Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月4日(2006.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重症のステロイド難治性潰瘍性大腸炎を処置するための、ＣＤ３と結合する抗体を含んで成る治療的に有効量の医薬製剤。
【請求項２】
潰瘍性大腸炎の症候の重症度を軽減する、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項３】
ＭＴＷＳＩスコア又はＭＡＹＯスコアを軽減する、請求項２に記載の医薬製剤。
【請求項４】
前記ＭＴＷＳＩスコア又は前記ＭＡＹＯスコアが少なくとも７５％軽減する、請求項３に記載の医薬製剤。
【請求項５】
潰瘍性大腸炎の緩解をもたらす、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項６】
前記緩解が少なくとも９０日続く、請求項５に記載の医薬製剤。
【請求項７】
前記緩解が前記処置後３０日未満で達成される、請求項５に記載の医薬製剤。
【請求項８】
前記抗体がＣＤ３を中和する、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項９】
前記抗体が前記ヒトＣＤ３について少なくとも１０8Ｍ-1の結合親和性を有する、請求項８に記載の医薬製剤。
【請求項１０】
前記抗体が前記ヒトＣＤ３について少なくとも１０9Ｍ-1の結合親和性を有する、請求項９に記載の医薬製剤。
【請求項１１】
前記抗体がモノクローナル抗体である、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項１２】
前記抗体がキメラ抗体又はヒト抗体である、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項１３】
前記抗体がヒト化抗体である、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項１４】
前記ヒト化抗体がヒト化Ｍ２９１抗体である、請求項１３に記載の医薬製剤。
【請求項１５】
前記ヒト化Ｍ２９１抗体がvisilizumabである、請求項１４に記載の医薬製剤。
【請求項１６】
前記抗体がvisilizumabと同一のエピトープに結合する、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項１７】
前記抗体が、visilizumabのアミノ酸配列と少なくとも８０％同一のアミノ酸配列を有する、請求項１６に記載の医薬製剤。
【請求項１８】
前記抗体が、visilizumabのＣＤＲ領域のアミノ酸配列と同一のアミノ酸配列を有するＣＤＲ領域を有する、請求項１６に記載の医薬製剤。
【請求項１９】
非経口、静脈内、筋肉内、又は皮下から投与される、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項２０】
前記治療的に有効量が０．００１ｍｇ／ｋｇ〜１０ｍｇ／ｋｇである、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項２１】
前記治療的に有効量が０．００５ｍｇ／ｋｇ〜０．１００ｍｇ／ｋｇである、請求項２０に記載の医薬製剤。
【請求項２２】
前記治療的に有効量が１５μｇ／ｋｇ以下である、請求項１９に記載の医薬製剤。
【請求項２３】
前記治療的に有効量が１０μｇ／ｋｇ以下である、請求項２２に記載の医薬製剤。
【請求項２４】
処置の対象がヒトである、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項２５】
追加の物質として、メチルプレドニゾロン(methyprednisolone)、ヒドロコルチゾン、オンダンセトロン、アセトアミノフェン、６−メルカプトプリン、及び５−アミノサリチル酸（５−ＡＳＡ）から成る群から選択される１又は複数の物質を含んで成る、請求項１に記載の医薬製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月1日(2006.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の非粘着性コーティングは、一層加工としても多層加工としても基材に施すことができる。多層加工の例は、下塗り（ｐｒｉｍｅｒ  ｃｏａｔ）と仕上げ塗り（ｔｏｐ  ｃｏａｔ）とから成る二層加工である。二層加工は、より費用は掛かるが、一層加工に比べコーティングをより耐久性のあるものとし、より優れた剥離性を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
実用的なアクリルポリマーは、ポリマーと、アクリル酸エステルとメタクリル酸エステル、例えばアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、メタクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、類似のモノマーなど、のコポリマーとを含む。好ましいアクリルポリマーは、水酸基である。好ましいアクリルポリマーは、エマルジョンでは、Ｓ．Ｃ．ジョンソン＆サン社（Ｓ．Ｃ．Ｊｏｈｎｓｏｎ  ＆  Ｓｏｎ）の商品名ＪＯＮＣＲＹＬ  １５４０であり、コロイド状ディスパージョンでは、ノヴェオン（Ｎｏｖｅｏｎ  Ｉｎｃ．）からＣＡＲＢＯＳＥＴ  ５１４Ｈの商品名で市販されている。本発明のコーティング組成物では一種類以上の異なるアクリルポリマーを混合しても良い。例えば、ＪＯＮＣＲＹＬ  １５４０とＣＡＲＢＯＳＥＴ  ５１４Ｈの混合物を使用することができる。このような混合物は、光沢や耐薬品性といったコーティングの特性を最適化するのに有用である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
典型的なフルオロポリマーは、テトラフルオロエチレン‐パーフルオロメチルビニルエーテルコポリマー（ＭＦＡ）、テトラフルオロエチレン‐ヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、及びポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）である。ＦＥＰが最も好ましいフルオロポリマーである。好ましいＦＥＰは、水系ラテックスのディスパージョンでは、ダイニオン（Ｄｙｎｅｏｎ  ＬＬＣ）から、ＤＹＮＥＯＮ  ＦＥＰ  Ｘ  ６３００の商品名で市販されている。ＰＴＦＥは、他の好ましいフルオロポリマーである。好ましいＰＴＦＥは、微粒子のものでは、旭化学（Ａｓａｈｉ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）からＷＩＴＣＯＮ  ＴＬ−１０の商品名で市販されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月21日(2007.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ほぼ円筒形状の本体を有する加圧容器と、
