Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月7日(2007.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  通信システムにおいて誤り訂正アルゴリズムを選択する方法であって、
マルチフレームの各時間フレームを複数の時間スロットに分割し、
前記マルチフレームの間に受信されたときの複数のベアラデータパケットに基づき、通信路の誤り率レベルを決定し、
前記誤り率レベルを考慮して複数の誤り訂正アルゴリズムから誤り訂正アルゴリズムを選択し、
前記通信路の動的品質を決定し、
前記動的品質に基づいて前記マルチフレームにおける時間フレームの数を調整する、
ようにした方法。
【請求項２】  前記複数のベアラデータパケットがトラヒックデータを備える請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記誤り訂正アルゴリズムがオーバヘッドレベルを有し、前記トラヒックデータの量が前記オーバヘッドとは逆に変化せしめられる請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記誤り率レベル決定が、前記複数のベアラデータパケットを訂正し、現在のブロック誤り率（ＢＬＥＲ）レベルを得るために欠陥のある数多くのベアラデータパケットを検出するとともに、前記誤り訂正アルゴリズム決定が前記現在のＢＬＥＲレベルに基づくものである請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記誤り訂正アルゴリズム選択が、許容できるＢＬＥＲ範囲を作成するために、最小ＢＬＥＲ閾値レベルおよび最大ＢＬＥＲ閾値レベルを設定し、前記許容できるＢＬＥＲ範囲が前記現在のＢＬＥＲレベルを含む場合に現在の誤り訂正アルゴリズムを選択する一方、前記許容可能なＢＬＥＲ範囲が前記現在のＢＬＥＲレベルを含まない場合に、前記現在の誤り訂正アルゴリズムとは異なる誤り訂正アルゴリズムを選択するようにした請求項４に記載の方法。
【請求項６】  前記複数の誤り訂正アルゴリズムが、異なるオーバヘッドレベルを備え、前記誤り訂正アルゴリズム決定が、さらに、前記現在のＢＬＥＲレベルが前記最小ＢＬＥＲ閾値レベルを下回る場合に、前記現在の誤り訂正アルゴリズムのオーバヘッドの次に低いオーバヘッドの誤り訂正アルゴリズムを選択し、前記現在のＢＬＥＲレベルが前記最大ＢＬＥＲ閾値レベルを超える場合に、前記現在の誤り訂正アルゴリズムのオーバヘッドの次に高いオーバヘッドの誤り訂正アルゴリズムを選択するようにした請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記誤り率レベルの決定が、ビット誤り率（ＢＥＲ）レベルを得るために前記複数のベアラデータパケット内でビット誤りの数を検出し、前記誤り率レベルの決定が前記現在のＢＥＲレベルに基づくものである請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記誤り訂正アルゴリズム選択が、複数の誤り訂正アルゴリズムに対応する複数のＢＥＲ範囲を作成するために少なくとも１つのＢＬＥＲ閾値レベルを設定し、現在のＢＥＲレベルを含むＢＥＲ範囲に対応する誤り訂正アルゴリズムを選択するようにした請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記複数のベアラデータパケットの各ベアラデータパケットが、それぞれ前記マルチフレームの前記各時間フレームの時間スロットの間に受信され、前記誤り訂正アルゴリズム選択が、前記マルチフレームの最後の時間フレームの間に前記誤り訂正アルゴリズムを選択するようにした請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記複数の誤り訂正アルゴリズムが、使用時に一切の誤りを訂正しないアルゴリズムを含む請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  前記複数の誤り訂正アルゴリズムが、使用時に一切の誤りを訂正しないアルゴリズムと、低レベル誤り訂正アルゴリズムと、高レベル誤り訂正アルゴリズムとを含む請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  前記複数のベアラデータパケットが、中央局と遠隔局の間で無線で伝送される請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月3日(2007.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線周波数信号を送信すること、および無線周波数信号を受信することの可能な送受信器を備える少なくとも１つのマスターユニットと、
前記マスターユニットの前記送受信器へ無線周波数信号を送信すること、および前記マスターユニットの前記送受信器から無線周波数信号を受信することの可能な送受信器を備える複数のリモートユニットであって、該リモートユニットから送信される前記無線周波数信号は、送信信号強度を有し、前記リモートユニットから前記マスターユニットによって受信される前記無線周波数信号は受信信号強度を有する、複数のリモートユニットと、
前記受信信号強度が低すぎるときに、そのことを検出する手段と、
受信信号強度が低いことを検出する前記手段に応答して、前記送信信号強度を増大する手段と、
前記送信信号強度を低減する手段と、
を備えるビルディング監視システム。
【請求項２】
無線周波数信号を送信すること、および無線周波数信号を受信することの可能な送受信器に結合される制御論理を実行するコントローラを備える少なくとも１つのマスターユニットと、
前記マスターユニットの前記送受信器へ無線周波数信号を送信すること、および前記マスターユニットの前記送受信器から無線周波数信号を受信することの可能な送受信器に結合された制御論理を実行するコントローラを備える複数のリモートユニットであって、該リモートユニットから送信される前記無線周波数信号は送信信号強度を有し、前記マスターユニットによって受信される前記リモートユニットからの前記無線周波数信号は受信信号強度を有する、複数のリモートユニットと、
を備え、
前記マスターユニットの前記制御論理は、前記リモートユニットからメッセージを受信したときに、前記リモートユニットへ受信確認のメッセージを送信させるようにし、
前記リモートユニットの前記制御論理は、前記リモートユニットの送信したメッセージに応答しての前記受信確認が受信されない場合に、前記送信信号強度を増大させるようにする、
ように構成されるビルディング監視システム。
【請求項３】
無線周波数信号を送信すること、および無線周波数信号を受信することの可能な送受信器に結合される制御論理を実行するコントローラを備える少なくとも１つのマスターユニットと、
