【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化１】
2007507560.tif 000001
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）および−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）よりなる群から選択され；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造される、フッ素化イオン交換ポリマー。
【請求項２】
構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化３】
2007507560.tif 000002
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）および−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）よりなる群から選択され；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造されるフッ素化イオン交換ポリマーを含んでなり、かつベースポリマーが、フィルムの形態の、部分的または完全にフッ素化されたポリマーである、フッ素化イオン交換ポリマー膜。
【請求項３】
（ａ）構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化４】
2007507560.tif 000003
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）および−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）よりなる群から選択され；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そしてｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを含んでなるモノマー組成物を、そのままの形態、乳液（エマルジョン）の形態または溶液の形態で形成する工程と、
（ｂ）電離放射線にベースポリマーを照射する工程と、
（ｃ）約０℃〜約１２０℃の温度で約０．１時間〜約５００時間、ベースポリマーを、
工程（ａ）からのモノマー組成物と接触させる工程と
を含んでなる、フッ素化イオン交換ポリマー膜を製造するためのグラフト化法。
【請求項４】
第１の表面と第２の表面とを有するポリマー電解質膜を含んでなる触媒被覆膜であって、ポリマー電解質膜が、構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化６】
2007507560.tif 000004
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）または−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）であり；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造されるフッ素化イオン交換ポリマーを含んでなる、触媒被覆膜。
【請求項５】
第１の表面と第２の表面とを有するポリマー電解質膜を含んでなる膜電極アセンブリであって、ポリマー電解質膜が、構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化８】
2007507560.tif 000005
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）または−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）であり；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造されるフッ素化イオン交換ポリマーを含んでなる、膜電極アセンブリ。
【請求項６】
膜電極アセンブリを含んでなる電気化学的電池であって、膜電極アセンブリが、第１の表面と第２の表面とを有するポリマー電解質膜を含んでなり、ポリマー電解質膜が、構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化１０】
2007507560.tif 000006
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）または−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）であり；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造されるフッ素化イオン交換ポリマーを含んでなる、電気化学的電池。
【請求項７】
電気化学的電池が燃料電池である請求項５６に記載の電気化学的電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
【表８】
2007507560.tif 000007
本発明の好適な実施態様は次のとおりである。
１．  構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化１】
2007507560.tif 000008
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）および−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）よりなる群から選択され；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造される、フッ素化イオン交換ポリマー。
２．  Ｙが−ＲFＳＯ2Ｆである上記１に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
