(57)【要約】【課題】１枚のフォトマスクを用い１画面を左右に２分割した分割露光を行ってフォトスペーサー４４を形成しても、１画面の継ぎ部Ｙ3 において継ぎムラを観視させることのないカラーフィルタを製造するフォトマスクを提供すること。【解決手段】フォトマスクのパターン領域１２内の右端モザイク配列部ＭR に形成されたマスクパターンは、左モザイク配列をしており、フォトマスクのパターン領域内の左端モザイク配列部ＭL に形成されたマスクパターンは、右モザイク配列をしており、モザイク配列部のマスクパターン４５は、左モザイク配列のマスクパターンと右モザイク配列のマスクパターンによって正規のマスクパターン配列となるように、左モザイク配列と右モザイク配列は相互補間の関係にあること。【選択図】図８
2006235258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１枚のフォトマスクを用い、基板の左右への２回露光で該フォトマスクより大きな１画面を有するカラーフィルタを製造するフォトマスクにおいて、フォトマスクのパターン領域内の右端モザイク配列部に形成されたマスクパターンは、左モザイク配列をしており、フォトマスクのパターン領域内の左端モザイク配列部に形成されたマスクパターンは、右モザイク配列をしており、モザイク配列部のマスクパターンは、左モザイク配列のマスクパターンと右モザイク配列のマスクパターンによって正規のマスクパターン配列となるように、左モザイク配列と右モザイク配列は相互補間の関係にあることを特徴とするフォトマスク。
【請求項２】
前記右端モザイク配列部で左モザイク配列及び左端モザイク配列部で右モザイク配列をしているマスクパターンにおいて、Ｙ軸に平行なマスクパターン列は、右端モザイク配列部及び左端モザイク配列部にて、Ｘ軸方向に各々３列以上であることを特徴とする請求項１記載のフォトマスク。
【請求項３】
前記マスクパターンは、フォトスペーサー形成用のマスクパターンであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のフォトマスク。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のフォトマスクを用いて製造することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造に関するものであり、特に、１枚のフォトマスクを用い、分割露光によって１画面のカラーフィルタを製造しても、継ぎムラを観視させることのないフォトマスクに関する。
また、上記フォトマスクを用いた液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成してブラックマトリックス基板とし、次に、このブラックマトリックス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００４】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
このブラックマトリックス基板の製造には、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜（４３）の形成は、着色画素が形成されたブラックマトリックス基板上
に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
液晶表示装置の改善や、多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して種々な機能、例えば、スペーサー機能が付加されるようになった。
【０００８】
従来の液晶表示装置に於いては、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるガラス又は合成樹脂の透明球状体粒子（ビーズ）を散布している。このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。
【０００９】
このような問題を解決する技術として、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により画素間のブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）を形成する方法が開発された。
