(57)【要約】【課題】  背面側に縦型定盤を設置した測定装置において、被測定基板の両面の平坦度を測定できる基板の平坦度測定装置を提供する。【解決手段】  基準平面３ｂの面方向がほぼ垂直状態になるように配置された縦型定盤３と、被測定基板Ｗを保持する保持機構３０と、前記縦型定盤３の基準平面３ｂと前記保持機構３０によって保持された被測定基板Ｗの間に配置され前記縦型定盤３の基準平面３ｂとの距離及び前記被測定基板Ｗの板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック２１上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記保持機構３０によって保持された被測定基板Ｗの前面に配置され、前記縦型定盤３の基準平面３ｂ及び、前記被測定基板Ｗとの距離を測定する一つの移動ブロック３１上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記各非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、被測定基板Ｗの表裏の各平坦度を演算する演算手段とを具備する。【選択図】  図１
2006105878.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が平滑状態に仕上げられた基準平面を有し、この基準平面の面方向がほぼ垂直状態になるように配置された縦型定盤と、
被測定基板の板面がほぼ垂直状態となるように当該被測定基板を保持する保持機構と、
前記縦型定盤の基準平面と前記保持機構によって保持された被測定基板との間に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面との距離及び前記被測定基板の板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、
前記保持機構によって保持された被測定基板の前面に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面及び前記被測定基板との距離を測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、
前記各非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、被測定基板の表裏の各平坦度を演算する演算手段とを具備したことを特徴とする基板の平坦度測定装置。
【請求項２】
表面が平滑状態に仕上げられた基準平面を有し、この基準平面の面方向がほぼ垂直状態になるように配置された縦型定盤と、
被測定基板の板面がほぼ垂直状態となるように当該被測定基板を保持する保持機構と、
前記縦型定盤の基準平面と前記保持機構によって保持された被測定基板との間に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面との距離及び前記被測定基板の板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、
前記保持機構によって保持された被測定基板の前面に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面及び前記被測定基板との距離を測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、
前記各非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、少なくとも被測定製基板の肉厚、外形寸法のいずれかを演算する演算手段とを具備したことを特徴とする基板の形状寸法測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の平坦度測定装置および形状寸法測定装置に関し、例えば、表面の平坦度が重要な要素となる石英ガラス製基板の平坦度等を高精度で測定することができる石英ガラス製基板の平坦度測定装置および形状寸法測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶ディスプレイの基板となるマザーガラスは益々大型化が図られており、これに伴って、その石英ガラス製のフォトマスクの大型化が求められている。この種のフォトマスクはその全面にわたっての表面の平坦度等が重要な要素となり、フォトマスクの個々においてその表面の平坦度、肉厚、外形寸法を測定し、規格範囲内のものを選択する厳重な品質管理が実施されている。
【０００３】
この種の測定装置として、例えば図６に示した平坦度測定装置がある。また、この平坦度測定装置と同様な平坦度測定装置が、特許文献１においても提案されている。
図６に示したこの平坦度測定装置１００について説明すると、図に示すように基台１０１の上面に対して垂直かつ平行に、ガイドレール１０２ａ，１０２ｂが立設されている。そして、前記ガイドレール１０２ａ，１０２ｂ間にフレーム１０３が掛け渡され、前記フレーム１０３が上下動可能に形成されている。
