【手続補正書】
【提出日】平成19年2月2日(2007.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板の被覆方法であって、
陽極と陰極の間に延在するアークによりプラズマを発生させる段階であって、プラズマを発生させる第一チャンバと基板が配置される第二チャンバとの圧力差によってプラズマが基板に向かって流れるようにする段階、
陰極から離隔した供給源から金属反応物質を蒸発させる段階、及び
蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入してプラズマを基板上に投射し金属反応物質を基板上に堆積させる段階
を含んでなる方法。
【請求項２】  前記金属反応物質が元素金属からなる、請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記金属反応物質が合金からなる、請求項１記載の方法。
【請求項４】  さらに、酸化剤をプラズマ流中に導入して蒸発した金属反応物質と反応させる段階を含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】  前記金属反応物質が元素亜鉛、元素インジウム、元素アルミニウム、インジウム−亜鉛合金及びアルミニウム−亜鉛合金からなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項６】  さらに、前記金属反応物質の堆積速度を制御する段階を含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】  前記金属反応物質の蒸気圧を制御することにより堆積速度を制御する、請求項６記載の方法。
【請求項８】  アークに供給する電流を制御することにより堆積速度を制御する、請求項６記載の方法。
【請求項９】  さらに、第二の供給源から第二の反応物質を前記金属反応物質と共にプラズマ流中に導入する段階を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】  さらに、前記金属反応物質と第二の反応物質をプラズマ流中で反応させて、金属反応物質と第二の反応物質からなる化合物を形成する段階、及び
該化合物を基板上に堆積する段階
を含む、請求項９記載の方法。
【請求項１１】  前記金属反応物質が亜鉛からなり、第二の反応物質が酸素からなり、形成される化合物が酸化亜鉛である、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  さらに、第三の供給源から第三の反応物質を前記金属反応物質及び第二の反応物質と共にプラズマ流中に導入する段階を含む、請求項９記載の方法。
【請求項１３】  さらに、前記金属反応物質と第二の反応物質と第三の反応物質をプラズマ中で反応させて、金属反応物質と第二の反応物質と第三の反応物質からなる化合物を形成する段階、及び
該化合物を基板上に堆積する段階
を含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  前記金属反応物質が亜鉛からなり、第二の反応物質が酸素からなり、第三の反応物質がドーパントからなり、前記化合物がドーパント含有酸化亜鉛であり、該化合物が基板上に堆積される、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】  前記金属反応物質が亜鉛からなり、第二の反応物質が酸素からなり、第三の反応物質がインジウムからなり、前記化合物が酸化亜鉛インジウムからなり、該化合物が基板上に堆積される、請求項１３記載の方法。
【請求項１６】  前記金属反応物質が亜鉛からなり、第二の反応物質が酸素からなり、第三の反応物質がアルミニウムからなり、前記化合物が酸化亜鉛アルミニウムであり、該化合物が基板上に堆積される、請求項１３記載の方法。
【請求項１７】  蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入する段階が蒸発した金属反応物質を陽極から延在するノズルに案内する段階を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１８】  蒸発した金属反応物質をノズルに案内する段階がノズルの少なくとも１個の開口と流体連通した配管を設ける段階を含む、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】  さらに、ノズルの第二開口と流体連通した第二配管を通して第二の反応物質をプラズマ流中に導入する段階を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】  さらに、蒸発器を前記配管に連結する段階を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２１】  さらに、基板を第二チャンバに配置する段階、
プラズマガスを、第二チャンバと流体連通した第一チャンバに導入する段階、
第一チャンバで陽極及び陰極間にアークを発生させてプラズマを発生させる段階、及び
第二チャンバ内の第二圧力を第一チャンバ内の第一圧力よりも低くしてプラズマが第二チャンバ中に基板に向かって流れるようにする段階
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項２２】  さらに、陽極に開口を設ける段階、及び
陽極から延在するノズルを設ける段階
