(57)【要約】【課題】被加熱物の温度を正確に測定することで適正な加熱処理が行え、また、定格電力内で最大限の加熱効率を確保することができ、使い勝手の高められる蒸気発生機能付き高周波加熱装置およびその制御方法を提供する。【解決手段】被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気とを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法であって、高周波により加熱処理する高周波加熱処理と、前記加熱室内に供給する蒸気により加熱処理する蒸気加熱処理とを、それぞれ順次個別に或いは同時に行って被加熱物を加熱処理するときに、前記加熱室内の空気を撹拌しつつ該加熱室内を循環させると共に、赤外線検知による温度センサにより前記被加熱部の温度を検出する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気とを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法であって、
高周波により加熱処理する高周波加熱処理と、前記加熱室内に供給する蒸気により加熱処理する蒸気加熱処理とを、それぞれ順次個別に或いは同時に行って被加熱物を加熱処理するときに、前記加熱室内の空気を撹拌しつつ該加熱室内を循環させると共に、赤外線検知による温度センサにより前記被加熱部の温度を検出することを特徴とする蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法。
【請求項２】
前記加熱処理時に、前記加熱室内で循環される空気を室内気加熱ヒータにより加熱することを特徴とする請求項１記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法。
【請求項３】
前記高周波加熱処理がインバータ装置により加熱電力量を可変制御して加熱する処理であって、
前記蒸気加熱処理及び前記室内気加熱ヒータによる加熱電力量と、前記高周波加熱処理による加熱電力量との和が所定の定格電力量以下になるように、前記蒸気加熱処理と前記高周波加熱処理とを同時に行うことを特徴とする請求項２記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法。
【請求項４】
被加熱物を収容する加熱室と、
前記加熱室に供給する高周波により加熱処理する高周波加熱処理手段と、
前記加熱室に供給する蒸気により加熱処理する蒸気加熱手段と、
前記加熱室に収容された被加熱物の温度を赤外線検知による温度センサにより検出する温度検出手段と、
高周波により加熱処理する高周波加熱処理と、前記加熱室内に供給する蒸気により加熱処理する蒸気加熱処理とを、それぞれ順次個別に或いは同時に行って被加熱物を加熱処理するときに、前記加熱室内の空気を撹拌しつつ該加熱室内を循環させると共に、赤外線検知による温度センサにより前記被加熱部の温度を検出する制御手段と、を備える蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
【請求項５】
前記加熱室内の空気を加熱する室内気加熱ヒータを備え、
前記制御手段は、前記加熱処理時に前記加熱室内で循環される空気を室内気加熱ヒータにより加熱する請求項４に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
【請求項６】
前記高周波加熱処理がインバータ装置により加熱電力量を可変制御して加熱する処理であって、
前記制御手段は、前記蒸気加熱処理及び前記室内気加熱ヒータによる加熱電力量と、前記高周波加熱処理による加熱電力量との和が所定の定格電力量以下になるように、前記蒸気加熱処理と前記高周波加熱処理とを同時に行う請求項４又は５に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の高周波加熱装置は、加熱用の高周波発生装置を備えた電子レンジや、この電子レンジに熱風を発生させるコンベクションヒータを付加したコンピネーションレンジ等がある。また、蒸気を加熱室に導入して加熱するスチーマーや、スチーマーにコンベクションヒータを付加したスチームコンベクションオーブン等も加熱調理器として利用されている。
【０００３】
上記の加熱調理器により食品等を加熱調理する際、食品の加熱仕上がり状態が最も良好な状態になるように加熱調理器を制御する。即ち、高周波加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はコンビネーションレンジ、蒸気加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はスチームコンベクションオーブンによりそれぞれ制御することができる。しかし、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせた調理は、それぞれの加熱処理を別個の加熱調理器間で加熱食品を移し替えて行う等の手間が生じることになる。その不便を解消するために、高周波加熱と、蒸気加熱と、電熱加熱とを一台の加熱調理器で実現したものがある。この加熱調理器は、例えば、特開昭５４−１１５４４８号公報に開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、加熱調理器には被加熱物の温度を測定する赤外線センサ等の温度センサを設ける場合が多いが、蒸気が加熱室内に充満すると、赤外線センサは、被加熱物の温度ではなく、被加熱物との間に存在する蒸気の浮遊粒子の温度を測定するようになる。このため、被加熱物の温度を正確に計ることができなくなる。すると、赤外線センサの温度検出結果に基づいてなされる加熱制御が正常に動作しなくなり、例えば加熱不足、加熱過剰等の不具合が発生し、特にシーケンシャルな手順で自動調理を行う場合には、加熱不良のまま次のステップに進むことになり、単なる再加熱や放冷等により対処できず、調理が失敗に終わる可能性もある。
【０００５】
また、蒸気加熱と高周波加熱を連携させて調理するための制御方法として、前記公報には、高周波加熱から蒸気加熱に切り替える点と、この切り替えの際の所定時間内だけ両方の加熱を同時に行う点とが記載されている。しかし、加熱対象の種類に応じて適切な加熱プログラムが自動的に選択されて実行されるというレベルにまでは至っておらず、従って、予め複数の加熱プログラムを用意していても、どの加熱プログラムで調理するかは、あくまでも操作者の判断に委ねられていた。
