【手続補正書】
【提出日】平成18年11月22日(2006.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】  明細書
【発明の名称】  複数の化学物質をプロセス・ツールに供給するシステム
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の異なる化学物質をプロセス・ツールに給送するためのシステムであって：
少なくとも１つの第１プロセス・ラインに繋がる第１マニホールドに接続される第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタであって、第１補充キャニスタが第１化学物質を第１マニホールドを通して第１プロセス・キャニスタに補充し、第１プロセス・キャニスタが第１化学物質をプロセス・ツールに供給する、第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタ；
少なくとも１つの第２プロセス・ラインに繋がる第２マニホールドに接続される第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタであって、第２補充キャニスタが第２化学物質を第２マニホールドを通して第２プロセス・キャニスタに補充し、第２プロセス・キャニスタが第２化学物質をプロセス・ツールに供給する、第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタ；
を含み、第１補充キャニスタ、第１プロセス・キャニスタ、第２補充キャニスタ、第２プロセス・キャニスタならびに第１および第２マニホールドがキャビネットに収容されている、システム。
【請求項２】  少なくとも１つの第３プロセス・ラインに繋がる第３マニホールドに接続される第３補充キャニスタおよび第３プロセス・キャニスタを更に含み、第３補充キャニスタが第３マニホールドを通して第３プロセス・キャニスタに補充し、第３補充キャニスタおよび第３プロセス・キャニスタならびに第３マニホールドがキャビネットに収容されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】  少なくとも１つの第４プロセス・ラインに繋がる第４マニホールドに接続される第４補充キャニスタおよび第４プロセス・キャニスタを更に含み、第４補充キャニスタが第４マニホールドを通して第４プロセス・キャニスタに補充し、第４補充キャニスタおよび第４プロセス・キャニスタならびに第４マニホールドがキャビネットに収容されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】  キャビネットが全部で６つまたは８つのキャニスターを収容する、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】  マニホールドの少なくとも１つが、真空供給バルブ；真空発生器；圧力ベント・バルブ；ガス入口バルブ；バイパス・バルブ；遮断バルブ；制御バルブ；キャニスタ入口バルブ；キャニスタ出口バルブ；およびキャニスタ入口カプラーを含み、真空供給バルブが真空発生器に接続され；真空発生器が圧力ベント・バルブおよび制御バルブに接続され；ガス入口バルブが圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブが遮断バルブおよびキャニスタ入口バルブに更に接続され；遮断バルブがキャニスタ出口バルブにも接続され；キャニスタ入口バルブが制御バルブおよびキャニスタ出口バルブに接続される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】  システムの少なくとも１つのマニホールドが、真空発生器に接続される真空供給バルブ；真空発生器およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ；真空発生器に接続される制御バルブ、キャニスタ出口バルブおよびバイパス・バルブに接続される遮断バルブ、ならびにバイパス・バルブ、制御バルブ、およびキャニスタ出口バルブに接続されるキャニスタ入口バルブを含み、ガス入口バルブがバイパス・バルブにも接続される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】  第１補充キャニスタがテトラエチルオルトシリケートを含み；第２補充キャニスタがトリエチルホスフェートまたはトリエチルホスファイトを含み；第３補充キャニスタがトリエチルボレートを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】  キャビネットが２つの側部、後部、上部、底部、および少なくとも１つのドアを有する前部から成り、底部が、取り付けられた車輪をオプションとして有し、少なくとも１つのドアの少なくとも１つがタッチ・スクリーンを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】  キャビネットが、化学物質をドレン・パンに導く、傾斜した閉じ込め床板を含む、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】  複数の異なる化学物質を給送するシステムを製造する方法であって：
第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタを、少なくとも１つの第１プロセス・ラインに繋がる第１マニホールドに接続することであって、第１補充キャニスタが第１化学物質を第１マニホールドを通して第１プロセス・キャニスタに補充し、第１プロセス・キャニスタが第１化学物質をプロセス・ツールに供給すること；
第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタを、少なくとも１つの第２プロセス・ラインに繋がる第２マニホールドに接続することであって、第２補充キャニスタが第２化学物質を第２マニホールドを通して第２プロセス・キャニスタに補充し、第２プロセス・キャニスタが第２化学物質をプロセス・ツールに供給すること；
第３補充キャニスタおよび第３プロセス・キャニスタを、少なくとも１つの第３プロセス・ラインに繋がる第３マニホールドに接続することであって、第３補充キャニスタが第３化学物質を第３マニホールドを通して第３プロセス・キャニスタに補充し、第３プロセス・キャニスタが第３化学物質をプロセス・ツールに供給すること；および
第１補充キャニスタ、第１プロセス・キャニスタ、第２補充キャニスタ、第２プロセス・キャニスタ、第３補充キャニスタ、第３プロセス・キャニスタならびに第１、第２および第３マニホールドをキャビネットに収容すること
を含む方法。
【請求項１１】  第４補充キャニスタおよび第４プロセス・キャニスタを、少なくとも１つの第４プロセス・ラインに繋がる第４マニホールドに接続することであって、第４補充キャニスタが第４マニホールドを通して第４プロセス・キャニスタに補充し、第４補充キャニスタ、第４プロセス・キャニスタおよび第４マニホールドがキャビネットに収容されることを更に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  マニホールドの少なくとも１つが、真空供給バルブ；真空発生器；圧力ベント・バルブ；ガス入口バルブ；バイパス・バルブ；遮断バルブ；制御バルブ；キャニスタ入口バルブ；キャニスタ出口バルブ；およびキャニスタ入口カプラーを含み、真空供給バルブが真空発生器に接続され；真空発生器が圧力ベント・バルブおよび制御バルブに接続され；ガス入口バルブが圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブが遮断バルブおよびキャニスタ入口バルブに更に接続され；遮断バルブがキャニスタ出口バルブにも接続され；キャニスタ入口バルブが制御バルブ、およびキャニスタ出口バルブに接続される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】  