Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月3日(2007.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
発明の概要
本発明は、流体ジェット形態によるインスリン投与がインスリン依存患者の平均血液グルコースレベル、即ち血液グルコースの平均レベル、を最小にしかつ従来針注射によるインスリン注射後に得られるよりも高低差の小さい血液グルコースレベルを得るためのジェットインジェクタに関する。本発明によるジェットインジェクタは、インスリン投与のために患者の組織から注射部位へ侵入するように構成されかつ注射部位へ侵入する十分な速度でインスリンを流体ジェット形態で発射するように構成されたジェットノズル、インスリンを収容しかつ注射のためにインスリンを前記ジェットノズルへ供給するための前記ジェットノズルに連結されたインスリン室、注射部位へ侵入する十分な速度で前記ジェットノズルからインスリンを付勢するために前記インスリン室に連結されたエネルギー源を含む発射機構、および発射位置への使用者によるトリガーの操作後に前記ジェットノズルからインスリンを付勢するために前記エネルギー源を作動させる前記発射機構に連結された移動可能なトリガーを含み、そのようにして流体ジェット形態によるインスリン投与がインスリン依存患者の血液グルコースの平均レベルを最小にしかつ従来針注射によるインスリン注射後に得られるよりも高低差の小さい血液グルコースレベルを得る。
好適形態において、前記発射機構および前記ジェットノズルは、血液グルコースレベル間の高低差が高血液グルコースレベルの５０％またはそれ以下になるような十分に速い方法で患者にインスリンが投与されるように連結かつ構成されている。
好適形態において、前記発射機構および前記ジェットノズルは、約０．０２ｍＬから０．５ｍＬのインスリンを最高約０．５秒内で患者に投与できるように連結かつ構成されている。
好適形態において、前記発射機構および前記ジェットノズルは、血液グルコースレベル間の高低差が高血液グルコースレベルの約２５％またはそれ以下になるような十分に速い方法で患者にインスリンが投与されるように連結かつ構成されている。
好適形態において、前記発射機構および前記ジェットノズルは、約一週間で血液グルコースレベルの高低差を最小にするために血液グルコースレベルを下げるべくインスリンが患者に投与されるように連結かつ構成されている。
前記患者はインスリン依存患者である。
好適形態において、前記発射機構および前記ジェットノズルは、インスリン投与がインスリン依存患者のＨｂＡｌＣ値を下げるように連結かつ構成されている。
好適形態において、本発明によるジェットインジェクタは、前記トリガーの発射位置への運動を阻止するブロック位置を含むブロック部材、および使用者による操作が可能な操作可能部材を更に含み、前記操作可能部材は、前記ブロック部材のブロック位置への位置決めを可能にする安全位置から、前記操作可能部材と前記ブロック部材とを連結して前記ブロック部材を移動させて前記トリガーの前記発射位置への運動を可能にする解放位置へ移動し、前記発射位置に対する前記トリガーの運動が前記操作可能部材を安全位置へ移動させる構成である。
好適形態において、本発明によるジェットインジェクタは、前記トリガーに連結され、かつ前記ジェットインジェクタの作動時に使用者の把持および制御を促進するように設置かつ構成された弾性面を有するハウジングを更に含む。
好適形態において、本発明によるジェットインジェクタは、前記トリガーに連結され、かつ前記ジェットインジェクタの作動時に使用者の把持および制御を促進するために概ね三角形の軸断面を有するハウジングを更に含む。
本発明は、更に本発明による前記ジェットインジェクタ、および前記ジェットインジェクタに取付け自在のアダプタを含むジェットインジェクタキットを提供する。このジェットインジェクタキットにおいて、前記アダプタは、インスリン通路を形成し、かつ前記インスリン通路が前記ジェットノズルと流体により連通するように前記ジェットインジェクタに取付け自在であり、かつ前記インスリン通路の前記ジェットノズルとの流体による連通を維持するために、前記アダプタを前記ジェットノズルに対して実質的相対的回転を伴うことなく押して前記アダプタと前記ジェットノズルとを相互に対して係合させることにより前記ジェットインジェクタへ取付け可能である。更に、前記アダプタは、前記アダプタおよび前記ジェットノズルから前記ジェットインジェクタのインスリン室を充填することを可能にする構成である。
本発明は、更に、約０．０２ｍＬから０．５ｍＬのインスリンを最高約０．５秒内で患者に投与して、従来針注射により得られるレベルよりも小さい高低差の血液グルコースレベルを得る、インスリンのジェット注射法を提供する。
本発明は、更に、患者の組織から注射部位へ十分な速度でインスリンを流体ジェット形態で発射するように構成され、インスリン依存患者の血液グルコースの平均レベルを最小にするためにインスリンを投与すること意図した、またはそのために使用されるジェットインジェクタを提供し、このジェットインジェクタにおいて、ジェット注射による患者へのインスリン投与は、従来針注射により得られるレベルよりも小さい高低差の血液グルコースレベルを得ることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月16日(2007.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部にカプセル化された1つ以上の要素を子宮腔内に配置するための回収可能な子宮内器具であって、該要素が、胚、雄性および／または雌性配偶子、受精卵母細胞、未受精卵、ならびにこれらの任意の組み合わせを含む群より選択され、該要素に十分な栄養素を移送することを可能にする手段を含むことを特徴とする器具。
【請求項２】
十分な栄養素を移送することを可能にする前記手段が、適合孔サイズを有する選択的透過性膜を含む、請求項1記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項３】
チューブの形態にある、請求項1または2記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項４】
要素が器具内に留まることを可能にする手段を含む、請求項1〜3のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項５】
要素を装填する少なくとも1つのカプセル(1)が提供される、請求項1〜4のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項６】
センス方向の弁を1つ含む、請求項1〜5のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項７】
