(57)【要約】  モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスが開示される。モバイルデバイスの金属製囲いが筐体を備え、少なくとも１つの隙間が筐体の上に配置され、ここで、少なくとも１つの隙間が筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填され、筐体の表面に取り付けられている絶縁膜を更に備える。先述の実施形態において、隙間が筐体の上に設けられ、その結果、筐体が少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割される。各隙間は絶縁物で充填され、筐体の表面の隙間及び隙間の絶縁物がパーティションを形成し、その結果、筐体により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、モバイルデバイスの通信機能が確保される。絶縁膜が筐体の表面に更にあり、絶縁膜が筐体の表面の隙間を覆う。その結果、隙間は外見上見えなくなり、金属製囲いが、統一された外観を有する。
2019537238.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体
を備え、
少なくとも１つの隙間が前記筐体の上に設けられ、前記少なくとも１つの隙間が、前記筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填され、
前記筐体の表面に取り付けられている絶縁膜
を更に備える、
モバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項２】
前記絶縁膜が、金属酸化膜である、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項３】
各隙間の幅が、０．０１ｍｍから２．０ｍｍの範囲内にある、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項４】
前記絶縁膜の厚さが、０．００３ｍｍから０．１０ｍｍの範囲内にある、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項５】
前記筐体の空洞に固定されているプラスチック補強層を更に備える、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項６】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、
前記反射膜が、前記筐体の前記表面の全体を覆う、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項７】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、
前記反射膜が、前記少なくとも１つの隙間の表面を覆い、
２つ又はそれよりも多くの隙間が前記筐体の上に設けられる場合に、前記反射膜は、前記２つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項８】
前記筐体の前記表面に配置される溝を更に備え、
前記少なくとも１つの隙間が、前記溝の底壁の上に設けられ、
前記溝の前記底壁を覆う反射膜が、前記溝に更に配置される、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項９】
前記反射膜は、金属に似せた被覆である、請求項６から８の何れか一項に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項１０】
前記反射膜は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる、請求項６から８の何れか一項に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項１１】
請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲いのための製造方法であって、
少なくとも１つの隙間を形成すべく前記筐体を切断する段階であって、前記少なくとも１つの隙間が前記筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する、切断する段階と、
各隙間を絶縁物で充填する段階と、
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する段階と、
を備える、製造方法。
【請求項１２】
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する前記段階は、具体的には、
前記筐体の前記表面に金属膜を形成する段階と
陽極酸化により前記金属膜を金属酸化膜へと変える段階
である、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備え、
前記反射膜が、前記筐体の前記表面の全体を覆う、請求項１１又は１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備え、
前記反射膜が、前記少なくとも１つの隙間の表面を覆い、
切断する段階によって、２つ又はそれよりも多くの隙間が前記筐体に形成される場合に、前記反射膜は、前記２つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う、請求項１１又は１２に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記筐体の前記表面に溝を設ける段階を更に備え、
前記少なくとも１つの隙間が、前記溝の底壁の上に設けられる、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する前記段階は、具体的には、
前記溝に、前記筐体と同一の材料のフィラーを堆積する段階であって、前記溝の空洞は前記フィラーで充填される、堆積する段階と、
前記筐体の前記表面に金属酸化膜を形成すべく、前記筐体に陽極酸化処理を実行する段階
である、請求項１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記溝に、前記溝の前記底壁を覆う反射膜を配置する段階を更に備える、請求項１５又は１６に記載の製造方法。
【請求項１８】
モバイルデバイスであって、
デバイス本体と、
前記デバイス本体に固定して接続される請求項１から１０の何れか一項に記載の金属製囲いと
を備え、
前記デバイス本体に配置されるアンテナを更に備え、
前記金属製囲いにおける、少なくとも２つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも１つが、前記アンテナの放射要素として用いられる、モバイルデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２０１６年９月２８日に中国特許庁に出願された、「モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイス」と題する中国特許出願第２０１６１０８６７９３４．４号に基づく優先権を主張し、当該特許出願の全体は、参照により本明細書に組み込まれる。  本願は、電子デバイスの分野に関する。具体的には、モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、金属材料は、電子デバイスの様々なタイプの外側筐体として、広く用いられている。従来のプラスチック筐体とは異なり、金属製囲いは、構造的強度、放熱性能、外観品質等の点で、明らかな利点を有する。様々な電子製品（スマートフォン、スマートウォッチ、タブレットコンピュータ等）は、通常、通信機能を有し、それ故に、金属製囲いがそのような電子製品に選択される場合には、金属材料の電磁波シールド性能が考慮される必要があり、そして、金属製囲いが通信機能に及ぼす影響もまた考慮される必要がある。例として、スマートフォンが用いられる。現在、金属製囲いを有する携帯電話に対して、アンテナ信号が通過できることを保証するために、通常は、パーティションを形成すべく、金属製囲いに溝を設ける必要がある。金属製囲いの完全性を保証するために、アンテナ溝パーティションには、非金属が充填される。その結果、金属製囲いは、２つのセグメント、３つのセグメント又はそれより多いセグメントへと非金属によって分割され、金属製囲いの外観の統一性に影響する。
【発明の概要】
【０００３】
本発明では、モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスを提供する。モバイルデバイスの金属製囲いは、統一された外観を有し、電磁波はシールドされない。その結果、モバイルデバイスの通信機能が確保される。
【０００４】
本発明は、モバイルデバイスの金属製囲いを提供する。モバイルデバイスの金属製囲いは、筐体を備え、ここで、少なくとも１つの隙間が上記筐体の上に設けられ、上記少なくとも１つの隙間が、上記筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填される。金属製囲いは、上記筐体の表面に取り付けられた絶縁膜を更に備える。
【０００５】
先述の実施形態において、上記隙間が上記筐体の上に設けられ、その結果、上記筐体が上記少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割される。各隙間は上記絶縁物で充填され、上記筐体の上記表面の上記隙間及び上記隙間の上記絶縁物がパーティションを形成し、その結果、上記筐体により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、上記モバイルデバイスの通信機能が確保される。上記絶縁膜が上記筐体の上記表面に更にあり、上記絶縁膜が上記筐体の上記表面の上記隙間を覆う。その結果、上記隙間は外見上見えなくなり、上記金属製囲いが、統一された外観を有する。
【０００６】
具体的な実装上の解決手段において、上記絶縁膜は、金属酸化膜である。上記金属酸化膜は上記隙間部分を覆い、その結果、金属製囲いは統一された外観を有し、金属光沢を有し、金属製囲いの質感（テクスチャ）が向上する。
【０００７】
オプションで、各隙間の幅は、例えば０．０１ｍｍ、０．０５ｍｍ、０．１ｍｍ、０．３ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、及び、２．０ｍｍ等のように、０．０１ｍｍから２．０ｍｍの範囲内にある。
【０００８】
オプションで、絶縁膜の厚さは、例えば０．０１ｍｍ、０．０３ｍｍ、０．０５ｍｍ及び０．０８ｍｍ等のように、０．００３ｍｍから０．１０ｍｍの範囲内にある。
【０００９】
金属製囲いの強度を増加し、金属製囲いの空洞構造を更に向上するために、金属製囲いは、筐体の空洞に固定されるプラスチック補強層を更に備える。
【００１０】
別の具体的な実装上の解決手段において、上記金属製囲いは、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、上記反射膜が、上記筐体の表面の全体を覆う。
【００１１】
オプションで、上記金属製囲いが、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、上記反射膜が、上記少なくとも１つの隙間の表面を覆う。２つ又はそれよりも多くの隙間が上記筐体の上に設けられる場合に、上記反射膜は、上記２つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う。
【００１２】
オプションで、上記金属製囲いが、上記筐体の上記表面に配置される溝を更に備え、上記少なくとも１つの隙間が、上記溝の底壁の上に設けられ、上記溝の上記底壁を覆う反射膜が、上記溝に更に配置される。オプションで、上記反射膜は、金属に似せた被覆である。
【００１３】
オプションで、上記反射膜は、更に、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られてよい。反射膜は、金属製囲いの外観及び質感を調整してよい。
【００１４】
本発明は、上記の金属製囲いのための製造方法を更に提供し、当該製造方法は、以下の段階を備える。即ち、少なくとも１つの隙間を形成すべく上記筐体を切断する段階であって、ここで、上記少なくとも１つの隙間が上記筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する、切断する段階と、各隙間を絶縁物で充填する段階と、上記筐体の表面に絶縁膜を形成する段階と、を備える。
【００１５】