システムの少なくとも１つのマニホールドが、真空発生器に接続される真空供給バルブ；真空発生器およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ；真空発生器に接続される制御バルブ、キャニスタ出口バルブおよびバイパス・バルブに接続される遮断バルブ、ならびにバイパス・バルブ、制御バルブ、およびキャニスタ出口バルブに接続されるキャニスタ入口バルブを含み、ガス入口バルブがバイパス・バルブにも接続される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】  第１補充キャニスタがテトラエチルオルトシリケートを含み；第２補充キャニスタがトリエチルホスフェートまたはトリエチルホスファイトを含み；第３補充キャニスタがトリエチルボレートを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】  キャビネットが２つの側部、後部、上部、底部、および少なくとも１つのドアを有する前部から成り、底部が、取り付けられた車輪をオプションとして有し、少なくとも１つのドアの少なくとも１つがタッチ・スクリーンを有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】  キャビネットが、化学物質をドレン・パンに導く、傾斜した閉じ込め床板を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  複数の化学物質をプロセス・ツールに供給する方法であって：複数の異なる化学物質をプロセス・ツールに給送するために、第１化学物質、第２化学物質および第３化学物質をシステムからプロセス・ツールに供給することを含み、システムが：
少なくとも１つの第１プロセス・ラインに繋がる第１マニホールドに接続される第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタであって、第１補充キャニスタが第１化学物質を第１マニホールドを通して第１プロセス・キャニスタに補充し、第１プロセス・キャニスタが第１化学物質をプロセス・ツールに供給する、第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタ；
少なくとも１つの第２プロセス・ラインに繋がる第２マニホールドに接続される第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタであって、第２補充キャニスタが第２化学物質を第２マニホールドを通して第２プロセス・キャニスタに補充し、第２プロセス・キャニスタが第２化学物質をプロセス・ツールに供給する、第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタ；
少なくとも１つの第３プロセス・ラインに繋がる第３マニホールドに接続される第３補充キャニスタおよび第３プロセス・キャニスタであって、第３補充キャニスタが第３化学物質を第３マニホールドを通して第３プロセス・キャニスタに補充し、第３プロセス・キャニスタが第３化学物質をプロセス・ツールに供給する、第３補充キャニスタおよび第３プロセス・キャニスタ；
を含み、第１補充キャニスタ、第１プロセス・キャニスタ、第２補充キャニスタ、第２プロセス・キャニスタ、第３補充キャニスタ、第３プロセス・キャニスタならびに第１、第２および第３マニホールドがキャビネットに収容される、方法。
【請求項１８】  少なくとも１つの第４プロセス・ラインに繋がる第４マニホールドに接続される第４補充キャニスタおよび第４プロセス・キャニスタを更に含み、第４補充キャニスタが第４マニホールドを通して第４プロセス・キャニスタに補充し、第４補充キャニスタおよび第４プロセス・キャニスタならびに第４マニホールドがキャビネットに収容される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  キャビネットが全部で６つまたは８つのキャニスターを収容する、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】  マニホールドの少なくとも１つが、真空供給バルブ；真空発生器；圧力ベント・バルブ；ガス入口バルブ；バイパス・バルブ；遮断バルブ；制御バルブ；キャニスタ入口バルブ；キャニスタ出口バルブ；およびキャニスタ入口カプラーを含み、真空供給バルブが真空発生器に接続され；真空発生器が圧力ベント・バルブおよび制御バルブに接続され；ガス入口バルブが圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブが遮断バルブおよびキャニスタ入口バルブに更に接続され；遮断バルブがキャニスタ出口バルブにも接続され；キャニスタ入口バルブが制御バルブおよびキャニスタ出口バルブに接続される、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】  システムの少なくとも１つのマニホールドが、真空発生器に接続される真空供給バルブ；真空発生器およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ；真空発生器に接続される制御バルブを含み、ガス入口バルブがバイパス・バルブにも接続され、遮断バルブがキャニスタ出口バルブおよびバイパス・バルブに接続され、キャニスタ入口バルブがバイパス・バルブ、制御バルブ、およびキャニスタ出口バルブに接続される、請求項１７に記載の方法。
【請求項２２】  第１補充キャニスタがテトラエチルオルトシリケートを含み；第２補充キャニスタがトリエチルホスフェートまたはトリエチルホスファイトを含み；第３補充キャニスタがトリエチルボレートを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２３】  キャビネットが２つの側部、後部、上部、底部、および少なくとも１つのドアを有する前部から成り、底部が、取り付けられた車輪をオプションとして有し、少なくとも１つのドアの少なくとも１つがタッチ・スクリーンを有する、請求項１７に記載の方法。
【請求項２４】  キャビネットが、化学物質をドレン・パンに導く、傾斜した閉じ込め床板を含む、請求項２３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（背景分野）
本発明は、概して、化学物質の給送（delivery、またはデリバリー、輸送、供給もしくは送出）システムに関する。
【０００２】
集積回路の製造に使用される化学物質は、十分なプロセス収率を得るために、超高純度を有しなければならない。集積回路のサイズが小さくなるにつれて、ソース（source、または供給源）化学物質の純度を維持することに対する要請が比例して増加して来た。これは、ライン間隔および中間誘電体層厚さが減少するにつれて、不純物（contaminant、または汚染物質）が集積回路の電気特性に悪影響を与え易くなるためである。
【０００３】
集積回路の製造に使用される超高純度化学物質の１つは、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）である。ＴＥＯＳは、例えば二酸化ケイ素膜を形成するための化学的蒸着法（または化学気相成長法）（ＣＶＤ）などの集積回路製造操作において幅広く使用される。これらのコンフォーマル・フィルム（conformal film、または規則的な膜）は、プラズマ促進（plasma enhanced）反応器（ＰＥＣＶＤ）および常圧（atmospheric pressure）反応器（ＡＰＣＶＤ）内における昇温下でのＴＥＯＳの分子分解により形成される。ＴＥＯＳは、典型的には無ドープならびにリンおよびボロンドープの中間層誘電体、金属間誘電体、サイドウォール・スペーサ、およびトレンチ充填の用途に使用される。
【０００４】
伝統的には、高純度ＴＥＯＳ（およびドーパント）は容量の小さな石英コンテナからＣＶＤ反応室に供給されていた。近年、例えば米国特許第５，４６５，７６６号、同第５，５６２，１３２号、同第５，５９０，６９５号、同第５，６０７，００２号、および同第５，７１１，３５４号公報に記載されるようなステンレス鋼コンテナが開発されている。
【０００５】
いくつかの電子デバイスの製造においては、複数の元素を含む層を形成し得るように、複数の化学物質が反応器に供給される。これは、典型的には、成分を予め混合（pre-mixing）し、次いで混合物を反応器に給送することによって実施される。例えば、ＴＥＯＳおよびトリエチルボレートがプロセス・ツール（process tool、または製造装置）に供給され、そこでボロンによりドープされた層を提供し得る。
