【手続補正書】
【提出日】平成19年7月31日(2007.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも一つのＨＦ発生器（５）を含む、スパッタ室（１）内のプラズマ放電（ＰＬ）の電気供給用給電ユニットであって、ＨＦ発生器（５）が被制御スイッチユニット（１３）を含み、前記スイッチユニットにより、ＨＦ発生器（５）の出力（５a）に発生したＨＦ給電信号が少なくとも第一の期間（ｔA）停止され、前記第一の期間は、ＨＦ給電信号が前記出力にある第二の期間（ｔB）より実質的に短く、
さらにＤＣ発生器（２５）が設けられ、その出力信号はＨＦ発生器（５）の出力信号に重畳され、ＤＣ発生器（２５）はさらに別の被制御スイッチユニット（３３）を含み、それによってＤＣ発生器（２５）の出力に発生されたＤＣ給電信号は少なくとも第三の期間（ｔC）の間停止され、第三の期間は、ＤＣ給電信号が前記出力に存在する第四の期間（ｔｏ）より実質的に短いことを特徴とする、給電ユニット。
【請求項２】  被制御スイッチユニット（１３）が、火花検出ユニット（６０）の出力と作用接続された制御入力（１３s）を有することを特徴とする、請求項１に記載の給電ユニット。
【請求項３】  ＨＦ発生器（５）が、出力（７a）がＨＦ発信器（９）と作用接続された給電ユニット（７）を有し、被制御スイッチユニット（１３）はＨＦ発生器（５）の給電ユニット（７）の出力（７a）と、発生器（５）の出力（５a）との間に設けられることを特徴とする、請求項１または２に記載の給電ユニット。
【請求項４】  火花検出ユニット（６０）がＤＣ電位測定ユニットを含み、その出力は閾値検出ユニット（６２）の入力と作用接続され、閾値検出ユニット（６２）の出力は制御入力（１３s）と作用接続されることを特徴とする、請求項２または３に記載の給電ユニット。
【請求項５】  前記ＤＣ電位測定ユニットは、調整可能であることを特徴とする、請求項４に記載の給電ユニット。
【請求項６】  第一の期間（ｔA）が最長４０μｓｅｃであることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項７】  第一の期間（ｔA）が最長３０μｓｅｃであることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項８】  火花検出ユニット（６０）を作動させる信号が発生してから、第一の期間（ｔA）が始まるまでの時間が最長５０μｓｅｃであることを特徴とする、請求項２
から７のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項９】  火花検出ユニット（６０）を作動させる信号が発生してから、第一の期間（ｔA）が始まるまでの時間が最長３０μｓｅｃであることを特徴とする、請求項２から７のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項１０】  被制御スイッチユニットは、火花検出ユニット（６０）の出力の検出信号によって作動されると、ＨＦ給電信号を期間（ｔA）の間停止させる単安定ユニットの態様で実現されることを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項１１】  前記期間（ｔA）は調整可能であることを特徴とする、請求項１０に記載の給電ユニット。
【請求項１２】  第一の期間（ｔA）の間、ＨＦ給電信号を繰り返し停止させる自由作動クロックユニット（１５）と、被制御スイッチユニットの制御入力が作用接続されていることを特徴とする、請求項１から９のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項１３】  ＤＣ発生器（２５）のさらに別のスイッチユニット（３３）の制御入力（３３s）が、火花検出ユニット（６０）の出力と作用接続されていることを特徴とする、請求項２に記載の給電ユニット。
【請求項１４】  第三の期間（ｔC）が第一の期間（ｔA）の前に始まり、第一の期間（ｔA）の前または後に終わるように、ＨＦ発生器（５）の被制御スイッチユニット（１３）の制御入力（１３s）と、ＤＣ発生器（２５）のさらに別の被制御スイッチユニット（３３）の制御入力（３３s）とがタイマーユニット（１５，４３，３５）を介して作用接続されていることを特徴とする、請求項１３に記載の給電ユニット。
【請求項１５】  第三の期間（ｔC）が第一の期間（ｔA）の前に始まり、第一の期間（ｔA）の前に終わるように、ＨＦ発生器（５）の被制御スイッチユニット（１３）の制御入力（１３s）と、ＤＣ発生器（２５）のさらに別の被制御スイッチユニット（３３）の制御入力（３３s）とがタイマーユニット（１５，４３，３５）を介して作用接続されていることを特徴とする、請求項１３に記載の給電ユニット。
【請求項１６】  真空室（１）およびプラズマ放電セクション（ＰＬ）を備えたスパッタプラントであって、
プラズマ放電セクション（ＰＬ）は、請求項１から１４のいずれかに記載のプラズマ放電セクションの電力供給のための給電ユニット（３）に接続されることを特徴とする、スパッタプラント。
【請求項１７】  スパッタ被覆プラントとして実現され、１つのプラズマ放電電極がＩＴＯターゲットを含むことを特徴とする、請求項１６に記載のスパッタプラント。
【請求項１８】  １つのプラズマ放電電極がマグネトロン電極であることを特徴とする、請求項１６または１７に記載のスパッタプラント。
【請求項１９】  スパッタリングでの火花形成を低減するための方法であって、プラズマ放電（ＰＬ）はＨＦエネルギによって少なくとも共に供給され、プラズマ放電へのＨＦ給電は短時間（ｔA）中断され、
プラズマ放電はＤＣ給電（２５）によっても供給され、ＤＣ給電も短時間停止されることを特徴とする、方法。
【請求項２０】  ＤＣ給電は、ＨＦ給電の前に停止されることを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  室（１）内での火花発生の検出（６０）に基づきＨＦ給電が短時間（ｔA）停止されることを特徴とする、請求項１９または２０に記載の方法。
【請求項２２】  ＨＦ給電を提供するためのＨＦ発生器（５）の給電（７）を停止させることなく、ＨＦ給電が停止されることを特徴とする、請求項１９から２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】  プラズマ放電におけるＤＣ電位の測定により火花発生が検出されることを特徴とする、請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】  ＨＦ供給が最長４０μｓｅｃの間停止されることと特徴とする、請
求項１９から２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】  ＨＦ供給が最長３０μｓｅｃの間停止されることと特徴とする、請求項１９から２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】  火花発生の検出から、最長５０μｓｅｃ後、ＨＦ給電が停止されることを特徴とする、請求項２１から２５のいずれかに記載の方法。
【請求項２７】  火花発生の検出から、最長３０μｓｅｃ後に、ＨＦ給電が停止されることを特徴とする、請求項２１から２５のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】  ＨＦ給電が繰返し停止されることを特徴とする、請求項１９から２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】  ＨＦ給電が周期的に停止されることを特徴とする、請求項１９から２７のいずれかに記載の方法。
【請求項３０】  火花発生の検出に基づきＤＣ給電が停止されることを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【請求項３１】  ＤＣ給電が高周波数給電の前または後に再び提供されることを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【請求項３２】  ＤＣ給電が高周波数給電の前に再び提供されることを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【請求項３３】  スパッタプロセスで構造部材を製造するための方法であって、スパッタプラズマ放電への給電はＨＦ成分を有し、ＨＦ給電成分は短時間停止され、
プラズマ放電は、さらに、ＤＣ給電（２５）によって給電され、ＤＣ給電は短時間停止されることを特徴とする、方法。
【請求項３４】  スパッタリングプロセスによって部品を製造するための方法であって、請求項１９から３２のいずれかに記載の処理によってアーク形成の低減を行なう、方法。