子宮内で器具を安定に位置づけることを可能にする手段(6)を含む、請求項1〜6のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項８】
膜がポリエーテルスルフォンから構成される、請求項1〜7のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項９】
器具の壁の厚みが50〜500μmの範囲である、請求項1〜8のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１０】
50,000以上の分子量カットオフ値を有する、請求項1〜9のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１１】
100万を超える分子量カットオフ値を有する、請求項1〜10のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１２】
器具の長さが0.5cm〜5cmの範囲である、請求項1〜11のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１３】
回収可能な中空繊維を含む、請求項1〜12のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１４】
中空繊維が100〜10,000μmの範囲の内径を有する、請求項13記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１５】
カプセル(1)が、生体高分子材料、例えば、ポリエーテルスルフォン、中空繊維、例えば、ポリアクリレートおよびアクリレートコポリマー、ポリビニリデン、ならびにポリウレタンから構成される、請求項7〜14のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１６】
カプセル(1)が150kDa〜280kDaの孔サイズを有する、請求項1〜15のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１７】
雄性および／または雌性配偶子、受精卵母細胞、未受精卵、ならびにこれらの任意の組み合わせを含む群より選択される少なくとも1つの要素が装填される、請求項1〜16のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１８】
雄性および／または雌性配偶子が装填される、請求項17記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項１９】
胚が装填される、請求項1〜16のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項２０】
ウシ、ヒツジ、ブタ、およびウマを含む群より選択される哺乳動物の子宮腔内に配置することが可能な、請求項1〜19のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項２１】
ヒトの子宮腔内に配置することが可能な、請求項1〜19のいずれか一項記載の回収可能な子宮内器具。
【請求項２２】
胚、雄性および／または雌性配偶子、受精卵母細胞、未受精卵、ならびにこれらの任意の組み合わせを含む群より選択される1つ以上の要素を子宮腔内に配置するための回収可能な子宮内器具を準備する方法であって、該要素が子宮液と相互作用できる、以下の段階を含むことを特徴とする方法：
・該要素を提供する段階、
・該要素の収容に適した回収可能な子宮内器具を提供する段階、および
・該器具に該要素を装填する段階。
【請求項２３】
要素が、雄性および／または雌性配偶子を含む群より選択される、請求項22記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年10月29日(2007.10.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明により、優れた態様においてその目的を達成し、加えて、同時に製造が簡単かつ廉価である金属薄板のロール状成形体を提供する。本発明の成形体を使用することにより、成形体を得る原板の幅を関連する応力に合わせることができるようになった。この方式により、曲げ応力強度を保ちながら、重さを下げることができる。本発明の成形体は、Ｉ型梁と断面形状が丸又は角状の管状物との両方を製造することができる。これらの荷重物の場合、成形体の一端を固定し、他端に力を加えるときに、固定端において原材料面積はより大きくなる。２つの支点の間で成形体に荷重がかけられる場合は、その中央部では断面の材料面積をより大きくするのがよい。成形体の最終成形または機械加工を容易にするために、成形体、あるいは成形体を得る原板のいずれかを、３００℃以上に部分加熱処理し、成形体材料の破壊及び引張り限界を下げた状態にする。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
図３及び図４は、自動車の椅子を下から支えるためのＩ型梁を作る原板７及びその成形体５に関するもう一つ別の態様を説明する。そこで、最も高い応力は、取付け部である。図５及び図６は、成形体１０の原板１１が管状であり、内側に向かって折り畳まれる部分８及び９を有し、この部分の成形体１０の横方向への延在状態は長手方向に沿って変化する。結局、この態様においても、材料は抑えられ、成形体５、１０の強度は、力の最も加わるところで最大である。その内部の材料含有量が部分部分で変化する上記管状成形体２、５、１０は、曲げ応力に対して強度を維持しながら、全体あるいは一部で、より低い重量を達成した。成形体２、５、１０を製造するときには、長い、ロール状にした帯状の原板１、７、１１から出発して成形される。その帯状原板は、ロール成形体にする前にあるいは後に切断される。成形体２、５、１０は、フォーメイトシート（formate sheet）のスタンプ前処理（prestamped）した原板から製造することもできる。ロール成形を、帯状物から始める場合、その幅は、材料を切断や、スタンピングや、先端化（nibbing）でもって、あるいは種々のせん断方法で分ける方法により、変えることができる。ロール成形を、原板から始める場合、その幅は、上記方法により変えることができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】図５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図５】
本発明による、管形状の成形体のある断面を示す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年9月21日(2007.9.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
