(57)【要約】  本発明は、体内手術を行う際の抗菌処置のための装置、システム及び方法、並びに当該装置の製造方法及びコンピュータプログラムに関する。  体内での手術、特に低侵襲手術を行う際の、抗菌処置のための装置（１１）が提供される。これは、体内に部分的に挿入するための基体（１）、及び更に基体（１）の少なくとも一部分に設けられた少なくとも１つのプラズマ源（１２）を備える。プラズマ源（１２）は、少なくとも部分的に、特には全体が、誘電体（１０）で覆われた、少なくとも１つの高電圧電極（９）を備え、この高電圧電極（９）は、電圧を印加した場合に第２の電極と相互作用して、誘電体バリア放電によってプラズマを発生させるように作製される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
体内での手術、特に低侵襲手術を行う際の、抗菌処置のための装置（１１）であって、
体内に部分的に挿入するための基体（１）を備える、装置（１１）において、
前記装置（１１）は、前記基体（１）の少なくとも一部分に設けられた少なくとも１つのプラズマ源（１２）を更に備え、
前記プラズマ源（１２）は、少なくとも部分的に、特には全体が、誘電体（１０）で覆われた、少なくとも１つの高電圧電極（９）を備え、
前記高電圧電極（９）は、電圧を印加した場合に第２の電極と相互作用して、誘電体バリア放電によってプラズマを発生させるように作製される
ことを特徴とする、抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項２】
前記基体（１）の少なくとも一部分の、前記誘電体（１０）の前記高電圧電極（９）に背向する側に、前記プラズマ源（１２）と体組織との間にある距離を実現するためのスペーサが配設されることを特徴とする、請求項１に記載の抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項３】
前記スペーサは、構造形成され、かつ絶縁性の、特に電気絶縁性の材料から作製されることを特徴とする、請求項２に記載の抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項４】
前記装置（１１）は更に第２の電極を備え、
前記第２の電極は同様に、前記基体（１）の一部分に配設される
ことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項５】
前記第２の電極は、導電材料、特に金属織物又は金属ガーゼから作製されることを特徴とする、請求項４に記載の抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項６】
前記第２の電極は、前記基体（１）の少なくとも一部分の、前記誘電体（１０）の前記高電圧電極（９）に背向する側に配設されることを特徴とする、請求項４又は５に記載の抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項７】
前記基体（１）と前記高電圧電極（９）との間に、耐高電圧の絶縁層（８）が配設されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項８】
前記装置（１１）は、内視鏡検査法や腹腔鏡検査法のための機器、又はカテーテルの構成部材、即ちトロカール若しくはカニューレであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項９】
前記高電圧電極（９）、誘電体（１０）、特に更には前記スペーサ、前記第２の電極及び／又は前記導電要素は、前記基体（１）の少なくとも一部分において、前記基体（１）の断面全体の周りに層状に配設されることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の抗菌処置のための装置（１１）。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の抗菌処置のための装置（１１）の製造方法であって、
