【手続補正書】
【提出日】平成19年2月13日(2007.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも１つのＮＯ基、少なくとも１つのＮＯ２基、又は少なくとも１つのＮＯ基及びＮＯ２基を含むプロトンポンプ阻害剤化合物、又はその薬剤学的に許容される塩。
【請求項２】  少なくとも１つのＮＯ基、少なくとも１つのＮＯ２基、又は少なくとも１つのＮＯ基及びＮＯ２基を含む化合物が、次の式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、 式（Ｖ）、式（ＶＩ）又は式（ＶＩＩ）で表される化合物、もしくはその薬剤学的に許容される塩である、請求項１に記載された化合物：
式（Ｉ）の化合物：
【化１】
2002537336.tif 000001
ここで
AはS、S(O)またはS(O)2であり；
Bは‐CNR7R7'または窒素であり；
JはCHまたは窒素であり；
R１は水素、アルコキシ基、低級アルキル基、またはアルキルチオ基であり；
R2は水素、アルコキシ基、低級アルキル基、アルキルチオ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル基、-NR7R'7'、-OD1または-SD1であり；またはR2及びR1はそれらが結合した炭素鎖とともにシクロアルキル環またはヘテロサイクリック環を形成し；またはR2及びR3はそれらが結合した炭素鎖とともにシクロアルキル環またはヘテロサイクリック環を形成する；
R3及びR11はそれぞれ独立して水素、アルコキシ基、低級アルキル基、またはアルキルチオ基であり；またはR3及びR11はそれらが結合した炭素鎖とともにシクロアルキル環またはヘテロサイクリック環を形成する；
R4及びR5はそれぞれ独立して水素、アルキル基、ハロ基、アルコキシ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、シアノ基、アリール基、ヘテロサイクリック環、‐NR7R7'、-OD1または-CO2R12であり；またはR4及びR5は一緒になって次のものである：
【化２】
2002537336.tif 000002
ここで、
R6は酸素またはN=O-R7であり；
R7及びR7'はそれぞれ独立して水素、低級アルキル基またはDであり；またはR7及びR7'はそれらが結合した窒素とともにヘテロサイクリック環を形成する；
R10は水素であり；またはR10及びR1はそれらが結合した炭素鎖とともにシクロアルキル環を形成する；
R12は低級アルキル基またはDであり；
D1は水素またはDであり；
DはQまたはKであり；
Qは-NOまたは-NO2であり；
Kは-Wa-Eb-(C（Re）（Rf）)p-Ec-(C（Re）（Rf）)x-Wd-(C（Re）（Rf）)y-Wi-Ej-Wg-(C（Re）（Rf）)z-T-Qであり；
a、b、c、d、ｇ、i及びjはそれぞれ独立して0から3までの整数であり；
p、x、y及びzはそれぞれ独立して0から10までの整数であり；
Wはその都度独立して、-C(O)、-C(S)、-T-、-(C（Re）（Rf）)h-、アルキル基、アリール基、ヘテロサイクリック環、アリールヘテロサイクリック環または-(CH2CH2O)q-であり；
Eはその都度独立して、-T-、アルキル基、アリール基、-(C（Re）（Rf）)h-、ヘテロサイクリック環、アリールヘテロサイクリック環または-(CH2CH2O)qであり；
hは1から10までの整数であり；
qは1から5までの整数であり；
Re及びRfはそれぞれ独立して水素、アルキル、シクロアルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アリールヘテロサイクリック環、アルキルアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロサイクリックアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ、ジアリールアミノ、アルキルアリールアミノ、アルコキシハロアルキル、ハロアルコキシ、スルホン酸、スルホン酸エステル、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、アリールアルコキシ、アルキルチオ、アリールチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニル、シアノ、アミノアルキル、アミノアリール、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、カルボキサミド、アルキルカルボキサミド、アリールカルボキサミド、アミジル、カルボキシル、カルバモイル、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、エステル、カルボン酸エステル、アルキルカルボン酸エステル、アリールカルボン酸エステル、ハロアルコキシ、スルホンアミド、アルキルスルホンアミド、アリールスルホンアミド、スルホン酸エステル、ウレア、ホスホリル、ニトロ、-T-Q、または-(C（Re）（Rf）)k-T-Q、またはRe及びRfはそれらが結合した炭素とともにカルボニル、メタンチアール、ヘテロサイクリック環、シクロアルキル基または橋かけ結合のあるシクロアルキル基を形成する；
