(57)【要約】  本発明は、赤外スペクトル及び／又は太陽光スペクトルにおいて反射特性を有し、特に銀又は銀含有合金をベースとした、単一の機能性金属層（１４０）と、２つの反射防止コーティング（１２０、１６０）とを含む薄層の積層体を、主面に装備した透明基材（３０）であり、前記反射防止コーティングがおのおの、少なくとも１つの誘電体層（１２２、１２８、１６２、１６８）を含んでおり、前記機能性層（４０）が前記２つの反射防止コーティング（２０、６０）の間に配置されている透明基材（３０）であって、前記基材（３０）と前記機能性層（１４０）との間に位置する前記反射防止コーティング（１２０）、あるいは更には前記２つの反射防止コーティング（１２０、１６０）が、ケイ素−ジルコニウムを含む層（１２６、１６６）を含むことを特徴とする透明基材（３０）に関する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄層の積層体を主面に備えている透明基材であり、前記薄層の積層体が、赤外領域及び／又は太陽放射線領域における反射特性を有する単一の金属性機能層（１４０）、特に銀をベースとし又は銀含有合金をベースとする単一の金属性機能層（１４０）と、おのおのが少なくとも１つの誘電体層（１２２、１２８；１６２、１６８）を含む２つの反射防止コーティング（１２０、１６０）とを含み、かつ前記機能層（４０）が２つの前記反射防止コーティング（２０、６０）の間に配置されている、薄層の積層体を主面に備えている透明基材（３０）であって、少なくとも、前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置する前記反射防止コーティング（１２０）、実際のところ更には両方の反射防止コーティング（１２０、１６０）が、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む層（１２６、１６６）を含むこと（ここで、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）は２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である）を特徴とする、透明基材（３０）。
【請求項２】
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）の窒化度ｚが、４／３（ｘ＋ｙ）と５／３（ｘ＋ｙ）の間（これらの値を含む）であることを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
【請求項３】
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）が、酸素を含まないことを特徴とする、請求項１又は２に記載の基材（３０）。
【請求項４】
前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置する前記反射防止コーティング（１２０）が、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む層（１２２）を更に含み、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１２２）が、好ましくは、前記基材（３０）と窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６）との間に位置していることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項５】
ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１２２）が、５．０ｎｍと２５．０ｎｍの間（これらの値を含む）、実際のところ更には１５．０ｎｍと２０．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、請求項４に記載の基材（３０）。
【請求項６】
前記基材（３０）と反対側で前記機能層（１４０）の上に位置する前記反射防止コーティング（１６０）が、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む層（１６８）を更に含み、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１６８）が、好ましくは、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１６６）の上に位置していることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項７】
ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１６８）が、２５．０ｎｍと３５．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、請求項６に記載の基材（３０）。
【請求項８】
前記基材（３０）とは反対側で前記機能層（１４０）の上に位置する前記反射防止コーティング（１６０）が、特にケイ素酸化物をベースとする、低屈折率を有する誘電材料製の層（１６９）を更に含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項９】
前記機能層（１４０）の下にそれと接して、酸化亜鉛をベースとする層が位置していることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項１０】
前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置している、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６）が、１０．０ｎｍと３０．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項１１】
前記基材（３０）とは反対側で前記機能層（１４０）の上に位置している、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１６６）が、６．０ｎｍと１２．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の少なくとも１つの基材（３０）を、任意選択的に少なくとも１つのほかの基材と一緒に、組み入れているグレージング（１００）。
【請求項１３】
少なくとも前記積層体を支持している前記基材が、曲げ加工及び／又はテンパリングされていることを特徴とする、一体式にユニットとして、あるいは二層グレージング又は三層グレージング又は積層グレージングタイプの複層グレージングユニットとして取り付けられる、請求項１２に記載のグレージング（１００）。
【請求項１４】
加熱式グレージング、又はエレクトロクロミックグレージング、又は照明装置、又はディスプレイ装置、又は光起電力パネルの、透明電極を製造するための、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の基材の使用。
【請求項１５】
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）を、２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）を有するターゲットを、窒素を含む雰囲気中でスパッタすることにより製造する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の基材を製造するための方法。
【請求項１６】
前記雰囲気が酸素を含まないことを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）を有する、請求項１５又は１６に記載の方法を実施するためのターゲット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基材、特に硬質無機材料製の、例えばガラス製の透明基材であって、太陽放射線及び／又は長波長赤外線に影響を与えることができる金属タイプの機能層を含む薄層の積層体で被覆された基材に関する。
【０００２】
より詳しく言えば、本発明は、このような基材を断熱及び／又は太陽光保護グレージングを製造するために使用することに関する。これらのグレージングは、とりわけ、空調負荷を軽減すること、及び／又は過度の過熱を防止すること（「太陽光制御」グレージング）、及び／又は外部に向けて放散されるエネルギー量を低減すること（「ｌｏｗ−Ｅ」グレージング）を考慮して、建物と乗り物の両方に装備するのを目的とすることができる。このことは、建物及び乗り物ルームにおけるグレージングをはめた表面の重要性がますます大きくなるっていることに起因する。
