Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月12日(2006.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
米国特許第４，８１４，２５８号明細書はＧａＡｓ基板の表面に並置されたポリジメチルグルタルイミド（ＰＭＧＩ）の平坦化(planarization) 層およびＰＭＧＩ平坦化層に隣接するフォトレジスト層を持つＧａＡｓ基板を利用する金属リフトオフ法に関する。ここに開示された方法は
１）フォトレジシト層およびＰＭＧＩ平坦化層を溶剤に浸して、それによってフォトレジスト層の溶解性を低減しそして該ＰＭＧＩ平坦化層の溶解性を向上させ、
２）ＰＭＧＩ平坦化層を現像し、それによって平坦化層とフォトレジスト層との間にアンダーカットプロフィールを形成する
各段階を含んでいる。従来技術の方法の有利な実施態様では、現像段階をＰＭＧＩ平坦化層に関してポジ型マスキング特性を有するフォトレジスト層と一緒に僅か(nominal) の光に基板を投光露光(flood  exposing) することによって実施される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
実施例４: 
ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）で下塗りした４インチのガリウム砒素ウエハーにに３５００回転／分でＡＺ(R) ７９０８液状フォトレジスト（Clariant Corp.から入手できる）を塗布して０．９０ミクロメータの膜厚とする。被覆されたこのウエハーを次いでホットプレート上で９０℃で６０秒間ソフトベークする。ソフトベークされたウエハーを実施例１の方法によって製造された現像剤中に２分間浸漬する（ソーク段階）。塗布されたウエハーを次に、解像試験レクチルを使用して０．５４ＮＡ  ｉ−線ステッパで３００ミリジュール／ｃｍ2 （ｍＪ）のドーズで露光する。次いで露光されたウエハーを１４５℃で４５秒の間ホットプレート上で現像前ベークする。次にウエハーをＡＺ (R)３００ＭＩＦ現像剤溶液に２分間浸漬し、脱イオン水で濯ぎそして乾燥する。公称０．５ミクロメータの孤立空間を走査電子顕微鏡写真で観察すると、プロフィールの各側壁の上に０．１６ミクロメータのオーバーハングが現れる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
実施例５: 
ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）で下塗りした４インチのガリウム砒素ウエハーに３５００回転／分でＡＺ(R) ７９０８液状フォトレジスト（Clariant Corp.から入手できる）を塗布して０．９０ミクロメータの膜厚とする。被覆されたウエハーを次いでホットプレート上で９０℃で６０秒ソフトベークする。ソフトベークされたウエハーを実施例３の方法によって製造された現像剤中に２分間浸漬する。塗布されたウエハーを次いで、解像試験レクチルを使用して０．５４ＮＡ  ｉ−線ステッパで３４０ミリジュール／ｃｍ2 （ｍＪ）のドーズで露光する。次いで露光されたウエハーを１４５℃で４５秒の間、オーブン中で現像前ベークする。次に現像前ベークしたこのウエハーをＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ (R)露光装置（このものは３６５〜４３６ｎｍの波長をカバーする広い幅の照明を生じる）に８０ｍＪのドーゼで露光する。次にこのウエハーを１分間、ＡＺ (R)３００ＭＩＦ現像剤溶液に１分間浸漬し、脱イオン水で濯ぎそして乾燥する。公称０．５ミクロメータの孤立空間を走査電子顕微鏡写真で観察すると、プロフィールの各側壁の上に０．２５ミクロメータのオーバーハングが現れる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
実施例６: 
ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）で下塗りした４インチのガリウム砒素ウエハーに３５００回転／分でＡＺ(R) ７９０８液状フォトレジスト（Clariant Corp.から入手できる）を塗布して０．９０ミクロメータの膜厚とする。被覆されたウエハーを次いでホットプレート上で９０℃で６０秒ソフトベークする。ソフトベークされたウエハーを実施例１の方法によって製造された現像剤中に２分間浸漬する。塗布されたウエハーを次いで、解像試験レクチルを使用して０．５４ＮＡ  ｉ−線ステッパで３００ミリジュール／ｃｍ2 （ｍＪ）のドーズで露光する。次いで露光されたウエハーを１４５℃で４５秒の間オーブン中で現像前ベーク（ＰＥＢ）する。次にウエハーをＡＺ (R)３００  ＭＩＦ現像剤溶液に２分間浸漬し、脱イオン水で濯ぎそして乾燥する。公称０．５ミクロメータの孤立空間を走査電子顕微鏡写真で観察すると、プロフィールの各側壁の上に０．０９ミクロメータのオーバーハングが現れる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月19日(2006.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  コンピュータ・システムであって、メモリと；このメモリに結合しておりモード選択信号を受信するアービトレーション・ユニットを有するメモリ・コントローラと；上記アービトレーション・ユニットに結合した第１の装置と；上記アービトレーション・ユニットに結合した第２の装置とから構成され、
前記アービトレーション・ユニットはモード選択信号が第１の状態にある間は第１のアービトレーション・モードに従って動作し、またモード選択信号が第２の状態にある間は第２のアービトレーションに従って動作するものであり、
前記第１の装置が、前記アービトレーション・ユニットが第１のアービトレーション・モードに従って動作する間、前記メモリにアクセスするために、前記第２の装置よりも高い優先度分類を割り当てられ、前記第１の装置および前記第２の装置が、前記アービトレーション・ユニットが第２のアービトレーション・モードに従って動作する間、前記メモリにアクセスするために、等しい優先度分類を割り当てられ、更に前記アービトレーション・ユニットが、前記第２のアービトレーション・モードに従って動作するときはいつでも、前記第１の装置が前記メモリの制御を有する間、所定の時間間隔について前記第２の装置からの前記メモリのアクセスを保留することを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項２】  統合されたメモリ・アーキテクチャ（ＵＭＡ）コンピュータ・システムのメモリにアクセスする方法であって、
アービトレーション後に第１のエージェントへの前記メモリのアクセスを許可するステップと、
第２のエージェントから前記メモリへのアクセス要求を受けるステップと、
第１のエージェントより低い要求度を有する第３のエージェントからの前記メモリへのアクセス要求を受けるステップと、