上側部分と、容器上に適合するための下側部分と、前記上側部分及び前記下側部分の間にある幅の狭い胴部分とを有するハウジングを具備する人間工学的な噴霧器作動装置であって、前記加圧容器の上側部分に接合された噴霧器作動装置と
を備えた人間工学的なエアゾール噴霧器であって、
該噴霧器は、その前部に、前記噴霧器のハウジングと機能的に結合されたトリガーを備え、
ユーザーの手のひらの自然な輪郭にぴったりと適合するように、少なくとも幅が狭くなった胴部分及び前記下側部分の前記噴霧器作動装置の後部で、前記ハウジングの輪郭が連続し、
前記ハウジングの下側部分は、少なくとも部分的に前記加圧容器の本体に重なり、
前記上側部分は、前部と、後部と、下側とを有し、前記上側部分の下側が前記後部よりも前記前部の方が高くなるように、前記上側部分が傾斜する、人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項２】
前記作動装置ハウジングは、
ユーザーが、少なくとも親指及び人差し指で、前記幅の狭い胴部分の周りを包囲することができ、
上から見た時に、前記上側部分の少なくとも一部が、前記狭い胴部分と接触している前記ユーザーの親指及び人差し指を超えて、外方に延在する
ように構成される請求項１に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項３】
前記上側部分は、
使用中、噴霧器の重量を少なくとも部分的に支えるために、ユーザーの親指及び人差し指の一部分上にある
ように構成される請求項１又は２に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項４】
前記噴霧器ハウジングの前記前部にノズルをさらに備え、
前記ノズルから噴霧される液体が、０°よりも大きく９０°よりも小さい角度に方向付けられるように、前記ノズルが向いている請求項１〜３のいずれか一項に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項５】
複数の噴霧液滴形状で、空気中に噴霧物を提供するように構成され、
前記噴霧液滴の少なくとも一部は、０．０１μｍ〜５００μｍの範囲の直径を有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項６】
前記噴霧液滴の少なくとも一部は、１０〜１００μｍの体積平均直径を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項７】
前記ハウジングは、スナップ嵌合によって、前記加圧容器に取り付けられている、請求項１に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項８】
前記噴霧器作動装置及び前記加圧容器は、それらの外側表面がフラッシュされるように構成されている、請求項１に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項９】
前記加圧容器は基部を備え、
前記下側部分は、前記噴霧器の前部よりも噴霧器の後部の方が、前記基部に向かってさらに下方に延在する、請求項１に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項１０】
前記加圧容器は、空気フレッシュニング組成物を収容する、請求項１に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項１１】
前記加圧容器は、布帛フレッシュニング組成物を収容する、請求項１に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項１２】
前記加圧容器は、炭化水素を含む噴射剤を収容する、請求項１に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項１３】
前記噴霧器作動装置及び前記加圧容器は、それらの外側表面が実質的に連続する表面を形成するように構成されている、請求項１に記載の人間工学的なエアゾール噴霧器。
【請求項１４】
炭化水素を含む噴射剤及び空気フレッシュニング組成物を収容する、ほぼ円筒形状の本体を有する加圧容器と、
上側部分と、容器上に適合するための下側部分と、前記上側部分及び前記下側部分の間にある幅の狭い胴部分とを有するハウジングを具備する人間工学的な噴霧器作動装置であって、前記加圧容器の上側部分に接合され、前記ハウジングがスナップ嵌合によって前記加圧容器に取り付けられている噴霧器作動装置と
を備えた人間工学的なエアゾール噴霧器であって、
該噴霧器は、その前部に、前記噴霧器のハウジングと機能的に結合されたトリガーを備え、
ユーザーの手のひらの自然な輪郭にぴったりと適合するように、少なくとも幅が狭くなった胴部分及び前記下側部分の前記噴霧器作動装置の後部で、前記ハウジングの輪郭が連続し、
前記ハウジングの下側部分は、少なくとも部分的に前記加圧容器の本体に重なり
前記加圧容器は基部を備え、前記下側部分は、前記噴霧器の前部よりも噴霧器の後部の方が、前記基部に向かってさらに下方に延在し、
前記上側部分の下側が前記後部よりも前記前部の方が高くなるように、前記上側部分が傾斜する、人間工学的なエアゾール噴霧器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月5日(2006.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）低温プラズマ、コロナ放電、高エネルギー放射線および／または火炎処理を、無機または有機基材上に作用させ、
ｂ）処理した基材が望ましい表面特性を得る結果になる少なくとも一つの機能制御基が組み込まれている、１）少なくとも一つの活性化可能な開始剤、または２）少なくとも一つの活性化可能な開始剤及び少なくとも一つのエチレン性不飽和化合物を、溶融物、溶液、懸濁液またはエマルションの形態で、無機または有機基材に付着し、次いで
ｃ）被覆した基材を加熱および／または電磁波で照射し、基材がこれにより望ましい表面特性を得る
無機または有機基材上に機能層を形成する方法。
【請求項２】
機能制御基が、
ｉ）親水性／疎水性を制御するための、親水性基または疎水性基、
ii）酸／塩基特性を制御するための、酸性、中性または塩基性の官能基、
iii）屈折率を制御するための、高い増分または低い増分の屈折を有する官能基、
iv）生物特性を制御するための、細胞および／または組織の成長に影響を及ぼす官能基、
ｖ）難燃性を制御するための、可燃性に影響を及ぼす官能基、および／または
vi）帯電防止性を制御するための、導電性に影響を及ぼす官能基、
