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【手続補正書】
【提出日】平成19年7月20日(2007.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）約５．４％重量までの脂質、
（Ｂ）約５．４重量％から約１０．８重量％の炭水化物、
（Ｃ）約２．４重量％までのフィターゼ処理大豆タンパク質、および
（Ｄ）１リットルの配合物当たり、約１０ｍｇから約６００ｍｇのカルシウムを含み、カルシウム対脂質重量比が約０．００２から約０．０２０、前記フィターゼ処理大豆タンパク質のフィチン酸含有量が０．３重量％を超えない液体乳児用配合物。
【請求項２】
約２．７重量％から約４．５重量％の脂質を含む請求項１に記載の液体配合物。
【請求項３】
約６．１重量％から約８．８重量％の炭水化物を含む請求項１に記載の液体配合物。
【請求項４】
約１．０重量％から約２．３重量％のフィターゼ処理大豆タンパク質を含む請求項１に記載の液体配合物。
【請求項５】
１リットル当たり約３００ｍｇから約５５０ｍｇのカルシウムを含む請求項１に記載の液体配合物。
【請求項６】
カルシウム対脂質重量比が約０．０１０から約０．０１７である請求項１に記載の液体配合物。
【請求項７】
配合物１００ｋｃａｌ当たりのフィチン酸含有量が約８．４ｍｇを超えない請求項１に記載の液体配合物。
【請求項８】
配合物１００ｋｃａｌ当たりのフィチン酸含有量が約１．４ｍｇを超えない請求項１に記載の液体配合物。
【請求項９】
大豆タンパク質材料をフィターゼ含有酵素で処理し、酵素処理完了直後に前記酵素処理材料を水で洗浄することによって、得られる酵素処理大豆タンパク質のフィチン酸濃度を約０．３重量％未満にして、フィターゼ処理大豆タンパク質を調製する請求項１に記載の液体配合物。
【請求項１０】
大豆タンパク質材料をフィターゼ含有酵素で処理し、酵素処理完了直後に前記酵素処理材料を水で洗浄することによって、得られる酵素処理大豆タンパク質のフィチン酸濃度を酵素処理により０．０５重量％未満にしてフィターゼ処理大豆タンパク質を調製する請求項１に記載の液体配合物。
【請求項１１】
配合物１００ｋｃａｌ当たり
（Ａ）脂質、
（Ｂ）炭水化物、
（Ｃ）フィターゼ処理大豆タンパク質、および
（Ｄ）カルシウム
を含み、前記配合物のカルシウム対脂質重量比が約０．００２から約０．０２０であり、配合物１００ｋｃａｌ当たりのフィチン酸含有量が約８．４ｍｇを超えない乳児用配合物。
【請求項１２】
（Ａ）約８．０ｇまでの脂質、
（Ｂ）約８．０ｇから約１６．０ｇの炭水化物、
（Ｃ）約３．５ｇまでのフィターゼ処理大豆タンパク質、および
（Ｄ）約５０ｍｇから約９０ｍｇのカルシウム
を含む請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項１３】
配合物１００ｋｃａｌ当たり約４ｇから約６．６ｇの脂質を含む請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項１４】
配合物１００ｋｃａｌ当たり約９ｇから約１３ｇの炭水化物を含む請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項１５】
配合物１００ｋｃａｌ当たり約１．５ｇから約３．４ｇのフィターゼ処理大豆タンパク質を含む請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項１６】
配合物１００ｋｃａｌ当たり約７４ｍｇから約９０ｍｇのカルシウムを含む請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項１７】
カルシウム対脂質重量比が約０．０１０から約０．０１７である請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項１８】
配合物１００ｋｃａｌ当たりのフィチン酸含有量が約８．４ｍｇを超えない請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項１９】
配合物１００ｋｃａｌ当たりのフィチン酸含有量が約１．４ｍｇを超えない請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項２０】
大豆タンパク質材料をフィターゼ含有酵素で処理し、酵素処理完了直後に前記酵素処理材料を水で洗浄することによって、得られる酵素処理大豆タンパク質のフィチン酸濃度を０．３重量％未満にしてフィターゼ処理大豆タンパク質を調製する請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項２１】
大豆タンパク質材料をフィターゼ含有酵素で処理し、酵素処理完了直後に前記酵素処理材料を水で洗浄することによって、得られる酵素処理大豆タンパク質のフィチン酸濃度を０．０５重量％未満にしてフィターゼ処理大豆タンパク質を調製する請求項１１に記載の乳児用配合物。
【請求項２２】
請求項１に記載の配合物を乳児に与えることを含む、乳児に栄養を供給する方法。
【請求項２３】
請求項１に記載の配合物を乳児に与えることを含む、栄養を供給し、乳児の便を軟化する方法。
【請求項２４】
請求項１に記載の配合物を乳児に与えることを含む、栄養を供給し、乳児の便秘の頻度を減少させる方法。
【請求項２５】
請求項１１に記載の配合物を乳児に与えることを含む、乳児に栄養を供給する方法。
【請求項２６】
請求項１１に記載の配合物を乳児に与えることを含む、栄養を供給し、乳児の便を軟化する方法。
【請求項２７】
請求項１１に記載の配合物を乳児に与えることを含む、栄養を供給し、乳児の便秘の頻度を減少させる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月6日(2007.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平らな生分解性キャリア材料及び粒状吸水剤を含み、前記吸水剤の粒子は均一に分布した様式で前記キャリア材料に固定されている、水貯蔵性材料。
【請求項２】
前記吸水剤の前記粒子は生分解性で親水性の接着剤によって前記キャリア材料に固定されていることを特徴とする、請求項１記載の水貯蔵性材料。
【請求項３】
前記接着剤は水膨潤性であることを特徴とする、請求項２記載の水貯蔵性材料。
【請求項４】
前記接着剤は水溶性であることを特徴とする、請求項２又は３記載の水貯蔵性材料。
【請求項５】
前記接着剤はポリペプチドであることを特徴とする、請求項２〜４のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項６】
前記ポリペプチドはコラーゲン加水分解物であることを特徴とする、請求項５記載の水貯蔵性材料。
【請求項７】
前記コラーゲン加水分解物は平均分子量Ｍｗが１，０００〜２０，０００ダルトンであることを特徴とする、請求項６記載の水貯蔵性材料。
【請求項８】
前記コラーゲン加水分解物は平均分子量Ｍｗが３，０００〜１５，０００ダルトンであることを特徴とする、請求項７記載の水貯蔵性材料。
【請求項９】
