【手続補正書】
【提出日】平成18年12月4日(2006.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも１種のポジ画像形成性フォトポリマー系と、（ｂ）約１〜約７０体積％の粒子とを含んでなるポジ画像形成性粒子充填フォトレジスト組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の組成物を含んでなる電界放出フィルム。
【請求項３】
請求項２０に記載のフィルムを含んでなる電界放出トライオード、電界放出ディスプレイ、照明装置または真空電子装置。
【請求項４】
（ａ）請求項１に記載の組成物を基板上にフィルムとして堆積させ；
（ｂ）フィルムを放射線に画像どおりに露光してその露光部分および未露光部分を形成せしめ；そして
（ｃ）露光部分を除去して現像画像を形成せしめる
ことを含んでなる基板上に画像を形成する方法。
【請求項５】
（ａ）請求項１に記載の第１の組成物を基板上に第１のフィルムとして堆積させ；
（ｂ）請求項１に記載の第２の組成物を第１のフィルム上に第２のフィルムとして堆積させ；
（ｃ）第１および第２のフィルムを放射線に画像どおりに露光して露光部分および未露光部分を形成せしめ；
（ｄ）露光部分を除去して現像画像を形成せしめる
ことを含んでなる多層パターン化構造体を形成する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
５２５℃に加熱されたベルト炉上、空気中で、この画像化フィルムを２０分間熱処理した。すべてのポリマーをこの温度でバーニングし、ガラスプレート上に焼結ガラス材料を残存させた。
なお、本発明の特徴および態様を要約すれば以下のとおりである。
１．  （ａ）少なくとも１種のポジ画像形成性フォトポリマー系と、（ｂ）約１〜約７０体積％の粒子とを含んでなるポジ画像形成性粒子充填フォトレジスト組成物。
２．  粒子がガラス、酸化物、炭化物、窒化物、金属、金属合金、メタロイド、メタロイド合金、金属／メタロイド合金、炭素およびそれらの混合物よりなる群から選択される上記１に記載の組成物。
３．  酸化物が酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化スズおよびそれらの混合物よりなる群から選択される上記２に記載の組成物。
４．  粒子が遷移金属およびそれらの合金よりなる群から選択される上記１に記載の組成物。
５．  遷移金属がＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、およびＰｄよりなる群から選択される上記４に記載の組成物。
６．  粒子が亜鉛、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、インジウム、スズ、アンチモン、鉛、ビスマス、およびそれらの合金よりなる群から選択される上記１に記載の組成物。
７．  粒子が金属／メタロイド合金よりなる群から選択される上記１に記載の組成物。
８．  炭素がカーボンナノチューブの形態である上記２に記載の組成物。
９．  フォトポリマー系がノボラック−ジアゾナフトキノン樹脂よりなる群から選択される上記１に記載の組成物。
１０．  フォトポリマー系が（メタ）アクリレートポリマーおよびコポリマーよりなる樹脂の群から選択され、ここで樹脂が式Ｉ：
【化４】
2006510046.tif 000001
式Ｉ
［式中、Ｒ1は水素またはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ2はＣ1〜Ｃ6アルキルであり；そしてＲ3およびＲ4は独立して水素またはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；さらにＲ1とＲ2、またはＲ1とＲ3、またはＲ2とＲ3は一緒になって５員、６員、または７員環を形成してもよい］
により記述される側基を含有する上記１に記載の組成物。
１１．  フォトポリマー系が（メタ）アクリレートポリマーおよびコポリマーよりなる樹脂の群から選択され、ここで樹脂が式ＩＩ：
【化５】
2006510046.tif 000002
式ＩＩ
［式中、ｎは０〜４であり；Ｒ5は水素またはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ6はＣ1〜Ｃ6アルキルであり；そしてＲ7およびＲ8は独立して水素またはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；さらにＲ5とＲ6、またはＲ5とＲ7、またはＲ6とＲ7は一緒になって５員、６員、または７員環を形成してもよい］
により記述される側基を含有する上記１に記載の組成物。
１２．  フォトポリマー系が（メタ）アクリレートポリマーおよびコポリマーよりなる樹脂の群から選択され、ここで樹脂が式ＩＩＩ：
【化６】
2006510046.tif 000003
式ＩＩＩ
