(57)【要約】【課題】  湿熱保存性が良好な光情報記録媒体を提供する。【解決手段】  基板上に、記録層と、中間層と、接着層と、カバーシートを含むカバー層とをこの順に有する光情報記録媒体であって、前記中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度が、７５ｇ／（ｍ2・ｄ）以下であることを特徴とする光情報記録媒体である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、記録層と、中間層と、接着層と、カバーシートを含むカバー層とをこの順に有する光情報記録媒体であって、
前記中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度が、７５ｇ／（ｍ2・ｄ）以下であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記記録層と前記接着層との間の前記中間層の厚みが、３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記カバー層が、カバーシートと、その上に形成されたハードコート層とを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記接着層とカバー層との間に、さらに、中間層が形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記記録層が色素を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体に関し、特にヒートモードによる追記型光情報録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる反射層、さらに樹脂製の保護層（カバー層）がこの順に積層したものである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）によりその部分の光学的特性が変化することにより情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化していない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより行われている。
【０００３】
近年、記録密度のより高い光情報記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案されている（例えば、「日経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッキングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有する記録層、反射層、および保護層をこの順に積層したディスク２枚を記録層を内側にして貼り合わせた構造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを記録層を内側にして貼り合わせた構造を有している。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われており、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。
【０００４】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映開始もあり、画像情報を安価簡便に記録することができる大容量の記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たしているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要である。このため、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長の光で高密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録媒体の開発が進められている。
【０００５】
有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、記録層側から反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が知られている（例えば、特許文献１〜１５参照。）。これらの方法では、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録および再生を行っている。
【０００６】
一方、ＤＶＤとして相変化型の光ディスクが知られているが、これは、記録層としてＧｅＳｂＴｅ等の合金層を採用し、記録層にレーザー光で瞬間的に加熱して、結晶状態からアモルファス状態に相変化させ、相変化により変わる反射率を利用して記録再生する方式である。最近、この相変化型のＤＶＤを用いて、青紫レーザーにより記録再生をおこなうＤＶＲシステムが発表された（「ＩＳＯＭ２０００」２１０〜２１１頁）。このシステムにより、高密度化という課題に対しては一定の成果が達成された。
【０００７】
以上の光情報記録媒体において、記録層が有機物からなる場合、カバー層を接着剤によって接着すると、記録層を構成する有機物が接着剤に溶解するという問題があった。この問題は、記録層とカバー層との間に中間層を設けることにより解決することができるが、中間層からカバー層までの層構成を厳密に設計しないと、湿熱保存性が劣ることがあるという問題があった。
【特許文献１】特開平４−７４６９０号公報
【特許文献２】特開平７−３０４２５６号公報
【特許文献３】特開平７−３０４２５７号公報
【特許文献４】特開平８−１２７１７４号公報
【特許文献５】特開平１１−５３７５８号公報
【特許文献６】特開平１１−３３４２０４号公報
【特許文献７】特開平１１−３３４２０５号公報
【特許文献８】特開平１１−３３４２０６号公報
【特許文献９】特開平１１−３３４２０７号公報
【特許文献１０】特開２０００−４３４２３号公報
【特許文献１１】特開２０００−１０８５１３号公報
【特許文献１２】特開２０００−１１３５０４号公報
【特許文献１３】特開２０００−１４９３２０号公報
【特許文献１４】特開２０００−１５８８１８号公報
【特許文献１５】特開２０００−２２８０２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、以上の従来の問題点に鑑みてなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。すなわち、本発明は、湿熱保存性が良好な光情報記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者は、下記本発明に想到し当該課題を解決できることを見出した。
【００１０】
すなわち、本発明は、基板上に、記録層と、中間層と、接着層と、カバーシートを含むカバー層とをこの順に有する光情報記録媒体であって、前記中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度が、７５ｇ／（ｍ2・ｄ）以下であることを特徴とする光情報記録媒体である。
【００１１】
本発明の光情報記録媒体は、前記記録層と前記接着層との間の前記中間層の厚みが、３０ｎｍ以下であることが好ましく、また、前記カバー層が、カバーシートと、その上に形成されたハードコート層とを含むことが好ましい。また、前記接着層とカバー層との間に、さらに、中間層（第２の中間層）が形成されていることが好ましい。さらに、前記記録層が色素を含有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、湿熱保存性が良好な光情報記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の光情報記録媒体について説明する。本発明の光情報記録媒体は、基板上に、記録層、中間層、接着層およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体である。
【００１４】
本発明の光情報記録媒体は、中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度が、７５ｇ／（ｍ2・ｄ）以下となっている。水分透過度が、７５ｇ／（ｍ2・ｄ）を超えるとカバー層から水分が記録層や反射層に混入し、記録特性が低下してしまう。当該水分透過度は、４０ｇ／（ｍ2・ｄ）以下であることが好ましい。ここで、水分透過度の単位中の「ｄ」は、１日（２４ｈ）のことである。なお、特に限定されるものではないが、現状での下限値は０．０１ｇ／（ｍ2・ｄ）である。
【００１５】
