(57)【要約】【課題】反射率の優れた形状可変ミラー素子及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】少なくとも圧電膜８と、圧電膜８に電圧を供給する第１電極膜７及び第２電極膜９と、圧電膜８上に設けられた反射ミラー膜６からなる積層薄膜を備えた形状可変部３と、形状可変部３を支持する基板２とを備えた可視光領域で使用する形状可変ミラー素子１であって、反射ミラー膜６表面を算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり且つ、凹部の平均間隔が１３０ｎｍ以下の形状に調整することにより、乱反射が少なく優れた反射率を有する形状可変ミラー素子１を得ることができる。【選択図】図３
2006010813.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも圧電膜と、前記圧電膜に電圧を供給する第１電極膜及び第２電極膜と、前記圧電膜上に設けられた反射ミラー膜からなる積層薄膜を備えた形状可変部と、前記形状可変部を支持する基板とを備えた可視光領域で使用する形状可変ミラー素子であって、前記反射ミラー膜表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり且つ、前記反射ミラー膜表面の凹部の平均間隔が１３０ｎｍ以下であることを特徴とする形状可変ミラー素子。
【請求項２】
少なくとも圧電膜と、前記圧電膜に電圧を供給する第１電極膜及び第２電極膜と、前記圧電膜上に設けられた反射ミラー膜からなる積層薄膜を備えた形状可変部と、前記形状可変部を支持する基板とを備えた可視光領域で使用する形状可変ミラー素子の製造方法であって、前記反射ミラー膜表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下となるように且つ、前記反射ミラー膜表面の凹部の平均間隔が１３０ｎｍ以下となるように表面形状調整を行う表面形状調整工程を有し、かつ前記表面形状調整工程として、前記反射ミラー膜を形成する面に対して機械的研磨を行うことを特徴とする形状可変ミラー素子の製造方法。
【請求項３】
前記表面形状調整工程として、前記反射ミラー膜を形成する面に対して常温において液体の硬化樹脂を塗布することを特徴とする請求項２記載の形状可変ミラー素子の製造方法。
【請求項４】
前記表面形状調整工程として、前記反射ミラー膜を形成する面に対して不純物として燐またはホウ素を含んだシリケートガラスを形成し熱処理を行うことを特徴とする請求項２記載の形状可変ミラー素子の製造方法。
【請求項５】
前記反射ミラー膜面の反射率を測定することにより、前記表面形状調整工程の評価を行うことを特徴とする請求項２から４のいずれかの項に記載の形状可変ミラー素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧電膜に所定の電圧を印加して形状を可変する形状可変ミラー素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
形状可変ミラー素子としては、セラミックスの圧電材料の上面に、反射ミラー面および電極にリード線が半田付けされた素子が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
微小サイズの形状可変ミラー素子としては、圧電膜を反射ミラー板に貼り付けた素子が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。反射ミラー板には、例えばガラス反射鏡、反射ミラー膜、シリコンウェハー等を使用している。
【０００４】
低い加電圧で大きな形状変化が可能な形状可変ミラー素子として、形状可変部が基板の中空部分の開口部に薄膜ダイヤフラムを有する素子がある（例えば、本出願人による特願２００３−１４３０２７。）。薄膜ダイヤフラムを利用した形状可変ミラー素子の場合、素子の膜厚が１０μｍ以下の構成が可能なので、低電圧で大きな形状変化が可能である。
【０００５】
この形状可変ミラー素子は圧電膜、電極膜や弾性板膜等の薄膜を順次積層し、最後に反射ミラー膜を形成する。一般に、薄膜は形成方法や形成時の基板温度やガス圧力等の条件により結晶構造が異なる（例えば、非特許文献１参照）。例えば、スパッタの場合は、基板温度が大きくなると結晶粒が大きくなる。また、膜厚が厚くなると結晶は大きく成長していく。
【特許文献１】特開平１０−１０４５９号公報
【特許文献２】特開２００１−３４９９３号公報
