【手続補正書】
【提出日】平成19年8月31日(2007.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口内で第１の位置から第２の位置にむけて物質が通過するための、サンプル・セル（１１０）のアレイを含むプレート（１００）を形成する方法であって、
２つの開口部を１組とする、複数組の前記開口部を第１の層内に形成するステップであって、各サンプル・セルが少なくとも１組の前記開口部を含むステップと、
少なくとも１つの第２の層内に前記複数組の前記開口部に接続され、前記開口部に対応する位置に複数組の垂直開口部を形成するステップと、
前記第１の層および前記少なくとも１つの第２の層の下に配置された第３の層に、前記複数組の垂直開口部（１２１、１２３）のいくつかを接続する少なくとも１つの水平チャネル部（１２６）を形成するステップと、
前記第１の層、前記少なくとも１つの第２の層、および前記第３の層を組み立てて、Ｕ型構造（１２７）の開口を複数個含むプレートを形成するステップと、
を有する、方法。
【請求項２】
前記第３の層が前記Ｕ型構造の底面を構成する中実層の上に配置される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第３の層が前記水平チャネル部を含み、さらに前記Ｕ型構造の底面を構成する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記各層のうちの少なくとも２つの層を焼結によって結合するステップをさらに有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記Ｕ型構造の底面を形成する前記第３の層が、サンプル材料を保持するために適合された上部表面を有する除去可能層（６８０）である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記Ｕ型構造の底面を形成する前記第３の層が、光を通すために適合されている、または透明である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記複数組の垂直開口部のうちの少なくとも１組が除去可能ライナを含み、前記除去可能ライナに付着している材料を処理して前記プレートから取り除くことができる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記除去可能ライナが試薬用のキャリアであり、運用時に前記試薬が加えられた流体の１つの成分と反応する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記複数組の垂直開口部のうちの少なくとも１組が、すすぎ（リンス）流体を貯蔵するための空間に接続される、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記複数組の垂直開口部のうちの１組の内部表面に付着している材料が試薬用のキャリアであり、運用時に前記試薬が加えられた流体内の１つの物質と反応する、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記垂直開口部および前記Ｕ字構造にある反応領域が、前記反応領域の外側の領域まで泡が上昇するように適合されている、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記複数組の垂直開口部のうちの第１の組が毛管作用のための第１の引力を有する表面材料を含み、前記複数組の垂直開口部のうちの第２の組が毛管作用のための第２の引力を有する表面材料を含み、それにより、前記第１および第２の組の垂直開口部内に異なる流体を選択的に挿入することができる、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
１組の開口部内で複数の試薬を反応させるためのサンプル・セル（１１０）のアレイを含むサンプル保持プレート（１００）であって、
２つの開口部を１組とする、複数組の開口部を含む第１の層であって、各サンプル・セルが前記２組の開口部のうちの１組を含む、第１の層と、
前記第１の層内の前記複数組の開口部に接続され、前記開口部に対応する複数組の垂直開口部（１２１、１２３）を含む少なくとも１つの第２の層と、
前記第１の層および前記少なくとも１つの第２の層の下に配置され、少なくとも１つの水平チャネル部（１２６）を含み、前記水平チャネル部によって前記複数組の垂直開口部のうちのいくつかを接続して形成されるＵ型構造（１２７）を含む第３の層と、
を有する、サンプル保持プレート。
【請求項１４】
前記垂直開口部のうちの第１の開口部が、ある量の第１の試薬を貯蔵するために適合された毛管保持バルブ（８３０）を有し、
前記垂直開口部のうちの第２の開口部が、第２の試薬を受け入れ、前記第２の試薬を前記第１の試薬と接触させるために適合されている、請求項１３に記載のサンプル保持プレート。
【請求項１５】
前記Ｕ型構造の底面を形成する前記第３の層が、サンプル材料を保持するために適合された上部表面を有する除去可能層（６８０）である、請求項１４に記載のサンプル保持プレート。
【請求項１６】
前記Ｕ型構造の底面を形成する前記第３の層が透明である、請求項１３に記載のサンプル保持プレート。
【請求項１７】
前記複数組の垂直開口部のうちの少なくとも１組が、すすぎ流体を貯蔵するための空間に接続される、請求項１３に記載のサンプル保持プレート。
【請求項１８】
サンプル・ホルダのアレイを含むプレート（５０）を操作するための支持操作構造（１５０）であって、
前記プレートと機械的に接触する１組の支持部を有し、前記プレートを基準位置に位置決めするための位置合わせ手段（１３０）と、
支持フレームに対して前記１組の支持部を移動させるための１組のアジャスタであって、それにより前記１組の支持部が前記支持フレームに対して移動する１組のアジャスタと、
を有する、支持操作構造。
【請求項１９】
前記１組の支持部をＸ−Ｙ平面内でシフトし、それにより前記プレートを前記Ｘ−Ｙ平面内でシフトするように配置された前記１組のアジャスタを運搬する支持フレーム（１１０）を有する、請求項１８に記載の支持操作構造。
【請求項２０】
材料ハンドラによって前記プレートをつかむことができるように、前記プレートを前記構造の上に持ち上げるための手段をさらに有する、請求項１９に記載の支持操作構造。
【請求項２１】
前記支持フレーム（１１０）が、前記プレートの下部表面に形成された前記サンプル・ホルダの開口部に気体圧力を供給するための手段を有する、請求項１９に記載の支持操作構造。
【請求項２２】
前記支持フレーム内で気体圧力を供給するための前記手段のうちの少なくともいくつかが、大気圧未満の気体圧力を供給するための手段を有し、それにより、前記サンプル・ホルダ内に配置された流体が前記サンプル・ホルダから気体圧力を供給するための前記手段内に流出する、請求項２１に記載の支持操作構造。
【請求項２３】
前記１組の支持部が、前記プレート上で光学インターフェースを支持するための手段を有する、請求項１８に記載の支持操作構造。
【請求項２４】
前記支持フレームが、第２のインターフェースを点在させた第１のインターフェースの下部インターフェース・アレイを有し、前記第１および第２のインターフェースがサンプル・ホルダの前記アレイの位置に対応する位置を有し、
前記第１のインターフェースが第１の位置で前記サンプル・ホルダのうちの第１の組に出会い、前記第１のインターフェースが第２の位置で前記サンプル・ホルダのうちの第２の組に出会い、前記第２のインターフェースが前記第１の位置で前記サンプル・ホルダのうちの前記第２の組に出会い、前記第２のインターフェースが前記第２の位置で前記サンプル・ホルダのうちの前記第１の組に出会うように、前記プレートおよび前記下部インターフェース・アレイの相対位置をシフトするための手段を前記支持フレームがさらに有し、それにより、前記下部インターフェースをシフトすることにより前記第１および第２のインターフェースをともに前記１組のサンプル・ホルダのすべてに適用することができる、
請求項１８に記載の支持操作構造。
【請求項２５】
サンプル・ホルダのアレイを含むプレートを操作するための支持操作構造（１５０）であって、
前記プレートと機械的に接触する１組の支持部（４５）を有し、前記プレート（５０）を基準位置に位置決めするための位置合わせ手段と、
前記プレートの下部表面に隣接して位置決めされた１組のインターフェース・モジュールであって、前記１組のインターフェース・モジュールのそれぞれが前記プレートの前記下部表面内の開口部に気体圧力を加えるための手段（４２、４４）を含む１組のインターフェース・モジュールと、
を有する、支持操作構造。