Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月18日(2007.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素化物ガス流から汚染物質を除去する方法であって、水素化物ガス流をある量のランタニド族金属酸化物を含む材料と接触させて、前記ガス流の汚染物質レベルを約１００ｐｐｂ以下に低下させることを含み、前記材料は前記ガスによって実質上影響を受けない、前記方法。
【請求項２】
前記ランタニド金属が、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、プロメチウム（Ｐｍ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）およびイッテルビウム（Ｙｂ）からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ランタニド金属が、Ｌａ，ＣｅおよびＳｍからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記材料が、高い陽電性の金属または高い陽電性の金属酸化物をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記材料が、スカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）およびルテチウム（Ｌｕ）からなる群から選択される希土類金属、ランタニド金属もしくはその酸化物、またはこれらの組合せをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記材料が、少なくとも１つの遷移金属もしくはその酸化物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記遷移金属が、マンガン、クロミウム、モリブデン、バナジウム、チタニウムおよびジルコニウムからなる群から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記材料が、支持基材上に支持されている、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記材料が、約１００ｍ２／ｇ未満の表面積を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記材料が、約７５ｍ２／ｇ未満の表面積を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記材料が、約５０ｍ２／ｇ未満の表面積を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記材料が、約２０ｍ２／ｇ未満の表面積を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記材料が、２５℃および１５ｐｓｉｇにおいて、材料１リットル当たり少なくとも酸素約４リットルの酸素容量を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記材料がさらに、２５℃および１５ｐｓｉｇにおいて、材料１リットル当たり少なくとも水蒸気約４リットルの水蒸気容量を有する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記水素化物ガスが、アンモニア、アルシン、ホスフィン、ジボラン、ジシラン、ゲルマン、シランおよび水素からなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
汚染物質の１種または複数が、水、二酸化炭素、酸素、非メタン炭化水素、水素化物ガス酸化生成物、二次水素化物ガス汚染物質、ＳＯｘおよびＮＯｘ（ただし、ｘは１〜３）からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
汚染物質の１種または複数が、水、酸素、およびそれらの組合せよりなる請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
汚染物質の１種または複数が、揮発性金属化合物よりなる請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
汚染物質の１種または複数が、金属含有化合物よりなる請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
水素化物ガス精製用組成物であって、３〜２０重量％のランタニド族酸化物を含み、前記組成物が基本的に銅、鉄またはニッケルの少なくとも１つを含まない組成物。
【請求項２１】
前記組成物が酸化マンガンをさらに含む、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
水素化物ガス流から汚染物質を除去する方法であって、水素化物ガス流をある量の酸化ランタンを含む材料と接触させて、前記ガス流の汚染物質レベルを約１００ｐｐｂ以下に低下させることを含み、前記材料は前記ガスによって実質上影響を受けない、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月9日(2007.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
液圧流体供給ライン５４内のサーボ圧力が十分に高いため、供給ライン７２の圧力制限弁７４が開き、そのため、液圧流体が供給ライン７２を介して圧力アキュムレーター６６内に流入できる。しかしながら、液圧流体供給ライン５４内のサーボ圧力が最大値を越えると、圧力制御弁５８が開き、サーボ圧力回路１２の全部分を短絡し、枝部５６が追加される。その結果、サーボ圧力回路１２の過負荷を回避できる。他方、液圧流体供給ライン５４内のサーボ圧力が所定の最小値を下回った場合、及び圧力アキュムレーター６６に十分に「蓄圧されている」場合、圧力アキュムレーター６６は、所望であれば、圧力の低下を一時的に均等にする。このような圧力の低下は、例えば、ブレーキペダル（図示せず）を作動することにより二方向弁７６を図１に示すその閉位置から開状態に切り換え、かくしてサーボ圧力がサーボ圧力回路１２から作動圧力チャンバ４６に供給されることによって生じる。しかしながら、モータ５２の始動遅延により、ポンプ５０はサーボ圧力回路１２内にサーボ圧力を十分迅速に発生することができず、そのため一時的に圧力低下が生じる。これは、圧力アキュムレーター６６によって均等にされる。二方向弁７６は、位置センサ４２によって得られた信号、及び別の信号、例えば圧力センサ８２からの信号に従って電子制御ユニット４４によって制御され、かくしてサーボ圧力回路１２を作動するための作動エレメントとして作用する。二方向弁８０もまた、液圧流体供給ライン５４用の圧力逃がし弁として作用する。例えば、ブレーキが作動されていない場合及びかくして作動圧力チャンバ４６内に圧力を発生する必要がない場合では、図１に示す開位置に切り換えられる。その結果、更に、マスターブレーキシリンダとリザーバ２６との間の圧力を等しくすることができる。これは、サーボ圧力回路１２での起こり得る故障に関して特に優れており、この故障中、一次ピストン１８を機械的に移動させることができる。二方向弁８０を開状態にすると、一次ピストン１８のこのような機械的移動が大気圧以上の圧力やサーボ圧力回路１２で発生する負圧によって妨げられることがなくなる。サーボ圧力回路１２が完全に機能する状態で通常に作動しているとき、ブレーキの作動を位置センサ４２が検出すると直ぐに、二方向弁８０がその閉位置に切り換えられ、その結果、液圧流体を液圧流体ライン５４によって作動圧力チャンバ４６に供給できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
