【手続補正書】
【提出日】平成19年1月26日(2007.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を処理するプラズマ処理室に、プラズマを維持するエネルギを供給するための電力供給システムであって、
入力ポートと、第１の出力ポートと、第２の出力ポートと、第３の出力ポートとを有する金属製の格納容器と、
前記格納容器内に設けられた配電ボックスであって、前記金属製の格納容器の外部から前記入力ポートを介してＡＣ電力を受け取り、かつ、前記金属製の格納容器の外部のＡＣ負荷に前記第１の出力ポートを介してＡＣ電力を供給するための第１のＡＣ入力ポートを備える、配電ボックスと、
前記配電ボックスに電気的に接続されたＤＣ電源であり、前記配電ボックスから前記ＡＣ電力を受けてＤＣ電力を出力するよう構成され、前記金属製の格納容器内に配置されているＤＣ電源であって、前記ＤＣ電力は、前記金属製の格納容器の外部に設けられたＤＣ負荷に、前記第２の出力ポートを介して供給される、ＤＣ電源と、
前記配電ボックスに電気的に接続されて前記ＡＣ電力を受けるとともに、前記ＤＣ電源に接続されて前記ＤＣ電力の供給を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第１の高周波発生器と、
前記第１の高周波発生器の出力に電気的に接続されて、前記第１の高周波発生器から高周波エネルギを受ける第１のインピーダンス整合器であり、インピーダンスを整合した第１の高周波エネルギを前記プラズマ処理室の第１の電極に前記第３の出力ポートを介して供給するための第１のインピーダンス整合器出力を有し、前記金属製の格納容器内に配置されている第１のインピーダンス整合器と、を備え、
前記金属製の格納容器の外部には、前記プラズマ処理室と関連づけられた他の高周波発生器は設けられていない、電力供給システム。
【請求項２】  請求項１記載の電力供給システムであって、
前記配電ボックスに電気的に接続されて前記ＡＣ電力を受けるとともに、前記ＤＣ電源に電気的に接続されて前記ＤＣ電力を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第２の高周波発生器と、
前記第２の高周波発生器の出力に電気的に接続されて、前記第２の高周波発生器から高周波エネルギを受ける第２のインピーダンス整合器であり、インピーダンスを整合した第２の高周波エネルギを前記第３の出力ポートを介して前記第１の電極に供給するための第２のインピーダンス整合器出力を有し、前記ＤＣ電源に電気的に接続されて前記ＤＣ電力を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第２のインピーダンス整合器と
を更に備える電力供給システム。
【請求項３】  請求項２記載の電力供給システムであって、
前記第１のインピーダンス整合器の出力と前記第２のインピーダンス整合器の出力とが導電ストラップで接続され、インピーダンスの整合された前記第１の高周波エネルギと前記第２の高周波エネルギとが、前記第１の電極に供給される電力供給システム。
【請求項４】  前記第１の高周波発生器と前記第１のインピーダンス整合器との接続は、同軸ケーブルを利用せずに実現されている、請求項１ないし３のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項５】  前記第１の高周波発生器と前記第１のインピーダンス整合器とが同軸コネクタによらずに接続されている請求項１ないし４のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項６】  前記金属製の格納容器の外部に設けられて前記第２の出力ポートから前記ＤＣ電力の供給を受ける前記ＤＣ負荷が、前記プラズマ処理室内の圧力を感知する圧力センサである請求項１ないし５のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項７】  前記金属製の格納容器の外部に設けられて前記第２の出力ポートから前記ＤＣ電力の供給を受ける前記ＤＣ負荷が、前記プラズマ処理室の制御電子機器である請求項１ないし６のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項８】  前記金属製の格納容器の外部に設けられて前記第１の出力ポートから前記ＡＣ電力の供給を受ける前記ＡＣ負荷が、前記プラズマ処理室から副産物ガスを排出するターボポンプである請求項１ないし７のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項９】  請求項１記載の電力供給システムであって、
