Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月9日(2007.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｐＨ７未満の溶液と、
前記溶液と接触し、コロイド状であるかまたは表面積／体積比少なくとも２９８，０００，０００ｍ２／ｍ３  を有する第1の金属と、
イオン状または固体状の第２の金属と、
を含む水素を生成する装置。
【請求項２】
前記第１の金属が前記第２の金属より反応性が低い、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の金属が前記第２の金属より反応性が高い、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
さらにコロイド状であるかまたは表面積／体積比少なくとも２９８，０００，０００ｍ２／ｍ３  を有する第３の金属を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記第３の金属が前記第２の金属より反応性が高い、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
さらに前記溶液を含むための容器を含み、前記容器が前記溶液に対して不活性である、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第１の金属が、銀、金、白金、スズ、鉛、銅、亜鉛、鉄、アルミニウム、マグネシウム、ベリリウム、ニッケルまたはカドミウムである、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記第２の金属が、鉄、アルミニウム、マグネシウム、ベリリウム、スズ、鉛、ニッケルまたは銅である、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
さらにエネルギー源を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記エネルギー源がヒータ、光源または前記溶液と電気的に接触しているアノードとカソードの間に印加される電位である、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
さらに酸を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記酸が、硫酸、塩酸、臭化水素酸、硝酸、ヨウ化水素酸、過塩素酸または塩素酸である、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
コロイド状であるかまたは表面積／体積比少なくとも２９８，０００，０００ｍ２／ｍ３  を有する第１の金属をｐＨ７未満の溶液中に懸濁させるステップと、
固体状またはイオン状の第２の金属を前記懸濁液中に導入するステップと
を含む水素を生成する方法。
【請求項１４】
前記第１の金属が前記第２の金属より反応性が低い、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の金属が前記第２の金属より反応性が高い、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
さらにコロイド状であるかまたは表面積／体積比少なくとも２９８，０００，０００ｍ２／ｍ３  を有する第３の金属を前記溶液中に導入するステップを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
さらにエネルギーを前記溶液に供給するステップを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
さらに酸素ガスを生成するステップを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
さらに前記非コロイド状金属を酸化することおよび還元することをともに含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月15日(2007.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2007502767.tif 000001
［式中、
Ｒ１＝水素、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル基、脂環式Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基、置換または非置換のＣ６〜Ｃ１４−アリール基、
ｍ＝２〜４、
ｎ＝１〜２５０、
【化２】
2007502767.tif 000002
Ｙ＝ＯまたはＮＲ２、
Ｒ２＝水素、Ｃ１〜１２−アルキル基、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール基、
【化３】
2007502767.tif 000003
ｍ′＝１〜４、
ｎ′＝０〜２
を表す］のビニル系ポリ（アルキレンオキシド−）化合物（Ａ）と一般式（ＩＩ）
【化４】
2007502767.tif 000004
［式中、
Ｒ３＝Ｈ、ＣＨ３、ＣＯＯＨまたはその塩、ＣＯＯＲ７またはＣＯＮＲ７Ｒ７、
Ｒ４＝Ｈ、置換または非置換のＣ６〜Ｃ１４−アリール基、
Ｒ５＝Ｈ、ＣＨ３、ＣＯＯＨまたはその塩、ＣＯＯＲ７、ＣＯＮＲ７Ｒ７、置換または非置換のアリール基、またはＯＲ８、ＰＯ３Ｈ２、ＳＯ３Ｈ、ＣＯＮＨ−Ｒ９、
Ｒ６＝Ｈ、ＣＨ３またはＣＨ２ＣＯＯＲ７、
