(57)【要約】【課題】生産性の低下やコストアップになることがなく、ボイドやワニスの未含浸部分がほとんどないプリプレグを製造することができるプリプレグの製造方法を提供する。【解決手段】流動発生機槽１４に貯留されたワニス１の上方にガイドロール１６を配設すると共に流動発生機槽１４に貯留されたワニス１中に反転ロール１５を配置する。ワニス１を噴出または吸引するためのノズル４をその噴出吸引口１７がガイドロール１６と反転ロール１５の間において基材２の片面の方に向くように配置する。ノズル４の噴出吸引口１７を基材２の片面に近接あるいは接触するように配置する。ガイドロール１６と反転ロール１５との間で基材２をワニス１に浸漬しながら進行させる。ガイドロール１６と反転ロール１５との間において基材２に対してワニス１をノズル４で噴出または吸引し、あるいはこれらを繰り返してワニス１を流動させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材にワニスを含浸させるプリプレグの製造方法において、流動発生機槽に貯留されたワニスの上方にガイドロールを配設すると共に流動発生機槽に貯留されたワニス中に反転ロールを配置し、ワニスを噴出または吸引するためのノズルをその噴出吸引口がガイドロールと反転ロールの間において基材の片面の方に向くように配置し、ノズルの噴出吸引口を基材の片面に近接あるいは接触するように配置し、ガイドロールと反転ロールとの間で基材をワニスに浸漬しながら進行させ、ガイドロールと反転ロールとの間において基材に対してワニスをノズルで噴出または吸引し、あるいはこれらを繰り返してワニスを流動させることによって、基材にその厚み方向でワニスを通過させて基材中の気泡を基材外に押し出すことを特徴とするプリプレグの製造方法。
【請求項２】
反転ロールがワニスの流動を発生させるためのロールとして形成し、このワニスの流動により基材に残存している気泡を基材外に押し出すことを特徴とする請求項１に記載のプリプレグの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層板の製造等に使用されるプリプレグの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ガラス不織布などの基材にワニスを含浸し、これを乾燥させた後、基材中の樹脂を半硬化状態（Ｂステージ状態）にまで硬化させることによって、プリプレグが製造されているが、基材にワニスを含浸させるにあたっては一般的にプレ含浸と浸漬（ディッピング）を組み合わせた工法が採用されている。すなわち、基材の片面にワニスを塗布して基材の片面からワニスを基材中に含浸させるようにしてプレ含浸を行った後、この基材をワニス中に浸漬することによって、基材にワニスを含浸させるようにしている。そして、この工法ではプレ含浸を行うことにより、基材のワニスを塗布していない他の片面から基材中の空気を押し出すことができるものであり、これにより、ボイドやワニスの未含浸部分が少ないプリプレグを形成することができるのである。
【０００３】
しかし、プレ含浸と浸漬を組み合わせた工法であっても基材の内部にボイドや未含浸部分が多く残留したプリプレグしか製造することができず、このプリプレグを使用して成形しても成形後の積層板にボイドやカスレが生じて成形不良を起こすという問題があった。そこで、ワニスの含浸性を向上させる工法として、特許文献１に記載のように、基材にワニスを含浸させる前に、基材に溶剤を含浸させることが有効であるが、この場合、溶剤を含浸させたり溶剤を乾燥させたりしなければならないために、プリプレグの生産性（生産速度）の低下やコストアップを招くという問題があった。
【特許文献１】特公平７−５５５０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、生産性の低下やコストアップになることがなく、ボイドやワニスの未含浸部分がほとんどないプリプレグを製造することができるプリプレグの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の請求項１に係るプリプレグの製造方法は、基材２にワニス１を含浸させるプリプレグの製造方法において、流動発生機槽１４に貯留されたワニス１の上方にガイドロール１６を配設すると共に流動発生機槽１４に貯留されたワニス１中に反転ロール１５を配置し、ワニス１を噴出または吸引するためのノズル４をその噴出吸引口１７がガイドロール１６と反転ロール１５の間において基材２の片面の方に向くように配置し、ノズル４の噴出吸引口１７を基材２の片面に近接あるいは接触するように配置し、ガイドロール１６と反転ロール１５との間で基材２をワニス１に浸漬しながら進行させ、ガイドロール１６と反転ロール１５との間において基材２に対してワニス１をノズル４で噴出または吸引し、あるいはこれらを繰り返してワニス１を流動させることによって、基材２にその厚み方向でワニス１を通過させて基材２中の気泡Ｂを基材２外に押し出すことを特徴とするものである。