前記キャリア材料はポリサッカリド、ポリペプチド及び／又はＰＶＡを含むことを特徴とする、先行の請求項のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項１０】
前記キャリア材料は架橋されていることを特徴とする、請求項９記載の水貯蔵性材料。
【請求項１１】
前記キャリア材料は可塑剤を含むことを特徴とする、請求項９又は１０記載の水貯蔵性材料。
【請求項１２】
前記ポリペプチドはゼラチンであることを特徴とする、請求項９〜１１のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項１３】
前記キャリア材料は可とう性キャリア材料であることを特徴とする、先行の請求項のいずれか１項に記載の水貯蔵性材料。
【請求項１４】
前記キャリア材料は発泡キャリア材料であることを特徴とする、先行の請求項のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項１５】
前記発泡キャリア材料は連続気泡構造を示すことを特徴とする、請求項１４記載の水貯蔵性材料。
【請求項１６】
前記キャリア材料は不織構造を示すことを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項１７】
前記キャリア材料はネットワーク構造を示すことを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項１８】
前記キャリア材料は前記接着剤を含むことを特徴とする、請求項２〜１７のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項１９】
前記接着剤は水により活性化されることができるものであることを特徴とする、請求項１８記載の水貯蔵性材料。
【請求項２０】
粒状肥料がさらに前記キャリア材料に均一に分布した様式で結合していることを特徴とする、先行の請求項のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項２１】
前記吸水剤材料は超吸収剤材料を含むことを特徴とする、先行の請求項のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【請求項２２】
前記超吸収剤材料は、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルアミン及びそれらの誘導体からなる群より選択されることを特徴とする、請求項１８記載の水貯蔵性材料。
【請求項２３】
前記材料は根の貫通に適していることを特徴とする、先行の請求項のいずれか１項記載の水貯蔵性材料。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月28日(2007.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円板核材料と円板終板材料の両方を実質的に含まない同種又は異種円板輪を備えている椎間円板移植片。
【請求項２】
前記円板移植片は、本質的には同種又は異種円板輪材料で構成されている、請求項１に記載の椎間円板移植片。
【請求項３】
前記同種又は異種円板輪材料は全体を具備した円板輪を備えている、請求項１に記載の椎間円板移植片。
【請求項４】
前記同種又は異種円板輪材料は円板輪の一部分を備えている、請求項１に記載の椎間円板移植片。
【請求項５】
前記移植片は、同種又は異種前縦靭帯材料を更に含んでいる、請求項１に記載の椎間円板移植片。
【請求項６】
前記同種又は異種前縦靭帯は、前記同種又は異種円板材料から外向きに伸張している自由端を含んでいる、請求項５に記載の椎間円板移植片。
【請求項７】
前記全体を具備した円板輪は、折りたたまれ又は巻かれて、更にコンパクトな構造になっている、請求項３に記載の椎間円板移植片。
【請求項８】
前記全体を具備した円板輪は、折りたたみ又は巻いて更にコンパクトな構造にした後で、脱水される、請求項７に記載の椎間円板移植片。
【請求項９】
前記全体を具備した円板輪は、折りたたみ又は巻いて更にコンパクトな構造にした後で、縫合又は接着される、請求項７に記載の椎間円板移植片。
【請求項１０】
前記全体を具備した円板輪は、ジャケット又はラップにくるまれる、請求項３に記載の椎間円板移植片。
【請求項１１】
前記ジャケット又はラップは、同種又は異種組織で作られている、請求項１０に記載の椎間円板移植片。
【請求項１２】
前記ジャケット又はラップは、合成材料で作られている、請求項１０に記載の椎間円板移植片。
【請求項１３】
前記移植片は、真っ直ぐにされ実質的にロッド形状の移植片となっている円板輪の一部分を備えている、請求項１に記載の椎間円板移植片。
【請求項１４】
前記実質的にロッド形状の移植片は、前記移植片の表面を半径方向内向きに動かす力を受けて、前記力を受ける前の前記円板輪の一部分の直径よりも小さい直径を有する移植片を提供する、請求項１３に記載の椎間円板移植片。
【請求項１５】
前記実質的にロッド形状の移植片は、前記移植片の表面を半径方向内向きに動かす力を受けた後で脱水され、水和状態の前記円板輪の一部分の直径よりも小さい直径を有する脱水された移植片を提供する、請求項１４に記載の椎間円板移植片。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月9日(2007.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯の形の容積を画定し、ベースおよびベースから遠位の切縁／咬合部位を備える本体、
前記歯の形の容積内に配置されている硬化性歯科材料、および
前記ベースから離れた位置で前記本体に取り付けられているハンドル、
を備えるクラウンフォーム。
【請求項２】
歯の形の容積を画定し、ベースおよびベースから遠位の切縁／咬合部位を備える本体、および
前記ベースから離れた位置で前記本体に取り付けられている中空のハンドル、
を備えるクラウンフォームであって、前記中空のハンドルが、前記本体に形成されている排出開口部を通して前記歯の形の容積と流体連通している、クラウンフォーム。
【請求項３】
前記ハンドルが中空の管状ハンドルを含み、前記中空のハンドルが、前記本体に形成されている排出開口部を通して前記本体の前記歯の形の容積と流体連通しているハンドル容積を画定し、前記ハンドルが前記本体から遠位の封鎖されている先端を備える、請求項１又は２に記載のクラウンフォーム。
【請求項４】
前記クラウンフォームが、密封包装または作用光バリア包装に入っている、請求項１〜３のいずれか１項に記載のクラウンフォーム。
【請求項５】
歯の形の容積を画定し、ベースおよびベースから遠位の切縁／咬合部位を備える本体、および
前記本体に形成されている１本以上の弱め線、
を備えるクラウンフォーム。
【請求項６】
前記本体に取り付けられている１つ以上のタブを更に備え、前記本体に取り付けられている中空のハンドルを更に備え、前記中空のハンドルが、前記本体に形成されている排出開口部を通して前記歯の形の容積と流体連通している、請求項５に記載のクラウンフォーム。
【請求項７】
クラウンを提供する方法であって、
歯の形の容積を画定し、ベースおよびベースから遠位の切縁／咬合部位を備える本体を備えるクラウンフォームを提供する工程であって、前記クラウンフォームが、前記ベースから離れた位置で前記本体に取り付けられているハンドルを更に備える工程、
