【手続補正書】
【提出日】平成19年4月23日(2007.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式
【化１】
2002542307.tif 000001
であって、Ｍ1及びＭ2が同一又は異なる遷移金属原子又はイオンであり、Ｚ2及びＺ3が独立に３〜１２員複素環を完成するために必要な原子であり、Ｚ1がアルキレン基又はアリーレン基であり、Ｑ1及びＱ2が同一又は異なる電子求引基であり、Ｌl及びＬ3が一緒になって、−Ｏ−ＣＲ13−Ｏ−を表し、Ｌ2及びＬ4が一緒になって、−Ｏ−ＣＲ14−Ｏ−を表し、そしてＲl3及びＲ14が同一又は異なっており且つアルキル基及びアリール基からなる群より選択されるか、又はＲ13及びＲ14が直接的又は間接的に相互に結合しているアルキレン基若しくはアリーレン基を表すものである式、を有する化合物。
【請求項２】
下記の式
【化２】
2002542307.tif 000002
を有する請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｍ1及びＭ2が独立にＲｈ、Ｒｕ、Ｍｏ、Ｐｄ、及びＲｅから選択されるものである、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｍl及びＭ2のそれぞれがＲｈである、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
請求項１記載の化合物であって、Ｑｌが式−Ｃ（Ｏ）Ｒl、−ＳＯ2Ｒ1、及び−Ｐ（Ｏ）ＲlＲ1を有する部分の群から選択されるものであり、Ｑ2が式−Ｃ（Ｏ）Ｒ2、−ＳＯ2Ｒ2、及び−Ｐ（Ｏ）Ｒ2Ｒ2を有する部分の群から選択されるものであり、且つＲ1、Ｒ1'、Ｒ2、Ｒ2'のそれぞれがアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基から独立に選択されるものである化合物。
【請求項６】
請求項５記載の化合物であって、Ｑ1が式−ＳＯ2Ｒlを有するものであり、Ｑ2が−ＳＯ2Ｒ2を有するものであり、且つ、Ｒ1及びＲ2が同一又は異なるアルキル基又はアリール基である化合物。
【請求項７】
請求項６記載の化合物であって、Ｒ1及びＲ2のそれぞれが４−（ｔ−ブチル）フェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、及び２，４，６−トリイソプロピルフェニルからなる群より独立に選択されるものである化合物。
【請求項８】
Ｚ2及びＺ3のそれぞれが式−ＣＨ2ＣＨ2−を有するものである、請求項１記載の化合物。
【請求項９】
Ｚ1が１，３−フェニレンである、請求項１記載の化合物。
【請求項１０】
下記の式
【化３】
2002542307.tif 000003
の一つを有する請求項１記載の化合物。
【請求項１１】
下記の式
【化４】
2002542307.tif 000004
の一つを有する請求項１記載の化合物。
【請求項１２】
下記の式
【化５】
2002542307.tif 000005
【化６】
2002542307.tif 000006
であって、Ｒl及びＲ2が同一又は異なるアルキル基又はアリール基である式、の一つを有する請求項１記載の化合物。
【請求項１３】
一つの軸に沿って相互に結合している第一の金属原子と第二の金属原子及び二つのカルボキシレート配位子であって、該二つのカルボキシレート配位子のそれぞれが下記の式
【化７】
2002542307.tif 000007
を有する部分を介して相互に結合している二つのカルボキシレート基を含むカルボキシレート配位子、を含む化合物であって、
Ｚ10とＺ11がそれらが結合している原子と一緒になって３〜１２員環を形成し、
Ｚ10'とＺ11'がそれらが結合している原子と一緒になって３〜１２員環を形成し、
Ｒ78、Ｒ78'、Ｒ79、Ｒ79'がＨ、アルキル基、及びアリール基からなる群より独立に選択されるものであり、
