Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月3日(2007.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プローブ本体（２０）と、焦点を合わされた超音波場を発生する送信器素子（１１）とを備え、超音波場の強度最大値（Ｆ）が、対象部位（５）を加熱すべく該対象部位（５）に位置決めされる、超音波プローブであって、前記送信器素子（１１）が、放射強度パターンを改善する中央開口（２２）を有し、前記中央開口（２２）には、前記送信器素子（１１）を貫通して流体を流通させるチャネルが設けられ、前記送信器素子（１１）の前部には凹所が形成されていることを特徴とした超音波プローブ。
【請求項２】
前記送信器素子（１１）が湾曲した前面を有していることを特徴とした請求項１に記載の超音波プローブ。
【請求項３】
前記送信器素子（１１）の前部にチャンバ（２４）を形成する穿孔カバー（２３）をさらに備えていることを特徴とした請求項１または２に記載の超音波プローブ。
【請求項４】
前記カバー（２３）には、前面に亘って分布された多数の穿孔（２５）が設けられていることを特徴とした請求項３に記載の超音波プローブ。
【請求項５】
前記穿孔（２５）の面積対全面積の比が０．１−０．９の範囲内にあることを特徴とした請求項４に記載の超音波プローブ。
【請求項６】
前記穿孔（２５）の面積対全面積の比が０．１−０．７の範囲内にあることを特徴とした請求項４に記載の超音波プローブ。
【請求項７】
前記穿孔（２５）の面積対全面積の比が０．１−０．５の範囲内にあることを特徴とした請求項４に記載の超音波プローブ。
【請求項８】
前記穿孔（２５）の面積対全面積の比が０．１−０．３の範囲内にあることを特徴とした請求項４に記載の超音波プローブ。
【請求項９】
前記チャネルは熱伝導管（２６）を備え、前記プローブは更に温度センサ（２７）を備え、該温度センサは、前記送信器素子（１１）の後方にて前記熱伝導管（２６）と熱接触状態となるように配置され、前記温度センサ（２７）は、感知温度が設定値から逸れたときに前記送信器素子（１１）の動作を中断する制御手段に接続されていることを特徴とした請求項１−８の任意の一項に記載の超音波プローブ。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記感知温度が設定値から＋１０℃以上に逸れたときに、前記送信器素子（１１）の動作を中断するようになされていることを特徴とした請求項９に記載の超音波プローブ。
【請求項１１】
前記温度センサ（２７）がサーミスタであることを特徴とした請求項９または１０に記載の超音波プローブ。
【請求項１２】
超音波場の焦点が前記プローブ本体（２０）の縦軸からある角度（α）だけ変位するようにして、前記送信器素子（１１）が配置されていることを特徴とした請求項１−１１の任意の一項に記載の超音波プローブ。
【請求項１３】
前記送信器素子（１１）が角度αで傾けられていることを特徴とした請求項１２に記載の超音波プローブ。
【請求項１４】
前記送信器素子（１１）が、前記変位が達成されるように設計された受動素子を含むことを特徴とした請求項１２に記載の超音波プローブ。
【請求項１５】
前記プローブ本体（２０）が縦軸の周りを回転可能であることを特徴とした請求項１２，１３または１４に記載の超音波プローブ。
【請求項１６】
前記プローブ本体（１２）が縦軸に沿って動くことができることを特徴とした請求項１５に記載の超音波プローブ。
【請求項１７】
前記中央開口の面積が、前記送信器素子の全面積の１−２５％であることを特徴とした請求項１−１６の任意の一項に記載の超音波プローブ。
【請求項１８】
前記中央開口の面積が、前記送信器素子の全面積の５−１５％であることを特徴とした請求項１７に記載の超音波プローブ。
【請求項１９】
前記中央開口の面積が、前記送信器素子の全面積の約１０％であることを特徴とした請求項１８に記載の超音波プローブ。
【請求項２０】
前記送信器素子の全直径が、２−１００ｍｍの範囲内にあることを特徴とした請求項１−１９の任意の一項に記載の超音波プローブ。
【請求項２１】
前記送信器素子の全直径が、２−２０ｍｍの範囲内にあることを特徴とした請求項２０に記載の超音波プローブ。
【請求項２２】
前記送信器素子（１１）が単独の圧電結晶を備えていることを特徴とした請求項１−２１の任意の一項に記載の超音波プローブ。
【請求項２３】
前記送信器素子が圧電結晶配列を備えていることを特徴とした請求項１−２２の任意の一項に記載の超音波プローブ。
【請求項２４】
例えば、肩または肘における椎間板または腱および靱帯等の患者（４）の身体内の対象部位（５）を治療する方法に用いられることを特徴とした請求項１−２３の任意の一項に記載の超音波プローブの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
格子として構成され、内側の格子の部分からなる内側遊技領域と、外側の格子の部分からなる外側遊技領域とを有するゲーム盤と、
上記内側遊技領域に関連し、それぞれが対応した機能を有する複数の内側ゲーム駒と、上記外側遊技領域に関連した少なくとも１つの外側ゲーム駒とからなる複数のゲーム駒とを備え、
上記外側遊技領域内の外側ゲーム駒の位置によって、上記内側遊技領域内の内側ゲーム駒の機能が決定され、該外側のゲーム駒の位置は、上記内側のゲーム駒について、一組のゲーム駒のタイプのうちの１つのゲーム駒のタイプを決定し、該ゲーム駒のタイプは、第１のゲーム駒の一組の属性を決定し、該一組の属性は、該第１のゲーム駒を定義し、該一組の属性は、ゲーム遊技の特定のインスタンスの特定の状況に依存するボードゲーム。
【請求項２】
上記格子は、四角形の８×８のアレイからなり、上記内側遊技領域は、６×６のアレイからなり、上記外側遊技領域は、該６×６のアレイを取り囲む周辺領域からなることを特徴とする請求項１記載のボードゲーム。
【請求項３】
上記複数の内側ゲーム駒は、４組の同類のゲーム駒と、機能が変化する１組のゲーム駒とからなり、該機能は、上記少なくとも１つの外側ゲーム駒の位置によって決定されることを特徴とする請求項１記載のボードゲーム。
【請求項４】
入力装置及び表示装置を備えたコンピュータと、
上記コンピュータによって実行され、複数のゲーム駒を、該複数のゲーム駒の第１の部分が置かれる内側遊技領域と該複数のゲーム駒の第２の部分が置かれる外側遊技領域とからなるゲーム盤上に表示するコンピュータプログラムとを備え、
上記コンピュータプログラムは、上記コンピュータによって実行された際に、ランダム的に機会数を発生し、上記入力装置からの入力を、該機会数に基づく上記複数のゲーム駒の動きとして取り込み、上記外側遊技領域内の少なくとも１つのゲーム駒を第１の位置から第２の位置に動かすとともに、上記内側遊技領域内のゲーム駒の機能を、該外側遊技領域内の少なくとも１つのゲーム駒の第２の位置に依存させ、
