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【手続補正書】
【提出日】平成18年12月5日(2006.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
瞳孔をもつ眼であって、該眼で見る距離の変化で瞳孔の寸法の変化が誘導される眼を有する患者の、現にあるまたは潜在的な老視を処理するシステムであって、
眼が第一の見る距離で見ている間、瞳孔の第一の寸法を測定するデバイスと、
眼に対する所望の拡大能および第一の寸法を受け入れる入力手段を有する処方を形成するモジュールと、
を含み、
眼に対する処方を決定するモジュールは、瞳孔が第一の寸法をもつとき、第一の所望の拡大能を与え、
処方は、瞳孔の寸法の変化に応答して拡大能に所望の変化を達成し、
拡大の所望の変化は老視を緩和する、
ところのシステム。
【請求項２】
瞳孔測定デバイスが瞳孔計からなり、処方形成モジュールが少なくとも、
老視に適した目標関数を使用して、瞳孔の直径および所望の拡大能に基づいて処方を決定する最適化器モジュール、
瞳孔の直径に基づいて、処方形状の中央部の尺度を、その処方形状が老視を改善し、その中央部が瞳孔の直径の約0.35と約0.55の間の寸法をもつように、決定する尺度決定モジュール、および
処方計算モジュール、
からなるグループから選択されるひとつの要素を有し、
計算モジュールは、眼が第一の見る距離に対して適した第一の所望の拡大能を有し、第二の見る距離に対して第二の所望の拡大能をもつように、瞳孔の寸法および瞳孔の寸法の変化に応答して、眼に対する老視を緩和する処方を計算する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
特定の患者の老視を緩和または処理する処方を形成するシステムであって、
（a）患者のパラメータを受け入れる入力手段と、
（b）老視に適した目標関数を使用して、患者のパラメータのセットに基づき特定の患者に対する処方を決定する最適化器モジュールと、
を含むシステム。
【請求項４】
目標関数がよせ運動の範囲を通して光学的な質を示す、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
目標関数が、眼の光学的パラメータと回折理論のパラメータとの比からなる、請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
目標関数が、シュレール比（Strehl Raito (SR)）変調伝達関数（MTF）、点広がり関数（PSF）、取り囲んだエネルギー（EE）、MTFボリュームまたはMTF表面のボリューム（MTFV）、複合変調伝達関数（CMTF）およびコントラスト感度（CS）からなるグループから選択される、少なくともひとつのパラメータからなる、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
目標関数が幾何学的な光学系に基づく、請求項３に記載のシステム。
【請求項８】
目標関数がレイトレーシングを使用して決定される、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
患者パラメータのセットが、瞳孔の大きさ、残余の順応、および拡大能の必要性からなるグループから選択される少なくともひとつからなる、請求項３に記載のシステム。
【請求項１０】
モジュールが、老視に適した目標関数を使用して、特定の患者の光学的形状を形成すべく、繰り返し最適化のための患者のパラメータのセット、最初の光学的形状、初期条件のセットを使用する、請求項３に記載のシステム。
【請求項１１】
最初の光学的形状が放射方向に対称的である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
放射方向に対称な光学的形状が少なくともふたつの独立変数を有する多項式のセットに分解される、請求項９に記載のシステム。
【請求項１３】
少なくともふたつの独立変数のひとつが、瞳孔の直径に対する、あつらえられた処方形状の直径の比である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
目標関数が、回折理論のパラメータに対する眼の光学的パラメータの比からなる、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１５】
繰り返し最適化器が、Downhill Simples法、Direction Set 法、およびStimulated Annealing 法からなるグループから選択される方法を用いるように構成されている、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１６】
患者パラメータのセットが、瞳孔の大きさ、残余の順応、および所望の拡大能からなるグループから選択された少なくともひとつからなる、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１７】
特定の患者の眼の角膜表面を、第一の形状から、改善された光学的特性をもつ第二の形状に再度輪郭付けするシステムであって、
（a）患者のパラメータを受け入れる入力手段と、
（b）老視に適した目標関数を使用して、患者のパラメータに基づいて、特定の患者に対する光学的形状を決定するモジュールと、
（c）切除輪郭を生成するプロセッサと、
（d）角膜の表面を第一の表面から第二の表面に再度輪郭付けするために、切除輪郭にしたがって、角膜上にレーザーエネルギーを向けるレーザーシステムと、
を有するシステム。
【請求項１８】
特定の患者に視力状態を処理する処方形状の尺度を定めるシステムであって、
（a）視力状態を処理するために特有の処方形状を受け入れる入力手段と、
（b）特定の患者の瞳孔の寸法を受け入れる入力手段と、
（c）処方形状が特定の患者の視力状態の指標を改善し、当該中央部分が瞳孔の直径の約0.35と約0.55との間の寸法をもつように、処方形状で前に処理された少なくともひとつの眼の属性、および特定の患者の瞳孔の寸法に基づいて処方形状の中央部分の尺度を決定するモジュールと、
を含むシステム。
【請求項１９】
（c）切除輪郭を生成するプロセッサと、
（d）角膜の表面を処方形状にしたがって再度輪郭付けするために、切除輪郭にしたがって、角膜上にレーザーエネルギーを向けるレーザーシステムと、
をさらに有する、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
眼の屈折を矯正するシステムであって、
第一の見る条件の下での第一の瞳孔の大きさ、および第二の見る条件の下での第二の瞳孔の大きさに対する、少なくともひとつの入力手段と、