【０００６】
本発明の請求項２に係るプリプレグの製造方法は、請求項１において、反転ロール１５がワニス１の流動を発生させるためのロールとして形成し、このワニス１の流動により基材２に残存している気泡Ｂを基材２外に押し出すことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の請求項１の発明は、流動発生機槽に貯留されたワニスの上方にガイドロールを配設すると共に流動発生機槽に貯留されたワニス中に反転ロールを配置し、ガイドロールと反転ロールとの間で基材をワニスに浸漬しながら進行させ、ガイドロールと反転ロールとの間において基材に対してワニスをノズルで噴出または吸引し、あるいはこれらを繰り返してワニスを流動させることによって、基材にその厚み方向でワニスを通過させて基材中の気泡を基材外に押し出すので、基材中の気泡を除去することができ、ボイドやワニスの未含浸部分がほとんどないようにすることができるものである。しかも、基材中の気泡を除去するにあたってプリプレグに不要な溶剤を用いないので、プリプレグに溶剤を含浸させたり溶剤を乾燥させたりすることがなく、生産性の低下やコストアップになることがないものである。また、基材に対してワニスを噴出または吸引し、あるいはこれらを繰り返してワニスを流動させるので、ワニスの流動により基材中の気泡を除去することができ、ボイドやワニスの未含浸部分がほとんどないようにすることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【０００９】
図１に本発明のプリプレグの製造方法で用いる装置の一例を示す。この製造装置は、プレ含浸機１０とワニス流動発生機３と浸漬機（ディップ機）２０とを備えて形成されている。
【００１０】
プレ含浸機１０はプレ含浸用のワニス１を貯留するプレ含浸機槽１１と、プレ含浸機槽１１内に配置される塗布ロール（キッスロール）１２と、プレ含浸機槽１１の上方に配置される一対の搬送ロール１３とを備えて形成されている。塗布ロール１２及び搬送ロール１３は後述の基材２の搬送方向と直交する方向を回転軸としてモータ等の駆動装置で回転駆動自在に形成されている。また、塗布ロール１２はその下側略半分がプレ含浸機槽１１に貯留されているワニス１に浸漬されている。また、塗布ロール１２は一対の搬送ロール１３の間で且つ搬送ロール１３よりも下方に配置されている。
【００１１】
ワニス流動発生機３は流動用のワニス１を貯留する流動発生機槽１４と、流動発生機槽１４内に配置される反転ロール１５と、流動発生機槽１４の上方に配置される一対のガイドロール１６と、流動発生機槽１４内に配置されるノズル４とを備えて形成されている。反転ロール１５及びガイドロール１６は後述の基材２の搬送方向と直交する方向を回転軸としてモータ等の駆動装置で回転駆動自在に形成されている。また、反転ロール１５はその全体が流動発生機槽１４に貯留されているワニス１に浸漬されている。また、反転ロール１５は一対のガイドロール１６の間で且つガイドロール１６よりも下方に配置されている。ノズル４はその全体が流動発生機槽１４に貯留されているワニス１に浸漬されており、このワニス１を噴出したり吸引したりするための噴出吸引口１７がノズル４に設けられている。また、ノズル４の噴出吸引口１７からワニス１を噴出したり吸引したりするための駆動源となるポンプ等が接続管１８を介してノズル４に接続されている。
【００１２】
浸漬機２０は浸漬用のワニス１を貯留する浸漬機槽２１と、浸漬機槽２１内に配置されるディップロール２２と、浸漬機槽２１及びディップロール２２の上方に配置される一対の除去ロール２３とを具備して形成されている。ディップロール２２及び除去ロール２３は後述の基材２の搬送方向と直交する方向を回転軸としてモータ等の駆動装置で回転駆動自在に形成されている。また、ディップロール２２はその全体が浸漬機槽２１に貯留されているワニス１に浸漬されている。
