Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月9日(2007.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面が軸方向に全体が開放されたシリンダー形状であり、その内部面には二つの鉄筋１、１ａが重ねられて挿入される横断面半円形の二つの溝が並んで軸方向に形成されている鉄筋挿入部２４があり、前記鉄筋挿入部２４には鉄筋１、１ａの節１２が嵌められる節溝２６が多数形成されて鉄筋挿入部２４の横方向の両端部に係止部２７が二部分形成されるスリーブ２；
前記スリーブ２の二つの鉄筋挿入部２４に嵌められる二つの鉄筋を覆いながら設置され、その一面には前記スリーブ２の鉄筋挿入部２４と同一な形態の鉄筋挿入部３１が二部分並んで形成される節片体３；
横方向に両端部に係止部４５が二部分形成され、前記スリーブ２の内部へ押し込むことにより、前記節片体３を圧止する楔４で構成され二つの鉄筋の端部を平行に重なるように連結することを特徴とする鉄筋連結具。
【請求項２】
一面が軸方向に全体が開放されたシリンダー形状であり、その内部面には二つの鉄筋１、１ａが重ねられて挿入される横断面半円形の二つの溝が並んで軸方向に形成されている鉄筋挿入部２４があり、前記鉄筋挿入部２４には鉄筋１、１ａの節１２が嵌められる節溝２６が多数形成されて鉄筋挿入部２４の横方向の両端部の内面に軸方向に傾斜面２９のある係止部２７が二部分形成されるスリーブ２；
横方向に両端部の内面に軸方向に傾斜面４６のある係止部４５が二部分形成され、前記スリーブ２の内部へ押し込むことにより二つの鉄筋１，１ａを圧止する楔４ａで構成され二つの鉄筋の端部を平行に重なるように連結することを特徴とする鉄筋連結具。
【請求項３】
一面が軸方向に全体が開放されたシリンダー形状であり、その内部面には鉄筋１、１ａが挿入される横断面半円形の鉄筋挿入部２４が形成され、前記鉄筋挿入部２４には鉄筋１、１ａの節１２が嵌められる節溝２６が多数形成されて鉄筋挿入部２４の横方向の両端部に係止２７が二部分形成されるスリーブ２ｄ；
横方向に両端部に係止部４５が二部分形成され、前記スリー鉄筋挿入部２４に嵌められる二つの鉄筋を覆いながら設置され、その一面には前記スリーブ２ｄの鉄筋挿入部２４と同一な形態の鉄筋挿入部３１が二部分並んで形成される節片体３ｄ；
横方向に両端部に係止部４５が二部分形成され、前記スリーブ２の内部へ押し込むことにより、前記節片体３ｄを圧止する楔４ｄで構成され二つの鉄筋の端部を平行に重なるよ
うに連結することを特徴とする鉄筋連結具。
【請求項４】
スリーブ２、２ｄの係止部２７の内周面に軸方向に傾斜面２９が形成され、楔４，４ｄの係止部４５の内周面に軸方向に傾斜面４６が形成されて、スリーブ２，２ｄの傾斜面２９と楔４，４ｄの傾斜面４６とが相互圧止作用をすることを特徴とする請求項１または３に記載の鉄筋連結具。
【請求項５】
前記節片体３，３ｄは長さが前記スリーブ２より連結される鉄筋１、１ａの節１２間隔の折半程度長く形成され、鉄筋挿入部３１の反対面は平行面３３であって、一部に鋸歯状の鋸歯面３３ａが形成され、楔４，４ｄは前記節片体３，３ｄの平行面３３と接する面は全体が平行面４３であって、一部に鋸歯状の鋸歯面４３ａが形成されており、軸方向に凹溝部４４が一つ以上が形成されている凹溝部４４があることを特徴とする請求項４に記載の鉄筋連結具。
【請求項６】
スリーブ２，２ｄの鉄筋挿入部２４及び節片体の鉄筋挿入部３１に形成された節溝２６、３２及び節溝２６、３２の間に新しい節溝２６、３２が追加に形成され、スリーブ２，２ｄの外部面に鉄筋１、１ａの節１２及びリブ１１と同じ形の節２２とリブ２１が形成されることを特徴とする請求項４に記載の鉄筋連結具。
【請求項７】
スリーブ２ｂと楔４ｂを厚さが均一な鉄板材料で塑性加工して、スリーブ２ｂの係止部２７の内面の間隔を楔４ｂの係止部４５の厚さより若干小さくして押込した楔４ｂの係止部４５が嵌められるように形成され、楔４ｂの打撃部４２に平行面４３の反対面方向に突出部が形成されることを特徴とする請求項４に記載の鉄筋連結具。
【請求項８】
前記楔４ａの先端部４１は面取りがなさており、平行面４３は鋸歯状の鋸歯面４３ａが形成され、楔４ｃの中心部４７の打撃部４２側端部に突出部が形成されることを特徴とする請求項２に記載の鉄筋連結具。
【請求項９】
前記スリーブ２ａの係止部２７は片体挿入部２５の横方向の端部から外側に向かって垂直に延長され、その内面に傾斜面２９が形成され、楔４ａの係止部４５は中心部４７の横方向の両端部から鋸歯面４３ａ方向にＵ字状をなして延長され、その内面に傾斜面４６が形成されることを特徴とする請求項２に記載の鉄筋連結具。
【請求項１０】
前記スリーブ２ｃの係止部２７の傾斜面２９は軸方向の中心部から両端部に行くほど直径が大きくなる二部分に形成され、一対の楔４ｃを備えてスリーブ２ｃの両側から内部へ押し込んで節片体３ｃを圧止して二つの鉄筋を連結することを特徴とする請求項３に記載の鉄筋連結具。
【請求項１１】
スリーブ２ｃ，２ｄと節片体３ｃ，３ｄの鉄筋挿入部２４、３１の軸方向の中心部に節溝２６、３よりも深く横断面が半円形である凹溝が形成されることを特徴とする請求項３または１０に記載の鉄筋連結具。
【請求項１２】
節片体３ｃ，３ｄはスリーブ２ｃ，２ｄより節溝３２間隔の折半程度長く形成され、鉄筋挿入部３１の両端角部分にも節溝３２が追加に形成され、鉄筋挿入部３１の半対面は平行面であって、一部に鋸歯状の鋸歯面３３ａが形成され、楔４ｃ、４ｄは節片体３ｃ，３ｄの平行面３３と接する面の全体が平行面４３であって、一部に鋸歯状の鋸歯面４３ａが形成され、軸方向に凹溝部４４が一つ以上形成されることを特徴とする請求項３または１０に記載の鉄筋連結具。
【請求項１３】
スリーブ２ｂと楔４ｂを厚さが均一な鉄板材料で塑性加工して、スリーブ２ｂの係止部
２７の内面の間隔を楔４ｂの係止部４５の厚さより若干小さくして押込した楔４ｂの係止部４５が嵌められるように形成され、楔４ｂの打撃部４２に平行面４３の反対面方向に突出部が形成されることを特徴とする請求項１または３に記載の鉄筋連結具。
【請求項１４】
楔の外面に目盛り尺４８が形成されることを特徴とする請求項１，２，３，５，７，９及び１０のいずれか１項に記載の鉄筋連結具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月17日(2007.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低減された量の白金族金属酸化物を有し同時にコーティング耐久性を維持する電気触媒コーティングを表面に有し、クロル−アルカリ溶液の電気分解において使用するための電極であって：
弁金属電極ベースと；
前記弁金属電極ベース表面の電気化学的に活性なコーティングのコーティング層と；を含み、前記コーティングは、前記コーティングの金属含量の１００モル％を基準として白金族金属酸化物と所望により弁金属酸化物との混合物を２５モル％以下の量で含み、白金族金属酸化物の混合物は、酸化ルテニウム：酸化イリジウムのモル比１：１〜１：４を提供する比率の酸化ルテニウム及び酸化イリジウムから本質的になる、電極において、
前記コーティングを、前記電極ベースの面当り、金属としてのイリジウム含量を基準としてコーティング重量０．０５g/m２〜３．０g/m２で施用する、電極。
【請求項２】
前記弁金属電極ベースは、弁金属メッシュ、シート、ブレード、管、穿孔済みプレートまたはワイヤ部材である、請求項１に記載の電極。
【請求項３】
前記弁金属電極ベースは、チタン、タンタル、アルミニウム、ハフニウム、ニオブ、ジルコニウム、モリブデンまたはタングステン、これらの合金及びこれらの金属間混合物のうちの１種以上である、請求項１または２に記載の電極。
【請求項４】
