(57)【要約】  強化マイクロプレートは、剛性を高めて当該マイクロプレートの変形、特に熱的に誘起される変形を最小にする補強部材を有する。当該補強部材は、当該マイクロプレートの底面上に一体的に形成されたドット、リブ、または支柱を含む。マイクロプレートフレームは、当該補強部材と協力して、熱膨張の効果を阻害し、熱的に誘起されるひずみを抑えるように機能する、１つまたは複数のスロットを含み得る。高められたシーリング有用性を提供し試料蒸発を抑えるために、各ウェルは、好ましくは上側デッキ表面から延在し当該デッキの角部と複数のウェルとの間に配置された少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部との組み合わせにおいて、上面へとつながる傾斜した移行面を有する隆起したリムを含み得る。
2019505178.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、該第二表面から延在する複数のウェルと、該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含むマイクロプレートであって、
該複数のウェルにおける各ウェルが、該第一表面より高く形成された上面と、該上面と該第一表面との間に配置された中間面と、該中間面と該上面との間に延在する内側移行面と、該中間面と該上面との間に延在する外側移行面とを含む隆起したリムを含み、
該内側移行面と該上面との間の角度が、１００度から１７０度の範囲であり、該外側移行面と該上面との間の角度が、１００度から１７０度の範囲である、マイクロプレート。
【請求項２】
さらに、前記第一表面から延在して、かつ前記デッキの角部と前記複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む、請求項１に記載のマイクロプレート。
【請求項３】
前記周辺デッキ部分が、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、前記本体に一体的に形成され、前記第二表面から延在し、ならびに前記マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む、請求項１または２に記載のマイクロプレート。
【請求項４】
前記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、少なくとも１つの他の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域に接触するように配置される、請求項３に記載のマイクロプレート。
【請求項５】
前記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、複数のドットを含む、請求項３または４に記載のマイクロプレート。
【請求項６】
前記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、ならびに該ドットのサブセットにおける各ドットの少なくとも一部が、該ドットのサブセットにおける少なくとも１つの他のドットに接触するように配置される、請求項５に記載のマイクロプレート。
【請求項７】
前記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、該ドットのサブセットにおける各ドットが、前記デッキに対して平行な平面に沿って切り取られた実質的に正方形の断面形状を有する、請求項５または６に記載のマイクロプレート。
【請求項８】
前記デッキが、前記本体に一体的に形成された複数のリブであって、前記複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成され、前記第二表面から延在し、ならびに前記マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数のリブを含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載のマイクロプレート。
【請求項９】
前記フレームが、前記デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、該少なくとも１つの壁部が外面および内面を含み、該内面が、前記マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載のマイクロプレート。
【請求項１０】
前記デッキ、前記複数のウェル、および前記フレームが、同じ材料組成物によって連続的に形成される、請求項１〜９のいずれか一項に記載のマイクロプレート
【発明の詳細な説明】
【優先権】
【０００１】
本出願は、２０１６年５月１０日に出願された米国特許出願第１５／１５０，８４５号および２０１５年１２月９日に出願された国際特許出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１５／０６４５８５号の優先権の恩典を主張するものである。先述の各出願の内容全体は依拠され、参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。
【技術分野】
【０００２】
本出願は、概して、マイクロプレートとしても知られるマイクロタイタープレート、より詳しくは、強化マイクロプレートおよびその製造方法に関する。当該強化マイクロプレートは、自動化設備での使用に適しており、許容できない変形を生じることなく熱サイクルに耐えることができる。
【背景技術】
【０００３】
ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）プロセスは、ＤＮＡおよびＲＮＡなどの遺伝物質の複製を伴う。産業および学界の両方において、ＰＣＲプロセスは、マルチウェルマイクロプレート（例えば、８連ウェルまたは９６、３８４、さらに１５３６ウェルアレイ）を使用して大規模に実施される。ＰＣＲプロセスを効率的で簡便な方法において実施することを可能にする機器を有することが望ましい。
【０００４】
それらの取り扱いの容易さと比較的低いコストから、多くの場合、ＰＣＲプロセスの際の試料収納のためにマイクロプレートが使用される。マイクロプレートは、他の研究および臨床診断手順においても使用され得る。実例マイクロプレート１００の様々な構図が示されている図１Ａ〜１Ｃを参照する。マイクロプレート１００は、ポリマー材料（例えば、ポリプロピレン）から形成され、ならびに、各ウェルが少量の試料を収容するように構成された、円錐形または弾丸形のウェル１０２のアレイがその中に形成された本体１０６を含む。ポリプロピレンは、ＰＣＲプロセスを妨げるような抽出可能物をほとんど有さない。用語「ウェル」および「マイクロウェル」は、本明細書において、限られた量の材料、例えば試料など、を収容するように構成されたマイクロプレートの凹部を意味するために、相互互換的に使用され得る。
【０００５】
ＰＣＲプロセスにより、少量の遺伝物質および反応剤の溶液が、各ウェル１０２内に装入される。次いで、マイクロプレート１００が、ウェル内の内容物の温度を上昇および低下させるように作動するサーモサイクラー内に位置される。実例ＰＣＲプロセスにおいて、マイクロプレート１００は、サーモサイクラー内の金属製の加熱用固定具上に位置される。良好な熱接触および正確な温度管理を提供するために、当該加熱用固定具は、マイクロプレート１００の下面、特に、ウェル１０２の外側表面部分に密接に一致するような大きさおよび形状である。サーモサイクラーにおける加熱された上部プレートは、ウェル内容物が繰り返し加熱および冷却される間、マイクロプレートを加熱用固定具上にクランプ固定する。
【０００６】
マイクロプレート１００は、典型的には、非熱伝導性ポリマー材料から作製されるため、ウェル１０２の壁部１０５は、サーモサイクラーがウェル内容物を効果的に加熱および冷却できるように可能な限り薄く構成される。しかしながら、結果として、比較的薄いウェルの壁部１０５は、繰り返される熱サイクルによって変形する傾向がある。さらに、プレート本体も変形し得、さらに熱的に劣化し得る。そのような劣化はさらに、当該プレートの反りまたは捻じれの原因となり得る。当該変形に適応するために、従来のマイクロプレートは、比較的非剛性の材料、例えばポリプロピレンなど、を使用して形成される。残念ながら、ポリプロピレンは、熱的に誘起された応力によってひずむ傾向がある。
【０００７】
比較的薄いウェル壁部１０５の変形と、マイクロプレート本体１０６における熱的サイクルの間に寸法が変わる傾向の結果として、従来のマイクロプレートをサーモサイクラーから取り出すのは困難であり得る。とりわけ、マイクロプレート１００のウェル１０２の数（およびサイズ全体）が増加するほど、変形したマイクロプレート１００をサーモサイクラーから取り出すために必要な力は増加し、これは、さらなる損傷の原因となり得る。さらに、ロボットハンドリングシステムにとって、マイクロプレート１００を操作しサーモサイクラーから取り出すのは困難であり得る。
【０００８】
さらに、マイクロプレートが熱サイクルおよび／または他の分析工程もしくは処理工程を受ける場合、そのようなマイクロプレートは、多くの場合、ウェル内の内容物の蒸発を防ぐために、カバーで覆われるかまたはシーリングフィルムで密封される。しかしながら、場合によっては、シールが、１つまたは複数の位置において接触を失うかまたは欠くことがあり、それにより、ウェルの内容物は望ましくない蒸発を受ける。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、前述の短所を有さないマイクロプレートが求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示のある特定の態様により、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面を有する本体を含むマイクロプレートであって、当該本体が、当該デッキ内に形成され第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルの周辺のフレームと、本体に一体的に形成され第二表面から延在する複数の補強リブとを含む、マイクロプレートが提供される。任意選択により、応力解消スロットが、当該フレームの長手方向にそれぞれ対向して形成されていてもよい。
【００１１】
本発明の追加の態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。当該周辺デッキ部分は、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域を含む。
【００１２】
本発明の追加の態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。当該周辺デッキ部分は、本体に一体的に形成され、複数のドットを含み、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域を含む。
【００１３】
本発明の追加の態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。さらに、当該フレームは、当該デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、当該少なくとも１つの壁部は外面および内面を有し、ならびに当該内面は、当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む。
【００１４】
本発明の追加の態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。当該複数のウェルの各ウェルは、第一表面より高く形成された上面と、当該上面と第一表面との間に配置された中間面と、当該中間面と上面との間に延在する内側移行面と、中間面と上面との間に延在する外側移行面とを含む隆起したリムを含む。さらに、内側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲であり、外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。
【００１５】
本発明の追加の態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。当該複数のウェルの各ウェルは、第一表面より高く形成された上面を含む隆起したリムを含み、当該マイクロプレートはさらに、第一表面から延在し、かつ当該デッキの角部と当該複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む。
【００１６】
本開示の主題のさらなる特徴および利点について、以下の詳細な説明において述べ、ある程度、その説明から当業者には容易に明らかとなるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、ならびに添付の図面を含め、本明細書において説明されるような本開示の主題を実践することによって認識される。
【００１７】
上述の全般的な説明および以下の詳細な説明は両方とも、本開示の主題の実施形態を提示し、権利請求される本開示の主題の性質および特徴を理解するための概説または枠組みを提供することを意図することは理解されるべきである。添付の図面は、本開示の主題のさらなる理解を提供するために含まれており、本明細書に組み込まれ、本明細書の一部をなすものである。当該図面は、本開示の主題の様々な実施形態を例示し、説明と共に、本開示の主題の原理および動作の説明に役立つ。さらに、当該図面および説明は、単に例示のためのものであることが意図され、いかなる方法においても特許請求の範囲を限定することを意図するものではない。
【００１８】
本開示の特定の実施形態についての以下の詳細な説明は、以下の図面と併せて読むことにより最も良く理解することができ、なお、当該図面において、同じ構造は同じ参照番号によって示される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１Ａ】マイクロプレートの斜視図。
【図１Ｂ】マイクロプレートの一部を切り取った部分斜視図。
【図１Ｃ】マイクロプレートの側面断面図。
【図２】サーモサイクラーに入れられたマイクロプレートの一部分の３つの断面図を伴う、本明細書において開示されるマイクロプレートを加熱および冷却することができる例示的サーモサイクラーの斜視図。
【図３】一実施形態による強化マイクロプレートの底面図。
【図４Ａ】図３に示された切取線Ａ−Ａに沿って切り取った図３の強化マイクロプレートの断面図。
【図４Ｂ】図３に示された切取線Ｈ−Ｈに沿って切り取った図３の強化マイクロプレートの断面図。
【図５Ａ】図３の強化マイクロプレートの詳細な断面図。
【図５Ｂ】図３の強化マイクロプレートの詳細な断面図。
【図６】図３の強化マイクロプレートの角部の詳細な上面図。
【図７】図３の強化マイクロプレートの縁部の詳細な上面図。
【図８】一実施形態による、縁部スロットを含む強化マイクロプレートの上面斜視図。
【図９】図８の強化マイクロプレートの底面斜視図。
