【手続補正書】
【提出日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ範囲における半導体部品の製造のためのマイクロリソグラフィ用のリソグラフィ投影装置（１）における光学素子又は光学アセンブリを、少なくとも２つの力制御アクチュエータ（１０）を介して、構造体について６自由度まで、操作するための装置であって、各力制御アクチュエータは、１自由度の有効な力を生成すると共に、相互運動が可能な第１要素（１０ａ）及び第２要素（１０ｂ）を備え、第１要素（１０ａ）及び第２要素（１０ｂ）が、第１及び第２要素（１０ａ、１０ｂ）間の隙間（１０ｃ）にガスまたは真空のみが存在するように機械的に分断されていることを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記間隙（１０ｃ）の大きさは、約＋／−３００マイクロメートルの動きが可能な大きさである、請求項１記載の装置。
【請求項３】
少なくとも３つのアクチュエータデバイスを備え、各アクチュエータデバイス（９）は少なくとも２つの力制御アクチュエータ（１０）を有し、各力制御アクチュエータ（１０）が１自由度の有効な力を生成する、請求項１又は２記載の装置。
【請求項４】
アクチュエータデバイス（９）の連結点（１１）が光学素子（７）に直接作用する、請求項３記載の装置。
【請求項５】
ＥＵＶ範囲における半導体部品の製造のためのマイクロリソグラフィ用のリソグラフィ投影装置（１）における光学素子を、少なくとも３つのアクチュエータデバイスを介して、構造体について６自由度で、操作するための装置であって、アクチュエータデバイス（９）の連結点（１１）が、光学素子（７）に直接作用すると共に、光学素子（７）上の、アクチュエータデバイス（９）の連結点（１１）によりカバーされる平面が、少なくともほぼ光学素子（７）の中立面上にあることを特徴とする装置。
【請求項６】
３つのアクチュエータデバイス（９）が設けられていることを特徴とする、請求項３ないし５のいずれか１つに記載の装置。
【請求項７】
各アクチュエータデバイス（９）が、少なくとも２つの力制御アクチュエータ（１０）を備え、各力制御アクチュエータ（１０）が、１自由度の有効な力を生成することを特徴とする、請求項５または６に記載の装置。
【請求項８】
アクチュエータデバイス（９）の少なくとも２つの力制御アクチュエータ（１０）のそれぞれが、１つの平面内に配置されていて、互いについて、およそ６０°から１２０°、好ましくは９０°の角度にあることを特徴とする、請求項３ないし７のいずれか１つに記載の装置。
【請求項９】
各アクチュエータデバイス（９）が、光学素子（７）又は光学アセンブリの重力を補正するための反力要素として重力補正装置（１２）を備えることを特徴とする、請求項３ないし８のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１０】
アクチュエータデバイス（９）の各力制御アクチュエータ（１０）によりカバーされる３つの平面は、重力に平行であり、重力に平行な投影において、３角形を形成することを特徴とする、請求項３，４，６ないし９のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１１】
アクチュエータデバイス（９）は、光学素子（７）又は光学アセンブリの周囲にほぼ均等の間隔、好ましくは１２０°の３つの間隔で、配置されていることを特徴とする、請求項３ないし１０のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１２】
光学素子（７）上の、アクチュエータデバイス（９）の連結点（１１）によりカバーされる平面が、少なくともほぼ光学素子（７）の中立面上にあることを特徴とする、請求項４，６ないし１１のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１３】
アクチュエータデバイス（９）の少なくとも２つの力制御アクチュエータ（１０）の有効な力のそれぞれが、好ましくは光学素子（７）又は光学アセンブリ上の共有点を通ることを特徴とする、請求項３，４，６ないし１１のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１４】
重力補正装置（１２）の有効な力が、重力にほぼ平行であり、好ましくはアクチュエータデバイス（９）の２つの力制御アクチュエータ（１０）の有効な力のそれぞれの共有点を通ることを特徴とする、請求項９ないし１３のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１５】
アクチュエータデバイス（９）の少なくとも２つの力制御アクチュエータ（１０）の有効な力のそれぞれ、及び／または、重力補正装置（１２）が、好ましくは磁力により、光学素子（７）又は光学アセンブリから機械的に分断されていることを特徴とする、請求項９ないし１４のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１６】
光学素子（７）又は光学アセンブリの位置決めのために、センサが設けられていることを特徴とする、請求項１ないし１５のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１７】