【０００４】
また、前記ガイドレール１０２ａ，１０２ｂの間には、上下動自在なスライド板１０５ａを固定する固定基台１０４が掛け渡されている。一方、基台１０１の上面には、被測定基板保持台１０５ｂ，１０５ｃが設けられ、この被測定基板保持台１０５ｂ，１０５ｃと前記スライド板１０５ａで被測定基板Ｗを保持するように構成されている。
即ち、前記スライド板１０５ａ、被測定基板保持台１０５ｂ，１０５ｃからなる保持機構１０５によって、被測定基板Ｗはほぼ垂直状態に保持される。
【０００５】
また、前記フレーム１０３は、被測定基板Ｗを挟むように被測定基板Ｗの前後に形成され、夫々のフレーム１０３にレーザセンサのように距離を測定できる非接触型のセンサ（図示せず）が搭載されたセンサブロック１０６が設けられている。
そして、このセンサブロック１０６に搭載された各センサによって、被測定基板Ｗとセンサ１０６との間の距離を測定し、さらにフレーム１０３を上下方向に、また前記センサブロック１０６を横方向に移動させることにより、被測定基板Ｗの表面及び裏面の全体を測定していた。更に、被測定基板Ｗとセンサ１０６との間の距離の測定結果から被測定基板Ｗの平坦度を求めていた。
【０００６】
この平坦度測定装置にあっては、ガイドレール１０２ａ，１０２ｂの真直度、およびガイドレール１０２ａ，１０２ｂの間の平行度は調整可能であるものの、当該装置の使用に伴う柱の歪み等による誤差を調整することができなかった。その結果、センサと被測定基板Ｗの距離が一定でなくなり、被測定基板Ｗの上下方向に関する平坦度の測定には誤差が生じてしまう問題があった。
【０００７】
かかる問題を解決するために、本願出願人は、特許文献２に示す測定装置を提案している。この測定装置を図７に基づいて説明する。
図７に示したこの平坦度測定装置１１０について説明すると、基台１１１の上面に垂直に枠体１１２が立設されている。この枠体１１２の上辺部１１２ａにはスライド機構１１３ａが設けられている。また枠体１１２の下辺部１１２ｂには被測定基板支持台１１３ｂ，１１３ｃが設けられている。
即ち、前記スライド機構１１３ａ、被測定基板支持台１１３ｂ，１１３ｃにより、被測定基板Ｗをほぼ垂直状態に保持する保持機構１１３が構成されている。
【０００８】
また、枠体１１２の上辺部１１２ａ、下辺部１１２ｂにはガイドレール部（図示せず）が形成され、前記ガイドレールにスライダ１１４ａ，１１４ｂが係合している。そして図示しない駆動手段によってスライダ１１４ａ，１１４ｂは、枠体１１２の上辺部１１２ａ、下辺部１１２ｂに沿って横方向に移動可能に構成されている。
【０００９】
また、前記スライダ１１４ａ，１１４ｂ間には、フレーム１１５が掛け渡されている。このフレーム１１５には移動ブロック１１６が摺動可能に形成されており、図示しない駆動手段により移動ブロック１１６は前記フレーム１１５上を摺動する。更に、前記移動ブロック１１６上に非接触型のセンサ１１７が搭載されている。したがって、このセンサ１１７は、前記構成により垂直面内を移動することができる。
【００１０】
このセンサ１１７は、被測定基板Ｗとの間の距離を測定するセンサ（図示せず）と、後述する縦型定盤１１８との間の距離を測定するセンサを備えている。更に、前記センサ１１７の背面側に前記縦型定盤１１８が設けられている。この縦型定盤１１８によって、基準平面が形成される。
【００１１】
以上のように構成された測定装置１１０によると、縦型定盤１１８の基準平面１１８ａと、保持機構１１３によって板面がほぼ垂直状態となるように保持された被測定基板Ｗとの間に配置された各非接触型距離測定センサ１１７が、縦型定盤１１８の基準平面１１８ａとの距離および被測定基板Ｗの板面との距離をそれぞれ測定する。
そして各センサ１１７を搭載した移動ブロック１１６は、ほぼ垂直面内において移動して、当該位置におけるそれぞれの距離を測定し、各部のデータの蓄積がなされる。
【００１２】
前記移動ブロック１１６に搭載された各センサ１１７間の距離は固定され、変化する要因はなく、したがって各センサ１１７間の距離と各センサ１１７によって測定されるそれぞれの距離の和に基づいて、縦型定盤Ｗの基準平面１１８ａと被測定基板Ｗの板面との距離を算出することができる。
【特許文献１】特開２０００−２９２１５２号公報
【特許文献２】特開２０００−５５６４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ところで、前記測定装置１１０にあっては、背面側に設置された縦型定盤１１８を基準面１１８ａとして、被測定基板Ｗとの距離を測定できる。このように、基準平面１１８ａを用いて測定する場合には、前記した図６に示した測定装置１００において生じるガイドレール１０２ａ，１０２ｂの歪み等による誤差を抑制でき、測定精度を向上させることができる。
しかしながら、背面側に縦型定盤１１８を設置した測定装置１１０にあっては、被測定基板Ｗの片面のみの平坦度しか測定できないという技術的課題があった。
【００１４】
