(57)【要約】  本発明の実施形態は、半導体製造において使用される他の層に対する選択的ＳｉＮエッチングのための基板処理方法を提供する。一実施形態によれば、基板処理方法は、プラズマ処理チャンバ内に、窒化シリコンを含む第１の材料と、第１の材料とは異なる第２の材料とを含む基板を提供するステップと、ＮＦ３とＯ２とを含むプラズマ励起されたプロセスガスを形成するステップと、基板をプラズマ励起されたプロセスガスに暴露して、第２の材料に対して第１の材料を選択的にエッチングするステップと、を含む。一実施形態によれば、第２の材料は、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択される。
2019517742.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理方法であって、
プラズマ処理チャンバ内に、ＳｉＮを含む第１の材料と、該第１の材料とは異なる第２の材料とを含む基板を提供するステップと、
ＮＦ３とＯ２とを含むプロセスガスをプラズマ励起するステップと、
前記基板をプラズマ励起された前記プロセスガスに暴露して、前記第２の材料に対して前記第１の材料を選択的にエッチングするステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記第２の材料が、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記暴露中、前記プラズマ処理チャンバ内のガス圧力が３００ｍＴｏｒｒより大きい、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
Ｏ２／ＮＦ３ガス流量比が約０．１と約０．５の間である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
Ｏ２／ＮＦ３ガス流量比が約１／３である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
約０．１と約０．５の間にあるＯ２／ＮＦ３ガス流量比を選択して、前記第２の材料に対して前記第１の材料に対する最大エッチング選択性比をもたらすステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
プラズマ励起された前記プロセスガス中のプラズマ種の運動エネルギーが、前記第１の材料及び前記第２の材料のスパッタリング閾値未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
プラズマ励起された前記プロセスガスを形成することは、接地されているか又は電力が供給されていない上部プレート電極と、前記基板を支持するＲＦ電力供給された下部プレート電極とを含む容量結合プラズマ源を使用してプラズマを生成することを含み、該下部プレート電極に印加されるＲＦ電力は、前記第１の材料及び前記第２の材料のスパッタリング閾値未満の運動エネルギーを有する、プラズマ励起された前記プロセスガス中にプラズマ種を生成する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記下部プレート電極に印加される前記ＲＦ電力は、約５０Ｗ以下である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記プロセスガスが、Ａｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記プロセスガスが、ＮＦ３、Ｏ２、Ｎ２及びＡｒからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記第２の材料が前記基板上に隆起フィーチャを含み、前記第１の材料が該隆起フィーチャの水平部分及び垂直部分にコンフォーマル膜を形成し、前記暴露が該隆起フィーチャの垂直部分上に前記第１の材料の側壁スペーサを形成するスペーサエッチングプロセスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第２の材料が前記基板上に隆起フィーチャを含み、前記第１の材料が前記隆起フィーチャの垂直部分上に側壁スペーサを形成し、前記暴露が前記隆起フィーチャから前記第１の材料の側壁スペーサを除去する、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の材料が前記基板上に隆起フィーチャを含み、前記第２の材料が前記隆起フィーチャの垂直部分上に側壁スペーサを形成し、前記暴露が該側壁スペーサではなく前記第１の材料の隆起フィーチャを除去する、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
プラズマ励起された前記プロセスガスを形成することは、高ラジカル対イオンフラックス比を生成する遠隔プラズマ源を使用してプラズマを生成するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
基板処理方法であって、
プラズマ処理チャンバ内に、ＳｉＮを含む第１の材料と、Ｓｉ、ＳｉＯ２及びそれらの組合せからなる群から選択される第２の材料とを含む基板を提供するステップと、
ＮＦ３とＯ２とを含むプラズマ励起されたプロセスガスを形成するステップと、
前記基板をプラズマ励起された前記プロセスガスに暴露して、前記第２の材料に対して前記第１の材料を選択的にエッチングするステップと、を含み、
前記暴露は、以下の３つのプラズマ処理条件
ａ）前記プラズマ処理チャンバ内において３００ｍＴｏｒｒ超のガス圧力
ｂ）約０．１と約０．５の間のＯ２／ＮＦ３ガス流量比
ｃ）前記第１の材料及び第２の材料のスパッタリング閾値未満の、プラズマ励起された前記プロセスガス中のプラズマ種の運動エネルギー
のうちの少なくとも１つを含む、方法。
【請求項１７】
前記プロセスガスが、Ａｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２をさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
