Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月25日(2007.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４３】
メッセージＭをエンコードする前記工程は、
ランダムパラメータｒを選択する工程と、
メッセージＭをエンコードして暗号文Ｃ＝［Ｕ０，Ｕｌ＋１，．．．．，Ｕｎ＋１，Ｖ］を生成する工程であって、Ｕ０＝ｒＰ０であり、Ｕｉ＝ｒＰｚｉ（ｌ＋１≦ｉ≦ｎ＋１）であり、
【数２１】
2005521323.tif 000001
であり、
【数２２】
2005521323.tif 000002
である工程と、を更に含み、
暗号文Ｃをデコードする前記工程は、
【数２３】
2005521323.tif 000003
を使用してメッセージＭを復元する工程を更に含む
ことを特徴とする請求項３６に記載のデジタルメッセージＭをエンコードおよびデコードする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
ルートセットアップアルゴリズムにおいて、ルートＰＫＧは、セキュリティパラメータｋを使用して、パブリックシステムパラメータｐａｒａｍｓおよびルート鍵生成シークレットを生成する。システムパラメータは、メッセージスペース
【数Ｈ−２】
2005521323.tif 000004
および暗号文スペース
【数Ｈ−３】
2005521323.tif 000005
の記述を含んでいる。システムパラメータは公然と利用可能であり、一方、ルートＰＫＧだけがルート鍵生成シークレットを知っている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
暗号化アルゴリズムにおいて、送信者は、好ましくは本システムの外側にある幾つかの安全な手段を介して、ルートＰＫＧからシステムパラメータを受信する。送信者が下位レベル鍵生成パラメータを受信する必要はない。送信者は、対象とする受信者のＩＤタプルおよびｐａｒａｍｓを使用して、メッセージ
【数Ｈ−４】
2005521323.tif 000006
をエンコードし暗号文
【数Ｈ−５】
2005521323.tif 000007
を生成する。逆に、復号化アルゴリズムにおいて、受信者は、暗号文Ｃをデコードし、ｐａｒａｍｓおよび受信者の秘密鍵ｄを使用してメッセージＭを復元する。暗号化および復号化は、以下の標準的な一貫性制約を満たすことが好ましい。
【数Ｈ−６】
2005521323.tif 000008
ここで、Ｃ＝暗号化（ｐａｒａｍｓ、ＩＤ−タプル、Ｍ）である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
署名アルゴリズムにおいて、デジタルメッセージの送信者は、ｐａｒａｍｓおよび送信者の秘密鍵ｄを使用して、メッセージ
【数Ｈ−７】
2005521323.tif 000009
に署名をし署名Ｓ∈Σを生成する。検証アルゴリズムにおいて、署名されたメッセージの受信者は、ｐａｒａｍｓおよび送信者のＩＤ−タプルを使用して、署名Ｓを検証する。検証アルゴリズムは、「有効」または「無効」を出力することが好ましい。署名および検証は、以下の一貫性制約を満たすことが好ましい。
【数Ｈ−８】
2005521323.tif 000010
ここで、Ｓ＝署名（ｐａｒａｍｓ、ｄ、Ｍ）である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
挑戦：局面１が終了したことを敵が決定すると、敵は、挑戦されることを望む等しい長さの２つのプレーンテキスト
【数Ｈ−９】
2005521323.tif 000011
および１つのＩＤ−タプルを出力する。唯一の制約は、このＩＤ−タプル及びその先祖のいずれも局面１における秘密鍵抽出問い合わせ中に現れないという点である。挑戦者は、ランダムビットｂ∈｛０，１｝を拾うとともに、Ｃ＝暗号化（ｐａｒａｍｓ、ＩＤ−タプル、Ｍｂ）を設定する。挑戦者は、挑戦としてのＣを敵に送る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
挑戦：局面１が終了したことを敵が決定すると、敵は、挑戦されることを望む新たなＩＤ−タプルＩＤを出力する。挑戦者は、ランダム
【数Ｈ−１０】
2005521323.tif 000012
を拾うとともに、Ｃ＝暗号化（ｐａｒａｍｓ、ＩＤ−タプル、Ｍ）を設定する。挑戦者は、挑戦としてのＣを敵に送る。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
推測：敵は、推測
【数Ｈ−１１】
2005521323.tif 000013
を出力する。Ｍ＝Ｍ'の場合に、敵がゲームに勝つ。スキームを攻撃する際の敵のアドバンテージは、Ｐｒ［Ｍ＝Ｍ'］となるように規定される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
例えば、ベーシックＨＩＤＥスキーム（図４および図５）において、デュアルＨＩＤＥを適用すると、暗号文Ｃ＝［Ｕ０，Ｕｌ＋１，．．．．，Ｕｎ＋１，Ｖ］を生成するためのメッセージＭのコード化が変わる。ここで、Ｕｉ＝ｒＰｚｉ（ｉ＝０，ｌ＋１≦ｉ≦ｎ＋１）であり、
【数３５】
2005521323.tif 000014
であり、また、
【数３６】
2005521323.tif 000015
である。要素Ｕｉは、前述した方法と同じ方法で計算されるが、それらのうち必要なのは僅かである。しかしながら、デュアルベーシックＨＩＤＥにおいて、送信者ｙは、前述したようにｇを生成するために必要な数よりも多い数の鍵生成パラメータＱｙｉを使用してｇｙｌを生成する必要がある。これは、送信者の同一性が暗号化アルゴリズム中に組み込まれるためである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月6日(2007.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  フルオロポリマーを含み、透過率試験法に従って測定した場合に５４６ｎｍで少なくとも約０．００１％の透過率を示す、歯科矯正物品。
【請求項２】  前記フルオロポリマーが、パーフルオロエチレン−プロピレンコポリマー、パーフルオロアルコキシエチレン、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー、またはその組合せからなる群より選択される、請求項１に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月7日(2007.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スポンジが接続された第１の表面とブラシが接続された第２の表面を有する支持体を備えた外科用洗浄装置であって、
前記支持体は少なくとも１つの液体用の容器を形成し、
