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【手続補正書】
【提出日】平成19年11月12日(2007.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）ペプチド抗原が存在している細胞又は組織を、可溶性ＴＣＲ分子又はその断片が特異的な結合複合体を形成する条件下で、少なくとも一つの可溶性ＴＣＲ分子又はその断片に接触させる、
ｂ）存在しているペプチド抗原に結合しなかったすべての可溶性ＴＣＲ分子又はその断片を取り除くのに適した条件下で、細胞又は組織を洗浄する、及び
ｃ）存在しているペプチド抗原を含む細胞又は組織の指標としての特異的な結合複合体を検出する、
工程を含む、ＭＨＣ複合体として細胞又は組織上に存在しているペプチド抗原を含む細胞又は組織を検出するための方法。
【請求項２】
細胞又は組織をさらに、少なくとも一つのブロッキング試薬と接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
可溶性ＴＣＲ又はその断片と細胞との非特異的結合を減少させるために、工程ａの前に細胞又は組織をブロッキング試薬と接触させることを更に含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ブロッキング試薬が過酸化物、血清蛋白質、抗体又はその断片である、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
複合体に結合できる可溶性ＴＣＲ又はその断片に競合的及び特異的に結合する条件下で、前記複合体を競合ＭＨＣ分子又はその断片と接触させることを更に含む、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
競合複合体を形成するために、実質的にすべての可溶性ＴＣＲ又はその断片が競合ＭＨＣ分子又はその断片に結合している、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
競合複合体を検出すること及びＭＨＣ分子又は可溶性ＴＣＲの結合特異性を決定することを更に含む、請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
ＭＨＣ分子又はその断片が一本鎖である、請求項５〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
ＭＨＣ分子又はその断片がペプチド抗原を収容している、請求項５〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
細胞又は組織が懸濁されている、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
可溶性ＴＣＲ分子又はその断片が、一本鎖のＴＣＲを少なくとも一つ含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
可溶性ＴＣＲ分子又はその断片が検出可能に標識されている、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
検出可能な標識が、ビオチン、ストレプトアビジン、酵素又はその触媒活性を有する断片、放射性核種、ナノ粒子、常磁性金属イオン、又は、蛍光、りん光若しくは化学発光分子である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
可溶性ＴＣＲ分子又はその断片が、共有結合したサイトカイン又はその断片を含む一本鎖のＴＣＲである、請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
一本鎖のＴＣＲ又はその断片が、インターロイキン２（ＩＬ−２）をコードする配列を含む、請求項１１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
一本鎖のＴＣＲ又はその断片が、少なくとも一つの共有結合した免疫グロビンドメインを更に含む、請求項１１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
可溶性ＴＣＲ分子又はその断片が、共有結合した免疫グロビンドメイン又はその断片を含む一本鎖のＴＣＲである、請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
一本鎖のＴＣＲ又はその断片がＩｇＧ１ドメイン又はその断片をコードする配列を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
ＭＨＣ複合体がＨＬＡ−Ａ２限定性である、請求項１〜１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
ペプチド抗原を含まない細胞と可溶性ＴＣＲ又はその断片の如何なる結合をも検出するための対照を用いることを更に含む、請求項１〜１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
インビボ、エキソビボ、又はインビトロで実行される、請求項１〜２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
細胞又は組織が腫瘍細胞又は腫瘍組織である、請求項１〜２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
ペプチド抗原が、腫瘍関連ペプチド抗原である、請求項１〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
存在しているペプチド抗原が、ｐ５３（ａａ１４９〜１５７）又はｐ５３（ａａ２６４〜２７２）である、請求項１〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
細胞又は組織を少なくとも一つの変性試薬と接触させることを更に含む、請求項１〜２４のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
工程ａの前に、細胞又は組織を変性試薬と接触させ、細胞又は組織を変性させる（固定させる）ことを更に含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
複数の細胞又は組織をアレイに搭載することを更に含む、請求項１〜２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
細胞又は組織を搭載したアレイのそれぞれの要素に於いて実施される、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
アレイのそれぞれの要素に於いて実質的に同時に実施される、請求項２７又は２８に記載の方法。
【請求項３０】
工程ｃが、アレイをスキャンすること、及び特異的な結合複合体の存在を示す画像情報を発生させることを更に含む、請求項２７〜２９のいずれかに記載の方法。
【請求項３１】
