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【手続補正書】
【提出日】平成19年2月6日(2007.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超臨界処理の間、半導体ウェハーを保持する真空チャックにおいて、
ａ．前記半導体ウェハーを保持する、ほぼ滑らかな表面を備えているウェハー保持領域と、
ｂ．前記ウェハー保持領域の一部に真空を与える真空ポートと、
ｃ．前記半導体ウェハーと前記ウェハー保持領域との間に配置された材料であって、前記半導体ウェハーの表面と前記ウェハー保持領域との間にほぼ密接な接触をもたらし、また、前記超臨界処理の間、ウェハーへの応力を減少させるのに適した材料と、を備えていることを特徴とする真空チャック。
【請求項２】
前記材料が、所定の厚さの層に適用されたポリマーを有することを特徴とする請求項１に記載の真空チャック。
【請求項３】
前記材料が、所定の厚さの層に適用されたモノマーを有することを特徴とする請求項１に記載の真空チャック。
【請求項４】
前記ウェハー保持領域内に形成され、前記真空ポートに接続されている真空領域を更に備えていることを特徴とする請求項１に記載の真空チャック。
【請求項５】
前記材料が、前記半導体ウェハーと前記ウェハー保持領域との間の少なくとも１つの微粒子物質を吸収することを特徴とする請求項１に記載の真空チャック。
【請求項６】
前記材料が、前記ウェハー保持領域と前記半導体ウェハーとの間のシールを提供することを特徴とする請求項１に記載の真空チャック。
【請求項７】
超臨界処理の間、半導体ウェハーを保持する真空チャックにおいて、
ａ．ウェハー保持領域及び該ウェハー保持領域内の半導体ウェハーの表面に真空を加える、操作可能なポートを有するほぼ滑らかな表面を有するウェハープラテンと、
ｂ．前記ウェハー保持領域のほぼ滑らかな表面と前記半導体ウェハーとの間に配置され、前記ウェハー保持領域と前記半導体ウェハーとの間にシールを与え、また、前記超臨界処理の間、ウェハーへの応力を減少させるコーティング層と、を備えていることを特徴とする真空チャック。
【請求項８】
前記滑らかな表面に真空領域を更に備えていることを特徴とする請求項７に記載の真空チャック。
【請求項９】
前記真空領域は、前記ポートに接続される真空溝を更に備えていることを特徴とする請求項８に記載の真空チャック。
【請求項１０】
前記真空溝は、第一の円形の真空溝を備えていることを特徴とする請求項９に記載の真空チャック。
【請求項１１】
前記第一の円形の真空溝は、前記ウェハー保持領域の外縁に近接して、外縁の内側に配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の真空チャック。
【請求項１２】
前記滑らかな表面は、前記第一の円形の真空溝の直径の内側に配置される第二の円形の真空溝を、さらに、備えていることを特徴とする請求項１１に記載の真空チャック。
【請求項１３】
前記コーティング層は、所定の厚さの層に適用されたポリマーを、さらに、有していることを特徴とする請求項７に記載の真空チャック。
【請求項１４】
前記コーティング層は、所定の厚さの層に適用されたモノマーを、さらに、有していることを特徴とする請求項７に記載の真空チャック。
【請求項１５】
前記コーティング層は、前記半導体ウェハーの表面と前記ウェハー保持領域との間にほぼ密接な接触をもたらすのに適していることを特徴とする請求項７に記載の真空チャック。
【請求項１６】
前記コーティング層は、前記半導体ウェハーと前記ウェハー保持領域との間の少なくとも１つの微粒子物質を吸収することを特徴とする請求項７に記載の真空チャック。
【請求項１７】
超臨界処理の間、半導体ウェハーを真空チャックに保持する方法において、
ａ．ウェハー保持領域を有する真空チャックを設け、
ｂ．前記半導体ウェハーと前記ウェハー保持領域との間の境界に沿って、前記半導体ウェハーと前記ウェハー保持領域との間にほぼ密接な接触をもたらすのに適した材料を配置し、
ｃ．前記材料が前記境界においてシールを作るように、前記境界に沿って前記半導体ウェハーを前記ウェハー保持領域上に配置する、ことを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記境界に真空を与え、前記材料が前記半導体ウェハーを前記半導体保持領域に保持することを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記材料は、所定の厚さに適用されているモノマーを、さらに、有することを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記材料は、所定厚さの層に適用されているポリマーを、さらに、有することを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記材料は、前記半導体ウェハーと前記ウェハー保持領域との間の少なくとも１つの微粒子物質を吸収することを特徴とする請求項１７に記載の真空チャック。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
図１Ａにおいて、真空領域１０４は、好ましくは、円形溝１０４として示されており、以下、真空溝１０４と称する。代替的に、真空領域１０４は、真空穴（図示せず）を含んでいてもよい。真空溝１０４は、超臨界条件下で処理される半導体ウェハーの直径よりも小さな直径を有している。更に、真空溝１０４は、好ましくは、０．０５０インチの最小深さと、０．０１０インチ〜０．０３０インチの幅を有している。しかしながら、真空溝１０４の他の寸法は慎重に検討される。代替的に、一つよりも多い真空溝がウェハープラテン１０２に形成されて、それによって、多数の真空溝がウェハープラテン１０２上の中心から同心状に構成されてもよい。しかしながら、最も大きな直径の真空溝１０４は半導体ウェハーの外径と同等として、半導体ウェハーがウェハープラテン１０２に十分に保持され、かつ、真空領域１０４で適用される真空により生じる力が弱まらないようにする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月25日(2007.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス列を生成するステップと、
シンボルに従って時間で前記パルスを変調するステップと、
前記パルスを超広帯域信号として送信する前に前記パルスの極性をランダムに反転するステップと
を含む時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２】
各シンボルは１つのパルスを含む
請求項１記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項３】
１つのシンボルにつき１つのパルスの変調は、パルス位置変調である
請求項２記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項４】
１つのシンボルにつき１つのパルスの変調は、振幅変調である
請求項２記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項５】
１つのシンボルにつき１つのパルスの変調は、振幅変調およびパルス位置変調の組み合わせである
