(57)【要約】【課題】  欠陥部を迅速に修正することが可能な作業性のよいパターン修正装置およびパターン修正方法を提供する。【解決手段】  このパターン修正装置では、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３にある白抜け欠陥部１３ａに、シャッタ３１を開きながら塗布ノズル３０から霧状の修正液２０を噴出する。白抜け欠陥部１３ａ全体に適切な量の修正液２０ａが行きわたったら、シャッタ３１を閉じる。このため、従来の針方式のように１回塗布するごとに針にインクを付け直す作業を必要とせず、白抜け欠陥部に連続して修正液を堆積させることができる。したがって、欠陥修正にかかるタクトタイムの短縮が可能となる。【選択図】        図５
2006235313.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された微細パターンの色抜け欠陥部を修正するパターン修正装置において、
前記基板の表面を観察する観察光学系と、
前記色抜け欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして前記色抜け欠陥部に噴射し、前記修正液を前記色抜け欠陥部に堆積させて前記色抜け欠陥部を修正する堆積装置と、
前記基板と前記堆積装置を相対的に移動させる移動装置とを備えたことを特徴とする、パターン修正装置。
【請求項２】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置において、
前記基板の表面を観察する観察光学系と、
前記欠陥部を含む所定範囲にレーザ光を出射してレーザカットを行ない、前記欠陥部を含む所定範囲の着色層を除去して色抜け欠陥部を形成するレーザ装置と、
前記欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして前記色抜け欠陥部に噴射し、前記修正液を前記色抜け欠陥部に堆積させて前記色抜け欠陥部を修正する堆積装置と、
前記基板と前記堆積装置を相対的に移動させる移動装置とを備えたことを特徴とする、パターン修正装置。
【請求項３】
さらに、少なくとも前記色抜け欠陥部を含む範囲で前記基板を加熱する加熱装置を含むことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のパターン修正装置。
【請求項４】
さらに、前記基板の少なくとも前記色抜け欠陥部を含む範囲に紫外線を照射して、前記色抜け欠陥部に堆積された前記修正液を硬化させる紫外線光源を含むことを特徴とする、請求項１から請求項３までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項５】
前記堆積装置は、
前記修正液を霧状にする噴霧部と、
霧状にされた修正液を噴出する塗布ノズルと、
待機時に前記塗布ノズルから噴出される霧状の修正液を受けるシャッタを含むことを特徴とする、請求項１から請求項４までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項６】
前記堆積装置は、
前記修正液を霧状にする噴霧部と、
霧状にされた修正液を噴出する塗布ノズルと、
噴出された霧状の修正液のうちの少なくとも一部を吸引する排気管とを含むことを特徴とする、請求項１から請求項４までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項７】
前記堆積装置は、さらに、待機時に前記塗布ノズルから噴出される霧状の修正液を受けるシャッタを含み、
前記排気管は、前記シャッタによって受けられた霧状の修正液を吸引し、
前記排気管と前記シャッタが一体的に形成されていることを特徴とする、請求項６に記載のパターン修正装置。
【請求項８】
前記排気管の吸引口は、前記塗布ノズルの先端の周りにリング状に形成されていることを特徴とする、請求項６に記載のパターン修正装置。
【請求項９】
さらに、前記色抜け欠陥部と略同じ寸法の開口部を有し、該開口部が前記色抜け欠陥部に対向して配置されるスリットを備え、
前記移動装置を駆動して前記基板と前記堆積装置を前記スリットの開口部の大きさよりも広い範囲に亘って相対的に移動させ、前記修正液を前記色抜け欠陥部に堆積させることを特徴とする、請求項１から請求項８までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項１０】
さらに、前記スリットに付着した修正液を吸引除去するスリット排気管を備えたことを特徴とする、請求項９に記載のパターン修正装置。
【請求項１１】
前記堆積装置は、さらに、前記修正液を前記噴霧部に補充する補充装置を含むことを特徴とする、請求項５から請求項１０までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項１２】
前記堆積装置は、さらに、前記修正液を希釈するための希釈液を前記噴霧部に補充する補充装置を含むことを特徴とする、請求項５から請求項１０までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項１３】
前記堆積装置は、複数の着色層に対応して複数個設けられることを特徴とする、請求項１から請求項１２までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項１４】
前記堆積装置の前記噴霧部は、複数の着色層に対応して複数個設けられ、
前記堆積装置は、複数の前記噴霧部のうちのいずれか１つの噴霧部を選択して使用する選択部を含み、
前記パターン修正装置は、前記選択部によって使用する噴霧部が切替られる際に、前記堆積装置のうちの少なくとも前記塗布ノズル内に洗浄ガスまたは洗浄液を流して洗浄する洗浄装置を備えることを特徴とする、請求項５から請求項１２までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項１５】
前記洗浄装置は、その吸込口に前記塗布ノズルが挿入され、前記塗布ノズルから噴出される洗浄ガスまたは洗浄液を排出するダクトを含むことを特徴とする、請求項１４に記載のパターン修正装置。
【請求項１６】
前記基板は、液晶パネル用のカラーフィルタ基板である、請求項１から請求項１５までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項１７】
前記基板は、プラズマディスプレイの背面基板である、請求項１から請求項１５までのいずれかに記載のパターン修正装置。
【請求項１８】
基板上に形成された微細パターンの色抜け欠陥部を修正するパターン修正方法であって、
前記色抜け欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして前記色抜け欠陥部に噴出し、前記修正液を前記色抜け欠陥部に堆積させる堆積装置と、
レーザ光を出射してレーザカットを行なうレーザ装置とを設け、
前記色抜け欠陥部を含む範囲を覆うようにして前記基板上にフィルムを貼り付け、
前記レーザ装置によって前記フィルムのうちの前記色抜け欠陥部を覆っている所定形状の部分とその下部の微細パターンをレーザカットして除去し、
前記堆積装置によって前記所定形状の部分を含み前記フィルムからはみ出さない範囲に前記修正液を堆積させ、
