Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月4日(2007.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＧＡＳ抗原の組み合わせを含む免疫原組成物であって、該組み合わせは２種から１０種のＧＡＳ抗原からなり、該組み合わせは、ＧＡＳ４０を含む、組成物。
【請求項２】
前記ＧＡＳ抗原の組み合わせは、ＧＡＳ３９、ＧＡＳ５７、ＧＡＳ１１７、ＧＡＳ２０２、ＧＡＳ２９４、ＧＡＳ５２７、ＧＡＳ５３３、およびＧＡＳ５１１からなる群から選択される１種以上のＧＡＳ抗原をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＧＡＳ抗原の組み合わせは、ＧＡＳ１１７を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ＧＡＳ４０抗原は、第１のコイルドコイル領域および第２のコイルドコイル領域を含むアミノ酸配列を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記ＧＡＳ４０抗原は、第１のコイルドコイル領域を含むアミノ酸配列を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記第１のコイルドコイル領域は、配列番号１２を含むアミノ酸配列を含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記ＧＡＳ４０抗原は、第２のコイルドコイル領域を含むアミノ酸配列を含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項８】
前記第２のコイルドコイル領域は、ロイシンジッパー領域を含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記第２のコイルドコイル領域は、配列番号１３を含むアミノ酸配列を含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
ＧＡＳ抗原の組み合わせを含む免疫原組成物であって、該組み合わせは、第１の抗原群の２種から３１種のＧＡＳ抗原からなり、該第１の抗原群は、ＧＡＳ１１７、ＧＡＳ１３０、ＧＡＳ２７７、ＧＡＳ２３６、ＧＡＳ４０、ＧＡＳ３８９、ＧＡＳ５０４、ＧＡＳ５０９、ＧＡＳ３６６、ＧＡＳ１５９、ＧＡＳ２１７、ＧＡＳ３０９、ＧＡＳ３７２、ＧＡＳ０３９、ＧＡＳ０４２、ＧＡＳ０５８、ＧＡＳ２９０、ＧＡＳ５１１、ＧＡＳ５３３、ＧＡＳ５２７、ＧＡＳ２９４、ＧＡＳ２５３、ＧＡＳ５２９、ＧＡＳ０４５、ＧＡＳ０９５、ＧＡＳ１９３、ＧＡＳ１３７、ＧＡＳ０８４、ＧＡＳ３８４、ＧＡＳ２０２、およびＧＡＳ０５７からなる、免疫原組成物。
【請求項１１】
前記ＧＡＳ抗原の組み合わせは、ＧＡＳ３９、ＧＡＳ４０、ＧＡＳ５７、ＧＡＳ１１７、ＧＡＳ２０２、ＧＡＳ２９４、ＧＡＳ５２７、ＧＡＳ５３３、およびＧＡＳ５１１からなる群から選択される、請求項１０に記載の免疫原組成物。
【請求項１２】
前記ＧＡＳ抗原の組み合わせは、ＧＡＳ４０およびＧＡＳ１１７を含む、請求項１０に記載の免疫原組成物。
【請求項１３】
前記組み合わせは、ＧＡＳ４０を含む、請求項１０に記載の免疫原組成物。
【請求項１４】
前記ＧＡＳ４０は、（ａ）第１のコイルドコイル領域、（ｂ）第２のコイルドコイル領域、または、（ｃ）第１のコイルドコイル領域および第２のコイルドコイル領域を含むアミノ酸配列から選択される、請求項１０に記載の免疫原組成物。
【請求項１５】
ＧＡＳ抗原の組み合わせを含む融合構築体であって、該組み合わせは、第１の抗原群の２種から３１種のＧＡＳ抗原からなり、該第１の抗原群は、ＧＡＳ１１７、ＧＡＳ１３０、ＧＡＳ２７７、ＧＡＳ２３６、ＧＡＳ４０、ＧＡＳ３８９、ＧＡＳ５０４、ＧＡＳ５０９、ＧＡＳ３６６、ＧＡＳ１５９、ＧＡＳ２１７、ＧＡＳ３０９、ＧＡＳ３７２、ＧＡＳ０３９、ＧＡＳ０４２、ＧＡＳ０５８、ＧＡＳ２９０、ＧＡＳ５１１、ＧＡＳ５３３、ＧＡＳ５２７、ＧＡＳ２９４、ＧＡＳ２５３、ＧＡＳ５２９、ＧＡＳ０４５、ＧＡＳ０９５、ＧＡＳ１９３、ＧＡＳ１３７、ＧＡＳ０８４、ＧＡＳ３８４、ＧＡＳ２０２、およびＧＡＳ０５７からなる、融合構築体。
【請求項１６】
前記組み合わせは、ＧＡＳ４０を含む、請求項１５に記載の融合構築体。
【請求項１７】
前記組み合わせは、ＧＡＳ４０およびＧＡＳ１１７を含む、請求項１５に記載の融合構築体。
【請求項１８】
２種以上の抗体の組み合わせを含む組成物であって、該抗体は、ＧＡＳ４０、ＧＡＳ１１７、ＧＡＳ１３０、ＧＡＳ２７７、ＧＡＳ２３６、ＧＡＳ４０、ＧＡＳ３８９、ＧＡＳ５０４、ＧＡＳ５０９、ＧＡＳ３６６、ＧＡＳ１５９、ＧＡＳ２１７、ＧＡＳ３０９、ＧＡＳ３７２、ＧＡＳ０３９、ＧＡＳ０４２、ＧＡＳ０５８、ＧＡＳ２９０、ＧＡＳ５１１、ＧＡＳ５３３、ＧＡＳ５２７、ＧＡＳ２９４、ＧＡＳ２５３、ＧＡＳ５２９、ＧＡＳ０４５、ＧＡＳ０９５、ＧＡＳ１９３、ＧＡＳ１３７、ＧＡＳ０８４、ＧＡＳ３８４、ＧＡＳ２０２、およびＧＡＳ０５７に対して特異的な抗体を含む抗体に対して特異的な抗体からなる群から選択される、組成物。
【請求項１９】
前記組み合わせは、ＧＡＳ４０に対して特異的な抗体を含む、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
前記ＧＡＳ４０特異的抗体は、ＧＡＳ４０の第１のコイルドコイル領域または第２のコイルドコイル領域に対して特異的である、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
連鎖球菌感染に対して感受性である動物において、Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｐｙｏｇｅｎｅｓ感染を治療的または予防的に処置するための、請求項１から１４および請求項１８から２０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２２】
請求項１から１４および請求項１８から２０のいずれか１項に記載の免疫原組成物を製造する方法。
【請求項２３】
請求項１から１４および請求項１８から２０のいずれか１項に記載の免疫原組成物を含む第１の成分を含むキット。
【請求項２４】
ＧＡＳ４０抗原を含む組成物であって、該抗原は、第１のコイルドコイル領域または第２のコイルドコイル領域を含むアミノ酸配列を含む、組成物。
【請求項２５】
前記ＧＡＳ４０抗原は、配列番号１２を含む第１のコイルドコイル領域を含む、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
前記ＧＡＳ４０抗原は、配列番号１３を含む第２のコイルドコイル領域を含む、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２７】
請求項２４から２６のいずれか１項に記載の組成物に対して特異的な抗体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月25日(2007.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
「ヘテロアリール」は本出願に定義するようなアリールを意味する；ただし、表示された１個以上の環炭素原子はＮ、ＯまたはＳから選択されるヘテロ原子部分と置換わっており、また各環は特に断りのない限り、５ないし６個の環原子から構成される。例えば、本出願に使用されるヘテロアリールは、チオフェニル、ピリジニル、フラニル、イソキサゾリル、ベンゾオキサゾリルまたはベンゾ［１,３］ジオキソリル、好ましくはチオフェニル、フラニルまたはピリジニルである。「ヘテロアリレン」は本出願に定義するようなヘテロアリールを意味するが、ただし、環集合体は二価の基を含む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
