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【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基部（２）内に形成されかつ流体源と接続可能な流体供給路（４）と、
流体流を選択的に中断または解放するための少なくとも１つの塗布バルブ（１４）と、
流体供給路（４）と連絡し吐出口（１２）付きの細長いスロット（８）を備えるスロットノズルアッセンブリ（１０）と、
を備え、
装置に対して相対的に可動な基材に流体を塗布、特にフィルムに接着剤を塗布するための装置であって、
スロット（８）の長さがスロット（８）内を動きスロットを一側で密閉するストッパ手段（１８）により可変であり、基部（２）が案内調節装置によりスロット（８）の長軸方向に沿って移動可能かつ固定可能に支承されていることを特徴とする流体塗布装置。
【請求項２】  案内調節装置は、幾つかの好ましくはローラを有する直動案内部（４０、４２、４４、４６）を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】  案内調節装置は、回転可能に支承されたねじスピンドル（５０）と、基部（２）に配設されねじスピンドル（５０）とかみ合うねじブロック（５２）とを有することを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】  ねじスピンドルは、基部（２）の手動移動のためのハンドル（５４）と連結されていることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】  スロット（８）内を動くストッパ手段（１８）が、スロット（８）と連絡する分配路（６）内に可動で気密に配設されたピストン（２０）と堅固に連結されていることを特徴とする上記請求項のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】  ストッパ手段（１８）とピストン（２０）とは、共通のスロット調節装置（２６）により可動であることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】  スロット調節装置（２６）は、回転可能に支承されたねじスピンドル（３０）と、ピストン（２０）に堅固に結合されかつねじスピンドル（３０）とかみ合うねじスリーブとを有することを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】  スロット調節装置（２６）のねじスピンドル（３０）は、手動調節のためのハンドル（３４）と連結されていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】  案内調節装置のハンドル（５４）とスロット調節装置（２６）のハンドル（３４）とは、基部（２）に対して相対的に片側に並んで配設されており、また、ねじスピンドル（３０、５０）は、互いに平行に配設されていることを特徴とする請求項４に従属する請求項８に記載の装置。
【請求項１０】  さらに、所定の経路に沿ってスロット（８）の吐出口（１２）に基材を通過させる基材案内装置を有し、
基材案内装置は、基部（２）に配設された空気圧シリンダ（５６）により旋回されるフレーム（５８）と、スロットに平行に配設されフレーム（５８）に支承された２つの細長い案内要素（６０、６２）とを有し、
案内要素（６０、６２）は、フレーム（５８）に対して相対的に旋回可能かつ固定可能に配設されていることを特徴とする上記請求項のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】 案内要素（６０、６２）は、研磨表面を有する案内ロッドとして形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月12日(2007.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体輸送管のための双方向かき取り装置において、該装置は、強化手段（８）によって剛性を備えたポリマーで作られた少なくとも１つの薄いディスク（６）を備え、該ディスクは半径方向の少なくとも２つのスロットによって幾つかの花弁に分割されており、該スロットの長さは前記ディスクの半径より小さく、該半径は前記管の内径よりも十分に大きい、ことを特徴とする、流体輸送管のための双方向かき取り装置。
【請求項２】
第２の薄いディスクが、２つのディスクのスロットが互いに対して食い違って配置されるように、第１の薄いディスクの上に重ねられている、請求項１に記載の双方向かき取り装置。
【請求項３】
それぞれが少なくとも１つの薄いディスクから成る２つの密封・かき取り組立体が、シャフト（２、２７）および２つの端末部分（３、２８）によって、ほぼ前記シャフトの長さだけ前記２つの密封・かき取り組立体が隔てられるように連結されている、請求項１または２に記載の双方向かき取り装置。
【請求項４】
前記薄いディスクが双方向に曲がるように、前記密封・かき取り組立体の厚さは前記シャフトと前記端末部分との間にある空間よりも小さい、請求項３に記載の双方向かき取り装置。
【請求項５】
前記密封・かき取り組立体は、少なくとも１つの非強化ポリマーディスクをさらに有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の双方向かき取り装置。
【請求項６】
前記強化手段が金属製である、請求項１から５のいずれか１項に記載の双方向かき取り装置。
【請求項７】
前記強化手段が複合材料から作られている、請求項１から５のいずれか１項に記載の双方向かき取り装置。
【請求項８】
前記強化手段が半径方向のスロット付きのディスクから成る、請求項６または７に記載の双方向かき取り装置。
【請求項９】
前記強化手段が密封・かき取り用の前記ポリマーディスクと同様なスロット付きのディスクから成る、請求項８に記載の双方向かき取り装置。
【請求項１０】
前記強化手段が前記ポリマーディスクに埋め込まれている、請求項１から９のいずれか１項に記載の双方向かき取り装置。
【請求項１１】
前記強化手段が前記ポリマーディスクに張り合わされている、請求項１から９のいずれか１項に記載の双方向かき取り装置。
【請求項１２】
前記ポリマーは、例えばＰＥＵＨＭＷ、ＥＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＶＤＦ、ＥＣＴＦＥ、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ、ＰＥＥＫ、およびこれらの混合物のようなポリアミド、ポリエチレン、弗化ポリマータイプの熱可塑性材料か、エポキシ樹脂またはポリウレタンのような熱硬化性材料か、あるいはエラストマーの中の一つである、請求項１から１１のいずれか１項に記載の双方向かき取り装置。
【請求項１３】
前記ポリマーには耐磨耗性材料が充填されている、請求項１２に記載の双方向かき取り装置。
【請求項１４】
