Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月14日(2007.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼科用組成物であって、該眼科用組成物は、
０．００００１〜約０．５パーセント重量／体積の以下の化合物：
【化１】
2006516968.tif 000001
であって、ここで、Ｒ１は、飽和または不飽和の、Ｃ１−２４のアルキルまたはＣ１−２４のアルケンであり；Ｒ２は、Ｃ１−２４のアルキレンであり；該Ｒ３基は、同一であってもまたは異なっていてもよく、Ｃ１−２４のアルキルおよびＣ６−３６のアリールアルキルからなる群から選択され；そしてＸは、ハライドである、化合物、または薬学的に受容可能な塩；
２００ｍＯｓｍ／ｋｇ〜４５０ｍＯｓｍ／ｋｇの重量オスモル濃度を提供する一つ以上の張度剤；および
水を含む、組成物。
【請求項２】
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−ベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムクロリド、Ｎ−カプリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージド、Ｎ−カプロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージド、Ｎ−ラウロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージド、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージド、Ｎ−パルミトイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージド、Ｎ−ステアロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージド、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチルアンモニウムヨージド、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピルアンモニウムヨージド、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムヨージド、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムヨージド、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムヨージド、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−デシル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムヨージド、Ｎ−ミリストイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアンモニウムヨージドおよびＮ−ミリストイルオキシエトキシエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージドの組成物。
【請求項３】
緩衝系をさらに含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
一つ以上の界面活性剤をさらに含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
一つ以上の粘度剤をさらに含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
請求項１に記載の組成物を使用する方法であって、該方法が：
コンタクトレンズの表面を該組成物に、該コンタクトレンズ上の微生物負荷を除去するために適切な時間の間、接触させる工程
を包含する、方法。
【請求項７】
前記化合物が、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−ベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムクロリド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−デシル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアンモニウムヨージドおよび
Ｎ−ミリストイルオキシエトキシエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージドからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記化合物が、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−ベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムクロリド、Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピルアンモニウムヨージドおよびＮ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムヨージドからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
眼科用組成物であって、該眼科用組成物は、
０．００００１〜約０．５パーセント重量／体積の以下の化合物：
【化１−２】
2006516968.tif 000002
であって、ここで、Ｒ２は、Ｃ１−２４のアルキレンであり；該Ｒ３基は、同一であってもまたは異なっていてもよく、Ｃ１−２４のアルキルおよびＣ６−３６のアリールアルキルからなる群から選択され；そしてＸは、ハライドである、化合物、または薬学的に受容可能な塩；
２００ｍＯｓｍ／ｋｇ〜４５０ｍＯｓｍ／ｋｇの重量オスモル濃度を提供する一つ以上の張度剤；および
水を含む、眼科用組成物。
【請求項１０】
前記化合物が、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−ベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムクロリド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシプロピル−Ｎ−デシル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムヨージド、
Ｎ−ミリストイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアンモニウムヨージドおよび
Ｎ−ミリストイルオキシエトキシエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムヨージドからなる群から選択される、請求項９に記載の組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年1月18日(2007.1.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
