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【手続補正書】
【提出日】平成19年9月20日(2007.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
おむつ、失禁用パッド、生理用ナプキン又はパンティライナー等の、使い捨て使用のための、体液を吸収する衛生製品であって、
少なくとも部分的に液体透過性を有する箇所を含むカバーシート、少なくとも部分的に液体不透過性を有する箇所を含むバックシート、及び該カバーシートと該バックシートとの間に配置された吸収体を含むこと、
該吸収体が、体液の持続的貯蔵のために利用される第１の貯蔵層を含むこと、
該第１の貯蔵層が、親水化されたメルトブロウンマイクロファイバーを５〜３０重量％、粒子状の高吸収性材料を７０〜９５重量％、及び場合により、他の粒子状又はファイバー状の成分を最高で１０重量％まで含むこと、
該メルトブロウンマイクロファイバーの面積あたりの重量が６〜２５ｇ／ｍ2であること、
該メルトブロウンマイクロファイバーが、相互に多数の溶融結合によって湿潤状態でも強固に結合し、該粒子状の高吸収性材料を取り囲みかつ固定するよう、緻密な三次元的ネットワークを形成していること、及び
該貯蔵層が、縦方向で測定して、乾燥強度の少なくとも４０％の湿潤強度を有するよう、該メルトブロウンマイクロファイバーと該粒子状の高吸収性材料との間には溶融結合が存在しないか又はごくわずかな程度でしか存在しないこと
を特徴とする、該衛生製品。
【請求項２】
前記粒子状の高吸収性材料の平均サイズＤSAPが１００〜８００μｍであること、及び、前記第１の貯蔵層の厚さＤ1SPがＤSAP＊１．５〜ＤSAP＊５の範囲にあることを特徴とする、請求項１記載の衛生製品。
【請求項３】
前記第１の貯蔵層の液体吸収時高さが少なくとも２ｃｍであることを特徴とする、請求項１又は２記載の衛生製品。
【請求項４】
前記第１の貯蔵層が、バックシート側に吸収層を含むこと、及び、前記吸収層が１００〜５０重量％の範囲のメルトブロウンマイクロファイバーを含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項記載の衛生製品。
【請求項５】
前記第１の貯蔵層が、カバーシート側に吸収層を含むこと、及び、前記吸収層が１００〜５０重量％の範囲のメルトブロウンマイクロファイバーを含有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の衛生製品。
【請求項６】
前記吸収層の面積あたりの重量が２〜１０ｇ／ｍ2であること、及び、前記吸収層のメルトブロウンマイクロファイバーのファイバー直径が、前記第１の貯蔵層のメルトブロウンマイクロファイバーのファイバー直径よりも小さいことを特徴とする、請求項４又は５記載の衛生製品。
【請求項７】
前記吸収層のメルトブロウンマイクロファイバーが、前記第１の貯蔵層のメルトブロウンマイクロファイバーに対して熱により親和性を示すことを特徴とする、請求項４〜６のいずれか１項記載の衛生製品。
【請求項８】
前記第１の貯蔵層と前記カバーシートとの間に、急速な液体吸収のために用いられる多孔性の層が配置されており、好ましくは該層がファイバーから形成されていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項記載の衛生製品。
【請求項９】
前記湿潤強度が、乾燥強度の少なくとも５０％あることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項記載の衛生製品。
【請求項１０】
前記貯蔵層が、メルトブロウンマイクロファイバーと、粒子状の高吸収性材料とからなることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項記載の粒子。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月26日(2007.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器から大気中へ揮発性液体を散布するのに用いる装置であって、大気への運搬が少なくとも外側の毛管通路を有する運搬部材によって部分的に達成され、
（ａ）揮発性液体を含む材料の少なくとも３０重量％が、最大１７５の分子量を有し、揮発性液体が４０dynes/cm未満の表面張力を有し、
（ｂ）運搬部材が、４５dyne/cm未満の表面エネルギーを有するプラスチック材料であることを特徴とする、前記装置。
【請求項２】
運搬部材が、容器内で直接液体と接触する外側毛管通路を有し、液体が、毛管通路内を上昇し、大気中に蒸発する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
表面毛管通路を有する運搬部材から蒸発によって大気中へ揮発性液体を散布する方法であって、揮発性液体が、揮発性液体を含む材料の少なくとも３０重量％が、最大１７５の分子量を有し、４０dynes/cm未満の表面張力を有し、運搬部材が、４５dyne/cm未満の表面エネルギーを有するプラスチック材料である、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柔軟長尺本体を含むステントであって、該本体が、カール状の近位部と、カール状の遠位部と、前記近位部と前記遠位部の間に延伸する主要部とを含み、
前記主要部および前記遠位部はともに、その長手方向の少なくとも一部にわたって側方が開放され、前記主要部および前記遠位部に沿って延伸する第１のチャネルを画定し、
前記近位部は、カール状になってチャネルから離れている、ステント。
【請求項２】
前記第１のチャネルは、前記近位部に沿って延伸せずに、前記主要部および前記遠位部に沿って延伸することによって、前記チャネルの近位端は前記主要部に配置される、請求項１に記載のステント。
【請求項３】
前記本体の前記主要部は、ウェブ、および該ウェブの反対側の端部から延伸する２つのフランジを含み、そして前記第１のチャネルは、前記ウェブの側面および前記２つのフランジの側方部分によって画定される、先行する請求項のいずれかに記載のステント。
【請求項４】
前記第１のチャネルは、その長手方向の少なくとも一部に沿って側方が閉鎖されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステント。
【請求項５】
前記第１のチャネルは、その近位端に沿って側方が閉鎖されている、請求項２に記載のステント。
【請求項６】
前記２つのフランジの側方部が融合され、前記少なくとも１つの、前記第１のチャネルの側方が閉鎖された部分を閉鎖している、請求項３に従属した場合の請求項４に記載のステント。
【請求項７】
前記少なくとも１つの、前記第１のチャネルの側方が開放された部分は、前記少なくとも１つの前記第１のチャネルの側方が閉鎖された部分の中に切り込まれた開口によって画定される、請求項４に記載のステント。
【請求項８】
前記２つのフランジはそれぞれ側縁部をもち、それぞれのフランジの前記側縁部はともに、側縁部間のブリッジ材料に融合し、前記少なくとも１つの前記第１のチャネルの側方が閉鎖された部分を閉鎖している、請求項３に従属した場合の請求項４に記載のステント。