【０００６】
また、蒸気加熱と高周波加熱を同時に行うときには、加熱のための電力量が増大するため、高周波加熱に定格電力の殆どが費やされ、本来必要とされる蒸気加熱のための電力量を賄うことができなくなる。従って、不十分な蒸気加熱しか行うことができず、調理に制約が生じることになる問題があった。そのため、図３０に示すように、実際にはパルス制御により、それぞれの加熱に対して短時間でオン／オフを切り替えることで、瞬間の合計使用電力（蒸気加熱の電力量ａ＋高周波加熱の電力量ｂ）を抑えることで対処していることが多い。しかし、それぞれの加熱が断続的になるために加熱効率が低下して、本来の加熱能力を十分発揮することができないことになり、その結果、加熱時間が増大して、消費電力もトータルとして増大する傾向となってしまう。
【０００７】
また、加熱室の扉の窓部から被加熱物を視認して加熱具合を確認することがあるが、特に蒸気加熱を行う場合には、窓部に水分が結露して加熱室内が覗けなくなることが多く、使い勝手が低下するおそれがある。
【０００８】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、被加熱物の温度を正確に測定することで適正な加熱処理が行え、また、被加熱物の種類に応じて自動的に最適な加熱プログラムを選定でき、さらに、定格電力内で最大限の加熱効率を確保することができ、使い勝手の高められる蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的達成のため、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法は、被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気とを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法であって、高周波により加熱処理する高周波加熱処理と、前記加熱室内に供給する蒸気により加熱処理する蒸気加熱処理とを、それぞれ順次個別に或いは同時に行って被加熱物を加熱処理するときに、前記加熱室内の空気を撹拌しつつ該加熱室内を循環させると共に、赤外線検知による温度センサにより前記被加熱部の温度を検出することを特徴とする。
【００１０】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法では、加熱処理時に加熱室内の空気を撹拌しつつ循環させるので、蒸気を加熱室内の隅々にまでむらなく行き渡らせることができる。従って、加熱室内に蒸気が充満するものの、滞留することなく蒸気が加熱室内に行き渡ることになり、その結果、赤外線センサによる被加熱物の温度計測の精度も高めることができ、適正な加熱処理を高速に行えるようになる。
【００１１】
また、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法は、前記加熱処理時に、前記加熱室内で循環される空気を室内気加熱ヒータにより加熱することを特徴とする。
【００１２】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法では、加熱室内を循環する空気を室内気加熱ヒータで加熱するようにしているので、加熱室で発生させた蒸気の温度を自由に高めることができる。例えば、蒸気の温度を１００℃以上に高めることができる。従って、過熱蒸気によって被加熱物を効率良く昇温させることができると共に、被加熱物に対し高温蒸気による焦げ目を付けることも可能である。また、被加熱物に対する加熱時間を短縮することができる。
【００１３】
また、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法は、前記高周波加熱処理がインバータ装置により加熱電力量を可変制御して加熱する処理であって、前記蒸気加熱処理及び前記室内気加熱ヒータによる加熱電力量と、前記高周波加熱処理による加熱電力量との和が所定の定格電力量以下になるように、前記蒸気加熱処理と前記高周波加熱処理とを同時に行うことを特徴とする。
【００１４】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法の制御方法では、蒸気加熱処理と高周波加熱処理とを同時に行う際に、インバータ制御により双方の加熱電力量を可変制御することによって、蒸気加熱に要する電力量と高周波加熱に要する電力量との和を所定の定格電力量以下に抑えるので、それぞれの加熱を連続的に行うことができ、それにより加熱効率の向上と加熱時間の短縮が図れ、結果的にトータルの消費電力の減少が図れる。
【００１５】
また、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に供給する高周波により加熱処理する高周波加熱処理手段と、前記加熱室に供給する蒸気により加熱処理する蒸気加熱手段と、前記加熱室に収容された被加熱物の温度を赤外線検知による温度センサにより検出する温度検出手段と、高周波により加熱処理する高周波加熱処理と、前記加熱室内に供給する蒸気により加熱処理する蒸気加熱処理とを、それぞれ順次個別に或いは同時に行って被加熱物を加熱処理するときに、前記加熱室内の空気を撹拌しつつ該加熱室内を循環させると共に、赤外線検知による温度センサにより前記被加熱部の温度を検出する制御手段と、を備える。
【００１６】
また、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記加熱室内の空気を加熱する室内気加熱ヒータを備え、前記制御手段は、前記加熱処理時に前記加熱室内で循環される空気を室内気加熱ヒータにより加熱する。
【００１７】
また、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記高周波加熱処理がインバータ装置により加熱電力量を可変制御して加熱する処理であって、前記制御手段は、前記蒸気加熱処理及び前記室内気加熱ヒータによる加熱電力量と、前記高周波加熱処理による加熱電力量との和が所定の定格電力量以下になるように、前記蒸気加熱処理と前記高周波加熱処理とを同時に行う。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置およびその制御方法によれば、加熱処理時に加熱室内の空気を撹拌しつつ循環させるようにしたので、蒸気を加熱室内の隅々にまでむらなく行き渡らせることができる。従って、加熱室内に蒸気が充満するものの、滞留することなく蒸気が加熱室内に行き渡ることになり、その結果、赤外線センサによる被加熱物の温度計測の精度を高めることができ、適正な加熱処理を行うことができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法の好適な実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。まず最初に、同装置の機械的な構成とその作用効果について述べ、その後に具体的な制御方法について述べる。
