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【手続補正書】
【提出日】平成19年10月5日(2007.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示装置のためにバックライトを提供する電気的に並列な形態で配置された複数のランプ構造と、
前記複数のランプ構造に電力を供給するように構成された共通交流電源と、
前記共通交流電源にまたがる前記複数のランプ構造に電気的に直列な形態で配置された複数の第１平衡トランスのグループと
を有し、
前記共通交流電源は、インバータによって電力を出力するものであり、
前記第１平衡トランスのそれぞれは、一次巻線および二次巻線を有し、
前記各一次巻線は、前記共通交流電源にまたがる前記ランプ構造のそれぞれの一つに直列に電気的に接続されており、
前記複数の第１平衡トランスのグループにおける複数の前記二次巻線は、第１直列閉ループを形成するように直列に電気的に接続されていることを特徴とするバックライトシステム。
【請求項２】
バックライトシステムにおける複数のランプ構造間で電流平衡をとる方法であって、
前記複数のランプ構造のそれぞれに個別の第１平衡トランスを設定するステップと、
電気的に並列な構成で配置された複数の第１平衡トランスおよび複数のランプ構造の結合体にまたがらせて交流電源を電気的に接続するステップと、
前記複数の第１平衡トランスのグループについて第１直列閉ループを形成するように直列に複数の二次巻線を電気的に接続するステップと、
を有し、
前記複数のランプ構造のそれぞれは、指定された第１平衡トランスの一次巻線に直列に電気的に接続されているとともに、表示装置のバックライトとなる少なくとも１つのランプを有し、
前記交流電源は、インバータによって電力を出力するものであり、
前記第１直列閉ループの複数の前記二次巻線は、共通電流を伝導させることを特徴とする方法。
【請求項３】
前記複数の第１平衡トランスのグループの前記一次巻線は、前記インバータの第１出力端子に共通に接続された第１端子と、前記複数のランプ構造の第１端にそれぞれ接続された第２端子とを持っており、
第２直列閉ループに接続された複数の二次巻線と、前記複数のランプ構造のそれぞれの第２端と前記インバータの第２出力端との間に電気的に接続された複数の一次巻線と、を持つ複数の第２平衡トランスのグループをさらに有する請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記複数の第１平衡トランスのグループは、複数の環状磁気コアで実現されており、
絶縁線が前記複数の第１平衡トランスの一つの一次巻線に相当するように各環状磁気コアの区部で進行的に巻かれており、
絶縁線が前記第１直列閉ループの前記二次巻線に相当するように複数の環状磁気コアを通ってクローズドエンドでループにされている請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記複数のランプ構造のそれぞれは、２つのランプを有しており、
対応する前記第１平衡トランスの前記一次巻線は、前記２つのランプの間に接続されている請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記第１直列閉ループの１つ以上の二次巻線での電圧上昇を検出することによって、非作動ランプの状態を検出する故障検出回路を、さらに有する請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の第１平衡トランスのそれぞれは、環形状である磁気コアを有するとともに、前記磁気コアの別々の区部で進行的に巻かれている一次巻線および二次巻線を持つ請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記複数の第１平衡トランスのそれぞれは、Ｅ構造に基づいている磁気コアを有するとともに、前記Ｅ構造におけるボビンの別々の区部に巻かれている前記一次巻線および前記二次巻線を持つ請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項９】
前記二次巻線の第１直列閉ループは、複数の磁気コアを通る絶縁線を１回巻いたものによって形成されている請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
前記複数の二次巻線の極性は、対応する一次巻線に印加された交流電圧が同相であるとき、前記複数の二次巻線で生じた電圧が同期するように、揃えられている請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項１１】
前記複数の第１平衡トランスは、前記複数のランプ構造を所定の比率で電流が流れるようにするために、異なる巻数比となっている請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【請求項１２】
前記複数の第１平衡トランスは、前記複数のランプ構造に対して実質的に同一の電流を強制的に流すために、実質的に同一の巻数比となっている請求項１に記載のバックライトシステムまたは請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月7日(2007.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細長いレーザ・チャンバと、
カソードから離して配置されたアノードを含み、前記チャンバ内に配置された電極構造と、
前記チャンバ内において生成される複数の粒子を拘束するように適合され、前記レーザ・チャンバ内に配置されたオープンセル発泡体を含む細長いバッフルと、
を含み、前記細長いバッフルが前記レーザ・チャンバを少なくとも部分的に占めるように適合されているレーザ装置。
【請求項２】
前記オープンセル発泡体は、オープンセル金属発泡体を含む請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項３】
前記オープンセル金属発泡体は、本質的にニッケル、アルミニウム、真鍮、スチール、および銅からなる金属発泡体のグループから選択される請求項２に記載のレーザ装置。
【請求項４】
前記バッフルは、オープンセル・セラミクスを含む請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項５】
前記電極構造は、さらに、複数の予備イオン化ピンを含み、前記複数の粒子の少なくともいくつかは、前記予備イオン化ピンによって生成され、金属を含む請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項６】
前記レーザ・チャンバは、エキシマ・レーザを含む請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項７】