眼が第一の大きさにおいて、第一の見る条件に適した第一の拡大能をもつように、さらに眼が第二の大きさにおいて、第二の見る条件に適した第二の拡大能をもつように、瞳孔の大きさに応答して、眼のための老視緩和処方を計算する、処方計算モジュールと、
を含むシステム。
【請求項２１】
眼のための処方を導出するシステムであって、
眼の波面に対する入力手段および多項式展開のための出力手段を有する多項式展開モジュールと、
該多項式展開モジュールの出力手段に連結される入力手段と、出力手段を有し、多項式展開から有効な拡大能を決定する有効な拡大能モジュールと、
関連した、見ている瞳孔のいろいろな大きさにおいて、複数のいろいろな所望の有効な拡大能を与えるように、処方を生成する、有効な拡大能モジュールに連結される処方モジュールと、
を含むシステム。
【請求項２２】
見る条件の下で眼の有効な拡大能を決定するシステムであって、
眼が第一の瞳孔の大きさをもっている間、眼の波面からのZernike多項式展開の複数の係数のための第一の入力手段と、
見る条件の下にある瞳孔の第二の瞳孔の大きさのあめの第二の入力手段と、
Zernike多項式の係数の少なくともひとつから、さらに有効な拡大能と瞳孔の大きさとの間の関係から、眼の有効な拡大能を計算する有効な拡大能計算モジュールと、
を含むシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月5日(2006.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外科用開創器システムであって、
細長い管状部材と、該管状部材を受けるように構成され、適応する開口を有する開創器部材とを備え、
前記開創器部材は、少なくとも１つの穴と、前記管状部材と係合する係合部材とを有し、管状部材または開創器部材の回転によって、開創器部材を管状部材と回転自在に係合させるシステム。
【請求項２】
前記管状部材の少なくとも一部に外ねじが配置されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記開創器部材は前記開口に内ねじが形成されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記係合部材は、前記管状部材の外ねじと係合するために、前記開創器部材の開口内に少なくとも部分的に突き出ている、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記係合部材が鈍い先端を有する、請求項１から４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
把持部分と前記管状部材を固定するためのハンドルロックアセンブリとを備えたハンドルをさらに有する、請求項１から５のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
前記ハンドルは、前記管状部材を該ハンドルに着脱式に固定するように構成されており、前記管状部材を該ハンドルに固定するための後退可能なスライダピンを有している、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記ハンドルロックアセンブリは頂部および底部がある本体を有しており、該本体には前記管状部材を受けるための開口が形成されており、該開口は該本体の頂部から底部へと延在しており、前記後退可能なスライダピンは、該ピンが開口内へと突き出す延在位置から該ピンが開口から引き出される後退位置へと移動可能である、請求項６または７に記載のシステム。
【請求項９】
前記管状部材は、遠位端と、近位端と、手術部位の観察または洗浄を容易にするために近位端にある窓とを有する、請求項１から３のいずれかに記載のシステム。
【請求項１０】
前記管状部材は、該管状部材を回転するためのノブを前記遠位端に備える、請求項１から９のいずれかに記載のシステム。  
【請求項１１】
前記係合部材が、前記開創器部材とねじ接続されるねじである、請求項１から１０のいずれかに記載のシステム。
【請求項１２】
組織を後退させるシステムであって、
軸方向の長さを有するカニューレを備え、カニューレの少なくとも一部が周方向の外ねじを有しており、
自身を通って前記カニューレを受けるように構成された開口と、該開口に形成された内ねじと、カニューレのねじ山と係合するために前記開口に関連し、少なくとも部分的にその中に突き出す係合部材と、を有する開創器部材を備え、該開創器部材が、カニューレの軸方向長さに沿って調節可能である、システム。
【請求項１３】
さらに、カニューレを自身に着脱式に固定するように構成されたハンドルを有し、カニューレをハンドルに固定するためにハンドルには後退可能なスライダピンが備えてある、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
さらに、スライダピンと係合する周方向の溝を有するカニューレを備え、カニューレが、ハンドルに固定されている間に回転可能である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
さらに、頂部および底部がある本体を備えたハンドルロックアセンブリを有するハンドルと、カニューレを受けるためにハンドル内に配置された開口とを備え、該開口が前記本体の頂部から底部へと延在し、前記後退可能なスライダピンは、該ピンが開口内へと突き出す延在位置から該ピンが開口から引き出される後退位置へと移動可能である、請求項１３または１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記係合部材が、少なくとも部分的に前記開創器部材の開口内へと突き出すピンまたはねじである、請求項１２から１５のいずれかに記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月17日(2006.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
類似度を推定する画像データ処理手段を有する多次元画像における形状を相関させる画像処理システムであって、前記画像データ処理手段は、
２次元画像における各ウィンドウにおいて画定される形状を表す２つの画像信号を推定する手段と、
合成されたものから変換されたスカラー値エルミート係数集合が生成される２つの第１スカラー値エルミート係数集合の評価を実行するため、前記２つの画像信号に適用されるエルミート変換を使用する手段と、
ウィンドウ化された相関関数の計算を実現するため、前記変換されたスカラー値エルミート係数集合に逆エルミート変換を適用する手段と、
前記形状を相関させるため。前記ウィンドウ化された相関関数の最大値を所望の類似度として推定する手段と、
を有し、
該画像処理システムは、さらに、
前記相関された形状及び/または処理された画像を表示する手段を有する、
