(57)【要約】【課題】  植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。【解決手段】  式（I)2006001855.tif 000035［式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基等を表し、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基等を表し、Ｒ３は水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ４はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ５はＣ３−Ｃ４アルキニルチオ基等を表し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表す。］で示されるアミド化合物は植物病害に対して優れた防除効力を有する。【選択図】  なし  【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2006001855.tif 000034
［式中、
Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基を表し、
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表すか、
或いはＲ1とＲ2とが一緒になってＣ３−Ｃ５ポリメチレン又はＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨを表し、
Ｒ3は水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ4はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ5はＣ３−Ｃ４アルキニルチオ基、Ｃ３−Ｃ４アルカンジエニルオキシ基又はＮＲ6Ｒ7を表し、
Ｒ6は水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ7はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表す。］
で示されるアミド化合物。
【請求項２】
請求項１記載のアミド化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。
【請求項３】
請求項１記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミド化合物及びその植物病害防除用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、植物病害を防除するための薬剤の開発が広く進められ、多数の植物病害防除剤が実用に供されているが、その効力は必ずしも十分でない場合がある。
【０００３】
【非特許文献１】ジャーナル オブ ケミカル ソサイエティー，パーキン トランスアクションI、第6巻、1976年、第661頁（Journal of Chemical Society, Perkin Transactions I, 6, p.661 (1976)）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物及び植物病害防除剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討をした結果、下記式（１）で示されるアミド化合物が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式（１）
2006001855.tif 000002
［式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基を表し、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表すか、或いはＲ1とＲ2とが一緒になってＣ３−Ｃ５ポリメチレン又はＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨを表し、Ｒ3は水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ4はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ5はＣ３−Ｃ４アルキニルチオ基、Ｃ３−Ｃ４アルカンジエニルオキシ基又はＮＲ6Ｒ7を表し、Ｒ6は水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ7はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表す。］で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法を提供する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
Ｒ1で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ，
Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基が挙げられる。
【０００８】
Ｒ2で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ，
Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
【０００９】
Ｒ1とＲ2とが一緒になったＣ３−Ｃ５ポリメチレンとしては、トリメチレン、テトラメチレン及びペンタメチレンが挙げられる。
【００１０】
Ｒ3で示される
Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
【００１１】
Ｒ4で示される
Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。
【００１２】
Ｒ5で示される
Ｃ３−Ｃ４アルキニルチオ基としては、２−プロピニルチオ基、１−メチル−２−プロピニルチオ基、２−ブチニルチオ基及び３−ブチニルチオ基が挙げられ、
Ｃ３−Ｃ４アルカンジエニルオキシ基としては、プロパン−１，２−ジエニルオキシ基、１−メチル−プロパン−１，２−ジエニルオキシ基及びブタン−１，２−ジエニルオキシ基が挙げられる。
【００１３】
Ｒ6で示される
Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基及びプロピル基が挙げられ、
Ｒ7で示される
Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基および３−ブチニル基が挙げられ、
Ｒ5で示されるＮＲ6Ｒ7としては、例えば２−プロピニルアミノ基、１−メチル−２−プロピニルアミノ基、２−ブチニルアミノ基、３−ブチニルアミノ基、メチル（２−プロピニル）アミノ基、エチル（２−プロピニル）アミノ基及びプロピル（２−プロピニル）アミノ基が挙げられる。
【００１４】
本発明化合物としては、例えば以下の態様の化合物が挙げられる。
式（１）において、Ｒ1が水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1が塩素原子であるアミド化合物；
【００１５】
式（１）において、Ｒ2が水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ2が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ2がハロゲン原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ2が塩素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1とＲ2とが一緒になってＣ３−Ｃ５ポリメチレン又はＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨであるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1とＲ2とが一緒になってトリメチレンであるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1とＲ2とが一緒になってテトラメチレンであるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1とＲ2とが一緒になってＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨであるアミド化合物；
【００１６】
式（１）において、Ｒ3が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ3がＣ１−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ3がメチル基であるアミド化合物；
【００１７】
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がメチル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がエチル基であるアミド化合物；
【００１８】