請求項２記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項６】
前記パルス位置変調は、オン／オフキーイングで行われ、時間周期ごとに、０はパルスによって表現され、１はパルスによって表現されない
請求項３記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項７】
各シンボルは、個々のパルスの組み合わせを含む
請求項１記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項８】
各シンボルのＮ個のパルスの組み合わせの極性は、シンボル間でランダムかつ独立に反転される
請求項７記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項９】
各シンボルの個々のパルスの極性は、各シンボル内でも、シンボル間でも、ランダムかつ独立に反転される
請求項７記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１０】
各シンボルの個々のパルスの極性は、各シンボル内ではランダムに反転され、シンボル間では同一に反転される
請求項７記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１１】
前記シンボルは、パルス位置変調によって変調される
請求項７記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１２】
前記シンボルは、振幅変調によって変調される
請求項７記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１３】
前記シンボルは、パルス位置変調および振幅変調の組み合わせによって変調される
請求項７記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１４】
前記パルスの組み合わせは、時間ホッピングシーケンスのパターンに従う
請求項７記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１５】
異なる時間ホッピングシーケンスが使用されて、コンステレーションの同じシンボルが符号化される
請求項１４記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１６】
前記パルスの極性のランダムな反転によって、前記ＵＷＢ（超広帯域）信号のスペクトルを所定の形状に成形するステップをさらに含む
請求項１記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１７】
前記変調は、パルス振幅変調である
請求項１６記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１８】
前記変調は、パルス位置変調である
請求項１６記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項１９】
前記変調は、パルス振幅変調およびパルス位置変調の組み合わせである
請求項１４記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２０】
前記パルスの極性のランダムな反転によって、前記ＵＷＢ（超広帯域）信号のスペクトルを所定の形状に成形するステップをさらに含む
請求項７記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２１】
前記変調は、パルス振幅変調である
請求項２０記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２２】
前記変調は、パルス位置変調である
請求項２０記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２３】
前記変調は、パルス振幅変調およびパルス位置変調の組み合わせである
請求項２０記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２４】
前記パルスの極性のランダムな反転によって、前記ＵＷＢ（超広帯域）信号のスペクトルを所定の形状に成形するステップをさらに含む
請求項９記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２５】
前記パルスの極性のランダムな反転によって、前記ＵＷＢ（超広帯域）信号のスペクトルを所定の形状に成形するステップをさらに含む
請求項１４記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２６】
数組のパルスを部分波形にグループ化するステップと、
前記部分波形の極性をランダムに反転するステップとをさらに含む
請求項１記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２７】
前記部分波形の極性のランダムな反転によって、前記ＵＷＢ（超広帯域）信号のスペクトルを所定の形状に成形するステップをさらに含む
請求項２６記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２８】
数組のシンボルをグループ化するステップと、
前記数組のシンボルのうちの第１の組のシンボルの極性をランダムに反転するステップと、
前記第１の組のシンボルの極性に従って、前記数組のシンボルのうちの次の組の極性を反転するステップとをさらに含む
請求項２記載の時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去する方法。
【請求項２９】
パルス列を生成する手段と、
シンボルに従って時間で前記パルスを変調する手段と、
前記パルスを超広帯域信号として送信する前に前記パルスの極性をランダムに反転する手段と
を備える時間ホッピング超広帯域信号のスペクトル線を除去するシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
シンボルＳｉ＋Ｍは、逆の極性を有するシンボルＳｉとなる。したがって、０〜Ｍ−１のｉについて、Ｓｉ＋Ｍ＝−Ｓｉとなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006517373.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月4日(2007.1.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セル電話回路及びＧＰＳ回路を含む移動装置内における、ＧＰＳ受信機用の基準信号を生成するための方法であって、
前記セル電話回路内でセルラ発振器信号及び周波数誤差信号を生成するステップであって、前記周波数誤差信号は、セル電話ネットワーク仕様内の前記セル電話回路を動作させるために、発振器を制御するためのものであるステップと、
前記発振器信号をＧＰＳ回路内の少なくとも１つの数値制御発振器に結合するステップと、
前記周波数誤差信号を処理して、前記少なくとも１つの数値制御発振器に結合される周波数制御値を生成するステップと、
ＧＰＳ信号を処理するのに使用される信号を、前記少なくとも１つの数値制御発振器内で、前記セルラ発振器信号及び前記周波数制御値に応答して発生させるステップと、
発振信号発生器の周波数を調整することによって、セルラ電話のパイロットトーン又はキャリア信号を探索するステップと、
