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【手続補正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機基材及び周期表の３〜１５族からなる群より選択する金属の一種以上の酸化物からなる少なくとも１つの誘電体層を含む有機材料を製造する方法であって、下記の工程：
（ａ）有機基材をフッ素スカベンジャーの水溶液中に懸濁させ；
（ｂ）所望の金属酸化物コーティングの前駆材料であるフッ素含有金属複合体の一種以上の水溶液を加え；及び
（ｃ）該懸濁液にマイクロ波放射を施して該有機材料に金属酸化物を付着させる
を含み、工程（ｂ）及び（ｃ）を、場合により異なるフッ素含有金属複合体を用いて繰り返して１つ以上の金属酸化物層を又は厚さ方向に二種の異なる金属酸化物の濃度の勾配を生成することができる有機材料を製造する方法。
【請求項２】
フッ素スカベンジャーを、ホウ酸、アルカリ金属ホウ酸塩、特にホウ酸ナトリウム、ホウ酸アンモニウム、ホウ素無水物及び一酸化ホウ素からなる群より選択する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
フッ素含有金属複合体を、ヘキサフルオロチタン酸アンモニウム；ヘキサフルオロ第二スズ酸アンモニウム；ヘキサフルオロケイ酸アンモニウム；塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化水素酸及びフッ化アンモニウムの混合物；塩化アルミニウム（ＩＩＩ）、フッ化水素酸及びフッ化アンモニウム混の合物；ヘキサフルオロゲルマニウム酸アンモニウム；フッ化インジウム（ＩＩＩ）、フッ化水素酸及びフッ化アンモニウムの混合物；並びにフッ化インジウム（ＩＩＩ）三水和物とヘキサフルオロ第二スズ酸アンモニウムとの組合せからなる群より選択する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
金属酸化物が二酸化チタンであり、フッ素含有金属複合体を、ヘキサフルオロチタン酸アンモニウム、フッ化アンモニウム及び塩化チタン又は塩化チタン、フッ化アンモニウム及びフッ化水素から調製する複合体からなる群より選択し、或は金属酸化物が酸化鉄であり、フッ素含有金属複合体を、塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化水素酸及びフッ化アンモニウム混合物からなる群より選択する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
金属酸化物が二酸化ケイ素であり、フッ素含有金属複合体がヘキサフルオロケイ酸アンモニウム又はペンタフルオロケイ酸アンモニウムである、請求項１記載の方法。
【請求項６】
有機基材を、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、エポキシ樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン）、ポリオレフィンマトリックスからなる群より選択する、請求項１記載の方法。
【請求項７】
更に、下記の工程：
（ｄ）工程（ｂ）における酸化物コーティングと異なる所望の金属酸化物コーティングの前駆材料であるフッ素含有金属複合体の一種以上の水溶液を加え；及び
（ｅ）該懸濁液にマイクロ波放射を施してコーテッド有機基材に金属酸化物を付着させる
を含む請求項１記載の方法。
【請求項８】
有機基材がＰＭＭＡの板又は板様ＰＭＭＡであり、工程（ｂ）のフッ素含有金属複合体がヘキサフルオロチタン酸アンモニウム、フルオロケイ酸アンモニウム塩、又は塩化鉄（ＩＩＩ）／フッ化アンモニウムであり、更に（ｄ’） ＰＭＭＡを有機液体、例えばトルエン、又はアセトンに溶解することを含み、それによりＴｉＯ２、ＳｉＯ２、又はＦｅ２Ｏ３フレークを製造する、請求項１記載の方法。
【請求項９】
（ｅ’）工程（ｄ’）で得られたＴｉＯ２、ＳｉＯ２、又はＦｅ２Ｏ３フレークをフッ素スカベンジャーの水溶液中に懸濁させ；
（ｆ’）所望の金属酸化物コーティングの前駆材料であるフッ素含有金属複合体の一種以上の水溶液を加え；及び
（ｇ’）該懸濁液にマイクロ波放射を施して該有機材料に金属酸化物を付着させる、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
更に、下記の工程：
（ｆ）工程（ｄ）における酸化物コーティングと異なる所望の金属酸化物コーティングの前駆材料であるフッ素含有金属複合体の一種以上の水溶液を加え；及び
（ｇ）該懸濁液にマイクロ波放射を施してコーテッド有機基材に金属酸化物を付着させる
を含む請求項７記載の方法。
【請求項１１】
（ｅ’）工程（ｄ’）で得られた金属酸化物フレークが二酸化チタンフレークであり、第一金属酸化物層を、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＦｅＯＯＨ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｕＯ、Ｃｅ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＢｉＶＯ４、ＮｉＴｉＯ３、ＣｏＴｉＯ３及びアンチモン−ドープト、フッ素−ドープト又はインジウム−ドープト酸化スズ酸化鉄から選択し、場合により存在する第二金属酸化物層を、酸化アルミニウム又は酸化アルミニウム水和物、二酸化ケイ素又は二酸化ケイ素水和物、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＦｅＯＯＨ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｃｒ２Ｏ３並びにアンチモン−ドープト、フッ素−ドープト又はインジウム−ドープト酸化スズから選択し；或は（ｅ’）工程（ｄ’）で得られた金属酸化物フレークが二酸化鉄フレークであり、第一金属酸化物層が、屈折率ｎ≦１．８を有する無色のコーティング、例えば酸化ケイ素、酸化ケイ素水和物、酸化アルミニウム、酸化アルミニウム水和物及びこれらの混合物であり、場合により存在する第二金属酸化物層が、屈折率ｎ≧２．０を有する無色のコーティング、例えば二酸化チタン、酸化チタン水和物、二酸化ジルコニウム、酸化ジルコニウム水和物、二酸化スズ、酸化スズ水和物、酸化亜鉛、酸化亜鉛水和物及びこれらの混合物である、請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）ヒトの少なくとも鼻および口を覆って適合し、着用時に内部気体空間を画定するように構成されているマスク本体、並びに、
ｂ）前記マスク本体に固定され、前記内部気体空間と外部気体空間との間の流体連通を可能にする単一方向呼気弁であって、
（ｉ）弾性封止面と、呼気が前記内部気体空間から流出するために通過し得るオリフィスとを備える弁座、および、
（ｉｉ）弁が閉鎖位置にあるとき前記弾性封止面と接触するように、且つ、呼気することに応答して前記封止面から離れることができ、呼気が前記オリフィスを通過して最終的に前記外部気体空間に流入できるように、前記弁座に取り付けられている可撓性フラップ、