式（１）において、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ6が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ6がＣ１−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ6がメチル基又は水素原子であり、Ｒ7が２−プロピニル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ6が水素原子であり、Ｒ7が２−プロピニル基であるアミド化合物；
【００１９】
式（１）において、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルキニルチオ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ5が２−プロピニルチオ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルカンジエニルオキシ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ5がプロパン−１，２−ジエニルオキシ基であるアミド化合物；
【００２０】
式（１）において、Ｘが酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｘが硫黄原子であるアミド化合物；
【００２１】
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ2が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ2がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基であるアミド化合物；
【００２２】
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｘが酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ2がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基又はＣ１−Ｃ３ハロアルキル基であり、Ｘが酸素原子であるアミド化合物；
【００２３】
式（１）において、Ｒ4がメチル基であり、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がメチル基であり、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ6が水素原子又はメチル基であり、Ｒ7が２−プロピニル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がメチル基であり、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ7が２−プロピニル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であり、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であり、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ6が水素原子又はメチル基であり、Ｒ7が２−プロピニル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であり、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ7が２−プロピニル基であるアミド化合物；
【００２４】
式（１）において、Ｒ4がメチル基であり、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルキニルチオ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がメチル基であり、Ｒ5が２−プロピニルチオ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であり、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルキニルチオ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であり、Ｒ5が２−プロピニルチオ基であるアミド化合物；
【００２５】
式（１）において、Ｒ4がメチル基であり、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルカンジエニルオキシ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がメチル基であり、Ｒ5がプロパン−１，２−ジエニルオキシ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であり、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルカンジエニルオキシ基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であり、Ｒ5がプロパン−１，２−ジエニルオキシ基であるアミド化合物。
【００２６】
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は例えば以下の（製造法Ａ）、（製造法Ｂ）、（製造法Ｃ）又は（製造法Ｄ）にしたがって製造することができる。
【００２７】
（製造法Ａ）
本発明化合物のうちＸが酸素原子であり、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ6が水素原子である式（１−１）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2006001855.tif 000003
〔式中、Ｌ1はハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ7は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（３）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物を濾過し、得られた濾液を濃縮、乾燥する等の後処理操作を行うことにより、式（１−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２８】
（製造法Ｂ）
本発明化合物のうちＸが酸素原子であり、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルカンジエニルオキシ基である式（１−２）で示される化合物は、式（４）で示される化合物を塩基と反応させることにより製造することができる。
2006001855.tif 000004
〔式中、Ｒ9はＣ３−Ｃ４アルキニルオキシ基を表し、Ｒ5-2はＣ３−Ｃ４アルカンジエニルオキシ基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルコキシド類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常０．０１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２９】
（製造法Ｃ）
本発明化合物のうちＸが酸素原子であり、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルキニルチオ基である式（１−３）で示される化合物は、式（５）で示される化合物又は式（５）で示される化合物の塩酸塩と式（６）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することもできる。
2006001855.tif 000005
〔式中、Ｒ5-3はＣ３−Ｃ４アルキニルチオ基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、N，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、式（５）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、式（１−３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３０】
（製造法Ｄ）
本発明化合物のうちＸが硫黄原子である式（１−５）で示される化合物は、例えば本発明化合物のうちＸが酸素原子である式（１−４）で示される化合物を２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（以下、ローソン試薬と記す。）と反応させることにより製造することができる。
2006001855.tif 000006
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるローソン試薬の量は、式（１−４）で示される化合物１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−５）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３１】
（製造法Ｅ）
本発明化合物のうちＸが酸素原子であり、Ｒ5がＮＲ6Ｒ7であり、Ｒ6がＣ１−Ｃ３アルキル基である式（１−６）で示される化合物は、式（７）で示される化合物と式（８）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2006001855.tif 000007
