Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】図１Ａおよび図１Ｂは、従来型車椅子の例を示している。
【図２Ａ】図２Ａは、人輸送装置の様々な実施形態を示している。
【図２Ｂ】図２Ｂは、人輸送装置の様々な実施形態を示している。
【図２Ｃ】図２Ｃは、人輸送装置の様々な実施形態を示している。
【図２Ｄ】図２Ｄは、人輸送装置の様々な実施形態を示している。
【図２Ｅ】図２Ｅは、人輸送装置の様々な実施形態を示している。
【図２Ｆ】図２Ｆは、人輸送装置の様々な実施形態を示している。
【図３】図３は、人輸送装置の別の実施形態を示している。
【図４】図４は、図２Ａに示されている輸送装置の簡略形を示している。
【図５】図５Ａおよび図５Ｂは、階段モードで作動中の人輸送装置のクラスタの相対向きを示している。
【図６】図６は、人輸送装置の可能な作動モードのブロック図を示している。
【図７】図７Ａおよび図７Ｂは、輸送装置の簡略化した側面図である。
【図８】図８は、本発明の態様に従って実行することができる制御ループの一例を示している。
【図９】図９は、本発明の態様に従った切り換えモードに使用できる値の例をグラフで示している。
【図１０】図１０は、制御切り換え値を決定する１つの実施形態のデータ・フロー図である。
【図１１】図１１は、輸送装置の様々なサブモード間での移行時を決定する方法をフローチャートで示している。
【図１２Ａ】図１２Ａは、本発明と組み合わせて使用することができる制御ユニットの一例を示している。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、図１２Ａの制御ユニットの１つの実施形態の機能ブロック図を示している。
【図１３】図１３は、本発明に従って実行することができる制御ループを示している。
【図１４】図１４は、本発明の態様に従って使用することができる利得テーブルの一例を示す図である。
【図１５】図１５は、制御装置に印加する前に制御信号を平滑化するために実行されるシステムの一例を示している。
【図１６】図１６は、制御信号を平滑化する方法のブロック図を示している。
【図１７Ａ】図１７Ａは、本発明の態様に従って利得スケジューリング動作を実行するために構成された制御ループのブロック図を示している。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、モード間で円滑に移行することができる制御システムの実施形態を示している。
【図１８】図１８は、本発明の態様に従ってフィードバック制御システムで実行される制御スケジューリング・プロセスのフローチャートを示している。
【図１９】図１９は、図１７Ａおよび図１７Ｂに存在する様々な信号をグラフで示している。
【図２０】図２０は、輸送装置の車輪の位置を制御する制御ループの一例を示している。
【図２１】図２１は、輸送装置のクラスタの位置を制御する制御ループの一例を示している。
【図２２】図２２Ａは、重心推定値を使用することができる制御ループの一例を示している。図２２Ｂは、重心の位置の推定値に基づいて所望の向きを生成するシステムのブロック図を示している。
【図２３】図２３は、輸送装置のフリー・ボディ(free body)図の一例を示している。
【図２４】図２４は、装置の重心の位置を推定するためのデータ・セットを生成する方法の一例を示している。
【図２５Ａ】図２５Ａは、図２４の方法の各部分を図形で示している。
【図２５Ｂ】図２５Ｂは、図２４の方法の各部分を図形で示している。
【図２５Ｃ】図２５Ｃは、図２４の方法の各部分を図形で示している。
【図２６】図２６は、輸送装置の重心の位置を推定するために使用することができるデータ・セットのグラフを示している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2002538891.tif 000001
【図２Ａ】
2002538891.tif 000002
【図２Ｂ】
2002538891.tif 000003
【図２Ｃ】
2002538891.tif 000004
【図２Ｄ】
2002538891.tif 000005
【図２Ｅ】
2002538891.tif 000006
【図２Ｆ】
2002538891.tif 000007
【図３】
2002538891.tif 000008
【図４】
2002538891.tif 000009
【図５】
2002538891.tif 000010
【図６】
2002538891.tif 000011
【図７】
2002538891.tif 000012
【図８】
2002538891.tif 000013
【図９】
2002538891.tif 000014
【図１０】
2002538891.tif 000015
【図１１】
2002538891.tif 000016
【図１２Ａ】
2002538891.tif 000017
【図１２Ｂ】
2002538891.tif 000018
【図１３】
2002538891.tif 000019
【図１４】
2002538891.tif 000020
【図１５】
2002538891.tif 000021
【図１６】
2002538891.tif 000022
【図１７Ａ】
2002538891.tif 000023
【図１７Ｂ】
2002538891.tif 000024
【図１８】
2002538891.tif 000025
【図１９】
2002538891.tif 000026
【図２０】
2002538891.tif 000027
【図２１】
2002538891.tif 000028
【図２２】
2002538891.tif 000029
【図２３】
2002538891.tif 000030
【図２４】
2002538891.tif 000031
【図２５Ａ】
2002538891.tif 000032
【図２５Ｂ】
2002538891.tif 000033
【図２５Ｃ】
2002538891.tif 000034
【図２６】
2002538891.tif 000035
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月7日(2007.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  組織内へ器械を導入することを可能にする外科のアクセス装置であって、この装置が、
長手軸線と基端端部と遠位端端部とを形成する細長い部材であって、この細長い部材が外科の器械を受入れるような寸法である長手方向の開口を形成する外壁を有しているような上記細長い部材と、
細長い部材の外壁に配置されてなる第１の周辺突起部であって、この第１の突起部が基端の堤部を形成していて、堤部の寸法は細長い部材が組織に対して引込む方向に対応する第１の長手方向へ細長い部材が動くことに抵抗するようになっているような上記第１の周辺突起部と、
細長い部材の第１の周辺突起部よりも基端側の外壁に配置されてなる第２の周辺突起部であって、この第２の突起部が遠位端の堤部を形成していて、堤部の寸法は細長い部材が組織に対して挿入される方向に対応する第２の長手方向へ細長い部材が動くことに抵抗するようになっているような上記第２の周辺突起部と、を備え、