図６は、このような液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。図６に示すように、液晶表示装置用カラーフィルタ（７）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成され、ブラックマトリックス（４１）上方の透明導電膜（４３）上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー（４４）が形成されている。このような液晶表示装置用カラーフィルタ（７）を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー（４４）が画素内を避けた位置、例えば、図４に示すブラックマトリックス（４１）の交点（Ｋ）に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。
【００１０】
このフォトスペーサー（４４）の高さ（Ｈ）は、基板間ギャップである２μｍ〜５μｍ程度、形状は水平断面が角丸の矩形、菱形で、対角長（Ｗ）（１５×１５μｍ）〜（２０×２０μｍ）程度のものが多く用いられている。
フォトリソグラフィ法によりフォトスペーサー（４４）を形成する際の露光は、ガラス基板（４０）のサイズと略同程度のサイズのフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。カラーフィルタの画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
フォトリソグラフィ法によりカラーフィルタを製造する際の露光方法として、この一括露光法は廉価に大量にカラーフィルタを製造することのできる優れた露光法といえる。
【００１１】
しかし、ガラス基板のサイズが次第に大きくなり、５５０ｍｍ×６５０ｍｍを越えて、例えば、１ｍ×１．３ｍ、或いは１．５ｍ×１．８ｍ程度のサイズとなると、このサイズに対応したサイズのフォトマスクを製造する際の制約、及びそのフォトマスクを使用する際の制約が大きなものとなってくる。
従って、１ｍ×１．３ｍ、或いは１．５ｍ×１．８ｍ程度のサイズのガラス基板への露光には、１枚の同一フォトマスクを用い、例えば、カラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光法が採用されることになる。
【００１２】
図１は、分割露光法で製造したカラーフィルタの一例の概略を示す平面図である。図１
は、ガラス基板（１０）上に既にブラックマトリックス、着色画素、及び透明導電膜が順次に形成され（図示せず）、続いてフォトスペーサー（４４）が形成された状態ものである。
フォトスペーサー（４４）は、カラーフィルタの１画面（１１）の全面に形成されているが、図１では、その描画の多くを省略してある。カラーフィルタの１画面（１１）は、実線で示すように、左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）で構成されている。
（Ｘ0 ）、及び（Ｙ0 ）は、各々カラーフィルタ（ガラス基板（１０））の、図１中、上下中央のＸ軸、及び左右中央のＹ軸を表している。また、（Ａ0 ）は、ガラス基板（１０）上に形成された左右のアライメントマークを表している。
【００１３】
図２は、図１に示すカラーフィルタの一例のフォトスペーサー（４４）を形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。図２に示すように、フォトマスク（ＰＭ１）において、符号（１２）で示す実線は、上記カラーフィルタの左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）に対応した領域を表している。フォトマスク（ＰＭ１）のこの領域が２回の露光に用いられる。
このパターン領域（１２）内には、フォトスペーサー（４４）を形成するためのマスクパターン（４５）が全面に設けられている。図２では、その描画の多くを省略してある。  
【００１４】
パターン領域（１２）内の、図２中、左方のマスクパターン（４５）は、説明上、白点にて、右方のマスクパターン（４５）は黒点にて表している。
（Ｘ1 ）、及び（Ｙ1 ）は、各々フォトマスク（ＰＭ１）のパターン領域（１２）中心を通るＸ軸、及びＹ軸を表している。（Ｙ3 ）は、分割露光によって得られるカラーフィルタの１画面（１１）における左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）との間の継ぎ部に対応したフォトマスク（ＰＭ１）上の継ぎ部の位置を表している。また、（Ａ1 ）は、フォトマスク（ＰＭ１）のＹ軸（Ｙ1 ）上に形成されたアライメントマークを表している。
【００１５】
