(57)【要約】【課題】  マスククランプの移動量を複数に分割するマスククランプの移動機構およびこの機構を備えた成膜装置を提供する。【解決手段】  マスククランプ２０の移動機構は、有機ＥＬ素子を製造するための成膜装置におけるマスククランプ２０の移動機構であって、有機材料１２の蒸発源１４に対向して配設され、基板とマスク３４とが重ね合わされるチャック１６と、先端部２０ａを鉤型に形成してなるとともに、チャック１６に重ね合わされたマスク３４を前記先端部２０ａで保持するマスククランプ２０と、前記基板クランプ１８を移動させる伸縮手段２２とを備え、前記伸縮手段２２は、第１伸縮手段２４を装置本体１１に配設するとともに、伸縮動作をなす第１ロッドを板部材２３に接続し、第２伸縮手段２６を前記板部材２３に配設するとともに、伸縮動作をなす第２ロッドを前記基板クランプ１８の基端部に接続または接触させてなる構成である。【選択図】    図１
2006233256.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ素子を製造するための成膜装置におけるマスククランプの移動機構であって、
有機材料の蒸発源に対向して配設され、基板とマスクとが重ね合わされるチャックと、
前記チャックに重ね合わされた前記マスクを保持するマスククランプと、
基板クランプを移動させる伸縮手段とを備え、
前記伸縮手段は、第１伸縮手段を装置本体に配設するとともに、伸縮動作をなす第１ロッドを板部材に接続し、第２伸縮手段を前記板部材に配設するとともに、伸縮動作をなす第２ロッドを前記基板クランプの基端部に接続または接触させてなる、
ことを特徴とするマスククランプの移動機構。
【請求項２】
前記伸縮手段は、エアシリンダ、油圧シリンダまたはアクチュエータであることを特徴とする請求項１に記載のマスククランプの移動機構。
【請求項３】
有機ＥＬ素子を製造するための成膜装置であって、
有機材料の供給源に対向して基板を保持するチャックを配設し、
前記有機ＥＬ素子のパターンが形成されたマスクの保持手段となるマスククランプを前記チャックの側縁に沿って上下移動可能に配設し、
前記マスククランプの基端部の下部に伸縮手段を重ねて配設し、
前記チャック、前記マスククランプおよび前記伸縮手段を水平方向に回転させる回転機構を前記装置本体に設けた、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項４】
重ねて配設された前記伸縮手段は、
一端を前記装置本体に接続し、第１ロッドを板部材に接続した第１伸縮手段と、
前記板部材に配設され、第２ロッドを前記接続部材に接続または接触した第２伸縮手段と、
を備えたことを特徴とする請求項３に記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスククランプの移動機構および成膜装置に係り、特に有機ＥＬ素子を製造する成膜装置に用いられるマスククランプの移動機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）素子を製造する成膜装置には、例えば真空蒸着装置が用いられる。図８は真空蒸着装置上部の説明図である。真空蒸着装置１には、底部に有機材料の蒸発源（不図示）が設けられており、この蒸発源に対面する装置の上部にチャック２が設けられている。チャック２は、ガラス基板３を平面に維持する平板であり、装置本体の外部に設けられた回転機構により回転可能となっている。そしてチャック２の周囲には、マスクを保持するマスククランプ４が昇降可能に設けられている。なおマスクには、ガラス基板３表面に有機ＥＬ素子のパターン（画素）を形成するための開口パターンが形成されている。
【０００３】
マスククランプ４は、その上端部が装置本体の外部に突き出ており、その上端に接続部材５が配設されている。また接続部材５の下方には、シリンダ６が設けられており、一方が装置本体の上部に接続され、他方が板部材７に接続されている。この板部材７は、接続部材５と接触可能に設けられている。そしてシリンダ６の伸縮動作による板部材７の上下移動に伴って、接続部材５が上下移動し、マスククランプ４が上下に移動する。
【０００４】
なおシリンダの伸縮動作により、マスククランプを上下に移動させることについて開示された文献は不知である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