図４による第４実施例では、液圧流体供給ライン３５４から圧力アキュムレーター３６６に延びる供給ライン３７２に、電子制御ユニット３４４によって制御できる二方向弁３８８が装着してある。供給ライン３７２には、更に、圧力アキュムレーター３６６と二方向弁３８８との間に圧力センサ３９０が設けられている。圧力アキュムレーター３６６内の液圧を圧力センサ３９０によって検出することができる。この液圧が所定の最小値以下に低下しており且つポンプ３５０が十分に高いサーボ圧力をサーボ圧力回路３１２に供給している場合には、二方向弁３８８が図４に示すその閉位置から開位置に切り換えられる。かくして、液圧流体は液圧流体供給ライン３５４から圧力アキュムレーター３６６内に妨げなく流れることができ、かくして圧力アキュムレーター３６６を蓄圧できる。この蓄圧プロセス中の圧力アキュムレーター３６６内の圧力レベルの変化は圧力センサ３９０及び電子制御ユニット３４４によって監視できる。圧力アキュムレーター３６６が所望のレベル即ち最大許容圧力レベルに達すると直ぐに、圧力センサ３９０がこれを検出し、対応する信号を電子制御ユニット３４４に送出する。ユニットは、次いで、二方向弁３８８を制御し、これを図４に示す閉位置に戻し、及びかくして供給ライン３７２を介する液圧流体供給ライン３５４への流体的連結が断たれる。かくして、図４による実施例の二方向弁３８８を積極的に切り換えることにより、圧力アキュムレーター３６６を圧力の関数として目的を以て蓄圧できる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月29日(2007.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
注射用組成物として提供される、フロルフェニコールのプロドラッグ及び薬学的に許容される担体を含む組成物。
【請求項２】
前記フロルフェニコールのプロドラッグが、組成物中に少なくとも200 mg/mlの濃度で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記フロルフェニコールのプロドラッグが、組成物中に少なくとも約300 mg/mlの濃度で存在する、請求項２記載の組成物。
【請求項４】
前記プロドラッグが、フロルフェニコールのエステル化体を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
前記プロドラッグが、酢酸フロルフェニコール、プロピオン酸フロルフェニコール、酪酸フロルフェニコール、ペンタン酸フロルフェニコール、ヘキサン酸フロルフェニコール、ペプタン酸フロルフェニコール、オクタン酸フロルフェニコール、ノナン酸フロルフェニコール、デカン酸フロルフェニコール、ウンデカン酸フロルフェニコール、ドデカン酸フロルフェニコール、及びフタル酸フロルフェニコールの１つ又はそれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項４記載の組成物。
【請求項６】
前記プロドラッグが、酢酸フロルフェニコール、プロピオン酸フロルフェニコール、酪酸フロルフェニコール、ヘキサン酸フロルフェニコール、及びフタル酸フロルフェニコールの１つ又はそれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項５記載の組成物。
【請求項７】
前記プロドラッグが、エステラーゼの作用によりin vivoでフロルフェニコールに変換される、請求項５記載の組成物。
【請求項８】
酢酸フロルフェニコール、プロピオン酸フロルフェニコール、酪酸フロルフェニコール、ペンタン酸フロルフェニコール、へキサン酸フロルフェニコール、ペプタン酸フロルフェニコール、オクタン酸フロルフェニコール、ノナン酸フロルフェニコール、デカン酸フロルフェニコール、ウンデカン酸フロルフェニコール、ドデカン酸フロルフェニコール、及びフタル酸フロルフェニコールからなる群より選ばれる、化合物。
【請求項９】
請求項８記載の化合物及び薬学的に許容される担体を含む、哺乳動物への投与のための医薬組成物。
【請求項１０】
前記化合物が、酢酸フロルフェニコール、プロピオン酸フロルフェニコール、酪酸フロルフェニコール、ヘキサン酸フロルフェニコール、オクタン酸フロルフェニコール、デカン酸フロルフェニコール、ドデカン酸フロルフェニコール、及びフタル酸フロルフェニコールからなる群より選ばれる、請求項９記載の医薬組成物。
【請求項１１】
フロルフェニコールのプロドラッグを含む組成物をヒト以外の哺乳動物に投与するステップを含む、哺乳動物へのフロルフェニコールの投与方法であって、当該プロドラッグが内在性酵素によってin vivoでフロルフェニコールに変換される、前記方法。
【請求項１２】
前記組成物が注射によって投与される、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記組成物が注射されるとき、前記哺乳動物内で薬物デポーを形成する、請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
前記プロドラッグが、前記組成物中に少なくとも250 mg/mlの濃度で存在する、請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
前記プロドラッグが、酢酸フロルフェニコール、プロピオン酸フロルフェニコール、酪酸フロルフェニコール、ペンタン酸フロルフェニコール、ヘキサン酸フロルフェニコール、ペプタン酸フロルフェニコール、オクタン酸フロルフェニコール、ノナン酸フロルフェニコール、デカン酸フロルフェニコール、ウンデカン酸フロルフェニコール、ドデカン酸フロルフェニコール、及びフタル酸フロルフェニコールからなる群より選ばれる、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記プロドラッグが、酢酸フロルフェニコール、プロピオン酸フロルフェニコール、酪酸フロルフェニコール、ヘキサン酸フロルフェニコール、及びフタル酸フロルフェニコールの１つ又はそれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
前記プロドラッグが、１以上のエステラーゼの作用によりin vivoでフロルフェニコールに変換される、請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
前記哺乳動物が、ウシ、ウマ、ヒツジ、ブタ、イヌ及びネコからなる群より選ばれる、請求項１１記載の方法。
【請求項１９】
前記プロドラッグが、前記哺乳動物に筋肉内注射される、請求項１２記載の方法。
【請求項２０】
ヒト以外の哺乳動物へのフロルフェニコールの投与方法であって、酢酸フロルフェニコール、プロピオン酸フロルフェニコール、酪酸フロルフェニコール、ヘキサン酸フロルフェニコール、オクタン酸フロルフェニコール、デカン酸フロルフェニコール、ドデカン酸フロルフェニコール、及びフタル酸フロルフェニコールの１つ又はそれらの組み合わせからなる群より選ばれる化合物を含む組成物を当該哺乳動物に注射することを含み、
