【手続補正書】
【提出日】平成19年5月18日(2007.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  陰極スパッタ装置の本質的に金属のターゲットであり、該ターゲットは主にニッケルを含み、ニッケルはその強磁性を減少もしくは消去するために少くとも１つの他の副次元素と合金化されることを特徴とするターゲット。
【請求項２】  陰極スパッタ装置が磁場アシスト装置であることを特徴とする請求項１に記載のターゲット。
【請求項３】  合金中の該元素の割合が２０原子％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のターゲット。
【請求項４】  合金中の該元素の割合が１８％以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のターゲット。
【請求項５】  合金中の該元素の割合が３％〜１５％であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のターゲット。
【請求項６】  副次元素が、その酸化物が陽極発色を有するエレクトロクロミック物質である金属であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のターゲット。
【請求項７】  副次元素がＩｒ，ＲｕおよびＲｈから選ばれることを特徴とする請求項６に記載のターゲット。
【請求項８】  副次元素が、その酸化物が陰極発色を有するエレクトロクロミック物質である金属であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のターゲット。
【請求項９】  金属がＭｏ，Ｗ，Ｒｅ，Ｓｎ，ＩｎおよびＢｉから選ばれることを特徴とする請求項８に記載のターゲット。
【請求項１０】  副次元素が、その水和もしくは水酸化酸化物がプロトン導体である、金属、アルカリ土類金属もしくは半導体であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のターゲット。
【請求項１１】  副次元素が、Ｔａ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓｂ，Ｕ，Ｂｅ，Ｍｇ，ＣａおよびＹから選ばれることを特徴とする請求項１０に記載のターゲット。
【請求項１２】  副次元素が、その酸化物が吸湿性で、アルカリ金属型である元素であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のターゲット。
【請求項１３】  その酸化物が吸湿性である元素が、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ およびＣｓから選ばれることを特徴とする請求項１２に記載のターゲット。
【請求項１４】  Ｎｉ／Ｓｉ，Ｎｉ／Ａｌ，Ｎｉ／Ｓｎ，Ｎｉ／Ｗ，Ｎｉ／Ｚｎ，Ｎｉ／ＴａもしくはＮｉ／Ｙ合金からつくられることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載のターゲット。
【請求項１５】  酸化反応性雰囲気における磁場アシスト陰極スパッタにより、ニッケル合金酸化物にもとづく薄層を製造する方法であり、請求項１〜１４のいずれか記載のターゲットを使用することを特徴とする薄層の製造方法。
【請求項１６】  ニッケル合金酸化物が水和／水酸化もしくはプロトン化および／または窒化物処理されていることを特徴とする、請求項１５に記載の製造方法。
【請求項１７】  ニッケル合金酸化物にもとづく薄層に、陽極発色を有するエレクトロクロミック物質を製造するための、請求項１５又は１６に記載の方法の使用。
【請求項１８】  ニッケル合金酸化物が水和／水酸化および／またはプロトン化および／または窒化物処理されていることを特徴とする、請求項１７に記載の方法の使用。
【請求項１９】  Ｈ+，Ｌｉ+およびＯＨ- のようなイオンならびに電子を可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を含む機能層を積層にしたものを備える少くとも１つのキャリア基体を含む電気化学デバイスであって、該電気化学的活性層が請求項１５に記載の方法により得られるニッケル合金酸化物にもとづくことを特徴とする電気化学デバイス。
【請求項２０】  ニッケル合金酸化物が結晶粒を有する無定形を主とすることを特徴とする請求項１９に記載の電気化学デバイス。
【請求項２１】  結晶粒は５０nm以下の直径を有することを特徴とする請求項２０に記載の電気化学デバイス。
【請求項２２】  Ｈ+，ＯＨ-およびＬｉ+ のようなイオン、ならびに電子を可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を含む機能層を積層にしたものを備える少くとも１つのキャリア基体を含む電気化学デバイスであって、該電気化学的活性層は酸化ニッケルにもとづき、金属の形態の少くとも１つの副次元素で合金化されており、該金属の酸化物が陽極エレクトロクロミック物質であることを特徴とする電気化学デバイス。
【請求項２３】  酸化ニッケルは水和および／または水酸化および／またはプロトン化および／または窒化物処理されることを特徴とする請求項２２に記載の電気化学デバイス。
【請求項２４】  該金属が次の金属：Ｉｒ，Ｒｕ，Ｒｈの少くとも１つから選ばれることを特徴とする請求項２２又は２３に記載の電気化学デバイス。
【請求項２５】  Ｈ+，ＯＨ-およびＬｉ+ のようなイオンならびに電子を可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を含む機能層を積層にしたものを備える少くとも１つのキャリア基体を含む電気化学デバイスであって、該電気化学的活性層は酸化ニッケルにもとづき、金属の形態の少くとも１つの副次元素で合金化されており、該金属の酸化物が陰極エレクトロクロミック物質であることを特徴とする電気化学デバイス。
【請求項２６】  酸化ニッケルは水和および／または水酸化および／またはプロトン化および／または窒化物処理されることを特徴とする請求項２５に記載の電気化学デバイス。
【請求項２７】  該金属が次の金属：Ｍｏ，Ｗ，Ｒｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｂｉの少くとも１つから選ばれることを特徴とする請求項２５又は２６に記載の電気化学デバイス。