本発明は、上記技術的課題を解決するためになされたものであり、背面側に縦型定盤を設置した測定装置において、被測定基板の両面の平坦度を測定できる基板の平坦度測定装置および被測定基板の肉厚、外形寸法の少なくともいずれか測定できる基板の形状寸法測定装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するためになされた本発明にかかる基板の平坦度測定装置は、表面が平滑状態に仕上げられた基準平面を有し、この基準平面の面方向がほぼ垂直状態になるように配置された縦型定盤と、被測定基板の板面がほぼ垂直状態となるように当該被測定基板を保持する保持機構と、前記縦型定盤の基準平面と前記保持機構によって保持された被測定基板との間に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面との距離及び前記被測定基板の板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記保持機構によって保持された被測定基板の前面に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面及び前記被測定基板との距離を測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記各非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、被測定基板の表裏の各平坦度を演算する演算手段とを具備したことを特徴としている。
【００１６】
このように、前記縦型定盤の基準平面との距離及び前記被測定基板の板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記保持機構によって保持された被測定基板の前面に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面及び、前記被測定基板との距離を測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサとが設けられているため、この非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、被測定基板の表裏の各平坦度を求めることができる。
【００１７】
上記目的を達成するためになされた本発明にかかる基板の形状寸法測定装置は、表面が平滑状態に仕上げられた基準平面を有し、この基準平面の面方向がほぼ垂直状態になるように配置された縦型定盤と、被測定基板の板面がほぼ垂直状態となるように当該被測定基板を保持する保持機構と、前記縦型定盤の基準平面と前記保持機構によって保持された被測定基板の間とに配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面との距離及び前記被測定基板の板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記保持機構によって保持された被測定基板の前面に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面及び前記被測定基板との距離を測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記各非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、少なくとも被測定製基板の肉厚、外形寸法のいずれかを演算する演算手段とを具備したことを特徴としている。
【００１８】
このように、前記縦型定盤の基準平面との距離及び前記被測定基板の板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記保持機構によって保持された被測定基板の前面に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面及び、前記被測定基板との距離を測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサとが設けられているため、この非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、少なくとも被測定製基板の肉厚、外形寸法を求めることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明にかかる基板の平坦度測定装置によれば、非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、基板の表裏の各平坦度を高精度に求めることができる。また本発明にかかる基板の形状寸法測定装置によれば、非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、基板の肉厚、外形寸法を高精度に求めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明にかかる平坦度測定装置の一実施形態を図１に基づいて説明する。なお図１は、測定装置の全体構成を示した斜視図である。
