最も厳密なものを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合したレコードを、高い整合品質を示すインジケータに関連付けることと、
（ｅ）整合ルールのセットの厳密さが緩いルールを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合したレコードを、低い整合品質を示すインジケータに関連付けることと、
によってデータ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理するようにさらに構成される。
【００１８】
[0018]  本発明の実施形態が、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】リソグラフィ装置をリソグラフィプロセスに関連する他の装置と共に示している。
【図２】保守作業のスケジュールを作成し、管理するためのＣＭＭＳデータベースの使用法を示すフローダイヤグラムである。
【図３】本発明の実施形態による整合方法を示すフローダイヤグラムである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
[0019]  本発明の実施形態を詳細に説明する前に、本発明の実施形態を実施できる例示的環境を提示することは有益である。
【００２１】
[0020]  図１は、リソグラフィ装置をリソグラフィプロセスに関連する他の装置と共に示している。それらの装置は、共に半導体デバイス用の製造システムの一部である。
【００２２】
[0021]  図１は、リソグラフィ大量製造プロセスを実施する製造設備の一部として、リソグラフィ装置ＬＡを１００で示している。この例では、製造プロセスは、半導体ウェーハなどの基板上での半導体製品（集積回路）の製造に適している。当業者には、このプロセスの変形型で様々なタイプの基板を処理することで、多岐にわたる製品を製造できると分かるであろう。今日、莫大な商業的価値がある半導体製品の製造は、単なる例として使用される。
【００２３】
[0022]  リソグラフィ装置（または、略して「リソツール」１００）内において、測定ステーションＭＥＡは１０２で示され、露光ステーションＥＸＰは１０４で示されている。制御ユニットＬＡＣＵは１０６で示されている。この例では、各基板は、測定ステーションと、適用されるパターンを有する露光ステーションに滞在する。光学リソグラフィ装置では、例えば、調整された放射線および投影システムを使用して、製品パターンをパターニングデバイスＭＡから基板に転写するために、投影システムが使用される。これは、放射線感応性レジスト材料の層にパターン像を形成することで行われる。
【００２４】
[0023]  本明細書で使用される「投影システム」という用語は、露光放射を使用するのに適した、または液浸液の使用もしくは真空の使用などの他の要素に適した、屈折式、反射式、反射屈折式、磁気式、電磁式、および静電式光学系、またはそれらの何れかの組み合わせを含む何れかのタイプの投影システムを包含すると広く解釈すべきである。パターニングＭＡデバイスはマスクまたはレチクルとすることができ、パターンまたはレチクルは、パターニングデバイスによって透過または反射される放射ビームにパターンを付与する。公知の動作モードとして、ステッピングモードおよび走査モードがある。公知のように、投影システムは、基板およびパターニングデバイス用のサポートおよび位置決めシステムと様々な方法で協同して、基板全体にわたる多数のターゲット部分に所望のパターンを付加することができる。プログラマブルパターニングデバイスは、固定パターンを有するレチクルの代わりに使用することができる。放射には、例えば、深紫外線（ＤＵＶ）または極紫外線（ＥＵＶ）周波帯の電磁放射があり得る。本開示は、他のタイプのリソグラフィプロセス、例えば、電子ビームによる、例えば、インプリントリソグラフィおよびダイレクトライティングリソグラフィにも適用可能である。
【００２５】
[0024]  リソグラフィ装置制御ユニットＬＡＣＵは、装置に基板ＷおよびレチクルＭＡを受け入れさせ、パターン形成処理を実施させるために、様々なアクチュエータおよびセンサの全ての動作および測定を制御する。ＬＡＣＵには、装置の動作に関連する所望の計算を実施する信号処理およびデータ処理能力もある。実際に、制御ユニットＬＡＣＵは、それぞれがリアルタイムのデータ取得、処理、および装置内のサブシステムまたはコンポーネントの制御を取り扱う多数のサブユニットからなるシステムとして具現化される。
【００２６】
[0025]  基板は、様々な予備ステップが実施できるように、露光ステーションＥＸＰでパターンが基板に付加される前に、測定ステーションＭＥＡで処理される。予備ステップは、高さセンサを使用して、基板の面高さをマッピングすること、およびアライメントセンサを使用して、基板のアライメントマークの位置を測定することを含むことができる。アライメントマークは、通常、規則的な格子パターンに配置される。しかし、マークを形成する際の不正確さにより、さらに、基板の処理全体を通して発生する基板の変形により、マークは理想的な格子から外れる。このため、装置が、製品フィーチャをきわめて高い精度で正確な位置にプリントする場合に、基板の位置および向きを測定することに加えて、実際上、アライメントセンサが、基板領域全体にわたって、多数のマークの位置を詳細に測定しなければならない。