を含む、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】  さらに、ノズルを利用して、プラズマの密度を基板への距離の関数として制御する段階を含む、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】  前記金属反応物質が亜鉛からなり、当該方法がさらに、
第二の金属反応物質をプラズマ中に蒸発させる段階、
酸化剤をプラズマ中に流す段階、
亜鉛、第二金属反応物質及び酸化剤をプラズマ中で反応させて化合物を形成する段階、及び
該化合物を基板上に堆積する段階
を含む、請求項２１記載の方法。
【請求項２５】  前記第二の金属反応物質がインジウムからなる、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】  金属反応物質を蒸発させる段階が、
金属反応物質ワイヤを蒸発器に連続的に供給する段階、及び
蒸発器内でワイヤの一部を蒸発させる段階
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項２７】  基板の第一表面及び第二表面を被覆する方法であって、
第一の陽極と第一の陰極の間に延在する第一のアークにより第一のプラズマを発生させる段階であって、第一のプラズマを発生させる第一チャンバと基板が配置される第二チャンバとの圧力差によって第一のプラズマが基板の第一の表面に向かって流れるようにする段階、
第二の陽極と第二の陰極の間に延在する第二のアークにより第二のプラズマを発生させる段階であって、第二のプラズマが基板の第二の表面に向かって流れるようにする段階、
金属反応物質を蒸発させる段階、
蒸発した金属反応物質を第一のプラズマに導入して第一のプラズマを基板の第一の表面に投射し金属反応物質を基板の第一の表面上に堆積させる段階、及び
第二の反応物質を第二のプラズマに導入して第二のプラズマを基板の第二の表面に投射し第二の反応物質を基板の第二の表面に堆積させる段階
を含んでなる方法。
【請求項２８】  蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入する段階が、基板に向う流れ方向に発散するノズル内に、蒸発した金属反応物質を送ることを含む、請求項１記載の方法。
【請求項２９】  蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入する段階が、基板に向う流れ方向に発散する円錐形内面を有するノズル内に、蒸発した金属反応物質を送ることを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３０】  蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入する段階が、円形通路を有する配管及び発散ノズルの内面に通じる複数の開口を通して、蒸発した金属反応物質を送ることを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３１】  さらに、ａ）陽極と陰極及びｂ）金属反応物質の供給源に印加される電力を制御する段階であって、陽極と陰極に印加される電力と金属反応物質の供給源に印加される電力とを互いに独立に制御する段階を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３２】  前記陽極がプラズマの流れる開口を備えており、第一チャンバと第二チャンバとの圧力差及び上記開口の大きさによって第二チャンバに流れ込むプラズマジェットを生じる、請求項１記載の方法。
【請求項３３】  蒸発した金属反応物質を第一のプラズマに導入する段階が、基板に向って発散するノズルを通して蒸発した金属反応物質を送ることを含む、請求項２７記載の方法。
【請求項３４】  蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入する段階が、円形通路を有する配管及び発散ノズルの内面に通じる複数の開口を通して、蒸発した金属反応物質を送ることを含む、請求項２７記載の方法。
【請求項３５】  前記金属反応物質が亜鉛からなり、当該方法が、さらに、亜鉛と共に酸化剤を第一のプラズマに導入する段階を含む、請求項２７記載の方法。
【請求項３６】  さらに、アルミニウム及びインジウムの少なくともいずれかを、亜鉛及び酸化剤と共に第一のプラズマに導入する段階を含む、請求項２７記載の方法。
【請求項３７】  基板の被覆方法であって、
陽極と陰極の間に延在するアークにより基板に向かって流れるプラズマを発生させる段階、
金属反応物質を蒸発させる段階、及び
基板に向う流れ方向に発散するノズル内に、蒸発した金属反応物質を送ることによって、蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入してプラズマを基板上に投射し金属反応物質を基板上に堆積させる段階
を含んでなる方法。
【請求項３８】  前記ノズルが円錐形内面を有する、請求項３７記載の方法。
【請求項３９】  蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入する段階が、円形通路を有する配管及び発散ノズルの内面に通じる複数の開口を通して、蒸発した金属反応物質を送ることを含む、請求項３７記載の方法。
【請求項４０】  さらに、ａ）陽極と陰極及びｂ）金属反応物質源に印加される電力を制御する段階であって、陽極と陰極に印加される電力と金属反応物質源に印加される電力とを互いに独立に制御する段階を含む、請求項３７記載の方法。
【請求項４１】  前記金属反応物質が亜鉛からなり、当該方法が、さらに、
亜鉛と共に酸化剤をプラズマに導入する段階、及び
アルミニウム及びインジウムの少なくともいずれかを、亜鉛及び酸化剤と共にプラズマに導入する段階
を含む、請求項３７記載の方法。