上記ゲーム盤は、四角形の格子を有し、上記外側遊技領域は、周辺の四角形からなり、上記内側遊技領域は、該周辺の四角形より内側の残りの四角形からなることを特徴とするコンピュータゲーム。
【請求項５】
上記コンピュータは、複数の競技者がアクセスするコンピュータネットワークに接続されていることを特徴とする請求項４記載のコンピュータゲーム。
【請求項６】
ゲーム収納容器に転換できるゲーム盤システムにおいて、
ａ．複数のゲーム遊技駒と、
ｂ．それぞれが陥凹部を有する複数のゲーム盤ピースからなるゲーム盤と、
ｃ．上記複数のゲーム盤ピースの陥凹部に嵌合する複数のリムを有し、該複数のゲーム盤ピースを着脱自在に取り付けることができ、該複数のゲーム盤ピースを取り付けたときに上記ゲーム盤を形成する十字状の部材と、
ｄ．その上面の外縁の内側に、該外縁に平行に形成された外側の溝を有し、該外側の溝に、上記複数のゲーム遊技駒及び十字状の部材を収納する上記ゲーム収納容器の側壁を形成する上記複数のゲーム盤ピースが垂直に嵌合される下部片と、
ｅ．上記複数のゲーム盤ピースが上記ゲーム収納容器の側壁を形成したときに、該複数のゲーム盤ピースの上部にかぶせられる蓋とを備えるゲーム盤システム。
【請求項７】
更に、第１の端部にフランジを有するロッド部材を備え、
上記ロッド部材は、そのフランジが上記下部片の底面上の窪みに嵌合するとともに、該ロッド部材の第２の端部が上記蓋の中央穴を貫通するように、該下部片の中央穴及び該蓋の中央穴を通して嵌合することを特徴とする請求項６記載のゲーム盤システム。
【請求項８】
更に、上記ゲーム収納容器の側壁を形成する上記複数のゲーム盤ピースに上記蓋を固定するために、該蓋を貫通して延びた上記ロッド部材の第２の端部に設けられたスロットに、差し込まれて回されるように構成されたロックキーを備える請求項７記載のゲーム盤システム。
【請求項９】
上記十字状の部材は、上記複数のゲーム盤ピースが該十字状の部材に取り付けられるように、上記ロッド部材が貫通する中央穴を有し、上記蓋は、上記下部片の上部に位置し、該十字状の部材は、該蓋の上部に位置して上記ゲーム盤の支持体を形成し、該ロッド部材は、該下部片、蓋及び十字状の部材を貫通して延び、上記ゲーム盤を移動するための、上記支持体に連結された取っ手を形成することを特徴とする請求項７記載のゲーム盤システム。
【請求項１０】
上記複数のゲーム盤ピースは、４つのゲーム盤ピースからなり、上記十字状の部材上の複数のリムは、４つのリムからなることを特徴とする請求項６記載のゲーム盤システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月24日(2007.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を表面に塗布するためのモップアセンブリにおいて、
モップヘッドと、
前記モップヘッドに回動可能に取り付けられる第１端部、該第１端部の反対側の第２端部、および該第２端部に近接する部分を有し、該部分に、表面に沿って前記モップヘッドを動かすために手を係合させるようになっている長形のハンドルと、
前記モップヘッドの上方に支持されるようになっている液体供給用の容器と、
前記第１端部に近接して前記ハンドルに装着され、入口開口部および出口開口部を有するバルブアセンブリであって、該入口開口部と該出口開口部との間で該バルブアセンブリを通る液体の流れを阻止する閉鎖位置と、該入口開口部と該出口開口部との間の液体の流れを許容する開放位置との間で相対移動可能な第１部材および第２部材を有するバルブアセンブリと、
液体を前記容器から前記バルブアセンブリへ搬送するための、前記容器と前記バルブアセンブリの前記入口開口部との間に延在して接続される可撓性のホースとを具備し、
前記バルブアセンブリは、前記入口開口部を提供する入口端部と前記出口開口部を提供する出口端部とを有する任意長の弾性かつ可撓性の管を具備し、該管の該入口端部と該出口端部との間の部分が、該バルブアセンブリの前記第１部材と前記第２部材との間に延在し、該第１部材および該第２部材は、前記閉鎖位置では該管の両側をプレスするように配置されて、該管を通る液体の流れを阻止するとともに、前記開放位置では互いに離間配置されて、該管の該両側を分離して該管を通して液体を流すようになっていること、
を特徴とするモップアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
近位末端部分と第一および第二の分枝を供えた遠位末端部分とを有する分岐カテーテルアセンブリ；
介入デバイスアセンブリ；
を含む、患者の身体中の主要管腔から延びる少なくとも１つの分枝管腔において介入手順を行うための医療デバイスアセンブリであって、
ここで、該第一の分枝は、該主要管腔から延びる第一の分枝管腔内に位置するように適合され；そして
ここで、該第一の分枝は該第一の分枝管腔内に介入デバイスを少なくとも部分的に配置させるように適合される、医療デバイスアセンブリ。
【請求項２】
前記介入デバイスアセンブリが、ステント、塞栓保護アセンブリ、ガイドワイヤ、およびセンサーからなる群より選択される要素を含む、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
前記介入デバイスアセンブリが、フィルターワイヤ、および該フィルターワイヤおよび前記第一の分枝を介して前記第一の分枝管腔に送達されるように適合されるステントを含む、請求項１〜２のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記介入デバイスアセンブリが前記第一の分枝に取り付けられる、請求項１〜３のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記介入デバイスアセンブリが第一の介入デバイスアセンブリを含み、さらに、第二の介入デバイスアセンブリを含み、ここで、前記第一の分枝は、該第一の介入デバイスアセンブリを前記第一の分枝管腔に送達するように適合され、前記第二の分枝は、第二の介入デバイスアセンブリを前記第二の分枝管腔に送達するように適合される、請求項１〜４のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項６】
前記第一および第二の介入デバイスアセンブリの各々が、ステント、塞栓保護アセンブリ、ガイドワイヤ、およびセンサーからなる群より選択される要素を含む、請求項５に記載のアセンブリ。
【請求項７】
さらに、液剤の供給源を含み、ここで、該分岐カテーテルアセンブリは、該供給源に連結し、該液剤を前記第一および第二の分枝管腔の少なくとも一方に送達するように適合される、請求項記載１〜６のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項８】