【非特許文献１】J. A. Thornton, J. Vac. Sci. Technol. 11, 1974, 666 （Amer. Inst. Physics）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記の（特許文献１）に開示された形状可変ミラー素子は、圧電材料にバルク材料を使用しているために、圧電材料の厚みが非常に厚くなっている。その結果、形状を大きく可変するためには非常に高い印加電圧が必要となることが容易に推察される。
【０００７】
また、（特許文献２）に開示された形状可変ミラー素子の場合も、非常に高い印加電圧が必要であることが容易に推察される。つまり、圧電膜と反射ミラー板を接着しただけの構成の素子では接着強度が弱く、それ自体で自立することができず実用に適さないので、ある程度の厚みを要するからである。
【０００８】
特願２００３−１４３０２７による形状可変ミラー素子では、結晶構造や結晶粒の大きさが、表面形状に大きく反映し、しかも薄膜特有の表面形状を有することになる。従って、この形状可変ミラー素子もまた、表面の粗さが少しずつ大きくなっていき、反射ミラー膜表面の表面粗さは非常に大きなものになる。この大きな表面粗さのために、反射ミラー膜は乱反射が大きくなり、その結果反射率が低くなる。そこで、更なる改善が望まれている。
【０００９】
本発明は上記従来の問題点を解決するものであり、積層薄膜上に反射ミラー膜を形成しても高い反射率を有する形状可変ミラー素子を提供することを第１の目的とする。
【００１０】
また本発明は、高い反射率を有する形状可変ミラー素子を安定して作製できる製造方法を提供することを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記第１の目的を達成するため、本発明の形状可変ミラー素子は、反射ミラー膜表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下、凹部の平均間隔が１３０ｎｍ以下となるように規定することを主な特徴とする。
【００１２】
また、第２の目的を達成するため、形状可変ミラー素子を製造する方法は、反射ミラー膜表面の表面形状調整工程として、反射ミラー膜を形成する面に対して機械的研磨を行うことを主な特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の形状可変ミラー素子によれば、積層薄膜上に形成された反射ミラー膜においても、鏡面研磨された基板上に反射ミラー膜を形成した場合と同等の高い反射率を有する形状可変ミラー素子を提供できるという優れた効果が得られる。
【００１４】
また、本発明の形状可変ミラー素子の製造方法によれば、鏡面研磨された基板上に反射ミラー膜を形成した場合と同等の高い反射率を有する形状可変ミラー素子を安定して作製できるという優れた効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明は、積層薄膜上に反射ミラー膜を形成しても高い反射率を有する形状可変ミラー素子を提供するという目的を、反射ミラー膜表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下、凹部の平均間隔が１３０ｎｍ以下となるように規定することにより実現した。
【００１６】
上記課題を解決するためになされた第１の発明は、少なくとも圧電膜と、圧電膜に電圧を供給する第１電極膜及び第２電極膜と、圧電膜上に設けられた反射ミラー膜からなる積層薄膜を備えた形状可変部と、形状可変部を支持する基板とを備えた可視光領域で使用する形状可変ミラー素子であって、反射ミラー膜表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり且つ、反射ミラー膜表面の凹部の平均間隔が１３０ｎｍ以下である形状可変ミラー素子としたものであり、積層薄膜上に形成された反射ミラー膜においても、鏡面研磨された基板上に反射ミラー膜を形成した場合と同等の高い反射率を有する形状可変ミラー素子を得ることができる。
【００１７】
ここで、表面形状は例えば原子間力顕微鏡により測定され、測定面積は５μｍ×５μｍ、算術平均粗さＲａと凹部の平均間隔は任意の測定場所１０ヶ所の平均値により決定される。
【００１８】
一般に薄膜は柱状構造をしており、この柱状構造に起因する表面起伏や微細且つ急峻な粒界間段差等の表面形状により光が吸収されたり、乱反射が発生したりして、反射率が低下する。従って、薄膜の厚みや積層薄膜の層数が増すと、顕著に反射率は低下していく。また、薄膜表面は厳密には平面では無く、傾きの多いジグザグ構造という特徴があり、この微細な傾斜面に光線が入射した場合、乱反射が発生する。表面の傾斜面の角度が大きいほど光線の反射角は大きくずれ、反射率は低下することになる。従って、積層薄膜上に反射ミラー機能を有する反射ミラー膜の反射率を決定する表面形状の要因は２つあり、表面粗さと凹部の平均間隔である。第１の発明では、ＪＩＳ表面粗さ（Ｂ０６０１）の規定の粗さ形状パラメーターである表面の粗さと傾斜角を定量化した算術平均粗さＲａと凹部の平均間隔を規定するものである。算術平均粗さＲａとは粗さ曲線から、その平均線の方向
