【手続補正書】
【提出日】平成19年2月27日(2007.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボン酸／ジオール混合領域でジオールを水湿潤カルボン酸ケーキに添加し、水の一部を除去して前記カルボン酸／ジオール混合物を生成させることを含んでなるカルボン酸／ジオール混合物の製造方法。
【請求項２】
前記カルボン酸がテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、トリメリット酸及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ジオールがエチレングリコール、ジエチレングリコール、ｎ−ブチレングリコール、ｉ−ブチレングリコール、ｎ−プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記カルボン酸／ジオール混合領域が、攪拌槽、スタティックミキサー、スクリューコンベヤー及びＰＥＴエステル化反応器よりなる群から選ばれる少なくとも１つの装置を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
（ａ）第一の固−液分離装置中で、カルボン酸／溶媒スラリーから不純物を除去して、酢酸を含むカルボン酸ケーキ及び溶媒母液の流れを生成せしめ；
（ｂ）第二の固−液分離装置中で、酢酸を含む前記カルボン酸ケーキから溶媒の実質的部分を除去して、水湿潤カルボン酸ケーキ及び溶媒／水副生液を生成せしめ；
（ｃ）カルボン酸／ジオール混合領域で、前記水湿潤カルボン酸ケーキにジオールを添加して、水の一部を除去して前記カルボン酸／ジオール混合物を生成せしめ；
各工程を含んでなるカルボン酸／ジオール混合物の製造方法。
【請求項６】
前記カルボン酸がテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、トリメリット酸及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ジオールがエチレングリコール、ジエチレングリコール、ｎ−ブチレングリコール、ｉ−ブチレングリコール、ｎ−プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
前記カルボン酸／ジオール混合領域が攪拌槽、スタティックミキサー、スクリューコンベヤー及びＰＥＴエステル化反応器よりなる群から選ばれる少なくとも１つの装置を含む請求項５に記載の方法。
【請求項９】
（ａ）固−液分離領域で、カルボン酸／溶媒スラリーから溶媒を除去して、前記カルボン酸／溶媒スラリー中の溶媒の実質的部分を水で置換して、水湿潤カルボン酸ケーキを生成せしめ；
（ｂ）カルボン酸／ジオール混合領域で、前記水湿潤カルボン酸ケーキにジオールを添加して、水の一部を除去して前記カルボン酸／ジオール混合物を生成せしめる；
各工程を含んでなるカルボン酸／ジオール混合物の製造方法。
【請求項１０】
前記カルボン酸がテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、トリメリット酸及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ジオールがエチレングリコール、ジエチレングリコール、ｎ−ブチレングリコール、ｉ−ブチレングリコール、ｎ−プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記カルボン酸／ジオール混合領域が攪拌槽、スタティックミキサー、スクリューコンベヤー及びＰＥＴエステル化反応器よりなる群から選ばれる少なくとも１つの装置を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
テレフタル酸／ジオール混合領域でジオールを水湿潤テレフタル酸ケーキに添加して、水の一部を除去して前記テレフタル酸／ジオール混合物を生成させることを含んでなるテレフタル酸／ジオール混合物の製造方法。
【請求項１４】
前記ジオールがエチレングリコール、ジエチレングリコール、ｎ−ブチレングリコール、ｉ−ブチレングリコール、ｎ−プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ジオールがエチレングリコールである請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記添加を４０℃〜２９０℃の間の温度で行なう請求項１３、１４又は１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記テレフタル酸／ジオール混合領域が攪拌槽、スタティックミキサー、スクリューコンベヤー及びＰＥＴエステル化反応器よりなる群から選ばれる装置を含む請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