ここで、その１以上の化合物が、１以上の内在性エステラーゼの作用により、in vivoでフロルフェニコールに変換される、前記方法。
【請求項２１】
前記１以上の化合物が、酢酸フロルフェニコール、プロピオン酸フロルフェニコール、酪酸フロルフェニコール、ヘキサン酸フロルフェニコール、及びフタル酸フロルフェニコールの１つ又はそれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
前記１以上の化合物が、前記組成物中に少なくとも250 mg/mlの濃度で存在する、請求項２０記載の方法。
【請求項２３】
前記哺乳動物が、ウシ、ウマ、ヒツジ、ブタ、イヌ及びネコからなる群より選ばれる、請求項２０記載の方法。
【請求項２４】
前記製剤が、前記哺乳動物に筋肉内注射される、請求項２３記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月19日(2007.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ検知領域を覆う抵抗膜と、
少なくとも２つの多角形の平行な列の、前記抵抗膜上に配置されるとともに前記タッチ検知領域を囲む個別導電セグメントであって、各列の各縁部は２つの端部導電セグメント間に配置された１つまたは複数の中央部導電セグメントを含み、最も外側の列の多角形の各頂点における端部導電セグメントは最も外側の列において分離され、少なくとも１つ内側の列の多角形の各頂点における端部導電セグメントは前記内側の列において連結される、個別導電セグメントと、
前記タッチ検知領域に印加されたタッチ入力を検出するために前記抵抗膜との間で信号を伝達するための、最も外側の列の前記端部導電セグメントのそれぞれに接続された導電性相互接続線と、を含むタッチセンサ。
【請求項２】
前記導電性相互接続線は前記抵抗膜上に配置された、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項３】
前記導電性相互接続線は個別ワイヤである、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項４】
１対の隣接列間の離隔距離は、少なくとも他の１対の隣接列間の離隔距離と実質的に同じである、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項５】
前記タッチ検知領域の電界は１％以内に線形化された、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項６】
タッチ検知領域を覆う抵抗膜と、
内側の列と最も外側の列を含む、前記タッチ検知領域を囲む２つの多角形の平行な列であって、前記内側の列は前記内側の列の各頂点において前記抵抗膜内に電気的絶縁性隅部セグメントを含み、前記最も外側の列は前記最も外側の列の各頂点における前記抵抗膜上に配置された導電性隅部セグメントを含み、多角形の頂点の各隅部セグメントは、前記多角形の頂点で交差する前記２つの縁部のそれぞれの部分に沿って延在する、２つの多角形の平行な列と、
前記タッチ検知領域に印加されたタッチ入力を検出するために、前記抵抗膜との間の信号を伝達するための前記導電性隅部セグメントに接続された導電性相互接続線と、を含むタッチセンサ。
【請求項７】
タッチ検知領域を覆う抵抗膜と、
前記抵抗膜上に配置されるとともに前記タッチ検知領域を囲む、少なくとも１つの多角形の平行な列の個別導電セグメントであって、各列の各縁部は、２つの端部導電セグメント間に配置された１つまたは複数の中央部導電セグメントを含み、最も外側の列の第１の頂点の端部導電セグメントは前記第１の頂点で連結されて導電性角部セグメントを形成する、個別導電セグメントと、
最も外側の列に沿ってかつその内側に向けられ、かつ前記第１の頂点に隣接して配置された前記抵抗膜における電気的絶縁セグメントであって、前記第１の頂点で交差する最も外側の列の２辺のそれぞれに対し部分的に平行して延在する電気的絶縁セグメントと、を含むタッチセンサ。
【請求項８】
電気的抵抗膜と、
前記抵抗膜上に配置された２つの多角形の平行な列の個別導電セグメントであって、各列は前記多角形の同じ頂点に導電性隅部セグメントを有し、それぞれの隅部セグメントは、前記頂点で交差する２つの縁部のそれぞれの部分に沿って延在する、個別導電セグメントと、
前記２つの隅部セグメント間の電気的絶縁領域と、を含む物品。
【請求項９】
請求項７に記載の物品を含むタッチセンサ。
【請求項１０】
タッチ検知領域の周囲に配置されるとともに、第１の隅部で交差する第１の辺と第２の辺を有する多角形の電界線形化パターンであって、前記電界線形化パターンは内側の列と外側の列の個別導電セグメントを有し、前記内側の列は、前記第１の角部に導電性隅部セグメントを有し、前記導電性隅部セグメントは前記線形化パターンの前記第１と第２の辺の一部分に沿って延在する、多角形の電界線形化パターンと、
前記線形化パターン内に電流を生成することにより前記タッチ検知領域に印加されたタッチ入力の位置を検出するように構成された電子機器と、を含むタッチセンサであって、
前記線形化パターンの前記第１の辺から前記第２の辺へ流れる電流は実質的に前記線形化パターン内に制限されたタッチセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月22日(2007.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに反対側の光入射端および光出射端を有する細長い可撓性光ファイバ素子と、
前記光ファイバ素子の光入射端にある光源と、
前記光源および前記光ファイバ素子の前記光入射端を支持し、前記光ファイバ素子の前記光出射端が支持される収納位置と、前記光ファイバ素子の前記光出射端が前記収納位置から離れた動作位置にあるような延長使用位置との間での前記光ファイバ素子の移動を可能にするための手段と、を備えるタスクライトアセンブリであって、
前記光源および前記光ファイバ素子の前記光入射端を支持しかつ前記収納位置と前記延長使用位置との間での前記光ファイバ素子を可能にするための前記手段は、リールアセンブリを備え、
前記リールアセンブリは、ハブと、前記ハブを支持部材に支持するための手段と、前記ハブに回転可能に取り付けられるリールとを備え、
前記リールは、直径が少なくとも３０．５ｃｍである略円筒形の周縁面を有し、前記光源および前記光ファイバ素子の前記光入射端は前記リールアセンブリに取り付けられ、前記光ファイバ素子の長さの８０％超が前記収納位置で前記リールの周縁面に巻かれ、
前記リールアセンブリは、
（１）第１の方向への回転のために前記リールを偏倚するとともに、回転の際に前記光ファイバ素子を前記リールの周縁面の周囲に巻き付けることができる偏倚手段と、
（２）前記偏倚手段に対抗して前記リールの周縁面の周囲から前記光ファイバ素子を解くために、第２の方向への前記リールの回転を可能にする回転手段と、
（３）前記偏倚手段に対抗して前記ハブに対して複数の位置のうちの１つで前記リールを解放可能に保持するための、前記ハブと前記リールとの間の保持手段と、を備え、
