【手続補正書】
【提出日】平成19年6月5日(2007.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法であって、
前記試料の第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用いることによって前記周期的ターゲットのそれぞれからの光学信号を計測することであって、前記第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在し、および
散乱計測オーバレイ技術を用いて前記既定義されたオフセットに基づいて前記周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって前記第１および第２構造間のオーバレイ誤差を決定すること
を含む方法であって、
前記光学システムは、
画像化反射計、画像化分光反射計、偏光分光画像化反射計、走査反射計システム、並列データ獲得が可能な２つ以上の反射計を持つシステム、並列データ獲得が可能な２つ以上の分光反射計を持つシステム、並列データ獲得が可能な２つ以上の偏光分光反射計を持つシステム、ウェーハステージを移動させることなく、または任意の光学要素または反射計ステージを移動させることなく、直列データ獲得が可能な２つ以上の偏光分光反射計を持つシステム、画像化分光計、波長フィルタを持つ画像化システム、ロングパス波長フィルタを持つ画像化システム、ショートパス波長フィルタを持つ画像化システム、波長フィルタを持たない画像化システム、干渉画像化システム、画像化偏光計、光弾性変調器を有するレーザ偏光計、画像化分光偏光計、走査偏光計システム、並列データ獲得が可能な２つ以上の偏光計を持つシステム、前記ウェーハステージを移動させることなく、または任意の光学要素または前記偏光計ステージを移動させることなく、直列データ獲得が可能な２つ以上の偏光計を持つシステム、Michelson干渉計、およびMach-Zehnder干渉計、Sagnac干渉計、走査入射角システム、走査アジマス角システム、＋／−１次差分反射計、または＋／−１次差分偏光反射計
の装置のうち任意の１つ以上を備える方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、＋／−１次差分反射計である方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、＋／−１次差分偏光反射計である方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、少なくとも１つの反射フォーカシング要素を備える分光偏光計である、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、少なくとも１つの反射集光要素を備える分光偏光計である、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、それぞれの第１構造は第１対称中心を有し、それぞれの第２構造は第２対称中心を有し、それぞれのターゲットについての前記第１対称中心および前記第２対称中心は、互いに対して前記既定義のオフセット群のうち選択されたものだけオフセットされている方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、前記オーバレイ誤差は、前記計測された光学信号を比較してデータを較正することなく決定される方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、光弾性変調器を有するレーザ偏光計である方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、画像化反射計である方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、画像化分光反射計である方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、偏光分光画像化反射計である方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、走査反射計システムである方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、並列データ獲得が可能な２つ以上の反射計を持つシステムである方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、並列データ獲得が可能な２つ以上の分光反射計を持つシステムである方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、並列データ獲得が可能な２つ以上の偏光分光反射計を持つシステムである方法。
【請求項１６】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、ウェーハステージを移動させることなく、または任意の光学要素または反射計ステージを移動させることなく、直列データ獲得が可能な２つ以上の偏光分光反射計を持つシステムである方法。
【請求項１７】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、画像化分光計である方法。
【請求項１８】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、波長フィルタを持つ画像化システムである方法。
【請求項１９】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、干渉画像化システムである方法。
【請求項２０】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、画像化偏光計である方法。
【請求項２１】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、画像化分光偏光計である方法。
【請求項２２】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、走査偏光計システムである方法。
【請求項２３】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、並列データ獲得が可能な２つ以上の偏光計を持つシステムである方法。
【請求項２４】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、前記ウェーハステージを移動させることなく、または任意の光学要素または前記偏光計ステージを移動させることなく、直列データ獲得が可能な２つ以上の偏光計を持つシステムである方法。
【請求項２５】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、Michelson干渉計である方法。
【請求項２６】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、Mach-Zehnder干渉計である方法。
【請求項２７】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、Sagnac干渉計である方法。
【請求項２８】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、走査入射角システムである方法。
【請求項２９】
請求項１に記載の方法であって、前記光学システムは、走査アジマス角システムである方法。
