Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月16日(2007.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  磁気的に記録されたビデオテープに取り付けられた二状態電子物品監視マーカーの状態を変更する装置であって、当該領域に磁界を生成するコイル、および構成部分を回路内にまたは回路外にと切り換えることによって前記磁界の強度を変化させる回路を含む制御回路を備え、前記制御回路および前記コイルは、前記マーカーを活性化または非活性化するのに十分な強度であるが、前記ビデオテープを損傷するには十分ではない強度である略均一な磁界を前記当該領域に生成するように構成された装置。
【請求項２】  前記略均一な磁界は、２７５ガウスと５６０ガウスとの間の強度を有する請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記コイルは、ソレノイド型コイルである請求項１に記載の装置。
【請求項４】  前記コイルを含んだハウジングを更に備え、前記ハウジングは、前記ビデオテープを受け入れるために前記コイルを通る通路を備えた請求項１に記載の装置。
【請求項５】  前記通路は、ビデオテープを受け入れるように形作られた断面開口を有する請求項４に記載の装置。
【請求項６】  前記ビデオテープの存在を検出する検出システムを更に備えている請求項１に記載の装置。
【請求項７】  前記検出システムは、前記ビデオテープに取り付けられたＲＦＩＤタグから情報を取得するＲＦＩＤ問合せ器である請求項６に記載の装置。
【請求項８】  アイテムに取り付けられた二状態電子物品監視マーカーの状態を変更する方法であって、
ａ）該マーカーを通す通路を有しているコイルを提供する段階と、
ｂ）前記通路を通して前記アイテムをパスする段階と、
ｃ）前記アイテムの種類を検出する段階と、
ｄ）前記アイテムの種類に取り付けられた前記マーカーの信頼できる活性化または非活性化を確実にするために前記磁界の強度を変える段階と、
ｅ）前記マーカーを活性化または非活性化するために前記通路内に略均一な磁界を提供する段階と、
を具備する方法。
【請求項９】  前記略均一な磁界は、２７５ガウスと５６０ガウスとの間の強度を有する請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  ビデオテープまたはコンパクト・ディスクの二状態電子物品監視マーカーの状態を変更する装置であって、
ａ）前記マーカーを活性化または非活性化するために略均一な磁界を生成する制御回路と、
ｂ）前記装置内に形成された開口を有しているハウジングであって、前記開口は、所定の向きでケースに入れられたビデオテープ、および所定の向きでケースに入れられたコンパクト・ディスクを受け入れるように寸法決めされているハウジングと、
ｃ）前記ビデオテープまたは前記コンパクト・ディスクの存在を検出する検出システムと、を備え、
前記略均一な磁界は、ビデオテープまたはコンパクト・ディスクが検出されたときに生成され、前記磁界の強度は、いずれのアイテムが検出されたかに基づき選択される装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月31日(2007.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  有機電子装置を製造する方法であって、
ａ．パターンが切除されている、接着剤被覆剥離ライナーを提供するステップと、
ｂ．前記パターン付き剥離ライナーの接着剤被覆面を電極基板に適用して、前記電極基板の少なくとも一部が露出した複合構造を形成するステップと、
ｃ．前記複合構造の露出した電極上に１個以上の有機電子要素を堆積するステップと、
ｄ．前記複合構造から前記剥離ライナーを除去するステップと、
ｅ．前記複合構造の露出した接着剤に封止層を接着するステップとを含む方法。
【請求項２】  有機電子装置を製造する方法であって、
ａ．電極基板の上に所定のパターンで接着剤を被覆して、前記基板の領域が露出したままで複合構造を形成するステップと、
ｂ．前記露出した基板領域の少なくとも一部が露出したままであるように、前記パターン付けされた接着剤にマスクまたは剥離ライナーを適用するステップと、
ｃ．前記複合構造の上に１個以上の有機電子要素を堆積するステップと、
ｄ．前記接着剤から前記マスクまたは剥離ライナーを除去するステップと、
ｅ．封止層を適用するステップとを含む方法。
【請求項３】  有機電子装置を含む物品であって、陽極と陰極との間の層は接着層により囲まれていて、前記接着層の外周は前記電極基板と封止層の一方または両方の外周に等しい物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月29日(2007.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  II型糖原病の治療、またはII型糖原病に関連する心筋症の治療のための医薬であって、チャイニーズハムスター卵巣細胞培養物において産生されるヒト酸α- グリコシダーゼからなる医薬。
【請求項２】  II型糖原病が、幼児II型糖原病、若年性II型糖原病、または成人発症II型糖原病である、請求項１記載の医薬。
【請求項３】  ヒト酸α- グリコシダーゼが、体重の１キログラム当たり15mg未満の酸α- グリコシダーゼの投与に適した形態で提供される、請求項１または２記載の医薬。
【請求項４】  ヒト酸α- グリコシダーゼが、体重の１キログラム当たり1〜10mgの酸α- グリコシダーゼの投与に適した形態で提供される、請求項３記載の医薬。
【請求項５】  ヒト酸α- グリコシダーゼが、体重の１キログラム当たり約5mgの酸α- グリコシダーゼの投与に適した形態で提供される、請求項３記載の医薬。
【請求項６】  ヒト酸α- グリコシダーゼが、組換えヒト酸α- グリコシダーゼである、請求項１〜５いずれか記載の医薬。
【請求項７】  ヒト酸α- グリコシダーゼが、チャイニーズハムスター卵巣細胞培養物において産生される組換えヒト酸α- グリコシダーゼの前駆体である、請求項１〜５いずれか記載の医薬。
【請求項８】 毎月、月に２回、毎週、週に２回または毎日である規則的な間隔で投与される、請求項１〜７いずれか記載の医薬。
【請求項９】  投与間隔が時間経過に伴って変化する、請求項１〜８いずれか記載の医薬。
【請求項１０】 静脈内、筋肉内、髄腔内および脳室内からなる群より選ばれた経路によって投与されるように調製される、請求項１〜９いずれか記載の医薬。
【請求項１１】 免疫抑制剤をさらに含んでなる、請求項１〜１０記載の医薬。
【請求項１２】  免疫抑制剤と組み合わせて、または免疫抑制剤に続いてヒト酸α- グリコシダーゼを投与するために、ヒト酸α- グリコシダーゼと免疫抑制剤とを組み合わせた製剤である、請求項１〜１１いずれか記載の医薬。
【請求項１３】  個体におけるII型糖原病の治療のための、または個体におけるII型糖原病に関連する心筋症の治療のための医薬の製造のための、チャイニーズハムスター卵巣細胞培養物において産生されるヒト酸α- グリコシダーゼの使用。
