Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  負極（４）、二酸化硫黄ベースの電解液、１つの正極（３）を有し、電池の充電または放電時に電極（３，４）の一方に活物質が沈着する再充電可能な非水系電気化学電池（９）において、
これらの電極（３，４）のうち少なくとも一方の領域に多孔構造体（１１）を成す固体状態の塩（１０）が備えられ、
この塩（１０）は電極（３，４）に沈着する前記活物質と接触するように形成・配置されていることを特徴とする電池。
【請求項２】  前記多孔構造体は塩（１０）の粒状流し込み体（１１）であることを特徴とする請求項１に記載の電池。
【請求項３】  前記多孔構造体（１１）は塩粒子の結合体であることを特徴とする請求項２に記載の電池。
【請求項４】  前記塩（１０）は多孔質固体−層材料（１７）内に含まれていることを特徴とする前記請求項のいずれか１項に記載の電池。
【請求項５】  前記多孔質固体−層材料（１７）は、その孔（１９）が完全には塞がれないように塩（１０）でコーティングされている担体材料（１８）を含んでいることを特徴とする請求項４に記載の電池。
【請求項６】  前記担体材料はフレキシブルな繊維複合構造として形成されていることを特徴とする請求項５に記載の電池。
【請求項７】  前記多孔質固体−層材料は塩と結合剤とを含有した混合物から成ることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項に記載の電池。
【請求項８】  前記結合剤はポリマー、特にフルオロポリマーを含んでいることを特徴とする請求項７に記載の電池。
【請求項９】  前記塩（１０）の前記多孔構造体は充電または放電時に沈着した電極活物質がこの構造の孔に侵入し得るように形成・配置されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の電池。
【請求項１０】  前記塩（１０）はアルカリハロゲン化物、特にＬｉＦ、ＮａＣｌまたはＬｉＣｌであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の電池。
【請求項１１】  前記活物質は、アルカリ金属、アルカリ土類金属および周期表の第二亜属の金属から成るグループから選択されたものであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電池。
【請求項１２】  前記塩（１０）は負極（４）の領域に配置されていることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の電池。
【請求項１３】  前記正極（３）は金属酸化物を含んでいることを特徴とする請求項１２に記載の電池。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月14日(2006.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ボイス・オーバー・インターネット・プロトコル（ＶｏＩＰ）ネットワーク部分とセルラーネットワーク部分とを有する統合遠隔通信ネットワーク中に配置されたエンド端末からサービスノードにアクセスし、該エンド端末からの呼を制御する方法であって、
サービスノードとＶｏＩＰネットワーク部分との間に配置されるインタフェース・モジュールを提供するステップと、
エンド端末内で提供される呼制御プロセス中に少なくとも１つの検出ポイントを組み込むステップであって、呼制御プロセスが検出ポイントに遭遇したときに、前記検出ポイントが制御権をサービス・アクセス・サーバに渡すように動作するステップと、
サービスを実行する必要があるか否かを前記サービス・アクセス・サーバによって判定するステップと、
サービスを実行する必要がある場合に、サービスの実行に向けて前記サービス・アクセス・サーバからサービスノードにサービス要求を送信するステップと、
サービス要求に対応する前記サービスノードからの結果を前記サービス・アクセス・サーバで受信するステップと、
前記呼を制御するために、前記結果を前記サービス・アクセス・サーバから前記エンド端末の呼制御プロセスに渡すステップとを含むことを特徴とする統合遠隔通信ネットワーク中に配置されたエンド端末からサービスノードにアクセスする方法。
【請求項２】  パケット交換ネットワーク（ＰＳＮ）部分とセルラーネットワーク部分とを有する統合遠隔通信ネットワーク中に配置されたエンド端末からワイヤレス・インテリジェント・ネットワーク（ＷＩＮ）サービスを呼び出すためのサービス提供方法であって、
エンド端末中の呼制御プロセスを実施するステップと、
装備された検出ポイントに呼制御プロセスが遭遇するか否かをエンド端末中で判定するステップと、
装備された検出ポイントに遭遇した場合に、サービス・アクセス・インスタンスを生み出し、サービス・アクセス・インスタンスに制御権を渡すステップと、
前記サービス・アクセス・インスタンスに関連するサービス・プロキシを生み出すステップと、
前記サービス・プロキシにより、セルラーネットワーク部分に配置されたサービスノードにアクセスするステップと、
サービスノード中のサービス・ロジック部を実行して結果を得るステップと、
前記結果をエンド端末中の前記呼制御プロセスに提供するステップとを含むことを特徴とするサービス提供方法。
【請求項３】  前記装備される検出ポイントが、エンド端末中に配置されたサービス・アクセス・サーバから提供されることを特徴とする請求項２に記載のサービス提供方法。
【請求項４】  前記装備される検出ポイントが、統合遠隔通信ネットワーク中に配置されたユーザ・プロファイル・リポジトリからサービス・アクセス・サーバによって獲得され、前記ユーザ・プロファイル・リポジトリが、エンド端末とエンド端末に関連する加入者とに対するアクティブなトリガのリストを含むことを特徴とする請求項３に記載のサービス提供方法。
【請求項５】  １つ又は複数のエンド端末を含むパケット交換ネットワーク（ＰＳＮ）部分と、
ゲートウェイを介してＰＳＮ部分に結合された回路交換ネットワーク（ＣＳＮ）部分と、
ＣＳＮ部分に配置され、１つ又は複数のサービスを実行するためのサービス・ロジック部を備え、呼制御をエンド端末内の呼制御手段に返すためにインタフェースを介してＰＳＮ部分に結合されたサービスノードと、
ＰＳＮ部分に配置され、エンド端末と加入者の特定の組合せに対するトリガのリストを含むユーザ・プロファイル・リポジトリと、
呼プロセスを制御するためのエンド端末中の呼制御手段と、
サービス要求を評価し、それに基づいてサービス・プロキシを生み出すエンド端末中のサービス・アクセス・サーバとを備え、
トリガのリストに基づく装備された検出ポイントが呼プロセス中に現れた場合に、サービス・プロキシがサービスノードにサービス・ロジック部を実行する要求を出すように、呼制御手段がサービス・アクセス・サーバに制御権を渡すことを特徴とする統合遠隔通信ネットワーク。
【請求項６】  汎用のサービス呼出し実現アーキテクチャを有する統合遠隔通信ネットワークであって、
ネットワークのパケット交換部分に備えられて、インテリジェント・ネットワーク（ＩＮ）に準拠する複数のサービス関連の検出ポイントを含む１つ又は複数の制御モジュールと、