として構成される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
方法工程ｂ）で使用する液体が、開始剤を濃度０．０１〜２０％、好ましくは０．１〜５％含有する、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
方法工程ｂ）で使用する液体が、さらに他の物質、たとえば消泡剤、乳化剤、界面活性剤、防汚剤、湿潤剤、および塗装産業で通常用いられる他の添加剤を含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載の方法により得ることができる、機能層を有する基材。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月5日(2006.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流動層式反応炉中の微粒固体を運搬する方法において、第１のガスまたは混合ガスを、ガス供給管を通して下方から反応炉の混合チャンバに注入し、該ガス供給管は、流動化用ガスの供給によって流動化する固定環状流動層によって、少なくとも部分的に包囲し、第１のガスまたは混合ガスのガス速度と、環状流動層の流動化用ガスの速度とを調整することによって、前記ガス供給管における粒子フルード数を１〜100とし、前記環状流動層では0.02〜２とし、前記混合チャンバでは0.3〜30とすることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、前記ガス供給管の粒子フルード数は1.15〜20とし、具体的には約８とすることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、前記環状流動層の粒子フルード数は0.115〜1.15とし、具体的には約0.15とすることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の方法において、前記混合チャンバの粒子フルード数は0.37〜3.7とし、具体的には約1.8または約３とすることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、前記反応炉の固体層の高さを調整することによって、前記環状流動層を、前記ガス供給管の上部開口端を超えるまで伸ばし、固体を第１のガスまたは混合ガスに常時導入し、ガス流によって、前記ガス供給管の開口領域上方に設けられた前記混合チャンバへ運ぶことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の方法において、物質、とりわけセメントなどの加熱した固体を、運搬中に反応炉で冷却することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法において、前記反応炉に注入したガスまたは混合ガスを、特に処理中の固体を加熱することなく、冷却することを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項６および７に記載の方法において、前記ガス供給管を通して注入する混合ガスおよび／または流動化用ガスは、100℃より低温で、具体的には約50℃の空気とすることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項６ないし８のいずれかに記載の方法において、水などの冷却媒体を、前記環状流動層および／または混合チャンバに注入することを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１ないし５のいずれかに記載の方法において、固体は前記反応炉で加熱することを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項10に記載の方法において、チタン含有鉱石、酸化鉄、または他の金属酸化物を含む固形体を、前記固体として使用することを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項10または11に記載の方法において、約900℃の水素や排ガスなどの加熱したガスを、前記ガス供給管を通して前記反応炉の環状流動層に供給し、さらに／あるいはランスなどを通して前記混合チャンバに供給することを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項10ないし12のいずれかに記載の方法において、特に天然ガスなどの燃料を、前記ガス供給管を通して前記反応炉の環状流動層に供給し、さらに／あるいはランスなどを通して前記混合チャンバへ供給し、前記反応炉内の圧力を0.8〜10バールとすることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項10ないし13のいずれかに記載の方法において、酸化鉄を含有する固体を少なくとも１つの予備加熱工程において少なくとも部分的に加熱し、さらに／あるいは焼成して、下流の還元工程で還元し、前記固体は、急速加熱炉の役割を果たす前記反応炉によって、前記少なくとも１つの予備加熱工程から前記下流の還元工程へ運搬することを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項14に記載の方法において、前記反応炉からの排ガスは、循環流動層および／またはベンチュリ型予熱器を有する炉を備えた前記少なくとも１つの予備加熱工程へ送ることを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項14または15に記載の方法において、燃料を、急速加熱炉の役割を果たす前記反応炉に供給し、予備加熱工程処理は実質的に前記反応炉の廃熱で行うことを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１ないし16のいずれかに記載の方法において、前記反応炉から放出される固体の実際の放出口温度を測定し、放出口温度の設定値との関連を含め、前記測定した実際の放出口温度に基づいて、冷却用または加熱用のガスや混合ガス、冷却媒体、および／または燃料の供給量を変更することを特徴とする方法。
【請求項１８】
特に請求項１ないし17のいずれかに記載の方法を使用し、流動層反応炉を構成する反応炉を含む、微粒固体の運搬用設備において、前記反応炉はガス供給機構を有し、該ガス供給機構は、該機構を少なくとも部分的に包囲している固定環状流動層から混合チャンバまで、該機構を通過するガスが固体を運ぶよう、構成されていることを特徴とする設備。
【請求項１９】
請求項18に記載の設備において、前記ガス供給機構はガス供給管を有し、該ガス供給管は、前記反応炉の下方領域から該反応炉の混合チャンバに向かって上方に実質的に垂直に延びていて、前記ガス供給管は、固定環状流動層が形成されている環状槽によって、少なくとも一部分が包囲されていることを特徴とする設備。
