(57)【要約】  微小機械加工および半導体加工のためのワークピースキャリアに対して使用することができる静電チャッキング力ツールが、記載されている。一例は、静電チャックによって静電チャッキング力で把持されたときにワークピースを保持するためのワークピース接続具、ワークピース接続具を通してワークピースを横方向にチャックを横切って引っ張るための、ワークピース接続具に結合されたアーム、およびワークピースを動かすためにワークピース接続具がアームによって引っ張られる力の量を測定するための、アームに結合されたフォースゲージを含む。【選択図】図２
2019536290.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電チャッキング力測定ツールであって、
静電チャックによって静電チャッキング力で把持されたときにワークピースを保持するためのワークピース接続具と、
前記ワークピース接続具を通して、前記ワークピースを、前記チャックを横切って横方向に引っ張るための、前記ワークピース接続具に結合されたアームと、
前記ワークピースを動かすために前記ワークピース接続具が前記アームによって引っ張られる力の量を測定するための、前記アームに結合されたフォースゲージと、
を備えるツール。
【請求項２】
前記チャックを所定の位置に保持するためのチャックホルダであって、前記アームにさらに結合されているチャックホルダを、さらに備える、請求項１に記載のツール。
【請求項３】
前記チャックホルダが、支持トレイに固定された真空チャックである、請求項２に記載のツール。
【請求項４】
支持トレイが、前記チャックと前記ワークピースとを化学薬品の中に浸して前記チャックと前記ワークピースとが浸されているときの力の量を測定するためのウェットバスを備える、請求項２に記載のツール。
【請求項５】
前記チャックホルダが、前記チャックに吸引力を加えて前記チャックを横方向の動きに対して保持するための複数の真空孔を有する真空チャックを備える、請求項２に記載のツール。
【請求項６】
前記真空チャックが、前記チャックと接触するための上面を備え、前記上面が、前記チャックと接触するための複数の真空バンドと、前記真空バンド内の真空を破壊するための複数の非真空バンドとを有する、請求項５に記載のツール。
【請求項７】
前記真空バンドが、上面から底面まで前記真空チャックを貫通するスリットによって画定された同心円状の縁部を有する、請求項６に記載のツール。
【請求項８】
前記ワークピース接続具が、吸引力を加えて前記ワークピースを保持するように真空ポンプに結合された吸引カップを備える、請求項１から７のいずれか一項に記載のツール。
【請求項９】
前記アームが、一端で前記ワークピース接続具に取り付けられ、他端で前記フォースゲージに取り付けられている、請求項１から８のいずれか一項に記載のツール。
【請求項１０】
チャックホルダに結合された支持ブラケットをさらに備えるツールであって、前記フォースゲージが前記アームと前記支持ブラケットとの間の相対運動を測定するように、前記フォースゲージが前記支持ブラケットに取り付けられており、前記支持ブラケットが、前記チャックを浸すことを可能にするウェットバスを備える支持トレイを通して前記チャックに結合されている、請求項９に記載のツール。
【請求項１１】
静電チャッキング力を用いて静電チャックによってワークピースを把持することと、
ワークピース接続具で前記ワークピースを保持することと、
前記ワークピース接続具に結合されたアームを用いて、前記ワークピースを、前記チャックを横切って横方向に引っ張ることと、
前記アームに結合されたフォースゲージを用いて、前記ワークピースを動かすために前記ワークピース接続具が引っ張られる力の量を測定することと、
を含む方法。
【請求項１２】
前記アームに結合されたチャックホルダを用いて前記チャックを所定の位置に保持することを、さらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記チャックを保持することが、真空チャックを通して真空に引いて、前記チャックを前記真空チャックに保持することを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記チャックおよび前記ワークピースを化学薬品のウェットバスの中に浸すことをさらに含む方法であって、測定することが、前記チャックおよび前記ワークピースが浸されているときの力の量を測定することを含む、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記力の量および時刻を試験コントローラに記録することを、さらに含む、請求項１２または１３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