に基準長さＬだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し平均した値である。
【００１９】
凹部の平均間隔とは、図１４に示すように、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さＬだけ抜き取り、１つの凹部（谷）に対応する平均線の和を求め、その平均値を求めたものである。
【００２０】
この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し平均した値である測定曲線を一定間隔ΔＸで横方向に区切り、各区間内における測定曲線の終始点を結ぶ線分の傾き（角度）の絶対値を求め、その値を平均したものである。
【００２１】
反射ミラー膜表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり且つ、凹部の平均間隔が１３０ｎｍ以下の場合、鏡面研磨された基板上に反射ミラー膜を形成した場合と同等の高い反射率を有する。
【００２２】
上記課題を解決するためになされた第２の発明は、少なくとも圧電膜と、圧電膜に電圧を供給する第１電極膜及び第２電極膜と、圧電膜上に設けられた反射ミラー膜からなる積層薄膜を備えた形状可変部と、形状可変部を支持する基板とを備えた可視光領域で使用する形状可変ミラー素子の製造方法であって、反射ミラー膜表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下となるように且つ、反射ミラー膜表面の凹部の平均間隔が１３０ｎｍ以下となるように表面形状調整を行う表面形状調整工程を有し、かつ表面形状調整工程として、反射ミラー膜を形成する面に対して機械的研磨を行う形状可変ミラー素子としたものであり、予め機械的研磨により表面粗さ原因となる突起や凸部を研磨することにより表面形状の調整を行うので、鏡面研磨された基板上に反射ミラー膜を形成した場合と同等の高い反射率を有する形状可変ミラー素子を安定して作製できる。
【００２３】
上記課題を解決するためになされた第３の発明は、表面形状調整工程として、反射ミラー膜を形成する面に対して常温において液体の硬化樹脂を塗布する形状可変ミラー素子の製造方法としたものであり、予め液体樹脂を薄く塗布し表面粗さ原因となる突起や凸部を被覆することにより表面の表面形状調整工程を行うので、優れた反射率を有する形状可変ミラー素子を安定して製造できる。
【００２４】
上記課題を解決するためになされた第４の発明は、表面形状調整工程として、反射ミラー膜を形成する面に対して不純物として燐またはホウ素を含んだシリケートガラスを形成し熱処理を行う形状可変ミラー素子の製造方法としたものであり、予め表面粗さ原因となる突起や凸部を被覆することにより表面形状の調整を行うので、優れた反射率を有する形状可変ミラー素子を安定して製造できる。
【００２５】
上記課題を解決するためになされた第５の発明は、反射ミラー膜面の反射率を測定することにより、表面形状調整工程の評価を行う形状可変ミラー素子の製造方法としたものであり予め反射ミラー膜表面の粗さと傾斜角と反射率との相関を求めることで、表面形状調整工程の良否の判断を反射率の測定で行うことができるので、簡単で良質な形状可変ミラー素子を安定に製造できる。
【００２６】
（実施の形態１）
以下、本発明の形状可変ミラー素子の実施の形態について説明する。まず、本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の構成について、図面を参照して説明する。図面中の膜厚や基板の厚み、形状可変量等は理解を容易にする目的のために、実際の寸法とは異なる。以下、全ての図面において同様である。
【００２７】
図１は本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の表面から見た斜視図である。図２は本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の裏面から見た斜視図である。図３は本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の要部断面図である。
【００２８】