サービス・ロジック部を実行するために実装されたサービス・ロジック環境と、
該サービス・ロジック環境に結合されたサービス・アクセス・サーバであって、装備された検出ポイントが現れたときに生み出されるサービス・アクセス・コンポーネントと、サービス・アクセス・コンポーネントの代わりにサービスを呼び出すように動作する１つ又は複数のサービス・プロキシとを備え、サービス・プロキシが、サービス・ロジック環境と呼制御モジュールとの間を媒介する前記サービス・アクセス・サーバと、
特定のモバイル加入者のためにサービスが呼び出される時期についての情報を指定するユーザ・プロファイル構造とを備えることを特徴とする統合遠隔通信ネットワーク。
【請求項７】  前記サービス・ロジック部がローカル・サービスに対応することを特徴とする請求項６に記載の統合遠隔通信ネットワーク。
【請求項８】  前記サービス・ロジック部がモバイル・エージェント・ベースのサービスに対応することを特徴とする請求項６に記載の統合遠隔通信ネットワーク。
【請求項９】  前記呼制御モジュールがＨ．３２３端末中にあることを特徴とする請求項６に記載の統合遠隔通信ネットワーク。
【請求項１０】  前記呼制御モジュールがＨ．３２３ゲートキーパ中にあることを特徴とする請求項６に記載の統合遠隔通信ネットワーク。
【請求項１１】  前記呼制御モジュールがＳＩＰエンティティ中にあることを特徴とする請求項６に記載の統合遠隔通信ネットワーク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【関連出願の相互参照】
本出願は、１９９９年１２月１０日に出願された、Ｒｏｃｈ  Ｇｌｉｔｈｏ及びＣｈｒｉｓｔｏｐｈｅ  Ｇｏｕｒｒａｕｄ名義の、本願と同一譲受人に譲渡される米国特許出願第０９／４５８８０１号（代理人整理番号１０００−０１４２）「Ｓｙｓｔｅｍ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｐｒｏｖｉｄｉｎｇ  Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｓｅｒｖｉｃｅｓ（ＳＳ）ｉｎ  ａｎ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｔｅｌｅｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ  Ｎｅｔｗｏｒｋ」に開示されている主題に関係する主題を開示する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月17日(2006.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体ウェハを製造する方法であって、
前記半導体ウェハの基板の中および上に能動素子を形成するステップと、
前記半導体ウェハの表面上に層間誘電体を形成するステップと、
前記層間誘電体の表面上に金属層を形成するステップと、
前記金属層の表面上にハードマスク材料の層を形成するステップと、
前記ハードマスク材料の層の上にフォトレジストの層を形成するステップと、
前記フォトレジストの層をパターニングおよび現像して前記フォトレジストの層の下にあるハードマスク材料の部分を露出するステップと、
前記半導体ウェハをエッチャ中に置くステップと、
前記ハードマスク材料の層の露出した部分をエッチングして前記ハードマスク材料の層の下にある金属層の部分を露出するステップと、
前記エッチャから半導体ウェハを取出さずに金属層の露出した部分をエッチングするステップとを含む、方法。
【請求項２】  前記ハードマスク材料の層の露出した部分をエッチングするステップは、フッ素および塩素化学物質の組合せを用いるエッチングプロセスによって達成される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記金属層の露出した部分をエッチングするステップは、フッ素および塩素化学物質の組合せを用いるエッチングプロセスによって達成される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  エッチングされた金属層が最後の金属層であるかどうかを判断するステップをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記金属層が最後の金属層でないときにはウェハをさらに処理するステップをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  前記金属層が最後の金属層であるときにはウェハを完成するステップをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項７】  前記ハードマスク材料の層を形成するステップは、ＴＥＯＳおよびシリコンオキシニトリドからなる群からハードマスク材料を選択することによって達成される、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月15日(2007.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ファイバー増幅器の信号周波数において散逸的であるファイバー増幅器用のレーザーポンプシステムであって、レーザーポンプからファイバー増幅器への擬似反射を減らすために信号周波数において反射防止であるように出力ファセットがコーティングされたレーザーポンプを備えるレーザーポンプシステム。
【請求項２】
波長で分割されたチャンネルの信号周波数において増幅するファイバー増幅器、及び レーザーポンプシステムであって、 出力ファセットが信号周波数において反射防止であるようにコーティング されたレーザーポンプ、及び レーザーポンプにより作られた光を集め、そしてポンプ光をファイバー増 幅器に送るためのマイクロレンズを有するファイバーピッグテール を備えた前記レーザーポンプシステムを具備した波長分割式多重化システム。
【請求項３】 
ほぼ１５５０ｎｍで送信する出力ファセットを備える９８０ｎｍレーザーダイオード。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月19日(2007.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  脊椎動物被験体の予め決められた範囲の皮膚または粘膜に治療剤を投与するための方法において使用するための治療剤であって、該方法は、
（ａ）粒子を、無針注射器デバイスを使用して、皮膚または粘膜の該範囲内に、該範囲を横切って、または該範囲内でかつ該範囲を横切って加速させる工程；および
（ｂ）第１の経皮的薬物送達デバイスまたは第１の閉鎖包帯を、該皮膚または粘膜の範囲を覆って、局所的に配置する工程であって、ここで該粒子または該第１の経皮的薬物送達デバイスもしくは該第１の閉鎖包帯、あるいはこれらの組合せが、治療剤を含む、工程、
を包含する、治療剤。
【請求項２】  第２の経皮的送達デバイスまたは第２の閉鎖包帯が、前記工程（ａ）の前に、前記皮膚または粘膜の範囲を覆って局所的に配置される、請求項１に記載の治療剤。