【請求項１４】  医薬が請求項１〜１２のいずれかに記載のものである、請求項１３記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月24日(2007.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）（１）ジカルボン酸とポリオールの少なくとも一方が芳香族またはヘテロ芳香族であることを条件として、少なくとも一種の前記ジカルボン酸と少なくとも一種の前記ポリオールの反応から誘導可能な少なくとも二個の反復単位と、
（２）（ｉ）前記ジカルボン酸と少なくとも一種の弗素含有モノアルコールまたは
（ｉｉ）前記ポリオールと少なくとも一種の弗素含有モノカルボン酸の反応から誘導可能なフルオロケミカル末端基を含む少なくとも一種の弗素含有芳香族エステルオリゴマーを含む撥水撥油性付与フルオロケミカル組成物と、
（ｂ）処理可能な基材が少なくとも二種のポリマーの混合物を含む時に、前記混合物が層を成さないことを条件として、前記処理可能な基材とを含み、成分（ａ）と（ｂ）との溶融ブレンドを形成することにより製造される、撥水撥油剤組成物。
【請求項２】  （ａ）（１）イソフタル酸またはテレフタル酸と約６０〜約３００の数平均分子量を有する少なくとも一種のジオールの反応から誘導可能な少なくとも二個の反復単位と、
（２）前記酸と少なくとも一種の弗素含有スルホンアミド基含有モノアルコールの反応から誘導可能なスルホンアミド基含有フルオロケミカル末端基を含む少なくとも一種の弗素含有芳香族エステルオリゴマーを含む撥水撥油性付与フルオロケミカル組成物と、
（ｂ）少なくとも一種の熱可塑性ポリマーを含む処理可能な基材であって、前記処理可能な基材が少なくとも二種の熱可塑性ポリマーの混合物を含む時、前記混合物が層を成さないことを条件として、前記処理可能な基材とを含み、成分（ａ）と（ｂ）の溶融ブレンドを形成することにより製造される、請求項１記載の撥水撥油剤組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年12月8日(2006.12.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
本発明のこの局面の特に好ましい態様において、プレポリマーは、メタクリレート官能基化ポリマー、または、ポリヒドロキシエチルメタクリレート(pHEMA)のコポリマーである。メタクリレート官能基化の程度は、ヒドロキシル側基の約0.2〜約10mol%の範囲であってもよい。コポリマーはHEMA並びにカプロラクトン、ピロリドン、アクリル酸、メタクリル酸およびアクリルアミドなどの基を含む他のモノマー種から誘導することができる。このような材料は、コンタクトレンスとして使用するのに好適なヒドロゲルを形成するコンタクトレンズ業界において周知である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月29日(2007.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ダイアフラムを有する駆動装置と、
前記駆動装置のダイアフラムから第１の距離で配置されたダイアフラムを有するセンサと、
前記駆動装置およびセンサのダイアフラムの周縁どうしの間および周縁の周りに、ダイアフラム間のキャビティを形成すべく形成されたフィッティングと、
キャビティに対する漏れ口を設けるために前記フィッティングに形成された開口部と、を備える準静的粘度計。
【請求項２】  流体に対して粘度に基づいて酸素消費量を表示する装置であって、
ダイアフラムを有する駆動装置と、
前記駆動装置のダイアフラムに隣接するダイアフラムを有するセンサと、
前記駆動装置に並置された第１の開口端と前記センサに並置された第２の開口端とを有するフィッティングであって、前記駆動装置およびセンサとともにキャビティを形成するフィッティングと、
前記フィッティング内に形成された漏れ口と、を備える表示装置。
【請求項３】  キャビティを有する構造物と、
前記構造物上に位置するアクチュエータと、
前記構造物上に位置し、前記アクチュエータに隣接する検出器と、
前記キャビティと流体を有する環境との間の漏れ口と、を備える準静的粘度計。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月7日(2007.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エプレレノンを含む、腎機能不全に罹患している又は罹患しやすいヒトにおける腎機能不全の治療または予防のための医薬組成物であって、前記腎機能不全が糖尿病性腎障害または末期腎疾患であり、被検者が、正常以下の内在性アルドステロンレベル、食塩感受性及び食事ナトリウム摂取量の上昇からなる群から選択される１又はそれ以上の症状を有する、前記組成物。
【請求項２】  被検者が正常以下の内在性アルドステロンレベルを有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】  前記アルドステロンレベルが３ng/dLよりも少ない請求項２に記載の組成物。
【請求項４】  被検者が食塩感受性をもつ請求項１に記載の組成物。
【請求項５】  被検者が食事ナトリウム摂取量の上昇をもつ請求項１に記載の組成物。
【請求項６】  被検者のナトリウムの平均一日摂取量が最低５０ミリ当量である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】  被検者のナトリウムの平均一日摂取量が最低２００ミリ当量である、請求項５に記載の方法。
【請求項８】  被検者の血漿アルドステロン(ng/dL)と血漿レニン(ng/ml/hr)の活性比が３０よりも大きい請求項１−４のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】  被検者の午前中の血漿レニンレベルが１．０ ng/dL/hr以下である請求項１−４のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】  被検者の尿中ナトリウムとカリウムの比が６未満である請求項１−４のいずれかに記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月16日(2007.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  2-(2'-ニトロ-4'-メチルスルホニルベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオン、2-(2'-ニトロ-4'-メチルスルホニルオキシベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンおよび2-(2'-クロロ-4'-メチルスルホニルベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンよりなる群から選択される2-(置換ベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンの金属キレートを、除草剤作用的に有効な量にて、所望の作物中の望ましくない植生の場所に適用することを含む、所望の作物中の望ましくない植生を選択的に制御する方法。
