(57)【要約】【課題】    粘性が低くブレードの移動が良好で流動性がありながら、リブ状物を形成した際に保形性の高いペーストを提供する。【解決手段】  基板表面１０に形成されたペースト膜１１にブレード１２を突き刺して移動しリブ状物１３を形成可能なペーストであって、  ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％と、１種類以上の溶剤を３〜６０重量％を含み、弾性率が４×１０４〜１×１０５Ｐａである。【選択図】  図１
2006001830.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面に形成されたペースト膜にくし歯を有するブレードを突き刺し、前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、前記ペースト膜を塑性変形させて、前記基板表面にリブ状物を形成可能なペーストであって、
前記ペーストは、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％と、１種類以上の溶剤を３〜６０重量％を含み、
前記ペーストの弾性率が、４×１０４〜１×１０５Ｐａであることを特徴とするペースト。
【請求項２】
可塑剤又は分散剤の少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項１記載のペースト。
【請求項３】
請求項１または２記載のペーストを用いて形成されたセラミックリブを備えたことを特徴とする背面パネル。
【請求項４】
請求項１または２記載のペーストを用いて形成されたセラミックリブを備えたことを特徴とするプラズマディスプレイモジュール。
【請求項５】
請求項１または２記載のペーストを用いて形成されたセラミックリブを備えたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１または２に記載のペーストの弾性率を指標として、このペーストを用いて形成された前記リブ状物の形状を推定することを特徴とするペーストの品質管理方法。
【請求項７】
請求項１または２に記載のペーストの製造方法であって、
前記ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末と前記樹脂と前記溶剤とを調整する工程を有することを特徴とするペーストの製造方法。
【請求項８】
請求項１または２記載のペーストの弾性率と、前記ペーストを用いて形成されたリブ状物における形状比（リブ高さ／リブ底部幅）としての保形指数と、の相関関係を最小二乗法により近似式を求め、この近似式をもとに、新たに作成された請求項１または２記載のペーストの弾性率を測定し、このペーストより得られるリブ形状を推定することを特徴とするペースト品質管理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＤＰ（plasma display pane1: プラズマデイスプレイパネル）、ＰＡＬＣ（plasma addressed liquid crystal display）等のＦＰＤ（Flat panel display）の製造工程におけるリブ状物（ceramic capillary rib）を形成するためのペースト及びその製造方法並びにそれ用いたリブ状物の形成方法、更にこのリブ状物から作られたセラミックリブ並びにこのセラミックリブを有するＦＰＤに用いて好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、セラミックリブは、ガラス基板上に、ペーストを塗布してペースト膜にした後、この状態でペースト膜にブレードをつき刺し、このブレードをペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、ペースト膜を塑性変形してリブ状物が形成される。（特許文献１）
【０００３】
上記のペーストは塑性変形によってリブ状物を形成可能に構成される。このペーストはガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を３０〜９５重量％と、樹脂を０．３〜１５重量％と、溶剤と可塑剤と分散材を３〜７０重量％とを含むものである。
【特許文献１】特許第３３８７８３３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