具体的な製造方法において、上記筐体の表面に絶縁膜を形成する上記段階は、具体的には、上記筐体の上記表面に金属膜を形成する段階と、陽極酸化により上記金属膜を金属酸化膜へと変える段階である。
【００１６】
オプションで、上記方法は、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備えてよく、ここで、上記反射膜が、上記筐体の上記表面の全体を覆う。
【００１７】
オプションで、上記方法は、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備えてよい。ここで、上記反射膜が、上記少なくとも１つの隙間の表面を覆う。そして、切断する段階によって、２つ又はそれよりも多くの隙間が上記筐体の上に形成される場合に、上記反射膜は、上記２つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う。
【００１８】
別の具体的な製造方法において、上記方法は、上記筐体の上記表面に溝を設ける段階を更に備え、ここで、上記少なくとも１つの隙間が、上記溝の底壁の上に設けられる。
【００１９】
オプションで、上記方法は、上記溝に、上記筐体と同一の材料のフィラーを堆積する段階であって、ここで、上記溝の空洞は上記フィラーで充填される、堆積する段階と、上記筐体の上記表面に金属酸化膜を形成すべく、上記筐体に陽極酸化処理を実行する段階と、を更に備える。
【００２０】
オプションで、上記方法は、上記溝に、上記溝の上記底壁を覆う反射膜を配置する段階を更に備える。
【００２１】
本発明では、更に、モバイルデバイスを提供する。  モバイルデバイスが、デバイス本体と、上記デバイス本体に固定して接続される、上記の実装の何れか１つの金属製囲いとを備える。そして、モバイルデバイスは、上記デバイス本体の上に配置されるアンテナを更に備える。上記金属製囲いにおける、少なくとも２つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも１つが、上記アンテナの放射要素として用いられる。上記モバイルデバイスの金属製囲いは、統一された外観を有する。加えて、上記モバイルデバイスは、優れた通信性能を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態１における金属製囲いの統一された外観の略図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図２−１】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−２】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−３】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−４】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−５】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−６】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−７】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−８】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−９】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−１０】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−１１】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−１２】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−１３】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図３】隙間と垂直な位置における、実施形態２における金属製囲いの断面図である。
【図３−１】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−２】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−３】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−４】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−５】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−６】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−７】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４】隙間と垂直な位置における、実施形態３における金属製囲いの断面図である。
【図４−１】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−２】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−３】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−４】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−５】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−６】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−７】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５】隙間と垂直な位置における、実施形態４における金属製囲いの断面図である。
【図５−１】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−２】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−３】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−４】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−５】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−６】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−７】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−８】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。符号番号：１：筐体、２：プラスチック補強層、３：隙間、４：絶縁物、５：絶縁膜、６：反射膜、７：金属膜
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の目的、技術的解決手段、及び利点をより明確にするべく、以下ではさらに、添付図面に関連して本発明を詳細に説明する。説明される実施形態は、本発明の実施形態の全てではなく、その一部に過ぎないことは明らかである。創造的な努力なく本発明の実施形態に基づいて当業者によって得られる他の全ての実施形態は、本発明の保護範囲内に当然に含まれる。実施形態１
【００２４】
図１及び図２に示されるように、図１は、本発明の本実施形態において提供される金属製囲いの統一された外観の略図であり、図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。
【００２５】
本発明の実施形態１は、金属製囲いを提供する。金属製囲いは、筐体１を備える。筐体１の上には少なくとも１つの隙間３が設けられ、少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間３は絶縁物４で充填される。金属製囲いは、筐体１の表面に取り付けられる絶縁膜５を更に備える。
【００２６】
統合された金属製囲いは、電磁波シールドを生成し、電磁波透過が阻止され、これにより、電子デバイスの通信機能が影響を受ける。そこで、先述の実施形態において、隙間３が筐体１の上に設けられ、隙間３が筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物４で充填される。筐体１の分割された部分は、絶縁物４を用いることにより、統一体へと重ね継ぎ（スプライス）される。具体的な実施形態において、絶縁物４は、エポキシ樹脂、シリコーン封止剤又はそれらと同様の物である。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上にパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、モバイルデバイスの通信機能が確保される。隙間３の幅は、例えば０．０１ｍｍ、０．０５ｍｍ、０．１ｍｍ、０．３ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、又は２．０ｍｍ等のように、０．０１ｍｍから２．０ｍｍの範囲内にある。加えて、特定の配置では、隙間３は、図１に示されるように具体的に設けられる。隙間３の長さ方向は、筐体１の長さ方向に対して垂直である。即ち、隙間３は、筐体１の上に水平に配置される。
【００２７】
加えて、絶縁膜５が筐体１の表面に更に取り付けられる。絶縁膜５の厚さは、例えば０．０１ｍｍ、０．０３ｍｍ、０．０５ｍｍ又は０．０８ｍｍ等のように、０．００３ｍｍから０．１ｍｍの範囲内にある。絶縁膜５は、筐体１の上にあり、かつ、隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。具体的な実施形態において、絶縁膜５は金属酸化膜である。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とし、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００２８】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体１を備える。プラスチック補強層２が、筐体１の空洞に固定される。筐体１の表面には、４つの隙間３が設けられ、隙間３の幅は０．０５ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４が充填される。加えて、絶縁膜５が、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５の厚さは、０．０２ｍｍである。製造技術の制約により、絶縁膜５の厚さに対して、０．０１ｍｍの誤差が存在する。このため、絶縁膜５の厚さは、０．０２ｍｍ−０．０１ｍｍから０．０２ｍｍ＋０．０１ｍｍにおよぶ。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【００２９】
段階１：図２−１に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造又はＣＮＣコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体１を製造する。
【００３０】
段階２：図２−２に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト又は超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体１の空洞にプラスチック補強層２を形成する。プラスチック補強層２は、筐体１の強度を増加し、筐体１の空洞構造を更に向上する。
【００３１】
段階３：図２−３に示されるように、筐体１を切断して、少なくとも１つの隙間３を形成する。少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、筐体１が切断されて４つの隙間３が形成される。それらの幅は０．０５ｍｍであり、複数の隙間３の間の間隔は０．８ｍｍである。４つの隙間３は、筐体１の上に並行に配置される。
【００３２】