【請求項９】
前記遠位部の前記第１のチャネルの少なくとも一部は、側方が閉鎖されている、請求項４乃至８のいずれか１項に記載のステント。
【請求項１０】
前記主要部および遠位部はともに、前記した第１のチャネルとは別個の第２のチャネルを画定し、該第２のチャネルは、その長手方向の少なくとも１部にわたって、側方が開放され、前記主要部および前記遠位部に沿って延伸している、先行する請求項のいずれかに記載のステント。
【請求項１１】
前記本体の前記主要部は、ウェブと、該ウェブの反対側の端部から延伸する２つのフランジとを含み、前記第１のチャネルは、前記ウェブの側面および前記ウェブの側面上を延伸する２つのフランジの側方部分によって画定され、そして前記第２のチャネルは、前記ウェブの反対側の側面および前記ウェブの反対側の側面上を延伸する２つのフランジの側方部分によって画定される、請求項１０に記載のステント。
【請求項１２】
前記第１のチャネルは、前記近位部に沿って延伸し、前記主要部および遠位部内の前記第１のチャネルの側方が開放された部分は、側方の隙間を画定し、そして、前記近位部内の前記第１のチャネルの側方が開放された部分は、前記側方の隙間より広い近位側方の隙間を画定する、請求項１に記載のステント。  
【請求項１３】
柔軟長尺本体を含むステントであって、該本体が、近位部と、遠位部と、前記近位部と前記遠位部の間に延伸する主要部とを含み、
前記本体は、ウェブと、該ウェブの反対側の端部から延伸する２つのフランジとを含み、前記ウェブおよび前記フランジは、前記本体に沿って延伸し、前記フランジは、互いに対して曲がっており、
前記ウェブおよび前記フランジはともに、第１のチャネルと、第１のチャネルとは別個のより小さな第２のチャネルとを画定し、
各チャネルは、少なくともチャネルの長手方向のそれぞれの部分に沿って側方が開放されており、
前記第1のチャネルは、その長手方向の少なくとも一部に沿って側方が閉鎖されており、
前記近位部および前記遠位部はさかとげ状（barbed）になっている、ステント。
【請求項１４】
前記近位部および遠位部の少なくとも１つは、カール状である、請求項１３に記載のステント。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月31日(2007.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの装置を含む通信ネットワーク内で装置の状態をモニタする方法であって、
前記ネットワークは、規則正しい時間間隔でネットワークより送出される信号によって同期化されるデータ・パケットを送信する等時性通信チャネルから成り、
モニタされることを望む第１の装置のレベルにおいて、ネットワークより規則正しく送出される信号に応答し、指定された等時性チャネル上で、前記モニタされている装置によりデータ・パケットを送出するステップと、
第２の装置のレベルにおいて、前記等時性チャネル上で送出されるデータ・パケットをモニタするステップと、
同期信号の少なくとも２回の送出の間に前記等時性チャネル上でデータ・パケットの不在の結果、指定されたタスクを実行するステップと、
から成る、前記方法。
【請求項２】
前記第１の装置のレベルにおいて、パケットを送信する前記等時性チャネルの識別子およびタスク記述子を含むモニタリング・リクエストを送出するステップを含み、前記第２の装置が前記第１の装置により指定されるタスクを実行する、請求項１記載のモニタ方法。
【請求項３】
前記モニタリング・リクエストが、所定数の同期信号を指定し、前記指定された数の同期信号の検出後に前記等時性チャネル上でデータ・パケットが検出されないとき、前記第２の装置が、前記指定されたタスクを実行する、請求項２記載のモニタ方法。
【請求項４】
前記モニタリング・リクエストの受信に続き、前記第２の装置により処理信号を送出するステップを含む、請求項２または請求項３に記載のモニタ方法。
【請求項５】
前記指定されたタスクが、前記第１の装置の識別子を含むアラート・メッセージの表示を含む、先行する請求項の任意の１つに記載のモニタ方法。
【請求項６】
前記指定されたタスクが、データ・パケットの送出を停止する理由を分析するステップ、およびデータ・パケットの送出を再開するために行動するステップを含む、先行する請求項のうち任意の１つに記載のモニタ方法。
【請求項７】
ネットワークの少なくとも１つの他の装置の状態をモニタするネットワーク装置であって、
指定された等時性チャネル上で等時性データ・パケットを送出させる同期信号を感知するネットワークと通信する手段を具え、
前記同期信号の少なくとも２回の送出の間に前記等時性チャネル上でデータ・パケットの不在の結果、指定されたタスクを実行する手段を更に具え、パケットの不在が、モニタされている装置の状態を表示する、前記ネットワーク装置。
【請求項８】
パケットを送信している前記等時性チャネルの識別子および指定されたタスクの記述子を含むモニタリング・リクエストを受信する手段を具え、チャネルの前記識別子およびタスクの記述子が装置のメモリ内に記録される、請求項７記載のネットワーク装置。
【請求項９】
前記受信したモニタリング・リクエストが所定数の同期信号を指定し且つ同期信号のカウンタを具え、指定された数の同期信号の検出後に前記等時性チャネル上でデータ・パケットが検出されないとき、指定されたタスクが実行される、請求項８記載のネットワーク装置。
【請求項１０】
前記同期信号の少なくとも２回の送出の間に前記等時性チャネル上でデータ・パケットの不在により起動されるアラート・メッセージの表示手段を具える、請求項７乃至９の何れか１つに記載のネットワーク装置。
【請求項１１】
前記モニタリング・リクエストの受信に続き、処理信号を送出する手段を具える、請求項８乃至１０の何れか１つに記載のネットワーク装置。
【請求項１２】
ネットワークの別の装置により前記リクエストを処理するために、受信手段が信号を感知するときに起動される、前記モニタリング・リクエストの処理を不可能にする手段を具える、請求項１１記載のネットワーク装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
ここで、ＩＣＣＵによるモニタリングを詳細に述べる。ネットワークの装置は重要なタスクを実行しなければならず、従って、その実行はＩＣＣＵによってモニタされる。タスクは、中央装置（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｕｎｉｔ）により実行されるプログラムであり、これは、また、特殊化された回路（例えば、ＡＳＩＣ）内に組み込まれるシーケンシャル・ロジックである。モニタされるべきタスクの通常の行為として、定められた等時性チャネル上でデータの特殊な送出を実行するために注意が払われる。重要なのは、データの内容に在るのではなく、送出の周期性に在る。従って、非常に短いパケットを送出できることが有利である。ＩＥＥＥ１３９４ネットワーク上で送出される最小の等時性パケットは、等時性ヘッダとニブルで構成される。これらのデータは、５２８の割当てユニットに収容され、それにより、１０マイクロセカンドの期間を表す。モニタされるべきタスクを初期化するステップにおいて、装置は、その動作をモニタするようＩＣＣＵをプログラムし、ＩＣＣＵは等時性チャネル上での送出をモニタする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月22日(2007.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲートと、概ねシリコンからなるソース／ドレインコンタクト領域と、を有するトランジスタ素子のソース／ドレインコンタクト領域とのコンタクトを形成するための方法であって、