【００２０】
図１は第１実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２はこの装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図、図３は蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図、図４は蒸気発生部の断面図である。
【００２１】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置１００は、被加熱物を収容する加熱室１１に、高周波（マイクロ波）と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、高周波を発生する高周波発生部としてのマグネトロン１３と、加熱室１１内で蒸気を発生する蒸気発生部１５と、加熱室１１内の空気を撹拌・循環させる循環ファン１７と、加熱室１１内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータ１９と、加熱室１１の壁面に設けた検出用孔を通じて加熱室１１内の温度を検出する赤外線センサ２０とを備えている。
【００２２】
加熱室１１は、前面開放の箱形の本体ケース１０内部に形成されており、本体ケース１０の前面に、加熱室１１の被加熱物取出口を開閉する透光窓２１ａ付きの開閉扉２１が設けられている。開閉扉２１は、下端が本体ケース１０の下縁にヒンジ結合されることで、上下方向に開閉可能となっている。加熱室１１と本体ケース１０との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。特に加熱室１１の背後の空間は、循環ファン１７及びその駆動モータ２３（図８参照）を収容した循環ファン室２５となっており、加熱室１１の後面の壁が、加熱室１１と循環ファン室２５とを画成する仕切板２７となっている。仕切板２７には、加熱室１１側から循環ファン室２５側への吸気を行う吸気用通風孔２９と、循環ファン室２５側から加熱室１１側への送風を行う送風用通風孔３１とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔２９，３１は、多数のパンチ孔として形成されている。
【００２３】
循環ファン１７は、矩形の仕切板２７の中央部に回転中心を位置させて配置されており、循環ファン室２５内には、この循環ファン１７を取り囲むようにして矩形環状のコンベクションヒータ１９が設けられている。そして、仕切板２７に形成された吸気用通風孔２９は循環ファン１７の前面に配置され、送風用通風孔３１は矩形環状のコンベクションヒータ１９に沿って配置されている。循環ファン１７を回すと、風は循環ファン１７の前面側から駆動モータ２３のある後面側に流れるように設定されているので、加熱室１１内の空気が、吸気用通風孔２９を通して循環ファン１７の中心部に吸い込まれ、循環ファン室２５内のコンベクションヒータ１９を通過して、送風用通風孔３１から加熱室１１内に送り出される。従って、この流れにより、加熱室１１内の空気が、撹拌されつつ循環ファン室２５を経由して循環されるようになっている。
【００２４】
マグネトロン１３は、例えば加熱室１１の下側の空間に配置されており、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根３３が設けられている。そして、マグネトロン１３からの高周波を、回転するスタラー羽根３３に照射することにより、該スタラー羽根３３によって高周波を加熱室１１内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、マグネトロン１３やスタラー羽根３３は、加熱室１１の底部に限らず、加熱室１１の上面や側面側に設けることもできる。
【００２５】
蒸気発生部１５は、図２に示すように加熱により蒸気を発生する水溜凹所３５ａを有した蒸発皿３５と、蒸発皿３５の下側に配設され、図３及び図４に示すように蒸発皿３５を加熱する蒸発皿加熱ヒータ３７と、該ヒータの輻射熱を蒸発皿３５に向けて反射する断面略Ｕ字形の反射板３９とから構成されている。蒸発皿３５は、例えばステンレス製の細長板状のもので、加熱室１１の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に長手方向を仕切板２７に沿わせた向きで配設されている。なお、蒸発皿加熱ヒータ３７としては、ガラス管ヒータ、シーズヒータ、プレートヒータ等が利用できる。
【００２６】
図５は蒸気発生機能付き高周波加熱装置１００を制御するための制御系のブロック図である。この制御系は、例えばマイクロプロセッサを備えてなる制御部５０１を中心に構成されている。制御部５０１は、主に、電源部５０３、記憶部５０５、入力操作部５０７、表示パネル５０９、加熱部５１１、冷却用ファン６１等との間で信号の授受を行っている。
【００２７】
入力操作部５０７には、加熱の開始を指示するスタートスイッチ５１９、高周波加熱や蒸気加熱等の加熱方法を切り替える切替スイッチ５２１、予め用意されているプログラムをスタートさせる自動調理スイッチ５２３等の種々の操作スイッチが接続されている。
加熱部５１１には、高周波発生部１３、蒸気発生部１５、循環ファン１７、赤外線センサ２０等が接続されている。また、高周波発生部１３は、電波撹拌部（スタラー羽根の駆動部）３３と協働して動作し、蒸気発生部１５には、蒸発皿加熱ヒータ３７、室内気加熱ヒータ１９（コンベクションヒータ）等が接続されている。
【００２８】