前記第２のエージェントが、前記第１のエージェントと等しい優先要求度を有するかどうかを決定するステップと、
有していれば、前記第１のエージェントが前記メモリへのアクセスを許可されてから、所定の時間間隔が経過しているかどうか決定するステップと、
有していないならば、前記第２のエージェントから前記メモリのアクセスを保留するステップと、
前記第３のエージェント内のバッファが比較的満ちているかどうかを決定するステップと、
満ちているならば、前記第３のエージェントへの前記メモリのアクセスを許可するステップとを含むことを特徴とする統合されたメモリ・アーキテクチャ（ＵＭＡ）コンピュータ・システムのメモリにアクセスする方法。
【請求項３】  複数の追加のエージェントを有するリソースにアクセスするために競合する第１のエージェントによって経験されるアクセス時間を低減する方法であって、
前記第１のエージェントへの前記リソースのアクセスを許可するステップと、
第２の前記複数の追加のエージェントから前記リソースへのアクセス要求を受けるステップと、
前記リソースの制御を維持するために、前記第１のエージェントから要求を受けるステップと、
前記第１のエージェントからの前記要求が、前記リソースの同じページへのアクセスの結果であるかどうかを決定するステップと、
前記リソースの同じページへのアクセスの結果ではないなら、前記第２のエージェントへの前記リソースのアクセスを許可するステップと、
さらに、前記第１のエージェントが、前記リソースへのアクセスが許可されてから、所定の時間間隔が経過されたどうかが決定するステップと、および
所定の時間間隔が経過されたなら、前記第２のエージェントから前記リソースのアクセスを保留するステップと、
そうでなければ、前記第２のエージェントへの前記リソースのアクセスを許可するステップとを含むアクセス時間を低減する方法。。
【請求項４】  統合されたメモリ・アーキテクチャ（ＵＭＡ）コンピュータ・システムのメモリにアクセスする方法であって、
アービトレーション後に第１のエージェントへの前記メモリのアクセスを許可するステップと、
前記メモリにアクセスするための要求バッファを有する第２のエージェントからの要求を受けるステップと、
前記第２のエージェントが、前記第１のエージェントより高い優先度要求分類を有するかどうかを決定するステップと、
有していなければ、前記要求バッファが比較的満ちているかどうかを決定するステップと、
有していれば、前記第２のエージェントへの前記メモリのアクセスを許可するステップと；有していなければ、もしバッファが比較的満ちていなければ前記第２のエージェントからの前記メモリアクセスを差し控えるステップと、
を含む、統合されたメモリ・アーキテクチャ（ＵＭＡ）コンピュータ・システムのメモリにアクセスする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月6日(2007.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  コネクタ用のばね接点であって、該ばね接点は、ほぼＵ字形で、２つの枝（１１；１２）と、２つの枝をその一端により結合するベース（１３）とを有し、各枝が１つの装置との電気接点を設定するように構成されており、２つの枝（１１；１２）が、互いに相離する２つの面（１１．１；１２．１）内で延びていて、２つの面の交差部（Ｉ）がＵ字形のベース（１３）に含まれることを特徴とするコネクタ用のばね接点。
【請求項２】  一方の枝（１１）およびベース（１３）が同じ面にあることを特徴とする請求項１に記載のばね接点。
【請求項３】  少なくとも一方の枝（１１）の電気接点が、該枝の自由端（１６）に設けられることを特徴とする請求項１または２に記載のばね接点。
【請求項４】  一方の枝（１１）が、プリント回路と接触し、他方の枝（１２）が、バッテリーと接触するように構成されることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のばね接点。
【請求項５】  第１の面（２）および、第１の面とは反対の第２の面（３）を備える電気コネクタであって、該電気コネクタは、請求項１から４のいずれか一項に記載のばね接点（７）を受容する、コネクタ両面に開いた少なくとも１つのハウジング（４）を含んでおり、ばね接点は、Ｕ字形のベース（１３）が延びる平面（１３．１）が、電気コネクタのそれぞれ面（２；３）の平面（２．１；３．１）にほぼ平行になるようにハウジングに配置されることを特徴とする電気コネクタ。
【請求項６】  ハウジング（４）の所定の位置にばね接点（７）をガイドするための手段（４．１）を含むことを特徴とする請求項５に記載のコネクタ。
【請求項７】  ハウジング（４）にばね接点（７）を保持するための手段（２８、２９）を含むことを特徴とする請求項５または６に記載のコネクタ。
【請求項８】  ばね接点（７）の一方の枝（１２）が、ハウジング（４）から突出していることを特徴とする請求項５から７のいずれか一項に記載のコネクタ。
【請求項９】  請求項１から４のいずれか一項に記載のばね接点（７ａ；７ｂ）をそれぞれ受容する複数のハウジング（４ａ；４ｂ）を含むコネクタであって、隣接する２つのハウジング（４ａ；４ｂ）で、ばね接点（７ａ、；７ｂ）が、ほぼ同じ方向であるが互いに逆向きに延びるように配置されており、一方の接点（７ａ）の一方の枝（１１ａ）が、隣接接点（７ｂ）の他方の枝（１２ｂ）に隣接することを特徴とする請求項５から８のいずれか一項に記載のコネクタ。
【請求項１０】  コネクタの一方の面（３）が、前記面（３）のほぼ中央に配置されるピックアップゾーン（３３）を含むことを特徴とする請求項５から９のいずれか一項に記載のコネクタ。
【請求項１１】  第１の面（２）および第２の面（３）を結合する側面（３５；３６）を含んでおり、側面（３５；３６）が、少なくとも１つのくり抜き（３４）を含み、ばね接点（７）の一つの枝（１１）の自由端（１６）が前記くり抜き（３４）に通じていることを特徴とする請求項５から１０のいずれか一項に記載のコネクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月29日(2006.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光角膜切除介入における角膜組織の保護を目的とする局所眼薬の生産のための、１−ヒドロキシ−５−オキソ−５Ｈ−ピリド−［３，２−ａ］−フェノキサジン−３−カルボン酸（ピレノキシン）またはその薬学上許容可能な塩を含む眼料用局所薬剤。
【請求項２】  上記薬剤が角膜組織のレベルでのROS（反応性酸素種）作用の阻害剤として適当である、請求項１に記載の眼料用局所薬剤。
【請求項３】  上記薬剤が角膜組織のレベルでの脂質過酸化の阻害剤として適当である、請求項２に記載の眼料用局所薬剤。
【請求項４】  上記光角膜切除介入がエキシマーレーザーを用いる角膜光切除介入である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の眼料用局所薬剤。
