Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月6日(2007.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  体内埋込み可能な電子医療機器のケーシング（２６）の開口内に挿嵌するための単極式又は多極式の電気的なフィルタブッシング（１）であって、該フィルタブッシングが、相互導電を断って配置された単数又は複数の接点素子（８）並びに前記ケーシング（２６）の周壁に結合するための固定手段（３）を備えていて前記開口内へ挿嵌されるブッシング本体（２）と、殊に容量として構成されたフィルタ手段（７）とから成り、該フィルタ手段が一方では前記接点素子（８）の１つに、また他方では基準電位を導くケーシング（２６）に導電接続されている形式のものにおいて、ブッシング本体（２）の固定手段（３）がフランジ状に形成されており、かつ、ケーシング内室（４）の方に向いた複数の薄層板（６）と１つの自由端部とを有するフレキシブルに形成された金属質のカラー（５）から成っており、前記自由端部でフィルタ手段（７）がブッシング本体（２）の外部に配置されており、かつ、挿嵌状態で実質的に浮動自在にケーシング（２６）のケーシング内室（４）内へ侵入するようにブッシング本体（２）と結合されていることを特徴とする、フィルタブッシング。
【請求項２】  フィルタ手段が、ブッシング本体（２）と同軸に横型に配置されたフィルタブロック（７）を形成している、請求項１記載のフィルタブッシング。
【請求項３】  フィルタブロック（７）が、ブッシング本体（２）の固定手段（３）の、ケーシング内室（４）の方に向いた金属質のカラー（５）の自由端部に固着されている、請求項１又は２記載のフィルタブッシング。
【請求項４】  薄層板（６）がカラー（５）に実質的に均等分配して配置されている、請求項１記載のフィルタブッシング。
【請求項５】  カラー（５）がクラウンの形状を有している、請求項４記載のフィルタブッシング。
【請求項６】  フィルタブロック（７）の周壁が薄層板（６）の内側に支持されている、請求項１記載のフィルタブッシング。
【請求項７】  フィルタブロック（７）が、層状に配置された多数のセラミック円板（１９，２０，２０．１，２１，２１．１，２２，２２．１，２３，２３．１）を有し、しかも接点素子（８）の個数に相当する数の円板（２０，２１，２２，２３）が、金属コーティングの施された基板として構成されており、前記の各円板が、金属コーティングの施されていない２枚のセラミック円板（１９）間に配置されている、請求項１記載のフィルタブッシング。
【請求項８】  金属コーティングの施された基板として形成された円板（２０，２０．１，２１，２１．１，２２，２２．１，２３，２３．１）のうちの若干（２０．１，２１．１，２２．１，２３．１）が少なくとも１つの薄層板（６）と導電接続されている、請求項６又は７記載のフィルタブッシング。
【請求項９】  ブッシング本体（２）内に４本の電気的なピン（８）が接点素子として設けられている、請求項８記載のフィルタブッシング。
【請求項１０】  夫々１本のピン（８）が、金属コーティングの施された夫々１つの円板（２０，２１，２２，２３）と導電接続されている、請求項９記載のフィルタブッシング。
【請求項１１】  金属コーティングの施された基板として構成された円板（２０，２０．１，２１，２１．１，２２，２２．１，２３，２３．１）が、ピン（８）を受容するために該ピン（８）の本数に相当する個数の孔（２４）を有している、請求項１０記載のフィルタブッシング。
【請求項１２】  金属コーティングの施された基板として構成された円板（２０，２０．１，２１，２１．１，２２，２２．１，２３，２３．１）に穿設された孔（２４）が次のように形成されている、すなわち、金属コーティングの施された基板として形成された円板（２０，２１，２２，２３）の１つに穿設されてピン（８）をその都度内包する孔（２４）が、残りの孔（２４）よりも小さな直径を有しており、かつ前記ピン（８）が、金属コーティングの施された基板として形成された円板（２０，２１，２２，２３）に電気的に接続されている、請求項１１記載のフィルタブッシング。
【請求項１３】  体内埋込み可能な電子医療機器の信号発生兼処理装置（１４）をケーシング（２６）の周壁と導電接続するための付加的な接続ピン（１６）がカラー（５）に設けられている、請求項１記載のフィルタブッシング。
【請求項１４】  接続ピン（１６）が実質的に帯状に形成されている、請求項１３記載のフィルタブッシング。
【請求項１５】  ケーシング（２６）と、該ケーシング（２６）内に配置された電子信号発生兼処理装置（１４）とを備えた体内埋込み可能な電子医療機器において、請求項１から１４までのいずれか１項記載の単極式又は多極式の電気的なフィルタブッシング（１）が、電子信号発生兼処理装置（１４）を、前記電子医療機器の動作のために必要な信号導線及び制御導線に接続するために設けられていることを特徴とする、体内埋込み可能な電子医療機器。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の外面と穴を形成する第１の内面とを有する外側カニューレであって、前記第１の内面は第１の内径を有し、第１の外面は第１の外径を有し、前記第１の内面および外面は、第１の停止部を有する第１の近位端と第１の遠位端との間に第１の軸線の第１の長さに沿って延びている、外側カニューレと、
第２の外径を備えた第２の外面を有するトロカールであって、前記第２の外面は、第２の停止部を有する第２の近位端とにぶい先端部分を有する第２の遠位端との間に第２の軸線の第２の長さに沿って延びている、トロカールと、
ハンドル及び管を有する案内部材であって、前記管は、第３の外面及び通路を形成する第３の内面を有し、前記第３の内面は第３の内径を有し、前記第３の外面は第３の外径を有し、前記第３の内面は第３の近位端と第３の遠位端との間に延びており、前記第３の外面は、第３の近位端の第３の停止部と前記第３の遠位端との間に第３の軸線の第３の長さに沿って延びており、前記ハンドルは、前記第３の軸線に対してある角度で前記管に接続されている、案内部材と、
第４の外径を備えた第４の外面を有する骨ドリル刃であって、前記第４の外面は、第４の近位端の近傍に配置された第４の停止部と第４の遠位端に形成された複数のドリル溝部分との間に第４の軸線の第４の長さに沿って延びている、骨ドリル刃と、
第５の外径を有する第５の外面を備えた骨タップであって、前記第５の外面は、第５の近位端の近傍に配置された第５の停止部と前記骨ドリル刃によってつくられた骨の開口部にねじを切るためにその上にねじを有する第５の遠位端との間に延びる、骨タップと、
ある長さを有する長さ調整可能な停止部であって、相互に接続された一連の円筒形部材である前記長さ調整可能な停止部と、
前記長さ調整可能な停止部の長さを調整するためのカッタと、
ねじを挿入するための移植部材ドライバと、
を有する、ねじ送出装置。
【請求項２】
