【手続補正書】
【提出日】平成19年8月7日(2007.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体から選択された化合物の除去するためのフロースルーデバイス（２０）であって；
内部チャンバーを区画する第１および第２の側壁（４４，４６）および周縁端壁（５７）を含んでいるハウジング（４２）；
前記内部チャンバー内に配置され、前記ハウジング（４２）の前記周縁端壁（５７）に対向してチャンバーを境界する周縁端面（６０ｃ）を有する化合物除去媒体（６０）；および
実質的に前記媒体の周縁端面（６０ｃ）と前記ハウジング（４２）の周縁端壁（５７）との間の前記チャンバーの区域に配置された液体不透過性障壁（９２，９３，２００）；
を備えているデバイス。
【請求項２】
前記第１および第２の側壁（４４，４６）の一方は入口ポ−ト（３０）を含み、前記第１および第２の側壁の他方は出口ポート（３２）を含んでいる請求項１のデバイス。
【請求項３】
入口ポート（３０）は出口ポート（３２）に対し正反対に対向して配置されている請求項２のデバイス。
【請求項４】
前記化合物除去媒体（６０）は吸収剤組成物粒子およびプラスチック結合剤を含んでいる請求項１のデバイス。
【請求項５】
前記吸収剤粒子はジビニルベンゼンポリスチレンのビーズを含み、前記結合剤はポリエチレンを含んでいる請求項４のデバイス。
【請求項６】
前記第１および第２の側壁（４４，４６）は外表面（５０，５２）および内表面（５４，５６）を含んでいる請求項１のデバイス。
【請求項７】
前記第１および第２の側壁（４４，４６）の一方の内表面（５４，５６）は、前記側壁の周縁またはその近くに連続した舌（７０）を含んでおり、そして前記側壁の他方の内表面は前記舌を受け入れる溝を含んでいる請求項６のデバイス。
【請求項８】
前記第１および第２の側壁（４４，４６）の少なくとも一方の内表面（５４，５６）は、前記舌（７０）または溝（６８）の周縁内側に配置された隆起したグリップ部材（８６，８８）を含んでいる請求項７のデバイス。
【請求項９】
前記第１および第２の側壁（４４，４６）の各自は前記舌（７０）および溝（６８）の周縁内側に配置された隆起したグリップ表面（８６，８８）を含んでいる請求項７のデバイス。
【請求項１０】
前記化合物除去媒体（６０）は前記グリップ部材（８６，８８）によって部分的に圧縮されている請求項８のデバイス。
【請求項１１】
前記グリップ部材（８６，８８）は尖った先端を備えている請求項１０のデバイス。
【請求項１２】
前記第１および第２の側壁（４４，４６）の間に配置されたフィルタ媒体（６２，６４）をさらに備えている請求項１ないし３のいずれかのデバイス。
【請求項１３】
前記フィルタ媒体（６２，６４）は、前記化合物除去媒体（６０）と、前記出口ポート（３２）を含んでいる側の前記側壁（４４，４６）の一方の間に配置されている請求項１２のデバイス。
【請求項１４】
前記出口側の側壁（４４，４６）の内表面（５４，５６）は、前記フィルタ媒体（６２，６４）を支持する実質上連続した表面（８２，８４）を含んでいる請求項１３のデバイス。
【請求項１５】
前記ハウジング（４２）は超音波溶接に適した材料から作られる請求項１のデバイス。
【請求項１６】
前記ハウジング（４２）はポリメチルメタクリレートで作られる請求項１５のデバイス。
【請求項１７】
前記フィルタ媒体（６２，６４）の周縁部分は前記内側表面（５４，５６）へ接着される請求項１４のデバイス。
【請求項１８】
前記フィルタ媒体（６２，６４）は超音波溶接によって前記内表面（５４，５６）へ接着される請求項１７のデバイス。
【請求項１９】