【請求項２０】
請求項19に記載の設備において、前記ガス供給管は反応炉の断面積を基準としてほぼ中央に配置されていることを特徴とする設備。
【請求項２１】
請求項18ないし20のいずれかに記載の設備において、具体的にはサイクロン、高温ガス式電気集塵装置またはバッグフィルタなどの、固体を分離する分離装置が前記反応炉の下流に設けられていることを特徴とする設備。
【請求項２２】
請求項19ないし21のいずれかに記載の設備において、前記反応炉の環状槽には、該槽を上部流動層領域と下部ガス分配チャンバとに分割するガス整流板が設けられていて、該ガス分配チャンバは、流動化用ガス用の供給導管に接続されていることを特徴とする設備。
【請求項２３】
請求項19ないし22のいずれかに記載の設備において、前記反応炉は、ガス供給導管に通じる少なくとも１つの燃料および／または冷却媒体用の供給導管、さらに／あるいは、環状槽に通じる少なくとも１つの供給導管を備えることを特徴とする設備。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月21日(2006.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アノードを形成する１つ以上のセルを備えたイオンポンプに使用される磁石アセンブリであって、
内部領域を規定する第一および第二の側方部と第一および第二の端部とを有する磁石ヨークと、
前記磁石ヨークの前記第一および第二の端部に配置された互いに反対の極性を有する一次磁石と、
前記磁石ヨークの前記第一および第二の側方部に配置された二次磁石であって、当該磁石アセンブリにより発生される磁界によって前記アノードの外側の両端部内での電子経路を長くし、前記アノードを横切る磁界の強度を高くし、ポンピング速度を高くする二次磁石とを含む磁石アセンブリ。
【請求項２】
前記二次磁石が、前記磁石ヨークの前記第一の側方部に配置された互いに反対の極性を有する磁石と、前記磁石ヨークの前記第二の側方部に配置された互いに反対の極性を有する磁石とを備えており、各々の二次磁石が同じ極性の一次磁石に隣接して配置されている、請求項１記載の磁石アセンブリ。
【請求項３】
前記一次磁石および前記二次磁石が、その内部領域中に実質的に一様な磁界を発生させるように構成された、請求項１記載の磁石アセンブリ。
【請求項４】
１つ以上の陽極ポンプセルと、
前記１つ以上の陽極ポンプセルに近接して配置された陰極であって、前記陰極と前記１つ以上の陽極ポンプセルとの間に電界が印加される陰極と、
前記１つ以上の陽極ポンプセル中に磁界を発生させる磁石アセンブリとを含み、
前記磁石アセンブリが、
前記陽極ポンプセルの両端に配置された互いに反対の極性を有する一次磁石と、
前記陽極ポンプセルの両側方に配置された二次磁石であって、前記磁石アセンブリが、軸方向の磁界を実質的に一様にし、前記１つ以上の陽極ポンプセルを横切る磁界強度を高くして、ポンピング速度を大きくする二次磁石とを含むイオンポンプ。
【請求項５】
前記磁石アセンブリが内部領域を規定する第一および第二の側方部と第一および第二の端部とを有する磁石ヨークを更に含む、請求項４記載のイオンポンプ。
【請求項６】
前記一次磁石が前記磁石ヨークの前記第一および第二の端部に配置されており、かつ前記二次磁石が前記磁石ヨークの前記第一および第二の側方部に配置されている、請求項５記載のイオンポンプ。
【請求項７】
前記二次磁石が前記磁石ヨークの前記第一の側方部に配置された互いに反対の極性を有する磁石と、前記磁石ヨークの前記第二の側方部に配置された互いに反対の極性を有する磁石とを備え、各々の二次磁石が同じ極性の一次磁石に隣接して配置されている、請求項６記載のイオンポンプ。
【請求項８】
前記一次磁石および前記二次磁石が、前記１つ以上の陽極ポンプセル内に実質的に一様な磁界を発生させるように構成されている、請求項４記載のイオンポンプ。
【請求項９】
前記１つ以上の陽極ポンプセルが第一および第二の端部を有しており、前記一次磁石が前記陽極ポンプセルの前記第一および第二の端部から間隔を開けて配置されている、請求項４記載のイオンポンプ。
【請求項１０】
前記陰極が前記１つ以上の陽極セルの第一および第二の端部から間隔を開けて配置された陰極板を備えた、請求項４記載のイオンポンプ。
【請求項１１】
前記陰極と前記１つ以上の陽極ポンプセルとの間に接続された電源を更に含む、請求項４記載のイオンポンプ。
【請求項１２】
前記１つ以上の陽極ポンプセルと前記陰極とが２極型のイオンポンプ構成を有する、請求項４記載のイオンポンプ。
【請求項１３】
前記１つ以上の陽極ポンプセルと前記陰極とが３極型のイオンポンプ構成を有する、請求項４記載のイオンポンプ。
【請求項１４】
１つ以上の陽極ポンプセルと陰極とを含むイオンポンプを運転する方法であって、
前記陰極と 前記１つ以上の陽極ポンプセルとの間に電界を印加すること、および
前記陽極ポンプセルの両端に配置された一次磁石と前記陽極ポンプセルの両側方に配置された二次磁石とを含む磁石アセンブリによって、前記１つ以上の陽極ポンプセル内に磁界を発生させることを含む方法。
【請求項１５】
前記磁界を発生する工程が、前記１つ以上の陽極ポンプセル内に実質的に一様な軸方向の磁界を発生させることを含む、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記磁界を発生する工程が、内部領域を規定する第一および第二の側方部と第一および第二の端部とを有する磁石ヨークを用意すること、ならびに前記一次磁石を前記磁石ヨークの前記第一および第二の端部に配置し、かつ前記二次磁石を前記磁石ヨークの前記第一および第二の側方部に配置することを含む、請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
前記二次磁石を配置する工程が、前記磁石ヨークの前記第一の側方部に互いに反対の極性を有する二次磁石を配置すること、および前記磁石ヨークの前記第二の側方部に互いに反対の極性を有する二次磁石を配置することを含み、各々の二次磁石を同じ極性の一次磁石に隣接して配設する、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
１つ以上のアノードセルを備えたイオンポンプに使用される磁石アセンブリであって、
内部領域を規定する第一および第二の側方部と第一および第二の端部とを有する磁石ヨークと、
前記磁石ヨークの前記第一および第二の端部にそれぞれ配置された第一の一次磁石を含む互いに反対の極性を有する一次磁石と、
