【手続補正書】
【提出日】平成18年8月17日(2006.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を照射するステップと、
前記空間光変調器の像を基板の感光性表面上に投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、前記空間光変調器の前記素子をスイッチングし、これにより前記感光性表面上のあるピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーを連続的に受け取ることにより、前記表面上に潜像を形成するステップと、
前記像を不鮮明にするステップであり、前記不鮮明さがサブピクセルの解像度のフィーチャ・エッジの配置を可能にするステップと
を含んだリソグラフィ方法。
【請求項２】
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成された結像光学系と、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構とを備えたリソグラフィ・ツール。
【請求項３】
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
各空間光変調器のそれぞれが個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた複数の空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記複数の空間光変調器の夫々の不鮮明像を投影するように構成された複数の投影レンズ・システムと、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構とを備え、前記空間光変調器の数は前記投影レンズ・システムの数よりも大きいリソグラフィ・ツール。
【請求項４】
空間光変調器の下方に基板を位置決めするステップと、
前記空間光変調器を照射するステップであり、前記空間光変調器はステージ上に設置され、前記ステージは前記基板の露光中にパターニング方向に移動するように制御され、前記空間光変調器は個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備え、前期素子は前記パターニング方向で測定されるようなピッチｐを有しているステップと、
前記基板上を速度ｖで前記パターニング方向に前記空間光変調器を連続的に移動させるステップと、
前記空間光変調器が移動している間に、前記基板上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記像が投影されている間に、前記基板の感光性表面上のあるピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように、時間間隔Ｔ＝ｐ／ｖだけ離れている時間において前記空間光変調器をスイッチングするステップと
を含んだ、基板のリソグラフィ方法。
【請求項５】
可撓膜基板のリソグラフィ方法であって、
速度ｖでパターニング方向に前記可撓膜基板を移動させるステップと、
空間光変調器を連続的に照射するステップであり、前記空間光変調器は個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備え、前記素子は前記パターニング方向で測定したピッチｐを有しているステップと、
前記可撓膜基板が移動している間に、前記連続的に照射された空間光変調器の像を用いて前記基板を倍率Ｍで照射するステップと、
前記基板が照射されている間に、前記基板の感光性表面上のあるピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように、時間間隔Ｔ＝ｐＭ／ｖだけ離れている時間において前記空間光変調器をスイッチングするステップとを含み、前記基板を移動させる前記ステップは回転可能で離間した状態で軸方向に平行なフィルム・ドラムによって実施され、前記基板は前記ドラムの周囲に巻き取られ、かつ前記ドラムの間に引っ張られた状態である可撓膜基板のリソグラフィ方法。
【請求項６】
（ａ）空間光変調器の下方に基板を位置決めするステップと
（ｂ）個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた前記空間光変調器を照射するステップと、
（ｃ）前記基板の感光性表面上に前記空間光変調器の不鮮明像を倍率Ｍで投影するステップと、
（ｄ）前記感光性表面を横切って速度ｖでパターニング方向に前記像を移動させるステップと、
（ｅ）前記像が移動している間に、Ｔ＝ｐＭ／ｖの時間間隔の後に前記空間光変調器をスイッチングするステップであり、ｐは前記パターニング方向において測定された前記素子のピッチであるステップと、
（ｆ）所望の潜像が前記感光性表面上に形成されるまで、前記基板上のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るようにステップ（ｅ）を繰り返すステップと
を含むリソグラフィ方法。
【請求項７】
個々にスイッチング可能な素子のアレイを備えている空間光変調器を光源を用いて照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、ある時間間隔だけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路に沿う光の通過を制御するステップと、
前記像を不鮮明にするステップであって、前記不鮮明さがサブピクセルの解像度のフィーチャ・エッジの配置を可能にするステップと
を含んだリソグラフィ方法。
【請求項８】
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を光源を用いて照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、ある時間間隔だけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路に沿う光の通過を制御するステップと
を含み、光の通過が光スイッチング機構により制御され、前記機構は前記空間光変調器の前記素子と同じ周波数で、かつ前記空間光変調器の前記素子と位相をずらして動作させられるリソグラフィ方法。
【請求項９】
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を光源を用いて照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、ある時間間隔だけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路に沿う光の通過を制御するステップと
を含み、光の通過は、前記スイッチングの時間間隔の一部であるタイム・スパンで行われ、前記像は前記タイム・スパンの間に前記基板の１つのピクセル長だけ移動するリソグラフィ方法。