【図１０】従来のマイクロプレートと一実施形態による強化マイクロプレートの熱応答を比較した光学顕微鏡写真。
【図１１】一実施形態による、デッキにおける複数の局所的に厚さの増加した領域と半スカート状周辺フレームとを含む強化マイクロプレートの底面斜視図。
【図１２】図１１の強化マイクロプレートの底面図。
【図１３】図１１の強化マイクロプレートの周辺部分の底面図。
【図１４】図１１の強化マイクロプレートの角部分の底面図。
【図１５】図１１に示された切取線Ｎ−Ｎに沿って切り取った図１１の強化マイクロプレートの断面図。
【図１６】図１５のマイクロプレートの周辺部分の拡大断面図。
【図１７】図１１に示された切取線Ｒ−Ｒに沿って切り取った図１１の強化マイクロプレートの断面図。
【図１８Ａ】図１１に示された切取線Ｔ−Ｔに沿って切り取った図１１の強化マイクロプレートの断面図。
【図１８Ｂ】図１８Ａのマイクロプレートの周辺部分の拡大断面図。
【図１９】図１８Ｂに示されたマイクロプレートの周辺部分の拡大断面図。
【図２０】図１５に示されたマイクロプレートの単一ウェルの入口部分の拡大断面図。
【図２１Ａ】図２０に示されたマイクロプレートの一部分のリム部分の拡大断面図。
【図２１Ｂ】図２１Ａに示されたマイクロプレートの一部分のリップ部分のさらなる拡大断面図。
【図２２】一実施形態による全スカート状周辺フレームを含む強化マイクロプレートの底面斜視図。
【図２３】図１１の強化マイクロプレートの底面図。
【図２４】図２３の強化マイクロプレートの角部分の底面図。
【図２５】図２４に示された切取線ＡＦ−ＡＦに沿って切り取った、図２４の強化マイクロプレートの断面図。
【図２６】図２５に示された強化マイクロプレートの周辺部分の拡大断面図。
【図２７】図２６に示された強化マイクロプレートのウェルにおける隆起したリムの周辺部分の拡大断面図。
【図２８】図２４に示された切取線ＡＥ−ＡＥに沿って切り取った、図２４の強化マイクロプレートの断面図。
【図２９】図２８に示された強化マイクロプレートの周辺デッキ部分の断面図。
【図３０】２つの隣接するマイクロウェルにおける隆起したリム部分を示す、図２８に示された強化マイクロプレートの上側中央部分の断面図。
【図３１】高く形成されたウェルリム部分を省略した、一実施形態による、高く形成されたシーリング特徴部と全スカート状周辺フレームとを含む強化マイクロプレートの端部立面図。
【図３２Ａ】一実施形態による、高く形成されたシーリング特徴部と、全スカート状周辺フレームと、高く形成されたウェルリム部分とを含む強化マイクロプレートの端部立面図。
【図３２Ｂ】強化マイクロプレートへシーリングフィルムの適用前の、シーリングフィルムに近接して配置された、図３２Ａの強化マイクロプレートの端部立面図。
【図３２Ｃ】高く形成されたシーリング特徴部および高く形成されたウェルリム部分に接触するようにマイクロプレートにシーリングフィルムを適用した後の、図３２Ｂの強化マイクロプレートおよびシーリングフィルムの端部立面図。
【図３３Ａ】ＡＢＩ  ７９００  ＨＴサーモサイクラーでの熱サイクルの後の、フィルムでカバーされた本明細書において開示される強化マイクロプレートとフィルムでカバーされた従来のマイクロプレートの、シーリングの有効性（熱サイクルの後の反応体積損失の割合）を比較した棒グラフ。
【図３３Ｂ】Ｍａｘｙｇｅｎｅ  ＩＩサーモサイクラーでの熱サイクルの後の、フィルムでカバーされた本明細書において開示される強化マイクロプレートとフィルムでカバーされた従来のマイクロプレートの、シーリングの有効性（熱サイクルの後の反応体積損失の割合）を比較した棒グラフ。
【図３４Ａ】それぞれ、３つの異なるサーモサイクラーにおける、本明細書において開示される強化マイクロプレートと従来のマイクロプレートの、熱サイクルの前後での平面に対するマイクロプレートの角部の垂直変位データを提供する表。
【図３４Ｂ】それぞれ、３つの異なるサーモサイクラーにおける、本明細書において開示される強化マイクロプレートと従来のマイクロプレートの、熱サイクルの前後での平面に対するマイクロプレートの角部の垂直変位データを提供する表。
【図３４Ｃ】それぞれ、３つの異なるサーモサイクラーにおける、本明細書において開示される強化マイクロプレートと従来のマイクロプレートの、熱サイクルの前後での平面に対するマイクロプレートの角部の垂直変位データを提供する表。
【図３５Ａ】それぞれ、本明細書において開示される強化マイクロプレートおよび４つの従来のマイクロプレートに対するサーモサイクルの前のマイクロプレートにおける中央部に対する角部の垂直距離を提供する表。
【図３５Ｂ】それぞれ、本明細書において開示される強化マイクロプレートおよび４つの従来のマイクロプレートに対するサーモサイクルの後のマイクロプレートにおける中央部に対する角部の垂直距離を提供する表。
【図３６Ａ】サーモサイクル前の従来の第一Ａｘｙｇｅｎマイクロプレートとサーモサイクル後の従来の第二Ａｘｙｇｅｎマイクロプレートとを示す上側斜視図の写真。
【図３６Ｂ】サーモサイクル前の、本明細書において開示される第一強化マイクロプレートと、サーモサイクル後の、本明細書において開示される第二強化マイクロプレートとを示す上側斜視図の写真。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
ここで、本開示の主題の様々な実施形態について詳細に言及するが、そのいくつかの実施形態が、添付の図面に示されている。可能な限り、図面全体を通じて、同じもしくは同様の部分を指すために、同じ参照番号が使用される。
【００２１】
マイクロプレートは、マイクロプレートの剛性を高めて、変形、特に熱的に誘起された変形を最小にする補強特徴部を有する単一構造本体を含む。ある特定の実施形態において、補強特徴部は、マイクロプレートの単一構造本体に一体的に形成された複数の局所的に厚さの増加した領域を含む。マイクロプレートの製造には射出成形を使用するのが望ましくあり得ることを認識しつつ、複数の局所的に厚さの増加した領域の使用は、厚さの増加した大きな連続する領域を作製するよりも望ましく、というもの、厚さの増加した大きな連続する領域は、結果的に、成形プロセスの際に泡の形成を生じる傾向があり、そのような泡は、製造欠陥を生じ得るためである。
【００２２】
ある特定の実施形態において、マイクロプレートのデッキの１つまたは複数の部分は、複数の局所的に厚さの増加した領域を含む。例えば、局所的に厚さの増加した領域を含む補強特徴部が、例えば、デッキから延在する複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分に沿って、および／または複数のウェルの個々のウェルの間において、マイクロプレートの底面上に提供される。ある特定の実施形態において、当該補強特徴部は、当該マイクロプレートの底面上に一体的に形成されたリブまたは支柱を含む。さらに、マイクロプレートのフレームは、熱膨張の効果を阻害し、かつ熱誘導ひずみを抑える１つまたは複数のスロットを含み得る。実施形態において、当該マイクロプレートは、１ショットプロセスにおける射出成形によって作製され、その結果として、単一のポリマー材料を含む。当該スロットは、インサイチューにおいて、すなわち、成形プロセスによって形成することができる。あるいは、当該スロットは、マイクロプレートの成形後に、例えば、当該フレームを切断することによって形成することもできる。
【００２３】
再び図１Ａ〜１Ｃを参照すると、例示的マイクロプレート１００の様々な構図が示されている。マイクロプレート１００は、ポリマー材料から製造された本体１０６を含む。本明細書において開示されるマイクロプレートを製造するために使用することができるポリマー材料の例としては、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、環状オレフィンコポリマー、および先述の材料のコポリマーまたは他の組み合わせが挙げられ、それらは、任意選択により、１種または複数種の追加の材料と併用してもよい。示されているような本体１０６は、長辺および短辺（または長さと、当該長さより短い幅）を有する長方形を有し、ならびに当該上面１１０に対して実質的に垂直な方向を向くフレーム１０８と境界を接する上面１１０を含む。フレーム１０８の厚さ１２７は、対向する両面に対して実質的に垂直な線に沿った、フレーム１０８における対向する内面と外面との間の距離として定義される。
【００２４】
図１Ｃを参照すると、本体１０６は、厚さ１２６を有するデッキ１２０を画定する、実質的に平面な上面１１０および対向する底面１１１を有し得る。底面１１１は、実質的に平面であり得る。デッキ１２０の厚さ１２６は、上面１１０の主要平面に対して実質的に垂直な線に沿った、上面１１０と底面１１１との間の距離として定義される。
【００２５】
例示される実施例において、マイクロプレート１００は、デッキ１２０内に形成され底面１１１から下方向に延在する、９６のウェル１０２のアレイ（例えば、９行および１２列に配置された９６のウェル）を含む。図２を参照しながら以下においてより詳細に説明されるように、マイクロプレート１００は、サーモサイクラー内に位置されるように構成される。本体１０６は、例えば、ウェル１０２の所望の配置およびサーモサイクラー設計などに応じて、あらゆる他の幾何学的形状（例えば、正方形または三角形）において提供することができるということは理解すべきである。
【００２６】
当該複数のウェル１０２の各ウェル１０２は、ウェル開口部１０３、対抗するウェル底部１０４、および当該開口部１０３と底部１０４との間のウェル容積を画定するウェル壁部１０５を含む。ある特定の実施形態において、隆起したリッジ１０７は、各ウェル開口部１０３の周辺の上面１１０から延在して、各ウェル１０２に対して高く形成されたリムを形成する。当該リッジ１０７が提供される場合、当該リッジ１０７は、各ウェル１０２が、シーリングフィルム（図示されず）を受けてシールを形成するように使用することができ、それにより、サーモサイクルプロセスの際の各ウェル１０２の内容物の蒸発を減らすことができる。
【００２７】
本明細書において開示されるマイクロプレートは、任意の数のウェル、例えば、２以上のウェル、例えば、９、１６、２０、３０、３６、９６、３８４、または１５３６のウェル、を含み得る。当該ウェル１０２は、密接に詰め込まれたアレイにおいて、あるいは行および列による規則的なアレイにおいて、配置され得る。図示される実施形態において、各行および／または列のウェルは、隣接する行および／または隣接する列のウェルに対して実質的に揃えられる。他の実施形態において、各行および／または列のウェルは、隣接する行および／または隣接する列のウェルからオフセットされる。例えば、図１Ａ〜１Ｃに示される実施形態は、８×１２アレイにおいて配置された複数のウェルを含むマイクロプレート１００を示しており、この場合、各行のウェル１０２は、隣接する行のウェル１０２に対して実質的に揃えられており、ならびに各列のウェル１０２は、隣接する列のウェル１０２に実質的に揃えられている。
【００２８】
ウェル開口部１０３は、任意の好適な幾何学的形状を有することができる。ウェル開口部１０３にとって好適な形状の非限定的な例としては、多角形、三角形、四角形、長方形、正方形、台形、菱形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、十角形、円形、卵形、楕円形、および曲線多角形が挙げられる。様々な実施形態において、少なくとも１つのウェル１０２は、当該複数のウェルの少なくとも１つの他のウェルと共通の形状を有するウェル開口部１０３を含む。いくつかの実施形態において、各ウェル１０２は、当該複数のウェルの全ての他のウェルと同じ形状のウェル開口部１０３を有する。他の実施形態において、当該複数のウェルの各ウェル１０２は、独自の形状を有するウェル開口部１０３を有する。図１Ａ〜１Ｃに例示される実施形態において、各ウェル１０２は、実質的に円形のウェル開口部１０３を有する。
【００２９】
マイクロプレート１００は、任意選択により、下方向に延在するフレーム１０８に対して概して上方において近接する、上面１１０から上向きに延在する周辺エプロン１０６ａを含む。いくつかの実施形態において、当該エプロン１０６ａの少なくとも一部は、デッキ１２０の上面１１０に対して実質的に垂直に延在する。他の実施形態において、当該エプロン１０６ａの少なくとも一部は、デッキ１２０の上面１１０に対して９０°を上回るかまたは下回る角度において延在する。いくつかの実施形態において、エプロン１０６ａは、マイクロプレートカバー（図示されず）のスカートを収用することができる（例えば、受け入れるように構成することができる）。他の実施形態において、マイクロプレート１００は、エプロン１０６ａを含まない。
【００３０】
エプロン１０６ａが提供される場合、当該エプロン１０６ａは、外側リム１０６ｂを含み得る。様々な実施形態において、当該外側リム１０６ｂの少なくとも一部は、エプロン１０６ａの自由縁部の周囲に沿って延在する。他の実施形態において、当該エプロン１０６ａは、外側リム１０６ｂを含まない。
【００３１】
様々な実施形態において、マイクロプレート１００は、任意選択により、マイクロプレート本体１００を別の装置−例えば、把持装置、ハンドリングシステム、サーモサイクラー、または貯蔵装置など−の内において位置合わせするための１つまたは複数の位置合わせ特徴部を含み得る。ある特定の実施形態により、そのような位置合わせ特徴部は、切り抜き、凹部、凸部、およびそれらの組み合わせから選択される。例えば、図１Ａ〜１Ｃに示される実施形態において、エプロン１０６ｂは、複数の側方に離間された位置合わせノッチ１０６ｃを含む。
【００３２】
ウェル１０２は、所望の液量を収容するように構成された任意の好適な形状を有し得る。様々な実施形態において、ウェルの形状は、主にウェル壁部１０５によって画定される。ウェル形状の非限定的な例としては、円錐形、円錐台形、丸みを帯びた円錐形、真っ直ぐのまたは斜めの角錐形、真っ直ぐのまたは斜めの切頭角錐形、円筒形、丸みを帯びた端部を有する円筒形、真っ直ぐのまたは斜めのプリズム形、均等または不均等プリズム形、弾丸形、およびそれらの組み合わせが挙げられる。
【００３３】
様々な実施形態において、少なくとも１つのウェル１０２は、少なくとも１つの対称面を有する。いくつかの実施形態において、当該少なくとも１つの対称面は、当該ウェル１０２の主軸を含む。当該主軸は、例えば、ウェル開口部１０３の中心からウェル底部１０４の天底まで延在する。いくつかの実施形態において、少なくとも１つのウェル１０２は、当該ウェル１０２の主軸の周りに放射状に対称である。他の実施形態は、対称面を欠く少なくとも１つのウェル１０２を含む。いくつかの実施形態において、ウェル１０２は、ウェル１０２の深さにわたって実質的に同じ形状である、ウェルの主軸に対して実質的に垂直な平面に沿って切り取った断面を有する。他の実施形態において、当該ウェル１０２は、ウェル１０２の深さにわたって変化する、ウェルの主軸に対して実質的に垂直な平面に沿って切り取った断面を有する。いくつかの実施形態において、例えば、図１Ａおよび１Ｂに示されるように、各ウェル１０２は、ウェル１０２の主軸に対して実質的に垂直な平面に沿って切り取った円形断面を有する。
