【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源（１）を有するＥＵＶ−投影露光装置のための照明光学系であって、前記照明光学系は、
照明するための集光ユニット（３０，３２）と、
二次光源（１４）を生成する反射鏡装置であって、複数の格子素子（１０，４０，４２，１００，１０２）に区分けされている少なくとも一つの反射鏡（３４）を有する反射鏡装置と、
絞り面（１６）と、
この絞り面（１６）を照明光学系の射出瞳（３９０）に結像させる、一つまたは複数の第１の光学素子（３６，３８）と、
前記複数の格子素子の像が大部分一致して、これらの像により予め定められたフィールドが或る強度分布で照明される物面（３９）と、
種類及び／又は充填度によって予め設定される或る照度分布を射出瞳（３９０）内に生成する第２の光学素子（３０，３１０，３２０，３３０）、および、前記照度分布の種類及び／又は充填度が変更可能な状態で、前記第２の光学素子（３０，３１０，３２０，３３０）を交換したり、移動したり、あるいは、変形したりする手段と、を有し、
さらに、前記照度分布および前記変更された照度分布に対して、
前記格子素子（１０，４０，４２，１００，１０２）の前記二次光源（１４）によって達成された走査エネルギーの値の一様性が１０％より小さく、好ましくは５％より小さく、より好ましくは１％より小さくなり、前記走査エネルギーの値は、予め決められたフィールド内での強度分布に関する線積分値として、積分する方向（ｙ）に対して垂直な直線上に位置する点に対して定義されるように、前記物面（３９）の走査エネルギーの値の一様性と前記照明された格子素子の数及び／又は形状が選択されることを特徴とする照明光学系。
【請求項２】  光源（１）を有するＥＵＶ−投影露光装置のための照明光学系であって、前記照明光学系は、
照明するための集光ユニット（３０，３２）と、
二次光源（１４）を生成する反射鏡装置であって、複数の格子素子（１０，４０，４２，１００，１０２）に区分けされている少なくとも一つの反射鏡（３４）を有する反射鏡装置と、
絞り面（１６）と、
この絞り面（１６）を照明光学系の射出瞳（３９０）に結像させる、一つまたは複数の第１の光学素子（３６，３８）と、
前記複数の格子素子の像が大部分一致して、これらの像により予め定められたフィールドが或る強度分布で照明される物面（３９）と、
種類及び／又は充填度によって予め設定される或る照度分布を射出瞳（３９０）内に生成する第２の光学素子（３０，３１０，３２０，３３０）、および、前記照度分布の種類及び／又は充填度が変更可能な状態で、前記第２の光学素子（３０，３１０，３２０，３３０）を交換したり、移動したり、あるいは、変形したりする手段と、を有し、
さらに、前記照度分布および前記変更された照度分布に対して、
前記格子素子（１０，４０，４２，１００，１０２）の前記二次光源（１４）によって達成された強度分布の一様性が１０％より小さく、好ましくは５％より小さく、より好ましくは１％より小さくなるように、前記物面（３９）の強度分布の一様性と前記照明された格子素子の数及び／又は形状が選択されることを特徴とする照明光学系。
【請求項３】  請求項１または２に記載の照明光学系において、
波長が１０ｎｍから２０ｎｍ間に存在することを特徴とする照明光学系。
【請求項４】  請求項１から３のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記物面（３９）において大部分一致する前記複数の格子素子の前記複数の像の数は、前記光学素子を交換したり、移動させたり、あるいは変形させたりすることによって２倍から３倍まで変化させられるように構成されていることを特徴とする照明光学系。
【請求項５】  請求項１から４のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記物面において大部分一致する前記複数の格子素子の前記複数の像の最小限の数は、５０より大きく、好ましくは７０より大きく、特に好ましくは１００より大きいことを特徴とする照明光学系。
【請求項６】  請求項１から５のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記照明すべきフィールドは、リングフィールドであることを特徴とする照明光学系。
【請求項７】  請求項１から６のいずれか１項に記載の照明光学系において、
照明すべきフィールドのアスペクト比は、２：１から１７．５：１の間とされ、特に１３：１とされていることを特徴とする照明光学系。
【請求項８】  請求項１から７のいずれか１項に記載の照明光学系において、前記格子素子は、矩形形状を有していることを特徴とする照明光学系。
【請求項９】  請求項１から８のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記格子素子は、アナモルフィックな作用を有していることを特徴とする照明光学系。
【請求項１０】  請求項９に記載の照明光学系において、
前記反射鏡の前記格子素子は、アナモルフィックな作用を生じさせるために、円柱形状及び／又はトロイド形状に形成されていることを特徴とする照明光学系。
【請求項１１】  請求項９または１０に記載の照明光学系において、
前記格子素子は、前記フィールドのアスペクト比より小さい、特に０．５倍ほど小さいアスペクト比を有していることを特徴とする照明光学系。
【請求項１２】  請求項１から１１のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記第２の光学素子は、二次光源の位置に遮蔽装置を有していることを特徴とする照明光学系。
