(57)【要約】【課題】  凸版印刷方法，スピンコートなどに比較して配向膜ワニスの使用量が少ないインクジェット印刷方法は、将来有望な配向膜形成方法であるが、膜厚ムラによる表示不具合や製造装置コストが高いと言う課題がある。【解決手段】  一つのインクジェットヘッドを用いて基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であって、前記配向膜ワニスの表面張力が３２dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含んでいることを特徴とする。【効果】  本発明によれば一つのインクジェットヘッドを用いて基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であって、前記配向膜ワニスの表面張力が３２dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含んでいることにより、配向膜ワニス間のつなぎ目残痕のない配向膜形成方法を提供でき、製造装置コストの低減も図れる。【選択図】図１
2006010995.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つのインクジェットヘッドを用いて基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であり、前記配向膜ワニスが溶媒の一つとして表面張力が３２dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含んでいる配向膜形成方法。
【請求項２】
一つのインクジェットヘッドを２回以上折り返し走査して基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であり、前記配向膜ワニスが溶媒の一つとして表面張力が３２
dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含んでいる配向膜形成方法。
【請求項３】
基板を２回以上折り返し走査して一つのインクジェットヘッドから配向膜ワニスを基板上に塗布し配向膜を形成する方法であり、前記配向膜ワニスが溶媒の一つとして表面張力が３２dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含んでいる配向膜形成方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の配向膜形成方法により配向膜を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の配向膜形成方法により形成された配向膜を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
配向膜を有する表示装置であって、
前記配向膜は表面張力が３２dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含むことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に配向膜ワニスを塗布する配向膜形成方法及びそれを用いた液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の製造方法において、ガラス基板上の限定された領域全面に配向膜ワニスを塗布または印刷する方法及び装置として下記に示すいくつかの方法が知られている。
（１）図１に示すように、ドクターロール１，アニックスロール３，液体吐出口２，版胴４から構成され、版胴に固定された樹脂製の凸版５からガラス基板６に配向膜ワニスを塗布する凸版印刷方法である。
（２）回転台に水平に固定されたガラス基板の中央部に、液体吐出口から配向膜ワニスを滴下した後、基板を回転させ、配向膜ワニスを塗布するスピンコート塗布方法である（特許文献１）。
（３）搬送台に水平に固定されたガラス基板上に、液体吐出口から配向膜ワニスを噴霧して、ガラス基板に配向膜ワニスを塗布するスプレイ塗布方法である（特許文献２）。
（４）インクジェットヘッドを用いて、搬送されたガラス基板に配向膜ワニスを塗布するインクジェット印刷方法である（特許文献３）。
【０００３】
【特許文献１】特開平６−２１４６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１７４８１９号公報
【特許文献３】特開平９−１０５９３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
凸版印刷による配向膜形成方法は、塗布方法としては生産性が高いことから最も良く用いられている方法であるが、多くの問題点を抱えている。第一番目に配向膜ワニスの使用量が多いという点である。これは配向膜ワニスを凸版以外に、アニックスロール，ドクターロールにも塗布するためである。第二番目に液晶表示装置に特有の課題とされる歩留まり低下である。これは主に凸版による接触塗布であるため、凸版からのコンタミ混入に起因している。第三番目に多品種対応に時間が掛かりすぎる点である。これは基板上の配向膜形成領域の大きさが替わった場合、凸版そのものを替える必要があるためである。
【０００５】
スピンコート塗布による配向膜形成方法は、非接触塗布であるため、凸版印刷でのコンタミ混入等を回避できる配向膜形成方法である。ただし、大きなガラス基板では生産性が低いという問題を抱えており、量産適用には向いていない配向膜形成方法である。また、基板上の配向膜形成領域に塗布するにはマスクが必要であり、そのため不必要な配向膜ワニスを使用せざるを得ない。また、マスクを用いない場合は、配向膜ワニスがガラス基板の裏側に回りこむ欠点がある。
【０００６】
スプレイ塗布による配向膜形成方法は、スピンコート塗布同様、非接触塗布であるため、凸版印刷でのコンタミ混入等を回避できる塗布方法である。ただし、この場合も基板上の限定された配向膜形成領域に塗布するにはマスクが必要であり、そのため不必要な配向膜ワニスを使用せざるを得ない。
【０００７】