詳細には、本発明の構造素子は中でも非晶質の珪素およびそれの合金、微小結晶質の珪素およびそれの合金並びに場合によっては、透明な導電性コンタクト層をベースとするものである。本発明に従う一連の層並びに本発明の構造素子は、垂直に集積されたダイオードの光電流の同時的な（平行しての）読み取りを可能とし、結果として一つの同一の（アレイ配置においてピクセルと称される）場所で複数のカラー信号を同時に例えば完全に赤−青−緑（ＲＧＢ）信号として検知することができる。この構造素子のスペクトル感度は、調整する特定なパラメータ、例えばそれぞれの層厚によって個々のダイオード機能体の適切な設計によって近紫外線から近赤外線領域まで調整することができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
本発明を図面および実施例によって更に詳細に説明する。図面中、
図１は３つのダイオード機能体を有する非晶質または微小結晶質の珪素より成る垂直に集  積された本発明のカラー検知器を概略的に図示している。この検知器ではベースカラー  の青、緑および赤色を平行して読み取ることができる；    
図２は本発明の４ターミナル構造素子の相対分光感度を図示しており；
図３はａ−Ｓｉ1-x Ｇｅx ：Ｈのための最適なバンドギャップの関数としての正孔密度ＮD であり、その適用には材料中のＧｅ−含有量の関数としての最適なバンドギャップを示す；
図４はａ−Ｓｉ1-x Ｇｅx ：Ｈのための最適なバンドギャップの関数としての光伝導電率  （ＡＭ１．５）およびダーク伝導率性；
図５はａ−Ｓｉ1-x Ｇｅx ：Ｈのため光学的バンドギャップの関数としてのアンビポーラ  拡散長さＬambi（文献３、４、５からの値との比較）；
図６はシラン／メタン−混合物から製造された、水素希釈したまたは水素希釈してない光  学的バンドギャップの関数としての光伝導率（文献（６）からのは○および文献（２）  からのは□）；
図７は微結晶コンタクト層を持つｐｉｎｉｐｉｎ−構造をベースとする本発明の４ターミ  ナル構造素子の概略的構造を図示している；
図８ａは４ターミナル構造素子の逆に形成された本発明の検出器構造の概略的構造の平面  図であり；
図８ｂは４ターミナル構造素子の逆に形成された本発明の検出器構造の概略的構造の断面  図であり；
図９は図８ａ、８ｂから読みとることができる、ＲＧＢ−信号を同時に発生するためのそ  れぞれの４ターミナル構造素子によって本発明の２Ｄ−アレイの概略図を図示している  。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
図２には極大スペクトル感度を４５０ｎｍの所でトップダイオードが、５６５ｎｍの所でミドルダイオードがそして６４０ｎｍの所でボトムダイオードが示すｐｉｎ／ｎｉｐ／ｐｉｎ−配置の４ターミナル構造素子のスペクトル感度をグラフで示している。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】図面の簡単な説明
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
図１は３つのダイオード機能体を有する非晶質または微小結晶質の珪素より成る垂直に集積された本発明のカラー検知器を概略的に図示している。
【図２】
図２は本発明の４ターミナル構造素子の相対分光感度を図示している。
【図３】
図３はａ−Ｓｉ1-x Ｇｅx ：Ｈのための最適なバンドギャップの関数としての正孔密度ＮD であり、その適用には材料中のＧｅ−含有量の関数としての最適なバンドギャップを示す。
【図４】
図４はａ−Ｓｉ1-x Ｇｅx ：Ｈのための最適なバンドギャップの関数としての光伝導電率（ＡＭ１．５）およびダーク伝導率性のグラフである。
【図５】
図５はａ−Ｓｉ1-x Ｇｅx ：Ｈのため光学的バンドギャップの関数としてのアンビポーラ拡散長さＬambiのグラフである。
【図６】
図６はシラン／メタン−混合物から製造された、水素希釈したまたは水素希釈してないａ−ＳｉＣ：Ｈに対する光学的バンドギャップの関数としての光伝導率のグラフである。【図７】
図７は微結晶コンタクト層を持つｐｉｎｉｐｉｎ−構造をベースとする本発明の４ターミナル構造素子の概略的構造を図示している。
【図８】
図８のａは４ターミナル構造素子の逆に形成された本発明の検出器構造の概略的構造の平面図であり；ｂはその断面図である。
【図９】
図９は図８のａおよびｂから読みとることができる、ＲＧＢ−信号を同時に発生するためのそれぞれの４ターミナル構造素子による本発明の２Ｄ−アレイの概略図を図示している。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図７】
2001515275.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年3月12日(2007.3.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
ユーザが、立方体上でマウスをクリックすると、識別子"ＡＮＩＭＡＴＩＯＮ"の動画化の流れが、開始される。動画化すなわち流れすなわちファイル"Ｓｃｅｎｅ．ａｎｉｍ"は、以下の情報を含む。
Ｔ 変換の識別子
０００１ 変換フィールドのみが、修正される。
１ 位置のベクトルフィールド全体が、動画化される。
００４０５１０８ 位置が、点（０，０，４）及び（０，５，１０）により定められた平行六面体内で変化し、２５６個のボールが、イントラモードで量子化するために、Ｏx 軸線上での称される。
０−２−５０３７６ 相対位置が、点（０，０，４）及び（０，０，１０）により定められた立方体内で変化し、６４＝２６−１が、Ｄ３内で、Ｏx 軸線上でピークとなって、Ｐモードで量子化する。
１ 継続
Ｍ オブジェクトの色が、動画化されなければならない。
０１０００１ オブジェクトの色及び透明性が、動画化されなければならない。
１０２４０８ 色が、モードＩで、１０と２４０との間で、８ｂｉｔで変化する。
−５５８ 色が、Ｐモードで、１０と２４０と間で、８ｂｉｔで変化する。
１０２４０８ Ｉモードで透明性に対して同上。 −５５８ Ｐモードで、透明性に対して同上。
１ 継続。
Ｃ 立方体のサイズが、修正されなければならない。
１ そのサイズが、修正される。
０ サイズベクトルのある特定の詳細のみが、修正されなければならない。
０ 立方体のサイズが、Ｏx軸線上のみで修正されなければならない。
２５．５５ 値が、５ｂｉｔで表現されて、イントラモードで、０と５．５との間で変化する。
−３３４ 相対値が、Ｐモードで、４ｂｉｔで、−３と３との間で、変化する。