前記磁石ヨークの前記第一の側方部に配置された互いに反対の極性を有する第一および第二の二次磁石と、前記磁石ヨークの前記第二の側方部に配置された互いに反対の極性を有する第三および第四の二次磁石とを含む二次磁石であって、前記一次磁石と前記二次磁石とが、前記磁石ヨークの前記内部領域内に実質的に一様な磁界を発生させて、その結果、前記アノードセル内のポンピング速度を高くするように構成されている二次磁石とを含む磁石アセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作物を支持するための装置において、該装置が支持システムを含み、該支持システムが、工作物を支持する一方、熱に誘発される工作物の運動を許容するように構成されている、工作物を支持するための装置。
【請求項２】
前記支持システムが、工作物と接触可能な可動接触部を有する支持部材を含み、しかも前記接触部が、工作物を支持する一方、熱に誘発される工作物の運動を許容するように可動である、請求項１に記載された装置。
【請求項３】
前記支持システムが、工作物の外方帯域の運動を許容する一方、工作物の質量中心を目標範囲内に維持するように構成されている、請求項１に記載された装置。
【請求項４】
前記支持システムが、工作物の質量中心の移動を最小化するように構成されている、請求項３に記載された装置。
【請求項５】
前記支持システムが、工作物を支持する一方、熱による工作物の弓そり或いは曲げを許容するよう構成されている、請求項１に記載された装置。
【請求項６】
前記支持部材が剛性の可動支持部材を含む、請求項２に記載された装置。
【請求項７】
前記支持部材が、可とう性であり、かつ拘束部と非拘束部とを有し、かつまた前記可動接触部が前記非拘束部を含む、請求項２に記載された装置。
【請求項８】
支持部材の前記可動接触部が工作物と弾性接触可能である、請求項２に記載された装置。
【請求項９】
支持部材の前記接触部が、複数支持部材それぞれの複数可動接触部を含む請求項２に記載された装置。
【請求項１０】
前記支持システムが工作物の振動を抑制するように構成されている、請求項２に記載された装置。
【請求項１１】
前記支持システムが、工作物の運動エネルギーを吸収するように構成されている、請求項１０に記載された装置。
【請求項１２】
更に、支持部材と連携する複数加力器を含み、これにより、熱に誘発される工作物の運動時に接触部の各々が工作物との接触を維持するのに役立つように支持部材に力が加えられ、前記加力器の各々が支持部材に結合されたばねを含み、前記複数可動接触部の各々が工作物と弾性接触可能である、請求項９に記載された装置。
【請求項１３】
前記装置が、更に、熱に誘発される工作物の運動に応答して前記可動接触部を運動させるように構成された支持部材運動システムを含む、請求項９に記載された装置。
【請求項１４】
前記支持部材運動システムが、支持部材の各々ごとに、支持部材に接続されたそれぞれのアクチュエータを含む、請求項１３に記載された装置。
【請求項１５】
前記複数支持部材が複数の可とう性支持部材を含む、請求項９に記載された装置。
【請求項１６】
前記装置が、更に、工作物を横方向に支持するように構成された横支持部材を含む、請求項２に記載された装置。
【請求項１７】
前記装置が、更に、加熱システムを含み、該加熱システムが、工作物表面を工作物の残部に対して加熱するように構成され、熱に誘発される工作物の運動を生じさせる、請求項１に記載された装置。
【請求項１８】
工作物を支持する方法において、該方法が、工作物を支持する作業を含む一方、熱に誘発される工作物の運動を許容する作業を含む、工作物を支持する方法。
【請求項１９】
コンピュータ・プログラムにおいて、該プログラムが、
請求項１８に記載されたすべての段階を実現するために、プロセッサ回路が工作物支持システムを制御する場合のコード媒体を含んでいる、コンピュータ・プログラム。
【請求項２０】
前記工作物が半導体ウェーハを含み、かつ前記支持システムが、ウェーハを支持する一方、熱に誘発されるウェーハの運動を許容するように構成されている、請求項１から請求項１７までのいずれか１項に記載された装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月12日(2006.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】  メモリの形成は基盤から始まる。この基板は、単結晶シリコン、シリコン−ゲルマニムやシリコン−ゲルマニウム−炭素などのIV−IV族化合物、III−V族化合物、II−VII族化合物など当技術分野で既知のどの様な半導体用基板であってもよいし、そのような基板上のエピタキシャル層又は他のどの様な半導体用材料であってもよい。基板には集積回路が製作されていてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】  導体と空隙の幅も又、選択されたピッチにより制約される。ピッチは、１つのフィーチャーから次に同じフィーチャーが現れるまでの距離である：例えば或る導体の中心から隣の導体の中心までの距離、又は或る半導体要素の中心から隣の半導体要素の中心までの距離である。半導体要素は、導体の上に形成されるが、詳しくは以下に述べる。各半導体要素は導体の上に直接形成されるので、半導体要素と導体は同幅且つ同ピッチであるのが望ましい。導体のピッチは、導体の間の空隙のアスペクト比を７：１以内に納める必要によってだけでなく、まだ形成されていない上層の半導体要素の間の空隙のアスペクト比も同じく７：１又はそれより小さくする必要によっても制約される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】  堆積時高さが約０．７６ミクロンの半導体要素とバリア層は、平坦化処理後、仕上げ高さが、例えば０．６８ミクロンとなる。導体の仕上げ済み厚さは、例えば０．１８ミクロンで、セル高さは約０．８６ミクロンとなる。フィーチャーサイズが０．１１ミクロンの場合（堆積時高さが０．７６ミクロンであれば実現可能）、体積密度は約２．４×１０１０セル／ｍｍ３と計算できる。これらの面積及び体積密度は、他の三次元メモリに比べて有意に改善されたことを表している。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
第１と第２の表面を持つ平面構造体、および各々が収集構造体に対応し、前記毛管通路を中心とした、前記第１の表面上または前記平面構造体内に配置された多数の光学素子をさらに備えることを特徴とする請求項１記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月14日(2006.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の主面と第２の主面とを含む本体と、前記本体の前記第１の主面に取り付けられたベースシートと、前記本体の前記第２の主面から突出している複数の圧縮構造とを含む試料処理装置であって、前記本体と前記ベースシートが１つ以上の充填貯蔵器と、複数の処理チャンバと、複数のチャネルとを画定し、前記複数のチャネルの各チャネルが、１つ以上の充填貯蔵器の少なくとも１つの充填貯蔵器と流体連通しており、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバが前記複数のチャネルの少なくとも１つのチャネルと流体連通している試料処理装置を提供する工程と、