形状可変ミラー素子１は、基板２と、ダイヤフラム部分と基板２に一体連結した部分とからなる形状可変部３と、形状可変部３に電圧を印加するための電極パッド４とからなる。形状可変部３は圧電動作部５と反射ミラー膜６とからなる。圧電動作部５は下部より圧電膜８に電圧を印加するための第１電極膜７、伸縮により形状可変部３を変形させる圧電膜８、圧電膜８に電圧を印加するためのもう一方の第２電極膜９からなる。また、変形方向や変形形状等を決定する弾性板膜も必要に応じ付加するが、本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子１においては、反射ミラー膜６が弾性板膜の機能を有している。従って、弾性板機能のみ有する薄膜は無い。なお、形状可変部３と圧電動作部５は同一部材同一構成となっている。
【００２９】
以上のように構成された形状可変ミラー素子の動作を図面とともに説明する。図１０〜図１２は形状可変ミラー素子１の動作を示す側断面図である。形状可変ミラー素子１の第１電極膜７と第２電極膜９に電圧を印加すると、例えば図１１で示す断面形状になる。逆の極性の電圧をそれぞれの個別電極に印加した場合、図１２で示す断面形状となる。圧電膜８は電圧が印加されると伸び縮みする。そのため、第１電極膜７にプラス極性の電圧を印加した場合に電圧印加部分の圧電膜が伸びるとした場合、マイナス極性の電圧を印加した場合には電圧印加部分の圧電膜は縮む。その結果、第１電極膜７にプラス極性の電圧を印加した場合、図１１のように反射ミラー面は凸面となる。逆に、第１電極膜７にマイナス極性の電圧を印加した場合、図１２のように反射ミラー面は凹面となる。
【００３０】
次に、本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の製造方法について、図４〜図９を参照して説明する。図４〜図９は形状可変ミラー素子の製造工程を示す形状可変ミラー素子の要部断面図である。
【００３１】
基板の材料としては、ＳｉやＭｇＯ等の単結晶材料が圧電膜８の圧電特性が良好になりやすいために好適に使用されるが、特に制限されるものではない。しかし、形状可変ミラー素子１を作製する工程で高温処理をする工程が必要な場合には、耐熱性の良好な基板材料が選択される場合がある。また、ダイヤフラム形成のため、基板のエッチングを行うので、比較的薄い基板が好適に使用される。
【００３２】
第１電極膜７の材料にはＩｒ−Ｔｉ合金を使用し、膜厚は０．１μｍとした。圧電膜８の材料にはＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）を使用し、膜厚は３μｍとした。Ｉｒ−Ｔｉ合金とＰＺＴの形成は共にスパッタ法で行い、Ｉｒ−Ｔｉ形成時の基板温度は４００℃、ＰＺＴ形成時の基板温度は６００℃とした。第１電極膜７の材料としては導電性の高い金属が好適に使用される。形状可変ミラー素子１を作製する工程で高温処理をする工程を用いる場合には、ＰｔやＩｒもしくはその合金など高温に強い材料が望ましい。圧電膜８の材料としては、ＰＺＴやＰＺＴと同系のＰｂを含むペロブスカイト酸化物などの圧電定数が高く変位の大きい材料が好適に使用される。また、電極膜や圧電膜８の形成方法は、例えば、スパッタ法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）、またはゾルゲル法と多くあるが、膜を形成できる技術であれば特に制限されることはない。
【００３３】
圧電膜８を形成後に積層膜表面を鏡面化する。本発明の実施の形態では鏡面化する工程として、機械加工である研磨を行った。圧電膜表面を厚さ１００ｎｍ程度研磨し、微小な凹凸を低減して、所定の表面粗さにする。その後、純水により超音波洗浄して、圧電膜表面を清浄な状態にする。研磨に使用するスラリーは粒径が１μｍ以下の酸化セリウム砥粒を使用し、濃度１５％とした。また、研磨後の超音波洗浄を行った。
【００３４】
次に、第２電極膜９を形成する。材料にはＴｉを使用し、Ｔｉの形成はスパッタ法で行った。Ｔｉ膜厚は０．１μｍとし、Ｔｉ形成時の基板温度は常温とした。Ｔｉ膜厚は０．１μｍとしたのでＴｉ形成後の表面の粗さはＰＺＴ研磨後の表面粗さと同程度である。
【００３５】
次に、反射ミラー膜６を形成する。反射ミラー膜６にはＳｉＯ2とＴａ2Ｏ5からなる反射ミラー膜を使用した。なお、本発明の実施の形態の反射ミラー膜６は弾性板膜を兼備しているので、膜厚は反射ミラー膜６の特性を考慮し、０．８μｍとした。なお、反射ミラー膜６の構成は位相差厚みλ／４で１４層を蒸着法で形成した。反射ミラー膜６の材料としては、ミラーの使用目的により異なるが、例えば、ＡｕやＡｇなどの金属や、ＳｉＯ2／Ｔａ2Ｏ5などの低屈折率誘電体／高屈折率誘電体のλ／４多層膜が好適に使用される。反射ミラー膜６の形成方法も、圧電膜８の形成方法と同様、例えば、スパッタ法または蒸着法と多くあるが、膜を形成できる技術であれば特に制限されることはない。