前記液剤が、腎臓保護剤、および生理食塩水からなる群より選択される要素を含む、請求項７に記載のアセンブリ。
【請求項９】
前記介入デバイスが、自己拡張性ステント、バルーン膨張性ステント、および薬物溶出ステントからなる群より選択されるステントを含む、請求項１〜８のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項１０】
前記介入デバイスが、近位塞栓保護アセンブリおよび遠位塞栓フィルターアセンブリかなる群より選択される塞栓保護アセンブリを含む、請求項１〜９のいずれかに記載のアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月20日(2006.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
価格ルールを設定した市場において組み合わせ注文を取引する際にレッグ価格を算定するように構成された自動取引システムであって、前記組み合わせ注文は単一のネット価格で取引される少なくとも２つの異なる種類の商品の組み合わせから成り、各種の商品は個々のレッグ価格に関連付けられ、
ａ）前のレッグ価格を除く全てのレッグ価格にシード価格値を割り当てるステップと、
ｂ）前記割り当てられたシード価格値と前記組み合わせ注文のネット価格とによって前記前のレッグ価格を算定するステップと、
ｃ）前記前のレッグ価格が価格ルールに準拠するか否かを確認するステップと、
ｄ）前記前のレッグ価格が価格ルールに準拠しない場合、前記シード価格値を修正するステップと、
ｅ）前記前のレッグ価格が現在の価格ルールに準拠する迄、または所定の回数だけステップｃ）およびｄ）を繰り返すステップとを実行するための手段を含む、前記自動取引システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
格納庫の中の規定された位置に航空機または他の乗り物を移動する際のガイダンスを提供する方法であって、
前記格納庫に対して固定されている水平表示が、該水平表示の後ろに所定距離の間隔を空けた光源から成る複数の水平方向行の垂直方向アレイから成る背景に対して、前記乗り物から傾斜した視線に沿って視認され、
前記アレイにおいて水平基準を規定する光を発するように前記光源に行単位で選択的に通電され、
前記乗り物が前記格納庫の中で前記規定された場所に位置づけられるときに前記水平表示と前記水平基準とが互いに視覚的に一致するまで前記水平表示と前記水平基準間の垂直間隔を視覚的に減少するように前記格納庫に向かって前記乗り物が操作されることを含む方法。
【請求項２】
前記水平表示と共に位置づけられる垂直表示と共に、前記背景が垂直基準を含んでいて、前記背景の前記垂直及び水平基準に対して、傾斜した視線に沿って前記垂直及び水平表示を視認し、
上記のような前記水平表示と前記水平基準間の垂直間隔と、前記垂直表示と前記垂直基準間の水平間隔との両方を視覚的に減少するように、前記格納庫へ向かって且つ前記格納庫と位置合わせするように前記乗り物を操作することを含む、請求項１に記載された方法。
【請求項３】
前記アレイは光源の垂直方向列および水平方向行のアレイを含み、前記アレイの二つの間隔の開いた列の光源の少なくとも一部は前記垂直基準を規定するように通電される、請求項２に記載された方法。
【請求項４】
前記乗り物の前記格納庫に対する整合位置からの一方の側もしくは他方の側への偏位に応じて、前記二つの列の一方もしくは他方がバッフルスクリーンによって視線沿った視野から覆い隠されるように、前記二つの列が一対のバッフルスクリーンの中に位置している、請求項３に記載された方法。
【請求項５】
前記一対のバッフルスクリーンの外側に位置する前記アレイの二つの更なる列が、前記乗り物が前記格納庫に対する前記整合位置にある間は視線に沿った視野から前記バッフルスクリーンによって覆い隠されていて、前記二つの更なる列の一方または他方が、前記乗り物の前記整合位置からの左方または右方それぞれへの偏位の程度に基づいて視線に沿った視野に入る、請求項４に記載された方法。
【請求項６】
格納庫の中の規定された位置に航空機または他の乗り物を移動する際のガイダンスを提供する装置であって、
前記格納庫に対して固定された水平表示と、
該水平表示の後ろに所定距離の間隔を空けた光源から成る複数の水平方向行の垂直方向アレイと、
前記アレイにおいて水平基準を規定する光を発するように前記光源に行単位で選択的に通電するための手段と、を具備していて、
前記水平表示が前記乗り物から傾斜した視線に沿って視認される場合において、前記乗り物が前記格納庫の中で前記規定された場所に位置づけられるときに前記水平表示と水平基準とが互いに視覚的に一致するまで前記水平表示と前記水平基準間の垂直間隔を視覚的に減少するように前記格納庫に向かって前記乗り物を操作するようにする装置。
【請求項７】
前記アレイは、光源の垂直方向列及び水平方向行のアレイを含み、前記アレイの行を選択するための手段と、前記水平基準を規定するように前記選択された行の光源に通電する手段とを含む装置を具備する、請求項６に記載された装置。
【請求項８】
前記水平表示が光源により規定される、請求項６または７に記載された装置。
【請求項９】
前記光源は発光ダイオードである、請求項７または８に記載された装置。
【請求項１０】
垂直表示が前記水平表示と共に位置づけられると共に、前記アレイは、前記水平及び垂直表示の後ろに、前記所定距離の間隔を空けている垂直基準を含み、前記垂直及び水平表示が、垂直及び水平基準に対して傾斜した視線に沿って視認される場合において、上記のような前記水平表示と前記水平基準間の垂直間隔と、前記垂直表示と前記垂直基準間の水平間隔との両方を視覚的に減少するように、前記格納庫へ向かって且つ前記格納庫と位置合わせするように前記乗り物を操作するようにする、請求項６から９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記垂直表示は光源により規定される、請求項１０に記載された装置。
【請求項１２】
前記垂直表示の前記光源は発光ダイオードである、請求項１１に記載された装置。
【請求項１３】
前記アレイは光源の垂直方向列および水平方向行のアレイを含み、前記アレイの二つの間隔の開いた列の光源の少なくとも一部は前記垂直基準を規定するように通電される、請求項１０から１２のいずれか一項に記載された装置。
【請求項１４】
前記乗り物の前記格納庫に対する整合位置からの一方の側もしくは他方の側への偏位に応じて、前記二つの列の一方もしくは他方がバッフルスクリーンによって視線沿った視野から覆い隠されるように、前記二つの列が一対のバッフルスクリーンの中に位置している、請求項１３に記載された装置。