エラストマーに対して化学的攻撃性を有する流体の輸送管内において、かき取りおよび／または２つの流体の分離のために応用される、請求項１から１３のいずれか１項に記載の双方向かき取り装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月29日(2007.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基材とコーティングを有する切削工具であって、前記基材が少なくとも３５体積％の立方晶窒化ホウ素を含む物体を有し、前記コーティングが少なくとも１つのＡｌ２Ｏ３の層を有し、ここで前記Ａｌ２Ｏ３層が本質的に、粒度が５〜２００ｎｍのγ−Ａｌ２Ｏ３からなっていることを特徴とする、基材とコーティングを有する切削工具。
【請求項２】  前記Ａｌ２Ｏ３層が、（４４０）及び（４００）結晶面の少なくとも一方からの有意のｘ線回折反射を示し、前記１又は複数の層の硬さが少なくとも１９ＧＰａである、請求項１に記載の切削工具。
【請求項３】  前記Ａｌ２Ｏ３層が、下記の式で定義される組織化係数について１．５以上の、［４４０］方向に優先的な成長方向を有することを特徴とする、請求項１に記載の切削工具：
【数１】
2002543997.tif 000001
ここで、Ｉ（ｈｋｌ）は（ｈｋｌ）反射の測定された強度、Ｉ０（ｈｋｌ）はＡＳＴＭ標準粉末パターン回折データの標準強度、ｎは計算で使用した反射の数であり、使用される（ｈｋｌ）反射は（１１１）、（３１１）、（２２２）、（４００）及び（４４０）である。
【請求項４】  前記微粒結晶質γ−Ａｌ２Ｏ３層が、Ａｌ２Ｏ３多形体のγ系の追加のアルミナ相部分（ＸＲＤ技術によって検知可能）を含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の切削工具。
【請求項５】  Ｔｉ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｖ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｗ及びＡｌから選択される金属元素の金属窒化物及び／又は炭化物を含む、０．１〜１０μｍの厚さの少なくとも１つの層を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の切削工具。
【請求項６】  外側層がＡｌ２Ｏ３であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の切削工具。
【請求項７】  外側層がＴｉＮであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の切削工具。
【請求項８】  ＰＣＢＮ材料が８０体積％超のＣＢＮを含有しており、残部が一般的にＣｏである金属バインダー相であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の切削工具。
【請求項９】  前記ＰＣＢＮ材料が７０体積％未満のＣＢＮを含有し、残部が、周期表のＩＶａ〜ＶＩａ族の金属の炭化物、窒化物、炭窒化物、酸化物又はホウ素化物を包含する他の硬質耐摩耗性成分であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の切削工具。
【請求項１０】  前記工具が全てＣＢＮ含有材料からなっていることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の切削工具。
【請求項１１】  前記工具が、ろう付け、焼結又は任意の他の様式によって基材に結合されたＣＢＮ含有材料からなっていることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の切削工具。
【請求項１２】  前記焼結炭化物が、Ｃｏ含有率が１０〜２０重量％のＷＣ−Ｃｏであることを特徴とする、請求項１１に記載の切削工具。
【請求項１３】  コーティングする基材体を固定して電気的に接続した２つの電極又は２組の電極の間に適用された２極パルス直流電圧によってプラズマを作り、前記電極又は前記電極の組をアノード及びカソードとして交互に作用させること、化学反応体が、酸素ドナーＯ２、ＣＯ２、ＣＯ又はＮ２Ｏを伴うＡｌＣｌ３、Ｈ２及びＡｒであること、パルス周波数を５〜１００ｋＨｚに設定すること、パルス強度を３００〜１，０００Ｖに設定すること、並びに基材温度を、コーティングする工具体の材料に依存して５００〜８００℃に設定することを特徴とする、プラズマ活性化ＣＶＤ（ＰＡＣＶＤ）によって請求項１に記載の切削工具を製造する方法。
【請求項１４】  前記酸素ドナーがＯ２であることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記化学反応体の体積分率を、
ＡｌＣｌ３：０．１〜２．０体積％、
Ｏ２：０．１〜３．９体積％、
Ｈ２：２５〜９５体積％、
Ａｒ：５〜７５体積％、
Ｏ２／ＡｌＣｌ３比：１．５超、
に設定することを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  全処理圧力を０．０５〜１ｋＰａに設定することを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  負のパルスオン時間（Ｐ−）が正のパルスオン時間（Ｐ＋）と同じ又はそれよりも長く、且つ正のパルスオン時間が負のパルスオン時間の１０％と同じ又はそれよりも長く、すなわちＰ−≧Ｐ＋≧０．１Ｐ−であり、また負のパルスオン時間が期間Ｔの１０％と同じ又はそれよりも長く、すなわちＰ−≧０．１Ｔであること、及び負及び正のパルスオフ時間を０又はそれよりも長く設定し、すなわちｔ−≧０且つｔ＋≧０とすることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  前記２極パルス直流電圧の前記正及び負のパルスの強度（Ａ＋及びＡ−）が同じ強度であることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明では、硬質で耐摩耗性の耐熱性コーティングを有し立方晶窒化ホウ素ＣＢＮ含有率が少なくとも３５体積％の少なくとも１つの物体を含む切削工具を提供する。この耐摩耗性のコーティングは、耐熱性化合物の１又は複数の層で構成されており、この層のうちの少なくとも１つの層、好ましくは最も外側の層は、５００〜８００℃、好ましくは５５０℃〜６５０℃の基材温度でＰＡＣＶＤ技術によって堆積させたγ−Ａｌ２Ｏ３から本質的になっている。このγ−Ａｌ２Ｏ３層は、高品質で緻密で微粒結晶質のＡｌ２Ｏ３からなっている。この層は透明で且つ非常に滑らかな表面仕上げを有する。これは、１９ＧＰａ又はそれよりも大きい硬さと５〜２００ｎｍであると見積もられる粒度とによって更に特徴付けられる。更に、γ−Ａｌ２Ｏ３層には実質的に亀裂がない。工具本体とＡｌ２Ｏ３層との間に比較的内側の１又は複数の層が存在する場合、この又はこれらの層は、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｖ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｗ及びＡｌから選択される金属元素の金属窒化物及び／又は炭化物で構成され（ている。）、好ましくはＴｉＣ、ＴｉＣＮ、ＴｉＮ又はＴｉＡｌＮを含む。γ−Ａｌ２Ｏ３層は、粒度が０．１μｍ未満の高品質で密な微粒結晶質Ａｌ２Ｏ３からなっている。更に、γ−Ａｌ２Ｏ３層には実質的に亀裂及びハロゲン不純物がなく、硬さが少なくとも２０ＧＰａで圧縮応力が少なくとも１ＧＰａである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月29日(2007.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基材とコーティングを有する切削工具であって、前記基材が少なくとも３５体積％の立方晶窒化ホウ素を含む物体を有し、前記コーティングが少なくとも１つのＡｌ2Ｏ3の層を有し、ここで前記Ａｌ2Ｏ3層が本質的に、粒度が０．１μｍ未満でハロゲン不純物を伴わないγ−Ａｌ2Ｏ3からなっていることを特徴とする、基材とコーティングを有する切削工具。
