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【手続補正書】
【提出日】平成19年10月9日(2007.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１２）（５０）上の第１絶縁膜（１４ａ）（５２）と、
前記第１絶縁膜（１４ａ）上の、側壁を有する第１チャネル領域（１５）（５４）（５４ａ）（５４ｂ）と、
前記第１チャネル領域上の第２絶縁膜（１４ａ）（５２）と、
前記第２絶縁膜（１４ｂ）上の、側壁を有する第２チャネル領域（１５ａ）（５４）（５４ａ）（５４ｂ）と、
前記第２チャネル領域上の、側壁を有する第３絶縁膜（１４ｃ）（５２）（５２ａ）（５２ｂ）と、
前記第３絶縁膜（１４ｃ）上の、側壁を有するゲート電極（１６）（５６）（５６ａ）と、
前記ゲート電極の側壁に、酸化物ライナー（６０）を形成するステップと、
前記第１チャネル領域および前記第２チャネル領域の側壁に、ソースおよびドレイン領域（７６）を形成するステップと、
前記酸化物ライナー（６０）上に、ゲート電極スペーサ（６４）を形成するステップと、
を含む、  
マルチチャネル半導体デバイス。
【請求項２】
前記第１チャネル領域および前記第２チャネル領域は、第１の導電型のドーパントで低濃度にドープされ、前記ゲート電極は、前記第１の導電型と異なる第２の導電型のドーパントで高濃度にドープされる、請求項１記載のデバイス。
【請求項３】
前記第１チャネル領域および前記第２チャネル領域と接続する、前記基板（１２）上の隆起したソースおよびドレイン領域（４０）をさらに含む、請求項２記載のデバイス。
【請求項４】
基板（５０）上に、絶縁膜（５２）によって互いおよび前記基板（５０）から垂直方向に分離された、少なくとも２つの低濃度にドープされたチャネル領域（５４）（５４ａ）（５４ｂ）を含むスタックを形成し、絶縁膜（５２）（５２ａ）（５２ｂ）によって前記チャネル領域から分離されたゲート電極（５６ａ）を形成するステップと、
前記ゲート電極の側壁に酸化物ライナー（６０）を形成するステップと、
前記チャネル領域（５４）の側壁と接続する、ソースおよびドレイン領域（７６）を形成するステップと、
前記ゲート電極（５６ａ）上の前記酸化物ライナー（６０）上に、ゲート電極スペーサ（６４）を形成するステップと、
を含む、マルチチャネル半導体デバイスを形成する方法。
【請求項５】
基板上に、絶縁膜によって、互いに垂直方向に分離されるとともに前記基板から垂直方向に分離された、少なくとも２つの低濃度にドープされたチャネル領域を含むスタックを形成し、絶縁膜によって前記チャネル領域から分離されたゲート電極を形成するステップを有し、
前記ゲート電極の側壁に酸化物ライナーを形成するステップを有しこのステップには、前記ゲート電極の前記側壁上に熱酸化物ライナーを形成するステップを有し、
前記チャネル領域の側壁と接続するソースおよびドレイン領域を形成するステップを有し、
前記ゲート電極上の前記酸化物ライナー上にゲート電極スペーサを形成するステップを有し、このステップには、前記酸化物ライナーおよび前記ゲート電極上に窒化物をたい積するステップと、前記チャネル領域から前記ゲート電極を分離する前記絶縁膜上で停止するスペーサエッチングを実行するステップとが含まれる、マルチチャネル半導体デバイスを形成する方法。
【請求項６】
スタックを形成するステップは、前記ゲート電極スペーサを形成した後、前記絶縁膜および前記チャネル領域をドライエッチングし、前記基板から前記チャネル領域を分離する前記絶縁膜上で前記ドライエッチングを停止するステップを含む、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記ドライエッチングの後、前記基板にソースおよびドレイン拡張領域を注入するステップをさらに含む、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記ソースおよびドレイン領域を形成するステップは、前記ソースおよびドレイン拡張領域を注入した後、前記スタックおよび前記ゲート電極スペーサ上に低濃度にドープした半導体層をたい積するステップと、
前記低濃度にドープした半導体層上に高濃度にドープした半導体層をたい積するステップと、を含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記ソースおよびドレイン領域を形成するステップは、前記チャネル領域の側壁上に半導体スペーサを形成するように、前記低濃度にドープした半導体層および前記高濃度にドープした半導体層をドライエッチングするステップをさらに含む、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記半導体スペーサ上にデバイススペーサを形成するステップと、 
前記デバイススペーサで前記ソースおよびドレイン拡張領域をマスキングした状態で、前記基板にソースおよびドレイン注入を実行するステップと、をさらに含む、請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月1日(2007.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ出力パルスを生成する高ピークパワー短パルス持続時間ガス放電レーザシステムであって、
パルスストレッチャ、
を含み、
前記パルスストレッチャは、
出力レーザパルスの一部分を光遅延経路を有する光遅延内に迂回させるレーザ出力パルス光遅延開始光学機器と、
前記光遅延の出力を前記レーザ出力パルス光遅延開始光学機器に送出するように整列した複数の直列の共焦点共振器と、
を含む、
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記複数の共焦点共振器は、１２パス４ミラー配置を含む４つの共焦点共振器を含む、
ことを更に特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記複数の共焦点共振器の各々は、曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、同じ曲率半径を有して該曲率半径だけ離間した第２の凹球面ミラーとを含む、
ことを更に特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記パルスストレッチャは、第１の共焦点共振器セルを含み、
前記第１の共焦点共振器セルは、
第１の凹球面ミラーの面上の第１の点での前記出力レーザパルスの部分を含む前記レーザ出力パルス光遅延開始光学機器からの入力ビームを受光して第１の反射ビームを発生させる曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、
同じ曲率半径を有してその曲率半径だけ前記第１の凹球面ミラーから離間し、第２の凹球面ミラーの面上の第１の点で前記第１の反射ビームを受光して、該第１の凹球面ミラーの面上の第２の点に入射する第２の反射ビームを発生させる第２の凹球面ミラーと、
を含み、
前記第２の反射ビームは、前記第１の凹球面ミラーにより該第１のミラー上の前記第２の点から反射されて、前記第１の共焦点共振器セルからの出力ビームを形成し、
前記第１の共焦点共振器セルは、更に、
前記第１の共焦点共振器セルの前記出力ビームを第２の共焦点共振器セルの入力ビームとして受光する第２の共焦点共振器セル、
を含む、
ことを更に特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