マスククランプの上下移動する範囲は、上限がガラス基板に接触する位置であり、下限が基板搬送機構と接触することのない位置になっている。この基板搬送機構は、ガラス基板を真空蒸着装置の外部から内部に挿入して基板クランプ上に載せるとともに、パターンが成膜されたガラス基板を装置の外部へ取り出すものである。したがってマスククランプと前記基板搬送機構とが接触しないために、マスククランプを上下に移動させるシリンダのストロークは、大きいものが必要であった。
【０００６】
ところで、ガラス基板が装置内に挿入されてチャックに装着固定された後には、ガラス基板の所定位置に有機ＥＬ素子のパターンを形成するために、マスクとガラス基板との位置合わせが行われる。この位置合わせは、アライメントアームに載せられたマスクとガラス基板とが接触しない距離、すなわち距離が少しでも空いていればよいので、僅かな距離をおいて行われている。
【０００７】
この位置合わせのときには、マスクを固定するマスククランプは、ストロークの調整できないエアシリンダを用いているから、２段動作ができないので移動範囲の最下限に位置することとなり、位置合わせ終了後に上昇を開始するとマスクをガラス基板上に固定するまで長い距離を移動することになる。したがって長い距離を移動するためには多くの時間が必要になるので、製造スピードが遅くなり、製造効率が低くなっていた。
【０００８】
またガラス基板は、ガラス基板上に成膜される有機薄膜の厚さを基板面内で均一にするために、水平方向に回転される。したがってガラス基板を回転させるために、チャックやマスク、マスクホルダー等を回転させなければならないので、回転機構を真空蒸着装置の上部に配設しなければならない。しかし真空蒸着装置には、装置に設けられた各機構を駆動させるための配線等が複雑に接続されているので、回転機構の軸上においてマスククランプを複数段階に分割して昇降させる機構を設けることは困難とされていた。
【０００９】
本発明は、マスククランプの移動量を複数に分割するマスククランプの移動機構を提供することを目的とする。
また本発明は、マスククランプの移動機構を備えた成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明に係るマスククランプの移動機構は、有機ＥＬ素子を製造するための成膜装置におけるマスククランプの移動機構であって、有機材料の蒸発源に対向して配設され、基板とマスクとが重ね合わされるチャックと、前記チャックに重ね合わされた前記マスクを保持するマスククランプと、基板クランプを移動させる伸縮手段とを備え、前記伸縮手段は、第１伸縮手段を装置本体に配設するとともに、伸縮動作をなす第１ロッドを板部材に接続し、第２伸縮手段を前記板部材に配設するとともに、伸縮動作をなす第２ロッドを前記基板クランプの基端部に接続または接触させてなる、ことを特徴としている。
この場合、前記伸縮手段は、エアシリンダ、油圧シリンダまたはアクチュエータとすることができる。
【００１１】
また本発明に係る成膜装置は、有機ＥＬ素子を製造するための成膜装置であって、有機材料の供給源に対向して基板を保持するチャックを配設し、前記有機ＥＬ素子のパターンが形成されたマスクの保持手段となるマスククランプを前記チャックの側縁に沿って上下移動可能に配設し、前記マスククランプの基端部の下部に伸縮手段を重ねて配設し、前記チャック、前記マスククランプおよび前記伸縮手段を水平方向に回転させる回転機構を前記装置本体に設けた、ことを特徴としている。
【００１２】
また重ねて配設された前記伸縮手段は、一端を前記装置本体に接続し、第１ロッドを板部材に接続した第１伸縮手段と、前記板部材に配設され、第２ロッドを前記接続部材に接続または接触した第２伸縮手段と、を備えたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１３】
マスククランプの移動機構は、伸縮手段が伸縮すると、これに接続または接触されている接続部材が上下に移動する。すなわち第１伸縮手段および第２伸縮手段の少なくとも１つを伸縮動作させると、この動作に伴ってマスククランプも上下に移動する。したがって各伸縮手段の伸縮動作を独立に制御すると、マスククランプの移動量を２段階に分割することができる。
【００１４】