【００２７】
[0026]  リソグラフィ装置ＬＡは、制御ユニットＬＡＣＵによって制御される位置決めシステムをそれぞれが含む２つの基板テーブルを有する、いわゆる２段タイプとすることができる。一方の基板テーブルに載った１つの基板が、露光ステーションＥＸＰで露光されている間、別の基板は、様々な予備ステップを実施できるように、測定ステーションＭＥＡで他方の基板テーブルに載せることができる。したがって、アライメントマークの測定は非常に時間がかかり、２つの基板テーブルを設けることで、装置のスループットの大幅な向上が可能になる。基板テーブルが測定ステーションおよび露光ステーションにある間、位置センサＩＦが、基板テーブルの位置を測定できない場合に、両方のステーションで基板テーブルの位置を探知するのを可能にする第２の位置センサを設けることができる。リソグラフィ装置ＬＡが、２つの基板テーブルを有する、いわゆる２段タイプである場合に、露光ステーションおよび測定ステーションは、基板テーブルを交換することができる異なる位置を取ることができる。
【００２８】
[0027]  製造設備内で、装置１００は、装置１００でパターンを形成するために、感光性レジストおよび他の被覆を基板Ｗに塗布する被覆装置１０８も収容する「リソセル」または「リソクラスタ」の一部を形成する。装置１００の出力側には、露光されたパターンを現像して物理レジストパターンにするために、焼成装置１１０および現像装置１１２が設けられている。これらの全装置間で、基板ハンドリングシステムは、基板の支持と、１つの装置から次の装置への基板の移送とを引き受ける。しばしば一括してトラックと称されるこれらの装置は、トラック制御ユニットの制御下にあり、トラック制御ユニットは、それ自体、監視制御システムＳＣＳによって制御され、監視制御システムＳＣＳはまた、リソグラフィ装置制御ユニットＬＡＣＵを通してリソグラフィ装置を制御する。こうして、様々な装置は、スループットおよび処理効率を最大限にするように動作することができる。監視制御システムＳＣＳは、各パターン付き基板を形成するために実施されるステップの定義をより詳細に規定したレシピ情報Ｒを受け取る。
【００２９】
[0028]  パターンがリソセルにおいて付加され、現像されると、パターン付き基板１２０は、１２２、１２４、１２６などで示す他の処理装置に移送される。典型的な製造設備の様々な装置によって、様々な処理ステップが実施される。例として、この実施形態の装置１２２は、エッチングステーションであり、装置１２４は、エッチング後のアニールステップを行う。さらなる物理的および／または化学的処理ステップがさらなる装置１２６などに適用される。材料の堆積、表面材料特性の改質（酸化、ドーピング、イオン注入など）、化学機械研磨（ＣＭＰ）などの様々なタイプの処理が、実際のデバイスを作製するために必要とされ得る。装置１２６は、実際上、１つまたは複数の装置で実施される一連の様々な処理ステップを表すことができる。
【００３０】
[0029]  公知のように、半導体デバイスの製造は、基板の層ごとに適切な材料およびパターンを用いてデバイス構造を構築するために、そのような処理を多数繰り返すことを必要とする。相応して、リソクラスタに到達した基板１３０は、新たに用意された基板とすることができ、または基板１３０は、このクラスタで、または全く別の装置ですでに処理された基板とすることができる。同様に、必要とされる処理に応じて、基板１３２は、装置１２６から出ると、次のパターン形成処理のために同じリソクラスタに戻すことができ、またはパターン形成処理のために、行き先を異なるクラスタにすることができ、またはダイシングおよびパッケージ化のために送られる完成品とすることができる。
【００３１】
[0030]  製品構造の各層は、プロセスステップの異なるセットを必要とし、各層で使用される装置１２６は、タイプが完全に異なることがある。さらに、装置１２６によって適用される処理ステップが名目上同じである場合でさえ、大型設備において、様々な基板に対してステップ１２６を実施するために、並行して動作するいくつかの同一と考えられる機械があり得る。これらの機械間の構成または欠点の小さな相違は、この小さな相違が、様々な基板に異なる形で影響を及ぼすことを意味し得る。エッチング（装置１２２）などの比較的各層に共通であるステップでさえ、名目上同一であるが、スループットを最大化するために並行して動作するいくつかのエッチング装置によって実施されることがある。実際上、さらに、様々な層は、エッチングされる材料の細部と、例えば、異方性エッチングなどの特別な要件とに応じて、様々なエッチングプロセス、例えば、化学エッチング、プラズマエッチングを必要とする。
【００３２】
[0031]  上記のように、前の、および／または次のプロセスは、他のリソグラフィ装置で実施することができ、様々なタイプのリソグラフィ装置で実施することさえできる。例えば、解像度およびオーバーレイなどのパラメータに関して要求がきわめて厳しい一部の層は、デバイス製造プロセスにおいて、要求があまり厳しくない他の層よりも高度なリソグラフィツールで実施することができる。したがって、一部の層は、液浸タイプのリソグラフィツールで露光することができ、一方、他の層は、「ドライ」ツールで露光される。一部の層は、ＤＵＶ波長で動作するツールで露光することができ、一方、他の層は、ＥＵＶ波長の放射線を使用して露光される。