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１記載の画像処理システムであって、さらに、
低次数係数がコース形状情報を符号化し、高次数係数がファイン詳細を符号化するように前記スカラー値エルミート係数を次数処理する手段を有することを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項１または２記載の画像処理システムであって、
任意のデータ次元ｍに対し処理される同時変換クラスは、変換とスケール変更を有することを特徴とするシステム。
【請求項４】
請求項１乃至３何れか一項記載の画像処理システムであって、
１Ｄより大きなデータ次元に対し処理される同時変換クラスは、変換、スケール変更、回転及び異方性スケール変更を有することを特徴とするシステム。
【請求項５】
請求項４記載の画像処理システムであって、さらに、
１Ｄより大きなデータ次元に対応するものより優位ないくつかの変数に対し、
前記２つの第１スカラー値エルミート係数集合の少なくとも１つを前記形状の少なくとも１つを回転させたものに対応する新しいスカラー値エルミート係数集合に変換する少なくとも１つの回転行列を適用することにより前記２つの第１スカラー値エルミート係数集合を処理する手段と、
前記形状の回転させたものに対応する前記新しいスカラー値エルミート係数から変換されたスカラー値エルミート係数集合を推定する手段と、
を有することを特徴とするシステム。
【請求項６】
請求項１乃至５何れか一項記載の画像処理システムであって、さらに、
使用するスカラー値エルミート相関係数の個数と、前記相関関数が所望の精度を提供するため計算される変換パラメータ集合とを、計算されたすべての値において前記相関関数の最大値が相関度及び対応する最適変換パラメータを提供しながら、低次元インデックスのみのコース推定と変換パラメータの限定された個数のサンプリングポイントの利用に従って設定する手段を有することを特徴とするシステム。
【請求項７】
請求項６記載の画像処理システムであって、さらに、
与えられた座標成分により画定される方向への変換のみが関係するときに使用されるスカラー値エルミート相関係数の個数を設定する手段と、
ｍ次元変換パラメータの１次元座標に依存して１次元相関関数を計算する複数インデックスＩ＝（ｉ１，．．．，ｉｍ）（ただし、すべての座標成分ｋ（ｋ≠ｎ）に対してｉｋ＝０）に前記スカラー値エルミート相関係数の評価を限定する手段と、
を有することを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項４記載の画像処理システムであって、さらに、
前記エルミート係数に基づき２次差分を規定し、前記２次差分を最小化する組み合わせとしてスケール係数を選択することにより、前記エルミート係数の推定からスケーリング係数を推定する手段を有することを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項１乃至８何れか一項記載の画像処理システムであって、さらに、
前記回転行列と前記スケーリング係数を変更し、より高い精度が必要な場合にはインデックス数を増加させることにより、最適な可能な相関関数に到達するために必要な回数だけ前記相関関数を決定するステップを繰り返す手段を有することを特徴とするシステム。
【請求項１０】
請求項１乃至９何れか一項記載の画像処理システムであって、さらに、
第１複雑形状に対する複数のウィンドウの決定及び第２複雑形状に対する対応するウィンドウ候補の決定を有する多次元画像における前記第１及び第２複雑形状を相関させるワープ処理法則の評価を実行する手段と、
最適なウィンドウ候補を決定するのに利用されるウィンドウ化された相関関数の計算を実現するため、逆エルミート変換の評価を実行する手段から各ウィンドウにおいて画定される２つの画像信号のエルミート変換を利用するステップを有するウィンドウ化された相関関数の評価のため前記エルミート変換の予測を実行する手段と、
前記第１及び第２複雑形状をマッチングさせるため、前記ステップの繰り返しにより剤的なワープ処理法則の決定を実行する手段と、
を有することを特徴とするシステム。
【請求項１１】
ウィンドウ化された相関関数の評価のためエルミート変換の評価を有する画像処理方法であって、
前記ウィンドウ化された相関関数の計算を実現するため、逆エルミート変換を評価するステップが実行される多次元画像における各ウィンドウにおいて画定される形状を表す２つの画像信号のエルミート変換を利用するステップと、
相関された形状及び/または処理された画像を可視化するステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１０何れか一項記載の画像処理システムと、医療用画像データを取得する取得手段とを有することを特徴とする医療検査装置。
【請求項１３】
汎用コンピュータ上で使用されるとき、請求項１１記載の方法のステップを前記コンピュータに実行させる命令セットを有することを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月13日(2006.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の突起を備える結合面を有する部材と、前記突起を受け入れるために適合する複数の溝を備える結合面を有する部材とをポジショニングさせる段階、
ここで、前記突起および前記溝は、実質的に位置合わせされており、そして、界面は、前記結合表面によって規定されている；
少なくとも一つの溝の一部分と少なくとも一つの突起の一部分とを滑り接触させる段階；そして
前記少なくとも一つの突起を変形させて、前記少なくとも一つの溝を少なくとも部分的に満たし、それによって、ターゲット部材およびバッキング部材間に少なくとも機械的結合を形成させる段階、
ここで、前記溝を有する前記部材が、前記突起を含む金属の融点より高い融点を有する金属である；
を含む、バッキング部材およびターゲット部材を含むスパッタターゲット集成体を形成する方法。
【請求項２】
前記突起が不規則な形状である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ターゲット部材の結合面の一部分が、前記バッキング部材の結合面の少なくとも一部分に接触するように、前記結合を形成させる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
滑り接触が、前記溝を有する前記部材に対する前記突起を有する前記部材を回転させること、あるいはその逆、そして前記突起を有する前記部材、前記溝を有する前記部材、または両部材に、前記界面方向の力を加えることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