を備える単一方向呼気弁、
を備える、陰圧ろ過マスク。
【請求項２】
前記弾性封止面の硬さが０．０１５ＧＰａ未満である、請求項１に記載の陰圧ろ過マスク。
【請求項３】
前記弾性封止面の硬さが０．０１ＧＰａ未満である、請求項１に記載の陰圧ろ過マスク。
【請求項４】
前記弾性封止面の硬さが０．００６〜０．００１ＧＰａである、請求項１に記載の陰圧ろ過マスク。
【請求項５】
一体部品に成形され、その成形された１個の物体に弾性封止面が接合された比較的軽量のプラスチックから前記弁座の大部分が製造される、請求項１に記載の陰圧ろ過マスク。
【請求項６】
前記弾性封止面が、前記弁座の封止隆起部の頂部にある、請求項１に記載の陰圧ろ過マスク。
【請求項７】
前記単一方向呼気弁が、側面から見るとき、フラップ保持面と整列している平面状の封止面を有する、請求項１に記載の陰圧ろ過マスク。
【請求項８】
前記可撓性フラップは、前記弁がどのような向きであっても、中立状態で前記可撓性フラップが前記封止面の方に付勢されることなく、前記封止面と接触する、請求項１に記載の陰圧ろ過マスク。
【請求項９】
前記可撓性フラップの剛性が、少なくとも８．６×１０−１１Ｎ／ｍ２である、請求項１に記載の陰圧ろ過マスク。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月27日(2007.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの外面を有するポリマー発泡体ベース層を備える発泡物品であって、前記外面が、空隙を備える一体発泡された別個の表面微細構造を複数、少なくとも１つの領域に有し、前記微細構造の少なくとも１つの寸法が１０ミクロンより大きく、前記発泡体を形成する前記空隙の平均断面寸法が前記微細構造の最小断面寸法より小さい発泡物品。
【請求項２】
前記微細構造の最小断面寸法が幅又は厚み寸法であり、且つ約５０ミクロン以上であり、前記微細構造の高さが概ね１０００ミクロンであり、前記最小断面寸法に対する前記平均発泡体気泡サイズの比が０．７５以下であり、前記ポリマーが、少なくとも一部、１９０℃で２５〜６０ｃＮの範囲の溶融強度を有する高溶融強度ポリプロピレンであり、前記ベース層が少なくとも一方向に配向している、請求項１に記載の発泡物品。
【請求項３】
前記最小断面寸法が約５０ミクロン以上の幅寸法であり、前記微細構造の高さが概ね７５０ミクロン以下であり、前記最小断面寸法に対する前記平均発泡体気泡サイズの比が０．５以下であり、前記ポリマーが、少なくとも一部、１９０℃で３０〜５５ｃＮの溶融強度を有する高溶融強度ポリプロピレンであり、前記ベース層が少なくとも一方向に配向している、請求項１に記載の発泡物品。
【請求項４】
前記最小断面寸法に対する前記発泡体気泡サイズの比が０．７５以下であり、且つ前記微細構造の高さが最小で２００ミクロン以上である、請求項１に記載の発泡物品。
【請求項５】
前記最小断面寸法に対する前記発泡体気泡サイズの比が０．５以下であり、且つ微細構造の高さが最小で３００ミクロン以上である、請求項１に記載の発泡物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月15日(2007.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼球の光学系の光学異常を測定するための装置であって、この装置は、
前記光学系および関連の眼球イメージの第１の上位光学的測定データセットを取得する手段と、
前記光学系および関連の眼球イメージの第２の上位光学的測定データセットを取得する手段と、
眼球イメージに基づく計算処理で得られたイメージランドマークに応答して、前記光学系の前記第１の光学的測定結果を前記光学系の前記第２の光学的測定結果と共に回し登録するための手段と
を備えることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記光学系の前記第１の光学的測定結果と前記第２の光学的測定結果を使用して前記光学系の前記光学異常を診断するための手段をさらに備える請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記光学系の前記診断された光学異常を矯正するための手段をさらに備える請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記回し登録するための手段は、光学的測定結果の複数の顕著なデータ点を確定するように構成されており、各光学面用の顕著なデータ点はイメージより得られた計算値を比較することによって、関連イメージから特定される請求項１に記載の装置。
【請求項５】
上記登録するための手段は、眼球の複数の虹彩セクターを識別することによって各光学測定結果における眼球の顕著なデータ点を特定するものであって、前記顕著データ点は、
各セクターに配置された１つの特定虹彩パターンランドマークを備えた虹彩パターンと、
虹彩または瞳中心部と、
を含み、
前記登録するための手段は、顕著なデータ点を使って、第１光学測定結果と第２光学測定結果との間にある相対的位置づれを虹彩または瞳中心部のランドマークと共に第１光学測定結果と第２光学測定結果との間にある相対的ねじれづれを虹彩パターンランドマークと共に計算することにより、光学測定値を登録するために顕著なデータ点を利用する手段であり、
第１の光学測定値と第２の光学測定値が実質的に整合がとれるよう少なくとも１つの光学測定値のスケーリングを行う、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記顕著なデータ点は、眼球の１つまたはそれ以上のランドマークから構成され、上記ランドマークは角膜輪部、虹彩、虹彩中心部、虹彩パターン、瞳、瞳中心部、瞳境界、角膜頂点のうちの少なくとも１つを含む請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記顕著なデータ点は、虹彩中心部を有し、これの登録手段は第１光学測定値と第２光学測定値が実質的に整合されるように第１および第２のデータセットの虹彩中心部と整合をとり且つ上記第１および第２の光学測定値が実質的に整合されるように、データセットの少なくとも１つをスケーリングする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記登録手段は第１と第２の光学測定値間での座標変換を行うように構成された請求項１に記載の装置。
【請求項９】
第１の上位データセットを第２の上位データセットと共に登録するための装置であって、この装置は複数のモジュール群を有するプロセッサを具備し、
前記モジュール群は眼球の第１データセットを受信するモジュールと、
眼球の第２のデータセットを受信するモジュールと、
眼球のデータセット群の夫々における顕著な仮想上のデータを計算するモジュールと、
前記第１のデータセットを前記第２のデータセットと共に登録するために顕著なデータ点を使用するモジュールとから構成されることを特徴とする装置。
