【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年3月1日(2007.3.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【書類名】  明細書
【発明の名称】  ２−アミノ−６−アニリノ−プリンとその薬物としての利用
【特許請求の範囲】
【請求項１】  化学式Ｉ
【化１】
2002537300.tif 000001
〔式中、
ｑは１〜５であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは１又は２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；水素又は低級脂肪族アシルであるか；あるいは、
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換もしくは非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、その中の１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは１又は２で、Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）で表されるラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換又は置換のアルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、ヘテロシクリルアルキニル、アリールアルキニル、ヘテロアリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素、カルバモイル、又はＮ−低級アルキル−カルバモイルであり、
Ｒ３は非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノもしくはＮ,Ｎ−ジ−低級アルキルアミノで置換されている低級脂肪族ラジカルであり、そして
ａ）Ｒ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個のＣ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換炭素環式又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり、そして
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、あるいは
ｂ）Ｒ４、Ｒ５は一体となってそれぞれの場合について１５個以下のＣ原子を有し、その中の１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルである〕
で表わされる２−アミノ−６−アニリノ−プリン誘導体又はその塩。
【請求項２】  ｑは１〜５であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは１又は２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；水素、又は低級脂肪族アシルであるか；あるいは
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、その中の１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは１又は２であり、
Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）のラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換、又は置換のアルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、アリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素、カルバモイル、又はＮ−低級アルキル−カルバモイルであり、
Ｒ３は非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノもしくはＮ,Ｎ−ジ−低級アルキルアミノで置換されている低級脂肪族ラジカルであり、そして
ａ）Ｒ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個Ｃ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換炭素環式又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり、そしてＲ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、あるいは
ｂ）Ｒ４、Ｒ５は一体となってそれぞれの場合について１５個以下のＣ原子を有し、その中の１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルである請求項１記載の化学式Ｉで表される化合物又はその塩。
【請求項３】  ｑは１〜５であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは１又は２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環、複素環、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；水素又は低級脂肪族アシルであるか；あるいは
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは１又は２であり、
Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）
のラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換、又は置換のアルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、ヘテロシクリルアルキニル、アリールアルキニル、ヘテロアリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
ａ）上記で定義したαの場合にはＲ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個Ｃ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換炭素環式又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり、そして上記で定義したβ、γ、及びδの場合にはＲ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個Ｃ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換環状脂肪族又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり；そして
Ｒ５は水素を除いて、そしてＲ４とは独立して、αの場合には、Ｒ４に対してαの場合について定義したのと同じであり、そしてβ、γ、及びδの場合には、Ｒ４に対してβ、γ、及びδの場合について定義したのと同じである、あるいは
ｂ）Ｒ４、Ｒ５は一体となってそれぞれの場合について１５個以下のＣ原子を有し、その中の１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルである；あるいは
Ｒ２は、水素、カルバモイル、又はＮ−低級アルキルカルバモイル、そして
Ｒ３は、非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノもしくはＮ,Ｎ−ジ−低級アルキルアミノで置換されている脂肪族ラジカルである、請求項１に記載の化学式Ｉで表される化合物又はその塩。
【請求項４】  ｑは１〜３であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；又は水素であるか；あるいは、
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、それぞれの場合において１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよく、それぞれの場合に該置換基を含めて２０個以下のＣ原子を有する）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）ｉは２であり、
Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８のラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換、又は置換のアルコキシ、アリールオキシ、アルキニル、ヘテロシクリルアルキニル、アリールアルキニル、ヘテロアリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、
水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、又は低級アルコキシ；
部分式Ｚ−Ｃ(＝Ｗ)−（式中、Ｗは酸素、硫黄、又はイミノであり、Ｚは、水素、ヒドロカルビルＲ０、ヒドロカルビルオキシＲ０−Ｏ−、又は化学式Ｒ１１(Ｒ１２)Ｎ−で表されるアミノ基で、それぞれの場合についてＲ０は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２〜Ｃ１４アルキル、シアノ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、カルボキシ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、又はフェニルで、Ｒ１１及びＲ１２は互いに独立して、それぞれ水素、低級アルキル、ω−アミノ−低級アルキル、低級アルキルスルホニルあるいはフェニルである）のアシルラジカル；
ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ω−アミノ−低級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ヒドロキシルアミノ、ヒドロキシルイミノ、低級アルコキシ−アミノ、フェニルオキシアミノ、アミノシクロヘキシル−アミノ−、アミノ−フェニル−アミノ−、カルバモイル−アミノ、（Ｎ−低級アルキル−カルバモイル)−アミノ、(Ｎ−[ω−アミノ−低級アルキル]−カルバモイル)−アミノ、(Ｎ−フェニル−カルバモイル)−アミノ、チオ、低級アルキルチオ、チオカルバモイル、チオウレイド、Ｎ−低級アルキル−チオウレイド、Ｎ−フェニル−チオウレイド、グアニジノ、Ｎ−低級アルキル−グアニジノ、カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、フェニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ヒドロキシルアミノカルボニル、カルバモイル、アミジノ、シアノ、ヒドロキシル、低級アルコキシ、フェニルオキシ、アミノカルボニル−オキシ、オキソ、アミノスルホニル、低級アルキルスルホニル−アミノ、グリシルアミノ、アラニルアミノ、フェニルアラニルアミノ、プロリルアミノ、バリルアミノ、ロイシルアミノ、イソロイシルアミノ、セリルアミノ、スレオニルアミノ、システイニルアミノ、メチオニルアミノ、チロシルアミノ、トリプトファニルアミノ、アルギニルアミノ、ヒスチジルアミノ、リジルアミノ、グルタミルアミノ、グルタミニルアミノ、アスパラギルアミノ、アスパラギニルアミノ、又はフェニルグリシルアミノで置換される２９個以下のＣ原子を有する脂肪族炭化水素ラジカル；
カルボキシ、チオカルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドラジノカルボニル、ヒドロキサミノカルボニル、アミジノ、スルファモイル、スルファニル、ハロゲン、シアノ、ホルミル、アミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級脂肪族アシル、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されるベンジル、２−フェニル−エチル、３−アミノメチル−ベンジル、(１−ヒドロキシ−シクロヘキシ−１−イル)−メチル、(２−アミノ−３,５,５−トリメチル−シクロペンチル)−メチル、１−[Ｎ−(１−カルボキシ−２−フェニル−エチル)−カルバモイル]−２−カルバモイル−エチ−１−イル、１−カルバモイル−１−フェニル−メチル、１−カルバモイル−２−(４−ヒドロキシ−フェニル)−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−フェニル−エチ−１−イル、２−アミノ−１,２−ジフェニル−エチ−１−イル、２−ベンジルオキシカルボニル−１−カルバモイル−エチ−１−イル、３−ベンジルオキシカルボニル−１−カルバモイル−プロプ−１−イル、１−アダマンチル−２−アミノ−プロプ−１−イル、１−アダマンチル−１−アミノ−プロプ−２−イル、(２−フリル)−メチル、(２−テトラヒドロフリル)−メチル、２−ピリジ−２−イル−エチル、２−ピペリジノ−エチル、２−(モルフォリン−４−イル)−エチル、２−(３−インドリル)−エチル、２−(４−イミダゾリル)−エチル、１−カルバモイル−２−(β−インドリル)−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−イミダゾール−４−イル−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−インドール−３−イル−エチ−１−イル、３−アミノ−メチル−オキセタン−３−イル−メチル、１−(アセトキシ−イミノ)−１−(４−アミノ−２−オキサ−１,３−ジアゾ−ル−５−イル)−メチル、Ｃ４〜Ｃ８シクロアルキル；
２−アミノメチル−３,３,５−トリメチル−シクロペント−１−イル、３−アミノ−アダマンタン−１−イル、２−カルバモイル−ビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−３−イル、９−アミノ−スピロ[４,４]ノン−１−イル、５−アミノ−２−オキサ−１,３−ジアゾ−ル−４−イル、４−アミノ−チエン−３−イル、３−カルバモイル−５−(３−[２,４−ジクロロ−フェニル]−１−オキソ−プロプ−２−エン−１−イル)−１,２−チアゾ−ル−４−イル、３−カルバモイル−５−(３−[４−トリフルオロ−フェニル]−１−オキソ−プロプ−２−エン−１−イル)−１,２−チアゾ−ル−４−イル、４−アミノ−２−(４−カルボキシ−ブチル)−テトラヒドロチオフェン−３−イル、３−アミノ−２−(４−カルボキシ−ブチル)−テトラヒドロチオフェン−４−イル、[１,２,５]オキサジアゾロ[３,４−ｂ](６−アミノ−ピラジン−５−イル)、２,５'−ジアセチル−３−アミノ−チエノ[２,３−ｂ]チオフェン−４'−イル、又は３−アミノ−２,５'−ジピバロイル−チエノ[２,３−ｂ]チオフェン−４'−イルであり、そして
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、あるいは
Ｒ４、及びＲ５は一体となって、１,２−エチレン、プロパン−１,３−ジイル、ブタン−１,４−ジイル、ペンタン−１,５−ジイル、３−(３−アミノ−プロピオニル)−３−アザ−ペンタン−１,５−ジイル、１−アミノメチル−ブタン−１,４−ジイル、１−ヒドロキシ−メチル−ブタン−１,４−ジイル、３−(２−アミノ−エチル)−ペンタン−１,５−ジイル、３−アザ−ペンタン−１,５−ジイル、又は３−(２−アミノ−エチル)−３−アザ−ペンタン−１,５−ジイルである、請求項１記載の化学式Ｉで表される化合物又はその塩。
【請求項５】  ｑは１〜３であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；又は水素であるか；
あるいは、
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよく、それぞれの場合について該置換基を含めて２０個以下のＣ原子を有する）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは２であり、
Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）のラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換、又は置換のアルコキシ、フェノキシ、アルキニル、又はアリールアルキニルである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシもしくはウレイドで置換されているＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、請求項１に記載の化学式Ｉで表される化合物。
【請求項６】  ｑは１〜２であり、
Ｒ１は、−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素；
非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、１０個以下のＣ原子と３個以下のヘテロ原子を有する非置換ヘテロアリール、又は非置換もしくはハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、フェノキシ、低級アルコキシカルボニル、イミダゾリル、モルフォリニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、又はハロゲンで置換された低級アルキルで置換されている１４個以下のＣ原子を有するアリールで置換されているＣ１〜Ｃ１２アルキル；
非置換又はヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルもしくは低級アルキルカルバモイルで置換されているＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル；
２０個以下のＣ原子と３個以下のヘテロ原子を有する非置換ヘテロアリール；
非置換又はハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、フェノキシ、低級アルコキシカルボニル、イミダゾリル、モルフォリニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されている２０個以下のＣ原子を有するアリールであるか；あるいは、
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、ここで、１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられることが可能であり、それぞれの場合について該置換基を含めて２０個以下のＣ原子を有する）；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されているＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、請求項１に記載の化学式Ｉで表される化合物。
【請求項７】  β）Ｒ１は、そのフェニルが、非置換又はハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、フェノキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているＮ−(フェニル低級アルキル)カルバモイル；あるいは、
γ）Ｒ１は、化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８（式中、ｉは２であり、Ｒ８は、低級アルキル、ハロゲンで置換された低級アルキル；非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはカルバモイルで置換されているＣ３〜Ｃ８シクロアルキル；２０個以下のＣ原子と３個以下のヘテロ原子を有する非置換ヘテロアリール；非置換又はハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、又はハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているフェニルである）で表わされるラジカル；あるいは、
δ）Ｒ１は、化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９（式中、Ｒ９は非置換又はトリ(低級アルキル)シリルで置換されているアルコキシ、フェノキシ、アルキニル；そのヘテロアリール部分が、窒素、硫黄、及び酸素からなる群から選択される１つあるいは２つのヘテロ原子を含み、該ラジカルが、非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているヘテロアリールアルキニル；そのヘテロシクリル部分が、窒素、硫黄、及び酸素からなる群から選択される１つあるいは２つのヘテロ原子を含み、該ラジカルが、非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているヘテロシクリルアルキニル；あるいは非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているフェニルアルキニルである）のラジカルであり；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されているＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、請求項１に記載の化学式Ｉで表される化合物。
【請求項８】  ｑは１であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、非置換又はフェノキシで置換されているフェニル、低級アルコキシ、イミダゾリル、低級アルキル、ハロゲン、ハロゲン低級アルキル、低級アルキルオキシカルボニル、モルフォリニル；フェニル、ハロゲンフェニル、ナフチル、フラニル、又はピリジルで置換された低級アルキル；非置換又はヒドロキシで置換されているＣ３〜Ｃ６シクロアルキル；テトラヒドロナフチル又はキノリニルである；あるいは、
α１）Ｒ６及びＲ７は一体となってアルキレンラジカルであり、
α１.１）４から最大で６個のＣ原子を有し、そのうちの１個のＣ原子が酸素で置き換えられていてもよいか；あるいは、
α１.２）化学式（II）
【化２】
2002537300.tif 000002
（式中、ｗは２、ｘは２、ｙは０又は１であり、そしてＲ１０は水素又は非置換又はハロゲン、トリフルオロメチルもしくは低級アルコキシで置換されているフェニルである）で表わされるラジカルであり、
β）フェニルが、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、又はトリフルオロメチルで置換可能である非置換又は置換フェニル低級アルキルカルバモイル；あるいは、
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは２で、
Ｒ８は低級アルキル、又は低級アルキル又は低級アルコキシで置換されたフェニルである）のラジカル；あるいは、
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９は低級アルコキシ、フェノキシ、フェニルが非置換又はハロゲン、低級アルキルもしくは低級アルコキシで置換されているフェニル低級アルキニル；低級アルキニル、又はトリ(低級アルキル)シリル低級アルキニルである）で表されるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は水素であり、そして
Ｒ５はアミノ、ヒドロキシ、又はカルバモイルで置換されたシクロヘキシルである、請求項１に記載の化学式Ｉで表される化合物。
【請求項９】  ｑは１〜３であり、
Ｒ１は、化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９は非置換又はトリ(低級アルキル)シリルで置換されているアルコキシ、フェノキシ、アルキニル；そのヘテロアリール部分が、ピリジル、ピリミジル、チエニル、フリル、オキサゾリル、及びチアゾリルから成る群から選択され、そして該ラジカルが非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているヘテロアリールアルキニル；そのヘテロシクリル部分が、ピペリジニル、ピロリジニル、ピペラジニル、低級アルキルピペラジニル、モルフォリニル、及びチアモルフォリニルから成る群から選択され、そして該ラジカルが非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているヘテロシクリルアルキニル；あるいは、非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているフェニルアルキニルである）で表わされるラジカルであり；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されているＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、
請求項１記載の化学式Ｉで表される化合物又はその薬学的に許容される塩。
【請求項１０】  ｑは１〜２であり、
Ｒ１は、化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９は非置換又はトリ(低級アルキル)シリルで置換されているアルコキシ、フェノキシ、アルキニル；そのヘテロアリール部分が、ピリジル、ピリミジル、及びチエニルから成る群から選択され、そして該ラジカルが非置換又は低級アルキルで置換されているヘテロアリールアルキニル；そのヘテロシクリル部分が、ピペリジニル、及びピペラジニルから成る群から選択され、そして該ラジカルが非置換又は低級アルキルで置換されているヘテロシクリルアルキニル；あるいは、非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、又はハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているフェニルアルキニルである）で表わされるラジカルであり；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されているＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、
請求項１記載の化学式Ｉで表される化合物又はその薬学的に許容される塩。
【請求項１１】  シス−２−[６−(４−ブチル−アミノスルホニル−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサンカルボン酸アミド
シス−２−{９−エチル−６−[４−(３−メチルブチル)−アミノスルホニル−フェニルアミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサンカルボン酸アミド
シス−２−[９−エチル−６−(４−イソブチル−アミノ−スルホニル−フェニルアミノ)−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサンカルボン酸アミド