２−クロロ−１,３−ジニトロ−ベンゼン(１０ｍｍｏｌ)とＤＭＦ３０ｍＬとの溶液を０℃に冷却する。２−メルカプト−コハク酸ビス(３−メチル−ブチル)エステル(１１ｍｍｏｌ)を一度に加える。添加後、Ｅt３Ｎ(１２ｍｍｏｌ)をその温度を０℃に維持しながら混合物に滴下する。０℃で２時間攪拌した後、混合物を水(３００ｍＬ)に注ぎ、ＥtＯＡc(３×５０ｍＬ)で抽出する。有機層を併合し、食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥する。乾燥剤を濾去後、濾液を濃縮し、フラッシュ・カラム・クロマトグラフィー(シリカゲル、０〜２５％ＥtＯＡc／ヘキサン)により精製して、所望の産物２−(２,６−ジクロロ−フェニルスルファニル)−コハク酸ビス(３−メチル−ブチル)エステルを暗赤色油として得る。収率：５９％。
MS: (ES+): 457 [M+1]。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
粗製の２−(２,２−ジメチル−５−オキソ−[１,３]ジオキソラン−４−イル)−４Ｈ−ベンゾ［１,４］チアジン−３−オン(０.０３６ｍｍｏｌ)をＴＨＦ０.５ｍＬに溶かし、この混合物にＮＨ２ＯＨ０.５ｍＬ(１Ｎ／ＭeＯＨ)を加える。添加後、混合物を６０℃で３時間攪拌する。次いで、溶媒を減圧下に除去し、残渣を分取薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、１０％ＭeＯＨ／ＣＨ２Ｃｌ２)により精製して、標題化合物、２,Ｎ−ジヒドロキシ−２−(３−オキソ−３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ［１,４］チアジン−２−イル)−アセトアミドを得る。収率：７０％。
1H NMR (400 MHz, MeOD) δ7.30 (dd, 1H, J = 1.29 Hz, J = 8.0 Hz), 7.18, (dt, 1H, J = 1.3 Hz, J = 8.0 Hz), 7.01 ( dt, 1H, J = 1.3 Hz, J = 8.0 Hz), 6.95 ( dd, 1H, J = 1.3 Hz, J = 8.0 Hz), 4.74 (d, 1H, J = 3.80), 3.97 (d, 1H, J = 3.8)。 
MS: (ES+): 255.1[M+1]。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月25日(2007.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
背景技術
タンパク質キナーゼは、広範囲の細胞過程の制御および細胞機能の制御の維持において、重要な役割を演ずる、タンパク質の大きなファミリーを代表する。これらのキナーゼの部分的かつ非限定的なリストは下記を含む：血小板由来増殖因子受容体キナーゼ(ＰＤＧＦ−Ｒ)、幹細胞因子のための受容体キナーゼ、ｃ−ｋｉｔ、神経増殖因子受容体、ｔｒｋＢおよび線維芽細胞増殖因子受容体、ＦＧＦＲ３のような受容体チロシンキナーゼ；Ａｂｌおよび融合キナーゼＢＣＲ−Ａｂｌ、Ｆｅｓ、ＬｃｋおよびＳｙｋのような非受容体チロシンキナーゼ；およびｂ−ＲＡＦ、ＭＡＰキナーゼ(例えば、ＭＫＫ６)およびＳＡＰＫ２βのようなセリン／スレオニンキナーゼ。異常なキナーゼ活性は、良性および悪性増殖性障害ならびに免疫系および神経系の不適切な活性化に起因する疾患を含む多くの疾患状態で観察されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
線維芽細胞増殖因子受容体３は、骨増殖に負の制御作用を発揮し、軟骨細胞増殖を阻害することが示された。致死性異形成は、線維芽細胞増殖因子受容体３における異なる変異により引き起こされ、かつ、１個の変異ＴＤＩＩ  ＦＧＦＲ３が、転写因子Ｓｔａｔ１を活性化する構造的チロシンキナーゼ活性を有し、細胞−サイクル阻害剤の発現、生長停止および異常骨発育に至る(Su et al., Nature, 1997, 386, 288-292)。ＦＧＦＲ３はまた多発性骨髄腫型癌でしばしば発現される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
投与および医薬組成物
一般に、本発明の化合物は、治療的有効量を、当分野で既知の任意の通常のかつ許容される形態により、単独でまたは１個もしくはそれ以上の治療剤と組み合わせて投与するであろう。治療的有効量は、疾患の重症度、対象の年齢および相対的健康状態、使用する化合物の効果および他の因子に依存して広範囲に変化し得るであろう。一般に、満足な結果が、約０.０３から２.５mg／体重kgの一日量で、全身的に得られることが示される。大型哺乳類、例えばヒトにおいて、指示される一日量は、約０.５mgから約１００mgで、簡便には、例えば１日４回までに分割して、または持続形で投与する。経口投与に適した単位投与形は、約１から５０mg活性成分を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
本発明の化合物の被保護誘導体、当分野の当業者に既知の方法により製造できる。保護基の製造およびそれらの除去に適用できる技術の詳細は、T. W. Greene, “Protecting Groups in Organic Chemistry”, 3rd edition, John Wiley and Sons, Inc., 1999に見ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
アッセイ
本発明の化合物をアッセイして、親３２Ｄ細胞と比較した、ＢＣＲ−Ａｂｌを発現する３２Ｄ細胞(３２Ｄ−ｐ２１０)の細胞増殖を選択的に阻害する能力を測定する。これらのＢＣＲ−Ａｂｌ形質転換細胞の増殖を選択的に阻害する化合物を、Ｂｃｒ−ａｂｌの野生型または変異体のいずれかを発現するＢａ／Ｆ３細胞に対する抗増殖性活性を試験する。加えて、化合物をアッセイして、Ａｂｌ、Ｂｍｘ、ｃ−Ｒａｆ、Ｃｓｋ、Ｆｅｓ、ＦＧＦＲ、Ｆｌｔ３、Ｉｋｋ、ＩＲ、ＪＮＫ、Ｌｃｋ、Ｍｋｋ、ＰＫＣ、ＰＫＤ、Ｒｓｋ、ＳＡＰＫ、Ｓｙｋ、Ｔｒｋ、ＢＴＫ、Ｓｒｃ、ＥＧＦＲ、ＩＧＦ、Ｍｅｋ、ＲｏｓおよびＴｉｅ２キナーゼを阻害する能力について測定する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
細胞サイクル分布に対する効果
３２Ｄおよび３２Ｄ−ｐ２１０細胞を、６ウェルＴＣプレートに、５mlの培地中２.５×１０６細胞／ウェルの密度で播種し、１または１０μMの試験化合物を添加する(ＳＴＩ５７１をコントロールとして含む)。細胞を次いで、２４または４８時間、３７℃、５％ＣＯ２でインキュベートする。２mlの細胞懸濁液をＰＢＳで洗浄し、７０％ＥｔＯＨ中に１時間固定し、ＰＢＳ／ＥＤＴＡ／ＲＮａｓｅ  Ａで３０分間処理する。ヨウ化プロピジウム(Ｃｆ＝１０μg／ml)を添加し、蛍光強度を、FACScaliburＴＭシステム(BD Biosciences)のフローサイトメトリーにより定量する。本発明の試験化合物は、３２Ｄ−ｐ２１０細胞においてアポトーシス作用を示すが、３２Ｄ親細胞ではアポトーシスを誘発しない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