前記パイロットトーン又は前記キャリア信号が見つからない場合、前記発振信号発生器の前記周波数を固定するステップと、
前記ＧＰＳ衛星信号を探索するステップと、
前記ＧＰＳ衛星信号が見つからない場合、パイロットトーン又はキャリア信号の探索に復帰するステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記周波数誤差信号は、前記セル電話送信仕様内の前記セル電話回路によって維持される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記周波数誤差信号は、前記パイロットトーン又は前記キャリア信号と前記セルラ発振器信号から導出された信号の間の周波数差を表す、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記周波数制御値は、デジタルワードである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つの数値制御発振器が、
キャリア同調信号を発生させるキャリア数値制御発振器と、
コードタイミング信号を発生させるコード数値制御発振器と、を含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記キャリア同調信号は、ドップラシフトによって生じた周波数誤差を実質的に低減させる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
パイロットトーン又はキャリア信号の探索は、第１の所定の時間の間に起こり、
前記周波数の固定は、前記第１の所定の時間が経過した時に起こり、
前記ＧＰＳ衛星信号の探索は、第２の所定の時間の間に起こり、
パイロットトーン又はキャリア信号の探索への復帰は、前記第２の所定の時間が経過した後に起こる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の所定の時間は、約２０から３０秒の範囲内である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第２の所定の時間は、約２０から３０秒の範囲内である、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記パイロットトーン又はキャリア信号に応じた周波数に前記発振信号発生器を固定し、
電圧制御発振器を使用して前記発振信号発生器の周波数を調節し、前記パイロットトーン又は前記キャリア信号を追跡する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記発振信号発生器の周波数のための周波数閾値を設定する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記周波数誤差信号が前記周波数閾値を超えたことに応じて前記発振信号発生器の周波数を前記セルラ発振器信号の中心周波数の方向に調節する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記発振信号発生器の周波数を前記セルラ発振器信号の中心周波数の方向に調節する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記発振信号発生器の周波数を前記セルラ発振器信号の中心周波数とは別の周波数の方向に調節する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
セル電話ネットワーク仕様内の前記セル電話回路を動作させるために前記発振信号発生器の周波数を調節する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
キャリア同調信号を発生するために、少なくとも１つの数値制御発振器から少なくとも１つのチューナへ前記信号を供給する、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記少なくとも１つのチューナにより生成された前記キャリア同調信号をサンプリング周波数でサンプルするために少なくとも１つのデシメーション回路を使用する、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのデシメーション回路のサンプリング周波数を制御するために少なくとも１つのコード数値制御発振器を使用する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
少なくとも１つの相関器に、前記サンプルされたキャリア同調信号を結合する、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月26日(2007.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を放出するＬＥＤと、
該励起光を受け取るように位置決めされた蛍燐光体材料層であって、該蛍燐光体材料は、該励起光が照射されたときに可視光を放出する蛍燐光体材料層と、
該励起光を反射しかつ前記可視光を透過する第１の非平面高分子多層リフレクターであって、該非平面高分子多層リフレクターは、ＬＥＤ光を該蛍燐光体材料上に反射するように位置決めされている第１の非平面高分子多層リフレクターと、
を備える、光源。
【請求項２】
前記励起光がＵＶ光を含む、請求項１に記載の光源。
【請求項３】
前記第１の非平面高分子多層リフレクターが凹面である、請求項１に記載の光源。
【請求項４】
前記蛍燐光体材料層が前記ＬＥＤと前記非平面高分子多層リフレクターとの間に配設されている、請求項１に記載の光源。
【請求項５】
前記第１の非平面高分子多層リフレクターが不均一な厚さを有する、請求項１に記載の光源。
【請求項６】
前記蛍燐光体材料層が不連続である、請求項１に記載の光源。
【請求項７】
可視光を反射しかつ励起光を透過し、また前記ＬＥＤと前記蛍燐光体材料層との間に配置された第２の高分子多層リフレクターをさらに有する、請求項１に記載の光源。
【請求項８】
励起光を放出するＬＥＤを提供する工程と、
該励起光が照射されたときに蛍燐光体材料が可視光を放出するように蛍燐光体材料層を位置決めする工程と、
前記励起光を該蛍燐光体材料上に反射しかつ前記可視光を透過するように非平面高分子多層リフレクターを位置決めする工程と、
を含む、光源の製造方法。
【請求項９】
前記非平面高分子多層リフレクターを形成すべく前記高分子多層リフレクターを造形する工程をさらに含む、請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月10日(2007.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
処理されるべき基板（２００、３００）を担持するのに適した上方セラミック体（２０５、３０５）、
加熱用構成要素（２２５、３２５）および高周波電極（２２０、３２０）を担持する下方セラミック体（２１５、３１５）、