ゲルマニウムをソース／ドレインコンタクト領域の或る領域に、前記ゲートをマスクとして使用して、１E13〜１E１７原子／ｃｍ２のドーズ量にてイオン注入する工程と、
ソース／ドレインコンタクト領域にイオン注入されたゲルマニウムを活性化させる工程と、
ゲルマニウムの活性化に続いて、ボロンをソース／ドレインコンタクトにイオン注入する工程と、
前記活性化工程よりも後に、ニッケルシリサイドをソース／ドレインコンタクト領域を覆うように形成してコンタクトを形成する工程と、を備える方法。
【請求項２】
ゲートと、概ねシリコンからなるソース／ドレインコンタクト領域と、を有するトランジスタ素子のソース／ドレインコンタクト領域とのコンタクトを形成するための方法であって、
ゲルマニウムをソース／ドレインコンタクト領域の或る領域に、前記ゲートをマスクとして使用して、１E13〜１E１７原子／ｃｍ２のドーズ量にてイオン注入する工程と、
ソース／ドレインコンタクト領域にイオン注入されたゲルマニウムを活性化させる工程と、
ゲルマニウムの活性化に続いて、ボロンをソース／ドレインコンタクトにイオン注入する工程と、
前記活性化工程よりも後に、ニッケルシリサイドをソース／ドレインコンタクト領域を覆うように形成してコンタクトを形成する工程と、を備え、
活性化させる処理では、ソース／ドレインコンタクト領域を１０００℃超の或る温度にまで加熱する、方法。
【請求項３】
ゲートと、概ねシリコンからなるソース／ドレインコンタクト領域と、を有するトランジスタ素子のソース／ドレインコンタクト領域とのコンタクトを形成するための方法であって、
ゲルマニウムをソース／ドレインコンタクト領域の或る領域に、前記ゲートをマスクと
して使用して、１E13〜１E１７原子／ｃｍ２のドーズ量にてイオン注入する工程と、
ソース／ドレインコンタクト領域にイオン注入されたゲルマニウムを活性化させる工程と、
ゲルマニウムの活性化に続いて、ボロンをソース／ドレインコンタクトにイオン注入する工程と、
前記活性化工程よりも後に、ニッケルシリサイドをソース／ドレインコンタクト領域を覆うように形成してコンタクトを形成する工程と、を備え、
活性化させる処理では更に、ソース／ドレインコンタクト領域を約９００〜１４００℃の範囲の或る温度にまで加熱する、方法。
【請求項４】
トランジスタは第２ソース／ドレインコンタクトを有し、
ゲルマニウムのイオン注入では更に、ゲルマニウムを第２ソース／ドレインコンタクト領域に、１E13〜１E１７原子／ｃｍ２のドーズ量にてイオン注入し、
ゲルマニウムを活性化させる処理では更に、第２ソース／ドレインコンタクト領域にイオン注入されたゲルマニウムを活性化させ、
ボロンのイオン注入では更に、ボロンを第２ソース／ドレインコンタクト領域にイオン注入し、
第２金属シリサイドを第２領域の上に形成して第２コンタクトを形成する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
ゲートを、或る格子定数を有するシリコン基板の上に形成する工程と、
ゲートを形成した後に、前記ゲートをマスクとして使用して、ゲルマニウムを１E13〜１E１７原子／ｃｍ２のドーズ量にてイオン注入することによって、前記基板のソース／ドレイン領域の格子の格子定数を大きくする工程と、
格子定数を大きくした後に、ボロンをソース／ドレイン領域にイオン注入する工程と、
ニッケルシリサイドを前記ソース／ドレイン領域の上に形成する工程とを備える、半導体素子の製造方法。
【請求項６】
ゲートをシリコン半導体基板の上に形成する工程と、
ゲートを形成した後に、前記ゲートをマスクとして使用して、ゲルマニウムを含む粒子を１E13〜１E１７原子／ｃｍ２のドーズ量にて基板の或る領域にイオン注入する工程と、
前記或る領域にイオン注入したゲルマニウムを活性化させる工程と、
ゲルマニウムの活性化に続いて、ボロンを基板にイオン注入してソース／ドレイン領域の少なくとも一部分を基板の中に形成する工程と、
活性化よりも後に、ニッケルシリサイドを前記或る領域の上に形成する工程とを備える、半導体素子の製造方法。
【請求項７】
ゲート積層構造と、第１材料により主として構成され、かつ或る格子定数を有するソース／ドレインコンタクト領域と、を有するトランジスタ素子構造におけるコンタクト形成方法であって、
前記ゲートをマスクとして使用して、ゲルマニウムを１E13〜１E１７原子／ｃｍ２のドーズ量にてソース／ドレインコンタクト領域にイオン注入する工程と、
ソース／ドレインコンタクト領域にイオン注入されたゲルマニウムを活性化させて、ソース／ドレインコンタクト領域の格子定数を大きくする工程と、
前記活性化工程よりも後にソース／ドレインコンタクト領域にボロンをイオン注入する工程と、
前記活性化工程よりも後に、ニッケルシリサイドをソース／ドレインコンタクト領域の上に形成する工程とを備える、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月30日(2007.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パケット制御器において、
メッセージを受信するステップと、
第１のパターンに対応する第１のパターン・マッチが前記の受信されたメッセージ内に検出されたかどうかを決定するステップであって、前記第１のパターンが、パターン・マッチ・データにより指示され、且つ対応の逆パターン・インディケータ及び対応のパターン・マッチ受け入れインディケータを有する、前記決定するステップと、
第１のパターン・マッチが検出されたとき、前記メッセージを前記対応のパターン・マッチ受け入れインディケータに基づいて選択的に受け入れるステップであって、前記対応の逆パターン・インディケータが第１の値を有する場合、第１のパターン・マッチが、第１のパターンが前記の受信されたメッセージ内に検出されたとき検出され、及び前記対応の逆パターン・インディケータが第２の値を有する場合、第１のパターン・マッチが、第１のパターンが前記の受信されたメッセージ内に検出されないとき検出される、前記選択的に受け入れるステップと、
前記メッセージが受け入れられたとき、当該受け入れられたメッセージを格納するステップと
を備える方法。
【請求項２】
メッセージを受信する前記ステップが、パケットの少なくとも一部分を受信するステップを備える請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記パケットが更に、イーサネット（登録商標）・パケットとして特徴付けられている請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記対応のパターン・マッチ受け入れインディケータが、前記の受信されたメッセージの受け入れ、拒絶、及び受け入れも拒絶もしないうちの１つを指示する請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記第１のパターンが、対応の連続検索イネーブル・インディケータを有し、