シス−２−{９−エチル−６−[４−(４−フェニル−ピペラジン−１−イル−スルホニル)−フェニルアミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサンカルボン酸アミド
４−[２−(トランス−４−アミノ−シクロヘキシルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(３−メチル−ブチル)−スルホンアミド
４−[２−(トランス−４−アミノ−シクロヘキシルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−ブチル−スルホンアミド
４−[２−(トランス−４−アミノ−シクロヘキシルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−イソブチル−スルホンアミド
４−[２−(トランス−４−アミノ−シクロヘキシルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−シクロヘキシル−スルホンアミド
シス−２−[６−(４−シクロヘキシル−アミノスルホニル−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサンカルボン酸アミド
Ｎ−２−(トランス−４−アミノ−シクロヘキシル)−９−エチル−Ｎ−６−[４−(ピペリジン−１−スルホニル)−フェニル]−９Ｈ−プリン−２,６−ジアミン
シス−２−{９−エチル−６−[４−(ピペリジン−１−スルホニル)−フェニルアミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサンカルボン酸アミド
シス−２−{６−[４−(Ｎ−ブチル−Ｎ−メチル−アミノ−スルホニル)−フェニルアミノ]−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサンカルボン酸アミド
４−[２−(トランス−４−アミノ−シクロヘキルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−ブチル−Ｎ−メチル−スルホンアミド
シス−２−{９−エチル−６−[４−(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル−アミノスルホニル)−フェニルアミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサンカルボン酸アミド
４−[２−(トランス−４−アミノ−シクロヘキシルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル−スルホンアミド
Ｎ−２−(トランス−４−アミノ−シクロヘキシル)−９−エチル−Ｎ−６−[４−(４−フェニル−ピペラジン−１−スルホニル)−フェニル]−９Ｈ−プリン−２,６−ジアミン
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−イソブチル−Ｎ−メチル−スルホンアミド
トランス−４−(９−エチル−６−{４−[４−(４−フルオロ−フェニル)−ピペラジン−１−スルホニル]−フェニルアミノ}−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ)−シクロヘキサノール
トランス−４−(９−エチル−６−{４−[４−(３−トリフルオロメチル−フェニル)−ピペラジン−１−スルホニル]−フェニルアミノ}−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ)−シクロヘキサノール
トランス−４−(９−エチル−６−{４−[４−(２−メトキシ−フェニル)−ピペラジン−１−スルホニル]−フェニルアミノ}−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ)−シクロヘキサノール
Ｎ−シクロヘキシル−{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−Ｎ−メチル−スルホンアミド
トランス−４−{９−エチル−６−[４−(ピロリジン−１−スルホニル)−フェニルアミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサノール
トランス−４−{６−[４−(アゼパン−１−スルホニル)−フェニルアミノ]−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサノール
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(４−メトキシ−フェニル)−Ｎ−メチル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(２−ピリジン−２−イル−エチル)−スルホンアミド
トランス−４−{６−[４−(４−ベンジル−ピペラジン−１−スルホニル)−フェニルアミノ]−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサノール
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル)−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−ナフタレン−１−イル−メチル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−ヘプチル−Ｎ−メチル−スルホンアミド
Ｎ−(３,３−ジフェニル−プロピル)−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(１−メチル−３−フェニル−プロピル)−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(３−メチル−ブチル)−スルホンアミド
トランス−４−{９−エチル−６−[４−(ピペリジン−１−スルホニル)−フェニルアミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサノール
Ｎ−(３−クロロ−ベンジル)−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(３−イミダゾール−１−イル−フェニル)−スルホンアミド
Ｎ−(３,４−ジメトキシ−フェニル)−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(５−フルオロ−２−メチル−フェニル)−スルホンアミド
Ｎ−(３,５−ジメトキシ−フェニル)−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−フェニル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(５,６,７,８−テトラヒドロ−１−ナフチル)−スルホンアミド
Ｎ−ベンジル−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−フェニル−スルホンアミド
４−{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホニルアミノ}−安息香酸プロピルエステル
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(４−モルフォリン−４−イル−フェニル)−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−キノリン−３−イル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(４−フェノキシ−フェニル)−スルホンアミド
Ｎ−(２,４−ジメチル−フェニル)−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−ｍ−トリル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−ｏ−トリル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(３−トリフルオロメチル−フェニル)−スルホンアミド
Ｎ−(３,４−ジクロロ−フェニル)−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
Ｎ−(３−クロロ−フェニル)−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−プロピル−スルホンアミド
Ｎ−ブチル−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−メチル−スルホンアミド
トランス−４−{９−エチル−６−[４−(４−フェニル−ピペラジン−１−スルホニル)−フェニルアミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサノール
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−３−ピリジルメチル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−２−フラニルメチル−スルホンアミド
Ｎ−ベンジル−Ｎ−エチル−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
Ｎ−シクロヘキシル−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
Ｎ−シクロプロピル−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−(３−ヒドロキシ−プロピル)−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−イソブチル−スルホンアミド
Ｎ,Ｎ−ジブチル−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−オクチル−スルホンアミド
トランス−４−{９−エチル−６−[４−(モルフォリン−４−スルホニル)−フェニル−アミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサノール
トランス−４−{９−エチル−６−[４−(４−メチル−ピペラジン−１−スルホニル)−フェニル−アミノ]−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ}−シクロヘキサノール
Ｎ−ブチル−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−イソプロピル−スルホンアミド
Ｎ−ベンジル−４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ−メチル−スルホンアミド
４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル−Ｎ,Ｎ−ジメチル−スルホンアミド
Ｎ−ベンジル−３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−ベンズアミド
３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−Ｎ−(４−フルオロ−ベンジル)−ベンズアミド
３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−Ｎ−(４−メチル−ベンジル)−ベンズアミド
３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−Ｎ−(４−メトキシ−ベンジル)−ベンズアミド
３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−Ｎ−(４−トリフルオロメチル−ベンジル)−ベンズアミド
Ｎ−{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−メタンスルホンアミド
Ｎ−{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
Ｎ−{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−４−メトキシ−ベンゼンスルホンアミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−メタンスルホンアミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−４−メトキシ−ベンゼンスルホンアミド
{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−カルバミン酸メチルエステル
{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−カルバミン酸イソブチルエステル
{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−カルバミン酸フェニルエステル
{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−カルバミン酸メチルエステル
{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−カルバミン酸イソブチルエステル
{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−カルバミン酸フェニルエステル
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−トリメチルシリルプロパルギル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−フェニルプロパルギル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−４,４−ジメチル−２−ペンチニル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(４−クロロフェニル)−プロパルギル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(４−フルオロフェニル)−プロパルギル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−ｐ−トリルプロパルギル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(４−メトキシフェニル)−プロパルギル酸アミド
３−(４−クロロ−フェニル)−プロピン酸{３−[２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９−イソプロピル−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
３−ｐ−トリル−プロピン酸{３−[２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９−イソプロピル−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
３−(４−メトキシ−フェニル)−プロピン酸{３−[２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９−イソプロピル−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
３−(４−フルオロ−フェニル)−プロピン酸{３−[２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９−イソプロピル−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
３−(フェニル)−プロピン酸{３−[２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９−イソプロピル−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
ビフェニル−４−カルボン酸{３−[２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９−イソプロピル−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
３−ｍ−トリル−プロピン酸{３−[９−エチル−２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
３−(３−トリフルオロメチル−フェニル)−プロピン酸{３−[９−エチル−２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
４,４−ジメチル−ペント−２−イン酸{３−[９−エチル−２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
３−(６−メチル−ピリジン−２−イル)−プロピン酸{３−[９−エチル−２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
３−(４−メチル−ピリミジン−２−イル)−プロピン酸{３−[９−エチル−２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(２,６−ジクロロフェニル)−プロパルギル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(２−チオフェニル)−プロパルギル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(２,５−ジメチル−フェニル)−プロパルギル酸アミド
Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(３,４−ジメチル−フェニル)−プロパルギル酸アミド
４−ピペリジン−１−イル−ブタ−２−イン酸−{３−[９−エチル−２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシル−アミノ)−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
４−(４−メチル−ピペラジン−１−イル)−ブタ−２−イン酸{３−[９−エチル２−(４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イルアミノ]−フェニル}−アミド
及びそれらの薬学的に許容される塩から成る群から選択される、請求項１に記載の化学式Ｉで表される化合物。
【請求項１２】  ヒト又は動物の治療的処置方法において使用される請求項１〜１１のいずれかに記載の化学式Ｉで表わされる化合物あるいは当該化合物の薬学的に許容される塩。
【請求項１３】  請求項１〜１１のいずれかに記載の化学式Ｉで表わされる化合物または当該化合物の薬学的に許容される塩を医薬担体と共に含む、医薬組成物。
【請求項１４】  請求項１〜１１のいずれかに記載の化学式Ｉで表わされる化合物または当該化合物の薬学的に許容される塩の抗腫瘍効果有効量を医薬担体と共に含む、ヒトを含む温血動物中の腫瘍の処置用の医薬組成物。
【請求項１５】  請求項１〜１１のいずれかに記載の化学式Ｉで表わされる化合物または当該化合物の薬学的に許容される塩の、腫瘍又は骨粗鬆症の化学療法に使用するための医薬組成物の製造における使用。
【請求項１６】  請求項１〜１１のいずれかに記載の化学式Ｉで表わされる化合物または当該化合物の薬学的に許容される塩の、腫瘍又は骨粗鬆症の化学療法のための使用。
【請求項１７】  請求項１〜１１のいずれかに記載の化学式Ｉで表わされる化合物または当該化合物の薬学的に許容される塩の抗腫瘍有効量が、腫瘍の疾病を患っている温血動物に投与される、ヒトを含む温血動物の処置方法。
【請求項１８】  請求項１〜１１のいずれかに記載の化学式Ｉで表わされる化合物、あるいは当該化合物の薬学的に許容される塩の骨粗鬆症に対して有効な投与量が、骨粗鬆症を患っている温血動物に投与される、ヒトを含む温血動物の処置方法。
【請求項１９】  化学式Ｉ
【化３】
2002537300.tif 000003
〔式中、
ｑが１〜５であり、
Ｒ１が、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは１又は２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７が互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；水素又は低級脂肪族アシルであるか；あるいは、
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換もしくは非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、その中の１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉが１又は２で、Ｒ８が脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）で表されるラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換又は置換のアルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、ヘテロシクリルアルキニル、アリールアルキニル、ヘテロアリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素、カルバモイル、又はＮ−低級アルキル−カルバモイルであり、
Ｒ３は非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノもしくは、Ｎ,Ｎ−ジ−低級アルキルアミノで置換されている低級脂肪族ラジカルであり、そして
ａ）Ｒ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個のＣ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換炭素環式又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり、そして
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、あるいは
ｂ）Ｒ４、Ｒ５は一体となってそれぞれの場合について１５個以下のＣ原子を有し、その中の１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルである〕
で表わされる２−アミノ−６−アニリノ−プリン誘導体又はその塩の製造方法であって、ａ）Ｒ１が−ＳＯｋ−ＮＲ６Ｒ７である化学式Ｉで表わされる化合物の製造のために、
式III
【化４】
2002537300.tif 000004
〔式中、Ｙは適切な脱離基であり、Ｒ１は−ＳＯｋ−ＮＲ６Ｒ７であり、そして他の置換基及び記号は、化学式Ｉで表わされる化合物について上記で定義したのと同様であり、この化合物において存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている〕
で表わされる化合物を、式IV
【化５】
2002537300.tif 000005
〔式中、置換基は、化学式Ｉで表わされる化合物について上記で定義したのと同様であり、この化合物に存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されているか、又は潜在的官能基の原理に従って官能基に変換できる形態にされている〕
で表わされるアミンと反応させ、必要であれば、存在する保護基を脱離し、官能基を化学式Ｉで表わされる最終形態に変換するか、または、
ｂ）Ｒ１がＮ−(アリール低級アルキル)カルバモイルである化学式Ｉで表わされる化合物の製造のために、
式Ｖ
【化６】
2002537300.tif 000006
〔式中、Ｒ１は−ＣＯ２Ｈであり、そして他の置換基及び記号は化学式Ｉで表わされる化合物について上記で定義したのと同様であり、この化合物において存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている〕
で表される化合物を、そのアリール部分に存在する遊離型の官能基が必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されているアリール低級アルキルアミンと反応させ、存在する保護基を脱離させるか、あるいは
ｃ）Ｒ１がＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８またはＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９のラジカルである化学式Ｉで表わされる化合物の製造のために、Ｒ１が−ＮＨ２であり、そして他の置換基及び記号が、化学式Ｉで表わされる化合物について上記で定義したのと同様であり、この化合物において存在する遊離型の官能基が必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている式Ｖの化合物を、化学式VI又はVII
【化７】
2002537300.tif 000007
〔式中、Ｙは適切な脱離基であり、そして
Ｒ８及びＲ９は、化学式Ｉで表わされる化合物について上記で定義したのと同様であり、Ｒ８又はＲ９において存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている〕
で表される化合物と反応させ、存在する保護基を脱離させ、
そしてａ）ｂ）又はｃ）の方法を実施した後、塩の調製のために、必要であれば製造された化学式Ｉで表される遊離型の化合物を塩に変換するか、あるいは遊離型の化合物の調製のために、必要であれば製造された化学式Ｉで表わされる化合物の塩を遊離型の化合物に変換することを含む、製造方法。
【請求項２０】  化学式III
【化８】
2002537300.tif 000008
〔式中、Ｙは適切な脱離基であり、Ｒ１は−ＳＯｋ−ＮＲ６Ｒ７であり、そして他の置換基及び記号は、化学式Ｉで表わされる化合物について請求項１で定義したのと同様であり、そこに存在する遊離型の官能基は容易に脱離可能な保護基により保護されることが可能である〕
で表される化合物、またはその塩。
【請求項２１】  化学式Ｖ
【化９】
2002537300.tif 000009
〔式中、Ｒ１は−ＣＯ２Ｈであり、そして他の置換基及び記号は、化学式Ｉで表わされる化合物について請求項１で定義したのと同様であり、そこに存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている〕
で表される化合物、又はその塩。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（技術分野）
本発明は、２−アミノ−６−アニリノ−プリン誘導体及びそれらの製造方法及び新規中間体、そのような誘導体を含む医薬製剤、及び薬物としてのこれら誘導体の用途に関する。
【０００２】
本発明は、化学式Ｉ
【化１０】
2002537300.tif 000010
〔式中、
ｑは１〜５であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは１又は２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；水素又は低級脂肪族アシルであるか；あるいは、
