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【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年7月13日(2007.7.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
音声信号の符号化に際して音声信号中において雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を保存する方法であって、
音声信号が、音声情報または雑音情報のいずれを含むかを示す第１の決定を行う過程と、
音声信号が、雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を含むか否かの第２の決定を行う過程と、
前記第２の決定に応答して、雑音情報を示す前記第１の決定を選択的に無効にする過程とを有し、
前記第２の決定を行う過程において、所与の期間中に、最大振幅の正規化相関値が所定の閾値を超えるフレームの数が所定数を超える場合に、雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を含むと決定する方法。
【請求項２】
前記第２の決定を行う過程において、最大振幅の正規化相関値が所定の閾値を超えるフレームの連続する数が所定数を超える場合に、雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を含むと決定することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
それぞれのフレームについて、音声信号の開ループ長時間予測相関分析において得られた正規化相関値を用いて計算される候補値の集合から、前記最大振幅の正規化相関値が選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
それぞれのフレームについて、音声信号をハイパスフィルタ処理した後にハイパスフィルタ処理された音声信号に対して相関分析を適用することにより算出された複数の正規化相関値から、前記最大振幅の正規化相関値が選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
音声信号に含まれる雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を保存するために音声信号符号化器において使用する装置（１０）であって、
音声信号（１２）を受信し、音声信号（１２）が音声情報または雑音情報のいずれを含むかを示す第１の決定を行う選別器（１６）と、
音声信号（１２）を受信し、音声信号（１２）が雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を含むか否かの第２の決定を行う検出器（１４）と、
前記選別器（１６）および前記検出器（１４）と結合され、前記第１の決定を示す情報を出力に選択的に供給するように動作可能である論理回路（１８）とを有して構成され、
前記第２の決定を行う検出器（１４）において、所与の期間中に、最大振幅の正規化相関値が所定の閾値を超えるフレームの数が所定数を超えて、雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を含むと決定された場合に、前記論理回路（１８）において、雑音情報を示す前記第１の決定が無効にされる装置。
【請求項６】
前記第２の決定を行う検出器（１４）において、最大振幅の正規化相関値が所定の閾値を超えるフレームの連続する数が所定数を超える場合に、雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を含むと決定されることを特徴とする請求項５記載の装置。
【請求項７】
それぞれのフレームについて、音声信号の開ループ長時間予測相関分析において得られた正規化相関値を用いて計算される候補値の集合から、前記最大振幅の正規化相関値が選択されることを特徴とする請求項５記載の装置。
【請求項８】
それぞれのフレームについて、音声信号をハイパスフィルタ処理した後にハイパスフィルタ処理された音声信号に対して相関分析を適用することにより算出された複数の正規化相関値から、前記最大振幅の正規化相関値が選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項９】
複数のフレームに分割される音声信号の符号化に際して音声信号中において雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を保存する方法であって、
音声信号が音声情報または雑音情報のいずれを含むかを示す第１の決定を行う過程と、
それぞれのフレームについて、ハイパスフィルタ処理された音声信号についての最大正規化相関値を表す数値を検出することで数値の第１のシーケンスを作成する過程と、
該第１のシーケンスの数値に対して平滑化フィルタリング処理を適用することでそれぞれ得られる数値の第２のシーケンスを作成する過程と、
第２のシーケンスの数値を少なくとも１つの閾値と比較することで、雑音情報よりも高い伝送ビットレートを必要とする非音声情報を含む音声信号であるか否かを示す第２の決定を行う過程と、
前記第２の決定に応答して、雑音情報を示す前記第１の決定を選択的に無効にする過程とを有する方法。
【請求項１０】
最大正規化相関値を表す数値を検出する前記過程が、音声信号の相関分析から得られる数値を対象として実行されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
それぞれのフレームについて、ハイパスフィルタ処理された音声信号についての最大正規化相関値を表す数値が、音声信号の開ループ長時間予測相関分析において得られた正規化相関値を用いて計算される候補値の集合から選択されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
最大正規化相関値を表す数値を検出する前記過程が、音声信号をハイパスフィルタ処理した後にハイパスフィルタ処理された音声信号に対して相関分析を適用することを含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
最大正規化相関値を表す数値を検出する前記過程において、それぞれのフレームについて、ハイパスフィルタ処理された音声信号についての最大正規化相関値を表す数値が、最大振幅の正規化相関値であることを特徴とする請求項９記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１】
2002540441.tif 000001
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図２】
2002540441.tif 000002
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図３】
2002540441.tif 000003
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図４】
2002540441.tif 000004
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１０】
2002540441.tif 000005
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１１】