前記保持手段は前記光ファイバ素子に沿って張力の付与および除去によって係合可能かつ解放可能である、タスクライトアセンブリ。
【請求項２】
前記リールの前記略円筒形の周縁面は、直径が少なくとも４５．７ｃｍである、請求項１に記載のタスクライトアセンブリ。
【請求項３】
前記支持手段は前記リールに前記光源および前記光ファイバ素子の前記光入射端を支持し、前記光源は４８ボルト以下の電圧および少なくとも５０ワットの電力で動作する白熱電球またはハロゲン電球である、請求項１に記載のタスクライトアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月25日(2007.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、上面と垂直方向に伸びる側壁とを有するゲート電極を形成するステップと、
前記ゲート電極をマスクとして使用して、前記基板にソース／ドレイン拡張領域を形成するステップと、
前記基板および前記ゲート電極上に、スペーサ層をたい積するステップと、
前記スペーサ層上に、前記スペーサ層を形成する材料と異なる材料であって、特定のエッチャントによるエッチングに前記スペーサ層が晒される場合に実質的にエッチングされないような材料により構成されている保護層を形成するステップと、
前記ゲート電極の前記側壁に平行である、前記スペーサ層の垂直方向に伸びる側壁に沿った部分を除いて前記保護層を除去すべく、前記保護層をエッチングするステップと、
前記ゲート電極上に、前記ゲート電極の前記側壁に平行に伸びる、実質的に垂直な２つの側壁をそれぞれ有する複数の第１スペーサを形成するために、前記基板および前記ゲート電極の前記上面から前記スペーサ層を除去するように、前記スペーサ層をエッチングするステップと、
前記ゲート電極および前記第１スペーサにより前記基板をマスキングした状態で、ソース／ドレイン注入を実行するステップと、
前記ソース／ドレイン注入の後、前記第１スペーサ上に第２スペーサを形成するステップと、
を含む、スペーサを形成する方法。
【請求項２】
前記スペーサ層は、２００Å以上の厚さでたい積される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記保護層は、約１０Åから約１００Åの厚さで形成される、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記スペーサ層は窒化物であり、前記保護層は酸化物である、請求項３記載の方法。
【請求項５】
基板にソース／ドレイン拡張領域を形成するステップと、
前記基板および、上面と垂直方向に伸びる側壁とを有するゲート電極上に、スペーサ層をたい積するステップと、
前記スペーサ層上に保護層を形成するステップと、
前記ゲート電極の上面上の前記スペーサ層から前記保護層を除去するとともに前記ゲート電極の前記側壁に平行な前記スペーサ層上の前記保護層を除去しないように、前記保護層をエッチングするステップと、
前記ゲート電極上に、前記ゲート電極の前記側壁と平行に伸びる、実質的に垂直な２つの側壁をそれぞれ有する複数のスペーサを形成するために、前記基板および前記ゲート電極の前記上面から前記スペーサ層を除去するように、前記スペーサ層をエッチングするステップと、前記ゲート電極および前記スペーサが前記基板をマスキングした状態で、ソース／ドレイン注入を実行するステップと、
を含む、半導体デバイスを形成する方法。
【請求項６】
基板上に、垂直方向に伸びる側壁を有するゲート電極を形成するステップと、
前記基板にソース／ドレイン拡張部を形成するステップと、
前記ゲート電極上に、前記ゲート電極の側壁と実質的に平行な、垂直方向に伸びる一組の平坦な側壁をそれぞれ有する複数の第１側壁スペーサを形成するステップと、
前記ゲート電極および前記第１側壁スペーサが前記基板をマスキングした状態で、ソース／ドレイン注入を実行するステップと、
を含み、
前記第１側壁スペーサを形成するステップは、
前記基板に前記ソース／ドレイン拡張部を形成後に、前記基板および前記ゲート電極上に、スペーサ層をたい積するステップと、
前記スペーサ層上に保護層を形成するステップと、
前記第１側壁スペーサを形成するように、前記保護層および前記スペーサ層をエッチングするステップと、を含む、
半導体デバイスを形成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月8日(2007.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
色値画素を有するデジタルカラー画像における空を検出する方法であって、
（ａ）前記デジタルカラー画像から初期空領域を表す画素を特定し、
（ｂ）前記特定された空画素に基づいてモデルを作成し、前記モデルは画素位置を入力とし、色を出力とする数学関数であって、
（ｃ）前記モデルを用いて、前記デジタルカラー画像における前記初期空領域に含まれていない画素を空として追加分類する、方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、前記モデルは前記デジタルカラー画像における画素位置に関する二次元多項式である、方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、前記モデルを用いて画素を空として追加分類する工程は、さらに、
（ｉ）前記画素位置について、画素の色と前記モデルの推定の色との差を決定し、
（ｉｉ）前記差を用いて、前記画素が空領域であるか決定する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月8日(2007.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクセス可能なウェブサイトで画像を公開し、フルフィルメントプロバイダで記憶される画像に関して前記フルフィルメントプロバイダにより提供されるべきグッズ及び／サービスを注文する方法であって、
当該方法は、
前記フルフィルメントプロバイダが通信ネットワークを通してユーザ装置から高解像度のデジタル画像を受信するステップと、
前記フルフィルメントプロバイダが高解像度のデジタル画像を記憶し、前記高解像度の画像が記憶されるストレージロケーションを識別し、前記フルフィルメントプロバイダのインターネットアドレスに関する情報を提供する固有のＩＤを前記高解像度の画像に関連付け、前記固有のＩＤを前記ユーザコンピュータに送出するステップと、
前記アクセス可能なウェブサイトが前記ユーザ装置から前記高解像度の画像の低解像度の画像のコピーと前記固有のＩＤを受信するステップと、
前記ウェブサイトが前記固有のＩＤと関連付けされたアクションボタンと共にアクセス可能なウェブサイトで前記低解像度の画像を公開するステップと、
前記ビューワが前記フルフィルメントプロバイダにより記憶された前記高解像度画像に関してグッズ及び／又はサービスを注文するために前記フルフィルメントプロバイダと直接注文をなすことができるように、前記アクションボタンが前記ビューワにより選択されたとき、前記フルフィルメントプロバイダに前記ウェブサイトのビューワを送出するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記サービスプロバイダにより提供される前記サービスは、プリント、電子メール、前記画像の高解像度のコピーの共有又は取得を含む、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記アクセス可能なウェブサイト及びフルフィルメントプロバイダは同じサイトにある、