図６は、電源部５０３（図５参照）に用いられ、加熱部５１１（図５参照）による加熱電力を可変制御するインバータ装置の基本回路図である。このインバータ装置は、トランジスタ、インダクタ、トランス及びコンデンサ等により構成される。図において、入力側に電圧が印加されると、インダクタＬ１、抵抗Ｒ１を通じてトランジスタＱ１、Ｑ２に電流が供給され、トランジスタＱ１、Ｑ２がＯＮ／ＯＦＦ動作を繰り返して発振する。この発振は、主として共振用コンデンサＣ１、トランスＴ１との共振で正弦波に近い発振波形となる。そして、トランスＴ１は、１次巻線側に供給された電圧を、加熱に必要とする電圧まで昇圧して２次巻線側から出力する。トランスＴ１で発生した高電圧は、バラストコンデンサＣ２を通じて出力側に出力される。この回路により加熱部５１１への供給電力量を適宜増減することができる。
【００２９】
次に、上述した蒸気発生機能付き高周波加熱装置１００の基本的な動作について、図７のフローチャートを参照しながら説明する。
操作の手順としては、まず、加熱しようとする食品を皿等に載せて加熱室１１内に入れ、開閉扉２１を閉める。そして、加熱方法、加熱温度又は時間を入力操作部５０７により設定して（ステップ１０、以降はＳ１０と略記する）、スタートスイッチをＯＮにする（Ｓ１１）。すると、制御部５０１の動作によって自動的に加熱処理が行われる（Ｓ１２）。
【００３０】
即ち、制御部５０１は、設定された加熱温度・時間を読み取り、それに基づいて最適な調理方法を選択・実行し、設定された加熱温度・時間に達したか否かを判断して（Ｓ１３）、設定値に達したときに、各加熱源を停止して加熱処理を終了する（Ｓ１４）。なお、Ｓ１２では、蒸気発生、室内気加熱ヒータ、循環ファン回転、高周波加熱を、それぞれ個別或いは同時に行う。
【００３１】
上記した動作の際に、例えば「蒸気発生＋循環ファンＯＮ」のモードが選択・実行された場合の作用を説明する。このモードが選択されると、図８に本高周波加熱装置１００の動作説明図を示すように、蒸発皿加熱ヒータ３７がＯＮされることで、蒸発皿３５の水が加熱され蒸気Ｓが発生する。蒸発皿３５から上昇する蒸気Ｓは、仕切板２７の略中央部に設けた吸気用通風孔２９から循環ファン１７の中心部に吸引され、循環ファン室２５を経由して、仕切板２７の周部に設けた送風用通風孔３１から、加熱室１１内へ向けて吹き出される。吹き出された蒸気は、加熱室１１内において撹拌されて、再度、仕切板２７の略中央部の吸気用通風孔２９から循環ファン室２５側に吸引される。これにより加熱室１１内と循環ファン室２５に循環経路が形成される。なお、仕切板２７の循環ファン１７の配置位置下方には送風用通風孔３１を設けずに、発生した蒸気を吸気用通風孔２９に導かれるようにしている。そして、図中白抜き矢印で示すように、蒸気が加熱室１１を循環することによって、被加熱物Ｍに蒸気が吹き付けられる。
【００３２】
この際、室内気加熱ヒータ１９をＯＮにすることによって、加熱室１１内の蒸気を加熱できるので、加熱室１１内を循環する蒸気の温度を高温に設定することができる。従って、いわゆる過熱蒸気が得られて、被加熱物Ｍの表面に焦げ目を付けた加熱調理も可能となる。また、高周波加熱を行う場合は、マグネトロン１３をＯＮにし、スタラー羽根３３を回転することで、高周波を加熱室１１内に撹拌しながら供給して、ムラのない高周波加熱調理を行うことができる。
【００３３】
このように、本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置によれば、加熱室１１の外部ではなく内部で蒸気を発生する構成にしているので、加熱室１１内を清掃する場合と同様に、蒸気を発生する部分、つまり蒸発皿３５の清掃を簡単に行うことができる。例えば、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて蒸発皿３５の底部に沈殿固着することがあるが、蒸発皿３５の表面に付着したものを布等で拭き取るだけできれいに払拭することができる。また、特に汚れが激しい場合は、図９に示すように、蒸発皿３５を加熱室１１外に取り出して洗浄することもでき、蒸発皿３５の清掃を簡単にできる。また、場合によっては、新しい蒸発皿３５と交換することも簡単に行える。従って、蒸発皿３５を含めて、清掃しやすくなり、加熱室１１の内部を常に衛生的な環境に保つことが容易となる。
【００３４】
また、この高周波加熱装置では、蒸発皿３５を、加熱室１１の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に配設しているので、被加熱物の取り出しの邪魔にならず、蒸発皿３５がたとえ高温になっていても、被加熱物を出し入れする際に蒸発皿３５に手を触れるおそれもなく安全性に優れる。
【００３５】
さらに、この高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータ３７で蒸発皿３５を加熱することにより蒸気を発生させているので、簡単な構造で効率良く蒸気を供給することができ、加熱によりある程度高い温度の蒸気が発生するので、単に加湿するだけの調理、あるいは高周波加熱と併用して乾燥を防止しつつ加熱する調理も可能である。
また、蒸発皿加熱ヒータ３７の輻射熱は、反射板３９で蒸発皿３５に向けて反射させているので、蒸発皿加熱ヒータ３７の発生する熱を無駄なく効率良く蒸気発生のために利用することができる。
【００３６】
そして、この高周波加熱装置では、加熱室１１内の空気を循環ファン１７で循環・撹拌するようにしているので、蒸気加熱を行う際に、蒸気を加熱室１１内の隅々にまでむらなく行き渡らせることができる。従って、加熱室１１内に蒸気が充満するものの、滞留することはなく、蒸気が加熱室１１内全体に行き渡ることになり、その結果として、赤外線センサ２０による被加熱物の温度計測時に、赤外線センサが加熱室１１内の蒸気粒子の温度を計測することなく、確実に被加熱物の温度が計測され、温度の測定精度を高めることができる。これにより、検出温度を参照してなされる加熱処理が、誤動作することなく適正に行われるようになる。
【００３７】
また、加熱方法としては、高周波加熱と蒸気加熱の双方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、双方を所定の順番で行ったりすることが自由にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な加熱方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、効率の良い調理が可能となる。
【００３８】