【請求項２】  前記Ａｌ2Ｏ3層が、（４４０）及び（４００）結晶面の少なくとも一方からの有意のｘ線回折反射を示し、前記Ａｌ2Ｏ3層が、少なくとも２０ＧＰａの硬さ及び少なくとも１ＧＰａの圧縮応力を有することを特徴とする、請求項１に記載の切削工具。
【請求項３】  前記Ａｌ2Ｏ3層が、下記の式で定義される組織化係数について１．５以上の、［４４０］方向に優先的な成長方向を有することを特徴とする、請求項１に記載の切削工具：
【数１】
2002543993.tif 000001
ここで、Ｉ（ｈｋｌ）は（ｈｋｌ）反射の測定された強度、Ｉ0（ｈｋｌ）はＡＳＴＭ標準粉末パターン回折データの標準強度、ｎは計算で使用した反射の数であり、使用される（ｈｋｌ）反射は（１１１）、（３１１）、（２２２）、（４００）及び（４４０）。
【請求項４】  前記微粒結晶質γ−Ａｌ2Ｏ3層が、Ａｌ2Ｏ3多形体のγ系の追加のアルミナ相部分（ＸＲＤ技術によって検知可能）を含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の切削工具。
【請求項５】  Ｔｉ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｖ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｗ及びＡｌから選択される金属元素の金属窒化物、炭窒化物及び／又は炭化物を含む、０．１〜１０μｍの厚さの少なくとも１つの層を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の切削工具。
【請求項６】  外側層がＡｌ2Ｏ3であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の切削工具。
【請求項７】  外側層がＴｉＮであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の切削工具。
【請求項８】  ＰＣＢＮ材料が８０体積％超のＣＢＮを含有していることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の切削工具。
【請求項９】  前記ＰＣＢＮ材料が３５〜９０体積％のＣＢＮを含有し、残部が、周期表のＩＶａ〜ＶＩａ族の金属の炭化物、窒化物、炭窒化物、酸化物又はホウ素化物を包含する他の硬質耐摩耗性成分であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の切削工具。
【請求項１０】  前記工具が全てＣＢＮ含有材料からなっていることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の切削工具。
【請求項１１】  前記工具が、ろう付け、焼結又は任意の他の様式で基材に結合されたＣＢＮ含有材料からなっていることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の切削工具。
【請求項１２】  前記焼結炭化物が、Ｃｏ含有率が１０〜２０ｗｔ％のＷＣ−Ｃｏであることを特徴とする、請求項１１に記載の切削工具。
【請求項１３】  請求項１において示される微粒結晶質γ−Ａｌ2Ｏ3からなる少なくとも１つの耐熱性層をマグネトロンスパッタリングによって、真空中で移動している基材に堆積させる、コーティングされた切削工具の製造方法であって、前記Ａｌ2Ｏ3層を、１〜５μｂａｒの圧力のアルゴン及び酸素の気体混合物中での反応性パルスマグネトロンスパッタリングによって堆積させること、前記パルスの周波数を１０〜１００ｋＨｚに設定すること、固定して配置された基材に関して少なくとも１ｎｍ／秒の速度で、堆積を行わせること、時間平均のマグネトロンターゲット出力密度を少なくとも１０Ｗ／ｃｍ2に設定すること、及び基材温度を、コーティングされる工具体の材料に依存して、４５０〜７００℃に設定することを特徴とする、コーティングされた切削工具の製造方法。
【請求項１４】  前記Ａｌ2Ｏ3層を、マグネトロンスパッタリング装置のカソード及びアノードとして交互に切り替えられるＡｌターゲットを有する２マグネトロンスパッタリングによって堆積させることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  追加の非Ａｌ2Ｏ3層も物理気相堆積、特にパルスマグネトロンスパッタリングによって堆積させることを特徴とする、請求項１３及び１４のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明では、硬質で耐摩耗性の耐熱性コーティングを有し立方晶窒化ホウ素ＣＢＮ含有率が少なくとも３５体積％の少なくとも１つの物体を含む切削工具を提供する。この硬質で耐摩耗性のコーティングは、耐熱性化合物の１又は複数の層で構成されており、この層のうちの少なくとも１つの層、好ましくは最も外側の層は、４５０〜７００℃、好ましくは５５０〜６５０℃の基材温度でＤＭＳ−ＰＶＤ法によって堆積させたγ−Ａｌ2Ｏ3から本質的になっている。工具体とＡｌ2Ｏ3層との間に比較的内側の層が存在する場合、この層はＴｉ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｖ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｗ及びＡｌから選択される金属元素の金属窒化物、炭窒化物及び／又は炭化物で構成され（ている。）、好ましくはＴｉＣ、ＴｉＣＮ、ＴｉＮ又はＴｉＡｌＮを含む。γ−Ａｌ2Ｏ3層は、粒度が０．１μｍ未満の高品質で密な微粒結晶質Ａｌ2Ｏ3からなっている。更に、γ−Ａｌ2Ｏ3層には実質的に亀裂及びハロゲン不純物がなく、硬さが少なくとも２０ＧＰａで圧縮応力が少なくとも１ＧＰａである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月17日(2007.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  コア回路と；
前記コア回路に結合され、前記コア回路がスリープ・モードに入っているとき、前記コア回路内の漏れ電流を低減し、前記コア回路がドラウジー・モードに入っているとき、前記コア回路のロジック状態を維持するコントロール回路と；
を具備する回路。