前記メッセージを前記対応のパターン・マッチ受け入れインディケータに基づいて選択的に受け入れる前記ステップが、前記メッセージを前記対応のパターン・マッチ受け入れインディケータ及び前記対応の連続検索イネーブル・インディケータに基づいて選択的に受け入れるステップを備える
請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月26日(2007.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ショットキ障壁、すなわち、光学導波管でシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）プラットフォームと一体化したシリコンベースの赤外線光検出器を具えるモノリシック構成において、前記モノリシック構成が、
平面ＳＯＩ表面層を有するＳＯＩ構造であって、前記平面ＳＯＩ表面層が、１ミクロン未満の厚さであり、光学信号の送信をサポートするために前記光学導波管の少なくとも一部を形成するＳＯＩ構造と；
前記光学導波管内部の伝播の方向に沿って、前記平面ＳＯＩ表面層の一部の上に配置された金属ストリップであって、前記金属ストリップが、前記光学導波管でショットキ障壁を形成する金属ストリップと；
第１のコンタクト領域において前記平面ＳＯＩ表面層に構成した第１の抵抗オーム接点と；
第２のコンタクト領域において前記金属ストリップに構成した第２の抵抗オーム接点と；を具え、前記第１及び第２抵抗オーム接点の間のバイアス電圧の印加が、前記光学信号が前記光学導波管に沿って伝播するときに、前記金属ストリップにあたる前記光学信号の一部の機能として前記金属ストリップから光電流出力を発生し、前記第１及び第２の抵抗オーム接点が、前記第１及び第２のコンタクト領域内で前記光学信号の吸収が最小になるように配置されていることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項２】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記平面ＳＯＩ層がドープされていることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項３】
請求項２に記載のモノリシック構成において、前記平面ＳＯＩ層内のドーピングが段階的であり、結果として得られた電場が前記平面ＳＯＩ層内に前記ショットキ障壁を越えて注入されたキャリアの集束及び伝送を改善することを特徴とするモノリシック構成。
【請求項４】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記金属ストリップがシリサイドストリップを具えることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項５】
請求項４に記載のモノリシック構成において、前記シリサイドが単結晶シリサイドを具えることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項６】
請求項４に記載のモノリシック構成において、前記シリサイドが多結晶シリサイドを具えることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項７】
請求項１に記載のモノシリック構成において、前記金属ストリップがテーパ付き入力領域を具え、伝達光信号が前記金属ストリップの下にある前記光導波管の一部に入射するときに前記伝達信号によって経験する実行屈折率を段階的に修正し、前記テーパ付き入力領域がそれに沿った光の反射を低減することを特徴とするモノシリック構成。
【請求項８】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記金属ストリップが前記ＳＯＩ層のいずれのコーナ又はエッジとも重複せず、前記非重複構成が、関連する暗電流を減少し、室温での動作を提供することを特徴とするモノリシック構成。
【請求項９】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記金属ストリップは、丸くなったコーナ及びエッジを示すように形成され、関連する暗電流を減少し、室温での動作を提供することを特徴とするモノリシック構成。
【請求項１０】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記ＳＯＩ層内の光導波管が、光タップ構造を具え、当該光タップオフ構造のタップのない導波管部分の上に前記金属ストリップを配置した光タップ構造を具えることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項１１】
請求項１に記載のモノリシック構成において、第１及び第２抵抗オーム接点が、前記伝播光信号の一部が前記光検出器によって未吸収のままであるように前記光導波管に対して配置されて、進行波光検出器を形成することを特徴とするモノリシック構成。
【請求項１２】
請求項１１に記載のモノシリック構成において、前記ＳＯＩ層が、前記光導波管の対向する側に第１及び第２のエクステンション領域を具え、前記第１のエクステンション領域の上に第１の抵抗オーム接点を配置し、前記第２のエクステンション領域の上に第２の抵抗オーム接点を配置したことを特徴とするモノシリック構成。
【請求項１３】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記構成が更に、前記ＳＯＩ層内に形成したガードリング構造を具え、当該ガードリング構造が前記重複金属ストリップのエッジ部の下に直接配置され、前記ＳＯＩ層が第１導電型を示し、前記ガードリング構造が第１の導電型と反対の第２導電型を示すことを特徴とするモノリシック構成。
【請求項１４】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記構成が、
前記上に横たわる金属ストリップから離れた領域で、前記ＳＯＩ層内に形成した第１の接触領域であって、前記ＳＯＩ層と同じ導電型を示す前記第１の接触領域と；
前記第１接触領域に物理的に接触するように配置された第１の金属導電体と；
前記上に横たわるシリサイド層の下部で前記ＳＯＩ層内に形成された第２の接触領域であって、前記ＳＯＩ層と逆の導電型を示す前記第２の接触領域と；
前記第２の接触領域の上の前記金属ストリップのエッジに物理的に接触するように配置された第２金属導電体と；
を更に具えることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項１５】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記光導波管が、伝播光信号が、前記金属ストリップの下部を一度以上通過するように形成され、マルチパス光検出器を形成することを特徴とするモノリシック構成。
【請求項１６】
請求項１に記載のモノリシック構成において、前記第１及び第２抵抗オーム接点がそれぞれ、シリサイド材料を具えることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項１７】