【請求項２８】  Ｈ+，ＯＨ-およびＬｉ+ のようなイオンならびに電子を可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学活性層を含む機能層を積層にしたものを備える少くとも１つのキャリア基体を含む電気化学デバイスであって、該電気化学活性層は酸化ニッケルにもとづき、金属、アルカリ土類金属もしくは半導体の形態の少くとも１つの副次元素で合金化されており、該元素の水和および／または水酸化酸化物がプロトン導体であることを特徴とする電気化学デバイス。
【請求項２９】  酸化ニッケルは水和および／または水酸化および／またはプロトン化および／または窒化物処理されることを特徴とする請求項２８に記載の電気化学デバイス。
【請求項３０】  金属、アルカリ土類金属もしくは半導体が次の元素：Ｔａ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓｂ，Ｕ，Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｙの少くとも１つから選ばれることを特徴とする請求項２８又は２９に記載の電気化学デバイス。
【請求項３１】  Ｈ+，ＯＨ-およびＬｉ+ のようなイオンならびに電子を可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学活性層を含む機能層を積層にしたものを備える少くとも１つのキャリア基体を含む電気化学デバイスであって、該電気化学活性層は酸化ニッケルにもとづき、少くとも１つの元素で合金化されており、該元素の酸化物が吸湿性であり、該元素がアルカリ金属型であることを特徴とする電気化学デバイス。
【請求項３２】  酸化ニッケルは水和および／または水酸化および／または窒化物処理されることを特徴とする請求項３１に記載の電気化学デバイス。
【請求項３３】  アルカリ金属が次の金属：Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓの少くとも１つから選ばれることを特徴とする請求項３１又は３２に記載の電気化学デバイス。
【請求項３４】  酸化ニッケルにもとづく層がＮｉＳｉｘＯｙ，ＮｉＡｌｘＯｙ，ＮｉＳｎｘＯｙ，ＮｉＷｘＯｙ，ＮｉＺｎｘＯｙ，ＮｉＴａｘＯｙもしくはＮｉＹｘＯｙの形態であることを特徴とする請求項２５〜３０に記載の電気化学デバイス。
【請求項３５】  エレクトロクロミック窓ガラスの一部を形成するため、ディスプレイスクリーンの一部を形成するため、またはエレクトロクロミック鏡の一部を形成するための、請求項１９〜３４のいずれかに記載の電気化学デバイスの使用。
【請求項３６】  エレクトロクロミック窓ガラスが建物用または交通機関用であることを特徴とする、請求項３５に記載の電気化学デバイスの使用。
【請求項３７】  交通機関が汽車、飛行機もしくは自動車であることを特徴とする、請求項３６に記載の電気化学デバイスの使用。
【請求項３８】  エレクトロクロミック鏡が乗物のバックミラーであることを特徴とする、請求項３５〜３７に記載の電気化学デバイスの使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の主題は、陰極スパッタ装置、好適には、特に、薄層として対応する金属酸化物を得るために酸素の存在下で反応性雰囲気の磁場アシスト装置、の本質的に金属のターゲットであるのが第１であり、該ターゲットは主にニッケルを含み、その強磁性を減少もしくは消去さえするために少くとも１つの他の副次元素を混合されるが、同時にこのターゲットから得られる混合された酸化ニッケルの光学的および／または電気化学的特性をできるかぎり維持する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
一般に、このもしくはこれらの副次元素の混合物の割合は、組み合わされるニッケルと副次元素とに対して２０原子％以下、好ましくは特に１８％以下、そしてたとえば３％〜１５％である。
本発明の目的に関しては、「酸化ニッケル」は、様々の程度に水和および／または水酸化および／またはプロトン化（および任意に窒化物処理されうる。同様に、ニッケルと酸素の化学量論は一般に、Ｎｉ／Ｏ比で１〜１／２の範囲で変わりうる。しかし、ニッケルは一般に主として＋２の酸化状態にあると考えられうる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
異なる変形もターゲットの化学的性質に関して可能であり、これらは代わりのもしくは累加的な変形である。
第１の変形は、その酸化物が陽極発色を有するエレクトロクロミック物質である金属である副次元素（簡単のために以下「添加物」で示す）にある。それは特に次の金属の少くとも１つであってもよい：Ｉｒ，Ｒｕ，Ｒｈ。理想的には、さらに、イリジウムの場合がもっとも好適であり，対応する酸化物は酸化ニッケルと同一もしくは近接した作動電圧範囲を有する：酸化ニッケルの機能性を妨害するどころか、添加物は酸化ニッケルをそのままに保持することが可能でありそして可逆的なイオン挿入能力を増加させることさえできる。この場合、酸化ニッケルの比較的厚い層と同一レベルの光学的／エネルギー的変更をなお保持するのに、層の厚さを減少することが期待さえしうる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明ターゲットの好適な態様は、合金Ｎｉ／Ｓｉ，Ｎｉ／Ａｌ，Ｎｉ／Ｓｎ，Ｎｉ／Ｗ，Ｎｉ／Ｚｎ，Ｎｉ／ＴａおよびＮｉ／Ｙであり、最初の３つの合金は製造するのに比較的安価である。合金ターゲットは真空蒸着の分野で知られている方法、たとえば合金となるべき金属粉末の高温焼結により製造される。考えられる合金全体に対するある添加物の原子比についての指摘が下記になされ、その割合はターゲットの強磁性が十分に消去されるように調節される：
・Ｎｉ／Ｗ合金について、約７原子％のタングステンＷを供給することが必要である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
さらに、本発明の主題は、Ｈ+，Ｌｉ+およびＯＨ- のようなイオンならびに電子を可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を含む機能層を積層にしたものを備える少くとも１つのキャリア基体からなる電気化学デバイスであり、該層は該酸化物にもとづく。
この酸化物は、その組成が上で概説された４つの変形で明らかにされたターゲットから得られる。さらに、一般的にはターゲットの合金中のニッケルに対する添加物の原子比が、考慮中のターゲットから得られる酸化物層におけるニッケルに対する添加物の原子比の範囲内であるのが通常であることが注目されうる。