(57)【要約】  本発明は、多面体オリゴマーシルセスキオキサンおよびその製造方法に関し、より詳しくは、物質自体として低屈折特性を有し、優れた化学的、機械的物性を備えたコーティング層形成を可能にし、多様な基材表面に優れた接着力が付与できる、多面体オリゴマーシルセスキオキサンおよびその製造方法に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の化学式１で表される、多面体オリゴマーシルセスキオキサン：
［化学式１］
（Ｒ１ＳｉＯ１．５）ｘ（Ｒ２ＳｉＯ１．５）ｙ（Ｒ３ＳｉＯ１．５）ｚ
前記化学式１において、
Ｒ１およびＲ２は、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のヒドロカルビル基であり、Ｒ１およびＲ２は互いに異なり、
Ｒ３は不飽和官能基であり；
ｘおよびｙはそれぞれ独立的に１〜１２の整数であり、ｚは２〜１２の整数である。
【請求項２】
前記Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立的にトリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、トリフルオロプロピル基、トリフルオロブチル基、ペンタフルオロブチル基、トリフルオロペンチル基、ペンタフルオロペンチル基、ヘプタフルオロペンチル基、トリフルオロヘキシル基、ペンタフルオロヘキシル基、ヘプタフルオロヘキシル基、ノナフルオロヘキシル基、トリフルオロヘプチル基、ペンタフルオロヘプチル基、ヘプタフルオロヘプチル基、ノナフルオロヘプチル基、ドデカフルオロヘプチル基、クロロプロピル基、またはジブロモエチル基である、請求項１に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサン。
【請求項３】
前記Ｒ１は、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％未満であり；
前記Ｒ２は、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％以上である、請求項１に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサン。
【請求項４】
ｘ：ｙは５：１〜１：５である、請求項３に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサン。
【請求項５】
前記Ｒ３は、エチレン性不飽和官能基またはエポキシド性不飽和官能基である、請求項１に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサン。
【請求項６】
前記Ｒ３は、（メト）アクリロイル基、（メト）アクリロイルオキシ基、グリシジル基、エポキシ基、およびビニル基からなる群より選択された１種以上の置換基で置換された、炭素数１〜３０のヒドロカルビル基またはヒドロカルビルオキシ基である；請求項５に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサン。
【請求項７】
６≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦３０を満足する、請求項１に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサン。
【請求項８】
０．２≦（ｘ＋ｙ）／ｚ≦３を満足する、請求項１に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサン。
【請求項９】
屈折率が１．２０〜１．５０である、請求項１に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサン。
【請求項１０】
下記の化学式１ｘで表される第１シラン化合物、下記の化学式１ｙで表される第２シラン化合物、および下記の化学式１ｚで表される第３シラン化合物を含む反応混合物を反応させる段階を含む、多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法：
［化学式１ｘ］
Ｒ１ＳｉＸ１３
［化学式１ｙ］
Ｒ２ＳｉＸ２３
［化学式１ｚ］
Ｒ３−ＳｉＸ３３
前記化学式１ａ〜１ｚにおいて、
Ｒ１およびＲ２は、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のヒドロカルビル基であり、Ｒ１およびＲ２は互いに異なり、
Ｒ３は不飽和官能基であり；
Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立的に同一または異なって、ハロゲン原子、または炭素数１〜５のアルコキシ基である。
【請求項１１】
前記Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立的にトリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、トリフルオロプロピル基、トリフルオロブチル基、ペンタフルオロブチル基、トリフルオロペンチル基、ペンタフルオロペンチル基、ヘプタフルオロペンチル基、トリフルオロヘキシル基、ペンタフルオロヘキシル基、ヘプタフルオロヘキシル基、ノナフルオロヘキシル基、トリフルオロヘプチル基、ペンタフルオロヘプチル基、ヘプタフルオロヘプチル基、ノナフルオロヘプチル基、ドデカフルオロヘプチル基、クロロプロピル基、またはジブロモエチル基である、請求項１０に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法。
【請求項１２】
前記Ｒ１は、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％未満である、請求項１０に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法。
【請求項１３】
前記Ｒ２は、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％以上である、請求項１０に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法。
【請求項１４】
前記Ｒ３は、エチレン性不飽和官能基またはエポキシド性不飽和官能基である、請求項１０に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法。
【請求項１５】
前記反応は塩基触媒存在下で進行する、請求項１０に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法。
【請求項１６】
請求項１から９のいずれか１項に記載の多面体オリゴマーシルセスキオキサンを含む、コーティング用組成物。
【請求項１７】
請求項１６に記載のコーティング用組成物で形成された低屈折層を含む、反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[関連出願の相互参照]