【００３３】
[0032]  リソグラフィ装置によって露光される基板が、正確かつ一貫的に露光されるために、露光された基板を検査して、基板層間のオーバーレイエラー、線太さ、クリティカルディメンジョン（ＣＤ）などの特性を測定するのが望ましい。相応して、リソセルＬＣが配置された製造設備は、メトロロジシステムＭＥＴも含み、メトロロジシステムＭＥＴは、リソセルで処理された基板Ｗの一部またはすべてを受け入れる。メトロロジの結果は、監視制御システム（ＳＣＳ）１３８に直接的に、または間接的に供給される。エラーが検出されると、特に、同じバッチの他の基板がそれでも露光される程度にすぐに、かつ素早くメトロロジを行うことができる場合に、次の基板の露光を調整することができる。また、すでに露光された基板は、歩留まりを改善するために剥がして再処理するか、または廃棄することができ、それにより、欠陥があると分かっている基板に対するさらなる処理の実施を回避する。基板の一部のターゲット部分だけに欠陥がある場合に、良好であるターゲット部分に対してだけ、さらなる露光を実施することができる。
【００３４】
[0033]  製造プロセスの所望の段階で、製品のパラメータの測定をするために設けられたメトロロジ装置１４０も図１に示されている。最新のリソグラフィ製造設備のメトロロジ装置の一般的な例には、スキャトロメータ、例えば、角度分解スキャトロメータまたは分光スキャトロメータがあり、このスキャトロメータは、装置１２２でエッチングを行う前に、１２０の現像された基板の特性を測定するのに使用することができる。メトロロジ装置１４０を使用して、例えば、オーバーレイまたはクリティカルディメンジョン（ＣＤ）などの重要な性能パラメータが、現像されたレジストにおいて特定の精度要件を満たしていないことを明らかにすることができる。エッチングステップの前に、現像されたレジストを剥がし、リソクラスタによって基板１２０を再処理する機会が存在する。やはり公知のように、装置１４０からのメトロロジの結果１４２を使用して、リソクラスタでのパターン形成処理の高精度な性能を維持し、監視制御システムＳＣＳおよび／または制御ユニットＬＡＣＵ１０６によって、長期にわたる小調整を行い、それにより、製品が仕様から外れる、および再処理を必要とするリスクを最小限にすることができる。当然のことながら、メトロロジ装置１４０および／または他のメトロロジ装置（図示せず）は、処理済み基板１３２、１３４および投入基板１３０の特性を測定するのに適用することができる。
【００３５】
[0034]  図２は、保守作業のスケジュールを作成し、管理するためのＣＭＭＳデータベースの使用法を示すフローダイヤグラムである。これは、本発明の実施形態を実施できる例示的な適用例である。
【００３６】
[0035]  データは、ＣＭＭＳに集中するのではなくて、異なるデータ適用範囲を有する様々なデータ源２０２にわたって分散している。様々なデータ源２０２に対して、データ入力プロセスと、データ適用範囲と、データ適用範囲に関連して必要とされるデータ精度とにおいて相違がある。この結果、データ源は、それらのデータの整合品質において、データ源間にばらつきを有することになる。
【００３７】
[0036]  データは、いくつかの異なるデータ入力プロセスによってＣＭＭＳデータ源に入力される。１つのかかるデータ入力プロセスは、リソグラフィプロセスに関連する装置からの自動データ入力である。このプロセス２０４の開始後、製造システムのリソグラフィプロセスに関連する装置２０８からイベントデータが取得される（２０６、点線で示している）。そのようなイベントデータは、通常、装置内のセンサから送られて、ミリ秒の精度の範囲内でソフトウェアによって生成される。性能データは、取得したイベントデータを使用して生成される。性能データは、ＣＭＭＳデータ源２０２に格納される（２１０）。
【００３８】
[0037]  他の２つのＣＭＭＳデータ入力プロセスが図２に示されている。両方とも２１２で始まり、保守作業を管理するために、スケジューラによって自動で生成することができるサービスオーダを受ける（２１４）。保守作業は、装置２０８において技術者によって実施される（２１６、点線で示している）。技術者は手作業でサービスデータを入力する（２１８）。サービスデータは、タイムシートに入力される時間書込情報とすることができる。サービスデータは、ＣＭＭＳデータ源２０２に格納される（２２０）。保守作業を実施する（２１６）ことには、部品が装置２０８に取り付けられる（２２２、点線で示している）ことを含むことができる。
【００３９】
[0038]  ＣＭＭＳデータ源２０２は、製造システムの少なくとも一部における１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成する方法で使用することができる。図２は、２２６で始まるそのような方法を示している。データ源２０２からのレコードを整合させる（２２８）。このステップは、本発明の実施形態に従って図３に詳細に示される。このステップは、整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することで、データ源からのレコードを整合させることを含む。整合ルールは、データ源のデータ間の整合品質のばらつきに基づいて規定される。