これまでペーストの成型性を調べる方法として、直接的には、実際に成型を行い、得られたリブ保形性を測定する方法と、間接的には、粘度計を用いてペーストの粘度を測定を行い、これまでの測定値と比較し、その結果からリブ保形性を予測する方法があった。しかしながら、実際にリブ成型を行う方法では、簡便且つ迅速にデータを得ることが困難であり、また、ペーストの粘度を測定する方法では、測定値の偏差（ばらつき）が大きく、正確にペースト粘度からリブ保形性を予測することが、困難であった。このため、ペーストの製造管理を行う際に、簡便且つ迅速で、正確にロット管理を行うことが困難であるという問題があった。
そこで、本発明者らは、ペーストの物性を鋭利研究したところ、粘性の他にペーストの弾性率が保形性に関与していることを見出した。
【０００５】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、粘性が低くブレードの移動が良好で流動性がありながら、リブ状物を形成した際に保形性の高いペーストを提供するとともに、このペーストから作られたセラミックリブ並びにセラミックリブを有するＦＰＤを提供することを目的とする。
【０００６】
さらに、本発明は、粘性が低くブレードの移動が良好で流動性がありながら弾性率が高く、リブ状物を形成した際に保形性の高いペーストの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のペーストは、基板表面に形成されたペースト膜にくし歯を有するブレードを突き刺し、前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、前記ペースト膜を塑性変形させて、前記基板表面にリブ状物を形成可能なペーストであって、
前記ペーストは、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％と、１種類以上の溶剤を３〜６０重量％を含み、
前記ペーストの弾性率が、４×１０４〜１×１０５Ｐａであることにより上記課題を解決した。
本発明は、可塑剤又は分散剤の少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。
本発明の背面パネルは、上記のペーストを用いて形成されたセラミックリブを備えたことができる。
本発明のプラズマディスプレイモジュールは、上記のペーストを用いて形成されたセラミックリブを備えたことができる。
ここで、ディスプレイモジュールとは、このセラミックリブを備えた背面パネルと前面パネルより構成されたＰＤＰパネルに駆動回路などを加えたものである。
上記リブ状物の形成方法としては、前記ペーストを前記基板表面に塗布してペースト膜を形成する工程と、
前記ペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し、前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより前記ペースト膜を塑性変形させて前記基板表面にリブ状物を形成する工程と、を有することができる。
また、本発明のペーストの製造方法は、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末と
、樹脂と、溶媒とを攪拌・混合し、混練する工程を有することができる。
本発明のペーストの製造方法は、上記のペーストの製造方法であって、
前記ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末と前記樹脂と前記溶剤とを調整する工程を有することを特徴とする。
本発明のペーストの品質管理方法は、上記のペーストの弾性率を指標として、このペーストを用いて形成された前記リブ状物の形状を推定することを特徴とする。
本発明のペーストの品質管理方法は、上記のペーストの弾性率と、前記ペーストを用いて形成されたリブ状物における形状比（リブ高さ／リブ底部幅）としての保形指数と、の相関関係を最小二乗法により近似式を求め、この近似式をもとに、新たに作成されたペーストの弾性率を測定し、このペーストより得られるリブ形状を推定することを特徴とする。
【０００８】
本発明のセラミックリブを形成するためのペーストは、粉体リッチな状態にペーストを調製してその弾性率を４×１０４〜１×１０５Ｐａとすることにより、製造中のペーストの粘度を量産設備が使用可能な範囲まで低下でき、ブレード成形に充分な流動性をもたせることができるため、量産レベルでのペースト製造が可能となる。同時に、ブレード成型中、ペーストはブレードから受けるせん断応力により、ブレード開口形状に従って塑性変形しリブを形成するとともに、成型直後にはブレードからのせん断応力が除去されるが、上記の範囲の弾性率とされて高保形性を有するため、"ダレ"を抑制し、形成されたリブの形状が変化することなく、保持され、狭ピッチ・高アスペクト比のリブを得ることができる。
