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【手続補正書】
【提出日】平成19年4月16日(2007.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
緊急冷却用に冷却液（Ｆ）を貯蔵するために設けられた原子炉フラッド槽（４）と、復水室（２）と、過剰の冷却液（Ｆ）用に前記原子炉フラッド槽（４）から前記復水室（２）へ延びて配置されたオーバーフロー装置（１６、２８）とを備えた原子炉施設において、前記フラッド槽（４）の冷却液（Ｆ）と前記復水室（２）の冷却液（Ｆ）とのために、共通する冷却回路（１６、２８、３８、４０、４２）が設けられており、この冷却回路が前記オーバーフロー装置（１６、２８）を備えていることを特徴とする原子炉施設。
【請求項２】
前記オーバーフロー装置（１６、２８）が前記冷却液（Ｆ）から気体を分離するように構成されている請求項１記載の施設。
【請求項３】
前記フラッド槽（４）が、オーバーフローを可能とする第１隔壁（１２）により分離されている貯蔵槽（１４）と分離用縦通路（１６）とを含み、オーバーフロー管路（２８）が設けられており、このオーバーフロー管路の第１注ぎ口（２６）が前記分離用縦通路（１６）の下側領域に配置されている請求項１または２記載の施設。
【請求項４】
前記第１の注ぎ口（２６）は、前記分離用縦通路（１６）の底またはその直接的近傍に配置されている請求項３記載の施設。
【請求項５】
最大のオーバーフロー質量流時のために、前記オーバーフロー装置（１６、２８）は、最大オーバーフロー質量流が発生すると前記オーバーフロー管路（２８）が所定の流れ抵抗を有し、これによって前記分離用縦通路（１６）内で前記冷却液（Ｆ）が最大溜まり高さ（Ｈ）に至るまで溜まるように構成されている請求項３または４記載の施設。
【請求項６】
前記分離用縦通路（１６）の流れ横断面積（Ａ）は、前記溜まった冷却液（Ｆ）の下降速度が所定の大きさの気泡の上昇速度よりも小さくなるように構成されている請求項５記載の施設。
【請求項７】
前記オーバーフロー装置（１６、２８）は、質量流が流入しない場合でも前記分離用縦通路（１６）内の前記冷却液（Ｆ）が少なくとも最小溜まり高さ（Ｌ）までは溜まっているように構成されている請求項３〜６のいずれか１項記載の施設。
【請求項８】
前記オーバーフロー管路（２８）が、上側サイホン弧部（３６）を有するサイホン方式で構成されており、前記最小溜まり高さ（Ｌ）が前記上側サイホン弧部（３６）によって決定される請求項７記載の施設。
【請求項９】
前記分離用縦通路（１６）が、その底領域に、オーバーフローを可能とする第２隔壁（２０）によって分離された分離室（２２）と流出室（２４）とを含み、前記オーバーフロー管路（２８）の前記第１注ぎ口（２６）がこの流出室（２４）内に配置されている請求項３〜８のいずれか１項記載の施設。
【請求項１０】
原子炉施設を運転するための方法において、所定の運転状態のとき、緊急冷却用に冷却液（Ｆ）を貯蔵するために設けられている原子炉フラッド槽（４）に、このフラッド槽の収容能力を越える量の冷却液（Ｆ）を供給し、過剰の冷却液（Ｆ）をオーバーフロー装置（１６、２８）を介して復水室（２）に移し、前記フラッド槽（４）の冷却液（Ｆ）と前記復水室（２）の冷却液（Ｆ）とを、前記オーバーフロー装置（１６、２８）を備える共通の冷却回路（１６、２８、３８、４０、４２）に通す方法。
【請求項１１】
前記過剰の冷却液（Ｆ）から気体成分を分離する請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
質量流が多い場合、前記過剰の冷却液（Ｆ）を、前記復水室（２）に溢流する前に分離用縦通路（１６）内に溜めて、そこで気体成分が上昇して出て行くことによって気体成分の分離を行う請求項１０または１１記載の方法。
【請求項１３】
質量流が少量の場合、前記過剰の冷却液（Ｆ）を、前記分離用縦通路（１６）の底領域でまず分離室（２２）内に集めてから流出室（２４）に送り、次いで復水室（２）に届ける請求項１０から１２のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月13日(2007.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
中央オプチカルゾーンが、前面又は後面の幾何学的中心と同心である円形ゾーンであるか、又は中央オプチカルゾーンの中心が、前面又は後面の幾何学的中心を最大２mmまで離れている、請求項２記載のコンタクトレンズ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
一以上の向き／安定化構造が、変化する厚さプロフィールを使用してレンズの向きを制御するプリズムバラスト、レンズ形状の一部を除去してレンズの向きを制御するファセット面、まぶたと相互作用することによってレンズの向きを決めるリッジ構造、眼の上でレンズの向きを維持するための、上スラブオフゾーン及び下スラブオフゾーンを有するダブルスラブオフ構造、ならびにレンズのオプチカルゾーンを包囲するレンズの周辺ゾーンの非プリズムバラスト構造からなる群より選択される、請求項１４記載のコンタクトレンズ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
コンタクトレンズが、レンズの前面に、オプチカルゾーンの下方に配置され、上境界線、斜面付き下境界線、前面から外に延びる緯線方向リッジ及び斜面付き下境界線から下に延び、斜面付きリッジゾーンと下まぶたとの間で、下まぶたが斜面付きリッジゾーンのどこに当たるかに依存して異なる程度の相互作用を提供する湾曲又は斜面を有する傾斜部を含む斜面付きリッジゾーンを含む、請求項１４記載のコンタクトレンズ。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３３】
中央オプチカルゾーンが、前面又は後面の幾何学的中心と同心である円形ゾーンであるか、又は中央オプチカルゾーンの中心が、前面又は後面の幾何学的中心を最大２mmまで離れている、請求項３２記載の方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４２】
一以上の向き／安定化構造が、変化する厚さプロフィールを使用してレンズの向きを制御するプリズムバラスト、レンズ形状の一部を除去してレンズの向きを制御するファセット面、まぶたと相互作用することによってレンズの向きを決めるリッジ構造、眼の上でレンズの向きを維持するための、上スラブオフゾーン及び下スラブオフゾーンを有するダブルスラブオフ構造、ならびにレンズのオプチカルゾーンを包囲するレンズの周辺ゾーンの非プリズムバラスト構造からなる群より選択される、請求項４１記載の方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４３】