微小機械加工および半導体加工においてワークピースキャリアと共に使用するためのツール、詳細には、ワークピースキャリアによってワークピースに加えられる静電チャッキング力を測定するためのツールが、記載されている。
【背景技術】
【０００２】
半導体チップの製造では、シリコンウエハまたは他の基板などのワークピースが、異なる処理チャンバ内で様々な異なるプロセスに曝される。チャンバは、ウエハをいくつかの異なる化学的および物理的プロセスに曝し、それによって微細な集積回路および微小機械構造が、基板上に形成され得る。集積回路を構成する材料層は、化学気相堆積、物理気相堆積、エピタキシャル成長などを含むプロセスによって形成される。材料層のいくつかは、フォトレジストマスクおよび湿式または乾式エッチング技術を使用してパターニングされる。物理的プロセスは、穿孔、平削り、研磨、および他の作業を含み得る。基板は、シリコン、ヒ化ガリウム、リン化インジウム、ガラス、または他の適切な材料であり得る。
【０００３】
これらのプロセスで使用される処理チャンバは、通常、処理中に基板を支持するための基板支持体、ペデスタル、またはチャックを含む。いくつかのプロセスでは、ペデスタルは、基板の温度を制御するために、場合によっては、プロセスで使用され得る高い温度を提供するために、埋め込まれたヒータを含み得る。
【０００４】
静電チャック（ＥＳＣ）は、クーロン力または静電気を使用してチャック上にウエハを保持する電界を生成するために誘電体材料内に埋め込まれた１つ以上の導電性電極を有する。電界の強さおよび電極のパターンが、ＥＳＣの把持力を決定する。把持力は、電極パターンに応じて異なる方向に異なる量の力を有することができる。
【０００５】
ＥＳＣは、上部プレート、底部プレート、上部プレートと底部プレートの間にある電極、および２つのプレートを一緒に保持するためのインターフェースまたは結合手段を有するであろう。パックの上面は、ワークピースを保持する接触面を有しており、この接触面は、様々な材料、例えば、ポリマー、セラミック、またはそれらの組み合わせで作ることができ、全体にわたってまたは選択的な場所などの上にコーティングを有してもよい。ウエハを保持またはチャッキングするための電気部品、およびウエハを加熱するための熱部品を含む様々な部品が、パックに埋め込まれる。
【０００６】
ウエハが薄くされると、その構造的剛性が低下する。これは、特に研削、研磨、ＣＶＤ（化学気相堆積）、ＰＶＤ（プラズマ気相堆積）などのような作業において安全に取り扱うことを困難にする。いくつかの場合において、ウエハは、ウエハが薄くされる前に、金属、セラミック、またはウエハの薄さを補償する構造的に硬い材料で作られたキャリアに取り付けられる。キャリアは、薄化およびウエハに応力をかける可能性がある他のプロセス中に構造的裏当てとしてウエハに取り付けられる。これらのキャリアの多くもまた、静電気を使用してウエハを把持する。静電キャリアが、プロセスに応じて、ＥＳＣ、真空チャック、ペデスタル、トレイ、または任意の他のホルダ内に保持されてもよい。このタイプのキャリアは、ＥＳＣ、ＥＳＣキャリア、または基板とも呼ばれる。
【発明の概要】
【０００７】
微小機械加工および半導体加工のためのワークピースキャリアに対して使用することができる静電チャッキング力ツールが、記載されている。一例は、静電チャックによって静電チャッキング力で把持されたときにワークピースを保持するためのワークピース接続具、ワークピース接続具を通してワークピースを横方向にチャックを横切って引っ張るための、ワークピース接続具に結合されたアーム、およびワークピースを動かすためにワークピース接続具がアームによって引っ張られる力の量を測定するための、アームに結合されたフォースゲージを含む。
【０００８】
本発明の実施形態が、添付の図面の図において、限定ではなく例として示される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態による、静電チャッキング力測定ツールの一般化した図である。
