【手続補正書】
【提出日】平成19年9月5日(2007.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下で動作する反射率計に於いて、該反射率計が
ＤＵＶ波長より下の波長を有する光を創る光源を具備しており、該光は該反射率計内で少なくとも１つの光ビームを創るため使われており、該反射率計は又
中を該光ビームが進む少なくとも１つの環境的に制御された室を具備しており、該室はＤＵＶ光より下の波長の透過を可能にするよう充分制御されており、該反射率計は更に、
該光ビームの少なくとも１部分を受けるスペクトロメーターを具備しており、該スペクトロメーターは該スペクトロメーターの出口平面に多数の空間的に分離された波長の光を提供しており、該多数の空間的に分離された波長の光はＤＵＶ波長より下の波長の光を有しており、そして該反射率計はなお更に
該多数の空間的に分離された波長の光を受けるアレイ検出器を具備しており、該アレイ検出器はＤＵＶ波長より下の波長のデータを検出することを特徴とする該反射率計。
【請求項２】
該少なくとも１つの環境的に制御された室は該反射率計で使われる波長範囲に亘り実質的に非吸収性であるよう選択されたガスでパージされることを特徴とする請求項１の該反射率計。
【請求項３】
該少なくとも１つの環境的に制御された室は真空にされることを特徴とする請求項１の該反射率計。
【請求項４】
該反射率計はインライン測定で、モニタリング又は制御が有利に得られるようプロセスツール内に集積化されることを特徴とする請求項１の反射率計。
【請求項５】
反射率計光学機器、該スペクトロメーターそして該アレイ検出器が、反射率測定がサンプルの局所的領域内の多数サイトで同時に行われ得るよう構成されることを特徴とする請求項１の該反射率計。
【請求項６】
更に、
該光ビームを、２次元サンプル範囲へ、そして該範囲から、導くよう構成された複数の光学的要素を具備しており、
該アレイ検出器は反射率データが該２次元サンプル範囲内の多数サイトで同時に得られるようにすることを特徴とする請求項１の該反射率計。
【請求項７】
更に、
中を光ビームが進む複数の環境的に制御された室を具備しており、該室はＤＵＶより下の波長の光の透過を可能にするよう充分制御されており、該室の少なくとも１つは、反射率データが集められるよう望まれるサンプルを保持するよう構成されたサンプル室であることを特徴とする請求項１の該反射率計。
【請求項８】
更に、
該環境的に制御された室の２つを結合する少なくとも１つの結合機構を、該結合機構を通してＤＵＶより下の波長の光ビームを透過させるように具備しており、該光ビームは該少なくとも１つの結合機構を通過する時はコリメートされた光であることを特徴とする請求項７の該反射率計。
【請求項９】
遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下の波長の反射率データを集める過程を含み、反射率計を使ってサンプルから反射率データを集める方法に於いて、該方法が
ＤＵＶ波長より下の光波長を創る過程を具備しており、該光は該反射率計内で少なくとも１つの光ビームを創るため使われており、該方法は又
少なくとも１つの環境的に制御された室内に該光ビームを透過させる過程と、
ＤＵＶ光より下の波長の透過を可能にするよう該少なくとも１つの環境的に制御された室内の該環境を制御する過程と、
該光ビームをサンプル上に導く過程と、
該光ビームが該サンプルから反射された後、スペクトロメーター内で該光ビームの少なくとも１部分を受ける過程と、
該スペクトロメーターの出口平面に多数の空間的に分離された波長の光を提供する過程と、を具備しており、該多数の空間的に分離された波長の光はＤＵＶ波長より下の波長の光を有しており、そして該方法は更に、
該多数の空間的に分離された波長の光をアレイ検出器で受ける過程を具備しており、該アレイ検出器は、遠紫外線（ＤＵＶ）より下の波長のサンプル反射率データを集めるために、ＤＵＶ波長より下の波長のデータを検出することを特徴とする該方法。
【請求項１０】
更に、該アレイ検出器を用いて、該サンプルの局所化された領域内の多数サイトから同時に反射率測定値を検出する過程を具備することを特徴とする請求項９の該方法。
【請求項１１】
該光ビームが偏波でないことを特徴とする請求項９の該方法。
【請求項１２】
該光ビームが複数の環境的に制御された室を透過させられることを特徴とする請求項９の該方法。
【請求項１３】
該環境的に制御された室の１つがサンプル室であることを特徴とする請求項１２の該方法。
【請求項１４】
該環境的に制御された室の１つがインスツルメント室であり、該サンプル室と該インスツルメント室は該光ビームが通過する光学的結合機構で結合されていることを特徴とする請求項１３の該方法。
【請求項１５】
