Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月27日(2007.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２０ピコ秒と２０ナノ秒の間のパルス幅と１０マイクロジュール以上のパルスエネルギとを持つパルスを１ｋＨｚ以上の繰り返し周期で発生するパルス光源であって、
シードパルスを作るシード光源と、
前記シード光源から前記シードパルスを受けて１マイクロジュール以上のパルスエネルギを持つパルスを作るファイバ増幅器チェーンと、
少なくとも一つのバルク光学素子と、を有し、
前記ファイバ増幅器チェーンは、コア径が１２マイクロメートル以上の少なくとも一つの大コア径クラッドポンプ偏光保持ファイバ増幅器を備え、
前記バルク光学素子は、前記ファイバ増幅器チェーンで作られた前記パルスを周波数変換するパルス光源。
【請求項２】
２０ピコ秒と２０ナノ秒の間のパルス幅と１０マイクロジュール以上の
パルスエネルギとを持つパルスを１ｋＨｚ以上の繰り返し周期で発生するパルス光源であって、
シードパルスを作るシード光源と、
前記シード光源から前記シードパルスを受けて１マイクロジュール以上のパルスエネルギを持つパルスを作るファイバ増幅器チェーンと、
少なくとも一つのバルク光学素子と、を有し、
前記ファイバ増幅器チェーンは、コア径が１２マイクロメートル以上の少なくとも一つの大コア径クラッドポンプ偏光保持ファイバ増幅器を備え、
前記バルク光学素子は、前記ファイバ増幅器チェーンで作られた前記パルスを増幅するパルス光源。
【請求項３】
前記バルク光学増幅素子は、Nd:ガラス、Yb:ガラス、Nd:YLF、Nd:YVO4、Nd:KGW、Yb:YAG、Nd:YAG、KYW、S-FAP、YALO、YCOB及びGdCOB増幅器の一つを含む請求項２のパルス光源。
【請求項４】
前記シード光源は、増幅された自然放出光の半導体光源と増幅された自然放出光のファイバベース光源の一つを含む請求項１或いは２のパルス光源。
【請求項５】
前記シード光源は、半導体レーザ、マイクロチップレーザ及びファイバレーザの一つを含む請求項１或いは２のパルス光源。
【請求項６】
前記ファイバ増幅器チェーンは、Nd、Yb、Er/Yb、Nd/Yb及びTmドープ増幅器ファイバの一つを備える請求項１或いは２のパルス光源。
【請求項７】
２０ピコ秒と２０ナノ秒の間のパルス幅を持つパルスを発生するパルス光源であって、
所定のスペクトル幅を持つシードパルスを作るシード光源と、
前記シードパルスを受けて１０ミリジュール以上のパルスエネルギを持つパルスを作るファイバ増幅器チェーンと、を有し、
前記ファイバ増幅器チェーンから出てくるパルスのスペクトル幅は、前記シード光源から入射される前記シードパルスのスペクトル幅より小さいパルス光源。
【請求項８】
前記増幅器チェーンで作られたパルスは、バルク光学増幅器でさらに増幅される請求項７のパルス光源。
【請求項９】
前記バルク光学増幅器は、Nd:ガラス、Yb:ガラス、Nd:YLF、Nd:YVO4、Nd:KGW、Yb:YAG、Nd:YAG、KYW、S-FAP、YALO、YCOB及びGdCOB増幅器を少なくとも一つ含む請求項８のパルス光源。
【請求項１０】
前記増幅器チェーンで作られたパルスは、バルク光学素子で周波数変換される請求項７或いは８のパルス光源。
【請求項１１】
前記シード光源は、負チャープファイバ格子パルス伸長器で伸長されるシードパルスを出射するモードロックファイバレーザを含む請求項７のパルス光源。
【請求項１２】
１０フェムト秒と５０ピコ秒の間のパルス幅を持つパルスを発生するパルス光源であって、
５０ピコ秒以下の幅を持つシードパルスを作るシード光源と、
前記シード光源で作られた前記パルスを第１所定ファクタだけ伸長するパルス伸長器と、
前記パルス伸長器から前記伸長パルスを受けて２０ナノジュール以上のパルスエネルギを持つパルスを作るファイバ増幅器チェーンと、
前記ファイバ増幅器チェーンから放射されるパルスを第２所定ファクタだけ増幅する少なくとも一つのバルク光学増幅素子と、
前記バルク光学増幅素子から放射されるパルスをバンド幅制限近くまで再圧縮するためのパルス圧縮器と、を有するパルス光源。
【請求項１３】
前記第１所定ファクタは３０に等しく、前記第２所定ファクタは２に等しい請求項１２のパルス光源。
【請求項１４】
前記バルク光学増幅素子は、Nd:ガラス、Yb:ガラス、Nd:YLF、Nd:YVO4、Nd:KGW、Yb:YAG、Nd:YAG、KYW、S-FAP、YALO、YCOB及びGdCOB増幅器を少なくとも一つ含む請求項１２のパルス光源。
【請求項１５】
前記パルス伸長器は、チャープファイバ格子に基づく請求項１２のパルス光源。
【請求項１６】
前記パルス圧縮器は、少なくとも一つのグリズム（grism）素子を含む請求項１２のパルス光源。
【請求項１７】
さらに少なくとも一つのバルク光学素子を有し、該バルク光学素子は、前記ファイバ増幅器チェーンで作られたパルスを周波数変換する請求項１２のパルス光源。
【請求項１８】
レーザビーム中にレーザパルスのバーストを発生する請求項１、２、７或いは１２のパルス光源を有するターゲット材料の処理方法であって、
前記ターゲット材料を修正或いは除去するための閾値を超えるフルーエンスを持つ前記レーザパルスのバーストを発生する工程と、
光学部品を使って前記ターゲット材料に前記レーザパルスのバーストを供給する工程と、
前記パルス光源からの前記レーザパルスのバーストを前記ターゲット材料に作用させる工程と、を有する方法。
【請求項１９】
前記レーザパルスのバーストは、前記ターゲット材料の表面、表面の下或いは表面の上に集光される請求項１８のターゲット材料の処理方法。
【請求項２０】
前記ターゲット材料は、金属或いは有機材料或いは半導体材料であり、前記ターゲット材料へのパルスの前記作用は、該ターゲット材料の表面の穴あけ、切断或いはマシニングを少なくとも含む請求項１８のターゲット材料の処理方法。
【請求項２１】
前記ターゲット材料は透明材料であり、前記ターゲット材料へのパルスの前記作用は、表面の穴あけ、切断或いはマシニング或いは前記透明材料の屈折率の変更を含む表面下特性のマシンニングを少なくとも含む請求項１８のターゲット材料の処理方法。
【請求項２２】
前記ターゲット材料は、生物組織であり、前記ターゲット材料へのパルスの前記作用は、該生物組織の除去、修正或いは分析を少なくとも含む請求項１８のターゲット材料の処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月9日(2007.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移送基体上に配置した複数のナノ構造を供給する工程、
受取基体の１箇所以上の選択領域に沈着した付着性材料を供給する工程、
移送基体と受取基体とを合体させ、そこで移送基体上のナノ構造を受取基体の１箇所以上の選択領域と接触させる工程、及び
受取基体の１箇所以上の選択領域に付着したナノ構造の集団を残すため、受取基体から移送基体を分離する工程、
を含む、ナノ材料を基体上に沈着させる方法。
【請求項２】
複数のナノ構造が複数のナノ繊維を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
