(57)【要約】  電気光学アセンブリは、第１表面及び第２表面を画定する部分的に反射性で部分的に透過性の第１基板を備える。部分的に反射性で部分的に透過性の第２基板が、第３表面及び第４表面を画定する。空間が、第１基板と第２基板との間に画定される。電気光学材料が、前記第１基板の前記第２表面と前記第２基板の前記第３表面との間に配置される。当該電気光学アセンブリは、不連続的にまたは連続的に透過率状態を変化させるよう動作可能である。半透過型コーティングが、前記第２表面上に配置される。前記半透過型コーティングは、銀導電層と、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）及び貴金属のうちの一方を含むオーバーコート層と、を含む。前記オーバーコート層は、前記銀導電層と前記電気光学材料との間に配置される。
2019527647.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学アセンブリであって、
第１表面及び第２表面を画定する、部分的に反射性で部分的に透過性の第１基板と、
第３表面及び第４表面を画定する、部分的に反射性で部分的に透過性の第２基板と、
第１基板と第２基板との間に画定される空間と、
前記第１基板の前記第２表面と前記第２基板の前記第３表面との間に配置される電気光学材料と、
前記第２表面上に配置される半透過型コーティングと、
を備え、
当該電気光学アセンブリは、不連続的にまたは連続的に透過率状態を変化させるよう動作可能であり、
前記半透過型コーティングは、銀導電層と、透明導電性酸化物及び貴金属のうちの一方を含むオーバーコート層と、を含み、
前記オーバーコート層は、前記銀導電層と前記電気光学材料との間に配置される
ことを特徴とする電気光学アセンブリ。
【請求項２】
前記第１基板と前記銀導電層との間に配置されるベース層
を更に備え、
前記ベース層は、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）、誘電材料、及び金属材料のうちの少なくとも一つを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学アセンブリ。
【請求項３】
前記半透過型コーティングの反射率＋透過率が、約７０％未満である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学アセンブリ。
【請求項４】
前記銀導電層の厚さが、約６ｎｍ〜１５ｎｍの間である、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項５】
前記電気光学材料は、エレクトロクロミック材料である
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項６】
前記電気光学アセンブリは、ヘッドアップディスプレイシステムに組み込まれる
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項７】
電気光学アセンブリであって、
第１表面及び第２表面を画定する、部分的に反射性で部分的に透過性の第１基板と、
第３表面及び第４表面を画定する、部分的に反射性で部分的に透過性の第２基板と、
第１基板と第２基板との間に画定される空間と、
前記第１基板の前記第２表面と前記第２基板の前記第３表面との間に配置される電気光学材料と、
前記第２表面上に配置される半透過型コーティングと、
を備え、
当該電気光学アセンブリは、不連続的にまたは連続的に透過率状態を変化させるよう動作可能であり、
前記半透過型コーティングは、銀導電層と、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）、誘電材料、及び貴金属のうちの少なくとも一つを含むベース層と、を含み、
前記ベース層は、前記銀導電層と前記第１基板との間に配置される
ことを特徴とする電気光学アセンブリ。
【請求項８】
前記電気光学材料と前記銀導電層との間にオーバーコート層を更に備え、
前記オーバーコート層は、ＴＣＯ及び貴金属のうちの少なくとも一方を含む
ことを特徴とする請求項７に記載の電気光学アセンブリ。
【請求項９】
前記半透過型コーティングは、第１ＴＣＯ層、銀層、及び第２ＴＣＯ層を含む
ことを特徴とする請求項７または８に記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１０】
前記第１ＴＣＯ層及び前記第２ＴＣＯ層は、酸化インジウム錫を含む
ことを特徴とする請求項９に記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１１】
前記半透過型コーティングの反射率＋透過率が、約８０％未満である
ことを特徴とする請求項７乃至１０のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１２】
前記銀導電層の厚さが、約２ｎｍ〜３０ｎｍの間である
ことを特徴とする請求項７乃至１１のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１３】
前記半透過型コーティングの反射率が、約２０％より大きい
ことを特徴とする請求項７乃至１２のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１４】
前記電気光学材料は、エレクトロクロミック材料である
ことを特徴とする請求項７乃至１３のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１５】
前記半透過型コーティングのシート抵抗値が、約２０オーム／ｓｑ未満である
ことを特徴とする請求項７乃至１４のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１６】
前記電気光学アセンブリがヘッドアップディスプレイシステムに組み込まれる
ことを特徴とする請求項７乃至１５のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１７】
電気光学アセンブリであって、
第１表面及び第２表面を画定する第１基板と、
第３表面及び第４表面を画定する第２基板と、
第１基板と第２基板との間に画定される空間と、
前記第１基板の前記第２表面と前記第２基板の前記第３表面との間に配置される電気光学材料と、