前記レーザ・チャンバは、能動フィルタ・システムを持たない請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項８】
前記細長いバッフルは、前記電極構造とほぼ平行である請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項９】
さらに、前記電極構造の第１の端部に隣接して位置決めされる第１の端部バッフルと、前記電極構造の第２の端部に隣接して位置決めされる第２の端部バッフルを含む請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１０】
前記第１と第２の端部バッフルは、オープンセル発泡体を含み、前記第１と第２の端部バッフルは、前記電極構造の前記第１と第２の端部に隣接するガス流パターンを制御するように適合される請求項９に記載のレーザ装置。
【請求項１１】
さらに前記レーザ・チャンバの端部に配置される光学パッケージを含み、前記第１の端部バッフルは、前記ガス流パターンが前記光学パッケージの上の洗流を防止するように適合される請求項１０に記載のレーザ装置。
【請求項１２】
前記細長いバッフルは、さらに、音波を減衰するために適合される請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１３】
レーザ・チャンバを形成するケーシング・キャビティと、
第１と第２のレーザ・チャンバの端部に対応して隣接配置される第１と第２の端部を有する電極構造と、
前記レーザ・チャンバ・キャビティ内においてガスを循環させるためのガス循環メカニズムと、
バッフルを内部に収容し、前記ガスを前記電極構造に向けると共に、乱流のないガス流を前記電極構造の第１と第２の端部に供給するバッフル・システムと、
を含む請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１４】
前記バッフル・システムは、前記電極構造に対して概略平行に位置決めされる細長い主バッフルを含む請求項１３に記載のレーザ装置。
【請求項１５】
前記バッフル・システムは前記レーザ・チャンバ・キャビティの約１パーセント（１％）より多くを占める請求項１３に記載のレーザ装置。
【請求項１６】
前記バッフル・システムは、前記レーザ装置が動作している間の前記レーザ・チャンバ・キャビティ内における音響エネルギの少なくとも一部を減衰するように適合される請求項１３に記載のレーザ装置。
【請求項１７】
レーザ装置内のガスから粒子をフィルタリングする方法であって、
チャンバ、前記チャンバ内に配置された電極構造、ガス循環システムを含むレーザ装置を用意するステップと、
前記レーザ・チャンバ内に、オープンセル発泡体を含むバッフル・システムを挿入するステップと、
前記ガス循環システムを係合して前記レーザ・チャンバ内の、複数の粒子を有する前記ガスを循環するステップと、
を含み、前記粒子の少なくともいくつかが前記バッフル・システムによって拘束される方法。
【請求項１８】
レーザ・チャンバと、
前記チャンバ内に配置されるレーザ用ガスと、
前記チャンバ内のレーザ電極の対と、
前記レーザの発射の間に前記チャンバ内に生成される粒子を収集するように前記チャンバ内に配置されるオープンセル金属発泡体と、
を含むエキシマ・レーザ。
【請求項１９】
前記レーザの発射の間における前記電極間の前記ガスのレイジングが、屈折を矯正するように角膜組織の除去するために適した光剥離性のレーザ・ビームを生成する請求項１８に記載のエキシマ・レーザ。
【請求項２０】
前記オープンセル発泡体が前記レーザ・チャンバ・キャビティの約１パーセント（１％）から約６０パーセント（６０％）までの容積を占める請求項１８記載のレーザ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月13日(2007.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロキャビティＯＬＥＤデバイスと光集積要素とを備える白色発光ＯＬＥＤ装置であって、前記マイクロキャビティＯＬＥＤデバイスが白色発光有機ＥＬ要素を有し、前記マイクロキャビティＯＬＥＤデバイスが角度依存狭帯域放射を有するよう構成され、前記光集積要素が前記マイクロキャビティＯＬＥＤデバイスからの異なる角度からの角度依存狭帯域放射を集積して白色発光を形成する白色発光ＯＬＥＤ装置。
【請求項２】
前記マイクロキャビティＯＬＥＤデバイスが、法線方向で６００ｎｍを越えるかまたは５００ｎｍ未満のピーク放射波長を有するよう調整される、請求項１に記載の白色発光ＯＬＥＤ装置。
【請求項３】
前記光集積要素が光散乱構造を有する、請求項１に記載の白色発光ＯＬＥＤ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月15日(2007.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドキュメントに対するスコアを発生する方法であって、前記ドキュメントがサーチ用語に応答してサーチ結果セット内にリストされるような方法において、
ａ）前記ドキュメントに関連した販売情報を収集するステップと、
ｂ）前記ドキュメントに対するスコアを発生するステップであって、前記スコアが前記販売情報に基づいて発生されるようなステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
前記スコアは、前記サーチ結果セットのリスト順序内における前記ドキュメントの配置に影響するように適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ｃ）時間の経過を考慮するように前記スコアを調整するステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ｃ）前記サーチ結果セットのリスト順序内における前記ドキュメントの位置付けを考慮するように前記スコアを調整するステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ｃ）前記ドキュメントの特定のナレッジを考慮するように前記スコアを調整するステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ｃ）前記サーチ用語の特定のナレッジを考慮するように前記スコアを調整するステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ｃ）テキストレリバンシースコア、ペイドインクルージョンスコア又はペイドスポンサーシップスコアに関連して前記スコアを適用するステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記発生するステップｂ）は、少なくとも１つの販売タイプに基づいて前記ドキュメントに対するスコアを発生する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ｄ）前記スコアに使用量関数を適用するステップを更に備えた請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