【請求項１０】
前記第１のデータセットは、波面測定結果を含む請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第２のデータセットは、角膜トポグラフィ・マップを含む請求項９または１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記第２のデータセットを得る角膜トポグラファを更に有する請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
前記第１のデータセットを得る波面測定装置を更に有する請求項９に記載の装置。
【請求項１４】
前記モジュール群は、前記第１のデータセットと前記第２のデータセットに基づいて切削パターンを計算するためのモジュールを更に有する請求項９に記載の装置。
【請求項１５】
前記切削パターンを送出するためのレーザ・アセンブリを更に有する請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１のデータセットを前記第２のデータセットと共に登録するために前記顕著なデータ点を使用する前記モジュールは、前記第１のデータセットと第２のデータセットのうちの少なくとも一方のサイズをスケーリングして前記データセットが実質的に互いに同一のスケーリングになるように構成される請求項９記載の装置。
【請求項１７】
前記顕著なデータ点は、眼球内の複数のランドマークから成る請求項９に記載の装置。
【請求項１８】
顕著なデータ点を特定するための前記モジュールは、前記第１および第２のデータセットにおける瞳、瞳中心部、瞳境界、虹彩中心部、虹彩パターン、虹彩境界、角膜輪部、角膜頂点のうちの少なくとも１つを特定するように構成される請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記顕著なデータ点を使用するための前記モジュールは、前記第１のデータセットと第２のデータセット内の前記顕著なデータ点の間の位置と回し運動的およびねじれ的オフセットを計算し且つ補正するように構成される請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記顕著なデータ点を使用するための前記モジュールは、前記第１のデータセットを前記第２のデータセットでオーバーレイするように構成される請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
光学系の第１の上位光学面測定結果を前記光学系の第２の上位光学面測定結果に登録するための装置であって、この装置は、
プロセッサと、このプロセッサに結合されたメモリーとから構成され、このメモリーは前記第１の光学的測定結果を前記第２の光学的測定結果と共に登録するための有形媒体と一体となっているプロセッサ指示を具備した複数のモジュールを含むメモリとを備え、
前記モジュールは、
前記光学系の前記第１の光学的測定結果を取得するモジュールと、
前記光学系の前記第２の光学的測定結果を取得するモジュールと、
前記光学系の前記第１の光学的測定結果を計算されたイメージランドマークに応じて前記光学系の前記第２の光学的測定結果に登録するためのモジュールと
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２２】
前記光学系の前記第１の光学的測定結果と前記第２の光学的測定結果を使用して前記光学系の前記光学異常を診断するためのモジュールをさらに備える請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記光学系の前記診断された光学異常を矯正するための切削パターンを生成するモジュールをさらに含む請求項２２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月9日(2007.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
睡眠疾患を治療するためのシステムであって、
患者の気道に加圧気流を供給する気流生成器と、
前記気流生成器に接続されて、前記気流生成器によって前記気流が生成される際の供給圧を制御する処理装置とを備え、
前記処理装置は前記供給圧を連続的に調節して、患者の気道の所定部分内の圧力をほぼ一定に維持することを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、
患者の気道の前記所定部分は患者の上部気道の狭窄可能部分を含み、前記処理装置は前記供給圧を制御して、患者の気道の前記狭窄可能部分内の圧力を所定値に維持することを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、前記所定値は、それ以下では前記狭窄可能部分が潰れる組織圧と少なくとも同じ大きさであることを特徴とするシステム。
【請求項４】
請求項２に記載のシステムであって、前記所定部分内の圧力を、全吸気段階および全呼吸サイクルのいずれか一方を通じてほぼ一定に維持することを特徴とするシステム。
【請求項５】
請求項２に記載のシステムであって、患者の口および鼻の少なくとも一方の上に配置されるマスクと、
前記気流生成器からの気流を前記マスクに供給するチューブと
を更に備えることを特徴とするシステム。
【請求項６】
請求項５に記載のシステムであって、患者が吐出したガスを入来する気流から逸らせて吐出ガスの再吸入を防止する換気装置を更に備えることを特徴とするシステム。
【請求項７】
請求項６に記載のシステムであって、前記換気装置は、換気チューブを有するリークポートとおよび再吸入防止弁の少なくとも一方を含むことを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項５に記載のシステムであって、前記供給圧は下記式に従って決定され、
ＰＡ＝ＣＰ＋ＲＡＢ＊ＦＳ＋ＲＢＣ＊ＦＰ
上記式中、
ＰＡは前記気流生成器によって供給される供給圧であり、
ＣＰは気道の狭窄可能部分に加えられるべき圧力であり、
ＲＡＢは気道の第１部分内の抵抗であり、
ＦＳは各時点における当該システムを通じての合計流量の値であり、
ＲＢＣは気道の第２部分内の抵抗であり、
ＦＰは患者の呼吸の瞬間流量の値であり、
前記第１部分は、（ｉ）前記気流生成器と、（ｉｉ）患者の鼻および口のいずれか一方との間に位置し、
前記第２部分は、（ｉ）患者の鼻および口のいずれか一方と、（ｉｉ）前記所定部分との間に位置することを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項８に記載のシステムであって、
前記チューブ内の空気流量の第１の値を測定し、測定したデータを前記処理装置に供給する第１センサーを更に備えることを特徴とするシステム。
【請求項１０】
請求項９に記載のシステムであって、
前記マスクおよび前記気流生成器のいずれか一方の中の第１圧力を測定し、測定データを前記処理装置に供給する第２センサーを更に備えることを特徴とするシステム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のシステムであって、