工程ｃが、リアルタイムに情報を利用者に出力すること、及び必要に応じて画像情報の保存画像に見出しをつけることを更に含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
細胞上に存在しているペプチド抗原の量が、約１００，０００コピーより少ない、請求項１〜３１のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
細胞上に存在しているペプチド抗原の量が、約４００コピーより少ない、請求項１〜３２のいずれかに記載の方法。
【請求項３４】
可溶性ＴＣＲ分子又はその断片を含有してなる、細胞又は組織中の、ＭＨＣ複合体として細胞又は組織上に存在しているペプチド抗原を検出するための検出用組成物。
【請求項３５】
可溶性ＴＣＲ分子又はその断片を含有してなる、細胞又は組織中の、ＭＨＣ複合体として細胞又は組織上に存在している腫瘍関連ペプチド抗原を検出するための検出用組成物。
【請求項３６】
検出用組成物が、腫瘍細胞又は腫瘍組織を検出するためのものである請求項３５に記載の検出用組成物。
【請求項３７】
可溶性ＴＣＲ分子又はその断片が、一本鎖のＴＣＲを少なくとも一つ含むものである請求項３４〜３６のいずれかに記載の検出用組成物。
【請求項３８】
可溶性ＴＣＲ分子又はその断片が検出可能に標識されている、請求項３４〜７のいずれか５に記載の検出用組成物。
【請求項３９】
検出可能な標識が、ビオチン、ストレプトアビジン、酵素又はその触媒活性を有する断片、放射性核種、ナノ粒子、常磁性金属イオン、又は蛍光、りん光若しくは化学発光分子である、請求項３８に記載の検出用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月12日(2007.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントをイベント報告するため、イベント報告データを要請するために利用されるイベント報告要求データの構造として、
イベント報告データを伝送する時刻、時間及び周期に対する情報である伝送時間情報を含むことを特徴とするイベント報告要求データの構造。
【請求項２】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントに対するイベント報告のため、イベント報告要求データの要請に応じる情報を提供するために利用されるイベント報告データの構造であり、
前記イベント報告データ自体の識別及び特性と係る情報を記述するイベント報告記述情報と、
前記イベント報告データを生成した生成者に対する情報を記述するソース情報と
を含むことを特徴とするイベント報告データの構造。
【請求項３】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントに対するイベント報告のため、イベントに対する報告を要求して処理するシステムであり、
ユーザからの要請及び受信したイベント報告要求データに応答し、イベントに対する報告を要求するイベント報告要求データを生成して伝送するためのイベント報告要求処理手段と、
前記イベント報告要求処理手段から伝送されたイベント報告要求データに応じるイベント報告のためのイベント報告データを生成して伝送するためのイベント報告処理手段と
を含むことを特徴とするイベント報告システム。
【請求項４】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントに対するイベント報告のため、イベントに対する報告を要求する装置であり、
ユーザの要請及び受信したイベント報告要求データに応答し、イベント報告要求データを生成するイベント報告要求生成手段と、
前記イベント報告要求生成手段によって生成されたイベント報告要求データを伝送するイベント報告の要求送信手段と、
イベント報告要求データを受信するイベント報告の要求受信手段と、
前記イベント報告の要求受信手段によって受信されたイベント報告要求データを分析するイベント報告の要求分析手段と、
イベントの発生可否を監視する監視手段と
を含むことを特徴とするイベント報告要求装置。
【請求項５】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントに対するイベント報告のため、イベントに対する報告を処理する装置であり、
イベント報告データを生成するイベント報告生成手段と、
該イベント報告生成手段によって生成されたイベント報告を伝送するイベント報告送信手段と、
イベント報告データを受信するイベント報告受信手段と、
前記イベント報告受信手段によって受信されたイベント報告データを分析する分析手段と
を含むことを特徴とするイベント報告装置。
【請求項６】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントに対するイベント報告のため、イベントに対する報告を要求して処理する方法であり、
イベントに対する報告を要求するイベント報告要求データを生成して伝送し、イベント報告要求データを外部から受信して分析して伝送し、イベント報告要求データに応じるイベントを監視するイベント報告要求処理ステップと、
受信したイベント報告要求データに応じるイベント報告のためのイベント報告データを生成して伝送し、外部から受信したイベント報告データを分析して伝送するイベント報告処理ステップと
を含むことを特徴とするイベント報告方法。
【請求項７】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントに対するイベント報告のため、イベントに対する報告を要求する方法であり、
イベントに対する報告を要求するイベント報告要求データを生成して伝送するステップと、
イベント報告要求データを外部から受信し、分析して伝送し、イベント報告要求データに応じるイベントを監視するステップと
を含むことを特徴とするイベント報告要求方法。
【請求項８】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントに対するイベント報告のため、イベントに対する報告を処理する方法であり、
伝送されたイベント報告要求データに応じるイベント報告のためのイベント報告データを生成して伝送するステップと、
外部から受信したイベント報告データを分析して処理し、伝送するステップと
を含むことを特徴とするイベント報告処理方法。
【請求項９】
デジタルアイテムの使用に応じて発生するイベントに対するイベント報告のため、イベントに対する報告を要求して処理するシステムへ、
イベントに対する報告を要求するイベント報告要求データを生成して伝送し、イベント報告要求データを外部から受信して分析及び伝送し、前記イベント報告要求データに応じるイベントを監視する機能と、
伝送されたイベント報告要求データに応じるイベント報告のためのイベント報告データを生成して伝送し、外部から受信したイベント報告データを分析して伝送する機能と
