【手続補正書】
【提出日】平成19年8月14日(2007.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも 1 種の放射線硬化性のα、β-エチレン性不飽和化合物、並びに少なくとも 1 種のフェノール系安定剤と、ヒドロペルオキシド分解剤及びフリーラジカル捕捉剤からなる群から選ばれる少なくとも 1 種の非フェノール系安定剤とを含む安定剤系を含んでなり、該ヒドロペルオキシド分解剤はホスファイト類又はホスホナイト類から選択され、該フリーラジカル捕捉剤はラクトン類から選択される、熱安定性放射線硬化性組成物。
【請求項２】
放射線硬化性化合物がアクリレート及び／又はメタクリレートである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
安定剤系が、トリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4-ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)4,4'-ビフェニレン-ジホスホナイト、及び 2,2'-メチレンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)オクチル-ホスファイトからなる群から選ばれるヒドロペルオキシド分解剤を含む、請求項１〜２のいずれかに記載の組成物。
【請求項４】
安定剤系が、モノフェノール、ジフェノール、トリフェノール及びテトラフェノールからなる群から選ばれる少なくとも 1 種のフェノール系安定剤を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
安定剤系がオクタデシル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナメートを含む、請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
安定剤系がベンゾフラン-2-オンを含む、請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
安定剤系が更に、5,7-ビス(1,1-ジメチルエチル)-3-ヒドロキシ-2(3H)-ベンゾフラノンと o-キシレンとの反応生成物を含有し、該反応生成物が、5,7-ビス(1,1-ジメチルエチル)-3-(3,4-ジメチルフェニル)-2(3H)ベンゾフラノンを含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
非フェノール系安定剤が、少なくとも 1 種のラクトン及び少なくとも 1 種のホスファイトを含む、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
安定剤系の放射線硬化性化合物に対する重量比が 0.0001/100〜10/90 である、請求項１〜８のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
安定剤系の放射線硬化性化合物に対する重量比が 0.5/100〜5/95 である、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
60 ℃で少なくとも 30 日間の安定性を有する請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
100 ℃で少なくとも 30 日間の安定性を有する請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
放射線硬化性化合物が、分枝及び／又は直鎖脂肪族アルコールの（メタ）アクリル酸エステルからなる群から選ばれる、請求項１〜１２のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
放射線硬化性化合物が、イソオクタノール、n-オクタノール、2-エチルヘキサノール、イソデカノール、n-デカノール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、2-フェノキシエタノール、イソボルネオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ノナンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ネオペンチルグリコールからなる群から選ばれる脂肪族ジオール；トリメチロールプロパン、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、混合エチレン／プロピレングリコールからなる群から選ばれるトリオール、アルコキシル化ビスフェノール A 誘導体、及びこれらのアルコキシル化誘導体のアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルからなる群から選ばれる、請求項１〜１３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１５】
放射線硬化性化合物が、（A）ビスフェノール A ジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル又はフェノキシグリシジルエーテルのエポキシ（メタ）アクリレート、（B）トルエンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、水素化メチレンジフェニルジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネートからなる群から選ばれるイソシアネートと、ポリエステル、ポリエーテル又はポリカーボネートポリオール、及びヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレート、（C）ジ-又はポリ-ヒドロキシ化合物、ジ-又はポリ-カルボン酸官能性化合物又は有機無水物から誘導されたポリエステルアクリレートからなる群から選ばれる、請求項１〜１４のいずれかに記載の組成物。
【請求項１６】
顔料、光開始剤、並びに分散剤、フロー剤及び湿潤剤から選ばれる少なくとも 1 種の添加剤を更に含み、100 ℃で約 5〜18 mPa・s（cps）の粘度を有する放射線硬化性インクジェット組成物としての使用に適する、請求項１〜１５のいずれかに記載の組成物。
【請求項１７】
放射線硬化性のインクジェットインク、塗料又は接着剤での、請求項１〜１５のいずれかに記載の少なくとも 1 つの組成物の使用。
【請求項１８】
少なくとも 1 種の放射線硬化性モノマー及び／又はオリゴマーを含む放射線硬化性組成物の安定化方法であって、請求項１〜１０のいずれかで定義された少なくとも 1 種の安定剤系を添加する工程を含む方法。
【請求項１９】
安定剤系が、少なくとも 1 種のフェノール系安定剤と、ホスファイト類、ホスホナイト類又はラクトン類から選択される少なくとも 1 種の非フェノール系安定剤を含んでなり、該安定剤系は安定剤を、放射線硬化性組成物を安定化するのに十分な量で含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