【請求項２】  少なくとも１つのワードラインおよび前記少なくとも１つのワードラインに結合された少なくとも１つのＳＲＡＭセルを含むスタティック・ランダム・アクセス・メモリ（ＳＲＡＭ）回路と；
前記ＳＲＡＭ回路に結合され、前記少なくとも１つのワードラインをドライブするワードライン・ドライバと；
を具備する回路。
【請求項３】  コア回路と；
前記コア回路に結合され、前記コア回路が、電力がオフになる第１のモードに入っているとき、前記コア回路の漏れ電流を低減し、前記コア回路が第２のモードに入っているとき、前記コア回路のロジック状態を保持する漏れ電流コントロール回路と；を具備し、
前記第２のモードに入っている前記コア回路によって消費される電力は、前記コア回路がアクティブ・モードになる第３のモードに入っている前記コア回路によって消費される電力より小さいことを特徴とする回路。
【請求項４】  コア回路を含む集積回路であって、
前記コア回路に結合され、前記コア回路がスリープ・モードに入っているとき、前記コア回路内の漏れ電流を低減し、前記コア回路がドラウジー・モードに入っているとき、前記コア回路のロジック状態を維持するコントロール回路を具備する集積回路。
【請求項５】  回路内の電力消費をコントロールする方法において：
前記回路がスリープ・モードに入っているとき前記回路をバイアスする電源電圧を低減することによって漏れ電流の低減を行い；かつ、
前記回路がドラウジー・モードに入っているとき、前記漏れ電流のほかに電流を生成し、前記回路のロジック状態を維持することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月20日(2007.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    
【請求項１】  電子番組ガイド対応ビデオ装置に於いて広告を提示する方法であって、
ａ）チャンネル変更コマンドが出されたかを特定するステップと、
ｂ）出されたチャンネル変更コマンドに応答して、チャンネル・リストから新しいチャンネルを特定するステップと、
ｃ）前記新しいチャンネルに対応する、表示しようとする広告を特定するステップと、
ｄ）前記新しいチャンネルから受信したビデオ番組と、前記新しいチャンネルに対応する電子番組ガイドからの番組情報と、前記新しいチャンネルに対応する広告を含む信号を表示用に生成するステップと、
ｅ）表示されている広告を自動的に強調表示して、ユーザがその広告を選択できるようにするステップと、
ｆ）広告が選択されたかどうかを示すデータをサーバに返送するステップと、
ｇ）前記広告のソースを示す追加データを前記サーバに返送するステップと、
を含み、
前記ビデオ装置が複数の相異なるソースから前記電子番組ガイドに表示される広告を受信する、前記広告提示方法。
【請求項２】  ユーザが広告を選択した時に、その広告についての詳しい情報を表示するステップを更に含む、請求項１記載の広告提示方法。
【請求項３】  前記表示しようとする広告を特定するステップ内に、現在時間を特定するステップを更に含む、請求項１記載の広告提示方法。
【請求項４】  前記広告が少なくとも２つの相異なる信号のソースから受信可能である場合に、前記複数の相異なるソースが相異なる信号のソースである、請求項１記載の広告提示方法。
【請求項５】  前記サーバに返送される前記データが選択された広告に対応する広告主によって支払われる料金を決定するために使用される、請求項１記載の広告提示方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月16日(2007.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】      
【請求項１】ビデオ装置内でユーザによる操作に応答して、電子番組ガイドと共にターゲットとされる広告をダイナミックに表示する方法であって、
複数の広告を受信するステップと、
受信した広告を、各々、当該広告を前記電子番組ガイド内の位置と関連させるそれぞれの記述子とともに記憶するステップと、
ハイライトされた位置を特定するために前記電子番組ガイドのユーザによる操作をモニタするステップと、
それぞれの記述子から前記ハイライトした位置に広告が関連するかどうかを判定するステップと、
関連すると判定された広告を表示するステップと、
から成る、前記方法。
【請求項２】前記それぞれの記述子がそれぞれの広告についてのチャンネル記述子である請求項１記載の方法。
【請求項３】前記関連すると判定された広告のチャンネル記述子が、前記ハイライトした位置に関連するチャンネルと一致すると、前記関連すると判定された広告の判定がなされる、請求項２記載の方法。
【請求項４】前記それぞれの記述子が時刻記述子である請求項２記載の方法。
【請求項５】前記関連すると判定された広告のチャンネル記述子が、前記ハイライトした位置に関連するチャンネルと一致し、且つ時刻記述子が現在の時刻と一致すると、前記関連すると判定された広告の判定がなされる、請求項４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月16日(2007.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ハウジングの前面の近傍に位置し、互いに離間して延在する２つの細長いスピーカボックスを有するスピーカシステムを備え、
各スピーカボックスが長手方向の軸線を持ち、これら２本の長手方向の軸線が少なくとも互いに平行に延在すると共に、前記前面に対して平行に延在し、
各スピーカボックスが、その長手方向の軸線の近傍に、第１の周波数帯域に関連した音を発する第１のスピーカユニットと、前記第１の周波数帯域よりも低い第２の周波数帯域に関連した音を発する第２のスピーカユニットとを有し、
これら第１のスピーカユニットが共に、前記スピーカボックスの長手方向の軸線と交差して延在する１つの同じ仮想の接続ライン上に位置し、これら第２のスピーカユニットが共に、前記接続ラインから等しい距離に位置する、スピーカシステムを備えた当該ハウジングであって、
これら第２のスピーカユニットの一方が前記接続ラインの一方の側に延在する領域に位置し、これら第２のスピーカユニットの他方が前記接続ラインの他方の側に延在する対向領域に位置することを特徴とするハウジング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
これらスピーカボックスが、これらの長手方向の軸線に関して垂直な方向に延在することを特徴とする請求項１又は２記載のハウジング。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記スピーカシステムが、当該ハウジングの前面の近傍に、前記２つのスピーカボックスの構成に対応する構成の他のスピーカボックスを有し、
前記他のスピーカボックスの長手方向の軸線が、前記２つのスピーカボックスの長手方向の軸線と交差して延在し、
前記他のスピーカボックスの第１のスピーカユニットが、前記２つのスピーカボックスの長手方向の軸線と交差して延在する前記接続ラインと交差して延在する他のライン上に位置すると共に、前記２つのスピーカボックスの各スピーカユニットから等しい距離に位置することを特徴とする請求項１記載のハウジング。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