本出願は、２０１６年３月１７日付の韓国特許出願第１０−２０１６−００３２２８４号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
【０００２】
本発明は、多面体オリゴマーシルセスキオキサンおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ  ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ  ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ、ＰＯＳＳ）は、３次元構造を有するシロキサン系物質を意味し、一般的に（ＲＳｉＯ１．５）ｎ形態の分子式で表される。
【０００４】
ＰＯＳＳは、シリコン−酸素結合が無機フレームとして分子の基本形態を構成するようになり、Ｒは多様な有機基で構成されており、有機−無機ハイブリッドナノスケール材料として多く研究されている。
【０００５】
ＰＯＳＳは、その分子直径が数ナノメートル範囲であるため、量子サイズ効果（ｑｕａｎｔｕｍ  ｓｉｚｅ  ｅｆｆｅｃｔ）、量子表面効果、量子インターフェース効果などを示すようになるが、このような量子的特性によって、ＰＯＳＳ物質は、熱伝導、電気伝導、光学、磁性、親水性、親油性など、多様な部分で特異な物理的、化学的性質を有することができ、このような性質を高分子などの表面に導入できるようにしたりもする。
【０００６】
特に、ＰＯＳＳは、基本形態がシリコン−酸素の結合（シルセスキオキサン形態）からなっているため、分子構造が物理的、化学的に非常に安定しており、耐熱性および耐燃性が高い。また、高温高圧条件ではＰＯＳＳの無機フレームが分解され、シリカ（ＳｉＯ２）が生成されながら、別途のコーティング層を形成することもできるため、保護層としての役割を非常に忠実に行うことができる。
【０００７】
そして、このようなＰＯＳＳの基本シルセスキオキサン構造でシリコン原子に多様な作用基が結合され、導入される有機基の構造により、様々な新たな物性を付与することが容易である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、物質自体として低屈折特性を有しながらも、多様な基材の表面に優れた化学的、機械的物性を備えたコーティング層形成を可能にし、様々な有機溶媒に対する相溶性の高い、多面体オリゴマーシルセスキオキサンおよびその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、下記の化学式１で表される、多面体オリゴマーシルセスキオキサンを提供する。
［化学式１］
（Ｒ１ＳｉＯ１．５）ｘ（Ｒ２ＳｉＯ１．５）ｙ（Ｒ３ＳｉＯ１．５）ｚ
前記化学式１において、
Ｒ１およびＲ２は、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のヒドロカルビル基であり、Ｒ１およびＲ２は互いに異なり、
Ｒ３は不飽和官能基であり；
ｘおよびｙはそれぞれ独立的に１〜１２の整数であり、ｚは２〜１２の整数である。
【００１０】
また、本発明は、下記の化学式１ｘで表される第１シラン化合物、下記の化学式１ｙで表される第２シラン化合物、および下記の化学式１ｚで表される第３シラン化合物を含む反応混合物を反応させる段階を含む、多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法を提供する。
［化学式１ｘ］
Ｒ１ＳｉＸ１３
［化学式１ｙ］
Ｒ２ＳｉＸ２３
［化学式１ｚ］
Ｒ３−ＳｉＸ３３
前記化学式１ａ〜１ｚにおいて、
Ｒ１およびＲ２は、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のヒドロカルビル基であり、Ｒ１およびＲ２は互いに異なり、
Ｒ３は不飽和官能基であり；
Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立的に同一または異なって、ハロゲン原子、または炭素数１〜５のアルコキシ基である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、物質自体として低屈折特性を有しながらも、多様な基材の表面に優れた化学的、機械的物性を備えたコーティング層形成を可能にし、様々な有機溶媒に対する相溶性が高くて、多様な用途に用いることができる。
【００１２】
また、本発明の製造方法によれば、異なる構造の副産物生成を最小化して、高い純度で前記多面体オリゴマーシルセスキオキサンを合成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、下記の化学式１で表される。
［化学式１］
（Ｒ１ＳｉＯ１．５）ｘ（Ｒ２ＳｉＯ１．５）ｙ（Ｒ３ＳｉＯ１．５）ｚ
前記化学式１において、
Ｒ１およびＲ２は、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のヒドロカルビル基であり、Ｒ１およびＲ２は互いに異なり、
Ｒ３は不飽和官能基であり；
ｘおよびｙはそれぞれ独立的に１〜１２の整数であり、ｚは２〜１２の整数である。
【００１４】
また、本発明の多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法は、下記の化学式１ｘで表される第１シラン化合物、下記の化学式１ｙで表される第２シラン化合物、および下記の化学式１ｚで表される第３シラン化合物を含む反応混合物を反応させる段階を含む。
［化学式１ｘ］
Ｒ１ＳｉＸ１３
［化学式１ｙ］
Ｒ２ＳｉＸ２３
［化学式１ｚ］
Ｒ３−ＳｉＸ３３
前記化学式１ａ〜１ｚにおいて、
Ｒ１およびＲ２は、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のヒドロカルビル基であり、Ｒ１およびＲ２は互いに異なり、
Ｒ３は不飽和官能基であり；
Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立的に同一または異なって、ハロゲン原子、または炭素数１〜５のアルコキシ基である。
【００１５】
本明細書で第１、第２などの用語は、多様な構成要素を説明するために使用することができ、前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的だけで使用される。
【００１６】
また、本明細書で使用される用語は、ただ、例示的な実施例を説明するために使用されるもので、本発明を限定する意図で使用されるものではない。単数の表現は、文脈上明らかに異なるように意味しない限り、複数の表現を含む。本明細書で、「含む」、「備える」または「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、構成要素またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとすることであって、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、構成要素またはこれらを組み合わせたものなどの存在または付加の可能性をあらかじめ排除しないものと理解されるべきである。