前記弁金属電極ベースの表面は粗面である、請求項３に記載の電極。
【請求項５】
前記表面は、粒間エッチング、グリットブラスティング、または熱溶射のうちの１つ以上によって調整される、請求項４に記載の電極。
【請求項６】
前記粗面の前処理層としてセラミック酸化物バリヤー層が存在する、請求項４に記載の電極。
【請求項７】
前記電気触媒コーティングは、前記弁金属酸化物を含む、請求項１に記載の電極。
【請求項８】
前記弁金属酸化物は、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化スズのうちの１種以上であり、前記弁金属酸化物は、０．１モル％〜２５モル％の量で存在する、請求項６に記載の電極。
【請求項９】
前記酸化ルテニウム及び酸化イリジウムは、酸化ルテニウム：酸化イリジウムのモル比１：１〜１：３を提供する比率で存在する、請求項８に記載の電極。
【請求項１０】
前記電気触媒コーティング表面に、弁金属酸化物コーティング若しくは酸化スズコーティング、またはこれらの混合物を含む少なくとも１つのトップコーティング層が存在する、請求項９に記載の電極。
【請求項１１】
弁金属酸化物の前記トップコーティング層は、チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、モリブデン、アルミニウム、ハフニウム、またはタングステンからなる群から選択される酸化物を含む、請求項１０に記載の電極。
【請求項１２】
前記トップコーティング層は、Ｓｂ、Ｆ、Ｃｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、またはＩｎ及びこれらの酸化物のうちの１種以上をドープされた酸化スズコーティング層であり、ドーピング剤は、０．１％〜２０％の範囲内の量である、請求項１０に記載の電極。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の電極の製造方法であって：
弁金属電極ベースを提供する工程と；
前記弁金属電極ベースを、弁金属ベース表面の電気化学的に活性なコーティングのコーティング層でコーティングする工程と；を含み、前記コーティングは、前記コーティングの金属含量の１００モル％を基準として白金族金属酸化物と所望により弁金属酸化物との混合物を２５モル％以下の量で含み、白金族金属酸化物の混合物は、酸化ルテニウム：酸化イリジウムのモル比１：１〜１：４を提供する比率の酸化ルテニウム及び酸化イリジウムから本質的になる、方法において、
前記コーティングを施用して、前記電極ベースの面当り、金属としてのイリジウム含量を基準としてコーティング重量０．０５g/m２〜３．０g/m２を実現する、方法。
【請求項１４】
前記コーティングは、スピンを含むディップ施用、ディップドレイン；はけ、ローラー塗りまたは電子噴霧塗布法を含む噴霧塗布法のうちの１つ以上によって施用される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記電気化学的に活性なコーティングを、温度少なくとも３５０℃〜最高５５０℃までで少なくとも３分間〜最高２０分間まで加熱することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
低減された量の白金族金属酸化物を含み同時にコーティング耐久性を維持する電気触媒コーティングを有する少なくとも１つのアノードを内部に有する電解槽中の水性クロル−アルカリ溶液の電気分解方法であって：
内部にセパレーターを有する分離された電解槽を提供する工程と；
前記槽中に電解質を確立する工程と；
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のまたは請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の方法によって製造されたアノードを前記槽中に提供する工程と；
前記アノードに電流を印加する工程と；
前記アノードで塩素を発生する工程と；
を含む方法。
【請求項１７】
前記槽中の前記電解質は、塩化ナトリウム、塩化カリウムまたは塩化リチウムのうちの１種以上である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記槽は、ダイアフラムを含む膜セパレーターまたは多孔質セパレーターによって分離される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
酸素発生電極としての；金属の電解採取、銅箔析出のために、またはカソード防食、ハロゲン化物の電気分解、水の電気分解、塩素酸塩若しくは次亜塩素酸塩を製造するための塩化物の電気分解のために、またはカソード防食のために利用される電解槽中のアノードとしての；分離された電解槽中のアノードとしての；または可溶性種の酸化または還元のために利用される電解槽中のアノードとしての、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の電極。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月29日(2006.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）合成ポリマー、
ｂ）ナノ粒子状の天然又は合成フィロシリケートもしくは該フィロシリケートの混合物、
ｃ）フェノール系抗酸化剤及び／又は加工安定剤、及び
ｄ）エポキシド、オキサゾリン、オキサゾロン、オキサジン、イソシアネート及び／又は無水物からなる群から選択される単官能価又は多官能価化合物、
を含むナノ複合材料。
【請求項２】
成分（ｃ）のフェノール系抗酸化剤が、式（Ｉ）
【化１】
2006515382.tif 000001
（式中、
Ｒ1は、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、
ｎは、１、２、３又は４を表わし、
Ｘは、メチレン基、
【化２】
2006515382.tif 000002
を表わし、
Ｙは、水素原子又は−ＮＨ−を表わし；
ｎが１を表わす場合、
Ｘは、
【化３】
2006515382.tif 000003
を表わし、ここで、ＹはＲ2に結合し、
Ｒ2は、炭素原子数１ないし２５のアルキル基を表わし；
ｎが２を表わす場合、
Ｘは、
【化４】
2006515382.tif 000004
を表わし、ここで、ＹはＲ2に結合し、
Ｒ2は、炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、酸素原子又は硫黄原子で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わすか；又は、Ｙが−ＮＨ−を表わす場合、Ｒ2は、更に、直接結合を表わし；
ｎが３を表わす場合、
Ｘは、メチレン基又は
【化５】
2006515382.tif 000005
を表わし、ここで、エチレン基はＲ2に結合し、
Ｒ2は、
【化６】
2006515382.tif 000006
を表わし；
ｎが４を表わす場合、
Ｘは
【化７】
2006515382.tif 000007
を表わし、ここで、ＹはＲ2に結合し、
Ｒ2は、炭素原子数４ないし１０のアルカンテトライル基を表わす。）で表わされる化合物である請求項１記載のナノ複合材料。
【請求項３】
成分（ｃ）の加工安定剤が、式ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ又はＶ
【化８】
2006515382.tif 000008
（式中、
ｎ’は数２を表わし、ｙ’は数１、２又は３を表わし；
Ａ’は、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、ｐ−フェニレン基又はｐ−ビフェニレン基を表わし、