上に記載のカーボンナノワイヤの形成方法によると、炭化コバルトナノ粒子８６の凝集物はＴＥＭ銅格子上に準備される。この態様のナノ粒子８６は、先に記載されたカーボンアーク技術で形成され、その後のアニールは行われていないナノ粒子である。しかし、この態様における凝集物中のナノ粒子の密度は、ナノワイヤを作るために上述の態様で使用した凝集物中のナノ粒子の密度よりも小さい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月18日(2007.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ，Ｎ'，Ｎ"−トリス［サリチリデンアミノエチル］アミンの１：１マンガン（ＩＩＩ）錯体：
【化１】
2006516973.tif 000001
の結晶変態であって、
粉末Ｘ線回折パターンにおける約６．８７Åのｄ−間隔についてのピークを特徴とする結晶変態。
【請求項２】
Ｎ，Ｎ'，Ｎ"−トリス［サリチリデンアミノエチル］アミンの１：１マンガン（ＩＩＩ）錯体［化合物（２）］の結晶変態であって、
ＣｕＸ線［λ（ＣｕＫα）＝１．５４０５９８Å］下、室温（２５℃）で、機器ＳＴＯＥ−粉末回折計において、新規結晶変態の粉末試料に対するＸ線回折により得られた、格子面の間の下記の間隔：
【表１】
2006516973.tif 000002
により表わされる特徴的なＸ線粉末パターンを有する結晶変態。
【請求項３】
請求項１又は２記載のＮ，Ｎ'，Ｎ"−トリス［サリチリデンアミノエチル］アミンの１：１マンガン（ＩＩＩ）錯体［化合物（２）］の結晶変態であって、
試料単結晶に関するＸ線回折に従い、下記の結晶構造解析基礎データ：
【表２】
2006516973.tif 000003
により表わされることを特徴とする結晶変態。
【請求項４】
請求項１ないし３の何れか一項記載のＮ，Ｎ'，Ｎ"−トリス［サリチリデンアミノエチル］アミンの１：１マンガン（ＩＩＩ）錯体［化合物（２）］の結晶変態の、酸化反応用触媒としての使用。
【請求項５】
Ｉ）Ａ）アニオン性界面活性剤少なくとも１種及び／又はＢ）非イオン性界面活性剤少なくとも１種０〜５０％、好ましくは０〜３０％、
ＩＩ）Ｃ）ビルダー物質少なくとも１種０〜７０％、好ましくは０〜５０％、
ＩＩＩ）Ｄ）少なくとも１種の（ポリ）ホスホネート及び／又はアミノアルキレンポリ（アルキレンホスホネート）０〜１０％、好ましくは０〜５％、
ＩＶ）Ｅ）過酸化物少なくとも１種及び／又は過酸化物形成性物質少なくとも１種１〜９９％、好ましくは１〜７０％、並びに
Ｖ）洗浄剤、清浄剤、消毒剤及び漂白剤０．２ないし２０ｇ／リットルがリカーに添加されたとき、該リカー中で、濃度０．２〜５０ｍｇ／リットルリカー、好ましくは０．２〜３０ｍｇ／リットルリカーを与える量の、Ｆ）Ｎ，Ｎ'，Ｎ"−トリス［サリチリデンアミノエチル］アミンの１：１マンガン（ＩＩＩ）錯体［化合物（２）］の新規結晶変態
を含む、洗浄剤、清浄剤、消毒剤又は漂白剤。
【請求項６】
請求項１ないし３記載のＮ，Ｎ'，Ｎ"−トリス［サリチリデンアミノエチル］アミンの１：１マンガン（ＩＩＩ）錯体［化合物（２）］の変態を製造するための方法であって、ａ）サリチルアルデヒド３部及びトリス（２−アミノエチル）アミン１部を含む溶液を、所望により若干の塩基を含み得るＭｎ（ＩＩＩ）溶液に添加すること、及び
ｂ）Ｎ，Ｎ'，Ｎ"−トリス［サリチリデンアミノエチル］アミンの１：１マンガン（ＩＩＩ）錯体［化合物（２）］を単離し、そして精製すること、
による方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月27日(2006.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式（I）、（II）、（IIa）、（III）、または（IIIa）：
【化１】
2006516987.tif 000001
｛式中、
各々のR1が、独立にC7-11アルキルであり；
AおよびBが、独立にHまたはCO-R1であり；
R2が、HまたはC1-4アルキルであり；
Mが、金属モノカチオン（k＝1）またはジカチオン（k＝2）であり；
Yが、OまたはNHであり；そして
Zが、O、NH、CH2O、または結合である。｝のいずれかによって表される化合物、あるいはその組み合わせを含む、赤血球形成刺激用医薬組成物。
【請求項２】
前記組成物が、中鎖脂肪（MCT）である式（I）｛式中、各々のR1が、直鎖もしくは分岐鎖の、飽和もしくは不飽和C7またはC9アルキル基である。｝によって表される化合物を少なくとも2つ含む、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記混合物が、CH3（CH2）8-である各々のR1を有する第1のMCTを含む、請求項2に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記組成物が、各々0.1％〜3％の、式（I）｛式中、各々のR1がCH3（CH2）4-である。｝によって表される第3の化合物；ならびに式（I）｛式中、各々のR1がCH3（CH2）10-である。｝によって表される第4の化合物をさらに含む、請求項2または3に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記混合物が、以下の
【化２】
2006516987.tif 000002
によって表される、C8またはC10脂肪酸トリグリセリドの4つの幾何異性体のいずれかを含む、請求項2に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記組成物が、水素であるR2を有し、かつ、中鎖脂肪酸である式（II）によって表される化合物を含む、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記組成物が、水素であるR2を有する式（III）によって表される化合物を含む、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記組成物が、式（IIa）｛式中、Mが、カルシウム、マグネシウム、カリウム、およびナトリウムから成る群から選ばれる金属対イオンである。｝によって表される化合物を含む、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記組成物が、式（IIIa）｛式中、Mが、カルシウム、マグネシウム、カリウム、およびナトリウムから成る群から選ばれる金属対イオンである。｝によって表される化合物を含む、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記組成物が、カプリル酸またはカプリン酸を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記組成物が、カプリル酸ナトリウムまたはカプリン酸ナトリウムを含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記組成物が、カプリル酸ナトリウムまたはカプリン酸カルシウムを含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記組成物が、カプリル酸トリグリセリドまたはカプリン酸トリグリセリドを含む、請求項1〜12のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