図１に示すフォトスペーサー（４４）の形成は、先ず、フォトマスク（ＰＭ１）上のアライメントマーク（Ａ1 ）を、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））上の、図１中、左のアライメントマーク（Ａ0 ）に合わせて第１回目の露光を行う。この際、フォトマスク（ＰＭ１）の右端の継ぎ部（Ｙ3 ）は、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））のＹ軸（Ｙ0 ）に合致している。
次に、フォトマスク（ＰＭ１）上のアライメントマーク（Ａ1 ）を、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））上の、図１中、右のアライメントマーク（Ａ0 ）に合わせて第２回目の露光を行う。この際、フォトマスク（ＰＭ１）の左端の継ぎ部（Ｙ3 ）は、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））のＹ軸（Ｙ0 ）に合致している。
【００１６】
図３は、上記分割露光に続き、現像処理が行われて形成されたカラーフィルタ（ガラス基板（１０））上のフォトスペーサー（４４）を説明する平面図である。図３は、図１中、符号（Ｓ）で示すカラーフィルタの中央部を拡大したものである。図３に示すように、カラーフィルタのＹ軸（Ｙ0 ）の左方は左画面（１１Ｌ）、右方は右画面（１１Ｒ）であり、継ぎ部（Ｙ3 ）は、カラーフィルタのＹ軸（Ｙ0 ）上にある。
継ぎ部（Ｙ3 ）の左方のフォトスペーサー（４４）は説明上、黒点で、右方のフォトスペーサー（４４）は白点で表している。これは、図２に示す右方のマスクパターン（４５）の黒点、左方のマスクパターン（４５）の白点が対応していることを示す。尚、継ぎ部（Ｙ3 ）上にはフォトスペーサー（４４）は形成されていない。
【００１７】
しかしながら、上記のようにして製造したカラーフィルタは、そのＹ軸（Ｙ0 ）、すなわち、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍、図１中、上下方向（Ｙ0 −Ｙ0 ’）に継ぎ部（Ｙ3 ）の存在を示す継ぎムラが観視されるといった問題がある。
この継ぎムラが観視される原因としては、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍にあるフォトスペーサー（４４）の高さ（Ｈ）の変動、形状（対角長（Ｗ））の変動、位置の変動などが挙げられる。  
【００１８】
一般に、カラーフィルタを製造する際の一括露光法では、近接露光が広く採用されている。近接露光ではフォトスペーサー形成用の感光性樹脂が設けられたガラス基板の上方に、近接露光のギャップを介してフォトマスクが配置され、マスクパターンが形成されたフォトマスクは、その膜面を下方、すなわち、ガラス基板の感光性樹脂に対向させている。このようなガラス基板とフォトマスクの配置においては、フォトマスクのサイズが大きくなるのに順じ、フォトマスクの自重による歪みによって、フォトマスクの中央部と周縁部ではギャップに微小ながら差異が生じることになる。
【００１９】
上記継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍、すなわち、フォトマスクの周縁部でのフォトスペーサー（４４）の高さ（Ｈ）の変動、形状（対角長（Ｗ））の変動などは、このような近接露光におけるギャップの差異に起因するものと推量されている。
従って、この継ぎムラを軽減させる手法としては、近接露光のギャップを通常よりも小さくする方法が容易に考えられる。
【００２０】
この近接露光による露光方法は、本来は、例えば、ガラス基板上の感光性樹脂面とフォトマスクの膜面を密着させて露光を与える方法をとると、感光性樹脂上に異物が存在した際に、その異物がフォトマスクの膜面に再付着して、そのまま大量のガラス基板に露光が行われることになると、異物の存在に起因したパターン欠陥を有するカラーフィルタが大量に形成されてしまうのを回避するための方法である。従って、近接露光のギャップは、通常５０μｍ〜１００μｍ程度のものである。
【００２１】
この近接露光のギャップの調節によって、上記継ぎムラを軽減させるには、近接露光のギャップを通常より小さくし、照射される光の回折効果を微小なものとすることになるが、小さくしても３０μｍ程度が限度である。
通常のギャップにおけるフォトスペーサー（４４）の高さ（Ｈ）の変動量は±０．０５μｍ程度であるが、これに対して、近接露光のギャップを３０μｍ程度に小さくしても±０．０４μｍ程度の向上に止まる。また、形状（対角長（Ｗ））の変動量は±１．０μｍ程度であるが、±０．７μｍ程度の向上に止まる。