を実現させるためのプログラムを記録したコンピュータによって読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月31日(2007.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔識別に基づいて画像コレクションから強調画像を選択する方法であって、
前記方法は、
(a)  デジタル画像コレクションを獲得し；
(b)  該デジタル画像内で1つ又は2つ以上の顔の存在を示す画像パターンを検出し、これにより、顔が検出された画像毎に1つ又は2つ以上の検出された顔を識別し；
(c)  顔が検出された該画像のそれぞれに関して、該検出された顔から1つ又は2つ以上の顔を認識し；そして
(d)  該画像コレクション内の認識された顔の相対出現頻度に基づいて、画像をスコアリングし、これにより、該画像コレクション内で出現頻度が最も高い顔の強調画像特性を生成する
ステップを含んで成る。
【請求項２】
画像内のテキストの使用に基づいて画像コレクションから強調画像を選択する方法であって、前記方法は、
(a)  デジタル画像コレクションを獲得し；
(b)  該デジタル画像内のテキストを検出し；
(c)  該検出されたテキストに関連する統計値を生成し、ここで、前記統計値は、前記テキストが該画像コレクションを説明する尤度を表し、；そして、
(d)  該検出されたテキストに関連する統計値に基づいて、各画像をスコアリングし、これにより、該画像コレクションを表すと思われるテキストを含有する強調画像を生成する
ステップを含んで成る。
【請求項３】
(e)  該デジタル画像内で1つ又は2つ以上の顔の存在を示す画像パターンを検出し、これにより、顔が検出された画像毎に1つ又は2つ以上の検出された顔を識別し；
(f)  顔が検出された該画像のそれぞれに関して、該検出された顔から1つ又は2つ以上の顔を認識し；そして
(g)  該画像コレクション内の認識された顔の相対出現頻度、並びに該検出されたテキストに関連する統計値に基づいて、画像をスコアリングし、これによりさらに、画像コレクション内で出現頻度が最も高い顔の強調画像特性を生成する
ステップをさらに含んで成る、請求項2に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月31日(2007.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イベント群を時間順序付けするシステムであって、
複数の機能回線モジュール群と、各機能回線モジュールが、異なる時間領域を表すクロックによりクロック制御されており、タイムスタンプ処理回路を有しており、前記タイムスタンプ処理回路が所定のイベントが発生した時点を示すメッセージを供給し、
前記複数の機能回線モジュール群の各々に結合されたインタフェース・モジュールとを備え、前記インタフェースモジュールが、前記所定のイベントをトリガする少なくとも一つの動作条件を示す為に前記複数の機能回線モジュール群に制御情報を供給し、第１の時間領域を含む複数の時間領域群の一つで前記所定のイベントが発生したとき、前記インタフェースモジュールが前記第１の時間領域から少なくとも一つのタイムスタンプ処理メッセージを受信する、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、前記インタフェース・モジュールが、
前記制御情報を、前記所定のイベントをトリガする前記少なくとも一つの動作条件を決定するプログラマブル制御情報として保存する記憶回路を更に備えたシステム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、前記所定のイベントをトリガする前記少なくとも一つの動作条件が、電力の動作モードに入ること又はこのモードから出ることと、クロックのソースの変化と、クロックの周期性の変化と、ハードウェアのカウンタ値の所定の変化と、デバッグの動作モードになること及びこのモードから出ることと、少なくとも一つのユーザプログラマブルイベントの発生とのうち、少なくとも一つを更に含むシステム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、前記タイムスタンプ処理回路が、
対応する機能回線モジュールの絶対時間又は相対時間のどちらか一方を決定する為のカウンタと、
時間領域識別子を供給する時間領域識別回路と、
前記対応する機能回線モジュールのクロックの一つ以上の動作特性をもたらすクロック状態回路と、を更に備えたシステム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、前記タイムスタンプ処理回路が、対応するメッセージに含まれている情報のフォーマットを識別する為に各メッセージに含められるコードを生成する回路を更に備えたシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月10日(2007.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
スタブプログラム１１３およびデーモン１１５は、１以上の異種プラットフォーム１０３および１０５上の１以上の計算プログラム１１７を、並列度を実現するよう一斉に起動するべく構成されることが好ましい。この構成において、データベースサーバ１０３は、スタブプログラム１１３を介して、デーモン１１５に、１以上の計算プログラム１１７を適切な引数でスタートするよう、もしくは既に実行中の計算プログラム１１７に引数を渡すよう、もしくは既に実行中の計算プログラム１１７を終了するよう命令する。デーモン１１５は、要求された各計算プログラム１１７を順にノンブロッキング方式でスタートし、要求された全ての計算プログラム１１７がスタートすると、計算プログラム１１７が終了するのを待機する。各計算プログラム１１７が終了すると、結果がＤＢＭＳプラットフォーム１０１の要求処理に返される。一実施形態において、デーモン１１５は、実行中の計算プログラム１１７に、ノンブロッキング方式で、すなわち計算プログラム１１７からの結果を待つことなく、引数を渡す。データベースサーバ１０７は、先立つ要求の一部として実行中の、１以上の計算プログラム１１７の実行をストップする要求を送信することができる。両方の要求が同一ソースからのものであることが確認されると、デーモン１１５は要求された計算プログラム１１７を終了することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
したがって、データベースクエリが、各ターゲットの異種プラットフォーム１０３および１０５上で複数かつ好ましくは並列の計算プログラム１１７を管理するデーモン１１５に、ランタイムを呼び出させるようにする、ＤＢＭＳプラットフォーム１０１内のプログラマチックインターフェースが提供される。これらデーモン１１５は、データベースサーバ１０７に代わって、非データベースプログラム１１７の実行を管理する。スタブプログラム１１３を作成するプログラミングインターフェースと計算プログラム１１７を実行するデーモン１１５のどちらも一般的なものであってよく、したがってアプリケーション開発者は、複雑計算を行うためのデータベースクエリを書くために、分散型コンピュータシステム１０１の構成を知る必要がない。さらに、複雑計算を統合するプログラミングイン