３．  ＲFが、（ＣＦ2）q（式中、ｑ＝１〜２０）、（ＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝０〜１２）および（ＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）Ｏ）qＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝１〜８）よりなる群から選択され、そしてＲ2Fが、それぞれ部分的にフッ素化または過フッ素化されていてもよいメチル、エチル、プロピル、ブチルおよびフェニルよりなる群から選択される上記１に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
４．  ＲFが、（ＣＦ2）q（式中、ｑ＝１〜４）、（ＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝０〜６）および（ＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）Ｏ）qＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝１〜２）よりなる群から選択され、そしてＲ2Fが、ペルフルオロメチル、ペルフルオロエチルおよびペルフルオロフェニルよりなる群から選択される上記３に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
５．  グラフト化モノマーが、単一のビニル基を含有する化合物、複数のビニル基を含有する化合物、構造２を有するモノマー、構造３を有するモノマーおよびそれらの混合物
【化２】
2007507560.tif 000009
（式中、Ｘは、水素、ハロゲン、アルキル、または酸素を含んでもよいペルフルオロアルキルである）よりなる群から選択されるコモノマーをさらに含んでなる上記１に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
６．  単一または複数のビニル基を含有する化合物が、ジビニルベンゼンまたはトリアリルシアヌレートである上記５に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
７．  構造３のコモノマー上の置換基Ｘが、水素、ハロゲン；Ｃ１〜Ｃ１０炭素原子を含んでなる直鎖または分枝鎖ペルフルオロアルキル基；およびＣ１〜Ｃ１０炭素原子を含んでなる酸素、塩素または臭素含有ペルフルオロアルキル基よりなる群から選択される上記５に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
８．  構造３のコモノマー上の置換基Ｘが、水素、塩素、フッ素、メチル、エチル、メトキシ、ペルフルオロメチル、ペルフルオロエチル、ペルフルオロブチル、ペルフルオロメトキシおよび−ＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）ＯＣＦ2ＣＦ3よりなる群から選択される上記７に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
９．  ベースポリマーが、非フッ素化、フッ素化および過フッ素化モノマーのホモポリマーまたはコポリマーである上記１に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
１０．  ベースポリマーが、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン）、ポリ（エチレン−クロロトリフルオロエチレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロアルキルビニルエーテル）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロメチルビニルエーテル）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロプロピルビニルエーテル）、ポリテトラフルオロエチレン、変性ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ（フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリエチレンおよびポリプロピレンよりなる群から選択される上記９に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
１１．  ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）が、ペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）またはペルフルオロ（エチルビニルエーテル）である上記１０に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
１２．  ベースポリマーが、エチレンと、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）と、１〜１０モル％のペルフルオロブチルエチレンのようなターモノマーとのターポリマーを含んでなる上記２に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
１３．  構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化３】
2007507560.tif 000010
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）および−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）よりなる群から選択され；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造されるフッ素化イオン交換ポリマーを含んでなり、かつベースポリマーが、フィルムの形態の、部分的または完全にフッ素化されたポリマーである、フッ素化イオン交換ポリマー膜。
１４．  ベースポリマーが完全にフッ素化されたポリマーである上記１３に記載のフッ素化イオン交換膜。