【０００６】
プロセス・ツールでの成分の割合を容易に変更し、および所望の結果に対して最適化し得るように、各成分を別々に給送することが可能なシステムを提供することが極めて望ましいであろう。また、化学物質をプロセス・ツールに導入する前に給送システム内で混合することが可能なシステムを提供することも望ましいであろう。また、複数のディスペンス・ポイント（dispensing point）を用いるシステムよりも小さいフットプリント（footprint、または占有面積もしくは設置面積）を有する単一の装置を提供することも望ましいであろう。
【０００７】
（発明の要旨）
本発明は、上記の要請、欠点および不十分な点の１つまたはそれ以上に対する解決策を提供する。
【０００８】
１つの広範な要旨においては、本発明は、複数の異なる化学物質をプロセス・ツールに給送するためのシステムであって：少なくとも１つの第１プロセス・ラインに繋がる第１マニホールドに接続される第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタであって、第１補充キャニスタが第１化学物質を第１マニホールドを通して第１プロセス・キャニスタに補充し、第１プロセス・キャニスタが第１化学物質をプロセス・ツールに供給する、第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタ；少なくとも１つの第２プロセス・ラインに繋がる第２マニホールドに接続される第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタであって、第２補充キャニスタが第２化学物質を第２マニホールドを通して第２プロセス・キャニスタに補充し、第２プロセス・キャニスタが第２化学物質をプロセス・ツールに供給する、第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタを含み；第１補充キャニスタ、第１プロセス・キャニスタ、第２補充キャニスタ、第２プロセス・キャニスタならびに第１および第２マニホールドがキャビネットに収容されているシステムである。更なるキャニスタ、マニホールド、およびプロセス・ラインが、システムによって給送すべき化学物質の所望の数（または種類数）に応じて追加され得る。本明細書に使用される場合、「プロセス・ライン」は、システムから、システムにより供給される化学物質を用いるプロセス・ツールへ直接的または間接的に接続する（または繋がる）ラインを言うものである。プロセス・ツールの１つの代表的な例はＣＶＰ反応器であるが、本発明はこれに限定されない。このシステムは、キャニスタ（canister、または容器）内の化学物質についての閉じ込め（containment、または格納）を提供し、マニホールドを内部に設置できる単一のキャビネットに収容され得る。典型的には、異なる化学物質がツールにて混合されるが、オプションとして、化学物質はツールに到達する前にライン内で（in-line）混合され得る。
【０００９】
もう１つの広範な要旨においては、本発明は、複数の異なる化学物質を給送するシステムを製造する方法であって：第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタを、少なくとも１つの第１プロセス・ラインに繋がる第１マニホールドに接続することであって、第１補充キャニスタが第１化学物質を第１マニホールドを通して第１プロセス・キャニスタに補充し、第１プロセス・キャニスタが第１化学物質をプロセス・ツールに供給すること；第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタを、少なくとも１つの第２プロセス・ラインに繋がる第２マニホールドに接続することであって、第２補充キャニスタが第２化学物質を第２マニホールドを通して第２プロセス・キャニスタに補充し、第２プロセス・キャニスタが第２化学物質をプロセス・ツールに供給すること；第３補充キャニスタおよび第３プロセス・キャニスタを、少なくとも１つの第３プロセス・ラインに繋がる第３マニホールドに接続することであって、第３補充キャニスタが第３化学物質を第３マニホールドを通して第３プロセス・キャニスタに補充し、第３プロセス・キャニスタが第３化学物質をプロセス・ツールに供給すること；および、第１補充キャニスタ、第１プロセス・キャニスタ、第２補充キャニスタ、第２プロセス・キャニスタ、第３補充キャニスタ、第３プロセス・キャニスタならびに第１、第２および第３マニホールドをキャビネットに収容することを含む方法である。
【００１０】
いくつかの態様においては、本発明は、プロセス・ツールでの成分の割合を容易に変更し、および所望の結果に対して最適化し得るように、各成分を別々に給送することが可能なシステムを提供する。また、ある態様においては、本発明は、化学物質をプロセス・ツールに導入する前に給送システム内で混合することが可能なシステムを提供する。更に、本発明のシステムは、有利には、ある態様において、１つのみのキャビネットを使い尽くす（exhaust）ことによるコストの節約をもたらす占有面積の減少、システムのメンテナンスおよびサポートの簡素化をもたらし、これらは、そうでない場合、１つのプロセス・キャニスタまたは１対のプロセス／補充キャニスタだけを各々収容する複数のシステムによってはもたらされるものではないであろう。キャビネットで最も大量に使用される化学物質（例えばＴＥＯＳ）については、より大きなバルク・システムから（例えば、キャビネットにある５または１０ガロンのキャニスタを満たす２００リットルのキャニスタのように、著しく大きなキャニスタから）１つまたは両方のキャニスタが補充され得る。このことは、専用（dedicate）のＴＥＯＳラインおよびソースがダウン（または停止）した場合に、製造装置（fab）は、そのソースに本発明のシステムからＴＥＯＳが供給され得ると言う利点がある。
【００１１】
別の広範な要旨においては、本発明は、複数の化学物質をプロセス・ツールに供給する方法であって：複数の異なる化学物質をプロセス・ツールに給送するために、第１化学物質、第２化学物質および第３化学物質をシステムからプロセス・ツールに供給することを含み、システムが：少なくとも１つの第１プロセス・ラインに繋がる第１マニホールドに接続される第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタであって、第１補充キャニスタが第１化学物質を第１マニホールドを通して第１プロセス・キャニスタに補充し、第１プロセス・キャニスタが第１化学物質をプロセス・ツールに供給する、第１補充キャニスタおよび第１プロセス・キャニスタ；少なくとも１つの第２プロセス・ラインに繋がる第２マニホールドに接続される第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタであって、第２補充キャニスタが第２化学物質を第２マニホールドを通して第２プロセス・キャニスタに補充し、第２プロセス・キャニスタが第２化学物質をプロセス・ツールに供給する、第２補充キャニスタおよび第２プロセス・キャニスタ；少なくとも１つの第３プロセス・ラインに繋がる第３マニホールドに接続される第３補充キャニスタおよび第３プロセス・キャニスタであって、第３補充キャニスタが第３化学物質を第３マニホールドを通して第３プロセス・キャニスタに補充し、第３プロセス・キャニスタが第３化学物質をプロセス・ツールに供給する、第３補充キャニスタおよび第３プロセス・キャニスタを含み；第１補充キャニスタ、第１プロセス・キャニスタ、第２補充キャニスタ、第２プロセス・キャニスタ、第３補充キャニスタ、第３プロセス・キャニスタならびに第１、第２および第３マニホールドがキャビネットに収容される方法である。
【００１２】
有利には、本発明の実施に用いられ得るマニホールドは、蒸気圧が低い材料および毒性の化学物質に対するパージ（purge、または除去）能力を向上させることが可能であり得る。本発明のシステムは、組成比を変更する場合にキャニスタの変更（または交換）などを必要とすることなく、複数の化学反応物を所望のいかなる組成比でも供給することが可能であり得る。複数の化学物質をプロセス・ツールに供給し、各化学物質についてプロセス・キャニスタおよび補充キャニスタの両方を供給し、これらの全てが単一のキャビネットに収まっているシステムに対する要請があることを本発明者らは認識した。複数の化学物質を供給することが可能な従来のシステムは、各化学物質につき単一のキャニスタを用い、よって、従来のシステムは、特定のキャニスタを変更しなければならないときにダウン（または停止）されていた。本発明の重要な利点は、所与の補充キャニスタが新たな補充キャニスタにより補給または交換されるので、３つ全ての化学物質をプロセス・ツールに連続的に供給することができる点にある。この利点により、プロセス・ツールに連続的に供給でき、よって、システムのダウンのためにプロセス・ツールがダウンにされることはない。
