(57)【要約】【課題】  球レンズの表面に，真空蒸着法等を用いてコーティングして無反射フィルタ膜等を形成する従来の方法では，全面に均一なフィルタ膜を成膜するのが困難である，微小外径の球レンズに適用することができない，球レンズに蒸着カス等が付着する等の課題がある。【解決手段】  そこで本発明では，真空チャンバ１内におけるフィルタ膜材料２の供給源３の上方に球レンズ８の支持容器９を自転運動及び公転運動可能に支持し，自転運動の回転軸１３は鉛直方向に対して所定角度θ傾斜させると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部１１を形成し，網状部に球状ガラスを載せて支持容器を回転させることにより，球状ガラスを網状部に対して転動させながら，供給源からフィルタ膜材料を供給して，球状ガラスの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜する全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法を提案する。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
気相成長法により球レンズの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜する方法において，真空チャンバ内におけるフィルタ膜材料の供給源の上方に球レンズの支持容器を自転運動及び公転運動可能に支持し，自転運動の回転軸は鉛直方向に対して所定角度傾斜させると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部を形成し，網状部に球状ガラスを載せて支持容器を回転させることにより，球状ガラスを網状部に対して転動させながら，供給源からフィルタ膜材料を供給して，球状ガラスの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜することを特徴とする全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法。
【請求項２】
網状部は，目開きを球レンズの直径の10〜90％とすることを特徴とする請求項１に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法。
【請求項３】
網状部は，線状体を編んだ構成であることを特徴とする請求項１に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法。
【請求項４】
線状体の径を0.1〜1mmとしたことを特徴とする請求項３に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法。
【請求項５】
支持容器の網状部は，多数の穴を形成した板体であることを特徴とする請求項１に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法。
【請求項６】
網状部は，平面状に形成したことを特徴とする請求項１に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法。
【請求項７】
網状部は，凹面状に形成したことを特徴とする請求項１に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法。
【請求項８】
気相成長法は，物理的気相成長法または化学気相成長法である請求項１に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法。
【請求項９】
真空チャンバ内におけるフィルタ膜材料の供給源の上方に球レンズの支持容器を自転運動及び公転運動可能に支持し，自転運動の回転軸は鉛直方向に対して所定角度傾斜させると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部を形成したことを特徴とする全面フィルタ膜付き球レンズの製造装置。
【請求項１０】
網状部は，目開きを球レンズの直径の10〜90％とすることを特徴とする請求項９に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造装置。
【請求項１１】
網状部は，線状体を編んだ構成であることを特徴とする請求項９に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造装置。
【請求項１２】
線状体の径を0.1〜1mmとしたことを特徴とする請求項１１に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造装置。
【請求項１３】
支持容器の網状部は，多数の穴を形成した板体であることを特徴とする請求項９に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造装置。
