【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年3月19日(2007.3.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の凹凸構造（５）に、回折構造（１２）として働く少なくとも一つの第２の凹凸構造を重ね合わせることによって、サブストレート（１）上のホトレジスト層（２）に、光を回折させるミクロ構造（１３）を作成する方法であって、
ａ）前記サブストレート（１）に対向して配置された凹凸母型（４）の形状を前記ホトレジスト層（２）の露出した表面に成形することにより形成された第１の凹凸構造（５）を備えたホトレジスト層（２）を平坦なサブストレート（１）上に作成し、
ｂ）前記凹凸母型（４）を取り除き、
ｃ）コーヒレントな光を分岐ビーム（９）と参照ビーム（１０）とに分解し、該分岐ビーム（９）および参照ビーム（１０）を、所定の交角をもって干渉させることによって、成形された前記第１の凹凸構造（５）上に干渉縞を作成し、
ｄ）前記サブストレート（１）を該サブストレート（１）の平面に対する法線（１５）の周りで回転させることにより、前記第１の凹凸構造（５）についての方位に対する、暗い光の縞によって分離された明るい光の縞を備えた干渉縞の方向を決定し、
ｅ）前記ホトレジスト層（２）内の前記第１の凹凸構造（５）を、前記干渉縞を用いて所定時間露光し、
ｆ）前記ホトレジストを所定時間現像し、前記露光によって変質されたホトレジスト材料を部分的に除去して、前記第１の凹凸構造（５）内に前記回折構造（１２）の溝（１３）を生成させ、
ｇ）前記ホトレジストを乾燥させる、
諸工程を含んでなることを特徴とするミクロ構造の作成方法。
【請求項２】
前記ｆ）工程における前記ホトレジストの現像時間は、前記回折構造の溝（１３）が最大で５００ｎｍの深さに達するような時間であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ａ）工程において、最初に前記ホトレジスト層（２）を前記サブストレート（１）上に成形し、前記ホトレジスト層（２）を熱の作用により硬化させ、次に型押しスタンプ（３）上に設けられた凹凸母型（４）を前記ホトレジスト層（２）の表面に降下させて、前記第１の凹凸構造（５）の形状を前記凹凸母型（４）の陰画として形成することを特徴とする請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記ａ）工程において、前記ホトレジスト層（２）を注型により形成し、その場合に、液状ホトレジストを前記サブストレート（１）と前記凹凸母型（４）との間に注入し、前記ホトレジストを加熱して硬化させ、離型後、前記ホトレジスト層（２）の露出した表面が、前記凹凸母型（４）の陰画としての前記第１の凹凸構造（５）を備えるようにすることを特徴とする請求項１または２記載の方法。
【請求項５】
前記ａ）工程において、周期的格子を前記第１の凹凸構造（５）として前記ホトレジスト層（２）に形成することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記ａ）工程において、交差的格子を前記第１の凹凸構造（５）として前記ホトレジスト層（２）に形成することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記ａ）工程において、１本／ｍｍから１０００本／ｍｍまでの間の範囲の空間周波数を有する周期的格子を前記第１の凹凸構造（５）として前記ホトレジスト層（２）に形成することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記第１の凹凸構造（５）の空間周波数の少なくとも５倍に相当する空間周波数を有する回折構造（１２）が形成されるように、前記ｃ）工程において、前記分岐ビーム（９）と前記参照ビーム（１０）との間の交角を設定することを特徴とする請求項５または６記載の方法。
【請求項９】
前記ａ）工程において、光を散乱させるマット構造の一つを前記第１の凹凸構造（５）として前記ホトレジスト層（２）に形成することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記ａ）工程において、少なくとも一つの回転放物面（１６）および／または円錐尖端（１７）を有する構造を備えた凹凸母型（４）を、前記第１の凹凸構造（５）の形状の形成に用いることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の凹凸構造（５）を、０．１μｍと１００μｍの間の範囲の深さ（Ｔ）で形成することを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
前記ｇ）工程の実行に先立って、前記ｃ）工程から前記ｆ）工程までの写真造形作業を反復することにより少なくとも一つのさらなる回折構造（１２）を形成し、その場合に、前記ｄ）工程において、前記法線（１５）の周りで前記サブストレート（１）を回転させることにより、新たな干渉縞に対する前記回折構造（１２）の溝（１３）を備えた前記第１の凹凸構造（５）の方向を決定することを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
前記ｃ）工程における写真造形作業の反復において、前記分岐ビーム（９）および参照ビーム（１０）との間の交角を変更することを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
最大５００ｎｍの格子周期を備えた回折構造（１２）が前記ｃ）工程において形成されるように、前記分岐ビーム（９）と前記参照ビーム（１０）との間の交角を設定することを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の名称