Ｚ12がアルキレン基又はアリーレン基であり、該二つのカルボキシレート基のそれぞれが第一のカルボキシレート酸素原子（「Ｏ1」）、第二のカルボキシレート酸素原子（「Ｏ2」）、及び該Ｏ1及び該Ｏ2が結合している炭素（「Ｃ」）を含み、それによりそのＯ1−Ｃ−Ｏ2部分のそれぞれが前記軸に実質的に平行な一つの平面を規定する二つのＯ1−Ｃ−Ｏ2部分を形成するものであり、前記二つのカルボキシレート配位子のそれぞれの前記二つのカルボキシレート基のそれぞれの前記Ｏ1が前記第一の金属原子に結合しているものであり、前記二つのカルボキシレート配位子のそれぞれの前記二つのカルボキシレート基のそれぞれの前記Ｏ2が前記第二の金属原子に結合しているものであり、前記二つのカルボキシレート配位子のそれぞれが少なくとも二つのキラル中心をさらに含むものであり、且つ、Ｄ2対称を有するものである前記化合物。
【請求項１４】
Ｚ10、Ｚ10'、Ｚ11、Ｚ11'のいずれもがそれらが結合している炭素原子の間の直接の結合を表わすものでない、請求項１３記載の化合物。
【請求項１５】
Ｚ10及びＺ10'の少なくとも一つが式−ＮＱ−を有し、Ｚ11及びＺ11'の少なくとも一つがアリーレン基又はアルキレン基であり、且つ、Ｑが電子求引基である、請求項１４記載の化合物。
【請求項１６】
下記の式
【化８】
2002542307.tif 000008
を有する化合物であって、Ｍ1及びＭ2が同一又は異なる遷移金属原子又はイオンであり、Ｚ2及びＺ3が独立に３〜１２員複素環を完成するために必要な原子であり、Ｚ1がアルキレン基又はアリーレン基であり、且つ、Ｑl及びＱ2が同一又は異なる電子求引基であり、Ｌ1及びＬ3が一緒になって、−Ｏ−ＣＨＲ13−Ｏ−を表し、Ｌ2及びＬ4が一緒になって、−Ｏ−ＣＨＲ14−Ｏ−を表し、そしてＲ13及びＲ14が同一又は異なっており且つアルキル基及びアリール基からなる群より選択されるか、又はＲ13及びＲ14が直接的又は間接的に相互に結合しているアルキレン基若しくはアリーレン基を表すものである化合物、を製造する方法であって、下記の工程、即ち下記の式又はそれらの混合物を有する配位子を提供する工程、
【化９】
2002542307.tif 000009
又は
【化１０】
2002542307.tif 000010
又はこれらの混合物であって、上式中、Ａ1及びＡ2のそれぞれが水素原子及び電子求引基からなる群より独立に選択されるものであり、Ｒ3及びＲ4のそれぞれがＨ、アルキル、及びアリールからなる群より独立に選択されるものである、及び該配位子を該化合物を生産するのに有効な条件の下でビス−金属塩で転換する工程、を含む方法。
【請求項１７】
Ｚ2及びＺ3がそれぞれ式−ＣＨ2ＣＨ2−を持つものであり、Ｍ1及びＭ2のそれぞれがＲｈであり、Ｚ1が１，３−フェニレンでありＱ1が式−Ｃ（Ｏ）Ｒl、−ＳＯ2Ｒ1、及び−Ｐ（Ｏ）ＲlＲ1'を持つ部分の群より選択されるものであり、Ｑ2が式−Ｃ（Ｏ）Ｒ2、−ＳＯ2Ｒ2、及び−Ｐ（Ｏ）Ｒ2Ｒ2'を持つ部分の群より選択されるものであり、且つ、Ｒl、Ｒl'、Ｒ2、及びＲ2'のそれぞれがアルキル基、アリール基、又はアルコキシ基である、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
上記ビス−金属塩が式ＭlＭ2（ＯＯＲ5）4を有し、Ｒ5がアルキル基又はアリール基である、請求項１６記載の方法。
【請求項１９】
Ｍ1及びＭ2のそれぞれがＲｈであり、該ビス−金属塩がＲｈ2（ＯＯＣＨ3）4である、請求項１６記載の方法。
【請求項２０】
下記の式
【化１１】
2002542307.tif 000011
の一つを有する化合物であって、Ｚ2及びＺ3が独立に３〜１２員複素環を完成するために必要な原子であり、Ｚlがアルキレン基又はアリーレン基であり、Ａ1及びＡ2が水素原子及び電子求引基からなる群より独立に選択されるものであり、且つ、Ｒ3及びＲ4のそれぞれがＨ、アルキル、及びアリールからなる群より独立に選択されるものである化合物。
【請求項２１】
下記の式
【化１２】
2002542307.tif 000012
を有するＮ−置換化合物であって、Ｚ2及びＺ3が独立に３〜１２員複素環を完成するために必要な原子であり、Ｚ1がアルキレン基又はアリーレン基でありＡ3及びＡ4が同一又は異なる、式−Ｃ（Ｏ）Ｒ2、−ＳＯ2Ｒ2、又は−Ｐ（Ｏ）Ｒ2Ｒ2'を有する電子求引基であり、Ｒ1、Ｒl'、Ｒ2、及びＲ2'のそれぞれがアルキル基、アリール基、又はアルコキシ基であり、且つ、Ｒ3及びＲ4のそれぞれがＨ、アルキル、及びアリールからなる群より独立に選択されるものであるＮ−置換化合物を調製する方法であって、下記の工程、即ち、
下記の式
【化１３】
2002542307.tif 000013