更に、ブレード成型中は、上記の範囲の弾性率を有するため、ブレードの走行に対して反力を及ぼすことなく一定の走行速度でのリブ成型が可能となり、基板内でのリブ高さの偏差（バラツキ）を縮小することができる。
従って、粘性が低いことによりブレード成形における作業効率を向上することが可能でかつ、リブ成物の成形精度を向上することが可能となるとともに、保形性が高く、寸法精度の要求に対して充分応えられるリブ状物を形成することができることになる。
【０００９】
さらに、本発明において「弾性率」とは、後述するように、ペーストに一定の応力を加えて開放するクリープ・リカバリー測定を行ったときの静的弾性率をいう。
ここで、ペーストの弾性率が４×１０４Ｐａより低い場合には、所定のブレードを用いて形成されたリブ状物の保形性が低くなるため、所望のリブ高さが得られないため好ましくなく、ペーストの弾性率が１×１０５Ｐａより高い場合には、ペーストの粘度が高くなりすぎるため、ブレードの開口部をペーストが通り抜けることが困難となり、リブ状物が形成されないため好ましくない。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ペーストが上記の範囲の弾性率を有することにより、粘性が低くブレードの移動が良好で流動性がありながら、リブ状物を形成した際に保形性の高いペーストとし、ブレード成形における作業効率を向上することが可能でかつ、リブ成物の成形精度を向上することが可能となるとともに、保形性が高く、寸法精度の要求に対して充分応えられるリブ状物を形成でき、保形性を維持したまま焼成するため、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）において、パネル特性を向上することができるという効果を奏することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
次に、本発明に係るセラミックリブを形成するためのペーストの第１実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１２】
図１に示すように、本実施形態においては、所定の形状を有するリブ状物１３が、基板１０の表面にペーストを塗布して形成されたペースト膜１１に、ブレード１２に形成されたくし歯１２ｂをつき刺し、ブレード１２のエッジ１２ａを基板１０表面に接触させた状態でブレード１２または基板１０を一定方向に移動することにより基板１０表面に形成される。
【００１３】
ペーストは、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末と、樹脂と、溶媒（溶剤と可塑剤と分散剤）と、を含むペーストであり、ガラス粉末はＳｉＯ２，Ｂ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＰｂＯ等を主成分として、その軟化点が３００℃〜６００℃とされていることが好ましい。
【００１４】
ガラス・セラミック混合粉末とはＳｉＯ２，Ｂ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＰｂＯ等を主成分とするガラス粉末と、フィラー（骨材）の役割を果すアルミナ，ジルコン，マグネシア，コージェライト，ムライト，フォルステライト等と白色顔料としての役割を果たすチタニア，マグネシア等のセラミック粉末とを含むものであり、また、このセラミック粉末は形成されるリブ１３の熱膨張係数をガラス基板１０の熱膨張係数と均等にするため、及び焼成後のセラミックリブの強度を向上させるため、更に、リブの可視光反射率を高めるために混合される。
【００１５】
セラミック粉末は６０容積％以下が好ましい。セラミック粉末が６０容積％以上になるとセラミックリブが多孔質になり好ましくない。なお、ガラス粉末及びセラミック粉末の粒径はそれぞれ０．１〜３０μｍであることが好ましい。ガラス粉末及びセラミック粉末の粒径が０．１μｍ未満であると凝集しやすくその取扱いが煩雑となる。また、３０μｍを越えると後述するブレード１２成形時に所望のリブ１３が形成できなくなる不具合がある。
【００１６】
樹脂としては、バインダーとしての機能を有し、熱分解しやすく、溶剤に溶けて高粘度を有するポリマーであって、セルロース系樹脂（エチルセルロース，メチルセルロース等）、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート等等）などが挙げられる。
【００１７】
溶剤としては、アルコール系、エーテル系、あるいはエステル系等の溶剤が好ましい。ペーストは上述した粉末、樹脂と、溶剤からなるが、必要である場合これらを主成分として、これら以外に、可塑剤及び分散剤を含ませることもできる。可塑剤としてはグリセリン、ジブチルフタレート等が挙げられる。
【００１８】