【請求項１３】  請求項１から１１のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記第２の光学素子は遮蔽装置を有し、該遮蔽装置は、前記複数の光学素子を有する反射鏡の直ぐ近くに設けられていることを特徴とする照明光学系。
【請求項１４】  請求項１から１１のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記第２の光学素子は、前記光源（１）と、前記複数の格子素子を有する反射鏡（３４）との間に設けられ、前記第２の光学素子を交換したり、移動させたり、あるいは変形したりすることにより、前記複数の格子素子を有する反射鏡の照明が変更されるように構成されていることを特徴とする照明光学系。
【請求項１５】  請求項１４に記載の照明光学系において、
前記第２の光学素子は、制御可能な走査式反射鏡とされていることを特徴とする照明光学系。
【請求項１６】  請求項１４に記載の照明光学系において、
前記第２の光学素子は、ズーム機能を有した光学装置であることを特徴とする照明光学系。
【請求項１７】  請求項１４に記載の照明光学系において、
前記第２の光学素子は、変形自在の表面を有する反射鏡であることを特徴とする照明光学系。
【請求項１８】  請求項１７に記載の照明光学系において、
前記変形自在の表面を有する反射鏡は、複数のマニピュレータを備えていることを特徴とする照明光学系。
【請求項１９】  請求項１８に記載の照明光学系において、
前記マニピュレータは、前記反射鏡の裏面側に設けられていることを特徴とする照明光学系。
【請求項２０】  請求項１９に記載の照明光学系において、
前記マニピュレータは、圧電素子、及び／又は、変形を起こさせるよう電磁気的に動作させるための素子を備え、前記圧電素子、及び／又は、電磁気的に動作させるための前記素子が操作制御可能とされていることを特徴とする照明光学系。
【請求項２１】  請求項１４に記載の照明光学系において、
前記第２の光学素子は、複数の格子素子を有する付加的な反射鏡（３１０，３２０，３３０）であることを特徴とする照明光学系。
【請求項２２】  請求項２１に記載の照明光学系において、
複数の格子素子を有する前記付加的な反射鏡（３１０，３２０，３３０）と、格子素子を有する前記反射鏡（３４）との間には、少なくとも一つの集光反射鏡（３０２）を有する光学系が設けられ、前記付加的な反射鏡（３１０，３２０，３３０）の前記複数の格子素子の像が、格子素子を有する前記反射鏡（３４）上で大部分一致するように構成されていることを特徴とする照明光学系。
【請求項２３】  請求項２１または２２に記載の照明光学系において、
複数の格子素子を有する前記付加的な反射鏡（３１０，３２０，３３０）が交換可能とされていることを特徴とする照明光学系。
【請求項２４】  請求項２１から２３のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記付加的な反射鏡の前記複数の格子素子（３１２，３２２，３３２，３３４，３３６，３３８）は、集束作用もしくは発散作用を有していることを特徴とする照明光学系。
【請求項２５】  請求項２１から２４のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記付加的な反射鏡の前記複数の格子素子（３１２，３２２，３３２，３３４，３３６，３３８）は、回折を生じるように形成されていることを特徴とする照明光学系。
【請求項２６】  請求項２１から２５のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記付加的な反射鏡の前記複数の格子素子（３１２，３２２）は、六角形の外形を有していることを特徴とする照明光学系。
【請求項２７】  請求項２１から２５のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記付加的な反射鏡の前記複数の格子素子（３３２，３３４，３３６，３３８）は、集束型の面もしくは発散型の面の軸外の部分を有していることを特徴とする照明光学系。
【請求項２８】  請求項１４に記載の照明光学系において、
前記第２の光学素子は、交換可能な反射鏡であることを特徴とする照明光学系。
【請求項２９】  請求項１から２８のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記射出瞳における照度分布の種類は、円状の分布か、もしくは、少なくとも円状の分布に近いものとされていることを特徴とする照明光学系。
【請求項３０】  請求項１から２８のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記円形の、もしくは円形に近い形状で照明された射出瞳の充填度σは、１．０より小さく、とりわけ０．６より小さいことを特徴とする照明光学系。
【請求項３１】  請求項１から２８のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記射出瞳の照度分布の種類は、輪環状の分布とされていることを特徴とする照明光学系。
【請求項３２】  請求項１から２８のいずれか１項に記載の照明光学系において、
前記射出瞳の照度分布の種類は、四重極状の分布とされていることを特徴とする照明光学系。
【請求項３３】  請求項１から３２のいずれか１項に記載の照明光学系と、マスクと、投影光学系と、感光性の物体、とりわけ支持装置上のウェハとを備えたマイクロリソグラフィー用のＥＵＶ−投影露光装置。
【請求項３４】  請求項３３に記載のＥＵＶ−投影露光装置において、
スキャナーシステムとして形成されていることを特徴とするＥＵＶ−投影露光装置。
【請求項３５】  請求項３３または３４に記載のＥＵＶ−投影露光装置を用いてマイクロエレクトロニクスの構成部材、とくに半導体チップを製造する方法。