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【手続補正書】
【提出日】平成18年11月29日(2006.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
a）i）成分 a）の重量に基づいて20〜100 重量％の、ポリエーテルセグメントが少なくとも 3,000 の数平均分子量及び 0.04 ミリ当量/g 未満の不飽和度を有する、2 個のヒドロキシル基及び 1 個以上のポリエーテルセグメントを含むポリエーテル（ただし、1 分子あたりの全ポリエーテルセグメントの数平均分子量の合計が平均 6,000〜20,000 である。）及び
ii）成分 a）の重量に基づいて0〜80 重量％の、1 個のヒドロキシル基及び 1 個以上の 1,000〜15,000 の数平均分子量を有するポリエーテルセグメントを含むポリエーテル
を包含するヒドロキシル成分と、
b）i）成分 b）の重量に基づいて20〜100 重量％の、2 個のイソシアネート基を含む化合物及び
ii）成分 b）の重量に基づいて0〜80 重量％の、1 個のイソシアネート基を含む化合物
を包含するイソシアネート成分とを、1.5：1〜2.5：1 の NCO：OH 当量比で反応させて（ただし、a-ii）及び b-ii）の割合の合計は少なくとも 10 重量％である。）、イソシアネート含有反応生成物を形成し、
次いで、この反応生成物と、
c）成分 c）の少なくとも 10 mol％が、式（I）：
【化１】
2006511662.tif 000001
［式中、X は、100 ℃未満でイソシアネート基に対して不活性である同じ又は異なった有機基を表し、ただし、これらの基の少なくとも 2 個はアルコキシル基又はアシルオキシ基であり、
Y は、1〜8 個の炭素原子を含む直鎖又は分枝アルキレン基を表し、
R1 及び R2 は、同じ又は異なって、100 ℃以下の温度でイソシアネート基に対して不活性である有機基を表し、
R3 及び R4 は、同じ又は異なって、水素又は 100 ℃以下の温度でイソシアネート基に対して不活性である有機基を表す。］
に相当する化合物である、イソシアネート反応性基及び 1 個の反応性シラン基を含む化合物とを、0.8：1〜1.1：1 のイソシアネート基のイソシアネート反応性基に対する当量比で反応させて、
式（II）：
【化２】
2006511662.tif 000002
に相当する末端非環状ウレア／反応性シラン基を少なくとも部分的に含む中間ポリエーテルウレタンを形成し、
酸触媒及び熱の存在下で、中間ポリエーテルウレタンを反応させて非環状ウレア基を環状ウレア基へ転化させて、
式（III）及び／又は式（IV）：
【化３】
2006511662.tif 000003
に相当する末端環状ウレア／反応性シラン基を形成する、末端環状ウレア／反応性シラン基含有湿分硬化型ポリエーテルウレタンの製造方法。
【請求項２】
成分 c）の少なくとも 50 mol％が式（I）に相当する化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
成分 c）の少なくとも 80 mol％が式（I）に相当する化合物であり、X は 1〜4 個の炭素原子を含む同じ又は異なったアルコキシル基を表し、Y は、2〜4 個の炭素原子を含む直鎖基又は 5〜6 個の炭素原子を含む分枝基を表し、R1 及び R2 は同じ又は異なって 1〜4 個の炭素原子を含むアルキル基を表し、R3 及び R4 は水素を表すことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
成分 a-i）が成分 a）の重量に基づいて 20〜90 重量％の量で存在し、成分 a-ii）が成分 a）の重量に基づいて 10〜80 重量％の量で存在することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
成分 b-i）が成分 b）の重量に基づいて 20〜90 重量％の量で存在し、成分 b-ii）が成分 b）の重量に基づいて 10〜80 重量％の量で存在することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
成分 a-i）が成分 a）の重量に基づいて 30〜80 重量％の量で存在し、成分 a-ii）が成分 a）の重量に基づいて 20〜70 重量％の量で存在することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
成分 b-i）が成分 b）の重量に基づいて 30〜80 重量％の量で存在し、成分 b-ii）が成分 b）の重量に基づいて 20〜70 重量％の量で存在することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
成分 a-i）のポリエーテルセグメントが少なくとも 6,000 の数平均分子量を有し、成分 a-ii）のポリエーテルセグメントが 3,000〜12,000 の数平均分子量を有することを特徴とする、請求項１〜４及び６のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネートの製造方法であって、
分子量調節剤を適宜含む不活性有機溶媒中で、水性塩基の存在下、カーボネート前駆体をジヒドロキシ化合物と反応させてオリゴマー状ポリカーボネートを生成させる段階であって、オリゴマー状ポリカーボネート形成時にジヒドロキシ化合物とカーボネート前駆体との反応が８０〜９９％完了している段階、
不活性有機溶剤及び水性塩基を除去してオリゴマー状ポリカーボネートを単離する段階、及び、
痕跡量の残留溶媒を除去するのに有効な温度及び圧力で、単離したオリゴマー状ポリカーボネートを触媒存在下でエステル交換して高分子量ポリカーボネートを生成させる段階
を含んでなる方法であって、上記触媒が、水酸化ナトリウム、水素化リチウム、亜リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素セシウム、酢酸テトラメチルホスホニウム、酢酸テトラエチルホスホニウム、酢酸テトラプロピルホスホニウム、酢酸テトラブチルホスホニウム、酢酸テトラペンチルホスホニウム、酢酸テトラヘキシルホスホニウム、酢酸テトラヘプチルホスホニウム、酢酸テトラオクチルホスホニウム、酢酸テトラデシルホスホニウム、酢酸テトラドデシルホスホニウム、酢酸テトラトリルホスホニウム、酢酸テトラフェニルホスホニウム、安息香酸テトラメチルホスホニウム、安息香酸テトラエチルホスホニウム、安息香酸テトラプロピルホスホニウム、安息香酸テトラフェニルホスホニウム、ギ酸テトラメチルホスホニウム、ギ酸テトラエチルホスホニウム、ギ酸テトラプロピルホスホニウム、ギ酸テトラフェニルホスホニウム、プロピオン酸テトラメチルホスホニウム、プロピオン酸テトラエチルホスホニウム、プロピオン酸テトラプロピルホスホニウム、酪酸テトラメチルホスホニウム、酪酸テトラエチルホスホニウム、酪酸テトラプロピルホスホニウム又はこれらの１種類以上を含む組合せであって、オリゴマー状ポリカーボネート１モル当たり１×１０-9〜１×ｌ０-4モルの量で添加される、方法。
【請求項２】