前記容器は、前記ブラシも前記スポンジも接続されていない第３の表面上に配置された封止可能な開口部を有し、
前記装置は、封止可能な供給開口部を有する弾性部材を含む前記開口部を封止する手段をさらに備えている外科用洗浄装置。
【請求項２】
前記支持体は剛体である請求項１記載の外科用洗浄装置。
【請求項３】
前記弾性部材は、前記供給開口部を封止する移動可能なフラップを有している請求項１記載の外科用洗浄装置。
【請求項４】
前記弾性部材は、再封止可能な充填開口部を備えている請求項１記載の外科用洗浄装置。
【請求項５】
前記支持体は、その上に前記弾性部材が配置されているリップ部を備えている請求項１記載の外科用洗浄装置。
【請求項６】
前記リップ部は、前記供給開口部に隣接した少なくとも１つの領域において前記弾性部材から離間してへこまされている請求項５記載の外科用洗浄装置。
【請求項７】
前記開口部は、前記弾性部材を係合するのに適しているビードを有する周辺側部を備えている請求項１記載の外科用洗浄装置。
【請求項８】
前記弾性部材は、前記開口部におけるしまりばめである部分を備えている請求項７記載の外科用洗浄装置。
【請求項９】
前記部分は前記ビードの一方の側に存在する請求項８記載の外科用洗浄装置。
【請求項１０】
前記支持体は、封止可能な開口部を有する液体用の少なくとも１つのさらなる容器を形成する請求項１記載の外科用洗浄装置。
【請求項１１】
複数の前記開口部は、それぞれカラーコード化された封止手段で封止され手いる請求項１０記載の外科用洗浄装置。
【請求項１２】
前記ブラシは、前記支持体の一部分として形成されている請求項１記載の外科用洗浄装置。
【請求項１３】
スポンジが接続された支持体を備え、前記スポンジは少なくとも１つの液体用の容器を形成している外科用洗浄装置であって；
前記支持体は、第１、第２、第３の表面を有しており；
前記容器は、弾性部材により封止されるように配置されている封止可能な開口部を有しており；
前記容器内の前記封止可能な開口部に封止するように受け入れられる弾性部材であって；
前記弾性部材は、封止可能な供給開口部を備え；
前記スポンジは、前記支持体の前記第１の表面に接続され；
ブラシが前記支持体の前記第２の表面に接続され；
前記封止可能な開口部は、前記支持体の前記ブラシも前記スポンジも接続されていない前記第３の表面内に配置されている外科用洗浄装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月7日(2007.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
基材に付着してそれぞれ第１の対向面および第２の対向面を含む複数の液体保持ディスクと、
複数の各液体保持ディスクの第１の表面に隣接する反射体と、を含み、
選択された波長の電磁エネルギーがディスク通過後に反射体から反射されることを特徴とする、微生物培養装置。
【請求項２】
複数の各ディスクが、アッセイ試薬、蛍光原指示薬、または増殖培地の１種以上を含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
複数のディスクが少なくとも第１のディスクセットおよび第２のディスクセットを含み、各ディスクセットが均一サイズの複数のディスクを含み、さらに第１のディスクセット中のディスクが第２のディスクセット中のディスクよりも大きいことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
基材と、基材に付着してそれぞれ第１および第２の対向面を含む複数の液体保持ディスクと、複数の各液体保持ディスクの第１の表面に隣接する反射体と、を含み、少なくとも１つの液体保持ディスクがさらに増殖培地、指標物質、および標的微生物を含む、ディスクアッセイ装置を提供する工程と、
励起エネルギーをディスクアッセイ装置に向ける工程と、
励起エネルギーに反応して標的微生物を含む複数の各ディスクから放出される信号エネルギーを検出する工程と、を含み、
信号エネルギーの少なくとも一部が反射体によって反射されることを特徴とする、少なくとも１つの標的微生物を検出する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月8日(2007.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】  ひれ付金属パイプ、特に熱交換器パイプの製造方法であって、少なくとも１つの連続したひれ形成ストリップを回転するパイプ本体に接して当て、パイプ本体上にほぼ螺旋状に巻き付け、パイプ本体に面するストリップの側を追加材料を用いて電気溶接装置によりパイプ表面に接続し、そして溶接装置の作業端部をパイプ表面と巻き付けストリップの間の開放くさび形部分内にガイドする前記製造方法において、
ストリップ（４）をパイプ本体（２）上に巻き付ける前に、ひれを形成するストリップ（４）上においてウエブをほぼ直角に曲げること、
パイプ本体（２）上へのストリップ（４）の巻き付け中にウエブをパイプ本体（２）上に平らにガイドする一方、それに対してほぼ直角に位置する脚部がひれを形成すること、
パイプ本体の表面（３）と該パイプ本体の表面に面するウエブ（６）の接触表面（１０）の間の開放くさび形部分の領域において溶接を行うこと、
パイプ本体（２）の表面（３）とそれに対して溶接されるウエブ（６）の接触表面（１０）の両方を溶接工程中に溶融させること、及び
追加の材料を用いて作られた溶着部（５）がウエブ（６）の幅よりも狭いことを特徴とする上記製造方法。
【請求項２】  ひれを形成するストリップ（４）を、パイプ本体（２）上への巻き付け前に曲げてＵ形にすること、及び
Ｕ形脚部（７）の間のほぼ平らなＵ形ウエブ（６）をパイプ本体（２）上に平らにガイドする一方、それに対してほぼ直角に位置した２つのＵ形脚部（７）がひれを形成すること
を特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】  ウエブ（６）の接触表面（１０）を溶接前に断面成形することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】  断面成形では縦リブ（１５）を形成することを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】  断面成形では横リブを形成することを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項６】  断面成形ではこぶを形成することを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項７】  溶接前にウエブ（６）の接触表面とは反対側に膨らみ（１６）をウエブ（６）に設けることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】  溶接装置により追加材料を用いることにより、ウエブとパイプ本体表面の間の接続領域において、溶接されるウエブ（６）がそれに接触する前に溶接ビードを正確にパイプ表面（３）に付けること、及びウエブを押圧してなお溶融した溶接ビードとすることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】  パイプ本体軸に対する角度がひれを形成する供給ストリップ（４）とほぼ同じ角度にて溶接装置（８）をガイドすることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】  溶接直後にパイプ本体（２）に対して少なくとも短時間の間はウエブ（６）を堅固に押圧することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】  円筒形のパイプ本体（２）とその上に螺旋状に巻き付けられたストリップ（４）とから成るひれ付金属パイプ、特に熱交換器パイプであって、該ストリップ（４）は、電気溶接装置により追加の材料を用いて作られた溶着部（５）によってパイプ表面に接続される上記パイプにおいて、
