【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式で表される化合物。
Y─Ar
［式中、Arは、
【化１】
2007505946.tif 000001
ナフチル、またはアントリルから選択され；
Yは、
【化２】
2007505946.tif 000002
から選択され、ここでWは、
【化３】
2007505946.tif 000003
から選択され、この際、R1A、R1B、R1C、R2A、R2B、R2C、R2D、R3A、R3B、R3C、R3D、R4A、R4B、R4C、R4D、R5A、R5B及びR5Cは、それぞれ独立して、Z、水素、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50環状アルキルカルボニル基、C5-50アリール基、C5-50アラルキル基、アリールカルボニルメチレン基、C1-20直鎖状もしくは分枝状アルコキシ鎖、ニトロ、シアノ、トレシルまたはヒドロキシルから選択され；  (i) R1DまたはR5Dの一方はニトロであり、かつ他の基は、水素、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50環状アルキルカルボニル基、C5-50アリール基、C5-50アラルキル基、アリールカルボニルメチレン基、シアノ、またはヒドロキシルから選択されるか、あるいは(ii) R1D及びR5Dは双方ともニトロであり；  R6及びR7は、それぞれ独立して、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50環状アルキルカルボニル基、C5-50アリール基、C5-50アラルキル基、アリールカルボニルメチレン基、ニトロ、シアノ、またはヒドロキシルから選択されるか、あるいはR6及びR7は、それらが結合するＳ原子と一緒になって、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含む５員、６員もしくは７員の飽和または不飽和環を形成し；  Tは、直接結合、場合によっては一つもしくはそれ以上のO原子を含む二価のC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル基、二価のC5-50アリール基、二価のC5-50アラルキル基、または二価のC5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基であり；  Zは、−(V)j−(C(X11)(X12))n−O−C(=O) −R8であり、この際、(i) X11またはX12の一方は、少なくとも一つのフッ素原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖であり、他の基は、水素、ハロゲン、またはC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖であるか、あるいは(ii) X11及びX12は、双方とも少なくとも一つのフッ素原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖であり；  Vは、直接結合、場合によっては一つもしくはそれ以上のO原子を含む二価のC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル基、二価のC5-50アリール基、二価のC5-50アラルキル基、または二価のC5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基から選択される連結基であり；  X2は、水素、ハロゲン、または場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖であり；  R8は、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、またはC5-50アリール基であり；  X3は、水素、C1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、ハロゲン、シアノまたは−C(=O)−R50であり、ここで、R50は、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖または−O−R51から選択され、ここで、R51は、水素またはC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖であり； jは0〜10であり；  mは0〜10であり；  そしてnは0〜10であり、
ただし上記の場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C1-20直鎖状もしくは分枝状アルコキシ鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50環状アルキルカルボニル基、C5-50アラルキル基、C5-50アリール基、ナフチル、アントリル、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含む５員、６員もしくは７員の飽和もしくは不飽和環、またはアリールカルボニルメチレン基は、置換されていないか、またはZ、ハロゲン、C1-20アルキル、C3-20環状アルキル, C1-20アルコキシ、C3-20環状アルコキシ、ジC1-20アルキルアミノ、二環式ジC1-20アルキルアミノ、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、トレシル、オキソ、アリール、アラルキル、酸素原子、CF3SO3、アリールオキシ、アリールチオ、及び次式(II)〜(VI)で表される基からなる群から選択される一つもしくはそれ以上の基によって置換されており；
【化４】
2007505946.tif 000004
前記式中、R10及びR11は、それぞれ独立して、水素原子、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、またはC5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基を表すか、あるいはR10及びR11は一緒になってアルキレン基を表して５員もしくは６員の環を形成することができ、