また伸縮手段の伸縮動作は、エアシリンダ、油圧シリンダまたはアクチュエータに設けられたシリンダロッドを伸縮させることにより行うことができる。
そして有機ＥＬ素子の製造時において、マスクと基板との位置決め中に第２伸縮手段を縮めた状態で第１伸縮手段を伸ばし、前記位置決め終了後に第１伸縮手段および第２伸縮手段を伸ばすと、位置決め終了後のマスククランプの移動量が短くなるので、有機ＥＬ素子の製造時間を短縮できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明に係るマスククランプの移動機構および成膜装置の最良の実施形態について説明する。なお以下では、成膜装置として真空蒸着装置を用いた形態について説明する。図１は真空蒸着装置の説明図である。図２はマスククランプの概略平面図である。真空蒸着装置１０は、装置本体１１の底部に有機材料１２の蒸発源１４（昇華源）を備えるとともに、装置本体１１の上部にチャック１６、基板クランプ１８、マスククランプ２０、伸縮手段２２およびマスククランプ２８等を備えた構成である。
【００１６】
具体的には、有機材料１２の蒸発源１４は、有機材料１２が入れられるるつぼ１４ａを備えており、るつぼ１４ａの外面に有機材料１２を加熱・蒸発（昇華）させるヒーター１４ｂが設けられている。また装置本体１１の内側上部に設けられたチャック１６は、るつぼ１４ａに対面して配設されており、水平方向に沿って配置された平板である。そしてチャック１６は、装置本体１１の外側上部に設けられた回転機構３０によって水平回転可能となっている。
【００１７】
基板クランプ１８は、装置本体１１の上部から下方に向かって延び、下方の先端部１８ｃがチャック１６側（真空蒸着装置１０の中央側）に向けて折り曲げられた鉤型であり、チャック１６の側縁に沿って複数個が配設されている。この基板クランプ１８は、その先端部１８ｃ（折曲げ部）でガラス基板３２の縁部を支えるために、各先端部１８ｃが同じ高さ（同一面内）になるように設定されている。また基板クランプ１８は、装置本体１１の外側上部に設けられた昇降機構（不図示）によって、各先端部１８ｃが同一面内にある状態を維持しつつ昇降可能になっている。そして基板クランプ１８が上昇することによって、ガラス基板３２をチャック１６に接触させて、平面状に装着保持させることが可能になっている。
【００１８】
マスククランプ２０は、装置本体１１の上部から下方に向かって延び、下方の先端部２０ａがチャック１６側（真空蒸着装置１０の中央側）に向けて折り曲げられた鉤型であり、チャック１６や基板クランプ１８の側縁に沿って複数個が配設されている。このマスククランプ２０は、下方の先端部２０ａ（折曲げ部）でマスク３４の縁部を支えるために、下方の各先端部２０ａが同じ高さ（同一面内）になるように設定されている。なおマスク３４は、有機ＥＬ素子の各画素に対応する開口パターンが複数設けられたマスクフィルム３４ａと、マスクフィルム３４ａの周縁部を保持する枠型のマスクフレーム３４ｂとを備えている。
【００１９】
またマスククランプ２０の上方の先端部２０ｂは、装置本体１１の外部に突設されており、上方の各先端部２０ｂには接続部材２０ｃが配設されている。そして上方の先端部２０ｂと接続部材２０ｃとが、マスククランプ２０の基端部となる。この接続部材２０ｃを上下移動させることによって、接続部材２０ｃに接続されている各マスククランプ２０が上下移動される。これによりマスククランプ２０の下方に設けられた各先端部２０ａが同一面内にある状態を維持しつつ昇降可能になっている。
【００２０】
さらに接続部材２０ｃの下方には、接続部材２０ｃを昇降させる伸縮手段２２が設けられている。すなわち接続部材２０ｃと伸縮手段２２とは、対向して配置されている。この伸縮手段２２は、第１伸縮手段２４および第２伸縮手段２６を備えており、第１伸縮手段２４および第２伸縮手段２６は、例えばエアシリンダや油圧シリンダ、アクチュエータ等であればよい。なおエアシリンダを用いると、メンテナンスが容易である。第１伸縮手段２４は、一端が装置本体１１の上部に接続されており、他端２４ａが板部材２３に接続されている。より具体的には、複数の第１伸縮手段２４（シリンダ本体）がチャック１６の回転方向に沿って装置本体１１の外側上部に配設されており、各他端２４ａ（第１ロッド）を板部材２３で接続した構成である。そして第１伸縮手段２４の伸縮動作に伴って、板部材２３が上下に移動される。