請求項１６に記載のモノリシック構成において、第１及び第２シリサイド抵抗オーム接点が、前記金属ストリップと同じシリサイド材料を具えることを特徴とするモノリシック構成。
【請求項１８】
請求項１６に記載のモノリシック構成において、前記第１及び第２シリサイド抵抗オーム接点が、前記金属ストリップを形成するように使用されている材料と異なるシリサイド材料を具えることを特徴とするモノリシック構成。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月10日(2007.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハイドレート層からメタンガスを生産する装置であって、ハイドレート層中に延設された坑井を実質的に充填する、ガスの透過性がある改質材料のカラムと、  前記改質材料のカラムの中に延設され、ハイドレート層からメタンガスを解放させるように、ハイドレート層に熱を供給するように作動可能である熱源と、を有することを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記改質材料のカラムと流体で連通するガス捕集器をさらに有し、該ガス捕集器は、前記改質材料のカラムから外へのメタンガスの流れを制御するように作動可能であることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記改質材料のカラムが複数の領域を有し、前記改質材料のカラムの選択的特性が、前記複数の領域の間で変化することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記改質材料のカラムは、ハイドレート層よりも高い熱伝導率を備えていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記熱源は、所定量の蒸気を有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
ハイドレート層からメタンガスを抽出するシステムであって、ハイドレート層中に延設された坑井と、該坑井を実質的に充填し、ハイドレート層と直接的に接触する、ガスの透過性がある改質材料のカラムと、前記改質材料のカラムに熱を供給するように作動可能な熱源であって、ハイドレート層を加熱し、メタンガスを前記改質材料のカラムの中に解放するように、前記改質材料のカラムを通して熱をハイドレート層に伝達する、熱源と、前記改質材料のカラムと流体で連通し、前記改質材料のカラムから外へのメタンガスの流れを制御するように作動可能なガス捕集器と、を有することを特徴とする、システム。
【請求項７】
ハイドレート層から炭化水素ガスを抽出する方法であって、ハイドレート層中に坑井を掘削する工程と、前記坑井を、ガスの透過性がある改質材料で実質的に充填する工程と、ハイドレート層を加熱し、該ハイドレート層から炭化水素ガスを解放するように、前記改質材料に熱を供給する工程と、前記坑井の中に流れ込む炭化水素ガスの少なくとも一部を捕集する工程と、を有することを特徴とする、方法。
【請求項８】
前記地層からの炭化水素の解放を停止させるように、周囲又は冷却されたガス又は液体を、前記改質材料のカラムの中に注入する工程をさらに有することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ガスハイドレート層からガスを生産する方法であって、前記ガスハイドレート層内において下方へ延設し、前記ガスハイドレート層よりも実質的に上方の外側に、内部に熱源を含む改質材料のカラムを形成する工程と、前記カラム内の前記熱源に熱を供給することにより、改質材料から前記ハイドレート層へ熱が伝導され、前記ハイドレート層からガスが解放される工程と、前記ハイドレート層から生じた前記ガスが、前記改質材料のカラムを通って、水から分離される場所へ流れることを許可する工程と、を有することを特徴とする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月7日(2007.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ローター内燃エンジンであって：
１対の端部壁、および第１の相互接続シリンダー空洞および第２の相互接続シリンダー空洞を規定する内壁面を有する１対の交差する平行シリンダー壁を含むハウジングであって、該交差するシリンダー壁が、間隔を置いて離れた平行な第１のエッジおよび第２のエッジを形成するハウジング；
該空洞中で同軸に延び、そして該端部壁で回転のために支持される、第１のシャフトおよび第２のシャフト；および
該個々の空洞における回転のために該第１のシャフトおよび第２のシャフトに取り付けられる、反対の方向に回転する第１のローターおよび第２のローターであって、各々が外側端部をもつ半径方向に延びる複数のローブを有し、各ローブが該ローブの外側端部で開く燃焼チャンバーを規定する第１のローターおよび第２のローター、を備える、ローター内燃エンジン。
【請求項２】
前記第１の空洞および第２の空洞とそれぞれ流体連通する第１の吸気ポートおよび第２の吸気ポートをさらに備え、該第１の吸気ポートおよび第２の吸気ポートが、前記第１のエッジおよび第２のエッジと同一平面にある二分面の反対側に対称的に整列される、請求項１に記載のエンジン。
【請求項３】
前記吸気ポートが、流体の供給源に連結される、請求項２に記載のエンジン。
【請求項４】
前記流体の供給源が、ターボチャージャー、ブロワ、スーパーチャージャー、およびファンからなる群から選択されるデバイスによって供給される、請求項３に記載のエンジン。
【請求項５】
前記流体が、空気および可燃性流体からなる群から選択される、請求項３に記載のエンジン。
【請求項６】
前記流体が、可燃性流体であり、そして前記燃料の供給源が、燃料インジェクターノズルおよび／または前記ローターの回転によって制御される、請求項３に記載のエンジン。
【請求項７】
前記第１の吸気ポートおよび第２の吸気ポートが、空気を、半径方向の外に向かう様式で、または前記ローターの回転の方向で、前記空洞中に注入するような形態である、請求項２に記載のエンジン。
【請求項８】
前記第１の空洞と流体連通して前記ハウジング中に形成された少なくとも１つの排気ポート、および前記第２の空洞と流体連通して該ハウジング中に形成された少なくとも１つの排気ポートをさらに含み、該排気ポートが、前記第１のエッジおよび第２のエッジと同一平面にある二分面の反対側に対称的に整列される、請求項１に記載のエンジン。
【請求項９】
前記排気ポートが先頭エッジおよび尾部エッジを含み、該排気ポートが、該先頭エッジが前記第２のエッジから時計方向および反時計方向にそれぞれ回転の選択された角度で位置決めされるように位置決めされる、請求項８に記載のエンジン。
【請求項１０】
前記第１の空洞と流体連通して前記ハウジング中に形成された少なくとも２つの排気ポート、および前記第２の空洞と流体連通して該ハウジング中に形成された少なくとも２つの排気ポートをさらに含む、請求項１に記載のエンジン。
【請求項１１】
ローターの各々が、前記シャフトの１つに該シャフトとの回転のために連結される中央ハブ部分、および該中央ハブ部分中に形成された流体供給チャネルをさらに含み、該流体供給チャネルが前記個々の燃焼チャンバーと流体連通して連結され、そして流体の供給源と流体連通して選択的に連結される、請求項１に記載のエンジン。