ターフェースレジストリ１１７のセットアップは、データベース管理者によるワンタイムオペレーションであってよい。結果として、複数の異種コンピュータシステムにわたって複雑計算を行うのに、堅固かつ拡張可能で使いやすいシステムが達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月10日(2007.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔａ前駆体としてアルキルイミドトリス（ジアルキルアミド）Ｔａ化学種を用いる工程と、窒素を供給する前駆体を準備する工程とを含む、ＴａおよびＮを含む化合物を形成する化学的気相堆積（ＣＶＤ）方法。
【請求項２】
前記アルキルイミドトリス（ジアルキルアミド）Ｔａ化学種が、第３アミルイミドトリス（ジメチルアミド）Ｔａであり、窒素を供給する前記前駆体がアンモニアである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記化合物中のＮ対Ｔａの元素比が０．９より大きい、ＴａＮまたはＴａＳｉＮである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ＴａＳｉＮのためのＳｉ前駆体をシランおよびジシランからなる群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
キャリアガスとして水素を用いる工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記化合物は２０ｍΩｃｍより小さな比抵抗を有する、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
ゲート誘電体およびゲートを有する半導体電界効果デバイスであって、前記ゲートは前記ゲート誘電体上に配置されたＴａおよびＮを含有する化合物を含み、前記化合物は２０ｍΩｃｍより小さな比抵抗を有し、前記化合物中の前記Ｎ対Ｔａの元素比は０．９より大きい半導体電界効果デバイス。
【請求項８】
前記化合物はＴａＮまたはＴａＳｉＮである、請求項７に記載の電界効果デバイス。
【請求項９】
前記ＴａＮ中の前記Ｎ対Ｔａの元素比は０．９と１．１との間であり、前記ＴａＮは結晶性の物質構造を有する、請求項８に記載の電界効果デバイス。
【請求項１０】
前記ＴａＳｉＮ中の前記Ｓｉ対Ｔａの元素比は０．３５と０．５との間であり、前記ＴａＳｉＮは実質的に非晶質の物質構造を有する、請求項８に記載の電界効果デバイス。
【請求項１１】
前記ＴａＳｉＮは、３００ｍＶの範囲内でｎ−ドープしたＳｉの仕事関数に等しい仕事関数を有する、請求項８に記載の電界効果デバイス。
【請求項１２】
前記ゲート誘電体は、５ｎｍより小さな実効酸化膜厚を有する、請求項７に記載の電界効果デバイス。
【請求項１３】
前記ゲート誘電体はＳｉＯ２または高ｋ誘電体材料を含む、請求項７に記載の電界効果デバイス。
【請求項１４】
前記デバイスは、Ｓｉ系のＭＯＳトランジスタである、請求項７に記載の電界効果デバイス。
【請求項１５】
前記デバイスは、ＮＭＯＳトランジスタであり、０．１５Ｖと０．５５Ｖとの間のしきい値電圧を有する、請求項７に記載の電界効果デバイス。
【請求項１６】
ゲート誘電体を有する半導体電界効果デバイスを形成する方法であって、Ｔａ前駆体としてアルキルイミドトリス（ジアルキルアミド）Ｔａ化学種を用いる化学的気相堆積（Ｃ
ＶＤ）を用いることによって、前記ゲート誘電体上にＴａＮまたはＴａＳｉＮからなる化合物を堆積する工程を含む方法。
【請求項１７】
前記ＴａＮ中の前記Ｎ対Ｔａの元素比は約０．９と１．１との間であり、前記ＴａＳｉＮ中の前記Ｓｉ対Ｔａの元素比は約０．３５と０．５との間である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記アルキルイミドトリス（ジアルキルアミド）Ｔａ化学種は第３アミルイミドトリス（ジメチルアミド）Ｔａである、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記化合物を１０００℃に加熱する工程をさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
ソースおよびドレインを形成する工程をさらに含み、前記化合物を堆積する工程は、前
記ソースおよび前記ドレインを形成する工程の前または後に実行される、請求項１６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月2日(2007.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細構造群を基板上に形成する方法において、
１２，０００ｃｐｓ未満の粘度を有する硬化性材料を基板上に配置するステップと、
前記硬化性材料を、前記基板の第１端部から柔軟な型に接触させて、実質的均一な接触速度で第１の方向に進行させるとともに、実質的均一な接触圧力を加えるステップと、
前記型を用いて前記硬化性材料を、第１セットの実質的平行なリブ群とそれら第１セットのリブ群に交わる第２セットの実質的平行なリブ群とを含む格子パターンであって、該第１セットのリブ群が５００μｍ未満のピッチを有する格子パターンに形成するステップと、
前記硬化性材料を硬化させるステップと、
前記型を取り外すステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記型を取り外すステップの後に、前記硬化性材料を焼成するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２セットのリブ群の各リブの平均幅と前記第１セットのリブ群の各リブの平均幅との比が、少なくとも１．５である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
微細構造組立体において、
基板と、
前記基板の表面に対向する微細構造表面を有する柔軟な型と、
前記基板と前記型の前記微細構造表面との間に配置される硬化性材料とを具備し、
前記型の前記微細構造表面は、第１セットの実質的平行なリブ群とそれら第１セットのリブ群に交わる第２セットの実質的平行なリブ群とを含む格子パターンを、前記硬化性材料に与えるように構成され、
前記第１セットのリブ群が５００μｍ未満のピッチを有し、
前記硬化性材料が１２，０００ｃｐｓ未満の粘度を有し、
前記硬化性材料は、大きな気泡を実質的に有さないこと、
を特徴とする微細構造組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月2日(2007.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