滑り接触が、互いに前記部材を回転させること、および前記突起を有する前記部材、前記溝を有する前記部材、または両部材に、前記界面方向に力を加えることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記部分を滑り接触させるため、摩擦溶接機を用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記結合が、インターロッキング結合および／または機械的結合を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
少なくとも一つの前記突起の少なくとも一部分の上に、はんだ金属若しくははんだ合金、ろう付金属若しくはろう付合金、またはそれらの組み合わせを配置することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記溝の少なくとも一つの少なくとも一部分の上に、はんだ金属若しくははんだ合金またはろう付金属若しくはろう付合金、またはそれらの組み合わせを配置することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
複数の面を有するセル部材を形成させる段階、
ここで、前記セル部材は前記界面に近接して形成されている；
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記セル部材に気体を配置することをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記スパッタターゲット集成体の形成がカバーガス下であり、ここで前記カバーガスが不活性気体を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
酸素または窒素等の侵入型硬化剤を用いて、カバーガスをドープする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
複数の突起を備える結合面を有する部材；および
複数の溝を備える結合面を有する部材、
ここで、前記溝を有する前記部材が、前記突起を有する前記部材の融点より高い融点を有する金属であり、そして前記部材が、一緒に少なくとも機械的に結合されているように、突起の少なくとも一つによって溝の少なくとも一つを実質的に満たしている；を含む、スパッタターゲット集成体。
【請求項１５】
前記溝を有する前記部材がターゲットであり、そして前記突起を有する前記部材がバッキングプレートである、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項１６】
前記溝を有する前記部材がバッキングプレートであり、そして前記突起を有する前記部材がターゲットである、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項１７】
前記結合面の一部分の間にギャップが存在し、前記ギャップ幅が約０．００１インチ〜約０．１インチである、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項１８】
前記結合面の一部分が接触している、請求項１７に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項１９】
前記結合面の一部分によって規定される界面に近接する、セル部材の少なくとも一つをさらに含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２０】
前記セル部材が、約０．１気圧〜約５気圧の圧力で気体を含む、請求項１９に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２１】
インターロッキング結合または機械的結合によって、前記部材を結合または連結する、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２２】
前記突起の少なくとも一部分の上に配置されている、はんだ合金若しくははんだ金属またはろう付合金若しくはろう付金属をさらに含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２３】
前記溝の少なくとも一部分の上に配置されている、はんだ合金若しくははんだ金属またはろう付合金若しくはろう付金属をさらに含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２４】
前記突起を有する前記部材の前記結合面の少なくとも一部分の上に配置されている、はんだ合金若しくははんだ金属またはろう付合金若しくはろう付金属をさらに含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２５】
前記溝を有する前記部材の前記結合面の少なくとも一部分の上に配置されている、はんだ合金若しくははんだ金属またはろう付合金若しくはろう付金属をさらに含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２６】
前記溝を有する前記部材が、コバルト、チタン、銅、アルミニウム、タンタル、ニオブ、ニッケル、ジルコニウム、ハフニウム、銀、金、またはそれらの合金を含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２７】
前記溝を有する前記部材が、タンタルまたはその合金を含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２８】
前記溝を有する前記部材が、ニオブまたはその合金を含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項２９】
前記突起を有する前記部材が、コバルト、チタン、銅、アルミニウム、タンタル、ニオブ、ニッケル、ジルコニウム、ハフニウム、銀、金、モリブデンまたはそれらの合金を含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項３０】
前記突起を有する前記部材が、銅−クロム合金または銅−亜鉛合金を含む、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項３１】
前記突起が不規則な形状である、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項３２】
前記突起が、実質的に、柱体、錐体、先端を切った錐体、立方体、直平行六面体、角錐体、方尖柱体、またはくさび形、またはそれらの組み合わせである、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【請求項３３】