kは1から3の整数であり；
Tはその都度独立して共有結合、カルボニル、酸素、-S(O)o-または-N(Ra)Ri-であり；
oは0から2までの整数であり；
Raは孤立電子対、水素またはアルキル基であり；
Riは水素、アルキル、アリール、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルカルボン酸エステル、アリールカルボン酸エステル、アルキルカルボキサミド、アリールカルボキサミド、アルキルアリール、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルフィニル、アリールスルホニル、スルホンアミド、カルボキサミド、カルボン酸エステル、アミノアルキル、アミノアリール、-CH2-C(T-Q)(Re)(Rf)、または-(N2O2-)−・M+であり、ここでM+は有機または無機カチオンであり；Riが-CH2-C(T-Q)(Re)(Rf)または-(N2O2-)−・M+、またはReまたはRfがT-Qまたは（C(Re)(Rf)）k-T-Qであることを条件にして「-T-Q-」サブグループは水素、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシ、ヘテロサイクリック環またはアリール基であることができ；
そして、式(I)の化合物は少なくとも一つの亜硝酸エステル、硝酸エステル、チオ亜硝酸エステルまたはチオ硝酸エステル基を含まなければならない；
式（ＩＩ）の化合物：
【化３】
2002537336.tif 000003
ここで、
R8は低級アルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルアリール基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、またはKであり；
R9はその都度それぞれ独立して水素、低級アルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン、シアノ基、アルカノイル基、ハロアルキル基、カルバモイル基、-NR7D1、-OD1または-CO2R12であり；
Ｒ７１は水素、低級アルキル基、アルコキシ基、または-ＯＤ１であり；
J、K、D1、R7、R12、q及びoは本明細書に定義した通りであり；
そして、式(ＩＩ)の化合物が少なくとも一つの亜硝酸エステル、硝酸エステル、チオ亜硝酸エステルまたはチオ硝酸エステル基を含むことを条件とする；
式（ＩＩＩ）の化合物：
【化４】
2002537336.tif 000004
ここで、
R13及びR14はそれぞれ独立して水素、低級アルキル基、アルコシアルキル基または低級アルキル-OD1を表わし；またはR13及びR14はそれらが結合した炭素とともにシクロアルキル基またはアリール基を形成する；
R17は水素または低級アルキル基であり；
Y3は次のものであり；
【化５】
2002537336.tif 000005
ここで、
R15は水素または低級アルキル基であり；
R16は水素、ハロゲンまたは低級アルキル基であり；
R63は低級アルキル基またはフェニル基である；
A1、A2およびA3は5員または6員モノサイクリック芳香族環の他のサブユニットを含み、A1、A2およびA3はそれぞれ独立して；
(i)CRo、ここでRoはその都度独立して水素または-OD1であり；
(ii)N-Rp、ここでRpはその都度独立して環に芳香性を与えるための隣接環状原子への共有結合、水素またはKであり；
(iii)硫黄原子；
(iv)酸素原子；または
(v)Ba＝Bb、ここでBa及びBbはそれぞれ独立して窒素原子またはＣＲ０であり；ここでＲ０はその都度独立して水素または-OD1、である；
D1及びKは本明細書において定義したものである；
そして、式(III)の化合物が少なくとも一つの亜硝酸エステル、硝酸エステル、チオ亜硝酸エステルまたはチオ硝酸エステル基を含むことを条件とする；
式(IV)の化合物：
【化６】
2002537336.tif 000006
ここで、
R18及びR19はその都度それぞれ独立して水素、低級アルキル基、ハロゲン、ニトロ基、アルコキシ基、-OD1、-NR20R21、-O(O)CR20、-O(O)COR20、-O(O)CNR20R21、-N(R20)C(O)R21、-N(R20)C(O)NR20R21または-N(R20)C(O)OR21であり；またはR18及びR19はそれらが結合している炭素とともに、水素、低級アルキル基、ハロゲン、ニトロ基、アルコキシ基、-OD1、-NR20R21、-O(O)CR20、-O(O)COR20、-O(O)CNR20R21、-N(R20)C(O)R21、-N(R20)C(O)NR20R21または-N(R20)C(O)OR21から選択された4個までの置換基で任意的に置換されたヘテロサイクリック環またはフェニル環を形成する；
