【手続補正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．アクリレートおよびメタクリレートエステルの群から選択されるアクリルモノマーから誘導される繰り返し単位と、
ｂ．フルオロアルコール、保護されたフルオロアルコールおよび保護された酸基の群から選択される官能基であり、該保護された酸基の保護基が少なくとも５個の炭素原子を含む官能基と
を含むことを特徴とする低多分散性アクリルポリマー。
【請求項２】
ａ．ｉ．アクリレートおよびメタクリレートエステルの群から選択されるアクリルモノマーから誘導される繰り返し単位、および
ｉｉ．フルオロアルコール、保護されたフルオロアルコールおよび保護された酸基の群から選択される官能基であって、該保護された酸基の保護基が少なくとも５個の炭素原子を含む官能基
を含む低分散性ポリマーと、
ｂ．光活性成分と
を含むことを特徴とするフォトレジスト。
【請求項３】
ａ．基材を、
ｉ．請求項１に記載の低多分散性ポリマー、
ｉｉ．光活性成分、および
ｉｉｉ．溶媒
を含む混合物でコートする工程と、
ｂ．該溶媒を蒸発させる工程と
を含むことを特徴とするコートされた基材の形成方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法によって製造されることを特徴とするコートされた基材。
【請求項５】
ａ．基材を、
ｉ．請求項１に記載の低多分散性ポリマー、
ｉｉ．光活性成分、および
ｉｉｉ．溶媒
を含む混合物でコートする工程と、
ｂ．該溶媒を蒸発させて該基材上にフォトレジスト層を形成する工程と、
ｃ．該フォトレジスト層を化学線に像様露光して画像形成および非画像形成区域を形成する工程と、
ｄ．画像形成および非画像形成区域を有する該露光されたフォトレジスト層を現像して画像形成された基材を形成する工程と
を含む基材上へのフォトレジスト画像の形成方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法によって製造されることを特徴とする画像形成された基材。
【請求項７】
アクリレートおよびメタクリレートエステルの群から選択される１つまたは複数のアクリルモノマーを含むモノマー混合物をフリーラジカル源および連鎖移動剤の存在下に重合させてアクリルポリマーを製造する工程であって、
少なくとも１つのモノマーがフルオロアルコール、保護されたフルオロアルコールおよび保護された酸基の群から選択される官能基であり、該保護された酸基の保護基が少なくとも５個の炭素原子を含む官能基を含有し、
該連鎖移動剤が０．１〜５００の範囲の移動定数を有し、かつ、該連鎖移動剤が次の構造
【化１】
2007520587.tif 000001
（式中、
Ｒ＝アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、置換アルキル、置換アリール、炭素環もしくは複素環、アルキルチオ、アルコキシ、またはジアルキルアミノであり、そして
Ｚ＝Ｈ、アルキル、アリール、アラルキル、置換アルキル、置換アリール、炭素環もしくは複素環、アルキルチオ、アリールチオ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルボキシ、アシルオキシ、カルバモイル、シアノ、ジアルキル−もしくはジアリール−ホスホナト、またはジアルキル−もしくはジアリール−ホスフィナトである）
を有する工程を含むことを特徴とする低多分散性ポリマーの製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法によって製造されるポリマーであって、前記ポリマーがＭｗ／Ｍｎ＜１．４を有することを特徴とするポリマー。
【請求項９】
２−（２，２−ビス（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル）−エンド−３−ヒドロキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンを含むことを特徴とする組成物。
【請求項１０】
３−（２，２−ビス（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル）−エンド−２−（２−メチルプロペノイル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンを含むことを特徴とする組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
【表１】
2007520587.tif 000002
本出願は、特許請求の範囲に記載された発明を含め、以下の発明を包含する。
（１）  ａ．アクリレートおよびメタクリレートエステルの群から選択されるアクリルモノマーから誘導される繰り返し単位と、
ｂ．フルオロアルコール、保護されたフルオロアルコールおよび保護された酸基の群から選択される官能基であり、該保護された酸基の保護基が少なくとも５個の炭素原子を含む官能基と
を含むことを特徴とする低多分散性アクリルポリマー。
（２）  前記アクリルモノマーがＣＨ２＝ＣＲ’ＣＯ２Ｒ’’であり、そして
Ｒ’はＨ、Ｆ、１〜５個の炭素原子のアルキル基、１〜５個の炭素原子のフルオロアルキル基であり、かつ、
Ｒ’’は、任意選択的に少なくとも１つのヒドロキシ官能基を含有する、Ｃ１〜Ｃ２０非環式脂肪族基、環式Ｃ５〜Ｃ５０もしくは多環式Ｃ７〜Ｃ５０アルキル基、または式−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｍ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨ（式中、ｍ＝０、１、２、３、４もしくは５である）の官能基であり、