基板処理方法であって、
プラズマ処理チャンバ内に、ＳｉＮを含む第１の材料と、該第１の材料とは異なる第２の材料とを含む基板を提供するステップと、
ＮＦ３とＯ２を含むプラズマ励起されたプロセスガスを形成するステップと、
前記基板をプラズマ励起された前記プロセスガスに暴露して、前記第２の材料に対して前記第１の材料を選択的にエッチングするステップと、を含み、
前記暴露は、実質的に、前記基板をイオンではなく、プラズマ励起されたラジカルにのみ暴露するステップを含む、方法。
【請求項１９】
前記プロセスガスが、Ａｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２をさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第２の材料が、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この出願は、２０１６年５月２９日付で出願された米国仮特許出願第６２／３４２，９９１号に関連し、それに対する優先権を主張し、そのすべての内容は参照により本明細書に援用される。この出願は、２０１６年９月７日付で出願された米国仮特許出願第６２／３８４，４８１号に関連し、それに対する優先権を主張し、そのすべての内容は参照により本明細書に援用される。
【０００２】
本発明は、半導体製造及び半導体デバイスの分野に関連し、より詳細には、半導体製造に使用される、他の材料に対する選択的窒化シリコンエッチングの方法に関連する。
【背景技術】
【０００３】
次世代の半導体技術開発は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）及び他の材料に対する選択的な窒化シリコン（ＳｉＮ）のドライエッチング除去が必要とされるため、大きな課題を投げかけている。ＳｉＮエッチングのために使用されている現在のフルオロカーボンケミストリは、凹状フィーチャの目詰まりの可能性により、狭いマスク開口部と高いアスペクト比で制御することが極めて困難になっている。プロセスマージンが後続の各テクノロジノードとともに減少する。それゆえ、フルオロカーボンの付着がなく、既存のプロセスのさらなる課題を回避する新しいケミストリが必要とされている。
【発明の概要】
【０００４】
本発明の実施形態は、他の材料に対して窒化シリコンを選択的にエッチングするために非重合ケミストリ（chemistry）を使用する基板処理方法を説明する。
【０００５】
一実施形態によれば、本方法は、プラズマ処理チャンバ内に、ＳｉＮを含む第１の材料と、第１の材料とは異なる第２の材料とを含む基板を提供するステップと、ＮＦ３とＯ２とを含むプロセスガスをプラズマ励起するステップと、基板をプラズマ励起されたプロセスガスに暴露して、第２の材料に対して第１の材料を選択的にエッチングするステップと、を含む。
【０００６】
別の実施形態によれば、本方法は、プラズマ処理チャンバ内に、ＳｉＮを含む第１の材料と、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択される第２の材料とを含む基板とを提供するステップと、ＮＦ３とＯ２とを含むプラズマ励起されたプロセスガスを形成するステップと、基板をプラズマ励起されたプロセスガスに暴露して、第２の材料に対して第１の材料を選択的にエッチングするステップと、を含み、暴露は、以下の３つのプラズマ処理条件ａ）プラズマ処理チャンバ内において３００ｍＴｏｒｒ以上のガス圧力、ｂ）約０．１と約０．５の間のＯ２／ＮＦ３ガス流量比、ｃ）第１の材料及び第２の材料のスパッタリング閾値未満の、プラズマ励起されたプロセスガス中のプラズマ種の運動エネルギー、のうちの少なくとも１つを含む。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本発明の実施形態及びそれに付随する多くの利点のより完全な理解は、添付の図面と併せて考慮されるときに、以下の発明を実施するための形態を参照することでより良く理解されるとともに、容易に明らかになるであろう。
【０００８】
【図１Ａ】本発明の一実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図１Ｂ】本発明の一実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図２Ａ】本発明の別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図２Ｂ】本発明の別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図３Ａ】本発明のさらに別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図３Ｂ】本発明のさらに別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図４Ａ】本発明の別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図４Ｂ】本発明の別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図４Ｃ】本発明の別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図５Ａ】本発明のさらに別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図５Ｂ】本発明のさらに別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。
【図６】本発明の一実施形態による原子層堆積（ＡＬＤ）システムを概略的に示す。
【図７】本発明の一実施形態による容量結合プラズマ（ＣＣＰ）システムを概略的に示す。
【図８】本発明の一実施形態によるプラズマ処理チャンバのガス圧力の関数として、ＳｉＮエッチング量、ＳｉＯ２エッチング量、及びＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比を示す。