更に、アレイ検出器を用いて、該サンプルの局所化された領域内の多数サイトから同時に反射率測定値を検出する過程を具備することを特徴とする請求項１４の該方法。
【請求項１６】
該光ビームが、それが該光学的結合機構を通過する時、コリメートされることを特徴とする請求項１４の該方法。
【請求項１７】
反射率計に於いて、該反射率計が
サンプルチャンネル光路を創るために使われる光源を具備しており、該サンプルチャンネル光路は少なくとも１つの未知特性を有するサンプルに出会うよう構成されており、そして該反射率計は又
該サンプルから得られた反射率データの調整が、該反射率計校正時と該サンプル反射率データが得られた時と、の間の反射率計又は環境の変化の責めを負うことを可能にするために、該反射率計を基準合わせする手段を具備しており、
該基準合わせする手段は基準チャンネル光路を備えることを特徴とする反射率計。
【請求項１８】
該基準チャンネル光路と該サンプルチャンネル光路は、遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下で吸収種から生じる環境影響を最小化するため、等しいに近い光路長であることを特徴とする請求項１７の該反射率計。
【請求項１９】
更に少なくとも１つの環境的に制御された室を具備しており、該サンプルチャンネル光路と該基準チャンネル光路は少なくとも部分的に該１つの環境的に制御された室内に形成されることを特徴とする請求項１８の該反射率計。
【請求項２０】
該反射率計は反射率データを２次元サンプル範囲から得ており、該反射率計は更に
該基準チャンネル光路と該サンプルチャンネル光路の両者にあるスペクトロメーターを具備しており、該スペクトロメーターは該スペクトロメーターの出口に多数の空間的に分離された波長の光を提供しており、そして該反射率計は又
該基準チャンネル光路と該サンプルチャンネル光路の両者にあるアレイ検出器を具備しており、該アレイ検出器は反射率データが該２次元サンプル範囲内の多数サイトで同時に得られることを可能にするよう、該多数の空間的に分離された波長の光を受けており、
該基準チャンネル光路は、該反射率計の使用を通して得られた反射率データを調整するために、システム又は環境の変化の責めを負うため使用されるデータを集めるよう構成されていることを特徴とする請求項１８の該反射率計。
【請求項２１】
更に該反射率計のプロセスツールのサンプル室とのインターフエースを実現するために、少なくとも１つの結合機構を具備しており、該結合機構は、該反射率計環境の幾らかの部分が該サンプル室環境の幾らかの部分と共有されるよう構成されており、該サンプル室は反射率データがそこから集められるよう望まれるサンプルを保持するよう構成されており、該環境の共有された部分は遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下の光波長の透過を可能とするよう充分に制御されることを特徴とする請求項１７の該反射率計。
【請求項２２】
該サンプルチャンネル光路と該基準合わせする手段とが干渉計のバランスドアームを形成することを特徴とする請求項１７の該反射率計。
【請求項２３】
該サンプルチャンネル光路と該基準チャンネル光路は、該光源からのソースビームを分けるために、そして前記分けられた部分を、それらが回折要素と検出器との共通部分に向けられるよう次に再組み合わせるために、１つ以上のビームスプリッターデバイスを使って確立されることを特徴とする請求項１７の該反射率計。
【請求項２４】
該基準チャンネル光路と該サンプルチャンネル光路とは共通のソース、回折格子そして検出器を共有することを特徴とする請求項１７の該反射率計。
【請求項２５】
第１サンプルから反射率データを得る方法に於いて、該方法が
サンプル光学的チャンネルを提供する過程と、
基準光学的チャンネルを提供する過程と、を具備しており、該サンプル光学的チャンネルと該基準光学的チャンネルとは、少なくとも１つの検出器と、空間的に波長を分離する空間的分離用光学的要素と、の共通部分を含む、少なくとも幾つかの共通光学的要素を共有しており、該方法は又
該検出器を用いて基準合わせデータを得るために該基準光学的チャンネルを使う過程を具備しており、該基準合わせデータは該サンプル光学的チャンネル路内のどんなサンプルの使用からも独立した、システム又は環境パラメーターを示しており、そして該方法は更に
該第１サンプルからのサンプル反射率データの収集に付随する該基準合わせデータを使うことにより該サンプル光路から得られた該反射率データを基準合わせする過程を具備することを特徴とする該方法。
【請求項２６】
該空間的分離用光学的要素が回折格子であることを特徴とする請求項２５の該方法。
【請求項２７】
該第１サンプルは未知サンプルであり、該基準データの基準合わせ過程は校正時と該第１サンプル反射率データが得られる時の間のシステム又は環境変化の責めを負うことを特徴とする請求項２５の２方法。