前記マスターユニットの前記送受信器へ無線周波数信号を送信すること、および前記マスターユニットの前記送受信器から無線周波数信号を受信することの可能な送受信器に結合された制御論理を実行するコントローラを備える複数のリモートユニットであって、該リモートユニットから送信される前記無線周波数信号は送信信号強度を有し、前記リモートユニットから前記マスターユニットによって受信される前記無線周波数信号は受信信号強度を有する、複数のリモートユニットと、
を備え、
前記マスターユニットの前記制御論理は、前記リモートユニットからメッセージを受信したときに、受信信号強度メッセージを前記リモートユニットへ対して送信させるようにし、前記受信信号強度メッセージは、受信信号強度を示す情報を含むものであり、
前記リモートユニットの前記制御論理は、前記受信信号強度を示す情報に応答して前記送信信号強度を変更させるようにする、
ように構成されるビルディング監視システム。
【請求項４】
送受信器を備える少なくとも１つのマスターユニットおよび複数のリモートユニットを含むビルディング監視システムにおいて、前記リモートユニットの電力消費を最小化する方法であって、
前記リモートユニットからの送信信号強度を低減することにより、周期的に前記リモートユニットの電力消費を低減するステップと、
前記リモートユニットから前記マスターユニットへ送信された信号に対して受信確認が無いことに応答して、前記リモートユニットからの送信信号強度を増大するステップと、
を備える方法。
【請求項５】
送受信器を備える少なくとも１つのマスターユニットおよび複数のリモートユニットを含むビルディング監視システムにおいて、前記リモートユニットの電力消費を最小化する方法であって、
前記リモートユニットから前記マスターユニットへ信号を送信するステップであって、送信される前記信号は送信信号強度および受信信号強度を有する、ステップと、
前記受信信号強度を測定するステップと、
前記受信信号強度を示す情報を前記リモートユニットへ送るステップと、
受信した前記信号強度を示す前記情報に応答して、前記リモートユニットの前記送信信号強度を変更するステップと、
を備える方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  高電力密度加熱のための加熱素子であって；
第１のバスワイヤーと；
第２のバスワイヤーと；
該第１のバスワイヤーと、第２のバスワイヤーと間に接続された複数の可撓性加熱ワイヤーであって、該第１のバスワイヤーと、第２のバスワイヤーと間に複数の連続回路を形成するものとを具備してなり；該複数の連続回路が接続されていて、全体として電気的に並列的な回路を形成し、該連続回路が複数の平行領域内に配置され、複数のモジュールを形成し、該モジュールが上記平行領域の任意の境界部にて接合ないし離脱可能になっていて、それにより加熱素子の全長を変化させ得るようになっており、該加熱ワイヤーが各領域内にて曲がりくねった状態で平坦な基板に配置され、該加熱ワイヤーが該基板の面に実質的に限られており、これにより、ワイヤー長の高い密度と、単位面積当たりの高い電力密度を形成していることを特徴とする加熱素子。
【請求項２】  該加熱ワイヤーが、マイカ、ガラス、ガラスウール、Astrofoil、Reflectex、アルミニウム、マイラーからなる群から選択される基板上に設けられている請求項１記載の加熱素子。
【請求項３】  更にマイカ、ガラス、ガラスウール、Astrofoil、Reflectex、アルミニウム、マイラーからなる群から選択される材料から作られているジャケットを具備してなる請求項１記載の加熱素子。
【請求項４】  自己制限的である請求項１記載の加熱素子。
【請求項５】  該加熱ワイヤーがPTCポリマー材料からなる請求項４記載の加熱素子。
【請求項６】  第１の電極と；
第２の電極と；
複数のPTC加熱素子と；
該PTC加熱素子の２個の間に介在する少なくとも１個の導電路と；
を具備してなり；
該PTC加熱素子と、該導電路とが交互に形成され、該第１と第２の電極間に一連の回路を形成する自己制御加熱素子。
【請求項７】  該第１と第２の電極が、バスワイヤーとして作用し、該バスワイヤー該加熱素子の全長に沿って延びており；
該PTC加熱素子および該導電路が、該バスワイヤーと並列的に延び、かつ、交互するストリップとして形成されている請求項６記載の自己制御加熱素子。
【請求項８】  該PTCおよび該導電路ストリップが、複数の領域を形成している請求項７記載の自己制御加熱素子。
【請求項９】  該PTCおよび該導電路ストリップが、該加熱素子の全長に亘って延びている請求項７記載の自己制御加熱素子。
【請求項１０】  該導電路が、エッチングされたホイル層から形成されている請求項６記載の自己制御加熱素子。
【請求項１１】  該加熱素子が、NTC材料およびZTC材料からなる群から選択される材料の塗布層を含む請求項６記載の自己制御加熱素子。
【請求項１２】  該加熱素子が、長さが連続的に可変となっている請求項６記載の自己制御加熱素子。
【請求項１３】  第１の電極と；
第２の電極と；
該第１と第２の電極間に設けられたPTC材料の第１の層と；
該第１と第２の電極間に設けられた材料の第２の層と；
を具備してなることを特徴とする自己制御加熱素子。
【請求項１４】  該第２の層がPTC材料、NTC材料およびZTC材料からなる群から選択される請求項１３記載の自己制御加熱素子。
【請求項１５】  該第１および第２の層、および該第２の電極が該第１の電極と、同心的に形成されている請求項１３記載の自己制御加熱素子。
【請求項１６】  更に第３の層と、第３の電極を具備してなる請求項１３記載の自己制御加熱素子。
【請求項１７】  長さが連続的に可変となっている請求項１３記載の自己制御加熱素子。
【請求項１８】  複数のモジュールに形成され、該モジュールが接合ないし離脱可能になっていて、それにより加熱素子の全長を変化させ得るようになっている請求項１３記載の自己制御加熱素子。
【請求項１９】  保護されるべき素子の電圧スパイクに対する保護を提供するリセット可能なヒューズであって；
保護されるべき素子と並列的に設けられた電圧感応性材料の素子を具備してなることを特徴とするリセット可能なヒューズ。
【請求項２０】  保護されるべき素子と直列的に設けられた少なくとも１つのPTCを更に具備してなる請求項１９記載のリセット可能なヒューズ。
【請求項２１】  保護されるべき素子が回路板であって、該電圧感応性材料およびPTC材料が該回路板の一部に堆積されている請求項１９記載のリセット可能なヒューズ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月30日(2006.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１担体粒子に担持されている第１触媒材料を含むアノード層と、第２担体粒子に担持されている第２触媒材料を含むカソード層とを有する膜電極集合体（ＭＥＡ）であって、前記アノード層中の前記第１触媒材料の平均密度が１．０ｍｇ／ｍｍ３を超え、前記カソード層中の前記第２触媒材料の平均密度が１．０ｍｇ／ｍｍ３未満である膜電極集合体（ＭＥＡ）。