を包含し、両セラミック体は互いに恒久的に接合されていることを特徴とする静電チャック（２５０、３５０）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記両セラミック体（２０５、３０５、２１５、３１５）が加熱されたガラス（２６０，３６０）によって互いに接合されていることを特徴とする請求項１に記載のチャック。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記上方および下方セラミック体（２０５、３０５、２１５、３１５）の各々を、ガス到達のための開口（２１０、２４０、２４５、３１０、３４０）が貫通していることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のチャック。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
図１は、従来技術に従ったチャックを示している。中央に開口１２０を備え、側面をフック１３０によって把持された静電チャック１１０上に載っている基板１００、たとえばシリコン基板が見られる。チャック１１０それ自体は、冷却用循環路１５０、加熱用抵抗１６０を包含する支持台１４０（またはペデスタル）に載っている。このペデスタル１４０は、チャック１１０の中心開口１２０の延長線上に、中心開口１８０を有している。これらの開口を通して、ガス１９０、たとえばヘリウムまたはアルゴンが注入され、支持台１４０、チャック１１０および基板１００の間の熱交換に有利に作用する。場合によってＲＦ高周波電極１７０は、支持台１４０の表面に配置される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
下方セラミック体２１５とペデスタル２３０との間の連結は、たとえば、良好な熱伝導結合を保証するインジウムろう／はんだ２７０を用いたろう接結合によって形成する。代替の実施形態に従えば、下方セラミック体２１５とペデスタル２３０との間の連結は、たとえば銀接合剤２７０を用いた接合によって形成する。柱脚２６５が、基板の操作を可能にする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
下方セラミック体３１５と支持体３３０との間の連結は、たとえば、良好な熱伝導結合を保証するインジウムろう／はんだ３７０を用いたろう接結合によって形成する。代替の実施形態に従えば、下方セラミック体３１５と支持体３３０との間の連結は、たとえば銀接合剤３７０を用いた接合によって形成する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月29日(2007.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面上に複数の導電性トレースを有する印刷回路基板と、
主面上にアレー状導電性ランドを有する表面実装集積回路パッケージであって、少なくとも前記アレー状導電性ランドの一部が前記導電性トレースの対応する部分と接触するように、前記パッケージは前記印刷回路基板上に載置されることを特徴とするパッケージと、
前記パッケージと前記印刷回路基板との間に配置され、前記パッケージを前記印刷回路基板に接着により接合させるアンダーフィル接着剤とを備え、
前記アンダーフィル接着剤は、前記パッケージの前記印刷回路基板に対する接着に先立ち、前記印刷回路基板の主面に対して固着していない薄膜として供用されることを特徴とする印刷配線アセンブリ。
【請求項２】
前記固定していない薄膜はＬ字型をなす請求項１に記載の印刷配線アセンブリ。
【請求項３】
前記固定していない薄膜は開口を有する網目格子をなす請求項１に記載の印刷配線アセンブリ。
【請求項４】
前記アンダーフィル接着剤は、前記パッケージ外周の全長には延在していない請求項１に記載の印刷配線アセンブリ。
【請求項５】
主面上に複数の導電性トレースを有する印刷回路基板と、
主面上にアレー状導電性ランドを有する表面実装集積回路パッケージであって、少なくとも前記アレー状導電性ランドの一部が前記導電性トレースの対応する部分と接触するように、前記パッケージは前記印刷回路基板上に載置されることを特徴とするパッケージと、
前記パッケージと前記印刷回路基板との間に、前記パッケージの主面の外周の少なくとも一部分に沿って配置され、前記パッケージを前記印刷回路基板に接着により接合させるアンダーフィル接着剤とを備え、
前記アンダーフィル接着剤は、前記パッケージの前記基板に対する接着に先立ち、前記印刷回路基板の主面に対して固着していない薄膜として供用され、前記供用の後、前記ア
ンダーフィル接着剤は軟化されて流動し、前記パッケージを前記印刷回路基板に接着することを特徴とする印刷配線アセンブリ。
【請求項６】
主面上に複数の導電性ランドを有する印刷回路基板と、
前記導電性ランドに半田付けされるアレー状半田バンプを主面上に有する表面実装集積回路パッケージと、
前記パッケージと前記印刷回路基板との間に、前記パッケージの主面の外周の一部分に沿って配置され、これにより、前記パッケージを前記印刷回路基板に接着により接合させるアンダーフィル接着剤とを備え、
前記アンダーフィル接着剤は、前記バンプを前記導電性ランドに対して半田付けするのに先立ち、前記印刷回路基板の主面に対して固着していない薄膜として供用されることを特徴とする印刷配線アセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月2日(2007.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抵抗体及びｐウェルを接続する構成のトランジスタであって、
基板と、
基板内の絶縁構造と、
絶縁構造に隣接する絶縁層と、
絶縁層及び絶縁構造に隣接するウェルと、
ウェル内の第１不純物領域と、
ボディを制御する第１不純物領域に隣接する第１電極取出し部と、
ウェル内の第２不純物領域と、
ソースを画定する第２不純物領域に隣接する第２電極取出し部と、前記ソースは接地に接続されていることと、
ウェルに隣接する誘電体層と、
ゲートを画定する誘電体層に隣接する第３電極取出し部と、
ウェル内の第３不純物領域と、
ドレインを画定する第３不純物領域に隣接する第４電極取出し部と、前記ドレインは保護されている回路のノードに接続されていることと、
第１電極取出し部と第２電極取出し部との間に接続される抵抗性素子とを備えるトランジスタ。
【請求項２】
第１端子が入力／出力パッドに接続され、かつ第２端子が接地端子に接続される構成の、少なくとも２つの端子を有する回路を保護する静電気保護回路であって、静電気保護回路は、抵抗体及びｐウェルを接続する構成のトランジスタを備え、このトランジスタは抵抗性素子、ボディ、ドレイン、ゲート、及びソースを有し、
ドレインは入力／出力パッドに接続され、
ソースは接地端子に接続され、
ゲートはソースに接続され、
抵抗性素子がボディをソースに接続する、静電気保護回路。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月13日(2006.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＭＰＥＧ−４（ｍｐ４）バイナリ・ファイルをＸＭＴ（Ｅｘｔｅｎｓｉｂｌｅ  ＭＰＥＧ−４  Ｔｅｘｔｕａｌ）ファイルに変換する方法であって、
前記ｍｐ４バイナリ・ファイルを表す少なくとも１つの中間構造化文書を生成することと、
前記少なくとも１つの中間構造化文書をＸＭＴ構造化文書に変換することと、
前記ＸＭＴ構造化文書に基づいて前記ＸＭＴファイルを作成することと
を含む方法。
【請求項２】