Ｒ１およびＲ２は独立してＣ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルであるか、またはＲ１およびＲ２は一緒になって、任意選択的にエーテル酸素で置換された３〜８員環を形成し、ただし、Ｒ１およびＲ２に結合した炭素は橋頭位にはなく、
Ｒ３およびＲ４は独立してＨ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルであるか、またはＲ３およびＲ４は一緒になって、任意選択的にエーテル酸素で置換された３〜８員環を形成し、
Ｒ５およびＲ６は独立してＨ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルであるか、またはＲ５およびＲ６は一緒になって、任意選択的にエーテル酸素で置換された３〜８員環を形成し、または
Ｒ１およびＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｍ−と一緒になって４〜８員環を形成し、ただし、Ｒ１およびＲ２に結合した炭素は橋頭位にはない
ことを特徴とする（１）に記載の低多分散性アクリルポリマー。
（３）  前記アクリルモノマーがＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＯ２Ｒ’’’であり、Ｒ’’’がＣ１〜Ｃ２５アルキル基または１つまたは複数のヒドロキシ、ハロゲン、エーテル酸素、エステルもしくはケトンカルボニル基によって置換されたＣ１〜Ｃ２５アルキル基であることを特徴とする（１）に記載の低多分散性アクリルポリマー。
（４）  前記アクリルモノマーがＰｉｎＭＡｃ（２−メチル−２−プロペン酸、２−ヒドロキシ−１，１，２−トリメチルプロピルエステル）、ＰｉｎＡｃ、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル−（メタ）アクリレート、２−プロピル−２−アダマンチル−（メタ）アクリレート、２−（１−アダマンチル）−２−プロピル−（メタ）アクリレート、α−（γ−ブチロラクトン）−（メタ）アクリレート、β−（γ−ブチロラクトン）−（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル−（メタ）アクリレート、８−メチルトリシクロ−［５．２．１］デカン−８−イル−（メタ）アクリレート、８−エチルトリシクロ［５．２．１］デカン−８−イル−（メタ）アクリレート、２−（４−メトキシブチル）−２−アダマンチル−（メタ）アクリレート、メバロラクトン−（メタ）アクリレート、ＰｉｎＡｃ、ＰｉｎＭＡｃ、４−ヒドロキシ−１−メチルシクロヘキシル−（メタ）アクリレート、１−メチルシクロペンチル−（メタ）アクリレート、１−エチルシクロペンチル−（メタ）アクリレート、３−（２，２−ビス（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル）−エンド−２−（２−メチルプロペノイル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、３−（２，２−ビス（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル）−エンド−２−（プロペノイル）−ビシクロ［２．２．１］−ヘプタン、および５−（メタ）アクリロイルオキシ−２，６−ノルボルナンカルボラクトンよりなる群から選択されることを特徴とする（１）に記載の低多分散性アクリルポリマー。
（５）  前記官能基が構造
−Ｘｒ（ＣＨ２）ｑＣ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は１〜１０個の炭素原子の同じもしくは異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって（ＣＦ２）ｎであり、ｎは２〜１０の整数であり、ＸはＳ、Ｏ、ＮおよびＰよりなる群から選択され、そして
ｑ＝０およびｒ＝０、またはｑ＝１およびｒ＝０もしくは１である）
を有するフルオロアルコール官能基であることを特徴とする（１）に記載の低多分散性ポリマー。
（６）  前記官能基が保護されたフルオロアルコール
−Ｘｒ（ＣＨ２）ｑＣ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＣＨ２ＯＲｂ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は１〜１０個の炭素原子の同じもしくは異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって（ＣＦ２）ｎであり、ｎは２〜１０の整数であり、ＸはＳ、Ｏ、ＮおよびＰよりなる群から選択され、
ｑ＝０およびｒ＝０、またはｑ＝１およびｒ＝０もしくは１であり、そして
ＲｂはＣ１〜Ｃ１１アルキルである）
であることを特徴とする（１）に記載の低多分散性ポリマー。
（７）  ａ．ｉ．アクリレートおよびメタクリレートエステルの群から選択されるアクリルモノマーから誘導される繰り返し単位、および
ｉｉ．フルオロアルコール、保護されたフルオロアルコールおよび保護された酸基の群から選択される官能基であって、該保護された酸基の保護基が少なくとも５個の炭素原子を含む官能基
を含む低分散性ポリマーと、
ｂ．光活性成分と
を含むことを特徴とするフォトレジスト。
（８）  前記アクリルモノマーがＣＨ２＝ＣＲ’ＣＯ２Ｒ’’であり、そして
Ｒ’はＨ、Ｆ、１〜５個の炭素原子のアルキル基、１〜５個の炭素原子のフルオロアルキル基であり、かつ、
Ｒ’’は、任意選択的に少なくとも１つのヒドロキシ官能基を含有する、Ｃ１〜Ｃ２０非環式脂肪族基、環式Ｃ５〜Ｃ５０もしくは多環式Ｃ７〜Ｃ５０アルキル基、または式−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｍ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨの官能基であり、式中、ｍ＝０、１、２、３、４もしくは５であり、