【０００３】
これらのグレージングは更に、特定の機能性を有するグレージングに、例えば加熱式グレージング又はエレクトロクロミックグレージングなどに、組み入れることができる。
【背景技術】
【０００４】
そのような特性を基材に与えるために知られている積層体の１つのタイプは、赤外領域及び／又は太陽放射線領域において反射する特性を有する金属性機能層、特に銀をベースとするか又は銀含有合金をベースとする金属性機能層を含む。
【０００５】
このタイプの積層体では、機能層は、例えば、窒化物タイプの誘電材料、特に窒化ケイ素又は窒化アルミニウムで、又は酸化物タイプの誘電材料でおのおのが製作された複数の層を一般におのおのが含む２つの反射防止コーティングの間に配置されている。光学的観点から言えば、金属性機能層の両側にあるこれらのコーティングの目的は、この金属性機能層を「反射防止性」にすることである。
【０００６】
しかしながら、１つの又はおのおのの反射防止コーティングと金属性機能層との間に、ブロッカーコーティングが挿入されることがあり、すなわち、基材の方向において機能層の下に、ブロッカーコーティングが配置されることがあり、かつ／又は基材から見て反対側の機能層の上に、ブロッカーコーティングが配置されることがある。
【０００７】
例えば欧州特許出願公開第７１８２５０号明細書から、支持基材の方向において銀ベースの金属性機能層の直ぐ下に配置される酸化亜鉛をベースとした「湿潤」誘電体層が、金属性機能層の適切な結晶状態を得るのを促進する一方で、高温の曲げ加工及び／又はテンパリング熱処理に耐えることができるという利点を有する、ということが知られている。
【０００８】
更に、この文書には、最上層に他の層を堆積させる間及び高温熱処理の間、銀ベースの機能層の保護のために、機能層の上に直接かつこれに接して金属の形態で堆積された層が存在することの有利な効果が、開示されている。このタイプの層は、当業者に「ブロッカー層」又は「ブロッカー」の一般名称で知られている。
【０００９】
この文書には、とりわけ、一方は基材の方向において湿潤層の下であり、かつ他方はブロッカー層の上である、反射防止コーティングのおのおのに、バリア層が存在することが、曲げ加工又はテンパリング熱処理によく耐える積層体を作るのを可能にすることが開示されている。ここで、このバリア層は、例えば窒化ケイ素を含むことができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の１つの目的は、機能層が単一である新しいタイプの積層体を開発することによって、従来技術を改善することである。ここで、この新しいタイプの層の積層体は、低シート抵抗（したがって低下した放射率）を示すが、高い光透過率及び高い日射係数も有する。ここで、これは、随意的に、１つ（又はそれ以上）の高温曲げ加工及び／又はテンパリング及び／又はアニーリング熱処理後に事実である。
【００１１】
更に、本発明の１つの目的は、積層体が有利な測色値を有することであり、これは随意的に、１つ（又はそれ以上）の高温曲げ加工及び／又はテンパリング及び／又はアニーリング熱処理後に事実であり、特に、本発明の目的は、積層体が、過度に赤くない積層体側での反射の色、及び／又は過度に黄色くない透過の色を有することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
驚いたことに、ケイ素とジルコニウムを組み合わせることによってジルコニウムの原子比率を特定のものとした窒化ケイ素ジルコニウムを含む層が上述のような積層体中に存在することが、より大きな日射係数を得るのに非常に有利な効果を有し、これは二層グレージングの構成と三層グレージングの構成のどちらにも当てはまり、また上述の測色値を得るのに非常に有利な効果がある、ということが見いだされた。
【００１３】
したがって、本発明の主題は、その最も広い意味において、請求項１に記載された透明基材である。従属請求項には、他に採り得る有利な形態が示されている。
【００１４】
この透明基材の主面には薄層の積層体が設けられている。ここで、この薄層の積層体は、特に銀又は銀含有合金をベースとした赤外領域及び／又は太陽放射線領域における反射特性を有する単一の金属性機能層と、おのおのが少なくとも１つの誘電体層を含む２つの反射防止コーティングとを含み、この機能層が、２つの反射防止コーティングの間に配置されている。この基材は、少なくとも、前記基材と前記機能層との間に位置する反射防止コーティング、実際のところ更には両方の反射防止コーティングが、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含み、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）が、２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）である、という点で特筆すべきものである。
【００１５】
Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）の特に適切な範囲は、２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）である。この材料は、２５．０〜３６．０原子％のＺｒ当たりに７０．０〜６０．０原子％のＳｉを含むターゲットを用いて堆積させることができ、このターゲットは窒素含有雰囲気中でスパッタされる。
【００１６】
Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）のもう一つの特に適切な範囲は、２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である。
【００１７】
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層、実際のところ更には窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む各層は、２６．０％と３０．０％の間（これらの値を含む）、又は３１．０％と３８．０％の間（これらの値を含む）、又は２５．５％と３２．５％の間（これらの値を含む）である、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率を含むことが可能である。
【００１８】
前記基材と前記機能層との間に位置する反射防止コーティングは、２つの反射防止コーティングのうちの一方であって窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む層を含むことができ、そして任意選択的に、それは窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む単一の層を含むことができ、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）は２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である。
【００１９】
積層体が窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む複数の層を含む場合には、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）は、これらの層のおのおのについて、好ましくは２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には、これらの層のおのおのについて、２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）であるが、それは窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含むこれらの全ての層について必ずしも同じではない。
【００２０】
前記積層体の窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む２つの層について、ｙ／（ｘ＋ｙ）比は相違することが可能である。
【００２１】
２つの反射防止コーティングのおのおのが窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む層を含む場合には、所望に応じてそれらはおのおの、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）が２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）、又は２６．０％と３０．０％の間（これらの値を含む）、又は３１．０％と３８．０％の間（これらの値を含む）、又は２５．５％と３２．５％の間（これらの値を含む）である窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む、単一の層を含むことができる。