細胞ＢＣＲ−Ａｂｌ自己リン酸化に対する効果
ＢＣＲ−Ａｂｌ自己リン酸化を、捕捉Elisaで、ｃ−ａｂｌ特異的捕捉抗体および抗ホスホチロシン抗体を使用して定量する。３２Ｄ−ｐ２１０細胞を、９６ウェルＴＣプレートに、５０μLの培地中２×１０５細胞／ウェルの密度で播種する。５０μLの、試験化合物の２倍連続希釈(Ｃｍａｘは１０μM)を各ウェルに添加する(ＳＴＩ５７１を陽性コントロールとして含む)。細胞を９０分間、３７℃、５％ＣＯ２でインキュベートする。細胞を、次いで１時間、氷上で、プロテアーゼおよびホスファターゼ阻害剤を含む１５０μLの融解緩衝液(５０mM  Ｔｒｉｓ  ＨＣｌ、ｐＨ７.４、１５０mM  ＮａＣｌ、５mM  ＥＤＴＡ、１mM  ＥＧＴＡおよび１％ＮＰ  ４０)で処理する。５０μLの細胞融解物を、予め抗ａｂｌ特異的抗体でコートした９６ウェルoptiplateに添加し、ブロックする。プレートを４時間、４℃でインキュベートする。TBS Tween 20緩衝液で洗浄後、５０μLのアルカリホスファターゼ結合抗ホスホチロシン抗体を添加し、プレートを、さらに一晩、４℃でインキュベートする。TBS Tween 20緩衝液で洗浄後、９０μLの発光基質を添加し、発光をAcquestＴＭシステム(Molecular Devices)を使用して定量する。ＢＣＲ−Ａｂｌ発現細胞の増殖を阻害する本発明の試験化合物は、細胞ＢＣＲ−Ａｂｌ自己リン酸化を、用量依存的方法で阻害する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月2日(2007.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
Ｒ１−（Ｃ＝Ｓ）−ＮＨ２      （Ｉ）
（式中、Ｒ１は、ヘテロアリール、フェニル又は（１個、２個、３個若しくは４個の、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ２および−ＮＯ２からなる群から独立して選択された置換基によって置換された）フェニルからなる群から選択される。）
の化合物の製造方法であって、
式（ＩＩ）：
Ｒ１−Ｃ≡Ｎ      （ＩＩ）
を有する化合物を、塩基及びＨ２Ｓと反応させる工程
を含む、前記方法。
【請求項２】
塩基が、式（ＩＩＩ）：
（Ｍ）＋（ＹＨ）−      （ＩＩＩ）
（式中、Ｍは、ナトリウム、カリウム、リチウム又は−ＮＨ４であり、Ｙは、酸素又は硫黄である。）
の化合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記方法が、少なくとも１０ｐｓｉの圧力下で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記方法が、約０℃から約１５０℃の温度で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記方法が溶媒中で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記溶媒が水である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
Ｒ１が、１個の−ＯＨ置換基で置換されたフェニルである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
Ｍがナトリウムであり、Ｙが硫黄である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
Ｍがナトリウムであり、Ｙが酸素である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
４−ヒドロキシベンゼンカルボチオアミドの製造方法であって、４−ヒドロキシベンゾニトリル及び硫化水素ナトリウムを、少なくとも１０ｐｓｉの圧力下で約０℃から約１５０℃の温度で溶媒中で反応させることを含む、前記方法。
【請求項１１】
圧力が６０ｐｓｉであり、温度が７０℃であり、溶媒が水である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
式（ＩＶ）：
【化１】
2007500724.tif 000001
（式中、Ｒ１は、ヘテロアリール、フェニル又は（１個、２個、３個若しくは４個の、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ２および−ＮＯ２からなる群から独立して選択された置換基によって置換された）フェニルからなる群から選択され、
Ｒ２は、水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルおよびＣ２−Ｃ６−アルキニルからなる群から選択され、
Ｒ３は、水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルおよびＣ２−Ｃ６−アルキニルからなる群から選択される。）
の化合物の製造方法であって、
式（Ｉ）：
Ｒ１−（Ｃ＝Ｓ）−ＮＨ２      （Ｉ）
を有する化合物を、式（Ｖ）：
【化２】
2007500724.tif 000002
（式中、Ｘは、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ及び−Ｆからなる群から選択される。）
を有する化合物と反応させる工程
を含む、前記方法。
【請求項１３】
前記方法が、約０℃から約１５０℃の温度で実施される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記方法が溶媒中で実施される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記溶媒がエタノールである、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
Ｒ１が、１個の−ＯＨ置換基で置換されたフェニルである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
Ｒ２がエチルである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
Ｒ３がメチルである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１９】
Ｘが−Ｃｌである、請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
エチル２−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−１，３−チアゾール−Ｓ−カルボキシラートの製造方法であって、４−ヒドロキシベンゼンカルボチオアミドを、エチル−２−クロロアセトアセタートと、約０℃から約１５０℃の温度で有機溶媒中で反応させることを含む、前記方法。
【請求項２１】
温度が８０℃であり、有機溶媒がエタノールである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
式（ＩＶ）：
【化３】
2007500724.tif 000003
（式中、Ｒ１は、ヘテロアリール、フェニル又は（１個、２個、３個若しくは４個の、水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ２および−ＮＯ２からなる群から独立して選択された置換基によって置換された）フェニルからなる群から選択され、