測定装置本体１は、図１に示すように、基台２が水平状態に配置され、この基台２上には、縦型定盤３が該基台２に対して支持部材３ａによって垂直に配置されている。この縦型定盤３の垂直面は、その平坦度がほぼ０に近い高精度な基準平面３ｂを形成している。
【００２１】
この縦型定盤３の左右両側には、図１に示すようにガイドレール５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂが設けられている。
また、このガイドレール５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂは、図２に示すように、締め付けボルト７により縦型定盤３に固定されている。しかし、前記ガイドレール５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂは、ジャッキボルト８により縦型定盤２との間に隙間を形成することができ、ガイドレール５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂの縦型定盤に対する傾き、ねじれ等を調整することができるように構成されている。
【００２２】
また、前記各ガイドレール５ａ，５ｂに平行にボールネジ９ａ，９ｂが設けられ、同様に各ガイドレール６ａ，６ｂに平行にボールネジ１０ａ，１０ｂが設けられている。前記ボールネジ９ａ，９ｂには、スライダ１１ａ，１１ｂが螺合している。同様に、前記ボールネジ１０ａ，１０ｂには、スライダ１２ａ，１２ｂが螺合している。
【００２３】
また前記基台２の下面内には、図示しないがボールネジ９ａ，９ｂ，１０ａ，１０ｂの駆動手段が設けられ、ボールネジ９ａとボールネジ９ｂが同方向に同一量回転されるように構成されている。同様に、ボールネジ１０ａとボールネジ１０ｂとが同方向に同一量回転されるように構成されている。
【００２４】
前記スライダ１１ａ，１１ｂ，１２ａ，１２ｂは、前記したようにボールネジ９ａ，９ｂ，１０ａ，１０ｂと螺合するとともに、ガイドレール５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂと係合している。したがって、前記ボールネジ９ａ，９ｂ，１０ａ，１０ｂが回転すると、スライダ１１ａ，１１ｂ，１２ａ，１２ｂはガイドレール５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂに沿って上下動するように構成されている。
また、前記スライダ１１ａ，１１ｂ，１２ａ，１２ｂの上端面に、一端にバランスウエイト（図示せず）が取り付けられたワイヤが取り付けられている。このようにバランスウエイトが取り付けられているため、ボールネジ９ａ，９ｂ，１０ａ，１０ｂの負荷を小さくでき、小さな駆動力で、スライダ１１ａ，１１ｂ，１２ａ，１２ｂを上下動させることができる。
【００２５】
また、一対のスライダ１１ａ，１１ｂにはフレーム１３の端部が固定され、前記フレーム１３は水平状態に配置される。同様に、一対のスライダ１２ａ，１２ｂにはフレーム１４の端部が固定され、前記フレーム１４は水平状態に配置される。
このように、一対のボールネジ９ａ，９ｂ、スライダ１１ａ，１１ｂ、フレーム１３とにより、Ｚ軸（上下軸）駆動機構を構成している。同様に、一対のボールネジ１０ａ，１０ｂ、スライダ１２ａ，１２ｂ、フレーム１４とにより、Ｚ軸（上下軸）駆動機構を構成している。
すなわち、前記各ボールネジ９ａ，９ｂ，１０ａ，１０ｂの回転により、フレーム１３，１４が水平状態を保ったまま、上下方向に移動できるように構成されている。
【００２６】
更に、前記フレーム１３，１４内には、図示しないが、ボールネジが水平方向に配置されており、このボールネジは、図示しない駆動モータによって回転駆動されるように構成されている。そして、前記フレーム１３内に配置されたボールネジによって、非接触型距離測定センサが搭載された移動ブロック２０の左右方向に移動可能になしている。また、前記フレーム１４内に配置されたボールネジによって、非接触型距離測定センサが搭載された移動ブロック２１の左右方向に移動可能になしている。
すなわち、非接触型距離測定センサが搭載された移動ブロック２０，２１は、フレーム１３，１４内に設けられたボールネジの回転に伴い、フレーム１３，１４上をスライドして水平方向に移動できるように構成されている。なお、移動ブロック２０，２１には、図示しないマグネスケールを設置することで、位置情報をより正確に求めることができる。
【００２７】
このように、フレーム１３，１４内に設けられたボールネジ及びボールネジを駆動する駆動手段と、移動ブロック２０，２１とにより、Ｘ軸（水平軸）駆動機構を構成している。なお、前記移動ブロック２０，２１には一対の非接触型距離測定センサが配置されているが、この構成については図３に示されており、その説明は後述する。
【００２８】