を有するＮ−非置換化合物であって、Ｒ6及びＲ7がアルキル基又はアリール基から独立に選択されるものである化合物を提供する工程、及び該Ｎ−非置換化合物を、アシル化試薬、スルホニル化試薬、又はホスホニル化（ｐｈｏｓｐｈｏｎｙｌａｔｉｎｇ）試薬を用いてＮ−置換化合物に転換する工程、を含む方法。
【請求項２２】
下記の式
【化１４】
2002542307.tif 000014
を有するＮ−非置換化合物であって、Ｚ２及びＺ３が独立に３〜１２員複素環を完成するために必要な原子であり、Ｚ１がアルキレン基又はアリーレン基であり、且つ、Ｒ６およびＲ７がアルキル基又はアリール基から独立に選択されるものであるＮ−非置換化合物を調整する方法であって、下記の工程、即ち
下記の式
【化１５】
2002542307.tif 000015
を有する不飽和複素環化合物を提供する工程、及び、
該不飽和複素環化合物を水素化を用いてＮ−非置換化合物に転換する工程、
を含む方法。
【請求項２３】
下記の式
【化１６】
2002542307.tif 000016
【化１７】
2002542307.tif 000017
の一つを有する化合物であって、Ｚ２及びＺ３が独立に３〜１２員複素環を完成するために必要な原子であり、Ｚ１がアルキレン基又はアリーレン基であり、且つ、Ｒ６及びＲ７がアルキル基又はアリール基から独立に選択されるものである化合物。
【請求項２４】
Ｚ1が１，３−フェニレン基である、請求項２３記載の化合物。
【請求項２５】
下記の式
【化１８】
2002542307.tif 000018
を有する不飽和複素環化合物であって、Ｚ2が３〜１２員複素環を完成するために必要な原子を表し、Ｚlがアルキレン基又はアリーレン基であり、且つ、Ｒ6がアルキル基又はアリール基から選択されるものである不飽和複素環化合物を調製する方法であって、下記の工程、即ち
下記の式
【化１９】
2002542307.tif 000019
を有する環状ケトンであって、Ｒ8がアミン保護基である環状ケトンを提供する工程、及び該環状ケトンを、式ＺlＬｉ2を有するビス−リチウム化合物を用いてＮ−不飽和複素環化合物に転換する工程、を含む方法。
【請求項２６】
該ビス−リチウム化合物が１，３−ジリチオベンゼン（１，３−ｄｉｌｉｔｈｉｏｂｅｎｚｅｎｅ）である、請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
該Ｎ−不飽和複素環化合物が式
【化２０】
2002542307.tif 000020
を有するものであり、且つ、該環状ケトンが式
【化２１】
2002542307.tif 000021
を有するものであるか、又は該Ｎ−不飽和複素環化合物が式
【化２２】
2002542307.tif 000022
を有するものであり、且つ、該環状ケトンが式
【化２３】
2002542307.tif 000023
を有するものである、請求項２５記載の方法。
【請求項２８】
下記の式、
【化２４】
2002542307.tif 000024
を有する化合物であって、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3がＨ、アルキル、アリール、又はビニルから独立に選択されるものであるか、又はＲl及びＲ3がそれらが結合する相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するものであり、Ｙが電子求引基であり、ＸがＣＨ2、Ｏ、又はＮＲ11であり、Ｒ11がＨ、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルポニル基、又は式−ＳｉＲ33Ｒ34Ｒ35を有するシリル基であり、Ｒ30及びＲ31のそれぞれがＨ、アルキル、アリール、及びビニルからなる群より独立に選択されるものであり、Ｒ32がアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又は式−ＳｉＲ36Ｒ37Ｒ38を有するシリル基であり、又はＲ31及びＲ32がそれらが結合する相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するものであり、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、及びＲ38がアルキル基及びアリール基から独立に選択されるものであり、Ｒ30及びＲ31のそれぞれがＨであるときはＸはＣＨ2でないことを条件とするものである化合物を製造する方法であって、下記の工程、即ち下記の式