ｙ’が１を表わす場合、Ｅ’は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−ＯＲ’1又はフッ素原子を表わし；
ｙ’が２を表わす場合、Ｅ’はｐ−ビフェニレン基を表わし；
ｙ’が３を表わす場合、Ｅ’はＮ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）3を表わし；
Ｒ’1、Ｒ’2及びＲ’3は、互いに独立して、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、又は合計１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基１ないし３個で置換されたフェニル基を表わし；
Ｒ’14は、水素原子又は炭素原子数１ないし９のアルキル基を表わし、
Ｒ’15は、水素原子又はメチル基を表わし；
Ｘ’は、直接結合を表わし、
Ｙ’は、酸素原子を表わし、
Ｚ’は、直接結合又は−ＣＨ（Ｒ’16）−を表わし、
Ｒ’16は、炭素原子数１ないし４のアルキル基；又はベンゾフラノ−２−オンを表わす。）で表わされる化合物である請求項１記載のナノ複合材料。
【請求項４】
酸化、熱又は光誘発分解に対して合成ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、請求項１記載の成分（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の少なくとも各一種を前記材料に配合又は塗布することからなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月5日(2007.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
別の態様において、Ｒ３は、水素またはＣ１−４アルキルであるか、またはＲ３は、芳香環：Ａｒ、またはリンカー：ＣＲ４Ｒ５−(ＣＲ４Ｒ５)ｎ−の何れかとさらに結合することによって、４員環から７員環のアザ環式環を形成するＣ１−４アルキレンを表す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
さらに別の態様において、Ｒ３は、水素またはメチルであるか、またはＲ３は、芳香環：Ａｒ、またはリンカー：ＣＲ４Ｒ５−(ＣＲ４Ｒ５)ｎ−の何れかとさらに結合することによって、５員環のアザ環式環を形成するＣ１−２アルキレンを表す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
さらに別の態様において、Ｒ３は、水素またはメチルであるか、またはＲ３は、芳香環：Ａｒにさらに結合することによって、それが結合している窒素、−(ＣＲ４Ｒ５)ｍ−およびＡｒと共にピロリジン環を形成するメチレンを表し、−(ＣＲ４Ｒ５)ｍ−がメチレンであるか、またはＲ３がエチレンを表す場合、−ＣＲ４Ｒ５−(ＣＲ４Ｒ５)ｎ−{ここで、ｎは１である}中の−ＣＲ４Ｒ５−にさらに結合することによって、ピロリジン環を形成する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本発明によって、式(Ｉ)の化合物またはその薬学的に許容される塩、エナンチオマー、またはラセミ体を製造する方法であって、
(ａ) 式(II)：
【化２】
2006515355.tif 000001
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ａｒ、ｍ、およびｎは、式(Ｉ)で定義した通りである]の化合物と、イソシアネートとの反応；または
(ｂ) 式(III)：
【化３】
2006515355.tif 000002
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、およびｎは、式(Ｉ)で定義した通りであり；そして
ＬＧは脱離基を表す]の化合物と、アミン：
Ｒ３ＮＨ(ＣＲ４Ｒ５)ｍ−Ａｒ
[式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ａｒ、およびｍは、式(Ｉ)で定義した通りである]の化合物との反応；または
(ｃ) 式(IV)：
【化４】
2006515355.tif 000003
[式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、ｎ、およびＡｒは、式(Ｉ)で定義した通りである]の化合物と、式(Ｖ)：
【化５】
2006515355.tif 000004
[式中、Ｒ１は、式(Ｉ)で定義した通りであり；そして
ＬＧは脱離基を表す]の化合物との反応；または
(ｄ) 式(VI)：
【化６】
2006515355.tif 000005
[式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、ｎ、およびＡｒは、式(Ｉ)で定義した通りであり；そして
ＬＧは脱離基を表す]の化合物と、式(VII)：
【化７】
2006515355.tif 000006
[式中、Ｒ１は式(Ｉ)で定義した通りである]の化合物との反応；
そして必要ならば、
得られた式(Ｉ)の化合物または別のその塩を、その薬学的に許容される塩に変換すること；または
得られた式(Ｉ)の化合物をさらなる式(Ｉ)の化合物に変換すること；
そして望ましいならば、
得られた式(Ｉ)の化合物をその光学異性体に変換すること；
を含む方法もまた提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
予防は、対象の疾患もしくは状態の病歴があるか、またはそうでなくとも罹患のリスクが増大していると考えられるヒトの処置に特に関連すると考えられる。特定の疾患もしくは状態にかかるリスクのあるヒトは、一般的に、該疾患もしくは状態の家族の病歴があるヒトか、または該疾患もしくは状態に特にかかりやすいと遺伝子試験もしくはスクリーニングによって確認されているヒトを含む。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
しかし、特定の患者は、肺中に大量の粘液を産生しており、そのような患者を始めに吸入によって処置してはならない。その場合には、注射によって、または経口で本発明の医薬組成物を送達することが望ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月27日(2006.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽エネルギー利用のための中空室輪郭部材（１０、７０）であって、特に吸収性屋根ふき材料または同種物被覆のためのものであり、透明な上部（１２、７２）および放射吸収性低部（１４）付きであり、これらがプラスチック材料から２構成要素押し出しにより結合状に製造されかつ互いに中空室輪郭部材（１０、７０）の内部でウエブ（２０、・・・、３０）により接合されており、上記ウエブは熱伝達媒体のための平行流路（３４、・・・、４８）が形成されるように長手方向に走っているものにおいて、上部（１２、７２）はその外側に被覆層（５０）を備え、この被覆層は上部（１２、７２）および低部（１４）と共に共同押し出し付き２構成要素押し出し方法でプラスチック材料で結合状に製造されており、このプラスチック材料が太陽放射の紫外線を吸収しかつ他の要素には透明であることを特徴とする、中空室輪郭部材。
【請求項２】
被覆層（５０）自体の透明性が温度依存性であることを特徴とする、請求項１に記載の中空室輪郭部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ここに記述された実施例は特に吸収性屋根ふき材料の被覆のために好適であるが、本発明の範囲内において中空室輪郭部材を太陽熱コレクターとして別方法で使用すること、およびそれらを適当に設計することが考えられる。