【請求項５】  上記薬剤が遊離酸として表したピレノキシン０．０００１重量％〜０．０１重量％を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の眼料用局所薬剤。
【請求項６】  上記薬剤が遊離酸として表したピレノキシン０．００１重量％〜０．００５重量％を含む、請求項５に記載の眼料用局所薬剤。
【請求項７】  上記ピレノキシンが相当するナトリウム塩の形態である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の眼料用局所薬剤。
【請求項８】  上記局所眼薬が、洗眼剤用の水溶液若しくは懸濁液の形態またはエマルジョン、軟膏、ゲル、若しくはクリームの形態である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の眼料用局所薬剤。
【請求項９】  上記水溶液が、二成分製剤であって、第一の成分がナトリウム塩の形態の凍結乾燥したピレノキシンを眼に許容可能なキャリヤーと共に含んでなり、第二の成分が眼に許容可能な水性キャリヤーまたは希釈剤を含んでなる上記二成分製剤の戻しによって得られる、請求項８に記載の眼料用局所薬剤。
【請求項１０】  実質的に上記した通りの請求項１〜９のいずれか一項に記載の光角膜切除介入における角膜組織の保護のためのピレノキシンの眼料用局所薬剤。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月28日(2007.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）β−（１，６）結合を実質的に含まない水溶性β−（１，３）グルカンおよび
（ｂ）キトサン
を含有する化粧品調合物。
【請求項２】  サッカロミセス科に属する酵母をベースとして得られるグルカンを含有する、請求項１に記載の調合物。
【請求項３】  実質的にすべてのβ−（１，６）結合が解かれるように、β−（１，３）およびβ−（１，６）結合を有するグルカンをβ−（１，６）グルカナーゼと接触することにより得られるグルカンを含有する、請求項１または２に記載の調合物。
【請求項４】  トリコデルマ・ハルジアナムをベースとするグルカナーゼによって予め処理されているグルカンを使用する、請求項３に記載の調合物。
【請求項５】  ５００００〜５０００００ダルトンの範囲の分子量を有するキトサンを含有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の調合物。
【請求項６】  ８０００００〜１２０００００ダルトンの範囲の分子量を有するキトサンを含有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の調合物。
【請求項７】  カルボキシル化キトサンを含有する、請求項１から６のいずれか１項に記載の調合物。
【請求項８】  スクシニル化キトサンを含有する、請求項１から６のいずれか１項に記載の調合物。
【請求項９】  （ａ）β−（１，６）結合を実質的に含まない０．０１〜２５重量％の水溶性β−（１，３）グルカンおよび
（ｂ）０．０１〜５重量％のキトサン
を含有するが、ただし、上記の量が水そしてまた場合によっては他の補助剤および追加的な薬剤によって１００重量％まで増補される、請求項１から５のいずれか１項に記載の調合物。
【請求項１０】  （ａ）β−（１，６）結合を実質的に含まない水溶性β−（１，３）グルカンおよび
（ｂ）キトサン
を含有する混合物の、化粧品調合物を製造するための使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月28日(2007.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）実質的にβ−（１，６）結合を含まない水溶性β−（１，３）グルカン、および
（ｂ）紫外線防護要素
を含有する、日光防護剤。
【請求項２】  サッカロミセス科の酵母に基づいて得られるグルカンを含有する、請求項１記載の防護剤。
【請求項３】  実質的にすべてのβ−（１，６）結合が解かれるように、β−（１，３）−およびβ−（１，６）結合を有するグルカンとβ−（１，６）グルカナーゼとを接触させることにより得られるグルカンを含有する、請求項１または２記載の防護剤。
【請求項４】  予めトリコデルマ・ハルジアナムをベースとするグルカナーゼにより処理したグルカンを使用する、請求項１または２記載の防護剤。
【請求項５】  ３−ベンジリデンカンファまたは３−ベンジリデンノルカンファおよびその誘導体、４−アミノ安息香酸誘導体、桂皮酸エステル、サリチル酸エステル、ベンザルマロン酸エステル、ベンゾフェノン誘導体、トリアジン誘導体およびプロパン−１、３−ジオンにより形成される群から選択した油溶性紫外線Ｂ防護要素を含有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の防護剤。
【請求項６】  ２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸およびそのアルカリ、アルカリ土類、アンモニウム、アルキルアンモニウム、アルカノールアンモニウムおよびグルコアンモニウム塩およびベンゾフェノンまたは３−ベンジリデンカンファのスルホン酸誘導体により形成される群から選択した水溶性紫外線Ｂ防護要素を含有する、請求項１から５のいずれか１項に記載の防護剤。
【請求項７】  １−（４’−ｔ−ブチルフェニル）−３−（４’−メトキシフェニル）−プロパン−１，３−ジオン、４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンおよび１−フェニル−３−（４’−イソプロピルフェニル）−プロパン−１，３−ジオンにより形成される群から選択した紫外線Ｂ防護要素を含有する、請求項１から６のいずれか１項に記載の防護剤。
【請求項８】  微細分散酸化亜鉛、チタン、鉄、ジルコニウム、珪素、マンガン、アルミニウムおよびセリウム、および微細分散シリケート、硫酸バリウムおよびステアリン酸亜鉛により形成される群から選択した不溶性紫外線Ｂ防護要素を含有する、請求項１から７のいずれか１項に記載の防護剤。
【請求項９】  （ａ）実質的にβ−（１，６）結合を含まない、０．０１〜２５重量％の水溶性β−（１，３）グルカン、および
（ｂ）０．０５〜１０重量％の紫外線防護要素を含有し、
但し、記載量は水および場合により他の補助剤および付加剤により１００重量％まで補充することを条件とする、
請求項１から８のいずれか１項に記載の防護剤。
【請求項１０】  日光防護剤の紫外線防護要素の感光性および溶解性を改良するための実質的にβ−（１，６）結合を含まない水溶性β−（１，３）グルカンの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月28日(2007.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）β−（１,６）結合を実質的に含まない水溶性β−（１,３）グルカンと、
（ｂ）デオキシリボ核酸又はリボ核酸、並びにそれらの切断及び分解生成物と