表示スクリーンと、請求項１ないし９のいずれか１項に記載のハウジングとを備え、前記表示スクリーンが前記２つのスピーカボックスの間に延在し、前記スピーカボックスの長手方向の軸線と交差して延在する接続ラインが前記表示スクリーンの中心領域を通って延在する装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
スピーカボックスが、長手方向の軸線を持つと共に、前記長手方向の軸線の近傍に配設され、第１の周波数帯域に関連した音を発する第１のスピーカユニットと、前記長手方向の軸線の近傍に配設され、前記第１の周波数帯域よりも低い第２の周波数帯域に関連した音を発する第２のスピーカユニットとを有する請求項１ないし９のいずれか１項に記載のハウジング用に適したスピーカボックス。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記第１のスピーカユニットがアクティブスピーカ及びツイータを有し、このツイータが前記スピーカボックスの長手方向の軸線と交差する向きの、前記アクティブスピーカの中心軸線と一致する中心軸線を持つ請求項１２記載のスピーカボックス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月10日(2007.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  カルーセル・ローダ上の所望の記録媒体の目標位置へ高精度かつ高速にアクセスするため、パルス信号が供給されてモータ（Ｍ）を制御するモータ駆動回路により、記録媒体用モータ駆動式カルーセル・ローダを駆動する運動制御システムであって、
モータ駆動回路が電気スイッチ（Ｑ１）ならびにドライバ回路（ＩＣ１）を備え、かつ
制動回路（ＢＣ）が前記モータ（Ｍ）と接続され、
前記電気スイッチ（Ｑ１）および前記制動回路（ＢＣ）は、カルーセル・ローダの減速期間（ＤＤ）中にパルス信号が印加される共通入力端子（Ｉｎ）を有し、
前記減速期間（ＤＤ）は、光断続器によって検出された減速位置（ＡＲ）および前記カルーセル・ローダの目標位置（Ｂ）によって決定されることを特徴とする運動制御システム。
【請求項２】  前記ドライバ回路（ＩＣ１）の入力端子、前記ドライバ回路（ＩＣ１）の第２端子（２）及び前記モータ（Ｍ）の第１端子には、電源電圧（Ｕ）が印加され、
前記電気スイッチ（Ｑ１）の状態がオンからオフに変わった後に、前記共通入力端子（Ｉｎ）と接続されている前記制動回路（ＢＣ）が、前記モータ（Ｍ）の回転を防ぐことで、前記共通入力端子（Ｉｎ）を介して、前記モータ（Ｍ）の運転を制御するために、
前記モータ（Ｍ）の第２端子は、前記ドライバ回路（ＩＣ１）の出力に接続され、
前記ドライバ回路（ＩＣ１）の第３端子は、前記電気スイッチ（Ｑ１）に接続され、
前記電気スイッチ（Ｑ１）は、前記ドライバ回路（ＩＣ１）をアース（ＧＮＤ）に接続している請求項１に記載のシステム。
【請求項３】  前記制動回路（ＢＣ）が、前記パルス信号の一時停止中に、モータ（Ｍ）の両端子間を短絡させるスイッチ手段を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】  前記モータ（Ｍ）の両端子間を短絡させるスイッチ手段が、レジスタ（Ｒ４）を介してドライバ回路（ＩＣ１）の入力端子（Ｉｎ）にベース端子が接続されたトランジスタ（Ｑ２）の、コレクタ−エミッタ・パスによって形成される請求項３に記載のシステム。
【請求項５】  カルーセル・ローダ上の所望の記録媒体へ高速かつ高精度にアクセスするため、パルス信号が供給されてモータ（Ｍ）を制御するモータ駆動回路により、記録媒体用モータ駆動式カルーセル・ローダを駆動する方法であって、
モータ駆動回路および制動回路（ＢＣ）を含む運動制御システムが設けられ、
前記カルーセル・ローダの目標位置（Ｂ）に精確かつ迅速に到達するため、モータ駆動回路および制動回路（ＢＣ）の共通入力端子（Ｉｎ）に印加される一定のスイッチオン信号は、前記目標位置（Ｂ）の手前の減速期間（ＤＤ）の間、パルス信号に変えられる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月13日(2007.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電力信号（１２０）を受信し、第１の電圧をもつ第１の信号（２１５）を提供するのに適した電力レギュレータ（２１０）と、
該電力レギュレータに電気的に接続され、該第１の信号から電力を受けるデジタル部品（２２０）とを具備するプロセストランスミッタであって、
該プロセストランスミッタは、
前記電力レギュレータに電気的に接続され、前記第１の信号を受信し、第１の電圧より大きい大きさの第２の電圧を持つ第２の信号を提供する逓昇コンバータ（２３０）、および、
前記逓昇コンバータに電気的に接続され、前記第２の信号から電力を受けるアナログ部品（２４０）を具備することを特徴とするプロセストランスミッタ。
【請求項２】  前記プロセストランスミッタはプロセスループに接続され、前記電力レギュレータは前記プロセスループから前記電力信号を受信することを特徴とする請求項１のプロセストランスミッタ。
【請求項３】  前記アナログ部品がプロセス変数を感知し、センサ出力を提供するのに適したプロセスセンサを含むことを特徴とする請求項１または２のプロセストランスミッタ。
【請求項４】  前記アナログ部品が、前記プロセスセンサに電気的に接続され、センサ出力をデジタル信号に変換するアナログデジタル変換器を含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかのプロセストランスミッタ。
【請求項５】  前記アナログ部品が、トランスミッタの温度を感知する温度センサを含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかのプロセストランスミッタ。
【請求項６】  前記デジタル部品がマイクロプロセッサを含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかのプロセストランスミッタ。
【請求項７】  前記デジタル部品がプロセス情報を処理ループを経て通信するのに適した通信回路を含むことを特徴とする請求項１ないし６のいずれかのプロセストランスミッタ。
【請求項８】  前記第１の信号を受信するために前記電力レギュレータに電気的に接続され、前記第１の電圧が第１の閾値電圧を越えた後に、前記逓昇コンバータを励起するべく該逓昇コンバータに電気的に接続された運転開始回路をさらに具備したことを特徴とする請求項１のプロセストランスミッタ。
【請求項９】  運転開始回路が、第１の信号を第１の閾値電圧と比較し、該比較の機能として、該逓昇コンバータへ提供される運転停止信号を制御する比較器を含むことを特徴とする請求項８のプロセストランスミッタ。
【請求項１０】  前記運転開始回路がパワー−オン−リセット装置を含むことを特徴とする請求項８または９のプロセストランスミッタ。
【請求項１１】  前記アナログ部品が前記第２の信号から電力を受信するために、選択的に励起されるスイッチを経て前記逓昇コンバータに電気的に接続され、