レーザ出力パルスを生成する高ピークパワー短パルス持続時間ガス放電レーザシステムであって、
出力レーザパルスビーム送出ユニット、
を含み、
前記出力レーザパルスビーム送出ユニットは、
パルスストレッチャ、
を含み、
前記パルスストレッチャは、
出力レーザパルスの一部分を光遅延経路を有する光遅延内に迂回させるレーザ出力パルス光遅延開始光学機器と、
前記光遅延の出力を前記レーザ出力パルス光遅延開始光学機器に送出するように整列した複数の直列の共焦点共振器と、
を含む、
ことを特徴とするシステム。
【請求項６】
前記複数の共焦点共振器は、１２パス４ミラー配置を含む４つの共焦点共振器を含む、
ことを更に特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記複数の共焦点共振器の各々は、曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、同じ曲率半径を有して該曲率半径だけ離間した第２の凹球面ミラーとを含む、
ことを更に特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項８】
前記パルスストレッチャは、第１の共焦点共振器セルを含み、
前記第１の共焦点共振器セルは、
第１の凹球面ミラーの面上の第１の点での前記出力レーザパルスの部分を含む前記レーザ出力パルス光遅延開始光学機器からの入力ビームを受光して第１の反射ビームを発生させる曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、
同じ曲率半径を有してその曲率半径だけ前記第１の凹球面ミラーから離間し、第２の凹球面ミラーの面上の第１の点で前記第１の反射ビームを受光して、該第１の凹球面ミラーの面上の第２の点に入射する第２の反射ビームを発生させる第２の凹球面ミラーと、
を含み、
前記第２の反射ビームは、前記第１の凹球面ミラーにより該第１のミラー上の前記第２の点から反射されて、前記第１の共焦点共振器セルからの出力ビームを形成し、
前記第１の共焦点共振器セルは、更に、
前記第１の共焦点共振器セルの前記出力ビームを第２の共焦点共振器セルの入力ビームとして受光する第２の共焦点共振器セル、
を含む、
ことを更に特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項９】
高ピークパワー短パルス持続時間ガス放電レーザ出力パルスを形成する方法であって、  出力レーザパルスの一部分を光遅延経路内に迂回させることによって出力パルスをストレッチする段階、
を含み、
前記光遅延経路は、
前記光遅延経路の出力を送出して、それを前記レーザ出力パルスと組み合わせる複数の直列の共焦点共振器、
を含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記複数の共焦点共振器は、１２パス４ミラー配置を含む４つの共焦点共振器を含む、
ことを更に特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記複数の共焦点共振器の各々は、曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、同じ曲率半径を有して該曲率半径だけ離間した第２の凹球面ミラーとを含む、
ことを更に特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記パルスをストレッチする段階は、第１の共焦点共振器セルを利用する段階を含み、  前記第１の共焦点共振器セルは、
第１の凹球面ミラー手段の面上の第１の点での前記出力レーザパルスの部分を含む前記レーザ出力パルス光遅延開始手段からの入力ビームを受光して第１の反射ビームを発生させるための曲率半径を有する第１の凹球面ミラー手段と、
同じ曲率半径を有してその曲率半径だけ前記第１の凹球面ミラー手段から離間し、第２の凹球面ミラー手段の面上の第１の点で前記第１の反射ビームを受光して、該第１の凹球面ミラー手段の面上の第２の点に入射する第２の反射ビームを発生させるための第２の凹球面ミラー手段と、
を含み、
前記第２の反射ビームは、前記第１の凹球面ミラー手段により該第１のミラー上の前記第２の点から反射されて、前記第１の共焦点共振器セルからの出力ビームを形成し、
前記第１の共焦点共振器セルは、更に、
前記第１の共焦点共振器セル手段の前記出力ビームを第２の共焦点共振器セル手段の入力ビームとして受光するための第２の共焦点共振器セル手段、
を含む、
ことを更に特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
レーザ出力パルスを生成する高ピークパワー短パルス持続時間ガス放電レーザシステムであって、
出力レーザパルスの一部分を光遅延経路を有する第１の光遅延内に迂回させる第１のレーザ出力パルス光遅延開始光学機器、及び
前記第１の光遅延の出力を前記第１のレーザ出力パルス光遅延開始光学機器に送出するように整列した第１の複数の直列の共焦点共振器、
を含む第１のパルスストレッチャと、
前記第１の光遅延の前記出力の一部分を光遅延経路を有する第２の光遅延内に迂回させる第２のレーザ出力パルス光遅延開始光学機器、及び
前記第２の光遅延の出力を前記第２のレーザ出力パルス光遅延開始光学機器に送出するように整列した第２の複数の直列の共焦点共振器、
を含む第２のパルスストレッチャと、
を含むことを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月5日(2007.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータに実装された方法であって、
信号の第１サンプルと、前記第１サンプルに後続する信号の第２サンプルとの間の適応差分パルス符号変調（ＡＤＰＣＭ）デルタ値の正負符号を予測する段階と、
前記信号の将来の周波数を予測する段階と、
前記ＡＤＰＣＭデルタ値の前記予測した正負符号に基づいてＡＤＰＣＭＡＤＰＣＭ符号化スキームをスキューする段階であって、前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは前記信号の予測周波数に基づいた非対称を伴ってスキューされることを特徴とする段階と
を含む、
受信されたオーディオ信号データを圧縮する段階と、
前記圧縮されたオーディオデータをメモリに格納する段階と
からなる方法。
【請求項２】
請求項１記載の前記圧縮方法において、
前記スキューされたＡＤＰＣＭ符号化スキームを使用して前記ＡＤＰＣＭデルタ値を符号化するステップをさらに有することを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法において、
前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは、４つの正側分解能レベルとゼロレベルと３つの負側分解能レベルとからなる３ビット符号化スキームであり、
前記４つの正側分解能レベルを使用して符号化されることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項２記載の方法において、
前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは、５つの正側分解能レベルとゼロレベルと２つの負側分解能レベルとからなる３ビット符号化スキームであり、
前記５つの正側分解能レベルを使用して符号化されることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１記載の方法において、