【００２２】
Ａｌ＋Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｗ＋ｘ＋ｙ）の特に適切な範囲は、２５．０％と３６．０％の間（これらの値を含む）である。この材料は、全ての場合において、５．０原子％のＡｌとともに２５．０原子％〜３６．０原子％のＺｒ当たり７０．０〜６０．０原子％のＳｉを含むターゲットを用いて堆積させることができ、このターゲットは窒素含有雰囲気中でスパッタされる。
【００２３】
本発明の意義の範囲内での「透明基材」は、基材が不透明でないこと、そしてそれが、積層体なしで、少なくとも５％の光透過率を有することを意味するものと理解すべきである。
【００２４】
本発明の意義の範囲内での「コーティング」は、コーティング内に単一の層又は異なる材料の複数の層があってもよいことを意味するものと理解すべきである。
【００２５】
「接触」とは、本発明の意義の範囲内では、考慮されている２つの層の間に層が挿入されていないことを意味するものと理解される。
【００２６】
「ベースとする」とは、本発明の意義の範囲内では、そのように表示された元素又は物質が、考慮されている材料中に５０原子％より多く存在することを意味するものと理解される。
【００２７】
更に、本書中において、全ての屈折率は５５０ｎｍの波長について示され、層の光学的厚さは、この層の物理的厚さにこの波長での屈折率を乗じた積であり、コーティングの光学的厚さは、コーティングの全ての誘電体層の光学的厚さの合計であり、また記載がなく、厚さについて物理的／光学的の区別の表示がない場合には、これは物理的厚さである。
【００２８】
本書において、誘電体層は次の３つのカテゴリーに区別することができる：
・屈折率がｎ＜１．９５である、低屈折率層、
・屈折率が１．９５≦ｎ＜２．１０である、中屈折率層、
・屈折率がｎ＞２．１０である、高屈折率層。
【００２９】
有利には、赤外領域及び／又は太陽放射線領域に反射特性を有する単一の金属性機能層は、連続層である。
【００３０】
有利には、本発明による積層体は、チタン酸化物を含む層を含まない。ここで、二酸化チタンＴｉＯ２は、非常に高い屈折率層を示し、この屈折率は目標とする用途にとって高過ぎることがある。準化学量論的なチタン酸化物ＴｉＯｂ（この式のｂは２未満の数）は、高屈折率層を構成することができるが、その屈折率はその酸化度合いに応じて変化し、その酸化は工業的に制御するのが困難である。よって、本発明による積層体は、工業的に製造するのがより容易である。
【００３１】
好ましくは、本発明による積層体の窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層、又は本発明による積層体の窒化ケイ素ジルコニウムを含む層のおのおのは、チタンを含まない。
【００３２】
好ましくは、本発明による積層体の窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層は、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚで製作され、又はアルミニウムをドープした窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚ：Ａｌで製作される。
【００３３】
好ましくは、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層は、窒化度ｚが、４／３（ｘ＋ｙ）と５／３（ｘ＋ｙ）の間（これらの値を含む）であり、やはり好ましくは、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む各層は、窒化度ｚが、４／３（ｘ＋ｙ）と５／３（ｘ＋ｙ）の間（これらの値を含む）である。
【００３４】
好ましくは、更に、前記積層体の窒化ケイ素ジルコニウムを含む前記層、又は前記積層体の窒化ケイ素ジルコニウムを含む層のおのおのは、故意に導入された酸素を含まない。窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む層中に酸素が存在することは、層の屈折率の低下を招くので、避けるべきである。この層が酸素を含まないということは、酸素が窒素に対して有意の量で、すなわち窒素と酸素の合計量に対して少なくとも５原子％の相対的量で、存在しないということを意味するものと解すべきである。ここで、元素Ｓｉ及びＺｒの親和力は、窒素に対してよりも酸素に対しての方が大きいことが知られている。
【００３５】
特定の別の実施形態では、前記基材と前記機能層との間に位置する反射防止コーティングは、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む層を追加して含み、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含むこの層は、好ましくは、前記基材と窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層との間に位置し、より好ましくは、基材の前記主面の直ぐ上、及び窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層の直ぐ下の両方に位置する。
【００３６】
この場合、好ましくは、前記基材と前記機能層との間に位置する反射防止コーティングの、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層は、５．０ｎｍと２５．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さ、実際のところ更には１５．０ｎｍと２０．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有する。
【００３７】
先のものと任意選択的に組み合わせることができる、もう一つの特定の別形態では、前記基材と反対側で前記機能層の上に位置する反射防止コーティングは、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む層を追加して含み、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層は、好ましくは、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層の上に位置する。
【００３８】
この場合、好ましくは、反射防止コーティングの前記機能層の上に位置する、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層は、２５．０ｎｍと３５．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有する。
【００３９】
ジルコニウムなしの窒化ケイ素は、窒化ケイ素ジルコニウムよりも高価でないことから、これらの解決策は、経費を削減することを可能にする。
【００４０】
特定の別の形態では、前記機能層の上かつ前記基材と反対側に位置する反射防止コーティングは、特にケイ素酸化物をベースとする、低屈折率を有する誘電材料で作製した層を追加して含む。この層の材料は、ＳｉとＯだけからなることができ、それは特に、二酸化ケイ素、又はアルミニウムをドープした二酸化ケイ素であることができる。低屈折率を有する誘電材料製のこの層は、好ましくは、前記機能層の上に位置する反射防止コーティングの最後の誘電体層である。
【００４１】
この低屈折率の誘電体層の材料は、好ましくは１．６０と１．８０の間の屈折率を示し、この層は好ましくは１５．０ｎｍと６０．０ｎｍの間の厚さ、実際のところ更には２０．０ｎｍと５８．０ｎｍの間、実際のところ更には３０．０ｎｍと５５．０ｎｍの間の厚さを有する。
【００４２】
亜鉛酸化物をベースとする層が、前記機能層の下に、それと接触して位置してもよい。これには、結晶化度が高く、したがってシート抵抗が低く、またしたがって放射率が低い金属性機能層を得るのに大いに関与するという効果がある。
【００４３】
好ましくは、前記基材と前記機能層との間に位置する窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層は、１０．０ｎｍと３０．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有する。
【００４４】
好ましくは、更に、前記基材と反対側の前記機能層の上に位置する窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層は、６．０ｎｍと１２．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有する。
【００４５】