前記装置はさらに、Ｃ１およびＣ２頚椎のトランスアーティキュラー型ねじ固定のために適合されたねじを含む、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記装置はさらに、少なくとも一つの椎体間固定用の移植部材を含む、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記装置はさらに、椎骨の小面関節を横切る少なくとも一つのねじをねじ込むために適合されているねじを含む、請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記装置はさらに、少なくとも一つの椎体間固定用の移植部材を含む、請求項４記載の装置。
【請求項６】
前記装置はさらに、前記装置はさらに、椎骨歯状突起の骨折をねじ固定するために適合されているねじを含む、請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記装置はさらに、少なくとも一つの椎体間固定用の移植部材を含む、請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記第５の外面は、前記第５の停止部に隣接した複数の長さマークを有し、前記長さマークは、前記骨タップの前記第５の停止部と前記第５の遠位端との間の前記第５の外面に配置されている、請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記第４の外面は、前記第４の停止部に隣接した複数の長さマークを有し、前記長さマークは、前記第４の停止部と前記第４の遠位端との間の前記第４の外面に配置されている、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
前記長さ調整可能な停止部は、外面と、穴を画成する内面とを有し、前記長さ調整可能な停止部の前記穴の直径は、前記第４の外径より大きい、請求項１記載の装置。
【請求項１１】
前記装置はさらに、少なくとも一つの椎体間固定用の移植部材を含む、請求項１０記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    
【請求項１】
歯面および歯の充填用コンポジット材料(composite material)の表面の清掃および研磨のための衛生器具（hygiene instrument）であって、該器具はスティック（１）形状のタイプであり、該スティック（１）の構造(２)は、樹脂マトリックス(２１)に埋め込まれた繊維(２０)からなり、前記繊維(２０)は酸化ジルコニウムに富むガラス繊維であることを特徴とする器具。
【請求項２】
前記繊維(２０)は、ガラスの構成成分（constituents）の全重量に対して、１５重量％〜２０重量％の酸化ジルコニウムを含有するガラスからなる繊維であることを特徴とする請求項１に記載の器具。
【請求項３】
前記繊維(２０)は、ガラスの構成成分の全重量に対して、１６．８重量％〜１７．１重量％の酸化ジルコニウムを含有するガラスからなる繊維であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の器具。
【請求項４】
前記スティック（１）は、アラミド繊維をさらに備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の器具。
【請求項５】
前記樹脂マトリックス（２１）は、フィラー粒子（filler of particles）をさらに含むことを特徴とする請求項１〜３に記載の器具。
【請求項６】 
前記樹脂マトリックスは、熱硬化性または熱可塑性樹脂からなることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の器具。
【請求項７】
前記スティック(１)は、円筒形をしており、前記スティック(１)の端部(１１’)は、面取りされている（chamfered）ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の器具。
【請求項８】 
前記器具は、２つの隣接した縦長面が互いにある角度で存在するように長手方向に面取りされていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の器具。
【請求項９】 
前記器具は、前記スティック（１）に適合するか、または前記スティック（１）と一体形成されている柄（１０）を有することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の器具。
【請求項１０】
前記繊維（２０）の含有率は、前記スティック（１）の４５体積％〜６５体積％であることを特徴とする請求項１〜９に記載の器具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月22日(2007.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図３ａはダイヤフラム２１の実施の形態を示している。このダイヤフラムは可撓性のダイヤフラム１９の面全体を支持している。ダイヤフラム２１の外側エッジ領域は同時にダイヤフラム１９と共にケーシング部分１０，２０の間に同心的に挟持される。可撓性ダイヤフラム１９のダイヤフラム部分２１の支持面は細い半径方向スリット２７によって多数の扇形部２８に分離されている。個々の扇形部２８の運動性は接線方向のスリット２９によってヒンジのように容易になる。この接線方向のスリットは充分に短い接続部３０が残るように形成することができる。従って、ダイヤフラム部分２１の内側エッジがフリーであるので、全体として良好に動くことができる支持要素が生じる。この支持要素は一方ではダイヤフラム１９の押圧力によって、他方ではばね２２の戻し力によって往復運動する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月22日(2006.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  吸着材料本体を含む、閉じられたチャンバー内で、周囲圧力を越える圧力条件下にて、ガスと該吸着材料とを接触状態で貯蔵する工程を含む、ガスの貯蔵方法であって、該吸着材料本体が、ペレット化されたフラーレンからなる、フラーレンを主成分とする材料を含み、該ペレット化されたフラーレンが、重合され及び／又は化学的に修飾され、そのガス吸着能が高くされたものであることを特徴とする、上記方法。
【請求項２】  ペレット化されたフラーレン材料を含むガス吸着に適した吸着剤であって、該ペレット化されたフラーレン材料が、重合され及び／又は化学的に修飾され、そのガス吸着能が高くされたものである、ガス吸着に適した吸着剤。
【請求項３】  周囲圧力を越える圧力条件下にて、ガスを貯蔵するのに適した閉じられたチャンバーと、該チャンバー内に貯蔵すべきガスを導入しかつ取り出すために、該チャンバーを選択的にアクセスするための手段を含む、ガス用の貯蔵装置であって、該チャンバーが、ガス吸着材料の本体を含み、該ガス吸着材料が、本質的にフラーレンを主成分とする材料からなり、該フラーレンを主成分とする材料が、重合され及び／又は化学的に修飾され、そのガス吸着能が高くされた、ペレット化されたフラーレンからなるものであることを特徴とする、上記貯蔵装置。