インクジェット印刷による配向膜形成方法は、スプレイ塗布及びスピンコート塗布同様、非接触塗布であるため、凸版印刷でのコンタミ混入等を回避できる塗布方法である。また、配向膜ワニスも必要量しか使用せず、凸版印刷よりもコスト低減が可能である。さらに、基板上の配向膜形成領域の大きさが替わった場合、配向膜ワニスの噴出パターンを変更するだけでよく、凸版印刷よりもより短時間で多品種対応が可能である。
【０００８】
このように、インクジェット印刷による配向膜形成方法は多くの利点を有する反面、これから量産適用される大型基板に対する配向膜形成という観点からは非常に深刻な問題点を抱えていると言わざるを得ない。一般に、大型基板短辺の長さより小さいの幅を有するインクジェットヘッドを２つ以上組み上げて塗布装置に付設し、基板の長辺に沿って一回の走査で配向膜ワニスを塗布するのが理想的である。しかしながら、ヘッド数の膨大さに起因して多くの課題が生じてくる。一つは製造装置コストが大きくなると言う点である。もう一つはインクジェットヘッドの制御系も複雑になり、インクジェットヘッド間の飛翔バラツキも大きくなる点である。これらに加えて、インクジェットヘッドのメンテナンスも膨大になり、尚且つ、一つのインクジェットヘッドに不具合が生じたら装置全体が機能しなくなってしまうし、不具合時の交換作業も大掛かりなものになってしまう。このように大型基板に対する配向膜形成という観点から信頼性の課題がクローズアップされてくる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するために、配向ワニスの溶液としての揮発特性および濡れ性に関して鋭意検討した結果、インクジェット印刷によるコンタミ混入回避，コスト低減，多品種対応などの長所を残したまま、大型基板に対応できる配向膜形成方法を見出し、本発明に至った。
【００１０】
本発明は、一つのインクジェットヘッドを用いて基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であり、前記配向膜ワニスが溶媒の一つとして表面張力が３２dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含んでいる方法である。このような配向膜形成方法を用いることにより、製造装置コストを低減できるばかりでなく、ランニングコストも低減できる。また、一つのインクジェットヘッドしか用いないため、インクジェットヘッド間の飛翔バラツキも生じない。また、不具合時の交換作業も容易となる。また、本発明は同様の配向膜ワニスを用い、一つのインクジェットヘッドを２回以上折り返し走査して基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法や、基板を２回以上折り返し走査して一つのインクジェットヘッドから配向膜ワニスを基板上に塗布し配向膜を形成する方法にかかる。
【００１１】
また、本発明は、上記の方法により配向膜を形成することを特徴とする表示装置の製造方法や、上記方法により形成された配向膜を有することを特徴とする表示装置にかかる。
【００１２】
また、本発明は表面張力が３２dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含む配向膜を有する表示装置にかかる。これにより、従来のインクジェット印刷による配向膜形成方法の適用時にしばしば見られた膜厚むらもなく表示特性に優れた製品を提供するだけでなく、生産性向上や装置コスト低減によりコストパフォーマンスにも優れた製品を提供できる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば一つのインクジェットヘッドを用いて基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であって、前記配向膜ワニスの表面張力が３２dyne／cm以下であり、且つ、沸点が１７５℃以上の溶媒を含んでいることにより、配向膜ワニス間のつなぎ目残痕のない配向膜形成方法を提供でき、製造装置コストの低減も図れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（実施例１）
本発明に係る配向膜形成方法およびそれを用いた液晶表示装置の製造方法の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１５】
配向膜形成に使用する配向膜ワニスはポリアミック酸を溶質とし、有機溶媒を溶剤とする高分子溶液である。ここでは、主材料であるポリアミック酸と有機溶媒について述べるが、溶質の一部として可溶性ポリイミドが含まれていてもとくにかまわない。
【００１６】
本実施例で使用した配向膜ワニスの溶質はジアミン誘導体としてｐ−フェニレンジアミン、カルボン酸誘導体としてピロメリット酸二無水物を出発物質としたポリアミック酸である。ポリアミック酸の出発物質となるジアミン誘導体やカルボン酸誘導体としては本実施例以外の組み合せでも同様な効果が得られる。たとえば、ジアミン誘導体としてｍ−フェニレンジアミン、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，３′−ジアミノジフェニルエーテル、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、３，３′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルプロパン、３，３′−ジアミノジフェニルプロパン、４，４′−ジアミノジフェニルスルホン、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジアミノナフタレン、４，４′−ジアミノターフェニル、１，１−メタキシリレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、３，３′−ジメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、３，３′−ジブチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、３，３′−ジブトキシ−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、２，４−ジアミノ−１−オクチルベンゼン、２，４−ジアミノ−１−オクチルオキシベンゼン、２，４−ジアミノ−１−メトキシメチレンベンゼン、２，４−ジアミノ−１−ブトキシメチレンベンゼン、３，３′−ジメチル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、１，６−ジアミノヘキサン、１，８−ジアミノオクタン、１，１０−ジアミノデカン、１，１２−ジアミノドデカン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕ブタン、２，２−ビス〔４−