Ｒ２は、水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルおよびＣ２−Ｃ６−アルキニルからなる群から選択され、
Ｒ３は、水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルおよびＣ２−Ｃ６−アルキニルからなる群から選択される。）
の化合物の製造方法であって、
（ａ）式（ＩＩ）：
Ｒ１−Ｃ≡Ｎ      （ＩＩ）
を有する化合物を、塩基及びＨ２Ｓと反応させて、式（Ｉ）：
Ｒ１−（Ｃ＝Ｓ）−ＮＨ２      （Ｉ）
の化合物を得る工程、並びに
（ｂ）工程（ａ）の生成物を、式（Ｖ）：
【化４】
2007500724.tif 000004
（式中、Ｘは、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ及び−Ｆからなる群から選択される。）
を有する化合物と反応させる工程
を含む、前記方法。
【請求項２３】
工程（ａ）に於ける塩基が、式（ＩＩＩ）：
（Ｍ）＋（ＹＨ）−      （ＩＩＩ）
（式中、Ｍは、ナトリウム、カリウム、リチウム又は−ＮＨ４であり、Ｙは、酸素又は硫黄である。）
の化合物である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
工程（ａ）が、少なくとも１０ｐｓｉの圧力下で実施される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
工程（ａ）及び（ｂ）が溶媒中で実施される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】
工程（ａ）及び（ｂ）が、約０℃から約１５０℃の温度で実施される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２７】
連続方法として実施される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２８】
エチル２−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−１，３−チアゾール−Ｓ−カルボキシラートの製造方法であって、
（ａ）４−ヒドロキシベンゾニトリル、水酸化ナトリウム及び硫化水素を、少なくとも１０ｐｓｉの圧力下で約０℃から約１５０℃の温度で溶媒中で反応させる工程、並びに
（ｂ）工程（ａ）の生成物を、エチル−２−クロロアセトアセタートと、約０℃から約１５０℃の温度で溶媒中で反応させる工程
を含む、前記方法。
【請求項２９】
（ａ）に於いて、圧力が６０ｐｓｉであり、温度が７０℃であり、溶媒が水であり、および（ｂ）に於いて、温度が８０℃であり、溶媒がエタノールである、請求項２９に記載の方法。
【請求項３０】
（ａ）に於いて使用する溶媒が、（ｂ）に於いて使用する同じ溶媒である、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
（ａ）に於いて、圧力が６０ｐｓｉであり、温度が７０℃であり、溶媒がエタノールであり、および（ｂ）に於いて、温度が８０℃であり、溶媒がエタノールである、請求項２９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月16日(2007.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の方法を実施するために使用されることを特徴とする請求項１２或いは請求項１３に記載の調整装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月25日(2007.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作物中の開口部によって受容可能な管状の継手であって：
外側周縁および内側周縁を有するリング部分であって、該外側周縁部分が、該工作物中の開口部よって緊密に受容可能である、リング部分；
少なくとも、最小の内側周縁、外側エンベロープ、および端部セクションを有する第１のカップリング部材であって、該カップリング部材は、該リング部分か ら軸方向に伸び、該最小の内側周縁が該リング部分の内側周縁り大きく、該外側エンベロープが該工作物中の開口部を通って移動するようなサイズであり、そして該端部セクションが別のデバイスと係合可能であるような形態である、第１のカップリング部材；および
半径方向に拡張可能であるリング部分であって、拡張の量が該リング部分の外側周縁と該工作物中の開口部との間に強固な締まりばめを確立するに十分である、リング部分、を備える、管状の継手。
【請求項２】
前記リング部分が、構造工作物との締まりばめを形成するような形態である、請求項１に記載の管状の継手。
【請求項３】
前記リング部分が、前記リング部分の外側周縁が前記工作物中の開口部内にあるとき、該工作物に隣接して位置決めされる半径方向フランジを含む、請求項１に記載の管状の継手。
【請求項４】
前記カップリング部材の端部セクションの近傍に位置する、半径方向に開口する周囲溝を備える、請求項１に記載の管状の継手。
【請求項５】
前記リング部分から軸方向に突き出し、そして前記第１のカップリング部材から該工作物の対向する側面上に負荷される第２のカップリング部材を備える、請求項１に記載の管状の継手。
【請求項６】
各カップリング部材が、半径方向に開口する周囲溝を有する、請求項５に記載の管状の継手。
【請求項７】
工作物中の開口部を通る導管の経路を強固にとるための継手であって：
外側周縁および内側周縁を有するリング部分であって、該外側周縁部分が該工作物中の開口部よって緊密に受容可能であり、該内側周縁部分が該導管のセク ションを受容するようなサイズであり、該リング部分は、半径方向に拡張可能であり、ここで、拡張の量が、該リング部分の外側周縁と該工作物中の開口部との間の強固な締まりばめを確立するに十分である、リング部分；および
少なくとも、最小の内側周縁、外側エンベロープ、および端部セクションを有する少なくとも１つのカップリング部材であって、該カップリング部材は、該リ ング部分から軸方向に伸び、該最小の内側周縁が該リング部分の内側周縁り大きく、該外側エンベロープが該工作物中の開口部を通って移動するようなサイズであり、そして該端部セクションが少なくとも１つの他のデバイスとカップルするような形態である、カップリング部材を備える、継手。
【請求項８】
前記リング部分の外側周縁から外方に延びる半径方向フランジをさらに備え、該半径方向フランジが、該リング部分が前記工作物中の開口部によって緊密に受容されるとき、該工作物の一部分に対して接し、そして該工作物の一部に沿って半径方向の外方に延びるような寸法である、請求項７に記載の継手。
【請求項９】
前記１つの他のデバイスが、前記カップリング部材の端部セクションとカップルされるキャップである、請求項７に記載の継手。
【請求項１０】
前記１つの他のデバイスが、前記カップリング部材の端部セクションとカップルされる導管部分である、請求項７に記載の継手。
【請求項１１】
工作物中の開口部を架橋する継手アセンブリであって：
該工作物中の開口部中に緊密に受容されるようなサイズである外径を有する挿入物であって、該挿入物を通り、そしてそれ故、該工作物中の開口部を通る流体連通を提供する内側通路を有し；該工作物と締まりばめを形成するよう半径方向にかつ可塑的に拡張されるよう十分に可鍛性である、挿入物；および
第１の端部、第２の端部、および該挿入物との流体連通を提供する内側通路を有する少なくとも１つのカップリング部材であって、該挿入物から軸方向に伸 び、該カップリング部材の第１の端部が該挿入物の近位方向に位置決めされ、該カップリング部材の第２の端部が少なくとも１つの導管とカップルされるよう作動可能である、カップリング部材、を備える、継手アセンブリ。