前記第１表面と前記第２表面のうちの少なくとも一方上に配置される半透過型コーティングと、
を備え、
前記半透過型コーティングは、前記第１基板に隣接する誘電体層と、導電性金属層と、を含み、
前記半透過型コーティングの透過率は、約１５％〜５０％の間であり、反射率は、約１０％〜５０％の間である
ことを特徴とする電気光学アセンブリ。
【請求項１８】
前記第１基板と前記誘電体層との間にアンダーコート金属層を更に備える
ことを特徴とする請求項１７に記載の電気光学アセンブリ。
【請求項１９】
前記半透過型コーティングの反射率が、約１５％〜４０％の間であり、透過率が約２０％〜４０％の間である
ことを特徴とする請求項１７または１８に記載の電気光学アセンブリ。
【請求項２０】
前記金属層の厚さが、約０．２ｎｍ〜５ｎｍの間である
ことを特徴とする請求項１８に記載の電気光学アセンブリ。
【請求項２１】
前記誘電体層の厚さが、約２０ｎｍ〜１００ｎｍの間である
ことを特徴とする請求項１７乃至２０のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項２２】
前記電気光学材料は、エレクトロクロミック材料である
ことを特徴とする請求項１７乃至２１のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【請求項２３】
当該電気光学アセンブリは、ヘッドアップディスプレイシステムに組み込まれる
ことを特徴とする請求項１７乃至２２のいずれかに記載の電気光学アセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、概して電気光学装置に関し、より具体的には、第２表面半透過反射体を有する電気光学装置に関する。
【発明の概要】
【０００２】
本開示の一態様によれば、電気光学アセンブリは、第１表面及び第２表面を画定する部分的に反射性で部分的に透過性の第１基板を備える。部分的に反射性で部分的に透過性の第２基板が、第３表面及び第４表面を画定する。空間が、第１基板と第２基板との間に画定される。電気光学材料が、前記第１基板の前記第２表面と前記第２基板の前記第３表面との間に配置される。当該電気光学アセンブリは、不連続的にまたは連続的に透過率状態を変化させるよう動作可能である。半透過型コーティングが、前記第２表面上に配置される。前記半透過型コーティングは、銀導電層と、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）及び貴金属のうちの一方を含むオーバーコート層と、を含む。前記オーバーコート層は、前記銀導電層と前記電気光学材料との間に配置される。
【０００３】
本開示の別の一態様によれば、電気光学アセンブリは、第１表面及び第２表面を画定する部分的に反射性で部分的に透過性の第１基板を備える。部分的に反射性で部分的に透過性の第２基板が、第３表面及び第４表面を画定する。空間が、第１基板と第２基板との間に画定される。電気光学材料が、前記第１基板の前記第２表面と前記第２基板の前記第３表面との間に配置される。当該電気光学アセンブリは、不連続的にまたは連続的に透過率状態を変化させるよう動作可能である。半透過型コーティングが、前記第２表面上に配置される。前記半透過型コーティングは、銀導電層と、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）、誘電材料、及び貴金属のうちの少なくとも一つを含むベース層と、を含む。前記ベース層は、前記銀導電層と前記第１基板との間に配置される。
【０００４】
本開示の別の一態様によれば、電気光学アセンブリは、第１表面及び第２表面を画定する第１基板を備える。第２基板が、第３表面及び第４表面を画定する。空間が、第１基板と第２基板との間に画定される。電気光学材料が、前記第１基板の前記第２表面と前記第２基板の前記第３表面との間に配置される。半透過型コーティングが、前記第１表面と前記第２表面のうちの少なくとも一方上に配置される。前記半透過型コーティングは、前記第１基板に隣接する誘電体層と、導電性金属層と、を含む。前記半透過型コーティングの透過率は、約１５％〜５０％の間であり、反射率は、約１０％〜５０％の間である。
【０００５】
本開示の、これら及び他の特徴、利点、及び目的は、以下の明細書、特許請求の範囲、及び添付図面を参照して、当業者によって更に理解及び認識されることになる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
図面において、
【０００７】
【図１】一実施例による電気光学素子を組み入れるヘッドアップディスプレイシステムの正面斜視図である。
【０００８】
【図２】他の実施例による電気光学素子を組み入れるヘッドアップディスプレイシステムの正面斜視図である。
【０００９】
【図３】図１の線ＩＩＩにおける電気光学アセンブリの断面図である。
【００１０】
【図４】電気光学装置の基板上の銀の単層の透過率対反射率の関係を示す。
【００１１】
【図５】本開示のコーティングの側方概略断面図である。
【００１２】
【図６】電気光学アセンブリの第１表面上のＣｒの単層及びＩＴＯ／クロムの二層に関する透過率対反射率の関係を示す。
【００１３】
【図７】電気光学アセンブリの第１表面上のＣｒ／ＩＴＯ／Ｃｒの多層半透過反射体に関する透過率対反射率の関係を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の例証される実施形態は、主に、電気光学装置に関連する方法の工程及び装置の構成要素の組み合わせに属する。したがって、本装置の構成要素及び方法の工程は、該当する場合、本明細書の説明の利益を得る当業者には容易に明らかとなろう詳細によって本開示を不明瞭にしないように、本開示の実施形態の理解に関係する特定の詳細のみを示す図面において、慣習的記号によって表されている。さらに、説明及び図面において、同様の数字は、同様の要素を表す。
【００１５】
本明細書における記述の目的のために、用語「上部の」、「下部の」、「右の」、「左の」、「後方の」、「前方の」、「垂直の」、「水平の」、及びそれについての派生語は、図１において関連付けられた開示に関するものとする。別様に述べられない限り、用語「前方の」は、装置を見ることを意図される者により近い装置の表面を指すものであり、用語「後方の」は、装置を見ることを意図された者からより離れた装置の表面を指すものである。しかしながら、それとは逆に明確に特定されたもの以外は、本発明はさまざまな代わりの配向をとり得る、と理解されるべきである。添付図面に図示され、かつ以下の明細書に記述された特定のデバイス及びプロセスは、添付された特許請求の範囲において定義された発明概念の単なる例示的な実施形態であることも理解されるべきである。したがって、本明細書に開示された実施形態に関する特定の寸法及び他の物理的特性は、特許請求の範囲が明示的に別段に述べない限り、限定するものと見なされるべきではない。