前記中間構造化文書が、ｍｏｏｖアトムおよび１つまたは複数のｍｄａｔアトムを表すデータ構造を含み、前記ｍｏｏｖアトムが、ｉｏｄｓアトムおよび１つまたは複数のｔｒａｋアトムを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ｍｄａｔアトムおよびｔｒａｋアトムを表すデータ構造に基づいて外部メディア・ファイルを生成することをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記中間構造化文書の変換が、ｍｐ４−ｆｉｌｅ構造化文書を生成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ｍｐ４−ｆｉｌｅ構造化文書が、ｅＸｔｅｍｓｉｂｌｅ  Ｍａｒｋｕｐ  Ｌａｎｇｕａｇｅに基づく、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ｍｐ４−ｆｉｌｅ構造化文書が、ｍｏｏｖ構造化要素および１つまたは複数のｍｄａｔ構造化要素を含み、前記ｍｏｏｖ構造化要素が、前記ｍｏｏｖアトムを表し、各ｍｄａｔ構造化要素が、前記中間構造化文書によって表される前記ｍｄａｔアトムの１つを表す、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記ｍｏｏｖ構造化要素が、前記中間構造化文書の対応する部分を表すｉｏｄｓ要素および１つまたは複数のｔｒａｋ要素を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ｍｐ４−ｂｉｆｓ構造化文書が、前記ｍｐ４−ｆｉｌｅ構造化文書と別々の別個の文書である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ｍｐ４−ｂｉｆｓ構造化文書が、ｏｂｊｅｃｔ  ｄｅｓｃｒｉｐｔｏｒ  ｓｔｒｅａｍを表す要素を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記ｍｐ４−ｂｉｆｓ構造化文書が、ｓｃｅｎｅ  ｄｅｓｃｒｉｐｔｉｏｎ  ｓｔｒｅａｍを表す要素を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項１１】
前記中間構造化文書の生成が、
前記ｍｐ４バイナリ・ファイルを表すデータ構造の組を生成することと、
データ構造の前記組を前記中間構造化文書に変換することと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記中間構造化文書の変換が、ｓｃｅｎｅ  ｄｅｓｃｒｉｐｔｉｏｎ  ｓｔｒｅａｍを表すｍｐ４−ｂｉｆｓ構造化文書を生成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
ＭＰＥＧ−４（ｍｐ４）バイナリ・ファイルをＸＭＴ（Ｅｘｔｅｎｓｉｂｌｅ  ＭＰＥＧ−４  Ｔｅｘｔｕａｌ）ファイルに変換するシステムであって、
前記ｍｐ４バイナリ・ファイルを入力し、前記ｍｐ４バイナリ・ファイルを表す少なくとも１つの中間構造化文書を生成するように構成されたバイナリ・ファイル・デコーダと、
前記中間構造化文書を入力し、ＸＭＴ構造化文書を生成するように構成されたトランスレータと、
前記ＸＭＴ構造化文書を入力し、前記ＸＭＴファイルを生成するように構成されたＸＭＴシリアライザと
を含むシステム。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの中間構造化文書が、ｍｏｏｖアトムおよび１つまたは複数のｍｄａｔアトムを表すデータ構造を含む、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
ｍｏｏｖアトムを表すデータ構造が、ｉｏｄｓアトムおよび１つまたは複数のｔｒａｋアトムを表すデータ構造を含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記ｍｄａｔアトムおよびｔｒａｋアトムを表す前記データ構造に基づく１つまたは複数の外部メディア・ファイルをさらに含む、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの中間構造化文書が、ｍｐ４−ｆｉｌｅ構造化文書を含み、前記ｍｐ４−ｆｉｌｅ構造化文書が、データ構造の前記組に基づいて、１つまたは複数のｍｄａｔ要素、ｍｏｏｖ要素、およびｉｏｄｓ要素を含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１８】
有形の媒体で実施されたコンピュータ・プログラムであって、
ＭＰＥＧ−４（ｍｐ４）バイナリ・ファイルをＸＭＴ（Ｅｘｔｅｎｓｉｂｌｅ  ＭＰＥＧ−４  Ｔｅｘｔｕａｌ）ファイルに変換する、前記有形の媒体に結合されたコンピュータ可読プログラム・コード
を含み、前記コンピュータ可読プログラム・コードは、前記プログラムに、
前記ｍｐ４バイナリ・ファイルを表す少なくとも１つの中間構造化文書を生成することと、
前記中間構造化文書をＸＭＴ構造化文書に変換することと、
前記ＸＭＴ構造化文書に基づいて前記ＸＭＴファイルを作成することと
を行わせる、コンピュータ・プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月23日(2007.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電力管理方法であって：
画像データを受信する工程；
該受信画像データの輝度の計算に用いる画素毎ビット数を判定する工程；
該画素毎判定ビット数に相当する受信画像データ部分を選択する工程；
該受信画像データの該選択部分の値をアキュミュレートする工程；
該アキュミュレート値を閾値と比較する工程；及び
該アキュミュレート値が該閾値を超える場合に割り込み信号を生成する工程を備えることを特徴とする電力管理方法。
【請求項２】
請求項1記載の方法であって、更に、該割り込み信号をソフトウェア・モジュールに供給してディスプレイの輝度を制御する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項2記載の方法であって、該ソフトウェア・モジュールが、該ディスプレイの該輝度を周囲光センサ情報に基づいて制御することを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項2記載の方法であって、該ディスプレイが、LCDとフラットパネル・ディスプレイとプラズマ画面とを備える群から選択されることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項1記載の方法であって、該画像データがRGBとYUVとを備える群から選択される形式のものであることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項1記載の方法であって、更に、該選択する工程前に該受信画像データのY関数を計算する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項6記載の方法であって、RGB形式の画像データについての該Y関数が：
0.299*R+0.587*G+0.114*B;
によって計算されることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項6記載の方法であって、RGB形式の画像データについての該Y関数が：
(1/4+1/32+1/64)*R+(1/2+1/16+1/64+1/128)*G＋(1/8)*B;