請求項１０に記載の電子デバイスにおいて、前記中間層は、パリレン、ベンゾシクロブタン、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアリーレンエーテル、ポリナフタレン、ポリノルボルネン、フルオロポリマー（例えばＰＴＦＥ）、クロロフルオロポリマー（ＰＣＦＰ）及び炭化水素の群から選択されるポリマーを有する、電子デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
請求項１６に記載の電子デバイスを製造する方法において、前記障壁層はＲＦプラズマＣＶＤプロセスによって堆積されることを特徴とする方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
請求項１６に記載の電子デバイスを製造する方法において、前記気相からの前記堆積の動作点は動力学的に制御される範囲内にあることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
（ａ）リザーバから溶融金属を運搬するための供給経路と、
（ｂ）金属インゴットを鋳造するための少なくとも１つの鋳型と、
（ｃ）上記各鋳型を供給経路に別個に接続する、溶融金属を送るための接続経路と、
（ｄ）上記各接続経路に関連させられ、上記リザーバに隣接して配置された閉鎖ゲートであって、開いた位置と閉じた位置との間で可動である閉鎖ゲートと、
（ｅ）上記閉鎖ゲートと鋳型との間に配置された落下部を有する各接続経路であって、該落下部が、上記接続経路及び鋳型の入口から溶融金属を迅速に排出させるべく、下方に向きを変えるのに適している、接続経路と、
（ｆ）上記鋳型からインゴットを運搬するための、該インゴットの鋳造方向に位置合わせされた各鋳型と関連させられた運搬デバイスと、
（ｇ）上記鋳型に差し込まれるのに適し、また、上記運搬デバイスにより支持され、更に、溶融金属を受けるために、その内部に形成されたスレッド付きの凹部を有する細長いスタータブロックと、
（ｈ）上記鋳型に対してスタータブロックをシールするための、スタータブロックに嵌め込まれたＯリングと、有している金属インゴットの連続鋳造用装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
リザーバから溶融金属を運搬するための供給経路と、金属インゴットを鋳造するための少なくとも１つの鋳型と、溶融金属を送るために上記各鋳型を供給経路へ別個に接続する接続経路と、上記各接続経路と関連させられ、上記リザーバに隣接して配置された閉鎖ゲートであって、開いた位置と閉じた位置との間で可動である閉鎖ゲートと、を有するとともに、各接続経路が、上記閉鎖ゲートと鋳型との間に配置され下方に向きを変えるのに適した落下部を備えている、インゴットを鋳造するためのマルチストランド連続溶融金属キャスタにおける少なくとも１つのストランドの鋳造を停止させる方法であって、
ａ．上記少なくとも１つのストランドを上記供給経路から隔離するために上記閉鎖ゲートを閉鎖し、
ｂ．上記接続経路及び鋳型の入口から溶融金属を迅速に排出させるために、上記落下部を下方変位させる、ことを有している方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
閉鎖の間に特定のストランドを隔離し、排出させ、また、溶融金属を回収する試みがなされている。かかる閉鎖デバイスの一例が、米国特許第４９８２７７９号に示される。しかしながら、かかるデバイスは、溶融金属が接続経路及び鋳型を通過し、鋳型出口を通じて排出することをしばしば必要とする。このことは、溶融金属が鋳型内で凝固することをもたらし、修理の場合に、この部分のアクセスを制限することとなる。その上、多くの閉鎖システムが、溶融金属が鋳型出口で検出された後に経路を隔離するのみあり、そのため、多量の溶融金属が、経路が隔離される前に失われる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図４に示されるように、各鋳型１６は、好ましくは、アルミニウムから機械加工されたツーピース鋳型本体１７を有し、該鋳型本体１７は、その範囲内に環状溝２６を備えている。耐熱性の入口チャンネル１９もまた鋳型１６に付属することが可能で、入口チャンネル１９は、そのインレット端部にて、落下経路部２４の下流側端部と結合する。更に、鋳型の内周部には、グラファイト部材２１が配置されている。環状溝２６は、第２の冷却剤供給ライン２８に接続され、環状溝２６から生成インゴット１８に隣接した鋳型１６の表面まで延びる少なくとも１つの環状スロット又は複数の孔部３２を有している。第２の冷却剤供給ライン２８からの冷却剤は、生成インゴット１８上に形成されるスキンに作用するように、スロット又は孔部３２を通じて流れ出て、これにより、インゴットは冷却され、凝固する。また、ガス供給ライン３０が、冷却剤のスロット又は孔部３２を浄化したり、溶融金属１２が入るのを防止したりするためのガスを供給するために、環状溝２６に接続されている。利用に適した鋳型の他の実施形態が、本発明と同じ譲受人に譲渡され、“金属の水平連続鋳造”と題された、２００６年７月１８日に発行された米国特許第７０７７１８６号に記載されている。その開示事項は、引用によりここに組み込まれる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月18日(2007.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属ビレットを連続鋳造する装置において、
入口端と出口端を有する水平鋳造型と、溶融金属を鋳型の入口端に供給する供給トラフと、鋳造されたビレットを鋳型の出口端から受承する水平コンベヤーと、コンベヤーと同期して移動して、コンベヤー上を走行しつつ連続ビレットを所定長さに切断するように操作される移動自在の切断のことを備え、又、水平コンベヤーが、鋳造型と切断のこの間を移動中の連続ビレットを支持及び心合せする少なくとも１個の弾性連続Ｖ形サポートを備える装置。
【請求項２】
連続Ｖ形サポートがエンドレスベルトを備える請求項１に記載の装置。
【請求項３】
切断のこがフライングソーである請求項１に記載の装置。
【請求項４】
少なくとも１個の弾性Ｖ形サポートを備える別の水平コンベヤーが、フライングソーの下流に配置された請求項３に記載の装置。
【請求項５】
連続Ｖ形サポートが、弾性材料で形成された連続Ｖベルトを備える請求項１に記載の装置。
【請求項６】
連続Ｖ形サポートが、連続金属ベルトに装着された一連の弾性Ｖ形サポートを備える請求項１に記載の装置。
【請求項７】
連続Ｖ形サポートが、連続弾性ベルトに装着された一連の金属Ｖ形サポートを備える請求項１に記載の装置。
【請求項８】
連続Ｖ形サポートが連続ベルトを含み、連続ベルトは、底面と、該底面に輪郭を付けて長手方向に指向する連続スロットとを有し、更に、連続ベルトは、連続スロットの輪郭と整合するように形成された固定の低摩擦サポート上を走行するように構成された請求項１に記載の装置。
【請求項９】
エンドレスベルトと係合する溝を有する駆動プーリを含む請求項２に記載の装置。
【請求項１０】
エンドレスベルトが、少なくとも１個の別のプーリによって支持され、又、張力付与手段を駆動プーリと別のプーリの間に設けた請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
