(57)【要約】実施例に係る蒸着用マスクは金属板を含み、前記金属板は、複数個の貫通ホール及び該複数個の貫通ホールの間におけるブリッジを有する有効領域と、前記有効領域の外周に配置される非有効領域と、を含み、前記貫通ホールは、第１面上の第１面孔と該第１面に対向する第２面上の第２面孔とが出会う連結部に形成され、前記第１面孔の幅は、前記第２面孔の幅より小さく、前記第１面孔の深さは前記第２面孔の深さより小さく、下記式１  ＜式１＞  ｋ＝Ｈ２（Ｔ−Ｈ１）  （前記式において、Ｔは、蒸着用マスクの厚さであり、Ｈ１は、隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第１面方向への厚さであり、Ｈ２は、隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第２面方向への厚さである。）によって計算されたｋ値は、０．６５〜１未満である。【選択図】図５
2019508588.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板を含む蒸着用マスクであって、
前記金属板は、複数個の貫通ホール、及び前記複数個の貫通ホール間のブリッジを有する有効領域と、
前記有効領域の外周に配置される非有効領域と、
を含み、
前記貫通ホールは、第１面上の第１面孔と該第１面に対向する第２面上の第２面孔とが出会う連結部に形成され、
前記第１面孔の幅は前記第２面孔の幅より小さく、
前記第１面孔の深さは前記第２面孔の深さより小さく、
下記の式１
＜式１＞
ｋ＝Ｈ２（Ｔ−Ｈ１）
（前記式において、
前記Ｔは、前記非有効領域で測定された蒸着用マスクの厚さであり、
前記Ｈ１は、前記複数個の貫通ホールのうち、隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第１面方向への厚さであり、
前記Ｈ２は、前記隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第２面方向への厚さである。）
によって計算されたｋ値は、０．６５〜１未満である、蒸着用マスク。
【請求項２】
前記式１によって計算されたｋ値は、０．８〜１未満である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項３】
前記厚さが１０μｍ〜５０μｍである、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項４】
鉄−ニッケル合金を含む、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項５】
前記式１のＨ１及びＨ２は、前記複数個の貫通ホールのうち、対角線方向に隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジで測定した厚さである、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項６】
前記第１面孔の幅は、２０μｍ〜５０μｍであり、
前記第２面孔の幅は、５０μｍ〜９０μｍであり、
前記第１面孔の深さは、０．１μｍ〜７μｍであり、
前記第２面孔の深さは、２０μｍ〜２５μｍである、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項７】
金属板を含む蒸着用マスクであって、
前記金属板は、複数個の貫通ホール及び該複数個の貫通ホールの間におけるブリッジを含む有効領域と、前記有効領域の外周に配置される非有効領域と、を含み、
前記非有効領域に配置され、前記金属板の長さ方向の一端の近くに位置する第１ハーフエッチング部、及び前記一端と反対する他端の近くに位置する第２ハーフエッチング部を含み、
前記金属板を０．７ｋｇｆの力で前記長さ方向に引っ張った時、下記式２
＜式２＞
α＝２Ｂ／（ｄ１＋ｄ２）
（前記式２において、
前記ｄ１は、前記第１ハーフエッチング部と該第１ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間における非有効領域で測定された金属板の幅であり、
前記ｄ２は、前記第２ハーフエッチング部と該第２ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間における非有効領域で測定された金属板の幅であり、
前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。）
によって計算された捩れ指数αは、０．８５〜１．１５である、蒸着用マスク。
【請求項８】
前記ブリッジは、
前記金属板の第１面上の第１面孔の間を支持する第１ブリッジ部を含み、
前記金属板の第２面上の第２面孔の間を支持する第２ブリッジ部を含み、
前記第１面における前記第１ブリッジ部の幅は、前記第２面における前記第２ブリッジ部の幅より大きい、請求項７に記載の蒸着用マスク。
【請求項９】
前記第２面孔の幅は、前記第１面孔の幅より大きい、請求項８に記載の蒸着用マスク。
【請求項１０】
前記ハーフエッチング部は、前記金属板の第１面に形成された溝を含む、請求項７に記載の蒸着用マスク。
【請求項１１】
前記第１ブリッジ部の幅は、２０μｍ〜５０μｍであり、
前記第２ブリッジ部の幅は、０．５μｍ〜７μｍである、請求項８に記載の蒸着用マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
実施例は、蒸着用マスクに関する。より詳細には、実施例に係る蒸着用マスクを用いてＯＬＥＤパネルを作製することができる。
【背景技術】
【０００２】
高解像度及び低電力を有する表示装置が要求されるにつれて、液晶表示装置や電界発光表示装置のような様々な表示装置が開発されている。
【０００３】
電界発光表示装置は液晶表示装置に比べて低発光、低消費電力、高解像度などの優れた特性から、次世代表示装置として脚光を浴びている。
【０００４】
電界表示装置には有機発光表示装置と無機発光表示装置がある。すなわち、発光層の物質によって有機発光表示装置と無機発光表示装置とに区別することができる。
【０００５】
その中でも、有機発光表示装置は、広い視野角を有し、速い応答速度を有するという点、低電力が要求されるという点から注目を集めている。
【０００６】
このような発光層を構成する有機物質は、ファインメタルマスク（ｆｉｎｅ  ｍｅｔａｌ  ｍａｓｋ）方式によって、基板上に画素を形成するためのパターンを形成することができる。
【０００７】
このとき、ファインメタルマスク、すなわち蒸着用マスクは、基板上に形成されるパターンに対応する貫通ホールを有することができ、基板上にファインメタルマスクをアラインした後、有機物質を蒸着することにより、画素を形成する赤（Ｒｅｄ）、緑（Ｇｒｅｅｎ）、青（Ｂｌｕｅ）のパターンを形成することができる。
【０００８】
蒸着用マスクとして使用し得る金属板は、エッチング工程によって複数個の貫通ホールが形成されていてよい。
【０００９】
このとき、エッチングされていない領域で測定された蒸着用マスクの厚さと、エッチングされている領域において貫通ホールを連結及び支持する蒸着用マスクの厚さとの差が大きい場合には、蒸着用マスクを引っ張る時、前記エッチングされている領域で蒸着用マスクの捩れが発生することがある。また、エッチング工程においてエッチングを防止するフォトレジスト層又は感光性フィルムレジスト層が脱膜することがあり、エッチングの均一性が低下して貫通ホールの均一性が低下することもある。
【００１０】
複数個の貫通ホールが均一でない場合、蒸着の均一性が低下することがあり、これによって、形成されるパターンの蒸着効率が低下して工程効率が低下するという問題点があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
実施例は、均一な貫通ホールを有する蒸着用マスクを提供するためのものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
実施例に係る蒸着用マスクは金属板を含み、前記金属板は、複数個の貫通ホール及び該複数個の貫通ホールの間におけるブリッジを有する有効領域と、前記有効領域の外周に配置される非有効領域と、を含み、前記貫通ホールは、第１面上の第１面孔と該第１面に対向する第２面上の第２面孔とが出会う連結部に形成され、前記第１面孔の幅は、前記第２面孔の幅より小さく、前記第１面孔の深さは前記第２面孔の深さより小さく、下記式１
＜式１＞
ｋ＝Ｈ２（Ｔ−Ｈ１）
（前記式において、
前記Ｔは、前記非有効領域で測定された蒸着用マスクの厚さであり、
前記Ｈ１は、前記複数個の貫通ホールのうち、隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第１面方向への厚さであり、