高電圧電極（９）及び誘電体（１０）は、薄膜プロセス又は厚膜プロセスで、基体の表面に塗布されることを特徴とする、方法。
【請求項１１】
体内手術を行う際の抗菌処置のためのシステムであって、
前記システムは、請求項１〜９のいずれか１項に記載の抗菌処置のための装置（１１）と、前記装置（１１）と導電的に接合された又は接合可能な電圧源とを含むことを特徴とする、抗菌処置のためのシステム。
【請求項１２】
前記システムは、プラズマ処置対象の体を少なくとも部分的に含み、
前記体の少なくとも一部は、第２の電極を形成する
ことを特徴とする、請求項１１に記載の抗菌処置のためのシステム。
【請求項１３】
体内手術を行う際の抗菌処置のための方法であり、
前記方法では：
請求項１〜９のいずれか１項に記載の抗菌処置のための装置（１１）を体内に挿入し、
前記装置（１１）を用いて、少なくとも、低侵襲手術のために前記装置（１１）が体内に挿入される前記体の開口部の領域において、プラズマを発生させる、方法。
【請求項１４】
ヒト又は動物の体上のヒト又は動物の組織を抗菌処置するためではなく、体内手術を行う際に抗菌処置するための方法であって、
前記方法では：
請求項１〜９のいずれか１項に記載の抗菌処置のための装置（１１）を体内に挿入し、
前記装置（１１）を用いて、少なくとも、低侵襲手術を行うために前記装置（１１）が体内に挿入される前記体の開口部の領域において、プラズマを発生させる、方法。
【請求項１５】
コンピュータプログラムであって、
前記コンピュータプログラムは、前記プログラムがコンピュータで動作する際に、請求項１３又は１４に記載の抗菌処置のための方法を行うためのあらゆるステップを実施する、コンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、体内手術を行う際の抗菌処置のための装置、システム及び方法、並びに当該装置の製造方法及びコンピュータプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
低侵襲外科の場合、外科的に形成された体表面の人工開口部を介して、体内への経皮アクセス口が作製される。経験によると、このようなアクセス口は感染リスクが比較的高いという特徴があるため、適切な感染予防のための消毒措置が必要である。類似の状況は、体腔内で内視鏡を使用する場合にも生じる。
【０００３】
消毒剤は、一方ではアレルギー反応を引き起こす場合があり、他方で例えばメシチリン耐性黄色ブドウ球菌によるもの（ＭＲＳＡ感染）などの感染症に対する予防には部分的にしか適していないため、この領域において抗菌性プラズマ処置を使用することは有利であり、とりわけこれまでのところプラズマ作用に対する耐性は知られていない。そのために、特に低温の大気圧プラズマが好適である。
【０００４】
特許文献１又は特許文献２は、プラズマジェネレータを用いた、経皮アクセス口又はストーマの生物学的汚染除去のための装置について記載している。このプラズマジェネレータは湾曲した処置面を備え、この処置面は、経皮アクセス口又はストーマを包囲するよう適合され、そこに接することができる。本装置は例えば、内側に処置面が設けられている可動式のプライヤジョーを有するプライヤとして設計できる。
【０００５】
それにより、低温の大気圧プラズマを用いて、経皮アクセス口、及び経皮アクセス口の領域における皮膚部を生物学的汚染除去（殺菌、消毒、滅菌）するための機器が記載される。経皮アクセス口の抗菌性プラズマ処置のための、上記記載の解決法は、とりわけ生物学的汚染除去の効力に関して有利に使用され得るものの、プラズマ処置のための追加機器として外部プラズマ源が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１５１８１３２５号