駆動プーリに接続されたモータ駆動部を含む請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
フライングソーの上流と下流に、夫々、配置された水平コンベヤーと別の水平コンベヤーの速度を同期化する手段を含む請求項４に記載の装置。
【請求項１３】
金属ビレットを連続鋳造する装置において、
入口端と出口端を有する水平鋳造型と、溶融金属を鋳型の入口端に供給する供給トラフと、鋳造されたビレットを鋳型の出口端から受承する水平コンベヤーと、コンベヤーと同期して移動して、コンベヤー上を走行しつつ連続ビレットを所定長さに切断するように操作される移動自在の切断のことを備え、又、コンベヤーが、ビレット用のＶ形サポートを供給し、更に、Ｖ形サポートが、固定された水平及び垂直位置にあり、更に、鋳造型が、調節自在に型サポートに装着されることにより、鋳造型が、垂直方向、水平方向、ピッチ方向及びヨー方向において調節自在である装置。
【請求項１４】
鋳造及びのこ引き中にＶ形サポートに対してビレットに下方圧力を印加するように位置決めされた少なくとも１個のローラクランプを含む請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
鋳造型の調節自在の装着が、垂直なオフセットを生成するように構成されることにより、ガス／潤滑剤が鋳造型から放出される請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
金属ビレットを連続鋳造する装置において、
入口端と出口端を有する水平鋳造型と、溶融金属を鋳型の入口端に供給する供給トラフと、鋳造されたビレットを鋳型の出口端から受承する水平コンベヤーと、コンベヤーと同期して移動して、コンベヤー上を走行しつつ連続ビレットを所定長さに切断するように操作される移動自在の切断のことを備え、又、切断のこが、フライングソーであり、更に、鋳造されたビレットに回転ソーを貫通前進させる駆動手段と、ビレットを貫通するソーの移動方向と逆の負荷を供給するように構成された抵抗負荷手段とを設けた装置。
【請求項１７】
抵抗負荷手段が、機械的ばね又はガスばねを備える請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
フライングソーが、ビレットの走行方向に移動自在のキャリッジに装着されると共に、駆動手段が、フライングソーの上流のコンベヤーの速度に対する所定速度でキャリッジを移動させるように設けられた請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
抵抗負荷手段が、ビレットの搬入と搬出時にフライングソーの走行速度の加速及び減速を減衰するように構成された請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
連続鋳造機と関連するフライングソーの切断を制御する方法において、
連続鋳造機が、金属ビレットを鋳造する金属鋳造型と、鋳型とフライングソーの間の上流ビレット搬送手段と、フライングソーの下流の下流ビレット搬送手段とを備え、又、フライングソーは、フレームに装着された回転のこであり、更に、下流ビレット搬送手段は、上流ビレット搬送手段の速度に同期化された速度で移動し、
切断を行う位置の上流の所定位置にのこを位置決めするように、フレームを移動させるステップ（ａ）と、
フレームとのこが上流ビレット搬送手段と同じ速度で移動するように、フレームとのこを加速するステップ（ｂ）と、
ビレットを貫通切断するように、のこを回転すると共にのこをビレットに垂直に移動させるステップ（ｃ）と、
貫通切断の完了時に、上流ビレット搬送手段に対して下流ビレット搬送手段を加速するステップ（ｄ）と、
下流ビレット搬送手段の加速度よりも低く、フレームとのこを上流ビレット搬送手段に対して加速するステップ（ｅ）と、
ビレットの両切断面が所定量だけ分離された後、のこを元の上流位置に戻し、フレームの移動を停止し、フレームを開始位置に戻すと共に、下流ビレット搬送手段の速度を上流ビレット搬送手段に対して再同期化するステップ（ｆ）と
を備える方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施の形態によれば、水平コンベヤーが、鋳造型と切断のこの間を移動中の連続ビレットを支持及び心合せする少なくとも１個の弾性連続Ｖ形サポートを備える。Ｖ形サポートは、ビレットに対する２点心合せサポートを提供して、ビレットが水平又は垂直方向に偏倚することを防止する。Ｖ形サポートは、典型的に、弾性材料の連続ベルトで形成されるが、連続金属ベルト上の弾性材料のＶ形ブロック又は連続弾性ベルト上のＶ形金属ブロックから成ってもよい。弾性材料は、典型的に、天然ゴム又はネオプレンゴム組成物であって、相対的に非圧縮性であることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2007513771.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2007513771.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2007513771.tif 000003
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2007513771.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月14日(2007.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の糸（１２）の少なくともいくつかが、リボン状の接続ライン（１４）に沿って実質的に１つに堅固に結ばれるように、管状本体（１０）が前記複数の糸（１２）から構築されており、
前記リボン状の接続ライン（１４）の間において、前記糸（１２）の少なくともいくつかが、前記相互に隣接した接続ライン（１４）の間に、横方向の接続（１６）を形成しており、
予め画定可能なメンブレイン材料（１８）が前記管状本体（１０）に塗布されることを特徴とする、管状メンブレインの製造方法。
【請求項２】
