【手続補正書】
【提出日】平成19年8月8日(2007.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
PVモジュール列のPVモジュールの上下表面間の均圧状態を向上させる方法であって、以下の工程を有する、
支持部材によって、支持表面に対してほぼ平行に支持又は配置可能なPVモジュールの列を選択する、このPVモジュール列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記PVモジュール列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Vを計算する、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積IGAPを計算する、
1) 前記PVモジュールの上方エッジと前記屋根表面との間の周辺に沿った面積PGA、及び2) PVモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の周辺に沿った面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積PGAPを計算する、
比率R: R=V÷(IGAP+PGAP)を算出する、そして
この比率Rが所定の比率以上であれば、
V, IGAP及びPGAPの少なくとも1つを変更し、そして
前記算出をする工程を繰り返す。
【請求項２】
請求項１の方法であって、更に、前記所定比率を、前記PVモジュールと支持部材との単位面積当たりの重量に応じて選択する工程を有する。
【請求項３】
請求項２の方法であって、前記算出をする工程は、前記PVモジュールの単位面積当たりの重量を6 lbs./平方フィートとし、前記所定比率を20以下として行われる。
【請求項４】
請求項１の方法であって、前記選択工程は、前記周辺を取り囲むように配置可能な周辺空気デフレクタ装置を選択することを含む。
【請求項５】
請求項１の方法であって、前記選択工程は以下の工程を含む、
前記周辺を取り囲むととともに前記周辺から離間して配置可能な周辺空気デフレクタを選択する、
前記周辺空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ/モジュールギャップ面積D/MGAを算出する、そして
D/MGA÷PGAに等しい調節比ARを算出し、もしもARが1以下である場合には、
PGAをARで積算して補正PGAを得て、そして
前記補正PGAを前記PGAPを算出する工程において使用する。
【請求項６】
請求項５の方法であって、更に以下の工程を有する、
列空気体積Vへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する、そして
前記Rを算出する工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、IGAP、PGA及びD/MGAの少なくとも1つを下方調節する。
【請求項７】
請求項１の方法であって、更に以下の工程を有する、
列空気体積Vへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する、そして
前記Rを算出する工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、IGAP及びPGAの少なくとも一方を下方調節する。
【請求項８】
請求項１の方法であって、前記選択をする工程は、前記周辺ギャップ面積PGAをゼロに等しいものとして行われる。
【請求項９】
PVアセンブリ列のPVアセンブリの上下表面間の均圧状態を向上させる方法であって、以下の工程を有する、
支持表面上に支持可能なPVモジュールアセンブリの列を選択する、前記複数のPVアセンブリの少なくとも一部は、(1) 下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜PVモジュールと、(2) 傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜PVモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む。前記PVアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記PVアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される列空気体積Vを計算する、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積IGAPを計算する、