前記カーボネート前駆体が、塩化カルボニル、臭化カルボニル、二価フェノールのビス−ハロホルメート、ビスフェノールＡのビス−ハロホルメート、ヒドロキノンのビス−ハロホルメート、エチレングリコールのビス−ハロホルメート、ネオペンチルグリコールのビス−ハロホルメート、ジアリールカーボネート、ジフェニルカーボネート、ジ（トリル）カーボネート、ジ（ナフチル）カーボネート又はこれらのカーボネート前駆体の１種類以上を含む組合せであり、前記ジヒドロキシ化合物が次の式（III）のビスフェノール化合物である、請求項１記載の方法。
【化１】
2006511667.tif 000001
式中、Ｒa及びＲbは同一又は異なるもので、各々、塩素、臭素又は炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基であり、ｐ及びｑは各々独立に０〜４の整数であり、Ｘaは次の式（IV）のいずれかの基である。
【化２】
2006511667.tif 000002
式中、Ｒc及びＲdは各々独立に水素原子又は一価線状もしくは環状炭化水素基であり、Ｒeは二価炭化水素基である。
【請求項３】
前記カーボネート前駆体がホスゲンであり、前記ジヒドロキシ化合物が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンである、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記水性塩基が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、トリエチルアミン、第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物又はこれらの水性塩基の１種類以上を含む組合せであり、前記分子量調節剤がフェノール、クロマン−１、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ブロモフェノール、ｐ−クミルフェノール又はこれらの分子量調節剤の１種類以上を含む組合せである、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記水性塩基が水酸化ナトリウムであり、前記分子量調節剤がフェノールであり、該分子量調節剤がジヒドロキシ化合物に関して測定して１〜１０モル％過剰量で添加される、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記エステル交換反応が２１０℃〜３１０℃の温度及び０．２〜２０ｍｍＨｇの圧力で実施される、請求項１記載の方法。
【請求項７】
有機溶媒の除去後、有機溶媒を、沸点が５０℃を超える高沸点溶媒で置換する、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記高沸点溶媒が、フェノール、フェノールとジフェニルカーボネート及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとのブレンド、フェノールとジフェニルカーボネートとのブレンド、又はフェノールと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとのブレンドであって、オリゴマー状ポリカーボネートの全重量を基準にして１０〜１００重量％の量で添加される、請求項７記載の方法。
【請求項９】
ポリカーボネートの製造方法であって、
分子量調節剤を含む不活性有機溶剤中で、水性塩基の存在下、カーボネート前駆体をジヒドロキシ化合物と反応させて、平均鎖長Ｐn３０未満のオリゴマー状ポリカーボネートを生成させる段階、
溶媒及び水性塩基を除去してオリゴマー状ポリカーボネートを単離する段階、及び
痕跡量の残留溶媒が除去される温度及び圧力で、単離したオリゴマー生成物をエステル交換して、平均鎖長Ｐn３０以上の高分子量ポリカーボネートを生成させる段階
を含んでなる方法であって、上記触媒が、水酸化ナトリウム、水素化リチウム、亜リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素セシウム、酢酸テトラメチルホスホニウム、酢酸テトラエチルホスホニウム、酢酸テトラプロピルホスホニウム、酢酸テトラブチルホスホニウム、酢酸テトラペンチルホスホニウム、酢酸テトラヘキシルホスホニウム、酢酸テトラヘプチルホスホニウム、酢酸テトラオクチルホスホニウム、酢酸テトラデシルホスホニウム、酢酸テトラドデシルホスホニウム、酢酸テトラトリルホスホニウム、酢酸テトラフェニルホスホニウム、安息香酸テトラメチルホスホニウム、安息香酸テトラエチルホスホニウム、安息香酸テトラプロピルホスホニウム、安息香酸テトラフェニルホスホニウム、ギ酸テトラメチルホスホニウム、ギ酸テトラエチルホスホニウム、ギ酸テトラプロピルホスホニウム、ギ酸テトラフェニルホスホニウム、プロピオン酸テトラメチルホスホニウム、プロピオン酸テトラエチルホスホニウム、プロピオン酸テトラプロピルホスホニウム、酪酸テトラメチルホスホニウム、酪酸テトラエチルホスホニウム、酪酸テトラプロピルホスホニウム又はこれらの１種類以上を含む組合せであって、オリゴマー状ポリカーボネート１モル当たり１×１０-9〜１×ｌ０-4モルの量で添加される、方法。
【請求項１０】
前記分子量調節剤が、ジヒドロキシ化合物に関して測定して１〜１０モル％過剰の量で添加され、エステル交換反応が２１０℃〜３１０℃の温度及び０．２〜２０ｍｍＨｇの圧力で実施される、請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の構造を有するエポキシ‐末端の有機／無機ハイブリッドコポリマーであって、
【化１】
2006511664.tif 000001
そこでは、ｎが１〜１００であり、ｑが１〜２０であり、コアーが有機単位であり、ブロックＡがシラン単位、シロキサン単位又はそれらの混合物のような無機単位であり、ブロックＢが有機単位であり、そしてＲがアルキル又はＨであって、一つ以上のＲ基が環構造の一部であっても良く、そしてｑが１又は２である場合に、前記ブロックＢがその主鎖中にエーテル官能性を含まないものである、コポリマー。
【請求項２】
ｑが３〜２０である、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項３】
ｑが３〜６である、請求項２に記載のコポリマー。
【請求項４】
ｎが１〜５である、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項５】
前記コアーが、複数の不飽和置換基を備える炭化水素部分から成る群から得られるものである、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項６】
前記コアーが、テトラアリルビスフェノールＡ；２，５‐ジアリルフェノールアリルエーテル；トリメチロールプロパントリアリルエーテル；ペンタエリトリトールテトラアリルエーテル；トリアリルイソシアヌレート；トリアリルシアヌレート；及びそれらの混合物から成る群から得られるものである、請求項５に記載のコポリマー。
【請求項７】
ｑが２であり、前記コアーがジアリルビスフェノールＡ；１，４‐ジビニルベンゼン；又は１，３‐ジビニルベンゼンである、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項８】
前記ブロックＢが、線状又は分岐状のアルキル単位、ヘテロ原子を含む線状又は分岐状のアルキル単位、シクロアルキル単位、ヘテロ原子を含むシクロアルキル単位、芳香族単位、置換された芳香族単位、ヘテロ芳香族単位、又はそれらの混合物から成るものである、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項９】