〔式中、Ｌ2はハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表し、Ｒ6-1はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ7は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（７）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（８）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物を濾過し、得られた濾液を濃縮、乾燥する等の後処理操作を行うことにより、式（１−６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３２】
次に、本発明中間体の製造法について説明する。
【００３３】
式（２）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006001855.tif 000008
〔式中、Ｒ10はメチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｌ2は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ4は前記と同じ意味を表す。〕
【００３４】
工程（Ｉ−１）
式（１２）で示される化合物は、式（１０）で示される化合物と式（１１）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１２）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３５】
工程（Ｉ−２）
式（１４）で示される化合物は、式（１２）で示される化合物と式（１３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシドが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１２）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１３）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３６】
工程（Ｉ−３）
式（１５）で示される化合物は式（１４）で示される化合物を塩基の存在下で、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１４）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００３７】
工程（Ｉ−４）
式（１７）で示される化合物は式（１５）で示される化合物と式（１６）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、ＷＳＣ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１５）で示される化合物１モルに対して、式（１６）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００３８】
工程（Ｉ−５）
式（２）で示される化合物は、水素化触媒の存在下、式（１７）で示される化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒の量は、式（１７）で示される化合物１モルに対して通常０．００１〜０．５モルの割合である。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３９】
式（４）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006001855.tif 000009
〔式中、Ｒ11はメチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｒ12はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｌ4は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｌ5はハロゲン原子を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ9は前記と同じ意味を表す。〕
【００４０】
工程（ＩＩ−１）
式（２０）で示される化合物は、式（１８）で示される化合物と式（１９）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１８）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１９）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２０）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２０）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４１】
工程（ＩＩ−２）
式（２２）で示される化合物は、式（２０）で示される化合物と式（２１）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２０）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（２１）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４２】
工程（ＩＩ−３）
式（２３）で示される化合物は、水素化触媒の存在下、式（２２）で示される化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は水素雰囲気下、通常溶媒の存在下、酸触媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒の量は、式（２２）で示される化合物１モルに対して通常０．００１〜０．５モルの割合である。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応は、さらに必要に応じて酸（塩酸等）を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２３）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４３】
工程（ＩＩ−４）
式（２５）で示される化合物は、式（２３）で示される化合物と式（２４）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２３）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（２４）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２５）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４４】
工程（ＩＩ−５）
式（２６）で示される化合物は式（２５）で示される化合物を塩基の存在下で、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（２５）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００４５】
工程（ＩＩ−６）
式（２７）で示される化合物は、式（２６）で示される化合物と塩素化剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル及びオキシ塩化リンが挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤の量は、式（２６）で示される化合物1モルに対して通常１〜１００モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常３０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物をそのまま濃縮する等の操作を行うことにより、式（２７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２７）で示される化合物は通常精製することなく次の工程の反応に用いられる。
【００４６】
工程（ＩＩ−７）
式（４）で示される化合物は式（２７）で示される化合物と（２８）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２７）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（２８）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、式（４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４７】
式（６）で示される化合物は、下記のスキームに従って製造することができる。
2006001855.tif 000010
〔式中、Ｒ13はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｌ6ハロゲン原子を表し、Ｒ4、Ｒ5-3及びＲ11は前記と同じ意味を表す。〕
【００４８】
工程（ＩＩＩ−１）
式（３１）で示される化合物は、式（２９）で示される化合物と式（３０）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２９）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（３０）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４９】