コンタクトレンズが、レンズの前面に、オプチカルゾーンの下方に配置され、上境界線、斜面付き下境界線、前面から外に延びる緯線方向リッジ及び斜面付き下境界線から下に延び、斜面付きリッジゾーンと下まぶたとの間で、下まぶたが斜面付きリッジゾーンのどこに当たるかに依存して異なる程度の相互作用を提供する湾曲又は斜面を有する傾斜部を含む斜面付きリッジゾーンを含む、請求項４１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月30日(2007.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の位置と人の聴音位置との間の音響伝達インピーダンスＺｔを決定する方法であって、
前記聴音位置で音響体積速度Ｑを生成するステップ、
前記音響体積速度Ｑに起因する前記第１の位置での応答量ｐを測定するステップ、および
前記応答量ｐを前記音響体積速度Ｑで割ったもの、すなわちＺｔ＝ｐ／Ｑとして、前記音響伝達インピーダンスＺｔを決定するステップを含み、
前記音響体積速度Ｑが、少なくとも人の頭の音響特性をシミュレートするシミュレータ（１０）を使用して生成され、前記シミュレータが、前記シミュレートされた頭にオリフィスを有するシミュレートされた人の耳（１４、１５）と前記オリフィスを通して前記音響体積速度Ｑを出力する前記シュミレータ（１０）内の音源（３０）とを備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記シミュレータが、人の前記頭（１３）および胴（１１）をシミュレートする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記シミュレータが、前記シミュレータの内部の音源（３０）と、前記音源から前記オリフィスに通じる管（１８）の中の一対の音圧を測定するように配列された一対のマイクロフォン（Ｍ１、Ｍ２；Ｍ３、Ｍ４）とを備え、そして前記方法が前記一対の音圧に基づいて前記音響体積速度Ｑを決定することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記応答量が、音圧である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記応答量が、振動速度または振動加速度である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法で使用するための、少なくとも人の頭の音響特性をシミュレートするシミュレータ（１０）であって、前記シミュレートされた頭にオリフィスを有するシミュレートされた人の耳（１４、１５）と前記オリフィスを通して前記音響体積速度Ｑを出力するシュミレータ（１０）内の音源（３０）とを備えるシミュレータ（１０）。
【請求項７】
前記シミュレータが、人の前記頭（１３）および胴（１１）をシミュレートする、請求項６に記載のシミュレータ（１０）。
【請求項８】
前記シミュレータが、前記シミュレートされた人の左耳（１４）および右耳（１６）それぞれをシミュレートする２個のオリフィスを備える、請求項６に記載のシミュレータ（１０）。
【請求項９】
前記シミュレートされた左耳（１４）を通して、または前記シミュレートされた右耳（１５）を通して、音信号を選択的に出力する手段（１９）が備えられた、請求項８に記載のシミュレータ。
【請求項１０】
前記シミュレータが、前記シミュレートされた耳（１４、１５）から出力された音を測定する手段（Ｍ１、Ｍ２；Ｍ３、Ｍ４）を備える、請求項６に記載のシミュレータ。
【請求項１１】
前記シミュレートされた耳（１４、１５）から出力された音を測定する前記手段が、前記出力された音の音響体積速度を測定する一対のマイクロフォン（Ｍ１、Ｍ２；Ｍ３、Ｍ４）を備える、請求項１０に記載のシミュレータ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月14日(2007.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音声信号をサンプリングするステップと、
サンプリングされた音声信号を重複フレームに分割するステップと、
周波数領域分析を使用して、１つのフレームから第１のピッチ情報を抽出するステップと、
それぞれが前記第１のピッチ情報からのスペクトル・スコアと結合され、前記フレームについての可能なピッチ推定値を表す少なくとも１つのピッチ候補を提供するステップステップと、
時間領域分析を使用して、前記フレームから第２のピッチ情報を抽出するステップと、  前記第２のピッチ情報から前記少なくとも１つのピッチ候補に関する相関スコアを提供するステップと、
前記フレームのピッチ推定値を表すために前記少なくとも１つのピッチ候補のうちの１つを選択するステップと、
を有する方法。
【請求項２】
選択するステップが、
スペクトル・スコアと相関スコアとの最良の組合せを有する前記少なくとも１つのピッチ候補のうちの前記１つを選択し、それにより、前記フレームのピッチと一致する最良確率を有する１つのピッチ候補を示すステップ
を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
選択するステップが、
前記少なくとも１つのピッチ候補のそれぞれの可能なピッチ推定値と前のフレームについて選択されたピッチ推定値との間の一致尺度を計算するステップと、
スペクトル・スコア、相関スコアおよび前記一致尺度の最良の組合せを有する前記少なくとも１つのピッチ候補のうちの前記１つを選択し、それにより、前記フレームのピッチと一致する最良確率を有する１つのピッチ候補を示すステップと、
を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのピッチ候補が、前記フレームについて可能な６個以下のピッチ推定値を表す６個以下のピッチ候補を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つのピッチ候補のスペクトル・スコアが、前記フレームのスペクトル内で検出されたスペクトル・ピークに対するピッチ値の互換性の尺度を示す、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
時間領域分析を使用して、前記フレームから第２のピッチ情報を抽出するステップが、  前記フレームと前のフレームとをまとめて拡張フレームに結合するステップと、
前記拡張フレームを低域フィルタリングしダウンサンプリングすることにより、ダウンサンプリングされた拡張フレームを計算するステップと、
を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
相関スコアを提供するステップが、
ダウンサンプリングされた拡張フレームの２つのフラグメント間の相互相関を計算するステップ