【請求項２】  2-(置換ベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンの金属キレートが、銅、コバルト、亜鉛、ニッケル、アルミニウム、カルシウム、チタン、および鉄よりなる群から選択される金属イオンで構成される、請求項1記載の方法。
【請求項３】  前記金属イオンが銅イオンである、請求項2記載の方法。
【請求項４】  2-(置換ベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンの金属キレートのpHが約2〜10である、請求項1記載の方法。
【請求項５】  2-(置換ベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンの金属キレートのpHが約3〜7である、請求項4記載の方法。
【請求項６】  2-(置換ベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンの金属キレートを発芽後に適用する、請求項1記載の方法。
【請求項７】  2-(置換ベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンの金属キレートをマイクロカプセル封入する、請求項1記載の方法。
【請求項８】  所望の作物が小麦である、請求項1記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
(式中、X、Q、およびZは後記にて示す通りである)を有する2-(置換ベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオン化合物を開示している。これらのジオン化合物は、多種多様のイネ科植物、広葉雑草、およびカヤツリグサ科植物に対して有効な発芽前除草剤および発芽後(postemergence)除草剤であることが実証されている。US 5 668 089は、これらの化合物の1つである2-(2’-ニトロ-4’-トリフルオロメチルベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオンを、トウモロコシにおける選択的除草剤として開示する。さらに、PCT出願番号97/27748は、2-(置換ベンゾイル)-1,3-シクロヘキサンジオン化合物の金属キレートが、通常の温度条件下だけでなくかなり高温の条件下でも長期間にわたって化学的に安定であることが実証されたことを開示している。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月12日(2007.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリオレフィンまたはそのコポリマーを含む基材構造体と、
カバーと、
前記カバーと前記基材構造体との間にある画像受容材料と、
を含み、該画像受容材料は多孔質である、画像保持カード。
【請求項２】  基材基層と、前記基材基層の上にある基材結合層とを含む基材構造体と、
カバーと、
前記カバーと前記基材構造体との間にある画像受容材料と、
を含み、
前記基材基層はポリプロピレンを含み、
前記基材結合層は官能化ポリオレフィンを含み、
前記画像受容材料は多孔質である、
画像保持カード。
【請求項３】  第１の表面と、前記第１の表面を超えて延在する複数の突起とを画定するカバーであって、前記突起が前記カバーの第２の表面を画定するカバーと、
前記カバーの前記第１の表面上にあり、前記突起の間にある画像受容材料、
ポリオレフィンまたはそのコポリマーを含み前記カバーの第２の表面の上にある基材構造体と、
を含む画像保持カード。
【請求項４】  ポリオレフィンまたはそのコポリマーを含む基材構造体と、
カバー層と、
前記カバーと前記基材構造体との間にある微孔質である画像受容材料と、
前記画像受容材料に近接して配置された印刷画像と、
を含む画像保持カード。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月5日(2007.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
圧縮されたガスが充填されているエアロゾル缶における圧力調整のためには、噴霧弁の前に圧力調整弁を接続することが必要不可欠であり、この圧力調整弁は、缶がほぼ１０ｂａｒの充填圧を有する場合、ほぼ２〜４ｂａｒの制御圧を提供する。このために、バネ荷重を加えたピストンを有する減圧弁が既に知られていて、これらの減圧弁は、制御圧の増加時に、圧力制御する閉鎖箇所を閉鎖するために用いられる。しかし、それらの周知の解決策では、流出するエアロゾルがシリンダユニット／ピストンユニットの周囲を通流し、その結果、手間と費用のかかる二重壁のケーシング構成が必要となる。そのような解決策は、例えば国際公開第01/09009号明細書(WO01/09009A1) 及びフランス特許出願公開第2774077号明細書(FR2774077A1)にも記載されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月17日(2007.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１の表面と、第１の表面を越えて伸び、それぞれが第１の表面に近接して固着する近接端および基材の第２の表面を画定する遠心端を有する、１つ以上の突起とを含む基材を提供するステップと、
第１の表面に画像を適用するステップと、
各突起の遠心端に圧力および又は熱を加えて、各突起の遠心端に近接する各突起の領域を概して拡大するステップと
を含む、画像保持媒体を形成する方法。
【請求項２】  第１の表面と、第１の表面を越えて伸び、第１の基材の第２の表面を画定する１つ以上の突起とを含む第１の基材、
第１の基材の第１の表面上の画像受容材料(ここで、前記突起はこの画像受容材料を越えて伸びており)、
および
第１の基材の第２の表面にオーバレイする第２の基材
(ここで、第１の基材と第２の基材の間の界面接着は、第２基材の内部強度よりも大きい。)
を含む画像保持ラミネートアセンブリー。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月4日(2007.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機電場発光デバイスであって、
ａ）アノードと、
ｂ）前記アノードの上に配置された正孔輸送層と、
ｃ）前記正孔輸送層の上に配置され、正孔−電子の再結合に応答して青色光を発生する発光層であって、少なくとも１つのホスト材料と少なくとも１つのドーパント材料とを含む発光層と、
ｄ）前記発光層に接触して形成された非正孔阻止バッファ層であって、実質上前記発光層中の前記ホスト材料の１つと同じイオン化電位と同じ電子親和力とを有する非正孔阻止バッファ層と、
ｅ）前記非正孔阻止バッファ層の上に配置された電子輸送層と、
ｆ）前記電子輸送層の上に配置されたカソードとを備える有機電場発光デバイス。
【請求項２】
前記発光層中の前記ホスト材料の電子エネルギーバンドギャップが２．９ｅＶより高い、請求項１に記載の有機電場発光デバイス。
