(57)【要約】【課題】            清浄度の低い操作室内の物品を容易にかつ速やかに清浄度の高い操作室に移動させることができ、しかも、清浄度の高い操作室においては清浄度を保持できる製造設備を提供する。【解決手段】        少なくとも１つの洗浄室と複数の操作室とを具備する製造設備であって、洗浄室は洗浄設備及び塵芥除去設備を具備し、洗浄室の圧力は全ての操作室よりも高い圧力になるように調整され、複数の操作室は操作室ごとに異なる出入口で洗浄室と連通している構造を具備することを特徴とする製造設備。【選択図】          図１
2006336959.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの洗浄室と複数の操作室とを具備する製造設備であって、洗浄室は洗浄設備及び塵芥除去設備を具備し、洗浄室の圧力は全ての操作室よりも高い圧力になるように調整され、複数の操作室は操作室ごとに異なる出入口で洗浄室と連通している構造を具備することを特徴とする製造設備。
【請求項２】
複数の操作室が互いに遮断されていることを特徴とする請求項１に記載の製造設備。
【請求項３】
洗浄室及び操作室にそれぞれ圧力センサーが具備され、該センサーによって各室が圧力調整される装置を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の製造設備。
【請求項４】
洗浄室と操作室を連通する出入口が２つ以上同時に開かない構造を具備することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造設備。
【請求項５】
複数の操作室が互いに異なる洗浄室に連通しており、通路は複数の洗浄室と互いに異なる出入口で連通し、通路の圧力は洗浄室の中で最も低い圧力よりも低い圧力になるように調整されている構造を具備することを特徴とする１〜３のいずれかに記載の製造設備。
【請求項６】
洗浄室と通路とのそれぞれの出入口が２つ以上同時に開かない構造を具備することを特徴とする請求項５に記載の製造設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、食品、医農薬品、電子部品、電子工業薬品などの高度な清浄度が求められる分野の製造設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
食品、医農薬品、電子部品、電子工業薬品などの製造等は、高度な清浄度が保持された複数の操作室を具備する製造設備で操作されており、具体的には、操作室の圧力を高い順から操作室１、２、３と設定し、この順で空気を流すことによって塵芥などの移動を防止し、清浄度の高い順が、操作室１、２、３となるように保持されることが特許文献１に開示されている。
しかしながら、製造等の都合から、定められた以外の順番で製造中間体、製造部品あるいは製造器具などの物品を操作室間で移動することが求められる場合がある。このような場合の対策として、清浄度の異なる操作室と操作室との間にチャンバと呼ばれる前室を設置し、前室を両室よりも高圧に保持しながら、かつ、清浄空気をチャンバに供給して、物品を操作室間で移動させても、清浄度の低い操作室から清浄度の高い操作室に物品を移動させても、それに伴って塵芥が移動して、清浄度の高い操作室の清浄度の低下を防止する方法が提案されている（特許文献２）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１５３４１５号公報（請求項１）
【特許文献２】特開平１１−２５７７００号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば、医薬品製造設備では、塵芥以外にも、操作室内で反応終了後の反応器具などの汚染された器具や、汚染物が付着した作業者の衣服などの物品が生じる。そのため、圧力差や清浄空気の流入だけでは、汚染物が付着した物品の移動に伴って、移動した先の操作室で汚染物が拡散してしまうという問題があった。また、清浄度の低い操作室において汚染物が付着した物品を洗浄して清浄度の高い操作室に移動させても、清浄度の低い操作室において洗浄直後の物品に再び汚染物が付着してしまい、かかる物品を清浄度の高い操作室に移動することによって、清浄度の高い操作室における清浄度を低下させてしまうという問題があった。
そこで、物品の移動によって清浄度の高い操作室の清浄度の低下を抑制するために、物品を移動させるたびごとに清浄度の低い操作室の洗浄及び塵芥除去を行うことを本発明者らは検討したが、そのための時間や手間がかかるという問題が明らかになった。