また、前記移動ブロック２１の前方であって前記移動ブロック２０の後方に、縦横の長さが６５０ｍｍ×７５０ｍｍで、厚さが１０ｍｍ程度の大型液晶用石英ガラス製フォトマスクである被測定基板Ｗの上下を保持する保持機構３０が配置されている。この保持機構３０は、前記被測定基板Ｗを載置し、支持する長手方向に離間して配置された一対の下部ホルダ３１と、前記下部ホルダ３１の上方に上部ホルダ３２とを具備している。
【００２９】
前記下部ホルダ３１は、それぞれ水平方向に溝部が形成され、端面方向から視た場合にコ字状に形成されていて、被測定基板Ｗの板面を垂直状態とした場合に、その下端縁の二点を、この溝部において支持できるように構成されている。
また、前記上部ホルダ３２は、縦型定盤３の上端部に固定されたフレーム３３に固定され、スライド板３２ｃが上下動可能に構成されている。
即ち、前記フレーム３３に基台３２ｂが固定され、この基台３２ｂに対して、スライド板３２ｃが移動し、更に任意の位置で固定できるように構成されている。また、前記スライド板３２ｃの先端に、被測定基板Ｗと接触する当接部材３２ａが形成されている。
【００３０】
また、測定装置本体１にケーブルによって接続されたコンピュータ（図示せず）から、制御ボックスに指令を与えて前記Ｚ軸およびＸ軸機構を駆動制御すると共に、後述する距離測定センサから得られたデータに基づいて、被測定基板Ｗの平坦度を演算し、ディスプレイおよびまたはプリンタより、その結果等を出力するように構成されている。
【００３１】
次に、図３は、移動ブロック２０，２１に配置された一対の非接触型距離測定センサによって、板面がほぼ垂直状態に設定された被測定基板Ｗの平坦度を測定する場合を示している。
前記被測定基板Ｗと縦型定盤３の間に配置された移動ブロック２１には、第一の距離測定センサ４０及び第二の距離測定センサ４１が搭載されている。前記第１の距離測定センサ４０はエアースケールであり、これは移動ブロック２１において縦型定盤３に対向し、縦型定盤３の基準平面３ｂとの距離Ｌ１を測定するようになされている。また、第２の距離測定センサ４１もエアースケールであり、被測定基板Ｗに対向し、被測定基板Ｗの表面との距離Ｌ２を測定するようになされている。
【００３２】
前記第１および第２の各センサ４０，４１は、共に移動ブロック２１に搭載されており、したがって各センサ間の距離Ｌ０は一定である。よって図３に示す状態においては、縦型定盤３の基準平面３ｂと、被測定基板Ｗの測定ポイントとの距離ＬＡは、ＬＡ＝Ｌ０＋Ｌ１＋Ｌ２の計算により求めることができる。
そして、第１および第２のセンサ４０，４１を搭載した移動ブロック２１は、前記したとおりシーケンス制御によりＸ−Ｚ方向に順次駆動されるので、予め定められた被測定基板Ｗの各ポイントにおける縦型定盤３の基準平面３ｂとの各距離ＬＡは、前記計算式に基づいて得ることができる。
【００３３】
次に、図４は、被測定基板Ｗの平坦度を求める基本原理を示したものである。すなわち、前記したように被測定基板Ｗの各部における縦型定盤３の基準平面３ｂとの距離ＬＡのデータは、図示しないコンピュータにおいて蓄積される。
この場合、被測定基板Ｗは保持機構３０によってほぼ垂直状態に保持されるものの、その板面は縦型定盤３の基準平面３ｂとは必ずしも平行状態にはならない場合が多い。前記コンピュータは、このような状態において測定された各ポイントの距離ＬＡを用いて、被測定基板Ｗの一面の縦型定盤側の平坦度ＦＬＡを求める演算処理を実行する。被測定基板Ｗの平坦度を求める演算処理としてはいくつかの手法があるが、簡易的な手法として次のようなものがある。
【００３４】
すなわち、各ポイントの距離ＬＡのうち、被測定基板Ｗの対角２点測定値を基準として、この時の最大値と最小値の差を平坦度とするものである。
より具体的には、（１）第１の対角２点における前記距離ＬＡが基準平面上になるように、各ポイントにおける各測定データＬを補正する。（２）もう一方の第２の対角２点における前記距離ＬＡが基準平面に対して同じ高さになるように、前記（１）で補正した各測定データＬＡを再補正する。（３）以上のようにして補正された各測定データＬＡの最大値と最小値の差を平坦度ＦＬＡとする。
このような演算処理によって求めた平坦度ＦＬＡは、例えば各被測定基板Ｗの測定直後に、前記ディスプレイおよびまたはプリンタより出力される。
【００３５】
また、同様にして、被測定基板Ｗの他面の平坦度を測定する。
即ち、前記被測定基板Ｗの前方に配置された移動ブロック２０には、第三の距離測定センサ４２及び第四の距離測定センサ４３が搭載されている。前記第三の距離測定センサ４２はエアースケールであり、縦型定盤３の基準平面３ｂとの距離Ｌ３を測定するようになされている。また、第四の距離測定センサ４３もエアースケールであり、被測定基板Ｗの表面との距離Ｌ４を測定するようになされている。
なお、前記縦型定盤３の基準平面３ｂとの距離Ｌ３は、被測定基板Ｗを保持機構３０が保持する前に、予め各ポイントにおいて距離Ｌ３を測定し、データとしてコンピュータに蓄積する。
【００３６】
前記第三および第四の各センサ４２，４３は、共に移動ブロック２０に搭載されており、したがって各センサは同一平面上にある。