０ 動画マスクの終了。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年5月17日(2007.5.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  少なくとも１枚の、機械で検査可能な、コーディングの形状あるいは文字や模様などの形状をした磁気層と、少なくとも１枚の別の層とを有し、前記別の層が、可視スペクトル域において半透明であり、前記磁気層を覆うように該磁気層の上に配置されており、前記コーディング、文字、模様などが該別の層を通して視覚的に認識可能なことを特徴とする物体を保護するための保安エレメント。    【請求項２】  前記別の層が不透明なスクリーンエレメントからなるスクリーンで構成されていることを特徴とする請求項１記載の保安エレメント。    【請求項３】  前記不透明スクリーンエレメントが明るい印刷インキ、メタリック顔料を含む印刷用インキ、メタリック・エフェクトインキ、または金属層からなることを特徴とする請求項２記載の保安エレメント。    【請求項４】  前記スクリーン層に視覚的および／または機械的に認識できる情報が表示されることを特徴とする請求項２または請求項３記載の保安エレメント。    【請求項５】  前記情報がスクリーン幅の変化により、または希望する情報の形状をしたスクリーンエレメントの不存在により表示されることを特徴とする請求項４記載の保安エレメント。    【請求項６】  前記別の層が全面的な半透明な層からなることを特徴とする請求項１記載の保安エレメント。    【請求項７】  前記別の層が半透明な金属層からなることを特徴とする請求項６記載の保安エレメント。    【請求項８】  前記視覚的および／または機械的に認識できる情報が前記半透明金属層に表示されることを特徴とする請求項７記載の保安エレメント。    【請求項９】  前記情報が前記金属層を文字や模様などを有する一定面積のスクリーンとして製作することにより表示されることを特徴とする請求項８記載の保安エレメント。    【請求項１０】  スクリーンの形状をした第２不透明層または半透明な金属層が前記磁気層の下に配置されていることを特徴とする請求項１〜９の中のいずれか１項記載の保安エレメント。    【請求項１１】  前記磁気層がバーコードの形状で使用されることを特徴とする請求項１〜９の中のいずれか１項記載の保安エレメント。    【請求項１２】  更に視覚的および／または機械的に認識できる情報が前記磁気層のコードの自由域または前記間隙の中に配置されることを特徴とする請求項１０、１１のいずれか１項記載の保安エレメント。    【請求項１３】  前記磁気層の自由中間域に、文字や模様などの形状をした間隙を有し且つ前記磁気層と同一の色を有する非磁気層が存在することを特徴とする請求項１２記載の保安エレメント。    【請求項１４】  発光物質、回折構造、干渉層などのような別の保安特性を付加的に有することを特徴とする請求項１〜１３の中の少なくとも１項記載の保安エレメント。    【請求項１５】  随意に糸または帯の形状を有するプラスチック箔に形成されることを特徴とする請求項１〜１４の中の少なくとも１項記載の保安エレメント。    【請求項１６】  自己接着ラベルの形状に設計されていることを特徴とする請求項１〜１４の中の少なくとも１項記載の保安エレメント。    【請求項１７】  少なくとも１枚の、機械で検査可能な、コーディングの形状あるいは文字や模様などの形状をした磁気層と、前記磁気層の上に配置されている少なくとも１枚の別の層とを有するプラスチック箔を含む保安エレメントを製造するための箔材料において、前記別の層が、可視スペクトル領域において半透明な層であり且つ前記磁気層の上に該磁気層を覆うように配置されており、前記コーディング、文字、模様などが該別の層を通して視覚的に認識可能なことを特徴とする箔材料。    【請求項１８】  前記箔材料が伝達箔として形成されていることを特徴とする請求項１７記載の箔材料。    【請求項１９】  前記別の層が半透明金属層、または不透明なスクリーンエレメントからなるスクリーンを包含することを特徴とする請求項１７または請求項１８記載の箔材料。    【請求項２０】  レリーフ構造の形状をした回折構造を有することを特徴とする請求項１７〜１９の中の少なくとも１項記載の箔材料。    【請求項２１】  請求項１〜１６の中の少なくとも１項記載の保安エレメントを有することを特徴とする銀行券、保護カード、ＩＤカードなどのような保護書類。    【請求項２２】  前記保安エレメントが保護書類の中に少なくとも一部分埋め込まれていることを特徴とする請求項２１記載の保護書類。    【請求項２３】  銀行券、保護カード、ＩＤカードなどのような保護書類の中に少なくとも一部分埋め込まれている糸や帯の形状をした保安エレメントを製造するための箔材料の製造方法において、１）プラスチック箔に磁気材料を塗装し、コーディングの形状あるいは文字や模様などの形状をした磁気層を形成する工程、２）前記磁気層に可視スペクトル域で半透明な別の層を加え、前記コーディング、文字、模様などが該別の層を通して視覚的に認識可能にする工程、３）前記箔材料を予定の寸法および形状をした保安エレメントに分割する工程、を有することを特徴とする箔材料の製造方法。    【請求項２４】  偽造防止のため物体の表面に加えられる保安エレメントを製造するための箔材料の製造方法において、１）プラスチックキャリヤー箔を準備する工程、２）可視スペクトル域で半透明な層を加える工程、３）コーディングの形状あるいは文字や模様などの形状をした磁気層を加え、該コーディング、文字、模様などが前記半透明な層を通して視覚的に認識可能にする工程、４）接着剤層を加える工程、を有することを特徴とする箔材料の製造方法。    【請求項２５】  前記プラスチックキャリヤー箔が、分離層を有していることを特徴とする請求項２４記載の箔材料の製造方法。【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】  もちろん切れ目のない半透明金属層の代わりに、その他の半透明材料や、層、例えば光学的に可変な干渉層顔料を有する印刷用インキや液晶層や半透明反射層を有する回折構造のような層を使用することもできる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年4月4日(2007.4.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の名称
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の名称】側溝光学検出デバイスを形成するための方法
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、概して、光学検出デバイスに関し、特に半導体光電子集積回路上に形成された側溝光学検出デバイスに関する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
それ故、トレンチがパターン形成され、次に、すべてのタイプの電極が同時に、すなわち、同じ作業ステップでエッチングされる側溝ｐ−ｉ−ｎフォトダイオード（ＬＴＤ）を形成するための方法の開発が待望されている。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