【００１６】
用語「ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ（含む）」、「ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ（備える）」、「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ（備える）」、または任意の他の変形は、要素のリストを備えるプロセス、方法、物品、または装置が、それらの要素のみを含むのではなく、このようなプロセス、方法、物品、または装置に明示的に列挙されもせず、固有でもない他の要素を含んでもよいように、非排他的包括にわたるように意図される。「ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ  ａ．．．」によって始められる要素は、さらなる制約を受けずに、その要素を備えるプロセス、方法、物品、または装置において、追加の同一要素の存在を妨げない。
【００１７】
図１乃至図７に関して、参照符号１０は、全体として電気光学アセンブリを示す。電気光学アセンブリ１０は、車両１８のヘッドアップディスプレイシステム１４内で使用することができる。電気光学アセンブリ１０は、部分的に反射性で部分的に透過性の第１ガラス基板２２、及び、部分的に反射性で部分的に透過性の第２ガラス基板２６を有し得る。第１基板２２は、第１面２２Ａ及び第２面２２Ｂを含み得る。第２基板２６は、第３面２６Ａ及び第４面２６Ｂを含み得る。第１基板２２及び第２基板２６は、平行に離間する関係で位置付けられ、第１基板２２及び第２基板２６の周囲周りに配置されたシール３０を有してもよい。第１基板２２と第２基板２６は、空隙部３４を画成してもよい。電気光学材料３８は、第１基板２２と第２基板２６との間の空隙部３４内に配置される。少なくとも一実施例において、電気光学アセンブリ１０は、不可変反射率及び可変透過率を有するよう構成される。電気光学アセンブリ１０の「クリアな状態」は、最大透過率の条件を指す。電気光学材料３８の活性化は、電気光学アセンブリ１０の透過率を「暗い状態」に下げることができる。「ローエンド」透過率とは、電気光学アセンブリ１０によって達成可能な最小透過率を指す。
【００１８】
限定としてではなく説明として、電気光学アセンブリ１０は、車両１８のヘッドアップディスプレイシステム１４に含まれ得る。こうした実施例では、電気光学アセンブリ１０は、コンバイナ画面として機能して、プロジェクタ４６によって投影された一次像を反射することができる。電気光学アセンブリ１０は、制御回路からの入力に基づいて透過光量を変動させるよう制御され得る。例えば、昼光条件では、電気光学アセンブリ１０を暗くして、コントラスト比を改善または増加させ、プロジェクタ４６から電気光学アセンブリ１０上に投影された情報の視認性を改善することを可能にし得る。コントラスト比は、プロジェクタ４６からの一次反射像と電気光学アセンブリ１０を通って透過された光との比を表し得る（例えば、クリアな状態または暗い状態のどちらでも）。
【００１９】
ヘッドアップディスプレイシステム１４は、自動車及び航空宇宙産業用途などの様々な用途に用いられて、運転者またはパイロットに情報を提示することができると共に、同時の前方視覚を可能にする。実施例によっては、ヘッドアップディスプレイシステム１４は、フロントガラス５４の後方の車両に計器パネル５８から突出して提供されてもよく（図１）、一方で他の実施例では、電気光学アセンブリ１０は、フロントガラス５４上に直接位置づけられてもよい（図２）。電気光学アセンブリ１０は、任意のサイズ、形状、曲げ半径、角度、または位置であり得る。電気光学アセンブリ１０は、警報、警告、または車両診断などの、多くの車両関連機能または運転者支援システムを表示するために使用することができる。図示の例では、車両１８の速度が電気光学アセンブリ１０上に表示されている。
【００２０】
ヘッドアップディスプレイシステム１４に関して、電気光学アセンブリ１０上に投影された像は、いかなる条件においても十分な明るさで見えるべきである。このことは、特に車両１８の外側の照明が明るいときに問題となる。プロジェクタ４６からの照明と電気光学アセンブリ１０の背後の照明との間のコントラストは、明るい晴れた日には低くなり得る。より明るく、より強い照明源（例えば、プロジェクタ４６）は、当該コントラストを改善するが、ディスプレイの輝度を増大させることは、最も経済的な解決法とは言えず、また、非常に明るい日中の条件下で適切なコントラストを提供するのに十分に明るいディスプレイは別の条件下では明るすぎる場合がある。（様々な）制御を用いることで輝度の変動を扱う（対処する）ことができるが、具体的な背景は、移動する車両において常に変化し、運転者の目の位置に部分的に依存する。一実施例によれば、電気光学アセンブリ１０は、透過率を低下させ、かつ／または、コントラスト比を増加させるよう構成することができる。
【００２１】
用途に応じて、クリアな状態でのより高いまたはより低い透過率、最適なコントラスト比に対する異なる反射率値、及び／または、より広範な透過率レベルの動的範囲、が求められ得る。初期反射率及び透過率プロパティの範囲は、ヘッドアップディスプレイシステム１４について採用されるプロジェクタ４６の能力及びフロントガラス５４に対する光透過レベルに関する当該プロジェクタ４６の光出力能力によって、さらに複雑になる。フロントガラス５４は、コントラスト比及びヘッドアップディスプレイシステム１４からの像の視認性に関して、直接の影響を有するであろう。フロントガラス５４の透過率レベルに影響を及ぼすいくつかの要因がある。最小光透過率は、車両１８が販売される地域の規制に基づくが、車両１８がどのように装備されて市販されるかに基づいてより高い透過率レベルが存在し得る。この要因の範囲（広がり）は、様々な車両及び環境条件に適合し得る解決法に対するニーズを生み出す。
【００２２】
