(57)【要約】【課題】膜剥がれやひび割れが生じにくく、十分な硬度を有し且つ耐湿性及び耐候性に優れた反射防止膜、及びこのような反射防止膜を用いた、物理的強度に優れ、安価で、生産性に優れた反射防止フィルム、反射防止能付き偏光板、及びそのような偏光板を使用した画像表示装置を提供すること。【解決手段】光透過性を有し、且つ互いに屈折率の異なる光透過層を少なくとも２層以上積層してなる多層構造の反射防止膜であって、これら光透過層の少なくとも１つが、多分岐ポリマー（ＨＢ）を核とし、その分岐枝末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基が結合された硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）、並びに硬化剤及び硬化促進剤のうちの少なくとも１種を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする反射防止膜。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有し、且つ互いに屈折率の異なる光透過層を少なくとも２層以上積層してなる多層構造の反射防止膜であって、これら光透過層の少なくとも１つが、多分岐ポリマー（ＨＢ）を核とし、その分岐枝末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基が結合された硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）、並びに硬化剤及び硬化促進剤のうちの少なくとも１種を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする反射防止膜。
【請求項２】
多分岐ポリマー（ＨＢ）が、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー及びスターバーストポリマーからなる群から選択される少なくとも１種を含有する請求項１に記載の反射防止膜。
【請求項３】
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性反応基が、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基、並びに加水分解性基置換のシリル基から選ばれる少なくとも１種の重合性基を含有する請求項１又は２に記載の反射防止膜。
【請求項４】
多分岐ポリマー（ＨＢ）が、２つ以上の分岐鎖延長単位に結合している多価の基核を中心としてなり、その基核は、連結基を形成するための反応性基（ａ）を少なくとも２つ以上有する化合物であり、且つ該分岐鎖延長単位が、該反応性基（ａ）と化学結合して連結基を形成する反応性基（ｂ）を１つと、反応性基（ａ）を少なくとも２つ以上有する分岐鎖延長化合物と、該基核との化学結合によって形成されたものである請求項１〜３の何れかに記載の反射防止膜。
【請求項５】
分岐鎖延長単位が、脂環式環、アリール環から選ばれる少なくとも１つの環構造及びアルキレン鎖構造を含有する請求項１〜４の何れかに記載の反射防止膜。
【請求項６】
硬化膜が、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性反応基と共重合可能な重合性化合物、及び重合開始剤を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜である請求項１に記載の反射防止膜
【請求項７】
光透過層として、高屈折率層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に、さらに１層又は２層以上の中屈折率層を備えていてもよく、該高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層は、屈折率の高低が交互に入れ替わり、且つ低屈折率層が最も視認側に位置するように積層されている請求項１又は６に記載の反射防止膜。
【請求項８】
高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、及びジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含む二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有する請求項７に記載の反射防止膜。
【請求項９】
光透過層として微細凹凸表面構造を有する防眩層を含んでなり、該防眩層がさらに平均粒子径０．５〜１０μｍの透光性粒子を少なくとも１種含有し、且つ前記硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜である請求項１、６〜８の何れかに記載の反射防止膜。
【請求項１０】
高屈折率層が光散乱層であって、平均粒子径０．１〜５μｍの透光性粒子の少なくとも１種が透光性樹脂中に分散されてなる層であり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差は０．０２〜０．２の範囲であり、且つ該透光性粒子が光散乱層全固形分中に３〜３０質量％含有される請求項７又は８に記載の反射防止膜。
【請求項１１】
光透過層の最上層が、該最上層の膜厚の３０〜１００％の大きさの平均粒径を有し、屈折率が１．１７〜１．３７である中空構造の無機微粒子を少なくとも１種含有する請求項１、６〜１０の何れかに記載の反射防止膜。
【請求項１２】
反射防止膜が、その視認側とは反対側でハードコート層に隣接し、該ハードコート層が前記硬化性組成物を塗布し硬化して形成されたものである請求項１又は６に記載の反射防止膜。
【請求項１３】
透明基体フィルムの少なくとも一方の面に、請求項７〜１２の何れかに記載の反射防止膜を、該反射防止膜の低屈折率層が視認側に位置するように積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１４】
請求項１〜１２の何れかに記載の反射防止膜を、偏光膜の保護フィルムの少なくとも一方に設けたことを特徴とする偏光板。
【請求項１５】
請求項１〜１２の何れかに記載の反射防止膜を偏光膜の保護フィルムの一方に設け、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムの他方に設けたことを特徴とする偏光板。
【請求項１６】
請求項１〜１２記載の何れかに記載の反射防止膜、請求項１３に記載の反射防止フィルム、又は、請求項１４もしくは請求項１５に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１７】
画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ及びＯＣＢの何れかのモードの透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする請求項１６に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止膜、そのような反射防止膜が設けられた反射防止フィルム及びそのような反射防止膜が偏光膜の保護フィルム上に設けられた偏光板、並びにこれら反射防止膜、反射防止フィルム又は偏光板が画像表示面に配置された画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている。画像表示装置においては、表示装置表面の、外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する反射防止膜（反射防止フィルム）が表示装置の最表面に配置されることが一般的になっている。また眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィルムが設けられている。
【０００３】
反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により形成されている。然しながら、金属酸化物の透明薄膜は、蒸着法やスパッタ法による製膜方法は、生産性が低く大量生産に適していない。
【０００４】
蒸着法に代えて、屈折率の異なる無機微粒子を、含有量を調節してマトリックスに分散させた組成物の塗布により、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも２層以上からなる多層構造の反射防止フィルムを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１及び特許文献２等）。
【０００５】
また用途に応じて、反射防止膜の表面に微細な凹凸形状を形成した防眩性反射防止膜（Ａｎｔｉ-Ｇｌａｒｅ：ＡＧ）が各種開発されている。防眩性反射防止膜は、平滑な表面からなる上記の多層薄膜構造の反射防止膜（Ａｎｔｉ-ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ：ＡＲ）に比較して平行光線透過率は減少するが、背景の映り込みが表面凹凸によって散乱されて低下するため防眩性を発現し、反射防止効果と相まって、画像形成装置に適用するとその表示品位は著しく改善される。
【０００６】
さらに反射防止膜表面は平滑だが、透明樹脂中に該樹脂とは屈折率の異なる透光性粒子を分散させた光散乱層を設けて、ギラツキ（シンチレーション）を抑えて光散乱性を発現する方法も開示されている（特許文献３等）。
【０００７】
これらの反射防止膜は、表示装置の最表面に付設されることから、保護膜としての優れた耐擦傷性、表面硬度等の耐久性が求められ、反射防止膜を付設する側の面にハードコート膜が設けられる場合が多い。
【０００８】
塗布型の高屈折率層として、例えば屈折率１．９以上の無機微粒子の超微粒子をバインダー中に分散した硬化薄膜が種々提案されている。バインダーには高屈折率層のハード性、密着性、強靭性及び高屈折率超微粒子の分散性を考慮して、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂又はそれらの混合物等の有機バインダー系硬化膜(特許文献４等)、複数の重合性基を有する多官能性化合物と重合開始剤とを重合硬化した硬化膜系(特許文献５等)、有機基置換金属化合物及びその加水分解物からのゾル／ゲル硬化の有機−無機ハイブリッドバインダー系膜(特許文献６及び特許文献７等)などが開示されている。
【０００９】
一方、塗料等の硬化性樹脂組成物として、ビニル基含有デンドリマーを用いた硬化膜が開示されている（特許文献８及び特許文献９等）。然しながら、薄膜多層を形成し光学干渉を応用した積層反射防止膜、又は透光性樹脂粒子を含有して光散乱性を制御する光散乱層もしくは防眩層を含む多層反射防止膜の作成に関する技術は何ら開示されていない。
【特許文献１】特開平８−１１０４０１号公報
【特許文献２】特開平１１−３８２０１号公報
【特許文献３】特開２０００−１８６０６１１号公報
【特許文献４】特開平８−１２２５０４号公報［００３４］
【特許文献５】特開２０００−４７００４号公報
【特許文献６】特開２００１−１６４１１７号公報
【特許文献７】特開２００１−３１５２４２号公報
【特許文献８】特開平８−２３１８６４号公報
【特許文献９】特開平１１−３３５４２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
塗布型多層積層反射防止膜としての高屈折率層とするためには、光学特性を決定するチタン系等の高屈折率酸化物微粒子など無機粒子の、層中における使用割合を大きくしなければならず、反射防止膜としての十分な強度（硬度や耐擦傷性、密着性などの物理的強度）の保持が難しい。
【００１１】
近年、画像表示装置の大画面化、或いはモバイル化の進展により、表示画像の鮮明性、保護フィルムとしての耐久性への要求が一層高まっている。これら光学多層膜の反射防止膜は物品の最外層に使用されるため、表面硬度、耐スクラッチ、密着性、曲げ加工性等がより一層優れている硬化層が求められてきている。また使用する環境が、低温・低湿から高温・高湿と大きく変わっても性能が変化しないこと、更には耐候性等の耐久性の向上が望まれている。
【００１２】
従って、本発明の目的は、硬化性組成物を塗布後、硬化して形成された、硬度が高く硬化収縮が少ない硬化樹脂層（硬化膜）である光透過層を含有する反射防止膜を提供することである。
【００１３】
本発明の更なる目的は、膜剥がれやひび割れが生じにくく、十分な硬度を有し且つ耐湿性及び耐候性に優れる反射防止膜を提供することである。
【００１４】
また、他の本発明の目的は、適切な手段により反射防止処理がされている、物理的強度に優れ、安価で、生産性に優れた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題は、以下の手段によって達成された。
（１）光透過性を有し、且つ互いに屈折率の異なる光透過層を少なくとも２層以上積層してなる多層構造の反射防止膜であって、これら光透過層の少なくとも１つが、多分岐ポリマー（ＨＢ）を核とし、その分岐枝末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基が結合された硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）、並びに硬化剤及び硬化促進剤のうちの少なくとも１種を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする反射防止膜。
【００１６】
（２）多分岐ポリマー（ＨＢ）が、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー及びスターバーストポリマーからなる群から選択される少なくとも１種を含有する上記（１）に記載の反射防止膜。
（３）硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性反応基が、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基、並びに加水分解性基置換のシリル基から選ばれる少なくとも１種の重合性基を含有する上記（１）又は（２）に記載の反射防止膜。
【００１７】
（４）多分岐ポリマー（ＨＢ）が、２つ以上の分岐鎖延長単位に結合している多価の基核を中心としてなり、その基核は、連結基を形成するための反応性基（ａ）を少なくとも２つ以上有する化合物であり、且つ該分岐鎖延長単位が、該反応性基（ａ）と化学結合して連結基を形成する反応性基（ｂ）を１つと、反応性基（ａ）を少なくとも２つ以上有する分岐鎖延長化合物と、該基核との化学結合によって形成されたものである上記（１）〜（３）の何れかに記載の反射防止膜。
【００１８】
（５）分岐鎖延長単位が、脂環式環、アリール環から選ばれる少なくとも１つの環構造及びアルキレン鎖構造を含有する上記（１）〜（４）の何れかに記載の反射防止膜。
（６）硬化膜が、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性反応基と共重合可能な重合性化合物、及び重合開始剤を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜である上記（１）に記載の反射防止膜
【００１９】
（７）光透過層として、高屈折率層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に、さらに１層又は２層以上の中屈折率層を備えていてもよく、該高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層は、屈折率の高低が交互に入れ替わり、且つ低屈折率層が最も視認側に位置するように積層されている上記（１）又は（６）に記載の反射防止膜。
（８）高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、及びジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含む二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有する上記（７）に記載の反射防止膜。
（９）光透過層として微細凹凸表面構造を有する防眩層を含んでなり、該防眩層がさらに平均粒子径０．５〜１０μｍの透光性粒子を少なくとも１種含有し、且つ前記硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜である上記（１）、（６）〜（８）のいずれか記載の反射防止膜。
【００２０】
（１０）高屈折率層が光散乱層であって、平均粒子径０．１〜５μｍの透光性粒子の少なくとも１種が透光性樹脂中に分散されてなる層であり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差は０．０２〜０．２の範囲であり、且つ該透光性粒子が光散乱層全固形分中に３〜３０質量％含有される上記（７）又は（８）に記載の反射防止膜。
（１１）光透過層の最上層が、該最上層の膜厚の３０〜１００％の大きさの平均粒径を有し、屈折率が１．１７〜１．３７である中空構造の無機微粒子を少なくとも１種含有する上記（１）、（６）〜（１０）のいずれかに記載の反射防止膜。
（１２）反射防止膜が、その視認側とは反対側でハードコート層に隣接し、該ハードコート層が前記硬化性組成物を塗布し硬化して形成されたものである上記（１）又は（６）に記載の反射防止膜。
【００２１】
（１３）透明基体フィルムの少なくとも一方の面に、上記（７）〜（１２）の何れかに記載の反射防止膜を、該反射防止膜の低屈折率層が視認側に位置するように積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。
（１４）上記（１）〜（１２）の何れかに記載の反射防止膜を、偏光膜の保護フィルムの少なくとも一方に設けたことを特徴とする偏光板。
（１５）上記（１）〜（１２）の何れかに記載の反射防止膜を偏光膜の保護フィルムの一方に設け、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムの他方に設けたことを特徴とする偏光板。
【００２２】
（１６）上記（１）〜（１２）記載の何れかに記載の反射防止膜、上記（１３）に記載の反射防止フィルム、又は上記（１４）もしくは上記（１５）に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
（１７）画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ及びＯＣＢの何れかのモードの透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする上記（１６）に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、硬化性組成物を塗布後、硬化して形成された、硬度が高く硬化収縮が少ない硬化樹脂層（硬化膜）である光透過層を含有する反射防止膜を提供することが可能となる。また本発明によれば、膜の剥がれやひび割れが生じにくく、十分な硬度を有し、且つ耐湿性及び耐候性に優れた反射防止膜を提供することができる。更に本発明によれば、プラスチックフィルム基材を使用した場合にも、膜の剥がれ、ひび割れ、カールなどが生じにくい、十分な硬度を有し、且つ耐湿性及び耐候性に優れた反射防止フィルムを提供することができる。更にまた本発明の反射防止膜（反射防止フィルム）を、適切な手段により偏光板に設けることにより、物理的強度に優れ、安価で生産性に優れた偏光板、及び画像表示装置を提供することができる。
【００２４】
以上のような本発明の効果は、塗布型多層反射防止膜であって、低屈折率層、該低屈折率層の下層となる中／高屈折率層、防眩層、更にはハードコート層などのマトリックス用樹脂として、多分岐ポリマー（ＨＢ）を核とし、且つ分岐枝末端に光及び／又は熱硬化性反応基を結合した硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）、並びに硬化剤及び硬化促進剤のうちの少なくとも一種を含有してなる硬化性組成物を塗布し硬化した硬化膜によって達成される。
【００２５】
本発明で用いられる硬化性組成物は、硬化性ポリマーを主成分に含有しているにも拘わらず、硬化性組成物の粘度上昇が無いか極めて小さく抑制できることから、極めて表面状態の良好な薄膜が塗布され、得られる硬化樹脂層の膜強度が格段に向上した、低屈折率性層、高屈折率性層、防眩層又はハードコート層の硬化膜が得られることが見出された。
【００２６】
更には、本発明の硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の分岐鎖を構成する繰り返し単位が、脂環式環、アリール環の環状構造から選ばれる少なくとも１種の環構造と、アルキレン鎖構造とを含有する構造とすることで、硬化膜の耐脆性と耐熱性を一層好ましい硬化膜となることが見出された。
【００２７】
硬化性組成物中に上記重合体の重合性基と共重合可能な、重合性基含有の単量体を含有することが好ましく、これにより、より一層の膜強度向上効果が得られる。これは、重合したポリマー鎖がさらなる高次構造を形成することによるものと推定される。
【００２８】
更には、本発明の反射防止膜の低屈折率層には、屈折率を低くするのに有利な中空構造の無機微粒子を用いることが好ましく、これにより本発明における硬化性多分岐ポリマーを併用した硬化膜が、適切な低屈折率の範囲を保持しつつ膜の強度が向上される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明の反射防止膜は、光透過性を有し、且つ互いに屈折率の異なる層（光透過層）少なくとも２層の硬化層を積層してなる、多層構造の反射防止膜である。具体的には、（１）屈折率の異なる少なくとも２層以上、好ましくは３層以上（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）から構成される反射防止膜、（２）少なくとも透光性粒子を含有する光散乱層と、低屈折率層とを順次積層してなる光散乱性反射防止膜、（３）少なくとも表面凹凸を形成する防眩層と、低屈折率層とを順次積層してなる防眩性反射防止膜などの態様が好ましいものとして挙げられる。
【００３０】
本発明の反射防止膜の実施態様は、これらに限定されるものではない。また、これらの反射防止膜の視認側とは反対側の面（以下背面ということがある）上に、少なくとも１層のハードコート層を設けることも好ましい。
なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、例えば、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等の記載は、それぞれ「アクリロイル及び／又はメタクリロイル」、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、「アクリル酸及び／又はメタクリル酸」の意味を表す。
【００３１】
＜反射防止膜＞
〔反射防止膜の層構成〕
本発明に係る反射防止膜は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる層（光透過層）が少なくとも２層以上積層された多層型反射防止膜により形成される。通常、反射防止膜は透明基体フィルム上に設けられる。２層積層からなる反射防止膜は、基体フィルム上に、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する。透明基体フィルム、高屈折率層及び低屈折率層は以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率＞透明基体フィルムの屈折率＞低屈折率層の屈折率
【００３２】
また、透明基体フィルムと高屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、高屈折率ハードコート層、光散乱層又は防眩性高屈折率層と、低屈折率層からなってもよい。
【００３３】
少なくとも３層積層からなる反射防止膜は、透明基体フィルム上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する。透明基体フィルム、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層は、以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明基体フィルムの屈折率＞低屈折率層の屈折率
【００３４】
また、透明基体フィルムと中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、防眩性高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。
【００３５】
このような３層構造の反射防止フィルムは、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してλ／４前後、又はその倍数であることが好ましいことが特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている。
【００３６】
更には、設計波長λ（４００〜６８０ｎｍ）に対して、中屈折率層が下数式（１）を、高屈折率層が下数式（２）を、低屈折率層が下数式（３）をそれぞれ充足することが、より優れた反射防止性能を有する反射防止膜を作製できる点で好ましい。
【００３７】
数式（１）：（ｍ1λ／４）×０．６０＜ｎ1ｄ1＜（ｍ1λ／４）×０．８０
数式（２）：（ｍ2λ／４）×１．００＜ｎ2ｄ2＜（ｍ2λ／４）×１．５０
数式（３）：（ｍ3λ／４）×０．８５＜ｎ3ｄ3＜（ｍ3λ／４）×１．０５
［式中、ｍ1は１であり、ｎ1は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ2は２であり、ｎ2は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ3は１であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である］
【００３８】
また設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と、低い屈折率を有する層を複数層組み合わせた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層又は高屈折率層と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも応用することができる。本発明の「実質的に３層」とは、このような等価膜を用いた４層、５層の反射防止層も含むことを意味する。
【００３９】
上記数式（１）〜（３）をそれぞれ充足することにより、反射防止膜の反射光の色味がニュートラル近似となり、表示装置の表示画像の視認性が優れたものとなる。
【００４０】
本発明の多層構造の反射防止層は、その反射防止膜の厚さが「実質的に均一」に塗設して形成されるものであり、その反射防止膜の厚さが「実質的に均一」とは、反射防止層の総厚のバラツキの範囲が±６％であることが好ましい。さらに好ましくは±５％、特に好ましくは±３％である。例えば、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層が空気界面側より、この順序に各層ともｎλ／４の厚みで積層された３層型設計の場合（ｎは自然数）、各層の膜厚の均一性は±３％の範囲であることが好ましく、この範囲内であれば著しく反射防止性能が低下するなどの不具合が生じにくいので好ましい。特に±２％以内とすることが最も好ましい。
【００４１】
反射防止膜の厚みは、望まれる場合には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）及びＸ線光電子分光計（ＥＳＣＡ）の様な、当分野では周知の各種表面分析手段により分析することができる。
【００４２】
以上の層構成を有する本発明の反射防止膜において、少なくとも、本発明に従い改良された硬化性組成物を用いて形成された硬化膜を用いる。
【００４３】
＜硬化膜＞
本発明において硬化膜は、反射防止膜を構成する少なくとも１つの層に用いられる。
【００４４】
〔硬化性組成物〕
本発明の硬化性組成物は、多分岐ポリマー（ＨＢ）を核とし、且つ分岐枝末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基を結合した硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）、並びに硬化剤及び硬化促進剤のうちの少なくとも１種を含有することを特徴とする。更には、該硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）に含有される光硬化性及び／又は熱硬化性反応基が、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、加水分解性基置換のシリル基から選ばれる硬化性反応基（以下、単に硬化性基ということがある）であることが好ましい。これらの重合性基と共重合可能な重合性化合物及び重合開始剤を更に含有することが好ましい。また、必要に応じて、硬化膜の屈折率を調整するために所定の屈折率を有する無機化合物微粒子を含有することも好ましい。
【００４５】
〔硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）〕
［核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）］
本発明の光硬化性及び／又は熱硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、多分岐ポリマー（ＨＢ）を核（コア）とし、且つ分岐枝末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基を結合させた、高度に『枝分れした（樹枝状）』巨大分子である。例示すれば、下記のような模式図（１）又は模式図（２）で示される化合物である。
【００４６】
【化１】
2006010829.tif 000002
【００４７】
模式図（１）に示したように、中心部より三次元放射状に分枝が広がり、更にその末端から分枝を有する部位を含む化合物である。また、模式図（２）に示すように、全ての方向に均一に成長していなくても、分枝部が放射状に広がっている場合であれば、本発明で用いることができる樹枝状化合物である。具体的には、核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）は、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー及びスターバーストポリマーからなる群から選択される少なくとも１種以上によって構成されることが好ましい。
【００４８】
また、核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）は、多価の基核を中心として２つ以上の規則性樹枝状分岐である分岐鎖延長単位に結合している化合物である。その多価の基核は、連結基を形成する反応性基（ａ）を少なくとも２つ以上有する化合物であり、この基核となる化合物の該反応性基（ａ）と化学結合して連結基を形成する反応性基（ｂ）を１つと、反応性基（ａ）を少なくとも２つ以上有する化合物（分岐鎖延長化合物）との化学反応を繰り返すことによって延長された構造を有する高分岐ポリマーであることが好ましい。
【００４９】
多分岐ポリマー（ＨＢ）として具体的には、多分岐ポリ尿素、多分岐ポリウレタン、多分岐ポリアミドアミン、多分岐ポリアミド、多分岐ポリエステル、多分岐ポリカーボネート、多分岐ポリカルボシラン、多分岐ポリカルボシロキサン、多分岐ポリカルボシラゼン、多分岐ポリエーテル、多分岐ポリ（エーテルケトン）、多分岐ポリ（プロピレンイミン）、多分岐ポリアルキルアミン、これらのコポリマー等が挙げられる。
【００５０】
このような多分岐ポリマーは、例えば、岡田鉦彦編集、「デンドリマーの科学と機能」ｐｐ２９〜３１、（（株）アイピーシ、２０００年刊）、同書、第２章、石津浩二編集、「分岐ポリマーのナノテクノロジー」第６章、（（株）アイピーシ、２０００年刊）、ＣＯＭＰＲＥＨＥＮＳＩＶＥ  ＳＵＰＥＲＭＯＬＥＣＵＬＡＲ、１０、Ｃｈａｐｔｅｒ２６（ＰｅｒａｍｏｎＰｒｅｓｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ、１９９５年刊）等に記載の内容のものを挙げることができる。
【００５１】
好ましくは、多分岐ポリアミドアミン、多分岐ポリアミド、多分岐ポリエステル、多分岐ポリカルボシラン、多分岐ポリカルボシロキサン、多分岐ポリエーテル、多分岐ポリ（エーテルケトン）、多分岐ポリアルキルアミンが挙げられる。
【００５２】
核（コア）となる多分岐ポリマー（ＨＢ）の多価の基核は、有機残基、窒素原子、ケイ素原子又はリン原子を核とする多官能性化合物であれば、特に限定はない。有機残基としては、炭素原子、芳香族炭化水素環（ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フェナントレン環、トリフェニレン環等）、酸素、窒素、硫黄から選ばれる少なくとも1つのヘテロ原子を含有する単環式もしくは多環式の環構造を有する複素環（例えば、ピラジン環、ヒドロピラジン環、ピペラジン環、トリアジン環、ヒドロトリアジン環、フェナジン環、キサンテン環、チオキサンテン環等）、カリックスアレン構造、アザクリプタント構造、クラウンエーテル構造、ポルフィリン構造等が挙げられる。これらもまた特に限定されるものではない。
【００５３】
本発明の核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）は、重縮合サイクルによって調製された分子であることが好ましい。各サイクルは、基核の反応性官能基の全てと、分岐鎖延長化合物の１当量とを反応させることを含む。サイクルの数（ｎ）により「第ｎ世代」の多分岐分子と称される。本発明では、第１世代〜第６世代のものが好ましい。特に好ましくは第２世代〜第４世代のものである。
【００５４】
本発明の核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）において、分岐鎖延長単位中に環状構造を含有することが好ましい。更には環状構造（環構造ともいう。）とアルキレン鎖構造とを含有することが特に好ましい。
【００５５】
環状構造は、脂環式環構造及び芳香環構造から選ばれるものである。脂環式環構造としては、単環式、多環式、架橋環式の炭素数５〜２２脂肪族環状炭化水素が挙げられ、その具体例としては、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタン、シクロヘプテン、シクロへプタジエン、シクロオクタン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、シクロオクタトリエン、シクロソナン、シクロソネン、シクロデカン、シクロデセン、シクロデカンジエン、シクロデカトリエン、シクロウンデカン、シクロドデカン、ビシクロヘプタン、ビシクロヘキサン、ビシクロヘキセン、トリシクロヘキセン、ノルカラン、ノルピナン、ノルボルナン、ノルボルネン、トリシクロヘプタン、トリシクロヘプテン、デカリン、アダマンタン等の環構造炭化水素等）が挙げられる。
【００５６】
芳香環としては、アリール環（例えば、ベンゼン、ナフタレン、ジヒドロナフタレン、インデン、フルオレン、アセナフチレン、アセナフテン、ビフェニレン等）、酸素原子、硫黄原子、窒素原子の何れかを少なくとも１個含有する単環式もしくは多環式の環構造を有する複素環基（複素環基としては、例えば、フラニル基、テトラヒドロフラニル基、ピラニル基、ピロイル基、クロメニル基、フェノキサチイニル基、インダゾイル基、ピラゾイル基、ピリジイル基、ピラジニル基、ピリミデイニル基、インドイル基、イソインドイル基、キノニイル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基等）等が挙げられる。アリール環は炭素数６〜１８のアリール環であることが好ましい。
【００５７】
分岐鎖延長単位が含有するアルキレン鎖は、炭素数１〜２２のアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキレン基である。また、上記の環状構造とアルキレン鎖は直接結合していてもよいし、他の２価の連結基を介して結合していてもよい。２価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＣＯＮ(Ｑ1)−、−ＳＯ2Ｎ(Ｑ1)−等が挙げられる。（ここで、Ｑ1は水素原子又は炭素数１〜６の置換されていてもよい脂肪族基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、等）を表す。
【００５８】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）の、分岐鎖延長化合物との反応により構成される分岐鎖延長単位は、ポリエステル構造、ポリアミド構造、ポリアミンアミド構造から選ばれる態様であることが好ましい。これらの分岐鎖延長単位を含んでなる硬化性多分岐ポリマーは、形成される硬化膜の膜強度が一層向上するので好ましい。更には、これらの多分岐ポリマー（ＨＢ）は、逐次重合反応により容易に合成できることから、安価な材料として供給されることから好ましい。
【００５９】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）の分岐枝は、上記のように分岐延長化合物と反応性を有する反応性基（ａ）が末端構造となる。分岐枝末端の反応性基（ａ）としては、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また、本発明の核となる多分岐ポリマーは、分岐枝の末端の反応性基（ａ）の基数が６〜１２８個を有するものが好ましく、更には８〜６４個を有するものが好ましい。
【００６０】
質量平均分子量は、一般に約１，０００〜約５０，０００であり、好ましくは約１５００〜約２０，０００を有するものが挙げられる。この範囲において、硬化反応が充分に進行し且つ得られた硬化膜の膜強度が保持できる。
【００６１】
多分岐ポリマー（ＨＢ）の平均の枝分れ度（ＤＢ）は、１分子当たりの分枝基の数平均率、すなわち「末端基、分枝基及び線状基の総数」に対する「末端基＋分枝基」の割合として文献に定義されている。理想的なデンドロン（ｄｅｎｄｒｏｎ）及びデンドリマーについては、枝分れ度は１である。理想的な線状ポリマーについては、枝分れ度は０に近い。枝分れ度は、ハウカー（Ｈａｗｋｅｒ）Ｃ．Ｊ．，；リー（Ｌｅｅ），Ｒ．；フレチェット（Ｆｒｅｃｈｅｔ），Ｊ．Ｍ．Ｊ．，“Ｊ．Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．”，（１９９１年）１１３巻４５８３頁において定義されているように、数学的に以下の数式（４）のように表される。
【００６２】
【数１】
2006010829.tif 000003
【００６３】
（ここで、Ｎｔは末端基の数を表し、Ｎｂは分枝基の数を表し、ＮＩは線状基の数を表す）
【００６４】
本発明で使用される多分岐分子の枝分れ度（ＤＢ）は、デンドリマー（理想的な場合、１の枝分れ度を有する）から０．２５の範囲である。より典型的には０．２５〜０．８０の枝分れ度（ＤＢ）を有するような多分岐ポリマーは容易に製造することができ、デンドリマーと比べて比較的安価である。要するに、多分岐分子が放射状に拡がった形態を形成していることが好ましい。更に好ましい枝分れ度（ＤＢ）は、０．３〜０．８のものである。
【００６５】
［硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）］
本発明の硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、上記の多分岐ポリマー（ＨＢ）の分岐枝末端の少なくとも一部に、光及び／又は熱により架橋反応する硬化性基を含有することを特徴とする。
【００６６】