前記ＡＤＰＣＭデルタ値の正負符号は、先行する１又はそれ以上のデルタ値の正負符号に基づいて予測されることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１記載の方法において、
前記信号の予測周波数は、前記信号の１又はそれ以上の信号特性を評価することによって求められることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法において、
前記評価された１又はそれ以上の信号特性は、信号のゼロ交差、信号の正負符号変化、信号の勾配変化、信号値、及びそれらの組み合わせから選択されることを特徴とする音声データ圧縮方法。
【請求項８】
実行されたとき、システムに、
信号の第１サンプルと、前記第１サンプルに後続する信号の第２サンプルとの間の適応差分パルス符号変調（ＡＤＰＣＭ）デルタ値の正負符号を予測する段階と、
前記信号の将来の周波数を予測する段階と、
前記ＡＤＰＣＭデルタ値の前記予測した正負符号に基づいてＡＤＰＣＭＡＤＰＣＭ符号化スキームをスキューする段階であって、前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは前記信号の予測周波数に基づいた非対称を伴ってスキューされることを特徴とする段階と
を含む、
受信されたオーディオ信号データを圧縮する段階と、
前記圧縮されたオーディオデータをメモリに格納する段階と
からなる方法を遂行させる一連の命令が記録された、物理的コンピュータで読み取り可能な記憶媒体。
【請求項９】
請求項８記載の物理的コンピュータで読み取り可能な記憶媒体において、
前記スキューされたＡＤＰＣＭ符号化スキームを使用して前記ＡＤＰＣＭデルタ値を符号化するステップをさらに有することを特徴とする記憶媒体。
【請求項１０】
請求項９記載の物理的コンピュータで読み取り可能な記憶媒体において、
前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは、４つの正側分解能レベルとゼロレベルと３つの負側分解能レベルとからなる３ビット符号化スキームであり、
前記４つの正側分解能レベルを使用して符号化されることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１１】
請求項９記載の物理的コンピュータで読み取り可能な記憶媒体において、
前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは、５つの正側分解能レベルとゼロレベルと２つの負側分解能レベルとからなる３ビット符号化スキームであり、
前記５つの正側分解能レベルを使用して符号化されることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１２】
請求項８記載の物理的コンピュータで読み取り可能な記憶媒体において、
前記ＡＤＰＣＭデルタ値の正負符号は、先行する１又はそれ以上のデルタ値に基づいて予測されることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１３】
請求項８記載の物理的コンピュータで読み取り可能な記憶媒体において、
前記音声信号の予測周波数は、前記音声信号の１又はそれ以上の信号特性を評価することによって求められることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１４】
請求項１３記載の物理的コンピュータで読み取り可能な記憶媒体において、
前記評価された１又はそれ以上の信号特性は、信号のゼロ交差、信号の正負符号変化、信号の勾配変化、信号値、及びそれらの組み合わせから選択されることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１５】
プロセッサと、
前記プロセッサに接続され、前記プロセッサによって実行されたとき、前記プロセッサに、
信号の第１サンプルと、前記第１サンプルに後続する信号の第２サンプルとの間の適応差分パルス符号変調（ＡＤＰＣＭ）デルタ値の正負符号を予測する段階と、
前記信号の将来の周波数を予測する段階と、
前記ＡＤＰＣＭデルタ値の前記予測した正負符号に基づいてＡＤＰＣＭＡＤＰＣＭ符号化スキームをスキューする段階であって、前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは前記信号の予測周波数に基づいた非対称を伴ってスキューされることを特徴とする段階と
を含む、
受信されたオーディオ信号データを圧縮する段階と、
前記圧縮されたオーディオデータをメモリに格納する段階と
からなる方法を遂行させる１又はそれ以上の実行可能な命令が記憶されたメモリと
を有することを特徴とするシステム。
【請求項１６】
請求項１５記載のシステムにおいて、
前記スキューされたＡＤＰＣＭ符号化スキームを使用して前記ＡＤＰＣＭデルタ値を符号化するステップをさらに有することを特徴とするシステム。
【請求項１７】
請求項１６記載のシステムにおいて、
前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは、４つの正側分解能レベルとゼロレベルと３つの負側分解能レベルとからなる３ビット符号化スキームであり、
前記４つの正側分解能レベルを使用して符号化されることを特徴とするシステム。
【請求項１８】
請求項１６記載のシステムにおいて、
前記ＡＤＰＣＭ符号化スキームは、５つの正側分解能レベルとゼロレベルと２つの負側分解能レベルとからなる３ビット符号化スキームであり、
前記５つの正側分解能レベルを使用して符号化されることを特徴とするシステム。
【請求項１９】
請求項１５記載のシステムにおいて、
前記ＡＤＰＣＭデルタ値の正負符号は、先行する１又はそれ以上のデルタ値に基づいて予測されることを特徴とするシステム。
【請求項２０】
請求項１５記載のシステムにおいて、
前記音声信号の予測周波数は、前記音声信号の１又はそれ以上の信号特性を評価することによって求められることを特徴とするシステム。
【請求項２１】
請求項２０記載のシステムにおいて、
前記評価された１又はそれ以上の信号特性は、信号のゼロ交差、信号の正負符号変化、信号の勾配変化、信号値、及びそれらの組み合わせから選択されることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月1日(2007.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
多数の壁（１２，１４，２０，２２）、頂部（１６）及び底部を有するハウジング（１０）と、
充電可能な手工具その他の工具に電力を供給するために使用されるタイプの取り外し可能なバッテリパックを充電するために前記ハウジング（１０）内に配置されている充電器（８４）と、
当該充電器（８４）に作動可能に結合されており且つ前記充電器（８４）によって充電されるように取り外し可能なバッテリパックを収容することができるソケット（９４）と、
前記ハウジング（１０）内に配置されてオーディオ信号を発生するオーディオユニット（３０）と、
ＡＣ電源に接続するためのコード（７０）及びプラグ（７２）と、
前記コード（７０）を前記充電器（８４）及び前記オーディオユニット（３０）に接続し、それによって、前記オーディオユニット（３０）にＡＣ電源を適用し当該オーディオユニット（３０）に電力が供給され、且つＡＣ電源が前記充電器（８４）にも適用されるようにした第一の回路（８０，１４０，１４２）と、