【請求項１２】
工作物中の開口部を通る導管に経路をとるための方法であって：
継手の第１の部分を工作物中の開口部に挿入する工程であって、該継手の第１の部分が該開口部によって受容されるに十分なサイズの外側エンベロープを有 し、該継手が該工作物の開口部中に位置決めされるリング部分をさらに有し、該リング部分が該第１の部分と連結され、ここで、該第１の部分が該リング部分から軸方向に伸び、該リング部分が該工作物の開口部内に密接に適合するようなサイズの外側周縁を有する、工程；
該工作物中に位置する継手を通じてマンドレルを挿入する工程であって、該継手のリング部分が該マンドレルの増加した周縁セクションによって半径方向に拡 張可能である内側周縁を有し、該継手の第１の部分が該マンドレルの増加した周縁セクションよりわずかにより大きいサイズの内側周縁を有する、工程；および
該継手のリング部分を、該マンドレルが該リング部分の内側周縁を通って押されるとき半径方向外側に拡張する工程、を包含する、方法。
【請求項１３】
前記工作物のリング部分の外側周縁に隣接して位置する工作物中の材料を冷間加工する工程をさらに包含する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
第２のデバイスを前記継手の第１の部分とカップリングする工程であって、該第２のデバイスが前記導管に、該導管が該第２のデバイスが取り付けられるとき固定された継手を通る経路をとるように固定される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記工作物が、構造工作物であり、そして前記継手のリング部分が、該リング部分が該構造工作物の開口部と締まりばめを形成するように接触する、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】膜ポンプ
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本出願は、2003年5月16日に出願された米国特許出願第10/439,535号に基づく優先権を主張して、2004年5月13日に米国法人ワーナーエンジニアリング社によって出願されたＰＣＴ国際特許出願である。
本発明は、改善された膜ポンプに概ね関し、より詳しくは、膜の作動油駆動側に過充填防止要素をもつ改善された膜ポンプに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一分岐20及び第二分岐30に分岐する主チューブ10を含むＹ字形チューブを含む装置であって、ここで、その分岐20、30の一つが障害物50を含み、一方、両方の分岐20、30の端部に導入されたガス100を集め、かつ／又はその量を測定するための装置60a、60bが設けられていることを特徴とする、肺、肺の容積及び呼吸特性を提示するための装置。
【請求項２】
障害物50が二つの分岐20、30の一つの中央に設けられていることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項３】
二つの分岐20、30が実質的に同じ長さであることを特徴とする、請求項１又は２記載の装置。
【請求項４】
障害物50がチューブの直径の減少を構成することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項記載の装置。
【請求項５】
装置がガラス、プラスチック、金属もしくは木材からなり、又はこれらの材料の一種を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
二つの分岐20、30の端部にバルーン60a、60bがあることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項記載の装置。
【請求項７】
二つの分岐20、30がビードの形態の肥厚部分をそれらの端部に有することを特徴とする、請求項６記載の装置。
【請求項８】
それ自体が取り扱われ、回転され、手術中にあらゆる面から見られる請求項１〜７のいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
閉塞性呼吸疾患における肺、肺の容積及び呼吸特性を提示するための請求項１〜８のいずれか１項記載の装置の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月29日(2007.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー母材と、
昼光照明条件下で赤−橙色の色を有する物品を提供するのに十分な量で前記ポリマー母材に添加された少なくとも１つの螢光染料と、
前記ポリマー母材を通過した光を受容するように配置された再帰反射要素と、
を含み、少なくとも３５０ｃｄ／（ｌｕｘ・ｍ２）の平均再帰反射性および少なくとも２０の輝度率Ｙを有する、螢光性赤−橙色再帰反射物品。
【請求項２】
ポリマー母材と、
昼光照明条件下で赤−橙色の色を有する物品を提供するのに十分な量で前記ポリマー母材に添加された少なくとも１つの螢光染料と、
前記ポリマー母材を通過した光を受容するように配置された再帰反射要素と、
を含み、前記赤−橙色の色のＣＩＥ色度座標（ｘ，ｙ）が、ＣＩＥ色度座標（０．５８０，０．３８４）、（０．６１０，０．３９０）、（０．６３３，０．３６６）および（０．６０２３，０．３６０）によって境界を定められた色空間の範囲内である、螢光性赤−橙色再帰反射物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月30日(2007.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集束プローブビームを用いて物体を走査するための照射アームと、
前記物体から光を受光するための検出アームであって、複数のピクセルのそれぞれに関するピクセルデータを生成するために、前記物体からの光を集光して検出するための検出器および前記複数のピクセルのそれぞれに関する波面データを生成するために、前記物体からの光の位相の変動を検知するための波面センサを具備する前記検出アームと、
各ピクセルに関するピクセルデータおよび各ピクセルに関する波面データに基づいて、前記複数のピクセルに関する画像データを生成するためのデータプロセッサと、
前記データプロセッサからの画像データに基づいて、前記物体の画像を表示するためのディスプレイと、
を具備し、
前記検出アームは、
前記物体から光を集光するための対物レンズおよび
前記対物レンズからの光を前記検出器に向けられる第１のビームおよび前記波面センサに向けられる第２のビームに分割するためのビームスプリッタ、
を具備し、
前記波面センサは、
前記第２のビームをスポットのアレイに集束するためのマイクロレンズアレイおよび
前記スポットを検知するための検出器アレイ、
を具備する走査型レーザ顕微鏡。
【請求項２】
物体のピクセル位置にわたって集束光スポットを走査するための照射アームと、
照射されたピクセル位置からの光を集光するための対物レンズと、
前記光を第１のビームと第２のビームに分割するビームスプリッタと、
各ピクセル位置において前記集光された光の波形形状を検知するための波面センサと、
各ピクセル位置における前記検知された波形形状からそのピクセル位置に関する画像情報を導出するためのデータプロセッサと、