更に、分散剤としては、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンジアルキルフェニルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸、ポリオキシフェニルエーテルリン酸、ラウリルリン酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオレイルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸カリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸トリエタノールアミン、オクチルフェノキシジエトキシエチルスルホン酸ナトリウム、テトラデセンスルホン酸ナトリウム、ポリエーテルポリカルボン酸、エステルエーテルポリカルボン酸等の分散剤が挙げられる。
【００１９】
ペーストは、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％と、樹脂を０．１〜１５重量％と、溶媒（溶剤と可塑剤と分散剤）を３〜６０重量％とをそれぞれ配合して調製してその弾性率を４×１０４〜１×１０５Ｐａとされる。ここで、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％の範囲に限定したのは、５０重量％未満ではブレードを用いて所定の形状のリブ状物を得るのが困難になり、９７重量％を越えると基板表面にペーストを均一に塗布することが困難になるからである。
【００２０】
上記のペーストの製造時には、その調整工程として、バタフライミキサーでの、混合時間及び、混合時の温度を所定の範囲内で行い、更に、3本ロールミル混練では、混練時の温度を１０〜２０℃の範囲で、且つ、パス回数、ロールのギャップを所定の条件にて行うことにより、適度な分散状態にすることが可能となる。
【００２１】
ここで、上記の弾性率は、次のように測定したものと規定する。
まず、その前処理として、遠心攪拌脱泡装置（泡取り練太郎ＡＲ−２５０、シンキー社製）を用いて、脱泡モードにてペーストを５０〜１００ｇ、１分間処理を行う。
次に、弾性率の測定には、レオメータ（AR1000、ＴＡインストルメント社製）を用いて、測定子には直径２０ｍｍのスチールプレートを使用する。測定ステージの温度は２５℃に、また、測定子とステージとのギャップは５００μｍに設定し、また、測定ステージの上に、上記の前処理したペーストを約１０ｇ載せ、測定子を所定のギャップに調整し、測定子よりはみ出したペーストはスパチュラ等で除去してから測定を開始する。
【００２２】
実際の弾性率測定条件としては、測定子に回転方向に１００Ｐａの応力を２分間加え、その時のペーストの変形量（クリープ）を測定した後、応力をゼロにしてさらに２分間、その時のペーストの戻りの変形量（クリープ・リカバリー）を測定するものとする。
【００２３】
測定データの解析には、クリープ・リカバリー測定の開始から１．０×１０−３分後のデータを、レオメータ附属の解析ソフトにある近似式のうち、Jeffreys-underdamped ringingの式を用いて、０〜５×１０−４分、５×１０−４〜１．０×１０−３分、０〜１．０×１０−３分の３つの測定範囲について解析を行い、各々の弾性率を求め、この弾性率のなかから上記近似式との誤差が最も少ない測定範囲より得られた値を弾性率として採用する。
測定は、合計３回行い、それらの算術平均値を求め、最終的な弾性率とする。
【００２４】
上記のJeffreys-underdamped ringingの式を、式（１）で表す。
【数１】
2006001830.tif 000003
ここで、
Ｊ（ｔ）：コンプライアンス（ｍ２／Ｎ）
Ｇ：弾性率（Ｐａ）
ω：角周波数
ｎ１，ｎ２：粘度（Ｐａ・ｓ）
ａ：定数
であり、図８に示すようにモデルを考える。
【００２５】
このように測定したペーストの弾性率が４×１０４Ｐａより低い場合には、所定のブレードを用いて形成されたリブ状物の保形性が低くなるため、所望のリブ高さが得られない
ため好ましくなく、ペーストの弾性率が１×１０５Ｐａより高い場合には、ペーストの粘度が高くなりすぎるため、ブレードの開口部をペーストが通り抜けることが困難となり、リブ状物が形成されないため好ましくない。
【００２６】
樹脂を０．１〜１５重量％の範囲に限定したのは、０．１重量％未満ではブレードを用いて所定の形状のリブ状物を得るのが困難になり、１５重量％を越えると基板表面にペーストを均一に塗布することが困難になり、かつ焼成後のセラミックリブ内に有機物が残存するという不具合があるからである。
【００２７】