すなわち、継ぎムラを解消させるには至らない。
【特許文献１】特開２００１−２７２６６７号公報
【特許文献２】特開２００４−３０２４３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、液晶表示装置用カラーフィルタをフォトリソグラフィ法により製造する際の、例えば、フォトスペーサーの形成において、１枚のフォトマスクを用い、カラーフィルタの１画面を左右に２分割した分割露光を行ってフォトスペーサーの形成しても、カラーフィルタの１画面の継ぎ部において継ぎムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタを製造することのできるフォトマスクを提供することを課題とするものである。
また、上記フォトマスクを用いた、継ぎムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明は、１枚のフォトマスクを用い、基板の左右への２回露光で該フォトマスクより大きな１画面を有するカラーフィルタを製造するフォトマスクにおいて、フォトマスクのパターン領域内の右端モザイク配列部に形成されたマスクパターンは、左モザイク配列をしており、フォトマスクのパターン領域内の左端モザイク配列部に形成されたマスクパターンは、右モザイク配列をしており、モザイク配列部のマスクパターンは、左モザイク配列のマスクパターンと右モザイク配列のマスクパターンによって正規のマスクパターン配列となるように、左モザイク配列と右モザイク配列は相互補間の関係にあることを特徴とするフォトマスクである。
【００２４】
また、本発明は、上記発明によるフォトマスクにおいて、前記右端モザイク配列部で左モザイク配列及び左端モザイク配列部で右モザイク配列をしているマスクパターンにおいて、Ｙ軸に平行なマスクパターン列は、右端モザイク配列部及び左端モザイク配列部にて、Ｘ軸方向に各々３列以上であることを特徴とするフォトマスクである。
【００２５】
また、本発明は、上記発明によるフォトマスクにおいて、前記マスクパターンは、フォトスペーサー形成用のマスクパターンであることを特徴とするフォトマスクである。
【００２６】
また、本発明は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のフォトマスクを用いて製造することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は、フォトマスクのパターン領域内の右端モザイク配列部に形成されたマスクパターンは、左モザイク配列をしており、フォトマスクのパターン領域内の左端モザイク配列部に形成されたマスクパターンは、右モザイク配列をしており、モザイク配列部のマスクパターンは、左モザイク配列のマスクパターンと右モザイク配列のマスクパターンによって正規のマスクパターン配列となるように、左モザイク配列と右モザイク配列は相互補間の関係にあるフォトマスクであるので、例えば、フォトスペーサーの形成において、１枚のフォトマスクを用い、カラーフィルタの１画面を左右に２分割した分割露光を行ってフォトスペーサーを形成しても、カラーフィルタの１画面の継ぎ部において継ぎムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタを製造することのできるフォトマスクとなる。
【００２８】
また、本発明は、右端モザイク配列部で左モザイク配列及び左端モザイク配列部で右モザイク配列をしているマスクパターンにおいて、Ｙ軸に平行なマスクパターン列は、右端モザイク配列部及び左端モザイク配列部にて、Ｘ軸方向に各々３列以上であるので、近接露光におけるギャップの差異に起因するものと推量される、継ぎ部の左右近傍、すなわち、フォトマスクの周縁部でのフォトスペーサーの高さの変動、形状（対角長）の変動などが顕著な場合であっても、継ぎムラを解消することのできるフォトマスクとなる。
【００２９】
また、本発明は、上記フォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法であるので、継ぎムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図７は、本発明によるフォトマスクの一例の概略を示す平面図である。図７に示す一例のフォトマスク（ＰＭ２）は、１枚のフォトマスクを用い、基板の左右への２回露光でフォトマスクより大きな１画面を有するカラーフィルタのフォトスペーサーの形成に用いるフォトマスクである。
【００３１】
