【手続補正書】
【提出日】平成19年9月12日(2007.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第一チャンバおよび第二チャンバを備えた装置と、チャンバからの流体を差圧ポンピングして、第一チャンバ内の０．１ミリバール以上の第一圧力、および、前記第一圧力より低い第二チャンバ内の第二圧力を発生させる真空ポンプとを有し、前記真空ポンプは、それぞれの圧力チャンバからの流体を受入れる少なくとも第一ポンプ入口および第二ポンプ入口と、第一チャンバから受入れた流体が第二チャンバからの流体よりも少ないポンピング段を通るように前記入口に対して配置された複数のポンピング段とを備え、前記入口は、前記装置からポンピングされた流体質量の少なくとも９９％がポンプの少なくとも１つのポンピング段を通るように装置に取付けられることを特徴とする差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２】
前記第一圧力は１ミリバール以上であることを特徴とする請求項１記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３】
前記各ポンピング段はドライポンピング段を備えることを特徴とする請求項１または２記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４】
前記装置は第三チャンバを備え、前記ポンプは、第三チャンバ内の第二圧力より低い第三圧力を発生させるべく第三チャンバからの流体を受入れる第三入口を備え、前記ポンピング段は、第三チャンバからポンプに流入する流体が、第二チャンバからポンプに流入する流体より多数のポンピング段を通って流れるように配置されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項５】
前記ポンプは少なくとも３つのポンピングセクションを有し、各ポンピングセクションが、第一チャンバから第三チャンバに差圧ポンピングする少なくとも１つのポンピング段を有していることを特徴とする請求項４記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項６】
前記ポンプは、第一ポンピングセクションと、前記第一ポンピングセクションから下流側の第二ポンピングセクションと、前記第二ポンピングセクションから下流側の第三ポンピングセクションとを有し、これらのセクションは、第三チャンバからポンプに流入する流体が第一ポンピングセクション、第二ポンピングセクションおよび第三ポンピングセクションを通り、第二チャンバからポンプに流入する流体が前記セクションのうちの第二セクションおよび第三セクションのみを通り、第一チャンバからポンプに流入する流体が前記セクションのうちの第三ポンプセクションの少なくとも一部のみを通るように、入口に対して配置されることを特徴とする請求項５記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項７】
第一ポンピングセクションおよび第二ポンピングセクションの少なくとも１つのポンピングセクションが、少なくとも１つのターボ分子段を有していることを特徴とする請求項６記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項８】
第一ポンピングセクションおよび第二ポンピングセクションの両ポンピングセクションが、少なくとも１つのターボ分子段を有していることを特徴とする請求項６または７記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項９】
第三ポンピングセクションは、第二ポンプ入口から第二ポンプ入口を通って流れる流体が、第一ポンプ入口から第一ポンプ入口を通って流れる流体とは異なる経路に従って流れるように、第一ポンプ入口および第二ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項６から８のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１０】
前記第三ポンピングセクションは、第一ポンプ入口から第一ポンプ入口を通って流れる流体が、第二ポンプ入口から第二ポンプ入口を通って流れる流体の経路の一部のみに従って流れるように、第一ポンプ入口および第二ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項９記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１１】
前記第三ポンピングセクションは少なくとも１つの分子ドラッグ段を有することを特徴とする請求項６から１０のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１２】
前記第三ポンピングセクションは、複数の螺旋体として配置された複数のチャネルを備えた多段ホルベック（Holweck）機構を有することを特徴とする請求項１１記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１３】
前記ホルベック（Holweck）機構は、第一ポンプ入口から第一ポンプ入口を通って流れる流体が、第二ポンプ入口からこれを通って流れる流体の経路の一部のみに従って流れるように、第一ポンプ入口および第二ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項１２記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１４】
前記第三ポンピングセクションは、第一チャンバ、第二チャンバおよび第三チャンバの各々からポンプに流入する流体を受入れる少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段を有し、または、第一チャンバ、第二チャンバおよび第三チャンバの各々からポンプに流入する流体を受入れる少なくとも１つの空気力学的ポンピング段を有し、或いは、前記少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段、及び、前記少なくとも１つの空気力学的ポンピング段の両方を有していることを特徴とする請求項６から１３のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１５】