段階４：図２−４に示されるように、各隙間３を絶縁物４で充填する。具体的には、各隙間３は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４で充填される。絶縁物４が固化された後、筐体１の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上に４つのパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【００３３】
段階５：図２−５及び図２−６に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、厚さが０．０２±０．０１ｍｍの絶縁膜５が、筐体１の表面に形成される。絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により筐体１の上に形成される４つのパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００３４】
絶縁膜５の具体的な製造において、図２−５に示されるように、最初に金属膜７が筐体１の表面に形成される。金属膜７の厚さは０．０２±０．００５ｍｍである。次に、図２−６に示されるように、金属膜７が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００３５】
具体的な実施形態において、アルミニウム膜が、通常は、ＰＶＤ（物理蒸着）、ＣＶＤ（化学蒸着）、イオンプレーティング、物理イジェクト又は電気めっき等の技術を用いて、筐体１の表面にめっきされ、アルミニウムが陽極酸化によりアルミニウム酸化物へと変えられ、筐体１の表面に取り付けられる。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００３６】
代替的に、先述の実施形態における金属製囲いは、以下の製造方法を用いて製造されてもよく、具体的には、以下の段階が含まれる。
【００３７】
段階１：図２−７に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造、又はＣＮＣコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体１を製造する。
【００３８】
段階２：図２−８に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト又は超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体１の空洞にプラスチック補強層２を形成する。プラスチック補強層２は、筐体１の強度を増加し、筐体１の空洞構造を更に向上する。
【００３９】
段階３：図２−９に示されるように、筐体１の表面に溝を提供する。具体的には、筐体１の表面に溝が設けられ、当該溝の幅は、段階４で提供される隙間３の幅、間隔及び個数と適合し、当該溝の深さは、段階６で配置されるフィラーの厚さと適合する。この実施形態において、溝の幅は２．６ｍｍであり、溝の深さは０．０２ｍｍである。
【００４０】
段階４：図２−１０に示されるように、溝の底壁を切断し、少なくとも１つの隙間３を形成する。少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、溝の底壁が切断されて４つの隙間３が形成され、それらの幅は０．０５ｍｍであり、複数の隙間３の間の間隔は０．８ｍｍである。４つの隙間３は、並行に配置される。
【００４１】
段階５：図２−１１に示されるように、各隙間３を絶縁物４で充填する。具体的には、各隙間３は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４で充填され、絶縁物４が固化された後、筐体１の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上に４つのパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【００４２】
段階６：図２−１２に示されるように、溝に、筐体１と同一の材料のフィラーを堆積する。溝の空洞は、当該フィラーで充填される。具体的な実施形態において、筐体１はアルミニウム材料で作られ、アルミニウム層が、ＰＶＤ（物理蒸着）、ＣＶＤ（化学蒸着）、イオンプレーティング、物理イジェクト、又は電気めっき等の技術を用いて、溝に堆積される。
【００４３】
段階７：図２−１３に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、筐体１の表面に金属酸化膜を形成すべく、陽極酸化処理が筐体１に実行される。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００４４】
筐体１がアルミニウム材料で作られる場合に、酸化アルミニウム膜は、陽極酸化技術を用いて、筐体１の表面に形成される。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態２
【００４５】
図３に示されるように、図３は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【００４６】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。金属製囲いは、実施形態１における筐体１、隙間３、絶縁物４及び絶縁膜５を備え、上記の構造の全ては、実施形態１における構造及び配置と同じである。詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される金属製囲い及び実施形態１の金属製囲いの間の違いは、本実施形態で提供される金属製囲いが、反射膜６を更に備える点にある。反射膜６は、筐体１及び絶縁膜５の間に具体的に配置され、かつ、筐体１の表面全体を覆う。
【００４７】
反射膜６は、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、筐体１の表面にあり、かつ隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００４８】
具体的な実施形態において、金属製囲いは、筐体１を備える。プラスチック補強層２が、筐体１の空洞に固定される。筐体１の表面には、４つの隙間３が設けられ、隙間３の幅は０．１ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４が充填される。絶縁膜５が、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５の厚さは、０．０３ｍｍである。製造技術の制約により、絶縁膜５の厚さに対して、０．０１ｍｍの誤差が存在する。このため、絶縁膜５の厚さは、０．０３ｍｍ−０．０１ｍｍから０．０３ｍｍ＋０．０１ｍｍにおよぶ。加えて、反射膜６が更に含まれ、反射膜６が筐体１及び絶縁膜５の間にあり、反射膜６が筐体１の表面全体を覆う。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【００４９】
図３−１から図３−４に示されるように、本実施形態で提供される製造方法における段階１、段階２、段階３及び段階４は、図２−１から図２−４に示される実施形態１の段階１、段階２、段階３及び段階４と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される製造方法は、以下の段階を更に備える。
【００５０】
段階５：図３−５に示されるように、筐体１の表面に反射膜６を形成する。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜６が、筐体１の表面に形成され、反射膜６は筐体１の表面全体を覆う。反射膜６は、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間３及び絶縁物４により形成される、筐体１の上の４つのパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００５１】
段階６：図３−６及び図３−７に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、厚さが０．０３±０．０１ｍｍの絶縁膜５が、反射膜６の上に形成される。絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により筐体１の上に形成される４つのパーティションが外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００５２】
絶縁膜５の具体的な製造において、図３−６に示されるように、最初に、金属膜７が反射膜６の表面に形成される。金属膜７の厚さは０．０３±０．００５ｍｍである。次に、図３−７に示されるように、金属膜７が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００５３】
具体的な実施形態において、酸化アルミニウム膜が、筐体１の表面に形成されてよい。具体的な製造方法は、実施形態１の酸化アルミニウム膜を生成するために用いられる方法と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態３
【００５４】
図４に示されるように、図４は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【００５５】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。本金属製囲い及び実施形態２の金属製囲いの間の違いは、反射膜６が異なる位置に配置されるという点にのみあり、その他の構造は同じである。詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態において、反射膜６が、筐体１及び絶縁膜５の間にあり、反射膜６は、少なくとも１つの隙間３の表面を覆う。２つ又はそれよりも多くの隙間３が、切断により筐体１の上に形成される場合、反射膜６は、当該２つ又はそれよりも多くの隙間３における隣接する隙間３の間の領域を更に覆う。
【００５６】
加えて、本実施形態で提供される反射膜６は、実施形態２の反射膜６と同じ効果を有する。両方とも、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間３及び絶縁物４により形成される、筐体１の表面における複数のパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００５７】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体１を備える。プラスチック補強層２が筐体１の空洞に固定される。筐体１の表面には、４つの隙間３が設けられ、隙間３の幅は０．２ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４が充填される。絶縁膜５が、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５の厚さは、０．０４ｍｍである。製造技術の制約により、絶縁膜５の厚さに対して、０．０１ｍｍの誤差が存在する。このため、絶縁膜５の厚さは、０．０４ｍｍ−０．０１ｍｍから０．０４ｍｍ＋０．０１ｍｍにおよぶ。加えて、反射膜６が更に含まれる。反射膜６が筐体１及び絶縁膜５の間にあり、反射膜６が４つの隙間３の表面を覆い、かつ、４つの隙間３における隣接する隙間３の間の領域を覆う。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【００５８】
図４−１から図４−４に示されるように、本実施形態で提供される製造方法における段階１、段階２、段階３及び段階４は、図２−１から図２−４に示される実施形態１の段階１、段階２、段階３及び段階４と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される製造方法は、以下の段階を更に備える。
【００５９】
段階５：図４−５に示されるように、筐体１の表面に反射膜６を形成する。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜６が、筐体１の表面に形成される。反射膜６は、４つの隙間３の表面及び４つの隙間３における隣接する隙間３の間の領域を覆う。反射膜６は、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間３及び絶縁物４により形成される、筐体１の上の４つのパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００６０】