【特許文献２】独国特許出願公開第１０２０１４１０７５５４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、特に容易かつ安価な方法で、体を抗菌処置するためのプラズマを発生させることができる、体内手術を行う際の抗菌処置のための装置、システム及び方法を提供することである。更に本発明の課題は、当該装置の製造方法、及び抗菌処置のための方法を実施するためのコンピュータプログラムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本課題は：請求項１に記載の、体内手術を行う際の抗菌処置のための装置；請求項１０に記載の、当該装置の製造方法；請求項１１に記載の、体内手術を行う際の抗菌処置のためのシステム；請求項１３に記載の、体内手術を行う際の抗菌処置のための方法；及び請求項１５に記載のコンピュータプログラムによって、解決される。装置の実施形態は従属請求項２〜９に記載されており、システムの実施形態は従属請求項１２に記載されており、抗菌処置の方法の実施形態は従属請求項１４に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は腹腔鏡として実施される本発明に係る装置の斜視図である。
【図２】図２は図１に記載の装置の基体細部の断面図である。
【図１−２】図１は腹腔鏡として実施される本発明に係る装置の斜視図である。図２は図１に記載の装置の基体細部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の第１の態様は、体内での手術、特に低侵襲手術を行う際の、抗菌処置のための装置である。この装置は、体内に部分的に挿入するための基体を備え、更に上記基体の少なくとも一部分に設けられた少なくとも１つのプラズマ源を備える。上記プラズマ源は、少なくとも部分的に、特には全体が、誘電体で覆われた、少なくとも１つの高電圧電極を備え、上記高電圧電極は、電圧を印加した場合に第２の電極と相互作用して、誘電体バリア放電によってプラズマを発生させるように作製されている。
【００１１】
上記誘電体は、本発明の主旨においては特に、導電性が低いか又は導電性を有しない、非金属の材質からなる固体である。特に、例えばポリエチレン若しくはＰＴＦＥといったプラスチック、又はステアタイト、酸化アルミニウム若しくはケイ酸塩のようなセラミックスであってよい。
【００１２】
高電圧電極は、高電圧の印加に好適な導電体である。高電圧電極は通常、金属材質から製造される。ここでは高電圧電極は、硬質金属体であってよく、又はネット若しくは織物などとして、例えば金属ガーゼとして実装されていてよい。ワイヤとしての実装も考えられる。この場合、上記ワイヤは巻回されていてよく、又は蛇行するようにガイドされていてよい。特に高電圧電極は、少なくとも部分的に閉鎖された金属層として基体に塗布されている。高電圧電極は、基体の長手軸に対して角度方向に周回して、基体上に直接的又は間接的に配設されていてよい。
【００１３】
抗菌処置は、消毒処置、滅菌処置又は殺菌処置である。従って本装置は例えば、経皮アクセス口及び上記アクセス口の領域における皮膚部の生物学的汚染除去、殺菌、消毒又は滅菌に好適である。
【００１４】
本装置によって発生可能なプラズマは特に、低温プラズマ、即ち低温の大気圧プラズマである。基礎となるプロセスは、無声放電又は誘電体バリア放電である。よって、外科手術を行うために利用できる本装置は、それ自体がプラズマ源となる。本装置の基体は、特に細長い基体である。
【００１５】
プラズマの発生に必要な第２の電極は、接地された対電極であるが、これは必ずしも本装置の一部ではない。対電極は、プラズマを発生させる目的で、高電圧電極に対して距離を置いて配設でき、典型的には、誘電体は電極間に配設される。
【００１６】
電圧は特に交流電圧を意味している。交流電圧は通常、１ｋＨｚから１０００ｋＨｚの範囲の高い周波数を有する。電圧は特に、キロボルト範囲の高電圧である。
【００１７】
本発明の主旨における体は、ヒト若しくは動物の体又はその一部であってよい。更に体は、開放された若しくは閉鎖された中空空間、例えばタンク、又は少なくとも部分的に液体、気体若しくは固体で満たされた空間であってよく、この固体は例えば生物学的材料であってよい。
【００１８】