ｃ）前記少なくとも１つの販売タイプの各々に対するコンフィギュレーションパラメータを計算するステップであって、前記スコアは、前記コンフィギュレーションパラメータ及び前記少なくとも１つの販売タイプに基づいて発生されるようなステップを更に備えた請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記スコアは、
Ｈｏｔｓｃｏｒｅk、p＝Σ（αk、t、T(t)Ｃk、p、t）
に基づいて発生され、但し、Ｃk、p、tは、前記ドキュメントｐにおける前記サーチ用語ｋに対する前記少なくとも１つの販売タイプｔの発生数であり、そしてαk、t、T(t)は、前記コンフィギュレーションパラメータである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
複数のインストラクションが記憶されたコンピュータ読み取り可能な媒体であって、前記複数のインストラクションは、プロセッサにより実行されたときに、プロセッサが、
ａ）前記ドキュメントに関連した販売情報を収集するステップと、
ｂ）前記ドキュメントに対するスコアを発生するステップであって、前記スコアが前記販売情報に基づいて発生されるようなステップと、
を実行するようにさせるインストラクションを含むものである、コンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１３】
前記スコアは、前記サーチ結果セットのリスト順序内における前記ドキュメントの配置に影響するように適用される、請求項１２に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１４】
ｃ）時間の経過を考慮するように前記スコアを調整するステップを更に備えた、請求項１２に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１５】
ｃ）前記サーチ結果セットのリスト順序内における前記ドキュメントの位置付けを考慮するように前記スコアを調整するステップを更に備えた、請求項１２に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１６】
ｃ）前記ドキュメントの特定のナレッジを考慮するように前記スコアを調整するステップを更に備えた、請求項１２に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１７】
ｃ）前記サーチ用語の特定のナレッジを考慮するように前記スコアを調整するステップを更に備えた、請求項１２に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１８】
ｃ）テキストレリバンシースコア、ペイドインクルージョンスコア又はペイドスポンサーシップスコアに関連して前記スコアを適用するステップを更に備えた請求項１２に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１９】
前記発生するステップｂ）は、少なくとも１つの販売タイプに基づいて前記ドキュメントに対するスコアを発生する、請求項１２に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２０】
ｄ）前記スコアに使用量関数を適用するステップを更に備えた、請求項１８に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２１】
ｃ）前記少なくとも１つの販売タイプの各々に対するコンフィギュレーションパラメータを計算するステップであって、前記スコアは、前記コンフィギュレーションパラメータ及び前記少なくとも１つの販売タイプに基づいて発生されるようなステップを更に備えた請求項１９に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２２】
前記スコアは、
Ｈｏｔｓｃｏｒｅk、p＝Σ（αk、t、T(t)Ｃk、p、t）
に基づいて発生され、但し、Ｃk、p、tは、前記ドキュメントｐにおける前記サーチ用語ｋに対する前記少なくとも１つの販売タイプｔの発生数であり、そしてαk、t、T(t)は、前記コンフィギュレーションパラメータである、請求項２１に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２３】
ドキュメントに対するスコアを発生する装置であって、前記ドキュメントがサーチ用語に応答してサーチ結果セット内にリストされるような装置において、
前記ドキュメントに関連した販売情報を収集する手段と、
前記ドキュメントに対するスコアを発生する手段であって、前記スコアが前記販売情報に基づいて発生されるような手段と、
を備えた装置。
【請求項２４】
前記スコアは、前記サーチ結果セットのリスト順序内における前記ドキュメントの配置に影響するように適用される、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
時間の経過を考慮するように前記スコアを調整する手段を更に備えた、請求項２３に記載の装置。
【請求項２６】
前記サーチ結果セットのリスト順序内における前記ドキュメントの位置付けを考慮するように前記スコアを調整する手段を更に備えた、請求項２３に記載の装置。
【請求項２７】
前記ドキュメントの特定のナレッジを考慮するように前記スコアを調整する手段を更に備えた、請求項２３に記載の装置。
【請求項２８】
前記サーチ用語の特定のナレッジを考慮するように前記スコアを調整する手段を更に備えた、請求項２３に記載の装置。
【請求項２９】
テキストレリバンシースコア、ペイドインクルージョンスコア又はペイドスポンサーシップスコアに関連して前記スコアを適用する手段を更に備えた、請求項２３に記載の装置。
【請求項３０】
前記スコアに使用量関数を適用する手段を更に備えた、請求項２３に記載の装置。
【請求項３１】
前記スコアを発生するためのコンフィギュレーションが選択可能である、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月14日(2007.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機電場発光デバイスであって、
ａ）アノードと、
ｂ）前記アノードの上に配置され、少なくとも１つの正孔輸送材料を含む正孔輸送領域と、
