(57)【要約】【課題】加熱室外へ滴下した水が装置外への水漏れしないように製品品位の向上を図ること。【解決手段】被加熱物を収納する加熱室１において、前記加熱室１を構成する加熱室底面２のフランジと加熱室後面壁４と裏板を機械的結合し、前記機械的結合部の鉛直下方に穴をあけることで機械的結合部５０からしみでる水をルーバー５１から装置内へ引き込むことで装置外へ漏らすことなく製品品位の向上を図ることができる。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収納する加熱室において、前記加熱室を構成する少なくとも一部の板金部品と装置本体の裏板とをかしめて構成された機械的結合部と、前記裏板において前記機械的結合部の鉛直下方に構成された開口部を有することを特徴とする高周波加熱装置。
【請求項２】
開口部は、裏板の一部を装置本体の内側に折り曲げて構成したことを特徴とする請求項１記載の高周波加熱装置。
【請求項３】
開口部は、下方を切断し、上方を装置本体の内側に折り曲げたことを特徴とする請求項２記載の高周波加熱装置。
【請求項４】
開口部は、裏板の一部を装置本体の外側に折り曲げて構成したことを特徴とする請求項１記載の高周波加熱装置。
【請求項５】
開口部は上方を切断し、下方を装置本体の外側に折り曲げたことを特徴とする請求項４記載の高周波加熱装置。
【請求項６】
加熱室に蒸気を供給する蒸気発生部を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の高周波加熱装置。
【請求項７】
蒸気発生部が、加熱により蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿を加熱室内に備えていることを特徴とする請求項６記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高周波加熱装置の加熱室の構成に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年の高周波加熱装置においては、高周波加熱の利便性、電熱加熱の調理範囲の多さに加えて、蒸気加熱ができることを特徴とする製品が多く発売されてきている。蒸気加熱の方法として、加熱室内に蒸気発生部を設ける構成や被加熱物とは別の容器に水を入れて高周波加熱を行うことで加熱室内に蒸気を満たす構成のものがある。従来は被加熱物が加熱されて発生する蒸気だけであったので加熱室外への水漏れは問題にならなかったが、近年の蒸気を積極的に利用する高周波加熱装置においては、加熱室内で発生させた蒸気の量が多いので、蒸気が加熱室壁面で結露し、成長して底面部に落ち、底面部に落ちた水は、加熱室を構成する板金の接合部へ浸入し、加熱室外へ水が滴下するという課題があった。
【０００３】
この水の滴下は製品本体後部に発生するため、使用者は気づきにくいので、製品本体が木製の台に置かれていた場合、滴下した水による台の腐敗やカビ等の雑菌の繁殖による異臭、またテーブルクロスを貼ってる場合にもクロスの浮きの原因にもなり、製品の品位としては好ましくなかった。
【０００４】
この対策として、加熱室外へ滴下した水によって製品の誤動作の防止および感電事故防止の目的で蒸気発生部の下部に水受け用仕切り部を備えたものもある（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
一方、加熱室を構成する板金部品には電熱加熱時の熱反射特性を高める目的や、加熱室壁面の清掃性を良くするために塗装鋼板を用いることが一般的である。塗装鋼板は塗膜に導通性がない場合には電気的な溶接ができないため、その接合方法として機械的結合を利用している（例えば、特許文献２参照）。
【０００６】
この発明によれば、加熱室を構成する板金部品の２枚またはそれ以上の板を重合し、切断方向を規制することにより、一緒に切断絞り出し加工をして圧着カシメにて接合強度を確保するとともに、接合部材料間を電気的に導通させ、電波シール性能を確保している。
【０００７】
図１０（ａ）は従来の高周波加熱装置の加熱室の構造を示す横断面図である。（ｂ）に下部Ａの機械的結合部５０の拡大図を示す。加熱室１の下部Ａには加熱室底面２と蒸発皿３と加熱室後面壁４と裏板５の４枚が機械的結合されている。上部Ｂは加熱室上面６と加熱室後面壁４と裏板５の３枚が機械的結合されている。蒸発皿３の前部には、シリコンゴム製のシール材７で外周部を覆われた被加熱物を載置するためのセラミック製の皿受け台８が加熱室底面部の窪み部に圧入することにより取り付けられている。蒸発皿３の下には、蒸発皿３に溜められた水を加熱して蒸気にするための蒸発皿加熱ヒーター９が備えられている。加熱室１に結合した裏板５の下には底板１０があり、底板１０には足１１が取り付けられており、床面１２の上に置かれる。