前記ホルベック（Holweck）機構は、前記少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段から上流側に配置され、または、前記少なくとも１つの空気力学的ポンピング段から上流側に配置され、或いは、前記少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段、及び、前記少なくとも１つの空気力学的ポンピング段の上流側に配置されることを特徴とする請求項１４記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１６】
前記ホルベック（Holweck）機構は、第一ポンプ入口からポンプに流入する流体が第一ポンプ入口を通らないように、第一入口および第二入口に対して配置されることを特徴とする請求項１５記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの空気力学的ポンピング段は、少なくとも１つの再生段を有していることを特徴とする請求項１４から１６のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１８】
前記第三ポンピングセクションは少なくとも１つの空気力学的ポンピング段を有し、使用時に、ポンプ出口からの排出流体の圧力は１０ミリバールに等しいか、１０ミリバールより大きいことを特徴とする請求項１４から１７のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項１９】
前記装置は第一チャンバと第二チャンバとの間に配置された第四チャンバを有し、前記真空ポンプは第四チャンバから流体を受け入れるための第四入口を有していることを特徴とする請求項４から１８のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２０】
前記第四入口は、第四チャンバからポンプに流入する流体が、前記セクションのうちの、ポンプ出口に向かう第三ポンピングセクションのみを通って流れるように配置されていることを特徴とする請求項１９記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２１】
前記第四チャンバからポンプに流入する流体は、第一チャンバからポンプに流入する流体より多くの段数の第三ポンピングセクションを通って流れることを特徴とする請求項２０記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２２】
前記ポンプは、各ポンピング段の少なくとも１つのロータ要素が取付けられた駆動軸を有していることを特徴とする請求項１から２１のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２３】
バッキングポンプを有し、前記バッキングポンプは、使用時に、装置からポンピングされる流体質量の少なくとも９９％が、真空ポンプおよびバッキングポンプの両方を通って流れるようにポンプ出口に連結されていることを特徴とする請求項１から２２のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２４】
前記装置は質量分光計を有していることを特徴とする請求項１から２３のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２５】
装置の複数のチャンバの減圧排気を行う方法において、真空ポンプを設ける段階を有し、真空ポンプが、それぞれのチャンバから流体を受入れる少なくとも第一ポンプ入口および第二ポンプ入口と、第一入口からポンプに流入する流体が第二入口からポンプに流入する流体よりも少数のポンピング段を通って流れるように入口に対して配置された複数のポンピング段とを備え、使用時に、装置からポンピングされた流体質量の少なくとも９９％がポンプのポンピング段の少なくとも１つのを通って流れるようにポンプの入口をチャンバに取付ける段階と、第一チャンバ内に０．１ミリバール以上の第一圧力を発生させかつ第二チャンバ内に第一圧力より低い第二圧力を発生させるようにポンプを作動する段階とを更に有することを特徴とする方法。
【請求項２６】
複数の圧力チャンバと、前記圧力チャンバに取付けられた真空ポンプとを有し、前記真空ポンプが、それぞれの圧力チャンバから流体を受入れる複数のポンプ入口と、チャンバを差圧ポンピングする複数のポンピング段とを備え、前記ポンピング段は、最高圧力が発生される圧力チャンバから流体をポンピングすべく配置されたポンピング段が、ガエデ（Gaede）ポンピング段または空気力学的ポンピング段を有していることを特徴とする差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２７】
前記ポンピング段は再生段を有していることを特徴とする請求項２６記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２８】
前記ポンピング段は空気力学的ポンピング段を有し、使用時に、ポンプ出口からの排出流体の圧力は１０ミリバールに等しいか、或いは、１０ミリバールより大きいことを特徴とする請求項２６または２７記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項２９】
前記複数の圧力チャンバは、最高圧力が発生される第一チャンバと、第一チャンバより低い圧力が発生される第二チャンバとを有し、前記複数の入口は、第一チャンバから流体を受入れる第一入口と、第二チャンバから流体を受入れる第二入口とを有し、複数のポンピング段は、第一チャンバから受入れた流体が第二チャンバからの流体より少数のポンピング段を通って流れるように、入口に対して配置されることを特徴とする請求項２６から２８のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３０】
前記第一チャンバ内の圧力が、０．１ミリバール以上であることを特徴とする請求項２９記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３１】
前記ポンプは少なくとも２つのポンピングセクションを有し、各ポンピングセクションは、第一チャンバおよび第二チャンバを差圧ポンピングする少なくとも１つのポンピング段を備えていることを特徴とする請求項２９または３０記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３２】