当該モコン法による水分透過度の測定は、主に、「ＪＩＳ  Ｋ７１２９Ｂ」を基本として、以下のようにして行う。すなわち、モコン社製の水分透過率測定機（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ  Ｗ３／３１）を使用し、温度４０℃、上部セルの湿度１０％と下部セルの湿度１００％（上下セルの相対湿度差：９０％）に設定し、上下セルの中間に、測定するフィルム状のカバー層を挿入する。上下セルはカバー層を通して区切られた構造になっている。下部セルは相対湿度の高い雰囲気を保ち、上部セルは試験片を通過してきた水蒸気を蓄積する構造であり上部セルにある赤外線湿度センサーにて通過してきた水分量を測定する。測定時間は、好ましくは１２〜３６時間であり、厳密には２４時間である。
【００１６】
前述のフィルム状のカバー層は、以下の２種類（方法１および方法２）のいずれかの方法で作製することが好ましい。これら２種の方法は、接着する方法や中間層を設ける場所等に応じて選ぶことができる。
【００１７】
方法１（ディスク（光情報記録媒体）から剥離し測定する方法）：
作製した光情報記録媒体の記録層より上部（中間層からカバー層まで）を剥離する。剥離したフィルム（カバー層）を開口部にあわせて切り出す。透過面積が５ｃｍ2になるように一部をアルミニウムでマスクして、フィルム状のカバー層とする。
【００１８】
方法２（基板上に貼り合せる前に測定する方法）：
貼り合せる前のカバー層（カバーシート）をセルの開口部にあわせて切り出す。透過面積が５ｃｍ2になるように一部をアルミニウムでマスクする。このとき、通常、記録層上に設ける中間層は同条件でカバーフィルム上に成膜して、フィルム状のカバー層とする。
【００１９】
本発明の光情報記録媒体の層構成としては、基板上に、記録層と、中間層と、接着層とカバーシートを含むカバー層とが形成された構成であれば特に限定されるものではない。例えば、カバー層が、カバーシートと、その上に形成されたハードコート層とを含む構成であってもよい。ハードコート層を形成することで、水分透過度を上記範囲に調整することが容易となり、また、耐傷性も向上させることができる。
【００２０】
また、記録層と接着層との間に形成される中間層の他に、接着層とカバー層との間に、さらに、中間層（以下、「第２の中間層」ということがある）が形成されていることが好ましい。第２の中間層が形成されることで、水分透過率の調整がより容易にしやすくなる。
【００２１】
本発明の光情報記録媒体の層構成を図１に例示する。当該光情報記録媒体１００は、基板１０上に、任意の反射層１２と、記録層１４と、中間層１６と、接着層１８と、カバー層としてのカバーシート２０とをこの順に有している。以下、主に、基板および各層について説明する。
【００２２】
＜基板＞
基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．４ｍｍとすることが好ましい。
【００２３】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプレグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。プレグルーブのトラックピッチは、３００〜６００ｎｍである。また、プレグルーブの深さ（溝深さ）は、４０〜１５０ｎｍの範囲である。
【００２４】
なお、後述する反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００２５】
＜反射層＞
反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率としては、７０％以上である。
反射率の高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【００２６】
反射層は、前述した光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。当該反射層は、以下の記録層の反射率が十分大きい場合には必ずしも必要ではない。
【００２７】
＜記録層＞
記録層は、基板もしくは上記反射層上に形成され、少なくとも、波長が３８０〜５００ｎｍで、レンズ開口率ＮＡが０．７以上のレーザ光により情報の記録再生が可能な有機物（色素）を含有する層であることが好ましい。
【００２８】
前記有機物としては、トリアゾール系化合物、フタロシアニン化合物、ポリフィリン系化合物、アミノブタジエン系化合物、シアニン系化合物、オキソノール化合物（オキソノール色素）等でこれらの少なくとも一種であることが好ましい。特に、フタロシアニン色素およびオキソノール色素が好ましい。
【００２９】
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素を併用することができる。
【００３０】
さらに、上記色素には限定されず、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール誘導体等の有機化合物も好適に用いられる。これらの化合物の中では、ベンゾトリアゾール誘導体、フタロシアニン化合物が特に好ましい。
【００３１】
以下、特に好ましい色素であるフタロシアニン色素およびオキソノール色素について説明する。
【００３２】
当該フタロシアニン色素は、下記一般式（Ａ）で表される構造を有することが好ましい。
【００３３】
【化１】
2006294169.tif 000002
【００３４】
一般式（Ａ）中、Ｒα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のヘテロ環基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシル基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数１〜１０のヘテリルスルホニル基、炭素数１〜２５の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数０〜３２の置換若しくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１５のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基、又は炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のスルホニルアミノ基を表す。また、Ｒα1〜Ｒα8のすべてが水素原子であることはなく、Ｒα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8のうち少なくとも８つは水素原子である。Ｍは、２個の水素原子、２価〜４価の金属原子、２価〜４価のオキシ金属原子、又は配位子を有する２価〜４価の金属原子を表す。
【００３５】
一般式（Ａ）におけるＲα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8の好ましいものとしては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル）、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｐ−オクタデシルフェニル）、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−オクチルオキシ）、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基（フェノキシ、ｐ−エトキシフェノキシ）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、ｎ−オクチルスルホニル）、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基（例えば、トルエンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、炭素数０〜２０の置換若しくは無置換のスルファモイル基（メチルスルファモイル基、ｎ−ブチルスルファモイル）、炭素数１〜１７のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル）、炭素数７〜１５の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、ｍ−クロロフェニルカルボニル）、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ｎ−ヘキシルアミノ）、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ、ｎ−ブタンスルホニルアミノ）である。
【００３６】
中でも、Ｒα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8のより好ましいものは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基である。
更に好ましいものは、Ｒα1〜Ｒα8が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基であり、Ｒβ1〜Ｒβ8が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子である。
