【手続補正書】
【提出日】平成19年3月19日(2007.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光波を伝送して、光波によって供給される放射圧を伝送して反射表面に衝撃を与える方法であって、
光波の伝播を閉じ込めるための閉じ込めチャンバを準備するステップと、
前記閉じ込めチャンバの第１の位置に第１の反射表面を有する可動反射鏡を、及び前記閉じ込めチャンバ内の第２の位置に第２の反射表面を位置決めするステップであり，
前記第１及び第２の反射表面の位置及び配向は、少なくとも部分的に、所定の反射光路を限定するように予め定められるステップと、
第１のプリズムを準備し、この第１のプリズムを、第１のプリズムの少なくとも一つの面が、閉じ込めチャンバの境界を形成するように位置決めするステップを含み、
前記方法は、前記閉じ込めチャンバ内へ光波を導入するステップを更に含み、
前記導入ステップは、第１のプリズムの前記一つの面を通して第１のプリズム内に光波を向けて、光波が前記一つの面を通して閉じ込めチャンバに入るようにするステップを含み、
前記導入ステップは、前記導入された光波を最初に前記反射表面の一方の方向へ導き、それによって最初に前記反射性表面に接触させて前記最初の反射表面に放射圧を作用させ、次いで前記最初の反射表面に対してほぼ垂直な角度で反射させ、それによって前記反射した光波が前記反射表面の他方に対してほぼ垂直な角度で反射するように前記反射した光波を前記所定の通路に沿って走行させ、前記光波が再度前記最初の反射表面に対してほぼ垂直な角度で反射するように、且つ前記光波が所定の光路に沿って前記反射表面の間を複数のサイクルにわたって伝播して前記最初の反射表面に放射圧を繰り返し作用させるように前記最初の反射光路の方向に戻し、それによって前記最初の反射表面に衝撃を与えることを含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記最初の反射表面は前記第１の反射表面であり、前記導入された光波を導くステップは、前記光波を前記第１の反射表面の方向へ導くことを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記位置決めステップは、第２の可動反射鏡を前記閉じ込めチャンバ内に位置決めするステップを含み、前記第２の反射鏡は前記第２の反射表面を有していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記導入された光波を導くステップは、前記光波を前記第２の反射表面に繰り返し接触させて前記第２の反射表面に放射圧を繰り返し作用させ、それによって前記第２の反射表面を第２の所定の通路に沿って走行させて機械的仕事を発生させることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記導入ステップの後に、前記１つの面を閉じて前記導くステップが前記光波を前記１つの面において繰り返し反射させるステップと、
を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のステップ。
【請求項６】
前記位置決めステップは、第２の可動反射鏡を前記閉じ込めチャンバ内に位置決めするステップを含み、前記第２の反射鏡は前記第２の反射表面を有し、前記導くステップは前記光波を前記第１の反射表面、前記第２の反射表面、及び前記プリズムの前記１つの面の間で伝播させることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
第２のプリズムを準備し、前記第２のプリズムをその１つの面が前記第１のプリズムの１つの面に近接して位置するように位置決めするステップを更に含み、
前記第１の面を開くステップは、前記第１のプリズムの１つの面を前記第２のプリズムの１つの面に対して圧縮し、前記圧縮された両面に透明な界面を形成させることを含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】
複数のサイクルが終了した後に、前記第１のプリズムの前記１つの面を開くステップを繰り返すステップと、別の光波に関して前記導入ステップを繰り返すステップと、前記第１のプリズムの前記１つの面を閉じるステップを繰り返すステップとを更に含み、前記第１の、または前記第２の反射表面への繰り返し接触が放射圧をもたらし、前記反射表面を所定の通路に沿って運動させて機械的仕事を発生させることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記可動反射鏡はピストン及びシリンダアセンブリと作動的に組合わされ、前記第１の反射表面の運動が前記ピストンを所定の通路に沿って運動させて機械的仕事を発生させることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
光波を伝送して光波によって供給される放射圧を伝送して反射表面に衝撃を与える方法であって、
光波の伝播を閉じ込めるための閉じ込めチャンバを準備するステップと、
前記閉じ込めチャンバの第１の位置に第１の反射表面を有する可動反射鏡を、及び前記閉じ込めチャンバ内の第２の位置に第２の反射表面を位置決めするステップと、
を含み、
前記第１及び第２の反射表面の位置及び配向は、少なくとも部分的に、所定の反射光路を限定するように予め定められており、
前記方法は、前記閉じ込めチャンバ内へ光波を導入するステップを更に含み、
