【手続補正書】
【提出日】平成19年8月17日(2007.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下記式（Ｉａ）のフルオロアルキル置換されたシクロトリシロキサン：
【化１】
2003511519.tif 000001
（式中、Ｒは、炭素原子が１〜４個の低級アルキルであり、かつＲfは、式（ＣＨ2）2−（ＣＲ’2）n−ＣＲ’3を有する（式中、Ｒ’置換基の全て又は一部はＦであり、残りのＲ’置換基はＨであり、かつｎは０〜８の間の整数である））。
【請求項２】  Ｒ’−置換基の各々がＦである、請求項１記載の化合物。
【請求項３】  Ｒ’−置換基の各々がＦであり、Ｒがメチルであり、かつｎが５である、請求項１記載の化合物。
【請求項４】  下記式（Ｉａ）の化合物に、バルクにおいて又は適当な溶媒中で、アニオン重合又はカチオン重合を施す、ホモポリマーの製造方法：
【化２】
2003511519.tif 000002
（式中、Ｒは、炭素原子が１〜４個の低級アルキルであり、かつＲfは、式（ＣＨ2）2−（ＣＲ’2）n−ＣＲ’3を有する（式中、Ｒ’置換基の全て又は一部はＦであり、残りのＲ’置換基はＨであり、かつｎは０〜８の間の整数である））。
【請求項５】  前記重合が、トリフルオロメタンスルホン酸（トリフリック酸）により開始されるカチオン重合である、請求項４記載の方法。
【請求項６】  前記重合が、リチウム含有塩基により開始されるアニオン重合である、請求項４記載の方法。
【請求項７】  前記リチウム含有塩基が、ジリチウムジフェニルシラノラート又はジリチウムテトラメチルジシロキサノレートである、請求項６記載の方法。
【請求項８】  請求項４〜７のいずれか１項記載の方法により調製されるホモポリマー。
【請求項９】  式（Ｉａ）の化合物および下記式（ＩＩ）のシクロシロキサンに、アニオン又はカチオン重合を施す、ブロック又はランダムコポリマーの製造方法：
【化３】
2003511519.tif 000003
（式中、ｙは３、４又は５であり、全て又は一部のＲ1置換基は炭素原子１〜４個のアルキル、ビニル又はフェニルであるか、もしくはここでＲ1の１個は先に定義されたＲfであり、かつ残りのＲ1置換基は、炭素原子１〜４個のアルキル、ビニル又はフェニルである）。
【請求項１０】  前記アニオン重合がリチウム含有塩基により開始される、請求項９記載の方法。
【請求項１１】  前記リチウム含有塩基が、ジリチウムジフェニルシラノラート又はジリチウムテトラメチルジシロキサノレートである、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  請求項９〜１０のいずれか１項記載の方法により調製されるブロックコポリマー又はランダムコポリマー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
例１  
１，１−ビス（１’Ｈ，１’Ｈ，２’Ｈ，２’Ｈ−ペルフルオロオクチル）−３，３，５，５−テトラメチルシクロトリシロキサンの調製
ａ）ビス（１’Ｈ，１’Ｈ，２’Ｈ，２’Ｈ−ペルフルオロオクチル）ジクロロシラン
ジクロロシラン（５．２ｍＬ，  ６３ｍｍｏｌ）、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロ−１−オクテン（２７．７ｍＬ，  １２６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ／ＭｅＯＨ  溶液中の１０％Ｈ２ＰｔＣｌ６を３滴、およびトルエン中のＰｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体１００μＬを、Ａｃｅ加圧チューブ中に２４時間入れた。蒸留により、所望の生成物１３．０ｇを得、これは沸点９６℃／０．２ｍｍＨｇであった。収率２７．５％。１Ｈ  ＮＭＲ  δ：１．６６（ｍ，  ４Ｈ），  ２．４７（ｍ，  ４Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲδ：１１．０４，  ２５．６１（ｔ，  Ｊ＝２４Ｈｚ），  １０６−１２３（ｍ）。  １９Ｆ  ＮＭＲδ：−１２２．５５（ｍ，  ４Ｆ），  −１１９．４６（ｂｒ  ｓ，  ４Ｆ），  −１１９．０９（ｂｒ  ｓ，  ４Ｆ），  −１１８．０７（ｂｒ  ｓ，  ４Ｆ），  −１１１．８９（ｐ，  ４Ｆ，  Ｊ＝１５Ｈｚ），  −７７．６３（ｔ，  ６Ｆ，  Ｊ＝１０Ｈｚ）。  ２９Ｓｉ  ＮＭＲδ：３２．６３。ＩＲν：２９５６，  ２９１０，  ２８７７，  １４４４，  １４１０，  １３６４，  １３１９，  １２９６，  １２３７，  １２０２，  １１４６，  １１２１，  １０７３，  １０１９，  ９０２，  ８１２，  ７０８，  ６４９，  ５６６，  ５３３ｃｍ−１。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
