【手続補正書】
【提出日】平成19年6月15日(2007.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電界電子放出材料を製造する方法であって、前記方法が、
a.）シリカ前駆物質をグラファイト粒子に加える工程と、
b.）前記シリカ前駆物質を処理してドープ処理及び／又は大きな欠陥のあるア  モルファス・シリカを製造する工程と、
c.）基体の導電性表面に前記グラファイト粒子を堆積させ、これらのグラファ  イト粒子が少なくとも部分的に前記アモルファス・シリカで被覆されるように  する工程と、
を包含することを特徴とする方法。
【請求項２】  前記グラファイト粒子が、前記導電性表面上に作られた粒子状の突起またはチップとして形成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記方法が、
a.）前記グラファイト粒子を前記シリカ前駆物質と混合して第１の混合物を形成する工程と、
b．）前記第１の混合物を前記導電性表面に塗布する工程と、
c．）前記第１の混合物を処理して前記アモルファス・シリカを混合した前記グラファイト粒子の第２の混合物を製造する工程と、
を包含することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記方法が、
a.）前記グラファイト粒子を前記シリカ前駆物質と混合して第１の混合物を形成する工程と、
b．）前記第１の混合物を処理して前記アモルファス・シリカと混合した前記グラファイト粒子の第２の混合物を製造する工程と、
c．）前記第２の混合物を前記基板の前記導電性表面に塗布する工程とを包含することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記シリカ前駆物質、前記第１の混合物または前記第２の混合物が、スピニング・プロセスによって前記導電性表面に塗布されることを特徴とする請求項１〜４のうちのいずれか１つに記載の方法。
【請求項６】  前記シリカ前駆物質、前記第１の混合物または前記第２の混合物が、スプレイ・プロセスによって前記導電性表面に塗布されることを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】  前記方法が、前記シリカ前駆物質、前記第１の混合物または前記第２の混合物が、印刷プロセスによって前記導電性表面に塗布されることを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】  前記印刷プロセスが、インクジェット式印刷プロセスであることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記印刷プロセスが、スクリーン印刷プロセスあることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】  前記シリカ前駆物質、前記第１の混合物または前記第２の混合物が、リフトオフ・プロセスによって前記導電性表面の選択部位に塗布されることを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項１１】  前記シリカ前駆物質、前記第１の混合物または前記第２の混合物が、液体インクの形をしていることを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項１２】  前記シリカ前駆物質が、ゾル−ゲルを包含することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１つに記載方法。
【請求項１３】  前記ゾル−ゲルが、テトラエチル・オルト珪酸塩から合成されたものであることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  前記ゾル−ゲルが、propan-2-ol溶媒内のシリカを包含することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記ゾル−ゲルが、アセトンを添加したpropan-2-ol溶媒内のシリカを包含することを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  前記シリカ前駆物質が、可溶性前駆物質であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１つに記載方法。
【請求項１７】  前記シリカ前駆物質が、可溶性ポリマー前駆物質であることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  前記可溶性ポリマー前駆物質が、シルセスキオキサン・ポリマーを包含することを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  前記シルセスキオキサン・ポリマーが、溶媒内にβ-クロロエチルシルセスオキサンを包含することを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】  前記シリカ前駆物質が、コロイド・シリカの分散体であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１つに記載方法。
【請求項２１】  前記シリカ前駆物質、前記第１の混合物または前記第２の混合物が、乾燥トナーの形をしていることを特徴とする請求項１〜２０のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項２２】  前記アモルファス・シリカまたは前駆物質が、金属化合物または金属カチオンによってドープ処理してあることを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項２３】  前記金属化合物が、硝酸塩または有機金属の化合物であることを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】  前記アモルファス・シリカが、スズ酸化物またはインジウム・スズ酸化物によってドープ処理してあることを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】  前記アモルファス・シリカが、鉄及び／又はマンガンの化合物によってドープ処理してあることを特徴とする請求項２２，２３又は２４のうちのいずれか１つに記載の方法。