【００４０】
[0039]  保守作業のスケジュール作成は、整合したレコードを使用することで始まって、ステップ２３０で予測障害モデルを実行し、かつ／または１つまたは複数の修正作業を特定する原因解析を実施する。この結果、保守作業のスケジュールが作成される（２３２）。
【００４１】
[0040]  スケジュールを作成する方法は、レコードを整合させるために、コンピュータ実行スケジューラを使用することができる。方法は、１つまたは複数の保守作業の実施を管理することをさらに含む。この例では、これは、１つまたは複数のサービスオーダを発行する（２３４）ことで行われる。上記に説明したように、これらのサービスオーダを受けて（２１４）、保守作業の実施（２１６）を開始する。
【００４２】
[0041]  図３は、本発明の実施形態によるレコードを整合させる方法を示すフローダイヤグラムである。この方法２２８は、図２のステップ２２６〜２３４で示されたスケジュールを作成する方法で使用することができる。
【００４３】
[0042]  複数のデータ源３０２、３０４は、それらのデータの整合品質においてデータ源間でばらつきを有する。整合品質におけるデータ源間のばらつきには、それらのデータの精度または適用範囲におけるデータ源間の相違を含むことができる。この例では、一方のデータ源３０２は、第１のデータ精度および／または適用範囲を有し、他方のデータ源３０４は、第２の異なるデータ精度および／または適用範囲を有する。
【００４４】
[0043]  方法はステップ３０６で始まる。ステップ３０８は、複数のデータ源３０２、３０４からフィールドセットを選択することを含む。
【００４５】
[0044]  ステップ３１０は、フィールド間で１つまたは複数の隔たり尺度を規定することを含む。隔たり尺度は、整合品質のばらつきに関係する。
【００４６】
[0045]  ステップ３１２は、規定した隔たり尺度に基づいて、厳密さが異なる整合ルールのセットを規定することを含む。したがって、整合ルールは、整合品質のばらつきに基づいて規定される。
【００４７】
[0046]  整合ルールは、データ入力プロセスおよびデータ適用範囲におけるばらつきおよび相違を反映する。例えば、特定のイベントデータは、ミリ秒の精度内でソフトウェアによって生成され、他の関連するサービスデータは、場合によっては数日遅れで手作業により入力される。「イベント発生日／時間」に対する、徐々に緩くなる整合ルールは、様々なデータ源間の想定した「イベント発生日／時間」の相違を大きくすることがある。
【００４８】
[0047]  最も厳密な整合ルールは、完全一致とすることができる、すなわち、特定のデータ入力は、対象としているデータ源間で同一である。最も厳密な整合ルールの場合、すべての整合したデータは、最も高いデータ品質の階層（階層１）に属するとして分類することができる。データ品質が高くなるほど、イベントのすべての面に関する不確実性が低くなる。この階層１データの場合に、ビジネス面（例えば、部品コスト、労働時間）、機械面（中断時間、根本エラーまたはエラーパターン、中断時間、関連する中断の回数）、および組織面（中断中に特定の作業に費やす時間、場所に応じた問題解決の相違など）を高い正確度で修正することが可能である。
【００４９】
[0048]  最も厳密さが緩い整合ルールは、様々なデータ源からのデータ間に整合を見ることが出来ない。これは、これらの問題に対して、ビジネス面だけが、または性能面だけが、または組織面だけが既知であることを意味する。データ品質が低くなるほど、イベントに関する不確実性が高くなる。
【００５０】
[0049]  整合ルールは、様々なデータ源のフィールド間の「隔たり」尺度とすることができる。フィールド間で隔たり尺度を規定することができる。
【００５１】
[0050]  例えば、日付／時間の場合、管理情報システムにおいて、日付／時間間の相違の実際の最小値を使用することができる。
【００５２】
[0051]  根本エラー（例えば、装置の障害に対応したエラーコード）の場合、隔たり尺度は、部品の使用または障害の記述などの共通の特徴を有するサービスオーダ（ＳＯ）の特定の群に対するこれらの根本エラーの相対頻度の逆数として規定することができる。部品ごとに、その部品に関してかつて記録されたすべての起こり得る根本エラーのリストを、相対頻度を加えて作成することができる。２つのデータセット間が完全に一致する（すなわち、それらが同じ根本エラーを有する）場合、「隔たり」は０と規定することができ、それ以外の場合、相対頻度の逆数を使用することができる。
【００５３】
[0052]  これらの２つの例に対して、他の多数の隔たり尺度を使用することができる。整合ルールは、対象の専門家によって作成され、対象としているデータ源の特異性を反映することができる。
【００５４】
[0053]  隔たり尺度の例には以下のものがある（ここで、ＰＭＡ＝予防保守作業データシステム（Preventive Maintenance Action data system）、ＲＥＲ＝根本エラーレポート（Root Error Report）→発生した根本エラーのコードのリスト、ＳＡＰ＝ＳＡＰ  ＳＥによるソフトウェアシステム）。