によって計算されることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項1記載の方法であって、更に、該受信画像データの各フレームの終わりでステータス・レジスタを更新する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項1記載の方法であって、該アキュミュレートする工程がカウンタ群によって行われることを特徴とする方法。
【請求項１１】
コンピュータ・システムであって：
中央処理装置（CPU）；
該CPUに結合されるチップセット；
画像を表示するフラットパネル・ディスプレイ；及び
該フラットパネル・ディスプレイと該チップセットとに結合されて、画像輝度を増加させ、該フラットパネル・ディスプレイの電力消費を削減するようバックライト輝度を低減させるバックライト変調回路を備えることを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項１２】
請求項11記載のコンピュータ・システムであって、約30%から約70%までの電力消費削減を達成するよう該バックライト輝度が低減されることを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項１３】
請求項11記載のコンピュータ・システムであって、該バックライト変調回路が：
比較器群と、
該比較器群に結合される閾値レジスタ及びアキュミュレータ群を含み；
該アキュミュレータ群によって供給される値が該閾値レジスタによって供給される閾値を超える場合に割り込み信号を生成することを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項１４】
請求項13記載のコンピュータ・システムであって、更に、セグメント・モード・レジスタを含んで、該フラットパネル・ディスプレイ上に表示される対象の受信画像データ部分を選択することを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項１５】
請求項11記載のコンピュータ・システムであって、更に、イネーブル・レジスタを含んで割り込み信号の生成をイネーブルすることを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項１６】
請求項11記載のコンピュータ・システムであって、更に、マスク・レジスタを含んで割り込み信号の生成をイネーブルすることを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項１７】
請求項11記載のコンピュータ・システムであって、更に、ステータス・レジスタを含んで、該バックライト変調回路が処理する画像データのフレームの終わりを示すことを特徴とするコンピュータ・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月30日(2007.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）親水性表面を有するかまたは親水性層が設けられた金属支持体を含んでなりそして（ｉｉ）その上に赤外線吸収性染料および水性アルカリ性現像剤中に可溶性である疎水性結合剤を含んでなるコーティングが設けられている感熱性平版印刷版前駆体であって、コーティングが７００〜１０００ｎｍの間の範囲内の波長λmaxにおける吸収ピーク（３）を有する正味反射濃度対波長の光吸収スペクトル（１）により特徴づけられ、ここで該吸収ピークが１０００ｃｍ-1より小さいλmaxにおける正味反射濃度の８０％における波数間隔として定義されるバンド幅（４）を有する感熱性平版印刷版前駆体。
【請求項２】
コーティングが水性アルカリ性現像剤中に赤外線に露出されるコーティングの領域中では露出されない領域中より低い溶解速度で溶解可能である請求項１に記載の印刷版前駆体。
【請求項３】
コーティングが水性アルカリ性現像剤中に赤外線に露出されるコーティングの領域中では露出されない領域中より高い溶解速度で溶解可能である請求項１に記載の印刷版前駆体。
【請求項４】
疎水性結合剤がフェノール系樹脂であり、そしてコーティングが（ａ）芳香族基および水素結合部位を含んでなる有機化合物、（ｂ）現像剤中に不溶性であるかまたは非浸透性である疎水性または撥水性重合体、（ｃ）極性基および疎水性基を含んでなる界面活性剤または（ｄ）ポリ−またはオリゴ（アルキレンオキシド）ブロックおよび疎水性ブロックを含んでなるブロック−共重合体よりなる群から選択される溶解抑制剤をさらに含んでなる請求項３に記載の印刷版前駆体。
【請求項５】
コーティングがλmax＋／−２０ｎｍの範囲内の波長および２３３ｋＷ／ｃｍ2より高い出力密度を有するレーザー光線への露出時に融除を発生しない請求項１〜４のいずれかに記載の印刷版前駆体の露出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月9日(2007.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジピリダモールまたは医薬的に許容されるその塩、アセチルサリチル酸、およびアンジオテンシンII拮抗薬を含む医薬組成物であって、同時投与、別投与、または連続投与するための組み合わせ製剤としての上記医薬組成物。
【請求項２】
脳卒中発作を予防、または脳卒中発作もしくは脳卒中二次発作の危険性を低減するための、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
アンジオテンシンII拮抗薬がテルミサルタンである、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
アセチルサリチル酸およびアンジオテンシンII拮抗薬と組み合わされたジピリダモールまたは医薬的に許容されるその塩の使用あって、患者における脳卒中発作を予防または脳卒中発作もしくは脳卒中二次発作の危険性を低減するための医薬組成物を製造するための上記使用。
【請求項５】
アンジオテンシンII拮抗薬がテルミサルタンである、請求項４に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月19日(2007.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(Ｉ)
【化１】
2006517561.tif 000001
の化合物、その二つの鏡像異性体のそれぞれ、ならびに鏡像異性体のラセミのおよびスケール性の混合物。
【請求項２】
(Ｒ)−４−[４−(メチルスルフィニル)フェニル]−３−フェニルフラン−２(５Ｈ)−オン
(Ｓ)−４−[４−(メチルスルフィニル)フェニル]−３−フェニルフラン−２(５Ｈ)−オン
の一つである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
式(ＩＶ)
【化２】
2006517561.tif 000002
の化合物を酸化剤と反応させる、
式(Ｉ)
【化３】
2006517561.tif 000003
の化合物の作成方法。
【請求項４】
酸化剤が：
(ａ)ラセミのスルフィニル混合物を得ようとするときにはメタ過ヨウ素酸ナトリウム；または、
(ｂ)鏡像異性的に富化した式(Ｉ)の化合物を得ることが望まれるときにはチタニウム テトライソプロポキシド、ｔ−ブチル ヒドロペルオキシドおよび酒石酸ジエチルの(Ｒ,Ｒ)のもしくは(Ｓ,Ｓ)の型のどちらかの混合物