複数のナノ繊維が複数の半導体ナノワイヤーを含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
複数の半導体ナノワイヤーが第ＩＩ族−第ＶＩ族半導体、第ＩＩＩ族−第Ｖ族半導体又は第ＩＶ族半導体から選ばれた半導体材料を含む請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ナノ構造が移送基体上で合成される請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ナノ構造が移送基体上に沈着する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
合体工程が、移送基体を受取基体の選択領域に押圧する工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
移送基体が可とう性平坦シート基体を含む請求項１に記載の方法。
【請求項９】
移送基体がロール上に配置される請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
移送基体のロールが受取基体上で転がる請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
受取基体が可とう性平坦シート基体を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
受取基体がロール上に配置される請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
合体工程と分離工程間で、移送基体及び受取基体の少なくとも一方が、他の移送基体及び受取基体に対しほぼ平行方向に移動し、受取基体に付着したナノ構造をほぼ整列させる請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
受取基体の１箇所以上の選択領域に付着したナノ構造集団中のナノ構造の少なくとも５０％が共通軸に対し３０°未満内に整列する請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
受取基体の１箇所以上の選択領域に付着したナノ構造集団中のナノ構造の少なくとも５０％が共通軸に対し１０°未満内に整列する請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
受取基体の１箇所以上の選択領域に付着したナノ構造集団中のナノ構造の少なくとも５０％が共通軸に対し５°未満内に整列する請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
受取基体の１箇所以上の選択領域に付着したナノ構造集団中のナノ構造の少なくとも８０％が共通軸に対し３０°未満内に整列する請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
受取基体の１箇所以上の選択領域に付着したナノ構造集団中のナノ構造の少なくとも８０％が共通軸に対し１０°未満内に整列する請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
受取基体の１箇所以上の選択領域に付着したナノ構造集団中のナノ構造の少なくとも９０％が共通軸に対し３０°未満内に整列する請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
受取基体の１箇所以上の選択領域に付着したナノ構造集団中のナノ構造の少なくとも９０％が共通軸に対し１０°未満内に整列する請求項１３に記載の方法。
【請求項２１】
分離工程に続いて、受取基体の表面から付着性材料が除去される請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
除去工程が受取基体のプラズマ清掃工程を含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
除去工程が受取基体表面の溶剤による清掃工程を含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
付着性材料がホトレジストを含み、かつ除去工程が付着性材料を露光する工程及び付着性材料を現像液と接触させる工程を含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
第一表面を有する基体と、
該第一表面に沈着した高分子付着性材料と、
各々、主軸を有すると共に、第一表面上に沈着し、かつ付着性材料に付着してなり、複数のナノ構造が共通軸と平行にほぼ配向された該複数のナノ構造と、
を備えた物品。
【請求項２６】
複数のナノ構造の少なくとも５０％が、共通軸に対し、３０°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項２７】
複数のナノ構造の少なくとも５０％が、共通軸に対し、１０°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項２８】
複数のナノ構造の少なくとも５０％が、共通軸に対し、５°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項２９】
複数のナノ構造の少なくとも６０％が、共通軸に対し、３０°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３０】
複数のナノ構造の少なくとも６０％が、共通軸に対し、１０°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３１】
複数のナノ構造の少なくとも６０％が、共通軸に対し、５°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３２】
複数のナノ構造の少なくとも８０％が、共通軸に対し、３０°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３３】
複数のナノ構造の少なくとも８０％が、共通軸に対し、１０°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３４】
複数のナノ構造の少なくとも８０％が、共通軸に対し、５°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３５】
複数のナノ構造の少なくとも９０％が、共通軸に対し、３０°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３６】
複数のナノ構造の少なくとも９０％が、共通軸に対し、１０°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３７】
複数のナノ構造の少なくとも９０％が、共通軸に対し、５°以内に配向されている請求項２５に記載の物品。
【請求項３８】
高分子付着性材料がレジストを含む請求項２５に記載の物品。
【請求項３９】
レジストがホトレジストを含む請求項３８に記載の物品。
【請求項４０】
付着性材料及び付着性材料に付着したナノ構造が、第一表面の選択領域に配置される請求項２５に記載の物品。