を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記２つのフラグメントが、事前定義長さのものであり、前記少なくとも１つのピッチ候補のそれぞれに対応する遅れ値分だけ相互に対して遅延される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ダウンサンプリングされた拡張フレーム内の２つのフラグメントの位置が、フラグメントの全エネルギを最大化することによって選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
サンプリングされた音声信号の複数のフレームの複数のピッチ推定値を選択するステップと、
前記複数のピッチ推定値を有する、サンプリングされた音声信号の表現を符号化するステップと、
をさらに有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
サンプリングされた音声信号の符号化表現が分散音声認識システムで使用される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
音声信号の特徴を抽出するための分散音声認識フロントエンドを有する分散音声認識システムであって、前記分散音声認識フロントエンドが、
メモリと、
前記メモリに通信可能に結合されたプロセッサと、
前記メモリおよび前記プロセッサに通信可能に結合されたピッチ抽出プロセッサであって、
音声信号をサンプリングし、
サンプリングされた音声信号を重複フレームに分割し、
周波数領域分析を使用して、１つのフレームから第１のピッチ情報を抽出し、
それぞれが前記第１のピッチ情報からのスペクトル・スコアと結合され、前記フレームについての可能なピッチ推定値を表す少なくとも１つのピッチ候補を提供し、
時間領域分析を使用して、前記フレームから第２のピッチ情報を抽出し、
前記第２のピッチ情報から前記少なくとも１つのピッチ候補に関する相関スコアを提供し、
前記フレームのピッチ推定値を表すために前記少なくとも１つのピッチ候補のうちの１つを選択する
ことによって音声信号からピッチ情報を抽出するためのピッチ抽出プロセッサと、
を有する、分散音声認識システム。
【請求項１３】
音声処理システムのためのコンピュータ・プログラムを有するコンピュータ可読媒体であって、前記コンピュータ・プログラムが、
音声信号をサンプリングするステップと、
サンプリングされた音声信号を重複フレームに分割するステップと、
周波数領域分析を使用して、１つのフレームから第１のピッチ情報を抽出するステップと、
それぞれが前記第１のピッチ情報からのスペクトル・スコアと結合され、前記フレームについての可能なピッチ推定値を表す少なくとも１つのピッチ候補を提供するステップと、
時間領域分析を使用して、前記フレームから第２のピッチ情報を抽出するステップと、  前記第２のピッチ情報から前記少なくとも１つのピッチ候補に関する相関スコアを提供するステップと、
前記フレームのピッチ推定値を表すために前記少なくとも１つのピッチ候補のうちの１つを選択するステップと、
をコンピュータに実行させる、コンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月2日(2007.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バスを有するデータ処理システム（１０）において周辺装置アクセスを保護する方法であって、
周辺装置（２２または２４）へのアクセスを要求するバス・アクセスを開始するバス・アクセス開始工程と、
バス・アクセスに関連する権限標識子（３７）を出力する権限標識子出力工程と、
権限レベル変更子を出力する権限レベル変更子出力工程と、
選択的調節済み権限標識子（５７）を生成するために権限レベル変更子の値に基づいて権限標識子を選択的に調節する権限標識子調節工程とから成る方法。
【請求項２】
周辺装置へのバス・アクセスが許可されるか否かを権限標識子ではなく選択的調節済み権限標識子を用いて判定する選択的調節済み権限標識子判定工程をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
権限レベル変更子は第１のバス・マスタ（１４または１５）に対応することと、
第１のバス・マスタに対応する複数の信頼属性を出力する信頼属性出力工程と、
バス・アクセスが読取アクセスの場合、複数の信頼属性から第１の信頼属性を選択する第１信頼属性選択工程と、
バス・アクセスが読取アクセスの場合、第１のバス・マスタは読取アクセスに対して信頼済みか否かを第１の信頼属性を用いて判定する第１信頼属性判定工程と、
バス・アクセスが書込アクセスの場合、複数の信頼属性から第２の信頼属性を選択する第２信頼属性選択工程と、
バス・アクセスが書込アクセスの場合、第１のバス・マスタは書込アクセスに対して信頼済みか否かを第２の信頼属性を用いて判定する第２信頼属性判定工程とをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
周辺装置がアクセスに対して管理者権限レベルを要求するか否かを判定するために周辺装置に対する１つ以上の権限保護ビット（８２または８６）を出力する権限保護ビット出力工程をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
第１のバス・マスタに対応する１つ以上の信頼属性を出力する信頼属性出力工程と、
第１のバス・マスタは信頼済みバス・マスタか否かを同１つ以上の信頼属性を用いて判定する信頼属性判定工程とをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
周辺装置へのアクセスを要求する第２のバス・アクセスを開始する第２バス・アクセス開始工程と、
第２のバス・アクセスに関連する第２の権限標識子を出力する第２権限標識子出力工程と、
第２の権限レベル変更子を出力する第２権限レベル変更子出力工程と、
第２のバス・マスタに対応する第２の権限レベル変更子の値に基づいて第２の権限標識子を選択的に調節する第２権限標識子調節工程とをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】
周辺装置に対する１つ以上の周辺装置信頼属性を出力する周辺装置信頼属性出力工程と、
非信頼バス・マスタから周辺装置へのアクセスが許可される否かを同１つ以上の周辺装置信頼属性を用いて判定する周辺装置信頼属性判定工程とをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
第１のバス・マスタ（１４）、周辺装置（２２または２４）、権限標識子（３７）、調節済み権限標識子（５７）、第１の記憶回路（７０）、および制御回路（４４）から成るデータ処理システムであって、
第１の記憶回路（７０）が第１のバス・マスタに対応する第１の権限レベル変更子を記憶することと、