前記ピクセル位置に関して導出された前記画像情報に基づいて、前記物体の画像を表示するためのディスプレイと、
を具備し、
前記波面センサは、
前記第２のビームをスポットのアレイに集束するためのマイクロレンズアレイおよび
前記スポットを検知するための検出器アレイ、
を具備し、
前記データプロセッサは、前記波面形状から前記波面形状に関連する前記ピクセル位置の小規模の特徴部からの集光されていない散乱光に関する空間周波数情報を導出し、前記空間周波数情報に基づき、解像度が向上された画像のための画像情報を生成する走査型顕微鏡。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月13日(2007.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ処理システムであって、
第１のマスタと、
前記第１のマスタが使用するための、前記第１のマスタと結合している記憶回路と、
第１のプリフェッチ制限を記憶する第１の制御記憶回路と、
プリフェッチ・バッファと、
前記第１の制御記憶回路、前記プリフェッチ・バッファ、および前記記憶回路と結合しているプリフェッチ回路であって、前記記憶回路から前記プリフェッチ・バッファ内に所定数のラインを選択的にプリフェッチし、前記第１のプリフェッチ制限が、前記プリフェッチ・バッファ内のミスの間に発生するプリフェッチの回数を制御する前記プリフェッチ回路と、
を備えるデータ処理システム。
【請求項２】
第１のプリフェッチ・カウンタをさらに備え、前記プリフェッチ回路が、前記第１のプリフェッチ・カウンタに基づいて、前記記憶回路から前記プリフェッチ・バッファ内に前記所定数のラインを選択的にプリフェッチする請求項１に記載のデータ処理システム。
【請求項３】
データ処理システムでプリフェッチを行うための方法であって、
マスタからアクセス記憶回路へ複数のアクセス要求を受信するステップと、
前記複数のアクセス要求の少なくとも一部からのプリフェッチ・バッファ内のミスの間に行ったプリフェッチの回数を制限するために、プリフェッチ制限を使用するステップと、
を含む方法。
【請求項４】
プリフェッチの回数を制限するために前記プリフェッチ制限を使用するステップが、
前記プリフェッチ制限にいつ達したのかを判定するために、前記プリフェッチ・バッファ内のミスの後でプリフェッチをカウントするステップを含む請求項３に記載の方法。
【請求項５】
データ処理システムでプリフェッチを行うための方法であって、
マスタからアクセス記憶回路への読出し要求を受信するステップと、
前記読出し要求が、プリフェッチ・バッファ内のヒットまたはミスになるかどうかを判定するステップと、
前記読出し要求がヒットになった場合に、少なくとも一部は第１の値に達しているプリフェッチ・カウンタに基づいて、前記記憶回路から前記プリフェッチ・バッファ内に所定
数のラインのプリフェッチを選択的に行うステップと、
前記読出し要求がミスになった場合に、前記読出し要求に応じて要求フェッチを行い、前記プリフェッチ・カウンタを第２の値に設定するステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月13日(2007.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フルオロポリマーから溶融加工された物品に起因する金属汚染を測定するための方法であって、
（ａ）前記物品の表面に存在する前記金属を除去するように、前記物品を清浄化にかける工程と、
（ｂ）得られた清浄化物品を浸出溶液にさらす工程と、
（ｃ）浸出溶液中の前記金属の濃度を測定する工程と
を含み、前記物品の表面が、約０．２μｍ以下のＲＭＳ粗度によって特徴付けられる平滑度を有し、これにより前記清浄化による前記物品の表面からの金属汚染の除去が容易になり、それによってステップ（ｃ）で測定される前記金属の濃度が、前記物品の表面に存在する前記金属による影響を受けないことを特徴とする方法。
【請求項２】
フルオロポリマーを物品に溶融加工するための方法であって、約０．２μｍ以下のＲＭＳ粗度によって特徴付けられる平滑度を有する前記物品を得るように前記溶融加工を実行することを含み、それによって前記物品がＦ５７試験に合格することを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
１．９７ｇ／１０分のＭＦＲを有し、Ｎｉ  ０．３ｐｐｂ、Ｃｒ  ０．２ｐｐｂおよびＦｅ  １．０ｐｐｂのバルク金属汚染を有するＴＦＥ／ＰＰＶＥコポリマーでは、同じ押出条件下で同様の結果（浸出溶液中のＮｉ  ０．５２μｇ／ｍ２）が得られ、得られる管は、０．１７μｍのＲＭＳ粗度によって特徴付けられる表面平滑度を有する。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  フルオロポリマーから溶融加工された物品に起因する金属汚染を測定するための方法であって、
（ａ）前記物品の表面に存在する前記金属を除去するように、前記物品を清浄化にかける工程と、
（ｂ）得られた清浄化物品を浸出溶液にさらす工程と、
（ｃ）浸出溶液中の前記金属の濃度を測定する工程と
を含み、前記物品の表面が、約０．２μｍ以下のＲＭＳ粗度によって特徴付けられる平滑度を有し、これにより前記清浄化による前記物品の表面からの金属汚染の除去が容易になり、それによってステップ（ｃ）で測定される前記金属の濃度が、前記物品の表面に存在する前記金属による影響を受けないことを特徴とする方法。
［２］  前記表面が、約０．１μｍ以下のＲＭＳ粗度によって特徴付けられる平滑度を有することを特徴とする［１］に記載の方法。
［３］  フルオロポリマーを物品に溶融加工するための方法であって、約０．２μｍ以下のＲＭＳ粗度によって特徴付けられる平滑度を有する前記物品を得るように前記溶融加工を実行することを含み、それによって前記物品がＦ５７試験に合格することを特徴とする方法。
［４］  前記溶融加工の前記実行がモールド内での射出成形であり、前記モールドの表面が、前記表面平滑度を提供するように研磨されることを特徴とする［３］に記載の方法。
［５］  前記溶融加工の前記実行が押出成形であり、押出速度および押出温度が、メルトフラクチャーを回避するように選択されて、前記表面平滑度を提供することを特徴とする［３］に記載の方法。
［６］  前記物品が、約１０ｐｐｂよりも多い前記金属を含有することを特徴とする［３］に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年7月2日(2007.7.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
回転可能に装着された複数の可動薄板（４，４’）を備えた少なくとも１つのシステム絞り（１）を有する光学結像装置、特に半導体リソグラフィ用のオブジェクティブであって、薄板（４，４’）が球状に湾曲していることを特徴とする光学結像装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つのシステム絞りを備えた光学結像装置、特に半導体リソグラフィ用のオブジェクティブに関する。該システム絞りは、複数の可動薄板から構成されている。
光学結像装置において様々なタイプの絞りがシステム絞りとして使用されていることは広く知られている。絞りによる光束の画定は、光学的結像を行うのに非常に重要である。絞りは光束の直径を左右するあるいは変化させることができるため、光学結像装置の光学結像品質にかなり影響し、光学結像品質を改善することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