製造段階及びその後の使用における力方向及び作用点を一致させることにより、アクチュエータデバイス（９）を、製造目的で、パッシブ代替モジュールに置換することができることを特徴とする、請求項３ないし１６のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１８】
力制御アクチュエータが、電磁気または静磁気的な形態、具体的にはロレンツアクチュエータ（１０）であることを特徴とする、請求項１、２、３、４、６ないし１５のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１９】
光学素子が、ミラー（７）の形態であることを特徴とする、請求項１ないし１８のいずれか１つに記載の装置。
【請求項２０】
構造体が、ＥＵＶ範囲において半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィのためのリソグラフィ投影装置（１）の投影オブジェクティブ（５）のハウジング（８）またはセンサフレームであることを特徴とする、請求項１ないし１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２１】
光学アセンブリが、少なくとも１つの光学素子と少なくとも１つのソケット素子を有する、請求項１ないし２０のいずれか１つに記載の装置。
【請求項２２】
少なくとも１つのアクチュエータデバイス（９）が、相互運動が可能な第１要素（１０ａ）及び第２要素（１０ｂ）を備え、第１要素（１０ａ）が構造体に接続され、第２要素（１０ｂ）が光学素子（７）又は光学アセンブリに接続され、第１要素（１０ａ）及び第２要素（１０ｂ）が、第１及び第２要素（１０ａ、１０ｂ）間にガスまたは真空のみが存在するように機械的に分断されていることを特徴とする、請求項３ないし２１のいずれか１つに記載の装置。
【請求項２３】
投影オブジェクティブ（５）、具体的にはＥＵＶ範囲において半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィのためのリソグラフィ投影装置（１）であって、ハウジング（８）に配置された２つ以上の光学素子（７）を備え、少なくとも１つの光学素子（７）が、請求項１ないし２２のいずれか１つに記載の装置により、ハウジング（８）について操作されることができるように取り付けられていることを特徴とする投影オブジェクティブ。
【請求項２４】
構造体（８）に光学素子（７）または光学アセンブリを直接連結するためのアクチュエータデバイスであって、それぞれ１自由度の有効な力を生成し、互いについて、およそ６０°ないし１２０°、好ましくは９０°の角度で１つの平面内に配置されている少なくとも２つの力制御アクチュエータ（１０）を備えることを特徴とするアクチュエータデバイス。
【請求項２５】
少なくとも２つの力制御アクチュエータ（１０）の有効な力のそれぞれが、好ましくは光学素子（７）上または光学アセンブリ上の共有点を通ることを特徴とする、請求項２４に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項２６】
光学素子（７）または光学アセンブリの重力を補正するための反力要素として重力補正装置（１２）により特徴付けられ、重力補正装置の有効な力が、重力にほぼ平行であり、好ましくは２つの力制御アクチュエータ（１０）の有効な力の共通の交点を通ることを特徴とする請求項２４または２５に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項２７】
光学素子（７）上の連結点（１１）が、少なくともほぼ光学素子（７）の中立面上にあることを特徴とする、請求項２４または２５または２６に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項２８】
１自由度の有効な力を生成する第１力制御アクチュエータであって、第１力制御アクチュエータ（１０）は、相互運動が可能な第１要素（１０ａ）及び第２要素（１０ｂ）を備え、第１要素（１０ａ）及び第２要素（１０ｂ）が、第１及び第２要素（１０ａ、１０ｂ）間にガスまたは真空のみが存在するように機械的に分断されていて、一方の要素（１０ｂ）が、同じタイプの第２力制御アクチュエータ（１０）の一方の要素（１０ｂ）に、連結要素（１５）を介して機械的に連結され、両方のアクチュエータ（１０）が、アクチュエータデバイス（９）を形成していることを特徴とする、アクチュエータデバイス。
【請求項２９】
少なくとも１つの力制御アクチュエータ（１０）が作動している場合、連結要素（１５）が少なくとも１自由度の動きが可能であることを特徴とする、請求項２８に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項３０】
２つの力制御アクチュエータが作動している場合、連結要素（１５）が２自由度の動きが可能であることを特徴とする、請求項２９に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項３１】
請求項２８に記載の力制御アクチュエータを備えた請求項２４ないし２７のいずれか１つに記載のアクチュエータ。
【請求項３２】
請求項２８に記載の力制御アクチュエータを備えた請求項１ないし２２のいずれか１つに記載の装置。
【請求項３３】
請求項２８に記載の力制御アクチュエータを備えた請求項２３に記載の投影オブジェクティブ。
【請求項３４】
請求項１ないし２２に記載の装置または請求項２３の投影オブジェクティブにおける請求項２８ないし３０のいずれか１つに記載の力制御アクチュエータの応用。