前記ポンプは、第一ポンピングセクションと、前記第一ポンピングセクションから下流側の第二ポンピングセクションと、前記ポンピング段とを有し、前記セクションは、第二チャンバからポンプに流入する流体が第一ポンピングセクションおよび第二ポンピングセクションを通って流れるように、入口に対して配置されており、第一チャンバからポンプに流入する流体が、第二セクションの少なくとも前記ポンピング段を通って流れることを特徴とする請求項３１記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３３】
前記第一ポンピングセクションは少なくとも１つのターボ分子段を有していることを特徴とする請求項３２記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３４】
前記第二ポンピングセクションは、第二ポンプ入口から第二ポンプ入口を通って流れる流体が、第一ポンプ入口から第一ポンプ入口を通って流れる流体とは異なる経路に従って流れるように、第一ポンプ入口および第二ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項３２または３３記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３５】
前記第二ポンピングセクションは、第一ポンプ入口から第一ポンプ入口を通って流れる流体が、第二ポンプ入口から、第二ポンプ入口を通って流れる流体の経路の一部のみに従って流れるように、第一ポンプ入口および第二ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項３４記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３６】
前記第二ポンピングセクションは更に、前記ポンピング段から上流側に配置された少なくとも１つの分子ドラッグ段を有していることを特徴とする請求項３２から３５のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３７】
前記第三ポンピングセクションが、前記ポンピング段から上流側に、複数の螺旋体として配置された複数のチャネルを備えた多段ホルベック（Holweck）機構を有していることを特徴とする請求項３６記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３８】
前記ホルベック（Holweck）機構は、第一ポンプ入口から第一ポンプ入口を通って流れる流体が、第二ポンプ入口から第二ポンプ入口を通って流れる流体の経路の一部のみに従って流れるように、第一ポンプ入口および第二ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項３７記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項３９】
前記ホルベック（Holweck）機構は、第一ポンプ入口からポンプに流入する流体が第一ポンプ入口を通って流れないように第一入口および第二入口に対して配置されることを特徴とする請求項３７記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４０】
第三圧力チャンバを有し、前記ポンプは、第三チャンバ内に第二圧力より低い第三圧力を発生させるべく、第三チャンバから流体を受入れるための第三入口を有し、前記ポンピング段は、第三チャンバからポンプに流入する流体が第二チャンバからポンプに流入する流体より多数のポンピング段を通って流れるように配置されていることを特徴とする請求項３２から３９のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４１】
前記ポンプは第二ポンピングセクションから上流側の第三ポンピングセクションを有し、第三セクションは、第三チャンバからポンプに流入する流体が第一ポンピングセクション、第二ポンピングセクションおよび第三ポンピングセクションを通って流れるように配置されることを特徴とする請求項４０記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４２】
前記第三セクションは少なくとも１つのターボ分子段を有していることを特徴とする請求項４１記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４３】
第一チャンバと第二チャンバとの間に配置された第四チャンバを有し、前記真空ポンプが第四チャンバから流体を受入れる第四入口を有していることを特徴とする請求項４０から４２のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４４】
前記第四チャンバからポンプに流入する流体が、前記セクションのうち、ポンプ出口に向かう第一ポンピングセクションのみを通って流れるように配置されていることを特徴とする請求項４３記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４５】
前記第四チャンバからポンプに流入する流体が、第一チャンバからポンプに流入する流体より多数の第一ポンピングセクションの段を通って流れることを特徴とする請求項４４記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４６】
前記ポンプは、各ポンピング段の少なくとも１つのロータ要素が取付けられた駆動軸を有していることを特徴とする請求項２６から４５のいずれか１項記載の差圧ポンプ型真空システム。
【請求項４７】
複数のチャンバの減圧排気を行う方法において、真空ポンプを設ける段階を有し、真空ポンプが、それぞれの圧力チャンバから流体を受入れる複数のポンプ入口と、チャンバを差圧ポンピングする複数のポンピング段とを備え、最高圧力を発生させるべき圧力チャンバから流体をポンピングするポンピング段がガエデ（Gaede）ポンピング段または空気力学的ポンピング段で構成されるようにポンプをチャンバに取付ける段階を更に有することを特徴とする方法。
【請求項４８】
第一ポンピングセクション、第二ポンピングセクションおよび第三ポンピングセクションと、第一ポンプ入口とを有し、流体は第一ポンプ入口を通ってポンプに流入できかつポンプ出口に向かう各ポンピングセクションを通って流れ、第二ポンプ入口を有し、流体は第二ポンプ入口を通ってポンプに流入でき、かつ出口に向かう第二ポンピングセクションおよび第三ポンピングセクションのみを通って流れ、第三ポンプ入口を有し、流体は第三ポンプ入口を通ってポンプに流入でき、かつ出口に向かう第三ポンピングセクションのみを通って流れ、第四入口を更に有し、流体は第四入口を通ってポンプに流入できかつ出口に向かう第三ポンピングセクションの一部のみを通って流れることを特徴とする複合多ポート真空ポンプ。