前記修正液の堆積が完了した後に前記フィルムを除去することを特徴とする、パターン修正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、パターン修正装置およびパターン修正方法に関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置およびパターン修正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルをカラー化するために用いられるカラーフィルタは、画面の大型化、高精細化に伴って画素数が増大している。そのため、欠陥の無いカラーフィルタを製造することが困難となり、白抜け欠陥や黒欠陥、異物欠陥、突起欠陥、混色欠陥などが発生する。白抜け欠陥に対しては修正インクを滴下して修正する方法が採用され、黒欠陥、異物欠陥に対してはレーザ光を照射することによって欠陥部を含む範囲を除去した後、修正インクを滴下する方法が採用されている。また、突起欠陥に関しては、レーザ光で除去する代わりに研磨などで突起部を平らにする方法が取られている。白抜け欠陥部に修正インクを塗布する方法としては、針先端にインクを付着させて塗布する針方式がある。また、他には、微小なインク滴を高速に噴出するインクジェット方式、インク液を一定量ずつ吐出するディスペンサ方式などがある。
【０００３】
また、プラズマディスプレイの背面パネルの製造工程においても、リブ（隔壁）とリブの間の凹部の蛍光体の色抜け欠陥や、リブ上面の黒色部の色抜け欠陥などが発生する。これらの欠陥についても、同様の方法で欠陥修正が行なわれる。
【０００４】
下記の特許文献１には、比較的簡単な構成でカラーフィルタの白欠陥および黒欠陥を自動的に修正することのできる欠陥修正方法および欠陥修正装置が開示されている。これによると、画像処理機構によってカラーフィルタの欠陥部分を認識し、認識されたカラーフィルタの欠陥部分に、インク塗布機構のインク塗布用針で、針方式によってインクを塗布する。
【特許文献１】特開平９−６１２９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した針方式は微細な径の塗布が可能であるが、１回塗布するごとに針にインクを付け直す作業が必要であった。また、インクの色を変える場合は塗布針を洗浄する必要があった。このため、欠陥部の修正に要する時間が長く、作業性が悪いという問題があった。
【０００６】
また、インクジェット方式は微細制御が可能であるが、１回当たりのインク吐出量の単位を少なくするために吐出口を小さくする必要があり、インクの目詰まりが起こりやすかった。このため、使用するインクの粘度や種類などのノウハウが必要であり、作業性が悪いという問題があった。
【０００７】
それゆえに、この発明の主たる目的は、従来の問題点を解決し、欠陥部を迅速に修正することが可能な作業性のよいパターン修正装置およびパターン修正方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明に係わるパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの色抜け欠陥部を修正するパターン修正装置において、基板の表面を観察する観察光学系と、色抜け欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして色抜け欠陥部に噴射し、修正液を色抜け欠陥部に堆積させて色抜け欠陥部を修正する堆積装置と、基板と堆積装置を相対的に移動させる移動装置とを備えたことを特徴とする。
【０００９】
この発明に係わる他のパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置において、基板の表面を観察する観察光学系と、欠陥部を含む所定範囲にレーザ光を出射してレーザカットを行ない、欠陥部を含む所定範囲の着色層を除去して色抜け欠陥部を形成するレーザ装置と、欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして色抜け欠陥部に噴射し、修正液を色抜け欠陥部に堆積させて色抜け欠陥部を修正する堆積装置と、基板と堆積装置を相対的に移動させる移動装置とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
また好ましくは、さらに、少なくとも色抜け欠陥部を含む範囲で基板を加熱する加熱装置を含む。
【００１１】
また好ましくは、さらに、基板の少なくとも色抜け欠陥部を含む範囲に紫外線を照射して、色抜け欠陥部に堆積された修正液を硬化させる紫外線光源を含む。
【００１２】
また好ましくは、堆積装置は、修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液を噴出する塗布ノズルと、待機時に塗布ノズルから噴出される霧状の修正液を受けるシャッタを含む。
【００１３】
また好ましくは、堆積装置は、修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液を噴出する塗布ノズルと、噴出された霧状の修正液のうちの少なくとも一部を吸引する排気管とを含む。
【００１４】
また好ましくは、堆積装置は、さらに、待機時に塗布ノズルから噴出される霧状の修正液を受けるシャッタを含み、排気管は、シャッタによって受けられた霧状の修正液を吸引し、排気管とシャッタが一体的に形成されている。
【００１５】
また好ましくは、排気管の吸引口は、塗布ノズルの先端の周りにリング状に形成されている。
【００１６】
また好ましくは、さらに、色抜け欠陥部と略同じ寸法の開口部を有し、該開口部が色抜け欠陥部に対向して配置されるスリットを備える。移動装置を駆動して基板と堆積装置をスリットの開口部の大きさよりも広い範囲に亘って相対的に移動させ、修正液を色抜け欠陥部に堆積させる。
【００１７】
また好ましくは、さらに、スリットに付着した修正液を吸引除去するスリット排気管を備える。
【００１８】
また好ましくは、堆積装置は、さらに、修正液を噴霧部に補充する補充装置を含む。
【００１９】
また好ましくは、堆積装置は、さらに、修正液を希釈するための希釈液を噴霧部に補充する補充装置を含む。
【００２０】
また好ましくは、堆積装置は、複数の着色層に対応して複数個設けられる。
【００２１】
また好ましくは、堆積装置の噴霧部は、複数の着色層に対応して複数個設けられる。堆積装置は、複数の噴霧部のうちのいずれか１つの噴霧部を選択して使用する選択部を含む。パターン修正装置は、選択部によって使用する噴霧部が切替られる際に、堆積装置のうちの少なくとも塗布ノズル内に洗浄ガスまたは洗浄液を流して洗浄する洗浄装置を備える。
【００２２】
また好ましくは、洗浄装置は、その吸込口に塗布ノズルが挿入され、塗布ノズルから噴出される洗浄ガスまたは洗浄液を排出するダクトを含む。
【００２３】
また好ましくは、基板は、液晶パネル用のカラーフィルタ基板である。
【００２４】
また好ましくは、基板は、プラズマディスプレイの背面基板である。
【００２５】
