【手続補正書】
【提出日】平成19年11月6日(2007.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高スループット試料調製および分析の方法であって、該方法は、
不溶マトリックスと結合する分析物を含む流体を該不溶マトリックス上を渡って第一方向に通過させる工程；
該第一方向とは逆の第二方向に該不溶マトリックス上を渡って溶出液を逆溶出して、該分析物を含む試料を出力する工程；
周期的速度で複数の試料を出力するために、該流体を通過させ、そして該溶出液を逆溶出する工程を繰り返す工程
とを包含する、方法。
【請求項２】
前記周期的速度が１試料当たり３０秒か、それより速い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
各試料を分析する工程をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記各試料を分析する工程が、該各試料を質量分析計に送る工程を包含する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、前記逆溶出する工程は、バルブ素子を作動して、不溶マトリックス上を渡って前記溶出液の流れを開始する工程を包含し、該方法はさらに、前記バルブが作動され、前記試料の特徴を決定した後、所定の時間の間、前記質量分析計の出力を積算する工程を包含する、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、さらに、前記溶出液を逆溶出する前に、前記クロマトグラフィーマトリックス上を渡って洗浄溶液を通過させる工程を包含する、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、さらに、前記不溶マトリックス上を渡って前記分析物を含む前記流体を通過させる前に、前記クロマトグラフィーマトリックス上を渡って洗浄溶液を通過させる工程を包含する、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、さらに、不溶マトリックス上を渡って前記流体を通過させる前に、流体ソースからの該流体を吸引する工程を包含する、方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、さらにカラム型式で前記クロマトグラフィーマトリックスを充填する工程を包含する、方法。
【請求項１０】
高スループット試料調製および分析のためのシステムであって、該システムは、
複数のクロマトグラフィーカラム；
アナライザーに結びつけるための手段；および
該複数のクロマトグラフィーカラムのうちの１つから該アナライザーに溶出物を選択的に送ることのできるバルブ、
を備える、システム。
【請求項１１】
前記アナライザーが質量分析計である、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
請求項１０に記載のシステムであって、前記バルブが作動され、前記複数のクロマトグラフィーカラムのうちの１つから前記アナライザーに溶出物を送り、該システムはさらに該アナライザーからの出力シグナルを受信し、該バルブが作動された後所定の時間の間、該出力を積算し前記試料の特徴を決定するプロセッサを備える、システム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のシステムであって、前記プロセッサは、前記アナライザーから第一出力シグナルを受信し、そして前記所定の時間量の間、該第一出力シグナルを積算し、該プロセッサは、該アナライザーから第二出力シグナルを受信し、そして該所定の時間量の間、該第二出力シグナルを積算し、該プロセッサは、該第一出力シグナルの積算と該第二出力シグナルの積算との和が閾値より小さい場合、エラーシグナルを提供する、システム。
【請求項１４】
前記出力は、予め定義されたウィンドウに渡って積算される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
高スループット試料調製および分析のためのシステムであって、該システムは、
不溶マトリックスを含むクロマトグラフィーカラム；および