【請求項４９】
前記第一ポンピングセクションおよび第二ポンピングセクションの少なくとも１つが少なくとも１つのターボ分子段を有していることを特徴とする請求項４８記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５０】
前記第一ポンピングセクションおよび第二ポンピングセクションの両方が少なくとも１つのターボ分子段を有していることを特徴とする請求項４８または４９記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５１】
前記第三ポンピングセクションは、第二ポンプ入口から第二ポンプ入口を通って流れる流体が第四ポンプ入口から第四ポンプ入口を通って流れる流体とは異なる経路に従って流れるように第二ポンプ入口および第四ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項４８から５０のいずれか１項記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５２】
前記第三ポンピングセクションは、第四ポンプ入口から第四ポンプ入口を通って流れる流体が第二ポンプ入口から第二ポンプ入口を通って流れる流体の経路の一部のみに従って流れるように第二ポンプ入口および第四ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項５１記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５３】
前記第三ポンピングセクションは少なくとも１つの分子ドラッグ段を有していることを特徴とする請求項４８から５２のいずれか１項記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５４】
前記第三ポンピングセクションは、複数の螺旋体として配置された複数のチャネルを備えたホルベック（Holweck）機構を有していることを特徴とする請求項５３記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５５】
前記ホルベック（Holweck）機構は、第四ポンプ入口から第四ポンプ入口を通って流れる流体が第二ポンプ入口から第二ポンプ入口を通って流れる流体の経路の一部のみに従って流れるように第二ポンプ入口および第四ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項５４記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５６】
前記第三ポンピングセクションは、少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段を有し、または、少なくとも１つの空気力学的ポンピング段を有し、或いは、少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段、および、少なくとも１つの空気力学的ポンピング段の両方を有していることを特徴とする請求項４８から５５のいずれか１項記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５７】
前記第三ポンピングセクションは、少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段を有し、または、少なくとも１つの空気力学的ポンピング段を有し、或いは、少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段、および、少なくとも１つの空気力学的ポンピング段の両方を有しており、前記ホルベック（Holweck）機構は、少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段から上流側に配置され、または、少なくとも１つの空気力学的ポンピング段から上流側に配置され、或いは、少なくとも１つのガエデ（Gaede）ポンピング段、および、少なくとも１つの空気力学的ポンピング段の上流側に配置されることを特徴とする請求項５４記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５８】
前記ホルベック（Holweck）機構は、第四ポンプ入口からポンプに流入する流体がこれを通らないように、第二ポンプ入口および第四ポンプ入口に対して配置されることを特徴とする請求項５７記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項５９】
前記少なくとも１つの空気力学的ポンピング段は少なくとも１つの再生段を有していることを特徴とする請求項５６から５８のいずれか１項記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項６０】
前記第三ポンピングセクションは少なくとも１つの空気力学的ポンピング段を有し、使用時に、前記ポンプ出口からの排出流体の圧力が１０ミリバールに等しいか、或いは、１０ミリバールより大きいことを特徴とする請求項５７から５９のいずれか１項記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項６１】
前記第三入口は、これを通ってポンプに流入する流体が、前記セクションのうちのポンプ出口に向かう第三ポンピングセクションのみを通って流れるように配置されることを特徴とする請求項６０記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項６２】
前記第三入口を通ってポンプに流入する流体は、第四入口を通ってポンプに流入する流体より多数の第三ポンピングセクションの段を通って流れることを特徴とする請求項６１記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項６３】
前記各ポンピングセクションの少なくとも１つのロータ要素が取付けられた駆動軸を有していることを特徴とする請求項４８から６２のいずれか１項記載の複合多ポート真空ポンプ。
【請求項６４】
各チャンバを減圧排気するための、請求項４８から６３のいずれか１項記載の複数のチャンバおよびポンプを有することを特徴とする差圧ポンプ型真空システム。