ｃ）前記正孔輸送領域内に配置され、元素の周期律表の第４族〜第１６族から選択された少なくとも１つの金属を含み、該選択された金属が４．０ｅＶより高い仕事関数を有する金属副層と、
ｄ）前記正孔輸送領域に接触して形成され、正孔−電子の再結合に応答して光を生じる発光層と、
ｅ）前記発光層の上に配置された電子輸送層と、
ｆ）前記電子輸送層の上に配置されたカソードとを備える有機電場発光デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
前記リターンチャンネルに沿って多数の位置で流体連通させるホットヘッドバイパスバルブの配列をさらに含み、
前記ホットヘッドバイパスバルブの配列の少なくとも一つは、前記リターンチャンネルに沿って選択されたポイントに配置され、
前記方向転換手段は、前記サーマルヘッドを出ていく前記冷媒の温度に基づいて前記リターンチャンネルに沿って選択された位置へ前記冷媒を導くようになされた、請求項１６に記載の電子デバイスの温度制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
他の面においては、本発明は、多数の電子デバイスの温度を独立に制御する装置を提供する。上記装置は、ウォームエンド（warm end）にある多数の熱交換器に並列接続された単一のコンプレッサを含む。サーマルヘッドは、温度制御された表面をもち、各熱交換器の液フローループへ接続されている。フロー調整熱コントロールは、別の熱負荷を与える各熱交換器に接続される。これによって、熱交換器間で温度が不均衡になることが阻止される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
非膨張の冷媒の温度が周囲の状態よりも冷たくなれば、周囲の状態で非膨張の冷媒が与えられた典型的な冷却システムよりも、さらに冷却することがわかる。この終わりの方で、自動カスケードシステムにより、１台のコンプレッサが、ガス混合および液ガスのフェーズを分けて圧縮するために用いられ、また、マルチパスの熱交換器が非膨張の冷媒の低温度を得るために用いられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
熱交換器２４を出ると、サーマルヘッド１２を入る供給ストリーム１８のフローが制御バルブ（冷凍液制御バルブ：Coolant Control Valve）２６によって制御される。制御バルブ２６は、図示されるように、低インピーダンスのバルブとその後に続く固定制限とをともに通して、ＰＷＭ(pulse-width-modulation）によって、フロー制御を行う。すなわち制御バルブ２６は、制御バルブ２６内の様々な制限を機械的または電気的に比例制御することができる。フロー制御バルブ２６の制限量は、所望のテスト温度、冷却能力、および／または、サーマルヘッドで要求される制御アルゴリズムにしたがって選択される。戻りストリーム２２は、サーマルヘッド１２を蒸気、あるいは、熱交換器２４で供給ストリーム１８を蒸発しかつ冷却する、液体の冷媒の２つの混合フェーズとして出ていく。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この構成は、熱交換器２４およびサーマルヘッド１２を通して冷媒のフローを安定にするときにうまく作用する。安定的な温度は、システムを通して保持され、冷却媒体は常に制御バルブ２６で利用できるからである。しかしながら、テスト環境においては、制御バルブ２６が閉じ、熱交換器２４を通して戻りフロー２２がまったく流れていないときは、比較的長期間となることが多い。その後、熱交換器２４は温まって冷め、高圧冷媒は、クールダウンの期間まで、制御バルブ２６の上流にはもはやない。このことは、制御バルブ２６およびサーマルヘッド１２において、矛盾のない初期温度で冷却媒体を連続して使用するのが望ましい冷却媒体のテスト環境で望ましいことではない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図５に示すように、供給ストリーム１８の温度制御は、さらに、温度を活発に制御するスタビライザブロック（stabilizing block）３８の使用によって促進させることが可能となる。制御されたバイパスフロー（例えば、示した比例制御、または、前述した切り替え）の利用が、熱の吸い込み（thermal sink）等として作用する塊りの物質を通して、湿っぽいサーマルヘッド１２の熱負荷の変化中に行われる。このことにより、サーマルヘッド１２への冷媒制御を良くする制御バルブ２６に冷媒の矛盾のない供給をさらに与え、したがって、所望のデバイステストとしてサーマルヘッド１２の温度制御を改善することがわかる。熱コントロール４０は、スタビライザブロック３８の温度の制御をさらに促進することにも使用される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
サーマルヘッド１２のセットポイント温度が広い間隔に変化するとき、サーマルヘッドの排出ストリーム３２を他の環境（サーマルヘッド１２の、主として熱い温度のセットポイント）に方向転換する間、サーマルヘッドの排出ストリーム３２が、ある環境（サーマルヘッド１２の、主として冷たい温度のセットポイント）にある熱交換器２４を通して通過することに利点がありうる。このような作用は、図７に示すように、サーマルヘッドの排出ストリームに３ウェイバルブ４４の利用によって達成させることができる。また、サーマルヘッドの排出ストリーム３２の方向は、１以上の他のフローストリームに直接流す補足的な方法で作動する２つの２ウェイバルブの利用によっても達成させることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５Ａ】
2007507899.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月26日(2007.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１格子定数を有する第１緩和半導体材料を含む基板と、
前記基板を覆い、前記第１格子定数とは異なる第２格子定数を有する第２緩和半導体材料を含む半導体デバイス層と、
前記基板と前記半導体デバイス層との間に介在された誘電体層と、
を備え、
前記誘電体層が、前記第１格子定数と前記第２格子定数間の遷移のため前記誘電体層内に配置されたプログラムされた遷移帯を有し、前記プログラムされた遷移帯が複数層を含み、前記複数層の隣接する層が異なる格子定数を有し、該隣接する層の１つが欠陥を形成するのに必要な第１限界厚さを超える第１厚さを有し、且つ前記隣接する層の他のものが第２限界厚さを超えない第２厚さを有しており、前記複数層の各隣接する層が、前記遷移帯内の欠陥を促進して前記プログラムされた遷移帯の縁部に移行させる境界面を形成することを特徴とする半導体構造体。