【請求項１５】
前記一対のバッフルスクリーンの外側に位置する前記アレイの二つの更なる列が、前記乗り物が前記格納庫に対する前記整合位置にある間は視線に沿った視野から前記バッフルスクリーンによって覆い隠されていて、前記二つの更なる列の一方または他方が、前記乗り物の前記整合位置からの左方または右方それぞれへの偏位の程度に基づいて視線に沿った視野に入る、請求項１４に記載された装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月26日(2007.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセス制御システムで使用される診断装置において、
プロセス変数センサによって感知されるプロセス流体のプロセス変数に関するセンサ信号入力と、
前記センサ入力に接続され、前記センサ信号中のパワーの周波数分布関数としてのセンサパワー出力信号を出力する信号前処理器と、
前記センサパワー出力に接続され、前記プロセスの状態に関係する状態出力を出力する信号評価器とを備えた診断装置。
【請求項２】
前記センサ信号が少なくとも約５０Ｈｚの周波数コンテンツを有する請求項１の診断装置。
【請求項３】
請求項１記載の診断装置を含む送信機。
【請求項４】
前記プロセス変数センサが圧力センサを備えている請求項１の診断装置。
【請求項５】
前記プロセス変数センサが磁気流量計内の電極を備えている請求項１の診断装置。
【請求項６】
前記プロセス変数センサが渦流量計内のセンサを備えている請求項１の診断装置。
【請求項７】
前記プロセス変数センサがコリオリ流量計内のセンサを備えている請求項１の診断装置。
【請求項８】
前記信号前処理器が前記センサ信号の周波数範囲を分離する請求項１の診断装置。
【請求項９】
前記信号前処理器が前記センサ信号の周波数範囲を分離する請求項１の診断装置。
【請求項１０】
前記センサ信号が約０〜２００Ｈｚの周波数を有している請求項１の診断装置。
【請求項１１】
前記関数がパワースペクトル密度を含む請求項１の診断装置。
【請求項１２】
前記関数が前記センサ信号のフーリエ変換に関する請求項１の診断装置。
【請求項１３】
前記関数がウェーブレット変換からなる請求項１の診断装置。
【請求項１４】
前記信号前処理器がフィルタを備えている請求項１の診断装置。
【請求項１５】
前記プロセスの状態がプロセス制御装置の運転に関係する請求項１の診断装置。
【請求項１６】
前記診断装置がプロセス監視装置中に設けられる請求項１の診断装置。
【請求項１７】
前記診断装置が制御システム中に設けられる請求項１の診断装置。
【請求項１８】
前記診断装置が通信バスに結合される請求項１の診断装置。
【請求項１９】
前記通信バスが２線式ループを備えている請求項１８の診断装置。
【請求項２０】
前記診断装置が前記２線式ループから入力される電力で十分に給電される請求項１９の診断装置。
【請求項２１】
前記分離信号出力がプロセスのプロセス流体中を伝わる振動ノイズ信号に関係している請求項１の診断装置。
【請求項２２】
前記プロセス変数センサが超音波流量計内のセンサを備えている請求項１の診断装置。
【請求項２３】
前記プロセスの状態が、バルブ、ポンプ、ポンプシール、排出システム、アクチュエータ、ソレノイド、コンプレッサ、タービン、かき混ぜ機、緩衝器、配管、取り付け具、およびタンクからなる装置のグループから選択されるプロセス装置の状態に関係する請求項１の診断装置。
【請求項２４】
前記信号評価器が、前記センサパワー信号を、記憶された値と比較する請求項１の診断装置。
【請求項２５】
前記信号評価器が、ニューラルネットワークからなる請求項１の診断装置。
【請求項２６】
前記信号評価器が、ファジィ論理からなる請求項１の診断装置。
【請求項２７】
プロセス制御環境中において実行される診断方法において、
プロセス変数センサ信号を取得し、
前記プロセス変数センサ信号中のパワーの周波数分布を測定し、かつ
前記プロセス変数センサ信号中のパワーの周波数分布を評価して、プロセスに関係する状態出力を出力する診断方法。
【請求項２８】
前記測定が、前記プロセス変数センサ信号のフィルタリングを含む請求項２７の方法。
【請求項２９】
前記測定が、前記プロセス変数センサ信号のフーリエ変換を実行することを含む請求項２７の方法。
【請求項３０】
前記測定が、ウェーブレット変換の実行を含む請求項２９の方法。
【請求項３１】
前記ウェーブレット変換の実行が離散型ウェーブレット変換の実行を含む請求項３０記載の方法。。
【請求項３２】
前記評価は、プロセス変数センサ信号中のパワーの周波数分布を、蓄積されている値と比較することからなる請求項２７の方法。
【請求項３３】
前記評価は、プロセス変数センサ信号中のパワーの周波数分布を、ニューラルネットワークに対して評価することからなる請求項２７の方法。
【請求項３４】
前記評価は、プロセス変数センサ信号中のパワーの周波数分布に対して、あるルールを適用することからなる請求項２７の方法。
【請求項３５】
前記プロセス変数センサ信号が圧力センサ信号よりなる請求項２７の方法。
【請求項３６】
前記プロセス変数センサ信号がコリオリ流量計からのセンサ出力よりなる請求項２７の方法。
【請求項３７】
前記プロセス変数センサ信号が渦流量計からのセンサ出力よりなる請求項２７の方法。
【請求項３８】
前記プロセス変数センサ信号が磁気流量計からの電極出力よりなる請求項２７の方法。
【請求項３９】
前記プロセス変数センサ信号がコリオリ流量計内のセンサからの出力よりなる請求項２７の方法。
【請求項４０】
前記プロセス変数センサ信号が少なくとも約５０Ｈｚのバンド幅を有している請求項２7の方法。
【請求項４１】
前記状態信号出力がプロセス制御装置の状態に関係する請求項２７の方法。
【請求項４２】
２線式ループからの電力で診断装置に十分に電力を供給する請求項２７の方法。
【請求項４３】
請求項２７の方法を実施するプロセス送信機。
【請求項４４】
請求項２７の方法を実施するプロセス制御システム。
【請求項４５】
請求項２７の方法を実施するプロセス制御装置。
【請求項４６】
請求項２７の方法を実施するプロセス監視装置。
【請求項４７】
前記プロセス変数センサ信号のパワーの周波数分布が、パワースペクトル密度からなる請求項２７の方法。
【請求項４８】
プロセスの状態を診断する診断装置内のマイクロプロセッサシステムによって実行可能な指令を格納したコンピュータによる読み取り可能記憶媒体において、
プロセス変数センサ信号を取得する手順と、
前記プロセス変数センサ信号中のパワーの周波数分布を測定する手順と、
前記プロセス変数センサ信号中のパワーの周波数分布を評価し、前記プロセスに関係する状態出力を提供する手順とを含む記録媒体。
【請求項４９】
プロセス制御システム中で使用される診断装置において、