【請求項４１】
付着性材料の層と、
該付着性材料層の表面にほぼ整列して付着した複数のナノ構造と、
を含む組成物。
【請求項４２】
移送基体の第一表面に複数のナノ構造を配置してなる移送基体と、
該移送基体の第一表面とは対向面に第一表面を配置してなる受取基体と、
移送基体及び受取基体の少なくとも一方の基体に連結し、移送基体の第一表面と受取基体の第一表面とを互いに接触させた後、受取基体の第一表面から移送基体の第一表面を分離するための自動移動モジュール、
とを備えたシステム。
【請求項４３】
自動移動モジュールが、移送基体のシートを受取基体のシートと接触させる方向に向けるため、１個以上のローラーを有する請求項４２に記載のシステム。
【請求項４４】
移動システムが移動して移送基体の第一表面を受取基体の第一表面と接触させる前に受取基体の第一表面上に付着性材料を沈着させるため、受取基体の第一表面上に配置された付着性材料沈着用アプリケーターを更に備える請求項４２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月26日(2007.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
勿論、本発明の上記の実施例は、基本思想から離れずに、様々な観点において変更することができるのはいうまでもない。特に衝突角度は反応器の構造次第で、図示した以外のものも選択することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月31日(2007.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子材料の塗膜層（１３）を基板（１０）に設ける方法であって、
ａ）微粉高分子材料（２）を流体（３）中に懸濁（１）するステップと、
ｂ）前記流体（３）を加圧（５）するステップと、
ｃ）前記加圧された懸濁液を前記基板（１０）に噴出（１６）して、前記塗膜層（１３）を形成するステップと、
ｄ）ステップａ）〜ｃ）のいずれか１つの間、前記高分子材料を、高分子材料の軟化温度より上の温度に加熱（４、６、１１）するステップと、を特徴とする方法。
【請求項２】
ステップｄ）の前記加熱（１１）が、ステップｃ）中に行なわれることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記流体（３）が、ガス流体、好ましくは空気又は不活性ガスであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記流体（３）が、液体、好ましくは水溶液であり、その液体がステップｃ）中にステップｄ）の前記加熱（１１）に関連して蒸発し、その結果、前記高分子材料には、前記基板（１０）にぶつかるときに、基本的に前記流体が含まれていないことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
ステップｄ）中に前記高分子材料の前記加熱（１１）が、前記高分子材料の溶融温度より下の温度まで行なわれることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ステップｄ）の前に、好ましくはステップａ）及び／又はｂ）に関連して、前記懸濁液が加熱（４、６）されることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
ステップａ）の前記微粉高分子材料が、１〜１００μｍ、好ましくは１〜５０μｍ、さらにもっと好ましくは１〜２５μｍの平均粒径を有し、前記微粉粒子が好ましくは前記高分子材料の製造で直接形成される微粉粒子で構成されていることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
好ましくは前記微粉粒子を処理することによって、又は前記表面に影響を及ぼす薬剤を前記懸濁液に加えることによって、前記高分子微粉粒子の表面が、前記懸濁液中での前記微粉粒子の凝集を妨げるような影響を受けることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記高分子材料の付着性向上のために（１５）、前記基板（１０）が、好ましくはステップｃ）に直接関連して、前処理されることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記塗膜層（１３）が、０．１〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍ、さらにもっと好ましくは０．１〜１μｍの厚さで塗られることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記塗膜層（１３）が、基本的に前記基板（１０）の一方の側の全表面に塗られることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記塗膜層（１３）が、前記基板（１０）の一方の側の表面の選ばれた部分に部分的にだけ塗られることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
基板（１０）に、繊維をベースにしたコア層、高分子コア層、ガス障壁層、接着剤層、液体障壁層及び封止層からなる群の１つ又は複数の層を備えた包装用積層品を製造する方法であって、
ａ）微粉高分子材料（２）を流体（３）中に懸濁（１）するステップと、
ｂ）前記流体（３）を加圧（５）するステップと、
ｃ）前記加圧された懸濁液を前記基板（１０）に噴出（１６）して、前記基板（１０）に塗膜層（１３）を設けるステップと、
ｄ）ステップａ）〜ｃ）のいずれか１つの間、前記高分子材料を、高分子材料の軟化温度より上の温度に加熱（４、６、１１）するステップと、を含む方法。
【請求項１４】
ステップｄ）の前記加熱（１１）が、ステップｃ）中に行なわれることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記流体（３）が、ガス流体、好ましくは空気又は不活性ガスであることを特徴とする、請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記流体（３）が、液体、好ましくは水溶液であり、その液体がステップｃ）中にステップｄ）の前記加熱（１１）に関連して蒸発し、その結果、前記高分子材料には、前記基板（１０）にぶつかるときに、基本的に前記流体が含まれていないことを特徴とする、請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１７】
ステップｄ）中に前記高分子材料の前記加熱（１１）が、前記高分子材料の溶融温度より下の温度まで行なわれることを特徴とする、請求項１３から１６までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
ステップｄ）の前に、好ましくはステップａ）及び／又はｂ）に関連して、前記懸濁液が加熱（４、６）されることを特徴とする、請求項１３から１７までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