また溶媒を３〜６０重量％の範囲に限定したのは、３重量％未満では基板表面にペーストを均一に塗布することが困難になるからであり、６０重量％を越えるとブレードを用いて所定の形状のリブ状物を得るのが困難になるからである。
【００２８】
ペーストを上記の弾性率を有するように調整することにより、ブレード成型中、ペーストはブレードから受けるせん断応力によりブレード開口形状に従って容易に塑性変形し、リブ状物を形成する。成形直後には、ブレードからのせん断応力が除去されるため、形成されたリブ形状が変化することなく、保持され、狭ピッチ・高アスペクト比のリブ状物を得ることができる。更に、ブレード成型中は、ペーストの弾性率が上記の範囲程度となっているため、ブレードの走行に対して悪影響を及ぼすことなく一定の走行速度でのリブ成形が可能となるため、基板内でのリブ高さ偏差(バラツキ)を縮小することができる。
【００２９】
ここで、本実施形態におけるペーストの品質管理方法について説明する。
図７に示したように、弾性率と保形指数(保形性)の間には１次の比例関係があり、保形指数の仕様値を所定の範囲に指定すると一義的に弾性率の範囲が指定される。このようにして指定された弾性率の範囲をペーストの管理値とする。上記に記載された方法により製造されたペーストの１バッチを１ロットとし、各ロット毎に上記に記載された方法により
弾性率の測定を行い、指定の管理値の範囲内にあるペーストを良品、範囲外のペーストを不良品とする。
【００３０】
セラミックペーストの基板１０表面への塗布は、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、ディップ法、テーブルコーター法又はドクタブレード法等の既存の手段により行われる。次いでこのペースト膜１１をブレード１２により塑性変形させて所定形状を有するリブ状物１３を形成する。このリブ状物１３は変形した後の形状に保たれ、かつリブ状物１３にはガラス粉末等が均一に分散されている。
【００３１】
このペースト膜１１の形成された基板１０表面に接触させるブレード１２には複数のくし歯１２ｂが等問隔にかつ同一方向に形成される。このブレード１２はペーストとの反応やペーストに溶解されることのない金属、セラミック又はプラスチック及びこれらの複合物質等により作られ、特に、寸法精度、耐久性の観点からＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏを含む合金もしくはＣｏ、Ｎｉ中にタングステンカーバイト等のセラミックを分散させた超硬合金やセラミックが好ましい。それぞれのくし歯１２ｂの隙問はこのブレード１２により形成されるリブ状物１３の断面形状に相応して形成される。
本実施形態におけるブレード１２は、図３および図４に示すように、厚さｔ、くし歯のピッチＰ、くし歯の隙間ｗ、その深さｈが所定の値のステンレススチールもしくは超硬合金により形成される。
【００３２】
ここで、ブレード１２は、厚さが０．００５ｍｍ以上５ｍｍ以下であって、くし歯のピッチをＰとし、くし歯の隙間をｗ、その隙間の深さをｈとするとき、０．０５≦ｈ≦５．０ｍｍで、０．０３ｍｍ≦ｗ≦３．０ｍｍであることが好ましい。これらの条件を満たすブレード１２により形成されたリブ状物１３は、その後の乾燥及び焼成により引き締り、所望のリブの隙間を有する緻密なセラミックリブ１４を得ることができる。
また、くし歯１２ｂの隙間の形状は図３に示すように方形状に形成する場合のみならず、最終的に作られるＦＰＤの用途によりくし歯１２ｂの隙間の形状を台形状又は逆台形に形成してもよい。くし歯１２ｂの隙間の形状を台形にすれば、開口部を広くした用途に適したリブ状物１３を形成することができ、くし歯１２ｂの隙間の形状を逆台形にすれば、リブの頂部が広い面積で平坦化したリブ状物１３を形成することができる。
【００３３】
図１に示すように、このように構成されたブレード１２によるリブ状物１３の形成は、ブレード１２のくし歯１２ｂをペースト膜１１につき刺し、エッジ１２ａを基板１０表面に接触させた状態で、基板１０を固定して図１の実線矢印で示すようにブレード１２を一定方向に移動するか、またはブレード１２を固定して図１の破線矢印で示すように基板１０を一定方向に移動させてペースト膜１１を塑性変形させることにより行われる。すなわち、ブレード１２の相対移動により基板１０表面に塗布されたぺーストのくし歯１２ｂに対応する箇所は、くし歯１２ｂの隙間に移動するかもしくは掃き取られ、くし歯１２ｂの隙間に位置するペーストのみが基板１０上に残存して基板１０表面にリブ状物１３が形成される。くし歯の溝の深さがペースト膜１１の厚さより大きい場合にはブレード１２またはガラス基板１０を移動するときに掃き取られたペーストが溝に入り込みペースト膜１１の厚さ以上の高さを有するリブ状物１３を形成できる。
