【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年12月28日(2006.12.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  システム真空室と、液体金属イオン源を含むイオン銃と、イオンを抽出し集束させるための複数のレンズ要素と、１つまたは複数のビーム開口と、静電偏向手段とを含み、真空内隔離バルブを備えて前記イオン銃を前記システム真空室から隔離し、前記真空内隔離バルブが、前記バルブから前記システム真空室の外部への機械的リンケージを持たないように改良された、ＦＩＢカラム。
【請求項２】  前記真空内隔離バルブが、第２の表面に向かってスライドしてバルブ・シートを封止位置に押し付ける第１の表面を含む請求項１に記載のＦＩＢカラム。
【請求項３】  バルブ・シートの下方で楔封止表面がスライドし、前記バルブ・シートを押し付けて前記バルブを閉じる請求項２に記載のＦＩＢカラム。
【請求項４】  前記真空内隔離バルブが、前記バルブを制御可能に起動する空圧ベローズを含む、請求項１に記載のＦＩＢカラム。
【請求項５】  前記真空内隔離バルブが空圧で作動し、前記真空内隔離バルブを作動させる空圧接続が、前記システム真空室の壁を貫通する、請求項１に記載のＦＩＢカラム。
【請求項６】  システム真空室と、液体金属イオン源を含むイオン銃と、イオンを抽出し集束させるための複数のレンズ要素と、１つまたは複数のビーム開口と、静電偏向手段とを含み、１つまたは複数の前記レンズ要素を位置決めし、かつ１つまたは複数の前記要素のための封止可能な真空容器を提供するための１つまたは複数の誘電体ブッシュを含むように改良され、前記真空容器の内部が前記システム真空室内で環境から選択的に隔離可能に真空にされ、真空内隔離バルブ機構を含み、前記真空内隔離バルブが前記バルブから前記システム真空室の外部への機械的リンケージを持たない、ＦＩＢシステム。
【請求項７】  前記真空内隔離バルブが、前記バルブを起動する空圧ベローズを含む、請求項６に記載のＦＩＢシステム。
【請求項８】  システム真空室内の集束イオン・ビーム・カラムを含む粒子ビーム・システムであって、集束イオン・ビーム・カラムが、液体金属イオン源と、イオンを抽出し集束させるための複数のレンズ要素と、１つまたは複数のビーム開口と、静電偏向手段と、ビーム消去手段と、関連電子回路並びに制御器を備える真空ポンプとを含み、真空内隔離バルブを備えて銃真空容器を隔離するように改良され、真空隔離バルブ起動機構が、前記システム真空室の外部への機械的駆動接続なしで作動可能である、システム。
【請求項９】  前記真空隔離バルブが空圧で作動し、前記真空隔離バルブを作動させる空圧接続が、前記システム真空室の壁を貫通する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】  システム真空室内の集束イオン・ビーム・カラムを含む粒子ビーム・システムであって、前記集束イオン・ビーム・カラムが、液体金属イオン源と、イオンを抽出し集束させるための複数のレンズ要素と、１つまたは複数のビーム開口と、静電偏向手段と、ビーム消去手段と、関連電子回路並びに制御器を備える真空ポンプとを含み、前記真空室内に配置された自動可変開口駆動装置を具備し、前記駆動装置が前記真空室の外部への機械的駆動接続なしで作動可能で、かつ１つまたは複数の開口を保持するＸＹステージを含むように改良された、システム。
【請求項１１】  前記ＸＹステージはリニアエンコーダを有しており、前記ＸＹステージ位置の正確なフィードバックを提供する請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】  前記ＸＹステージは、前記ステージをＸ方向に移動させるリニアベアリングと、前記ステージをＹ方向に移動させるリニアベアリングを含む請求項１０に記載のシステム。
【請求項１３】  前記自動可変開口駆動装置が、圧電式位置決め装置を含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１４】  前記自動可変開口駆動装置が、電気モータを含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１５】  システム真空室と、液体金属イオン源を含むイオン銃と、イオンを抽出し集束させるためのレンズ要素と、１つまたは複数のビーム開口と、静電偏向手段とを含み、前記システム真空室内に含まれて前記１つまたは複数のビーム開口を保持するＸＹステージ駆動機構を備えた真空内開口変更機構を具備して、機械的に貫通して開口を変更するための要件を回避するように改良された、ＦＩＢシステム。
【請求項１６】  前記真空内開口変更機構が、ステージを駆動するための、１つまたは複数の圧電アクチュエータ、ＤＣモータ、またはステップ・モータを具備する、請求項１５に記載のＦＩＢシステム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
しばしば第１のレンズであるイオン源を含むイオン・カラムの一部は、「イオン銃」と呼ばれる。イオン銃は通常、イオンを放出するエミッタ、高電圧を提供してエミッタからイオンの抽出を補助するエキストラクタ、初期にビーム径を決定するのを助けるエキストラクタ開口、およびエミッタ放出電流の微調整をするエミッタ回りのサプレッサを含む。空気分子がビーム中でイオンと干渉するために、イオン・ビームの全経路は、高真空または超高真空を維持するシステム真空室内に収まっている。イオン銃は、被加工物を挿入または除去するためにシステム真空室を開けるときに、エミッタが汚染されないように、個別に密閉可能な銃真空室（ｇｕｎ  ｖａｃｕｕｍ  ｃｈａｍｂｅｒ）に収納されることが多い。銃真空室を封止する真空隔離バルブを作動させる機構は通常、システム真空室の外に延びている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