【図２】本発明の一実施形態による、静電チャッキング力測定ツールの等角図である。
【図３】本発明の一実施形態による、図２の試験ツールの一部分の拡大側断面図である。
【図４】本発明の一実施形態による、図２の下部真空チャックおよびワークピースホルダの拡大側断面図である。
【図５】本発明の一実施形態による、キャリアを保持するための真空チャックの平面図である。
【図６】本発明の一実施形態による、図５の真空チャックの側断面図である。
【図７】本発明の一実施形態による、キャリアを保持するための真空チャックの平面図である。
【図８】本発明の一実施形態による、図７の真空チャックの側断面図である。
【図９】一実施形態による、静電チャッキング力を測定するためのプロセスフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
ＥＳＣの上面とそれに配置されて取り付けられたウエハとの間の力についての試験ツールが、記載されている。記載された試験ツールを用いて、ウエハまたは他のワークピースが、ＥＳＣ電極に既知の電荷を有するＥＳＣにチャッキングされる。次に、ＥＳＣによって加えられた静電チャッキング力が、チャッキングされたウエハを滑らせてＥＳＣから外している間に、フォースゲージによって測定され得る。チャックとウエハとの間に相対運動を生じさせるために、ツールが横方向の力を加えてウエハを滑らせてチャックの表面から外す間、チャックは静止状態に保たれる。フォースゲージは、ウエハを滑らせてチャックから外すのに必要な力を測定する。この力は、ウエハとチャックとの間の静電気力に比例する。
【００１１】
測定された静電気力および対応する電極設計は、図表化することができる。これにより、異なる電極設計を比較して、必要な量の把持力に対する適切な電極設計および電荷量を決定することが可能になる。チャッキング力は、電極形状、誘電体の厚さ、基板材料、およびチャックが保持しているウエハの材料特性などの設計パラメータに基づいて変化し得る。ツールはまた、電荷が印加された後にチャックが電荷を保持する期間を決定し、製造上の欠陥および損傷または摩耗についてチャックを試験するために使用されてもよい。
【００１２】
一例では、ＥＳＣは、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）およびガラス構造を有する。ＡｌＮを堆積させて、ウエハをチャッキングまたは把持するためのクーロン力を発生させる電極を形成する。ウエハが静電的にＥＳＣにチャッキングされると、チャックとウエハのアセンブリは、研削ステーションに運ばれる。これらのプロセスの間、ウエハを損傷なく保つために、ＥＳＣは、研削および研磨または平坦化の剪断力に耐えるのに十分な電荷を保持できなければならない。記載されたツールは、特定のチャック設計が耐えることができる剪断力を調べることができる。薄いウエハはまた、全ての厚さのウエハと比較して、チャッキング力の変動により非常に容易に変形する可能性がある。
【００１３】
記載された試験ツールは、ＥＳＣまたは他のタイプのキャリアを、それに対して指定されているチャッキング要件を確実に満たすように認定するために、使用され得る。それは、可動部品が少なく、材料が耐化学薬品性であるため、使いやすく、この構成はメンテナンスフリーである。以下に説明するように、真空チャックは、アルミニウムバスの縁部へのチャックの機械的接触がないことを保証する。
【００１４】
図１は、静電チャッキング力測定ツールの一般化した図である。このツールは、静電チャックを所定の位置に保持してから、横方向の力に対する静電チャッキング力を測定する。静電チャック１０４は、ホルダ１０６で所定の位置に保持されている。ホルダは、少なくとも一方向、すなわち引っ張り方向１１２へのチャックの横方向の動きを防止する。チャックは帯電しており、ウエハまたは他のワークピース１０８が、チャックに静電的に取り付けられている。
【００１５】
この側面図は、チャックにおける負の左側電荷および正の右側電荷を有する双極電極を示唆している。任意の電極構成が使用されてもよく、本発明のツールは、電極構成が、適切な試験なしで可能であり得るよりもより良く改良され調整され得るように、様々な電極構成を試験することを可能にする。チャックの静電気力が、図示のようにウエハ内に反対の電荷を生じさせ、その結果、負電荷が、ウエハ上に正電荷を誘起することによってウエハを引き付け、またその逆も同様である。