前記ソケット（９４）と前記オーディオユニット（３０）との間に配置されたバッテリパックとの間で回路に接続されたリレー（１５０）と、
前記コード（７０）と前記オーディオユニット（３０）との間で回路に接続されているリレーコイル（１５２）であって、前記オーディオユニット（３０）に適用されるＡＣ電源の存在を監視し且つＡＣ電源が前記オーディオユニット（３０）に適用されているときに前記リレー（１５０）が回路を開くようにさせて前記オーディオユニット（３０）を前記バッテリパックから分離し、ＡＣ電源が前記オーディオユニット（３０）に適用されていないときには回路を閉じて前記バッテリパックが前記オーディオユニット（３０）に電力を供給するのを可能にするようになされた前記リレーコイル（１５２）とを含む装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
オーディオ出力を提供し且つ取り外し可能なバッテリパックを充電するためのオーディオ電源ユニットであって、
前壁、後壁、左側壁及び右側壁（１２，２２）、頂壁（１６）並びに底壁を有する概して平行六面体形状であるハウジング（１０）と、
前記取り外し可能なバッテリパックを充電するために前記ハウジング（１０）内に配置されているソケット（９４）を含んでいる充電器（８４）と、
前記ハウジング（１０）内に配置されてオーディオ出力を発生するためのオーディオユニット（３０）と、
ＡＣ電源に接続するためのコード（７０）及びプラグ（７２）と、
前記コード（７０）を前記充電器（８４）及び前記オーディオユニット（３０）に接続する回路であって、ＡＣ電源が前記オーディオユニット（３０）に適用されて当該オーディオユニット（３０）に電力が供給され、ＡＣ電源はまた前記充電器（８４）にも適用されるようになされ、ＡＣ電源が前記オーディオユニット（３０）に適用されるときに前記オーディオユニット（３０）を前記バッテリパックから分離するようになされており、ＡＣ電源が前記オーディオユニット（３０）に適用されていないときには、前記バッテリーパックを接続して前記オーディオユニット（３０）に電力を供給する回路とを含むオーディオ電源ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月16日(2007.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄型活性半導体基板と、
前記薄型活性半導体基板を支持するための支持基板と、
前記活性半導体基板と前記支持基板との間に配置された透磁性接着剤と
を備える装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、
前記支持基板は透磁性である装置。
【請求項３】
薄型集積回路ウェハと、
透磁性を有し、かつコバルト、ニッケル及び鉄からなる群のうちの少なくとも一つを含む支持ウェハと、
前記集積回路ウェハと前記支持ウェハとの間に配置され、コバルト、ニッケル及び鉄からなる群のうち少なくとも一つを含み、かつ透磁性を有する接着剤と
を備える装置。
【請求項４】
薄型集積回路ウェハと、
第１の特性を有し、その第１の特性が、熱伝導性、導電性、及び透磁性からなる群のうちの少なくとも一つである支持ウェハと、
前記第１の特性を有し、前記集積回路ウェハと前記支持ウェハとの間に配置された接着剤とを備え、
前記接着剤は、結合剤及び第１の特性強化剤を含み、
前記第１の特性強化剤は、前記結合剤中に浮遊する複数のコロイド状粒子からなり、そのコロイド状粒子は、モノリシック構造であり、かつコーティングされたナノシリカ球体である装置。
【請求項５】
半導体デバイスを製造する方法であって、
第１表面を有する集積回路支持構造体を提供するステップと、
第１の特性を有する基板構造材料を選択するステップであって、前記第１の特性が熱伝導性、導電性、及び透磁性からなる群のうちの少なくとも一つであるステップと、
選択された前記基板構造材料からなり、第２表面を有する基板構造体を提供するステップと、
前記第１の特性を有する接着剤を提供するステップと、
前記接着剤を用いて前記集積回路支持構造体を前記基板構造体に接着するステップと
を備える方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月4日(2007.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７２】
生侵食性の生相容性重合体および重合体を可塑化しそしてそれとのゲルを形成するのに有効な量の水−非混和性溶媒を含んでなるゲルビヒクル、
ゲルビヒクル中に溶解または分散された有益薬剤、
放出割合を調整するためおよび有益薬剤を安定化させるための賦形剤、
並びに場合により、下記のもの：
麻酔薬、
乳化剤、
孔形成剤、
場合により有益薬剤と会合された麻酔薬用の溶解度調整剤、および
浸透剤
の１種もしくはそれ以上
を含んでなる、投与後約２４時間ないし約１２ヶ月の間の期間にわたる有益薬剤の持続送達の投与用キットであって、ここで場合により溶解度調整剤と会合された麻酔薬が麻酔薬の患者への投与時まで溶媒とは別個に維持されるキット。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月12日(2007.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投薬形態物が、
ａ．外部の生物学的流体の通過に対して透過性であり、そして薬物調合物の通過には実質的に不透過性である半透過性壁であって、少なくとも１つの層は非水性液体担体中に可溶化されたトピラメートを含んでなる薬物層であり、少なくとも１つの他の層は膨張性である複数の層を含有するコンパートメントを取り囲み、そして形成する前記半透過性壁；および
ｂ．投薬形態物から環境へトピラメートを送達するための、投薬形態物の外部とトピラメート調合物を連絡している半透過性壁におけるオリフィス：
を含んでなる、液状調合物におけるトピラメートの制御放出送達のための投薬形態物。
【請求項２】
液状調合物が、親油性溶媒、界面活性剤、親水性溶媒またはそれらの組み合わせ物を含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項３】
親水性溶媒が液状ポリマーである、請求項２記載の投薬形態物。
【請求項４】
膨張性層が浸透性層である、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項５】
膨張性層が流体により膨張可能なポリマーを含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項６】
コンパートメントがさらにバリヤー層を含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項７】
バリヤー層が水に対して不透過性である、請求項６記載の投薬形態物。
【請求項８】
膨張性層が経線方向に（ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌｌｙ）圧縮される、請求項６記載の投薬形態物。
【請求項９】
トピラメート層が軟質カプセル中に内包され、そしてカプセルから外側に順に、バリヤー層、膨張性層および半透過性壁が存在する、請求項７記載の投薬形態物。
【請求項１０】
バリヤー層がカプセル上のコーティングとして形成される、請求項９記載の投薬形態物。
【請求項１１】