【特許文献１】特開２００４−１１９７４号公報
【特許文献２】特開平１−１０７０１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、前記従来の機械的結合部５０には、裏板５を切断しながら圧着カシメにより加熱室底面２と蒸発皿３と加熱室後面壁４の結合を行うので裏板５の材料の部分的な切断部が必然的に発生する。したがって、蒸気加熱を行うような場合には、加熱室１内の加熱室上面６や加熱室後面壁４に水分が結露し成長して皿受け台８へと流れ、皿受け台８上にたまった水分がシール材７の隙間から加熱室底面２上へと流れ、最終的には加熱室底面２と蒸気皿３項面のフランジとの接合部Ｃに浸入する。また、蒸発皿３に溜める水が何らかの異常で溢れるような場合や、加熱室後面壁４に結露して滴下する水は蒸発皿３と加熱室後面壁４のフランジの接合部Ｄに浸入する。これらのフランジ面に浸入した水分は、接合部に設けた数箇所の機械的結合部５０の板金切断部から水が外にしみ出し、板金外側を伝って製品本体を置く床面１２に水が滴下するという問題があった。
【０００９】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、加熱室外への水漏れに対する保護を行うことにより、製品の品位の低下を防いだ高周波加熱装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室において、前記加熱室を構成する少なくとも一部の板金部品と装置本体の裏板とをかしめて構成された機械的結合部と、前記裏板において前記機械的結合部の鉛直下方に構成された開口部を有することを特徴とするもので、機械的結合部からしみ出た水は鉛直下方に設置された開口部から装置内に引き込まれるので装置本体外への水の滴下を防ぐことができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の高周波加熱装置によれば、加熱室内の水分が加熱室後面壁と加熱室底面のフランジの接合部に浸入し、接合部間に設けられた機械的結合部の板金の切断部から水が外にしみでても、その切断部の鉛直下方に水引き込み用の開口部を設けてあるので、機械的結合部の板金の切断部よりしみ出た水は一旦、裏板の外面を伝って滴下しながら鉛直下方にある開口部から裏板内面に引き込まれ、底板上に溜まるので、製品を設置する床面まで水が滴下することなく、製品品位を損なわない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
第１の発明は、被加熱物を収納する加熱室において、前記加熱室を構成する少なくとも一部の板金部品と装置本体の裏板とをかしめて構成された機械的結合部と、前記裏板において前記機械的結合部の鉛直下方に構成された開口部を有することを特徴とするもので、機械的結合部からしみ出た水は鉛直下方に設置された開口部から装置内に引き込まれるので装置本体外への水の滴下を防ぐことができる。
【００１３】
第２の発明は、特に、第１の発明の開口部は、裏板の一部を装置本体の内側に折り曲げて構成したことにより、機械的結合部からしみ出た水は鉛直下方に設置された開口部から装置内に引き込まれるので装置本体外への水の滴下を防ぐことができる。
【００１４】
第３の発明は、特に、第２の発明の下方を切断し、上方を装置本体の内側に切り曲げたことで、確実に機械的結合部からしみ出た水は鉛直下方に設置された開口部から装置内に引き込まれるので装置本体外への水の滴下を防ぐことができる。
【００１５】
第４の発明は、特に、第１の発明の開口部は、裏板の一部を装置本体の外側に折り曲げて構成したことにより、機械的結合部からしみ出た水は鉛直下方に設置された開口部から装置内に引き込まれるので装置本体外への水の滴下を防ぐことができる。
【００１６】
第５の発明は、特に、第４の発明の開口部は上方を切断し、下方を装置本体の外側に折り曲げたことで、確実に機械的結合部からしみ出た水は鉛直下方に設置された開口部から装置内に引き込まれるので装置本体外への水の滴下を防ぐことができる。
【００１７】
第６の発明は、特に、第１〜５のいずれか１つの発明の加熱室に蒸気を供給する蒸気発生部を有するもので、高周波加熱のみの場合に比べて、蒸気が多い場合でも、装置本体外への水の滴下を防ぐことができる。
【００１８】