１５．  ベースポリマーが、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン）、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン−ターモノマー）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロビニルエーテル）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ（エチレン−クロロトリフルオロエチレン）、ポリ（フッ化ビニリデン）およびポリ（フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン）よりなる群から選択される上記１３に記載のフッ素化イオン交換膜。
１６．  ベースポリマーが、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン−ターモノマー）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロプロピルビニルエーテル）およびポリ（フッ化ビニリデン）よりなる群から選択される上記１５に記載のフッ素化イオン交換膜。
１７．  ベースポリマーが、エチレンと、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）と、１〜１０モル％のペルフルオロブチルエチレンとのターポリマーを含んでなる上記１５に記載のフッ素化イオン交換膜。
１８．  （ａ）構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化４】
2007507560.tif 000011
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）および−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）よりなる群から選択され；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを含んでなるモノマー組成物を、そのままの形態、乳液（エマルジョン）の形態または溶液の形態で形成する工程と、
（ｂ）電離放射線にベースポリマーを照射する工程と、
（ｃ）約０℃〜約１２０℃の温度で約０．１時間〜約５００時間、ベースポリマーを、
工程（ａ）からのモノマー組成物と接触させる工程と
を含んでなる、フッ素化イオン交換ポリマー膜を製造するためのグラフト化法。
１９．  ベースポリマーがフィルムの形態である上記１８に記載の方法。
２０．  工程（ｂ）および（ｃ）を同時に実行する上記１８に記載の方法。
２１．  工程（ｂ）および（ｃ）を連続的に実行する上記１８に記載の方法。
２２．  Ｙが−ＲFＳＯ2Ｆである上記１８に記載の方法。
２３．  ＲFが、（ＣＦ2）q（式中、ｑ＝１〜２０）、（ＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝０〜１２）および（ＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）Ｏ）qＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝１〜８）よりなる群から選択され、そしてＲ2Fが、それぞれ部分的にフッ素化または過フッ素化されていてもよいメチル、エチル、プロピル、ブチルおよびフェニルよりなる群から選択される上記１８に記載の方法。
２４．  ＲFが、（ＣＦ2）q（式中、ｑ＝１〜４）、（ＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝０〜６）および（ＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）Ｏ）qＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝１〜２）よりなる群から選択され、そしてＲ2Fが、ペルフルオロメチル、ペルフルオロエチルおよびペルフルオロフェニルよりなる群から選択される上記２３に記載の方法。
２５．  グラフト化モノマーが、単一のビニル基を含有する化合物、複数のビニル基を含有する化合物、構造２を有するモノマー、構造３を有するモノマーおよびそれらの混合物
【化５】
2007507560.tif 000012
（式中、Ｘは、水素、ハロゲン、アルキル、または酸素を含んでもよいペルフルオロアルキルである）よりなる群から選択されるコモノマーをさらに含んでなる上記１８に記載の方法。
２６．  単一または複数のビニル基を含有する化合物が、ジビニルベンゼンまたはトリアリルシアヌレートである上記２５に記載の方法。
２７．  構造３のコモノマー上の置換基Ｘが、水素、ハロゲン；Ｃ１〜Ｃ１０炭素原子を含んでなる直鎖または分枝鎖ペルフルオロアルキル基；およびＣ１〜Ｃ１０炭素原子を含んでなる酸素、塩素または臭素含有ペルフルオロアルキル基よりなる群から選択される上記２５に記載の方法。
２８．  ベースポリマーが、非フッ素化、フッ素化および過フッ素化モノマーのホモポリマーまたはコポリマーである上記１８に記載の方法。
２９．  ベースポリマーが、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン）、ポリ（エチレン−クロロトリフルオロエチレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロアルキルビニルエーテル）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロメチルビニルエーテル）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロプロピルビニルエーテル）、ポリテトラフルオロエチレン、変性ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ（フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリエチレンおよびポリプロピレンよりなる群から選択される上記２８に記載の方法。
３０．  ベースポリマーが部分的または完全にフッ素化されたポリマーである上記２８に記載の方法。