前記溝が、実質的に、正方形、矩形、Ｔ字形、Ｌ字形、半円形、先端を切った三角形、カスプ形、または蝶ネクタイ形の形である、請求項１４に記載のスパッタターゲット集成体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月27日(2006.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
フリーラジカル溶液重合プロセスによって調製され、重量平均分子量が５０，０００を超えるミクロゲル粒子を含むミクロゲル組成物であって、コーンプレート型粘度計で測定した、ジオキサン中の前記ミクロゲルの６０％ｗ／ｗ溶液の粘度が１０Ｐａ・ｓ未満となるミクロゲル組成物。
【請求項２】  
前記重量平均分子量が少なくとも１００，０００である請求項１に記載のミクロゲル組成物。
【請求項３】  
前記重量平均分子量が少なくとも２００，０００である請求項１に記載のミクロゲル組成物。
【請求項４】  
前記ミクロゲル粒子の大きさが、標準的ＧＰＣ法で測定した直径で２００ｎｍ未満である請求項１に記載のミクロゲル組成物。
【請求項５】  
請求項１に記載のミクロゲル組成物を含むコーティング組成物であって、前記ミクロゲルが、前記コーティング組成物のバインダー成分の少なくとも一部を形成しており、前記ミクロゲルが液体担体中に溶解しているコーティング組成物。
【請求項６】  
前記液体担体が、芳香族炭化水素、アルコール類、脂肪族炭化水素、ケトン類、および複素環からなる群より選択される請求項５に記載のコーティング組成物。
【請求項７】  
前記ミクロゲルが、前記組成物の５〜９０重量％の量で存在する請求項５に記載のコーティング組成物。
【請求項８】  
前記ミクロゲル粒子が、架橋したコアと、前記コアに結合した腕とを含み、前記コアが多価不飽和モノマーから形成され、前記腕が一価不飽和モノマーから形成される請求項５に記載のコーティング組成物。
【請求項９】  
前記バインダー中に存在する官能基と反応性である架橋剤を含む第２の成分をさらに含み、前記反応性官能基が前記ミクロゲル中および／または前記バインダーの追加成分中に存在する請求項５に記載のコーティング組成物。
【請求項１０】  
前記架橋剤が、ポリイソシアネート、ジエポキシモノマー、アミン樹脂、シロキサン、およびそれらの２種類以上の混合物からなる群より選択される請求項９に記載のコーティング組成物。
【請求項１１】  
前記バインダー中の反応性基が、ヒドロキシル、アミン、カルボキシル、アルコキシシラン、エポキシ、およびそれらの混合物からなる群より選択される請求項９に記載のコーティング組成物。
【請求項１２】  
熱可塑性ポリマーおよび熱硬化性ポリマーから選択されるバインダーをさらに含む請求項９に記載のコーティング組成物。
【請求項１３】  
アルキド、ポリエステル、メラミンホルムアルデヒド樹脂などのアミノ樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン、およびそれらの混合物からなる群より選択される熱硬化性ポリマーバインダー樹脂を含む請求項９に記載のコーティング組成物。
【請求項１４】  
前記ミクロゲル粒子および場合により使用される他のポリマーバインダー成分から選択される前記バインダー成分の少なくとも一部の中に存在する官能基との硬化反応に適合した架橋剤をさらに含む請求項５に記載のコーティング組成物。
【請求項１５】  
前記ポリマーバインダー組成物が、前記架橋剤と架橋するための反応性官能基を含む非ミクロゲルポリマーバインダー成分を含む請求項１４に記載のコーティング組成物。
【請求項１６】  
前記ミクロゲル粒子が、前記架橋剤と架橋するための反応性官能基を含む請求項１４に記載のコーティング組成物。
【請求項１７】  
前記ミクロゲルが、さらに、前記架橋剤と反応性の基を含む請求項９に記載のコーティング組成物。
【請求項１８】  
請求項５に記載のコーティング組成物と、反応性官能基含有ポリマーと、場合により有機溶媒、顔料、充填剤、助剤、および添加剤などの他の成分とを含む第１の成分と、ジイソシアネートおよび／またはポリイソシアネート、１分子当たり少なくとも２つのエポキシド基を有するエポキシド化合物、アミノ樹脂、およびシロキサン架橋剤からなる群より選択される架橋剤を含む第２の成分とを含む、コーティング組成物系。
【請求項１９】  
前記バインダー成分が、全組成物の５０〜９０重量％を構成し、前記架橋剤成分が、全組成物の１０〜５０重量％を構成する請求項９に記載のコーティング組成物。
【請求項２０】  
全組成物の３５重量％未満の量の有機担体を含む請求項９に記載のコーティング組成物。
【請求項２１】  
一価不飽和モノマーおよび多価不飽和架橋性モノマーを有機溶媒中の溶液として含むモノマー組成物のフリーラジカル溶液重合によって調製された請求項１に記載のミクロゲル組成物であって、前記一価不飽和モノマーの反応性比が、前記多価不飽和モノマーと大きく異なり、前記モノマー組成物中の前記モノマー成分の濃度および架橋性モノマーの比率が、重量平均分子量が少なくとも５００００の分離したミクロゲル粒子の溶液が得られるように制御されるミクロゲル組成物。
【請求項２２】  
前記多価不飽和モノマーの比率が、全モノマー成分の１５重量％未満である請求項２１に記載のミクロゲル組成物。
【請求項２３】  
前記全モノマー濃度が、全組成物の１０〜５０重量％である請求項２１に記載のミクロゲル組成物。
【請求項２４】  
前記ミクロゲルの調製に使用される前記全モノマーが、全組成物の２５〜４５重量％を構成する請求項２１に記載のミクロゲル組成物。
【請求項２５】  
少なくとも１種類の架橋剤の少なくとも１種類のモノマーに対する反応性比（ｒ）が、少なくとも１．５である請求項２１に記載のミクロゲル組成物。
【請求項２６】  
前記一価不飽和モノマーの前記反応性比が０．５未満である請求項２１に記載のミクロゲル組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月15日(2006.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
螺旋状に巻いてロールにした単一プライのティッシュウェブ、
を含み、
前記巻きロールは、約７．８ｍｍよりも小さいＫｅｒｓｈａｗロール堅さ、及び約１０ｃｃ／ｇよりも大きいロール嵩を有し、
前記ティッシュウェブは、約２５ｇｓｍよりも大きい完全乾燥坪量を有し、
前記ティッシュウェブは、更に、該ウェブの少なくとも一方の側で約１．７ｍｍ／ｍｍよりも大きいファズ・オン・エッジ、及び約５５０グラム／３インチよりも大きい幾何平均引張強度を有する、
ことを特徴とするロールティッシュ製品。
【請求項２】
前記ティッシュウェブのファズ・オン・エッジが大きい方の側の機械方向摩擦係数は、約０．３２よりも大きく、
前記ティッシュウェブのファズ・オン・エッジが大きい方の側の機械横断方向摩擦係数は、約０．３２よりも大きい、
ことを特徴とする請求項１に記載のティッシュ製品。
【請求項３】