【請求項１４】
網状部は，平面状に形成したことを特徴とする請求項９に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造装置。
【請求項１５】
網状部は，凹面状に形成したことを特徴とする請求項９に記載の全面フィルタ膜付き球レンズの製造装置。
【請求項１６】
請求項１〜８までのいずれか１項に記載の製造方法又は請求項９〜１５までのいずれか１項に記載の製造装置により，球レンズの全面にフィルタ膜材料をコーティングして成る全面フィルタ膜付き球レンズ。
【請求項１７】
球レンズの全面にコーティングされたフィルタ膜は，屈折率1.3〜2.5の光学フィルタ膜が単層または多層で構成されていることを特徴とする請求項１６に記載の全面フィルタ膜付き球レンズ。
【請求項１８】
球レンズの全面にコーティングされたフィルタ膜は，反射率0〜95%までの吸収フィルタ膜が単層または多層で構成されていることを特徴とする請求項１６に記載の全面フィルタ膜付き球レンズ。
【請求項１９】
請求項１６〜１８までのいずれか１項に記載の球レンズを半導体レーザ又は光導波路に結合して成る光モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，例えば光や像を変換する画像処理分野や光通信分野において用いられ，ＬＤ（レーザダイオード）やＰＤ（フォトダイオード）等の光半導体素子と光導波路又は光ファイバとを高効率で結合させるために用いられる全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法，製造装置及び全面フィルタ膜付き球レンズ並びに光モジュールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
球レンズの表面に，真空蒸着法等を用いてコーティングして無反射フィルタ膜等を形成する方法が，従来から種々提案されている。
【０００３】
例えば特許文献１には，真空蒸着法により球レンズにフィルタ膜を形成する方法において，球レンズを，半径の異なる２つの同心円によって接触位置が規定された環状転動面に沿って所定の速度で回転させながら，フィルタ膜材料の供給源から蒸発粒子を供給し，２つの同心円間の空隙を経て球レンズの表面にコーティングすることにより無反射フィルタ膜を形成する方法が記載されている。
【０００４】
また特許文献２には，真空チャンバ内の上部に，網目を有する円筒状容器を傾斜状態で回転可能に設置し，多数の被着フィルタ膜体を収納した容器を回転させながら，真空チャンバ内の下部に配置したるつぼから金属材料を蒸発させ，網目を通して被着フィルタ膜体にコーティングする方法と，上側を開口させた鍋状容器を真空チャンバ内の下部に傾斜状態で回転可能に設置すると共に，真空チャンバ内の上部にフィルタ膜材料の供給源，即ちスパッタリングのターゲットを配置し，多数の被着フィルタ膜体を収納した容器を回転させながら，供給源からの金属粒子を，開口を介して被着フィルタ膜体にコーティングする方法が記載されている。
【０００５】
また特許文献３には，球レンズの外周につばを設けると共に，球レンズよりも大きく，つばよりも小さな開口の支持穴を有するコーティング用治具を設け，球レンズをつばを以てコーティング用治具の支持穴に支持した状態で片側ずつコーティングを行う構成が記載されている。
【０００６】
さらに特許文献４には，ホルダの内部に球レンズを低融点ガラスリング成形体により溶着した後，球レンズ及びガラス溜まりのホルダ開口部を臨む面に物理的気相成長法により耐湿保護フィルタ膜を形成し，その後，ホルダと光半導体素子とを結合して光モジュールを製造する方法が記載されている。
【特許文献１】特開平２−２６８５１号公報
【特許文献２】特開平１１−２４１１５７号公報
【特許文献３】特開平１０−３１９２１３号公報
【特許文献４】特開平９−２３０１７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら以上の従来技術では次に示すような課題がある。
【０００８】
まず特許文献１の方法では，環状転動面の内径・外径の半径差により球レンズは全周にわたり連続的に変化させることができ，全面に蒸着することが可能となるということを企図するものであるが，球レンズは固定軌道に沿って移動するものであるため，蒸着フィルタ膜が帯状に付着し易く，コート面に若干の継ぎ目が生じてしまうなど均一性が低下する。また，環状転動面に設置できる球レンズの数は，例えば実施例においては１個というように限られてしまい，生産性が悪い。一方，環状転動面についても，内径・外径の位置を精密に設定しなければならず，成膜時の治工具のばらつきが大きくなり，また内外径差が変化することで球レンズの回転環境が異なり，付着するフィルタ膜厚にばらつきが生じ，均一性が低下する。また，微小外径の球レンズ，例えばφ0.5mm球レンズに対して全周に成膜を行う場合には，環状転動面の内径・外径差は0.5mm以下にしなければならず，微小レンズに対して最適な内径・外径差を持つ環状転動面を製作することは不可能である。