第１及び第２の周辺突起部が協働して細長い部材を組織内に保持することを特徴とする外科のアクセス装置。
【請求項２】  第１及び第２の突起部の基端及び遠位端の堤部の少なくともひとつが実質的に平坦になっていることを特徴とする請求項１記載の外科のアクセス装置。
【請求項３】  基端及び遠位端の堤部のそれぞれが実質的に平坦であることを特徴とする請求項２記載の外科のアクセス装置。
【請求項４】  基端及び遠位端の堤部は細長い部材の長手軸線を実質的に横切っていることを特徴とする請求項３記載の外科のアクセス装置。
【請求項５】  第１の周辺突起部と第２の周辺突起部とのそれぞれは実質的に環状の形態であることを特徴とする請求項１記載の外科のアクセス装置。
【請求項６】  第１及び第２の周辺突起部のそれぞれは実質的にＶ字形の形態に形成されていて頂点の領域へと延びる一対の部分を有し、第１の突起部の頂点の領域は第１の突起部の最も遠位端の部分に配置されていると共に、第２の突起部の頂点の領域は第２の突起部の最も基端の部分に配置されていることを特徴とする請求項１記載の外科のアクセス装置。
【請求項７】  複数の第１及び第２の周辺突起部を含むことを特徴とする請求項６記載の外科のアクセス装置。
【請求項８】  第１及び第２の突起部の一対の部分が分離されていることを特徴とする請求項７記載の外科のアクセス装置。
【請求項９】  少なくとも２つの第１の突起部の第１の連列と、第１の突起部の基端に配置されてなる少なくとも２つの第２の突起部の第２の連列とを含むことを特徴とする請求項６記載の外科のアクセス装置。
【請求項１０】  長手軸線に沿って互い違いの関係に配置されてなる複数の第１及び第２の連列を含むことを特徴とする請求項９記載の外科のアクセス装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  外科手術の際に生じた組織の切断縁部を治療するシステムであって、組織の切断縁部に隣接して配置できる治療面を有するような寸法形状の少なくとも１つの部材と、前記治療面上に設けられ、前記治療面を組織の切断縁部に隣接して配置したときに切断縁部と連絡関係をなすよう配置される少なくとも１つの治療要素と、治療要素と連絡関係にあって、術後合併症を軽減するように制御されたやり方で治療を組織の切断縁部に施す治療源とを有することを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月6日(2007.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固形または半固形の微生物増殖培地を有する複数の分離したコンパートメントを有するコンテナを設けるステップと、
１つ以上の前記分離したコンパートメントに微生物を加えるステップと、
１つ以上の前記複数の分離したコンパートメントのなかにある微生物増殖培地の表面または微生物増殖培地の中に抗菌薬剤を配置するステップと、
前記配置するステップの前および／または後にインキュベートするステップであって、ここで、前記コンテナが前記微生物と抗菌薬剤を少なくとも１つのコンパートメントのなかに有する、ステップと、
前記コンパートメント中の発育阻害ゾーンの存在および／または前記コンパートメント中の発育阻害ゾーンの寸法に基づいて、前記抗菌薬剤に対する前記微生物の耐性の存在および／またはその程度を測定するステップと
を含む、それぞれが１つ以上の濃度を有する１つ以上の抗菌薬剤に対する、微生物の耐性の存在および／またはその程度の測定方法。
【請求項２】
前記微生物の耐性の存在および／またはその程度の測定が、感受性、中間型または耐性という判定であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記分離したコンパートメントが伸長コンパートメントであり、隣接している１つ以上の前記伸長コンパートメントには前記隣接コンパートメントにおける微生物増殖の測定を助けるための標識が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
微生物に対する抗菌薬剤の最小発育阻害濃度（ＭＩＣ）が測定されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記抗菌薬剤に対する前記微生物の感受性の存在および／または前記抗菌薬剤に対する前記微生物の感受性の程度を測定する前記ステップが、少なくとも１つの画像キャプチャー装置で１つ以上の間隔で前記コンテナの前記コンパートメントの画像をキャプチャーするステップと、各コンパートメント内の発育阻害ゾーンの長さを測定するステップとを含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの画像キャプチャー装置が、ＣＣＤ直線アレイスキャナー、ＣＣＤラインスキャンカメラ、静止画ＣＣＤの２Ｄアレイカメラ、動画ビデオＣＣＤの２Ｄアレイカメラまたはレーザースキャニングカメラを含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記複数のコンパートメントを有する複数のコンテナと、固形または半固形の増殖培地を設けることを特徴とし、前記複数プレートが手動または自動によって前記画像キャプチャー装置に対して相対的に移動し、コンテナのそれぞれの画像がキャプチャー可能であるように前記画像キャプチャー装置に十分に近くまで移動することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
コンテナの蓋部と底部の両方の画像が、１つ以上の画像キャプチャー装置によりキャプチャーされることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記抗菌薬剤に対する前記微生物の耐性の存在および／またはその耐性の程度の測定は、１つ以上の画像キャプチャー装置により長時間にわたって撮られる複数の画像によって供給される前記微生物の動的な増殖データの分析が含まれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
基板上に設けられる一つ以上の抗菌薬剤と、
少なくとも組立時に、複数の分離したコンパートメントを有するコンテナと、
前記コンテナ内の増殖培地、または前記コンテナに付け加えるための増殖培地であって、ここで、前記増殖培地は、前記コンテナにあるときには、固形または半固形の増殖培地を形成し、前記抗菌薬剤が前記増殖培地に適用されるときには、長時間にわたって拡散した濃度勾配を形成するように、前記増殖培地は十分に固いものである、増殖培地と
を含む、それぞれが１つ以上の濃度を有する１つ以上の抗菌薬剤に対する微生物の耐性の存在および／またはその耐性の程度を測定するためのキット。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ペルオキシダーゼを基本とするアッセイを行う方法であって、