【請求項３】
前記非正孔阻止バッファ層がアントラセン誘導体から選択された材料を含む、請求項１に記載の有機電場発光デバイス。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年9月6日(2007.9.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
上記定義の下では、少なくとも約０．５ミクロンがランピングのあいだにエッチングされることが好ましい。より好ましくは、少なくとも１ミクロンランピングのあいだにエッチングされる。最も好ましくは、少なくとも２ミクロンがランピングのあいだにエッチングされる。第１ランプテストメインエッチングについては、ランピングは、３７０秒のエッチングの持続期間のうち２８０秒のあいだに起こる。したがって、ランピングはエッチング持続期間の２８０／３７０＝７６％について起こる。好ましくは、ランピングはエッチングの持続期間のうち少なくとも１０％について起こる。より好ましくは、ランピングはエッチングの持続期間のうち少なくとも３０％について起こる。最も好ましくは、ランピングはエッチングの持続期間のうち少なくとも７０％について起こる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月13日(2007.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁体基板上シリコン（ＳＯＩ）構造を有し、ゲルマニウム及びシリコンを含む第１の半導体層を含むウェハを提供し、
前記ウェハを加熱しながら、当該ウェハの上にわたって塩素ベアリングガスを流し、
前記流すステップの後、前記第１の半導体層の上にシリコンを含む第２の半導体層を形成する、
ステップを有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記塩素ベアリングガス流すステップが、圧縮プロセス中に実行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の半導体層が、ひずみ層として特徴付けられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記塩素ベアリングガスを流すステップが、ウェハのポストベークの一部として実行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第２の半導体層を形成する前に、前記ウェハに圧縮プロセスを実施するステップを更に有し、
前記塩素ベアリングガスを流すステップが、前記圧縮プロセスを実行した後に実施されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
圧縮プロセスを実行することが、前記第１の半導体層の残りの部分のゲルマニウムを増やすことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
チャネル領域を備えたトランジスタを形成するステップを更に有し、
前記チャネル領域の少なくとも一部が、前記第２の半導体層に配置されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記塩素ベアリングガスが、塩化水素、塩素、四塩化炭素、又は、トリクロロエタンの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
第１のタイプ及び第２のタイプの原子を含む第１の半導体層を含むウェハを提供し、
前記ウェハに圧縮プロセスを実施し、該圧縮プロセスを実施することにより、前記第１の半導体層の一部を消費し、前記圧縮プロセスを実施することは、前記ウェハの上にわたって塩素ベアリングガスを流すことを含み、前記圧縮プロセスを実施することにより、前記第１の半導体層の残りの部分に第２のタイプの原子を含む層を形成し、
前記第２のタイプの原子を含む層を除去し、
前記除去ステップの後、前記残りの部分の上に、前記第２のタイプの原子を含む第２の半導体層を形成する、
ステップを有することを特徴とする方法。
【請求項１０】
シリコン及びゲルマニウムを含む第１の半導体層を含み、絶縁体基板上シリコン（ＳＯＩ）構造を備えたウェハを提供し、
圧縮プロセスを実施し、前記圧縮プロセスを実施することにより、前記第１の半導体層の一部を消費し、
前記圧縮プロセスを実施した後、前記ウェハを加熱しながら、前記ウェハの上にわたって塩素ベアリングガスを流し、
前記流すステップの後、前記第１の半導体層の残りの部分の上に第２の半導体層を形成する、
ステップを有することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月24日(2007.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイパッド（１３）及びボンドパッド（３３）を有するリードフレーム（１０）と、
前記ダイパッドに取り付けられ、前記ボンドパッドに電気的に接続された半導体ダイ（２５）と、
前記半導体ダイ上に配置されたモールド封入材（３５）と、
前記モールド封入材上に配置された導電層（４２）と、
前記リードフレームを前記導電層に電気的に接続するワイヤ（３３）と
を備える半導体パッケージ（２）。
【請求項２】
前記導電層が強磁性材料を含む請求項１に記載の半導体パッケージ。
【請求項３】
半導体パッケージ（２）を形成する方法であって、
第１ダイパッド（１３）を含む第１の部分と、第２ダイパッド（１５）を含む第２の部分とを備えたリードフレーム（１０）を提供する工程と、
前記第１ダイパッドに第１半導体ダイ（２５）を取り付ける工程と、
前記第２ダイパッドに第２半導体ダイ（２７）を取り付ける工程と、
前記第１半導体ダイを前記リードフレームに電気的に接続する工程と、
前記第２半導体ダイを前記リードフレームに電気的に接続する工程と、
ワイヤボンド（３３）を使用して、前記リードフレームの第１の部分を前記リードフレームの第２の部分に電気的に接続する工程と、
前記第１半導体ダイ及び第２半導体ダイをモールド封入材（３５）によって封入する工程と、
前記ワイヤボンドを切断して、前記リードフレームの第１の部分に第１ワイヤ（３３）を、前記リードフレームの第２の部分に第２ワイヤ（３３）をそれぞれ形成するために、前記モールド封入材をカットする工程と、
前記封入材上に導電層（４２）を形成して、前記第１ワイヤ及び第２ワイヤを前記導電層に電気的に接続する工程と、
前記リードフレームの第１の部分を単一化して、半導体パッケージを形成する工程と
を含む方法。
【請求項４】
半導体パッケージ（２）を形成する方法であって、
パッド（１３）及びダイパッド（３３）を含むリードフレーム（１０）を提供する工程と、
前記ダイパッドに半導体ダイ（３５）を取り付ける工程と、
前記半導体ダイを前記パッドに電気的に接続する工程と、
第１端部及び第２端部を有するワイヤボンドを設ける工程と、
前記ワイヤボンドの第１端部及び第２端部を前記半導体ダイに電気的に接続する工程と、
前記半導体ダイ及びワイヤボンド上にモールド封入材を形成する工程と、
前記ワイヤボンドの一部を露出させる工程と、