【請求項３】  前記粒子が、前記治療剤を含む、請求項１または２に記載の治療剤。
【請求項４】  前記粒子が生物学的に活性なタンパク質、ペプチド、オリゴ糖、多糖またはワクチン組成物を含む、請求項３に記載の治療剤。
【請求項５】  前記粒子がアジュバント、浸透増強剤、プラシーボ、または治療剤およびプラシーボを含む、請求項１または２に記載の治療剤。
【請求項６】  前記プラシーボが、金属粒子および浸透増強剤でコーティングされた金属粒子から選択される粒子を含む、請求項５に記載の治療剤。
【請求項７】  前記工程（ｂ）が、前記治療剤もしくはアジュバントを含む前記第１の経皮的薬物送達デバイス、または前記治療剤もしくはアジュバントを含む第１の閉鎖包帯を、前記皮膚または粘膜の範囲を覆って局所的に配置する工程を包含する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の治療剤。
【請求項８】  脊椎動物被験体の予め決められた範囲の皮膚または粘膜に治療剤を投与するための方法において使用するための治療剤であって、該方法は、（ｉ）該治療剤を含む粒子および（ｉｉ）プラシーボ粒子を、皮膚または粘膜の範囲内に、該範囲を横切って、または該範囲内でかつ該範囲を横切って、無針注射器デバイスを使用して加速させる工程を包含する、治療剤。
【請求項９】  前記治療剤を含む粒子および前記プラシーボを含む粒子が、同時に投与される、請求項８に記載の治療剤。
【請求項１０】  前記プラシーボが、金属粒子および浸透増強剤でコーティングされた金属粒子から選択される粒子を含む、請求項８または９に記載の治療剤。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月25日(2006.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
ヒト赤血球とドキソルビシンの相互作用は、膜結合部位および生じた構造的な乱れを特定するために研究された。電気顕微鏡によると、ヒト血清中で薬物の治療学的濃度で培養された赤血球細胞が、その平円板形態を気孔状および棘状の両方に変える。薬物は分子モデルと共にインキュベートされた。分子モデルの１つは、ジミリストイルホスファチジルコリンとジミリストイルホスファチジルエタノールアミンとの多層からなり、これらはリン脂質の代表的なものであり、赤血球膜の外部および内部の各葉状器官に位置する。Ｘ線回析によると、アドリアマイシンの相互作用が、両脂質の極性頭部とアシル鎖部分を不安定にさせる。これによって、アドリアマイシンは赤血球の膜構造に作用する両方の赤血球葉状器官に組み込まれることが結論付けられた(Suwalsky M., Z Naturforsch[C]v.54,N3-4,pp.271-277,1999)。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
以前、本発明者は、ホスフェート基を含有する2-アミノエタノール、α-L-セリン、α-L-スレオニン、α-L-チロシンと、全トランス-レチノイン酸や13−シス-レチノイン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸、リノレン酸との新規アミドを提供した（WO-A-0047589）。本発明は、具体的な化合物の使用、特にドキソルビシンの薬理活性を増加するための適用を開示する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
レチノイン酸誘導体：
1.  N-(全トランス-レチノイル)-O-ホスホ-2-アミノエタノール
1a．N-(13-シス-レチノイル)-O-ホスホ-２-アミノエタノール
2． N-(全トランス-レチノイル)-O-ホスホ-Ｌ-セリン
2a．N-(13-シス-レチノイル)-O-ホスホ-Ｌ-セリン
3.  N-(全トランス-レチノイル)-O-ホスホ-Ｌ-スレオニン
3a．N-(13-シス-レチノイル)-O-ホスホ-Ｌ-スレオニン
4.  N-(全トランス-レチノイル)-O-ホスホ-Ｌ-チロシン
4a. N-(13-シス-レチノイル）-O-ホスホ-Ｌ-チロシン
アラキドン酸誘導体：
5.  N-アラキドノイル-O-ホスホ-2-アミノエタノール
6.  N-アラキドノイル-O-ホスホ-L-セリン
7.  N-アラキドノイル-O-ホスホ-L-スレオニン
8.  N-アラキドノイル-O-ホスホ-L-チロシン
ドコサヘキサエン酸誘導体：
9.  N-ドコサヘキサエノイル-O-ホスホ-2-アミノエタノール
10. N-ドコサヘキサエノイル-O-ホスホ-L-セリン
11. N-ドコサヘキサエノイル-O-ホスホ-L-スレオニン
12. N-ドコサヘキサエノイル-O-ホスホ-L-チロシン
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
本発明者の試験結果によると、化合物1がC3Hマウスに移植されたエールリヒ腹水癌（EAC）に対して非常に高い抗腫瘍活性を示す。化合物1の抗腫瘍活性効果は、用量依存性であった。明らかなように、化合物1は、等しい用量の遊離ドキソルビシンの活性以上に高い活性を有する。用量50mcg/マウス（2.5mcg/kg）で化合物1の注射は、57％の腫瘍増殖阻害を示し、一方、同用量の遊離ドキソルビシンは、45％のEAC増殖阻害を示した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
アルファトプロテイン(AFP)産生ラット肝臓癌細胞に対するダウノマイシンとポリ不飽和酸の共役体の高い細胞毒性効果は、AFPのアラキドン酸およびドコサヘキサン酸に対する高い親和特性によるものであろう。ダウノマイシンによって修飾された脂肪酸とAFPとの複合体は、選択的にAFP産生ラット肝臓癌細胞に送達される。
AFPを産生しないEACを本試験で使用した。化合物1の抗腫瘍活性の低下は、調製物中のこのタンパク質（AFP）の存在によって生じる。この調製物をマウスへの注射に用いた。これらの試験結果は、ドキソルビシンによって修飾された、AFPとレチノイン酸とによって形成された可逆的平衡複合体の存在と解釈し得る。即ち、ドキソルビシンに比較して、化合物1の高い細胞毒性は、その構造的特性によるものであろう。化合物1は、2つの抗腫瘍剤-レチノイン酸とドキソルビシンのアミドを包含する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月20日(2006.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】多発性硬化症（ＭＳ）を治療するための医薬組成物を製造するための方法であって、医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βと医薬として許容される担体又は希釈液とを配合する工程を備える、前記方法。
【請求項２】前記多発性硬化症（ＭＳ）の治療がＭＳの再発予防のための治療である請求項１に記載の方法。