ペルオキシダーゼ酵素と構造：
2002538806.tif 000001
（式中、Ｑは直鎖又は分岐鎖のヘテロ原子数１〜１２のアルキル（式中、ヘテロ原子はＣ、Ｎ、Ｏ及びＳから本質的になる群より選ばれる）であり、該ヘテロ原子アルキル鎖を連結する結合は単結合又は二重結合であり、該ヘテロ原子アルキル鎖中のいずれの炭素原子も−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ2及び−ＳＨからなる群より選ばれる置換基を適宜含んでおり、Ｒは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ2及び−ＣＨ3からなる群より選ばれる）を有する可溶性ｐ−ヒドロキシフェニル含有基質化合物とを反応させる工程、及び、
該可溶性基質化合物を、照射後に励起したとき蛍光を高度に発する安定な不溶性生成物へ変換する工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  前記ｐ−ヒドロキシフェニル含有基質が下記の化合物：
2002538806.tif 000002
からなる群より選ばれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記ペルオキシダーゼ酵素がセイヨウワサビペルオキシダーゼである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記有機化合物の濃度が約１×１０-4Ｍ〜５×１０-2Ｍの範囲にある、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記有機化合物の濃度が約１×１０-3Ｍ〜１×１０-2Ｍの範囲にある、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  前記不溶性生成物を、約３４０ｎｍ〜約３８０ｎｍの波長を有する光で照射して、該不溶性生成物を励起したときに高度に蛍光性になるようにする工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  励起光が約３５０ｎｍ〜約３７０ｎｍの波長を有する、請求項６記載の方法。
【請求項８】  ペルオキシダーゼを基本とするアッセイを行うためのキットであって、
ペルオキシダーゼ酵素、及び、
式：
2002538806.tif 000003
（式中、Ｑは直鎖又は分岐鎖のヘテロ原子数１〜１２のアルキル（式中、ヘテロ原子はＣ、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる）であり、該ヘテロ原子アルキル鎖を連結する結合は単結合又は二重結合であり、該ヘテロ原子アルキル鎖中のいずれの炭素原子も−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ2及び−ＳＨからなる群より選ばれる置換基を適宜含んでおり、Ｒは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ2及び−ＣＨ3からなる群より選ばれる）を有するｐ−ヒドロキシフェニル化合物を含む基質
を含み、該基質は照射後に励起したときに蛍光を高度に発する安定な不溶性生成物を形成することができることを特徴とするキット。
【請求項９】  前記ｐ−ヒドロキシフェニル含有基質が下記の化合物：
2002538806.tif 000004
からなる群より選ばれる、請求項９に記載のキット。
【請求項１０】  前記ペルオキシダーゼ酵素がセイヨウワサビペルオキシダーゼである、請求項８記載のキット。
【請求項１１】  サンプル中の所望の基質の存在又は不存在を検出するための、ペルオキシダーゼを基本とするアッセイ方法であって、
ペルオキシダーゼ酵素と、可溶性ｐ−ヒドロキシフェニル含有基質とを反応させて、安定な不溶性生成物を形成する工程、及び、
該安定な不溶性生成物に照射して、後に励起したときに該安定な不溶性生成物が高度に蛍光性になる工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】  前記基質が、式：
2002538806.tif 000005
（式中、Ｑは直鎖又は分岐鎖のヘテロ原子数１〜１２のアルキル（式中、ヘテロ原子はＣ、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる）であり、該ヘテロ原子アルキル鎖を連結する結合は単結合又は二重結合であり、該ヘテロ原子アルキル鎖中のいずれの炭素原子も−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ2及び−ＳＨからなる群より選ばれる置換基を適宜含んでおり、Ｒは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ2及び−ＣＨ3から本質的になる群より選ばれる）を有している、請求項１１記載のアッセイ方法。
【請求項１３】  前記基質が下記の化合物：
2002538806.tif 000006
からなる群より選ばれる、請求項１２に記載のアッセイ方法。
【請求項１４】  前記基質の濃度が約１×１０-4Ｍ〜５×１０-2Ｍの範囲にある、請求項１２に記載のアッセイ方法。
【請求項１５】  前記基質の濃度が約１×１０-3Ｍ〜１×１０-2Ｍの範囲にある、請求項１１に記載のアッセイ方法。
【請求項１６】  ペルオキシダーゼが基質と反応するタイプのペルオキシダーゼを基本とするアッセイであって、改良点が組合せを含み、該基質が式：
2002538806.tif 000007
（式中、Ｑは直鎖又は分岐鎖のヘテロ原子数１〜１２のアルキル（式中、ヘテロ原子はＣ、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる）であり、該ヘテロ原子アルキル鎖を連結する結合は単結合又は二重結合であり、該ヘテロ原子アルキル鎖中のいずれの炭素原子も−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ2及び−ＳＨからなる群より選ばれる置換基を適宜含んでおり、Ｒは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ2及び−ＣＨ3から本質的になる群より選ばれる）を有するｐ−ヒドロキシフェニル含有基質であることを特徴とするアッセイ。
【請求項１７】  前記ｐ−ヒドロキシフェニル含有基質が下記の化合物：
2002538806.tif 000008
からなる群より選ばれる、請求項１６に記載のアッセイ。
【請求項１８】  前記基質が最初は溶液中に存在し、前記改良点が、
前記基質化合物と前記ペルオキシダーゼとを反応させて、安定な不溶性生成物を生成する工程、
を更に含む、請求項１６に記載のアッセイ。
【請求項１９】  前記安定な不溶性生成物を、３４０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長を有する光で照射して、該生成物が活性化形態に転換する工程を含む、請求項１８に記載のアッセイ。