【００１３】
（発明の詳細な説明）
本発明の実施に使用され得る金属キャニスタ、化学物質補充（refill、またはリフィル）システム、操作手順、構成要素（または成分）、および始動マニホールド・システム（starting manifold system）などの一般的な説明は、米国特許第５，４６５，７６６号、同第５，５６２，１３２号、同第５，５９０，６９５号、同第５，６０７，００２号、および同第５，７１１，３５４号公報ならびに１９９７年７月１１日に提出された米国特許出願第０８／８９３，９１３号に記載され、これらの全内容は引用することにより本明細書に組み込まれる。
【００１４】
図１には、本発明のシステムの構成（configuration、または配置）の代表的な例が示されるが、本発明はこれに限定されない。図１のシステムには、図７に示すバルブおよびラインと、重複する範囲で、対応するように番号を付したバルブおよびラインが含まれる。図１は、３種の化学物質の補充および給送を一般的に提供するシステム１を示す。概して、キャニスタ１１０Ａおよび１１０Ｂは、第１化学物質、例えばＴＥＯＳなどを含み得る。マニホールド２Ａには、キャニスタ１１０Ａに繋がる補充マニホールド２Ｂと、供給キャニスタ１１０Ｂに繋がる供給マニホールド２Ｃとが含まれる。点線２Ｂおよび２Ｃは、補充および供給マニホールドのアウトラインを示す。加えて、システム１には、補充マニホールド３Ｂおよび４Ｂならびに供給マニホールド３Ｃおよび４Ｃをそれぞれ含むマニホールド３Ａおよび４Ａが含まれる。補充マニホールド３Ｂおよび４Ｂはキャニスタ１１０Ｃおよび１１０Ｅに繋がり、供給マニホールド３Ｃおよび４Ｃは供給キャニスタ１１０Ｄおよび１１０Ｆに繋がる。
【００１５】
図１のシステム構成は、本質的に同等な３つのマニホールド２Ａ、３Ａ、および４Ａを用いる。しかし、個々のマニホールド・デザイン（または設計）は個々に、また全体での両方で幅広く異なり得る。例えば、図１は図７に示される補充マニホールドと対応する補充マニホールド２Ｂを用いることを図示するが、システム１は、図２Ａまたは米国特許第５，４６５，７６６号、同第５，５６２，１３２号、同第５，５９０，６９５号、同第５，６０７，００２号、および同第５，７１１，３５４号公報に示されるマニホールドを代わりに用い得、これら公報は引用することにより本明細書に組み込まれる。同様に、供給マニホールドも異なるデザインを有し得る。
【００１６】
供給キャニスタ１１０Ｂでの頭部圧力（ヘッド・プレッシャー）の増加により、液体化学物質は、ライン１２１Ｂ、ＣＯ  １０１Ｂ、４分枝供給バルブ（four branch supply valve）１６０Ａを通って４分枝供給マニホールド１６２Ｂへ押し出され、ここから１つまたはそれ以上のプロセス・ツールへ化学物質が分配される。出口（output、または排出）ラインは、４分枝供給マニホールド１６２Ｂの４つの出口ポート（exit port）のいずれに接続してもよく、そのような出口ラインはキャニスタ、もう１つの４分枝供給マニホールドを含むバルブ・マニホールド・ボックス、またはプロセス・ツールへと繋がる。バルブ・マニホールド・ボックスの例は、１９９８年５月２４日に提出された米国特許出願第０９／０４６，９０７号に記載され、これは引用することにより本明細書に組み込まれるが、本発明はこれに限定されない。同様の手順により、供給キャニスタ１１０Ｄおよび１１０Ｆから化学物質が分配（dispense、またはディスペンス）され得る。空気シリンダにより、または圧力が加えられるキャニスタ内の化学物質のバッグにより、あるいはバッグに気体または液体を充填するにつれて圧力を供給するキャニスタ内のバッグにより化学物質を押す機械的圧力よりも、むしろ供給キャニスタから化学物質を引き込むポンプを用いることによって化学物質をプロセス・ツールへ給送し得る。図１においては、４分枝マニホールドが化学物質を供給しつづけながら、開状態のバルブ１７Ａを介して４分枝マニホールド１６２Ｂへ真空を提供することができる。分枝（branched、または分枝した）供給マニホールド１６２Ｂには４分枝バルブを用い、供給マニホールドにはどのような数のバルブを用いてもよいことに留意されるべきである。例えば、分枝供給マニホールドは２つまたはそれ以上の分枝バルブを用い得る。分枝供給マニホールドの分枝バルブの数は限定されないが、典型的には、バルブの数は１０またはそれ以下である。分枝供給マニホールドはプロセス・ラインに接続され、プロセス・ラインと連通することに留意されるべきである。
【００１７】
本発明の別の利点には、単一の制御ユニットによるバルブ・シーケンスおよびガスのフローの制御が含まれ、システム内の単一のプロセス制御ユニットを用いることによって支援される単一の離れた（off-site）コンピュータによるシステム制御を可能にするため更に経済的である。
【００１８】
補充サイクルの間、コントローラ（図示せず）は、加圧ガス（pressurized gas、または加圧されたガス）がレギュレータ３２Ａより放出（または開放）され、ＣＧＩ  ３０Ａ、ＣＢＶ  ４０Ａ、ＣＰ２  ７０Ａ、およびＣＩ  ９０Ａを通ってキャニスタ１１０Ａへ入るようにバルブを作動させる。同様に、レギュレータ１６５を介してライン１６４Ｂを通り、バルブ１６６Ｂ、１６６Ｃ、および１６６Ｄに通して不活性ガスを導入することにより、ライン・ドレン（drain、または排出）およびフローイング・パージ（flowing purge、または流すことによるパージ）を容易にし得る。また、図１は、システム内の圧力をモニタするように働く圧力変換器７５Ａを示す。
【００１９】
２つの圧力変換器を有するシステムにおいては、システム内の圧力をバランスする能力が向上する。この場合、この構成により、９０Ｂを閉じ、ラインを真空に引き、真空を閉め切り、次いでＣＩ  ９０Ｂを開けて、プロセス・キャニスタ内の圧力を次第に降下させることによって、プロセス・キャニスタから頭部圧力を次第に放出することができる。プロセス・キャニスタの頭部圧力は非常に高いため、プロセス・キャニスタの補充は、不可能ではなくても問題があることに留意されるべきであろう。プロセス・キャニスタは、補充キャニスタ内の圧力より少なくとも５ｐｓｉｇは低い圧力を有することが典型的には好ましい。本発明の実施による頭部圧力の減少は、自動化され、システムの使用の間にシーケンス的にその場で起こってよい。
【００２０】
補充マニホールド２Ｂ、３Ｂ、および４Ｂは、図７および図８と関連して以下に説明する手順に従って、減圧化（depressurization）、液体ドレン、真空引き（vacuum）、およびフローイング・パージ工程に付され得る。減圧化、液体ドレン、真空引き、フローイング・パージ工程は、補充マニホールドの適切な作動（actuation）により供給マニホールド２Ｃ、３Ｃ、および４Ｃに作用し得る。
【００２１】