段階６：図４−６及び図４−７に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、厚さが０．０４±０．０１ｍｍの絶縁膜５が、筐体１の表面に形成され、絶縁膜５は、筐体１の全体の表面領域を覆う。絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により筐体１の上に形成される４つのパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００６１】
絶縁膜５の具体的な製造において、図４−６に示されるように、最初に、金属膜７が筐体１の表面及び反射膜６の表面に形成される。金属膜７の厚さは０．０４±０．００５ｍｍである。次に、図４−７に示されるように、金属膜７が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００６２】
具体的な実施形態において、酸化アルミニウム膜が、筐体１の表面に形成されてよい。具体的な製造手法は、実施形態１の酸化アルミニウム膜を生成するために用いられる方法と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態４
【００６３】
図５に示されるように、図５は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【００６４】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。本金属製囲い及び実施形態３の金属製囲いの間の違いは、隙間３が設けられる領域の上に、溝が更に設けられるという点にのみある。反射膜６が溝に配置される。即ち、溝が筐体１の表面に設けられる。隙間３が溝の底壁の上に設けられ、溝の底壁を覆う反射膜６が、更に、溝にある。
【００６５】
加えて、本実施形態で提供される反射膜６は、実施形態３の反射膜６と同じ効果を有する。両方とも、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、筐体の表面にあり、かつ、隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００６６】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体１を備える。プラスチック補強層２が筐体１の空洞に固定される。筐体１の表面には、４つの隙間３が設けられ、隙間３の幅は０．３ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４が充填される。絶縁膜５が、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５の厚さは、０．０５ｍｍである。製造技術の制約により、絶縁膜５の厚さに対して、０．０１ｍｍの誤差が存在する。このため、絶縁膜５の厚さは、０．０５ｍｍ−０．０１ｍｍから０．０５ｍｍ＋０．０１ｍｍにおよぶ。加えて、筐体１の表面における溝が更に含まれ、隙間３が溝の底壁の上に設けられ、溝の底壁を覆う反射膜６が、更に溝にある。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【００６７】
段階１：図５−１に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造、又は、ＣＮＣコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体１を製造する。
【００６８】
段階２：図５−２に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト、又は、超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体１の空洞にプラスチック補強層２を形成する。プラスチック補強層２は、筐体１の強度を増加し、筐体１の空洞構造を更に向上する。
【００６９】
段階３：図５−３に示されるように、筐体１の表面に溝を提供する。具体的には、筐体１の表面に溝が設けられ、当該溝の幅は、段階４で配置される隙間３の幅、間隔及び個数と適合し、当該溝の深さは、段階７で配置されるフィラーの厚さと適合する。この実施形態において、溝の幅は３．６ｍｍであり、溝の深さは０．０５ｍｍである。
【００７０】
段階４：図５−４に示されるように、溝の底壁を切断し、少なくとも１つの隙間３を形成する。少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、溝の底壁が切断されて４つの隙間３が形成され、それらの幅は０．３ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍであり、４つの隙間３は、並行に配置される。
【００７１】
段階５：図５−５に示されるように、各隙間３を絶縁物４で充填する。具体的には、各隙間３は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４で充填され、絶縁物４が固化された後、筐体１の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。隙間３及び絶縁物４が筐体１の上に４つのパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【００７２】
段階６：図５−６に示されるように、溝に反射膜６を置く。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜６が溝に配置され、反射膜６は、溝の底壁を覆う。反射膜６は、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間３は、外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００７３】
段階７：図５−７に示されるように、溝に、筐体１と同一の材料のフィラーを堆積する。溝の空洞は、当該フィラーで充填される。具体的な実施形態において、筐体１はアルミニウム材料で作られ、アルミニウム層が、ＰＶＤ（物理蒸着）、ＣＶＤ（化学蒸着）、イオンプレーティング、物理イジェクト、又は電気めっき等の技術を用いて、溝に堆積される。
【００７４】
段階８：図５−８に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、筐体１の表面に金属酸化膜を形成すべく、陽極酸化処理が筐体１に実行される。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色は、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００７５】
筐体１がアルミニウム材料を用いて作られる場合に、酸化アルミニウム膜は、陽極酸化により、筐体１の表面に形成される。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００７６】
本発明の実施形態１から実施形態４において提供される金属製囲いが筐体１を備えることが、上記説明から理解できよう。隙間３が筐体１の上に設けられ、隙間３が筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。各隙間３は絶縁物４で充填され、筐体１の分割された部分は、絶縁物４を用いることにより、統一体へと重ね継ぎ（スプライス）される。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上にパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防止する。絶縁膜５は、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００７７】
本発明は、先述の実施形態における金属製囲いのための製造方法を更に提供し、以下の段階が含まれる。
【００７８】
筐体１を切断して、少なくとも１つの隙間３を形成する。少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。各隙間３を絶縁物４で充填する。筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。
【００７９】
金属製囲いが統一された外観を有し、かつ、金属光沢を有することができるように、金属酸化膜が、筐体１の表面に具体的に形成されてよい。図２に示される構造を有する金属製囲いが、実施形態１の２つの製造方法を用いて製造される。金属製囲いの質感を向上すべく、反射膜６が筐体１と絶縁膜５の間に更に置かれてよく、反射膜６は、筐体１の表面全体を覆う。図３の構造を有する金属製囲いが、実施形態２の製造方法を用いて製造される。加えて代替的に、反射膜６は、筐体１の上にあり、かつ、切断により少なくとも１つの隙間３が形成される領域のみを覆ってよい。具体的には、反射膜６は、少なくとも１つの隙間３の表面を覆う。２つ又はそれよりも多くの隙間３が切断により筐体１の上に形成される場合に、反射膜６が、２つ又はそれよりも多くの隙間３における隣接する隙間３の間の領域を更に覆う。図４の構造を有する金属製囲いが、実施形態３の製造方法を用いて製造される。
【００８０】
別の具体的な製造方法において、溝が、筐体１の表面に更に設けられてよい。少なくとも１つの隙間３が溝の底壁の上に設けられ、反射膜６が溝の底壁の上に置かれる。図５の構造を有する金属製囲いが、実施形態４の製造方法を用いて製造される。
【００８１】
本発明は、モバイルデバイスを更に提供する。モバイルデバイスが、デバイス本体と、上記デバイス本体に固定して接続される、実施形態１から実施形態４のうちの１つにおける金属製囲いとを備える。モバイルデバイスが、上記デバイス本体の上に配置されるアンテナを更に備える。金属製囲いにおける、少なくとも２つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも１つが、アンテナの放射要素として用いられる。モバイルデバイスの金属製囲いに対し、隙間３が筐体１の上に設けられ、隙間３が筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間３は絶縁物４で充填される。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上にパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。絶縁膜５が筐体１の表面に更に取り付けられる。絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００８２】
当業者であれば、本発明の主旨及び範囲から逸脱することなく、本発明に対する様々な修正及び変形を加えることができることが明らかである。本発明は、これらの変形及び変更が以下の特許請求の範囲及びそれらの均等技術によって定義される保護範囲に含まれる限り、当該変形及び変更を包含するよう意図される。
【図１】
2019537238.tif 000003
【図２】
2019537238.tif 000004
【図２．１】
2019537238.tif 000005
【図２．２】
2019537238.tif 000006
【図２．３】
2019537238.tif 000007
【図２．４】
2019537238.tif 000008
【図２．５】
2019537238.tif 000009
【図２．６】
2019537238.tif 000010
【図２．７】
2019537238.tif 000011
【図２．８】
2019537238.tif 000012
【図２．９】
2019537238.tif 000013
【図２．１０】
2019537238.tif 000014
【図２．１１】
2019537238.tif 000015
【図２．１２】
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【図２．１３】
2019537238.tif 000017
【図３】
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【図３．１】
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【図３．２】
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【図３．３】
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【図３．４】
2019537238.tif 000022