該不溶マトリックス上を渡って第一方向に流体を通過させ、該流体中の分析物が該不溶マトリックスに結合するようにし、そして該不溶マトリックス上を渡って該第一方向とは逆の第二方向に溶出液を逆溶出して該分析物を含む試料を出力するための流体回路；および
流体回路を、該不溶マトリックス上を渡って該流体を通過させる工程と該不溶マトリックス上を渡って該溶出液を逆溶出する工程とを周期的に実施するように制御し、周期的速度で複数の試料を出力するためのコントローラー、
を備える、システム。
【請求項１６】
前記周期的速度は、１試料あたり３０秒か、それより速い、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記流体回路は、交互に前記不溶マトリックス上を渡って前記第一方向に流体を向け、そして該不溶マトリックス上を渡って前記第二方向に該不溶マトリックス上を渡って溶出液を逆溶出することができるバルブモジュールを備える、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１８】
前記バルブモジュールは、少なくとも１つの空気により作動されるバルブを備える、請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】
前記バルブモジュールは、１００ミリ秒より速い作動時間を有する、請求項１７に記載のシステム。
【請求項２０】
前記バルブモジュールは、電気機械的である、請求項１７に記載のシステム。
【請求項２１】
請求項１５に記載のシステムであって、前記試料の１つ以上を分析するためのアナライザーをさらに備える、システム。
【請求項２２】
前記アナライザーは、前記１つ以上の試料のシグナルの典型を出力する質量分析計である、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
請求項２２に記載のシステムであって、前記アナライザーは、電気スプレーイオン化質量分析法ソース、大気圧化学イオン化ソース、および大気圧光イオン化ソースからなるソースの群より選択される大気圧イオン化質量分析法ソースを備える質量分析計である、システム。
【請求項２４】
請求項２２に記載のシステムであって、前記流体回路は、作動して、前記不溶マトリックス上を渡って前記溶出液を逆溶出するバルブモジュールを備え、そして該バルブモジュールが作動され、前記試料の特徴を決定した後、前記コントローラーは、所定の時間の間、前記シグナルを積算する、システム。
【請求項２５】
請求項２４に記載のシステムであって、前記バルブモジュールが作動され、前記試料の特徴を決定した後、前記コントローラーは、無差別に、所定の全時間の間、前記シグナルを使用する、システム。
【請求項２６】
前記流体回路は、２０μｍと３００μｍとの間の直径を有するチュービングを備える、請求項１５に記載のシステム。
【請求項２７】
前記流体回路は、２０μｍと３００μｍとの間の直径を有する微小流体バイオチップ中にチャネルを備える、請求項２６に記載のシステム。
【請求項２８】
前記流体回路は、前記流体に接する１つ以上の表面を含み、そして各表面は、生体不活性である、請求項１５に記載のシステム。
【請求項２９】
前記各表面は、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、テフロン（登録商標）、チタン、およびチタン合金からなる物質の群より選択される物質である、請求項２８に記載のシステム。
【請求項３０】
前記流体回路は、前記分析物との結合を最小限にする物質で被覆したスチールで作られた流体通路を備える、請求項１５に記載のシステム。
【請求項３１】
前記物質は、ポリテトラフルオロエチレンおよびポリエチレングリコールからなる物質の群より選択される、請求項３０に記載のシステム。
【請求項３２】
前記流体回路は、前記不溶マトリックス上を渡って通過されるべき前記流体のアリコットを吸引するためのアスピレーターを備える、請求項１５に記載のシステム。
【請求項３３】
前記クロマトグラフィーカラムは、第一端部および第二端部を備え、前記分析物は、該第一端部から該クロマトグラフィーカラムに出入りする、請求項１５に記載のシステム。
【請求項３４】