【請求項１２】
前記流体が空気または燃料である、請求項１１に記載のエンジン。
【請求項１３】
前記燃焼チャンバーが、バルブもピストンも有さない、施一級抗１１に記載のエンジン。
【請求項１４】
エンジンであって：
１対の並んだ交差する実質的に円筒形の空洞を備えて形成されるハウジング；
該空洞中に取り付けられる１対の反対に回転するパワーローターであって、各々が開放端部の燃焼チャンバーを規定する互いにかみ合うローブを含む１対のパワーローター；
該ハウジング中に形成され、そして各燃焼チャンバーに空気を注入するために、該空洞と空気の供給源と流体連通して連結される第１の吸気ポートおよび第２の吸気ポート；
該ハウジング中に形成され、そして各空気が充填された燃焼チャンバーに燃料を注入し空気／燃料混合物を形成するために、該空洞と燃料の供給源と流体連通して連結される第３の吸気ポートおよび第４の吸気ポート；
該ハウジングに連結され、そして該ローターローブが完全に互いにかみ合うとき個々の燃焼チャンバーと実質的に整列される点火デバイスであって、該整列された燃焼チャンバー内で空気／燃料混合物を点火するように適合され、そしてそれによって、該空気／燃料混合物の点火から生じる燃焼ガスが該ローブに対して作用し、該ローターを回転する点火デバイス；および
該ハウジング中に形成され、該１対の空洞と流体連通する、対称的に整列された少なくとも２つの排気ポートを備え、ここで、該燃焼ガスが、さらなるローター回転によって該排気ポートを通って連続的に逃れる、エンジン。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つのパイプを共に固定するためのパイプクランプであって、
第１および第２の端を有する金属のバンドと、
前記バンドの端に接続された締め付け機構であって、前記締め付け機構は前記バンドが第１のパイプの回りに締め付け可能であるように前記バンドの端を共に引っ張るための締め具を含む、締め付け機構と、
前記バンドに取り付けられ、少なくとも部分的に前記バンドと重なり合うベース部分を有するラッチであって、前記ラッチは第１および第２のパイプが共に軸方向に位置合わせされると第２のパイプの外面に位置付けられたボタンに係合するように構成されたクリップをさらに含む、ラッチと、
を具備するパイプクランプ。
【請求項２】
前記クリップは、前記ベース部分および前記クリップと概ね垂直に延びる段差により前記ベース部分からオフセットされる、請求項１に記載のパイプクランプ。
【請求項３】
前記ラッチは、少なくとも、前記ラッチの長さが少なくとも前記バンドの軸と位置合わせされていない第１の位置と、前記ラッチの長さが前記バンドの軸と位置合わせされた第２の位置との間で回転可能なように、前記バンドに回転可能に搭載される、請求項１に記載のパイプクランプ。
【請求項４】
前記クリップは、前記クリップがボタンの上に乗り、ボタンの上でパチンと留まることを可能とする、座面を画定する少なくとも１つの傾斜縁部を含む、請求項１に記載のパイプクランプ。
【請求項５】
前記クリップは、前記クリップが異なる方向から前記ボタンの上でパチンと留められることができるように前記傾斜縁部（単数、複数）によって少なくとも部分的に囲まれるアパーチャを備えた中心部分を含む、請求項４に記載のパイプクランプ。
【請求項６】
前記クリップは第１のクリップを具備し、前記ラッチは前記ベース部分から前記第１の
クリップとは反対方向に延びる第２のクリップをさらに具備し、前記第２のクリップは第１のパイプの外面に位置付けられた第２のボタンに係合するように構成された、請求項１に記載のパイプクランプ。
【請求項７】
前記第２のクリップは実質的に前記第１のクリップと同じ構造を有する、請求項６に記載のパイプクランプ。
【請求項８】
前記ラッチは前記締め付け機構からオフセットされた位置で前記バンドに取り付けられる、請求項１に記載のパイプクランプ。
【請求項９】
前記バンドは少なくとも１つの切り欠き部を具備し、前記クリップがボタンと係合した状態でパイプが軸方向に共に位置合わせされると、第２のパイプが前記ラッチにより前記バンドから離れる軸方向の移動を阻止され、前記切り欠き部により前記バンドに対する回転方向の移動を阻止されるように、前記クリップが少なくとも部分的に前記切り欠き部を覆う、請求項１に記載のパイプクランプ。
【請求項１０】
前記バンド内において半径方向に位置付けられ、前記バンドにおける切り欠き部と同一の広がりを有する切り欠き部を有する、スリーブをさらに具備する、請求項９に記載のパイプクランプ。
【請求項１１】
少なくとも一方のパイプの外面に位置付けられたボタンを使用して２つのパイプを共に固定するためのパイプクランプであって、
第１および第２の端を有し、第１の側方縁部から第二の側方縁部へと軸方向に延びる金属のバンドであって、前記バンドは前記側方縁部の少なくとも一方に切り欠き部を有する金属のバンドと、
前記バンドの端に接続された締め付け機構であって、前記締め付け機構は前記バンドを第１のパイプの回りに締め付けることができるように前記バンドの端を共に引っ張るための締め具を含む、締め付け機構と、
前記バンドに取り付けられ、前記切り欠き部の上に延びるフィンガを有するラッチであって、前記フィンガは、前記切り欠き部と共にボタンを受ける大きさのスペースを画定する端部を有する、ラッチと、
を具備するパイプクランプ。
【請求項１２】
前記パイプクランプはパイプカプラを具備する、請求項１１に記載のパイプクランプ。
【請求項１３】
スリーブをさらに具備し、前記バンドは前記スリーブを覆う、請求項１１に記載のパイプクランプ。
【請求項１４】
前記スリーブは前記バンドにおける切り欠き部と同一の広がりを有する切り欠き部を含む、請求項１３に記載のパイプクランプ。
【請求項１５】
前記ラッチは、前記バンドの前記側方縁部間において前記バンドに沿って軸方向に延びる、請求項１１に記載のパイプクランプ。
【請求項１６】
パイプクランプおよび、第２のパイプの自由端に連結特徴を有する第２のパイプに接続可能なパイプセンブリであって、前記アセンブリは、
パイプクランプであって、
第１および第２の端を有し、第１の側方縁部から第２の側方縁部への軸方向に延びる金属のバンドと、
前記バンドの端に接続された締め付け機構であって、前記締め付け機構は前記バンド
の端を共に引っ張るための締め具を含む、締め付け機構と、
前記バンドに取り付けられたラッチと、
を具備するパイプクランプと、
少なくとも１つの自由端を有する第１のパイプであって、前記パイプクランプは、前記自由端において前記第１のパイプに固定される、第１のパイプと、
を具備し、
前記パイプクランプと前記第１のパイプのうちの少なくとも一方が、第２のパイプの連結特徴を受ける大きさの切り欠き部を含み、第２のパイプの自由端が前記第１のパイプに軸方向に位置合わせされ、その後、前記アセンブリと係合して連結特徴が前記切り欠き部に受けられると、前記切り欠き部は前記パイプクランプと第２のパイプ間の相対的回転方向移動を限定し、前記ラッチは連結特徴に係合して、前記切り欠き部から連結特徴が分離するのを阻止するように、前記ラッチが前記切り欠き部において位置付けられる、パイプクランプおよびパイプアセンブリ。
【請求項１７】