ヘッドアップディスプレイシステム１４を利用するときに考慮すべき別の態様は、第１基板２２及び第２基板２６の第１表面２２Ａから第４表面２６Ｂまでからの二次反射である。第１表面２２Ａから第４表面２６Ｂの反射は、一次反射された像と完全には整列しない二次反射からの二重像効果を生じ得る（例えば、電気光学アセンブリ１０の構成要素の幾何形状による）。第１表面２２Ａから第４表面２６Ｂの二次反射から形成され得る二重像は、プロジェクタ４６によって投影され電気光学アセンブリ１０によって反射された一次像を、不鮮明または不明瞭に見せる場合がある。
【００２３】
一実施例によれば、電気光学アセンブリ１０は、両方が約１２５０ｍｍの球面半径で曲がる、二つの約１．６ｍｍのガラス基板（例えば、第１基板２２及び第２基板２６）を使用して組み立てることができる。第１基板２２及び第２基板２６に対して他の厚さを使用してもよい。他の実施例では、第１基板２２及び第２基板２６は、屈折して「自由形体」形状を有してもよい。所望の形状は、結果として生じる一次反射像が電気光学アセンブリ１０の前方及び車両１８の前方に「現れる」ものである。この特徴を達成するために必要な精密な表面輪郭は、プロジェクタ４６の特性、プロジェクタ４６及び運転者の位置、ならびに他の二つの位置に対する電気光学アセンブリ１０の位置、の関数である。車両１８の前方に画像を投射することにより、運転手は、異なる焦点距離に対して適合するよう目を変更（調整）することなく所望の情報を取得することができる。車両１８内に位置付けられる従来のヘッドアップディスプレイでは、運転者の目はしばしばより短い視距離に焦点を合わせなければならず、道路を視るために費やされる時間が少なくなる。さらに、運転者の目は、前方の道路に再び焦点を合わせなければならず、このことは道路及び前方の状態を視るために費やされる時間をさらに少なくする。また、電気光学アセンブリ１０の形状は、投射された画像の基本的な特徴を維持するように（つまり、直線は直線のままである、画像のアスペクト比は維持される、等）選択されなければならない。
【００２４】
図示の例では、第１基板２２及び第２基板２６はそれぞれ、丸み付き縁部６２及び丸み付きでない接触縁部６６を含む。非丸み付き接触縁部６６は、接触のし易さのため望ましい場合があり、装置が当該縁部によって支持される場合、当該接触縁部６６に沿って第１基板２２及び第２基板２６を丸める必要はない。電気光学アセンブリ１０上の露出した縁部のいずれも、概して丸められてよい。丸み付き縁部の曲率半径６２は、約２．５ｍｍより大きくし得る。
【００２５】
ここで図３を参照すると、第１基板２２は、第１表面２２Ａ及び第２表面２２Ｂを含んでいる。第２表面２２Ｂは、約１２オーム／ｓｑのシート抵抗を有する酸化インジウム錫でコーティングされ得る。第１表面２２Ａは、くぼんでいてもよく、クロム（Ｃｒ）でコーティングされ得る。コーティングされた第１基板２２は、約３７．８％の透過率及び約２５．４％の反射率を有し得る。第２基板２６は、第３表面２６Ａ及び第４表面２６Ｂを画定する。第３表面２６Ａは、約１２オーム／ｓｑのシート抵抗を有する酸化インジウム錫でコーティングされてもよい。
【００２６】
第１表面２２Ａから、電気光学アセンブリ１０は、約２５％のクリアな状態の反射率及び約２４％の透過率を有し得る。電気光学アセンブリ１０は、約１５％の第１表面２２Ａからの反射率を維持すると同時に、約１０．５％のローエンドまたはロー状態の透過率を有し得る。あるいは、他の実施例では、電気光学アセンブリ１０のハイエンドまたはハイ状態の透過率は、約４５％、さらには６０％より大きくし得る。一実施例では、半透過型コーティングの透過率は、約１５％〜５０％の間で、反射率は、約１０％〜５０％の間である。他の実施例では、電気光学アセンブリの半透過型コーティングは、約１５％〜４０％の間の反射率及び約２０％〜４０％の間の透過率を有し得る。また、電気光学アセンブリ１０の特徴を、暗い状態でローエンド透過率が約７．５％未満、さらには５％未満、であるように変更してもよい。実施例によっては、透過率レベルは約２．５％以下まで下げることが所望されうる。ハイエンド透過率の増大は、本明細書で説明する通り、低吸光性のコーティング及び材料の使用により得られ得る。ローエンド透過率の低下は、高吸光性の材料の含有を通して得られ得る。広域な動的範囲を所望する場合には、低吸光性材料が、活性状態において高吸光性を達成する電気光学材料及びセル間隔（例えば、第１基板２２と第２基板２６との間の間隔）と組み合わせて使用され得る。当業者は、特定の装置特徴を達成するために選択可能な、コーティング、電気光学材料、セル間隔及びコーティング導電性レベルの多数の組み合わせがあることを認識する。
【００２７】
第１基板２２及び第２基板２６ならびに電気光学材料３８に電流を供給するため、電気素子が第１基板２２及び第２基板２６の対向側（例えば、第２表面２２Ｂ及び第３表面２６Ａ）に提供されて、その間に電位を生成することができる。一実施例では、Ｊ形クリップが、各電気素子と電気的に係合され得て、電気素子線が当該Ｊ形クリップからプライマリプリント回路基板に延びる。電気光学アセンブリ１０を通して最大表面積を提供するため、接触子は装置の一側面に沿って配置される。本実施例では、バックプレートとトッププレートがオフセットされてバスクリップのような接触を可能にする。導電性インクまたは導電性エポキシの使用を含む、他の接触子の設計も可能である。
【００２８】
様々な実施例によれば、電気光学材料３８は、エレクトロクロミック材料またはエレクトロクロミック媒体であり得る。エレクトロクロミックの実施例では、電気光学材料３８は、少なくとも一つの溶媒と、少なくとも一つのアノード材料と、少なくとも一つのカソード材料と、を含み得る。典型的には、アノード材料とカソード材料の両方が電気活性であり、それらの少なくとも１つはエレクトロクロミックである。その通常の意味にかかわらず、用語「電気活性」は、本明細書では、特定の電位差に曝されたときにその酸化状態が変化する材料を意味するものと、理解される。更に、「エレクトロクロミック」という用語は、その通常の意味にかかわらず、特定の電位差に曝されたときに１つまたは複数の波長でその消光係数に変化を示す材料として定義されることが理解されよう。本明細書に記載のエレクトロクロミック成分は、電流が当該材料に加えられると色または不透明度が第１相から第２相に変化するように、色または不透明度が電流によって影響を受ける材料を含む。