を含有する化粧品及び／又は医薬品。
【請求項２】  サッカロミセス科由来の酵母に基づいて得られるグルカンを含有する、請求項１記載の化粧品及び／又は医薬品。
【請求項３】  実質的に全てのβ−（１,６）結合が解かれるようにβ−（１,３）及びβ−（１,６）結合をもつグルカンを、β−（１,６）グルカナーゼと接触させることによって得られるグルカンを含有する、請求項１又は２に記載の化粧品及び／又は医薬品。
【請求項４】  トリコデルミア・ハルジアナムに基づくグルカナーゼで前もって処理しておいたグルカンを使用する、請求項３記載の化粧品及び／又は医薬品。
【請求項５】  海産のデオキシリボ核酸又はリボ核酸を含有している、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化粧品及び／又は医薬品。
【請求項６】  ４００００〜１００００００の範囲の分子量を有するデオキシリボ核酸又はリボ核酸を含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化粧品及び／又は医薬品。
【請求項７】  紫外線保護物質を更に含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化粧品及び／又は医薬品。
【請求項８】  規定量を水、及び他の任意の助剤と添加剤で１００重量％にまで補足するという条件で、
（ａ）β−（１,６）結合を実質的に含まない水溶性β−（１,３）グルカン  ０．０１〜２５重量％と、
（ｂ）デオキシリボ核酸又はリボ核酸、並びにそれらの切断及び分解生成物  ０．０１〜５重量％と、
（ｃ）紫外線保護物質又は酸化防止剤  ０〜８重量％と
を含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化粧品及び／又は医薬品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月7日(2007.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  化粧品活性物質を皮膚に制御下でデリバリーするための裏打ち層、保護層および感圧性接着層を包含するパッチにおいて、この感圧性接着層が、
ａ) 層に接着特性を与える、ポリアクリレートおよび／またはエチレン−ビニルアセテートコポリマーの群に属する少なくとも１つの物質２０〜６０重量％;
ｂ) 層に内部凝集力および強度を与える、ポリメタクリレート、アクリレート／メタクリレートポリビニルピロリドン、またはセルロース誘導体の群に属する少なくとも１つの構造ポリマー４〜４０重量％；
ｃ）ａおよびｂの組成物の接着層内に親水性および／または親油性の化粧品活性物質を少なくとも部分的に溶解することを可能にし、また１水酸基および多水酸基のアルコールおよびそれらの誘導体および／または植物性の脂肪および油の群に属する少なくとも１つの物質１〜２０重量％；
ｄ) 親水性および／または親油性の化粧品活性物質の皮膚内への吸収を促進する、鎖長がＣ8〜Ｃ18である脂肪酸およびそのエステルの群に属する少なくとも１つの物質１〜２０重量％；および
ｅ) 少なくとも１つの化粧品活性物質または少なくとも1つの化粧品活性物質の調合物０.１〜３５重量％
を含有する上記のパッチ。
【請求項２】  感圧性接着層中に存在する化粧品活性物質が、皮膚の湿潤化、皺の治療、皮膚の老化現象への処置、ほくろの治療、皮膚の明色化、皮膚の引き締めあるいは皮膚の再生および再活性化のために主として役立つ請求項１に記載のパッチ。
【請求項３】  感圧性接着層が、溶液、抽出物、ローション、軟膏、クリームまたはゲルであるのが好ましい化粧品活性物質を含有する請求項１または２に記載のパッチ。
【請求項４】  感圧性接着層が、粘度増大物質、刺激防止剤およびスキンレリーフ剤、湿潤剤、可塑化剤、保護剤、消毒剤、ｐＨ調整剤、酸化防止剤、香料、着色剤、充填剤または粘着化樹脂のような別な補助剤を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のパッチ。
【請求項５】  感圧性接着層が、その層の少なくとも１つが化粧品活性物質を含有する２つまたはそれ以上の層の積層物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のパッチ。
【請求項６】  感圧性接着層が、押し出し、注入、噴霧、印刷、ブレード塗布または
ローラー塗布によって溶液、分散体または融解物からつくられる、請求項１〜５のいずれか１項に記載のパッチ。
【請求項７】  構造ポリマーがポリ（ブチルメタクリレート−メチルメタクリレート）である請求項１〜６のいずれか１項に記載のパッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月22日(2007.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  大型の哺乳動物またはヒトにおける一次性糖尿病タイプＩを治療する医薬品製剤を製造するための脂肪分解作用、タンパク質分解作用および澱粉分解作用を有する生理的に認容性の酵素混合物を含有する糖尿病を治療するための医薬品。
【請求項２】  酵素混合物として微生物から取得されるリパーゼ、プロテアーゼおよびアミラーゼからなる混合物を含有する、請求項１記載の糖尿病を治療するための医薬品。
【請求項３】  酵素混合物としてパンクレアチンおよび／またはパンクレアチン類似物の消化酵素混合物を含有する、請求項１記載の糖尿病を治療するための医薬品。
【請求項４】  パンクレアチン類似物の消化酵素混合物としてパンクレアチン含有消化酵素混合物を含有する、請求項３記載の糖尿病を治療するための医薬品。
【請求項５】  パンクレアチンまたはパンクレアチン含有消化酵素混合物を含有し、この場合には、パンクレアチンまたはパンクレアチン含有消化酵素混合物に付加的になおリパーゼ、プロテアーゼおよびアミラーゼの群からの１種以上の微生物酵素が添加されている、請求項３または４記載の糖尿病を治療するための医薬品。
【請求項６】  糖尿病を補助的に治療するための医薬品製剤である、請求項１から５までのいずれか１項に記載の糖尿病を治療するための医薬品。
【請求項７】  外分泌性のパンクレアチン機能不全を随伴した糖尿病を治療するための医薬品製剤である、請求項１から６までのいずれか１項に記載の糖尿病を治療するための医薬品。
【請求項８】  一次糖尿病タイプＩを治療するための医薬品製剤を製造する方法において、臨床的糖尿病パラメーターを改善する有効量および／または糖尿病の後遺症を減少させる有効量の脂肪分解作用、タンパク質分解作用および澱粉分解作用を有する生理的に認容性の酵素混合物、有利にパンクレアチンおよび／またはパンクレアチン類似物の消化酵素混合物を通常の製薬学的助剤と一緒に適当な剤形に変えることを特徴とする、一次糖尿病タイプＩを治療するための医薬品製剤を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