【００１７】
本発明は、多様な変更を加えることができ、様々の実施例を有することができるところ、特定の実施例を例示し以下で詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の実施形態について限定するものではなく、本発明の思想および技術範囲に含まれるすべての変更、均等物または代替物を含むものと理解すべきである。
【００１８】
本明細書全体で、前記ヒドロカルビル基とは、炭素と水素からなる１価の有機作用基で、炭素−炭素の二重結合および／または炭素−炭素の三重結合を含む不飽和炭化水素と飽和炭化水素を全て含む意味である。前記炭化水素は、直鎖、分枝鎖または環状であるか、あるいはこれらのうちの２以上の構造を含んでもよい。より具体的に、前記炭化水素は直鎖、分枝鎖または環状構造を含むアルカン（ａｌｋａｎｅ）、アルケン（ａｌｋｅｎｅ）、アルキン（ａｌｋｙｎｅ）であるか、あるいはアレーン（ａｒｅｎｅ）であってもよく、これらのうちの１種以上が他の１種に置換または連結されたものであってもよい。
【００１９】
そして、本明細書全体で、前記不飽和官能基とは、ヒドロカルビル基、またはヘテロヒドロカルビル基が炭素−炭素の二重結合および／または炭素−炭素の三重結合を含むか、４元素以下の環状に、炭素多重結合添加反応あるいは開環反応によって飽和形態に転換できる官能基を意味する。
【００２０】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００２１】
本発明の一側面による多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、下記の化学式１で表される。
［化学式１］
（Ｒ１ＳｉＯ１．５）ｘ（Ｒ２ＳｉＯ１．５）ｙ（Ｒ３ＳｉＯ１．５）ｚ
前記化学式１において、
Ｒ１およびＲ２は、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のヒドロカルビル基であり、Ｒ１およびＲ２は互いに異なり、
Ｒ３は不飽和官能基であり；
ｘおよびｙはそれぞれ独立的に１〜１２の整数であり、ｚは２〜１２の整数である。
【００２２】
発明の一実施例によれば、前記Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立的にトリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、トリフルオロプロピル基、トリフルオロブチル基、ペンタフルオロブチル基、トリフルオロペンチル基、ペンタフルオロペンチル基、ヘプタフルオロペンチル基、トリフルオロヘキシル基、ペンタフルオロヘキシル基、ヘプタフルオロヘキシル基、ノナフルオロヘキシル基、トリフルオロヘプチル基、ペンタフルオロヘプチル基、ヘプタフルオロヘプチル基、ノナフルオロヘプチル基、ドデカフルオロヘプチル基、クロロプロピル基、またはジブロモエチル基であってもよく、より好ましくはフッ素（Ｆ）が置換されたアルキル基であってもよい。
【００２３】
Ｒ１またはＲ２は、多面体構造のシルセスキオキサンで、シリコン原子に有機基の形態で連結されたものであり、シルセスキオキサン基本骨格を中心にして、上述した有機基が多面体の外部に放射状に突出する形態に形成されて、このような有機基の特性を効果的に発現させることができる。
【００２４】
特に、ハロゲン原子で置換されたヒドロカルビル基が導入される場合、別途の空洞形成剤（ｐｏｒｅ  ｆｏｒｍｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）を添加しなくても、物質自体として低屈折特性を有するようになり、このような化合物を含む組成物などを利用して反射防止膜などの光学装置を容易に提供できるようになる。
【００２５】
特に、フッ素で置換されたヒドロカルビル基を使用する場合、多様な基材の表面に、撥水性、撥油性、耐薬品性、および耐摩耗性など、優れた化学的、機械的物性を備えたコーティング層を形成することを可能にする。
【００２６】
この時、一例として、前記Ｒ１は、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％未満であることが好ましく、他の一例として、前記Ｒ２は、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％以上であることが好ましい。
【００２７】
ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率とは、ある水素原子も置換されない同一構造のヒドロカルビル基で、水素原子全体を分母とし、実際前記Ｒ１およびＲ２のヒドロカルビル基で置換されたハロゲン原子の数を分子として、その置換された比率を％で表したものを意味する。
【００２８】
すなわち、前記Ｒ１で、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％未満とは、ヒドロカルビル基で置換されたハロゲン原子数が残っている水素原子の数より少ないことを意味し、前記Ｒ２で、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％以上とは、ヒドロカルビル基で置換されたハロゲン原子数が残っている水素原子の数と同一であるかまたはそれより多いことを意味する。
【００２９】
ハロゲン原子の置換数が多くなるほど、上述した化学的、光学的、機械的特性を付与しやすいが、一般的に共に使用できる溶媒や添加剤との相溶性が減少することになる。
【００３０】
したがって、分子内にハロゲン原子置換数が多くのヒドロカルビル有機作用基と、ハロゲン原子置換数が少ないヒドロカルビル有機作用基を同時に導入して、優れた化学的、光学的、物理的特性を維持しながらも、多様な有機溶媒、または添加剤との相溶性を増加させることができる。
【００３１】
ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％未満の場合は、具体的に、例えば、トリフルオロプロピル基、トリフルオロブチル基、トリフルオロペンチル基、ペンタフルオロペンチル基、トリフルオロヘキシル基、ペンタフルオロヘキシル基、トリフルオロヘプチル基、ペンタフルオロヘプチル基、ヘプタフルオロヘプチル基、クロロプロピル基、またはジブロモエチル基などが挙げられ、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％以上の場合は、具体的に、例えば、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロブチル基、ヘプタフルオロペンチル基、ヘプタフルオロヘキシル基、ノナフルオロヘキシル基、ノナフルオロヘプチル基、またはドデカフルオロヘプチル基などが挙げられるが、本発明は必ずこれに限定されるものではない。
【００３２】
そして、発明の他の一実施例によれば、前記Ｒ３は、エチレン性不飽和官能基またはエポキシド性不飽和官能基であることが望ましい。