この発明に係わるパターン修正方法は、基板上に形成された微細パターンの色抜け欠陥部を修正するパターン修正方法であって、色抜け欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして色抜け欠陥部に噴出し、修正液を色抜け欠陥部に堆積させる堆積装置と、レーザ光を出射してレーザカットを行なうレーザ装置とを設け、色抜け欠陥部を含む範囲を覆うようにして基板上にフィルムを貼り付け、レーザ装置によってフィルムのうちの色抜け欠陥部を覆っている所定形状の部分とその下部の微細パターンをレーザカットして除去し、堆積装置によって所定形状の部分を含みフィルムからはみ出さない範囲に修正液を堆積させ、修正液の堆積が完了した後にフィルムを除去する。
【発明の効果】
【００２６】
この発明に係わるパターン修正装置では、基板の表面を観察する観察光学系と、色抜け欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして色抜け欠陥部に噴射し、修正液を色抜け欠陥部に堆積させて色抜け欠陥部を修正する堆積装置と、基板と堆積装置を相対的に移動させる移動装置とを備えたことを特徴とする。したがって、霧状の修正液を色抜け欠陥部に噴出して修正するので、従来の針方式のように１回塗布するごとに針にインクを付け直す作業が必要なくなる。このため、欠陥修正にかかるタクトタイムの短縮が可能となり、作業性が向上する。また、従来のインクジェット方式に比べて塗布ノズルの先端の内径が大きいため、インクジェット方式において問題となっていた目詰まりが発生しにくくなり、作業性が改善される。
【００２７】
この発明に係わる他のパターン修正装置では、基板の表面を観察する観察光学系と、欠陥部を含む所定範囲にレーザ光を出射してレーザカットを行ない、欠陥部を含む所定範囲の着色層を除去して色抜け欠陥部を形成するレーザ装置と、欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして色抜け欠陥部に噴射し、修正液を色抜け欠陥部に堆積させて色抜け欠陥部を修正する堆積装置と、基板と堆積装置を相対的に移動させる移動装置とを備えたことを特徴とする。この場合は、色抜け欠陥部だけではなく、黒欠陥、異物欠陥、突起欠陥、混色欠陥などの欠陥も修正することができる。
【００２８】
この発明に係わるパターン修正方法では、色抜け欠陥部の着色層と同色の修正液を霧状にして色抜け欠陥部に噴出し、修正液を色抜け欠陥部に堆積させる堆積装置と、レーザ光を出射してレーザカットを行なうレーザ装置とを設け、色抜け欠陥部を含む範囲を覆うようにして基板上にフィルムを貼り付け、レーザ装置によってフィルムのうちの色抜け欠陥部を覆っている所定形状の部分とその下部の微細パターンをレーザカットして除去し、堆積装置によって所定形状の部分を含みフィルムからはみ出さない範囲に修正液を堆積させ、修正液の堆積が完了した後にフィルムを除去する。この場合は、色抜け欠陥部以外の部分に修正液が付着するのを防止することができる。また、微小な色抜け欠陥に対しても欠陥修正することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
［実施の形態１］
図１は、この発明の実施の形態１によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図１において、パターン修正装置１は、基板の表面を観察する観察光学系２と、観察された画像を映し出すモニタ３と、観察光学系２を介してレーザ光を基板に照射して不要部をカットするカット用レーザ部４と、欠陥修正用の修正材料を数μｍ以下の微粒子にして溶媒中に分散させた修正液を霧状にして欠陥部に噴出し、修正液を欠陥部に堆積させる微粒子堆積装置５と、欠陥部を加熱して霧状の修正液中の溶媒を気化させる基板加熱部６と、欠陥部を認識する画像処理部７と、装置全体を制御するホストコンピュータ８と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ９とを備える。さらに、その他に欠陥部を持つ基板をＸＹ方向（水平方向）に移動させるＸＹステージ１０と、ＸＹステージ１０上で基板を保持するチャック部１１と、観察光学系２や微粒子堆積装置５をＺ方向（垂直方向）に移動させるＺステージ１２などが設けられている。
【００３０】
修正する欠陥としては、液晶パネル用のカラーフィルタの白抜け欠陥、黒欠陥、異物欠陥、突起欠陥、混色欠陥、プラズマディスプレイの背面パネルの欠陥などが挙げられる。たとえば、カラーフィルタの白抜け欠陥を修正する場合は、カット用レーザ部４によるレーザ加工を省略して、始めから微粒子堆積装置５によって欠陥部を修正してもよい。
【００３１】
図２は、図１に示した微粒子堆積装置５の構成を示す断面図である。図２において、白抜け欠陥部（色抜け欠陥）１３ａがある着色層１３が表面に形成されたカラーフィルタ基板１４は、透明な厚板ガラスに吸着部を備えたチャック部１１に固定され、そのチャック部１１はＸＹステージ１０によりＸＹ方向に移動される。なお、カラーフィルタ基板１４全体を加熱するヒータをチャック部１１に内蔵してよい。また、チャック部１１に内蔵したヒータと、カラーフィルタ基板１４の上側から白抜け欠陥部１３ａを含む範囲を部分加熱することが可能な基板加熱部６とを併用することも可能である。カラーフィルタ基板１４が大型になる場合には、チャック部１１内にヒータを内蔵してカラーフィルタ基板１４全体を加熱することは大掛かりになるため、このような場合には基板加熱部６のみの構成にする方が好ましい。基板加熱部６としては、ＬＤ光源やＣＯ2レーザ等を用いることが可能である。
【００３２】
微粒子堆積装置５は、修正に用いる修正材料を数μｍ以下の微粒子にし、それを溶媒中に均一に分散して液状化した修正液を霧状にする噴霧部１５と、霧状にされた修正液の流れの圧力を減じる減圧部１６と、減圧された霧状の修正液を加熱する加熱部１７と、加熱された霧状の修正液を集束して白抜け欠陥部１３ａに噴出し、白抜け欠陥部１３ａに修正液を堆積するヘッド部１８とを含む。
【００３３】
噴霧部１５の容器１９内には修正液２０が注入されている。着色層１３の白抜け欠陥部１３ａを修正する場合には、修正液２０として、顔料分散タイプや染料タイプの修正液を適度な粘度に希釈したものを用いる。
【００３４】
容器１９の中央には噴霧ノズル２１が設けられている。噴霧ノズル２１の下部は修正液２０に浸けられている。容器１９の外部から噴霧ノズル２１にアトマイズガス（たとえば窒素ガス）を供給すると、噴霧ノズル２１上部の噴出口２１ａにおけるアトマイズガスの流速が速くなって周囲よりも気圧が下がるため、噴霧ノズル２１下端の吸入口２１ｂから修正液２０が吸い上げられ、アトマイズガスが噴出口２１ａから噴出するときに修正液２０も噴出口２1ａの周囲に飛び散り噴霧化される。この原理は普通の霧吹きの原理と同じでありベルヌーイの原理を応用したものである。大きな霧粒子は容器１９内に落下、あるいは容器１９の内壁面に衝突して容器１９内に留まり、微細な霧粒子だけが減圧部１６に送られる。
【００３５】
なお、アトマイズガスとしては、修正液２０が酸化しないように窒素ガスのような不活性ガスを用いることが好ましいが、酸化しない修正液２０であれば空気でも構わない。また、修正液２０を霧状するためにアトマイズガスを用いたが、修正液２０中の修正材料がサブミクロンのような超微粒子であれば、超音波を利用して噴霧する超音波噴霧装置を用いても構わない。
【００３６】