前記ティッシュウェブは、約０．００６よりも小さい曲げ剛性／ＧＭ勾配Ａを有することを特徴とする請求項１に記載のティッシュ製品。
【請求項４】
前記ティッシュウェブには、実質的にピン穴がないことを特徴とする請求項１に記載のティッシュ製品。
【請求項５】
パルプ繊維を含むティッシュウェブを準備する段階と、
回転ロールの外面と対向する移動表面との間に形成されたニップを通して前記ティッシュウェブを運ぶ段階と、
を含み、
前記ロールの外面及び前記対向する表面は、前記ニップ内を異なる速度で移動し、該ニップは、前記ティッシュウェブをカレンダ加工しながら、同時に該ウェブのファズ・オン・エッジ特性を増大させるのに十分なせん断力を該ウェブに及ぼす、
ことを特徴とするせん断−カレンダ加工方法。
【請求項６】
前記対向する表面は、回転ロールを含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記対向する表面は、移動ベルトを含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記回転ロールの一方は、ポリマー材料を含む外面を有することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記回転ロールの両方は、ポリマー材料を含む外面を有することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記ロールの前記外面及び前記対向する外面は、５％と１００％の間の速度差で移動することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
不織ウェブをカレンダ加工すると同時にせん断力を及ぼすせん断−カレンダ加工装置であって、
外面を有する回転可能ロールと、
前記回転ロールに対向する可動表面と、
を含み、
前記回転可能ロール及び前記対向する表面は、ティッシュウェブを受け取るためのニップを形成し、該対向する表面及び該回転可能ロールは、該ニップを通過するティッシュウェブにせん断力を及ぼすのに十分な速度差を形成するために、該ニップ内を異なる速度で移動するように構成された、
ことを特徴とする装置。
【請求項１２】
前記ニップは、装置を通して送られるように構成されたベースウェブの厚みの２％から約２５％の間隙を形成することを特徴とする請求項１１に記載のせん断−カレンダ加工装置。
【請求項１３】
前記回転可能ロールと前記対向する表面の間の前記速度差は、約５％から約１００％であることを特徴とする請求項１１に記載のせん断−カレンダ加工装置。
【請求項１４】
前記回転可能ロールの外面は、ポリマー材料を含むことを特徴とする請求項１１に記載のせん断−カレンダ加工装置。
【請求項１５】
螺旋状に巻いてロールにした少なくとも２つのプライを含む多重プライティッシュ、
を含み、
前記巻きロールは、約９．０ｍｍよりも小さいＫｅｒｓｈａｗロール堅さ、及び約９ｃｃ／ｇよりも大きいロール嵩を有し、
前記ティッシュは、約３５ｇｓｍよりも大きい完全乾燥坪量を有し、
前記ティッシュは、更に、該ティッシュの少なくとも一方の外部側面上で約２．０ｍｍ／ｍｍよりも大きいファズ・オン・エッジを有し、
前記ティッシュは、更に、約５００グラム／３インチよりも大きい幾何平均引張強度を有する、
ことを特徴とするロールティッシュ製品。
【請求項１６】
前記多重プライティッシュには、実質的にピン穴がないことを特徴とする請求項１５に記載のティッシュ製品。
【請求項１７】
パルプ繊維を含む第１のティッシュウェブを準備する段階と、
回転ロールの外面と対向する移動表面との間に形成されたニップを通して前記第１のティッシュウェブを運ぶ段階と、
を含み、
前記ロールの外面及び前記対向する表面は、前記ニップ内を異なる速度で移動し、該ニップは、前記第１のティッシュウェブをカレンダ加工しながら、同時に該ウェブの一方の側面のファズ・オン・エッジ特性を増大させるのに十分なせん断力を該ウェブに及ぼすようにし、
前記第１のティッシュウェブに第２のティッシュウェブを組み合わせて多重プライティッシュ製品を形成する段階、
を更に含み、
増大したファズ・オン・エッジ特性を有する前記第１のティッシュウェブの前記一方の側面が、前記ティッシュ製品の外部側面を形成するようにする、
ことを特徴とするせん断−カレンダ加工方法。
【請求項１８】
前記多重プライティッシュ製品を螺旋状に巻いてロール製品にする段階を更に含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記ティッシュ製品は、約３５ｇｓｍよりも大きい完全乾燥坪量を有し、
前記ロール製品は、約９ｃｃ／ｇよりも大きいロール嵩を有し、前記外部側面は、約２．０ｍｍ／ｍｍよりも大きいファズ・オン・エッジを有する、
ことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記ロールの外面及び前記対向する外面は、５％と１００％の間の速度差で移動することを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記第２のティッシュウェブはまた、回転ロールの外面と対向する移動表面との間に形成されたニップを通って運ばれ、
前記ロールの外面及び前記対向する表面は、前記ニップ内を異なる速度で移動し、該ニップは、前記第２のティッシュウェブをカレンダ加工しながら、同時に該第２のウェブの一方の側面のファズ・オン・エッジ特性を増大させるのに十分なせん断力を該ウェブに及ぼし、増大したファズ・オン・エッジ特性を有する該ウェブの該側面はまた、前記ティッシュ製品の外面を形成するようにする、
ことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月24日(2006.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２７】
請求項２４〜２６のいずれか一項に記載の支持装置において、前記柱部分間の隙間は、前記タービン装置（３）を制御するのに用いる電力及び計装ケーブル（４３）を、前記タービン装置（３）を保守点検するのに用いる液圧又は空気圧ホースと一緒に、前記タービン支持アセンブリ（２，１４）と前記関連する支持柱（１）の上方部分（８）との間に配置するのに利用されることを特徴とする支持装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
