【手続補正書】
【提出日】平成19年1月5日(2007.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の物質の膜を少なくとも１つの基板上に堆積させる装置であって：
少なくとも１つの基板を中に収容する形に形成された堆積チャンバー；
上記堆積チャンバーと連通している複数の導管であって、上記複数の導管の少なくとも１つの導管は、その堆積チャンバーが少なくとも１種の物質の膜を少なくとも１つの基板上に堆積させるように作動しているとき、少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気をその堆積チャンバーに移すように形成されている上記の複数の導管；および
上記堆積チャンバーの内部表面の少なくとも一部および上記の複数の導管の少なくとも１つの導管の内部表面の少なくとも一部の上の、上記少なくとも１種の物質の蓄積に対して抵抗性である少なくとも１つの表面処理であって、ニッケル、ニッケルに基づく合金、臭素、ニオブ、モリブデン、カドミウム、カドミウムに基づく合金、マグネシウム、銀、亜鉛、亜鉛に基づく合金、錫、錫に基づく合金、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる材料から形成される上記少なくとも１つの表面処理
を含み；
上記少なくとも１つの表面処理は、上記の少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気に基づいて選ばれる
上記の装置。
【請求項２】
複数の導管が：
堆積チャンバー内に配置された出口を有する少なくとも１つの蒸気送出ヘッド；
上記の少なくとも１つの蒸気送出ヘッドを通して上記堆積チャンバーと連通している少なくとも１つのガス送出路；および
上記堆積チャンバーと連通している少なくとも１つの排気ライン
を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
上記少なくとも１つの表面処理が臭化物を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
上記少なくとも１つの表面処理の少なくとも一部が、上記堆積チャンバーの内部表面の少なくとも一部および上記少なくとも１つの導管の内部表面の少なくとも一部にガスとして施された物質を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
ガスが上記堆積チャンバーの内部表面の少なくとも一部および上記少なくとも１つの導管の内部表面の少なくとも一部に吸着されて少なくとも１つの表面処理を形成する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の蓄積に対して抵抗性の内部表面の少なくとも一部が、内部表面の少なくともその一部の上に除去可能に固定できるライナーを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
上記少なくとも１つの表面処理が、ピット、リッジ、ボイド、バグおよび他の表面粗構造を実質的に含まない、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の蓄積に対して抵抗性の内部表面の少なくとも一部が、その部分に関連する少なくとも１つの温度調節要素を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の蓄積に対して抵抗性の内部表面の少なくとも一部に最も近い温度を検出する形に形成され、かつ配置された少なくとも１つの温度センサーをさらに含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
少なくとも１つの温度調節要素に、そして少なくとも１つの温度センサーに操作可能に連結されているフィードバックシステムであって、少なくとも１つの温度センサーからの信号に少なくとも一部は応答する少なくとも１つの温度調節要素の作動に影響を及ぼすことによって、少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の蓄積に対して抵抗性の内部表面の少なくとも一部の温度を調節する形に形成されている上記フィードバックシステムをさらに含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
上記少なくとも１つの表面処理の上に形成される少なくとも１種の重合体表面処理をさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
上記少なくとも１つの重合体表面処理が、上記少なくとも１つの表面処理におけるピット、リッジ、ボイド、バグおよび他の表面粗構造を充填する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
少なくとも１種の物質の膜を少なくとも１つの基板上に堆積させる装置中の表面を不動態化する方法であって：
少なくとも１つの基板を中に収容する形に形成された堆積チャンバー、およびその堆積チャンバーと連通している複数の導管を含む装置を用意し、ここで上記の堆積チャンバーおよび複数の導管は、その堆積チャンバーが少なくとも１種の物質の膜を少なくとも１つの基板上に堆積させるように作動しているとき、少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気に曝される内部表面を含み；そして
上記内部表面の少なくとも一部を、上記の少なくとも１種の物質の膜を上記の少なくとも１つの基板上に堆積させる際に使用される少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の蓄積に対して抵抗性にするように上記の少なくとも一部を処理する
工程を含む上記の方法。
【請求項１４】
処理が少なくとも１種の物質の層を内部表面の少なくとも一部に施すことを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
層を施すことが：