【００１６】
ハンドル１１０が、チャッキングされたウエハの上部に取り付けられており、これによりウエハに引っ張り力を加えることができる。引っ張り力は、図面の右側に向かうものとして示されている方向１１２である。引っ張り力の量は、フォースゲージ１１４によって測定される。引っ張り力が、チャックの静電気力を超えると、ウエハは、チャックに対して引っ張り方向に動く。この動きを検出することができ、フォースゲージ１１４によって測定された対応する引っ張り力を記録することができる。このようにして、チャックがウエハを保持する能力を測定することができる。
【００１７】
図２は、静電チャッキング力測定ツールの他の例のより詳細な等角図である。この例では、静電チャック（ＥＳＣ）２０４は、別個のチャックホルダ２０６によって所定の位置に保持されている。この場合には、真空チャックが使用されているが、ウエハを取り除こうとするために加えられる引っ張り力よりもしっかりと固定された、他の任意の種類の取り付けが、使用されてもよい。真空チャックは、任意選択で、トレイ２２２に取り付けられる。この例では、トレイは空であり、他の全ての試験機器を構造的に支えている。トレイは、様々な化学薬品の中に沈められたときにチャックを試験するためのバスとしても使用することができる。トレイは、アルミニウムまたは他の適切な材料で作られていてもよい。ウエハおよびＥＳＣが、ケミカルバスに入れられるかまたは浸されてもよく、同じ剪断試験が、異なる湿式条件で行われてもよい。
【００１８】
真空チャックの代わりに、ＥＳＣは、トレイにボルトで留められるかまたはねじで留められてもよい。底部真空チャック２０６は、キャリアをバス２２２の縁部に衝突させることなく、ＥＳＣキャリア２０４を所定の位置に保持する。真空チャックからのＣＤＡ（圧縮乾燥空気）ライン２３４を真空ポンプ２３２に接続することによって、真空を発生させることができる。
【００１９】
ウエハ２０８は、試験されているチャック２０４に静電的に取り付けられている。ハンドル２１０は、ワークピース接続具２２０、この場合は吸引カップでウエハに取り付けられている。吸引カップは、同じまたは別の真空ポンプに接続されてもよい。吸引カップが、測定されるべき引っ張り力よりもしっかりと取り付けられている限り、吸引カップ以外の任意の他の種類の取付接続具が、使用されてもよい。
【００２０】
ウエハ２０８は、やはり真空ポンプが使用される空気式吸引カップ２２０を使用して、水平方向に引っ張られる（剪断力）。吸引カップは、ハンドル２１０に取り付けられており、ハンドル２１０は、スライドブラケット２２４に接続され、次にフォースゲージ２１４に接続されており、フォースゲージ２１４は、ウエハを滑らせてＥＳＣキャリアから外すのに必要な力を測定する。この力は、ウエハ２０８と試験されているＥＳＣ２０４との間の静電気力に比例する。
【００２１】
より具体的には、ハンドル２１０は、ウエハに取り付けられている上部吸引カップ２２０の上部に取り付けられているバーとして示されている。ハンドルは、トレイの縁部でセンタリングブラケット２２４に接続されている。センタリングブラケットは、試験の設定時に、ハンドルを吸引カップと位置合わせし、同じ高さに保つのに役立つ。センタリングブラケットは、一方の側でフォースゲージ２１４に、この場合は中央のピストンアームに取り付けられているクロスバーを有する。フォースゲージの他方の側、この場合は主ハウジングは、フォースゲージ取り付けブラケット２３０に取り付けられている。フォースゲージ取り付けブラケットは、支持ブラケット２２６に取り付けられており、支持ブラケット２２６もまた、トレイに取り付けられている。
【００２２】
フォースゲージブラケットを支持ブラケットに接続する駆動ねじ２２８が回転されると、フォースゲージブラケットは、支持ブラケットに対して動かされる。これにより、フォースゲージ本体がトレイに対して動く。ピストンは、吸引カップに接続されたままである。フォースゲージが十分に遠くに動いたとき、そのピストンに対するフォースゲージの力は、吸引カップ、したがってウエハをＥＳＣに対して動かすのに十分に大きくなり得る。ウエハが動くと、その動きは、ピストンの動きによって記録され、この力を測定することができる。フォースゲージは、ウエハがキャリアから離れるたびに力の量および時刻を記録する記録計を含み得る。フォースゲージは、力の設定値を受信し、結果を送信するための試験コントローラ２１７に結合されてもよい。