好ましくは、積層体は、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）が２５．０％と４０．０％の間でない窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含むいかなる層も含まない。
【００４６】
積層体は、最終層（オーバーコート）、すなわち保護層を含むことができる。この保護層は、好ましくは、０．５ｎｍと１０．０ｎｍの間の物理的厚さを有する。
【００４７】
本発明によるグレージングには、少なくとも、本発明による積層体を支持する基材が、所望に応じ少なくとも１つの別の基材と組み合わせて、組み入れられる。各基材は、透明であっても着色されていてもよい。特に少なくとも基材のうちの１つは、青く着色したガラスで製作することができる。色合いのタイプの選定は。グレージングの製造が完了したならばそれに求められる光透過率のレベル及び／又は測色外観に依存する。
【００４８】
本発明によるグレージングは、熱可塑性ポリマーの少なくとも１枚のシートを用いることにより特にガラスタイプの少なくとも２枚の硬質基材を組み合わせた積層構造を有することができ、それによりガラス／薄層の積層体／シート／ガラスタイプの構造を有することができる。ポリマーは、特に、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン／酢酸ビニルＥＶＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴ、又はポリ塩化ビニルＰＶＣをベースとすることができる。
【００４９】
本発明によるグレージングには、薄層の積層体に損傷を与えることなしに熱処理を施すことができる。よって、それらは任意選択的に曲げ加工され及び／又はテンパリング処理される。
【００５０】
グレージングは、積層体を備えた単一基材からなる一方で、曲げ加工及び／又はテンパリング処理することができる。この場合、それは「一体式の」グレージングである。それらを、特に乗り物のためのグレージングを形成する目的のために、曲げ加工する場合には、薄層の積層体は好ましくは、少なくとも一部分が平面的ではない面上にある。
【００５１】
グレージングは、複層グレージング、特に二層グレージングであってもよく、少なくとも積層体を支持している基材を曲げ加工及び／又はテンパリング処理することが可能である。複層グレージングの構成においては、積層体を、挿入されたガス充填空洞部に面するように配置するのが好ましい。積層グレージング構造においては、積層体はポリマーシートと接することができる。
【００５２】
グレージングは、２枚を一組としてガス充填空洞部により分離された３枚のガラス板からなる三層グレージングであることもできる。三層グレージング構造では、積層体を支持する基材は、太陽光の入射方向が面をそれらの番号が増加する順番で横切ると見なした場合に、第２面の上及び／又は第５面の上にあることができる。
【００５３】
グレージングが一体式であるか、又は二層グレージング、三層グレージングもしくは積層グレージングタイプの複層式である場合、少なくとも積層体を支持している基材は、曲げ加工又はテンパリング処理したガラス製であることができ、この基材は積層体の堆積の前又は後に、曲げ加工又はテンパリング処理することが可能である。
【００５４】
本発明は更に、本発明による基材の製造方法に関し、ここでは、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層を、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）が２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）であるターゲットを窒素含有雰囲気中でスパッタリングすることにより製造する。
【００５５】
好ましくは、前記雰囲気は酸素を含まない。この雰囲気が酸素を含まないということは、前記ターゲットのスパッタリング雰囲気中に故意に導入された酸素がないとうことを意味するものと解すべきである。
【００５６】
本発明は更に、本発明による方法の実施のためのターゲットに関し、このターゲットでは、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）が２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である。
【００５７】
したがって、有利なことに、本発明は、特に曲げ加工又はテンパリング熱処理の後に、より大きな日射係数と申し分のない測色外観とを示す、金属性機能層が単一である薄層の積層体を製造することを可能にする。
【００５８】
本発明の詳細及び有利な特徴は、添付の図面を使って説明される、以下の限定しない例から明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】機能層を上方ブロッカーコーティングの直ぐ下に堆積させた機能性単層積層体を説明する図であり、種々の層又は種々の構成要素の厚さ間の比率は、それらを容易に読み取れるようにするために、顧慮されていない。
【図２】機能性単層積層体を取り入れた二層グレージングを説明する図であり、種々の層又は種々の構成要素の厚さ間の比率は、それらを容易に読み取れるようにするために、顧慮されていない。
【図３】Ｚｒ＋Ｓｉの合計に対するＺｒの関数として表した窒化ケイ素ジルコニウム（「ＳｉＺｒ」）の５５０ｎｍでの屈折率の曲線、そしてまた二酸化チタンＴｉＯ２の５５０ｎｍでの屈性率を示す図である。
【図４】Ｚｒ＋Ｓｉの合計に対するＺｒの関数として表した窒化ケイ素ジルコニウム（「ＳｉＺｒ」）の３８０ｎｍでの吸収係数の曲線、そしてまた二酸化チタンＴｉＯ２の３８０ｎｍでの吸収係数を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００６０】
図１は、透明ガラス基材３０の面２９の上に堆積した本発明による単一機能層積層体１４の構造を図示しており、ここでは、単一の機能層１４０、特に銀をベースとするか又は銀含有合金をベースとするものが、２つの反射防止コーティングの間に配置されており、下方の反射防止コーティング１２０は、基材３０の方向において機能層１４０の下に位置し、上方の反射防止コーティング１６０は、基材３０と反対側で機能層１４０の上に配置されている。
【００６１】
これらの２つの反射防止コーティング１２０、１６０は、おのおの少なくとも１つの誘電体層１２２、１２３、１２４、１２６、１２８と、１６２、１６３、１６４、１６６、１６８を含んでいる。
【００６２】
任意選択的に、一方では、機能層１４０を、下方反射防止コーティング１２０と機能層１４０との間に配置された下方ブロッカーコーティング（図示せず）の直ぐ上に堆積させることができ、そして他方では、機能層１４０を、機能層１４０と上方反射防止コーティング１６０との間に配置された上方ブロッカーコーティング１５０の直ぐ下に堆積させることができる。
【００６３】
下方ブロッカー及び／又は上方ブロッカー層は、金属の形態で堆積されてかつ金属性層であるとして提示されてはいるが、実際には酸化された層であることもある。これは、それらの機能のうちの１つは（特に上方ブロッカー層については）、機能層を保護するため積層体を堆積する間に酸化された状態になることだからである。
【００６４】
図２に示したように、積層体を二層グレージング構造の複層グレージング１００において使用する場合には、このグレージングは、フレーム構造体９０により一緒に保持されて、かつ挿入されたガス充填空洞部１５によって互いに切り離された２つの基材１０、３０を含む。
【００６５】
このようにして、グレージングは、外側空間ＥＳと内側空間ＩＳとを分離する。
【００６６】
積層体は、第３面上に（建物に入り込む太陽光の入射方向を考えたときに建物の最も内側の板の、ガス充填空洞部１５に面したその面上に）、配置することができる。
【００６７】
図２は、基材３０の、挿入されたガス充填空洞部１５と接している内側面２９に配置されている、薄層の積層体１４の第３面上におけるこの位置を示しており、基材３０の他方の面３１は、内側空間ＩＳと接している。
【００６８】
しかしながら、この二層グレージング構造においては、基材のうちの一方が積層構造を有することを想定することもできる。
【００６９】
堆積した層は、次の３つのカテゴリーに分類することができる。
ｉ．反射防止性／誘電性材料製で、可視領域の全波長範囲にわたり５より大きいｎ／ｋ比を示す層であって、窒化ケイ素をベースとする層、窒化ケイ素ジルコニウムをベースとする層、酸化亜鉛をベースとする層、酸化亜鉛スズをベースとする層、酸化チタンをベースとする層、酸化チタンジルコニウムをベースとする層、酸化ケイ素をベースとする層など。