Ｒ７＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２−ヒドロキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキルホスフェートまたは−ホスホネートおよびその塩、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキルスルフェートまたは−スルホネートおよびその塩、
【化５】
2007502767.tif 000005
Ｒ８＝アセチル並びに
Ｒ９＝Ｃ１〜Ｃ１２−アルキルホスフェートまたは−ホスホネートおよびその塩、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキルスルフェートまたは−スルホネートおよびその塩、
Ｒ３およびＲ５は一緒になって−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
を表す］のエチレン系不飽和モノマー化合物（Ｂ）とを“接触連鎖移動（ＣＣＴ）”−法によりラジカル共重合することにより得られるランダム櫛形ポリマーからなる、水性固体懸濁液のための分散剤。
【請求項２】
Ｒ１のアリール基がヒドロキシ−、カルボキシ−および／またはスルホン酸基で置換されている、請求項１記載の分散剤。
【請求項３】
式（Ｉ）においてｍ＝２または３およびｎ＝５〜２５０を表す、請求項１または２記載の分散剤。
【請求項４】
式（Ｉ）においてｍ′＝１およびｎ′＝０または１を表す、請求項１から３までのいずれか１項記載の分散剤。
【請求項５】
式（ＩＩ）においてＲ３およびＲ４＝Ｈ、Ｒ６＝Ｈ、ＣＨ３およびＲ５＝ＣＯＯＲ７、ＰＯ３Ｈ２またはＣＯＮＨ−Ｒ９−ＳＯ３Ｈを表す、請求項１から４までのいずれか１項記載の分散剤。
【請求項６】
式（ＩＩ）においてＲ３およびＲ４＝Ｈ、Ｒ６＝ＣＨ３およびＲ５＝ＣＯＯＨまたはその塩またはＣＯＯＲ７並びにＲ７＝Ｃ１〜Ｃ６−ヒドロキシアルキルを表す、請求項１から５までのいずれか１項記載の分散剤。
【請求項７】
Ｒ５はアルカリ金属−、アルカリ土類金属−またはアンモニウム塩から選択されたカルボン酸塩である、請求項１から６までのいずれか１項記載の分散剤。
【請求項８】
ビニル系ポリ（アルキレンオキシド−）化合物（Ａ）とエチレン系不飽和モノマー化合物（Ｂ）とのモル比を１：０．０１〜１：１００に調節した、請求項１から７までのいずれか１項記載の分散剤。
【請求項９】
櫛形ポリマーを固体懸濁液に対して０．０１〜５質量％の量で使用する、請求項１から８までのいずれか１項記載の分散剤。
【請求項１０】
固体懸濁液がセメント、石灰、石膏および硬石膏を基礎とする水硬結合剤を含有する、請求項１から９までのいずれか１項記載の分散剤。
【請求項１１】
固体懸濁液が、岩粉、ケイ酸塩粉、チョーク、粘土、磁器スラリー、タルク、顔料およびカーボンブラックの群から選択される無機粒子を含有する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の分散剤。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月16日(2007.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに共働して外側管を画定する受衝前壁と、後壁と、平行な上壁及び底壁とを含むとともに、前記前壁と前記後壁との間に延びて前記外側管を上側管部及び下側管部に分割する内部補強壁を含む断面形状を有し、
前記前壁は、前記後壁と平行に延びる垂直部分と、前記上側管部及び前記下側管部の一方にわたって完全に延びるとともに前記上側管部及び前記下側管部の他方の少なくとも約１／３にわたって延びる傾斜部分とを含み、前記傾斜部分は、屈曲部分によって前記垂直部分に接続され、
前記内部補強壁は、前記上壁及び前記底壁と平行に延びるとともに、前記屈曲部分から離間した場所で前記傾斜部分に接続されて該傾斜部分を支持し、
前記内部補強壁は前記前壁の前記垂直部分及び前記傾斜部分と他の壁と共働して衝突時に予測可能な所望のエネルギー吸収を提供することを特徴とする乗用車用のバンパービーム。
【請求項２】
前記傾斜部分は前記上側管部に位置する傾斜部を含み、該傾斜部は第１の垂直寸法を画定し、前記前壁の前記垂直部分は第２の垂直寸法を画定し、前記第１の垂直寸法と前記第２の垂直寸法との比は約１：３である請求項１に記載の乗用車用のバンパービーム。
【請求項３】
互いに共働して外側管を画定する受衝前壁と、後壁と、平行な上壁及び底壁とを含むとともに、前記前壁と前記後壁との間に延びて前記外側管を上側管部及び下側管部に分割する内部補強壁を含む断面形状を有し、
前記前壁は、前記後壁と平行に延びる垂直部分と、屈曲部分によって前記垂直部分に接続される傾斜部分とを含み、
前記内部補強壁は、前記上壁及び前記底壁と平行に延びるとともに、前記屈曲部分から離間した場所で前記傾斜部分に接続されて該傾斜部分を支持し、
前記内部補強壁は前記前壁の前記垂直部分及び前記傾斜部分と他の壁と共働して衝突時に予測可能な所望のエネルギー吸収を提供し、前記前壁の厚さは少なくとも約３ｍｍであり且つ他の壁の厚さは約２．０ｍｍ未満であることを特徴とする乗用車用のバンパービーム。
【請求項４】
互いに共働して外側管を画定する前壁と、後壁と、平行な上壁及び底壁とを含む断面形状を有し、
前記前壁は、傾斜部分と、該傾斜部分から延びる平面状の垂直部分とを含むとともに、前記前壁及び前記断面形状の剛性を高めるために、前記垂直部分と整列し且つ前記上壁よりも上方に延びる自由端を有する上向きフランジを含むことを特徴とする乗用車用のバンパービーム。
【請求項５】
前記前壁は、前記後壁と平行に延びる垂直部分を含むとともに、屈曲部分によって前記垂直部分に接続される傾斜部分を含む請求項４に記載の乗用車用のバンパービーム。
【請求項６】