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換もしくは非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、その中の１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは１又は２で、Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）で表わされるラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換又は置換のアルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、ヘテロシクリルアルキニル、アリールアルキニル、ヘテロアリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素、カルバモイル、又はＮ−低級アルキル−カルバモイルであり、
Ｒ３は非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノもしくはＮ,Ｎ−ジ−低級アルキルアミノで置換されている低級脂肪族ラジカルであり、そして
ａ）Ｒ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個のＣ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換炭素環式又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり、そして
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、あるいは
ｂ）Ｒ４、Ｒ５は一体となってともに、それぞれの場合について１５個以下のＣ原子を有し、その中の１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルである〕
で表わされる２−アミノ−６−アニリノ−プリン誘導体、及びその塩に関する。
【０００３】
特に明記のない限り、本開示において「低級」と示される有機ラジカルは７個以下の、好ましくは４個以下の炭素原子を含有する。
ｑは、好ましくは１〜３、該して１又は２で、好ましくは１である。立体的理由で可能である場合のみ、ｑが４又は５であり得る。もしｑが１であるならば、Ｒ１は例えば３位に、あるいは好ましくは４位にある。
もし、Ｒ１が−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７であるなら、ｋは１又は２となることが可能である。好ましくは、ｋは２である。
ハロゲンは、例えばフッ素、塩素、臭素、又はヨウ素である。好ましくはハロゲンはフッ素又は塩素である。
【０００４】
脂肪族ラジカルＲ６又はＲ７は、それぞれの場合について２０個以下のＣ原子を有する非置換又は置換アルキル、又は一不飽和のあるいは多価不飽和のアルケニル又はアルキニルラジカル、すなわち非置換又は置換Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、又はＣ２〜Ｃ２０アルキニルラジカルである。一般に、これらのラジカルは、それらの置換基を含み、１６個以下、特には１２個以下の、とりわけ８個以下のＣ原子を有する。好ましくは、脂肪族ラジカルは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、３−メチルブチル、ｎ−ペンチル、４−メチル−ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、５−メチル−ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、６−メチル−ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、７−メチル−ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、８−メチル−ｎ−ノニル、ｎ−デシル、又は９−メチル−ｎ−デシルである。より好ましくは、該脂肪族ラジカルは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、３−メチルブチル、ｎ−ヘプチル、又はｎ−オクチルである。アルケニルラジカルは、例えばアリル、プロペニル、イソプロペニル、２−又は３−メタリル、及び２−又は３−ブテニルである。アルキニルラジカルは、例えばプロパルギル又はブチニルである。対応する不飽和ラジカルにおいて、二重結合は特には自由結合手に対してα位よりも高い位置に存在する。
【０００５】
不飽和ラジカルは、特には共役した及び／又は孤立した多重結合（二重結合及び／又は三重結合）を１つあるいは複数包含するラジカルである。環ラジカルなる語はまた、芳香族ラジカル、例えば少なくとも１つの６員炭素環あるいは１つの５〜８員複素環が最大数の非累積二重結合を含むラジカルを包含する。少なくとも１つの環が６員芳香環（すなわちベンゼン環）として存在する炭素環式ラジカルは、アリールラジカルと呼ばれる。
【０００６】
置換脂肪族ラジカルＲ６又はＲ７は、１つあるいは複数の同一の又は異なるラジカルを保有することが可能である。該置換基の性質によって、単結合あるいは多重結合を介して付着され、または、スピロ形式で結合されることができる。置換基は、例えば塩素、フッ素、臭素、又はヨウ素のようなハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、ω−アミノ−低級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノのようなアロイルアミノ、ヒドロキシルアミノ、ヒドロキシルイミノ、低級アルコキシ−アミノ、フェニルオキシアミノのようなアリールオキシオミノ、アミノ−シクロヘキシル−アミノ−、アミノ−フェニル−アミノ−、カルバモイル−アミノ（ウレイド、−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ２)、(Ｎ−低級アルキル−カルバモイル)−アミノ(−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−低級アルキル)、(Ｎ−[ω−アミノ−低級アルキル]−カルバモイル)−アミノ(−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−低級アルキル−ＮＨ２)、(Ｎ−フェニル−カルバモイル)−アミノ(−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−フェニル)、チオ、メチルチオのような低級アルキルチオ、チオカルバモイル(−Ｃ(＝Ｓ)−ＮＨ２)、チオウレイド(−ＮＨ−Ｃ(＝Ｓ)−ＮＨ２)、Ｎ−低級アルキル−チオウレイド(−ＮＨ−Ｃ(＝Ｓ)−ＮＨ−低級アルキル)、Ｎ−フェニル−チオウレイド(−ＮＨ−Ｃ(＝Ｓ)−ＮＨ−フェニル)、グアニジノ、Ｎ−低級アルキル−グアニジノ、カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、フェニルオキシカルボニルのようなアリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ヒドロキシルアミノカルボニル、アミノアシル−アミノ、カルバモイル、アミジノ(−Ｃ[＝ＮＨ]−ＮＨ２)、シアノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、フェニルオキシのようなアリールオキシ、アミノカルボニル−オキシ−(−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ２)、オキソ、アミノスルホニル、及び低級アルキルスルホニル−アミノである。好ましい置換基の１つは、ヒドロキシである。他に好ましい置換基は低級アルコキシである。
【０００７】
炭素環式ラジカルＲ６又はＲ７は、特に単環式、二環式あるいは多環式シクロアルキル、シクロアルケニル、又はシクロアルカジエニルラジカル、あるいは対応するアリールラジカルである。好ましいラジカルは、１４個以下の、特には１０個以下の環炭素原子と、そして３〜８、好ましくは３〜７、とりわけ３及び６員環を有するラジカルであり、当該ラジカルは、１つあるいはそれ以上、例えば２つの非環式ラジカル、例えば上述のラジカル、及び特には低級アルキルラジカル、あるいは更なる炭素環式又は複素環式ラジカルを１つあるいは複数保有することが可能である。
【０００８】
シクロアルキルラジカルは、特には３個から最大１０個までのＣ原子、好ましくは３個から最大６個までのＣ原子を含み、それぞれが独立して、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、及びシクロオクチルのみならず、ビシクロ[２.２.２]オクチル、２−ビシクロ[２.２.１]ヘプチル及びアダマンチル（adamantyl）であり、これらはまた、１個、２個、あるいは複数の例えば低級アルキルラジカル、特にはメチルラジカルで置換され得る。好ましくはシクロアルキルが、シクロプロピル、シクロブチル、シロペンチル、シクロヘキシルである。シクロアルケニルは、例えば二重結合を１、２、又は３位に保有する、既述の単環式シクロアルキルラジカルの１個である。
【０００９】
アリールラジカルは、特にはフェニル、あるいは更には１−、２−ナフチルのようなナフチル、テトラヒドロナフチル、特に４−ビフェニルビフェニルのようなビフェニル、及びその上アントリル、フルオレニル、アズレニルのみならず、１つあるいはそれ以上の飽和環を有するそれらの芳香族類似物でもある。低級アルキルのような非環式ラジカルを保有するアリールラジカルは、特には様々な位置にメチルラジカルを持つｏ−、ｍ−、ｐ−トリル及びキシリルラジカルである。
【００１０】
特に明記しない限り、上記及び下記の炭素環式及び複素環式ラジカルは、特にはハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、アリールオキシ、低級アルコキシカルボニル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、ニトロ、イミダゾリル、モルフォリニル、ピロリル、ピロリジニル、ピラゾリル、ピリジニル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリル、ピペリジニル、ピペラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、カルボキシル、メチレンジオキシ、シアノ、あるいはハロゲンで置換された低級アルキルで１回あるいは１回以上、例えば２、３回置換され得る。
【００１１】
アリールラジカルＲ６あるいはＲ７は、好ましくはハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、フェノキシ、低級アルコキシカルボニル、トリフルオロメチル、イミダゾリル、モルフォリニル、ピロリル、ピロリジニル、ピラゾリル、ピリジニル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリル、ピペリジニル、ピペラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、あるいはハロゲンで置換された低級アルキルで置換される。より好ましくは、アリールラジカルＲ６、Ｒ７は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、フェノキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、トリフルオロメチル、イミダゾリル、あるいはモルフォリニルで置換される。
【００１２】
好ましくはシクロアルキルラジカルは、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、あるいは低級アルキルカルバモイルで置換される。より好ましいくはシクロアルキルラジカルＲ６又はＲ７は、ヒドロキシで置換される。
【００１３】
炭素環式−脂肪族ラジカルＲ６又はＲ７は、特にはメチル、エチル、プロピル、およびビニル基のような特には５個以下、好ましくは３個以下の炭素原子を有する脂肪族ラジカルが、上記で定義されるような芳香族であってもなくてもよいが１つあるいはそれ以上の炭素環式ラジカルを保有するラジカルである。その鎖の末端Ｃ原子上に環を保有する、シクロアルキル−低級アルキルとアリール−低級アルキルラジカル、そして環及び／あるいは鎖で不飽和であるそれらの類似体が特には記載される。
【００１４】
シクロアルキル−低級アルキル、又はシクロアルキル−低級アルケニルは、例えば、上述のシクロアルキルラジカルの１つで置換されるメチル、１−又は２−エチル、１−又は２−ビニル、１−、２−、又は３−プロピル、あるいはアリル基であり、その直鎖の末端部で置換されたものが好ましい。
【００１５】
更に好ましい炭素環式−脂肪族ラジカルＲ６又はＲ７は、ω−アリール低級アルキル、及びω,ω−ジアリール低級アルキルであり、その中でアリールは、フェニル、クロロフェニルおよびナフチルであるのが好ましく、そして低級アルキルは、メチル、エチル、あるいはプロピルであるのが好ましい。最も好ましい炭素環式−脂肪族ラジカルＲ６、又はＲ７は、ベンジル、３−フェニル−１−メチルプロピル、３,３−ジフェニルプロピル、クロロフェニルメチル、及びナフチルメチルである。
【００１６】
複素環式−脂肪族ラジカルを含む複素環式ラジカルは、特には芳香族性の単環式であるが、二環式あるいは多環式、アザ−、チア−、オキサ−、チアザ−、ジアザ−、トリアザ−、又はテトラアザラジカル、及びこの種の対応する部分的に、又は特には完全に飽和した複素環式ラジカルであり、そのようなラジカルは適切な場合には、例えば上述の炭素環式又はアリールラジカル、更には脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルを保有すること、及び／あるいは官能基で一置換、二置換あるいは多置換されることが可能である。これらのラジカルは、特には窒素、酸素又は硫黄原子を１つもつ単環式又は二環式ラジカル、及び特にはこの種の芳香族ラジカルであり、例えば２−ピリル又は３−ピリル、例えば２−、３−又は４−ピリジルであるピリジル、そして更には、例えば２−又は３−チエニルであるチエニル、あるいは例えば２−フリルであるフリルであり；窒素、酸素又は硫黄原子を１つもつ類似の二環式ラジカルは、例えば２−又は３−インドリルのようなインドリル、２−又は４−キノリルのようなキノリル、３−又は５−イソキノリルのようなイソキノリル、２−ベンゾフラニルのようなベンゾフラニル、３−クロメニルのようなクロメニル、あるいは２−又は３−ベンゾチエニルのようなベンゾチエニルである。１つ以上のヘテロ原子をもつ適切な単環式及び二環式ラジカルは、例えば２−イミダゾリルのようなイミダゾリル、２−又は４−ピリミジニルのようなピリミジニル、２−オキサゾリルのようなオキサゾリル、３−イソキサゾリルのようなイソキサゾリル、あるいは２−チアゾリルのようなチアゾリル、あるいは２−ベンズイミダゾリルのようなベンズイミダゾリル、２−ベンズオキサゾリルのようなベンズオキサゾリル、あるいは２−キナゾリニルのようなキナゾリニルである。また２−テトラヒドロフリル、４−テトラヒドロフリル、２−又は３−ピロリジル、２−、３−、又は４−ピペリジル、及びまた２−又は３−モルフォリニル、２−又は３−チオモルフォリニル、２−ピペラジニル、及びＮ,Ｎ'−ビス−低級アルキル−２−ピペラジニルラジカルのような対応する部分的に、あるいは特には完全に飽和した類似のラジカルは、適切なラジカルである。これらのラジカルはまた、１つあるいはそれ以上の脂肪族、炭素環式、あるいは複素環式ラジカル、特には上述のラジカルを保有することがまた可能である。複素環式−脂肪族ラジカルは、特には７個以下の、好ましくは４個以下の炭素原子を有する脂肪族ラジカル、例えば上述のラジカル、好ましくはメチル及びエチルから誘導され、１つ、２つ、あるいはそれ以上の複素環式ラジカル、例えば上述のラジカルを保有することが可能であり、その環は、また窒素原子の１つによりその鎖に結合されることが可能である。
【００１７】
１つのヘテロ原子をもつ好ましい単環式及び二環式複素環式ラジカルＲ６又はＲ７は、ピリジル、チエニルおよびキノリル、特には２−ピリジル、３−キノリル、および２−チエニルである。
【００１８】
低級脂肪族アシルＲ６又はＲ７は、非置換又は置換脂肪族アシルで、それぞれの場合について一置換あるいは多置換されることが可能である。概してこれらのラジカルは、その置換基を含めて７個以下、とりわけ４個以下のＣ原子を有する。好ましくは脂肪族アシルＲ６又はＲ７は、ホルミル、アセチル、プロピオニル、あるいはブタノイルである。一不飽和脂肪族アシルラジカルＲ６又はＲ７は、例えばアクリロイル、メタクリロイルあるいはクロチロイルであり得る。これらのラジカルはそれぞれの場合について１回、あるいは１回以上、例えば２、３回、特にはハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、カルボキシル、メチレンジオキシ、あるいはシアノで置換されることが可能である。
【００１９】
Ｒ６及びＲ７が一体となって置換、あるいは非置換のアルキレン又はアルケニレンラジカルであり、その中の１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄、あるいは窒素で置き換え可能である場合、概して当該アルキレン又はアルケニレンラジカルは、３から最大９個まで、好ましくは４から最大７個まで、そして最も好ましくは５から最大６個までのＣ原子を有し、それにより、０個あるいは１個のＣ原子が窒素又は酸素で置き換えられてもよく、そしてハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、あるいはラジカル−(ＣＨ２)ｙ−Ｒ１０（ここで、ｙは０〜３、好ましくは０〜２であり、そしてＲ１０は、水素又は、非置換又はハロゲン、ハロゲン低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、カルボキシル、メチレンジオキシもしくはシアノで置換されているフェニルである）で置換され得る。最も好ましくは、該アルキレンあるいはアルケニレンラジカルは、ラジカル−(ＣＨ２)ｙ−Ｒ１０で置換されていてもよく、その中でＲ１０は、好ましくは水素又は、非置換又はハロゲン、トリフルオロメチルもしくは低級アルコキシで置換されているフェニルである。
【００２０】
本発明で表わされる好ましい実施の形態においてＲ６及びＲ７は一体となって化学式II
【化１１】
2002537300.tif 000011
〔式中、ｗは０〜４、好ましくは１〜３、ｘは、０〜４、好ましくは１〜３、ｙは０〜３、好ましくは０〜２であり、そしてＲ１０は、水素又は、非置換又はハロゲン、ハロゲン低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、カルボキシル、メチレンジオキシもしくはシアノで置換されているフェニルである〕
のラジカルである。好ましくはＲ１０は、水素又は、非置換又はハロゲン、トリフルオロメチルもしくは低級アルコキシで置換されているフェニルである。
本発明で表わされる更に別の好ましい実施の形態においてＲ６及びＲ７は、一体となって５個のＣ原子を有する非置換アルキレンであり、それによって１つのＣ原子が酸素で置き換えられる。
【００２１】
もし、Ｒ１がＮ−(アリール低級アルキル)カルバモイルであるならば、アリールは、好ましくは非置換又はハロゲン、低級アルコキシ、低級アルキル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、カルボキシル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、メチレンジオキシもしくはシアノで置換されたフェニルである。最も好ましいフェニルは非置換又はハロゲン、低級アルコキシ、低級アルキルもしくはトリフルオロメチルで置換されている；当該脂肪族部分において低級アルキルは、好ましくはメチル、エチル、あるいはプロピルであり、よってメチルが最も好ましい。
【００２２】
脂肪族ラジカルＲ８は、非置換又は置換低級アルキル、あるいはそれぞれの場合について一飽和又は多飽和の低級アルケニル又は低級アルキニルラジカルである。概して、これらラジカルは、その置換基を含み１６個以下の、特には１２個以下の、とりわけ８個以下のＣ原子を有する。好ましくは、脂肪族ラジカルＲ８は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、あるいはｎ−ヘプチルである。最も好ましくは、該脂肪族ラジカルＲ８は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、あるいはtert−ブチルである。該アルケニルラジカルＲ８は、例えばアリル、プロペニル、イソプロペニル、２−又は３−メタリル、及び２−又は３−ブテニルである。アルキニルラジカルＲ８は例えば、プロパルギル、あるいはブチニルである。これらのラジカルはそれぞれの場合について１回、あるいは１回以上、例えば２、３回、特にはハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、カルボキシル、メチレンジオキシ、あるいはシアノで置換され得る。
【００２３】
炭素環式ラジカルＲ８は、特には単−、２−、あるいは多環式シクロアルキル、シクロアルケニル、又はシクロアルカジエニルラジカル、あるいは対応するアリールラジカルである。好ましいラジカルＲ８は、１０個以下の環の炭素原子、及び３から８、好ましくは５から７、とりわけ６員環を有するラジカルで、当該ラジカルは、１つあるいはそれ以上、例えば２つの非環式ラジカル、例えば上述のラジカル、及び特には低級アルキルラジカル、あるいはさらには炭素環式又は複素環式ラジカルを保有することが可能である。好ましくは炭素環式ラジカルＲ８は、非置換又はハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、フェノキシ、低級アルコキシカルボニル、トリフルオロメチル、イミダゾリル、モルフォリニル、ピロリル、ピロリジニル、ピラゾリル、ピリジニル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリル、ピペリジニル、ピペラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているアリールである。より好ましくはアリールラジカルＲ８は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、フェノキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、トリフルオロメチル、イミダゾリル、あるいはモルフォリニルで置換される。最も好ましくは当該ラジカルは、Ｃ１〜Ｃ４アルキル又はＣ１〜Ｃ４アルコキシで置換される。複素環式ラジカルＲ８は、Ｒ６あるいはＲ７について上記で定義したのと同じのものを示す。
【００２４】
アルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、ヘテロシクリルアルキニル、アリールアルキニル、ヘテロアリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシラジカルＲ９は、好ましくは２０個以下のＣ原子を有する非置換又は置換のラジカルである。概してこれらラジカルは、その置換基も含めて１２個以下の、特には８個以下の、とりわけ４個以下のＣ原子を有する。好ましくは、アルコキシラジカルＲ９の脂肪族部分は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、３−メチルブチル、ｎ−ペンチル、４−メチル−ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、５−メチル−ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、６−メチル−ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、７−メチル−ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、８−メチル−ｎ−ノニル、ｎ−デシル、９−メチル−ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、又はドデシルである。より好ましくは、該部分がメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、３−メチルブチル、ｎ−ヘプチル、又はｎ−オクチルであり、最も好ましいのは、該部分がメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、又はイソブチルである。アルケニルラジカルＲ９は、例えばアリル、プロペニル、イソプロペニル、２−又は３−メタリル、及び２−又は３−ブテニルである。アルキニルラジカルＲ９、あるいはアリールアルキニルラジカルＲ９のアルキニル部分は、例えばエチニル、１−プロパルギル、２−プロパルギル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、又は３,３−ジメチル−１−ブチニルである。対応する不飽和ラジカルにおいて、二重結合は特には自由結合手に対してα位よりも高い位置に配置される。これらのラジカルＲ９はそれぞれの場合について１回、あるいは１回以上、例えば２、３回、特にはハロゲン、ヒドロキシ、フェニル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、カルボキシル、メチレンジオキシ、トリ−低級アルキルシリル、又はシアノで置換され得る。好ましくはこれらのラジカルは、非置換又はトリ−低級アルキルシリルもしくはフェニルで置換されている。ヘテロシクリルアルキニルＲ９のヘテロシクリル部分は、窒素、硫黄、及び酸素からなる群から選択された１つあるいは２つのヘテロ原子を含み、置換されていないものもあれば置換されているものもある。好ましくは、ヘテロシクリル部分は、非置換又は例えばメチルあるいはエチルのような低級アルキルで置換されており、ピペリジニル、ピロリジニル、ピペラジニル、低級アルキルピペラジニル、モルフォリニル、およびチアモルフォリニルからなる群から選択される。最も好ましくは、当該部分がピペリジニル、又は低級アルキルピペラジニルである。ヘテロアリールアルキニルＲ９中においてヘテロアリール部分は、窒素、硫黄、及び酸素から成る群から選択された１つあるいは２つのヘテロ原子を含む。好ましくは当該ヘテロアリールアルキニルＲ９中のヘテロアリール部分は、ピリジル、ピリミジル、及びチエニルから成る群から選択され、そして好ましくは、非置換又は低級アルキルで置換されてい��。
【００２５】
Ｒ３は、それぞれの場合について７個以下のＣ原子を有する脂肪族ラジカル、すなわち非置換又は置換のＣ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルケニルあるいはＣ２〜Ｃ７アルキニルラジカルであり、それらは置換されていないのが好ましい。概して、これらのラジカルは、４個以下の、特には２個あるいは３個のＣ原子を有する。好ましくは、当該脂肪族ラジカルが、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、又はtert−ブチルである。より好ましくは該ラジカルが、メチル、エチル、ｎ−プロピル、又はイソプロピルである。Ｃ２〜Ｃ７アルケニルラジカルＲ３は、例えばアリル、プロペニル、イソプロペニル、２−又は３−メタリル、及び２−又は３−ブテニルである。Ｃ２〜Ｃ７アルキニルラジカルＲ３は、例えばエチニル、１−プロパルギル、２−プロパルギル、１−ブチニル、２−ブチニル、又は３−ブチニルである。