クロマトグラフィーカラムと流体連通している流体回路を備える高スループットシステムを制御するためのコンピューターシステムに使用するためのコンピュータープログラム製品であって、該コンピュータープログラム製品は、コンピューター読み取り可能プログラムコードを有するコンピューター使用可能媒体を含み、該コンピューター読み取り可能プログラムコードは、
該不溶マトリックス上を渡って第一方向に流体を通過させて、該流体中の分析物が該不溶マトリックスと結合するようにする該流体回路を制御するためのプログラムコード；
該不溶マトリックス上を渡って該第一方向とは逆の第二方向に溶出液を逆溶出するための該流体回路を制御するためのプログラムコード；および
該流体の通過および該溶出液の逆溶出を繰り返して、周期的速度で試料を出力するためのプログラムコード、
を含む、コンピュータープログラム製品。
【請求項３５】
前記周期的速度が、１試料当たり３０秒か、それより速い、請求項３４に記載のコンピュータープログラム製品。
【請求項３６】
請求項３４に記載のコンピュータープログラム製品であって、前記流体回路を制御して前記溶出液を逆溶出するためのコンピュータープログラムコードは、該溶出液が前記クロマトグラフィーカラムを通って前記第二方向に流れるようにするバルブモジュールを作動させるためのプログラムコードを含む、コンピュータープログラム製品。
【請求項３７】
請求項３４に記載のコンピュータープログラム製品であって、前記高スループットシステムは、前記試料を分析するための質量分析計を備え、そして該コンピュータープログラム製品はさらに、該質量分析計の出力を積算するためのプログラムコードを含み、前記バルブモジュールの作動後、該試料の特徴を決定する、コンピュータープログラム製品。
【請求項３８】
流体試料の高スループットスクリーニングのための自動注入システムであって、該システムは、
試料シッパーチューブ；
試料ループ；および
該試料シッパーチューブに減圧を印加するための注入バルブ、
を備え、
該注入バルブが第一の位置にある場合、該試料ループは該試料シッパーチューブと流体連通している、
自動注入システム。
【請求項３９】
請求項３８に記載のシステムであって、さらに、前記減圧を印加するための減圧手段を備える、システム。
【請求項４０】
前記減圧手段は、減圧の連続的印加のための真空ポンプを備える、請求項３９に記載のシステム。
【請求項４１】
前記減圧手段は、減圧の計量印加のためのピストンを備える、請求項４０に記載のシステム。
【請求項４２】
請求項３９に記載のシステムであって、前記減圧手段は、前記減圧の連続的印加のための真空ポンプ、および該減圧の計量印加のためのピストンを備え、該システムはさらに、該真空ポンプおよび該ピストンポンプの１つを該減圧のソースとして選択するためのバルブを備える、システム。
【請求項４３】
請求項３９に記載のシステムであって、さらに前記減圧手段と前記注入バルブとの間に配置されたインライン式トラップを備える、システム。
【請求項４４】
請求項３８に記載のシステムであって、前記試料シッパーチューブを通して前記試料ループ中に吸引されるべき試料液量を計量するための遮断バルブをさらに備え、該遮断バルブは、前記減圧手段と前記注入バルブとの間に配置される、システム。
【請求項４５】
前記遮断バルブは、電磁弁である、請求項４４に記載のシステム。
【請求項４６】
前記システムの前記流体と接触している前記表面は、テフロン（登録商標）、溶融シリカ、およびポリエーテルエーテルケトンからなる物質の群からの物質から作られる、請求項３８に記載のシステム。
【請求項４７】
前記注入バルブが第二の位置にある場合、前記試料ループは、該注入バルブの出力ポートと流体連通している、請求項３８に記載のシステム。
【請求項４８】
請求項４７に記載のシステムであって、前記減圧のソースと前記注入バルブとの間に配置されるインライン式トラップをさらに備え、そして前記注入バルブが前記第二の位置にある場合、該インライン式トラップが捕獲する洗浄液を吸引するために、前記試料シッパーチューブは、該減圧のソースと流体連通しており、該インライン式トラップが該洗浄液捕獲する、システム。
【請求項４９】
流体試料の高スループットスクリーニングのための自動注入システムであって、該システムは、
減圧のソース；
試料ループ；
試料シッパーチューブ；および
注入バルブ、
を備え、該注入バルブは、
該試料シッパーチューブと流体連通している第一ポート、
該試料ループと流体連通している第二ポート、