プロセス変数センサによって感知されるプロセス流体のプロセス変数に関するセンサ信号入力と、
前記センサ信号内のパワーの周波数分布を測定するための信号前処理手段、および
前記センサ信号内のパワーの周波数分布に基づいて、プロセスの状態を診断する信号評価手段とを備えた診断装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月10日(2007.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）材料の層を載せるための基板；
ｂ）ポリマー分散型コレステリック液晶材料を含む画像形成層、当該画像形成層は、動作スペクトルを規定する可視光スペクトルの部分の範囲内で第１の相対的に高い反射状態と、前記動作スペクトル内の第２の相対的に低い反射状態とを有しており、前記状態は電場によって当該２つの状態の間で変わることができ、そしてこれらの状態は電場が無くても維持されることができる；
ｃ）前記画像形成層の一方の側に配置された第１の透明導体；
ｄ）前記画像形成層のもう一方の側にある、前記画像形成層の動作スペクトルの範囲内で相対的に低い透過率を有し、そして前記動作スペクトルの範囲外の光に相対的に高い透過率を有する相補光吸収層；および
ｅ）前記相補光吸収層を通って透過した光を前記相補光吸収層を通して反射させる、随意選択的に第２電極の一部となる反射表面；並びに
ｆ）第２電極
を含んで成るディスプレイ・シート。
【請求項２】
ディスプレイの前面が観察者によって見ることができる前面から裏面に以下順に：
ａ）随意選択的な基板；
ｂ）透明な第１の導体；
ｃ）前記観察者に到達する液晶由来の第１の反射光を提供するために、フォーカル・コニック状態で光を透過し、プレーナー状態で光を反射するポリマー分散型コレステリック液晶材料を含む画像形成層；および
ｄ）相補光吸収層；
ｅ）前記画像形成層および前記相補光吸収層を通って透過した光を、前記相補光吸収層を通して反射し、それによって前記観察者に到達するカラー・フィルター処理された第２の反射光を提供する反射表面；ならびに
ｆ）随意選択的に前記反射表面を形成している第２の導体；
を含んで成るディスプレイであって、
液晶材料がプレーナー状態にあるときに、前記液晶由来の第１の反射光およびカラー・フィルター処理された第２の反射光を含み、前記カラー・フィルター処理された第２の反射光無しの前記液晶由来の光単独よりも実質的に中性である総反射光が観察者に到達するような光吸収率を、前記相補光吸収層が有するディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月23日(2007.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
一方、銅金属表面におけるＨ２Ｏ２の触媒的破壊は下記式に従って進行する。
Ｈ２Ｏ２  →  １／２Ｏ２  ＋  Ｈ２Ｏ          （２）
この反応は、紫外線の照射によるＨ２Ｏ２の破壊よりもはるかに速い。
式（１）および式（２）に従ってＨ２Ｏ２が反応する割合は、それぞれ、温度、圧力、電解質の純度および触媒金属表面の性質といった要素に依存する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月1日(2007.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を(a)Ｈ2ＳｉＦ6；(b)有機溶媒；(c)アミン；(d)腐食防止剤；および(e)水を含有する組成物と接触させる工程を含む低誘電率の誘電体を含有する基板からエッチング残留物をクリーニングする方法であって、ここで前記組成物はエッチング後の残留物を剥離し、酸化物の損失を最小にでき、該組成物が実質的に残留物を除去するのに十分な時間と温度で、該組成物のpHが7未満である方法。
【請求項２】
組成物が(a)組成物の重量の約0.001％から約5％の濃度のＨ2ＳｉＦ6；(b)組成物の重量の約50％から約98％濃度の有機溶媒；(c)組成物の重量の約1.5％未満の濃度のアミン；(d)組成物の重量の約0.001％から約10％の濃度の腐食防止剤；および(e)残りの部分の水を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
組成物が(a)組成物の重量の約0.05％から約3％の濃度のＨ2ＳｉＦ6；(b)組成物の重量の約60％から約95％濃度の有機溶媒；(c)組成物の重量の約1％未満の濃度のアミン；(d)組成物の重量の約0.05％から約7％の濃度の腐食防止剤；および(e)残りの部分の水を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
組成物が(a)組成物の重量の約0.1％から約2％の濃度のＨ2ＳｉＦ6；(b)組成物の重量の約75％から約95％濃度の有機溶媒；(c)組成物の重量の約0.5％未満の濃度のアミン；(d)組成物の重量の約0.1％から約5％の濃度の腐食防止剤；および(e)残りの部分の水を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
組成物のpHが約1から約7である、請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
組成物のpHが約3から約6である、請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
さらに基板をリンスする工程を含む、請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
組成物が約0.3％から約4％のＨ2ＳｉＦ6を含有する、請求項６乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
組成物が約0.2％から約2％のＨ2ＳｉＦ6を含有する、請求項６乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
基板を(a)Ｈ2ＳｉＦ6；および(b)90％より多い水を含有する組成物と接触させる工程を含む低誘電率の誘電体を含有する基板からエッチング残留物をクリーニングする方法であって、ここで前記組成物はエッチング後の残留物を剥離し、酸化物の損失を最小にでき、該組成物が実質的に残留物を除去するのに十分な時間と温度で、該組成物のpHが7未満である方法。
【請求項１１】
組成物がさらに(c)腐食防止剤を含有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
組成物がさらに(d)有機溶媒を含有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