ステップａ）の前記微粉高分子材料が、１〜１００μｍ、好ましくは１〜５０μｍ、さらにもっと好ましくは１〜２５μｍの平均粒径を有し、前記微粉粒子が好ましくは前記高分子材料の製造で直接形成される微粉粒子で構成されていることを特徴とする、請求項１３から１８までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
好ましくは前記微粉粒子を処理することによって、又は前記表面に影響を及ぼす薬剤を前記懸濁液に加えることによって、前記高分子微粉粒子の表面が、前記懸濁液中での前記微粉粒子の凝集を妨げるような影響を受けることを特徴とする、請求項１３から１９までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
高分子材料の塗膜層（１３）を基板（１０）に設けるためのデバイスであって、
・流体（３）中に微粉高分子材料（２）を懸濁させるように配列された混合装置（１）と、
・前記流体を加圧するように配列された加圧装置（５）と、
・前記加圧装置（５）に動作可能に接続された少なくとも１つのノズル（９）であって、流体中の高分子材料の前記懸濁を前記基板（１０）の方に向けて射出（１６）するように配列された少なくとも１つのノズル（９）と、
・前記高分子材料を前記高分子材料の軟化温度よりも上の温度に加熱するように配列された加熱装置（４、６、１１）と、
を備えることを特徴とするデバイス。
【請求項２２】
加熱装置（４、６）が、前記加熱装置（１１）の上流に、好ましくは前記混合装置（１）及び／又は前記加圧装置（５）に関連して配列され、且つ前記流体及び／又は流体中の高分子材料の前記懸濁を加熱するように配列されていることを特徴とする、請求項２１に記載のデバイス。
【請求項２３】
流量制御装置（７、８）が、前記ノズル（９）における前記懸濁液の流れ（１６）を制御するように配列されていることを特徴とする、請求項２１又は２２に記載のデバイス。
【請求項２４】
好ましくは前記基板の表面の活性化を含んだ、前記基板（１０）を前処理するように配列された手段（１５）を特徴とする、請求項２１から２３までのいずれか一項に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月25日(2007.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
既知の温度を有する第一の、フレーム内の温度リファレンスと、
離れている被検体の少なくとも表面の部分、及び 前記第一の、フレーム内の温度リファレンスを含む視野に対する赤外線画像データを、遠隔かつ非侵襲で取得する赤外線画像装置と、
前記表面部分の較正された表面温度を得るために、前記第一の、フレーム内リファレンスと、前記表面部分とに対して赤外線画像データを使用するプログラム命令と、及び
較正された表面温度に関して周囲温度の熱伝達の影響を明らかにする形で、周囲温度及び較正された表面を使用して被検体の中核温度を得る上記プログラム命令と、
を含む、離れている被検体の中核体温情報を提供する赤外線画像システム。
【請求項２】
被検体の少なくとも表面の部分、及び 既知の温度を有する第一の、フレーム内のリファレンスを含む視野に対する赤外線画像データを、遠隔つ非侵襲で取得し、
前記表面近くの周囲温度を取得し、
前記表面部分の較正された表面温度を得るために、表面部分と、第一の、フレーム内リファレンスに対する赤外線画像データを使用し、
較正された表面温度に関して周囲温度の熱伝達の影響を明らかにする形で、周囲温度及び較正された表面部分を使用して被検体の中核温度を得ること、
を含む、離れている被検体の中核体温を遠隔かつ非侵襲で決定するための方法。
【請求項３】
前記被検体の赤外線画像データが取得される時、前記装置の視野内に付加的な、フレーム内温度リファレンスが、さらに含まれる請求項２記載の方法。
【請求項４】
離れている被検体の少なくとも表面の部分、及び 既知の温度を有する第一の、フレーム内の温度リファレンスを含む視野に対する赤外線画像データを、遠隔かつ非侵襲で取得し、
前記表面近くの周囲温度を取得し、
前記表面部分の較正された表面温度を得るために、表面部分と、第一の、フレーム内リファレンスに対する赤外線画像データを使用し、そして、
較正された表面温度に関して周囲温度の熱伝達の影響を明らかにする形で、周囲温度と、較正された表面部分を使用して被検体の中核温度を得、そして
前記被検体が健康状態にあるかどうかを評価するために決定されている中核温度を使用すること、
を含む、健康状態をスクリーニングする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
目の角膜を切開するシステムであって、
前記角膜に対して不動であり得るフレームと、
遠位端に切開要素を備える可動部材と、
前記可動部材に結合される駆動部であって、前記フレームに対して前記可動部材を並進させ回転させるよう適合される駆動部と、を備えるシステム。
【請求項２】
前記フレームが吸着リングと角膜用圧平板とを備える、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記切開要素が変形可能である、請求項１〜２のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項４】
前記可動部材がピボットで回転する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記システムは、前記ピボットが好ましく並進移動し得る路をさらに備え、前記角膜が前記フレームに対して不動であるとき、該路が線形であり、かつ該角膜の中心と整列される軸に沿って配置される、請求項４記載のシステム。
【請求項６】
前記ピボットが前記フレームに対して固定され、前記可動部材が該ピボットの上または下で並進かつ回転されるよう適合される、請求項４記載のシステム。
【請求項７】
前記ピボットが二次元の面上で選択的に位置決め可能である、請求項４記載のシステム。
【請求項８】
前記可動部材がピボットを用いることなく二次元の面で選択的に位置決め可能である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項９】
前記可動部材が、手動で並進かつ回転されるよう適合される、請求項１〜８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記可動部材の手動の動きを制限するテンプレートをさらに備える、請求項９記載のシステム。
【請求項１１】
前記可動部材を並進かつ回転させるモータ組立体をさらに備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
プログラムされたパターンで可動アームを操作するようモータを制御するプログラム可能な制御器をさらに備える、請求項１１記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月8日(2007.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠位端部と近位端部を有する細長い柔軟シャフトと、
調節可能な長さを有する、前記遠位端部にある介入要素と、
前記介入要素の前記長さを調節するための前記近位端部にあるアクチェータと、