好適には、前記柱部分間の隙間は、前記タービン装置を制御するのに用いる電力及び計装ケーブルを、前記タービン装置を保守点検するのに用いる液圧又は空気圧ホースと一緒に、前記タービン支持アセンブリと前記関連する支持柱の上方部分との間に配置するのに利用される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図１〜図４を参照する。これらの図は、タービンアセンブリ２を装架するための支持柱１を示す。支持柱１の下端は川／海底ＳＢに埋め込まれ、支持柱１はその上端が水面ＷＬより上であるような長さである。図１〜図４において、タービンアセンブリは２つのタービン装置３を包含するものと示されており、これらの２つのタービン装置３は水平のウィング様支持構体４の両末端の各々にそれぞれ装架されている。支持構体４は、流線形断面の外側ハウジング（図示せず）内の内部けた（図示せず）を包含する。支持構体４は、支持柱１の長さ方向に移動可能なカラー様スリーブ５により担持されている。支持構体４の形状は、例えば、支持構体の表面を横切る水に好ましくない水ドラグ作用が発生するのをできる限り減少せしめると共に支持構体の後縁での水伴流を最小にするのを助長するような形状とされる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
図７、図７Ａ、図８及び図８Ａは、５つのタービン装置３を包含するタービンアセンブリ１４が、図１〜図６に示した支持柱１と構成が同じである２つの支持柱１により支持されていると共に支持構体４と構成が同じである単一の支持構体１５の手段によって、図１〜図６のタービン装置と関連して説明したと同じ方法によりどのようにして取り付けられるかを示す。支持構体１５は、前述した実施例と同じように、その両末端の各々にタービン装置３を装架しているが、更に３つのタービン装置３を２つの関連する支持柱１間の支持構体１５の長さに沿って一緒に装架している。２つの支持柱１は、もし所望するならば、支持柱の上方部分８の上端間に設けられる架橋部材１６により架橋することができる。これらの２つの支持柱の構成は前述した支持柱の構成と同じであるので、これらの支持柱の更なる説明は必要ないと考える。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
図１７は、どのようにしてタービンアセンブリを主けた又はクロスヘッド（支持構体４／１５の主けたに取り付けられる）に取り付けられているケーブル又はチェーン４１を使用することにより上昇させることができるかを示す。それぞれ図１７のＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ線の拡大断面図である図１８及び図１９において、ケーブル又はチェーン４１は細かくハッチングを入れた円形の断面で表されている。図１９では例示のために４つのケーブルが用いられているが、それ以上又はそれ以下のケーブル又はチェーンを実際において用いることができる。電力及び計装ケーブル４３は、電力装置を保守点検するために必要な液圧又は空気圧ホースと一緒に、リフティングケーブル又はチェーン間の支持柱の上方部分の中央部に配置され、これらのケーブル４３はハッチングを入れてない円形の断面で示されている。図１８に示されているように、これらのケーブル４３は適当なプーリ及び／又はウィンチドラム４６に係合する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
図１７の側面図は、支持柱１の上方部分８の頂部であって最も高い水及び波面から離れている位置に設けられているハウジング１３内に設けられているケーブル案内プーリ／ウィンチ４４を示す。これらのプーリ／ウィンチは、タービンアセンブリが上昇されたときにケーブル又はチェーン４１がドラム（図示せず）に巻き上げられるが、又は選択的に、特にチェーンが用いられている場合に、ウィンチプーリ（滑りを防止するために歯又は他の形の摩擦グリップを使用する、図示していないプーリにより係合される）を通過するように配設され、これらのケーブル／チェーンが支持柱１の上方部分８の中央隙間１１を上昇させられるにしたがって、ケーブル／チェーンのルーズ端は“Ｄ”形断面の柱部分９及び１０の内部を下降することができる。電気ケーブルは、分離することができる。選択的に、特別のケーブルのループ（図示せず）を、支持構体４／１５が上昇させられるときに、ハウジング１３内又は支持柱１の柱部分９及び１０の上方区域内に積み込むことができるように設けることができる。図１８は、タービンアセンブリ２又１４の所望する目的を達成するためにリフティングウィンチをどのようにして配置することができるかを示し、タービンアセンブリは一対の外側ケーブル又はチェーンにより上昇させられ、また、すべて電力及び計装ケーブルのループ又は端及び接続部はピックアップされて貯蔵される。２つのウィンチプーリ又はドラムがリフティングケーブル又はチェーンのために必要とされるけれども、しかし、単一のプーリ又はドラムでもリフティングケーブル又はチェーンを取り扱うことができることを認識されよう。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2006508290.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2006508290.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月4日(2006.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空処理プロセスによって処理された表面を備える基板の製造方法において、表面が処理結果の所定の平面分布を有する方法であって、
他の領域のプラズマ密度と異なるプラズマ密度の顕著な領域を有する局所的に不均一な密度分布を有するプラズマ放電が確立され、
基板が不均一な密度分布のプラズマ放電の作用にさらされ、
処理結果の分布が、
不均一な密度分布と基板との所定の相対運動の確立と、
放電を供給する電気出力信号の所定の時間的変化および／または基板をバイアス電圧に接続する任意で与えられる別の電気信号の確立とによって確立され、前記電気出力信号または前記別の電気信号はＡＣ信号である場合は、前記信号の前記所定の時間的変化はその変調を示し、さらに前記分布は、
前記変化および前記運動の設定によって確立される、方法。
【請求項２】
優れた極大密度を有する少なくとも１つの領域を有するプラズマ放電が確立される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
不均一な密度分布と基板との所定の相対運動が、放電が確立される真空受容体に対する基板の移動によっても少なくとも実現される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
所定の相対運動が、放電が作られる真空受容体に対する不均一な密度分布の所定の移動によって実現される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
不均一な密度分布も磁界を利用して少なくとも一緒に作られる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