【００３３】
前記Ｒ３は、具体的に、例えば、（メト）アクリロイル基、（メト）アクリロイルオキシ基、グリシジル基、エポキシ基、およびビニル基からなる群より選択された１種以上の置換基で置換された、炭素数１〜３０のヒドロカルビル基またはヒドロカルビルオキシ基であってもよい。すなわち、炭素数１〜３０のヒドロカルビル基またはヒドロカルビルオキシ基で、炭素原子に結合された少なくとも一つの水素が、上述したエチレン性不飽和官能基やエポキシド性不飽和官能基で置換されて、前記Ｒ３が不飽和性官能基の形態で形成されてもよい。
【００３４】
このような官能基は、多面体オリゴマーシルセスキオキサン化合物で、多様な種類の基材表面に優れた接着力が付与できるだけでなく、コーティング時、表面の耐摩耗性または耐スクラッチ性などの機械的物性を向上させることができる。
【００３５】
発明の一実施例によれば、前記化学式１において、６≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦３０であることもあり、６≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦１４を満足することが望ましいことができる。すなわち、ｘ、ｙ、ｚ係数が前記範囲を満足する場合、シリコン原子および酸素原子が、各多面体（ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ）の頂点（ｖｅｒｔｅｘ）または辺（ｅｄｇｅ）に位置するようになり、安定な形態の完全縮合型構造を形成することができるようになる。
【００３６】
そして、発明の他の一実施例によれば、前記ｘ：ｙは、約５：１〜約１：５であることが望ましいことができる。すなわち、多面体オリゴマーシルセスキオキサン分子内部で、ハロゲン原子の置換比率が低いヒドロカルビル作用基を備えたシリコン原子部分と、ハロゲン原子の置換比率の高いヒドロカルビル作用基を備えたシリコン原子部分の比率が前記範囲に入ることが望ましい。
【００３７】
ｘの比率がｙに比べて過度に小さくなる場合、多様な有機溶媒または添加剤などとの相溶性が低下するという問題点が発生することがあり、その反対の場合、屈折率が高くなったり、撥水性、撥油性、耐薬品性などが低下するという問題点が発生することがある。
【００３８】
発明のまた他の一実施例によれば、前記化学式１において、（ｘ＋ｙ）／ｚの値が約０．２以上、約３以下を満足することがさらに望ましいことができる。言い換えると、多面体オリゴマーシルセスキオキサン分子内部で、ハロゲン置換ヒドロカルビル基を備えているシリコン原子部分と、不飽和官能基を備えているシリコン原子部分の比率が上述した範囲に入ることが望ましい。
【００３９】
ハロゲン置換ヒドロカルビル基を備えているシリコン原子部分の比率が非常に低くなる場合には、ハロゲン置換ヒドロカルビル基を使用することにより得られる上述した化学的、機械的物性が低下するという問題点が発生することがあり、反対に、不飽和官能基を備えているシリコン原子部分の比率が非常に低くなる場合には、基材への接着力が低下し、耐摩耗性および耐スクラッチ性など、機械的物性が低下するという問題点が発生することがある。
【００４０】
そして、本発明の多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、物質自体の屈折率が約１．２０〜約１．５０で、低屈折特性を有することができ、物質それ自体で、あるいはこれを含むコーティング組成物の形態で、対象基材に適用して、反射防止膜などの光学装置を容易に提供できるようになる。
【００４１】
一方、本発明の他の一側面によれば、下記の化学式１ｘで表される第１シラン化合物、下記の化学式１ｙで表される第２シラン化合物、および下記の化学式１ｚで表される第３シラン化合物を含む反応混合物を反応させる段階を含む、多面体オリゴマーシルセスキオキサンの製造方法が提供される。
［化学式１ｘ］
Ｒ１ＳｉＸ１３
［化学式１ｙ］
Ｒ２ＳｉＸ２３
［化学式１ｚ］
Ｒ３−ＳｉＸ３３
前記化学式１ａ〜１ｚにおいて、
Ｒ１およびＲ２は、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のヒドロカルビル基であり、Ｒ１およびＲ２は互いに異なり、
Ｒ３は不飽和官能基であり；
Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立的に同一または異なって、ハロゲン原子、または炭素数１〜５のアルコキシ基である。
【００４２】
Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合で形成されるシロキサン構造は、一般的に、４種類（Ｑ、Ｔ、Ｄ、Ｍ）に区別して定義され、このうち、[ＲＳｉＯ１．５]の形態で表されるシルセスキオキサンは、前記４種類のうちＴ単位構造を有することになる。
【００４３】
このようなシルセスキオキサンは、加水分解重合を利用して合成され、一般にはトリアルコキシシランを利用する方法が知られており、このように合成されたポリシルセスキオキサンは、通常、高い規則性を有するものと知られているが、６、８、１０、１２量体のようなオリゴマーシルセスキオキサンは、ケージ構造、はしご状構造、あるいは不規則的構造が混在して、期待する化学的、機械的特性に及ばないと知られている。
【００４４】
しかし、本発明の一側面による方法によれば、高純度で、前記規則性が高いケージ構造の多面体オリゴマーシルセスキオキサンを提供することができる。
【００４５】
発明の一実施例によれば、前記Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立的にトリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、トリフルオロプロピル基、トリフルオロブチル基、ペンタフルオロブチル基、トリフルオロペンチル基、ペンタフルオロペンチル基、ヘプタフルオロペンチル基、トリフルオロヘキシル基、ペンタフルオロヘキシル基、ヘプタフルオロヘキシル基、ノナフルオロヘキシル基、トリフルオロヘプチル基、ペンタフルオロヘプチル基、ヘプタフルオロヘプチル基、ノナフルオロヘプチル基、ドデカフルオロヘプチル基、クロロプロピル基、またはジブロモエチル基などが挙げられ、より好ましくはフッ素（Ｆ）が置換されたアルキル基であってもよい。
【００４６】
前記化学式１ｘの第１シラン化合物は、多面体オリゴマーシルセスキオキサンにハロゲンで置換されたヒドロカルビル基を導入するための前駆体である。特に、第１シラン化合物としてＲ１がハロゲンで置換された炭化水素から由来する１価の残基の化合物を用いて多面体オリゴマーシルセスキオキサンに低屈折、撥水、撥油、耐薬品性、滑り性、耐摩耗性などの特性が付与できると同時に、多様な有機溶媒との相溶性を増加させることができる。
【００４７】