特に好ましいものは、Ｒα1〜Ｒα8が、それぞれ独立に、水素原子、スルホ基、炭素数１〜２０の無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の無置換のアリールスルホニル基、炭素数７〜２０の無置換のスルファモイル基であり、Ｒβ1〜Ｒβ8が、水素原子である。
【００３７】
前記一般式（Ａ）における、Ｒα1及びＲα2のいずれか一方、Ｒα3及びＲα4のいずれか一方、Ｒα5及びＲα6のいずれか一方、Ｒα7及びＲα8のいずれか一方の計４つの置換基は、同時に水素原子ではないことが好ましい。
【００３８】
一般式（Ａ）におけるＲα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8は、更に置換基を有していてもよく、その導入可能な置換基の例としては、以下に記載のものを挙げることができる。
炭素数１〜２０の鎖状又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基）、炭素数６〜１８の置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル基、クロロフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、１−ナフチル基）、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルケニル基（例えば、ビニル基、２−メチルビニル基）、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルキニル基（例えば、エチニル基、２−メチルエチニル基、２−フェニルエチニル基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、サリチロイル基、ピバロイル基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、炭素数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、１−ナフトキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、ブチルチオ基、ベンジルチオ基、３−メトキシプロピルチオ基）、炭素数６〜２０の置換若しくは無置換のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、４−クロロフェニルチオ基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、
【００３９】
炭素数６〜２０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、パラトルエンスルホニル基）、炭素数１〜１７の置換若しくは無置換のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ｎ−ブチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基）、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、炭素数２〜１０の置換若しくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基）、炭素数２〜１０の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、及び５員若しくは６員の置換若しくは無置換のヘテロ環基（例えば、ピリジル基、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基等の芳香族ヘテロ環基；ピロリジン環基、ピペリジン環基、モルホリン環基、ピラン環基、チオピラン環基、ジオキサン環基、ジチオラン環基等のヘテロ環基）。
【００４０】
また、Ｒα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8に導入可能な置換基として好ましいものは、炭素数１〜１６の鎖状又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、ハロゲン原子、炭素数２〜１７の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアシルアミノ基である。
【００４１】
より好ましいものは、炭素数１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、塩素原子、炭素数２〜１１の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜７の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数１〜８の置換若しくは無置換のアシルアミノ基である。
【００４２】
更に好ましいものとしては、炭素数１〜８の鎖状分岐又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数１〜８の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数３〜９の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、フェニル基、塩素原子である。
最も好ましいものは、炭素数１〜６の無置換のアルコキシ基である。
【００４３】
一般式（Ａ）におけるＭは、２価〜４価の金属原子であることが好ましく、中でも、銅原子、ニッケル原子、又はパラジウム原子が好ましく、更に、銅原子又はニッケル原子がより好ましく、特に、銅原子が好ましい。
【００４４】
一般式（Ａ）で表される化合物（フタロシアニン色素）は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよい。また、一般式（Ａ）で表される化合物は、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【００４５】
以下に、一般式（Ａ）で表されるフタロシアニン色素の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４６】
下記表１〜表７において、例えば、Ｒx／Ｒy（ｘ及びｙは、α１〜α８、β１〜β８のいずれかを表わす）という表記はＲx又はＲyのいずれか一方という意味を表しており、従ってこの表記のある化合物は置換位置異性体の混合物である。また、無置換の場合、即ち水素原子が置換している場合は表記を省略している。
【００４７】
【表１】
2006294169.tif 000003
【００４８】
【表２】
2006294169.tif 000004
【００４９】
【表３】
2006294169.tif 000005
【００５０】
【表４】
2006294169.tif 000006
【００５１】
【表５】
2006294169.tif 000007
【００５２】
【表６】
2006294169.tif 000008
【００５３】
【表７】
2006294169.tif 000009
【００５４】
本発明において色素記録層に含有する色素として、一般式（Ａ）で表されるフタロシアニン色素を使用する場合、１種を単独で使用してもよく、また、構造の異なったものを複数種混合して用いてもよく、更に、他の色素と併用してもよい。特に、色素記録層の結晶化を防ぐ目的で、置換基の置換位置が異なる異性体の混合物を使用することが好ましい。
【００５５】
また、本発明においてオキソノール色素とは、アニオン性発色団を有するポリメチン色素と定義する。記録特性に優れる点で、下記一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素が特に好適に用いられる。
【００５６】
【化２】
2006294169.tif 000010
【００５７】
一般式（Ｉ）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基であり、ＡとＢもしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙt+はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。
【００５８】
一般式（Ｉ）はアニオンの局在位置の表記の違いによる複数の互変異性体を含むものであるが、特にＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかが−ＣＯ−Ｅ（Ｅは置換基）である場合、酸素原子上に負電荷を局在させて表記することが一般的である。例えばＤが−ＣＯ−Ｅである場合、表記としては下記一般式（ＩＩ）が一般的であり、このような表記のものも一般式（Ｉ）に含まれる。
【００５９】
【化３】
2006294169.tif 000011