【請求項２】  第１触媒材料を含むアノード層と、第２触媒材料を含むカソード層とを有する膜電極集合体（ＭＥＡ）であって、前記アノード層中の前記第１触媒材料の電気化学的表面積／体積比が２００ｃｍ２／ｍｍ３を超え、前記カソード層中の前記第２触媒材料の電気化学的表面積／体積比が２００ｃｍ２／ｍｍ３未満である膜電極集合体（ＭＥＡ）。
【請求項３】  第１担体粒子に担持されている第１触媒材料を含むアノード層と、第２担体粒子に担持されている第２触媒材料を含むカソード層とを有する膜電極集合体（ＭＥＡ）であって、前記第１担体粒子の平均アスペクト比が３を超え、前記第２担体粒子の平均アスペクト比が３未満である膜電極集合体（ＭＥＡ）。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電極構造体の間にサンドウィッチ状に挟まれた一般式Ｉのポリマーを含む有機層を有する基体を含む有機半導体デバイス：
2003500838.tif 000001
式中ＸをＨ、ＣＮ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＯＯＣＨ3から選択し、
Ｙは以下の一般式IIで与えられ：
2003500838.tif 000002
式中Ａは、１位又は２位又は３位において独立にＣ1-8アルキル、ＣＮ、Ｆ、Ｃｌから選択する基でさらに置換されていてもよいフェニル基であり；
Ｂ及びＣは共に、１位又は２位又は３位又は４位又は５位においてＣ1-8アルキル、ＣＮ、Ｆ、Ｃｌから選択する基でさらに相互に独立に置換されていてもよいフェニル基であり；
Ａ、Ｂ及びＣは相互に独立にピリミジン、ピリダジン及びピリジンから選択してもよく；
ｍ＝５〜２０，０００である。
【請求項２】  Ａ、Ｂ、Ｃがフェニルでかつｍ＝５０〜５００である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】  ポリマーが以下のいずれかである、請求項１に記載のデバイス：
ポリ（ビニルジフェニルキノキサリン）
ポリ（ビニルジピリジルキノキサリン）
ポリ（ジフェニルキノキサリニルアクリロニトリル）
ポリ（ビニルジ−４−フルオロフェニルキノキサリン）
【請求項４】  有機層が、一般式Ｉのポリマーを含むポリマーブレンドを含む、請求項１ないし３のいずれかに記載のデバイス。
【請求項５】  有機層がさらに発光体を含む、請求項１ないし４のいずれかに記載のデバイス。
【請求項６】  発光体が以下のいずれかである、請求項５に記載のデバイス：
フォトルミネッセンスの量子効率が０．６以上であるクマリン型のルミネッセンス染料、
ホウ素ジフルオリド／ピロメテン染料、
コロネン、ルブレン、ジフェニルアントラセン、デカサイクレン、フルオレン、ペリレンを含む発光性縮合芳香族炭化水素、
ユーロピウム、サマリウム、テルビウム、ルテニウムキレートを含む金属の発光性キレート。
【請求項７】  電極の少なくとも一方が有機層の放出波長の光に対して透明であり、他方の電極がＳｍ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ａｇ、Ｃａ、Ａｌを含む金属又はＭｇＡｇ、ＬｉＡｌを含む金属の合金又はＬｉ及びＡｌ又はインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）を含む二重金属層である、請求項１ないし６のいずれかに記載のデバイス。
【請求項８】  デバイスが有機発光性ダイオードデバイスである、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】  デバイスが光屈折性デバイスである、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１０】  有機層が、一般式Ｉのポリマーを含むポリマーブレンドを含む、請求項９に記載のデバイス。
【請求項１１】  請求項１の一般式Ｉの化合物の有機伝導性ポリマーとしての使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月23日(2007.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  横流ファン及びカットオフのアセンブリを含む放電レーザ装置であって、前記アセンブリは、
第１端部及び前記第１端部の反対側の第２端部を有する回転軸と、
前記回転軸と実質的に同心の円周と、
前記第１端部と前記第２端部との間で前記回転軸と実質的に平行に延びるように前記円周に近接して配置された複数のブレード部材と、
前記ブレード部材に取り付けられ、前記回転軸に対して実質的に交差方向に配置され、前記横流ファンの曲げモード振動の固有振動数が調節されるように数量及び軸線方向の配列が選択される、複数のハブ部材と、
を有するレージングガス混合気を再循環させるように形成された横流ファンを含む、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】  前記ハブ部材は、前記横流ファンの曲げモード振動の前記固有振動数が前記横流ファンの回転周波数の２倍よりも大きいように選択されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記複数のハブ部材は、少なくともハブ部材であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】  前記アセンブリは、前記円周の一部分に近接して前記回転軸に対して斜めに向くようなテーパーを付けたエッジを有する、位置的に固定されたカットオフ部材を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】  前記テーパー付きエッジは、互いに斜めに向けられた２つのエッジセグメントを含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】  前記ブレード部材は、翼形断面形状を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】  前記放電レーザ装置は、横方向励起の分子レーザを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】  前記分子レーザは、アルゴンフッ化物エキシマレーザ、クリプトンフッ化物エキシマレーザ、及び、フッ素（Ｆ2）分子レーザから成るグループから選択されることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】  前記ブレード及びハブ部材は、材料の単一塊から機械加工された一体型ユニットであることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１０】  前記材料は、アルミニウムを含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】  前記アルミニウムは、６０６１アルミニウム合金であることを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１２】  放電レーザ装置において横流ファンの曲げモード振動の固有振動数を制御する方法であって、