前記ブロックＢが、１，３‐ビス（アルファメチル）スチレン；ジシクロペンタジエン；１，４‐ジビニルベンゼン；１，３‐ジビニルベンゼン；５‐ビニル‐２‐ノルボルネン；２，５‐ノルボルナジエン；ビニルシクロへキセン；１，３‐ブタジエン；１，５‐ヘキサジエン；エチレン又はそれらの混合物から成る群から得られるものである、請求項８に記載のコポリマー。
【請求項１０】
前記ブロックＡが、１，１，３，３‐テトラメチルジシロキサン；１，１，３，３，５，５‐ヘキサメチルトリシロキサン；１，１，３，３，５，５，７，７‐オクタメチルテトラシロキサン；ビス（ジメチルシリル）エタン（１，１，４，４‐テトラメチルジシルエチレン）；１，４‐ビス（ジメチルシリル）ベンゼン；１，３‐ビス（ジメチルシリル）ベンゼン；１，２‐ビス（ジメチルシリル）ベンゼン及びそれらの混合物から成る群から得られるものである、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項１１】
前記ブロックＢが、ジアリルエーテル；ビスフェノールＡジアリルエーテル；１，３‐ビス（アルファメチル）スチレン；ジシクロペンタジエン；１，４‐ジビニルベンゼン；１，３‐ジビニルベンゼン；５‐ビニル‐２‐ノルボルネン；２，５‐ノルボルナジエン；ビニルシクロへキセン；１，３‐ブタジエン；１，５‐ヘキサジエン；エチレン又はそれらの混合物から成る群から得られるものである、請求項２に記載のコポリマー。
【請求項１２】
前記エポキシ末端基が、不飽和エポキシ化合物のヒドロシリル化から得られるものである、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項１３】
前記エポキシ末端基が、ビニルシクロへキセンオキシド、アリルグリシジルエーテル、３，４‐エポキシブテン、リモネンモノ‐オキシド又はそれらの混合物から成る群から得られるものである、請求項１２に記載のコポリマー。
【請求項１４】
請求項１に記載のコポリマーを含む物質の組成物。
【請求項１５】
光硬化性、電子ビーム硬化性又は熱硬化性である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
接着剤、シーラント、コーティング、或いは有機発光ダイオードのためのシーラント又は封入剤を含む、請求項１４に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
そこでは、nが１〜１００であり、ｑが１〜２０であり、コアーが炭化水素単位であるように特定され、ブロックＢが有機単位であり、そしてブロックＡがシロキサン単位及び／又はシラン単位である。好ましい態様において、ｎが１〜５であり、そしてｑが３〜２０である。更に好ましい態様において、ｑが３〜６である。ブロックＢがポリエーテル単位を含有する場合には、ｑが３以上でなければならない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
この場合には、コアー１が無機組成、しばしばＳｉＨ‐末端のシロキサンである。コアー１の好ましい環状物の例は、１，３，５，７‐テトラメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ'４）である。他の可能性のあるコアー１組成は、テトラキス（ジメチルシロキシ）シラン；オクタキス（ジメチルシロキシ）オクタプリスモシルセスクイオキサン；及びそれらの混合物である。次いで、ブロックＣが有機ジエンであり、ブロックＤが無機のビス（ＳｉＨ‐官能性）材料である。これらのブロック及びエポキシ‐末端の構造に関する記載内容は、ブロックＢに対応するブロックＣ、及びブロックＡに対応するブロックＤと共に、有機コアー材料について上述されたものと同様である。同様に、ｎが１〜１００であり、ｑが１〜２０の範囲にあり得るが、オレフィン末端材料については、ｎが０〜１００の範囲にあっても良い。ブロックＣがエーテル単位を含有する場合には、ｑが３以上でなければならない。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月5日(2006.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明芳香族ポリカーボネート樹脂と、
混和性透明環式脂肪族コポリエステルと、
静電気消散性特性を当該組成物に付与するのに充分な量の静電気消散性ポリマー
との組合せを含んでなる透明な永続的静電気消散性組成物であって、芳香族ポリカーボネート、環式脂肪族コポリエステル及び静電気消散性ポリマーは各々所定の屈折率を有しており、静電気消散性ポリマーの屈折率はポリカーボネート樹脂と環式脂肪族コポリエステル樹脂の間の屈折率値を有しており、ポリカーボネート樹脂及び環式脂肪族コポリエステル樹脂は静電気消散性ポリマーの屈折率と実質的に合致するように静電気組成物中に存在し、環式脂肪族コポリエステルが、
（１）８０重量％以上の環式脂肪族ジオールと残りがある場合には線状脂肪族ジオール若しくは線状脂肪族ジオールと線状脂肪族二酸の組合せ、又はこれらの化学的等価物、
（２）８０重量％以上の環式脂肪族ジカルボン酸及び残りがある場合には線状脂肪族二酸若しくは線状脂肪族二酸と線状脂肪族ジオールの組合せ、又はこれらの化学的等価物、及び
（３）８０重量％以上の環式脂肪族ジオールと８０重量％以上の環式脂肪族ジカルボン酸の混合物及び残りがある場合には線状脂肪族ジオール若しくは線状脂肪族二酸若しくはこれら２種の混合物、又はこれらの化学的等価物
からなる群から選択される反応生成物を含んでなる、組成物。
【請求項２】
環式脂肪族コポリエステル／ポリカーボネート比が２．０〜１．６であり、ポリカーボネートと環式脂肪族コポリエステルの合計重量が組成物の総重量の２０〜８０重量％である、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
静電気消散性ポリマーが組成物の総重量の０．０１〜２５重量％の量で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
環式脂肪族ジオールが炭素原子数２〜１２の環式脂肪族アルカンジオールから製造されたものである、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
環式脂肪族アルカンジオールが１，４−シクロヘキシル第一ジオールである、請求項４記載の組成物。
【請求項６】
環式脂肪族二酸が、各々飽和炭素に結合した２以上のカルボキシル基を有するジカルボン酸から製造されたものである、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
環式脂肪族コポリエステルがポリ（１，４−シクロヘキサン−ジメタノール−１，４−ジカルボキシレート）である、請求項１記載の組成物。
【請求項８】
静電気消散性ポリマーが、コポリエステルアミド、ポリエーテル−ポリアミド、ポリエーテルアミドブロックコポリマー、ポリエーテルエステル−アミドブロックコポリマー、ポリアルキルアルキレングリコール部分を含有するポリウレタン、ポリエーテルエステル、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項９】
組成物がさらに耐衝撃性改良剤を有しており、耐衝撃性改良剤が請求項１記載の組成物の屈折率と類似の屈折率を有している、請求項１記載の組成物。
【請求項１０】
当該組成物の屈折率が１．５２〜１．５４である、請求項１記載の組成物。