前記モールド封入材及びワイヤボンド上に、前記ワイヤボンドに電気的に接続した導電層（４２）を形成する工程と
を含む方法。
【請求項５】
半導体パッケージ（２）を形成する方法であって、
ダイパッド（１３）を有するリードフレーム（１０）を提供する工程と、
前記ダイパッドに半導体ダイ（２５）を取り付ける工程と、
前記半導体ダイ上にモールド封入材（３５）を形成する工程と、
前記モールド封入材上に導電層（４２）を形成する工程と、
ワイヤ（３３）を使用して、前記リードフレームを前記導電層に電気的に接続する工程と
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月18日(2007.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチメディアデータをディスプレイする方法であって：
ディスプレイするための資産（アセット）が、一つまたは複数のフォトデータおよび一つまたは複数のビデオデータとで構成される資産であるか否かを検査する段階と；
前記一つまたは複数のフォトデータおよび前記一つまたは複数のビデオデータをディスプレイするために必要とされる参照情報を抽出する段階と；
前記抽出された参照情報を用いて前記一つまたは複数のフォトデータおよび前記一つまたは複数のビデオデータを、メタデータに基づいてディスプレイする段階、
とを有する方法。
【請求項２】
前記メタデータがマークアップ言語によって表現される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記マークアップ言語がＭＰＶ（ミュージックフォトビデオ）フォーマットに従って記述される、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記参照情報が当該資産を同定するための識別情報のことである、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記メタデータが、前記フォトデータがディスプレイされる時間についての情報と、前記フォトデータがディスプレイされる位置についての情報とを含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記メタデータが、前記資産の属性についての情報を更に含む、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記ディスプレイする段階が、前記フォトデータがディスプレイされた後に前記ビデオデータがディスプレイされる第１のディスプレイ方法と、前記ビデオデータがディスプレイされた後に前記フォトデータがディスプレイされる第２のディスプレイ方法とを含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
マルチメディアデータをディスプレイする方法であって：
ディスプレイするために必要とされる資産を指す参照情報および該資産を再生するための再生情報を含むメタデータを生成する段階と；
前記生成されたメタデータを使って前記資産をディスプレイする段階、
とを有しており、前記資産が一つまたは複数のフォトデータおよび一つまたは複数のビデオデータより構成されており、前記参照情報に対応する資産を使ってディスプレイされる、方法。
【請求項９】
前記メタデータがマークアップ言語によって表現される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記マークアップ言語がＭＰＶ（ミュージックフォトビデオ）フォーマットに従って記述される、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記参照情報および前記再生情報が、スキーマによって定義されるエレメントの形により表現される、請求項８記載の方法。
【請求項１２】
前記エレメントの名前が‘ＰｈｏｔｏＷｉｔｈＶｉｄｅｏ’および  ‘ＶｉｄｅｏＷｉｔｈＰｈｏｔｏ’のうちの一つである、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記参照情報が当該資産を同定するための識別情報のことである、請求項８記載の方法。
【請求項１４】
前記再生情報が、前記フォトデータがディスプレイされる時間についての情報と、前記フォトデータがディスプレイされるときの位置についての情報とを含む、請求項８記載の方法。
【請求項１５】
前記メタデータが、前記資産の属性についての情報を更に含む、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
マルチメディアデータをディスプレイする装置であって、プロセッサの制御下にあるメモリを有しており、該メモリは当該装置をして：
ディスプレイするための資産（アセット）が、一つまたは複数のフォトデータおよび一つまたは複数のビデオデータとで構成される資産であるか否かを検査し；
前記一つまたは複数のフォトデータおよび前記一つまたは複数のビデオデータをディスプレイするために必要とされる参照情報を抽出し；
前記抽出された参照情報を用いて前記一つまたは複数のフォトデータおよび前記一つまたは複数のビデオデータを、メタデータに基づいてディスプレイする、
ことができるようにするソフトウェアを有しており、前記メタデータが、前記フォトデータがディスプレイされる時間についての情報と、前記フォトデータがディスプレイされる位置についての情報とを含む、装置。
【請求項１７】
マルチメディアデータをディスプレイする装置であって、プロセッサの制御下にあるメモリを有しており、該メモリは当該装置をして：
ディスプレイするために必要とされる資産を指す参照情報および該資産を再生するための再生情報を含むメタデータを生成し；
前記生成されたメタデータを使って前記資産をディスプレイする、
ことができるようにするソフトウェアを有しており、
前記資産が一つまたは複数のフォトデータおよび一つまたは複数のビデオデータより構成されており、前記参照情報に対応する資産を使ってディスプレイされ、
前記再生情報が、前記フォトデータがディスプレイされる時間についての情報と、前記フォトデータがディスプレイされる位置についての情報とを含む、装置。
【請求項１８】
マルチメディアデータをディスプレイするためのプログラムを有するコンピュータ可読記録媒体であって、前記プログラムが、プロセスをして：
ディスプレイするための資産（アセット）が、一つまたは複数のフォトデータおよび一つまたは複数のビデオデータとで構成される資産であるか否かを検査し；
前記一つまたは複数のフォトデータおよび前記一つまたは複数のビデオデータをディスプレイするために必要とされる参照情報を抽出し；
前記抽出された参照情報を用いて前記一つまたは複数のフォトデータおよび前記一つまたは複数のビデオデータを、メタデータに基づいてディスプレイする、
ことができるようにし、前記メタデータが、前記フォトデータがディスプレイされる時間についての情報と、前記フォトデータがディスプレイされる位置についての情報とを含む、媒体。
【請求項１９】
マルチメディアデータをディスプレイするためのプログラムを有するコンピュータ可読記録媒体であって、前記プログラムが、プロセスをして：
ディスプレイするために必要とされる資産を指す参照情報および該資産を再生するための再生情報を含むメタデータを生成し；
