【手続補正書】
【提出日】平成19年4月11日(2007.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１１ｎｍから１４ｎｍの範囲の波長を有する光で、フィールド面のフィールドを照らすＥＵＶリソグラフィ用の、照明システムであり、
少なくとも１つの光インテグレータは、光源から放射された光バンドルを、各々の光強度を有する複数の光チャネルに分割して、
前記光インテグレータは、少なくとも第１の反射型のラスタエレメントを有する第１の反射型のファセットなエレメントと、少なくとも第２の反射型のラスタエレメントを有する第２の反射型のファセットなエレメントとを有する、反射型のハニカムコンデンサーであり、
前記第１の反射型のラスタエレメントは、前記フィールド面中に直接又は少なくとも１つの中間像を介して投影され、
前記光源から前記フィールド面への光路にフィルタが設けられ、
該フィルタは、フィルタエレメントを備え、該フィルタエレメントは、該フィルタエレメントの後の光路で少なくとも１個の光チャネルの光強度が減少するように構成されていることを特徴とする、照明システム。
【請求項２】
前記フィルタエレメントの後の少なくとも１つの光チャネルの光強度は、
前記フィルタエレメントの前のそれぞれの光チャネルにおけるそれぞれの光強度の０％より大きく且つ１００％より小さい範囲で減少していることを特徴とする、請求項１に記載の照明システム。
【請求項３】
前記フィルタエレメントの後の少なくとも１つの光チャネルの光強度は、
前記フィルタエレメントの前のそれぞれの光チャネルにおけるそれぞれの光強度の２５%より大きく且つ８０%より小さい範囲で減少していることを特徴とする、請求項２に記載の照明システム。
【請求項４】
前記少なくとも１つの光チャネルがフィルタエレメントの表面を照射して、前記フィルタエレメントは、照射面の異なる場所で光強度の減少が異なるように配置されていることを特徴とする、請求項２または請求項３のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項５】
前記少なくとも１つの光チャネルがフィルタエレメントの表面を照射して、前記フィルタエレメントは、照射面の異なる場所で光強度の減少が同じであるように配置されていることを特徴とする、請求項２または請求項３のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項６】
前記少なくとも１つの光チャネルの光強度を減少させるために、前記フィルタエレメントは光チャネルに関連した送信フィルタエレメントを含むことを特徴とする、請求項１から請求項５のうちのいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項７】
前記少なくとも１つの光チャネルの光強度を減少させるフィルタエレメントが、前記光チャネルに関係する反射光学部品を備え、前記減少に適合する反射率を有する、ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項８】
前記光チャネルに関連する送信フィルタは、可変中性フィルタである、ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項９】
前記中性フィルタは、そのグレイスケール値が線密度及び／又は点密度によって設定できるように、可変な線密度及び／又は点密度を有する、ことを特徴とする請求項７に記載の照明システム。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの光チャネルの光強度を減少するためのフィルタエレメントが、光チャネルに関連するダイアフラムを有する、ことを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項１１】
少なくとも１つの光インテグレータと、前記光インテグレータとフィールド面の間における、前記フィールド面への光源からの光路に配置された少なくとも１つの光学部品を備えて、１１ｎｍから１４ｎｍの範囲の波長で、フィールド面のフィールドを照らすリソグラフィ用の、照明システムであり、
前記光インテグレータは、少なくとも第１の反射型のラスタエレメントを有する第１の反射型のファセットなエレメントと、少なくとも第２の反射型のラスタエレメントを有する第２の反射型のファセットなエレメントとを有する、反射型のハニカムコンデンサーであり、
前記第１の反射型のラスタエレメントは、前記フィールド面中に直接又は少なくとも１つの中間像を介して投影され、
前記光学部品は球面収差がない方法で十分に補正され、
前記フィールド面中の前記フィールドにおける照明が本質的に均質になるように適合されて配置されている少なくとも１つのフィルタエレメントを備える、ことを特徴とする照明システム。
【請求項１２】
前記光学部品は、前記フィールド面中のσ偏差が１０%未満であり、特に好ましくは２%未満であるように、球面収差がない方法で補正される、ことを特徴とする請求項１１に記載の照明システム。
【請求項１３】
前記フィールドは、半径および方位角の拡張されたリングフィールドであることを特徴とする、請求項１から請求項１２のうちのいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項１４】