該試料ループと流体連通している第三ポート、および
減圧のソースと流体連通している第四ポート、
を備える、自動注入システム。
【請求項５０】
前記注入バルブが第一の位置にある場合、前記減圧のソース、前記試料ループ、および前記試料シッパーチューブは、流体連通している、請求項４９に記載のシステム。
【請求項５１】
前記注入バルブがさらに、前記試料ループから試料液を出力するための第五ポートを備える、請求項４９に記載のシステム。
【請求項５２】
前記注入バルブが第二の位置にある場合、前記試料ループが前記第五ポートと流体連通している、請求項５１に記載のシステム。
【請求項５３】
請求項５１に記載のシステムであって、さらに高圧のソースを備え、そして前記注入バルブがさらに、該高圧のソースと流体連通している第六ポートを備える、システム。
【請求項５４】
前記減圧のソースが真空ポンプを備える、請求項４９に記載のシステム。
【請求項５５】
前記減圧のソースがピストンを備える、請求項４９に記載のシステム。
【請求項５６】
請求項４９に記載のシステムであって、前記減圧のソースが、該減圧の連続的印加のための真空ポンプ、および該減圧の計量印加のためのピストンを備え、該システムはさらに、該減圧のソースとして該真空ポンプおよび該ピストンポンプのうちの１つを選択するためのバルブを備える、システム。
【請求項５７】
請求項４９に記載のシステムであって、さらに前記減圧のソースと前記注入バルブとの間に配置されるインライン式トラップを備える、システム。
【請求項５８】
前記注入バルブが第二の位置にある場合、前記試料シッパーチューブは、洗浄液を吸引するために前記減圧ソースと流体連通しており、前記インライン式トラップは該洗浄液を捕獲する、請求項５７に記載のシステム。
【請求項５９】
請求項４９に記載のシステムであって、さらに前記試料シッパーチューブを通して前記試料ループ中に吸引されるべき前記試料液の量を計量するための遮断バルブを備え、該遮断バルブは、前記減圧ソースと前記注入バルブとの間に配置されている、システム。
【請求項６０】
前記遮断バルブが、電磁弁である、請求項５９に記載のシステム。
【請求項６１】
前記システムの前記流体接触表面が、テフロン（登録商標）、溶融シリカ、およびポリエーテルエーテルケトンからなる物質の群からの物質で作られる、請求項４９に記載のシステム。
【請求項６２】
反復試料採取および試料の輸送のためのオートサンプラーシステムであって、
注入バルブと流体連通している該試料ポートを備える流体回路であって、該流体回路は、試料を流体回路中に充填するために減圧を試料ポートに印加するための手段を備える、流体回路；
該試料ポートとは区別される該流体回路の出力ポートから、アナライザー中に該試料を送るための出力手段；および
該試料ポートに対して複数の試料を配置させる自動化手段、
を備える、オートサンプラーシステム。
【請求項６３】
減圧を印加するための前記手段がトラップを備える、請求項６２に記載のシステム。
【請求項６４】
減圧を印加するための前記手段が連続的に、試料の輸送の間ずっと、負の圧力を前記試料ポートに印加する、請求項６２に記載のシステム。
【請求項６５】
複数の試料を配置するための前記自動化手段が、マイクロプレートのウェルを連続的に送るためのロボットデバイスを備える、請求項６２に記載のシステム。
【請求項６６】
前記試料が、３０秒毎に１試料より大きい割合で処理される、請求項６２に記載のシステム。
【請求項６７】
前記アナライザーが質量分析計である、請求項６２に記載のシステム。
【請求項６８】
前記試料が断続的に前記試料ポートに吸引され、そして前記流体が連続的に前記アナライザー中に注入される、請求項６２に記載のシステム。
【請求項６９】
前記流体回路がさらに、前記試料の精製のための樹脂を含む、請求項６２に記載のシステム。
【請求項７０】
請求項６９に記載のシステムであって、さらに、輸送前に、前記樹脂に試料を導入し、該樹脂を洗浄溶液で洗浄し、そして該試料を溶出溶液で逆溶出するための手段を備える、システム。
【請求項７１】
減圧を印加するための前記手段がトラップを備える、請求項７０に記載のシステム。
【請求項７２】
減圧を印加するための前記手段が、試料の輸送の間ずっと、負の圧力を前記試料ポートに連続的に印加する、請求項７０に記載のシステム。
【請求項７３】