前記クラウンフォームの本体の前記歯の形の容積内に配置される硬化性歯科材料を提供する工程、
準備された歯に前記クラウンフォームを被せる工程、
前記硬化性歯科材料を硬化させてクラウンを形成する工程、および
前記クラウンフォームを除去する工程、
を含む方法。
【請求項８】
クラウンを提供する方法であって、
歯の形の容積を画定し、ベースおよび前記ベースから遠位の切縁／咬合部位を備える本体を備えるクラウンフォームを提供する工程であって、前記クラウンフォームが、前記本体に形成されている１本以上の弱め線を更に備える工程、
前記クラウンフォームの本体の前記歯の形の容積内に配置される硬化性歯科材料を提供する工程、
準備された歯に前記クラウンフォームを被せる工程、
前記硬化性歯科材料を硬化させてクラウンを形成する工程、および
前記１本以上の弱め線を分離させることによって前記クラウンフォームを除去する工程、
を含む方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年8月17日(2007.8.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
好ましい条件の下で、不動態化されていないクーポンを用いる腐食試験によると、典型的な蒸気発生器二次側の炭素及び低合金鋼の金属喪失速度は洗浄プロセス毎に０．０００２乃至０．０００３インチであることが判明している。腐食速度がこのように遅く、極端に控え目であるため、この洗浄プロセスを多数回適用することができる。通常、原子炉用蒸気発生器の化学的洗浄プロセス１回当たりの腐食速度の限界は０．００２乃至０．００３インチであり、この限界となる腐食速度での洗浄プロセスの最大回数は３回である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年4月5日(2007.4.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
頻繁に使用されるアルデヒド、例えばプロピオンアルデヒドは、特有の不快なにおいを有するポリマーを製造し、大規模な工程の後においてのみ、上記使用のために適切な成分となるポリマーを与えるのであるから、本発明は、驚くべきことであった。蒸気を用いた徹底処理をしても、弱いがしかし不快なにおいが依然として観察されるかも知れない。更に、本願発明の方法により、転化率は２５％以上、特徴的には、３０％よりも多く、達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＴＰ１Ｂをコード化する核酸分子を標的にする長さが核酸塩基８から５０個のアンチセンスオリゴヌクレオチドであって、該核酸分子に特異的にハイブリダイズし、そしてヒトＰＴＰ１Ｂの発現を阻害し、かつ、配列識別番号：
２４４、２４５、２４７、２４８、２４９、２５０、２５１、２５２、２５４、２５５、２５６、２５７、２５８、２５９、２６０、２６１、２６２、２６３、２６７、２６８、２６９、２７１、２７５、２７６、２７７、２７８、２７９、２８１、２８２、２８３、２８８、２９０、２９１、２９２、２９４、２９６、２９７、２９８、２９９、３００、３０２、３０３、３０７、３１０、３１１、３１３、３１５、３１７、３１８、３２２、３２３、３２４、３２５、３２６、３２７、３２８、３２９、３３０、３３１、３３２、３３３、３３４、３４０、３４２、３４７、３４９、３５０、３５２、３５３、３５４、３５５、３５６、３５７、３６０、３６１、３６２、３６３、３６４、３６５、３６６、３６８、３６９、３７１、３７２、３７４、３７７、３７８、３８０、３８１、および３８８から成る群から選択される配列を含んで成る、上記オリゴヌククレオチド。
【請求項２】
修飾ヌクレオシド間結合を少なくとも１つ含んで成る請求項１記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項３】
修飾ヌクレオシド間結合がホスホロチオエート結合である請求項２記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項４】
修飾糖部分を少なくとも１つ含んで成る請求項１記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項５】
修飾糖部分が２’−Ｏ−メトキシエチル糖部分である請求項４記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項６】
修飾核酸塩基を少なくとも１つ含んで成る請求項１記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項７】
修飾核酸塩基が５−メチルシトシンである請求項６記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項８】
キメラオリゴヌクレオチドである請求項１記載のオリゴヌクレオチド。
【請求項９】
請求項１記載のオリゴヌクレオチドと薬学的に受け入れられ得る担体もしくは希釈剤を含んで成る組成物。
【請求項１０】
更にコロイド状の分散系も含んで成る請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
ＰＴＰ１Ｂの発現を阻害するように、細胞もしくは組織を請求項１記載のアンチセンスオリゴヌクレオチドと接触させてことを特徴とする細胞もしくは組織におけるＰＴＰ１Ｂの発現の阻害方法。
【請求項１２】
細胞もしくは組織がヒトの細胞もしくは組織である請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
細胞もしくは組織が齧歯類の細胞もしくは組織である請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
齧歯類の細胞もしくは組織がマウスの細胞もしくは組織である請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
齧歯類の細胞もしくは組織がラットの細胞もしくは組織である請求項１３記載の方法。
【請求項１６】
細胞もしくは組織が肝臓、腎臓もしくは脂肪の細胞もしくは組織である請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
ＰＴＰ１Ｂに随伴する疾患もしくは状態を処置するための薬剤の製造における請求項１記載のアンチセンスオリゴヌクレオチドの使用。
【請求項１８】
ヒトを処置するための請求項１７記載の使用。
【請求項１９】
疾患もしくは状態が代謝病もしくは状態である請求項１７記載の使用。
【請求項２０】
疾患もしくは状態が糖尿病である請求項１７記載の使用。
【請求項２１】
疾患もしくは状態が２型糖尿病である請求項１７記載の使用。
【請求項２２】
疾患もしくは状態が肥満症である請求項１７記載の使用。
【請求項２３】
疾患もしくは状態が過増殖状態である請求項１７記載の使用。
【請求項２４】
過増殖状態が癌である請求項２３記載の使用。
【請求項２５】
動物における血液グルコース濃度を低下させるための薬剤の製造における、請求項１記載のアンチセンスオリゴヌクレオチドの使用。