膨張性層がバリヤー層上にコートされた浸透性層として形成される、請求項１０記載の投薬形態物。
【請求項１２】
半透過性壁が透性層上のコーティングとして形成される、請求項１１記載の投薬形態物。
【請求項１３】
トピラメート層、バリヤー層および膨張性層が硬質カプセル中に内包され、バリヤー層は膨張性層からトピラメート層を分離し、そして硬質カプセルを取り囲んで半透過性壁が存在する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項１４】
膨張性層がバリヤー層上に圧縮された浸透性層として形成される、請求項１３記載の投薬形態物。
【請求項１５】
液状調合物が親水性溶媒を含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項１６】
親水性溶媒が液状ポリマーである、請求項１５記載の投薬形態物。
【請求項１７】
液状ポリマーがポリエチレングリコールである、請求項１６記載の投薬形態物。
【請求項１８】
液体担体に可溶化されたトピラメートを含有する第２の層をさらに含んでなる、請求項１３記載の投薬形態物。
【請求項１９】
第２の層が第１の層を超える濃度のトピラメートを含有する、請求項１８記載の投薬形態物。
【請求項２０】
液状調合物が溶液または懸濁液である、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項２１】
液状調合物が自己乳化性調合物である、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項２２】
自己乳化性調合物が液体をベースにしている、請求項２１記載の投薬形態物。
【請求項２３】
投薬形態物がトピラメート約１００ｍｇ未満を含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項２４】
投薬形態物がトピラメート約１００ｍｇ〜約８００ｍｇを含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項２５】
投薬形態物がトピラメート約１ｍｇ〜約６００ｍｇを含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項２６】
投薬形態物がトピラメート約１ｍｇ〜約４００ｍｇを含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項２７】
投薬形態物がトピラメート約１ｍｇ〜約３００ｍｇを含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項２８】
投薬形態物がトピラメート約１０ｍｇ〜約６００ｍｇを含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項２９】
投薬形態物がトピラメート約２５ｍｇ〜約４００ｍｇを含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項３０】
トピラメートの用量が、投薬形態物の約０．１重量％〜約６０重量％である、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項３１】
液体担体が、投薬形態物の約３０重量％〜約５０重量％である、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項３２】
薬物層が、トピラメート約１０％〜約６０％および液体担体約４０％〜約９０％を含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項３３】
薬物層が、トピラメート４０％〜約６０％および親水性液体溶媒約６０％〜約４０％を含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項３４】
親水性液体溶媒がＰＥＧ４００である、請求項３３記載の投薬形態物。
【請求項３５】
薬物層が、約４０％のトピラメート、界面活性剤約３０％および親水性液体溶媒約３０％を含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項３６】
界面活性剤がＣｒｅｍｏｐｈｏｒ  ＥＬまたはｓｏｌｕｔｏｌであり、そして親水性液体溶媒がＰＥＧ４００である、請求項３５記載の投薬形態物。
【請求項３７】
薬物層が、約６０％のトピラメート、界面活性剤約２０％および親水性液体溶媒約２０％を含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項３８】
界面活性剤がＣｒｅｍｏｐｈｏｒ  ＥＬまたはｓｏｌｕｔｏｌであり、そして親水性液体溶媒がＰＥＧ４００である、請求項３７記載の投薬形態物。
【請求項３９】
液体担体が、界面活性剤および親水性溶媒を６０％の界面活性剤対４０％の親水性液体溶媒の比で含有する、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項４０】
界面活性剤がＣｒｅｍｏｐｈｏｒ  ＥＬまたはｓｏｌｕｔｏｌであり、そして親水性溶媒がＰＥＧ４００である、請求項３９記載の投薬形態物。
【請求項４１】
トピラメートの投与される被験者が発作を罹患している、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項４２】
トピラメートの投与される被験者が気分障害を罹患している、請求項１記載の投薬形態物。
【請求項４３】
トピラメートの投与される被験者が肥満している、請求項１記載の投与形態物。
【請求項４４】
トピラメートの投与される被験者が糖尿病を罹患している、請求項１記載の投与形態物。
【請求項４５】
トピラメートの投与される被験者が摂食障害を有する、請求項１記載の投与形態物。
【請求項４６】
トピラメートの投与される被験者が片頭痛を罹患している、請求項１記載の投与形態物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）水  ６０重量％以上と、
ｂ）アルキル基がＣ１６からＣ２２の飽和アルキル鎖及びそれらの混合物から選択されるアルキルトリメチルアンモニウム塩  ０．１重量％から１０重量％と、
ｃ）アルキル鎖がＣ１６からＣ２２の飽和又は不飽和アルキル鎖及びそれらの混合物から選択されるジアルコイルエチルジメチルアンモニウム塩  ０．０２重量％から５重量％と、
ｄ）脂肪アルコール、脂肪酸、アルコキシル化脂肪アルコール及びそれらの混合物からなる群から選択される１２個から２２個の炭素原子を含む脂肪性材料０．５重量％から１０重量％と、
ｅ）ハロゲン化アルカリ金属  ０．０５％から１％と、を含み、
該アルキルトリメチルアンモニウム塩対該ジアルコイルエチルジメチルアンモニウム塩の重量比が、１５：１から２：１であるヘアコンディショニング組成物。
【請求項２】
前記脂肪性材料が、Ｃ１６からＣ１８の飽和鎖及びそれらの混合物から選択されるアルキル鎖を有する一価の一級アルコールである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ハロゲン化アルカリ金属が、塩化カリウムである、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記アルキルトリメチルアンモニウム塩が、ハロゲン化物イオン、メトサルフェート及びそれらの混合物からなる群から選択される陰イオンを有する、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