なお本発明の好ましい実施の態様は次の通りである。
〔１〕  太陽エネルギー利用のための中空室輪郭部材（１０、７０）であって、特に吸収性屋根ふき材料または同種物被覆のためのものであり、透明な上部（１２、７２）および放射吸収性低部（１４）付きであり、これらがプラスチック材料から２構成要素押し出しにより結合状に製造されかつ互いに中空室輪郭部材（１０、７０）の内部でウエブ（２０、・・・、３０）により接合されており、上記ウエブは熱伝達媒体のための平行流路（３４、・・・、４８）が形成されるように長手方向に走っているものにおいて、上部（１２、７２）はその外側に被覆層（５０）を備え、この被覆層は上部（１２、７２）および低部（１４）と共に共同押し出し付き２構成要素押し出し方法でプラスチック材料で結合状に製造されており、このプラスチック材料が太陽放射の紫外線を吸収しかつ他の要素には透明であることを特徴とする、中空室輪郭部材。
〔２〕  更に少なくとも一つの屈熱性層が被覆層に適用されるかまたは上部（１２、７２）および被覆層（５０）の間に挿入されており、その屈熱性層が上部（１２、７２）、低部（１４）および被覆層（５０）と共に共同押し出し付き２構成部材押し出しによりプラスチック材料から結合状に製造されており、かつその透明性が温度依存性であることを特徴とする、請求項１に記載の中空室輪郭部材。
〔３〕  被覆層（５０）自体の透明性が温度依存性であることを特徴とする、請求項１に記載の中空室輪郭部材。
〔４〕  低部（１４）がガラス繊維で補強されていることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれかに記載の中空室輪郭部材。
〔５〕  低部（１４）が上部（１２、７２）より低い熱膨張係数を備えていることを特徴とする、請求項４に記載の中空室輪郭部材。
〔６〕  上部（７２）の下側から離れた遮断層が中空室輪郭部材の内側に配置されており、この遮断層が上部（７２）、低部（１４）、被覆層（５０）、選択的に存在する屈熱性層と共に共同押し出しと組み合わされた２部材押し出しにより、プラスチック材料から結合状に製造されていることを特徴とする、前記請求項の何れかに記載の中空室輪郭部材。
〔７〕  ウエブ（２０、・・・、３０）が上部（１２、７２）および低部（１４）の一つの構成要素として形成されかつ低部（１４）から発するウエブ部分（５４）の上部（１２）から発するウエブ部分（５２）に対する高さの比が２：１および３：１の間であることを特徴とする、前記請求項の何れかに記載の中空室輪郭部材。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月5日(2007.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入口及び出口を有し、縦軸が貫通するハウジングと、  出口近くにあり、密封表面が該密封表面と第１のチャンネル表面の間で縦軸に沿って位置する弁座オリフィスを取り囲む弁座と、  ハウジング内にあり、密封表面から離脱して弁座オリフィスを介する燃料の流れを許容する第１の位置と、密封表面に接触して燃料の流れを遮断する第２の位置の間で縦軸に沿って往復運動する閉鎖部材と、  縦軸に対して斜めの角度で第１のチャンネル表面と対向する第２のチャンネル表面を有する計量ディスクであって、縦軸に沿って該計量ディスクを貫通する複数の計量オリフィスが計量ディスク上の投射仮想頂点に収束する密封表面の投射により画定される縦軸を中心とする第２の仮想円より大きい第１の仮想円上に位置する計量ディスクと、  第１のチャンネル表面と第２のチャンネル表面の間に形成され、複数の計量オリフィスを取り囲む位置へ縦軸に沿って外方へ延びるにつれて断面積が変化する第１の部分を有し、複数の計量オリフィスの各々を出る燃料流に縦軸に対して斜めの流路を形成させる制御速度チャンネルとより成り、 制御速度チャンネルは第１の端部と第２の端部の間を延び、第１の端部は縦軸から第１の半径方向距離の所に位置して第１と第２のチャンネル表面は縦軸に沿って第１の距離だけ離隔し、第２の端部は複数の計量オリフィスに隣接する縦軸から第２の半径方向距離の所に位置して第１と第２のチャンネル表面は縦軸に沿って第２の距離だけ離隔するため、第１の半径距離と第１の距離に三角定数πと２を乗算した積が第２の半径方向距離と第２の距離に三角定数πと２を乗算した積に等しく、 複数の計量オリフィスは、第１の仮想円上に直径方向に位置する少なくとも２つの計量オリフィスを含み、 第２のチャンネル表面は第２及び第３の表面部分を取り囲む第１のほぼ平坦な表面部分を有し、第２及び第３の表面部分は第１のほぼ平坦な表面部分に隣接する平面から突出することを特徴とする燃料噴射器。
【請求項２】
複数の計量オリフィスは、第１の仮想円上に異なるアーク距離だけ離隔した少なくとも３つの計量オリフィスを含む請求項１の燃料噴射器。
【請求項３】
複数の計量オリフィスは少なくとも２つの計量オリフィスを含み、各計量オリフィスはそのオリフィス直径に対する貫通長さの比率が増加すると縦軸に対するスプレー角度が減少するように構成されている請求項１の燃料噴射器。
【請求項４】
複数の計量オリフィスは少なくとも２つの計量オリフィスを含み、各計量オリフィスはそのオリフィス直径に対する貫通長さの比率が増加すると各計量オリフィスにより形成される円錐スプレーの夾角が減少するように構成されている請求項１の燃料噴射器。
【請求項５】
第２及び第３の表面部分は少なくとも２つの平坦な表面を構成する請求項１の燃料噴射器。
【請求項６】
第３の表面部分は縦軸に交差する請求項５の燃料噴射器。
【請求項７】
複数の計量オリフィスは、第２の表面部分の少なくとも２つの平坦な表面のうちの少なくとも１つの上に位置する請求項６の燃料噴射器。
【請求項８】
第１のチャンネル表面は、縦軸に対してテイパー角度で延びる少なくとも１つの部分を含む請求項７の燃料噴射器。
【請求項９】
テイパー角度は縦軸を横切る平面に関して約１０°のテイパー角度である請求項８の燃料噴射器。
【請求項１０】
第１のチャンネル表面は、第１のチャンネル表面の少なくとも一部に関して湾曲した部分を有する請求項８の燃料噴射器。
【請求項１１】
入口、出口及び縦軸に沿って貫通する通路を有し、出口には弁座と計量ディスクがあり、弁座は弁座オリフィスと縦軸に対して斜めに延びる第１のチャンネル表面を有し、計量ディスクは流れチャンネルを提供するように第１のチャンネル表面に対向する第２のチャンネル表面を有し、計量ディスクは縦軸に沿って貫通する複数の計量オリフィスを有し、使用時に、少なくとも１つの計量オリフィスを介する燃料流のスプレー角度を制御する燃料噴射器の製造方法であって、  複数の計量オリフィスを、各計量オリフィスが縦軸に沿って延び、複数の計量オリフィスが縦軸に対して隆起角度に配向された第２のチャンネル表面上で互いにそれぞれのアーク距離に配向されるように、計量ディスク上に投射される弁座の密封表面の仮想延長部により形成される第２の仮想円の外側の第１の仮想円上に配置し、  燃料流が第１と第２のチャンネル表面の間を縦軸に沿って半径方向外方に流れるように燃料流に半径方向速度を付与し、  縦軸に対する燃料の流路が半径方向速度、隆起角度、オリフィス長さ及びオリフィス直径のうちの少なくとも１つの関数となるように複数の計量オリフィスの各々を介して燃料を流すステップより成り、 第１のチャンネル表面は、縦軸に対して斜めに延びることを特徴とする燃料噴射器の製造方法。
【請求項１２】
配置ステップはさらに、各計量オリフィスのオリフィス長さを隆起角度、半径方向速度及びオリフィス直径を変化させずに減少させて、縦軸に対する大きい夾角で出口から出る燃料の流路を調整するステップより成る請求項１１の方法。