少なくとも1つの化合物が、その血中濃度が1 μMより高くなるような量で存在する、請求項1〜13のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記組成物が、ヒト・エリスロポエチンをさらに含む、請求項1〜14のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
化学療法に起因する貧血の治療のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
放射線療法に起因する貧血の治療のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
慢性貧血の治療のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
一過性貧血の治療のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
慢性腎不全に起因する貧血の治療のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
末期腎臓病に起因する貧血の治療のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
薬物によって誘発された貧血の治療のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２３】
医療処置または外科的処置に起因する貧血の治療のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
哺乳動物の赤血球産生を増やすための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２５】
哺乳動物のヘモグロビン産生を増やすための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２６】
哺乳動物のヘマトクリット値を上げるための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２７】
哺乳動物の赤血球前駆細胞の産生を増やすための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２８】
治療上の使用のための、請求項1〜15のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項２９】
治療において別々の、同時の、または連続した使用のために組み合わされた製剤としての、請求項1〜14のいずれか1項に記載の式（I）、（II）、（IIa）、（III）および（IIIa）によって表される化合物の少なくとも1種類、ならびヒト・エリスロポエチンを含む物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月22日(2007.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
今回、驚くべきことに遊離塩基または薬学的に許容される酸付加塩形の式Ａの化合物(以下、本発明の薬剤と呼ぶ)は、非競合的ＣＲＦ１受容体アンタゴニストとして行動することを見いだした。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この本発明の薬剤の非競合的ＣＲＦ１受容体拮抗活性は、インビトロで下記アッセイにより測定される：
ヒト組み換えＣＲＦ１を発現するチャイニーズハムスター卵巣(ＣＨＯ)細胞(Chen et al., Proc Natl Acad Sci USA 90, 8967-8971, 1993)を、１０％ウシ胎児血清、非必須アミノ酸、１００Ｕ／mlペニシリン、１００mg／ｌストレプトマイシンおよび１ｇ／ｌゲネチシン(Ｇ４１８)を添加したダルベッコ改変イーグル培地で増殖させる。サイクリックＡＭＰの測定のために、細胞を２４多ウェルプレートで培養する。ＣＲＦ(ヒト／ラット形)によるサイクリックＡＭＰ蓄積の刺激を、無傷細胞で、[３Ｈ]アデニン標識法を使用して、先に記載(Schoeffter et al., Neuropharmacology 36, 429-437, 1997)のように測定する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記適応症における本発明の薬剤の有用性は、標準試験の範囲内で確認できる：
例えば、本発明の薬剤の不安緩解活性は、マウスの高さ＋迷路において確認できる[例えば、高さ＋迷路の関連性が486頁に記載されている、Rodgers R.J., Behavioural Pharmacology 8: 477-496 (1997)参照；方法に関しては、Rodgers R.J. et al. Ethology and Psychopharmacology (Eds SJ Cooper and CA Hendrie), pp 9-44 (1994), J. Wiley, Chichester参照]。本試験において、本発明の薬剤は、０.１から３０mg／kg  ｐ.ｏ.の投与で不安緩解様効果を示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
４,６−ジメチル−ベンゾ[１,２,５]チアジアゾール(７６.８ｇ)を濃硫酸(２００ml)に溶解し、０−５°に冷却する。濃硝酸(２５ml、ｄ＝１.５２)を５−１０°で、１時間にわたり滴下する。透明溶液を氷に注ぎ、得られた沈殿を濾過し、水で洗浄し、乾燥し、シクロヘキサンから再結晶して純粋５,７−ジメチル−４−ニトロ−ベンゾ[１,２,５]チアジアゾールを得る。Ｍｐ＝１０５−１０６°。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月15日(2007.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハプロタイプI、ハプロタイプII、ハプロタイプa、ハプロタイプb、ハプロタイプc、ハプロタイプdおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されるハプロタイプを含む少なくとも1つのリスクのあるハプロタイプの有無を検出する工程を含み、ここでハプロタイプの存在が骨粗鬆症または骨粗鬆症に対する罹患性の指標である、個体における骨粗鬆症または骨粗鬆症に対する罹患性を診断する方法。
【請求項２】
ハプロタイプIを含む少なくとも1つのリスクのあるハプロタイプの有無を検出する工程を含み、ここでハプロタイプの存在が骨粗鬆症または骨粗鬆症に対する罹患性の指標である、個体における骨粗鬆症または骨粗鬆症に対する罹患性を診断する方法。
【請求項３】
ハプロタイプIIを含む少なくとも1つのリスクのあるハプロタイプの有無を検出する工程を含み、ここでハプロタイプの存在が骨粗鬆症または骨粗鬆症に対する罹患性の指標となる、個体における骨粗鬆症または骨粗鬆症に対する罹患性を診断する方法。