ＲＡＢの値は、前記気流生成器が気流を供給しており、かつ前記マスクが大気に開放されているときに決定されるとともに、値ＲＡＢは前記第１の値および前記第１圧力の関数として決定されることを特徴とするシステム。
【請求項１２】
睡眠疾患を治療するためのシステムの制御方法であって、
気流生成器が、患者の気道に供給するための加圧気流を供給する工程と、
処理装置が、患者の気道の所定部分内の圧力をほぼ一定に維持するように、前記気流の供給圧を制御する工程と
を備えることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、
患者の気道の前記所定部分はその狭窄可能部分を含み、前記供給圧は前記狭窄可能部分内の圧力を所定値に維持するように制御されることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、前記所定値は、それ以下では前記狭窄可能部分が潰れる組織圧と少なくとも同じ大きさであることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の方法であって、前記所定部分内の圧力を全吸気段階および完全呼吸サイクルのいずれか一方を通じてほぼ一定に維持することを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１３に記載の方法であって、
気流生成器が、前記気流を生成させる工程と、
患者の鼻および口の少なくとも一方の上に位置するマスクにチューブを介して前記気流を供給する工程と
を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法であって、換気装置によって患者が吐出したガスを入来する気流から逸らせて吐出ガスの再吸入を防止する工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１６に記載の方法であって、処理装置が、前記供給圧を下記式に従って決定する工程を更に備え、
ＰＡ＝ＣＰ＋ＲＡＢ＊ＦＳ＋ＲＢＣ＊ＦＰ
上記式中、
ＰＡは前記気流生成器によって供給される供給圧であり、
ＣＰは気道の狭窄可能部分に加えられるべき圧力であり、
ＲＡＢは気道の第１部分内の抵抗であり、
ＦＳは各時点におけるシステムを通じての合計流量の値であり、
ＲＢＣは気道の第２部分内の抵抗であり、
ＦＰは患者の呼吸の瞬間流量の値である
ことを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法であって、
第１センサーが前記チューブ内の空気流量の第１の値を測定する工程と、
測定したデータを前記処理装置に供給する工程と
を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法であって、
第２センサーが前記気流生成器および前記マスクのいずれか一方の中の第１圧力を測定する工程と、
測定データを前記処理装置に供給する工程と
を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の方法であって、
前記気流生成器が加圧気流を供給しており、かつ前記マスクが大気に開放されているときに、ＲＡＢの値を前記第１の値および前記第１圧力の関数として決定する工程を更に備えることを特徴とする方法。
【請求項２２】
睡眠疾患の治療のためのシステムであって、
加圧気流を生成する気流生成器と、
前記加圧気流を患者の気道に供給するために患者の口および鼻の少なくとも一方の上に配置されるマスクと、
前記気流生成器からの前記気流を前記マスクに供給するチューブと、
前記気流生成器に接続されて、前記気流が前記気流生成器によって生成される際の供給圧を制御する処理装置とを備え、
前記処理装置は前記供給圧を連続的に調節して、患者の上部気道の狭窄可能部分内の圧力をほぼ一定に保ち、前記圧力はそれ以下では前記狭窄可能部分が潰れる組織圧と少なくとも同じ大きさであり、
前記供給圧は下記式に従って決定され、
ＰＡ＝ＣＰ＋ＲＡＢ＊ＦＳ＋ＲＢＣ＊ＦＰ
上記式中、
ＰＡは前記気流生成器によって供給される供給圧であり、
ＣＰは気道の狭窄可能部分に加えられるべき圧力であり、
ＲＡＢは気道の第１部分内の抵抗であり、
ＦＳは各時点における当該システムを通じての合計流量の値であり、
ＲＢＣは気道の第２部分内の抵抗であり、
ＦＰは患者の呼吸の瞬間流量の値であり、
前記第１部分は（ｉ）前記気流生成器と（ｉｉ）患者の鼻および口のいずれか一方との間に位置し、
前記第２部分は（ｉ）患者の鼻および口のいずれか一方と（ｉｉ）前記所定部分との間に位置することを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療用装置（１）をチェックする装置であって、音響変換器（５）を備えており、前記医療用装置の障害をチェックするために、前記装置（１）が放出する音を検出可能である、装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、前記医療用装置は、体外使用のための輸液ポンプである、装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の装置であって、更に、評価ユニット（１２）を備えており、これに対し前記少なくとも１つの音響変換器（５）の信号を供給することができ、また障害の発生を検出可能である、装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の装置において、前記音響変換器（５）は、前記医療用装置（１）に永続的に接続されているか、または前記医療用装置（１）内に一体化されている、装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の装置において、前記音響変換器（５）は、空気伝播音および／または固体伝播音を記録できるように設計されている、装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の装置において、前記医療用装置（１）内に振動装置を設けた、装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の装置において、光学および／または音響および／または動きの信号の出力のための信号出力デバイスを前記装置に設けた、装置。
【請求項８】
医療用装置（１）用診断ステーションであって、前記装置のための記録装置と、評価ユニット（１２）とを備えており、前記医療用装置（１）にインターフェース（１４、１５）を介して結合可能である、診断ステーション。
【請求項９】
請求項８に記載の診断ステーションであって、少なくとも１つの音響変換器（５）を備えており、前記医療装置（１）からの固体伝播音および／または空気伝播音を記録可能である、診断ステーション。
【請求項１０】
請求項９に記載の診断ステーションであって、前記音響変換器（５）は、前記医療用装置（１）に取り付けることができるように設計されている、診断ステーション。
【請求項１１】