前記導入ステップは、前記導入された光波を一方の反射表面の方向へ導き、それによって前記光波を所定の光路に沿って前記第１の反射表面と前記第２の反射表面との間で複数のサイクルにわたって伝播させ、それによって前記光波を前記第１の反射表面に接触させて前記第１の反射表面に放射圧を作用させ、次いで前記最初の反射表面に対してほぼ垂直の角度で反射させることを含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
別の光波に関して前記導入ステップを繰り返し、それによって前記第１の反射表面に繰り返し接触させて前記光波に放射圧を作用させ、前記第１の反射表面を所定の通路に沿って運動させるステップを更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記位置決めステップは、第２の可動反射鏡を前記閉じ込めチャンバ内に位置決めするステップを含み、前記第２の反射鏡は前記第２の反射表面を有し、前記導入された光波を導くステップは、前記光波を前記第２の反射表面に繰り返し接触させて前記第２の反射表面に放射圧を繰り返し作用させ、それによって前記第２の反射表面を第２の所定の通路に沿って走行させて機械的仕事を発生させることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
プリズムを準備し、前記プリズムの体積が前記閉じ込めチャンバの一部分を形成し且つ前記プリズムの少なくとも１つの面が前記閉じ込めチャンバの境界を形成するように前記プリズムを位置決めするステップを更に含み、前記導入ステップは前記光波を前記１つの面を通して前記プリズム内へ導くことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記導入ステップの前に、前記プリズムの前記１つの面を光学的に開いて前記光波を前記１つの面を通して前記閉じ込めチャンバへ進入させるステップと、
前記導入ステップの後に、前記１つの面を閉じて前記導くステップが前記反射した光波を前記１つの面において繰り返し反射させるステップと、
を更に含むことを特徴とする請求項１３に記載のステップ。
【請求項１５】
第２のプリズムを準備し、前記第２のプリズムをその１つの面が前記第１のプリズムの前記１つの面に近接して位置するように位置決めするステップを更に含み、
前記第１の面を開くステップは、前記第１のプリズムの前記１つの面を前記第２のプリズムの前記１つの面に対して圧縮し、前記圧縮された両面に透明な界面を形成させることを含むことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
光波を伝送して、光波によって供給される放射圧を伝送して反射面に衝撃を与える利装置であって、
光波の伝播を所定の反射光波通路に沿って閉じ込めるように作られている閉じ込めチャンバと、
光波が前記閉じ込めチャンバへ進入することを可能にする開モードで、及び光波が前記閉じ込めチャンバから逃げ出すのを阻止する閉モードで選択的に動作可能な光学スイッチと、
前記閉じ込めチャンバの１つの端に位置決めされている第１の反射表面を有する反射鏡、及び前記閉じ込めチャンバの第２の端に位置決めされている第２の反射表面と、
を含み、
前記所定の光路は、第１の反射表面と前記第２の反射表面との間を伸び、
前記光路を前記第１の反射表面に対して繰り返し接触させ、放射圧を前記第１の反射表面に繰り返し作用させて前記可動反射鏡を所定の通路に沿って走行させることを可能にしそれによって機械的仕事を発生させる、
ことを特徴とする装置。
【請求項１７】
前記閉じ込めチャンバの第２の端に位置決めされている第２の可動反射鏡を更に含み、前記第２の反射鏡は前記第２の反射表面を有していることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記閉じ込めチャンバ内に位置決めされている第１のプリズムを更に含み、前記第１のプリズムの体積が前記閉じ込めチャンバの一部分を形成し且つ前記第１のプリズムの１つの面が前記光学スイッチのゲートを形成し、
前記閉じ込めチャンバに近接して位置決めされている第２のプリズムを更に含み、前記第２のプリズムの１つの面は前記第１のプリズムの前記１つの面に近接して位置し、前記第１のプリズムと前記第２のプリズムとの間を圧縮することにより前記光学スイッチが前記開モードと前記閉モードとの間で動作する、
ことを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
光波を伝送して、光波によって供給される放射圧伝送して反射面に衝撃を与える方法であって、
光波の伝播を閉じ込めるための閉じ込めチャンバを準備するステップと、
反射表面を有する可動反射鏡を前記閉じ込めチャンバの第１の位置に位置決めするステップと、
プリズムを準備し、このプリズムを、このプリズム体積が、閉じ込めチャンバの一部を形成し、前記プリズムの少なくとも一つの面が閉じ込めチャンバの境界を形成するように設置するステップと、
光波を前記閉じ込めチャンバ内へ導入するステップであって、前記光波を前記反射表面の方向へ導き、それによって前記光波を前記反射表面に放射圧を作用させる導入ステップとを含み、
前記導入ステップは、光波を前記一つの面を通してプリズム内に向けるステップと、
前記導入ステップの前に、光波が前記一つの面を通して閉じ込めチャンバに入るように、プリズムの前記一つの面を光学的に開けるステップと、
前記導入ステップの前に、前記向けるステップによって、反射光波が繰り返し前記一つの面で反射されるように、前記一つの面を閉じるステップを含む
ことを特徴とする方法。
【請求項２０】