前記Ｈ２は、前記隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第２面方向への厚さである。）によって計算されたｋ値は、０．６５〜１未満である。
【００１３】
実施例に係る蒸着用マスクは、金属板を含み、前記金属板は、複数個の貫通ホール及び該複数個の貫通ホールの間におけるブリッジを有する有効領域と、前記有効領域の外周に配置される非有効領域と、を含み、前記非有効領域に配置され、前記金属板の長さ方向の一端の近くに位置する第１ハーフエッチング部、及び前記一端と反対する他端の近くに位置する第２ハーフエッチング部を含み、前記金属板を０．７ｋｇｆの力で前記長さ方向に引っ張った時、下記式２
＜式２＞
α＝２Ｂ／（ｄ１＋ｄ２）
（前記式２において、
前記ｄ１は、前記第１ハーフエッチング部と該第１ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間における非有効領域で測定された金属板の幅であり、
前記ｄ２は、前記第２ハーフエッチング部と該第２ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間における非有効領域で測定された金属板の幅であり、
前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。）によって計算された捩れ指数αは、０．８５〜１．１５である。
【発明の効果】
【００１４】
実施例に係る蒸着用マスクは、エッチングされていない領域で測定された蒸着用マスクの厚さと、エッチングされている領域において貫通ホールを連結及び支持する蒸着用マスクの厚さとの差を小さくすることができる。すなわち、実施例は、有機物質が蒸着される領域における蒸着用マスクの厚さと有機物質が蒸着されない領域における蒸着用マスクの厚さとの差による段差を減少させることができる。これによって、蒸着用マスクを引っ張る時、貫通ホールを連結及び支持するエッチングされたブリッジにおいて蒸着用マスクが捩れることを防止することができる。
【００１５】
また、実施例に係る蒸着用マスクは、貫通ホールを形成するための金属板エッチング工程において、エッチングを防止するフォトレジスト層又は感光性フィルムレジスト層が脱膜することを防止することができるため、エッチングの均一性を向上させることができ、複数個の貫通ホールの均一性を向上させることができる。
【００１６】
したがって、実施例に係る蒸着用マスクで作製したＯＬＥＤパネルは、パターンの蒸着効率に優れ、蒸着均一性が向上し得る。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】基板上に有機物質を蒸着する工程を説明するための概念図である。
【図２】基板上に有機物質を蒸着する工程を説明するための概念図である。
【図３】基板上に有機物質を蒸着する工程を説明するための概念図である。
【図４】蒸着用マスクの平面図である。
【図５】蒸着用マスクの平面図である。
【図６】図４におけるＡ−Ａ’の断面図である。
【図７】実施例に係る蒸着用マスクの捩れ指数を説明するための断面図である。
【図８】実施例に係る蒸着用マスクの捩れ指数を説明するための平面図である。
【図９】実施例に係る図４におけるＡ−Ａ’の断面図である。
【図１０】比較例に係る図４におけるＡ−Ａ’の断面図である。
【図１１】実施例に係る蒸着用マスクの蒸着工程を説明するための図である。
【図１２】比較例に係る蒸着用マスクの蒸着工程を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下では添付の図面を参照して実施例を具体的に説明する。
【００１９】
添付の図面を参照して説明するとき、同一の構成要素には同一の図面符号を付し、それに関する重複説明は省略する。
【００２０】
第１、第２などの用語は、構成要素を説明するために使うことができるが、これらの構成要素は前記用語に限定されず、一つの構成要素を他の構成要素と区別する目的にのみ使われる。
【００２１】
また、ある部分がある構成要素を「含む」とされているとき、これは、特別に反対の記載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに具備し得るということを意味する。
【００２２】
図面において、各層（膜）、領域、パターン又は構造物の厚さや大きさは、説明の明確性及び便宜のために変形され得るものであり、実際の大きさを全体的に反映するものではない。
【００２３】
図１乃至図３を参照して、基板上に有機物質を蒸着する工程を説明する。
【００２４】
図１は、実施例に係る蒸着用マスク１００が含まれた有機物蒸着装置を示す図である。
【００２５】
有機物蒸着装置は、蒸着用マスク１００、マスクフレーム２００、基板３００、有機物蒸着容器４００及び真空チャンバー５００を含むことができる。
【００２６】
前記蒸着用マスク１００は複数個の貫通ホールを有することができる。前記蒸着用マスク１００は複数個の貫通ホールを有する金属板であってもよい。このとき、前記貫通ホールは、基板上に形成されるパターンに対応するように形成することができる。
【００２７】
前記マスクフレーム２００は開口部を有することができる。前記蒸着用マスク１００の複数個の貫通ホールは、前記開口部に対応する領域上に配置することができる。これによって、前記有機物蒸着容器４００に供給される有機物質を前記基板３００上に蒸着することができる。前記蒸着用マスクは、前記マスクフレーム２００上に配置して固定することができる。例えば、前記蒸着用マスクを引っ張って、前記マスクフレーム２００上に溶接によって固定することができる。
【００２８】
図１及び図２を参照すると、前記蒸着用マスク１００は、前記蒸着用マスク１００の最外側に設けられた縁部において、互いに反対の方向に引っ張ることができる。前記蒸着用マスク１００は、前記蒸着用マスク１００の長さ方向において、前記蒸着用マスク１００の一端及び該一端とは反対の他端を相互反対方向に引っ張ることができる。前記蒸着用マスク１００の一端と前記他端は互いに向かい合って平行に配置され得る。前記蒸着用マスク１００の一端は、前記蒸着用マスク１００の最外側に設けられた４個の縁をなす端部のいずれか一つであってよい。例えば、前記蒸着用マスク１００は、０．４〜１．５ｋｇｆの力で引っ張ることができる。これによって、引っ張られた前記蒸着用マスク１００を前記マスクフレーム２００上に据え付けることができる。
【００２９】
次に、前記蒸着用マスク１００を溶接によって前記マスクフレーム２００に固定することができる。その後、前記マスクフレーム２００の外部に配置される前記蒸着用マスク１００の一部分を切断などの方法で除去することができる。例えば、前記溶接過程で前記蒸着用マスク１００が変形されることにより、前記蒸着用マスク１００が前記蒸着用マスク１００と前記マスクフレーム２００との固定領域以外の領域に配置される場合には、前記蒸着用マスクの一部分を除去することができる。
【００３０】
図１及び図３を参照すると、前記基板３００は表示装置の製造に用いられる基板であってよい。前記基板３００上には、光の３原色である画素を形成するために、赤（Ｒｅｄ）、緑（Ｇｒｅｅｎ）、青（Ｂｌｕｅ）のパターンを形成することができる。
【００３１】
前記有機物蒸着容器４００は坩堝であってよい。前記坩堝の内部には有機物質を配置することができる。
【００３２】
前記真空チャンバー５００内で前記坩堝に熱源及び／又は電流が供給されることにより、前記有機物質を前記基板１００上に蒸着することができる。
【００３３】
図３は、前記蒸着用マスク１００の一つの貫通ホールを拡大した図である。
【００３４】
前記蒸着用マスク１００は、第１面１０１、及び該第１面に対向する第２面１０２を有することができる。
【００３５】
前記蒸着用マスク１００の前記第１面１０１は、第１面孔Ｖ１を含み、前記蒸着用マスク１００の前記第２面１０２は第２面孔Ｖ２を含むことができる。
【００３６】
前記貫通ホールは、前記第１面孔Ｖ１及び前記第２面孔Ｖ２とが連通する連結部ＣＡによって形成することができる。
【００３７】
前記第２面孔Ｖ２の幅は、前記第１面孔Ｖ１の幅より大きくすることができる。このとき、前記第１面孔Ｖ１の幅は前記第１面１０１で測定し、前記第２面孔Ｖ２の幅は前記第２面１０２で測定することができる。
【００３８】
前記第１面孔Ｖ１は、前記基板３００に向かって配置することができる。これによって、前記第１面孔Ｖ１が蒸着物Ｄ、すなわちパターンに対応する形状を有することができる。
【００３９】
前記第２面孔Ｖ２は、前記有機物蒸着容器４００に向かって配置することができる。これによって、前記第２面孔Ｖ２は、前記有機物蒸着容器４００から供給される有機物質を広い幅で収容することができ、前記第２面孔Ｖ２に比べて幅の小さい前記第１面孔Ｖ１を通して前記基板３００上に微細なパターンを速やかに形成することができる。
【００４０】
図４及び図５は、蒸着用マスク１００の正面図である。
【００４１】