【請求項３】ＩＦＮ−βとｃｐｎ１０が同時に投与されるように前記医薬組成物が構成される、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】ＩＦＮ−βとｃｐｎ１０が別々に投与されるように前記医薬組成物が構成される、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項５】前記医薬組成物は注射の形態である、請求項３に記載の方法。
【請求項６】ｃｐｎ１０が経口投与されるように前記医薬組成物が構成される、請求項４に記載の方法。
【請求項７】ＩＦＮ−βが注射により投与されるように前記医薬組成物が構成される、請求項４又は請求項６に記載の方法。
【請求項８】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが５−６０ｍｇのｃｐｎ１０を含む、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項９】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが１０−３０ｍｇのｃｐｎ１０を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが１−１０の百万国際単位（ＭＩＵ）のＩＦＮ−βを含む、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項１１】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが４−６ＭＩＵのＩＦＮ−βを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】ＭＳを治療するための医薬組成物であって、医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βと医薬として許容される担体又は希釈液とを含む医薬組成物。
【請求項１３】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが５−６０ｍｇのｃｐｎ１０を含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが１０−３０ｍｇのｃｐｎ１０を含む、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが１−１０ＭＩＵのＩＦＮ−βを含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１６】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが４−６ＭＩＵのＩＦＮ−βを含む、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βと医薬として許容される担体又は希釈液とを備えたキット。
【請求項１８】前記ＩＦＮ−βは脱水した形をしており、使用の際に前記医薬として許容される担体又は希釈液によって再水和される、請求項１７に記載のキット。
【請求項１９】前記ｃｐｎ１０は脱水した形をしており、使用の際に、前記医薬として許容される担体又は希釈液によって再水和される、請求項１８に記載のキット。
【請求項２０】前記ｃｐｎ１０は錠剤又はカプセルの形をしている、請求項１７又は請求項１８に記載のキット。
【請求項２１】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが５−６０ｍｇのｃｐｎ１０を含む、請求項１７に記載のキット。
【請求項２２】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが１０−３０ｍｇのｃｐｎ１０を含む、請求項２１に記載のキット。
【請求項２３】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが１−１０ＭＩＵのＩＦＮ−βを含む、請求項１７に記載のキット。
【請求項２４】医薬として有効量のｃｐｎ１０及びＩＦＮ−βが４−６ＭＩＵのＩＦＮ−βを含む、請求項２３に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月13日(2006.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】ＴＮＦ受容体のシグナリングを妨害するかまたは阻害するＴＮＦアンタゴニスト並びに薬学上受容可能な担体を含む、子宮内膜症の治療および／または予防における使用のための薬剤組成物。
【請求項２】ＴＮＦ受容体のシグナリングを妨害するかまたは阻害するＴＮＦアンタゴニスト並びに薬学上受容可能な担体を含む、子宮内膜損傷を減じることによる子宮内膜症関連の不妊の治療および／または予防における使用のための薬剤組成物。
【請求項３】 ＴＮＦアンタゴニストが、ＴＮＦがもはや膜結合性ＴＮＦ受容体に結合できない様式にてＴＮＦの特定のエピトープに結合できるポリペプチドである、請求項１または２記載の薬剤組成物。
【請求項４】 ＴＮＦアンタゴニストが、ＴＮＦに結合する受容体分子、またはその断片または誘導体である、請求項３記載の薬剤組成物。
【請求項５】 受容体分子がＴＮＦ−ＲＩおよびＴＮＦ−ＲＩＩからなるグループから選択される、請求項４記載の薬剤組成物。
【請求項６】 受容体分子がＴＮＦ−ＲＩの細胞外ドメインである、請求項４記載の薬剤組成物。
【請求項７】 受容体分子がヒト可溶性組換えＴＮＦ−ＲＩである、請求項４記載の薬剤組成物。
【請求項８】 受容体分子がＴＮＦ受容体マルチマー分子またはその機能性部分である、請求項４記載の薬剤組成物。
【請求項９】 ＴＮＦ受容体マルチマー分子が一つまたは複数のポリペプチドリンカーを通して結合したＴＮＦ受容体の全てまたは該受容体の２つまたは複数の細胞外ドメンの機能性部分を含む、請求項８記載の薬剤組成物。
【請求項１０】 受容体分子が免疫受容体融合分子またはその機能性部分である、請求項４記載の薬剤組成物。
【請求項１１】 免疫受容体融合部分が、ＴＮＦ受容体の全てまたはその機能性部分、および免疫グロブリン鎖を含む、請求項１０記載の薬剤組成物。
【請求項１２】 ＴＮＦアンタゴニストが抗ＴＮＦ抗体またはその断片である、請求項１または２記載の薬剤組成物。
【請求項１３】 モノクローナル抗体がキメラモノクローナル抗体、ヒト化モノクローナル抗体またはそれらの断片からなるグループから選択される、請求項１２記載の薬剤組成物。
【請求項１４】 ＴＮＦアンタゴニストが可溶状態にとどめておく（ｓｅｑｕｅｓｔｅｒｉｎｇ）アンタゴニストである、請求項１ないし１３の何れか１項記載の薬剤組成物。
【請求項１５】 ＴＮＦアンタゴニストがシグナリングアンタゴニストである、請求項１ないし１３の何れか１項記載の薬剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月19日(2007.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  慢性心臓疾患を有するヒトを処置するための組成物であって、治療的有効量の殺菌性／透過性増大（ＢＰＩ）タンパク質産物を含む、組成物。