組成物の粘度が約 5〜18 mPa・s（cps）まで低下するように、請求項１〜１５のいずれかで定義された組成物をインクジェット印字ヘッド内で加熱し、次いで、基材に組成物を塗布し、最後に、基材上の組成物を放射線硬化する工程を含んでなる印字方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明を、詳細に記載し、例示したが、様々な代替、変更及び改良が、本発明の意図及び範囲から外れることなく、当業者によって容易に明らかにされるであろう。
本発明の主たる態様および好ましい態様は、以下を包含する。
〔１〕少なくとも 1 種の放射線硬化性のα、β-エチレン性不飽和化合物、並びに少なくとも 1 種のフェノール系安定剤と、ヒドロペルオキシド分解剤及びフリーラジカル捕捉剤からなる群から選ばれる少なくとも 1 種の非フェノール系安定剤とを含む安定剤系を含んでなる熱安定性放射線硬化性組成物。
〔２〕放射線硬化性化合物がアクリレート及び／又はメタクリレートである、〔１〕に記載の組成物。
〔３〕非フェノール系安定剤が、三価の有機リン化合物である少なくとも 1 種のヒドロペルオキシド分解剤を含む、〔１〕又は〔２〕に記載の組成物。
〔４〕非フェノール系安定剤が、ホスファイト又はホスホナイトである少なくとも 1 種のヒドロペルオキシド分解剤を含む、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の組成物。
〔５〕非フェノール系安定剤が、ラクトン又はヒドロキシルアミンである少なくとも 1 種のフリーラジカル捕捉剤を含む、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の組成物。
〔６〕安定剤系が、トリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4-ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)4,4'-ビフェニレン-ジホスホナイト、及び 2,2'-メチレンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)オクチル-ホスファイトからなる群から選ばれるヒドロペルオキシド分解剤を含む、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の組成物。
〔７〕安定剤系が、モノフェノール、ジフェノール、トリフェノール及びテトラフェノールからなる群から選ばれる少なくとも 1 種のフェノール系安定剤を含む、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の組成物。
〔８〕安定剤系がオクタデシル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナメートを含む、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の組成物。
〔９〕安定剤系がベンゾフラン-2-オンを含む、〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の組成物。
〔１０〕安定剤系が更に、5,7-ビス(1,1-ジメチルエチル)-3-ヒドロキシ-2(3H)-ベンゾフラノンと o-キシレンとの反応生成物を含有し、該反応生成物が、5,7-ビス(1,1-ジメチルエチル)-3-(3,4-ジメチルフェニル)-2(3H)ベンゾフラノンを含む、〔８〕に記載の組成物。
〔１１〕非フェノール系安定剤が、少なくとも 1 種のラクトン及び少なくとも 1 種のホスファイトを含む、〔１〕〜〔１０〕のいずれかに記載の組成物。
〔１２〕安定剤系の放射線硬化性化合物に対する重量比が 0.0001/100〜10/90 である、〔１〕〜〔１１〕のいずれかに記載の組成物。
〔１３〕安定剤系の放射線硬化性化合物に対する重量比が 0.5/100〜5/95 である、〔１２〕に記載の組成物。
〔１４〕60 ℃で少なくとも 30 日間の安定性を有する〔１〕〜〔１３〕のいずれかに記載の組成物。
〔１５〕100 ℃で少なくとも 30 日間の安定性を有する〔１〕〜〔１３〕のいずれかに記載の組成物。
〔１６〕放射線硬化性化合物が、分枝及び／又は直鎖脂肪族アルコールの（メタ）アクリル酸エステルからなる群から選ばれる、〔１〕〜〔１５〕のいずれかに記載の組成物。
〔１７〕放射線硬化性化合物が、イソオクタノール、n-オクタノール、2-エチルヘキサノール、イソデカノール、n-デカノール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、2-フェノキシエタノール、イソボルネオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ノナンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ネオペンチルグリコールからなる群から選ばれる脂肪族ジオール；トリメチロールプロパン、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、混合エチレン／プロピレングリコールからなる群から選ばれるトリオール、アルコキシル化ビスフェノール A 誘導体、及びこれらのアルコキシル化誘導体のアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルからなる群から選ばれる、〔１〕〜〔１６〕のいずれかに記載の組成物。
〔１８〕放射線硬化性化合物が、（A）ビスフェノール A ジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル又はフェノキシグリシジルエーテルのエポキシ（メタ）アクリレート、（B）トルエンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、水素化メチレンジフェニルジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネートからなる群から選ばれるイソシアネートと、ポリエステル、ポリエーテル又はポリカーボネートポリオール、及びヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレート、（C）ジ-又はポリ-ヒドロキシ化合物、ジ-又はポリ-カルボン酸官能性化合物又は有機無水物から誘導されたポリエステルアクリレートからなる群から選ばれる、〔１〕〜〔１７〕のいずれかに記載の組成物。
〔１９〕顔料、光開始剤、並びに分散剤、フロー剤及び湿潤剤から選ばれる少なくとも 1 種の添加剤を更に含み、100 ℃で約 5〜18 mPa・s（cps）の粘度を有する放射線硬化性インクジェット組成物としての使用に適する、〔１〕〜〔１８〕のいずれかに記載の組成物。
〔２０〕放射線硬化性のインクジェットインク、塗料又は接着剤での、〔１〕〜〔１８〕のいずれかに記載の少なくとも 1 つの組成物の使用。
〔２１〕少なくとも 1 種の放射線硬化性モノマー及び／又はオリゴマーを含む放射線硬化性組成物の安定化方法であって、〔１〕〜〔１３〕のいずれかで定義された少なくとも 1 種の安定剤系を添加する工程を含む方法。
〔２２〕安定剤系が、ラクトン類、ホスファイト類及びフェノール類から選ばれる安定剤を、放射線硬化性組成物を安定化するのに十分な量で含む、〔２１〕に記載の方法。
〔２３〕組成物の粘度が約 5〜18 mPa・s（cps）まで低下するように、〔１〕〜〔１８〕のいずれかで定義された組成物をインクジェット印字ヘッド内で加熱し、次いで、基材に組成物を塗布し、最後に、基材上の組成物を放射線硬化する工程を含んでなる印字方法。