前記ジアルコイルエチルジメチルアンモニウム塩が、ハロゲン化物イオン、メトサルフェート及びそれらの混合物からなる群から選択される陰イオンを有する、請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
前記アルキルトリメチルアンモニウム塩が、セチルトリメチルアンモニウムクロリドである、請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
前記ジアルコイルエチルジメチルアンモニウム塩が、ジパルミトイルエチルジメチルアンモニウムクロリドである、請求項１〜６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
前記アルキルトリメチルアンモニウム塩対前記ジアルコイルエチルジメチルアンモニウム塩の重量比が、８：１から４：１である、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
疎水性コンディショニング油をさらに含む、請求項１〜８のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
前記疎水性コンディショニング油が、シリコーン油である、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物を使用することによる、不透明化ヘアコンディショニング組成物を調製する方法。
【請求項１２】
ｉ）請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物を毛髪に塗布する工程と、
ｉｉ）毛髪を水ですすぐ工程と、
ｉｉｉ）毛髪を乾燥させる工程と、
を含む、毛髪を処理する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月1日(2007.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
第一セットの実験に関して、８匹のマウスの群に、０日目に尾静脈注射により２５，０００のＢ１６−Ｆ１０腫瘍細胞を供し、その後以下のスケジュールで、ラット抗マウス抗ＰＥＣＡＭ−１（ｍＡｂ３９０）（Dr. H. Delisser, University of Pennsylvaniaにより製造された）またはラットＩｇＧ２（ａ）イソ型対照抗体（Ｓｉｇｍａ）どちらかの２００μｇを、５回投与した。１つの群のマウスには、ラット抗マウス抗ＰＥＣＡＭ−１（ｍＡｂ３９０）またはラットＩｇＧ２（ａ）イソ型対照抗体どちらかのそれぞれ２００μｇの５回の投与を０日目（腫瘍細胞注射直後）に投与し始め、その後１、３、６および８日目に投与した。さらに、１つの群のマウスには、ラット抗マウス抗ＰＥＣＡＭ−ｌ（ｍＡｂ３９０）またはラットＩｇＧ２（ａ）イソ型対照抗体どちらかの２００μｇの５回の投与をまず腫瘍細胞注射後７日目に投与し、その後、８、１０、１３および１５日目に投与した。ＣＴ２６、４Ｔ１  Ｂ１６およびＬｏｘ細胞を担持するマウスを、腫瘍細胞注入の２０、２２、２３および２８日後にそれぞれ殺した。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月26日(2007.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式(I)：
【化１】
2007511506.tif 000001
[式中、
R1は、
【化２】
2007511506.tif 000002
から選ばれ；
R2、R3、R4及びR5は各々独立に、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、又は場合により置換直鎖もしくは分枝鎖のアルキル、アルケニル又はアルキニルであり；並びに、
R6は、水素原子、又は場合により置換直鎖もしくは分枝鎖のアルキル、シクロアルキル、アルケニル又はアルキニルから選ばれる。]
で表される、少なくとも1のアザミウマ行動修正化合物を提供することによって、アザミウマ群を抑制し、調査し又は調節する方法。
【請求項２】
前記少なくとも1の式(I)のアザミウマ行動修正化合物が、請求項１で定義されるとおりである（但し、R1が
【化３】
2007511506.tif 000003
であり、R2、R3、R4及びR5は全て水素原子であり、かつR6はイソペンテニル又はヘキシルでない。）、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記式(I)の少なくとも1の化合物が、イソニコチン酸メチル；イソニコチン酸エチル；イソニコチン酸プロピル；イソニコチン酸イソプロピル；イソニコチン酸デシル；エチル 2-クロロ-イソニコチン酸；ピリジン 4-(1,3-ジオキソラン-2-イル)；ジ-イソプロピルイソニコチンアミド；4-ホルミルピリジン；メチル 4-ピリジルケトン；エチル 4-ピリジルケトン；プロピル 4-ピリジルケトン；4-シアノピリジン；及び、4-ピリジルチオ酢酸を含む群より選ばれる、請求項１記載の方法。
【請求項４】
式(I)の少なくとも1のアザミウマ行動修正化合物を、当該式(I)の化合物がアザミウマを引き付ける固定具内に提供するステップを含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記固定具がアザミウマを動かなくさせる又は殺す手段を含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記固定具が、ウォータートラップ、粘着トラップ及びフェロモントラップを含む群より選ばれる、請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
請求項１又は２で定義される式(I)の少なくとも1のアザミウマ誘引化合物を提供することによって、植物からアザミウマを引き離すステップを含む、アザミウマによって起こる植物の被害を予防し又は最小限に抑える方法。
【請求項８】
R2、R3及びR5が全て水素原子であり、かつR4がハロゲンである、請求項１、２又は７記載の方法。
【請求項９】
R1が
【化４】
2007511506.tif 000004
であり、かつR6が請求項１で定義されたとおりである、請求項１、２又は７記載の方法。
【請求項１０】
R6が、直鎖又は分枝鎖のアルキルである、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記式(I)の少なくとも1の化合物が、イソニコチン酸メチル；イソニコチン酸エチル；イソニコチン酸プロピル；イソニコチン酸イソプロピル；イソニコチン酸デシル；エチル 2-クロロ-イソニコチン酸；ピリジン 4-(1,3-ジオキソラン-2-イル)；ジ-イソプロピルイソニコチンアミド；4-ホルミルピリジン；メチル 4-ピリジルケトン；エチル 4-ピリジルケトン；プロピル 4-ピリジルケトン；4-シアノピリジン；及び、4-ピリジルチオ酢酸を含む群より選ばれる、請求項７記載の方法。
【請求項１２】
請求項１又は２で定義される式(I)の少なくとも1のアザミウマ撃退化合物を提供することによって、植物からアザミウマを撃退するステップを含む、アザミウマによって起こる植物の被害を予防し又は最小限に抑える方法。
【請求項１３】
R1が
【化５】
2007511506.tif 000005
であり、かつR6が請求項１で定義されたとおりである、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
R1が
【化６】
2007511506.tif 000006