【図９】本発明の一実施形態によるＯ２／ＮＦ３ガス流量比の関数として、ＳｉＮエッチング量、ＳｉＯ２エッチング量、及びＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比を示す。
【図１０】本発明の実施形態による、高いラジカルフラックスと基板の無視できるイオン衝撃とを有するプラズマプロセスについてのガス圧力の関数として、ＳｉＮエッチング量、ＳｉＯ２エッチング量、及びＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の実施形態は、他の材料に対して窒化シリコンを選択的にエッチングするために非重合ケミストリを使用する基板処理方法を説明する。
【００１０】
図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の一実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。図１Ａは、基板１００と、基板１００上の隆起フィーチャ１０２と、隆起フィーチャ１０２及び基板１００の露出面上にコンフォーマルに形成されたＳｉＮスペーサ層１０４と、を示す。隆起フィーチャ１０２の露出面は垂直部分１０５及び水平部分１０３を含む。
【００１１】
基板１００及び隆起フィーチャ１０２は、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択され得る。いくつかのマイクロ電子デバイスでは、隆起フィーチャ１０２はフィンと呼ばれる。本明細書で使用されるとき、表記「ＳｉＮ」は、主成分としてシリコン及び窒素を含む層を含み、この層は、ある範囲のＳｉ及びＮの組成物を有することができる。Ｓｉ３Ｎ４は窒化シリコンのなかで最も熱力学的に安定であり、そのため、窒化シリコンのなかで最も商業的に重要である。しかし、本発明の実施形態は、広い範囲のＳｉ及びＮ組成物を有するＳｉＮ層に適用され得る。さらに、表記「ＳｉＯ２」は、主成分としてシリコン及び酸素を含む層を含むことを意味し、この層はある範囲のＳｉ及びＯの組成物を含む層を含むことができる。ＳｉＯ２は酸化シリコンのなかで最も熱力学的に安定であり、そのため、酸化シリコンのなかで最も商業的に重要である。表記「Ｓｉ」は、多結晶Ｓｉ（ｐｏｌｙ−Ｓｉ）又はアモルファスＳｉ（ａ−Ｓｉ）を含む。ＳｉＮスペーサ層１０４を付着させる（depositing）ために使用することができる原子層堆積（ＡＬＤ）システムを図６に概略的に示す。
【００１２】
本発明の一実施形態によれば、異方性スペーサエッチングプロセスが、図１Ａに示される構造に対して実行され、図１Ｂに示す構造を形成する。スペーサエッチングプロセスは、ＳｉＮスペーサ層１０４の垂直部分１０５を残しながら、ＳｉＮスペーサ層１０４の水平部分１０３を除去することによって、隆起フィーチャ１０２の垂直部分１０５上にＳｉＮ側壁スペーサ１０６を形成する。
【００１３】
本発明の実施形態によれば、スペーサエッチングプロセスは、ＮＦ３、Ｏ２、及び任意で、Ａｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方を含む非重合プロセスガスをプラズマ励起するステップと、基板１００をプラズマ励起されたプロセスガスに暴露して、隆起フィーチャ１０２及び基板１００に対してＳｉＮスペーサ１０４を選択的にエッチングするステップと、を含む。一例では、非重合プロセスガスは、Ｎ２、Ｏ２、ＮＦ３、及びＡｒを含む、又はそれらからなる。いくつかの実施形態によれば、スペーサエッチングプロセスを最適化するために、Ａｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方をＮＦ３及びＯ２と共に使用してよい。
【００１４】
本発明者らは、非重合プロセスガスが、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及び他の下地材料に対する、ＳｉＮの優れた選択的ドライエッチング除去をもたらすことを発見した。これは、フルオロカーボン化学ケミストリからのポリマー付着フラックスのために狭いフィーチャ開口部及び高いアスペクト比で制御することが極めて困難である、ＳｉＮエッチングに使用される、現在使用されているフルオロカーボン化学ケミストリとは対照的である。
【００１５】
非重合プロセスガスは、様々な異なるプラズマ源を用いてプラズマ励起され得る。一実施形態によれば、プラズマ源は、上部プレート電極と、基板を支持する下部プレート電極とを含む容量結合プラズマ（ＣＣＰ）源を含むことができる。高周波（ＲＦ）電力は、ＲＦ発生器及びインピーダンスネットワークを使用して、上部プレート電極、下部プレート電極、又はその両方に供給され得る。上部電極へのＲＦ電力の印加のための代表的な周波数は、１０ＭＨｚから２００ＭＨｚの範囲であり、６０ＭＨｚとしてよい。追加的に、下部電極へのＲＦ電力の印加のための代表的な周波数は、０．１ＭＨｚから１００ＭＨｚの範囲であり、１３．５６ＭＨｚとしてよい。スペーサエッチングプロセスを実行するために使用され得るＣＣＰシステムを図７に概略的に示す。別の実施形態によれば、対イオンフラックスに対する高いラジカル比を生み出すことが可能な遠隔プラズマ源を使用してよい。プラズマ処理は、プラズマ暴露における異方性の程度を制御するように調整してよい。異方性の程度は、大部分が異方性であることから大部分が等方性であるように調整してよい。
【００１６】