また、加熱室１１内を循環する空気を、循環ファン室２５に装備した室内気加熱ヒータ１９で加熱できるようにしているので、加熱室１１で発生させた蒸気の温度を自在に調整することができる。例えば、蒸気の温度を１００℃以上の高温に設定することもできるため、過熱蒸気によって被加熱物を効率良く昇温させることができると共に、被加熱物表面を乾燥させて、場合によっては表面に焦げ目を付けることも可能となる。また、被加熱物が冷凍品の場合には、蒸気の熱容量が大きいために熱伝達が効率よく行われ、短時間で解凍することができる。
【００３９】
さらに、この蒸気発生機能付き高周波加熱装置１００では、循環ファン１７を、加熱室１１外に仕切板２７を介して独立に設けた循環ファン室２５に収容しているので、被加熱物の調理中に飛散する汁類が循環ファン１７に付着することをなくすことができる。また同時に、通風を仕切板２７に設けた通風孔２９，３１を通して行うので、通風孔２９，３１を設ける位置や通風孔２９，３１の開口面積等によって、加熱室１１内に起こる蒸気の流れを自由に変更することができる。
【００４０】
なお、図１０（ａ）に示すように、蒸発皿３５の上面を、一部に開口４１ａの設けられた蓋体４１で覆うことにより、図１０（ｂ）に示すように、蒸気の出る位置を、開口４１ａのある部分に限定することができる。また、開口４１ａの開口面積に応じて蒸気の供給量を調整することができる。
【００４１】
この開口４１ａは、図１１に示すように、仕切板２７中央の吸気用通風孔２９の下方に配設してある。従って、発生した蒸気は、開口４１ａから上昇すると、すぐに吸気用通風孔２９に吸い込まれることになり、蒸気が無駄に逃げることなく加熱室１１内を循環する循環流となる。また、蓋体４１を脱着自在に構成することで、開口の大きさを違えた蓋体と交換することも容易となり、加熱条件に応じた適切な蓋体を使用することができる。
【００４２】
また、図１１に示すように、吸気用通風孔２９に吸引された蒸気の多くを、主に加熱室１１の底面近傍から加熱室１１内に吹き出すことができるように、仕切板２７に設けた送風用通風孔３１ａを、仕切板２７の下部に多く形成している。これは、蒸気自体が上昇するため、下側から多く吹き出した方が全体の流れの均一化が図れるからである。このようにすることで、加熱室１１内における蒸気の流れは、最初底面付近を低く流れた後に、上方に向かう流れとなる。なお、送風用通風孔３１ｂとして、仕切板２７の略中間高さ部に設けているが、これは、加熱室１１に図示しない被加熱物載置用の２段目のトレイがこの略中間高さ位置に装填されるために、このトレイの載置物に送風するために設けている。
この構成により、加熱が一層効果的となる循環流れが作り出され、加熱室１１内の温度分布が小さく抑えられる。従って、加熱室１１内に置かれた被加熱物を均一且つ高速に加熱することができる。
【００４３】
次に上述した構成の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法について詳しく説明する。
図１２は、被加熱物の種類に応じて加熱プログラムを選定して加熱する手順を示すフローチャートである。本制御では、冷凍品と冷蔵品とで加熱方法を別にする。一般に、マグネトロンから出された高周波は、水の分子には吸収されるが、氷には浸透しにくい性質があり、一方、冷凍品には氷が含まれる割合が多く、少なくとも氷が溶けるまでの間は、高周波加熱よりも蒸気加熱による加熱の方が特に有効となる。また、蒸気加熱を行うことで、蒸気を被加熱物の表面に付着させて蒸気の熱量を被加熱物に伝達すると共に、被加熱物の表面上で蒸気が凝縮する際の潜熱により被加熱物の温度上昇速度を速くすることができる。
【００４４】
本制御の手順としては、まず、赤外線センサ２０により加熱室１１に収容された被加熱物の温度を測定する（ステップ１１、以降はＳ１１と略記する）。測定した被加熱物の温度は、記憶部５０５（図５参照）に一旦記録する。記憶部５０５には、冷凍品か冷蔵品かを判別するための判別温度が予め記憶されており、この判別温度と、測定された被加熱物の温度とを比較して、被加熱物が冷凍品か冷蔵品のいずれかを制御部５０１が判定する（Ｓ１２）。
【００４５】
被加熱物が冷凍品であった場合には、蒸気加熱・高周波加熱の同時加熱プログラムを選定し（Ｓ１３）、冷凍品でない場合には、蒸気加熱・高周波加熱の切り替え加熱プログラムを選定する（Ｓ１４）。そして選定した加熱プログラムに基づいて被加熱物を加熱し（Ｓ１５）、加熱プログラムの実行完了（Ｓ１６）をもって加熱を終了（Ｓ１７）する。なお、これらの各加熱プログラムは、記憶部５０５に予め用意されている。
【００４６】
図１３は、（ａ）同時加熱プログラムと（ｂ）切り替え加熱プログラムの加熱タイミングチャートを示す。
（ａ）の冷凍品を加熱する場合の同時加熱プログラムでは、最初の所定期間は蒸気加熱と高周波加熱とを同時に行い、所定期間経過後は、高周波加熱を停止して、蒸気加熱で加熱する。
（ｂ）の冷蔵品を加熱する切り替え加熱プログラムでは、最初の所定期間は蒸気加熱を行い、所定期間経過後は蒸気加熱を停止して高周波加熱に切り替え、高周波加熱を行う。切り替えを行う所定期間は、加熱時間で設定してもよく、加熱温度で設定してもよい。
【００４７】
図１４は、設定した目標加熱温度に達するまで被加熱物を加熱する場合の基本的な手順を示すフローチャートである。このフローでは、最初に加熱温度の設定値を読み込み（Ｓ２１）、加熱を開始する（Ｓ２２）。加熱中は赤外線センサ２０により加熱室１１に収容した被加熱物の温度を監視し、測定温度が設定温度に到達したら加熱を終了する（Ｓ２３，Ｓ２４）。
【００４８】
図１５は、設定した加熱時間に達するまで被加熱物を加熱する場合の基本的な手順を示すフローチャートである。このフローでは、最初に加熱時間の設定値を読み込み（Ｓ３１）、タイマをスタートしてから加熱を開始する（Ｓ３２，Ｓ３３）。加熱中はタイマ計数値を監視し、設定時間が経過したら加熱を終了する（Ｓ３４，３５）。
【００４９】
次に、蒸気発生、循環ファン、室内気加熱ヒータ、及び高周波加熱の制御による各加熱パターンについて説明する。ここで、「蒸気加熱」とは、蒸発皿加熱ヒータ３７及び循環ファン１７をオンにして〔場合によっては、室内気加熱ヒータ（コンベクションヒータ１９）もオンにして〕加熱処理することを意味し、「高周波加熱」とは、高周波発生部（マグネトロン１３）からの高周波照射によって加熱することを意味するものとする。
【００５０】
図１６及び図１７は具体的な加熱パターンを示す図であって、蒸気発生と高周波加熱及び循環ファンと室内気加熱ヒータのオン／オフのタイミングチャートを示す図である。