【００３４】
マイクロプレートを形成するための非限定的な方法としては、射出成形、射出圧縮成形、雌型および雄型プラグアシストによる真空形成、ならびにそれらの組み合わせが挙げられる。実施形態において、マイクロプレートは、当該マイクロプレート本体が、当該本体に一体的に形成されたウェルと補強部材とを含むように、単一（１ショット）成形工程において、同じ材料組成物（例えば、単一のポリマー材料）から成形される。そのようなマイクロプレートは、いかなるオーバー成形された部品または取り付けられた部品も含まない。
【００３５】
当該マイクロプレート１００は、ポリマー材料を含み得る。様々な実施形態において、当該ポリマー材料は、生物学的に不活性であること、化学的に不活性であること、低い生物学的反応性を有すること、熱可塑性であること、成形可能であること、再成形可能であること、低抽出可能物を有すること、光学的に透明であること、光学的に半透明であること、赤外線に対して透明であること、紫外線に対して透明であること、から選択される少なくとも１つの特徴を有する。いくつかの実施形態において、マイクロプレート本体１００は、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、シクロ−オレフィン、またはそれらの組み合わせから形成され、それらは、熱可塑性、成形可能、再成形可能、化学的に不活性、光学的に半透明または透明であり、ならびに低抽出可能物を有する。
【００３６】
しかしながら、先述の材料の多くは、低い作業温度を有し、したがって、当該マイクロプレート１００は、好適に設計されていない場合、サーモサイクルプロセスの際または後に、変形し得るか、または他の望ましくない影響を受け得る。変形は、反り、捻じれ、またはデッキ１２０の上面１１０の元の平面コンフォメーションからの他の逸脱を含み得る。
【００３７】
さらに、前に言及したように、いくつかのポリマー材料、例えばポリプロピレンなど、は、熱的に誘起された応力に応じてひずみ得る。さらに、ポリプロピレンを含めて、いくつかのポリマー材料は、例えば射出成形プロセスなどの成形プロセス後の不均等冷却による残留応力を抱え得る。熱的に誘起された応力および／または当該残留応力は、結果として、サーモサイクルプロセスの際および後に、マイクロプレートの変形を生じ得る。
【００３８】
元の平面コンフォメーションからの変形は、結果として、マイクロプレート１００の寸法全体における変化を生じ得、それは、操作時において、マイクロプレートの許容を超え得るため、熱サイクルの間のマイクロプレート１００の変形の結果として、マイクロプレートの主要本体１００をサーモサイクラーから取り出すことが困難となり得る。マイクロプレート１００のウェル１０２の数（および全体のサイズ）が増加するほど、サーモサイクラーからマイクロプレート１００を取り出すために必要な力も増加し得、これは、マイクロプレートをさらに損傷させ得る。さらに、ロボットハンドリングシステムにとって、変形したマイクロプレートを操作することおよび／またはサーモサイクラーから取り出すことは困難であり得る。さらに、マイクロプレート材料は、熱サイクルの結果として、熱的に劣化し得る。そのような劣化はさらに、当該マイクロプレート１００の反りまたは捻じれの原因となり得る。
【００３９】
図２は、１つまたは複数のマイクロプレート１００ａ、１００ｂ、１００ｃなど（これらは、本明細書において開示されるような強化マイクロプレート１００ａ、１００ｂ、１００ｃを実現し得る）のウェル内容物を加熱および冷却することができる例示的サーモサイクラー１０の斜視図であり、サーモサイクラー１０に入れられたマイクロプレート１００ａ、１００ｂ、１００ｃの一部の３つの断面図を伴う。ＰＣＲプロセスにより、少量の遺伝物質および反応剤の溶液が、１つまたは複数のウェル１０２内に装入される。任意選択により、当該マイクロプレートは、ウェル１０２内の内容物の蒸発を妨げるために、（例えば、カバーによって）覆われるか、または（例えば、シーリングフィルムによって）密封される。その後、強化マイクロプレート１００ａ、１００ｂ、１００ｃは、ウェル１０２内の内容物の温度をサイクルさせる（すなわち、繰り返し、加熱および冷却する）ように作動するサーモサイクラー１０内に位置される。
【００４０】
図２に示されるように、強化マイクロプレート１００ａ、１００ｂが、金属製の加熱用固定具５２、例えば、ＭＪ  Ａｌｐｈａ−１２００サーモサイクラーの実施例における加熱用固定具５２ａなど、の上に配置される。当該金属製の加熱用固定具５２ａは、マイクロプレート１００ａ、１００ｂに関連する場合など、平坦な底部のウェル１０２に一致するように、比較的平坦であり得る。さらなる実施形態において、強化マイクロプレート１００ｃは、（例えば）ＧｅｎｅＡｍｐ（登録商標）  ＰＣＲ  Ｓｙｓｔｅｍ  ９７００などの金属製の加熱用固定具５２ｂの上に位置決めされ得る。当該金属製の加熱用固定具５２ｂは、マイクロプレート１００ｃにおける丸みを帯びた底のウェル１０２の外側寸法に密接に一致するように形状化された一連の空洞を有する。
【００４１】
サーモサイクラー１０は、加熱された上部プレート５４も有し（図２では開けられた状態において示されている）、これは、サーモサイクラー１０がウェル内容物を繰り返し加熱および冷却する前に強化マイクロプレート１００ａ、１００ｂ、１００ｃを金属製の加熱用固定具５２ａ、５２ｂの上にクランプ保持する。例えば、サーモサイクラー１０は、最大４時間まで、例えば、０．５時間、１時間、２時間、３時間、または４時間の保持期間を有し得るＰＣＲプロセスの間、強化マイクロプレート１００ａ、１００ｂ、１００ｃのウェル内の内容物の温度を２５℃から９５℃の温度範囲にわたって３０回もサイクルさせることができる。典型的なＰＣＲプロセスの際、加熱用固定具（例えば、固定具５２ａ、５２ｂ）の温度がサイクルされる間、上部プレート５４の温度は凝縮を最小限に抑えるために一定（例えば、１００℃）に維持される。この温度差は、ＰＣＲプロセスの際にサーモサイクルを受けたマイクロプレートの歪みまたは反りを悪化させ得る。
【００４２】
様々な開示された実施形態により、マイクロプレートは、複数の局所的に厚さの異なる領域を含み得る、補強された構造を含む。図１Ｃを参照すると、マイクロプレートは、デッキ厚１２６を有するデッキ１２０と、フレーム厚１２７を有するフレーム１０８と、各ウェルがウェル壁厚１２５を有する複数のウェル１０２とを含む。実施形態において、フレーム厚１２７は、デッキ厚１２６以上であり、例えば、フレーム厚１２７は、デッキ厚１２６の、１倍、１．１倍、１．２倍、１．３倍、１．４倍、１．５倍、２倍、２．５倍、または３倍、あるいはこれらのいずれかの値の間の範囲、であり得る。実施形態において、当該デッキ厚１２６は、ウェル壁厚１２５以上であり、例えば、デッキ厚１２６は、ウェル壁厚１２５の１倍、１．１倍、１．２倍、１．３倍、１．４倍、１．５倍、２倍、２．５倍、または３倍、あるいはこれらのいずれかの値の間の範囲、であり得る。本開示の様々な実施形態により、フレーム厚１２７はデッキ厚１２６を超え、ならびにデッキ厚１２６はウェル壁厚１２５を超える。
【００４３】
より薄いウェル壁部１０５および／またはウェル底部１０４は、熱伝導性の向上を可能にし得るが、その一方で、より厚いフレーム１０８は、マイクロプレート１００における望ましくない変形を抑制または減少させるのに役立ち得る。そのため、異なる厚さの領域を有するマイクロプレートの使用は、例えば、ＰＣＲプロセスの完了後にサーモサイクラーからマイクロプレートを取り出すためなどの、科学者またはロボットハンドリングシステムによるマイクロプレートの取り扱いを容易にし得る。
【００４４】
図９を参照すると、マイクロプレートは、実施形態において、底面１１１の面から下方向に（例えば、直交するように）突出する複数の補強リブ部材１３０を含む。当該補強リブ部材１３０は、底面１１１からの高さ、長さ、および幅（すなわち、厚さ）によって特徴付けられ得る。複数の補強リブ部材が、共同して、複数の局所的に厚さの増加した領域を実現する。第一リブ部材の高さ、長さ、および幅のうちの１つまたは複数は、第二リブ部材の高さ、長さ、および幅のうちの１つまたは複数と等しいかまたは異なり得る。補強リブ部材の高さは、例えば、０．０２インチ（約０．５０８ミリメートル）から０．２５インチ（約６．３５ミリメートル）、例えば、０．０２インチ（約０．５０８ミリメートル）、０．０３インチ（約０．７６２ミリメートル）、０．０４インチ（約１．０１６ミリメートル）、０．０５インチ（約１．２７ミリメートル）、０．１インチ（約２．５４ミリメートル）、０．１５インチ（約３．８１ミリメートル）、０．２インチ（約５．０８ミリメートル）、または０．２５インチ（約６．３５ミリメートル）、あるいはこれらのいずれかの値の間の範囲、であり得る。補強リブ部材の幅は、例えば、０．０１インチ（約０．２５４ミリメートル）から０．０９インチ（約２．２８６ミリメートル）、例えば、０．０１インチ（約０．２５４ミリメートル）、０．０２インチ（約０．５０８ミリメートル）、０．０３インチ（約０．７６２ミリメートル）、０．０４インチ（約１．０１６ミリメートル）、０．０５インチ（約１．２７ミリメートル）、０．０６インチ（約１．５２４ミリメートル）、０．０７インチ（約１．７７８ミリメートル）、０．０８インチ（約２．０３２ミリメートル）、および０．０９インチ（約２．２８６ミリメートル）、あるいはこれらのいずれかの値の間の範囲、であり得る。
【００４５】
リブ部材１３０の一部は、お互いに交差することにより、マイクロプレート１００の下側において波形タイプの補強ネットワークを形成し得、例えば、リブ部材は、折り重なって、または交互の溝および畝において配置され得る。複数のリブ部材は、ウェルアレイの周辺のデッキ底面上に配置され得、それにより、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域を実現し得る。ウェルアレイの周辺に位置されたリブ部材は、マイクロプレートの長辺または短辺（長さ寸法または幅寸法としても知られる）に平行な長さ、直交する長さ、および／または斜角において配置され得る。例えば、１つまたは複数のリブ部材は、マイクロプレートの周辺に沿って延在する１つまたは複数の連続または半連続ループを形成するように構成され得る。複数のループは、同心であり得る。半連続ループは、その長さに沿って１つまたは複数の場所において中断され得る。マイクロプレートの外側縁部から周辺リブ部材までの例示的距離は、例えば、１／８インチ（約３．１７５ミリメートル）から３／８インチ（約９．５２５ミリメートル）の範囲であり得る。
【００４６】
ウェルアレイの周辺のリブを含み得る局所的に周辺デッキ厚の増加した領域を含むそのような配置に加えて、またはその代わりに、局所的にデッキ厚の増加した領域、例えば、リブ部材など、を、ウェルの間、すなわち、ウェルの行および／または列の間に配置してもよい。そのようなリブ部材は、密接に詰め込まれたウェルアレイの行方向または列方向に平行な長さで配置され得、すなわち、実質的に直線状セグメントとして配置され得る。当該リブ部材は、実質的に、（すなわち、リブ部材の高さに等しい量よって）局所的により厚いデッキの領域を形成する。
【００４７】
本明細書において、補強リブを含む強化マイクロプレートの追加の態様が、長さ測定値がインチにおいて表された図３〜７の技術図面を参照しながら開示される。
【００４８】
図３は、マイクロウェル１０２のアレイと、下方向に延在するフレーム１０８によって周辺を囲まれたデッキの底面１１１から下方向に延在する複数の局所的に厚さの増加した領域１３０Ａ〜１３０Ｄとを含む強化マイクロプレート１００の底面図である。当該局所的に厚さの増加した領域１３０Ａ〜１３０Ｄは、ウェル間リブ部材１３０Ａと、マイクロウェル１０２のアレイを囲む第一連続周辺リブ１３０Ｂ、当該第一連続周辺リブ１３０Ｂを囲む第二連続周辺リブ１３０Ｃ、および様々な角度において配置された周辺リブ部材１３０Ｄのネットワークを含む、複数の周辺デッキ厚の増加した領域とを含む。切取線Ａ−ＡおよびＨ−Ｈに沿って切り取られたマイクロプレート１００における対応する断面図は、それぞれ図４Ａおよび４Ｂに表されており、それらは、マイクロウェル１０２のおよそ半分の深さまで下方向に延在するフレーム１０８を表している。図４Ａおよび４Ｂにはさらに、各マイクロウェルが上面１１０よりも隆起したリム１０９を有するマイクロウェル１０２も描かれており、ならびにマイクロウェル１０２が形成されているデッキの底面１１１から下方向に延在するウェル間リブ１３０も描かれている。図４Ａに描かれている円形の部分Ｍの詳細図が、図５Ａおよび５Ｂに示されており、そこには、各ウェルが、ウェル１０２の間に配置された下方向に延在するリブ１３０を伴う高く形成されたリム１０９と、フレーム１０８によって周辺を囲まれたデッキとを含む、ウェル１０２が示されている。図３に表された円形部分ＬおよびＫの詳細図が、図６および７に示されており、そこには、マイクロウェル１０２と、デッキの底面１１１から下方向に延在するリブにおいて実現された局所的に厚さの増加した領域１３０Ａ〜１３０Ｄが示されている。
【００４９】
実施形態において、マイクロプレートのフレーム１０８は、当該フレーム１０８を貫通して切断された１つまたは複数のスロット１４０を含む。実施形態において、当該１つまたは複数のスロットは、周辺リブ部材１３０を貫通して切断している。一例において、それぞれ上部斜視図および下部斜視図である図８および９を参照すると、強化マイクロプレート１００は、フレーム１０８のそれぞれの長辺において、例えば、当該長辺の中間点において、対向する関係においてそれぞれが形成されている、一対のスロット１４０を含み得る。ある特定の実施形態において、各スロット１４０は、少なくともフレーム１０８内に画定されており、ならびにデッキ１２０に対して実質的に垂直な方向に延在する。ある特定の実施形態において、マイクロプレート１００は、幅と当該幅を超える長さとを有し、この場合、少なくとも１つの応力解消スロット１４０がさらに、周辺デッキ部分（すなわち、マイクロウェル１０２を囲むデッキ１２０の一部）内に画定され、ならびにマイクロプレート１００の長手方向に対して実質的に垂直に延在する。
【００５０】
フレームへのスロット１４０の組み込みは、マイクロプレート１００、特に、とりわけ当該部品の形状および厚さにおける違いと局所的温度差とにより複雑な応力状態を示すマイクロプレートにおいて、応力の解放を促進する。理論に束縛されることを望むわけではないが、スロット１４０は、マイクロプレート１００を変形させ得る応力を蓄積することなくフレーム１０８内での熱膨張を可能にする。
【００５１】
図８および９を継続して参照すると、マイクロプレート１００は、デッキ１２０と、各ウェルがウェル開口部１０３および対向するウェル底部１０４を含むマイクロウェル１０２のアレイとを画定する本体１０６を含む。各マイクロウェル１０２は、ウェル開口部１０３に近接するデッキ１２０から上方向に延在する隆起したリッジ１０７を含む。デッキ１２０は、マイクロウェル１０２のアレイとフレーム１０８との間に配置された周辺デッキ領域１２０Ａを含む。当該マイクロプレートはさらに、デッキ１２０の底面１１１から下方向に延在するリブにおいて実現された、局所的に厚さの増加した領域１３０Ａ〜１３０Ｄを含む。