請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自己ラミネートリストバンドを含むプリンタにより処理されるのに適する多層ビジネスフォームページであって、
前記リストバンドが、
感熱式画像表面を有する印刷可能なフェイスプライ部分と、
印刷可能なフェイスプライ部分を実質的に包囲するラミネーション層部分であって、人の手足の周りを包むために前記フェイスプライ部分のただ１つの側から延びるストラップ部分を有する前記ラミネーション層部分と、
自由端が挿入されるシンチ部分とを有し、シンチ部分により前記リストバンドが前記人の手足に取り付けられる、多層ビジネスフォームページ。
【請求項２】
前記取り付け部分が、前記ストラップ部分の端部に塗布された接着剤を含み、前記ストラップ部分および接着剤が、前記人の手足の周りに巻き付けられて、前記ストラップ部分を前記リストバンドの他の部位へと貼り付けるように使用されることができ、これによってリストバンドを完成させて取り付けることができる、請求項１に記載のビジネスフォーム。
【請求項３】
前記シンチ部分が、前記ラミネーション層部分に形成された少なくとも１つの溝を含み、前記ストラップ部分がそれ自体に重なってそれ自体に貼り付くことで、前記リストバンドの前記人の手足への取り付けを完了できるよう、前記溝が、ストラップ部分を受け入れて通過させるように構成される、請求項２に記載のビジネスフォーム。
【請求項４】
前記ラミネーション部分が、前記フェイスプライ部分に貼り付いた第１の片割れと、前記フェイスプライの印刷可能部分に重なるための第２の片割れ及び延長部分を有し、前記溝は延長部分に形成される、請求項３に記載のビジネスフォーム。
【請求項５】
複数の前記ページが、リストバンドを端部対端部で配置しつつ、各ページを穿孔線にて隣接するページから分離しているリストバンドの連続ロールに形成され、前記ロールは実質的にリストバンドの幅であり、前記ラミネーション層部分は印刷可能なフェイスプライ部分の下にある第１の部分と第１の部分に折り曲げるための第２の部分を有し、前記フェイスプライ部分の端部からの前記第２の部分は前記ストラップ部分から反対側である、請求項１に記載のビジネスフォーム。
【請求項６】
複数の前記ページが、ページの扇折りへと形成されるとともに、単一のページが前記扇折りの各層を形成し、さらに穿孔線が、各ページを隣接するページから分離しており、前記扇折りが、実質的にリストバンドの幅であるとともに、リストバンドが、前記扇折りにおいて実質的に端部対端部で位置している、請求項１に記載のビジネスフォーム。
【請求項７】
リストバンドを含むリストバンドビジネスフォームであって、
前記リストバンドが、
印刷画像の受容に適したフェイスプライであって、少なくとも一端に刻み段部を有するフェイスプライ部分と、
前記フェイスプライから延びる自由端を備え、前記印刷可能なフェイスプライをラミネートするためのラミネーション部分と、
前記フェイスプライ部分およびラミネーション部分の両端に位置する少なくとも１つの溝を含むシンチ部分であって、リストバンドを人の手足の周りに固定するため、前記自由端が挿入されるシンチ部分と
を有する、リストバンドビジネスフォーム。
【請求項８】
自己ラミネートリストバンドがダイカットされてなる、ビジネスフォームページであって、前記リストバンドが、シンチ部分とストラップとからなる締め具を有し、前記締め具が、少なくとも１つのシンチ溝および前記シンチ溝に隣接する延長部を備え、前記延長部が、少なくとも１つの折り返しフラップを備え、前記ストラップが前記シンチ溝を通って挿入されたときに、前記折り返しフラップを前記延長部およびストラップへと折り返して、前記延長部およびストラップを固定することができる、ビジネスフォームページ。
【請求項９】
自己ラミネートリストバンドがダイカットされてなる、ビジネスフォームページであって、前記リストバンドが、シンチ部分とストラップとからなる締め具を有し、前記締め具が、少なくとも１つのシンチ溝および前記シンチ溝に隣接する延長部を備え、前記延長部が、外側端付近にもう１つのシンチ溝を備え、前記ストラップが、前記外側のシンチ溝を通り、次いで他方のシンチ溝を通って挿入されたとき、ストラップが接続されてリストバンドを患者の手足の周りに取り付ける、ビジネスフォームページ。
【請求項１０】
前記シンチ溝の間を広がる延長部に沿って接着剤の層をさらに有し、前記ストラップが、前記シンチ溝へと通された後に前記接着剤層へと押し付けられたとき、さらにリストバンドへと接合される、請求項９に記載のビジネスフォームページ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月13日(2007.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のソリッドステート薄膜ヒータ−吸収体チャンネル（３１）を有する濃縮器（７０４）と、
前記第１のソリッドステート薄膜ヒータ−吸収体チャンネルに隣接するフェーズド・ヒータ・アレイと、を備え、
前記濃縮器は、前記第１のソリッドステート薄膜ヒータ−吸収体チャンネル（３１）に隣接された第２のソリッドステート薄膜ヒータ−吸収体チャンネル（３２）を有し、
前記第１および第２のソリッドステート薄膜ヒータ−吸収体チャンネル（３１、３２）は、５０ｐｓｉ（≒３．５ｂａｒ）より大きい圧力を有する流体を濃縮および／または分離するためのものである、
流体アナライザ。
【請求項２】
複数のヒータ（２０、２２、２４、２６）を有する第１のチャンネル（３１）を備え、
前記第１のチャンネルは、内部高圧力に十分耐える構造を有し、
前記内部高圧力は、約５０ｐｓｉ（〜３．５ｂａｒ）と１００００ｐｓｉ（〜７００ｂａｒ）の間にあり、
前記チャンネルは、前記複数のヒータのうちの各ヒータ要素（２０、２２、２４、２６）に対応する少なくとも１つの相互作用的要素（４０、４２、４４、４６）を含み、
前記複数のヒータ要素は、前記対応する少なくとも１つの相互作用的要素を加熱するために、時間段階的シーケンスで電圧を印加されることができ、
各対応する相互作用的要素は、前記第１のチャンネルにおいて流体の構成成分を吸収および／または脱着することができる、
流体アナライザ。
【請求項３】
内部表面と外部表面とを有する細長い構造（７３０）と、
前記構造の前記内部表面上に形成された吸収素材（７３２）と、
前記外部表面上に形成されたヒータ材料（７３１）と、を備え、
前記ヒータ材料は、非電導ギャップ（７３４）をその間に有するセグメントをなすように形成され、
前記ヒータ・セグメントは、前記構造の長手方向に沿って移動する熱パルスを供給するために、フェーズド・ヒータ回路（７３７）に接続される、
流体アナライザ。
【請求項４】
内部表面と外部表面とを有する細長い構造（７３０）と、
前記内部表面上に形成されたヒータ材料（７３１）と、
前記ヒータ材料上に成された吸収素材（７３２）と、
を備える流体アナライザ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月11日(2007.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の端部に近接して前記構成要素を支持するようになっており、所定の距離（２３）だけ空けて配置された第１および第２の磁気材料片（２２、２４）が結合された第２の遠心端を有するシャトル（１２）と、