本発明は、ｎ型およびｐ型のドーピングされた材料のトレンチが、望ましい集積化されたフォトダイオード・デバイスを形成するために、同時にエッチングされてパターン化される光学検出デバイスフォーメーションの方法を開示している。次に、第１の組のトレンチに犠牲層を充填することにより必要な構造体を形成することができる。一方、第２の組のトレンチには電極材料（例えば、ポリシリコン）が充填される。それ故、本発明は、第１の組のトレンチおよび第２の組のトレンチがパターン形成され、次に、同時にエッチングされる側溝光学検出デバイスを形成するための方法を提案する。光検出器の製造プロセス中のリソグラフィのパターン形成および深いトレンチ・エッチング・ステップの数を低減することにより、本発明は、製造コストを削減することができる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
図１について説明すると、本発明の実施形態により、例えば、反応性イオン・エッチング（ＲＩＥ）により、半導体基板（１０２）内に深いトレンチがパターン形成され、エッチングされる。図には一組しか示していないが、これらの深いトレンチの組は、側溝光検出器デバイスの交互のｎ型電極およびｐ型電極を形成する。基板は、また、例えば、ＳｉＯ２からできているパッド層（１０４）、および化学的機械的研磨（ＣＭＰ）ストップとして使用するための、ＳｉＯ２上に形成したＳｉＮ層（１０６）を含むことができる。当業者であれば、本発明を読めば、本発明の精神および範囲から逸脱することなしに、例えば、シリコン・ゲルマニウム、ゲルマニウム、および、単結晶シリコンのような他の基板も使用することができることを理解することができるだろう。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
１１〜１６Ｗ−ｃｍの比抵抗のｐ型シリコン基板上に、本発明により、側溝光検出器を形成した。この場合、トレンチの深さは８μｍであり、幅は０．３５μｍであり、トレンチ間の間隔は３．３μｍであった。デバイスは、直径が７５μｍの円であった。ホウ珪酸ガラス（ＢＳＧ）を犠牲材料として使用した。一方、第１の組のトレンチには、燐でドーピングしたポリシリコン（〜１０２０ｃｍ−３）を充填し、第２の組のトレンチには、ホウ素でドーピングしたポリシリコン（〜１０１８ｃｍ−３）を充填した。基板内にドーパントを注入し、シリコンとポリシリコンとの界面に接合部が形成されるのを防止するために、デバイスを、アルゴン中で、１０００℃で１０分間焼きなました。各トレンチ電極の頂部上にケイ化物と金属の接点を形成した。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
いくつかの結果は、側溝光検出器の直流電流−電圧特性が、それぞれ、−５Ｖおよび−１５Ｖのところに、１．５ｐＡおよび３ｐＡの電流を含むことを示した。絶縁破壊電圧は−約２７Ｖであった。順方向バイアス電流−電圧曲線から抽出した側溝光検出器の直列抵抗は１５Ｗであった。感度は、バイアス電圧とは無関係に、８４５ｎｍで、０．４５Ａ／Ｗであった。外部量子効率は６６％であることが観察された。本発明のデバイスの場合には、感度は、６７０ｎｍの光源の場合、２．８ＧＨｚの直流から−３ｄＢ帯域幅の周波数範囲で一定であった。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
側溝光検出器を形成するための方法の実施形態について説明してきたが、上記説明を読めば、当業者であれば種々の修正および変更を行うことができることに留意されたい。それ故、上記本発明の特定の実施形態において種々の変更を行うことができ、そのような変更は、添付の特許請求の範囲が記載する本発明の範囲に含まれることを理解されたい。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
【図１】半導体基板内の側溝の断面図である。
【図２】複数のトレンチが犠牲材料で充填されている、図１の側溝半導体基板の断面図である。
【図３】露出した犠牲材料の研磨中の、図２の側溝半導体基板の断面図である。この場合、
【図４】犠牲材料を第１の組のトレンチから除去中の、図３の側溝半導体基板の断面図である。
【図５】ｎ＋ポリをデバイスの表面上に形成中の、図４の側溝半導体基板の断面図である。
【図６】ｎ＋ポリをパターン形成中の、図５の側溝半導体基板の断面図である。
【図７】犠牲材料を第２（第１）の組のトレンチから除去中の、図６の側溝半導体基板の断面図である。
【図８】ｐ型ポリをデバイスの全表面上に形成中の、図７の側溝半導体基板の断面図である。
【図９】ｎおよびｐ接合層が形成された、図８の側溝半導体基板の断面図である。
【図１０】金属接点をドーピングされた領域上にパターン形成中の、図９の側溝半導体基板の断面図である。
【図１１】ＴＥＯＳ拡散バリヤ層をデバイス上に形成中の、本発明の他の実施形態の側溝半導体基板の断面図である。
【図１２】ＴＥＯＳ拡散バリヤ層が、ドライブイン焼きなまし後で、第１のドーピングされた電極材料（ｎ＋ポリ）および犠牲材料から除去された場合の、図１１の側溝半導体基板の断面図である。
【図１３】気相ドーピングによりドーパントを第２の組のトレンチ、および犠牲材料から第１の組のトレンチに注入中の、本発明の他の実施形態の側溝半導体基板の断面図である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年4月25日(2007.4.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの広がり方向に少なくとも１つの非平面である表面を有するシート状の基板と、
該基板上に形成された集積回路と
を備え、
該集積回路は、少なくとも、該基板の１つの側の複数の層内に形成されており、
該基板は、
該基板の表面に付与された、エポキシ樹脂を基材とする接着剤であって、硬化すると該基板に機械的応力を生じさせる接着剤と、
注入法によって該基板の物理的微細構造を変更することによって生じた機械的応力と、
拡散法によって生じた該基板の物理的微細構造を変更することによって生じた機械的応力と、
該基板を支持する湾曲したキャリアであって、該キャリアは、該キャリアの湾曲した表面によって該基板の形を作っており、それにより、該基板の非平面である表面を規定する永続的な湾曲を与える、湾曲したキャリアと
のうちの１つによって永続的に変形されており、
該湾曲したキャリアの表面は、平面的なキャリアの表面上に形成された複数の隆起により湾曲されている、集積回路装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの非平面である表面は、２つの広がり方向に非平面であり、該少なくとも１つの非平面である表面は、２つの方向に湾曲を有している、請求項１に記載の集積回路装置。
【請求項３】
前記基板は、該基板の１つの表面をエッチングまたは研削することによって、該基板の１つの表面から除去される部分領域を有している、請求項１に記載の集積回路装置。
【請求項４】