前記Ｒ１は、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％未満であることが望ましく、このような作用基を含むシラン化合物は、具体的に、例えば、トリフルオロプロピル基、トリフルオロブチル基、トリフルオロペンチル基、ペンタフルオロペンチル基、トリフルオロヘキシル基、ペンタフルオロヘキシル基、トリフルオロヘプチル基、ペンタフルオロヘプチル基、ヘプタフルオロヘプチル基、クロロプロピル基、またはジブロモエチル基を含む、アルコキシシラン化合物が挙げられる。
【００４８】
そして、前記化学式１ｙの第２シラン化合物も、多面体オリゴマーシルセスキオキサンにハロゲンで置換されたヒドロカルビル基を導入するための前駆体であり、特に、第２シラン化合物としてＲ１がハロゲン置換された炭化水素から由来する１価の残基の化合物を用いて多面体オリゴマーシルセスキオキサンに低屈折、撥水、撥油、耐薬品性、滑り性、耐摩耗性などの特性を付与することができる。
【００４９】
前記Ｒ２は、ヒドロカルビル基のうちのハロゲン原子置換比率が５０％以上であることが望ましく、このような作用基を含むシラン化合物は、具体的に、例えば、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロブチル基、ヘプタフルオロペンチル基、ヘプタフルオロヘキシル基、ノナフルオロヘキシル基、ノナフルオロヘプチル基、またはドデカフルオロヘプチル基などを含む、アルコキシシラン化合物が挙げられる。
【００５０】
また、前記化学式１ｚの第３シラン化合物は、多面体オリゴマーシルセスキオキサンに多様な官能基で置換されたヒドロカルビル基を導入するための前駆体であり、前記Ｒ３は、エチレン性不飽和官能基またはエポキシド性不飽和官能基であることが望ましく、このような作用基を含むシラン化合物は、具体的に、例えば、（メト）アクリロイル基、（メト）アクリロイルオキシ基、グリシジル基、エポキシ基、およびビニル基などを含む、アルコキシシラン化合物が挙げられる。
【００５１】
上述した第１、第２、および第３シラン化合物は、それぞれ、上述した化学式１の多面体オリゴマーシルセスキオキサン化合物で、ｘ、ｙ、およびｚの係数を有する各構成単位を形成するための前駆体物質であり、その内容については、前記化学式１の多面体オリゴマーシルセスキオキサン部分で説明したとおりである。
【００５２】
前記一実施形態による製造方法では、前記第１、第２、および第３シラン化合物を塩基触媒存在下で反応させることが望ましいことができる。このような反応条件によって、生成物の収率をより増加させることができる。
【００５３】
前記塩基触媒としては、本発明の属する技術分野において使用される多様な化合物を制限なく使用することができる。ただし、多様な塩基触媒中でもアンモニウム水酸化物を使用して副反応を最小化し、多面体オリゴマーシルセスキオキサンの合成収率を向上させることができる。より具体的に、アンモニウム水酸化物としては、メチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、エチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシドなどを使用することができる。前記塩基触媒の使用量は特に限定されるものではないが、全体シラン化合物１００モルに対して約０．００１〜約１００モルで使用することができる。このような範囲内で副反応を最小化し、高効率で高純度の多面体オリゴマーシルセスキオキサンを合成することができる。
【００５４】
また、前記一実施形態による製造方法は、有機溶媒下で前記反応混合物を反応させることができる。これによって、ケージ構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン以外の異なる構造の高分子量を有する副産物の生成をさらに抑制することができる。前記有機溶媒としては、前記シラン化合物の反応に影響を与えないながらも、各シラン化合物に対して適切な溶解度を示すことができる有機溶媒を特に制限なく使用することができる。具体的な例として、ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフランなどのエーテル溶媒を用いることができる。
【００５５】
前記第１、第２、および第３シラン化合物を含む反応混合物は、常温で適切な時間反応させることができる。前記反応時間が特に限定されるものではないが、約５時間〜１２８時間反応させて多面体オリゴマーシルセスキオキサンの収率を増加させることができる。
【００５６】
上述した方法で製造された多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、高い純度を有することになり、また、物質自体として低屈折特性を示すことができる。一例として、前記多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、アッベ屈折計で測定した屈折率が約１．２０〜約１．５０であってもよい。
【００５７】
本発明の多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、ディスプレイ装置の反射防止フィルムの低屈折層に使用されて、非常に低い反射率を実現することができる。特に、前記多面体オリゴマーシルセスキオキサンを利用すると、既存の気泡を生成して低屈折率を実現する別途の工程を省略できるので、経済的で、品質に優れた反射防止フィルムを提供することが期待される。
【００５８】
以下、発明の具体的な実施例を通して発明の作用、効果をより具体的に説明する。ただし、下記の実施例は発明の例示として提示されたものに過ぎず、これによって発明の権利範囲が限定されるものではない。
【００５９】
＜実施例＞
多面体オリゴマーシルセスキオキサンの合成
【００６０】
[実施例１]
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン１５ｇと、（ノナフルオロヘキシル）トリメトキシシラン６．３ｇ、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン１２．１ｇをＴＨＦ（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）１４０ｍＬに溶かし、５重量％のＮ（ＣＨ３）４ＯＨ水溶液８．２ｇを添加した。
【００６１】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１５０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００６２】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＮＡ４１３）２３ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．４１４であった。
【００６３】
[実施例２]
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン１０ｇと、（ノナフルオロヘキシル）トリメトキシシラン１１．２ｇ、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン１０．７ｇをＴＨＦ（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）１２０ｍＬに溶かし、５重量％のＮ（ＣＨ３）４ＯＨ水溶液７．５ｇを添加した。