【請求項２】
前記半導体デバイス層を覆い、欠陥を最小化して歪みを維持するために限界厚さ未満の厚さを有する歪み材料層を更に備える請求項１に記載の半導体構造体。
【請求項３】
第１格子定数を有する第１緩和材料を含む基板手段と、
前記第１格子定数を有する第１緩和材料から格子定数の異なる材料に遷移するためのプログラムされた遷移帯を定める開口部を有する誘電体層手段であって、前記プログラムされた遷移帯が複数層を含み、各々が前記複数層の任意の隣接する層とは異なる組成を有して、欠陥を促進して前記プログラムされた遷移帯の縁部に移行させるように境界面を形成し、前記複数層の所定の交互する層が欠陥を形成して歪みを除去する材料組成の限界厚さを超える厚さを有し、前記複数層の介在層が歪みを生ずることになる材料組成の限界厚さを超えない厚さを有し、前記複数層の上層がほぼ欠陥が無い前記誘電体層手段と、
少なくとも前記プログラムされた遷移帯を覆い、前記格子定数材料が異なる第２格子定数を有する第２緩和材料を含む当半導体デバイス層手段と、
を備える半導体デバイス構造体。
【請求項４】
半導体デバイス構造の形成方法であって、
第１格子定数を有する第１緩和材料から構成された基板手段を形成する段階と、
前記基板手段を覆い、前記第１格子定数を有する前記第１緩和材料から異なる格子定数の材料に遷移するためのプログラムされた遷移帯を定める開口部を有する誘電体層手段を形成する段階と、
欠陥を促進して前記プログラムされた遷移帯の縁部に移行させる境界面を形成するために、隣接する任意の層とは異なる組成を各々が含む複数層により前記プログラムされた遷移帯を形成する段階と、
欠陥を形成して歪みを除去するような材料組成の限界厚さを超える厚さを有する前記複数層の所定の交互する層を形成する段階と、
歪みを生じる材料組成の限界厚さを超えない厚さを有する、前記所定の交互する層に介在する前記複数層の介在層を形成し、前記複数層の上層がほぼ欠陥が無いようにする段階と、
少なくとも前記プログラムされた遷移帯を覆い、前記異なる格子定数である第２格子定数を有する第２緩和材料から構成される半導体デバイス層手段を形成する段階と、
を含む方法。
【請求項５】
半導体デバイスを形成する方法であって、
第１格子定数を有する第１緩和半導体材料を含む基板を準備する段階と、
前記基板を覆い、前記第１格子定数とは異なる第２格子定数を有する第２緩和半導体材料から構成される半導体デバイス層を準備する段階と、
前記第１格子定数と前記第２格子定数との間を遷移させるため、プログラムされた遷移帯が内部に配置された誘電体層を前記基板と前記半導体デバイス層との間に介在させる段階と、
複数層を備えて前記プログラムされた遷移帯を形成する段階と、
を含む方法。
前記複数層の複数層の隣接する層が異なる格子定数を有し、該隣接する層の各々の１つが欠陥を形成するのに必要な第１限界厚さを超える第１厚さを有し且つ前記隣接する層の各々の他のものが第２限界厚さを超えない第２厚さを有しており、前記複数層の各隣接する層が、前記遷移帯内の欠陥を促進して前記プログラムされた遷移帯の縁部に移行させる境界面を形成し、前記プログラムされた遷移帯の上層がほぼ欠陥が無いようにする段階と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月19日(2007.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質層を有する基板と、
前記基板に形成された半導体発光領域とを備える発光体であって、前記発光領域はバイアスに応じて全方向に光を発することができ、前記多孔質層は前記基板を通過する前記発光領域光の取出しを高めることを特徴とする発光体。
【請求項２】
前記発光領域は、反対にドープされた２つの層の間にサンドイッチ状に挟まれた活性層を備え、前記活性層は、前記反対にドープされた層の間にバイアスが加えられたとき、全方向に光を発することを特徴とする請求項１に記載の発光体。
【請求項３】
前記多孔質層は、前記発光領域と反対側の前記基板の表面にあることを特徴とする請求項１に記載の発光体。
【請求項４】
前記基板およびその発光領域は、フリップチップの向きで取り付けられていて、前記基板の前記表面は、前記多孔質層を前記発光体の主発光面として有することを特徴とする請求項３に記載の発光体。
【請求項５】
前記発光領域は前記基板の表面に形成され、前記発光領域と反対側の前記基板の表面はパターン形成され、前記多孔質層は前記基板の前記パターン形成された表面にあることを特徴とする請求項１に記載の発光体。
【請求項６】
半導体の表面に多孔質層を形成するための装置であって、
電解液を半導体材料の層の１つまたは複数の表面に接触させるように構成された液溜めに保持された電解液と、
前記電解液を加熱するための加熱器と、
前記電解液と前記半導体材料の層との間にバイアスを加えるための電源とを備え、前記バイアスは、前記電解液と前記半導体材料の層との間に電流を流して、前記電解液と接触している前記半導体材料の前記１つまたは複数の表面に多孔質層を形成することを特徴とする装置。
【請求項７】
前記電源は、負端子および正端子を備え、前記負端子は前記電解液に接触し、前記正端子は前記半導体材料の層に接触していることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記液溜めはカップを備え、前記半導体材料は前記カップの底に近接して配置され、前記カップは、前記電解液の一部を前記カップから流出させ、前記半導体材料の１つまたは複数の表面に接触させるための１つまたは複数の穴を有していることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記電解液に紫外（ＵＶ）光を照射するランプをさらに備えることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
半導体の表面に多孔質層を形成する方法であって、
電解液を用意するステップと、
前記電解液を半導体材料の層の１つまたは複数の表面と接触させるステップと、
前記電解液を加熱するステップと、
前記電解液と前記半導体材料との間にバイアスを導入して前記電解液と前記半導体材料との間に電流を流し、前記電解液と接触している前記半導体の前記１つまたは複数の表面に多孔質層を形成するステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
前記バイアスの導入中に前記電解液に紫外（ＵＶ）照射を行うステップをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月27日(2007.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体スイッチング・デバイスにおいて、