前記管状本体（１０）は、クロッシェ編み装置によって生成されており、それぞれの挿入された糸には、その独自のかぎ付き針又はクロッシェ針が割り当てられていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記管状本体（１０）は、大きな流速による液体の通過を実現する通路（２０）が前記個々の横方向の接続（１６）の間に形成されるように、クロッシェ編みによって生成されており、前記リボン状の接続ライン（１４）は、実質的に液体密封性を有するか、又は小さな流速による液体の通過を実現するように設計されていることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記糸は、ポリマー、ポリアラミド、その他のポリマー、カーボン、ケブラーなどの合成材料、ニッケル、プラチナ、パラジウム、金、銀、ステンレススチールなどの金属、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケルなどの触媒活性を有する物質；セルロースアセテート、グラスファイバ、グラファイトパウダー、活性炭などのその他の材料のグループ、或いは、以上のグループの混合物又は化合物から選択されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記隣接する横方向の接続（１６）は、それらの間に１０〜７０°の角度を有するように、２つの接続ライン（１４）の間に配列されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記管状本体（１０）は、少なくとも３つの横方向接続（１６）の表面がその間に延長している少なくとも３つの接続ライン（１４）から構築されており、この上部に前記メンブレイン材料が塗布されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記管状本体（１０）にメンブレイン活性化可能物質をコーティングし、このメンブレイン活性化可能物質に沈殿槽を通過させることにより、該物質を微小孔を有するメンブレインレイヤに加工することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記メンブレイン材料は、ＰＥＳ（polyethersulfone）、ＰＳＵ（polysulfone）、ＰＡＮ（polyacrylonitrile）、又はＰＶＤＦ（polyvinylidene fluoride）などの合成材料のグループから選択されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記管状本体（１０）は、前記糸（１２）の少なくともいくつかが、リボン状の接続ライン（１４）に沿って実質的に１つに堅固に結ばれるように、複数の糸（１２）から構築されており、前記リボン状の接続ライン（１４）の間において、前記糸（１２）の少なくともいくつかが、前記相互に隣接する接続ライン（１４）の間に、前記横方向の接続（１６）を形成し、且つ、予め画定可能なメンブレイン材料（１８）が前記管状本体に塗布されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法によって製造された管状メンブレイン。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月19日(2007.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料処理装置上の試料混合構造であって、
プロセスチャンバの近位側の送出ポートおよびプロセスチャンバの遠位側の出口ポートを備えるプロセスチャンバと、
前記プロセスチャンバの前記遠位側に位置する混合ポートを備える混合チャンバとを具備し、
前記プロセスチャンバの前記遠位側よりも前記プロセスチャンバの前記近位側の近くに位置する回転軸線を中心とする、前記試料処理装置の回転により、前記混合ポートの開放時に前記プロセスチャンバ内の試料材料の少なくとも一部分を前記混合ポートを通して前記混合チャンバ内へと移動させるとともに、
前記プロセスチャンバの前記出口ポートの開放時には、前記回転軸線を中心とする前記試料処理装置の回転により、前記試料材料を前記プロセスチャンバおよび前記混合チャンバの外へ移動させるように構成されること、
を特徴とする試料混合構造。
【請求項２】
試料処理装置上の試料混合構造であって、
プロセスチャンバの近位側の送出ポートおよびプロセスチャンバの遠位側の出口ポートを備え、該出口ポートが閉鎖されているプロセスチャンバと、
前記プロセスチャンバの前記遠位側に位置する混合ポートを備える混合チャンバとを具備し、
前記プロセスチャンバが、前記試料処理装置の第１主側と第２主側との間に位置し、前記混合チャンバの少なくとも一部分が、前記プロセスチャンバと前記試料処理装置の該第２主側との間に位置し、
前記プロセスチャンバの前記遠位側よりも前記プロセスチャンバの前記近位側の近くに位置する回転軸線を中心とする、前記試料処理装置の回転により、前記混合ポートの開放時に前記プロセスチャンバ内の試料材料の少なくとも一部分を前記混合ポートを通して前記混合チャンバ内へと移動させるとともに、
前記プロセスチャンバの前記出口ポートの開放時には、前記回転軸線を中心とする前記試料処理装置の回転により、前記試料材料を前記プロセスチャンバおよび前記混合チャンバの外へと移動させるように構成されること、
を特徴とする試料混合構造。
【請求項３】
試料処理装置上の試料混合構造であって、
プロセスチャンバの近位側の送出ポートおよびプロセスチャンバの遠位側の出口ポートを備えるプロセスチャンバと、
前記プロセスチャンバの前記遠位側に位置する第１混合ポートを通して、前記プロセスチャンバに流体連通する第１混合チャンバと、
前記プロセスチャンバの前記遠位側に位置する第２混合ポートを通して、前記プロセスチャンバに流体連通する第２混合チャンバとを具備し、
前記プロセスチャンバの前記遠位側よりも前記プロセスチャンバの前記近位側の近くに位置する回転軸線を中心とする、前記試料処理装置の回転により、前記プロセスチャンバ内の試料材料の少なくとも一部分を前記第１混合チャンバおよび前記第２混合チャンバの少なくとも一方へと移動させるとともに、
前記プロセスチャンバの前記出口ポートの開放時には、前記回転軸線を中心とする前記試料処理装置の回転により、前記試料材料を前記第１混合チャンバ、前記第２混合チャンバおよび前記プロセスチャンバの外へと移動させるように構成されること、
を特徴とする試料混合構造。
【請求項４】
試料処理装置内で流体を混合する方法であって、
プロセスチャンバと、少なくとも１個の混合チャンバと、該プロセスチャンバの遠位側に位置する少なくとも１個の混合ポートとを備える試料処理装置を用意することと、
前記プロセスチャンバ内に試料材料を用意することと、
回転軸線を中心に前記試料処理装置を少なくとも１サイクルの加速および減速を含んで回転させるとともにその回転速度を変化させることにより、前記プロセスチャンバから前記試料材料の少なくとも一部分を、前記少なくとも１個の混合ポートを通して、前記混合チャンバの内外へと移動させることと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
試料処理装置内で流体を混合する方法であって、
プロセスチャンバと、少なくとも１個の混合チャンバと、該プロセスチャンバの遠位側に位置する少なくとも１個の混合ポートとを備える試料処理装置を用意することと、
前記プロセスチャンバ内に試料材料を用意することと、
回転軸線を中心に前記試料処理装置を少なくとも２サイクルの加速および減速を含んで回転させるとともにその回転速度を変化させることにより、前記プロセスチャンバから前記試料材料の少なくとも一部分を、前記少なくとも１個の混合ポートを通して、前記少なくとも１個の混合チャンバの内外へと移動させることと、