【０００９】
また特許文献２の方法では，多数の被着フィルタ膜体を収納した容器を回転させる回転軸は，所定の傾斜角度で固定されていて，フィルタ膜材料の供給源との相対位置関係が変化しないため，多数の被着フィルタ膜体の夫々とフィルタ膜材料の供給源との相対位置関係が必ずしもランダムにはならず，結果としてコーティングされたフィルタ膜厚の均一性を低下させてしまう。またフィルタ膜材料の供給源が被着フィルタ膜体の容器よりも上方に配置されたものでは，蒸着カス（ゴミ）が球レンズに付着してしまい，球レンズ表面の外観が悪くなる。
【００１０】
また特許文献３，４の方法は，球レンズの全面にフィルタ膜をコーティングするものではない。
【００１１】
更に以上の各特許文献１〜４に記載された方法では，微小レンズ，例えばφ0.5mmの球レンズの表面にコーティングを行うのは非常に困難であった。
本発明は以上の課題を解決することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
以上の課題を解決するために，本発明では，まず，気相成長法により球レンズの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜する方法において，真空チャンバ内におけるフィルタ膜材料の供給源の上方に球レンズの支持容器を回転運動可能に支持すると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部を形成し，網状部に球状ガラスを載せて支持容器を回転させることにより，球状ガラスを網状部に対して転動させながら，供給源からフィルタ膜材料を供給して，球状ガラスの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜することとした全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法を提案する。
【００１３】
また本発明では，真空チャンバ内におけるフィルタ膜材料の供給源の上方に球レンズの支持容器を自転運動及び公転運動可能に支持し，自転運動の回転軸は鉛直方向に対して所定角度傾斜させると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部を形成した全面フィルタ膜付き球レンズの製造装置を提案する。
【００１４】
また本発明では，上記の方法又は装置において，支持容器は，自転運動及び公転運動可能とし，自転運動の回転軸は鉛直方向に対して所定角度傾斜させた全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法又は装置を提案する。
【００１５】
そして本発明では，上記の方法又は装置において，網状部は，目開きを球レンズの直径の10〜90％とすることを提案する。
【００１６】
また本発明では，上記の方法又は装置において，網状部は，線状体を編んだ構成としたり，または多数の穴を形成した板体として構成することを提案する。
【００１７】
そして本発明では，上記の方法又は装置において，網状部を線状体を編んで構成するものにおいて，線状体の径を0.1〜1mmとすることを提案する。
【００１８】
また本発明では，上記の方法又は装置において，網状部は，平面状に形成したり，又は凹面状に形成することを提案する。
【００１９】
以上の本発明においては，気相成長法としては，真空蒸着法，イオンプレーティング法，イオンアシスト法，イオンビーム蒸着法等の物理的気相成長法や化学的気相成長法を適用することができる。
【００２０】
そして本発明では，以上の方法又は装置によって，球レンズの全面にフィルタ膜材料をコーティングして成る全面フィルタ膜付き球レンズを提案する。
【００２１】
そして本発明では，球レンズの全面にコーティングするフィルタ膜は，屈折率1.3〜2.5の光学フィルタ膜が単層または多層で構成されているものとしたり，反射率0〜95%までの吸収フィルタ膜が単層又は多層で構成されているものとすることを提案する。
【００２２】
また本発明では，以上の球レンズを，半導体レーザ又は光導波路に結合して成る光モジュールを提案する。
【発明の効果】
【００２３】
以上の構成において，支持容器の網状部に載せられた球レンズは，鉛直方向に対して所定角度傾斜している回転軸の回りの自転運動により，網状部に対して転動するので，網状部側に位置する球レンズの面が連続的に変化すると共に，支持容器の自転運動と公転運動によって，網状部とフィルタ膜材料の供給源との相対位置関係も連続的に変化するため，フィルタ膜材料の供給源に向いている球レンズの面が連続的に，しかもランダムに変化する。このため，網状部の開口を透過したフィルタ膜材料の粒子を，球レンズの表面に均一に付着させてコーティングを行うことができ，全面に渡って均一なフィルタ膜を形成することができる。