３１．  ベースポリマーが、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン）、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン−ターモノマー）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロビニルエーテル）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ（エチレン−クロロトリフルオロエチレン）；ポリ（フッ化ビニリデン）およびポリ（フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン）よりなる群から選択される上記３０に記載の方法。
３２．  第１の表面と第２の表面とを有するポリマー電解質膜を含んでなる触媒被覆膜であって、ポリマー電解質膜が、構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化６】
2007507560.tif 000013
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）または−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）であり；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造されるフッ素化イオン交換ポリマーを含んでなる、触媒被覆膜。
３３．  ベースポリマーがフィルムの形態である上記３２に記載の触媒被覆膜。
３４．  ポリマー電解質膜の第１および第２の表面上に存在する電解触媒（ｅｌｅｃｔｒｏｃａｔａｌｙｓｔ）コーティング組成物から製造された少なくとも１つの電極をさらに含んでなる上記３２に記載の触媒被覆膜。
３５．  少なくとも１つの電極がアノードである上記３４に記載の触媒被覆膜。
３６．  少なくとも１つの電極がカソードである上記３４に記載の触媒被覆膜。
３７．  電解触媒コーティング組成物が触媒とバインダーとを含んでなる上記３４に記載の触媒被覆膜。
３８．  バインダーがペルフルオロスルホン酸ポリマーである上記３７に記載の触媒被覆膜。
３９．  グラフト化モノマーが、単一のビニル基を含有する化合物、複数のビニル基を含有する化合物、構造２を有するモノマー、構造３を有するモノマーおよびそれらの混合物
【化７】
2007507560.tif 000014
（式中、Ｘは、水素、ハロゲン、アルキル、または酸素を含んでもよいペルフルオロアルキルである）よりなる群から選択されるコモノマーをさらに含んでなる上記３２に記載の触媒被覆膜。
４０．  第１の表面と第２の表面とを有するポリマー電解質膜を含んでなる膜電極アセンブリであって、ポリマー電解質膜が、構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化８】
2007507560.tif 000015
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）または−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）であり；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造されるフッ素化イオン交換ポリマーを含んでなる、膜電極アセンブリ。
４１．  ベースポリマーがフィルムの形態である上記４０に記載の膜電極アセンブリ。
４２．  膜の第１または第２の表面上に存在する電解触媒コーティング組成物から製造された少なくとも１つの電極をさらに含んでなる上記４０に記載の膜電極アセンブリ。
４３．  少なくとも１つの電極がアノードである上記４２に記載の膜電極アセンブリ。
４４．  少なくとも１つの電極がカソードである上記４２に記載の膜電極アセンブリ。
４５．  電解触媒コーティング組成物が触媒とバインダーとを含んでなる上記４２に記載の膜電極アセンブリ。
４６．  バインダーがペルフルオロスルホン酸ポリマーである上記４５に記載の膜電極アセンブリ。
４７．  ポリマー電解質膜上に存在する少なくとも１つの電極に隣接する少なくとも１つのガス拡散バッキングをさらに含んでなる上記４０に記載の膜電極アセンブリ。
４８．  膜の第１または第２の表面上に存在する少なくとも１つのガス拡散電極をさらに含んでなり、ガス拡散電極が、ガス拡散バッキングと、電解触媒コーティング組成物から製造された電極とを含んでなる上記４０に記載の膜電極アセンブリ。
４９．  Ｙが−ＲFＳＯ2Ｆである上記４０に記載の膜電極アセンブリ。
５０．  ＲFが、（ＣＦ2）q（式中、ｑ＝１〜２０）、（ＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝０〜１２）および（ＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）Ｏ）qＣＦ2ＣＦ2（式中、ｑ＝１〜８）よりなる群から選択され、そしてＲ2Fが、それぞれ部分的にフッ素化または過フッ素化されていてもよいメチル、エチル、プロピル、ブチルおよびフェニルよりなる群から選択される上記４０に記載の膜電極アセンブリ。
５１．  グラフト化モノマーが、単一のビニル基を含有する化合物、複数のビニル基を含有する化合物、構造２を有するモノマー、構造３を有するモノマーおよびそれらの混合物
【化９】
2007507560.tif 000016
（式中、Ｘは、水素、ハロゲン、アルキル、または酸素を含んでもよいペルフルオロアルキルである）よりなる群から選択されるコモノマーをさらに含んでなる上記４０に記載の膜電極アセンブリ。
５２．  単一または複数のビニル基を含有する化合物が、ジビニルベンゼンまたはトリアリルシアヌレートである上記５１に記載の膜電極アセンブリ。
５３．  構造３のコモノマー上の置換基Ｘが、水素、ハロゲン；Ｃ１〜Ｃ１０炭素原子を含んでなる直鎖または分枝鎖ペルフルオロアルキル基；およびＣ１〜Ｃ１０炭素原子を含んでなる酸素、塩素または臭素含有ペルフルオロアルキル基よりなる群から選択される上記５１に記載の膜電極アセンブリ。
５４．  ベースポリマーが、非フッ素化、フッ素化および過フッ素化モノマーのホモポリマーまたはコポリマーである上記４１に記載の膜電極アセンブリ。