医療用装置（１）をチェックする方法であって、前記装置（１）が放出する音を検出し、分析する、方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法において、前記装置（１）が放出する音を連続的または一時的に検出する、方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の方法において、前記装置（１）が放出する音に基づいて、衝撃検出を実行し、分析する、方法。
【請求項１４】
請求項１１から１３のいずれか１項に記載の方法において、前記放出され分析された音によって、前記医療用装置（１）の障害および／または前記医療用装置（１）の機能障害が検出された場合、前記装置（１）によって警告信号を出力する、および／または前記装置（１）を停止させる、方法。
【請求項１５】
請求項１１から１４のいずれか１項に記載の方法において、前記装置（１）によって放出され検出された音、および／または前記音の分析結果を格納する、方法。
【請求項１６】
請求項１１から１５のいずれか１項に記載の方法において、前記医療用装置（１）内またはその上において、発振、振動、または衝撃が生成される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の腎動脈に流体剤を局所的に供給し、医療用介入デバイスを収容するためのカテーテルであって、
近位端位置、中間遠位位置、遠位端位置、中心内腔および少なくとも１つの外側内腔を有するカテーテルと、
管を有する局所注入アセンブリであって、該管は、外側内腔内に挿入され、該管は、近位端位置、遠位端位置および第１注入ポートを有し、該第１注入ポートは、該管の遠位端位置と該カテーテルの中間遠位位置との間の該管上に配置され、
ここで、該管の遠位端位置は、カテーテルの遠位端位置に接続され、該管は、第１位置と第２位置との間で調節可能である、局所注入アセンブリとを備え、
第１位置では、該管は、複数の腎動脈口内に流入する血流に関連する腹大動脈内の場所に送達されるように構成され、そして
第２位置では、該管は該場所に固定されるように構成され、注入ポートは流体剤を流体剤供給源から血流内に送達するように配置される、カテーテル。
【請求項２】
前記管の近位端位置に流動的に結合される流体剤供給源をさらに備える、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項３】
前記中心内腔が、カテーテルの近位端位置から遠位端位置までの通路を提供して、医療用介入デバイスを収容するように適合される、請求項１または２に記載のカテーテル。
【請求項４】
少なくとも１個の第２管と、
第２管内に配置される少なくとも１個の第２注入ポートとをさらに備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項５】
少なくとも３本の管をさらに備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項６】
少なくとも４本の管をさらに備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項７】
カテーテルが長手方向軸を有し、
第１配置における第１および第２管が、長手方向軸に対して第１の半径方向位置を有し、
第２配置における第１および第２管が、第１半径方向位置に対して該長手方向軸から半径方向に延在する第２の半径方向位置を有する、請求項４〜６のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項８】
第１および第２管が、カテーテル周囲のカテーテルのそれぞれの対向側部上に位置する、請求項４〜７のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項９】
第１および第２管の各々が、カテーテルのそれぞれの対向側部上の中間遠位位置と遠位位置との間に延在し、
第２配置では、第１および第２管は、カテーテルから外側に、カテーテルのそれぞれの中間遠位位置と遠位位置との間に付勢される、請求項４〜８のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項１０】
それぞれ第１および第２管に沿って、第１および第２注入ポートにほぼ対応する場所に位置する第１および第２マーカーをさらに備え、
第１および第２マーカーの各々が、患者の外側にいるオペレータに対して、第１および第２注入ポートの場所を指示し、第１および第２注入ポートをそれぞれ第１および第２位置に送達するのを支援するようにされる、請求項４〜９のいずれか１項に記載のカテーテル。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月5日(2007.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック層の少なくとも１つの面に複数の金属領域（３、４）を形成するメタライゼーションを設け、前記金属領域を設けた後で、熱処理段階において前記セラミック層の前記金属領域によって覆われていない領域を加熱して前記金属領域（３、４）の間に分離または分割線（６、７）を形成する金属‐セラミック基板（１）製造方法であって、前記熱処理段階において、セラミック材を蒸発させたり焼成したりすることなく、前記セラミック層の加熱を前記セラミック層に関して移動する処理領域において徐々に実行し、その加熱処理の後に前記セラミックの瞬間冷却を同様に徐々に進めることにより、前記分離または分割線（６、７）を生成するため前記セラミック層（２）の材料に調整された裂け目（８）あるいは弱体部分を形成する金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項２】
前記メタライゼーションの金属領域は、ＤＣＢ法あるいは活性半田付け法により前記セラミック層（２）と接合される請求項１記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項３】
前記少なくとも1つの金属領域（３、４）は厚膜法あるいは厚膜技術を用いて形成される請求項１または２記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの金属領域（３、４）はＭｏ‐Ｍｎ法及びＷ法及びＬＴＣＣ法のうち少なくとも１つを用いて形成される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項５】
前記熱処理段階における前記セラミック層（２）の加熱はエネルギービームすなわちレーザビームによって実現される請求項１記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項６】
前記レーザビームは楕円形の焦点を形成するように用いられ、その長い方の断面軸が処理方向（Ａ）に向けられる請求項５記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項７】