［式中、Ｒ9は水素または低級アルキルであり；Ｒ10は低級アルキルであり；そしてＲ11は水素または低級アルキルであり；さらに低級アルキル基は１〜６個の線状炭素原子または３〜６個の環状炭素原子を有するアルキル基を含む］
により記述される側基を含有する上記１に記載の組成物。
１３．  フォトポリマー系が
テトラヒドロピラニルメタクリレート（またはアクリレート）；
テトラヒドロピラニルｐ−ビニルベンゾエート；
１−エトキシ−１−プロピルｐ−ビニルベンゾエート；
４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ベンジルメタクリレート（またはアクリレート）；
４−（１−ブトキシエトキシ）ベンジルメタクリレート（またはアクリレート）；
ｔ−ブチルメタクリレート（またはアクリレート）；
ネオペンチルメタクリレート（またはアクリレート）；
１−ビシクロ｛２，２，２｝オクチルメタクリレート（またはアクリレート）およびそれらの誘導体；
１−ビシクロ｛２，２，１｝ヘプチルメタクリレート（またはアクリレート）およびそれらの誘導体；
１−ビシクロ｛２，１，１｝ヘキシルメタクリレート（またはアクリレート）およびそれらの誘導体；
１−ビシクロ｛１，１，１｝ペンチルメタクリレート（またはアクリレート）およびそれらの誘導体；ならびに
１−アダマンチルメタクリレート（またはアクリレート）およびそれらの誘導体
から選択される酸不安定性モノマー成分を含んでなる上記１に記載の組成物。
１４．  溶媒および粘度助剤よりなる群から選択される添加剤をさらに含んでなる上記１に記載の組成物。
１５．  粒子が組成物の約２０〜約７０体積％を占める上記１に記載の組成物。
１６．  粒子の最長寸法が１００ミクロン未満である上記１に記載の組成物。
１７．  粒子の最長寸法が１０ミクロン未満である上記１に記載の組成物。
１８．  印刷可能なペーストの形態である上記１に記載の組成物。
１９．  フィルムの形態である上記１に記載の組成物。
２０．  上記１に記載の組成物を含んでなる電界放出フィルム。
２１．  上記２０に記載のフィルムを含んでなる電界放出トライオード。
２２．  上記２０に記載のフィルムを含んでなる電界放出ディスプレイ。
２３．  上記２０に記載のフィルムを含んでなる照明装置。
２４．  上記２０に記載のフィルムを含んでなる真空電子装置。
２５．  （ａ）上記１に記載の組成物を基板上にフィルムとして堆積させ；
（ｂ）フィルムを放射線に画像どおりに露光してその露光部分および未露光部分を形成せしめ；そして
（ｃ）露光部分を除去して現像画像を形成せしめる
ことを含んでなる基板上に画像を形成する方法。
２６．  現像画像を加熱して第１のパターン化構造体を形成せしめることをさらに含んでなる上記２５に記載の方法。
２７．  パターン化構造体を形成せしめることが絶縁体を形成せしめることを含んでなる上記２６に記載の方法。
２８．  パターン化構造体を形成せしめることが導体を形成せしめることを含んでなる上記２６に記載の方法。
２９．  パターン化構造体を形成せしめることが半導体を形成せしめることを含んでなる上記２６に記載の方法。
３０．  堆積フィルムが厚膜である上記２５に記載の方法。
３１．  上記１に記載の組成物を第１のパターン化構造体上に第２のフィルムとして堆積させることをさらに含んでなる上記２６に記載の方法。
３２．  （ａ）第２のフィルムを放射線に画像どおりに露光してその露光部分および未露光部分を形成せしめ；
（ｂ）露光部分を除去して第２の現像画像を形成せしめ；そして
（ｃ）第２の現像画像を加熱して第２のパターン化構造体を形成せしめることをさらに含んでなり、
第１および第２のパターン化構造体が同一のサイズおよび形状を有する上記３１に記載の方法。
３３．  （ａ）上記１に記載の第１の組成物を基板上に第１のフィルムとして堆積させ；
（ｂ）上記１に記載の第２の組成物を第１のフィルム上に第２のフィルムとして堆積させ；
（ｃ）第１および第２のフィルムを放射線に画像どおりに露光して露光部分および未露光部分を形成せしめ；
（ｄ）露光部分を除去して現像画像を形成せしめる
ことを含んでなる多層パターン化構造体を形成する方法。
３４．  現像画像を加熱してパターン化構造体を形成せしめることをさらに含んでなる上記３３に記載の方法。
３５．  パターン化構造体を形成せしめることが絶縁体を形成せしめることを含んでなる上記３４に記載の方法。
３６．  パターン化構造体を形成せしめることが導体を形成せしめることを含んでなる上記３４に記載の方法。
３７．  パターン化構造体を形成せしめることが半導体を形成せしめることを含んでなる上記３４に記載の方法。
３８．  堆積フィルムが厚膜である上記３３に記載の方法。
３９．  上記１に記載の第３の組成物をパターン化構造体上に第３のフィルムとして堆積させることをさらに含んでなる上記３４に記載の方法。
４０．  堆積がスクリーン印刷、スピンコーティング、インクジェット印刷、コンタクト印刷またはステンシル印刷を含んでなる上記２５または３３に記載の方法。