前記光学部品は、少なくとも１つのフィールド形成光学エレメントを備え、
前記光学部品は、瞳像の少なくとも放射状の配置において球面収差がない方法で十分に補正される、ことを特徴とする請求項１３に記載の照明システム。
【請求項１５】
前記フィルタエレメントは、別部品としての前記光インテグレータに近接する前記フィールド面への前記光源からの光路中において配置されているか、又は、前記光インテグレータに統合されている、ことを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項１６】
前記フィルタエレメントは、前記光インテグレータの正面に位置してこれに近接する前記フィールド面への前記光源からの光路中において配置されている、ことを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項１７】
前記フィルタエレメントは、前記光インテグレータの後面に位置してこれに近接する前記フィールド面への前記光源からの光路中において配置されている、ことを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項１８】
前記光インテグレータは、複数の第１の反射型のラスタエレメントを備えた少なくとも１つの第１の光学エレメントを備える、ことを特徴とする請求項１から請求項１７のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項１９】
前記光インテグレータは、複数の第２の反射型のラスタエレメントを備えた第２の光学エレメントを備える、ことを特徴とする請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２０】
複数のフィルタエレメントを備えたフィルタは、複数の第１の反射型のラスタエレメントを備えた第１の反射型のファセットなエレメントと、複数の第２の反射型のラスタエレメントを備えた第２の反射型のファセットなエレメントとの間の、前記フィールド面への前記光源からの光路中において配置されている、ことを特徴とする請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２１】
前記フィルタエレメントは、可変な透過率を有する透過フィルタエレメントである、ことを特徴とする請求項１１から請求項２０のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項２２】
前記フィルタエレメントは、可変な反射率を有する反射フィルタエレメントである、ことを特徴とする請求項１１から請求項２０のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項２３】
前記フィルタエレメントは、可変中性フィルタである、ことを特徴とする請求項２１または請求項２２のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項２４】
前記中性フィルタは、そのグレイスケール値が線密度及び／又は点密度によって設定できるように、可変の線密度及び／又は点密度を有する、ことを特徴とする請求項２３に記載の照明システム。
【請求項２５】
前記フィルタエレメントは、交換可能である、ことを特徴とする請求項１から請求項２４のいずれか１つに記載の照明システム。
【請求項２６】
ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の投影露光システムであって、
光源と、フィールド面におけるフィールドを照らすための請求項１から請求項２５のいずれか１つに記載の照明システムと、
前記フィールド面上に配置された対象を像平面中の像に投影するための投影対象と、を備える、ことを特徴とする投影露光システム。
【請求項２７】
ＥＵＶマイクロリソグラフィ用のスキャナ型投影露光システムであって、
光源と、
照明システムとを備え；
該照明システムは、
少なくとも１つの光インテグレータと、
走査方向に拡張されて走査方向に垂直な照明強度を有するフィールド面の中で照射される、フィールドを有して、反射型の光学エレメントを有する光インテグレータと照射される前記フィールド面との間での、照射されるフィールド面への前記光源からの光路中において配置されている少なくとも１つの光学部品と、
前記フィールド面において配置された対象物を像平面中の像に投影するための投影対象物と、を備え、
前記光学エレメントは球面収差がない方法で十分に補正され、
走査のエネルギーが走査方向において積分されたフィールドの照明強度であり、前記フィールド面における走査のエネルギーの一様誤差が、±３％未満、好ましくは±１％未満、特に好ましくは±０．５％未満となるように、
走査方向に垂直な前記フィールド面中の前記フィールドにおける照明が本質的に均質になるように適合されて配置されている複数のフィルタエレメントを備える、ことを特徴とするスキャナ型投影露光システム。
【請求項２８】
請求項２６又は請求項２７のいずれか１つに記載の投影露光システムを用いて、マイクロ構造部品を製造する方法。