前記複数の処理チャンバの少なくともいくつかの処理チャンバに試料材料を分配する工程と、
前記試料処理装置の前記ベースシートをサーマルブロックと接触配置する工程と、
前記本体の前記第２の主面をプラテンと接触させて、前記試料処理装置の前記ベースシートを前記サーマルブロックと密着させる工程と、
前記本体の前記第２の主面を前記プラテンと接触させながら前記本体の前記第２の主面から突出している前記複数の圧縮構造の少なくともいくつかを永久変形させる工程と、
前記試料処理装置を前記サーマルブロックと接触させながら、前記サーマルブロックの温度を制御する工程と
を含む試料材料を処理する方法。
【請求項２】
第１の主面と第２の主面とを含む本体と、前記本体の前記第１の主面に取り付けられたベースシートと、前記本体の前記第２の主面から突出している複数の圧縮構造とを含む試料処理装置であって、前記本体と前記ベースシートが１つ以上の充填貯蔵器と、複数の処理チャンバと、複数のチャネルとを画定し、前記複数のチャネルの各チャネルが、１つ以上の充填貯蔵器の少なくとも１つの充填貯蔵器と流体連通しており、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバが前記複数のチャネルの少なくとも１つのチャネルと流体連通していて、前記本体が前記本体の周囲近傍にフレームボリュームを画定しているフレームを含み、前記１つ以上の充填貯蔵器が前記フレームボリューム内に配置されている試料処理装置を提供する工程と、
前記複数の処理チャンバの少なくともいくつかの処理チャンバに試料材料を分配する工程と、
前記試料処理装置の前記ベースシートをサーマルブロックと接触配置する工程と、
前記本体の前記第２の主面をプラテンと接触させて、前記試料処理装置の前記ベースシートを前記サーマルブロックと密着させる工程と、
前記本体の前記第２の主面を前記プラテンと接触させながら前記本体の前記第２の主面から突出している前記複数の圧縮構造の全てを永久変形させる工程と、
前記試料処理装置を前記サーマルブロックと接触させながら、前記サーマルブロックの温度を制御する工程とを含み、
前記複数の圧縮構造の各圧縮構造が、前記本体の前記第１の主面から前記第２の主面まで延在するポストを含み、前記本体の前記第２の主面をプラテンと接触させて、前記試料処理装置の前記ベースシートを前記プラテンから前記サーマルブロックまでの前記サーマルブロック搬送力と密着させ、
前記複数の圧縮構造の永久変形が、前記複数の圧縮構造の少なくともいくつかにある易壊表示要素を永久変形させる工程を含む試料材料を処理する方法。
【請求項３】
第１の主面と第２の主面とを含む本体と、前記本体の前記第１の主面に取り付けられたベースシートと、前記本体の前記第２の主面から突出している複数の圧縮構造とを含む試料処理装置であって、前記本体と前記ベースシートが複数の処理チャンバの少なくともいくつかの処理チャンバに配置された試料材料を備えた複数の処理チャンバを画定する試料処理装置を提供する工程と、
識別プラットフォームと接触させて前記試料処理装置の前記ベースシートを配置する工程と、
前記本体の前記第２の主面をプラテンと接触させて、前記試料処理装置の前記ベースシートを前記識別プラットフォームと密着させる工程と、
前記本体の前記第２の主面を前記プラテンと接触させながら前記本体の前記第２の主面から突出している前記複数の圧縮構造の少なくともいくつかを永久変形させる工程と、
前記試料処理装置を前記識別プラットフォームと接触させながら、前記処理チャンバの少なくともいくつかに識別する工程と
を含む試料材料を識別する方法。
【請求項４】
第１の主面と第２の主面を含む本体と、
前記本体の前記第１の主面と前記本体の前記第２の主面の間に配置された１つ以上の充填貯蔵器構造と、
前記本体の第１の主面に形成された複数の処理チャンバ構造と、
前記本体の第１の主面に形成された複数のチャネル構造と、
前記本体の第２の主面から突出していて、前記本体の第２の主面近傍に易壊表示要素を含む複数の圧縮構造と、
前記本体の第１の主面に取り付けられたベースシートとを含み、
前記ベースシートと前記１つ以上の充填貯蔵器構造が装置中の１つ以上の充填貯蔵器を画定し、前記ベースシートと前記複数の処理チャンバ構造が前記装置中に複数の処理チャンバを画定し、前記ベースシートと前記複数のチャネル構造が前記装置中の複数のチャネルを画定し、前記複数のチャネルの各チャネルが前記１つ以上の充填貯蔵器の少なくとも１つの充填貯蔵器と流体連通していて、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバが前記複数のチャネルの少なくとも１つのチャネルと流体連通している試料処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図２に関連して説明した通り、様々な特徴部分は「構造」として定義され、ベースシート２０が本体３０の下側に取り付けられるまでは、様々な構造はそれぞれの特徴部分を完全に形成しないものと考えられる。例えば、ベースシート２０を取り付けるまで、図２に示す充填貯蔵器構造６０は完全な充填貯蔵器を形成しない。充填貯蔵器６０、処理チャンバ５０、主チャネル４０およびフィーダチャネル４２を形成する構造の全てが本体３０の下側に形成され、ベースシート２０が略平らなシートの形態で提供されているのが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
この同じ概念、すなわち、異なるボリュームの充填貯蔵器を、本発明による試料処理装置と組み合わせて用いてもよい。例えば、図１および２の試料処理装置１０の充填貯蔵器６０が互いに流体連通している場合には（例えば、図７および８に関して上述した通り）、充填貯蔵器６０は、最外貯蔵器６０の流体の枯渇を減じるために、異なるボリュームとするのが好ましい。例えば、最外充填貯蔵器６０（側部１２および１５に最も近い）は、充填貯蔵器構造の中心近くの充填貯蔵器６０よりもボリュームが大きくてもよい。更に、充填貯蔵器６０は、充填貯蔵器６０内の流体が、最外充填貯蔵器６０に優先的に分配されるように設計されていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工物（１１２、１１４）の表面を機械加工する方法であって、当該方法が、
切削ツール（１１０）を加工物（１１２、１１４）の表面と接触させる段階と、
１以上の切削パスｉにおいて、加工物（１１２、１１４）表面の経路（１１６、１２２）に沿って切削ツール（１１０）と加工物表面とを相対運動させる段階と、
を含み、
経路（１１６、１２２）が、座標系のセグメントＣ全域で定義され、かつ振幅、位相及び周波数からなる群から選択される非ランダム、ランダム又は疑似ランダムのパラメータのセットで特徴付けられる数学関数の性質を有する方法。