2002540441.tif 000006
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１２】
2002540441.tif 000007
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１３】
2002540441.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月8日(2007.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  垂直な回転軸（Ｒ）を中心にして回転する遠心ロータ（７）と、前記回転軸（Ｒ）を中心にして前記遠心ロータ（７）を回転させる駆動装置（９）と、前記遠心ロータ（７）に連結され、この遠心ロータ（７）から下方に液体（４）の中へ延び、前記液体（４）を、前記遠心ロータ（７）の内部へ汲み上げる管状入口部材（８）とを有する分離装置において、
前記液体（４）内において、前記回転可能な入口部材（８）の少なくとも一部を囲む回転不能の静止壁（１２）と、前記回転不能の静止壁（１２）と前記回転可能な入口部材（８）との間を密封するシール装置（１３）とを備えていることを特徴とする分離装置。
【請求項２】  前記遠心ロータ（７）の動作中に、前記回転可能な入口部材（８）と前記回転不能の壁（１２）との間の相対的振り子運動を回避するために、前記遠心ロータ（７）が可とう性の懸架装置（１１ａ）から吊り下げられ、そして前記回転不能の壁（１２）も可とう性の同じ懸架装置（１１ａ）から吊り下げられている、請求項１に記載の分離装置。
【請求項３】  前記シール装置（１３）が、軸線方向に可動である環状のシール部材（１４）と、前記回転不能の壁（１２）または該壁に連結されている回転不能の部材と前記回転可能な入口部材（８）との間に軸線方向のシール力を作用させる手段（１５）とを有する、請求項１または２に記載の分離装置。
【請求項４】  前記環状のシール部材（１４）は回転不能であり、かつ前記回転可能な入口部材（８）のシーリング面に対して軸線方向に押しつけられるようになっている、請求項３に記載の分離装置。
【請求項５】  前記回転可能な入口部材（８）の１端面が前記シーリング面を形成する、請求項４に記載の分離装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月3日(2007.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 物品に印刷する方法であって、
膜状軟質材料から成るキャリヤー（２）上に印刷インキ（２９）を塗布し、
前記キャリヤー（２）と印刷される物品（５）とを相互接触させ、印刷される物品（５）を少なくとも部分的に包囲するように、流体圧力、特に空気圧を利用する補助加圧手段（６）により、前記キャリヤーを加圧することによって、印刷インキ（２９）を印刷される物品（５）に転移させること、
から成る方法において、
印刷される物品（５）に接触させられる面（１８）の反対側のキャリヤー（２）の面（１７）に流体圧力がかけられることを特徴とする方法。
【請求項２】 １００ｇ／ｃｍ２よりも小さい、好ましくは５０〜６０ｇ／ｃｍ２の空気圧が加えられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】 補助加圧手段（６）に対して、少なくとも、機械加圧手段が使用され、好ましくは機械的加圧手段と流体圧力による加圧との組合せが使用されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】 キャリヤー（２）が、印刷される物品（５）の相補型（１９）によって、物品（５）と接触するように強制されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】 ３次元物品（５）の印刷のために使用され、印刷すべき像が２次元状態でキャリヤー（２）に塗布され、該像が、キャリヤー（２）の変形により、３次元状態で物品（５）に印刷されることを特徴とする請求項１から４の中のいずれか１つに記載の方法。
【請求項６】 キャリヤー（２）が、少なくとも該キャリヤー上への印刷インキ（２９）の塗布中、引き延ばされることを特徴とする請求項１から５の中のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】 キャリヤー（２）が、少なくとも印刷実行中、引き延ばされることを特徴とする請求項１から６の中のいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】 キャリヤー（２）が、印刷中、印刷される物品（５）を明確に定められた距離（Ｂ）だけキャリヤー（２）の面内に押し込むことにより、引き延ばされることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】キャリヤー（２）が、印刷インキ（２９）の塗布中と印刷実行中、反対向きに引き延ばされ、このとき、キャリヤー（２）が大体同じ距離（Ａ−Ｂ）だけ変位し、好ましくは、印刷される像の位置で大体同じ延びが起るように変位する、ことを特徴とする請求項１から８の中のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１０】着色剤またはインキ反発材料から成る接触面を有するキャリヤー（２）が使用されることを特徴とする請求項１から９の中のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１１】キャリヤー（２）がシリコーンマットから成ることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】印刷インキ（２９）がプリンター（９）によってキャリヤー（２）に塗布されることを特徴とする請求項１から１１の中のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１３】ポータブル電話機のケーシング（２０）の印刷に使用されることを特徴とする請求項１から１２の中のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１４】請求項１から１３の中のいずれか１つに記載の方法を実施するための装置であって、少なくとも、
膜状軟質材料から成るキャリヤー（２）と、
該キャリヤー（２）に印刷インキ（２９）を塗布する手段（３）と、
印刷インキ（２９）を印刷される物品（５）に転移させる手段（４）と、
前記キャリヤー（２）と協同し、印刷される物品（５）を少なくとも部分的に包囲するように、キャリヤー（２）を加圧することのできる補助加圧手段（６）と、
から成り、
該補助加圧手段（６）が少なくとも圧力室（１６）、特に空気圧室を有し、該圧力室の１つの面がキャリヤー（２）により閉鎖されていることを特徴とする装置。
【請求項１５】キャリヤー（２）が、その周縁で保持されている着色剤またはインキ反発マットから成ることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】補助加圧手段（６）が、少なくとも、キャリヤー（２）を印刷される物品（５）に対して押しつけることのできる相補型（１９）を有することを特徴とする請求項１４または１５に記載の装置。
【請求項１７】相補型（１９）が、圧力室（１６）内に配置されていることを特徴とする請求項１４または１６に記載の装置。