【００５２】
サーモサイクラーにおける試験は、本明細書において開示される強化ポリプロピレンマイクロプレートの変形が、従来の（非強化）ポリプロピレンマイクロプレートと比較して、８０％減少されることを示した。図１０は、従来のポリプロピレンマイクロプレート（左）と強化ポリプロピレンマイクロプレート（右）の、熱サイクル応答を比較した光学顕微鏡写真である。強化マイクロプレートとは対照的に、従来のポリプロピレンマイクロプレートでは、反りが明白である。
【００５３】
剛性構造を有する強化マイクロプレートの使用は、科学者またはロボットハンドリングシステムがＰＣＲプロセスの完了後にサーモサイクラーからマイクロプレートを取り出すのを容易にする。これは、変形する傾向および／またはサーモサイクラーの表面、例えば、図２に示された金属製の加熱用固定具５２ａ／５２ｂなど、に付着する傾向を有する従来のマイクロプレートに対する顕著な改良である。
【００５４】
本明細書において開示される強化マイクロプレートは、ＰＣＲプロセスにおける使用について説明されているが、当該強化マイクロプレートは、様々なプロセスにおいて使用することができるということは理解されるべきである。強化ＰＣＲ用マイクロプレートは、スカート無し、半スカート付き、全スカート付きマイクロプレートであり得る。
【００５５】
実施形態において、マイクロプレート１００は、透明材料から形成される。本明細書において使用される場合、「透明」は、所定の波長またはある範囲の波長に対して少なくとも６０％の透明度（例えば、少なくとも６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８２％、８４％、８６％、８８％、９０％、９２％、９４％、９６％、９８％、９９％、または１００％の透明度）を意味する。実施形態において、例えば、ウェル壁部は、可視光に対して（すなわち、３９０ｎｍから７００ｎｍの波長範囲に対して）透明である。実施形態において、ウェル壁部は、紫外線および／または近赤外線に対して（すなわち、それぞれ１００ｎｍから＜３９０ｎｍおよび＞７００ｎｍから２５００ｎｍの波長範囲に対して）透明である。
【００５６】
実施形態において、ウェル壁部は、低バックグラウンド蛍光によって特徴付けられる。蛍光は、吸収されたエネルギーの一形態であり、より低いエネルギーにおいて、多くの場合において光として、再放射される。強化マイクロプレートからの蛍光の量（またはその欠如）は、例えば、分析的分光法、偏光、および画像形成、例えば、インビトロ診断試験におけるポイント・オブ・ケア（ＰＯＣ）など、ならびに他の生命科学分析法、例えば、細胞フローサイトメトリーなど、によるそれらの実践における重要な因子である。
【００５７】
本明細書において、ＰＣＲプレートなどの強化マイクロプレートを開示する。強化マイクロプレート全体は、同じ材料組成物（例えば、単一のポリマー材料）から単一（ワンショット）成形プロセスにおいて形成され得る。そのため、当該マイクロプレートは、容易に再利用可能であり、複数工程において形成されるおよび／または異なる領域に配置された複数のポリマー材料を含む、比較例のプレートと比べて、製造は安価である。ある特定の実施形態による強化マイクロプレートは、複数の局所的に厚さの増加した領域を含み、例えば、当該マイクロプレートのデッキの底面上に組み込まれた補強リブなどにおいて実現され得る。応力解消スロットは、強化マイクロプレートのフレームにおいて、任意選択により周辺デッキ部分に、形成することができる。
【００５８】
補強特徴部および／またはシーリング強化特徴部の追加の組み合わせが、さらなる実施形態によるマイクロプレートにおいて提供され得る。
【００５９】
図１１は、デッキ２２０と半スカートタイプの周辺フレーム２０８とを画定する本体２０６を含む、一実施形態による強化マイクロプレート２００の底面斜視図であり、デッキおよび半スカートタイプの周辺フレームそれぞれが、マイクロプレート２００の剛性を高めるように構成された局所的に厚さの増加した領域を含んでいる。ウェル２０２のアレイは、デッキ２２０内に画定され、かつそこから下方向に延在しており、この場合、各ウェル２０２は、ウェル底部２０４において終端する。複数のリブ２３０Ａが、デッキ２２０に一体的に形成されており、この場合、当該リブ２３０Ａは、底面２１１から下方向に延在しており、ならびにウェル２０２のアレイにおける異なるウェル２０２の間の格子として構成されている。デッキ２２０は、ウェル２０２のアレイとフレーム２０８との間に配置された周辺デッキ領域２２０Ａを含む。当該周辺デッキ領域２２０Ａ内において、局所的に厚さの増加した領域として機能する実質的に四角形の連続リブ２３０Ｂが、デッキ２２０に一体的に形成され、ならびに底面２１１から下方向に延在し、ならびにウェル２０２のアレイを囲んでいる。さらに、当該周辺デッキ領域２２０Ａ内において連続リブ２３０Ｂを囲んで、複数のドット２３０Ｃにおいて実現された複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が提供される。図に示されているように、ドット２３０Ｃは、３つの隣接する行において提供され、当該複数のドット２３０の各ドット２３０Ｃは、デッキ２２０に対して平行な面に沿って切り取られた実質的に正方形の断面を有する。ある特定の実施形態において、正方形の形状のドット２３０Ｃは、約０．０２インチ（約０．５０８ミリメートル）から０．１インチ（約２．５４ミリメートル）の幅、より好ましくは約０．０２５インチ（約０．６３５ミリメートル）から約０．０５インチ（約１．２７ミリメートル）の範囲の幅を含み得る。当該正方形の形状のドット２３０Ｃはさらに、下方向に先細りして、切頂オベリスク形を形成していてもよい。
【００６０】
ある特定の実施形態において、サブセットのドットにおける各ドットの少なくとも一部は、例えば、異なるドットの角部がお互いに接触するように提供するなどによって、別のドットに接触するように配置されている。本明細書において開示される様々な実施形態は、正方形の形状のドットを含むが、任意の好適な形状、サイズ、パターン、および方向のドットが提供され得ることは理解されるべきである。ある特定の実施形態において、異なる形状、異なるサイズ、および／または異なる方向の複数のドットを、同じマイクロプレートの隣接または非隣接領域において提供することができる。
【００６１】
図１１を続けて参照すると、フレーム２０８は、デッキ２２０の周辺に沿って配置されており、ならびにデッキ２２０に対して非平行に（例えば、実質的に直交するように）配置された壁部を含み、この場合、当該壁部の内面２０８Ｂは、マイクロプレート２００の剛性を高めるように構成されたリブ２１３において実現された複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む。各リブ２１３は、実質的に垂直な方向に延在する長さを有し、ならびにデッキ２２０の底面２１１から離れる距離が増加するに従って先細りする幅を有する。マイクロプレート２００はさらに、フレーム２４０を貫通して延在する応力解消スロット２４０を含み、この場合、各スロット２４０の少なくとも一部は、デッキ２２０に対して実質的に垂直な方向に延在する。図に示されているように、各スロット２４０はさらに、周辺デッキ部分２２０Ａ内に画定されており、ならびにマイクロプレート２００の長手方向に対して実質的に垂直に延在する。
【００６２】
図１１の強化マイクロプレートのさらなる特徴および態様についてが、長さ寸法がインチで与えられている図１２〜２１の技術図面を参照しながら、本明細書において開示する。
【００６３】
図１２は、外面２０８Ａと内面２０８Ｂとを有するフレーム２０８に境界を接する、実質的に四角形を有する本体２０６を示している、図１１の強化マイクロプレートの底面図であり、この場合、側方に離間され、垂直に延在する複数のリブ２１３が、内面２０８Ｂにそって提供されている。フレーム２０８は、ウェル２０２のアレイを画定するデッキ２２０を囲む。ウェル間補強リブ部材２３０Ａならびに複数の周辺デッキ厚の増加した領域を含む、複数の局所的に厚さの増加した領域２３０Ａ〜２３０Ｃが、デッキの下側面から延在しており、この場合、当該周辺デッキ厚の増加した領域は、マイクロウェル２０２のアレイを囲む連続する周辺リブ２３０Ｂと、当該連続する周辺リブ２３０Ｂを囲む複数のドット２３０Ｃとを含む。
【００６４】
図１３は、図１１に表されている円形部分ＡＡに沿って切り取られた、図１１の強化マイクロプレートの周辺部分の底面図である。図１３は、外面２０８Ａおよび内面２０８Ｂを含む、フレーム２０８の一部を表しており、垂直に延在するリブ２１３が内面２０８Ｂに沿って提供されている。さらに、底面２１１上に画定された連続リブ２３０Ｂおよびドット２３０Ｃ、およびフレーム２０８内に画定され、ならびに、底面２１１を画定するデッキの一部を通って画定されたスロット２４０が描かれている。
【００６５】
図１４は、図１１に表された円形部分Ｕに沿って切り取られた、図１１の強化マイクロプレートの角部分の底面図である。図１４は、外面２０８Ａおよび内面２０８Ｂを含む、フレーム２０８の角部分を表しており、垂直に延在するリブ２１３が内面２０８Ｂに沿って提供されている。さらに、底面２１１上に形成されたウェル間リブ２３０Ａや連続リブ２３０Ｂやドット２３０Ｃ、ならびにウェル２０２が表されている。
【００６６】
図１５は、図１１に示された切取線Ｎ−Ｎに沿って切り取られた、図１１の強化マイクロプレート２００の断面図であり、図１６は、図１５のマイクロプレートの周辺部分の拡大断面図である。図に示されているように、ウェル２０２のアレイは、フレーム２０８と周辺において境界を接するデッキ内に画定されている。各ウェル２０２は、デッキの上面２１０に対して隆起したリム２０９を含み、ウェル間リブ２３０が、デッキの底面２１１から下方向に延在する。
【００６７】
図１７および図１８Ａは、それぞれ図１１に示された切取線Ｒ−ＲおよびＴ−Ｔに沿って切り取られた、図１１の強化マイクロプレートの断面図である。図に示されているように、ウェル２０２のアレイは、フレーム２０８と周辺において境界を接するデッキ内に画定されている。各ウェル２０２は、デッキの上面２１０に対して隆起したリム２０９を含む。図１８Ｂは、図１８Ａのマイクロプレートの周辺部分の拡大断面図であり、フレーム２０８と上面２１０の一部が示されている。図１９は、図１８Ｂに示されたマイクロプレートの周辺部分の拡大断面図であり、フレーム２０８および上面２１０の一部、ならびに連続するリブ２３０Ｂおよび正方形のドット２３０Ｃが示されている。
【００６８】
上記において説明される様々な特徴は、増強された構造的補強をマイクロプレートに提供することを対象としているが、本明細書においてさらに、操作時のマイクロプレートのシーリングを増強することを意図する特徴についても説明され、これは、サーモサイクルおよび他の処理工程の間のマイクロウェルの内容物の蒸発による損失を減らすのに有益であり得る。
【００６９】
図２０は、図１５に示されたマイクロプレートの単一ウェル２０２の入口部分の拡大断面図であり、その一方で、図２１Ａおよび２１Ｂは、図２０に示されたマイクロプレート部のリム部分の拡大断面図を提供する。図２０から２１Ｂに示されているように、マイクロウェル２０２は、隆起したリム２０９と境界を接するウェル開口部１０３を含む。ある特定の実施形態において、当該隆起したリム２０９は、円形であるが、他の形状も提供することができる。当該隆起したリムは、デッキ（図示されず）の第一表面（例えば上面）より高く形成された上面２４２を含み、中間面２４６を含み、ならびに当該中間面２４６と上面２４２との間に延在する内側移行面２４４Ａおよび外側移行面２４４Ｂを含む。当該中間面２４６は、当該隆起したリム２０９をマイクロプレートの第一表面または上面（図示されず）に対して高く位置するのに役立つ蹴上げ面２４８に隣接する。ある特定の実施形態において、当該上面２４２は、０．００５インチ（約０．１２７ミリメートル）から約０．０２５インチ（約０．６３５ミリメートル）、より好ましくは約０．０１インチ（約０．２５４ミリメートル）の距離において中間面２４６より高く形成され得る。好ましくは、内側移行面２４４Ａと上面２４２との間の角度は、１００度から１７０度の範囲であり、外側移行面２４４Ｂと上面２４２との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。ある特定の実施形態において、１１０度から１６０度、または１２０度から１５０度、または１３０度から１４０度の部分的範囲が使用され得る。図２１Ａに示されるように、内側移行面２４４Ａと外側移行面２４４Ｂとの間の角度は約９０度であり得る。上面２４２は、シーリングフィルムまたはカバー（図示されず）を受けるためのシーリングリングとして機能する。上面２４２と傾斜した移行面２４４Ａ、２４４Ｂを有する隆起したリム２０９を提供することにより、当該隆起したリム２０９がシーリングフィルムおよび／またはシーリングカバーを受けるための、増加した表面積が提供され、結果として、シーリング効率が向上する。さらに、上面２４２の狭い幅は、シーリングフィルムおよび／またはシーリングカバーがマイクロプレートに適用されたときにそれらの局所的変形を可能にし得、それにより、シーリング効率が向上する。
【００７０】
図２２は、デッキ３２０および全スカートタイプの周辺フレーム３０８を画定する本体３０６を含む別の実施形態による強化マイクロプレート３００の底部斜視図であり、デッキおよび全スカートタイプの周辺フレームそれぞれが、マイクロプレート３００の剛性を高めるように構成された局所的に厚さの増加した領域を含んでいる、。ウェル３０２のアレイが、デッキ３２０内において画定され、ならびにデッキ３２０から下方向に延在しており、この場合、各ウェル３０２は、ウェル底部３０４において終端している。複数のリブ３３０Ａが、デッキ３２０に一体的に形成され、底面３１１から下方向に延在しており、この場合、リブ３３０Ａは、ウェル３０２のアレイにおける異なるウェル３０２の間の格子として構成されている。デッキ３２０は、ウェル３０２のアレイとフレーム３０８との間に配置された周辺デッキ領域３２０Ａを含む。周辺デッキ領域３２０Ａ内において、局所的に厚さの増加した領域として機能する実質的に四角形の連続するリブ３３０Ｂが、デッキ３２０に一体的に形成されており、底面３１１から下方向に延在し、ならびにウェル３０２のアレイを囲んでいる。さらに、周辺デッキ領域３２０Ａ内において連続するリブ３３０Ｂを囲んで、複数のドット３３０Ｃにおいて実現された複数の局所的に周辺デッキの厚さの増加した領域が提供される。図に示されているように、ドット３３０は、３つの隣接する行において提供され、当該複数のドット３３０の各ドット３３０は、デッキ３２０に対して平行な面に沿って切り取られた実質的に正方形の断面形状を有する。
【００７１】