放電が確立される受容体の中で局所的に磁界分布が移動される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
プラズマ放電および／またはバイアス印加が、ＤＣ、ＡＣ、ＤＣおよび重畳的なＡＣ電
源を利用して発生される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
基板がＤＣ、ＡＣ、ＤＣおよび重畳的なＡＣ電源を利用してバイアス電圧に置かれる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
真空処理プロセスがマグネトロンスパッタプロセスであり、所定の相対運動がターゲットスパッタ面に対するマグネトロントンネル磁界の所定の移動を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
所定の相対運動と所定の時間的変化とがそれぞれ周期的になるよう確立され、相対運動と変化が同期する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
放電を利用して固形物が処理雰囲気中に遊離され、前記雰囲気中に反応性ガスが入れられ、表面上の固形物と反応性ガスの成分との間の化合比の分布が処理結果として設定される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
処理結果は表面のコーティングである、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
処理結果が処理表面のエッチングである、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
処理終了前に処理中間結果が測定され、公称処理中間結果と比較され、それによって比較結果の関数として所定の相対運動および／または時間的変化が再調整される、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
処理中間結果の測定が真空遮断なしに行われる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
測定が原位置で基板処理中に行われ、測定結果が測定制御変数として、所定の相対運動および／または時間的変化を処理結果調節用の訂正変数として設定する制御回路に供給される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
基板が処理中および真空受容体に対して固定して保持される、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
担体の所定の表面領域に沿って所定の層厚分布を有するコーティングされたワークピースの製造のための、請求項１に記載の方法の使用。
【請求項１９】
表面音波（ＳＡＷ）または「体積音波」“ｂｕｌｋ  ａｃｏｕｓｔｉｃ  ｗａｖｅｓ”（ＢＡＷ）に基づいて作動するコンポーネントの製造のための、請求項１に記載の方法の使用。
【請求項２０】
基板担体とプラズマソースとを備えるプラズマ処理チャンバであって、プラズマ処理チャンバは多分割ターゲットとともにマグネトロンスパッタソースによって形成され、またはその中で基板担体が可動でなく、処理チャンバ内に不均一な磁界を発生し、制御可能の駆動装置配列と作用接続される磁石配列が設けられ、該磁石配列を利用して不均一に分布された磁界がチャンバ内で制御されて移動され、さらに制御可能の発生器配列と接続されるプラズマ放電区間が設けられている、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２１】
制御可能の駆動装置配列がチャンバ内で不均一に分布された磁界の周期的移動を発生し、発生器配列が周期的出力信号を発生し、発生器配列と駆動装置配列とが同期されていることを特徴とする、請求項２０に記載のプラズマ処理チャンバ。
【請求項２２】
制御可能の駆動装置配列がマグネトロン磁石配列の駆動装置配列であることを特徴とする、請求項２１に記載のプラズマ処理チャンバ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月20日(2006.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
光電子マルチチップモジュールを作製する必要とは、パッケージの電子回路と「光学ベンチ」部分との光相互接続を実現することである。これを行う一つの方法では、モジュールの電子部分と一体化され、該電子部分により制御される垂直空洞式表面発光レーザー（ＶＣＳＥＬ＝ｖｅｒｔｉｃａｌｃａｖｉｔｙ ｓｕｒｆａｃｅｅｍｉｔｔｉｎｇ ｌａｓｅｒ）を設け、そのレーザー光をモジュールの光学部分のベースに垂直に差し向ける。レーザー光の方向を垂直方向から水平方向に変え、こうしてレーザー光を光学ベンチに差し向けるには、角度ほぼ４５°の「ミラー」が必要である。このミラーは、幾つかの理由から、従来の方法で製造するのが困難である。ミラーは、ＶＣＳＥＬの水平表面に関して４５°傾斜した表面をもたなければならない。ミラーをＶＣＳＥＬの上方に配置するとき、ミラーはＶＣＳＥＬから投射された垂直な光ビームを水平方向に反射し光学ベンチを含むポリマー導波路に入れる。さらに、ミラー表面は、光伝送損失を制限するために極めて平滑でなければならず、また下側のＶＣＳＥＬに精密にアラインメントしなければならない。プレーナーポリマー導波路で遭遇する別の問題として、光伝送損失を制限するために導波路構造のエッジを平滑にする必要がある。導波路構造を画定するのに通常の反応性イオンエッチング技術を用いると、発生するエッジが粗すぎて単一モード光伝送に使用できないおそれがあると考えられている。従来、角度４５°のミラーは、コアポリマー材料を適切な角度でレーザーアブレーションし、グレイスケールマスクを用いて反応性イオンエッチングするか、必要な構造をポリマー表面にエンボス加工することによって画定されている。導波路構造は、種々の方法で形成でき、例えば適当な基板上に下側クラッド層を塗工し、エンボス加工、エッチング又は現像によりクラッド層にトレンチを形成し、トレンチにコア材料を充填し、上側クラッド層で上塗りすることにより形成できる。リッジ導波路は、基板に下側クラッド及びコア層を塗工し、エッチング又は現像によりコアをパターン形成してリッジを形成し、上側クラッド層で上塗りすることにより形成できる。プレーナー導波路は、基板に下側クラッド及びコア材料を塗工し、ＵＶ露光により導波路を画定し、その上に上側クラッド層を堆積することにより形成できる。未露光コアとその周囲のクラッド層との間で露出コア区域への反応物質の拡散が起こり、その屈折率（以下ＲＩと記すこともある）を変え、導波路を形成する。
【特許文献１】米国特許第５４４２４８２号