【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年3月6日(2007.3.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象試料の成分の組成を特定する装置であって、
放射線源に曝すことにより蛍光Ｘ線を発する前記対象試料に応答してＸ線信号出力を発生する蛍光Ｘ線分析装置と、
レーザー光に曝すことにより光を発する前記対象試料に応答して光信号出力を発生する光学分光計と、
前記Ｘ線信号出力と前記光信号出力とを分析し、さらに前記光学信号から測定された成分の相対濃度に基づいて、前記対象試料の成分を測定するプロセッサーと、
を具備することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記光学分光計は、レーザー誘起蛍光量子分析装置であることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記レーザー誘起蛍光量子分析装置と前記蛍光Ｘ線分析装置は、両方とも少なくとも１つの共通成分に対して敏感であることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記プロセッサーは、前記光信号出力に含まれるデータを正規化するために、前記共通成分についての前記光信号出力と前記Ｘ線信号出力からのデータを用いることを特徴とする、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記レーザー誘起蛍光量子分析装置と前記蛍光Ｘ線分析装置は、両方とも対象試料の共通領域を分析するよう、前記装置内に設置されることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記レーザー誘起蛍光量子分析装置と前記蛍光Ｘ線分析装置は前記プロセッサーと結合されており、該プロセッサーは前記２つの分析装置を同時に動作させるようになっていることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項７】
前記プロセッサーは、表示装置に表示可能な、試料の組成の信号を出力することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記装置は、ポータブルな装置であることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記装置は、バッテリーで動作することを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記蛍光Ｘ線分析装置はチタニュームより重い試料の成分を特定することができることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
さらに、前記蛍光Ｘ線分析装置と光学分光計とを収納するハウジングを具備することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
対象試料の成分の組成を測定する方法であって、
蛍光Ｘ線分析を用いて対象試料の第１の成分の濃度を計測するステップと、
レーザー誘起蛍光量子分析を用いて対象試料の第１の成分に対する第２の成分の相対濃度を計測するステップと、
前記第１の成分の濃度と前記第１の成分に対する前記第２の成分の相対濃度に基づいて、前記第２の成分の濃度をプロセッサーで測定するステップと、
を具備することを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記蛍光Ｘ線分析は、第２の成分の濃度を計測できないことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記第２の成分は前記第１の成分より小さい原子量を持つことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
〈発明の概要〉