また、顔料分散タイプの修正液２０を使用した場合など、修正液２０中の修正材料の微粒子が時間の経過により沈殿し易い場合は、撹拌子を容器１９内に入れ、磁力で撹拌子を回転させるマグネチックスターラを容器１９の底に設置して修正液２０を常時撹拌するようにしてもよい。
【００３７】
減圧部１６は、一般的に知られているバーチャルインパクタ（分粒器）と同じものであり、修正液２０の霧粒子を分級するものである。小さな霧粒子はここで除去され、霧粒子の流れの圧力が減じられる。減圧部１６は、ノズル部２２と集気部２３と排気管２４と外管２５から構成される。ノズル部２２と集気部２３とは一定の隙間２６を保って対峙している。ノズル部２２から噴出された霧粒子のうちの流速が速い霧粒子や重い霧粒子は集気部２３を介して次段に供給されるが、流速が遅い霧粒子や軽い霧粒子などは排気管２４を介して排気ポンプ（図示せず）により排出される。
【００３８】
加熱部１７は、集気部２３と次段を結ぶパイプ２７を含む。パイプ２７の外周部にはヒータ２８と温度センサ２９が取り付けられ、パイプ２７が設定温度になるように制御され、霧粒子を加熱する機能を持つ。霧粒子を加熱することで、白抜け欠陥部１３ａに霧粒子が付着した時の流れや飛散を抑制する。あるいは、修正液２０の種類によっては霧粒子の粘度が低下することによって、白抜け欠陥部１３ａへの付着性が向上する。なお、ヒータ２８の周りは断熱部材（図示せず）で覆われている。
【００３９】
また、修正液２０の種類により霧粒子を加熱する必要がない場合は、加熱部１７を省略することも可能である。図３は、加熱部が省略された微粒子堆積装置５の構成を示す断面図である。なお、図３の微粒子堆積装置５において、噴霧部１５の容器２０を加熱する構成にしてもよい。
【００４０】
ヘッド部１８は、霧粒子の周りをシースガス（たとえば窒素ガス）で覆いこみ、霧粒子の流れを集束させてヘッド部１８下端の塗布ノズル３０から白抜け欠陥部１３ａに向けて霧粒子を噴出して、白抜け欠陥部１３ａ上に修正液を堆積させる。塗布ノズル３０の噴出口の内径は１００〜２００μｍ程度であり、シースガスによって噴出口の内径の１／１０程度まで霧粒子の流れを集束させることが可能である。このため、白抜け欠陥部１３ａが１０μｍ程度の微細な欠陥であっても、霧粒子を白抜け欠陥部１３ａの周りの着色層１３に付着させることなく、白抜け欠陥部１３ａのみに付着させることができる。
【００４１】
シャッタ３１は、欠陥修正を行なう前にカラーフィルタ基板１４上に霧粒子が噴出されないように塗布ノズル３０から噴出される霧粒子を受けるものである。修正開始時にシャッタ３１を開放して欠陥修正を行ない、修正完了と同時にシャッタ３１を塗布ノズル３０の先端とカラーフィルタ基板１４の間に移動させ、シャッタ３１で霧粒子を受ける。
【００４２】
図４は、図２に示した微粒子堆積装置５の斜視図である。図４を参照して、修正開始時にシャッタ３１を塗布ノズル３０の直下の位置からＸ方向に移動させて一定時間だけ開放し、修正液を白抜け欠陥部１３ａに堆積させて欠陥修正を行なう。そして、修正完了と同時にシャッタ３１を塗布ノズル３０の真下の位置まで移動させる。
【００４３】
なお、図示しないが、シャッタ３１を水平方向に回転させることによって開閉制御するようにしてもよい。
【００４４】
図２に戻って、欠陥修正時において、塗布ノズル３０とカラーフィルタ基板１４を接触させることなく一定の隙間を持って修正を行なう。基板加熱部６で白抜け欠陥部１３ａを含む微小範囲を予め加熱しておけば、塗布ノズル３０から噴出された霧粒子が白抜け欠陥部１３ａに付着した時点で修正液中の溶媒が蒸発して粘度が増すため、噴出された勢いで霧粒子が周囲に飛散するのが防止される。
【００４５】
シャッタ３１の開放時間は、白抜け欠陥部１３ａの面積と、噴霧部１５のアトマイズガスの流量、減圧部１６の排気流量、ヘッド部１８のシースガスの流量、加熱部１７の温度、および修正液２０の材料特性から予め実験で求めた修正液塗布量と、各パラメータの関係から決定される。
【００４６】
使用する修正液２０が紫外線硬化タイプであって、かつ着色層１３が紫外線吸収能力を持っている場合は、カラーフィルタ基板１４の下方に紫外線光源３２を設けて欠陥部１３ａに堆積した修正液を硬化させる。この場合、霧状の修正液２０が白抜け欠陥部１３ａの面積よりも大きい範囲に噴出されたとしても、紫外線光源３３を用いて白抜け欠陥部１３ａを含む範囲に紫外線を照射すれば、着色層１３がマスクとなって白抜け欠陥部１３ａのみに紫外線を照射でき、結果的に白抜け欠陥部１３ａに堆積した修正液を硬化させることができる。
【００４７】
なお、使用する修正液２０が熱硬化タイプである場合は、カラーフィルタ基板１４の下方に紫外線光源３２を設ける必要はない。この場合は、白抜け欠陥部１３ａに堆積した修正液の熱硬化処理を基板加熱部６で行なうことができ、工程の簡略化が可能となる。
【００４８】
次に、このパター修正装置によるパターン修正方法について説明する。図５（Ａ）〜（Ｃ）は、カラーフィルタ基板１４の表面に形成された着色層１３の白抜け欠陥部１３ａを修正する過程を示したものである。カラーフィルタ基板１４はＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の画素ＰＩＸ＿Ｒ，ＰＩＸ＿Ｇ，ＰＩＸ＿Ｂと、ブラックマトリクスＢＭ（黒）とからなる。各画素は、たとえば約１００×２００μｍの大きさ（カラーフィルタの仕様によって画素の大きさは異なる）であり、等ピッチで整列している。
【００４９】
図５（Ａ）は、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３に白抜け欠陥部１３ａがある様子を示している。図５（Ｂ）は、塗布ノズル３０から修正液２０の霧粒子が噴射されている途中を示している。シャッタ３１の開放時間が長くなるにつれて、白抜け欠陥部１３ａ上に噴射される修正液２０ａの量が多くなる。噴射された修正液２０ａが白抜け欠陥部１３ａの周りにある着色層１３に接触すると、毛細管現象によって白抜け欠陥部１３ａ全体に修正インク２０ａが広がる。白抜け欠陥部１３ａ全体に適切な量の修正液２０ａが行きわたったら、シャッタ３１を閉じる。このように、シャッタ３１の開放時間を調整することによって白抜け欠陥部１３ａに堆積させる修正液の量を調整する。図５（Ｃ）は、欠陥修正が終了した様子を示している。欠陥修正部分の膜厚を十分に確保したい場合は、白抜け欠陥部１３ａに堆積した修正液の硬化処理時における収縮率を加味して、修正液塗布量を調整してもよい。
【００５０】
このようにして、カラーフィルタ基板１４の白抜け欠陥部１３ａを修正することができる。ただし、黒欠陥、異物欠陥、突起欠陥、混色欠陥など、白抜け欠陥以外の欠陥を修正する場合は、カット用レーザ部４によるレーザ加工を行なって一度白抜け欠陥にした後、微粒子堆積装置５によって欠陥修正する。また、カラーフィルタ基板１４の白抜け欠陥部１３ａに対して、カット用レーザ部４によるレーザ加工を行なった後で、微粒子堆積装置５によって欠陥修正してもよい。
【００５１】