前記蒸着用マスク１００は複数個の貫通ホールを有することができる。図４に示す複数個の貫通ホールは前記第２面孔Ｖ２を示したものであってよい。任意のいずれか一つの貫通ホールである基準ホールの水平方向の直径Ｃｘと垂直方向の直径Ｃｙを測定する場合、前記基準ホールに隣接するホール（図面では総６個）間のそれぞれの水平方向の直径Ｃｘ間の偏差と、垂直方向の直径（Ｃｙ）間の偏差は２％〜１０％とすることができる。すなわち、一つの基準ホールの隣接ホール間の大きさの偏差を２％〜１０％とする場合には蒸着の均一度を確保することができる。
【００４２】
例えば、前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差は、４％〜９％であってよい。例えば、前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差は５％〜７％であってもよい。
【００４３】
前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差が２％未満の場合には、蒸着後にＯＬＥＤパネルにおいてモアレの発生率が高くなることがある。前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差が１０％を超える場合には、蒸着後のＯＬＥＤパネルにおいて色ムラの発生率が高くなることがある。
【００４４】
実施例は前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差を±３μｍ以下とすることができる。これによって、蒸着効率を向上させることができる。
【００４５】
前記貫通ホールは、方向によって、一列に配置したり互いにずれるように配置することができる。
【００４６】
例えば、図４を参照すると、前記貫通ホールは、縦軸において一列に配置し、横軸において一列に配置することができる。
【００４７】
例えば、図５を参照すると、前記貫通ホールは、縦軸において一列に配置し、横軸において互いにずれるように配置してもよい。
【００４８】
前記貫通ホールは、縦方向において測定された第１直径と、横方向において測定された第２直径とが相互に対応しても異なってもよい。前記貫通ホールは、Ａ−Ａ’の断面方向に対応する第１対角線方向において測定された第３直径と、前記第１対角線方向と交差する第２対角線方向において測定された第４直径とが相互に対応しても異なってもよい。前記貫通ホールは、丸みをつけることができる。
【００４９】
図６は、複数個の貫通ホールの断面を拡大した図である。
【００５０】
図６を参照すると、蒸着用マスク１００は金属物質を含むことができる。前記蒸着用マスク１００は多結晶で構成され、面心立方構造であってもよい。
【００５１】
例えば、前記蒸着用マスク１００はニッケル合金を含むことができる。例えば、前記蒸着用マスク１００は、ニッケル約３５〜３７重量％、鉄約６３〜６５重量％、及び微量のＣ、Ｓｉ、Ｓ、Ｐ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｎｂ、Ｖ、Ｉｎ、Ｓｂのうち少なくとも一つが含まれたインバー（Ｉｎｖａｒ）を含むことができる。ここでいう微量は、１重量％以下を意味することができる。詳しくは、ここで、微量は０．５重量％以下を意味してもよい。ただし、これに実施例が制限されるものではなく、様々な金属物質を含み得ることは勿論である。
【００５２】
前記蒸着用マスク１００は、前記第１面１０１上に複数の第１面孔Ｖ１を有することができる。前記第１面孔Ｖ１は、第１サブ第１面孔Ｖ１ａ、及び該第１サブ第１面孔Ｖ１ａに隣接した第２サブ第１面孔Ｖ１ｂを含むことができる。
【００５３】
前記蒸着用マスク１００は、前記第２面１０２上に複数の第２面孔Ｖ２を有することができる。前記第２面孔Ｖ２は、第１サブ第２面孔Ｖ２ａ、及び該第１サブ第２面孔Ｖ２ａに隣接した第２サブ第２面孔Ｖ２ｂを含むことができる。
【００５４】
前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａ及び前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａは、連結部ＣＡを通じて連通して一つの貫通ホールを形成し、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂ及び前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂは連結部ＣＡを通じて連通して他の貫通ホールを形成することができる。すなわち、前記蒸着用マスク１００は複数個の貫通ホールを有することができる。
【００５５】
前記蒸着用マスク１００の厚さＴは１０μｍ〜５０μｍであってよい。例えば、前記蒸着用マスク１００の厚さＴは１０μｍ〜３０μｍであってもよい。前記蒸着用マスク１００の厚さＴが１０μｍ未満の場合には、製造効率が低いことがある。
【００５６】
前記蒸着用マスク１００の厚さＴが５０μｍを超える場合には、貫通ホールを形成するための工程効率が低下することがある。ここで、前記蒸着用マスク１００の厚さＴは、圧延工程後に測定されたものを意味することができる。
【００５７】
前記蒸着用マスク１００の厚さは５０μｍ以下であってよい。例えば、前記蒸着用マスク１００の厚さは３０μｍ以下であってもよい。
【００５８】
前記蒸着用マスク１００は貫通ホールの厚さ方向に沿って、異なる貫通ホールの幅を有することができる。
【００５９】
例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１は前記連結部ＣＡの幅Ｗ３より大きくてよい。詳しくは、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａは前記第１面１０１から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が減少してもよい。より詳しくは、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａは、前記第１面１０１から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が漸次減少してもよい。
【００６０】
例えば、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２は前記連結部ＣＡの幅Ｗ３より大きくてよい。詳しくは、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａは、前記第２面１０２から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が減少してもよい。より詳しくは、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａは前記第２面１０２から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が漸次減少してもよい。
【００６１】
前記貫通ホールの幅は２０μｍ以上であってよい。
【００６２】
例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１及び前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２のうちの少なくとも一つは２０μｍ〜５０μｍの幅を有することができる。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１及び前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２のうちの少なくとも一つは３０μｍ〜５０μｍの幅を有することができる。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１及び前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２のうちの少なくとも一つは２０μｍ〜４０μｍの幅を有することができる。
【００６３】
詳しくは、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１は２０μｍ〜５０μｍの幅を有することができ、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２は５０μｍ〜９０μｍの幅を有することができる。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１は２０μｍ〜５０μｍの幅を有することができ、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２は６０μｍ〜９０μｍの幅を有することができる。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１は３０μｍ〜５０μｍの幅を有することができ、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２は７０μｍ〜９０μｍの幅を有することができる。