前記基板の１つの表面から除去される前記部分領域は、エッジ領域である、請求項３に記載の集積回路装置。
【請求項５】
前記部分領域が除去された前記基板の領域内に硬化性材料を含み、該硬化性材料は、硬化すると該基板に応力を加える、請求項３または４に記載の集積回路装置。
【請求項６】
前記隆起と前記基板と前記キャリアとの間の空間は、硬化性材料で充填されている、請求項１に記載の集積回路装置。
【請求項７】
集積回路装置を作製する方法であって、該方法は、
シート状の基板を提供することと、
該基板上に集積回路を形成することであって、該集積回路は、少なくとも、該基板の１つの側の複数の層内に形成されている、ことと
該基板を変形することと
を包含し、
該基板は、
該基板の表面に、エポキシ樹脂を基材とする接着剤を付与し、該接着剤を硬化させることであって、該接着剤は、硬化すると該基板に機械的応力を生じさせる、ことと、
注入法によって該基板の物理的微細構造を変更することにより、該基板内に機械的応力を生じさせることと、
拡散法によって該基板の物理的微細構造を変更することにより、該基板内に機械的応力を生じさせることと、
キャリアの湾曲した表面上の基板を支持することにより、該基板の形を作り、それにより、該基板の少なくとも１つの広がり方向に少なくとも１つの非平面である表面を規定する湾曲を与えることと
のうちの１つによって変形され、
該湾曲したキャリアの表面は、平面的なキャリアの表面上に形成された複数の隆起により湾曲されている、方法。
【請求項８】
前記基板は、２つの広がり方向に変形されており、かつ、２つの方向に湾曲を有している、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記基板の１つの表面をエッチングまたは研削することによって、部分領域が前記基板の１つの表面から除去される、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記部分領域は、前記基板のエッジ領域から除去される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記部分領域が除去された前記基板の領域は、硬化性材料で充填されており、該硬化性材料は、硬化され、該硬化性材料は、硬化すると該基板に応力を加える、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記隆起と前記基板と前記キャリアとの間の空間は、硬化性材料で充填されている、請求項７に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
本発明による、さらなる例示的実施形態において、キャリア５の表面に複数の隆起６が形成され、基板１と一緒にされる場合、付与された層と一緒に基板１を変形させる。これは、特に、図２により図示された例示的実施形態におけるものと類似であり、複数の隆起と基板とキャリアとの間のすきまに導入される材料４によってなされ得、その結果、乾燥すると、基板に応力が生じる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年2月23日(2007.2.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
発光半導体素子の別の有利な実施形態は、放射光線の短波長成分を反射するコーティング層を有している。とりわけ、コーティング層が層のスタックにより誘電体層を形成するのが適当である。ただし、反射性コーティング層としては、金属層スタック及び半導体層スタックも考えられる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年4月18日(2007.4.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）１Ｈ−１,２,４−トリアゾール     ０.００５〜０.１２５質量％および
（ｂ）その他の１種以上の腐食防止剤    ０〜１０質量％を含有し、この際（ａ）は唯一のトリアゾールベースの腐食防止剤である、
改善された腐食防止を有する自動車用のブレーキ液。
【請求項２】
成分（ａ）を０.００５〜０.０８質量％含有する、請求項１記載の自動車用のブレーキ液。
【請求項３】
成分（ｂ）としてベンズイミダゾール、プリン、アデニン、６−クロロプリン、２,６−ジクロロプリン、６−メトキシプリン、６−ヒスタミノプリンおよび６−フルフリルアミノプリンの群からの化合物１種以上を０.００１〜０.５質量％含有する、請求項１または２記載の自動車用のブレーキ液。
【請求項４】
成分（ａ）および成分（ｂ）の他に、更にポリグリコール１種以上を０.１〜５０質量％含有する、請求項１から３までのいずれか１項記載の自動車用ブレーキ液。
【請求項５】
（ａ）１Ｈ−１,２,４−トリアゾール ０.００５〜０.１２５質量％および
（ｂ）その他の１種以上の腐食防止剤 ０．００１〜１０質量％を含有し、この際（ａ）は唯一のトリアゾールベースの腐食防止剤である、
改善された腐食防止を有する自動車用のブレーキ液。
【請求項６】
成分（ｂ）としてベンズイミダゾール、プリン、アデニン、６−クロロプリン、２,６−ジクロロプリン、６−メトキシプリン、６−ヒスタミノプリンおよび６−フルフリルアミノプリンの群からの化合物１種以上を０.００１〜０.５質量％含有する、請求項５記載の自動車用のブレーキ液。
【請求項７】
成分（ｂ）がリン酸および亜リン酸のアルカリ金属塩、脂肪酸並びにこれらのアルカリ金属塩、リン酸および亜リン酸のエステル、エトキシル化されたモノまたはジアルキルアミンおよび鉱酸および脂肪酸とのその塩並びにエトキシル化されたアルカノールアミンの群からの化合物１種以上から選ばれる、請求項５記載の自動車用のブレーキ液。
【請求項８】
成分（ｂ）として
（１）エトキシル化されたモノまたはジアルキルアミンとフェノチアジンとリン酸エステルとからなる混合物、または
（２）エトキシル化されたモノまたはジアルキルアミンとヒドロキシアニソールとホスホン酸誘導体とからなる混合物
０.００１〜１０質量％
を含有する、請求項５記載の自動車用のブレーキ液。
【請求項９】
更にポリグリコールエーテルおよび／またはそのホウ酸エステル１種以上を０.１〜９７質量％含有する、請求項８記載の自動車用のブレーキ液。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
使用した自動車用ブレーキ液は次の組成を有する：
ＢＦ１：
メチルトリグリコールボレート              ５５.００質量％、
メチルトリグリコール、メチルテトラグリコール、ブチルトリグリコールおよびメチルジグリコールからなる混合物                  ４３.４４質量％、
１,１′−イミノジプロパン−２−オール、フェノチアジンおよびリン酸エステルからなる混合物                                    １.５１質量％、
１Ｈ−１,２,３−トルトリアゾール            ０.０５質量％、