回転軸と実質的に平行に延びるように前記円周に近接して配置された複数のブレード部材を準備する段階と、
前記ブレード部材に取り付けられ、前記回転軸に対して実質的に交差方向に配置され、前記横流ファンの曲げモード振動の固有振動数が調節されるように数量及び軸線方向の配列が選択される、複数のハブ部材を準備する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】  前記ハブ部材は、前記横流ファンの曲げモード振動の前記固有振動数が前記横流ファンの回転周波数の２倍よりも大きいように選択されることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  前記放電レーザ装置は、横方向励起の分子レーザを更に含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】  前記分子レーザは、アルゴンフッ化物エキシマレーザ、クリプトンフッ化物エキシマレーザ、及び、フッ素（Ｆ2）分子レーザから成るグループから選択されることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月15日(2007.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  共通のグランド電極を持つ個々の伝導性ポリマーＰＴＣデバイスの配列；及び、
各々が少なくとも１つのＰＴＣデバイスと電気的に接続している複数の接点部材を備える過電流防止接続箱。
【請求項２】  ＰＴＣデバイスの配列が個々の上部の電極に分割されている上部の箔シート及び、共通のグランド電極を形成している下部の箔シートとの間に積層された伝導性ポリマーＰＴＣ材料の層を備える、請求項１に記載の過電流防止接続箱。
【請求項３】  接点部材の各々が上部の電極の１つに接続するように配置されたばね接点触手を含む、請求項２に記載の過電流防止接続箱。
【請求項４】  全てのＰＴＣデバイスが実質的に同じトリップ電流の定格を持つ、請求項１に記載の過電流防止接続箱。
【請求項５】  配列中のＰＴＣデバイスがチャネルの格子によって分割されている、請求項１に記載の過電流防止接続箱。
【請求項６】  各々が個々の薄層状の正電極を持ち、共通の薄層状のグランド電極によって相互接続された伝導性ポリマーＰＴＣ過電流防止デバイスの配列；及び、
各々が少なくとも１つの過電流防止デバイスの正電極と接続している複数の接点部材を備える過電流防止接続箱。
【請求項７】  接点部材の各々が正電極の１つに接続するように配置されたばね接点触手を含む、請求項６に記載の過電流防止接続箱。
【請求項８】  少なくとも１つの接点部材が連結された接点部材であり、過電流防止デバイスの少なくとも２つが前記連結された接点部材によって並列に接続されている、請求項６に記載の過電流防止接続箱。
【請求項９】  少なくとも１つの接点部材が少なくとも２つのばね接点触手を含む連結された接点部材であり、前記ばね接点触手の各々が過電流防止デバイスを並列に接続するように過電流防止デバイスの１つに接続している、請求項７に記載の過電流防止接続箱。
【請求項１０】  全ての過電流防止デバイスが実質的に同じトリップ電流の定格を持つ、請求項６に記載の過電流防止接続箱。
【請求項１１】  過電流防止接続箱の製造方法であって：
（ａ）伝導性の金属箔の第１及び第２の層の間に伝導性ポリマーＰＴＣ材料の層を積層すること；及び、
（ｂ）第１の箔層を個々の電極の配列に形成すること、
のステップを含む製造方法。
【請求項１２】  前記形成するステップが：
（ｂ）（１）第１箔層上にマスクされていない格子のパターンを確定するために第１箔層をマスキング層でマスキングすること；
（ｂ）（２）露出した伝導性ポリマーＰＴＣ材料の格子を生成するためにマスクされていない格子のパターンをエッチングすること；及び、
（ｂ）（３）マスキング層を取り除くこと、
のステップを含む、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】  前記形成するステップが：
（ｂ）（１）第１箔層上にマスクされていない格子のパターンを確定するために第１箔層をマスキング層でマスキングすること；
（ｂ）（２）露出した伝導性ポリマーＰＴＣ材料の格子を生成するためにマスクされていない格子のパターンをエッチングすること；
（ｂ）（３）チャネルの格子を生成するために露出した伝導性ポリマーＰＴＣ材料の格子を取り除くこと；及び、
（ｂ）（４）マスキング層を取り除くこと、
のステップを含む、請求項１１に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月18日(2007.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ビスホスホネートを含む、血管形成の処置用薬剤。
【請求項２】  ビスホスホネートを含む、血管形成の塞栓処置用薬剤。
【請求項３】  ビスホスホネートを含む、血管形成の予防的または阻止的処置用薬剤。
【請求項４】  炎症、心筋虚血、関節リウマチ、骨関節症および腫瘍生育、侵襲または転移に罹患している患者の血管形成の処置のための、請求項１記載の薬剤。
【請求項５】  ビスホスホネートが以下の化合物：