本発明の第１の実施の形態は、対象となる試料の組成を計測する装置を提供するものである。対象となる試料は、合金、土壌サンプル、又は工芸品のような素材でも良い。この装置は、対象となる試料に応答してＸ線信号を出力する蛍光Ｘ線分析装置（X-ray fluorescence detector）を具備する。この蛍光Ｘ線分析装置は特定の閾値以上の成分に対して敏感である。一般にこの閾値を持つ成分はチタニュームである。本装置はまた、対象となる試料に応答して光信号を出力する光学分光計を具備する。一実施の形態においては、光学分光計はレーザー誘起蛍光量子分析装置（laser induced photon fluorescence detector）である。このレーザー誘起蛍光量子分析装置は、一般にナトリウム、炭素及び酸素を含む上記閾値以下の軽量な成分に対して敏感である。さらに、分析し、そしてＸ線信号の出力と光信号の出力とを結合し、試料の組成を決定するプロセッサーが装備される。このプロセッサーは、蛍光Ｘ線分析装置とレーザー誘起蛍光量子分析装置から出力信号を受け取り、データの分析を開始する。分析により、アルミ合金などの合金のような処理中の材料の種類を決める。次いで、プロセッサーは、共通成分に関する出力信号に関する出力信号からのデータを比較し、試料中の成分濃度が含まれる可視的な出力を生成するために、光信号出力データを計測する。一実施の形態においては、蛍光Ｘ線分析装置、光学分光計、及びプロセッサーは単一のハウジング内に収納される。他の実施形態においては、共通のプロセッサーを共有するものの、蛍光Ｘ線分析装置と光学分光計とは同じハウジング内には収納されない。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
図２は、試料のスペクトル構成を示す表示装置上に表示する一貫した出力を生成するステップを示すフローチャートである。最初に、対象試料の一部であり、２つの蛍光技術（例えば、ＸＲＦとＬＩＰＦ）により特定された成分は、ＸＲＦのような第１の蛍光技術を用いて計測される（ステップ２００）。例えば、カーボンスチールの対象試料に対して、鉄は最初にＸＲＦ分析装置により計測される。この計測値から、分析プロセッサー内で濃度が測定される。この濃度は、最初の材料の量の絶対計測値を提供する。例えば、鉄が計測され、６０％濃度の鉄が試料の中で発見される。次いで、対象試料の相対的濃度成分を計測するＬＩＰＦの第２の蛍光技術を用いて、計測が行われる（ステップ２１０）。この相対濃度は、少なくとも、第１の蛍光技術ともう１つの成分により測定された成分のためのものである。例えば、第２の成分である炭素の含有量は、第１の蛍光技術により絶対値が測定された第１の成分である鉄の濃度の１パーセントかもしれない。第２の成分の絶対濃度は、第１の絶対濃度と第１と第２の成分に関する相対的な情報から測定される（ステップ２２０）。例えば、もし鉄が鉄合金中６０％で炭素が鉄の１％濃度であったとすると、炭素は資料中の０．６％ということになる。このことは、第２の蛍光技術を用いて特定された各成分に対して繰り返さる。例えば、酸素のようなより軽量な成分に対する絶対濃度は、重複する成分に関する絶対濃度の情報を用いて測定されるだろう。この例では、鉄と、鉄と酸素との相対関係を示す情報ということになる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
図３は、分析プロセッサーにより表示される信号を生成するために用いられるステップを提供するフローチャートである。本実施の形態では、最初にＸＲＦ計測が実施される。Ｘ線検出器は、計測信号をパルスプロセッサーに伝え、パルスプロセッサーは計測信号を増幅しふるいにかけ、そして、この信号は、信号を受け取る分析プロセッサーに送られる（ステップ３００）。分析プロセッサーは、パルスプロセッサーからの信号を分析し、より重い（原則としてチタニュームより重い）成分についての成分濃度を測定する（ステップ３０２）。この情報に基づき、試料はクラス分けされる（ステップ３０４）。例えば、もし分析プロセッサーが材料を多くても０．５％の軽元素成分を含む鉄であると特定した場合、分析プロセッサーは、関連するメモリーの検索テーブルにアクセスして、その材料をカーボンスチールであると特定する。このクラス分けはメモリーに記憶される。次いで、分析プロセッサーによりＬＩＰＦ分析装置が動作する。レーザーが起動し、蛍光を発生する対象試料のレーザー計測信号が分光計から分析プロセッサーに送られる（ステップ３０６）。分析プロセッサーは分光計からのＬＩＰＦ計測信号の処理のために保存された合金クラス分けのデータを用いる（ステップ３０８）。例えば、ＸＲＦ計測信号により、その材料は、例えば９５％の軽量元素を含む小さなクラスの合金であり、それゆえアルミ合金であると特定される。この分析プロセッサーは、次いで、ＬＩＰＦ計測信号を分析し、アルミニューム、硫黄、その他の成分をとらえ、分析を繰り返して成分の最終分析を行う。他の例では、もし材料が分析プロセッサー８によりカーボンスチールであるとクラス分けされた場合、分析プロセッサーは次に、ＬＩＰＦ計測信号を分析し炭素濃度を測定する。一旦試料に含まれるすべての成分が各成分の絶対濃度度ともに測定されると、この情報は、表示信号の形式で提供される（ステップ３１０）。表示信号は、単一の蛍光技術による計測装置からの信号との比較のため、もっと完全なスペクトル組成を表示できるような表示装置に送られる。