【００６０】
一般式（ＩＩ）におけるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｒ、ｍ、ｎ、Ｙt+、ｔの定義は一般式（Ｉ）と同一である。
【００６１】
以下、上記一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素について説明する。一般式（ＩＩ）において、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、ＡとＢのハメットの置換基定数σｐ値の合計及びＣとＤのハメットの置換基定数σｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基を表す。Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはそれぞれ同一でもよく、また異なっていてもよい。また、ＡとＢ、もしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよい。Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値は、それぞれ独立に０．３０〜０．８５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、０．３５〜０．８０の範囲である。
【００６２】
ハメットの置換基定数σｐ値（以下、σｐ値という）は、例えばＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）及びこれに引用されている参考文献に記載されており、記載されていないものについても同文献記載の方法によって求めることが可能である。ＡとＢ（ＣとＤ）が連結して環を形成している場合、Ａ（Ｃ）のσｐ値は、−Ａ−Ｂ−Ｈ（−Ｃ−Ｄ−Ｈ）基のσｐ値を意味し、Ｂ（Ｄ）のσｐ値は、−Ｂ−Ａ−Ｈ（−Ｄ−Ｃ−Ｈ）基のσｐ値を意味する。この場合、両者は結合の方向が異なるためσｐ値は異なる。
【００６３】
Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基の好ましい具体例としては、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１乃至１０のアシル基（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイル）、炭素原子数２乃至１２のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、デシルオキシカルボニル）、炭素原子数７乃至１１のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル）、炭素原子数１乃至１０のカルバモイル基（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルホニル基（例、メタンスルホニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルホニル基（例、ベンゼンスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のアルコキシスルホニル基（例、メトキシスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のスルファモイル基（例、エチルスルファモイル、フェニルスルファモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフィニル基（例、ベンゼンスルフィニル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフェニル基（例、メタンスルフェニル、エタンスルフェニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフェニル基（例、ベンゼンスルフェニル）、ハロゲン原子、炭素原子数２乃至１０のアルキニル基（例、エチニル）、炭素原子数２乃至１０のジアシルアミノ基（例、ジアセチルアミノ）、ホスホリル基、カルボキシル基、５員もしくは６４０員のヘテロ環基（例えば、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル、３−ピリジル、５−（１Ｈ）−テトラゾリル、４−ピリミジル）を挙げることができる。
【００６４】
一般式（Ｉ）において、Ｒで表されるメチン炭素上の置換基としては、例えば以下に記載のものを挙げることができる。炭素原子数１〜２０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル）、炭素原子数６〜１８の置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−アミル、１−ナフチル）、アルケニル基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、アルキニル基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メトキシプロピルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、
【００６５】
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭素原子数２〜１２のイミド基、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）である。
【００６６】
Ｒとして好ましいものは、ハロゲン原子、炭素原子数１乃至８の鎖状又は環状のアルキル基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数１乃至８のアルコキシ基、炭素原子数６乃至１０のアリールオキシ基、炭素原子数３乃至１０のヘテロ環基であり、特に塩素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基（例：メチル、エチル、イソプロピル）、フェニル、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基（例：メトキシ、エトキシ）、フェノキシ、炭素原子数４乃至８の含窒素ヘテロ環基（例：４−ピリジル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル）が好ましい。
【００６７】
ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表すが、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。このとき環員数は４乃至８が好ましく、特に５又は６が好ましく、環の構成原子は炭素原子、酸素原子又は窒素原子が好ましく、特に炭素原子が好ましい。
【００６８】
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＲは更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、一般式（Ｉ）におけるＲで表される一価の置換基の例として先に挙げたものと同様のものを挙げることができる。
【００６９】
光情報記録媒体に用いられる色素としては熱分解性の観点からＡとＢ、またはＣとＤが連結して環を形成することが好ましく、そのような環の例として以下のようなものが挙げられる。なお、例示中、Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【００７０】
【化４】
2006294169.tif 000012
【００７１】
【化５】
2006294169.tif 000013
【００７２】
【化６】
2006294169.tif 000014
【００７３】
【化７】
2006294169.tif 000015
【００７４】
上記好ましい環は、Ａ−８、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１１、Ａ−１２、Ａ−１３、Ａ−１４、Ａ−１６、Ａ−１７，Ａ−３６、Ａ−３９、Ａ−４１、Ａ−５４、及びＡ−５７で示されるものである。更に好ましくは、Ａ−８、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１３、Ａ−１４、Ａ−１６、Ａ−１７及びＡ−５７で示されるものである。最も好ましくは、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１３、Ａ−１７及びＡ−５７で示されるものである。
【００７５】
Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃで表される置換基は、それぞれ前記Ｒで表される置換基として挙げたものと同義である。またＲａ、Ｒｂ及びＲｃはそれぞれ互いに連結して炭素環又は複素環を形成してもよい。炭素環としては、例えば、シクロヘキシル環、シクロペンチル環、シクロヘキセン環、及びベンゼン環などの飽和または不飽和の４〜７員の炭素環を挙げることができる。また複素環としては、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロフラン環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、及びピラジン環などの飽和または不飽和の４〜７員の複素環を挙げることができる。これらの炭素環または複素環は更に置換されていてもよい。更に置換し得る基としては、前記Ｒで表される置換基として挙げたものと同義である。
【００７６】
一般式（Ｉ）において、ｍは０乃至３の整数であるが、このｍの値によって該オキソノール色素の吸収波長が大きく変化する。記録再生に用いるレーザの発振波長に応じて最適な吸収波長の色素を設計する必要があるが、この点においてｍの値の選択は重要である。録再生に用いるレーザの中心発振波長が７８０ｎｍの場合（ＣＤ−Ｒ記録用の半導体レーザ）、一般式（Ｉ）においてｍは２又は３が好ましく、中心発振波長が６３５ｎｍ又は６５０ｎｍの場合（ＤＶＤ−Ｒ記録用の半導体レーザ）、ｍは１又は２が好ましく、中心発振波長が５５０ｎｍ以下の場合（例えば、中心発振波長４０５ｎｍの青紫色半導体レーザ）は、ｍは０又は１が好ましい。
【００７７】
一般式（Ｉ）において、Ｙt+で表されるｔ価のカチオンは、無機又は有機の何れのカチオンでもよく、無機のカチオンとしては、例えば、水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン（ＮＨ4+）を挙げることができ、好ましくは金属イオンであり、特にアルカリ金属イオン（例：Ｌｉ+、Ｎａ+、Ｋ+）又は遷移金属イオン（例：Ｃｕ2+、Ｃｏ2+）が好ましい。また、遷移金属イオンの場合、有機リガンドが配位しているものでも良い。
【００７８】
Ｙt+で表されるｔ価の有機のカチオンとしては、オニウムイオンが好ましく、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるものが特に好ましい。これらの化合物は、対応するジピリジルと目的の置換基を持つハロゲン化物とのメンシュトキン反応（例えば、特開昭６１−１４８１６２号公報参照）、あるいは特開昭５１−１６６７５号公報および特開平１−９６１７１号公報に記載の方法に準ずるアリール化反応により容易に得ることができる。
【００７９】
【化８】
2006294169.tif 000016
【００８０】
式中Ｒ31およびＲ32はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｒ33は置換基を表し、ｓは０乃至８の整数を表し、ｓが２以上の整数のとき、複数個のＲ33はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよい。
【００８１】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるアルキル基は、炭素原子数１〜１８が好ましく、更に炭素数１〜８が好ましく、直鎖、分岐又は環状であってもよく、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、イソアミル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−オクチルを挙げることができる。
【００８２】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるアルケニル基は、炭素数２〜１８が好ましく、更に炭素数２〜８が好ましく、例えばビニル、２−プロペニル、２−メチルプロペニル、１，３−ブタジエニルを挙げることができる。
【００８３】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるアルキニル基は、炭素数２〜１８が好ましく、更に炭素数２〜８が好ましく、例えばエチニル、プロピニル、３，３−ジメチルブチニルを挙げることができる。
【００８４】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるアリール基は、炭素数６〜１８が好ましく、更に炭素数６〜１０が好ましく、例えばフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルを挙げることができる。
【００８５】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるヘテロ環基は、炭素数４〜７の飽和又は不飽和のヘテロ環基が好ましく、含有されるヘテロ原子としては窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、例えば４−ピリジル、２−ピリジル、２−ピラジル、２−ピリミジル、４−ピリミジル、２−イミダゾリル、２−フリル、２−チオフェニル、２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンゾチオキサゾリルを挙げることができる。
【００８６】
一般式（ＩＩＩ）のＲ31およびＲ32は更に置換基を有していてもよく、置換基としては一般式（Ｉ）のＲを表す置換基として例示したものと同様のものを挙げることが
できる。
【００８７】
一般式（ＩＩＩ）においてＲ33で表される置換基は、一般式（ＩＩ）のＲと同義であり、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜８の無置換アルキル基である。
【００８８】
一般式（ＩＩＩ）において、ｓは０乃至８の整数を表すが、ｓは０〜４が好ましく、更に０〜２であることが好ましく、特に０が好ましい。ｓが２以上の整数のとき、複数個のＲ33はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよい。また、一般式（ＩＩＩ）において二つのピリジン環は、何れの位置で連結していてもよいが、ピリジン環の２位もしくは４位で連結するのが好ましく、特に両ピリジン環の４位同士で連結するのが好ましい。
【００８９】
一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【００９０】
一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素の具体例としては、特開昭６３−２０９９９５号公報、特開平１０−２９７１０３号公報、同１１−７８１０６号公報、同１１−３４８４２０公報、特開２０００−５２６５８公報、特願平１１−７８１０６号公報に記載されたオキソノール色素の具体例を挙げることができる。その一部の化合物を以下に例示する。
【００９１】
【化９】
2006294169.tif 000017
【００９２】
【化１０】
2006294169.tif 000018
【００９３】
【化１１】
2006294169.tif 000019
【００９４】
【化１２】
2006294169.tif 000020
【００９５】
記録層は、その耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有することが好ましい。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。
【００９６】
好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（ＩＶ）で表わ
される化合物を挙げることができる。
【００９７】
【化１３】
2006294169.tif 000021
【００９８】
（但し、上記式中、Ｒ31は置換基を有していてもよいアルキル基を表わし、Ｑ-はアニオンを表わす。）
【００９９】
一般式（ＩＶ）において、Ｒ31は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキ
ル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニオンの例としては、ＣｌＯ4-、ＡｓＦ6-、ＢＦ4-、及びＳｂＦ6-が好ましい。
【０１００】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０１０１】
記録層は、上記色素（有機物等）等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して記録層塗布液を調製し、次いでこの記録層塗布液を基板表面に形成された反射層上に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより形成される。記録層塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。また、記録物質等を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー、加温等の方法を適用することができる。