我々は、ＴＧＦ−β、特に、ＴＧＦ−β３の適当な濃度を決定するために適した分析方法も開発した。蛍光性の分子(タンパク質)のキュベット壁への吸着が生じるとき、溶液中の分子の濃度は減少する。濃度のこの変化を、蛍光の強度の変化(減少)によってモニターする。励起および発光モノクロメーターにおける最適化されたスリットで、励起光線をキュベットの中心の小領域に集中させ、発光を同じ領域から選択的に集光する。この局在化された励起および発光は、キュベット壁へ吸着した発光団の総発光強度に対する寄与が最小になることを示す。この条件において、蛍光強度は水溶液中の分子の濃度に比例する(キュベットの中心においてモニターした)。結合が起これば、蛍光強度の減少が観察される。ＴＧＦ−βについてトリプトファン自体の蛍光を吸着試験に使用する。吸着プロセスを検討するために、ある時間間隔、例えば、２５分間隔でのキュベット中の器壁に結合した総ＴＧＦ−βに基づくパーセンテージを測定する。蛍光測定を、２５℃で、セル支持器に撹拌器を備えたSpex Fluorolog(商標)またはSpex Fluoromax(商標)スペクトロフォトメーターによって実施する。トリプトファン蛍光を２８０ｎｍで励起させ、発光を３４０ｎｍでモニターする。ＴＧＦ−βは、ＴＧＦ−β水溶液(１μｇ／ｍｌ)の場合、プラスチック、石英およびシリコン処理された石英キュベットに強く結合することが見出される。試験をDispolob(商標)、Kartell(商標)P.N.1961によって供給されるディスポーザブルプラスチックキュベット(ＰＭＭＡ)において実施するのが、殆どの蛍光吸光試験の再現性について特に良好なシステムであった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
水溶性医薬組成物は、例えば、
０．０５μg／ｍｌないし１００ｍｇ／ｍｌのＴＧＦ−β３、例えば０．１μｇ／ｍｌないし４０ｍｇ／ｍｌ
０．１ないし２００ｍｇ／ｍｌの塩、例えば塩化カルシウム、
１ないし９０ｍｇ／ｍｌの液体溶媒、例えば、アルコール
１ないし５０ｍｇ／ｍｌの糖または糖アルコール、
０．５ないし２０ｍｇ／ｍｌの酸性化合物、例えば、クエン酸一水和物または酢酸
を含み得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のゲル製剤は、例えば、
１０ないし５０μｇ／ｍｌのＴＧＦ−β3
０．１ないし１０ｍｇ／ｍｌの塩、例えば水和物形態の、例えば、塩化カルシウム、
１ないし２０ｍｇ／ｍｌの糖または糖アルコール、
５ないし３０ｍｇ／ｍｌの増粘剤、例えば、メチルセルロース４０００ｃＰ。
０．５ないし１０ｍｇ／ｍｌの酸性化合物、例えば、クエン酸一水和物または酢酸
を含み得る。
ゲルの最終ｐＨは、ｐＨ３ないしｐＨ４の間、例えば、ｐＨ３．４ないし３．６の間であり得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ＴＧＦ−β、例えば、ＴＧＦ−β３／フィブリル化したカルシトニン混合物を支持体、例えば、ＰＬＡスポンジに添加し得る。ＴＧＦ−β、例えばＴＧＦ−β３／フィブリル化したカルシトニン混合物で負荷する前に、支持体を、例えば、エチレンオキシドで滅菌し、例えば２５μｌのエタノール１００％または２５μｌの緩衝エタノール２０％(Fluka)で予浸し得る。好ましくはエタノール１００％を使用する。負荷する溶液を、支持体、例えば、ＰＬＡスポンジ上に置き得る。そのとき、支持体、例えばＰＬＡ支持体は湿ったままである。負荷した後に、支持体、例えば、ＰＬＡスポンジを、例えば、２５℃のＮ２ガスで１分間、または、２５℃のＮ２ガスで１０分間、または、２５℃の真空デシケーターで２４時間、または、３０℃の真空オーブンで２４時間乾燥し得る。好ましくは２５℃のＮ２ガスで１０分間の条件を使用する。好ましくは、使用前にＮ２ガスを０．２μｍフィルターを通して濾過し得る。負荷した溶媒を支持体、例えば、ＰＬＡスポンジから除去し、ＴＧＦ−β、例えば、ＴＧＦ−β３を支持体、例えばＰＬＡスポンジに吸収させる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月6日(2007.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式：
【化１】
2002539125.tif 000001
または
【化２】
2002539125.tif 000002
式中、Ｂは２−アミノ−６−アジドプリン、２−アミノ−６−メトキシプリンより成る群から選択される、
を有する化合物、ならびにその製薬学的に許容できる塩およびプロドラッグ。
【請求項２】  シン−２−アミノ−６−メトキシ−Ｎ9−（２−ヒドロキシメチルシクロプロピリデンメチル）プリン、シン−２−アミノ−６−アジド−Ｎ9−（２−ヒドロキシメチルシクロプロピリデンメチル）プリンより成る群から選択される抗ウイルス化合物、ならびにその製薬学的に許容できる塩およびプロドラッグ。
【請求項３】  化合物がＲ−もしくはＳ−鏡像異性体である、請求項２記載の抗ウイルス化合物。
【請求項４】  請求項１記載の化合物および製薬学的に許容できる担体を含んで成る組成物。
【請求項５】  請求項２記載の化合物および製薬学的に許容できる担体を含んで成る組成物。
【請求項６】  請求項３記載の化合物および製薬学的に許容できる担体を含んで成る組成物。
【請求項７】  請求項１記載の化合物およびその組み合わせ剤より成る群から選択される抗ウイルス化合物を有効成分として含んで成る、ウイルスに感染した哺乳動物を処置するための医薬組成物。
【請求項８】  前記哺乳動物がヒトである、請求項７記載の組成物。
【請求項９】  前記ウイルスが、ヒトヘルペスウイルス、ヒト免疫不全ウイルスおよびＢ型肝炎ウイルスより成る群から選択される、請求項７記載の組成物。
【請求項１０】  付加的な抗ウイルス化合物をさらに含んで成る、請求項７記載の組成物。
【請求項１１】  付加的な抗ウイルス化合物が、アシクロビル、ガンシクロビル、ジドブジン、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、３ＴＣ、ｄ４Ｔおよびそれらの組み合わせ剤より成る群から選択される、請求項１０記載の組成物。
【請求項１２】  請求項２記載の化合物およびその組み合わせ剤より成る群から選択される抗ウイルス化合物を有効成分として含んで成る、ウイルスに感染した哺乳動物を処置するための医薬組成物。
【請求項１３】  前記哺乳動物がヒトである、請求項１２記載の組成物。
【請求項１４】  前記ウイルスが、ヒトヘルペスウイルス、ヒト免疫不全ウイルスおよびＢ型肝炎ウイルスより成る群から選択される、請求項１２記載の組成物。
【請求項１５】  付加的な抗ウイルス化合物をさらに含んで成る、請求項１２記載の組成物。
【請求項１６】  付加的な抗ウイルス化合物が、アシクロビル、ガンシクロビル、ジドブジン、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、３ＴＣ、ｄ４Ｔおよびそれらの組み合わせ剤より成る群から選択される、請求項１５記載の組成物。
【請求項１７】  請求項３記載の化合物より成る群から選択される抗ウイルス化合物またはその組み合わせ剤を含んで成る、ウイルスに感染した哺乳動物を処置するための組成物。