【００１３】
上記のワニス１としては従来からプリプレグの製造に用いられているものをそのまま使用することができ、例えば、エポキシ樹脂やメラミン樹脂などの熱硬化性樹脂をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）やジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの溶剤に溶解させてワニス１を調製することができる。ワニス１の粘度や樹脂濃度は任意に調製することができるが、例えば、粘度は１〜３００ｃｐｓ、樹脂濃度は５０〜７０質量％にそれぞれ設定することができる。また、プレ含浸用のワニス１と流動用のワニス１と浸漬用のワニス１としては同一のものを用いても良いし、粘度や樹脂濃度や樹脂の種類が異なるものを用いても良い。また、上記のワニス１（特に、流動用のワニス１）は基材２に供給される前に予め脱泡しておくのが好ましい。脱泡方法は例えば、内部圧力を真空にしたタンクにワニスを投入することにより行なうことができる。このようにワニス１を脱泡しておくことにより、基材２にワニス１中の気泡が供給されることがなくなって、プリプレグにボイドやワニス１の未含浸部分が発生するのを少なくすることができるものである。
【００１４】
本発明で用いる基材２は長尺に形成されるものであって、従来からプリプレグの製造に用いられているものをそのまま使用することができ、例えば、ガラス不織布、ガラス織布、ポリエステル繊維やポリアミド繊維などの合成繊維を用いた不織布や織布などを用いることができる。また、基材２の厚みや目付量には特に制限はないが、基材２から気泡Ｂを除去しやすくするために、基材２の厚みは０．０６〜０．２０ｍｍ、目付量は２８〜１２０ｇ／ｍ２にそれぞれ設定するのが好ましい。
【００１５】
上記のプリプレグの製造装置を用いて基材２にワニス１を含浸させるにあたっては、次のようにして行う。まず、長尺の基材２が連続的にプレ含浸機１０とワニス流動発生機３と浸漬機２０とをこの順で通過して進行するように、基材２を図１に示すようにセットする。このように基材２をセットすると、プレ含浸機１０においては一対の搬送ロール１３の下側周面に基材２の上面（表面）が接触し、且つ塗布ロール１２の上側周面に基材２の下面（裏面）が接触した状態となり、また、ワニス流動発生機３においては一対のガイドロール１６の上側周面に基材２の下面が接触し、且つ反転ロール１５の下側周面に基材２の上面が接触した状態となり、さらに、浸漬機２０においては基材２の上面がディップロール２２の下側周面に接触し、且つ一対の除去ロール２３の間を基材２が通過した状態となる。また、ワニス流動発生機３においては噴出吸引口１７が基材２の方に向くようにノズル４が配置されている。すなわち、ノズル４はその噴出吸引口１７が一方（導入側）のガイドロール１６と反転ロール１５の間において基材２の片面（裏面）の方に向くように配置されている。また、ノズル４はその噴出吸引口１７が基材２の片面に近接あるいは接触するように配置されている。
【００１６】
そして、上記のように基材２をセットした状態を維持しつつ、搬送ロール１３、塗布ロール１２、ガイドロール１６、反転ロール１５、ディップロール２２、除去ロール２３を回転駆動させることにより、長尺の基材２をその長手方向に連続的に進行させて基材２にワニス１を含浸させていく。
【００１７】
すなわち、まず、プレ含浸機１０で基材２にワニス１をプレ含浸する。プレ含浸は塗布ロール１２の上側周面を基材２の下面に接触させることにより塗布ロール１２の周面に付着したワニス１を基材２の下面に塗布し、基材２の下面から内部及び上面へとワニス１を含浸させるものであり、これにより、基材２内の空気がワニス１の含浸により押されて基材２の下面側から上面側へと移動し、基材２の上面から基材２外へ押し出されて排出されるのである。
【００１８】