３−アミノ−１−ヒドロキシプロパン−１,１−ジホスホン酸(パミドロン酸)、例えばパミドロネート(ＡＰＤ)；３−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)−１−ヒドロキシプロパン−１,１−ジホスホン酸、例えばジメチル−ＡＰＤ；４−アミノ−１−ヒドロキシブタン−１,１−ジホスホン酸(アレンドロン酸)、例えばアレンドロネート；１−ヒドロキシ−エチデン−ビスホスホン酸、例えばエチドロネート；１−ヒドロキシ−３−(メチルペンチルアミノ)−プロピリデン−ビスホスホン酸、イバンドロン酸、例えば、イバンドロネート；６−アミノ−１−ヒドロキシヘキサン−１,１−ジホスホン酸、例えばアミノ−ヘキシル−ＢＰ；３−(Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ペンチルアミノ)−１−ヒドロキシプロパン−１,１−ジホスホン酸、例えばメチル−ペンチル−ＡＰＤ(＝ＢＭ２１.０９５５)；１−ヒドロキシ−２−(イミダゾール−１−イル)エタン−１,１−ジホスホン酸；１−ヒドロキシ−２−(３−ピリジル)エタン−１,１−ジホスホン酸(レシドロン酸)、例えばそのＮ−メチルピリジニウム塩、例えばNE-10244またはNE-10446のようなＮ−メチルピリジニウムヨウジドを含む、レシドロネート；１−(４−クロロフェニルチオ)メタン−１,１−ジホスホン酸(チルドロン酸)、例えばチルドロネート；３−[Ｎ−(２−フェニルチオエチル)−Ｎ−メチルアミノ]−１−ヒドロキシプロパン−１,１−ジホスホン酸；１−ヒドロキシ−３−(ピロリジン−１−イル)プロパン−１,１−ジホスホン酸、例えばEB1053(Leo)；１−(Ｎ−フェニルアミノチオカルボニル)メタン−１,１−ジホスホン酸、例えばFR78844(Fujisawa)；５−ベンゾイル−３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラゾール−３,３−ジホスホン酸テトラエチルエステル、例えばU-81581(Upjohn)；１−ヒドロキシ−２−(イミダゾ[１,２−ａ]ピリジン−３−イル)エタン−１,１−ジホスホン酸、例えばYM529；および１,１−ジクロロメタン−１,１−ジホスホン酸(クロドロン酸)、例えばクロドロネート
またはそれらの薬学的に許容される塩または水和物から選択される、請求項１記載の薬剤。
【請求項６】  ビスホスホネートがパミドロン酸またはゾレドロン酸、またはそれらの薬学的に許容される塩または水和物から選択される、請求項１記載の薬剤。
【請求項７】  ビスホスホネートを患者に動脈内投与することを特徴とする、血管形成の塞栓処置用薬剤。
【請求項８】  ビスホスホネートがパミドロン酸またはゾレドロン酸、またはそれらの薬学的に許容される塩または水和物から選択される、請求項７記載の薬剤。
【請求項９】  血管形成の処置のための医薬の製造におけるビスホスホネートの使用。
【請求項１０】  哺乳類における疾患または病理学的状態に付随した血管形成の処置のためのビスホスホネートの使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
新規血管の形成である血管形成は、損傷修復、排卵および胚形成のような多くの生理学的過程における必須事象である。新規血管形成はまた炎症、心筋虚血、関節リウマチ、骨関節長および腫瘍形成、例えば、腫瘍生育、侵襲または転移のような多くの病理学的事象の重要な要素である。多くの固体腫瘍は、宿主血管床からの新規毛細血管の形成を誘導し、栄養素および酸素を供給する。したがって、本発明は一般に上記のものを含む疾患または状態の確立または進行中の血管形成が関与する疾患および医学的状態の処置に適用可能である。本発明を使用して処置し得る血管形成が関与する疾患および状態の更なるそしてより具体的な例は：網膜症、例えば糖尿病性網膜症、乾癬、血管芽細胞腫、血管腫、疼痛、加齢関連黄斑変性および、特に乳癌、大腸の癌、肺癌(特に小細胞性肺癌)または前立腺の癌のような特に新生物形成疾患(固体腫瘍)である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
加えて実施例に下記のように、あるビスホスホネートが動物モデルにおける成長因子誘導血管形成を阻害しまた組織培養モデルにおける内皮細胞増殖を阻害することが判明している。このような血管形成の阻害は活性化マクロファージの枯渇に依存的ではなく、むしろビスホスホネートが内皮細胞活性化および／または内皮細胞増殖のレベルに作用するように見えるようである。したがって、有利なことに、ビスホスホネートはまた、上記の疾患および医学的状態を含む血管形成が関与する疾患および医学的状態の予防的または阻止的処置に、血管形成の発生または進行を阻害することにより使用し得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
特に好ましい薬学的に許容される塩は、ビスホスホン酸の酸性水素の１個、２個、３個または４個、特に１個または２個が薬学的に許容されるカチオン、特にナトリウム、カリウムまたはアンモニウム、第１にナトリウムで置換されているものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
経皮投与用の適当な製剤は、有効量の活性成分を担体と共に含む。有利な担体は、宿主の皮膚を通した通過を助ける、吸収可能な薬学的に許容される溶媒を含む。特徴的に、経皮デバイスは、裏打ち部剤、本化合物を、所望により担体と共に含む貯蔵部、所望により制御された予定された速度で長期間に渡り宿主の皮膚に活性成分を送達させるための速度制御バリア、および皮膚にデバイスを固定するための手段を含む、絆創膏の形である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
これらの試験は、ゾレドロン酸は、数個の疾患動物モデルにおける骨ターンオーバーで治療的効果を示す用量範囲で、ｂＦＧＦを阻害するが、ＶＥＧＦ誘導血管形成を阻害しないことを証明する。高い投与量でＶＥＧＦ反応の部分的阻害も観察された。したがって、ゾレドロン酸はｂＦＧＦ介在反応の阻害に対する選択性を有すると考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月24日(2007.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】            
【請求項１】
式Ｉ：
式Ｉ
ＰＲ
式中、
Ｐは、ＦＡＰ−αまたは他のプロリン後切断酵素の反応部位に結合する標的基であり、
Ｒは、ＦＡＰ−αまたは他のプロリン後切断酵素の官能基における反応部位と反応可能な反応性基である、
で表される化合物を含む、異常哺乳類細胞増殖を特徴とする状態を有する対象を処置するための医薬製剤。
【請求項２】
式Ｉ：
式Ｉ
ＰＲ
式中、
Ｐは、ＦＡＰ−αまたは他のプロリン後切断酵素の反応部位に結合する標的基であり、
Ｒは、ＦＡＰ−αまたは他のプロリン後切断酵素の官能基における反応部位と反応可能な反応性基である、
で表される化合物を含む、異常哺乳類細胞増殖を特徴とする状態を有する対象における脈管形成を阻害するための医薬製剤。
【請求項３】
異常哺乳類細胞増殖が、
（ａ）腫瘍として発現されるものであるか、または
（ｂ）上皮細胞におけるものであり、
随意的に、異常哺乳類細胞増殖が、癌腫、肉腫およびメラノーマからなる群から選択される、請求項１または２に記載の医薬製剤。
【請求項４】
状態が、
（ａ）反応性間質線維芽細胞類の存在をさらに特徴とするものであるか、
（ｂ）上皮起源の転移であるか、
（ｃ）乳癌、結腸直腸癌、卵巣癌、前立腺癌、膵癌、腎癌、肺癌、メラノーマおよび線維肉腫からなる群から選択されるものであるか、または、
（ｄ）骨および結合組織肉腫類からなる群から選択されるものである、
請求項１または２に記載の医薬製剤。
【請求項５】
（ａ）局所的に、