前記生成されたメタデータを使って前記資産をディスプレイする、
ことができるようにし、
前記資産が一つまたは複数のフォトデータおよび一つまたは複数のビデオデータより構成されており、前記参照情報に対応する資産を使ってディスプレイされ、
前記再生情報が、前記フォトデータがディスプレイされる時間についての情報と、前記フォトデータがディスプレイされる位置についての情報とを含む、媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月26日(2007.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲットの上に材料をデポジットする方法であって、
材料のエアロゾル流を発生するステップと、
前記エアロゾル流を取り囲み且つ収束させる環状で鞘状のガスを備えたエアロゾルジェットを用いて前記エアロゾル流を前記ターゲットに向かわせるステップと、
その結果得られた前記材料のデポジットを少なくともターゲットの損傷閾値温度とほぼ同じ温度においてレーザで処理するステップとを含んでなる、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記デポジットされた材料の特性が本質的に、バルク状態での当該材料の特性と同様である、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、前記ターゲットが平坦でない、方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、損傷閾値温度が200℃未満である、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、前記エアロゾル流が液状分子化学前駆物質およびコロイド状あるいは粒子懸濁液から成るグループから選択した１以上の材料を含む、方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、前記エアロゾル流がさらに、有機金属前駆物質、コロイド状金属溶液、金属ペースト、金属ナノ粒子懸濁液、セラミック前駆物質、セラミックペースト、抵抗体前駆物質溶液、抵抗体ペースト、無機半導体懸濁液、重合体前駆物質溶液、金属、誘電体あるいは抵抗粒子のコロイド状懸濁液、およびこれらの任意の組合せから成るグループから生成した１以上の材料を含む、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、前記エアロゾル流は、直径が約10ミクロン未満の飛沫あるいは粒子を含む、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、前記の発生させるステップが超音波トランスダクションあるいは圧縮空気によるエアロゾル化を含む、方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、前記エアロゾルジェットが、内部エアロゾルキャリア流を拘束する鞘状のガス流に囲まれた内部エアロゾルキャリア流を含む、方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、前記環状で鞘状のガスは、前記エアロゾル流を中規模の寸法に収束させる、方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、デポジットした形状の大きさが約4ミクロンである、方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法であって、前記デポジットのステップが前記ターゲットと前記エアロゾル流の相対運動を含む、方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の方法がさらに前記デポジットの前に前記エアロゾル流を事前処理するステップを含む方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、前記事前処理ステップが、前記エアロゾル流の給湿、前記エアロゾル流の乾燥、前記エアロゾル流の冷却、前記エアロゾル流の組成の蒸気成分の増加、前記エアロゾル流の組成でない第２の成分である材料の蒸気成分の増加から成るグループから選択した処理を含む、方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法がさらに前記処理ステップの前に前記デポジットを事後処理するステップを含む、方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、前記事後処理ステップが、加熱、環境の減圧、電磁波の照射およびこれらの組合せから成るグループから選択した処理を含む、方法。
【請求項１７】
請求項１に記載の方法であって、前記デポジットが前記レーザからのビームの直径にほぼ等しい幅を有する、方法。
【請求項１８】
請求項１に記載の方法であって、前記デポジットの幅が前記レーザからのビームの直径よりも大きい、方法。
【請求項１９】
請求項１に記載の方法であって、前記デポジションのステップと前記処理のステップとが同時に行われる方法。
【請求項２０】
請求項１に記載の方法であって、前記処理のステップが少なくとも化学分解、重合、焼結、溶解から成るグループから選択した１つの処理を含む、方法。
【請求項２１】
請求項１に記載の方法であって、前記ターゲットが、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエステル、エポキシから成るグループから選択した材料を含む、方法。
【請求項２２】
請求項１に記載の方法であって、前記レーザがダイオードレーザを含む、方法。
【請求項２３】
請求項１に記載の方法であって、前記レーザのパワーが約10ミリワットである、方法。
【請求項２４】
請求項１に記載の方法であって、前記レーザが連続波モードあるいはパルス波モードを含む、方法。
【請求項２５】
請求項１に記載の方法であって、前記処理のステップがレンズシステムおよびミラーと光ファイバーとのいずれかまたは両方を用いて前記ターゲットに前記レーザからのビームを供給することを含む、方法。
【請求項２６】
請求項１に記載の方法であって、前記レーザからのビームが前記エアロゾル流とは別にターゲットに供給される、方法。
【請求項２７】
請求項２６に記載の方法が材料デポジションとレーザ処理の逐次処理である方法。
【請求項２８】
請求項１に記載の方法であって、レーザ処理後のデポジットの形状の大きさが約１ミクロンである、方法。
【請求項２９】
請求項２に記載の方法であって、前記特性が、電気的特性、物理的特性及び光学的特性からなる群から選択されるものである、方法。
【請求項３０】
請求項２９に記載の方法であって、前記特性が抵抗率を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１補聴器と第２補聴器とを備え、その各々が、
音響環境において各マイクロフォンで受取られる音響信号に応じたデジタル入力信号を提供するマイクロフォンおよびＡ／Ｄコンバータと、
所定の信号処理アルゴリズムにより前記デジタル入力信号を処理するように適応され、処理された出力信号を生成するプロセッサと、