【００６４】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１５０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００６５】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＮＡ３２３）２２ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．４０５であった。
【００６６】
[実施例３]
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン８ｇと、（ノナフルオロヘキシル）トリメトキシシラン２０．２ｇ、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン１２．９ｇをＴＨＦ（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）１５０ｍＬに溶かし、５重量％のＮ（ＣＨ３）４ＯＨ水溶液９ｇを添加した。
【００６７】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１５０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００６８】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＮＡ２３３）３０ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．３９８であった。
【００６９】
[実施例４]
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン３ｇと、（ノナフルオロヘキシル）トリメトキシシラン２０．２ｇ、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン９．７ｇをＴＨＦ（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）１１０ｍＬに溶かし、５重量％のＮ（ＣＨ３）４ＯＨ水溶液６．８ｇを添加した。
【００７０】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１５０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００７１】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＮＡ１４３）２４ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．３９４であった。
【００７２】
[実施例５]
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン１６ｇと、（１Ｈ、１、２Ｈ、２Ｈ−Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｏｃｔｙｌ）ｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ  ３０ｇと、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン８．６ｇを１４６ｍｌ  ＴＨＦに溶かし、５ｗｔ％  Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ水溶液を１２．９ｇ添加した。
【００７３】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１７０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００７４】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＨＡ４１３）２０ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．４０７であった。
【００７５】
[実施例６]
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン１２ｇと、（１Ｈ、１、２Ｈ、２Ｈ−Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｏｃｔｙｌ）ｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ  １７ｇと、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン１２．９ｇを１４６ｍｌ  ＴＨＦに溶かし、５ｗｔ％  Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ水溶液を９．０ｇ添加した。
【００７６】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１７０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００７７】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＨＡ３２３）２４ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．３９７であった。
【００７８】
[実施例７]
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン８ｇと、（１Ｈ、１、２Ｈ、２Ｈ−Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｏｃｔｙｌ）ｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ  ２５．７ｇと、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン１２．９ｇを１４６ｍｌ  ＴＨＦに溶かし、５ｗｔ％  Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ水溶液を９．０ｇ添加した。
【００７９】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１７０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００８０】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＨＡ２３３）２７ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．３８９であった。
【００８１】