ｉｉ．赤外線領域及び／又は太陽放射線領域に反射の特性を有する材料製の金属性機能層であって、例えば銀をベースとする又は銀で製作された層。銀は、可視領域の全波長範囲にわたり０＜ｎ／ｋ＜５の比を示すが、バルク状態でのその抵抗率は１０−６Ω・ｃｍ未満であることが分かっている。
ｉｉｉ．熱処理中及び／又は積層体の堆積中に機能層の性質が変わることから機能層を保護することを目的とする上方ブロッカー及び下方ブロッカー層。これらの層の屈折率は、積層体の光学的定義において考慮されない。
【実施例】
【００７０】
以下の全ての例について、構成要素の層の材料の名称は、５５０ｎｍで測定した下記の屈折率を有する材料を表している。
【００７１】
【表１】
2019531497.tif 000003
【００７２】
この表は特に、６行目のＺｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムは、屈折率が２行目のアルミニウムをドープした窒化ケイ素のそれよりも高く、また５行目のジルコニウムをドープした通常の窒化ケイ素のそれよりも高い材料である、ということを示している。
【００７３】
窒化ケイ素ジルコニウムの５５０ｎｍでの屈折率、そしてまたこの材料の青色領域における吸収に相当する３８０ｎｍでの吸収係数を、Ｚｒ＋Ｓｉの合計に対するＺｒの原子含有量の関数として、それぞれ図３及び図４に示す。アルミニウムによるドープは、この屈折率とこの吸収係数に影響を与えないと考えられる。
【００７４】
これらの図３及び図４は、Ｚｒ／（Ｚｒ＋Ｓｉ）原子比率が２５．０％と４０．０％の間である窒化ケイ素ジルコニウムは、高い屈折率を得るのを可能にする一方で、青色領域における吸収が少なく、そのため反射における過度の赤色の外観及び透過における過度の黄色の外観が回避される、ということを示している。
【００７５】
この２５．０％〜４０．０％の範囲において、屈折率はＴｉＯ２のそれに近く、したがってＺｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムをＴｉＯ２の代わりに使用することができ、吸収係数はＴｉＯ２のそれよりも明らかに高いが、この増加は比較的小さい。
【００７６】
２７．０％と３７．０％の間の範囲では、屈折率はＴｉＯ２のそれとほとんど同一であり、吸収係数は０．１に非常に近くて、これは許容可能な値である。
【００７７】
図１に関係した薄層の積層体の一般的構成を、それらの層について推奨される材料、そしてまたこの一般的構成について推奨される厚さの範囲とともに、下記の表３に提示する。
【００７８】
【表２】
2019531497.tif 000004
【００７９】
この構成では、２つの反射防止コーティング１２０及び１６０はおのおのが、Ｚｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムをベースとしたＳｉＺｒＮ層を含む。
【００８０】
積層体が２つの反射防止コーティングのおのおのにＺｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムをベースとするＳｉＺｒＮ層を少なくとも１つ含む場合には、下方反射防止コーティング１２０中において、Ｚｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚをベースとする層は、単一の高屈折率層であることができ、この場合その光学的厚さは、下方反射防止コーティング１２０の光学的厚さの７０．０％（ｙ／（ｘ＋ｙ）が２５．０％に近い場合）と５０．０％（ｙ／（ｘ＋ｙ）が４０．０％に近い場合）の間に相当することができる。
【００８１】
しかしながら、この下方反射防止コーティング１２０は、複数の高屈折率層を含むことが可能であり、この場合、下方反射防止コーティング１２０中において、Ｚｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚをベースとする層は、下方反射防止コーティング１２０の光学的厚さの３５．０％（ｙ／（ｘ＋ｙ）が２５．０％に近い場合）と２５．５％（ｙ／（ｘ＋ｙ）が４０．０％に近い場合）の間に相当することができ、このとき、その他の高屈折率層（例えば、通常の窒化ケイ素ジルコニウムをベースとした、ＳｉＺｒＮ’で製作した層など）の光学的厚さ、又はその他の高屈折率層が複数存在する場合のそれらの光学的厚さの合計は、それぞれ、下方反射防止コーティング１２０の光学的厚さの３５．０％と２５．０％の間に相当することが可能である。
【００８２】
図１に関係した薄層の積層体の別の一般的構成を、それらの層について推奨される材料、そしてまたこの一般的構成についての推奨される厚さの範囲とともに、下記の表４に提示する。
【００８３】
【表３】
2019531497.tif 000005
【００８４】
この構成では、下方反射防止コーティング１２０のみが、Ｚｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムをベースとしたＳｉＺｒＮ層１２６を含み、上方反射防止コーティング１６０は、Ｚｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムをベースとした層を含まない。
【００８５】
この場合、Ｚｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚをベースとした層は、下方反射防止コーティング１２０のうちの単独の高屈折率層であることができ、この場合、その光学的厚さは、下方反射防止コーティング１２０の光学的厚さの３０．０％（ｙ／（ｘ＋ｙ）が２５．０％に近い場合）と６０．０％（ｙ／（ｘ＋ｙ）が４０．０％に近い場合）の間に相当することができる。
【００８６】
しかしながら、下方反射防止コーティング１２０は、複数の高屈折率層を含むことが可能であり、この場合、Ｚｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚをベースとする層の光学的厚さは、下方反射防止コーティング１２０の光学的厚さの１５．０％（ｙ／（ｘ＋ｙ）が２５．０％に近い場合）と３０．０％（ｙ／（ｘ＋ｙ）が４０．０％に近い場合）の間に相当することができ、このとき、その他の高屈折率層（例えば、通常の窒化ケイ素ジルコニウムをベースとしたＳｉＺｒＮ’で製作した層など）の光学的厚さ、又はその他の高屈折率層が複数存在する場合のそれらの光学的厚さの合計は、それぞれ、下方反射防止コーティング１２０の光学的厚さの１５．０％と３０．０％の間に相当することが可能である。
【００８７】
下記の全ての例について、層の堆積のための条件は次のとおりである。
【００８８】
【表４】
2019531497.tif 000006
【００８９】
下記の全ての例において、サン−ゴバン社によりＰｌａｎｉｃｌｅａｒブランドで供給される厚さ４ｍｍの透明なソーダ石灰ガラス製の基材上に、薄層の積層体を堆積させる。
【００９０】
これらの例の各層又は各コーティングのナノメートルで表した物理的厚さを、下記の表６、８、１０、１１に示し、例１〜１０に関する主要データは表３に組み入れている。
【００９１】
表６、８、１０、１１において、「番号」欄は層の番号を示し、２番目の欄は図１の構成に関連したコーティングを示し、３番目の欄は１番目の欄の層のために堆積させた材料を示しており、「ＳｉＺｒＮ」、「ＳｉＺｒＮ’」、「ＳｉＺｒＮ”」で製作した層についてかっこ内の値は、この例のこの層について、Ｚｒ／（Ｚｒ＋Ｓｉ＋Ａｌ）原子比率をパーセントとして示している。
【００９２】
表７、９、１２において、これらの例のおのおのについて、被覆した基材を６５０℃で１０分間テンパリング熱処理し、続いて冷却後に、例１〜５については光源Ｄ６５  ２°を使用し、例６〜１８については光源Ｄ６５  １０°を使用して得た、積層体で被覆した基材の提示した特性は、以下の測定値からなるものである。
・％で表した、可視領域における光透過率ＬＴ。
・Ｌａ＊ｂ＊系における透過の色Ｔａ＊及びＴｂ＊。
・％で表した、積層体側の可視領域における視感反射率ＬＲｓ。
・積層体側のＬａ＊ｂ＊系における反射の色Ｒｓａ＊及びＲｓｂ＊。
・％で表した、ガラス側の可視領域における視感反射率ＬＲｇ。
・ガラス側のＬａ＊ｂ＊系における反射の色Ｒｇａ＊及びＲｇｂ＊。
・放射率Ｅ。
【００９３】
例１〜５について、「ｇ」は、透明な４ｍｍのガラス製の外側基材、アルゴン入りの１６ｍｍの挿入空間、及び透明な４ｍｍのガラス製の内側基材からなり、第３面に、すなわち内側基材の挿入空間に面している面に位置する積層体を備えた、二層グレージングの構成における日射係数の測定値を示している。
【００９４】
例６〜１８について、「ｇ」は、透明な４ｍｍのガラス製の外側基材、アルゴン入りの１２ｍｍの挿入空間、透明な４ｍｍのガラス製の中央基材、アルゴン入りの１２ｍｍの挿入空間、及び透明な４ｍｍのガラス製の内側基材からなり、第２面及び第５面に、すなわち外側基材及び内側基材の挿入空間に面している面に位置する積層体を備えた、三層グレージングの構成における日射係数の測定値を示している。