【請求項１０】
個々にスイッチング可能な素子のアレイを備え、光源を用いている複数の空間光変調器を照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記複数の空間光変調器夫々の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、前記複数の空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップとから構成され、これにより前記感光性表面上のあるピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取ることにより前記表面上に潜像を形成し、且つ前記投影像の少なくとも２つは前記基板上で連続的に重なることを特徴としたリソグラフィ方法。
【請求項１１】
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成された結像光学系と、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路上に位置決めされ、その光路に沿う光の通過を制御するように構成されている光スイッチング機構と、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構とを備えたリソグラフィ・ツール。
【請求項１２】
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた第１の空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記第１の空間光変調器の像を投影するように構成された結像光学系と、
前記光源から前記第１の空間光変調器にわたり、前記基板で終わっている光路上に位置決めされ、その光路に沿う光の通過を制御するように構成されている第２の空間光変調器と、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させる像移動機構とを備えたリソグラフィ・ツール。
【請求項１３】
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた複数の空間光変調器と、
前記複数の空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記複数の空間光変調器の不鮮明な像を投影するように構成された結像光学系であり、前記空間光変調器の前記像の少なくとも２つは重なっている結像光学系と、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させる像移動機構と
を備えたリソグラフィ・ツール。
【請求項１４】
（ａ）空間光変調器の下方に基板を位置決めするステップと
（ｂ）個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた前記空間光変調器を照射するステップと、
（ｃ）前記基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を倍率Ｍで投影するステップと、
（ｄ）ある時間間隔Ｔだけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
（ｅ）前記素子がスイッチングしている間に、速度ｖ＝ｎｐＭ／Ｔで前記感光性表面を横切ってパターニング方向に前記像を移動させるステップであり、ｐは前記パターニング方向で測定された前記素子のピッチであり、かつｎは整数であるステップと、
（ｆ）前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わる光路に沿う光の通過を光スイッチング機構によって制御するステップと、
前記機構は前記空間光変調器の前記素子と同じ周波数で、かつ前記空間光変調器の前記素子と共にＴ（１−１／ｎ）のタイム・シフトだけ位相をずらして動作させられるステップと
を含むリソグラフィ方法。
【請求項１５】
（ａ）空間光変調器の下方に基板を位置決めするステップと
（ｂ）個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた前記空間光変調器を照射するステップと、
（ｃ）前記基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を倍率Ｍで投影するステップと、
（ｄ）ある時間間隔Ｔだけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
（ｅ）前記素子がスイッチングしている間に、速度ｖ＝ｎｐＭ／Ｔで前記感光性表面を横切ってパターニング方向に前記像を移動させるステップであり、ｐは前記パターニング方向で測定された前記素子のピッチであり、かつｎは定数であるステップと、
（ｆ）前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わる光路に沿う光の通過を光スイッチング機構によって制御するステップと、
前記機構はタイム・スパンＴ／ｎの間光の通過を可能にするように動作するステップと
を含んだリソグラフィ方法。
【請求項１６】
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を光源を用いて照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
サブピクセルの解像度のフィーチャー・エッジの配置を可能にするために上記像を不鮮明化するステップと、
から構成され、前記像の移動の方向は前記空間光変調器の前記投影像内のピクセルの列に対して平行でないリソグラフィ方法。
【請求項１７】
それぞれが個々にスイッチで切り替え可能な素子のアレイを有する複数の空間光変調器を照射するステップと、
基板の感光性の面上に前記複数の空間光変調器の像を投影するステップと、
前記像を前記基板の前記面を横切って移動させるステップと、
前記像が移動している間に、上記複数の空間光変調器の素子をスイッチングし、これにより前記感光性表面上のあるピクセルが前記複数の空間光変調器の複数の素子からエネルギーを受け取り、前記面上の潜像を形成するステップと、
サブピクセルの鮮明度のフィーチャー・エッジの配置を可能にするために上記像を不鮮明化するステップと、
から構成されることを特徴とするリソグラフィ方法。
【請求項１８】
それぞれが個々にスイッチで切り替え可能な素子のアレイを有する複数の空間光変調器と、
前記複数の空間光変調器を照射するように構成される光源と、
前記基板上の前記複数の空間光変調器のぼやける像に投影するように構成される画像光学系と、
前記像を前記基板の表面を横切るように移動させる像移動機構とから構成されることを特徴とする基板をパターン化するためのリソグラフィ・ツール。