【請求項４】
試料中の第一の核酸分子の存在を分析するための方法であって、前記試料を、請求項１〜３いずれか記載のハプロタイプを含む第二の核酸分子と接触させる工程を含む方法。
【請求項５】
骨粗鬆症と関連のある少なくとも1つのハプロタイプの存在に関して試料を分析するためのキットであって、ここでハプロタイプが2つ以上の特定の対立遺伝子を含み、かつここで前記キットが1つ以上の特定の対立遺伝子の有無を検出することができる1つ以上の核酸を含み、それによって試料中のハプロタイプの有無を示すキット。
【請求項６】
前記核酸が、ハプロタイプの特定の対立遺伝子を少なくとも1つ含む領域に完全に相補的な連続したヌクレオチド配列を少なくとも1つ含む、請求項５記載のキット。
【請求項７】
ハプロタイプが2つ以上の特定の対立遺伝子を含み、別々の容器に
a)ハプロタイプの1つ以上の特定の対立遺伝子を検出できる1つ以上の標識核酸；および
b)前記標識の検出のための試薬
を含む、骨粗鬆症に関連する少なくとも1つのハプロタイプの存在に関して試料を分析するための試薬キット。
【請求項８】
標識核酸が、ハプロタイプの特定の対立遺伝子を少なくとも1つ含む領域に完全に相補的な連続したヌクレオチド配列を少なくとも1つ含む、請求項７記載の試薬キット。
【請求項９】
骨粗鬆症に関連のある少なくとも1つのハプロタイプの存在に関して試料を分析するための試薬キットであって、ここでハプロタイプが2つ以上の特定の対立遺伝子を含み、前記キットが、BMP2のヌクレオチド配列の一部に対して少なくとも部分的に相補的な少なくとも1つのヌクレオチド配列を含む1つ以上の核酸を含み、かつ核酸が、ハプロタイプの2つ以上の特定の対立遺伝子を検出することができるプライマー伸長反応のためのプライマーとして作用できる試薬キット。
【請求項１０】
骨粗鬆症に対する罹患性が高くない個体に比べて骨粗鬆症に対する罹患性が高い個体により頻繁に存在する、BMP2に関連のある少なくとも1つのリスクのあるハプロタイプに関してスクリーニングする工程を含み、ここでリスクのあるハプロタイプがリスクを有意に上昇させる、個体における骨粗鬆症に対する罹患性の診断および同定のための方法。
【請求項１１】
有意な上昇が少なくとも約20％である、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
有意な上昇が少なくとも約1.2のオッズ比として同定される請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
TSC0898956、B420、B8463、D20S846、TSC0191642、P4337、D20S892、B5048、B9082、D20S59、B7111/rs235764、B12845/rs15705、P9313、B10631、D35548、rs1116867、TSC0278787、D35548およびTSC0271643からなる群から選択される2つ以上の対立遺伝子を含む少なくとも1つのハプロタイプの個体における有無を決定する工程を含み、ここでハプロタイプの存在が骨粗鬆症に対する罹患性の指標となる、個体における骨粗鬆症に対する罹患性を診断するための方法。
【請求項１４】
ハプロタイプの有無を決定する工程が個体由来の核酸の酵素的増幅を含む、請求項１〜３または１３のいずれか記載の方法。
【請求項１５】
ハプロタイプの有無を決定する工程が電気泳動解析をさらに含む、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
ハプロタイプの有無を決定する工程が制限酵素断片長多型解析をさらに含む、請求項１〜３または１３のいずれか記載の方法。
【請求項１７】
ハプロタイプの有無を決定する工程が配列解析をさらに含む、請求項１〜３または１３のいずれか記載の方法。
【請求項１８】
核酸試料を個体から得る工程；およびTSC0898956、B420、B8463、D20S846、TSC0191642、P4337、D20S892、B5048、B9082、D20S59、B7111/rs235764、B12845/rs15705、P9313、B10631、D35548、rs1116867、TSC0278787、D35548およびTSC0271643からなる群から選択される2つ以上の対立遺伝子を含む少なくとも1つのハプロタイプの有無に関して核酸試料を解析する工程を含み、ここでハプロタイプの存在が骨粗鬆症に対する罹患性の指標となる、個体における骨粗鬆症に対する罹患性を診断するための方法。
【請求項１９】
ハプロタイプが、TSC0898956、B420、B8463、D20S846およびTSC0191642からなる群から選択される2つ以上の対立遺伝子を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
ハプロタイプが、P4337、D20S892、B5048、B9082およびD20S59からなる群から選択される2つ以上の対立遺伝子を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２１】
ハプロタイプが、B7111/rs235764またはB12845/rs15705を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２２】
ハプロタイプが、P9313、B10631およびD35548からなる群から選択される2つ以上の対立遺伝子を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２３】
ハプロタイプが、rs1116867、TSC0278787およびD35548からなる群から選択される2つ以上の対立遺伝子を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２４】
ハプロタイプが、TSC0271643、P9313およびB7111からなる群から選択される2つ以上の対立遺伝子を含む、請求項１８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月21日(2006.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
非ＢＦＬＰ１６９８ポリペプチドが、免疫グロブリン分子またはＦＬＡＧエピトープのＦｃ領域、ＨＩＳタグ、およびＭＹＣタグより成る群から選択される少なくとも１つのメンバーを含む、請求項１５に記載の融合ポリペプチド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４８】
ＢＦＬＰ１６９８が細胞で提供される、請求項４３に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
【表４−１】
2006516191.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
配列番号２の残基１−１７０は、ここでは配列番号１５と称される。アミノ酸１−２７を含む配列番号１６のフラグメントは、ここでは配列番号２１と称される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