成分(a)が組成物の重量の約0.1％から約2％の濃度で存在し、成分(c)が組成物の重量の約0.1％から約5％の濃度で存在し、そして成分(d)が組成物の重量の約5％未満の濃度で存在する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
成分(d)が組成物の重量の1％未満の濃度で存在し、組成物のpHが約1から約6である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
組成物のpHが約1から約6であり、組成物が有機溶媒を含まない、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
さらに基板をリンスする工程を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
基板を(a)Ｈ2ＳｉＦ6；(b)水；および(c)腐食防止剤を含有する組成物と接触させる工程を含む低誘電率の誘電体を含有する基板からエッチング残留物をクリーニングする方法であって、ここで前記組成物はエッチング後の残留物を剥離し、酸化物の損失を最小にでき、該組成物が実質的に残留物を除去するのに十分な時間と温度で、該組成物のpHが7未満である方法。
【請求項１８】
腐食防止剤がポリサッカライドである、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
腐食防止剤がキシリトール、ソルビトールおよびイノシトールからなる群から選択される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
腐食防止剤が有機ホスホン酸塩である、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
腐食防止剤がニトリロトリス（メチレンホスホン酸）である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
腐食防止剤が水酸化コリン、水酸化トリス−コリン、またはその組み合わせである、請求項１７に記載の方法。
【請求項２３】
pHが約5と約6の間である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
組成物が実質的に有機溶媒を含まない、請求項１７乃至２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
組成物が本質的に(a)Ｈ2ＳｉＦ6；(b)水；および(c)腐食防止剤からなる、請求項１７乃至２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
Ｈ2ＳｉＦ6が重量で約0.2％から約0.3％の量存在する、請求項１７乃至２５のいずれかに記載の方法。
【請求項２７】
基板を(a)ＨＢＦ4；(b)90％より多い水；(c)腐食防止剤；および(d)有機溶媒を含有する組成物と接触させる工程を含む低誘電率の誘電体を含有する基板からエッチング残留物をクリーニングする方法であって、ここで前記組成物はエッチング後の残留物を剥離し、酸化物の損失を最小にでき、該組成物が実質的に残留物を除去するのに十分な時間と温度で、該組成物のpHが7未満である方法。
【請求項２８】
成分(a)が組成物の重量の約0.1％から約2％の濃度で存在し；成分(c)が組成物の重量の約0.1％から約5％の濃度で存在し；そして成分(d)が組成物の重量の5％未満の濃度で存在する、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
成分(d)が組成物の重量の1％未満の濃度で存在し、組成物のpHが約1から約6である、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
組成物のpHが約1から約6であり、組成物が有機溶媒を含まない、請求項２７乃至２９のいずれかに記載の方法。
【請求項３１】
さらに基板をリンスする工程を含む、請求項２７乃至３０のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月25日(2007.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも1種のプロピレン樹脂及び少なくとも1種のエチレン/アルファ-オレフィン/非共役ジエンエラストマーを含む反応性改質された熱可塑性エラストマー混合物であって、当該混合物が、
遊離ラジカル開始剤；
50質量%よりも多い1,2-ビニル含有率を有するジエン含有ポリマーを含む第一共試薬；及び
少なくとも2つのアクリレート基を含む多官能性アクリレート、少なくとも2つのイミド基を含む多官能性マレイミド、又はそれらの混合物を含む第二共試薬；
を含む硬化系によって動的加硫されていて、
前記遊離ラジカル開始剤及び前記共試薬が、少なくとも97%のエラストマーのゲル含有率を提供し、且つ少なくとも70のショア A デュロメーター硬度と90質量%よりも少ないオイル膨張とを有する本発明の混合物、及び70以下のショア A デュロメーター硬度と100質量%よりも少ないオイル膨張とを有する混合物を提供するのに十分な量で集合的に存在する、混合物。
【請求項２】
10〜70質量%のプロピレン樹脂及び5〜60質量%のエチレン/アルファ-オレフィン/非共役ジエンエラストマーを含む、請求項１記載の改質された混合物。
【請求項３】
第一共試薬が、改質された混合物の0.1〜10質量%の量で存在し、且つ少なくとも60℃の融点を有するシンジオタクチック1,2-ポリブタジエン、アタクチック1,2-ポリブタジエン、高ビニル溶液スチレン-ブタジエンエラストマー、又はそれらの混合物を含む、請求項１記載の改質された混合物。
【請求項４】
第二共試薬が、改質された混合物の0.1〜10質量%の量で存在し、且つトリメチロールプロパントリアクリレート、N,N'-m-フェニレンジマレイミド、又はそれらの組み合せを含む、請求項１記載の改質された混合物。
【請求項５】
遊離ラジカル開始剤が、改質された混合物の0.001〜2%の量で存在し、且つ少なくとも1種の有機ペルオキシドを含み、前記混合物が本質的に水分感受性をもたない、請求項１記載の改質された混合物。
【請求項６】
5〜65質量%の少なくとも1種のエキステンダーオイル、0.001〜20質量%の量で存在する充填剤、又はその両方をさらに含む、請求項１記載の改質された混合物。
【請求項７】
エチレン/アルファ-オレフィン/非共役ジエンエラストマーが、エチレン/プロピレン/ジエンエラストマーを含み、オイルを含まない前記エチレン/アルファ-オレフィン/非共役ジエンエラストマーが、少なくとも100のムーニー粘度[ML(1+4)@125℃]を有する、請求項１記載の改質された混合物。
【請求項８】