前記長さを示すための前記近位端部にある指示デバイスと
を備えることを特徴とする介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項２】
前記介入要素は、膨張した長さを有する膨張構成に膨張可能である膨張部材を備えることを特徴とする請求項１に記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項３】
前記膨張部材の上にスライド自在に配置されるシースをさらに備え、前記膨張部材に対して前記シースを軸方向に再配置するために前記シースにアクチェータが結合され、前記シースはその膨張を制限するために前記膨張部材の少なくとも一部のまわりに配置可能であることを特徴とする請求項２に記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項４】
前記介入要素は、前記シャフトに取り外し自在に結合されたステントを備えることを特徴とする前記請求項１乃至３いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項５】
前記アクチェータは前記ステントの展開可能部分の長さを制御し、前記展開可能部分は前記シャフトから取り外される一方、前記ステントの展開されない部分が前記シャフトに依然として結合されることを特徴とする請求項４に記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項６】
前記アクチェータは、前記長さと相関された距離だけ可動であることを特徴とする前記請求項１乃至５いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項７】
前記アクチェータは、ストロークで移動可能であり、前記アクチェータの各ストロークは、前記長さを所定量だけ調節することを特徴とする前記請求項１乃至６いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項８】
前記指示デバイスは、前記アクチェータの移動を限定するストップを備えることを特徴とする前記請求項１乃至７いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項９】
前記指示デバイスは、前記介入要素の前記長さを検出するセンサを備えることを特徴とする前記請求項１乃至８いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１０】
前記センサは、前記シャフトの遠位端部の付近に配置され、前記近位端部でインジケータに結合されていることを特徴とする請求項９に記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１１】
前記センサは光学式であることを特徴とする請求項９または１０に記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１２】
前記センサは磁気式であることを特徴とする請求項９または１０に記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１３】
前記長さの指示を表示するために、前記センサと関連付けられたディスプレイをさらに備えることを特徴とする前記請求項９乃至１２いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１４】
前記指示デバイスは前記長さの視覚指示を提供することを特徴とする前記請求項１乃至１３いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１５】
前記指示デバイスは前記長さの可聴指示を発することを特徴とする前記請求項１乃至１４いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１６】
前記指示デバイスは前記長さの知覚指示を提供することを特徴とする前記請求項１乃至１５いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１７】
前記指示デバイスは、複数の穴と１つの可動デテントを備え、各穴は、前記デテントを受けるように構成され、それにより、長さを調節することによって前記デテントが１つの穴から他の穴まで移動することを特徴とする前記請求項１乃至１６いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１８】
前記穴の１つで前記デテントを前記受けることは、前記介入要素の前記長さの知覚指示を提供することを特徴とする請求項１７に記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【請求項１９】
前記アクチェータは、第１方向での前記長さの調節を可能にし、かつ第２方向での前記長さの調節を防止するラチェット機構を備えることを特徴とする請求項１乃至１８いずれかに記載の介入要素の長さを制御し指示するカテーテル。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月18日(2007.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
計量された投与量の薬剤を供給するための吸入器において、
使用者の吸気を受ける流体通路であって、入口と出口との間を延びる流体通路と、
薬剤のコンテナを格納位置に保持する第１形体と、折り畳まれるように変形して、前記格納位置から放出位置への前記薬剤コンテナの移動を可能にする第２形体と、の間を移動可能なコラプシブル保持手段と、を備え、
前記薬剤は、前記入口と前記出口との間の位置において、前記薬剤コンテナから前記流体通路へ供給され、
前記コラプシブル保持手段を前記第１形体に保持するためのラッチが設けられ、
前記ラッチは、前記流体通路内における吸気の流れに応じて作動可能である
ことを特徴とする吸入器。
【請求項２】
前記ラッチはアクチュエータによって作動され、
前記アクチュエータは、前記流体通路内に配置され、前記吸気によって作動させられる
ことを特徴とする請求項１に記載の吸入器。
【請求項３】
前記アクチュエータは、前記流体通路へ薬剤が供給される前記位置よりも上流側において、前記流体通路内に配置されている
ことを特徴とする請求項２に記載の吸入器。
【請求項４】
前記アクチュエータは、前記流体通路の入口に配置されている
ことを特徴とする請求項３に記載の吸入器。
【請求項５】
使用者の指から加えられる力によって前記アクチュエータが作動させられ得るようにするための手段が設けられている
ことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載の吸入器。
【請求項６】
前記アクチュエータは、ヒンジ式のフラップを有する
ことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか一項に記載の吸入器。
【請求項７】
前記コラプシブル保持手段は、下リンクに回動可能に連結された上リンクを有する
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の吸入器。
【請求項８】
前記薬剤コンテナの一部分を受けるホルダをさらに備え、