【請求項１３】
配置ステップはさらに、各計量オリフィスのオリフィス長さを隆起角度、半径方向速度及びオリフィス直径を変化させずに増加させて、縦軸に対する小さい夾角で出口から出る燃料の流路を調整するステップより成る請求項１１の方法。
【請求項１４】
配置ステップはさらに、隆起角度を増加させると縦軸と出口からの燃料の流路の間の夾角が大きくなるように隆起角度を半径方向速度、オリフィス長さ及びオリフィス直径を変化させずに調節するステップより成る請求項１１の方法。
【請求項１５】
配置ステップはさらに、縦軸を横切る第１の軸及び縦軸及び第１の軸に垂直な第２の横方向軸に関して隆起角度を調整するステップより成る請求項１４の方法。
【請求項１６】
配置ステップはさらに、各計量オリフィスを第１の仮想円上において種々のアーク距離に配置することにより出口から流れ出る燃料流の円錐サイズを調整するステップをさらに含む請求項１１の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月22日(2006.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン領域、実質的な非パターン領域が内部に形成された誘電層を含む基板上に金属をデポジットする方法であって、
前記パターン領域内でボトムトゥトップ技術により金属をノンコンフォーマルにデポジットするよう電解槽に前記基板を晒し、
前記パターン化された領域上及び前記実質的な非パターン領域上に過剰金属層を形成し、
前記過剰金属層の前記形成中、前記過剰金属層の表面粗度を調整するように少なくとも一つのプロセスパラメータをコントロールする、
方法。
【請求項２】
前記過剰金属層は前記電解槽内で形成され、前記少なくとも一つのプロセスパラメータは、前記電解槽内で形成された金属層の前記表面のクォリティに影響するレベラーの濃度を表す、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記電解槽は電気メッキを行うように構成された槽である、
請求項１記載の方法。
【請求項４】
終点検出信号を用いる化学機械研磨により前記過剰金属層を更に除去する、
請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記基板と実質的に同一である第二の基板を前記電解槽に晒して、前記パターン領域においてボトムトゥトップ技術により金属をノンコンフォーマルにデポジットし、
前記第二基板の前記パターン領域上と実質的な非パターン領域上に過剰金属層を形成し、かつ、
前記終点検出信号に基づいて、前記第二基板の前記過剰金属層の表面粗度を調整するように、前記第二基板の前記過剰金属層の形成中に少なくとも一つのプロセスパラメータをコントロールする、
請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記終点検出信号の勾配の急峻さが、前記少なくとも一つのプロセスパラメータをコントロールするように用いられる、
請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記金属は、銅を含む、
請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記パターン領域は、直径が約０．１μｍあるいはそれ以下のビアを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記パターン領域上の表面粗度と前記実質的な非パターン領域上の表面粗度とは略等しい、
請求項１記載の方法。
【請求項１０】
半導体デバイスのメタライゼーション層を形成するための方法であって、
第一及び第二領域を備えた誘電層２０２がその上に形成された基板２０１を用意し、前記第一領域は金属で充てんされるビア及びトレンチを含み、前記第二領域は金属で充てんされるビア及びトレンチを実質的に含まないものであり、
前記第一領域の前記ビアとトレンチを充てんしてかつ前記第一及び第二領域上に過剰金属層を形成するように、電解槽に前記基板を晒し、少なくとも前記第二領域の表面粗度は、約５０ｎｍより高く調整され、かつ、
化学機械研磨によって前記過剰金属層を除去し、少なくとも前記第二領域上の前記金属層の前記表面粗度は、前記化学機械研磨プロセス中少なくとも前記第二領域上の前記過剰金属層の前記除去を促進する、
方法。
【請求項１１】
更に、前記基板の前記化学機械研磨中に終点検出信号を生成し、前記終点検出信号に基づき前記化学機械研磨を中止する、
請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記表面粗度は、前記電解槽に前記基板を晒すステップ中、少なくとも一つのプロセスパラメータをコントロールすることによって調整される、
請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記少なくとも一つのプロセスパラメータは、前記電解槽内で形成された金属層の前記表面のクオリティに影響するレベラーの濃度を表す、
請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記表面粗度と前記終点検出信号間の関係を更に確立する、
請求項１１又は１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記関係は、前記終点検出信号の勾配によって決定される、
請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
更に、前記電解槽に前記第二基板を晒すことによって前記基板と実質的に同一である第二基板を処理し、前記第二基板の第二領域の表面粗度は、前記表面粗度と前記終点検出信号間との前記関係に基づき調整される、
請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
前記電解槽に前記基板を晒す前に、バリア層とシード層とを更に形成する、
請求項１０記載の方法。
【請求項１８】
前記電解槽に晒す間、前記第二領域の前記表面粗度を調整するように、前記第二領域の前記バリア層と前記シード層とにパターンを更に形成する、
請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
パターン領域と実質的な非パターン領域を含む誘電層上に形成された金属層の表面粗度を決定し、
前記パターン領域及び非パターン領域内の前記誘電層を晒すように化学機械研磨によって前記金属層の一部を除去し、
前記パターン化及び非パターン化された領域を実質的に完全に除去するための研磨時間を監視し、かつ、
結果として研磨時間の削減をもたらす表面粗度を決定するように、前記監視された研磨時間を前記決定された表面粗度に関連付ける、
方法。
【請求項２０】
パターン領域と実質的な非パターン領域を含む誘電層上に形成された金属層の表面粗度を決定し、
前記パターン領域及び非パターン領域内の前記誘電層を晒すように化学機械研磨によって前記金属層の一部を除去し、
前記化学機械研磨の間に終点検出信号を監視し、
前記終点検出信号の要求された信号／ノイズ比率についての最適な表面粗度を決定するように、前記監視された終点検出信号を前記決定された表面粗度に関連付ける、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月22日(2006.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信システムでネットワークへの接続を制御する方法において、
前記ネットワークから共通制御チャネルを介してサービスに加入した複数の端末機のための応答条件情報を受信する段階と、