図２Ａ及び図２Ｂは、本発明の別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。図１Ａが図２Ａとして再現され、基板１００と、基板１００上の隆起フィーチャ１０２と、隆起フィーチャ１０２の垂直部分１０５上のＳｉＮ側壁スペーサ１０６と、を示す。基板１００及び隆起フィーチャ１０２は、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択され得る。一実施形態によれば、ＳｉＮ側壁スペーサ１０６は、ドライエッチングプロセスにおいて隆起フィーチャ１０２の垂直部分１０５から除去される。結果として生じる構造を図２Ｂに示す。本発明の実施形態によれば、ＳｉＮ側壁スペーサ１０６の除去は、ＮＦ３、Ｏ２、及び任意でＡｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方を含む非重合プロセスガスをプラズマ励起し、基板１００をプラズマ励起されたプロセスガスに暴露することによって実行される。一例では、非重合プロセスガスは、Ｎ２、Ｏ２、ＮＦ３、及びＡｒを含む、又はそれらからなる。いくつかの実施形態によれば、エッチングプロセスを最適化するために、Ａｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方をＮＦ３及びＯ２と共に使用してよい。
【００１７】
図３Ａ及び図３Ｂは、本発明のさらに別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。図３Ａは、基板３００と、基板３００上のＳｉＮ隆起フィーチャ３０２と、ＳｉＮ隆起フィーチャ３０２の垂直部分３０５上に形成された側壁スペーサ３０６を示す。ＳｉＮ隆起フィーチャ３０２の水平部分３０３は、その前のエッチングプロセスによって露出される。基板３００及び側壁スペーサ３０６は、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択され得る。この実施形態では、ＳｉＮ隆起フィーチャ３０２は犠牲的フィーチャ（sacrificial  features）であり、しばしばマンドレルと呼ばれる。ＳｉＮ隆起フィーチャ３０２の除去は、しばしばマンドレルプルと呼ばれる。図３Ａに示す構造は、従来の付着、リソグラフィ、及びエッチングプロセスを使用してＳｉＮ隆起フィーチャ３０２を作成することによって形成してよい。その後、側壁スペーサ３０６が、異方性エッチングプロセスを使用して形成され得る。
【００１８】
一実施形態によれば、ＳｉＮ隆起フィーチャ３０２は、ドライエッチングプロセスにおいて基板３００から除去される。基板３００上に自立型の側壁スペーサ３０６を有する、結果として得られた構造を図３Ｂに示す。本発明の実施形態によれば、基板３００からのＳｉＮ隆起フィーチャ３０２の除去は、ＮＦ３、Ｏ２、及び任意でＡｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方を含む非重合プロセスガスをプラズマ励起するステップと、基板１００をプラズマ励起されたプロセスガスに暴露するステップと、を含む。一例では、非重合プロセスガスは、Ｎ２、Ｏ２、ＮＦ３、及びＡｒを含む、又はそれらからなる。いくつかの実施形態によれば、エッチングプロセスを最適化するために、Ａｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方をＮＦ３及びＯ２と共に使用してよい。
【００１９】
図４Ａ〜図４Ｃは、本発明の一実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。図４Ａは、基板４００と、基板４００上の隆起フィーチャ４０２と、隆起フィーチャ４０２及び基板４００の露出面上にコンフォーマルに形成されたＳｉＮスペーサ層４０４と、を示す。隆起フィーチャ４０２の露出面は、垂直部分４０５及び水平部分４０３を含む。基板４００及び隆起フィーチャ４０２は、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択され得る。
【００２０】
本発明の一実施形態によれば、図４Ａの構造は、ＮＦ３、Ｏ２、及び任意でＡｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方を含むプラズマ励起された非重合プロセスガスに暴露されて、ＳｉＮスペーサ層４０４上に改質スペーサ層４０７を形成する。これを図４Ｂに示す。その後、改質スペーサ層４０７は、熱処理チャンバ内で基板加熱を用いて等方的に除去され得る。結果として得られた構造を図４Ｃに示し、改質スペーサ層４０７が脱着され、それによって図４ＡのＳｉＮスペーサ層４０４が等方的に薄くなっている。一例では、非重合プロセスガスは、Ｎ２、Ｏ２、ＮＦ３、及びＡｒを含む、又はそれらからなる。
【００２１】
図５Ａ及び図５Ｂは、本発明のさらに別の実施形態による基板を処理する方法を概略的に断面図で示す。図５Ａは、基板４１０と、基板４１０上のＳｉＮ隆起フィーチャ４１２と、を示す。ＳｉＮ隆起フィーチャ４１２は、基板４１０上で厚さ４１３及び高さ４１５を有する。基板４１０は、Ｓｉ、ＳｉＯ２、及びそれらの組合せからなる群から選択してよい。一実施形態によれば、ＳｉＮ隆起フィーチャ３０２は、等方性ドライエッチングプロセスにおいてトリミングされる。本発明の実施形態によれば、ＳｉＮ隆起フィーチャ４１２の選択的トリミングは、ＮＦ３、Ｏ２、及び任意でＡｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方を含む非重合プロセスガスをプラズマ励起するステップと、基板４１０をプラズマ励起されたプロセスガスに暴露するステップと、を含む。暴露は、厚さ４１７及び高さ４１９を有するトリミングされたＳｉＮ隆起フィーチャ４１４を形成し、厚さ４１７は厚さ４１３未満であり、高さ４１９は高さ４１５未満である。一例では、非重合プロセスガスは、Ｎ２、Ｏ２、ＮＦ３、及びＡｒを含む、又はそれらからなる。
【００２２】
図１に戻る。ＳｉＮスペーサ層１０４をコンフォーマルに付着する技術は、単層堆積（「ＭＬＤ」）方法を含み得る。ＭＬＤ法は、例えば化学吸着による反応性前駆体分子の飽和単層の形成の原理に基づくＡＬＤ法を含んでよい。ＡＢ膜を形成するための代表的なＭＬＤプロセスは、例えば、Ａの飽和単層が基板上に形成される期間にわたって、第１の前駆体又は反応物Ａ（「ＲＡ」）を注入することからなる。次に、ＲＡを不活性ガスＧ１を用いてチャンバからパージする。次に、やはりある期間にわたって、第２の前駆体又は反応物Ｂ（「ＲＢ」）をチャンバ内に注入して、ＢをＡと混合し、基板上に層ＡＢを形成する。その後、ＲＢをチャンバからパージする。前駆体又は反応物を導入するステップ、反応器をパージするステップと、別の又は同じ前駆体又は反応物を導入するステップ、及び反応器をパージするというこのプロセスは、所望の厚さのＡＢ膜を達成するために何度も繰り返してよい。各ＡＬＤサイクルで付着させたＡＢ膜の厚さは、約０．５オングストロームから約２．５オングストロームの範囲としてよい。