前記シャトル（１２）を支持し、前記構成要素が前記位置に実質的に存在する第１のＩＮポジションと、前記構成要素が前記位置に実質的に存在しない第２のＯＵＴポジションとの間で第１の方向に前記シャトル（１２）を移動することができるようにするガイドウェイ（１６）と、
前記ガイドウェイ（１６）を支持するためのベース（１８）と、
前記ベース（１８）に結合され、前記間隙を空けて配置された第１の磁気片（２２）と第２の磁気片（２４）との間に配置され、その結果、前記シャトル（１２）が前記ＩＮポジションに到達するときに前記第１の片（２２）と第３の片（２８）とが接触して第１の磁気ラッチを形成して前記シャトル（１２）を前記ＩＮポジションに解放可能に保持し、前記シャトル（１２）が前記ＯＵＴポジションに到達するときに前記第２の片（２４）と第３の片（２８）とが第２の磁気ラッチを形成して前記シャトル（１２）を前記ＯＵＴポジションに解放可能に保持する、共通の磁気軸を共有する第３の磁気片（２８）およびコイル（３０）であって、前記コイル（３０）によって生成される磁気パルスがどちらかの磁気ラッチを解放させ、前記ＩＮポジションまたはＯＵＴポジションから前記シャトル（１２）を解放する第３の磁気片（２８）およびコイル（３０）と、
前記シャトル（１２）と前記ベース（１８）との間に結合され、前記シャトル（１２）が前記ＩＮポジションまたはＯＵＴポジションのどちらかにあるときにエネルギーを蓄積し、どちらかの磁気ラッチが解放されるときにかかる蓄積されたエネルギーを前記シャトル（１２）に対して移送し、それによって前記シャトル（１２）を前記対向するＯＵＴポジションまたはＩＮポジションに移動させる１つまたは複数のスプリング（３６、３８）と、
を備える構成要素を所定の位置に配置し、そこから回収するための高速挿入アセンブリ（１０）。
【請求項２】
第２のコイル（８４）と磁気アーマチュア（８２）とをさらに備え、このうちの一方は前記ベース（１８）に結合され、このうちの他方は前記シャトル（１２）に結合され、その結果、電流パルスが前記第２のコイル（８４）に印加されるときに、前記シャトル（１２）が、ＩＮポジションまたはＯＵＴポジションのうちの一方に向かって移動する、請求項１に記載のアセンブリ（１０）。
【請求項３】
間隙を空けて配置された対向する第１の双安定ポジションと第２の双安定ポジションとの間でシャトル（１２）を移動させるためのシステムであって、
前記シャトル（１２）が前記第１の双安定ポジションにあるか前記第２の双安定ポジションにあるかを決定するための１つまたは複数のセンサ（９０−１、９０−２、９０−３）と、
磁気吸引力を与え、それによって前記第１の双安定ポジションまたは前記第２の双安定ポジションのどちらかに前記シャトル（１２）を解放可能に保持する磁気ラッチを形成するためのアセンブリ（１０、６０、７８）と、
前記アセンブリ（１０）の一部分（２６）に磁気的に結合され、前記コイル（３０）に十分な電流パルスが供給されるときに、このコイルが、前記磁気ラッチを形成する前記磁気吸引力に一時的に打ち勝つ磁界を生成し、それによって前記磁気ラッチを解放させる、第１のコイル（３０）と、
前記１つまたは複数のポジションセンサ（９０−１、９０−２、９０−３）および前記第１のコイル（３０）に電気的に結合され、外部入力（１１０）を有する制御装置（１０８）と、を備え、
前記制御装置（１０８）は、前記１つまたは複数のセンサ（９０−１、９０−２、９０−３）からのシャトルポジションデータとポジション変更コマンドとを前記外部入力（１１０）を経由して受け取り、次いで前記コマンドで指示されたポジションが、現在のシャトルポジションとは異なる場合に、前記制御装置（１０８）が、前記十分な電流パルスを前記第１のコイル（３０）に供給し、それによって前記磁気ラッチを解放させ、その結果、前記シャトル（１２）が前記対向する双安定ポジションへと移行する、
システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月20日(2007.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光指向性フィルムであって、
第１の表面と、
前記第１の表面と反対側の構造化表面であって、プリズム要素のアレイを有している構造化表面とを備えており、
該プリズム要素のアレイは、
前記第１の表面と前記構造化表面との間に配置された基準面から第１の距離に配置された鈍い先端を有する第１のプリズム要素と、
前記基準面から前記第１の距離よりも小さい第２の距離に配置された鋭い先端を有する第２のプリズム要素と、
をさらに有する、光指向性フィルム。
【請求項２】
光指向性フィルムであって、
第１の表面と、
前記第１の表面と反対側の構造化表面であって、前記構造化表面は、交互に配置された第１及び第２のプリズム要素のアレイを有し、前記第１のプリズム要素は外面を画定する鈍い先端を有し、前記第２のプリズム要素は前記外面に対して凹状になっている鋭い先端を有する、構造化表面と、
を備えた光指向性フィルム。
【請求項３】
光指向性フィルムであって、
第１の表面と、
前記第１の表面と反対側の構造化表面であって、前記構造化表面は交互に配置された第１及び第２のプリズム要素のアレイを有し、前記第１のプリズム要素は少なくとも１つの外面を画定する鈍い先端を有し、前記第２のプリズム要素は少なくとも１つの内面を画定する鋭い先端を有する、構造化表面と、
を備えた光指向性フィルム。
【請求項４】
光指向性フィルムであって、
第１の表面と、
前記第１の表面と反対側の構造化表面であって、前記構造化表面は交互に配置された第１及び第２のプリズム要素のアレイを有し、前記第１のプリズム要素は複数の外面を画定する鈍い先端を有し、前記第２のプリズム要素は複数の内面を画定する鋭い先端を有し、前記内面は前記外面に対して凹状になっている、構造化表面と、
を備えた光指向性フィルム。
【請求項５】
光指向性物品であって、
第１の表面、前記第１の表面と反対側の第１の構造化表面、及び前記第１の表面と前記第１の構造化表面との間にある基準面を有する第１の光指向性フィルムであって、前記第１の構造化表面は、第１の主軸に沿って配向された、第１のプリズム要素及び第２のプリズム要素の線形のアレイを有し、前記第１及び第２のプリズム要素は、少なくとも１つの第２のプリズム要素が少なくとも一対の第１のプリズム要素の間に挟み込まれる繰り返しパターンで配置されており、前記第１のプリズム要素は前記基準面から第１の距離に配置された鈍い先端を有し、且つ、前記第２のプリズム要素は前記第１の距離よりも小さい、前記基準面から第２の距離に配置された鋭い先端を有している、第１の光指向性フィルムと、
前記第１の光指向性フィルムの前記第１の構造化表面に隣接して配置された実質的に平坦な表面を有する第２の光指向性フィルムであって、前記第２の光指向性フィルムは、前記実質的に平坦な表面と反対側の第２の構造化表面を有し、前記第２の構造化表面は第２の主軸に沿って配向されたプリズム要素の線形のアレイを有している、第２の光指向性フィルムとを含み、
前記第１の主軸は前記第２の主軸と光学結合を最小にする角度で交差する、光指向性物品。
【請求項６】
光学ディスプレイであって、
光源と、
可視スクリーンと、