５５．  ベースポリマーが、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン）、ポリ（エチレン−クロロトリフルオロエチレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロアルキルビニルエーテル）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロメチルビニルエーテル）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロプロピルビニルエーテル）、ポリテトラフルオロエチレン、変性ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ（フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリエチレンおよびポリプロピレンよりなる群から選択される上記５４に記載の膜電極アセンブリ。
５６．  ベースポリマーが、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン）、ポリ（エチレン−テトラフルオロエチレン−ターモノマー）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロビニルエーテル）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ（エチレン−クロロトリフルオロエチレン）；ポリ（フッ化ビニリデン）およびポリ（フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン）よりなる群から選択される上記５４に記載の膜電極アセンブリ。
５７．  ベースポリマーが、エチレンと、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）と、１〜１０モル％のペルフルオロブチルエチレンとのターポリマーを含んでなる上記５６に記載の膜電極アセンブリ。
５８．  ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）が、ペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）またはペルフルオロ（エチルビニルエーテル）である上記５５に記載のフッ素化イオン交換ポリマー。
５９．  ベースポリマーが、エチレンと、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）と、１〜１０モル％のペルフルオロブチルエチレンのようなターモノマーとのターポリマーを含んでなる上記５４に記載の膜電極アセンブリ。
６０．  膜電極アセンブリを含んでなる電気化学的電池であって、膜電極アセンブリが、第１の表面と第２の表面とを有するポリマー電解質膜を含んでなり、ポリマー電解質膜が、構造１ａ、構造１ｂおよびそれらの混合物
【化１０】
2007507560.tif 000017
（式中、Ｙは、−ＲFＳＯ2Ｆ（スルホニルフルオリド）、−ＲFＳＯ3Ｍ（フルオロスルホン酸または塩）、−ＲFＳＯ2ＮＨ2（フルオロスルホンアミド）または−ＲFＳＯ2Ｎ（Ｍ）ＳＯ2Ｒ2F（イミド）であり；ここでは、ＭはＨ、アルカリカチオンまたはアンモニウムであり；そしてＲFおよびＲ2F基は、過フッ素化または部分的にフッ素化されており、かつエーテル酸素を場合により含んでいてもよく；そして
ｎは１ａに対して１と２との間であるか、またはｎは１ｂに対して１と３との間である）よりなる群から選択されるグラフト化モノマーを、ベースポリマー上にグラフト化することによって製造されるフッ素化イオン交換ポリマーを含んでなる、電気化学的電池。
６１．  電気化学的電池が燃料電池である上記５６に記載の電気化学的電池。
６２．  ベースポリマーがフィルムの形態である上記６１に記載の電気化学的電池。
６３．  グラフト化モノマーが、ジビニルベンゼン、トリアリルシアヌレートのような単一もしくは複数のビニル基を含有する化合物、または構造２もしくは構造３を有するモノマー
【化１１】
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（式中、Ｘは、水素、ハロゲン、アルキル、または酸素を含んでもよいペルフルオロアルキルである）から選択されるコモノマーをさらに含んでなる上記６０に記載の電気化学的電池。
６４．  グラフト化モノマーが、ジビニルベンゼン、トリアリルシアヌレートのような単一もしくは複数のビニル基を含有する化合物、または構造２もしくは構造３を有するモノマー
【化１２】
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（式中、Ｘは、水素、ハロゲン、アルキル、または酸素を含んでもよいペルフルオロアルキルである）から選択されるコモノマーをさらに含んでなる上記６１に記載の電気化学的電池。
６５．  ポリマー電解質膜の第１および第２の表面上に存在する電解触媒含有組成物から製造された少なくとも１つの電極をさらに含んでなる上記６１に記載の燃料電池。
６６．  少なくとも１つのガス拡散バッキングをさらに含んでなる上記６０に記載の燃料電池。
６７．  膜の第１および第２の表面上に存在するガス拡散電極をさらに含んでなり、ガス拡散電極が、ガス拡散バッキングと、電解触媒含有組成物から製造された電極とを含んでなる上記６１に記載の燃料電池。
６８．  燃料をアノードに送達する手段、酸素をカソードに送達する手段、アノードおよびカソードを外部電気負荷に接続するための手段、アノードと接触している液体または気体状の水素またはメタノール、ならびにカソードと接触している酸素をさらに含んでなる上記６１に記載の燃料電池。
６９．  燃料をアノードに送達する手段、酸素をカソードに送達する手段、アノードおよびカソードを外部電気負荷に接続するための手段、アノードと接触している液体または気体状の水素またはメタノール、ならびにカソードと接触している酸素をさらに含んでなる上記６４に記載の燃料電池。
７０．  燃料がアルコールまたはエーテルである上記６８に記載の燃料電池。
７１．  燃料がメタノールである上記７０に記載の燃料電池。
７２．  燃料が水素である上記６８に記載の燃料電池。