前記配電ボックスに電気的に接続されて前記ＡＣ電力を受けるとともに、前記ＤＣ電源に電気的に接続されて前記ＤＣ電力を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第２の高周波発生器と、
前記第２の高周波発生器の出力に電気的に接続されて、前記第２の高周波発生器から高周波エネルギを受ける第２のインピーダンス整合器であり、インピーダンスを整合した第２の高周波エネルギを前記第３の出力ポートを介して前記プラズマ処理室の第２の電極に供給するための第２のインピーダンス整合器出力を有し、前記ＤＣ電源に電気的に接続されて前記ＤＣ電力を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第２のインピーダンス整合器と
を更に備える電力供給システム。
【請求項１０】  緊急停止（ＥＭＯ）サブシステムが、前記金属製の格納容器内に設けられており、前記入力ポートの下流側には、前記電力供給システムと関連づけられた他の緊急停止サブシステムは設けられていない、請求項１ないし９のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項１１】  緊急停止（ＥＭＯ）サブシステムが、前記金属製の格納容器内に設けられており、前記金属製の格納容器の外部には、前記電力供給システムと関連づけられた他の緊急停止サブシステムは設けられていない、請求項１ないし１０のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項１２】  基板を処理するプラズマ処理室の電極に、プラズマを維持するエネルギを供給するための電力供給システムであって、
電磁波シールド格納容器内に前記電力供給システムの装置を格納するとともに、入力ポートと、第１の出力ポートと、第２の出力ポートと、第３の出力ポートとを備える電磁波シールド手段と、
前記格納容器内に設けられ、前記電磁波シールド手段の外部から前記入力ポートを介してＡＣ電力の供給を受けるとともに、少なくとも該電磁波シールド手段の外部にあるＡＣ負荷に前記第１の出力ポートからＡＣ電力を供給する配電手段と、
前記配電手段に電気的に接続されたＤＣ電源であり、前記配電手段から前記ＡＣ電力を受けてＤＣ電力を出力するよう構成され、前記電磁波シールド手段内に配置されているＤＣ電源であって、前記ＤＣ電力は、前記電磁波シールド手段の外部に設けられたＤＣ負荷に、前記第２の出力ポートを介して供給される、ＤＣ電源と、
前記電極に供給すべき前記エネルギを生成する第１のエネルギ生成手段であって、前記ＡＣ電力を受けとることができるように前記配電手段に電気的に接続されており、前記ＤＣ電力を受けとることができるように前記ＤＣ電源に接続されており、さらに、前記電磁波シールド手段内に配置されている第１のエネルギ生成手段と、を備え、
前記電磁波シールド手段の外部には、前記プラズマ処理室と関連づけられた他のエネルギ生成手段は設けられていない、電力供給システム。
【請求項１３】  請求項１２記載の電力供給システムであって、さらに、
前記電極に供給すべき前記エネルギを生成する第２のエネルギ生成手段であって、前記ＡＣ電力を受けとることができるように前記配電手段に電気的に接続されており、前記ＤＣ電力を受けとることができるように前記ＤＣ電源に接続されており、さらに、前記電磁波シールド手段内に配置されている第２のエネルギ生成手段を備える電力供給システム。
【請求項１４】  前記第１のエネルギ生成手段および前記第２のエネルギ生成手段が、高周波発生器とインピーダンス整合器とを備えている請求項１３記載の電力供給システム。
【請求項１５】  前記高周波発生器と前記インピーダンス整合器とが同軸ケーブルによらずに接続されている請求項１４記載の電力供給システム。
【請求項１６】  前記高周波発生器と前記インピーダンス整合器とが同軸コネクタによらずに接続されている請求項１３または１４に記載の電力供給システム。