ストリップ（４）がパイプ本体の表面に平行に延びるウエブ（６）を備えること、ウエブ（６）の接触表面（１０）がパイプ本体の表面（３）に溶接されること、及び追加の材料から成る溶着部（５）がウエブの幅よりも狭いことを特徴とする上記パイプ。
【請求項１２】  ウエブ（６）の接触表面（１０）が断面成形されることを特徴とする請求項１１記載のひれ付パイプ。
【請求項１３】  断面成形では縦リブ（１５）が設けられることを特徴とする請求項１２記載のひれ付パイプ。
【請求項１４】  断面成形では横リブが設けられることを特徴とする請求項１２記載のひれ付パイプ。
【請求項１５】  断面成形ではこぶが設けられることを特徴とする請求項１２記載のひれ付パイプ。
【請求項１６】  ウエブ（６）がその接触表面（１０）とは反対側に向いた膨らみ（１６）を備えることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか一項に記載のひれ付パイプ。
【請求項１７】  ストリップがＬ形に曲げられ、ウエブ上に設けられた脚部がひれを形成することを特徴とする請求項１１〜１６のいずれか一項に記載のひれ付パイプ。
【請求項１８】  ストリップ（４）がＵ形に曲げられること、Ｕ形ウエブ（６）上に設けられたＵ形脚部（７）がひれと同じ距離だけ離れていることを特徴とする請求項１１〜１６のいずれか一項に記載のひれ付パイプ。
【請求項１９】  隣接したストリップの巻きの２つのＵ形脚部（７）間の距離が、ストリップ（４）の脚部間の距離に対応することを特徴とする請求項１８記載のひれ付パイプ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月12日(2007.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  弾性を有する前記ワイヤは、所与の前記膝状湾曲部が、いずれかの方向に前記所与の膝状湾曲部から前記断片３つ分離れた前記膝状湾曲部の位置の近くに隣接しているが、一致していない前記凹部内に位置するように湾曲している、請求項１から４のいずれか１項に記載のスクレーパ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】  弾性を有する前記ワイヤは、所与の前記膝状湾曲部が、いずれかの方向に前記所与の膝状湾曲部から前記断片３つ分離れた前記膝状湾曲部の位置の近くに隣接しているが、一致していない前記凹部内に位置するように湾曲しており、全ての前記膝状湾曲部は丸くなっている、請求項７に記載のスクレーパ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】  管状部材の外面から堆積物を除去する方法であって、
内側に向かって開いた、周面に位置する凹部および互いに揃えられた軸方向の２つの開口部を形成する、外側のジャケットと、一体で、つながれた、弾性を有する一連の断片であって、互いに隣接する該断片の各対が膝状湾曲部によって連結された断片を形成するように湾曲した、弾性を有する細長いワイヤの形態のスクレーパ部材とを含み、前記膝状湾曲部は、少なくとも１つの前記断片が、互いに揃えられた軸方向の前記開口部の弦に実質的に沿って延びている状態で前記凹部内に入れられているスクレーパを形成することと、
少なくとも１つの前記断片を外側に変形さるように、前記管状部材を互いに揃えられた前記開口部に挿入し、これによって、前記断片は、変形させられた前記断片の弾性によって内側に前記管状部材に対して押し付けられ、それによって、前記管状部材を、前記スクレーパが前記管状部材に対して軸方向に移動する際に清掃することとを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月31日(2007.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ≧１５ＧＰａの硬度ＨＶ0.2、理論的密度の≧９５％の密度、＜２μｍの平均一次結晶サイズ及び９８重量％以上のＡｌ2Ｏ3含有率を有するα−Ａｌ2Ｏ3をベースとする焼結された微晶質付形体の製造方法であって、２μｍの平均粒径を有するα−Ａｌ2Ｏ3粉末を出発物質として使用し、出発物質を結合剤及び溶媒と混合して混合物を形成し、混合物を押出可能な素材に加工し、押し出された材料を更に付形体に加工し、付形体を１３００℃〜１７５０℃の温度範囲で焼結することを特徴とする方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法により製造された≧１５ＧＰａの硬度ＨＶ0.2、理論的密度の≧９５％の密度、＜２μｍの平均一次結晶サイズ及び９８重量％以上のＡｌ2Ｏ3含有率を有するα−Ａｌ2Ｏ3をベースとする焼結された微晶質付形体であって、該付形体が、ロッド、シリンダー、多角形、星、波形表面を有するロッドの形態にある充実体又は中空体であることを特徴とする焼結された微晶質付形体。
【請求項３】  研磨材のための砥粒としての請求項２に記載の焼結された付形体の使用方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
【表２】
2003531089.tif 000001
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．  ≧１５ＧＰａの硬度ＨＶ0.2、理論的密度の≧９５％の密度、＜２μｍの平均一次結晶サイズ及び９８重量％以上のＡｌ2Ｏ3含有率を有するα−Ａｌ2Ｏ3をベースとする焼結された微晶質付形体の製造方法であって、２μｍの平均粒径を有するα−Ａｌ2Ｏ3粉末を出発物質として使用し、出発物質を結合剤及び溶媒と混合して混合物を形成し、混合物を押出可能な素材に加工し、押し出された材料を更に付形体に加工し、付形体を１３００℃〜１７５０℃の温度範囲で焼結することを特徴とする方法。
２．  出発物質がＡｌ2Ｏ3をベースとするより粗い原料から湿式粉砕することにより製造されることを特徴とする上記１に記載の方法。