工程（ＩＩＩ−２）
式（３２）で示される化合物は、式（３１）で示される化合物を加熱することにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラグライム、トリグライム、ジフェニルエーテル等のエーテル類、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応の反応温度は、通常１００〜３００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜１２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物にヘキサン等を注加し、生成する固体を濾別する等の後処理操作を行うことにより、式（３２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５０】
工程（ＩＩＩ−３）
式（３４）で示される化合物は、式（３２）で示される化合物と式（３３）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（３２）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（３３）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５１】
工程（ＩＩＩ−４）
式（３５）で示される化合物は、式（３４）で示される化合物を還元剤と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の金属水素化物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤の量は、式（３４）で示される化合物１モルに対して通常０．２５〜１０モルの割合である。
該反応は遷移金属化合物の存在下で行うこともできる。その場合に、反応に用いられる遷移金属化合物としては、例えば塩化ニッケル、塩化コバルト等の遷移金属塩化物が挙げられ、反応に用いられる遷移金属化合物の量は、通常０．１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３５）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５２】
工程（ＩIＩ−５）
式（３６）で示される化合物は式（３５）で示される化合物を塩基の存在下で、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（３５）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００５３】
工程（ＩIＩ−６）
式（３８）で示される化合物は、式（３６）で示される化合物と式（３７）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（３６）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（３７）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５４】
工程（ＩＩI−７）
式（６）で示される化合物は式（３８）で示される化合物を塩基の存在下で、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（３８）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００５５】
式（７）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006001855.tif 000011
〔式中、Ｒ6-2は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ14は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ6は前記と同じ意味を表す。）
【００５６】
工程（ＩＶ−１）
式（４０）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３９）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は酸触媒の存在下で行うこともできる。その場合、反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸及びｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２）で示される化合物１モルに対して式（３９）で示される化合物が通常１〜１０モルの割合であり、酸が通常０．０００１〜０．１モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常１００〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（４０）で示される化合物を単離することができる。単離された式（４０）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程で使用することもできる。
【００５７】
工程（ＩＶ−２）
式（７）で示される化合物は、式（４０）で示される化合物を還元剤と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類およびこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムがあげられる。
反応に用いられる還元剤の量は、式（４０）で示される化合物１モルに対して、通常０．５〜５モルの割合である。
該反応の反応時間は、通常瞬時〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−１０〜１００℃の範囲ある。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５８】
本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害が挙げられ、具体的には例えば次の病害が挙げられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophthora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。
【００５９】
本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
【００６０】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げられ、液体担体としては、例えば、キシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル及び水が挙げられる。
【００６１】
界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられる。
【００６２】
その他の製剤用補助剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤が挙げられる。
【００６３】
本発明の植物病害防除剤は、例えば、植物体に茎葉処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
【００６４】
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ2あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
【００６５】
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常を水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。
【００６６】
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。種子消毒の方法としては、例えば、本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に粉剤に製剤化された本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
【００６７】
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／又は病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。
【００６８】
本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
【００６９】
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／又は肥料と共に用いることもできる。
【００７０】
かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ボスカリド、フェンヘキサミド、キノキシフェン、プロキナジット、ジエトフェンカルブ、アシベンゾラールＳメチル、グアザチン及びペンチオピラドが挙げられる。
【００７１】
本発明化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
式（i）〜（xlviii）で示されるアミド化合物
2006001855.tif 000012
2006001855.tif 000013
2006001855.tif 000014