次に、プレ含浸された基材２をワニス流動発生機３に導入し、ここでワニス１の流動により基材２の繊維間に残存している気泡（ボイド）Ｂを基材２外へ押し出して除去するのである。つまり、プレ含浸だけでは基材２から十分に空気を除去することができず、図２（ａ）に示すように、プレ含浸した基材２には空気が多数の気泡Ｂとして残存している。そこで、本発明では図２（ｂ）に矢印で示すようにワニス流動発生機３において、ワニス１が基材２をその厚み方向（表裏方向）に通過するようにワニス１を流動させることによって、基材２中の気泡Ｂをワニス１の流動で基材２外に強制的に押し出すと共にワニス１を基材２中に強制的に供給して含浸させるものであり、これにより、図２（ｃ）に示すように基材２中に気泡が存在しないようにすることができるものである。図１に示す実施の形態では、ノズル４の噴出吸引口１７からワニス１を基材２に向けて連続的に噴出したり、あるいはノズル４の噴出吸引口１７からワニス１を連続的に吸引したり、あるいはノズル４の噴出吸引口１７からのワニス１の噴出や吸引を交互に繰り返し連続的に行ってワニス１を振動させることによって、上記のワニス１の流動を発生させるものである。この時、ワニス１の流速は基材２の進行速度等によっても異なるが、基材２の進行速度が２ｍ／分の場合、ワニス１の流速は１０ｍｍ／秒以上にするのが好ましい。尚、基材２の進行速度は通常２〜２０ｍ／分であるので、ワニス１の流速は１０〜１００ｍｍ／秒に設定することができる。
【００１９】
次に、ワニス流動発生機３で気泡Ｂがほとんど除去された基材２を浸漬機２０に導入し、ここでワニス１に基材２を浸漬する。上記のように基材２にはほとんど気泡Ｂが残存していないが、浸漬機２０でワニス１に基材２を浸漬させることでより完全に気泡Ｂを基材２から除去するものである。また、ワニス流動発生機３でのワニス１の流動により基材２中でワニス１が偏在化してワニス１の未含浸部分が生じている場合もあるので、浸漬機２０でワニス１に基材２を浸漬させることにより均一にワニス１を基材２に含浸させるものである。そして、基材２はワニス１に浸漬後に一対の除去ロール２３間を通して引き上げられることになるが、一対の除去ロール２３間を通過する際に基材２の両面に除去ロール２３が接触するものであり、これにより、基材２の両面に付着した余剰のワニス１を除去するものである。
【００２０】
このようにしてプレ含浸機１０とワニス流動発生機３と浸漬機２０によりワニス１を含浸した基材２を乾燥し、この後、加熱等により基材２中の樹脂を半硬化状態にまで硬化させることによりプリプレグを形成することができる。そして、このプリプレグはワニス１の流動により基材２中の気泡Ｂを基材２外に強制的に押し出して除去することにより形成されているので、ボイドやワニスの未含浸部分がほとんどないものである。しかも、基材２中の気泡Ｂを除去するにあたってプリプレグに不要な溶剤を含浸させるのではなく、プリプレグに必要なワニス１を含浸させているので、従来のようにプリプレグに不要な溶剤を含浸させたり溶剤を乾燥させたりすることがなく、生産性の低下やコストアップになることがないものである。
【００２１】
図３に参考例を示す。このプリプレグの製造装置はプレ含浸機１０と浸漬機２０が上記と同様に形成されており、ワニス流動発生機３が上記と異なるもので形成されている。すなわち、ワニス流動発生機３はノズル４を具備せずに、図４に示すように、流動用のワニス１を貯留する流動発生機槽１４と、流動発生機槽１４内に配置される反転ロール１５と、流動発生機槽１４の上方に配置される一対のガイドロール１６とを備えて形成されている。反転ロール１５及びガイドロール１６は後述の基材２の搬送方向と直交する方向を回転軸として回転駆動自在に形成されている。また、反転ロール１５はその全体が流動発生機槽１４に貯留されているワニス１に浸漬されている。また、反転ロール１５は一対のガイドロール１６の間で且つガイドロール１６よりも下方に配置されている。そして、この反転ロール１５は振動装置であって、ワニスを振動させて流動させるためのロール５として形成されている。
【００２２】
反転ロール１５は図５（ａ）（ｂ）に示すように、周面が凹凸状に形成された振動発生回転体３０と、多数の小孔３１を全面に亘って設けた内側筒体３２と、多数の大孔３３を全面に亘って設けた外側筒体３４とを備えて形成されている。小孔３１は内側筒体３２を貫通して形成されており、また、大孔３３は外側筒体３４を貫通するように形成されている。そして、外側筒体３４の内側に内側筒体３２を差し込んで配設すると共に内側筒体３２の内側に振動発生回転体３０を差し込んで配置することによって反転ロール１５が形成されており、これにより、反転ロール１５の基材接触面（反転ロール１５の外周面）は多孔構造に形成されている。また、振動発生回転体３０と内側筒体３２と外側筒体３４とは互いに回転自在に形成されている。さらに、振動発生回転体３０と内側筒体３２と外側筒体３４とは基材２の搬送方向と直交する方向を回転軸としてモータ等の駆動装置で回転駆動自在に形成されているが、振動発生回転体３０は内側筒体３２及び外側筒体３４と逆向きに回転するように設定されている。すなわち、内側筒体３２及び外側筒体３４はその下部が基材２の進行方向と同方向となるように回転駆動され、振動発生回転体３０はその下部が基材２の進行方向と逆方向となるように回転駆動されるものである。