３．  摩砕器、ボールミル又は振動ミルを湿式粉砕のために使用することを特徴とする上記２に記載の方法。
４．  メチルセルロース、ポリビニルブチレート、乳化されたアクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリレート、デンプン、シリケート結合剤及び／又はリグニンスルホネートを押出可能な素材のための結合剤として使用することを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の方法。
５．  分散剤、滑剤及び／又は軟化剤の群からの１種以上の補助材料を結合剤、出発物質及び溶媒の混合物に加えることを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の方法。
６．  ポリアクリル酸アンモニウム、ケイ酸ナトリウム、マンハッタン魚油、ポリエチレンイミン、リグニンスルホン酸ナトリウム及びアルギネートの群からの１種以上の物質が分散助剤として選ばれることを特徴とする上記５に記載の方法。
７．  ステアリン酸アンモニウム、ワックスエマルション、オレイン酸、マンハッタン魚油、ステアリン酸、パルミチン酸、リノール酸、ミリスチン酸及び／又はラウリン酸の群からの１種以上の物質が滑剤として選ばれることを特徴とする上記５又は６に記載の方法。
８．  グリセリン、ポリエチレングリコール、オクチルフタレート、及びエチレングリコールの群からの１種以上の物質が軟化剤として選ばれることを特徴とする上記５〜７のいずれかに記載の方法。
９．  水、トルエン、ベンゼン、イソプロパノール、アセトン、キシレン、炭化水素、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、塩素化炭化水素、例えば、トリクロロエタン、テトラクロロメタン、クロロホルム及び塩化メチレンの群からの無機又は有機溶媒を溶媒として使用することを特徴とする上記１〜８のいずれかに記載の方法。
１０．  押出可能な素材を吐出スクリューを有するニーダー、一軸スクリュー押出機、配合機、膨張押出機、二軸スクリュー押出機、ピストン押出機又は遊星形押出機において押し出すことを特徴とする上記１〜９のいずれかに記載の方法。
１１．  押し出されるべき素材を押出の前に脱気することを特徴とする上記１〜１０のいずれかに記載の方法。
１２．  押し出された材料を乾燥して＜２０重量％の水分含有率を有する素地とすることを特徴とする上記１〜１１のいずれかに記載の方法。
１３．  素地を粉砕の前に１５０℃〜８００℃の温度範囲内でか焼することを特徴とする上記１〜１２のいずれかに記載の方法。
１４．  押し出された材料又は素地を造粒ユニットにより予め設定された長さの粒状物に粉砕することを特徴とする上記１〜１３のいずれかに記載の方法。
１５．  回転刃、クロスカッター又縦方向カッターを造粒ユニットとして使用することを特徴とする上記１４に記載の方法。
１６．  押し出された材料、素地又は粒状物を粉砕集成装置により付形体に粉砕することを特徴とする上記１〜１５のいずれかに記載の方法。
１７．  カッティングミル、ビーターミル及びシリンダーの群からの慣用の粉砕集成装置を粉砕集成装置として使用することを特徴とする上記１６に記載の方法。
１８．  付形体を１５００℃より低い温度で焼結することを特徴とする上記１〜１７のいずれかに記載の方法。
１９．  上記１〜１７のいずれかに記載の方法により製造された≧１５ＧＰａの硬度ＨＶ0.2、理論的密度の≧９５％の密度、＜２μｍの平均一次結晶サイズ及び９８重量％以上のＡｌ2Ｏ3含有率を有するα−Ａｌ2Ｏ3をベースとする焼結された微晶質付形体であって、該付形体が、ロッド、シリンダー、多角形、星、波形表面を有するロッドの形態にある充実体又は中空体であることを特徴とする焼結された微晶質付形体。
２０．  平均一次結晶サイズが１μｍ以下であることを特徴とする上記１９に記載の焼結された微晶質付形体。
２１．  付形体の直径は、それが充実体に関する場合には、６ｍｍを越えないことを特徴とする上記１９又は２０に記載の焼結された微晶質付形体。
２２．  付形体の直径は、それが中空体に関する場合には、１２ｍｍを越えないことを特徴とする上記１９又は２０に記載の焼結された微晶質付形体。
２３．  中空体の肉厚が０．０１〜２ｍｍであることを特徴とする上記２２に記載の焼結された微晶質付形体。
２４．  直径対長さの比が０．１／１〜２０／１であることを特徴とする上記１９〜２３のいずれかに記載の焼結された微晶質付形体。
２５．  直径対長さの比が０．２／１〜１／１であることを特徴とする上記１９〜２３のいずれかに記載の焼結された微晶質付形体。
２６．  直径対長さの比が１／１〜１０／１であることを特徴とする上記１９〜２３のいずれかに記載の焼結された微晶質付形体。
２７．  研磨材のための砥粒としての上記１８〜２６のいずれかに記載の焼結された付形体の使用。
２８．  基材上の研磨材のための砥粒としての上記２４又は２５に記載の焼結された付形体の使用。
２９．  結合された研磨材における砥粒としての上記２４又は２５に記載の焼結された付形体の使用。
３０．  研磨材中の付形体の埋め込みを改良するために、付形体の表面が追加の処理をされていることを特徴とする上記２７〜２９のいずれかに記載の焼結された付形体の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月12日(2007.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４１１】
結果
新規な抗精神病薬としての選択的5-HT2A受容体インバースアゴニストの臨床的有用性をさらに特徴付けるために、AC-90179を首振り、歩行活動およびプレパルス抑制挙動モデルで試験した。DOI処置（2.5mg/kg、腹腔内、15分）したマウスの平均首振り評価点は2.6(±0.3、S.E.M.)であった。AC-90179（0.1〜30mg/kg、皮下、10分）では、最小有効量1mg/kgでDOIにより誘導される首振りが用量相関的に減少し、高用量で首振り行動が完全になくなった(図2)。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４１２】
運動試験(図3)では、ビヒクル投与後、マウスは平均794cm(±122、S.E.M.)移動した。ジゾシルピン（0.3mg/kg、腹腔内、15分）およびd-アンフェタミン（3.0mg/kg、腹腔内、15分）により、移動距離が各々平均2625cm(±312)および3367cm(±532)延びた。AC-90179（0.3〜10mg/kg、皮下、10分）は、d-アンフェタミンではなく、ジゾシルピンによって誘導される活動亢進を減弱した。ジゾシルピンに対する最小有効量は1mg/kgであり、AC-90179は試験した最大量(30mg/kg)でのみ自発歩行活動を低下させた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４１３】