R20及びR21はその都度それぞれ独立して水素、低級アルキル基、アリール基、低級アルキルアリール基またはKであり；
X4は-C(=R6)R22、ヘテロサイクリック環、-NR20R21、ハロゲン、アルコキシ基、アリールアルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヘテロサイクリックアルコキシ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基、アリールアルキルスルホニル基、アリールアルキルスルフィニル基、ヘテロサイクリックスルホニル基、ヘテロサイクリックスルフィニル基であり；
R22は水素、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルキルアリール基、ヘテロサイクリック環、-O-ヘテロサイクリック環またはアルキルヘテロサイクリック環であり；
D1、R6及びKは本明細書において定義したものである；
そして、式(IV)の化合物が少なくとも一つの亜硝酸エステル、硝酸エステル、チオ亜硝酸エステルまたはチオ硝酸エステル基を含むことを条件とする；
式(V)の化合物：
【化７】
2002537336.tif 000007
ここで、
X5は次のものである：
【化８】
2002537336.tif 000008
ここで、
R23は水素、ジアルキルアミノ基、-NR7R7'またはヘテロサイクリック環であり；
R24は水素またはハロゲンであり；
R25は水素、-OD1または低級アルキル-OD1であり；
R27はその都度独立して水素またはアルコキシ基であり；
R28、R29及びR30はそれぞれ独立して水素、低級アルキル基、ジアルキルアミノ基、ヘテロサイクリック環または低級アルキル-OD1であり；
R31は水素、ジアルキルアミノ基またはアルコキシ基であり；
R33は水素または低級アルキル基であり；
ｎは0から1までの整数であり；
R7、R7'、D1は本明細書において定義したものである；
そして、式(V)の化合物が少なくとも一つの亜硝酸エステル、硝酸エステル、チオ亜硝酸エステルまたはチオ硝酸エステル基を含むことを条件とする；
式(VI)の化合物：
【化９】
2002537336.tif 000009
ここで、
A4、A5及びA6はそれぞれ独立して硫黄またはCR34であるが、A4、A5及びA6の一つが硫黄で他の二つがCR34であることを条件とする；
R34はその都度独立して水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、低級アルキル基、ヘテロサイクリック環、低級アルキル-OD1、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、N-アルキルカルバモイル、N,N-ジアルキルカルバモイル、エステル、シクロアルキル、アリール、アルキルアリール、アリールオキシ、アリールアルコキシオキシ、アリールアミノ、アルキルアリールアミノ、アリールチオ、アリールスルホニル、アリールスルフィニルまたはスルホンアミドであり；
R35及びR36はそれぞれ独立して水素または低級アルキル基であり；またはR35及びR36はそれらが結合した炭素鎖とともにシクロアルキル環を形成する；
R26は次ものであり：
【化１０】
2002537336.tif 000010
ここで、
X6は窒素であり、Y6はCR37であり；またはX6がCR37であり、Y6が窒素であり；
R37は水素、ハロゲン、低級アルキル基、トリフルオロメチル、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アリール基、アリールアルコキシ基、ヘテロサイクリック環またはアリールオキシである；
Z6は-NR38R39、SR40またはアリールアルコキシ基であり；
R38及びR39はそれぞれ独立して水素、低級アルキル基、アリール基、アルキルアリール基またはシクロアルキル基であり；またはR38及びR39はそれらが結合した窒素原子とともにヘテロサイクリック環を形成する；
R40は水素、ハロゲン、低級アルキル基、アルキルアリール基、アルケニル基またはハロアルキル基であり；
R41、R42、R43及びR44はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、低級アルキル、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアリール基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、シアノ基、-Y-OD1、-Y-SD1、-Y-NR20R21、-Y-O(O)CR20、-Y-O(O)CNR20R21、-Y-N(R20)C(O)R21または-Y-N(R20)S(O)2R21である；