【請求項１７】  前記電磁波シールド手段の外部に設けられて前記第２の出力ポートから前記ＤＣ電力の供給を受ける前記ＤＣ負荷が、前記プラズマ処理室内の圧力を感知する圧力センサである請求項１２ないし１６のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項１８】  前記電磁波シールド手段の外部に設けられて前記第２の出力ポートから前記ＤＣ電力の供給を受ける前記ＤＣ負荷が、前記プラズマ処理室の制御電子機器である請求項１２ないし１７のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項１９】  前記電磁波シールド手段の外部に設けられて前記第１の出力ポートから前記ＡＣ電力の供給を受ける前記ＡＣ負荷が、前記プラズマ処理室から副産物ガスを排出するターボポンプである含む請求項１２ないし１８のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項２０】  請求項１２記載の電力供給システムであって、さらに、
前記プラズマ処理室の他方の電極に供給すべきエネルギを生成する第２のエネルギ生成手段であって、であって、前記ＡＣ電力を受けとることができるように前記配電手段に電気的に接続されており、前記ＤＣ電力を受けとることができるように前記ＤＣ電源に接続されており、さらに、前記電磁波シールド手段内に配置されている第２のエネルギ生成手段を備える電力供給システム。
【請求項２１】  基板を処理するプラズマ処理室に、プラズマを維持するエネルギを供給する方法であって、
入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートと第３の出力ポートとを有する金属製の格納容器を準備するステップと、
配電ボックスを、該格納容器内に設けるステップであって、前記配電ボックスは、前記金属製の格納容器の外部から前記入力ポートを介してＡＣ電力を受け取り、かつ、前記金属製の格納容器の外部のＡＣ負荷に前記第１の出力ポートを介してＡＣ電力を供給するための第１のＡＣ入力ポートを備える、ステップと、
ＤＣ電源を、該配電ボックスに電気的に接続するステップであって、前記ＤＣ電源は、前記配電ボックスから前記ＡＣ電力を受けてＤＣ電力を出力するよう構成され、前記金属製の格納容器内に配置されており、前記ＤＣ電力は、前記金属製の格納容器の外部に設けられたＤＣ負荷に、前記第２の出力ポートを介して供給される、ステップと、
第１の高周波発生器を、前記ＡＣ電力を受けとることができるように前記配電ボックスに電気的に接続するステップであって、前記第１の高周波発生器は、前記ＤＣ電力の供給を受けとることができるように前記ＤＣ電源に接続されており、前記金属製の格納容器内に配置されている、ステップと、
第１のインピーダンス整合器を、前記第１の高周波発生器から高周波エネルギを受けとることができるように該第１の高周波発生器に電気的に接続するステップであって、前記第１のインピーダンス整合器は、インピーダンスを整合した第１の高周波エネルギを前記第３の出力ポートを介して電極に供給するための第１のインピーダンス整合器出力を有し、かつ、前記金属製の格納容器内に配置されているステップと、を備え、
前記金属製の格納容器の外部には、前記プラズマ処理室に関連づけられた他の高周波発生器は存在しない、方法。
【請求項２２】  請求項２１記載の方法であって、さらに、
第２の高周波発生器を、前記ＡＣ電源の供給を受けとることができるように前記配電ボックスに電気的に接続するステップであって、前記第２の高周波発生器は、前記ＤＣ電力を受けとることができるように前記ＤＣ電源に電気的に接続されており、前記金属製の格納容器内に配置されている、ステップと、
第２のインピーダンス整合器を、前記第２の高周波発生器から高周波エネルギを受けることができるように該第２の高周波発生器に電気的に接続するステップであって、前記第２のインピーダンス整合器は、インピーダンスを整合した第２の高周波エネルギを前記第３の出力ポートを介して前記電極に供給するための第２のインピーダンス整合器出力を有し、前記ＤＣ電力を受けとることができるように前記ＤＣ電源に電気的に接続されており、さらに、前記金属製の格納容器内に配置されている、ステップと、を備える方法。
【請求項２３】  請求項２２記載の方法であって、
インピーダンスの整合された前記第１の高周波エネルギと前記第２の高周波エネルギとを前記電極に供給すべく、前記第１のインピーダンス整合器の出力と前記第２のインピーダンス整合器の出力とを導電ストラップで接続するステップを、更に備える方法。