制御回路（４４）が第１のバス・マスタ、周辺装置、権限標識子、調節済み権限標識子、および第１の記憶回路に接続され、権限標識子を受信し、第１の権限レベル変更子に基づき権限標識子を選択的に調節し、かつ、調節済み権限標識子を出力することとを備えるデータ処理システム。
【請求項９】
制御回路に接続された第２のバス・マスタ（１５）と、
第２のバス・マスタに対応する第２の権限レベル変更子を記憶し、かつ制御回路に接続された第２の記憶回路（７４）と、
第２のバス・マスタがバス・アクセスを開始した時、制御回路が権限標識子を受信し、第２の権限レベル変更子に基づき権限標識子を選択的に調節することとをさらに備える請求項８に記載のデータ処理システム。
【請求項１０】
データ処理システム（１０）において周辺装置アクセスを保護する方法であって、
第１のバス・マスタ（１４）を設ける工程と、
第２のバス・マスタ（１５）を設ける工程と、
周辺装置（２２または２４）へのアクセスを要求する第１のバス・アクセスを開始する第１バス・アクセス開始工程と、
第１のバス・アクセスに関連する第１の権限標識子（３７）を出力する第１権限標識子出力工程と、
第１の権限レベル変更子（７０）を出力する第１権限レベル変更子出力工程と、
第１の選択的調節済み権限標識子（５７）を生成するために第１の権限レベル変更子に基づいて第１の権限標識子を選択的に調節する第１権限標識子調節工程と、
周辺装置へのアクセスを要求する第２のバス・アクセスを開始する第２バス・アクセス開始工程と、
第２のバス・アクセスに関連する第２の権限標識子を出力する第２権限標識子出力工程と、
第２の権限レベル変更子（７４）を出力する第２権限レベル変更子出力工程と、
第２の選択的調節済み権限標識子を生成するために第２の権限レベル変更子に基づいて
第２の権限標識子を選択的に調節する第２権限標識子調節工程とから成る方法。
【請求項１１】
バスを有するデータ処理システムにおいて周辺装置アクセスを保護する方法であって、
周辺装置（２２または２４）へのアクセスを要求するバス・アクセスを開始するバス・アクセス開始工程と、
第１のバス・マスタ（１４または１５）に対応し、かつ管理者／利用者属性から独立した１つ以上の信頼属性を出力する信頼属性出力工程と、
第１のバス・マスタはバス・アクセスに対する信頼済みバス・マスタか否かを同１つ以上の信頼属性を用いて判定する信頼属性判定工程とから成る方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月5日(2007.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
前記カウンタ同期機構（１５６，１５７）の一方又は両方が、相手へのコネクション上にビットを書き込むように適合され、前記ビットが前記割り込みであることを特徴とする請求項１８記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３３】
移動端末が有するコンピュータに、請求項１記載のステップを実行させるためのプログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３４】
請求項１６乃至請求項３２のいずれか１項に記載の装置を有することを特徴とする無線通信装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３５】
前記無線通信装置が移動無線端末、移動電話機（１）、ポケットベル又はコミュニケータであることを特徴とする請求項３４記載の無線通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリ装置であって、
複数のメモリ・セルであって、該複数のメモリ・セルのそれぞれは、ビット線に結合されている、複数のメモリ・セルと、
センス・イネーブル信号の有効化に応答して、増幅されたデータ信号を供給するために、前記ビット線を介した前記複数のメモリ・セルのうちの選択された１つからのデータ信号を増幅するセンス・アンプと、
前記ビット線と前記センス・アンプとの間に結合されている分離回路であって、前記センス・イネーブル信号の有効化とほぼ同時に、前記複数のメモリ・セルのうちの前記選択された１つを前記センス・アンプから分離する分離回路と、
前記センス・アンプに結合されているセルフタイム式記憶装置であって、前記増幅されたデータ信号のみに応答して、前記増幅されたデータ信号に対応するデータを記憶するセルフタイム式記憶装置と、
を備えるメモリ装置。
【請求項２】
メモリ装置であって、
複数のメモリ・セルであって、該複数のメモリ・セルのそれぞれは、第１のビット線および第２のビット線に結合されている、複数のメモリ・セルと、
読み出しサイクルの少なくとも一部の間に前記第１のビット線に結合されている第１のデータ線と、
前記読み出しサイクルの少なくとも一部の間に前記第２のビット線に結合されている第２のデータ線と、
前記第１のデータ線および前記第２のデータ線に結合された一対の交差結合したインバータを有するセンス・アンプであって、該一対の交差結合したインバータは、センス・イネーブル信号の有効化に応答して、前記複数のメモリ・セルのうちの選択された１つからのデータ信号を増幅する、センス・アンプと、
前記第１のデータ線に結合されている入力、および出力を有する第１のバッファ回路と、
前記第２のデータ線に結合されている入力、および出力を有する第２のバッファ回路と、
前記第１のバッファ回路の前記出力に結合されている第１の入力、および前記第２のバッファ回路の前記出力に結合されている第２の入力を有するセルフタイム式記憶装置と、
を備え、前記セルフタイム式記憶装置は、前記第１のバッファ回路の前記出力と前記第２のバッファ回路の前記出力との間の差電圧のみに応答する、メモリ装置。
【請求項３】
メモリ装置のメモリ・セルを読み出すための方法であって、前記メモリ装置は複数のメモリ・セルを備え、該複数のメモリ・セルのそれぞれはビット線およびワード線に結合されており、前記方法は、
前記複数のメモリ・セルのうちの少なくとも１つを選択すること、
増幅されたデータ信号を生成するために、センス・イネーブル信号の有効化に応答して、センス・アンプにより前記ビット線上の電圧を感知して増幅することであって、前記増幅されたデータ信号は、前記選択することによって選択された前記複数のメモリ・セルのうちの前記少なくとも１つに記憶されている論理状態を表す、電圧を感知して増幅すること、
前記センス・イネーブル信号の有効化とほぼ同時に、前記センス・アンプから前記ビット線を分離すること、
前記増幅されたデータ信号のみに応答して、前記データをラッチするセルフタイム式ラッチに、前記増幅されたデータ信号に対応するデータをラッチすること、
を備える方法。
【請求項４】
メモリ装置のメモリ・セルを読み出す方法であって、前記メモリ装置は、複数のメモリ・セルを備え、前記方法は、
前記複数のメモリ・セルのうちの少なくとも１つを選択すること、