【表５−１】
2006516191.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
【表５−２】
2006516191.tif 000003
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
【表６】
2006516191.tif 000004
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１０】
【表７】
2006516191.tif 000005
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１２】
【表８】
2006516191.tif 000006
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１４】
【表９】
2006516191.tif 000007
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１６】
【表１０】
2006516191.tif 000008
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１８】
【表１１】
2006516191.tif 000009
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２０】
【表１２】
2006516191.tif 000010
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２２】
【表１３】
2006516191.tif 000011
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２４】
【表１４】
2006516191.tif 000012
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２６】
【表１５】
2006516191.tif 000013
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２８】
【表１６】
2006516191.tif 000014
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３０】
【表１７】
2006516191.tif 000015
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３２】
【表１８】
2006516191.tif 000016
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】配列表
【補正方法】変更
【補正の内容】
【配列表】
2006516191000001.app
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月5日(2006.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高血清トリグリセリド又は高血圧を治療するための製薬組成物の製造のための、ＮＤＧＡ又はクルクミンではない５−リポキシゲナーゼ阻害剤の使用。
【請求項２】
高血清トリグリセリドを治療する、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
高血圧を治療する、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
前記製薬組成物が、経口投与形態である、請求項１に記載の使用。
【請求項５】
前記５−リポキシゲナーゼ阻害剤が、アセトヒドロキサム酸誘導体、フェニルピラゾリン誘導体、２−（１２−ヒドロキシドデカ−５，１０−ジイニル）−３，５，６−トリメチル−１，４−ベンゾキノン誘導体及び３−［１−（４−クロロベンジル）−３−ｔ−ブチル−チオ−５−イソプロピルインドール−２−イル］−２，２−ジメチルプロパン酸誘導体からなる群から選択される、請求項１に記載の使用。
【請求項６】
前記５−リポキシゲナーゼ阻害剤が、アセトヒドロキサム酸誘導体である、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
前記アセトヒドロキサム酸誘導体が、Ｎ−（３−フェノキシシンナミル）アセトヒドロキサム酸（ＢＷ  ４ＡＣ）である、請求項６に記載の使用。
【請求項８】
前記５−リポキシゲナーゼ阻害剤が、フェニルピラゾリン誘導体である、請求項５に記載の使用。
【請求項９】
前記フェニルピラゾリン誘導体が、４，５−ジヒドロ−１−（３−（トリフルオロメチル）フェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−アミン（ＢＷ  ７５５ｃ）である、請求項８に記載の使用。
【請求項１０】
前記５−リポキシゲナーゼ阻害剤が、２−（１２−ヒドロキシドデカ−５，１０−ジイニル）−３，５，６−トリメチル−１，４−ベンゾキノン誘導体である、請求項５に記載の使用。
【請求項１１】
前記誘導体が、２−（１２−ヒドロキシドデカ−５，１０−ジイニル）−３，５，６−トリメチル−１，４−ベンゾキノン（ＡＡ８６１）である、請求項１０に記載の使用。
【請求項１２】
前記５−リポキシゲナーゼ阻害剤が、３−［１−（４−クロロベンジル）−３−ｔ−ブチル−チオ−５−イソプロピルインドール−２−イル］−２，２−ジメチルプロパン酸誘導体である、請求項５に記載の使用。
【請求項１３】
前記誘導体が、３−［１−（４−クロロベンジル）−３−ｔ−ブチル−チオ−５−イソプロピルインドール−２−イル］−２，２−ジメチルプロパン酸（ＭＫ８８６）である、請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
前記５−リポキシゲナーゼ阻害剤の有効量が、体重１キログラム当たり０．１μｇ〜５００ｍｇの間である、請求項１に記載の使用。
【請求項１５】
前記５−リポキシゲナーゼ阻害剤の前記有効量が、体重１キログラム当たり０．５ｍｇ〜５００ｍｇの間である、請求項１４に記載の使用。
【請求項１６】
抗糖尿病化合物、脂質低下薬物及び抗高血圧性化合物からなる群から選択される第２の化合物を使用することをさらに含む、請求項１に記載の使用。
【請求項１７】
前記５−リポキシゲナーゼ阻害剤及び前記第２の化合物が、同時に投与される、請求項１４に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
心筋虚血を起こした領域を含む疾患域を識別するための磁気共鳴（ＭＲ）撮像法であって、
（ａ）（ｉ）Ｍｎ2+イオンと錯生成部分とを含む１種以上の錯体であって、熱力学的生成定数が１０3〜１０16であるとともに生理学的条件下で５０％を上回る解離率及び１分間に満たない半減期を示す錯体と、
（ii）Ｍｎ2+１モル当たり０〜２モルのＣａ2+と、
を含んでなる造影剤を人間又は人間以外の動物の身体に投与するステップと、
（ｂ）上記身体を上記造影剤投与の前に又は投与と同時に、物理負荷及び／又は薬物負荷の体制下に置くステップと、