式（i）〜（xlviii）においてＺは以下に示される群より選ばれるいずれかの基を表す。
フェニル基、４−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ヨードフェニル基、３−ヨードフェニル基、４−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、４−プロピルフェニル基、３−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ブチルフェニル基、３−ブチルフェニル基、４−（ｓｅｃ−ブチル）フェニル基、４−イソブチルフェニル基、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、４−（フルオロメチル）フェニル基、４−（ジフルオロメチル）フェニル基、４−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、４−クロロ−３−フルオロフェニル基、４−ブロモ−３−フルオロフェニル基、３−フルオロ−４−メチルフェニル基、４−エチル−３−フルオロフェニル基、３−フルオロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−フルオロ−４−メトキシフェニル基、４−フルオロ−３−クロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、４−ブロモ−３−クロロフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、３−クロロ−４−エチルフェニル基、３−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−クロロ−４−メトキシフェニル基、３−ブロモ−４−フルオロフェニル基、３−ブロモ−４−クロロフェニル基、３，４−ジブロモフェニル基、３−ブロモ−４−メチルフェニル基、３−ブロモ−４−エチルフェニル基、３−ブロモ−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−ブロモ−４−メトキシフェニル基、４−フルオロ−３−メチルフェニル基、４−クロロ−３−メチルフェニル基、４−ブロモ−３−メチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、４−エチル−３−メチルフェニル基、３−メチル−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−メトキシ−３−メチルフェニル基、３−エチル−４−フルオロメチル基、４−クロロ−３−エチルフェニル基、４−ブロモ−３−エチルフェニル基、３−エチル−４−メチルフェニル基、３，４−ジエチルフェニル基、３−エチル−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−エチル−４−メトキシフェニル基、インダン−５−イル基、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２−イル基、６，７，８，９−テトラヒドロ−５Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イル基及び２−ナフチル基。
【実施例】
【００７２】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
【００７３】
製造例１
Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（４−アミノ−３−メトキシフェニル）プロピオンアミド０．８０ｇ、臭化プロパルギル０．２４ｍｌ、炭酸カリウム０．５９ｇ及びアセトニトリル３０mlを混合し、６０℃で８時間攪拌した。その後、室温まで放冷した反応混合物に酢酸エチルを加えてから濾過し、得られた濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付して、Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルアミノ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物１と記す。）０．３２ｇを得た。
本発明化合物１
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.11 (2H, d, J=7.8 Hz), 7.05 (2H, d, J=7.8 Hz), 6.71-6.72 (1H, m), 6.60-6.64 (2H, m), 5.56 (1H, br.s), 4.34-4.36 (3H, m), 3.94-3.95 (2H, m), 3.79 (3H, s), 2.91 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.47 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.32 (3H, s), 2.19 (1H, t, J=2.2 Hz)
【００７４】
製造例２
Ｎ−（４−クロロベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド２．０ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド０．１０ｇ及びジメチルスルホキシド１０mlを混合し、６０℃で４時間攪拌した。その後、室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で３回及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製及びＨＰＬＣ分取精製に付してＮ−（４−クロロベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロパン−１，２−ジエニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物２と記す。）０．１５ｇを得た。
本発明化合物２
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.26 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.07 (2H, d, J=8.4 Hz), 6.98 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.83 (1H, t, J=6.0 Hz), 6.76 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.64 (1H, dd, J=8.0 Hz, 2.0 Hz), 5.58 (1H, br.s), 5.41 (2H, d, J=6.0 Hz), 4.36 (2H, d, J=6.0 Hz), 3.83 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.4 Hz) , 2.50 (2H, t, J=7.4 Hz)
【００７５】
製造例３
４−クロロベンジルアミン０．２０ｇ、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルチオ）フェニル｝プロピオン酸０．３ｇ、ＷＳＣ０．２８ｇ及びＮ,Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド６ｍｌを室温で４時間撹拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−（４−クロロベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルチオ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物３と記す。）０．２８ｇを得た。
本発明化合物３
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.34 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.26-7.28 (2H, m), 7.07 (1H, d, J=8.4 Hz), 6.78 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.6 Hz), 6.72 (1H, d, J=1.6 Hz), 5.60 (1H, br.s), 4.36 (2H, d, J=6.0 Hz), 3.84 (3H, s), 3.59 (2H, d, J=2.8 Hz), 2.98 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.52 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.16 (1H, t, J=2.8 Hz)
【００７６】
製造例４
Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（４−メチルアミノ−３−メトキシフェニル）プロピオンアミド０．３７ｇ、臭化プロパルギル０．１３ｍｌ、炭酸カリウム０．２４ｇ及びアセトニトリル６mlを混合し、８０℃で３時間攪拌した。その後、室温まで放冷した反応混合物に酢酸エチルを加えてから濾過し、得られた濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付して、Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−[３−メトキシ−４−｛メチル（２−プロピニル）アミノ｝フェニル]プロピオンアミド（以下、本発明化合物４と記す。）０．１８ｇを得た。