別の光波に関して前記導入ステップを繰り返し、それによって前記光波を前記第１の反射表面に繰り返し接触させて放射圧を作用させ、前記第１の反射表面を所定の通路に沿って運動させるステップを更に含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記位置決めステップは、第２の可動反射鏡を前記閉じ込めチャンバ内に位置決めするステップを含み、前記第２の反射鏡は第２の反射表面を有し、前記導入された光波を導くステップは、前記光波を前記第２の反射表面に繰り返し接触させて前記第２の反射表面に放射圧を繰り返し作用させ、それによって前記第２の反射表面を第２の所定の通路に沿って走行させることを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
第２のプリズムを準備し、前記第２のプリズムをその１つの面が前記第１のプリズムの前記１つの面に近接して位置するように位置決めするステップを更に含み、
前記第１の面を開くステップは、前記第１のプリズムの前記１つの面を前記第２のプリズムの前記１つの面に対して圧縮し、前記圧縮された両面に透明な界面を形成させることを含む、
ことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
光波を伝送する方法であって、
第１の面を有する第１の透明光学媒体を準備するステップと、
第２の面を有する第２の透明光学媒体を前記第１の媒体に対して前記第１の面を前記第２の面から離間させ、それによって前記第１の媒体と前記第２の媒体との間に第３の光学媒体が得られるように位置決めするステップと、
を含み、
前記第１の媒体が前記第２の媒体の屈折率と実質的に類似した屈折率を有し、
前記方法は更に、
前記第２の媒体を前記第１の媒体に対して圧縮し、それによって前記第３の媒体を実質的に排除するステップ、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２４】
前記第１の透明光学媒体及び前記第２の光学媒体は、同一の材料であることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記圧縮ステップは、前記第１及び第２の媒体の一方に圧電効果を印加することを含むことを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図２は、ピストン２１０及び鏡２１２を含む可動アセンブリの一実施の形態の概要図である。このアセンブリは、質量m（及び特定の面積）及び反射率Ｅを特徴としている。動作中、距離ｄを走行して圧縮境界２１４を通り、副プリズム２０７内へ進入する放射によって、鏡面は光束ｐ1で照射される。放射圧ｐは、集合的に、鏡２１２及びピストンアセンブリ２１０に作用する機械的力を発生する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
図７の実施の形態においては、主プリズム７０６は八角形の形状であり、従って、８つの面または壁７０６ａ−７０６ｈ（それらの若干だけが示されている）を有している。先行実施の形態におけるように、主プリズム７０６は石英材料で作ることが好ましい。主プリズム７０６は、第１の面７０６ａから伸びる突起７６０を含み、この突起７６０はビーム入口として役立つ。ビーム入口７６０は、集中した円形の形状を有していることが好ましい。更に、主プリズム７０６の別の面７０６ｃは、副プリズム７０７の前面７０７ｃに接近して、またそれから離間して位置決めされる。前述したように、界面７１４は、本発明によって適切な駆動メカニズムによって動作させられて圧縮境界光スイッチを構成する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
以上のように、光拡張器／収縮器７６２は３つの動作、即ち、光拡張、光反射、及び光収縮を行う。光反射（ＡＡL）は、光ビームＡＡが最大同心状シリンダまで拡張される度に１回発生する。これは、光ＡＡL（反射）の方向を反転させる鏡７８０からの反射によって促される。光ビームが完全に拡張、収縮した時に光スイッチ（圧縮境界界面７１４）が活動化され、それによって閉じ込めるチャンバ７０２は図７gに示すように、2つの方向において充填され得るようになる。図７ｈは、ビーム束が主プリズム７０６内において増倍された後に、鏡７１０及びピストンアッセッブリ（図示せず）に作用する結果として生ずるビームパターンを示している。全ての光が閉じ込めるチャンバ７０２内に注入されると、光スイッチは閉位置に戻されるので、結果として生ずる閉じ込めチャンバ７０２内に閉じ込められる。このように、主プリズム７０６からの光ビーム束の増倍が、より高いパワー出力をもたらす。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2006523079.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６ａ】
2006523079.tif 000002
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７ａ】
2006523079.tif 000003
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７ｅ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７ｅ】
2006523079.tif 000004
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７ｆ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７ｆ】
2006523079.tif 000005