【請求項２０】  更に、前記活性化形態にある生成物を、第１の波長の光により蛍光性に励起して、励起したときに、活性化した生成物が該第１の波長よりも長い第２の波長の蛍光を発する工程を含むことを特徴とするアッセイ。
【請求項２１】  式：
2002538806.tif 000009
で示される構造を有する化合物。
【請求項２２】  式：
2002538806.tif 000010
で示される構造を有する化合物。
【請求項２３】  式：
2002538806.tif 000011
で示される構造を有する化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月14日(2007.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  低温流体導入部と標的組織に係合するための冷却表面とを備えた冷凍外科用プローブと共に使用される低温流体送り出しシステムであって、
低温流体流出部を備えた冷却流体容器と、
前記容器の前記流体流出部を前記プローブの前記流体導入部に接続する低温流体路と、そして、
前記冷却表面による冷却を制限するべく前記容器から前記プローブへの低温冷却流体の流れを間欠的に阻止する、前記冷却流体路に沿って配置された流れ中断手段とを有する低温送り出しシステム。
【請求項２】  前記流れ中断手段は、ソレノイドバルブを有する請求項１に記載の低温送り出しシステム。
【請求項３】  前記流れ中断手段はバルブ本体に回転可能に係合するバルブ部材を有し、そのバルブ部材が第１回転位置にある時に流体の連通状態を提供し、バルブ部材が第２回転位置にある時に流体の連通を阻止する請求項１に記載の低温送り出しシステム。
【請求項４】  前記流れ中断手段は、更に、前記バルブ部材に駆動可能に接続されたモータを有する請求項３に記載の低温送り出しシステム。
【請求項５】  前記バルブ本体は、非金属製ハウジングを有する請求項３に記載の低温送り出しシステム。
【請求項６】  前記流れ中断手段は、変形可能低温導管と、第１位置と第２位置との間で移動可能な受動部材を備えるソレノイドとを有し、前記変形可能導管は前記ソレノイド部材が前記第１位置にある時に開放され、前記変形可能導管は前記ソレノイド部材が前記第２位置にある時に閉塞される請求項１に記載の低温送り出しシステム。
【請求項７】  前記容器は、シールを備える単用カートリッジを有し、更に、前記カートリッジ内に収納されるとともに、前記カートリッジが室温にある時に前記シールによって圧力下に維持される低温冷却流体を有する請求項１〜６のうちいずれか一項に記載の低温送り出しシステム。
【請求項８】  前記冷却流体は、前記標的組織の所望の処理を行うために、前記組織を、所定の範囲の時間、所定の範囲の温度に維持する量を有する請求項７に記載の低温送り出しシステム。
【請求項９】 患者の体の患血管領域の過形成を阻止するべく、低温血管内カテーテルと共に使用される単用低温流体送り出しシステムであって、
冷却流体容器と、
前記カテーテルへの接続用のコネクタと、
前記容器から前記コネクタへの流体連通を提供し、シールを有する冷却流体通路と、
前記流体容器内に配置される低温冷却流体とを有し、前記冷却流体は、前記コネクタが前記カテーテルに接続され前記シールが開放された時に、過形成を阻止するべく、前記カテーテルが血管を所定の温度範囲の温度にまで冷却する量と圧力とを有する低温送り出しシステム。
【請求項１０】  前記低温流体は、前記容器及びその容器内の低温流体が室温以上に置かれている時に、この容器によって前記圧力に保持される請求項９に記載の低温送り出しシステム。
【請求項１１】  前記低温流体の量は、血管を、所定の処理時間範囲内の一定時間その前記温度範囲内に維持するのに十分なものである請求項９又は１０に記載の低温送り出しシステム。
【請求項１２】  前記所望の処置は、過形成又は新形成の阻止であり、前記低温流体の量と圧力とは、患血管領域の表面を、約１０秒間〜約６０秒間の時間、約−５℃〜約−２５℃の温度に冷却するのに十分なものである請求項９〜１１のうちいずれか一項に記載の低温送り出しシステム。
【請求項１３】  前記容器は使い捨て式カートリッジであり、更に、前記システムが前記容器を受け入れるケーシングを有し、このケーシングの回転によってこのケーシングのシールが破断するように、前記ケーシングが付属具にネジ係合する請求項９〜１２のうちいずれか一項に記載の低温送り出しシステム。
【請求項１４】  前記容器内の前記低温流体の圧力は、約４００〜１０００ｐｓｉの範囲である請求項９〜１３のうちいずれか一項に記載の低温送り出しシステム。
【請求項１５】  前記低温流体はＮ2Ｏを含み、前記容器内のこの低温流体の量は約５〜約３０グラムである請求項９〜１４のうちいずれか一項に記載の低温送り出しシステム。
【請求項１６】  更に、前記患血管領域の低温冷却を制限するべく前記容器と前記コネクタとの間に配置された流体制限装置を有する請求項９〜１５のうちいずれか一項に記載の低温送り出しシステム。
【請求項１７】  前記流体制限装置は、前記キャニスタから前記カテーテルへの前記低温冷却流体の移動を間欠的に中断する請求項１６に記載の低温送り出しシステム。
【請求項１８】 近端部と遠端部とを有し、それらの間に冷却流体供給ルーメンと排気ルーメンとを延在させてなるカテーテル本体と、
前記カテーテル本体の遠端部に設けられ、流体供給ルーメン及び排気ルーメンに流体連通する内側面を有する第１のバルーンと、
前記第１のバルーン上に設けられ、同第１のバルーンとの間に断熱材を介装させてなる第２のバルーンとを備える冷凍治療用カテーテル。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月16日(2007.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＩ−６とｈＫ２とからなる、単離され実質的に精製された複合体。
【請求項２】
前記複合体はＰＩ−６と完全なｈＫ２とからなり、非還元条件下でのポリアクリルアミドゲル技術により測定された約６４ｋＤａの分子量を有する、請求項１に記載の複合体。
【請求項３】
前記複合体はＰＩ−６とｈＫ２の断片からなり、還元条件下でのポリアクリルアミドゲル技術により測定された約５０ｋＤａの分子量を有する、請求項１に記載の複合体。
【請求項４】
前記ｈＫ２の断片は１４５番のアルギニンで切断されたｈＫ２である、請求項３に記載の複合体。
【請求項５】
前立腺の組織から単離された請求項１に記載の複合体。
【請求項６】
前立腺腫瘍の試料で亢進したレベルで存在する請求項１に記載の複合体。
【請求項７】
ＰＩ−６とｈＫ２からなる複合体と特異的に免疫反応する抗体。
【請求項８】
前記抗体はポリクローナル抗体である、請求項７に記載の抗体。
【請求項９】
前記抗体はモノクローナル抗体である、請求項７に記載の抗体。
【請求項１０】