のいずれかである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
反応が塩素化溶媒もしくは塩素化溶媒およびＣ１−Ｃ４アルコールの混合物の中で起こる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
塩素化溶媒が１,２−ジクロロエタン、塩化メチレン、クロロホルムおよびそれらの混合物から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
医薬品としての使用のための請求項１に定義された式(Ｉ)の化合物。
【請求項８】
酵素シクロオキシゲナーゼ−２(ＣＯＸ−２)の阻害による寛解に感受性の病理学的症状もしくは疾患の処置における使用のための請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
薬学的に許容される希釈剤もしくは担体と組み合わせた、請求項１または２に記載の化合物を含む医薬組成物。
【請求項１０】
酵素シクロオキシゲナーゼ−２(ＣＯＸ−２)の阻害による寛解に感受性の病理学的症状もしくは疾患の処置のための医薬品の製造における、請求項１または２に記載の化合物の使用。
【請求項１１】
医薬品が疼痛、発熱もしくは炎症の処置における使用のための、プロスタノイド誘発性平滑筋収縮を阻害するための、または結腸直腸癌もしくは神経変性疾患の予防または処置のためのものである、請求項１０に記載の使用。
【請求項１２】
酵素シクロオキシゲナーゼ−２(ＣＯＸ−２)の阻害による寛解に感受性の病理学的症状もしくは疾患の処置のための請求項１または２に記載の化合物の使用。
【請求項１３】
病理学的症状または疾患が疼痛、発熱、炎症、プロスタノイド誘発性平滑筋収縮、結腸直腸癌もしくは神経変性疾患である、請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
酵素シクロオキシゲナーゼ−２(ＣＯＸ−２)の阻害による寛解に感受性の病理学的症状もしくは疾患に罹っている対象を処置する方法であって、その方法が当該対象に請求項１または２のいずれかに記載の化合物の有効量を投与することを含む、方法。
【請求項１５】
病理学的症状または疾患が疼痛、発熱もしくは炎症、プロスタノイド誘発性平滑筋収縮、結腸直腸癌または神経変性疾患である、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月30日(2007.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
式I：
【化６】
2006517587.tif 000001
［式中、
破線は、結合の存在または不存在を示し、線影付きくさび形は、α（下）配置を示し、中実三角形は、β（上）配置を示し；
Bは、単、二重または三重共有結合であり；
nは、0〜6であり；
Xは、CH2、SまたはOであり、ここで、両X成分は同じであり；
Yは、CO2Hの医薬的に許容される任意の塩、または、CO2R、CONR2、CONHCH2CH2OH、CON（CH2CH2OH）2、CH2OR、P（O）（OR）2、CONRSO2R、SONR2、または
【化７】
2006517587.tif 000002
であり；
Rは、H、C1〜6アルキルまたはC2〜6アルケニルであり；
R2およびR3は、同じかまたは異なっていてよいC1〜6直鎖アルキルであり、互いに結合して、それらが共に結合している炭素を組み込んだ環を形成してもよく；
R4は、水素、R、C（=O）R、またはR4が有効に水素になるように生理的条件下に容易に除去される任意の基であり；
R5は、水素またはRであり；
R6は、
i）  水素であるか；
ii）  1個またはそれ以上の二重または三重結合を有してもよい1〜8個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖炭化水素、または、1〜3個の炭素または水素原子がOまたはハロゲンで置き替えられていてよい該炭化水素の酸素またはハロゲン誘導体であるか；または
iii）  アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、C3〜8シクロアルキルオキシ、C3〜8シクロアルキル、C6〜10アリールまたはC3〜10ヘテロアリール（1個またはそれ以上の炭素がN、OまたはSで置き替えられている）であって；ハロゲン、トリハロメチル、シアノ、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、C6〜10アリール、C3〜10ヘテロアリール、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、C1〜6アルキル、OR、SRおよびSO2Rから成る群から選択される1個またはそれ以上の置換基を有してもよい］
で示される化合物であって、式II：
【化８】
2006517587.tif 000003
［式中、
Aは、CO2H、CO2MeまたはCO2Etであり；
Dは、単、二重または三重共有結合であり；
Eは、3〜7個の炭素原子を有する直鎖、分岐鎖またはシクロアルキル鎖、トリフルオロメチルブチル、ヒドロキシルアルキルまたはCH2R7であり、R7は、フェニル、シクロペンチル、フェノキシ、クロロフェノキシ、プロポキシまたは-CH2SCH2CH3であり；
Jは、水素、R、C（=O）R、またはR4が有効に水素になるように生理的条件下に容易に除去される任意の基であり；
Gは、HまたはCH3である］
で示される化合物ではない化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月25日(2007.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
哺乳動物における障害の治療または防止のための医薬組成物であって、ヒト抗ＩＧＦ−ＩＲ抗体を含み、そして当該障害が、多発性骨髄腫、液性腫瘍（ｌｉｑｕｉｄ  ｔｕｍｏｒ）、肝臓癌、胸腺障害、Ｔ細胞仲介自己免疫疾患、内分泌（ｅｎｄｏｃｒｏｎｏｌｏｇｉｃａｌ）障害、虚血、および神経変性障害からなる群より選択される、前記医薬組成物。
【請求項２】
前記液性腫瘍が、急性リンパ性白血病（ＡＬＬ）および慢性骨髄性（ｍｉｌｏｇｅｎｉｃ）白血病（ＣＭＬ）からなる群より選択され；前記肝臓癌が、ヘパトーム、肝細胞癌腫、肝内胆管癌、血管肉腫（ａｎｇｉｏｓａｒｃｏｍａｓ）、血管肉腫（ｈｅｍａｎｇｉｏｓａｒｃｏｍａｓ）、肝芽腫からなる群より選択され；前記胸腺障害が、胸腺腫および甲状腺炎からなる群より選択され；前記Ｔ細胞仲介自己免疫疾患が、多発性硬化症、関節リウマチ、全身性エリテマトーデス（ＳＬＥ）、グレーブス病、橋本甲状腺炎、重症筋無力症、自己免疫甲状腺炎、ベーチェット病からなる群より選択され；前記内分泌障害が、ＩＩ型糖尿病、甲状腺機能亢進症、甲状腺機能低下症、甲状腺炎、副腎皮質機能亢進症、および副腎皮質機能低下症からなる群より選択され；前記虚血が、心虚血後（ｐｏｓｔ  ｃａｒｄｉａｃ  ｉｓｃｈｅｍｉａ）であり；そして前記神経変性障害がアルツハイマー病である、請求項１の医薬組成物。
【請求項３】
さらに、コルチコステロイド、制吐剤、癌ワクチン、鎮痛剤、抗血管（ａｎｔｉ−ｖａｓｃｕｌａｒ）剤、および抗増殖剤からなる群より選択される剤を組み合わせてなる、請求項１の医薬組成物。
【請求項４】