【００２３】
いくつかの実施形態では、ＡＢ膜を形成するステップが、第１のステップ中に基板上に吸着されるＡＢＣを含む前駆体を注入するステップを含む場合、第２のステップ中にＣを除去する。
【００２４】
本発明の一実施形態によれば、ＳｉＮスペーサ層１０４は、ＡＬＤシステムのＡＬＤ付着プロセスによって付着させてよく、その一例を図６のＡＬＤシステム４４として示し、これは、基板１４をその上に支持するように構成されている基板ホルダ４８を有する処理チャンバ４６を含む。処理チャンバ４６はさらに、（シリコン含有ガスを含み得る）第１の材料供給システム５２、（窒素含有ガスを含み得る）第２のプロセス材料供給システム５４、及びパージガス供給システム５６に結合された上部アセンブリ５０（例えば、シャワーヘッド）と、（所望のスペーサ層材料を付着させるための、希釈ガス、又は必要に応じて他のものを含み得る）１つ以上の補助ガス供給システム５８と、基板温度制御システム６０と、を含む。
【００２５】
代替的又は追加的に、コントローラ６２は、１つ以上の追加のコントローラ／コンピュータ（図示せず）に結合されてよく、その追加のコントローラ／コンピュータからセットアップ及び／又は設定情報を取得してよい。コントローラ６２は、任意の数の処理要素５２、５４、５６、５８、６０を設定するために使用してよく、それらからデータを収集、提供、処理、記憶、及び／又は表示してよい。コントローラ６２は、処理要素５２、５４、５６、５８、６０のうちの１つ以上を制御するためのある数のアプリケーションを含んでよく、必要に応じて、ユーザが処理要素５２、５４、５６、５８、６０のうちの１つ以上を監視及び／又は制御するための使いやすいインタフェースを提供し得るグラフィカルユーザインタフェース（「ＧＵＩ」、図示せず）を含んでよい。
【００２６】
処理チャンバ４６はさらに、ダクト７０を介して真空ポンプシステム６６及びバルブ６８を含む圧力制御システム６４に結合されており、圧力制御システム６４は、ＳｉＮスペーサ層１０４を形成するのに適し、第１及び第２のプロセス材料の使用に適した圧力に、処理チャンバ４６を制御可能に排気するように構成されている。真空ポンプシステム６６は、毎秒約５０００リットル（以上）までのポンピング速度が可能なターボ分子真空ポンプ（「ＴＭＰ」）又は低温ポンプを含んでよく、バルブ６８は、チャンバ圧力をスロットル調整する（throttling）ゲートバルブを含んでよい。さらに、チャンバプロセスを監視するための装置（図示せず）を処理チャンバ４６に結合してよい。圧力制御システム６４は、例えば、ＡＬＤプロセス中、処理チャンバ圧力を約０．１Ｔｏｒｒと約１００Ｔｏｒｒの間に制御するように構成してよい。
【００２７】
第１及び第２の材料供給システム５２、５４と、パージガス供給システム５６と、１つ以上の補助ガス供給システム５８のそれぞれとは、１つ以上の圧力制御装置、１つ以上の流量制御デバイス、１つ以上のフィルタ、１つ以上のバルブ、及び／又は１つ以上の流量センサを含んでよい。流量制御デバイスは、空気圧駆動バルブ、電気機械式（ソレノイド）バルブ、及び／又は高速パルスガス注入バルブを含んでよい。本発明の実施形態によれば、ガスは処理チャンバ４６内に順次交互にパルシング（pulsed）されてよく、各ガスパルスの長さは、例えば、約０．１秒と約１００秒の間としてよい。代替的には、各ガスパルスの長さは、約１秒と約１０秒の間としてよい。ケイ素及び窒素含有ガスの例示的なガスパルス長は、約０．３秒と約３秒の間、例えば、約１秒としてよい。例示的なパージガスパルスは、約１秒と約２０秒の間、例えば約３秒としてよい。さらに図６を参照する。コントローラ６２は、マイクロプロセッサと、メモリと、及びＡＬＤシステム４４への入力を通信、起動し、ＡＬＤシステム４４からの主力を監視するのに十分な制御電圧を生成することが可能なデジタルＩ／Ｏポートを含んでよい。さらに、コントローラ６２は、処理チャンバ４６、基板ホルダ４８、上部アセンブリ５０、処理要素５２、５４、５６、５８、基板温度制御システム６０、及び圧力制御システム６４に結合されてよく、それらと情報を交換してよい。例えば、付着プロセスを実行するために、プロセスレシピに従って、コントローラ６２のメモリに記憶されたプログラムを利用して、ＡＬＤシステム４４の前述の構成要素への入力を起動してよい。
【００２８】
コントローラ６２は、メモリに含まれる１つ以上の命令の１つ以上のシーケンスを実行するプロセッサに応答して、本発明のマイクロプロセッサベースの処理ステップの一部又は全部を実行する汎用コンピュータシステムとして実装してよい。そのような命令は、ハードディスク、リムーバブルメディアドライブ等の他のコンピュータ可読媒体からコントローラメモリに読み込まれてよい。多重処理構成における１つ以上のプロセッサはまた、メインメモリに含まれた命令のシーケンスを実行するためのコントローラマイクロプロセッサとして採用され得る。代替の実施形態では、ソフトウェア命令の代わりに又はそれと組み合わせたハードワイヤード回路を使用してよい。したがって、実施形態は、ハードウェア回路とソフトウェアとのいかなる特定の組合せにも限定されない。
【００２９】
コントローラ６２は、本発明の教示に従ってプログラムされた命令を保持し、データ構造、テーブル、レコード、又は本発明の実装に必要とされ得る他のデータを記憶するために、コントローラメモリなどの少なくとも１つのコンピュータ可読媒体又はメモリを含む。コンピュータ可読媒体の例は、ハードディスク、フロッピー（登録商標）ディスク、テープ、光磁気ディスク、ＰＲＯＭ（ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、フラッシュＥＰＲＯＭ）、ＤＲＡＭ、ＳＲＡＭ、ＳＤＲＡＭ、若しくは任意の他の磁気媒体、コンパクトディスク（例えば、ＣＤ−ＲＯＭ）、若しくは任意の他の光学媒体、パンチカード、紙テープ、若しくは穴のパターンを有する他の物理的媒体、搬送波（後述）、又はコンピュータが読み取ることができる他の任意の媒体である。