【請求項２】  前記ＢＰＩタンパク質産物がｒＢＰＩ21である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】  前記慢性心臓疾患が慢性うっ血性心不全である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】  前記慢性心臓疾患が心筋症である、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】  前記慢性心臓疾患が先天性心臓欠損症である、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】  前記ヒトが、循環中のＬＰＳのレベルの上昇を示す、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】  前記ヒトが、循環中のＬＢＰのレベルの上昇を示す、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】  前記ヒトが、循環中のＬＰＳおよび循環中のＬＢＰのレベルの上昇を示す、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】  前記慢性心臓疾患状態を処置するために第２の治療剤をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】  前記慢性心臓疾患状態が、慢性うっ血性心不全であり、そして前記第２の治療剤が、利尿剤、陽性強心剤、血管拡張剤、およびβ遮断剤からなる群より選択される、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】  慢性心臓疾患状態の処置のための医薬の製造のための、ＢＰＩタンパク質産物の使用。
【請求項１２】  前記慢性心臓疾患が慢性うっ血性心不全である、請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】  前記慢性心臓疾患が心筋症である、請求項１１に記載の使用。
【請求項１４】  前記慢性心臓疾患が先天性心臓欠損症である、請求項１１に記載の使用。
【請求項１５】  ヒトが循環中のＬＰＳおよび循環中のＬＢＰのレベルの上昇を示す、請求項１１に記載の使用。
【請求項１６】  慢性心臓疾患状態に罹患するヒトを処置するための医薬の調製のためのＢＰＩタンパク質産物の使用であって、該ヒトが循環中のＬＰＳのレベルの上昇を示す、使用。
【請求項１７】  慢性心臓疾患状態に罹患するヒトを処置するために医薬の調製のためのＢＰＩタンパク質産物の使用であって、該ヒトが循環中のＬＢＰのレベルの上昇を示す、使用。
【請求項１８】  慢性心臓疾患状態に罹患するヒトを処置するために医薬の調製のためのＢＰＩタンパク質産物の使用であって、該ヒトが循環中のＬＰＳおよび循環中のＬＢＰのレベルの上昇を示す、使用。
【請求項１９】  慢性心臓疾患状態を処置するために別の治療剤とともに同時に投与するための医薬の調製のための、ＢＰＩタンパク質産物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月23日(2007.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  自己免疫疾患の処置のための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項２】  Ｂ細胞リンパ増殖性障害の処置のための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項３】  前記Ｂ細胞リンパ増殖性障害が癌である、請求項２に記載の使用。
【請求項４】  免疫抑制疾患の処置のための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用。
【請求項５】  前記免疫抑制疾患がＨＩＶによって引き起こされる、請求項４に記載の使用。
【請求項６】  患者におけるＢ細胞増殖を阻害することによって自己免疫疾患を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項７】  患者における免疫グロブリンの産生を阻害することによって自己免疫疾患を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項８】  患者におけるＢ細胞増殖および免疫グロブリンの産生を阻害することによって自己免疫疾患を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項９】  患者におけるＢ細胞増殖を阻害することによってＢ細胞リンパ増殖性障害を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項１０】  患者における免疫グロブリンの産生を阻害することによってＢ細胞リンパ増殖性障害を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項１１】  患者におけるＢ細胞増殖および免疫グロブリンの産生を阻害することによってＢ細胞リンパ増殖性障害を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項１２】  前記Ｂ細胞リンパ増殖性障害が癌である、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１３】  患者におけるＢ細胞増殖を刺激することによって免疫抑制疾患を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用。
【請求項１４】  患者における免疫グロブリンの産生を刺激することによって免疫抑制疾患を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用。
【請求項１５】  患者におけるＢ細胞増殖および免疫グロブリンの産生を刺激することによって免疫抑制疾患を処置するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用。
【請求項１６】  前記免疫抑制疾患がＨＩＶによって引き起こされる、請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１７】  免疫学的疾患および癌を処置するために免疫系を操作するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用であって、該操作は、患者におけるＢ細胞増殖の阻害である、使用。
【請求項１８】  免疫学的疾患を処置するために免疫系を操作するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用であって、該操作は、患者における免疫グロブリンの産生の阻害である、使用。
【請求項１９】  前記操作が、患者におけるＢ細胞増殖および免疫グロブリンの産生の阻害である、請求項１７または１８に記載の使用。
【請求項２０】  免疫学的疾患を処置するために免疫系を操作するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用であって、該操作は、患者におけるＢ細胞増殖の刺激である、使用。