第１および第２の対向する主表面を有する半導体材料のボディであって、前記半導体材料のボディの一部は共通ドレイン領域を形成する、半導体材料のボディと、
前記半導体材料のボディ内に形成され、前記第１の主表面から広がる複数のソース領域であって、前記デバイスは垂直電力ＭＯＳＦＥＴである、複数のソース領域と、
前記複数のソース領域の近傍に形成され、前記複数のソース領域の第１部分と前記共通ドレイン領域との間の電流の流れを制御するために構成された第１の絶縁ゲート構造であって、前記第１の絶縁ゲート構造は第１の複数のゲート電極に結合された第１のゲート・フィードを含む、第１の絶縁ゲート構造と、
前記第１の絶縁ゲート構造とは区別される第２の絶縁ゲート構造であって、前記第２の絶縁ゲート構造は、前記複数のソース領域の近傍に形成され、かつ前記複数のソース領域の第２部分と前記共通ドレイン領域との間の電流の流れを制御するために構成され、前記第２の絶縁ゲート構造は第２の複数のゲート電極に結合された第２のゲート・フィードを含み、また前記第１および第２の複数のゲート電極は互いに入り込んだ構造からなり、その結果、前記第１および第２の絶縁ゲート構造の１つのみが前記デバイスをオンにするためにバイアスされるとき、前記デバイスの電流輸送負荷は前記デバイスの全域に実質的に分配される、第２の絶縁ゲート構造と、
から構成されることを特徴とする半導体スイッチング・デバイス。
【請求項２】
半導体スイッチング・デバイスを形成する方法において、
第１および第２の対向する主表面を有する半導体材料のボディを提供する段階であって、前記半導体材料のボディの一部は共通ドレイン領域を形成する、段階と、
前記半導体材料のボディ内に形成され、前記第１の主表面から広がる複数のソース領域を形成する段階であって、前記デバイスは垂直電力ＭＯＳＦＥＴである、段階と、
前記複数のソース領域の近傍に形成され、前記複数のソース領域の第１部分と前記共通ドレイン領域との間の電流の流れを制御するために構成された第１の絶縁ゲート構造を形成する段階であって、前記第１の絶縁ゲート構造は第１の複数のゲート電極に結合された第１のゲート・フィードを含む、段階と、
前記第１の絶縁ゲート構造とは区別され、前記複数のソース領域の近傍に形成される第２の絶縁ゲート構造を形成する段階であって、前記複数のソース領域の第２部分と前記共通ドレイン領域との間の電流の流れを制御するために構成され、前記第２の絶縁ゲート構造は第２の複数のゲート電極に結合された第２のゲート・フィードを含み、また前記第１および第２の複数のゲート電極は互いに入り込んだ構造からなり、その結果、前記第１および第２の絶縁ゲート構造の１つのみが前記デバイスをオンにするためにバイアスされるとき、前記デバイスの電流輸送負荷は前記デバイスの全域に実質的に分配される、段階と、
から構成されることを特徴とする方法。
【請求項３】
ホット・スワップ保護デバイスにおいて、
第１ゲート電極を有する第１ＭＯＳＦＥＴデバイス、および、第２ゲート電極を有する第２ＭＯＳＦＥＴデバイスを含む分割ゲート・スイッチング・デバイスと、
電流制限モードでの動作中に、前記第１ＭＯＳＦＥＴデバイスを制御するために前記第１ゲート電極に結合された電流制限デバイスと、
電流非制限モードでの動作中に、前記第２ＭＯＳＦＥＴデバイスをオンにするために前記第１および第２制御電極に結合された比較器デバイスと、
から構成されることを特徴とするホット・スワップ保護デバイス。
【請求項４】
電力スイッチング構造において、
第１制御電極を有する第１スイッチ、および、第２制御電極を有する第２スイッチを含む分割ゲート・スイッチング・デバイスと、
電流制限モードでの動作中に、前記第１スイッチを制御するための前記第１制御電極に結合された電流制限デバイスと、
電流非制限モードでの動作中に、前記第２スイッチをオンにするための前記第２制御電極に結合された比較器デバイスと、
から構成されることを特徴とする電力スイッチング構造。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項８に記載の放射線治療計画装置において、前記プロセッサは、
−前記第１の画像における前記対象となる物体に第１の表面メッシュを当てるステップ、
−前記第１の表面メッシュを前記第１の画像における前記対象となる物体の表面に対し第１の適合を行い、第２の表面メッシュを生じさせるステップ、
−前記第２の画像における前記対象となる物体に前記第２の表面メッシュを当てるステップ、
−前記第２の表面メッシュを前記第２の画像における前記対象となる物体の表面に対し第２の適合を行い、第３の表面メッシュを生じさせるステップ、
−前記第２の表面メッシュと前記第３の表面メッシュとの差を得るステップ
−前記第２の表面メッシュに基づいて前記対象となる物体の体積モデルを生成するステップ、及び
−前記差に基づいて前記体積モデルを変形させ、変形した体積モデルを生じさせるステップ
を実行するのにさらに適している装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月1日(2007.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞のゲノム中に統合されるアデノウイルスのE1A及びE1B-19K及びE1B-55Kのコード配列を持つ細胞を調製する方法であって、前躯体細胞中に:
a) E1A コード配列を備える核酸分子及びE1B-19K及びE1B-55Kのコード配列を備える別々の核酸分子で、前記核酸分子がさもなければ前記分子間の相同組換えに導くことがある実質的に相同性の配列重複を欠くもの;又は
bl) E1A及びE1B-19K及びE1B-55Kのコード配列を備える単一の核酸分子で、これらの3種のコード配列の少なくとも2種が少なくとも4kbによって分けられるもの;又は
b2) 2種又はそれよりも多い種類の核酸分子で、これらが単一の核酸分子を形成するときbl)に従う単一の核酸分子を形成するもの
を導入する工程を含む、方法。
【請求項２】
E1Aコード配列を備える核酸分子及びE1Bコード配列を備える核酸分子を前駆体細胞中に導入し、前記配列がさもなければ前記分子間の相同組換えに導くことがある実質的な重複を欠く、請求項1記載の方法。
【請求項３】
前記E1A及び少なくとも1種のE1Bのコード配列が異種プロモータ及び/又はポリアデニル化信号の制御下にある、請求項1又は2記載の方法。
【請求項４】
導入される核酸分子が
a) E1A及びE1B-19K及びE1B-55Kのコード配列を備える単一の核酸分子であって、これらの3種のコード配列の少なくとも2種が少なくとも4kbによって分けられるもの;又は
b) 2種又はそれよりも多い種類の核酸分子で、これらが単一の核酸分子を形成するときa)に従う単一の核酸分子を形成するもの
を備える、請求項1記載の方法。
【請求項５】
少なくとも2種の前記コード配列が少なくとも10kbによって分けられる、請求項4記載の方法。
【請求項６】