【請求項１８】キャリヤー（２）への印刷インキ（２９）の塗布中にキャリヤー（２）を引き延ばすための手段（２３）を備えており、該手段が、キャリヤー（２）と協同することができ、特にキャリヤー（２）に対して変位することのできる枠（２４）を有することを特徴とする請求項１４または１５に記載の装置。
【請求項１９】キャリヤー（２）に印刷インキ（２９）を塗布する手段（３）が、キャリヤー（２）上を動くことのできるプリンター（９）から成ることを特徴とする請求項１４から１８の中のいずれか１つに記載の装置。
【請求項２０】印刷される物品（５）を保持する手段（１３）、ならびに、キャリヤー（２）、および／またはキャリヤー（２）に印刷インキ（２９）を塗布する手段（３）、および／または印刷される物品（５）を保持する手段（１３）を相互に変位させることのできる手段、を有し、この相互に変位させることのできる手段が、キャリヤー（２）、手段（３）、および手段（１３）を、キャリヤー（２）が印刷インキ（２９）を塗布する手段（３）と協同する第一の位置に配置し、またキャリヤー（２）が印刷される物品（５）と協同する第二の位置に配置する、ことを特徴とする請求項１４から１９の中のいずれか１つに記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月19日(2007.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  初期厚さがＴであるセル状再帰反射シート材を基材上に位置付けるステップと、
該シート材を熱変形温度まで加熱して、加熱済シート材を得るステップと、
丸みを帯びた隆起部を有し、高さがＨであり、Ｈ／Ｔ比が０．２以上１未満である少なくとも１つの工具を提供するステップと、
該工具を、該熱変形温度を下回る温度に維持するステップと、
該工具により該セルを切断および端封処理をしてシールした縁部を形成するまで、該工具、該加熱済シート材および該基材を一緒にプレスするステップと、
を含む、セル状再帰反射シート材を切断および端封する方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法で製造されるセル状再帰反射シート材。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の熱膨張率を持つ基板と、前記基板の熱膨張率より小さい熱膨張率を持ち、所定の高度に支配的な画分でダイヤモンド結晶構造の炭素を持つ前記基板上に蒸着された第１の炭素層を備える、特に機械加工用に適するコーティング工具であって、前記基板（Ｍ）から見て、前記第１の炭素層（Ａ）よりさらに外側に蒸着される少なくとも一つの第２の炭素層（Ｂ）を備え、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の画分が、高度に支配的ではあるが前記第１の炭素層（Ａ）内の結晶ダイヤモンド構造を持つ炭素の所定の画分よりは少なく、前記熱膨張率が、前記第１の炭素層（Ａ）の熱膨張率より高いコーティング工具において、前記第２の炭素層（Ｂ）が、ナノ結晶ダイヤモンドを含むことを特徴とする工具。
【請求項２】
請求項１記載の工具において、前記第２の炭素層（Ｂ）が、ナノ結晶ダイヤモンドのみからなることを特徴とする工具。
【請求項３】
請求項１又は２記載の工具において、前記第２の炭素層（Ｂ）が、前記第１の炭素層（Ａ）の上に直接蒸着されることを特徴とする工具。
【請求項４】
請求項１又は２記載の工具において、前記第１の炭素層（Ａ）と前記第２の炭素層（Ｂ）との間に中間層が形成され、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の画分が、前記第１の炭素層（Ａ）から前記第２の炭素層（Ｂ）に向って次第に少なくなってゆくことを特徴とする工具。
【請求項５】
請求項１−請求項４の何れか１項記載の工具において、前記工具の前記第１の炭素層（Ａ）および前記第２の炭素層（Ｂ）の全体の厚みが、１〜４０μｍの範囲内にあることを特徴とする工具。
【請求項６】
請求項５記載の工具において、前記工具の前記第１の炭素層（Ａ）および前記第２の炭素層（Ｂ）の全体の厚みが、４〜２０μｍの範囲内にあることを特徴とする工具。
【請求項７】
請求項６記載の工具において、前記第１の炭素層（Ａ）および前記第２の炭素層（Ｂ）の全体の厚みが、６〜１５μｍの範囲内で形成されることを特徴とする工具。
【請求項８】
請求項１−請求項７の何れか１項記載の工具において、前記第２の炭素層（Ｂ）の最小の厚みが、０．５μｍであることを特徴とする工具。
【請求項９】
請求項１−請求項８の何れか１項記載の工具において、更なる材料層が、前記第１の炭素層と前記第２の炭素層との間に配されていることを特徴とする工具。
【請求項１０】
請求項１−請求項９の何れか１項記載の工具において、更なる材料層が、前記基板から見て前期第２の炭素層の向こう側に配されていることを特徴とする工具。
【請求項１１】
炭素でコーティングされ、所定の熱膨張率を持つ工具基板を製造するためのプロセスであって、
ａ）前記工具基板（Ｍ）上に、第１の炭素層（Ａ）を蒸着するステップであって、前記炭素層（Ａ）が、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の高度に支配的な所定の画分を含み、前記工具基板（Ｍ）より小さな熱膨張率を持つように処理条件が選択されるステップと、
ｂ）前記基板（Ｍ）から見て、前記第１の炭素層（Ａ）よりさらに外側に位置する第２の炭素層（Ｂ）を蒸着するステップであって、前記第１の炭素層（Ａ）のダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の所定の画分と比較した場合、前記第２の炭素層（Ｂ）が、前記第１の炭素層（Ａ）より、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の量が高度に支配的ではあるが少なくなり、熱膨張率が大きくなるように処理条件が選択されることを特徴とするプロセス。
【請求項１２】
請求項１１記載のプロセスにおいて、ステップａ）では、前記第１の炭素層（Ａ）が、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の画分をできるだけ多く持つように処理条件が選択されるプロセス。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２記載のプロセスにおいて、ステップｂ）では、前記第１の炭素層（Ａ）と比較した場合、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の画分が少なくなるように、ステップａ）の前記処理条件を変更することを特徴とするプロセス。
【請求項１４】
基板と、８０〜１００％の画分でダイヤモンド結晶構造の炭素を持ち前記基板上にＣＶＤプロセスで蒸着された第１の炭素層を備える、コーティング工具であって、前記第１の炭素層（Ａ）の上に直接ＣＶＤプロセスで蒸着される少なくとも一つの第２の炭素層（Ｂ）を備え、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の画分が、前記第１の炭素層（Ａ）内の結晶ダイヤモンド構造を持つ炭素の画分より少なく、第２の炭素層（Ｂ）はナノ結晶ダイヤモンドからなることを特徴とするコーティング工具。
【請求項１５】
炭素でコーティングされ、工具基板を製造するためのプロセスであって、
ａ）前記工具基板（Ｍ）上に、第１の炭素層（Ａ）をＣＶＤプロセスで蒸着するステップであって、前記炭素層（Ａ）が、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素を８０〜１００％の画分で含ように処理条件が選択されるステップと、