前記切り欠き部は、前記バンドの前記第１の側方縁部に形成され、前記ラッチは前記第１の側方縁部と実質的に同一面上にあるクリップを含む、請求項１６に記載のパイプクランプおよびパイプアセンブリ。
【請求項１８】
前記第１のパイプは連結特徴を含み、前記アセンブリはさらに前記バンドの前記第２の側方縁部に位置付けられた第２のクリップを具備し、前記パイプクランプは、前記第１のパイプの前記連結特徴との前記第２のクリップの係合により前記第１のパイプに固定される、請求項１７に記載のパイプクランプおよびパイプアセンブリ。
【請求項１９】
前記切り欠き部は、前記第１のパイプの前記自由端に形成され、前記ラッチは前記バンドの前記第１の側方縁部を越えて延び、少なくとも部分的に前記切り欠き部を覆うクリップを含む、請求項１６に記載のパイプクランプおよびパイプアセンブリ。
【請求項２０】
前記クリップは、第２のパイプの連結特徴上に乗るように位置付けされた傾斜座面を有する撓み性フィンガを具備する、請求項１９に記載のパイプクランプおよびパイプアセンブリ。
【請求項２１】
前記パイプクランプは前記第１のパイプに溶接される、請求項１６に記載のパイプクランプおよびパイプアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月19日(2007.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工物上にニッケル鉄を無電解析出させるのに使用される析出液において、
ニッケルイオン源、第一鉄イオン源、錯化剤、還元剤、及びｐＨ調節剤から調製され、実質的にはアルカリ金属イオンを含まない析出液。
【請求項２】
請求項１記載の析出液において、
前記ニッケルイオン源は、スルファミン酸ニッケル、塩化ニッケル及び硫酸ニッケルを含む群から選択され、前記第一鉄イオン源は、スルファミン酸鉄、塩化鉄及び硫酸鉄を含む群から選択され、前記錯化剤は、グリシン、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸アンモニウム、クエン酸アンモニウム、酢酸アンモニウム及び酢酸を含む群から選択され、前記還元剤は、ジメチルアミノボラン、モルホリンボラン、グリオキシル酸及び次亜リン酸アンモニウムを含む群から選択され、前記析出液は、約７．５〜約９．５の範囲のｐＨを有し、前記ｐＨ調節剤は、エレクトロニクス用水酸化テトラメチルアンモニウム及び水酸化アンモニウムを含む群から選択される析出液。
【請求項３】
磁気エレクトロニクス装置で使用されるフラックス集中システムを作製する方法において、
加工物を提供するステップと、
前記加工物上に絶縁材料の層を形成するステップと、
前記絶縁材料の一部を除去して絶縁層に溝を形成するステップと、
前記溝内にバリア層を析出させるステップと、
前記バリア層上にニッケル鉄クラッド層を析出させるステップと
を備え、
前記ニッケル鉄クラッド層を析出させるステップの後、前記溝付近の絶縁材料の層は、原子約１×１０１１個／ｃｍ２未満のアルカリ金属イオン濃度を有する方法。
【請求項４】
磁気エレクトロニクス装置で使用されるディジット線を作製する方法において、
基板を提供するステップと、
前記基板上に絶縁材料層を形成するステップと、
前記絶縁材料層の一部を除去して同絶縁材料層に溝を形成するステップと、
前記溝内に第１のバリア層を析出させるステップと、
無電解析出により前記バリア層上にニッケル鉄クラッド層を析出させるステップと、
前記ニッケル鉄クラッド層上に第２のバリア層を析出させるステップと、
前記第２のバリア層上及び前記溝の内側に導体配線を形成するステップと
を備え、
無電解析出により前記ニッケル鉄クラッド層を析出させるステップの後、前記溝付近の絶縁材料層は、原子約１×１０１１個／ｃｍ２未満のアルカリ金属イオン濃度を有する方法。
【請求項５】
磁気エレクトロニクス装置で使用されるビット線を作製する方法において、
基板を提供するステップと、
前記基板上に絶縁材料層を形成するステップと、
前記絶縁材料層の一部を除去して同絶縁材料層に溝を形成するステップであって、前記溝が底面及びそれに一体化された側壁を有するステップと、
前記溝の底面及び側壁を覆うように第１のバリア層を析出させるステップと、
無電解メッキにより前記バリア層上に第１のニッケル鉄クラッド層を析出させるステップであって、前記第１のニッケル鉄クラッド層が底面及びそれに一体化された側壁を有し、前記ニッケル鉄クラッド層の底面が前記溝の底面付近に位置するステップと、
前記第１のニッケル鉄クラッド層の底面を除去するステップと、
前記ニッケル鉄クラッド層の側壁及び前記溝の底面を覆うように第２のバリア層を析出させるステップと、
前記第２のバリア層上及び前記溝の内側を覆うように導体配線を形成するステップと、
無電解析出により前記導体配線上に第２のニッケル鉄クラッド層を析出させるステップと
を備え、
無電解析出により前記第１のニッケル鉄クラッド層を析出させるステップの後、前記溝付近の絶縁材料層は、原子約１×１０１１個／ｃｍ２未満のアルカリ金属イオン濃度を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月26日(2007.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ポリアミド４０〜９４重量％、
（ｂ）ゴムおよびイオン性コポリマーからなる群から選択される強化用剤６〜６０重量％、
（ｃ）有機酸０．１〜１０重量％、並びに
（ｄ）１種または複数種の無機安定剤および１種または複数種の有機安定剤を含む安定剤併用物０．３〜１０重量％を含むことを特徴とする、高流動性、強化、熱安定化耐候性ポリアミド組成物。
【請求項２】
ポリアミド４０〜９４重量％、ゴムとイオン性コポリマーとからなる群から選択される強化用剤６〜６０重量％、有機酸０．１〜１０重量％、並びに、１種または複数種の無機安定剤および１種または複数種の有機安定剤を含む安定剤併用物０．３〜１０重量％を溶融混合することを含むことを特徴とする高流動性および靭性を発揮する強化ポリアミド組成物を調製する方法。
【請求項３】
請求項１に記載の配合物から形成されることを特徴とする物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
このように安定剤を併用することによって、溶融流れ性が高く、加熱老化後のＭｎの残率がよく、なおかつ紫外光安定性が良好なレジンを得られることが、容易に認められる。
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を復命課の発明を包含する。
（１）  （ａ）ポリアミド４０〜９４重量％、
（ｂ）ゴムおよびイオン性コポリマーからなる群から選択される強化用剤６〜６０重量％、
（ｃ）有機酸０．１〜１０重量％、並びに
（ｄ）１種または複数種の無機安定剤および１種または複数種の有機安定剤を含む安定剤併用物０．３〜１０重量％を含むことを特徴とする、高流動性、強化、熱安定化耐候性ポリアミド組成物。
（２）  前記ポリアミド（ａ）が、ナイロン−４，６、ナイロン−６，６、ナイロン−６，１０、ナイロン−６，９、ナイロン−６，１２、ナイロン−６、ナイロン−１１、ナイロン−１２、６Ｔから１２Ｔ、６Ｉから１２Ｉ、アジピン酸、イソフタル酸およびテレフタル酸からなる群から選択される１種または複数種の酸と２−メチルペンタメチレンジアミンおよび／またはヘキサメチレンジアミンから形成されるポリアミド、並びに、前記ナイロンおよびこれらのポリアミドの配合物およびコポリマーからなる群から選択されることを特徴とする（１）に記載の組成物。