Yは-(CH2)aまたはフェニル基であり；
R45及びR46はそれぞれ独立して水素、低級アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基である；
D1、R20、R21及びaは本明細書において定義したものである；
そして、式(VI)の化合物が少なくとも一つの亜硝酸エステル、硝酸エステル、チオ亜硝酸エステルまたはチオ硝酸エステル基を含むことを条件とする；
式(VII)の化合物：
【化１１】
2002537336.tif 000011
ここで、
R60は低級アルキル基、アリール基、ハロアルキル基、低級アルキル-OD1またはヘテロサイクリック環であり；
A7は酸素または-ND1であり；
X7は水素またはハロゲンであり；
Y7は次のものであり：
【化１２】
2002537336.tif 000012
またはX7、A7及びY7はそれらが結合した炭素とともに次の構造のものである：
【化１３】
2002537336.tif 000013
ここで、
R61は水素、ハロゲン、低級アルキル基、-OD1または-NHC(O)O-低級アルキルであり；
R62は水素、ハロゲンまたは低級アルキル基であり；
D1は本明細書において定義したものである。
【請求項３】 化合物がベンズイミダゾール、キノリン、ピリミジン、チアジアゾール、スルフィニルニコチンアミド、チエノイミダゾール、又はイミダゾピリジンである請求項２に記載された化合物。
【請求項４】  ベンズイミダゾールが、オメプラゾール、ランソプラゾール、パントプラゾール、ラベプラゾール、レミノプラゾール、チモプラゾール、テナトプラゾール、ジスルプラゾール、エソメプラゾール、２−（２−ベンズイミダゾリル）−ピリジン、３環イミダゾール、チエノピリジンベンズイミダゾール、フルオロアルコキシ置換ベンズイミダゾール、ジアルコキシベンズイミダゾール，Ｎ−置換２−（ピリジルアルケンスルフィニル）ベンズイミダゾール、シクロヘプテンピリジン、５−ピロリル−２−ピリジルメチルスルフィニルベンズイミダゾール、アルキルスルフィニルベンズイミダゾール、フルオロ−ピリジルメチルスルフィニルベンズイミダゾール、イミダゾ［４，５−ｂ］ピドリジン、ＲＯ１８−５３６２又はＩＹ８１１４９であり；ここで、キノリンは４−アミノ−３−カルボニルキノリン、４−アミノ−アシルナフチリド、４−アミノキノリン、４−アミノ−３−アシルキノリン又は３−ブチリル−４−（２−メチルフェニルアミノ）−８−（２−ヒドロキシエトキシ）キノリンであり；ここで、ピリミジンはキナゾリン、テトラヒドロイソキノリン−２−イル  ピリミジン又はＹＨ１８８５であり；ここで、チアジアゾールは３−置換１，２，４−チアジアゾロ［４，５−ａ］ベンズイミダゾール又は３−置換イミダゾ［１，２−ｄ］−チアジアゾールであり；ここで、スルフィニルニコチンアミドは２−スルフィニルニコチンアミドであり；ここでチエノイミダゾールはピリジルスルフィニルベンズ  イミダゾール、ピリジルスルフィニル  チエノ  イミダゾール、チエノイミダゾール−トルイジン、４，５−ジヒドロオキサゾール、チエノイミダゾール−トルイジン又はＨｏｅ−７３１であり；ここで、イミダゾピリジンはイミダゾ「１，２−ａ］ピリジン、ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン又はこれらの薬剤学的に許容される塩である、請求項３に記載された化合物。
【請求項５】  請求項２に記載された化合物及び薬剤学的に許容される担体を含有する組成物。
【請求項６】  さらに、少なくとも１つの非ステロイド抗炎症剤、選択性ＣＯＸ−２阻害剤、制酸剤、ビスマス含有薬剤、及び酸分解性抗菌性化合物を含有する請求項５に記載された組成物。
【請求項７】  請求項２に記載された化合物又はその薬剤学的に許容される塩の少なくとも１つと、酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物の少なくとも１つとを含む組成物。
【請求項８】  さらに、薬剤学的に許容される担体を含有する請求項７に記載された組成物。
【請求項９】  酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物がＳ−ニトロソチオールである、請求項７に記載された組成物。
【請求項１０】  Ｓ−ニトロソチオールが、Ｓ−ニトロソ−Ｎ−アセチルシステイン、Ｓ−ニトロソ−カプトプリル、Ｓ−ニトロソ−Ｎ−アセチルペニシラミン、Ｓ−ニトロソ−ホモシステイン、Ｓ−ニトロソ−システイン、またはＳ−ニトロソ−グルタチオンである、請求項９に記載された組成物。
【請求項１１】  Ｓ−ニトロソチオールが、
（ｉ）  ＨＳ（Ｃ（Ｒｅ）（Ｒｆ））ｍＳＮＯ；
（ｉｉ）  ＯＮＳ（Ｃ（Ｒｅ）（Ｒｆ））ｍＲｅ；及び