ｂ）前記第１の炭素層（Ａ）の上に直接ＣＶＤプロセスで第２の炭素層（Ｂ）を蒸着するステップであって、前記第１の炭素層（Ａ）のダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の画分と比較した場合、前記第２の炭素層（Ｂ）が、前記第１の炭素層（Ａ）より、ダイヤモンド結晶構造を持つ炭素の量が少なくなるように処理条件が選択され、第２の炭素層（Ｂ）はナノ結晶ダイヤモンドからなることを特徴とするプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月20日(2007.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  表面に剥離可能に固定される研摩物品であって、
ａ．加熱により寸法が増大する熱可塑性ポリマー材料を含む実質的に平坦なシート状基材であって、第１の主面と、反対側の第２の主面と、厚みと、前記研摩物品を表面に剥離可能に固定するための係合構造手段を含む前記第１の主面上から突出して提供された複数の係合要素と、前記熱可塑性ポリマー材料に封入され接合された繊維を有し、加熱により表面寸法を減じて、加熱による前記熱可塑性ポリマー材料の寸法の増大を実質的に無効にする能力を有する、前記基材の厚みに含まれる多孔性繊維状強化要素とを含む基材と、
ｂ．研摩粒子と、前記熱可塑性ポリマー材料よりも加熱による寸法の変化の少ない硬化バインダー材料とを含む前記第２の主面に配置された研摩層と、
を有する物品。
【請求項２】  ａ．加熱により寸法が増大する熱可塑性ポリマー材料を含む実質的に平坦なシート状基材であって、第１の主面と、反対側の第２の主面と、厚みと、前記熱可塑性ポリマー材料に封入され接合された繊維を有し、加熱により表面寸法を減じて、加熱による前記熱可塑性ポリマー材料の寸法の増大を実質的に無効にする能力を有する、前記基材の厚みに含まれる多孔性繊維状強化要素とを含む基材と、
ｂ．研摩粒子と、前記熱可塑性ポリマー材料よりも加熱による寸法の変化の少ない硬化バインダー材料とを含む前記第２の主面に配置された研摩層と、
を有する研摩物品。
【請求項３】  ａ．加熱により寸法が増大する熱可塑性ポリマー材料を含む実質的に平坦なシート状基材であって、第１の主面と、反対側の第２の主面と、厚みと、前記研摩物品を表面に剥離可能に固定するための係合構造手段を含む前記第１の主面上から突出して提供された複数の係合要素と、前記熱可塑性ポリマー材料に封入され接合された繊維を有し、加熱により表面寸法を減じて、加熱による前記熱可塑性ポリマー材料の寸法の増大を実質的に無効にする能力を有する、前記基材の厚みに含まれる多孔性繊維状強化要素とを含む基材と、研摩粒子と、前記熱可塑性ポリマー材料よりも加熱による寸法の変化の少ない硬化バインダー材料とを含む前記第２の主面に配置された研摩層とを有する研摩物品と、
ｂ．前記研摩物品の係合要素を係合する手段を含む主面を有する支持部材を含むバックアップパッドと、
を有する研摩装置。
【請求項４】  ａ．加熱により表面寸法を減じる能力を有し、直立係合要素またはその前駆物質を形成することのできる複数のキャビティを含む平滑表面に熱可塑性ポリマーを溶融および接合することにより封入することのできる繊維を含む多孔性布帛を配置する工程と、
ｂ．前記溶融熱可塑性ポリマーを前記布帛に付着させて、前記繊維を封入し、前記キャビティを充填して、前記係合要素またはその前駆物質を含む第１の主面と、反対側の第２の主面と、厚みとを有する布帛強化基材を冷却に際して提供する工程と、
ｃ．前記基材を前記平滑表面から除去して、前駆物質係合要素を係合要素に変換する工程と、
ｄ．前記第２の主面に、バインダー材料中の研摩粒子を含む研摩層を適用する工程と、
を含む研摩物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月4日(2007.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１のフィードバックループと、第２のフィードバックループとを具備するアーク溶接システムの制御装置において、
前記第１のフィードバックループは、
電極とワークピースとの間でアークを発生させるために電力を供給するように電気的に配置され、電気接続素子により電極に電気的に接続されている電源と、
電極または接続素子とワークピースとの間の距離を表すパラメータを測定するように構成されているセンサと、
所望のパラメータとセンサの出力との間の差に応答してコマンド信号を発生するように構成されているコマンド信号発生回路と、
センサの出力が前記所望のパラメータに対応するようにするために、前記コマンド信号により制御される少なくとも１つのパルスパラメータを有するパルスを前記電源に発生させるように構成されているパルス波形発生回路とを具備し、
前記第２のフィードバックループは、
第２のパラメータを制御するように構成されている第２のパラメータ制御装置と、
少なくとも１つの前記パルスパラメータを表す第２のループフィードバック信号と、少なくとも１つの前記パルスパラメータの所望値を表す基準信号との間の偏差に応答して前記第２のパラメータ制御装置を制御するように構成されている第２のフィードバックループ制御装置とを具備している装置。
【請求項２】  前記第２のパラメータはワークピースに関する電極または接続素子の位置に関連するパラメータである請求項１記載の装置。
【請求項３】  少なくとも１つの前記パルスパラメータは、パルス幅、パルス振幅、パルス間の背景振幅、周波数からなるグループから選択される請求項１記載の装置。
【請求項４】  前記パルスパラメータは周波数である請求項３記載の装置。
【請求項５】  前記センサは、電極または接続素子とワークピースとの間の電圧を測定するための電圧センサである請求項１記載の装置。
【請求項６】  前記第２のフィードバックループのフィードバック信号は前記コマンド信号である請求項１記載の装置。
【請求項７】  前記第２のパラメータを制御するように構成されている装置は、ワークピースからの電極または接続素子の距離を制御するように構成されている近接モータ制御装置である請求項１記載の装置。
【請求項８】  消耗可能な電極をアーク中に供給して、材料を消耗可能な電極からワークピースへ転送させる消耗可能な電極および駆動装置をさらに具備し、前記接続素子は消耗可能な電極とスライド結合するコンタクトチップである請求項１記載の装置。
【請求項９】  前記パルス波形発生器は、第１の入力として前記コマンド信号を、また第２の入力としてパルスプロフィールデータを有する請求項１記載の装置。
【請求項１０】  位置関連パルスパラメータ情報を集めるようにワークピースの表面を横切って接続素子または電極を走査または振動するように構成された装置をさらに具備し、前記情報は前記第２のパラメータを調節するために走査または振動パターンと相関されている請求項１記載の装置。
【請求項１１】  第１のフィードバックループと、第２のフィードバックループとを具備するアーク溶接システムの制御装置において、
前記第１のフィードバックループは、
電極とワークピースとの間でアークを発生させるために電力を供給するように電気的に配置され、電気接続素子により電極に電気的に接続されている電源と、
電極または接続素子とワークピースとの間の電圧差を測定するように構成されている電圧センサと、
所望の電圧と電圧センサの出力との間の差に応答してコマンド信号を発生するように構成されているコマンド信号発生回路と、