【請求項２６】
動物がヒトまたは齧歯類である請求項２５記載の使用。
【請求項２７】
血液グルコース濃度が血漿グルコース濃度または血清グルコース濃度である請求項２５記載の使用。
【請求項２８】
動物が糖尿病の動物である請求項２５記載の使用。
【請求項２９】
動物におけるＰＴＰ１Ｂに随伴する疾患または状態の開始を防止または遅らせるための薬剤の製造における、請求項１記載のアンチセンスオリゴヌックレオチドの使用。
【請求項３０】
動物がヒトである請求項２９記載の使用。
【請求項３１】
疾患もしくは状態が代謝病もしくは状態である請求項２９記載の使用。
【請求項３２】
疾患もしくは状態が糖尿病である請求項２９記載の使用。
【請求項３３】
疾患もしくは状態が２型糖尿病である請求項２９記載の使用。
【請求項３４】
疾患もしくは状態が肥満症である請求項２９記載の使用。
【請求項３５】
疾患もしくは状態が過増殖状態である請求項２９記載の使用。
【請求項３６】
過増殖状態が癌である請求項３５記載の使用。
【請求項３７】
動物における血液グルコース濃度上昇の開始を防止または遅らせるための薬剤の製造における、請求項１記載のアンチセンスオリゴヌックレオチドの使用。
【請求項３８】
動物がヒトまたは齧歯類である請求項３７記載の使用。
【請求項３９】
血液グルコース濃度が血漿グルコース濃度または血清グルコース濃度である請求項３７記載の使用。
【請求項４０】
動物が糖尿病の動物である請求項３７記載の使用。
【請求項４１】
ＰＴＰ１Ｂをコード化する核酸分子（配列識別番号：２４３）のイントロン、イントロン−エキソン連結部もしくはエキソン−イントロン連結部を標的にする請求項１記載のアンチセンスオリゴヌクレオチドであって、該核酸分子に特異的にハイブリダイズし、そしてＰＴＰ１Ｂの発現を阻害し、かつ、配列識別番号：２８２、２８３、２８８、２９０、２９１、２９２、２９４、２９６、２９７、２９８、２９９、３００、３０２、３０３、３０７、３１０、３１１、および３１３から成る群から選択される配列を含んで成る、上記オリゴヌクレオチド。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
本発明は、符号化と伝送の前に、信号のステレオ特性の検出を採用する。最も単純な形では、入力ステレオ信号に存在するステレオ配合（stereo perspective）の量を検出器で測定する。次いでこの量をステレオ幅パラメータとして、原信号の符号化されたモノラル和と共に伝送する。受信機はモノラル信号を復号化し、疑似ステレオ生成器を使用して、前記パラメータによって制御されるステレオ幅の適切な量を適用する。特別な場合として、モノラル入力信号は零ステレオ幅として信号化され、したがって復号器でステレオ合成は適用されない。本発明では、ステレオ幅の有用な数値を、例えば元の左右チャネルの差信号または相互相関から導出することができる。そのような計算の値を少数の状態で表現することができ、それらは適当な時間間隔で、あるいは必要に応じて伝送される。本発明はまた、一般的に低ビットレート符号化信号と関連のある脱マスキング（unmasking）符号化アーチファクトの危険性を低減するために、合成ステレオ成分をフィルタリングする方法をも教示する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月15日(2007.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基地局によりサービスを受けるセルの２つ以上のユーザが干渉し得るセルラ通信システム（１８）を動作させる方法であって、
基地局（２２）において用いられる複数の無線周波数間におけるトラフィックを前記セルについてのセルサイズ計画に従って割当て、セルサイズを維持するか、或は最大にすることを特徴とする方法。
【請求項２】  所定のカバレッジ（Ｐmax）をもつものとしてセルサイズを維持するために、前記基地局（２２）において用いられる前記複数の周波数間のトラフィックを割り当てることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  セルサイズを最大にするために、前記基地局において用いられる前記複数の周波数間のトラフィックを割り当てることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  さらに、前記複数の周波数の１つを最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定し、
前記最大カバレッジ周波数についての全干渉を測定し、
前記最大カバレッジ周波数についての前記全干渉が干渉の第１閾値を越えるとき、前記最大カバレッジ周波数によって搬送される接続を前記複数の周波数の別の１つへと解放することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  さらに、前記複数の周波数の１つを最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定し、
前記最大カバレッジ周波数についての全干渉を測定し、
前記最大カバレッジ周波数についての前記全干渉が干渉の第１閾値を越えるとき、前記複数の周波数の内の別の１つを要求して新しく要求された接続を搬送することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】  さらに、前記複数の周波数の１つを最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定し、
前記最大カバレッジ周波数に割当てられた接続の数を制限し、これにより前記最大カバレッジ周波数が前記セルの境界にすぐ近くで利用可能にすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】  さらに、前記複数の周波数の１つを最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定し、
前記最大カバレッジ周波数が最も不適格な周波数であるように、好適な利用順序でランク付けされた前記複数の周波数についての順番リスト（１００）を保持し、
新しい接続に、利用可能なチャネルをもつ前記複数の周波数の内の最も不適格な周波数を割当てることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】  さらに、前記複数の周波数の１つを最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定し、
前記最大カバレッジ周波数に割当てられたトラフィック量を制限し、これにより前記最大カバレッジ周波数が前記セルの境界にすぐ近くで利用可能にすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】  さらに、前記複数の周波数の１つを最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定し、
前記最大カバレッジ周波数における全トラフィックを決定し、