エレクトロクロミック成分は、単層、単相成分、多層成分、または多相成分であり得、「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ａｎｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ  Ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ  Ｓａｍｅ」と題する米国特許第５，９２８，５７２号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」と題する米国特許第５，９９８，６１７号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｍｅｄｉｕｍ  Ｃａｐａｂｌｅ  Ｏｆ  Ｐｒｏｄｕｃｉｎｇ  Ａ  Ｐｒｅｓｅｌｅｃｔｅｄ  Ｃｏｌｏｒ」と題する米国特許第６，０２０，９８７号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」と題する米国特許第６，０３７，４７１号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｍｅｄｉａ  Ｆｏｒ  Ｐｒｏｄｕｃｉｎｇ  Ａ  Ｐｒｅ−ｓｅｌｅｃｔｅｄ  Ｃｏｌｏｒ」と題する米国特許第６，１４１，１３７号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｓｙｓｔｅｍ」と題する米国特許第６，２４１，９１６号、「Ｎｅａｒ  Ｉｎｆｒａｒｅｄ−Ａｂｓｏｒｂｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  Ａｎｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ  Ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ  Ｓａｍｅ，」と題する米国特許第６，１９３，９１２号、「Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  Ｗｉｔｈ  Ｐｈｏｔｏｓｔａｂｌｅ  Ｄｉｃａｔｉｏｎ  Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  Ｓｔａｔｅｓ」と題する米国特許第６，２４９，３６９号、そして「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｍｅｄｉａ  Ｗｉｔｈ  Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ  Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ，  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｆｏｒ  Ｔｈｅ  Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ  Ｔｈｅｒｅｏｆ  ａｎｄ  Ｕｓｅ  Ｉｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅｓ」と題する米国特許第６，１３７，６２０号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅ」と題する米国特許出願公開第２００２／００１５２１４Ａ１号、そして「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ，  Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅｓ  Ｕｓｉｎｇ  Ｓｕｃｈ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ，  Ａｎｄ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  Ｆｏｒ  Ｍａｋｉｎｇ  Ｓｕｃｈ  Ｓｏｌｉ���  Ｆｉｌｍｓ  Ａｎｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ」と題する国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ９８／０５５７０号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ」と題する国際特許出願ＰＣＴ／ＥＰ９８／０３８６２号、及び「Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ，  Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅｓ  Ｕｓｉｎｇ  Ｓｕｃｈ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ，  Ａｎｄ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  Ｆｏｒ  Ｍａｋｉｎｇ  Ｓｕｃｈ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ  Ａｎｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ」と題する国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ９８／０５５７０号、に記載され、それらのすべては、当該参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。第１基板２２及び第２基板２６は、ガラス素子に制限されず、部分的に反射性で部分的に透過性の特性を有する任意の他の素子であってもよい。
【００２９】