1) 前記PVモジュール及びデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の周辺に沿った面積PGA、及び2) PVモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の周辺に沿った面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積PGAPを計算する、そして
なんらかの支持体による障害を、IGAPとPGAPとを計算する時に、支持体によって障害されている面積を差し引くことによって計上処理する、
比率R: R=V÷(IGAP+PGAP)を算出する、そして
この比率Rが所定の比率以上であれば、
V, IGAP及びPGAPの少なくとも1つを変更し、そして
前記算出をする工程を繰り返す。
【請求項１０】
請求項９の方法であって、前記選択をする工程は以下の工程を含む、
前記傾斜PVモジュールの前記傾斜側方エッジの反対側の前記周辺の一部から離間して配置可能な側方空気デフレクタを選択する、
前記周辺空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ/モジュールギャップ面積D/MGAを算出する、そして
D/MGA÷PGAに等しい調節比ARを算出し、もしもARが1以下である場合には、
GAをARで積算して補正PGAを得て、そして
前記補正PGAを前記PGAPを算出する工程において使用する。
【請求項１１】
請求項１０の方法であって、更に以下の工程を有する、
列空気体積Vへの空気流の出入りを阻害するように位置する空気流阻害部材の存在を決定する、そして
前記Rを算出する工程の前に、前記空気流阻害決定工程の結果に基づいて、IGAP、PGA及びD/MGAの少なくとも1つを下方調節する。
【請求項１２】
請求項１０の方法であって、D/MGAはゼロである。
【請求項１３】
請求項１又は９の方法であって、前記算出をする工程は、前記所定比率を20以下として行われる。
【請求項１４】
請求項１又は９の方法であって、前記算出をする工程は、前記所定比率を10以下として行われる。
【請求項１５】
請求項１又は９の方法であって、前記算出をする工程は、前記所定比率を2以下として行われる。
【請求項１６】
請求項１又は９の方法であって、前記算出をする工程は、前記所定比率を1以下として行われる。
【請求項１７】
PV設備であって以下を有する、
支持表面、
上下表面を有する複数のPVモジュールを含むPVモジュール列、
前記PVモジュールを前記支持表面上に該支持表面に対してほぼ平行に支持するPVモジュール支持体、
前記PVモジュール列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記周辺の外側に配置される周辺デフレクタ、
前記PVモジュール列と前記支持表面との間に形成される列空気体積V、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積IGAP、
1) 前記PVモジュールとデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の周辺に沿った面積PGA、及び2) PVモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の周辺に沿った面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積PGAP、そして
比率R, R=V÷(IGAP+PGAP)、Rは、所定比率以下であり、この所定比率は20以下であり、
これにより、前記PVモジュール列のPVモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【請求項１８】
請求項１７のPV設備であって、
前記周辺空気デフレクタは前記周辺から離間する、そして前記設備は更に以下を有する、
前記周辺空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ/モジュールギャップ面積D/MGA、そして
D/MGAがPGA以下の場合、比率RX, RX=V÷(IGAP+D/MGA)は、前記所定比率以下である。
【請求項１９】
PV設備であって、以下を有する、
支持表面、
PVアセンブリの列、
これらPVアセンブリを前記支持表面上に支持するPVアセンブリ支持体、
前記PVアセンブリ列は、上下表面を有する複数のPVモジュールを含み、前記複数のPVアセンブリの少なくとも一部は、(1) 下方エッジと、上方エッジと、これら上下エッジを繋ぐ傾斜した側方エッジとを備える傾斜PVモジュールと、(2) 傾斜したデフレクタ側方エッジと、前記傾斜PVモジュールの上方エッジの反対側の上方デフレクタエッジとを備え、それらの間にギャップを形成する空気デフレクタとを含む、
前記PVアセンブリの列は、周部が閉じられた周辺を形成する、