この所定形状を有するリブ状物１３を形成した後、大気中１００〜２００℃で１０〜３０分間乾燥し、さらに、大気中５２０〜５８０℃で１０〜３０分問焼成することにより、図２に示すセラミックリブ１４を得る。
このセラミックリブを用いて図示しないＰＤＰを作製することができる。
【００３４】
上述のようにして基板１０上に形成されたセラミックリブ１４は、図２の拡大した円内に示すように、リブ１４の高さをＨとし、高さ（１／２）Ｈのところのリブ１４の幅をＷＣ  とするとき、Ｈ、およびＷＣ  の標準偏差がそれぞれ４％以下であって、Ｈ／ＷＣ  で表されるアスペクト比が０．８〜５であることが好ましい。リブピッチが小さくかつアスペクト比が０．８〜５であることにより、極めて高精細なセラミックリブ１４を得ることができる。
【００３５】
本実施形態のペーストにおいては、４×１０４〜１×１０５Ｐａの弾性率を有するように調整することにより、ブレード成型中、ペーストはブレードから受けるせん断応力によりブレード開口形状に従って容易に塑性変形し、リブ状物を形成する。成形直後にブレードからのせん断応力が除去された際、４×１０４〜１×１０５Ｐａ形成されたリブ形状が変化することなく、保持され、狭ピッチ・高アスペクト比のリブ状物を得ることができる。更に、ブレード成型中は、ペーストの弾性率が上記の範囲程度となっているため、ブレードの走行に対して悪影響を及ぼすことなく一定の走行速度でのリブ成形が可能となるため、基板内でのリブ高さ偏差(バラツキ)を縮小することができる。
本実施形態のペーストにおいては、つまり、弾性率を４×１０４〜１×１０５Ｐａとすることで、粘性が低いにも関わらずリブ状物を形成した際に高い保形性を維持し、"ダレ"を抑制することができる。また、ペーストを上記のようにすることにより、ブレードを用いてリブ状物を形成するのが容易となり、また、基板表面にペーストを均一に塗布することができる。
【００３６】
本実施形態のＰＤＰは、上記セラミックリブをリア基板（背面パネル）上に設けた構成からなる。このセラミックリブからなる仕切りに蛍光体を塗布し、このリア基板とフロント基板とを接着させた後、リブ空間内に希ガスを充填させてＰＤＰを作製する。
【００３７】
以下、本発明に係るセラミックリブを形成するためのペーストの第２実施形態を図面に基づいて説明する。
【００３８】
図５および図６において図１および図２と略同一の構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。
【００３９】
この実施の形態では、上記第１の実施の形態と同様に基板１０の表面に形成されたペースト膜１１にブレード１２のくし歯１２ｂをつき刺し、ブレード１２のエッジ１２ａを基板１０表面から所定の高さ浮上した状態でブレード１２又は基板１０を一定方向に移動してペースト膜１１を塑性変形させることにより、基板１０表面に下地層２２とこの下地層２２上に所定形状を有するリブ状物２３が形成される。ペーストの成分・特性及びペーストの塗布方法は上記第１の実施の形態と同一に構成される。
【００４０】
ブレード１２によるリブ状物２３の形成は、図５に示すように、ブレード１２のエッジ１２ａをペースト膜１１を形成した基板１０表面から所定の高さ浮上した状態で基板１０を固定して実線矢印で示すようにブレード１２を一定方向に移動するか、またはブレード１２を固定して破線矢印で示すように基板１０を一定方向に移動させることによりおこなわれる。
この移動により基板１０表面から所定の高さまでのペーストは基板表面上に残存して下地層２２を形成し、この下地層２２より上方のペーストにおいては、ブレード１２のくし歯１２ｂに対応する箇所がくし歯１２ｂの隙問に移動するかもしくは掃き取られ、くし歯１２ｂの隙問に位置するペーストのみが下地層２２上に残存して下地層２２上に所定形状を有するリブ状物２３が形成される。
【００４１】
次に、上記下地層２２およびリブ状物２３から、上記第１実施形態における方法と同様にして、図５に示す基板１０上に絶縁下地層２４が形成され、この絶縁下地層２４上にセラミックリブ２５が形成される。
絶縁下地層２４上に形成されたセラミックリブ２５は、図６の拡大した円内に示すように、リブ２５の高さをＨとし、高さ（１／２）Ｈのところのリブ２５の幅をＷＣ  とするとき、Ｈ、およびＷＣ  の標準偏差がそれぞれ４％以下であって、Ｈ／ＷＣ  で表されるアスペクト比が０．８〜５であることが好ましい。リブピッチが小さくかつアスペクト比が０．８〜５であることにより、極めて高精細なセラミックリブ２５を得ることができる。
【００４２】
本実施形態においては、上記の第１実施形態と同様の効果を奏することが可能となる。
【実施例】
【００４３】
以下、実施例により、本発明をさらに詳しく説明する。本発明は、下記実施例に何ら制限されるものではない。