【請求項１８】  前記哺乳動物がヒトである、請求項１７記載の組成物。
【請求項１９】  前記ウイルスが、ヒトヘルペスウイルス、ヒト免疫不全ウイルスおよびＢ型肝炎ウイルスより成る群から選択される、請求項１７記載の組成物。
【請求項２０】  付加的な抗ウイルス化合物をさらに含んで成る、請求項１７記載の組成物。
【請求項２１】  付加的な抗ウイルス化合物が、アシクロビル、ガンシクロビル、ジドブジン、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、３ＴＣ、ｄ４Ｔおよびそれらの組み合わせ剤より成る群から選択される、請求項２０記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月9日(2007.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＣＤＭＡシステムにおけるハンドオフ方法、および適応ハンドオフ・アルゴリズムを利用する方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線ネットワーク・コントローラ、複数の基地局、及び前記基地局内の少なくとも２つのセクタと通信リンクを同時に確立することができる移動体を有し、前記移動体が通信リンクを継続するために前記セクタ間でハンドオフ・アルゴリズムによって管理されるハンドオフを実行するＣＤＭＡシステムにおけるハンドオフ方法であって、
前記移動体によって要求されたサービスのタイプを決定するステップと、
前記決定されたサービスのタイプに応じて前記移動体に適したハンドオフ・アルゴリズムを選択するステップと、
前記選択されたハンドオフ・アルゴリズムを前記移動体に適用するステップと、を備えることを特徴とするＣＤＭＡシステムにおけるハンドオフ方法。
【請求項２】
前記サービスのタイプが音声の呼であり、これにより前記移動体の出力パワーを最小化するのに好適なハンドオフ・アルゴリズムを呼出すことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記サービスのタイプがウエブの閲覧のようなデータ量の多いサービスであり、これによりダウンリンクの出力パワーを最小化するのに好適なハンドオフ・アルゴリズムを呼出すことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ハンドオフ・アルゴリズムが、経路損失、経路損失とアップリンク干渉、ダウンリンクの受信信号強度（ＲＳＳＩ）、及びダウンリンク干渉（Ｅb／Ｉo）のいずれかに基づいていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
無線ネットワーク・コントローラ、複数の基地局、及び前記基地局内の多数のセクタと通信リンクを同時に確立することができる移動体を有し、移動体が通信リンクを継続するために前記セクタ間でハンドオフ・アルゴリズムによって管理されるハンドオフを実行するＣＤＭＡシステムにおける、信号の経路損失、経路損失とアップリンク干渉、ダウンリンクの受信信号強度（ＲＳＳＩ）、及びダウンリンク干渉（Ｅb／Ｉo）を含む品質基準に基づいた適応ハンドオフ・アルゴリズムを利用する方法であって、
前記ハンドオフ・アルゴリズムによって使用される特定の品質基準が前記要求されたサービスのタイプに基づくことを特徴とする、適応ハンドオフ・アルゴリズムを利用する方法。
【請求項６】
前記要求されたサービスが音声の呼である場合、移動体の出力パワーを最小化する傾向となるように移動体のハンドオフを誘導するために、前記経路損失とアップリンク干渉が前記ハンドオフ・アルゴリズムに用いられることを特徴とする請求項５に記載の適応ハンドオフ・アルゴリズムを利用する方法。
【請求項７】
前記要求されたサービスがインターネットのウエブの閲覧である場合、ダウンリンクの出力パワーを減少させ、これによりセル内の干渉レベル全体を低下させる傾向となるように移動体のハンドオフを誘導するために、前記ダウンリンク干渉（Ｅb／Ｉo）が前記ハンドオフ・アルゴリズムに用いられることを特徴とする請求項５に記載の適応ハンドオフ・アルゴリズムを利用する方法。
【請求項８】
前記ハンドオフ・アルゴリズムがソフト・ハンドオフ及びハード・ハンドオフのいずれかを実行する移動体に適用されることを特徴とする請求項５に記載の適応ハンドオフ・アルゴリズムを利用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月12日(2007.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ウェハを整列させるためのシステムであって、
設計領域と、
第１のアライメントマークと、
レチクル中心点に関して第１のアライメントマークに対称である第２のアライメントマークとを含むレチクルと、
ウェハの表面層上に印刷された第１および第２のアライメントマークの少なくとも一方を位置付けるための少なくとも１つのシステムと、
システムの汎用動作を制御するためのプロセッサとを含み、プロセッサは、第１の仮想アライメントマークを決定し、第１の仮想アライメントマークは、ウェハ上に印刷された第１および第２のアライメントマークの中点であり、プロセッサは、ウェハのアライメントを促進するために第１の仮想アライメントマークを採用する、システム。
【請求項２】  レチクルの中心点は第１および第２のアライメントマークの中点である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】  第１のアライメントマークは、第２のアライメントマークのものと同一のパターンを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】  第１のアライメントマークは、第２のアライメントマークと異なるパターンを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】  アライメントマークの少なくとも１つが設計領域の外側に位置する、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】  第１の想像線が、第１および第２のアライメントマークに交わり、第２の想像線が、レチクル中心と第１および第２のアライメントマークの中点とに交わり、第１の想像線は、第２の想像線に対して垂直である、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】  プロセッサは、以下の方程式に基づいてウェハに関して第１の仮想アライメントマークの場所を決定し、
【数１】
2002539605.tif 000001
式中Ｘv，Ｙvは第１の仮想アライメントマークの（ｘ，ｙ）座標であり、（Ｘ1，Ｙ1）