処理された各音響信号を可聴出力信号に変換するＤ／Ａコンバータおよび出力変換器と、
第１補聴器からの少なくとも１つの信号と第２補聴器からの少なくとも１つの信号に基づいて、両耳用補聴器システムの使用者を取り囲む音響環境を両耳用に決定し、両耳用補聴器システムが整合された音響処理を行うように、各補聴器のプロセッサの信号処理アルゴリズムを選択するために、第１および第２補聴器の各々に出力を与える両耳用音響環境検出器、
を備える両耳用補聴器システム。
【請求項２】
各デジタル入力信号用の入力を有する両耳用音響環境検出器が、システムのリモートコントロールに設けられる請求項１記載のシステム。
【請求項３】
両耳用音響環境検出器が、補聴器の１つに設けられ、他の補聴器に出力を与える請求項１記載のシステム。
【請求項４】
補聴器の各々が、両耳用音響環境検出器を備える請求項１記載のシステム。
【請求項５】
両耳用音響環境検出器が、
受取った音響信号の特徴パラメータを決定する特徴抽出器と、
決定された特徴パラメータに基づいて音響環境を分類する環境分類器と、
信号処理アルゴリズムを選択するための出力を与えるパラメータマップ、
を備える前記請求項のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
特徴抽出器の各々が、各デジタル入力信号用の入力を有する請求項４又は５に記載のシステム。
【請求項７】
環境分類器の各々が、特徴抽出器の各々に接続される入力を有する請求項４又は５記載のシステム。
【請求項８】
パラメータマップの各々が、環境分類器の各々に接続される入力を有する請求項４又は５に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月11日(2007.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムグレインをシミュレートする方法であって、
画像情報を受け取る工程と、
先行して画像にあった前記フィルムグレインの少なくとも１つの属性を規定する少なくとも１つのパラメータを含むフィルムグレイン情報を受け取る工程と、
目標画素ブロック・サイズによってスケーリングされる前記少なくとも１つのパラメータによって前記フィルムグレインをシミュレートする工程とを備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１による方法であって、
前記シミュレートされたフィルムグレインを前記画像にブレンディングする工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１による方法であって、
前記フィルムグレイン情報を受け取る工程は、所定の圧縮標準によってビットストリームが圧縮された画像を受け取る工程を更に備え、
前記フィルムグレイン情報を受け取る工程は、画像ビットストリームに埋め込まれた更なるデータを受け取る工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項３による方法であって、
前記フィルムグレイン情報を受け取る工程は、Ｈ.２６４圧縮標準によってビットストリームが圧縮された画像を受け取る工程を更に備え、
前記フィルムグレイン情報を受け取る工程は、ＳＥＩメッセージを受け取る工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項３による方法であって、
ＮｔｘＭｔ画素の目標ブロック・サイズによって前記フィルムグレイン情報をスケーリングする工程を更に備え、ＮｔもＭｔも１６でないことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項３による方法であって、
８ｘ８画素の目標ブロック・サイズによって前記フィルムグレイン情報をスケーリングする工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１による方法であって、
前記フィルムグレインをシミュレートする工程は、
前記少なくとも１つのパラメータによって乱数雑音を生成する工程と、
先行して前記目標ブロック・サイズにスケーリングされた前記画素ブロックの画素値を変更するよう前記雑音をスケーリングする工程と、
前記雑音を、スケーリング後に周波数フィルタリングする工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７による方法であって、
前記フィルムグレインをシミュレートする工程は、
前記少なくとも１つのパラメータによって乱数雑音を生成する工程と、
前記雑音を周波数フィルタリングする工程と、
先行して前記目標ブロック・サイズにスケーリングされた前記画素ブロックの画素値を変更するよう、前記周波数フィルタリングされた雑音をスケーリングする工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項８による方法であって、
前記フィルムグレイン情報は、前記目標画素ブロック・サイズによってスケーリングするよう、水平ハイカット周波数及び水平ローカット周波数と、垂直ハイカット周波数及び垂直ローカット周波数とを備えることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項９による方法であって、
雑音は、主に垂直エッジ上の雑音強度を低減させるようスケーリングされることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項９による方法であって、
雑音は、主に水平エッジ上の雑音強度を低減させるようスケーリングされることを特徴とする方法。
【請求項１２】
フィルムグレインをシミュレートする方法であって、
（ａ）フィルムグレインが少なくとも減衰した画像を表す画像情報を受け取る工程と、
（ｂ）先行して前記画像にあった前記フィルムグレインの種々の属性を規定する、考えられるパラメータ群のうちの少なくとも１つのパラメータを含むフィルムグレイン情報を受け取る工程と、
（ｃ）１６ｘ１６ブロックとは異なるサイズを該ブロックが有する場合に、シミュレートする対象のフィルムグレインを含む画像における目標画素ブロックについて前記フィルムグレイン情報をスケーリングする工程と、
（ｄ）前記画像の画素ブロックの連続したものを読み取る工程と、
（ｅ）前記連続した画素ブロックについて乱数雑音を、前記少なくとも１つのパラメータによって生成する工程と、
（ｆ）先行して前記目標ブロック・サイズにスケーリングされた前記画素ブロックの画素値を変更するよう前記乱数雑音をスケーリングする工程と、
（ｇ）前記スケーリングされた雑音に対してブロック・ベースの変換を行って係数群を生成する工程と、
（ｈ）前記係数を周波数フィルタリングする工程と、
（ｉ）前記周波数フィルタリングされた係数に対して逆ブロック・ベース変換を行って、フィルムグレイン画像ブロックを生成する工程とを備えることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の方法であって、
工程（ｄ）乃至（ｉ）は、前記画像における画素ブロック全てが読み取られるまで繰り返されることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１２記載の方法であって、