【００２３】
図３は、図２の試験ツールの拡大側断面図である。図示のように、フォースゲージブラケット２３０が、支持ブラケット２２６に対して動き、この例では、距離「ｄ」だけ変位する。フォースゲージハウジングがフォースゲージブラケットによってトレイ２２２から離れるように動かされるにつれて、変位「ｄ」が増加するように、フォースゲージピストン２１５は、センタリングブラケットに接続される。しかしながら、ピストン２１５、センタリングブラケット２２４、アーム２１０および上部ウエハ２０８は、動かない。したがって、フォースゲージは、フォースゲージ内の内部張力測定システムに接続されているピストン機構に張力をかける。キャリア２０４に対するウエハ２０８によって決定されるように張力が十分に大きくなると、ウエハはキャリアを横切って動き、ピストンに対する張力を解放する。その場合、この張力は、キャリアのチャッキング力に直接関係する。
【００２４】
図４は、図３の図の一部の拡大側断面図である。この図では、吸引カップを通る真空流の経路が、よりわかりやすくなっている。吸引カップ２２０は、吸引力をウエハ２０８の全ての部分、またはこの場合には中央部分にわたって分散させる内部真空経路２４０を有する。真空経路は、把持力試験に備えて真空ポンプ２３２に結合することができる。
【００２５】
下部真空チャック２０６が、ファスナ２４８でトレイの底部に取り付けられている。それはまた、キャリア２０４の底部に吸引力を加える内部真空経路２４６を有する。真空チャックがキャリアを把持することができるように、内部真空経路は、トレイの縁部にある吸引接続具２４２に通じている。
【００２６】
下部真空チャックは、様々な異なる材料のうちの任意のもので形成されてよい。いくつかの場合では、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）またはテフロン（登録商標）が、処理チャンバ内で使用されるであろうほとんどの化学薬品に対して耐性があるので、真空チャックに使用されてもよい。真空チャックは、キャリアをチャッキングするだけでウエハに影響を与えないように構成されている。キャリアは、典型的には真空、冷却ガス、リフトピンおよび他の目的のための孔を有するので、真空チャックは、それらの孔を通して真空に引くことを排除するように構成され得る。キャリアの孔を通して真空に引かれると、孔を通して孔の上のウエハに吸引力が加えられるであろう。いくつかの実施形態では、そのようなキャリアを支持するために、真空チャックは、キャリア孔に位置合わせされたスロットを有してもよい。これにより、これらの孔は、真空チャックを取り囲む周囲雰囲気に曝される。
【００２７】
図５は、キャリアを保持するための真空チャックの平面図である。この真空チャック２０６は、キャリアの中心から３つの異なる距離に孔を有するキャリアを把持するように構成される。真空チャックは円形であるか、またはキャリアおよびウエハの形状に対応するような他の任意の形状とすることができる。チャックは、吸引接続具３２０を通って真空ポンプに結合された真空孔３１４を有する。これらの孔は、キャリアに吸引力を加える。この特定のチャックは、同心円状の輪になった孔を有するキャリア用に構成されている。結果として、チャックを貫通する円形の切り込みまたはスリット３２２によって画定されるチャックの同心円状の輪がある。
【００２８】
図６は、図５の線６−６を通る真空チャックの側断面図であり、チャックの上面の溝３２４に変えられたスリット３２２の部分を示す。これらの溝は、同心円状の円形の線を連続させているが、真空の連続性を破るためにチャックの厚さの中に短い距離しか延びていない。これらの溝は、チャックの構造を著しく弱めることはないが、真空がスリットを通って移動するのを可能にするのに十分である。
【００２９】
この例では、５つの同心バンドを画定する溝３２２およびスリット３２４からなる４つの同心円がある。バンドのうちの３つ３０２、３０４、３０６は、キャリアが孔を有する位置に対応する。残りの２つのバンド３０８、３１０は、これら３つの間にあり、キャリアに対する真空把持を確立するために使用される。バンド、溝、および孔の特定のレイアウトは、異なるキャリアに合うように適合させることができる。２つの真空バンド３０８、３１０はそれぞれ、両側に非真空バンド３０２、３０４、３０６を有する。外側バンドはまた、真空チャックが上述のトレイ２２２などのホルダに固定されることを可能にするために、真空チャックを通る孔３１２を有する。内側バンド３０４は、典型的には冷却ガス孔を有するキャリアの中心に対応する。