架橋反応に関与しうる硬化性基としては、例えば活性水素原子を有する基（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、ラジカル重合可能な不飽和２重結合を有する基、カチオン重合可能な基、酸無水物含有基、加水分解性シリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）、イソシアナート基（保護されており、加熱によりイソシアナート基を発生するブロックイソシアナート基でもよい）等が挙げられる。特に、ラジカル重合性基、カチオン重合性基及び加水分解性シリル基から選ばれることが好ましい。
【００６７】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）（以下、単に「コア分子」と称することもある）の全分岐枝数中の５％以上の分岐枝が、硬化性基を含有することが好ましい。これにより十分なフィルムの膜の強度が発現される。より好ましくは１０％〜９０％である。
【００６８】
また、分子中の硬化性基は同一でも異なってもよく、例えば、ラジカル重合性基とカチオン重合性基から選ばれる、少なくともそれぞれ１種の重合性基を含有してもよい。
【００６９】
（ラジカル重合性基）
ラジカル重合性基としては、下記の一般式（１）で示される硬化性基が挙げられる。
【００７０】
【化２】
2006010829.tif 000004
【００７１】
式（１）中、Ｖ11は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＨ2ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＣＯＮ(Ｑ11)−、−ＳＯ2Ｎ(Ｑ11)−又はフェニレン基（以下フェニレン基をＰｈで表すこともある。ただしＰｈは１，２−、１，３−及び１，４−フェニレン基を含む）を表す。ここで、Ｑ11は、水素原子又は炭素数１〜８の置換されていてもよい脂肪族基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、フロロベンジル基、メチルベンジル基、シクロヘキシルメチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基等）を表す。Ｖ11の好ましい態様として、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＨ2ＣＯＯ−、−Ｏ−、フェニレン基が挙げられる。ａ11及びａ12は同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）又は−ＣＨ2ＣＯＯＲ11基（Ｒ11はアルキル基を表す。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等）を表す。
【００７２】
これらの重合性基は、コア分子の分岐枝の末端の反応性基（ａ）と化学結合反応（後述する）した有機残基に直接結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい。ここで連結基とは、総原子数１〜２２個の連結基（ここでいう総原子数には、炭素原子、窒素原子又はケイ素原子に結合する水素原子を除く）を表す。連結基としては炭素原子−炭素原子結合（一重結合又は二重結合）、炭素原子−ヘテロ原子結合（ヘテロ原子としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等）、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合等から構成される原子団の任意の組合せで構成される。例えば、原子団としては下記のものが挙げられる。好ましくは直接結合又は総原子数１〜１２の連結基である。
【００７３】
【化３】
2006010829.tif 000005
【００７４】
ここで、ｚ11、ｚ12は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）等を示す。ｚ13、ｚ14は、それぞれ、水素原子、炭素数１〜８の炭化水素基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、トリル基等）などを示す。ｚ15は、水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基（例えば、上記のｚ13と同様のもの）を表す。
【００７５】
（カチオン重合性基）
本発明におけるカチオン重合性基は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下、活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び／又は架橋反応を生ずる重合性基を含有する官能基が挙げられる。具体的には、エポキシ基、環状エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル化合物、ビニルオキソ基等が挙げられる。より具体的には、後述するカチオン重合性モノマー（ＭA2）の中で例示する化学構造のものを挙げることができる。
【００７６】
これらの光カチオン重合性基は、上記したと同様に、コア分子の分岐枝に直接結合しても連結基を介して結合しても何れでもよい。
【００７７】
（加水分解性シリル基）
硬化性反応基としての性能をもつ、加水分解性基置換のシリル基としては、下記一般式（２）の構造をもつものが挙げられる。このような加水分解性基置換のシリル基は、上記したと同様に、コア分子の分岐枝に直接結合しても連結基を介して結合しても何れでもよい。
一般式（２）：（Ｒ21Ｏ）3-a（Ｒ22）aＳｉ−
【００７８】
上記一般式（２）中、（Ｒ21Ｏ）基は、アルコキシ基（Ｒ21が脂肪族基の場合）又はアシルオキシ基（Ｒ21が−ＣＯＲ20の場合）を表わし、加水分解してシラノール基［典型的には（ＨＯ）3-a−Ｓｉ（Ｒ22）a−］となり縮重合反応が進行する。Ｒ21が脂肪族基の場合、炭素数１〜８の置換されていてもよい直鎖又は分岐の脂肪族基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフロロエチル基、メトキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基等）が挙げられる。Ｒ21が−ＣＯＲ20の場合のＲ20は炭化水素基を表し、好ましくは炭素数１〜６の置換されていてもよい直鎖又は分岐の脂肪族基（具体的には前記Ｒ21の脂肪族基と同義であり、具体例も同じものが挙げられる）、置換されていてもよいフェニル基（例えばフェニル基、メトキシフェニル基、フロロフェニル基、トリル基、キシリル基、等）が挙げられる。その中でも、好ましい（Ｒ21Ｏ）基としては、（Ｒ21Ｏ）基の加水分解反応性及び、脱離して副生したアルコール類又はカルボン酸類の、塗膜の乾燥工程での乾燥性の点から、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜３のアシルオキシ基が挙げられる。Ｒ22は炭化水素基を表し、好ましくは炭素数１〜１２の脂肪族基又は炭素数６〜１２のアリール基を表わす。これらの炭化水素基は置換されていてもよい。具体的には、後記する非重合性の結合基の置換基Ｒ01と同様の内容のもが挙げられる。
【００７９】
本発明の硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、全分岐枝中の一部に非重合性の炭化水素基が結合した構造、すなわち、他の非重合性の結合基で化学修飾された構造であってもよい。このような末端結合基としては、−ＯＲ01、−ＯＣＯＲ01、−ＣＯＯＲ01、−ＣＯＮＨＲ01、−ＮＨＣＯＲ01、−ＮＨＳＯ2Ｒ01、−Ｎ（Ｒ01）（Ｒ02）、−ＯＯＣＮＨＲ01、−ＮＨＣＯＮＨＲ01等が挙げられる。
【００８０】
ここで、Ｒ01、Ｒ02は炭素数１〜３２の炭化水素基を表す。炭化水素基としては、脂肪族基、アリール基又は複素環基を表す。脂肪族基としては、炭素数１〜３２の直鎖状又は分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ナノデシル基、エイコサニル基、ヘネイコサニル基、ドコサニル基等）、炭素数２〜３２の直鎖状又は分岐状のアルケニル基（例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、エイコセニル基、ドコセニル基、ブタジエニル基、ペンタジエニル基、ヘキサジエニル基、オクタジエニル基等）、炭素数２〜２２の直鎖状又は分岐状のアルキニル基（例えば、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ヘキシニル基、オクタニル基、デカニル基、ドデカニル基等）；炭素数５〜２２の脂環式炭化水素基（脂環式炭化水素基としては、単環式、多環式、架橋環式の脂肪族環状炭化水素基が挙げられ、その具体例としては、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタン、シクロヘプテン、シクロへプタジエン、シクロオクタン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、シクロオクタトリエン、シクロソナン、シクロソネン、シクロデカン、シクロデセン、シクロデカンジエン、シクロデカトリエン、シクロウンデカン、シクロドデカン、ビシクロヘプタン、ビシクロヘキサン、ビシクロヘキセン、トリシクロヘキセン、ノルカラン、ノルピナン、ノルボルナン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、トリシクロヘプタン、トリシクロヘプテン、デカリン、アダマンタン等の環構造炭化水素等）が挙げられる。
【００８１】
これらの中で、炭素数１〜１８の直鎖状、炭素原子数３〜１８の分岐状、及び炭素原子数５〜１６の環状の脂肪族基がより好ましい。
【００８２】
上記の脂肪族基は置換基を有していてもよく、その導入し得る置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。非金属原子団の具体的な例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、−ＯＨ基、−ＯＲ011、−ＳＲ011、−ＣＯＲ011、−ＣＯＯＲ011、−ＯＣＯＲ011、−ＳＯ2Ｒ011、−ＮＨＣＯＮＨＲ011、−Ｎ（Ｒ012）ＣＯＲ011、−Ｎ（Ｒ012）ＳＯ2Ｒ011、−Ｎ（Ｒ013）（Ｒ014）、−ＣＯＮ（Ｒ013）（Ｒ014）、−ＳＯ2Ｎ（Ｒ013）（Ｒ014）、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ015）（Ｒ016）、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒ015）（Ｒ016）、−Ｓｉ（Ｒ017）（Ｒ018）（Ｒ019）、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数２〜１８のアルキニル基、炭素数５〜１０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８のアリール基（アリール環としては、ベンゼン、ナフタレン、ジヒドロナフタレン、インデン、フルオレン、アセナフチレン、アセナフテン、ビフェニレン等）、酸素原子、硫黄原子、窒素原子のいずれかを少なくとも１個含有する単環式又は多環式の環構造を有する複素環基（複素環基としては、例えば、フラニル基、テトラヒドロフラニル基、ピラニル基、ピロイル基、クロメニル基、フェノキサチイニル基、インダゾイル基、ピラゾイル基、ピリジイル基、ピラジニル基、ピリミデイニル基、インドイル基、イソインドイル基、キノニイル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基等）等が挙げられる。
【００８３】
これらのアルケニル基、アルキニル基、脂環式炭化水素基、アリール基、複素環基は、更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、前記の脂肪族基に導入し得る基として例示したものと同様のものが挙げられる。
【００８４】
ここで、前記Ｒ011は、炭素数１〜２２の脂肪族基、炭素数６〜１８のアリール基、又は複素環基を表す。Ｒ011における脂肪族基は前記Ｒ01で表される脂肪族基と同義である。Ｒ011におけるアリール基としては、前記Ｒ01で表される、脂肪族基に導入し得る置換基として例示したアリール基と同様のものが挙げられる。かかるアリール基は、更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、前記Ｒ01において、脂肪族基に導入し得る置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒ012は、水素原子又はＲ011基と同様のものを表す。
【００８５】
前記Ｒ013及びＲ014は、それぞれ独立に、水素原子、又はＲ011と同様のものを表し、Ｒ013とＲ014とは互いに結合して、Ｎ原子を含有する５員又は６員の環を形成してもよい。
【００８６】
前記Ｒ015及びＲ016は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の脂肪族基、炭素数６〜１４のアリール基、又は−ＯＲ011を表す。Ｒ015及びＲ016における脂肪族基は前記Ｒ01で表される脂肪族基と同義である。Ｒ015及びＲ016におけるアリール基としては、前記Ｒ01において、脂肪族基に導入し得る置換基として例示したアリール基と同様のものが挙げられる。かかるアリール基は更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、前記Ｒ01において脂肪族基に導入し得る置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
【００８７】
前記Ｒ017、Ｒ018及びＲ019は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の炭化水素基又は−ＯＲ020を表すが、これらの置換基の内少なくとも１つは炭化水素基を表す。炭化水素基は前記Ｒ01で示される脂肪族基及びアリール基と同様のものを表し、−ＯＲ020は前記−ＯＲ011と同様の内容を表す。
【００８８】
前記の極性基におけるＲ01、Ｒ02のアリール基としては、前記Ｒ01において脂肪族基に導入し得る置換基として例示したアリール基と、同様のものが挙げられる。また、かかるアリール基は更に置換基を有していてもよく、その導入し得る置換基としては、前記Ｒ01において脂肪族基に導入し得る置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
【００８９】
前記の極性基においてＲ01、Ｒ02で表される複素環基としては、前記Ｒ01において脂肪族基に導入し得る置換基として例示した複素環基と、同様のものが挙げられる。また、かかる複素環基は更に置換基を有していてもよく、その導入し得る置換基としては、前記Ｒ01で表される脂肪族基に導入し得る置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
【００９０】
末端結合基が[−Ｎ（Ｒ01）（Ｒ02）]におけるＲ02は、水素原子又は上記のＲ01と同一の内容を表す。
【００９１】
なお本発明における硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）が、反射防止膜の低屈折率層のマトリックスに用いられる場合、マトリックスの屈折率を高くならないようにするため、上記の非重合性化学修飾基として含フッ素炭化水素基を選択することが好ましい。含フッ素炭化水素基としては、炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基が好ましい。特に好ましくは炭素数２〜１２のものが好ましい。具体的には、後述の低屈折率層用フッ素化合物のフルオロアルキル基と同様のものが挙げられる。
【００９２】
これらの非重合性の末端結合基からなる分岐枝の分子中における割合は、全分岐枝数中の０〜９５％であることが好ましく、より好ましくは５〜８０％、特に好ましくは１０〜５０％である。この範囲内で、硬化膜の強度や湿度安定性がより良好となる。
【００９３】
本発明の硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、従来公知の段階的合成法（Ｄｉｖｅｒｇｅｎｔ法）、ＡＢｘ型化合物の重縮合反応等の合成方法で、核となる多分岐ポリマーを合成し、これの分岐枝末端の極性基を、従来公知の合成方法に従って特定の置換基で修飾することにより得ることができる。
【００９４】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）としては、Ｄ．Ａ．Ｔｏｍａｌｉａ、ｅｔａｌ.，“Ａｎｇｅｗ.  Ｃｈｅｍ.  Ｉｎｔ.  Ｅｄ.  Ｅｎｇｌ.”，２９巻１３８頁（１９９０年）；Ｒｏｏｖｅｒｓ，Ｊ．，“Ａｄｖａｎｃｅｓ  ｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ”，１４３巻１頁（Ｓｐｒｉｎｇｅｒ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ刊）（１９９９年）；Ｊ．Ｃ．Ｓａｌａｍｏｎｅ，Ｅｄ．，“Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ，”５巻３０４９頁（ＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ刊（１９９６年）；柿本雅明、「高分子」、４７巻８０４頁（１９９８年）、及び前記の成書記載の引用文献等に記載の内容が挙げられる。
【００９５】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）の具体例として、例えばポリアミノ系多分岐ポリマーとしては、例えばブチレンジアミンとアクリロニトリルを反応させ、末端のニトリル基をアミンに還元する反応を１ステップとし、この反応を繰り返すことにより得られるプロピレンイミン系多分岐ポリマー（ＷＯ０９３／１４１４７号公報、ＵＳ５，５３０，０９２号明細書、特公平７−３３０６３１号公報）；アミンを求核成分にし、パラジウム触媒を用いた開環重合反応によるアミン系多分岐ポリマー｛Ｍ．Ｓｕｚｕｋｉ，  ｅｔ  ａｌ．，“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，３１巻１７１６頁（１９９８年）｝；アンモニアやエチレンジアミンにメチルアクリレートをマイケル付加し、更にエステルアミド交換反応により末端に２級アミノ基を導入する反応を１ステップとし、必要に応じて、繰り返し反応させることにより得られるアミドアミン系多分岐ポリマー（ＷＯ０８４／０２７０５号公報、特公平６−７０１３２号公報）；ポリアミド系多分岐ポリマー｛Ｓ．Ｃ．Ｅ．Ｂａｃｋｓｏｎ，  ｅｔ  ａｌ．，“Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｓｙｍｐ．”，７７巻１頁（１９９４年）、特開２０００−８６７５８号公報、特開２０００−２５６４５９号公報等｝；ポリフェニレンエステル系多分岐ポリマー｛Ｋ．Ｌ．Ｗｏｏｌｅｙ，  ｅｔ  ａｌ．，“Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊｏｕｒｎａｌ”，２６巻１８７頁（１９９４年）｝；ポリエーテルケトン系多分岐ポリマー｛Ｃ．Ｊ．Ｈａｗｋｅｒ，“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，２９巻４３７０頁（１９９６年）｝；ポリウレタン又はポリウレア系多分岐ポリマー｛Ｒ．Ｓｐｉｎｄｌｅｒ，“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，２６巻４８０９頁（１９９３年）、Ａ．Ｋｕｍａｒ，“Ｃｈｅｍ．  Ｃｏｍｍｕｎ．”，１６２９頁（１９９８年）等｝；ポリエーテル系多分岐ポリマー｛Ｖ．Ｐｅｒｃｅｃ  ｅｔ  ａｌ．“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，２７巻４４４１頁（１９９４年）、Ｃ．Ｊ．Ｈａｗｋｅｒ，  ｅｔ  ａｌ．“Ｊ．Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．”，１１２巻７６３８頁（１９９０年）、特開２００１−２０６８８６号公報、特開２００２−３７８２３号公報等｝；ヒドロキシル基で終結するポリエステル系多分岐ポリマー（ＵＳ５，４１８，３０１号明細書、ＷＯ０９６／１２７５４号公報、特表２００３−５２２２６６号公報等）；カルボキシル基で終結するポリエステル系多分岐ポリマー（Ｓ．Ｒ．Ｔｕｒｎｅｒ，  ｅｔ  ａｌ．“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，２７巻１６１１頁（１９９４年）、特開平１１−６０５４０号公報等）；エポキシ基を含む基で終結するポリエステル系多分岐ポリマー(ＵＳ５，６６３，２４７号明細書、ＷＯ０９６／１３５５８号公報等)などを例示できる。本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９６】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）として、例えば、脂肪族ポリエステル系多分岐ポリマー類の“ＢＯＬＴＯＲＮ”（商品名、Ｐｅｒｓｔｏｒｐ社製）、ポリプロピルアミノ系多分岐ポリマー類（ＤＳＭ社製）、ポリ（アミドアミン）多分岐ポリマー類の“ＳＴＡＲＢＵＲＳＴ”（ＰＡＭＡＮ社製）、“Ｄｅｎｄｒｉｍｅｒ”（商品名、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）等の市販されているものを用いることができる。
【００９７】
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）として硬化性基を有する化合物は、コアとなる多分岐ポリマー（ＨＢ）の分岐枝末端の極性基−すなわち前記のように、多分岐ポリマー（ＨＢ）の中心の基核から分岐鎖延長単位が、反応性基（ｂ）の残基を基核方向にし、複数の反応性基（ａ）の残基を外側にして、何世代かにわたって化学結合することにより延びてきた末端の未反応の反応性基（ａ）−（−ＯＨ、−ＮＨ2、−ＣＯＯＨ、エポキシ基等）と反応して共有結合する反応性基と、硬化性基を有する化合物との高分子反応により容易に合成することができる。これらの反応の組み合わせは従来公知のものが挙げられ、特に限定されない。具体的には、例えば、下記表１に記載のような反応性基の組み合わせで、特定の極性基に修飾変化を加える。
【００９８】
【表１】
2006010829.tif 000006
【００９９】
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、例えば、日本化学会編「新実験化学講座１４、有機化合物の合成と反応〔ＩＩ〕、〔ＩＩＩ〕」、丸善（株）、（１９７７年刊）等に詳細に記載された方法を用いて合成することができる。
また、非重合性の末端結合基を分岐枝の末端に導入する方法も同様にして行うことができる。
【０１００】
画像表示用光学フィルムの反射防止膜としては、着色がなく透明性を保持する観点から、上記硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、波長４００ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲で吸収のないものであることが好ましい。フィルムとしての、波長４００ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の光透過率は８５％以上１００％であることが好ましく、より好ましくは９０％以上１００％である。
【０１０１】
〔硬化剤及び硬化促進剤〕
本発明の硬化性組成物には、硬化剤及び硬化促進剤のうちの少なくとも１種が併用される。これらは、前記本発明の硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）中の硬化性反応基（ａ）の硬化反応に応じて、従来公知のものを適宜選択して使用することができる。
【０１０２】
このような硬化剤及び硬化促進剤としては、例えば、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊（１９８１年）高分子学会編「高分子データハンドブック  基礎編」培風舘（１９８６年）等に記載されている化合物を用いることができる。また、例えば、有機シラン系化合物、ポリイソシアナート系化合物、ポリオール系化合物、ポリアミン系化合物、酸無水化合物類、ポリエポキシ基含有化合物、エポキシ樹脂｛例えば、堀内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂（１９８５年刊）、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社（１９６９年刊）等に記載された化合物類｝、メラミン樹脂｛例えば、三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社（１９６９年刊）等に記載された化合物類｝及びポリ（メタ）アクリレート系化合物｛例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴマー」講談社（１９７６年）、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム（１９８５年刊）等に記載された化合物類｝が挙げられる。
【０１０３】
例えば、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性反応基が水酸基、アミノ基等の活性水素を有する基である場合に用いる硬化剤としては、例えばポリイソシアネート系、アミノプラスト、多塩基酸又はその無水物などを挙げることができる。
【０１０４】
ポリイソシアネート系としては、ｍ−キシリレンジイソシアネート、トルエン−２，４−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどのポリイソシアネート化合物、メチルシリルトリイソシアネートなどのシリルイソシアネート化合物、及びこれらイソシアネート化合物の部分縮合物、多量体や、多価アルコール、低分子量ポリエステルなどとの付加物、イソシアネート基をフェノールなどのブロック化剤でブロックしたブロックポリイソシアネート化合物などが挙げられる。
【０１０５】
アミノプラストとしては、メラミン−ホルムアルデヒド、グアナミン−ホルムアルデヒド、尿素−ホルムアルデヒドなどが採用される。中でもメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどの低級アルコールの１種又は２種以上により、少なくとも部分的にエーテル化されたメチロールメラミン（例えばヘキサメチルエーテル化メチロールメラミン、ヘキサブチルエーテル化メチロールメラミン、メチルブチル混合エーテル化メチロールメラミン、メチルエーテル化メチロールメラミン、ブチルエーテル化メチロールメラミン等）、又はこれらの縮合物などが挙げられる。
【０１０６】
多塩基酸又はその無水物としては、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、トリメリット酸、無水トリメリット酸、フタル酸、無水フタル酸などの芳香族多価カルボン酸又はその無水物やマレイン酸、無水マレイン酸、コハク酸、無水コハク酸などの脂肪族多価カルボン酸又はその無水物などが例示される。
【０１０７】
一方、硬化性多分岐高分子（ＲＨＢ）の硬化性基がエポキシ基、オキセタニル基の場合は、活性水素を有する反応性基（例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基等）又は環状酸無水物含有基との化学反応により硬化させることができる。
【０１０８】
本発明において、硬化性組成物にオルガノシラン化合物を使用できる。オルガノシランとしては、分子内に少なくとも１つの、加水分解によりシラノール基を与えることのできる官能基を有するオルガノシラン化合物が好ましく、本発明の組成物中では、加水分解、縮合して得られる加水分解物及び／又は部分縮合物となり、該組成物中における結合剤としての働きをするものである。
【０１０９】
好ましくは下記一般式（３）で表されるオルガノシラン化合物、及び／又はその誘導体化合物である。
一般式（３）：Ｒ314-b−Ｓｉ（Ｘ31）b
【０１１０】
一般式（３）式中、Ｒ31は置換又は無置換の、脂肪族基又はアリール基を表す。Ｘ31は、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、ＯＨ基、ＯＲ32基、ＯＣＯＲ32基を表す。但し、Ｒ32は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。ｂは１〜４の整数を表す。
【０１１１】
一般式（３）においてＲ31は置換又は無置換の、炭素数１〜３０脂肪族基又は炭素数６〜１４のアリール基が好ましい。
脂肪族基として好ましくは、炭素数１〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数２〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルケニル基、炭素数２〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルキニル基、炭素数５〜２２の脂環式炭化水素基（脂環式炭化水素基としては、単環式、多環式、架橋環式の脂肪族環状炭化水素基が挙げられ、その具体例としては、前記の非重合性の結合基の置換基Ｒ01で例示したと同様のものが挙げられる。脂肪族基は、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは１〜８である。また、アリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０１１２】
上記脂肪族基の置換基としては特に制限はない。具体的には、前記のＲ01で表される脂肪族基に導入し得る置換基と同一の内容のものが挙げられる。
【０１１３】
一般式（３）において、ｂ＝４のもの（以下４官能オルガノシランと称す）としては、テトラアルコキシシラン（アルコキシ基として、メトキシ，エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、テトラアセトキシシラン等を挙げることができる。
【０１１４】
ｂ＝３のもの（以下３官能オルガノシランと称す）、ｂ＝２のもの（以下２官能オルガノシランと称す）の具体的化合物としては、例えば特開平９−１６９９５１号公報の段落番号［００２１］、特開２０００−２７５４０３号公報の段落番号［００１６］〜［００２１］記載の化合物等が挙げられる。
【０１１５】
本発明に用いられるオルガノシラン化合物は、活性エネルギー線反応性基を含有する置換基を有することが好ましい。このような置換基には、好ましくは炭素数２〜１０の有機基がある。活性エネルギー線反応性基としては、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和基、カチオン重合性基が挙げられる。
【０１１６】
これら反応性基としてのラジカル重合性基、又はカチオン重合性基の例としては、前記の重合性基と同様のものが挙げられる。
【０１１７】
上記のオルガノシラン化合物は、より好ましくは下記一般式（３−１）で表されるオルガノシラン化合物、及び／又はその誘導体化合物である。
一般式（３−１）：（Ｒ311）(4-c-d)（Ｒ312）cＳｉ（Ｘ311）d
一般式（３−１）中、Ｒ311及びＸ311は、それぞれ前記一般式（３）中のＲ31及びＸ31と同一の内容を表す。
【０１１８】
Ｒ312は、総原子数２〜２２の活性エネルギー線反応性基を含有する有機基を表す。但し、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子等に置換される水素原子を除く。ｃは１又は２、ｄは１〜３の整数である。
【０１１９】
Ｒ312中の活性エネルギー線反応性基としては、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基であることが好ましく、上記の反応性基と同様の内容のものが挙げられる。
【０１２０】
一般式（３−１）で表されるオルガノシラン化合物の具体例としては、例えば特開２０００−２７５４０３号公報の段落番号［００２３］〜［００２５］、段落番号［００４１］〜［００４２］記載の化合物等が挙げられる。
【０１２１】
これらの硬化剤は、硬化性多分岐高分子（ＲＨＢ）１００質量部当たり、０．５〜３００質量部程度の添加量が好ましく、特に、硬化性多分岐高分子（ＲＨＢ）１００質量部当たり、５．０〜１００質量部程度の添加量とすることが好ましい。
【０１２２】
［硬化促進剤］
硬化を促進する硬化促進剤としては、反応の触媒として公知の酸、塩基触媒又は金属キレート化合物を用いることができる。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、又は酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸等のブレンステッド酸、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネート等のルイス酸が挙げられる。
【０１２３】
また硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性基が、加水分解性基で置換されたシリル基を硬化反応に関わる部位として含有する場合には、ゾル／ゲル反応の触媒として公知の酸、塩基触媒又は金属キレート化合物を硬化促進剤として用いることが好ましい。
【０１２４】
また、硬化性組成物の保存安定性の観点から、光及び／又は熱の作用によって酸又は塩基等の硬化促進剤を発生する化合物を使用してもよい。これらの化合物を使用する場合には、活性エネルギー線の照射又は熱照射によって塗膜の硬化が可能になる。
【０１２５】
塩基を発生する化合物は公知のものを使用することができ、具体的にはニトロベンジルカルバメート類、ジニトロベンジルカルバメート類等を挙げることができる。酸を発生する化合物も公知のものを使用することができ、具体的には後述の重合開始剤に記載のものが挙げられる。
【０１２６】
これら硬化促進剤の使用量は化合物の種類、硬化反応性部位の違いによってまちまちであるが、一般的には硬化性組成物全固形分に対して０．１〜１５質量％程度が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％程度である。
【０１２７】
［重合性化合物（ＭA）］
本発明の硬化性組成物は、上記の硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性基が重合性基を含有する場合には、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性基と共重合可能な重合性化合物（ＭA）及び重合開始剤を併用することが好ましい。重合性化合物（ＭA）は、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる少なくとも１種の重合性基を含有する波長４００ｎｍ以上に吸収を持たない化合物が好ましい。これにより光学フィルムとして着色のない透明性良好な反射防止膜となる。具体的には、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物であり、モノマー、オリゴマーのいずれでもよい。
【０１２８】
｛ラジカル重合性モノマー（ＭA1）｝
ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。またラジカル重合性基には、分子内に２個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。
【０１２９】
ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に２〜６個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体もしくはオリゴマー、又はそれらの混合物もしくはそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。
【０１３０】
ラジカル重合性モノマー（ＭA1）の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が挙げられる。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類や、アミド類と、単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の、親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類又はチオール類との反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えられた化合物群を使用することも可能である。
【０１３１】
脂肪族多価アルコール化合物としては、アルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシトール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリトリトール、ソルビトール、ジペンタエリトリトール、トリペンタエリトリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物（モノエステル又はポリエステル）、例えば、特開２００１−１３９６６３号公報段落番号[００２６]〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。
【０１３２】
その他の重合性エステルの例としては、例えば、ビニル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレートや、特公昭４６−２７９２６号公報、特公昭５１−４７３３４号公報及び特開昭５７−１９６２３１号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類、特開平２−２２６１４９号公報等に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報に記載のアミノ基を有するものなども好適に用いられる。
【０１３３】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、特公昭５４−２１７２６号公報に記載のシクロヘキシレン構造を有するものなどを挙げることができる。
【０１３４】
また、１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物（特公昭４８−４１７０８号公報等）、ウレタンアクリレート類（特公平２−１６７６５号公報等）、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物（特公昭６２−３９４１８号公報等）、ポリエステルアクリレート類（特公昭５２−３０４９０号公報等）、更に、「日本接着協会誌」２０巻７号３００〜３０８頁（１９８４年）に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。
これらラジカル重合性の多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
【０１３５】
｛カチオン重合性モノマー（ＭA2）｝
次に、カチオン重合性基含有の化合物（カチオン重合性モノマー）（ＭA2）について説明する。
【０１３６】