【図３．５】
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【図３．６】
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【図３．７】
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【図４】
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【図４．１】
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【図４．２】
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【図４．３】
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【図４．４】
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【図４．５】
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【図４．６】
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【図４．７】
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【図５】
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【図５．１】
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【図５．２】
2019537238.tif 000036
【図５．３】
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【図５．４】
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【図５．５】
2019537238.tif 000039
【図５．６】
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【図５．７】
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【図５．８】
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【手続補正書】
【提出日】平成31年3月28日(2019.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体
を備え、
少なくとも１つの隙間が前記筐体の上に設けられ、前記少なくとも１つの隙間が、前記筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填され、
前記筐体の表面に取り付けられている絶縁膜
を更に備える、
モバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項２】
前記絶縁膜が、金属酸化膜である、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項３】
各隙間の幅が、０．０１ｍｍから２．０ｍｍの範囲内にある、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項４】
前記絶縁膜の厚さが、０．００３ｍｍから０．１０ｍｍの範囲内にある、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項５】
前記筐体の空洞に固定されているプラスチック補強層を更に備える、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項６】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、
前記反射膜が、前記筐体の前記表面の全体を覆う、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項７】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、
前記反射膜が、前記少なくとも１つの隙間の表面を覆い、
２つ又はそれよりも多くの隙間が前記筐体の上に設けられる場合に、前記反射膜は、前記２つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項８】
前記筐体の前記表面に配置される溝を更に備え、
前記少なくとも１つの隙間が、前記溝の底壁の上に設けられ、
前記溝の前記底壁を覆う反射膜が、前記溝に更に配置される、請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項９】
前記反射膜は、金属に似せた被覆である、請求項６から８の何れか一項に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項１０】
前記反射膜は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる、請求項６から８の何れか一項に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項１１】
請求項１に記載のモバイルデバイスの金属製囲いのための製造方法であって、
少なくとも１つの隙間を形成すべく筐体を切断する段階であって、前記少なくとも１つの隙間が前記筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する、切断する段階と、
各隙間を絶縁物で充填する段階と、
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する段階と、
を備える、製造方法。
【請求項１２】
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する前記段階は、具体的には、
前記筐体の前記表面に金属膜を形成する段階と
陽極酸化により前記金属膜を金属酸化膜へと変える段階
である、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備え、
前記反射膜が、前記筐体の前記表面の全体を覆う、請求項１１又は１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備え、
前記反射膜が、前記少なくとも１つの隙間の表面を覆い、
切断する段階によって、２つ又はそれよりも多くの隙間が前記筐体に形成される場合に、前記反射膜は、前記２つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う、請求項１１又は１２に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記筐体の前記表面に溝を設ける段階を更に備え、
前記少なくとも１つの隙間が、前記溝の底壁の上に設けられる、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する前記段階は、具体的には、
前記溝に、前記筐体と同一の材料のフィラーを堆積する段階であって、前記溝の空洞は前記フィラーで充填される、堆積する段階と、
前記筐体の前記表面に金属酸化膜を形成すべく、前記筐体に陽極酸化処理を実行する段階
である、請求項１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記溝に、前記溝の前記底壁を覆う反射膜を配置する段階を更に備える、請求項１５又は１６に記載の製造方法。
【請求項１８】
モバイルデバイスであって、
デバイス本体と、
前記デバイス本体に固定して接続される請求項１から１０の何れか一項に記載の金属製囲いと
を備え、
前記デバイス本体に配置されるアンテナを更に備え、
前記金属製囲いにおける、少なくとも２つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも１つが、前記アンテナの放射要素として用いられる、モバイルデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２０１６年９月２８日に中国特許庁に出願された、「モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイス」と題する中国特許出願第２０１６１０８６７９３４．４号に基づく優先権を主張し、当該特許出願の全体は、参照により本明細書に組み込まれる。  本願は、電子デバイスの分野に関する。具体的には、モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、金属材料は、電子デバイスの様々なタイプの外側筐体として、広く用いられている。従来のプラスチック筐体とは異なり、金属製囲いは、構造的強度、放熱性能、外観品質等の点で、明らかな利点を有する。様々な電子製品（スマートフォン、スマートウォッチ、タブレットコンピュータ等）は、通常、通信機能を有し、それ故に、金属製囲いがそのような電子製品に選択される場合には、金属材料の電磁波シールド性能が考慮される必要があり、そして、金属製囲いが通信機能に及ぼす影響もまた考慮される必要がある。例として、スマートフォンが用いられる。現在、金属製囲いを有する携帯電話に対して、アンテナ信号が通過できることを保証するために、通常は、パーティションを形成すべく、金属製囲いに溝を設ける必要がある。金属製囲いの完全性を保証するために、アンテナ溝パーティションには、非金属が充填される。その結果、金属製囲いは、２つのセグメント、３つのセグメント又はそれより多いセグメントへと非金属によって分割され、金属製囲いの外観の統一性に影響する。
【発明の概要】
【０００３】
本発明では、モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスを提供する。モバイルデバイスの金属製囲いは、統一された外観を有し、電磁波はシールドされない。その結果、モバイルデバイスの通信機能が確保される。
【０００４】
本発明は、モバイルデバイスの金属製囲いを提供する。モバイルデバイスの金属製囲いは、筐体を備え、ここで、少なくとも１つの隙間が上記筐体の上に設けられ、上記少なくとも１つの隙間が、上記筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填される。金属製囲いは、上記筐体の表面に取り付けられた絶縁膜を更に備える。
【０００５】
先述の実施形態において、上記隙間が上記筐体の上に設けられ、その結果、上記筐体が上記少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割される。各隙間は上記絶縁物で充填され、上記筐体の上記表面の上記隙間及び上記隙間の上記絶縁物がパーティションを形成し、その結果、上記筐体により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、上記モバイルデバイスの通信機能が確保される。上記絶縁膜が上記筐体の上記表面に更にあり、上記絶縁膜が上記筐体の上記表面の上記隙間を覆う。その結果、上記隙間は外見上見えなくなり、上記金属製囲いが、統一された外観を有する。
【０００６】
具体的な実装上の解決手段において、上記絶縁膜は、金属酸化膜である。上記金属酸化膜は上記隙間部分を覆い、その結果、金属製囲いは統一された外観を有し、金属光沢を有し、金属製囲いの質感（テクスチャ）が向上する。
【０００７】
オプションで、各隙間の幅は、例えば０．０１ｍｍ、０．０５ｍｍ、０．１ｍｍ、０．３ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、及び、２．０ｍｍ等のように、０．０１ｍｍから２．０ｍｍの範囲内にある。
【０００８】
オプションで、絶縁膜の厚さは、例えば０．０１ｍｍ、０．０３ｍｍ、０．０５ｍｍ及び０．０８ｍｍ等のように、０．００３ｍｍから０．１０ｍｍの範囲内にある。
【０００９】
金属製囲いの強度を増加し、金属製囲いの空洞構造を更に向上するために、金属製囲いは、筐体の空洞に固定されるプラスチック補強層を更に備える。
【００１０】
別の具体的な実装上の解決手段において、上記金属製囲いは、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、上記反射膜が、上記筐体の表面の全体を覆う。
【００１１】