前記第１の信号を受信するために前記電力レギュレータに電気的に接続され、
前記プロセストランスミッタが前記第１の電圧が第１の閾値電圧を越えた後に前記スイッチを励起するべく該スイッチに電気的に接続された運転開始回路をさらに具備したことを特徴とする請求項１のプロセストランスミッタ。
【請求項１２】  前記運転開始回路が、前記第１の信号を前記第１の閾値電圧と比較し、該比較の機能として、前記スイッチへ供給される負荷イネーブル信号を制御する比較器を含むことを特徴とする請求項１１のプロセストランスミッタ。
【請求項１３】  前記アナログ部品が前記第２の信号から電力を受信するために、選択的に励起されるスイッチを経て前記逓昇コンバータに電気的に接続され、
前記プロセストランスミッタが前記第１の信号を受信するために前記電力レギュレータに電気的に接続され、前記第１の電圧が第１の閾値電圧を越えた後に前記逓昇コンバータを励起すべく該逓昇コンバータに電気的に接続され、また該第１の電圧が第２の閾値電圧を越えた後にスイッチを励起すべく該スイッチに電気的に接続された運転開始回路をさらに具備したことを特徴とする請求項１のプロセストランスミッタ。
【請求項１４】  前記デジタル部品が前記第１の信号から電力を受けるために前記電力レギュレータに電気的に接続された第１および第２のデジタル部品からなり、
前記トランスミッタは、
前記電力レギュレータと前記第１のデジタル部品からなる電子モジュールと、
前記第２のデジタル部品、前記逓昇コンバータおよび前記アナログ部品とからなる、前記電子モジュールに電気的に接続されたセンサモジュールとを具備することを特徴とする請求項２のプロセストランスミッタ。
【請求項１５】  第１の電圧をもつ第１の信号を発生し、
デジタル部品に第１の信号を適用するプロセストランスミッタ中のアナログ部品に電力を供給する方法であって、
該方法が、
前記第１の電圧が第１の閾値電圧を越えた後に第２の信号を発生し、
前記第１の電圧が前記第１の閾値電圧より大きな第２の閾値電圧を越えた後に、アナログ部品に直接、第２の信号を適用することからなることを特徴とするプロセストランスミッタ中のアナログ部品に電力を供給する方法。
【請求項１６】  前記第１の信号をデジタル部品に適用するステップが、前記第２の信号を発生するステップの後に行われることを特徴とする請求項１５の方法。
【請求項１７】  前記第１の信号をデジタル部品に適用するステップが、前記第２の信号を発生するステップの前に行われることを特徴とする請求項１５または１６の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月16日(2007.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】  標準的な方法として、培養液全体、上清（遠心または濾過で菌体を除去）または精製したタンパク質を含む緩衝液を１０ｍｌの目盛付き試験管に移した。最初に、試験管に界面活性剤を加え、そこに全体の容量が１０ｍｌとなるようにタンパク質を含む溶液を加えた。試験管中の界面活性剤の量は界面活性剤の重量パーセントで計算した。オーバーヘッドシェーカーで完全に混合した後、ウォーターバスで温度を一定に保ちながら重力によって相分離を行うか、または、一定温度で遠心して相分離を促した。分離は通常３０℃で行ない、使用した界面活性剤の量は２〜５％ (v/v)であった。分離後、両相の容量の比を記録し、軽い相および重い相の各々から分析用試料を採取した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】  実施例４に記載の方法でグルコースまたはセルロースを含む培地を用いて得られた培養上清の０.５リットルからＨＦＢＩおよびＨＦＢＩＩを調製的目的で抽出した。２％（w/w）界面活性剤を培養上清に加えて混合し、分液漏斗中で静置し、その際の温度は、界面活性剤としてＣ１１ＥＯ２（Berol 532）を用いた場合は２０℃とし、界面活性剤としてＣ１２−１８ＥＯ５（Henkel）を用いた場合は３０℃とした。界面活性剤相（濃縮相）を採取して等容量のイソブタノールと混合した。界面活性剤としてＣ１１ＥＯ２を用いた場合は、更に、等容量の５０ｍＭ酢酸緩衝液も添加した。残りの培養上清は、目的タンパク質の乏しい相（減損相、depleted phase）である。精製に続き、各工程からのサンプルについて分析的ＨＰＬＣを行なった（図２７と図２８）。ＨＰＬＣ分析の結果によると、ＨＦＢＩとＨＦＢＩＩの両方がいずれの界面活性剤によっても良好に分離されたことが分かる。界面活性剤としてＣ１１ＥＯ２を用いた場合は、ＨＦＢＩのＫ値とＨＦＢＩＩのＫ値は、それぞれ、＞１０００と＞７８であった。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月12日(2007.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  対称フィルタリング・画像圧縮を実行する装置において：
それぞれが画像のピクセルを表すデータ・エレメントを格納しかつシフトさせるためのＮ個のシフト・ブロック（ＳＢ）を有するＮエレメント・シフト回路；
前記Ｎ個のＳＢの第１の複数のペアとなっているＳＢからのデータ・エレメントを加算するための第１の複数の加算回路；
前記Ｎ個のＳＢの、第２の複数のペアとなっているＳＢからのデータ・エレメントを加算するための第２の複数の加算回路；
対応するローパス係数を用いて、前記第１の複数の加算回路によって実行された加算の結果に対する乗算を行う、第１の複数の乗算回路；および、
対応するハイパス係数を用いて、前記第２の複数の加算回路によって実行された加算の結果に対する乗算を行う、第２の複数の乗算回路；
を備えることを特徴とする装置。
【請求項２】  対称フィルタリング画像圧縮を実行する方法において：
Ｎ個のシフト・ブロックを有するＮエレメント・シフト回路内に画像のピクセルを表すデータ・エレメントを複数格納するステップ；
前記Ｎ個のシフト・ブロックの、第１の複数のペアとなっているシフト・ブロックからのデータ・エレメントを加算するステップ；
前記Ｎ個のシフト・ブロックの、第２の複数のペアとなっているシフト・ブロックからのデータ・エレメントを加算するステップ；
対応するローパス係数を用いて、前記第１の複数のシフト・ブロックからのデータ・エレメントの加算の結果に対する乗算を行うステップ；および、
対応するハイパス係数を用いて、前記第２の複数のシフト・ブロックからのデータ・エレメントの加算の結果に対する乗算を行うステップ；
を包含することを特徴とする方法。
【請求項３】  対称フィルタリング画像圧縮を実行する装置において：
それぞれが画像のピクセルを表すデータ・エレメントを格納しかつシフトさせるためのＮ個のシフト・ブロック（ＳＢ）を有するＮエレメント・シフト回路；
前記Ｎ個のＳＢの、第１の複数のペアとなっているＳＢからのデータ・エレメントを加算し、かつその加算の第１の結果に対して２を除数とする除算を行う第１の複数の加算除算回路；
前記Ｎ個のＳＢの、第２の複数のペアとなっているＳＢからのデータ・エレメントを加算し、かつ該加算の第２の結果に対して２を除数とする除算を行う第２の複数の加算除算回路；