であり、かつR6が水素原子又は直鎖もしくは分枝鎖のアルキルである、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
式(I)の少なくとも1のアザミウマ撃退化合物が、4-ホルミルピリジン、4-シアノピリジン及び4-ピリジルチオ酢酸を含む群より選ばれる、請求項１２記載の方法。
【請求項１６】
前記植物が、タマネギ、レタス、キャベツ及びその他のアブラナ科の植物、温室野菜、温室果実、花農作物、及びアザミウマの来襲により被害を受ける任意の他の経済的に重要な植物から選ばれる、請求項７〜１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
請求項１又は２で定義される式(I)の少なくとも1のアザミウマ誘引化合物、及び請求項１で又は２定義される式(I)の少なくとも1のアザミウマ撃退化合物を提供するステップを含む、アザミウマ群を抑制し、調査し又は調節する方法。
【請求項１８】
前記式(I)の少なくとも1のアザミウマ誘引化合物が、請求項８〜１１のいずれか１項で定義される、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
前記式(I)の少なくとも1のアザミウマ撃退化合物が、請求項１３〜１５のいずれか１項で定義される、請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
前記少なくとも1のアザミウマ誘引化合物が、イソニコチン酸メチル、イソニコチン酸エチル、イソニコチン酸プロピル、イソニコチン酸イソプロピル、イソニコチン酸デシル、エチル 2-クロロ-イソニコチン酸、ピリジン 4-(1,3-ジオキソラン2-イル)、ジ-イソプロピルイソニコチンアミド、4-ホルミルピリジン、メチル 4-ピリジルケトン、エチル 4-ピリジルケトン及びプロピル 4-ピリジルケトンを含む群より選ばれる、請求項１７記載の方法。
【請求項２１】
請求項１又は２で定義される式(I)の少なくとも1のアザミウマ行動修正化合物、及び少なくとも1の他のアザミウマ誘引物質又はアザミウマ撃退物質を提供するステップを含む、アザミウマ群を抑制し、調査又は調節する方法。
【請求項２２】
前記少なくとも1の他のアザミウマ誘引物質又はアザミウマ撃退物質が、ニコチン酸エチル、アニスアルデヒド、桂皮アルデヒド、メチルアンスラニレート、エチルアンスラニレート、酢酸デシル、酢酸ドデシル、ユージノール、β-イオノン、o-メトキシ桂皮アルデヒド、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、モノテルペン、1,8-シネオール、サリチルアルデヒド（salicaldehyde）、o-アミノアセトフェノン、吉草酸イソボルニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、2-フェニルエタノール及びp-アリルアニソールを含む群より選ばれる、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記アザミウマ群が、テレブランチア（Terebrantia）亜目に属する群である、請求項１〜２２のいずれか１項記載の方法。
【請求項２４】
前記アザミウマ群が、スリップス・オブスキュラタス（Thrips obscuratus）、ネギアザミウマ（ネギアザミウマ）又はミカンキイロアザミウマ（ミカンキイロアザミウマ）である、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
アザミウマを捕獲し、動かなくさせる又は殺すための固定具であって、請求項１又は２で定義される式(I)のアザミウマ行動修正化合物を含む、前記具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多発性硬化症（ＭＳ）の治療及び／又は予防のための薬物を製造するためのＩＬ−１７活性阻害剤の使用。
【請求項２】
前記阻害剤が小分子（ＮＣＥ）である、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記阻害剤が核酸である、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
前記阻害剤が抗体、又は機能的に活性なその断片若しくは誘導体である、請求項１に記載の使用。
【請求項５】
前記抗体又はその断片が、モノクローナル、ポリクローナル、キメラ、ヒト化、又は二重特異性である、請求項４に記載の使用。
【請求項６】
前記抗体の断片が、Ｆａｂ、Ｆａｂ’、Ｆ（ａｂ’）２、ｓｃＦｖ、又はこれらのエピトープ結合性断片である、請求項４又は５に記載の使用。
【請求項７】
前記抗体又はその断片が１つ又は複数のエフェクター分子に複合している、請求項４から６までのいずれか一項に記載の使用。
【請求項８】
前記抗体又はその断片がＩＬ−１７に結合する、請求項４から７までのいずれか一項に記載の使用。
【請求項９】
前記抗体又はその断片がＩＬ−１７Ｒに結合する、請求項４から７までのいずれか一項に記載の使用。
【請求項１０】
ＩＬ−１７活性阻害剤を含む、多発性硬化症（ＭＳ）を治療し且つ／又は予防するための医薬組成物。
【請求項１１】
前記阻害剤が小分子（ＮＣＥ）である、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記阻害剤が核酸である、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記阻害剤が抗体、又は機能的に活性のあるその断片若しくは誘導体である、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記抗体又はその断片が、モノクローナル、ポリクローナル、キメラ、ヒト化、又は二重特異性である、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記抗体断片が、Ｆａｂ、Ｆａｂ’、Ｆ（ａｂ’）２、ｓｃＦｖ、又はこれらのエピトープ結合性断片である、請求項１３又は１４に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記抗体又はその断片が１つ又は複数のエフェクター分子に複合している、請求項１３から１５までのいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
前記抗体又はその断片がＩＬ−１７に結合する、請求項１３から１６までのいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
前記抗体又はその断片がＩＬ−１７Ｒに結合する、請求項１３から１６までのいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
前記ＩＬ−１７活性阻害剤を、１つ又は複数の他の治療上有効な化合物と組み合わせる、請求項１０から１８までのいずれか一項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月24日(2007.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式(ＩＩ)：
【化１】
2007511581.tif 000001
［式中、Ｍは水素原子であるか、またはアルカリもしくはアルカリ土類金属のカチオン、オニウムカチオンである］
の化合物を、次式(ＩＩＩ)：
Ｏ2ＮＯ-Ｘ-ＣＯＹ (ＩＩＩ)