【化２５】
2002542307.tif 000025
を有するジアゾ化合物を提供する工程、及びビス−遷移金属触媒の存在下に且つ該化合物を生産するのに有効な条件の下で、下記の式
【化２６】
2002542307.tif 000026
を有する化合物を用いて、該ジアゾ化合物を転換する工程であって、Ｘ’がＣＨ2、Ｏ、又はＮＲＨ’であり、且つＲ11'がアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又はシリル基であり、ＸがＯ又はＣＨ2であるとき、Ｒ１及びＲ8がそれらが結合する相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するとき、且つＲ31及びＲ32がそれらが結合する相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するとき、該転換が実質的に酸素の非存在下で行われることを条件とするものである工程、を含む方法。
【請求項２９】
該化合物が下記の式
【化３５】
2002542307.tif 000027
を有するものであり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がＨ、アルキル、アリール、又はビニルから独立に選択されるかあるいはＲ1及びＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するものであり、Ｙが電子求引基でありＸがＣＨ2、Ｏ、又はＮＲ11であり、Ｒ11がＨ、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又は式−ＳｉＲ33Ｒ34Ｒ35を有するシリル基
であり、Ｒ33、Ｒ34、及びＲ35がアルキル基及びアリール基から独立に選択されるものであり、且つ、ｎが３〜１０であり、下記の工程、即ち下記の式
【化３６】
2002542307.tif 000028
を有するジアゾ化合物を提供する工程、及び
該ジアゾ化合物を、下記の式
【化３７】
2002542307.tif 000029
を有する環状化合物を用いて、ビス−遷移金属触媒の存在下に且つ該化合物を生産するのに有効な条件のもとで転換する工程であって、
Ｘ’がＣＨ2、Ｏ、又はＮＲ11'であり、Ｒ11'がアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又は−ＳｉＲ33Ｒ34Ｒ35を有するシリル基であり、且つ、Ｒ33、Ｒ34、及びＲ35がアルキル基及びアリール基から独立に選択されるものであり、ＸがＯ又はＣＨ2であるとき、且つＲ1及びＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するときは、該転換は実質的に酸素の非存在下で行われることを条件とするものである工程、を含む、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
Ｒ1及びＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になってフェニル環を形成するものである、請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
Ｙが式−ＣＯ2Ｒ10を有し且つＲ10がアルキル基又はアリール基である、請求項２９記載の方法。
【請求項３２】
ＸがＮＲ11であり、且つｎが３又は４である、請求項２９記載の方法。
【請求項３３】
該化合物が式
【化３８】
2002542307.tif 000030
を有するものであり、且つ、ビス−遷移金属触媒がキラルビス−遷移金属触媒である、請求項２９記載の方法。
【請求項３４】
ＸがＮＲ11であり、ｎが３であり、ＹがＣＯ2Ｒ12であり、Ｒ12がアルキル又はアリールであり、且つ、Ｒ1とＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になって芳香環を形成するものである、請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