電圧センサの出力が前記所望のパラメータに対応するようにするために、前記コマンド信号により制御される少なくとも１つのパルスパラメータを有する電流パルスを前記電源に発生させるように構成されている電流パルス波形発生回路とを具備し、
前記第２のフィードバックループは、
第２のパラメータを制御するように構成されている第２のパラメータ制御装置と、
少なくとも１つの前記パルスパラメータを表す第２のループフィードバック信号と、少なくとも１つの前記パルスパラメータの所望値を表す基準信号との間の偏差に応答して前記第２のパラメータ制御装置を制御するように構成されている第２のフィードバックループ制御装置とを含んでいる装置。
【請求項１２】  電極とワークピースとの間にアークを設定するためにパルスパラメータを有する電気パルス列を電極または接続素子へ供給し、
電極または接続素子とワークピースとの間の距離を表すアークの電気的パラメータを測定し、
電気的パラメータを所望のパラメータに対応させるように、電気的パラメータの変化に応答して少なくとも１つのパルスパラメータを変化させ、
前記少なくとも１つのパルスパラメータを所望の値に戻させるように付加的なパラメータを調節するステップを含んでいるアーク溶接方法。
【請求項１３】  前記付加的なパラメータはワークピースに関する電極または接続素子の位置に関連するパラメータである請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  前記少なくとも１つのパルスパラメータは周波数である請求項１２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月2日(2007.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
2007501809.tif 000001
（１．０）
［式中、
Ｘは存在しないか、あるいはトランスまたはシスＣＨＣＨであり、
Ｒ１は、置換されていないかまたは１〜３のヒドロキシにより置換されている（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル、置換されていないかまたは１〜３のヒドロキシにより置換されている（Ｃ１−Ｃ１０）アルケニル、置換されていないかまたは１〜３のヒドロキシにより置換されている（Ｃ１−Ｃ１０）アルキニル、あるいは置換されていないかまたは１〜３のヒドロキシにより置換されているアリールである；
Ｒ２は水素、アルキルまたはアリールである；
Ｒ３およびＲ４は互いに独立して、Ｈ、ハロゲン、または可溶化基である：
ただし、Ｒ３およびＲ４の少なくとも一方はハロゲンである］
で示される化合物またはその医薬上許容される塩。
【請求項２】
Ｒ３またはＲ４の可溶化基が：
【化２】
2007501809.tif 000002
（式中、
ＰおよびＲはそれぞれ独立して、ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２およびＣＨ２ＣＨＴから選択され、ここにおいてＴはアルキルであり、
ＱはＯ、Ｓ、ＮＨまたはＮＣＨ３である）
である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
ＸがトランスＣＨＣＨである請求項１記載の化合物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の化合物、および医薬上許容される担体を含む細菌感染症の治療用医薬組成物。
【請求項５】
ヒト以外の動物における細菌感染症を治療する方法であって、前記動物に、治療的に有効な量の、前記細菌感染症の治療に有効な請求項１〜３のいずれか１つに記載の化合物を投与することを含む方法。
【請求項６】
式１．０：
【化３】
2007501809.tif 000003
（１．０）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は請求項１において定義したとおりである）
の化合物を調製する方法であって：
ａ）式（１．３）：
【化４】
2007501809.tif 000004
（１．３）
の化合物を塩酸、無水酢酸および水性アンモニアと反応させて、式（１．４）：
【化５】
2007501809.tif 000005
（１．４）
の化合物を形成し；
ｂ）式１．４の化合物を５ニトロ−２−フランカルボキシアルデヒドと反応させて、式（１．５）：
【化６】
2007501809.tif 000006
（１．５）
の化合物を形成し；
ｃ）式１．５の化合物を五塩化リンおよびオキシ塩化リンと反応させて、式（１．６）：
【化７】
2007501809.tif 000007
（１．６）
の化合物を形成し；
ｄ）式１．６の化合物を式（１．７）：
【化８】
2007501809.tif 000008
（１．７）
（式中、ＸはＨであり、Ｒ１およびＲ２は前記定義のとおりである）
の化合物と反応させることを含む方法。
【請求項７】
式１．０：
【化１４】
2007501809.tif 000009
（１．０）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は請求項１において定義したとおりである）
の化合物を調製するための方法であって：
ｃ）式１．５：
【化１５】
2007501809.tif 000010
（１．５）
の化合物を五塩化リンおよびオキシ塩化リンと反応させて、式（１．６）：
【化１６】
2007501809.tif 000011
（１．６）
の化合物を形成し；
ｄ）式１．６の化合物を式（１．７）：
【化１７】
2007501809.tif 000012
（１．７）
（式中、ＸはＨであり、Ｒ１およびＲ２は前記定義のとおりである）
の化合物と反応させることを含む方法。
【請求項８】
式１．０：
【化１８】
2007501809.tif 000013
（１．０）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は請求項１において定義したとおりである）
の化合物を調製する方法であって：
ｄ）式１．６：
【化１９】
2007501809.tif 000014
（１．６）
の化合物を式（１．７）：
【化２０】
2007501809.tif 000015
（１．７）
（式中、ＸはＨであり、Ｒ１およびＲ２は前記定義のとおりである）
の化合物を反応させることを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月5日(2007.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
これらの問題点を解決するために、本発明では、請求項１に記載の銅被膜を析出するための水溶液、請求項２３に記載の方法及び請求項２０と２１に記載の水溶液の使用が設けられる。本発明の好ましい実施形態は、従属請求項で明らかになろう。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月13日(2007.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
純粋の錫を滑り表面として用いることが試みられている。約１０ＨＶの硬度では勿論,慣用の鉛合金よりも柔らかく、例えばクランク軸主要軸受および連接棒軸受において生じる負荷を吸収することができない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
表１に掲載した結果から判る通り、本発明の積層複合体材料よりなる軸受は鉛をベースとする滑り層を有する慣用の軸受よりも滑り層の疲労、摩耗および全て摩耗するまでの最大負荷量に関して明らかに優れている。それどころか純粋な錫層を有する軸受（例５）は厚いニッケル層と共に、鉛含有滑り層を有する軸受にほぼ匹敵しそして軽い荷重に対して使用できる。