［ここで、ＹはＯＨ、Ｃｌ、ＯＣＯＯＲ、ＯＣＯ-Ｘ-ＣＯＹ (ここで、ＲはC1-C6アルキルである)であり、Ｘは下記で定義したとおりである］
の化合物と反応させることからなる、次式(Ｉ)：
【化２】
2007511581.tif 000002
［式中、Xは、直鎖または分枝鎖状のC1-C20-アルキレン鎖である］
の製造方法。
【請求項２】
Ｘが、直鎖または分枝鎖状のC1-C6 アルキレン鎖である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｘがプロピレン鎖である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ＹがＯＨであり、Ｍが水素原子である請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
反応が、双極性非プロトン性溶媒中、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)；またはDCCおよびアミノピリジン；アンバーリスト-15；ジエチルアゾジカルボキシレートおよびトリフェニルホスフィンから選択される脱水剤の存在下に行なわれる請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ＭがＮａまたはＫであり、ＹがＣｌである請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
反応が、テトラヒドロフラン、ジオキサン、tert-ブチルメチルエーテルから選択される双極性非プロトン性溶媒中で行なわれる請求項６に記載の方法。
【請求項８】
Ｍがオニウムカチオンであり、ＹがＣｌである請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】
オニウムカチオンが、テトラアルキルアンモニウムまたはテトラアルキルホスホニウムから選択され、かつ反応が、トルエン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、tert-ブチルメチルエーテルから選択される非プロトン性溶媒中で行なわれる請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｉ
【化１】
2007511582.tif 000001
［式中、Ｒ１は、フェニル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基、この場合、これは、場合によってはフェニル環中でＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシまたはハロゲンにより置換されていてもよい、あるいは、ナフチルＣ１〜Ｃ４−アルキル基を示し、
Ｒ２は、水素または生物学的不安定性エステルを形成する基を意味し、かつ、
Ｒ３は、水素または生物学的不安定性エステルを形成する基を意味する］の化合物および／または式Ｉの酸の生理学的認容性の塩、および／またはこれらの生理学的認容性の溶媒和物を含有する、大型ほ乳類またはヒト患者における、タンパク尿、尿アルブミン排出および／または腎臓瘢痕化を含むネフロパシーを治療および／または予防するための、医薬組成物。
【請求項２】
ネフロパシーが、糖尿病由来である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
ネフロパシーの治療および／または予防を、増大した心臓血管リスクを示す大型ほ乳類またはヒト患者において、特にシンドロームＸの患者において、および好ましくは腎不全、腎疾患および／または腎障害を有する患者であってさらに高血圧、肥満、高血糖および／または代謝障害を有する患者においておこなう、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
Ｒ２および／またはＲ３が生物学的不安定性エステルを形成する基を意味する、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
生物学的不安定性エステルを形成する基が、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基、またはフェニルまたはフェニル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基、特にフェニル、ベンジルまたはインダニルであり、この場合、これらは場合によっては、フェニル環中で、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたは２個の隣接する炭素原子と結合したＣ３〜Ｃ４−アルキレン鎖により置換されている、あるいは、ジオキソラニルメチル基、特に（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチルであり、この場合、これらは、場合によってはジオキソラン環中で、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基により置換されている、あるいは、Ｃ２−Ｃ６−アルカノイルオキシメチル基であり、この場合、これらは、場合によってはオキシメチル基上でＣ１〜Ｃ４−アルキル基により置換されている、請求項１から４までのいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
Ｒ２が生物学的不安定性エステルを形成する基であり、かつＲ３が水素である、請求項１から５までのいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
（３Ｓ，２’Ｒ）−３−｛１−［２’−（エトキシカルボニル）−４’−フェニルブチル］−シクロペンタン−１−カルボニルアミノ｝−２，３，４，５−テトラヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−１−ベンズアゼピン−１−酢酸またはこれらの生理学的認容性の塩を使用する、請求項６に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月11日(2007.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2007511546.tif 000001
式中、ｍは、０または１であり、ＹおよびＺは、独立して、Ｈ、ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ４直鎖状もしくは分枝状アルキルまたはＣ１〜Ｃ４直鎖状もしくは分枝状アルコキシからなる群から選択され、Ｘは、（ＣＨ２）ｎ−Ｒであり、ここで、ｎは、０または１であり、Ｒは、非結合電子を有する基であり、ただし：
（ａ）ＹおよびＺがＨである場合、Ｘは、４位においてＦ、ＯＨ、ＭｅＯまたはＮＯ２ではなく、２または６位においてＯＨではなく、
（ｂ）ＹまたはＺがＨである場合、Ｘ、ＹおよびＺは、
（ｉ）３および４位における基は、共にＯＭｅではなく、
（ｉｉ）４および５位における基は、共にＯＭｅではなく、
（ｉｉｉ）４位における基がＯＨである場合には、３および５位における基はＯＭｅではなく、
（ｉｖ）４位における基がメチルである場合には、３および５位における基はＯＨではない
ようになっている、
で表される化合物。
【請求項２】
Ｘが４位にある、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物を含む製品を適用することによって、口または皮膚に冷却効果を提供する方法。