【請求項２８】
該方法が更に校正サンプルの反射率測定を行う過程を具備することを特徴とする請求項２７の該方法。
【請求項２９】
更に該校正サンプルに付随する基準合わせデータを得る過程を具備することを特徴とする請求項２８の該方法。
【請求項３０】
該第１サンプルが校正サンプルであり、該方法が更に未知サンプルの反射率測定を行う過程を具備することを特徴とする請求項２５の該方法。
【請求項３１】
該校正サンプルの反射率測定に付随する該基準合わせデータが該校正サンプルから反射率データを得る過程に時間的に近く検出されることを特徴とする請求項３０の該方法。
【請求項３２】
更に
光ビームをサンプル光学的チャンネル内のサンプルの２次元範囲上に導く過程と、
該光ビームが該サンプルから反射された後、画像形成スペクトロメーター内で該光ビームの少なくとも１部分を受ける過程と、
該スペクトロメーターの出口平面で多数の空間的に分離された波長の光を提供する過程と、そして
反射率データが、該サンプルの該２次元範囲内の多数サイトで同時に得られることを可能にするよう、該多数の空間的に分離された波長の光を２次元アレイ検出器で受ける過程と、を具備することを特徴とする請求項２５の該方法。
【請求項３３】
基盤上に形成された複数の薄膜から成るサンプルを分析する方法に於いて、該方法が
該基盤上に形成された少なくとも第１及び第２薄膜の期待される構成を提供する過程と、
少なくとも部分的に該期待される構成に基づいて、遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある波長範囲内で卓越して規定される該第１薄膜の少なくとも１つの光学的特性と、遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある波長範囲内で卓越しては規定されない該第２薄膜の少なくとも１つの光学的特性を決定する過程と、
遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下の少なくとも複数の波長を有する波長範囲に亘り該サンプルの光学的応答データセットを記録する過程と、そして
遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある波長範囲内で卓越して規定される該第１薄膜の該少なくとも１つの光学的特性の該決定と、遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある波長範囲内では卓越しては規定されない該第２薄膜の少なくとも１つの光学的特性の該決定と、に基づき、該記録された光学的応答データセットを重み付けすることにより、該第１薄膜の少なくとも１つの特性を特徴付ける過程と、を具備することを特徴とする該方法。
【請求項３４】
該特徴付ける過程が更に、遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある波長範囲内で卓越して規定される該第１薄膜の該少なくとも１つの光学的特性を有利に開発することにより、該記録された光学的応答を該第１薄膜の該少なくとも１つの特性と関係付けることによって、該光学的応答データセットを繰り返し減じる過程を備えることを特徴とする請求項３３の該方法。
【請求項３５】
該繰り返しのデータ削減は動的重み付け関数の適用により達成されており、最適化過程では特定のデータへの強調の強弱は、探求される物理的パラメーターの決定への該データの期待される寄与に帰せられ、そして該期待される寄与は該基盤上に形成される少なくとも第１及び第２薄膜の期待される構成に基づいて動的に推定されそして繰り返しベースで更新されることを特徴とする請求項３４の該方法。
【請求項３６】
該特徴付けられる該第１薄膜の特性が膜厚さ、光学的特性、組成、インターフエース粗さ、表面粗さ、又は多孔性の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項３３の方法。
【請求項３７】
該第１薄膜からの光学的応答がスペクトロメーターとアレイ検出器とを有する反射率計を使って記録されることを特徴とする請求項３３の方法。
【請求項３８】
該記録された光学的応答が、該サンプルの２次元範囲内の多数サイトについてＤＵＶ波長より下にある波長で反射率データを同時に得ることにより得られることを特徴とする請求項３３の該方法。
【請求項３９】
基盤上に形成された少なくとも１つの薄膜から成るミニャチャーデバイスを分析する方法に於いて、該方法が
該少なくとも１つの薄膜の期待される構成を提供する過程と、