前記熱処理段階において前記セラミック層（２）は各分離線に沿って熱的に分離あるいは分割される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項８】
後に前記セラミック層（２）の調節された機械的分割が可能となるように、前記熱処理段階において前記セラミック層（２）に分割線（６、７）が形成される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項９】
前記熱処理段階における前記セラミック層（２）の加熱はエネルギービームにより実現される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１０】
前記セラミック層の加熱は高温ガスビーム、火炎、あるいはプラズマにより実現される請求項８または９記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１１】
前記セラミック層の加熱はマイクロ波エネルギーにより実現される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１２】
前記セラミック層（２）の冷却は、加熱から前もって定義された空間的及び／または時間的距離（ｘ）離れて徐々に進むように実行される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１３】
前記セラミック層（２）の処理はクーラントを用いて徐々に１点１点実行される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１４】
前記クーラントは少なくとも１つのクーラント流（１２）の形で前記セラミック層（２）に当てられる前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１５】
前記クーラントは、例えば水などの液状媒質、ガスまたは蒸発媒質、あるいは、例えばエアロゾルなど、これらの媒質の混合物である前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１６】
前記セラミック層（２）は前記熱処理段階の間は、好ましくは吸引により、固定具（１１）に保持される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１７】
前記セラミック層、あるいは前記セラミック層によって構成される金属‐セラミック基板は、個別基板（５）に分離するため粘着ホイル（１８）上に配置される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１８】
前記熱処理は前記セラミック層（２）の少なくとも１つの面側に形成された溝に沿って実行される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項１９】
前記セラミック層（２）の両面側に少なくとも1つの金属領域（３、４）が設けられる前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項２０】
前記セラミック層（２）はマルチプル基板（１）の部分であり、それぞれ1つの個別基板（５）に割り当てられる複数の金属領域（３、４）を前記セラミック層（２）の少なくとも１つの面側に備えており、前記分離／分割線（６、７）は前記熱処理段階において前記個別基板（５）の間に形成される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項２１】
ムライト群、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＣ、ＢｅＯ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＺｒＯ２を含むＡｌ２Ｏ３でできたセラミックを用いることを特徴とする前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項２２】
厚さ０．１から３ｍｍのセラミック層（２）を用いることを特徴とする前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの金属領域（３、４）は厚さが０．０２から０．６ｍｍであり、好ましくは０．１から０，６ｍｍの厚さである前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項２４】
前記セラミック層（２）の１つの面側に複数の金属領域（３、４）を備えている場合、前記金属領域は互いに０．１〜３ｍｍの距離にある前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【請求項２５】
前記金属領域（３、４）は、少なくとも部分的には例えば銅層あるいは箔などの金属層あるいは箔から、好ましくは直接接合法あるいは活性金属法を用いて、製造される前記いずれかの請求項に記載の金属‐セラミック基板製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月11日(2007.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイルベースのレンダリングシステム内でコンピュータグラフィック画像をテクスチャリングするのに用いるためにテクスチャ画像データの一部分からテクスチャ画像のミップマップチェーンを自動的に生成するための装置であって、
景色データを供給するための手段と、
前記景色データを複数のタイルに分解するための手段と、
各タイルの前記データをタイルバッファに記憶するための手段と、
前記タイルバッファの内容を各タイル毎にフィルタリングし、次に、前記景色データから少なくとも１つのより低いレベルのミップマップデータを生成するための手段と、
より低いレベルのミップマップデータの各々を前記タイルバッファに一時的に記憶するための手段と、
より低いレベルのミップマップデータの各々をシステム主メモリに記憶するための手段と、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
画像データをフレームバッファに書き込む前にそれを一時的に記憶するためのタイルバッファが用いられることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記フレームバッファは、前記主メモリの一部分を含むことを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記フィルタリング手段はまた、次に低いミップマップレベルを生成する前に、前記より低いレベルのミップマップを前記タイルバッファに記憶することを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３に記載の装置。
【請求項５】
処理は、全ての望ましいミップマップレベルが生成されるまで所定の回数反復されることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