（ｉｉｉ）  Ｈ２Ｎ−ＣＨ（ＣＯ２Ｈ）−（ＣＨ２）ｍ−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ２ＳＮＯ）−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−ＣＯ２Ｈであり；
ここで、ｍは２から２０の整数であり；ＲｅおよびＲｆはそれぞれ独立して、水素、アルキル、シクロアルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アリールヘテロサイクリック環、アルキルアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロサイクリックアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ、ジアリールアミノ、アルキルアリールアミノ、アルコキシハロアルキル、ハロアルコキシ、スルホン酸、スルホン酸エステル、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、アリールアルコキシ、アルキルチオ、アリールチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニル、シアノ、アミノアルキル、アミノアリール、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、カルボキサミド、アルキルカルボキサミド、アリールカルボキサミド、アミジル、カルボキシル、カルバモイル、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、エステル、カルボン酸エステル、アルキルカルボン酸エステル、アリールカルボン酸エステル、ハロアルコキシ、スルホンアミド、アルキルスルホンアミド、アリールスルホンアミド、スルホン酸エステル、ウレア、ニトロ、ホスホリル、−Ｔ−Ｑ、または（Ｃ（Ｒｅ）（ＣＲｆ））ｋ−Ｔ−Ｑであるか、または、ＲｅとＲｆがそれらが結合している炭素とともに、カルボニル、メタンチアール、ヘテロサイクリック環、シクロアルキル基または橋かけ結合のあるシクロアルキル基を形成し；Ｑは−ＮＯまたは−ＮＯ２であり；そしてＴは、独立して共有結合、カルボニル、酸素、−Ｓ（Ｏ）ｏ−または−Ｎ（Ｒａ）Ｒｉ−であり、ここでｏは０から２の整数であり、Ｒａは孤立電子対、水素又はアルキル基であり；Ｒｉは水素、アルキル、アリール、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルカルボン酸エステル、アリールカルボン酸エステル、アルキルカルボキサミド、アリールカルボキサミド、アルキルアリール、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルフィニル、アリールスルホニル、スルホンアミド、カルボキサミド、カルボン酸エステル、アミノアルキル、アミノアリール、−ＣＨ２−Ｃ（Ｔ−Ｑ）（Ｒｅ）（Ｒｆ）、または−（Ｎ２Ｏ２−）−・Ｍ＋であって、ここでＭ＋は有機または無機カチオンであるが；ただし、Ｒｉが−ＣＨ２−Ｃ（Ｔ−Ｑ）（Ｒｅ）（Ｒｆ）または−（Ｎ２Ｏ２−）・Ｍ＋の場合には、「−Ｔ−Ｑ」は水素、アルキル基、アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、ヒドロキシル基またはアリール基であってよい、請求項７に記載された組成物。
【請求項１２】  酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物が、Ｌ−アルギニン、Ｌ−ホモアルギニン、Ｎ−ヒドロキシ−Ｌ−アルギニン、ニトロソ化Ｌ−アルギニン、ニトロシル化Ｌ−アルギニン、ニトロソ化Ｎ−ヒドロキシ−Ｌ−アルギニン、ニトロシル化Ｎ−ヒドロキシ−Ｌ−アルギニン、シトルリン、オルニチン、グルタミン、リシン、少なくとも１つのこれらのアミノ酸を含むポリペプチド、または酵素アルギナーゼの阻害剤である、請求項７に記載された組成物。
【請求項１３】  酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物が、
（ｉ）少なくとも一つのＯＮ−Ｏ−、ＯＮ−Ｎ−またはＯＮ−Ｃ−基を含む化合物；
（ｉｉ）少なくとも一つのＯ２Ｎ−Ｏ−、Ｏ２Ｎ−Ｎ−、Ｏ２Ｎ−Ｓ−またはＯ２Ｎ−Ｃ−基を含む化合物；
（ｉｉｉ）Ｒ１Ｒ２−Ｎ（Ｏ−Ｍ＋）−ＮＯの式で表されるＮ−オキソ−Ｎ−ニトロソアミンであって、ここでＲ１およびＲ２はそれぞれ独立して、ポリペプチド、アミノ酸、糖、オリゴヌクレオチド、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換の炭化水素、またはヘテロサイクリック基であり、そしてＭ＋は有機または無機カチオンである、請求項７に記載された組成物。