AC-90179群のPPIデータでの三元繰返し測定(3-way repeated measures)ANOVAにより、処置[F(1,37)=27.73、p=＜0.01]および前処置相互作用による処置[F(3,37)=8.22、p=＜0.01]の全ての効果が示された(図4)。DOIはPPIを有意に攪乱させたが、AC-90179は特に高用量でこの攪乱の回復に有効であった。AC-90179は単独ではPPIに作用せず、前処置のPPI率%への有意な効果はなかった(P＞0.05)。本発明者らの研究室でのこれまでの研究により、リスペリドンがDOIのPPI攪乱作用を防ぐのに有効であることがわかっているため、これを正の対照として使用した。リスペリドン群のPPIデータでの三元繰り返し測定ANOVAにより、処置[F(1,18)=14.08、p=＜0.01]および前処置相互作用による処置[F(1,18)=24.48、p=＜0.01]の有意な効果も示された。予想通り、リスペリドンはDOI処置ラットのPPIの回復にも有効であった。また、前処置効果のないことから明らかなように、リスペリドンも単独ではPPIへの効果はなかった(P＞0.05)。パルス強度との有意な相互作用がないことから、3種類のパルス強度全てのデータをグラフには使用しなかった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
5-HT2A受容体インバースアゴニストとしての26HCH17およびリタンセリンの用量反応解析により得られたデータを表したグラフ。
【図２】
2-(4-メトキシフェニル)-N-(4-メチルベンジル)-N-(1-メチルピペリジン-4-イル)アセトアミド塩酸塩を与えたマウスで得られたin vivo薬理学的データを表したグラフ。図2は、この新規な抗精神病性化合物の頭部痙攣挙動(首振り行動)モデルでの効果を示している。
【図３】
新規な抗精神病性化合物の頭部痙攣挙動(首振り行動)モデルでの効果を示すグラフ。図3は、運動試験の結果を示している。
【図４】
新規な抗精神病性化合物の運動試験の結果を示すグラフ。図4では、プレパルス抑制調査の結果を示している。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月23日(2007.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つのシール面部を含み、第１のシール面、内壁及び外周を有する外壁を持つ環状のシール面と、 
第１のホルダー半片であって、組立ての前に、第１のホルダー半片に取り付けられた固定端から延びる自由端を有し、そこから片持ちにした第１の取り付けられたバンドセクションを少なくとも１つ含む第１のホルダー半片と、
第２のホルダー半片であって、組立ての前に、第２のホルダー半片に取り付けられた固定端から延びる自由端を有し、そこから片持ちにした第２の取り付けられたバンドセクションを少なくとも１つ含む第２のホルダー半片と、
を有し、
いずれか一方のバンドセクションの端の他方のバンドセクションの端への取り付けの前に、各ホルダー半片は、ホルダー半片に取り付けられた前記バンドセクションの１つをそれぞれ含み、第１及び第２の取り付けられたバンドセクションは、前記スプリットシールで組立てられるとき、前記外周の一部の周囲に位置付け可能である
ことを特徴とするスプリットシールの組立に使用可能なスプリットシール構成部。
【請求項２】
ホルダー半片がそれぞれ、ホルダー半片と一体形成された前記バンドセクションを１つ含むことを特徴とする請求項1記載のスプリットシール構成部。
【請求項３】
各バンドセクションの自由端が、別のバンドセクションの固定端への取り付けに合わせて形成されてなることを特徴とする請求項1又は２記載のスプリットシール構成部。
【請求項４】
前記第１および第２のホルダー半片のそれぞれに環状部があり、この環状部は前記シャフトおよび環状部の内部軸壁と外部軸壁の間で軸方向に伸びた溝に隣接して位置付けが可能で、前記溝がシール面部を少なくとも１箇所有するよう形成されてなることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項記載のスプリットシール構成部。
【請求項５】
前記内壁と前記外壁のうち少なくともいずれか一つに対して位置付けてあるスプリットＯリングを追加してなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載のスプリットシール構成部。
【請求項６】 
前記内壁が第１の部分と第２の部分を含み、第１の部分の内径はシャフトの外径と近似し、第２の部分はより大きな内径を持ち、且つ前記スプリットＯリングが内壁の前記第２の部分に対して位置付けてあることを特徴とする請求項５記載のスプリットシール構成部。
【請求項７】
前記第１および第２のホルダー半片が、回転シャフトの回転、あるいは回転シャフトに関する固定取り付けのどちらかに合わせて形成されてなることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項記載のスプリットシール構成部。
【請求項８】
前記ホルダー半片が、回転ホルダー半片であり、２つのシール面部を有する第２のシール面と、前記第２のシール面部の１つを受けるようそれぞれ配置され、且つ組立品の回転および固定要素の配列を補助する接合面をそれぞれ含む第１および第２の固定ホルダー半片と、組合わされることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項記載のスプリットシール構成部。
【請求項９】
固定ホルダー半片をシャフトに取り付ける前に、前記回転ホルダー半片の内の一つを取り付け前に保持するよう、固定ホルダー半片が形成されることを特徴とする請求項８記載のスプリットシール構成部。
【請求項１０】
前記各回転ホルダー半片が、固定ホルダー半片の接合面と接する面を有することを特徴とする請求項８又は９記載のスプリットシール構成部。
【請求項１１】
初めのシール面の前記シール面部がそれぞれ、固定ホルダー半片の接合面と接する面を有することを特徴とする請求項８又は９記載のスプリットシール構成部。
【請求項１２】
前記接合面を設けるため各固定ホルダー半片の中に配置した、十分に非圧縮性の曲線状制御部を追加してなることを特徴とする請求項８ないし１１のいずれか１項記載のスプリットシール構成部。
【請求項１３】
（ａ）ホルダー半片に取り付けられた固定端から延びる自由端を伴ってそこから片持ちにしたバンドセクションを少なくとも一つそれぞれに含む第１および第２のホルダー半片を設け、ここで、前記固定端は、バンドセクションの端の間のいずれかの取り付けの前に、ホルダー半片に取り付けられ、
（ｂ）２つのシール面部を与える工程と、
（ｃ）各ホルダー半片にシール面部を挿入する工程と、
（ｄ）シャフトの周りにホルダー半片を配置する工程と、
（ｅ）各バンドセクションの自由端をもう一方のバンドセクションの固定端に固定する工程と、