オプションで、上記金属製囲いが、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、上記反射膜が、上記少なくとも１つの隙間の表面を覆う。２つ又はそれよりも多くの隙間が上記筐体の上に設けられる場合に、上記反射膜は、上記２つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う。
【００１２】
オプションで、上記金属製囲いが、上記筐体の上記表面に配置される溝を更に備え、上記少なくとも１つの隙間が、上記溝の底壁の上に設けられ、上記溝の上記底壁を覆う反射膜が、上記溝に更に配置される。オプションで、上記反射膜は、金属に似せた被覆である。
【００１３】
オプションで、上記反射膜は、更に、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られてよい。反射膜は、金属製囲いの外観及び質感を調整してよい。
【００１４】
本発明は、上記の金属製囲いのための製造方法を更に提供し、当該製造方法は、以下の段階を備える。即ち、少なくとも１つの隙間を形成すべく上記筐体を切断する段階であって、ここで、上記少なくとも１つの隙間が上記筐体を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する、切断する段階と、各隙間を絶縁物で充填する段階と、上記筐体の表面に絶縁膜を形成する段階と、を備える。
【００１５】
具体的な製造方法において、上記筐体の表面に絶縁膜を形成する上記段階は、具体的には、上記筐体の上記表面に金属膜を形成する段階と、陽極酸化により上記金属膜を金属酸化膜へと変える段階である。
【００１６】
オプションで、上記方法は、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備えてよく、ここで、上記反射膜が、上記筐体の上記表面の全体を覆う。
【００１７】
オプションで、上記方法は、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備えてよい。ここで、上記反射膜が、上記少なくとも１つの隙間の表面を覆う。そして、切断する段階によって、２つ又はそれよりも多くの隙間が上記筐体の上に形成される場合に、上記反射膜は、上記２つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う。
【００１８】
別の具体的な製造方法において、上記方法は、上記筐体の上記表面に溝を設ける段階を更に備え、ここで、上記少なくとも１つの隙間が、上記溝の底壁の上に設けられる。
【００１９】
オプションで、上記方法は、上記溝に、上記筐体と同一の材料のフィラーを堆積する段階であって、ここで、上記溝の空洞は上記フィラーで充填される、堆積する段階と、上記筐体の上記表面に金属酸化膜を形成すべく、上記筐体に陽極酸化処理を実行する段階と、を更に備える。
【００２０】
オプションで、上記方法は、上記溝に、上記溝の上記底壁を覆う反射膜を配置する段階を更に備える。
【００２１】
本発明では、更に、モバイルデバイスを提供する。  モバイルデバイスが、デバイス本体と、上記デバイス本体に固定して接続される、上記の実装の何れか１つの金属製囲いとを備える。そして、モバイルデバイスは、上記デバイス本体の上に配置されるアンテナを更に備える。上記金属製囲いにおける、少なくとも２つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも１つが、上記アンテナの放射要素として用いられる。上記モバイルデバイスの金属製囲いは、統一された外観を有する。加えて、上記モバイルデバイスは、優れた通信性能を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態１における金属製囲いの統一された外観の略図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図２−１】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−２】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−３】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−４】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−５】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−６】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図２−７】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−８】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−９】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−１０】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−１１】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−１２】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図２−１３】図２に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
【図３】隙間と垂直な位置における、実施形態２における金属製囲いの断面図である。
【図３−１】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−２】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−３】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−４】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−５】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−６】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図３−７】図３に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４】隙間と垂直な位置における、実施形態３における金属製囲いの断面図である。
【図４−１】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−２】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−３】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−４】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−５】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−６】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図４−７】図４に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５】隙間と垂直な位置における、実施形態４における金属製囲いの断面図である。
【図５−１】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−２】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−３】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−４】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−５】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−６】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−７】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
【図５−８】図５に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。符号番号：１：筐体、２：プラスチック補強層、３：隙間、４：絶縁物、５：絶縁膜、６：反射膜、７：金属膜
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の目的、技術的解決手段、及び利点をより明確にするべく、以下ではさらに、添付図面に関連して本発明を詳細に説明する。説明される実施形態は、本発明の実施形態の全てではなく、その一部に過ぎないことは明らかである。創造的な努力なく本発明の実施形態に基づいて当業者によって得られる他の全ての実施形態は、本発明の保護範囲内に当然に含まれる。実施形態１
【００２４】
図１及び図２に示されるように、図１は、本発明の本実施形態において提供される金属製囲いの統一された外観の略図であり、図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。
【００２５】
本発明の実施形態１は、金属製囲いを提供する。金属製囲いは、筐体１を備える。筐体１の上には少なくとも１つの隙間３が設けられ、少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間３は絶縁物４で充填される。金属製囲いは、筐体１の表面に取り付けられる絶縁膜５を更に備える。
【００２６】
統合された金属製囲いは、電磁波シールドを生成し、電磁波透過が阻止され、これにより、電子デバイスの通信機能が影響を受ける。そこで、先述の実施形態において、隙間３が筐体１の上に設けられ、隙間３が筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物４で充填される。筐体１の分割された部分は、絶縁物４を用いることにより、統一体へと重ね継ぎ（スプライス）される。具体的な実施形態において、絶縁物４は、エポキシ樹脂、シリコーン封止剤又はそれらと同様の物である。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上にパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、モバイルデバイスの通信機能が確保される。隙間３の幅は、例えば０．０１ｍｍ、０．０５ｍｍ、０．１ｍｍ、０．３ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、又は２．０ｍｍ等のように、０．０１ｍｍから２．０ｍｍの範囲内にある。加えて、特定の配置では、隙間３は、図１に示されるように具体的に設けられる。隙間３の長さ方向は、筐体１の長さ方向に対して垂直である。即ち、隙間３は、筐体１の上に水平に配置される。
【００２７】
加えて、絶縁膜５が筐体１の表面に更に取り付けられる。絶縁膜５の厚さは、例えば０．０１ｍｍ、０．０３ｍｍ、０．０５ｍｍ又は０．０８ｍｍ等のように、０．００３ｍｍから０．１ｍｍの範囲内にある。絶縁膜５は、筐体１の上にあり、かつ、隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。具体的な実施形態において、絶縁膜５は金属酸化膜である。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とし、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００２８】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体１を備える。プラスチック補強層２が、筐体１の空洞に固定される。筐体１の表面には、４つの隙間３が設けられ、隙間３の幅は０．０５ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４が充填される。加えて、絶縁膜５が、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５の厚さは、０．０２ｍｍである。製造技術の制約により、絶縁膜５の厚さに対して、０．０１ｍｍの誤差が存在する。このため、絶縁膜５の厚さは、０．０２ｍｍ−０．０１ｍｍから０．０２ｍｍ＋０．０１ｍｍにおよぶ。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【００２９】