前記最大カバレッジ周波数における前記全トラフィックが第１のトラフィック閾値を越えるとき、前記複数の周波数の内の別の１つを要求して接続を搬送することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  基地局によりサービスを受けるセルの２つ以上のユーザが干渉し得るセルラ通信システム（１８）であって、
セルにサービスを行なうために複数の無線周波数を用いる基地局（２２）と、
前記セルについてのセルサイズ計画に従って、前記複数の無線周波数間におけるトラフィックを割当て、セルサイズを維持するか、或は最大にする資源割当てユニット（６６）とを有することを特徴とするセルラ通信システム。
【請求項１１】  前記資源割当てユニット（６６）は、前記基地局において用いられる前記複数の周波数間におけるトラフィックを割当てて所定のカバレッジ（Ｐmax）をもつものとしてセルサイズを維持することを特徴とする請求項１０に記載のセルラ通信システム。
【請求項１２】  前記資源割当てユニットは、前記基地局において用いられる前記複数の周波数間におけるトラフィックを割当ててセルサイズを最大にすることを特徴とする請求項１０に記載のセルラ通信システム。
【請求項１３】  前記複数の無線周波数の１つが最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定され、前記基地局が前記最大カバレッジ周波数についての全干渉を測定し、
前記最大カバレッジ周波数についての前記全干渉が所定の閾値を越えるとき、前記最大カバレッジ周波数によって搬送される接続を、前記複数の周波数の別の１つへと解放するノード（２４）をさらに有することを特徴とする請求項１０に記載のセルラ通信システム。
【請求項１４】  前記最大カバレッジ周波数によって搬送される接続を解放する前記ノードは、無線ネットワーク制御局（ＲＮＣ）であることを特徴とする請求項１３に記載のセルラ通信システム。
【請求項１５】  前記複数の無線周波数の１つが最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定され、前記基地局が前記最大カバレッジ周波数についての全干渉を測定し、
前記最大カバレッジ周波数についての前記全干渉が所定の閾値を越えるとき、前記複数の周波数の内の別の１つを要求して新しく要求された接続を搬送するノード（２４）をさらに有することを特徴とする請求項１０に記載のセルラ通信システム。
【請求項１６】  前記複数の周波数の内の別の１つを要求して新しく要求された接続を搬送するノードは、無線ネットワーク制御局（ＲＮＣ）であることを特徴とする請求項１５に記載のセルラ通信システム。
【請求項１７】  前記複数の無線周波数の１つが最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定され、前記資源割当てユニット（６６）が前記最大カバレッジ周波数に割り当てられた接続の数を制限し、これにより
前記最大カバレッジ周波数が前記セルの境界のすぐ近くで利用可能であることを特徴とする請求項１０に記載のセルラ通信システム。
【請求項１８】  前記資源割当てユニットは、前記最大カバレッジ周波数が最も不適格な周波数であるように、好適な利用順序でランク付けされた前記複数の周波数についての順番リスト（１００）を保持し、
前記資源割当てユニットは、新しい接続に、利用可能なチャネルをもつ前記複数の周波数の内の最も不適格な周波数を割当てることを特徴とする請求項１７に記載のセルラ通信システム。
【請求項１９】  前記複数の周波数の１つが最大カバレッジ周波数（ＭＣＦ）として指定され、
前記資源割当てユニットは、前記最大カバレッジ周波数における全トラフィックを判断し、
前記最大カバレッジ周波数における前記全トラフィックがトラフィック閾値を越えるとき、前記資源割当てユニットは、前記複数の周波数の内の別の１つを要求して接続を搬送することを特徴とする請求項１０に記載のセルラ通信システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月3日(2007.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  薄膜を成長させる装置であって、該装置は、
（ａ）反応チャンバと、
（ｂ）該反応チャンバ内に装着された基板と、
（ｃ）キャリアガスフローを該反応チャンバ内に確立し、該基板の上流で２つ以上の反応物を該キャリアガスフロー内に導入するガス注入システムであって、該反応物の少なくとも１つが励起種を含み、該ガス注入システムは、該反応チャンバに直接つながっている第１のガス注入口であって、第１の反応物を該反応チャンバに提供する第１のガス注入口と、該反応チャンバに直接つながっている第２のガス注入口であって、励起種を該反応チャンバに提供する第２のガス注入口とを備える、ガス注入システムと、
（ｄ）ガス排気口と
を備え、
該チャンバの動作中に、時間的に離れた反応物のパルスが該キャリアガス内に導入され、これにより、所望の膜が該基板に堆積される、装置。
【請求項２】  前記ガス排気口と連絡する真空排気システムをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記キャリアガス内に導入する励起種の生成器をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項４】  前記反応チャンバ内における隣接するパルス内の反応物の好ましくない反応が最小限にとどまるように、該反応物のパルスが十分に離れている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】  前記反応物のパルスが時間的に十分に離れており、これにより、前記キャリアガス内の連続した反応物の特徴的な拡散の長さ（ＬＤ）が、シーケンスパルスの後縁と前縁との間の距離より短い、請求項１に記載の装置。
【請求項６】  前記反応物のパルスが時間的に十分に離れており、これにより、前記キャリアガス内の反応物の特徴的な拡散の長さ（ＬＤ）が、前記シーケンスパルスの後縁と前縁との間の距離の５分の１〜１０分の１である、請求項５に記載の装置。
【請求項７】  前記励起種の生成器がマイクロ波による遊離基生成器である、請求項３に記載の装置。
【請求項８】  前記マイクロ波による遊離基生成器が前記反応チャンバから離れている、請求項７に記載の装置。
【請求項９】  励起種が前記反応チャンバ内で生成されるプラズマ内に生成される、請求項３に記載の装置。
【請求項１０】  励起種を含まない反応物のパルスが励起種を含む反応物のパルスと交代する、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】  前記ガス注入システムが、反応物ソースと連絡する第１のキャリアガス注入口と、励起種の生成器と連絡する第２のガス注入口とを備える、請求項３に記載の装置。
