【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
［Ｒｈ（配位子）m（ジオレフィン）］+Ｘ-    （１）
（式中、配位子は１個又は２個の連結リン原子を有する、エナンチオマー的に富化された有機化合物を表し、そして配位子が単座であるときｍ＝２であり、配位子が二座であるときｍ＝１である）の非無定形カチオン性ロジウム錯体の製造及び単離方法であって、下記の工程：
（ａ）１種又はそれ以上のエーテル性溶媒中へのＲｈ（ジオレフィン）（ａｃａｃ）の溶解、
（ｂ）フッ素化非鉱酸ＨＸ及びアルコール溶媒又はアルコール含有溶媒混合物の、同時又は逐次的添加によるロジウムと１種又はそれ以上の反応溶媒との可溶性溶媒和錯体の形成
（ｃ）有機溶媒溶液中又は生での配位子の添加、
（ｄ）錯体（１）の結晶性沈殿の収集
を含んでなる方法。
【請求項２】
工程（ｂ）が、ＨＸとアルコール溶媒又はアルコール含有溶媒混合物との同時添加を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ｂ）がアルコール溶媒又はアルコール含有溶媒混合物中の溶液としてのＨＸの添加を含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
工程（ｂ）がＨＸとアルコール溶媒又はアルコール含有溶媒混合物との何れかの順序での逐次添加を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ジオレフィンが環式ジオレフィンである請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ジオレフィンが１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）又は２，５−ノルボルナジエン（ＮＢＤ）である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ジオレフィンがＣＯＤである請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ジオレフィンがエチレン及びＣ5〜Ｃ10シクロアルケンからなる群から選択されたオレフィンの２種の分子を表す請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ＨＸが過フッ素化非鉱酸である請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
ＨＸがＨＢＦ4、ＨＰＦ6、ＨＳｂＦ6及びＣＦ3ＳＯ3Ｈからなる群から選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ＨＸがＨＢＦ4である請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
エーテル性溶媒がジアルキルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン及び１，２−ジメトキシエタンからなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
ジアルキルエーテルがｔ−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル及びジ−ｎ−ブチルエーテルからなる群から選択される請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
ジアルキルエーテルがテトラヒドロフランとの混合物中にある請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ジアルキルエーテル：テトラヒドロフランの比が１０：１〜１：１の範囲内である請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
ジアルキルエーテル：テトラヒドロフランの比が６：１〜２：１の範囲内である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
ジアルキルエーテルがｔ−ブチルメチルエーテルである請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
アルコールが直鎖又は分枝鎖Ｃ1〜Ｃ6アルカノールである請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
アルカノールがメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール及び１−ブタノールからなる群から選択される請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
配位子の溶解のために使用される有機溶液がエーテル性溶媒、非極性炭化水素溶媒及びこれらの混合物からなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
ｍ＝１である請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
配位子がジホスフィンである請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
ジホスフィンがビスホスファサイクルである請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
ビスホスファサイクルがビスホスホランである請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
ビスホスファサイクルが式（２）：
【化１】
2007508304.tif 000001