（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕ペンタン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕ヘキサン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕オクタン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕デカン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕トリデカン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕ペンタデカン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕ケトン、２，２−ビス〔４−
（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕ビフェニル、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕シクロヘキサン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕メチルシクロヘキサン、２，２−ビス〔４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェニル〕プロピルシクロヘキサン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕プロパン、ビス〔４−（ｍ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕プロパン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕ペンタン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕オクタン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕エタン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕デカン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕シクロヘキサン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕メチルシクロヘキサン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕メタン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕ブタン、ビス
〔４−（ｍ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕ブタン、ビス〔４−（ｐ−アミノメチルベンゾイルオキシ）安息香酸〕プロパン、ビス〔４−（ｐ−アミノエチルベンゾイルオキシ）安息香酸〕プロパン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕オクタデカン、ビス〔４−（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）安息香酸〕ヘプタン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）プロパン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）メタン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）エタン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）ブタン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）ペンタン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）ヘキサン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）ヘプタン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）オクタン、ビス（ｐ−アミベンゾイルオキシ）ノナン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）デカン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）ドデカン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）ドデカン、ビス（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）テトラデカン、ビス
（ｐ−アミノベンゾイルオキシ）オクタデカン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス〔４−(３−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス〔４−（２−アミノフェノキシ）−３，５−ジメチルフェニル〕ヘキサフルオロプロパン、ｐ−ビス（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）ベンゼン、４，４′−ビス（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）ビフェニル、４，４′−ビス（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）ジフェニルスルホン、ジアミノシロキサンなどが挙げられる。
【００１７】
カルボン酸誘導体としてメチルピロメリット酸二無水物、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３′，４，４′−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、３，３′，４，４′−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３′，４，４′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３′，４，４′−ジフェニルプロパンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕プロパンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕ヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕オクチルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）フェニル〕プロパンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）フェニル〕トリデカンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕トリデカンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸クロライド、４，
４′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４′−ジフェニルエーテルジカルボン酸クロライド、４，４′−ジフェニルメタンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルメタンジカルボン酸クロライド，イソフタル酸，イソフタル酸クロライド，アジピン酸，アジピン酸クロライド，ステアリン酸，ステアリン酸クロライドなどが挙げられる。
【００１８】
本実施例で使用した配向膜ワニスの溶媒は、オクタノール（２−エチルヘキサノール）１０ｗｔ％とＮ−メチル−２−ピロリドン９０ｗｔ％からなる混合有機溶媒である。本実施例では配向膜ワニスの溶媒としてはポリアミック酸に対する溶解性の大きい溶媒と表面張力が小さく、かつ沸点の高い溶媒から選択される。表面張力の小さい溶媒を混入するのは基板に対する濡れ性を良くするためであり、沸点の高い溶媒を使用するのは濡れ性を維持するためである。本実施例ではポリアミック酸に対する溶解性の大きい溶媒としてＮ−メチル−２−ピロリドン、表面張力が小さく、かつ沸点の高い溶媒としてオクタノールを選択している。オクタノールの表面張力は３０dyne／cmであり、その沸点は１８４℃である。ポリアミック酸に対する溶解性の大きい溶媒としてＮ−メチル−２−ピロリドン以外に、ジメチルホルムアミド，ジメチルアセトアミド，ジメチルスルホキサイド，スルフォラン，ブチルラクトン，クレゾール，フェノール，シクロヘキサノン，ジオキサン，テトラヒドロフラン，ブチルセルソルブ，ブチルセルソルブアセテ−ト，アセトフェノンなどを用いることができる。表面張力が３２dyne／cm以下であり、かつ沸点の１７５℃以上である溶媒としてはオクタノール以外に、デカノール，ノナノール，トリデカノール，ジエチレングリコールモノブチルエーテル，エチレングリコールモノヘキシルエーテル，エチレングリコールモノオクチルエーテル，ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどを用いることができる。
【００１９】
（実施例２）
つぎに、インクジェット印刷方式による配向膜形成について説明する。図２に示すように配向膜塗布装置は配向膜ワニスが飛翔する吐出口を複数有する液体吐出ヘッド７と、吐出ノズルからの配向膜ワニス飛翔を駆動する吐出駆動素子を制御する吐出駆動制御装置９，配向膜ワニスを貯蔵する液体貯蔵容器１０と、前記液体貯蔵容器１０と液体吐出ヘッド７を連結する供給管８と、図には示してはいないがガラス基板６を搬送する手段とを備えている。つぎに、この配向膜ワニス塗布装置を用いた塗布方法について説明する。配向膜ワニスは液体貯蔵容器１０から押し出され、供給管８を通り、液体吐出ヘッド７に送られる。吐出駆動制御装置９による吐出駆動素子のコントロールにより液体吐出ヘッド７から配向膜ワニスを飛翔し、搬送台で搬送されるガラス基板６の上の配向膜形成領域に塗布されることになる。このインクジェット印刷方式で基板上に配向膜ワニスを塗布する工程について説明する。ここでは、カラーフィルタ側のガラス基板への塗工について説明するが、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）側のガラス基板に対する塗工でもとくに変わるところはない。図２に示したガラス基板６の大きさは２８０mm（長辺側）×２００mm（短辺側）で、厚みが１mmである。塗工表面はＩＴＯ透明電極であり、塗工前には紫外線照射により表面汚染を除去しておくことが重要で、本実施例ではエキシマランプが付設された洗浄装置を使用した。これ以外に、紫外線照射光源として低圧水銀ランプが付設された洗浄装置も使用可能である。搬送台の搬送速度は２５０mm／秒である。