【請求項１１】
重量％で主要部がポリカーボネート樹脂と環式脂肪族ポリエステル樹脂との混和性混合物及び帯電防止性ポリマー材料を含んでなる実質的に透明な帯電防止性で耐衝撃性成形用組成物であって、ポリカーボネートと環式脂肪族ポリエステル樹脂との混合物が帯電防止性ポリマー材料の屈折率と実質的に合致するのに適切な割合で存在する、実質的に透明な帯電防止性成形用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月14日(2006.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）少なくとも１種類のカチオン硬化性モノマーと、
ｂ）光硬化剤Ａまたは光硬化剤Ｂを含む硬化剤であって、
光硬化剤Ａが、
１）光化学活性なカチオンおよび促進性のアニオンを含む、有効量の促進性の光化学活性な塩；および
２）非光化学活性なカチオンおよび抑制性のアニオンを含む、有効量の抑制性の非光化学活性な塩を含み、
光硬化剤Ｂが、
１）光化学活性なカチオンおよび抑制性のアニオンを含む、有効量の抑制性の光化学活性な塩；および
２）非光化学活性なカチオンおよび促進性のアニオンを含む、有効量の促進性の非光化学活性な塩を含み、
ここで、前記抑制性および促進性のアニオンは光示差走査熱量測定（ｐＤＳＣ）および熱示差走査熱量測定（ｔＤＳＣ）によって定義され、０〜３００ジュール／グラム（Ｊ／ｇ）のＤＳＣ全発熱エネルギー値を有するトリアリールスルホニウム塩のアニオンが抑制性のアニオンとして分類され、３００〜７５０ジュール／グラム（Ｊ／ｇ）を超えるＤＳＣ全発熱エネルギー値を有するトリアリールスルホニウム塩のアニオンが促進性のアニオンとして分類される硬化剤と、
を含む光硬化性組成物。
【請求項２】
前記カチオン硬化性モノマーが、１，２−、１，３−および１，４−環状エーテル（１，２−、１，３−および１，４−エポキシドとも呼ばれる）、ビニルエーテル、Ｎ−ビニル化合物、エチレン性不飽和炭化水素、環状ホルマール、および環状オルガノシロキサンからなる群から選択される、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
光化学活性なカチオンおよび促進性のアニオンを含む光硬化剤Ａの前記促進性の光化学活性な塩が、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＨＣ（ＳＯ2ＣＦ3）2-、Ｃ（ＳＯ2ＣＦ3）3-、Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2-、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン、テトラ（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ホウ酸イオンのヨードニウム塩、スルホニウム塩およびカチオン性有機金属塩からなる群から選択され、非光化学活性なカチオンおよび抑制性のアニオンを含む前記抑制性の非光化学活性な塩が、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ｐ−トルエンスルホン酸イオンおよびテトラフェニルホウ酸イオンのテトラアルキルアンモニウム塩、ホスホニウム塩、ピリジニウム塩、ベンゾチアゾリウム塩、ベンゾオキサゾリウム塩、Ｌｉ+塩、Ｎａ+塩、Ｋ+塩、Ｃｓ+塩およびＣａ+2塩からなる群から選択され、光化学活性なカチオンおよび抑制性のアニオンを含む光硬化剤Ｂの前記抑制性の光化学活性な塩が、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ｐ−トルエンスルホン酸イオンおよびテトラフェニルホウ酸イオンのヨードニウム塩、スルホニウム塩および有機金属塩からなる群から選択され、非光化学活性なカチオンおよび促進性のアニオンを含む光硬化剤Ｂの前記非光化学活性な促進塩が、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ＣＦ3ＳＯ3-、Ｃ（ＳＯ2ＣＦ3）3-、ＨＣ（ＳＯ2ＣＦ3）2-、ＣＦ3ＳＯ3-、Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2-、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオンおよびテトラ（３，５−ビスフルオロメチルフェニル）ホウ酸イオンのテトラアルキルアンモニウム塩、ホスホニウム塩、ピリジニウム塩、ベンゾチアゾリウム塩、ベンゾオキサゾリウム塩、Ｌｉ+塩、Ｎａ+塩、Ｋ+塩、Ｃｓ+塩およびＣａ+2塩からなる群から選択される、請求項１または２に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
１ＨｚでＤＭＡにより測定されたＴgがヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ6-）のトリアリールスルホニウム塩により硬化された相当するポリマーよりも少なくとも１０℃高い、高い性能の、無色または低い色のポリマーに硬化された、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光硬化性組成物の重合方法であって、
ａ）少なくとも１種類のカチオン硬化性モノマーと、光硬化剤Ａまたは光硬化剤Ｂを含む硬化剤とを混合して、混合物を形成するステップ；および
ｂ）前記混合物を光硬化条件にかけて、前記組成物の重合を行うステップ；
を含む重合方法。
【請求項６】
請求項１，３および４のいずれか１項に記載の光硬化剤Ａまたは光硬化剤Ｂを含む、カチオンモノマーの重合のための硬化剤。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィラーを含有する熱可塑性材料を含む組成物であって、前記フィラーが（Ａ）１〜２０重量％のグラファイト、（Ｂ）１０〜３０重量％の炭素繊維、および（Ｃ）１〜２０重量％の雲母を含み、０．２０以下の摩擦係数を有することを特徴とする組成物。
【請求項２】
（Ｄ）０〜１５重量％の粒子状ポリイミドをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の組成物から製造された物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
それ故、本明細書で前に述べられた目標および利点を完全に満たす０．２０以下の低摩擦係数を提供するための炭素繊維、雲母およびグラファイトならびに場合により粒子状ポリイミドを含有する組成物が本発明に従って提供されたことは明らかである。本発明はその具体的な実施形態に関連して記載されてきたが、多くの代替案、修正および変形が当業者には明らかであろうことは明白である。従って、添付された特許請求の範囲の精神および広い範囲内に入るすべてのかかる代替案、修正および変形を包含することが意図される。
なお、本発明の好ましい態様には以下のものが含まれる。
１．フィラーを含有する熱可塑性材料を含む組成物であって、前記フィラーが（Ａ）１〜２０重量％のグラファイト、（Ｂ）１０〜３０重量％の炭素繊維、および（Ｃ）１〜２０重量％の雲母を含み、０．２０以下の摩擦係数を有することを特徴とする組成物。
２．（Ｄ）０〜１５重量％の粒子状ポリイミドをさらに含むことを特徴とする１に記載の組成物。
３．前記熱可塑性材料が４５〜９２重量％を構成することを特徴とする２に記載の組成物。