【００２６】
１〜３０個のＣ原子を有するアシルＲ４又はＲ５は、無修飾の又は機能的に修飾されたカルボン酸から誘導され、特には部分式Ｚ−Ｃ(＝Ｗ)−の１つであり、該化学式においてＷが酸素、硫黄、又はイミノであり、そしてＺが水素、２９個以下のＣ原子を有するヒドロカルビルＲ０、ヒドロカルビルオキシＲ０−Ｏ−、又はアミノ基、特には化学式Ｒ１１(Ｒ１２)Ｎ−の１つである。
【００２７】
ヒドロカルビル（炭化水素ラジカル）Ｒ０は、２９個以下、特には１８個以下、好ましくは１２個以下のＣ原子を有する非環式（脂肪族）、炭素環式、又は炭素環式−非環式炭化水素ラジカルであり、飽和しているものもあれば、飽和されていないものもあり、置換されていないものもあれば置換されているものもある。１個、２個、あるいはそれ以上の炭素原子の代わりに、非環式及び／あるいは環式部分において酸素、硫黄、及び窒素のような同一のあるいは異なるヘテロ原子をまた包含することも可能であり；後者の場合においては、複素環式ラジカル（ヘテロシクリルラジカル）又は複素環式−非環式ラジカルと呼ばれる。
【００２８】
非環式の非置換炭化水素ラジカルＲ０は、特には直鎖の、あるいは枝分かれした低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカジエニル、又は低級アルキニルラジカルである。低級アルキルは、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、又はtert−ブチル、そして更にはまた、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、及びｎ−ヘプチルである。低級アルケニルは、例えばアリル、プロペニル、イソプロペニル、２−又は３−メタリル、及び２−又は３−ブテニルである。低級アルカジエニルは、例えば１−ペンタ−２,４−ジエニルであり；低級アルキニルは、例えばプロパルギル、ブチニルである。対応する不飽和ラジカルにおいて、二重結合は、特には自由結合手に対してα位よりも高い位置に配置される。
【００２９】
炭素環式炭化水素ラジカルＲ０は、特には単−、二−、又は多環式シクロアルキル、シクロアルケニル、又はシクロアルカジエニルラジカル、あるいは対応するアリールラジカルである。好ましいラジカルは１４個以下の、特には１２個以下の環の炭素原子、及び３〜８、好ましくは５〜７、とりわけ６員環を有するラジカルであり、そして該ラジカルは、１つあるいはそれ以上、例えば２つの非環式ラジカル、例えば上述のラジカル、及び特には低級アルキルラジカル、あるいは更に炭素環式ラジカルを保有可能である。炭素環式−非環式ラジカルは、特には７個以下の、好ましくは４個以下の炭素原子を有する非環式ラジカル、特にはメチル、エチル、及びビニルが、１つあるいはそれ以上の炭素環式ラジカルを保有しているラジカルであり、当該炭素環式ラジカルは、上記で定義されるような芳香性があってもなくてもよい。当該鎖の末端Ｃ原子上に環を保有するシクロアルキル−低級アルキル及びアリール−低級アルキルラジカル、及び当該環及び／あるいは鎖で不飽和である該ラジカル類似物が、特に記載される。
【００３０】
アリールラジカルＲ０は、特にはフェニル、あるいは更には１−又は２−ナフチルのようなナフチル、特には４−ビフェニリルのようなビフェニリル、そして更にはまたアントリル、フルオレニル、及びアズレニルのみならず、１つまたは複数の飽和環を有するそれらの芳香族性の類似物である。好ましいアリール−低級アルキル及びアリール−低級アルケニルラジカルＲ０は、例えば末端フェニルラジカルを持つフェニル−低級アルキル又はフェニル−低級アルケニル、例えばベンジル、フェネチル、１−、２−、又は３−フェニルプロピル、ジフェニルメチル（ベンズヒドリル）、トリチル、及びシンナミル、そして更にはまた１−又は２−ナフチルメチルである。低級アルキルのような非環式ラジカルを保有するアリールラジカルＲ０は、特には様々な位置にメチルラジカルを持つｏ−、ｍ−、及びｐ−トリル及びキシリルラジカルである。
【００３１】
既述のように、ヒドロカルビル（ヘテロシクリルを含む）は、１つ、２つ、あるいはそれ以上の同一又は異なる置換基（官能基）で置換されることが可能であり；以下に示す置換基が特に適切である：遊離型、エーテル化、及びエステル化ヒドロキシル基；メルカプト、低級アルキルチオ、及び非置換あるいは置換フェニルチオ基；塩素及びフッ素のみならず、臭素及びヨウ素のようなハロゲン原子；ホルミル（すなわちアルデヒド）及びケト基の形態にあるオキソ基と、そしてまた対応するアセタールあるいはケタール；アジド及びニトロ基；１級、２級及び好ましくは３級アミノ基、従来の保護基により保護されている１級あるいは２級アミノ基、アシルアミノ基およびジアシルアミノ基、および非修飾型の、又はスルファモイル基もしくは塩の形態で存在するスルホ基のような官能的に修飾されたスルホ基である。これらの官能基のすべては、自由結合手となるＣ原子上には存在すべきでなく、それらは、好ましくは２つあるいはさらにそれ以上のＣ原子によってこのＣ原子から分離される。当該ヒドロカルビルラジカルは、遊離型のカルボキシル基、ならびに塩の形態で存在するカルボキシル基、あるいはエステル化カルボキシル基、カルバモイル、ウレイドあるいは１つ又は２つの炭化水素ラジカルを保有してもしなくてもよいグアニジノ基、及びシアノ基のような官能的に修飾されたカルボキシル基をまた保有することが可能である。
【００３２】
ヒドロカルビル中の置換基として存在するエーテル化ヒドロキシル基は、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、及びtert−ブトキシ基のような低級アルコキシ基であり、それらはまた、置換されることが可能である。それ故そのような低級アルコキシ基は、ハロゲン原子で例えば１回、２回、あるいは数回、２,２,２−トリクロロエトキシ−、２−クロロエトキシまたは２−ヨードエトキシラジカルにおけるとおり、特に２位で、または、ヒドロキシルもしくは低級アルコキシラジカルで、いずれの場合も好ましくは１回、特には２−メトキシエトキシラジカルにおけるとおり、２位で置換されることが可能である。エーテル化ヒドロキシル基で表わされる特に好ましい実施の形態は、アルキル、好ましくは直鎖アルキル中の１つあるいはそれ以上のＣ原子が、酸素原子によって置き換えられるオキサアルキルラジカル中に存在し、それらは好ましくは１つ以上の（特には２つの）Ｃ原子によって相互に分離され、その結果（−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２)ｎ−なる基を形成し、それが１回以上繰り返されても繰り返されなくてよく、ｎは１〜１４である。そのようなエーテル化ヒドロキシル基は、更にはまた、置換又は非置換のフェノキシラジカル、及び特にはベンジルオキシ、ベンズヒドロキシ、トリフェニルメトキシ（トリチルオキシ）のようなフェニル低級アルコキシラジカルのみならず、特には２−テトラヒドロピラニルオキシのようなヘテロシクリルオキシラジカルである。特定のエーテル化ヒドロキシル基は、メチレンジオキシ、あるいはエチレンジオキシ群であり、前者は概して、特にはアリールラジカル中の２つの隣接するＣ原子を架橋し、後者は１つの同じＣ原子に結合し、オキソに対する保護基とみなされる。
【００３３】
これに関連してエーテル化ヒドロキシル基はまた、例えばトリメチルシリルオキシやジメチル−tert−ブチルシリルオキシのようなトリ−低級アルキルシリルオキシ、又はフェニル−ジ−低級アルキルシリルオキシや低級アルキルジフェニルシリルオキシ中に存在しているようなシリル化ヒドロキシル基を意味していることとして理解されるはずである。
【００３４】
ヒドロカルビル中の置換基として存在するエステル化ヒドロキシル基は、例えば低級アルカノイルオキシである。
ヒドロカルビル中の置換基として存在するエステル化カルボキシル基は、その水素原子が上述で特徴づけられた炭化水素ラジカルの１つ、好ましくは低級アルキル又はフェニル−低級アルキルラジカルで置き換えられるものであり；エステル化カルボキシル基の例としては、例えば低級アルコキシカルボニル、又はそのフェニル部分において置換されていないもしくは特にはメトキシ−、エトキシ−、tert−ブトキシ−、及びベンジルオキシカルボニル基、そしてまたラクトン化カルボキシル基で置換されたフェニル−低級アルコキシカルボニルである。
【００３５】
ヒドロカルビルの置換基としての一級アミノ基−ＮＨ２は、保護された形で存在し得る。二級アミノ基は、２つの水素原子のうちの１つの代わりに、ヒドロカルビルラジカル、好ましくは上述のうちの１つのような非置換ラジカル、特には低級アルキルを保有し、保護された形でも存在し得る。
【００３６】
ヒドロカルビル中の置換基として発生する３級アミノ基は、２つの異なるあるいは好ましくは同一の、上述で特徴づけられた非置換ヒドロカルビルラジカルのようなヒドロカルビルラジカル（複素環式ラジカルを含む）、特には低級アルキルを保有する。
【００３７】
化学式Ｒ１１(Ｒ１２)Ｎ−で表わされる基において、Ｒ１１及びＲ１２は、相互に独立してそれぞれ、水素、低級アルキルスルホニル、非置換又は、例えばアミノ、グアニジノ、フェニル、ヒドロキシフェニル、カルボキシル、カルバモイル、イミダゾリル、メルカプト又はメチルチオで置換されている非環式Ｃ１〜Ｃ７ヒドロカルビル（特にはＣ１〜Ｃ４アルキルあるいはＣ２〜Ｃ４アルケニル）、あるいは１０個以下のＣ原子を有し、非置換又はＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、ハロゲン、及び／あるいはニトロで置換されている単環式アリール、アラルキル又はアラルケニルであり、炭素含有ラジカルＲ１１及びＲ１２は、炭素−炭素結合、あるいは非置換又はヒドロカルビルで置換された酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で相互に結合されることが可能である。そのような場合においてアミノ基の窒素原子と一体となって該ラジカルは、窒素含有複素環を形成する。化学式Ｒ１１(Ｒ１２)Ｎ−で表わされる特に好ましい基の例は以下に示すとおりである：アミノ、メチルアミノのような低級アルキルアミノ、あるいは２−アミノ−エチルアミノ又は３−アミノ−プロピルアミノのようなω−アミノ−低級アルキルアミノ；ジメチルアミノ又はジエチルアミノのようなジ−低級アルキルアミノ；ピロリジノ、２−ヒドロキシメチル−ピロリジノ、ピペリジノ、４−(２−アミノ−エチル)−ピペリジノ、モルフォリノ、又はチオモルフォリノ；ピペラジノ、４−メチル−ピペラジノ、４−(２−アミノ−エチル)−ピペラジノ、あるいは非置換、又は特にそのフェニル部分において、例えば低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、及び／あるいはニトロで置換された、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、又はジベンジルアミノ；及びその保護された基の中で、特にはtert−ブトキシカルボニルアミノのような低級アルコキシカルボニルアミノ、４−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノのようなフェニル−低級アルコキシカルボニルアミノ、及び９−フルオレニル−メトキシカルボニルアミノである。Ｚが化学式Ｒ１１(Ｒ１２)Ｎ−で表わされる基である、化学式Ｚ−Ｃ(＝Ｗ)−で表わされる好ましい基は、カルバモイル、Ｎ−メチル−カルバモイル、Ｎ−(ω−アミノ−低級アルキル)−カルバモイル、Ｎ−(α−アミノ−アシル)−カルバモイル、Ｎ−フェニル−カルバモイル、Ｎ−メチルスルホニル−カルバモイル、及び対応する、Ｗが酸素ではなく硫黄又はイミノ、例えばアミジノ、Ｎ−メチル−アミジノ[ＣＨ３−ＮＨ−Ｃ(＝ＮＨ)−]、Ｎ−メチル−チオカルバモイル[ＣＨ３−ＮＨ−Ｃ(＝Ｓ)−]、又はＮ−(ω−アミノ−低級アルキル)−チオカルバモイルであるラジカルである。例えばＲ４が水素であり、Ｒ５がアミジノである化学式−Ｎ(Ｒ４)Ｒ５のラジカルは、グアニジノ[Ｈ２Ｎ−Ｃ(＝ＮＨ)−ＮＨ−]である。
【００３８】
本発明による化学式Ｉで表わされる好ましい化合物は、例えばヒドロカルビルＲ０が、非環式ヒドロカルビルで表わされる以下に示す好ましいものを示す化合物である：Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０ヒドロキシアルキル（そのヒドロキシル基は１位以外の任意の位置、好ましくは２位にある）、シアノ−[Ｃ１〜Ｃ２０]−アルキル（そのシアノ基は好ましくは１又はω位にある）、あるいはカルボキシ−[Ｃ１〜Ｃ２０]−アルキル（そのカルボキシル基は好ましくは１又はω位にあり、遊離型の形態又は塩の形態、あるいはＣ１〜Ｃ４アルキルエステル（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル）又はベンジルエステル（ベンジルオキシルカルボニル）として存在することが可能である）、及びその自由結合手が二重結合と同じＣ原子上にはないＣ３〜Ｃ２０アルケニルであり、Ｃ３〜Ｃ５アルキル基本構造を有するものを除いて、記載のラジカルは直鎖（枝分かれしていない）アルキル鎖を包含している；そして更にはまた直鎖Ｃ４〜Ｃ２０アルキルのＣ−３以降の１つあるいはそれ以上のＣ原子が、酸素原子で置き換えられ、これらは少なくとも２個のＣ原子で相互に分離され、好ましくは３、６、９、１２、１５、及び１８位にある４〜２０個の鎖構成要素を有する直鎖（モノ−、ジ−からヘキサまでの）オキソアルキルである。
【００３９】
本発明による化学式Ｉで表わされる好ましい化合物はまた、ヒドロカルビルＲ０が、炭素環式あるいは複素環式、及びまた炭素環式−非環式あるいは複素環式−非環式ヒドロカルビルで表わされる以下に示す好ましいものを示す化合物である：二環式又は好ましくは単環式アリール、特にはフェニル、そして更にはナフチルであり、以下に示す置換基の１つあるいはそれ以上を保有することが可能である：ハロゲン原子、特にはフッ素、塩素、及び臭素、Ｃ１〜Ｃ４アルキルラジカル、特にはメチル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、特にはメトキシ、メチレンジオキシ、ニトロ基及び／あるいはカルボキシル基（これは遊離型である、あるいは塩の形体又はＣ１〜Ｃ４アルキルエステル、特にはメトキシカルボニル又はエトキシカルボニルとして存在することが可能である）。好ましくは、該アリールラジカルは、２個以下の置換基、特には同種の置換基、あるいは置換基を１つだけ保有し；特には、それらは置換されていない。好ましい複素環式ヒドロカルビル（ヘテロシクリル）は、例えば好ましい上述のアリールラジカルに類似し、そして１つあるいは２つのＣ原子の代わりにそれぞれの場合についてヘテロ原子、特にはピリジル、キノリル、キナゾリルのような窒素を包含するものであり、ここでは、自由結合手はＣ原子上に位置し、そしてそれに応じてまた置換されることが可能である。好ましい炭素環式−非環式及び複素環式−非環式ヒドロカルビルラジカルは、上述で定義された環状ラジカル、好ましくは非置換ラジカルの２つあるいは３つ、しかし好ましくは１つだけが、Ｃ１〜Ｃ３アルキルにより保有されるラジカルであり、すべて好ましくは１つのＣ原子上、好ましくは末端Ｃ原子に位置されるものであり；非置換ベンジルが最も好ましい。
【００４０】
特には、化学式Ｉで表わされる好ましい化合物は、Ｒ０がＣ１〜Ｃ７アルキル、特にはＣ１〜Ｃ４アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２〜Ｃ１８アルキル、特にはヒドロキシ−Ｃ２〜Ｃ１４アルキル、シアノ−Ｃ１〜Ｃ７アルキル、特にはシアノ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、カルボキシ−Ｃ１〜Ｃ７アルキル、特にはカルボキシ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ−カルボニル−Ｃ１〜Ｃ７アルキル、特にはＣ１〜Ｃ４アルコキシ−カルボニル−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、ベンジルオキシカルボニル−Ｃ１〜Ｃ７アルキル、特にはベンジルオキシカルボニル−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、フェニル、ナフチル、ピリジル、キノリル、又はキナゾリル、あるいはフェニル−Ｃ１〜Ｃ７アルキル、特にはフェニル−Ｃ１〜Ｃ３アルキルであり、特定の芳香族ラジカルはまた更にＣ１〜Ｃ７アルキル、特にはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、特にはＣ１〜Ｃ４アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、トリフルオロメチル、あるいは更にはカルボキシル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ−カルボニル、メチレンジオキシ、及び／あるいはシアノで置換されることが可能であり、対応して置換されたアルキルラジカル中のヒドロキシル基は、特には２位に配置され、対応して置換されたアルキルラジカル中のシアノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、ベンジルオキシ−カルボニル、又はフェニル基は、特には１位、又はω位に位置される。
【００４１】
化学式Ｉで表わされる特に好ましい化合物は、Ｒ０がメチル、エチルのようなＣ１〜Ｃ４アルキル、２−ヒドロキシ−プロピル、−ヘキシル、−デシル、又は−テトラ−デシルのようなヒドロキシ−Ｃ２〜Ｃ１４アルキル、２−シアノ−エチルのようなシアノ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、カルボキシメチルのようなカルボキシ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、メトキシキカルボニル−メチル又は−エチルのようなＣ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、アリルのようなＣ３〜Ｃ７アルケニル、フェニルであり、対応して置換されたアルキル中のヒドロキシル基は好ましくは２位に位置され、及びシアノ、カルボキシル、又はアルコキシカルボニル基は特に１位、又はω位に位置される化合物である。
【００４２】
脂肪族炭化水素ラジカルＲ４又はＲ５で表わされる上述のアミノアシル−アミノ置換基の一部分としてのアミノアシルは、特にはα−アミノ酸、例えば自然に存在するα−アミノ酸の１つ、特には規則的にタンパク質中に発生する２０の必須α−アミノ酸の１つで、すなわちグリシン、アラニン、フェニルアラニン、プロリン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、スレオニン、システイン、メチオニン、チロシン、トリプトファン、アルギニン、ヒスチジン、リジン、グルタミン酸、グルタミン、アスパラギン酸、及びアスパラギン、そして付加的にフェニルグリシンの１つであるようなアミノ酸のＣ−末端ラジカルである。アミノアシルは、好ましくは、非置換又はアミノ、フェニル、ヒドロキシフェニル、ヒドロキシル、メルカプト、メチルチオ、インドール−３−イル、カルバモイル、カルボキシル、グアニジノ、又はイミダゾリルで置換されているアミノ-低級アルカノイルである。
【００４３】
環状の置換基をもたない好ましい置換脂肪族炭化水素ラジカルＲ４又はＲ５は、例えば２−カルバモイル−１−カルボキシ−エチ−１−イル、３−アミノ−２−ヒドロキシ−プロプ−１−イル、３−アミノ−プロプ−１−イル、３−アミノ−２,２−ジメチル−プロプ−１−イル、３−アミノ−２−オキソ−プロプ−１−イル、３−アミノ−１−カルボキシ−プロプ−１−イル、３−アミノ−３−カルボキシ−プロプ−１−イル、１,１−ジカルバモイル−メチル、２−カルバモイル−エチ−１−イル、３−アミノ−１,３−ジヒドロキシルイミノプロプ−１−イル、２−カルバモイル−１−ヒドロキシルイミノ−エチ−１−イル、１−ヒドロキシルイミノ−２−チオカルバモイル−エチ−１−イル、３−アミノ−３−ヒドロキシルイミノ−１−チオ−プロプ−１−イル、３−アミノ−ペンタ−１−イル、１−アミノ−ペンタ−３−イル、１−アミジノ−１−カルバモイル−メチル、４−アミノ−１,１,１,３,５,５,５−へプタフルオロ−ペンタ−２−イル、３−アミノ−１,３−ジカルボキシ−プロプ−１−イル、２−カルバモイル−１−エトキシカルボニル−エチ−１−イル、２−アミノ−１,２−ジチオ−エチ−１−イル、２−アミノ−１,２−ジオキソ−エチ−１−イル、２−アミノ−２−メチル−プロプ−１−イル、１−アミノ−２−メチル−プロプ−２−イル、２−アミノ−プロプ−１−イル、１−アミノ−プロプ−２−イル、２−アミノ−エチ−１−イル、２−アミノ−２−カルボキシ−エチ−１−イル、２−アミノ−１−カルボキシ−エチ−１−イル、カルバモイル−メチル、１−カルバモイル−３−メチル−ブタ−１−イル、２−アミノ−１,２−ジカルボキシ−エチ−１−イル、１−カルバモイル−３−メチルチオ−プロプ−１−イル、１−カルバモイル−２−メチル−プロプ−１−イル、１−カルバモイル−エチ−１−イル、１−カルバモイル−１−シアノ−メチル、１−カルバモイル−３−カルボキシ−３−フルオロ−プロプ−１−イル、１−カルバモイル−２−カルボキシ−エチ−１−イル、２−アミノ−４−カルボキシ−ブタ−１−イル、１−アミノ−４−カルボキシ−ブタ−２−イル、１−カルバモイル−４−グアニジノ−ブタ−１−イル、１−カルバモイル−５−アミノ−ペンタ−１−イル、１−カルバモイル−２−ヒドロキシ−プロプ−１−イル、１−カルバモイル−２−メチル−ブタ−１−イル、１−カルバモイル−２−ヒドロキシ−エチ−１−イル、１,３−ジカルバモイル−プロプ−１−イル、２−アミノ−ブタ−１−イル、１−アミノ−ブタ−２−イル、１−カルバモイル−ペンタ−１−イル、１−カルバモイル−ブタ−１−イル、２−ヒドロキシ−エチル、３−ヒドロキシ−プロプ−１−イル、２−ヒドロキシ−プロプ−１−イル、２−ヒドロキシメチル−プロプ−２−イル、１−ヒドロキシ−ブタ−２−イル、１,３−ジヒドロキシ−プロプ−２−イル、２−シアノ−エチル、２−メルカプト−エチル、３−アミノ−２−ヒドロキシ−プロプ−１−イル、２−(Ｎ−メチル−アミノ)−エチル、２−(２−アミノ−エチル−アミノ)−エチル、２−グアニジノ−エチル、及び２−アセチルアミノ−エチルである。
【００４４】
炭素環式−脂肪族ラジカルＲ４又はＲ５は、その炭素環部分と脂肪族部分においての両方で置換されることが可能であり、例えば環状脂肪族−脂肪族ラジカル、例えば、シクロアルキル−低級アルキル又はシクロアルキル−低級アルケニル、例えば上述の又は以下に記述されたシクロアルキルラジカルの１つによって置換されたメチル、１−又は２−エチル、１−又は２−ビニル、１−、２−、又は３−プロピル、あるいはアリル、好ましくはその直鎖の末端部が置換されたもの、あるいは芳香族−脂肪族ラジカルである。好ましい炭素環式−脂肪族ラジカルＲ４又はＲ５は、例えばベンジル、２−フェニル−エチル、２−アミノ−ベンジル、３−アミノメチル−ベンジル、（１−ヒドロキシ−シクロヘキシ−１−イル)−メチル、(２−アミノ−３,５,５−トリメチル−シクロペンチル)−メチル、１−[Ｎ−(１−カルボキシ−２−フェニル−エチル)−カルバモイル]−２−カルバモイル−エチ−１−イル、１−カルバモイル−１−フェニル−メチル、１−カルバモイル−２−(４−ヒドロキシ−フェニル)−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−フェニル−エチ−１−イル、２−アミノ−１,２−ジフェニル−エチ−１−イル、２−ベンジルオキシカルボニル−１−カルバモイル−エチ−１−イル、３−ベンジルオキシカルボニル−１−カルバモイル−プロプ−１−イル、１−アダマンチル−２−アミノ−プロプ−１−イル、及び１−アダマンチル−１−アミノ−プロプ−２−イルである。
【００４５】
複素環式−脂肪族ラジカルＲ４又はＲ５は、複素環部分と脂肪族部分においての両方で置換されることが可能である。好ましい複素環式−脂肪族ラジカルＲ４又はＲ５は、例えば（２−フリル)−メチル、(２−テトラヒドロフリル)−メチル、２−ピリジ−２−イル−エチル、２−ピペリジノ−エチル、２−(モルフォリン−４−イル)−エチル、２−(３−インドリル)−エチル、２−(４−イミダゾリル)−エチル、１−カルバモイル−２−(β−インドリル)−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−イミダゾール−４−イル−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−インドール−３−イル−エチ−１−イル、３−アミノメチル−オキセタン−３−イル−メチル、及び１−(アセトキシ−イミノ)−１−(４−アミノ−２−オキサ−１,３−ジアゾ−ル−５−イル)−メチルである。
【００４６】
２９個以下のＣ原子を有する炭素環式ラジカルＲ４又はＲ５は、そのような非置換又は置換炭化水素ラジカル、すなわちそのような環状脂肪族ラジカル又は芳香族ラジカルである。炭素環式炭化水素ラジカルは、特には、単環式、二環式、又は多環式シクロアルキル、シクロアルケニル、又はシクロアルカジエニルラジカル、あるいは対応するアリールラジカルである。１４個以下特には１２個以下の環の炭素原子及び、３〜８、好ましくは５〜７、特には６員環を有するラジカルが好ましく、当該ラジカルは、１つ又はそれ以上の、例えば２つの非環式ラジカル、例えば上述のラジカル、及び特には低級アルキルラジカル又は更なる炭素環式ラジカルを保有可能である。
【００４７】
ラジカルＲ４又はＲ５で示されるシクロアルキルは、特には３個、最大１０個までのＣ原子を含有し、１、２、あるいはそれ以上の、例えば低級のアルキルラジカル、特にはメチルラジカルによって置換されることがまた可能である、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへプチル、及びシクロオクチルのみならず、ビシクロ[２.２.２]オクチル、２−ビシクロ[２.２.１]ヘプチル、及びアダマンチルであり；シクロアルケニルは、例えば二重結合を１、２、又は３位に保有する既述の単環式シクロアルキルラジカルの１つである。好ましくは、カルボキシ、チオカルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドラジノカルボニル、ヒドロキサミノカルボニル、アミジノ、スルファモイル、スルファニル、ハロゲン、シアノ、ホルミル、アミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級脂肪族アシル、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されるＣ４〜Ｃ８シクロアルキルであり；これらの場合で最も好ましいのは、シクロアルキルがシクロペンチル又はシクロヘキシルである。
【００４８】