体がヒト若しくは動物の体又はその一部である場合には、皮膚を通して（経皮）、又は既存の体開口部を通して、挿入を実施できる。
【００１９】
プラズマ源は実質的に、接地された対電極の存在下でプラズマを発生させることができる第１の高電圧電極によって形成され、ここでは電圧源を含まない。
【００２０】
低侵襲機器又は内視鏡の基体の表面に導電性コーティングをすることによって、プラズマ、特に低温プラズマを発生させる目的で誘導体バリア放電（ＤＢＥ）を起こすための高電圧電極が塗布される。これは、誘導体コーティングと組み合わせられる。これにより、適切な高電圧を電極に印加することで、機器自体を、体組織との接触領域、特に入口開口部又は出口開口部の創傷縁部の領域を抗菌性プラズマ処置するためのプラズマ源として利用でき、周辺の又は隣接する体組織は接地された対電極として機能できる。同様に、本記載のあらゆる任意の体の開口部を、プラズマで処置できる。
【００２１】
言い換えると、体内で低侵襲手術を行うための、細長基体及び少なくとも１つのプラズマ源を含む装置が提供される。上記プラズマ源は、上記基体の少なくとも一部分に配設され、誘電体で少なくとも部分的に、好ましくは完全に覆われた少なくとも１つの高電圧電極を備え、上記高電圧電極は、電圧を印加した場合に第２の電極と相互作用して、誘電体バリア放電によってプラズマを発生させることができる。
【００２２】
これにより、体内への経皮アクセス口又は体腔へのアクセス口の領域において、プラズマ支援の抗菌処置が局所的に可能になる。
【００２３】
このような装置の目的は、入口開口部の、及び場合によっては挿入される機器周辺の体内の、微生物を不活性化し、可能であれば、ヒト及び動物の経皮アクセス口又は体腔の生物学的汚染除去の際に、機器を取り外した後に皮膚貫通孔の創傷治癒を刺激することである。
【００２４】
本発明により、経皮アクセス口又はストーマの領域における低侵襲外科手術又は内視鏡検査時の感染リスクが最小化されるが、既知の解決法に対する有意な利点は、機器（低侵襲機器又は内視鏡）自体をプラズマ発生のために使用でき、従って追加の外部プラズマ源が必要ないことである。これは、機器基体の表面を、本記載のように修正することによって、達成される。
【００２５】
本装置の一実施形態では、基体の少なくとも一部分の、誘電体の高電圧電極に背向する側に、プラズマ源と体組織との間にある距離を実現するためのスペーサが配設される。
【００２６】
一実施形態では、基体の一部分に、プラズマ源と体組織との間にある距離を実現するためのスペーサが配設される。
【００２７】
スペーサは特に、角度方向に基体を周回して配設される。この場合、基体の複数の部分がスペーサを備えてよい。
【００２８】
スペーサは特に非導電性である。上記スペーサは、上述の材料のうちの１つから作製でき、上記材料からは誘導体も作製できる。スペーサは誘導体の少なくとも一部を含んでもよく、又はこれと接してもよい。
【００２９】
スペーサは特に、被覆又はコーティングとして誘導体の外側に着設され、これによりスペーサは、電極又は誘導体といずれの外部構造体との間に、例えばプラズマ処置処理対象の任意の体に対して、最小限の距離を維持できるように配設される。層の厚さ若しくは構造形成の形態は、処置対象の表面に応じて選択できる。
【００３０】
この実施形態の利点は、プラズマ発生のための規定された空間を利用できること、又は処置対象の表面に対して、規定された条件下でプラズマ発生若しくは抗菌処置を可能にする規定の距離が保証されることである。
【００３１】
一実施形態では、スペーサは、構造形成され、かつ絶縁性の、特に電気絶縁性の材料から作製される。
【００３２】
構造体は、例えば構造形成された表面であってよく、又は繊維製品、例えば織物、ニット、編物、メッシュ、ステッチボンド布、フリース材及び／若しくはフェルトによって形成されていてよい。
【００３３】
構造形成された絶縁性材料（繊維織物、多孔シリコンマットなど）からなる被覆をスペーサとして使用して、体組織と、プラズマ源として利用される外科器具との間の規定された距離を維持できる。