４．前記熱可塑性材料が好ましくは５０〜８６重量％を構成することを特徴とする３に記載の組成物。
５．前記熱可塑性材料が最も好ましくは６５〜７０重量％を構成することを特徴とする４に記載の組成物。
６．前記熱可塑性材料が液晶ポリエステル（ＬＣＰ）、ポリイミドまたはポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）を含むことを特徴とする１または２に記載の組成物。
７．前記炭素繊維が約１／３インチ（８．２ｍｍ）の長さを有して切り刻まれていることを特徴とする１または３に記載の組成物。
８．前記炭素繊維が好ましくはミルにかけられ、そして少なくとも１５０マイクロメートルの平均長さを有することを特徴とする７に記載の組成物。
９．１〜８のいずれか１項に記載の組成物から製造された物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）基材であって、９９．５〜４０重量％のポリオキシメチレンポリマーと、０．５〜６０重量％の少なくとも１種の非アセタール熱可塑性ポリマーとを含み、接着を促進するために前記非アセタール熱可塑性ポリマーが前記基材の表面上または表面付近にあるものである基材と、
（ｂ）前記基材に接着された少なくとも１つの層、
とを含むことを特徴とする物品。
【請求項２】
（ｉ）９９．５〜４０重量％のポリオキシメチレンポリマーと、０．５〜６０重量％の少なくとも１種の非アセタール熱可塑性ポリマーとを含むマトリックスを混合するステップと、
（ｉｉ）前記マトリックスを基材に成形するステップと、
（ｉｉｉ）少なくとも１つの層を前記基材に接着するステップとを含むことを特徴とする、請求項１に記載の物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４７】
【表１】
2006511649.tif 000001
最後に本明細書に記載の発明につき列記する。
１．  （ａ）基材であって、９９．５〜４０重量％のポリオキシメチレンポリマーと、０．５〜６０重量％の少なくとも１種の非アセタール熱可塑性ポリマーとを含み、接着を促進するために前記非アセタール熱可塑性ポリマーが前記基材の表面上または表面付近にあるものである基材と、
（ｂ）前記基材に接着された少なくとも１つの層、
とを含むことを特徴とする物品。
２．  前記ポリオキシメチレンポリマーが分枝状または線状であることを特徴とする前記１．に記載の物品。
３．  前記ポリオキシメチレンポリマーが約１０，０００〜約１００，０００の範囲の数平均分子量を有することを特徴とする前記２．に記載の物品。
４．  前記ポリオキシメチレンポリマーが約２５，０００〜約７０，０００の範囲の数平均分子量を有することを特徴とする前記３．に記載の物品。
５．  前記基材が、約０．５〜約２０重量％の少なくとも１種の追加の非アセタールポリマーを含むことを特徴とする前記１．に記載の物品。
６．  前記少なくとも１種の非アセタールポリマーが、スチレンアクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂で強化されたスチレンアクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−スチレン樹脂で強化されたスチレンアクリロニトリルコポリマー、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアリーレート（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅｓ）、ポリフェニレンオキシドおよびそれらのブレンド、ポリフェニレンエーテルおよびそれらのブレンド、耐衝撃性スチレン樹脂、アクリルポリマー、イミド化アクリル樹脂（ｉｍｉｄｉｚｅｄ  ａｃｒｙｌｉｃ  ｒｅｓｉｎｓ）、スチレン無水マレイン酸コポリマー、ポリスルホン、スチレンアクリロニトリル無水マレイン酸樹脂、およびスチレンアクリルコポリマー、およびそれらの誘導体からなる群より選択されることを特徴とする前記１．に記載の物品。
７．  前記少なくとも１種の非アセタールポリマーが、スチレンアクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−スチレン樹脂、およびポリカーボネートからなる群より選択されることを特徴とする前記６．に記載の物品。
８．  前記少なくとも１種の非アセタールポリマーが、ポリアミド、ポリエステル、およびポリオレフィンからなる群より選択される半結晶質ポリマーであることを特徴とする前記１．に記載の物品。
９．  前記少なくとも１つの層が前記基材と共連続（ｃｏ−ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ）であることを特徴とする前記１．に記載の物品。
１０．  前記少なくとも１つの層が前記基材と不連続であることを特徴とする前記１．に記載の物品。
１１．  前記少なくとも１つの層が、熱可塑性エラストマー、熱可塑性オレフィン、熱可塑性ウレタン、ポリエチレン、およびポリプロピレンからなる群より選択されることを特徴とする前記１．に記載の物品。
１２．  前記少なくとも１つの層が、溶剤（ｓｏｌｖｅｎｔ）、水性ラテックス、エポキシ、ウレタン、粉末コーティングアクリル（ｐｏｗｄｅｒ  ｃｏａｔｉｎｇ  ａｃｒｙｌｉｃ）からなる群より選択されることを特徴とする前記１．に記載の物品。
１３．  前記少なくとも１つの層が、溶剤系接着剤（ｓｏｌｖｅｎｔ−ｂａｓｅｄ  ｇｌｕｅ）、ラテックス、エポキシ、および強力接着剤（ｓｕｐｅｒ  ｇｌｕｅ）からなる群より選択されることを特徴とする前記１．に記載の物品。
１４．  前記基材が、エッチング、炎イオン化（ｆｌａｍｉｎｇ  ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ）、サンダー仕上（ｓａｎｄｉｎｇ）、表面清浄化、およびＵＶ曝露から選択される表面改質技術で前処理されることを特徴とする前記１．に記載の物品。
１５．  （ｉ）９９．５〜４０重量％のポリオキシメチレンポリマーと、０．５〜６０重量％の少なくとも１種の非アセタール熱可塑性ポリマーとを含むマトリックスを混合するステップと、
（ｉｉ）前記マトリックスを基材に成形するステップと、
（ｉｉｉ）少なくとも１つの層を前記基材に接着するステップとを含むことを特徴とする、前記１．に記載の物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の量および比率で以下の４つの酸および水を含有する混合酸浴中に物品を浸漬することによる、後の処理のための表面を調製するためのポリアセタール物品の表面をエッチングする方法：
２８〜３９重量％の硫酸、および２５〜３２重量％のリン酸、但し、硫酸のリン酸に対する重量比が０．９〜１．５の範囲にあるもの、
３〜１０重量％の塩酸、および３〜１４重量の酢酸、但し、塩酸の酢酸に対する重量比が０．２５〜３．０の範囲であるもの、および
５〜４１重量％の水。
【請求項２】
請求項１に記載の物品のエッチングを行うステップと、続いて、エッチングされた表面に直接めっきを適用するステップとを含むことを特徴とするポリアセタール物品のめっき方法。
【請求項３】
請求項１に記載の物品のエッチングを行うステップと、エッチングされた表面に直接無電界めっきを適用するステップと、前記無電界めっき上に電気めっきを適用するステップとを含むことを特徴とするポリアセタール物品のめっき方法。