（式中、Ｘは有機又は有機金属橋架け基を表し、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、Ｈ又は任意的に置換された炭化水素基を表すが、Ｒ1及びＲ2は共にＨではなく、そして何れか又は両方のホスホラン環の３位及び４位は、１個又はそれ以上の非干渉基によって任意的に置換されていてよい）
に係るビスホスホラン又はその逆エナンチオマーである請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
ビスホスホランのＰ−Ｘ−Ｐが式（３）〜（８）：
【化２】
2007508304.tif 000002
からなる群から選択され、これらのそれぞれは、任意的に置換されていてよく、式（４）に於けるｎは０〜５の範囲内であり、式（８）に於けるＸはＯ又はＮ−アルキルである請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
Ｐ−Ｘ−Ｐが式（３）のものである請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
Ｐ−Ｘ−Ｐが式（４）のものであり、そしてｎ＝１である請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
Ｐ−Ｘ−Ｐが式（５）のものである請求項２６に記載の方法。
【請求項３０】
ビスホスファサイクルが、式（９）に係るビスホスホラン、その逆エナンチオマー及びその置換された類似体である請求項２４に記載の方法。
【請求項３１】
ビスホスファサイクルが式（１０）：
【化３】
2007508304.tif 000003
（式中、Ｘは有機又は有機金属橋架け基を表し、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、Ｈ又は任意的に置換された炭化水素基を表すが、Ｒ1及びＲ2は共にＨではなく、何れか又は両方のホスフェタン環の３位は１個又はそれ以上の非干渉基によって任意的に置換されていてよい）
のビスホスフェタンである請求項２３に記載の方法。
【請求項３２】
Ｘが１，１′−フェロセニルである請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、アリール又はアラルキルである請求項２５〜２９又は３１〜３２の何れか１項に記載の方法。
【請求項３４】
Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ20アルキルである請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
アルキルがメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔ−ブチルからなる群から選択される請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
Ｒ1＝Ｒ2＝フェニルである請求項３３に記載の方法。
【請求項３７】
ジホスフィンが２個のＰ（Ａｒ）2基（式中、Ａｒ＝１個又はそれ以上のアルキル又はアルコキシ基によって任意的に置換されたフェニルである）を含有するアトロプ異性ジホスフィンである請求項１９に記載の方法。
【請求項３８】
ジホスフィンがビアリールジホスフィンである請求項３２に記載の方法。
【請求項３９】
ビアリールジホスフィンが式（１１）：
【化４】
2007508304.tif 000004
のＢＩＮＡＰ配位子又はその逆エナンチオマーである請求項３３に記載の方法。
【請求項４０】
ビアリール単位がヘテロ芳香族である請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
ジホスフィンが式（１３）：
【化５】
2007508304.tif 000005
のＰＨＡＮＥＰＨＯＳ配位子又はその逆エナンチオマーである請求項３２に記載の方法。
【請求項４２】
配位子中の連結リン原子の少なくとも１個が１個又はそれ以上のヘテロ原子に共有結合されている請求項２１に記載の方法。
【請求項４３】
両方の連結リン原子が１個又はそれ以上のヘテロ原子に共有結合されている請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
配位子がビスホスファイト、ビスホスフィナイト、ビスホスホナイト及びビスホスホルアミダイトからなる群から選択される請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
ｍ＝２である請求項１に記載の方法。
【請求項４６】
配位子がモノホスフィンである請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】
ホスフィンがＰ−アリールホスファサイクルである請求項４６に記載の方法。
【請求項４８】
配位子中の連結リン原子が１個又はそれ以上のヘテロ原子に共有結合されている請求項４５に記載の方法。
【請求項４９】
配位子がホスホルアミダイトである請求項４８に記載の方法。
【請求項５０】
ホスホルアミダイトが式（１４）：
【化６】
2007508304.tif 000006
のもの又はその逆エナンチオマーである請求項４９に記載の方法。
【請求項５１】
錯体（１）が１個又はそれ以上の酸置換活性ヒドロキシル保護基（これは錯体形成の間に除去される）を含有する配位子前駆体から直接製造される請求項１に記載の方法。
【請求項５２】
錯体（１）が結晶形で得られる請求項１に記載の方法。
【請求項５３】
錯体（１）が不活性雰囲気下、周囲温度で、少なくとも３日間、貯蔵に対して安定である請求項１に記載の方法。
【請求項５４】
配位子が少なくとも９５％ｅｅまでエナンチオマー的に富化されている請求項１に記載の方法。
【請求項５５】
配位子が少なくとも９９％ｅｅまでエナンチオマー的に富化されている請求項５４に記載の方法。
【請求項５６】
配位子がエナンチオマー的に純粋である請求項５５に記載の方法。