コンテナの前記部分の第１軸線に沿った移動に応じて薬剤が供給され、
前記ホルダによって受けられた前記コンテナに、荷重付与部材が連結され、
前記荷重付与部材は、前記第１軸線に沿って押圧する力を前記薬剤コンテナに加える
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の吸入器。
【請求項９】
前記コラプシブル保持手段は、前記ホルダに連結されている
ことを特徴とする請求項８に記載の吸入器。
【請求項１０】
前記コラプシブル保持手段は、コラプシブル継手を有し、
コラプシブル継手は、前記コラプシブル保持手段の前記第１形体において、前記ホルダの前記第１軸線に沿った移動を規制するように配向され、前記コラプシブル保持手段の前記第２形体において、前記コンテナの前記第１軸線に沿った移動を可能にするように配向される
ことを特徴とする請求項９に記載の吸入器。
【請求項１１】
前記流体通路は、使用者の口を受けるようになされた吸入ホーンを有し、
前記吸入ホーンは、ホーンの長手方向に沿った吸気の方向へ増大していく内部断面領域を有する
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の吸入器。
【請求項１２】
前記吸入ホーンは、吸入器の本体部と一体になっている
ことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の吸入器。
【請求項１３】
前記コラプシブル保持手段を前記第１形体へ移行させ、前記薬剤コンテナを前記格納位置へ移動させるためのリセット手段をさらに備える
ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の吸入器。
【請求項１４】
前記リセット手段は、カム機構を含む
ことを特徴とする請求項１３に記載の吸入器。
【請求項１５】
前記リセット手段は、回動可能に設けられたダストカバーの動作によって作動させられ、
前記ダストカバーは、前記流体通路の前記出口を閉鎖する第１位置と、前記流体通路の前記出口を開放する第２位置と、の間を移動可能である
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の吸入器。
【請求項１６】
前記第２位置から前記第１位置への前記ダストカバーの移動は、前記カム機構を駆動し、前記薬剤コンテナを前記格納位置へ移動させる
ことを特徴とする請求項１５に記載の吸入器。
【請求項１７】
前記薬剤コンテナが前記格納位置へ移動させられている間に、前記コラプシブル保持手段を前記第２形体から前記第１形体へ移動させるためのばね機構を、前記リセット手段が有する
ことを特徴とする請求項１６に記載の吸入器。
【請求項１８】
前記薬剤コンテナへ連結されるようになされた投与回数カウンタをさらに備え、
前記投与回数カウンタは、前記第１軸線に沿った前記格納位置から前記放出位置への前記薬剤コンテナの移動に応答し、前記薬剤コンテナから供給される薬剤の各投与回数を計数する
ことを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の吸入器。
【請求項１９】
計量された投与量の薬剤を供給するための吸入器において、
薬剤を収容した流体源であって、ノズルを有するコンテナを含む流体源を備え、
前記ノズルは、前記コンテナの放出軸線に沿って配置され、
前記コンテナが前記放出軸線に沿って前記ノズルに対して進んだ場合に、前記ノズルが薬剤を放出し、
前記コンテナの一部分を収容するように形成されたコンテナスリーブが設けられ、前記コンテナスリーブは、前記コンテナから半径方向内方に延びる突出部を有し、
その周囲に沿って複数の歯を持つ第１ホイールが設けられ、
前記複数の歯は、前記コンテナスリーブおよびコンテナが前記放出軸線に沿って前進した場合に、前記コンテナスリーブに設けられた突出部との接触に応じて前記第１ホイールを回動して前進させるように、配置され、
前記第１ホイールの回動移動は、前記流体源から供給される薬剤の投与回数を示す
ことを特徴とする吸入器。
【請求項２０】
前記第１ホイールと隣接して第２ホイールが配置され、前記第２ホイールは、前記流体源から放出された投与回数を表示するための印を有し、
前記第１ホイールは前記第２ホイールと係合するようになされており、これにより、前記第２ホイールは前記第１ホイールと関連して目盛りに応じた動作で回動する
ことを特徴とする請求項１９に記載の吸入器。
【請求項２１】
前記第１ホイールは、前記第２ホイールと係合するための複数の係合面を有し、
前記係合面の数は、前記第１ホイールに関連した前記第２ホイールの移動速度を変化させる
ことを特徴とする請求項２０に記載の吸入器。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月20日(2007.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処置において経皮的に血管へ挿入するためのフィルタ器具であって、
（ａ）先端部と、基端部と、該先端部から該基端部へ延びるルーメンとを備えるガイド部材と、
（ｂ）血流から物質をろ過するためのフィルタリング手段と、該フィルタリング手段は、該ガイド部材に連結され、かつ基端部と先端部とを有することと、
（ｃ）該フィルタリング手段を抑止するための第１の抑止手段と、
（ｄ）該第１の抑止手段と協動して該フィルタリング手段を抑止するための第２の抑止手段とからなるフィルタ器具。
【請求項２】
前記フィルタリング手段は、
（ａ）前記ガイド部材の先端部から延びる複数のストラットと、該複数のストラットの少なくとも１つは付勢されて外方へ延び、該複数のストラットの少なくとも１つのストラットの先端部は、該複数のストラットの他のストラットとは独立して移動することと、
（ｂ）該複数のストラットの少なくとも２つに連結されるろ過材と、該ろ過材は血流から物質をろ過するように形成された複数の細孔を備えることとを特徴とする請求項１に記載のフィルタ器具。
【請求項３】
前記第１の抑止手段は、前記複数のストラットおよびろ過材を少なくとも部分的に包囲するスリーブを備える請求項２に記載のフィルタ器具。
【請求項４】
前記スリーブは、先端部において前記ストラットの少なくとも１つおよびコアワイヤに固定される請求項３に記載のフィルタ器具。
【請求項５】
前記スリーブは、基端部において前記ストラットの少なくとも１つに固定される請求項３に記載のフィルタ器具。
【請求項６】
前記スリーブはテザーワイヤにより解放可能に固定され、該テザーワイヤは、該スリーブの複数の開口部を貫通し、前記フィルタを配置するために操作者により少なくとも部分的に解放される請求項３に記載のフィルタ器具。
【請求項７】
前記第２の抑止手段は少なくとも２つのループからなり、該ループは、前記フィルタを所望の位置に保持するために前記複数のストラットの周囲を相対方向に通過する請求項６に記載のフィルタ器具。
【請求項８】
前記テザーワイヤは前記ループを前記複数のストラットの周囲に固定する請求項７に記載のフィルタ器具。
【請求項９】
前記ろ過材は、織られたプラスチックメッシュ、ブレードされたプラスチックメッシュ、織られたメタルメッシュ、ブレードされたメタルメッシュ、穿孔されたポリマーフィルム、および形状記憶材料からなるメッシュのうちの少なくとも１つからなる請求項２に記載のフィルタ器具。