前記受信された応答条件情報に基づいて前記ネットワークに応答メッセージを伝送するか否かを判断する段階と、
端末が前記ネットワークへの応答条件を満たしている場合、前記ネットワークに前記応答メッセージを送信する段階と
を含むことを特徴とするネットワーク接続制御方法。
【請求項２】
前記サービスは、マルチメディアマルチキャスト／ブロードキャストサービス（ＭＢＭＳ）サービスであることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項３】
前記応答メッセージは、前記複数の端末機のうち前記ネットワークに応答する端末機の数をカウントするために使用されることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項４】
前記複数の端末機が１つのセル内に位置していることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項５】
前記複数の端末機が１つ以上の端末グループに分けられることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項６】
前記応答条件情報は、初期パラメータであることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項７】
前記応答条件情報は、前記端末が前記ネットワークに前記応答メッセージを送る必要があるか否かを選択的に制御することに関連していることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項８】
前記応答条件情報は、端末識別子と関連していることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項９】
前記判断する段階は、ＵＥ  ｉｄ  ｍｏｄ  Ｍの公式を用いることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１０】
無線通信システムでネットワークへの接続を制御する方法において、
サービスに加入した複数の端末機のための応答条件情報を設定する段階と、
共通制御チャネルを介して前記複数の端末機に前記応答条件情報を伝送する段階と、
前記複数の端末機から、前記ネットワークから伝送された前記応答条件情報に応答する、１つ以上の応答メッセージを受信する段階と
を含むことを特徴とするネットワーク接続制御方法。
【請求項１１】
前記応答条件情報は、初期パラメータであることを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１２】
前記１つ以上の応答メッセージが端末機の数をカウントするために使用されることを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１３】
前記複数の端末機が１つのセル内に位置していることを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１４】
前記複数の端末機が１つ以上の端末グループに分けられることを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１５】
前記応答条件情報が前記の１つ以上の端末グループのうち少なくとも１つの選択された端末グループに伝送されることを特徴とする請求項１４に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１６】
前記ネットワークにより受信された前記１つ以上の応答メッセージに基づいて前記応答条件情報を更新する必要があるか否かを評価する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１７】
前記ネットワークにより受信された前記１つ以上の応答メッセージに基づいて前記応答条件情報を更新する段階と、
前記更新された応答条件情報を前記複数の端末機に伝送する段階とをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１８】
前記ネットワークによりサービスされるセル内の複数の端末機からの全ての応答に基づいて前記応答条件情報を更新する必要があるか否かを評価する段階を特徴とする請求項１６に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項１９】
十分な数の端末が応答した場合、前記サービスのために１対多（point-to-multipoint）無線ベアラを設置する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項２０】
十分な数の端末が応答しなかった場合、前記サービスのために１対１（point-to-point）無線ベアラを設置する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項２１】
前記応答条件情報は、前記応答の合計数が前記サービスに加入した端末機の総数より少ないように前記ネットワークにより選択されることを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【請求項２２】
前記サービスは、マルチメディアマルチキャスト／ブロードキャストサービス（ＭＢＭＳ）サービスであることを特徴とする請求項１０に記載のネットワーク接続制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月9日(2007.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線プレゼンスベースサービスを可能にするための方法であって、
無線通信ネットワークによって、移動局（ＭＳ）のメッセージングおよびメッセージング応答を監視する工程と、前記メッセージングおよびメッセージング応答はＭＳのプレゼンス状態およびＭＳによるプレゼンス状態の変化のいずれかを明確に特定しないことと、
前記無線通信ネットワークによって、前記監視に基づいて、ＭＳのプレゼンス状態の変化を推測する工程と、
前記無線通信ネットワークによって、前記状態の変化をプレゼンスサーバに伝達する工程とを備える方法。
【請求項２】
前記メッセージング応答は、ページ応答、ショートデータバースト（ＳＤＢ）確認応答、状態応答メッセージ、ショートメッセージサービス（ＳＭＳ）確認応答、およびレイヤ２確認応答の内からの応答を備える、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記推測する工程は、ＭＳのプレゼンス状態が、ＭＳは存在していることを示し、かつ、電源が入っていないこと、登録を取り消していること、使用不可モードに入っていること、前期無線通信ネットワークの外部にいること、および他の通信に関与していることとの内からのＭＳの動作を示すメッセージングを検出した場合に、ＭＳのプレゼンス状態が変化したことを推測する工程を備える、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記推測する工程は、ＭＳのプレゼンス状態が、ＭＳは存在していないことを示し、かつ、電源が入っていること、登録していること、使用不可モードから抜け出ていること、前期無線通信ネットワークの内部にいること、および他の通信を実行していることとの内からのＭＳの動作を示すメッセージングを検出した場合に、ＭＳのプレゼンス状態が変化したことを推測する工程を備える、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記無線通信ネットワークによって、ＭＳが応答する必要のあるメッセージングを信号伝達する工程を更に備える、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記ＭＳが応答する必要のあるメッセージングは、ページ、ショートデータバースト（ＳＤＢ）メッセージ、状態要求メッセージ、およびショートメッセージサービス（ＳＭＳ）メッセージを備える、請求項５記載の方法。