第７の発明は、特に、第６の発明の蒸気発生部が、加熱により蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿を前記加熱室内に備えているもので、多量の水が蒸気皿に供給されて溢れても、装置本体外への水の滴下を防ぐことができる。
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００２０】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１における高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２は正面方向から見た高周波加熱装置の断面図、図３は、蒸発皿３への給水構成を示す左側面図、図４は、この装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を前後から見た斜視図、図５（ａ）は加熱室１の構成を示す斜視図、図５（ｂ）は、同加熱室の構成を示す分解斜視図、図６は、同加熱室内の蒸気発生部の結合状態を示す部分斜視図、図７は蒸発皿と蒸発皿過熱ヒーターおよびこの装置の後面の構造を示す横断面図である。
【００２１】
高周波加熱装置本体２０には前面が開口した加熱室１が配設されている。本体の前面には前記加熱室１の前面を防ぐ扉２１が開閉可能に設けられており、さらには使用者が調理メニューの選択や調理開始の指示などを行う各種操作キー２２ａや必要な表示を行う表示部２２ｂを有する操作パネル２２が設けられている。加熱室１内には蒸気を発生する蒸発皿３と蒸発皿３に水を供給するノズル２３が備え付けてある。高周波加熱装置本体２０内には、マイクロ波を発振するためのマグネトロン２４を備えており、導波管２５を介して、本体底面に備えた給電口２６から加熱室１内にマイクロ波を供給するようになっている。
【００２２】
図３は、装置本体のケース（キャビネット）、扉２１、底板１０等を除いた状態にして蒸発皿３への給水構成を示す左側面図である。図３において、加熱室１を構成する加熱室後面壁４と加熱室側面壁２７、そして扉２１と対向する扉板２８の内側には、加熱室側面壁２７からの遮熱・断熱をするタンクケース２９が設けられている。そのタンクケース２９の内側には水を貯えるタンク３０があり、タンク３０内の水はポンプ３１によりチューブ３２を通じて給水され、ノズル２３を経て加熱室１内に導かれて蒸発皿３に到達する。
【００２３】
図４は蒸気発生部の一部分である給水した水を加熱し蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿３の斜視図である。図４に示すように、蒸発皿は鋼板を成型加工して形成されている。蒸発皿の外周部には加熱室を構成する加熱室側面壁（図示せず）、加熱室底面２、加熱室後面壁４の結合部とカシメ結合するためのフランジ状の結合部ａ３３、結合部ｂ３４、結合部ｃ３５が設けられている。蒸発皿３には、鋼板を成型加工する制約上、加熱室後壁４と接触する両端部には隙間３６がある。
【００２４】
図７に示すように、蒸気発生部の一部分である蒸発皿３は、前述した結合部ｂ３４により加熱室底面２と、結合部ｃ３５により加熱室後面壁４と結合されている。結合はカシメで行われるため結合面の水密性は完全ではない。蒸発皿３の前部には、シリコンゴム製のシール材７で外周部を覆われた被加熱物を載置するためのセラミック製の皿受け台８が加熱室底面２の窪み部に圧入することにより取り付けられている。下部、蒸発皿３の下には、蒸発皿３に溜められた水を加熱して蒸気にするための蒸発皿加熱ヒーター９が備えられている。加熱室１に結合した裏板５の下には底板１０があり、底板１０には足１１が取り付けられており、床面１２の上に置かれる。
【００２５】
図８は本発明の高周波加熱装置の後面図であり、裏板５全体を示している。裏板５には加熱装置を冷却するための吸気穴や加熱室１内の排気をするために排気口として穴やルーバー穴が多数開けられている。本発明の裏板５の上下部には加熱室後面壁４との機械的結合部５０が構成されている。機械的結合部５０の間隔は加熱室１内の電磁波を漏らさないよう、基本周波数２４５０ＭＨｚの１／４波長以下になるようにするのが一般的で、本発明の高周波加熱装置としては３０ｍｍピッチで設けている。裏板５の下部の機械的結合部５０の鉛直下方には、同じ３０ｍｍピッチでルーバー５１（開口部）が設けてある。ルーバー５１は機械的結合部５０と反対側（ここでは底板１０側）を切り込み加熱室１側にしぼり押し出している。
【００２６】
以上のように構成された高周波加熱装置の蒸気加熱とその発生蒸気が結露することによる装置本体内外への水の流れについて説明する。