【０１０２】
記録層塗布液を調製する際の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
【０１０３】
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１０４】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；等を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０１０５】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。また、塗布温度としては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃、さらに好ましくは２５〜３７℃である。
【０１０６】
粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好ましく、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい。
【０１０７】
＜中間層＞
中間層は、少なくとも、上記記録層と後述する接着層との間に形成される。また、既述のように、接着層とカバー層との間に、さらに、中間層（第２の中間層）が形成されていてもよい。記録層上に接着層を形成すると、接着層の接着剤が記録層の有機物を溶解してしまうが、中間層を設けることにより、接着剤が記録層に直接接触せず、記録層が接着剤によって溶解されるのを防止することができる。
【０１０８】
中間層で水分透過率を調整するには、中間層を構成する構成成分と中間層の製膜条件とを適宜選択する。
【０１０９】
中間層の構成成分としては、Ｎｂ、Ａｌ、Ｓｉを少なくとも１種含む酸化物や窒化物；Ｚｎを含む硫化物；等が好ましい。中でも、Ｎｂを含む酸化物がより好ましい。製膜条件としては、できるだけ緻密な膜にすることが好ましく、そのためには、以下に説明する希ガスおよび酸素の混合ガスを用いたスパッタリング条件を採用することが好ましい。
【０１１０】
中間層を形成する際に行われる、通常の希ガス（例えば、アルゴンガス）のみを導入してのスパッタリングでは、スパッタ時にはじき飛ばされる金属酸化物中の酸素が希ガスとともに排気され、形成される膜中の酸素数が減少し酸素欠損を招く。この酸素欠損がしみ状となり、中間層の光学特性に影響を及ぼす。そこで、希ガスとともに排気される酸素を補うため、予め導入ガスに酸素を混入させる。つまり、希ガスと酸素とを混合した混合ガスを導入ガスとして使用することにより、形成される膜には、ターゲットの金属酸化物由来の酸素と、混合ガス由来の酸素とが存在する。そして、導入ガス中の酸素量を適宜調整することにより、ターゲット側の金属酸化物の金属と酸素との比で緻密な膜を形成することができる。あるいは、ターゲット側の金属酸化物の金属と酸素との比と、混合ガス中の酸素の比率を調整することにより、所望の金属・酸素比の膜を形成することができる。
【０１１１】
中間層は、例えば、Ｎｂを含む酸化物をターゲットとしたスパッタリングにより成膜することができる。この場合、成膜時の圧力は１×１０-2〜１×１０-5ｔｏｒｒ（１．３３〜１．３３×１０-3Ｐａ）とすることが好ましく、レート（スパッタ速度）は０．１〜１０ｎｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。スパッタ電力は０．２〜４ｋＷとすることが好ましく、０．４〜３ｋＷとすることがより好ましく、０．５〜２．５ｋＷとすることがさらに好ましい。
【０１１２】
本発明においては、既述の通り、スパッタで使用するガスの種類は、Ａｒ等の希ガスと酸素ガスとを使用する。ガスの流量は、希ガス及び酸素ガスのいずれの場合でも、１〜５０ｓｃｃｍ（１〜５０ｍｌ／ｍｉｎ）とすることが好ましい。また、ターゲットが金属酸化物の場合、酸素ガスの流量は、０．１〜２５ｓｃｃｍとすることが好ましく、０．２〜２０ｓｃｃｍとすることがより好ましく、０．５〜１５ｓｃｃｍとすることがさらに好ましい。酸素ガスの流量を０．１〜２５ｓｃｃｍとすることにより、安定な膜を十分な成膜速度で得ることができる。なお、希ガスと酸素ガスは予め混合して混合ガスとしても、スパッタ時に別々に導入してもよい。
【０１１３】
ＲＦスパッタの場合、そのチューニング（マッチング）を調整して、ＦＷＤに対するＲＥＦは１０％以下とすることが好ましく、５％以下とすることがより好ましく、２．５％以下とすることがさらに好ましい
【０１１４】
ＤＣスパッタの場合、パルススパッタや、チョッパーなどにより、瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。
【０１１５】
本発明においては、記録層と接着層との間の中間層の厚みは、３０ｎｍ以下であることが好ましい。当該中間層は厚ければ相対的に水分透過率が低下する。しかし、厚くすることで、（１）光学特性が変化したり、２ピット部の接着層側への変形がなくなり初期の記録特性が低下してしまう。また、スパッタリングによる製膜時間が長くなり生産性が低下してしまう。そのため、できる限り薄い膜とすることが好ましい。かかる観点から、記録層と接着層との間の中間層の厚みは、３０ｎｍ以下であることが好ましく、１．５〜２０ｎｍであることがより好ましい。
【０１１６】
＜カバー層＞
カバー層は、光情報記録媒体内部への水分の侵入を防ぐために形成される層で、接着層とカバーシートとからなる。該カバー層は、厚さ０．０５〜０．０９ｍｍのカバーシートを、２５℃における硬化前の粘度が１３０ｍＰａ・ｓ以上５９０ｍＰａ・ｓ以下のＵＶ硬化性接着剤を用いて貼り合わせて形成されたものであることが好ましい。カバーシートの材料は、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料である。また、カバーシートの厚さは、好ましくは、０．０７〜０．０９ｍｍであり、より好ましくは、０．０８〜０．０９ｍｍである。カバーシートの厚さが０．０５ｍｍ未満では、接着層の厚みが厚くなり、均一に塗布することが困難となり、厚みムラ±３μｍの規格を満足することができなくなる。また、０．０９ｍｍを超えると、カバー層の厚さの規格（０．１ｍｍ）を満足することが困難になる。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光に対して、該光を透過する（透過率：８０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【０１１７】
カバー層は、真空脱気泡した前記ＵＶ硬化性接着剤を、所定温度で中間層上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、カバーシートを貼り合わせて、このカバーシートの上から光を照射して塗布膜を硬化させて形成される。このように形成されるカバー層の厚さは、０．０１〜０．２ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０３〜０．１ｍｍの範囲であることがより好ましく、０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲であることがさらに好ましい。
【０１１８】
ＵＶ硬化性接着剤としては、２５℃における硬化前の粘度が１３０ｍＰａ・ｓ以上５９０ｍＰａ・ｓ以下のものを用いることが好ましい。該ＵＶ硬化性接着剤の粘度は、より好ましくは１４０ｍＰａ・ｓ以上５００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに好ましくは１５０ｍＰａ・ｓ以上４００ｍＰａ・ｓ以下である。該粘度が１３０ｍＰａ・ｓ未満では、脱気泡してもＵＶ硬化性接着剤の気泡が抜けなくなることがあり、５９０ｍＰａ・ｓを超えると、厚みムラが発生してしまうことがある。また、ＵＶ硬化性接着剤の硬化収縮率は、９％以下が好ましい。
【０１１９】
前記ＵＶ硬化性接着剤は、スピンコート法により、光情報記録媒体の内周から３０ｍｍ以内の領域に吐出し、塗布することが好ましい。このとき、光情報記録媒体を、例えば３０〜８０００ｒｐｍまで変化させながら回転させ、該ＵＶ硬化性接着剤を全面に満遍なく広げる。このようにしてＵＶ硬化性接着剤を塗布すると、よりカバー層の厚みムラを少なくすることができる。
【０１２０】
ＵＶ硬化性接着剤としては、ディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化性接着剤としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性接着剤を挙げることができる。
【０１２１】