は、印刷された第１のアライメントマークの（ｘ，ｙ）座標であり、（Ｘ2，Ｙ2）は、印刷された第２のアライメントマークの（ｘ，ｙ）座標である、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】  プロセッサは、最小二乗法を用いて第１の仮想アライメントマークの場所を決定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】  プロセッサは、第２の表面層の第２の仮想アライメントマークを決定し、第１の仮想アライメントマークは、ウェハに関して第２の仮想アライメントマークからの既知のオフセットを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】  プロセッサは、第１の仮想アライメントマークおよび第２の仮想アライメントマークを用いて第１の層を第２の層に整列させる、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】  プロセッサは、第３の表面層の第３の仮想アライメントマークを決定し、第２の仮想アライメントマークは、ウェハに関して第３の仮想アライメントマークからの既知のオフセットを有する、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】  プロセッサは、第２の仮想アライメントマークおよび第３の仮想アライメントマークを用いて第２の層を第３の層に整列させる、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】  ウェハを整列させるためのシステムであって、
設計領域と、
第１のアライメントマークと、
第２のアライメントマークとを含むレチクルと、
ウェハの表面層上に印刷された第１および第２のアライメントマークの少なくとも一方を位置付けるための少なくとも１つのシステムと、
システムの汎用動作を制御するためのプロセッサとを含み、プロセッサは、レチクルに関して第１および第２のアライメントマークの場所を規定するためにレチクルをマッピングし、プロセッサは、第１および第２のアライメントマークの印刷の意図された場所、ならびに印刷された第１および第２のアライメントマークの実際の場所を規定するためにウェハもマッピングし、プロセッサは、アライメントマークのマッピングに基づいてレチクル回転誤差および／またはレンズ拡大誤差の大きさを決定する、システム。
【請求項１４】  ウェハを整列させるための方法であって、
設計領域と、
第１のアライメントマークと、
第２のアライメントマークとを含むレチクルを使用するステップを含み、第２のアライメントマークは、レチクル中心点に関して第１のアライメントマークに対称であり、さらに、
ウェハの第１の表面層上に第１のアライメントマークを印刷するステップと、
第１のアライメントマークの直接上に第２のアライメントマークを印刷する意図で第２のアライメントマークを第１の表面層上に印刷するステップと、
第１の仮想アライメントマークを決定するステップとを含み、第１の仮想アライメントマークは、組合された、印刷された第１および第２のアライメントマークを表わす物体の中心であり、さらに、
仮想アライメントマークを使用してウェハを整列させることを促進するステップを含む、方法。
【請求項１５】  以下の方程式から仮想アライメントマークの場所を決定するステップをさらに含み、
【数２】
2002539605.tif 000002
式中、（ＸV，ＹV）は仮想アライメントマークの（ｘ，ｙ）座標であり、ＸMAXは物体の最大ｘ座標であり、ＸMINは物体の最小ｘ座標であり、ＹMAXは物体の最大ｙ座標であり、ＹMINは物体の最小ｙ座標である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  ウェハを整列させるためのシステムであって、
少なくとも２つのアライメントマークをウェハの表面層上に印刷するための手段を含み、少なくとも２つのアライメントマークは、印刷されたマークが印刷されたマークの中点に関してレチクル回転誤差および／またはレンズ拡大誤差を実質的に打ち消すように、関連付けられた対称性を有し、さらに、
中点を決定するための手段を含み、中点は仮想アライメントマークであり、さらに、
仮想アライメントマークを基準として用いてウェハを整列させるための手段を含む、システム。
【請求項１７】  印刷されたマークの場所を識別するための手段をさらに含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】  複数個の層のための仮想アライメントマークを決定するための手段をさらに含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１９】  基準点としてそれぞれの仮想アライメントマークを採用する複数個の層の少なくとも２つを整列させるための手段をさらに含む、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】  少なくとも２つのアライメントマークを含むレチクルと、
アライメントマークを印刷するための手段と、
印刷されたアライメントマークを見出すための手段と、
意図された印刷場所からの印刷されたアライメントマークのずれを決定するための手段と、
ウェハアライメントシステムを修正してずれを補償するための手段とを含む、ウェハアライメント。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造時に半導体ウェーハ上の層間絶縁層と絶縁エッチングストップ層とに半導体コンタクトに対する開口部を形成するための方法であって、
所定構成の層間絶縁層の一部をエッチングし絶縁エッチングストップ層に対する層間絶縁層のために選択される第１高エッチング選択性化学組成を使用して開口部の第１部分を形成し、前記第１高エッチング選択性化学組成は炭素対フッ素比が高い過フッ化炭化水素プラズマを使用して重合が発生し開口部の前記第１部分上にポリマーを形成し、
層間絶縁層の開口部の前記第１部分から前記ポリマーを除去し、
前記所定構成の絶縁エッチングストップ層の一部をエッチングし半導体コンタクトに対する絶縁エッチングストップ層のために選択される第２高エッチング選択性化学組成を使用して半導体コンタクトに対して開口する開口部の第２部分を形成する、
ステップを備えた方法。
【請求項２】
層間絶縁層上にホトレジストを堆積し、
前記ホトレジストをホトリソグラフィックに露光及び現像してその中に開口部を形成し、
前記開口部を通して層間絶縁層の前記第１部分をエッチングし、
フッ素反応成分を使用して前記ポリマーを除去する、