ＢＦ２：
メチルトリグリコールボレート              ６８.００質量％、
メチルトリグリコール、メチルジグリコール、ブチルジグリコールおよびジグリコールからなる混合物                              ２８.８４質量％、
１,１′−イミノジプロパン−２−オール、ヒドロキシアニソールおよびホスホン酸誘導体からなる混合物                              ３.１１質量％、
１Ｈ−１,２,３−トルトリアゾール            ０.０５質量％。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年10月4日(2007.10.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
前記自己支持性繊維性マトリックスは、ポリアクリロニトリル繊維、ナイロン繊維、レーヨン繊維、ポリ塩化ビニル繊維、セルロース繊維及びセルロースアセテート繊維からなる群から選択される繊維からなることができる。好ましくは、この自己支持性マトリックスは、セルロース繊維からなるマトリックスである。セルロース繊維は、好ましくは、米国特許第４，６０６，８２４号に開示されるように、約＋４００〜約＋８００ｍｌのカナダ標準形口水度（Canadian Standard Freeness) を有する未叩解セルロースパルプもしくは＋１００〜約−６００ｍｌのカナダ標準形口水度を有する高度に叩解されたセルロースパルプからなるセルロースパルプ混合物から誘導される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年1月17日(2007.1.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
絶縁基板及び基板の同一側上に位置している金属接点を採用するＬＥＤの場合には、フットプリントの減少のための特別な課題が存在する。このような構造においては、金属接点間の電流の流れが、小さくて低いインピーダンスの発光面を通じる良好な経路に集中する傾向がある。従って、発光面の多くは活動化されない。現在まで、この問題は、半透明な伝導性のウインドウ接触層を提供し、該接触層の物理的な横方向の分離を維持することによって処理されてきた。このような分離によって、所定サイズの基板に組立てられ得る素子の数がひどく制限され、よって製造業者に経済的な負担がかかる
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
深い溝１０７又は同様に位置するインプラントされた絶縁体によって金属接点１０４及び１０６が隔離されることにより、接触間の低いインピーダンスの経路を除去し、よって接点１０４及び１０６間の横方向の分離が減少されるようにする。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
Ｕ字形状の半透明な伝導層１０２は、Ｕ字の開いた端部の中心にあり、活性層を通じて活性電流を効果的に流布するｎ電極と協同して、大きい発光表層、及びＵ字形状を提供する。Ｕ字の平行した脚は、ｐクラッディング層及びｎクラッディングともにおいて、隔離手段を取り巻く電流の経路を提供する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年5月1日(2007.5.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重イオンビームアプリケーションシステムにおいて使用されるイオンビームを予備加速し、ビームパラメータを最適にマッチングさせる装置であって、  高周波４重極加速器（ＲＦＱ）であって、イオンを加速する複数の交互ステム（ＳＴ）によって支持される２つのミニベーン（mini  vane）対（ＥＬ）を有し、該高周波４重極加速器（ＲＦＱ）構造の端部に向かって増大する開口を有し、該高周波４重極加速器（ＲＦＱ）構造の端部に向かって０°へと増加する同期位相を有する、高周波４重極加速器と、  前記高周波４重極加速器（ＲＦＱ）からもたらされるイオンビームのパラメータを、後続のドリフトチューブ線形加速器（ＤＴＬ）によって要求されるパラメータにマッチングさせる完備したタンク間マッチング部とを備える装置。
【請求項２】
重イオンビームアプリケーションシステムにおいて使用されるイオンビームを予備加速し、ビームパラメータを最適にマッチングさせる装置であって、  高周波４重極加速器（ＲＦＱ）であって、イオンを加速する複数の交互ステム（ＳＴ）によって支持される２つのミニベーン対（ＥＬ）を有し、該高周波４重極加速器（ＲＦＱ）構造の端部に向かって増加する同期位相を有する、高周波４重極加速器と、  前記高周波４重極加速器（ＲＦＱ）からもたらされるイオンビームのパラメータを、後続のドリフトチューブ線形加速器（ＤＴＬ）によって要求されるパラメータにマッチングさせる完備したタンク間マッチング部と、  前記高周波４重極加速器（ＲＦＱ）の出口に位置し、前記高周波４重極加速器（ＲＦＱ）タンクに一体化されている２つのリバンチャ・ドリフトチューブとを備える装置。
【請求項３】
前記高周波４重極加速器は、イオンを８ｋｅＶ／ｕから４００ｋｅＶ／ｕに加速することを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記交互ステム（ＳＴ）は、前記ＲＦＱ内の共通水冷ベースプレート（ＢＰ）上に取り付けられることを特徴とする前記請求項１〜３のいずれか１に記載の装置。
【請求項５】
前記交互ステム（ＳＴ）は、インダクタンス(inductivity)として働き、電極（ＥＬ）を形成する前記ミニベーン対は、λ／２共振構造に対するキャパシタンスとして働くことを特徴とする前記請求項１〜４のいずれか１に記載の装置。
【請求項６】
前記高周波４重極加速器（ＲＦＱ）は、下流に位置するＩＨドリフトチューブ・リニアック（ＤＴＬ）と同じ周波数で運転されることを特徴とする前記請求項１〜５のいずれか１に記載の装置。
【請求項７】
前記タンク間マッチング部は、前記ＲＦＱの下流のｘｙ操向電磁石を備えることを特徴とする前記請求項１〜６のいずれか１に記載の装置。
【請求項８】
前記タンク間マッチング部は、４重極ダブレットを備えることを特徴とする前記請求項１〜７のいずれか１に記載の装置。
【請求項９】