図２Ａには、本発明のマニホールド・システムが示される。図２Ａにおいて、例えばベンチュリ（Venturi）真空発生器などの真空源１４が、ライン１２を通して真空供給バルブ（vacuum supply valve；「ＶＧＳ」）１０に接続され得る。ＶＧＳ  １０は、真空源がベンチュリ真空発生器である場合、不活性ガス・ライン１１を通って真空源１４へ向かうガス（例えば窒素、ヘリウム、またはアルゴン）のフロー（または流れ）を制御するように機能する。また、真空源１４は、排気管（exhaust、または排気口）へと出て行く排気ライン１３に取り付けられ得る。真空源１４は、低圧ベント（または排気）バルブ（low pressure vent valve；「ＬＰＶ」）２０、キャリア・ガス遮断バルブ（carrier gas isolation valve；「ＣＧＩ」）３０、キャニスタ・バイパス・バルブ（canister bypass valve；「ＣＢＶ」）４０、および制御バルブ（control valve；「ＣＰ３」）６０に接続され得る。図面中の各バルブについて、白三角は、常に開状態であるラインを示し、黒三角は、開状態とされるまでは閉状態であることを示す。図２Ａにおいて、真空源１４は、ライン１５、ティー（tee）１８、およびライン１７を通してＬＰＶ  ２０に接続され；ライン１５、ティー１８、ライン１６、ティー３５、およびライン３７を通してＣＧＩ  ３０に接続され；ライン１５、ティー１８、ライン１６、ティー３５、ライン３６、ティー４４、およびライン４３を通してＣＢＶ  ４０に接続される。ライン３７にあるチェック・バルブ（または逆止弁）３３は、マニホールドが所定の開放圧力を超えない限り、およびそれまでは、閉じられている。よって、真空源１４は典型的にはライン３７を通してＣＧＩ３０まで閉じられる。一般的に、チェック・バルブ３３は、マニホールドの圧力が１平方インチあたり約１００ポンドを超える場合に作動するようにセットされ得る。チェック・バルブは、システムの圧力が選択したレベルに達した場合に、ガスを排気するように作用する。ＬＰＶ  ２０の機能は、スタート・アップおよびキャニスタの交換の間のマニホールドおよびキャニスタのベント（または排気）および排出（evacuation）を制御することである。また、真空計（または真空ゲージ）２２がＬＰＶ  ２０に接続され得る。真空計２２は、パージ・サイクルの間に真空度をモニタするように働き得る。ライン２３は、ＬＰＶ  ２０をキャリア・ガス遮断バルブ（「ＣＧＩ」）３０に接続し得る。ライン３１は、加圧された不活性ガスのフローを供給し得るレギュレータ３２にＣＧＩ  ３０を接続し得る。給送圧力計３６が、レギュレータの圧力および全操作の間の圧力をモニタするようにレギュレータ３２に取り付けられ得る。
【００２２】
図２Ａにおいて、ライン３４は、ＣＧＩ  ３０をＣＢＶ  ４０に接続し得る。ライン４１および４２は、ＣＢＶ  ４０を、プロセス・ライン遮断バルブ（process line isolation valve；「ＰＬＩ」）５０および制御バルブ（control valve；「ＣＰ２」）７０に取り付け得る。ＰＬＩ  ５０の機能は、マニホールドを出て行く化学物質のフローを制御することである。ＣＧＩ  ３０は、マニホールドへの加圧ガスの供給を制御するように機能する。ＣＢＶ  ４０の機能は、ＰＬＩ５０へ、ならびにライン７１への圧力または真空の提供を制御することである。ライン５１は、システムの外部のデバイス（または装置）か、補充されるべきもう１つのキャニスタかのいずれかへ化学物質を運び得る。ライン５２は、ＰＬＩ  ５０を制御バルブ（「ＣＰ１」）８０に結合させるように機能し得る。ライン６２は、制御バルブ６０を制御バルブ７０に接続し得る。ライン７１は、制御バルブ７０からティー継手７２へと導かれ、ライン７３および７４がティー７２から制御バルブ８０およびキャニスタ入口（canister inlet；「ＣＩ」）９０へと各々走る。ＣＩ９０は、キャニスタの加圧および排出（evacuation）を制御するように機能する。制御バルブ８０は、ライン８１を通してキャニスタ出口（canister outlet；「ＣＯ」）１００に接合し得る。ＣＯ  １００は、化学物質の給送の間のキャニスタ１１０からの化学物質のフロー、ならびにキャニスタの取り替え（または変更）の間のキャニスタ出口接合部（weldment、または溶接部）のパージを制御するように機能する。ＣＩ  ９０およびＣＯ  １００は、供給キャニスタの対応する構造体、例えばオスおよびメスねじ込み継手などにマニホールドを接続するように機能する。マニホールドをキャニスタ１１０に接続する継手は、典型的にはＣＩ  ９０とティー７２との間、ならびにＣＯ  １００とＣＰ１  ８０との間に存在する。ＣＯ１００がデュアル・アクティベーター・バルブ（dual activator valve、または複弁）である場合、ティー７２はＣＩ  ９０と直接的に繋がるように下方にシフトすることができ、よって、ラインはこのデュアル・アクティベーターをＣＩ  ９０に直接的に繋げる。
【００２３】
キャニスタ１１０には様々な化学物質がロード（load、または積載）され得、典型的には半導体の製造において使用するための高純度化学物質が積載される。例えば、キャニスタにはＴＥＯＳ、砒素化合物、チタン化合物、およびホウ素化合物などが含まれる。本発明の１つの態様においては、キャニスタ１１０は、化学物質中の微量金属（または痕跡金属）量を基準として少なくとも９９．９９９９％の純度を有する化学物質で少なくとも部分的に満たされる。
【００２４】
導管、チューブ、パイプ、および通路などとも呼ばれる上述のラインは、例えばステンレス鋼チューブなどの金属チューブなどから構成され得る。各バルブは、例えばＮＵＰＲＯ  ６Ｌ−Ｍ２Ｄ−１１１−Ｐ−IIIガス・コントロール・バルブなどの常套の空気圧式バルブ（pneumatically actuated valve）であり得る。同様に、レギュレータは標準タイプのもの、例えばＡＰ  Ｔｅｃｈ  １８０６Ｓ  ３ＰＷ  Ｆ４−Ｆ４  Ｖ３レギュレータなどとすることができる。システムは常套的な方法を用いて、例えば圧力フィッティング・バルブ（pressure fitting valve）の使用や、溶接などによって組み立てられ得る。バルブは常套的なプロセス制御、例えばタッチ・スクリーン・コントロール・パネルに接続されたＯｍｒｏｎ  プログラマブル・コントローラ・ボックスなどを用いて制御され得る。あるいは、バルブは、コマンド・シーケンス実行用の埋込みマイクロプロセッサを組み込んだＡＤＣＳ  ＡＰＣ（商標）コントローラを、ＥＰＲＯＭに存在するソフトウェアと共に用いて制御され得る。制御ユニットは、例えば、空気圧式バルブを開状態または閉状態にするように加圧ガスの流れを制御し得る。
【００２５】
使用の際、本発明のマニホールドは以下のようにして操作され得る。化学物質をキャニスタ１１０から出して給送箇所へ押し出す（または押し流す）ために、加圧ガスをシステムに、およびキャニスタに入れるように、マニホールドにあるバルブを適切に開状態および閉状態にする。図２Ｂにおいて、ライン１２０はキャニスタ１１０に入る加圧ガスの経路（または通路）を図示し、ライン１２１はディップ・チューブ（dip tube、または浸した管）１１１を通ってキャニスタ１１０から出ていく液体化学物質の経路を示す。従って、ソース（または源）（図示せず）からの加圧ガスはレギュレータ３２によりライン３１へ放出（または開放）される。その後、ガスは開状態のＣＧＩ  ３０を通り、次いでライン３４、ＣＢＶ  ４０、ライン７１、およびＣＩ  ９０を通ってキャニスタ１１０へ入る。流入ガスの圧力により、液体化学物質はディップ・チューブを上昇し、ＣＯ  １００、ライン８１、ＣＰ１  ８０、ライン５２、ＰＬＩ  ５０および出口ライン５１を通って受け入れ箇所へ送られる。
【００２６】
供給キャニスタが（満杯（フル）のキャニスタであっても）取り替えられる場合、マニホールドから残留化学物質を除去するようにラインがパージされ得る。最初の工程は減圧化であり、これはキャニスタ１１０での頭部圧力を取り除くように働く。減圧化はいくつかの方法で行なわれ（affect）得る。例えば、減圧化を起す２つの手順を図３に示す。１つの減圧化方法では、実線１３０にて示すように、ライン１３を通って排気管へ出る流れにより真空が生じるように、ＶＧＳ  １０を開状態にすることによりガスがライン１１からライン１２を通って真空源１４に流れる。ソース１４にて生じた真空は、ライン１５、ティー１８、ライン１６、ティー３５、ライン３６、ティー４４、ライン６１、開状態のＣＰ３  ６０を通って、ライン６２、ＣＰ２  ７０、ライン７１、ティー７２、ライン７４、および開状態のＣＩ  ９０を真空に引き、これにより、キャニスタ１１０のヘッドスペースを真空に引く。あるいは、減圧化は、実線１３５を通って真空が引かれるように、ＬＰＶ  ２０、ＣＰ２  ７０、およびＣＩ  ９０を開状態にすることによって行なうことができる。
【００２７】
減圧化の後、液体のライン（接合部）を浄化するために液体ドレン（drain）が実施される（institute）。よって、図４では、レギュレータ３２を通ってライン３１にガスが導入される。ガスがライン３４、４１、５２、および８１を通って流れるように、液体化学物質がキャニスタ１１０に戻されるように、ＣＧＩ  ３０、ＣＢＶ  ４０、およびＣＯ  １００が開状態にされる。ライン・ドレンの間のガスのフローが実線１４０にて示される。