前記PVアセンブリ列と前記支持表面との間に形成される列空気体積V、
前記列の垂直上方から見て、この列内に位置する固体表面間のすべてのギャップ面積の合計として定義される内部列ギャップ面積IGAP、
1) 前記PVモジュールとデフレクタの上方エッジと前記屋根表面との間の周辺に沿った面積PGA、及び2) PVモジュールの上方エッジと任意の周部デフレクタ装置との間の周辺に沿った面積、のいずれか小さい方として定義される周辺ギャップ面積PGAP、
比率R, R=V÷(IGAP+PGAP)、ここで、Rは、所定比率以下であり、この所定比率は20以下であり、
これにより、前記PVモジュール列のPVモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【請求項２０】
請求項１９のPV設備であって、更に以下を有する、
数の前記傾斜PVモジュールの前記傾斜側方エッジの反対側の前記周辺の一部に沿った側方空気デフレクタ、
前記側方空気デフレクタと前記周辺との間のデフレクタ/モジュールギャップ面積D/MGA、そして
D/MGAがPGA以下の場合、比率RX, RX=V÷(IGAP+D/MGA)は前記所定比率以下である。
【請求項２１】
請求項２０のPV設備であって、前記側方空気デフレクタは、傾斜し、かつ、前記複数の傾斜PVモジュールに向けて内方かつ上方に傾斜している。
【請求項２２】
請求項１８又は２０のPV設備であって、D/MGAはゼロである。
【請求項２３】
PV設備であって、以下を有する、
支持表面、
PVアセンブリ、
このPVアセンブリを前記支持表面の直接反対側に支持するPVアセンブリ支持体、
前記PVアセンブリは、前方エッジと、後方エッジと、これら前後エッジを繋ぐ第1及び第2側方エッジとを含み、これらエッジはPVアセンブリ周辺を形成する、
前記PVアセンブリ周辺と前記支持表面とは、それらの間に予備ギャップ面積を形成する、
前記PVアセンブリ周辺の少なくとも第1部分は、前記支持表面から少なくとも第1距離離間している、
前記PVアセンブリと前記支持表面との間に形成される空気体積V、
前記PVアセンブリは、少なくとも前記周辺のほぼ前記第1部分全体に沿って配置されて、前記予備ギャップの一部をブロックして、前記空気体積内へ開口する有効ギャップ面積(EGA)を形成する空気デフレクタを備え、
これにより、前記PVモジュール上の風流によって生じる揚力を低減しながら、前記PVモジュール列のPVモジュールの上下表面間の均圧状態が向上される。
【請求項２４】
請求項２３のPV設備であって、Vを、内部列表面(鳥瞰図で見た場合)間のすべてのギャップ面積の総計とともにEGAで除算した比率Rを有し、Rは所定比率以下である。
【請求項２５】
請求項２４のPV設備であって、前記所定比率は20以下である。
【請求項２６】
請求項２５のPV設備であって、前記PVアセンブリとPVアセンブリ支持体との重量は10 lb/sf.以下である。
【請求項２７】
請求項１７、１９又は２４のPV設備であって、前記所定比率は10以下である。
【請求項２８】
請求項２７のPV設備であって、前記PVアセンブリとPVアセンブリ支持体との重量は8 lb/sf.以下である。
【請求項２９】
請求項１７、１９又は２４のPV設備であって、前記所定比率は2以下である。
【請求項３０】
請求項２９のPV設備であって、前記PVアセンブリとPVアセンブリ支持体との重量は6 lb/sf.以下である。
【請求項３１】
請求項１７、１９又は２４のPV設備であって、前記所定比率は1以下である。
【請求項３２】
請求項３１のPV設備であって、前記PVアセンブリとPVアセンブリ支持体との重量は4 lb/sf.以下である。
【請求項３３】
請求項３１のPV設備であって、前記PVアセンブリとPVアセンブリ支持体との重量は3 lb/sf.以下である。
【請求項３４】
請求項２３のPV設備であって、前記支持表面は、ほぼ水平な屋根を含む。
【請求項３５】
請求項２３のPV設備であって、前記PVアセンブリ支持体は、前記PVを、支持表面貫通ファスナ無しで支持する。
【請求項３６】
請求項２３のPV設備であって、前記第1及び第2側方エッジは、前記支持表面に対してほぼ平行である。
【請求項３７】
請求項２３のPV設備であって、前記第1及び第2側方エッジは、前記前方エッジから前記後方エッジにかけて前記支持表面に対して鋭角で延出している。
【請求項３８】
請求項３７のPV設備であって、前記空気デフレクタは、前記後方エッジの反対側の後方空気デフレクタ部材と、前記第1及び第2側方エッジの反対側の第1及び第2空気デフレクタ部材とを含む。
【請求項３９】
請求項２３のPV設備であって、前記空気デフレクタは、少なくとも、前記周囲の前記第1部分の全体に沿って位置する。
【請求項４０】
請求項２３のPV設備であって、更に、前記支持表面上の前記PVアセンブリの列を有する。