を含むことを特徴とするスプリットシール構成部の組立方法。
【請求項１４】
第１のホルダー半片を第２のホルダー半片に固定する工程を追加してなることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】 バンドセクションを固定する前に、前記シール面部の内壁と前記シャフトの間にスプリットＯリングを位置付ける工程を追加してなることを特徴とする請求項１３又は１４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月18日(2007.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  精錬装置（２０）に消耗電極（１１）を供給するための消耗電極供給装置（１０）であって、当該消耗電極供給装置が、
第１の方向（１４０）に沿って精錬装置に消耗電極を供給する側方供給装置（１４）と、
前記第１の方向と略直交する第２の方向（１５０）に沿って精錬装置に消耗電極を供給する精錬供給装置（１５）と、
供給された消耗電極を互いに連結する連結装置（１６）と
を含んでおり、
ある消耗電極の所定量が前記精錬装置内で精錬されると、前記側方供給装置によって前回の消耗電極の上方に別の消耗電極が配置され、前記連結装置が供給された消耗電極を前回供給された消耗電極に連結して精錬用消耗電極を供給するための精錬作業停止を回避する、消耗電極供給装置。
【請求項２】  前記連結装置が溶接連結装置、ろう付け連結装置、はんだ付け連結装置、融着連結装置及びそれらの組合せのうちの１以上からなる、請求項１記載の消耗電極供給装置。
【請求項３】  前記連結装置が消耗電極の重量を支持する連結部を生じる、請求項１又は請求項２記載の消耗電極供給装置。
【請求項４】  前記精錬供給装置が前記精錬装置に消耗電極を制御下で移動させる、請求項１又は請求項２記載の消耗電極供給装置。
【請求項５】  精錬装置（２０）に消耗電極（１１）を供給するための方法であって、当該供給方法が、
第１の方向（１４０）に沿って精錬装置（２０）に消耗電極（１１）を供給する工程と、
前記第１の方向と略直交する第２の方向（１５０）に沿って精錬装置に消耗電極を供給する工程と、
消耗電極を互いに連結する工程と、
前記精錬装置に消耗電極を供給しながら前記消耗電極を精錬する工程と
を含んでおり、
ある消耗電極の所定量が精錬されると、別の消耗電極を供給し、供給された消耗電極を前回供給された消耗電極に連結して精錬作業の停止を回避する、方法。
【請求項６】  前記連結工程が溶接、ろう付け、はんだ付け、融着又はそれらの組合せによって連結することからなる、請求項５記載の方法。
【請求項７】  前記連結工程が消耗電極の重量を支持する連結部を生じる、請求項５記載の方法。
【請求項８】  精錬装置に消耗電極を供給する前記工程が前記精錬装置に消耗電極を制御下で移動させることからなる、請求項５記載の方法。
【請求項９】  低温誘導案内装置を含むエレクトロスラグ精錬装置に消耗電極を供給するための請求項１記載の消耗電極供給装置であって、当該消耗電極供給装置が、
精錬供給装置に供給すべき配置状態に消耗電極を配列するためのコンベヤ、クレーン、送路、リフト及びそれらの組合せの中から選択される１以上からなる、第１の方向に沿って精錬装置に消耗電極を供給するための側方供給装置と、
前記精錬装置に前記消耗電極を制御下で移動させるためのカタピラ装置、トレッド装置、ベルト装置、チェーン装置及びそれらの組合せの中から選択される、前記第１の方向と略直交する第２の方向に沿って精錬装置に消耗電極を供給するための精錬供給装置と、
溶接連結装置、ろう付け連結装置、はんだ付け連結装置、融着連結装置及びそれらの組合せのうちの１以上からなる、供給された消耗電極を互いに連結するための連結装置と
を含んでおり、
ある消耗電極の所定量が前記精錬装置内で精錬されると、前記側方供給装置によって前回の消耗電極の上方に別の消耗電極が配置され、前記連結装置が供給された消耗電極を前回供給された消耗電極に連結して精錬用消耗電極を供給するための精錬作業停止を回避するとともに前記連結装置が消耗電極の重量を支持する連結部を生じる、消耗電極供給装置。
【請求項１０】  エレクトロスラグ精錬構造物と、
低温炉床構造物と、
エレクトロスラグ精錬装置に消耗電極を供給するための消耗電極供給装置とを含むエレクトロスラグ精錬装置であって、前記消耗電極供給装置が、
第１の方向に沿って前記エレクトロスラグ精錬装置に消耗電極を供給する側方供給装置と、
前記第１の方向と略直交する第２の方向に沿って前記エレクトロスラグ精錬装置に消耗電極を供給する精錬供給装置と、
供給された消耗電極を互いに連結する連結装置と
を含むエレクトロスラグ精錬装置であって、
ある消耗電極の所定量が前記エレクトロスラグ精錬装置内で精錬されると、前記側方供給装置によって前回の消耗電極の上方に別の消耗電極が配置され、前記連結装置が供給された消耗電極を前回供給された消耗電極に連結して前記エレクトロスラグ精錬装置による精錬用消耗電極を供給するための精錬作業停止を回避する、エレクトロスラグ精錬装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月14日(2007.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  二酸成分１００モル％基準及びジオール成分１００モル％基準で、少なくとも９０モル％のテレフタル酸の残基を含む二酸成分並びに５９〜７７．５モル％のエチレングリコール、１５〜２８モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール（ＣＨＤＭ）及び７．５〜１３モル％のジエチレングリコール（ＤＥＧ）の残基を含むジオール成分を含んでなる反応器グレードコポリエステル組成物。
【請求項２】  ジオール成分が１６〜２６モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノールを含む請求項１に記載のコポリエステル組成物。
【請求項３】  ジオール成分（ｂ）が式：
ＤＥＧ％(最適)＝６３−４．２６×(ＣＨＤＭ％)＋０．０８２２×ＣＨＤＭ2 の＋／−２．５モル％内でジエチレングリコールの残基を含む請求項２に記載のコポリエステル組成物。
【請求項４】  公称２ミル（５０ミクロン）厚のフィルムについて、ＡＳＴＭ  Ｄ８８２に従って測定した非延伸方向での破断点伸びが少なくとも３００％である請求項１に記載のコポリエステル組成物。
【請求項５】  破断点伸びが少なくとも４００％である請求項４に記載のコポリエステル組成物。
【請求項６】  請求項１に記載のコポリエステル組成物を含んでなる熱収縮性フィルム。
【請求項７】  請求項３に記載のコポリエステル組成物を含んでなる熱収縮性フィルム。
【請求項８】  請求項１に記載のコポリエステル組成物をカレンダー加工することによって製造されたフィルム。