【請求項４】
請求項１に記載の物品のエッチングを行うステップと、続いて、エッチングされた表面上に有機塗料を直接適用するステップとを含むことを特徴とするポリアセタール物品の装飾方法。
【請求項５】
後の処理のための表面を調製するためのポリアセタール物品表面をエッチングするための混合酸エッチング浴であって、以下の量および比率で以下の４つの酸および水を含有する混合酸エッチング浴：
２８〜３９重量％の硫酸、および２５〜３２重量％のリン酸、但し、硫酸のリン酸に対する重量比が０．９〜１．５の範囲であるもの、
３〜１０重量％の塩酸、および３〜１４重量の酢酸、但し、塩酸の酢酸に対する重量比が０．２５〜３．０の範囲であるもの、および
５〜４１重量％の水。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
この広い処理領域によって、前述したような多くの利点が得られる。特に、本発明のエッチングおよびエッチング方法によって、ポリアセタール組成の異なる種々の物品、および種々の規則的または複雑な形状の種々の物品を、少ない欠陥で均一にエッチングすることができる。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．以下の量および比率で以下の４つの酸および水を含有する混合酸浴中に物品を浸漬することによる、後の処理のための表面を調製するためのポリアセタール物品の表面をエッチングする方法：
２８〜３９重量％の硫酸、および２５〜３２重量％のリン酸、但し、硫酸のリン酸に対する重量比が０．９〜１．５の範囲にあるもの、
３〜１０重量％の塩酸、および３〜１４重量の酢酸、但し、塩酸の酢酸に対する重量比が０．２５〜３．０の範囲であるもの、および
５〜４１重量％の水。
２．前記混合酸浴が、３２〜３６重量％の硫酸、２７〜３０重量％のリン酸、４〜６重量％の塩酸、６〜１０重量％の酢酸、および１８〜３１重量％の水を含有することを特徴とする前記１に記載の方法。
３．硫酸のリン酸に対する前記比が１．０〜１．４の範囲であり、塩酸の酢酸に対する前記比が０．４〜１．０の範囲であることを特徴とする前記１に記載の方法。
４．硫酸のリン酸に対する前記比が１．１〜１．３の範囲であり、塩酸の酢酸に対する前記比が０．５〜０．６の範囲であることを特徴とする前記３に記載の方法。
５．前記混合酸浴が室温において１．３３〜１．４８ｇ／ｃｍ３の範囲の比重を有することを特徴とする前記１に記載の方法。
６．前記混合酸浴が室温において１．３８〜１．４２ｇ／ｃｍ３の範囲の比重を有することを特徴とする前記５に記載の方法。
７．前記物品が、２０〜４０℃の範囲の温度の前記混合酸浴中に６０分までの間浸漬されることを特徴とする前記１に記載の方法。
８．前記物品が、２５〜３５℃の範囲の温度の前記混合酸浴中に５分〜４０分間浸漬されることを特徴とする前記７に記載の方法。
９．前記エッチングの後で、中和ステップおよび洗浄が行われることを特徴とする前記１に記載の方法。
１０．前記１に記載の物品のエッチングを行うステップと、続いて、エッチングされた表面に直接めっきを適用するステップとを含むことを特徴とするポリアセタール物品のめっき方法。
１１．前記１に記載の物品のエッチングを行うステップと、エッチングされた表面に直接無電界めっきを適用するステップと、前記無電界めっき上に電気めっきを適用するステップとを含むことを特徴とするポリアセタール物品のめっき方法。
１２．前記１に記載の物品のエッチングを行うステップと、続いて、エッチングされた表面上に有機塗料を直接適用するステップとを含むことを特徴とするポリアセタール物品の装飾方法。
１３．前記塗料の上にワニスのトップコートを適用するステップを含むことを特徴とする前記１２に記載の方法。
１４．金属真空蒸着によって前記有機塗料の上に金属層を適用するステップが続くことを特徴とする前記１２に記載の方法。
１５．後の処理のための表面を調製するためのポリアセタール物品表面をエッチングするための混合酸エッチング浴であって、以下の量および比率で以下の４つの酸および水を含有する混合酸エッチング浴：
２８〜３９重量％の硫酸、および２５〜３２重量％のリン酸、但し、硫酸のリン酸に対する重量比が０．９〜１．５の範囲であるもの、
３〜１０重量％の塩酸、および３〜１４重量の酢酸、但し、塩酸の酢酸に対する重量比が０．２５〜３．０の範囲であるもの、および
５〜４１重量％の水。
１６．３２〜３６重量％の硫酸、２７〜３０重量％のリン酸、４〜６重量％の塩酸、６〜１０重量％の酢酸、および１８〜３１重量％の水を含有することを特徴とする前記１５に記載の浴。
１７．硫酸のリン酸に対する前記比が１．０〜１．４の範囲であり、塩酸の酢酸に対する前記比が０．４〜１．０の範囲であることを特徴とする前記１５に記載の浴。
１８．硫酸のリン酸に対する前記比が１．１〜１．３の範囲であり、塩酸の酢酸に対する前記比が０．５〜０．６の範囲であることを特徴とする前記１７に記載の浴。
１９．室温において１．３３〜１．４８ｇ／ｃｍ３の範囲の比重を有することを特徴とする前記１５に記載の浴。
２０．室温において１．３８〜１．４２ｇ／ｃｍ３の範囲の比重を有することを特徴とする前記１９に記載の浴。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月11日(2006.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）大環状オリゴマーから得られるポリマー及びｂ）直径が２００μｍ又はそれ以下のカーボンナノチューブの一つ又はそれ以上の網状構造を含んでなる組成物であって、前記カーボンナノチューブの網状構造がポリマーマトリックス中に分散し、そしてカーボンナノチューブが組成物が１×１０-5Ｓ／ｃｍ又はそれ以上の導電率を示すような量で存在している組成物。
【請求項２】
多官能価活性水素含有ポリマーを更に含む請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ａ）組成物１００重量部当り５０〜９８部のポリマーマトリックス及びｂ）組成物１００重量部当り２部以上で１５部より少ない量のカーボンナノチューブの網状構造を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記カーボンナノチューブのアスペクト比が１５０又はそれ以上である請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリマーマトリックスが大環状オリゴエステルから得られるポリエステルを含む請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
カーボンナノチューブの一つ又はそれ以上の網状構造がポリマーマトリックス中に分散された請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物の製造方法であって、カーボンナノチューブの網状構造と、溶融大環状オリゴマー及び前記大環状オリゴマーの重合用触媒とを、前記大環状オリゴマーが環分解し且つ内部に分散されたカーボンナノチューブの網目構造と一緒に重合する条件下で接触させることを含んでなる製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物を含んでなる成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【化１】