【請求項１４】  少なくとも一つのＯＮ−Ｏ−、ＯＮ−Ｎ−またはＯＮ−Ｃ−基を有する化合物が、ＯＮ−Ｏ−ポリペプチド、ＯＮ−Ｎ−ポリペプチド、ＯＮ−Ｃ−ポリペプチド、ＯＮ−Ｏ−アミノ酸、ＯＮ−Ｎ−アミノ酸、ＯＮ−Ｃ−アミノ酸、ＯＮ−Ｏ−糖、ＯＮ−Ｎ−糖、ＯＮ−Ｃ−糖、ＯＮ−Ｏ−オリゴヌクレオチド、ＯＮ−Ｎ−オリゴヌクレオチド、ＯＮ−Ｃ−オリゴヌクレオチド、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、置換または非置換、脂肪族または芳香族のＯＮ−Ｏ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、置換または非置換、脂肪族または芳香族のＯＮ−Ｎ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、置換または非置換、脂肪族または芳香族のＯＮ−Ｃ−炭化水素、ＯＮ−Ｏ−ヘテロサイクリック化合物、ＯＮ−Ｎ−ヘテロサイクリック化合物、またはＯＮ−Ｃ−ヘテロサイクリック化合物である、請求項１３に記載された組成物。
【請求項１５】  少なくとも一つのＯ２Ｎ−Ｏ−、Ｏ２Ｎ−Ｎ−、Ｏ２Ｎ−Ｓ−またはＯ２Ｎ−Ｃ−基を有する化合物が、Ｏ２Ｎ−Ｏ−ポリペプチド、Ｏ２Ｎ−Ｎ−ポリペプチド、Ｏ２Ｎ−Ｓ−ポリペプチド、Ｏ２Ｎ−Ｃ−ポリペプチド、Ｏ２Ｎ−Ｏ−アミノ酸、Ｏ２Ｎ−Ｎ−アミノ酸、Ｏ２Ｎ−Ｓ−アミノ酸、Ｏ２Ｎ−Ｃ−アミノ酸、Ｏ２Ｎ−Ｏ−糖、Ｏ２Ｎ−Ｎ−糖、Ｏ２Ｎ−Ｓ−糖、Ｏ２Ｎ−Ｃ−糖、Ｏ２Ｎ−Ｏ−オリゴヌクレオチド、Ｏ２Ｎ−Ｎ−オリゴヌクレオチド、Ｏ２Ｎ−Ｓ−オリゴヌクレオチド、Ｏ２Ｎ−Ｃ−オリゴヌクレオチド、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換のＯ２Ｎ−Ｏ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換のＯ２Ｎ−Ｎ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換のＯ２Ｎ−Ｓ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換のＯ２Ｎ−Ｃ−炭化水素、Ｏ２Ｎ−Ｏ−ヘテロサイクリック化合物、Ｏ２Ｎ−Ｎ−ヘテロサイクリック化合物、Ｏ２Ｎ−Ｓ−ヘテロサイクリック化合物、またはＯ２Ｎ−Ｃ−ヘテロサイクリック化合物である、請求項１３に記載された組成物。
【請求項１６】  さらに、少なくとも１つの非ステロイド抗炎症剤、選択性ＣＯＸ−２阻害剤、制酸剤、ビスマス含有薬剤、及び酸分解性抗菌性化合物を含有する請求項７に記載された組成物。
【請求項１７】  プロトンポンプ阻害剤化合物又はその薬剤学的に許容される塩の少なくとも１つと、酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物の少なくとも１つとを含有する組成物。
【請求項１８】 少なくとも１つのプロトンポンプ阻害剤化合物がベンズイミダゾール、キノリン、ピリミジン、チアジアゾール、スルフィニルニコチンアミド、チエノイミダゾール、又はイミダゾピリジンである請求項１７に記載された組成物。
【請求項１９】  ベンズイミダゾールが、オメプラゾール、ランソプラゾール、パントプラゾール、ラベプラゾール、レミノプラゾール、チモプラゾール、テナトプラゾール、ジスルプラゾール、エソメプラゾール、２−（２−ベンズイミダゾリル）−ピリジン、３環イミダゾール、チエノピリジンベンズイミダゾール、フルオロアルコキシ置換ベンズイミダゾール、ジアルコキシベンズイミダゾール，Ｎ−置換２−（ピリジルアルケンスルフィニル）ベンズイミダゾール、シクロヘプテンピリジン、５−ピロリル−２−ピリジルメチルスルフィニルベンズイミダゾール、アルキルスルフィニルベンズイミダゾール、フルオロ−ピリジルメチルスルフィニルベンズイミダゾール、イミダゾ［４，５−ｂ］ピドリジン、ＲＯ１８−５３６２又はＩＹ８１１４９であり；ここで、キノリンは４−アミノ−３−カルボニルキノリン、４−アミノ−アシルナフチリド、４−アミノキノリン、４−アミノ−３−アシルキノリン又は３−ブチリル−４−（２−メチルフェニルアミノ）−８−（２−ヒドロキシエトキシ）キノリンであり；ここで、ピリミジンはキナゾリン、テトラヒドロイソキノリン−２−イル  ピリミジン又はＹＨ１８８５であり；ここで、チアジアゾールは３−置換１，２，４−チアジアゾロ［４，５−ａ］ベンズイミダゾール又は３−置換イミダゾ［１，２−ｄ］−チアジアゾールであり；ここで、スルフィニルニコチンアミドは２−スルフィニルニコチンアミドであり；ここでチエノイミダゾールはピリジルスルフィニルベンズ  イミダゾール、ピリジルスルフィニル  チエノ  イミダゾール、チエノイミダゾール−トルイジン、４，５−ジヒドロオキサゾール、チエノイミダゾール−トルイジン又はＨｏｅ−７３１であり；ここで、イミダゾピリジンはイミダゾ「１，２−ａ］ピリジン、ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン又はこれらの薬剤学的に許容される塩である、請求項１８に記載された化合物。