図６は、図１に示した観察光学系２およびカット用レーザ部４の構成を示す図である。図６において、カット用レーザ部４の直下にある可変スリット４０は、レーザ加工形状を形成するためのものであって、結像レンズ４１の焦点位置に設けられている。結像レンズ４１の下方にはハーフミラー４２，４３が設けられ、さらにその下には対物レンズ４４が設けられている。倍率が異なる複数の対物レンズ４４と、それらのうちの所望の倍率の対物レンズ４４を選択するレボルバを設けてもよい。可変スリット４０の開口部の形状が対物レンズ４４の倍率の割合で縮小されてレーザ加工形状となる。なお、落射光源４５の出射光がハーフミラー４３を介して白抜け欠陥部（または異物欠陥、突起欠陥など）１３ａなどに照射され、ハーフミラー４２を介して欠陥部１３ａなどの画像がＣＣＤカメラ４６によって撮像され、図１のモニタ３に映し出される。
【００５２】
このような可変スリット４０と加工用レーザ部４とを含むレーザ加工手段により、カラーフィルタ基板１４の白抜け欠陥部（または異物欠陥、突起欠陥など）１３ａの着色層１３を除去することができる。
【００５３】
また、紫外線硬化タイプの修正液２０を使用する場合、カット用レーザ部４と可変スリット４０との間には、ダイクロイックミラー４７が設けられ、ダイクロイックミラー４７の横方向には紫外線光源４８が設けられる。紫外線光源４８から出射された紫外線は、ダイクロイックミラー４７によって下方向に反射され、可変スリット４０を通過した後結像レンズ４１で結像され、ハーフミラー４２，３４を通過し、対物レンズ４４によってカラーフィルタ基板１３上の白抜け欠陥部１３ａ上に付着した修正液２０ａに照射される。
【００５４】
可変スリット４０は、レーザ加工形状を形成するためのものであるとともに、紫外線光源４８から出射された紫外線を基板１４に照射する紫外線照射形状を定める役割も有する。この可変スリット４０により、レーザ加工形状と紫外線照射形状とを同一にすることが可能である。
【００５５】
なお、熱硬化タイプの修正液２０を使用する場合は、紫外線光源４８に代わって、加熱可能なレーザを使用してもよい。
【００５６】
次に、カラーフィルタ基板１４の白抜け欠陥部（または異物欠陥、突起欠陥など）１３ａに対して、カット用レーザ部４によるレーザ加工を行なった後、微粒子堆積装置５によって欠陥修正する場合のパターン修正方法について説明する。
【００５７】
図７（Ａ）〜（Ｃ）は、カラーフィルタ基板１４の表面に形成された着色層１３の白抜け欠陥部（または異物欠陥、突起欠陥など）１３ａを修正する過程を示したものである。
【００５８】
図７（Ａ）は、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３に白抜け欠陥部１３ａがある様子を示している。ここで、まずカット用レーザ部４によるレーザ加工を行なう。このとき、可変スリット４０の開口部の形状を調整して白抜け欠陥部１３ａよりも大きい範囲にレーザ光を照射して、着色層１３を除去する。
【００５９】
図７（Ｂ）は、カット用レーザ部４によって画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３が除去された様子を示している。このように、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３をレーザカットすることによって、白抜け欠陥部１３ａａを作る。加工用レーザ部４としては、たとえばＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet）レーザを使用する。第２高調波のＹＡＧレーザや第３あるいは第４高調波のＹＡＧレーザを用いてもよいし、これらの選択が可能な複合タイプのＹＡＧレーザを用いてもよい。なお、加工用レーザ部４としてはこれら以外にも使用できるものがあり、ここに示したレーザに限定されるものではない。
【００６０】
図７（Ｂ）では、１つの画素ＰＩＸ＿Ｂの全体をレーザカットした例を示している。次に、ＸＹステージ１０によって白抜け欠陥部１３ａａを微粒子堆積装置５の塗布ノズル３０の直下まで移動させる。そして、白抜け欠陥部１３ａaを基板加熱部６で加熱しながら、塗布ノズル３０から修正液２０の霧粒子を噴射して
、白抜け欠陥部１３ａaに修正液を堆積させる。
【００６１】
ここで、塗布ノズル３０の位置を固定して修正液２０の霧粒子を噴射する場合は、塗布ノズル３０から噴射する霧粒子の集束径よりも白抜け欠陥部１３ａａの面積の方が大きいと、欠陥修正に要する時間が長くなる場合がある。この場合、塗布ノズル３９の内径が大きいものを用いることによって、霧粒子の集束径を大きくしてもよい。また、ＸＹステージ１０をＸＹ方向（水平方向）に移動させながら、白抜け欠陥部１３ａａの全範囲に霧粒子が行きわたるように噴射してもよい。また、微粒子堆積装置５を移動するようにして、白抜け欠陥部１３ａａの全範囲に霧粒子が行きわたるように噴射してもよい。
【００６２】
図７（Ｃ）は微粒子堆積装置５による欠陥修正が完了した状態を示している。使用する修正インク２０ａが紫外線硬化タイプの場合は、欠陥修正後にその修正箇所を図６で説明した観察光学系２の直下まで移動させて、紫外線光源４８を用いて修正箇所に紫外線照射を行なう。あるいは、図３に示した紫外線光源３２を用いて、カラーフィルタ基板１４の裏面より紫外線照射を行なう。このように、紫外線光源３２と観察光学系２の紫外線光源４８のうち少なくとも一方を用いて、紫外線照射を行なう。
【００６３】
以上のように、この実施の形態１では、噴霧部で修正液を霧状の霧粒子にし、微粒子堆積装置５の塗布ノズル３０からその霧粒子を噴射して、欠陥部に修正液を堆積させる。このため、従来の針方式のように１回塗布するごとに針にインクを付け直す作業が必要なくなる。したがって、白抜け欠陥部に連続して修正液を堆積させることができ、欠陥修正にかかるタクトタイムの短縮が可能となり、作業性が向上する。なお、修正部分の膜厚が不足している場合は、修正液を重ねて堆積することも可能である。
【００６４】
また、従来のインクジェット方式に比べて塗布ノズルの先端の内径が大きいため、インクジェット方式において問題となっていた目詰まりが発生しにくくなり、作業性が改善される。
【００６５】
［実施の形態２］
実施の形態１のパターン修正装置では、塗布ノズル３０から修正液２０の霧粒子を噴射したままシャッタ３１の開閉制御を行なうようにしたが、シャッタ３１を閉じた状態で時間が経過するとシャッタ３１の上面部に修正液が溜まってしまう。溜まる修正液が増えていきシャッタ３１から溢れると、基板１４が汚染されてしまう。このため、シャッタ３１を閉じる時間が長くなる場合は、噴霧部１５のアトマイズガスの注入動作と、減圧部１６の排気動作と、ヘッド部１８のシースガスの注入動作を停止させ、塗布ノズル３０からの霧粒子の噴射を停止させる。しかし、欠陥修正を再開する場合、微粒子堆積装置５の動作が安定するまでには時間がかかってしまう。
【００６６】
図８は、この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。図８において、この実施の形態２では、微粒子堆積装置５に排気管５０を設ける。
【００６７】
排気管５０の吸引口は、シャッタ３１の上部で、かつ塗布ノズル３０先端の噴出口の横側近傍に配置される。排気管５０に接続された排気ポンプ（図示せず）は、欠陥修正を行なわないときは、塗布ノズル３０から噴射される霧粒子を排気管５０を介して吸引し排気する。これにより、シャッタ３１の上面部に修正液が溜まることを抑制することができ、シャッタ３１から溜まった修正液が垂れて基板が汚染されることを防止することができる。
【００６８】
