【手続補正書】
【提出日】平成18年11月21日(2006.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  試料の洗浄剤、脱水剤、および水性流体に対する露出を制御するためのプロセッサーを有する試料再処理機を使用して自動的に試料の再処理を行なう方法において、該方法は
浸潤媒質で浸潤した試料を用意し、
試料再処理機に試料を再処理することを指示し、
プロセッサーを介して試料を洗浄剤に露出して試料から浸潤媒質を除去し、
プロセッサーを介して試料を脱水剤に露出して洗浄剤を除去し、その後
プロセッサーを介して試料を水性流体に露出して試料から脱水剤を除去する工
程を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項２】  プロセッサーはさらに試料の浸潤媒質に対する露出を制御し、さらに
試料を水性流体に露出した後プロセッサーを介して試料を脱水剤に露出し、
試料を洗浄剤に露出して試料から脱水剤を除去し、そして
試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】  洗浄剤がキシレンであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】  脱水剤がアルコールであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】  水性流体がフォルマリンであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】  汎用コンピュータ用の一組の指令を含み、該指令は図６ａに示した手順を実装していることを特徴とするコンピュータ可読情報格納媒体。
【請求項７】  処理室を有する試料再処理システムを使用する浸潤媒質で浸潤した試料を再処理する方法において、該方法は
試料を少なくとも１回洗浄剤に露出し、
洗浄剤に露出した後、処理室から洗浄剤を除去するのに用いられた洗浄剤で汚染されているパージ脱水剤に組織試料を少なくとも１回露出し、
パージ脱水剤に露出した後に試料を少なくとも１回脱水剤に露出し、そして
試料を水性流体に露出する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項８】  試料を少なくとも１回パラフィンに露出し、しかる後
パラフィン浴に露出した後に、処理室からパラフィンを除去するのに用いられた洗浄剤で汚染されているパージ洗浄剤に試料を少なくとも１回露出することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】  さらに、試料を水性流体に露出した後、試料を脱水剤に露出し、
試料を洗浄剤に露出して脱水剤を除去し、
試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含むことを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】  処理室を有する試料再処理システムを使用する浸潤媒質で浸潤した試料を再処理する方法において、該方法は
試料を再処理する最終工程を入力し、
試料を少なくとも１回洗浄剤に露出し、
少なくとも１回試料を洗浄剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程かどうかを決定し、
少なくとも１回試料を洗浄剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程でない場合には、試料を少なくとも１回脱水剤に露出し、
少なくとも１回試料を脱水剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程かどうかを決定し、そして
少なくとも１回試料を脱水剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程でない場合には、試料を水性流体に露出する工程を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項１１】  さらに、少なくとも１回試料を洗浄剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程かどうかを決定した後に、少なくとも１回試料を洗浄剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程である場合には、試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含むことを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  さらに、少なくとも１回試料を脱水剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程かどうかを決定した後に、少なくとも１回試料を脱水剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程である場合には、試料を洗浄剤に露出して脱水剤を除去し、
試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含むことを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１３】  さらに、試料を水性流体に露出した後に試料を脱水剤に露出し、
試料を洗浄剤に露出して脱水剤を除去し、そして
試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含むことを特徴とする請求項１０記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
【表１９】
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本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．  試料を保持する処理室、
処理室への流体の流れを調節する装置、
少なくとも一つの洗浄剤の容器、少なくとも一つの脱水剤の容器、および少なくとも一つの水性流体の容器を組み合わせて具備し、ここで洗浄剤、脱水剤および水性流体の容器は処理室への流体の流れを調節する装置を介して該処理室に連結されており、さらに
プロセッサーおよび記憶装置を有する制御装置を備え、該プロセッサーは処理室への流体の流れを調節する装置を制御して処理室を洗浄剤の容器、脱水剤の容器、および水性溶液の容器と自動的且つ逐次的に連結して試料の再処理を行なうことを特徴とする浸潤媒質から水性流体へと試料の再処理を自動的に行なう装置。
２．  処理室への流体の流れを調節する装置は回転弁を含み、プロセッサーは該回転弁を設定することにより洗浄剤、脱水剤または水性流体の容器を選択することを特徴とする上記１記載の装置。
３．  さらに、第２の弁によって処理室に連結された浸潤媒質の容器を具備し、プロセッサーは該第２の弁を制御することを特徴とする上記１記載の装置。