本発明化合物４
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.07-7.13 (4H, m), 6.95 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.74 (1H, dd, J=7.9 Hz, 2.0 Hz), 6.76 (1H, d, J=2.0 Hz), 5.55 (1H, br.s), 4.36 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.96 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.84 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.84 (3H, s), 2.49 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.33 (3H, s), 2.17 (1H, t, J=2.4 Hz)
【００７７】
前記製造例により製造された、式（１）で示される本発明化合物を番号とともに（表１）に示す。
2006001855.tif 000015
【００７８】
【表１】
2006001855.tif 000016
【００７９】
次に中間体の製造につき参考例として記す。
参考例１
３−メトキシ−４−ニトロベンジルアルコール９．７ｇ、活性二酸化マンガン１２０ｇ及びクロロホルム５００ｍを混合し、室温で５時間撹拌した。その後、反応混合物を濾過し、得られた濾液を減圧下濃縮して３−メトキシ−４−ニトロベンズアルデヒドの粗生成物５．３ｇを得た。
３−メトキシ−４−ニトロベンズアルデヒド
2006001855.tif 000017
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 10.1 (1H, s), 7.92 (1H, d, J=7.5 Hz), 7.61 (1H, d, J=1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J=7.5 Hz, 1.6 Hz), 4.04 (3H, s)
【００８０】
参考例２
５５％水素化ナトリウム１．４ｇ及びテトラヒドロフラン１００ｍｌを混合し、該混合液に氷冷下ジエチルホスホノ酢酸エチルエステル７．２ｇを混合し、氷冷下で３０分間撹拌した。得られた混合物に３−メトキシ−４−ニトロベンズアルデヒド５．３ｇとテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合物を徐々に加え、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水を加え減圧下濃縮して、該濃縮物に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄して３−｛３−クロロ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステルの粗生成物６．６ｇを得た。
３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリル酸エチルエステル
2006001855.tif 000018
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.87 (2H, d, J=9.1 Hz), 7.65 (2H, d, J=15 Hz), 7.17-7.20 (2H, m), 6.51 (1H, d, J=16 Hz), 4.29 (2H, q, J=7.1 Hz), 4.00 (3H, s), 1.36 (3H, t, J=7.1 Hz)
J=7.1Hz)
【００８１】
参考例３
３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリル酸エチルエステル６．３ｇ、水酸化リチウム１水和物２．０ｇ、テトラヒドロフラン２０ml及び水１０mlを混合し、還流下で２時間撹拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷してから水を加え、減圧下濃縮した。生成した固体を濾別し、水及びヘキサンで洗浄して、３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリル酸５．２ｇを得た。
３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリル酸
2006001855.tif 000019
1H-NMR (CD3SOCD3, TMS) δ (ppm): 12.7 (1H, s), 7.90 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.69 (1H, s), 7.63 (1H, d, J=16 Hz), 7.43 (1H, d, J=9.1 Hz), 6.78 (1H, d, J=16 Hz), 3.97 (3H, s)
【００８２】
参考例４
３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリル酸５．０ｇ、塩化チオニル２．７ml、トルエン１００ml及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド約０．０１ｇを混合し、８０℃で１時間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリル酸塩化物の粗生成物を得た。次いで、４−メチルベンジルアミン２．９ｇ、トリエチルアミン４．１ｍｌ及びテトラヒドロフラン１５０ｍｌを混合し、０℃で前記の操作にて得られた３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリル酸塩化物の粗生成物と１０ｍｌのテトラヒドロフランとの混合物を混合し、室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリルアミド７．１ｇを得た。
Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリルアミド
2006001855.tif 000020
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.86 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.64 (1H, d, J=16 Hz), 7.22 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.14-7.17 (3H, m), 6.46 (1H, d, J=16 Hz), 5.89 (1H, br.t), 4.55 (2H, d, J=5.6 Hz), 3.97 (3H, s), 2.35 (3H, s)
【００８３】
参考例５
Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（３−メトキシ−４−ニトロフェニル）アクリルアミド６．３ｇ、１０％パラジウム炭素０．５０ｇ、５％塩酸１０滴、エタノール１００ｍｌ及びテトラヒドロフラン２００ｍｌを混合し、水素雰囲気下で攪拌した。水素ガスの吸収が停止した後、反応混合物を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。該濃縮物に酢酸エチルと水とを加え分液した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（４−アミノ−３−メトキシフェニル）プロピオンアミド５．７ｇを得た。
Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（４−アミノ−３−メトキシフェニル）プロピオンアミド
2006001855.tif 000021
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.11 (2H, d, J=7.9 Hz), 7.05 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.59-6.63 (3H, m), 5.58 (1H, br.s), 4.35 (2H, d, J=5.9 Hz), 3.79 (3H, s), 3.70 (2H, br.s), 2.89 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.46 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.32 (3H, s)
【００８４】
参考例６
Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（４−アミノ−３−メトキシフェニル）プロピオンアミド０．５ｇ、オルソ蟻酸エチル５ｍｌ及びトリフルオロ酢酸１滴を混合し、全還流下で４時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷後、減圧下濃縮し、得られた残渣とエタノール１０ｍｌを混合し、該混合液に氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム０．１９ｇを加え、還流下で２時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷後、酢酸エチルと水とを加え分液した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（４−メチルアミノ−３−メトキシフェニル）プロピオンアミド０．３７ｇを得た。