（ｂ）全身的に、
（ｃ）異常増殖細胞塊を除去するための手術とともに、
（ｄ）異常増殖細胞塊を除去するための手術を受けた患者に、または
（ｅ）抗癌化合物と併用して、
投与される、請求項１または２に記載の医薬製剤。
【請求項６】
対象が、
（ａ）造血刺激を必要とする症状を有していないか、
（ｂ）正常造血活性を有しているか、または
（ｃ）ＨＩＶ陰性である、
請求項１または２に記載の医薬製剤。
【請求項７】
化合物が、
（ａ）腫瘍に標的化されたものであるか、または
（ｂ）Ｖａｌ−ｂｏｒｏ−Ｐｒｏである、
請求項１または２に記載の医薬製剤。
【請求項８】
状態が、
（ａ）転移であるか、または
（ｂ）乳癌、結腸直腸癌、卵巣癌、前立腺癌、膵癌、腎癌、肺癌、メラノーマおよび線維肉腫からなる群から選択される、
請求項２に記載の医薬製剤。
【請求項９】
抗脈管形成化合物と併用して投与される、請求項２に記載の医薬製剤。
【請求項１０】
式Ｉ：
式Ｉ
ＰＲ
式中、
Ｐは、ＦＡＰ−αまたは他のプロリン後切断酵素の反応部位に結合する標的基であり、
Ｒは、ＦＡＰ−αまたは他のプロリン後切断酵素の官能基における反応部位と反応可能な反応性基である、
で表される化合物と、
薬学的に許容し得る担体と、
少なくとも１種の他の抗癌化合物および／または少なくとも１種の他の抗脈管形成化合物
とを含む医薬製剤。
【請求項１１】
式Ｉ：
式Ｉ
ＰＲ
式中、
Ｐは、ＦＡＰ−αまたは他のプロリン後切断酵素の反応部位に結合する標的基であり、
Ｒは、ＦＡＰ−αまたは他のプロリン後切断酵素の官能基における反応部位と反応可能な反応性基である、
で表される化合物を含む、抗癌剤と併用して用いるための医薬製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  滲出を伴う中耳炎に罹患したヒトを処置するための薬学的組成物であって、治療的有効量の殺菌性／透過性増大タンパク質（ＢＰＩ）タンパク質産物を含む、薬学的組成物。
【請求項２】  ＢＰＩタンパク質産物がｒＢＰＩ21である、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項３】  前記ＢＰＩタンパク質産物が、およそ、約２０〜２５ｋｄの間の分子量を有するＢＰＩのＮ末端フラグメントである、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項４】  前記ＢＰＩタンパク質産物がｒＢＰＩ（１０〜１９３）ａｌａ132である、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項５】  前記ＢＰＩタンパク質産物が組換えＢＰＩホロタンパク質（ｒＢＰＩ）である、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項６】  前記ヒトが中耳に置かれた中耳腔換気用チューブを有する、請求項１に記載の薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月12日(2007.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  局所毛髪処理組成物における、枝毛の修復および／または防止のための、
（ｉ）脂肪族側鎖を有するアミノ酸、および
（ｉｉ）塩基性側鎖を有するアミノ酸、
の組合わせの使用。
【請求項２】  （ｉ）がイソロイシンである請求項１に記載の使用。
【請求項３】  アミノ酸（ｉ）の量が全重量の少なくとも０．０１重量％である請求項１または２に記載の使用。
【請求項４】  （ｉｉ）がリシンである請求項１から３のいずれかに記載の使用。
【請求項５】  アミノ酸（ｉｉ）の量が全重量の少なくとも０．１重量％である請求項１から４のいずれかに記載の使用。
【請求項６】  局所毛髪処理組成物がシャンプ組成物として配合される請求項１から５のいずれかに記載の使用。
【請求項７】  局所毛髪処理組成物がヘアコンディショニングとして配合される請求項１から５のいずれかに記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月30日(2007.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  経口投与用の多粒子状制御放出選択的セロトニン再吸収阻害剤（ＳＳＲＩ）製剤であって、経口投与後少なくとも約１２時間の期間にわたって前記ＳＳＲＩの制御放出を許容する速度制御ポリマーによって被覆された前記ＳＳＲＩ又はその製薬的に受容される塩の粒子を含む前記製剤。
【請求項２】  粒子がペレットである、請求項１記載の製剤。
【請求項３】  前記ペレットが、前記速度制御ポリマーが前記コアを囲む速度制御膜を形成するように前記速度制御ポリマーによって被覆された、前記ＳＳＲＩ又はその製薬的に受容される塩のコアを含む、請求項２記載の製剤。
【請求項４】  速度制御膜が主要な割合の製薬的に受容される皮膜形成性水不溶性ポリマーと、任意に、少ない割合の製薬的に受容される皮膜形成性水可溶性ポリマーとから構成され、前記水可溶性ポリマーが存在する場合に、前記水不溶性ポリマーと前記水可溶性ポリマーとの比率が、経口投与後少なくとも約１２時間の期間にわたるＳＳＲＩの制御放出を許容するＳＳＲＩ放出速度を可能にするために有効である、請求項３記載の製剤。
【請求項５】  速度制御膜がアンモニオメタクリレートコポリマーを含有する、請求項４記載の製剤。
【請求項６】  コアがさらに有機酸を含み、ＳＳＲＩ成分と有機酸とが５０：１から１：５０までの比率で存在する、請求項２〜５のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項７】  ＳＳＲＩがシタロプラム（citalopram）、クロミプラミン（clomipramine）、フルオキセチン（fluoxetine）、フルボキサミン（fluvoxamine）、パロキセチン（paroxetine）、セルトラリン（sertraline）、トラゾドン（trazodone）、ベンラファキシン（venlafaxine）及びジメルジン（zimeldine）又はこれらの製薬的に受容される塩から選択される、請求項２〜６のいずれかに記載の製剤。
【請求項８】  ＳＳＲＩがフルボキサミン又はその製薬的に受容される塩である、請求項７記載の製剤。
【請求項９】  粒子からのＳＳＲＩ放出速度が、米国薬局方ＸＸＩＩに従って米国薬局方ＩＩ型溶解装置（パドル）を用いてｐＨ６．８の０．０５Ｍリン酸塩緩衝液中でｉｎ  ｖｉｔｒｏ測定したときに、下記溶解パターン：
（ａ）前記装置における測定の０．５時間後には、総ＳＳＲＩの１５％以下が放出され；
（ｂ）前記装置における測定の１時間後には、総ＳＳＲＩの２５％以下が放出され；
（ｃ）前記装置における測定の２時間後には、総ＳＳＲＩの２０％〜７５％が放出され；
（ｄ）前記装置における測定の４時間後には、総ＳＳＲＩの７５％以上が放出され；そして