試料中のＰＩ−６とｈＫ２とからなる複合体を検出、測定する方法であって、（ａ）検出されるべきｈＫ２／ＰＩ−６複合体と特異的に結合するある量の試薬と前記ｈＫ２／ＰＩ−６複合体とを含む三重複合体が形成できる条件下で、前記試薬を試料と接触させるステップと、（ｂ）前記三重複合体の存在を検出し、前記三重複合体の量を測定するステップとからなる方法。
【請求項１１】
前記試薬は抗体である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記抗体はモノクローナル抗体である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記試薬は抗体で、該抗体は固相に結合している、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記試薬は抗体で、該抗体は検出可能な標識を含み、または検出可能な複合体を形成するために検出可能な標識と結合する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記試料は哺乳類の組織の試料である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記試薬は抗体である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記（ｂ）のステップにおける前記複合体は、検出可能な標識を含み、または検出可能な複合体を形成するために検出可能な標識と結合し、第２の試薬により検出される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記第２の試薬は抗体である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記哺乳類の組織はヒトの前立腺の組織である、請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
前記ヒトの前立腺の組織は前立腺癌の組織である、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記試料はヒトの生理的な液体の試料である、請求項１０に記載の方法。
【請求項２２】
前記ヒトの生理的な液体は血清、精漿、尿および血液からなるグループから選択される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
生物学的な液体の試料中のｈＫ２／ＰＩ−６複合体を検出するためのイムノアッセイ法であって、
（ａ）ｈＫ２／ＰＩ−６複合体のあるエピトープを認識する第１の抗体と、ｈＫ２／ＰＩ−６複合体の別のエピトープを認識する第２の抗体とを準備すること、
（ｂ）第１の抗体が前記複合体と結合し、第１の抗体とｈＫ２／ＰＩ−６複合体とを含む第１の複合体が形成できる条件下で、第１の抗体を前記試料と接触させること、
（ｃ）第２の抗体がｈＫ２／ＰＩ−６複合体と結合し、第１の抗体と第２の抗体とｈＫ２／ＰＩ−６複合体とを含む第２の複合体が形成できる条件下で、第２の抗体を第１の複合体と接触させること、
（ｄ）前記試料中に含まれるｈＫ２／ＰＩ−６複合体の測定値として、第２の複合体の検出及び測定を行うことを含む、イムノアッセイ法。
【請求項２４】
前記第１および第２の抗体はそれぞれｈＫ２／ＰＩ−６複合体と特異的に免疫反応する抗体である、請求項２３に記載のイムノアッセイ法。
【請求項２５】
前記第１および第２の抗体のうち、一方はｈＫ２に対する抗体で、他方はＰＩ−６に対する抗体である、請求項２３に記載のイムノアッセイ法。
【請求項２６】
前記第１および第２の抗体のうち、一方は固相に結合し、他方は検出可能な標識で標識された、請求項２３に記載のイムノアッセイ法。
【請求項２７】
試料中のＰＩ−６とｈＫ２とからなる複合体を検出、測定するための診断キットであって、検出可能に標識されまたは検出可能な標識に結合し、前記複合体と特異的に結合する、既知量の試薬を含むキット。
【請求項２８】
前記試料はヒトの生理的な液体である、請求項２７に記載の診断用キット。
【請求項２９】
前記試薬は前記複合体と特異的に結合する抗体を含む、請求項２７に記載の診断用キット。
【請求項３０】
前記抗体を結合させることが可能な固相を含む、請求項２９に記載の診断用キット。
【請求項３１】
前記試料は哺乳類の組織の試料である、請求項２７に記載の診断用キット。
【請求項３２】
前記哺乳類の組織の試料はヒトの前立腺の組織の試料である、請求項３１に記載の診断用キット。
【請求項３３】
前記抗体はモノクローナル抗体である、請求項２９に記載の診断用キット。
【請求項３４】
試料中のＰＩ−６とｈＫ２とからなる複合体の検出及び測定を行うための診断用キットであって、前記キットは、検出可能に標識されまたは検出可能な標識と結合し前記複合体と特異的に結合する既知量の第１の試薬と、固相の支持体に結合し前記複合体と特異的に結合する既知量の第２の試薬とを含む、キット。
【請求項３５】
前記第１の試薬は前記複合体と特異的に免疫反応する抗体を含み、前記第２の試薬は前記複合体と特異的に免疫反応する抗体を含む、請求項３４に記載のキット。
【請求項３６】
前記第１および第２の試薬のうち、一方はｈＫ２と特異的に免疫反応する抗体を含み、他方はＰＩ−６と特異的に免疫反応する抗体を含む、請求項３４に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月2日(2007.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２７】
細胞活性を測定する方法であって、 
(a) 第一液体試料を収納するための、上方リムを有する第一チャンバーを設けるステップと；
(b) 前記第一液体試料を前記第一チャンバーに注入するステップと；
(c) 前記上方リムを第一の疎水性化合物(hydrophobic compound)で覆うステップと；
(d) 下表面、上表面、および前記上表面から前記下表面に前記膜を貫通する複数のオフアクシス孔を有する膜を設けるステップと；
(e) 第一領域が前記第一チャンバーの前記上方リムと同じサイズかつ同じ形を有するように前記膜の前記下表面の第一領域を第二の疎水性化合物で覆うステップと；
(f) 前記第一の疎水性化合物と前記第二の疎水性化合物が近接するよう前記膜で前記第一チャンバーに蓋をするステップと；
(g) 前記膜の上表面を、前記膜の第二領域を取り囲む第三の疎水性化合物で覆い、これにより、複数の細胞を有する第二液体試料を収納するための第二チャンバーステップが前記第一チャンバーとは正反対に形成されるステップと；
(h) 前記第二液体試料を前記第二チャンバーに注入するステップと；
(i) 前記第一液体試料および前記第二液体試料を収納する前記第一チャンバーおよび第二チャンバーをインキュベートするステップと；
(j) 前記膜の前記第一表面に対し第一ビームがほぼ垂直になるような入射角範囲を有する第一波長の電磁放射の前記第一ビームを前記第一チャンバー方向に向けるステップと；および
(k) 第二の波長を有する放射された電磁放射の第一量を測定するステップ；を備えたこと、