ラジカルＲ４又はＲ５で示されるアリールラジカルは、特にはフェニルであり、更には１−、又は２−ナフチルのようなナフチル、特には４−ビフェニリルのようなビフェニリルであり、また更にはアントリル、フルオレニル、アズレニルラジカル、そして１つあるいはそれ以上の飽和環を有するそれらの芳香族類似物である。好ましいアリール−低級アルキル、及びアリール−低級アルケニルラジカルは、例えば、ベンジル、フェネチル、１−、２−、又は３−フェニル−プロピル、ジフェニルメチル(ベンズヒドリル)、トリチル及び、シンナミルのような末端部フェニルラジカルを有する、フェニル−低級アルキルあるいはフェニル−低級アルケニル、更にはまた１−又は２−ナフチルメチルである。低級アルキルのような非環式ラジカルを保有するアリールラジカルは、特には様々な位置にメチルラジカルを持つｏ−、ｍ−、及びｐ−トリル及びキシリルラジカルである。
【００４９】
炭素環式ラジカルＲ４又はＲ５は、例えば２−アミノ−フェニル、３−アミノ−フェニル、及び４−アミノ−フェニルのようなアミノ−フェニル、シクロヘキシル、４−メチル−シクロヘキシル、２−アミノ−シクロヘキシ−１−イル、３−アミノ−シクロヘキシ−１−イル、及び４−アミノ−シクロヘキシ−１−イルのようなアミノ−シクロヘキシル、例えば２−ヒドロキシ−シクロヘキシル、３−ヒドロキシ−シクロヘキシル、及び４−ヒドロキシ−シクロヘキシルであるヒドロキシ−シクロヘキシル、１−(ヒドロキシメチル)−シクロペンタ−１−イル、２−アミノメチル−３,３,５−トリメチル−シクロペンタ−１−イル、アダマンタ−１−イル、３−アミノ−アダマンタン−１−イル、２−カルバモイル−ビシクロ[２.２.１]ヘプト−５−エン−３−イル、２−カルバモイル−シクロヘキシ−１−イル、３−カルバモイル−シクロヘキシ−１−イル、４−カルバモイル−シクロヘキシ−１−イル、及び９−アミノ−スピロ[４,４]ノニ−１−イルである。
【００５０】
２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式ラジカルＲ４又はＲ５は、好ましくは、当該ラジカルの環炭素原子の１つを介して結合され、そして特には、芳香性を持つ単環式のみならず、二−又は多環式、アザ−、チア−、オキサ−、チアザ−、オキサザ−、ジアザ−、トリアザ−、あるいはテトラアザ環式ラジカル、及び対応する部分的に、あるいは特には完全に飽和したこの種の複素環式ラジカルであり、適切な場合には例えば上述の単環式又はアリールラジカルと同様、更に非環式、炭素環式、又は複素環式ラジカルを保有すること、及び／あるいは官能基によって一、二、あるいは多置換されることが可能である。特には、該ラジカルは、２−アジリジニルのような窒素、酸素又は硫黄原子を１つ有する非置換又は置換単環式ラジカルであり、そして例えば２−ピリル又は３−ピリルであるピリル、例えば２−、３−、又は４−ピリジルであるピリジル、そして更には、例えば２−又は３−チエニルであるチエニル、あるいは例えば２−フリルであるフリルであり；窒素、酸素、あるいは硫黄原子を１つ持つ類似の二環式ラジカルは、例えば２−又は３−インドリルのようなインドリル、２−又は４−キノリルのようなキノリル、３−又は５−イソキノリルのようなイソキノリル、２−ベンゾフラニルのようなベンゾフラニル、３−クロメチルのようなクロメチル、あるいは２−又は３−ベンゾチエニルのようなベンゾチエニルであり；１つ以上のヘテロ原子を持つ単環式及び二環式ラジカルは、例えば、２−イミダゾリルのようなイミダゾリル、２−又は４−ピリミジニルのようなピリミジニル、２−オキサゾリルのようなオキサゾリル、３−イソキサゾリルのようなイソキサゾリル、２−チアゾリルのようなチアゾリル、あるいは２−ベンズイミダゾリルのようなベンズイミダゾリル、２−ベンゾキサゾリルのようなベンゾキサゾリル、あるいは２−キナゾリニルのようなキナゾリニルである。また、２−テトラヒドロフリル、４−テトラヒドロフリル、２−又は３−ピロリジル、２−、３−、又は４−ピペリジル、更には２−又は３−モルフォリニル、２−又は３−チオモルフォリニル、２−ピペラジニル、及びＮ,Ｎ'−ビス−低級アルキル−２−ピペラジニルラジカルのような対応する部分的に、あるいは特には完全に飽和された類似のラジカルが適切である。これらラジカルはまた、１つあるいはそれ以上の非環式、炭素環式、又は複素環式、特には上述のラジカルをまた保有することが可能である。
【００５１】
複素環式ラジカルＲ４あるいはＲ５は、１つ、２つ、あるいはそれ以上の同一あるいは異なる置換基（官能基）で置換されることが可能であり：以下に示す置換基が特に適切である：遊離型、エーテル化及びエステル化ヒドロキシル基；メルカプト及び低級アルキルチオ並びに置換及び非置換フェニルチオ基；塩素、フッ素のみならず臭素、ヨウ素のようなハロゲン原子；ホルミル（すなわちアルデヒド）及びケト基の形態にあるオキソ基、及びまた対応するアセタールあるいはケタール；アジド及びニトロ基；１級、２級、及び好ましくは３級アミノ基、従来の保護基で保護されている１級、及び２級アミノ基、アシルアミノ及びジアシルアミノ基、そして非修飾型の、又はスルファモイル基もしくは塩の形態で存在するスルホ基のような官能的に修飾されたスルホ基。これらの官能基のすべては、自由結合手となるＣ原子上に存在すべきでなく、そして該ラジカルは２つあるいは更にそれ以上のＣ原子によりＣ原子から分離される。該複素環式ラジカルは、遊離型のカルボキシル基、ならびに塩の形態で存在するカルボキシル基もしくはエステル化されたカルボキシル基、カルバモイル、ウレイド、あるいは１つ又は２つの炭化水素ラジカルを保有してもしなくてもよいグアニジド基のような官能的に修飾されたカルボキシル基をまた保有可能である。
【００５２】
好ましい複素環式ラジカルＲ４あるいはＲ５は、例えば５−アミノ−２−オキサ−１,３−ジアゾ−ル−４−イル、４−アミノ−チエン−３−イル、３−カルバモイル−５−(３−[２,４−ジクロロ−フェニル]−１−オキソ−プロプ−２−エン−１−イル)−１,２−チアゾール−４−イル、３−カルバモイル−５−(３−[４−トリフルオロ−フェニル]−１−オキソ−プロプ−２−エン−１−イル)−１,２−チアゾ−ル−４−イル、４−アミノ−２−(４−カルボキシ−ブチル)−テトラヒドロチオフェン−３−イル、３−アミノ−２−(４−カルボキシ−ブチル)−テトラヒドロチオフェン−４−イル、[１,２,５]オキサイジアゾロ[３,４−ｂ](６−アミノ−ピラジン−５−イル、２,５'−ジアセチル−３−アミノ−チエノ[２,３−ｂ]チオフェン−４'−イル、及び３−アミノ−２,５'−ジピバロイル−チエノ[２,３−ｂ]チオフェン−４'−イルである。
【００５３】
Ｒ４及びＲ５が一体となることにより示される、それぞれの場合について１５個以下のＣ原子を有し、そのうちの１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄又は硫酸によって置き換え可能な置換又は非置換アルキレンラジカル又はアルケニレンラジカルは、分岐している又は分岐していなくて、そして好ましくは、置換基にあるＣ原子を含まないで１０個以下のＣ原子を有する。置換基は、例えば置換脂肪族炭化水素ラジカルＲ５について上述されたラジカルである。該置換基はＣ原子上、酸素、硫黄、あるいは特には窒素上にあり得る。好ましいラジカルは、例えば１,２−エチレン、プロパン−１,３−ジイル、ブタン−１,４−ジイル、ペンタン−１,５−ジイル、３−(３−アミノ−プロピオニル)−３−アザ−ペンタン−１,５−ジイル、２−アミノ−ブタン−１,４−ジイル、１−アミノメチル−ブタン−１,４−ジイル、１−ヒドロキシメチル−ブタン−１,４−ジイル、３−ヒドロキシペンタン−１,５−ジイル、１−ヒドロキシ−ヘキサン−１,５−ジイル、３−(２−アミノ−エチル)−ペンタン−１,５−ジイル、３−アザ−ペンタン−１,５−ジイル(−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−）、３−アザ−２,４−ジメチル−ペンタン−１,５−ジイル(−ＣＨ２−ＣＨ[ＣＨ３]−ＮＨ−ＣＨ[ＣＨ３]−ＣＨ２−）、３−アミノ−３−アザ−ペンタン−１,５−ジイル(−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ[ＮＨ２]−ＣＨ２−ＣＨ２−）、１−アザ−ペンタン−１,５−ジイル、１−アザ−１−トルイルアミノカルボニル−ペンタン−１,５−ジイル、１−アザ−１−(メチルアミノ−チオカルボニル)−ペンタン−１,５−ジイル、１−アザ−１−(tert−ブチルアミノ−カルボニル)−ペンタン−１,５−ジイル、１−アザ−１−(シロヘキシルアミノ−カルボニル)−ペンタン−１,５−ジイル、３−アザ−１−ヒドロキシ−ヘプタン−３,７−ジイル、３−アザ−１−シアノ−ヘプタン−３,７−ジイル、１−アミノ−３−アザ−ヘプタン−３,７−ジイル、３−(２−アミノ−エチル)−３−アザ−ペンタン−１,５−ジイル(−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ[−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨ２]−ＣＨ２−ＣＨ２−）、１−カルバモイル−ブタン−１,４−ジイル、２−ホルミルアミノ−ペンタン−１,４−ジイル、２−アザ−ブタジエン−１,４−ジイル(−ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ＝ＣＨ−)、２−アザ−３−ヒドロキシメチル−ブタジエン−１,４−ジイル(−ＣＨ＝Ｃ[ＣＨ２ＯＨ]−Ｎ＝ＣＨ−)、２−アザ−１−ヒドロキシ−１−(４−メトキシ−フェニル−アミノ)−ヘプタン−２,７−ジイル{−(ＣＨ２)４−Ｎ[ＣＨ(ＯＨ)−ＮＨ−Ｃ６Ｈ４−ＯＣＨ３]−}、あるいは下記の化学式
【化１２】
2002537300.tif 000012
(式中、アルキレン鎖の２つの末端結合は自由結合手である）のラジカルである。
【００５４】
化学式Ｉで表わされる化合物の塩は、特には有機酸あるいは無機酸との酸付加塩、特には薬学的に許容される無毒な塩である。適切な無機酸は、例えば炭酸（好ましくは炭酸塩あるいは重炭酸塩の形態である）；塩酸のようなハロゲン化水素酸；硫酸；又はリン酸である。適切な有機酸は、例えばカルボン酸、ホスホン酸、スルホン酸、又はスルホナム酸、例えば酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、グリコール酸、乳酸、２−ヒドロキシ酪酸、グルコン酸、グルコースモノカルボン酸、フマル酸、コハク酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルカル酸、ガラクタル酸；グルタミン酸、アスパラギン酸、Ｎ−メチルグリシン、アセチルアミノ酢酸、Ｎ−アセチルアスパラギン、又はＮ−アセチル−システインのようなアミノ酸、ピルビン酸、アセト酢酸、ホスホセリン、２−又は３−グリセロリン酸、グルコース−６−リン酸、グルコース−１−リン酸、フルクトース−１,６−２リン酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸、メチルマレイン酸、シクロヘキサンカルボン酸、アダマンタンカルボン酸、安息香酸、サリチル酸、１−又は３−ヒドロキシナフチル−２−カルボン酸、３,４,５−トリメトキシ安息香酸、２−フェノキシ安息香酸、２−アセトキシ安息香酸、４−アミノサリチル酸、フタル酸、フェニル酢酸、マンデル酸、桂皮酸、ニコチン酸、イソニコチン酸、グルクロン酸、ガラクツロン酸、メタン−又はエタンスルホン酸、２−ヒドロキシエタンスルホン酸、エタン−１,２−ジスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸、１,５−ナフタレンジスルオン酸、２−、３−又は４−メチルベンゼン−スルホン酸、メチル硫酸、エチル硫酸、ドデシル硫酸、Ｎ−シクロヘキシル−スルファミン酸、Ｎ−メチル、Ｎ−エチル、又はＮ−プロピルスルファミン酸、あるいはアスコルビン酸のような他の有機プロトン酸である。
【００５５】
少なくとも１つの遊離型カルボキシル基を保有する化学式Ｉで表わされる化合物は、分子内塩、あるいは例えばナトリウム、カルシウム、マグネシウム、又はカルシウム塩であるアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩のような金属又は、アンモニアとの、もしくは例えばトリエチルアミン又はトリ(２−ヒドロキシエチル)−アミンである３級モノアミンのような適切な有機アミンとの、あるいはＮ−エチル−ピペリジン、又はＮ,Ｎ'−ジメチル−ピペリジンである複素環式塩基とのアンモニウム塩を形成可能である。
【００５６】
例えばピクリン酸塩や過塩素酸塩のような薬学的に適切でない塩はまた、単離、又は精製に利用され得る。薬学的に許容される（適切な薬物量で）無毒な塩だけが治療的に使用され、それゆえ好ましい。
【００５７】
遊離型の新規化合物及び、例えば当該新規化合物の精製の間あるいはその同定のために中間体として使用され得る塩もまた包含して、その塩の形態にある新規化合物の間の密接な関係の結果として、適切な場合には上述の及び以下の遊離化合物がまた適切にそして便宜上その対応する塩を示すものとしても理解され得るべきである。
【００５８】
化学式Ｉで表わされる化合物は、重要な薬理学的な有益な特性を有する。特には、該化合物は、薬理学的に関心を持たれている特異的阻害作用を示す。化学式Ｉで表わされる化合物及び当該化合物の薬学的に許容される塩は、酵素ｐ３４ｃｄｃ２／サイクリンＢｃｄｃ１３キナーゼを阻害する。他のｃｄｃ２関連キナーゼに加えて、このキナーゼは、細胞分裂の特定の期、特にはＧ１期からＳ期への移行期、及び特にはＧ２期からＭ期への移行期、を制御する。
【００５９】
真核細胞の細胞周期は、経時的順序で、静止期及びＭ期からなる。静止期は、細胞の拡大を伴なう。次に、経時的順序で、Ｇ１期、Ｓ期、及びＧ２期からなる。Ｇ１期（Ｇ＝［ギャップ」、すなわち中間期）においては、生合成過程が該細胞内で進む。Ｓ期（合成期）においては、ＤＮＡが複製される。その後、当該細胞はＧ２期に入り、Ｇ２期は、有糸分裂の開始で終了する。
次にＭ期は、経時的順序で細胞核の分裂（有糸分裂）と、細胞質の分裂（細胞質分裂）とから成る。
【００６０】
上述の酵素ｐ３４ｃｄｃ２／サイクリンＢｃｄｃ１３キナーゼの阻害は、以下の実験により実証できる：
ヒトデの卵母細胞が、１０μＭ  1−メチル−アデニンを用いてＭ期へと誘導され、液体窒素中で冷凍され、−８０℃で保存される。該卵母細胞は、D.Arion他、Cell.55、371-378（1988）、及びV.RialetとL.Meijer、Anticancer Res. 11、1581-1590（1988）に記載されるようにホモジナイズし、遠心分離する。ｐ３４ｃｄｃ２／サイクリンＢｃｄｃ１３キナーゼの精製のために該卵母細胞の上清は、L. Azzi他、Eur. J.Biochem. 203、353-360（1992）に記載されているように組換えヒトタンパク質ｐ９ＣＫＳｈｓから作成されたｐ９ＣＫＳｈｓセファロースグレイン上に導入される。４℃で３０分間定速撹拌後、該グレインは完全に洗浄され、活性ｐ３４ｃｄｃ２／サイクリンＢｃｄｃ１３キナーゼをフリーのタンパク質ｐ９ＣＫＳｈｓ（３ｍｇ／ｍｌ）で溶出する。溶出されたキナーゼは、L.Meijer他、EMBO J. 8、2275-2282（1989）及びEMBO J. 10、1545-1554（1991）に記載のように基質としてヒストンＨ１を用いて試験される。このテストにおいて、化学式Ｉで表わされる化合物及び当該化合物の薬学的に許容される塩は、阻害濃度ＩＣ５０[μｍｏｌ／リットル]が０.０００５から４、通常は０.００１から３を示す。
【００６１】
この知見に基づいて、化学式Ｉで表わされる化合物及び当該化合物の薬学的に許容される塩は、腫瘍や乾癬のような異常増殖型の疾病の治療に利用され得ることが期待される。
【００６２】
上述された酵素ｐ３４ｃｄｃ２／サイクリンＢｃｄｃ１３キナーゼの阻害作用に基づいて既に期待され得るように、化学式Ｉの化合物及び当該化合物の薬学的に許容される塩は、以下に示すような別のテストで直接実証できる抗増殖特性を有する：すなわち、該化学式Ｉで表わされる化合物のヒトＴ２４膀胱癌細胞の成長に対する抑制作用が決定される。当該細胞は、５％（ｖ／ｖ）ウシ胎児血清を添加した「イーグル最小必須培地」中で、３７℃で空気中の５重量％のＣＯ２の湿潤させたインキュベーター中でインキュベートする。該癌細胞（１０００〜１５００）は、９６穴のマイクロタイタープレート中に蒔かれ、上述の条件下で一晩インキュベートされる。被検物質は、１日目に連続希釈法において添加される。該プレートは上述の条件下で５日間インキュベートされる。この期間の間、コントロールの培地は、少なくとも４日細胞分裂が終了している。インキュベーション後、当該細胞は、３.３％（ｗ／ｖ）水溶性のグルタールアルデヒド溶液中に固定され、水で洗い流され、０.０５％（ｗ／ｖ）水溶性メチレンブルー溶液で染色される。洗い流した後、色素を３％（ｗ／ｖ）水溶性の塩酸で溶出する。その後、細胞の数に直接比例するウェル毎の光学密度（ＯＤ）が光度計（Titertek multiskan）を用いて６６５ｎｍで測定される。ＩＣ５０値は、次の式を用いてコンピューターシステムで計算される。
【数１】
2002537300.tif 000013
ＩＣ５０値は、インキュベーション期間の最後にウェルあたりの細胞の数がコントロール培地中の細胞数の５０％しかない活性化合物の濃度として定義される。この方法で決定されたＩＣ５０値は、化学式Ｉの化合物及び当該化合物の薬学的に許容される塩では約０.０５から２０μｍｏｌ／リットルである。
【００６３】
化学式Ｉの化合物の抗腫瘍作用は、vivoにおいてもまた実証され得る：
抗腫瘍作用を決定するために、皮下移植されたヒト膀胱腫瘍Ｔ２４を持つ雌性Ｂａｌｂ／ｃヌード・マウス（naked mice）が使用される。０日目に経口フォレン（Forene）麻酔下約２５ｍｇの固形の腫瘍が、該動物の左の脇腹の皮膚下に押し込まれ、小さな切創は、切創クランプを用いて塞がれる。移植から６日後に当該マウスが、ランダムに６匹の動物のグループに分けられ、処置が始められる。処置は１５日間、ジメチルスルホキシド／Tween  ８０／塩化ナトリウム溶液中の化学式Ｉで表わされる化合物の経口あるいは腹腔内投与が様々な投与量で１日１回行われる。１週間に２回該腫瘍がスライドゲージで測定され、該腫瘍の体積が計算される。このテストにおいて、化学式Ｉで表わされる化合物の、あるいは当該化合物の薬学的に許容される塩の経口あるいは腹腔内投与により、未処置のコントロール動物と比較して平均の腫瘍体積が著しく減少する。
【００６４】
化学式Ｉの化合物は約０.００１から約１０μＭの間の濃度においてプロテインチロシンキナーゼｐｐ６０ｃ−ｓｒｃの活性を阻害する［テストの詳細：K. Farley他、Anal. Biochem. 203（1992）151-157、精製された酵素−N.B. Lydon他、Biochem. J. 287（1992）985-993中に記載されるとおり−がここでは使用される］。
【００６５】
ｃ−ｓｒｃを除去することになるｃ−ｓｒｃ遺伝子の特異的変化とプロテインチロシンキナーゼｐｐ６０ｃ−ｓｒｃ活性の抑制の両方が、破骨細胞の骨再吸収能に影響を与えることが知られている［遺伝子操作によるｃ−ｓｒｃの除去：例えばP. Soriano他、Cell 64（1991）693-702参照、プロテインチロシンキナーゼｐｐ６０ｃ−ｓｒｃ活性の抑制：例えばB. F. Boyce他、J. Clin. Invest. 90（1992）1622-1627；T. Yoneda他、J. Clin. Invest. 91（1993）2791-2795参照］。
【００６６】
化学式Ｉの化合物はそれゆえ、プロテインチロシンキナーゼｐｐ６０ｃ−ｓｒｃ活性の阻害に応答する疾病の治療に大いに適している。骨粗鬆症が特にここに記載され得るし、その過程において破骨細胞による骨の再吸収がある程度役割を果たす他の疾病、例えば、腫瘍誘導性高カルシウム血症、パジェット病、あるいは骨転移の処置、そして関節と骨の炎症過程、及び軟骨組織における退行過程もまた記載され得る。更には化学式Ｉで表わされる化合物が、プロテインチロシンキナーゼｐｐ６０ｃ−ｓｒｃの抑制に応答する良性又は悪性の腫瘍、例えば胸部の癌（乳癌）又は腸の癌（大腸癌）の処置に有益である。該化合物は、腫瘍を退行させ、腫瘍の転移や微小転移の成長を防ぐことが可能である。
【００６７】
好ましくは、化学式Ｉの化合物が、以下の構造を有し、その構造は、
ｑは１〜５であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは１又は２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；水素、又は低級脂肪族アシルであるか；あるいは
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、その中の１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは１又は２であり、
Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）のラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換又は置換のアルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、アリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素、カルバモイル、又はＮ−低級アルキル−カルバモイルであり、
Ｒ３は非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノもしくは、Ｎ,Ｎ−ジ−低級アルキルアミノで置換されている低級脂肪族ラジカルであり、そして
ａ）Ｒ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個のＣ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換炭素環式又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり、そしてＲ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、あるいは
ｂ）Ｒ４、Ｒ５は一体となってそれぞれの場合について１５個以下のＣ原子を有し、その中の１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルである。
【００６８】
本発明は、特には
ｑは１〜５であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは１又は２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環、複素環、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；水素又は低級脂肪族アシルであるか；あるいは
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、１〜３個のＣ原子は酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは１又は２であり、
Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）のラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換又は置換のアルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、ヘテロシクリルアルキニル、アリールアルキニル、ヘテロアリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
ａ）上記で定義したαの場合にはＲ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個Ｃ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換炭素環式又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり、そして上記で定義したβ、γ、及びδの場合にはＲ４は、水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、低級アルコキシ、１〜３０個のＣ原子を有するアシル、２９個以下のＣ原子を有する置換脂肪族炭化水素ラジカル、２９個以下のＣ原子を有する置換環状脂肪族又は炭素環式−脂肪族ラジカル、あるいは２０個以下のＣ原子と９個以下のヘテロ原子を有する複素環式又は複素環式−脂肪族ラジカルであり；そして
Ｒ５は水素を除いて、そしてＲ４とは独立して、αの場合には、Ｒ４に対してαの場合について定義したのと同じであり、そしてβ、γ、及びδの場合には、Ｒ４に対してβ、γ、及びδの場合について定義したのと同じである、あるいは
ｂ）Ｒ４、Ｒ５は一体となってそれぞれの場合について１５個以下のＣ原子を有する置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、その中の１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられることが可能であるラジカルである；あるいは
Ｒ２は、水素、カルバモイル、又はＮ−低級アルキルカルバモイル、そして
Ｒ３は、非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ又は、Ｎ,Ｎ−ジ−低級アルキルアミノで置換されている脂肪族ラジカルである、化学式Ｉで表される化合物、及びその塩に関する。
【００６９】
好ましい化学式Ｉで表わされる化合物は、
ｑは１〜３であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７が互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；又は水素であるか；あるいは、
α２）Ｒ６及びＲ７一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、それぞれの場合において置換基を含めて２０個以下のＣ原子を有し、１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられてもよい）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは１又は２であり、
Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）のラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換又は置換であるアルコキシ、アリールオキシ、アルキニル、ヘテロシクリルアルキニル、アリールアルキニル、ヘテロアリールアルキニル、アルキニルオキシ、又はアリールアルキニルオキシである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、
水素、アミノ、フェニルアミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシル、フェノキシ、又は低級アルコキシ；
部分式Ｚ−Ｃ(＝Ｗ)−（式中、Ｗは酸素、硫黄、又はイミノであり、Ｚは、水素、ヒドロカルビルＲ０、ヒドロカルビルオキシＲ０−Ｏ−、又は化学式Ｒ１１(Ｒ１２)Ｎ−で表わされるアミノ基で、それぞれの場合についてＲ０は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２〜Ｃ１４アルキル、シアノ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、カルボキシ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル−Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、又はフェニルで、Ｒ１１及びＲ１２は互いに独立して、それぞれ水素、低級アルキル、ω−アミノ−低級アルキル、低級アルキルスルホニルあるいはフェニルである）のアシルラジカル；
ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ω−アミノ−低級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ヒドロキシルアミノ、ヒドロキシルイミノ、低級アルコキシ−アミノ、フェニルオキシアミノ、アミノシクロヘキシル−アミノ−、アミノ−フェニル−アミノ−、カルバモイル−アミノ−、（Ｎ−低級アルキル−カルバモイル)−アミノ、(Ｎ−[ω−アミノ−低級アルキル]−カルバモイル)−アミノ、(Ｎ−フェニル−カルバモイル)−アミノ、チオ、低級アルキルチオ、チオカルバモイル、チオウレイド、Ｎ−低級アルキル−チオウレイド、Ｎ−フェニル−チオウレイド、グアニジノ、Ｎ−低級アルキル−グアニジノ、カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、フェニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ヒドロキシルアミノカルボニル、カルバモイル、アミジノ、シアノ、ヒドロキシル、低級アルコキシ、フェニルオキシ、アミノカルボニル−オキシ、オキソ、アミノスルホニル、低級アルキルスルホニル−アミノ、グリシルアミノ、アラニルアミノ、フェニルアラニルアミノ、プロリルアミノ、バリルアミノ、ロイシルアミノ、イソロイシルアミノ、セリルアミノ、スレオニルアミノ、システイニルアミノ、メチオニルアミノ、チロシルアミノ、トリプトファニルアミノ、アルギニルアミノ、ヒスチジルアミノ、リジルアミノ、グルタミルアミノ、グルタミニルアミノ、アスパラギルアミノ、アスパラギニルアミノ、又はフェニルグリシルアミノで置換される２９個以下のＣ原子を有する脂肪族炭化水素ラジカル；
カルボキシ、チオカルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドラジノカルボニル、ヒドロキサミノカルボニル、アミジノ、スルファモイル、スルファニル、ハロゲン、シアノ、ホルミル、アミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級脂肪族アシル、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されるベンジル、２−フェニル−エチル、３−アミノメチル−ベンジル、(１−ヒドロキシ−シクロヘキシ−１−イル)−メチル、(２−アミノ−３,５,５−トリメチル−シクロペンチル)−メチル、１−[Ｎ−(１−カルボキシ−２−フェニル−エチル)−カルバモイル]−２−カルバモイル−エチ−１−イル、１−カルバモイル−１−フェニル−メチル、１−カルバモイル−２−(４−ヒドロキシ−フェニル)−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−フェニル−エチ−１−イル、２−アミノ−１,２−ジフェニル−エチ−１−イル、２−ベンジルオキシカルボニル−１−カルバモイル−エチ−１−イル、３−ベンジルオキシカルボニル−１−カルバモイル−プロプ−１−イル、１−アダマンチル−２−アミノ−プロプ−１−イル、１−アダマンチル−１−アミノ−プロプ−２−イル、(２−フリル)−メチル、(２−テトラヒドロフリル)−メチル、２−ピリジ−２−イル−エチル、２−ピペリジノ−エチル、２−(モルフォリン−４−イル)−エチル、２−(３−インドリル)−エチル、２−(４−イミダゾイル)−エチル、１−カルバモイル−２−(β−インドリル)−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−イミダゾール−４−イル−エチ−１−イル、１−カルバモイル−２−インドール−３−イル−エチ−１−イル、３−アミノ−メチル−オキセタン−３−イル−メチル、１−(アセトキシ−イミノ)−１−(４−アミノ−２−オキサ−１,３−ジアゾ−ル−５−イル)−メチル、Ｃ４〜Ｃ８シクロアルキル；
２−アミノメチル−３,３,５−トリメチル−シクロペント−１−イル、３−アミノ−アダマンタン−１−イル、２−カルバモイル−ビシクロ[２.２.１]ヘプト−５−エン−３−イル、９−アミノ−スピロ[４.４]ノン−１−イル、５−アミノ−２−オキサ−１,３−ジアゾール−４−イル、４−アミノ−チエン−３−イル、３−カルバモイル−５−(３−[２,４−ジクロロ−フェニル]−１−オキソ−プロプ−２−エン−１−イル)−１,２−チアゾール−４−イル、３−カルバモイル−５−(３−[４−トリフルオロ−フェニル]−１−オキソ−プロプ−２−エン−１−イル)−１,２−チアゾール−４−イル、４−アミノ−２−(４−カルボキシ−ブチル)−テトラヒドロチオフェン−３−イル、３−アミノ−２−(４−カルボキシ−ブチル)−テトラヒドロチオフェン−４−イル、[１,２,５]オキサジアゾロ[３,４−ｂ](６−アミノ−ピラジン−５−イル)、２,５'−ジアセチル−３−アミノ−チエノ[２,３−ｂ]チオフェン−４'−イル、又は３−アミノ−２,５'−ジピバロイル−チエノ[２,３−ｂ]チオフェン−４'−イルであり、そして
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、あるいは
Ｒ４、及びＲ５は一体となって、１,２−エチレン、プロパン−１,３−ジイル、ブタン−１,４−ジイル、ペンタン−１,５−ジイル、３−(３−アミノ−プロピオニル)−３−アザ−ペンタン−１,５−ジイル、１−アミノメチル−ブタン−１,４−ジイル、１−ヒドロキシ−メチル−ブタン−１,４−ジイル、３−(２−アミノ−エチル)−ペンタン−１,５−ジイル、３−アザ−ペンタン−１,５−ジイル、又は３−(２−アミノ−エチル)−３−アザ−ペンタン−１,５−ジイルである化合物、及びその塩である。
【００７０】
本発明は特には、
ｑは１〜３であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、脂肪族、炭素環式、複素環式、炭素環式−脂肪族、又は複素環式−脂肪族ラジカル；又は水素であるか；
あるいは、
α２）Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、１〜３個のＣ原子が酸素、硫黄、又は窒素原子に置き換えられることが可能であり、それぞれの場合について置換基を含んで２０個以下のＣ原子を有する）；
β）Ｎ−(アリール低級アルキル)カルバモイル；
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは２であり、
Ｒ８は脂肪族、炭素環式、又は複素環式ラジカルである）のラジカル；あるいは
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９はそれぞれの場合について非置換又は置換のアルコキシ、フェノキシ、アルキニル、又はアリールアルキニルである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されるＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、化学式Ｉの化合物に関する。
【００７１】
好ましい化学式Ｉの化合物は、
ｑは１〜２であり、
Ｒ１は、−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素；
非置換又はヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、１０個以下のＣ原子と３個以下のヘテロ原子を有する非置換ヘテロアリール、又は非置換もしくはハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、フェノキシ、低級アルコキシカルボニル、イミダゾリル、モルフォリニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されている１４個以下のＣ原子を有するアリールで置換されているＣ１〜Ｃ１２アルキル；
非置換又はヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルもしくは低級アルキルカルバモイルで置換されているＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル；
２０個以下のＣ原子と３個以下のヘテロ原子を有する非置換ヘテロアリール；
非置換又はハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、フェノキシ、低級アルコキシカルボニル、イミダゾリル、モルフォリニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されている２０個以下のＣ原子を有するアリールであるか；あるいは、
Ｒ６及びＲ７は一体となって置換又は非置換アルキレン又はアルケニレンラジカルであり、１〜３個のＣ原子が酸素又は窒素原子に置き換えられることが可能であり、それぞれの場合について置換基を含めて２０個以下のＣ原子を有し；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又は非置換又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されるＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じであるものである。
【００７２】
更に、好ましい化学式Ｉの化合物は、
Ｒ１は、そのフェニルが、非置換又はハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、フェノキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで、置換されているＮ−(フェニル低級アルキル)カルバモイルであるか；あるいは、
Ｒ１は、化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８（式中、ｉは２で、Ｒ８は、低級アルキル、ハロゲンで置換された低級アルキル；非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはカルバモイルで置換されているＣ３〜Ｃ８シクロアルキル；２０個以下のＣ原子と３個以下のヘテロ原子を有する非置換ヘテロアリール；非置換又はハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで、置換されているフェニルである）で表わされるラジカル；あるいは、
Ｒ１は、化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９（式中、Ｒ９は非置換又はトリ(低級アルキル)シリルで置換されているアルコキシ、フェノキシ、アルキニル；そのヘテロアリール部分が、窒素、硫黄、及び酸素からなる群から選択される１つあるいは２つのヘテロ原子を含み、該ラジカルが、非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているヘテロアリールアルキニル；そのヘテロシクリル部分が、窒素、硫黄、及び酸素からなる群から選択される１つあるいは２つのヘテロ原子を含み、該ラジカルが、非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているヘテロシクリルアルキニル；あるいは非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているフェニルアルキニルである）のラジカルであり；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又は非置換又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシもしくはウレイドで置換されるＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じであるものである。
【００７３】
とりわけ好ましい化学式Ｉの化合物は、
ｑは１であり、
Ｒ１は、
α）−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
α１）Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、非置換もしくはフェノキシで置換されているフェニル、低級アルコキシ、イミダゾイル、低級アルキル、ハロゲン、ハロゲン低級アルキル、低級アルキルオキシカルボニル、モルフォリニル；フェニル、ハロゲンフェニル、ナフチル、フラニル、又はピリジルで置換された低級アルキル；非置換又はヒドロキシで置換されているＣ３〜Ｃ６シクロアルキル；テトラヒドロナフチル又はキノリニルであるか；あるいは、
α１）Ｒ６及びＲ７は一体となってアルキレンラジカルであり、
α１.１）４から最大で６個のＣ原子を有し、そのうちの１個のＣ原子が酸素で置き換えられていてもよいか；あるいは、
α１.２）化学式（II）
【化１３】
2002537300.tif 000014
（式中、ｗは２、ｘは２、ｙは０又は１であり、そしてＲ１０は水素又は非置換又はハロゲン、トリフルオロメチルもしくは低級アルコキシで置換されているフェニルである)のラジカルであり、
β）フェニルが、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、又はトリフルオロメチルで置換可能である非置換又は置換フェニル低級アルキルカルバモイル；あるいは、
γ）化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８
（式中、ｉは２で、
Ｒ８は低級アルキニル、又は低級アルキル又は低級アルコキシで置換されたフェニルである）のラジカル；あるいは、
δ）化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９
（式中、Ｒ９は低級アルコキシ、フェノキシ、フェニルが非置換又はハロゲン、低級アルキルもしくは低級アルコキシで置換されているフェニル低級アルキニル；低級アルキニル、又はトリ(低級アルキル)シリル低級アルキニルである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は水素であり、そして
Ｒ５はアミノ、ヒドロキシ、又はカルバモイルで置換されたシクロヘキシルである、化合物である。
【００７４】
本発明は、特には、
ｑは１であり、
Ｒ１は、−Ｓ(＝Ｏ)ｋ−ＮＲ６Ｒ７
（式中、ｋは２であり、
Ｒ６及びＲ７は同時に水素であってはならないという条件で
Ｒ６及びＲ７は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、非置換もしくはフェノキシで置換されているフェニル、低級アルコキシ、イミダゾイル、低級アルキル、ハロゲン、ハロゲン低級アルキル、低級アルキルオキシカルボニル、モルフォリニル；フェニル、ハロゲンフェニル、ナフチル、フラニル、又はピリジルで置換された低級アルキル；非置換又はヒドロキシで置換されているＣ３〜Ｃ６シクロアルキル；テトラヒドロナフチル又はキノリニルであるか；あるいは、
Ｒ６及びＲ７は一体となって４から最大で６個のＣ原子を有し、そのうちの１個のＣ原子が酸素で置き換えられることが可能であるアルキレンラジカル；あるいは、化学式（ＩＩ）
【化１４】
2002537300.tif 000015
（式中、ｗは２、ｘは２、ｙは０又は１であり、そしてＲ１０は水素又は非置換又はハロゲン、トリフルオロメチルもしくは低級アルコキシで置換されているフェニルである）のラジカル；あるいは、
フェニルが、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、又はトリフルオロメチルで置換可能である非置換又は置換フェニル低級アルキルカルバモイル；あるいは、
化学式−ＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８（式中、ｉは２で、Ｒ８は低級アルキニル、又は低級アルキル又は低級アルコキシで置換されたフェニルである）のラジカル；あるいは、
化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９（式中、Ｒ９は低級アルコキシ、フェノキシ、フェニルが非置換又はハロゲン、低級アルキルもしくは低級アルコキシで置換されているフェニル低級アルキニル；低級アルキニル、又はトリ(低級アルキル)シリル低級アルキニルである）で表わされるラジカルであり、
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、Ｒ３は低級アルキルであり、Ｒ４は水素であり、そしてＲ５はアミノ、ヒドロキシ、又はカルバモイルで置換されたシクロヘキシルである、化学式Ｉで表される化合物に関する。
【００７５】
本発明で表わされる１つの実施の形態において、
ｑは１〜３であり、
Ｒ１は、
化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９（式中、Ｒ９が非置換又はトリ(低級アルキル)シリルで置換されているアルコキシ、フェノキシ、アルキニル；そのヘテロアリール部分が、ピリジル、ピリミジル、チエニル、フリル、オキサゾイル、及びチアゾイルから成る群から選択され、そして該ラジカルが非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているヘテロアリールアルキニル；そのヘテロシクリル部分が、ピペリジニル、ピロリジニル、ピペラジニル、低級アルキルピペラジニル、モルフォリニル、及びチオモルフォリニルから成る群から選択され、そして該ラジカルが非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで、置換されてるヘテロシクリルアルキニル；あるいは、非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているフェニルアルキルである）のラジカルであり；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２は水素であり、
Ｒ３は低級アルキルであり、
Ｒ４は、水素、又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されるＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、式Ｉで表される化合物が好ましい。
【００７６】
より好ましくは、本実施の形態において該化合物は、
ｑは１〜２であり、
Ｒ１は、
化学式−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９（式中、Ｒ９が非置換又はトリ(低級アルキル)シリルで置換されているアルコキシ、フェノキシ、アルキニル；そのヘテロアリール部分が、ピリジル、ピリミジル、及びチエニルから成る群から選択され、そして該ラジカルが非置換又は低級アルキルで置換されているヘテロアリールアルキニル；そのヘテロシクリル部分が、ピペリジニル、及びピペラジニルから成る群から選択され、そして該ラジカルが非置換又は低級アルキルで置換されているヘテロシクリルアルキニル；あるいは、非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノもしくはハロゲンで置換された低級アルキルで置換されているフェニルアルキルである）のラジカルであり；
該分子中にラジカルＲ１が１つ以上存在するならば、これらのラジカルは相互に同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ２が水素であり、
Ｒ３が低級アルキルであり、
Ｒ４が、水素、又はアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルボニルオキシ、又はウレイドで置換されるＣ５〜Ｃ７シクロアルキルであり；そして、
Ｒ５は、Ｒ４とは独立して、水素を除いてＲ４について上記で定義したのと同じである、式Ｉの構造を有する。
【００７７】
化学式Ｉで表わされる化合物、及び該化合物の薬学的に許容される塩は、それ自体は既知の方法によって製造され、その方法は、例えば
ａ）Ｒ１が−ＳＯｋ−ＮＲ６Ｒ７である化学式Ｉの化合物の製造のために、
【化１５】
2002537300.tif 000016
（式中、Ｙは適切な脱離基であり、Ｒ１は−ＳＯｋ−ＮＲ６Ｒ７であり、そして他の置換基及び記号は、化学式Ｉの化合物に対して上述に定義したのと同様であり、この化合物において存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている）
の化合物IIIを、式IV
【化１６】
2002537300.tif 000017
（式中、置換基が、化学式Ｉで表わされる化合物に対して上述に定義したのと同様であり、この化合物において存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されているか、又は潜在的官能基の原理に従って官能基に変換できる形態にされている）
で表されるアミンと反応させ、必要であれば、存在する保護基を脱離し、官能基を化学式Ｉの最終形態に変換するか、または
ｂ）Ｒ１がＮ−(アリール低級アルキル)カルバモイルである化学式Ｉで表わされる化合物の製造のために、式Ｖ
【化１７】
2002537300.tif 000018
（式中、Ｒ１は−ＣＯ２Ｈであり、そして他の置換基及び記号が、化学式Ｉの化合物に対して上述に定義したのと同様であり、この化合物において存在する遊離型の官能基が必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている）
で表される化合物を、置換基が、化学式Ｉで表わされる化合物に対して上述に定義したのと同様であるアリール低級アルキルアミンと、所望により３級アミン、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール及び／又は塩酸Ｎ−(３−ジメチルアミノプロピル)−Ｎ'−ジエチルカルボジイミドのようなカルボジイミドの存在下反応させ、そのアリール部分に存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されており、存在する保護基を脱離させるか、あるいは
ｃ）Ｒ１がＮＨ−Ｓ(＝Ｏ)ｉ−Ｒ８またはＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ９のラジカルである化学式Ｉで表わされる化合物の製造のために、Ｒ１が−ＮＨ２であり、そして他の置換基及び記号が、化学式Ｉで表される化合物に対して上述に定義したのと同様であり、この化合物において存在する遊離型の官能基が必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている式Ｖの化合物を、化学式VI又はVII
【化１８】
2002537300.tif 000019
（式中、Ｙは適切な脱離基であり、そして
Ｒ８及びＲ９は、化学式Ｉで表わされる化合物に対して上述に定義したのと同様であり、Ｒ８又はＲ９において存在する遊離型の官能基は必要に応じて容易に脱離可能な保護基により保護されている）
で表される化合物と反応させ、存在する保護基を脱離させ；そして、ａ）ｂ）又はｃ）の方法を実施した後、塩の調製のために、必要であれば製造された化学式Ｉの遊離型の化合物を塩に変換し、あるいは遊離型の化合物の調製のために、必要であれば製造された化学式Ｉの化合物の塩を遊離型の化合物に変換する。
【００７８】
上述の方法は以下でより詳細に記載される。
化学式IIIの出発物質において適切な脱離基Ｙは、好ましくは臭素、ヨウ素、又は特には塩素のようなハロゲンである。
【００７９】
化学式Ｉの目的物質は、化学式Ｉの他の目的物質の製造のための出発物質中の保護基としても使用可能な置換基を包含し得る。特に明細書の記載からそうでないことが明らかでない限り、本明細書中の「保護基」は、化学式Ｉの特に所望の目的物質の構成員ではない容易に脱離可能な基だけである。
【００８０】
保護基、その導入及び脱離は、例えば「Protective Groups in Organic Chemistry」、Plenum Press、London、New York、1973年中に、及び「Methoden der organischen Chemie」［Methods of Organic Chemistry］、Houben-Weyl、第４版、1５／１巻、Georg-Thieme-Verlag、Stuttgart、1974年中に、及びT.W.Greene、「Protective Groups in Organic Synthesis」、John Wiley&Sons、New York、1981年中に記載されている。容易に、すなわち例えば加溶媒分解、還元、光分解、あるいは生理的な条件下で、望ましくない副反応が起こることなく離脱され得るのが、保護基の特徴である。
【００８１】
化学式IIIの出発物質における遊離型の官能基の保護は、該して必要でない。所望であれば、ラジカルＲ１中のカルボキシル又はアミノ基、あるいはラジカルＲ３中のアミノ基が保護され得る。
【００８２】
化学式IVの出発物質において、所望であれば、例えば反応に関与するアミノ基を除く遊離型アミノ基、あるいは遊離型カルボキシル基が保護形態で存在し得る。ある種の官能基、化学式IVの、例えばエチレンジアミンの場合、その２番目のアミノ基の保護は過剰量の化学式IVで表わされるアミンを用いることにより回避され得る。しかし、特に脱離基、例えばハロゲンやトルエンスルホネートのような官能基は、潜在的な官能基の原則に従って官能基の一つに変換され得る形態で存在し得る。従って、保護されたアミノ基は、最初にアミノ−保護基を離脱することにより遊離型とされ、そして該遊離型アミノ基は、その後それ自体は既知である方法でアジ化物を経てトルエンスルホネート又はハロゲンに変換され得る。
【００８３】
保護アミノ基は、例えば容易に離脱可能であるアシルアミノ、アリールメチルアミノ、エーテル化メルカプトアミノ、又は２−アシル−低級アルキ−１−エン−イル−アミノ基であり得る。
【００８４】
対応するアシルアミノ基において、アシル基は、例えば１８個以下のＣ原子を有する有機カルボン酸のアシルラジカル、特には非置換又は例えばハロゲンもしくはアリールで置換されているアルカンカルボン酸あるいは非置換又は例えばハロゲン、低級アルコキシもしくはニトロで置換されていている安息香酸のラジカル、あるいは炭酸半エステルである。そのようなアシル基は、例えばホルミル、アセチル、又はプロピオニルのような低級アルカノイル、２−ハロアセチル、特には２−クロロ−、２−ブロモ−、２−ヨード−、２,２,２−トリフルオロもしくは２,２,２−トリクロロアセチルのようなハロ−低級アルカノイル、非置換又は例えばハロゲン、低級アルコキシ、又はニトロで置換されているベンゾイル、例えばベンゾイル、４−クロロベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、又は４−ニトロベンゾイル、あるいは低級アルキルラジカルの１位で枝分かれしている、又は特には例えばtert−ブチルオキシカルボニルであるtert−アルコキシカルボニルのように１又は２位で適切に置換されている低級アルコキシカルボニル、好ましくは非置換又は例えば低級アルキル、特にはtert−ブチルのようなtert−アルキル、メトキシのような低級アルコキシ、ヒドロキシ、例えば塩素であるハロゲン、及び／あるいはニトロで一置換または多置換されたフェニルである１つ又は２つのアリールラジカルを持つアリールメトキシカルボニル、例えば４−ニトロ−ベンジルオキシカルボニル又はジ−(４−メトキシフェニル)−メトキシカルボニルのような非置換又は置換ベンジルオキシカルボニル、アロイル基が好ましくは非置換又は例えば臭素のようなハロゲンで置換されたベンゾイルであるアロイルメトキシカルボニル、例えばフェナシルオキシカルボニル、２−ハロ−低級アルコキシカルボニル、例えば２,２,２−トリクロロエトキシカルボニル、２−ブロモエトキシカルボニル、又は２−ヨードエトキシカルボニル、又は非置換もしくは置換の低級アルキル、フェニル−低級アルキル、シクロアルキルもしくはフェニルに対応するような、置換基が互いに独立してそれぞれ１５個以下のＣ原子を有し、かつ非置換の、又は例えば低級アルキル、低級アルコキシ、アリール、ハロゲン又はニトロで置換された、脂肪族、芳香族−脂肪族（araliphatic）、環状脂肪族、または芳香族炭化水素ラジカルである２−(三置換シリル)−エトキシカルボニル、例えば２−トリメチルシリルエトキシカルボニル又は２−(ジ−ｎ−ブチル−メチル−シリル)−エトキシカルボニルのような２−トリ−低級アルキルシリルエトキシカルボニル、又は２−トリフェニルシリルエトキシカルボニルのような２−トリアリールシリルエトキシカルボニルである。