また、修正液２０中の溶媒が気化した気体も吸引されるので、溶媒が固有の異臭を放つ場合でも異臭の低減化を図ることができる。したがって、局所排気装置がある場所にパターン修正装置を置く必要も無く、装置設置に対する設備投資を削減することができる。
【００６９】
なお、図９に示すように、シャッタ３１を省略して排気管５０のみを塗布ノズル３１の先端側面に配置してもよい。排気管５０の排気能力を高めればシャッタ３１を省略することが可能となる。霧粒子を基板１４上の欠陥部１３ａに噴射する際には、排気管５０の排気を停止するか弱める。この場合は、シャッタ３１およびその駆動機構を省略することができ、装置構成の簡単化を図ることができる。
【００７０】
また、図１０に示すように、排気管５０の先端下部に突出部５１を設け、その突出部５１をシャッタとして使用してもよい。この場合は、排気管５０とシャッタを一体化したため、部品の削減が可能である。
【００７１】
また、図１１に示すように、塗布ノズル３０先端の噴出口の周り全体に排気機構５２を設けてもよい。この排気機構５２の吸引口は、塗布ノズル３０先端の周囲にリング状に配置される。そして、排気機構５２に接続された排気ポンプ（図示せず）は、塗布ノズル３０から噴射される霧粒子を排気機構５２を介して吸引し排気する。この場合は、噴射される霧粒子の流れの乱れを抑制し、効果的に霧粒子を吸引することができる。なお、排気機構５２に接続される排気口は複数個設けてもよいが、１つだけにした方が配管処理を行ないやすい。また、図示しないが、塗布ノズル３０先端の噴出口の周り全体に複数の排気管５０を設けてもよい。
【００７２】
［実施の形態３］
図１２は、この発明の実施の形態３によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。図１２において、この実施の形態３では、微粒子堆積装置５の噴霧部１５に修正液２０を自動的に補充する自動補充容器６０および電動バルブ６１を設ける。
【００７３】
自動補充容器６０内には、噴霧部１５の容器１９に入っている修正液２０と同じものが充填されている。容器１９には、修正液２０の量を検出する液面検出センサ（図示せず）が設けられている。制御装置（図示せず）は、センサの検出結果に基づいて電動バルブ６１を開閉制御し、容器１９への修正液２０の補充を行なう。これにより、容器１９内の修正液２０の量を一定に保つことができる。なお、液面検出センサを設ける代わりに、噴霧部１５の重量を計測する測定器を設けてもよい。
【００７４】
また、噴霧によって容器１９内の修正液２０の濃度が濃くなる場合は、自動補充容器６０内に修正液２０の希釈液を入れてもよい。この場合は、容器１９内に修正液２０の濃度を検出するセンサを設け、そのセンサの検出結果に基づいて電動バルブを開閉制御する。これにより、容器１９内の修正液２０の濃度が常に一定になるように、自動補充容器６０から容器１９に希釈液が供給される。
【００７５】
したがって、この実施の形態３では、修正液２０の霧粒子を安定に発生させることができ、装置のメンテナンス回数の低減化を図ることができる。また、排気管５０を介して吸引した修正液を自動補充容器６０または容器１９に戻すことにより、修正液２０の使用効率を高めることができる。
【００７６】
［実施の形態４］
図１３は、この発明の実施の形態４によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図１３において、ＸＹステージ１０のベース７０上には門柱７１が配置され、その門柱７１にはＺステージ１２が固定され、そのＺステージ１２には観察系、落射照明、可変スリットからなる観察光学系２と、カット用レーザ部４が搭載されている。また、Ｚステージ１２には、基板１４の修正個所の高さを測定するための高さ測定器７２が搭載されている。また、Ｚステージ１２には、微粒子堆積装置５と基板加熱部６を搭載したステージ７３も搭載されている。ステージ７３は微粒子堆積装置５と基板加熱部６を左右方向、あるいは左右前後に移動させるものである。さらに、微粒子堆積装置５と基板１４との間には、スリット７４が設けられる。
【００７７】
図１４は、図１３に示した微粒子堆積装置５の構成を示す図である。実施の形態１ではシャッタ３１とＸＹステージ１０の制御により白抜け欠陥部1３ａａ（図７（Ｂ）参照）を修正したが、この実施の形態２では白抜け欠陥部1３ａａのみに修正液が付着するようにシャッタ３１の代わりにスリット７４を白抜け欠陥部1３ａａに対峙して設ける。このスリット７４には、開口部７５が設けられている。
【００７８】
図１５および図１６は、それぞれ図１４に示したスリット７４の形状を示す平面図およびＸ−Ｘ断面図である。スリット７４は、たとえば電動機構（図示せず）により開口部の形状を任意に変えることが可能な可変スリットである。この場合、白抜け欠陥部１３ａａの全範囲に修正液が堆積するように、スリット７４の開口部７５の形状が予め設定される。また、画素単位で修正する場合は、画素の形状をした固定スリットを用いてもよい。このスリット７４は、たとえば図１３に示したＺステージ１２、または門柱７１に固定される。
【００７９】
図１７は、スリット７４を用いて白抜け欠陥部１３ａａを修正する方法を示す図である。図１４に示したステージ７３によって塗布ノズル３０をスリット７４の開口部７５よりも大きい範囲で左右方向に移動させながら、白抜け欠陥部１３ａａのみに修正液を堆積させて、欠陥修正を行なう。これにより、スリット７４の開口部７５の形状の堆積層を形成することができる。この例では、ステージ７３を左右方向に移動させたが、ステージ７３を左右前後に移動可能なものにしてもよい。
【００８０】
なお、図１７に示すように、スリット７４の上面には修正液の堆積物７６が溜まるので、堆積物７６がカラーフルタ基板１３上に落下しないようにスリット７４の縁に反し７４ａ，７４ｂを設けている。また、スリット７４の上面にスリット排気管７７を設けて、スリット５０の上面の堆積物７６を吸引除去している。なお、堆積物７６がカラーフィルタ基板１３上に落下しないようにするために、スリット７４の反し７４ａ、７４ｂ以外の方法を用いても構わない。また、スリット排気管７７を設ける代わりに、スリット７４の洗浄機構を設けてもよい。
【００８１】
また、この例ではステージ７３を移動させながら白抜け欠陥部１３ａａに修正液を堆積させる場合を示したが、スリット７４の開口部７５と白抜け欠陥部１３ａａの位置が固定されて相対的ずれがない場合には、微粒子堆積装置５を固定した状態でＸＹステージ１０を移動するようにしてもよい。なお、図１４ではシャッタ３１を省略してあるが、シャッタ３１があっても構わない。
【００８２】
［実施の形態５］
図１８は、この発明の実施の形態５によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。図１８を参照して、図１４と異なる点は、スリット７４の代わりにフィルム７８を使用している点である。
【００８３】
図１９（Ａ）〜（Ｄ）は、フィルム７８を使用してカラーフィルタ基板１４の表面に形成された着色層１３の白抜け欠陥部１３ａを修正する過程を示したものである。
【００８４】