【００３０】
コンピュータ可読媒体の任意の１つ又は組合せに記憶され、本発明を実施するための１つ又は複数のデバイスを駆動するため、及び／又はコントローラ６２が人間のユーザと相互作用することを可能にするために、コントローラ６２を制御するためのソフトウェアが存在する。そのようなソフトウェアは、デバイスドライバ、オペレーティングシステム、開発ツール、及びアプリケーションソフトウェアを含んでよいが、それらに限定されない。そのようなコンピュータ可読媒体はさらに、本発明を実施する際に実行される処理の全部又は一部（処理が分散されている場合）を実行するための本発明のコンピュータプログラム製品を含む。
【００３１】
コンピュータコードデバイスは、スクリプト、解釈可能プログラム、ダイナミックリンクライブラリ（「ＤＬＬ」）、Ｊａｖａ（登録商標）クラス、及び完全な実行可能プログラムを含むがこれらに限定されず、任意の解釈可能、又は実行可能コードメカニズムとしてよい。さらに、本発明の処理の一部は、より良い性能、信頼性、及び／又はコストのために分散させてよい。
【００３２】
本明細書で使用される「コンピュータ可読媒体」という用語は、実行のためにコントローラ６２のプロセッサに命令を提供することに関与する任意の媒体を指す。したがって、コンピュータ可読媒体は、不揮発性媒体、揮発性媒体、及び伝送媒体を含むがこれらに限定されず、多くの形態をとってよい。不揮発性媒体は、例えば、ハードディスク、リムーバブルメディアドライブ等の光ディスク、磁気ディスク、光磁気ディスクを含む。揮発性媒体は、メインメモリのようなダイナミックメモリを含む。さらに、実行のためにコントローラ６２のプロセッサに１つ以上の命令の１つ以上のシーケンスを実行することには、様々な形態のコンピュータ可読媒体が関与してよい。例えば、命令は、最初にリモートコンピュータの磁気ディスク上で搬送されてよい。リモートコンピュータは、本発明の全部又は一部を実施するための命令をリモートでダイナミックメモリにロードし、その命令をネットワークを介してコントローラ６２に送信することができる。
【００３３】
コントローラ６２は、ＡＬＤシステム４４に対して局所的に配置されてもよく、又はＡＬＤシステム４４に対して遠隔的に配置されてもよい。例えば、コントローラ６２は、直接接続、イントラネット、インターネット、ワイヤレス接続のうちの少なくとも１つを用いてＡＬＤシステムとデータを交換してよい。コントローラ６２は、例えばカスタマサイト（すなわち、デバイスメーカーなど）でイントラネットに結合されてもよく、又は例えば、ベンダサイト（すなわち、設備製造業者）でイントラネットに結合されてもよい。追加的に、例えば、コントローラ６２はインターネットに結合されてよい。さらに、別のコンピュータ（すなわち、コントローラ、サーバなど）が、例えば、コントローラ６２にアクセスして、直接接続、イントラネット、及びインターネットのうちの少なくとも１つを介してデータを交換してよい。また、当業者には理解されるように、コントローラ６２は無線接続を介してＡＬＤシステム４４とデータを交換してよい。
【００３４】
ＳｉＮスペーサ層１０４の付着は、ＳｉＮスペーサ層１０４材料の異なる成分（ここでは、例えば、ケイ素及び窒素）を付着させるために、順次交互のパルスシーケンスによって進行してよい。ＡＬＤプロセスは代表的にはガスパルス当たり単層未満で付着させるため、膜の異なる成分の別々の堆付着シーケンスを用いて均質材料を形成することが可能である。各ガスパルスは、処理チャンバ４６から未反応ガス又は副生成物を除去するためのそれぞれのパージ又は排気ステップを含んでよい。本発明の他の実施形態によれば、パージ又は排気ステップのうちの１つ以上は省略してよい。
【００３５】
したがって、一例示的実施形態として、処理された隆起フィーチャ１０２を有する基板１４は、ＡＬＤシステム４４の処理チャンバ４６内に配置され、シリコンを含むガスパルス及び窒素含有のガスパルスに順次暴露される。後者のものは、ＮＨ３、プラズマ励起窒素（ＰＥＡＬＤシステムで使用するためなど）、又はそれらの組合せ、及び任意でアルゴン（Ａｒ）などの不活性ガスを含んでよい。
【００３６】
ケイ素は、隆起フィーチャ１０２の表面上で反応して、単層厚より薄い化学吸着層を形成してよい。窒素含有ガスのガスパルスからの窒素は、次いで、化学吸着された表面層と反応し得る。この順次のガス暴露を繰り返す、すなわち２つの暴露を複数回交互に行うことにより、所望の厚さが達成されるまで１サイクルにつき約１オングストローム（１０−１０メートル）の層ごとの成長を達成することが可能である。
【００３７】
図７に示される例示的なプラズマ処理システム５００は、処理チャンバ５１０と、処理される基板５２５が固定される基板ホルダ５２０（下部電極）と、ガス注入システム５４０と、真空ポンプシステム５５０と、を含む。処理チャンバ５１０は、基板５２５の表面に隣接した処理領域５４５でのプラズマの発生を容易にするように構成されており、プラズマは、加熱電子とイオン化ガスとの衝突によって形成される。イオン化ガス又はガス混合物がガス注入システム５４０を介して導入され、プロセス圧力が調整される。例えば、ゲートバルブ（図示せず）を使用して真空ポンプシステム５５０をスロットル調整する。望ましくは、プラズマを利用して所定の材料プロセスに特有の材料を生成し、基板５２５への材料の付着又は基板５２５の露出面からの材料の除去のいずれかを促進する。
【００３８】
基板５２５は、ロボット式基板搬送システムによりスロットバルブ（図示せず）及びチャンバフィードスルー（図示せず）を介してチャンバ５１０に搬入出され、そこで基板ホルダ５２０内に収容された基板リフトピン（図示せず）によって受け取られ、そこに収容されたデバイスによって機械的に移される。基板５２５が基板搬送システムから受け取られると、基板ホルダ５２０の上面まで下げられる。
【００３９】