本発明に用いられるカチオン重合性モノマー（ＭA2）は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に、活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び／又は架橋反応を生ずる化合物のいずれであってもよく、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。本発明では前記したカチオン重合性有機化合物のうちの１種を用いても２種以上を用いてもよい。
【０１３７】
カチオン重合性モノマー（ＭA2）としては、１分子中のカチオン重合性基の数は２〜１０個が好ましく、特に好ましくは２〜５個である。該化合物の分子量は３０００以下であることが好ましく、より好ましくは２００〜２０００の範囲、特に好ましくは４００〜１５００の範囲である。この範囲であれば、皮膜形成過程での揮発が問題となることなく、硬化性組成物との相溶性の点でも問題なく、好ましい。
【０１３８】
前記のカチオン重合性モノマー（ＭA2）の１つであるエポキシ化合物としては脂肪族エポキシ化合物及び芳香族エポキシ化合物が挙げられる。
【０１３９】
脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル（メタ）アクリレート等のホモポリマーやコポリマーなどを挙げることができる。さらに、前記のエポキシ化合物以外にも、例えば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチルエポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、或いは不飽和脂環族環（例えば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等）含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。
【０１４０】
また、芳香族エポキシ化合物としては、例えば少なくとも１個の芳香核を有する１価又は多価フェノール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のモノ又はポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、例えば、特開平１１−２４２１０１号明細書中の段落番号［００８４］〜［００８６］記載の化合物、特開平１０−１５８３８５号明細書中の段落番号［００４４］〜［００４６］記載の化合物等が挙げられる。
【０１４１】
これらのエポキシ化合物のうち、迅速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシ化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１４２】
環状チオエーテル化合物としては、上記のエポキシ環がチオエポキシ環となる化合物が挙げられる。
【０１４３】
環状エーテルとしてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、例えば特開２０００−２３９３０９号明細書中の段落番号［００２４］〜［００２５］に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。
【０１４４】
スピロオルソエステル化合物としては、例えば特表２０００−５０６９０８号公報等記載の化合物を挙げることができる。
【０１４５】
ビニル炭化水素化合物としては、スチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物（ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等）、ビニルオキシ化合物（前記のラジカル重合性化合物で記載の内容と同様のもの）、プロペニル化合物｛“Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ  Ａ：  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”，３２巻，２８９５頁（１９９４年）記載等｝、アルコキシアレン化合物｛“Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：  Ｐａｒｔ  Ａ：  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”，３３巻，２４９３頁（１９９５年）記載等｝、ビニル化合物｛“Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：  Ｐａｒｔ  Ａ：  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”，３４巻，１０１５頁（１９９６年）、特開２００２−２９１６２号公報等記載｝、イソプロペニル化合物｛“Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：  Ｐａｒｔ  Ａ：  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”，３４巻，２０５１頁（１９９６年）記載等｝等を挙げることができる。
これらは２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１４６】
また、本発明で用いられる多官能性化合物は、前記のラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる少なくとも各１種の基を、少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。このような化合物としては、例えば、特開平８−２７７３２０号公報中の段落番号［００３１］〜［００５２］記載の化合物、特開２０００−１９１７３７号公報中の段落番号［００１５］記載の化合物等を挙げることができるが、本発明に供される化合物は、これらに限定されるものではない。
【０１４７】
重合性化合物ＭAは、硬化性多分岐高分子（ＲＨＢ）１００質量部当たり、
１〜３００質量部程度の添加量が好ましく、特に、硬化性多分岐高分子（ＲＨＢ）１００質量部当たり、５〜１００質量部程度の添加量とすることが好ましい。
上記したラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。
【０１４８】
［重合開始剤］
次に、重合開始剤について詳述する。
重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。本発明の重合開始剤（Ｌ）は、光及び／又は熱照射により、ラジカル又は酸を発生する化合物である。
【０１４９】
本発明において用いられる光重合開始剤（Ｌ）は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。
【０１５０】
まず、ラジカルを発生する化合物（Ｌ1）について詳述する。
本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物（Ｌ1）は、光及び／又は熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独又は２種以上を併用して用いることができる。
【０１５１】
ラジカルを発生する化合物（Ｌ1）としては、例えば、従来公知の有機過酸化物、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、有機過酸化物（特開２００１−１３９６６３号公報等記載）、アミン化合物（特公昭４４−２０１８９号公報記載）、メタロセン化合物（特開平５−８３５８８号公報、特開平１−３０４４５３号公報等記載）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物（米国特許第３，４７９，１８５号明細書等記載）、ジスルホン化合物（特開平５−２３９０１５号公報、特開昭６１−１６６５４４号公報等記載）、有機ハロゲン化合物、カルボニル化合物、有機ホウ酸化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
【０１５２】
上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等“Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ”４２巻、２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ，“Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１巻（３号），（１９７０年）等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。
【０１５３】
上記カルボニル化合物としては、例えば、「最新  ＵＶ硬化技術」６０〜６２頁｛（株）技術情報協会刊、１９９１年｝、特開平８−１３４４０４号公報の段落番号［００１５］〜［００１６］、同１１−２１７５１８号公報の段落番号［００２９］〜［００３１］に記載の化合物等が挙げられ、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィンオキシド等が挙げられる。
【０１５４】
前記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ，“Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ'９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。また、例えば、前記特開２００２−１１６５３９号公報の段落番号［００２２］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。さらに他の有機ホウ素化合物としては、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−２９２０１４号公報等記載の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
【０１５５】
これらのラジカル発生化合物は、一種のみを添加しても、二種以上を併用してもよい。添加量としては、ラジカル重合性モノマーの全量に対し０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜２５質量％、特に好ましくは１〜２０質量％で添加することができる。この範囲において、硬化性組成物の経時安定性が問題なく高い重合性となる。
【０１５６】
次に、光重合開始剤（Ｌ）として用いることができる光酸発生剤（Ｌ2）について詳述する。
酸発生剤（Ｌ2）としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。また、酸発生剤（Ｌ2）として、例えば、オニウム化合物、有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物が挙げられる。有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物のこれらの具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
【０１５７】
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開２００２−２９１６２号公報の段落番号［００５８］〜［００５９］に記載の化合物等が挙げられる。
【０１５８】
本発明において、特に好適に用いられる酸発生剤（Ｌ2）としては、オニウム塩が挙げられ、中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。
【０１５９】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、例えば、特開平９−２６８２０５号公報の段落番号［００３５］に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開２０００−７１３６６号公報の段落番号［００１０］〜［００１１］に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開２００１−２８８２０５号公報の段落番号［００１７］に記載のチオ安息香酸Ｓ−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号［００３０］〜［００３３］に記載のオニウム塩等が挙げられる。
【０１６０】
酸発生剤の他の例としては、特開２００２−２９１６２号公報の段落番号［００５９］〜［００６２］に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。
【０１６１】
これらの酸発生剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの酸発生剤は、全カチオン重合性モノマーの全質量１００質量部に対し０．１〜２０質量％の割合が好ましく、より好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、硬化性組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。
【０１６２】
本発明で用いられる硬化性組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を０．５〜１０質量％及びカチオン重合開始剤を１〜１０質量％の割合で含有していることが好ましい。より好ましくは、ラジカル重合開始剤を１〜５質量％、及びカチオン重合開始剤を２〜６質量％の割合で含有する。
【０１６３】
本発明における硬化性組成物には、紫外線照射により重合反応を行う場合、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。例えばミヒラーズケトン、アミノ酸（グリシンなど）、有機アミン（ブチルアミン、ジブチルアミンなど）等が挙げられる。
【０１６４】
また、近赤外線照射により重合反応を行う場合には、近赤外線分光増感剤を併用することが好ましい。併用する近赤外線分光増感剤は、７００ｎｍ以上の波長域の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、分子吸光係数が１００００以上の値を有する化合物が好ましい。また、４２０ｎｍ〜７００ｎｍの可視光波長域に吸収の谷があり、光学的に透明であることがより好ましい。
【０１６５】
近赤外線分光増感剤は、近赤外線吸収顔料及び近赤外線吸収染料として知られる種々の顔料及び染料を用いることができる。その中でも、従来公知の近赤外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０１６６】
市販の染料及び文献｛例えば、「化学工業」１９８６年５月号４５〜５１頁の「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー発行、Ｊ．ＦＡＢＩＡＮ，“Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ.”，９２巻１１９７〜１２２６頁（１９９２年）、日本感光色素研究所が１９９５年に発行したカタログ等に記載されている公知の染料が利用できる。
【０１６７】
［硬化性組成物の他の添加剤］
本発明における硬化膜には、更に用途・目的によって、適宜他の化合物を添加することができる。例えば、後述する中／高屈折率層の各屈折率層においては、透明基体フィルムの屈折率より高く調整するために高屈折率無機微粒子を、さらに膜強度又は塗工性の改良のためにコロイダル無機粒子を添加することができる。
【０１６８】
このようなコロイダル無機粒子としては、粒径が５〜５０ｎｍのものが用いられるが、好ましくは５〜３０ｎｍのものであり、特に好ましくは、粒径８〜２０ｎｍのものである。無機粒子としては、シリカ、アルミナ、フッ化マグネシウム等が挙げられる。好ましくはコロイダルシリカである。このようなコロイダルシリカは、例えばＩ．Ｍ．  Ｔｈｏｍａｓ著，“Ａｐｐｌ．  Ｏｐｔ．”，１９８６年、２５巻、１４８１頁等に記載の手法に順じて、テトラアルコキシシランを原料として、アンモニア水等の触媒を用いて加水分解・重縮合することにより調整することができる。また市販のものでは、日産化学工業（株）製「スノーテックスＩＰＡ−ＳＴ」、同「スノーテックスＭＥＫ−ＳＴ」；日本エアロジル（株）製“ＡＥＲＯＳＩＬ３００”、同“ＡＥＲＯＳＩＬ１３０”、同“ＡＥＲＯＳＩＬ５０”（ずれも商品名）等を利用することもできる。コロイダル無機粒子の添加量は、硬化性組成物を塗膜硬化後の全固形分の１〜７０質量％の範囲が好ましく、特に好ましくは、５〜６０質量％の場合である。
【０１６９】
更に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子等を添加することもできる。
【０１７０】
［硬化組成物用溶媒］
本発明の硬化性組成物は、通常本発明の硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を適当な溶媒に溶解若しくはコロイド状分散して作製される。この際、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【０１７１】
上記溶媒としては、本発明の硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を含む組成物が沈殿を生じることなく、均一に溶解又は分散されるものであれば特に制限はなく、２種類以上の溶媒を併用することもできる。好ましい例としては、分散媒体としては、アルコール類、ケトン類、エステル類、アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。具体的には、アルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等）、ケトン（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル（例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル等）、脂肪族炭化水素（例えばヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例えばメチレンクロライド、メチルクロロホルム等）、芳香族炭化水素（例えばトルエン、キシレン等）、アミド（例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン等）、エーテル（例えばジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等）、エーテルアルコール（例えば１−メトキシ−２−プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等）、フルオロアルコール類（例えば、特開平８−１４３７０９号公報段落番号［００２０］、同１１−６０８０７号公報段落番号［００３７］等に記載の化合物）が挙げられる。
【０１７２】
これらの溶媒は、それぞれ単独で又は２種以上を混合して使用することができる。好ましい溶媒としては、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、イソプロパノール、ブタノールが挙げられる。また、ケトン溶媒（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられ、ケトン系溶媒の含有量が硬化性組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。より好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【０１７３】
〔硬化膜層の形成〕
反射防止膜に含有される光透過層のうち少なくとも１層の硬化膜は、後述する透明基体フィルム上に直接、又は、他の層を介して上述の硬化性組成物の塗布液を塗布して構築する。本発明の硬化膜用塗布液は、マトリックスバインダー用液（硬化性組成物を含有する。）、必要に応じて特定の無機化合物の超微粒子分散物、添加剤を塗布用分散媒（溶媒）にそれぞれ所定の濃度に混合・希釈して調整される。
【０１７４】
塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲で、できるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルターが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜２５μｍであるフィルターを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１ＭＰａ以下、更には２００ｋＰａ以下で濾過することが好ましい。
【０１７５】
濾過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【０１７６】
本発明において、硬化膜層は、後述する透明基体フィルム上に本発明の硬化性組成物を含む塗布液をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やダイコート法（エクストルージョンコート法、スライドコート法等）等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、光及び／又は熱照射することにより作製することができる。好ましくは、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やダイコート法による塗布方法と、光照射による硬化を採用することが、薄膜塗工及び迅速均一硬化の観点から有利である。更には、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。
【０１７７】
光照射の光源は、紫外線光域又は近赤外線光域のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長３５０〜４２０ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長７５０〜１４００ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。
【０１７８】
近赤外光光源を用いる場合、紫外線光源と組み合わせて用いても、又は高屈折率層塗設側とは反対側の基体表面側より光照射してもよい。このことにより、塗膜層内の深さ方向での膜硬化が、表面近傍と遅滞なく進行し、均一な硬化状態の硬化膜が得られる。
【０１７９】
光照射による光ラジカル重合の場合は、空気又は不活性気体中で行うことができるが、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のために、できるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。照射する紫外線の照射強度は、０．１〜１００ｍＷ／ｃｍ2程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±３℃以内が好ましく、更には±１．５℃以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内及び層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。
【０１８０】
硬化膜層のＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、３Ｈ以上であることが好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の硬化膜塗設の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１８１】
〔高屈折率層〕
本発明の硬化膜が反射防止膜の高屈折率層を形成する場合には、上記の硬化性組成物中に高屈折率の無機化合物微粒子（以下、無機微粒子ということがある）を含有する硬化性組成物を塗設してなる、屈折率１．５５〜２．５０の硬化膜からなることが好ましい。屈折率は１．６５〜２．４０が好ましく、更には１．７０〜２．２０が特に好ましい。
【０１８２】
また高屈折率層の表面が、光学的に影響を与えない大きさの微細な表面凹凸形態を形成しており、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づく該高屈折率層の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．０３μｍ、さらには０．００１〜０．０１５μｍ、特には０．００１〜０．０１０μｍの範囲；十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．００１〜０．０６μｍ、さらには０．００２〜０．０５μｍ、特には０．００２〜０．０２５μｍの範囲であり、且つ最大高さ（Ｒｙ）が０．０９μｍ以下、さらには０．０５μｍ以下、特には０．０４μｍ以下であることが好ましい。
【０１８３】
更に、上記の光学的に影響を与えない大きさの微細な表面凹凸形態において、算術平均粗さ（Ｒａ）と十点平均粗さ（Ｒｚ）との比（Ｒａ／Ｒｚ）が０．１５以上で、且つＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づく該高屈折率層の表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０１〜１μｍであることが好ましい。ここで、ＲａとＲｚの関係は表面の凹凸の均一性を示すものである。さらに好ましくは、（Ｒａ／Ｒｚ）比が０．１７以上、平均間隔（Ｓｍ）が０．０１〜０．８μｍであるのがよい。これらの範囲内であれば、該高屈折率層の上に塗布される層の塗布面状は、ムラやスジ等のみられない良好なものとなり、且つ両層間の密着性を向上させることが可能となる。層表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
【０１８４】
高屈折率層を、高屈折率の無機微粒子が上記の硬化膜のマトリックスバインダー中に分散されてなる屈折率１．５５〜２．５０の高屈折率硬化膜とするには、通常、マトリックスバインダーの屈折率は１．４〜１．５であることから、該微粒子の使用割合は、用いられる該微粒子の屈折率によって決まるが、硬化膜の全質量中の４０〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは４５〜７５質量％である。
【０１８５】
このように、無機微粒子の比率を多くして設計する高屈折率層の、それ自身の膜強度を高め、且つ低屈折率層などの上層を設けたのちの、上層との密着性を強固にするには、本発明の硬化性多分岐ポリマー、さらには重合性化合物としての硬化剤自身の効果とともに、後述するように、無機微粒子として超微粒子径で、その粒度が揃ったものを用い、且つこれを高屈折率層中に均一に分散させること、及びその層の表面が上記のような凹凸状態を形成することが好ましい。高屈折率層表面全体の表面凹凸の形状と分布を特定の範囲とすることで、長尺フィルムに連続して上層を設けた時にでも、該上層の全面がムラなく均一にアンカリング効果を発揮して密着が保たれるので好ましい。また、長期間を保存した後でも密着性が変化なく保持されるので好ましい。
【０１８６】
本発明における高屈折率層の硬化膜と、該高屈折率層上に塗設した上層（低屈折率層など）との密着性は、ＪＩＳ  Ｋ−６９０２に基づくテーバー磨耗試験における磨耗量が、５０ｍｇ以下、さらには４０ｍｇ以下となることが好ましい。テーバー磨耗試験は、具体的には、荷重１ｋｇで５００回転させた後の磨耗量である。この範囲内であれば、反射防止膜としての耐擦傷性が十分に保持され、好ましい。
【０１８７】
また、前記の表面形状が形成された高屈折率層を含む反射防止膜においては、視覚的に異物として目立ちやすくなる直径１００μｍ以上の大きさの輝度欠陥の数が、１平方メートル当たり１個以下となることが好ましい。
【０１８８】
［高屈折率層形成用組成物］
（高屈折率の無機微粒子）
本発明における高屈折率層に含まれる高屈折率の無機微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０、さらには１．９０〜２．８０；一次粒子の平均粒径が３〜１５０ｎｍ、さらには３〜１００ｎｍ、特には５〜８０ｎｍであることが好ましい。無機微粒子の屈折率が１．８０以上であれば、層の屈折率を効果的に高めることができ、屈折率が２．８０以下であれば粒子が着色するなどの不都合がないので好ましい。また無機微粒子の一次粒子の平均粒径が１５０ｎｍ以下であれば、形成される高屈折率層のヘイズ値が高くなって層の透明性を損なうなどの不都合が生じないので好ましく、３ｎｍ以上であれば高い屈折率が保持されるので好ましい。
【０１８９】
好ましい高屈折率無機微粒子の具体例は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ，Ｌａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｖ、Ｓｍ、Ｙ等の酸化物又は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分をさす。本発明でより好ましい無機微粒子はＴｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む酸化物もしくは複合酸化物を主成分とする粒子である。
【０１９０】
前記無機微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない（以下このような元素を含有元素ということがある）。含有元素としては、例えば、Ｌｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｐ、Ｓなどが挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｐ、Ｂ、Ｉｎ、Ｖ、ハロゲンなどの含有元素を含有させることが好ましく、特に、酸化アンチモンを約５〜２０質量％含有させたものが最も好ましい。
【０１９１】
本発明で特に好ましい無機微粒子は、含有元素としてＣｏ、Ｚｒ、Ａｌから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以降、「特定の酸化物」と称することもある）が挙げられる。特に好ましい含有元素はＣｏである。Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒの総含有量は、Ｔｉに対し０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％、さらに好ましくは０．３〜５質量％、最も好ましくは０．５〜３質量％である。含有元素Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部又は表面に存在する。二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの含有元素のうち金属元素は、酸化物として存在してもよい。
【０１９２】
また他の好ましい無機微粒子としては、チタン元素と、酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）との複合酸化物の粒子で、且つ該複合酸化物はＣｏイオン、Ｚｒイオン及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。ここで、その酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属元素としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ，Ｓｎ及びＢｉが好ましい。特には、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが好ましい。複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは０．０５〜１０質量％、さらに好ましくは０．１〜５質量％、最も好ましくは０．３〜３質量％である。
【０１９３】
ドープされた金属イオンは、金属イオンとして、又は金属原子の何れの形体で存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することができる。表面と内部との両方に存在することが好ましい。
【０１９４】
前記無機微粒子は結晶構造を有することが好ましい。結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。このことにより、前記特定の酸化物又は特定の複合酸化物の無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０を有することになるので好ましい。屈折率は、より好ましくは２．１０〜２．８０であり、更に好ましくは２．２０〜２．８０である。またこのことにより、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明における高屈折率層自身及び高屈折率層と接する上／下の両層のそれぞれの耐候性を著しく改良することができるので好ましい。
【０１９５】
上記した特定の金属元素又は金属イオンをドープする方法は、従来公知の方法を用いることができ、例えば、特開平５−３３０８２５号公報、同１１−２６３６２０号公報、特表平１１−５１２３３６号公報、ヨーロッパ公開特許第０３３５７７３号公報等に記載の方法；イオン注入法［例えば、権田俊一、石川順三、上条栄治編「イオンビーム応用技術」（株）シ−エムシー、１９８９年刊行、青木 康、「表面科学」１８巻（５）、２６２頁、１９９８、安保正一等、「表面科学」２０巻（２）、６０頁、１９９９等記載］等に従って製造できる。
【０１９６】
前記無機微粒子は表面処理されていてもよい。表面処理とは、無機化合物及び／又は有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施するもので、これにより無機微粒子表面の濡れ性が調整され有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性が向上する。粒子表面に物理化学的に吸着させる無機化合物としては、例えば、珪素を含有する無機化合物（ＳｉＯ2など）、アルミニウムを含有する無機化合物［Ａｌ2Ｏ3，Ａｌ（ＯＨ）3など］、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ2，Ｃｏ2Ｏ3，Ｃｏ3Ｏ4など）、ジルコニウムを含有する無機化合物［ＺｒＯ2，Ｚｒ（ＯＨ）4など］、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ2Ｏ3など）などが挙げられる。
【０１９７】
表面処理に用いる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。
【０１９８】
具体的には、無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物があげられる。無機微粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等があげられ、分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール化合物（例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロールトリアクリレート等）、ホスホノ基含有化合物｛例えばＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリアクリレート等｝、アルカノールアミン｛エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等｝が挙げられる。
【０１９９】
カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開２００２−９９０８号公報同２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号［００１１］〜［００１５］記載の化合物等が挙げられる。
これらの表面処理に用いる化合物は、２種類以上を併用することもできる。
【０２００】
前記無機微粒子は、これをコアとして他の無機化合物からなるシェルを形成したコア／シェル構造の微粒子であることも好ましい。シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒから選ばれる少なくとも１種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−１６６１０４号公報記載の内容が挙げられる。
【０２０１】
前記無機微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状又は不定形状が好ましい。前記無機微粒子は単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
【０２０２】
（分散剤）
前記無機微粒子を、安定した所定の超微粒子として用いるため、分散剤を併用することが好ましい。分散剤としては、該無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する低分子化合物、又は高分子化合物であることが好ましい。
【０２０３】
前記極性基としては、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ91）（ＯＨ）基、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ91）（ＯＨ）基、アミド基（−ＣＯＮＨＲ92、−ＳＯ2ＮＨＲ92）、環状酸無水物含有基、アミノ基、四級アンモニウム基等が挙げられる。
【０２０４】
ここで、Ｒ91は炭素数１〜１８の炭化水素基を表す（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基等）。Ｒ92は、水素原子又はＲ91と同一の内容を表す。
【０２０５】
上記極性基において、解離性プロトンを有する基はその塩であってもよい。また、上記アミノ基、四級アンモニウム基は、一級アミノ基、二級アミノ基又は三級アミノ基のいずれでもよく、三級アミノ基又は四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基又は四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、炭素原子数が１〜１２の脂肪族基（上記Ｒ91又はＲ92の基と同一の内容のもの等）であることが好ましい。また、三級アミノ基は、窒素原子を含有する環形成のアミノ基（例えば、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピリジン環等）であってもよく、更に四級アンモニウム基はこれら環状アミノ基の四級アモニウム基であってもよい。特に炭素原子数が１〜６のアルキル基であることがさらに好ましい。
【０２０６】
四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオン、ＰＦ6イオン、ＳｂＦ6イオン、ＢＦ4イオン、Ｂ（Ｒ93）4イオン（Ｒ93は、炭化水素基を表し、例えばブチル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、ブチルフェニル基等）、スルホン酸イオン等が好ましい。
【０２０７】
前記分散剤の極性基としては、ｐＫａが７以下のアニオン性基又はこれらの解離基の塩が好ましい。特に、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、又はこれらの解離基の塩が好ましい。