【００６４】
前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの深さＨ２は、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１より大きくてよい。
【００６５】
一方、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は、前記蒸着用マスク１００の厚さＴとの関係比率が１：（３〜３０）であってよい。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は、前記蒸着用マスク１００の厚さＴとの関係比率が１：（３．５〜１２．５）であってもよい。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は、前記蒸着用マスク１００の厚さＴとの関係比率が１：（４．５〜１０．５）であってもよい。
【００６６】
前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１が前記蒸着用マスク１００の厚さＴとの関係において前記比率を超える場合には、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１が大きくなって有機物質の厚さ変化が大きくなるため、有機物質が蒸着されない領域が発生することがある。これによって、前記蒸着用マスクを用いて製造されたＯＬＥＤパネルの製造収率が低下することがある。
【００６７】
前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は、０．１μｍ〜７μｍであってよい。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は２μｍ〜６．５μｍであってもよい。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は２μｍ〜４．５μｍであってもよい。前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１が０．１μｍ未満の場合には、前記蒸着用マスクを用いた有機物質の蒸着効率が低下することがある。前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１が７μｍを超える場合には、微細な大きさのパターンを形成し難く、有機物質が蒸着されない領域が発生し得るため、これを用いて製造されたＯＬＥＤパネルの製造収率が低下することがある。
【００６８】
前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの深さＨ２は、１５μｍ〜２５μｍであってよい。例えば、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの深さＨ２は２０μｍ〜２５μｍであってもよい。
【００６９】
前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１と前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの終端の任意の地点Ｂ１とをつなぐ傾斜角は２０°〜７０°の範囲であってよい。例えば、前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１と前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの終端の任意の地点Ｂ１とをつなぐ傾斜角は３０°〜６０°の範囲であってもよい。例えば、前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１と前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの終端の任意の地点Ｂ１とをつなぐ傾斜角は３２°〜３８°又は５２°〜５８°の範囲であってもよい。前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１と前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの終端の任意の地点Ｂ１とをつなぐ傾斜角が２０°〜７０°の範囲であるとき、蒸着の均一性を向上させることができる。前記傾斜角の範囲を外れる場合には、有機物質が蒸着されない領域が発生し得るため、蒸着効率及び工程効率が低下することがある。
【００７０】
前記第１面孔Ｖ１は前記蒸着用マスク１００の深さ方向の連結部に向かうにつれて貫通ホールの幅が狭くなってよい。例えば、前記第１面孔Ｖ１の内表面は曲率を有する構造であってもよい。また、前記第２面孔Ｖ２も、前記蒸着用マスク１００の深さ方向の連結部に向かうにつれて貫通ホールの幅が狭くなってよい。例えば、前記第１面孔Ｖ１の内表面は曲率を有する構造であってもよい。これによって、蒸着物質の投入密度を調節することができ、単純なスロープ構造に比べて蒸着の均一度を向上させることができる。
【００７１】
前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１と前記連結部ＣＡの幅Ｗ３との差（Ｗ１−Ｗ３）は、０．２μｍ〜１４μｍの範囲であってよい。
【００７２】
前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの終端の任意の点Ｃ１から前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１までの垂直距離は、０．１μｍ〜７μｍの範囲であってよい。前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの終端の任意の点Ｃ１から前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１までの垂直距離は、１μｍ〜６μｍの範囲であってもよい。前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの終端の任意の点Ｃ１から前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１までの垂直距離は、２μｍ〜４．５μｍの範囲であってもよい。
【００７３】
前記垂直距離が０．１μｍ未満の場合には、前記蒸着用マスク１００を用いた有機物質の蒸着効率が低下することがある。前記垂直距離が７μｍを超える場合には、微細な大きさのパターンを形成し難く、有機物質が蒸着されない領域が発生し得るため、これを用いて製造されたＯＬＥＤパネルの製造収率が低下することがある。
【００７４】
前記第１面孔Ｖ１は、前記第１面１０１上のオープン領域の縁部、すなわち、オープン領域の外周部が曲率を有することができる。または、前記第２面孔Ｖ２は、前記第２面１０２上のオープン領域の縁部、すなわち、オープン領域の外周部が曲率を有することができる。例えば、前記オープン領域の縁部は、一定の範囲の曲率を有する丸み付き構造であってよい。前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径は、５μｍ〜２０μｍ範囲であってよい。例えば、前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径は、７μｍ〜１５μｍ範囲であってもよい。前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径は、８μｍ〜１２μｍ範囲であってもよい。前記範囲において蒸着率が高く、均一な有機物質の蒸着が可能となり得る。
【００７５】
前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径が５μｍ未満の場合には、曲率処理をしないものと蒸着率に大差がない。前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径が２０μｍを超える場合には蒸着率が低下することがある。
【００７６】