タイルベースのレンダリングシステム内でコンピュータグラフィック画像をテクスチャリングするのに用いるために画像データの一部分からテクスチャ画像のミップマップチェーンを自動的に生成する方法であって、
景色データを供給する段階と、
前記景色データを複数のタイルに分割する段階と、
前記データを各タイル毎にタイルバッファ内にレンダリングする段階と、
各タイルに対して、次に、前記タイルバッファの内容をフィルタリングして前記景色データから少なくとも１つのより低いレベルのミップマップデータを生成する段階と、
各レベルのミップマップデータを前記タイルバッファに一時的に記憶する段階と、
各レベルのミップマップデータをシステム主メモリに記憶する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
前記テクスチャ画像データをフィルタリングする段階は、前記一時的バッファからのデータをフィルタリングする段階と、該このようにフィルタリングされたデータを該一時的バッファ及び主メモリに記憶する段階とを含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記フィルタリングする段階は、全ての望ましいミップマップレベルが生成されるまで所定回数実行されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月18日(2007.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リーンバーン往復動エンジンのＮＯｘ含有排ガスを処理する方法であって、
前記排ガスがリーンである時に、少なくとも一個のＮＯｘ収着体上で前記ＮＯｘを収着し、
前記少なくとも一個のＮＯｘ収着体に関連性のある少なくとも一個の注入手段を使用して、前記少なくとも一個のＮＯｘ収着体を、ＮＯｘをＮ２に転化するのに有効な薬剤と間欠的に接触させ、それによって前記少なくとも一個のＮＯｘ収着体を再生し、および
前記間欠的接触工程における流出物をエンジン入口に供給することを含んでなり、
前記注入手段が、少なくとも一個の注入手段への分岐を備えたコモンレール燃料注入機構を備えてなる、方法。
【請求項２】
ＮＯｘ含有排ガスを放出し、かつ、処理機構を有するリーンバーン往復動エンジンであって、
前記排ガスがリーンである時に、ＮＯｘを収着する少なくとも一個のＮＯｘ収着体と、
前記少なくとも一個のＮＯｘ収着体に関連性を有し、前記少なくとも一個のＮＯｘ収着体を、ＮＯｘをＮ２に転化するのに有効な薬剤と間欠的に接触させ、それによって前記少なくとも一個のＮＯｘ収着体を再生する少なくとも一個の注入手段と、
前記接触による流出物をエンジン入口に供給する手段とを備えてなり、
前記注入手段が、少なくとも一個の注入手段への分岐を備えたコモンレール燃料注入機構を備えてなる、エンジン。
【請求項３】
通常または臨時モードの運転で使用する排ガス再循環（ＥＧＲ）手段を備えてなり、
前記ＥＧＲ手段が所望によりポンプを備えてなる、請求項２に記載のエンジン。
【請求項４】
平行に配置された少なくとも二個のＮＯｘ収着体と、および
前記少なくとも二個のＮＯｘ収着体の全部よりも少ないものを前記薬剤と選択的に接触させる手段とを備えてなる、請求項２又は３に記載のエンジン。
【請求項５】
前記少なくとも一個のＮＯｘ収着体の再生の際に、前記少なくとも１個のＮＯｘ収着体のガス流を、再生されていない前記少なくとも１個の他のＮＯｘ収着体に対して低減させる手段と、および
再生されてなる前記または各ＮＯｘ収着体の流出物の実質的に全部をエンジン入口に供給する手段とを備えてなる、請求項４に記載のエンジン。
【請求項６】
薬剤の供給部を備えてなる、請求項２〜５のいずれか一項に記載のエンジン。
【請求項７】
前記薬剤が、非選択的還元体、例えば炭化水素（ＨＣ）、ＣＯまたは水素である、請求項６に記載のエンジン。
【請求項８】
前記薬剤が、エンジン燃料である、請求項７に記載のエンジン。
【請求項９】
前記薬剤が、水素化窒素である、請求項６に記載のエンジン。
【請求項１０】
使用中に、少なくとも一個のＮＯｘ収着体を間欠的に再生することと、かつ、前記または各ＮＯｘ収着体再生の流出物をエンジン入口へ供給することとを制御し、それによってＮＯｘ収着体再生の流出物をエンジン入口に供給する手段を有しない類似のエンジンと比較して、大気中に放出される再生薬剤の量を低減させる手段を備えてなる、請求項９〜１８のいずれか一項に記載のエンジン。
【請求項１１】
前記機構が、前記または各ＮＯｘ収着体の上流に配置された、ＨＣおよびＣＯから蒸気およびＣＯ２および／またはＮＯからＮＯ２への酸化を触媒作用する酸化触媒を備えてなる、請求項２〜１０のいずれか一項に記載のエンジン。
【請求項１２】
前記機構が、前記ＮＯ酸化触媒と、前記または各ＮＯｘ収着体の間に配置された、粒子状物質（ＰＭ）フィルターを備えてなる、請求項１１に記載のエンジン。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月18日(2007.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両用リーンバーン内燃機関用の排気機構であって、
排ガス中のＮＯｘを好適な還元体でＮ２に還元するためのＮＯｘ還元触媒と、
還元体の供給源と、
前記ＮＯｘ還元触媒を前記還元体と接触させる手段と、
前記ＮＯｘ還元触媒の下流部に配置されてなる酸化触媒と、
前記酸化触媒を横切る温度差（ΔＴ）を測定する手段と、および、使用中に、還元体添加を制御する還元体添加制御手段とを備えてなり、
前記還元体添加制御手段が、還元体添加率を制御し、予め定められた範囲内においてΔＴを維持するものであり、
前記排気機構が、前記酸化触媒上の前記排気ガス組成がリーンになるように設計されてなる、排気機構。
【請求項２】
使用中に、前記ＮＯｘ還元触媒が活性である時にのみ、前記ＮＯｘ還元触媒に還元体を供給する制御手段を備えてなる、請求項１に記載の排気機構。
【請求項３】
ΔＴが大き過ぎる場合、還元体添加率が低下する、請求項１又は２に記載の排気機構。
【請求項４】
前記還元体が炭化水素であり、および
前記ＮＯｘ還元触媒がリーンＮＯｘ触媒である、請求項１又は２に記載の排気機構。
【請求項５】
前記還元体がＮＯｘ特異性還元体であり、および
前記ＮＯｘ還元触媒が選択的触媒還元（ＳＣＲ）触媒である、請求項１又は２に記載の排気機構。
【請求項６】
前記触媒がＮＯｘ吸収材を含んでなる、請求項４又は５に記載の排気機構。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の排気機構であって、
前記ＮＯｘ還元触媒が、単一のモノリス基材上に配置されたＮＯｘ−トラップを備えてなり、前記基材の上流末端が、流体の流れ方向で少なくとも２つの区域に小分割されてなり、
前記制御手段が、使用中に、前記ＮＯｘ−トラップが全体として排ガス流に対してイン−ラインのままである間に、前記少なくとも２つの区域の画分を還元体と順次接触させるものである、排気機構。
【請求項８】