イオン・ポンプ・ポート１３０は、真空室１０２内に超高真空を生成するためのイオン・ポンプに接続されており、銃室真空隔離バルブ機構１３２によって、真空室１０２を真空隔離することが可能となり、その結果例えば、被加工物が配置され、かつカラム組立体１００が挿入されるシステム真空室を、真空室１０２内の要素を汚染することなく、大気に開放することができる。銃室真空隔離バルブ機構１３２は、システム真空室の壁部を通過して延びている。カラム組立体１００は取付けフランジ１４０を用いてシステム真空室に取り付けられている。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
本発明の他の態様においては、小型イオン・カラムは、システム真空室内に、自動可変開口駆動機構および銃室真空隔離バルブ起動機構を包含する。このような機構を真空室内に包含すると、真空室内で他の構成要素の配置と干渉することになる機械貫通接続を不要にすることによってマルチビーム・システムの設計が容易になる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
図２Ｂは、本発明に適した実施形態として追加すべき特徴を示している。エミッタ２２０、サプレッサ（遮断装置）２２２、エキストラクタ（ｅｘｔｒａｃｔｏｒ、抽出器）２２４および第１レンズ２２６が組み合わされてイオン・エミッタ・モジュール２３０となり、このモジュールは現場で必要になれば容易に交換できる。銃室２０６は、それ自体の真空ポンプであるポートに取り付けられたイオン・ポンプ２０４（図示せず）を含み、隔離バルブ２４０を使用してシステム真空室から真空隔離することが可能である。この隔離バルブ組立体２４０、自動可変開口２４２のＸＹ開口ステージ、および偏向板２４６と最終レンズ２４８が、銃室２０６の外部、かつシステム真空室の内部に位置している。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
光学カラムは、イオンの相互反発によるビームの拡幅を最小化するために長さが短いのが好ましい。イオン・カラム光学長を低減することによって、標的までのイオン経路が短縮される。カラムをシステム真空室内に延びることができるようにしながら、このような短縮を助長するために、隔離バルブ起動機構および開口変更駆動機構は、システム真空室内に配置するのが好ましい。これらの機構をシステム真空室内に配置することで、システム真空室内でのイオン・カラムの配置を制約し、かつシステムを複雑化させる、対応する機械的貫通接続が不要となる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
隔離バルブ２４０、自動可変開口２４２、およびそれに付随する起動機構または駆動機構は、主システム真空室の内部に完全に配置して、カラム長を短くするのが好ましい。隔離バルブは、小型の機構であり、カラム室本体の下方に沿った空気配管によって空気起動される。自動可変開口（ＡＶＡ）には、好ましくは圧電駆動で真空対応でありかつ磁場が弱い超小型のＸＹステージを使用するのが好ましい。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
図４は、図２Ａおよび図２Ｂのカラム上で使用される真空内隔離バルブ機構４００に適した一実施形態を示す。封止金属ベローズ４０２は、銃の側の穴４０６を介して供給される空気圧を使用して、バルブを開放する。スプリング４０４は、空気圧がオフの場合にバルブを閉位置に戻す。スライダ４１０上の楔封止表面は、銃の基部（図示せず）に配置されたバルブ・シート４０８の下方でスライドする。スライダ４１０の楔型表面上のＯリングが、バルブ封止を形成する。バルブ・シート４０８は、それを貫通する穴を有し、イオン・ビームを銃から下部カラムへと通過させる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
図６は、上述のＦＩＢカラム６０２を使用するデュアル・ビーム・システム６００を示す。ＦＩＢカラム６０２は、ＡＶＡ駆動機構５００および真空隔離バルブ４００を含み、両者ともシステム真空室６０４に配置されている。ＡＶＡ駆動機構５００は、システム真空室６０４内に収納されており、電気接続だけをシステム真空室６０４の外部に延ばす必要がある。同様に、真空隔離バルブ機構４００は、システム真空室６０４内に収納され、バルブを駆動する空気配管だけを、室外に延ばす必要がある。デュアル・ビーム・システム６００はまた、第２のビーム・システム、すなわちこの場合には、ＦＩＢカラムと同一の被加工物６０８を標的とする走査型電子顕微鏡６１０を含む。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】図面の簡単な説明
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
構造の詳細を開示するために外部カバー部分を取り除いた、従来技術のＦＩＢを示す図である。
【図２Ａ】
本発明によるＦＩＢカラムの外部を示す図である。
【図２Ｂ】
部分横断面を表示するために外部カバーの一部分を取り除いた、図２ＡのＦＩＢカラムを示す図である。
【図３Ａ】
第１の銃レンズ要素が、エキストラクタから分離されているが、エキストラクタと同一電位にあるエミッタ組立体の横断面図である。
【図３Ｂ】
第１の銃レンズ要素がエキストラクタに取り付けられているエミッタ組立体の横断面図である。
【図４】
真空室内での使用に適する隔離バルブ起動機構を示す図である。
【図５】
真空室内の使用に適する圧電駆動式のＸＹ開口移動ステージを示す図である。
【図６】
本発明のカラムを使用する、マルチビーム・システムの概略図である。