【００５１】
図１６の（ａ）の加熱パターンでは、蒸気発生と循環ファンと室内気加熱ヒータとを加熱開始から加熱終了までそれぞれオンとし、高周波加熱を前半でオン、後半でオフにしている。これにより、加熱前半では、発生した蒸気が加熱されながら加熱室を循環すると同時に、高周波が供給されることで蒸気と高周波との相乗効果によって被加熱物が急速に加熱される。また、加熱後半では、加熱されて循環する蒸気によって被加熱物が加熱されることになる。この加熱パターンは、特に冷凍品の加熱に好適となる。また、例えば、この加熱パターンで中華まんを加熱した場合には、中華まんの内部はしっとりとした水分量を保持しながら、外側には焦げ目ができるといった加熱調理が行える。つまり、内部に水分を閉じ込めて、しかも表面部分だけを乾燥させることが可能となる。
【００５２】
（ｂ）の加熱パターンでは、前半に、蒸気発生と循環ファンと室内気加熱ヒータをそれぞれオン、高周波加熱をオフとし、後半に、蒸気発生と循環ファンと室内気加熱ヒータをオフ、高周波加熱をオンとしている。これにより、加熱前半では、発生した蒸気が加熱されながら加熱室を循環することで特に被加熱物の表面を加熱し、加熱後半では、高周波が供給されることで被加熱物を内部から加熱する。このパターンは、特に冷蔵品の加熱に好適となる。
【００５３】
（ｃ）の加熱パターンは、（ａ）の加熱パターンの室内気加熱ヒータをオフにしたパターンである。このパターンを実行すれば、発生した蒸気を室内気加熱ヒータで加熱しなくとも、被加熱物に十分な水分を含ませる加熱が可能である。
【００５４】
（ｄ）の加熱パターンは、前半及び後半を通して高周波加熱を行い、後半から蒸気を供給するパターンである。このパターンによれば、高周波加熱により失われがちになる水分を被加熱物に十分に含ませた状態での加熱が可能となる。
【００５５】
図１７の（ｅ）の加熱パターンは、（ｄ）の加熱パターンに、加熱後半で室内気加熱ヒータをオンにする点を加えたパターンである。このパターンによれば、加熱前半で被加熱物から失われる水分を加熱後半で補給しつつ被加熱物を加熱することができる。
【００５６】
（ｆ）の加熱パターンは、高周波加熱を行って被加熱物が所定温度以上に達したことを温度センサ（赤外線センサ）が検出したときに、室内気加熱ヒータをオンにしながらの蒸気加熱を行う加熱パターンである。このパターンによれば、加熱時間によらずに加熱状態に応じた適切なタイミングで蒸気加熱を開始することができる。
【００５７】
（ｇ）の加熱パターンは、蒸気加熱及び高周波加熱を行っている場合に、被加熱物が所定温度以上に達したことを温度センサが検出したときに、高周波加熱を停止して蒸気加熱のみ行う加熱パターンである。このパターンによれば、蒸気加熱と高周波加熱との相乗加熱効果により、被加熱物が過度に加熱されることを防止できる。
【００５８】
（ｈ）の加熱パターンは、蒸気加熱及び高周波加熱を行っているときに、被加熱物が所定温度以上に達したことを温度センサが検出したときに、蒸気加熱を停止して高周波加熱のみ続行する加熱パターンである。このパターンによれば、前記（ｇ）の加熱パターンと同様に、被加熱物が過度に加熱されることを防止できる。
【００５９】
（ｉ）の加熱パターンは、蒸気加熱を行っているときに、被加熱物が所定温度以上に達したことを温度センサが検出した段階で、高周波加熱を追加して同時加熱する加熱パターンである。このパターンによれば、例えば、被加熱物の表面を乾燥させた後、水分の閉じこめられた内部を集中的に加熱することができる。
【００６０】
上記においては、各加熱パターンについて説明したが、各パターンにおいて蒸気加熱と高周波加熱を同時に行うときには、主としてインバータ装置によるインバータ制御を組み合わせて実施する。図１８は高周波加熱と蒸気加熱にそれぞれ要する加熱電力量の組み合わせの各タイプを示すタイミングチャートである。
【００６１】
（ａ）のタイプでは、高周波加熱の電力量ａ１と蒸気加熱の電力量ａ２をそれぞれ一定値とし、且つ、双方の和（ａ１＋ａ２）が定格電力より小さくなるように設定している。
【００６２】
（ｂ）のタイプでは、高周波加熱をインバータ装置を用いて制御し、蒸気加熱を前半で行い、蒸気加熱の終了を受けて高周波加熱を徐々に強くすることにしている。このタイプによれば、加熱後半が蒸気加熱から高周波加熱へ連続的に変化するようになる。
【００６３】
（ｃ）のタイプでは、高周波加熱に加えて蒸気加熱もインバータ装置を用いて制御し、蒸気加熱を主に前半で行い、高周波加熱を主に後半で行うことにしている。この場合は、蒸気加熱から高周波加熱への円滑な切り替わりが可能となり、加熱量が加熱途中で低下することを防止できる。
【００６４】
（ｄ）のタイプでは、蒸気加熱を行いながら、高周波加熱を微弱ながらも行うことにしている。このタイプによれば、蒸気加熱による被加熱物表面の加熱効果に加えて、被加熱物内部の加熱が行えるようになる。
【００６５】
なお、（ｂ）〜（ｄ）のタイプにおいても、蒸気加熱に要する電力量と高周波加熱に要する電力量の和が定格電力量以下になるように、各電力量を制御する。
【００６６】
次に、蒸気温度を、予め設定された一定温度に保つ方法について説明する。
図１９は加熱室内の蒸気温度を一定に保つ方法の説明図で、（ａ）は蒸気を発生しながら、赤外線センサが所定温度以上を検出するまで室内気加熱ヒータ（コンベクションヒータ）１９で加熱する方法である。また、（ｂ）は、室内気加熱ヒータ１９を温度センサによる出力結果に応じてオンオフ制御する方法である。また、図２０に示すものは、蒸気を発生しながら、室内気加熱ヒータ１９の電力量をインバータ装置により制御し、それにより加熱室内を常に一定温度となるように調節する方法である。いずれの方法で制御してもよい。
【００６７】
なお、蒸気加熱を行う際に、実際に蒸気が発生するまでに所定時間を要する場合には、蒸気が発生するまでの間だけ加熱室内の空気を循環させないようにすることもできる。図２１はその内容を示すタイムチャートである。加熱開始、即ち、蒸発皿加熱ヒータ３７の加熱開始から蒸気を発生し始めるまでの期間をＴLとした場合、その期間ＴLについては循環ファン１７を停止させたままとする。こうすることで、蒸気発生を促進して、蒸発皿３５が無駄に循環風で冷却されることを防止できる。なお、循環ファン１７を完全に停止させずに、インバータ制御により所定期間ＴLだけ循環ファンの送風を弱く設定するようにしてもよい。
【００６８】