1種以上の有機及び無機色素、熱安定剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、光安定剤、難燃剤、粘着防止剤、発泡剤、帯電防止剤又は抗菌剤、又はそれらの任意の組み合せをさらに含む、請求項１記載の改質された混合物。
【請求項９】
請求項１記載の反応性改質された混合物を含む、物品。
【請求項１０】
混合物が30よりも少ない黄色度指数を有する、請求項１記載の改質された混合物。
【請求項１１】
請求項１記載の動的加硫された熱可塑性エラストマー混合組成物の調製方法であって、  少なくとも1種のポリプロピレン樹脂及び少なくとも1種のエチレン/アルファ-オレフィン/非共役ジエンエラストマーの混合物を、当該少なくとも1種のポリプロピレン樹脂の融点よりも高い温度において混合し；
遊離ラジカル開始剤、50質量%よりも多い1,2-ビニル含有率を有するジエン含有ポリマーを含む少なくとも1種の共試薬、及び少なくとも2つのアクリレート基を含む多官能性アクリレート又は少なくとも2つのイミド基を含む多官能性マレイミドを含む少なくとも1種の共試薬を加え；及び
続いてエラストマーが少なくとも97%のゲル含有率を有するような架橋形成が行われる温度においてその混合物を十分に混合及び剪断すること；
を含み、
前記遊離ラジカル開始剤及び前記共試薬は、少なくとも70のショア A デュロメーター硬度と90質量%よりも少ないオイル膨張とを有する本発明の混合物、及び70以下のショア A デュロメーター硬度と100質量%よりも少ないオイル膨張とを有する混合物を提供するのに十分な量で集合的に存在する、方法。
【請求項１２】
少なくとも1種の有機ペルオキシドを含む遊離ラジカル開始剤；
50質量%よりも多い1,2-ビニル含有率を有するジエン含有ポリマーを含む第一共試薬；及び
少なくとも2つのアクリレート基を含む多官能性アクリレート、少なくとも2つのイミド基を含む多官能性マレイミド、又はそれらの混合物を含む第二共試薬；
を含む熱可塑性エラストマー硬化系であって、
少なくとも1種のポリプロピレン樹脂及び少なくとも1種の追加のエチレン含有エラストマー材料と組み合わされるときは、十分な量の前記遊離ラジカル開始剤及び前記共試薬を含むことにより、少なくとも97%のエラストマーのゲル含有率を有する反応性改質された熱可塑性エラストマー混合物を形成し、且つ少なくとも70のショア A デュロメーター硬度と90質量%よりも少ないオイル膨張とを有する本発明の混合物、及び70以下のショア A デュロメーター硬度と100質量%よりも少ないオイル膨張とを有する混合物を提供する、硬化系。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インスリンＢ鎖の２個のシステイン残基のうち少なくとも１個が、セリン、スレオニンまたはアラニン残基により置換されている、インスリンＢ鎖類似体ペプチドを含む免疫原性組成物。
【請求項２】
第一のインスリンＢ鎖ペプチド類似体の２個のシステイン残基のうち少なくとも１個が、セリン、スレオニンまたはアラニン残基により置換され、かつ残りのシステインが、ジスルフィド結合により第二のインスリンＢ鎖分子のシステインと結合している、第一のインスリンＢ鎖ペプチド類似体を含むインスリンＢ鎖類似体ペプチド二量体。
【請求項３】
インスリンＢ鎖類似体が、配列番号３−２６からなる群から選択されるペプチドである、請求項１記載の免疫原性組成物。
【請求項４】
第一のインスリンＢ鎖ペプチド類似体が、配列番号１２−１６および２１−２６からなる群から選択される、インスリンＢ鎖類似体ペプチド二量体。
【請求項５】
インスリンＢ鎖類似体ペプチドが、免疫原性の担体と複合体を形成している、請求項１または３記載の免疫原性組成物。
【請求項６】
請求項２または４記載の二量体および免疫原性の担体を含んで成る、免疫原性組成物。
【請求項７】
糖尿病または前糖尿病状態を処置するために用いる、請求項１、３、５または６記載の免疫原性組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【表１】
2006526651.tif 000001
である。
インスリンＢ鎖は、７位および１９位に２個のシステイニル残基を有する。これらは両方とも、インスリンＡ鎖のシステイニル残基７および２０との鎖間ジスルフィドに関与する。Ａ鎖のシステイニル残基６および１１は、鎖内ジスルフィド結合に関与する。遊離インスリンＢ鎖ペプチドまたはインスリンＢ鎖のペプチド断片９−２３は両方とも、酸化されやすいスルフヒドリル残基を含み、それは、結果としてペプチドの重合化をもたらすジスルフィド結合を形成するかもしれない。このことは、中性かまたは中性付近のｐＨ（それは、医薬的使用に最も適するｐＨである。）にて製剤中に望まれないシステイニル残基を有するかかるペプチドをもたらす。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
実施例１
免疫原ビヒクルの選択
天然のＢ−インスリンを、プレミックスした３０：７０ 水／油の均質化により３０：７０ 油中水型（ｗ／ｏ）エマルジョンとして製剤化することができる。連続油相を、マンニドモノオレエート（Mannide monooleate、ＭＭＯ）、ポリオキシル−４０−水添ヒマシ油（ＰＯＣＯ）、または同様の両親媒性物質およびそれらの混合物などの乳化剤と共に適当に製剤化されたスクワレン、スクアラン、またはスクアランおよびスクワレンの組合せから製造することができる。別法にて、天然のＢ−インスリンを、乳化剤、例えば、マンニドモノオレエート、ポリオキシル−４０−水添ヒマシ油、または同様の両親媒性物質およびそれらの混合物と共に製剤化された、鉱物油が基礎のプレミックスした５０：５０ 水／油の均質化による５０：５０ ｗ／ｏエマルジョンとして製剤化することができる。油中水エマルジョン中連続油相として用いるのに適する製剤は、ＳＥＰＰＩＣ（パリ、フランス）によりモンタニド製剤として市販されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月7日(2007.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続液相および複数の有機ナノ粒子を含む連続相と、
前記連続相に分散された粒子を含む分散相と、
を含む安定な分散液。
【請求項２】
分散相が１種または複数種の医薬品を含む、請求項１に記載の分散液。
【請求項３】
分散固相および液体連続相を含む分散液に有効量の有機ナノ粒子を添加することを含む、分散液の安定化方法。
【請求項４】
治療上有効量の請求項２に記載の薬物分散液を、経口、注射、局所、その鼻腔路経由、吸入、およびその組合せからなる群から選択される投与手段によって哺乳類に投与することを含む、哺乳類の治療方法。
