(57)【要約】【課題】給水初期において給水路に溜まった空気によるエアー噛みによる不安定な給水や異常音を無くし、かつ更に安定した給水効果を得ることができる蒸気発生機能付き高周波加熱装置を提供すること。【解決手段】給水路１２は銅パイプを使用しており、銅パイプを焼成処理することで酸化皮膜を形成し、親水性効果を確保した銅パイプにて加熱手段１３に接続することで加熱手段１３で発生した熱が銅パイプで構成された給水路１２に熱伝導し、給水路１２内の水が熱膨張によりサイホン現象によることで水受け皿１０に水が送り出されて水受け皿１０に給水される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給機構とを備え、高周波と蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置において、前記蒸気供給機構は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、前記加熱室内に装備される給水受け皿と、前記給水受け皿を加熱して前記給水受け皿上の水を蒸発させる加熱手段と、前記貯水タンクの水を前記給水受け皿に導く給水路とを備え、前記給水路を、親水性処理を施した熱伝導性の良い銅パイプとし、前記加熱手段により加熱される構成とすることで、前記給水路内の水が前記加熱手段で加熱され、熱膨張により前記給水受け皿に供給されることを特徴とする蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
【請求項２】
給水路を、焼成処理により酸化皮膜を構成した銅パイプにて構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
【請求項３】
給水路を、スケール成分を含む水を通すことで親水性膜を構成した銅パイプにて構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給機構とを備え、高周波と蒸気との少なくともいずれかを加熱室に供給して被加熱物を処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は蒸気発生機能を有した高周波加熱装置を備え、付加機能として蒸気発生機能を有している（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図３は、特許文献１に記載された従来の蒸気発生機能付き高周波加熱装置を示すものである。図３に示すように、加熱室１内と、高周波発生手段２と、蒸気供給機構３と、貯水タンク４と給水受け皿５から構成されている。
【０００４】
蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室１内に高周波を出力する高周波発生手段２と加熱室１内に蒸気を供給する蒸気供給機構を備えており、蒸気を加熱室１に供給して被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンク４と加熱室１内に装備される給水受け皿５を加熱して給水受け皿５上の水を蒸発させる加熱手段（図示せず）で構成されており、貯水タンク４の水を給水受け皿５に導く給水路３は、銅パイプを用いて加熱手段による加熱域を経由するように構成されている。
【０００５】
加熱手段に取り付けられた銅パイプは、加熱手段で発生した熱を銅パイプに熱伝導によって伝え、銅パイプ内の水を加熱することで水の熱膨張により銅パイプ内の水を給水受け皿５に供給するように構成されている。
【０００６】
このような構成にすることで、蒸気供給機構の構成の単純化や小型化を実現でき、また、蒸気の供給量制御に必要な制御処理を単純にでき、更に、蒸気の発生までの所要時間を短縮して、迅速な蒸気加熱が可能な蒸気発生機能付き高周波加熱装置にすることが出来た。
【特許文献１】特開２００４−２７８８２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記従来の構成では、加熱手段に取り付けられた銅パイプは、加熱手段で発生した熱を銅パイプに熱伝導によって伝え、銅パイプ内の水を加熱することで水の熱膨張により銅パイプ内の水を給水受け皿に供給するような構成されているが、給水の初期時に銅パイプ内に酸化皮膜が構成されていないため親水性性能に乏しく給水時おいて安定して給水性能が確保されないことやエアー噛みによって異常音が発生するという課題を有していた。
【０００８】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、給水用の銅パイプに親水性効果を持った処理を施すことで給水の初期時に安定した給水性能を確保し、エアー噛みの異常音をなくした蒸気発生機能付き高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記従来の課題を解決するために、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給機構とを備え、高周波と蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置において、前記蒸気供給機構は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、前記加熱室内に装備される給水受け皿と、前記給水受け皿を加熱して前記給水受け皿上の水を蒸発させる加熱手段と、前記貯水タンクの水を前記給水受け皿に導く給水路とを備え、前記給水路を、親水性処理を施した熱伝導性の良い銅パイプとし、前記加熱手段により加熱される構成とすることで、前記給水路内の水が前記加熱手段で加熱され、熱膨張により前記給水受け皿に供給されることを特徴としたものである。
【００１０】
これによって、給水路の銅パイプの親水性性能が確保されることより、給水の初期時に安定した給水性能を確保することなる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、蒸気供給機構に熱伝導性の良いパイプとして銅パイプを使用し、銅パイプ内に親水性能を確保することで初期時の給水時において給水路に溜まった空気によるエアー噛みによる不安定な給水や異常音を無くし、安定した給水性能を確保することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