前記光源から前記可視スクリーンまで光を導く光搬送手段であって、該光搬送手段は少なくとも第１の光指向性フィルムを有し、前記光指向性フィルムは第１の表面、前記第１の表面と反対側の構造化表面、及び前記第１の表面と前記構造化表面との間にある基準面を有しており、前記構造化表面は、第１のプリズム要素及び第２のプリズム要素のアレイを有し、前記第１のプリズム要素は鈍い先端を有し、前記第２のプリズム要素は鋭い先端を有し、前記鈍い先端は前記基準面から第１の距離に配置され、前記鋭い先端は前記基準面から第２の距離に配置され、前記第２の距離は前記第１の距離よりも小さい、光搬送手段と、
を備えた光学ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月27日(2007.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】抗しわ化粧用組成物におけるアクメラ・オレラシア（Acmella oleracea）抽出物のボトックス（登録商標）様作用のための使用
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ボトックス（登録商標）様作用のための、つまり、特に顔面の、皮下筋収縮を阻害するための、スピラントール、とりわけアクメラ・オレラシア（Acmella oleracea）抽出物の形でのものの使用に関する。本発明はまた、抗しわ化粧用組成物における精製分子又は抽出物の使用に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
ボトックス（登録商標）又はボツリヌス毒素はクロストリジウム・ボツリナム（Clostridium botulinum）と呼ばれる細菌から抽出される物質である。この毒素は、顔面筋に注射されると、顔面筋を麻痺させ、顔のしわを減らす。ボトックス（登録商標）が眉間のしわ、額のしわ、目尻のしわ及び鼻のしわを減らすのに特に効果的であるということは、明白に観察されている。だがしかし、ある条件下でのボトックス（登録商標）の使用は死をもたらし得るように、ボトックス（登録商標）の主な欠点はその毒性にある。
言い換えれば、毒性が無くボトックス（登録商標）様の性質を備えるものを開発することが課題である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
６．結論
本研究の条件下では、アクメラ・オレラシア抽出物とスピラントール化合物は、筋収縮の阻害をもたらした。収縮能の回復は、植物抽出物の存在下では見られたが、スピラントールの存在下では見られなかった。この違いは恐らくプロトコールの違いによるものだろう。何故なら、神経-筋肉系は、純粋なスピラントールの存在下での６時間に比べ、抽出物の存在下では５分間しか培養していないからである。
ボツリヌス毒素の抗しわ効果は、表情線（深いしわ）に関与すると考えられる皮下筋収縮を阻害する能力にある。すなわち、本被験物質は、もし収縮活性阻害能（もしくはボトックス（登録商標）様作用）があるとしたら、ボツリヌス毒素と同じような抗しわの可能性を有している。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月23日(2007.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
2007517886.tif 000001
［式中、
Ｍは、式：
【化２】
2007517886.tif 000002
の基であり、
Ｙは、式：
【化３】
2007517886.tif 000003
の基であり、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、独立して、水素、−ＮＨ２、ハロゲン、−ＯＣ１−６アルキル、−ＣＦ３、−Ｎ（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ３、−（Ｃ＝Ｏ）ＯＨ、−ＣＦ３、−（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ２、−ＳＯ２ＣＨ３、−ＳＯ２ＯＨまたは−Ｃ１−６アルキルであり、
Ｗは、−（ＣＨ２）ｎ−であり、ここに、ｎは０〜２であり、
Ｒ４は、−ＮＨ２または−ＯＨであり、
Ｒ５およびＲ６は、独立して、水素またはハロゲンである］
で示される化合物、またはその塩、溶媒和物、もしくは生理学上機能的な誘導体。
【請求項２】
Ｍが式：
【化４】
2007517886.tif 000004
の基であり、Ｙが式：
【化５】
2007517886.tif 000005
［式中、Ｒ２は、水素、−ＮＨ２、ハロゲン、−ＯＣ１−６アルキル、−ＣＦ３、−Ｎ（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ３、−（Ｃ＝Ｏ）ＯＨ、−ＣＦ３、−（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ２、−ＳＯ２ＣＨ３、−ＳＯ２ＯＨまたは−Ｃ１−６アルキルである］
の基である、請求項１記載の式Ｉの化合物。
【請求項３】
治療上有効量の請求項１記載の式Ｉの化合物、またはその塩、溶媒和物、もしくは生理学上機能的な誘導体および１以上の医薬上許容される担体、希釈剤および賦形剤を含む、ｈＹＡＫ３および／またはＣＫ２を阻害するための医薬組成物。
【請求項４】
治療上有効量の請求項１記載の式Ｉの化合物、またはその塩、溶媒和物、もしくは生理学上機能的な誘導体および１以上の医薬上許容される担体、希釈剤および賦形剤を含む、好中球減少症；血球減少症；腎不全あるいは自己免疫、ＨＩＶまたは癌のような慢性疾患に起因する貧血症および薬物誘発性貧血症を包含する貧血症；および骨髄抑制からなる群から選択される赤血球および造血系の疾患を治療または予防するための医薬組成物。
【請求項５】
治療上有効量の請求項１記載の式Ｉの化合物、またはその塩、溶媒和物、もしくは生理学上機能的な誘導体および１以上の医薬上許容される担体、希釈剤および賦形剤を含む、癌またはウイルス感染を治療または予防するための医薬組成物。
【請求項６】
４−アニリノ−５−カルボキシル−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール；
４−アニリノ−５−メトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール；
５−アミノカルボニル−２−（３−メトキシフェニル）−４−（２−トリフルオロメチルアニリノ）チアゾール；
５−メトキシカルボニル−２−（３−メトキシフェニル）−４−（２−トリフルオロメチルアニリノ）チアゾール；
５−カルボキシル−２−（４−メトキシフェニル）−４−（２−トリフルオロメチル）アニリノチアゾール；
５−アミノカルボニル−２−（３−メトキシフェニル）−４−（２−トリフルオロメチルアニリノ）チアゾール；
５−カルボキシル−４−（３−フルオロアニリノ）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール；
５−カルボキシル−２−（４−メトキシフェニル）−４−（２−トリフルオロメチルアニリノ）チアゾール；．
４−アニリノ−５−カルボキシル−２−（３−メトキシフェニル）チアゾール；
５−カルボキシル−４−（２−フルオロアニリノ）−２−（３−メトキシフェニル）チアゾール；
４−ベンジルアミノ−５−メトキシカルボキシル２−（４−メトキシフェニル）チアゾール