（ｅ）前記装置における測定の６時間後には、総ＳＳＲＩの８５％以上が放出される
に実質的に相当する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１０】  粒子からのＳＳＲＩ放出速度が、米国薬局方ＸＸＩＩに従って米国薬局方ＩＩ型溶解装置（パドル）を用いてｐＨ６．８の０．０５Ｍリン酸塩緩衝液中でｉｎ  ｖｉｔｒｏ測定したときに、下記溶解パターン：
（ａ）前記装置における測定の４時間後には、総ＳＳＲＩの２０％以下が放出され；
（ｂ）前記装置における測定の６時間後には、総ＳＳＲＩの４５％以下が放出され；
（ｃ）前記装置における測定の８時間後には、総ＳＳＲＩの４５％〜８０％が放出され；
（ｄ）前記装置における測定の１０時間後には、総ＳＳＲＩの７０％以上が放出され；そして
（ｅ）前記装置における測定の１２時間後には、総ＳＳＲＩの８０％以上が放出される
に実質的に相当する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１１】  請求項１〜１０のいずれか１項で定義した通りの粒子のブレンドを含む経口投与用制御放出ＳＳＲＩ製剤。
【請求項１２】  有効治療血液レベルの迅速な達成を保証するためにＳＳＲＩ又はその製薬的に受容される塩の即時放出形と混合して、請求項１〜１０のいずれか１項で特定された粒子のブレンドを含む経口投与用制御放出ＳＳＲＩ製剤。
【請求項１３】  ＳＳＲＩの即時放出形が、前記速度制御膜がない、請求項３〜１０のいずれか１項で特定されたペレットを含む、請求項１２記載の製剤。
【請求項１４】  ＳＳＲＩ放出速度が、米国薬局方ＸＸＩＩに従って米国薬局方ＩＩ型溶解装置（パドル）を用いてｐＨ６．８の０．０５Ｍリン酸塩緩衝液中でｉｎ  ｖｉｔｒｏ測定したときに、下記溶解パターン：
（ａ）前記装置における測定の１時間後には、総ＳＳＲＩの２０％以下が放出され；
（ｂ）前記装置における測定の２時間後には、総ＳＳＲＩの６０％以下が放出され；
（ｃ）前記装置における測定の４時間後には、総ＳＳＲＩの２０％以上が放出され；
（ｄ）前記装置における測定の６時間後には、総ＳＳＲＩの３５％以上が放出され；
（ｅ）前記装置における測定の８時間後には、総ＳＳＲＩの５０％以上が放出され；
（ｆ）前記装置における測定の１０時間後には、総ＳＳＲＩの７０％以上が放出され；そして
（ｇ）前記装置における測定の１２時間後には、総ＳＳＲＩの７５％以上が放出される
に実質的に相当する、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１５】  ＳＳＲＩ放出速度が、米国薬局方ＸＸＩＩに従って米国薬局方ＩＩ型溶解装置（パドル）を用いてｐＨ６．８の０．０５Ｍリン酸塩緩衝液中でｉｎ  ｖｉｔｒｏ測定したときに、下記溶解パターン：
（ａ）前記装置における測定の１時間後には、総ＳＳＲＩの２０％以下が放出され；
（ｂ）前記装置における測定の２時間後には、総ＳＳＲＩの４５％以下が放出され；
（ｃ）前記装置における測定の４時間後には、総ＳＳＲＩの２０％〜７０％が放出され；
（ｄ）前記装置における測定の６時間後には、総ＳＳＲＩの３５％〜８５％が放出され；
（ｅ）前記装置における測定の８時間後には、総ＳＳＲＩの５０％以上が放出され；
（ｆ）前記装置における測定の１０時間後には、総ＳＳＲＩの７０％以上が放出され；そして
（ｇ）前記装置における測定の１２時間後には、総ＳＳＲＩの７５％以上が放出される
に実質的に相当する、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１６】  ＳＳＲＩ放出速度が、米国薬局方ＸＸＩＩに従って米国薬局方ＩＩ型溶解装置（パドル）を用いてｐＨ６．８の０．０５Ｍリン酸塩緩衝液中でｉｎ  ｖｉｔｒｏ測定したときに、下記溶解パターン：
（ａ）前記装置における測定の２時間後には、総ＳＳＲＩの５０％以下が放出され；
（ｂ）前記装置における測定の６時間後には、総ＳＳＲＩの３５％以上が放出され；そして
（ｃ）前記装置における測定の２２時間後には、総ＳＳＲＩの８０％以上が放出される
に実質的に相当する、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１７】  うつ病、強迫神経症又はＳＳＲＩによって治療可能な他の状態の治療方法であって、前記状態の１つに罹患した患者に、請求項１〜１０のいずれかに記載の多粒子状制御放出ＳＳＲＩ製剤又は請求項１１〜１６のいずれか１項に記載の制御放出ＳＳＲＩ製剤の治療有効量を投与することを含む前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月29日(2007.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  積層構造であり、皮膚の局部温度上昇および／または循環促進を引き起こす成分を含有する少なくとも１つの層を含み、そして少なくとも１種の活性物質を含有する少なくとも１つの層を含み、前記層は互いに空間的に離れていることを特徴とする、皮膚に施された活性物質の皮膚への侵入速度および／または皮膚を通過する速度および／または経皮吸収速度を増加させるのに適したデバイス。
【請求項２】  皮膚から離れて面した側に局部温度上昇を引き起こす成分を通さない、またはこの成分の漏出を防止する裏地層を含有することを特徴とする請求項１記載のデバイス。
【請求項３】  デバイスの下側の全領域にわたって広がる、またはデバイスの下面の縁にだけある感圧性接着剤層を含有することを特徴とする、請求項１または２記載のデバイス。
【請求項４】  空間的な隔離は水平および／または垂直のバリヤー層により達成されることを特徴とする請求項１〜３の何れかの項記載のデバイス。
【請求項５】  皮膚の局部温度上昇および／または循環促進を引き起こす成分は発赤剤および／または血管拡張剤および／または充血物質からなる群より選択されることを特徴とする請求項１〜４の何れかの項記載のデバイス。
【請求項６】  皮膚の局部温度上昇および／または循環促進を引き起こす成分はペラルゴン酸バニリルアミド、カイエンペパー油樹脂、トウガラシの実の抽出物、トウガラシチンキ、カイエンペパー抽出物、カイエンペパー、カプサイシンまたはそれらの組合せからなることを特徴とする請求項１〜５の何れかの項記載のデバイス。
【請求項７】  皮膚の局部温度上昇および／または循環促進を引き起こす成分はニコチン酸；  ニコチン酸誘導体、ニコチニルアルコール、ニコチン酸ベンジル、ニコチンアミド、アデノシン化合物；  キサンチン、キサンチン誘導体、カフェイン、アルニカ抽出物、アルニカ花抽出物、ピリジル−３−カルビノールおよびその塩、カモミール、ヤマゴボウ、ユソウボク、辰砂、クレオソート、鮮蓋のあるヘチマ、ウルシの毒茎のチンキまたはそれらの組合せからなることを特徴とする請求項１〜６の何れかの項記載のデバイス。