代替の実施形態では、基板５２５は静電クランプ（図示せず）を介して基板ホルダ５２０に固定されている。さらに、基板ホルダ５２０は、基板ホルダ５２０から熱を受け取り、熱交換器システム（図示せず）に熱を伝達する、又は加熱時に熱交換器システムからの熱を伝達する再循環冷却剤フローを含む冷却システムをさらに含む。さらに、基板５２５と基板ホルダ５２０との間のガスギャップ熱コンダクタンスを改善するためにガスが基板の裏側に供給され得る。このようなシステムは、高温又は低温での基板の温度制御が必要なときに利用される。例えば、基板の温度制御は、プラズマから基板５２５に供給された熱流フラックスと、基板５２５から基板ホルダ５２０への伝導によって除去された熱流フラックスとのバランスにより達成される定常状態温度を超える温度で有用であり得る。他の実施形態では、抵抗加熱素子、熱電加熱器／冷却器等の加熱素子が含まれる。
【００４０】
第１の実施形態では、基板ホルダ５２０はさらに、高周波（ＲＦ）電力が処理領域５４５内のプラズマに結合される電極として機能する。例えば、基板ホルダ５２０は、ＲＦ発生器５３０からインピーダンス整合ネットワーク５３２を通じて基板ホルダ５２０へのＲＦ電力の送信を介してＲＦ電圧で電気的にバイアスされる。ＲＦバイアスは、電子を加熱し、それによってプラズマを形成し維持するように機能する。この構成では、システムは反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）リアクタとして動作し、チャンバ及び上部ガス注入電極は接地面として機能する。ＲＦバイアスの代表的な周波数は、０．１ＭＨｚから１００ＭＨｚの範囲であり、１３．５６ＭＨｚとしてよい。代替の実施形態では、ＲＦ電力が複数の周波数で基板ホルダ電極に印加される。さらに、インピーダンス整合ネットワーク５３２は、反射電力を最小にすることによって処理チャンバ１０内のプラズマへのＲＦ電力の伝達を最大にするように機能する。整合ネットワークトポロジ（例えば、Ｌ型、π型、Ｔ型等）及び自動制御方法が、当技術分野において知られている。
【００４１】
引き続き図７を参照する。プロセスガス５４２（例えば、ＮＦ３、Ｏ２、及び任意でＡｒ、Ｎ２、又はＡｒとＮ２の両方を含む）が、ガス注入システム５４０を介して処理領域５４５に導入される。プロセスガス５４２はシャワーヘッドを含むことができ、プロセスガス５４２は、ガス供給システム（図示せず）から、ガス注入プレナム（図示せず）、一連のバッフルプレート（図示せず）及びマルチオリフィスシャワーヘッドガス注入プレート（図示せず）を介して処理領域５４５に供給される。
【００４２】
真空ポンプシステム５５０は、好ましくは、毎秒５０００リットル（以上）までのポンピング速度が可能なターボ分子真空ポンプ（ＴＭＰ）と、チャンバ圧力をスロットル調整するためのゲートバルブとを含む。ドライプラズマエッチングに利用される従来のプラズマ処理デバイスでは、毎秒１０００から３０００リットルのＴＭＰが使用されている。ＴＭＰは、典型的には５０ｍＴｏｒｒ未満の低圧処理に有用である。より高い圧力では、ＴＭＰポンピング速度が劇的に低下する。高圧処理（すなわち１００ｍＴｏｒｒ超）については、メカニカルブースターポンプ及びドライ粗引ポンプが使用される。
【００４３】
コンピュータ５５５は、マイクロプロセッサ、メモリ、及びプラズマ処理システム５００への入力を通信し、起動すると共に、プラズマ処理システム５００からの出力をモニタするのに十分な制御電圧を生成することが可能であるデジタルＩ／Ｏポートを含む。さらに、コンピュータ５５５は、ＲＦ発生器５３０、インピーダンス整合ネットワーク５３２、ガス注入システム５４０及び真空ポンプシステム５５０に結合され、それらと情報を交換する。メモリに記憶されているプログラムは、記憶されているプロセスレシピに従って、プラズマ処理システム５００の前述の構成要素への入力を起動するために利用される。
【００４４】
プラズマ処理システム５００は、ＲＦ発生器５７２からインピーダンス整合ネットワーク５７４を通じてＲＦ電力が結合され得る上部プレート電極５７０をさらに含む。上部電極へのＲＦ電力の印加のための代表的な周波数は、１０ＭＨｚ〜２００ＭＨｚの範囲であり、好ましくは６０ＭＨｚである。追加的には、下部電極への電力の印加のための代表的な周波数は、０．１ＭＨｚ〜３０ＭＨｚの範囲である。さらに、コンピュータ５５５は、上部プレート電極５７０へのＲＦ電力の印加を制御するために、ＲＦ発生器５７２及びインピーダンス整合ネットワーク５７４に結合されている。いくつかの実施形態によれば、上部プレート電極５７０は接地、又は電力が供給されていない状態で、下部電力にＲＦ電力を与えることによって、処理チャンバ５１０内にプラズマを発生させてよい。
【００４５】
Ｏ２、ＮＦ３及び任意でＮ２、Ａｒ、又はＮ２とＡｒの両方を含む非重合プロセスガスを用いたＳｉ３Ｎ４層のドライエッチングは、プラズマ中のＦラジカルの発生と、Ｓｉ３Ｎ４層へのＦラジカルの拡散と、Ｓｉ３Ｎ４層でのＦラジカルの吸着と、Ｓｉ３Ｎ４とＦの表面反応によるＳｉＦ４及びＮＦ３エッチング生成物の形成と、Ｓｉ３Ｎ４層からのＳｉＦ４及びＮＦ３エッチング生成物の脱着及び除去とを含む、以下のエッチングメカニズムを含むと考えられる。
【００４６】
ＮＦ３解離：
ｅ−＋ＮＦ３→ＮＦ２＋Ｆ−
ＮＦ＋ＮＦ→Ｎ２＋２Ｆ
ＮＦ＋ＮＦ２→Ｎ２＋Ｆ２＋Ｆ
【００４７】
Ｏ２添加によるフッ素原子の生成量の増加
Ｏ＋ＮＦ２→ＮＦ＋ＯＦ
Ｏ＋ＮＦ→Ｎ２＋Ｆ２＋Ｆ
２ＯＦ→２Ｆ＋Ｏ２
Ｏ＋ＯＦ→Ｏ２＋Ｆ
【００４８】
Ｓｉ３Ｎ４エッチング
Ｓｉ３Ｎ４＋２４Ｆ→３ＳｉＦ４＋４ＮＦ３
【００４９】