【請求項２】
前記数学関数が次の等式で定義される、請求項１記載の方法
【数１】
2006511887.tif 000001
式中、ｉは切削パスの数を表す整数、ｙiはｉ番目の切削パス上のＣに対する切削ツール（１１０）の瞬時的変位、ＡiはＣに対する切削ツール（１１０）の最大変位、Ψiはｙiの位相、Ｓiはｙiの開始位置のシフトである。
【請求項３】
前記数学関数が、三角波関数、鋸波関数及び方形波関数からなる数学関数の群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項４】
切削ツール（１１０）と加工物（１１２、１１４）表面との間で相対運動させる段階が、
ノイズ信号（１０４）を帯域通過フィルタ処理する段階と、
帯域通過フィルタ処理されたノイズ信号を関数発生器（１０６）に供給する段階と、
関数発生器からランダムに変調した数学関数を生成する段階と、
ランダムに変調した数学関数に応答して、切削ツール（１１０）と加工物（１１２、１１４）表面との間で、加工物表面の経路に沿って相対運動を誘導する段階と、
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
加工物の機械加工された表面から光学基板を製造する方法であって、
加工物（１１２、１１４）の表面を覆ってポジ型又はネガ型の電鋳物を形成する段階と、
電鋳物の複製を形成する段階と、
電鋳物の複製を光学基板に転写する段階と、
を含む方法。
【請求項６】
切削ツール（１１０）を加工物（１１２、１１４）の表面と接触させることによって機械加工されたマスター表面から形成される表面（１４２）を備えた光学基板であって、
１以上の切削パスｉにおいて、加工物表面の経路に沿って切削ツールと加工物表面とを相対運動させ、
経路（１１６、１２２）が、座標系のセグメントＣ全域で定義され、かつ振幅、位相及び周波数からなる群から選択される非ランダム、ランダム又は疑似ランダムのパラメータのセットで特徴付けられる数学関数の性質を有し、
加工物の表面を覆ってポジ型又はネガ型の電鋳物を形成し、
電鋳物の複製を形成し、
電鋳物の複製を光学基板に転写する、
ことによって形成された光学基板。
【請求項７】
バックライト・ディスプレイデバイス（３００）であって、
光（３０６）を発生する光源（３０２）と、
光（３０６）を配光する光導波路（３０４）と、
光導波路（３０４）から外に光（３０６）を反射させるために、光導波路（３０４）に沿って配置された反射デバイス（３０８）と、
光導波路（３０４）から光（３０６）を受け取る光学基板（３１４）と、
を備え、
光学基板（３１４）が、
切削ツール（１１０）を加工物（１１２、１１４）の表面と接触させることによって機械加工されたマスター表面から形成される表面（１４２）を備え、
１以上の切削パスｉにおいて、加工物（１１２、１１４）表面の経路（１１２、１１６）に沿って切削ツール（１１０）と加工物（１１２、１１４）表面とを相対運動させ、
経路（１１６、１２２）が、座標系のセグメントＣ全域で定義され、かつ振幅、位相及び周波数からなる群から選択される非ランダム、ランダム又は疑似ランダムのパラメータのセットで特徴付けられる数学関数の性質を有し、
加工物の表面にポジ型又はネガ型の電鋳物を形成し、
電鋳物の複製を形成し、
電鋳物の複製を光学基板に転写する、
ことによって形成されたバックライト・ディスプレイデバイス（３００）。
【請求項８】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法で機械加工された表面を有するマスター。
【請求項９】
バックライト・ディスプレイデバイス（３００）であって、
光（３０６）を発生する光源（３０２）と、
光（３０６）を配光する光導波路（３０４）と、
光導波路（３０４）から外に光（３０６）を反射させるために、光導波路（３０４）に沿って配置された反射デバイス（３０８）と、
を備え、
光導波路（３０４）が、切削ツールを加工物表面と接触させることによって機械加工されたマスター表面から形成される表面（１４２）を含み、
１以上の切削パスｉにおいて、加工物表面の経路に沿って切削ツールと加工物表面とを相対運動させ、
経路が、座標系のセグメントＣ全域で定義され、かつ振幅、位相及び周波数からなる群から選択される非ランダム、ランダム又は疑似ランダムのパラメータのセットで特徴付けられる数学関数の性質を有し、
加工物の表面を覆ってポジ型又はネガ型の電鋳物を形成し、
電鋳物の複製を形成し、
電鋳物の複製を光学基板に転写する、
ことによって形成されたバックライト・ディスプレイデバイス（３００）。
【請求項１０】
シリンダ（１１２）の表面を機械加工する方法であって、
切削ツール（１１０）をシリンダ（１１２）の表面と接触させる段階と、
１以上の切削パスｉにおいて、シリンダ（１１２）表面に接する平面内の経路（１１６、１２２）に沿って切削ツール（１１０）とシリンダ（１１２）表面とを相対運動させる段階と、
を含み、
経路（１１６、１２２）が、シリンダのセグメントＣ全域で定義され、かつ振幅、位相及び周波数からなる群から選択される非ランダム、ランダム又は疑似ランダムのパラメータのセットで特徴付けられる数学関数の性質を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月14日(2006.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
大量の医療関連データが利用可能になる場合に生じる特定の課題は、ユーザとデータを分類整理し記憶するシステムとの間のインターフェースの問題及びアクセスの問題の両方に影響を及ぼす。多数のユーザが特定のデータポイントを要求し且つ必要とする可能性がある場合、全てのユーザが、データ、データの処理、或いはデータポイント間の関係のいずれかに同様の関心を持つわけではない。種々の医療関連分野において、ユーザは、患者自身に加えて、医療施設、放射線部門、医師、行政体、事業主、保険会社のような多様な個人及び団体を含むことができる。しかしながら、重要なことは、アクセスのレベルが許可されるのであれば、特定のユーザに対してインターフェースを適合させる必要がある点である。
【特許文献１】米国特許第６２６３３３０号
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月15日(2006.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