【００２１】
この板部材２３には、第２伸縮手段２６が配設されており、他端２６ａが接続部材２０ｃに接続または接触している。より具体的には、複数の第２伸縮手段２６（シリンダ本体）は、板部材２３の下側に配設されており、他端２６ａ（第２ロッド）が板部材２３に設けられた孔部（不図示）を介して上方に延びており、その先端部が接続部材２０ｃに接続または接触している。そして第２伸縮手段２６および第１伸縮手段２４の少なくとも一方の伸縮動作に伴って、接続部材２０ｃが上下に移動される。
【００２２】
そして基板クランプ１８、マスククランプ２０および伸縮手段２２は、装置本体１１の外側上部に設けられた回転機構３０によって、チャック１６とともに回転することが可能になっている。
【００２３】
マスククランプ２８は、チャック１６と蒸発源１４との間において、チャック１６に対面するよう配設されており、その構成はマスク３４の縁部（マスクフレーム３４ｂ）に対応して前記マスク３４の側方から延設された延設部２８ａと、この延設部２８ａの先端部に設けられた嵌合ピン２８ｂとを有するものである。より具体的には、延設部２８ａは、マスク３４の縁部を支えるものであり、チャック１６の側縁に沿ってマスククランプ２０を挟み込む位置に配設され、且つ鉤型に形成されたマスククランプ２０の先端部に沿ってマスク３４の外側からマスク３４の縁部まで延ばされている。この延設部２８ａの先端部には、マスク３４の嵌合穴３４ｃと嵌め合わされる嵌合ピン２８ｂが設けられている。なお実施形態によっては、延設部２８ａの先端部に嵌合穴が設けられ、マスク３４に嵌合ピンが設けられた形態であってもよい。また一方のマスククランプ２０を両側から挟み込むように配設された各延設部２８ａの基端部はそれぞれ接続されている。なお図２に示す形態では、延設部２８ａは、マスク３４の各角部を支えるようにマスク３４の外側から延設されている。そしてマスククランプ２８は、真空蒸着装置１０に対する基準位置にあるので、嵌合穴３４ｃと嵌合ピン２８ｂとが嵌め合うようにマスク３４をマスククランプ２８上に載せると、マスク３４は真空蒸着装置１０に対して位置決めされる。
【００２４】
次に、マスククランプ２０の移動機構の動作および真空蒸着装置１０の動作について説明する。なお以下では、チャック１６、基板クランプ１８、マスククランプ２０およびマスククランプ２８を装置上部機構という場合がある。図３は装置上部機構が基準位置にあるときの説明図である。図４はガラス基板とマスクとを位置合わせしているときの、装置上部機構の説明図である。図５はガラス基板とマスクとを位置合わせした後の、装置上部機構の説明図である。
【００２５】
マスククランプ２８上には、予めマスク３４が配設されている。このときマスククランプ２８は真空蒸着装置１０に対する基準位置にあるので、嵌合ピン２８ｂと嵌合穴３４ｃとが嵌め合うようにマスク３４が載せられると、マスク３４は真空蒸着装置１０に対して位置決めされる。そしてガラス基板３２は、前記基板搬送機構によって装置本体１１の内部に入れられ、チャック１６とマスク３４との間に挿入される。そしてガラス基板３２は、前記基板搬送機構の下降動作とともに下方へ移動されて、基板クランプ１８上に載せられる（Ｓ１００）。
【００２６】
この後、マスククランプ２８を上昇させることによりマスク３４を上方に移動させ、マスク３４上にガラス基板３２を載せる（Ｓ１１０）。そしてマスククランプ２８は、ガラス基板３２がチャック１６の底面（チャック面）に接触するまで上昇され続ける（Ｓ１２０）。なおガラス基板３２は、マスク３４上に載せられるとマスク３４に沿って水平になり、この水平状態を維持しつつチャック１６に当接される。
【００２７】
この後、基板クランプ１８をガラス基板３２に接触するまで上昇させる（Ｓ１３０）。これによりガラス基板３２は、基板クランプ１８により水平状態を維持しつつチャック１６に装着保持される。そしてマスククランプ２８を下降させて、マスク３４を下方に移動させる（Ｓ１４０，図３参照）。なおＳ１００〜Ｓ１４０のステップの間は、第１伸縮手段２４および第２伸縮手段２６は縮められているので、マスククランプ２０の下方の先端部２０ａがマスク３４や前記基板搬送機構と接触することはない。
【００２８】