少なくとも部分的には該期待される構成に基づいて、遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある波長範囲内で卓越して規定される少なくとも１つのデバイス光学特性を決定する過程と、
遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある少なくとも複数の波長を有する波長の範囲に亘り該デバイスの光学的応答データセットを記録するために反射率計を使う過程と、そして
遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある波長範囲内で卓越して規定される該少なくとも１つの光学特性の該決定に基づき、該記録された光学的応答データセットを重み付けすることにより、該デバイスの少なくとも１つの物理的特性を特徴付けする過程と、を具備することを特徴とする該方法。
【請求項４０】
該測定の結果として決定された該物理的特性がライン幅、側壁角度、ライン高さ、溝深さ、溝幅そして膜厚さの少なくとも１つを有することを特徴とする請求項３９の該方法。
【請求項４１】
該特徴付ける過程が更に、遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下にある波長範囲内で卓越して規定される該少なくとも１つの光学的特性を有利に開発することにより、該記録された光学的応答を該少なくとも１つの物理的特性と関係付けることによって該光学的応答データセットを繰り返し減じる過程を備えることを特徴とする請求項３９の該方法。
【請求項４２】
該繰り返しのデータ削減が動的重み付け関数の適用により達成されており、最適化過程では特定のデータへの強調の強弱は、探求される物理的パラメーターの決定への該データの期待される寄与に帰せられ、そして該期待される寄与は該デバイスの期待される構成に基づいて動的に推定されそして繰り返しベースで更新されることを特徴とする請求項４１の該方法。
【請求項４３】
該反射率計が
中を光ビームが進む少なくとも１つの環境的に制御された室を具備しており、該室はＤＵＶ光より下の波長の透過を可能にするよう充分制御されており、該反射率計は又
該光ビームの少なくとも１部分を受けるスペクトロメーターを具備しており、該スペクトロメーターは該スペクトロメーターの出口平面で多数の空間的に分離された波長の光を提供しており、該多数の空間的に分離された波長の光はＤＵＶ波長の下にある波長の光を有しており、そして該反射率計は更に
該多数の空間的に分離された波長の光を受けるアレイ検出器を具備しており、該アレイ検出器はＤＵＶ波長の下にある波長についてデータを検出することを特徴とする請求項３９の該方法。
【請求項４４】
該反射率計がサンプルチャンネル光路と基準チャンネル光路とを有しており、該基準チャンネル光路が、該反射率計の使用により得られる反射率データを調整するべくシステム又は環境の変化の責めを負うため使われるデータを収集するよう構成されることを特徴とする請求項３９の該方法。
【請求項４５】
該記録された光学的応答が該デバイスの２次元範囲内の多数サイトについてのＤＵＶ波長より下にある波長での反射率データを同時に得ることにより得られることを特徴とする請求項３９の該方法。
【請求項４６】
広帯域反射率計装置に於いて、該装置が
第１スペクトル領域で動作する第１光路と、
第２スペクトル領域で動作する第２光路と、を具備しており、該第１及び第２スペクトル領域は少なくとも部分的に異なり、そして該装置は又
該第１光路及び第２光路で使われる共通の光学的モジュールを具備しており、該光学的モジュールは、該第１光路と該第２光路の間の選択を容易にするため、そして各スペクトル領域についてサンプル上のサンプルスポットが同じ様な配向を有するよう、該第１スペクトル領域と第２スペクトル領域での測定を容易にするため、供給及び収集光学機器を備えることを特徴とする該装置。
【請求項４７】
該第１光路が少なくとも該ＤＵＶスペクトル領域内の光を備えることを特徴とする請求項４６の該広帯域反射率計装置。
【請求項４８】
該第２光路が少なくとも該ＤＵＶスペクトル領域内の光を備えることを特徴とする請求項４７の該広帯域反射率計装置。
【請求項４９】
更に少なくとも１つの基準チャンネル光路を具備しており、該基準チャンネル光路が該サンプルと出会わないよう構成されることを特徴とする請求項４８の該広帯域反射率計。
【請求項５０】
該第１光路、該第２光路及び該共通の光学的モジュールが、該第１スペクトル領域及び第２スペクトル領域からシーケンシャルに集められたデータが、該第１スペクトル領域及び第２スペクトル領域の両者の少なくとも部分から成る広帯域スペクトル領域用に反射率データを創るため一緒に合体されるよう、直列データ収集方法を使うよう構成されることを特徴とする請求項４７の該広帯域反射率計。
【請求項５１】
更に、