2006511652.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月20日(2006.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素含有硬化部位であって、前記硬化部位がアミジン基、その塩およびそれらの組み合わせから選択され、任意に、前記チッソ含有硬化部位が（ｉ）チッソ含有硬化部位モノマー、または（ｉｉ）チッソ含有連鎖移動剤から誘導されるチッソ含有硬化部位と、
フッ素化モノマーから誘導される単位とを含む、フルオロプラスチックであって、
任意に、前記フッ素化モノマーがテトラフルオロエチレン、ペルフルオロオレフィン、ペルフルオロビニルエーテルおよびそれらの組み合わせからなる群から選択され、
任意に、前記フルオロプラスチックが臭素原子、ヨウ素原子およびそれらの組合せをさらに含む、フルオロプラスチック。
【請求項２】
前記フルオロプラスチックがコア−シェルポリマーの形態であり、その中で前記コアが前記フッ素化モノマーから誘導される単位を含み、前記シェルが前記窒素含有硬化部位を含む、請求項１に記載のフルオロプラスチック。
【請求項３】
窒素含有硬化部位とフッ素化モノマーから誘導される単位とを含むフルオロプラスチック粒子を含むラテックスであって、
前記硬化部位がアミジン基、その塩およびそれらの組み合わせから選ばれ、任意に、前記粒子が約１０〜約５００ｎｍの範囲の粒径を有する、ラテックス。
【請求項４】
（ａ）フルオロプラスチックであり、任意に硬化性混合物に対して約１〜７０重量％含まれるフルオロプラスチックおよび（ｂ）フルオロエラストマーゴムを含む硬化可能な混合物であって、
前記フルオロプラスチックが窒素含有硬化部位と、フッ素化モノマーから誘導される単位とを含み、
任意に、前記窒素含有硬化部位モノマーがニトリル含有硬化部位モノマーを含み、
任意に、窒素含有硬化部位が
（ｉ）窒素含有硬化部位モノマーであって、任意に、ニトリル含有硬化部位モノマー、アミジン含有硬化部位モノマーおよびその塩、イミデート含有硬化部位モノマー、ならびにそれらの組合せからなる群より選択される、または、
（ｉｉ）窒素含有連鎖移動剤
から誘導され、
任意に、前記フッ素化モノマーが、ペルフルオロオレフィン、ペルフルオロビニルエーテルおよびそれらの組合せからなる群より選択される、混合物。
【請求項５】
（ａ）フルオロプラスチックおよび（ｂ）フルオロエラストマーゴムを含む硬化された成形物品であって、
前記フルオロプラスチックが窒素含有硬化部位と、フッ素化モノマーから誘導される単位とを含み、
任意に、前記窒素含有硬化部位モノマーがニトリル含有硬化部位モノマーを含み、
任意に、窒素含有硬化部位が
（ｉ）窒素含有硬化部位モノマーであって、任意に、ニトリル含有硬化部位モノマー、アミジン含有硬化部位モノマーおよびその塩、イミデート含有硬化部位モノマー、ならびにそれらの組合せからなる群より選択される、または、
（ｉｉ）窒素含有連鎖移動剤
から誘導され、
任意に、前記フッ素化モノマーが、ペルフルオロオレフィン、ペルフルオロビニルエーテルおよびそれらの組合せからなる群より選択され、
任意に、前記物品が７０時間×３１５℃の後で、約７０％以下の圧縮永久歪みを有する、成形物品
【請求項６】
（ａ）フルオロプラスチック粒子を含むラテックス、および（ｂ）フルオロエラストマーゴム粒子を含むラテックスを含み、前記フルオロプラスチック粒子が、窒素含有硬化部位とフッ素化モノマーから誘導される単位とを含む、混合物であって、
任意に、前記フルオロプラスチック粒子が、約１０〜約５００ｎｍの範囲の粒径を有する、混合物。
【請求項７】
フルオロプラスチックを調製するための方法であって：
（ａ）少なくとも１種のフッ素化モノマーを含む第１の重合性組成物を重合反応器の中に導入する工程；
（ｂ）前記反応器の中で前記組成物を重合させて、少なくとも部分的に重合した組成物を形成させる工程；
（ｃ）（反応器に導入される組成物の全重量を基準にして）４０重量パーセントまで、任意に約２０重量％まで、任意に約１０重量％までの第２の重合性組成物を前記反応器に導入する工程であって、前記組成物が少なくとも７０重量パーセントの、窒素含有硬化部位成分を含む、工程；および
（ｄ）前記窒素含有硬化部位成分を前記フッ素化モノマーと共重合させて、フルオロプラスチックを形成させる工程、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）（ａ）ポリアセタールポリマーマトリックスを形成するステップと、
（ｉｉ）（ｂ）濃縮物を前記ポリアセタールマトリックスに加えるステップであって、前記濃縮物が、０重量％〜４０重量％の熱可塑性ポリウレタンと２０重量％〜８０重量％の少なくとも１種の非晶質または半結晶質のポリマーとをポリアセタール中に含む、ステップと、
（ｉｉｉ）（ｃ）基材を成形するステップであって、（ａ）＋（ｂ）の全重量を基準にして成分（ａ）が８５〜９８重量％で存在し、成分（ｂ）が２〜１５重量％で存在するステップと
を含む基材の製造方法。
【請求項２】
（ｉ）請求項１に記載の基材を形成するステップと、
（ｉｉ）少なくとも１つの追加層を前記基材に接着するステップと
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法により製造されたことを特徴とする物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
（接着性を試験した塗料）
タイプＢ−ラスト−オレウム・ハード・ハット（Ｒｕｓｔ−ｏｌｅｕｍ  Ｈａｒｄ  Ｈａｔ）、スプレー、仕上ＡＣＡＢＡＤＯセイフティ・ブルーＶ２１２４（ｆｉｎｉｓｈ  ＡＣＡＢＡＤＯ  ｓａｆｅｔｙ  ｂｌｕｅ  Ｖ２１２４）
タイプＫ−タミヤ・ヨーロッパ（Ｔａｍｉｙａ  Ｅｕｒｏｐｅ  ＧＭＢＨ）のＴＳ−５オリーブ・ドラブ（Ｏｌｉｖｅ  Ｄｒａｂ）
最後に、本明細書に開示される発明について列記する。
１．  （ｉ）（ａ）ポリアセタールポリマーマトリックスを形成するステップと、
（ｉｉ）（ｂ）濃縮物を前記ポリアセタールマトリックスに加えるステップであって、前記濃縮物が、０重量％〜４０重量％の熱可塑性ポリウレタンと２０重量％〜８０重量％の少なくとも１種の非晶質または半結晶質のポリマーとをポリアセタール中に含む、ステップと、
（ｉｉｉ）（ｃ）基材を成形するステップであって、（ａ）＋（ｂ）の全重量を基準にして成分（ａ）が８５〜９８重量％で存在し、成分（ｂ）が２〜１５重量％で存在するステップと
を含む基材の製造方法。
２．  前記ポリアセタールポリマーが、約１０，０００〜約１００，０００の範囲の数平均分子量を有する分枝状または線状のポリマーであることを特徴とする前記１．に記載の方法。
３．  前記ポリアセタールポリマーがホモポリマー、コポリマー、またはそれらの混合物であることを特徴とする前記２．に記載の方法。
４．  前記ホモポリマーが、エステルまたはエーテルから選択される基によってエンドキャップされている末端水酸基を有することを特徴とする前記３．に記載の方法。
５．  前記エステル基がアセテート基であることを特徴とする前記４．に記載の方法。
６．  前記エーテル基がメトキシ基であることを特徴とする前記４．に記載の方法。
７．  前記ポリアセタールマトリックスが、少なくとも１種の安定剤をさらに含むことことを特徴とする前記１．に記載の方法。
８．  前記濃縮物が少なくとも１種のペレットの形態であることを特徴とする前記１．に記載の方法。