段階１：図２−１に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造又はＣＮＣコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体１を製造する。
【００３０】
段階２：図２−２に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト又は超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体１の空洞にプラスチック補強層２を形成する。プラスチック補強層２は、筐体１の強度を増加し、筐体１の空洞構造を更に向上する。
【００３１】
段階３：図２−３に示されるように、筐体１を切断して、少なくとも１つの隙間３を形成する。少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、筐体１が切断されて４つの隙間３が形成される。それらの幅は０．０５ｍｍであり、複数の隙間３の間の間隔は０．８ｍｍである。４つの隙間３は、筐体１の上に並行に配置される。
【００３２】
段階４：図２−４に示されるように、各隙間３を絶縁物４で充填する。具体的には、各隙間３は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４で充填される。絶縁物４が固化された後、筐体１の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上に４つのパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【００３３】
段階５：図２−５及び図２−６に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、厚さが０．０２±０．０１ｍｍの絶縁膜５が、筐体１の表面に形成される。絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により筐体１の上に形成される４つのパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００３４】
絶縁膜５の具体的な製造において、図２−５に示されるように、最初に金属膜７が筐体１の表面に形成される。金属膜７の厚さは０．０２±０．００５ｍｍである。次に、図２−６に示されるように、金属膜７が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００３５】
具体的な実施形態において、アルミニウム膜が、通常は、ＰＶＤ（物理蒸着）、ＣＶＤ（化学蒸着）、イオンプレーティング、物理イジェクト又は電気めっき等の技術を用いて、筐体１の表面にめっきされ、アルミニウムが陽極酸化によりアルミニウム酸化物へと変えられ、筐体１の表面に取り付けられる。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００３６】
代替的に、先述の実施形態における金属製囲いは、以下の製造方法を用いて製造されてもよく、具体的には、以下の段階が含まれる。
【００３７】
段階１：図２−７に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造、又はＣＮＣコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体１を製造する。
【００３８】
段階２：図２−８に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト又は超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体１の空洞にプラスチック補強層２を形成する。プラスチック補強層２は、筐体１の強度を増加し、筐体１の空洞構造を更に向上する。
【００３９】
段階３：図２−９に示されるように、筐体１の表面に溝を提供する。具体的には、筐体１の表面に溝が設けられ、当該溝の幅は、段階４で提供される隙間３の幅、間隔及び個数と適合し、当該溝の深さは、段階６で配置されるフィラーの厚さと適合する。この実施形態において、溝の幅は２．６ｍｍであり、溝の深さは０．０２ｍｍである。
【００４０】
段階４：図２−１０に示されるように、溝の底壁を切断し、少なくとも１つの隙間３を形成する。少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、溝の底壁が切断されて４つの隙間３が形成され、それらの幅は０．０５ｍｍであり、複数の隙間３の間の間隔は０．８ｍｍである。４つの隙間３は、並行に配置される。
【００４１】
段階５：図２−１１に示されるように、各隙間３を絶縁物４で充填する。具体的には、各隙間３は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４で充填され、絶縁物４が固化された後、筐体１の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上に４つのパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【００４２】
段階６：図２−１２に示されるように、溝に、筐体１と同一の材料のフィラーを堆積する。溝の空洞は、当該フィラーで充填される。具体的な実施形態において、筐体１はアルミニウム材料で作られ、アルミニウム層が、ＰＶＤ（物理蒸着）、ＣＶＤ（化学蒸着）、イオンプレーティング、物理イジェクト、又は電気めっき等の技術を用いて、溝に堆積される。
【００４３】
段階７：図２−１３に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、筐体１の表面に金属酸化膜を形成すべく、陽極酸化処理が筐体１に実行される。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００４４】
筐体１がアルミニウム材料で作られる場合に、酸化アルミニウム膜は、陽極酸化技術を用いて、筐体１の表面に形成される。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態２
【００４５】
図３に示されるように、図３は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【００４６】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。金属製囲いは、実施形態１における筐体１、隙間３、絶縁物４及び絶縁膜５を備え、上記の構造の全ては、実施形態１における構造及び配置と同じである。詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される金属製囲い及び実施形態１の金属製囲いの間の違いは、本実施形態で提供される金属製囲いが、反射膜６を更に備える点にある。反射膜６は、筐体１及び絶縁膜５の間に具体的に配置され、かつ、筐体１の表面全体を覆う。
【００４７】
反射膜６は、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、筐体１の表面にあり、かつ隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００４８】
具体的な実施形態において、金属製囲いは、筐体１を備える。プラスチック補強層２が、筐体１の空洞に固定される。筐体１の表面には、４つの隙間３が設けられ、隙間３の幅は０．１ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４が充填される。絶縁膜５が、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５の厚さは、０．０３ｍｍである。製造技術の制約により、絶縁膜５の厚さに対して、０．０１ｍｍの誤差が存在する。このため、絶縁膜５の厚さは、０．０３ｍｍ−０．０１ｍｍから０．０３ｍｍ＋０．０１ｍｍにおよぶ。加えて、反射膜６が更に含まれ、反射膜６が筐体１及び絶縁膜５の間にあり、反射膜６が筐体１の表面全体を覆う。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【００４９】
図３−１から図３−４に示されるように、本実施形態で提供される製造方法における段階１、段階２、段階３及び段階４は、図２−１から図２−４に示される実施形態１の段階１、段階２、段階３及び段階４と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される製造方法は、以下の段階を更に備える。
【００５０】
段階５：図３−５に示されるように、筐体１の表面に反射膜６を形成する。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜６が、筐体１の表面に形成され、反射膜６は筐体１の表面全体を覆う。反射膜６は、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間３及び絶縁物４により形成される、筐体１の上の４つのパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００５１】
段階６：図３−６及び図３−７に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、厚さが０．０３±０．０１ｍｍの絶縁膜５が、反射膜６の上に形成される。絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により筐体１の上に形成される４つのパーティションが外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００５２】
絶縁膜５の具体的な製造において、図３−６に示されるように、最初に、金属膜７が反射膜６の表面に形成される。金属膜７の厚さは０．０３±０．００５ｍｍである。次に、図３−７に示されるように、金属膜７が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００５３】
具体的な実施形態において、酸化アルミニウム膜が、筐体１の表面に形成されてよい。具体的な製造方法は、実施形態１の酸化アルミニウム膜を生成するために用いられる方法と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態３
【００５４】
図４に示されるように、図４は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【００５５】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。本金属製囲い及び実施形態２の金属製囲いの間の違いは、反射膜６が異なる位置に配置されるという点にのみあり、その他の構造は同じである。詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態において、反射膜６が、筐体１及び絶縁膜５の間にあり、反射膜６は、少なくとも１つの隙間３の表面を覆う。２つ又はそれよりも多くの隙間３が、切断により筐体１の上に形成される場合、反射膜６は、当該２つ又はそれよりも多くの隙間３における隣接する隙間３の間の領域を更に覆う。
【００５６】
加えて、本実施形態で提供される反射膜６は、実施形態２の反射膜６と同じ効果を有する。両方とも、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間３及び絶縁物４により形成される、筐体１の表面における複数のパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００５７】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体１を備える。プラスチック補強層２が筐体１の空洞に固定される。筐体１の表面には、４つの隙間３が設けられ、隙間３の幅は０．２ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４が充填される。絶縁膜５が、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５の厚さは、０．０４ｍｍである。製造技術の制約により、絶縁膜５の厚さに対して、０．０１ｍｍの誤差が存在する。このため、絶縁膜５の厚さは、０．０４ｍｍ−０．０１ｍｍから０．０４ｍｍ＋０．０１ｍｍにおよぶ。加えて、反射膜６が更に含まれる。反射膜６が筐体１及び絶縁膜５の間にあり、反射膜６が４つの隙間３の表面を覆い、かつ、４つの隙間３における隣接する隙間３の間の領域を覆う。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【００５８】