表１：
2007501898.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月7日(2007.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応物質の１，１，１，３，３−ペンタクロロプロパン（ＨＣＣ−２４０ｆａ）と無水フッ化水素から１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＣ−１２３３ｚｄ）を製造するための方法であって、前記反応物質を反応容器中、ルイス酸触媒またはルイス酸触媒の混合物の存在下、１５０℃より低い温度で、液相で反応させること、反応容器中で生成した塩化水素及びＨＣＦＣ−１２３３ｚｄを連続的に取り出すこと、及びＨＣＦＣ−１２３３ｚｄを単離すること、を含む前記方法。
【請求項２】
ＨＣＦＣ−１２３３ｚｄと共に前記反応容器から取り出された反応中間体を反応容器に戻して、さらにＨＣＦＣ−１２３３ｚｄを生成するためにさらに反応させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記触媒が、遷移金属ハロゲン化物、ＩＩＩｂ、ＩＶｂ及びＶｂ族金属のハロゲン化物、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記触媒が、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ＨＣＦＣ−１２３３ｚｄと共に前記反応容器から取り出された反応中間体を反応容器に戻して、さらにＨＣＦＣ−１２３３ｚｄを生成するためにさらに反応させる、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月2日(2007.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験体中の１２−リポキシゲナーゼ媒介性細胞毒性を阻害するための組成物であって、生物学的有効量のトコトリエノールを含む、組成物。
【請求項２】
前記被験体が、ニューロン損傷、心臓組織損傷、外皮損傷、筋肉組織損傷、またはそれらの組み合わせが進展する危険性がある、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
請求項１に記載の組成物であって、前記トコトリエノールが、α−トコトリエノール、β−トコトリエノール、γ−トコトリエノール、δ−トコトリエノール、それらの誘導体、および１つ以上のそれらの組み合わせからなる群より選択される、組成物。
【請求項４】
前記トコトリエノール組成物の量が約６００ｍｇであり、かつ毎日の投与に適する、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物が実質的にトコフェロールを含まない、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
傷害を被る被験体を処置するための組成物であって、生物学的有効量のトコトリエノールを含む、組成物。
【請求項７】
前記傷害が脳卒中である、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記傷害が心臓の傷害である、請求項６に記載の組成物。
【請求項９】
癌の予防または処置のための組成物であって、薬理学的有効量のトコトリエノールおよび薬学的に受容可能なキャリアを含む、組成物。
【請求項１０】
被験体が、黒色腫が進展する危険性がある、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
胎児のニューロンを保護するための、少なくとも１種のトコトリエノールを含む組成物であって、該組成物は、該胎児を妊娠している妊娠中の女性への投与に適する、組成物。
【請求項１２】
ヒト被験体の脳中のトコトリエノール濃度を高めるための、少なくとも１種のトコトリエノールを含む組成物。
【請求項１３】
前記組成物が実質的にトコフェロールを含まず、そしてトコフェロールを含む食品または補助食品なしで投与されるのに適する、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記組成物が、前記ヒトがトコフェロールを含む食品または補助食品を摂取する少なくとも１時間半後、および少なくとも１時間半前に投与されるのに適する、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１５】
前記組成物がＴｏｃｏｍｉｎ（登録商標）を含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１６】
請求項１２に記載の組成物であって、前記ヒト被験体が乳児であり、そして前記組成物が、少なくとも１種のトコトリエノールを含む組成物を投与された女性に由来する乳または乳抽出物である、組成物。
【請求項１７】
請求項１２に記載の組成物であって、前記トコトリエノールが、α−トコトリエノール、β−トコトリエノール、γ−トコトリエノール、δ−トコトリエノール、それらの誘導体、および１つ以上のそれらの組み合わせからなる群より選択される、組成物。
【請求項１８】
前記トコトリエノール組成物の量が、約６００ｍｇであり、かつ毎日の投与に適する、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１９】
動物において受胎能を改善するための組成物であって、少なくとも１種のトコトリエノールの有効量を含み、かつ少なくとも２ヶ月間にわたる毎日の投与に適する、組成物。
【請求項２０】
前記トコトリエノール組成物の量が、約６００ｍｇであり、かつ毎日の投与に適する、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
前記被験体における、前記トコフェロール輸送タンパク質をコードする遺伝子の発現が妨げられる、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２２】
培養物中のニューロンを維持するための方法であって、該ニューロンを、少なくとも１種のトコトリエノールを含む培地に接触させる工程を包含する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月1日(2007.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノミを殺す殺虫剤として効力を有する量のペルメトリンと、ダニを殺す殺虫剤として効力を有する量のジノテフランとを含む殺虫剤製剤であって、ここでペルメトリンは、殺虫剤製剤の投与前にジノテフランとの相互作用を防止するために、ジノテフランと分離されている態様で詰められており、さらにペルメトリン又はジノテフランのいずれかと一緒に詰められた昆虫成長を抑制する効力を有する量のピリプロキシフェンを含む殺虫剤製剤。
【請求項２】
ノミを殺す殺虫剤として効力を有する量のフェノトリンと、ダニを殺す殺虫剤として効力を有する量のジノテフランとを含む殺虫剤製剤であって、ここでフェノトリンは、殺虫剤製剤の投与前にジノテフランとの相互作用を防止するために、ジノテフランと分離されている態様で詰められており、さらにフェノトリン又はジノテフランのいずれかと一緒に詰められた昆虫成長を抑制する効力を有する量のピリプロキシフェンを含む殺虫剤製剤。
【請求項３】
