【手続補正書】
【提出日】平成19年6月20日(2007.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造プロセスを制御するラントゥーラン制御システムであって、
複数のプロセス実行ツールと、
前記プロセス実行ツールの動作をモニタする複数の計測ツールと、
監視ステーションと、を有し、
前記監視ステーションは、
前記計測ツールの各々から計測データが入力されるインターフェースと、
メモリと、
各々が前記プロセス実行ツールの各々毎に前記メモリに保存されるとともに、製造プロセス、即ちレシピに一括して関連づけられた複数の変量パラメータテーブルと、
入力された計測データを１つ以上の前記変量パラメータテーブルの１つ以上の変量に関係せしめる少なくとも１つのモデル構造体と、を有し、
前記変量は、前記入力された計測データに反応して前記少なくとも１つのモデル構造体に従って変更されることを特徴とするラントゥーラン制御システム。
【請求項２】
前記少なくとも１つのモデル構造体は、フィードバック制御モデル及び／またはフィードフォワード制御モデルからなることを特徴とする請求項１記載のラントゥーラン制御器。
【請求項３】
前記監視ステーションは、前記フィードバック制御モデルに関連した目標設定点を更に有し、前記監視ステーションは、前記フィードフォワード制御モデルの出力に基づいて前記目標設定点を調整することを特徴とする請求項２記載のラントゥーラン制御器。
【請求項４】
１つ以上のモデル表記を選択して、該モデル表記から前記少なくとも１つのモデル構造体を生成するユーザインターフェースを更に有し、前記１つ以上のモデル表記は、複数の所定モデル表記からインタラクティブに選択可能であり、前記所定モデル表記は、線形モデル表記、２次モデル表記及び３次モデル表記からなることを特徴とする請求項１記載のラントゥーラン制御器。
【請求項５】
フェージングメモリ最小２乗アルゴリズムが使用されて、試験データから前記少なくとも１つのモデル構造体に対してモデルパラメータを決定し、
前記少なくとも１つのモデル構造体は、不感帯非線形利得調整によってユーザが調節可能であり、
前記少なくとも１つのモデル構造体は、最小２乗適応、勾配適応、又は非適応のうちの１つとしてユーザによって定義され、
前記少なくとも１つのモデル構造体用の前記モデルパラメータは、ラン（run）の間でユーザが調節可能であることを特徴とする請求項４記載のラントゥーラン制御器。
【請求項６】
前記少なくとも１つのモデル構造体に対するモデルの完全性基準（integrity metrics）及びプロセスノイズは、前記ユーザインターフェースによって表示されることを特徴とする請求項４記載のラントゥーラン制御器。
【請求項７】
前記少なくとも１つのモデル構造体は、多入力且つ多出力のモデルからなることを特徴とする請求項１記載のラントゥーラン制御器。
【請求項８】
外部のプラグインユニットから前記少なくとも１つのモデル構造体が入力されるインターフェースを更に有することを特徴とする請求項１記載のラントゥーラン制御器。
【請求項９】
各変量パラメータテーブルの全部又は一部が、前記プロセス実行ツールの動作の前に対応するプロセス実行ツールにダウンロードされ、前記入力された計測データに反応して変更された前記変量は、ユーザの介入を必要とせずに前記プロセス実行ツールに自動的にダウンロードされることを特徴とする請求項１記載のラントゥーラン制御器。
【請求項１０】
複数の前記プロセス実行ツールは、第１のプロセス実行ツールと第２のプロセス実行ツールとを有し、
前記複数の計測ツールは、前記第１のプロセス実行ツールから計測データを得るための第１の計測ツールと、前記第２のプロセス実行ツールから計測データを得るための第２の計測ツールと、を有し、
前記少なくとも１つのモデル構造体は、前記第１の計測ツールからの前記計測データと前記第２プロセス実行ツール用の目標設定点とを関係せしめる第１モデル構造体と、 フィードバック制御ループにて前記第２のプロセス実行ツールの動作を制御する際に使用される第２のモデル構造体と、を有し、
前記複数の変数テーブルは、前記第１プロセス実行ツール用の第１変量パラメータテーブルと第２プロセス実行ツール用の第２変量パラメータテーブルと、を有し、
前記第１変量パラメータテーブルの全て又は一部は、前記第１プロセス実行ツールの動作の前に前記第１プロセス実行ツールにダウンロードされ、 前記第２変量パラメータテーブルの全て又は一部は、前記第２のプロセス実行ツールの動作の前に前記第２プロセス実行ツールにダウンロードされ、 前記第２変量パラメータテーブルの１つ以上の変量は、前記入力された計測データへの前記第１モデル構造体の適用に反応して変更されることを特徴とする請求項１記載のラントゥーラン制御器。
【請求項１１】
前記監視ステーションは、所望の目標点に前記第２プロセス実行ツールの動作を維持するために、前記第２計測ツールからの計測データに反応して前記第２変量パラメータテーブルのテーブルパラメータを調整することを特徴とする請求項１０記載のラントゥーラン制御器。
【請求項１２】
外部のプラグインユニットから、前記第１モデル構造体及び前記第２モデル構造体のうちの一方又は両方が入力されるインターフェースを更に有することを特徴とする請求項１０記載のラントゥーラン制御器。
【請求項１３】
複数の所定モデル表記の中から１つのモデル表記を選択するユーザインターフェースを更に有し、該選択された１つのモデル表記から前記第１モデル構造体が生成され、前記複数の所定モデル表記は、線形モデル表記、２次モデル表記、及び３次モデル表記を含むことを特徴とする請求項１０記載のラントゥーラン制御器。
【請求項１４】
製造プロセスを制御する方法であって、