【００２３】
このようなプリプレグの製造装置を用いて基材２にワニス１を含浸させるにあたっては、次のようにして行う。まず、図１に示す上記のものと同様にして長尺の基材２をプレ含浸機１０とワニス流動発生機３と浸漬機２０にセットする。次に、上記のように基材２をセットした状態を維持しつつ、搬送ロール１３、塗布ロール１２、ガイドロール１６、反転ロール１５、ディップロール２２、除去ロール２３を回転駆動させることにより、長尺の基材２をその長手方向に連続的に進行させて基材２にワニス１を含浸させていく。
【００２４】
すなわち、まず、上記と同様にしてプレ含浸機１０で基材２にワニス１をプレ含浸する。次に、プレ含浸された基材２をワニス流動発生機３に導入し、ここで上記と同様にワニス１の流動により基材２に残存している気泡（ボイド）Ｂを基材２外へ押し出して除去するのである。図３に示す参考例では、反転ロール１５の振動発生回転体３０を回転させることによって、ワニス１に連続的に振動を起こしてワニス１が基材２をその厚み方向（表裏方向）に通過するようにワニス１を流動させるものである。すなわち、振動発生回転体３０を内側筒体３２及び外側筒体３４に対して回転させると、振動発生回転体３０の周面の凹凸形状の作用により内側筒体３２に流れ込んだワニス１が、図５（ｂ）に矢印で示すように、小孔３１と大孔３３とを通じて連続的に反転ロール１５から噴出したり反転ロール１５内に吸引されたりあるいは噴出と吸引を繰り返したりするものであり、これにより、ワニス１を連続的に振動させてワニス１の流動を発生させるものである。そして、このワニス１の流動により図２（ａ）〜（ｃ）に示す上記と同様の作用が起こり、基材２に残存している気泡Ｂを基材２外へ押し出して除去することができるものである。ワニス１の振動の周波数は基材２の進行速度等によっても異なるが、基材２の進行速度が２ｍ／分の場合、ワニス１の振動の周波数は８０〜１２０Ｈｚにするのが好ましい。尚、基材２の進行速度は通常２〜２０ｍ／分であるので、ワニス１の振動の周波数は８０〜１２００Ｈｚに設定することができる。また、外側筒体３４は基材２の進行速度と同じ回転速度であってもよいし、異なった回転速度であってもよく、異なる回転速度のほうが、大孔３３の位置が進行に従って基材２に対する場所を変えることができ、これにより、ワニス１を基材２に均一に含浸させることができるので好ましい。
【００２５】
次に、ワニス流動発生機３で気泡Ｂがほとんど除去された基材２を浸漬機２０に導入し、ここで上記と同様にしてワニス１に基材２を浸漬する。この後、上記と同様にして基材２を乾燥した後、加熱等により基材２中の樹脂を半硬化状態にまで硬化させることによりプリプレグを形成することができる。そして、このプリプレグにおいてもワニス１の流動により基材２中の気泡Ｂを基材２外に強制的に押し出して除去することにより形成されているので、ボイドやワニスの未含浸部分がほとんどないものである。しかも、基材２中の気泡Ｂを除去するにあたってプリプレグに不要な溶剤を含浸させるのではなく、プリプレグに必要なワニス１を含浸させているので、従来のようにプリプレグに不要な溶剤を含浸させたり溶剤を乾燥させたりすることがなく、生産性の低下やコストアップになることがないものである。
【００２６】