前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂの幅Ｗ５は、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂの幅Ｗ４より大きくてよい。例えば、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂの幅Ｗ４は前記連結部ＣＡの幅Ｗ６より大きくてよい。詳しくは、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂは前記第１面１０１から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が減少してもよい。より詳しくは、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂは前記第１面１０１から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が漸次減少してもよい。
【００７７】
例えば、前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂの幅Ｗ５は前記連結部ＣＡの幅Ｗ６より大きくてよい。詳しくは、前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂは、前記第２面１０２から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が減少してもよい。より詳しくは、前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂは、前記第２面１０２から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が漸次減少してもよい。
【００７８】
前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂの深さＨ４は、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂの深さＨ３より大きくてよい。
【００７９】
図７及び図８を参照すると、前記蒸着用マスク１００は、複数個の貫通ホールＨ及び該複数個の貫通ホール間のブリッジＢＲを有する有効領域ＡＡと、該有効領域の外周に配置される非有効領域ＵＡとを含むことができる。
【００８０】
前記有効領域ＡＡは、複数個の貫通ホールのうち、最外側に位置している貫通ホールの外側を連結した時の内側領域であってよい。前記非有効領域ＵＡは、複数個の貫通ホールのうち、最外側に位置している貫通ホールの外側を連結した時の外側の領域であってよい。詳しくは、複数個の貫通ホールＨのうち、最外側に位置している第２面孔の終端は、前記有効領域ＡＡと前記非有効領域ＵＡとの境界になり得る。
【００８１】
前記有効領域ＡＡは、最外側に位置している第２面孔Ｖ２の終端の地点を基準にして内側領域、すなわち、蒸着物質が投入される第２面孔Ｖ２が配置される領域を意味する。一方、最外側に位置している第２面孔Ｖ２の終端を基準にして外側領域、すなわち、蒸着に関与しない領域を非有効領域ＵＡと定義する。
【００８２】
前記有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスク１００は、複数個の貫通ホールを支持することができる。すなわち、前記複数個の貫通ホールの間にはブリッジが配置され得る。詳しくは、隣接した貫通ホールの間には前記ブリッジが配置され得る。蒸着用マスク１００の第１面上に位置している第１ブリッジ部と金属板の第２面上に位置している第２ブリッジ部によって均一な大きさの貫通ホールが支持され得る。
【００８３】
また、前記有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスク１００は、前記有機物質の蒸着工程において、前記有機物蒸着容器から供給される有機物質が前記基板上に一定の範囲のパターンの幅で蒸着され得るようにする、蒸着に関与する領域（蒸着領域）であってよい。
【００８４】
前記非有効領域ＵＡに配置される蒸着用マスク１００は、オープン部を含まない非エッチング領域であってよい。すなわち、前記非有効領域ＵＡに配置される蒸着用マスク１００は、前記有機物質の蒸着工程において、有機物質を通過させ得るオープン領域を含まないので、蒸着に関与しない領域（非蒸着領域）であり得る。
【００８５】
前記非有効領域ＵＡは、第１ハーフエッチング部Ｅ及び第２ハーフエッチング部Ｅを含むことができる。
【００８６】
図７を参照すると、前記第１及び第２ハーフエッチング部Ｅは、金属板の第１面に溝を含むことができる。すなわち、前記第１及び第２ハーフエッチング部Ｅは、非有効領域ＵＡに位置した蒸着用マスク１００の前記第１面が部分的にエッチングされることによって溝が形成され得る。これによって、蒸着用マスクは前記第１及び第２ハーフエッチング部Ｅが形成される領域において段差を有することができる。
【００８７】
蒸着用マスクは非有効領域ＵＡにおいて異なる厚さを有することができる。エッチングされていない部分の厚さＴは、前記ハーフエッチング部Ｅが配置される領域の厚さより大きくてよい。例えば、前記ハーフエッチング部Ｅが配置される領域は、エッチングされていない部分で測定された厚さＴの約１／２の厚さを有することができる。
【００８８】
前記ハーフエッチング部Ｅ及び／又は前記ハーフエッチング部Ｅの周辺領域は、前記マスクフレームと溶接によって連結される領域であってよい。例えば、前記ハーフエッチング部Ｅ及び／又は前記ハーフエッチング部Ｅの周辺領域は溶接によって変形されることにより、前記マスクフレーム２００に固定され得る。詳しくは、前記ハーフエッチング部Ｅの溝には、全体的に又は部分的に溶接物質を埋めることができる。
【００８９】
図８を参照すると、前記非有効領域ＵＡに配置される蒸着用マスク１００は、両端が水平方向に引っ張られ、マスクフレーム上に固定され得る。より詳しくは、前記非有効領域ＵＡに配置される蒸着用マスクの一端及び他端は、ｙ軸方向と平行に配置され、前記一端及び他端は、ｙ軸方向と垂直なｘ軸方向、すなわち水平方向に引っ張られ得る。
【００９０】
前記非有効領域ＵＡに配置される前記ハーフエッチング部Ｅは、部分的に又は全体的に丸みをつけた形状を有することができる。例えば、前記非有効領域ＵＡに配置される前記ハーフエッチング部Ｅは、弧状を有することができる。すなわち、前記ハーフエッチング部Ｅは直線形状及び曲線形状を有することができる。詳しくは、前記ハーフエッチング部Ｅは、蒸着用マスクの垂直方向に延長された直線部、及び該直線部の両端をつなぐ曲線部を含むことができる。このとき、前記直線部は、前記蒸着用マスクｘ軸方向の縁をなす端部と垂直な角度を有することができる。前記直線部は複数個の貫通ホールを横切る長さを有することができる。前記直線部は、有効領域と非有効領域との境界に位置している第２面孔の終端をつなぐ垂直方向の仮想の線と平行であってもよい。一方、前記曲線部は均等な曲率を有することができる。または、前記曲線部は位置によって異なる曲率を有してもよい。例えば、蒸着用マスクの垂直方向の長さをｃとするとき、前記曲線部は１／２ｃ長の地点に近づくにつれて曲率半径が増加してもよい。ただし、実施例はこれに制限されず、長方形のハーフエッチング部を含んでもよいことは勿論である。
【００９１】
図６、図７及び図９を参照すると、実施例に係る蒸着用マスクは、前記有効領域ＡＡと前記非有効領域ＵＡにおける蒸着用マスク１００の段差が小さくなっている。
【００９２】
下記の式１によって計算されたｋ値は、前記非有効領域ＵＡ、すなわちエッチングされていない領域における蒸着用マスク１００の厚さと、前記有効領域ＡＡ、すなわちエッチングされている領域における蒸着用マスク１００の厚さとの差の比を表すことができる。
【００９３】
＜式１＞
ｋ＝Ｈ２（Ｔ−Ｈ１）
【００９４】
前記の式において、前記Ｔは、前記非有効領域ＵＡで測定された蒸着用マスク１００の厚さＴである。ここで、前記Ｔは、エッチングされていない部分で測定されたものを意味することができる。すなわち、ハーフエッチング部が形成されていない領域で測定されたものである。
【００９５】
前記Ｈ１は、前記複数個の貫通ホールのうち、隣接した２つの貫通ホール間のブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第１面方向への厚さであり、前記Ｈ２は、前記隣接した２つの貫通ホール間のブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第２面方向への厚さである。
【００９６】
前記式１のＨ１及びＨ２は、前記複数個の貫通ホールのうち、対角線方向に隣接した２つの貫通ホール間のブリッジで測定した厚さである。
【００９７】
例えば、前記Ｈ２は、任意のブリッジの厚さが最大である地点で測定された、前記連結部ＣＡから、前記第２面孔Ｖ２が配置された前記第２面１０２までの最短距離を意味するものであり、前記最短距離は基板の厚さ方向において測定することができる。
【００９８】
実施例に係る蒸着用マスクは、前記式１によって計算されたｋ値が０．６５〜１未満であってよい。
【００９９】
実施例に係る蒸着用マスクは、前記式１によって計算されたｋ値が０．８〜１．０未満であってもよい。
【０１００】