を特徴とするもの。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月18日(2007.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  同期デジタルリンクに接続して、該同期デジタルリンクを介して電話交換機との間でデジタル信号を送受信するためのインタフェースと、
該インタフェースを介して受信した該デジタル信号に基づいてグラフィック表示情報および事象を生成するコントローラと、
非同期デジタルリンクを介し交信して、該デジタル信号を非同期形式に変換し、かつ該デジタル信号と該グラフィック表示情報および事象を該非同期デジタルリンクを介して送信するための、キープレス・フック状態コマンドを該非同期デジタルリンクを介して受信するよう構成した論理手段と、
を備えた装置。
【請求項２】  前記論理手段を、前記グラフィック表示情報および事象を含むデジタル電話を表示装置上に表示するよう構成した請求項１に記載の装置。
【請求項３】  構内交換機（ＰＢＸ）から同期デジタル通信リンクを介してデジタルデータを受信するステップと、
受信した該デジタルデータに基づいてグラフィック表示情報および事象を生成するステップと、
該グラフィック表示情報および事象を非同期インターネットプロトコル（ＩＰ）リンクを介して送信するステップと、
該非同期インターネットプロトコル（ＩＰ）リンクを介してキープレス・フック状態コマンドを受信するステップと、
該キープレス・フック状態コマンドを別の形式に変換するステップと、
その変換したキープレス・フック状態コマンドを該同期デジタル通信リンクを介してＰＢＸに送信するステップと、
を含む方法。
【請求項４】  前記グラフィック表示情報がデジタル電話のグラフィック表現に関連した情報である請求項３に記載の方法。
【請求項５】  請求項３に記載の方法であって、さらに、
前記グラフィック表示情報を含むデジタル電話を表示装置上にグラフィック表現するステップ、
を含む方法。
【請求項６】  実行したときコンピュータをして、
受け取った光事象および表示更新をグラフィック形式に変換させ、
第１の表示装置に該光事象および表示更新を含むデジタル電話を表示させ、
表示された該デジタル電話に関連し、キープレス・フック状態コマンドを含む、受け取った入力機器データをパケット化された形式に変換させ、
パケット化された該入力機器データを非同期インターネットプロトコル（ＩＰ）リンクを介して送信させる、
命令を書き込んだコンピュータ記憶媒体。
【請求項７】  請求項６に記載の媒体であって、さらに、実行したとき前記コンピュータをして、
前記非同期ＩＰリンクを介してスピーカーから可聴情報を発しさせる、
命令を書き込んだ媒体。
【請求項８】  請求項６に記載の媒体であって、さらに、実行したとき前記コンピュータをして、
入力音声データをパケット化された形式に変換させ、
パケット化された該入力音声データを非同期ＩＰリンクを介して送信させる、
命令を書き込んだ媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月5日(2007.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  カメラにより捕らえられ、カメラ・グリッド内の画素の組により表される歪んだ画像から幾何学的歪みのない画像を再構成する方法であって、
前記カメラ・グリッドが適用されたときに前記歪んだ画像内の歪が実質的に補正されるようにする歪み補正係数を決定するステップと、
前記歪んだ画像の内容を補正するように前記カメラ・グリッドの形状を調整するステップであって、前記カメラ・グリッドの形状を調整するステップが歪んだカメラ・グリッドをもたらすステップと、
前記歪み補正係数に基づいて表示ウィンドウ内の各画素に対して前記カメラ・グリッド内のそれぞれの位置を同定するステップと、
前記位置により指示された前記カメラ・グリッド内の一つ又は複数の画素に基づいて前記表示ウィンドウ内の各画素に輝度値を割り当てるステップと
を含む方法。
【請求項２】  カメラにより捕らえられ、カメラ・グリッド内の画素の組により表される歪んだ画像から幾何学的歪みのない画像を再構成する方法であって、
前記歪んだ画像の内容を補正するように前記カメラ・グリッドの形状を調整するステップであって、前記カメラ・グリッドの形状を調整するステップが歪んだカメラ・グリッドをもたらすステップと、
表示ウィンドウ内の選択された画素のそれぞれに対し、前記歪んだカメラ・グリッドと前記カメラ・グリッドとの間にある差に基づいて、前記表示ウィンドウ内の選択された画素と前記カメラ・グリッド内の対応する画素の間の変位ベクトルを計算するステップと、
前記変位ベクトルに従って前記カメラ・グリッド内の前記対応する画素からオフセットされた前記カメラ・グリッド内の少なくとも一つの画素に基づいて前記表示ウィンドウ内の選択された画素のそれぞれに輝度を割り当てるステップと
を含む方法。
【請求項３】  画像内の幾何学的歪みを補正する方法であって、
前記画像内の幾何学的歪みを補正するために、ユーザに入力を与えるようにプロンプト指示して前記表示装置上に表示された画像の輪郭を歪ませるステップであって、前記画像の輪郭を歪ませるステップが歪み補正係数を示し、歪んだ輪郭を有する画像をもたらすステップと、
ユーザ入力に応答して前記歪み補正係数を調整して前記画像内の前記幾何学的歪みを補正するステップと
を含む方法。
【請求項４】  画像表示装置上に表示された歪んだ画像の輪郭を歪ませて前記歪んだ画像内の幾何学的歪みをユーザが補正できるようにするユーザ・コントロールであって、前記歪んだ画像の前記輪郭を歪ませることが歪んだ輪郭を有する画像をもたらすようなユーザ・コントロールと、
一つ又は複数のプロセッサと、前記一つ又は複数のプロセッサに結合された一つ又は複数のメモリとを備える処理ユニットであって、前記一つ又は複数のメモリの中に、前記一つ又は複数のプロセッサにより実行されたときに前記一つ又は複数のプロセッサが、
前記歪んだ画像に適用されたときに前記歪んだ画像が実質的に補正されるようにする歪み補正係数の反復調整を実行するステップと、
前記歪み補正係数に基づいて表示ウィンドウ内の各画素に対して前記歪んだ画像内のそれぞれの位置を同定するステップと、
前記位置により示された前記歪んだ画像内の一つ又は複数の画素に基づいて前記表示ウィンドウ内の各画素に輝度を割り当てることにより歪んだ画像から幾何学的歪みのない画像を再構成するステップと
を実行させるプログラム・コードが記憶されるような処理ユニットと
を備える装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月14日(2007.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｓｉ−Ｃ結合を含むポリマー層の処理方法であって、上記層を加熱して、水分を脱着させ、上記層を硬化させる工程、および上記加熱工程の間に上記層をプラズマに曝す工程を含む方法。