本発明の目的は、清浄度の低い操作室内の物品を容易にかつ速やかに清浄度の高い操作室に移動させることができ、しかも、清浄度の高い操作室においては清浄度を保持できる製造設備を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、少なくとも１つの洗浄室と複数の操作室とを具備する製造設備であって、洗浄室は洗浄設備及び塵芥除去設備を具備し、洗浄室の圧力は全ての操作室よりも高い圧力になるように調整され、複数の操作室は操作室ごとに異なる出入口で洗浄室と連通している構造を具備することを特徴とする製造設備である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の製造設備は、操作室よりも高圧な洗浄室を設けており、清浄度の低い操作室内に浮遊する汚染物は洗浄室に侵入することなく、洗浄室は比較的高い清浄度が保持されている。そして、洗浄室の洗浄設備及び塵芥除去設備によって物品に付着した汚染物は物品及び洗浄室から速やかに除去され、洗浄された物品に再び汚染されない。このことにより、物品に付着する汚染物はなく、物品の移動先の操作室においても清浄度がさらに低下することはない。
また、物品を移動させるためだけに清浄度の低い操作室を洗浄及び塵芥除去を行う必要はない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の実施の一態様である図１に基づいて説明する。
洗浄室は図１において２で表されており、洗浄室には洗浄装置（図示せず）、塵芥除去装置（図示せず）が具備されている。洗浄装置とは、操作室内で反応終了後の反応器具などの汚染された器具や、汚染物が付着した作業者の衣服などの物品から汚染物を除去し得る設備であり、例えば、配水管などの洗浄溶液供給部と、シンクなどの洗浄部と、廃水管などの廃水除去部とを具備し、好ましくは、洗剤、タワシなどの洗浄器具収納部が具備されている洗浄設備が挙げられる。異なる例示として、清浄空気によって、塵芥を吹き飛ばす装置のように電子部品製造に好適な洗浄装置なども挙げられる。
【０００８】
塵芥除去装置は、サイクロンなどのような集塵装置に接続されたダクトなどが挙げられ、ダクト及びサイクロンを経由して塵芥が洗浄室から除去される。塵芥除去設備により、汚染された器具や器具の移動の際に生じる塵芥が除去できるのである。
また、化学実験室のドラフトのように、洗浄装置と塵芥除去装置とが同時に具備されていてもよい。
さらに、汚染物を梱包することによって物品を含めて塵芥を除去する梱包設備も本発明の塵芥除去設備に属する。具体的には、本発明の洗浄室において、脱衣したのち、人間はただちに他の操作室に移動することができ、衣服は梱包されて塵芥を除去されるので、移動時に人間とともに汚染物が移動することはない。
【０００９】
洗浄室の圧力は、後述する操作室よりも高く設定される。具体的には、洗浄室、操作室及び出入口の大きさ、操作室の圧力によっても異なるが、通常、大気圧よりさらに１５〜４５Ｐａ程度、好ましくは、２５〜３５Ｐａ程度加圧される。
洗浄室は、外部との出入口Ｂが具備されていてもよい。外部から搬入された人や物品は、洗浄室にて、適宜、洗浄される。
【００１０】
洗浄室は、物品や人間に付着した汚染物を除去する他、汚染物を発生させないことに使用すればよく、例えば、更衣室、通路などに使用してもよい。
【００１１】
本発明の製造設備は図１及び２のように複数の操作室を具備し、複数の操作室は操作室ごとに異なる出入口で洗浄室と連通している。
例えば、操作室１−１と１−２は同じ程度の清浄度であり、物品の移動によって清浄度の低下がなく、操作室１−３のみが清浄度を高く保持しなければならない場合、操作室１−１と１−２との間に出入口があって、連通していてもよいが、通常、清浄度の低い操作室から清浄度の高い操作室に汚染物が移動しないように、操作室は互いに遮断されていることが好ましい。
本発明の実施の一形態である図１を用いて操作室について説明すると、操作室は１−１、１−２及び１−３として表されており、洗浄室２とはそれぞれ異なる出入口Ａ１、Ａ２及びＡ３を介して連通している。操作室１−１、１−２及び１−３は互いに壁によって遮断されている。
操作室の遮断は、エアカーテンのようなものであってもよい。操作室同士が通常は遮断されているが、緊急避難などの目的で、非常口で連通できる構造であってもよい。
【００１２】
洗浄室と操作室との出入口は、同時に２つの出入口が開かない構造を具備することが好ましい。同時に２つの出入口が開かない構造とは、図１において説明すれば、Ａ１が開放されている時は、Ａ２及びＡ３が開放されない構造を意味する。
具体的には、例えば、２つの出入口に防爆タイプのインターロックを装備する構造；警告灯、音声警告などで同時に開放しないように注意喚起をする構造；出入口は、塵芥センサーや視認窓などにより、該出入口が連通している洗浄室の内部が汚れていない時のみ開放する構造などが挙げられる。