液体吐出ヘッド７とガラス基板６のギャップは１mmになるように設計されている。吐出駆動制御装置９による液体吐出ヘッド７からの配向膜ワニスの吐出周期は５００Ｈｚである。ここで用いた配向膜ワニスの表面張力は３６dyne／cm、粘度は２０センチポアズであるが、これらの値は駆動電圧に依存しているためにとくに限定される値ではない。図４には１個の液体吐出ヘッドを用いて配向膜ワニスを基板の配向膜形成領域に塗布する方法を示している。図４（ａ）は塗工前、図４（ｂ）は塗工中、図４（ｃ）は塗工終了後である。矢印は塗工面の移動方向を示している。図４においては、ガラス基板が走査して折り返すため、配向膜ワニス間につなぎ目が生じる。しかしながら、表面張力が小さく、かつ沸点の高い溶媒であるオクタノールを用いていることにより飛翔した配向膜ワニス同士がつながり、乾燥後につなぎ目を観察することは出来なかった。ここではガラス基板を走査して折り返したが、液体吐出ヘッド７を走査して折り返しても良い。また、それらの組み合せでも良い。
【００２０】
本実施例では、図５に示したような表面がＩＴＯ透明電極１８であるカラーフィルタ側ガラス基板について説明したが、表面が有機保護膜であるカラーフィルタ側ガラス基板や、表面が有機層間絶縁膜または無機層間絶縁膜のＴＦＴ基板側ガラス基板に対して本実施例の方法で配向膜を印刷してもかまわない。
【００２１】
本実施例では、乾燥後につなぎ目が観察できないことを述べたが、これ以外に湿度６０％，温度２５度に保たれた容器内で塗布を実施しているため、揮発による白濁は観測されなかった。また、乾燥後に塗布領域を観察したところ、ピンホールも観察されなかった。得られた配向膜の膜厚は９１ｎｍであり、上下端部や左右端部での膜厚誤差はいずれも５％以内であった。
【００２２】
（比較例１）
配向膜ワニスの溶媒としてエチレングリコールモノブチルエーテル１０ｗｔ％とＮ−メチル−２−ピロリドン９０ｗｔ％からなる混合有機溶媒を用いた以外、実施例と同じ方法で配向膜を作製した。エチレングリコールモノブチルエーテル表面張力は２７dyne／cmと小さいものの、沸点が１７１度と低い溶媒である点がオクタノールと異なる。塗布乾燥後、つなぎ目を観察したところ、明瞭につなぎ目を確認することができた。また、エチレングリコールモノブチルエーテル以外の溶媒として沸点が１７５℃未満であるブタノール，ペンタノール，ヘキサノール，プロピレングリコールモノメチルエーテル，プロピレングリコールモノプロピルエーテル，プロピレングリコールモノブチルエーテルを用いた場合も同様に、明瞭につなぎ目が観察された。これは、溶媒の沸点が低いため、インクジェットヘッドが折り返した時点で、最初に塗工された領域が乾燥していたためと思われる。
【００２３】
配向膜塗工時に、基板を室温以下にして溶媒の揮発を抑制することも検討したが、基板面内を一定に温度調整が困難であること、また、装置コストを増加させる欠点もある。さらに、これ以外に湿度６０％，温度２５度に保たれた容器内で塗布を実施しているにもかかわらず、基板を室温以下にしたため、配向膜表面に白濁化した領域が観察された。これは室温以下にしたことにより基板が結露したためと思われる。
【００２４】
（比較例２）
配向膜ワニスの溶媒としては、比較例１と同じくエチレングリコールモノブチルエーテル１０ｗｔ％とＮ−メチル−２−ピロリドン９０ｗｔ％からなる混合有機溶媒を用いた。
【００２５】
本比較例では、大型基板短辺の長さより小さいの幅を有するインクジェットヘッドを２つ以上組み上げて塗布装置に付設し、基板の長辺に沿って一回の走査で配向膜ワニスの塗布をおこなった。図３には４個の液体吐出ヘッド７を用いて配向膜ワニスを基板の配向膜形成領域に塗布する方法を示している。図３（ａ）は塗工前、図３（ｂ）は塗工中、図３（ｃ）は塗工終了後である。矢印はヘッドの走査方向を示している。常套手段として配向膜ワニスが基板に濡れ広がるように基板表面を改質してから塗工するので、濡れ広がり領域１１を形成しながら、塗工されることになる。したがって、図４のように液体吐出ヘッド７が折り返しによる配向膜ワニス間のつなぎ目は生じない。
【００２６】
しかしながら、この比較例のようにインクジェットヘッドを２つ以上組み上げているため、装置コストが増加する欠点がある。また、一つのインクジェットヘッドが不具合を生じると、装置全体が機能しなくなる短所もある。とくに、不具合のあるインクジェットヘッドを交換するのに、２つ以上組み上げて構成されるインクジェットヘッドおよび駆動装置全体を製造装置より取り外して修理する必要があり、段取り時間も大幅に増加せざるを得ないことも明らかになった。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】凸版印刷方法による配向膜ワニス塗布を説明するための概略図である。
【図２】本発明に係る配向膜形成方法による配向膜ワニス塗布を説明するための概略図である。
【図３】従来のインクジェット印刷方式による配向膜形成を説明するための概略図である。
【図４】本発明に係る配向膜形成方法における配向膜ワニスの濡れ広がりを説明するための概略図である。
【図５】本発明に係る配向膜形成を用いた液晶表示装置を説明するための概略図である。
【符号の説明】
【００２８】
１…ドクターロール、２…液体吐出口、３…アニックスロール、４…版胴、５…凸版、６…ガラス基板、７…液体吐出ヘッド、８…液体供給管、９…吐出駆動制御装置、１０…液体貯蔵容器、１１…濡れ広がり領域、１２…未塗工領域、１３，１９…配向膜、１４…コンタクトホール、１５…ＴＦＴドレイン電極、１６…無機保護膜、１７…有機保護膜、１８…ＩＴＯ透明電極、２０…オーバーコート膜、２１…カラーフィルタ膜。
【図１】
2006010995.tif 000003
【図２】
2006010995.tif 000004
【図３】
2006010995.tif 000005
【図４】
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【図５】
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