ノミを殺す殺虫剤として効力を有する量のペルメトリンと、ダニを殺す殺虫剤として効力を有する量のジノテフランとを含む殺虫剤製剤であって、ここでペルメトリンは、殺虫剤製剤の投与前にジノテフランとの相互作用を防止するために、ジノテフランと分離されている態様で詰められており、さらにペルメトリン又はジノテフランのいずれかと一緒に詰められた昆虫成長を抑制する効力を有する量のメトプレンを含む殺虫剤製剤。
【請求項４】
ノミを殺す殺虫剤として効力を有する量のフェノトリンと、ダニを殺す殺虫剤として効力を有する量のジノテフランとを含む殺虫剤製剤であって、ここでフェノトリンは、殺虫剤製剤の投与前にジノテフランとの相互作用を防止するために、ジノテフランと分離されている態様で詰められており、さらにフェノトリン又はジノテフランのいずれかと一緒に詰められた昆虫成長を抑制する効力を有する量のメトプレンを含む殺虫剤製剤。
【請求項５】
ノミを殺す殺虫剤として効力を有する量のペルメトリンと、ダニを殺す殺虫剤として効力を有する量のアセタミプリドとを含む殺虫剤製剤であって、ここでペルメトリンは、殺虫剤製剤の投与前にアセタミプリドとの相互作用を防止するために、アセタミプリドと分離されている態様で詰められており、さらにペルメトリン又はアセタミプリドのいずれかと一緒に詰められた昆虫成長を抑制する効力を有する量のピリプロキシフェンを含む殺虫剤製剤。
【請求項６】
ノミを殺す殺虫剤として効力を有する量のフェノトリンと、ダニを殺す殺虫剤として効力を有する量のアセタミプリドとを含む殺虫剤製剤であって、ここでフェノトリンは、殺虫剤製剤の投与前にアセタミプリドとの相互作用を防止するために、アセタミプリドと分離されている態様で詰められており、さらにフェノトリン又はアセタミプリドのいずれかと一緒に詰められた昆虫成長を抑制する効力を有する量のピリプロキシフェンを含む殺虫剤製剤。
【請求項７】
ノミを殺す殺虫剤として効力を有する量のペルメトリンと、ダニを殺す殺虫剤として効力を有する量のアセタミプリドとを含む殺虫剤製剤であって、ここでペルメトリンは、殺虫剤製剤の投与前にアセタミプリドとの相互作用を防止するために、アセタミプリドと分離されている態様で詰められており、さらにペルメトリン又はアセタミプリドのいずれかと一緒に詰められた昆虫成長を抑制する効力を有する量のメトプレンを含む殺虫剤製剤。
【請求項８】
ノミを殺す殺虫剤として効力を有する量のフェノトリンと、ダニを殺す殺虫剤として効力を有する量のアセタミプリドとを含む殺虫剤製剤であって、ここでフェノトリンは、殺虫剤製剤の投与前にアセタミプリドとの相互作用を防止するために、アセタミプリドと分離されている態様で詰められており、さらにフェノトリン又はアセタミプリドのいずれかと一緒に詰められた昆虫成長を抑制する効力を有する量のメトプレンを含む殺虫剤製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月12日(2007.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
場合により、そのラセミ化合物、任意の混合割合でその純粋な立体異性体、特に対掌体及びジアステレオマーの形にある、その酸又はその塩基の形にある、又はその塩の形にある、特に生理学的に許容し得る塩又は生理学的に許容し得る酸又はカチオンの塩の形にある、又はその溶媒和物、特に水和物の形にある、請求項１〜１０のいずれか１つに記載の一般式 Iで表わされる置換された 3-ピロリジン-インドール-誘導体少なくとも１種を含み、並びに場合により適当な添加物及び（又は）助剤及び（又は）場合によりその他の有効物質を含む医薬。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
場合により、そのラセミ化合物、任意の混合割合でその純粋な立体異性体、特に対掌体及びジアステレオマーの形にある、その酸又はその塩基の形にある、又はその塩の形にある、特に生理学的に許容し得る塩又は生理学的に許容し得る酸又はカチオンの塩の形にある、又はその溶媒和物、特に水和物の形にある、請求項１〜１０のいずれか１つに記載の一般式 Iで表わされる置換された 3-ピロリジン-インドール-誘導体を苦痛、特に急性神経障害のあるいは慢性苦痛の治療用医薬の製造に使用する方法。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
場合により、そのラセミ化合物、任意の混合割合でその純粋な立体異性体、特に対掌体及びジアステレオマーの形にある、その酸又はその塩基の形にある、又はその塩の形にある、特に生理学的に許容し得る塩又は生理学的に許容し得る酸又はカチオンの塩の形にある、又はその溶媒和物、特に水和物の形にある、請求項１〜１０のいずれか１つに記載の一般式 Iで表わされる置換された3-ピロリジン-インドール-誘導体をうつ病の治療用及び（又は）不安緩解用医薬の製造に使用する方法。 
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
場合により、そのラセミ化合物、任意の混合割合でその純粋な立体異性体、特に対掌体及びジアステレオマーの形にある、その酸又はその塩基の形にある、又はその塩の形にある、特に生理学的に許容し得る塩又は生理学的に許容し得る酸又はカチオンの塩の形にある、又はその溶媒和物、特に水和物の形にある、請求項１〜１０のいずれか１つに記載の一般式 Iで表わされる置換された 3-ピロリジン-インドール-誘導体を、心臓血管系疾患, 尿失禁, 下痢, そう痒症, アルコールー及び麻薬乱用, 薬物依存, 炎症, モチベイションの欠如, 過食症, 拒食症, カタレプシーの治療用医薬の製造に、局所麻酔薬、抗不整脈薬、抗嘔吐薬, 向知性薬として使用される医薬の製造に、 覚醒-及び性欲の増加用医薬の製造に使用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月17日(2007.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともオキシメタゾリン及び／又はキシロメタゾリン、亜鉛塩及び緩衝塩を含有する、医薬水溶液。
【請求項２】
存在する活性化合物が、オキシメタゾリン及び／又はキシロメタゾリンの、その塩酸塩の形であることを特徴とする、請求項1記載の医薬水溶液。
【請求項３】
存在する亜鉛塩が、塩化亜鉛、乳酸亜鉛、硫酸亜鉛、クエン酸亜鉛、酢酸亜鉛、ヒスチジン酸亜鉛、オロチン酸亜鉛、アスパラギン酸亜鉛及び／又はグルコン酸亜鉛であることを特徴とする、請求項1又は2記載の医薬水溶液。
【請求項４】
存在する亜鉛塩が、グルコン酸亜鉛であることを特徴とする、請求項3記載の医薬水溶液。
【請求項５】
存在する緩衝塩が、クエン酸ナトリウムであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項６】
1種又は複数の酸又は1種又は複数の塩基が、更に存在することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項７】
存在する酸が、緩衝塩を形成する各酸、すなわち緩衝塩中に存在する酸形態のアニオンであるか、又は存在する塩基は、緩衝塩を形成する塩基、すなわち緩衝塩中に存在する塩基形態のカチオンであることを特徴とする、請求項6記載の水溶液。
【請求項８】
溶液が、pH4〜pH7.5のpHを有することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項９】
溶液が、pH5.0〜pH7.2のpHを有することを特徴とする、請求項8記載の医薬水溶液。
【請求項１０】