ｂ）１，１−ビス（１’Ｈ，１’Ｈ，２’Ｈ，２’Ｈ−ペルフルオロオクチル）−３，３，５，５−テトラメチルシクロトリシロキサン
Ｅｔ２Ｏ  １５ｍＬ中の工程ａ）のビス（１’Ｈ，１’Ｈ，２’Ｈ，２’Ｈ  −ペルフルオロオクチル）ジクロロシラン（２０．０ｇ，  ２５ｍｍｏｌ）およびＥｔ２Ｏ  １５ｍＬ中のテトラメチルジシロキサンジオール（１４）（４．１９ｇ，  ２５ｍｍｏｌ）を、同時に、Ｅｔ３Ｎ  （８．０ｍＬ，  ５７ｍｍｏｌ）および１００ｍＬ  Ｅｔ２Ｏの溶液に１時間滴下した。濾過後、溶液を水で洗浄し、かつＭｇＳＯ４上で乾燥し、溶媒を蒸発除去した。分留は、生成物１１．３３ｇ（収率５０．７％）、沸点１１３℃／０．２ｍｍＨｇ、融点５６℃を生じた。反応は室温で進行した。１Ｈ  ＮＭＲ  δ：０．２１（ｓ，  １２Ｈ），  １．０１（ｍ，  ４Ｈ），  ２．２９（ｍ，  ４Ｈ）。  １３Ｃ  ＮＭＲδ：０．６８，  ５．９８，  ２５．５１（ｔ，  ＪＣ−Ｆ＝２３Ｈｚ），  １０６−１２３（ｍ）。  １９Ｆ  ＮＭＲδ：−１２７．０５（ｓ，  ４Ｆ），  −１２４．２１（ｓ，  ４Ｆ），  −１２３．５６（ｓ，  ４Ｆ），  −１２２．５３（ｓ，  ４Ｆ），  −１１７．００（ｔ，  ４Ｆ，  Ｊ＝１６Ｈｚ），  −８２．１６（ｔ，  ６Ｆ，  Ｊ＝１０Ｈｚ）。  ２９Ｓｉ  ＮＭＲδ：−１３．３５（１Ｓｉ），  −７．０８（２Ｓｉ）。  ＩＲν：２９６９，  ２９４７，  ２９１３，  １４４５，  １３６７，  １３１６，  １２６０，  １２４７，  １２１２，  １１８５，  １１４５，  １０６７，  １０２０，  ８０８，  ７３５，  ６９１，  ６４８，  ６０５，  ５６６，  ５２８ｃｍ−１。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
例４  
ヘキサキス（１’Ｈ，１’Ｈ，２’Ｈ，２’Ｈ−ペルフルオロオクチル）シクロトリシロキサン
ビス（１，１，２，２−テトラヒドロペルフルオロオクチル）ジクロロシラン（１０．６ｇ，  １３．４ｍｍｏｌ）および無水ＣＨＣｌ3  ２５ｍＬの溶液を、１０ｍＬ滴下用ロートを装着した５０ｍＬ  ｒｂフラスコ中に入れた。ＣＨＣｌ3  ６ｍＬ中のＤＭＳＯ（２．１０ｇ，  ２６．９ｍｍｏｌ）を室温で３０分間溶液に滴下し、かつ反応を５時間進行させた。次にフラスコを０℃に冷却し、かつ上側層をデカントした（１５，１６）。下側層を、ＣＨＣｌ3  ３０ｍＬで１回洗浄した。29Ｓｉ  ＮＭＲは、粗反応生成物が８１％  Ｄ3および１９％  Ｄ4−型モノマー組成物であることを示した。これは短経路の蒸留装置により蒸留した。ヘキサキス（１’Ｈ，１’Ｈ，２’Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクチル）−シクロトリシロキサン（６．００ｇ，  収率６１％）、沸点２００℃／０．０１ｍｍＨｇを収集した。1Ｈ  ＮＭＲ  δ：１．１９（ｍ，  ８Ｈ），  ２．３７（ｍ，  ８Ｈ）。13Ｃ  ＮＭＲδ：６．５１，  ２５．８４（ｔ，  ＪC-F＝  ２４Ｈｚ），  １０７．６１−１２２．５５（ｍ）。19Ｆ  ＮＭＲδ：−１２６．１６（ｓ，  ８Ｆ），  −１２３．０２（ｓ，  ８Ｆ），  −１２２．６４（ｓ，  ８Ｆ），  −１２１．６１（ｓ，  ８Ｆ），  −１１５．９５（ｔ，  ８Ｈ，  Ｊ＝１３Ｈｚ），  −８１．３１（ｔ，  １２Ｆ，  Ｊ＝１１Ｈｚ）。  29Ｓｉ  ＮＭＲδ：−１０．２７（ｓ，  ３Ｓｉ）。  ＩＲν：２９８１，  ２９５０，  ２９１３，  ２８７１，  １４４３，  １４２２，  １３５３，  １３１８，  １２９８，  １２３８，  １１９２，  １１４４，  １０７４，  １０１２，  ９５２，  ９０９，  ８９７，  ８１１，  ７７７，  ７４７，  ７２７，  ７０８，  ６５１，  ５６６，  ５２８ｃｍ-1。