図１９（Ａ）に示すように、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３に白抜け欠陥部１３ａがある場合について説明する。まず、たとえばフィルム貼付機構（図示せず）によって白抜け欠陥部１３ａを含む範囲にフィルム７８を貼り付けた後、白抜け欠陥部１３ａの大きさに合わせて図６に示した可変スリット４０の開口部の形状を変化させ、加工用レーザ部４によって白抜け欠陥部１３ａと同位置上のフィルム７８に欠陥部１３ａと同形状、またはそれよりも大きくかつ画素ＰＩＸ＿Ｂの範囲内で着色層１３およびフィルム７８を同時にレーザ加工する。
【００８５】
図１９（Ｂ）は、画素ＰＩＸ＿Ｂの範囲の着色層１３およびフィルム７８が除去された様子を示している。このように、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３をレーザ加工することによって、白抜け欠陥部１３ａａ、およびフィルム７８の孔７８ａが設けられる。レーザ加工後、図１８に示すように、白抜け欠陥部１３ａａが塗布ノズル３０の直下に位置するようにＸＹステージ１０を移動させる。
【００８６】
次に、図１９（Ｃ）に示すように、孔７８ａの開いたフィルム７８をマスクとして塗布ノズル３０から修正液２０の霧粒子を吐出して、白抜け欠陥部１３ａａ上に修正液２０ａを堆積させる。このとき、白抜け欠陥部１３ａａよりも広い範囲に渡って塗布ノズル３０を左右に移動させることで堆積が行われる。これにより、白抜け欠陥部１３ａａと孔７８ａの周囲のフィルム７８上に修正液２０ａが堆積される。堆積中には、堆積した修正液２０ａを基板加熱部６により加熱して仮焼成する。なお、修正液２０を堆積した後に仮焼成して乾燥させてもよい。
【００８７】
その後、図１９（Ｄ）に示すように、フィルム７８を剥がせば、白抜け欠陥部１３ａａのみに修正液２０ａが残り、他の部分への付着もない。フィルム７８を剥がした後、欠陥修正した部分を本焼成する。
【００８８】
なお、塗布ノズル３０から修正液２０の霧粒子を噴射させる際、微粒子堆積装置５と基板加熱部６を搭載したステージ７３、およびＸＹステージ１０を固定しておいてもよいし、ステージ７３およびＸＹステージ１０のうちの少なくとも一方を移動させても構わない。
【００８９】
このように、孔７８ａの開いたフィルム７８を用いることにより、塗布ノズル３０から噴出される修正液２０の霧粒子の集束径よりも小さい微小な白抜け欠陥に対しても、欠陥修正することが可能となる。
【００９０】
［実施の形態６］
上記パターン修正装置によってカラーフィルタ基板１３の欠陥部を修正する場合、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青），ＢＭ（黒）の各色の微粒子堆積装置５を用意する必要がある。また、場合によっては表面保護用のオーバーコートＯＣ（上塗りインク）の微粒子堆積装置５も用意する必要がある。
【００９１】
図２０は、この発明の実施の形態６によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。図２０において、この微粒子堆積装置５は、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青），ＢＭ（黒）の各色の噴霧部１５（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ）と、共通化されている減圧部１６、加熱部１７、ヘッド部１８、塗布ノズル３０とで構成される。
【００９２】
各色の噴霧部１５（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ）に供給するアトマイズガス用の配管に開閉バルブ８０（８０ａ，８０ｂ，８０ｃ，８０ｄ）が設けられ、各色の噴霧部１５（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ）と減圧部１６との間の配管に開閉バルブ８１（８１ａ，８１ｂ，８１ｃ，８１ｄ）が設けられる。また、開閉バルブ８１（８１ａ，８１ｂ，８１ｃ，８１ｄ）と減圧部１６の間の配管から分岐する配管が設けられ、その配管に洗浄ガスを流すための開閉バルブ８２が設けられる。また、減圧部１６の排気管２４に開閉バルブ８３が設けられ、シースガス供給用の配管に開閉バルブ８４が設けられる。この場合、修正液の色を変えるごとに、減圧部１６、加熱部１７、ヘッド部１８、および塗布ノズル３０の洗浄が必要となる。
【００９３】
開閉バルブ８０（８０ａ，８０ｂ，８０ｃ，８０ｄ），８１（８１ａ，８１ｂ，８１ｃ，８１ｄ）を閉じて、噴霧部１５（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ）の噴霧を停止し、各色の修正液２０の霧粒子が減圧部１６以降に入らないようにして、さらに開閉バルブ８３，８４を閉じる。この状態で開閉バルブ８２を開けると、洗浄ガスが減圧部１６以降に流れ、塗布ノズル３０の先端から洗浄ガスが排出される。これにより、減圧部１６、加熱部１７、ヘッド部１８、および塗布ノズル３０の内部に残った修正液２０が除去され、修正液の色を変えて欠陥修正を行なうことが可能になる。
【００９４】
洗浄ガスは、窒素ガスでもよいし、圧縮空気でもよい。また、洗浄ガスの代わりに、洗浄水、修正液２０の希釈液などの洗浄液を流しても良い。洗浄液を流した後に洗浄ガスを流せば、微粒子堆積装置５内に洗浄液が残るのを防止することができる。
【００９５】
また、上述のような洗浄を行なう場合、カラーフィルタ基板１３やパターン修正装置を設置しているクリーンルームを洗浄ガスなどで汚染する場合があるので、図２１に示すように、ダクト８５の上面に設けた吸引孔８６に塗布ノズル３０を挿入した後で洗浄を行なう。洗浄ガスが吸引孔８６と塗布ノズル３０との隙間から漏れないようにＯリングのようなシール部材８７が設けられている。ダクト８５の下流側にはフィルタ８８が設けられている。減圧部１６以降に溜まっていた修正液などの汚れはフィルタ８８で除去され、フィルタ８８を通過した洗浄ガスあるいは洗浄液は工場内にある排気ダクトあるいは廃液排出ダクトに排出される。なお、洗浄液を用いる場合は、フィルタ８８で濾過した廃液を貯蔵するタンクを設けてもよい。
【００９６】
また、開閉バルブ８０〜８３を閉じるとともに開閉バルブ８４を開け、シースガスの圧力を通常よりも高めて、ヘッド部１８および塗布ノズル３０の洗浄を行ってもよい。
【００９７】
欠陥の修正作業が終了したときにこのような洗浄を行なえば、作業効率を低下させることなく、塗布ノズル３０の目詰まりも回避することができる。
【００９８】
図２２は、この実施の形態６の変更例を示す図である。このように、開閉バルブ８４とヘッド部１８の間の配管から分岐する配管を設け、その配管に洗浄ガスを選択的に流すための開閉バルブ９０を設けてもよい。また、排気管２４から分岐する配管を設け、その配管に洗浄ガスを選択的に流すための開閉バルブ９１を設けてもよい。この場合は、開閉バルブ８２を省略してもよい。
【００９９】