Ｒ１およびＲ２は独立してＣ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルであるか、またはＲ１およびＲ２は一緒になって、任意選択的にエーテル酸素で置換された３〜８員環を形成し、ただし、Ｒ１およびＲ２に結合した炭素は橋頭位にはなく、
Ｒ３およびＲ４は独立してＨ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルであるか、またはＲ３およびＲ４は一緒になって、任意選択的にエーテル酸素で置換された３〜８員環を形成し、
Ｒ５およびＲ６は独立してＨ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルであるか、またはＲ５およびＲ６は一緒になって、任意選択的にエーテル酸素で置換された３〜８員環を形成し、または
Ｒ１およびＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｍ−と一緒になって４〜８員環を形成し、ただし、Ｒ１およびＲ２に結合した炭素は橋頭位にはない
ことを特徴とする（７）に記載のフォトレジスト。
（９）  前記光活性成分が構造Ｉのスルホニウム塩、構造ＩＩのヨードニウム塩および構造ＩＩＩのヒドロキサム酸エステル
【化２】
2007520587.tif 000003
（式中、Ｒ３１〜Ｒ３５は独立して置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換Ｃ７〜Ｃ２０アルキルアリールまたはアラルキルであり、Ｘ−はＳｂＦ６−（ヘキサフルオロアンチモネート）、ＣＦ３ＳＯ３−（トリフルオロメチルスルホネート＝トリフレート）、またはＣ４Ｆ９ＳＯ３−（パーフルオロブチルスルホネート）である）
の群から選択されることを特徴とする（８）に記載のフォトレジスト。
（１０）  溶媒をさらに含むことを特徴とする（９）に記載のフォトレジスト。
（１１）  ａ．基材を、
ｉ．（１）に記載の低多分散性ポリマー、
ｉｉ．光活性成分、および
ｉｉｉ．溶媒
を含む混合物でコートする工程と、
ｂ．該溶媒を蒸発させる工程と
を含むことを特徴とするコートされた基材の形成方法。
（１２）  （１１）に記載の方法によって製造されることを特徴とするコートされた基材。
（１３）  ａ．基材を、
ｉ．（１）に記載の低多分散性ポリマー、
ｉｉ．光活性成分、および
ｉｉｉ．溶媒
を含む混合物でコートする工程と、
ｂ．該溶媒を蒸発させて該基材上にフォトレジスト層を形成する工程と、
ｃ．該フォトレジスト層を化学線に像様露光して画像形成および非画像形成区域を形成する工程と、
ｄ．画像形成および非画像形成区域を有する該露光されたフォトレジスト層を現像して画像形成された基材を形成する工程と
を含む基材上へのフォトレジスト画像の形成方法。
（１４）  （１３）に記載の方法によって製造されることを特徴とする画像形成された基材。
（１５）  アクリレートおよびメタクリレートエステルの群から選択される１つまたは複数のアクリルモノマーを含むモノマー混合物をフリーラジカル源および連鎖移動剤の存在下に重合させてアクリルポリマーを製造する工程であって、
少なくとも１つのモノマーがフルオロアルコール、保護されたフルオロアルコールおよび保護された酸基の群から選択される官能基であり、該保護された酸基の保護基が少なくとも５個の炭素原子を含む官能基を含有し、
該連鎖移動剤が０．１〜５００の範囲の移動定数を有し、かつ、該連鎖移動剤が次の構造
【化３】
2007520587.tif 000004
（式中、
Ｒ＝アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、置換アルキル、置換アリール、炭素環もしくは複素環、アルキルチオ、アルコキシ、またはジアルキルアミノであり、そして
Ｚ＝Ｈ、アルキル、アリール、アラルキル、置換アルキル、置換アリール、炭素環もしくは複素環、アルキルチオ、アリールチオ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルボキシ、アシルオキシ、カルバモイル、シアノ、ジアルキル−もしくはジアリール−ホスホナト、またはジアルキル−もしくはジアリール−ホスフィナトである）
を有する工程を含むことを特徴とする低多分散性ポリマーの製造方法。
（１６）  （１５）に記載の方法によって製造されるポリマーであって、前記ポリマーがＭｗ／Ｍｎ＜１．４を有することを特徴とするポリマー。
（１７）  前記重合が酸捕捉剤の存在下で実施されることを特徴とする（１５）に記載の方法。
（１８）  前記酸捕捉剤が塩基であることを特徴とする（１７）に記載の方法。
（１９）  前記重合が約６０℃〜約１００℃の温度で行われることを特徴とする（１５）に記載の方法。
（２０）  前記連鎖移動剤がトリチオカーボネートであることを特徴とする（１５）に記載の方法。
（２１）  ２−（２，２−ビス（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル）−エンド−３−ヒドロキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンを含むことを特徴とする組成物。
（２２）  ３−（２，２−ビス（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル）−エンド−２−（２−メチルプロペノイル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンを含むことを特徴とする組成物。