２を乗じた対応するローパス係数を用いて、２を除数とする除算を行った前記第１の結果に対する乗算を行う、第１の複数の乗算回路；および、
２を乗じた対応するハイパス係数を用いて、２を除数とする除算を行った前記第２の結果に対する乗算を行う、第２の複数の乗算回路；
を備えることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月16日(2007.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マイクロプロセッサおよびメモリを備えた血液処理装置と、
ユーザインタフェースおよびスクリプトジェネレータを有する外部コンピュータとを含む血液処理装置を制御するためのシステムであって、
前記血液処理装置が各々１つ以上の各作動を行う複数のデバイスを有しており、
前記スクリプトジェネレータが前記複数のデバイスおよび前記各作動に関連するデバイス情報および作動情報を含んでおり、
前記ユーザーインターフェースが前記デバイス情報および前記作動情報を表示するように構成され、
前記外部コンピュータが前記複数のデバイスの前記各作動の選択された１つを示す選択された一連のステップを記録し、
前記スクリプトジェネレータが前記血液処理装置の前記マイクロプロセッサによって読み取り可能なカスタム解釈言語で前記選択されたステップを出力し、そして、
前記スクリプトが前記血液プロセッサの前記メモリ内にロードされるようにした、血液処理装置を制御するためのシステム。
【請求項２】  前記選択された一連のステップは、
血球から血漿を分離するために第１チャンバ内の全血を回転させるステップと、
前記第１チャンバから第２チャンバへ血漿を引き出すために血液試料ユニットのピストンを動かすステップと、
前記第２チャンバ内の前記血漿と前記血漿中のフィブリノゲンをフィブリン重合体内へ転換させる酵素とを混合するステップと、
前記第２チャンバ内へシリンジから溶解用緩衝液を放出するステップと、
フィブリン単量体溶液を形成する目的で前記緩衝液中に前記フィブリン重合体を溶解させるために交互の方向に前記血液試料ユニットを回転させるステップと、
前記第２チャンバ内へ酵素捕捉試薬を放出するステップと、
前記フィブリン単量体溶液が前記血液試料ユニットの第３チャンバ内へ流入するように前記血液試料ユニットを操作するステップと、
前記フィブリン単量体が環状フィルタを通って前記血液試料ユニットの第４チャンバ内へ流入するように前記血液試料ユニットを回転させるステップと、
前記フィブリン単量体を前記シリンジ内へ移すステップとを含む、請求項１記載の血液処理装置を制御するためのシステム。
【請求項３】  前記血液処理装置の前記メモリが前記スクリプトおよび相違するスクリプトを含んでおり、これにより、複数のスクリプトを定義し、
前記血液処理装置が、前記血液試料ユニットの標識を読み取って前記標識に対応する指示を提供するリーダを含んでおり、
前記マイクロプロセッサが前記指示に基づいて複数のスクリプトから１つを選ぶ、請求項２記載の血液処理装置を制御するためのシステム。
【請求項４】  前記リーダがバーコードリーダである、請求項３記載の血液処理装置を制御するためのシステム。
【請求項５】  前記スクリプトジェネレータがさらに限界値情報を含んでおり、
前記選択された一連のステップが前記ステップの各々について各パラメータ情報を含んでおり、
前記ユーザーインターフェースが前記パラメータ情報における無効な数値をチェックするために前記限界値情報を使用する、請求項１記載の血液処理装置を制御するためのシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月26日(2007.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）  構造−Ｃ（Ｒf）（Ｒf´）ＯＨ（式中、ＲfおよびＲf´は、１〜１０炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって（ＣＦ2）n（ｎは２〜１０である）である）を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも１つのエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位を含むフッ素含有ポリマーと、
（ｂ）少なくとも１つの光活性成分と
を含み、該フッ素含有ポリマーは１５７ｎｍの波長において２．５μｍ-1未満の吸収係数を有することを特徴とするフォトレジスト。
【請求項２】  溶解抑制剤をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のフォトレジスト。
【請求項３】  該フッ素含有ポリマーは、構造−Ｃ（Ｒf）（Ｒf´）ＯＲa（式中、ＲfおよびＲf´は、１〜１０炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって（ＣＦ2）n（ｎは２〜１０である）であり、およびＲaは酸または塩基不安定性保護基である）を有する官能基を含有する少なくとも１つのエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のフォトレジスト。
【請求項４】  該フッ素含有ポリマー中のＲaはＣＨ2ＯＣＨ2Ｒ5であり、およびＲ5は水素、または１個と１０個との間の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝のアルキル基であることを特徴とする請求項３に記載のフォトレジスト。
【請求項５】  基板上にフォトレジスト画像を調製するための方法であって、
（Ｗ）  フォトレジスト組成物を基板に塗布する工程であって、該フォトレジスト組成物は、
（ａ）  構造−Ｃ（Ｒf）（Ｒf´）ＯＨ（式中、ＲfおよびＲf´は、１〜１０炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって（ＣＦ2）n（ｎは２〜１０である）である）を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも１つのエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位を含むフッ素含有ポリマーであり、および該フッ素含有ポリマーは１５７ｎｍの波長において２．５μｍ-1未満の吸収係数を有するフッ素含有ポリマーと、
（ｂ）  少なくとも１つの光活性成分と、
（ｃ）  溶媒と
を含む工程と、
（Ｘ）  該フォトレジスト組成物を乾燥して、該溶媒を実質的に除去し、およびそれによって該基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、
（Ｙ）  該フォトレジスト層を画像様に暴露して、画像形成区域および画像非形成区域を形成する工程と、
（Ｚ）  画像形成区域および画像非形成区域を有する暴露されたフォトレジスト層を現像して、該基板上に浮き彫り画像を形成する工程と
をこの順に具えたことを特徴とする基板上にフォトレジスト画像を調製するための方法。