【００３６】
本発明の実施の形態では反射ミラー膜に弾性板膜機能を持たしたが、本来の弾性板膜の材料としては、樹脂、金属、セラミック等の材料が使用できる。弾性板膜の形成方法も、圧電膜８の形成方法と同様、例えば、スパッタ法、ＣＶＤ、または蒸着法と多くあるが、膜を形成できる技術であれば特に制限されることはない。
【００３７】
最後に、図９に示すようにダイヤフラムからなる形状可変部を形成する。本発明の実施の形態では、Ｓｉ基板１０の裏面からリアクティブイオンエッチング技術を利用して所望の厚みまでエッチング加工することにより、直径１．５ｍｍの形状可変部３を形成した。なお、ダイヤフラムの形成方法はウェットエッチング法、ドライエッチング法や機械加工等多くあるが、ダイヤフラムを形成できる技術であれば特に制限されることはない。
【００３８】
以上の製造方法において、研磨時間と研磨時の基板荷重を変更することにより、算術平均粗さＲａと算術平均傾斜Δａの異なった形状可変ミラー素子を作製した。（表１）に、研磨条件と反射ミラー膜表面の算術平均粗さＲａと凹部の平均間隔および反射率を示した。なお、表面形状はデジタルインスツルメンタル社製原子間力顕微鏡ＳＰＩ−３７００を使用した。表面形状の測定面積は５μｍ×５μｍであり、測定分解能は面内０．０１μｍ、垂直０．１ｎｍである。算術平均粗さＲａと凹部の平均間隔は任意の測定場所１０ヶ所の平均値である。
【００３９】
また、反射率は日本分光（株）製分光光度計Ｖ−５５０を使用した。反射率の測定波長λは４００ｎｍである。
【００４０】
【表１】
2006010813.tif 000003
【００４１】
（表１）には記していないが、鏡面研磨された光学ガラス基板として使用されるホウ珪酸ガラス上に形成した反射ミラー膜の算術平均粗さＲａは０．５ｎｍ、凹部の平均間隔は１０ｎｍ程度あり、反射率は９９％であった。
【００４２】
（表１）の結果より、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以上または凹部の平均間隔は１３０ｎｍを超えるときは、反射率が８０％程度となり鏡面研磨された光学ガラス基板の反射ミラー膜よりかなり低いことが分かった。同時に、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり且つ凹部の平均間隔は１３０ｎｍ以下であれば、反射率が９８％となり鏡面研磨された光学ガラス基板の反射ミラー膜と同等の反射率を有することが分かった。
【００４３】
また、４００ｎｍを超える可視光領域の波長の測定においても、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり且つ凹部の平均間隔は１３０ｎｍ以下であれば、反射率が９８％となり鏡面研磨された光学ガラス基板の反射ミラー膜と同等の反射率を有することが確認された。
【００４４】
上記のような結果となる理由としては以下のようなことが考えられる。
【００４５】
図１３は算術平均粗さＲａが８ｎｍであり凹部の平均間隔は１００ｎｍのときの原子間力顕微鏡による反射ミラー膜の表面形状である。図１３は表面を研磨しても未だ厳密に見ると表面は非常に粗く、算術平均粗さＲａは光学ガラス基板の１０倍以上あるが、反射率は光学ガラス基板と同等である。この理由としては、反射ミラー膜６の表面形状は薄膜特有の柱状構造を反映した凸凹形状であるが、その凸凹間隔が可視光領域の光の波長λ（４００〜８００ｎｍ）と比較して小さいので、回折限界により凸凹の隙間に光が進入することなく、全反射することが考えられる。鏡面研磨された光学ガラス基板の反射ミラー膜６と反射率を比較した場合、積層薄膜上に形成された反射ミラー膜６の表面形状の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり且つ凹部の平均間隔は１３０ｎｍ以下のとき、鏡面研磨された光学ガラス基板の反射ミラー膜６と同等の反射率となることが考えられる。
【００４６】
本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子１によれば、積層薄膜上に形成された反射ミラー膜６においても、鏡面研磨された基板上に反射ミラー膜６を形成した場合と同等の高い反射率を有する形状可変ミラー素子１を実現できることが明らかとなった。また、本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子１の製造方法によれば、鏡面研磨された基板上に反射ミラー膜６を形成した場合と同等の高い反射率を有する形状可変ミラー素子１を安定して作製できることが明らかとなった。
【００４７】