該第１光源から発生される光ビームが中を進行する複数の環境的に制御された室を具備しており、該室はＤＵＶより下にある波長の光の透過を可能にするよう充分に制御されており、該室の少なくとも１つは反射率データがそこから集められるよう望まれるサンプルを保持するよう構成されたサンプル室であり、そして又
該環境的に制御された室の２つを結合する少なくとも１つの結合機構を、該結合機構を通るようＤＵＶより下にある波長の光ビームを透過させるために、具備しており、該光ビームは該少なくとも１つの結合機構を少なくとも通過する時はコリメートされた光ビームとなることを特徴とする請求項４６の該広帯域反射率計。
【請求項５２】
遠紫外線（ＤＵＶ）波長より下の波長の反射率データを集める過程を含む、反射率計を使ってサンプルから反射率データを集める方法に於いて、該方法が
ＤＵＶ波長より下の第１の光波長を創る過程を具備しており、該第１光波長は該反射率計内に第１光ビームを創るため使われており、該方法は又
少なくとも１つの環境的に制御された室内に該第１光ビームを透過させる過程と、
ＤＵＶ光より下の波長の透過を可能にするよう該少なくとも１つの環境的に制御された室内の環境を制御する過程と、
該第１光ビームをサンプル上に向ける過程と、
該第１光ビームが該サンプルから反射された後、第１スペクトロメーター内で該第１光ビームの少なくとも１部分を受ける過程と、
ＶＵＶ波長より上の第２光波長を創る過程と、を具備しており、第２光波長は該反射率計内に第２光ビームを創るため使われており、そして該該方法は更に
ＶＵＶ波長より上の波長用に反射率データを提供するためにサンプル上に該第２光ビームを向ける過程を具備することを特徴とする該方法。
【請求項５３】
更に基準合わせデータを得るために基準合わせ光学的チャンネルを提供する過程を具備しており、該基準合わせデータは該サンプルの使用から独立にシステム又環境のパラメーターを示すことを特徴とする請求項５２の該方法。
【請求項５４】
該第１光ビーム及び該第２光ビームが該サンプルで１つ以上の同じ様なスポット特性を有することを特徴とする請求項５３の該方法。
【請求項５５】
該第１光ビーム及び該第２光ビームについての該スポット配向が法線方向の入射配向であることを特徴とする請求項５４の該方法。
【請求項５６】
該第１光波長は、光学的結合機構により一緒に結合された少なくとも２つの環境的に制御された室を通過する第１光ビームを形成しており、該第１光ビームはそれが該光学的結合機構を通過する時、コリメートされることを特徴とする請求項５２の該方法。
【請求項５７】
広帯域スペクトル範囲に亘り第１サンプルから反射率データを得る方法に於いて、該方法が
第１スペクトル範囲内で第１光波長を創る過程を具備しており、該第１光波長は該反射率計内で第１光ビームを創るため使われており、該方法は又
該第１光ビームをサンプル上に向ける過程と、
該第１光ビームが該サンプルから反射された後、第１スペクトロメーター内で該第１光ビームの少なくとも１部分を受ける過程と、
第２スペクトル範囲内で第２光波長を創る過程と、を具備しており、該第２スペクトル範囲は該第１スペクトル範囲と異なり、該第２光波長は該反射率計内の第２光ビームを創るため使われており、そして該方法は更に
該第２スペクトル範囲内の波長について反射率データを提供するために、サンプル上に該第２光ビームを向ける過程と、
サンプル光学的チャンネルを提供する過程と、
基準光学的チャンネルを提供する過程と、を具備しており、該サンプル光学的チャンネルと該基準光学的チャンネルは少なくとも幾つかの共通の光学的要素を共有しており、そして該方法はなお更に
該第１スペクトル範囲又は第２スペクトル範囲の少なくとも１つ内で基準合わせデータを得るために該基準光学的チャンネルを使う過程を具備しており、該基準データは該サンプル光学的チャンネル内のどんなサンプルの該使用からも独立にシステム又は環境のパラメーターを示すことを特徴とする該方法。
【請求項５８】
該第１スペクトル範囲が少なくとも部分的にはＤＵＶ波長より下の波長を含むことを特徴とする請求項５７の該方法。
【請求項５９】
該第１光ビームと該第２光ビームが該サンプルで１つ以上の同じ様なスポット特性を有することを特徴とする請求項５８の該方法。
【請求項６０】
該第１光ビームと該第２光ビームについての該スポット配向が法線方向の入射配向であることを特徴とする請求項５９の該方法。
【請求項６１】
該第１光ビームと該第２光ビームがシーケンシャルに創られ、該第１スペクトル範囲及び第２スペクトル範囲の少なくとも部分を含む広帯域スペクトル範囲に亘り反射率データを創るため使われることを特徴とする請求項６０の該方法。
【請求項６２】
該第１光ビームは光学的結合機構により一緒に結合された少なくとも２つの環境的に制御された室を通過し、該第１光ビームはそれが該光学的結合機構を通過時、コリメートされることを特徴とする請求項５７の該方法。