ＵＶ硬化性接着剤の使用においては、以下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要となる。光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。２５４，３１３，８６５ｎｍの波長において吸光係数の比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−２ジエトキシアセトフェノン、Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使用できる。芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａ）１００質量部に対し０．５〜２０質量部、好ましくは２〜１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加したものが市販しており、それを使用してもかまわない。紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は２０〜２００Ｗ／ｃｍのランプを用い速度０．３ｍ／分〜２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好ましい。
【０１２２】
なお、カバーシートの貼り合わせ面に粘着剤が設けられている場合は、貼り合わせ後の粘着剤からなる層が、接着層となる。
【０１２３】
また、本実施形態の光情報記録媒体においては、反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて誘電体層または光透過層を形成することができる。例えば、記録層との接着性向上のための光透過層を設けてもよく、相変化型の記録層を設けた場合には、放熱のための誘電体層を設けてもよい。誘電体層としては、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料を使用することが好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2のようなものであってもよい。光透過層としては、レーザー波長で９０％以上の透過率があるものであれば如何なる材料をも使用することができる。
【０１２４】
上記誘電体層または光透過層は、従来公知の方法により形成することができる。誘電体層の厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましく、光透過層の厚さは、２〜５０ｎｍとすることが好ましい。
【０１２５】
また、既述のように、カバーシート上にはハードコート層を設けてもよい。ハードコート層は、傷の発生を防止するための層であり、その材料としては、放射線硬化樹脂を用いることが好ましい。ハードコート層に使用される放射線硬化樹脂としては、放射線照射により硬化可能な樹脂であればよく、より詳細には、分子中に、２個以上の放射線官能性の２重結合を有する樹脂であることが好ましい。
【０１２６】
例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等が挙げられる。中でも、好ましくは、２官能以上のアクリレート化合物、メタクリレート化合物である。
【０１２７】
ハードコート層の中には、添加剤を含有してもよい。使用する添加剤の種類や量、カバー層表面における添加剤の存在量によっては、カバー層表面が撥水性となり、カバー層への水分の浸入を防ぐことが可能となり、水分透過率を調整することができる。
【０１２８】
ハードコート層に用いられる添加剤としては、ＳｉもしくはＦを含有するモノマー、あるいは、ＳｉもしくはＦを含有するモノマーの共重合体、ＳｉもしくはＦを含有するグラフト重合体にアクリル基を含有させたものが使用できる。ＳｉもしくはＦの含有量を変えることによりカバー層表面の撥水性が変化し、水分透過率を調整することができる。これらは単独でも、複数種混合してもよい。
【０１２９】
ＳｉもしくはＦを含有する添加剤としては、以下に示すものが挙げられる。まず、Ｓｉを含有するモノマーとしては、ポリジメチルシロキサンと（メタ）アクリル酸等の反応によるシロキサン基を有するモノマーが挙げられる。末端（メタ）アクリレートのシロキサン化合物の具体例としては、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−８２０１、Ｘ−２２−２４２６（以上、信越化学工業（株）製）、ＵＭＳ１８２（チッソ（株）製）などが挙げられる。
【０１３０】
また、Ｆを含有するモノマーとしては、ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、ヘプタデ力フルオロデシルアクリレート、パーフルオロアルキルスルホンアミドエチルアクリレート、パーフルオロアルキルアミドエチルアクリレート等に代表されるパーフルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。
【０１３１】
具体的には、２−パーフルオロオクチルエチルメタアクリレート、２―パーフルオロオクチルエチルアクリレート（日本メクトロン（株）製）、Ｍ−３６３３、Ｍ−３８３３、Ｒ−３６３３、Ｒ−３８３３等のアクリレート化合物（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＡＦＣ−１０００、ＡＦＣ−２０００、ＦＡ−１６等（共栄社化学（株）製）、メガファック５３１Ａ（大日本インキ（株）製）などの重合性基を含有する化合物が挙げられる。
【実施例】
【０１３２】
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３３】
（実施例１）
厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍのスパイラル状のグルーブ（トラックピッチ：３４０ｎｍ、溝深さ：２０ｎｍ、溝幅：１６０ｎｍ）を有する射出成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有する面に、Ａｇをスパッタリングして１２０ｎｍの膜厚の反射層を形成した。
【０１３４】
フタロシアニン系色素（商品名：オラゾールブルーＧＮ、ｃｉｂａスぺシャリティケミカル社製）１．００ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００ｍｌに溶解し、塗布液を調製した。この塗布液をスピンコート法により上記反射層上に塗布し、２３℃５０％ＲＨで２時間アニール処理（加熱処理）を施して、記録層を形成した。
【０１３５】
加熱処理後、真空成膜法によりＮｂ2Ｏ4.83からなるターゲットを用いて、パルスＤＣ法で５ｎｍの厚みの中間層を製膜した。投入電力は１．５ｋＷ、スパッタガスはＡｒガスとＯ2ガスとを使用し、Ａｒガス流量は、５０ｓｃｃｍ（５０ｍｌ／ｍｉｎ）とし、Ｏ2ガス流量は、１０ｓｃｃｍ（１０ｍｌ／ｍｉｎ）とした。
【０１３６】
その後、ＵＶ硬化性接着剤（大日本インキ社製、ＳＤ６４０）をスピンコート法により３０ｍｍより内周に塗布厚み５μｍとなるように、回転数３０〜３００ｒｐｍとして中間層上に塗布し、その上に、カバーシート（カバー層）としてのポリカーボネートシート（帝人社製ピュアエース、厚さ：９５μｍ）を重ね合わせ、３０ｒｐｍから８０００ｒｐｍまで変化させながら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化させ、光情報記録媒体を作製した。なお、接着層を含むカバー層の厚みは１００μｍであった。
【０１３７】
当該光情報記録媒体について、当該光情報記録媒体について、使用したカバー層（カバーシート上に上記条件でＵＶ接着剤をスピンコートし、その後、同一条件で中間層を形成したもの）を別に作製し、透過面積が５ｃｍ2になるように一部をアルミニウムでマスクしたもので、モコン法（ＪＩＳ  Ｋ７１２９Ｂ準拠方法）で水分透過率を測定したところ、６５ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。
【０１３８】
（実施例２）
スパッタガスにおけるＡｒガス流量を、１０ｓｃｃｍ（１０ｍｌ／ｍｉｎ）とし、Ｏ2ガス流量を、２ｓｃｃｍ（２ｍｌ／ｍｉｎ）とした以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。また、実施例１と同様にして、中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度を測定したところ、２５ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。
【０１３９】
（実施例３）
中間層の厚みを１０ｎｍとし、スパッタガスにおけるＡｒガス流量を、５０ｓｃｃｍ（５０ｍｌ／ｍｉｎ）とし、Ｏ2ガス流量を、２ｓｃｃｍ（２ｍｌ／ｍｉｎ）とした以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。また、実施例１と同様にして、中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度を測定したところ、５ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。