【請求項２１】  免疫学的疾患を処置するために免疫系を操作するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用であって、該操作は、患者における免疫グロブリンの産生の刺激である、使用。
【請求項２２】  前記操作が、患者におけるＢ細胞増殖および免疫グロブリンの産生の刺激である、請求項２０または２１に記載の使用。
【請求項２３】  患者におけるＢ細胞増殖を阻害するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項２４】  患者における免疫グロブリンの産生を阻害するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項２５】  患者におけるＢ細胞増殖および免疫グロブリンの産生を阻害するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドに特異的な抗体または該抗体の活性なフラグメントの、使用。
【請求項２６】  患者におけるＢ細胞増殖を刺激するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用。
【請求項２７】  患者における免疫グロブリンの産生を刺激するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用。
【請求項２８】  患者におけるＢ細胞増殖および免疫グロブリンの産生を刺激するための薬学的組成物の調製のための、可溶性ＢＡＦＦリガンドまたはその活性なフラグメントの、使用。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月17日(2006.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ＧＩＴレセプターと特異的に結合するタンパク質を含むＧＩＴ標的化薬剤の１つのドメインに特異的な抗体または抗体フラグメント。
【請求項２】  抗体または抗体フラグメントが、ポリクローナル抗体、モノクローナル抗体、キメラ抗体、一本鎖抗体，ＦａｂフラグメントまたはＦａｂ発現ライブラリーからなる群より選択される、請求項１記載の抗体または抗体フラグメント。
【請求項３】  ＧＩＴ標的化薬剤が、ＺＥｌａｎ０３３（ＰＡＸ２、１５マー）（配列番号１）、ＺＥｌａｎ０８８（ＨＡＸ４２−２、２０マー）（配列番号２）またはＺＥｌａｎ０５３（Ｐ３１  Ｄ型、１６マー）（配列番号３）からなる群より選択される、請求項１記載の抗体または抗体フラグメント。
【請求項４】  タンパク質が５０アミノ酸未満の長さである、請求項１記載の抗体又は抗体フラグメント。
【請求項５】  ＧＩＴ輸送レセプターが、Ｄ２Ｈ、ｈＳ１、ＨＰＴ１及びｈＰＥＰＴ１からなる群から選択される、請求項１記載の抗体又は抗体フラグメント。
【請求項６】  抗体が検出可能なラベルと結合している、請求項１記載の抗体又は抗体フラグメント。
【請求項７】  請求項１記載の抗体又は抗体フラグメント及び医薬的に許容できる担体を含む、組成物。
【請求項８】  請求項１記載の抗体又は抗体フラグメント及び医薬的に許容できる担体からなる、組成物。
【請求項９】  静脈内投与に適する、請求項７又は８記載の組成物。
【請求項１０】  生体内で請求項１記載の抗体又は抗体フラグメントを調製する方法であって、配列番号１〜１２からなる群から選択されるアミノ酸配列を含むタンパク質を、非ヒトである動物の体液中で抗体の形成を誘導する条件下で、非ヒトである動物に投与することを含む、前記方法。
【請求項１１】  さらに、非ヒトである動物の体液から前記抗体又は抗体フラグメントを単離する段階を含む、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  体液が血液である、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】  体液が血清である、請求項１０記載の方法。
【請求項１４】  タンパク質を筋肉内投与する、請求項１０記載の方法。
【請求項１５】  組成物中のＧＩＴ標的化薬剤の存在を同定する方法、または、組成物中のＧＩＴ標的化薬剤を定量する方法であって、前記組成物は活性薬剤と結合したＧＩＴ標的化薬剤を含み、（ａ）抗体または抗体フラグメントとＧＩＴ標的化薬剤との間の結合を誘導する条件下で、ＧＩＴ標的化薬剤の１つのドメインに特異的な抗体または抗体フラグメントを該組成物と接触させ；そして（ｂ）ＧＩＴ標的化薬剤と特異的に結合する抗体または抗体フラグメントの量を検出する段階からなる、上記の同定または定量方法。
【請求項１６】  組成物中のＧＩＴ標的化薬剤の存在箇所（ｌｏｃａｔｉｏｎ）を同定する方法であって、前記組成物は活性薬剤と結合したＧＩＴ標的化薬剤を含み、（ａ）抗体または抗体フラグメントとＧＩＴ標的化薬剤との間の結合を誘導する条件下で、ＧＩＴ標的化薬剤の１つのドメインに特異的な抗体または抗体フラグメントを該組成物と接触させ；そして（ｂ）ＧＩＴ標的化薬剤に特異的に結合する抗体または抗体フラグメントの位置を可視化する段階からなる、上記同定方法。
【請求項１７】  組成物が活性薬剤を充填したナノまたはミクロ粒子と結合したＧＩＴ標的化薬剤を含む、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】  ＧＩＴ標的化薬剤含有組成物を、ヒトまたは動物の胃腸組織と接触させた後にＧＩＴ標的化薬剤の存在箇所を同定する方法であって、（ａ）抗体または抗体フラグメントとＧＩＴ標的化薬剤との間の結合を誘導する条件下で、ＧＩＴ標的化薬剤の１つのドメインに特異的な抗体または抗体フラグメントを該組成物と接触させ；そして（ｂ）ＧＩＴ標的化薬剤に特異的に結合する抗体または抗体フラグメントの位置を検出する段階からなる、上記同定方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
Ｃ8〜Ｃ30、好ましくは、Ｃ10〜Ｃ22の脂肪酸のアルカリまたはアルカリ土類金属塩、より好ましくは、ヒマシ油硫酸塩、そして特にＮａ+またはＮＨ4+の硫酸塩が、イオウ化、好ましくはスルフォン化脂肪酸塩として使用される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
モノブリリアンテールＲ（Monobrilliantoel (登録商標)、Stockhausen GmbH & Co, KG）またはスタンダポールＳＣＯ（Standapol SCO、Henkel KGaA）が、ヒマシ油スルフォン酸塩として適している。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
驚くべきことに、本発明の目的が達成できるのは、粗いハンドクレンザ組成物中の植物油含有量が脂肪アルコールエトキシレートの含有量以上であり、かつ、脂肪アルコールエトキシレートの含有量が、脂肪アルコールエーテル硫酸塩とイオウ化脂肪酸塩の２種の成分の含有量以上である場合のみであることが分かった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月15日(2006.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の機器を含むホームネットワークにおける制御装置であって、