よって、図３、５に示す状態においては、縦型定盤３の基準平面３ｂと、被測定基板Ｗの測定ポイントとの距離ＬＢは、ＬＢ＝Ｌ３−Ｌ４の計算により求めることができる。
第三および第四のセンサ４２，４３を搭載した移動ブロック２０は、前記したとおりシーケンス制御によりＸ−Ｚ方向に順次駆動されるので、予め定められた被測定基板Ｗの各ポイントにおける縦型定盤３の基準平面３ｂとの各距離ＬＢは、前記計算式に基づいて得ることができる。
【００３７】
そして、前記した場合と同様に、被測定基板Ｗの平坦度ＦＬＢを求める演算処理を実行する。すなわち、各ポイントの距離ＬＢのうち、被測定基板Ｗの対角２点測定値を基準として、この時の最大値と最小値の差を平坦度とするものである。
前記したように（１）第１の対角２点における前記距離Ｌが基準平面上になるように、各ポイントにおける各測定データＬを補正する。（２）もう一方の第２の対角２点における前記距離Ｌが基準平面に対して同じ高さになるように、前記（１）で補正した各測定データＬを再補正する。（３）以上のようにして補正された各測定データＬの最大値と最小値の差を平坦度ＦＬＢとする。
【００３８】
このような演算処理によって求めた平坦度ＦＬＡ，平坦度ＦＬＢは、例えば各被測定基板Ｗの測定直後に、前記ディスプレイおよびまたはプリンタより出力される。
このように、この平坦度測定装置によれば、被測定基板Ｗの両面の平坦度を測定することができる。
【００３９】
更に、被測定基板Ｗの肉厚Ｔは、図４、図５から明らかなように、同一の位置における前記測定データＬＢから測定データＬＡを減算ずることによって求めることができる。
また、被測定基板Ｗの外形輪郭から、移動ブロック２０の非接触型距離測定センサ３３あるいは移動ブロック２１の非接触型距離測定センサ３１が外れると、その測定データが大きく変化する。
したがって、前記非接触型距離測定センサ３３あるいは非接触型距離測定センサ３１の測定データが大きく変化した位置座標を用いて演算し、外形寸法を求めることができる。
【００４０】
なお、上記実施形態にあっては、非接触型距離測定センサとしてエアースケールを用いた場合を説明したが、レーザセンサを用いても良い。
このように、レーザセンサを用いた場合には、被測定基板Ｗに対して測定圧力を加えることなく距離の測定を可能とするので、特に大型液晶用石英ガラス製フォトマスクを被測定基板とした場合においても、フォトマスクにたわみ等を与えることがなく、精度の高い距離測定を行なうことが可能となる。また、上記実施形態にあっては、スライダーの移動について、ボールネジを用いた駆動系について説明したが、リニアモータ等の駆動系を組込むことができる。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
以上の説明から明らかなように、本発明にかかる平坦度測定装置は、石英ガラス製のフォトマスクに限られず、各種基板の平坦度測定装置として好適に用いることができる。同様に、形状寸法測定装置も石英ガラス製のフォトマスクに限られず、各種基板の平坦度測定装置として好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】図１は本発明にかかる一実施形態の概略斜視図である。
【図２】図２は、図１における要部斜視図である。
【図３】図３は、非接触型距離測定センサによって得られる距離データを説明するための概略図である。
【図４】図４は、基板の裏面の平坦度を求めるための説明図である。
【図５】図５は、基板の表面の平坦度を求めるための説明図である。
【図６】図６は、従来の平坦度測定装置を示す概略図である。
【図７】図７は、従来の平坦度測定装置を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４３】
１        平坦度測定装置
２        基台
３        縦型定盤
３ｂ      基準平面
５ａ      ガイドレール
５ｂ      ガイドレール
６ａ      ガイドレール
６ｂ      ガイドレール
７        締め付けボルト
８        ジャッキボルト
９ａ      ボールネジ
９ｂ      ボールネジ
１０ａ    ボールネジ
１０ｂ    ボールネジ
１１ａ    スライダ
１１ｂ    スライダ
１２ａ    スライダ
１２ｂ    スライダ
１３      フレーム
１４      フレーム
２０      移動ブロック
２１      移動ブロック
３０      保持機構
４０      非接触型距離測定センサ（エアースケール）
４１      非接触型距離測定センサ（エアースケール）
４２      非接触型距離測定センサ（エアースケール）
４３      非接触型距離測定センサ（エアースケール）
Ｗ        非測定基板
【図１】
2006105878.tif 000003
【図２】
2006105878.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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