【０２０８】
分散剤は、さらに架橋性又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋性又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基｛例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基カルボニル基、ビニルオキシ基等｝、カチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基、スピロオルトエステル基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基、エポキシ基、又は加水分解性シリル基である。
具体的には、例えば特開２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号［００１３］〜［００１５］記載の化合物等が挙げられる。
【０２０９】
本発明に用いられる分散剤は、高分子分散剤であることが好ましい。特に、アニオン性基、及び架橋性又は重合性官能基を含有する高分子分散剤が好ましい。高分子分散剤の質量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが、ＧＰＣ法で測定されたポリスチレン換算値として、１×１０3以上であることが好ましい。より好ましいＭｗは２×１０3〜１×１０6であり、更に好ましくは５×１０3〜１×１０5、特に好ましくは８×１０3〜８×１０4である。この範囲のものが、無機微粒子が分散されやすく、且つ凝集物や沈殿物を生じない安定な分散物が得られ、好ましい。具体例としては、例えば特開平１１−１５３７０３号公報明細書中の段落番号［００２４］〜［００４１］記載の内容等が挙げられる。
【０２１０】
（分散媒体）
前記無機微粒子の湿式分散に供する分散媒体は、水、有機溶媒から適宜選択して用いることができ、沸点が５０℃以上の液体であることが好ましく、沸点が６０℃〜１８０℃の範囲の有機溶媒であることがより好ましい。具体的には、上記の硬化性組成物の溶媒と同様のものが挙げられる。
【０２１１】
分散媒体は、無機微粒子及び分散剤を含む高屈折率層を形成するための全成分が５〜５０質量％となる割合で用いることが好ましい。更には、１０〜３０質量％が好ましい。この範囲において、分散が容易に進行し、得られる分散物は作業性良好な粘度の範囲となり、好ましい。
【０２１２】
（無機微粒子の超微粒子化）
本発明に用いられる硬化性の高屈折率層形成用組成物は、平均粒径１００ｎｍ以下の無機化合物の超微粒子分散物とすることにより、該組成物の液の安定性が向上し、この硬化性組成物から形成される硬化膜である高屈折率層は、無機微粒子が硬化膜のマトリックス中で、超微粒子状態で均一に分散されて存在し、光学特性が均一で透明な高屈折率層が形成される。硬化膜のマトリックス中で存在する超微粒子の大きさは、平均粒径３〜１００ｎｍの範囲が好ましく、５〜８０ｎｍがより好ましい。更には、５００ｎｍ以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが好ましく、３００ｎｍ以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが特に好ましい。これにより、硬化膜表面が上記した特定の凹凸形状を形成でき、好ましい。
【０２１３】
上記の高屈折率無機微粒子を上記の範囲の粗大粒子を含まない超微粒子の大きさに分散するには、前記の分散剤と共に、平均粒径０．８ｍｍ未満のメディアを用いた湿式分散方法で分散して達成することができる。
【０２１４】
湿式分散機としては、サンドグラインダーミル（例えばピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター、コロイドミル等の従来公知のものが挙げられる。特に本発明に用いられる無機微粒子を超微粒子に分散するには、サンドグラインダーミル、ダイノミル、及び高速インペラーミルが好ましい。
【０２１５】
上記分散機と共に用いるメディアとしては、その平均粒径が０．８ｍｍ未満であることが好ましく、平均粒径がこの範囲のメディアを用いることで上記の無機微粒子径が１００ｎｍ以下となり、且つ粒子径の揃った超微粒子を得ることができる。メディアの平均粒径は、より好ましくは０．５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは０．０５〜０．３ｍｍである。また湿式分散に用いられるメディアとしては、ビーズが好ましい。具体的には、ジルコニアビーズ、ガラスビーズ、セラミックビーズ、スチールビーズ等が挙げられ、分散中におけるビーズの破壊等を生じ難い等の耐久性と超微粒子化の上から０．０５〜０．２ｍｍのジルコニアビーズが特に好ましい。
【０２１６】
分散工程での分散温度は２０〜６０℃が好ましく、より好ましくは２５〜４５℃である。この範囲の温度で超微粒子に分散すると分散粒子の再凝集、沈殿等が生じないため、このましい。これは、無機化合物粒子への分散剤の吸着が適切に行われ、常温下での分散剤の粒子からの脱着等による分散安定不良とならないためと考えられる。このような範囲において分散工程を実施することにより、透明性を損なわない屈折率均一性、膜の強度、隣接層との密着性等に優れた高屈折率膜を形成できる。
【０２１７】
また、上記湿式分散の工程の前に、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
【０２１８】
更には、分散物中の分散粒子がその平均粒径、及び粒子径の単分散性が上記した範囲を満足する上で、分散物中の粗大凝集物を除去するために、ビーズとの分離処理において精密濾過されるように濾材を配置することも好ましい。精密濾過するための濾材は濾過粒子サイズ２５μｍ以下が好ましい。精密濾過するための濾材のタイプは、上記性能を有していれば特に限定されないが、例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、且つ得られる高屈折率層形成用組成物に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが、例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
【０２１９】
高屈折率層の膜厚は３０〜５００ｎｍが好ましく、さらに５０〜３００ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。高屈折率層がハードコート層を兼ねる場合、０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１〜７μｍ、特に２〜５μｍが好ましい。高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下で
あることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
【０２２０】
〔中屈折率層〕
本発明の反射防止膜は、高屈折率層が屈折率の異なる２層からなる積層構造であることが好ましい。すなわち、透明基体フィルム上に、２つの高屈折率層のうち屈折率の低い方の層（中屈折率層）、２つの高屈折率層のうち屈折率の高い方の層（高屈折率層）、低屈折率層（最外層）の順序の３層構造からなることが好ましい。中屈折率層は、透明基体フィルムの屈折率と高屈折率層の屈折率の中間の屈折率を有する。このように各屈折率層の屈折率は相対的なものである。中屈折率層は、高屈折率層と同じ方法で中屈折率層形成用組成物を塗設して形成する。
【０２２１】
本発明における中屈折率層を構成する材料は、従来公知の材料の何れでもよいが、上記高屈折率層と同様のものを用いることが好ましい。屈折率は無機微粒子の種類、使用量で容易に調整され、上記高屈折率層に記載の内容と同様にして、膜厚０．０３〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．５μｍ、更には０．０５〜０．３μｍが好ましい。中屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
【０２２２】
〔低屈折率層〕
本発明における低屈折率層の屈折率は、反射防止性を付与する目的で、好ましくは１．３１〜１．４８の範囲であるのがよい。
【０２２３】
本発明における低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築されることが好ましい。そして、該低屈折率層は、平均粒径が該低屈折率層の厚みの３０％〜１００％で、且つ屈折率１．１７〜１．３７である中空構造の無機微粒子を少なくとも１種含有してなることが好ましい。無機微粒子の平均粒径が低屈折率層の厚みの３０％〜１００％の範囲であれば、低屈折率層皮膜の強度が十分に発現されるので好ましい。またこのような屈折率の無機微粒子を低屈折率層に用いることにより、層自体の屈折率の上昇を抑えながら、しかも長時間の熱硬化や偏光膜を設けるために行う鹸化処理などの制約を受けることなく、低い屈折率と高い皮膜強度の両立を達成できる。
【０２２４】
［低屈折率層の硬化膜形成用素材］
更に上記低屈折率層には、低屈折率を実現し、且つ表面への滑り性の付与が効果的に行え、耐擦傷性を大きく向上させる手段として、従来公知のシリコーン樹脂及び／又は含フッ素化合物の導入された硬化膜形成用素材を適宜適用することが好ましい。含フッ素化合物を含有することがより好ましい。特に、本発明における低屈折率層は、熱硬化性及び／又は光もしくは放射線（例えば電離放射線）硬化型の架橋性の含フッ素化合物を主体として形成され、硬化した含フッ素ポリマーにより構成されることが好ましい。
【０２２５】
更には、本発明の低屈折率層は硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を併用することが好ましい。好ましく供される硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、前記のように、分子中に含フッ素炭化水素構造を含有する。特に分岐枝末端に非重合性の化学修飾基として含フッ素アルキル基を含有するものを好適に使用することができる。また同時に、該硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の分子中に窒素原子、芳香環（アリール環、複素環）を含有しないものが好ましい。これらにより、低屈折率層中の低屈折率調整用無機微粒子（後述する）の使用割合を抑えることができることから、低屈折率層皮膜の強度向上に一層効果的となる。
【０２２６】
本発明において低屈折率層は、無機微粒子、硬化性反応基を有する含フッ素ポリマー及び酸触媒の存在下で製造されてなる、下記一般式（４）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物を、それぞれ少なくとも１種含有する硬化性の低屈折率層形成用組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることが好ましい。
【０２２７】
一般式（４）：（Ｒ41）4-e−Ｓｉ（Ｘ41）e
（式中、Ｒ41は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘ41は水酸基又は加水分解可能な基を表す。ｅは１〜３の整数を表す。）
【０２２８】
また、低屈折率層形成用硬化性組成物は、更に、ラジカル重合性基及び／又はカチオン重合性基から選ばれる重合性基を少なくとも２個以上含有する多官能重合性化合物及び重合開始剤を含有することが好ましい。
以下、硬化性の低屈折率層形成用組成物について説明する。
【０２２９】
［低屈折率層形成用組成物］
（中空構造の無機微粒子）
上記低屈折率層は、その屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子（以下、中空粒子ということがある）を用いることが好ましい。中空粒子は屈折率が、１．１７〜１．４０が好ましく、より好ましくは１．１７〜１．３７、さらに好ましくは１．１７〜１．３５であるのがよい。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。中空粒子の屈折率は、粒子の強度及び該中空粒子を含む低屈折率層の耐擦傷性の観点から、１．１７以上とすることが好ましい。
なお、これら中空粒子の屈折率はアッベ屈折率計［アタゴ（株）製］にて測定することができる。
【０２３０】
なお、中空粒子内の空腔の半径をｒi、粒子外殻の半径をｒoとするとき、中空粒子の空隙率ｗ（％）は下記数式（５）に従って計算される。
数式（５）：ｗ=（ｒi／ｒo）3×１００
中空粒子の空隙率は、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
【０２３１】
中空粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの３０〜１００％、さらには３５〜８０％、特には４０〜６０％であることが好ましい。すなわち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、中空粒子の粒径は３０〜１００ｎｍ、さらには３５〜８０ｎｍ、特には４０〜６０ｎｍの範囲となることが好ましい。該平均粒径が前記の範囲であると、膜の強度が十分に発現されて好ましい。
【０２３２】
低屈折率層に用いられる無機微粒子としては、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の粒子が好ましい。特に好ましくは二酸化珪素（シリカ）粒子である。
無機微粒子の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、又は不定形状であることが好ましい。
【０２３３】
（小サイズ粒径の無機微粒子）
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下、「小サイズ粒子」ということがある）の少なくとも１種を、前記のこれより大きい粒径の無機微粒子（以下、「大サイズ粒子」と称すこともある）と併用することが好ましい。この小サイズ粒子は中空構造をもたないものでよい。
小サイズ粒子は、大サイズ粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒子の保持剤として寄与することができるので好ましい。また、原料コストの点でも好ましい。
【０２３４】
小サイズ粒子の平均粒径は、低屈折率層の膜厚が１００ｎｍの場合、１〜２０ｎｍが好ましく、５〜１５ｎｍが更に好ましく、１０〜１５ｎｍが特に好ましい。
【０２３５】
小サイズ粒子の使用量は、大サイズ粒子（好ましくは中空粒子）１００質量部に対して５〜１００質量部が好ましく、より好ましくは１０〜８０質量部である。
【０２３６】
小サイズ粒子を構成する具体的な化合物としては、前記の中空粒子で例示したと同様のものが挙げられる。特に好ましくは、珪素の酸化物が挙げられる。
【０２３７】
（無機微粒子の分散液）
上記した中空粒子（大サイズ粒子）、及び小サイズ粒子のいずれの無機微粒子も、分散液中又は硬化性の低屈折率層形成用組成物溶液中で、分散安定化を図るために、或いはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例えば、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング剤による処理が特に好ましい。
【０２３８】
上記のカップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として、硬化性の低屈折率層形成用組成物塗布液調製以前に予め表面処理を施すために用いられるが、該塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０２３９】
上記無機微粒子の配合割合は、低屈折率層形成用組成物１００質量部に対して５〜９０質量部とするのが、低屈折率層皮膜の透明性、強度等の観点から好ましく、２０〜６０質量部とするのがさらに好ましい。また、中空粒子と他の粒子を配合する場合は、全粒子中の中空粒子は５〜９５質量部が好ましく、より好ましくは１０〜９０質量部、特に好ましくは３０〜８０質量部である。
【０２４０】
（含フッ素ポリマー）
前述の通り、本発明における低屈折率層は、熱硬化型及び／又は光もしくは放射線（例えば電離放射線）硬化型の架橋性含フッ素化合物を主体として形成され硬化した含フッ素ポリマーにより構成されているのが好ましい。
【０２４１】
本発明において、「含フッ素化合物を主体とする」とは、低屈折率層中に含まれる含フッ素化合物が低屈折率層の全質量に対し、５０質量％以上であることを意味し、６０質量％以上含まれることがより好ましい。
【０２４２】
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含むことが好ましい。
【０２４３】
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテル化合物、含フッ素シラン化合物等が挙げられる。具体的には、例えば特開平９−２２２５０３号公報  段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報  段落番号［００１９］〜［００３０］、同２００１−４０２８４号公報  段落番号［００２７］〜［００２８］等の記載の化合物等が挙げられる。
【０２４４】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含む繰り返し構造単位、架橋性もしくは重合性の官能基を含む繰り返し構造単位、又はそれ以外の置換基からなる繰り返し構造単位からなる共重合体が好ましい。すなわち、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーとの共重合体、すなわち、架橋性又は重合性の官能基である硬化性反応基を有する含フッ素ポリマーが好ましく、さらにその他のモノマーが共重合された含フッ素ポリマーを用いてもよい。架橋性又は重合性の官能基としては従来公知の官能基の何れでもよい。
【０２４５】
架橋性の官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有する化合物は塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【０２４６】
重合性の官能基としては、ラジカル重合性基、カチオン重合性基が挙げられる。好ましくは、ラジカル重合性基｛例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、ビニルオキシ基等｝、カチオン重合性基（例えば、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基等）が挙げられる。
【０２４７】
その他の繰り返し構造単位としては、溶媒可溶化のために炭化水素系共重合成分により形成される繰り返し構造単位が好ましく、このような構造単位をポリマー全体中５０質量％程度導入したフッ素系ポリマーが好ましい。この際には、シリコーン化合物と組み合わせることが好ましい。
【０２４８】
シリコーン化合物としては、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基又は重合性官能基を含有して、低屈折率層の皮膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、上市品の「サイラプレーン」｛チッソ（株）製｝等の反応性シリコーン、特開平１１−２５８４０３号公報に記載のポリシロキサン構造の両末端にシラノール基含有の化合物等が挙げられる。
【０２４９】
架橋又は重合性基を有する含フッ素ポリマーの架橋又は重合反応は、最外層である低屈折率層を形成するための硬化性組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。この際、用いることのできる重合開始剤は前記の硬化性組成物で記載の内容と同一のものが挙げられる。
【０２５０】
紫外線照射により重合反応を行う場合には、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。例えばミヒラーズケトン、アミノ酸（グリシンなど）、有機アミン（ブチルアミン、ジブチルアミンなど）等が挙げられる。
【０２５１】
共重合してもよいその他のモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類、（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン誘導体、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類、（メタ）アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。例えば、特開２００４−４５４６２号公報段落番号［００３８］に記載の化合物等が挙げられる。
【０２５２】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用してもよい。
【０２５３】
また、低屈折率層としては、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化して形成されるゾルゲル硬化膜も好ましく用いられる。
【０２５４】
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報等記載の化合物）、特開平９−１５７５８２号公報記載のペルフルオロアルキル基含有シランカップリング剤、フッ素含有長鎖基であるポリ「ペルフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
【０２５５】
併用する触媒としては、従来公知の化合物が挙げられ、上記文献中に記載のものが好ましく挙げられる。
【０２５６】
（硬化性反応基を有する含フッ素ポリマー）
本発明で特に有用な硬化性反応基を有する含フッ素ポリマーとしては、ペルフルオロオレフィン、ペルフルオロシクロオレフィン、非共役ペルフルオロジエンから選ばれるペルフルオロ化合物類とビニルエーテル類又はビニルエステル類の共重合体が挙げられる。特に単独で架橋反応可能な基｛（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等｝を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０モル％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０モル％を占めていることである。
【０２５７】
本発明に用いられる共重合体の好ましい態様として下記一般式（５）で表される化合物が挙げられる。
【０２５８】
【化４】
2006010829.tif 000007
【０２５９】
一般式（５）中、成分［Ｆ］は、以下の成分（ｐｆ１）、成分（ｐｆ２）又は成分（ｐｆ３）を表す。
【０２６０】
【化５】
2006010829.tif 000008
【０２６１】
成分（ｐｆ１）において、Ｒ51はＦ原子又は炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基を表わす。
【０２６２】
【化６】
2006010829.tif 000009
【０２６３】
成分（ｐｆ２）において、Ｒ52、Ｒ53は、それぞれ同じでも異なってもよく、フッ素原子又は−ＣjＦ2j+1基を表わし、ｊは１〜４の整数（好ましくはｊは１又は２）を表わす。ｆ１は０又は１、ｆ２は２〜５の整数を表わす。ｆ３は０又は１を表わす。ｆ１及び／又はｆ３が０の場合、それぞれ単結合を表す。
【０２６４】
【化７】
2006010829.tif 000010
【０２６５】
成分（ｐｆ３）において、Ｒ54、Ｒ55は、それぞれフッ素原子又は−ＣＦ3基を表わす。ｆ１及びｆ３は、上記成分（ｐｆ２）と同様０又は１を表す。ｆ４は０又は１〜４の整数、ｆ５は０又は１、ｆ６は０又は１〜５の整数を表わす。ｆ３、ｆ４、ｆ５及び／又はｆ６が０の場合、それぞれ単結合を表す。また（ｆ４＋ｆ５＋ｆ６）は１〜６の範囲の整数である。
【０２６６】
前記の一般式（５）において、Ｘ52は炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数２〜４の連結基を表し、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、また環構造を有していてもよい。さらにＯ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。連結基Ｘ52の好ましい例としては、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）2−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ2）4−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）6−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊（ここで、＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｕは０又は１を表わす。
【０２６７】
また一般式（５）において、Ｚ51は水素原子又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０２６８】
さらに一般式（５）中、Ｘ51は任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、成分［Ｆ］に相当するモノマーと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、低屈折率層の下層、例えば高屈折率層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶媒への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一又は複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【０２６９】
一般式（５）におけるＸ51の好ましい例としては、ビニルエーテル類（例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等）、カルボン酸ビニルエステル類（例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等）、（メタ）アクリル酸アルキルエステル類｛例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート等｝、スチレン又はスチレン誘導体（例えばスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等）、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル類及びビニルエステル類であり、特に好ましくはビニルエーテル類である。
【０２７０】
ｘ，ｙ，ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
【０２７１】
特に好ましくは、一般式（５）において、［Ｆ］成分が（ｐｆ１）成分のもが挙げられ、具体的には特開２００４−４５４６２号公報段落番号「００４３」〜「００４７」に記載の化合物等が挙げられる。
【０２７２】
（オルガノシラン化合物）
前記含フッ素ポリマーにさらに一般式（６）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物を添加することが好ましい。
一般式（６）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物について説明する。
一般式（６）：（Ｒ61）4-h−Ｓｉ（Ｘ61）h
【０２７３】
上記一般式（６）において、Ｒ61は、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。脂肪族基として好ましくは、炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものであり、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０２７４】
Ｘ61は、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ62ＣＯＯ（Ｒ62は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
ｈは１〜４の整数を表し、好ましくは１〜３の整数であり、さらに好ましくは２又は３、特に好ましくは３である。
【０２７５】
Ｒ61又はＸ61が複数存在するとき、複数のＲ61又はＸ61はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【０２７６】
Ｒ61に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、プロピル、ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アシルオキシ基｛アセトキシ、（メタ）アクリロイルオキシ等｝、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、酸アミド基｛アセトアミド、ベンズアミド、（メタ）アクリルアミド等｝等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０２７７】
Ｒ61が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
【０２７８】
前記一般式（６）で表されるオルガノシラン化合物の具体例として、例えば特開２０００−２７５４０３号公報明細書段落番号［００２１］〜［００２５］記載の化合物等が挙げられる。更には、ビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が特に好ましく、特開２００４−４２２７８号公報明細書に記載の一般式（１）で示される化合物が挙げられ、具体的には同公報段落番号［００２６］〜［００２８］記載の化合物が挙げられる。
一般式（６）の化合物は２種類以上を併用してもよい。
【０２７９】
オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。具体的には、前記硬化促進剤のオルガノシラン化合物の触媒と同様のものが挙げられる。
【０２８０】
低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少なすぎると本発明の効果が得にくいが、該上限値以下の使用量とすれば屈折率が増加しすぎたり、低屈折率層の皮膜の形状や面状が悪化したりするなどの不具合が生じず、本発明の優れた効果を発揮することができるので該範囲内で適宜の量使用することが好ましい。
【０２８１】
（多官能重合性化合物）
前述したように、前記の低屈折率層形成用の硬化性組成物には、更に多官能重合性化合物を併用することもできる。これら併用する多官能重合性化合物としては、本発明における硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を用いることが好ましい。
【０２８２】
また、他の多官能重合性化合物としては、ラジカル重合性官能基及び／又はカチオン重合性官能基のいずれでも２個以上重合性基を含有してよい。ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。分子内に２個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。
【０２８３】
ラジカル重合性基を有するラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に２〜６個の末端エチレン性不飽不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。
【０２８４】
本発明に用いられるカチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び／又は架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニル炭化水素化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。本発明では前記したカチオン重合性有機化合物のうちの１種を用いても２種以上を用いてもよい。カチオン重合性基含有化合物としては、１分子中のカチオン重合性基の数は２〜１０個が好ましく、特に好ましくは２〜５個である。
【０２８５】
これらのラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物の具体的な内容としては、前記の高屈折率層に記載の多官能モノマーやオリゴマーと同様のものが挙げられる。
【０２８６】
本発明に好適に用いられる低屈折率層形成用の多官能重合性化合物は、上記したラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。またラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを含む前記多官能重合性化合物の配合量は、前記含フッ素ポリマー１００質量部に対して、０．１〜２０質量部とするのが好ましい。
【０２８７】
（その他の添加剤）
本発明における低屈折率層には、以上述べた成分の他、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物又はフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加されていることが好ましい。これらの添加剤を添加する場合には、低屈折率層形成用の硬化性組成物全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０２８８】
シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中には、ジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
【０２８９】
シリコーン系化合物の分子量には特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量にも、特に制限はないが、１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。
【０２９０】
好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の商品名“Ｘ−２２−”シリーズの化合物、チッソ（株）製の商品名“ＦＭ”シリーズの化合物などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２９１】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖［例えば−ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ、−ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＦ3、−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ等］であっても、分岐構造［例えば−ＣＨ（ＣＦ3）2、−ＣＨ2ＣＦ（ＣＦ3）2、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ（ＣＨ3）（ＣＦ2）5ＣＦ2Ｈ等］であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であってもよく、エーテル結合を有していてもよい（例えば−ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ4Ｆ8Ｈ、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ17、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＦ2ＣＦ2ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
【０２９２】
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層の皮膜との結合形成又は相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。
【０２９３】
フッ素系化合物は、フッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はなく用いられる。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが、２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としては、“Ｒ−２０２０”、“Ｍ−２０２０”、“Ｒ−３８３３”、“Ｍ−３８３３”｛商品名：以上、ダイキン化学工業（株）製｝；「メガファックＦ−１７１」、「メガファックＦ−１７２」、「メガファックＦ−１７９Ａ」、「ディフェンサＭＣＦ−３００」｛商品名：以上、大日本インキ（株）製｝などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２９４】
本発明における低屈折率層には、さらに防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤又はポリオキシアルキレン系化合物のような、防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は、前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には、硬化性組成物全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては、「メガファックＦ−１５０」｛商品名：大日本インキ（株）製｝、“ＳＨ−３７４８”｛商品名：東レダウコーニング（株）製｝などが挙げられるが、これらに限定されない。
【０２９５】
低屈折率層はまた、ミクロボイドを内包してもよい。具体的には、例えば特開平９−２２２５０２号公報、同９−２８８２０１号公報、同１１−６９０２号公報等に記載の内容が挙げられる。
【０２９６】
さらに本発明においては、有機微粒子を用いることもでき、該有機微粒子としては、例えば、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の化合物等があげられ、その形状は、上述の無機微粒子と同じである。
【０２９７】
低屈折率層の厚さは０．０３〜０．２μｍが好ましく、０．０５〜０．１５μｍがより好ましい。
【０２９８】
［低屈折率層の性状］
本発明における低屈折率層は、その表面エネルギーが２６ｍＮ／ｍ以下、さらには１５〜２５．８ｍＮ／ｍの範囲であることが好ましい。表面エネルギーをこの範囲にすることが防汚性の点で好ましい。
【０２９９】
また上記低屈折率層は、熱硬化性又は、光もしくは放射線（例えば電離放射線）硬化型の架橋性含フッ素化合物を含有する、含フッ素ポリマーによる硬化膜であれば防汚性の効果が発現されるので好ましい。特に、最外層となる低屈折率層中に含まれる含フッ素化合物が、最外層の全質量に対して５０質量％以上であれば、低屈折率層皮膜の表面全体がムラ無く安定した特性を示すので好ましい。
【０３００】