１．機械生成データ（データ源＝ＰＭＡ）と、使用される部品を含むサービスオーダ情報（手作業、データ源はＳＡＰ）との間の根本エラーの隔たり。
ａ．ＰＭＡ内の根本エラーコード＝ＳＡＰ内の根本エラーコードの場合、データ源間の隔たり＝０。
ｂ．ＰＭＡ内の根本エラーコードがＳＡＰ内の根本エラーコードと同一ではなくて、部品を含むＲＥＲの「リストにある」場合、隔たり＝１／相対頻度−１。
ｉ．部品ごとに、その特定の部品に関して技術者によってかつて書き込まれたすべてのＲＥＲはカウントされる。これに基づいて、根本エラーコード出現の相対頻度を計算することができる。
２．２つの時間フィールド間の時間の隔たり。
ａ．隔たり（例えば、単位は任意）＝２つのフィールド間の時間差。
３．部品点数の隔たり：特定のＳＯで一致を見つけることができる場合に、部品点数自体が隔たり尺度として使用される（隔たりについての概念：隔たりが大きいほど不確実性が高い）。
４．データ源の隔たり：各データ源は、非常に正確である、またはあまり正確でないとして事前に分類することができる。部品点数と同様に、これは、絶対的な隔たりであり得る。したがって、データ源は、選択したフィールドの精度に関してランクを付けることができる。
【００５５】
[0054]  整合ルールは、様々なデータ源のフィールド間の隔たり尺度に基づいて規定される。整合ルールは、隔たり尺度の重みを付けた総計に基づいて規定することができる。隔たり尺度は、例えば、以下を含むことができる。
様々なデータ源のフィールド間の時間差。
データ源の手作業で生成したデータと、別のデータ源の機械で生成したデータとの間の相違。
様々なデータ源のフィールド間の装置部品点数の差。
様々なデータ源のフィールド間のエラー識別子の出現の相対頻度の逆数の差。
様々なデータ源間のデータ源の精度の相違。
【００５６】
[0055]  方法はまた、整合ステップの前に、例えば、ステップ３０８で、データの少なくとも一部を変換することを含むことができる。データタイプ（日付／時間、テキスト）に応じて、特定の変換技術を使用することができる（例えば、テキストに対して、特定のテキストマイニング技術を使用することができる）。
【００５７】
[0056]  下記の表１は、整合ルールの例示的なセットを示している。
【００５８】
【表１】
2019519824.tif 000003
【００５９】
[0057]  ステップ３１４〜３１８は、整合したレコード３２０、３２２を取得するために、前の整合の未整合レコードに対して、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することで、データ源３０２、３０４からのレコードを整合させることを含む。これは、整合ルールのセットの最も厳密なものを使用してデータ源に照会し（３１４）、それによって得られた整合レコード３２０を、高い整合品質を示すインジケータに関連付けることを含む。これはまた、整合ルールのセットの厳密さがより緩いルールを使用してデータ源に照会し（３１８）、それによって得られた整合レコードを、低い整合品質を示すインジケータに関連付けることを含む。反復は、すべてのルールが使用されるときか、または必要に応じてその前に終了する（３１６、３２４）。
【００６０】
[0058]  こうして、整合したレコード３２０、３２２は、それらを取得するために使用された整合ルールの厳密性に対応する整合品質インジケータに関連付けられる。
【００６１】
[0059]  整合したレコード３２０、３２２は、装置中断時間イベントなどの製造関連のイベントに関連し得る。
【００６２】
[0060]  こうして、データは、前もって選択されたフィールドセットに対して徐々に緩くなる「整合ルール」を使用して、様々なデータ源から統合される。最も厳密な整合ルールに合致しない、すなわち、得られた整合が、それに伴う最も低い不確実性を有さないデータに対して、徐々に厳密さが緩くなる整合ルールが使用される。言い換えると、例えば、ビジネス特有の情報を適用することで、利用可能なデータ源を整合させるし、整合の修正もする「アルゴリズム的ふるい分け」が使用される。
【００６３】
[0061]  品質の格付け（階層１、…、階層ｎ）は、「隔たり」の重みを付けた総計に基づくことができる。品質格付けの規定は、対象の専門家による決定プロセスの結果とすることができ、長い間に、および企業によって変わり得る。
【００６４】
[0062]  ルールを規定する際に、ルールは、全体として網羅的であることが可能である、すなわち、あらゆるデータ源からのあらゆるレコードが分類される（および、可能な場合に関連付けられる）。しかし、整合ルールは、相互に排他的である必要はないと分かった。例えば、労働活動は、様々な時間に発生するいくつかの機械イベントに関連することがある。階層規定に基づいて、これらのイベントは、同じであるが様々な整合品質を有するＳＯに関連付けることができる。解析の目的に応じて、必要とされる最小整合品質は異なる。
【００６５】