【００８５】
モノ−、ジ−、又は特にはトリアリールメチルアミノ基であるアリールメチルアミノ基において、そのアリールラジカルは、特には置換又は非置換のフェニルラジカルである。そのような基は、例えばベンジル−、ジフェニルメチル−、及び特にはトリチルアミノである。
【００８６】
エーテル化メルカプト基で保護されているアミノ基中のそのようなラジカルは、特にはアリールチオ又はアリール低級アルキルチオであり、その中でアリールは、特には非置換であるか又は例えばメチル又はtert−ブチルのような低級アルキル、メトキシのような低級アルコキシ、塩素のようなハロゲン、及び／あるいはニトロで置換されたフェニルである。対応するアミノ保護基は、例えば４−ニトロフェニルチオである。
【００８７】
アミノ−保護基として使用され得る２−アシル−低級アルク−１−エン−１−イルラジカルにおいて、アシルは例えばアルカンカルボン酸の、非置換又は例えばメチル又はtert−ブチルのような低級アルキル、メトキシのような低級アルコキシ、塩素のようなハロゲン、及び／あるいはニトロで置換された安息香酸の、あるいは特には炭酸低級アルキル半エステルのような炭酸半エステルの対応するラジカルである。対応する保護基は、特には１−低級アルカノイル−プロプ−１−エン−２−イル、例えば１−アセチル−プロプ−１−エン−２−イル、あるいは１−低級アルコキシカルボニル−プロプ−１−エン−２−イル、例えば１−エトキシカルボニル−プロプ−１−エン−２−イルである。
【００８８】
好ましいアミノ−保護基は、炭酸半エステルのアシルラジカル、特にはtert−ブチルオキシカルボニル、例えば上述と同様に置換されていない、又は置換されたベンジルオキシカルボニル、例えば４−ニトロ−ベンジルカルボニル、又はジフェニルメトキシカルボニル、あるいは２,２,２−トリクロルエトキシカルボニルのような２−ハロ−低級アルコキシカルボニル、及び更にはトリチニル又はホルミルである。
【００８９】
好ましい保護カルボキシル基は、例えば非置換又は置換のtert−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、又はジフェニルメトキシカルボニル、あるいは２−トリメチルシリル−エトキシカルボニルである。
【００９０】
化学式IIIの誘導体と化学式IVのアミン誘導体との反応は、適切な不活性溶媒中で行われ得る。可能であれば、しかしながら、化学式IVで表わされるアミンの物理的性質に基づいて、該反応は、異種溶媒なしで行われ、該化学式IVで表わされるアミンが、反応剤として及び溶媒としての両方で過剰量、例えばその当量の１００倍量で用いられる。特には脱離基Ｙの厳密な性質や該化学式IVで表わされる特異的なアミンの反応性のような特定の反応物の性質次第で、当該反応は、２０℃から２００℃の間、好ましくは５０℃から１８０℃の間で、例えば還流下で行われる。もしＹが塩素で、該化学式IVで表わされるアミンが２−アミノ−４−シクロヘキサンカルボキサミドのような環状脂肪族アミンであれば、当該反応は、好ましくは８０℃から１７０℃の間で、例えば１６０℃の反応槽温度で行われる。必要なら、該反応は、高圧チューブ中で行われる。
【００９１】
化学式Ｉで表わされる所望の目的物質の構成物ではない保護基は、それ自体は既知の方法で、例えば加溶媒分解、特には加水分解、アルコール分解、又は酸分解により、あるいは還元、特には水素化分解又は化学反応により、必要に応じて段階的に、あるいは同時に離脱される。
【００９２】
保護アミノ基は、それ自体は既知の方法で、そして保護基の性質によって様々な方法で、好ましくは加溶媒和又は還元により遊離される。２−ハロ−低級アルコキシカルボニルアミノ（適切であれば２−ブロモ−低級アルコキシカルボニルアミノ基の２−ヨード−低級アルコキシカルボニルアミノ基への変換後）、アロイルメトキシカルボニルアミノ、又は４−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノは、例えば水性の酢酸のような適切なカルボン酸の存在中、亜鉛のような適切な化学還元剤を用いた処置により開裂され得る。アロイルメトキシカルボニルアミノは、求核剤、好ましくはチオフェノラートナトリウムのような塩形成剤で処置することによりまた開裂可能であり、４−ニトロ−ベンジルオキシカルボニルアミノは、例えば亜ジチオン酸ナトリウムであるアルカリ金属亜ジチオン酸で処置することによりまた、開裂可能である。置換又は非置換ジフェイルメトキシカルボニルアミノ、tert−低級アルコキシカルボニルアミノ又は２−三置換シリルエトキシカルボニルアミノは、例えば蟻酸又はトリフルオロ酢酸といった適切な酸での処置により開裂可能であり、置換又は非置換ベンジルオキシカルボニルアミノは、例えば水素化分解によって、すなわちパラジウム触媒のような適切な水素化触媒の存在下水素で処理することによって開裂可能であり、そしてトリアリールメチルアミノ又はホルミルアミノは、必要であれば水の存在下、例えば塩酸である無機酸、又は例えば蟻酸、酢酸又はトリフルオロ酢酸である有機酸のような酸で処理することによって開裂可能であり、そして有機シリル基によって保護されるアミノ基は、例えば加水分解又はアルコール分解によって遊離され得る。２−ハロアセチル、例えば２−クロロアセチルで保護されるアミノ基は、塩基の存在下チオウレアで又は尿素のアルカリ金属チオラートようなチオラート塩で処理し、その後形成された縮合生成物のアルコール分解又は加水分解のような加溶媒分解により遊離させ得る。２−置換シリルエトキシカルボニルで保護されているアミノ基はフッ素アニオンを供給するフッ化水素酸で処理することによって遊離アミノ基にまた変換され得る。
【００９３】
Ｙが塩素である化学式IIIで表わされる出発物質は、以下に示す２段階で得られる。
第１段階において、市販（例えばLancaster、Aldrich又はFluka）であり、その互変異性型２,６−ジクロロ−９Ｈ−プリン及び２,６−ジクロロ−７Ｈ−プリンとの混合物の形態にある２,６−ジクロロ−プリンを、化学式VIII
【化１９】
2002537300.tif 000020
（式中、ｑ及びＲ２が上述で定義したのと同様であり、Ｒ１が水素、−ＣＯ２Ｍｅ又は−ＮＯ２である）
で表わされるアミンと反応させて、化学式IX
【化２０】
2002537300.tif 000021
（式中、Ｙは塩素であり、Ｒ１は水素、−ＣＯ２Ｍｅ又は−ＮＯ２であり、他の置換基及び記号は化学式Ｉについて定義したのと同じである）
で表わされる化合物が提供される。この反応は特には、例えばペンタノールであるアルカノールのような不活性な有機溶媒中で、好ましくは室温と１５０℃との間、例えば１００℃の反応槽温度で、化学式VIIIで表わされるアミンの過剰量、例えば等量の３〜４倍量が好ましくは用いられて行われる。
【００９４】
第２段階において、化学式IXで表わされる化合物を、化学式Ｘで表わされる化合物と反応してＹが塩素である化合物IIIで表わされる化合物が提供される。
Ｒ３−Ｙ    （Ｘ）
【００９５】
化学式Ｘで表わされる出発物質において適切な脱離基Ｙは、好ましくは塩素、臭素、又は特にはヨウ素のようなハロゲンである。
Ｙが別の脱離基である、すなわち塩素とは異なる化学式IIIで表わされる出発物質は、類似の方法で得られる。
【００９６】
化学式III、VIII、及びIXにおいてＲ１が水素である場合、化学式IIIで表わされる化合物を、最初にＣＩＨＳＯ３と反応させてＲ１が−ＳＯ２Ｃｌである化合物IIIを提供し、その後アミンＨＮＲ６Ｒ７と反応させてＲ１が−ＳＯ２ＮＲ６Ｒ７である化学式IIIで表わされる化合物を提供する。
【００９７】
化学式III、VIII及びIXにおいてＲ１が−ＮＯ２である場合、化学式IIIで表わされる化合物を、ラネーニッケルのような水素化触媒の存在中、ヒドラジン一水和物と反応させてＲ１がアミノである化学式IIIで表わされる化合物を提供する。
【００９８】
化学式III、VIII及びIXにおいてＲ１が−ＣＯ２Ｍｅである場合、化学式IIIで表わされる化合物を、アルカリ土類金属又は水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物の存在下、アルカノール溶液中加水分解してＲ１が−ＣＯ２Ｈである化学式IIIで表わされる化合物を提供する。
【００９９】
（一般的な製造条件）
該製造方法により取得可能で、塩形成特性を有する化学式Ｉで表わされる遊離型化合物は、それ自体は既知の方法で、例えば酸、又はその適切な誘導体での処理により、例えば適切な溶媒、例えば環状エーテル、特にはジオキサン、及びとりわけテトラヒドロフランのようなエーテル中に溶解させた当該化学式Ｉで表わされる化合物に問題の酸を添加することにより、当該化合物の塩に変換され得る。酸性基、例えば遊離カルボキシル基を持つ化学式Ｉで表わされる化合物は、例えば塩形成のために例えば水酸化物、炭酸塩、又は重炭酸塩といった適切な塩基で処理される。
【０１００】
本発明により取得可能な異性体の混合物は、それ自体は既知の方法で個々の異性体に分離され得る。例えばラセミ体は、光学的に純粋な塩形成剤を用いて塩を形成し、そのようにして得たジアステレオマー混合物を、例えば分別再結晶方法により調製することにより取得され得る。
【０１０１】
上述の反応は、それ自体は既知の反応条件下、その反応及び／又は反応に関連するものの性質次第で、溶媒又は希釈剤、好ましくは使用される試薬に対して不活性であり、これら試薬が溶解するものの、非存在下又は通常は存在下で、触媒、濃縮剤（例えば五酸化リン）又は中和剤、例えば塩基、特には塩酸トリエチルアミンのような窒素ガスの非存在下又は存在下、低温、常温、あるいは高温、例えば約−８０℃から約２００℃まで、好ましくは約−２０℃から約１５０℃まで、例えば用いられる溶媒の沸点で、大気圧下又は密閉容器中、もし必要であれば圧力をかけて、及び／あるいは不活性雰囲気、例えば窒素雰囲気中で行われ得る。
それぞれの場合について具体的に記載されている反応条件が好ましい。
【０１０２】
溶媒及び希釈剤は、例えば水、アルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノール又は特にはブタノールのような低級アルキルヒドロオキシド、エチレングリコールのようなジオール、グリセロールのようなトリオール、あるいはフェノールのようなアリールアルコール、酸アミド、例えばジメチルホルミルアミド、ジメチルアセトアミド、又は１,３−ジメチル−３,４,５,６−テトラヒドロ−２(１Ｈ)−ピリミジノン（ＤＭＰＵ）のようなカルボン酸アミド、カルボン酸、特には蟻酸又は酢酸、ヘキサメチルリン酸トリアミドのような無機酸のアミド、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジオキサンのような環状エーテル、あるいはジエチルエーテル又はエチレングリコールジメチルエーテルのような非環式エーテル、ハロ−低級アルカンのようなハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン又はクロロホルム、アセトンのようなケトン、アセトニトリルのようなニトリル、無水酢酸のような酸無水物、酢酸エチルのようなエステル、ジメチルスルホキシドのようなビスアルカンスルフィン（bisalkaesulfines）、ピリジンのような窒素含有複素環式化合物、炭化水素、例えばヘプタンのような低級アルカンまたはベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族、あるいはこれら溶媒の混合物であり、それぞれの場合において上述の反応に対して適切な溶媒が選択され得る。
【０１０３】
取得され得る化学式Ｉで表わされる化合物又は当該化合物の塩の後処理に、慣例的な方法、例えば過剰の試薬の加溶媒分解；再結晶；例えば分配、イオン又はゲルクロマトグラフィーなどのクロマトグラフィー；無機溶媒層と有機溶媒層との間の分配；特に酸性化後の、または塩基性もしくは塩含量を増加させた後の１回あるいは数回の抽出；吸湿性塩の上での乾燥；消化；濾過；洗浄；溶解；蒸発（もし必要であればin vacuoで、又は高真空下で）；蒸留；例えばオイル状態にある得られた化合物の、あるいは母液からの結晶化（本生成物に目的物の結晶を種晶添加することも可能である）；あるいは上述の後処理工程の２つあるいはそれ以上の組み合わせが使用され、これは繰り返し用いることも可能である。
【０１０４】
出発物質及び中間体は、例えば直前に記載のとおりの後処理後の純粋な形態で、部分的に精製された形態で、あるいはその他、例えば粗製品として直接用いられ得る。
【０１０５】
化学式Ｉで表わされる化合物の遊離した形態と塩の形態との間の密接な関係の結果、上述の及び以下に述べる遊離型化合物とその塩は、適切な場合には、もし該化合物が塩形成基を包含するなら対応する塩又は遊離型の化合物を示すと、適切にそして便宜上理解されるべきである。
該化合物は、その塩を含み、水和物の形でまた取得され得るし、あるいはその結晶は、例えば結晶化に利用される溶媒を包含することが可能である。
【０１０６】
特に重要なものとして上述の化学式Ｉで表わされる新規化合物を導く出発物質が、好ましくは本発明で表わされる製造方法において用いられる。
【０１０７】
本発明はまた任意の製造段階において中間体として取得できる化合物を出発物質として使用し、その後の製造段階を行うか、あるいは出発物質をその反応条件下で形成するか、又は誘導体の形態、たとえば該化合物の塩で使用する製造方法の実施の形態に関する。
【０１０８】
本発明はまた化学式Ｉで表わされる化合物の製造に対して出発物質として使用され得る化学式III
【化２１】
2002537300.tif 000022
（式中、Ｙは適切な脱離基であり、Ｒ１は、−ＳＯ２ＮＲ６Ｒ７であり、他の置換基及び記号は化学式Ｉについて上述で定義したのと同様であり、その中で遊離型の官能基は、もし必要であれば容易に脱離可能な保護基により保護されている）
の化合物に関する。
【０１０９】
本発明はまた、化学式Ｉで表わされる化合物の製造に対して出発物質として使用され得る化学式Ｖ
【化２２】
2002537300.tif 000023
（式中、Ｒ１は、−ＣＯ２Ｈであり、他の置換基及び記号は化学式Ｉについて上述で定義したのと同様であり、その中で遊離型の官能基は、もし必要であれば容易に脱離可能な保護基により保護されている）
の化合物に関する。
【０１１０】
本発明はまた、ヒト又は動物の体の治療的処置のための方法において使用される医薬組成物、（特には癌処置に対する組成物としての）その医薬組成物の製造方法、及び腫瘍疾病、特には上述の疾病や骨粗鬆症の処置方法に関する。
【０１１１】
本発明は、特には増殖性疾病、とりわけ腫瘍疾病、および特にはｐ３４ｃｄｃ２／サイクリンＢｃｄｃ１３の阻害に応答するそのような疾病にかかった温血動物の処置方法であって、化学式Ｉで表わされる化合物又は当該化合物の薬学的に許容される塩の腫瘍を抑制するのに有効な量を、腫瘍の処置を必要としている温血動物に投与することを含む方法、あるいは腫瘍の処置における化学式Ｉで表わされる化合物の使用に関する。本発明はまた、温血動物中のプロテインキナーゼＣの抑制における、あるいはヒト又は動物の体の治療的処置に使用される医薬組成物における化学式Ｉで表わされる化合物又はその化合物の薬学的に許容される塩の使用に関する。種、年、個々の状態、投与方法、及び特定の臨床像次第で、本発明で表わされる化合物の効果的な投与量、例えばおよそ０.１から約５ｇ、好ましくは約０.５から約２ｇの１日の投与量が、およそ７０ｋｇの体重の温血動物に投与される。
【０１１２】
本発明はまた効果的な量、特には、上述の疾患の１つの予防又は処置において有効量の活性成分を、例えば局所、経口もしくは直腸である経腸、あるいは非経口投与に適切な、そして無機又は有機の固体又は液体であり得る薬学的に許容される担体と一緒に含む医薬組成物に関する。経口投与には特には錠剤又はゼラチンカプセルが使用され、それらは例えばラクトース、デキストロース、スクロース、マンニトール、ソルビトール、セルロース、及び／あるいはグリセロースである希釈剤、及び／あるいは例えばシリカ、タルク、ステアリン酸、またはステアリン酸マグネシウムやステアリン酸カルシウムのようなステアリン酸の塩及び／あるいはポリエチレングリコールのような潤滑剤と一緒に活性成分を含む。錠剤はまた、例えばケイ酸アルミニウムマグネシウム、トウモロコシ、小麦又は米のデンプンのようなデンプン、ゼラチン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、及び／あるいはポリビニルピロリジンである結合剤、及び所望されるならば例えばデンプン、寒天、アルギン酸、又はアルギン酸ナトリウムのようなアルギン酸の塩のような崩壊剤及び／あるいは発泡性混合物、又は吸収剤、染料、フレーバー、及び甘味料を含む。非経口で投与可能である組成の形態で、あるいは輸液の形態で本発明で表わされる薬学的な活性化合物を使用することがまた可能である。そのような溶液は好ましくは等張の水溶液又は懸濁液であり、それは、例えば活性成分を単独で、又は例えばマンニトールである担体と一緒に包含する凍結乾燥された組成物の場合において、使用前に作成され得る。医薬組成物は、滅菌され得るし、そして／あるいは例えば防腐剤、安定剤、湿潤剤、及び／あるいは乳化剤、可溶化剤、浸透圧を制御するための塩、及び／あるいは緩衝液である賦形剤を包含し得る。本発明の医薬組成物であり、所望されるならば抗生物質のような他の薬学的に活性な物質を含み得る組成物は、それ自体は既知の方法、例えば簡便な混合、造粒、調合（confectioning）、溶解、又は凍結乾燥工程の手段により製造され、およそ１％から９５％、特にはおよそ１％からおよそ２０％まで活性成分を包含する。
【０１１３】
以下に示す実施例は、その範囲に制限されることなく本発明を示すのに役立つ。
用いられる省略名及び略語は以下に示す意味を有する。
略語
abs.      absolute 無水の（anhydrous）
API-MS    「atmospheric pressure chemical ionization」mass spectrum 大気圧化学イオン化質量分析
brine     saturated sodium chroride solution 飽和塩化ナトリウム溶液
decomp.   decomposition 分解
diglyme   diethylene glycol dimethyl ether ジエチレングリコールジメチルエーテル
DMF       dimethylformamide ジメチルホルムアルデヒド
DMSO      dimethyl sulfoxide ジメチルスルホキシド
EDC       N-(3-dimethylaminopropyl)-N'-diethylcarbodiimide hydrochloride 塩酸Ｎ−(３-ジメチルアミノプロピル−Ｎ'−ジエチルカルボキシイミド
ESI-MS    electrospray ionisation mass spectrum エレクトロスプレーイオン化質量分析
EtOAc       ethyl acetate 酢酸エチル
h           hour(s) 時間
HOBT        1-hydroxybenzotriazole １-ヒドロキシベンゾトリアゾール
HPLC        high pressure liquid chromatography 高速液体クロマトグラフィー
HV          high vacuum 高真空
min         minute 分
m.p.        melting point 融点
Me          methyl メチル
MS          mass spectroscopy 質量分析
RT          room temperature 室温
soln.       solution 溶液
sat.        saturated 飽和
TLC-Rf      Rf value according to thin layer chromatography 薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値
tret         retention time 保持時間
NMRスペクトルデータに関する略語
b           broad 幅広い
d           doublet ２重項
J           coupling constant カップリング定数
m           multiplet 多重項
q           quartet ４重項
s           singlet １重項
t           triplet ３重項
ppm         parts per million １００万分の１
TMS         tetramethylsilan テトラメチルシラン
【０１１４】
実施例１：
０.７ｍｍｏｌの６−(４−ブチル−アミノスルホニル−フェニル−アミノ)−２−クロロ−９−エチル−９Ｈ−プリンを、高圧チューブ内で１ｍｌのジグリム及び２５０ｍｇのシス−２−アミノ−シクロヘキサンカルボキサミド（１.７ｍｍｏｌ）と混合する。フラスコをアルゴンでフラッシュして、１８時間磁気攪拌しながら１６０℃に維持する。室温まで冷却した後、粗混合物をメタノールで希釈し、溶媒を、高真空下除去する。得られる固体をＣＨ２Ｃｌ２中に溶解し、水（２×２５ｍｌ）及び２５ｍｌの飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄する。水層をＣＨ２Ｃｌ２（２×１００ｍｌ）で抽出する。合わせた有機層を乾燥させ（ＭｇＳＯ４）、濾過し、そして濃縮する。クロマトグラフィー（シリカゲル、ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ：９５／５）により精製後、所望の生成物シス−２−[６−(４−ブチル−アミノスルホニル−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサンカルボン酸アミドが結晶性粉末で得られる（収率３２％）。Ｒｆ＝０.４３（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ（９／１）＋１％ＮＨ３）；融点  ２２０℃；ＥＳＩ−ＭＳ：５１５(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１１５】
ステージ１．１：
４００ｍｌのエタノール中の２,６−ジクロロプリン（２０ｇ、１０６ｍｍｏｌ）溶液に、３６.５ｍｌのアニリン（４００ｍｍｏｌ）を添加し、得られる溶液を、１２時間磁気攪拌しながら５０℃に維持する。室温まで冷却した後、該混合物を濾過し、２×５０ｍｌのエタノールで洗浄し、そして高真空下５０℃で乾燥させて２−クロロ−６−(フェニル−アミノ)−プリンが黄色粉末（２５.５ｇ、１０４ｍｍｏｌ）として９８％の収率で得られる。Ｒｆ＝０.５７（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ（９５／５）；融点  ＞２９０℃で分解；ＥＳＩ−ＭＳ：２４６(Ｍ＋Ｈ)＋；１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ、２００ＭＨｚ、ＴＭＳ）：７.１ｐｐｍ（ｔ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ、Ｈ６）、７.３５ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ、Ｈ５）、７.８ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ、Ｈ４）、８.３ｐｐｍ（ｓ、１Ｈ、Ｈ２）、１０.１ｐｐｍ（ｓ、１Ｈ、Ｈ３）。
【０１１６】
ステージ１．２：
１リットルフラスコに２５.５ｇの２−クロロ−６−(フェニル−アミノ)−プリン（１０４ｍｍｏｌ）、１６.７ｇのＫ２ＣＯ３（１２１ｍｍｏｌ）、及び５００ｍｌのＤＭＦを満たす。該混合物を、１時間攪拌してＫ２ＣＯ３を溶解させ、その後ヨウ化エチル（１６.１ｍｌ、２００ｍｍｏｌ）を添加する。該フラスコをアルゴン下２時間室温で攪拌する。完了時、該溶媒を、減圧下蒸発によって除去し、残った粉末を１５０ｍｌの酢酸エチルで抽出し、水（３×３０ｍｌ）及び３０ｍｌの飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄する。水層を酢酸エチル（２×１５０ｍｌ）で抽出する。合わせた有機相を乾燥させ（ＭｇＳＯ４）、濾過し、そして濃縮される。粗生成物を１００ｍｌのジエチルエーテルと攪拌して粗黄色粉末を生成し、その粉末を濾過し、そして高真空下５０℃で乾燥させる。２３.０８ｇ（８４ｍｍｏｌ、収率８１％）の２−クロロ−９−エチル−６−(フェニル−アミノ)−９Ｈ−プリンが白色の結晶性粉末で得られる。Ｒｆ＝０.６５（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ（９５／５）；融点  １５８℃；ＥＳＩ−ＭＳ：２７４(Ｍ＋Ｈ)＋；１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ、２００ＭＨｚ、ＴＭＳ）：１.４ｐｐｍ（ｔ、３Ｈ、Ｊ１＝７Ｈｚ、Ｈ１）、４.２ｐｐｍ（ｑ、２Ｈ、Ｊ１＝７Ｈｚ、Ｈ２）、７.１ｐｐｍ（ｔ、１Ｈ、Ｊ２＝８Ｈｚ、Ｈ７）、７.４ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ、Ｊ２＝８Ｈｚ、Ｈ６）、７.８５ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ、Ｊ２＝８Ｈｚ、Ｈ５）、８.３ｐｐｍ（ｓ、１Ｈ、Ｈ３）、１０.３ｐｐｍ（ｓ、１Ｈ、Ｈ４）。
【０１１７】
ステージ１．３：
バブラー（ＮａＯＨ）及びマグネチックスターラーを備えた２５０ｍｌの３首丸底フラスコに、３２.２ｍｌの９８％クロロスルホン酸（４８３ｍｍｏｌ）を満たし、０℃に冷却する。２２ｇの２−クロロ−９−エチル−６−(フェニル−アミノ)−９Ｈ−プリン（８０ｍｍｏｌ）をゆっくりと添加する。該混合物を、２時間室温で、そして１時間６０℃で攪拌する。該粗混合物を、その後水槽中に１滴ずつ注ぎ、０℃まで冷却し、濾過し、そして高真空下５０℃で乾燥させる。２６.６７ｇ（収率８９％）の２−クロロ−６−(４−クロロスルホニル−フェニル−アミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリンが白色の結晶性粉末で得られる。Ｒｆ＝０.５２（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ（９５／５）；融点  ２２０℃で分解；ＥＳＩ−ＭＳ：３７２(Ｍ＋Ｈ)＋；１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ、２００ＭＨｚ、ＴＭＳ）：１.４ｐｐｍ（ｔ、３Ｈ、Ｊ１＝７Ｈｚ、Ｈ１）、４.２ｐｐｍ（ｑ、２Ｈ、Ｊ１＝７Ｈｚ、Ｈ２）、７.５５ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ、Ｊ２＝９Ｈｚ、Ｈ５）、７.７５ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ、Ｊ２＝９Ｈｚ、Ｈ６）、８.５５ｐｐｍ（ｓ、１Ｈ、Ｈ３）、１０.５ｐｐｍ（ｓ、１Ｈ、Ｈ４）。