４−（２−クロロ−フェニルアミノ）−２−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−５−イル）−チアゾール−５−カルボン酸エチルエステル；
４−（２−クロロフェニルアミノ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（２−クロロフェニルアミノ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）チアゾール−５−カルボン酸アミド；
４−（２−クロロ−５−フルオロフェニルアミノ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）チアゾール−５−カルボン酸アミド；
４−（２−クロロフェニルアミノ）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（５−アセチルアミノ−２−クロロフェニルアミノ）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（５−カルバモイル−２−クロロフェニルアミノ）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（２−クロロ−５−スルホフェニルアミノ）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（５−アミノ−２−クロロフェニルアミノ）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（２−クロロ−４−メタンスルホニルフェニルアミノ）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（４−カルボキシ−２−クロロフェニルアミノ）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（２−クロロフェニルアミノ）−２−（ピリジン−３−イル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（３，５−ジクロロピリジン−４−イルアミノ）−２−（ピリジン−３−イル）チアゾール−５−カルボン酸；
２−ピリジン−３−イル−４−（ピリジン−３−イルアミノ）−チアゾール−５−カルボン酸；
４−（２−クロロフェニルアミノ）−２−（ピリジン−４−イル）−チアゾール−５−カルボン酸；
４−［２−（３−クロロフェニル）エチルアミノ］−２−（ピリジン−４−イル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−［２−（３−クロロフェニル）エチルアミノ］−２−（ピリジン−４−イル）−チアゾール−５−カルボン酸アミド；
４−（２−クロロ−５−フルオロフェニルアミノ）−２−（ピリジン−３−イル）チアゾール−５−カルボン酸；
４−（２−クロロ−５−フルオロ−フェニルアミノ）−２−（ピリジン−３−イル）チアゾール−５−カルボン酸アミド；
２−（ピリジン−３−イル）−４−（２−トリフルオロメチル−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボン酸アミド；
４−（４−クロロベンジルアミノ）−２−（ピリジン−３−イル）チアゾール−５−カルボン酸；および
４−（４−クロロベンジルアミノ）−２−（ピリジン−３−イル）チアゾール−５−カルボン酸
からなる群から選択される請求項１ 記載の式Ｉの化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月24日(2007.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔性基板と、ＭＦＩ型ゼオライトからなる多孔性分離層と、からなる複合膜であって、
合成溶液中においてアルミニウムに対するケイ素のモル比が１２０を超える熱水合成によって分離層が製造され、基板が分離層に隣接する少なくとも１００ｎｍの領域内に１０質量％未満のアルミニウムを単体又は化学結合の形で含み、且つ分離層においてアルミニウムに対するケイ素のモル比が１２０を超え、基板材料が非対称構造を有することを特徴とする複合膜。
【請求項２】
基板が５ｎｍ〜３μｍの孔径の貫通孔を有する本体部である請求項１に記載の複合膜。
【請求項３】
基板が、スチール、焼結金属、酸化物セラミック材料及び金属酸化物からなる群から選択される請求項１又は２に記載の複合膜。
【請求項４】
少なくとも１層の多孔性基板と、少なくとも１層の多孔性分離層と、を含む複合膜において、分離層が、少なくとも１種のＭＦＩ型ゼオライトを含み、そして分離層中においてアルミニウムに対するケイ素のモル比が１２０を超え、基板が分離層に隣接する少なくとも１００ｎｍの領域内に１０質量％未満のアルミニウムを単体又は化学結合の形で含み、且つ基板材料が非対称構造を有する複合膜の製造方法であって、
以下の処理工程：
（ａ）１００〜２５０℃の条件下、アルミニウムに対するケイ素のモル比が１２０を超える合成溶液を基板に１〜１００時間接触させることによって基板に合成溶液を熱水合成する工程、
（ｂ）工程（ａ）から得られた膜を、水又は酸性溶液で５〜１２０分間に亘って洗浄する工程、
（ｃ）膜を、流動気体又は静止気体の存在下、５〜４０℃で１〜１００時間に亘って乾燥する工程、
（ｄ）膜を、２００〜６００℃まで０．１〜１Ｋ／分の加熱速度でか焼し、且つ最終温度で、滞留を３０〜５００分間行い、その後０．１〜１０Ｋ／分の速度で冷却する工程、を含むことを特徴とする複合膜の製造方法。
【請求項５】
熱水合成を行う前に、被覆が行われる基板の塗布面側を少なくとも部分的に覆うシード粒子の層を該塗布面側に施すシード工程に処理工程（ａ）で使用される基板材料を付す請求項４に記載の方法。
【請求項６】
基板に対する合成溶液の熱水合成において、単一又は複数の被覆されない基板の表面に対する合成溶液の接触は、基板の細孔内と被覆されない表面とに存在する媒体によって実質的に防止される請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
少なくとも１種の膜を含む少なくとも１基の膜装置においてオレフィン含有混合物を分離する方法であって、
オレフィン含有混合物が膜装置に流入し、少なくとも１種の膜と接触し、そして膜を通過する流れと膜を通過しない流れに分離され、且つ当該方法において、請求項１〜３のいずれか１項に記載の複合膜か、又は請求項４〜６のいずれか１項に記載の方法により得られる複合膜を使用することを特徴とするオレフィン含有混合物の分離方法。
【請求項８】
分離が２０〜２００℃の条件下で行われる請求項７に記載の方法。
【請求項９】
オレフィン含有混合物を分離する場合、膜の浸透側の圧力は０．０１〜１０バール（絶対圧）であり、及び／又は膜の保持側の圧力は浸透側より高圧である請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
オレフィン含有混合物を複合膜と接触させることによってオレフィン含有混合物を分離する工程を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の複合膜又は請求項４〜６のいずれか１項の方法により得られる複合膜の使用方法。
【請求項１１】
混合物がブテンの異性体を含む請求項１０に記載の使用方法。