[0063]  この「ふるい分け」は、データ源のすべてのレコードが互いに比較される（すなわち、カルテシアン積）ことから、計算時間に関して費用がかかる。計算時間を短縮するために、データ分割法を使用することができる。整合ステップの前に行われるこの分割法は、データ源ｋのどのレコードが、データ源ｌからのどのレコードと整合するのに必要とされるかを示すために隔たり尺度を使用することができるように、一部の所定のフィールドに基づいて、データを分割することができる特性を利用する。例えば、イベントが発生した月（データ源ｌ）およびサービスオーダが作成された月（データ源ｋ）を明らかにすることができる。次いで、同じ月（および年）に属する様々なデータ源からのレコードだけが整合される。総計算時間への影響は、分割数による。実際に、計算時間を数桁短縮することができる。
【００６６】
[0064]  上記に説明したように、様々なデータ源を統合し、一方で、統合の品質を示す方法が提供される。これは、レコードを整合させるのに必要とされる作業量を削減する。この手法の有用性の尺度として、本明細書で説明した方法を用いない場合、特定の解析は、成し遂げるのに２週間を要する。本明細書で説明した方法を用いると、「手作業による」結果は、ほんの数時間で再現および改善することができる。
【００６７】
[0065]  本発明の実施形態は、完全な（したがって費用がかかる）最大限に統合されたＣＭＭＳ問題解決手段の必要性を低める。しかし、完全なＣＭＭＳ問題解決手段が利用可能な場合でさえ、一般的に、ビジネス、性能、および組織間の適用範囲の相違により、下級の状況認識が常にもたらされる。これは、ほとんどの場合、整合がまだきわめて時間消費的であるからである。本発明の実施形態は、不正確さを低めるのに必要とされる手作業を削減する。いくつかの実施例で示したように、場合によっては、手作業を完全になくすことができる。これは、予測保守と根本原因の特定（様々なルールセットの場合でも）とで示した。
【００６８】
[0066]  本発明の実施形態は、（再）設計プロセスおよびサービスポートフォリオの改善活動がより効果的であるのを可能にする。これは、機械問題のビジネス面、性能面、組織面に関するより良好に統合された状況を、自動化した（すなわち、高速かつ再現可能な）態様で提示することでなされる。これは、より良好で素早い決断を下し、それと同時に、無駄を削減することを可能にする。
【００６９】
[0067]  本発明の実施形態は、上記に説明したレコードを整合させる、かつ／または保守作業のスケジュールを作成する方法を記述した機械可読命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラムを使用して実施することができる。このコンピュータプログラムは、例えば、図１の制御ユニットＬＡＣＵまたは他のコントローラ内で実行することができる。そのようなコンピュータプログラムが格納されたデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスク）を設けることもできる。
【００７０】
[0068]  本開示は、番号を付けた条項として示す、本発明の以下の実施形態をさらに含む。
１．データの整合品質の点でデータ源間にばらつきのある複数のデータ源からのレコードを整合させる方法であって、整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することを含み、整合ルールは、整合品質のばらつきに基づいて規定される、方法。
２．整合したレコードを取得するために使用された整合ルールの厳密さに対応する整合品質インジケータに、整合したレコードを関連付けることをさらに含む、条項１による整合方法。
３．整合したレコードは製造関連のイベントに関する、条項１または２による整合方法。
４．整合品質におけるデータ源間のばらつきには、それらのデータの精度におけるデータ源間の相違が含まれる、前出の何れかの条項による整合方法。
５．整合品質におけるデータ源間のばらつきには、それらのデータの適用範囲におけるデータ源間の相違が含まれる、前出の何れかの条項による整合方法。
６．整合ルールは、様々なデータ源のフィールド間の隔たり尺度に基づいて規定される、前出の何れかの条項による整合方法。
７．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間の時間差が含まれる、条項６による整合方法。
８．隔たり尺度には、データ源の手作業で生成したデータと、別のデータ源の機械で生成したデータとの間の相違が含まれる、条項６または７による整合方法。
９．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間の装置部品点数の差が含まれる、条項６〜８の何れかによる整合方法。
１０．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間のエラー識別子の出現の相対頻度の逆数の差が含まれる、条項６〜９の何れかによる整合方法。
１１．隔たり尺度には、様々なデータ源間のデータ源の精度の相違が含まれる、条項６〜１０の何れかによる整合方法。
１２．整合ルールは、隔たり尺度の重みを付けた総計に基づいて規定される、条項６〜１１の何れかによる整合方法。
１３．整合に先立って、データの少なくとも一部を変換する、または分割することをさらに含む、前出の何れかの条項による整合方法。