ステップを備えた請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ポリマーを除去するステップは水蒸気灰化処理を使用して行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ポリマーを除去するステップはオゾン環境での半導体ウェーハの加熱を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ポリマーを除去するステップは無線周波数で作用する下流酸素プラズマを使用する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ポリマーを除去するステップはマイクロ波周波数で作用する下流酸素プラズマを使用する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１部分のエッチングと前記ポリマーを除去ステップは７０〜１１０秒の前記第２部分処理時間ウィンドウをエッチングする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記エッチングステップは、二重周波数プラズマリアクタを使用して、一方の励起周波数で高密度プラズマを発生し、もう一方の励起周波数でイオン衝撃エネルギーを向上させる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
層間絶縁層と絶縁エッチングストップ層の前記部分をエッチングするステップは、二重周波数プラズマリアクタを使用して、非常に高い高励起周波数で高密度プラズマを発生し、低励起周波数でイオン衝撃エネルギーを向上させる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１部分をエッチングするステップは過フッ化炭化水素、一酸化炭素、及びアルゴンの所定比を有する気体混合物のプラズマを使用する、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  組み立てられかつ上塗りされることが意図される金属基体をコーティングするための組成物であって、シリカまたはケイ酸塩バインダーおよび亜鉛粉末および／または亜鉛合金を含むところの組成物において、バインダーが、少なくとも６：１のＳｉＯ2／Ｍ2Ｏモル比（Ｍは全アルカリ金属およびアンモニウムイオンを表す）を有する水性シリカゾルまたはアルカリ金属ケイ酸塩を含むこと、およびシリカまたはケイ酸塩粒子が１０ｎｍ以下の平均粒径を有することを特徴とする組成物。
【請求項２】  バインダーが少なくとも２５：１のＳｉＯ2／Ｍ2Ｏモル比のシリカゾルであることを特徴とする、請求項１記載のコーティング組成物。
【請求項３】  バインダーが、ケイ酸より低いｐＫａの少なくとも１つのアニオン基によって置換されたシリコネートによって安定化されたアルカリ金属またはアンモニウムのケイ酸塩の水性溶液を含み、かつケイ酸塩およびシリコネートの溶液のｐＨをカチオン交換によって低下させることにより調製された７〜１０．５のｐＨを有することを特徴とする、請求項１または２記載のコーティング組成物。
【請求項４】  シリカ粒子が３ｎｍ〜１０ｎｍの範囲の平均粒径を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項記載のコーティング組成物。
【請求項５】  バインダーがシランカップリング剤をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載のコーティング組成物。
【請求項６】  バインダーが有機樹脂をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜５いずれか１項記載のコーティング組成物。
【請求項７】  水系ショッププライマーであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項記載のコーティング組成物。
【請求項８】  組み立てられかつ上塗りされることが意図される鋼製基体をコーティングするための水系ショッププライマーであって、該組成物が２０〜４０体積％の固形分を有し、かつ
少なくとも６：１のＳｉＯ2／Ｍ2Ｏモル比（Ｍは全アルカリ金属およびアンモニウムイオンを表す）を有する水性シリカゾルまたはアルカリ金属ケイ酸塩バインダー、ここで、シリカまたはケイ酸塩粒子は１０ｎｍ以下の平均粒径を有する、
乾燥膜に基づいてコーティングの１０〜９０体積％の、２〜１２μｍの平均粒径を有する亜鉛粉末および／または亜鉛合金、
シリカまたはケイ酸塩に基づいて０〜３５重量％の有機樹脂、
シリカまたはケイ酸塩に基づいて０〜３０重量％のシランカップリング剤、
所望により、３μｍより下の平均粒径を有する非亜鉛顔料、および
所望により、ポットライフエクステンダー
を含む水系ショッププライマー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るコーティング組成物は、上記の問題／欠点に対する解決を提供する。本発明に係る、組み立てられかつ上塗りされることが意図される金属基体をコーティングするための、シリカまたはケイ酸塩バインダーおよび亜鉛粉末および／または亜鉛合金組成物は、少なくとも６：１のＳｉＯ2／Ｍ2Ｏモル比（Ｍは全アルカリ金属およびアンモニウムイオンを表す）を有する水性シリカゾルまたはアルカリ金属ケイ酸塩バインダーを含み、ここで、シリカ粒子は１０ｎｍ以下の平均粒径を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月10日(2006.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  モジュール式に構成された、内燃機関のための吸気装置において、内燃機関の空気供給部に接続可能な、プラスチック製の空気分配器モジュール（２）と、それぞれ一方の管端部（７）が空気分配器モジュール（２）に接続され、かつ、内燃機関のそれぞれ１つの燃焼室に配属され、前記空気分配モジュール（２）とは別個に製造されたプラスチック製のそれぞれ一体的な多数の吸気管モジュール（６）と、プラスチック製の少なくとも１つの一体的なフランジモジュール（９）とを備えており、該フランジモジュール（９）に、少なくとも１つの吸気管モジュール（６）の他方の管端部（８）が結合されていて、該フランジモジュール（９）が内燃機関に固定可能であることを特徴とする、内燃機関のための吸気装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ドイツ連邦共和国特許公開第４２１６２５５号明細書によれば、冒頭に述べた形式の吸気装置が公知である。この公知の吸気装置の空気分配器は吸気管と共に一体的に構成されていて、ブロー成形技術によって製造されている。またヨーロッパ特許第０５６７７０２号明細書でも、空気分配器が吸気管と一体的に構成されていて、ブロー成形技術で製造され、吸気管にフランジが射出成形で固定されている吸気装置が開示されている。
ヨーロッパ特許公開第０１５５６８５号明細書によれば、空気分配器が吸気管を介してフランジに結合されていて、これらのフランジ自体が内燃機関のシリンダバンクに固定されている吸気装置が公知である。この場合、吸気管は２つの部分より形成されていて、それぞれＵ字形に湾曲された、空気分配器に接続された上部の管区分と、各フランジに接続されたほぼ湾曲されていない延長区分とから成っている。この場合、吸気管は、隣接し合う吸気管が空気分配器の下側で交差するように構成されている。
ヨーロッパ特許公開第０９８４１５５号明細書及び同第０９８４１５６号明細書によれば、吸気管がそれぞれ２つの互いに補完し合う半部から構成されている吸気装置が公知である。