（３）  前記有機酸（ｃ）が、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、吉草酸、トリメチル酢酸、カプロン酸、およびカプリル酸からなる群から選択されることを特徴とする（１）に記載の組成物。
（４）  前記有機酸（ｃ）がドデカン二酸であることを特徴とする（３）に記載の組成物。
（５）  ポリアミド４０〜９４重量％、ゴムとイオン性コポリマーとからなる群から選択される強化用剤６〜６０重量％、有機酸０．１〜１０重量％、並びに、１種または複数種の無機安定剤および１種または複数種の有機安定剤を含む安定剤併用物０．３〜１０重量％を溶融混合することを含むことを特徴とする高流動性および靭性を発揮する強化ポリアミド組成物を調製する方法。
（６）  前記ポリアミド、前記強化用剤、前記有機酸、および前記安定剤併用物を一回のステップで溶融混合することを特徴とする（５）に記載の方法。
（７）  前記ポリアミドおよび前記強化用剤の配合物を、前記有機酸および前記安定剤併用物と溶融混合することを特徴とする（５）に記載の方法。
（８）  前記ポリアミドおよび前記強化用剤を配合し、続いてこれに前記有機酸および前記安定剤併用物を溶融混合することを特徴とする（５）に記載の方法。
（６）  前記溶融混合は、押出および成形の一方または両方によって完了することを特徴とする（５）に記載の方法。
（１０）  ＳＡＥ  Ｊ１９６０，１９８９年６月により計測された紫外光安定性が、２，５００ｋＪ／ｍ２の露光後においてもＤｅｌｔａ−Ｅ３．０以下に維持され、ポリアミドは、１１０℃で１，０００時間空気に暴露された後においても、７，５００を越える数平均分子量を維持することを特徴とする（１）に記載の組成物。
（１１）  ＳＡＥ  Ｊ１９６０，１９８９年６月により計測された紫外光安定性が、２，５００ｋＪ／ｍ２の露光後においてもＤｅｌｔａ−Ｅ３．０以下に維持され、組成物は、更に、１１０℃で１，０００時間空気に暴露された後においても、そのノッチ付アイゾッド衝撃抵抗が少なくとも７５％維持されることを特徴とする（１）に記載の組成物。
（１２）  少なくとも１種の安定剤が無機酸化安定剤であり、少なくとも１種の安定剤が有機酸化安定剤であることを特徴とする（１）に記載の組成物。
（１３）  有機紫外線安定剤をさらに含むことを特徴とする（１２）に記載の組成物。
（１４）  （１）に記載の配合物から形成されることを特徴とする物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月22日(2007.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
難燃性の、ハロゲンを含まないポリマー組成物であって、以下の成分：
（１）（ａ）２５〜９０重量％のエチレンおよび１０〜７５重量％の酢酸ビニルを含むエチレン酢酸ビニル、（ｂ）直鎖低密度ポリエチレン、（ｃ）低密度ポリエチレン、（ｄ）超低密度ポリエチレン、（ｅ）高密度ポリエチレン、およびそれらの混合物からなる群から選択されるポリオレフィンと、
（２）（ｆ）約１重量％〜約１５重量％の官能性コモノマーを含む、約１０〜約５０重量％の、エチレンと１つの官能性コモノマーとからなるコポリマー、および（ｇ）約５０重量％〜約９０重量％の、エチレンをベースとするポリマーを含むカップリング剤と、
（３）難燃性無機充填剤と
のブレンドを含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の組成物から形成されることを特徴とする造形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
（ブレンディング）
本発明の組成物は、ポリマー材料、難燃性充填剤、およびオプションの添加剤を、通常の混練装置、例えばゴム用ロール機、ブラベンダーミキサ、バンバリーミキサ、Ｂｕｓｓ−Ｋｏニーダ、ファレル連続ミキサ、または二軸連続ミキサを使用してブレンドすることによって調製することができる。混合時間は、均質なブレンド、および無水マレイン酸基と難燃性充填剤（成分（３））との適切な反応を得るのに十分な程度にすべきである。通常は、混合時間約５分間、および混合温度１６０℃で十分である。ポリマーブレンドが非均質である場合、追加の混合が必要である。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．難燃性の、ハロゲンを含まないポリマー組成物であって、以下の成分：
（１）（ａ）２５〜９０重量％のエチレンおよび１０〜７５重量％の酢酸ビニルを含むエチレン酢酸ビニル、（ｂ）直鎖低密度ポリエチレン、（ｃ）低密度ポリエチレン、（ｄ）超低密度ポリエチレン、（ｅ）高密度ポリエチレン、およびそれらの混合物からなる群から選択されるポリオレフィンと、
（２）（ｆ）約１重量％〜約１５重量％の官能性コモノマーを含む、約１０〜約５０重量％の、エチレンと１つの官能性コモノマーとからなるコポリマー、および（ｇ）約５０重量％〜約９０重量％の、エチレンをベースとするポリマーを含むカップリング剤と、
（３）難燃性無機充填剤と
のブレンドを含むことを特徴とする組成物。
２．成分（１）が組成物の１〜６０重量％を成し、成分（２）が組成物の１〜５０重量％を成し、成分（３）が組成物の２０〜８５重量％を成すことを特徴とする１．に記載の組成物。
３．成分（１）が組成物の５〜３５重量％を成し、成分（２）が組成物の１〜１５重量％を成し、成分（３）が組成物の５０〜７０重量％を成すことを特徴とする２．に記載の組成物。
４．成分（３）が、アルミニウム三水和物、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、焼成粘土、タルカム、ポリリン酸アンモニウム、またはそれらの混合物であることを特徴とする１．〜３．のいずれか１つに記載の組成物。
５．成分（２）の下位成分（ｆ）が、エチレンと無水マレイン酸またはその官能性等価物とからなるコポリマーであることを特徴とする１．〜４．のいずれか１つに記載の組成物。
６．成分（２）の下位成分（ｆ）が、エチレンとモノエチルマレアートとのコポリマー（ＥＭＡＭＥ）からなることを特徴とする５．に記載の組成物。
７．下位成分（ｇ）のエチレンをベースとするポリマーが、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）；低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）；直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）；超低密度ポリエチレン（ＵＬＤＰＥ）；メタロセン触媒を使用したエチレンとα−オレフィンモノマーとのコポリマー（メタロセンポリエチレン、すなわちＭＰＥ）；エチレン／プロピレンコポリマー；およびエチレン／プロピレン／ジエンモノマー（ＥＰＤＭ）のようなターポリマーから選択されることを特徴とする１．〜６．のいずれか１つに記載の組成物。
８．１．〜７．のいずれか１つに記載の組成物から形成されることを特徴とする造形品。