【請求項７】
監視する工程は、前記メッセージングおよびメッセージング応答に基づいて、ＭＳの最新の確認位置情報を保持することを備え、
ＭＳに信号伝達する工程は、前記ＭＳの最新の確認位置情報に基づいて、少なくとも一つのセルの内にあるＭＳに信号伝達することを備える、請求項５記載の方法。
【請求項８】
監視する工程は、ＭＳに信号伝達した後に、前記信号伝達に対する応答がない所定期間が経過したことを検出することを備え、
前記所定期間に応答がないことは、メッセージング応答であり、
推測する工程は、ＭＳのプレゼンス状態がＭＳは存在していることを表示する場合、前記メッセージング応答に基づいて、ＭＳのプレゼンス状態の変化を推測することを備える、請求項５記載の方法。
【請求項９】
監視する工程は、ＭＳに繰り返し信号伝達した後に、前記信号伝達に対する応答がない所定期間が経過したことを検出することを備え、
前記所定期間に応答がないことは、メッセージング応答であり、
推測する工程は、ＭＳのプレゼンス状態がＭＳは存在していることを表示する場合、前記メッセージング応答に基づいて、ＭＳのプレゼンス状態の変化を推測することを備える、請求項５記載の方法。
【請求項１０】
無線通信ネットワークであって、
移動局（ＭＳ）のメッセージングおよびメッセージング応答を受信する無線送受信機と、
通信を行うために前記無線送受信機に接続された無線プレゼンスプロキシとを備え、
前記無線プレゼンスプロキシは、ＭＳのメッセージングおよびメッセージング応答を監視するように適合され、前記メッセージングおよびメッセージング応答は、ＭＳのプレゼンス状態またはＭＳのプレゼンス状態の変化を明確に特定せず、
前記無線プレゼンスプロキシは、前記監視に基づいてＭＳのプレゼンス状態の変化を推測するように適合され、
前記無線プレゼンスプロキシは、プレゼンスサーバに前記状態の変化を伝達するように適合されている、無線通信ネットワーク。
【請求項１１】
方法であって、
基地局（ＢＳ）によってネットワーク機器から、ショートデータ配送メッセージを受信する工程と、
ＢＳ移動局（ＭＳ）によってショートデータ配送メッセージに応答して信号伝達をする工程と、
ＢＳによって、ＭＳの信号伝達に対するＭＳからの応答がＢＳによって受信されか否かを示すショートデータ確認応答メッセージをネットワーク機器に送信する工程とを備える方法。
【請求項１２】
前記ＭＳからの応答が前記ＢＳによって受信されか否かを示すショートデータ確認応答メッセージをネットワーク機器に送信する工程は、
前記ＢＳによる信号伝達に応答した前記ＭＳからの応答確認を前記ＢＳによって受信したことに応答して、ネットワーク機器に前記ＭＳからの応答を受信したことを示すショートデータ確認応答メッセージを前記ＢＳによって送信する工程を備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ショートデータ配送メッセージは、ＭＳに小さな、制限されたデータ量を送信するために利用されるタイプのメッセージを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ショートデータ配送メッセージは、信号伝達位置内の前記ＭＳに信号伝達する信号伝達位置を示し、
前記ショートデータ配送メッセージに応答して前記ＭＳに信号伝達することは、表示された前記信号伝達位置のＭＳに信号伝達することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記表示された信号伝達位置は、セルＩＤ、基地局ＩＤ、セルＩＤの一覧、および位置登録した市外局番（ＬＡＣ）からなるグループから選択されたタイプの位置情報を含む、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月22日(2007.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジスルフィド架橋を有するタンパク質またはペプチドを担体にカップリングする方法であって、
ａ）前記タンパク質またはペプチドに照射し、ジスルフィド架橋の切断によって前記タンパク質またはペプチドにチオール基を形成するステップ、および
ｂ）照射された前記タンパク質またはペプチドを、チオール基と結合可能な担体とインキュベーションして、カップリングを得るステップ、
または
ａ）前記タンパク質またはペプチドを、チオール基と結合可能な担体とインキュベーションするステップ、および
ｂ）前記担体の存在下で前記タンパク質またはペプチドに照射し、ジスルフィド架橋の切断によって前記タンパク質またはペプチドにチオール基を形成して、カップリングを得るステップ、
を含み、
前記担体が、１以上のジスルフィド架橋を有するタンパク質またはペプチドがカップリングする支持体であって、各タンパク質またはペプチドが前記形成されたチオール基を通じて前記単体にカップリングしている、方法。
【請求項２】
前記タンパク質またはペプチドが、複数のジスルフィド架橋を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記照射するステップが、１以上の芳香族アミノ酸を励起させる波長の光を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記照射するステップが、１の特定の芳香族アミノ酸を励起させる波長の光を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記芳香族アミノ酸が、トリプトファン、チロシンおよびフェニルアラニンから選ばれる、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記照射が、多光子励起、好ましくは二光子励起により行われる、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記照射が、約２９５ｎｍ、２７５ｎｍまたは２５４ｎｍの波長の光を含む、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記芳香族アミノ酸がトリプトファンである、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記波長が約２９５ｎｍである、請求項７のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
ａ）前記タンパク質またはペプチド中の１または複数のジスルフィド架橋を確認するステップと、
ｂ）励起エネルギーを１または複数の芳香族アミノ酸から前記１または複数のジスルフィド架橋に移動するのに、前記１または複数のジスルフィド架橋の空間的に近傍の前記１または複数の芳香族アミノ酸残基を同定するステップと、
ｃ）前記芳香族アミノ酸残基の１または複数を特異的に励起し、これにより前記ジスルフィド架橋の１または複数を破壊する波長を選択するステップと