すなわち、エッチングされていない領域で測定された蒸着用マスクの厚さとエッチングされている領域で貫通ホールを連結及び支持する蒸着用マスクの厚さとの差が小さいか、又は段差がなくて済むので、蒸着用マスクを引っ張る時、前記エッチングされている領域で蒸着用マスクの捩れを防止することができる。また、実施例に係る蒸着用マスクは、エッチング工程においてエッチングを防止するフォトレジスト層又は感光性フィルムレジスト層が脱膜することを防止できるので、エッチングの均一性が向上し、貫通ホールの均一性を向上させることができる。実施例は、前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差を±３μｍ以下にすることができ、蒸着効率を向上させることができる。
【０１０１】
前記式１によって計算されたｋ値が０．６５未満の場合には、前記非有効領域ＵＡ、すなわちエッチングされていない領域で測定された蒸着用マスクの厚さと、前記有効領域ＡＡ、すなわちエッチングされている領域で貫通ホールを連結及び支持する蒸着用マスクの厚さとの差が大きいため、蒸着用マスクを引っ張る時、前記エッチングされている領域で蒸着用マスクの捩れが発生することがある。
【０１０２】
図１０を参照して、Ｈ２値が小さい時における問題点を説明する。前記Ｈ２値が小さくてｋ値が小さくなる場合には、エッチング工程においてエッチングを防止するフォトレジスト層又は感光性フィルムレジスト層が脱膜することがある。また、エッチングの均一性が低下することにより、貫通ホールの均一性が低下することがある。複数個の貫通ホールが均一でない場合、蒸着の均一性が低下することがあり、その結果、形成されるパターンの蒸着効率が低下し、工程効率が低下することがある。
【０１０３】
図７及び図８を参照して、捩れ指数を説明する。蒸着用マスクを長さ方向、すなわち、水平方向に引っ張った時、前記蒸着用マスクが捩れる程度を、下記式２による捩れ指数αで表現することができる。
【０１０４】
＜式２＞
α＝２Ｂ／（ｄ１＋ｄ２）
【０１０５】
前記捩れ指数αは、金属板を０．７ｋｇｆの力で前記長さ方向に引っ張った際に測定されたものである。
【０１０６】
前記式２において、
前記ｄ１は、前記第１ハーフエッチング部と該第１ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間の非有効領域において測定された金属板の幅であり、
前記ｄ２は、前記第２ハーフエッチング部と該第２ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間の非有効領域において測定された金属板の幅であり、
前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。
【０１０７】
前記有効領域と前記非有効領域は、垂直方向において第１境界領域ＢＡ１と第２境界領域ＢＡ２によって区別することができる。前記第１境界領域ＢＡ１と前記第２境界領域ＢＡ２との間には複数個の貫通ホールとブリッジを含むことができる。
【０１０８】
前記非有効領域ＵＡには複数個のハーフエッチング部Ｅを含むことができる。例えば、前記非有効領域ＵＡには第１及び第２ハーフエッチング部Ｅを含むことができる。前記第１ハーフエッチング部に隣接した有効領域は前記第１境界領域ＢＡ１であってよい。前記第２ハーフエッチング部に隣接した有効領域は前記第２境界領域ＢＡ２であってよい。
【０１０９】
詳しくは、前記第１境界領域ＢＡ１に隣接した非有効領域ＵＡには一つのハーフエッチング部Ｅである第１ハーフエッチング部を配置することができる。前記第２境界領域ＢＡ２に隣接した非有効領域ＵＡには、他のハーフエッチング部Ｅである第２ハーフエッチング部を配置することができる。このとき、ハーフエッチング部Ｅの曲線部は、それぞれ引っ張られる水平方向に突出した形状であってよい。これによって、前記ハーフエッチング部Ｅは、引張時に加えられる応力を分散させることができる。
【０１１０】
前記第１境界領域ＢＡ１に隣接したハーフエッチング部Ｅの一側面は、第３境界領域ＢＡ３と定義することができる。前記第２境界領域ＢＡ２に隣接したハーフエッチング部Ｅの一側面は、第４境界領域ＢＡ４と定義することができる。
【０１１１】
すなわち、金属板は、前記第１境界領域ＢＡ１、前記第２境界領域ＢＡ２を基準に、貫通ホールによって厚さ変化が発生し得る。また、金属板は、前記第３境界領域ＢＡ３、前記第４境界領域ＢＡ４を基準に、溝によって厚さ変化が発生し得る。詳しくは、前記第１境界領域ＢＡ１、前記第２境界領域ＢＡ２、前記第３境界領域ＢＡ３、前記第４境界領域ＢＡ４は、エッチングによって厚さ変化が発生する地点の境界を表す領域であってよい。
【０１１２】
前記式２において、前記ｄ１は、前記第１ハーフエッチング部と該第１ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間の非有効領域において測定された金属板の幅であり、前記ｄ２は、前記第２ハーフエッチング部と該第２ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間の非有効領域において測定された金属板の幅である。
【０１１３】
すなわち、前記ｄ１及び前記ｄ２は、非有効領域ＵＡに位置したハーフエッチング部の直線部と、有効領域及び非有効領域間の境界に位置した第２面孔との間の１／２地点で測定された垂直方向の蒸着用マスクの長さである。
【０１１４】
前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。すなわち、前記Ｂは、ｄ１の測定地点とｄ２の測定地点との間の１／２地点で測定された垂直方向の蒸着用マスクの長さである。
【０１１５】
実施例に係る蒸着用マスクは、前記式２によって計算された捩れ指数αが０．８５〜１．１５であるものを含むことができる。例えば、実施例は、前記式２によって計算された捩れ指数αが０．９〜１．１のものを含むことができる。
【０１１６】
実施例は、前記捩れ指数αが０．８５〜１．１５のものを含むので、引張による力が均等に分散され得る。また、実施例に係る蒸着用マスクは、位置による垂直方向の長さ差が減少し得る。これによって、実施例に係る蒸着用マスクは、前記有効領域ＡＡと前記非有効領域ＵＡにおける金属板の幅の差が小さくて済み、貫通ホールの捩れが減少し得る。
【０１１７】
前記捩れ指数αが０．８５未満である又は１．１５を超える場合には、前記貫通ホールを支持する有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスクの捩れが増加することがある。これによって、前記蒸着用マスクによって形成されるパターンは、蒸着効率が低下することがある。また、前記蒸着用マスクによって形成されるパターンは互いに重なる部分が発生することがあり、ＯＬＥＤパターンの製造収率が低下することがある。
【０１１８】
前記有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスク１００は、前記非有効領域ＵＡに配置される蒸着用マスク１００と一体に形成されたものであってよい。
【０１１９】
前記有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスクは、複数個の貫通ホールを支持するブリッジを含むことができる。
【０１２０】
前記ブリッジは、前記金属板の前記第１面１０１上の前記第１面孔Ｖ１の間を支持する第１ブリッジ部ＢＲ１、及び前記金属板の前記第２面１０２上の前記第２面孔Ｖ２の間を支持する第２ブリッジ部ＢＲ２を含むことができる。
【０１２１】
前記第１ブリッジＢＲ１と前記第２ブリッジＢＲ２は、互いに異なる幅を有することができる。前記第１面における前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は、前記第２面における前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅より大きくてよい。ここで、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は前記第１面で測定されたものであり、前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は前記第２面で測定されたものでよい。詳しくは、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は、隣接した貫通ホールの間を支持するそれぞれの前記第１ブリッジ部ＢＲ１の平均幅を意味することができる。前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は、隣接した貫通ホールの間を支持するそれぞれの前記第２ブリッジ部ＢＲ２の平均幅を意味することができる。
【０１２２】