内部表面の少なくとも一部を粗面化し；
上記の内部表面の少なくとも一部にプライマーを施し；そして
上記の内部表面の少なくとも一部にフッ素化重合体を固定する
ことを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
層を施すことが：
内部表面の少なくとも一部を洗浄し；
上記の内部表面の少なくとも一部をエッチングし；
上記内部表面の少なくとも一部上にニッケルを配置し；
上記ニッケル中の細孔を拡大し；そして
上記の拡大細孔中に重合体を導入することによって上記の内部表面の少なくとも一部に重合体を結合させる
ことを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
層を施すことが内部表面の少なくとも一部に相乗作用性コーティングを施すことを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
層を施すことが内部表面の少なくとも一部の上にライナーを配置することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
処理が内部表面を研磨することを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
処理が化学的不動態化およびプラズマ不動態化の少なくとも１つを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２１】
処理が内部表面の少なくとも一部上に金属酸化物層を形成することを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２２】
処理が内部表面の少なくとも一部を溶性塩中でクロム酸によって処理することを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２３】
処理が内部表面の少なくとも一部を窒化することを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２４】
内部表面の少なくとも一部上にフッ素含有層または臭素含有層を形成することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２５】
少なくとも１種の物質の膜を少なくとも１つの基板上に堆積させる装置中の少なくとも１つの表面を動的に不動態化する方法であって：
堆積チャンバーおよびその堆積チャンバーと連通している複数の導管を含む装置を用意し、ここで上記の堆積チャンバーおよび複数の導管は、その堆積チャンバーが上記の少なくとも１種の物質の膜を上記の少なくとも１つの基板上に堆積させるように作動しているとき、少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気に曝される内部表面を含み；そして
上記内部表面の少なくとも一部を堆積操作中に前もって定められた温度範囲内に保持して、上記の内部表面の少なくとも一部を、上記の少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の蓄積に対して抵抗性にする
工程を含む上記の方法。
【請求項２６】
内部表面の少なくとも一部の温度をモニターすることをさらに含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
モニターに応答して内部表面の少なくとも一部に熱を加えるか、またはその一部から熱を除去することの少なくとも一方をさらに含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
少なくとも１種の物質の膜を少なくとも１つの基板上に堆積させる装置の内部表面の少なくとも一部上に蓄積する少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の量を最低限に抑える方法であって：
上記の内部表面の少なくとも一部上での使用に提案された物質にある温度範囲の少なくとも一部にわたる複数の温度の各々において物理吸着する少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の量を測定し；
上記の内部表面の少なくとも一部上での使用に提案された物質に上記温度範囲の少なくとも一部にわたる複数の温度の各々において化学吸着する少なくとも１種の反応体または反応生成物の量を測定し；そして
上記温度範囲内に、上記物質上における上記の少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の蓄積が物理吸着と化学吸着との組み合わせに因り最低限に抑えられる少なくとも１つの温度が存在するかどうかを決定する
工程を含む上記の方法。
【請求項２９】
温度範囲内に、少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気の蓄積が物理吸着と化学吸着との組み合わせに因り最低限に抑えられる少なくとももう１つの温度が存在するかどうかを決定することをさらに含む、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
装置を、内部表面の少なくとも一部を実質的に少なくとももう１つの温度に維持しながら、少なくとも１種の物質の膜を少なくとも１つの基板上に少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気を用いて堆積させるように運転することをさらに含み、ここで上記装置は上記物質から形成された上記の内部表面の少なくとも一部を有する、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
装置を、内部表面の少なくとも一部を実質的に少なくとも１つの温度に維持しながら、少なくとも１種の物質の膜を少なくとも１つの基板上に少なくとも１種の反応体ガスまたは蒸気を用いて堆積させるように運転することをさらに含み、ここで上記装置は上記物質から形成された上記の内部表面の少なくとも一部を有する請求項２８に記載の方法。