【００２８】
その後、図５および図６にそれぞれ図示するような真空引き工程およびフローイング・パージ工程を含むサイクル・パージが実施される。真空引き工程は、図５に実線１５０および１５５で示す構成（configuration）を通ることを含む様々な方法で実施され得る。従って、１つの実施態様では、ＶＧＳ  １０を開状態にすることによりライン１１および１２を通って真空源１４にガスが入るときに、ライン１３を通して排気管へ真空が引かれ、よってライン１５、１７、２３、３４、４１、５２、および８１に真空が引かれる（pull on）ように、ＣＢＶ  ４０およびＬＰＶ  ２０が開状態にされる。あるいは、ライン１５、１７、２３、３４、４２、７１、および７４に真空が引かれるように、ＬＰＶ  ２０およびＣＰ２  ７０が開状態にされる。加えて、ライン４２、７１、および７４、ならびにライン４１、５２、および８１に真空が引かれるように、ＬＰＶ  ２０、ＣＰ２  ７０およびＣＢＶ  ４０を全て開状態にすることができる。ライン４２／７１／７４および４１／５２／８１が間欠的に排出されるように、交互に開けることができる。
【００２９】
図６には、サイクル・パージのフローイング・パージが図示される。図６では、レギュレータ３２により、加圧ガスがライン３１に入れられる。ＣＧＩ  ３０、ＣＢＶ  ４０、ＣＰ１  ８０、およびＣＰ３  ６０が開状態にされると（ＣＩ  ９０およびＣＯ  １００は閉状態であることに注意）、図６に実線１６０にて示すように、ガスがライン３４、４１、５２、７３、７１、６２、６１、３６、１６、１５、および１３を通って流れ、よって、マニホールドをパージする。ＬＰＶ  ２０は間欠的に開状態にされて、ライン２３および１７がパージされ得る。パージの後、マニホールドに水分を入れないように、マニホールドに正の圧力を維持しつつ、典型的には継手を取り外す（break：または壊す）。例えば、継手を取り外した後、ガスがライン７４および８１を流れ出ていくように、ＣＧＩ  ３０、ＣＢＶ  ４０、およびＣＰ２  ７０が開状態にされ得る。新しいキャニスタを据え付けた後、マニホールドに入る可能性のあるあらゆる水または他の不純物、ならびに新しいキャニスタの継手および接合部内のあらゆる水を除去するように、典型的にはパージ・サイクルを繰り返す。
【００３０】
図７には、ＬＰＶ  ２０、ライン１７および２３ならびにゲージ２２がない点を除いて、図１に図示される実施態様と同様である本発明の別の実施態様を図示する。ＣＯ  １００がデュアル・アクティベーター・バルブである場合、ティー７２はＣＩ  ９０と直接的に繋がるように下方にシフトされ、制御バルブ８０はデュアル・アクティベーターに直接的に取り付けられ、よって、ラインがデュアル・アクティベーターをＣＩ  ９０に直接的に繋ぎ、これにより、マニホールドに潜在的に存在するデッド・レッグの数を減少させる。図７に示す実施態様において、ライン４３からＣＢＶ４０は、オプションとして取り除かれ得る。図２に示される同じフロー図が、キャニスタ１１０から化学物質を押し出すために、図７の構成に対して適用され得る。図７に示す構成の減圧化は、図３にライン１３０にて示されるフロー図を用いて実施され得る。その後、図４に実線１４０にて示される液体ドレンが、図７の構成に対して適用され得る。真空引き工程は、図８にライン１８０により示すようにして実施され得る。図６のフローイング・パージが、図７の構成に対しても使用され得る。本発明の本実施態様は、マニホールドのコストの低減を可能にするバルブの数の低減、リークが起こり得る箇所の数の低減、ならびに所与のマニホールドでのバルブ故障の機会の低減を含む多くの利点がある。また、この実施態様は、システムのデッド・レッグの数も少なくし、これにより、より効率的なフローイング・パージを得ることができる。
【００３１】
本発明の給送（またはデリバリー）システムを用いて移送され得る化学物質の種類は、プロセス・ツールの種類および所望する結果（outcome）に応じて幅広く様々であり得る。代表的な化学物質の例には、テトラエチルオルトシリケート（「ＴＥＯＳ」）、トリエチルホスフェート、トリメチルホスファイト、トリメチルボレート、四塩化チタン、およびタンタル化合物など；塩化炭化水素、ケトン（例えばアセトンおよびメチルエチルケトン）、エステル（例えばエチルアセテート）、炭化水素、グリコール、エーテル、ヘキサメチルジシラザン（「ＨＭＤＳ」）などの溶媒；バリウム／ストロンチウム／チタネートカクテル（混合物）などの液体中に分散した固体化合物などが挙げられるが、これらに限定されない。化学物質のこれらの例は、何らかの限定をしようとするものではない。化学物質は種々の純度を有し得、また、化学物質の混合物を使用することができる。１つの態様では、１種の化学物質が用いられる。ある化学物質は、有利には、微量金属（または痕跡金属）に対して９９．９９９％またはそれ以上の純度を有する。分散物が用いられる場合、ラインを減圧化したときに化合物がライン内で沈殿（precipitate、または沈降もしくは析出）しないように、例えばトリグリムまたはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの液体溶媒でラインを洗い流すことが好ましい。更に、本発明のいずれの態様についても、ライン内での化学物質の蒸発を促進するようにマニホールドを加熱できることが考えられる。この点に関して、マニホールドを、バリアック（variac）などに繋がれた加熱テープ（heating tape）で巻いて、加熱された雰囲気中で維持し得る。フローイング・パージの間、蒸発を容易にするために、加熱したアルゴン、窒素、または他の不活性ガスなどの加熱ガスを代わりに用いることができる。同様に、固体の活性成分を含む化学物質のための蒸発器をプロセス・ラインの箇所に介在させ得る。引用することにより本明細書に組み込まれる米国特許第５，３６２，３２８号公報は、蒸発器の例を記載するが、本発明はこれに限定されない。また、これらの技術の組合せも用いることができる。幾つかの種類の化学物質に関しては、１つまたは複数の化合物（または配合物）とライン内で反応してより容易に排出される化合物を生成するような反応性化学物質でパージすることも可能である。
【００３２】
有利には、本発明のシステムは、３種またはそれ以上の化学物質を、化学物質の混合物を用いるプロセス・ツールへ給送するために用い得る。よって、本発明のシステムは、使用の際に化学物質を必要とするどのようなプロセス・ツールにも化学物質を供給し得る。そのようなプロセス・ツールには、化学的蒸着法、フォトリソグラフィー、およびエッチの用途のための装置を含み得る。これらのプロセス・ツールは、例えば集積回路、メモリ回路、フラット・パネル・ディスプレイ、あるいは光ファイバ製造、マルチチップ・モジュール（例えば「ＭＣＭ」）などの電子デバイスの作製に用いられる。加えて、本発明は化学物質（例えばＴＥＯＳなど）をプロセス・ツール（例えば集積回路、メモリデバイスなどの作製に使用されるＣＶＤ反応器など）に供給するために使用され得るが、このシステムは他のプロセスに使用され得ることが理解されるべきである。
【００３３】
操作の間にヘリウムなどのための入口バルブを閉状態に維持し、量（volume）が低下したときにのみ開状態にする圧力管理制御を可能にするように、キャニスタの予備ポート（または口もしくは穴）に圧力変換器を追加し得る。
【００３４】
本発明のマニホールドは、ラインのマニホールドが化学物質を含んでいるかどうかを判断するように、例えばライン１５に取り付けられたセンサーを含み得る。同様に、ライン１５にサンプル・ポートを備えることができ、ラインからのガスのサンプルがここから抜き出され、化学物質の存在（または有無）を調べるための分析装置を用いて調べられ得る。
【００３５】