【請求項２４】  前記第１の高周波発生器と前記第１のインピーダンス整合器とが同軸ケーブルによらずに接続されている請求項２１ないし２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】  基板を処理するプラズマ処理室に、プラズマを維持するエネルギを供給するための電力供給システムであって、
入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートと第３の出力ポートとを有する金属製の格納容器と、
前記格納容器内に設けられた第１のＡＣ入力ポートからＡＣ電力の供給を受けるとともに、前記第１の出力ポートを介して前記金属製の格納容器の外部のＡＣ負荷にＡＣ電力を供給する配電ボックスと、
前記配電ボックスに電気的に接続されたＤＣ電源であり、前記配電ボックスから前記ＡＣ電力を受けてＤＣ電力を出力するよう構成され、前記金属製の格納容器内に配置されているＤＣ電源であって、前記ＤＣ電力は、前記金属製の格納容器の外部に設けられたＤＣ負荷に、前記第２の出力ポートを介して供給される、ＤＣ電源と、
前記配電ボックスに電気的に接続されて前記ＡＣ電力を受けるとともに、前記ＤＣ電源に接続されて前記ＤＣ電力の供給を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第１の高周波発生器と、
前記第１の高周波発生器の出力に電気的に接続されて、前記第１の高周波発生器から高周波エネルギを受ける第１のインピーダンス整合器であり、インピーダンスを整合した第１の高周波エネルギを前記プラズマ処理室の第１の電極に前記第３の出力ポートを介して供給するための第１のインピーダンス整合器出力を有し、前記金属製の格納容器内に配置されている第１のインピーダンス整合器と
前記配電ボックスに電気的に接続されて前記ＡＣ電力を受けるとともに、前記ＤＣ電源に電気的に接続されて前記ＤＣ電力を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第２の高周波発生器と、
前記第２の高周波発生器の出力に電気的に接続されて、前記第２の高周波発生器から高周波エネルギを受ける第２のインピーダンス整合器であり、インピーダンスを整合した第２の高周波エネルギを前記第３の出力ポートを介して前記第１の電極に供給するための第２のインピーダンス整合器出力を有し、前記ＤＣ電源に電気的に接続されて前記ＤＣ電力を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第２のインピーダンス整合器と、を備え、
前記金属製の格納容器の外部には、前記プラズマ処理室と関連づけられた他の高周波発生器は設けられていない、電力供給システム。
【請求項２６】  緊急停止（ＥＭＯ）サブシステムが、前記金属製の格納容器内に設けられており、前記金属製の格納容器の外部には、前記電力供給システムと関連づけられた他の緊急停止サブシステムは設けられていない、請求項２５記載の電力供給システム。
【請求項２７】  半導体基板を処理するクラスタツールモジュールの複数のプラズマ処理室に、プラズマを維持するエネルギを供給する電力供給システムであって、
入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートと第３の出力ポートとを有する金属製の格納容器と、
前記格納容器内に設けられた第１のＡＣ入力ポートからＡＣ電力の供給を受けるとともに、前記第１の出力ポートを介して該格納容器の外部のＡＣ負荷にＡＣ電力を供給する配電ボックスと、
前記配電ボックスに電気的に接続されたＤＣ電源であり、前記配電ボックスから前記ＡＣ電力を受けてＤＣ電力を出力するよう構成され、前記金属製の格納容器内に配置されているＤＣ電源であって、前記ＤＣ電力は、前記金属製の格納容器の外部に設けられたＤＣ負荷に、前記第２の出力ポートを介して供給される、ＤＣ電源と、
前記配電ボックスに電気的に接続されて前記ＡＣ電力を受けるとともに、前記ＤＣ電源に接続されて前記ＤＣ電力の供給を受け、前記金属製の格納容器内に配置されており、さらに、前記複数のプラズマ処理室に高周波電力を供給する複数の高周波発生器と
を備える電力供給システム。
【請求項２８】  請求項２７記載の電力供給システムであって、さらに、
複数のインピーダンス整合器を備え、
各インピーダンス整合器は、