【請求項３０】
複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法であって、
前記試料の第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、複数の設定においてチューニング可能なレーザを有する光学システムを用い、前記周期的ターゲットのそれぞれについて複数のチューニング可能なレーザ設定において複数の光学信号を計測することであって、前記第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在し、および
散乱計測オーバレイ技術を用いて前記既定義されたオフセットに基づいて前記周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって前記第１および第２構造間のオーバレイ誤差を決定すること
を含む方法。
【請求項３１】
複数レイヤ試料の少なくとも２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法であって、
第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットを提供することであって、前記第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在し、
偏光変調器を有する偏光計を用いて前記周期的ターゲットから複数の計測信号を計測すること、および
散乱計測オーバレイ技術を用いて前記周期的ターゲットの前記計測信号および前記周期的ターゲットの前記第１および第２構造の前記既定義されたオフセットを分析することによって、前記周期的ターゲットの前記第１および第２構造間のオーバレイ誤差を決定すること
を含む方法。
【請求項３２】
請求項３１に記載の方法であって、前記偏光変調器は、光弾性変調器（ＰＥＭ）である方法。
【請求項３３】
請求項３１に記載の方法であって、前記偏光計は、入射路における偏光子と出射路における検光子とを備え、前記偏光変調器は、前記偏光子に含まれる方法。
【請求項３４】
請求項３１に記載の方法であって、前記偏光計は、入射路における偏光子と出射路における検光子とを備え、前記偏光変調器は、前記検光子に含まれる方法。
【請求項３５】
請求項３１に記載の方法であって、前記偏光計は、入射路における偏光子と出射路における検光子とを備え、前記偏光変調器は、前記偏光子と前記検光子との両方に含まれる方法。
【請求項３６】
複合散乱計測マークであって、
ＣＤまたはプロファイル情報を決定するために計測されえる散乱計測微小寸法（ＣＤ）またはプロファイルターゲット、および
前記散乱計測ＣＤまたはプロファイルターゲットにわたって配置された散乱計測オーバレイターゲットであって、前記散乱計測オーバレイターゲットは前記散乱計測ＣＤまたはプロファイルターゲットと協働して、オーバレイを決定するために計測されえる散乱計測マークを形成する
複合散乱計測マーク。
【請求項３７】
請求項３６に記載の複合散乱計測マークであって、ウエハ製造プロセスにおける異なる工程で、散乱計測ＣＤまたはプロファイル測定と、散乱計測オーバレイ測定との両方に用いられる複合散乱計測マーク。
【請求項３８】
請求項３７に記載の複合散乱計測マークであって、加工対象物の少なくとも２つのレイヤに形成されており、前記散乱計測ＣＤまたはプロファイルターゲットは、第１レイヤに形成され、前記散乱計測オーバレイターゲットは、第２レイヤに形成される複合散乱計測マーク。
【請求項３９】
請求項３８に記載の複合散乱計測マークであって、前記散乱計測ＣＤまたはプロファイル周期的ターゲットは、第１レイヤパターン形成後に計測され、前記散乱計測オーバレイターゲットは、第２レイヤパターン形成後に計測される複合散乱計測マーク。
【請求項４０】
請求項３９に記載の複合散乱計測マークであって、前記第１レイヤに形成された前記散乱計測ＣＤまたはプロファイル周期的ターゲットは、第１の方向に向けられた第１の格子と、第２の方向に向けられた第２の格子とを備え、前記第２の方向は、前記第１の方向と直交しており、前記第２レイヤに形成された前記散乱計測オーバレイターゲットは、第１の格子群と第２の格子群とを備え、前記第１および第２の格子群の両方は、１または複数の格子を備え、前記第１の格子群の格子は、前記第１の方向に向けられ、前記第２の格子群の格子は、前記第２の方向に向けられ、前記第１の格子群は、前記ＣＤまたはプロファイル周期的ターゲットの前記第１の格子の上方に配置され、前記第２の格子群は、前記ＣＤまたはプロファイル周期的ターゲットの前記第２の格子の上方に配置される複合散乱計測マーク。
【請求項４１】
単一の計測ツールであって、
オーバレイを計測するよう構成された散乱計測オーバレイ計測システム、および
微小寸法を計測するよう構成されたＣＤ−ＳＥＭシステム
を備える計測ツール。
【請求項４２】
請求項４１に記載の計測ツールであって、前記散乱計測オーバレイ計測システムは、前記ＣＤ−ＳＥＭシステムと前記散乱計測オーバレイ計測システムとが、ロボットウエハ操作システムの少なくとも一部を共用するように、前記ＣＤ−ＳＥＭシステムに統合されている計測ツール。
【請求項４３】
請求項４１に記載の計測ツールであって、前記ＣＤ−ＳＥＭシステムと前記散乱計測オーバレイ計測システムとは、独立した動作が可能な別個のシステムであり、ロボットウエハ操作システムの少なくとも一部によって接続されている計測ツール。
【請求項４４】
統合された微小寸法およびオーバレイマークを作る方法であって、
試料の第１レイヤ内にＣＤターゲットを形成すること、および
前記試料の第２レイヤ内にオーバレイターゲットを形成することであって、前記オーバレイターゲットは、前記ＣＤターゲット上に形成されている
方法。
【請求項４５】
あるレイヤ内の微小寸法（ＣＤ）および複数レイヤ試料内の少なくとも２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法であって、
ＣＤを決定するための、ＣＤターゲットから計測された散乱信号の使用であって、前記ＣＤターゲットは試料の第１レイヤ内に形成されている、使用と、
オーバレイ誤差を決定するための、オーバレイマークから計測された散乱信号の使用であって、前記オーバレイマークは前記試料の第２レイヤ内に形成されたオーバレイターゲットおよび前記試料の前記第１レイヤ内に形成された前記ＣＤターゲットを備え、前記オーバレイターゲットは前記ＣＤターゲット上に配置される、使用と、を含む方法。
【請求項４６】
請求項４５に記載の方法であって、前記ＣＤターゲットは、第１レイヤパターンの形成後に計測され、前記オーバレイマークは、第２レイヤパターンの形成後に計測される方法。
【請求項４７】
請求項４５に記載の方法であって、前記第１レイヤに形成された前記ＣＤターゲットは、第１の方向に向けられた第１の格子と、第２の方向に向けられた第２の格子とを備え、前記第２の方向は、前記第１の方向と直交しており、前記第２レイヤに形成された前記オーバレイターゲットは、第１の格子群と第２の格子群とを備え、前記第１および第２の格子群の両方は、１または複数の格子を備え、前記第１の格子群の格子は、前記第１の方向に向けられ、前記第２の格子群の格子は、前記第２の方向に向けられ、前記第１の格子群は、前記ＣＤターゲットの前記第１の格子の上方に配置され、前記第２の格子群は、前記ＣＤターゲットの前記第２の格子の上方に配置される方法。
【請求項４８】
請求項４５に記載の方法であって、前記オーバレイ誤差は、前記計測された光学信号をキャリブレーションデータと比較することなく決定される方法。