[実施例８] 
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン４ｇと、（１Ｈ、１、２Ｈ、２Ｈ−Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｏｃｔｙｌ）ｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ  ３４．３ｇと、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン１２．９ｇを１４６ｍｌ  ＴＨＦに溶かし、５ｗｔ％  Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ水溶液を９．０ｇ添加した。
【００８２】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１７０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００８３】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＨＡ１４３）３０ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．３７５であった。
【００８４】
[比較例１]
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン２５ｇと、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン１６．１ｇをＴＨＦ（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）１８０ｍＬに溶かし、５重量％のＮ（ＣＨ３）４ＯＨ水溶液１１ｇを添加した。
【００８５】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート２００ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００８６】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＴＡ５３）２３ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．４２５であった。
【００８７】
[比較例２]
（ノナフルオロヘキシル）トリメトキシシラン２５ｇ、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン９．５ｇをＴＨＦ（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）１１０ｍＬに溶かし、５重量％のＮ（ＣＨ３）４ＯＨ水溶液６．５ｇを添加した。
【００８８】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１７０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００８９】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＮＡ５３）２３．５ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．３８９であった。
【００９０】
[比較例３]
（１Ｈ、１、２Ｈ、２Ｈ−Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｏｃｔｙｌ）ｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ  ３０ｇと、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン９ｇを１０２ｍｌ  ＴＨＦに溶かし、５ｗｔ％  Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ水溶液を６．３ｇ添加した。
【００９１】
以降、反応混合物を常温で７２時間攪拌しながら反応を進行した。反応終了後、溶媒のＴＨＦを減圧乾燥して除去し、エチルアセテート１７０ｍＬに溶かしてＮａＣｌ水溶液で副産物を４回抽出した。
【００９２】
以降、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、これをろ過した後、濾液を減圧乾燥して液状の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＨＡ６２）３０ｇを得た。アッベ屈折計（ＤＴＭ−１、ＡＴＡＧＯ社）で測定した屈折率は１．３８０であった。
【００９３】
相溶性の評価
【００９４】
前記実施例および比較例で製造した多面体オリゴマーシルセスキオキサンの有機溶媒に対する溶解度を測定した。それぞれの溶媒１０ｍｌに多面体オリゴマーシルセスキオキサン０．３ｇを添加し、肉眼で観察して、不透明性が現れる場合、Ｘと評価した。
【００９５】
前記実施例および比較例の条件および相溶性の評価結果を下記表１および２に整理した。
【表１】
2019501148.tif 000002
【表２】
2019501148.tif 000003
上記表を参照すれば、本発明の実施例の場合、ハロゲン原子が少なく置換された部分、ハロゲン原子が多く置換された部分、および官能基が置換された部分を全て含み、低屈折特性を示しながらも、多様な有機溶媒に対して優れた溶解度を示すことが確認できる。
【００９６】
それに比べて、比較例の場合、ある１つの単量体部分が欠乏して、屈折率が高くなるか、溶媒に対する相溶性が低下するという問題点が発生することが確認できる。
【００９７】
反射防止フィルムの製造
【００９８】
[実施例１−１]
ハードコーティングフィルムの製造
ＫＹＯＥＩＳＨＡ社の塩タイプの帯電防止ハードコーティング液（固形分５０ｗｔ％、製品名：ＬＪＤ−１０００）をトリアセチルセルロースフィルムに＃１０ｍａｙｅｒ  ｂａｒでコーティングし、９０℃で１分間乾燥した。以降、得られた塗膜に１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、約５〜６μｍの厚さを有するハードコーティング層を形成することによって、ハードコーティングフィルムを製造した。
【００９９】
低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物の製造
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）１．１重量部、実施例１で製造したＴＮＡ４１３  ２．１重量部、粒径が５０〜６０ｎｍのシリカナノ粒子が２０重量％で分散しているメチルイソブチルケトン（Ｍｅｔｈｙｌ  ｉｓｏｂｕｔｙｌ  ｋｅｔｏｎｅ）溶液９５．４重量部、および光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７、Ｃｉｂａ社）１．４重量部を混合した。そして、この混合物の含有量が１２．７重量％となるように、メチルイソブチルケトン溶媒を添加して希釈した（固形分含有量約３重量％）。