再度図３を参照すると、電気光学アセンブリ１０は、半透過反射体のほか様々な他の特徴を含んでもよい。より具体的には、電気光学アセンブリ１０は、半透過型コーティング７０、反射防止コーティング８０、及び耐擦傷性コーティング９０を含んでもよい。図示の例では、半透過型コーティング７０は、第１表面２２Ａに隣接して位置づけられるが、追加でまたは代替で、本明細書に提供される教示から逸脱することなく、第２表面２２Ｂ上に位置づけられてもよい。図示の例では、反射防止コーティング８０は、第１表面２２Ａ、第３表面２６Ａ及び第４表面２６Ｂ上にあるが、当然のことながら、反射防止コーティング８０は、追加でまたは代替で、本明細書に提供される教示から逸脱することなく、第２表面２２Ｂ上に位置づけられてもよい。実施例によっては、反射防止コーティング８０は、第１表面２２Ａと第２表面２２Ｂのうちの少なくとも一方の上に位置づけられ、半透過型コーティング７０が位置づけられる表面に対向する第１表面２２Ａ及び第２表面２２Ｂのどちらかの上に位置づけることができる。ある実施例では、第２表面２２Ｂ及び第３表面２６Ａ上の反射防止コーティング８０は、電極として機能して（例えば、反射防止電極）、エレクトロクロミック媒体３８を暗くすることができる。ある実施例では、半透過型コーティング７０が第２表面２２Ｂ上に配置されるとき、二つの目的を果たし、また電極としても作用することが理解されよう。図示の例では、耐擦傷性コーティング９０は、第１表面２２Ａ及び第４表面２６Ｂに隣接して位置づけられる。別々の層として記述されているが、半透過型コーティング７０、反射防止コーティング８０及び／または耐擦傷性コーティング９０は、本明細書により詳細に説明されるように、他のコーティングとして機能する特性を共有し得るということが理解されよう。
【００３０】
第１実施例では、半透過型コーティング７０は、クロムまたは別の金属などの薄い金属層（例えば、金属ベースのコーティング７０）であり得る。半透過型コーティング７０として単一の金属コーティング層を使用する潜在的なマイナス面は、金属の厚さから導出される反射率と透過率との間の定義された関係があることである。単一の金属層は、一般に、反射率と透過率を独立して制御できない。半透過型コーティング７０の他の実施例では、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）または誘電材料などの、金属より低い吸光性の材料を含む低吸光性層が、基板（例えば、第１基板２２）と金属コーティング層との間に位置づけられる。当該実施形態では、半透過型コーティング７０は、第１表面２２Ａまたは第２表面２２Ｂのどちらかの上に位置づけることができる。図６は、クロム層の厚さの異なる値に対する、第１表面２２Ａ上の単一のクロム層、あるいはＩＴＯ（７０ナノメートル（ｎｍ）の厚さ、ガラスに隣接する）及びクロム（例えば、半透過型コーティング７０）の二層、を有する電気光学アセンブリ１０の達成可能な透過率値及び対応する反射率値の比較である。双方とも、第２表面２２Ｂ及び第３表面２６Ａ上のコーティングは１１５ｎｍの厚さのＩＴＯから成り、第４表面２６Ｂは薄いクロム層でコーティングされる。ＩＴＯなどの低吸光性層を加えると、厚さ及び屈折率と無関係に反射率ならびに反射色を調整することが可能になり、半透過型コーティング７０にとって達成可能な反射率及び透過率値の範囲が広がる。反射強度を最大化するため、以下の式により与えられるような強め合う干渉の条件を満たすよう、低吸光性層の厚さが選択される。
【数１】
2019527647.tif 000003
式中、ｄは層の厚さ、ｍは干渉の次数、ｎは層の屈折率、λは光波長である。この式は、追加の低吸光性層の使用による反射率増大を最大化するための条件を表すことが理解されよう。誘電材料を含んでもよい低吸光性層の厚さは、約５〜２４０ｎｍの間、または約１０〜１２０ｎｍの間、もしくは２０〜１００ｎｍの間、であってもよい。
【００３１】
図６を参照すると、ＩＴＯ（例えば、低吸光性層）の厚さは、約７０ｎｍであり、それは、ｍ＝０及びλ＝約５７５ｎｍに対応する。低吸光性層の屈折率は、約１．３より大きくてもよい。この場合、ＩＴＯの成膜条件は、当該ＩＴＯの屈折率を５５０ｎｍで一般的な１．８から約２．０７に上昇させるために選択されていて、したがって、通常の入射角でフレネルの式に従って反射率を上げる。
【数２】
2019527647.tif 000004
式中、ｎ1及びｎ2は、光インターフェースの二つの媒体の屈折率に対応する。反射色も、低吸光性層の厚さを厚くするまたは薄くすることによってわずかに調整されうる。金属層は、以下に提供される金属リストから選択することができ、低吸光性層の材料は、この実施例のための屈折率特性に合致する、以下に提供される誘電材料のリストから選択することができる。
【００３２】
誘電体金属の二層を有する半透過型コーティング７０の実施例は、単一の金属層より高い範囲の達成可能な反射率及び透過率の値を提供するが、材料の屈折率及び吸光性を調整して特定の反射率及び透過率の水準に到達するのは、なおも課題であり得る。したがって、特により低い透過率値が求められるときに、反射率及び透過率の値に関してより柔軟性を許容する半透過型コーティング７０を有することは利点であり得る。したがって、半透過型コーティング７０の他の実施例では、こうした特徴は、第１表面の半透過型コーティングまたは第２表面の半透過型コーティングのどちらとしても使用可能な金属／誘電体／金属構造（ＭＤＭ）などの多層コーティングにより取得することができる。一般に、ＭＤＭコーティングのＭ層は、クロム、モリブデン、ニッケル、インコネル、インジウム、パラジウム、オスミウム、タングステン、レニウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、ステンレス鋼、タンタル、チタン、銅、金、プラチナ、任意の他のプラチナ群金属、ジルコニウム、バナジウムＡｌＳｉ合金、及びそれらの合金、及び／またはそれらの組み合わせ、のうちの１または複数を含む。当然のことながら、上述の金属はいずれも、半透過型コーティング７０の単層または二層の実施例に利用することができる。実施例によっては、金属と誘電材料との組み合わせが、半透過型コーティング７０が、耐久性または電極特性に関して第１表面２２Ａまたは第２表面２２Ｂ上に構成されているかどうか次第であってもよい。誘電材料は、以下のうちの１または複数から選択することができる。ＩＴＯ、ＳｎＯ2、ＳｉＮ、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ｆ：ＳｎＯ2、ＮｂＯx、ＴａＯX、酸化インジウム亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化亜鉛、導電性ＴｉＯ2、ＣｅＯX、ＺｎＳ、酸化クロム、ＺｒＯX、ＷＯ3、酸化ニッケル、ＩｒＯ2、ＮｉＯX、ＣｒＯX、ＮｂＯX、及びＺｒＯX、または約１．３７〜約４の間の屈折率を有する他の材料。当然のことながら、上述の誘電体はいずれも、半透過型コーティング７０の二層の実施例に利用することができる。図７は、ＩＴＯの厚さが７４．