前記側壁（４４，４６）の少なくとも一方はその内表面（５４，５６）上に複数の内側へ延びるリブ（９８）を含んでいる請求項１のデバイス。
【請求項２０】
前記リブ（９８）は前記内表面（５４，５６）の中心点（３６）に隣接した点から前記ハウジング（４２）の周縁エッジに隣接した点まで放射方向に延びている請求項１９のデバイス。
【請求項２１】
前記側壁（４４，４６）の少なくとも一方はその内表面（５４，５６）上に１本のリブ（９５）を含んでいる請求項１のデバイス。
【請求項２２】
前記第１および第２の側壁の内表面（５４，５６）上に一対のリブ（９８）を含み、前記出口ポートまたは入口ポート（３０，３２）は前記一対のリブ（９８）の間に配置されている請求項２０のデバイス。
【請求項２３】
前記舌（７０）の端部は丸くされている請求項７のデバイス。
【請求項２４】
前記舌（７０）は外側へ延びる部分を含み、前記溝（６８）は内側へ延びるショルダーを含んでいる請求項７のデバイス。
【請求項２５】
流体から選択された化合物を除去するためのフロースルー流体処理システム（１０）であって；
流体出口（２４）を含んでいる流体源容器（１２）；
流体入口（２６）を含んでいる受領容器（１４）；
前記流体源および受領容器（１２，１４）の間に配置された化合物除去デバイス（２０）であって；
内部チャンバーを区画する第１および第２の側壁（４４，４６）および周縁端壁（５７）を含んでいるハウジング（４２）、前記内部チャンバー内に配置され、前記ハウジング（４２）の前記周縁端壁（５７）に対向してチャンバーを境界する周縁端面（６０ｃ）を有する化合物除去媒体、および前記媒体の周縁端面（６０ｃ）と前記ハウジング（４２）の周縁端壁（５７）との間の前記チャンバーの区域に配置された液体不透過性障壁（９２，９３，２００）を備えたデバイス（２０）；
とを備え；
前記ハウジング（４２）はデバイス流体入口（３０）とデバイス流体出口（３２）とを有し；さらに
前記流体源容器出口（２０）と前記デバイス入口（３０）との間の流路を提供する第１のチューブ（１６）；および
前記デバイス出口（３２）と前記受領容器入口（２６）との間の流路を提供する第２のチューブ（１８）；
を備えている流体処理システム。
【請求項２６】
前記デバイス入口（３０）は、前記流体源容器（１２）から遠方へ面する開口を含んでいる請求項２５のシステム。
【請求項２７】
前記デバイス出口（３２）は前記受領容器（１４）から遠方へ面する開口を含んでいる請求項２５のシステム。
【請求項２８】
前記第１のチューブ（１６）を受入れるのに適した保持部材（５８）をさらに含んでいる請求項２５のシステム。
【請求項２９】
前記第２のチューブ（１８）を受入れるのに適した保持部材（５８）をさらに含んでいる請求項２６のシステム。
【請求項３０】
前記保持部材（５８）は前記ハウジング（４２）と一体のループを含み、そして前記デバイス入口（３０）と実質上垂直に整列している請求項２６のシステム。
【請求項３１】
前記デバイス（２０）を通る液体の流れは前記第１のチューブ（１６）を通る流れに対して１８０°反転した方向である請求項２５のシステム。
【請求項３２】
前記流体源容器（１２）から前記デバイス入口ポート（３０）への流路は約１８０°のターンを含んでいる請求項２６のシステム。
【請求項３３】
前記デバイス（２０）は少なくとも２つの開口を有するコネクター（１０２）を含み、前記開口の一方は前記デバイス（２０）の入口ポート（３０）と流れ連通にあり、前記開口の他方は前記第１のチューブ（１６）と流れ連通にある請求項３１のシステム。
【請求項３４】