【請求項８】  皮膚の局部温度上昇および／または循環促進を引き起こす成分は精油、メントール、樟脳、ニコチン酸エステル、サリチル酸エステル、サリチル酸ヒドロキシエチル、サリチル酸メチル、オルト−カルバモイルフェノキシ酢酸またはそれらの組合せからなることを特徴とする請求項１〜７の何れかの項記載のデバイス。
【請求項９】  皮膚に施される活性物質は薬剤および／または化粧品用活性物質であることを特徴とする請求項１〜８の何れかの項記載のデバイス。
【請求項１０】  薬剤および／または化粧品用活性物質は全身または局所作用を有することを特徴とする請求項１〜９の何れかの項記載のデバイス。
【請求項１１】  皮膚に施された活性物質の皮膚への侵入速度および／または皮膚を通過する速度および／または経皮吸収速度を増加させる方法で使用されるデバイスの製造における皮膚の局部温度上昇および／または循環促進を可能にする成分の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月17日(2007.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】折り重ね操作の折り位置をウェブ上の印刷物に合わせて調節するための方法および装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブ上の目印表示を折り重ね点に合わせるための方法であって、
抄紙方向にある間隔をおいて並ぶ、検出可能な一続きの目印表示を有するウェブを供給し、
前記ウェブに幅方向折り線を生じさせる、ある特定の角速度で回転する一対の折り重ねシリンダを準備し、
センサ検出位置にあって、前記折り重ねシリンダから抄紙方向に予め決められた距離だけ間隔を離して配置された光センサを準備し、ここで、前記光センサは間隔をおいて並ぶ前記目印表示を連続的に検出してリアルタイム・パルスを含む第１信号を発生しており、
前記折り重ねシリンダに結ばれたレゾルバを準備し、ここで、前記レゾルバは前記折り重ねシリンダの回転角を追跡検出し、その回転角に対応する値を有する第２信号を発生しており、
前記光センサからの前記第１信号および前記レゾルバからの前記第２信号を入力し、かつ前記幅方向折り線が前記目印表示に一致して間隔をおきながら連続して流れるようにウェブ速度を調節するウェブ速度制御装置を準備し、
前記目印表示が検出可能な状態で前記光センサを通過するように前記ウェブを抄紙方向に前記光センサに近接させて前進させ、
前記幅方向折り線が前記目印表示に一致して間隔をおきながら連続して流れるように前記ウェブ速度を前記ウェブ速度制御装置によって調節する、
ステップを含む方法。
【請求項２】前記ウェブ速度制御装置が前記第１信号および第２信号を受信する比較器を備え、かつ可変速度ニップ・ロールに接続されたサーボ・モータによって前記ウェブ速度を調節する請求項１記載の方法。
【請求項３】前記比較器が前記第１信号により与えられるリアルタイム・パルスと、前記第２信号により与えられる前記回転角に対応する値に基づいて誤差信号を発生する請求項２記載の方法。
【請求項４】前記誤差信号がある特定の値と、前記第１信号により与えられるリアルタイム・パルス毎に前記第２信号により与えられる実検出値との差である請求項３記載の方法。
【請求項５】前記ウェブ速度制御装置が前記誤差信号を連続的にゼロに減少させる請求項４記載の方法。
【請求項６】
幅方向折り線の位置を前進するウェブ上の抄紙方向にある間隔をおいて並ぶ一続きの目印表示に合わせて調節するための装置であって、
前記ウェブを前進させるモータ駆動回転要素と、
前記幅方向折り線を前記抄紙方向に間隔をおいて連続的に発生させる一対の折り重ねシリンダと、
間隔おいて並ぶ一続きの前記目印表示が検出可能な状態で光センサを通過し、このときリアルタイム・パルスを含む第１信号を発生できるように、前記折り重ねシリンダから抄紙方向に予め決められた距離だけ間隔を離して前記ウェブに並置して配置された光センサと、
前記折り重ねシリンダに結ばれたレゾルバと、ここで、前記レゾルバは前記折り重ねシリンダの回転角を追跡検出し、その回転角に対応する値を有する第２信号を発生しており、
前記光センサおよび前記レゾルバに接続されたウェブ速度制御装置と、
を備え、ここで、前記ウェブ速度制御装置が前記第１信号および第２信号を受信し、前記幅方向折り線が前記目印表示に一致するように前記モータ駆動回転要素によってウェブ速度を調節する装置。
【請求項７】前記ウェブ速度制御装置が比較器と、前記モータ駆動回転要素に接続されたサーボ・モータとからなる請求項６記載の装置。
【請求項８】前記比較器が前記第１信号により与えられるリアルタイム・パルスと、前記第２信号により与えられる前記検出値に基づいて誤差信号を発生する請求項７記載の装置。
【請求項９】前記誤差信号がある特定の値と、前記第１信号により与えられるリアルタイム・パルス毎に前記第２信号により与えられる実検出値との差である請求項８記載の装置。
【請求項１０】前記ウェブ速度制御装置が前記誤差信号を前記サーボ・モータによって連続的にゼロに減少させる請求項９記載の装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の場合、目印表示の不一致を検出するセンサは折り重ね操作よりも上流にある設定距離を保って配置されており、ウェブの速度を調節するため一組みのニップ・ロールがセンサと折り重ね操作との間に配置される。ウェブ速度制御装置は目印表示の位置を折り重ねシリンダで生じさせる折り線に同期させるためウェブ速度を上昇し、あるいは減少するようにニップ・ロールの速度を変化させる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
発明の概要
本発明はウェブ上の目印表示を折り線に合わせる方法を提供する。この方法は抄紙方向にある間隔をおいて並ぶ一続きの目印表示を有するウェブを供給することを含む。このウェブが抄紙方向に前進したとき、目印表示は一対の折り重ねシリンダの回転角に対応する位置合わせ用目印の位置を検出している光センサと並置した状態なる。一対の折り重ねシリンダは光センサから抄紙方向に予め決められた距離だけ間隔を離している。光センサは折り重ねシリンダで生じさせる折り線に対応して位置合わせ用目印の位置を同期させるため抄紙方向にウェブ移動速度を調節するウェブ速度制御装置に接続する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ウェブ速度制御装置は第１信号および第２信号を受信する比較器を備える。この第１信号はウェブ上の位置合わせ用目印の位置を検出する光センサにより与えられる。第２信号は折り重ねシリンダの回転角を検出するレゾルバにより与えられる。比較器は目印表示と折り線との不一致を表わす誤差信号を発生する。誤差信号が発生しとき、これをゼロにするようにウェブ速度をニップロールによって上昇させ、あるいは減少させる。