図２２を継続して参照すると、フレーム３０８は、デッキ３２０の周囲に沿って配置されており、ならびにデッキ３２０に対して非平行に（例えば、実質的に直交して）配置された壁部を含み、この場合、当該壁部の内面３０８Ｂは、マイクロプレート３００の剛性を高めるように構成されたリブ３１３において実現された複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む。各リブ３１３は、概して垂直な方向に延在する長さを有し、ならびにデッキ３２０の底面３１１から離れる距離が増加するに従って先細りする幅を有する。マイクロプレート３００はさらに、マイクロプレート３００に他の装置、例えば、把持装置、ハンドリングシステム、サーモサイクラー、または貯蔵装置など、を連結するために有用な位置合わせおよび／またはハンドリング特徴部として機能するようにフレーム３４０内に画定された穴３０５を含む。
【００７２】
図２２の強化マイクロプレートのさらなる特徴および態様について、長さ寸法がインチで与えられている図２３〜３０の技術図面を参照しながら、本明細書において開示する。
【００７３】
図２３は、図２２の強化マイクロプレートの底面図であり、フレーム３０８と境界を接する実質的に四角形の形状を有する本体３０６が示されており、この場合、複数の側方に離間され垂直に延在するリブ３１３が、フレーム３０８の内面に沿って提供されている。フレーム３０８は、ウェル３０２のアレイを画定するデッキ３２０を囲んでいる。さらに、底面３１１上に形成されたウェル間リブ３３０Ａや連続リブ３３０Ｂやドット３３０Ｃ、ならびにウェル２０２が描かれている。
【００７４】
図２４は、図２２に示された円形部分ＡＧに沿って切り取られた、図２２の強化マイクロプレートの角部分の底面図である。図２４は、フレーム３０８の角部分を表しており、それらの内面に沿って垂直に延在するリブ３１３が提供されている。さらに、底面３１１上に形成されたウェル間リブ３３０Ａや連続リブ３３０Ｂやドット３３０Ｃ、ならびに複数のウェル３０２が描かれている。さらに、図２４には、円弧状の曲線形を有しデッキ３２０の上面から上方向に延在する、高く形成されたシーリング特徴部３５０が示されている。ある特定の実施形態において、１つまたは複数の高く形成された特徴部３５０が提供され得、ならびにデッキ３２０の角部と複数のウェル３０２との間に配置され得る。ある特定の実施形態において、各ウェル３０２は、隆起したリムを含み、好ましくは当該少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部３５０は、各ウェル３０２における隆起したリムの上面と同じ高さまたは実質的に同じ高さを有する。
【００７５】
図２５は、図２４に示された切取線ＡＦ−ＡＦに沿って切り取られた、図２４の強化マイクロプレート３００の断面図であり、図２６は、図２５に示された強化マイクロプレートの円形部分ＡＨの拡大断面図である。図２５を参照すると、ウェル３０２のアレイは、周辺スカート３１７を含むフレーム３０８と周囲において境界を接するデッキに内に画定される。各ウェル３０２は、デッキの上面３１０に対して隆起したリム３０９を含み、マイクロプレート３００の角部とウェル３０２のアレイとの間において、高く形成されたシーリング特徴部３５０が提供されている。図２６を参照すると、各ウェル３０２は、隆起したリム３０９を含み、マイクロプレート３００の角部に近接するウェル３０２は、高く形成されたシーリング特徴部３５０に隣接している。下方向に延在するリブ３２０Ａは、ウェル３０２の間の格子において提供され、ウェル３０２とフレーム３０８との間のデッキの周辺領域に、複数の下方向に延在する正方形の形状のドット３２０Ｃが提供されている。
【００７６】
図２７は、図２６の強化マイクロプレートのウェルにおける隆起したリムの周辺部分の拡大断面図である。図２７に示されているように、当該隆起したリムは、デッキ（図示されず）の第一表面（例えば、上面）より高く形成された上面２４２を含み、中間面３４６を含み、ならびに中間面３４６と上面３４２との間に延在する内側移行面３４４Ａおよび外側移行面３４４Ｂを含む。ある特定の実施形態において、当該上面３４２は、０．００５インチ（約０．１２７ミリメートル）から約０．０２５インチ（約０．６３５ミリメートル）、より好ましくは約０．０１インチ（約０．２５４ミリメートル）の距離において中間面３４６より高く形成され得る。好ましくは、内側移行面３４４Ａと上面３４２との間の角度は、１００度から１７０度の範囲であり、外側移行面３４４Ｂと上面３４２との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。ある特定の実施形態において、１１０度から１６０度、または１２０度から１５０度、または１３０度から１４０度の部分的範囲が使用され得る。上面３４２は、シーリングフィルムまたはカバー（図示されず）を受けるためのシーリングリングとして機能する。上面３４２と傾斜した移行面３４４Ａ、３４４Ｂとを有する隆起したリムを提供することにより、当該隆起したリム３０９がシーリングフィルムおよび／またはシーリングカバーを受けるための、増加した表面積が提供され、それにより、シーリング効率が向上する。さらに、上面３４２の狭い幅は、シーリングフィルムおよび／またはシーリングカバーがマイクロプレートに適用されたときにそれらの局所的変形を可能にし得、それにより、シーリング効率が向上する。
【００７７】
図２８は、図２４に示された切取線ＡＥ−ＡＥに沿って切り取られた、図２４の強化マイクロプレート３００の断面図である。ウェル３０２のアレイは、周辺スカート３１７を含むフレーム３０８と周囲において境界を接するデッキ内に画定されている。各ウェル３０２は、デッキの上面３１０に対して隆起したリム３０９を含み、シーリング特徴部３５０は、ウェル３０２のアレイとマイクロプレート３００の（少なくとも）角部との間に提供されている。図２９は、図２８に示された強化マイクロプレートの周辺デッキ部分の断面図であり、デッキ３２０の底面３１１から下方向に突出する正方形のドット３３０Ｃが示されている。図３０は、図２８に示された強化マイクロプレート３００の上側中央部分の断面図であり、２つの隣接するマイクロウェルにおける隆起したリム部分３０９が示されており、ならびにデッキ３２０の底面３１１から下方向に延在するウェル間リブ３３０Ａも示されており、これはさらに、上面３１０と境界を接している。
【００７８】
図３１は、一実施形態による、高く形成されたシーリング特徴部４５０と、関連周辺スカート４１７を伴う周辺フレーム４０８とを含む強化マイクロプレート４００の端部立面図であり、ここで、高く形成されたウェルリム部分は省略されている。当該高く形成されたシーリング特徴部４５０は、デッキ４２０の上面４１０から上方向に延在し、ならびに、好ましくは、マイクロプレート４００の角部に近接して位置される。２つの高く形成されたシーリング特徴部４５０が、図３１に示されているが、ある特定の実施形態において、高く形成されたシーリング特徴部は、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、およびそれ以上の任意の好適な量において提供され得る。ある特定の実施形態において、単一の連続または半連続の高く形成されたシーリング特徴部が、マイクロプレートのデッキの周囲に近接して提供され得る。
【００７９】
図３２Ａは、一実施形態による、高く形成されたシーリング特徴部４５０と、マイクロウェル（図示されず）に関連する隆起したリム部分４０９と、関連する周辺スカート４１７を有する周辺フレーム４０８とを含む、強化マイクロプレート４００の端部立面図である。好ましくは、各隆起したリム部分４０９の高さは、高く形成されたシーリング特徴部４５０の高さと実質的に同じである。図３２Ｂは、強化マイクロプレート４００に対するシーリングフィルム４６０の適用前の、シーリングフィルム４６０に近接して配置された、図３２Ａの強化マイクロプレート４００の端部立面図である。図３２Ｃは、強化マイクロプレート４００へのシーリングフィルム４６０の適用後の、シーリングフィルム４６０に近接して配置された、図３３Ａの強化マイクロプレート４００の端部立面図であり、この場合、シーリングフィルム４６０は、各隆起したリム部分４０９および高く形成されたシーリング特徴部４５０に接するように配置されている。
【００８０】
図３３Ａ〜３３Ｂは、それぞれＡＢＩ  ７９００  ＨＴサーモサイクラーおよびＭａｘｙｇｅｎｅ  ＩＩサーモサイクラーでの熱サイクルの後の、高く形成されたシーリング特徴部と、各ウェルが本明細書において開示されるような隆起したリムを有するウェルとを有する、フィルムでカバーされた半スカート付き変形例の強化マイクロプレートと、従来の４ｔｉｔｕｄｅ  ４ｔｉ０９００／Ｃ（４ｔｉｔｕｄｅ  Ｌｉｍｉｔｅｄ、ウォットン、サリー、イギリス）のフィルムでカバーされたマイクロプレートとによるシーリング効率（熱サイクルの後の反応体積損失の割合）を比較する棒グラフである。反応体積損失は、熱サイクルの前後にマイクロプレートを秤量することによって特定した。各場合において、熱サイクラー当たり３つのプレートを使用し、各図におけるエラーバーは、平均の標準誤差を表している。各場合において、強化マイクロプレートは、熱サイクル後に、著しく少ない体積損失を示した。
【００８１】
図３４Ａ〜３４Ｃは、それぞれ、３つの異なるサーモサイクラー（すなわち、図３４Ａの場合はＢｉｏ−Ｒａｄ  ＣＦＸ９６  Ｔｏｕｃｈサーモサイクラー、図３４Ｂの場合はＡＢＩ  ７９００  ＨＴサーモサイクラー、図３４Ｃの場合はＭａｘｙｇｅｎｅ  ＩＩサーモサイクラー）に対する、本明細書において開示される強化マイクロプレートと従来の（４ｔｉｔｕｄｅ  ４ｔｉ０９００／Ｃ）マイクロプレートによる、熱サイクルの前後での平面に対するマイクロプレートの角部の垂直変位データ（インチ表示）を提供する表である。各マイクロプレートは、熱サイクルの前後においてマイクロプレートの各角部と平面との間の距離を測定することによって反りを評価した。４つの値Ａ１、Ａ１２、Ｈ１、およびＨ１２は、マイクロプレートの４つの角部に対して測定した距離に対応する。全てのマイクロプレートは、０．０２インチ（約０．５０８ミリメートル）未満の高さ変化値を示し、どのサーモサイクラーを使用したかにかかわらず、目視可能な反りは示さなかった。
【００８２】
図３５Ａは、それぞれ、本明細書において開示される強化マイクロプレート（「Ａｘｙｇｅｎリジッド」、高く形成されたシーリング特徴部と、各ウェルが隆起したリムを有するウェルとを含む）と、４つの従来のマイクロプレート（Ａｘｙｇｅｎオリジナル、ＡＢＩ、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ、およびＢｉｏＲａｄ）による、サーモサイクル前のマイクロプレートの４つの角部（Ａ１、Ａ１２、Ｈ１、Ｈ１２と呼ぶ）での、中央に対する垂直距離を提供する表である。ゼロ値を中央に設定し、４つの角部の測定値Ａ１、Ａ１２、Ｈ１、およびＨ１２を中央に対して比較した。図３５Ａの一番右の列は、４つの個々の角部の変位値における最大変位値を提供している。図３５Ｂは、図３５Ａにおいて識別される同じマイクロプレートの４つの角部での、中央に対する垂直距離を提供する表であるが、こちらは、サーモサイクルが完了した後である。ゼロ値を中央に設定し、４つの角部の測定値Ａ１，Ａ１２，Ｈ１，およびＨ１２を中央に対して比較した。図３５Ｂの一番右の列は、４つの個々の角部の変位値における最大変位値を提供している。特に、「Ａｘｙｇｅｎオリジナル」および「Ａｘｙｇｅｎリジッド」マイクロプレートの一番右の値は、増強した補強およびシーリング特徴部を有するマイクロプレート（「Ａｘｙｇｅｎリジッド」）が、最大角部変位において９５％の減少を示し、その場合、かかる最大変位も、残った競争相手のマイクロプレートのいずれよりも低いことを示している。
【００８３】
図３６Ａは、サーモサイクル前の、本明細書において開示される補強またはシーリング特徴部の無い第一の従来の「Ａｘｙｇｅｎ」マイクロプレート（左）と、サーモサイクル後の第二の従来の「Ａｘｙｇｅｎ」マイクロプレート（右）とを示す上側斜視図の写真である。図に示されているように、当該従来の「Ａｘｙｇｅｎ」マイクロプレートは、熱サイクル後に著しい反りを示している。それに比べて、図３６Ｂは、サーモサイクル前の本明細書において開示される補強およびシーリング特徴部を含む第一「Ａｘｙｇｅｎリジッド」強化マイクロプレートと、サーモサイクル後の第二「Ａｘｙｇｅｎリジッド」強化マイクロプレートとを示す上側斜視図の写真である。図３６Ｂの右側に示されているように、「Ａｘｙｇｅｎリジッド」マイクロプレートは、熱サイクル後にほとんど反りを示さず、したがって、図３６Ａに示される第二の従来の「Ａｘｙｇｅｎ」マイクロプレートに対する著しい改良を表している。
【００８４】
本開示の様々な態様および実施形態は、先行の図のレビューの後に明らかとなるであろう。
【００８５】
本開示の一態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。当該周辺デッキ部分は、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む。局所的に周辺デッキ厚の増加した領域の非限定的な例としては、１つまたは複数の補強リブ（これらは、任意選択により、事実上、連続または半連続であってもよい）および／または複数のドットが挙げられる。ある特定の実施形態において、それぞれの局所的に周辺デッキ厚の増加した領域の一部は、少なくとも１つの他の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域に接触するように配置される。ある特定の実施形態において、フレームは、外面および内面を含む少なくとも１つの壁部を含み、当該内面は、マイクロプレートの剛性をさらに高めるように構成された複数の局所的に壁厚の増加した領域（例えば、概して垂直方向に延在し、任意選択により下向きの方向に先細りする形状を有するリブなど）を含む。ある特定の実施形態において、少なくとも１つの応力解消スロットが、デッキに対して実質的に垂直な方向においてフレーム内に画定され、この場合、当該少なくとも１つのスロットは、任意選択により、さらに周辺デッキ部分内に画定されてもよい。ある特定の実施形態において、デッキ、複数のウェル、フレーム、および複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域は、同じ材料組成物によって連続的に形成される。ある特定の実施形態において、各ウェルは、第一表面より高く形成された上面と、上面と第一表面との間に配置された中間面と、中間面と上面との間に延在する内側移行面と、中間面と上面との間に延在する外側移行面とを有する隆起したリムを含み、この場合、内側移行面と上面との間の角度、ならびに外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。ある特定の実施形態において、各ウェルは、第一表面より高く形成された上面を有する隆起したリムを含み、当該マイクロプレートはさらに、第一表面から延在して、かつ当該デッキの角部と複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む。
【００８６】