（ｃ）磁気共鳴撮像データを収集するステップと、
（ｄ）適宜特定領域の磁気共鳴画像を形成するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記造影剤が複数の錯体の混合物を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記熱力学的生成定数ｋが１０5〜１０10、好ましくは１０7〜１０9.5である、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記造影剤が、Ｍｎ2+１モル当たり０．１〜１．７５モルのＣａ2+を含む、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記造影剤が、Ｍｎ2+１モル当たり０．５〜１モルのＣａ2+を含んでなる、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記１種以上の錯体が次の式（II）の化合物である、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の方法。
ＭｎmＨＰＴＡＺo        （II）
式中、ｍは１又は２であり、ｏは０〜２であり、Ｚは水素又は薬剤としての許容可能な対イオンである。
【請求項７】
ＭｎがＭｎ2+であり、ｍが１又は２であり、ｏが０又は２であり、Ｚが水素、ナトリウム又はカルシウムである、請求項６記載の使用。
【請求項８】
前記負荷が物理負荷である、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
前記造影剤がピーク負荷時に投与される、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
特定領域、好ましくは心筋の磁気共鳴画像が形成される、請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
心筋虚血の検出用造影剤の製造のための、式（II）の化合物の使用。
ＭｎmＨＰＴＡＺo        （II）
式中、ｍは１又は２であり、ｏは０〜２であり、Ｚは水素又は薬剤としての許容可能な対イオンである。
【請求項１２】
ＭｎがＭｎ2+であり、ｍが１又は２であり、ｏが０又は２であり、Ｚが水素、ナトリウム又はカルシウムである、請求項１１記載の使用。
【請求項１３】
心筋虚血及び心筋梗塞の磁気共鳴撮像検出用の造影剤の製造のための、熱力学的生成定数が１０3〜１０16である錯体を含む混合物の使用であって、上記混合物がＭｎ2+、錯生成部分、及びＭｎ2+１モル当たり０．１〜２モルのＣａ2+を含み、上記錯体が、生理学的条件下で５０％を上回る解離率及び１分間に満たない半減期を示すものである、使用。
【請求項１４】
前記混合物がＭｎ2+１モル当たり０．５〜１モルのＣａ2+を含む、請求項１３記載の使用。
【請求項１５】
前記錯生成部分がＨＰＴＡである、請求項１３又は請求項１４記載の使用。
【請求項１６】
熱力学的生成定数が１０3〜１０16である錯体を含む混合物であって、Ｍｎ2+、ＨＰＴＡ、及びＭｎ2+１モル当たり０．１〜２モルのＣａ2+を含む混合物。
【請求項１７】
Ｍｎ2+１モル当たり０．５〜１モルのＣａ2+を含む、請求項１６記載の混合物。
【請求項１８】
磁気共鳴（ＭＲ）造影剤として用いられる、請求項１６又は請求項２０記載の混合物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月30日(2006.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板上での水平拡散ＭＯＳ（ＬＤＭＯＳ）トランジスタの製作において、
ａ）ゲート酸化物、該ゲート酸化物上の添加多結晶シリコン体、及び該添加多結晶シリコン体上の窒化物キャップ層を含むゲート構造を形成するステップと、
ｂ）前記ゲート構造のまわりにスペーサ酸化物を形成するステップと、
ｃ）前記ゲート構造のまわりの基板の露出されるシリコンの酸化によってシール酸化物を形成するステップと、
ｄ）前記窒化物キャップ層を取り除くステップと、
ｅ）前記スペーサ酸化物に接触するソース領域に対して、及び前記スペーサ酸化物から間隔をあけて配置されるドレイン領域に対して、フォトレジストマスクを用いてドーパントを注入し、前記ソース領域上及び前記ドレイン領域上から前記シール酸化物を取り除くステップと、
ｆ）前記ソース領域、前記ドレイン領域及び前記ゲートに対するシリサイド接触を形成するステップと、を含む製作方法。
【請求項２】
ステップｅ）は、前記シリサイド接触を形成する前に前記ソース領域上及び前記ドレイン上から酸化物を取り除くために前記フォトレジストマスクを用い、ソースシリサイドは前記ゲートに対して自己整列できるようにすることを含む請求項１に記載の製作方法。
【請求項３】
ｇ）前記ソース領域、前記ゲート構造、及び前記ドレイン領域の上に第１の層間絶縁膜を形成するステップと、
ｈ）前記第２の層間絶縁膜から前記シリサイド接触に対して第２の導電性バイアスを形成するステップと、をさらに含む請求項２に記載の製作方法。
【請求項４】
ｉ）前記第１の層間絶縁膜の上に第２の層間絶縁膜を形成するステップと、
ｊ）前記第１の導電性バイアスに対して第２の導電性バイアスを形成するステップと、
ｋ）導電性パターンを前記第２の層間絶縁膜に形成し、前記第２の導電性バイアスに接触させるステップと、をさらに含む請求項３に記載の製作方法。
【請求項５】
ステップｋ）は、最初にシード金属層を形成し、その後、前記シード金属層の上に前記導電性パターンを形成することを含む請求項４に記載の製作方法。
【請求項６】
ｌ）前記第２の層間絶縁膜の上に不活性化層を形成するステップをさらに含む請求項５に記載の製作方法。
【請求項７】
水平拡散ＭＯＳ（ＬＤＭＯＳ）トランジスタの製作方法であって、
ａ）ドープされたシンカー及びチャネル接触領域を有する素子領域を取り囲むフィールド酸化膜をシリコン基板の表面に形成するステップと、
ｂ）前記表面の上にゲート酸化物層を形成するステップと、
ｃ）添加多結晶シリコンを前記ゲート酸化物層の上に形成するステップと、
ｄ）窒化物層を前記多結晶シリコンの上に形成するステップと、
ｅ）フォトレジストマスクでゲート構造をマスクし、露出される窒化物及び多結晶シリコン、及びゲート酸化物層を取り除くステップと、
ｆ）前記ゲート構造の一部と接触し基礎をなす基板上にチャネル注入を形成し、前記チャネル接触領域に対して広げるステップと、
ｇ）前記ゲート構造のまわりにスペーサ酸化物を形成するステップと、
ｈ）前記ゲート構造のまわりの基板の露出されるシリコンの酸化によってシール酸化物を形成するステップと、
ｉ）前記窒化物キャップ層を前記ゲート構造から取り除くステップと、
ｊ）前記スペーサ酸化物に接触するソース領域に対して、及び前記スペーサ酸化物から間隔を空けて配置されるドレイン領域に対して、フォトレジストマスクを用いてドーパントを注入し、前記ソース領域上及び前記ドレイン領域上から前記シール酸化物を取り除くステップと、
ｋ）前記ソース領域、前記ドレイン領域及び前記ゲートに対するシリサイド接触を形成するステップと、を備える製作方法。
【請求項８】
ｌ）前記ソース領域、前記ゲート構造、及び前記ドレイン領域の上に第１の層間絶縁膜を形成するステップと、