【請求項４】  ガスを貯蔵するのに適した、フラーレンを主成分とする吸着剤の製法であって、一定量のフラーレン材料をペレット化し、且つ重合し、該フラーレンの分子状カゴ構造を破壊することにより、該材料のフラーレン分子を変性することを特徴とする、上記方法。
【請求項５】  ガスを貯蔵するのに適した、フラーレンを主成分とする吸着剤の製法であって、一定量のフラーレン材料をペレット化及び化学的に修飾し、そのガス吸着能を高くする工程を含むことを特徴とする、上記方法。
【請求項６】  該フラーレン材料を、それが重合するよりも低い、高温高圧の酸素に暴露することにより酸化し、酸化されたフラーレン材料を、それが重合するよりも低い、高温高圧の二酸化炭素ガスに暴露することにより活性化する工程を含むことを特徴とする、請求項５記載の方法。
【請求項７】  該酸化されたフラーレン材料を、活性化工程で処理する前に重合工程に付すことを特徴とする、請求項６記載の方法。
【請求項８】  重合され及び／又は化学的に修飾され、そのガス吸着能が高くされたペレット化されたフラーレンの、閉じられたチャンバー内にガスを貯蔵するための吸着剤としての使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月29日(2007.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  カード本体(5)および表示デバイス(4)からなるカード形データキャリヤであって、該カード本体(5)が、
−  少なくとも前記表示デバイス(4)の区域においてプラスチックから作製された少なくとも１つの部分区域(15,16,22,25)を有し、
前記表示デバイス(4)が、
−  その内の少なくとも１つのキャリヤ層(10,11)が光学的スペクトル領域において透明である２つの機械的に柔軟なキャリヤ層(10,11)、および
−  前記２つのキャリヤ層(10,11)の間に配置された、情報を表示するための機能層(12)、
を含むカード形データキャリアにおいて、
前記２つのキャリヤ層(10,11)の内の少なくとも１つが、薄いガラス層(13)および前記カード本体(5)のプラスチックの部分区域(15,16,22,25)から構成された機械的に柔軟なガラス−プラスチック複合体から形成されていることを特徴とするカード形データキャリア。
【請求項２】  前記２つのキャリヤ層の内の他方(11または10)が、薄いガラス層(13)および別のプラスチック層(14)から構成された機械的に柔軟なガラス−プラスチック複合体から形成されていることを特徴とする請求項１記載のカード形データキャリア。
【請求項３】  薄いガラス層(13)および別のプラスチック層(14)から構成された前記ガラス−プラスチック複合体が、該薄いガラス層(13)が前記機能層(12)に面する側にあり、前記別のプラスチック層(14)が該機能層(12)に面さない側にあるように少なくとも１つのキャリヤ層(10,11)内に配置されていることを特徴とする請求項２記載のカード形データキャリア。
【請求項４】  前記ガラス−プラスチック複合体が、薄いガラス層(13)の上側のキャリヤ層(10)および前記カード本体(5)の上側のプラスチック部分区域(15)において構成されていることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載のカード形データキャリア。
【請求項５】  前記ガラス−プラスチック複合体が、薄いガラス層(13)の下側のキャリヤ層(11)および前記カード本体(5)の下側のプラスチック部分区域(16)において構成されていることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載のカード形データキャリア。
【請求項６】  前記下側のキャリヤ層(11)が機械的に柔軟な材料の基体層(18)であることを特徴とする請求項１、３または４記載のカード形データキャリア。
【請求項７】  前記下側のキャリヤ層(11)が、前記機能層(12)を封止する機械的に柔軟な封止層(19)であることを特徴とする請求項１、３または４記載のカード形データキャリア。
【請求項８】  前記基体(18)が、その気体拡散係数がガラスのものの範囲内にある材料から作製されることを特徴とする請求項６記載のカード形データキャリア。
【請求項９】 前記封止層(19)が、その気体拡散係数がガラスのものの範囲内にある材料から作製されることを特徴とする請求項７記載のカード形データキャリア。
【請求項１０】  前記機能層(12)が、液晶（ＬＣ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）または発光有機ポリマーに基づく電子的に駆動可能な表示装置を有することを特徴とする請求項１から９いずれか１項記載のカード形データキャリア。
【請求項１１】  前記機能層(12)が、情報の表示を制御するまたはそれに影響を与えるための電子デバイスおよび／または光デバイスを有することを特徴とする請求項１から１０いずれか１項記載のカード形データキャリア。
【請求項１２】  カード本体(5)および表示デバイス(4)からなるカード形データキャリヤであって、該表示デバイス(4)が、接着または貼合せまたは該カード本体(5)中への組込みにより該カード本体(5)に固定されているデータキャリアを製造する方法において、
−  前記カード本体(5)が、少なくとも１つがプラスチックから作製された複数のカード層(22,24,25)の接着または貼合せにより構成され、
−  前記表示デバイス(4)の少なくとも１つのキャリヤ層(13)が、前記カード本体(5)のプラスチックカード層(22,24,25)に接着または貼合せにより接続され、それによって、該表示デバイス(4)の前記薄いガラス層(13)および前記カード本体の前記プラスチックカード層(22,24,25)から構成されたガラス−プラスチック複合体を形成することを特徴とする方法。
【請求項１３】  −  第１のカード層(22)を提供し、
−  前記表示デバイスを収容するための間隙(23)が設けられた少なくとも１つのインレイフイルム(24)を、接着または貼合せにより該第１のカード層(22)に施し、
−  前記表示デバイス(4)を該インレイフイルム(24)の間隙(23)中に組み込み、
−  第２のカード層(25)を、接着または貼合せにより該インレイフイルム(24)に施す、
各工程を含むことを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  前記表示デバイス(4)が、機能層(12)を間に囲んだ２つのキャリヤ層(10,11)からなる予め製造された素子として、前記カード本体(5)中に組み込まれることを特徴とする請求項１２または１３記載の方法。
【請求項１５】  前記表示デバイス(4)が、前記カード本体(5)を製造するために必要な個々の貼合せまたは接着工程と共に、層毎に該カード本体(5)中に組み込まれることを特徴とする請求項１２または１３記載の方法。