【００２４】
支持容器において球レンズは網状部によって支持されるので，網状部の目開きを適切に設定することにより，従来の方法では不可能であった例えばφ0.5mm以下の球レンズに対してもコーティングによる成膜が可能となる。
【００２５】
また網状部には，支持容器の自転による球レンズの転動を阻害しない限り，数多くの球レンズを収納することができ，一度に多数の球レンズに対して成膜することができ，生産性が大幅に向上する。
【００２６】
網状部としては，線状体を編んだ，文字通りの網を用いる他，パンチングメタル等の多数の穴を形成した板体を用いることができ，またその形状としては，運動時に球レンズが落下しない構成であれば，平面状，凹面状等適宜である。
【００２７】
以上のように全面にフィルタ膜を成膜した球レンズは，方向性が全くないため，半導体レーザ又は光導波路に結合して光モジュールを組み立てる際，容易に組立が可能であるため，光モジュール化の際の生産性が向上し，安価に製造することができる。
【実施例１】
【００２８】
次に本発明の実施例を添付図面を参照して説明する。
図１は本発明に係る方法を実施する装置の実施例として，イオンアシスト方式の電子ビーム真空蒸着装置の全体構成を示す模式図であり，また図２は要部を拡大して示す模式図である。
図において符号１は真空チャンバであり，この真空チャンバ１内の下部にフィルタ膜材料２を入れた供給源容器３を設置すると共に，この供給源容器３に近接して，電子ビーム４を発生する電子銃５を設置し，更にイオンビーム６を発生されるイオン銃７を設置している。一方，真空チャンバ１の上部には，成膜を行う球レンズ８を支持する支持容器９を設置している。
【００２９】
支持容器９は側壁部１０と底面部を有するトレイ状に構成されており，底面部は，平面状の網状部１１として形成されている。図においては，この網状部１１は，多数の穴を開口１２として形成した板体，例えばパンチングメタル（打抜金網）により構成しているが，後述するように，線状体を編んだ構成の，文字通りの網により構成することができるものである。また網状部１１の材質としては，金属製に限らず，合成樹脂製，ガラス製，セラミックス製等，後述する成膜時における脱ガス性，耐熱性を考慮して，成膜に影響を及ばさない材料であれば適宜である。
【００３０】
この支持容器９は網状部１１に垂直な方向の回転軸１３の回りに自転運動可能に支持すると共に，鉛直方向の回転軸１４の回りに公転運動可能に支持されており，この際，自転運動を行う回転軸１３は，鉛直方向に対して所定角度θだけ傾斜している。
【００３１】
ここで支持容器９を回転軸１３の回りに自転運動可能とすると共に，回転軸１４の回りに公転運動可能に支持する機構，即ち自公転機構は，例えば回転軸１３を支持した支持部材を，円軌跡に沿って運動可能とする機構等，適宜に構成することができる。勿論，この自公転機構の機構要素は，支持容器９の下方の供給源容器３からのフィルタ膜材料２の蒸着を阻害しない位置に配置する。
【００３２】
以上の構成において，本発明による全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法について更に詳しく説明する。
まず，コーティングを施していない球レンズ８を洗浄により表面の異物・油分等を取り除く。次いで洗浄した球レンズ８の所定数を支持容器９内に投入し，これを真空チャンバ１内の所定位置にセットする。そして供給源容器３にはフィルタ膜材料２を入れる。
【００３３】
この状態で，真空ポンプ（図示省略）にて，例えば真空度10×10-3Pa台まで排気し，電子銃５からの電子ビーム４により蒸着材料としてのフィルタ膜材料２を加熱し，蒸発させる。こうして蒸発した粒子１７は，上方の支持容器９方向に飛び出し，イオン銃７から照射されたイオンビーム６からエネルギーを受け取り，支持容器９の網状部１１の開口１２から支持容器９内に入って，球レンズ８の表面に付着し，薄膜を形成する。
【００３４】
この際，支持容器９は，図示を省略している自公転機構により，自転運動１５と公転運動１６を行うので，支持容器９の網状部１１に載せられた球レンズ８は，鉛直方向に対して所定角度θ傾斜している回転軸１３の回りの自転運動により，網状部１１に対して転動するので，網状部１１側に位置する球レンズ８の面が連続的に変化すると共に，支持容器９の自転運動１５と公転運動１６によって，網状部１１とフィルタ膜材料２の供給源３との相対位置関係も連続的に変化するため，フィルタ膜材料２の供給源３に向いている球レンズ８の面が連続的に，しかもランダムに変化する。
【００３５】
このため，網状部１１の開口１２を透過したフィルタ膜材料２の粒子を，球レンズ８の表面に均一に付着させてコーティングを行うことができ，全面に渡って均一なフィルタ膜１８を形成することができる。そして付着させたフィルタ膜材料２および膜厚の制御により所望の光学フィルタ膜１８を形成することができる。
【００３６】