７ｎｍである、クロム／ＩＴＯ／クロム構造体を有する多層半透過構造体（例えば、半透過型コーティング７０）の反射率及び透過率の値を示す。それぞれの点は、第１クロム層の厚さと第２クロム層の厚さとの組み合わせに対する特定の反射率／透過率（Ｒ／Ｔ）の値を示す。これらの二つのパラメータは、特定の反射率に対して一定の範囲の透過率値に広がり、反射率及び透過率をこの範囲で別々に制御できることがわかる。中央の低吸光性層の厚さ及び屈折率が変化するにつれ、金属層の間の関係は変化する。同様に、反射率及び透過率の値は、異なる金属及び誘電体層が使用されると変わる。ＭＤＭスタックの反射率は、約１０〜５０％の間であってもよく、または約１５〜４０％の間であってもよく、または約２０〜３５％の間であってもよい。透過率は、約１５〜５０％の間であってもよく、または約２０〜４０％の間であってもよく、または約２５〜３５％の間であってもよい。金属層の厚さは、約０．１〜１０ｎｍの間、または約０．２〜５ｎｍの間、または約０．３〜２．５ｎｍの間であってもよい。誘電体層の厚さは、約５〜��４０ｎｍの間、または約１０〜１２０ｎｍの間もしくは約２０〜１００ｎｍの間であってもよい。本明細書に記載の通り、アンダーコート金属層は、第１基板と誘電体層との間に位置づけられてもよい。
【００３３】
ここで図７を参照すると、金属の選択はまた、図示の関係を変える。実施形態によっては、二つの異なる金属が上部及び底部のＭ層用に選択されてもよく、Ｄ層がサブレイヤーにさらに細分されて、異なる屈折率の材料を含んでもよい。追加のＤ層及び／またはＭ層が、本明細書に与えられた教示から逸脱することなく、追加されてもよい。追加層は、耐久力、粘着力を向上させるため、あるいは色及び／または反射率と透過率の範囲もしくは頑健さを変えるため、に追加され得る。
【００３４】
金属に見られるような、異なるＲ／Ｔ値をもたらす代替的な材料が、半透過型コーティング７０として使用されてもよい。他のオプションとして、ＴｉＯ2またはダイヤモンド状炭素膜（ＤＬＣ）などの材料と共に透明導電性酸化物（ＴＣＯ）及び誘電体が挙げられる（図７）。
【００３５】
半透過型コーティングが第２表面２２Ｂ上にあることが望ましい実施形態では、半透過型コーティング７０は、エレクトロクロミック媒体の電極として機能し得る。本実施形態では、半透過型コーティング７０のシート抵抗は、約２０オーム／ｓｑ未満、約１５オーム／ｓｑ未満、約１０オーム／ｓｑ未満、または５オーム／ｓｑ未満とし得る。エレクトロクロミック媒体と互換性がある半透過反射体は、エレクトロクロミック媒体に隣接する導電層を含んでもよい。
【００３６】
第２表面２２Ｂ上の半透過反射体のオプションは、環境からの表面隔離を有し、環境に耐久性のない金属及び材料の使用を可能にする。具体的には、銀ベースの合金が半透過反射体層に使用され得る。銀及びその合金の光学特性は、吸光性が低いという、別の有用な特徴を持つ。図４は、異なる厚さに対する銀コーティングの反射率と透過率の関係を示す。図４から理解されるように、１００％から反射率と透過率とを引いたものに等しい吸光性を、算出することができる。さらに、図４に示すように、吸光性は約１３〜１５％である。したがって、半透過型コーティングにおいての銀層の使用は、達成可能な反射率及び透過率の特性のより広範な組み合わせを可能にする。銀膜の反射率と透過率との間の関係は、約１４％の吸光性を示すが、銀の光学特性は、成膜パラメータを調整して吸光性をさらに低減することにより調整できることが知られている。したがって、銀ベースの半透過反射体の達成可能な反射率値及び透過率値の範囲は、調整可能である。
【００３７】
再度図４を参照すると、吸光性がゼロであるシステムの理論的に達成可能な反射率及び透過率が概して示されている。ゼロ吸収線の上方右側の領域は、反射率、透過率、及び吸光性の合計が１００％に等しくなる必要があるので、一般に達成できない。ゼロ吸収線の下方左側の領域は、電気光学アセンブリ１０または半透過型コーティング７０の一部として吸光材料を使用することにより、達成可能である。仮定された１５％の吸光性を有する銀ベースのコーティングの反射率と透過率との関係が、吸光金属の反射率と透過率の関係と共に図４に示されている。これらの二本の線の間の区域は、半透過反射体スタックに銀ベースの層を含包することにより可能になる追加の領域である。図４は、４０％の反射体に対する異なるオプションの達成可能な透過率も示す。許容可能な透過率の範囲は、吸光金属半透過反射体に比べて、銀ベースの半透過反射体では約４倍大きい。
【００３８】
銀ベースの半透過反射体を含む電気光学アセンブリ１０に対する反射率と透過率との許容可能な組み合わせは、反射率＋透過率（Ｒ＋Ｔ）＜９０％となるよう選択することができる。しかし、他の銀ベースの半透過反射体は、８０％未満または７０％もしくは６０％未満の（Ｒ＋Ｔ）の値を有し得る。図５に示すように、半透過型コーティング７０は、基板２２の第２表面２２Ｂ上に配置され得る。半透過型コーティング７０は、三つのサブレイヤーに細分される。新規の銀ベースの半透過反射体は、三層スタックに制限されないことを理解されたい。より少ないまたは追加のサブレイヤーが存在してもよく、それは本開示の範囲内でありうる。三層スタックは、追加層のオプション機能の説明を可能にするために提示されている。半透過型コーティング７０の反射率は、約２０％より大きくてもよく、または約３０％より大きくてもよく、または約４０％より大きくてもよい。
【００３９】
一つの非限定例では、銀ベースの導電層７０Ｂは、約２ｎｍ〜３０ｎｍで変化し得る、または代替で約６ｎｍ〜１５ｎｍの間で変化し得る厚さを有する。銀ベースの層７０Ｂはまた、細分化されていてもよく、または合金で構成されてもよい。銀材料への有用な追加は、金、パラジウム、プラチナ、ロジウム、チタン、アルミニウム、亜鉛、銅、錫、ケイ素、ゲルマニウム、マンガン、マグネシウム、タングステン、鉛、ホウ素、クロム、トリウム、タンタル、リチウム、及びインジウムが挙げられるが、それらに限定されない。
【００４０】
オプションのベース層７０Ａは、誘電体、ＴＣＯ、または金属層のうちの少なくとも一つを含んでもよい。ベース層７０Ａは、粘着を助けるまたは反射率及び／または透過率を調整するために使用することができる。ＴＣＯ材料は、ＩＴＯ、Ｆ：Ｓｎ０２、Ｓｂ：Ｓｎ０２、Ａｌ：ＺｎＯ、Ｇａ：ＺｎＯ、Ｂ：ＺｎＯなどのドープされたＺｎＯ、ＩＺＯ、及びＮｂ：Ｔｉ０２を含むリストから選択することができる。誘電体は、ＭＤＭ構造を説明した群から選択することができる。同様に、ベース層７０Ａに適した金属も上記で詳細を説明した群から選択することができる。導電率を上げてシート抵抗を低減するため銀層の厚さを厚くすると、反射率が増加する。ベース層７０Ａは、反射率及び透過率の強度及び／または半透過型コーティング７０の色を調節するため調整することができる。