【００３４】
更なる一実施形態では、本装置は更に第２の電極を備え、第２の電極は同様に、基体の一部分に配設される。
【００３５】
第２の電極は、上述のように、接地された対電極である。この電極は、角度方向に誘電体及び／又はスペーサを周回して配設できる。また、基体の複数の部分が、第２の電極又は第２の電極の一部を備えてよい。
【００３６】
この実施形態では、プラズマ発生のための装置は、接地された外部対電極を用いずに構成される。これにより、非導電材料の領域においても抗菌処置を実施できる。従って本発明に係る装置は、特に多用途に使用できる。
【００３７】
更なる一実施形態では、第２の電極は、導電材料、特に金属織物又は金属ガーゼから作製される。
【００３８】
第２の電極はそれによって、基体の一部分、特に高電圧電極が配設される部分と同一の部分に配設される。第２の電極は、金属材料、例えば金属繊維又は繊維複合体からなる繊維製品として仕上げられていてよい。その際、スペーサに関連して上述されている繊維製品はすべて、個別に又は組み合わせて利用できる。
【００３９】
例えばスペーサの上に、体組織の代わりに接地された対電極として利用される、導電材料（例えば金属ガーゼ）からなる更なる被覆を配設してよい。
【００４０】
上で挙げられた利点に加えて、ここでは湿った媒体での効果が改善されており、電磁両立性（ＥＭＶ）指令を遵守できる。
【００４１】
更なる一実施形態では、第２の電極は、基体の少なくとも一部分の、誘電体の高電圧電極に背向する側に配設される。
【００４２】
第２の電極は、誘電体の外側には移設してよく、又はスペーサがある場合にはスペーサの外側に配設してよい。
【００４３】
本装置の更なる一実施形態では、基体と高電圧電極との間に、耐高電圧の絶縁層が配設される。
【００４４】
これは特に、基体又はその外部表面が導電材料からなる場合であるため、基体はこの方法で高電圧電極から電気的に絶縁されている。
【００４５】
特に、絶縁層は同様に、角度方向に基体を周回して配設される。絶縁層は、高電圧電極よりも面積が大きくてよく、例えば軸方向に高電圧電極を越えて延伸してよい。
【００４６】
例えば基体のアウター管が金属製の場合、追加の耐高電圧の絶縁層が、通常は接地されている金属管と金属層との間に必要である。
【００４７】
この実施形態によって、本発明に係る装置である導電性の基体を有する対象の利用が可能である。
【００４８】
更なる一実施形態では、本装置は、内視鏡検査法や腹腔鏡検査法のための機器、又はカテーテルの構成部材、即ちトロカール若しくはカニューレである。
【００４９】
つまり本発明に係る装置の基体は、内視鏡、腹腔鏡、トロカール若しくはカテーテルの基体若しくはシャフト、又はカニューレである。それによってこれらの器具は、その元々の機能と同時に又は代替的に、プラズマ源として使用でき、既知の利用の前、利用の間及び／又は利用の後に、体、特にヒト又は動物の体の抗菌処置のために利用できる。その際、感染を防ぐために、特に既存の又は作られた開口部の縁部領域を処置する。
【００５０】
その際シャフト又は基体は、剛性又は可撓性であってよい。つまり同様に、高電圧電極、及び特に誘電体を適切に形成及び配設することによって、プラズマ発生のための本発明に係る装置として利用できるように、ホースのような可撓性要素に加工を施すことが可能である。剛性基体は例えば、腹腔鏡のような低侵襲外科用の器具の場合に存在する。可撓性基体は例えば、内視鏡又はカテーテルである。これらは、金属又は非金属の材質を含んでよい。
【００５１】
本発明の主旨における低侵襲手術を行うための装置は、内視鏡検査法や腹腔鏡検査法のための機器及びカテーテル（例えば尿路カテーテル、静脈カテーテル、動脈カテーテル、硬膜外カテーテル、ポートカテーテルなど）のしかるべき構成部材、トロカール又は（動脈、静脈、筋肉などのアクセス口用の）カニューレであってよい。そのような機器は普通、基体を含む。この基体は、本発明によると、部分的に体内に挿入されるのに適している、剛性又は可撓性の、実質的に細長い物体である。この物体は特に、棒、バー、中空シリンダ、ケーブル、ボーデンケーブル又はホースであってよい。