ＸがＮＨであり、Ｒ12がメチル基であり、且つ、Ｒ1及びＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になってフェニル環を形成するものである、請求項３４記載の方法。
【請求項３６】
ＸがＯ又はＣＨ2であり、且つ、該転換が実質的に酸素の非存在下に行われるものである、請求項２９記載の方法。
【請求項３７】
該転換が脱ガス溶液中で行われるものである、請求項３６記載の方法。
【請求項３８】
請求項２８記載の方法であって、ＸがＮＲ11であり且つＲ31及びＲ32がそれらが結合している相手の原子と一緒になって下記の式
【化４１】
2002542307.tif 000031
を有する環を形成するものであり、Ｒ41、Ｒ42、及びＲ43がＨ、アルキル、アリール、又はビニルから独立に選択されるか又はＲ41及びＲ43がそれらが結合している相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するものであり、Ｙ’が電子求引基であり、且つ、ｍが２〜９であり、下記の工程、即ち
下記の式
【化４２】
2002542307.tif 000032
を有するジアゾ化合物を提供する工程、及び
該ジアゾ化合物を下記の式
【化４３】
2002542307.tif 000033
を有する環状アミンを用いて、ビス−遷移金属触媒の存在下に且つ該化合物を製造するのに有効な条件の下で、転換する工程、
を含む方法。
【請求項３９】
該化合物が下記の式
【化４４】
2002542307.tif 000034
を有するものである、請求項３８記載の方法。
【請求項４０】
請求項２８記載の方法であって、該化合物が下記の式
【化４５】
2002542307.tif 000035
を有するものであり、上式中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3がＨ、アルキル、アリール又はビニルから独立に選択されるか又はＲ1及びＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するものであり、Ｙが電子求引基であり、ＸがＣＨ2、Ｏ、又はＮＲ11であり、Ｒ11がＨ、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又は式−ＳｉＲ33Ｒ34Ｒ35を有するシリル基であり、Ｒ30及びＲ31のそれぞれがＨ、アルキル、アリール、及びビニルからなる群より独立に選択されるものであり、Ｒ32がアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又は式−ＳｉＲ36Ｒ37Ｒ38を有するシリル基であり、且つ、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、及びＲ38がアルキル基及びアリール基から独立に選択されるものであり、Ｒ30及びＲ31のそれぞれがＨのときは、ＸがＣＨ2でないことを条件とするものであり、下記の工程、即ち
下記の式
【化４６】
2002542307.tif 000036
を有するジアゾ化合物を提供する工程、及び
該ジアゾ化合物を下記の式
【化４７】
2002542307.tif 000037
を有する物質を用い、ビス−遷移金属触媒の存在下に且つ該化合物を製造するのに有効な条件の下で、転換する工程であって、ＸがＣＨ2、Ｏ、又はＮＲ11'であり、Ｒ11'がアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又は式−ＳｉＲ36Ｒ37Ｒ38を有するシリル基であり、且つ、Ｒ33、Ｒ34、及びＲ35がアルキル基及びアリール基から独立に選択されるものである工程、を含む方法。
【請求項４１】
ＸがＯであり、Ｒ32がトリアルキルシリル基又はトリアリールシリル基であり、且つ、Ｒ31がＨである、請求項４０記載の方法。
【請求項４２】
ＸがＮＲ11であり、Ｒ11がアルキル基であり、且つ、Ｒ32がアシル基及びアルコキシカルボニル基から選択されるものである、請求項４０記載の方法。
【請求項４３】
Ｒ1及びＲ3がＨ、アルキル、アリール、又はビニルから独立に選択されるものである、請求項４０記載の方法。
【請求項４４】
Ｒl及びＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するものである、請求項４０記載の方法。