前記第１ブリッジ部ＢＲ１及び前記第２ブリッジ部ＢＲ２は、蒸着用マスクの厚さによって幅が変わり得る。したがって、下記の厚さは例示に過ぎず、これに制限されない。
【０１２３】
一例として、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は、２０μｍ〜５０μｍであってよい。例えば、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は３０μｍ〜４５μｍであってもよい。例えば、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は３０μｍ〜４０μｍであってもよい。
【０１２４】
一例として、前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は、０．５μｍ〜７μｍであってよい。例えば、前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は１μｍ〜５μｍであってもよい。例えば、前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は１μｍ〜３μｍであってもよい。
【０１２５】
前記第１ブリッジ部ＢＲ１及び前記第２ブリッジ部ＢＲ２は、平面積が互いに異なり得る。例えば、前記第１ブリッジ部ＢＲ１は前記第２ブリッジ部ＢＲ２に比べて、平面積が大きくてもよい。
【０１２６】
前記第１ブリッジ部ＢＲ１は平面領域であってよい。また、前記第２ブリッジ部ＢＲ２も平面領域であってよい。前記第１ブリッジ部ＢＲ１及び前記第２ブリッジ部ＢＲ２が平面であり得るので、エッチング工程においてエッチングを防止するフォトレジスト層又は感光性フィルムレジスト層の付着力を高めることができ、均一性の向上した貫通ホールを形成することができる。
【０１２７】
前記有効領域ＡＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第１面の深さは、前記非有効領域ＵＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第１面の深さに対応し、前記有効領域ＡＡで測定された前記蒸着用マスク１００の前記第２面の深さは、前記非有効領域ＵＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第２面の深さに対応するものでよい。
【０１２８】
または、前記有効領域ＡＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第１面の深さと非有効領域ＵＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第１面の深さとの偏差は、前記有効領域ＡＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第２面の深さと前記非有効領域ＵＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第２面の深さとの偏差より小さくてもよい。前記蒸着用マスク１００の第２面は前記第２面孔Ｖ２が形成される面であり、前記第１面に比べてエッチング面積が大きいため、前記第１面に比べて深さ偏差が大きくなり得る。
【０１２９】
すなわち、前記第１ブリッジ部ＢＲ１における前記第１面１０１は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第１面１０１に対応する深さを有することができる。これによって、引張による捩れを減少させることができる。
【０１３０】
または、前記第１ブリッジ部ＢＲ１における前記第１面１０１は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第１面１０１と異なる深さを有してもよい。このとき、前記第１ブリッジ部ＢＲ１における前記第１面１０１は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第１面１０１と向かい合いつつ相互平行に配置され得る。これによって、引張による捩れを減少させることができる。
【０１３１】
一例として、前記第１ブリッジ部ＢＲ１における前記第１面１０１は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第１面１０１と５μｍ未満の深さ差を有することができる。ただし、当該数値は、深さ差が０μｍのものを含み、蒸着用マスクの厚さによって変わり得るので、それに制限されない。
【０１３２】
前記第２ブリッジ部ＢＲ２における前記第２面１０２は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第２面１０２に対応する深さを有することができる。これによって、引張による捩れを減少させることができる。
【０１３３】
または、前記第２ブリッジ部ＢＲ２における前記第２面１０２は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第２面１０２と異なる深さを有してもよい。このとき、前記第２ブリッジ部ＢＲ２における前記第２面１０２は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第２面１０２と向かい合いつつ相互平行に配置され得る。これによって、引張による捩れを減少させることができる。
【０１３４】
一例として、前記第２ブリッジ部ＢＲ２における前記第２面１０２は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第２面１０２と５μｍ未満の深さ差を有することができる。ただし、当該数値は、深さ差が０μｍのものを含み、蒸着用マスクの厚さによって変わり得るので、それに制限されない。
【０１３５】
すなわち、実施例に係る蒸着用マスクは、引張による捩れが小さい構造を有し得るので、均一な貫通ホールを形成することができ、よって、実施例に係る蒸着用マスクで作製したＯＬＥＤパネルは、パターンの蒸着効率に優れ、且つ蒸着均一性が向上し得る。
【０１３６】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。これらの実施例は本発明をさらに詳しく説明するために例示として提示したものに過ぎない。したがって、本発明がこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１３７】
＜実験例１：ｋ値による貫通ホールの均一性評価＞
【表１】
2019508588.tif 000003
【０１３８】
前記の表１は、ｋ値による貫通ホールの均一性評価結果を示したものである。
【０１３９】
基準ホールと隣接したホールとの大きさ偏差が±３μｍを超えるとき、不良と表示し、基準ホールと隣接したホールとの大きさ偏差が±３μｍ以下であるとき、良好と表示した。
【０１４０】
前記表１を参照すると、ｋ値が０．６５以上のとき、貫通ホールの均一性が増加することが分かる。これによって、実施例に係る蒸着用マスクを用いて製造される有機物質パターンの蒸着効率が向上することが分かる。
【０１４１】
一方、ｋ値が０．６５未満のとき、貫通ホールの均一性が減少するため、これを用いて製造される有機物質パターンは互いに大きさが異なることがあり、ＯＬＥＤパネルの製造収率が低下することがある。
【０１４２】
＜実験例２：ｋ値による引張時の捩れ評価＞
【表２】
2019508588.tif 000004
【０１４３】
前記の表２は、ｋ値による引張時の蒸着用マスクの捩れの評価結果を示したものである。
【０１４４】
この時、ｋ値は、蒸着用マスク試験片を０．７ｋｇｆで引っ張って、捩れを測定したものである。
【０１４５】
前記蒸着用マスクの捩れによって、基板上に配置される有機物質間に重なりが発生したり、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの幅の偏差が不規則な場合、不良と表示し、基板上に配置される有機物質間に重なりが発生しなく、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの幅の偏差が規則的な場合、良好と表示した。
【０１４６】
前記の表２を参照すると、ｋ値が０．８以上のとき、引張時に蒸着用マスクの捩れが減少し得るので、基板上に形成されるパターン層が重なり合うことを防止することができる。
【０１４７】
また、図１１を参照すると、ｋ値が０．８以上である実施例に係る蒸着用マスクは、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンが重ならず、Ｒ、Ｇ、Ｂパターン間の幅の偏差が規則的であることが分かる。これによって、ＯＬＥＤパネルの製造収率を向上させることができる。
【０１４８】