【００５２】
低侵襲手術を行うための本発明に係る装置をトロカールとして実施する場合には、ガイドするのに使われる鏡胴が導電材料から作られておりかつ対電極として使われれば好都合である。
【００５３】
従って本発明によると、好適には低侵襲外科用の器具又は内視鏡は、付加的に、プラズマを発生させる機器として利用される。
【００５４】
それによって、本発明に係る装置は、低侵襲外科で利用するための医療装置の一部であってよい。この実施形態には、上述のように既知の利用法を抗菌処置で補足できるという利点がある。それによって、容易な方法でかつ付加的な機器技術上の手間なしに、付加的な機能性を可能にする。
【００５５】
特に、本装置の基体は、長さ対直径の比率が５：１よりも大きく、特に１０：１よりも大きい。
【００５６】
その際直径は、基体の最厚箇所で測定される。言い換えれば、基体は細長形状である。その際基体の断面は、円形であってよい。特に基体は、一部分において断面が一定である。
【００５７】
更なる一実施形態では、高電圧電極、誘電体、特に更にはスペーサ、第２の電極及び／又は導電要素は、基体の少なくとも一部分において、基体の断面全体の周りに層状に配設される。
【００５８】
すなわちこれらは、特にそれぞれ一定の層厚を備え得る層として、基体の周りに互いに重なり合って配設される。
【００５９】
特に、高電圧電極、誘電体、及び場合によっては更なる要素が、基体の周りにリング状かつ層状に配設される。それによって層はそれぞれ、角度方向に基体の周囲を周回して延在する。この形態には、装置の製造が容易であるという利点と、この装置によって基体の周りの角度領域全体においてプラズマを発生させることができるため、周回して隣接する体のすべての領域を抗菌処置できるという利点とがある。
【００６０】
本発明の第２の態様は、抗菌処置のための本発明に係る装置の製造方法である。それによれば、高電圧電極及び誘電体は、薄膜プロセス又は厚膜プロセスで、基体の表面に塗布される。
【００６１】
特に、まずは高電圧電極と続いて誘電体が、既述の方法のそれぞれ１つによって表面に塗布される。ここでは、導電材料又は絶縁材料からなる層を塗布できるいずれの方法も利用できる。その際それぞれ望ましい特性を有する層が次々に塗布又は形成され、それぞれの層厚はしかるべきプロセスパラメータに依存する。これによって、本発明に係る装置を容易かつ安価に製造することが可能になる。
【００６２】
例えば、薄膜プロセス又は厚膜プロセスで、低侵襲機器又は内視鏡の基体の表面に、金属と誘電体とを組み合わせたコーティングをすることによって、誘導体バリア放電（ＤＢＥ）を起こすための高電圧電極が塗布され、それによって機器自体を、適切な高電圧を電極に印加した後に、接地された対電極として機能できる体組織との接触領域、特に入口開口部又は出口開口部の創傷縁部の領域において、抗菌効果のあるプラズマ処置をするためのプラズマ源として利用できる。
【００６３】
本発明の第３の態様は、体内手術を行う際の抗菌処置のためのシステムである。このシステムは、抗菌処置のための本発明に係る装置と、当該装置と導電的に接合された又は接合可能な電圧源とを含む。
【００６４】
その際電圧源は、高電圧電極と接地された対電極とを用いて本装置によって、プラズマ、特に低温プラズマを発生させることができる電圧を印加するのに適している。
【００６５】
電気外科機器の場合には、いずれにせよ機器の機能に必要な中周波又は高周波の高電圧を、処置の間又は機器を引き抜く際に、基体に塗布された電極に印加できるため、上述のプラズマ発生の機能を機器自体によって実現できる。この場合には、独自の電圧源は必要ない。
【００６６】
それによって、外部電圧源、又は電気外科機器の場合では利用可能な中周波若しくは高周波の高電圧源を、プラズマ発生のために利用できる。同様に、電気外科機器の場合では利用可能な中周波又は高周波の高電圧源を、外部プラズマ発生装置（例えば特許文献１に記載のプラズマ源）によるプラズマ発生のための電圧源として利用できる。
【００６７】