前記タンク間マッチング部は、容量性位相プローブを収容する診断チャンバおよび／または前記タンク間マッチング部の端部にあるビーム変圧器を備えることを特徴とする前記請求項１〜８のいずれか１に記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】  本発明において、高周波４重極は、その構造の端部に向かって増大する開口を有する。このことが有する利点は、ＲＦＱの端部に向かう横方向集束力が減ること、および、ＲＦＱの出口で約２０ｍｒａｄ以下の最大ビーム角度が得られることである。このことによって、タンク間マッチング部に沿っての非常に滑らかな横方向集束と、横方向位相面における後続のＩＨ型ＤＴＬ（ＩＨ−ＤＴＬ）への最適なマッチングが可能になる。このことは、ＩＨ−ＤＴＬに沿って加速している間のビームエミッタンスの増加を最小にする、したがって、ビーム損失を最小にするという利点を有する。タンク間マッチング部に沿う非常に滑らかな集束の他の利点は、マッチング部に沿いでは最小数の集束要素で十分であることである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】  ＲＦＱの開口は、構造の端部に向かっても増大し、ＲＦＱの出口で２０ｍｒａｄの最大ビーム角度を保証する集束力の低下をもたらす。本発明のこの改良が有する利点とは、ＲＦＱによって供給される横方向ビームパラメータを、後続のＩＨ−ＤＴＬによって要求されるパラメータにマッチングさせる非常に短いマッチング部を可能にすること、および、最適なマッチングを達成することであり、それによって、ＩＨ−ＤＴＬに沿ったビームエミッタンスの増加を最小にする。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】  ＲＦＱの開口が構造の端部に向かって増大するという点にある、本発明の利点によって、最大ビーム角度は、構造出口で、ＩＨ−ＤＴＬに対する最適なマッチングに要求される、約２０度未満に維持される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月6日(2007.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
補聴器の製造方法において、少くとも組立工程の節減のために、互いに異なる機能を有しかつ互いに異なる材料からなる少なくとも２つの補聴器部材を複数材射出成形方法により製造し、これらを永続的に組立てることにおいて、前記補聴器部材を互いに異なる材料による部材として複数材射出成形技術によって予め一体に製造し、これによって組立てを行うようにした複数材射出成形方法の摘用。
【請求項２】
前記補聴器部材の１つとして、ハウジングの少くとも一部を複数材射出成形方法により製造してなることを特徴とする請求項１記載の適用。
【請求項３】
前記補聴器部材の１つとして、密着部材を、好ましくはハウジングの少くとも一部と密着部材とを、複数材射出成形方法により製造してなることを特徴とする請求項１又は２記載の適用。
【請求項４】
前記補聴器部材の１つとして、電気／機械トランスデューサの出力側における音響導体を複数材射出成形方法により製造してなることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の適用。
【請求項５】
前記補聴器部材の１つとして、音響／電気トランスデューサの入力側における音響導体を複数材射出成形方法により製造してなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の適用。
【請求項６】
ハウジング内の補聴器部材の収納部を、好ましくはハウジングの少くとも一部と一体に、複数材射出成形方法により製造してなることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の適用。
【請求項７】
ハウジングにおける貫通穴の周辺部を、好ましくは前記ハウジングの少くとも一部と一体に、複数材射出成形方法により製造してなることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の適用。
【請求項８】
ハウジング部分の外面に少くとも１つの所定の表面領域を、好ましくはデザイン部材として及び／又は補聴器の操作手段として触れる表面領域として、前記ハウジング部分と一体に、複数材射出成形方法により製造してなることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の適用。
【請求項９】
複数部材を永続的に組立ててなる補聴器であって、前記複数部材の１つが前記補聴器の電気／機械トランスデューサの出力側における音響導体でなるものにおいて、前記音響導体及び前記複数部材の少なくとも１つの第二部材が互いに異なる材料により複数材射出成形技術により一体に製造されてなることを特徴とする補聴器。
【請求項１０】
複数部材を永続的に組立ててなる補聴器であって、前記複数部材の１つが前記補聴器の音響／電気トランスデューサの入力側における音響導体でなるものにおいて、前記音響導体及び前記複数部材の少なくとも１つの第二部材が互いに異なる材料により複数材射出技術により一体に製造されてなることを特徴とする補聴器。
【請求項１１】
複数部材を永続的に組立ててなる補聴器であって、前記複数部材の１つが前記補聴器の更なる部材、好ましくは前記補聴器の電気／機械トランスデューサ、のために前記補聴器のハウジング内に設けられ柔軟かつ弾力性の緩衝材で作られた収納部でなるものにおいて、前記収納部及び前記複数部材の少なくとも１つの第二部材、好ましくは前記ハウジングの一部、が互いに異なる材料により複数材射出技術により一体に製造されてなることを特徴とする補聴器。
【請求項１２】
複数部材を永続的に組立ててなる補聴器であって、前記複数部材の１つが前記補聴器の更なる部材、好ましくは前記補聴器の電気／機械トランスデューサ、のために前記補聴器のハウジング内に設けられ導電材で作られた収納部でなるものにおいて、前記収納部及び前記複数部材の少なくとも１つの第二部材、好ましくは前記ハウジングの一部、が互いに異なる材料により複数材射出技術により一体に製造されてなることを特徴とする補聴器。
【請求項１３】
複数部材を永続的に組立ててなる補聴器であって、そのハウジングには操作具、好ましくはスイッチ具、のための貫通穴が設けられ、かつ、前記複数部材の１つが前記貫通穴の周辺部でなるものにおいて、前記周辺部及び前記複数部材の少なくとも１つの第二部材、好ましくは前記ハウジング及び／又は前記操作具、が互いに異なる材料により複数材射出技術により一体に製造されてなることを特徴とする補聴器。
【請求項１４】
複数部材を永続的に組立ててなる補聴器において、前記複数部材の少なくとも２つを互いに異なる材料により一体に製造するために複数材射出成形技術が適用され、それにより前記補聴器のハウジング部の外面には前記ハウジング部とは異なる材料で作られた少なくとも１つの表面領域が前記複数材射出成形技術の適用により前記ハウジング部と一体に製造されてなり、好ましくは前記表面領域は前記補聴器におけるデザイン部材として及び／又は補聴器操作手段として触れる表面領域として形成されてなることを特徴とする補聴器。
【請求項１５】
複数部材を永続的に組立ててなる補聴器であって、前記複数部材の１つが前記補聴器の密着部材でなるものにおいて、前記密着部材及び前記複数部材の少なくとも１つの第二部材、好ましくは前記補聴器のハウジングの少なくとも一部、が互いに異なる材料により複数材射出技術により一体に製造されてなることを特徴とする補聴器。