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明の反射防止膜の場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液を、本発明の偏光板の透明保護フィルムなど、反射防止膜が設けられたフィルムの表面上に滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。最外層表面の水に対する接触角は９０゜以上、さらには９５゜以上、特には１００゜以上であることが好ましい。
【０３０１】
また低屈折率層表面の動摩擦係数は、０．２５以下であることが好ましく、さらには０．０５〜０．２５、特には０．０３〜０．１５であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数とは、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。
【０３０２】
低屈折率層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また低屈折率層の耐擦傷性は、ＪＩＳ  Ｋ−６９０２に従うテーバー試験での摩耗量は小さいほど好ましい。
【０３０３】
〔アンチグレア機能（防眩性）〕
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜５０％であることが好ましく、５〜４０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
【０３０４】
防眩性は表面の平均表面粗さ（Ｒａ）と相関している。表面の凹凸は１００ｃｍ2の面積の中からランダムに１ｍｍ2を取り出し、取り出した表面の１ｍｍ2の面積当たりに対し、平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０１〜０．４μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．３μｍ、さらに好ましくは０．０７〜０．２μｍである。
平均表面粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に準拠して測定したものである。
【０３０５】
本発明に用いる反射防止膜の表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
【０３０６】
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用し、それにより膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜５μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報等）、低屈折率層を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法｛例えば、エンボス加工方法（例えば、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等）、剥離紙転写方法（例えば、特登３３３２５３４号公報等）、粒子スプレー転写方法（例えば、特開平６−８７６３２号公報等）｝等が挙げられる。
【０３０７】
［防眩層（ＡＧＬ）］
本発明の反射防止膜のいずれかの層に粒子を含有させて防眩層を形成する場合、該防眩層用いる防眩層用粒子としては、平均粒径が０．２〜１０μｍの範囲の粒子が好ましい。ここでいう平均粒径は、二次粒子（粒子が凝集していない場合は一次粒子）の質量平均径である。防眩層用粒子としては、無機微粒子と有機粒子が挙げられる。無機微粒子の具体例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＩＴＯ（アンチモン含有の酸化錫）、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン及び硫酸カルシウムなどの粒子が挙げられる。二酸化珪素、酸化アルミニウムが好ましい。
【０３０８】
有機粒子としては樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子の具体例としては、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ弗化ビニリデン樹脂から作製される粒子などが挙げられる。好ましくは、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂から作製される粒子であり、特に好ましくはポリメチルメタクリレート樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリスチレン樹脂から作製される粒子である。
【０３０９】
凹凸を形成するために防眩層に用いる防眩層用粒子としては、樹脂粒子であるほうが好ましい。粒子の平均粒径は、好ましくは０．５〜１０．０μｍ、より好ましくは０．５〜７．０μｍ、更に好ましくは１．０〜５．０μｍ、特に好ましくは１．５〜４．０μｍである。粒子の屈折率は１．３５〜１．８０であることが好ましく、より好ましくは１．４０〜１．７５、さらに好ましくは１．４５〜１．７５である。粒子の粒径分布は狭いほど好ましい。粒子の粒径分布を示すＳ値は下記数式（６）で表され、２以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．０以下、特に好ましくは０．７以下である。
【０３１０】
数式（６）：Ｓ＝（Ｄ0.9−Ｄ0.1）／Ｄ0.5
Ｄ0.1：体積換算粒径の積算値の１０％相当粒径
Ｄ0.5：体積換算粒径の積算値の５０％相当粒径
Ｄ0.9：体積換算粒径の積算値の９０％相当粒径
【０３１１】
また防眩層用粒子としては、透光性粒子を用いることが好ましく、その屈折率は特に限定されるものではないが、防眩層の屈折率とほぼ同じである（屈折率差で０．００５以内）か、０．０２以上異なっていることが好ましい。粒子の屈折率と、防眩層の屈折率をほぼ同じにすることで、反射防止膜を画像表示面に装着したときのコントラストが改良される。さらに粒子の屈折率と防眩層の屈折率の間に屈折率の差を付けることで、該反射防止フィルムを液晶表示面に装着したときの視認性（ギラツキ故障、視野角特性など）が改良される。
【０３１２】
粒子の屈折率と防眩層の屈折率の間に屈折率の差を付ける場合、０．０２〜０．５であることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．４、特に好ましくは０．０５〜０．３である。
【０３１３】
透光性粒子としては、異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。２種類以上の透光性粒子を用いる場合には、複数種類の粒子の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために、最も屈折率の高い透光性粒子と最も屈折率の低い透光性粒子との間の屈折率の差が０．０２以上、０．１０以下であることが好ましく、０．０３以上、０．０７以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性粒子より小さな粒子径で、マトリックスバインダーである透光性樹脂の屈折率と異なる透光性粒子を併用することにより大きく改善することができる。
【０３１４】
防眩層用粒子の使用量は、防眩性を付与する層の固形分中３〜７５質量％となる量とするのが好ましい。
【０３１５】
防眩性を付与する粒子は、反射防止膜において構築されたいずれかの層に含有させることができ、好ましくはハードコート層、低屈折率層、高屈折率層であり、特に好ましくはハードコート層、高屈折率層である。複数の層に添加してもよい。
【０３１６】
〔光散乱層〕
本発明の反射防止膜は、前記透明基体フィルム上に、該透明基体フィルムより高屈折率である、本発明における高屈折率層に該当する光散乱層及び、該透明基体フィルムより低屈折率の低屈折率層を、少なくとも順次積層してなる態様であってもよい。更には、該光散乱層又は光散乱性ハードコート層、及び前記の中屈折率層及び／又は高屈折率層と低屈折率層の２〜３層から構成される反射防止膜も挙げられる。
【０３１７】
上記光散乱層は、少なくとも１種の平均粒子径０．１〜５μｍの透光性粒子を透光性樹脂に分散してなることが好ましく、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２で、該透光性粒子が光散乱層全固形分中に３〜３０質量％含有されてなる層からなる、表面凹凸が形成されていない高屈折率層であることが好ましい。すなわち、高屈折率層内に分散される透光性粒子は、その粒子径が該高屈折率層の膜厚より小さいものでもので、該層内で光を内部散乱して低反射とするものであることが好ましい。透光性粒子の平均粒子径は、より好ましくは、０．５〜５μｍである。光散乱層に用いる透光性粒子としては、先に防眩層の説明で挙げた無機微粒子及び有機粒子が好ましい。
【０３１８】
光散乱層の厚さは、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに２μｍ〜１０μｍが好ましい。透光性樹脂の屈折率は、好ましくは１．５１〜２．００であり、より好ましくは１．５１〜１．９０であり、更に好ましくは１．５１〜１．８５であり、特に好ましくは１．５１〜１．８０である。なお、透光性樹脂の屈折率は、透光性粒子を含まずに測定した値である。
【０３１９】
透光性粒子と透光性樹脂との間の屈折率差は、通常０．０２〜０．２０程度であり、０．０４〜０．１０であることが特に好ましい。その差が０．２０以下であれば、フィルムが白濁するなどの不具合が生じることがなく、０．０２以上であれば、優れた光散乱効果を発揮することができるので好ましい。透光性粒子の透光性樹脂に対する添加量も、屈折率同様重要であり、フィルムの透明性を維持し、優れた光散乱効果をえるためには、透光性粒子の含有量は、光散乱層全固形分中３〜３０質量％、さらには５〜２０質量％であることが好ましい。
【０３２０】
上記のような透光性粒子を添加する場合には、透光性樹脂中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、光散乱層の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して光散乱層の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。
【０３２１】
更に本発明の光散乱層を有する反射防止膜は、波長３８０ｎｍ〜６８０ｎｍにおける平均反射率が２．５％以下であり、ヘイズが１０〜４０％であることが好ましい。より好ましくは、平均反射率が１．８％以下、ヘイズが１０〜３５％である。
【０３２２】
反射防止膜の光学特性をこのような範囲に特定することで、反射防止フィルムとして画像表示装置に使用したとき、画面が白っぽく見えたり、画像表示のボケを生じたりすることのない画像鮮明性と、視角変化によるコントラストの低下及び色相変化等が充分に抑えられた、外光の写り込みや画面のギラツキの無い、反射防止性に優れた、画像表示品位が良好なものとすることができる。
【０３２３】
本発明の光散乱層に供されるマトリックス、透光性粒子、並びに他の添加剤等の具体的な内容は、上記の高屈折率層、及び防眩層に記載のものと同様のものが挙げられる。
【０３２４】
〔ハードコート層〕
ハードコート層は、反射防止膜に物理強度を付与するために、必要に応じて、透明基体フィルム（又は、偏光板の場合の透明保護フィルム）の表面に設けられる。特に透明基体フィルムと前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
【０３２５】
ハードコート層は、光硬化性及び／又は熱硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。これらの化合物の具体例としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ００／４６６１７号公報等記載のものが挙げられる。
【０３２６】
本発明におけるハードコート層のマトリックッスバインダーを構成するものは、本発明の硬化性組成物を含有するものから硬化されるものが好ましい。
【０３２７】
ハードコート層は、一次粒子の平均粒径が３００ｎｍ以下の無機微粒子を含有することが好ましい。より好ましくは１０〜１５０ｎｍである。無機微粒子はハードコート層の硬度を高くすると共に、塗布層の硬化収縮を抑える機能がある。また、ハードコート層の屈折率を制御する目的にも添加される。
【０３２８】
前記したように、高屈折率層、防眩層又は光散乱層のそれぞれが、ハードコート層を兼ねることができる。これらの各層がハードコート層を兼ねる場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
【０３２９】
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
【０３３０】
ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、３Ｈ以上であることが好ましい。またハードコート層の耐擦傷性は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０３３１】
〔その他の層〕
［透明帯電防止層］
本発明においては、前記透明基体フィルムと上記光散乱層との間に、導電性材料を含有する透明帯電防止層を設けることができる。このことにより反射防止膜表面での静電気防止効果を発揮させることができるので好ましい。なお、液晶モードがＩＰＳモード、ＶＡモードの表示装置に設ける視認側の偏光板の、外側表面エネルギーに対する保護には、透明帯電防止層として導電層を設けることが好ましい。
【０３３２】
透明帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性の帯電防止層用塗布液を塗布する方法、導電性高分子の硬化膜を形成する方法、又は透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングにより導電性薄膜を形成する方法などの従来公知の方法を挙げることができる。透明帯電防止層は、透明基体フィルムに直接又は、透明基体フィルムとの接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。
【０３３３】
また、透明帯電防止層を反射防止膜の一部として使用することもできる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。塗工方法は、特に限定されず、帯電防止層形成用塗布液の特性や塗布量に応じて、例えば、ロールコート、グラビアコート、バーコート、押出しコート等の公知の方法より最適な方法を選択して行えばよい。
【０３３４】
透明帯電防止層としては、従来公知の帯電防止層を適宜調整して用いることができる。透明帯電防止層としては、例えば、（株）東レリサーチセンンター調査部門編集「透明導電膜の現状と展望」｛（株）東レリサーチセンンター、１９９７年刊行｝、豊田  豊監修「透明導電膜の新展開」｛（株）シーエムシー、１９９９年刊行｝等に記載の内容が挙げられる。
【０３３５】
透明帯電防止層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。
【０３３６】
また、透明帯電防止層の表面抵抗は、２×１０12Ω／□以下であるのが好ましく、１０5〜１０12Ω／□であることがより好ましく、さらに好ましくは１０5〜１０8Ω／□である。透明帯電防止層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。
【０３３７】
透明帯電防止層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、透明帯電防止層のヘイズが、１０％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。
【０３３８】
さらに透明帯電防止層は、表面強度が優れていることが好ましく、具体的な透明帯電防止層の表面硬度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度（ＪＩＳ−Ｋ−５４００の規定）で、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。
【０３３９】
（透明帯電防止層の導電性無機微粒子）
透明帯電防止層は、導電性無機微粒子を含有してなる硬化樹脂層であるのが好ましい。導電性無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、さらに好ましくは３０〜１５０ｍ2／ｇである。
【０３４０】
導電性無機微粒子としては、例えば、「透明導電膜の現状と展望」第３章〜第４章、技術情報協会編集「導電性フィラーの開発と応用」（技術情報協会、１９９７年刊行）等に記載の無機化合物；特開２００１−３３０７０２号公報明細書段落番号［００２７］に記載の金属粒子；特開２００１−２５５４０３号公報明細書段落番号［００４６］に記載の化合物等が挙げられる。具体的には、例えば、金属、金属の酸化物又は窒化物から形成することが好ましく、アンチモン（Ｓｂ）を含有する酸化錫（ＡＴＯ）及びＳｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ましい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０質量％であることが好ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０質量％であることが好ましい。
【０３４１】
透明帯電防止層に用いる導電性無機微粒子の一次粒子の平均粒径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、３〜１００ｎｍであることがより好ましい。形成される透明帯電防止層中の導電性無機微粒子の平均粒径は、１〜２００ｎｍであり、１０〜８０ｎｍであることがさらに好ましい。導電性無機微粒子の平均粒径は、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
【０３４２】
導電性無機微粒子は表面処理が施されてもよい。表面処理は、無機化合物又は有機化合物を用いて実施する。表面処理に用いられる無機化合物の例としては、アルミナ及びシリカが挙げられる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いられる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤が最も好ましい。２種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。
【０３４３】
導電性無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状又は不定形状であることが好ましい。二種類以上の導電性無機微粒子を帯電防止層内で併用してもよい。
【０３４４】
透明帯電防止層中の導電性無機微粒子の割合は、２０〜９０質量％であることが好ましく、２５〜８５質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがさらに好ましい。
【０３４５】
（透明帯電防止層のバインダー）
透明帯電防止層には、架橋ポリマー、すなわち硬化した樹脂をバインダーとして用いることができる。架橋しているポリマーはイオン性基を有するのが好ましい。イオン性基は、カチオン性、アニオン性、ベタイン性のいずれでもよいが、アニオン性基が好ましい。
【０３４６】
アニオン性基を有する架橋したポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋構造を有することが好ましい。アニオン性基は、導電性無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して、透明帯電防止層を強化する機能を有する。
これらのイオン性ポリマーの具体例としては、例えば前記の公開技法２００１−１７４５号公報３６頁に記載の内容のもの等が挙げられる。
【０３４７】
これらのバインダーに対しては、例えば特開２００３−３９５８６号公報に記載の反応性有機珪素化合物（１）〜（３）を併用することもできる。反応性有機珪素化合物は、バインダーと反応性有機珪素化合物の合計量全体中に１０〜１００質量％の範囲で使用される。
【０３４８】
積層型反射防止膜には、さらに、防湿層、プライマー層、下塗層や保護層、シールド層、滑り層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【０３４９】
［反射防止フィルムに用いる透明基体フィルム］
本発明の反射防止膜の基材となる透明基体フィルムの光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明基体フィルムのヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明基体フィルムの屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【０３５０】
本発明において透明基体フィルムとしては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例えば、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。
【０３５１】
これらのプラスチックフィルム材料には、公知の添加剤（例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑り剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等）を含有させたものも使用することができる。これらの詳細は、発明協会公開技法（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。これらの添加剤の添加量は、基材の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【０３５２】
特に、本発明の反射防止膜を偏光板の透明保護フィルムに設けた偏光板を液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いる場合には、透明保護フィルムすなわち透明基体フィルムとしてセルロースアシレートが好ましく用いられる。セルロースアシレートフィルムの作成法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合にはポリエチレンテレフタレート、あるいはポリエチレンナフタレートが好ましい。
【０３５３】
透明基体フィルムの厚さは５〜２００μｍが好ましく、より好ましくは１０から１５０μｍ、さらに好ましくは２０〜１２０μｍである。
【０３５４】
＜偏光板＞
本発明の反射防止膜付きの偏光板は、上記の透明保護フィルム上に、以上述べた反射防止膜を塗設し、その透明保護フィルムの反対側の面に、後述する偏光膜を接着剤を用いて貼り合わせる態様が好ましい。これにより偏光板全体の膜厚を薄くすることができ、該偏光板を付設した画像表示装置の軽量化が可能となる。
【０３５５】
このような偏光板に用いるのに好ましい透明保護フィルムとして、フィルムの疎水性／親水性のバランス、偏光膜のビニルアルコール系膜との貼合性やフィルム面内全体の光学特性の均一性が重要であり、特にセルロースアシレートフィルムが好ましく挙げられる。特に、セルロースの脂肪酸エステル（セルロースアシレート）フィルムが好ましく、さらにはセルロースアシレート、可塑剤及び微粒子を含有するフィルムであるのが好ましい。
【０３５６】
〔偏光膜〕
本発明の反射防止膜付きの偏光板に用いられる偏光膜は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平１１−２４８９３７に記載されているようにＰＶＡやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光膜も使用することができる。
【０３５７】
ＰＶＡは、ポリ酢酸ビニルをケン化したポリマー素材であるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。
【０３５８】
ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００モル％が好ましく、９０〜１００モル％が特に好ましい。またＰＶＡの数平均重合度は特に限定されないが、１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。
【０３５９】
ＰＶＡはフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光膜を構成することが好ましい。ＰＶＡフィルムの製造方法は、ＰＶＡ系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、通常５〜２０質量％であり、この原液を流延法により製膜することによって、膜厚１０〜２００μｍのＰＶＡフィルムを製造できる。ＰＶＡフィルムの製造は、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９−３２８５９３号公報、特開平１３−３０２８１７号公報、特開平１４−１４４４０１号公報などを参考にして行うことができる。
【０３６０】
この他、本発明の偏光板には、特許３０２１４９４号明細書に記載されている１，２−グリコール結合量が１．５モル％以下のＰＶＡフィルム；特開平１３−３１６４９２号公報に記載されている５μｍ以上の光学的異物が１００ｃｍ2当たり５００個以下であるＰＶＡフィルム；特開平１４−０３０１６３号公報に記載されているフィルムのＴＤ方向の熱水切断温度斑が１．５℃以下であるＰＶＡフィルム；さらにグリセリンなどの３〜６価の多価アルコールを１〜１００質量部混合したり、また特開平０６−２８９２２５号公報に記載されている可塑剤を１５質量％以上混合するなどした溶液から製膜したＰＶＡフィルム；などを好ましく用いることができる。
【０３６１】
二色性分子はI3-やI5-などの高次のヨウ素イオン又は二色性染料を好ましく使用することができる。本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編（ＣＭＣ出版）や「工業材料」第２８巻、第７号、３９〜４５頁に記載されているように、ヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液及び／又はホウ酸水溶液にＰＶＡを浸漬し、ＰＶＡに吸着・配向した状態で生成することができる。
【０３６２】
二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、特にビスアゾ系とトリスアゾ系色素が好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、又はアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。
【０３６３】
このような二色性染料の具体例としては、例えば、「偏光フィルムの応用」（ＣＭＣ刊、昭和６１年２月１０日発行）、“ＣＯＬＯＵＲ  ＩＮＤＥＸ”，３版２巻（Ｔｈｅ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｄｙｅｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ，  Ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｔｅｘｔｉｌｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｓ  ａｎｄ  Ｃｏｌｒｉｓｔｓ刊、１９７１年発行）中のＣ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ染料（直接染料）等をあげることができる。
各種の色相を有する二色性分子を製造するため、これらの二色性染料は２種以上を配合してもかまわない。二色性染料を用いる場合、特開平１４−０８２２２２号に記載されているように、吸着厚みが４μｍ以上であってもよい。
【０３６４】
フィルム中の該二色性分子の含有量は、少なすぎると偏光度が低く、また、多すぎても単板透過率が低下することから通常、フィルムのマトリックスを構成するポリビニルアルコール系重合体に対して、０.０１質量％から５質量％の範囲に調整される。
【０３６５】
さらに偏光膜の耐熱、耐湿性を高める観点から、偏光膜の製造工程において架橋剤を併用して硬膜することが好ましい。架橋剤としては米国再発行特許第２３２８９７号明細書に記載のものが使用でき、特許第３３５７１０９号公報に記載されているように、寸法安定性を向上させるため、架橋剤として多価アルデヒドを使用することもできるが、ホウ酸類が最も好ましく用いられる。
【０３６６】
架橋剤としてホウ酸を用いる場合には、ホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液に金属イオンを添加してもよい。金属イオンとしては塩化亜鉛が好ましいが、特開２０００−３５５１２号公報に記載されているように、塩化亜鉛の変わりに、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などの亜鉛塩を用いることもできる。
【０３６７】
偏光膜の好ましい膜厚としては５〜４０μｍ、さらには１０〜３０μｍ、特には５〜２２μｍの範囲である。偏光膜の膜厚が５〜２２μｍと薄膜化した場合であっても、該偏光膜のクロスニコル時の７００ｎｍの透過率は０．００１％以上０．３％以下で、４１０ｎｍの透過率が０．００１％以上０．３％以下とする態様が好ましい。クロスニコル時の７００ｎｍの透過率の上限は、０.３％以下であることが好ましく、０．２％であることが好ましい。４１０ｎｍの透過率の上限は０．３％以下であることが好ましく、０．０８％以下であることがより好ましく、０．０５％以下であることがさらに好ましい。このことにより、経時変化による偏光膜の収縮によって生じる画像表示装置の周辺部からの光漏れ故障（額縁故障）を改良し、且つ青味が少ないニュートラルグレーの色味を示し、良好な表示画像品位を達成することができる。
【０３６８】
偏光膜の膜厚を５〜２２μｍと薄膜化した場合における、クロスニコル時の７００ｎｍの透過率及び４１０ｎｍの透過率を下げる手段としては、偏光膜にヨウ素などの二色性物質に加えて、対応する波長域に吸収をもつ前記の二色性染料を色相調整剤として添加すること、ヨウ素などの二色性物質を添加する際にホウ酸などの硬膜剤を添加すること等が有効である。また、これらを組み合わせて行うことも有効である。
【０３６９】
〔偏光板〕
上記の偏光膜は、両面に透明保護フィルムを貼り付けて偏光板として供される。２枚の透明保護フィルムは同じでも異なっていてもよい。偏光膜と透明保護フィルムの貼り合わせは、貼合直前に接着液を供給し、偏光膜と透明保護フィルムを重ね合わせるように、一対のロールで貼り合わせることが好ましい。乾燥後の接着剤層の厚みは、０．００１〜５μｍであることが好ましく、０．００５〜３μｍであることがより好ましい。
【０３７０】
偏光膜と透明保護フィルムとの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等が導入された変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。
【０３７１】
［反射防止能付き偏光板］
本発明の上記偏光板は、偏光膜の視認側に、本発明の反射防止膜が設けられた透明保護フィルムを貼り合わせてなるものである。偏光板の下側（視認側とは反対側）の保護フィルムとして、前記透明基体フィルム、特には前記セルロースアシレートフィルムが貼り合わされることが好ましい。偏光膜は、一般的にポリビニルアルコールを主成分としており、偏光膜との接着性を改良するために、透明保護フィルム表面を親水化することが好ましい。
【０３７２】
反射防止膜付き透明保護フィルムの親水化の手法としては、（１）予め親水化処理した保護フィルムの一方の面に、前記の反射防止膜を構成する各層を塗設する手法；（２）保護フィルムの一方の面に、上記の反射防止膜を塗設・形成した後、偏光膜と貼り合わせる側を親水化処理する手法；の２つが考えられるが、（１）は反射防止膜を塗設するべき面まで親水化され、保護フィルムと反射防止膜との密着性の確保が困難となるため、（２）の手法が好ましい。以下、反射防止膜付き透明保護フィルムの親水化処理を説明するが、偏光板の下側の保護フィルムとしての透明保護フィルムも同じ処理方法を用いて親水化できる。
【０３７３】
（親水化処理）
透明保護フィルムの表面の親水化処理は、公知の方法で行うことができる。例えば、コロナ放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ鹸化処理等で該フィルム表面を改質する方法が挙げられる。これらについては、前記の公技番号２００１−１７４５号、３０〜３２頁に詳細に記載されている。
【０３７４】
（鹸化処理）
これらの中でも特に好ましくは、セルロースアシレートフィルム表面をアルカリ鹸化処理で表面処理することが有効である。
【０３７５】
（１）浸漬法
アルカリ液の中に反射防止膜付き保護フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ鹸化処理液は、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０モル／Ｌの範囲にあることが好ましい。更に、アルカリ処理液として、フィルムに対する濡れ性が良好な溶媒（例えば、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、メタノール、エタノール等）、界面活性剤、湿潤剤（例えば、ジオール類、グリセリン等）を含有することで、鹸化液の透明基体フィルムに対する濡れ性、鹸化液の経時安定性等が良好となる。好ましいアルカリ液の液温は２０〜７０℃、特に好ましくは３０〜６０℃である。
【０３７６】
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和したりすることが好ましい。
【０３７７】
鹸化処理することにより、透明保護フィルムの反射防止膜を有する側の主面とその反対の主面が親水化される。偏光膜は、通常、透明保護フィルムの親水化された表面と接着させて使用する。
【０３７８】
鹸化処理は、透明保護フィルムの反射防止膜を有する側とは反対側の表面の、水に対する接触角が低いほど偏光膜との接着性がよいという点では好ましいが、一方、浸漬法では、同時に反射防止膜面までアルカリによるダメージを受けることがあり、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる反射防止膜の受けるダメージの指標として、透明保護フィルムの反射防止膜を有しない側の主面の水に対する接触角を用いた場合、特に透明保護フィルムがセルロースアシレートフィルムであれば、好ましくは２０〜５０゜、より好ましくは３０〜４５゜の範囲内にあることである。この範囲であれば、反射防止膜の受けるダメージに実害が無く、且つ偏光膜との接着性を保持できるので好ましい。
【０３７９】
（２）アルカリ液塗布法
上記の浸漬法における反射防止膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件で、アルカリ液を、反射防止膜を有する主面と反対側の主面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。アルカリ液及び処理は、特開２００２−８２２２６号公報、国際公開第０２／４６８０９号パンフレット、特開２００３−３１３３２６号公報に記載の内容が挙げられる。
【０３８０】
このように構成された偏光板を用いることにより、物理強度、耐候性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、コスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
【０３８１】
〔光学補償フィルム〕
本発明の視認側偏光板は、偏光板の反射防止膜を有する側とは反対側の保護フィルム上に光学補償フィルムを設けてなることが好ましい。これにより、液晶表示装置の表示画像の広視野角が可能となる。
【０３８２】
光学補償フィルムとしては、例えば、高分子フィルムを一軸又は二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、支持体フィルム上に複屈折を示す液晶性材料からなる光学的異方性層を有する液晶配向フィルムなどがあげられる。光学補償フィルムの厚さは特に制限されないが、５〜１００μｍ程度が一般的である。これら光学補償フィルムのなかでも、支持体フィルム上に光学的異方性層を有する液晶配向フィルムが好ましい。
【０３８３】
前記複屈折性フィルムとなる高分子フィルムの素材としては、たとえば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース系重合体、ノルボルネン系樹脂又はこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などがあげられる。これら高分子素材は延伸等により配向物（延伸フィルム）となる。
【０３８４】
［液晶配向フィルム］
上記光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物分子を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶化合物分子の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶化合物分子の配向状態に関しては、ＩＤＷ’００、ＦＭＣ７−２、４１１〜４１４頁に記載されている。
【０３８５】
（液晶化合物）
光学異方性層に用いられる液晶化合物は、棒状液晶でも、ディスコティック液晶でもよく、またそれらが高分子液晶、もしくは低分子液晶、さらには、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含む。最も好ましいのは、ディスコティック液晶である。
【０３８６】
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。これら低分子液晶性分子は重合性基を分子内に有することが好ましい（例えば、特開２０００−３０４９３２号公報段落番号［００１６］等記載）。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。高分子液晶性分子は、以上のような低分子液晶性分子に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性分子を用いた光学補償シートについては、特開平５−５３０１６号公報に記載の化合物が挙げられる。
【０３８７】
ディスコティック液晶の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、“Ｍｏｌ．  Ｃｒｙｓｔ．”，７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体；Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、“Ｍｏｌ．  Ｃｒｙｓｔ．”，１２２巻、１４１頁（１９８５年）、“Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ”，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体；Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、“Ａｎｇｅｗ．  Ｃｈｅｍ．”，９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体；及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、“Ｊ．  Ｃｈｅｍ．  Ｃｏｍｍｕｎ．”，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、“Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．”，１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。