【００９５】
【表５】
2019531497.tif 000007
【００９６】
【表６】
2019531497.tif 000008
【００９７】
表６及び表７の第１の一連の例において、例１は、欧州特許出願公開第７１８２５０号明細書に開示されたようにバリア層を含む銀単層のｌｏｗ−ｅ積層体の技術の基本の例であって、銀で製作した機能層１４０が、酸化亜鉛で製作した湿潤層１２８の上に直接堆積され、この機能層１４０の直ぐ上にＮｉＣｒで製作した上方ブロッカー層１５０が設けられ、その後に酸化亜鉛で製作した別の層１６２が続いている。この組立体は、窒化ケイ素をベースとした下方バリア層１２２と、やはり窒化ケイ素をベースとした上方バリア層１６８に取り囲まれている。
【００９８】
この例１は、ほぼ７８％程度の高い光透過率ＬＴと、ほぼ２％程度の低い放射率Ｅとを示し、二層グレージングとしてのその日射係数ｇは、５５％ほどと中程度であり、いくつかの測色データは、特にＴｂ＊が５．０に近く、あまり黄色くない透過の色を示すという意味において、申し分がない一方で、１つの測色データは十分でなく、すなわちＲｓａ＊は過度に大きく、積層体側の反射の色が過度に赤いことを示している。
【００９９】
例２は、光透過率ＬＴが増加し、その結果同じ二層グレージングの構成において日射係数が増加しているので、例１の基本技術の改良版となっている。当然ながら、機能層が同じ厚さを有し、かつ同じ層により直接取り囲まれているので、放射率は保持されている。Ｔｂ＊は５．０に近くて、申し分なく、そしてＲｓａ＊は２．５に近くて、やはり申し分ない。
【０１００】
これは、一方では下方バリア層１２２の一部が高屈折率のバリア層１２４に置き換えられ、他方では上方バリア層１６８の一部が高屈折率のバリア層１６４に置き換えられているという理由で得られている。
【０１０１】
この例２は、光透過率が非常に高く、８２％程度以上であったならば、日射係数はなお一層大きくなるであろうという意味において、改良の余地がある。
【０１０２】
例３は、非常に大きな光透過率は５８％より大きな日射係数を得るのを可能にするということのために、改良版となっている。放射率は、言うまでもなく保持され、そして測色データは、Ｔｂ＊が５．０に近く、Ｒｓａ＊が２．５に近いので、申し分ない。
【０１０３】
例４も、例３のものよりなお一層高い、非常に高い光透過率が、５９％に近い日射係数を得るのを可能にするということのために、改良版となっている。放射率は、言うまでもなく保持され、そして測色データは、Ｔｂ＊が５．０に近く、Ｒｓａ＊が２．５に近いので、申し分ない。
【０１０４】
例５は、例４に関して改良版となっていないが、と言うのは、それがより低い光透過率及びより小さい日射係数を示しているからである。
【０１０５】
例５は、例２に関して改良版となっていないが、と言うのは、それは非常に高い光透過率を示し大きな日射係数を得るのを可能にしているにもかかわらず、Ｔｂ＊が５．０から遠すぎるからである。
【０１０６】
第２の一連の例において、参考例６は、第１の一連のものの例１と同様になるように選ばれ、同じ層の順序になっているが、機能層が第１の一連のものについてよりも薄くなっている。
【０１０７】
【表７】
2019531497.tif 000009
【０１０８】
【表８】
2019531497.tif 000010
【０１０９】
表８及び表９の第２の一連の例において、例６は、高い光透過率ＬＴと低い放射率Ｅとを示しており、この例によると２つの積層体を一方は第２面上に、そして他方は第５面上に有する三層グレージングとしての日射係数ｇは、５５％ほどと中程度であり、いくつかの測色データは、特にＴｂ＊が２．０に近く、あまり黄色くない透過の色を示すという意味において、申し分がない一方で、１つの測色データは十分でなく、すなわちＲｓａ＊は過度に大きく、積層体側の反射の色が過度に赤いことを示している。
【０１１０】
例７は、光透過率ＬＴが増加し、その結果同じ三層グレージングの構成において日射係数が増加しているので、例６の技術の改良版となっている。当然ながら、機能層が同じ厚さを有し、かつ同じ層により直接取り囲まれているので、放射率は保持されている。Ｔｂ＊は減少していて申し分なく、そしてＲｓａ＊は２．０に近くてやはり申し分ない。
【０１１１】
これは、下方バリア層１２２の一部が高屈折率のバリア層１２４に置き換えられているという理由で得られている。
【０１１２】
この例７は、日射係数がなお一層高くなるであろうという意味において、改良の余地がある。
【０１１３】
例８は、光透過率が例６のそれより大きく、それは例７のものほど大きくないが、例７のものより大きな日射係数を得るのを可能にすることから、改良版となっている。放射率は、言うまでもなく保持され、そして測色データは、Ｔｂ＊が２．０に近く、Ｒｓａ＊が２．０に近いので、申し分ない。
【０１１４】
例９も、光透過率が例８のそれと同じ程度に大きく、日射係数が例８のそれと同じ程度に大きいことから、例６および例７に関して改良版となっている。放射率は、言うまでもなく保持され、そして測色データは、Ｔｂ＊が例８と比較して２．０から遠くへ動いているとは言えそれに近く、Ｒｓａ＊が２．０に近いので、申し分ない。
【０１１５】
例１０は、例９に関して改良版となっていないが、と言うのは、それがより低い光透過率及びより小さい日射係数を示しているからである。
【０１１６】
例１０は、例７に関して改良版となっていないが、と言うのは、それは高い光透過率を示しているにもかかわらず、Ｔｂ＊が例６で得られた２．０の値から遠すぎるからである。
【０１１７】
【表９】
2019531497.tif 000011
【０１１８】
表１０の第３の一連の例において、先頭の例３は、基準として採用したものであり、例１１〜１４は、この例３と同じ熱処理後の光学的特性を得ることを目的に設計されたものである。
【０１１９】
例１４は、国際公開第２０１４／１９１４７２号の教示に基づく例である。
【０１２０】
例１１〜１４は、６５０℃で１０分間の熱処理に耐えず、例１１は、幅がほぼ０．５μｍ程度の星形斑点のある大きな欠陥を多数有し、例１２は、非常に顕著な曇りとほぼ０．１μｍ程度の非常に多数の微細な欠陥を有し、例１３及び例１４は、曇りはないがほぼ０．１μｍ程度の非常に多数の微細な欠陥を有し、例３のみが、大きな欠陥、微細な欠陥及び曇りがなかった。
【０１２１】
【表１０】
2019531497.tif 000012
【０１２２】
【表１１】
2019531497.tif 000013
【０１２３】
表１１及び表１２の第４の一連の例において、先頭の例７は、基準として採用したものである。例１５及び例１７はおのおの、この例７の改良版に相当しており、機能層１４０の上にある誘電体コーティング中に、ＳｉＯで製作した低屈折率の誘電材料製の層、すなわち層１６９が挿入してある。更に、例１７については、機能層１４０の上にある誘電体層が、ＳｉＺｒＮ’で製作した高屈折率の誘電材料製の層、すなわち通常の窒化ケイ素ジルコニウムで製作した層１６４を含んでいる。
【０１２４】
層１６９は、より大きな日射係数を得ることに寄与しており、表１２に見られるように、例１５は、例７のものに関して、先に説明したとおりの三層グレージングの構成において０．３％増加した日射係数ｇを有しており、例１７は、例７のものに関して、先に説明したとおりの三層グレージングの構成において０．８％増加した日射係数ｇを有している。
【０１２５】
例１６は、本発明による例であってかつ例１５の改良版となっており、ＳｉＺｒＮ’で製作した高屈折率の層、すなわち層１２６の誘電材料を、ＳｉＺｒＮで製作した、すなわちＺｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムで製作した、より高屈折率の誘電材料層、すなわち層１２８に取り替えていることが、同じ三層グレージングの構成において、例７のそれであることが分かる非常に高い光透過率を得ることによって、日射係数が例１５のものに関して０．７％更に増加するのを可能にしている。
【０１２６】
例１８は、本発明による例であってかつ例１７の改良版となっており、ＳｉＺｒＮ’で製作した高屈折率の誘電材料層、すなわち層１６４を、ＳｉＺｒＮで製作した、すなわちＺｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムで製作したより高屈折率の誘電材料層、すなわち層１６６に取り替えていることが、同じ三層グレージングの構成において、非常に高い光透過率を得ることによって、日射係数が例１７のものに関して０．９％更に増加するのを可能にしている。
【０１２７】
例１５〜１８は、厚さが３０ｎｍの低屈折率誘電体層、すなわち層１６９を用いて構成されており、この厚さは、日射係数を向上させるという所望の効果をとるかこの層の堆積のたやすさをとるかを都合よく選択させるものである。この低屈折率誘電体層の厚さについては、１５．０ｎｍと６０．０ｎｍの間のその他の解決策が容認可能である。５５．０ｎｍというこの低屈折率誘電体層厚さを選択すると、例えば日射係数が０．３％更に増大することになる。