複数の試料を配置するための前記自動化手段が、マイクロプレートのウェルを連続的に送るためのロボットデバイスを備える、請求項７２に記載のシステム。
【請求項７４】
前記試料が、３０秒毎に１試料より大きい割合で処理される、請求項７０に記載のシステム。
【請求項７５】
前記アナライザーが質量分析計である、請求項７０に記載のシステム。
【請求項７６】
試料が断続的に前記試料ポートに吸引され、そして流体が連続的に前記アナライザー中に注入される、請求項７０に記載のシステム。
【請求項７７】
高スループット試料調製および高スループット試料分析のためのシステムであって、該システムは、
不溶マトリックス；
シッパーチューブ；
該シッパーチューブに対してマイクロウェルプレートの試料ウェルを配置するロボットデバイスであって、各ウェルは試料を保持することができる、ロボットデバイス；
アナライザー；
減圧を、選択肢として、該シッパーチューブに印加して、該マイクロウェルプレートから試料ループ中に試料を吸引し、そして増圧を該試料ループに印加して、該試料を出力し、次いで洗浄溶液を該不溶マトリックスに流すための自動制御手段であって、該制御手段は、該試料中の分析物を該不溶マトリックスと結合させるように、第一方向に該試料および該洗浄溶液を該不溶マトリックス上に通過させ、そして増圧を印加して、該第一方向とは逆の第二方向に該不溶マトリックス上を渡って溶出液を逆溶出して、該分析物を該アナライザーに出力ポートを介して出力し、該制御手段は、周期的速度で該アナライザーに分析物を提供する、自動制御手段、
を備える、システム。
【請求項７８】
前記周期的速度は、１分析物当たり３０秒か、それより速い、請求項７５に記載のシステム。
【請求項７９】
前記アナライザーが質量分析計である、請求項７７に記載のシステム。
【請求項８０】
請求項７７に記載のシステムであって、前記制御手段は、メモリーデバイスおよび少なくとも１つの注入バルブを備え、該注入バルブが読み出しに対して誘発された場合、記憶用の該メモリーデバイスが前記アナライザーで機能する、システム。
【請求項８１】
前記シッパーチューブが前記マトリックスに対して固定される、請求項７７に記載のシステム。
【請求項８２】
高スループット試料および高スループット分析のためのシステムであって、該システムは、
不溶マトリックスを備えるクロマトグラフィーカラム；
アナライザー；
流体中の分析物が該不溶マトリックスと結合するように該不溶マトリックス上を渡って第一方向に該流体を通過させ、そして該不溶マトリックス上を渡って溶出液を通過させて該分析物を含む試料を出力するための流体回路手段；ならびに
該流体回路を制御するためのコントローラーであって、該不溶マトリックス上を渡って該流体を通過させる工程、および該不溶マトリックス上を渡って該溶出液を通過させる工程を周期的に実施し、周期的速度で複数の試料を出力し、該流体回路が該溶出液および該分析物の少なくとも１つのみを該アナライザーに送るようにするコントローラー、
を備える、システム。
【請求項８３】
前記アナライザーが質量分析計である、請求項８２に記載のシステム。
【請求項８４】
前記流体回路手段が、前記不溶マトリックス上を渡って前記第一方向に前記溶出液を通過させ、前記複数個の試料を出力する、請求項８２に記載のシステム。
【請求項８５】
前記流体回路手段が、前記第一方向とは逆の第二方向に前記不溶マトリックス上を渡って前記溶出液を通過させる、請求項８２に記載のシステム。
【請求項８６】
前記周期的速度が、１試料当たり３０秒か、それより速い、請求項８２に記載のシステム。
【請求項８７】
前記流体回路手段がバルブモジュールを備える、請求項８２に記載のシステム。
【請求項８８】
流体試料の高スループットスクリーニングのためのシステムであって、該システムは、
試料吸引チューブ；
試料ループ；
アナライザー；
バルブ素子；および
該試料ループ中の第一流体を該アナライザー出力しながら、同時に、該試料吸引チューブを通して該試料ループ中に、選択肢として、該第一流体を吸引し、そして該吸引チューブを通して第二流体を吸引するための該バルブ素子を制御するためのコントローラー、
を備える、システム。
【請求項８９】
前記第二流体が洗浄溶液である、請求項８８に記載のシステム。
【請求項９０】
前記第一流体が分析される分析物を含む、請求項８８に記載のシステム。