図７に示すように、フォトマスク（ＰＭ２）において、符号（１２）で示す実線は、カ
ラーフィルタの左画面（２１Ｌ）と右画面（２１Ｒ）に対応した領域を表している。フォトマスク（ＰＭ２）のこの領域が２回の露光に用いられる。
このパターン領域（１２）内には、フォトスペーサー（４４）を形成するためのマスクパターン（４５）が全面に設けられている。図７では、その描画の多くは個数は省略してある。                                          
【００３２】
パターン領域（１２）内の、図７中、左方のマスクパターン（４５）は、説明上、白点にて、右方のマスクパターン（４５）は黒点にて表している。
（Ｘ2 ）、及び（Ｙ2 ）は、各々フォトマスク（ＰＭ２）のパターン領域（１２）中心を通るＸ軸、及びＹ軸を表している。（Ｙ3 ）は、分割露光によって得られるカラーフィルタの１画面（２１）（図１０参照）における左画面（２１Ｌ）と右画面（２１Ｒ）との間の継ぎ部（Ｙ3 ）に対応したフォトマスク（ＰＭ２）上の継ぎ部の位置を表している。また、（Ａ2 ）は、フォトマスク（ＰＭ２）のＹ軸（Ｙ2 ）上に形成されたアライメントマークを表している。
【００３３】
フォトマスク（ＰＭ２）のパターン領域（１２）内のＸ軸（Ｘ2 ）方向は、左方から左端モザイク配列部（ＭL ）、パターン領域中央部（Ｃ）、右端モザイク配列部（ＭR ）となっている。
パターン領域中央部（Ｃ）には、フォトスペーサー（４４）を形成するためのマスクパターン（４５）が正規のマスクパターン配列をしている。また、右端モザイク配列部（ＭR ）には、フォトスペーサー（４４）を形成するためのマスクパターン（４５）が左モザイク配列をしており、左端モザイク配列部（ＭL ）には、フォトスペーサー（４４）を形成するためのマスクパターン（４５）が右モザイク配列をしている。
【００３４】
図８は、図７に示す右端モザイク配列部（ＭR ）のＸ軸（Ｘ2 ）近傍と、左端モザイク配列部（ＭL ）のＸ軸（Ｘ2 ）近傍の部分を拡大して示す平面図である。説明上、図８においては、右端モザイク配列部（ＭR ）を左側に、左端モザイク配列部（ＭL ）を右側に配置してある。
本発明における、パターン領域中央部（Ｃ）の正規のマスクパターン配列とは、図８に示すように、Ｘ軸（Ｘ2 ）に平行にＸ軸（Ｘ2 ）方向に直線上をピッチ（ａ）で、Ｙ軸（Ｙ2 ）に平行にＹ軸（Ｙ2 ）方向に直線上をピッチ（ａ）で、碁盤目のようにマスクパターン（４５）が配置されているマスクパターンの配列を指している。
【００３５】
従って、あるマスクパターン（４５）に隣接するマスクパターン（４５）は、Ｘ軸（Ｘ2 ）方向、Ｙ軸（Ｙ2 ）方向のピッチ（ａ）離れた位置に配置されている。尚、Ｘ軸（Ｘ2 ）上には、マスクパターン（４５）は存在していない。
図８に示す正規のマスクパターン配列は、例えば、図４に示すブラックマトリックス（４１）の交点（Ｋ）にフォトスペーサー（４４）を形成する際のマスクパターンの配列に相当するものである。
【００３６】
また、右端モザイク配列部（ＭR ）においては、Ｘ軸（Ｘ2 ）直下のマスクパターン（Ｐ４）に対して、Ｘ軸（Ｘ2 ）直上のマスクパターン（Ｐ５）は、Ｘ軸（Ｘ2 ）より＋θ（４５°）斜め上方にａ√２の距離をもって配置されている。
また、マスクパターン（Ｐ４）の下方に隣接するマスクパターン（Ｐ３）は、マスクパターン（Ｐ４）に対して、Ｘ軸（Ｘ2 ）より−θ（４５°）斜め下方にａ√２の距離をもって配置されている。
右端モザイク配列部（ＭR ）において、マスクパターン（Ｐ１）〜マスクパターン（Ｐ８）を点線で連結してみると、点線は各マスクパターンの位置で、図８中、左又は右の方向に９０°屈曲した軌跡となる。
【００３７】
すなわち、パターン領域中央部（Ｃ）における正規のマスクパターン配列では、隣接するマスクパターン（４５）はＸ軸（Ｘ2 ）及びＹ軸（Ｙ2 ）に平行にピッチ（ａ）をもって配置されているが、右端モザイク配列部（ＭR ）においては、隣接するマスクパターン（４５）はＸ軸（Ｘ2 ）及びＹ軸（Ｙ2 ）に対して斜めの位置に、ピッチａ√２をもって、９０°屈曲を左右に繰り返しながら配置されている。
本発明における、モザイク配列とは、上記のような右端モザイク配列部（ＭR ）におけるマスクパターン配列を指している。
尚、左端モザイク配列部（ＭL ）においても、隣接するマスクパターン（４５）はＸ軸（Ｘ2 ）及びＹ軸（Ｙ2 ）に対して斜めの位置に、ピッチａ√２をもって、９０°屈曲を左右に繰り返しながら配置されている点では同様である。
【００３８】