【請求項６】  該画像様暴露は、１５７ｎｍの波長を有する紫外線を用いて実施されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】  該画像様暴露は、１９３ｎｍの波長を有する紫外線を用いて実施されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】  ３６５ｎｍ以下の波長を有するパターン形成された紫外線に対する暴露時に、露光された区域内の該フォトレジスト組成物が水性塩基現像剤中に可溶性にされることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項９】  該フッ素含有ポリマーは、構造−Ｃ（Ｒf）（Ｒf´）ＯＲa（式中、ＲfおよびＲf´は、１〜１０炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって（ＣＦ2）n（ｎは２〜１０である）であり、およびＲaは酸または塩基不安定性保護基である）を有する官能基を含有する少なくとも１つのエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月24日(2007.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  分散補償光ファイバにおいて、前記光ファイバが：
屈折率がｎＣＬの透明材料からなるクラッド層で囲まれた透明材料からなるコアを含み；
前記コアは、半径方向に隣接する３つの：
(ａ)ΔＣが＋１．２％より大きくなるような最大屈折率ｎＣを有する中心コア領域；
(ｂ)ΔＭ≦−０．４％となるような最小屈折率ｎＭを有するモート領域；及び
(ｃ)半径の増大にともなって屈折率が、ΔＲ≧＋０．１５％となるような、少なくともｎＲの屈折率まで増大する区画を含むリング領域；前記区画は前記モート領域よりも半径が少なくとも０．３μｍは大きな位置にある；
と称される領域を、半径が大きくなる順に含み；
前記ファイバの屈折率プロファイルは、前記ファイバの分散勾配が約１５５０ｎｍの波長において−０．１５ｐｓ／ｎｍ２・ｋｍより負であるようなプロファイルであり；
ここで、ΔＣ＝(ｎＣ２−ｎＣＬ２)／２ｎＣ２，ΔＭ＝(ｎＭ２−ｎＣＬ２)／２ｎＭ２及びΔＲ＝(ｎＲ２−ｎＣＬ２)／２ｎＲ２である；
ことを特徴とする光ファイバ。
【請求項２】  前記リング領域が最大屈折率がそれぞれ、ｎＣＬより大きい、ｎＲ１及びｎＲ２である内側及び外側部分を含み；
ここでΔＲ１＜ΔＲ２であり、またΔＣ＝(ｎＣ２−ｎＣＬ２)／２ｎＣ２，ΔＲ１＝(ｎＲ１２−ｎＣＬ２)／２ｎＲ１２，及びΔＲ２＝(ｎＲ２２−ｎＣＬ２)／２ｎＲ２２である；
ことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ。
【請求項３】  前記内側及び外側リング部分が、ｎＲ１及びｎＲ２より低い屈折率ｎＳを有するリング間領域により分離されていることを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ。
【請求項４】  前記内側リング部分が前記外側リング部分に直に接する位置にあることを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ。
【請求項５】  前記リング領域の前記外側部分がΔＲ２≧＋０．１５％となるような最大屈折率ｎＲ２を有するピークを含み、前記ピークの前記最大屈折率が前記モート領域の外縁から０．３μｍと３μｍとの間に位置することを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ。
【請求項６】  分散補償光ファイバにおいて、前記光ファイバが：
屈折率がｎＣＬの透明材料からなるクラッド層で囲まれた透明材料からなるコアを含み；
前記コアは、半径方向に隣接する３つの：
(ａ)最大屈折率ｎＣを有する中心コア領域；
(ｂ)最小屈折率ｎＭを有するモート領域；及び
(ｃ)最大屈折率ｎＲ１及びｎＲ２を有する、明瞭に区別される内側及び外側部分を含むリング領域；
と称される領域を、半径が大きくなる順に含み；
ここで、ｎＣ＞ｎＲ１＞ｎＣＬ＞ｎＭ及びｎＣ＞ｎＲ２＞ｎＣＬ＞ｎＭ＞であり；
前記ファイバの半径方向屈折率プロファイル図において、前記リング領域の外側半分の下の面積が前記リング領域の内側半分の下の面積より大きい；
ことを特徴とする光ファイバ。
【請求項７】  前記中心コア領域がΔＣが＋１．２％より大きくなるような最大屈折率ｎＣを有し、前記モート領域がΔＭ≦−０．４％となるような最小屈折率ｎＭを有し；
ここで、ΔＣ＝(ｎＣ２−ｎＣＬ２)／２ｎＣ２及びΔＭ＝(ｎＭ２−ｎＣＬ２)／２ｎＭ２である；
ことを特徴とする請求項６に記載の光ファイバ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月25日(2007.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４３】  請求項４２に記載のコンピュータで読み取り可能な媒体であって、さらに、
コンピュータコード（ａ）〜（ｅ）のプログラム命令を第２のレチクルに対して繰り返すためのコンピュータコードと、
前記第２のレチクルに関する前記統計情報を前記第１のレチクルに関する前記統計情報と比較するためのコンピュータコードと、
前記第２のレチクルに関する前記統計情報と前記第１のレチクルに関する前記統計情報の差が第２の所定の値を上回る場合は、前記レチクルプロセスのプロセスパラメータを調整するためのコンピュータコードと
を備えるコンピュータで読み取り可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月18日(2007.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
（背景技術）
慢性萎縮性胃炎、悪性貧血、胃潰瘍、胃ポリープ症、及びMenetrier病（巨大肥厚性胃炎）といった、多くの様々な胃の疾患あるいは症状は、胃癌の前に起こる。はっきりと同定可能な粘膜の変化は、形成異常及び腺腫である。ほとんどすべての疾患においてその危険性は、慢性萎縮性胃炎が間接的に関わっていることが確立されてきた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
出願公開WO 96/15456は、血清サンプル中のペプシノーゲンＩ（ＰＧＩ）及びガストリン-１７（Ｇ-１７）被検物濃度を測定し、そのようにして測定された濃度を個々の被検物に対する方法特異的なカットオフ値と比較することにより、幽門腺領域あるいは胃底腺領域のいずれかに、あるいは双方に係る粘膜における萎縮が判定される、胃癌の危険性をスクリーニングする方法を開示する。測定した濃度は好ましくはまた個々の被検物に対する方法特異的な基準値と比較する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明によれば、測定されたビタミンＢ１２濃度が、Ｂ１２に対して選択された方法特異的基準値又は基準範囲と比較される。そのような基準値は２００〜９００ng/lの範囲で変化し、これは約１７０〜７００pmol/lに相当する。ホモシステインについては、１５〜１６μmol/l以下の基準値、メチルマロネートについては、０.４μmol/l以下の基準値が推奨される。