【請求項９】  二酸成分１００モル％基準及びジオール成分１００モル％基準で、少なくとも９０モル％のテレフタル酸の残基を含む二酸成分並びに５９〜７７．５モル％のエチレングリコール、１５〜２８モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール及び７．５〜１３モル％のジエチレングリコールの残基を含むジオール成分を含んでなる反応器グレードコポリエステル組成物を含んでなる熱収縮性フィルム。
【請求項１０】  公称２ミル（５０ミクロン）厚のフィルムについて、ＡＳＴＭ  Ｄ８８２に従って測定した非延伸方向での破断点伸びが少なくとも３００％である請求項９に記載の熱収縮性フィルム。
【請求項１１】  破断点伸びが少なくとも４００％である請求項１０に記載の熱収縮性フィルム。
【請求項１２】  ジオール成分が１６〜２６モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノールを含む請求項９に記載の熱収縮性フィルム。
【請求項１３】  ジオール成分が式：
ＤＥＧ％(最適)＝６３−４．２６×(ＣＨＤＭ％)＋０．０８２２×ＣＨＤＭ2 の＋／−２．５モル％内でジエチレングリコールの残基を含む請求項１２に記載の熱収縮性フィルム。
【請求項１４】  −１．０以上４．５未満のｂ* 色値を有する請求項９に記載の熱収縮性フィルム。
【請求項１５】  ｂ* 色値が−１．０〜３．５である請求項１４に記載の熱収縮性フィルム。
【請求項１６】  反応器グレードコポリエステル組成物が、更に、０〜７５ｐｐｍのマンガン、１０〜１００ｐｐｍのチタン及び２５〜１５０ｐｐｍのリンを含む触媒系の残基並びに１．０〜１０．０ｐｐｍのアントラキノンの赤化合物及び１．０〜１０．０ｐｐｍの置換された１，４−ビス（２，６−ジアリルアニリノ）アントラキノンの青化合物を含む有機トナー系の残基を含んでなる（ここで触媒系及び有機トナー系の残基の量はコポリエステルの重量基準である）請求項１４に記載の熱収縮性フィルム。
【請求項１７】  触媒系が１５〜５０ｐｐｍのチタン、２０〜６０ｐｐｍのマンガン及び２５〜１５０ｐｐｍのリンを含み、有機トナー系が１．０〜５．０ｐｐｍのアントラキノンの赤化合物及び１．０〜５．０ｐｐｍの置換された１，４−ビス（２，６−ジアリルアニリノ）アントラキノンの青化合物を含む請求項１６に記載の熱収縮性フィルム。
【請求項１８】  少なくとも９０モル％のテレフタル酸の残基を含む二酸成分並びに６１〜８２モル％のエチレングリコール、１６〜２６モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール及び式：
ＤＥＧ％(最適)＝６３−４．２６×(ＣＨＤＭ％)＋０．０８２２×ＣＨＤＭ2 の＋／−２．５モル％内で２〜１３モル％のジエチレングリコールの残基を含むジオール成分を含んでなる、反応器グレードコポリエステル組成物を含んでなる熱収縮性フィルム。
【請求項１９】  二酸成分が少なくとも９５モル％のテレフタル酸の残基を含む請求項１８に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２０】  二酸成分が１００モル％のテレフタル酸の残基を含む請求項１９に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２１】  ジオール成分が７，５〜１３モル％のジエチレングリコールの残基を含む請求項１８に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２２】  １００モル％の二酸成分及び１００モル％のジオール成分基準で、
（ａ）少なくとも９０モル％のテレフタル酸の残基を含む二酸成分
（ｂ）５２〜８８モル％のエチレングリコール、１０〜２８モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール及び２〜２０モル％のジエチレングリコールの残基を含むジオール成分から本質的になるジオール成分並びに
（ｃ）０〜７５ｐｐｍのマンガン、１０〜１００ｐｐｍのチタン及び２５〜１５０ｐｐｍのリンを含む触媒系の残基並びに１．０〜１０．０ｐｐｍのアントラキノンの赤化合物及び１．０〜１０．０ｐｐｍの置換された１，４−ビス（２，６−ジアリルアニリノ）アントラキノンの青化合物を含む有機トナー系の残基から本質的になる（ここで触媒系及び有機トナー系の残基の量はコポリエステルの重量基準である）
−１．０以上４．５未満のｂ* 色値を有する反応器グレードコポリエステル組成物。
【請求項２３】  ｂ* 色値が−１．０〜３．５である請求項２２に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２４】  触媒系が１５〜５０ｐｐｍのチタン、２０〜６０ｐｐｍのマンガン及び２５〜１５０ｐｐｍのリンから本質的になり、そして有機トナー系が１．０〜５．０ｐｐｍのアントラキノンの赤化合物及び１．０〜５．０ｐｐｍの置換された１，４−ビス（２，６−ジアリルアニリノ）アントラキノンの青化合物から本質的になる請求項２２に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２５】  ジオール成分が２〜１３モル％のジエチレングリコールの残基から本質的になる請求項２２に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２６】  ジオール成分が７．５〜１３モル％のジエチレングリコールの残基から本質的になる請求項２５に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２７】  ジオール成分が１０〜１５モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノールの残基から本質的になる請求項２５に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２８】  ジオール成分が１６〜２６モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノールの残基及び式：
ＤＥＧ％(最適)＝６３−４．２６×(ＣＨＤＭ％)＋０．０８２２×ＣＨＤＭ2 の＋／−２．５モル％内のジエチレングリコールの残基から本質的になる請求項２５に記載のコポリエステル組成物。
【請求項２９】  ジオール成分が７．５〜１３モル％のジエチレングリコールの残基から本質的になる請求項２８に記載のコポリエステル組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月22日(2007.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】熱転写ドナー要素及びその製法とパターン形成方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基材と、
架橋した材料を含む転写層と、