本発明の別の態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。当該周辺デッキ部分は、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、本体に一体的に形成され、複数のドットを含み、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む。ある特定の実施形態において、複数のドットのサブセットにおける各ドットの少なくとも一部は、サブセットのドットの少なくとも１つの他のドットに接触するように配置され、および／またはデッキに対して平行な平面に沿って切り取られた実質的に正方形の断面形状を有する。ある特定の実施形態において、さらに、第二表面から延在する少なくとも１つの連続または半連続補強リブが、複数のウェルと複数のドットの間において提供され、および／または本体に一体的に形成され、かつ第二表面から延在する複数のリブが、当該複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成される。ある特定の実施形態において、フレームは、外面および内面を含む少なくとも１つの壁部を含み、当該内面は、マイクロプレートの剛性をさらに高めるように構成された複数の局所的に壁厚の増加した領域（例えば、概して垂直方向に延在し、任意選択により下向きの方向に先細りする形状を有するリブなど）を含む。ある特定の実施形態において、デッキ、複数のウェル、フレーム、および複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域は、同じ材料組成物によって連続的に形成される。ある特定の実施形態において、少なくとも１つの応力解消スロットが、デッキに対して実質的に垂直な方向においてフレーム内に画定され、この場合、当該少なくとも１つのスロットは、任意選択により、さらに周辺デッキ部分内に画定されてもよい。ある特定の実施形態において、各ウェルは、第一表面より高く形成された上面と、上面と第一表面との間に配置された中間面と、中間面と上面との間に延在する内側移行面と、中間面と上面との間に延在する外側移行面とを有する隆起したリムを含み、この場合、内側移行面と上面との間の角度、ならびに外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。ある特定の実施形態において、各ウェルは、第一表面より高く形成された上面を有する隆起したリムを含み、当該マイクロプレートはさらに、第一表面から延在して、かつ当該デッキの角部と複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む。
【００８７】
本発明のさらなる態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。さらに、当該フレームは、当該デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、当該少なくとも１つの壁部は外面および内面を有し、ならびに当該内面は、当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む。ある特定の実施形態において、複数の局所的に壁厚の増加した領域における、それぞれの局所的に壁厚の増加した領域は、概して垂直方向に延在する長さを有し、ならびに第二表面から離れる距離が増加するに従って先細りする幅を有する。ある特定の実施形態において、当該少なくとも１つの壁部は、概して垂直方向に向けられている。ある特定の実施形態において、当該周辺デッキ部分は、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む。ある特定の実施形態において、当該複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域は、任意選択により、複数のウェルと複数のドットとの間に配置された少なくとも１つの連続または半連続補強リブによって補われていてもよい複数のドットを含む。ある特定の実施形態において、デッキは、本体に一体的に形成された複数のリブであって、複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成され、第二表面から延在し、ならびにマイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数のリブを含む。ある特定の実施形態において、デッキ、複数のウェル、フレーム、および複数の局所的に壁厚の増加した領域は、同じ材料組成物によって連続的に形成される。ある特定の実施形態において、少なくとも１つの応力解消スロットが、デッキに対して実質的に垂直な方向においてフレーム内に画定され、この場合、当該少なくとも１つのスロットは、任意選択により、さらに周辺デッキ部分内に画邸定されてもよい。ある特定の実施形態において、各ウェルは、第一表面より高く形成された上面と、上面と第一表面との間に配置された中間面と、中間面と上面との間に延在する内側移行面と、中間面と上面との間に延在する外側移行面とを有する隆起したリムを含み、この場合、内側移行面と上面との間の角度、ならびに外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。ある特定の実施形態において、各ウェルは、第一表面より高く形成された上面を有する隆起したリムを含み、当該マイクロプレートはさらに、第一表面から延在して、かつ当該デッキの角部と複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む。
【００８８】
本発明の別の態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。当該複数のウェルの各ウェルは、第一表面より高く形成された上面と、当該上面と第一表面との間に配置された中間面と、当該中間面と上面との間に延在する内側移行面と、中間面と上面との間に延在する外側移行面とを含む隆起リムを含む。さらに、内側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲であり、外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。ある特定の実施形態において、上面、中間面、および第一表面は、お互いに平行な平面に沿って配置される。ある特定の実施形態において、当該マイクロプレートはさらに、第一表面から延在し、かつ当該デッキの角部と複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む。ある特定の実施形態において、当該周辺デッキ部分は、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む。ある特定の実施形態において、当該複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域は、任意選択により、複数のウェルと複数のドットとの間に配置された少なくとも１つの連続または半連続補強リブによって補われていてもよい複数のドットを含む。ある特定の実施形態において、デッキは、本体に一体的に形成された複数のリブであって、複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成され、第二表面から延在し、ならびにマイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数のリブを含む。ある特定の実施形態において、フレームは、デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、当該少なくとも１つの壁部は外面および内面を有し、ならびに当該内面は、当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成された複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む。ある特定の実施形態において、デッキ、複数のウェル、およびフレームは、同じ材料組成物によって連続的に形成されている。ある特定の実施形態において、少なくとも１つの応力解消スロットが、デッキに対して実質的に垂直な方向においてフレーム内に画定され、この場合、当該少なくとも１つのスロットは、任意選択により、さらに周辺デッキ部分に画定されてもよい。
【００８９】
本発明の追加の態様により、マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含む。当該複数のウェルの各ウェルは、第一表面より高く形成された上面を含む隆起したリムを含み、当該マイクロプレートはさらに、第一表面から延在し、かつ当該デッキの角部と当該複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む。ある特定の実施形態において、当該少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部は、少なくとも４つの高く形成されたシーリング特徴部を含む。ある特定の実施形態において、当該少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部は、複数のウェルにおける各ウェルの隆起したリムの上面と同じ高さを有する。ある特定の実施形態において、各ウェルは、第一表面より高く形成された上面と、上面と第一表面との間に配置された中間面と、中間面と上面との間に延在する内側移行面と、中間面と上面との間に延在する外側移行面とを有する隆起したリムを含み、この場合、内側移行面と上面との間の角度、ならびに外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。ある特定の実施形態において、周辺デッキ部分は、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域（例えば、任意選択により、複数のウェルと複数のドットとの間に配置された少なくとも１つの連続または半連続補強リブによって補われていてもよい複数のドットなど）であって、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む。ある特定の実施形態において、デッキは、本体に一体的に形成された複数のリブであって、複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成され、第二表面から延在し、ならびにマイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数のリブを含む。ある特定の実施形態において、当該フレームは、当該デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、当該少なくとも１つの壁部は外面および内面を有し、ならびに当該内面は、当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む。ある特定の実施形態において、デッキ、複数のウェル、フレーム、および少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部は、同じ材料組成物によって連続的に形成されている。ある特定の実施形態において、少なくとも１つの応力解消スロットが、フレーム内に画定されており、ならびにデッキに対して実質的に垂直な方向に延在している。ある特定の実施形態において、少なくとも１つの応力解消スロットが、デッキに対して実質的に垂直な方向においてフレーム内に画定され、この場合、当該少なくとも１つのスロットは、任意選択により、さらに周辺デッキ部分に画定されてもよい。
【００９０】
本開示の態様（１）により、マイクロプレートが提供される。当該マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含み、この場合、当該複数のウェルの各ウェルは、第一表面より高く形成された上面と、当該上面と第一表面との間に配置された中間面と、当該中間面と上面との間に延在する内側移行面と、中間面と上面との間に延在する外側移行面とを含む隆起したリムを含み、この場合、内側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲であり、外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である。
【００９１】
本開示の別の態様（２）により、上記上面、中間面、および第一表面が、お互いに平行な平面に沿って配置されている、態様（１）に記載のマイクロプレートが提供される。
【００９２】
本開示の別の態様（３）により、上記マイクロプレートがさらに、第一表面から延在して、かつデッキの角部と複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む、態様（１）〜（２）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【００９３】
本開示の別の態様（４）により、上記周辺デッキ部分が、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む、態様（１）〜（３）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【００９４】
本開示の別の態様（５）により、上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、少なくとも１つの他の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域に接触するように配置される、態様（４）に記載のマイクロプレートが提供される。
【００９５】
本開示の別の態様（６）により、上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、複数のドットを含む、態様（４）〜（５）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【００９６】
本開示の別の態様（７）により、上記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、ならびに当該ドットのサブセットにおける各ドットの少なくとも一部が、当該ドットのサブセットにおける少なくとも１つの他のドットに接触するように配置される、態様（６）に記載のマイクロプレートが提供される。
【００９７】
本開示の別の態様（８）により、上記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、当該ドットのサブセットにおける各ドットが、デッキに対して平行な平面に沿って切り取られた実質的に正方形の断面形状を有する、態様（６）〜（７）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【００９８】