【請求項１０】
前記複数の細孔は、円形、楕円形、および多角形のうちの少なくとも１つの形状を有する請求項２に記載のフィルタ器具。
【請求項１１】
前記細孔は、血液が前記ろ過材を通過できるが閉塞物質を遮断するように、寸法が設定されて形成される請求項１０に記載のフィルタ器具。
【請求項１２】
前記細孔は約５０〜２００マイクロメートルの径を有する請求項１１に記載のフィルタ器具。
【請求項１３】
前記ガイド部材は血管内を操舵可能である請求項１に記載のフィルタ器具。
【請求項１４】
前記ガイド部材は先端部において軟質チップをさらに備える請求項１３に記載のフィルタ器具。
【請求項１５】
処置において経皮的に血管へ挿入するためのフィルタ器具であって、
（ａ）先端部と、基端部と、該先端部から該基端部へ延びるルーメンとを備えるガイド部材と、
（ｂ）血流から物質をろ過するためのフィルタアセンブリと、該フィルタアセンブリは該ガイド部材に連結され、かつ基端部と先端部とを有することと、
（ｃ）該フィルタアセンブリを選択的に抑止するための第１の抑止具と、
（ｄ）該フィルタアセンブリを選択的に抑止するための第２の抑止具とを備えるフィルタ器具。
【請求項１６】
前記フィルタアセンブリは、
（ａ）前記ガイド部材の先端部から延びる複数のストラットと、該複数のストラットの少なくとも１つは付勢されて外方へ延び、該複数のストラットの少なくとも１つのストラットの先端部は、該複数のストラットの他のストラットとは独立して移動することと、
（ｂ）該複数のストラットの少なくとも２つに連結されるろ過材と、該ろ過材は血流から物質を選択的にろ過し、かつ開放された基端部と閉鎖された先端部とをさらに有する請求項１５に記載のフィルタ器具。
【請求項１７】
前記第１の抑止具は、前記複数のストラットおよびフィルタを少なくとも部分的に包囲するスリーブを備える請求項１６に記載のフィルタ器具。
【請求項１８】
前記スリーブは先端部において前記ガイド部材の先端部に固定される請求項１７に記載のフィルタ器具。
【請求項１９】
前記スリーブは基端部において前記ストラットの少なくとも１つに固定される請求項１７に記載のフィルタ器具。
【請求項２０】
前記スリーブはテザーワイヤにより解放可能に固定され、該テザーワイヤは該スリーブの複数の開口部を貫通する請求項１７に記載のフィルタ器具。
【請求項２１】
前記第２の抑止具は少なくとも２つのループからなり、該ループは、前記フィルタを所望の位置に保持するために前記複数のストラットの周囲を相対方向に通過する請求項２０に記載のフィルタ器具。
【請求項２２】
前記テザーワイヤは前記ループを前記複数のストラットの周囲に固定する請求項２１に記載のフィルタ器具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月29日(2007.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
点滴室から流体を供給されるチューブが連結される第１連結部と、前記流体が流れるようにするための螺旋形ねじ山形状の通路と、前記通路に流れる流体を注射針で供給するための第２連結部で構成されたボディ; 前記ボディに嵌合されて所定接着方式によって前記ボディに付着、 固定されて前記流体が外部に流出しないようにするための内カバー; 前記ボディと前記内カバーを密着、固定させるための中間カバー; 前記中間カバーの上部面内部及び下部面内部に挿入され、前記通路に流れる流体に熱を加えて流体が一定温度に保たれるようにするＰＣＢ型ヒーター; 前記ヒーター及び中間カバーが結合されたボディを収納することができる函部を有する下部ケース; 及び前記下部ケースと結合される上部ケース;で構成されたことを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項２】
点滴室から流体を供給されるチューブが連結される第１連結部と、前記流体が流れるようにするためのジグザグ形状の通路と、前記通路に流れる流体を注射針で供給するための第２連結部で構成されたボディ; 前記通路が形成された面に所定接着方式によって付着、固定されて前記流体が外部に流出しないようにするための中間カバー; 前記ボディの内部及び前記中間カバーの内部の中で少なくとも１ヶ所に挿入され、前記通路に流れる流体に熱を加えて流体が一定温度に保たれるようにするＰＣＢ型ヒーター; 前記ヒーター及び中間カバーが結合されたボディを収納することができる函部を有する下部ケース; 及び前記下部ケースと結合される上部ケース; で構成されたことを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項３】
点滴室から流体を供給されるチューブが連結される第１連結部と、前記流体が流れるようにするための螺旋形ねじ山形状の通路と、前記通路に流れる流体を注射針で供給するための第２連結部で構成されたボディ; 前記ボディに嵌合されて所定接着方式によって前記ボディに付着、固定されて前記流体が外部に流出しないようにするための内カバー; 前記ボディと内カバーを密着、固定させるための硬質の中間カバー; 前記中間カバーの上部面内部及び下部面内部に挿入され、前記通路に流れる流体に熱を加えて流体が一定温度に保たれるようにするＰＣＢ型ヒーター; 前記ヒーター及び中間カバーが結合されたボディを収納することができる函部を有する下部ケース; 前記下部ケースと結合され、前記ヒーターに電源を供給することができる電源供給端子を備えている上部ケース; 及び前記電源供給端子と接触可能になるように前記上部ケースの内部に装着されるバッテリー; で構成されたことを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかの項において、前記上部ケースに使用者の操作によって前記ヒーターに電源が供給または遮断されるようにする電源ボタンと、前記ヒーターが正常に動作するか否かを表示するための動作表示部と、前記ヒーターが誤動作する場合アラーム表示をするアラーム表示部と、前記ヒーターの発熱温度を表示する温度表示部と、前記使用者の操作によって前記ヒーターの発熱温度を調整するための温度設定ボタンが備えられていることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項５】
請求項１または３において、前記ヒーターが、前記ボディ内部に挿入されることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項６】
請求項１ないし３のいずれかの項において、前記ヒーターは、絶縁基板と前記絶縁基板上部に一定の抵抗値を有するように設計された回路パターンによって形成され、電源供給によってあらかじめ設計された熱量ほど熱を発生させる発熱抵抗体と、前記発熱抵抗体に電源を供給するための電源供給端子と、前記ボディの通路を通じて流れる流体の温度を測定する温度センサーと結合される結合端子と、前記結合端子と連結されて測定された温度を外部から読み取るようにするためのセンサー連結端子と、前記発熱抵抗体を保護するための絶縁保護膜で形成されており、前記絶縁基板上部の所定の領域または前記絶縁基板の下部に前記ヒーターの発熱程度を制御するための制御回路がさらに形成されていることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項７】