ブロック・ベースの変換を行う工程は、離散コサイン変換を行う工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の方法であって、
ブロック・ベースの逆変換を行う工程は、逆離散コサイン変換を行う工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項１６】
フィルムグレインをシミュレートする方法であって、
（ａ）フィルムグレインが少なくとも減衰した画像を表す画像情報を受け取る工程と、
（ｂ）先行して前記画像にあった前記フィルムグレインの種々の属性を規定する、考えられるパラメータ群のうちの少なくとも１つのパラメータを含むフィルムグレイン情報を受け取る工程と、
（ｃ）１６ｘ１６ブロックとは異なるサイズを該ブロックが有する場合に、シミュレートする対象のフィルムグレインを含む画像における目標画素ブロックについて前記フィルムグレイン情報をスケーリングする工程と、
（ｄ）前記画像の画素ブロックの連続したものを読み取る工程と、
（ｅ）前記連続した画素ブロックについて乱数雑音を、前記少なくとも１つのパラメータによって生成する工程と、
（ｆ）前記雑音に対してブロック・ベースの変換を行って係数群を生成する工程と、
（ｇ）前記係数を周波数フィルタリングする工程と、
（ｈ）前記周波数フィルタリングされた係数に対してブロック・ベースの逆変換を行ってフィルムグレイン画像ブロックを生成する工程と、
（ｉ）先行して前記目標ブロック・サイズにスケーリングされた前記画素ブロックの画素値を変更するよう前記雑音をスケーリングする工程とを備えることを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１６記載の方法であって、
工程（ｄ）乃至（ｉ）は、前記画像における画素ブロック全てが読み取られるまで繰り返されることを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１６記載の方法であって、
ブロック・ベースの変換を行う工程は、離散コサイン変換を行う工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１６記載の方法であって、
ブロック・ベースの逆変換を行う工程は、逆離散コサイン変換を行う工程を更に備えることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月4日(2007.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を受けるための入口、出口、およびアクチュエータを有する弁と、
弁の出口と流体連通しているスパウトと、
アクチュエータに連結され、弁が閉鎖される閉位置および弁が開放されて液体がスパウトから分注可能になる開位置を有するレバーと、
係止部材が係止部材を通るスパウト用開口を画定し、スパウト用開口がスパウトを受けて係止部材がスパウトの周りで回転可能であるようになされ、該係止部材が係止部材内に切欠きを画定し、レバーが切欠き内に着座してレバーの閉位置から開位置への移動が阻止される係止位置へと回転可能な係止部材とを備え、
係止部材は係止位置から非係止位置に回転可能であり、非係止位置ではレバーが切欠き内に着座せずレバーの閉位置から開位置への移動が可能になる液体分注システム。
【請求項２】
係止部材が長手方向軸を画定し、スパウト用開口が長手方向軸に全般的に心合せされる請求項１に記載の液体分注システム。
【請求項３】
係止部材が長手方向軸を画定し、スパウトおよびレバーが共に、係止部材が係止位置にある場合に長手方向軸に全般的に心合せされる請求項１に記載の液体分注システム。
【請求項４】
切欠きが、レバーの開位置から閉位置に向かう移動によって係止部材が係止位置に移動されるように形付けられる請求項１に記載の液体分注システム。
【請求項５】
弁アクチュエータが通常閉鎖されている請求項４に記載の液体分注システム。
【請求項６】
アクチュエータがばね負荷式であり、レバーを解放するとレバーが開位置から閉位置に自動的に移動するようになされる請求項５に記載の液体分注システム。
【請求項７】
切欠きが係止部材の長手方向軸に全般的に心合せされた丸みの付いた部分を含み、レバーは、係止部材が係止位置にある場合に丸みの付いた部分内に着座する請求項４に記載の液体分注システム。
【請求項８】
切欠きが、係止部材の長手方向軸に全般的に心合せされた丸みの付いた部分、および丸みの付いた部分から係止部材の外側縁部まで延在する停止部分を含み、切欠きの停止部分は、レバーが開位置から閉位置に移動されたときにレバーと係合する請求項４に記載の液体分注システム。
【請求項９】
切欠きの停止部分および係止部材の長手方向軸がスパウト用開口に対して鈍角を画定する請求項８に記載の液体分注システム。
【請求項１０】
レバーが、閉位置と開位置の間で旋回可能である請求項１に記載の液体分注システム。
【請求項１１】
レバーが、弁アクチュエータに連結された第１の端部および第１の端部に対向する第２の端部を有し、レバーが開位置にある場合はレバーが閉位置にある場合よりも、レバーの第２の端部がスパウトから遠く離れたところに位置付けられる請求項１に記載の液体分注システム。
【請求項１２】
第２の弁および第２のレバーをさらに備える請求項１に記載の液体分注システム。
【請求項１３】
第２の弁の入口が湯源に連結され、第２のレバーは、係止部材が係止位置にある場合に係止部材内に着座する請求項１２に記載の液体分注システム。
【請求項１４】
係止部材の第１の端部が水栓の液体分注スパウトを受けるための係止部材を通って延在するスパウト用開口を画定して、係止部材が開口を通って挿入されるスパウトの周りで回転可能であるようになされた、第１および第２の端部を有する係止部材を備え、
係止部材の第２の端部がその中に水栓の分注レバーを受けるための切欠きを画定し、
係止部材は係止位置を画定し、係止位置で切欠きが分注レバーを捕獲し、
係止部材が分注レバーを、係止部材をスパウトの周りで回転させることにより解放するために係止位置から可動であるように、切欠きが形付けられる、液体分注レバー係止部。
【請求項１５】
係止部材が長手方向軸を画定し、スパウト用開口が長手方向軸に全般的に心合せされる請求項１４に記載の液体分注レバー係止部。
【請求項１６】
切欠きが、レバーの開位置から閉位置に向かう移動によって係止部材が係止位置に移動されるように形付けられる請求項１４に記載の液体分注レバー係止部。
【請求項１７】
切欠きが係止部材の長手方向軸に全般的に心合せされた丸みの付いた部分を含み、レバーは、係止部材が係止位置にある場合に丸みの付いた部分内に着座する請求項１６に記載の液体分注レバー係止部。
【請求項１８】
切欠きが、係止部材の長手方向軸に全般的に心合せされた丸みの付いた部分、およびレバーと係合して係止部材を係止位置に位置付けるための丸みの付いた部分から係止部材の外側縁部まで延在する停止部分を含む請求項１６に記載の液体分注レバー係止部。
【請求項１９】
切欠きの停止部分および係止部材の長手方向軸がスパウト用開口に対して鈍角を画定する請求項１８に記載の液体分注レバー係止部。