第１の発明は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給機構とを備え、高周波と蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置において、前記蒸気供給機構は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、前記加熱室内に装備される給水受け皿と、前記給水受け皿を加熱して前記給水受け皿上の水を蒸発させる加熱手段と、前記貯水タンクの水を前記給水受け皿に導く給水路とを備え、前記給水路を、親水性処理を施した熱伝導性の良い銅パイプとし、前記加熱手段により加熱される構成とすることで、前記給水路内の水が前記加熱手段で加熱され、熱膨張により前記給水受け皿に供給されることを特徴とするもので、給水路が親水性を有しているので給水の初期時において給水路に溜まった空気によるエアー噛みによる不安定な給水や異常音を無くし、安定した給水性能を確保することができる。
【００１３】
第２の発明は、特に第１の発明の給水路を、焼成処理により酸化皮膜を構成した銅パイプにて構成したもので、銅パイプによる熱伝導の向上と酸化皮膜を形成することで親水性性能の向上より給水の初期時において給水路に溜まった空気によるエアー噛みによる不安定な給水や異常音を無くし、安定した給水性能を確保することができる。
【００１４】
第３の発明は、特に第１の発明の給水路を、スケール成分を含む水を通すことで親水性膜を構成した銅パイプとしたもので、銅パイプによる熱伝導の向上と親水性皮膜を形成することで親水性性能の向上より給水の初期時において給水路に溜まった空気によるエアー噛みによる不安定な給水や異常音を無くし、安定した給水性能を確保することができる。
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１６】
（実施の形態１）
図１は、本発明の第１の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の構成図を示すものである。図２は、本発明の第１の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸気発生機構部分の詳細構成図を示すものである。
【００１７】
図１において、蒸気発生機能付き高周波加熱装置６は、加熱室７の左側面にタンク８を構成し、底板９の左奥に蒸発させるための水受け皿１０を構成している。更に詳細な構成については、図２において説明をする。図２においてタンク８の水は逆流防止の逆止弁１１から親水性処理を施した給水路１２を通し、加熱手段１３からの熱によって給水路１２内の水が熱膨張によってサイホン現象より水受け皿１０に送り出されて加熱手段１３の熱によって水受け皿１０の水が蒸発する構成である。
【００１８】
以上のように構成された蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、以下その動作、作用を説明する。
【００１９】
まず、タンク８は、水受け皿１０に供給するための一時的に貯蔵するためのタンク８として設けられており、主に樹脂材を使用したものでタンク８の水は逆流防止するために逆止弁１１が構成され、逆止弁１１から給水路１２に送られる。給水路１２は銅パイプを使用しており、銅パイプを焼成処理することで酸化皮膜を構成され親水性性能が確保されている。焼成処理を施こされた銅パイプをアルミダイキャクトの中にシーズヒータを構成した加熱手段１３に接続することで加熱手段１３で発生した熱が銅パイプで構成された給水路１２に熱伝導し、給水路１２内の水が熱膨張によりサイホン現象によることで水受け皿１０に水が送り出されて加熱室７の底に構成された水受け皿１０に供給される。水受け皿１０は加熱手段１３の熱によって水受け皿１０の水が蒸発する構成をしている。
【００２０】
給水路１２は熱伝導性の良い銅パイプにし、銅パイプ内の親水性性能を確保するために１００℃〜２００℃までの温度帯の焼成炉にて５分〜１５分間焼成し酸化皮膜を形成することで親水性効果を得ることが出来る構成である。但し、銅パイプは約２２０℃以上で焼成するとカーボンが発生するため焼成温度は２００℃以下にしている。
【００２１】
以上のように、本実施の形態においては給水路１２を銅パイプで構成し、焼成することで酸化皮膜の形成により親水性効果により、初期時の給水時において給水路に溜まった空気によるエアー噛みによる不安定な給水や異常音を無くし、かつ熱伝導の良い銅パイプを使用することで更に安定した給水効果を得ることができる。
【００２２】
なお、本実施の形態では、給水路１２を熱伝導性の良い銅パイプで構成し、焼成処理することで酸化皮膜を構成しているが、パイプ内に水を通すことで水の中に含まれている酸素と銅が結合させてパイプ表面に親水性膜を形成する方法によっても親水性効果を得ることが出来る。
【産業上の利用可能性】
【００２３】
以上のように、本発明にかかる蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、蒸気発生機構部の銅パイプ内に親水性能を確保することで初期時の給水時において給水路に溜まった空気によるエアー噛みによる不安定な給水や異常音を無くし、安定した給水性能を確保することが可能となるので、サイホン現象を使っているコーヒーメーカーなどの用途にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施の形態１における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の構成図
【図２】本発明の実施の形態１における蒸気発生機構部分の詳細構成図
【図３】従来の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の構成図
【符号の説明】
【００２５】
６  蒸気発生機能付き高周波加熱装置
７  加熱室
８  タンク（貯水タンク）
１０  水受け皿（給水受け皿）
１２  給水路
１３  加熱手段
【図１】
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【図２】
2006125684.tif 000004
【図３】
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