前記ＤＣ電源に電気的に接続されており、かつ、前記複数の高周波発生器から高周波エネルギを受け取ることができるように、各高周波発生器に電気的に接続されており、
前記複数のプラズマ処理室のうちの一つと関連づけられており、前記複数のプラズマ処理室のうちの前記一つの電極にインピーダンスの整合された高周波エネルギを供給するためのインピーダンス整合器出力を備える、電力供給システム。
【請求項２９】  半導体基板を処理するクラスタツールモジュールの複数のプラズマ処理室に、プラズマを維持するエネルギを供給する方法であって、
入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートと第３の出力ポートとを有する金属製の格納容器を準備するステップと、
配電ボックスを、該格納容器内に設けるステップであって、前記配電ボックスは、前記金属製の格納容器の外部から前記入力ポートを介してＡＣ電力を受け取り、かつ、前記金属製の格納容器の外部のＡＣ負荷に前記第１の出力ポートを介してＡＣ電力を供給するための第１のＡＣ入力ポートを備える、ステップと、
ＤＣ電源を、該配電ボックスに電気的に接続するステップであって、前記ＤＣ電源は、前記配電ボックスから前記ＡＣ電力を受けてＤＣ電力を出力するよう構成され、前記金属製の格納容器内に配置されており、前記ＤＣ電力は、前記金属製の格納容器の外部に設けられたＤＣ負荷に、前記第２の出力ポートを介して供給される、ステップと、
複数の高周波発生器を、前記ＡＣ電力を受けとることができるように前記配電ボックスに電気的に接続するステップであって、前記複数の高周波発生器は、前記ＤＣ電力の供給を受けとることができるように前記ＤＣ電源に接続されており、前記金属製の格納容器内に配置されており、さらに、前記複数のプラズマ処理室に高周波電力を供給する用に構成されている、ステップと、
を備える方法。
【請求項３０】  請求項２９記載の方法であって、さらに、
複数のインピーダンス整合器を、前記ＤＣ電源と、前記複数の高周波発生器のそれぞれと、に電気的に接続するステップであって、各インピーダンス整合器は、前記複数のプラズマ処理室のうちの一つと関連づけられており、前記複数のプラズマ処理室のうちの前記一つの電極にインピーダンスの整合された高周波エネルギを供給するためのインピーダンス整合器出力を備える、ステップを備える方法。
【請求項３１】
基板を処理するプラズマ処理室に、プラズマを維持するエネルギを供給するための電力供給システムであって、
ＥＭＩシールドと、
前記ＥＭＩシールド内に配置され、前記ＥＭＩシールドの外部からＡＣ電力を受ける第１のＡＣ入力ポートを備える配電ボックスと、
前記配電ボックスに電気的に接続されたＤＣ電源であって、前記配電ボックスから前記ＡＣ電力を受けてＤＣ電力を出力するよう構成され、前記ＥＭＩシールド内に配置されているＤＣ電源と、
前記配電ボックスに電気的に接続されて、前記ＡＣ電力を受ける第１の高周波発生器であって、前記ＥＭＩシールド内に配置されている第１の高周波発生器と、
前記第１の高周波発生器の出力に電気的に接続されて、前記第１の高周波発生器から高周波エネルギを受ける第１のインピーダンス整合器であって、インピーダンスを整合した第１の高周波エネルギを前記プラズマ処理室の第１の電極に供給するための第１のインピーダンス整合器出力を有し、前記ＥＭＩシールド内に配置されている第１のインピーダンス整合器と、
を備える、電力供給システム。
【請求項３２】
請求項３１に記載の電力供給システムであって、
前記第１の高周波発生器と前記第１のインピーダンス整合器とは、第１の導電ストラップを介して直接的に接続されており、
前記第１の高周波エネルギは、前記第１の導電ストラップを介して前記第１のインピーダンス整合器に供給される、電力供給システム。
【請求項３３】
請求項３１または３２に記載の電力供給システムであって、
前記第１のインピーダンス整合器出力と、前記第１の電極とは、第２の導電ストラップを介して直接的に接続されており、
前記インピーダンスを整合した第１の高周波エネルギは、前記第２の導電ストラップを介して前記第１の電極に供給される、電力供給システム。
【請求項３４】
請求項３１ないし３３のいずれかに記載の電力供給システムであって、さらに、
前記ＥＭＩシールド内に制御部を備え、
前記制御部は、
前記第１のインピーダンス整合器の出力からの入力を受けて、