図９には、本発明の実施に使用され得るキャビネット３１０の代表的な例を示すが、本発明はこれに限定されない。キャビネット３１０には、前部３１６、側部３１２および３１４（図示せず）、ならびに後部（図示せず）３１８パネル、ならびに上部３２０および底部（図示せず）が含まれ得る。側部の寸法および形状は、キャニスタおよびマニホールドの大きさ、数、および構成により幅広く変化し得る。例えば、図１０に示されるように、キャニスタは対を成して、奥行方向に２つ（two deep）で構成され得るが、各化学物質につき１つのキャニスタを用いることもでき、または、対のキャニスタを前方から見て横に並べて配置してよい。図９を参照して、キャビネットは、例えば１組のドア３３０Ａおよび３３０Ｂ、ユーザ・インターフェース３３１（例えばカラー液晶ディスプレイ・タッチスクリーンなど）、ベント・ポート３３５、底部３４０（これは化学物質が流出したときに閉じ込め容器として働く）、キャビネットへの空気フローの流入のための下部（lower）ベンチレーション・スリット３４５などの様々な有利な構成要素を含み得る。オプションとして、キャビネット３１０をドアに取り付けるために、フランジ３３２を用い得る。
【００３６】
再び図１０を参照して、キャビネット内のキャニスタおよびマニホールドの代表的な構成が示されるが、本発明はこれに限定されない。図１０では、第１、第２、および第３補充キャニスタ１１０Ａ、１１０Ｃ、および１１０Ｅは、化学物質を第１、第２、および第３供給キャニスタ１１０Ｂ、１１０Ｄ、および１１０Ｆに供給する。補充および供給キャニスタの組の各々は、同じ化学物質を含み得、また、キャニスタの各組は異なる化学物質を含み得る。図１に示すように、供給および補充キャニスタの各対は、全体（overall）マニホールドの一部を形成する供給および補充マニホールドに接続され得る。図１０では、３つの全体マニホールドが用いられ、キャニスタの各組につき１つのマニホールドである。図１０では、図１に示されるようないくつかの細部が簡略化のために省略されている。概して、キャビネットには、補充マニホールド２Ｂ、３Ｂ、および４Ｂ；４分枝マニホールド１６２Ｂ、１６３Ｂ、および１６４Ｂを含む供給（プロセス）マニホールド２Ｃ、３Ｃ、および４Ｃが含まれる。図１１は、キャビネット３１０内に取り付けられ得るマニホールド２Ａのある構成要素を３次元で表した図（立体図）を示す。図１１から解るように、補充マニホールド２Ｂおよび供給マニホールド２Ｃの構成要素が示され、これは、例えば図１０に用いられ得るような４分枝供給マニホールド１６２Ｂを含む。
【００３７】
図１２および図１２ａは、複数の化学物質をプロセス・ツールに給送するための、更なるマニホールドおよびキャニスタの構成を図示する。図１２および１２ａは図１と同様であるが、いくつかの点において異なっている。図１２および１２ａのシステム１には、図１に示すバルブおよびラインと、重複する範囲で、対応するように番号を付したバルブおよびラインが含まれる。図１２には、本発明のシステムの構成の別の代表的な例を示すが、本発明はこれに限定されない。図１２は、概して、３種の化学物質の補充および給送を提供するシステム１を示す。
【００３８】
図１２のシステム構成は、本質的に同等な３つのマニホールド２Ａ、３Ａ、および４Ａを用いる。供給キャニスタ１１０Ｂでの頭部圧力の増加により、液体化学物質は、ライン１２１Ｂ、ＣＩ  １０１Ｂ、４分枝供給バルブ１６０Ａを通って４分枝供給マニホールド１６２Ｂへ押し出され、ここから１つまたはそれ以上のプロセス・ツールに化学物質が分配される。出口ラインは、４分枝供給マニホールド１６２Ｂの４つの出口ポートのいずれに接続してもよく、そのような出口ラインによりキャニスタ、もう１つの４分枝供給マニホールドを含むバルブ・マニホールド・ボックス、またはプロセス・ツールへと繋がる。同様の手順により、供給キャニスタ１１０Ｄおよび１１０Ｆから化学物質が分配され得る。空気シリンダにより、または圧力が加えられるキャニスタ内の化学物質のバッグにより、あるいはバッグに気体または液体を充填するにつれて圧力を供給するキャニスタ内のバッグにより化学物質を押す機械的圧力よりも、むしろ供給キャニスタから化学物質を引き込むポンプを用いることによって化学物質をプロセス・ツールへ給送し得る。図１２においては、４分枝マニホールドが化学物質を供給しつづけながら、ライン３７Ａ（これは上記のバルブ１７Ａに繋がっている）を介し、開状態のバルブ１７Ａを通して４分枝マニホールド１６２Ｂへ真空を提供することができる。また、２Ｃのバルブ６０Ｂを開状態にすることによって、キャニスタ１１０Ｂに取り付けられたバルブに真空を提供し得る。分枝供給マニホールド１６２Ｂには４分枝バルブを用い、供給マニホールドにはどのような数のバルブを用いてもよいことに留意されるべきである。例えば、分枝供給マニホールドは２つまたはそれ以上の分枝バルブを用い得る。分枝供給マニホールドの分枝バルブの数は限定されないが、典型的には、バルブの数は１０またはそれ以下である。分枝供給マニホールドはプロセス・ラインに接続され、プロセス・ラインと連通することに留意されるべきである。図１２では、制御バルブ８０Ｂは、図１に示すように入口バルブ１００Ｂよりもむしろ、キャニスタ出口１０１Ｂに接続される。図１２では、２Ｃのバルブの構成は、図１に示される構成とは対象的に、２Ｂのバルブの構成と実質的に同様であることが理解されよう。従って、図１２では、２Ｂはバルブ６０Ａ、７０Ａ、４０Ａ、３０Ａおよび５０Ａを用い、２Ｃは同様にバルブ６０Ｂ、８０Ｂ、７０Ｂ、４０Ｂおよび３０Ｂを用いる。図１、１２、１２ａでは、各プロセス・キャニスタ（１１０Ｂ、１１０Ｄおよび１１０Ｆ）は、ディップ・チューブが接続される出口バルブ、化学物質を通してプロセス・キャニスタに供給する入口バルブ、およびキャニスタに正の圧力または真空を提供するように働く第３バルブを有する。図１２ａの構成は、分配マニホールド１６２Ｂが取り除かれている点を除いて図１２と実質的に同様である。これは特に、製造プロセスの間に少量の化学物質を供給するシステム、または１つのツールにのみ化学物質を供給する場合に適用される。図１２および１２ａの両方において、システムはケイ素、リン、およびホウ素のソースを提供する。
【００３９】
図１３は、本発明の実施に使用されるマニホールドの１つの実施態様を図示する。この構成は図１２および図１２ａに用いられる。従って、図１３では、マニホールドは２Ｂおよび２Ｃの部分に等しく、例えば、補充キャニスタに繋がる左側部分にはバルブ３０Ａ、４０Ａ、５０Ａ、６０Ａおよび７０Ａが含まれ、プロセス・キャニスタに繋がる右側部分にはバルブ３０Ｂ、４０Ｂ、５０Ｂ、６０Ｂおよび７０Ｂが含まれる。また、各側部分には、システムに入る不活性ガスを計測するように働くレギュレータ３２Ａ、３２Ｂ、ならびに圧力をモニタするように働く圧力変換器７５Ａおよび７５Ｂも含まれる。
【００４０】
図１４、１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄ、１４ｅおよび１４ｆは、本発明の実施に使用されるキャビネットの様々な外観図、内部図、および切除図である。図１４は、本発明のキャビネット用の代表的な上部を示す。上部１４０１は、キャビネットの所定の幅および長さに適合するのに適切な寸法を有する。上部１４０１には、ガスを排気するための出口導管として働くダクト１４０２が含まれる。分配マニホールド出口ラインにつき４つの穴から成る３つのグループ１４０３、１４０４および１４０５が上部に含まれる。出口ライン（例えばステンレス鋼チューブなど）は分配マニホールドに繋がり、適切な穴を通してガイドされ、そしてプロセス・ツールなどに接続されることが考えられる。同様に、出口ラインが継手に繋がれるように穴が継手（例えばオスＶＣＲ継手など）で継がれ、そしてプロセス・ツールなどへの更なるラインが、上部の外側にあるオス継手に繋がれ得る。分配マニホールドを省略できる場合、図１２ａに示すように、より少ない数の穴を上部に設けるだけでよく、あるいは、既に複数の穴が図１４に示す構成で設けられている上部を用いる場合には、穴をキャップして開口部を閉止し得る。また、上部には、例えばバルク化学物質キャニスタ用の入口（inlet、または供給部）１４０５、不活性ガス・ソース用の入口１４０６、ベンチュリ真空用の入口１４０７、１４０８、および１４０９、電気供給（electrical inlet）用の入口１４１０、空気供給用の入口１４１１などの、他の穴または継手が含まれ得る。この上部１４０１の上面図には、例えば取り外し可能なホイール１４１２などのオプションの部材もまた示され、このホイールは上部の左側にも存在し得る。ホイールは底部に取り付けられ得るが、ここでは、透視図により示される。蝶番１４１３は、オペレータが上部からキャビネットの内部にアクセスできるように部分１４１４を取り付けるように機能する。この実施態様においては、サーキット・ブレーカー１４１５もまた図示され、これは内部の電気機器に繋がっている。