【００２７】
まず、被加熱物を加熱室１内へ収納し、操作部２２ａから蒸気加熱を設定すると、制御基盤（図示せず）の制御により、タンク３０に貯水された水がポンプ３１によってチューブ３２、ノズル２３を経て加熱室１内の蒸発皿３に給水される。次に蒸発皿加熱ヒーター９を動作し、蒸発皿３の水溜凹所を集中加熱し蒸気を発生させる。設定した加熱パターンに応じて高周波加熱や電熱加熱を組み合わせることにより、被加熱物を最適な状態に加熱することができる。加熱室１内の温度等に応じて決まる過飽和蒸気は、加熱室１内の上面６や後面４、加熱室側面壁２７の内側に結露・成長し、壁面を滴下する。滴下した水の大部分は、加熱室１の底面に設けられたシリコンゴム製のシール材７により皿受け台８上に溜まるが、少量の水はシール材７の隙間から加熱室底面２上へ流れ、最終的には合わせ部Ｅに達する。
【００２８】
また、加熱室後面壁４を滴下した水は蒸発皿３の結合部ｃ３５と加熱室後面壁４の合わせ部Ｆに進入する。蒸発皿３の奥側両端部は鋼板加工の制約から隙間３６があり、この部分に滴下すると合わせ部に侵入する水の量は増える。また、ポンプ３１等の制御が誤動作して過給水されて蒸発皿３から水が溢れるような場合にも合わせ部への水の浸入量は増える。そして、合わせ部Ｅ，Ｆに浸入した水の一部は機械的結合部５０の板金切断面からしみ出るように裏板５の外側に現れる。
【００２９】
本実施の形態においては、加熱室１を構成する際、加熱室底面２と蒸発皿３と加熱室後面壁４と裏板５を機械的結合させる。この時、裏板５にはルーバー５１が機械的結合部の鉛直下方に設けている。この構成により、加熱室後面壁４に結露・成長して滴下した水は蒸発皿３との合わせ面に浸入し、裏板５の機械的結合による板金の切断面から外側に水がしみだし、裏板５の外面を伝うように下へ流れ落ちる。下方に流れた水は、鉛直下方に設けたルーバー５１へと流れ落ちる。ルーバー５１の板金の切断は下方、即ち機械的結合部５０と反対側に切ってあるので、裏板面を流れる水はルーバー５１の押し出し部をそのまま伝い、切断部に溜まる。水はやがて成長して、底板１０上に落ちる。したがって、製品を設置する床面１２に水溜りができることはない。
【００３０】
（実施の形態２）
図９に本発明の実施の形態２における高周波加熱装置の後部の構造を示す横断面図を示す。図９において、裏板５の機械的結合部５０の鉛直下方にルーバー５２を設け、前記ルーバー５２の切断部は上方、即ち機械的結合部５０側とし、加熱室１とは反対側に押し出している。この構成により、機械的結合部５０からしみ出た水は裏板５の面を伝うように落ち、ルーバー５１部の切断部に溜まって、落ちる。この際、加熱室１と反対側にルーバー５２が押し出してあるので水を受ける形となっており、水は装置内に引き込まれる。引き込まれた水は裏板５内面を伝って底板１０上に落ちるので、製品を設置する床面に水溜りができることはない。
【産業上の利用可能性】
【００３１】
以上のように、本発明にかかる高周波加熱装置によれば、正常動作時に起こる加熱室内の飽和した水蒸気が加熱室後面部に結露成長し滴下し、加熱室後面壁と蒸発皿の接合部から浸入した水が機械的結合部の板金の切断面からしみでても、機械的結合部の鉛直下方に開口部を設置することにより水を装置内に引き込むので、装置本体外に水がこぼれるという製品の品位の低下を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施の形態１における高周波加熱装置本体の構成図
【図２】同高周波加熱装置の正面から見た断面図
【図３】同高周波加熱装置の蒸気発生部の蒸発皿への給水構成を示す左側面図
【図４】同高周波加熱装置における蒸気発生部の蒸発皿を前後から見た斜視図
【図５】（ａ）同加熱室の構成を示す斜視図（ｂ）同加熱室の構成を示す後面分解斜視図
【図６】同加熱室内の蒸気発生部の結合状態を示す部分矢視図
【図７】同高周波加熱装置の後部の構造を示す横断面図
【図８】同高周波加熱装置の後面図
【図９】本発明の実施の形態２における高周波加熱装置の後部の構造を示す横断面図
【図１０】（ａ）従来例の高周波加熱装置の後部の構造を示す横断面図（ｂ）機械的結合部の拡大図
【符号の説明】
【００３３】
１  加熱室
３  蒸発皿
５  裏板
５０  機械的結合部
５１、５２  ルーバー（開口部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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