【請求項２】  上記プラズマが水素プラズマである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  上記プラズマが上記加熱工程を通じて存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  上記層が電極上に支持されており、上記プラズマが、上記電極に接続された高周波電源によって少なくとも部分的に維持されている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】  上記電源が 400〜 750Ｗのものである、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  上記プラズマが、上記層から間隔を空けられた電極に給電している高周波電源によって少なくとも部分的に維持されている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】  上記電力が 400〜 750Ｗで供給されている、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  上記プラズマが、誘導結合電源によって少なくとも部分的に維持されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  上記供給電力が 400〜 750Ｗである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  上記加熱工程が２〜４分間持続する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  上記加熱工程が３分間持続する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  上記層が、 350℃〜 500℃に加熱されるプラテン上に支持されている、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】  （１）上記プラズマが、上記層を支持しているプラテンに接続された高周波電源によって維持され、上記電源が実質的に 600Ｗを提供し、
（２）上記プラズマが水素プラズマであり、
（３）上記プラテンが 400℃〜 500℃に加熱され、そして
（４）上記加熱工程が実質的に３分間持続する、
請求項１に記載の方法。
【請求項１４】  上記処理される層の誘電率が3.00未満である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】  上記層が、上記プラズマによって、 300nm（ 3,000Å）を超える深さまで処理される、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】  上記層が、上記プラズマによって、60nm（ 600Å）未満の深さまで処理される、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】  上記層が、半導体ウェーハ上の絶縁層である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】  上記処理方法により上記層における亀裂を低減する、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】  上記処理方法により上記層の湿式エッチング速度を改良する、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
【表１】
2002538604.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
ｋ値が低い材料の表面を上述のように処理する場合、少なくとも特定の場合には、今日まで使用されてきたキャッピング層を省くことが可能となり、そして、それにより、英国特許出願第 9904427.3号において述べられているかなり長いサイクルタイムを補償できる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月23日(2007.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１のアンダーフィル材料を第１の温度で予熱されている基板に配設させる第１の処理ステーションと、
第１のアンダーフィル材料が集積回路と基板の間を流れる間に連続して移動する基板を第１の温度より低い第２の温度で加熱する炉と、
第２のアンダーフィル材料を基板に施す第２の処理ステーションとを備えるプロセス・ラインとから構成され、上記第１および第２のアンダーフィル材料は異なる材料で形成され、第２のアンダーフィル材料は第１のアンダーフィル材料より低い接着性を有すると共に大きな破損耐性を有しており、上記第２のアンダーフィル材料は上記集積回路の縁りと上記第１のアンダーフィル材料を包囲すると共にシールするフィレットを形成し、上記フィレットは上記集積回路の縁りを越えて集積回路の側面の一部にまで延在し、集積回路の残りの部分と集積回路の上面は第２のアンダーフィル材料によって覆われておらず露出していることを特徴とする処理装置系。
【請求項２】  第１の処理ステーションで第１のアンダーフィル材料を第１の温度で予熱されている基板に配設させるステップと、
連続して移動する基板を第１の温度より低い第２の温度で加熱するステップと、
第２の処理ステーションで第２のアンダーフィル材料を基板に施すステップと、
から構成され、
上記第１のアンダーフィル材料は集積回路と基板の間を流れており、上記第１および第２のアンダーフィル材料は異なる材料で形成され、第２のアンダーフィル材料は第１のアンダーフィル材料より低い接着性を有すると共に大きな破損耐性を有しており、上記第２のアンダーフィル材料は上記集積回路の縁りと上記第１のアンダーフィル材料を包囲すると共にシールするフィレットを形成し、上記フィレットは集積回路の縁りを越えて集積回路の側面までの距離の少なくとも２分の１まで延在し、上記集積回路の残りの部分と集積回路の上面は第２のアンダーフィル材料によって覆われておらず露出していることを特徴とする処理方法。
【請求項３】  第１のアンダーフィル材料を第１の処理ステーションの基板上に配置するステップと；
上記第１のアンダーフィル材料が集積回路と基板の間を流れている間この基板を加熱するステップと；
上記第１のアンダーフィル材料とは異なる材料で作られた第２のアンダーフィル材料を第２の処理ステーションに配置する工程と；
から構成され、上記第２のアンダーフィル材料は上記集積回路の縁りと第１のアンダーフィルを包囲し且つシールするフィレットを形成する集積回路パッケージをアンダーフィルするプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月2日(2007.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  有機基板と、
前記有機基板に装着された集積回路（ＩＣ）と、
前記有機基板の上面と前記集積回路の下面に取り付けられ、第１の接着強度を有する第１の材料と、