【０３８８】
上記ディスコティック液晶は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物質が前記化合物である必要はなく、例えば、低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。上記ディスコティック液晶の好ましい例は特開平８−５０２０６号公報に記載のものが挙げられる。
【０３８９】
上記光学異方性層は、一般にディスコティック化合物及び他の化合物（例えば、可塑剤、界面活性剤、ポリマー等）を溶媒に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方性層は、ディスコティック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶媒に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却することにより得られる。
【０３９０】
光学異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、０．７〜５μｍであることが最も好ましい。ただし、液晶セルのモードによっては、高い光学的異方性を得るために、厚く（３〜１０μｍ）する場合がある。
【０３９１】
［配向膜］
配向膜は、液晶化合物分子の配向方向を規定する機能を有するために通常用いられるが、液晶化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素として必ずしも必須のものではない。例えば、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光膜上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
【０３９２】
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロリド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０３９３】
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
【０３９４】
本発明では、液晶分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、又は液晶分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
【０３９５】
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。
【０３９６】
配向膜に使用されるポリマーの例としては、例えば特開平８−３３８９１３号公報中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が挙げられる。ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。これらの変性ポリビニルアルコール化合物及び架橋剤等の配向膜形成用組成物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報、同２００２−６２４２６号公報等に記載のもの等が挙げられる。
【０３９７】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマーを、支持体フィルム上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、支持体フィルム上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。
【０３９８】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にエクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法が好ましい。
【０３９９】
配向膜は、支持体フィルム上に直接設けるか、又は支持体フィルムに下塗層を設けてからその下塗層の上に設ける方法が挙げられる。支持体フィルム上に直接設ける場合は、前記の表面親水化処理が挙げられる。
【０４００】
また、下塗層を設ける場合には、例えば特開平７−３３３４３３号公報記載の下塗層による方法、又は疎水性基と親水性基との両方を含有するゼラチン等の樹脂層を１層のみ塗布する単層法、さらには第一層として高分子フィルムによく密着する層（以下、下塗第一層と略す）を設け、その上に第二層として配向膜とよく密着するゼラチン等の親水性の樹脂層（以下、下塗第二層と略す）を塗布する所謂重層法（例えば、特開平１１−２４８９４０号公報記載）などの方法が挙げられる。
【０４０１】
配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。次に、配向膜を機能させて、配向膜の上に設けられる光学異方性層の液晶分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
【０４０２】
［液晶化合物からなる光学異方性層を塗設する支持体フィルム］
光学異方性層を塗設するための支持体フィルムは、高光透過率のプラスチックフィルムであれば特に制限はないが、偏光板の保護フィルムを用いることが好ましい。すなわち、偏光板の保護フィルムの上に直接配向膜（前述のとおり必ずしも必須は無い）と光学異方性層が形成されていることが好ましい。
【０４０３】
光学異方性層を塗設する支持体は、それ自身が光学的に重要な役割を果たすため、支持体のＲｅレターデーション値を０〜２００ｎｍ、そして、Ｒｔｈレターデーション値が０〜４００ｎｍに調節されることが好ましい。
【０４０４】
支持体のセルロースアシレートフィルムは、溶液の紫外線吸収スペクトルの吸収極大を与える波長（λｍａｘ）が４００ｎｍより短波長にある紫外線を吸収する化合物をレターデーション調整剤として含有することが好ましい。このような化合物の例として、フェニルサリチル酸類、２−ヒドロキシベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、トリフェニルホスフェート等の紫外線吸収化合物を挙げることができる。また、少なくとも２つの芳香族環を有する芳香族化合物（例えば特開２０００−１１１９１４号公報等）、トリフェニレン化合物（例えば特開２０００−２７５４３４号公報等）、棒状化合物（例えば特開２００２−３６３３４３号公報、同２００３−３５８２１号公報等）、円盤状化合物（１，３，５−トリアジン骨格、ポルフィリン骨格を分子に含有の化合物等：例えば特開２００１−１６６１４４号公報等）等が好ましい。これらの化合物類は、可視光領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。これらの化合物類は、可視光領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
【０４０５】
なお、支持体フィルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０〜０．００２であることが好ましい。また、フィルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．０４以下であることが好ましい。
【０４０６】
支持体フィルムの正面レターデーション値（Ｒｅ）及び膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）は、数式（２３）及び（２４）に従って算出される。
数式（７）：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
数式（８）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘは、支持体フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、支持体フィルムの面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；ｎｚは、フィルムの厚み方向の屈折率である。ｄは、単位をｎｍとするフィルムの厚さである。
【０４０７】
光学補償フィルムに用いるセルロースアシレートフィルムの厚さは２０〜２００μｍであることが好ましく、３０〜１２０μｍであることがより好ましい。
【０４０８】
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、すなわち透明保護フィルム上に光学異方性層を形成してから偏光膜と張り合わせる場合には、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０４０９】
視認側偏光板の構成は、「反射防止膜／透明保護フィルム／偏光膜／透明保護フィルム」の積層フィルム、更には「反射防止膜／透明保護フィルム／偏光膜／光学補償フィルム（透明保護フィルム／（配向膜）／光学異方性層）」の積層フィルムとなり、薄膜化、軽量化並びにコスト低減が一層図られる。視認側偏光板の上側（視認側）透明保護フィルムを反射防止膜が、下側透明保護フィルムを、光学異方性層が塗設された支持体フィルム（すなわち光学補償フィルム）が兼ねることにより、物理強度、耐候性に優れ、反射防止機能を有し、視認性に優れた、薄くて軽い偏光板を得ることができる。
【０４１０】
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、以上述べた反射防止膜、反射防止フィルムおよび偏光板（反射防止能付き偏光板）の少なくともいずれかが画像表示面に配置されていることを特徴とする。本発明の反射防止膜、反射防止フィルム、および偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイのような画像表示装置に適用することができる。そして、本発明の画像表示装置は、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ及びＯＣＢのいずれかのモードの透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置に適用するのが好ましい。以下、さらに説明する。
【０４１１】
液晶表示装置としては、従来公知の何れも用いることができる。例えば、内田龍雄監修「反射型カラーＬＣＤ総合技術」｛（株）シーエムシー、１９９９年刊｝、「フラットパネルディスプレイの新展開」｛（株）東レリサーチセンター調査部門、１９９６年刊｝、「液晶関連市場の現状と将来展望（上巻）、（下巻）」｛富士キメラ総研（株）、２００３年刊｝等に記載されているものが挙げられる。
【０４１２】
具体的には、例えばツイステッドネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
【０４１３】
また、本発明の偏光板は、付設する液晶表示装置表示画像の大きさが１７インチ以上であっても、コントラストが良好で広い視野角を有し、色相変化及び外光の移りこみ防止を実現でき、且つ耐久性が良好であり好ましい。
【０４１４】
［ＴＮモード液晶表示装置］
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献の記載が挙げられる。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０４１５】
［ＯＣＢモード液晶表示装置］
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている装置が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。
【０４１６】
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０４１７】
［ＶＡモード液晶表示装置］
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
【０４１８】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード）の液晶セル｛ＳＩＤ９７，“Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ”（予稿集）２８（１９９７）８４５記載］、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル［日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載］及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が挙げられる。
【０４１９】
［ＩＰＳモード液晶表示装置］
ＩＰＳモードの液晶セルでは、液晶分子を基板に対して常に水平面内で回転させるモードで、電界無印加時には電極の長手方向に対して若干の角度を持つように配向されている。電界を印加すると電界方向に液晶分子は向きを変える。液晶セルを挟持する偏光板を所定角度に配置することで光透過率を変えることが可能となる。液晶分子としては、誘電率異方性Δεが正のネマチック液晶を用いる。液晶層の厚み（ギャップ）は、２．８μｍ超４．５μｍ未満とする。これは、レターデーションΔｎ・ｄが０．２５μｍ超０．３２μｍ未満の時、可視光の範囲内で波長依存性が殆どない透過率特性が得られる。偏光板の組み合わせにより、液晶分子がラビング方向から電界方向に４５°回転したとき最大透過率を得ることができる。なお液晶層の厚み（ギャップ）はポリマビーズで制御している。もちろんガラスビーズヤファイバー、樹脂製の柱状スペーサでも同様のギャップを得ることができる。また液晶分子は、ネマチック液晶であれば、特に限定したものではない。誘電率異方性Δεは、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性Δｎは小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、且つギャップばらつきを少なくすることができる。
【０４２０】
［その他液晶モード］
ＥＣＢモード及びＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で本発明の偏光板を供することができる。
【０４２１】
［表示装置］
液晶表示装置の形成は、従来に準じて行うことができる。すなわち液晶表示装置は、一般に、液晶セルと光学フィルム及び、必要に応じて、照明システム等の構成部品を適宜に組み合わせて駆動回路を組込むことなどにより形成される。本発明においては、本発明による液晶表示素子を用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。
【０４２２】
液晶表示装置の形成に際しては、例えばプリズムアレイ、レンズアレイシート、光散乱板、導光板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面及び内部からの反射光を低減するのに用いることができる。
【実施例】
【０４２３】
以下に本発明の反射防止膜についての具体的な実施例を記述するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０４２４】
〔硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）〕
合成例１：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）
基核となる化合物としてジトリメチロールプロパン０．１モルをフラスコに仕込み、攪拌下に窒素置換しながら温度１２０℃に加温した。これに、分岐鎖延長化合物としてジメチロールプロピオン酸０．８モル及びｐ−トルエンスルホン酸０．０１モルを投入し、発生する水を除去しながら温度１４０℃で２時間反応させた。更に、減圧度２．０ｋＰａで減圧しながら１時間反応させた後、酢酸０．４モルを加えて２時間反応した。得られた反応物｛多分岐ポリマー（ＨＢ−１）｝を冷却し、テトラヒドロフランに溶解して３０質量％の混合物とした。
【０４２５】
この多分岐ポリマー（ＨＢ−１）含む混合物に、アクリル酸０．８５モルを加えて温度２５℃で攪拌し、ジシクロヘキシルカルボジイミド０．９０モル及び４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２質量部の３０質量％塩化メチレン溶液を３０分間かけて滴下した。ｔ−ブチルヒドロキノン０．５質量部を加えた後、温度４０℃で４時間攪拌した後に５０質量％のギ酸水溶液を加えて１時間攪拌した。析出した不溶物を濾別後に水中に投入した。沈降物を酢酸エチルで抽出し、アルカリ水で十分に洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去して化合物を得た。得られた硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）は、以下の構造を有していた。
【０４２６】
【化８】
2006010829.tif 000011
【０４２７】
合成例２：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−２）
基核となる化合物として１，３，５−シクロヘキサントリカルボン酸０．１モルをフラスコに仕込み、攪拌下に窒素置換しながら温度１２０℃に加温した。これに、分岐鎖延長化合物としての５−（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン−１，３−ジカルボン酸０．９モルと、メタンスルホン酸１.２ミリモルを投入し、発生する水を除去しながら温度１４０℃で２時間反応させた。更に、減圧度２．０ｋＰａで減圧しながら３０分間反応させ多分岐ポリマー（ＨＢ−２）を得た。次に、この反応生成物に、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１．２モル及びｔ−ブチルヒドロキノン１．０質量部を加えて３時間反応した。反応物を冷却し、クロロホルムに溶解してアルカリ水で洗浄、１％塩酸水溶液で洗浄した後十分に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。クロロホルムを留去して化合物を得た。得られた硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−２）は、以下の構造を有していた。
【０４２８】
【化９】
2006010829.tif 000012
【０４２９】
合成例３：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−３）
多分岐ポリマー（ＨＢ−３）としてのポリエステル型デンドリマー“ＢＯＬＴＯＲＮ（ＲＴＭ）２Ｇ”（商品名）（１６個の表面ヒドロキシル基を含む；Ｐｅｒｓｔｏｒｐ社製）１０質量部、テトラヒドロフラン２３質量部の混合溶液に、室温下、攪拌しながら水素化ナトリウム３．３質量部を加えた。これにエピブロモヒドリン１８．６質量部及びテトラヒドロフラン４３．４質量部の混合溶液を１時間で滴下し、更に温度５０℃で６時間攪拌した。室温に冷却し、反応混合物を水１リットルに投入し、トルエン５００ｍｌで抽出した後、十分に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。トルエンを減圧留去して化合物を得た。得られた硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−３）は、以下の構造を有していた。
【０４３０】
【化１０】
2006010829.tif 000013
【０４３１】
合成例４：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−４）
多分岐ポリマー（ＨＢ−４）としてのポリ（アミドアミン）系デンドリマー“Ｓｔａｒｂｕｒｓｔ（ＰＡＭＡＮ）Ｄｅｎｄｒｉｍｅｒ，Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ２”（商品名）（表面−ＮＨ2基数１６個、２０質量％メタノール溶液；Ａｌｄｒｉｃｈ社製）２５質量部（固形分量）を溶媒置換してアセトンの１５質量％溶液とした。これにピリジン１０．７質量部加えた混合物を温度０℃に冷却し、アクリロイルクロリド１２．２質量部の３０質量％のアセトン混合溶液を温度０〜２℃の範囲で滴下し、そのまま３時間攪拌した。更に、温度２５℃で５時間攪拌した。反応物を水中に投入し、析出物を酢酸エチルで抽出して、アルカリ水溶液で洗浄後に十分に水洗して、硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去して化合物を得た。得られた硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−４）は、以下の構造を有していた。
【０４３２】
【化１１】
2006010829.tif 000014
【０４３３】
合成例５：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−５）
特開２０００−８６７５８号公報記載の実施例に準拠して得られる、多分岐ポリマー（ＨＢ−５）であるポリアリールアミド系の多分岐ポリマー（末端基：−ＣＯＯＨ）１０質量部に、塩化チオニル１５質量部を加えて温度８０℃で２時間反応させた後、未反応の塩化チオニルを除去して酸クロリドを得た。これをジオキサンに溶解し２０質量％混合溶液とし、ピリジン２．３質量部を加えた。室温で２−ヒドロキシエチルメタクリレート３．９質量部を加えて１時間攪拌後、さらにｔ−ブチルヒドロキノン０．２質量部を加えて、温度８０℃で５時間反応させた。冷却後、水中に投入し塩化メチレンで抽出し、アルカリ水並びに水で洗浄した後に硫酸マグネシュウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物を得た。得られた硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−５）は、以下の構造を有していた。
【０４３４】
【化１２】
2006010829.tif 000015
【０４３５】
合成例６〜９：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−６）〜（ＲＨＢ−９）
合成例２において、連鎖停止化合物（末端基形成用化合物）として、下記表２の置換基に相当するモノヒドロキシ化合物を用いた他は合成例２と同様にして各化合物を合成した。
【０４３６】
【表２】
2006010829.tif 000016
【０４３７】
合成例１０：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１０）
基核となる化合物として１，３，５−ベンゼントリカルボン酸０．１モルをフラスコに仕込み、攪拌下に窒素置換しながら温度１２０℃に加温した。これに、分岐鎖延長化合物としての５−（２−ヒドロキシエトキシ）シクロヘキサン−１，３−ジカルボン酸０．９モルと、ｐ−トルエンスルホン酸０．０１モルを投入し、発生する水を除去しながら温度１４０℃で２時間反応させた。更に、減圧度２．０ｋＰａで減圧しながら１時間反応させ多分岐ポリマー（ＨＢ−１０）を得た。次に、この多分岐ポリマー（ＨＢ−１０）を含む反応物を冷却し、チオニルクロリド２．０モルを加えて４時間反応した後、反応物から残ったチオニルクロリドを留去した。３０質量％となるようにアセトンを加えた後、温度０℃に冷却し、末端基形成用化合物として２−ヒドロキシエチルアクリレート１．３２モルとトリエチルアミン１．３２モルを同時に３０分間で滴下しさらに４時間反応した。反応物を水中に投入し、メチレンクロリドで抽出してアルカリ水で洗浄し更に水で十分に洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。メチレンクロリドを減圧留去して化合物を得た。得られた硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１０）は、以下の構造を有していた。
【０４３８】
【化１３】
2006010829.tif 000017
【０４３９】
合成例１１〜１５：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１１）〜（ＲＨＢ−１５）
多分岐ポリマー（ＰＢ−１）〜（ＰＢ−２）の合成例１及び２と同様にして、下記表３に記載の開始化合物０．１モル、連鎖延長剤（分岐鎖延長化合物）及び末端基形成用化合物を用いて各硬化性多分岐ポリマーを合成した。
【０４４０】
【表３】
2006010829.tif 000018
【０４４１】
合成例１６：硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１６）
特公平６−７０１３２号公報明細書の実施例記載の方法に従って合成した、分岐枝末端がアミノ基からなる下記構造のアミドアミン多分岐ポリマー（ＨＢ−１６）０．１モル、及び２−エチルヘキサン酸錫０．１質量部を、テトラヒドロフラン３０質量％の溶液とした。温度５０℃に加温した後、末端基形成用化合物として２−メタクリロイルエチルメタクリレートｆｆのテトラヒドロフラン３０質量％溶液を１時間で滴下した。滴定法により［ＮＣＯ］価が消失した時点で反応終点とした。次に、反応溶媒を留去して化合物を得た。
【０４４２】
【化１４】
2006010829.tif 000019
【０４４３】
実施例１及び比較例１
〔反射防止フィルム（ＡＦ１）の作製〕
［ハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬＬ−１）の調製］
ジペンタエリトリトールペンタアクリレートとジペンタエリトリトールヘキサアクリレートの混合物｛“ＤＰＨＡ”日本化薬（株）製｝３１５．０質量部に、シリカ微粒子のメチルエチルケトン分散液｛“ＭＥＫ−ＳＴ”、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製｝４５０．０質量部、メチルエチルケトン１５．０質量部、シクロヘキサノン２２０．０質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝１６．０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬＬ−１）を調製した。
【０４４４】
［中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ）及び高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ）の調製］
｛二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）の調製｝
酸化アルミニウムとステアリン酸で表面処理した二酸化チタン微粒子“ＴＴＯ−５１（Ｃ）”｛酸化チタン含量７９〜８５％：石原産業（株）製｝１００質量部、下記構造の分散剤２２質量部、及びシクロヘキサノン２８５質量部を、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズ｛「ＹＴＺボール」（株）ニッカトー製｝と共に、ダイノミルにより分散した。分散温度は３５〜４０℃で８時間実施した。２００メッシュのナイロン布でビーズを分離して、二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）を調製した。得られた分散液の分散粒子径は、走査型電子顕微鏡で測定した所、単分散性良好な平均粒径７５ｎｍの粒子であった。また分散液の粒度分布を測定した｛レーザー解析・散乱粒子径分布測定装置“ＬＡ−９２０”（株）堀場製作所製｝結果、粒径３００ｎｍ以上の粒子は０％であった。また得られた分散液を１ヶ月間放置した後の性状を調べたところ、分散液に沈殿発生は見られず、分散粒子の粒子径は経時前と同じであり、３００ｎｍ以上の粒子も０％であった。
【０４４５】
【化１５】
2006010829.tif 000020
【０４４６】
｛中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）の調製｝
上記の二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）８８．９質量部に、メチルエチルケトン４５２．４質量部、及びシクロヘキサノン１７５４質量部の混合溶媒を攪拌しながら加えた。次に硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）３５．０質量部、硬化剤としてラジカル重合性モノマー（ＭA1）であるトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）２３．４質量部、「イルガキュア９０７」３．１質量部、光増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）」１．１質量部、メチルエチルケトン３０質量部、及びシクロヘキサノン１１６質量部ｇの混合溶媒を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）を調製した。
【０４４７】
｛中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−２）の調製｝
中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）の調製において、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）の代わりに、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１０）を用いた他は中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）と同様にして中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−２）を調製した。
【０４４８】
｛比較例中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＲＬ−１）の調製｝
中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）の調製において、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）の代わりに、それと同量のトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）を用いる以外は中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）と同様にして中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＲＬ−１）を調製した。
【０４４９】
｛比較例中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＲＬ−２）の調製｝
中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）の調製において、硬化剤としてのトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）を使用せず、その代わりにそれと同量の硬化性多分岐硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）を用いる以外は中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）と同様にして中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＲＬ−２）を調製した。
【０４５０】
｛高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）の調製｝
上記の二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）４００質量部に、メチルエチルケトン１９８質量部、及びシクロヘキサノン７９３質量部の混合溶媒を攪拌しながら加えた。次に、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）２２．５質量部、硬化剤としてラジカル重合性モノマー（ＭA1）であるトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１５．０質量部、「イルガキュア９０７」２．０質量部、「カヤキュアーＤＥＴＸ」０．５質量部、メチルエチルケトン１８．７質量部、及びシクロヘキサノン７４．６質量部の混合溶液を添加して攪拌した後、超音波分散を１０分間行った。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）を調製した。
【０４５１】
｛高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−２）の調製｝
高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）の調製において、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）の代わりに、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１０）を用いた他は高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）と同様にして高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−２）を調製した。
【０４５２】
｛比較例高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＲＬ−１）の調製｝
高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）の調製において、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）の代わりに、それと同量のトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）を用いる以外は高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）と同様にして高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＲＬ−１）を調製した。
【０４５３】
｛比較例高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＲＬ−２）の調製｝
高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）の調製において、硬化剤としてのトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）を使用せず、その代わりにそれと同量の硬化性多分岐硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）を用いる以外は高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）と同様にして高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＲＬ−２）を調製した。
【０４５４】
［低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−１）の調製］
屈折率１．４２の、ポリシロキサン及び水酸基を含有する含フッ素ポリマー含有組成物「オプスターＪＮ７２２８Ａ」（固形分濃度６質量％）｛ＪＳＲ（株）製｝を溶媒置換して、熱架橋性フッ素ポリマーの固形分濃度１０質量％のメチルイソブチルケトン溶液を得た。上記熱架橋性フッ素ポリマー溶液５６．０質量部に、シリカ微粒子のメチルエチルケトン分散液｛“ＭＥＫ−ＳＴ”、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製｝７．２質量部、下記ゾル液（ａ）を１．７５質量部、メチルイソブチルケトン７３．０質量部、及びシクロヘキサノン３３．０質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して低屈折率層硬化性組成物（ＬＬＬ−１）を調製した。
【０４５５】
｛ゾル液（ａ）の調製｝
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン｛“ＫＢＭ−５１０３”信越化学工業（株）製｝１６１質量部、蓚酸１２３質量部、エタノール４１５質量部を加え混合したのち、７０℃で４時間反応させた後、室温まで冷却し、硬化性組成物として透明なゾル液（ａ）を得た。
【０４５６】
実施例１−１
［反射防止フィルム（ＡＦ１−１）の作製］
コロナ除電器で、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム｛“ＴＤ８０ＵＦ”富士写真フィルム（株）製、屈折率１．４８｝の、反射防止膜を塗設する側の表面を除電処理した後、その上にハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬＬ−１）を、グラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ５μｍのハードコート層（ＨＣＬ−１）を形成した。上記のハードコート層（ＨＣＬ−１）の上に、中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）を、グラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（ＭＬ−１）（屈折率１．６４、膜厚７０ｎｍ）を形成した。
【０４５７】
中屈折率層（ＭＬ−１）の上に、高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）を、グラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ｃｍ2、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、１２０℃で１０分間加熱して、高屈折率層（ＨＬ−１）（屈折率１．９１、膜厚１１０ｎｍ）を形成した。
【０４５８】
次に高屈折率層（ＨＬ−１）の上に、低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−１）を、グラビアコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、１２０℃で１０分間加熱して、低屈折率層（ＬＬ−１）（屈折率１．４４、膜厚８６ｎｍ）を形成した。このようにして、トリアセチルセルロースフィルムの一方の表面に反射防止膜を塗設して反射防止フィルム（ＡＦ１−１）を作製した。
【０４５９】
以上の反射防止フィルムの作製において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子が３０個／ｍ3以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の、清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、フィルムの送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶ又は熱）硬化−巻き取りの各工程で行った。