前記試料処理装置を回転させた後に、前記プロセスチャンバに出口ポートを開口させて、前記プロセスチャンバ内の前記試料材料の少なくとも一部分を前記少なくとも１個の混合チャンバの内外へと移動させることと、
前記回転軸線を中心に前記試料処理装置を回転させることにより、前記試料材料の少なくとも一部分を、前記出口ポートを通して前記プロセスチャンバから除去することと、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月29日(2007.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の中空の体腔の組織の壁面に組織の襞を形成するための装置であって、
・可撓性チューブを有し、該可撓性チューブの遠位領域が該体腔へと挿入されるように構成されているカテーテル、
・該遠位領域に配置され、第１の組織接触点を規定する組織係合アセンブリ、
・初めは該第１の組織接触点の近位側の位置または該第１の組織接触点と並んだ位置に位置している第２の組織接触点、および
・該第１の組織接触点を該第２の組織接触点の近位側の位置へと移動させて、組織の襞を形成する組織近接化装置
を有している装置。
【請求項２】
初めは前記第１の組織接触点の近位側の位置または前記第１の組織接触点と並んだ位置に位置している第３の組織接触点
をさらに有しており、
前記組織近接化装置が、前記第２の組織接触点と第３の組織接触点とが組織の襞の両側に位置するよう、該第１の組織接触点を該第３の組織接触点の近位側の位置へと移動させて組織の襞を形成する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記組織近接化装置が、前記第１の組織接触点を前記第２の組織接触点および第３の組織接触点に対して直線的に変位させる、請求項３に記載の装置。
【請求項４】
アンカ・アセンブリを送達して前記組織の襞を該アンカ・アセンブリで固定するように構成されたアンカ送達システム
をさらに有している、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記アンカ送達システムが、前記体腔へと挿入されるように構成された可撓性送達カテーテルを有している、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記可撓性送達カテーテルが、組織の襞を横切る方向に整列すべく屈曲するように構成されている、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記アンカ送達システムが、前記可撓性送達カテーテルを通って前進して前記組織の襞を横切って通過するように構成された針をさらに有している、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記アンカ・アセンブリが、前記針を通して送達されるように構成されている、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記組織係合アセンブリが、粘膜に係合して前記第１の組織接触点を規定するように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記組織係合アセンブリが、筋層に係合して前記第１の組織接触点を規定するように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記組織係合アセンブリが、漿膜に係合して前記第１の組織接触点を規定するように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
組織の襞が、漿膜と漿膜との組織の接触を有しており、前記アンカ・アセンブリが、該漿膜と漿膜との組織の接触を固定するように構成されている、請求項４に記載の装置。
【請求項１３】
形状を固定することができる案内チューブをさらに有している、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
中空の体器官の内部に組織の襞を内視鏡的に形成するためのシステムであって、
・近位端、遠位端、および該近位端と該遠位端との間の細長い長さ部分を有している内視鏡装置、
・該内視鏡装置の該遠位端から突き出して、該中空の体器官の内部の組織を捕らえるように構成されている組織係合機構、ならびに
・該中空の体器官の内部において該組織係合機構に近接して位置でき、該捕らえた組織を貫いてアンカ・アセンブリを内視鏡的に繰り出すように構成されているアンカ送達システム
を有しているシステム。
【請求項１５】
さらに、屈曲が可能な画像化装置を、前記内視鏡装置の前記遠位端から突き出して、該内視鏡装置の軸から外れて屈曲するように有している、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記画像化装置が、胃鏡を含んでいる、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
さらに前記画像化装置が、軸から外れて屈曲したときに視覚三角測量を可能にするように構成されている、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１８】
前記内視鏡装置の前記長さ部分が、形状を固定することができる筒状部材で構成されており、該部材が、前記中空の体器官の内部で配置構成を固定するように構成されている、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１９】
前記内視鏡装置が、該内視鏡装置を貫く複数の作業用管腔を規定している、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２０】
前記組織係合機構が、組織把持器を有している、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２１】
前記組織係合機構が、前記組織を捕らえて前記内視鏡装置に対して近位方向に動かすように構成されている、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２２】
前記アンカ送達システムが、可撓性送達チューブを有している、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２３】
前記可撓性送達チューブの一部が、前記捕らえた組織に対して横切る方向に整列すべく向け直されるように構成されている、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記アンカ送達システムが、さらに針を有しており、
該針が、前記可撓性送達チューブを通して進められ、前記捕らえた組織を横切って通過するように構成されている、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２５】
前記アンカ送達システムが、前記針を通しての送達のために構成されている、請求項２４に記載のシステム。