【００４１】
オプションのオーバーコート層７０Ｃは、ＴＣＯまたはルテニウム、ロジウム、プラチナ、パラディン、オスミウム、またはイリジウムなどのプラチナ群の金属を含んでもよい。両方の種類の材料は、増加した導電率（より低いシート抵抗）、反射率調整、透過率調整、またはその両方、またはより高い演色評価数（ＣＲＩ）値のうちの少なくとも一つをもたらすと同時に、エレクトロクロミック媒体と互換性がある。オーバーコート層は、電気光学材料と銀導電層との間に配置され得る。追加で、オーバーコート層は、ＴＣＯと貴金属のうちの少なくとも一方を含み得る。
【００４２】
他の実施例では、半透過型コーティング７０は、２０１５年８月１４日に出願された  「ＥＬＥＣＴＲＯ−ＯＰＴＩＣ  ＡＳＳＥＭＢＬＹ」と題する米国仮特許出願第６２／２０５，３７６号、「ＥＬＥＣＴＲＯ−ＯＰＴＩＣ  ＥＬＥＭＥＮＴ  ＷＩＴＨ  ＩＭＩ  ＬＡＹＥＲ」と題する代理人整理番号第ＡＵＴＯ０２２１５ＵＳ号（ＧＥＮ０１０  Ｐ９１７Ａ）、及び「ＥＬＥＣＴＲＯ−ＯＰＴＩＣ  ＥＬＥＭＥＮＴ  ＷＩＴＨ  ＨＩＧＨ  ＤＯＵＢＬＥ  ＩＭＡＧＥ  ＲＡＴＩＯ」と題する代理人整理番号第ＡＵＴＯ０２２１４ＵＳ号（ＧＥＮ０１０  Ｐ９１８Ａ）に開示された半透過型コーティング及び半透過型層のいずれかを含んでもよく、それらの全体の開示は当該参照により本明細書に組み入れられる。
【００４３】
ヘッドアップディスプレイシステム１４の一次反射率は、電気光学アセンブリ１０の第１表面２２Ａまたは第２表面２２Ｂのどちらかに位置づけられた半透過型コーティング７０から生じるので、不鮮明な像（すなわち、二重像）をもたらし得る他の表面（例えば、半透過型コーティング７０が存在しない第１表面２２Ａから第４表面２６Ｂ）からの二次反射を最小化することは概して重要である。したがって、反射防止コーティング８０の使用は、有利であり得る。反射防止コーティング８０の実施例は、透明導電性酸化物であってもよい。本明細書に説明される実施例に関連して、第２表面２２Ｂ及び第３表面２６Ａは、透明電極を含んでもよい。ＩＴＯ、Ｆ：ＳｎＯ2、ドープされたＺｎＯ、ＩＺＯ、または他の層などの透明導電性酸化物（ＴＣＯ）は、エレクトロクロミックシステムなどの電気光学装置に共通して使用される。上述したように、これらの材料の反射率は、干渉効果によるコーティングの厚さの関数である。最低反射率は、導電性酸化物コーティング（例えば、反射防止コーティング８０）の厚さを適合させることによって得ることができる。最低反射率は、半波での光学的厚さである。ヘッドアップディスプレイシステム１４のプロジェクタ４６の波長に応じて、半波条件に対する波長は、純最低反射率値を得るよう調節されてもよい。例えば、ＩＴＯコーティングの反射率は、反射防止コーティング８０の約１４５ｎｍの厚さの層を有する第２表面２２Ｂ及び第３表面２６Ａからの反射率と同程度に低いか、それより０．５％程度低くてもよい。
【００４４】
記述された開示及び他の構成要素の構築は、いなかる特定の材料にも限定されないことが、当業者によって理解されるだろう。本明細書に開示された発明の他の例示的な実施形態は、本明細書に別段の記載がある場合を除き、広範な材料から形成され得る。
【００４５】
本開示用に、用語「ｃｏｕｐｌｅｄ（結合された）」（ｃｏｕｐｌｅ，ｃｏｕｐｌｉｎｇ，ｃｏｕｐｌｅｄなどその形式のすべてにおいて）は、直接的であれ間接的であれ、互いに２つの構成要素（電気的または機械的）が接合することを概して意味する。このような接合は、本質的に静止状態かまたは本質的に可動状態であってもよい。このような接合は、２つの構成要素（電気的または機械的）、ならびに、互いとまたは２つの構成要素と１つの単体として一体成形される付加的中間部材で、達成されてもよい。このような接合は、本質的に永続的であってよいか、または、別段の記載がない限り、本質的に取外し可能つまり遊離可能であってもよい。
【００４６】
例示的な実施形態において示されるような本開示の要素の構築及び配置は、単に説明的であることに注意することも重要である。本発明の少数の実施形態だけが、本開示において詳細に記述されているが、本開示を検討する当業者は、列挙された主題の新規の教示及び利点から逸脱することなく、多くの修正が可能（例えば、さまざまな要素のサイズ、寸法、構造、形及び比率、パラメータ値、取り付け方法、材料の使用、色、向きなど）であることを容易に認識するだろう。例えば、一体成形として示される要素は、複数の部品が一体成形されてもよいように示される複数の部品または要素から構成されてもよく、インターフェースの操作が逆にまたは他の態様に変化されてもよく、システムの構造及び／または部材またはコネクタまたは他の要素の長さまたは幅が変化されてもよく、要素間に提供された調整位置の性質または個数が変化されてもよい。システムの要素及び／またはアセンブリは、任意の広範な色、質感、及び組合せにおいて、十分な強度または耐久性を提供する、任意の広範な材料から構成されてもよい。その結果、すべてのこのような修正は、本発明の範囲内に含まれるように意図される。他の代用、修正、変化、及び省略は、本発明の精神から逸脱することなく、所望の他の例示的な実施形態のデザイン、操作条件及び配置において、なされ得る。
【００４７】
いずれの説明されたプロセスまたは説明されたプロセス内のステップも、その他の開示されたプロセスまたはステップと組み合わされ、本開示の範囲内で構造を形成し得ることが理解されるであろう。本明細書に開示された例示的な構造及びプロセスは、説明のためのものであり、制限として解釈してはならない。
【００４８】
変形及び修正が、本開示の概念から逸脱することなく、前述の構造及び方法においてなされ得ることも理解されるべきであり、更に、このような概念は、特許請求の範囲がそれらの言葉で別段に明確に述べられていない限り、以下の特許請求の範囲に含まれるものとされることが理解されるべきである。
【図１】
2019527647.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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