【０４６０】
実施例１−２
［反射防止フィルム（ＡＦ１−２）の作製］
実施例１−１において、中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）及び高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）を用いて、中屈折率層（ＭＬ−１）及び高屈折率層（ＨＬ−１）を形成する代わりに、中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−２）及び高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−２）をそれぞれ用いて、中屈折率層（ＭＬ−２）及び高屈折率層（ＨＬ−２）を形成する以外は実施例１−１と同様にして反射防止フィルム（ＡＦ１−２）を作製した。
【０４６１】
比較例１−１
［比較用反射防止フィルム（ＡＦＲ１−１）の作製］
実施例１−１において、中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）及び高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）を用いて、中屈折率層（ＭＬ−１）及び高屈折率層（ＨＬ−１）を形成する代わりに、中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＲＬ−１）及び高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＲＬ−１）をそれぞれ用いて、中屈折率層（ＭＬＲ−１）及び高屈折率層（ＨＬＲ−１）を形成する以外は実施例１−１と同様にして、比較用反射防止フィルム（ＡＦＲ１−１）を作製した。
【０４６２】
比較例１−２
［比較用反射防止フィルム（ＡＦＲ１−２）の作製］
実施例１−１において、中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−１）及び高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−１）を用いて、中屈折率層（ＭＬ−１）及び高屈折率層（ＨＬ−１）を形成する代わりに、中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＲＬ−２）及び高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＲＬ−２）をそれぞれ用いて、中屈折率層（ＭＬＲ−２）及び高屈折率層（ＨＬＲ−２）を形成する以外は実施例１−１と同様にして、比較用反射防止フィルム（ＡＦＲ１−２）を作製した。
【０４６３】
［高屈折率層フィルムの評価］
上記の実施例及び比較例において、高屈折率層まで設けたフィルムを用いて、以下の項目の評価を行った。結果を表４に示す。
【０４６４】
（表面形状の評価）
高屈折率層フィルム表面の形状は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づいて、表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）、十点平均粗さ（Ｒｚ）、最大高さ（Ｒｙ）、及び表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価した。但し、Ｒａ、Ｒｚ及びＲｙは測定長４μｍ、Ｓｍの測定長は２０μｍとした。表面凹凸の均一性は、（Ｒａ／Ｒｚ）の比により算出した。
【０４６５】
（ヘイズの評価）
ヘイズメーター“ＮＨＤ−１００１ＤＰ”｛日本電色工業（株）製｝を用いて、高屈折率層形成フィルムのヘイズを評価した。
【０４６６】
（鉛筆硬度の評価）
高屈折率層形成フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ−６００６が規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて以下の内容で目視評価した。
◎：ｎ＝１０の評価において傷が全く認められない
○：ｎ＝１０の評価において傷が１つ以内
△：ｎ＝１０の評価において傷が２つ〜４つ
×：ｎ＝１０の評価において傷が５つ以上
【０４６７】
【表４】
2006010829.tif 000021
【０４６８】
［反射防止フィルムの評価］
作製した各反射防止フィルムについて、上記に記載の評価及び以下の項目の評価を行った。各反射防止フィルムの層構成を表５に、得られた評価の結果を表６に示す。
【０４６９】
（反射率の評価）
分光光度計｛“Ｖ−５５０”，“ＡＲＶ−４７４”、日本分光（株）製｝を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。４５０〜６５０ｎｍの波長範囲における平均反射率を求めた。
【０４７０】
（輝点異物の評価）
各フィルムの裏面をマジックインキ等で黒塗りした後、塗膜上にある輝点欠陥の数を目視で判定した。目視で見える輝点欠陥のサイズは、５０μｍ以上である。輝点欠陥は、１ｍ2当たりの個数でカウントした。
【０４７１】
（密着性の評価）
各フィルム試料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件で２時間調湿した。各試料の反射防止膜を有する側の表面を、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、その升目が刻まれた箇所について、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ“ＮＯ．３１Ｂ”を用いて密着試験を繰り返し３回行った。剥がれの有無を目視で観察し、下記の４段階評価を行った。
◎：１００升において剥がれが全く認められなかったもの
○：１００升において剥がれが認められたものが２升以内のもの
△：１００升において剥がれが認められたものが１０〜３升のもの
×：１００升において剥がれが認められたものが１０升をこえたもの
【０４７２】
（消しゴム耐摩擦性の評価）
表面性測定機“ＨＥＩＤＯＮ−１４”型｛新東科学（株）製｝に、ＪＩＳ  Ｓ−６０５０「プラスチック字消し」に適合した消しゴムを、直径８ｍｍ、高さ５ｍｍの円筒状に成形したものを両面テープで取り付け、反射防止膜の表面を荷重５００ｇ、速度１ｍ／分で５０往復した後に、上記記載の分光光度計を用いて同様に測定し、算出した平均反射率の値を反射率Ｂとする。反射率Ａは、試験前の値を表す。これらの値を用い、下記数式（８）に従って反射率の変化率を算出する。
【０４７３】
【数２】
2006010829.tif 000022
【０４７４】
得られた反射変化率について、以下の３段階で評価した。
◎：反射変化率が１５％未満。
○：反射変化率が１５％以上２５％未満。
△：反射変化率が２５％以上４０％未満。
×：反射変化率が４０％以上。
【０４７５】
（接触角の評価）
反射防止フィルムを、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件で２時間調湿した。反射防止膜を有する側の表面（低屈折率層表面）の水に対する接触角を評価した。
【０４７６】
（動摩擦係数の評価）
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面の滑り性の指標として、動摩擦係数を測定して評価した。動摩擦係数は、試料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件で２時間調湿した後、表面性（動摩擦係数）測定機“ＨＥＩＤＯＮ−１４”で、直径５ｍｍのステンレス剛球を用い、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／分で測定した。
【０４７７】
【表５】
2006010829.tif 000023
【０４７８】
【表６】
2006010829.tif 000024
【０４７９】
本発明の実施例１−１の反射防止フィルムはヘイズ、反射率、輝点異物とも良好で、且つ鉛筆硬度、密着性、消しゴム耐摩耗性などの性能も良好であった。実施例１−２の反射防止フィルムは、鉛筆硬度及び消しゴム耐摩耗性が実施例１−１よりもさらに向上した。比較例１−１の反射防止フィルムは、鉛筆硬度と消しゴム耐摩耗性が本発明のものより悪くなり、密着性も不十分であった。比較例１−２の反射防止フィルムは、鉛筆硬度、消しゴム耐摩耗性及び密着性が低下した。なお比較例１−２において、中／高屈折率層の紫外線照射後の加熱条件を（１２０℃／２０分間）として作製すると、鉛筆硬度・密着性・消しゴム耐摩耗性ともにそのレベルが「△〜○」のレベルにやや向上した。このことから、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）のみでは該高分子間の架橋反応が遅延し、充分な分子間の架橋が起こり難いなどが考えられる。
【０４８０】
以上の結果より、本発明の反射防止フィルムは優れた性能を示し、硬化性多分岐ポリマーの中でも環状構造を含有した硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１０）を用いると膜の硬度及び耐擦り性が向上した。
【０４８１】
実施例２
〔反射防止フィルム（ＡＦ２）の作製〕
［ハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬＬ−２）の調製］
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−５）３２５質量部、硬化剤としてラジカル重合性モノマー（ＭA1）であるトリメチロールプロパントリアクリレート“ＴＭＰＴＡ”｛日本化薬（株）製｝３２５質量部に、質量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部、光重合開始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝｛日本チバガイギー（株）製｝５０．０質量部及びジ（ｔ−ブチルフェニル）ヨウドニウム・ヘキサフルオロホスフェート（ｄｉ−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ  ｉｏｄｏｎｉｕｍ  ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｈｏｓｐｈａｔｅ）２４質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬＬ−２）を調製した。
【０４８２】
［中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−３）及び高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−３）の調製］
｛二酸化チタン系微粒子（Ｔ−１）の作製｝
特開平５−３３０８２５号公報に基づいて、鉄（Ｆｅ）をコバルトに変更した以外は同公報と同様にして、二酸化チタン粒子の中にコバルトをドープしたコバルト含有の二酸化チタン系微粒子（Ｔ−１）を作製した。コバルトのドープ量は、Ｔｉ／Ｃｏ（質量比）で、９８．５／１．５となるようにした。作製した二酸化チタン微粒子（Ｔ−１）は、ルチル型の結晶構造が認められ、１次粒子の平均粒子サイズが４０ｎｍ、比表面積が４４ｍ2／ｇであった。
【０４８３】
｛二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−２）の調製｝
上記二酸化チタン系微粒子（Ｔ−１）１００質量部、下記構造の高分子分散剤（ＤＰ−２）２０質量部、及びシクロヘキサノン３６０質量部を添加して、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズと共にダイノミルにより分散した。分散温度は３５〜４０℃で５時間実施した。３００ｎｍ以上の粒子径が０％の平均径５５ｎｍの二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−２）を調製した。
【０４８４】
【化１６】
2006010829.tif 000025
【０４８５】
｛中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−３）の調製｝
上記の二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−２）８８．９質量部に、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−２）４０．９質量部、硬化剤としてラジカル重合性モノマー（ＭA1）であるジペンタエリトリトールペンタアクリレートとジペンタエリトリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”１７．５質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」３．０質量部、光増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」１．１質量部、メチルエチルケトン４８２．４質量部、及びシクロヘキサノン１８６９．８質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−３）を調製した。
【０４８６】
｛高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−３）の調製｝
上記の二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−２）５８６．８質量部に、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−２）３１．１質量部、硬化剤としてラジカル重合性モノマー（ＭA1）である“ＤＰＨＡ”１６．８質量部、「イルガキュア９０７」３．８質量部、「カヤキュアーＤＥＴＸ」１．２質量部、メチルエチルケトン４５５．８質量部、及びシクロヘキサノン１４２７．８質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−３）を調製した。
【０４８７】
［低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−２）の調製］
“ＤＰＨＡ”１．４質量部、下記構造の含フッ素ポリマー（ＰＦ−１）５．６質量部、中空粒子として中空シリカ（平均粒径４０ｎｍ、シェル層厚７ｎｍ、屈折率１．３１、イソプロパノール１８質量％）２０．０質量部、反応性シリコーン“ＲＭＳ−０３３”（Ｇｅｌｅｓｔ社製）０．７質量部、下記内容のゾル液（ｂ）６．２質量部、及び「イルガキュア９０７」０．２質量部をメチルエチルケトン３１５．９質量部に投入して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−２）を調製した。
【０４８８】
【化１７】
2006010829.tif 000026
【０４８９】
｛ゾル液（ｂ）の調製｝
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン［“ＫＢＭ−５１０３”信越化学工業（株）製］１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート「ケロープＥＰ−１２」｛ホープ製薬（株）製｝３質量部を加えて混合し、さらにイオン交換水３０質量部を加えて６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却してゾル液（ｂ）を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量１０００〜２００００の成分が１００％であった。またガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０４９０】
実施例２−１
［反射防止フィルム（ＡＦ２−１）の作製］
８０μｍの厚さのセルローストリアセテート“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”｛富士写真フィルム（株）製、屈折率１．４８｝上に、ハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬＬ−２）を、グラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層（ＨＣＬ−２）を形成した。得られたハードコート層（ＨＣＬ−２）の上に、中屈折率層用硬化性組成物（ＭＬＬ−３）、高屈折率層用硬化性組成物塗布液（ＨＬＬ−３）及び低屈折率層用硬化性組成物塗布液（ＬＬＬ−２）を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布し、反射防止フィルム（ＡＦ２−１）を作製した。
【０４９１】
中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。硬化後の中屈折率層（ＭＬ−３）は屈折率１．６３０、膜厚６８ｎｍであった。
【０４９２】
高屈折率層の乾燥条件はいずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。硬化後の高屈折率層（ＨＬ−３）は屈折率１．９０、膜厚１０５ｎｍであった。
【０４９３】
また高屈折率層（ＨＬ−３）表面の形状は以下のような好ましい微細な凹凸形状であった。
Ｒａ：０．００４μｍ、Ｒｙ：０．０３０μｍ、Ｒａ／Ｒｚ比：０．３３、Ｓｍ：０．１６μｍ
【０４９４】
低屈折率層の乾燥条件は、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから、窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。硬化後の低屈折率層（ＬＬ−２）は屈折率１．４３、厚さ１００ｎｍであった。
【０４９５】
実施例２−２〜２−６
実施例２−１において、中屈折率層及び高屈折率層の二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−２）及び硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−２）の代わりに、下記表７に記載の各組成物を用いた他は実施例２−１と同様にして各反射防止フィルム（ＡＦ２）を作製した。
【０４９６】
｛二酸化チタン系微粒子（Ｔ−２）の作製｝
特開平５−３３０８２５号公報に基づいて、鉄（Ｆｅ）をジルコニウムに変更した以外は同公報と同様にして、二酸化チタン粒子の中に硝酸ジルコニル｛ＺｒＯ（ＮＯ3）2｝をドープしたジルコニウム含有の二酸化チタン系微粒子（Ｔ−２）を作製した。ジルコニウムのドープ量は、Ｔｉ／Ｚｒ（質量比）で、９７．５／２．５となるようにした。作製した二酸化チタン系微粒子（Ｔ−２）は、ルチル型の結晶構造が認められ、１次粒子の平均粒子サイズが４０ｎｍ、比表面積が３９ｍ2／ｇであった。
【０４９７】
｛二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−３）の調製｝
上記二酸化チタン系微粒子（Ｔ−２）１００質量部に、下記分散剤（ＤＰ−３）１８質量部、及びシクロヘキサノン３０３質量部を添加して、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用いてダイノミルにより分散した。分散温度は４０〜４５℃で分散時間６時間実施し、二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−３）を調製した。得られた分散物の分散粒子の平均径は５５ｎｍで、３００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０４９８】
【化１８】
2006010829.tif 000027
【０４９９】
｛二酸化チタン系微粒子（Ｔ−３）の作製｝
特開平５−３３０８２５号公報に基づいて、鉄（Ｆｅ）を塩化コバルト(ＩＩＩ)と塩化アルミニウムに変更した以外は同公報と同様にして、二酸化チタン粒子の中にコバルトとアルミニウムをドープしたコバルト、アルミニウム含有の二酸化チタン系微粒子（Ｔ−３）を作製した。コバルトとアルミニウムのドープ量は、Ｔｉ／Ｃｏ／Ａｌ（質量比）で、９７．５／１．２５／１．２５となるようにした。作製した二酸化チタン系微粒子（Ｔ−３）は、ルチル型の結晶構造が認められ、１次粒子の平均粒子サイズが４０ｎｍ、比表面積が３９ｍ2／ｇであった。
【０５００】
｛二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−４）の調製｝
上記二酸化チタン系微粒子（Ｔ−３）１００質量部に、下記分散剤（ＤＰ−４）１８質量部、及びシクロヘキサノン３０３質量部を添加して、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用いてダイノミルにより分散した。分散温度は４０〜４５℃で分散時間６時間実施し、二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−４）を調製した。得られた分散物の分散粒子の平均径は５５ｎｍで、３００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０５０１】
【化１９】
2006010829.tif 000028
【０５０２】
｛複合酸化物微粒子（Ｔ−４）の調製｝
特表２００１−５２５７８４号公報の実施例７において、ジルコニウム化合物に代えて、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）水和ゲルを用いてチタン−タンタル複合酸化物ゾルを作製した。次に特開平５−３３０８２５の実施例において、二酸化チタンゾルの代わりに、該チタン−タンタル複合酸化物ゾルを使用し、硫酸第１鉄の代わりに硝酸コバルトを用いて、コバルトイオンドープ（ドープ量４質量％）のＴｉ及びＴａからなる複合酸化物微粒子（Ｔ−４）［Ｔｉ／Ｔｉ＋Ｔａ＝０．８モル比］を作製した。得られた複合酸化物微粒子（Ｔ−４）の１次粒子の平均粒子サイズは５５ｎｍ、比表面積は４０ｍ2／ｇであった。
【０５０３】
｛複合酸化物微粒子分散液（ＴＬ−５）の調製｝
上記のコバルトイオンドープの複合酸化物微粒子（Ｔ−４）９２質量部、下記構造の分散剤（ＤＰ−５）２５質量部及びシクロヘキサノン３３７質量部の混合物を、サンドミル（１／４Ｇのサンドミル）にて６時間微細分散した。メディアには粒径０．２ｍｍのジルコニアビーズを１４００質量部用いた。次に１モル／Ｌ塩酸０．１質量部を添加し、窒素雰囲気下で８０℃に昇温し、更に４時間攪拌した。得られた表面処理したドープ複合酸化物微粒子分散液（ＴＬ−５）の粒径は６０ｎｍ、３００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０５０４】
【化２０】
2006010829.tif 000029
【０５０５】
［反射防止フィルム（ＡＦ２−２）〜（ＡＦ２−６）の作製］
下記表７記載の組み合わせにより、反射防止フィルム（ＡＦ２−２）〜（ＡＦ２−６）の各反射防止フィルムを作製した。得られた各フィルムについて、高屈折率層表面の各性状を実施例１と同様にして評価したところ、何れも、表８に記載したように好ましい範囲内であった。
【０５０６】
【表７】
2006010829.tif 000030
【０５０７】
【表８】
2006010829.tif 000031
【０５０８】
［反射防止フィルムの評価］
得られた反射防止フィルムについて、実施例１と同様の評価を行った。各性能ともに実施例１と同等で良好であった。更に以下の内容の評価を行い、その結果を表９に記載した。
なお実施例１の反射防止フィルムについてもこれらの評価を行った。
【０５０９】
（鮮明性）
試料をクロスニコルス配置した２枚の偏光板の間に挟み、透過光のムラを目視で観察し官能評価を行った。
○：全く発生しない（１０人が評価し、１人も認識できないレベル）
△：弱く発生する（１０人が評価し、１〜５人が認識するレベル）
×：強く発生する（１０人が評価し、６人以上が認識するレベル）
【０５１０】
（色味の均一性）
分光光度計“Ｖ−５５０”｛日本分光（株）製｝にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ65の５゜入射光に対する正反射光の色味を表わすＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のＬ*値、ａ*値、ｂ*値を算出し、反射光の色味を評価した。
【０５１１】
フィルムは長さ方向に１ｍを試料とし、測定点はロール形態の長さ及び幅方向の中央、並びに両端の各３点を測定した。フィルム試料は、塗工ロールの先端部、中央部、及び終端部を用いた。各値は上記の測定点の中央値とし、変動幅は最大値と最小値との差を中央値で除した計算値を％表示した。下記の４段階評価を行った。
○：変化率が１０％以下
△：変化率が１０％を越える乃至２０％未満
×：変化率が２１％以上
【０５１２】
（耐候性の評価）
サンシャインウエザーメーター“Ｓ−８０”｛スガ試験機（株）製｝を用い、湿度５０％ＲＨで、露光時間１５０時間の各水準の耐候性試験を行った。
耐候性試験後の試料について、前記の「密着性」及び「耐摩擦性」の項目と同様にして試験し、その評価基準に従って評価した。
【０５１３】
【表９】
2006010829.tif 000032
【０５１４】
本発明の反射防止フィルムは、いずれも画像鮮明性、色味の均一性が良好であった。更に、実施例２の試料の耐候試験後の密着性及び耐摩擦性は、試験前と殆ど変化のない極めて良好なものであった。これは、酸化チタンを主成分とする高屈折率無機粒子の光触媒活性を低減させ、且つそれを保持したままに超微粒子化されて均質に分散されていることなどにより達成されたと思われる。
【０５１５】
実施例１１及び１２
〔反射防止能付き視認側偏光板（ＳＨＢ）の作製〕
前記の実施例１及び２で作製された反射防止フィルム（ＡＦ１−１）〜（ＡＦ１−２）及び（ＡＦ２−１）〜（ＡＦ２−６）を反射防止膜付きの保護フィルムとして用いて偏光板を作製した。
【０５１６】
［反射防止フィルム（ＡＦ）の表面処理］
先ずこれら反射防止フィルムの、反射防止膜を有する側とは反対側のセルローストリアセテートフィルム面（以下、「反射防止フィルムの背面」ということがある）上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液（Ｓ−１）を、エクストリュージョンコーターを用いて塗布量１７ｍＬ／ｍ2、塗布速度６０ｍ／分で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に８秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。
【０５１７】
・アルカリ溶液（Ｓ−１）組成
水酸化カリウム                                    ８．５５質量部
水                                            ２３．２３５質量部
イソプロパノール                                ５４．２０質量部
界面活性剤（ＳＦ−１）                              １．０質量部
Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ
プロピレングリコール                              １３．０質量部
消泡剤                                          ０．０１５質量部
「サーフィノールＤＦ１１０Ｄ」｛日信化学工業（株）製｝
【０５１８】
得られた各フィルムの鹸化処理表面の、水との接触角は３４〜３５゜、表面エネルギー６２〜６３ｍＮ／ｍの範囲であった。
【０５１９】
［光学補償フィルムの表面鹸化処理］
偏光板の、反射防止膜付き保護フィルムが貼り合わされる側とは反対側には、光補償フィルムを光学異方性層を有する保護フィルムとして用いた。光学補償フィルム「ワイドビューフィルム  Ａ  １２Ｂ」｛富士写真フィルム（株）製｝の、光学異方性層を有する側とは反対側の表面（以下、光学補償フィルムの背面ということがある）を、上記のアルカリ鹸化処理と同様の条件で鹸化処理した。
【０５２０】
［偏光膜（Ｈ−１）］
平均重合度が２４００、膜厚１０５μｍのＰＶＡフィルムを、４０℃のイオン交換水にて６０秒予備膨潤し、ステンレス製のブレードにて表面水分を掻き取ったのち、ヨウ素０．７ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム６０．０ｇ／Ｌ、ホウ酸５．０ｇ／Ｌの水溶液に、その濃度が一定になるように濃度補正しつつ、４０℃で５５秒浸漬し、さらにホウ酸４２．５ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／Ｌの水溶液に、その濃度が一定になるように濃度補正しつつ、４０℃で９０秒浸漬した後、フィルムの両面をステンレス製ブレードにて余剰水分を掻き取り、４．４倍に縦方向に１軸延伸して緊張状態のまま乾燥して偏光膜（Ｈ−１）を作製した。このときの偏光膜（Ｈ−１）の厚みは１９μｍで、含水率は２．５質量％であった。
【０５２１】
その後、幅方向から３ｃｍ、カッターにて耳切りをした後、ＰＶＡ｛（株）クラレ製“ＰＶＡ−１２４Ｈ”｝の３質量％水溶液を接着剤として、上記偏光膜（Ｈ−１）の一方の面に、前記鹸化処理された反射防止フィルム（ＡＦ）の背面を、他方の面に、上記鹸化処理した光学補償シートの背面を貼り合わせ、さらに７０℃で１０分間加熱して、有効幅６５０ｍｍ、長さ１００ｍのロール形態の反射防止能付き視認側偏光板（ＳＨＢ）を作製した。得られた反射防止能付き視認側偏光板（ＳＨＢ）の構成を表１０に示す。これらの偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し４５゜傾斜していた。
【０５２２】
【表１０】
2006010829.tif 000033
【０５２３】
実施例２１及び２２
〔液晶表示装置〕
［ＴＮモード液晶表示装置］
ＴＮモードで２０インチの液晶表示装置“ＴＨ−２０ＴＡ３”型｛松下電器（株）製｝に設けられている視認側の偏光板の代わりに、本発明の視認側偏光板（ＳＨＢ）の光学異方性層が液晶セル側となるように、アクリル系粘着剤を介して観察者側に一枚貼り付けた。このとき観察者側のこの偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
【０５２４】
［液晶表示装置の描画性能］
上記の各液晶表示装置について、以下の内容の画像描画性を評価した。その結果を表１１に示す。
【０５２５】
（描画画像のムラ評価）
測定機（“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）時の描画ムラを目視で観察した。
○：全く発生しない（１０人が評価し、１人も認識できないレベル）。
△：弱く発生する（１０人が評価し、１〜５人が認識するレベル）。
×：強く発生する（１０人が評価し、６人以上が認識するレベル）。
【０５２６】
（外光の写り込み評価）
外光の映り込みの評価を、蛍光灯を用いて行い、目視にて下記４段階評価を行った。
◎：映り込みの変化はあるが全く気にならない。
○：映り込みの変化はあるが殆ど気にならない。
△：映り込みの変化は気になるが、許容できる。
×：映り込みの変化が気になる。
【０５２７】
（黒表示の色味評価）
液晶表示装置について、測定機（“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）時の色味変化を目視で観察した。
◎：全く認められない（１０人が評価し、１人も認識できないレベル）
○：僅かに認められる（１０人が評価し、１〜２人が認識するレベル）
△：弱く認められる（１０人が評価し、３〜５人が認識するレベル）
×：強く発生する（１０人が評価し、６人以上が認識するレベル）
【０５２８】
（色味変化）
（コントラスト、視野角）の評価方法と同様の装置を用いて、視野角が正面から６０゜の範囲内における色調の変化の度合いを目視で観察し、下記の基準で評価した。
◎：全く気にならない。
○：変化はあるが殆ど気にならない。
△：変化は気になるが、許容できる。
×：変化が気になる。
【０５２９】
上記の各視認側偏光板（ＳＨＢ）を設けた各表示装置について、上記方法に従い、描画画像の画像品位を評価した。その結果を表１１に示す。
【０５３０】
【表１１】
2006010829.tif 000034
【０５３１】
本発明の実施例２１−１〜２１−２及び実施例２２−１〜２２−６の各表示装置は、表示画像の全体において描画性にムラが無く、且つ外光の写り込みも殆どない良好なものであった。また黒表示での色味、色調の色味変化の小さいニュートラル性が良好な明るい画像を表示した。
以上の様に、本発明のみが明るい鮮明な表示画像を描画できる良好なものであった。
【０５３２】
実施例３
〔防眩性反射防止フィルム（ＡＦ３−１）の作製〕
実施例２−１で作製した反射防止フィルム（ＡＦ２−１）を、以下の内容でエンボス加工を行い表面に凹凸形状を賦形した。
【０５３３】
［表面凹凸形状の形成］
エンボシングカレンダー機｛由利ロール（株）製｝に、下記内容のエンボス版を装着し、線圧５０００Ｎ／ｃｍ、プレ加熱温度９０℃、及びエンボスロール温度１６０℃の条件にて、前記の反射防止フイルム（ＡＦ２−１）の片面にプレス操作を行い、防眩性反射防止フィルム（ＡＦ３−１）を作製した。なおバックアップロールは常温、搬送速度１ｍ／分の条件で行った。
【０５３４】
（エンボス版）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍの“Ｓ４５Ｃ”材芯金ロールを、ケロシン加工液（液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加したもの）で、三菱電機（株）製型彫放電加工機“ＥＡ８”型を用い、厚み０．５ｍｍの銅電極にてマイナスのコンデンサー放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３μｍ、平均凹凸周期（Ｓｍ）２５μｍのエンボス版を得た。
【０５３５】
［表面形状の評価］
得られた防眩性反射防止フィルム（ＡＦ３−１）表面の形状は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づいて、表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）、十点平均粗さ（Ｒｚ）、最大高さ（Ｒｙ）、及び表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）を、（株）ミツトヨ製二次元粗さ計“ＳＪ−４００”型により評価した。但し、Ｒａ、Ｒｚ及びＲｙは、測定長４μｍ、Ｓｍの測定長は２０μｍとした。表面凹凸の均一性は、（Ｒａ／Ｒｚ）の比により算出した。凹凸プロファイルの傾斜角度分布は、“Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｘｐｌｏｒｅ  ＳＸ−５２０”システム｛菱化システム（株）製、干渉顕微鏡：ニコン（株）製「ＭＭ−４０／６０シリーズ」、対物レンズ：二光束干渉対物レンズ、ハロゲンランプ使用、ＣＣＤカメラ：６４０×４８０｝のマイクロマップソフトを用いて測定した値である。測定結果を表１２に示す。
【０５３６】
【表１２】
2006010829.tif 000035
【０５３７】
［反射防止フィルムの評価］
得られた防眩性反射防止フィルム（ＡＦ３−１）について、以下の内容の性能結果を得た。得られた結果を表１３に示す。また、耐候試験を行った後の試料は、試験前の性能と変化の無い極めて良好なものであった。
【０５３８】
（映り込み）
作製した反射防止フィルムに、ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
◎：蛍光灯の輪郭が全くわからない。
○：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる。
△：蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる。
×：蛍光灯がほとんどぼけない。
【０５３９】
（ギラツキ）
作製した反射防止フィルムを、１３３ｐｐｉ（１３３ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）に模したセル上、距離１ｍｍの位置に載せ、ギラツキ（防眩性賦与の反射防止膜の表面凹凸が起因の輝度バラツキ）の程度を、以下の基準で目視評価した。
◎：全く〜ほとんどギラツキが見られない。
○：わずかにギラツキがある。
△：少しギラツキがある。
×：ギラツキがはっきり認識できる。
【０５４０】
（質感）
１０ｃｍ四方のガラス板の両面に、偏光膜をクロスニコル配置で貼り合せ、さらに片側の偏光膜上に、エンボス面を上にして防眩性反射防止フィルムを貼り付けた。１００Ｗの白色電球から２ｍ離した位置でエンボス面を観察し、質感について以下の１〜５のランク付けを行った。
５：反射光の強度が視覚的に均一で、しっとりした質感である。
１：反射光の強度が視覚的にばらついており、ざらざらした質感である。
予めランク５とランク１の両極端を定め、この間のランクは相対評価した。
【０５４１】
【表１３】
2006010829.tif 000036
【０５４２】
実施例１３
〔防眩性反射防止能付き視認側偏光板（ＳＨＢ３−１）の作製〕
実施例１２において、実施例２−１の反射防止フィルム（ＡＦ２−１）の代わりに、実施例３で得られた防眩性反射防止フィルム（ＡＦ３−１）を用いた他、実施例１２と同様にして、防眩性反射防止能付き視認側偏光板（ＳＨＢ３−１）を作製した。得られた視認側偏光板（ＳＨＢ３−１）の構成を以下に示す。
【０５４３】
【表１４】
2006010829.tif 000037
【０５４４】
実施例２３
〔液晶表示装置〕
実施例２２において、視認側偏光板（ＳＨＢ２−１）の代わりに、上記視認側偏光板（ＳＨＢ３−１）を用いた他は実施例２２と同様にして、液晶表示装置を作製し、実施例２２と同様にして性能を評価した。その結果は、ギラツキ感のない均一性良好な画像で、黒表示での色味、コントラスト、視野角、色味のニュートラル性、色味の湿度依存性のいずれも良好な性能を示した。
【０５４５】
実施例４
〔防眩性反射防止膜（ＡＦ４−１）の作製〕
［導電性ハードコート層（ＨＣＬ−３）］
８０μｍの厚さのセルローストリアセテート“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”上に、「ペルノックスＣ−４４５６−Ｓ７」［アンチモン（Ｓｂ）を含有する酸化錫（ＡＴＯ）を分散したハードコート剤（固形分４５質量％）：日本ペルノックス（株）製］をリバースグラビアコーターで塗布、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚み１μｍの導電性ハードコート層（ＨＣＬ−３）を形成した。このフィルムの表面抵抗は１０8Ω／□オーダーの導電性であった。なお表面抵抗率は、試料を（２５℃／６５％ＲＨ）の条件下に１時間放置した後、同条件下で三菱化学（株）製  抵抗率計“ＭＣＰ−ＨＴ２６０”を用いて測定した。
この導電性ハードコート層（ＨＣＬ−３）の上に、下記のようにしての防眩性反射防止フィルム（ＡＦ４−１）を作製した。
【０５４６】
｛防眩層用硬化性組成物（ＡＧＬＬ−１）の調製｝
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−４）５９．２質量部、硬化剤としてラジカル重合性モノマー（ＭA1）である前記多官能アクリレート“ＤＰＨＡ”３１．８質量部、粒径約２０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有塗布液「デソライトＺ−７４０１」｛ＪＳＲ（株）製、屈折率１．６４｝１９９質量部、及び粒径約２０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有塗布液「デソライトＺ−７４０２」｛ＪＳＲ（株）製、屈折率１．６４｝１９質量部を、メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶媒５２質量部に混合した。得られた混合物に、「イルガキュア９０７」１０質量部を加えた。