ｍ）前記第１の層間絶縁膜から前記シリサイド接触に対して第１の導電性バイアスを形成するステップと、をさらに含む請求項７に記載の製作方法。
【請求項９】
ｎ）前記第１の層間絶縁膜の上に第２の層間絶縁膜を形成するステップと、
ｏ）前記第２の層間絶縁膜から前記第１の導電性バイアスに対して第２の導電性バイアスを形成するステップと、
ｐ）前記第２の層間絶縁膜の上に導電性パターンを形成し、前記第２の導電性バイアスに接触させるステップと、をさらに含む請求項８に記載の製作方法。
【請求項１０】
ステップｐ）は、最初にシード金属層を形成し、その後、前記シード金属層の上に前記導電性パターンを形成することを含む請求項９に記載の製作方法。
【請求項１１】
ｑ）前記第２の層間絶縁膜の上に不活性化層を形成するステップをさらに含む請求項１０に記載の製作方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
アルキル及び／又はアルケニルオリゴグリコシド
カルボン酸塩の製造における 2 つの開始材料のうちの 1 つである、アルキル及びアルケニルオリゴグリコシドは、式（I）：
R1O-[G]p        （I）
［式中、R1 は 4〜22 個の炭素原子を含むアルキル及び／又はアルケニル基であり、G は 5 又は 6 個の炭素原子を含む糖単位であり、p は 1〜10 の数である。］
に相当する既知の非イオン性界面活性剤である。それらは従来の有機化学の適切な方法によって得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月31日(2007.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種のキラル遷移金属化合物と該キラル遷移金属化合物をカチオンに転化可能な少なくとも１種の助触媒とを反応させることにより得られるアイソタクチックポリオレフィンの製造のための触媒組成物であって、
キラル遷移金属化合物が、以下の式（Ｉａ）又は（Ｉａ*）：
【化１】
2006516668.tif 000001
［但し、Ｍが元素周期表第４又は６族の元素を表し、
Ｚが同一であっても又は異なっていても良く、それぞれハロゲン、水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ14アリール、アルキル部分の炭素原子数が１〜４個であり、アリール部分の炭素原子数が６〜１０個のアルキルアリール又はアリールアルキルを表し、
ｎ１、ｎ２が同一であっても又は異なっていても良く、それぞれ０又は１を表し、且つｎ１＋ｎ２＋２がＭの原子価に相当し、
Ｒ1及びＲ2が同一であっても又は異なっていても良く、それぞれＣ1〜Ｃ40基を表すか、或いはＲ1及びＲ2がこれらに結合する原子と合体して、以下の元素：Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ及びＳｉからなる群から選択される、１個以上の同一であっても又は異なっていても良いヘテロ原子を、環式基中の炭素原子の代わりに含んでいても良い環式基又は多環式基を形成し、
Ｒ5及びＲ6が同一であっても又は異なっていても良く、それぞれ水素又はＣ1〜Ｃ40基を表し、
Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13が同一であっても又は異なっていても良く、それぞれ水素又はＣ1〜Ｃ40基を表し、或いは２個の隣接する基Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13が２個の結合炭素原子と合体して環式基を形成しても良い。］
で表される遷移金属化合物（Ｉａ）又はそのエナンチオマー（Ｉａ*）の１つであることを特徴とする触媒組成物。
【請求項２】
触媒が、下記：
【化２】
2006516668.tif 000002
【化３】
2006516668.tif 000003
【化４】
2006516668.tif 000004
から選択される請求項１に記載の触媒組成物。
【請求項３】
触媒が、下記：
【化５】
2006516668.tif 000005
から選択される請求項１又は２に記載の触媒組成物。
【請求項４】
助触媒がアルミノキサンである請求項１〜３のいずれか１項に記載の触媒組成物。
【請求項５】
更に担体を含む請求項１〜４のいずれか１項に記載の触媒組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の触媒組成物をポリオレフィンの製造に使用する方法。
【請求項７】
少なくとも１種のオレフィンを請求項１〜５のいずれか１項に記載の触媒組成物の存在下に重合又は共重合するポリオレフィンの製造方法。
【請求項８】
以下の式（Ｉａ）又は（Ｉａ*）：
【化６】
2006516668.tif 000006
［但し、各記号が請求項１と同義である。］
で表されるキラル遷移金属化合物（Ｉａ）又はそのエナンチオマー（Ｉａ*）の１つをオレフィン重合用触媒組成物の製造に使用する方法。
【請求項９】
Ｍがジルコニウム又はハフニウムを表す、請求項８に記載の式（Ｉａ）又は（Ｉａ*）で表されるキラル遷移金属化合物。
【請求項１０】
請求項８に記載の式（Ｉａ）又は（Ｉａ*）で表される少なくとも１種の遷移金属化合物を少なくとも１種のカチオン形成化合物と反応させることを特徴とするオレフィン重合用触媒組成物の製造方法。
【請求項１１】
少なくとも１種のα−オレフィンを請求項１０に記載の方法により得られた触媒組成物の存在下に重合するアイソタクチックポリオレフィンの製造方法。
【請求項１２】
請求項７又は１１に記載の方法により得られるポリオレフィン。
【請求項１３】
請求項１２に記載のポリオレフィンを含むポリオレフィン組成物。
【請求項１４】
請求項１３に記載のポリオレフィン組成物から製造されたフィルム、繊維又は成形体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月15日(2007.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2006516669.tif 000001
（式中、ＸはＨ、アルキル基、シクロアルキル基、複素環式基、アレーニル基、アリール基、ニトリル、アシル基またはラジカル開始剤の残基であり、
Ｒ1はＨ、アルキル基、シクロアルキル基、複素環式基、アレーニル基またはアリール基であり、
ＯＮ（Ｒ2）2は有機ニトロキシドの残基であり、
Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立してアルキル、シクロアルキル基、アリール基、アレーニル基から選択されるか、またはＲ3およびＲ4は、それらが結合している炭素と一緒になって炭素環を形成し、
Ｑは共有結合、（−ＣＨ2−）o、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ2）o−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）o−、−ＣＯ−ＮＲ6−（ＣＨ2）o−、−ＣＯ−Ｓ−（ＣＨ2）o−から選択された連結基であり、ここで、ｏは１〜１２であり、Ｒ6はＨ、アルキル基、シクロアルキル基、アレーニル基、複素環式基またはアリール基であり、