【０１４０】
（実施例４）
カバーシート上にハードコート層（厚さ３μｍ）を形成した以外は実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。また、実施例１と同様にして、中間層からカバー層（ハードコート層）までのモコン法による水分透過度を測定したところ、６５ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。なお、ハードコート層は下記（１）〜（３）のようにして形成した。
【０１４１】
（１）ハードコート層塗布液の調製：
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）中にグリシジルメタクリレートを溶解させ、熱重合開始剤（Ｖ−６５、和光純薬工業（株）製）を滴下しながら８０℃で２時間反応させた。得られた反応溶液をヘキサンに滴下し、沈殿物を減圧乾燥して得たポリグリシジルメタクリレート（ポリスチレン換算分子量：１２０００）をメチルエチルケトンに５０質量％の濃度になるように溶解した溶液を調製した。当該溶液１００質量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート（ビスコート♯２９５、大阪有機化学工業（株）製）１５０質量部と光ラジカル重合開始剤（イルガキュア１８４、チバガイギー社製）６質量部と光カチオン重合開始剤（ロードシル２０７４、ローディア社製）６質量部とを加え、ハードコート層塗布液を調製した。
【０１４２】
（２）ハードコート層の形成：
ロール状に巻かれたポリカーボネートフィルム（帝人社製ピュアエース、厚さ：９０μｍ、片面離型フィルム付き）の離形フィルムを剥離し、その面に上記ハードコート層塗布液を５μｍの厚みになるようにエクストルージョン方式で塗布、乾燥した。その後、紫外線を照射（７００ｍＪ／ｃｍ2）して、厚さ９５μｍのハードコート層が形成されたポリカーボネートフィルムを作製し、ロール状に巻き取った。
【０１４３】
（３）打ち抜き：
基板と同一形状に打ち抜き、ハードコート層付カバー層とした。
【０１４４】
（実施例５）
カバーシート上にＦ系添加剤を含有するハードコート層（厚さ３μｍ）を形成した以外は実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。また、実施例１と同様にして、中間層からカバー層（ハードコート層）までのモコン法による水分透過度を測定したところ、５５ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。なお、Ｆ系添加剤を含有するハードコート層は下記のようにして形成した。
【０１４５】
すなわち、実施例４のハードコート層塗布液の調製時にＦ系添加剤であるＦ−５３１Ａ（ＤＩＣ（株）社製  フッ素含有量４８％）１０質量部を３０質量部のメチルイソブチルケトンに溶解したものを撹拌しながら混合し、Ｆ系添加剤を含有するハードコート層塗布液を調製した。その後、実施例４と同様にしてかかる塗布液を塗付し、基板と同一形状に打ち抜き、Ｆ系添加剤を含有するハードコート層付カバー層とした。
【０１４６】
（実施例６）
カバーシート上にＳｉ系添加剤を含有するハードコート層（３μｍ）を形成した以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。また、実施例１と同様にして、中間層からカバー層（ハードコート層）までのモコン法による水分透過度を測定したところ、５８ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。なお、ハードコート層は下記のようにして形成した。
【０１４７】
実施例４のハードコート層塗布液の調製時にＳｉ系添加剤であるＵＭＳ１８２（チッソ（株）社製  ケイ素含有量３０．５％）１０質量部を３０質量部のメチルイソブチルケトンに溶解したものを撹拌しながら混合し、Ｓｉ系添加剤を含有するハードコート層塗布液を調製した。その後、実施例４と同様にしてかかる塗布液を塗付し、基板と同一形状に打ち抜き、Ｓｉ系添加剤を含有するハードコート層付カバー層とした。
【０１４８】
（実施例７）
中間層の厚みを４０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。また、実施例１と同様にして、中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度を測定したところ、３ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。
【０１４９】
（実施例８）
実施例１で、貼り合せる前のカバーシートに真空製膜法により、Ｎｂ2Ｏ4.83からなるターゲットを用いてパルスＤＣ法で５ｎｍの厚みの第２の中間層を製膜した。投入電力は１．５ｋＷ、スパッタガスはＡｒガスとＯ2ガスとを使用し、Ａｒガス流量は、５０ｓｃｃｍ（５０ｍｌ／ｍｉｎ）とし、Ｏ2ガス流量は、２ｓｃｃｍ（２ｍｌ／ｍｉｎ）とした。第２の中間層と基板上の中間層とを実施例１と同様の手法で貼り合わせ光情報記録媒体を作製した。
【０１５０】
また、実施例１と同様にして、中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度を測定したところ、５ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。
【０１５１】
（比較例１）
中間層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。また、実施例１と同様にして、接着層からカバー層までのモコン法による水分透過度を測定したところ、８５ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。
【０１５２】
（比較例２）
中間層の製膜時のＡｒガス流量を１００ｓｃｃｍ（１００ｍｌ／ｍｉｎ）とした以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。なお、実施例１と同様にして、中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度を測定したところ、８２ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。
【０１５３】
（比較例３）
中間層上に形成するカバー層の材質をＵＶ硬化樹脂（大日本インキ社製、ＳＤ６４０）とした以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。なお、ＵＶ硬化樹脂製のカバー層は下記のようにして形成した。
【０１５４】
すなわち、中間層上に、１００μｍの厚みでスピンコート塗付し、ＵＶ硬化性接着剤（大日本インク社製、ＳＤ６４０）をスピンコート法により塗付し、ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化させて、カバー層を形成した。
【０１５５】
当該光情報記録媒体の記録層より上部（中間層およびカバー層）を剥離し、剥離した「中間層およびカバー層」をセルの開口部にあわせて切り出した。透過面積が５ｃｍ2になるように一部をアルミニウムでマスクし、モコン法（ＪＩＳ  Ｋ７１２９Ｂ準拠方法）で水分透過率を測定したところ、１００ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。
【０１５６】
実施例および比較例で作製した光情報記録媒体について、下記のような湿熱保存性の試験を行い、それぞれについて評価を行った。
【０１５７】
（湿熱保存性の試験）
実施例および比較例のそれぞれの光情報記録媒体の初期特性をλ＝４０５ｎｍで発光する青紫色レーザーと、開口数ＮＡ＝０．８５の対物レンズから構成されるピックアップを有した記録再生装置ＤＤＵ１０００（パルステック工業社製）を用いて、１７ＬＬ変調信号の記録と再生を行い、信号再生ジッターを測定した。その後、６０℃９０％に調整した高温高湿槽に１６８時間保存後、上記記録再生装置ＤＤＵ１０００を用いて、１７ＬＬ変調信号の記録と再生を行い、信号再生ジッターを測定した。結果を下記表８に示す。
【０１５８】
【表８】
2006294169.tif 000022
【０１５９】
表８の結果のとおり、中間層からカバー層までのモコン法による水分透過度が、７５ｇ／（ｍ2・ｄ）以下である実施例の光情報記録媒体は、いずれも、優れた初期ジッターおよび保存後ジッターが得られることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】本発明の光情報記録媒体の層構成の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１６１】
１０・・・基板
１２・・・反射層
１４・・・情報記録層
１６・・・中間層
１８・・・接着層
２０・・・カバーシート
１００・・・光情報記録媒体
【図１】
2006294169.tif 000023