機器技術上の手間が軽減することによって、操作が実質的に容易になり、それによって明らかな時間の節約が達成される。
【００６８】
本システムの一実施形態では、このシステムは、プラズマ処置対象の体を少なくとも部分的に含み、体の少なくとも一部は、第２の電極を形成する。
【００６９】
言い換えれば、第２の電極が手術を行う体に、若しくは体の中に配設されるか、又はこの体によって形成されている装置を利用できる。それによって、検査対象の体自体が、接地された対電極として機能する。従って、低侵襲手術を行うためのシステムは、体自体も備える。
【００７０】
特に装置自体は、この実施形態では第２の電極を含まない。
【００７１】
本発明の第４の態様は、体内手術を行う際の抗菌処置のための方法であり、この方法では、抗菌処置のための本発明に係る装置を体内に挿入する。本装置を用いて、少なくとも、低侵襲手術のために当該装置が体内に挿入される体の開口部の領域において、プラズマを発生させる。プラズマは通常、抗菌処置を行うために、処置対象の表面と接触させられる。
【００７２】
体は、ヒト及び／又は動物の組織を含んでよい。それとは関係なく、本方法は、ヒト若しくは動物の体で、又はヒト若しくは動物の体の外部で実施できる。
【００７３】
プラズマの発生は、上述のように、特に体のしかるべき領域の抗菌処置に使われる。特に本装置は、例えばその基体が部分的に体内に挿入される。その際、例えばカテーテルの場合には既存の開口部を利用でき、例えばカニューレ又はトロカールの場合には開口部を作製してよい。
【００７４】
本発明は更に、ヒト又は動物の体に上のヒト又は動物の組織を抗菌処置するためではなく、体内手術を行う際に抗菌処置するための方法を含み、この方法では、抗菌処置のための本発明に係る装置を体内に挿入する。本装置を用いて、少なくとも、低侵襲手術を行うために当該装置が体内に挿入される体の開口部の領域において、プラズマを発生させる。プラズマは通常は、抗菌処置を行うために、処置対象の表面と接触させられる。
【００７５】
本発明に係る方法は、均一かつ安全な処置を制御するために、電子機器とソフトウェアとを用いてアクティブに監視され得る。
【００７６】
本発明の第５の態様はコンピュータプログラムであり、当該コンピュータプログラムは、当該プログラムがコンピュータで動作する際に、抗菌処置のための本発明に係る方法を行うためのあらゆるステップを実施する。
【００７７】
その際本コンピュータプログラムは、プラズマ発生を制御できる。例えば本コンピュータプログラムは、プラズマ発生を開始、終了させることができ、規定のプログラムを実行及び／又は監視できる。本コンピュータプログラムは更に、測定値を処理し利用するように作製されていてよい。
【００７８】
特にこれは、プログラムがコンピュータで動作する場合、体内手術を行う際の抗菌処置のための方法を行うためのあらゆるステップを実施するコンピュータプログラムであってよい。上述の方法では、抗菌処置のための本発明に係る装置が体内に挿入され、本装置を用いて、少なくとも、低侵襲手術を行う装置が体内に挿入されている体の開口部の領域において、プラズマが発生させられる。代替的に本コンピュータプログラムは、プログラムがコンピュータで動作する場合、ヒト又は動物の体に上のヒト又は動物の組織を抗菌処置するためではなく、体内手術を行う際の抗菌処置のための方法を行うためのあらゆるステップを実施するコンピュータプログラムであってよい。上述の方法では、抗菌処置のための本発明に係る装置が体内に挿入され、本装置を用いて、少なくとも、低侵襲手術を行う装置が体内に挿入されている体の開口部の領域において、プラズマが発生させられる。
【００７９】
本発明の更なる一態様は、プログラムがコンピュータ、特に電子制御機器に組み込まれたマイクロコントローラによって実施される場合、機械で読み取り可能な媒体に記憶された、本発明に係る方法を行うためのプログラムコードを有するコンピュータプログラム製品である。
【００８０】