本開示の別の態様（９）により、上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域がさらに、複数のウェルと複数のドットとの間に配置された少なくとも１つの連続または半連続補強リブを含む、態様（６）〜（８）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【００９９】
本開示の別の態様（１０）により、上記デッキが、本体に一体的に形成された複数のリブであって、複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成され、第二表面から延在し、ならびにマイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数のリブを含む、態様（１）〜（９）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１００】
本開示の別の態様（１１）により、上記フレームが、上記デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、当該少なくとも１つの壁部が外面および内面を含み、当該内面が、マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む、態様（１）〜（１０）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１０１】
本開示の別の態様（１２）により、上記複数の局所的に壁厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に壁厚の増加した領域が、概して垂直方向に延在する長さを有し、ならびに第二表面から離れる距離が増加するに従って先細りする幅を有する、態様（１１）に記載のマイクロプレートが提供される。
【０１０２】
本開示の別の態様（１３）により、上記デッキ、上記複数のウェル、および上記フレームが、同じ材料組成物によって連続的に形成される、態様（１）〜（１２）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１０３】
本開示の別の態様（１４）により、上記フレーム内に画定され、ならびに上記デッキに対して実質的に垂直な方向に延在する、少なくとも１つの応力解消スロットを含む、態様（１）〜（１３）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１０４】
本開示の別の態様（１５）により、幅と、当該幅を超える長さを有し、さらに、上記少なくとも１つの応力解消スロットが、周辺デッキ部分内に画定され、ならびにマイクロプレートの長手方向に対して実質的に垂直に延在する、態様（１４）に記載のマイクロプレートが提供される。
【０１０５】
本開示の別の態様（１６）により、マイクロプレートが提供される。上記マイクロプレートは、デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含み、この場合、当該複数のウェルの各ウェルは、第一表面より高く形成された上面を含む隆起したリムを含み、当該マイクロプレートはさらに、第一表面から延在し、かつ当該デッキの角部と当該複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む。
【０１０６】
本開示の別の態様（１７）により、上記少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部が、少なくとも４つの高く形成されたシーリング特徴部を含む、態様（１６）に記載のマイクロプレートが提供される。
【０１０７】
本開示の別の態様（１８）により、上記少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部が、複数のウェルにおける各ウェルの、隆起したリムの上面と同じ高さを有する、態様（１６）〜（１７）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１０８】
本開示の別の態様（１９）により、上記複数のウェルにおける各ウェルが、上面と第一表面との間に配置された中間面と、当該中間面と上面との間に延在する内側移行面と、当該中間面と上面との間に延在する外側移行面とを含み、この場合、内側移行面と上面との間の角度が、１００度から１７０度の範囲であり、外側移行面と上面との間の角度が、１００度から１７０度の範囲である、態様（１６）〜（１８）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１０９】
本開示の別の態様（２０）により、上記周辺デッキ部分が、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む、態様（１６）〜（１９）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１０】
本開示の別の態様（２１）により、上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、少なくとも１つの他の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域に接触するように配置される、態様（２０）に記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１１】
本開示の別の態様（２２）により、上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、複数のドットを含む、態様（２０）〜（２１）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１２】
本開示の別の態様（２３）により、上記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、ならびに当該ドットのサブセットにおける各ドットの少なくとも一部が、当該ドットのサブセットにおける少なくとも１つの他のドットに接触するように配置される、態様（２２）に記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１３】
本開示の別の態様（２４）により、上記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、当該ドットのサブセットにおける各ドットが、デッキに対して平行な平面に沿って切り取られた実質的に正方形の断面形状を有する、態様（２２）〜（２３）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１４】
本開示の別の態様（２５）により、上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域がさらに、複数のウェルと複数のドットとの間に配置された少なくとも１つの連続または半連続補強リブを含む、態様（２２）〜（２４）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１５】
本開示の別の態様（２６）により、上記デッキが、本体に一体的に形成された複数のリブであって、複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成され、第二表面から延在し、ならびにマイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数のリブを含む、態様（１６）〜（２５）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１６】
本開示の別の態様（２７）により、上記フレームが、上記デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、当該少なくとも１つの壁部が外面および内面を含み、当該内面が、マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む、態様（１６）〜（２６）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１７】
本開示の別の態様（２８）により、上記複数の局所的に壁厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に壁厚の増加した領域が、概して垂直方向に延在する長さを有し、ならびに第二表面から離れる距離が増加するに従って先細りする幅を有する、態様（２７）に記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１８】
本開示の別の態様（２９）により、上記デッキ、上記複数のウェル、上記フレーム、および上記少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部が、同じ材料組成物によって連続的に形成される。態様（１６）〜（２８）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１１９】
本開示の別の態様（３０）により、上記フレーム内に画定され、ならびに上記デッキに対して実質的に垂直な方向に延在する、少なくとも１つの応力解消スロットを含む、態様（１６）〜（２９）のいずれか１つに記載のマイクロプレートが提供される。
【０１２０】
本開示の別の態様（３１）により、幅と、当該幅を超える長さを有し、さらに、上記少なくとも１つの応力解消スロットが、周辺デッキ部分内に画定され、ならびにマイクロプレートの長手方向に対して実質的に垂直に延在する、態様（３０）に記載のマイクロプレートが提供される。
【０１２１】
本開示のさらなる態様において、さらなる利点のために、本明細書において開示される任意の２つ以上の態様、実施形態、または特徴を組み合わせてもよいことは、明確に想到される。
【０１２２】
本明細書において使用される場合、名詞は、文脈上明らかにそうでないことが示されていない限り、複数の指示対象を指す。したがって、例えば、「ノッチ」に対する言及は、そうでないことが明確に示されていない限り、１つまたは複数のそのような「ノッチ」を有する例を包含する。
【０１２３】
用語「含む（「ｉｎｃｌｕｄｅ」または「ｉｎｃｌｕｄｅｓ」）」は、これらに限定されるわけではないが、すなわち、包括的を包含するが、排他的は包含しないことを意味する。
【０１２４】
「任意選択の」または「任意選択により」は、後続に記載される事象、状況、または成分が、生じる場合もあれば生じない場合もあること、ならびに当該記載が、当該事象、状況、または成分が生じる事例と、生じない事例を含むことを意味する。
【０１２５】
範囲は、本明細書において、「約」１つの特定の値から、および／または、「約」別の特定の値までとして表現することができる。そのような範囲を表現する場合、例は、一方の特定の値から、および／または、他方の特定の値までを含む。同様に、先行詞「約」を用いることによって値が概算で表現されるとき、特定の値は別の態様を形成することが理解されるであろう。さらに、範囲の各々の終点は、他方の終点と関連して、ならびに他方の終点とは独立して、その両方において重要であることが理解されるであろう。
【０１２６】
特に明記されない限り、本明細書において説明されるいずれの方法も、その工程を特定の順序で実施することを必要とすると解釈されることは全く意図していない。したがって、方法のクレームが、その工程が従うべき順序を実際には列挙していない場合、あるいは、工程が特定の順序に限定されるべきであると請求項または説明において特に明記されていない場合、任意の特定の順序も推察されることは意図されていない。任意の１つの請求項における任意の列挙された単一または複数の特徴または態様は、任意の他の請求項における任意の他の列挙された特徴または態様と組み合わせたり並び変えたりすることができる。
【０１２７】
本明細書における列挙は、特定の方式において機能するように「構成される」もしくは「適合される」構成要素を意味することも留意されたい。これに関して、そのような構成要素は、特定の特性を体現するように、または特定の方式において機能するように、「構成され」もしくは「適合され」、その場合、そのような列挙は、意図される使用の列挙とは対照的に、構造的な列挙である。より詳細には、構成要素が「構成される」もしくは「適合される」様式に対する本明細書における言及は、当該構成要素の既存の物理条件を意味し、そのため、当該要素の構造的特徴の明確な列挙として解釈すべきである。
【０１２８】
特定の実施形態の様々な特徴、要素、またはステップが、移行句「を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」を使用して開示され得る場合、同時に、移行句「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ）」または「から実質的になる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ  ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ  ｏｆ）」を使用して記述され得る実施形態を含めた代替の実施形態が含蓄されることは理解されるべきである。例えば、ポリプロピレンを含むマイクロプレートに対して含意される代替の実施形態は、マイクロプレートがポリプロピレンからなる実施形態と、マイクロプレートがポリプロピレンから実質的になる実施形態を包含する。
【０１２９】
本開示の趣旨および範囲から逸脱することなく、本発明の技術に様々な変更および変形を行うことができることは、当業者に明らかであろう。本発明の技術の趣旨および実体が組み込まれた、開示された実施形態の変更、組み合わせ、部分的組み合わせ、および変形は当業者が気付き得るものであるので、本発明の技術は、添付の特許請求の範囲内の全てとその同等物を含むと解釈されるべきである。
【０１３０】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【０１３１】
実施形態１
デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含み、
当該複数のウェルの各ウェルが、第一表面より高く形成された上面と、当該上面と第一表面との間に配置された中間面と、当該中間面と上面との間に延在する内側移行面と、中間面と上面との間に延在する外側移行面とを含む隆起したリムを含み、
内側移行面と上面との間の角度が、１００度から１７０度の範囲であり、外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である、マイクロプレート。
【０１３２】
実施形態２
上記上面、上記中間面、および上記第一表面が、お互いに平行な平面に沿って配置されている、実施形態１に記載のマイクロプレート。
【０１３３】
実施形態３
上記マイクロプレートがさらに、第一表面から延在して、かつデッキの角部と複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む、実施形態１または２に記載のマイクロプレート。
【０１３４】
実施形態４
