【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年2月15日(2007.2.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  固体状および／または液体状に分離された有機性廃棄物（Ｄ）を処理する方法であって、前記方法は上側が気相（Ｇ）によって覆われた融解ガラス溶液（Ｖ）を含む単一の反応装置（１）内で実施され、酸素の存在下において前記有機性廃棄物（Ｄ）を前記融解ガラス溶液（Ｖ）の表面（Ｓ）で焼却する工程と、前記融解ガラス溶液（Ｖ）中で前記焼却した有機性廃棄物（Ｄ）をガラス化する工程と、前記反応装置（１）に前記有機性廃棄物（Ｄ）を供給する工程とを備え、
前記反応装置（１）に有機性廃棄物（Ｄ）を供給するための装置（５）は、前記気相（Ｇ）に隣接する側が、前記気相（Ｇ）の露点よりも高い温度に維持された少なくとも１つの冷却流体を循環させることによって冷却されるとともに、これと独立した方法によって、供給される前記有機性廃棄物（Ｄ）に隣接する側が冷却されることを特徴とする方法。
【請求項２】  前記有機性廃棄物（Ｄ）は、酸素と共に導入されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  酸化剤として前記気相（Ｇ）中に供給される酸素に加え、前記融解ガラス溶液（Ｖ）中での金属形成を最小限にする若しくは防止する量で、或いは、前記融解ガラス溶液（Ｖ）中での金属形成を最小限にして若しくは防止して、且つ前記融解ガラス溶液（Ｖ）を適度に撹拌できる量で、前記融解ガラス溶液（Ｖ）中に酸素が注入されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記融解ガラス溶液（Ｖ）中に注入される前記酸素は、前記融解ガラス溶液（Ｖ）の表面（Ｓ）よりも下側で前記反応装置（１）内に導入されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記反応装置（１）の壁部（３，３´）、および／または前記有機性廃棄物（Ｄ）を前記反応装置（１）に供給する前記装置（５）以外の手段であって前記反応装置（１）内の前記気相（Ｇ）中および前記融解ガラス溶液（Ｖ）中に酸素を供給するための手段を冷却することを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】  前記気相（Ｇ）と接触する前記反応装置（１）の前記壁部（３，３´）および／または前記反応装置（１）内の前記気相（Ｇ）中に酸素を供給するための前記手段は、前記気相（Ｇ）の露点よりも高い温度に維持された少なくとも１つの冷却流体を循環させることによって冷却されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記融解ガラス溶液（Ｖ）は、誘導加熱、炎熱、プラズマトーチ、あるいは、溶液中に浸漬された電極によって加熱されることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  前記反応装置（１）が、誘導加熱されるるつぼであることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  放射性廃棄物を処理するために実施されることを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】  融解ガラス溶液（Ｖ）を維持するのに適した加熱手段（２）をその底部に有する反応装置（１）を備える、焼却およびガラス化によって固体状および／または液体状に分離された有機性廃棄物（Ｄ）を処理する装置において、
前記融解ガラス溶液（Ｖ）を除去するための手段（４）と、
焼却およびガラス化される前記有機性廃棄物（Ｄ）を供給するとともに、前記融解ガラス溶液（Ｖ）の表面（Ｓ）の上側で開口する装置（５）と、
酸素を供給するとともに、この酸素を前記融解ガラス溶液（Ｖ）の表面（Ｓ）の上方に送るための手段（６）と、
前記融解ガラス溶液（Ｖ）の表面（Ｓ）よりも上側の前記反応装置（１）の上部に設けられた燃焼ガスのための少なくとも１つの排気口と、
を備え、
前記有機性廃棄物（Ｄ）を供給するための前記装置（５）は、外面（５０）と内面（５０´）とによって形成される管状構造を成しており、前記管状構造はその構造内に冷却流体を循環させるための少なくとも２つの独立した回路（５１，５２）を有し、前記回路の少なくとも一方の回路（５１）は、前記装置（５）の前記構造内と前記外面（５０）とを冷却し、前記回路の少なくとも他方の回路（５２）は、前記供給装置（５）の前記内面（５０´）を冷却することを特徴とする装置。
【請求項１１】  前記有機性廃棄物（Ｄ）を供給するための前記装置（５）は、さらに前記融解ガラス溶液（Ｖ）の表面（Ｓ）の上側に位置するその開口端（５５）に酸素を搬送供給するための手段（５３，５４）をその構造内に有しており、前記酸素を搬送供給するための手段（５３，５４）は、前記酸素を供給し且つ前記開口端（５５）の周囲に配置されたトーラス（５４）を備えていることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】  前記反応装置（１）には、さらに前記融解ガラス溶液（Ｖ）中に酸素を注入するための手段（８）が設けられていることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】  前記融解ガラス溶液（Ｖ）中に酸素を注入するための前記手段（８）は、前記反応装置（１）の底部であって前記融解ガラス溶液（Ｖ）の表面（Ｓ）の下側に導入されていることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】  前記融解ガラス溶液（Ｖ）中に酸素を注入するための前記手段（８）は、前記反応装置（１）の底部を貫通して垂直に配置されるとともに、その垂直軸に対して９０°を成して開口する開口部（８２）を有していることを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】  前記有機性廃棄物（Ｄ）を前記反応装置（１）に供給する前記装置（５）以外の手段であって、前記反応装置（１）内の前記気相（Ｇ）中に酸素を供給するための手段（６）および／または前記融解ガラス溶液（Ｖ）中に酸素を供給するための手段（８）は、冷却流体を循環させるための少なくとも１つの回路（６１）および／または（８３、８３´）をその構造内に有していることを特徴とする請求項１０ないし請求項１４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１６】  前記反応装置（１）の壁部（３，３´）は、冷却流体を循環させることができるように、二重壁タイプを成していることを特徴とする請求項１０ないし請求項１５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】  前記反応装置（１）がるつぼであり、前記加熱手段（２）が誘導加熱手段であることを特徴とする請求項１０ないし請求項１６のいずれか１項に記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
本発明の方法を実施する場合には、酸化剤として気相中に供給される前記酸素に加えて、融解ガラス溶液中に酸素を導入することが有利である。前記方法は、前記ガラス溶液中での金属形成を最小限にする或は防止することができる量で、前記融解ガラス溶液中に酸素を注入する工程を有していることが有利である。酸素は、前記ガラス溶液中での金属形成を最小限にする或は防止することができるとともに前記ガラス溶液を適度に撹拌できる量で導入されることが有利である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
金属形成を最小限にする或は防止するためにガラス溶液中に注入される酸素は、前記ガラス溶液を撹拌できるだけの量で有利に導入される。当業者であれば、これらの目的のために必要な酸素量を最適化する方法を知っている。いずれにせよ、酸素の量は、レドックス電位の値に関する所望の効果、実際には前記電位の値に関する所望の効果および所望の撹拌を得ることができる量でなければならず、いかなる状態においても、ガラス溶液の範囲で、それが過度になってはならず、撹拌されて混合されても、ガラス溶液の状態が維持されて、泡に変わらないようにしなければならない。