支持容器９において球レンズ８は網状部１１によって支持されるので，網状部１１の目開きを，例えば球レンズ８の直径の10〜90％の範囲で適切に設定することにより，従来の方法では不可能であった例えばφ0.5mm以下の球レンズ８に対してもコーティングによる成膜が可能となる。
【００３７】
また網状部１１には，支持容器９の自転による球レンズ８の転動を阻害しない限り，数多くの球レンズ８を収納することができ，一度に多数の球レンズ８に対して成膜することができ，生産性が大幅に向上する。
【００３８】
網状部１１としては，上述したようにパンチングメタル等の多数の穴を形成した板体を用いる他，図４に示すように，線状体１９を編んだ，文字通りの網を用いることができる。またその形状としては，上記運動時に球レンズ８が落下しない構成であれば，図１，図２及び図４に示すように平面状とする他，図５又は図６に示すように凹面状に形成することもできる。
【００３９】
以上のように全面にフィルタ膜１８を成膜した球レンズ８は，フィルタ膜１８の方向性が全くないため，半導体レーザ又は光導波路に結合して光モジュールを組み立てる際，容易に組立が可能であるため，光モジュール化の際の生産性が向上し，安価に製造することができる。
【００４０】
本発明において，コーティングの対象となる球レンズ８としては，レンズ外径φ0.3〜10mm，BK7，TaF3などの屈折率1.4〜2.5までの光学ガラス製の球レンズを適用することができる。これらの球レンズ８の種々の屈折率に対して，フィルタ膜１８の構成を最適化することで，これらの広い範囲に渡る球レンズ８に対して適切なフィルタコーティングが可能となる。
【００４１】
ここで，コーティングとは，無反射コート・高反射コート・バンドパス・エッジフィルタ等の光学フィルタ全般を得るために行うものであり，コーティングを行うフィルタ膜材料としては，シリコン，酸化チタン，酸化タンタル，酸化ハフニウム，酸化亜鉛，酸化ジルコン，酸化アルミ，酸化珪素，フッ化マグネシウム等の，光学フィルタに用いられている材料を適宜に用いることができる。また所望のフィルタ構成に対して，上記材料のうちの1〜5種類を選択し，高精度な計算に基づいて膜設計を行い，単数又は複数の材料による単層又は多層構造とすることで，屈折率1.3〜2.5の任意の光学フィルタ膜１８を得ることができる。
【００４２】
また，フィルタとしては，他に，光透過率調整用フィルタがあり，このためには，光学的な吸収膜として，クロム，チタン，アルミニウム，銀，ニッケル，鉄およびこれらの合金膜等をコーティングすれば良い。こうして本発明では，上記材料のうちの1〜数種類を選択し，高精度な計算に基づいて膜設計を行い，単数又は複数の材料による単層又は多層構造とすることで，反射率0〜95%までの任意の光学フィルタ膜１８を得ることができる。
【００４３】
一方，本発明において，気相成長法としては，上述したような電子ビームによる真空蒸着やスパッタリング等の物理的気相成長法の他，CVD（化学気相成長法）等を適用することができ，これらの汎用装置において，上記支持容器と自公転機構を適用することにより，容易に製造装置を構成することができる。
【００４４】
尚，真空蒸着法を適用する場合，フィルタ膜材料の加熱方法としては，抵抗加熱法，フラッシュ蒸発法・アーク蒸発法・レーザ蒸発法・高周波加熱法等を適用すればよい。また，蒸発した粒子をプラズマ化して球レンズ８に薄膜を形成するイオンプレーティング法も有効である。
【実施例２】
【００４５】
図１に示す実施例では，真空チャンバ１内に１つの支持容器９を自公転可能に支持しているが，この他，例えば図７に示すように，複数，この場合，４個の支持容器９（９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄ）を真空チャンバ１内に自公転可能に支持する構成としても良い。尚，図７において，図１のものと同様な構成要素には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
【００４６】
この実施例においては，同時に多数の球レンズ８にフィルタ膜１８を成膜することができる。
【実施例３】
【００４７】
次に，本発明の方法により，直径1.5mmのBK7球レンズの全周にフィルタコート（無反射コート）を形成する具体的実施例を説明する。
支持容器９は，網状部１１を，金属製網により構成し，この金属製網は，大きさが直径100mmであり，半径200mm程度の球面の凹面状として構成し，その中に，洗浄した直径1.5mmの球レンズ８を約500個投入した。網状部１１の目開きは球レンズ８の直径に対して10%〜90%の範囲とし，網の線径は0.1mm〜1mmの範囲とした。
【００４８】
次いで支持容器９を蒸着装置の真空チャンバ１内の所定位置にセットした。蒸着装置の真空チャンバ１内には，鉛直方向の公転軸と，鉛直方向から約30°傾けた自転軸を持つ自公転機構を設けており，球レンズ８を収納した支持容器８を，30°傾けたまま，1rpmの公転速度および0.5rpmの自転速度で回転させながら，上述した真空蒸着を行った。