【請求項１６】  −  下側の薄いガラス層(13)を、貼合せまたは接着により少なくとも１つのカード層(22)に施し、
−  前記機能層(12)を該下側の薄いガラス層(13)に施し、
−  上側の薄いガラス層(13)を該機能層(12)に施し、
−  以上の各工程の１つ以上と一緒に、１つ以上のインレイフイルム(24)を施し、
−  少なくとも１つのさらなるカード層(25)を、貼合せまたは接着により前記上側の薄いガラス層(13)に施す、
各工程を含むことを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１７】  カード本体(5)および表示デバイス(4)からなるカード形データキャリヤであって、該カード本体(5)が射出成形により製造され、該表示デバイス(4)が、該カード本体(5)の射出成形中に該カード本体(5)中に組み込まれるデータキャリアの製造方法において、
該表示デバイス(4)の少なくとも１つの薄いガラス層(13)が、プラスチックの前記カード本体(5)とガラス−プラスチック複合体を形成することを特徴とする方法。
【請求項１８】  前記表示デバイス(4)の射出成形による前記カード本体(5)中への組込み前に、該表示デバイス(4)の少なくとも１つの薄いガラス層(13)に、機械的および／または化学的表面処理が施されることを特徴とする請求項１７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月30日(2007.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  雑音抑圧信号を出力するために雑音を含む信号の雑音を抑圧する方法において、前記雑音から推定値が形成され、さらに、いくらかの雑音を含む音声から推定値が形成される方法。
【請求項２】  前記信号は音声を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記雑音抑圧信号の中に所望量の雑音を含むように、前記いくらかの雑音を含む音声の推定値に含まれる雑音レベルを可変とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】  前記雑音レベルは、受入れ可能なレベルのコンテキスト情報を与える請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記雑音レベルを前記音声のマスク限界値未満とし、リスナーの耳には聞こえないようにする請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】  前記雑音レベルを前記音声の前記マスク限界値に接近させ、したがって、いくらかの雑音コンテキスト情報が前記信号内に残されるようにする請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】  雑音抑圧用利得係数の生成方法であって、前記利得係数の第１の推定値が適応的に形成され、この第１の推定値が雑音推定値の形成に用いられ、次いで該雑音推定値が前記利得係数の第２の推定値の形成に用いられる方法。
【請求項８】  前記雑音推定値が電力スペクトル密度である請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記雑音推定値を更新するために前記第１の推定値が用いられる請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】  雑音抑圧信号を出力するために雑音を含む信号の雑音を抑圧する雑音抑圧装置であって、雑音を推定する手段と、いくらかの雑音を含む音声を推定する手段と、を備える雑音抑圧装置。
【請求項１１】  前記信号は音声を含む請求項１０に記載の雑音抑圧装置。
【請求項１２】  前記雑音抑圧信号の中に所望量の雑音を含むように、前記いくらかの雑音を含む音声の推定値に含まれる雑音レベルを可変とする請求項１０または１１に記載の雑音抑圧装置。
【請求項１３】  前記雑音のレベルは、受入れ可能なレベルのコンテキスト情報を与える請求項１２に記載の雑音抑圧装置。
【請求項１４】  前記雑音レベルを前記音声のマスク限界値未満とし、リスナーの耳には聞こえないようにする請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の雑音抑圧装置。
【請求項１５】  前記雑音レベルを前記音声の前記マスク限界値に接近させ、したがって、いくらかの雑音コンテキスト情報が前記信号内に残されるようにする請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の雑音抑圧装置。
【請求項１６】  雑音抑圧の利得係数を生成する手段を備える雑音抑圧装置であって、前記利得係数の第１の推定値が適応的に形成され、この第１の推定値が雑音推定値の形成に用いられ、次いで該雑音推定値が前記利得係数の第２の推定値の形成に用いられる雑音抑圧装置。
【請求項１７】  前記雑音推定値が電力スペクトル密度である請求項１６に記載の雑音抑圧装置。
【請求項１８】  前記雑音推定値を更新するために前記第１の推定値が用いられる請求項１６または１７に記載の雑音抑圧装置。
【請求項１９】  請求項１０〜１８のいずれか一項に記載の雑音抑圧装置を備える通信端末。
【請求項２０】  請求項１０〜１８のいずれか一項に記載の雑音抑圧装置を備える通信ネットワーク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
課題を解決するための手段
本発明の第１の態様に従って、雑音抑圧信号（noise suppressed signal）を出力するために雑音を含む信号内の雑音を抑圧する方法が提供され、この方法で雑音から推定値が形成され、次いで、いくらかの雑音を含む音声から推定値が形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
好適には、雑音抑圧信号の中に所望量の雑音を含むように、いくらかの雑音と共に音声の推定値に含まれる雑音レベルを可変とすることが望ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の第２の態様に従って、雑音抑圧用利得係数の形成方法が提供される。該方法では、上記利得係数の第１の推定値が適応的に形成され、この第１の推定値を利用して、雑音推定値が形成され、次いで、この雑音推定値により利得係数の第２の推定値が形成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