【０１２８】
その上、表７、９、１２は、それらの例が、積層体側又はガラス側での透過においても反射においても、期待値、特に小さな測色値の観点から容認可能である光学的特性を有し、かつまた積層体側とガラス側の両方で可視領域において小さい光透過率ＬＲｓ及びＬＲｇを有することを示している。
【０１２９】
２７．０原子％〜２９．０原子％のＺｒ当たりのＳｉが６８．０原子％〜６６．０原子％で、全ての場合においてＡｌが５原子％であり、Ａｌ＋Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｗ＋ｘ＋ｙ）の範囲が２７．０％と２９．０％の間（これらの値を含む）に相当するターゲットを用いて、更に試験を行って、これらのターゲットを窒素含有雰囲気中でスパッタした。
【０１３０】
これらの試験は、５５０ｎｍでの屈折率が、特に有利である２．３７と２．４２の間（これらの値を含む）の層を得るのを可能にした。
【０１３１】
更に、得られた小さいシート抵抗と、そしてまた良好な光学的特性（特に可視領域での光透過率）の結果として、本発明による積層体で被覆された基材は透明電極基材を製造するために使用することが可能である。
【０１３２】
一般に、この透明電極基材は、加熱式グレージングに、エレクトロクロミックグレージングに、表示スクリーンに、あるいはまた光起電力電池（もしくはパネル）、特に透明な光起電力電池バックシートに、適していよう。
【０１３３】
ここまで、一例として本発明を説明している。しかしながら、特許請求の範囲により規定される特許の範囲から逸脱することなしに、当業者は本発明の様々な別の形態を作り出すことができるということが理解される。
【図１】
2019531497.tif 000014
【図２】
2019531497.tif 000015
【図３】
2019531497.tif 000016
【図４】
2019531497.tif 000017
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月9日(2019.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
【表６】
2019531497.tif 000018
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
例１６は、本発明による例であってかつ例１５の改良版となっており、ＳｉＺｒＮ’で製作した高屈折率の層、すなわち層１２４の誘電材料を、ＳｉＺｒＮで製作した、すなわちＺｒを富化した窒化ケイ素ジルコニウムで製作した、より高屈折率の誘電材料層、すなわち層１２６に取り替えていることが、同じ三層グレージングの構成において、例７のそれであることが分かる非常に高い光透過率を得ることによって、日射係数が例１５のものに関して０．７％更に増加するのを可能にしている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３３】
ここまで、一例として本発明を説明している。しかしながら、特許請求の範囲により規定される特許の範囲から逸脱することなしに、当業者は本発明の様々な別の形態を作り出すことができるということが理解される。
本発明の代表的な態様としては、以下を挙げることができる：
《態様１》
薄層の積層体を主面に備えている透明基材であり、前記薄層の積層体が、赤外領域及び／又は太陽放射線領域における反射特性を有する単一の金属性機能層（１４０）、特に銀をベースとし又は銀含有合金をベースとする単一の金属性機能層（１４０）と、おのおのが少なくとも１つの誘電体層（１２２、１２８；１６２、１６８）を含む２つの反射防止コーティング（１２０、１６０）とを含み、かつ前記機能層（１４０）が２つの前記反射防止コーティング（１２０、１６０）の間に配置されている、薄層の積層体を主面に備えている透明基材（３０）であって、少なくとも、前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置する前記反射防止コーティング（１２０）、実際のところ更には両方の反射防止コーティング（１２０、１６０）が、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む層（１２６、１６６）を含むこと（ここで、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）は２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である）を特徴とする、透明基材（３０）。
《態様２》
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）の窒化度ｚが、４／３（ｘ＋ｙ）と５／３（ｘ＋ｙ）の間（これらの値を含む）であることを特徴とする、態様１に記載の基材（３０）。
《態様３》
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）が、酸素を含まないことを特徴とする、態様１又は２に記載の基材（３０）。
《態様４》
前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置する前記反射防止コーティング（１２０）が、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む層（１２２）を更に含み、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１２２）が、好ましくは、前記基材（３０）と窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６）との間に位置していることを特徴とする、態様１〜３のいずれか一つに記載の基材（３０）。
《態様５》
ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１２２）が、５．０ｎｍと２５．０ｎｍの間（これらの値を含む）、実際のところ更には１５．０ｎｍと２０．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、態様４に記載の基材（３０）。
《態様６》
前記基材（３０）と反対側で前記機能層（１４０）の上に位置する前記反射防止コーティング（１６０）が、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む層（１６８）を更に含み、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１６８）が、好ましくは、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１６６）の上に位置していることを特徴とする、態様１〜５のいずれか一つに記載の基材（３０）。
《態様７》
ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１６８）が、２５．０ｎｍと３５．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、態様６に記載の基材（３０）。
《態様８》
前記基材（３０）とは反対側で前記機能層（１４０）の上に位置する前記反射防止コーティング（１６０）が、特にケイ素酸化物をベースとする、低屈折率を有する誘電材料製の層（１６９）を更に含むことを特徴とする、態様１〜７のいずれか一つに記載の基材（３０）。
《態様９》
前記機能層（１４０）の下にそれと接して、酸化亜鉛をベースとする層が位置していることを特徴とする、態様１〜８のいずれか一つに記載の基材（３０）。
《態様１０》
前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置している、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６）が、１０．０ｎｍと３０．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、態様１〜９のいずれか一つに記載の基材（３０）。
《態様１１》
前記基材（３０）とは反対側で前記機能層（１４０）の上に位置している、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１６６）が、６．０ｎｍと１２．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、態様１〜１０のいずれか一つに記載の基材（３０）。
《態様１２》