図２３は、この実施の形態６の他の変更例を示す図である。図２３において、修正する画素ＰＩＸ＿Ｒ，ＰＩＸ＿Ｇ，ＰＩＸ＿Ｂの各色Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）およびＢＭ（黒）に対応した微粒子堆積装置５（５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ）が設けられる。微粒子堆積装置５（５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ）は、各色の噴霧部１５（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ）、減圧部１６（１６ａ，１６ｂ，１６ｃ，１６ｄ）、加熱部１７（１７ａ，１７ｂ，１７ｃ，１７ｄ）、およびヘッド部１８（１８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄ）で構成される。使用したい修正液２０の色に応じて、微粒子堆積装置５（５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ）選択的に使用する。この場合、図２０〜図２２で説明した微粒子堆積装置５に比べて設置スペースを多く必要とし、部品点数が多くなる。
【０１００】
［実施の形態７］
上記パターン修正装置を用いて、プラズマディスプレイの背面パネルのリブ（隔壁）とリブの間の凹部の蛍光体の色抜け欠陥や、リブ上面の黒色部の色抜け欠陥等も修正することが可能である。
【０１０１】
図２４（Ａ）（Ｂ）は、プラズマディスプレイの背面パネル基板の凹部の蛍光体の色抜け欠陥を修正する様子を示す図である。プラズマディスプレイの背面パネル基板１００上には、リブ１００ａで隔てられた隙間の凹部表面にＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の蛍光体が塗布される。
【０１０２】
図２４（Ａ）を参照して、背面パネル基板１００に塗布される蛍光体（着色層）１０１に欠損が生じ、色抜け欠陥部１０１ａが形成されている。ここで、上記パターン修正装置を用いて、色抜け欠陥部１０１ａがある蛍光体１０１と同色の修正液を色抜け欠陥部１０１ａに塗布してパターン修正を行なう。図２４（Ｂ）は、色抜け欠陥部１０１ａに修正液１０２が塗布されて、パターン修正された状態を示す。パターン修正方法は、実施の形態１から実施の形態６で説明した方法と同様であるため、ここでは説明を省略する。
【０１０３】
図２５（Ａ）（Ｂ）は、プラズマディスプレイの背面パネル基板のリブ上面の黒色部の色抜け欠陥を修正する様子を示す図である。図２５（Ａ）を参照して、プラズマディスプレイの背面パネル基板１００のリブ１００ａの上面１００ｂには、黒色部（着色層）１０３が形成される。この黒色部１０３は、液晶パネル用のカラーフィルタ基板１３におけるブラックマトリクスＢＭと同様の役割を果たすものである。黒色部１０３の一部が欠損して形成された色抜け欠陥部１０３ａに対して、上記パターン修正装置を用いて、黒色部１０３と同色の修正液を塗布してパターン修正を行なう。図２５（Ｂ）は、色抜け欠陥部１０３ａに修正液１０４が塗布されて、パターン修正された状態を示す。パターン修正方法は、実施の形態１から実施の形態６で説明した方法と同様であるため、ここでは説明を省略する。
【０１０４】
以上のように、液晶パネルのカラーフィルタの欠陥だけでなく、プラズマディスプレイの背面パネルの凹部の蛍光体の色抜け欠陥やリブ上面の黒色部の色抜け欠陥なども修正することができる。また、色抜け欠陥以外の各種欠陥に対しても、カット用レーザ部４によるレーザ加工を行なって一度色抜け欠陥にした後、微粒子堆積装置５によって欠陥修正することができる。
【０１０５】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】この発明の実施の形態１によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。
【図２】図１に示した微粒子堆積装置の構成を示す断面図である。
【図３】加熱部が省略された微粒子堆積装置の構成を示す断面図である。
【図４】図２に示した微粒子堆積装置の斜視図である。
【図５】実施の形態１によるパターン修正方法を示す図である。
【図６】図１に示した観察光学系およびカット用レーザ部の構成を示す図である。
【図７】実施の形態１によるパターン修正方法を示す他の図である。
【図８】この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。
【図９】実施の形態２の変更例を示す図である。
【図１０】実施の形態２の他の変更例を示す図である。
【図１１】実施の形態２のさらに他の変更例を示す図である。
【図１２】この発明の実施の形態３によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。
【図１３】この発明の実施の形態４によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。
【図１４】図１３に示した微粒子堆積装置の構成を示す図である。
【図１５】図１４に示したスリットの形状を示す平面図である。
【図１６】図１４に示したスリットの形状を示すＸ−Ｘ断面図である。
【図１７】実施の形態４によるパターン修正方法を示す図である。
【図１８】この発明の実施の形態５によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。
【図１９】実施の形態５によるパターン修正方法を示す図である。
【図２０】この発明の実施の形態６によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。
【図２１】この発明の実施の形態６によるパターン修正装置の要部の構成を示す他の図である。
【図２２】実施の形態６の変更例を示す図である。
【図２３】実施の形態６の他の変更例を示す図である。
【図２４】実施の形態７によるパターン修正方法を示す図である。
【図２５】実施の形態７によるパターン修正方法を示す他の図である。
【符号の説明】
【０１０７】
１  パターン修正装置、２  観察光学系、３  モニタ、４  カット用レーザ部、５  微粒子堆積装置、６  基板加熱部、７  画像処理部、８  ホストコンピュータ、９  コンピュータ、１０  ＸＹステージ、１１  チャック部、１２  Ｚステージ、１３  着色層、１４  カラーフィルタ基板、１５  噴霧部、１６  減圧部、１７  加熱部、１８  ヘッド部、１９  容器、２０，１０２，１０４  修正液、２１  噴霧ノズル、２２  ノズル部、２３  集気部、２４  排気管、２５  外管、２６  隙間、２７  パイプ、２８  ヒータ、２９  温度センサ、３０  塗布ノズル、３１  シャッタ、４０  可変スリット、４１  結像レンズ、４２，４３  ハーフミラー、４４  対物レンズ、４５  落射光源、４６  ＣＣＤカメラ、４７  ダイクロイックミラー、４８  紫外線光源、５０  排気管、５１  突出部、５２  排気機構、６０  自動補充容器、６１  電動バルブ、７０  ベース、７１  門柱、７２  高さ測定器、７３  ステージ、７４  スリット、７５  開口部、７６  堆積物、７７  スリット排気管、７８  フィルム、８０〜８４，９０，９１  開閉バルブ、８５  ダクト、８６  吸引孔、８７  シール部材、８８  フィルタ、１００  背面パネル基板、１０１  蛍光体、１０３  黒色部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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