上記の点に関して、本発明により重要な利点が提供される。本発明により、本発明に準拠して実現された雑音抑圧装置には音声活動検出器（ＶＡＤ）を設ける必要が実際上なくなる。ＶＡＤは基本的にはエネルギ検出器である。ＶＡＤによって、雑音の多い音声信号が受信され、フィルタされた信号のエネルギが所定の閾値と比較され、閾値を超えたときはいつでも受信信号の中に音声が存在することが示される。多くの音声符号化／復号システムにおいて、特に、移動通信の分野で、ＶＡＤの動作により、音声信号内の暗騒音の処理方法が変更される。詳細には、音声が検出されない時間中、送信が切断され、受信端末で“快適雑音”が生成される。この結果、このような不連続送信の利用と、音声活動検出方式とにより、雑音抑圧の利用が複雑なものになり、不所望の影響につながることになる場合もある。したがって、音声活動検出器が不要になること、及び、雑音状態の変化に自動的に適応する雑音抑圧方式の創成が強く望まれている。本発明は、音声と暗騒音双方の推定値を得る雑音抑圧方法を導入するものであるため、入力信号が音声と雑音を含むものか、雑音のみを含むものかについての決定を行う必要が実際上存在しない。したがってＶＡＤの機能は冗長なものになる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
メモリモジュール303においては、過去の励振信号u(n),n<0が記憶される。ピッチコードブック検索モジュール301は、前述の検索基準Cを最小にするよう、ピッチ(ピッチコードブック)検索を行なうためメモリーモジュール303からの目標ベクトルx,開ループピッチ遅れTOL、過去の励振信号u(n)(n<0)に対して応答する。モジュール301内で実施された検索の結果から、モジュール302は、最適なピッチコードブックベクトルvTを生成する。サブサンプルピッチ分解能が使用される(端数ピッチ)ことから、過去の励振信号u(n)(n<0)は補間されピッチコードブックベクトルvTはこの補間された過去の励振信号に対応する、という点に留意のこと。この好適実施例においては、補間フィルタ(モジュール301内、ただし図示せず)は、7000Hzより大きい周波数内容を除去する低域通過フィルタ特性を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月23日(2007.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  上側の全体的に十字形の吸収材部分（１２）と、該部分に取付けられベーン（２２）と連絡部材（２０）とひれ（１８）とを有する下側の速度制限器（１４）とを備える原子炉用制御棒（１０）の重量を調節する制御棒重量調整方法に於て、
第１組のひれとこの第１組のひれよりも重い第２組のひれ（１８ａ、１８ｂ）とを用意する工程と、
第１の連絡部材（２０ａ）と前記第１の連絡部材（２０ａ）よりも重い第２の連絡部材（２０ｂ）とを用意する工程と、
前記第１組及び第２組のひれの内の一方、ならびに、前記第１及び第２の連絡部材の内の一方を選択する工程と、
前記ベーン並びに前記ひれ及び連絡部材の一方を選択して、これらを含む、前記制御棒に対する速度制限器を形成する工程、
とを具備することにより、制御棒の重量を選択的に調節することを特徴とする制御棒重量調整方法。
【請求項２】  前記重い方の第２の連絡部材を選択し、該重い方の第２の連絡部材の重量を調節して、前記制御棒の重量を選択的に調節する工程をさらに含む請求項１記載の制御棒重量調整方法。
【請求項３】  前記重い方の連絡部材から材料を取去ることにより、前記重い方の第２の連絡部材の重量を調節する請求項２記載の制御棒重量調整方法。
【請求項４】  前記連絡部材は軸線を中心とする全体的な円筒形を持つと共に、前記軸線に沿って前記連絡部材の中を通る中孔を持ち、前記中孔の内部から材料を取去ることにより、前記重い方の連絡部材の重量を調節する請求項３記載の制御棒重量調整方法。
【請求項５】  前記各組のひれの間の重量の差は、前記第１組及び第２組のひれの寸法の変化だけによって生じている請求項１記載の制御棒重量調整方法。
【請求項６】  ソケット（２４）を設け、前記選ばれた一方の連絡部材及び前記ソケットを互いに溶接する工程を含む請求項１記載の制御棒重量調整方法。
【請求項７】 前記第１の連絡部材を選択し、該第１の連絡部材の重量を調節して前記制御棒の重量を選択的に調節する工程を含む請求項１記載の制御棒重量調整方法。
【請求項８】 さらに、
異なる構成の第１と第２の組のひれであって、前記第２の組のひれは前記第１の組のひれを形成する材料よりも重い材料からなるような第１と第２の組のひれを準備する工程と、
前記第２の組のひれを選択する工程を備えることを特徴とする請求項１の制御棒重量調整方法。
【請求項９】 上側の全体的に十字形の吸収材部分（１２）と、該部分に取付けられベーン（２２）と連絡部材（２０）とひれ（１８）とを有する下側の速度制限器（１４）とを備える原子炉用制御棒（１０）の重量を調節する制御棒重量調整方法に於て、
一組のひれを用意する工程と、
第１の連絡部材（２０ａ）とこの第１の連絡部材（２０ａ）よりも重い第２の連絡部材（２０ｂ）とを用意する工程と、
前記第１組及び第２組のひれの内の一方を選択する工程と、
前記ベーン並びに前記ひれ及び連絡部材の一方を選択して、これらを含む、前記制御棒に対する速度制限器を形成する工程、
とを具備することにより、制御棒の重量を選択的に調節することを特徴とする制御棒重量調整方法。
【請求項１０】  より重い方の前記第２の連結部材を選択し、この第２の連結部材の重量をその材料を除去することにより調整する工程を更に備えることを特徴とする請求項９の制御棒重量調整方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
従来、単独の速度制限器が、上に述べた設計の基準を満たすように開発されていた。しかし、更に新しい制御ブレード吸収材部分が設計されており、その各々は、大幅に異なる負荷パターン及び中性子吸収材料を持っている。この結果、ある制御棒吸収材部分は元の設計よりも一層重くなり、又あるものは一層軽くなっている。制御棒の重量の限界は、特定プラントが使うことが許可されている条件によって定められているから、異なる制御棒の設計のどれにでも使えるように、異なる２種類の速度制限器が利用出来るようになっている。具体的に言うと、制御棒のどの設計にも使えるような軽い及び重い速度制限器が設計されている。特定の制御棒の設計に対して、軽い又は重い速度制限器のどちらを選択するかは、制御ブレード吸収材部分の重量に基づいている。即ち、軽い速度制限器が重い吸収材部分と共に用いられ、逆に重い速度制限器が軽い吸収材部分と共に用いられている。その為、設計を満たすと共に許可の条件を満たすように、制御棒の全重量を厳密に制御することが出来るように、制御棒の重要な外側の幾何学的な形又は流体の機構的な性質に影響を与えずに、制限器の重量を変えることが出来るようにする１個の速度制限器に対する要望が生じている。
【特許文献３】米国特許第５８８３９３１号
【特許文献４】特開昭５３−０６０４８７号
【特許文献５】特開昭６１−０９５２７７号
【特許文献６】特開昭６２−２５４０９７号
【特許文献７】特開昭６２−２５４０９８号