前記第１のインピーダンス整合器と前記第１の高周波発生器とにフィードバック出力を供給する、電力供給システム。
【請求項３５】
請求項３４に記載の電力供給システムであって、さらに、
前記配電ボックスに電気的に接続されて、前記ＡＣ電力を受ける第２の高周波発生器であって、前記ＥＭＩシールド内に配置されている第２の高周波発生器を備え、
前記制御部は、前記第２の高周波発生器にフィードバック出力を供給する、電力供給システム。
【請求項３６】
請求項３５に記載の電力供給システムであって、さらに、
前記第２の高周波発生器の出力に電気的に接続されて、前記第２の高周波発生器から高周波エネルギを受ける第２のインピーダンス整合器であって、第２のインピーダンス整合器出力を有する第２のインピーダンス整合器を備え、
前記制御部は、前記第２のインピーダンス整合器の出力からの入力を受けて、前記第２のインピーダンス整合器にフィードバック出力を供給する、電力供給システム。
【請求項３７】
請求項３１ないし３６のいずれかに記載の電力供給システムであって、
前記第１の高周波発生器と前記第１のインピーダンス整合器との接続は、同軸ケーブルを利用せずに実現されている、電力供給システム。
【請求項３８】
請求項３１ないし３７のいずれかに記載の電力供給システムであって、さらに、
前記ＥＭＩシールド内に配置された緊急停止（ＥＭＯ）サブシステムを備え、
前記緊急停止サブシステムは、前記配電ボックスを停止できる、電力供給システム。
【請求項３９】
請求項３１ないし３８のいずれかに記載の電力供給システムであって、
前記ＤＣ電源は、前記ＥＭＩシールドの外部にあるＤＣ負荷にＤＣ電力を供給する、電力供給システム。
【請求項４０】
請求項３１ないし３９のいずれかに記載の電力供給システムであって、
前記配電ボックスは、前記ＥＭＩシールドの外部にあるＡＣ負荷にＡＣ電力を供給する、電力供給システム。
【請求項４１】
請求項３１ないし４０のいずれかに記載の電力供給システムであって、
前記第１の電極と前記第１のインピーダンス整合器との接続は、同軸ケーブルを利用せずに実現されている、電力供給システム。
【請求項４２】
請求項３６ないし４１のいずれかに記載の電力供給システムであって、
前記第２の高周波発生器と前記第２のインピーダンス整合器との接続は、同軸ケーブルを利用せずに実現されている、電力供給システム。
【請求項４３】
基板を処理するプラズマ処理室に、プラズマを維持するエネルギを供給する方法であって、
金属製の格納容器を準備する工程と、
前記金属製の格納容器の外部からＡＣ電力を受けるための第１のＡＣ入力ポート備える配電ボックスを、前記金属製の格納容器内に設ける工程と、
ＤＣ電源を前記配電ボックスに電気的に接続する工程であって、前記ＤＣ電源は、前記配電ボックスから前記ＡＣ電力を受けて、ＤＣ電力を出力するよう構成され、前記金属製の格納容器内に配置されている、工程と、
前記ＡＣ電力を受けられるように第１の高周波発生器を前記配電ボックスに電気的に接続する工程であって、前記第１の高周波発生器は、前記金属製の格納容器内に配置されている、工程と、
前記第１の高周波発生器から高周波エネルギを受けられるように第１のインピーダンス整合器を前記第１の高周波発生器の出力に電気的に接続する工程であって、前記第１のインピーダンス整合器は、インピーダンスを整合した第１の高周波エネルギを前記プラズマ処理室の第１の電極に供給するための第１のインピーダンス整合器出力を有し、前記金属製の格納容器内に配置されている、工程と、
を備える、方法。
【請求項４４】
請求項４３に記載の方法であって、
前記第１のインピーダンス整合器を前記第１の高周波発生器の出力に電気的に接続する工程は、前記第１の高周波発生器と前記第１のインピーダンス整合器とを第１の導電ストラップで接続する工程を備える、方法。
【請求項４５】
請求項４３または４４に記載の方法であって、
前記第１のインピーダンス整合器出力と、前記第１の電極とは、第２の導電ストラップを介して直接的に接続されており、
前記インピーダンスを整合した第１の高周波エネルギは、前記第２の導電ストラップを介して前記第１の電極に供給される、方法。
【請求項４６】
請求項４３ないし４５のいずれかに記載の方法であって、さらに、
前記金属製の格納容器内に制御部を配置する工程を備え、
前記制御部は、前記第１のインピーダンス整合器の出力からの入力を受けて、前記第１のインピーダンス整合器と前記第１の高周波発生器とにフィードバック出力を供給する、方法。