R12は、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、またはC5-50アラルキル基を表すか、あるいはR10及びR12は一緒になってアルキレン基を表し、これが、介在する−C−O−基と一緒になって５員もしくは６員の環を形成し、この際、この環中の炭素原子は場合によっては酸素原子で置換されており、
R13は、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、またはC5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基を表し、
R14及びR15は、それぞれ独立して、水素原子、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、またはC5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基を表し、
R16は、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50アリール基またはC5-50アラルキル基を表し、そして
R17は、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50アリール基、C5-50アラルキル基、式−Si(R16)2R17で表される基、または式−O−Si(R16)2R17で表される基を表し、この際、前記の場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50アリール基及びC5-50アラルキル基は、置換されていないかまたは上述の通り置換されており；  そして
A-はアニオンである］
【請求項２】
Arが、
【化５】
2007505946.tif 000005
である、請求項１の化合物。
【請求項３】
Yが、
【化６】
2007505946.tif 000006
である請求項２の化合物。
【請求項４】
R1A、R2A、R3A、R4A、及びR5Aの各々が、それぞれ独立して、Z、水素、または場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖から選択され、この際、前記の場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、またはC5-50アリール基は置換されていないかまたは置換されており、及び／またはR6及びR7が、それぞれ独立して、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、またはC5-50アリール基から選択され、及び／またはR8が、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖である、請求項３の化合物。
【請求項５】
R3AがZである、請求項１〜４のいずれか一つの化合物。
【請求項６】
4-O-アセチル-3,5-ジメチルフェニルジメチルスルホニウムノナフレート、または4-O-アセチル-3,5-ジメチルフェニルジメチルスルホニウムビス−パーフルオロブタンスルホンイミドである、請求項３の化合物。
【請求項７】
Yが、
【化７】
2007505946.tif 000007
である、請求項１または２の化合物。
【請求項８】
R3BがZまたは水素である、請求項７の化合物。
【請求項９】
Yが
【化８】
2007505946.tif 000008
である、請求項１または２の化合物。
【請求項１０】
Wが、
【化９】
2007505946.tif 000009
である、請求項９の化合物。
【請求項１１】
X2が水素、メチルまたはパーフルオロメチルであり、そして各々の場合にｍが１である、請求項１０の化合物。
【請求項１２】
R3CがZまたは水素から選択される、請求項１０または１１の化合物。
【請求項１３】
Wが、
【化１０】
2007505946.tif 000010
である、請求項９の化合物。
【請求項１４】
R1D及びR5Dの双方ともニトロであるか、あるいはR1DまたはR5Dの一方がニトロであり、他方が、水素、場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50環状アルキルカルボニル基、C5-50アリール基、C5-50アラルキル基、アリールカルボニルメチレン基、シアノ、またはヒドロキシルから選択され、但し、前記の場合によっては一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むC1-20直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、C5-50単環式、二環式もしくは三環式アルキル基、C5-50環状アルキルカルボニル基、C5-50アリール基、C5-50アラルキル基、及びアリールカルボニルメチレン基は置換されていないかまたは置換されている、請求項１３の化合物。
【請求項１５】
R3DがＺまたは水素である、請求項１３または１４の化合物。
【請求項１６】
【化１１】
2007505946.tif 000011
及び
【化１２】
2007505946.tif 000012
及び
【化１３】
2007505946.tif 000013
及び
【化１４】
2007505946.tif 000014
の群から選択される、請求項１の化合物。
【請求項１７】
ａ）  酸感応性基を含むポリマー、及び
ｂ）  請求項１〜１６のいずれか一つの化合物、
を含む、深紫外線で像を形成するのに有用なフォトレジスト組成物。
【請求項１８】
ａ）  請求項１７の組成物で基材をコーティングする段階；
ｂ）  基材をベーク処理して溶剤を実質的に除去する段階；
ｃ）  フォトレジスト塗膜を像様露光する段階；
ｄ）  フォトレジスト塗膜を露光後ベーク処理する段階；  及び
ｅ）  フォトレジスト塗膜を水性アルカリ性溶液で現像する段階；
を含む、フォトレジストに像を形成する方法。