図４−１から図４−４に示されるように、本実施形態で提供される製造方法における段階１、段階２、段階３及び段階４は、図２−１から図２−４に示される実施形態１の段階１、段階２、段階３及び段階４と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される製造方法は、以下の段階を更に備える。
【００５９】
段階５：図４−５に示されるように、筐体１の表面に反射膜６を形成する。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜６が、筐体１の表面に形成される。反射膜６は、４つの隙間３の表面及び４つの隙間３における隣接する隙間３の間の領域を覆う。反射膜６は、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間３及び絶縁物４により形成される、筐体１の上の４つのパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００６０】
段階６：図４−６及び図４−７に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、厚さが０．０４±０．０１ｍｍの絶縁膜５が、筐体１の表面に形成され、絶縁膜５は、筐体１の全体の表面領域を覆う。絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により筐体１の上に形成される４つのパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００６１】
絶縁膜５の具体的な製造において、図４−６に示されるように、最初に、金属膜７が筐体１の表面及び反射膜６の表面に形成される。金属膜７の厚さは０．０４±０．００５ｍｍである。次に、図４−７に示されるように、金属膜７が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００６２】
具体的な実施形態において、酸化アルミニウム膜が、筐体１の表面に形成されてよい。具体的な製造手法は、実施形態１の酸化アルミニウム膜を生成するために用いられる方法と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態４
【００６３】
図５に示されるように、図５は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【００６４】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。本金属製囲い及び実施形態３の金属製囲いの間の違いは、隙間３が設けられる領域の上に、溝が更に設けられるという点にのみある。反射膜６が溝に配置される。即ち、溝が筐体１の表面に設けられる。隙間３が溝の底壁の上に設けられ、溝の底壁を覆う反射膜６が、更に、溝にある。
【００６５】
加えて、本実施形態で提供される反射膜６は、実施形態３の反射膜６と同じ効果を有する。両方とも、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、筐体の表面にあり、かつ、隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションは、筐体１と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００６６】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体１を備える。プラスチック補強層２が筐体１の空洞に固定される。筐体１の表面には、４つの隙間３が設けられ、隙間３の幅は０．３ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４が充填される。絶縁膜５が、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５の厚さは、０．０５ｍｍである。製造技術の制約により、絶縁膜５の厚さに対して、０．０１ｍｍの誤差が存在する。このため、絶縁膜５の厚さは、０．０５ｍｍ−０．０１ｍｍから０．０５ｍｍ＋０．０１ｍｍにおよぶ。加えて、筐体１の表面における溝が更に含まれ、隙間３が溝の底壁の上に設けられ、溝の底壁を覆う反射膜６が、更に溝にある。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【００６７】
段階１：図５−１に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造、又は、ＣＮＣコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体１を製造する。
【００６８】
段階２：図５−２に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト、又は、超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体１の空洞にプラスチック補強層２を形成する。プラスチック補強層２は、筐体１の強度を増加し、筐体１の空洞構造を更に向上する。
【００６９】
段階３：図５−３に示されるように、筐体１の表面に溝を提供する。具体的には、筐体１の表面に溝が設けられ、当該溝の幅は、段階４で配置される隙間３の幅、間隔及び個数と適合し、当該溝の深さは、段階７で配置されるフィラーの厚さと適合する。この実施形態において、溝の幅は３．６ｍｍであり、溝の深さは０．０５ｍｍである。
【００７０】
段階４：図５−４に示されるように、溝の底壁を切断し、少なくとも１つの隙間３を形成する。少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、溝の底壁が切断されて４つの隙間３が形成され、それらの幅は０．３ｍｍであり、複数の隙間の間の間隔は０．８ｍｍであり、４つの隙間３は、並行に配置される。
【００７１】
段階５：図５−５に示されるように、各隙間３を絶縁物４で充填する。具体的には、各隙間３は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物４で充填され、絶縁物４が固化された後、筐体１の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。隙間３及び絶縁物４が筐体１の上に４つのパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【００７２】
段階６：図５−６に示されるように、溝に反射膜６を置く。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜６が溝に配置され、反射膜６は、溝の底壁を覆う。反射膜６は、筐体１の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間３は、外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜６は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜６は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【００７３】
段階７：図５−７に示されるように、溝に、筐体１と同一の材料のフィラーを堆積する。溝の空洞は、当該フィラーで充填される。具体的な実施形態において、筐体１はアルミニウム材料で作られ、アルミニウム層が、ＰＶＤ（物理蒸着）、ＣＶＤ（化学蒸着）、イオンプレーティング、物理イジェクト、又は電気めっき等の技術を用いて、溝に堆積される。
【００７４】
段階８：図５−８に示されるように、筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。具体的には、筐体１の表面に金属酸化膜を形成すべく、陽極酸化処理が筐体１に実行される。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色は、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００７５】
筐体１がアルミニウム材料を用いて作られる場合に、酸化アルミニウム膜は、陽極酸化により、筐体１の表面に形成される。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【００７６】
本発明の実施形態１から実施形態４において提供される金属製囲いが筐体１を備えることが、上記説明から理解できよう。隙間３が筐体１の上に設けられ、隙間３が筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。各隙間３は絶縁物４で充填され、筐体１の分割された部分は、絶縁物４を用いることにより、統一体へと重ね継ぎ（スプライス）される。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上にパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防止する。絶縁膜５は、筐体１の表面に更に取り付けられ、絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【００７７】
本発明は、先述の実施形態における金属製囲いのための製造方法を更に提供し、以下の段階が含まれる。
【００７８】
筐体１を切断して、少なくとも１つの隙間３を形成する。少なくとも１つの隙間３は、筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割する。各隙間３を絶縁物４で充填する。筐体１の表面に絶縁膜５を形成する。
【００７９】
金属製囲いが統一された外観を有し、かつ、金属光沢を有することができるように、金属酸化膜が、筐体１の表面に具体的に形成されてよい。図２に示される構造を有する金属製囲いが、実施形態１の２つの製造方法を用いて製造される。金属製囲いの質感を向上すべく、反射膜６が筐体１と絶縁膜５の間に更に置かれてよく、反射膜６は、筐体１の表面全体を覆う。図３の構造を有する金属製囲いが、実施形態２の製造方法を用いて製造される。加えて代替的に、反射膜６は、筐体１の上にあり、かつ、切断により少なくとも１つの隙間３が形成される領域のみを覆ってよい。具体的には、反射膜６は、少なくとも１つの隙間３の表面を覆う。２つ又はそれよりも多くの隙間３が切断により筐体１の上に形成される場合に、反射膜６が、２つ又はそれよりも多くの隙間３における隣接する隙間３の間の領域を更に覆う。図４の構造を有する金属製囲いが、実施形態３の製造方法を用いて製造される。
【００８０】
別の具体的な製造方法において、溝が、筐体１の表面に更に設けられてよい。少なくとも１つの隙間３が溝の底壁の上に設けられ、反射膜６が溝の底壁の上に置かれる。図５の構造を有する金属製囲いが、実施形態４の製造方法を用いて製造される。
【００８１】
本発明は、モバイルデバイスを更に提供する。モバイルデバイスが、デバイス本体と、上記デバイス本体に固定して接続される、実施形態１から実施形態４のうちの１つにおける金属製囲いとを備える。モバイルデバイスが、上記デバイス本体の上に配置されるアンテナを更に備える。金属製囲いにおける、少なくとも２つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも１つが、アンテナの放射要素として用いられる。モバイルデバイスの金属製囲いに対し、隙間３が筐体１の上に設けられ、隙間３が筐体１を少なくとも２つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間３は絶縁物４で充填される。このように、隙間３及び絶縁物４が筐体１の上にパーティションを形成し、その結果、筐体１により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。絶縁膜５が筐体１の表面に更に取り付けられる。絶縁膜５は、隙間３及び絶縁物４により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【国際調査報告】
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