溶液が、約pH6.0のpHを有することを特徴とする、請求項9記載の医薬水溶液。
【請求項１１】
溶液が、浸透圧モル濃度約280mOsmを有することを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項１２】
オキシメタゾリン及び／又はキシロメタゾリンが、濃度0.005質量％〜1.0質量％で存在することを特徴とする、請求項1〜11のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項１３】
オキシメタゾリン及び／又はキシロメタゾリンが、濃度0.01質量％〜0.5質量％で存在することを特徴とする、請求項12記載の医薬水溶液。
【請求項１４】
オキシメタゾリン及び／又はキシロメタゾリンが、濃度0.05質量％〜0.1質量％で存在することを特徴とする、請求項13記載の医薬水溶液。
【請求項１５】
亜鉛塩が、濃度0.1質量％〜10質量％で存在することを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項１６】
緩衝塩が、濃度0.01質量％〜3質量％で存在することを特徴とする、請求項1〜15のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項１７】
溶液が、オキシメタゾリン及び／又はキシロメタゾリンを約0.005質量％〜0.1質量％、グルコン酸亜鉛を1質量％〜10質量％、及びpH約6.0を有するクエン酸緩衝液を含有することを特徴とする、請求項1〜16のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項１８】
唯一の活性化合物であるオキシメタゾリン及びキシロメタゾリンが、その塩酸塩の形で存在することを特徴とする、請求項1〜17のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【請求項１９】
鼻粘膜の局所的うっ血を除去する治療のための、請求項1〜18のいずれか一項に記載の医薬水溶液。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月21日(2007.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記ａ）―ｅ）の工程を含む、プリント回路上にはんだマスクを製造する方法。
ａ）
i）少なくとも１種類の、２〜３０個の炭素原子を有するジイソシアナート、
ii）少なくとも１種類の、２〜３０個の炭素原子を有する脂肪族または脂環式ジオールであって、その炭素鎖に少なくとも１個のカルボキシル基が共有結合しており、該カルボキシル基の一部または全部がオレフィン性不飽和Ｃ３−Ｃ８アルコールで、またはオレフィン性不飽和Ｃ３−Ｃ８カルボン酸のグリシジルエステルでエステル化されているもの、および
iii）場合により、少なくとも１種類の、２〜３０個の炭素原子を有する脂肪族または脂環式ジオールであって、その炭素鎖に少なくとも１個のカルボキシル基が共有結合している、から得られる線状の架橋性ポリウレタンＡ１）、  
A 2）オレフィン基の熱架橋のための開始剤、または
A 3）光開始剤、または
A 4）オレフィン基の熱架橋のための開始剤および光開始剤、ならびに
A 5）場合により希釈剤
を含有する光架橋性組成物で回路版を被覆し,
ｂ）基板上の層を乾燥させ、
ｃ）乾燥した層を、ネガフォトマスク下で、またはレーザーインスクリプションにより、像形成下に露光し、
ｄ）非露光部分を除去するために被覆層を現像剤で処理し、そして
ｅ）場合により現像層を熱硬化させる工程。
【請求項２】
光硬化性組成物がA 6）ポリマー系結合剤をさらに含む、請求項１の方法。
【請求項３】
光硬化性組成物がA 7) カルボキシル基と反応しうる架橋剤をさらに含む、請求項１または２の方法。
【請求項４】
架橋剤が、分子中に少なくとも２個のエポキシド基を有するポリエポキシドである、請求項３の方法。
【請求項５】
光硬化性組成物がさらに、ポリエポキシドの熱架橋のためのポリカルボン酸またはポリカルボン酸無水物を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
iv）少なくとも１種類の脂肪族、脂環式もしくは脂環式−脂肪族ジオールの基、少なくとも１種類のオリゴマー状もしくはポリマー状オキサアルキレングリコールの基、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリラクトンジオールの基、またはポリブタジエンもしくはポリイソプレンをベースとするジオールの基を、モノマーとしてさらに使用して得られる線状の架橋性ポリウレタンを含有する光硬化性組成物である、請求項１の方法。
【請求項７】
ａ）少なくとも１種類の、２〜３０個の炭素原子を有するジイソシアナート、
ｂ）少なくとも１種類の、２〜３０個の炭素原子を有する脂肪族または脂環式ジオールであって、その炭素鎖に少なくとも１個のカルボキシル基が共有結合しており、該カルボキシル基の一部または全部がオレフィン性不飽和Ｃ３−Ｃ８アルコールで、またはオレフィン性不飽和Ｃ３−Ｃ８カルボン酸のグリシジルエステルでエステル化されているもの、
ｃ）ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリラクトンジオールの基、またはポリブタジエンもしくはポリイソプレンをベースとするジオールの基、および
ｄ）場合により、少なくとも１種類の、２〜３０個の炭素原子を有する脂肪族または脂環式ジオールであって、その炭素鎖に少なくとも１個のカルボキシル基が共有結合しているもの
を含有するモノマー類から得られる線状の架橋性ポリウレタン。
【請求項８】
e )  少なくとも１種類の脂肪族、脂環式もしくは脂環式−脂肪族ジオールの基、少なくとも１種類のオリゴマー状もしくはポリマー状オキサアルキレングリコールの基を、モノマーとしてさらに使用して得られる、請求項７の線状の架橋性ポリウレタン。
【請求項９】
ａ）請求項７または８に記載の架橋性ポリウレタン、
ｂ）オレフィン基の熱架橋のための開始剤、または
ｃ）光開始剤、または
ｄ）オレフィン基の熱架橋のための開始剤および光開始剤、ならびに
ｅ）場合により希釈剤
を含む組成物。
【請求項１０】
ｆ）ポリマー系結合剤
をさらに含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
さらに、カルボキシル基と反応しうる架橋剤を追加的に含む、請求項９または１０に記載の組成物。
【請求項１２】
架橋剤が、分子中に少なくとも２個のエポキシド基を有するポリエポキシドである、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
さらに、ポリエポキシドの熱架橋のためのポリカルボン酸またはポリカルボン酸無水物をさらに含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
硬化した、請求項１および９〜１３のいずれか１項に記載の組成物を含む、成形品。
【請求項１５】
硬化し、場合により光造形された９〜１３のいずれか１項に記載の組成物により、少なくとも１つの表面が被覆された材料。
【請求項１６】
成形品製造のための成形材料として、表面被覆のための被覆材料として、材料を接着するための接着剤として、またはエッチレジストもしくははんだマスクとして、間隙充填もしくは穴充填のため、または回路板製造における誘電液としての、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の組成物の使用。