上記周辺デッキ部分が、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む、実施形態１〜３のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１３５】
実施形態５
上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、少なくとも１つの他の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域に接触するように配置される、実施形態４に記載のマイクロプレート。
【０１３６】
実施形態６
上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、複数のドットを含む、実施形態４または５に記載のマイクロプレート。
【０１３７】
実施形態７
上記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、ならびに当該ドットのサブセットにおける各ドットの少なくとも一部が、当該ドットのサブセットにおける少なくとも１つの他のドットに接触するように配置される、実施形態６に記載のマイクロプレート。
【０１３８】
実施形態８
上記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、当該ドットのサブセットにおける各ドットが、デッキに対して平行な平面に沿って切り取られた実質的に正方形の断面形状を有する、実施形態６または７に記載のマイクロプレート。
【０１３９】
実施形態９
上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域がさらに、複数のウェルと複数のドットとの間に配置された少なくとも１つの連続または半連続補強リブを含む、実施形態６〜８のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１４０】
実施形態１０
上記デッキが、本体に一体的に形成された複数のリブであって、複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成され、第二表面から延在し、ならびにマイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数のリブを含む、実施形態１〜９のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１４１】
実施形態１１
上記フレームが、上記デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、当該少なくとも１つの壁部が外面および内面を含み、当該内面が、マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む、実施形態１〜１０のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１４２】
実施形態１２
上記複数の局所的に壁厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に壁厚の増加した領域が、概して垂直方向に延在する長さを有し、ならびに第二表面から離れる距離が増加するに従って先細りする幅を有する、実施形態１１に記載のマイクロプレート。
【０１４３】
実施形態１３
上記デッキ、上記複数のウェル、および上記フレームが、同じ材料組成物によって連続的に形成される、実施形態１〜１２のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１４４】
実施形態１４
上記フレーム内に画定され、ならびに上記デッキに対して実質的に垂直な方向に延在する、少なくとも１つの応力解消スロットを含む、実施形態１〜１３のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１４５】
実施形態１５
幅と、当該幅を超える長さを有し、さらに、上記少なくとも１つの応力解消スロットが、周辺デッキ部分内に画定され、ならびにマイクロプレートの長手方向に対して実質的に垂直に延在する、実施形態１４に記載のマイクロプレート。
【０１４６】
実施形態１６
デッキを画定する第一表面および対向する第二表面と、当該第二表面から延在する複数のウェルと、当該複数のウェルを側方に囲む周辺デッキ部分と、当該周辺デッキ部分を囲むフレームとを含む本体を含み、
当該複数のウェルの各ウェルが、第一表面より高く形成された上面を含む隆起したリムを含み、
さらに、第一表面から延在し、かつ当該デッキの角部と当該複数のウェルとの間に配置された、少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部を含む、マイクロプレート。
【０１４７】
実施形態１７
上記少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部が、少なくとも４つの高く形成されたシーリング特徴部を含む、実施形態１６に記載のマイクロプレート。
【０１４８】
実施形態１８
上記少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部が、複数のウェルにおける各ウェルの、隆起したリムの上面と同じ高さを有する、実施形態１６または１７に記載のマイクロプレート。
【０１４９】
実施形態１９
上記複数のウェルにおける各ウェルが、上面と第一表面との間に配置された中間面と、当該中間面と上面との間に延在する内側移行面と、当該中間面と上面との間に延在する外側移行面とを含み、
内側移行面と上面との間の角度が、１００度から１７０度の範囲であり、外側移行面と上面との間の角度は、１００度から１７０度の範囲である、実施形態１６〜１８のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１５０】
実施形態２０
上記周辺デッキ部分が、複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域であって、本体に一体的に形成され、第二表面から延在し、ならびに当該マイクロプレートの剛性を高めるように構成される、領域を含む、実施形態１６〜１９のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１５１】
実施形態２１
上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、少なくとも１つの他の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域に接触するように配置される、実施形態２０に記載のマイクロプレート。
【０１５２】
実施形態２２
上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域が、複数のドットを含む、実施形態２０または２１に記載のマイクロプレート。
【０１５３】
実施形態２３
上記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、ならびに当該ドットのサブセットにおける各ドットの少なくとも一部が、当該ドットのサブセットにおける少なくとも１つの他のドットに接触するように配置される、実施形態２２に記載のマイクロプレート。
【０１５４】
実施形態２４
上記複数のドットが、ドットのサブセットを含み、当該ドットのサブセットにおける各ドットが、デッキに対して平行な平面に沿って切り取られた実質的に正方形の断面形状を有する、実施形態２２または２３に記載のマイクロプレート。
【０１５５】
実施形態２５
上記複数の局所的に周辺デッキ厚の増加した領域がさらに、複数のウェルと複数のドットとの間に配置された少なくとも１つの連続または半連続補強リブを含む、実施形態２２〜２４のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１５６】
実施形態２６
上記デッキが、本体に一体的に形成された複数のリブであって、複数のウェルにおける異なるウェルの間の格子として構成され、第二表面から延在し、ならびにマイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数のリブを含む、実施形態１６〜２５のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１５７】
実施形態２７
上記フレームが、上記デッキに対して非平行に配置された少なくとも１つの壁部を含み、当該少なくとも１つの壁部が外面および内面を含み、当該内面が、マイクロプレートの剛性を高めるように構成された、複数の局所的に壁厚の増加した領域を含む、実施形態１６〜２６のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１５８】
実施形態２８
上記複数の局所的に壁厚の増加した領域におけるそれぞれの局所的に壁厚の増加した領域が、概して垂直方向に延在する長さを有し、ならびに第二表面から離れる距離が増加するに従って先細りする幅を有する、実施形態２７に記載のマイクロプレート。
【０１５９】
実施形態２９
上記デッキ、上記複数のウェル、上記フレーム、および上記少なくとも１つの高く形成されたシーリング特徴部が、同じ材料組成物によって連続的に形成される。実施形態１６〜２８のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１６０】
実施形態３０
上記フレーム内に画定され、ならびに上記デッキに対して実質的に垂直な方向に延在する、少なくとも１つの応力解消スロットを含む、実施形態１６〜２９のいずれか１つに記載のマイクロプレート。
【０１６１】
実施形態３１
幅と、当該幅を超える長さを有し、さらに、上記少なくとも１つの応力解消スロットが、周辺デッキ部分内に画定され、ならびにマイクロプレートの長手方向に対して実質的に垂直に延在する、実施形態３０に記載のマイクロプレート。
【符号の説明】
【０１６２】
１０  サーモサイクラー
５２、５２ａ、５２ｂ  加熱用固定具
５４  上部プレート
１００、１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、２００、３００、４００  マイクロプレート
１０２、２０２、３０２  ウェル
１０３  ウェル開口部
１０４、２０４、３０４  ウェル底部
１０５  ウェル壁部
１０６、２０６、３０６  本体
１０６ａ  エプロン
１０６ｂ  外側リム
１０６ｃ  位置合わせノッチ
１０７  リッジ
１０８、２０８、２４０、３０８、３４０、４０８  フレーム
１１０、２４２、３４２、３１０、４１０  上面
１１１、２１１、３１１  底面
１２０、２２０、３２０、４２０  デッキ
１２０Ａ、２２０Ａ、３２０Ａ  周辺デッキ領域
１２５  ウェル壁厚さ
１２６  デッキ厚さ
１２７  フレーム厚さ
１３０、１３０Ａ、１３０Ｂ、１３０Ｃ、１３０Ｄ、２３０Ａ、２３０Ｂ、２１３、３１３、３２０Ａ、３３０Ａ、３３０Ｂ  リブ
１４０、２４０  スロット
２０８Ａ  外面
２０８Ｂ  内面
２０９、３０９  リム
２３０、２３０Ｃ、３２０Ｃ、３３０、３３０Ｃ  ドット
２４４Ａ、３４４Ａ  内側移行面
２４４Ｂ、３４４Ｂ  外側移行面
２４８  蹴上げ面
３０５  穴
３１７、４１７  周辺スカート
３５０、４５０  シーリング特徴部
３４６  中間面
４６０  シーリングフィルム
【図１Ａ】
2019505178.tif 000003
【図１Ｂ】
2019505178.tif 000004
【図１Ｃ】
2019505178.tif 000005
【図２】
2019505178.tif 000006
【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
2019505178.tif 000009
【図５Ａ】
2019505178.tif 000010
【図５Ｂ】
2019505178.tif 000011
【図６】
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【図７】
2019505178.tif 000013
【図８】
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【図９】
2019505178.tif 000015
【図１０】
2019505178.tif 000016
【図１１】
2019505178.tif 000017
【図１２】
2019505178.tif 000018
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2019505178.tif 000022
【図１７】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【図１９】
2019505178.tif 000026
【図２０】
2019505178.tif 000027
【図２１Ａ】
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【図２１Ｂ】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
2019505178.tif 000032
【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
2019505178.tif 000038
【図３１】
2019505178.tif 000039
【図３２Ａ】
2019505178.tif 000040
【図３２Ｂ】
2019505178.tif 000041
【図３２Ｃ】
2019505178.tif 000042
【図３３Ａ】
2019505178.tif 000043
【図３３Ｂ】
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【図３４Ａ】
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【図３４Ｂ】
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【図３４Ｃ】
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【図３５Ａ】
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【図３５Ｂ】
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【図３６Ａ】
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【図３６Ｂ】
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【国際調査報告】
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