このことにより、清浄度の低い操作室及び洗浄室の汚染物が、清浄度の高い操作室などに移動しないことから好ましい。
【００１３】
操作室では、食品の場合には、例えば、食品の製造、充填、包装などの操作が行われ、医薬品製造の場合は、例えば、反応、分離、精製、充填、包装などの操作が行われ、電子部品製造の場合は、操作室に電子部品製造装置を具備させて、電子部品を製造、運搬、包装などの操作が行われる。例えば、電子部品製造の一種である集積回路製造の場合、レジストの塗布、除去などのように電子部品製造の際に洗浄工程が含まれる場合、洗浄室２とは別に洗浄設備が具備されていてもよい。
【００１４】
操作室は、操作のみならず、倉庫などとして用いられていてもよい。
操作室の圧力は、洗浄室よりも低く設定される。具体的には、設備の大きさ、出入口の大きさによっても異なるが、通常、大気圧〜５０Ｐａ程度、好ましくは、２０〜４０Ｐａ程度加圧される。かかる圧力条件を満足していれば、複数の操作室については、圧力が同一でも異なっていてもよい。
操作室は、通常、清浄空気を洗浄室から供給されるが、別途、清浄空気供給口が具備されていてもよい。
さらに、反応などによって生じる汚染や塵芥を除去するために、操作室に洗浄設備、塵芥除去装置が具備されていてもよい。
【００１５】
洗浄室及び操作室の圧力は、通常、各室に圧力センサが具備され、その圧力センサに基づいて、洗浄室の清浄空気供給口の清浄空気供給量及び／又は洗浄室の塵芥除去装置の排気量が適宜、変更されて、前記した圧力条件が維持される。洗浄室は操作室より高い室圧であることから、洗浄室と操作室との間に導圧管を設置し、洗浄室と操作室との間で圧力測定及び圧力調整してもよい。
洗浄室は、通常、圧力調整が自動でできるようにダンパーが設置されている。
【００１６】
出入口の扉は、洗浄室の圧力を維持するため密閉性が確保されていればよく、例えば、エアタイトドア、観音開き型ドア、引き戸などが挙げられる。中でもエアタイトドアが密閉性に優れることから好ましい。
【００１７】
洗浄頻度が高い場合や、操作室の使用期間が長く、清浄度の低い操作室から清浄度の高い操作室への物品の移動が困難な場合や、頻繁に汚染物を付着した物品を洗浄した上で移動させる必要がある場合などは図２の如く、複数の操作室（１−１、１−２、１−３）が互いに異なる洗浄室（２−１、２−２、２−３）に連通しており、通路３は複数の洗浄室と互いに異なる出入口（Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３）を介して連通している構造を具備していてもよい。
この場合、通路３の圧力は、全ての洗浄室の最も低い圧力よりも低い圧力であり、通常、−１０〜２０Ｐａ程度、好ましくは、１０〜２０Ｐａ程度加圧される。かかる圧力条件を満足していれば、複数の洗浄室については、圧力が同一でも異なっていてもよい。
また、通路を有する場合、出入口（例えば、Ａ１、Ａ２、Ａ３）は同時に開放されていてもよいが、洗浄室と通路とを連通する出入口（例えば、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３）は同時に２つの出入口が開かない構造を具備することが好ましい。
【００１８】
操作室は図１及び図２の如く３室に限定されず、図１においては洗浄室２を、図２においては通路３を延長してさらに操作室を増加させてもよいし、洗浄室及び操作室が異なる階であってもよい。
また、洗浄室及び操作室が壁により隣接した態様を示したが、室間の出入口を廊下や階段、エレベータなどを介して連通する態様でもよい。
【産業上の利用可能性】
【００１９】
本発明の設備は、半導体、液晶表示装置などの電子部品、医薬品、農薬品、電子工業薬品などの工業化学品、食品等の清浄な場での製造設備に用いることができる。特に、ＧＬＰ（Good Laboratory Practice）やＨＡＣＣＰ（Hazard Analysis Critical ControlPoints）などのように、厳しい管理が定められている医薬品や食品の製造設備に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の製造設備の実施態様の一つの概略図
【図２】通路を有する本発明の製造設備の実施態様の一つの概略図
【符号の説明】
【００２１】
１−１：操作室
１−２：操作室
１−３：操作室
２    ：洗浄室
２−１：洗浄室
２−２：洗浄室
２−３：洗浄室
３：通路
Ａ１〜Ａ３：洗浄室と操作室との出入口
Ｂ：外部との出入口
Ｃ１〜Ｃ３：洗浄室と通路との出入口
＋：大気圧に約１５Ｐａ加圧されていることを意味する。
＋＋：大気圧に約３０Ｐａ加圧されていることを意味する。
【図１】
2006336959.tif 000003
【図２】
2006336959.tif 000004