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の名称】ミクロ構造の作成方法
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、第１の凹凸構造に少なくとも一つの第２の凹凸構造を重ね合わせることによって形成されるミクロ構造の作成方法に関するものである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
本発明の目的は、作製が比較的容易であるにも拘わらず、複雑で、従って偽造が困難な、例えば複製用マスターのための高度の正確性を備えたミクロ構造が形成されるように、少なくとも二つの凹凸構造の重ね合わせによって形成されるミクロ構造の安価な作成方法を提供することにある。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
本発明によれば、本発明の目的は、請求項１に記載された特徴によって達成され、その特徴は、型押しまたはその他の機械的造形工程に、安価にも拘わらず複雑なミクロ構造を作成するための写真造形工程を組み合わせたことにある。本発明の有利な実施の形態は従属項に記載されている。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
「凹凸構造５」という概念の意味に制約されることなく、図１は例えば周期的な格子の対称鋸歯状断面を備えた凹凸金型４の断面形状を示している。周期的な一次格子または交差格子を形成する例えば非対称鋸歯状断面、方形断面、正弦波または正弦波的断面、ピラミッドの規則正しい配列等のようなその他の周知の断面形状のうちの一つも特に凹凸構造５に適している。凹凸構造５の空間周波数は、１本／ｍｍから２〜３千本／ｍｍまでの間の広い範囲内から選択することができる。周期的な格子からなる凹凸構造５の深さＴは、通常０．１μｍ〜１００μｍの範囲内にあるが、これに関しては、技術的理由から、深さＴ（図１）の値が大きい凹凸構造５は一般に空間周波数の値が小さくなる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
ミクロ構造１２を作成するための第１の方法においては、上述した周期的格子の一つが凹凸構造５として層２に形成され、この周期的格子が回折構造とともに写真造形される。特定の実施の形態においては、回折構造の空間周波数が凹凸構造５の空間周波数の少なくとも５倍は高い。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
ミクロ構造１２を作成するための第２の方法においては、上述したマット構造の一つが層２に形成され、このマット構造が回折構造とともに写真造形される。光がゼロ次の回折次数のみにおいて反射するように、回折構造の格子の周期は最大で５００ｎｍである。ミクロ構造１２の利点は、ミクロ構造１２が、マット構造の散乱能力に回折格子の例えば波長選択的反射能力、偏光能力等のような特性を組み合わせることができることにある。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
ミクロ構造１２の作成方法は、先の写真造形作業が行なわれた後に、分岐ビーム９（図４）と参照ビーム１０（図４）とが交差する点での交角を変えることによって第１のやり方を拡大させることができ、その場合、先の写真造形作業と比較して縞模様の１ｍｍ当りの縞の数が異なる干渉縞によるさらなる写真造形作業が行なわれる。この縞模様の空間周波数に関して異なる設定による方法拡大は、所定のミクロ構造１２が得られるまで、空間周波数を異ならせて１回または複数回行なわれる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
ミクロ構造１２の作成方法は、先の写真造形作業が行なわれた後に、分岐ビーム９（図４）および参照ビーム１０（図４）によって形成される干渉縞に対するサブストレート１の方位の向きを異ならせたさらなる写真造形作業を行なうという第２のやり方によって拡大させることができる。この方位の向きに関して異なる設定による方法拡大は、所定のミクロ構造１２が得られるまで、方位の向きを異ならせて１回または複数回行なわれる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
ミクロ構造１２の作成方法は、先の写真造形作業が行なわれた後に、干渉縞の空間周波数および方位の向きの双方を変え、次いでさらなる写真造形作業を行なうという第３のやり方によって変えることができる。このような縞模様の空間周波数および方位の向きに関して異なる設定をもって行なわれる写真造形作業の拡大は、所定のミクロ構造１２が得られるまで、設定を変えて１回または複数回行なわれる。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
図６に示された別の方法では、少なくとも一つの回転放物面１６および／または円錐尖端１７を凹凸母型４として用いている。回転放物面１６および／または円錐尖端１７を、上述した周期的格子と組み合わせてもよい。凹凸母型４の形状はサブストレート１上の層２に形成される。次いで写真造形作業が行なわれる。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
ミクロ構造１２を形成するためのさらに別の方法では、凹凸母型４として格子構造またはマット構造を用いる代わりに、複数の構造の重ね合わせにより既に存在する組み合わせ構造を用い、この組み合わせ構造が上述の工程においてホトレジストからなる層２の表面を最初に整形して凹凸構造５を形成し、次いでさらなる写真造形作業を行なう。