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月8日(2007.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  廃棄物固定化用のセラミック媒質であって、このセラミック媒質は、再処理核燃料集合体からの廃棄物を含有するものであり、このセラミック媒質の実質的な固溶体形態には、照射済核燃料中の少なくとも核分裂生成物からの廃棄物イオンを溶解することができ、本廃棄物固定化用のセラミック媒質は、ホランダイト相、ペロブスカイト相およびジルコノライト相を含むマトリックスを有するものであり、このマトリックス中には上記廃棄物イオンが溶解しており、上記廃棄物は、燃料集合体の非燃料成分からの物質を含むものであり、非燃料成分からの鉄およびジルコニウムが、上記廃棄物中の最も豊富な元素であり、非燃料成分が、本廃棄物固定化用のセラミック媒質のマトリックスを形成するように利用される、セラミック媒質。
【請求項２】  ３０〜６５重量％の廃棄物を含む請求項１に記載のセラミック媒質。
【請求項３】  ３５〜６５重量％の廃棄物を含む請求項２に記載のセラミック媒質。
【請求項４】  ４０〜６０重量％の廃棄物を含む請求項３に記載のセラミック媒質。
【請求項５】  上記マトリックスがラブリンジャイト相を含む請求項１〜４のいずれか一項に記載のセラミック媒質。
【請求項６】  上記マトリックスが鉄に富む相を含む請求項１〜５のいずれか一項に記載のセラミック媒質。
【請求項７】  上記鉄に富む相が鉄に富むスピネル型の相を含む請求項６に記載のセラミック媒質。
【請求項８】  上記マトリックスが、金属相、金属間合金相、チタニアに富む緩衝相、ダビダイトおよび鉄オーステナイトから成る群から選択される一つ以上の相を含む請求項１〜７のいずれか一項に記載のセラミック媒質。
【請求項９】  上記廃棄物が、実質的な量のジルコニウム、鉄、クロムおよびニッケルを含有する高性能ピューレックス再処理操作からの高レベルの放射性廃棄物ストリームからのものである請求項１〜８のいずれか一項に記載のセラミック媒質。
【請求項１０】  上記鉄に富む相が、上記廃棄物中に存在する鉄から実質的に形成される請求項６〜９のいずれか一項に記載のセラミック媒質。
【請求項１１】  再処理核燃料集合体からの廃棄物を固定化する方法であって、上記廃棄物は、燃料集合体の非燃料成分からの物質を含むものであり、非燃料成分からの鉄およびジルコニウムが、上記廃棄物中の最も豊富な元素であり、
上記廃棄物を含有する液に、少なくともチタン、カルシウムおよびバリウムの酸化物または酸化物前駆体を含む前駆体材料を混合して、スラリーを生成する工程と、
上記スラリーを乾燥する工程と、
還元性雰囲気のもとで上記乾燥させたスラリーを仮焼して、粉末を生成する工程と
を含む方法。
【請求項１２】  上記粉末が３０〜６５重量％の廃棄物を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  上記粉末が３５〜６５重量％の廃棄物を含む請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  上記粉末が４０〜６０重量％の廃棄物を含む請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  上記粉末が、ＴｉＯ2を３０〜６０重量％、ＢａＯを１〜１０重量％およびＣａＯを１〜１０重量％の量で、前駆体材料から形成される請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】  上記粉末が、ＴｉＯ2を３０〜５０重量％、ＢａＯを２〜１０重量％およびＣａＯを４〜１０重量％の量で、前駆体材料から形成される請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】  上記粉末が、廃棄物を約５０重量％、ＴｉＯ2を約４０重量％、ＣａＯを約６．０重量％およびＣａＯを約４重量％の量で、廃棄物および前駆体材料から形成される請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  上記粉末が実質的に圧縮され、焼結される請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】  上記圧縮および焼結が熱間等方加圧を含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】  上記熱間等方加圧が１０００〜１４００℃の温度範囲で行われる請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  上記廃液を上記前駆体と混合する前に脱硝する請求項１１〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】  上記脱硝が、上記液をホルムアルデヒドと反応させることを含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】  上記酸化物前駆体が、ＴｉＯ2、ＣａＯおよびＢａＯを生ずることができる化合物である請求項１１〜２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】  上記ＴｉＯ2、ＣａＯおよびＢａＯを生ずることができる化合物が、金属アルコキシドまたは金属水酸化物を含む請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】  上記前駆体が、一つ以上の他の金属酸化物または酸化物前駆体を含む請求項１１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】  上記一つ以上の他の金属酸化物が、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、酸化ニオブを含む群から選択される請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】  上記還元性雰囲気が、Ａｒ／Ｈ2混合物またはＮ2／Ｈ2混合物を含む請求項１１〜２６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８】  上記還元が、貴金属酸化物を金属に、および三価の鉄を二価または金属状態に実質的に還元する請求項１１〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】  上記仮焼が６５０〜８００℃の間で行われる請求項１１〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】  上記仮焼が約７５０℃で行われる請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】  上記圧縮および焼結の前に、上記仮焼された粉末を酸素ゲッターと配合する請求項１１〜３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】  上記酸素ゲッターがチタンまたは鉄を含む請求項３１に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年6月15日(2007.6.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