特徴識別及び分類アルゴリズムに基づいて医療データを分析するために、益々多くのアプリケーションが開発されている。しかしながら、このようなアルゴリズムは、そのアルゴリズムで通常行われる分析が極めて特定の性質であることに起因して現在時点では限られた程度、及び分析のためにアクセス可能な情報の限られた量でしか利用されていない。現在のところ、このようなアルゴリズムは特定の疾患及びイメージングモダリティにだけ限られている。アルゴリズムの更なる拡張及び向上は、このような活動が、利用可能なデータの定期的な分析に基づいて人間のプログラマーによって行われる特定のプログラム及びプロジェクトを必要とすることが多い点で問題がある。現在のところ、自動化された技術は、データ又は関係が利用可能或いは識別されるようなアルゴリズムを修正するために利用可能ではない。
【特許文献１】ＷＯ  ０２／０５７０２Ａ
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シーンについての第１の情報を含む第１の画像にアクセスすること；
前記シーンについての第２の情報を含む第２の画像にアクセスすること、このとき前記第１の画像の一部と、第２の画像の一部との間に解像度差がある；
前記第１の画像の前記一部の中にある、前記第１の画像の特性を修正する箇所を同定すること； 
前記第２の情報からの映像を使用して、前記第１の画像の前記箇所において前記特性を修正することによって、前記解像度差を低減すること
を含む方法。
【請求項２】
前記第１の画像の前記箇所において前記特性を修正することが、第２の変換の前記第２の画像の一部への適応することによって生成された情報を使用して、前記第１の画像の一部への第１の変換の適用することによって生成された情報を修正することを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第１の変換が、第１のウェーブレット変換を含み、
前記第２の変換が第２のウェーブレット変換を含み、かつ
前記第１のウェーブレット変換を適用することによって生成された情報を修正することが、前記第２のウェーブレット変換を適用することによって生成された前記特定の箇所にある係数を、第１のウェーブレット変換を適応することによって生成された結果における特定の箇所にコピーすることを含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記第１の画像及び前記第２の画像がフィルム・フレームの色分解である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記第１の画像が赤色分解であり、解像度差が赤色フリンジングをもたらす、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記第１及び第２の画像が、カラー・コンポジット画像から抽出される、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記特性が修正されない非修正箇所を決定することをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記特性が修正される箇所を含む前記第１の画像の領域に、フェザリング手法を適用することをさらに含み、該フェザリング手法は該箇所の特性が修正された後に適用される、請求項１の方法。
【請求項９】
前記箇所で前記特性を修正することが：
第１の方向においてのみ、変換を行うこと；及び
修正された第１の画像の生成すること
を含む、請求項１の方法。
【請求項１０】
第２の画像にアクセスすることが、１以上の基準に基づいて、複数の画像から第２の画像にアクセスすることを含む、請求項１の方法。
【請求項１１】
前記箇所の同定が双方向的に実施される、請求項１の方法。
【請求項１２】
前記箇所の同定が、１以上のエッジを選択して修正すること含む、請求項１の方法。
【請求項１３】
１以上のエッジを選択して修正することが、複数のエッジを選択して修正すること含む方法であり、かつ該方法がさらに；
２つの選択されたエッジを、エッジの特性に基づいて連結すること；及び連結され、選択されたエッジのエッジ範囲を決定すること
を含む、請求項１２の方法。
【請求項１４】
命令を格納するコンピュータ可読媒体を含む装置であって、マシンによって実行されたときに、結果として少なくとも；
シーンについての第１の情報を含む、第１の画像にアクセスすること；
前記第１の画像の一部と、第２の画像の一部との間に解像度差があって、前記シーンについての第２の情報を含む第２の画像にアクセスすること；
前記第１の画像の一部の中にある、前記第１の画像の特性を修正する箇所を同定すること；及び
前記第２の画像からの情報を用いて、前記第１の画像の中の前記箇所の前記特性を修正することによって前記解像度差を低減すること、
を行う装置。
【請求項１５】
前記第１の画像の中の前記箇所で、前記特性を修正することが、前記第１の画像の一部への第１の変換を適用することによって生成された情報を、前記第２の画像の一部への第２の変換を適用することによって生成された情報を使用して、修正することを含む、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】
前記第１の画像が赤色分解であり、前記解像度差が赤色フリンジングとなる、請求項１４記載の装置。    
【請求項１７】
解像度を向上された画像が格納された装置であって、前記解像度を向上された画像が：
第１成分画像；及び
前記第１成分画像と第２成分画像との解像度差を低減するように修正された特性を有する一部を含む前記第２成分画像を含み、
前記特性は、前記第１成分画像からの前記第１成分情報を使用して修正される装置。
【請求項１８】
前記第１成分情報が、ウェイブレット変換を前記第１成分画像の特定の部分に適用することによって生成され、前記特定の部分が、前記第２成分画像の一部に対応し、及び
前記特性が、前記第１成分情報を使用して、前記第２成分画像の一部へのウェイブレット変換を適用することによって生成された第２成分情報を修正することによって修正される、請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
解像度を向上された画像が、カラー・コンポジット画像の中の第１の色についての第１色情報、及び第２の色の第２色情報を含む、カラー・コンポジット画像、
前記第１成分画像が、カラー・コンポジット画像の中の第１の色についての第１色情報、
前記第２成分画像が、カラー・コンポジット画像の中の第２の色についての第２色情報
を含む、請求項１７記載の装置。
【請求項２０】
解像度を向上された前記画像が一組の色分解を含み、解像度を向上された画像が前記組内の色分解のそれぞれの表示を合成することによって表示されるようになされ、前記組は第１の色分解及び第２の色分解を含み、前記第１の成分画像が前記第１色分解を含み、かつ該第２の成分画像が前記第２色分解を含む、請求項１７記載の装置。
【請求項２１】
前記一部の前記箇所を、少なくとも前記第１成分画像からの一部分において得られた位置決定情報に基づいて決定する、請求項１７記載の装置。
【請求項２２】
前記一部の前記箇所を、前記第２の成分画像の前記一部と、前記第１の成分画像の対応部分との、時間領域での比較に基づいて決定する、請求項１７記載の装置。