さらにワクチンを組み合わせてなり、ここで前記ワクチンはＧＭ−ＣＳＦ  ＤＮＡおよび細胞に基づくワクチン、樹状細胞ワクチン、組換えウイルスワクチン、熱ショックタンパク質（ＨＳＰ）ワクチン、同種または自己の腫瘍ワクチンから選択される、請求項１の医薬組成物。
【請求項５】
さらに鎮痛剤を組み合わせてなり、ここで前記剤は、イブプロフェン、ナプロキセン、トリサリチル酸コリンマグネシウム、またはオキシコドン塩酸から選択される、請求項１の医薬組成物。
【請求項６】
さらに抗血管剤を組み合わせてなり、ここで前記剤は、ベバシズマブ、またはｒｈｕＭＡｂ−ＶＥＧＦからなる群より選択される、請求項１の医薬組成物。
【請求項７】
さらに抗増殖剤を組み合わせてなり、ここで前記剤は、ファルネシル・タンパク質トランスフェラーゼ阻害剤、αｖβ３阻害剤、αｖβ５阻害剤、ｐ５３阻害剤、およびＰＤＧＦＲ阻害剤からなる群より選択される、請求項１の医薬組成物。
【請求項８】
ＩＧＦ−ＩＲに結合する抗体が、以下の特性：
８ｘ１０−９以下のＫｄの、ヒトＩＧＦ−ＩＲに対する結合親和性；
１００ｎＭ未満のＩＣ５０の、ヒトＩＧＦ−ＩＲおよびＩＧＦ−１間の結合阻害を有し；そして
ＶＨ  ＤＰ−３５、ＶＩＶ−４／４．３５、ＶＨ  ＤＰ−４７、またはＶＨ  ＤＰ−７１遺伝子のものに対応するヒトＦＲ１、ＦＲ２、およびＦＲ３アミノ酸配列、あるいはその保存的置換または体細胞突然変異を含む、重鎖アミノ酸配列を含み、ＦＲ配列がＣＤＲ１、ＣＤＲ２、およびＣＤＲ３配列に連結され、そして該抗体がまた、その軽鎖中に、Ａ２７、Ａ３０、またはＯ１２遺伝子由来のＣＤＲ領域も含む、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記抗体が、２．１２．１、２．１３．２、２．１４．３、４．９．２、４．１７．３、および６．１．１からなる群より選択される抗体の、重鎖および軽鎖アミノ酸配列を有する抗体と、ＩＧＦ−ＩＲとの結合に関して競合する、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記抗体が、２．１２．１、２．１３．２、２．１４．３、４．９．２、４．１７．３、および６．１．１からなる群より選択される抗体の、ＣＤＲ−１、ＣＤＲ−２、およびＣＤＲ−３のアミノ酸配列を含む重鎖、並びにＣＤＲ−１、ＣＤＲ−２、およびＣＤＲ−３のアミノ酸配列を含む軽鎖を含むか、あるいは保存的変化であって、非極性残基の他の非極性残基による置き換え、極性荷電残基の他の極性非荷電残基による置き換え、極性荷電残基の他の極性荷電残基による置き換え、および構造的に類似の残基による置換からなる群より選択される、前記保存的変化；並びに非保存的置換であって、極性非荷電残基に対する極性荷電残基の置換および極性残基に対する非極性残基の置換からなる群より選択される、前記非保存的置換、付加、並びに欠失からなる群より選択される、前記ＣＤＲ配列からの変化を有する配列を含む、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記抗体が、２．１２．１、２．１３．２、２．１４．３、４．９．２、４．１７．３、および６．１．１からなる群より選択される抗体の、ＣＤＲ−１、ＣＤＲ−２、およびＣＤＲ−３のアミノ酸配列を含む重鎖、並びにＣＤＲ１、ＣＤＲ−２、およびＣＤＲ−３のアミノ酸配列を含む軽鎖を含む、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記抗体が、ヒト遺伝子ＤＰ−４７由来の重鎖アミノ酸配列およびヒト遺伝子Ａ３０由来の軽鎖アミノ酸配列を含む抗体からなる群より選択される、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
哺乳動物における障害を治療するのに有効な、前記障害の治療または防止のための組成物調製における、ある量のヒト抗ＩＧＦ−ＩＲ抗体の使用であって、前記障害が、多発性骨髄腫、液性腫瘍、肝臓癌、胸腺障害、Ｔ細胞仲介自己免疫疾患、内分泌障害、虚血、および神経変性障害からなる群より選択される、前記使用。
【請求項１４】
哺乳動物における加齢を治療または防止のための医薬組成物であって、抗ＩＧＦ−ＩＲ抗体を含む、前記医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月16日(2006.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体から揮発性材料を活発に送給する揮発性物質送給装置（２０，２０ａ，４０，１１０，１１０ａ）に使用する基体（７０，８０，５０，６０，１４４，１４４ａ）であって、
架橋性ポリマー材料およびその混合物から選択されたバインダーを含むコーティングを有する粒状粒子であって、該コーティングが接触点で溶融し合うことにより前記粒状粒子は互いに接着されて孔と通路の網状組織を有する本体を形成し、該本体の内部表面は送給する揮発性材料に対して非反応的及び非吸収的である粒状粒子と、
前記孔内に配置された揮発性材料であって、前記送給装置により、害虫を駆除する送給速度で初めに送給可能な害虫駆除アクティブ成分を含む揮発性材料と、を含み、
前記揮発性物質送給装置を作動させると前記孔から前記揮発性材料が放出され、これにより前記揮発性材料が送給され、
該送給装置がもはや揮発性材料を害虫を駆除する送給速度で送給できなくなるまで揮発性材料を使い果たしたとき、孔内に残留する揮発性材料が１０％以下であることを特徴とする基体。
【請求項２】
前記害虫駆除アクティブ成分が、天然ピレトリン、ジョチュウギク抽出液、合成ピレトロイド、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の基体。
【請求項３】
前記害虫駆除アクティブ成分が、トランスフルトリン、ビオアレトリン、パラレトリン、ピレスラム抽出液、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の基体。
【請求項４】
前記揮発性材料が、本体への適用時に本質的に溶剤を含有していない、請求項１に記載の基体。
【請求項５】
前記粒子が砂を含む、請求項１に記載の基体。
【請求項６】
前記結合剤がフェノール樹脂である、請求項１に記載の基体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月9日(2007.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３２】
ＨＳＰ９０活性阻害に有効な請求項１〜３１のいずれか一つに記載の化合物またはその塩、水和物もしくは溶媒和物の有効量を哺乳動物に投与することを含む、ヒトを除く哺乳動物におけるＨＳＰ９０活性の阻害に応答する疾患または病態の治療方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月17日(2007.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２４】
Ｌが、
【化８】
2006517543.tif 000001
（式中、ｎ＝０、１、２又は３、ｍ＝０、１、２又は３であり、ｍ及び／又はｎが０の場合、ポリマーはコポリマーであり、Ａｒはフェニル、ナフチル、ポリアリール、ヘテロアリール、及びフェロセニル、又は類似の金属サンドイッチ錯体を含む群から選択される）
を含む群から選択される、請求項２２又は２３に記載の電子機能性単位架橋ポリマー。