この後、ガラス基板３２に設けられたアライメントマークと、マスク３４に設けられたアライメントマークとを用いて、ガラス基板３２とマスク３４との位置合わせが行われる（Ｓ１５０）。図６はガラス基板とマスクとの位置合わせの説明図である。そして図６（Ａ）はカメラ、ガラス基板およびマスクの配置を説明する図である。また図６（Ｂ）はカメラで撮像された画像であって、位置ズレが生じている場合を示す図である。さらに図６（Ｃ）はカメラで撮像された画像であって、位置が合っている場合を示す図である。
【００２９】
具体的には、ガラス基板３２には、少なくとも２箇所にアライメントマーク４２が設けられている。ガラス基板３２に設けられたアライメントマーク４２は、例えばガラス基板３２の対角する角部に設けられ、ガラス基板３２に有機ＥＬ素子の電極膜を形成するのと同時に、この電極と同じ材料で形成されればよい。そしてガラス基板３２に設けられるアライメントマーク４２の形状は、例えば丸や点若しくは十字形等であればよい。
【００３０】
またマスク３４に設けられたアライメントマーク４４は、ガラス基板３２に設けられたアライメントマーク４２に対応した位置に設けられればよく、その形状は点や丸若しくは十字形等であればよい。なおガラス基板３２のアライメントマーク４２を丸とした場合は、マスク３４のアライメントマーク４４を点にすればよく、ガラス基板３２のアライメントマーク４２を点とした場合は、マスク３４のアライメントマーク４４を大きさの異なる丸若しくは異なる形状にすればよい。
【００３１】
さらに真空蒸着装置１０には、ガラス基板３２に設けられたアライメントマーク４２と、マスク３４に設けられたアライメントマーク４４とを撮像するカメラ４０を設けておけばよい（図６（Ａ）参照）。
【００３２】
そしてカメラ４０で撮像された画像を確認しつつ、アライメントマーク４２（４４）の円の中に、アライメントマーク４４（４２）の点が入るようにマスク３４（マスククランプ２８）のＸ（縦），Ｙ（横），θ（回転）方向を調整すれば、ガラス基板３２とマスク３４との位置合わせが終了する（図６（Ｂ），（Ｃ）参照）。なおガラス基板３２とマスク３４との位置合わせ時は、マスク３４が真空蒸着装置１０に対して位置決めされているので、マスク３４のアライメントマーク４４が確実にカメラ４０の視野内に入る。
【００３３】
このようなマスク３４とガラス基板３２との位置決めが行われている間に第１伸縮手段２４を伸ばして、マスククランプ２０を上昇させる（Ｓ１６０，図４参照）。これによりマスククランプ２０の下方の先端部が上昇する。そして第１伸縮手段２４を伸ばしたときの下方の先端部は、位置決め動作が行われているマスク３４よりも下方にある。
【００３４】
そしてＳ１５０およびＳ１６０のステップが終了すると、第２伸縮手段２６を伸ばしてマスククランプ２０を上昇させる（Ｓ１７０，図５参照）。具体的には、マスククランプ２０の下方の先端部２０ａを上昇させると、マスク３４がマスククランプ２８からマスククランプ２０に載せ換えられ、さらに下方の先端部２０ａを上昇させ続けると、マスク３４がガラス基板３２に被せられる。そしてマスク３４がガラス基板３２に被せられると、下方の先端部２０ａの上昇、すなわち第２伸縮手段２６の伸びが止まる。なお第２伸縮手段２６を伸ばしたときの下方の先端部２０ａの動作上限位置は、マスク３４をガラス基板３２に被せたときのチャック１６面からマスク３４下面までの距離よりも少し（少なくとも数ｍｍ）上方に位置させればよい。
【００３５】
この後、回転機構３０の動作によってガラス基板３２やマスク３４を回転させるとともに、ヒーター１４ｂによって有機材料１２を加熱・蒸発させて、ガラス基板３２上に有機ＥＬ素子のパターンを形成する（Ｓ１８０）。
【００３６】
この後、第１伸縮手段２４および第２伸縮手段２６を縮めて、マスククランプ２０を下降させる（Ｓ１９０）。このときマスク３４は、マスククランプ２０の下降とともに下方へ移動されるが、マスククランプ２０からチャック１６の下方にあるマスククランプ２８へ移動の途中で載せかえられる。また基板クランプ１８も下降して、ガラス基板３２を下方へ移動させる（Ｓ２００）。この後、装置本体１１に前記基板搬送装置が入り、ガラス基板３２を回収する（Ｓ２１０）。このような動作により有機ＥＬ素子が製造される。
【００３７】