また、図８において、Ｘ軸（Ｘ2 ）と継ぎ部（Ｙ3 ）との交点を継ぎ部原点（Ｏ）とすると、右端モザイク配列部（ＭR ）においては、Ｘ軸（Ｘ2 ）直下のマスクパターン（Ｐ４）は、Ｘ2 Ｙ3 面の第二象限に配置され、Ｘ軸（Ｘ2 ）直上のマスクパターン（Ｐ５）は、第四象限に配置されている。
このように、Ｘ軸（Ｘ2 ）直下のマスクパターン（４５）とＸ軸（Ｘ2 ）直上のマスクパターン（４５）が、継ぎ部原点（Ｏ）を対称点として第二象限及び第四象限に配置されているモザイク配列を本発明では左モザイク配列と称している。
【００３９】
また、左端モザイク配列部（ＭL ）においては、Ｘ軸（Ｘ2 ）直下のマスクパターン（Ｑ４）は、Ｘ2 Ｙ3 面の第三象限に配置され、Ｘ軸（Ｘ2 ）直上のマスクパターン（Ｑ５）は、第一象限に配置されている。
このように、Ｘ軸（Ｘ2 ）直下のマスクパターン（４５）とＸ軸（Ｘ2 ）直上のマスクパターン（４５）が、継ぎ部原点（Ｏ）を対称点として第三象限及び第一象限に配置されているモザイク配列を本発明では右モザイク配列と称している。
すなわち、フォトマスクのパターン領域内の右端モザイク配列部（ＭR ）に形成されたマスクパターン（４５）は、左モザイク配列をしており、フォトマスクのパターン領域内の左端モザイク配列部（ＭL ）に形成されたマスクパターン（４５）は、右モザイク配列をしている。
【００４０】
図９は、本発明によるフォトマスクにおける左モザイク配列と右モザイク配列が相互に補間する関係を説明する平面図である。図９に示す平面図は、図８に示す右端モザイク配列部（ＭR ）の継ぎ部（Ｙ3 ）と、左端モザイク配列部（ＭL ）の継ぎ部（Ｙ3 ）とを重ね合わせた状態を表している。この右端モザイク配列部（ＭR ）と左端モザイク配列部（ＭL ）とを重ね合わせた領域を本発明ではモザイク配列部（ＭO ）と称している。
図９に示すように、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍では右端モザイク配列部（ＭR ）のマスクパターン（Ｐ１〜Ｐ８）と、左端モザイク配列部（ＭL ）のマスクパターン（Ｑ１〜Ｑ８）とが相互に補間し、モザイク配列部（ＭO ）ではパターン領域中央部（Ｃ）と同様に、正規のマスクパターン配列を構成している。
【００４１】
すなわち、図９中、継ぎ部（Ｙ3 ）の左側においては、マスクパターン（４５）は、マスクパターンＰ１、Ｑ２、Ｐ３、Ｑ４、Ｐ５、Ｑ６、Ｐ７、Ｑ８の順にピッチ（ａ）をもってＸ軸（Ｘ2 ）に直角、Ｙ軸（Ｙ2 ）に平行な直線上に配置されている。また、継ぎ部（Ｙ3 ）の右側においても、同様に、マスクパターン（４５）は、マスクパターンＱ１、Ｐ２、・・・の順にピッチ（ａ）をもってＸ軸（Ｘ2 ）に直角、Ｙ軸（Ｙ2 ）に平行な直線上に配置されている。
【００４２】
また、図１０は、本発明によるフォトマスクを用いてカラーフィルタ上に形成したフォトスペーサー（４４）の配列を説明する平面図である。
図１０において、符号（Ｘ4 ）はカラーフィルタの１画面（２１）の上下中央のＸ軸、符
号（Ｙ4 ）はカラーフィルタの１画面（２１）の左右中央のＹ軸を表している。図１０はカラーフィルタの１画面（２１）の中央部分を拡大したものである。図１０に示すように、カラーフィルタの１画面（２１）は、継ぎ部（Ｙ3 ）を境にした左画面（２１Ｌ）と右画面（２１Ｒ）とで構成されている。
【００４３】
カラーフィルタの１画面（２１）には、図８に示すフォトマスク（ＰＭ２）を用いてフォトスペーサー（４４）が形成されている。
すなわち、フォトマスクの右端モザイク配列部（ＭR ）に形成されたマスクパターン（４５）は、左モザイク配列をしており、フォトマスクの左端モザイク配列部（ＭL ）に形成されたマスクパターン（４５）は、右モザイク配列をしており、また、モザイク配列部（ＭO ）のマスクパターンは、左モザイク配列のマスクパターン（Ｐ１〜Ｐ８）と右モザイク配列のマスクパターン（Ｑ１〜Ｑ８）によって正規のマスクパターン配列となるように、左モザイク配列と右モザイク配列は相互補間の関係にあるフォトマスク（ＰＭ２）を用いてフォトスペーサー（４４）が形成されている。
【００４４】
従って、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍、すなわち、フォトマスクの周縁部でのフォトスペーサー（４４）の高さ（Ｈ）の変動、形状（対角長（Ｗ））の変動などの起因である、前記近接露光におけるギャップに差異があっても、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍、図１０中、上下方向（Ｙ4 −Ｙ4 ’）に継ぎ部（Ｙ3 ）の存在を示す継ぎムラが観視されるといった問題は解消されたものとなる。