【請求項４５】
下記の式
【化４９】
2002542307.tif 000038
を有する化合物であって、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3がＨ、アルキル基、アリール基又はビニル基から独立に選択されるか又はＲ1及びＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になって５〜１２員環を形成するものであり、Ｙが電子求引基であり、且つ、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、及びＲ59がＨ、アルキル、アリール、ハロゲン、及びアルコキシからなる群より独立に選択されるものである化合物を製造する方法であって、下記の工程、即ち
下記の式
【化５０】
2002542307.tif 000039
を有する１，３−シクロヘキサジエンを提供する工程、及び
該１，３−シクロヘキサジエンを、下記の式
【化５１】
2002542307.tif 000040
を有するジアゾ化合物を用い、ビス−遷移金属触媒の存在下に且つ該化合物を製造するのに有効な条件の下で、転換する工程、を含む方法。
【請求項４６】
ビス−遷移金属触媒が、ジロジウム触媒又はジルテニウム触媒である、請求項２８又は４５記載の方法。
【請求項４７】
該ジロジウム触媒又はジルテニウム触媒がテトラカルボン酸ジロジウム触媒又はテトラカルボン酸ジルテニウム触媒である、請求項４６記載の方法。
【請求項４８】
該テトラカルボン酸ジロジウム触媒又はテトラカルボン酸ジルテニウム触媒が下記の式
【化５２】
2002542307.tif 000041
であって、Ｍl及びＭ2のそれぞれがＲｈ又はＲｕであり、Ｚ4が３〜１２員複素環を完成するために必要な原子を表すものであり、そしてＱ3が電子求引基である式を有するものである、請求項４７記載の方法。
【請求項４９】
Ｚ4が式−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−を有するものである、請求項４８記載の方法。
【請求項５０】
Ｑ3が式−Ｃ（Ｏ）Ｒ9、−ＳＯ2Ｒ9、及び−Ｐ（Ｏ）Ｒ8Ｒ9を有する部分の群から選択されるものであり、Ｒ9及びＲ9'のそれぞれがアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基から独立に選択されるものである、請求項４８記載の方法。
【請求項５１】
Ｑ3が式−ＳＯ2Ｒ9を有するものであり、且つＲ9がアルキル基又はアリール基である、請求項５０記載の方法。
【請求項５２】
該テトラカルボン酸ジロジウム触媒又はテトラカルボン酸
ジルテニウム触媒が下記の式
【化５３】
2002542307.tif 000042
を有するものである、請求項４８記載の方法。
【請求項５３】
該テトラカルボン酸ジロジウム触媒又はテトラカルボン酸ジルテニウム触媒がＤ2対称を有するものである、請求項５２記載の方法。
【請求項５４】
テトラカルボン酸ジロジウム触媒又はテトラカルボン酸ジルテニウム触媒が、請求項１、２、４、５、６、７、８、９、１０、１２、１３、１４または１５においてＭ1およびＭ2の各々がＲｈ又はＲｕである化合物である、請求項４７記載の方法。
【請求項５５】
ジロジウム触媒又はジルテニウム触媒がキラルジロジウム触媒又はキラルジルテニウム触媒である、請求項４６記載の方法。
【請求項５６】
Ｙがアルコキシカルボニル基である、請求項４５記載の方法。
【請求項５７】
Ｙが式一ＣＯＯＲ12を有し、且つ、Ｒ12がアルキル基である、請求項５６記載の方法。
【請求項５８】
Ｒ1及びＲ3がそれらが結合している相手の原子と一緒になって芳香環を形成するものである、請求項４５記載の方法。
【請求項５９】
該ジアゾ化合物が下記の式
【化５９】
2002542307.tif 000043
を有するものである、請求項５８記載の方法。
【請求項６０】
該化合物が下記の式
【化６０】
2002542307.tif 000044
を有するものであり、且つビス−遷移金属触媒がキラルビス−遷移金属触媒である、請求項４５記載の方法。
【請求項６１】
該キラルビス−遷移金属触媒がキラルジロジウム触媒又はキラルジルテニウム触媒である、請求項６０記載の方法。