線上の増幅されたデータ信号を生成するために、センス・イネーブル信号の有効化に応答して、センス・アンプにより電圧を感知して増幅することであって、前記増幅されたデータ信号は、前記選択することによって選択された前記複数のメモリ・セルのうちの前記少なくとも１つに記憶されている論理状態を表す、電圧を感知して増幅すること、
前記増幅されたデータ信号のみに応答して、前記データをラッチするセルフタイム式ラッチに、前記増幅されたデータ信号に対応するデータをラッチすること、
前記感知して増幅することの後に、前記線をプリチャージすること、
を備え、前記データは、前記プリチャージすることの少なくとも最初の部分の間には、依然としてラッチされている、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
フォーカスリングと、
前記フォーカスリングと組み合わされた二次的なフォーカスリングと、を具備し、
前記フォーカスリングは、処理システムの処理にさらされる基板を支持するように構成された基板ホルダに組み合わされるように構成され、前記二次的なフォーカスリングは、前記基板の裏側表面上の、前記処理からの材料の堆積を減らすように構成されている基板ホルダ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月19日(2007.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線の損傷効果に対するヒト及び動物の毛及び肌の保護のための、式（１）
【化１】
2006523197.tif 000001
（式中、
Ａは、式（１ａ）
【化２】
2006523197.tif 000002
で表わされる基；又は式（１ｂ）
【化３】
2006523197.tif 000003
で表わされる基を表わし、
Ｒ1及びＲ5は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし１８のアルキル基；又は炭素原子数６ないし１２のアリール基を表わし；
Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、互いに独立して、水素原子；又は式（１ｃ）
【化４】
2006523197.tif 000004
で表わされる基を表わし、
ここで、式（１ａ）においては、基Ｒ2、Ｒ3及びＲ4の少なくとも１つは、式（１ｃ）で表わされる基を表わし；
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、互いに独立して、水素原子；ヒドロキシ基；ハロゲン原子；炭素原子数１ないし１８のアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基；炭素原子数６ないし１２のアリール基；ビフェニリル基；炭素原子数６ないし１２のアリールオキシ基；炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基；カルボキシ基；−ＣＯＯＭ；炭素原子数１ないし１８のアルキルカルボキシル基；アミノカルボニル基；又は、モノ−又はジ−炭素原子数１ないし１８のアルキルアミノ基；炭素原子数１ないし１０のアシルアミノ基；−ＣＯＯＨを表わし；
Ｍは、アルカリ金属イオンを表わし；
ｘは、１又は２を表わし；
ｙは、２ないし１０の数を表わす。）で表わされる化合物の使用。
【請求項２】
式（２）
【化５】
2006523197.tif 000005
（式中、Ｒ1、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、請求項１で定義した通りである。）で表わされる化合物に関する、請求項１記載の使用。
【請求項３】
Ｒ1及びＲ5が水素原子を表わす、請求項１又は２記載の使用。
【請求項４】
Ｒ6及びＲ8が水素原子を表わす、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項５】
化粧品的に許容可能なキャリヤー又は補助剤と一緒に、請求項１記載の式（１）で表わされる少なくとも１種の化合物を含む化粧品製剤。
【請求項６】
（ａ1）式（１）で表わされる少なくとも１種の対称性トリアジン誘導体、及び
（ａ2）式
【化６】
2006523197.tif 000006
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合している窒素原子と一緒になって、５又は６員の複素環を形成し；
ｎ1は、１ないし４の数を表わし；
ｎ1＝１の場合、
Ｒ3は、飽和又は不飽和複素環式基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基；所望により、１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で置換されたシクロヘキシル基；所望により、複素環式基、アミノカルボニル基又は炭素原子数１ないし５のアルキルカルボキシ基で置換されたフェニル基を表わし；
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、所望により、カルボニル基又はカルボキシ基で置換されたアルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基又はフェニレン基；式＊−ＣＨ2−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ2−＊で表わされる基を表わすか、又は、Ｒ3は、Ａと一緒になって、式（１ａ）
【化７】
2006523197.tif 000007
（式中、ｎ2は、１ないし３の数を表わす。）で表わされる２価の基を形成し；
ｎ1が３を表わす場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表わし；
ｎ1が４を表わす場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表わし；
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−を表わし；
Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。］で表わされる少なくとも１種のアミノベンゾフェノン誘導体
を含む紫外線フィルターの組み合わせ（Ａ）を含む、請求項５記載の化粧品製剤。
【請求項７】
式（１）、式（６）又は式（９）で表わされる化合物が微粉状態で存在する、請求項５又は６に記載の化粧品組成物。
【請求項８】
抗しわ知覚緩和剤（ａｎｔｉ−ｗｒｉｎｋｌｅ ｐｅｒｃｅｐｔｉｏｎ ｍｏｄｉｆｉｅｒ）としての式（１）で表わされる化合物の使用。
【請求項９】
以下の反応スキーム
【化８】
2006523197.tif 000008