同軸方向にノズル経路１２に延びるピン状の電極１８が、螺旋装置１６に設けられており、当該電極１８は、高周波発生器２０によって発生される高周波の交流電圧に接続されている。高周波発生器２０により発生される電圧は、数［ｋＶ］の水準であり、例えば２０［ｋＨｚ］の水準の周波数を有する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
金属からなるハウジング１０は、接地されており、対向電極として機能する。その結果として、電気放電が、電極１８とハウジング１０との間で発生する。電圧が印加されると、まず、交流電圧の高周波とセラミック管１４の誘電特性により、螺旋装置１６と電極１８とにコロナ放電が生じる。このコロナ放電により、電極１８からハウジング１０へのアーク放電が発生する。この放電のアーク２２は、螺旋状の作動ガスの流れにより運ばれ、ガスの流れの渦巻の中心部を運ばれ、その結果として、アークは電極１８の先端部からハウジングの軸に沿ってほとんど直線状に延び、ハウジング１０の開口部の領域においてのみ放射状にハウジングの壁に向かって分岐する。実施例に示されるように、ハウジング１０は、ノズル経路１２のテーパ状の端部に、突出部２４が形成されており、当該突出部２４は、放射線状に内側方向に突出し、事実上の対向電極を形成し、当該突出部が、放射状に分岐するアーク２２の分岐を拾い上げる。それと共に、当該分岐が、ガスの渦巻方向に回転し、その結果として、突出部２４の不均整な摩耗を回避する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月25日(2007.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の工程を含む、少なくともライモナイト及びサプロライト鉱石を含むラテライト鉱石からニッケル及びコバルトを抽出する湿式治金プロセス；
ａ．ライモナイト鉱石パルプを水中に生成させる工程、ここで該パルプは５〜３５ｗｔ％の固形物濃度を有し、ライモナイト鉱石は約６ｗｔ％より少ないＭｇを含む；
ｂ．硫酸と混合することにより該パルプを沸点より低い温度でかつ大気圧で浸出して浸出スラリーを形成する工程、ここで、鉄、コバルト及びニッケルは溶液中に溶解し、実質的に全ての硫酸が消費される；
ｃ．ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン及びこれらの混合物からなる群より選択される鉄沈殿剤を該パルプまたは該浸出スラリーに添加する工程；及び
ｄ．該浸出スラリー温度を約８５℃〜該浸出スラリーの沸点の間に維持し、サプロライト鉱石を添加してジャロサイトの沈殿により発生した酸の少なくとも一部を中和することにより、該浸出スラリーの遊離酸濃度を約５〜１５ｇｐｌの間に維持する工程、ここで、マグネシウム、コバルト及びニッケルは同時にサプロライト鉱石から溶解して最終浸出スラリーを形成し、かつ鉄がジャロサイト化合物として沈殿することにより最終浸出スラリーの液体成分中の鉄の最終濃度は３ｇｐｌより低くなる。
【請求項２】  該ライモナイト鉱石パルプの固形物濃度が約２５ｗｔ％（固形物）である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】  サプロライト鉱石を添加することにより、該浸出スラリーの最終ｐＨを約１．０〜約１．８の間に維持する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】  最終浸出スラリーの液体成分中の鉄の最終濃度が０．５ｐｇｌより低い、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】  該ライモナイト鉱石が、鉄沈殿剤の供給源である海水中でパルプ状にされる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】  該サプロライト鉱石が、鉄沈殿剤の供給源である海水中でパルプ状にされる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】  該ライモナイト浸出工程における溶液中の酸化還元電位を、標準水素電極（ＳＨＥ）に対して１０００ｍＶより低く維持する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】  還元剤を添加することにより該酸化還元電位を調整して、コバルト溶解を増進する、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】  二酸化硫黄ガスを該還元剤として使用する、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】  溶液中の該酸化還元電位をＳＨＥに対して約１０００〜約９００ｍＶの範囲に維持して、第二鉄の還元を実質的に防止する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】  該ジャロサイト化合物の一部を除去しかつ添加した鉄沈殿剤に続いて添加して種晶表面として供給し、ジャロサイトとして鉄の沈殿を増進する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１２】  浸出スラリーを固体−液体分離にかけることを更に含み、プレグナント浸出液と最終浸出残渣を形成する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１３】  該固体−液体分離を、向流デカンテーション、濾過またはこれらの組み合わせからなる群より選択されるプロセスにより行う、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】  該プレグナント浸出液からニッケル及びコバルトを分離することを更に含む、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】  該分離が、硫化水素ガスによる硫化沈殿、溶媒抽出、イオン交換、またはこれらの組み合わせからなる群より選択されるプロセスにより行われる、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】  ニッケルとコバルトが最終浸出スラリーから、レジン−イン−パルプ（resin-in-pulp）プロセスにより回収される、請求項１５に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月25日(2007.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の工程を含む、含ニッケルラテライト酸化鉱石からニッケル及びコバルトを抽出する湿式治金硫酸浸出プロセス；
ａ．低マグネシウム含量の含ニッケル酸化鉱石の水性パルプを供給する工程；