【請求項１２】  前記反応チャンバを通過するときの空間的、かつ、時間的な点におけるキャリアガスフロー内の反応物の濃度がその最大値の約１０％以下であると同時に、該空間的、かつ、時間的な点において、キャリアガスフロー内の第２の反応物の濃度がその最大値である、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】  前記反応チャンバを通過するときの空間的、かつ、時間的な点におけるキャリアガスフロー内の反応物の濃度がその最大値の約１％以下であると同時に、該空間的、かつ、時間的な点において、キャリアガスフロー内の第２の反応物の濃度が最大値である、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】  反応物の交代パルスが同じキャリアガスフローによって運搬される、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】  反応物のパルスのタイミングを提供する制御システムをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】  基板に層を堆積する方法であって、
（ａ）反応チャンバを提供する工程であって、該反応チャンバは、該基板を受け取り、キャリアガスを受け取る、工程と、
（ｂ）該反応チャンバへのキャリアガスの連続フローを提供する工程と、
（ｃ）該キャリアガス内の反応物の濃度パルスを提供する工程であって、該パルスのうちの少なくとも１つが励起種を含む、工程と、
（ｄ）所望の層の厚さが該基板表面に形成されるまで該反応物のパルスを繰り返す工程と
を包含する、方法。
【請求項１７】  サイクルごとの前記層の厚さが約１ｎｍより薄い、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  空間的、かつ、時間的な点におけるキャリアフロー内の任意の１つの反応物の濃度が最大値の１０％以下であると同時に、該空間的、時間的またはその双方の点において、別の反応物がその最大濃度である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】  空間的、かつ、時間的な点におけるキャリアフロー内の任意の１つの反応物の濃度が最大値の１％以下であると同時に、該空間的、かつ、時間的な点において、別の反応物がその最大濃度である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】  前記反応物のパルスが時間的に十分に離れており、これにより、前記キャリアガス内の該反応物または励起種の特徴的な拡散の長さ（ＬＤ）が、該パルスの後縁と前縁との間の距離より短い、請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】  前記反応物のパルスが時間的そして空間的に十分に離れており、これにより、前記キャリアガス内の該反応物または励起種の特徴的な拡散の長さ（ＬＤ）が、該パルスの後縁と前縁との間の距離の５分の１〜１０分の１である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】  前記励起種がプラズマ内に形成される励起中性種または遊離基である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】  励起種を含まない反応物ガスのパルスが励起種を含む反応物のパルスと交代する、請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】  ガス注入システムが、前記反応チャンバ内にキャリアガスフローを導入する第１のガス注入口と、励起種を含む反応物を該キャリアガスフロー内に導入する第２のガス注入口とを備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項２５】  励起種を含む前記反応物の濃度パルスが、前記励起種の先駆物質のフローに結合されるエネルギーソースのパルシングをすることによって生成される、請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】  前記エネルギーソースが熱エネルギーを供給する、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】  前記エネルギーソースが可視、ＵＶまたはＩＲ輻射を提供する、請求項２５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月5日(2007.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造工程においての欠陥検出を提供するための方法であって、前記方法は、
処理ピースの製造に関連する処理ツールからの動作データを第１のインターフェイスで受取るステップと、
第１のインターフェイスが動作データを受取ると、動作データを第１のインターフェイスから第２のインターフェイスおよびプロセスコントローラに送るステップと、
第２のインターフェイスが動作データを受取ると、動作データを第２のインターフェイスから欠陥検出ユニットに送るステップと、
欠陥検出ユニットにおいて処理ツールに欠陥状態が存在するかどうかを判断するステップと
欠陥検出ユニットによって欠陥状態が判断されると、欠陥状態を示す警報信号を第２のインターフェイスからプロセスコントローラに送るステップと、
プロセスコントローラによって第２のインターフェイスから警報信号が受取られると、予め定められた動作を行なって欠陥状態が修正されるステップと、
予め定められた動作を反映して、プロセスコントローラによって制御信号を第１のインターフェイスに送るステップとを含む、方法。
【請求項２】  
動作データを第２のインターフェイスに送る前に、第１のインターフェイスからの動作データを第３のインターフェイスで受取るステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  
第３のインターフェイスで、動作データを、第１のインターフェイスが用いる第１の通信プロトコルから第３のインターフェイスが用いる第２の通信プロトコルに変換するステップをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  
第２のインターフェイスで、動作データを、第３のインターフェイスが用いる第２の通信プロトコルから欠陥検出ユニットが用いる第３の通信プロトコルに変換するステップをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  
処理ツールに結合されるセンサからの付加的な動作データを第４のインターフェイスで
受取るステップと、
付加的な動作データが第４のインターフェイスで受取られると、付加的な動作データを第２のインターフェイスに送るステップとをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  
第４のインターフェイスで、動作データを、センサが用いる第１の通信プロトコルから第４のインターフェイスが用いる第２の通信プロトコルに変換するステップをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  
第２のインターフェイスで、動作データを、第４のインターフェイスが用いる第２の通信プロトコルから欠陥検出ユニットが用いる第３の通信プロトコルに変換するステップをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  