【請求項２６】  前記アモルファス・シリカの前記処理が、加熱することを包含することを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項２７】  前記加熱処理が、レーザで実施されることを特徴とする請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】  前記アモルファス・シリカの前記処理が、紫外線放射への露出を包含することを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項２９】  前記露出が、所定のパターンであることを特徴とする請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】  前記グラファイト粒子が、炭素ナノチューブを包含することを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項３１】  前記グラファイト粒子が、非グラファイト粒子を含み、これらの非グラファイト粒子が、グラファイトで被覆あるいは装飾してあることを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項３２】  前記グラファイトが、プリズム平面をさらすように分子配向されていることを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】  前記アモルファス・シリカの処理が、前記粒子の各々が、前記導電性表面、前記粒子間の第１部位及び／又は前記粒子と電界電子放出材料が配置された環境との間の第２部位に配置された前記アモルファス・シリカの層を有するように行われ、また、電子放出サイトが前記第１及び／又は第２の部位のうち少なくとも或る部位に形成されるように行われることを特徴とする請求項１〜３２のうちいずれか１つに記載の方法。
【請求項３４】  電界電子エミッタが、請求項１〜３３のうちいずれか１つに記載の方法で製造した電界電子放出材料を包含することを方法とする電界電子エミッタ。
【請求項３５】  電界電子放出装置が、請求項３４に記載の電界電子エミッタと、このエミッタが電子を放出するようにさせるために、前記エミッタを電界に被らせる手段と、を包含することを特徴とする装置。
【請求項３６】  電界電子放出装置は、前記電界電子エミッタのパッチ・アレイを有する基板と、整合した孔のアレイを有する制御電極とを包含し、この電極が絶縁層によってエミッタ・パッチの上方に支持されていることを特徴とする請求項３５に記載の電界電子放出装置。
【請求項３７】  前記孔が、スロットの形をしていることを特徴とする請求項３６に記載の電界電子放出装置。
【請求項３８】  電界電子放出装置は、プラズマ・リアクタ、コロナ放出装置、サイレント放電装置、オゾン発生器、電子ソース、電子銃、電子装置、Ｘ線チューブ、真空計、ガス充満装置、又はイオン・スラスタを包含することを特徴とする請求項３５〜３７のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。
【請求項３９】  電界放出エミッタが、装置作動に対し全電流を印加することを特徴とする請求項３５〜３８のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。
【請求項４０】  電界放出エミッタが、装置に対し、スターティング電流、トリガリング電流、またはプライミング電流を供給することを特徴とする請求項３５〜３９のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。
【請求項４１】  電界電子放出装置が、ディスプレイ装置を包含することを特徴とする請求項３５〜４０のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。
【請求項４２】  電界電子放出装置が、ランプを包含することを特徴とする請求項３５〜４０のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。
【請求項４３】  前記ランプが、ほぼ扁平であることを特徴とする請求項４２に記載の電界電子放出装置。
【請求項４４】  前記エミッタが、バラスト抵抗器を経て電気駆動手段に接続され、電流を制限することを特徴とする請求項３５〜４３のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。
【請求項４５】  前記バラスト抵抗器が、前記放出パッチの各々の下方に電気抵抗パッドとして適用されることを特徴とする請求項３６および４４に記載の電界電子放出装置。
【請求項４６】  前記エミッタ材料及び／又は蛍光体が、導電性トラックの１次元又はそれ以上の次元のアレイ上に被覆されており、これらの導電性トラック・アレイが、電子駆動手段によってアドレス指定され、スキャニング照明線を製造するように配置してあることを特徴とする請求項３５〜４５のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。
【請求項４７】  電界電子放出装置が前記電子駆動手段を包含することを特徴とする請求項４６に記載の電界電子放出装置。
【請求項４８】  前記電界エミッタが、気体、液体、固体あるいは真空である環境に配置してあることを特徴とする請求項３５〜４７のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。
【請求項４９】  電界電子放出装置が、光学的に半透明であり、カソードから放出された電子が衝突して電界発光を生じさせるアノードに関連して配置したカソードを包含し、電界発光が光学的に半透明のカソードを通して見ることができるようになることを特徴とする請求項３５〜４８のいずれか１つに記載の電界電子放出装置。