請求項１において、前記チューブと前記第１連結部は、ねじ結合によって連結されることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項８】
請求項１において、前記チューブと前記第１連結部は、所定の接着方式によって結合、連結されることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項９】
請求項５において、前記絶縁基板にコーティングされる物質は、銅、鉄、ニッケル、クロム及び前記純金属に一つの物質が所定の割合で配合され、生成した合金中の一つであることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項１０】
請求項５において、前記絶縁基板上に熱起電力が大きい互いに異なる物質をコーティングして発熱抵抗体を形成させ、電源供給によって発熱したり、または熱電対が形成されるようにし、前記互いに異なる物質を連結させるためのビアホールが、さらに含まれることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項１１】
請求項５において、前記絶縁基板上下部に熱起電力が大きい互いに異なる物質をそれぞれコーティングして発熱体を形成させ、電源供給の可否によって発熱したり、または熱電対が形成されるようにし、前記互いに異なる物質を連結させるためのビアホールが、さらに含まれることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項１２】
請求項５において、前記制御回路は、前記温度センサーによって発熱抵抗体及び流体の温度を認識し、前記発熱抵抗体及び流体の温度があらかじめ設定された温度であるかを判断し、電源が前記発熱抵抗体に供給されたり、または遮断されるようにすることを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項１３】
請求項１１において、前記制御回路は、前記発熱抵抗体が発熱温度が基準発熱温度より高い場合、前記発熱抵抗体に供給される電源を止め、アラーム信号を出力することを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【請求項１４】
ＰＣＢ型ヒーターが内部に挿入されているボディ; 所定の流体を移動させ、前記流体の温度が一定温度に保たれるように前記ボディ上部に巻かれたチューブ; 前記チューブがボディに付着、固定されるように前記ボディに結合される硬質の中間カバー; 前記ヒータ及び中間カバーが結合されたボディを収納することができる函部を有する下部ケース; 前記下部ケースと結合され、前記ヒーターに電源を供給することができる電源供給端子を備えている上部ケース; 及び前記電源供給端子と接触可能になるように前記上部ケースの内部に装着されるＤＣ電源部;で構成されたことを特徴とするＰＣＢ型ヒーターを有する加熱装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月28日(2007.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体から、物質の被覆層または塗装部を少なくとも局部的に除去する方法において、
前記被覆層または塗装部に対して実質的に透明になるように選択された波長のレーザ放射線のパルス状のビームを、前記担体に向けるステップであって、これによって、前記被覆層または塗装部と前記担体との間の接触面または該接触面の隣接部において衝撃波効果をもたらし、前記担体から前記被覆層または塗装部を局部的に分離させるステップを有する方法。
【請求項２】
前記レーザ放射線が、２００ｎｍと１２μｍとの間の波長である請求項１の方法。
【請求項３】
前記レーザ放射線が、ＮｄＹａｇレーザによって生成される請求項２の方法。
【請求項４】
前記レーザ放射線が、ＣＯ2レーザによって生成される請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記レーザ放射線が、Ｑスイッチレーザによって生成される請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記パルス状のビームは、パルス幅が１ナノセカンドから３００ナノセカンドの間にあるパルスを有する請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記パルス状のビームのパルス繰り返し周波数が、１ｋＨｚから３０ｋＨｚの間にある請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記被覆層または塗装部が絶縁材を含む請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記担体が、銅または銅を含む材料からなる導体である請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記被覆層または塗装部が、少なくとも一つの金属酸化物を含む請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
レーザ放射線の前記パルス状のビームが、前記接触面に隣接した前記担体の表面をエッチングまたは清浄するのに有効である請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
レーザ放射線の前記パルス状のビームが、スキャンの方向に沿って前記担体に対してスキャンを行い、スキャン移動した範囲を前記被覆層または塗装部から除去するために、以下の少なくとも一つのパラメータを制御する方法において、該パラメータには、
スキャンレートと、
レーザのピークパワー値と、
レーザのパルス繰り返し周波数と、
スポットサイズと、を含む請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
レーザ放射線の前記パルス状のビームが、連続する相互に離隔したスキャンラインに沿って、前記担体をスキャンする請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
レーザ放射線の前記パルス状のビームが、前記被覆層または塗装部の除去を最初に遂行するために、第１のスキャン段階に選択した領域をスキャンし、
そして残りの破片を清浄することを遂行するために、第２のスキャン段階に前記選択した領域をスキャンする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
担体（１４）から、物質の被覆層または塗装部（１６）を少なくとも局部的に除去する装置において、
前記被覆層または塗装部（１６）に対して実質的に透明になるように選択された波長のレーザ放射線のパルス状のビーム（１２）を、前記担体（１４）に向ける手段（１０）であって、これによって、前記被覆層または塗装部（１６）と前記担体（１４）との間の接触面または該接触面の隣接部において衝撃波効果をもたらし、前記担体（１４）から前記被覆層または塗装部（１６）を局部的に分離させる手段（１０）を具備する装置。