前記ＮＯｘ−トラップ画分を還元体と接触させる前記手段が、前記基材の上流末端上に配置されたフラップバルブを備えてなり、それによって前記基材を少なくとも二つの区域に小分割するものである、請求項７に記載の排気機構。
【請求項９】
前記各区域に接続されてなる注入装置を備えてなる、請求項８に記載の排気機構。
【請求項１０】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の排気機構であって、
前記ＮＯｘ還元触媒が、並行に配列された単一の各モノリス基材上に配置された複数のＮＯｘ−トラップを備えてなり、各基材が還元体注入装置と関連性があり、
前記制御手段が、使用中に、前記少なくとも２つの並行基材を還元体と順次接触させるものである、排気機構。
【請求項１１】
車両用リーンバーン内燃機関の排ガス中にあるＮＯｘをＮ２に還元するＮＯｘ還元触媒への還元体添加をフィードバックにより制御する方法であって、
前記ＮＯｘ還元触媒の下流に、リーン排ガス中の還元体を酸化するための酸化触媒を付与し、
前記酸化触媒の上流で前記入口排ガス温度を測定し、
前記酸化触媒の下流で前記出口排ガス温度を測定し、
前記入口温度および出口温度の差（ΔＴ）を決定し、および
還元体添加の率を調節し、前記差（ΔＴ）が予め決められた範囲内に入るようにすることを含んでなり、
前記手順により、前記酸化触媒上の前記排ガス組成がリーンになる、制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月7日(2007.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
読み出し及び又は書き込みデータ線と伝達可能に接続された少なくとも第一及び第二ノードを定めるスタティックメモリ手段と、
前記スタティックメモリ手段と関連し、保存したデータを前記スタティックメモリ手段に書き込む少なくとも一つの不揮発性メモリ手段であって、該不揮発性メモリ手段は、前記第一ノードに接続された制御ゲートと前記第二ノードに接続されたソースとを有する第一不揮発性要素と、前記第二ノードに接続された制御ゲートと前記第一ノードに接続されたソースとを有する第二不揮発性要素とを備え、各不揮発性要素のドレインが各トランジスタにより供給手段に接続された、少なくとも一つの不揮発性メモリ手段とを単一の集積回路パッケージ内に備えたメモリ装置であって、
前記各トランジスタは、前記メモリ装置のプログラムサイクルの間、前記第一及び第二不揮発性要素のドレインを前記供給手段から分離するように配されたことを特徴とするメモリ装置。
【請求項２】
前記不揮発性メモリ要素は内蔵フラッシュ又はＥＥＰＲＯＭ要素を備える請求項１に記載のメモリ装置。
【請求項３】
前記不揮発性メモリ要素は二重又は一重のポリ浮遊ゲート型メモリセルを備える請求項１又は２に記載のメモリ装置。
【請求項４】
前記不揮発性メモリ要素は電荷のトンネリングによりプログラムされ、そして、消去される装置を備える請求項１に記載のメモリ装置。
【請求項５】
前記不揮発性メモリ要素は相反するデータでプログラムされる請求項１乃至４いずれか一項に記載のメモリ装置。
【請求項６】
前記スタティックメモリ手段は一組のクロスカップリングされたインバータを備える請求項１乃至５いずれか一項に記載のメモリ装置。
【請求項７】
一つ以上の各選択トランジスタが設けられ、該選択トランジスタにより前記ノードが前記読み出し及び又は書き込みデータ線に伝達可能に接続された請求項１乃至６いずれか一項に記載のメモリ装置。
【請求項８】
一つ以上の分離トランジスタを含む請求項１乃至７いずれか一項に記載のメモリ装置。
【請求項９】
請求項１乃至８いずれか一項に記載のメモリ装置を含む再構成可能なプログラマブル論理装置
【請求項１０】
請求項１乃至９いずれか一項に記載のメモリ装置を含むフィールドプログラマブルゲートアレイ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
米国特許番号４，５２７，２５５は、揮発性記憶場所として機能するクロスカップリングされた一組の極性が同様な電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）を有するメモリセルについて記載しており、それらのＦＥＴは、不揮発性記憶場所として機能するクロスカップリングされた一組の浮遊ゲートＦＥＴに結合されている。それら浮遊ゲートＦＥＴのドレインは、ＦＥＴとして組み込まれている一組の電流制限要素を介してＶＤＤに接続されており、それら電流制限要素は対応する浮遊ゲートＦＥＴのドレインに共通に接続されたゲート及びソースを有する。
そこで、我々は改良された構造を考案した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明によれば、読み出し及び又は書き込みデータ線と伝達可能に接続された少なくとも第一及び第二ノードを定めるスタティックメモリ手段と、前記スタティックメモリ手段と関連し、保存したデータを前記スタティックメモリ手段に書き込む少なくとも一つの不揮発性メモリ手段であって、該不揮発性メモリ手段は、前記第一ノードに接続された制御ゲートと前記第二ノードに接続されたソースとを有する第一不揮発性要素と、前記第二ノードに接続された制御ゲートと前記第一ノードに接続されたソースとを有する第二不揮発性要素とを備え、各不揮発性要素のドレインが各トランジスタにより供給手段に接続された、少なくとも一つの不揮発性メモリ手段とを単一の集積回路パッケージ内に備えたメモリ装置であって、前記各トランジスタは、前記メモリ装置のプログラムサイクルの間、前記第一及び第二不揮発性要素のドレインを前記供給手段から分離するように配されたことを特徴とするメモリ装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月15日(2007.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）１個又は複数個の所定属性を備える複数の受信者各々のネットワークアドレスを取得するステップと、
（ｂ）特典付きの娯楽イベント販促メッセージを上記各ネットワークアドレス宛に送信するステップと、
（ｃ）上記ネットワークアドレスのうち何れかに所在する受信者から上記特典を使用する旨の申込み返信を受信するステップと、
（ｄ）上記特典による娯楽イベントへの入場時に提示すべきトークンを上記申込み返信を送信した受信者である返信受信者宛に発行するステップと、
を有し、１個又は複数個の所定属性を備える受信者群に宛てて娯楽イベント販促メッセージをブロードキャストする販促メッセージブロードキャスト方法。
【請求項２】
請求項１記載の販促メッセージブロードキャスト方法において、前売りチケット販売数に応じステップ（ａ）〜（ｄ）が自動開始される販促メッセージブロードキャスト方法。
【請求項３】
請求項１記載の販促メッセージブロードキャスト方法において、更に、無線送信されるトークンを受信するステップを有する販促メッセージブロードキャスト方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】販促メッセージブロードキャスト方法