同様に本発明の対象は、機械で読み取り可能な媒体に記憶された、本発明に係るコンピュータプログラムのプログラムコードを有するコンピュータプログラム製品である。機械で読み取り可能な媒体は、あらゆるデータ媒体、特にあらゆるデジタルデータ媒体であってよい。
【００８１】
本発明は以下において、添付の図で表される実施例に基づいて、説明される。図に示されるのは以下である。
【実施例】
【００８２】
図１は、腹腔鏡として実施される本発明に係る装置１１を示す。これは、低侵襲外科のための単純な機器であり、体内、特にヒト又は動物の体内に少なくとも部分的に挿入するように作製された細長い基体１を含む。体内に挿入される側に対向する、基体の上部に示された側には、接眼レンズ３と側方の光導波路接続部４とを有するハンドピース２が配設される。
【００８３】
光導波路接続部４には、基体１の内部で光チャネル７が接続されており、当該光チャネル７内で、光導波路接続部４に接続される外部光源から、検査対象の体の内部に光を送ることができる。光チャネル７は環状に実施されており、その中にある光学通路６を取り巻き、当該光学通路６は、体内で表面から反射される光線を接眼レンズ３に向かって送るように作製される。それによって光学情報を、体内から本装置の使用者に送ることができる。上述の光伝導チャネル６、７は、図２において示される断面図で視認可能である。
【００８４】
基体１は、断面が円形の金属管として実施されており、上述の光伝導チャネル６、７を区分する目的で、当該金属管の中に組込部材が配設される。
【００８５】
本発明によると、基体１のアウター管５は、長さの部分領域において、規定の方法で周囲を何層にもコーティングされており、この領域を高電圧電極９としてプラズマの発生に利用できるようになっている。そのために必要な原則的な層構造をデモンストレーションするために、図２では、上述の基体１の一部が拡大断面図で示されている。
【００８６】
基体１の金属製アウター管５には、接地されて実装されている基体１を、その周囲に配設された高電圧電極９から電気的に絶縁する、耐高電圧の絶縁層８が配設される。それによって基体１と高電圧電極９との間で、プラズマの発生に必要な電位差が可能となる。
【００８７】
誘導体バリア放電を発生させるための高電圧電極９は、誘電体層１０で覆われた金属層によって形成される。その際誘導体１０は、高電圧電極９よりも軸方向両側に張り出しており、つまり高電圧電極９の上部端部よりも上方へかつ下部端部よりも下方へ延伸しており、誘導体１０はこれらの領域において絶縁層８と接触し、絶縁層８を越えて行って金属製の基体１に接する。それによって誘導体１０は、上述の層を例えば湿気から保護する覆い又は被覆として使われる。
【００８８】
上述の層は、体内に挿入可能な基体１の領域の大部分にわたって配設される。
【００８９】
低侵襲機器又は内視鏡の基体１の性状（表面、形状、大きさ、材料の種類）に応じて、本発明は異なる方法で技術的に変更できるため、結果的に様々なバリエーションが実現される。
【００９０】
通例この原則は、棒、内視鏡又はカテーテルの形状で経皮的に体内に挿入されるすべての器具に応用できる。それは、例えば腹腔鏡のような外科器具にも、内視鏡と同様に当てはまる。その際プラズマの発生のためには、外部の電力供給だけが必要である。
【符号の説明】
【００９１】
１    基体
２    ハンドピース
３    接眼レンズ
４    光導波路接続部
５    金属製アウター管
６    光学チャネル
７    光チャネル
８    絶縁層
９    高電圧電極（金属層）
１０  誘電体（誘電体層）
１１  装置
１２  プラズマ源
【図１】
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【図１−２】
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【図２】
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【国際調査報告】
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