一方、表面形状調整工程がある場合、表面の検査工程も同時に必要となる。原子間力顕微鏡による表面形状の測定は時間がかかるし熟練が必要なので、検査工程には不向きである。予め薄膜の表面形状と反射率の測定値との相関を求め、その結果を反射ミラー膜６の成膜工程にフィードバックすることによって、簡単で良質な形状可変ミラー素子１を安定に製造できる。
【００４８】
なお、本発明の実施の形態では鏡面化する工程として機械加工である研磨を使用したが、鏡面化できる手段を制限するものではない。例えば、第２電極形成後に常温で液体であり熱硬化性のポリイミド樹脂を０．０１〜１μｍ程度の厚みでスピンコート塗布をしても、鏡面化できる。すなわち、非常に凸凹した表面に液体を塗布すれば、凹部に液体樹脂が入り込み表面が平滑化され、表面を平坦にすることにより、鏡面化が達成される。また、紫外線硬化樹脂を使用しても同様の硬化を得ることができる。
【００４９】
他に、表面形状調整工程として、不純物として燐またはホウ素を含んだシリケートガラスをＣＶＤ法等の気相成長法により表面粗さの程度の厚み、例えば５０ｎｍ程度の厚みを形成し、その後熱処理を行うことで平坦化処理を行っても、鏡面化が達成される。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明の形状可変ミラー素子によれば、低電圧で形状可変量の大きい形状可変ミラー素子を提供できるので、可変光学素子を含む光学系を備えた、例えばビデオプロジェクター、デジタルカメラ、光ディスク装置の光学ピックアップ部品等の用途にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の表面から見た斜視図
【図２】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の裏面から見た斜視図
【図３】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の要部断面図
【図４】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の製造工程を示す形状可変ミラー素子の断面図
【図５】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の製造工程を示す形状可変ミラー素子の断面図
【図６】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の製造工程を示す形状可変ミラー素子の断面図
【図７】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の製造工程を示す形状可変ミラー素子の断面図
【図８】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の製造工程を示す形状可変ミラー素子の断面図
【図９】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の製造工程を示す形状可変ミラー素子の断面図
【図１０】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の動作を示す図
【図１１】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の動作を示す図
【図１２】本発明の実施の形態の形状可変ミラー素子の動作を示す図
【図１３】原子間力顕微鏡による本発明の実施の形態の反射ミラー膜の表面形状を示す図
【図１４】本発明の実施の形態の凹部の平均間隔を示す図
【符号の説明】
【００５２】
１    形状可変ミラー素子
２    基板
３    形状可変部
４    電極パッド
５    圧電動作部
６    反射ミラー膜
７    第１電極膜
８    圧電膜
９    第２電極膜
１０    Ｓｉ基板
【図１】
2006010813.tif 000004
【図２】
2006010813.tif 000005
【図３】
2006010813.tif 000006
【図４】
2006010813.tif 000007
【図５】
2006010813.tif 000008
【図６】
2006010813.tif 000009
【図７】
2006010813.tif 000010
【図８】
2006010813.tif 000011
【図９】
2006010813.tif 000012
【図１０】
2006010813.tif 000013
【図１１】
2006010813.tif 000014
【図１２】
2006010813.tif 000015
【図１３】
2006010813.tif 000016
【図１４】
2006010813.tif 000017