一方、ｋ値が０．８未満のとき、引張時に蒸着用マスクの捩れが増加することがあり、これによって、基板上に形成されるパターン層が重なり合うことがある。
【０１４９】
図１２を参照すると、ｋ値が０．８未満である比較例に係る蒸着用マスクは、Ｒ、Ｇ、Ｂパターン間に重なりが発生し、ＯＬＥＤパネルの製造収率が低下することがある。
【０１５０】
すなわち、実施例に係る蒸着用マスクは、ｋ値が０．８以上のとき、貫通ホールの均一性が向上すると同時に、引張時に捩れを防止することができる。したがって、前記蒸着用マスクを用いて製造されるＯＬＥＤパネルの蒸着効率及び工程効率を向上させることができる。
【０１５１】
上述した実施例に説明された特徴、構造、効果などは、本発明の少なくとも一つの実施例に含まれ、必ずしも一つの実施例に限定されるわけではない。なお、各実施例で例示された特徴、構造、効果などは、実施例の属する分野における通常の知識を有する者によって他の実施例に対しても組合せ又は変形されて実施可能である。したがって、このような組合せと変形に関連する内容は本発明の範囲に含まれるものと解釈すべきである。
【０１５２】
また、以上では実施例を中心に説明したが、これは単なる例示に過ぎず、本発明を限定するものではなく、本発明の属する分野における通常の知識を有する者であれば、本実施例の本質的な特性から逸脱しない範囲で、以上に例示されていない様々な変形及び応用が可能であることが分かるだろう。例えば、実施例に具体的に表された各構成要素は、変形して実施できるものである。そして、このような変形及び応用に関係する差異点は、添付する特許請求の範囲で規定する本発明の範囲に含まれるものと解釈すべきであろう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【手続補正書】
【提出日】平成30年8月31日(2018.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板を含む蒸着用マスクであって、
前記金属板は、複数個の貫通ホール、及び前記複数個の貫通ホール間のブリッジを有する有効領域と、
前記有効領域の外周に配置される非有効領域と、
を含み、
前記貫通ホールは、第１面上の第１面孔と該第１面に対向する第２面上の第２面孔とが出会う連結部に形成され、
前記第１面孔の幅は前記第２面孔の幅より小さく、
前記第１面孔の深さは前記第２面孔の深さより小さく、
前記非有効領域は、前記金属板の長さ方向の一端の近くに位置する第１ハーフエッチング部、及び前記一端とは反対の他端の近くに位置する第２ハーフエッチング部を有し、
前記第１ハーフエッチング部及び前記第２ハーフエッチング部は、前記第１面から前記貫通ホールまでの深さより大きく、前記第２面孔の深さより小さく、前記第１ハーフエッチング部及び前記第２ハーフエッチング部は金属板の第１面に形成され、
下記の式１
＜式１＞
ｋ＝Ｈ２（Ｔ−Ｈ１）
（前記式において、
前記Ｔは、前記非有効領域で測定された蒸着用マスクの厚さであり、
前記Ｈ１は、前記複数個の貫通ホールのうち、隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第１面方向への厚さであり、
前記Ｈ２は、前記隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第２面方向への厚さである。）
によって計算されたｋ値は、０．６５〜１未満である、蒸着用マスク。
【請求項２】
前記式１によって計算されたｋ値は、０．８〜１未満である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項３】
前記厚さが１０μｍ〜５０μｍである、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項４】
前記厚さが１０μｍ〜３０μｍである、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項５】
前記第１面孔の深さは、前記蒸着用マスクの厚さとの関係比率が１：（３〜３０）である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項６】
前記連結部の終端の任意の地点と前記第２面孔の終端の任意の地点とをつなぐ傾斜角は、２０°〜７０°の範囲である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項７】
前記第１面孔の幅と前記連結部の幅との差は、０．２μｍ〜１４μｍの範囲である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項８】
前記第１面孔の終端の任意の地点から前記連結部の終端の任意の地点までの垂直距離は、０．１μｍ〜７μｍの範囲である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項９】
前記第１面孔は、前記第１面上におけるオープン領域の縁部が曲率を有し、
前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径は、５μｍ〜２０μｍの範囲である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項１０】
鉄−ニッケル合金を含む、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項１１】
前記式１のＨ１及びＨ２は、前記複数個の貫通ホールのうち、対角線方向に隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジで測定した厚さである、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項１２】
前記第１面孔の幅は、２０μｍ〜５０μｍであり、
前記第２面孔の幅は、５０μｍ〜９０μｍであり、
前記第１面孔の深さは、０．１μｍ〜７μｍであり、
前記第２面孔の深さは、２０μｍ〜２５μｍである、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項１３】
金属板を含む蒸着用マスクであって、
前記金属板は、複数個の貫通ホール及び該複数個の貫通ホールの間におけるブリッジを含む有効領域と、前記有効領域の外周に配置される非有効領域と、を含み、
前記非有効領域に配置され、前記金属板の長さ方向の一端の近くに位置する第１ハーフエッチング部、及び前記一端と反対する他端の近くに位置する第２ハーフエッチング部を含み、
前記第１ハーフエッチング部及び前記第２ハーフエッチング部は、前記第１面から前記貫通ホールまでの深さより大きく、前記第２面孔の深さより小さく、
前記第１ハーフエッチング部及び前記第２ハーフエッチング部は、金属板の第１面に形成され、
前記金属板を０．７ｋｇｆの力で前記長さ方向に引っ張った時、下記式２
＜式２＞
α＝２Ｂ／（ｄ１＋ｄ２）
（前記式２において、
前記ｄ１は、前記第１ハーフエッチング部と該第１ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間における非有効領域で測定された金属板の幅であり、
前記ｄ２は、前記第２ハーフエッチング部と該第２ハーフエッチング部に隣接した有効領域との間における非有効領域で測定された金属板の幅であり、
前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。）
によって計算された捩れ指数αは、０．８５〜１．１５である、蒸着用マスク。
【請求項１４】
前記ブリッジは、
前記金属板の第１面上の第１面孔の間を支持する第１ブリッジ部を含み、
前記金属板の第２面上の第２面孔の間を支持する第２ブリッジ部を含み、
前記第１面における前記第１ブリッジ部の幅は、前記第２面における前記第２ブリッジ部の幅より大きい、請求項１３に記載の蒸着用マスク。
【請求項１５】
前記第２面孔の幅は、前記第１面孔の幅より大きい、請求項１４に記載の蒸着用マスク。
【請求項１６】
前記第１ブリッジ部の幅は、２０μｍ〜５０μｍであり、
前記第２ブリッジ部の幅は、０．５μｍ〜７μｍである、請求項１４に記載の蒸着用マスク。
【請求項１７】
鉄−ニッケル合金を含む、請求項１３に記載の蒸着用マスク。
【請求項１８】
厚さが１０μｍ〜３０μｍである、請求項１３に記載の蒸着用マスク。
【請求項１９】
前記第１面孔の深さは、前記蒸着用マスクの厚さとの関係比率が１：（３〜３０）である、請求項１４に記載の蒸着用マスク。
【請求項２０】
前記貫通ホールは、第１面上の第１面孔と前記第１面に対向する第２面上の第２面孔とが出会う連結部に形成され、
前記連結部の終端の任意の地点と前記第２面孔の終端の任意の地点とをつなぐ傾斜角は、２０°〜７０°の範囲である、請求項１３に記載の蒸着用マスク。
【国際調査報告】
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