【０５４７】
次に、平均粒径３．０μｍの架橋ポリメチルメタクリレート粒子“ＭＸ−３００”｛綜研化学（株）製、屈折率１．４９｝２０質量部を、メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶媒８０質量部に、高速ディスパーを用いて回転速度５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルター｛それぞれ“ＰＰＥ−１０”，“ＰＰＥ−０３”，“ＰＰＥ−０１”、いずれも富士写真フイルム(株)製｝を用いて濾過することにより分散液を作製し、そのうちの２９質量部を上記の溶液に添加・攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用硬化性組成物（ＡＧＬＬ−１）を調製した。
【０５４８】
［低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−３）の調製］
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１１）１．４質量部、下記構造の含フッ素ポリマー（ＰＦ−２）５．６質量部、中空粒子として中空シリカ（平均粒径４０ｎｍ、シェル層厚７ｎｍ、屈折率１．３１、１８質量％イソプロパノール分散液）１４．０質量部、前記シリカゾル“ＭＥＫ−ＳＴ”６．０質量部、反応性シリコーン“ＲＭＳ−０３３”（Ｇｅｌｅｓｔ社製）０．７質量部、前記のゾル液（ｂ）６．２質量部、及び「イルガキュア９０７」０．２質量部を、メチルエチルケトン３１５．９質量部に投入して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−３）塗布液を調製した。
【０５４９】
【化２１】
2006010829.tif 000038
【０５５０】
［防眩性反射防止フィルム（ＡＦ４−１）の作製］
上記で作製した導電層塗設セルローストリアセテートフィルム上に、上記で調製した防眩層用硬化性組成物（ＡＧＬＬ−１）を、エクストリュージョンコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分乾燥後、３５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２μｍの防眩性ハードコート層（ＡＧＬ−１）（屈折率１．６１）を形成した。この防眩性ハードコート層の上に、上記で作製した低屈折率層硬化性組成物（ＬＬＬ−３）を、エクストリュージョンコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分乾燥後、３５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ９５ｎｍの低屈折率層（ＬＬ−３）（屈折率１．４４）を形成した。得られたフィルムの表面の形状は以下の様な凹凸形状であった。
Ｒａ：０．１６μｍ、Ｒｚ：１．０４μｍ、Ｓｍ：６３μｍ
【０５５１】
得られた防眩性反射防止フィルム（ＡＦ４−１）の構成を表１４に示す。なおこの防眩性反射防止フィルム（ＡＦ４−１）について、分光光度計｛日本分光（株）製｝を用いて、４５０〜６５０ｎｍの波長領域における入射光５°における正反射の平均反射率を測定したところ、該平均反射率は３．０％であった。また、該反射防止フィルム（ＡＦ４−１）のヘイズは３０．５％であった。更に、鉛筆硬度は３Ｈ以上、耐傷性試験及び膜剥がれの結果はいずれも傷、剥がれの発生を認められなかった。
【０５５２】
【表１５】
2006010829.tif 000039
【０５５３】
実施例１４
〔反射防止能付き視認側偏光板（ＳＨＢ４−１）の作製〕
前記の実施例４で作製された反射防止フィルム（ＡＦ４−１）を反射防止膜付きの保護フィルムとして用い、以下で作製される光学補償フィルム（ＷＶ−１）を光学異方性層付き保護フィルムとして用いて視認側偏光板を作製した。
【０５５４】
［防眩性反射防止フィルム（ＡＦ４−１）の表面処理］
上記の反射防止フィルム（ＡＦ４−１）の背面に、１００℃の熱風を吹き付けて５５℃まで加熱した後に、２５℃に保温した下記内容のアルカリ処理液（Ｓ−２）を、ロッドコーターを用いて塗布量１２ｍＬ／ｍ2、塗布速度４５ｍ/分で塗布し、１０秒間経過後、再びロッドコーターを用いて純水を５ｍＬ／ｍ2塗布した。この時のフィルム温度は４５℃であった。次いで、エクストルージョン型コーターを用いて１０００ｍＬ／ｍ2の純水を塗布し、水洗を行い、５秒間経過後に１００ｍ／秒の風をエアナイフより水塗布面に吹き付けた。このエクストルージョンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを２回繰り返した後に、８０℃の乾燥ゾーンに１０秒間滞留させて乾燥し、片面鹸化処理フィルムを作製した。
【０５５５】
・アルカリ処理液（Ｓ−２）組成
水                                                ８１．２質量部
水酸化ナトリウム                                    ６．０質量部
界面活性剤（ＳＦ−２）                              ０．８質量部
Ｃ12Ｈ25Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）15Ｈ
相溶化剤：エチレングリコール                      １２．０質量部
消泡剤                                            ０．０５質量部
「プルトニックＴＲ７０１」｛旭電化工業（株）製｝
【０５５６】
［光学補償フィルム（ＷＶ−１）の作製］
（セルロースアシレート溶液の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱撹拌して、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０５５７】
・セルロースアシレート溶液組成
セルローストリアセテート                              １００質量部
置換度２．８０（６位置換度０．９０）
トリフェニルホスフェート                              ６．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                      ０．８質量部
下記のＵＶ剤：ＵＶ−１                                １．０質量部
下記のＵＶ剤：ＵＶ−２                                １．０質量部
変性シリカ（メチル基変性体、一次粒径６ｎｍ）        ０．１５質量部
商品名“ＡＥＲＯＳＩＬ  ９７２”：日本アエロジル（株）製
酢酸メチル                                            ２９０質量部
メタノール                                              ２５質量部
アセトン                                                ２５質量部
エタノール                                              ２５質量部
１−ブタノール                                          ２５質量部
【０５５８】
【化２２】
2006010829.tif 000040
【０５５９】
（レターデーション調整剤溶液の調製）
下記のレターデーション調整剤１６質量部、酢酸メチル７４．４質量部、メタノール６．４質量部、アセトン６．４質量部、エタノール６．４質量部及びｉ−ブタノール６．４質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション調整剤溶液を調製した。
【０５６０】
【化２３】
2006010829.tif 000041
【０５６１】
｛基体フィルム（ＣＡ−１）の作製｝
上記のセルロースアシレート溶液４７５質量部に、レターデーション調整剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌した後に室温（２５℃）にて３時間放置し、得られた不均一なゲル状溶液を、−７０℃にて６時間冷却した後、５０℃に加温・攪拌して完全に溶解したドープ溶液を得た。得られたドープ溶液を５０℃にて、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙“＃６３”｛東洋濾紙（株）製｝で濾過し、さらに絶対濾過精度０．００２５ｍｍの濾紙“ＦＨ０２５”（ポール社製）にてフィルター濾過及び脱泡を行ってドープ溶液を調製した。
【０５６２】
得られたドープ溶液を、回転ドラム流延機を用いて流延した。流延方法は実施例１記載のバンド流延と同様の条件で行った。ドラム面上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、残留溶媒量が５０質量％のフィルムを剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、残留溶媒量が４０質量％となったフィルムを、テンターを用いて流延方向（縦方向）及び横方向の２軸延伸し、残留溶媒量が０．２５質量％の基体フィルムであるセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）を、厚さ１０５μｍ、長さ１０００ｍ、幅１．３４ｍの巻きロール形態で製造した。得られた基体フィルム（ＣＡ−１）の波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）は１００ｎｍ、レターデーション値（Ｒｔｈ）は５０ｎｍであった。
【０５６３】
（鹸化処理）
上記基体フィルム（ＣＡ−１）の片面上を、前記反射防止フィルム（ＡＦ４−１）の片面鹸化処理と同様にして鹸化処理した。得られたフィルム表面の水との接触角は３５゜、表面エネルギー６６ｍＮ／ｍであった。
【０５６４】
（配向膜の形成）
この表面処理したフィルム（ＣＡ−１）上に、下記の組成の配向膜塗布液をロッドコーターで２８ｍＬ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０５６５】
・配向膜塗布液
下記変性ポリビニルアルコール                        ２０質量部
クエン酸                                        ０．０５質量部
グルタルアルデヒド                                ０．５質量部
水                                                ３６０質量部
メタノール                                        １２０質量部
【０５６６】
【化２４】
2006010829.tif 000042
【０５６７】
（配向膜面のラビング処理）
次に、環境条件（２５℃／４５％ＲＨ）のもとに、フィルムの長手方向に配向膜面に、市販のラビング布を貼り付けたラビングロールで搬送方向に対し平行にラビング処理を実施した。
【０５６８】
｛光学異方性層（ＯＡ−１）の形成｝
配向膜上に、下記構造のディスコティック液晶性化合物（ＬＣ−１）４５．５質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート“Ｖ＃３６０”｛大阪有機化学（株）製｝４．５質量部、下記構造の含フッ素ポリマー（ＰＦ−３）０．３質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」１．５質量部、増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」０．５質量部を、６３．９質量部のメチルエチルケトンに溶解した溶液を塗布液とし、これを、＃３のワイヤーバーで塗布した。これを１２５℃の恒温ゾーンで３分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、膜厚１．２μｍの光学異方性層（ＯＡ−１）を形成し、光学補償フィルム（ＷＶ−１）を作製した。
【０５６９】
【化２５】
2006010829.tif 000043
【０５７０】
【化２６】
2006010829.tif 000044
【０５７１】
｛光学補償フィルム（ＷＶ−１）の表面処理｝
得られた光学補償フィルムの背面を、前記反射防止フィルム（ＡＦ４−１）の片面鹸化処理と同様にして鹸化処理した。
【０５７２】
［偏光膜（Ｈ−２）］
平均重合度が２４００、膜厚７５μｍのＰＶＡフィルムを、４０℃のイオン交換水にて６０秒予備膨潤し、ステンレス製のブレードにて表面水分を掻き取ったのち、ヨウ素０．７ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム６０．０ｇ／Ｌ、ホウ酸１ｇ／Ｌの水溶液に、濃度が一定になるように濃度補正しつつ、ＰＶＡフィルムを４０℃で５５秒浸漬し、さらにホウ酸４２．５ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／Ｌ、Ｃ．Ｉ．  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４４（λｍａｘ４１０ｎｍ）  ０．１ｇ／Ｌ、Ｃ．Ｉ．  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １（λｍａｘ６５０ｎｍ）  ０．１ｇ／Ｌの水溶液に、濃度が一定になるように濃度補正しつつ、ＰＶＡフィルムを４０℃で９０秒浸漬後、フィルムの両面をステンレス製ブレードにて余剰水分を掻き取り、テンター延伸機を用いて、横一軸延伸した。搬送速度を４ｍ／分として、１００ｍ送出し、６０℃、９５％ＲＨ雰囲気下で４．１２倍まで延伸し、以降幅を一定に保ち、収縮させながら６５℃雰囲気で乾燥させた後、テンターから離脱し偏光膜（Ｈ−２）を得た。偏光膜の厚みは１７．５μｍ、含水率は３質量％であった。
【０５７３】
［視認側偏光板（ＳＨＢ４−１）の作製］
次に、得られた偏光膜（Ｈ−２）の幅方向から３ｃｍ、カッターにて耳切りをした後、ＰＶＡ｛（株）クラレ製ＰＶＡ−１２４Ｈ｝３質量％水溶液を接着剤として、前記の鹸化処理した防眩性反射防止フィルム（ＡＦ４−１）の鹸化処理面、及び上記の鹸化処理した光学補償シート（ＷＶ−１）の鹸化処理面とを、各々貼り合わせ、さらに７０℃で１０分間加熱して有効幅６５０ｍｍ、長さ１００ｍのロール形態の防眩性反射防止能付き視認側偏光板（ＳＨＢ４−１）を作製した。得られた視認側偏光板（ＳＨＢ４−１）の構成を表１５に示す。
【０５７４】
【表１６】
2006010829.tif 000045
【０５７５】
実施例２４
〔液晶表示装置〕
ＩＰＳモードで２０インチの液晶表示装置“Ｗ２０−ｌｃ３０００”型｛日立製作所（株）製｝に設けられている視認側の光学フィルムの代わりに、本発明の偏光板（ＳＨＢ４−１）の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、視認側に一枚貼り付けた。
【０５７６】
［液晶表示装置の描画性能］
実施例２４の表示装置について、実施例２１と同様にして描画画像の画像品位を評価した。その結果は、ギラツキ感のない均一性良好な画像で、且つ外光の写り込みも殆ど無く、黒表示での色味、コントラスト、視野角、色味のニュートラル性のいずれも良好な性能を示した。
【０５７７】
実施例５
〔光散乱性反射防止フィルム（ＡＦ５−１）の作製〕
［導電層（ＥＤＬ−１）の形成］
｛導電性超微粒子分散液（ＥＬ）の調製｝
ＩＴＯ（錫含有酸化インジウム、比表面積：４０ｍ2／ｇ、粉体比抵抗：０．１Ω・ｃｍ）２０質量部、下記構造の分散剤（ＤＰ−６）６質量部、及びシクロヘキサノン７４質量部を、粒径０．２ｍｍのジルコニアビーズを用いてダイノミルにより分散した後に２００メッシュのナイロン布でビーズを濾別した。得られた分散液（ＥＬ）の分散粒子の平均径は３０ｎｍで、１００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０５７８】
【化２７】
2006010829.tif 000046
【０５７９】
｛導電層用塗布液（ＥＤＬＬ−１）の調製｝
エチルセルソルブ８２質量部、テトラエトキシシラン２２質量部、メチルトリエトキシシラン２０質量部、及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン５８質量部を加え、液温を５〜１０℃に保ち、攪拌しながら０．０１Ｎの塩酸３７質量部を３時間で滴下した。滴下終了後、０．５時間攪拌を行い、シリル化合物の部分加水分解物を得た。つぎに上記の導電性超微粒子分散液（ＥＬ）２２４質量部を添加して、高速ディスパーにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌した。この分散液に「イルガキュア９０７」を固形分に対して５質量％、アルミニウムアセチルアセトネート２．６質量部、過塩素酸アンモニウム０．５質量部を加えて十分に攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して導電層用塗布液（ＥＤＬＬ−１）を調製した。
【０５８０】
｛導電層（ＥＤＬ−１）の形成｝
前記のセルロースアシレートフィルム“ＴＤ８０ＵＦ”上に、上記の導電層用塗布液（ＥＤＬＬ−１）を、グラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、１２０℃で１０分間加熱して塗布層を硬化させ、厚さ２μｍの導電層（ＥＤＬ−１）を形成した。このフィルムの表面抵抗は１０8Ω／□オーダーの導電性であった。
この上に下記のようにしての光散乱層（ＬＳＬ−１）を作製した。
【０５８１】
［光散乱層（ＬＳＬ−１）の形成］
｛光散乱層用硬化性組成物（ＬＳＬＬ−１）の調製｝
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１１）５０質量部、硬化剤としてラジカル重合性モノマー（ＭA1）であるペンタエリスリトールトリアクリレート／ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物“ＰＥＴＡ”［日本火薬（株）製］４１質量部、硬化開始剤「イルガキュア１８４」２質量部、第１の透光性粒子として、アクリル−スチレンビーズ［総研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．５５］５質量部、第２の透光性微粒子として、スチレンビーズ［総研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．６０］５．２質量部、シランカップリング剤“ＫＢＭ−５１０３”［信越化学工業（株）製］１０質量部及び下記のフッ素系ポリマー（ＰＦ−４）０．０３質量部を、トルエン５０質量部と混合して攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し、次いで「イルガキュア９０７」１０質量部を加えて光散乱層用硬化性組成物（ＬＳＬＬ−１）を調製した。
【０５８２】
【化２８】
2006010829.tif 000047
【０５８３】
前記のセルロースアシレートフィルム“ＴＤ８０ＵＦ”上に塗設された導電層（ＥＤＬ−１）の上に、上記の光散乱層用硬化性組成物（ＬＳＬＬ−２）を乾燥膜厚６．０μｍになるように塗布し、溶媒乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、光散乱層（ＬＳＬ−２）（屈折率１．６１）を形成した。
【０５８４】
［光散乱性反射防止フィルム（ＡＦ５−１）の作製］
上記の光散乱層（ＬＳＬ−１）上に、下記低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−４）を、グラビアコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層（ＬＬ−４）（屈折率１．４３、膜厚８６ｎｍ）を形成した。このようにして、本発明の光散乱性反射防止フィルム（ＡＦ５−１）を作製した。
得られた反射防止フィルム（ＡＦ５−１）の構成を後記表１７に示す。
【０５８５】
｛低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−４）｝
下記構造のフッ素系ポリマー（ＰＦ−５）９質量部をメチルイソブチルケトンに３０質量％の濃度になるように溶解し、前記シリカゾル“ＭＥＫ−ＳＴ”５質量部、中空シリカ“ＣＳ６０−ＩＰＡ”｛平均粒径６０ｎｍ、シェル層厚１０ｎｍ、屈折率１．３１、イソプロパノール２０質量％分散液、触媒化成（株）製｝１５質量部、前記のゾル液（ａ）６質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂“Ｘ−２２−１６４Ｃ”｛信越化学（株）製｝を組成物の全固形分に対して３質量％、「イルガキュア９０７」を組成物の全固形分に対して５質量％添加し、さらにメチルエチルケトン５０質量部、及びシクロヘキサノン６０質量部を添加して攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−４）を調製した。
【０５８６】
【化２９】
2006010829.tif 000048
【０５８７】
【表１７】
2006010829.tif 000049
【０５８８】
［光散乱性反射防止フィルム（ＡＦ５−１）の性能］
本発明の反射防止フィルムについて、実施例３と同様の内容について性能を評価した。その結果を下記表１８に示す。反射防止性能（映り込み、ギラツキ感）は良好で且つ質感も良好であった。また反射防止膜の機械的強度（密着性、耐擦れ性、鉛筆硬度）も良好であった。
【０５８９】
【表１８】
2006010829.tif 000050
【０５９０】
実施例１５
〔視認側偏光板（ＳＨＢ５−１）の作製〕
［光学補償フィルム（ＷＶ−２）の作製］
｛透明基体フィルム（ＣＡ−２）の作製｝
酢酸メチル２９０質量部、アセトン２５質量部、メタノール２５質量部、エタノール２５質量部、及び１−ブタノール２５質量部を予め混合した溶液に、よく攪拌しつつ置換度２．７９（６位置置換度０．９０）のセルローストリアセテート粉体１００質量部、トリフェニルホスフェート６．８質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート４．９質量部、下記のＵＶ剤ＵＶ−３：１．０質量部、下記のＵＶ剤ＵＶ−４：１．０質量部、シリカ（粒径２０ｎｍ）０．５質量部を投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解した。
【０５９１】
一方、酢酸メチル７０質量部、アセトン６質量部、メタノール６質量部、エタノール６質量部、及び１−ブタノール６質量部を予め混合した溶液に、下記構造のレターデーション調整剤５質量部を投入し加熱して溶解してレターデーション調整剤溶液を調整した。
【０５９２】
【化３０】
2006010829.tif 000051
【０５９３】
上記のセルローストリアセテート溶液４７４質量部に、攪拌しながら上記のレターデーション調整剤溶液３２質量部を徐々に添加して加えた。その後は実施例１と同様の方法で製膜して、膜厚８０μｍ、長さ１３００ｍ、幅１３４０ｍｍ）のセルローストリアシレートフイルム（ＣＡ−２）を作製した。得られたセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）は５２ｎｍ、レターデーション値（Ｒｔｈ）は９５ｎｍであった。
【０５９４】
｛光学補償フィルム（ＷＶ−２）の作製｝
上記の支持体（ＣＡ−２）上に、実施例１４と同様にして鹸化処理、配向膜を設けた後、下記内容の光学異方性層（ＯＡ−２）を設けて光学補償フィルム（ＷＶ−２）を作製した。
（光学異方性層（ＯＡ−２））
下記の棒状液晶化合物（ＬＣ−２）３８．１質量部、光重合開始剤「イルガキュアー９０７」１．１４質量部、増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」０．３８質量部、下記の配向調整剤０．１９質量部、グルタルアルデヒド０．０４質量部、及びメチルエチルケトン６０．１５質量部の混合物をエクストリュージョンコーターで塗布し、１２５℃、１ｍ／秒の熱風で３分間加熱した。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて３０秒間光照射し室温まで放冷した。光学異方性層の膜厚は０．８μｍであった。
【化３１】
2006010829.tif 000052
【０５９５】
［視認側偏光板（ＳＨＢ５−１）の作製］
｛各フィルムの表面処理｝
上記の反射防止フィルム（ＡＦ５−１）の背面、及び上記の光学補償フィルム（ＷＶ−２）の光学異方層の背面を、それぞれ実施例３と同様にして鹸化処理した。処理下各表面の水との接触角は３５゜、表面エネルギー６６ｍＮ／ｍであった。
【０５９６】
前記の偏光膜（Ｈ−２）の保護フィルムとして、一方には上記の反射防止フィルム（ＡＦ５−１）、他方には上記の光学補償フィルム（ＷＶ−２）を用い、それぞれの鹸化処理面を貼り合わせ面として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜（Ｈ−２）とそれぞれ貼り合わせた。このようにして視認側偏光板（ＳＨＢ５−１）を作製した。得られた視認側偏光板（ＳＨＢ５−１）の構成を表１９に示す。
【０５９７】
【表１９】
2006010829.tif 000053
【０５９８】
実施例２５
〔液晶表示装置〕
ＶＡモードで２２インチの液晶表示装置“ＴＨ−２２ＬＨ１０”型｛松下電器（株）製｝に設けられている視認側の偏光板の代わりに、本発明の偏光板（ＳＨＢ５−１）の光学異方性層が液晶セル側となるように、アクリル系粘着剤を介して観察者側に一枚貼り付けた。このとき観察者側のこの偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、クロスニコルとなるように配置した。
【０５９９】
［液晶表示装置の描画性能］
実施例２５の表示装置について、前記の実施例２１と同様にして描画画像の画像品位を評価した。その結果は、ギラツキ感のない均一性良好な画像で、且つ外光の写り込みも殆ど無く、黒表示での色味、コントラスト、視野角、色味のニュートラル性のいずれも良好な性能を示した。
【０６００】
実施例１６
〔視認側偏光板（ＳＨＢ６−１）の作製〕
［光学補償フィルム（ＷＶ−３）の作製］
｛透明基体フィルム（ＣＡ−３）の作製｝
メチレンクロリド３００質量部、メタノール５４質量部、１−ブタノール１１質量部を予め混合した溶液に、よく攪拌しつつ、置換度２．７０のセルロースアセテートプロピオネート｛アセテート／プロピオネート比（１／０．４）｝粉体１００質量部、トリフェニルホスフェート７．８質量部、下記可塑剤３．６質量部、シリカ（粒径２０ｎｍ）０．５質量部を投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解した。
【０６０１】
一方、メチレンクロリド８２質量部、メタノール１５質量部、１−ブタノール３質量部を予め混合した溶液に、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン１２質量部、及び２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン４質量部を投入し加熱して溶解してレターデーション調整剤溶液を調整した。
【０６０２】
上記のセルローストリアセテート溶液４７４質量部に、攪拌しながら上記のレターデーション調整剤溶液２２質量部を徐々に添加して加えた。その後は実施例１４と同様の方法で製膜して、長さ１３００ｍ、幅１３４０ｍｍの基体フィルムであるセルロースアシレートフイルム（ＣＡ−３）を作製した。得られたセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−３）の波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）は８ｎｍ、レターデーション値（Ｒｔｈ）は６０ｎｍであった。
【０６０３】
｛光学補償フィルム（ＷＶ−３）の作製｝
上記の基体フィルム（ＣＡ−３）上に、実施例１４と同様にして鹸化処理、配向膜、光学異方性層（ＯＡ−１）を設けて光学補償フィルム（ＷＶ−３）を作製した。
【０６０４】
［視認側偏光板（ＳＨＢ６−１）の作製］
（表面処理）
前記の反射防止フィルム（ＡＦ２−２）の背面、及び上記の光学補償フィルム（ＷＶ−３）の背面を、それぞれ実施例１４と同様にして鹸化処理した。処理した各表面の水との接触角は３５゜、表面エネルギー６６ｍＮ／ｍであった。
【０６０５】
前記の偏光膜（Ｈ−２）の保護フィルムとして、一方には上記の反射防止フィルム（ＡＦ２−２）、他方には上記の光学補償フィルム（ＷＶ−３）を用い、それぞれの鹸化処理面を貼り合わせ面として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜（Ｈ−２）とそれぞれ貼り合わせた。このようにして視認側偏光板（ＳＨＢ６−１）を作製した。得られた視認側偏光板（ＳＨＢ６−１）の構成を表２０に示す。
【０６０６】
【表２０】
2006010829.tif 000054
【０６０７】
実施例２６
〔液晶表示装置〕
［バックライト側偏光板（ＢＨＢ６−１）］
前記の偏光膜（Ｈ−２）の保護フィルムとして、一方には上記の基体フィルム（ＣＡ−２）、他方には上記の光学補償フィルム（ＷＶ−３）を用い、それぞれの鹸化処理面を貼り合わせ面として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜（Ｈ−２）とそれぞれ貼り合わせて、バックライト側偏光板（ＢＨＢ６−１）を作製した。
【０６０８】
［ＯＣＢモード液晶表示装置］
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた２枚のガラス基板を、ラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを６μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。作製したベンド配向セルを挟むように、視認側偏光板（ＳＨＢ１−２）又は（ＳＨＢ２−１）を、光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、セルの視認側に貼り付けた。またバックライト側には、光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介してバックライト側偏光板（ＢＨＢ６−１）を貼り付けて、本発明の液晶表示素子を得た。視認側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
【０６０９】
［液晶表示装置の描画性能］
実施例２６の表示装置について、前記の実施例２１と同様にして描画画像の画像品位を評価した。その結果は、ギラツキ感のない均一性良好な画像で、且つ外光の写り込みも殆ど無く、黒表示での色味、コントラスト、視野角、色味のニュートラル性のいずれも良好な性能を示した。
【０６１０】
実施例７
〔反射防止フィルム（ＡＦ７−１）の作製〕
［高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−９）の調製］
エチルセルソルブ８２質量部、硬化剤として加水分解性シリル基を有するテトラエトキシシラン２２質量部及びメチルトリエトキシシラン２０質量部、並びに硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−７）５８質量部をフラスコに加え、液温を５〜１０℃に保ち、攪拌しながら０．０１ｍｏｌ／ｌの塩酸３７質量部を３時間で滴下した。滴下終了後、０．５時間攪拌を行い、シリル化合物の部分加水分解物を得た。つぎに前記二酸化チタン系微粒子分散液（ＴＬ−２）４００質量部、硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート２．６質量部、過塩素酸アンモニウム０．５質量部を、前述のシリル化合物の部分加水分解物１１７．５質量部に加え、十分に攪拌した後でろ過を行って高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−９）を作製した。
【０６１１】
［低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−５）の調製］
硬化剤として加水分解性シリル基であるトリフルオロプロピルトリメトキシシラン１０質量部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン２０質量部及びテトラエトキシシラン１５０質量部、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１５）２５質量部、イソブタノール２０質量部、並びにアルミニウムアセチルアセトナート０．６質量部をフラスコに仕込み、撹拌した。次に０．２５モル／Ｌの酢酸水５０質量部を少量ずつ滴下した。滴下終了後、室温で３時間撹拌した。その後、ジアセトンアルコール６０質量部及びシリコーン系レベリング剤（直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー“Ｌ−９０００（ＣＳ１００）”｛日本ユニカー（株）製｝３質量部を添加して、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−５）を調製した。
【０６１２】
［反射防止フィルム（ＡＦ７−１）の作製］
実施例２−１の反射防止フィルム（ＡＦ２−１）の作製において、高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−３）の代わりに、上記内容の高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−９）、及び低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−２）の代わりに上記内容の低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−５）を用いた他は、実施例２−１と同様にして反射防止フィルム（ＡＦ７−１）を作製した。
【０６１３】
但し、高屈折率層用硬化性組成物（ＨＬＬ−９）を１００℃で乾燥し、更に１２０℃で２時間の加熱処理をして塗布層を硬化させ、高屈折率層（ＨＬ−９）（屈折率１．９５、膜厚１０７ｎｍ）を形成した。また低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−５）を、８０℃で５分間乾燥の後、更に１２０℃で２０分硬化させた。その後、窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層（ＬＬ−５）（屈折率１．４５、膜厚１００ｎｍ）のを形成させた。かくして得られた反射防止フィルム（ＡＦ７−１）の構成を表２１に示す。
【０６１４】
【表２１】
2006010829.tif 000055
【０６１５】
［反射防止フィルムの性能評価］
本発明の反射防止フィルム（ＡＦ７−１）について、実施例２と同様にして性能を評価した。その結果は、実施例２−１の反射防止フィルム（ＡＦ２−１）と同等の良好な性能を示した。
【０６１６】
実施例８−１〜８−３
〔防眩性反射防止フィルム（ＡＦ８−１）〜（ＡＦ８−３）の作製〕
［ハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬ−３）の調製］
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−８）２００質量部、前記多官能アクリレート“ＤＰＨＡ”６７質量部、下記の多官能エポキシ化合物４８質量部に、シリカ微粒子のメチルエチルケトン分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製）４５０質量部、メチルエチルケトン１５．０質量部、シクロヘキサノン２２０．０質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」１０．０質量部、下記の光重合開始剤８．０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬ−３）を調製した。
【０６１７】
【化３２】
2006010829.tif 000056
【０６１８】
［防眩層用硬化性組成物（ＬＳＬＬ）の調製］
実施例４における防眩層用硬化性組成物（ＡＧＬＬ−１）において、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−４）、多官能アクリレート“ＤＰＨＡ”、開始剤「イルガキュア９０７」の代わりに、下記表２２に記載の各化合物を用いた他は防眩層用硬化性組成物（ＡＧＬＬ−１）と同様にして、防眩層用硬化性組成物（ＡＧＬＬ−２）〜（ＡＧＬＬ−４）を調整した。
【０６１９】
【表２２】
2006010829.tif 000057
【０６２０】
（防眩性反射防止フィルムの作製）
前記のトリアセチルセルロースエステルフィルム“ＴＤ８０ＵＦ”上に、上記のハードコート層用硬化性組成物（ＨＣＬ−３）を膜厚１５μｍになるようにスロットコーターで塗布、１００℃で２分乾燥し、７５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後、１２０℃、１０分加熱することによってハードコート層（ＨＣ−３）を設けた。このハードコート層（ＨＣ−３）上に、防眩層用硬化性組成物（ＡＧＬＬ−２）〜（ＡＧＬＬ−４）のいずれかを、リバースグラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分乾燥後、５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．０μｍの防眩層（ＡＧＬ−２）〜（ＡＧＬ−４）のいずれかをそれぞれ形成した。この各防眩層の上に前記低屈折率層用硬化性組成物（ＬＬＬ−２）を、リバースグラビアコーターを用いて塗布し、実施例２−１記載と同様の条件で厚さ９０ｎｍの低屈折率層（ＬＬ−２）を形成して、防眩性反射防止フィルム（ＡＦ８−１）〜（ＡＦ８−３）をそれぞれ作製した。得られた各フィルムの表面の形状（Ｒａ、Ｒｚ、並びにＳｍ）は、以下の範囲内で本発明の良好な範囲内であった。
Ｒａ：０．１５〜０．２μｍ、Ｒｚ：１．０〜１．３μｍ、Ｓｍ：６０〜６５μｍ
得られた防眩性反射防止フィルムの各構成を表２３に示す。
【０６２１】
【表２３】
2006010829.tif 000058
【０６２２】
［防眩性反射防止フィルムの性能評価］
得られた各フィルムについて実施例３と同様の性能評価を行った。その結果を表２４に記載した。いずれの試料も実施例３と同等以上の良好な性能を示した。
【０６２３】
【表２４】
2006010829.tif 000059
【０６２４】
実施例１９
実施例１２−１の視認側偏光板（ＳＨＢ２−１）において、反射防止フィルム（ＡＦ２−１）とは反対側に、光学補償フィルム「ワイドビュー  Ａ  １２Ｂ」｛富士写真フイルム（株）製｝を貼り合わせる代わりに、透明保護フィルムとして“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”｛富士写真フィルム（株）製｝を貼り合わせ、さらにその透明保護フィルムの上に、λ／４板を貼り合わせて、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射及び、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、色味がニュートラル性良好な極めて視認性の高い表示が得られた。