【手続補正書】
【提出日】平成19年3月1日(2007.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）陰極、
（ｂ）リチウム化されたときに、約１００℃以下の温度で、持続される自己加熱を示さない薄膜の形態の陽極、及び、
（ｃ）前記陽極と前記陰極とを分離している電解質、
を含むリチウムイオン電池であって、前記電池は容量が少なくとも６００ミリアンペア時であり、比エネルギーが少なくとも１００ワット時／ｋｇであり、そして容積エネルギーが少なくとも２５０ワット時／リットルである、リチウムイオン電池。
【請求項２】  前記陽極は電気化学的に活性な元素金属を含む、請求項１記載のリチウムイオン電池。
【請求項３】  前記陽極は、複数の電気化学的に活性な元素金属から本質的になり、前記陽極は約１０００オングストロームを超える寸法のドメインを本質的に含まない混合物の形態の前記元素金属を含むミクロ構造を有する、請求項１記載のリチウムイオン電池。
【請求項４】  前記陽極は（ａ）電気化学的に活性な元素金属及び（ｂ）電気化学的に不活性な元素金属を含み、
前記陽極は前記電池が１回の完全な充電−放電サイクルを経た後に結晶性領域を含む、請求項１記載のリチウムイオン電池。
【請求項５】  前記電池の容量は８０℃での１回の完全な充電−放電サイクルの後に、２％／サイクルを超えて損失することがない、請求項１記載のリチウムイオン電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
１つの態様によると、陽極は複数の電気化学的に活性な元素金属から本質的になり、約１０００オングストロームを超える大きさのドメインを本質的に含まない混合物の形態のこれらの元素金属を含むミクロ構造を有する。「ドメイン」は単一の電気化学的に活性な元素金属から本質的になる領域である。ドメインは結晶性（すなわち、結晶性材料の認識可能な電子線もしくはｘ−線回折パターン特性を生じるもの）であっても又は非結晶性であってもよい。ドメインのサイズはドメインの最も長い寸法を指す。このような陽極の例は、１９９８年７月１０日に出願され、本願と同一の譲受人に譲渡された、「電極材料及びそれを含む組成物」という発明の名称のTurnerの米国特許出願番号第０９／１１３，３８５号明細書に記載されるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
結晶性材料の認識可能なｘ−線回折パターン特性を特徴とする、これらの結晶性領域は、電池が１回の完全な充電−放電サイクルを経た後に、約５００オングストローム以下であり、そして少なくとも１０回の総サイクルの後に実質的に増加しない少なくとも１つの寸法を好ましくは有する。さらに、これらの結晶性領域は電気化学的に活性な元素金属及び電気化学的に不活性な元素金属を含む領域により好ましくは分離されており、この電気化学的に活性な元素金属と電気化学的に不活性な元素金属との相対的な割合は組成物の厚さ方向（すなわち、薄膜が付着している基材に対して垂直の方向）にわたって変化している。これらの領域は結晶性材料の電子線回折パターン特性を示さない。それはサイクルの前、サイクルの後、又は、サイクルの前と後の両方で存在することができる。このような陽極の例は１９９８年３月２６日に出願され、本願と同一の譲受人に譲渡された、「電極組成物」という発明の名称のTurnerらの米国特許出願番号第０９／０４８，４０７号明細書に記載されるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
さて、実施例によって以下にさらに本発明を説明する。
例
薄膜の陽極の調製
薄膜の形態の陽極を、変更したパーキンエルマーランデックスモデル2400-8SAスパッタリング装置（Perkin-Elmer Randex Model 2400-8SA Sputtering System）（例２及び４）又は４５７．２ｍｍ（１８インチ）幅のウェブハンドリングシステムを有するミルレーン高真空装置（Mill Lane High Vacuum System）（Ｐ４）（例１、３及び５）のいずれかを用いて順次にスパッタリングすることにより調製した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ランデックス装置の場合には、当初の２０３．２ｍｍ（８インチ）直径のｒｆスパッタ源を、Materials Science, San Diego, CAから市販されている１５２．４ｍｍ（６インチ）直径のｄｃマグネトロンスパッタ源に置き換えた。一定電流モードで操作するアドバンストエネルギーモデルＭＤＸ−１０ｄｃスパッタリング電力源を用いてスパッタ源は電力供給された。回転可能なドライブ装置をステッパーモータで置き換え、回転速度及び制御を改良した。装置を従来のロータリーベーンポンプにより援助されるトラップなしのオイル拡散ポンプでポンプ引きした。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
４００〜４０００ｍＰａ（３〜３０ミリトル）の範囲のアルゴン圧でスパッタリングを行なった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
銅ホイル（厚さ＝０．０２５４ｍｍ（０．００１インチ））を、両面接着テープ（3M Co., St.Paul, MNからの3M Brand Y9415)を用いてランデックス装置の水冷基材ターンテーブルに結合した。この装置を閉め、典型的に１３３×１０-5Ｐａ（１×１０-5トル）未満のベース圧力（蒸着前のベース圧力は重要でない）にまでポンプ引きした。蒸着の前に、スパッタリングチャンバー中のアルゴン圧力を１０６６ｍＰａ（８ミリトル）とし、基材ターンテーブルに１３．５６ＭＨｚの電力を課してランデックス装置の「スパッタエッチ」モードを用いて基材表面を清浄化するためにサンプルをエッチングした。典型的な清浄化サイクルは、サイクルの間に基材ターンテーブルを回転させながら、１５０Ｗで３０分間で行なった。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
ミルレーン装置の場合には、銅ホイルは、１ｋＷ及び２７Ｐａ（２００ミリトル）で操作される市販のプラズマサーム装置(PlasmaTherm system)中の酸素ドープされたｒｆアルゴンプラズマに１０ｍｍ／秒（２ｆｔ／分）の速度でオフラインで暴露された。エッチングの後に、ミルレーン装置内の回転ドラム上に両面接着テープ（上記のとおり）を用いてフィルムのセグメントを３つの向かい合ったスパッタリングターゲットに向けるように配置した。ドラムを３８ｒｐｍで回転するように設定した。蒸着を１６００ｍＰａ（１２ミリトル）の圧力で開始した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
ＡＲＣ試験を行なうために、リチウム化されたサンプルのストリップをアルゴン充填したグローブボックス内で切断し、そして３８ｍｍ長さ及び６．３５ｍｍ（０．２５インチ）外径の３０４ＳＳチューブ中に入れた。付着性が低い幾つかの場合には、リチウム化されたコーティングはチューブに入れる前に銅バッキングからフレークオフした。