９．  前記少なくとも１つの非晶質または半結晶質のポリマーが、スチレンアクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂で強化されたスチレンアクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−スチレン樹脂で強化されたスチレンアクリロニトリルコポリマー、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル、ポリエステル−ポリエーテルコポリマー、ポリアリーレート（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅｓ）、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンエーテル、耐衝撃性スチレン樹脂、アクリルポリマー、イミド化アクリル樹脂（ｉｍｉｄｉｚｅｄ  ａｃｒｙｌｉｃ  ｒｅｓｉｎｓ）、スチレン無水マレイン酸コポリマー、ポリスルホン、スチレンアクリロニトリル無水マレイン酸樹脂、スチレンアクリルコポリマー、およびそれらの誘導体からなる群より選択されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
１０．  前記少なくとも１つの非晶質または半結晶質のポリマーが、スチレンアクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−スチレン樹脂、およびポリカーボネート、ポリエステル、ポリエステル−ポリエーテルコポリマーからなる群より選択されることを特徴とする前記９．に記載の方法。
１１．  前記基材が、押出成形および射出成形からなる群より選択される方法を使用して成形され得ることを特徴とする前記１．に記載の方法。
１２．  （ｉ）請求項１に記載の基材を形成するステップと、
（ｉｉ）少なくとも１つの追加層を前記基材に接着するステップと
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
１３．  前記少なくとも１つの追加層が、熱可塑性オレフィン、熱可塑性エラストマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、熱可塑性ポリウレタン、極性オレフィン、溶剤（ｓｏｌｖｅｎｔ）、水性ラテックス、エポキシ、ウレタン、粉末コーティングアクリル（ｐｏｗｄｅｒ  ｃｏａｔｉｎｇ  ａｃｒｙｌｉｃ）、溶剤系接着剤（ｓｏｌｖｅｎｔ−ｂａｓｅｄ  ｇｌｕｅｓ）、ラテックス、エポキシ、塗料、印刷インク、および強力接着剤（ｓｕｐｅｒ  ｇｌｕｅ）であることを特徴とする前記１２．に記載の方法。
１４．  前記少なくとも１つの追加層が不連続であることを特徴とする前記１２．に記載の方法。
１５．  前記少なくとも１つの追加層が共連続（ｃｏ−ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ）であることを特徴とする前記１２．に記載の方法。
１６．  前記１２．に記載の方法により製造されたことを特徴とする物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月20日(2006.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉの繰り返し単位を有する骨格を含むポリマー
【化１】
2006511659.tif 000001
（式中、Ｒ１は各々独立に、Ｈ、Ｃ１〜４０のヒドロカルビル、又は１個又は複数のＳ、Ｎ、Ｏ、Ｐ、若しくはＳｉ原子を含むＣ３〜４０のヒドロカルビル、又は両方のＲ１はフルオレン上の９−炭素と共に１個又は複数のＳ、Ｎ、若しくはＯ原子を含むＣ５〜２０環構造を形成し、
Ｒ２は各々独立に、Ｃ１〜２０ヒドロカルビル、Ｃ１〜２０ヒドロカルビルオキシ、チオエーテル、Ｃ１〜２０ヒドロカルビルオキシカルボニル、Ｃ１〜２０ヒドロカルビルカルボニルオキシ、又はシアノであり、
ａは各々独立に０又は１であり、
ＸはＯ、Ｓ、ＳＯ２、Ｃ（Ｒ３）２、Ｎ−Ｒ３、Ｓｉ（Ｒ３）２（Ｒ３は置換又は非置換のＣ６〜Ｃ４０のアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアラルキル、又はＣ１〜Ｃ２４のアルキルである）であり、
Ａｒは置換又は非置換のＣ６〜Ｃ４０のアリール又はヘテロアリール基である）。
【請求項２】
ａは０であり、Ｒ１は各々独立に、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ｎ−ヘキシルオキシフェニル、４−エトキシエトキシフェニル、フェニル、又はビフェニルであり、ＸはＳ又はＯであり、Ａｒは４−アルキルフェニル、４−アルコキシフェニル、又は４−アミノフェニルである請求項１に記載のポリマー。
【請求項３】
次式の繰り返し単位をさらに含む請求項１又は２に記載のポリマー。
【化２】
2006511659.tif 000002
【請求項４】
次式の繰り返し単位をさらに含む請求項１又は２に記載のポリマー。
【化３】
2006511659.tif 000003
【請求項５】
ベンゾチアジアゾール、ジチオフェンベンゾチアジアゾール、又は両方の繰り返し単位をさらに含む請求項１から４までのいずれかに記載のポリマー。
【請求項６】
以下の構造のトリアリールアミンの繰り返し単位をさらに含む請求項１から５までのいずれかに記載のポリマー。
【化４】
2006511659.tif 000004
【請求項７】
Ａｒは４−ｎ−ブチルフェニル、（９，９−ジブチル）−２−フルオレニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、又は４−ジトリルアミノフェニルである請求項１から６までのいずれかに記載のポリマー。
【請求項８】
ブロックコポリマーである請求項１〜７に記載のポリマー。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれかに記載のポリマーと、ポリマー用の溶媒と、任意選択的に少なくとも１種の他の共役ポリマーとを含む組成物。
【請求項１０】
印加電圧の下で、フィルムがデバイスの透明な外部部分を通して透過する可視光を放射するように、アノードとカソードの間に配設された、請求項１から９までのいずれかに記載のポリマーのフィルムを含むエレクトロルミネセンスデバイス。
【請求項１１】
電界効果トランジスタ用の半導体層として請求項１から８までのいずれかに記載のポリマーを含むデバイス。
【請求項１２】
次式の化合物
【化５】
2006511659.tif 000005
（式中、ＸはＯ、Ｓ、ＳＯ２、Ｃ（Ｒ３）２、Ｎ−Ｒ３、又はＳｉ（Ｒ３）２（Ｒ３は置換又は非置換のＣ６〜Ｃ４０のアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアラルキル、又はＣ１〜Ｃ２４のアルキルである）であり、Ａｒは置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ４０のヘテロアリール、又は４−ｎ−ブチルフェニル、又はアルコキシフェニル、又はアミノフェニルであり、ＨａｌはＢｒ、Ｃｌ、又はＩである）。
【請求項１３】
３，７−ジブロモ−Ｎ−（９，９−ジ−ｎ−ブチルフルオレン）フェノチアジン。
【請求項１４】
３，７−ジブロモ−Ｎ−（９，９−ジ−ｎ−ブチルフルオレン）フェノキサジン。
【請求項１５】
３，７−ジブロモ−Ｎ−（４−ｎ−ブチルフェニル）フェノチアジン。