次に加熱処理の終了間際に開閉扉に付着した曇りを取り除くための制御方法について説明する。
蒸気加熱を行う場合、開閉扉２１の透光窓２１ａに蒸気が付着して曇ってしまい、加熱室１１の内部が外から覗けなくなることがある。この場合には加熱室１１内の加熱状態が確認できず、調理者に不安を抱かせて、安全上も好ましくない。そこで本制御方法により、加熱室内に外気を導入して発生した曇りを取り払うようにする。図２２はこの制御を行うための機械的構成を示す平面図、図２３は制御内容を示すタイムチャートである。
【００６９】
外気の吹き付けには、図２２に示すように、一例として本体ケース１０底部に設けた高周波発生部１３の冷却用のファン６１からの送風を利用する。機械的構成としては、まず、加熱室１１の開閉扉２１近くの側壁面８１ａに、開閉扉２１の透光窓２１ａの内面に対して外気を吹き付ける外気吹出口８２を設けている。外気吹出口８２は、本体ケース１０と加熱室１１の側壁面間に確保した側部通風路８３に連通されており、その側部通風路８３には、ダンパ８４を介して後部通風路８５が繋がっている。そして、装置底部に設けた冷却用ファン６１からの風を、ダンパ８４の切り替えにより、側部通風路８３を介して外気吹出口８２から加熱室１１内に吹き出せるようになっている。なお、ダンパ８４を他方に切り替えれば、冷却風は排気口８８から外部に排気される。
【００７０】
本制御方法では、蒸気加熱時や高周波加熱時において加熱室１１内に蒸気が充満する場合に、図２３に示すように、加熱終了前の所定期間ｔD、扉送風用ダンパ８４の切り替えにより、冷却用ファン６１による送風を外気吹出口８２に導いて、開閉扉２１の透光窓２１ａの内面に外気を吹き付け、それにより透光窓２１ａの曇りを取り除くことができる。
【００７１】
このように透光窓２１ａの内面に向けて外気を吹き付けることにより、蒸気加熱時や高周波加熱時に透光窓２１ａが蒸気で曇らないようにすることができ、加熱室１１内の被加熱物の加熱状態を外側から目視確認することができる。また、扉開放時に蒸気が手前側に立ちこめることを抑制できる。そして、外気を強制的に導入して透光窓２１ａに吹き付ける構成としているので、開閉扉２１を開ける前の時点での蒸気の追い出し効果（冷却効果）が特に優れる。
【００７２】
なお、上記実施形態では、蒸発皿３５の水を加熱し蒸気を発生させるために蒸発皿加熱ヒータを使用した場合を説明したが、図２４に示すように、蒸発皿３５の水を高周波加熱により蒸発させるようにすることもできる。この場合、通常のスタラー羽根３３による撹拌で、蒸発皿３５内の水を高周波加熱してもよいが、望ましくは、スタラー羽根３３による高周波の出射先を、蒸発皿３５に向けることができるようにし、蒸発皿３５を集中的に加熱できるようにする。このことは、スタラー羽根３３は通常回転して加熱室１１全体を均一に加熱するようにしているが、これを特定の位置で停止させることで実現できる。従って、所定時間集中して蒸発皿３５内の水を加熱した後に、通常の庫内加熱に戻るという制御を実施すれば、蒸気発生と高周波加熱とを一緒に行うことができる。
【００７３】
このように、蒸発皿加熱ヒータを省略して、高周波により蒸発皿３５内の水を加熱・蒸発させるようにした場合、特に蒸気を発生するための専用のヒータが省略できる分、設備の簡易化とコストの低減が図れる。
【００７４】
なお、以上の実施形態では、高周波を撹拌するためにスタラー羽根３３を設けた例について説明したが、スタラー羽根を省略して被加熱物を載置して回転駆動されるターンテーブルを用いる構成においても同様に本発明を適用することができる。
【００７５】
次に、蒸気発生部１５の蒸気発生方式のバリエーションについて、図２５を参照しながら説明する。同図において、１１は加熱室、４０１はカートリッジ式の水タンク、４０２はポンプ、４０３は排水機構である。（ａ）は、上述した蒸発皿３５と蒸発皿加熱ヒータ３７を用いた最もシンプルなタイプである。蒸発皿加熱ヒータ３７としてガラス管式の遠赤外線ヒータを用いた場合は、蒸気発生量が１０ｇ／分程度で、約４０秒で蒸気発生が可能である。また、ハロゲンヒータを用いた場合には、上記と同程度の蒸気発生量であって、約２５秒で蒸気発生が可能である。このタイプの構造は単純で安価であり、蒸気発生までの時間が短い利点がある。
【００７６】
（ｂ）は、インバータ電源４０５とＩＨ（電磁誘導加熱）コイル４０６を用いて蒸発皿３５内の水を加熱するタイプである。このタイプでは、蒸気発生量が１５ｇ／分程度で、約１５秒で蒸気発生が可能であり、蒸気発生までの時間が早い利点がある。
【００７７】
（ｃ）は、滴下式ＩＨスチーマ４０６を用いるタイプで、インバータ電源４０５とＩＨ（電磁誘導加熱）コイルとを用いて加熱した部材に、水滴を滴下して蒸発させるものである。このタイプは、大型となるが、蒸気発生量が２０ｇ／分程度で、約５秒で蒸気発生が可能となる。
【００７８】
（ｄ）は、ボイラー４０７を使用して蒸気を発生させるタイプで、蒸気発生量１２〜１３ｇ／分程度で約４０秒で蒸気発生が可能である。これは排水機構４０３等が複雑となるが、安価に構成できる。
【００７９】
（ｅ）は、超音波式の蒸気発生器４０８を用いるタイプで、発生した蒸気をファンＦで吸い出して、室内気加熱ヒータ１９で加熱してから加熱室１１に供給するようにしている。
【００８０】
ここで、上記した本発明に係る上記発生機能付き高周波加熱装置により、各種の加熱処理を行った例を説明する。
図２６は、被加熱物として肉まん１個を加熱した場合の重量変化の様子を示している。肉まんを蒸気で加熱した（蒸した）場合、最終的に良好な状態に加熱できたか否かは水分量の増加で判断できる。
【００８１】
（ａ）は室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータを５７０Ｗで加熱し、循環ファンを動作させないで蒸気加熱した場合を示す。（ｂ）はコンベクションヒータを６８０Ｗで加熱し、循環ファンを動作させないで蒸気加熱した場合を示す。いずれの場合も、加熱時間に対する水分量の増加分が比較的少なく、単に加熱室１１に蒸気を充満させてコンベクションヒータを加熱するだけでは、良好な蒸し上がり効果が得られなかったことが分かる。
【００８２】
これに対し、（ｃ）、（ｄ）のように循環ファンを動作させた場合は、比較的高い水分量が得られ、良好な蒸し上がり効果が得られた。また、（ｃ）のように循環ファンの回転数を落とした場合でも、時間が経過すると良好な蒸し上がり効果が得られることが分かった。つまり、循環ファンの動作により、蒸し上げ品の水分量を大きくすることができる。従って、蒸気加熱する場合には蒸気の循環が不可欠であると言える。