少なくとも2種の前記コード配列が少なくとも34.5kbによって分けられる、請求項5記載の方法。
【請求項７】
E1B-55K及びE1B-19Kを暗号化する核酸配列が異なる核酸分子上にあるか、又は前記前躯体細胞中に導入されるとき少なくとも4kbによって分けられる、請求項1-6のいずれか一項記載の方法。
【請求項８】
E1欠損アデノウイルスベクターを、ヘルパー依存性E1含有粒子を生じさせずに補い得る細胞であって、前記細胞が請求項1-7のいずれか一項記載の方法によって得られ得る、細胞。
【請求項９】
欠失をE1領域において持つ組換えアデノウイルスのバッチを生成する方法であって、次の:
a) 前記組換えアデノウイルス又はそのゲノムを、前記組換えアデノウイルスの欠失E1配列を補い得るアデノウイルスのE1配列を備える細胞中に導入する工程;
b) 前記細胞を培養する工程、及び前記組換えアデノウイルスを収集する工程
を含み、
前記細胞が請求項8記載の細胞であることを特徴とする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１キログラム当たり２４０マイクログラムを超える遊離ＩＡＡまたはその誘導体を含む動物飼料組成物であって、該誘導体が、４−ヒドロキシ−ＩＡＡ、４−メトキシ−ＩＡＡ、５−ヒドロキシ−ＩＡＡ、５−メトキシ−ＩＡＡ、６−ヒドロキシ−ＩＡＡ、６−メトキシ−ＩＡＡ、７−ヒドロキシ−ＩＡＡ、７−メトキシ−ＩＡＡ、および３、好ましくは２、より好ましくは１の工程で遊離ＩＡＡに変換できる化合物よりなる群から選択される該組成物。
【請求項２】
１キログラム当たり４０ｇ以下の遊離ＩＡＡまたはその誘導体を含む請求項１記載の飼料組成物。
【請求項３】
１キログラム当たり１００〜１０００ｍｇの遊離ＩＡＡまたはその誘導体を含む請求項１または２記載の飼料組成物。
【請求項４】
該誘導体を遊離ＩＡＡに変換できる酵素をさらに含む請求項１〜３のいずれか１記載の飼料組成物。
【請求項５】
４、５、６および７位の１以上で、メチル、アミノ、ニトロ、フルオリド、クロリド、ブロミドまたはヨージドで置換された芳香族環を含む請求項４記載の飼料組成物。
【請求項６】
ペレット、ミール、穀物、押出しもしくは拡張した穀物、錠剤、粉末またはボーラスの形態である請求項１〜５のいずれか１記載の飼料組成物。
【請求項７】
有効量の請求項１〜６記載の組成物を動物に投与することを特徴とする、非ヒト動物の成長速度を増加させる、ならびに／または飼料効率および／もしくは飼料転換率および／もしくは免疫を改善するための方法。
【請求項８】
処置を必要とする動物において免疫系を刺激する治療用組成物の製造のための遊離ＩＡＡまたはその誘導体の使用であって、該誘導体が４−ヒドロキシ−ＩＡＡ、４−メトキシ−ＩＡＡ、５−ヒドロキシ−ＩＡＡ、５−メトキシ−ＩＡＡ、６−ヒドロキシ−ＩＡＡ、６−メトキシ−ＩＡＡ、７−ヒドロキシ−ＩＡＡ、７−メトキシ−ＩＡＡ、および３、好ましくは２、より好ましくは１の工程で遊離ＩＡＡに変換できる化合物よりなる群から選択されることを特徴とする該使用。
【請求項９】
処置を必要とする動物において成長を刺激する、および／または免疫系を刺激する治療用組成物の製造のための請求項１〜６に記載の組成物の使用。
【請求項１０】
遊離ＩＡＡまたはその誘導体が、インスリン様成長因子１（ＩＧＦ−１）の血清レベルを増加できる請求項８または９記載の使用。
【請求項１１】
動物がＩＧＦ−１のレベル低下を有する請求項８〜１０のいずれか１記載の使用。
【請求項１２】
動物が成長不足および／または弱体化した免疫系を有する請求項８〜１１のいずれか１記載の使用。
【請求項１３】
請求項１〜６記載の動物飼料組成物を得るための請求項１〜６記載の組成物と１以上の飼料物質または成分とを混合することを特徴とする動物飼料組成物の製法。
【請求項１４】
請求項１〜６記載の動物飼料組成物を得るための動物飼料を遊離ＩＡＡまたはその誘導体で補足する工程を含むことを特徴とする動物飼料組成物の製法。
【請求項１５】
ａ）有効量の遊離ＩＡＡまたはその誘導体と、特定の動物種に適した、請求項１〜６に記載の飼料組成物を得るための飼料材料とを混合し、
ｂ）飼料材料を該種に与える
ことを特徴とする非ヒト動物を飼育する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月6日(2007.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバを有する容器と、
前記チャンバに受容され、患者の歯列弓の少なくとも一部と一致する構成を有する歯科矯正用の配置デバイスと、
前記配置デバイスに取り外し可能に接合され、患者の歯構造の一部の輪郭の複製である輪郭を備えたベースを有する、少なくとも１つの歯科矯正器具と、
患者の歯構造に結合するための前記ベース上のボンディング組成物と、
を備える、歯科矯正器具のインダイレクトボンディングに使用する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月28日(2007.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯科矯正器具を患者の歯にボンディングする装置であって、
前記患者の歯列弓の少なくとも一部と一致する形態を有する歯科矯正用配置デバイスと、
歯にボンディングされるためのベースを有するとともに、前記配置デバイスに取り外し可能に接合される少なくとも１つの歯科矯正器具と、
前記ベースと前記歯との間に介在する光硬化性材料を硬化させるために、前記配置デバイスに連結され、かつ前記少なくとも１つの歯科矯正器具のベースの方に光を向けるように配置されている少なくとも１つの固体発光素子と、
を備える装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月14日(2007.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
請求項１２に記載の骨折整復装置であって、
前記係止用ねじの各々が、３つのリードのねじ部を備えた頭部と、単一のリードのねじ部を備えた軸部とを含んでいて、前記係止用ねじの全てのねじ部がほぼ等しいピッチを有していることを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
骨折を整復するための方法であって、
（ａ）骨プレートを、当該骨プレート内に挿入されたねじによって骨に結合し且つ骨折の第１の側の骨と係合させることと、
（ｂ）圧縮用ねじを骨プレートの穴内に挿入し且つ骨折の対向側の骨と係合させて骨及び周囲組織の位置を調整すること（当該骨プレートは、上面と、骨接触面と、前記上面及び骨接触面内を貫通している複数の穴とを含んでおり、各穴は、係止用ねじと圧縮用ねじとを交換可能に受け入れる形状とされており且つ穴の周囲に完全な一回転を形成しているねじ部を含んでいる）と、
