【手続補正書】
【提出日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液から有効な量の１つ以上の成分を除去し得る、高分子組成物を生成する方法であって、該方法は、以下：
フェニル基を含む樹脂材料を調製する工程；
該フェニル基上でアセチル基を形成する工程；および
ケトアルデヒド基を形成するために、スルホキシドおよび酸と、該アセチル基とを反応させる工程を含む、１段階の反応を介して、該アセチル基を酸化する工程；
を包含する、方法。
【請求項２】
前記樹脂材料が、ポリスチレン、架橋型ポリスチレン、ジビニルベンゼンおよびそれらの混合物からなる群より選択されるポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記樹脂材料が、該樹脂材料の約０．０１重量％〜９９．９重量％の範囲の量で、スチレンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記アセチル基が、フリーデル−クラフト反応を通して形成された、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記フリーデル−クラフト反応が、前記樹脂材料と、ジクロロエタンおよび塩化アセチルとを反応させる工程を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記スルホキシドが、脂肪族スルホキシド、ジメチルスルホキシドおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記酸が、ハロゲン水素酸、臭化水素酸、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記酸化工程が、前記酸を加えた後、還流条件下で進行される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、ここで、前記高分子組成物が、生理的溶液から前記有効な量の１つ以上の成分を除去し得、かつ、該成分は、求核部分、電子豊富な化学基、ルイス塩基、ブレンステッド塩基、ハロゲン化物を含むアニオン、自由電子対を有する１つ以上のヘテロ原子（例えば、硫黄、窒素、酸素）を含む分子またはラジカル、尿素、クレアチニン、尿酸、β−２  ミクログロブリン、代謝性廃棄物、タンパク様物質、生物学的物質、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、方法。
【請求項１０】
芳香族α−ケトアルデヒドを含む、高分子組成物を調製する方法であって、該方法は、以下：
フェニル基を含む重合材料を調製する工程；
該重合材料をアセチル化し、それによって、アセチル基を該フェニル基に結合させる工程；ならびに
該アセチル基と、スルホキシドおよびハロゲン水素酸とを反応させる工程を含む１段階の反応を介して該アセチル基を酸化し、それによって、α−ケトアルデヒドを形成する工程；
を包含する、方法。
【請求項１１】
前記スルホキシドが、脂肪族スルホキシド、ジメチルスルホキシドおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ハロゲン水素酸が、臭化水素を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記重合材料が、ポリスチレン、架橋型ポリスチレン、ジビニルベンゼン、多孔性樹脂材料、巨大多孔性樹脂材料、非多孔性樹脂材料、ゲル樹脂材料およびそれらの混合物からなる群より選択される樹脂材料を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記高分子組成物が、有効な量のγ線照射で滅菌される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
結合性材料を生成する方法であって、該方法は以下：
樹脂材料を調製する工程；
アセチル基を形成する工程；ならびに
グリオキサール基を形成するために、スルホキシドおよびハロゲン水素酸と、該アセチル基とを反応させる工程を含む、１段階の反応を介して、該アセチル基を酸化する工程であって、ここで、該結合性材料が、生理的溶液から有効な量の１つ以上の成分を除去し得る工程；
を包含する、方法。
【請求項１６】
前記グリオキサール基が、水酸化グリオキサール基、非水酸化グリオキサール基、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記成分が、求核部分、電子豊富な化学基、ルイス塩基、ブレンステッド塩基、ハロゲン化物を含むアニオン、自由電子対を有する１つ以上のヘテロ原子（例えば、硫黄、窒素、酸素）を含む分子またはラジカル、尿素、クレアチニン、尿酸、β−２  ミクログロブリン、代謝性廃棄物、タンパク様物質、生物学的物質、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記結合性材料が、血液透析治療の間、１つ以上の前記成分を除去し得る、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記スルホキシドが、ジメチルスルホキシドを含み、かつ前記ハロゲン水素酸が、臭化水素を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
溶液から有効な量の１つ以上の成分を除去し得る、高分子組成物であって、該高分子組成物は、アセチル化型高分子組成物と、スルホキシドおよびハロゲン水素酸とを反応させて、それによってα−ケトアルデヒド基を形成する工程を含む、１段階の反応を介した、該アセチル化型高分子組成物の酸化によって形成されたフェニル基に結合された、α−ケトアルデヒド基を含む、高分子組成物。
【請求項２１】
前記スルホキシドが、ジメチルスルホキシドを含み、かつ前記ハロゲン水素酸が、臭化水素を含む、請求項２０に記載の高分子組成物。
【請求項２２】
前記高分子組成物が、生理的溶液から有効な量の成分を除去し得る請求項２０に記載の高分子組成物であって、ここで、該成分が、求核部分、電子豊富な化学基、ルイス塩基、ブレンステッド塩基、ハロゲン化物を含むアニオン、自由電子対を有する１つ以上のヘテロ原子（例えば、硫黄、窒素、酸素）を含む分子またはラジカル、尿素、クレアチニン、尿酸、β−２  ミクログロブリン、代謝性廃棄物、タンパク様物質、生物学的物質、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、高分子組成物。
【請求項２３】
前記高分子組成物が、前記溶液から前記成分を除去するためのデバイスの中で使用される、結合性材料を含む、請求項２０に記載の高分子組成物。
【請求項２４】
前記デバイスが、透析治療の間、透析液から１つ以上の成分を除去し得る系の一部分である、請求項２３に記載の高分子組成物。
【請求項２５】
透析治療において生理学的流体から１つ以上の成分を除去するための組成物であって、該組成物が、高分子組成物を含み、該高分子組成物は、アセチル化型高分子組成物と、スルホキシドおよびハロゲン水素酸とを反応させ、それによってα−ケトアルデヒド基を形成する工程を含む、１段階の反応を介した、該アセチル化型高分子組成物の酸化によって形成されたフェニル基に結合された、α−ケトアルデヒド基を含む、組成物。
【請求項２６】
前記生理学的流体が、患者から、前記デバイスと接触する流体の中にある該デバイスへと通されている透析液を含む、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
前記成分が、求核部分、電子豊富な化学基、ルイス塩基、ブレンステッド塩基、ハロゲン化物を含むアニオン、自由電子対を有する１つ以上のヘテロ原子（例えば、硫黄、窒素、酸素）を含む分子またはラジカル、尿素、クレアチニン、尿酸、β−２  ミクログロブリン、代謝性廃棄物、タンパク様物質、生物学的物質、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
前記スルホキシドが、ジメチルスルホキシドを含み、かつ前記ハロゲン水素酸が、臭化水素を含む、請求項２５に記載の組成物。