欠陥状態が存在するかどうかを判断するステップは、
第２のインターフェイスで受取られた動作データを欠陥検出ユニットにおける予め定められた動作データと比較するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  
製造工程においての欠陥検出を提供するためのシステムであって、前記システムは、
処理ピースの製造に適合させられる処理ツールと、
処理ツールに結合される第１のインターフェイスとを含み、第１のインターフェイスは、処理ピースの製造に関連する処理ツールからの動作データを受取るように適合させられ、前記システムはさらに、
処理ツールに欠陥状態が存在するかどうかを判断するように適合させられる欠陥検出ユニットと、
第１のインターフェイスが動作データを受取ると、第１のインターフェイスから動作データを受取りそのデータを欠陥検出ユニットに送るように適合させられるフレームワークとを含み、
前記フレームワークは、
第２のインターフェイスを含み、前記第２のインターフェイスは、欠陥検出ユニットに結合され、処理ピースの製造の間に第１のインターフェイスが動作データを受取ると動作データを受取るように適合させられ、第２のインターフェイスが動作データを受取ると動作データを欠陥検出ユニットに送るように適合させられ、前記フレームワークはさらに、
第１のインターフェイスと第２のインターフェイスとに結合されるプロセスコントローラを含み、プロセスコントローラは処理ピースの製造の間に第１のインターフェイスで動作データが受取られると動作データを受取るよう適合させられ、
第２のインターフェイスはさらに、欠陥検出ユニットによって欠陥状態が判断された場合に警報信号をプロセスコントローラに送るように適合させられ、
プロセスコントローラはさらに、警報信号を受取ると予め定められた動作を行なって欠陥状態を修正するように適合させられ、予め定められた動作を反映して制御信号を第１のインターフェイスに送るように適合させられる、システム。
【請求項１０】
フレームワークはさらに第３のインターフェイスを含み、前記第３のインターフェイスは第１のインターフェイス、プロセスコントローラ、および第２のインターフェイスの間で結合され、第３のインターフェイスは、第１のインターフェイスからの動作データを受取るように適合させられ、第１のインターフェイスが用いる第１の通信プロトコルとフレームワークが用いる第２の通信プロトコルとの間で動作データを変換するように適合させられる、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
第２のインターフェイスはさらに、受取られた動作データを、フレームワークが用いる第２の通信プロトコルから欠陥検出ユニットが用いる第３の通信プロトコルに変換するように適合させられる、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
処理ツールに結合されるセンサをさらに含み、前記センサは、処理ツールから付加的な動作データを受取るように適合させられ、
フレームワークはさらに、
センサとプロセスコントローラと第２のインターフェイスとの間で結合される第４のインターフェイスを含み、前記第４のインターフェイスは、センサからの動作データを受取るように適合させられ、センサが用いる第１の通信プロトコルとフレームワークが用いる第２の通信プロトコルとの間で動作データを変換するように適合させられる、請求項９に記載のシステム。
【請求項１３】
欠陥検出ユニットはさらに、修理ツールの動作データを予め定められた動作データと比較して欠陥状態の存在を判断するように適合させられる、請求項９に記載のシステム。
【請求項１４】
処理ツールは半導体製造ツールであり、処理ピースはシリコンウェハである、請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月27日(2007.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
研磨パッド調整器２４０は、研磨パッド２３２の研磨特性の維持に助力する。
研磨パッド調整器２４０は、調整アーム２４２を含み、この調整アームは、研磨パッド２３２の旋回半径とエンドエフェクタ２４１とを越えて延在する。調整アーム２４２は、エンドエフェクタ２４１とＣＭＰ２５０に結合されている。エンドエフェクタ２４１は、研磨パッド２３２の表面を粗くするために用いられる調整ディスク２４３を有する。調整ディスク２４３は、調整アーム２４２によって回転させられ、調整ディスク２４１が研磨パッド２３２の旋回半径を覆うように、研磨パッドの中央に向け、かつ、研磨パッド２３２の中央から離れるように並進運動させられ、これにより、研磨パッド２３２が回転するときに研磨パッド２３２の表面領域のほぼ全体をカバーする。エンドエフェクタ２４３は、研磨パッド２３２の擦り減った表面の除去と研磨パッド２３２の表面におけるグローブおよび穴の再構成を容易にする。表面が継続的に粗くされる研磨パッドにより、メンテナンスされない研磨パッドよりも、より安定した、かつ、往々にして比較的速い除去速度が得られる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図３Ａは、本発明にかかる超音波変換スラリー分配ＣＭＰシステム３００の平面図であり、また、図３Ｂは、超音波変換スラリー分配ＣＭＰシステム３００の一側面図である。超音波変換スラリー分配ＣＭＰシステム３００は、超音波スラリー分配システムがウェーハリング内に組み込まれている点を除いて超音波変換ＣＭＰシステム２００Ａと同様である。本発明の一実施形態において、超音波変換スラリー分配ＣＭＰシステム３００は、超音波変換スラリー分配ウェーハホルダ３２０と、研磨パッド部２３０と、研磨パッド調整器２４０と、ＣＭＰ機械２５０とを備える。ＣＭＰ機械２５０は、超音波変換スラリー分配ウェーハホルダ３２０と研磨パッド部２３０と研磨パッド調整器２４０に結合される。ウェーハ保持機能とスラリー分配機能の双方が超音波変換スラリー分配ウェーハホルダ３２０によって履行される点を除いて、超音波変換ＣＭＰシステム３００のこれらの要素は、超音波変換ＣＭＰシステム２００Ａと同様に、協動して集積回路ウェーハ２２４を研磨して平坦化する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明によれば、超音波変換スラリー分配ＣＭＰシステム３００は、スラリーを研磨パッドに分配し超音波エネルギを伝送しながら研磨パッド２３２に接するウェーハ２２４を回転動作に限定する超音波変換スラリー分配キャリアリング３２３を利用する。超音波変換スラリー分配キャリアリング３２３によって分配されるスラリーは、効率的に利用される。これは、研磨パッド２３２の全表面をスラリーで覆う必要をなくすウェーハ２２４に直接「向けられる」ものである。スラリーは、ほぼ迅速にウェーハ２２４に接触し、研磨パッド２３２への分配をも容易にするために、超音波の力がスラリーに印加される。超音波変換スラリー分配ＣＭＰシステム３００のこれらの効率的な特性は、ＣＭＰ工程中のスラリーの消費を低減し、ＣＭＰ工程をコスト面でより効果的にする。