リソグラフィオブジェクティブにおけるこのような絞りが、転がり軸受または滑り軸受を備えることは先に開示された解決法、例えばドイツ特許公開公報ＤＥ１９９５５９８４Ａ１からもわかる。例えば、薄板の回転軸受中心軸が滑るまたは転がるように取り付けられていたり、及び／または、薄板を移動させる駆動要素が滑るまたは転がるように取り付けられていたり、及び／または薄板の力駆動点に滑り軸受または転がり軸受けが存在したりする。リソグラフィオブジェクティブ内部のこのような軸受それぞれが問題である。滑り摩擦または転がり摩擦はレンズを汚す粒子を生成し、その結果、結像品質をかなり落としてしまう。さらに、レンズ内部の潤滑もまた大いに問題となる。潤滑されない軸受であっても動作信頼性に関する危険性が高い。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
本発明によると請求項１の特徴により本目的が達成される。
本発明の光学結像装置のシステム絞りは、回転可能に装着される球状に湾曲した薄板を備える。薄板の回転軸受中心軸は好ましくは球の湾曲の中心に向けられており、球は球状湾曲部あるいは薄板の形状を規定する。これにより、開閉時にシステム絞りの光規定エッジを球面に沿って移動させることが可能になる。この結果、開口幅ごとに例えば投影オブジェクティブのような光学結像装置の光軸に沿っていろいろな位置で、球に対応する湾曲上を移動し、設置領域から球状キャップへの進入または挿入が可能なシステム絞りを形成することが可能になる。したがって、設置領域が狭い場合でも、本発明のシステム絞りをミラーの凹面、レンズ、あるいは２つのレンズの間の非常に狭い中間領域に導入することができる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
以下に、本発明の実施例をより詳細に、付属の図面を参照しながら説明する。
図１は、概略的かつ部分的に示された光学結像装置ＰＬ、例えば半導体リソグラフィ用のオブジェクティブにおいて、空間を節約して開口幅ごとに光軸３に沿っていろいろな位置で光路を画定するために、本発明のシステム絞り１（ここでは単に点線により表示されている）がどのように光学素子２の凹面に導入されることができるかを示している。光学結像装置ＰＬは半導体リソグラフィに使用されるオブジェクティブとして設計されている。ＲBは、例えばシステム絞り１が完全に閉じている場合のシステム絞り１の半径を表す。ＲEは、システム絞り１の表面に対応する光学素子２の表面の半径である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月25日(2007.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０〜７５重量部の少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバー、１５〜８０重量部の少なくとも１つのモダクリル・ステープルファイバー、および５〜３０重量部の少なくとも１つのポリアミド・ステープルファイバーを含んでなる、ステープルファイバーの密接混合物。
【請求項２】
請求項１に記載の密接混合物を含んでなる糸。
【請求項３】
請求項２に記載の糸を含んでなる難燃性布。
【請求項４】
請求項３に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【請求項５】
請求項３に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【請求項６】
請求項１に記載の密接混合物を含んでなる糸。
【請求項７】
請求項６に記載の糸を含んでなる難燃性布。
【請求項８】
請求項７に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【請求項９】
請求項６に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【表１】
2007500802.tif 000001
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．  １０〜７５重量部の少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバー、１５〜８０重量部の少なくとも１つのモダクリル・ステープルファイバー、および５〜３０重量部の少なくとも１つのポリアミド・ステープルファイバーを含んでなる、ステープルファイバーの密接混合物。
２．  少なくとも１つのモダクリル・ステープルファイバーがアンチモン化合物をさらに含んでなる上記１に記載の密接混合物。
３．  ２０〜４０重量部の少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバー、５０〜８０重量部の少なくとも１つのモダクリル・ステープルファイバー、および１５〜２０重量部の少なくとも１つのポリアミド・ステープルファイバーがある上記１に記載の密接混合物。
４．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがパラ−アラミド繊維、メタ−アラミド繊維、およびそれらの混合物よりなる群から選択される上記１に記載の密接混合物。
５．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがパラ−アラミド繊維、メタ−アラミド繊維、およびそれらの混合物よりなる群から選択される上記３に記載の密接混合物。
６．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つのモダクリル繊維がアクリロニトリルと塩化ビニリデンとのコポリマーである上記１に記載の密接混合物。
７．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つのモダクリル繊維がアクリロニトリルと塩化ビニリデンとのコポリマーである上記３に記載の密接混合物。
８．  上記１に記載の密接混合物を含んでなる糸。
９．  上記８に記載の糸を含んでなる難燃性布。
１０．  難燃性布が平方ヤード当たり４〜１５オンスの坪量を有する上記９に記載の難燃性布。
１１．  上記１０に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
１２．  難燃性布が平方ヤード当たり５．５〜１１オンスの坪量を有する上記９に記載の難燃性布。
１３．  上記１２に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
１４．  上記６に記載の密接混合物を含んでなる糸。
１５．  上記１４に記載の糸を含んでなる難燃性布。
１６．  難燃性布が平方ヤード当たり４〜１５オンスの坪量を有する上記１５に記載の難燃性布。
１７．  上記１６に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
１８．  難燃性布が平方ヤード当たり５．５〜１１オンスの坪量を有する上記１５に記載の難燃性布。
１９．  上記１８に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月25日(2007.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０〜７５重量部の少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバー、セルロース支持構造中にポリケイ酸の形で二酸化ケイ素を含むＦＲレーヨン、ＦＲアセテート、ＦＲトリアセテート、ＦＲリオセルおよび繊維よりなる群から選択される１５〜８０重量部の少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバー、ならびに５〜３０重量部の少なくとも１つのポリアミド・ステープルファイバーを含んでなる、ステープルファイバーの密接混合物であって、