夫々の機器は、上記機器を制御するための情報を含む関連記述子を有し、
上記制御装置は、上記機器に対応した記述子を処理する処理器と、
上記記述子に基づいてマークアップ言語ページ又はページの一部を表示する表示信号を発生する画像発生器とを有し、
上記記述子の夫々は、夫々の機器の少なくとも一つの制御機能と、複数の制御機能様式の一つであって、夫々の制御機能に関連付けられた対応する制御機能様式とを有し、
上記制御装置は、複数の機器の記述子を使用して、上記複数の機器に対して同じ様式の制御機能を認知して統合することで、このように統合された機能を単一のマークアップ言語ページ又はページの一部に表示可能とすることを特徴とする制御装置。
【請求項２】  上記処理器は、記述子を該記述子が関連づけられた機器から直接的にロードするようにプログラムされ、上記記述子は、この機器のメモリに記憶されていることを特徴とする請求項１記載の制御装置。
【請求項３】  上記処理器は、上記ホームネットワークとは異なるネットワークに配置されたインターネットサーバーから記述子をロードするようにプログラムされ、該記述子のアドレスは、該記述子が関連づけられた機器からロードされることを特徴とする請求項１記載の制御装置。
【請求項４】  記述子は、上記機器に関連した静的情報の表示、上記機器に関連した動的情報の表示、又は上記機器の機能を制御するオブジェクトの表示の中の少なくとも一つの機能を含むことを特徴とする請求項１記載の制御装置。
【請求項５】  記述子は、機器の機能を制御するオブジェクトと、上記マークアップ言語ページ又はページの一部が関連づけられた上記機器に送信されるべき対応するコマンドを発生させるプログラムとを収容することを特徴とする請求項１記載の制御装置。
【請求項６】  記述子は、データ形式の発生源又は受信器として機器を特定するコンフィギュレーションデータを有し、上記処理器は、ユーザが機器間の接続を指定できるように少なくとも一つのコンフィギュレーションページを作成するようプログラムされ、該少なくとも一つのコンフィギュレーションページは、可能な接続を指定することを特徴とする請求項１記載の制御装置。
【請求項７】  家庭用通信ネットワークにおいて表示装置に接続された制御装置を有する少なくとも一つの機器を制御する方法であって、
夫々の機器の少なくとも一つの制御機能と、複数の制御機能様式の一つであって、夫々の制御機能に関連付けられた対応する制御機能様式とを夫々含む記述子をロードするステップと、
複数の機器の記述子において同じ様式の制御機能を認知して統合するステップと、
該認知ステップに基づいて、複数の機器に対して同じ様式の統合された機器制御機能を含む少なくとも一つのマークアップ言語ページを作成するステップとを有することを特徴とする方法。
【請求項８】  記述子は、該記述子に関連した機器によって提供されたアドレスに基づいて、上記ホームネットワークとは異なるネットワークに配置されたサーバ上に配置されたインターネットサーバーからロードされることを特徴とする請求項７記載の制御装置。
【請求項９】  ネットワークにおいて少なくとも一つの機器を制御するシステムであって、
制御装置と、
該制御装置に結合された少なくとも一つの機器とを有し、
上記少なくとも一つの機器は、上記制御装置に送信されて、上記制御装置によって表示される少なくとも一つの関連記述子を有し、該少なくとも一つの関連記述子は、夫々の機器の少なくとも一つの制御機能と、複数の制御機能様式の一つである対応する制御機能様式とを有し、
上記制御装置は、複数の機器からの関連記述子を使用し、上記複数の機器に対して同じ様式の機器制御機能を認知して、該認知に基づいて統合することで、このように統合された機能を上記制御装置の単一のマークアップ言語ページに表示可能とすることを特徴とするシステム。
【請求項１０】  上記少なくとも一つの機器と上記制御装置との間に結合された少なくとも一つのインターフェースを更に有することを特徴とする、請求項９記載のシステム。
【請求項１１】  上記少なくとも一つのインターフェースは、上記少なくとも一つの関連記述子を記憶するように構成されることを特徴とする、請求項１０記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月29日(2007.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
‐水硬性結合剤の総重量に対して５重量％未満のアルミン酸三カルシウム含有率を有するセメントにより形成されている水硬性結合剤、
‐１２０〜３０００μｍの粒度分布を有する鋼基材ショット、
‐２μｍ以下の粒度を有する非高密度化シリカフューム、および
‐高減水超可塑剤
を含んでなる組成物を水と混合し、水の重量と水硬性結合剤の重量との比率が０．１６〜０．２５であることにより得られる複合材料であって、
Ｃ．Ｎ．Ｒプロトコルによる測定で０．１５〜１．０の摩耗指数（Ｉ）を有する複合材料を得られるように、１００重量部の水硬性結合剤当たり、２５０〜８００重量部のショットおよび１０〜１５重量部のシリカフュームを該組成物が含んでなり、ショットのＤ１０粒度の値が水硬性結合剤のＤ９０粒度の値より少なくとも８倍大きいことで特徴付けられる複合材料。
【請求項２】
複合材料の摩耗指数（Ｉ）が０．１５〜０．４５である、請求項１に記載の複合材料。
【請求項３】
水の重量と水硬性結合剤の重量との比率が０．２０〜０．２５である、請求項１または２に記載の複合材料。
【請求項４】
組成物が、１００重量部の水硬性結合剤当たり、３５０〜５５０重量部のショットを含んでなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の複合材料。
【請求項５】
ショットが、少なくとも：
‐０．０〜３．５％の炭素
‐０．０〜２％のケイ素
‐０．０〜２％のマンガン
‐０．０〜２０％のクロム
‐０．０〜１０％のニッケル
も含んでなる鉄基材合金により形成されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の複合材料。
【請求項６】
ショットが、少なくとも：
‐０．０〜１．２％の炭素
‐０．０〜１．２％のケイ素
‐０．０〜１．２％のマンガン
‐０．０〜１．２％のクロム
‐０．０〜０．３％のニッケル
も含んでなる鉄基材合金により形成されている、請求項５に記載の複合材料。
【請求項７】
鋼基材ショットが５００〜１２００μｍの粒度分布を有している、請求項１〜６のいずれか一項に記載の複合材料。
【請求項８】
ショットが丸型である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の複合材料。
【請求項９】
ショットが角型である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の複合材料。
【請求項１０】
組成物が、粒度分布で異なる、少なくとも２タイプのショットの混合物を含んでなる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の複合材料。