【請求項２０】  さらに、薬剤学的に許容される担体を含有する請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】  酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物がＳ−ニトロソチオールである、請求項１７に記載された組成物。
【請求項２２】  Ｓ−ニトロソチオールが、Ｓ−ニトロソ−Ｎ−アセチルシステイン、Ｓ−ニトロソ−カプトプリル、Ｓ−ニトロソ−Ｎ−アセチルペニシラミン、Ｓ−ニトロソ−ホモシステイン、Ｓ−ニトロソ−システイン、またはＳ−ニトロソ−グルタチオンである、請求項２１に記載された組成物。
【請求項２３】  Ｓ−ニトロソチオールが、
（ｉ）  ＨＳ（Ｃ（Ｒｅ）（Ｒｆ））ｍＳＮＯ；
（ｉｉ）  ＯＮＳ（Ｃ（Ｒｅ）（Ｒｆ））ｍＲｅ；及び
（ｉｉｉ）  Ｈ２Ｎ−ＣＨ（ＣＯ２Ｈ）−（ＣＨ２）ｍ−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ２ＳＮＯ）−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−ＣＯ２Ｈであり；
ここで、ｍは２から２０の整数であり；ＲｅおよびＲｆはそれぞれ独立して、水素、アルキル、シクロアルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アリールヘテロサイクリック環、アルキルアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロサイクリックアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ、ジアリールアミノ、アルキルアリールアミノ、アルコキシハロアルキル、ハロアルコキシ、スルホン酸、スルホン酸エステル、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、アリールアルコキシ、アルキルチオ、アリールチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニル、シアノ、アミノアルキル、アミノアリール、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、カルボキサミド、アルキルカルボキサミド、アリールカルボキサミド、アミジル、カルボキシル、カルバモイル、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、エステル、カルボン酸エステル、アルキルカルボン酸エステル、アリールカルボン酸エステル、ハロアルコキシ、スルホンアミド、アルキルスルホンアミド、アリールスルホンアミド、スルホン酸エステル、ウレア、ニトロ、ホスホリル、−Ｔ−Ｑ、または（Ｃ（Ｒｅ）（ＣＲｆ））ｋ−Ｔ−Ｑであるか、または、ＲｅとＲｆがそれらが結合している炭素とともに、カルボニル、メタンチアール、ヘテロサイクリック環、シクロアルキル基または橋かけ結合のあるシクロアルキル基を形成し；Ｑは−ＮＯまたは−ＮＯ２であり；そしてＴは、独立して共有結合、カルボニル、酸素、−Ｓ（Ｏ）ｏ−または−Ｎ（Ｒａ）Ｒｉ−であり、ここでｏは０から２の整数であり、Ｒａは孤立電子対、水素又はアルキル基であり；Ｒｉは水素、アルキル、アリール、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルカルボン酸エステル、アリールカルボン酸エステル、アルキルカルボキサミド、アリールカルボキサミド、アルキルアリール、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルフィニル、アリールスルホニル、スルホンアミド、カルボキサミド、カルボン酸エステル、アミノアルキル、アミノアリール、−ＣＨ２−Ｃ（Ｔ−Ｑ）（Ｒｅ）（Ｒｆ）、または−（Ｎ２Ｏ２−）−・Ｍ＋であって、ここでＭ＋は有機または無機カチオンであるが；ただし、Ｒｉが−ＣＨ２−Ｃ（Ｔ−Ｑ）（Ｒｅ）（Ｒｆ）または−（Ｎ２Ｏ２−）・Ｍ＋の場合には、「−Ｔ−Ｑ」は水素、アルキル基、アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、ヒドロキシル基またはアリール基であってよい、請求項２１に記載された組成物。
【請求項２４】  酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物が、Ｌ−アルギニン、Ｌ−ホモアルギニン、Ｎ−ヒドロキシ−Ｌ−アルギニン、ニトロソ化Ｌ−アルギニン、ニトロシル化Ｌ−アルギニン、ニトロソ化Ｎ−ヒドロキシ−Ｌ−アルギニン、ニトロシル化Ｎ−ヒドロキシ−Ｌ−アルギニン、シトルリン、オルニチン、グルタミン、リシン、少なくとも１つのこれらのアミノ酸を含むポリペプチド、または酵素アルギナーゼの阻害剤である、請求項１７に記載された組成物。
【請求項２５】  酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物が、