各ｎは０または１であり、
ｍは０〜２０であり、
ｑは０または１であり、
ＺはＯ、ＳまたはＮＲ6であり、ここで、Ｒ6はＨ、アルキル基、シクロアルキル基、アレーニル基、複素環式基またはアリール基であり、
Ｒ5は有機部分または無機部分であり、ｐの原子価を有する）
の化合物を含む制御されたラジカル重合開始剤。
【請求項２】
ｍは０であり、ｑは０であり、ＸはＨ、アルキル基、シクロアルキル基、複素環式基、アレーニル基、アリール基、ニトリルまたはアシル基である、請求項１に記載のモノマー開始剤。
【請求項３】
ｍは１〜２０であり、Ｘはラジカル開始剤の残基であり、ｑは１である、請求項１に記載のオリゴマー開始剤。
【請求項４】
前記Ｒ5Ｚ基は式Ｒ5（ＺＨ）pの化合物から誘導され、ここで、Ｒ5はｐの原子価の無機基または有機基であり、−ＺＨは、ＯＨ、ＳＨまたはＮＨＲ6から選択され、ここで、Ｒ6はＨ、アルキル基、シクロアルキル基、アレーニル基、複素環式基またはアリール基である、請求項１に記載の開始剤。
【請求項５】
前記Ｒ5基は、１〜３０個の炭素原子を有する非高分子の脂肪族部分、脂環式部分、芳香族部分またはアルキル置換芳香族部分を含む、請求項１に記載の開始剤。
【請求項６】
前記Ｒ5基は、側鎖または末端の反応性−ＺＨ基を有するポリオキシアルキレン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリレートまたはポリシロキサンポリマーを含む、請求項１に記載の開始剤。
【請求項７】
１種以上のオレフィン系不飽和モノマーを付加重合する方法であって、請求項１〜６のいずれか１項に記載の開始剤を用いて１種以上のオレフィン系不飽和モノマーを付加重合することを含む方法。
【請求項８】
１種以上の追加のオレフィン系不飽和モノマーを用いる第２の重合工程を更に含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
１種以上のラジカル（共）重合性モノマーの重合済み単位、
第１の開環アズラクトン末端基、および
有機ニトロキシドの残基である第２の末端基、
を含むテレケリック（コ）ポリマー。
【請求項１０】
ラジカル（共）重合性モノマーから得られる単位の２個以上のブロックを含み、ブロックコポリマーが第１の末端でアルラクトン残基および第２の末端で有機ニトロキシドの残基を有する、請求項９に記載の（コ）ポリマー。
【請求項１１】
構造Ａｚ−（Ｍ1）x（Ｍ2）x−（Ｍ3）x・・・（ＭΩ）x−ＯＮ（Ｒ2）2
（式中、ＯＮ（Ｒ2）2は有機ニトロキシドの残基であり、
Ｍ1〜ＭΩはそれぞれ平均重合度ｘを有するラジカル（共）重合性モノマー単位から誘導されたモノマー単位のポリマーブロックであり、
各ｘは独立しており、
Ａｚは、式
【化２】
2006516669.tif 000002
（式中、ＸはＨ、アルキル基、シクロアルキル基、複素環式基、アレーニル基、アリール基、ニトリル、アシル基またはラジカル開始剤の残基であり、
Ｒ1はＨ、アルキル基、シクロアルキル基、複素環式基、アレーニル基またはアリール基であり、
Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立してアルキル、シクロアルキル基、アリール基、アレーニル基から選択されるか、またはＲ3およびＲ4は、それらが結合している炭素と一緒になって炭素環を形成し、
Ｑは共有結合、（−ＣＨ2−）o、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ2）o−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）o−、−ＣＯ−ＮＲ6−（ＣＨ2）o−、−ＣＯ−Ｓ−（ＣＨ2）o−から選択された連結基であり、ここで、ｏは１〜１２であり、Ｒ6はＨ、アルキル基、シクロアルキル基、アレーニル基、複素環式基またはアリール基であり、
各ｎは０または１であり、
ｍは０〜２０であり、
ｑは０または１であり、
ＺはＯ、ＳまたはＮＲ6であり、ここで、Ｒ6はＨ、アルキル基、シクロアルキル基、アレーニル基、複素環式基またはアリール基であり、
Ｒ5は有機部分または無機部分であり、ｐの原子価を有する）
の開環アズラクトン基である）
を有する、請求項９に記載の（コ）ポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月21日(2006.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記組成（wt％）：
炭素        ：０．１以下、
窒素        ：０．１以下、
銅          ：０．５〜４、
クロム      ：１０〜１４、
モリブデン  ：０．５〜６、
ニッケル    ：７〜１１、
コバルト    ：０〜９、
タンタル    ：０．１以下、
ニオブ      ：０．１以下、
バナジウム  ：０．１以下、
タングステン：０．１以下、
アルミニウム：０．０５〜０．６、
チタン      ：０．４〜１．４、
シリコン    ：０．７以下、
マンガン    ：１．０以下、
鉄          ：残部、
および通常の製鋼添加物および不純物を有し表面硬化層を備えたステンレス鋼において、
上記表面硬化と同じ処理で低静摩擦かつ耐摩耗性の被膜を付与して使用するのに適したことを特徴とするステンレス鋼。
【請求項２】
請求項１において、上記被膜がダイヤモンド状カーボンから実質的に成ることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項３】
請求項２において、上記被膜が炭化タングステンを添加したダイヤモンド状カーボンから実質的に成ることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項４】
請求項２において、上記被膜が窒化チタンから実質的に成ることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項５】
請求項２において、上記ステンレス鋼がショックアブソーバのシリンダチューブであることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項６】
請求項５において、上記ステンレス鋼がショックアブソーバまたは油圧シリンダのピストンロッドであることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項７】
請求項５において、上記ステンレス鋼が薄ストリップのシリンダチューブであることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項８】
請求項７において、上記薄ストリップが内燃機関のカムフォロワに適用されることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項９】
請求項２において、基材とＰＶＤ被膜との間にプラズマ窒化処理層が介在していることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項１０】
請求項１において、上記ステンレス鋼が析出硬化性ステンレス鋼であり、擬結晶構造粒子の析出により強化されていることを特徴とするステンレス鋼。