態様１〜１１のいずれか一つに記載の少なくとも１つの基材（３０）を、任意選択的に少なくとも１つのほかの基材と一緒に、組み入れているグレージング（１００）。
《態様１３》
少なくとも前記積層体を支持している前記基材が、曲げ加工及び／又はテンパリングされていることを特徴とする、一体式にユニットとして、あるいは二層グレージング又は三層グレージング又は積層グレージングタイプの複層グレージングユニットとして取り付けられる、態様１２に記載のグレージング（１００）。
《態様１４》
加熱式グレージング、又はエレクトロクロミックグレージング、又は照明装置、又はディスプレイ装置、又は光起電力パネルの、透明電極を製造するための、態様１〜１３のいずれか一つに記載の基材の使用。
《態様１５》
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）を、２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）を有するターゲットを、窒素を含む雰囲気中でスパッタすることにより製造する、態様１〜１３のいずれか一つに記載の基材を製造するための方法。
《態様１６》
前記雰囲気が酸素を含まないことを特徴とする、態様１５に記載の方法。
《態様１７》
２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）を有する、態様１５又は１６に記載の方法を実施するためのターゲット。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄層の積層体を主面に備えている透明基材であり、前記薄層の積層体が、赤外領域及び／又は太陽放射線領域における反射特性を有する単一の金属性機能層（１４０）、特に銀をベースとし又は銀含有合金をベースとする単一の金属性機能層（１４０）と、おのおのが少なくとも１つの誘電体層（１２２、１２８；１６２、１６８）を含む２つの反射防止コーティング（１２０、１６０）とを含み、かつ前記機能層（１４０）が２つの前記反射防止コーティング（１２０、１６０）の間に配置されている、薄層の積層体を主面に備えている透明基材（３０）であって、少なくとも、前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置する前記反射防止コーティング（１２０）、実際のところ更には両方の反射防止コーティング（１２０、１６０）が、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む層（１２６、１６６）を含むこと（ここで、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）は２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である）を特徴とする、透明基材（３０）。
【請求項２】
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）の窒化度ｚが、４／３（ｘ＋ｙ）と５／３（ｘ＋ｙ）の間（これらの値を含む）であることを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
【請求項３】
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）が、酸素を含まないことを特徴とする、請求項１又は２に記載の基材（３０）。
【請求項４】
前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置する前記反射防止コーティング（１２０）が、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む層（１２２）を更に含み、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１２２）が、好ましくは、前記基材（３０）と窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６）との間に位置していることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項５】
ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１２２）が、５．０ｎｍと２５．０ｎｍの間（これらの値を含む）、実際のところ更には１５．０ｎｍと２０．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、請求項４に記載の基材（３０）。
【請求項６】
前記基材（３０）と反対側で前記機能層（１４０）の上に位置する前記反射防止コーティング（１６０）が、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む層（１６８）を更に含み、ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１６８）が、好ましくは、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１６６）の上に位置していることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項７】
ジルコニウムなしの窒化ケイ素を含む前記層（１６８）が、２５．０ｎｍと３５．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、請求項６に記載の基材（３０）。
【請求項８】
前記基材（３０）とは反対側で前記機能層（１４０）の上に位置する前記反射防止コーティング（１６０）が、特にケイ素酸化物をベースとする、低屈折率を有する誘電材料製の層（１６９）を更に含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項９】
前記機能層（１４０）の下にそれと接して、酸化亜鉛をベースとする層が位置していることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項１０】
前記基材（３０）と前記機能層（１４０）との間に位置している、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６）が、１０．０ｎｍと３０．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項１１】
前記基材（３０）とは反対側で前記機能層（１４０）の上に位置している、窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１６６）が、６．０ｎｍと１２．０ｎｍの間（これらの値を含む）の厚さを有することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の少なくとも１つの基材（３０）を、任意選択的に少なくとも１つのほかの基材と一緒に、組み入れているグレージング（１００）。
【請求項１３】
少なくとも前記積層体を支持している前記基材が、曲げ加工及び／又はテンパリングされていることを特徴とする、一体式にユニットとして、あるいは二層グレージング又は三層グレージング又は積層グレージングタイプの複層グレージングユニットとして取り付けられる、請求項１２に記載のグレージング（１００）。
【請求項１４】
加熱式グレージング、又はエレクトロクロミックグレージング、又は照明装置、又はディスプレイ装置、又は光起電力パネルの、透明電極を製造するための、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の基材の使用。
【請求項１５】
窒化ケイ素ジルコニウムＳｉｘＺｒｙＮｚを含む前記層（１２６、１６６）を、２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）を有するターゲットを、窒素を含む雰囲気中でスパッタすることにより製造する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の基材を製造するための方法。
【請求項１６】
前記雰囲気が酸素を含まないことを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
２５．０％と４０．０％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２６．３２％と３７．５％の間（これらの値を含む）、実際のところ更には２７．０％と３７．０％の間（これらの値を含む）である、Ｓｉ＋Ｚｒの合計に対するＺｒの原子比率ｙ／（ｘ＋ｙ）を有する、請求項１５又は１６に記載の方法を実施するためのターゲット。
【国際調査報告】
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