（ｉ）少なくとも一つのＯＮ−Ｏ−、ＯＮ−Ｎ−またはＯＮ−Ｃ−基を含む化合物；
（ｉｉ）少なくとも一つのＯ２Ｎ−Ｏ−、Ｏ２Ｎ−Ｎ−、Ｏ２Ｎ−Ｓ−またはＯ２Ｎ−Ｃ−基を含む化合物；
（ｉｉｉ）Ｒ１Ｒ２−Ｎ（Ｏ−Ｍ＋）−ＮＯの式で表されるＮ−オキソ−Ｎ−ニトロソアミンであって、ここでＲ１およびＲ２はそれぞれ独立して、ポリペプチド、アミノ酸、糖、オリゴヌクレオチド、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換の炭化水素、またはヘテロサイクリック基であり、そしてＭ＋は有機または無機カチオンである、請求項１７に記載された組成物。
【請求項２６】  少なくとも一つのＯＮ−Ｏ−、ＯＮ−Ｎ−またはＯＮ−Ｃ−基を有する化合物が、ＯＮ−Ｏ−ポリペプチド、ＯＮ−Ｎ−ポリペプチド、ＯＮ−Ｃ−ポリペプチド、ＯＮ−Ｏ−アミノ酸、ＯＮ−Ｎ−アミノ酸、ＯＮ−Ｃ−アミノ酸、ＯＮ−Ｏ−糖、ＯＮ−Ｎ−糖、ＯＮ−Ｃ−糖、ＯＮ−Ｏ−オリゴヌクレオチド、ＯＮ−Ｎ−オリゴヌクレオチド、ＯＮ−Ｃ−オリゴヌクレオチド、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、置換または非置換、脂肪族または芳香族のＯＮ−Ｏ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、置換または非置換、脂肪族または芳香族のＯＮ−Ｎ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、置換または非置換、脂肪族または芳香族のＯＮ−Ｃ−炭化水素、ＯＮ−Ｏ−ヘテロサイクリック化合物、ＯＮ−Ｎ−ヘテロサイクリック化合物、またはＯＮ−Ｃ−ヘテロサイクリック化合物である、請求項２５に記載された組成物。
【請求項２７】  少なくとも一つのＯ２Ｎ−Ｏ−、Ｏ２Ｎ−Ｎ−、Ｏ２Ｎ−Ｓ−またはＯ２Ｎ−Ｃ−基を有する化合物が、Ｏ２Ｎ−Ｏ−ポリペプチド、Ｏ２Ｎ−Ｎ−ポリペプチド、Ｏ２Ｎ−Ｓ−ポリペプチド、Ｏ２Ｎ−Ｃ−ポリペプチド、Ｏ２Ｎ−Ｏ−アミノ酸、Ｏ２Ｎ−Ｎ−アミノ酸、Ｏ２Ｎ−Ｓ−アミノ酸、Ｏ２Ｎ−Ｃ−アミノ酸、Ｏ２Ｎ−Ｏ−糖、Ｏ２Ｎ−Ｎ−糖、Ｏ２Ｎ−Ｓ−糖、Ｏ２Ｎ−Ｃ−糖、Ｏ２Ｎ−Ｏ−オリゴヌクレオチド、Ｏ２Ｎ−Ｎ−オリゴヌクレオチド、Ｏ２Ｎ−Ｓ−オリゴヌクレオチド、Ｏ２Ｎ−Ｃ−オリゴヌクレオチド、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換のＯ２Ｎ−Ｏ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換のＯ２Ｎ−Ｎ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換のＯ２Ｎ−Ｓ−炭化水素、直鎖状または分岐状、飽和または不飽和、脂肪族または芳香族、置換または非置換のＯ２Ｎ−Ｃ−炭化水素、Ｏ２Ｎ−Ｏ−ヘテロサイクリック化合物、Ｏ２Ｎ−Ｎ−ヘテロサイクリック化合物、Ｏ２Ｎ−Ｓ−ヘテロサイクリック化合物、またはＯ２Ｎ−Ｃ−ヘテロサイクリック化合物である、請求項２５に記載された組成物。
【請求項２８】  さらに、少なくとも１つの非ステロイド抗炎症剤、選択性ＣＯＸ−２阻害剤、制酸剤、ビスマス含有薬剤、及び酸分解性抗菌性化合物を含有する請求項１７に記載された組成物。
【請求項２９】  少なくとも１つの請求項２に記載された化合物又はその薬剤学的に許容される塩と、少なくとも１つの酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物とを含有するキット。
【請求項３０】  少なくとも１つの請求項２に記載された化合物又はその薬剤学的に許容される塩、及び少なくとも１つの酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物が、キット中で分離された成分として又は１つの組成物の形態で存在する請求項２９に記載されたキット。
【請求項３１】  さらに、少なくとも１つの非ステロイド抗炎症剤、選択性ＣＯＸ−２阻害剤、制酸剤、ビスマス含有薬剤、及び酸分解性抗菌性化合物を含有する請求項２９に記載されたキット。
【請求項３２】  少なくとも１つのプロトンポンプ阻害剤化合物又はその薬剤学的に許容される塩と、少なくとも１つの酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物とを含有するキット。
【請求項３３】  少なくとも１つのプロトンポンプ阻害剤化合物又はその薬剤学的に許容される塩、及び少なくとも１つの酸化窒素を供与、転移または放出するか、内因性の酸化窒素または内皮由来弛緩因子の産生を誘導するか、または酸化窒素シンターゼの基質である化合物が、キット中で分離された成分として又は１つの組成物の形態で存在する請求項３２に記載されたキット。
【請求項３４】  さらに、少なくとも１つの非ステロイド抗炎症剤、選択性ＣＯＸ−２阻害剤、制酸剤、ビスマス含有薬剤、及び酸分解性抗菌性化合物を含有する請求項３２に記載されたキット。