熱転写ドナー要素内に配置され、前記ドナー要素を画像形成放射線に曝露した場合に熱を発生する光−熱変換材料と、
を含む熱転写ドナー要素であって、
前記ドナー要素を画像形成放射線に選択的に曝露した場合に、前記ドナー要素から前記転写層を、近接して配置されたレセプターに画像状に転写することができる熱転写ドナー要素。
【請求項２】  レセプター近傍に、基材と、架橋した材料を含む転写層と、光−熱変換材料とを含む熱転写ドナー要素を配置する工程と、
前記変換材料によって吸収され熱に変換することが可能な画像形成放射線に前記ドナー要素を選択的に曝露することによって、前記レセプターに前記転写層を画像状に転写する工程と、
を含む、パターン形成方法。
【請求項３】  ドナー基材を提供する工程と、
前記基材と隣接させて架橋性材料をコーティングする工程と、
前記架橋性材料を架橋させて架橋した転写層を形成する工程と、
前記ドナー要素中に、画像形成放射線に曝露することによって熱を発生することができる光−熱変換材料を配置する工程と、
を含み、
前記ドナー要素が画像形成放射線に選択的に曝露した場合に、前記ドナー要素から前記転写層を、近接して配置されたレセプターに画像状に転写することができる、熱転写ドナー要素の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月19日(2007.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図２は、図１の線II−IIで切断したエアジェット・コンベヤーの横断端面図である。図に示すように、エアジェット・コンベヤーは、搬送トラックの両側の１つずつの２つの細長い支持材片８から形成される。エアナイフ６は、支持材片８中に設けられた切り欠き部分１３内に適合する。切り欠き部分１３は、種々の間隙を有するようにエアナイフを調節できる。エアナイフ６間の間隙は、コンベヤー全体に渡って一定であってもよいし、搬送トラックの種々の部分で特有の搬送ニーズに合わせて変化させることもできる。切り欠き部分１３内のエアナイフ６と支持材片８との間にＯリングシールを設けることもできる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
図７は、図６の線VII、VIII−VII、VIIIで切断したエアジェット・コンベヤーの横断端面図である。図８は、図６の線VII、VIII−VII、VIIIで切断した環状流路１４の横断面図であり、傾斜スリット５の切断を示す。第１の好ましい実施態様において、方向性スリットはエアナイフによって形成される。第２の好ましい実施態様においては、方向性スリットは、環状流路１４をブレード１６によって一部分切り込むことによって形成される。切り込みは望ましい角度でなされ、図８は切断の深さを示している。方向性スリットをエアプレナム４に開けるように、環状流路１４中に充分に深く切り込みが行われなければならない。しかし、環状流路１４の側面から空気が出ないように切り込みは充分に浅くなければならない。このためには、切断に使用されるブレード１６の直径は、環状流路１４の幅を大幅に超えることはできない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の第１の好ましい実施態様に係るエアジェット・コンベヤーの側面図である。
【図２】
図１の線II−IIで切断したエアジェット・コンベヤーの横断端面図である。
【図３】
図１に示されたエアジェット・コンベヤーに使用されたエアナイフの平面図である。
【図４】
図３に示されたエアナイフの側面図である。
【図５】
図３及び４に示された複数のエアナイフの側面図である。
【図６】
本発明の第２の好ましい実施態様に係るエアジェット・コンベヤーの斜視図である。
【図７】
図６の線VII、VIII−VII、VIIIで切断したエアジェット・コンベヤーの横断端面図である。
【図８】
図６の線VII、VIII−VII、VIIIで切断した環状流路の横断面図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2003531790.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2003531790.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月7日(2007.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  粉末の貯蔵手段（１２）、作業面（５０）を持つシュー（３６）を有するスクレーパー（３０）によるスクレーピング手段（１６）ならびに移動方向Ｆに沿って並進する案内手段（２８）を含む、サポート手段（１４）上で粉末を薄い層状にする装置であって、シュー（３６）がティルティング移動すること、およびシュー（３６）が少なくとも２つのポジションを取るために傾斜する手段（３２、３４）を含むこと、またこれらのポジションのうちの第一のポジションにおいて、所定量の粉末を取り込むために作業面（５０）が層サポート手段（１４）に並行であること、第二のポジションにおいて、この作業面（５０）が前記サポート手段に対して角度αだけ傾いていることを特徴とする装置。
【請求項２】  シュー（３６）の作業面（５０）が障害物（５２）を含むことを特徴とする請求項１に記載の薄層状化装置。
【請求項３】  障害物が複数のぎざぎざ（５４）を含むことを特徴とする請求項２に記載の薄層状化装置。
【請求項４】  ぎざぎざ（５４）の数が３つであり、これらのぎざぎざ（５４）は作業面（５０）の平面内において、および移動方向Ｆに対して後方側において直角である直角三角形横断面を有することを特徴とする請求項３に記載の薄層状化装置。
【請求項５】  傾斜手段が機械的手段であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の薄層状化装置。
【請求項６】  機械的手段が長さＬ１にわたって高さｈを、またトランジッション長さＬを、および長さＬ２にわたって高さＨを有するレール（３４）と、前記レールにもたれかかりながらスライドする突起部（４４）とを含むことを特徴とする請求項５に記載の薄層状化装置。
【請求項７】  傾斜手段が電動化されることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の薄層状化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
ドイツ国出願ＤＥ４３２５５７３では、タンク内に保存されサポート上に塗布される粉末の層化装置について記載している。サポートは、シリンダにより移動するブレード状のスクレーピング手段を備える。
このような配置はほぼほとんどの粉末の使用にあたり満足の得られる結果につながるとはいえども、製品が取り扱い上はるかにデリケートである場合、とりわけ粉末の粒度が小さい場合や、層の厚さと粒度との比が変化する場合、あるいは粒子の形状が変わる場合における層状化を改良すべきである。