Ｎ−（４−メチルベンジル）−３−（４−メチルアミノ−３−メトキシフェニル）プロピオンアミド
2006001855.tif 000022
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.10 (2H, d, J=7.9 Hz), 7.05 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.71 (1H, dd, J=7.9 Hz, 2.0 Hz), 6.67 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.49 (1H, d, J=7.9 Hz), 5.58 (1H, br.s), 4.35 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.79 (3H, s), 2.90 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.84 (3H, s), 2.47 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.32 (3H, s)
【００８５】
参考例７
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）アクリル酸５０ｇ、５％パラジウム炭素０．５ｇ、３６％塩酸約０．０５ｇ、エタノール２５０ml及びテトラヒドロフラン１００mlを混合し、水素雰囲気下で撹拌した。水素ガスの吸収が停止した後、反応混合物を濾過し、濾液を減圧下濃縮して、３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸５２ｇを得た。
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸
2006001855.tif 000023
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.83（1H, dd, J=7.3Hz、0.8Hz）、6.70〜6.81（2H, m）、3.86（3H, s）、2.88（2H, t, J=7.6Hz）、2.65（2H, t, J=7.6Hz）
【００８６】
参考例８
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸５０ｇ、臭化プロパルギル５０ml、炭酸カリウム８８ｇ及びアセトニトリル５００mlを混合し、８０℃で３時間撹拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷し、酢酸エチルを加えて濾過した。濾液を減圧下濃縮し、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２−プロピニル６７ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２−プロピニル
2006001855.tif 000024
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.96（1H, d, J=7.8Hz）、6.68〜6.75（2H, m）、4.73（2H,  d, J=2.2Hz）、4.68（2H, d, J=2.2Hz）、3.87（3H, s）、2.93（2H, ｔ, J=7.3Hz）、2.67（2H,  t, J=7.3Hz）、2.47〜2.50（2H, m）
【００８７】
参考例９
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２−プロピニル６７ｇ、水酸化リチウム８．０８ｇ、テトラヒドロフラン４００ml及び水２００mlを混合し、６５℃で３時間撹拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷してから水を加え、減圧下濃縮した。残渣に５％塩酸を加え、クロロホルムで３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸５１ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2006001855.tif 000025
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.96（1H, d, J=8.2Hz）、6.73〜6.75（2H, m）、4.73（2H,  d, J=2.4Hz）、3.85（3H, s）、2.91（2H, t, J=8Hz）、2.67（2H, t, J=8Hz）、2.49（1H, t,  J=2.4Hz）
【００８８】
参考例１０
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸１２．７ｇ、塩化チオニル４．３ml、トルエン１００ml及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド約０．０５ｇを混合し、８０℃で３０分間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物１４．６ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物
2006001855.tif 000026
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.97（1H, d ,J=8.8Hz）、6.72〜6.74（2H, m）、4.73（2H,  d, J=2.4Hz）、3.87（3H, s）、3.19（2H, ｔ, J=7.2Hz）、2.99（2H, t,  J=7.2Hz）、2.49（1H,  t,  J=2.4Hz）
【００８９】
参考例１１
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物０．２ｇ、４−クロロベンジルアミン０．１１ｇ、トリエチルアミン０．１７ｍｌ及びテトラヒドロフラン５mlを混合し、室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−（４−クロロベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド０．２１ｇを得た。
Ｎ−（４−クロロベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド
2006001855.tif 000027
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.25-7.27 (2H, m), 7.05 (2H, d, J=8.2 Hz), 6.94 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.71-6.74 (2H, m), 5.59 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.5 Hz), 4.36 (2H, d, J=5.9 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.45-2.52 (3H, m)
【００９０】
参考例１２
バニリン３１ｇ、塩化Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバミン酸２５ｇ、ジメチルアミノピリジン０．５ｇ及びジオキサン３００ｍｌを混合し、還流下で１０時間撹拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷し、減圧下濃縮してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をエタノールから再結晶して、Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバミン酸  Ｏ−（４−ホルミル−２−メトキシフェニル）エステル３６ｇを得た。
Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバミン酸  Ｏ−（４−ホルミル−２−メトキシフェニル）エステル
2006001855.tif 000028
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.96 (1H, s), 7.49-7.51 (2H, m), 7.22 (1H, d, J=8.3 Hz), 3.90 (3H, s), 3.46 (3H, s), 3.37 (3H, s)
【００９１】
参考例１３
Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバミン酸  Ｏ−（４−ホルミル−２−メトキシフェニル）エステル３６ｇ及びテトラグライム１００ｍｌを混合し、２３０〜２４０℃で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷し、ヘキサンを加えてから濾過し、濾物をヘキサンで洗浄して、Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバミン酸  Ｓ−（４−ホルミル−２−メトキシフェニル）エステル２９ｇを得た。
Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバミン酸  Ｓ−（４−ホルミル−２−メトキシフェニル）エステル