スラリーが分配されると、スラリーは、最小限の凝集で研磨パッド２３２の粗い表面構成に一様に分配され、研磨パッド２３２とウェーハ２２４の双方が回転するとウェーハ２２４の表面下に移送される。さらに、ウェーハ２２４を通過しながら研磨パッド２３２表面のグローブおよび穴に突き刺さる、消費されたスラリーと研磨副産物は、容易に除去されるように「廃」液内で再浮遊する。次に、超音波変換スラリー分配キャリアリング３２３の表面から廃粒子が移送されるときに超音波エネルギがこれらの粒子に印加される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図４は、超音波変換スラリー分配キャリアリング３２３の一実施形態の平面図である。超音波変換スラリー分配キャリアリング３２３は、スラリー分配溝４１０〜４１７を有するキャリアリング本体４５０と、超音波変換器４２０〜４２７と、キャリアリング内表面４７０とを備える。キャリアリング本体４５０は、スラリー分配溝４１０〜４１７と超音波変換器４２０〜４２７とキャリアリング内表面４７０に結合される。スラリーは、キャリア３２２から、スラリー分配溝４１０〜４１７を介して、スラリーを分配する超音波変換スラリー分配キャリアリング３２３へ送られる。超音波変換器４２０〜４２７は、超音波エネルギをスラリーへ伝送する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図６は、キャリアリングがウェーハ２２４の表面から見て研磨パッド２３２の表面内にさらに突出した、本発明の一実施形態を示す。図６に示すように、超音波変換スラリー分配キャリアリング３２３の下面は、ウェーハ２２４の下面よりもさらに研磨パッド２３２の表面内に押しつけられている。このようなキャリアリングのさらなる突出は、ウェーハ２２４の端部がウェーハ２２４の中心よりも速く研磨されがちである状況における不均一性を低減するために用いられる。ウェーハ２２４の中心に対して行使される力のうちと比較してウェーハ２２４の端部に対して研磨パッド２３２によって行使される相対的な力を弱めるために、このようなキャリアリングのさらなる突出を利用するＣＭＰ機械は多い。このことは、ウェーハ２２４の中心よりもウェーハ２２４の端部で研磨パッド２３２に対する（例えば、アームキャリア３２２によるウェーハ２２４の回転による）角速度が大きいという事実に歯止めをかける。キャリアリングの底面とキャリアリングの前縁からのスラリーの流れは、スラリーのウェーハへの移送を妨げないので、本発明にかかる超音波変換スラリー分配キャリアリング３２３は、研磨パッドへの上記キャリアリングのさらなる突出によって妨害されることなく、ウェーハ２２４へのスラリーの均一な分配を容易にする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月22日(2007.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ハウジングと、
ハウジング内に配置される少なくとも２つの対向する電極と、
電極の間に配置される隔離板と、
電極の間に配置される電解質と、
ハウジング内に配置され、１つまたは２つ以上の予め定められた汚染物質をハウジング内から除去するための収集手段とを含む、電荷蓄積装置。
【請求項２】  電極の各々はコーティングを含み、収集手段はコーティングのうちの少なくとも１つの１構成要素である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  コーティングは活性炭素を含み、収集手段は電極に塗布される前に少なくとも１つのコーティングに組込まれる、請求項２に記載の装置。
【請求項４】  少なくとも１つのコーティングは結合剤を含み、収集手段は結合剤内に含まれる、請求項３に記載の装置。
【請求項５】  収集手段が活性化され、１つまたは２つ以上の汚染物質を除去する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】  その活性化に先だって収集手段が結合剤内に含められる、請求項５に記載の装置。
【請求項７】  収集手段は電荷蓄積装置の組立の後に活性化される、請求項５に記載の装置。
【請求項８】  活性化は電極に予め定められた電圧を印加することによって達成される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】  活性化は電気化学的手段によって達成される、請求項５に記載の装置。
【請求項１０】  収集手段を結合剤内に含めるに先立って収集手段が活性化される、請求項５に記載の装置。
【請求項１１】  電荷蓄積装置の組立の前またはその間に収集手段を活性化する、請求項５に記載の装置。
【請求項１２】  収集手段は電磁放射の予め定められた波長および強度にさらされることによって活性化される、請求項５に記載の装置。
【請求項１３】  収集手段は電解質内に含まれる、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】  収集手段はハウジングから酸素を除去する、請求項１に記載の装置
。
【請求項１５】  収集手段は電解質から水を除去する、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】  収集手段はハウジングから臭素または塩素を除去する、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】  除去の結果として汚染物質が装置の電荷蓄積動作から分離される、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】  除去の結果として汚染物質の化学的変化が得られる、請求項１に記載の装置。
【請求項１９】  収集手段は電解質の構成要素であり、除去の結果としてさらなる電気化学的活動が得られる、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】  さらなる活動は装置の過充電性能を改善する、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】  収集手段は掃去種である、請求項１に記載の装置。
【請求項２２】  収集手段は隔離板にグラフトまたは他の様態で組込まれる、請求項１に記載の装置。
【請求項２３】  ハウジングは内面と外面とを含み、収集手段は内面に配置される、請求項１に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明に従ったスーパーキャパシタの概略断面図である。
【図２】  図１のスーパーキャパシタの隔離板の平面図である。
【図３】  図１のスーパーキャパシタの電極のうちの１つの概略平面図である。
【図４】  図２の隔離板と図３の電極とを含む電極アセンブリの概略斜視図である。
【図５】  図３で示されるものと同様の電極内に入れ子にされる図４のアセンブリの概略斜視図である。
【図６】  この発明に従った代替のスーパーキャパシタの概略斜視図である。
【図７】  図６のスーパーキャパシタに含まれるセプタムの拡大概略断面図である。
【図８】  この発明の別の実施例の図である。