図８は、本発明の実施形態による、プラズマ処理チャンバのガス圧力の関数として、ＳｉＮエッチング量８００、ＳｉＯ２エッチング量８０２、及びＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比８０４を示す。プロセスガスは、ＣＣＰプラズマ源を使用してプラズマ励起されたＮＦ３、Ｏ２、及びＡｒからなっていた。処理条件は、上部プレート電極に０Ｗの印加、基板を支持する下部プレート電極に１３．５６ＭＨｚで５０ＷのＲＦ電力の印加、１６０ｓｃｃｍのＯ２ガス流量、４８０ｓｃｃｍのＮＦ３ガス流量、１０００ｓｃｃｍのＡｒガス流量、及び６０秒のプラズマ暴露時間を含んでいた。下部プレート電極（基板ホルダ）を１５℃に冷却した。プラズマ処理チャンバ内のガス圧力は、１００ｍＴｏｒｒ、３００ｍＴｏｒｒ、及び５００ｍＴｏｒｒであった。実験結果は、ＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比８０４が３００ｍＴｏｒｒ超のガス圧力で大幅に増加し、３００ｍＴｏｒｒでは約４であるが、そこから５００ｍＴｏｒｒでは７０超にまで増加したことを示している。３００ｍＴｏｒｒ超のガス圧力でこの予想外に高いＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比８０４は、半導体製造について実質的に無限のＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比に対応する。
【００５０】
ガス圧力が増加するにつれてこの予想外に高いＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比は、少なくとも部分的には、プラズマ中のイオンエネルギーの減少、ラジカルフラックスの増加及び暴露されるイオンフラックスの減少を伴うことによると考えられる。さらに、下部プレート電極に印加される低ＲＦ電力（５０Ｗ以下）は、ＳｉＮ及びＳｉＯ２のスパッタリング閾値より低い運動エネルギーを有するプラズマ種を生成する。したがって、高いＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比は、ほぼ完全にＳｉＯ２に対するＳｉＮの熱力学的に好ましいラジカルエッチングによるものであると考えられる。
【００５１】
図９は、本発明の実施形態による、Ｏ２／ＮＦ３ガス流量比の関数として、ＳｉＮエッチング量９００、ＳｉＯ２エッチング量９０２、及びＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比９０４を示す。プロセスガスは、ＣＣＰプラズマ源を使用してプラズマ励起されたＮＦ３、Ｏ２、及びＡｒからなっていた。処理条件は、上部プレート電極に０Ｗの印加、基板を支持する下部プレート電極に１３．５６ＭＨｚで５０ＷのＲＦ電力を印加、Ｏ２ガス流量及びＮＦ３ガス流量は変化させること、１０００ｓｃｃｍのＡｒガス流量、及び６０秒のプラズマ暴露時間を含んでいた。下部プレート電極（基板ホルダ）を１５℃に冷却した。プラズマ処理チャンバ内のガス圧力は５００ｍＴｏｒｒであった。実験結果は、約０．１と約０．５の間のＯ２／ＮＦ３ガス流量比で非常に高いＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比９０４を示している。最大約８０のＳｉＮ／ＳｉＯ２最大エッチング選択性比９０４が、約１／３のＯ２／ＮＦ３ガス流量比で観察された。
【００５２】
一実施形態によれば、ＣＣＰプラズマ処理チャンバ内のガス圧力は、３００ｍＴｏｒｒ超とすることができる。一実施形態によれば、ＣＣＰプラズマ処理チャンバ内のガス圧力は、約５００ｍＴｏｒｒ以上である。いくつかの実施形態によれば、Ｏ２／ＮＦ３ガス流量比は、約０．１と約０．５の間、約０．１５と約０．４５の間、又は約０．２と約０．４の間である。一実施形態によれば、Ｏ２／ＮＦ３ガス流量比は約１／３である。一実施形態によれば、約０．１の約０．５のＯ２／ＮＦ３ガス流量比が選択されてよく、ＳｉＯ２に対するＳｉＮについての最大エッチング選択性比をもたらす。別の実施形態によれば、約０．２と約０．４の間のＯ２／ＮＦ３ガス流量比が選択されてよく、ＳｉＯ２に対してＳｉＮについてのｔに対する最大エッチング選択性比をもたらす。
【００５３】
図１０は、本発明の実施形態による、高いラジカルフラックスと基板の無視できるイオン衝撃とを有するプラズマプロセスについてのガス圧力の関数として、ＳｉＮエッチング量１０００、ＳｉＯ２エッチング量１００２、及びＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比１００４を示す。プロセスガスは、リモートプラズマ源を使用してプラズマ励起されたＮＦ３ガス及びＯ２ガスからなっていた。約９０の最大ＳｉＮ／ＳｉＯ２エッチング選択性比１００４が観察された。
【００５４】
他の層に対してＳｉＮを選択的にエッチングするために非重合ケミストリを使用する基板処理方法が様々な実施形態において開示されている。本発明の実施形態の前述の説明は、例示及び説明を目的として提示されている。網羅的であること、又は本発明を開示された正確な形態に限定することを意図するものではない。この説明及び添付の特許請求の範囲は、説明目的のためだけに使用され、限定として解釈されるべきではない用語を含む。当業者は、上記の教示に照らして多くの修正形態及び変形形態が可能であることを理解することができる。当業者であれば、図に示されている様々な構成要素に対する様々な同等の組合せ及び置換えを理解するものである。したがって、本発明の範囲は、この詳細な説明によってではなく、むしろ添付の特許請求の範囲によって限定されることを意図している。
【図１Ａ】
2019517742.tif 000003
【図１Ｂ】
2019517742.tif 000004
【図２Ａ】
2019517742.tif 000005
【図２Ｂ】
2019517742.tif 000006
【図３Ａ】
2019517742.tif 000007
【図３Ｂ】
2019517742.tif 000008
【図４Ａ】
2019517742.tif 000009
【図４Ｂ】
2019517742.tif 000010
【図４Ｃ】
2019517742.tif 000011
【図５Ａ】
2019517742.tif 000012
【図５Ｂ】
2019517742.tif 000013
【図６】
2019517742.tif 000014
【図７】
2019517742.tif 000015
【図８】
2019517742.tif 000016
【図９】
2019517742.tif 000017
【図１０】
2019517742.tif 000018
【国際調査報告】
2019517742.tif 000019
2019517742.tif 000020