また、図３に示す参考例では反転ロール１５の内側筒体３２の両端に接続されたワニス供給口を通して反転ロール１５からワニス１の噴出のみを行ったり反転ロール１５へのワニス１の吸引のみを行ったりすることができ、これにより、基材２に対してワニス１を噴出または吸引してワニス１が基材２をその厚み方向（表裏方向）に通過するようにワニス１を流動させるためのロール５として反転ロール１５を形成することができる。この場合、反転ロール１５は図６及び図７（ａ）（ｂ）に示すように、多数の小孔３１を下側略半分の面に設けた内側筒体３２と、多数の大孔３３を全面に亘って設けた外側筒体３４とを備えて形成されている。小孔３１は内側筒体３２を貫通して形成されており、また、大孔３３は外側筒体３４を貫通するように形成されている。そして、外側筒体３４の内側に内側筒体３２を差し込んで配設することによって反転ロール１５が形成されており、これにより、反転ロール１５の基材接触面（反転ロール１５の外周面）は多孔構造に形成されている。また、この反転ロール１５では内側筒体３２は固定で外側筒体３４のみが回転するように形成されている。さらに、内側筒体３２の両側端には内側筒体３２の内部に連通するワニス供給口４０が設けられている。
【００２７】
このような反転ロール１５において、ポンプ等を用いてワニス供給口４０から内側筒体３２の内部にワニス１を供給し、内側筒体３２の内部に供給したワニス１を小孔３１及び外側筒体３４の大孔３３を通じて噴出することによって、ワニス１が基材２をその厚み方向（表裏方向）に通過するようにワニス１を流動させることができるものである。また、上記の反転ロール１５において、ポンプ等を用いてワニス供給口４０から内側筒体３２の内部に吸引作用を及ぼすことでワニス１を小孔３１及び外側筒体３４の大孔３３を通じて内側筒体３２の内部にワニス１を吸引することによって、ワニス１が基材２をその厚み方向（表裏方向）に通過するようにワニス１を流動させることができるものである。そして、このワニス１の流動により図２（ａ）〜（ｃ）に示す上記と同様の作用が起こり、基材２に残存している気泡Ｂを基材２外へ押し出して除去することができるものである。尚、外側筒体３４は基材２の進行速度と同じ回転速度であってもよいし、異なった回転速度であってもよく、異なる回転速度のほうが、大孔３３の位置が進行に従って基材２に対する場所を変えることができ、これにより、ワニス１を基材２に均一に含浸させることができるので好ましい。また、図６及び図７（ａ）（ｂ）に示す反転ロール１５において、ワニス１の噴出や吸引を交互に繰り返し連続的に行ってワニス１を振動させることによって、上記のワニス１の流動を発生させるようにしても良い。
【００２８】
図８に他の実施の形態を示す。このプリプレグの製造装置は、図１に示すワニス流動発生機３において、反転ロール１５として図３の振動装置として形成されたものを用いたものであり、その他の構成は他の実施の形態及び参考例と同様に形成されている。このプリプレグの製造装置ではノズル４と反転ロール１５の両方によりワニス１の流動を発生させることになる。
【００２９】
そして、プレ含浸機１０と浸漬機２０のみを用いた従来のプリプレグの製造に比べて、本発明ではボイドやワニス１の未含浸部分の面積を８０％減少させることができた。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施の形態で用いる製造装置の一例を示す概略図である。
【図２】同上の基材を示し、（ａ）〜（ｃ）は概略の断面図である。
【図３】同上の参考例の製造装置の一例を示す概略図である。
【図４】同上のワニス流動発生機の一例を示す概略図である。
【図５】同上の（ａ）は反転ロールの一例を示す一部が破断された斜視図、（ｂ）は一部を拡大した断面図である。
【図６】同上のワニス流動発生機の他例を示す概略図である。
【図７】同上の（ａ）は反転ロールの他例を示す一部が破断された斜視図、（ｂ）は一部を拡大した断面図である。
【図８】本発明の他の実施の形態で用いる製造装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００３１】
１  ワニス
２  基材
３  ワニス流動発生機
４  ノズル
５  ロール
１４  流動発生機槽
１５  反転ロール
１６  ガイドロール
１７  噴出吸引口
Ｂ  気泡
【図１】
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【図２】
2006342363.tif 000004
【図３】
2006342363.tif 000005
【図４】
2006342363.tif 000006
【図５】
2006342363.tif 000007
【図６】
2006342363.tif 000008
【図７】
2006342363.tif 000009
【図８】
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