（ｃ）前記圧縮用ねじを前記穴から取り外し且つ骨と係合させることと、
（ｄ）前記係止用ねじを前記穴内に挿入して骨と係合させて前記骨プレートの位置（当該位置において前記穴のねじ部は前記係止用ねじの頭部のねじ部を完全に包囲する）を固定することとを含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月4日(2007.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部支柱と、上部支柱と、その間に、カム面を画定する回動可能に取付けられた頭部とを有する調整副子アッセンブリーであって、
前記下部支柱は、定量可能な力を付加するために、カム面と嵌合するように付勢する調節可能な付勢手段を一端に有し、かつ、荷重ねじ、ばね、及びばねスペーサーを収容する、窓を有する内嵌チューブと、当該内嵌チューブを収容する外側下脚チューブとを含み、
前記ばねスペーサーの表面には段階的な連続数字が印され、
前記内嵌チューブは、前記ばねスペーサーの段階的な連続数字を目視可能とする窓を有し、また前記外側下脚チューブ上には、前記下部支柱の長さを調節するために前記内嵌チューブに取付けられる固定手段があり、
前記外側下脚チューブは一連の窓を有し、前記荷重ねじが前記ばね及び前記ばねスペーサーに圧力を付加して回動可能に取付けられた頭部に対してカム面を介して順次圧力を付加する際に、各窓に対して、下部支柱の長さに応じて、前記ばねスペーサー上の段階的な連続数字と前記内嵌チューブの窓とを個別に設定可能であり、この機構によって、前記ばねスペーサーの交換を必要とせずに様々な脚の寸法に適用可能なことを特徴とする下部支柱と、上部支柱と、その間に、カム面を画定する回動可能に取付けられた頭部とを有する調整副子アッセンブリー。
【請求項２】
前記固定手段は、前記下部内嵌チューブの孔と嵌合するように固着した嵌合プルラッチを有する前記外側下脚チューブを含む請求項１に記載の調整副子アッセンブリー。
【請求項３】
前記固定手段は、前記内嵌チューブ上の一連の孔と、前記外側下脚チューブ上の孔と、前記内嵌チューブ及び前記外側下脚チューブの接合に使用可能なねじとを含む請求項１に記載の調整副子アッセンブリー。
【請求項４】
前記上部支柱は、前記外側上脚チューブ内に収容される内側軸棒を有し、前記固定手段は、縦方向に一連の孔を有する前記内側軸棒と、前記内側軸棒に嵌合して前記上部支柱の長さを調節するための前記ラッチを備える前記外側上脚チューブとを含む請求項１に記載の調整副子アッセンブリー。
【請求項５】
患者への副子の快適な適合を確実にするために取付けられるパッドを有する請求項１に記載の調整副子アッセンブリー。
【請求項６】
膝で脚の上下部に対して調整副子装置を取付けるための拘束手段を備えた請求項１に記載の調整副子アッセンブリーを含む拘縮を軽減するための調整副子装置。
【請求項７】
拘縮を軽減するための調整副子装置であって、接合手段により接合され、かつ該調整副子装置を脚及び大腿に効果的に配置可能とする複数の調整副子アッセンブリーを含み、該調整副子装置を形成する各前記調整副子アッセンブリーが、請求項１に記載の調整副子アッセンブリーであることを特徴とする拘縮を軽減するための調整副子装置。
【請求項８】
下部支柱と、上部支柱と、その間に、カム面を画定する回動可能に取付けられた頭部とを有する調整副子アッセンブリーであって、
前記下部支柱は、定量可能な力を付加するために、カム面と嵌合するように付勢する調節可能な付勢手段を一端に有し、かつ、荷重ねじ、ばね、及びばねスペーサーを収容する、窓を有する内嵌チューブと、当該内嵌チューブを収容する外側下脚チューブとを含み、
前記上部支柱は、内側軸棒及び外側上脚チューブを有し、当該外側上脚チューブには、前記内側軸棒チューブの孔に受容されるラッチが取付けられており、
前記ばねスペーサーは表面に段階的な連続数字が印され、
前記内嵌チューブは、前記ばねスペーサーの段階的な連続数字を目視可能とする窓を有し、また前記外側下脚チューブ上には前記下部支柱の長さを調節するための前記内嵌チューブの孔に取付けられるラッチ手段があり、
前記外側下脚チューブは一連の窓を有し、前記荷重ねじが前記ばね及び前記ばねスペーサーに圧力を付加して回動可能に取付けられた頭部に対してカム面を介して順次圧力を付加する際に、各窓に対して、下部支柱の長さに応じて、前記ばねスペーサー上の段階的な連続数字と前記内嵌チューブの窓とを個別に設定可能であり、この機構によって、前記ばねスペーサーの交換を必要とせずに様々な脚の寸法に適用可能であることを特徴とする下部支柱と、上部支柱と、その間に、カム面を画定する回動可能に取付けられた頭部とを有する調整副子アッセンブリー。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月19日(2007.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クロージャシステムであって、
外縁並びに第１および第２の主面を備えるベースタブと、
第１および第２の主面、内縁並びに反対側の外縁を備え、該内縁および該外縁が長さを画定するキャリアタブと、
前記キャリアタブの前記第１および第２の主面の少なくとも一方に取り付けられるメカニカルファスナ構成要素と、
前記キャリアタブの前記第１の主面の一部が前記ベースタブの前記第２の主面に対面して、前記ベースタブの前記外縁が前記キャリアタブの前記内縁と前記外縁との間に配置されるようになっているオーバラップ領域であって、接着剤が前記オーバラップ領域内で前記キャリアタブの前記第１の主面と前記ベースタブの前記第２の主面との間に存在するオーバラップ領域と、
前記オーバラップ領域に隣接する前記ベースタブの前記第２の主面に接着及び溶接されるとともに、前記オーバラップ領域内で前記キャリアタブの前記第２の主面に接着及び溶接される結合テープとを具備し、
前記キャリアタブの前記内縁が、前記結合テープと前記ベースタブの前記第２の主面との間に配置される、
クロージャシステム。
【請求項２】
前記結合テープが、前記ベースタブと前記キャリアタブとに面する感圧接着剤層を備え、該感圧接着剤層は、前記ベースタブ及び前記キャリアタブに前記結合テープを取り付けるために適用される前記溶接の技術と互換性がある、請求項１に記載のクロージャシステム。
【請求項３】
前記ベースタブの少なくとも一部が弾性を示す、請求項１又は２に記載のクロージャシステム。
【請求項４】
前記キャリアタブが非弾性である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のクロージャシステム。
【請求項５】
前記結合テープが非弾性である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のクロージャシステム。