【請求項５】
連続相に分散されるべき分散相成分、および有機ナノ粒子を含む分散液キット。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月20日(2007.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬を含んでなる分散した固相、および
噴霧剤および賦形剤ナノ粒子を含んでなる連続液相
を含み、前記ナノ粒子が１００ｎｍ未満の平均粒子直径を有する、安定した医薬品分散体。
【請求項２】
計量バルブを有する煙霧剤容器、および
容器内に配置された請求項１に記載の安定した医薬品分散体
を含んでなる定量吸入器。
【請求項３】
煙霧剤容器を提供するステップと、
前記容器に請求項１に記載の医薬品分散体を装填するステップと、
を含んでなる、煙霧剤分散体を製造する方法。
【請求項４】
薬を含んでなる分散した固相と、噴霧剤を含んでなる連続液相とを含んでなる分散体に、有効量のナノ粒子を添加するステップを含んでなる、医薬品分散体を安定化する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月13日(2007.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンの調製方法であって、前記方法は、
（ｉ）不活性ガスでパージし、２５℃〜５０℃の温度において水素によって５０〜５００ｐｓｉ（３４４〜３４４７ｋＰａ）まで加圧した容器中で適切な溶媒と触媒系を組み合わせることにより活性化された触媒を調製する工程であって、前記触媒系がニッケルと炭素に支持されたパラジウムとを含むか、またはパラジウムをドープしたラネー（Ｒａｎｅｙ）型ニッケルを含む、工程、
（ｉｉ）前記活性化された触媒を、１−アミノ−２−シアノ−１−シクロペンテン、少なくとも等モル量の無水アンモニア、および、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムおよび水酸化カリウムからなる群から選択される無機塩基の水溶液と接触させる工程、
（ｉｉｉ）５０℃〜１５０℃の温度まで、および５００ｐｓｉ（３４４７ｋＰａ）〜１５００ｐｓｉ（１０３４２ｋＰａ）の水素圧力まで前記容器の前記温度を上昇させることにより前記容器を加圧し、前記温度と圧力を粗２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンを得るのに十分な時間維持する工程、
（ｉｖ）粗２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミン生成物を分離する工程、および
（ｖ）任意選択的に粗２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンを精製してより純粋な２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンを得る工程を含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（比較例４：Ｐｄを加えず、溶媒混合物をメタノールに変え、圧力を下げることの影響を示すためのＮｉを用いたＣＰＩのＡＭＣへの水素化）
比較例３と同じ手順および設備を使用し、メタノール５０ｍＬ中１時間の５ｇのＣＰＩ、０．２ｇのデグッサ−ヒュルスＢ１１１Ｗのニッケルスラリー、１５０℃、１０００ｐｓｉのＨ２、および１ｇのＮＨ３であった。ガスクロマトグラフィの結果は、主に未反応のＣＰＩであり、ＡＭＣの形跡は少しもなかった。
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を含め、以下の発明を包含する。
（１）  ２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンの調製方法であって、前記方法は、
（ｉ）不活性ガスでパージし、２５℃〜５０℃の温度において水素によって５０〜５００ｐｓｉ（３４４〜３４４７ｋＰａ）まで加圧した容器中で適切な溶媒と触媒系を組み合わせることにより活性化された触媒を調製する工程であって、前記触媒系がニッケルと炭素に支持されたパラジウムとを含むか、またはパラジウムをドープしたラネー（Ｒａｎｅｙ）型ニッケルを含む、工程、
（ｉｉ）前記活性化された触媒を、１−アミノ−２−シアノ−１−シクロペンテン、少なくとも等モル量の無水アンモニア、および、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムおよび水酸化カリウムからなる群から選択される無機塩基の水溶液と接触させる工程、
（ｉｉｉ）５０℃〜１５０℃の温度まで、および５００ｐｓｉ（３４４７ｋＰａ）〜１５００ｐｓｉ（１０３４２ｋＰａ）の水素圧力まで前記容器の前記温度を上昇させることにより前記容器を加圧し、前記温度と圧力を粗２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンを得るのに十分な時間維持する工程、
（ｉｖ）粗２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミン生成物を分離する工程、および
（ｖ）任意選択的に粗２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンを精製してより純粋な２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンを得る工程を含むことを特徴とする方法。
（２）  工程（ｉｉ）の前記１−アミノ−２−シアノ−１−シクロペンテンが、アジポニトリルを非極性芳香族溶媒中でモル当量の立体障害を有する塩基と接触させて１−アミノ−２−シアノ−１−シクロペンテンを生成し、このステップの１−アミノ−２−シアノ−１−シクロペンテン生成物を単離することによって得られることを特徴とする（１）に記載の方法。
（３）  工程（ｉｉ）の前記１−アミノ−２−シアノ−１−シクロペンテンをジオキサン／水溶媒中に溶解することを特徴とする（２）に記載の方法。
（４）  前記方法がバッチ方式で行われ、かつ前記方法が前記温度および圧力を工程（ｉ）の後、且つ、工程（ｉｉ）の前に周囲条件まで下げる工程をさらに含むことを特徴とする（１）に記載の方法。
（５）  前記２−（アミノメチル）−１−シクロペンチルアミンが蒸留によって精製されることを特徴とする（１）または（３）に記載の方法。
（６）  前記適切な溶媒が、水、非プロトン性極性有機溶媒、非プロトン性極性有機溶媒の組合せ、または非プロトン性極性有機溶媒と水の組合せであることを特徴とする（１）または（３）に記載の方法。
（７）  前記適切な溶媒がジオキサン／水の溶液であることを特徴とする（６）に記載の方法。