ｂ．該水性パルプを少なくとも約２００℃の温度と高い圧力で、含有されるニッケル及びコバルトの浸出効果を奏するのに少なくとも十分な化学量論量の硫酸を添加して浸出し、それにより硫酸ニッケル、硫酸コバルト及び浸出残渣の浸出液排出を行う工程、ここで該浸出液は少なくとも７６ｇ／Ｌの硫酸を含む；
ｃ．未精製の高マグネシウム含有含ニッケル酸化鉱石を工程（ｂ）の浸出液へ大気圧で添加して、最終中和スラリーを形成する工程であって、下記を特徴とする工程、
(i)  未精製の鉱石を８０℃〜最終中和スラリーの大気圧における沸点で添加する、
(ii)  未精製の鉱石からニッケル及びコバルトの抽出を有効とするのに十分な攪拌と時間をかける、
(iii)  酸化／還元電位をコントロールするために最終中和スラリーに還元剤を添加しない、
及び
ｄ．アルカリ金属イオン、アンモニウムイオン及びそれらの混合物からなる群より選択される沈澱剤の十分な量を、工程（ａ）のパルプ、工程（ｂ）の浸出液、または工程（ｃ）の最終中和スラリーへ添加して、第二鉄をジャロサイトとして沈殿する。
【請求項２】  工程（ｂ）の該浸出液及び浸出残渣を、工程（ｃ）の前に分離しない、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】  工程（ｂ）の浸出液に未精製の高マグネシウム含有含ニッケル酸化鉱石を添加する前に、前記未精製の鉱石の一部を大気圧で硫酸を用いて浸出することをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】  アルカリ及びアルカリ土類酸化物、水酸化物、炭酸塩及びこれらの混合物からなる群より選択される中和剤を最終中和スラリーへ添加することをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】  該最終中和スラリーを固体／液体分離工程にかけて、ニッケル及びコバルト並びに最終浸出残渣を回収するのに適する最終プレグナント浸出液を生成させることをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】  工程（ｂ）の浸出液に未精製の鉱石を添加する前に、高マグネシウム含有含ニッケル酸化鉱石を粉砕することをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】  最終中和スラリーのｐＨを、未精製の高マグネシウム含有含ニッケル鉱石の添加の間コントロールしないことを特徴とする、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】  工程（ｂ）の浸出液が、７６ｇ／Ｌ〜１１４ｇ／Ｌの間の硫酸を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】  工程（ｂ）の浸出液が、９２ｇ／Ｌ〜１１４ｇ／Ｌの間の硫酸を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】  工程（ｂ）の浸出液が、１０２ｇ／Ｌ〜１１４ｇ／Ｌの間の硫酸を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】  含ニッケルラテライト酸化鉱石に存在する少なくとも７３％のニッケルを抽出する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１２】  含ニッケルラテライト酸化鉱石に存在する７３％〜９４％のニッケルを抽出する、請求項１に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月15日(2007.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  金属の電解処理によって電極表面に生成された堆積物の表面質の検査方法において、電解処理で得られた陰極は、陰極表面を構成する平面に対して傾斜角をなす位置に設置された少なくとも１個の光源によって照らし、該光源に照らされた表面の画像を少なくとも１台のカメラによって生成し、該画像は画像処理装置に送信し、該装置では、該画像を基礎として、前記陰極表面に異常がある場合は該異常を特定し、これによって、後続の工程のために、前記陰極に堆積した堆積物を分類することを特徴とする検査方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法において、前記陰極表面を照らす光源は、該陰極表面を構成する平面の中央のラインに該光源から到来する光線が交差する点で測定すると、０度ないし90度の角度をなす位置に設置し、有利には、30度ないし60度の角度をなす位置に設置することを特徴とする方法。
【請求項３】  請求項１または２に記載の方法において、前記陰極の表面を照らす光源は、前記陰極表面を構成する平面に対して、前記陰極の表面を構成する平面の法線によって形成されるエリアの外に設置することを特徴とする方法。
【請求項４】  請求項１ないし３のいずれかに記載の方法において、前記光源に照らされた表面の画像を生成するよう、前記カメラは、検査中の陰極表面を構成する平面に対して実質的に垂直な位置に設置することを特徴とする方法。
【請求項５】  請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、前記光源に照らされた表面の画像を生成するよう、前記カメラは、検査中の陰極表面を構成する平面の実質的に中央に設置することを特徴とする方法。
【請求項６】  請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、前記光源に照らされた表面の複数の画像を生成するよう、検査中の陰極表面を構成する平面の実質的に中央のラインに、複数の前記カメラを設置することを特徴とする方法。
【請求項７】  請求項１ないし６のいずれかに記載の方法において、前記カメラによって生成された画像を基礎として陰極を分類するよう、前記画像から、前記陰極の表面に存在する異常によって生じる影を特定することを特徴とする方法。
【請求項８】  請求項１ないし７のいずれかに記載の方法において、個々の陰極の表面から得られた各画像は、画像処理装置に関連して提供されるマイクロプロセッサに記録することを特徴とする方法。
【請求項９】  請求項８に記載の方法において、前記マイクロプロセッサに記録された履歴情報は、電解工程の調整に利用することを特徴とする方法。
【請求項１０】  請求項１ないし９のいずれかに記載の方法において、使用する前記光源はハロゲンフラッドライトであることを特徴とする方法。
【請求項１１】  請求項１ないし９のいずれかに記載の方法において、使用する前記光源は蛍光管であることを特徴とする方法。
【請求項１２】  請求項１ないし９のいずれかに記載の方法において、使用する前記光源は白熱灯であることを特徴とする方法。
【請求項１３】  請求項１ないし12のいずれかに記載の方法において、使用する前記カメラは写真撮影用カメラであることを特徴とする方法。
【請求項１４】  請求項１ないし12のいずれかに記載の方法において、使用する前記カメラはビデオカメラであることを特徴とする方法。