４．  プロセッサーはさらに処理室への流体の流れを調節する装置および第２の弁を制御し、水性流体の容器に連結した後に、処理室を脱水剤の容器、洗浄剤の容器、または浸潤媒質の容器に自動的且つ逐次的に連結して試料の処理を行なうことを特徴とする上記３記載の装置。
５．  さらに、処理室への流体の流れを調節する装置によって処理室に連結された抜取られた脱水剤の容器を含み、プロセッサーは処理室への流体の流れを調節する装置を制御して自動的且つ逐次的に処理室を洗浄剤の容器、パージ脱水剤の容器、脱水剤の容器、および水性溶液の容器に連結して試料の再処理を行なうことを特徴とする上記１記載の装置。
６．  処理室への流体の流れを調節する装置によって処理室に連結された抜取られた洗浄剤の容器をさらに含み、プロセッサーは処理室への流体の流れを調節する装置を制御して自動的且つ逐次的に処理室をパージ洗浄剤の容器、洗浄剤の容器、パージ脱水剤の容器、脱水剤の容器、および水性溶液の容器に連結して試料の再処理を行なうことを特徴とする上記５記載の装置。
７．  入力装置を含むユーザー・インターフェース；少なくとも一つの洗浄剤の容器、少なくとも一つの脱水剤の容器および少なくとも一つの水性流体の容器に連結された少なくとも一つの弁に連結を行なうための出力ドライバーを有する汎用コンピュータのための一組の指令を含むコンピュータ可読情報格納媒体において、該一組の指令は、
該ユーザー・インターフェースと関連して動作し、該コンピュータが利用できる再処理プログラムに関連した入力装置を介してユーザーが再処理を開始できるようにる初期化ルーチン、および
ユーザーによって選択された該再処理プログラムを実装した実行ルーチンであって、該再処理プログラムは、試料を再処理するために該弁を自動的且つ逐次的に洗浄剤の容器、脱水剤の容器、および水性溶液の容器に連結するように該弁に対する出力の駆動機能を制御する実行ルーチンを含んでいることを特徴とするコンピュータ可読情報格納媒体。
８．  該弁は抜取られた脱水剤の容器に連結され、
該再処理プログラムは、弁を洗浄剤の容器に連結した後に、自動的且つ逐次的に弁をパージ脱水剤の容器に連結することを特徴とする上記７記載のコンピュータ可読情報格納媒体。
９．  該弁は抜取られた洗浄剤の容器に連結され、
該再処理プログラムは、弁を洗浄剤の容器に連結する前に、自動的且つ逐次的に弁をパージ洗滌剤の容器に連結することを特徴とする上記８記載のコンピュータ可読情報格納媒体。
１０．  試料の洗浄剤、脱水剤、および水性流体に対する露出を制御するためのプロセッサーを有する試料再処理機を使用して自動的に試料の再処理を行なう方法において、該方法は
浸潤媒質で浸潤した試料を用意し、
試料再処理機に試料を再処理することを指示し、
プロセッサーを介して試料を洗浄剤に露出して試料から浸潤媒質を除去し、
プロセッサーを介して試料を脱水剤に露出して洗浄剤を除去し、その後
プロセッサーを介して試料を水性流体に露出して試料から脱水剤を除去する工
程を含んでいることを特徴とする方法。
１１．  プロセッサーはさらに試料の浸潤媒質に対する露出を制御し、さらに
試料を水性流体に露出した後プロセッサーを介して試料を脱水剤に露出し、
試料を洗浄剤に露出して試料から脱水剤を除去し、そして
試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含んでいることを特徴とする上記１０記載の方法。
１２．  洗浄剤がキシレンであることを特徴とする上記１０記載の方法。
１３．  脱水剤がアルコールであることを特徴とする上記１０記載の方法。
１４．  水性流体がフォルマリンであることを特徴とする上記１０記載の方法。
１５．  汎用コンピュータ用の一組の指令を含み、該指令は図６ａに示した手順を実装していることを特徴とするコンピュータ可読情報格納媒体。
１６．  処理室を有する試料再処理システムを使用する浸潤媒質で浸潤した試料を再処理する方法において、該方法は
試料を少なくとも１回洗浄剤に露出し、
洗浄剤に露出した後、処理室から洗浄剤を除去するのに用いられた洗浄剤で汚染されているパージ脱水剤に組織試料を少なくとも１回露出し、
パージ脱水剤に露出した後に試料を少なくとも１回脱水剤に露出し、そして
試料を水性流体に露出する工程を含むことを特徴とする方法。
１７．  試料を少なくとも１回パラフィンに露出し、しかる後
パラフィン浴に露出した後に、処理室からパラフィンを除去するのに用いられた洗浄剤で汚染されているパージ洗浄剤に試料を少なくとも１回露出することを特徴とする上記１６記載の方法。
１８．  さらに、試料を水性流体に露出した後、試料を脱水剤に露出し、
試料を洗浄剤に露出して脱水剤を除去し、
試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含むことを特徴とする上記１７記載の方法。
１９．  処理室を有する試料再処理システムを使用する浸潤媒質で浸潤した試料を再処理する方法において、該方法は
試料を再処理する最終工程を入力し、
試料を少なくとも１回洗浄剤に露出し、
少なくとも１回試料を洗浄剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程かどうかを決定し、
少なくとも１回試料を洗浄剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程でない場合には、試料を少なくとも１回脱水剤に露出し、
少なくとも１回試料を脱水剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程かどうかを決定し、そして
少なくとも１回試料を脱水剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程でない場合には、試料を水性流体に露出する工程を含んでいることを特徴とする方法。
２０．  さらに、少なくとも１回試料を洗浄剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程かどうかを決定した後に、少なくとも１回試料を洗浄剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程である場合には、試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含むことを特徴とする上記１９記載の方法。
２１．  さらに、少なくとも１回試料を脱水剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程かどうかを決定した後に、少なくとも１回試料を脱水剤に露出する工程が試料を再処理する該最終工程である場合には、試料を洗浄剤に露出して脱水剤を除去し、
試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含むことを特徴とする上記１９記載の方法。
２２．  さらに、試料を水性流体に露出した後に試料を脱水剤に露出し、
試料を洗浄剤に露出して脱水剤を除去し、そして
試料を浸潤媒質に露出して洗浄剤と置き換える工程を含むことを特徴とする上記１９記載の方法。