前記デバイス（２０）は少なくとも２つの開口を有するコネクター（１１２）を含み、前記開口の一方は前記デバイス（２０）の出口ポート（３２）と流れ連通あり、前記開口の他方は前記第２のチューブ（１８）と流れ連通にある請求項３３のシステム。
【請求項３５】
前記コネクター（１０２，１１２）は二またに分れた導管を含んでいる一端を含み、前記導管の一方の枝が前記開口の一方を含み、他方の枝が前記開口の他方を含んでいる請求項３３のシステム。
【請求項３６】
前記コネクター（１０２）は、ポートと、そして前記ポートと前記受領容器（１４）の間のチューブ（１８）を含んでいる請求項３５のシステム。
【請求項３７】
前記コネクター（１０２）の第２の端と前記受領容器（１４）の間のチューブ（１８）を通る流れは制限されている請求項３６のシステム。
【請求項３８】
前記コネクター（１０２，１１２）はＵ字形流体流導管を含んでいる請求項３３のシステム。
【請求項３９】
前記流体源容器（１２）と直接の流れ連通にある入口と、複数の出口を有する上流コネクター（１２６）；
一つの出口および複数の入口を含んでいる下流コネクター（１２８）；とを含み、
前記第１のチューブ（１２９）は前記上流コネクター出口の一つと前記デバイス入口（３０）の間の流路を提供し；
前記第２のチューブ（１１８）は前記デバイス出口（３２）と前記下流コネクター入口の一つの間の流路を提供する；請求項２５のシステム。
【請求項４０】
さらに流路を区画するチューブ（３８）を備え、該チューブの一端は前記上流コネクター出口の一つへ接続され、他の端は下流コネクター（１２８）の入口へ接続され、前記チューブ（３８）はそれを通る流れを選択的に制限するための弁（４０）を前記流路内に含んでいる請求項３９のシステム。
【請求項４１】
前記デバイス入口（３０）は、前記受領容器（１４）から遠方へ面するポート（１３６）を含み、前記システム（１０）は一端が前記受領容器（１４）へ面する前記ポート（１３８）へ接続され、他端が前記下流コネクター（１４０）の入口ポートの一つへ接続されているチューブ（１４０）をさらに含んでいる請求項３９のシステム。
【請求項４２】
前記チューブ（１４６）は永久にシールされた流路を含んでいる請求項４１のシステム。
【請求項４３】
前記上流コネクター（１２６）出口の一つと前記デバイス入口（３０）の間の流路を形成するチューブ（１２９）；
前記上流コネクター（１２６）出口の一つと前記下流コネクター（１２８）入口の一つの間の流路を形成するチューブ（３８）；
前記上流コネクター（１２６）出口の一つと前記デバイス出口コネクター（１１２）の間のチューブ（１２２）；
を備えている請求項３９のシステム。
【請求項４４】
前記上流コネクター（１２６）は一つの入口と三分岐出口を備える流体導管を含んでいる請求項４３のシステム。
【請求項４５】
前記除去デバイス（２０）を支持するためのホルダー（１５０）を備えている請求項４３のシステム。
【請求項４６】
前記ホルダー（１５０）は前記デバイス（２０）のハウジング（４２）を受入れるためのスリーブを含んでいる請求項４５のシステム。
【請求項４７】
前記ホルダー（１５０）は前記スリーブを提供するように合体した二つの別の部品よりなる請求項４６のシステム。
【請求項４８】
前記ホルダー（１５０）は支持ポールへ取付けられる請求項４５のシステム。
【請求項４９】
前記ハウジング入口（３０）および出口（３２）は前記ハウジング（４２）の中央垂直軸から９０°離れている請求項２５のシステム。
【請求項５０】
前記デバイス（２０）は、前記側壁（４４，４６）の一方の上の入口ポート（３０）と、前記入口ポート（３０）に対して正反対に配置された前記側壁（４４，４６）の他方の上の出口ポート（３２）を含んでいる請求項２５ないし４９のいずれかのシステム。