2006001855.tif 000029
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.99 (1H, s), 7.69 (1H, d, J=7.5 Hz), 7.44-7.47 (2H, m), 3.95 (3H, s), 3.14 (3H, br.s), 3.03 (3H, br.s)
【００９２】
参考例１４
テトラヒドロフラン２００ｍｌ、５５％水素化ナトリウム２．０gを混合し、該混合液に氷冷下でジエチルホスホノ酢酸エチルエステル１０ｇを混合し、１５分間撹拌した。得られた混合物に、Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバミン酸Ｓ−（４−ホルミル−２−メトキシフェニル）エステル１０ｇとテトラヒドロフラン３０ｍｌとの混合物を徐々に加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて減圧下濃縮し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄し、３−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルチオ−３−メトキシフェニル）アクリル酸エチルエステル８．２ｇを得た。
３−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルチオ−３−メトキシフェニル）アクリル酸エチルエステル
2006001855.tif 000030
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.66 (2H, d, J=15 Hz), 7.48 (1H, d, J=7.9 Hz), 7.14 (1H, dd, J=7.9 Hz, 1.6 Hz), 7.06 (1H, d, J=1.6 Hz), 6.45 (1H, d, J=16 Hz), 4.27 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.90 (3H, s), 3.13 (3H, br.s), 3.02 (3H, br.s), 1.35 (3H, t, J=7.1 Hz)
【００９３】
参考例１５
３−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルチオ−３−メトキシフェニル）アクリル酸エチルエステル８．０ｇ、エタノール２０ｍｌ及び塩化ニッケル（II）０．１７ｇを混合し、氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム１．５ｇを混合し、室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、減圧下濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮した。得られた残渣に再度、同様の操作を行い、３−（３−メトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルチオ）プロピオン酸エチルエステルの粗生成物６．６ｇを得た。
３−（３−メトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルチオ）プロピオン酸エチルエステル
2006001855.tif 000031
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.36 (1H, d, J=7.2 Hz), 6.75-6.83 (2H, m), 4.14 (2H, q, J=7.2 Hz), 3.86 (3H, s), 3.11 (3H, br.s), 3.59 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.00 (3H, br.s), 2.96 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.63 (2H, t, J=7.8 Hz), 1.25 (3H, t, J=7.2 Hz)
【００９４】
参考例１６
３−（３−メトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルチオ）プロピオン酸エチルエステル６．５ｇ、水酸化ナトリウム５０ｇ及び水５０ｍｌを混合し、還流下で４時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷し、水を加え、ｐＨ＝２以下となるまで３６％塩酸を加え、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄して、３−｛４−メルカプト−３−メトキシフェニル｝プロピオン酸３．８ｇを得た。
３−｛４−メルカプト−３−メトキシフェニル｝プロピオン酸
2006001855.tif 000032
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.17 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.72 (2H, m), 3.87 (3H, s), 3.74 (1H, s), 2.91 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.66 (2H, t, J=7.6 Hz)
【００９５】
参考例１７
３−｛４−メルカプト−３−メトキシフェニル｝プロピオン酸１．０ｇ、炭酸カリウム２．０ｇ及びアセトニトリル２０mlを混合した。次いで臭化プロパルギル１．４mlとアセトニトリル１０mlとの混合物を徐々に加え、室温で１時間撹拌した。その後、反応混合物に水を加え、ｐＨ＝２以下となるまで５％塩酸を加え、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄して、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルチオ）フェニル｝プロピオン酸０．９５ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルチオ）フェニル｝プロピオン酸
2006001855.tif 000033
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.36 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.80 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.6 Hz), 6.76 (1H, d, J=1.2 Hz), 3.88 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.69 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.17 (1H, t, J=2.4 Hz)
【００９６】
次に製剤例を示す。部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物１〜４の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
【００９７】
製剤例２
本発明化合物１〜４の各々２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコ−ル２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル１０部を加えて攪拌混合し各々のフロアブル製剤を得る。
【００９８】
製剤例３
本発明化合物１〜４の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。
【００９９】
製剤例４
本発明化合物１〜４の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。
【０１００】
製剤例５
本発明化合物１〜４の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレ−６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。
【０１０１】
製剤例６
本発明化合物１〜４の各々１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。
【０１０２】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。
【０１０３】
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物１及び２の各々を製剤例６に準じて製剤とした後、水で所定濃度（５００ｐｐｍ）に希釈し、希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室で４日間栽培した。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１０４】
試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種：ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物１及び２を製剤例６に準じて製剤とした後、水で所定濃度（２００ｐｐｍ）に希釈し、希釈液をブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。