【００３０】
２つの真空バンドは、真空チャック内で共通の真空マニホールド３１８に結合された真空孔３１４、３１６を有し、真空マニホールド３１８は、真空ポンプに接続するための外部吸引接続具３２０に通じている。キャリアが所定の位置にある状態で真空ポンプが作動すると、真空バンド内でのみキャリアに吸引力が加えられる。真空バンドの縁部を画定する各真空バンドの両側のスリットは、真空の連続性を破る。
【００３１】
吸引ポンプからの真空は、孔３１４、３１６を通って加えられる。真空チャック２０６とキャリアとの間の物理的接触は完全ではないであろうから、真空孔からの吸引力は、真空バンド３０８、３１０の周り全体に分散されるであろう。これにより、真空孔からキャリアの孔を通して真空が送られるであろう。結果として、真空ポンプからの吸引力は、キャリアの孔を通してワークピースをキャリアに向かって引っ張るように働くであろう。これは、試験機器からの真空ポンプをキャリアの静電気力に加えることによって試験を混乱させるであろう。
【００３２】
溝３２２およびスリット３２４は、真空バンドとキャリアの孔との間に入る。結果として、溝とスリットは、バンド間の真空の連続性を破り、真空がこれらの孔を通してキャリアに影響を与えるのを防ぐ。スリット３２４は、真空を破壊するために大気に曝される。溝３２２は、真空チャック２０６を完全に貫通するわけではなく、したがってチャックの構造を維持する。他方で、それらは、真空の連続性を破るための空気通路を依然として提供する。
【００３３】
図７は、図５の真空チャック２０６の底面図である。この図では、スリット３２２の同心円の反対側が、はっきりと見える。取り付け孔３１２も見える。溝および真空孔は、チャックの底部を貫通して延びていないので、図示されていない。
【００３４】
図８は、線８−８に沿ってスリット３２２と取り付け孔３１２とを通る側断面図である。図示のように、スリットは、チャック全体を貫通している。締め付けねじが、皿孔に埋められてチャックの中に入り、チャック上に保持されたキャリアと干渉しないように、取り付け孔は、座ぐりされている。
【００３５】
図９は、一実施形態による、静電チャッキング力を測定するためのプロセスフロー図である。測定プロセスは、１０で、静電チャッキング力を使用して静電チャックによってワークピースを把持することから始まる。この場合、静電チャックは、ツールによって試験されているワークピースキャリアである。ワークピースを把持するパラメータおよび試験のタイミングを変えることによって、様々な電圧および様々な時間の長さを測定することができる。
【００３６】
ワークピースがチャックに取り付けられた状態で、次に、１２で、チャックホルダを使用して、静電チャックを所定の位置に保持する。ホルダは、いくつかの実施形態において、上記の真空チャックである。真空チャックは、トレイ、テーブル、または他の何らかのブラケット、ホルダ、フレーム、または固定具を介してツールに取り付けられるかまたは固定されてもよい。真空チャックの場合、静電チャックは、真空チャックを通して真空に引いて、静電チャックを真空チャックに保持することによって、保持される。
【００３７】
１４において、ワークピースは、ワークピース接続具で保持または把持される。この接続具は、加えられた吸引力によってワークピースを保持する吸引カップまたは他の任意の適切な接続具であってもよい。１６で、ワークピース接続具に結合されたアームを使用して、ワークピースを、チャックを横切って横方向に引っ張る。ワークピースが動くまで、力を増加させながら、引っ張り続ける。ワークピースが動くのに必要な力の量は、測定条件下での静電チャックの把持力に一致する。
【００３８】
１８において、ワークピースを引っ張ってワークピースを動かすために加えられた力の量が、フォースゲージを用いて測定される。ゲージはアームに結合されており、その動きは、チャックホルダに対するアームの動きである。これらは両方とも、トレイ、テーブル、ブラケット、または他のフレームを介して間接的に一緒に取り付けることができる。
【００３９】
２０において、力の量が、時刻、試験のシーケンス番号、周囲条件などの他の詳細と共に記録される。これらは、試験ゲージおよび試験コントローラに記録されてもよい。