（ここで、Ｘは、フッ素原子；塩素原子；又は臭素原子を表わし；Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ9、Ｒ10、ｘ及びｙは請求項１で定義した通りである。）に従って、式（１ｄ）で表わされるハロゲントリアジン化合物を、フリーデルクラフト反応において、式（１ｅ）又は（１ｆ）で表わされる所望により置換された芳香族炭化水素と反応させ、式（１）で表わされる化合物とすることからなる、式（１）で表わされる化合物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月2日(2007.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷間等方圧加工作業によりセラミックの初期未加工体を用意し、該セラミックの初期未加工体を埋設体に埋設することなしに、所定の完成セラミック義肢内植組織または義肢内植組織部材の形状に実質的に類似する前駆体としての形状を有するように機械加工して機械加工未加工セラミック体を得ることを特徴とするセラミック体義肢内植組織または義肢内植組織部材の製造方法。
【請求項２】
機械加工未加工セラミック体が燃焼されておよび／またはさらに処理されてより完成されたセラミック体を得ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
セラミック体が複雑な義肢内植組織または内植組織部材であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
セラミック体が複雑な義肢内植組織または内植組織部材であることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】
セラミック体が後部安定化膝内植組織のための大腿骨部材であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】
セラミック体が後部安定化膝内植組織のための大腿骨部材であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
セラミック体が回転膝内植組織のための大腿骨部材であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項８】
セラミック体が回転膝内植組織のための大腿骨部材であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項９】
セラミック体がＭｇ−ＰＳＺ製品であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
義肢内植組織または義肢内植組織部材を有しており、該部材は、セラミックの初期未加工体を埋設体に埋設することなしに冷間等方圧加工作業によりセラミックの初期未加工体を用意し、製造物品としての所定の完成セラミック体の形状に実質的に類似する前駆体形状である形状を機械加工未加工セラミック体が持つように初期未加工体を機械加工して機械加工未加工セラミック体を得て、機械加工未加工セラミック体を燃焼することによりセラミックから形成されることを特徴とする製造物品。
【請求項１１】
燃焼後にさらに研磨によってのみ処理されることを特徴とする請求項１０に記載の物品。
【請求項１２】
義肢内植組織または義肢内植組織部材が交換膝関節のための大腿骨または脛骨部材であることを特徴とする請求項１０に記載の物品。
【請求項１３】
後部安定化膝内植組織のための大腿骨部材であることを特徴とする請求項１３に記載の物品。
【請求項１４】
膝内植組織を含む回転装置のための大腿骨フレーム部材であることを特徴とする請求項１３に記載の物品。
【請求項１５】
単片単房室膝スペーサー装置または多片単房室関節整列装置であることを特徴とする請求項１０に記載の物品。
【請求項１６】
一時的下顎骨関節キャップ内植組織であることを特徴とする請求項１０に記載の物品。
【請求項１７】
膝のための十字形保持大腿骨部材であることを特徴とする請求項１３に記載の物品。
【請求項１８】
膝のための単房室大腿骨関節丘部材であることを特徴とする請求項１３に記載の物品。
【請求項１９】
皿状大腿骨関節内植組織であることを特徴とする請求項１０に記載の物品。
【請求項２０】
脊椎キャップであることを特徴とする請求項１０に記載の物品。
【請求項２１】
足首関節ユニットまたは部材であることを特徴とする請求項１０に記載の物品。
【請求項２２】
セラミックがジルコニアセラミックであることを特徴とする請求項１０に記載の物品。
【請求項２３】
セラミックがＭｇ−ＰＳＺまたはＹ−ＴＺＰであることを特徴とする請求項２３に記載の物品。
【請求項２４】
通過する照明の使用により外科セメントを急速セットすべく光透過性であることを特徴とする請求項１０〜２３のいずれかひとつに記載の物品。
【請求項２５】
後部安定化膝大腿骨部材および回転膝大腿骨部材フレームからなる群から選ばれることを特徴とするセラミック膝交換内植組織。
【請求項２６】
ジルコニアセラミックであることを特徴とする請求項２６に記載の内植組織。
【請求項２７】
後部安定化大腿骨部材であることを特徴とする請求項２７に記載の内植組織。
【請求項２８】
後部関節丘に対して少なくとも約１５００ポンド（約０．６８メトリックトン）の強度を有していることを特徴とするセラミック大腿骨膝部材内植組織。
【請求項２９】
強度が少なくとも約２０００ポンド（約０．９１メトリックトン）であることを特徴とする請求項２９に記載の内植組織。
【請求項３０】
強度が少なくとも約２５００ポンド（約１．１メトリックトン）であることを特徴とする請求項３０に記載の内植組織。
【請求項３１】
後部安定化膝のための大腿骨部材であることを特徴とする請求項２９に記載の内植組織。
【請求項３２】
側壁と関節丘を具えた左右の関節丘フランジをブリッジしている頂部とを具えて関節丘内ノッチを形成するフレームを有したセラミック体とノッチ内の後部安定化ストッパーを有していることを特徴とする後部安定化膝のためのセラミック大腿骨部材。
【請求項３３】
さらに内側を向いた骨内部成長向上および／または内移植されたときに基端および奥方向に対面する突出バンプを有したセメント接着表面を有していることを特徴とする請求項３３に記載の部材。
【請求項３４】
単片であることを特徴とする請求項３３に記載の部材。
【請求項３５】
単片であることを特徴とする請求項３４に記載の部材。
【請求項３６】
Ｍｇ−ＰＳＺからなることを特徴とする請求項３３に記載の部材。
【請求項３７】
Ｍｇ−ＰＳＺからなることを特徴とする請求項３４に記載の部材。
【請求項３８】
Ｍｇ−ＰＳＺからなることを特徴とする請求項３５に記載の部材。
【請求項３９】
Ｍｇ−ＰＳＺからなることを特徴とする請求項３６に記載の部材。
【請求項４０】
後部関節丘に対して少なくとも約１５００ポンド（約０．６８メトリックトン）の強度を有したことを特徴とする請求項３３〜４０のいずれかひとつに記載の部材。
【請求項４１】
強度が少なくとも約２０００ポンド（約０．９１メトリックトン）であることを特徴とする請求項４１に記載の部材。