【請求項１１】
組成物が、硬化後に複合材料の気孔率を減少させるための消泡剤を含んでなる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の複合材料。
【請求項１２】
複合材料の密度が、４０００〜６０００ｋｇ／ｍ３、好ましくは４５００〜５２００ｋｇ／ｍ３である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の複合材料。
【請求項１３】
水、高減水超可塑剤、シリカフューム、セメントおよび鋼基材ショットを連続的に混合することでフレッシュな混合物を形成し、次いで該混合物が硬化前に成形される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載された複合材料の製造方法。
【請求項１４】
スラリーを形成するために、高乱流ミキサーに水、高減水超可塑剤、シリカフュームおよびセメントを入れて予め混合し、次いで鋼ショットがミキサー中のスラリーに配合されることで、フレッシュな混合物が形成される、請求項１３に記載の複合材料の製造方法。
【請求項１５】
スラリーの作業性を調整するために、スラリーが形成された際に、少量の水がミキサーに加えられる、請求項１４に記載の複合材料の製造方法。
【請求項１６】
硬化後に、耐摩耗性コーティング、シールディングまたは製造保護エレメントを得られるように、フレッシュな混合物が成形される、請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の複合材料の製造方法。
【請求項１７】
成形が、フレッシュな混合物の成型により行われる、請求項１６に記載の複合材料の製造方法。
【請求項１８】
成形が、フレッシュな混合物の射出により行われる、請求項１６に記載の複合材料の製造方法。
【請求項１９】
成形が、フレッシュな混合物のチキソフォーミングにより行われる、請求項１６に記載の複合材料の製造方法。
【請求項２０】
成形が、フレッシュな混合物の押出により行われる、請求項１６に記載の複合材料の製造方法。
【請求項２１】
成形が、フレッシュな混合物のその場の投出により行われる、請求項１６に記載の複合材料の製造方法。
【請求項２２】
フレッシュな混合物が成形された後で、それが熱処理をうける、請求項１６〜２１のいずれか一項に記載の複合材料の製造方法。
【請求項２３】
得られた耐摩耗性コーティング、シールディングまたは製造保護エレメントが機械にかけられる、請求項１６〜２２のいずれか一項に記載の複合材料の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は：
‐水硬性結合剤の総重量に対して５重量％未満のアルミン酸三カルシウム含有率を有するセメントにより形成されている水硬性結合剤
‐１２０〜３０００μｍの粒度分布を有する鋼基材ショット
‐２μｍ以下の粒度を有する非高密度化シリカフューム
‐高減水超可塑剤
を含んでなる組成物を水と混合し、水の重量と水硬性結合剤の重量との比率が０．１６〜０．２５であることにより得られる複合材料に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月14日(2007.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３つの銀層（Ａｇ1，Ａｇ2，Ａｇ3）を包含し、かつ二酸化チタン層（２１）、金属酸化物層（２２）、銀層（Ａｇ1，Ａｇ2，Ａｇ3）の１つ及び被覆層（２３）を基板上に交互に含んで成る薄膜多重層（２０）が備わった透明基板において、
金属酸化物が酸化亜鉛であること；
被覆層（２３）が犠牲金属であること；及び
少なくとも１つの金属酸化物を含む反射防止層（２４）が、基板から最も遠く離れた銀層（Ａｇ3）のための被覆層（２３）上に被着されていること、
を特徴とする透明基板。
【請求項２】
銀層（Ａｇ1，Ａｇ2，Ａｇ3）の各々の厚みが１３ｎｍ〜１９ｎｍの間であることを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項３】
それぞれの層（Ａｇ1，Ａｇ2，Ａｇ3）の厚み（ｅＡｇ1，ｅＡｇ2，ｅＡｇ3）が同一であるか、さもなければ、０．８〜１．２の間の比率で変動し、ｅＡｇ1≦ｅＡｇ3≦ｅＡｇ2となるようなものであることを特徴とする請求項２に記載の基板。
【請求項４】
基板に最も近い銀層（Ａｇ1）のための副層としての二酸化チタン層（２１）が、１０〜２０ｎｍの厚みを有し、その他の２つの銀層（Ａｇ2，Ａｇ3）のための副層としての酸化チタン層（２１）が、３５〜５５ｎｍの厚みを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項５】
酸化亜鉛層（２２）が１５ｎｍより大きい厚みを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板。
【請求項６】
犠牲金属層（２３）が、ニオブ（Ｎｂ）、チタン（Ｔｉ）又はジルコニウム（Ｚｒ）からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板。
【請求項７】
犠牲金属層（２３）が、２ｎｍを超えない厚みを有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の基板。
【請求項８】
反射防止層（２４）が、２５〜５０ｎｍの厚みを有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の基板。
【請求項９】
反射防止層（２４）が、１５〜３５ｎｍの厚みを有する少なくとも１つの二酸化チタン層を内含することを特徴とする請求項８に記載の基板。
【請求項１０】
反射防止層（２４）が、二酸化チタン層及びこの二酸化チタン層上に被着させられ５〜１５ｎｍの厚みを有する金属酸化物のもう１つの層を内含することを特徴とする請求項８又は９のいずれかに記載の基板。
【請求項１１】
反射防止層（２４）の金属酸化物層が、酸化錫（ＳｎＯ2）又は窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）であることを特徴とする請求項１０に記載の基板。
【請求項１２】
１Ω／□を超えない表面抵抗を有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１３】
強化ガラス又は非強化ガラスから作られているか又はプラスチックから作られていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１４】
下記のような光学特性：
４５〜５５％の間の光透過率ＴL；
透過における１０％未満の純度；
５％未満の光反射率ＲL；
２０％未満の純度での反射における主として紫−青の色；
透過における主として青の色、
を有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板を含む電磁遮蔽フィルタ。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の少なくとも１つの基板又はフィルタをその前面に内蔵するプラズマディスプレイタイプの表示スクリーン。