【００４０】
試験条件は、様々な異なる方法のうちの任意の方法で変えることができる。１つの方法は、チャックとワークピースを化学薬品のウェットバスの中に浸して、チャックとワークピースが浸っているときに力の量を測定することである。温度、周囲圧力、電荷および他の条件もまた、異なる試験条件に合うように変えることができる。
【００４１】
試験ツールはまた、フレーム、制御システム、複数の試験システム、自動ハンドリングシステムなどの、具体的に図示または説明されていない他のシステムを含むことができる。図示のツールは、一例として提供されており、ワークピースおよびキャリアの性質に応じて、任意の様々な他のツールを本発明とともに使用することができる。記載された試験ツールおよびトレイまたはバスは、様々な物理的なキャリアおよびワークピースと共に使用するために適合され得る。
【００４２】
本明細書および添付の特許請求の範囲で使用される場合、単数形「１つの（ａ）」、「１つの（ａｎ）」および「その（ｔｈｅ）」は、文脈が明らかにそうでないことを示さない限り、複数形も含むことを意図する。本明細書で使用される「および／または」という用語は、関連する列挙された項目のうちの１つ以上の項目のあらゆる全ての可能な組合せを指し、それらを包含することもまた理解されよう。
【００４３】
用語「結合された」および「接続された」は、それらの派生語とともに、構成要素間の機能的または構造的関係を説明するために、本明細書で使用され得る。これらの用語は互いの同義語として意図されていないことを、理解されたい。むしろ、特定の実施形態において、「接続された」は、２つ以上の要素が互いと直接に物理的、光学的、または電気的な接触をしていることを示すために、使用され得る。「結合された」は、２つ以上の要素が互いと直接または間接（それらの間に介在する他の要素がある）のいずれかで物理的、光学的、または電気的な接触をしていること、および／または２つ以上の要素が互いと協働する、もしくは相互作用する（例えば、因果関係にあるような）ことを示すために、使用され得る。
【００４４】
本明細書で使用される「上（ｏｖｅｒ）」、「下」、「間」、および「上（ｏｎ）」という用語は、そのような物理的関係が注目すべきである場合に、ある構成要素または材料層の、他の構成要素または層に対する相対位置を指す。例えば、材料層に関しては、他の層の上（ｏｖｅｒ）または下に配置された１つの層は、当該他の層と直接接触していてもよいし、または１つ以上の介在層を有していてもよい。さらに、２つの層の間に配置された１つの層は、２つの層と直接接触していてもよいし、または１つ以上の介在層を有していてもよい。対照的に、第２の層の「上（ｏｎ）」にある第１の層は、その第２の層と直接接触している。構成要素アセンブリに関して、同様の区別がなされるべきである。
【００４５】
上記の説明は例示的であり限定的ではないことを意図していることが、理解されるべきである。例えば、図中のフロー図は、本発明の特定の実施形態によって実行される特定の工程順序を示しているが、そのような順序は必須ではない（たとえば代替実施形態は、異なる順序で工程を実行し、特定の工程を組み合わせ、特定の工程を重ねることなどができる）ことが理解されるべきである。さらに、上記の説明を読んで理解すれば、他の多くの実施形態が、当業者には明らかとなろう。特定の例示的実施形態を参照して、本発明を説明したが、本発明は、説明した実施形態に限定されず、添付の特許請求の範囲の趣旨と範囲内で修正および変更を加えて実施できることが、理解されよう。したがって、本発明の範囲は、特許請求の範囲が権利を有する均等物の全範囲とともに、添付の特許請求の範囲を参照して、決定されるべきである。
【図１】
2019536290.tif 000003
【図２】
2019536290.tif 000004
【図３】
2019536290.tif 000005
【図４】
2019536290.tif 000006
【図５】
2019536290.tif 000007
【図６】
2019536290.tif 000008
【図７】
2019536290.tif 000009
【図８】
2019536290.tif 000010
【図９】
2019536290.tif 000011
【国際調査報告】
2019536290.tif 000012
2019536290.tif 000013
2019536290.tif 000014