【００４９】
真空蒸着条件は，無反射膜の形成材料の種類と球レンズ８の直径に応じて選定し，この具体例では，Ta2O5/SiO2のマルチコートを採用している。しかしながら，球レンズ８の材質により最適な設計を行うため，MgF2，Al2O3，TiO2等の光学フィルタ用蒸着材料をフィルタ膜材料として使用することもできる。
【００５０】
この具体例では，網状部１１の網のサイズ（目開き・線径）を変えるだけで，直径φ0.3mm〜2.5mmの球レンズ８に対して成膜可能であり，本発明方法及び装置を適用することにより，種々のサイズの球レンズ８の全周コーティングが可能であることを確認した。
【００５１】
具体的な数値としては，BK7球レンズへの無反射コーティング後のレンズ透過率は，球レンズ８の全方向に対して98%以上（反射率0.3%以下）であった。また全周にわたり無反射特性が確認できた。（コーティングなしの場合  91%程度）。また成膜後の球レンズ８の表面は，従来からの方法と同等以上の品質が得られた。またコーティングしたフィルタ膜の密着力についても，テープテスト・鉛筆硬度試験を行った結果，表１に示すように，従来品と同等以上であった。更に，光通信用レンズとしての信頼性を評価するため，表２に示す試験を実施し，試験後の透過率および外観を評価した。これらのすべての試験について，全方向に対して透過率98%以上を満足しており，従来法と同等以上の高信頼性が実現できることが分かった。
【表１】
2006342384.tif 000003
【表２】
2006342384.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明は以上のとおりであるので，以下に示すような特徴を有し，産業上の利用可能性が大である。
１．支持容器の網状部に載せられた球レンズは，支持容器の自転運動と公転運動によって，フィルタ膜材料の供給源に向いている球レンズの面が連続的に，しかもランダムに変化するため，網状部の開口を透過したフィルタ膜材料の粒子を，球レンズの表面に均一に付着させてコーティングを行うことができ，全面に渡って均一なフィルタ膜を形成することができる。
【００５３】
２．支持容器において球レンズは網状部によって支持されるので，網状部の目開きを適切に設定することにより，従来の方法では不可能であった例えばφ0.5mm以下の球レンズに対してもコーティングによる成膜が可能となる。
【００５４】
３．網状部には，支持容器の自転による球レンズの転動を阻害しない限り，数多くの球レンズを収納することができ，一度に多数の球レンズに対して成膜することができ，生産性が大幅に向上する。
【００５５】
４．フィルタ膜材料の供給源が，球レンズを収納した支持容器よりも下方に配置されているので，蒸着カス（ゴミ）が球レンズに付着することを防止することができる。
【００５６】
５．以上のように全面にフィルタ膜を成膜した球レンズは，方向性が全くないため，半導体レーザ又は光導波路に結合して光モジュールを組み立てる際，容易に組立が可能であるため，光モジュール化の際の生産性が向上し，安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明に係る方法を実施する装置の実施例として，イオンアシスト方式の電子ビーム真空蒸着装置の全体構成を示す模式図である。
【図２】図１の要部を拡大して示す模式図である。
【図３】球レンズの全面にフィルタ膜を成膜した状態を示す断面図である。
【図４】支持容器の他の例を示す断面図である。
【図５】支持容器の更に他の例を示す断面図である。
【図６】支持容器の更に他の例を示す断面図である。
【図７】複数の支持容器内に収納した球レンズを同時に処理する実施例を示す模式的斜視図である。
【符号の説明】
【００５８】
１          真空チャンバ
２          フィルタ膜材料
３          供給源容器
４          電子ビーム
５          電子銃
６          イオンビーム
７          イオン銃
８          球レンズ
９          支持容器
１０        側壁部
１１        網状部
１２        開口
１３        回転軸（自転軸）
１４        回転軸（公転軸）
１５        自転運動
１６        公転運動
１７        蒸発粒子
１８        フィルタ膜
１９        線状体
【図１】
2006342384.tif 000005
【図２】
2006342384.tif 000006
【図３】
2006342384.tif 000007
【図４】
2006342384.tif 000008
【図５】
2006342384.tif 000009
【図６】
2006342384.tif 000010
【図７】
2006342384.tif 000011