【０１００】
低屈折層および反射防止フィルムの製造
前記で製造したハードコーティングフィルムのハードコーティング層上に低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物をロールコーティング方法によってコーティングし、約８０℃で約２分間乾燥した。以降、得られた塗膜に高圧水銀ランプを利用して、２００ｍＷ／ｃｍ２の非偏光紫外線を照射して低屈折層を形成することによって、反射防止フィルムを製造した。
【０１０１】
[実施例２−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、実施例２のＴＮＡ３２３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１０２】
[実施例３−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、実施例３のＴＮＡ２３３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１０３】
[実施例４−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、実施例４のＴＮＡ１４３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１０４】
[実施例５−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、実施例５のＴＨＡ４１３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１０５】
[実施例６−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、実施例５のＴＨＡ３２３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１０６】
[実施例７−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、実施例５のＴＨＡ２３３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１０７】
[実施例８−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、実施例５のＴＨＡ１４３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１０８】
[比較例１−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、比較例１のＴＡ５３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１０９】
[比較例２−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、比較例２のＮＡ５３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１１０】
[比較例３−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、比較例３のＨＡ５３を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【０１１１】
反射率測定
前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して、可視光線領域（約３８０〜約７８０ｎｍ）で５度の入射角で入射した光に対して示す反射率を、Ｓｏｌｉｄｓｐｅｃ３７００（Ｓｈｉｍａｄｚｕ）を利用して測定した。
【０１１２】
Ｈａｚｅ値測定
前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して、Ｍｕｒａｋａｍｉ  Ｃｏｌｏｒ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ社のＨＡＺＥＭＥＴＥＲ  ＨＸ−１５０を利用して測定した。
【０１１３】
耐スクラッチ性の測定
前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して、スチールウールに荷重をかけて２４ｒｐｍの速度で１０回往復して得られた反射防止フィルムの表面を擦り、肉眼で観察される１ｃｍ以下のスクラッチ１個以下が観察される、最大荷重を測定した。
【０１１４】
前記測定結果を下記表３および４に整理した。
【表３】
2019501148.tif 000004
【表４】
2019501148.tif 000005
前記表３および４を参照すれば、比較例の場合、優れた低屈折特性を示す多面体オリゴマーシルセスキオキサンを使用し、優れた低反射特性を実現できながらも、ヘイズ値が非常に低く、同時に、耐スクラッチ性も非常に優れたことが分かる。
【０１１５】
すなわち、本発明の多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、物質自体として低屈折特性を有し、優れた化学的、機械的物性を備えたコーティング層形成を可能にして、多様な基材表面に反射防止層を形成するために適用されると考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月8日(2018.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
前記実施例および比較例の条件および相溶性の評価結果を下記表１および２に整理した。
【表１】
2019501148.tif 000006
【表２】
2019501148.tif 000007
上記表を参照すれば、本発明の実施例の場合、ハロゲン原子が少なく置換された部分、ハロゲン原子が多く置換された部分、および官能基が置換された部分を全て含み、低屈折特性を示しながらも、多様な有機溶媒に対して優れた溶解度を示すことが確認できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
[比較例３−１]
実施例１のＴＮＡ４１３を使用する代わりに、比較例３のＨＡ６２を使用したことを除いて、前記実施例１−１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
前記測定結果を下記表３および４に整理した。
【表３】
2019501148.tif 000008
【表４】
2019501148.tif 000009
前記表３および４を参照すれば、実施例の場合、優れた低屈折特性を示す多面体オリゴマーシルセスキオキサンを使用し、優れた低反射特性を実現できながらも、ヘイズ値が非常に低く、同時に、耐スクラッチ性も非常に優れたことが分かる。
【国際調査報告】
2019501148.tif 000010
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