【００４１】
図１４ａはキャビネットの前部１４２０を示す。ホイール１４１２の位置は、この図において、キャビネットの下部に取り付けられるものとして容易に理解されるであろう。キャビネットの幅「Ｗ」は、キャビネットにあるキャニスタの大きさおよび数により様々である。例えば、１つの実施態様においては、キャビネットは３つのキャニスタを収容するのに十分に幅広い。別の実施態様においては、キャビネットは４つのキャニスタを収容するのに十分に幅広い。図１４ａでは、ダクト１４０２が上部から突き出ている。２つのドア１４２１ａ、１４２１ｂは前部の一部を成している。ドアは、容易に入ることができるように、ばね付き蝶番（spring loaded hinge）に支持されている。ハンドル１４２２ａおよび１４２２ｂがドアに含まれ、ベント１４２３ａおよび１４２３ｂも同様である。タッチ・スクリーン１４２４は、制御装置（図示せず）への指示を入力する手段を提供する。小さな窓１４２５により、オペレータはドア１４２１ａ、１４２１ｂを開けることなくキャビネットの内部を見ることができる。前部１４２０には、上部領域１４２６および下部領域１４２７が含まれる。上部領域１４２６は、キャビネット内に含まれ得るようなマニホールドおよび装置などに更なる空間を提供する。下部領域１４２７は、典型的には、キャニスタの上方の領域を提供し、これはリークが起きた場合に安全な閉じ込め領域として機能する。閉じ込め領域は、一般的には、液体化学物質が重力によりドレン・パン（drain pan、または受け皿）１４２９に向かって注ぎ込むように、想像線１４２８により図示されるように傾斜させ得る。また、ドレン・パン１４２９から液体化学物質をポンプ除去するように、液だめ（図示せず）もまた含まれ得る。
【００４２】
図１４ｂは、１つの側部１４３０を示すキャビネットの側面図である。この部分切除図には、タッチ・スクリーン１４２４およびダクト１４０２を含む特定の構成要素の内側の様子が示される。本実施態様においては、領域１４３１は制御装置を収容するための領域を規定する。また、第２凹部領域１４３２も示される。図１４ｃはキャビネットの後部１４３５を示す。図１４〜１４ｃに示されるキャビネットは、約４４．７５インチ（約１１４ｃｍ）のキャビネット幅（例えばホイールなどの付属物を除く）、約２８インチ（約７１ｃｍ）の奥行、約７７  ７／８インチ（約１９８ｃｍ）のホイールからダクトまでの高さを有する。これらの寸法はキャニスタの数および大きさにより変化し得ることが理解されるべきである。
【００４３】
図１４ｄおよび１４ｅは、キャビネットの切除部分に位置する１対のキャニスタの正面図および側面図を示す。図１４ｄでは、キャニスタ１４４０はキャビネットの底部１４４１よりも高い位置にあり、棚１４４２に置かれ得る。キャビネットの上半分に示されるバルブ、レギュレータおよびチューブは図１または図１２のマニホールド２Ａに対応する。これは切除図であるので、キャビネットの残りの部分に更なるキャニスタ対が収容され得る。この点において、図１４ｄはシステムの代表的な「セル」を示す。３つのセルを有するキャビネットが図１４ｄに示されるが、キャビネットは例えば４対のキャニスタ、５対のキャニスタなどを収容するように更なるセルが含まれ得ることが理解されるべきである。図１４ｅはキャニスタ対の側面図を示す。後方キャニスタ１４４３はキャビネットの床の上にあることがここから解る。キャニスタ１４４０および１４４３の各々は、図示しないステンレス鋼チューブによりマニホールド２Ａの各部分に取り付けられ得る。直立した（upraised）キャニスタ１４４０により、オペレータによるキャニスタの取り替えがより容易になる。図１４ｆはキャニスタ１４４０および１４４３の斜視図を示す。この図では、キャニスタ１４４３は、キャビネットの底部そのものの直ぐ上で立つように棚１４５０に置かれ得る。また、この図は、ドア１４２１ａを右側部１４５３に取り付けるために使用され得る蝶番１４５１、ならびにハンドル１４２２ａに接続するドア用のロック機構１４５２のより細かな部分を示す。
【００４４】
本発明の更なる改変および別の態様は、本明細書の記載を考慮すれば当業者に明らかであろう。従って、本明細書の記載は例示的なものにすぎないものとして解釈されるべきであり、本発明を実施する方法を当業者に教示するためのものである。本明細書に示され、説明された本発明の形態は、現時点で好ましい態様として取り扱われるべきものであることが理解されるべきである。本発明のこの説明の利点を有するに至った後に当業者に明らかであるように、ここで図示され、説明された要素を、均等な要素で置き換えてもよく、本発明のある特徴を他の特徴を用いることと無関係に利用してよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】  複数の化学物質をプロセス・ツールに給送し、その場で混合するためのマニホールドおよびキャニスタの構成を示す図である。
【図２Ａ】  本発明の代表的なマニホールドの構成を示す図である。
【図２Ｂ】  キャニスタが作動してる間でのマニホールド内のガスの経路を示す図である。
【図３】  キャニスタの頭部圧力を取り除くための減圧化工程の間でのマニホールド内のフローの経路を示す図である。
【図４】  液体ドレンの間でのマニホールド内のガスのフローを示す図である。
【図５】  サイクル・パージの間でのマニホールド内のガスのフローを示す図である。
【図６】  サイクル・パージの間でのマニホールド内のフローイング・パージを示す図である。
【図７】  本発明のもう１つの代表的なマニホールドの構成を示す図である。
【図８】  サイクル・パージの間での図７のマニホールド内のガスのフローを示す図である。
【図９】  本発明のキャニスタおよびマニホールドを収容し得る代表的なキャビネットを示す図である。
【図１０】  本発明のキャビネットにおけるキャニスタおよびマニホールドの代表的な構成（但しこれに限定されない）を示す図である。
【図１１】  補充マニホールド２Ｂおよび供給マニホールド２Ｃの構成要素を示す図である。
【図１２】  複数の化学物質をプロセス・ツールに給送するための別のマニホールドおよびキャニスタの構成を示す図である。
【図１２ａ】  複数の化学物質をプロセス・ツールに給送するための別のマニホールドおよびキャニスタの構成を示す図である。
【図１３】  本発明の実施に使用されるマニホールドの１つの実施態様を示す図である。
【図１４】  図１４は、本発明の実施に使用されるキャビネットの様々な外観図、内部図、および切除図の１つである。
【図１４ａ】  図１４ａは、本発明の実施に使用されるキャビネットの様々な外観図、内部図、および切除図の１つである。
【図１４ｂ】  図１４ｂは、本発明の実施に使用されるキャビネットの様々な外観図、内部図、および切除図の１つである。
【図１４ｃ】  図１４ｃは、本発明の実施に使用されるキャビネットの様々な外観図、内部図、および切除図の１つである。
【図１４ｄ】  図１４ｄは、本発明の実施に使用されるキャビネットの様々な外観図、内部図、および切除図の１つである。
【図１４ｅ】  図１４ｅは、本発明の実施に使用されるキャビネットの様々な外観図、内部図、および切除図の１つである。
【図１４ｆ】  図１４ｆは、本発明の実施に使用されるキャビネットの様々な外観図、内部図、および切除図の１つである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１２ａ】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１４ａ】
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【図１４ｂ】
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【図１４ｃ】
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【図１４ｄ】
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【図１４ｅ】
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【図１４ｆ】
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