【請求項４２】
強度が少なくとも約２５００ポンド（約１．１メトリックトン）であることを特徴とする請求項４２に記載の内植組織。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月4日(2007.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の液体が第２の液体に囲まれてなる第１の液体および第２の液体を含む流体流を、第１の流体をチャネルの出口から吐出させる一方で当該流体流の少なくとも一部分に電界を印加することによって生成するステップ
を有しており、
前記流体流において、当該流体流の移動の方向に直交する平均断面寸法が、前記チャネルの出口の平均断面寸法よりも小さい方法。
【請求項２】
前記流体流が液滴からなる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記液滴の少なくともいくつかにおいて、前記第２の液体が前記第１の液体を完全に囲んでいる請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記流体流が連続的である請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記チャネルの出口の平均断面寸法が、約５ｍｍ未満である請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記チャネルの出口の平均断面寸法が、約１ｍｍ未満である請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記チャネルの出口の平均断面寸法が、約１００ミクロン未満である請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記チャネルの出口の平均断面寸法が、約１０ミクロン未満である請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記流体流の少なくとも一部分が電荷を有している請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記流体流を、固体の物品を形成するために硬化させるステップ
をさらに有している請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の液体が、第２のチャネルの出口から吐出される請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記第２のチャネルが前記第１のチャネルを収容している請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記流体流が寸法絞りを通って導かれる請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記流体流の少なくとも一部分を鞘流体で囲むステップ
をさらに有している請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記鞘流体が、前記流体流の平均断面寸法を、当該鞘流体が存在しない場合の前記流体流の平均断面寸法に対して減少させる請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
第１の流体を第２の流体で、少なくとも部分的には電界の作用によって囲むステップ
を有している方法。
【請求項１７】
前記囲むステップが、前記第１の流体を電界を使用して前記第２の流体内に包み込むステップを有している請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記囲むステップが、前記第１の流体を鞘流体を使用して前記第２の流体内に包み込むステップを有している請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記囲むステップが、前記第１の流体を液滴を形成するように前記第２の流体内に包み込むステップを有している請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記液滴の平均断面寸法が、約５ｍｍ未満である請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記第１の流体が液体である請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
前記第２の流体が液体である請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】
前記第２の流体の粘度が少なくとも１．２ｃｐである請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記第１の流体および前記第２の流体を、第３の流体内に包み込むステップ
をさらに有している請求項１６に記載の方法。
【請求項２５】
前記第１の流体、前記第２の流体、および前記第３の流体を、第４の流体内に包み込むステップ
をさらに有している請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
第１の流体を吐出するための出口を有している第１のチャネル、
第２の流体を吐出するための出口を有しており、該第２の流体で所定の位置において前記第１の流体の少なくとも一部分を囲むことができるように配置されている第２のチャネル、および
電界を前記所定の位置の近傍に生成するように配置されている電界生成器
を有している装置。
【請求項２７】
前記第２のチャネルが、前記第２の流体で前記第１の流体の液滴を完全に囲むことができるように配置されている請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記第２のチャネルが前記第１のチャネルを収容している請求項２６に記載の装置。
【請求項２９】
前記所定の位置の近傍の寸法絞り
をさらに有している請求項２６に記載の装置。
【請求項３０】
前記第１のチャネルの出口の平均断面寸法が、約５ｍｍ未満である請求項２６に記載の装置。
【請求項３１】
出口を有するチャネル、および
前記チャネルの出口を出る流体の断面寸法を減少させるように構成および配置された電界生成器
を有している装置。
【請求項３２】
前記電界生成器が、前記流体によってテイラー・コーンを生成できるように構成および配置されている請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記流体を鞘流体によって包み込むことができるように配置された第２のチャネルをさらに有している請求項３１に記載の装置。
【請求項３４】
前記チャネルの出口の平均断面寸法が、約５ｍｍ未満である請求項３１に記載の装置。
【請求項３５】