前記第１の材料の塗布及び加熱後に前記集積回路の側面と前記有機基板の上面に取り付けられた、塗布時には前記第１の材料とは異なる第２の材料であって、前記第１の接着強度より小さい第２の接着強度を有する第２の材料と
を備える集積回路パッケージ。
【請求項２】  有機基板と、
前記有機基板に装着された集積回路（ＩＣ）と、
前記集積回路を前記有機基板に取り付けるために、前記有機基板上に置かれ、前記集積回路と前記有機基板の間でウィッキング及び流動するために部分的ゲル状態に加熱された第１の接着強度を有する第１の材料と、
引き続いて前記第１の材料の加熱時及びその後に塗布される第２の材料であって、前記有機基板上に置かれて前記第１の材料を封入及び封止して概ね前記集積回路の下でかつ前記集積回路と前記有機基板の間に留まり、第１の材料とは異なっており第１の接着強度より低い第２の接着強度を有する第２の材料と
を備える集積回路パッケージ。
【請求項３】  有機基板と、
前記有機基板に装着された集積回路（ＩＣ）と、
前記有機基板の上面と前記集積回路の下面に取り付けられた第１の材料と、
前記第１の材料の塗布及び加熱後に前記集積回路の側面と前記有機基板の上面にのみ取り付けられ、前記第１の材料と同時に硬化された、前記第１の材料より低い接着性を与える第２の材料であって、前記第１の材料とは別個に塗布されかつそれとは異なる第２の材料と
を備える集積回路パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月16日(2007.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板に取り付けられた集積回路をアンダーフィルするプロセスであって、
第１の温度に加熱された第１のアンダーフィル材料を集積回路と基板の間に配設するステップと、
第１のアンダーフィル材料を配設した後に、第１のアンダーフィル材料を第１の温度より高い第２の温度に加熱して、部分的ゲル状態を実現するステップとを含むプロセス。
【請求項２】  集積回路パッケージの組立て中に集積回路をアンダーフィルするプロセスであって、
基板を第１の温度でベークするステップと、
集積回路を前記基板に取り付けるステップと、
第１の温度より低い第２の温度に加熱された第１のアンダーフィル材料を配設して、集積回路および基板に取り付けるステップと、
前記第１のアンダーフィル材料を第３の温度に加熱して、前記第１のアンダーフィル材料を部分的にゲル化するステップであって、前記第１の温度は前記第２の温度および前記第３の温度より高いステップとを含むプロセス。
【請求項３】  集積回路パッケージの組立て中に集積回路をアンダーフィルするプロセスであって、
基板を第１の温度でベークするステップと、
集積回路を基板に取り付けるステップと、
第１の温度より低い第２の温度に加熱された第１のアンダーフィル材料を配設して集積回路および基板に取り付けるステップと、
第１のアンダーフィル材料を第２の温度より高く、かつ第１の温度より低い第３の温度に加熱して、第１のアンダーフィル材料中に部分的ゲル状態を実現するステップと、
第２のアンダーフィル材料を配設し、集積回路および基板に取り付けるステップとを含むプロセス。
【請求項４】  間隙の形成を減らし、集積回路パッケージ・プロセスの密着性を向上させる方法であって、
基板に対してプロセス中のその後のすべての加熱温度より高い温度まで第１の加熱を実施して、基板からの湿気を除去し、その後の加熱の間の湿気の放出を防止するステップと、
集積回路を基板に取り付けて、小組み立て品を形成するステップと、
第１のアンダーフィル材料を集積回路と基板の間のすき間の中へ第１の配設して実施するステップと、
第１のアンダーフィル材料に対して第１の加熱より低い温度まで、それがウィッキング作用を受けて集積回路と基板の間のすき間の中に流れ込むように第２の加熱を実施して、第１のアンダーフィル材料を集積回路と基板に取り付けるステップと、
第１のアンダーフィル材料を含む組み立て品に対して第２の加熱より高い温度まで第３の加熱を実施して、第１のアンダーフィル材料を部分的ゲル状態まで部分的にゲル化して、間隙の形成を減らし、第１のアンダーフィル材料の集積回路への密着性を向上させるステップと、
第２のアンダーフィル材料を基板上で集積回路の側面に沿って第２の配設を実施するステップと、
第２のアンダーフィル材料が第１のアンダーフィル材料の周りを流れるように、第２のアンダーフィル材料に対して第１の加熱より低い温度まで第４の加熱を実施するステップと、
第１および第２のアンダーフィル材料を含む組み立て品に対して第１の加熱より低いが、第２、第３、および第４の加熱より高い温度まで第５の加熱を実施して、第１および第２のアンダーフィル材料を硬化させるステップとを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月6日(2007.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】  前記移動局から前記移動無線システムに前記少なくとも１つの無線チャネル品質の尺度を送信する工程をさらに有し、
前記決定をする工程は前記移動無線システムにおいて生じることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月10日(2007.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記第１の基板を横切る方向に見て、前記蛍光材料層がピクセルの位置において少なくとも２つのサブピクセルを有し、前記少なくとも２つのサブピクセルは異なるサブピクセルについて実質的に同じ色の異なる蛍光体が含まれていることを特徴とする請求項１又は２記載のカラー表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記駆動手段が、前記ピクセルの輝度及び表示されるべき色に依存して、前記サブピクセルの駆動を決定することを特徴とする請求項４記載のカラー表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月28日(2007.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）通信リンクと、
（ｂ）通信リンクに接続された少なくとも１つのサーバ・コンピュータであって、デュアルロール・プロキシ・サーバ・コンピュータであるサーバ・コンピュータと、
（ｃ）通信リンクに接続され、情報を記憶するための記憶装置と、
（ｄ）通信リンクに接続された少なくとも１つのクライアント・コンピュータとを備え、クライアント・コンピュータは記憶装置の特定の情報を処理するためにプロキシ・サーバ・コンピュータに対して要求を生成し、プロキシ・サーバ・コンピュータは記憶装置の前記情報にアクセスし、その情報を処理するためにプログラム命令をその情報に関連付け、プロキシ・サーバ・コンピュータがそのプログラム命令に従ってその情報を処理するクライアント／サーバ・コンピュータ・システム。