１４．（ａ）複数のデータ源からフィールドセットを選択するステップと、
（ｂ）フィールド間で１つまたは複数の隔たり尺度を規定するステップと、
（ｃ）規定した隔たり尺度に基づいて、厳密さが異なる整合ルールのセットを規定するステップと、
をさらに含み、
データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することは、
（ｄ）整合ルールのセットの最も厳密なものを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合レコードを、高い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
（ｅ）整合ルールのセットの厳密さが緩いルールを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合レコードを、低い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
を含む、前出の何れかの条項による整合方法。
１５．製造システムの少なくとも一部分での１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成する方法であって、
整合したレコードを取得するために、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することで、データの整合品質の点でデータ源間にばらつきのある複数のデータ源からのレコードを整合させ、整合ルールは、整合品質のばらつきに基づいて規定されるステップと、
整合したレコードを使用して、製造システムの一部で実施される１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成するステップと、
を含む、スケジュールを作成する方法。
１６．１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成することは、整合したレコードを使用して、予測障害モデルを実行することを含む、条項１５によるスケジュールを作成する方法。
１７．１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成することは、修正作業を特定するために、整合したレコードを使用して原因解析を実施することを含む、条項１５によるスケジュールを作成する方法。
１８．レコードは、スケジューラを使用して整合し、方法は、製造システムの一部において、スケジューラを使用して、１つまたは複数の保守作業の実施を管理することをさらに含む、条項１５〜１７の何れかによるスケジュールを作成する方法。
１９．整合したレコードを取得するために使用された整合ルールの厳密さに対応する整合品質インジケータに、整合したレコードを関連付けることをさらに含む、条項１５〜１８の何れかによるスケジュールを作成する方法。
２０．整合したレコードは製造関連のイベントに関する、条項１５〜１９の何れかによるスケジュールを作成する方法。
２１．整合品質におけるデータ源間のばらつきには、それらのデータの精度におけるデータ源間の相違が含まれる、条項１５〜２０の何れかによるスケジュールを作成する方法。
２２．整合品質におけるデータ源間のばらつきには、それらのデータの適用範囲におけるデータ源間の相違が含まれる、条項１５〜２１の何れかによるスケジュールを作成する方法。
２３．整合ルールは、様々なデータ源のフィールド間の隔たり尺度に基づいて規定される、条項１５〜２２の何れかによるスケジュールを作成する方法。
２４．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間の時間差が含まれる、条項２３によるスケジュールを作成する方法。
２５．隔たり尺度には、データ源の手作業で生成したデータと、別のデータ源の機械で生成したデータとの間の相違が含まれる、条項２３または２４によるスケジュールを作成する方法。
２６．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間の装置部品点数の差が含まれる、条項２３〜２５の何れかによるスケジュールを作成する方法。
２７．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間のエラー識別子の出現の相対頻度の逆数の差が含まれる、条項２３〜２６の何れかによるスケジュールを作成する方法。
２８．隔たり尺度には、様々なデータ源間のデータ源の精度の相違が含まれる、条項２３〜２７の何れかによるスケジュールを作成する方法。
２９．整合ルールは、隔たり尺度の重みを付けた総計に基づいて規定される、条項２３〜２８の何れかによるスケジュールを作成する方法。
３０．整合に先立って、データの少なくとも一部を変換する、または分割することをさらに含む、条項１５〜２９の何れかによるスケジュールを作成する方法。
３１．（ａ）複数のデータ源からフィールドセットを選択するステップと、
（ｂ）フィールド間で１つまたは複数の隔たり尺度を規定するステップと、
（ｃ）規定した隔たり尺度に基づいて、厳密さが異なる整合ルールのセットを規定するステップと、
をさらに含み、
データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することは、
（ｄ）整合ルールのセットの最も厳密なものを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合レコードを、高い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
（ｅ）整合ルールのセットの厳密さが緩いルールを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合レコードを、低い整合品質を示すインジケータに関連付けるステップと、
を含む、条項１５〜３０の何れかによるスケジュールを作成する方法。
３２．プログラム可能なデータ処理装置に条項１〜１４の何れかによる整合方法を実行させるための命令を含むコンピュータプログラム製品。
３３．プログラム可能なデータ処理装置に条項１５〜３１の何れかによるスケジュールを作成する方法を実行させるための命令を含むコンピュータプログラム製品。
３４．リソグラフィプロセスに関連する装置であって、
整合したレコードを取得するために、整合品質のばらつきに基づいて規定された、厳密さが連続的に緩くなる整合ルールを使用して、データ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理することで、データの整合品質の点でデータ源間にばらつきのある複数のデータ源からのデータを含むレコードを整合させるように構成された処理ユニットを含み、
整合したレコードを使用して、装置で実施される１つまたは複数の保守作業のスケジュールを作成する、装置。
３５．整合したレコードを取得するために使用された整合ルールの厳密さに対応する整合品質インジケータに、整合したレコードを関連付けることをさらに含む、条項３４による装置。
３６．整合したレコードは製造関連のイベントに関する、条項３４または３５による装置。
３７．整合品質におけるデータ源間のばらつきには、それらのデータの精度におけるデータ源間の相違が含まれる、条項３４〜３６の何れかによる装置。
３８．整合品質におけるデータ源間のばらつきには、それらのデータの適用範囲におけるデータ源間の相違が含まれる、条項３４〜３７の何れかによる装置。
３９．整合ルールは、様々なデータ源のフィールド間の隔たり尺度に基づいて規定される、条項３４〜３８の何れかによる装置。
４０．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間の時間差が含まれる、条項３９による装置。
４１．隔たり尺度には、データ源の手作業で生成したデータと、別のデータ源の機械で生成したデータとの間の相違が含まれる、条項３９または４０による装置。
４２．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間の装置部品点数の差が含まれる、条項３９〜４１の何れかによる装置。
４３．隔たり尺度には、様々なデータ源のフィールド間のエラー識別子の出現の相対頻度の逆数の差が含まれる、条項３９〜４２の何れかによる装置。
４４．隔たり尺度には、様々なデータ源間のデータ源の精度の相違が含まれる、条項３９〜４３の何れかによる装置。
４５．整合ルールは、隔たり尺度の重みを付けた総計に基づいて規定される、条項３９〜４４の何れかによる装置。
４６．整合に先立って、データの少なくとも一部を変換する、または分割することをさらに含む、条項３４〜４５の何れかによる装置。
４７．処理ユニットは、
（ａ）複数のデータ源からフィールドセットを選択し、
（ｂ）フィールド間で１つまたは複数の隔たり尺度を規定し、
（ｃ）規定した隔たり尺度に基づいて、厳密さが異なる整合ルールのセットを規定する、
ようにさらに構成され、
処理ユニットは、
（ｄ）整合ルールのセットの最も厳密なものを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合レコードを、高い整合品質を示すインジケータに関連付けることと、
（ｅ）整合ルールのセットの厳密さが緩いルールを使用してデータ源に照会し、それによって得られた整合レコードを、低い整合品質を示すインジケータに関連付けることと、
によってデータ源からのレコードを反復的に整合させ、フィルタ処理するようにさらに構成される、条項３４〜４６の何れかによる装置。
【００７１】
[0069]  リソグラフィプロセスとの関係において、本発明の実施形態の使用について特定の言及が上記になされたが、本発明の実施形態は、他の用途、例えば、一般の製造システムで使用することができることに留意されたい。状況が許す場合、本発明の実施形態は、リソグラフィプロセスに関連する装置、またはそのような装置との併用に限定されない。
【００７２】
[0070]  本発明の広さおよび範囲は、上記の例示的な実施形態の何れかによって限定されるのではなくて、添付の特許請求の範囲およびその等価物によってのみ規定されるべきである。
【図１】
2019519824.tif 000004
【図２】
2019519824.tif 000005
【図３】
2019519824.tif 000006
【国際調査報告】
2019519824.tif 000007
2019519824.tif 000008