【０１１８】
ステージ１．４：
５０ｍｌのＣＨ２Ｃｌ２中の２−クロロ−６−(４−クロロスルホニル−フェニル−アミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン（７４５ｍｇ、２ｍｍｏｌ）の溶液に８ｍｍｏｌのブチルアミンを添加し、得られる溶液を、５０時間磁気攪拌しながら室温で維持する。反応完了時、粗混合物を、水（２×３０ｍｌ）及び３０ｍｌの飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄する。水層を、ＣＨ２Ｃｌ２（２×５０ｍｌ）で抽出する。合わせた有機相を乾燥させ（ＭｇＳＯ４）、濾過し、濃縮し、そして高真空下５０℃で乾燥させて、６−(４−Ｎ−ブチルアミノスルホニル−フェニル−アミノ)−２−クロロ−９−エチル−９Ｈ−プリン（６２６ｍｇ、収率７７％）が白色の結晶性粉末で得られる。Ｒｆ＝０.５０；（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ（９５／５）；融点  ２１８℃；ＥＳＩ−ＭＳ：４０９(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１１９】
実施例２〜７１
実施例１と同様にして実施例２〜７１が得られる。
【表１】
2002537300.tif 000024
【表２】
2002537300.tif 000025
【表３】
2002537300.tif 000026
【表４】
2002537300.tif 000027
【表５】
2002537300.tif 000028
【表６】
2002537300.tif 000029
【表７】
2002537300.tif 000030
【表８】
2002537300.tif 000031
【表９】
2002537300.tif 000032
【表１０】
2002537300.tif 000033
【表１１】
2002537300.tif 000034
【表１２】
2002537300.tif 000035
【表１３】
2002537300.tif 000036
【表１４】
2002537300.tif 000037
【表１５】
2002537300.tif 000038
凡例：
ａ）溶出液：（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ(９／１)＋１％ＮＨ３）
ｂ）溶出液：（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ(９５／５)＋１％ＮＨ３）
ｃ）溶出液：（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ(９／１)）
ｄ）ＨＰＬＣ−システム：Kontron 322システム、圧力：１３０バール（Ｔ＝０分）、流速：１ｍｌ／分
溶出液：Ｂ：アセトニトリル（＋０.１％トリフルオロ酢酸）
Ａ：水（＋０.１％トリフルオロ酢酸）
グラジエント：１３分  ２０〜１００％アセトニトリル＋５分  １００％アセトニトリル
ｅ）ＨＰＬＣ−システム：HP1100、カラム：Nucleosil 100-3 C18HD（長さ１２.５ｃｍ／直径４.６ｍｍ）、流速：１ｍｌ／分、検出波長２１５ｎｍ、オーブン温度３０℃）
グラジエント：アセトニトリル−水（両方に０.１％トリフルオロ酢酸含有）７分  ２０→１００％アセトニトリル＋３分  １００％アセトニトリル
ｆ）ＨＰＬＣ−システム：HP1100、カラム：Nucleosil 100-5 C18（長さ２５ｃｍ／直径４.６ｍｍ）、流速：１ｍｌ／分、検出波長２１５ｎｍ、オーブン温度３０℃）
グラジエント：アセトニトリル−水（両方に０.１％トリフルオロ酢酸含有）１３分  ２０→１００％アセトニトリル＋５分  １００％アセトニトリル
ｇ）ＨＰＬＣ−システム：Spectra Physics、カラム：Nucleosil 100-5 C18、
検出波長２１４ｎｍ、オーブン温度  室温）
グラジエント：アセトニトリル−水（両方に０.１％トリフルオロ酢酸含有）１３分  ２０→１００％アセトニトリル＋５分  １００％アセトニトリル
【０１２０】
実施例７２
２５０ｍｌフラスコに、５.４ｇ（１３.６ｍｍｏｌ）の３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−安息香酸、１１０ｍｌのＤＭＦ、５.２６ｇ（２７.４ｍｍｏｌ）のＥＤＣ、３.７１ｇ（２７.４ｍｍｏｌ）のＨＯＢＴ、及び９.５４ｍｌ（６８.４ｍｍｏｌ）のトリエチルアミンを満たす。室温で４０分攪拌後、２.２２ｍｌ（２０.３４ｍｍｏｌ）のベンジルアミンを添加し、そして該懸濁液を室温で更に２２時間攪拌する。完了後、該反応混合物を、水（８００ｍｌ）と酢酸エチル（３００ｍｌ）との間に分配する。水層を、酢酸エチル（２倍）で抽出する。合わせた有機層を水、飽和ＮａＨＣＯ３溶液、及び塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、そして濃縮する。クロマトグラフィー（シリカゲル、ＣＨ２Ｃｌ２／ＮｅＯＨ：９５／５）で精製後、所望のＮ−ベンジル−３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−ベンズアミドが結晶性粉末で得られる（６.０ｇ：収率９１％）。Ｒｆ＝０.４３；（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ（９／１））；融点  ２１５℃；ＥＳＩ−ＭＳ：４８６.２(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１２１】
ステージ１．１：
３００ｍｌの１−ペンタノール中の２,６−ジクロロプリン（１７ｇ、９０ｍｍｏｌ）の溶液に３７.８ｇ（２５０ｍｍｏｌ）のメチル−３−アミノ安息香酸エステルを添加し、７５℃で８時間攪拌する。室温まで冷却後、２００ｍｌのイソプロパノールを添加し、該混合物を１時間攪拌する。濾過後、沈殿物を、ＭｅＯＨ／Ｈ２Ｏ中に溶解し、ＮａＨＣＯ３で処理してｐＨ＞８とする。濾過後、該生成物を、Ｈ２Ｏ及びＭｅＯＨで洗浄し、乾燥させて２５.４ｇ（収率９３％）の３−(２−クロロ−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ)−安息香酸メチルエステルが得られる；Ｒｆ＝０.５；（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ（９／１））；融点  ２４２℃；ＥＳＩ−ＭＳ：３０４(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１２２】
ステージ１．２：
７５０ｍｌフラスコに、２５.４ｇ（８３.５ｍｍｏｌ）の３−(２−クロロ−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ)−安息香酸メチルエステル、１２.９５ｇ（９３.７ｍｍｏｌ）のＫ２ＣＯ３、及び３６０ｍｌのＤＭＦを満たす。該混合物を室温で３０分攪拌し、その後わずかに冷却しながら３５.８ｍｌ（４４３ｍｍｏｌ）のヨウ化エチルを添加する。完了後、該反応混合物を、水／ＥｔＯＡｃ（それぞれ１.２ｌ）中に注ぐ。水層を、酢酸エチル（２倍）で抽出する。合わせた有機層を、水及び塩水で洗浄し、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、そして濃縮する。クロマトグラフィー（シリカゲル、ＥｔＯＡｃ）により精製後、所望の３−(２−クロロ−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ)−安息香酸メチルエステル（１９.１ｇ：収率６９％）が得られる。Ｒｆ＝０.２５；(ＥｔＯＡｃ)；融点  １４８℃；ＥＳＩ−ＭＳ：３３２(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１２３】
ステージ１．３：
１８.９ｇ（５７ｍｍｏｌ）の３−(２−クロロ−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ)−安息香酸メチルエステル、及び３２.８ｇ（２８０ｍｍｏｌ）のトランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミンを、２００ｍｌのジグリム中に懸濁させ、４４時間磁気攪拌下１５５℃に維持する。室温まで冷却後、該混合物を、水／ＥｔＯＡｃ（それぞれ０.５／１.５ｌ）中に注ぐ。水層を、酢酸エチルで抽出する。合わせた有機層を、水及び塩水で洗浄し、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、そして濃縮する。クロマトグラフィー（シリカゲル、ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ：９／１）により精製後、所望の生成物３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−安息香酸メチルエステルが得られる；Ｒｆ＝０.４４；（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ：９／１）；融点  １８４℃；ＥＳＩ−ＭＳ：４１１(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１２４】
ステージ１．４：
１５.８ｇ（３８.５ｍｍｏｌ）の３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−安息香酸メチルエステルを、４００ｍｌのＭｅＯＨ、７７ｍｌのＨ２Ｏ、及び７７ｍｌのＬｉＯＨ溶液（１Ｍ）中に懸濁し、８０℃で７５分攪拌する。完了後、ＭｅＯＨを、減圧下除去し、そして水層を、ＥｔＯＡｃ（２倍）で洗浄する。該水層をその後１Ｎ  ＨＣｌ溶液でゆっくりと処理してｐＨ４〜４.５とする。沈殿物を、濾過し、中性のｐＨまで洗浄して、１３.２ｇ（収率８７％）の３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−安息香酸が得られる；Ｒｆ＝０.３４；（ＣＨ３Ｃｌ／ＭｅＯＨ／Ｈ２Ｏ／ＣＨ３ＣＯＯＨ  ８５／１３／１.５／０.５）；融点３１７℃；ＥＳＩ−ＭＳ：３９７(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１２５】
実施例７３
実施例７２と同様にして、３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−Ｎ−(４−フルオロ−ベンジル)−ベンズアミドが、白色結晶（収率６９％）として、２５０ｍｇ（０.６３ｍｍｏｌ）の３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−安息香酸、５ｍｌのＤＭＦ、１４５ｍｇ（０.７５ｍｍｏｌ）のＥＤＣ、１１５ｍｇ（０.７５ｍｍｏｌ）のＨＯＢＴ、及び８７ｍｇ（０.６９ｍｍｏｌ）の４−フルオロベンジルアミンから室温で、その後クロマトグラフィーにより精製することにより得られる；融点  １６５〜１６７℃；ＥＳＩ−ＭＳ：５０４.２(Ｍ＋Ｈ)＋；ｔＲｅｔ(ＨＰＬＣ)４.３１分（方法ｅ）。
【０１２６】
実施例７４
実施例７２と同様にして、３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−Ｎ−(４−メチル−ベンジル)−ベンズアミドが、白色結晶（収率７０％）として、２５０ｍｇ（０.６３ｍｍｏｌ）の３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−安息香酸、５ｍｌのＤＭＦ、１４５ｍｇ（０.７５ｍｍｏｌ）のＥＤＣ、１１５ｍｇ（０.７５ｍｍｏｌ）のＨＯＢＴ、及び８４ｍｇ（０.６９ｍｍｏｌ）の４−メチルベンジルアミンから室温で、その後クロマトグラフィーにより精製することにより得られる；融点  １３０〜１３４℃；ＥＳＩ−ＭＳ：５００.３(Ｍ＋Ｈ)＋；ｔＲｅｔ(ＨＰＬＣ)４.５０分（方法ｅ）。
【０１２７】
実施例７５
実施例７２と同様にして、３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−Ｎ−(４−メトキシ−ベンジル)−ベンズアミドが、白色結晶（収率４３％）として、２５０ｍｇ（０.６３ｍｍｏｌ）の３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−安息香酸、５ｍｌのＤＭＦ、１４５ｍｇ（０.７５ｍｍｏｌ）のＥＤＣ、１１５ｍｇ（０.７５ｍｍｏｌ）のＨＯＢＴ、及び９５ｍｇ（０.６９ｍｍｏｌ）の４−メトキシベンジルアミンから室温で、その後クロマトグラフィーにより精製することにより得られる；融点  １５７〜１５８℃；ＥＳＩ−ＭＳ：５１６.２(Ｍ＋Ｈ)＋；ｔＲｅｔ(ＨＰＬＣ)４.１８分（方法ｅ）。
【０１２８】
実施例７６
実施例７２と同様にして、３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−Ｎ−(４−トリフルオロメチル−ベンジル)−ベンズアミドが、白色結晶（収率６４％）として、２５０ｍｇ（０.６３ｍｍｏｌ）の３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−安息香酸、５ｍｌのＤＭＦ、１４５ｍｇ（０.７５ｍｍｏｌ）のＥＤＣ、１１５ｍｇ（０.７５ｍｍｏｌ）のＨＯＢＴ、及び９５ｍｇ（０.６９ｍｍｏｌ）の４−トリフルオロベンジルアミンから室温で、その後クロマトグラフィーにより精製することにより得られる；融点  １２９〜１３７℃；ＥＳＩ−ＭＳ：５５４.２(Ｍ＋Ｈ)＋；ｔＲｅｔ(ＨＰＬＣ)４.８８分（方法ｅ）。
【０１２９】
実施例７７
トランス−４−[６−(４−アミノ−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノール（１００ｍｇ、０.２７２ｍｍｏｌ）を、１ｍｌ  ジクロロメタン中に懸濁し、２２μｌ（０.２７２ｍｍｏｌ）の塩化メタンスルホニルで処置する。該反応混合物を、４８時間室温で攪拌する。該粗混合物を、濾過により回収し、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製する（ＣＨ２Ｃｌ２／ＮｅＯＨ  ９５：５）。Ｎ−{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−メタン−スルホンアミドがアモルファス物質で４３ｍｇ（３６％）得られる；ＭＳ(Ｍ＋Ｈ)＋４４４；ＨＰＬＣ(システムｈ)ｔＲ＝４.６３分。
【０１３０】
ステージ１．１：
実施例７２のステージ１．３と同様にして、トランス−４−[９−エチル−６−(４−ニトロ−フェニルアミノ)−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノール（収率３５％）が(２−クロロ−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル)−(４−ニトロ−フェニル)−アミンから得られる；ＥＳＩ−ＭＳ：３９８(Ｍ＋Ｈ)＋；ｔＲｅｔ(ＨＰＬＣ)７.７７分（方法ｆ）。
【０１３１】
ステージ１．２：
フラスコを、１.１５ｌのメタノール中に１２.１５ｇ（３０.５７ｍｍｏｌ）のトランス−４−[９−エチル−６−(４−ニトロ−フェニルアミノ)−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノールで満たし、アルゴン下維持する。４０℃でラネーニッケルをゆっくりと添加し、続いて１５.０４ｍｌ（５０.０６ｍｍｏｌ）のヒドラジン一水和物を滴下する。完了後、該反応混合物を、濾過し、濾液を濃縮し、該粗混合物を、クロマトグラフィーにより精製してトランス−４−[６−(４−アミノ−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノール（収率７４％）が得られる；ＥＳＩ−ＭＳ：３６８(Ｍ＋Ｈ)＋；ｔＲｅｔ(ＨＰＬＣ）７.４８分（方法：方法ｄと同様のシステム、７.５分間グラジエント５→４０％アセトニトリル＋１２分間アセトニトリル）。
【０１３２】
実施例７８及び７９
実施例７８及び７９は、実施例７７と同様にして合成される。
【０１３３】
実施例８０
実施例７７と同様にしてではあるがトランス−４−[６−(３−アミノ−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノールから開始して、Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−メタン−スルホンアミドが得られる；融点  ２６５〜２６７℃；ＭＳ(Ｍ＋Ｈ)＋４４６；ＨＰＬＣ(システムｈ)ｔＲ＝４.６６分。
【０１３４】
ステージ１．１：
実施例７２、ステージ１．３と同様にして、トランス−４−[９−エチル−６−(３−ニトロ−フェニルアミノ)−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノール（収率３５％）が、(２−クロロ−９−エチル−９Ｈ−プリン−６−イル)−(３−ニトロフェニル−アミン）から得られる；融点  ２３７〜２３８℃；Ｒｆ＝０.２９；（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ  ９５／５）；ＥＳＩ−ＭＳ：３６８(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１３５】
ステージ１．２：
フラスコを、７５ｍｌメタノール中に７９５ｍｇ（２ｍｍｏｌ）のトランス−４−[９−エチル−６−(３−ニトロ−フェニルアミノ)−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノールで満たし、アルゴン下維持する。４０℃で４０ｍｇのラネーニッケルをゆっくりと添加し、続いて１ｍｌ（３１ｍｍｏｌ）のヒドラジン一水和物を滴下する。完了後、該反応混合物を、濾過し、その濾液を濃縮し、該粗混合物を、ＥｔＯＡｃ（３００ｍｌ）中に溶解し、水で抽出し、乾燥させ、そして蒸発させて、トランス−４−[６−(３−アミノ−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノール（収率９４％）が得られる；融点  １４９〜１５１℃；ＥＳＩ−ＭＳ：３６８(Ｍ＋Ｈ)＋。
【０１３６】
実施例８１及び８２
実施例８１及び８２は、実施例８０と同様にして合成される。
【０１３７】
実施例８３
トランス−４−[６−(３−アミノ−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノール（実施例７７、ステージ１.２、１００ｍｇ、０.２７２ｍｍｏｌ）を１ｍｌジクロロメタン中に懸濁し、２１μｌ（０.２７２ｍｍｏｌ）クロロ蟻酸メチルで処理する。該反応混合物を、２０時間室温で攪拌し、その後更に等量のクロロ蟻酸メチル（２１μｌ、０.２７２ｍｍｏｌ）を添加する。更に室温で２３時間後、該反応混合物を、蒸発させ、該生成物を、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製する（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ  ９５：５）。{４−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−カルバミン酸メチルエステルが黄褐色結晶で、９３ｍｇ（８１％）得られる。融点  １３１〜１３５℃；ＭＳ[Ｍ＋Ｈ]＋４２６；ＨＰＬＣ(システムｈ)ｔＲ＝４.８４分。
【０１３８】
実施例８４〜９１
実施例８３と同様にして実施例８４及び８５を合成する。実施例８３と同様にしてではあるがトランス−４−[６−(３−アミノ−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イル−アミノ]−シクロヘキサノール（実施例８０、ステージ１．２）から開始して実施例８６〜９１が得られる。
【０１３９】
実施例９２
０℃で２０ｍｌのＤＭＦ中１９０ｍｇ（１ｍｍｏｌ）の(４−クロロフェニル)プロパルギル酸の溶液に１６５ｍｇ（１.１ｍｍｏｌ）のＨＯＢＴ及び２１０ｍｇ（１.１ｍｍｏｌ）のＥＤＣを添加する。０℃で３時間後、３６７ｍｇ（１ｍｍｏｌ）の４−[６−(３−アミノ−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イルアミノ]−シクロヘキサノール（実施例７７、ステージ１．２）を添加する。０℃で１時間及び室温で２.５時間後、溶媒を減圧下除去する。該粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、ジエチルエーテル中でのトリチュレーション、及びエタノールから再結晶し、１１０ｍｇ（０.２１ｍｍｏｌ）のＮ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(４−クロロフェニル)−プロパルギル酸アミドが得られる。
【０１４０】
実施例９３〜１０６
実施例９２と同様にして実施例９３〜９５は合成される。
【表１６】
2002537300.tif 000039
【表１７】
2002537300.tif 000040
【表１８】
2002537300.tif 000041
*HPLCシステムｈ
HPLCシステムｈ）：
カラム：  Nucleosil C18    長さ：１２.５ｃｍ／直径：４.０ｍｍ
流速  ：  １ｍｌ／分
検出  ：  ２１５ｎｍ
オーブン温度：  ３０℃
グラジエント：  アセトニトル−水（０.１％トリフルオロ酢酸含有）
３分  ５→４０％アセトニトリル＋６分  ４０％アセトニトリル
【０１４１】
実施例９６〜１０１
実施例９２と同様にしてではあるが、４−[６−(３−アミノ−フェニルアミノ)−９−イソプロピル−９Ｈ−プリン−２−イルアミノ]−シクロヘキサノールから開始して実施例９６〜１０１を合成する。各プロピン酸を、それに対応する市販のアルキンから文献法（J. Chem. Soc. Perkin Trans 2、1990、ｐ1997、H.G.Korth他）によって製造する。４−[６−(３−アミノ−フェニルアミノ)−９−イソプロピル−９Ｈ−プリン−２−イルアミノ]−シクロヘキサノールは、実施例７７（ステージ１．２）と同様にして製造するが、トランス−４−[９−エチル−６−(３−ニトロ−フェニルアミノ)−９Ｈ−プリン−２−イルアミノ]−シクロヘキサノールから開始する。トランス−４−[９−エチル−６−(３−ニトロ−フェニルアミノ)−９Ｈ−プリン−２−イルアミノ]−シクロヘキサノールは、実施例７２（ステージ１．１〜ステージ１．３）と同様にして製造するが、２,６−ジクロロプリン及び３−ニトロフェニルアニリンから開始する。
【表１９】
2002537300.tif 000042
【０１４２】
実施例１０２〜１０６
実施例９２と同様にして実施例１０２〜１０６を合成する。各プロピン酸は、それに対応する市販のアルキンから文献法（J. Chem. Soc. Perkin Trans 2、1990、ｐ1997、H.G.Korth他）によって製造する。
【表２０】
2002537300.tif 000043
【０１４３】
実施例１０７：Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(２,６−ジクロロフェニル)プロパルギル酸アミド
１２０ｍｌＤＭＦ及び１２０ｍｌアセトニトリル中の４.３ｇ（０.０２ｍｏｌ）(２,６−ジクロロフェニル)プロパルギル酸（M.S.Reich他、Bull. Soc. Chim. Fr. 21、217-225（1917）)溶液に、室温で、４.２３ｍｌ（０.０２５ｍｏｌ）Ｎ,Ｎ−ジ−イソプロピル−Ｎ−エチルアミンを添加し、続いて１００ｍｌＤＭＦ中の５.９４ｇ（０.０２ｍｏｌ）ＴＰＴＵ（Ｏ−(１,２−ジヒドロ−２−オキソ−１−ピリジル)−Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラメチルウロニウムテトラフルオロホウ酸塩、Fluka、Buchs、Switzerland）溶液を添加する。得られる溶液を室温で５分間攪拌し、その後ＤＭＦとアセトニトリル（２４０ｍｌ）の１：１の混合物中に７.３６ｇ（０.０２ｍｏｌ）の４−[６−(３−アミノ−フェニルアミノ)−９−エチル−９Ｈ−プリン−２−イルアミノ]−シクロヘキサノール（実施例７７、ステージ１．２）溶液を添加する。その添加には１.２５時間かかり、さらに１時間、室温で攪拌を続ける。［３０ｍｌＤＭＦ中の２.０ｇ（０.００６６ｍｏｌ）ＴＰＴＵを３０ｍｌＤＭＦ及び３０ｍｌアセトニトリル中の１.３ｇ（０.００６６ｍｏｌ）の（２,６−ジクロロフェニル)−プロパルギル酸に添加して、室温で５分間攪拌することにより調製する］予め活性化された(２,６−ジクロロフェニル)−プロパルギル酸の第２部分をその後３０分にわたって滴下する。更に１.５時間攪拌後、その溶媒を、減圧下蒸発させ、残渣を酢酸エチルと１０％水性クエン酸の混合物中に溶解する。その水層を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層を、水、飽和重炭酸ナトリウム、及び塩水で洗浄する。乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、該酢酸エチル溶液をその生成物が結晶化するまで濃縮する。該生成物を、濾過により回収し、少量の酢酸エチル中に再懸濁させ、濾過し、そして真空乾燥させる。Ｎ−{３−[９−エチル−２−(トランス−４−ヒドロキシ−シクロ−ヘキシルアミノ)−９Ｈ−プリン−６−イル−アミノ]−フェニル}−３−(２,６−ジクロロフェニル)−プロパルギル酸アミド（７.０ｇ、６０％）が、無色の固体で得られる。
【０１４４】
実施例１０８〜１１２
実施例１０７と同様にして実施例１０８〜１１２は合成される。
【表２１】
2002537300.tif 000044
ｇ）１％濃度ＮＨ３含有ジクロロメタン／エタノール  ９５：５
ｈ）ＨＰＬＣシステム
カラム：Nucleosil C18    長さ：１２.５ｃｍ／直径：４.０ｍｍ
流速        ：１ｍｌ／分
検出        ：２１５ｎｍ
オーブン温度：３０℃
グラジエント：アセトニトリル−水（０.１％トリフルオロ酢酸含有）
１３分  ２０→１００％アセトニトリル＋５分  １００％アセトニトリル
ｉ）１％濃度ＮＨ３含有酢酸エチル／メタノール  ９：１
【０１４５】
実施例１１３：ドライカプセル
前述の実施例において記載された化学式Ｉで表わされる化合物の１つをそれぞれ活性成分として０.２５ｇ含有している５０００カプセルを、以下の通りに製造する：
組成
活性成分                １２５０ｇ
タルク                    １８０ｇ
小麦デンプン              １２０ｇ
ステアリン酸マグネシウム    ８０ｇ
ラクトース                  ２０ｇ
製造方法：既述の粉末状物質を幅０.６ｍｍのメッシュのふるいに通す。該混合物の０.３３ｇ分を、カプセル充填機を利用してゼラチンカプセルに運ぶ。