【００４５】
また、本発明によるフォトマスクは、右端モザイク配列部（ＭR ）で左モザイク配列をしているマスクパターン（４５）、及び左端モザイク配列部（ＭL ）で右モザイク配列をしているマスクパターン（４５）において、Ｙ軸に平行なマスクパターン列はＸ軸方向に３列以上であることを特徴としている。
図８に示すように、右端モザイク配列部（ＭR ）において、フォトマスク（ＰＭ２）のＹ軸（Ｙ2 ）に平行な矢印（１３Ａ）で示す直線上のマスクパターン（４５）は、図８中下方より、Ｐ2 、Ｐ4 、Ｐ6 、Ｐ8 である。本発明では、このように右端モザイク配列部（ＭR ）で左モザイク配列をしているマスクパターン（４５）、及び左端モザイク配列部（ＭL ）で右モザイク配列をしているマスクパターン（４５）において、フォトマスクのＹ軸に平行な直線上のマスクパターンの配列をマスクパターン列と称している。
【００４６】
図８に示す右端モザイク配列部（ＭR ）でのマスクパターン列は、矢印（１３Ａ）で示すマスクパターン列と、矢印（１３Ｃ）で示すマスクパターン列の２列、すなわち、Ｘ軸（Ｘ2 ）方向に２列である。また、左端モザイク配列部（ＭL ）マスクパターン列は、矢印（１３Ｂ）で示すマスクパターン列と、矢印（１３Ｄ）で示すマスクパターン列の、同じくＸ軸（Ｘ2 ）方向に２列である。
【００４７】
マスクパターン列が各２列であると、例えば、前記図１にて、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍、上下方向（Ｙ0 −Ｙ0 ’）に継ぎ部（Ｙ3 ）の存在を示す継ぎムラが観視されるといった問題があっても、継ぎムラの程度が軽度なものであれば、継ぎムラは解消されたものとなる。
しかし、継ぎムラの程度が顕著な場合には、マスクパターン列の各２列では継ぎムラの解消は充分に行われないことがある。
【００４８】
図１１は、本発明によるフォトマスクの他の例を説明する平面図である。このフォトマスク（ＰＭ３）は、近接露光におけるギャップの差異に起因するものと推量される、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍、すなわち、フォトマスクの周縁部でのフォトスペーサーの高さの変動、形状（対角長）の変動などが顕著な場合、これにより上記継ぎムラの程度が顕著に観視されてしまう場合に対応したフォトマスクである。
【００４９】
図１１は、図８と同様に、説明上、フォトマスク（ＰＭ３）の右端モザイク配列部（ＭR ）を左側に、左端モザイク配列部（ＭL ）を右側に配置してある。図１１に示すように、パターン領域中央部（Ｃ）はピッチ（ａ）で正規のマスクパターン配列をしている。また、右端モザイク配列部（ＭR ）においては、左モザイク配列、左端モザイク配列部（ＭL ）においては、右モザイク配列をしている。
【００５０】
図１１に示すフォトマスク（ＰＭ３）は、右端モザイク配列部（ＭR ）及び左端モザイク配列部（ＭL ）におけるＹ軸に平行なマスクパターン列が、Ｘ軸方向に各々４列有するフォトマスクの例である。
右端モザイク配列部（ＭR ）でのマスクパターン列は、矢印（２３Ａ）で示すマスクパターン列と、矢印（２３Ｃ）、矢印（２３Ｅ）、矢印（２３Ｇ）の４列、すなわち、Ｘ軸（Ｘ5 ）方向に４列である。また、左端モザイク配列部（ＭL ）マスクパターン列は、矢印（２３Ｂ）で示すマスクパターン列と、矢印（２３Ｄ）、矢印（１３Ｆ）、矢印（１３Ｈ）で示すマスクパターン列の、同じくＸ軸（Ｘ5 ）方向に４列である。
【００５１】
マスクパターン列が４列で構成される右端モザイク配列部（ＭR ）の左モザイク配列と、マスクパターン列が４列で構成される左端モザイク配列部（ＭL ）の右モザイク配列は、相互に補間する関係となっている。継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍では右端モザイク配列部（ＭR ）のマスクパターン（Ｐ１〜Ｐ１６）と、左端モザイク配列部（ＭL ）のマスクパターン（Ｑ１〜Ｑ１６）とが相互に補間し、モザイク配列部（ＭO ）ではパターン領域中央部（Ｃ）と同様に、正規のマスクパターン配列を構成している。
【００５２】
この右端モザイク配列部（ＭR ）と左端モザイク配列部（ＭL ）とを重ね合わせた領域、すなわち、モザイク配列部（ＭO ）のＸ軸（Ｘ5 ）方向の幅は、図８に示すフォトマスク（ＰＭ２）の幅より広いものとなっている。