（ａ）第一の固−液分離装置中で、テレフタル酸／溶媒スラリーから不純物を除去して、酢酸を含むテレフタル酸ケーキを生成せしめ；
（ｂ）第二の固−液分離装置中で、酢酸を含む前記テレフタル酸ケーキから溶媒の実質的部分を除去して、水湿潤テレフタル酸ケーキを生成せしめ；そして
（ｃ）テレフタル酸／ジオール混合領域で、前記水湿潤テレフタル酸ケーキにジオールを添加して、水の一部を除去して前記テレフタル酸／ジオール混合物を生成せしめる；
各工程を含んでなるテレフタル酸／ジオール混合物の製造方法。
【請求項１９】
前記第一の固−液分離装置を４０℃〜１５５℃の間の温度で運転する請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第二の固−液分離装置を４０℃〜１５５℃の間の温度で運転する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記添加を４０℃〜２９０℃の間の温度で行なう請求項１８又は２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記ジオールがエチレングリコール、ジエチレングリコール、ｎ−ブチレングリコール、ｉ−ブチレングリコール、ｎ−プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記ジオールがエチレングリコールである請求項１８に記載の方法。
【請求項２４】
前記テレフタル酸／ジオール混合領域が、攪拌槽、静電混合器、スクリューコンベヤー及びＰＥＴエステル化反応器よりなる群から選ばれる装置を含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２５】
テレフタル酸／ジオール混合物の製造方法であって、前記方法が次の諸工程：
（ａ）固−液分離領域で、テレフタル酸／溶媒スラリーから溶媒を除去し；ここで、前記テレフタル酸／溶媒スラリー中の溶媒の実質的部分が水で置換されて、水湿潤テレフタル酸ケーキが生成し；
（ｂ）テレフタル酸／ジオール混合領域で、前記水湿潤テレフタル酸ケーキにジオールを添加し、水の部分を除去して前記テレフタル酸／ジオール混合物を生成させること；
を含んでなる方法。
【請求項２６】
前記固−液置換領域が４０℃〜１５５℃の間の温度で運転される請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記添加が４０℃〜２９０℃の間の温度で起こる請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
前記ジオールがエチレングリコール、ジエチレングリコール、ｎ−ブチレングリコール、ｉ−ブチレングリコール、ｎ−プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
前記ジオールがエチレングリコールである請求項２５に記載の方法。
【請求項３０】
前記ジオール／テレフタル酸混合領域が攪拌槽、スタティックミキサー、スクリューコンベヤー及びＰＥＴエステル化反応器よりなる群から選ばれる装置を含む請求項２５に記載の方法。
【請求項３１】
実質的に乾燥したカルボン酸固体を単離することなく、カルボン酸／溶媒スラリーからカルボン酸／ジオール混合物を製造する方法。
【請求項３２】
実質的に乾燥したテレフタル酸固体を単離することなく、テレフタル酸／溶媒スラリーからテレフタル酸／ジオール混合物を製造する方法。
【請求項３３】
（ａ）４０℃〜１５５℃の間の温度で運転する、第一の固−液分離装置中で、テレフタル酸／溶媒スラリーから不純物を除去して、酢酸を含むテレフタル酸ケーキを生成せしめ；
（ｂ）４０℃〜１５５℃の間の温度で運転する、第二の固−液分離装置中で、酢酸を含む前記テレフタル酸ケーキから溶媒の実質的部分を除去して、水湿潤テレフタル酸ケーキを生成せしめ；
（ｃ）テレフタル酸／ジオール混合領域で、前記水湿潤テレフタル酸ケーキにジオールを４０℃〜２９０℃の間の温度で添加して、水の一部を除去して前記テレフタル酸／ジオール混合物を生成せしめる；
ことを含んでなる、前記ジオールがエチレングリコールである、テレフタル酸／ジオール混合物の製造方法。
【請求項３４】
（ａ）４０℃〜１５５℃の間の温度で運転する、第一の固−液分離装置中で、テレフタル酸／溶媒スラリーから不純物を除去して、酢酸を含むテレフタル酸ケーキを生成せしめ；
（ｂ）４０℃〜１５５℃の間の温度で運転する、第二の固−液分離装置中で、酢酸を含む前記テレフタル酸ケーキから溶媒の実質的部分を除去して、水湿潤テレフタル酸ケーキを生成せしめ；そして、
（ｃ）テレフタル酸／ジオール混合領域で、前記水湿潤テレフタル酸ケーキにジオールを４０℃〜２９０℃の間の温度で添加して、水の一部を除去して前記テレフタル酸／ジオール混合物を生成せしめる
各工程をこの順に実施することを含んでなり、前記ジオールがエチレングリコールである、テレフタル酸／ジオール混合物の製造方法。