ただし、存在する場合、該密接混合物の４０重量パーセント以下が二酸化ケイ素を含む密接混合物。
【請求項２】
２０〜４０重量部の少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバー、５０〜８０重量部の少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバー、および１５〜２０重量部の少なくとも１つのポリアミド・ステープルファイバーがある請求項１に記載の密接混合物。
【請求項３】
少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがパラ−アラミド繊維、メタ−アラミド繊維、およびそれらの混合物よりなる群から選択される請求項１に記載の密接混合物。
【請求項４】
少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがパラ−アラミド繊維、メタ−アラミド繊維、およびそれらの混合物よりなる群から選択される請求項２に記載の密接混合物。
【請求項５】
少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバーが難燃性レーヨンである請求項１に記載の密接混合物。
【請求項６】
少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバーが難燃性レーヨンである請求項２に記載の密接混合物。
【請求項７】
少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバーがセルロース支持構造中にポリケイ酸の形で二酸化ケイ素を含んでなる請求項１に記載の密接混合物。
【請求項８】
少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバーがセルロース支持構造中にポリケイ酸の形で二酸化ケイ素を含んでなる請求項２に記載の密接混合物。
【請求項９】
請求項１に記載の密接混合物を含んでなる糸。
【請求項１０】
請求項９に記載の糸を含んでなる難燃性布。
【請求項１１】
難燃性布が平方ヤード当たり４〜１５オンスの坪量を有する請求項１０に記載の難燃性布。
【請求項１２】
請求項１１に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【請求項１３】
難燃性布が平方ヤード当たり５．５〜１１オンスの坪量を有する請求項１０に記載の難燃性布。
【請求項１４】
請求項１３に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【請求項１５】
請求項５に記載の密接混合物を含んでなる糸。
【請求項１６】
請求項１５に記載の糸を含んでなる難燃性布。
【請求項１７】
難燃性布が平方ヤード当たり４〜１５オンスの坪量を有する請求項１６に記載の難燃性布。
【請求項１８】
請求項１７に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【請求項１９】
難燃性布が平方ヤード当たり５．５〜１１オンスの坪量を有する請求項１６に記載の難燃性布。
【請求項２０】
請求項１９に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【表３】
2007500803.tif 000001
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．  １０〜７５重量部の少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバー、１５〜８０重量部の少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバー、および５〜３０重量部の少なくとも１つのポリアミド・ステープルファイバーを含んでなる、ステープルファイバーの密接混合物。
２．  ２０〜４０重量部の少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバー、５０〜８０重量部の少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバー、および１５〜２０重量部の少なくとも１つのポリアミド・ステープルファイバーがある上記１に記載の密接混合物。
３．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがパラ−アラミド繊維、メタ−アラミド繊維、およびそれらの混合物よりなる群から選択される上記１に記載の密接混合物。
４．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがパラ−アラミド繊維、メタ−アラミド繊維、およびそれらの混合物よりなる群から選択される上記２に記載の密接混合物。
５．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバーが難燃性レーヨンである上記１に記載の密接混合物。
６．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバーが難燃性レーヨンである上記２に記載の密接混合物。
７．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバーがセルロース支持構造中にポリケイ酸の形で二酸化ケイ素を含んでなり、そしてセルロース支持構造中のポリケイ酸の形での二酸化ケイ素が密接混合物の４０重量パーセント以下の量で存在する上記１に記載の密接混合物。
８．  少なくとも１つのアラミド・ステープルファイバーがポリ（メタフェニレンイソフタルアミド）であり、そして少なくとも１つの難燃性セルロース系ステープルファイバーがセルロース支持構造中にポリケイ酸の形で二酸化ケイ素を含んでなり、そしてセルロース支持構造中のポリケイ酸の形での二酸化ケイ素が密接混合物の４０重量パーセント以下の量で存在する上記２に記載の密接混合物。
９．  上記１に記載の密接混合物を含んでなる糸。
１０．  上記９に記載の糸を含んでなる難燃性布。
１１．  難燃性布が平方ヤード当たり４〜１５オンスの坪量を有する上記１０に記載の難燃性布。
１２．  上記１１に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
１３．  難燃性布が平方ヤード当たり５．５〜１１オンスの坪量を有する上記１０に記載の難燃性布。
１４．  上記１３に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
１５．  上記５に記載の密接混合物を含んでなる糸。
１６．  上記１５に記載の糸を含んでなる難燃性布。
１７．  難燃性布が平方ヤード当たり４〜１５オンスの坪量を有する上記１６に記載の難燃性布。
１８．  上記１７に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。
１９．  難燃性布が平方ヤード当たり５．５〜１１オンスの坪量を有する上記１６に記載の難燃性布。
２０．  上記１９に記載の難燃性布を含んでなる難燃性衣服。