を含む請求項２〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記芳香族アミノ酸残基が、前記ジスルフィド架橋の１０Å以内にある、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記芳香族アミノ酸の側鎖の双極子の面が、ジスルフィド架橋の面と直交しない、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記芳香族アミノ酸残基のインドール環から８Å半径以内に位置しているアミノ酸残基において、少なくとも１回折り込まれることにより、アミドアミノ酸残基（Ａｓｎ、Ｇｌｎ）ならびに短鎖の脂肪族アミノ酸残基（Ｇｌｙ、Ａｌａ、Ｖａｌ）および／または長鎖の脂肪族アミノ酸残基（Ｌｅｕ、Ｉｌｅ）が平均を超える出現率であり、少なくとも１回折り込まれることにより、荷電アミノ酸（Ｈｉｓ、Ｌｙｓ、Ａｒｇ）（Ａｓｐ、Ｇｌｕ）およびプロリン残基が平均未満の出現率である、請求項１０〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記タンパク質またはペプチドが、遊離芳香族アミノ酸の存在下で照射される、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記カップリングが、前記支持体上での固定化である、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記固定化が空間的に制御されている、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記支持体が、チオール基と結合可能な誘導体化支持体である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記支持体が、チオール基またはジスルフィド架橋を有する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記支持体がスペーサーを有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記タンパク質またはペプチドが、前記タンパク質またはペプチドを照射し、ジスルフィド架橋の切断により前記タンパク質またはペプチド内にチオール基を形成することにより、前記担体からさらに放出することができる、請求項１〜１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
前記支持体が金を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２２】
前記カップリングが照明の焦点に限定される、請求項１〜２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
前記焦点が１μｍ以下である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれかに記載の方法によりカップリングした複数のタンパク質またはペプチドを含む支持体。
【請求項２５】
前記カップリングしたタンパク質またはペプチドが、特別に方向付けされている、請求項２４に記載の支持体。
【請求項２６】
前記支持体が、粒子、電子チップ、スライド、ウエハー、樹脂、ウエル、チューブ、マイクロアレイおよび薄膜からなる群より選択される、請求項２４または２５に記載の支持体。
【請求項２７】
前記支持体が、トパーズ、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリエーテルミド(polyethermide)、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリ（フッ化ビニリデン）、シリコーン、ダイヤモンド、石英およびシリカ、ケイ素、金属、ナイロン、ニトロセルロース、アガロース、セルロースおよびセラミックからなる群より選択される材料を含む、請求項２４〜２６のいずれかに記載の支持体。
【請求項２８】
前記支持体にカップリングした前記タンパク質またはペプチドが、空間的に制御されている、請求項２４〜２７のいずれかに記載の支持体。
【請求項２９】
前記カップリングが、照射の焦点に限定されている、請求項２４〜２８のいずれかに記載の支持体。
【請求項３０】
生体機能反応のための請求項２４〜２９のいずれかに記載の支持体の使用。
【請求項３１】
前記生体機能反応が、バイオセンサー、クロマトグラフィー、免疫検出、酵素アッセイ、ヌクレオチド結合検出、タンパク質−タンパク質相互作用、タンパク質修飾、担体標的化またはタンパク質標的化からなる群より選択される、請求項３０に記載の支持体の使用。
【請求項３２】
バイオセンサーまたはタンパク質／ペプチドマイクロアレイの生産ための請求項１〜２３のいずれかに記載の方法の使用。
【請求項３３】
診察用キットまたはバイオセンサーキットにおける、請求項３０または３１に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月10日(2007.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2006515613.tif 000001
［式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし１８のアルキル基；炭素原子数２ないし１８のアルケニル基；炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし６のアルキレン−炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表し；
Ｒ9は、水素原子；炭素原子数１ないし１８のアルキル基；炭素原子数２ないし１８のア
ルケニル基；炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし６のアルキレン−炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；炭素原子数６ないし１０のアリール基を表し；
Ａは、−Ｓ−；−Ｏ−又は−ＮＲ10−（式中、Ｒ10はＲ9と同様の意味を有する。）を表
し；
Ｘは、ＣＯＯＲ11；ＣＯＮＲ12Ｒ13；ＳＯ3Ｒ14；又はＳＯ2ＮＲ15Ｒ16（式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は、互いに独立して、Ｒ9と同様の意味を有する。）を表
す。］
で表される化合物。
【請求項２】
式
【化２】
2006515613.tif 000002
（式中、Ｒ9は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表し；及び
Ｒ17は水素原子；炭素原子数１ないし１２のアルキル基；又は−ＮＨ2を表す。）
で表される請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
式
【化３】
2006515613.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ9は、互いに独立して請求項１において定義されたと
同様の意味を有し；及び
Ｙは、ハロゲン原子を表す。）
で表される少なくとも１種の化合物の１モルと、
式
【化４】
2006515613.tif 000004
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＸは、互いに独立して請求項１において定義されたと同様の意味を有する。）
で表される少なくとも１種の化合物の少なくとも２モル
を反応させることからなる、請求項１記載の式（１）で表される化合物の調製方法。
【請求項４】
ＵＶ照射に対するヒト及び動物の毛及び皮膚の保護のための請求項１又は２に記載の式（１）で表される化合物の使用。
【請求項５】
前記式（１）で表される化合物は超微粉砕された形態にある請求項４に記載の使用。
【請求項６】
化粧品的に許容し得るキャリヤー又は助剤と共に少なくとも１種又はそれ以上の請求項１又は２に記載の式（１）で表される化合物を含む化粧品製剤。