このようなマスククランプ２０の移動機構および真空蒸着装置１０によれば、マスククランプ２０を上下に移動させる伸縮手段２２として第１伸縮手段２４および第２伸縮手段２６を設けたので、それぞれを独立に伸縮させることにより、マスククランプ２０は２段階の上下移動が可能になる。すなわちマスククランプ２０の移動量を２段階に分割することができる。したがって、マスク３４とガラス基板３２との位置合わせ中にマスククランプ２０を１段階上昇させて、マスク３４とマスククランプ２０の下方の先端部との距離を僅かにあけておき、位置合わせ終了後にマスククランプ２０をもう１段上昇させてマスク３４をガラス基板３２に被せると、位置合わせ終了後のマスククランプ２０の移動距離を短くすることができる。よってマスク３４とガラス基板３２との位置合わせと、マスククランプ２０の上昇とが同時に行われるので、有機ＥＬ素子の製造時間を短縮することができ、製造スピードを向上させることができる。そして有機ＥＬ素子の製造効率を向上させることができる。
【００３８】
また伸縮手段２２は、第１伸縮手段２４の他端２４ａに板部材２３を接続し、この板部材２３に第２伸縮手段２６を配設した構成なので、装置本体１１に設けられた各機構（前記装置上部機構）等を駆動させるための配線等と干渉することがない。したがって第１伸縮手段２４および第２伸縮手段２６によって、回転機構３０の軸上においてマスククランプ２０を２段階に分割して昇降させることができる。
【００３９】
なおマスククランプ２０は、ガラス基板３２の挿入や回収、マスク３４の交換のときには第１伸縮手段２４および第２伸縮手段２６を縮めておいて最下点まで下げられていればよく、これ以外のときには第１伸縮手段２４を伸ばした状態で第２伸縮手段２６を伸縮させて上下に移動されればよい。
【００４０】
また本実施形態では、板部材２３を介して第１伸縮手段２４および第２伸縮手段２６を上下に接続した構成であるが、他の実施形態として第２伸縮手段２６の他端２６ａにさらに板部材を接続して、この板部材に第３伸縮手段を配設し、第３伸縮手段の他端を接続部材２０ｃに接続または接触させた構成にしてもよい。すなわち板部材を介して第１伸縮手段、第２伸縮手段および第３伸縮手段を上下に接続し、マスククランプ２０を３段階に分割して昇降させることもできる。さらに板部材を介して伸縮手段を複数上下に接続する構成を繰り返せば、マスククランプ２０を複数段階に分割して昇降させることができる。
【００４１】
また本実施形態では、ガラス基板とマスクとの位置合わせを行うカメラが２つ設けられた形態であるが、これに限定されることはない。すなわちカメラは、図７（Ａ）に示すように３個設けることもでき、図７（Ｂ）に示すように４個設けることもできる。
【００４２】
また本実施形態では、マスクの移動機構が真空蒸着装置１０に用いられている形成を説明したが、マスクの移動機構は真空蒸着装置１０に用いられるばかりでなく、スパッタ装置や気相成長装置等の他の成膜装置に用いられることもできる。また基板は、ガラス基板３２に限定されることはなく、ガラス以外の材料からなる基板であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】真空蒸着装置の説明図である。
【図２】マスククランプの概略平面図である。
【図３】装置上部機構が基準位置にあるときの説明図である。
【図４】ガラス基板とマスクとを位置合わせしているときの、装置上部機構の説明図である。
【図５】ガラス基板とマスクとを位置合わせした後の、装置上部機構の説明図である。
【図６】ガラス基板とマスクとの位置合わせの説明図である。
【図７】カメラの配設位置を説明する図である。
【図８】真空蒸着装置上部の説明図である。
【符号の説明】
【００４４】
１０………真空蒸着装置、１１………装置本体、１６………チャック、１８………基板クランプ、２０………マスククランプ、２０ｃ………接続部材、２２………伸縮手段、２３………板部材、２４………第１伸縮手段、２６………第２伸縮手段、２８………マスククランプ、３２………ガラス基板、３４………マスク、４０………カメラ。
【図１】
2006233256.tif 000003
【図２】
2006233256.tif 000004
【図３】
2006233256.tif 000005
【図４】
2006233256.tif 000006
【図５】
2006233256.tif 000007
【図６】
2006233256.tif 000008
【図７】
2006233256.tif 000009
【図８】
2006233256.tif 000010