【００４４】
［実施例］
〈ペーストの作製〉
平均粒径１μｍのＰｂＯ−ＳｉＯ２一Ｂ２Ｏ３系ガラス粉末を８０質量％と、セラミックフィラーとして平均粒径１μｍのアルミナ粉末を１０質量％、平均粒径１μｍのチタニア粉末を１０質量％とを混合した。この混合粉末と、樹脂としてのエチルセルロースと、溶剤としてのジエチレングリコールジブチルエーテルと分散剤としてのポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸を重量比で８６／１／９／４の割合に配合して、バタフライミキサー及び３本ロール装置で混練してペーストを作製した。
【００４５】
【表１】
2006001830.tif 000004
【００４６】
次に、図１に示すように、対角寸法が４２インチであって、厚さが３ｍｍの長方形のソーダライム系ガラス基板１０を固定した状態で、このガラス基板１０上に上記ペーストをロールコーターにより、厚さ２００μｍで塗布してペースト膜１１を形成した。
【００４７】
くし歯１２ｂのピッチＰが３６０μｍであって、くし歯１２ｂの隙間ｗが１８０μｍ、その深さｈが２４０μｍ、先端厚さｔが０．０５ｍｍの超硬合金により形成されたブレード１２を用意した。（図３および図４）
【００４８】
ペーストを塗布してから、ガラス基板１０を固定したまま、このブレード１２のくし歯１２ｂをペースト膜１１に突き刺し、そのエッジ１２ａをガラス基板１０に接触させた状態で、図１の実線矢印で示す方向にブレード１２を一定方向に移動してペースト膜１１を塑性変形させることにより、基板１０表面にリブ状物１３を形成した。その後、リブ状物１３を大気中１５０℃で２０分間乾燥して溶剤を揮発させ、更に大気中５５０℃で１０分間焼成してセラミックリブ１４とした。このセラミックリブ１４を実施例とした。
【００４９】
〈評価〉
作製したペーストの弾性率を測定するために、上述のクリープ・リカバリー測定をおこなった。また、同時に粘度を測定した。
さらに、電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、リブ状物又はセラミックリブの高さ（Ｈ又はｈ）と幅（Ｗ又はｗ）を測定して、保形指数（Ｈ／Ｗ）又はアスペクト比（ｈ／ｗ）を求めた。
【００５０】
得られた弾性率（Ｐａ）、保形指数をそれぞれ表１に示す。
【００５１】
［比較例］
弾性率が４×１０４〜１×１０５Ｐａでないこと以外は実施例１と同様にして、ペーストとリブ状物とセラミックリブを作製した。その範囲を表１に示す。
また、実施例１と同様にして、弾性率、粘度、保形指数、アスペクト比を測定した。これらの弾性率、保形指数を表１に示す。
【００５２】
このことから、本発明のペーストは、粘性が低いにもかかわらず、弾性率が高く、リブ状物を形成した際の保形指数、セラミックリブを形成した際のアスペクト比が高いことが確認された。
【００５３】
実施例と比較例で求めた弾性率（Ｐａ）と保形指数との関係を図７に示す。図から、弾性率と保形指数との間には相関関係があることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明に係るセラミックリブを形成するためのペーストの第１実施形態におけるセラミックキャピラリリブの形成状態を示す斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面におけるセラミックキャピラリリブを乾燥、加熱及び焼成することにより得たセラミックリブを示す断面図である。
【図３】そのブレードの正面図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ線断面図である。
【図５】本発明に係るセラミックリブを形成するためのペーストの第２実施形態におけるセラミックキャピラリリブの形成状態を示す図１に対応する斜視図である。
【図６】図５のＢ−Ｂ線断面におけるセラミックキャピラリ層付リブを乾燥、加熱及び焼成することにより得た絶縁層付セラミックリブを示す図２に対応する断面図である。
【図７】本発明の実施例におけるペーストの弾性率と保形指数Ｈ／Ｗとの関係を示すグラフである。
【図８】本発明の弾性率測定における粘弾性体モデルを示す図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０  ガラス基板
１１  ペースト膜
１２  ブレード
１２ａ  エツジ
１２ｂ  くし歯
１３，２３  リブ状物
１４，２５  セラミックリブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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