前記チャネルの出口の平均断面寸法が、約１ｍｍ未満である請求項３１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月23日(2007.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
シロキサンが一般式Ｉに相当するものから選択される、請求項１に記載の組成物：
【化１】
2006523170.tif 000001
式中、ｍおよびｎは独立して１〜２０００であり、ａ、ｂ、およびｃは独立して０または１であり、そしてＸ、ＹおよびＺは、以下から選択され、
−Ｏ−；
−Ｏ−（ＣＨ２）１−３０−、この部分構造は直鎖、分枝または少なくとも１種の環を含む構造の少なくとも１種である；
−（ＣＨ２）１−３０−、この部分構造は直鎖、分枝または少なくとも１種の環を含む構造の少なくとも１種である；
−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−；
−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２−；
−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２−Ｏ−；
−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２−Ｎ−；
Ｒ、Ｒ’およびＲ’’は独立して以下の少なくとも１種から選択される：
水素、Ｃ１−１００アルキル、Ｃ６−３０アリール、Ｃ７−３０アラルキル；Ｃ７−３０アルカリル；Ｃ１−３０ヒドロキシアルキル；Ｃ３−２００ポリヒドロキシアルキル；ポリエーテルであって、２〜２００個の同一または異なるＣ１−１５オキシアルキレンユニットからなるもの；Ｃ１−３０アミノアルキル；ポリイミノポリアルキレンであって１〜２０個の同一または異なるＣ２−１５アルキレンユニットを有するもの；ポリイミノポリオキシアルキレンであって、１〜２０個の同一または異なるＣ２−１５オキシアルキレンユニットを有するもの；Ｃ３−３０四級アンモニウムであって、任意に少なくとも１個のアニオンによって完全にまたは部分的にイオン化されているもの；Ｃ４−３０ベタイン；カルボキシルであって、任意に適切なカチオンによって完全にまたは部分的にイオン化されているもの；Ｃ４−３０ポリカルボキシアルキルであって、任意に少なくとも１個のカチオンによって完全にまたは部分的にイオン化されているもの；スルホ基であって、任意に少なくとも１個のカチオンによって完全にまたは部分的にイオン化されているもの；チオスルホ基であって、任意に少なくとも１個のカチオンによって完全にまたは部分的にイオン化されているもの；エポキシド基；グリシジル；アクリレート；Ｃ１−３０エステル；ポリエステルであって、２〜２００個のＣ２−１５二酸およびジエステルモノマーユニットからなるもの；および無機酸のエステル。ただし全てのアルキル鎖は直鎖、分枝または少なくとも１種の環を含むものの少なくとも１種である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
ポリアルキレンオキシドの重量平均分子量が１００，０００〜８，０００，０００である、請求項１〜６のいずれかに記載の組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
シロキサンとして本発明において有用なものは、乾燥セメント組成物に導入するかまたはかかる組成物に、水と混合する際に、配置する直前に添加することができる。必要な量はセメントの種類およびシロキサンの正確な特性に依存するが、典型的な重量比の範囲はセメントの重量に対して０．０５重量％〜２０重量％であり、より好ましくは０．１重量％〜５重量％、さらにより好ましくは０．１重量％〜２重量％であり最も好ましくは０．２重量％〜１重量％である。
本願発明の別の態様においては、前記シロキサンを用いる際に疎水性であり、微粉砕したシリカを併用してもよい。前記シリカの添加はシロキサンの添加とは別々に行うことが可能であるが、好ましくはシロキサンに導入され、これは例えば配合（blend）または混合によって行われる。シリカの量はシロキサンの重量に対して２０％までであり、好ましくは１０％を超えない量である。本発明のさらに別異の態様においては、シロキサンにさらに乳化剤を含有せしめてもよい。あらゆる適切な乳化剤を用いることができ、量は当技術分野において認識されている量である。市販のシロキサンには既に乳化剤を含有しているものがあり、この場合には添加は不要である。
好ましくは、ポリアルキレンオキシドはポリエチレンオキシドである。重量平均分子量は１００，０００〜８，０００，０００であり、好ましくは２，０００，０００〜５，０００，０００である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月23日(2007.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
揮発性液体材料を空気中に提供するように適合された装置であって、揮発性液体材料を含有する貯留部、そこから伸びておりかつ貯留部から液体を移送するように適合された棒状移送部材、および前記移送部材から液体を受容しそしてその空気中への蒸発を容易にするように適合された少なくとも１つの拡散表面を含み、前記拡散表面は、前記移送部材から本質的に水平方向に伸びており、そして表面キャピラリティを有する少なくとも１つの非一体型の非多孔性シートを含み、前記シートは適切な蒸発を可能にするのに十分な広さとキャピラリティを有する、前記装置。    
【請求項２】
移送部材が円錐台形であり、開口が円形である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
移送部材が、その長さに沿った適切な位置に環状の溝を有し、そして開口が、液体移送接触において前記溝に適合する大きさである、請求項１または２に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図２〜４は、模式的であって、縮尺のためのものではなく、あるサイズは明確さのために誇張されている。
図１においては、貯留部１（ボトルまたは瓶）は、棒状多孔性芯３に適合する頸部２を有し、これは、芯の周りを囲む密接に適合する弾性プラグ４により、前記頸部に密接に適合している。芯は断面が円形であり、貯留部から突き出た芯のその部分は図２において示されるようにわずかに円錐形であり、貯留部から離れたより狭くなっている末端５および貯留部に近いより広くなっている末端６を有する。これにより、拡散表面７の芯への取り付けが容易になり、末端５の直径よりも大きいが末端６の直径以下の開口部８を有する。開口部８は、芯の円錐台形表面に密接に適合できるような形状であり、良好な接触および液体移送を確保する。拡散表面は、その表面に一連の開いた毛管９を有する非多孔性プラスチックの曲面シートである。