（ａ）複数の変量パラメータテーブルから複数のプロセス実行ツールへ変量をダウンロードする行程と、
（ｂ）前記ダウンロードされた変量に従って前記プロセス実行ツールを動作させる行程と、
（ｃ）監視ステーションにおいて、前記プロセス実行ツールの動作をモニタして複数の計測ツールから計測データを入力する行程と、
（ｄ）前記計測データと前記変量とを関係せしめる少なくとも１つのモデル構造体に前記計測データを適用し、出力を生成する行程と、
（ｅ）前記出力に反応して前記変量パラメータテーブルの１つ以上を更新する行程と、  からなることを特徴とする方法。
【請求項１５】
前記行程（ａ）乃至（ｅ）が繰り返されて、前記製造プロセスのラントゥーラン制御を実施することを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記行程（ｄ）は、前記計測データをフィードバックモデル及び／またはフィードフォワードモデルに適用する行程を有することを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
前記行程（ｃ）は、前記計測データを前記計測ツールから前記監視ステーションに自動的に転送する行程を有することを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのモデル構造体に対して目標設定点を設定する行程を更に有し、前記行程（ｅ）は、前記出力と前記目標設定点との比較に反応して前記１つ以上の前記変量パラメータテーブルを調整する行程を有することを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１９】
前記変量パラメータテーブルの各々は、前記プロセス実行ツールの１つと正確に関連し、前記計測ツールの各々は、前記プロセス実行ツールの１つと正確に関連していることを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項２０】
線形モデル表記、２次モデル表記及び３次モデル表記からなる複数の所定モデル表記から、最小２乗適応、勾配適応、及び非適応のいずれか１つとしてユーザによって定義される前記少なくとも１つのモデル構造体を、ユーザインターフェースを介して、インタラクティブに選択する行程と、
フェージングメモリ最小２乗アルゴリズムを使用して試験データから前記少なくとも１つのモデル構造体用のモデルパラメータを決定する行程と、
ランの間で前記少なくとも１つのモデル構造体用の前記モデルパラメータを調整する行程と、
前記ユーザインターフェースにてプロセスノイズとモデルの完全性基準とを表示する行程と、
を更に有することを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項２１】
製造プロセスのラントゥーラン制御を管理する監視ステーションであって、
計測データが複数の該計測ツールから入力されるインターフェースと、
複数のプロセス実行ツールの動作を制御する複数の出力制御変量を記憶するメモリと、
該入力された計測データと１つ以上の制御モデルとに基づいて前記出力制御変量を調整することによって前記計測ツールを制御する１つ以上のプロセスを実行せしめる少なくとも１つのプロセッサと、を有し、
前記制御モデルは、前記メモリに記憶された複数の制御モデル表記から選択可能であることを特徴とする監視ステーション。
【請求項２２】
制御モデルは、プロセス実行ツール毎に別々に選択され、各制御モデルは、当該プロセス実行ツールに対して選択された制御モデルに従って、当該プロセス実行ツール用の出力制御変量に、該入力された計測データの一部又は全てを関係せしめることを特徴とする請求項２１記載の監視ステーション。
【請求項２３】
各々が前記プロセス実行ツールの各々に対して設けられて前記メモリに記憶された複数の変量パラメータテーブルを更に有し、前記変量パラメータテーブルは、製造プロセスのレシピに一括して関連していて、
各制御モデルは、対応するプロセス実行ツール用の１つの変量パラメータテーブルの１つ以上の変量に、入力された計測データの一部又は全てを関係せしめられ、前記変量は、該入力された計測データに反応して前記制御モデルに従って変更され、
各変量パラメータテーブルの全て又は一部は、該プロセス実行ツールの動作の前に対応するプロセス実行ツールにダウンロードされ、前記入力された計測データに反応して変更された前記変量は、ユーザインターフェースを必要とせずに前記プロセス実行ツールに自動的にダウンロードされることを特徴とする請求項２２記載の監視ステーション。
【請求項２４】
前記制御モデル表記は、フィードバック制御モデル及び／またはフィードフォワード制御モデルを含み、
前記監視ステーションは、前記フィードバック制御モデルに関連した目標設定点を更に有していて、前記フィードフォワード制御モデルの出力に基づいて前記目標設定点を調整することを特徴とする請求項２１記載の監視ステーション。
【請求項２５】
利用可能な制御モデル表記からプロセス実行ツール毎用に制御モデルを選択し、前記制御モデル表記が、線型モデル表記、２次モデル表記、及び３次モデル表記を含むことを特徴とするユーザインタフェースと、
外部のプラグインユニットから制御モデル表記の１つ以上が入力されるインターフェースと、
を更に有することを特徴とする請求項２１記載の監視ステーション。
【請求項２６】
各変量パラメータテーブルの全て又は一部は、該プロセス実行ツールの動作の前に対応するプロセス実行ツールにダウンロードされ、前記入力された計測データに反応して変更された前記変量は、ユーザインターフェースを必要とせずに前記プロセス実行ツールに自動的にダウンロードされることを特徴とする請求項２１記載の監視ステーション。