【００８３】
図２７は、循環ファンを動作させた場合とさせない場合の扉と加熱室内の結露量の違いを示す。結露は時間の経過につれて増加するが、循環ファンを動作させることにより、結露量を大きく減らせることが分かる。上記加熱開始から１０分経過時において、循環ファン回転なしの場合で、扉７．６ｇ、加熱室１４．４ｇであったものが、循環ファン回転ありの場合で、扉３．１ｇ、加熱室７．３ｇまで低下し、概ね半分程度にまで結露量を減らすことができる。
【００８４】
図２８は、蒸気加熱終了時点からの庫内及び扉における結露量の変化を、コンベンションヒータ加熱ありの場合、加熱なしの場合で調べた結果を示す。コンベンションヒータを動作させることにより、特に加熱室の結露量が加熱終了時点での７．３ｇから、３．０ｇ（１分）、０．３ｇ（２分）と大幅に低下する。また、扉に関しても、３．１ｇから、２．９ｇ（１分），１．３ｇ（２分）と低下の傾向が見られる。
【００８５】
図２９は、加熱室に蒸気を充満させたときに循環ファンを動作させた場合とさせない場合における赤外線センサの測定性能を調べた結果を示す。循環ファンを動作させない場合には、途中から赤外線センサの測定値に揺らぎが発生して測定精度が低下しているが、循環ファンを動作させた場合には、常に安定した測定が行えている。つまり、循環ファンを動作させることによって、赤外線センサの検出レベルが安定して、良好な温度測定が行えるようになる。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明を蒸気発生機能付き高周波加熱装置等に適用することで、赤外線センサによる被加熱物の温度計測の精度も高めることができ、適正な加熱処理を高速に行えるようになる点で有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明の第１実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の扉を開けた状態を示す正面図である。
【図２】図１の蒸気発生機能付き高周波加熱装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図である。
【図３】蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図である。
【図４】同装置の蒸気発生部の断面図である。
【図５】蒸気発生機能付き高周波加熱装置を制御するための制御系のブロック図である。
【図６】同装置の電源部に使用されるインバータ装置の回路図である。
【図７】蒸気発生機能付き高周波加熱装置の基本的な動作を説明するフローチャートである。
【図８】蒸気発生機能付き高周波加熱装置の動作説明図である。
【図９】蒸発皿を加熱室外に取り出す様子を示す説明図である。
【図１０】蒸気発生機能付き高周波加熱装置で使用する蒸発皿及び蓋体の斜視図で、（ａ）は蓋体を被せる前、（ｂ）は蓋体を被せた状態を示す図である。
【図１１】蒸気発生機能付き高周波加熱装置による蒸気の循環の様子を示す説明図である。
【図１２】被加熱物の種類に応じて加熱プログラムを選定して加熱する手順を示すフローチャートである。
【図１３】（ａ）同時加熱プログラムと（ｂ）切り替え加熱プログラムの加熱タイミングチャートを示す図である。
【図１４】設定した目標加熱温度に達するまで被加熱物を加熱する場合の基本的な手順を示すフローチャートである。
【図１５】設定した加熱時間に達するまで被加熱物を加熱する場合の基本的な手順を示すフローチャートである。
【図１６】具体的な加熱パターン（ａ）〜（ｄ）を示す図である。
【図１７】具体的な加熱パターン（ｅ）〜（ｉ）を示す図である。
【図１８】高周波加熱と蒸気加熱にそれぞれ要する加熱電力量の組み合わせの各タイプを示すタイミングチャートである。
【図１９】加熱室内の蒸気温度を一定に保つ方法の説明図である。
【図２０】インバータ制御により加熱室内を常に一定温度となるように調節する方法のタイムチャートを示す図である。
【図２１】蒸気が発生するまでの間だけ加熱室内の空気を循環させないようにする方法のタイムチャートを示す図である。
【図２２】外気吹き付けの制御を行うための機械的構成を示す平面図である。
【図２３】外気吹きつけの制御内容を示すタイムチャートである。
【図２４】本発明の他の実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の概略構成図である。
【図２５】蒸気発生部の各種バリエーション（ａ）〜（ｅ）を示す説明図である。
【図２６】被加熱物として肉まん１個を加熱した場合の重量変化の様子を示す図である。
【図２７】循環ファンを動作させた場合とさせない場合の扉と加熱室内の結露量の違いを示す図である。
【図２８】蒸気加熱終了時点からの庫内及び扉における結露量の変化を、コンベンションヒータ加熱ありの場合、加熱なしの場合で調べた結果を示す図である。
【図２９】加熱室に蒸気を充満させたときに循環ファンを動作させた場合とさせない場合における赤外線センサの測定性能を調べた結果を示す図である。
【図３０】従来の制御内容のタイムチャートを示す図である。
【符号の説明】
【００８８】
１１  加熱室
１３  マグネトロン（高周波発生部）
１５  蒸気発生部
１７，１８  循環ファン
１９  コンベクションヒータ（室内気加熱ヒータ）
２０  赤外線センサ
２１  開閉扉
２１ａ  透光窓
２７  仕切板
２９  吸気用通風孔
３１，３１Ａ，３１Ｂ  送風用通風孔
３３  スタラー羽根（電波撹拌部）
３５  蒸発皿
３７  蒸発皿加熱ヒータ
３９  反射板
４１  蓋体
４１ａ  開口１００  蒸気発生機能付き高周波加熱装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2006105592.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
2006105592.tif 000020
【図１９】
2006105592.tif 000021
【図２０】
2006105592.tif 000022
【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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