従って、図１１に示す、このフォトマスク（ＰＭ３）を用いることによって、近接露光におけるギャップの差異に起因するものと推量される、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍、すなわち、フォトマスクの周縁部でのフォトスペーサーの高さの変動、形状（対角長）の変動などが顕著な場合であっても、継ぎムラは解消されたものとなる。
【００５３】
尚、右端モザイク配列部（ＭR ）及び左端モザイク配列部（ＭL ）におけるＹ軸に平行なマスクパターン列の数は、フォトスペーサーの高さの変動、形状（対角長）の変動などの程度に応じて適宜に設定することが好ましい。
【００５４】
上記のように、本願においては、マスクパターンとしてフォトスペーサー形成用のマスクパターンを例にして説明をしたが、マスクパターンとしてはフォトスペーサー形成用のマスクパターンに限定されるものではない。
例えば、ブラックマトリックスを形成する際に、１枚のフォトマスクを用い、基板の左右への２回露光でフォトマスクより大きな１画面用のブラックマトリックスを形成する場合、或いは、着色画素を形成する際に、数百μｍ程度のサイズではなく、数十μｍ程度のサイズの着色画素を１枚のフォトマスクを用い、基板の左右への２回露光でフォトマスクより大きな１画面用の着色画素を形成する場合、或いは、低精度の製造装置を用いて、廉価にカラーフィルタを製造する場合、等々に適用することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】分割露光法で製造したカラーフィルタの一例の概略を示す平面図である。
【図２】フォトスペーサーを形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。
【図３】カラーフィルタ上のフォトスペーサーを説明する平面図である。
【図４】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図５】図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図６】フォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。
【図７】本発明によるフォトマスクの一例の概略を示す平面図である。
【図８】図７に示す右端モザイク配列部のＸ軸近傍と、左端モザイク配列部のＸ軸近傍の部分を拡大して示す平面図である。
【図９】本発明によるフォトマスクにおける左モザイク配列と右モザイク配列が相互に補間する関係を説明する平面図である。
【図１０】本発明によるフォトマスクを用いてカラーフィルタ上に形成したフォトスペーサーの配列を説明する平面図である。
【図１１】本発明によるフォトマスクの他の例を説明する平面図である。
【符号の説明】
【００５６】
４、７・・・カラーフィルタ
１０、４０・・・ガラス基板
１１、２１・・・カラーフィルタの１画面
１１Ｌ、２１Ｌ・・・カラーフィルタの左画面
１１Ｒ、２１Ｒ・・・カラーフィルタの右画面
１２・・・フォトマスクのパターン領域
１３Ａ〜１３Ｄ、２３Ａ〜２３Ｈ・・・マスクパターン列
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
４４・・・フォトスペーサー
４５・・・マスクパターン
Ａ0 ・・・カラーフィルタ（ガラス基板）のアライメントマーク
Ａ1 ・・・フォトマスク（ＰＭ１）のアライメントマーク
Ａ2 ・・・フォトマスク（ＰＭ２）のアライメントマーク
Ｃ・・・パターン領域中央部
Ｈ・・・フォトスペーサーの高さ
Ｋ・・・ブラックマトリックスの交点
ＭL ・・・パターン領域内の左端モザイク配列部
ＭR ・・・パターン領域内の右端モザイク配列部
Ｏ・・・継ぎ部原点
Ｐ１〜Ｐ１６・・・マスクパターン
ＰＭ１・・・フォトマスク
ＰＭ２、ＰＭ３・・・本発明によるフォトマスク
Ｑ１〜Ｑ１６・・・マスクパターン
Ｘ0 ・・・カラーフィルタ（ガラス基板）のＸ軸
Ｘ1 ・・・フォトマスク（ＰＭ１）のＸ軸
Ｘ2 ・・・フォトマスク（ＰＭ２）のＸ軸
Ｘ4 ・・・カラーフィルタの１画面のＸ軸
Ｘ5 ・・・フォトマスク（ＰＭ３）のＸ軸
Ｙ0 ・・・カラーフィルタ（ガラス基板）のＹ軸
Ｙ1 ・・・フォトマスク（ＰＭ１）のＹ軸
Ｙ2 ・・・フォトマスク（ＰＭ２）のＹ軸
Ｙ3 ・・・継ぎ部
Ｙ4 ・・・カラーフィルタの１画面Ｙ軸
Ｙ5 ・・・フォトマスク（ＰＭ３）のＹ軸
Ｗ・・・フォトスペーサーの対角長
ａ・・・マスクパターンのピッチ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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