前記前壁と前記後壁との間に延びて前記外側管を上側管部及び下側管部に分割する内部補強壁を含み、前記内部補強壁は、前記屈曲部分から離間した場所で前記傾斜部分に接続されて該傾斜部分を支持し、前記前壁の前記垂直部分及び前記傾斜部分と前記フランジと共働して衝突時に予測可能な所望のエネルギー吸収を提供する請求項５に記載の乗用車用のバンパービーム。
【請求項７】
上部管及び下部管を形成する前壁と、上壁と、後壁と、底壁とを含むとともに前記前壁と前記後壁との間に延びる補強壁を含む断面形状を有し、
前記前壁は、垂直部分と、該垂直部分に対して鋭角に延びる傾斜部分と、前記垂直部分及び前記傾斜部分を接続する屈曲部分とを含み、
前記補強壁は前記屈曲部分から離間した場所で前記傾斜部分に接続され、
前記傾斜部分は、前記上部管及び前記下部管の一方にわたって完全に延びるとともに前記上部管及び前記下部管の他方の少なくとも約１／３にわたって延びることを特徴とする乗用車用のバンパービーム。
【請求項８】
前記傾斜部分は前記上側管に位置する傾斜部を含み、該傾斜部は第１の垂直寸法を画定し、前記前壁の前記垂直部分は第２の垂直寸法を画定し、前記第１の垂直寸法と前記第２の垂直寸法との比は約１：３である請求項７に記載の乗用車用のバンパービーム。
【請求項９】
アルミニウムから構成される請求項２、６及び７のいずれか一項に記載の乗用車用のバンパービーム。
【請求項１０】
押出成形される請求項９に記載の乗用車用のバンパービーム。
【請求項１１】
上部管及び下部管を形成する前壁と、上壁と、後壁と、底壁とを含むとともに前記前壁と前記後壁との間に延びる補強壁を含む断面形状を有し、
前記前壁は、垂直部分と、該垂直部分に対して鋭角に延びる傾斜部分と、前記垂直部分及び前記傾斜部分を接続する屈曲部分とを含み、
前記補強壁は前記屈曲部分から離間した場所で前記傾斜部分に接続され、
前記前壁の厚さは少なくとも約３ｍｍであり且つ他の壁の厚さは約２．０ｍｍ未満であることを特徴とする乗用車用のバンパービーム。
【請求項１２】
前記上壁、前記後壁、及び前記底壁の厚さは、約１．７ｍｍ以下である請求項３に記載の乗用車用のバンパービーム。
【請求項１３】
上部管及び下部管を形成する前壁と、上壁と、後壁と、底壁とを含むとともに前記前壁と前記後壁との間に延びる補強壁を含む断面形状を有し、
前記前壁は、垂直部分と、該垂直部分に対して鋭角に延びる傾斜部分と、前記垂直部分及び前記傾斜部分を接続する屈曲部分とを含み、
前記補強壁は前記屈曲部分から離間した場所で前記傾斜部分に接続され、
これらの壁は、互いに継手場所で接続され、各継手場所は、９０°以上の角度を形成する表面において少なくとも約５ｍｍの半径を有し、９０°未満の角度を形成する表面において約３ｍｍ以下の半径を有することを特徴とする乗用車用のバンパービーム。
【請求項１４】
垂直取り付け位置にあるときに前記傾斜部分が垂直線から約２０°の角度で延びる請求項１または４に記載の乗用車用のバンパービーム。
【請求項１５】
押出成形される請求項８に記載の乗用車用のバンパービーム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月14日(2007.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細長い熱分解室を備える熱分解廃棄物処理システムであって、室が、Ｕを１０として、Ｕ×１０−６／℃未満の熱（線形）膨張係数を有する少なくとも１つの支持体によって支持され、少なくとも１つの支持体が、セラミック材料またはフェノール材料からなる、システム。
【請求項２】
少なくとも１つの支持体が、室より下に配置される少なくとも１つのサドルを備える請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
少なくとも１つのサドルが、Ｘを１、５、１０、２０、３０、５０、７５、９０、９５、９９、および１００として、室の長手長さのＸ％にわたって延びる請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
少なくとも１つのサドルが、セラミック材料またはフェノール材料からなる請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
室が、少なくとも１つの支持体によって吊るされる請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
室が長手に沿って膨張および収縮することを可能にするように、室が少なくとも１つの支持体によって支持される請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
Ｕが７、５、４のいずれか１つである請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
熱分解室を使用して廃棄物を処理する方法であって、
室が処理される廃棄物を含む間、室を加熱することと、
室を加熱する間、
Ｕを１０として、Ｕ×１０−６／℃以下の熱膨張係数を有する１つまたは複数の支持体で室を支持することと、
室の加熱中に供給機構が結合するようには十分湾曲せずに、室が長手方向に膨張することを可能にするような方式で室を支持することとを備える方法。
【請求項９】
１つまたは複数の支持体が、室の下に位置するセラミックサドルを備える請求項８に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月24日(2007.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリューコンベヤセクションおよびパドルセクションを有する熱分解室を備える、廃棄物を熱分解するシステム。
【請求項２】
スクリューコンベヤセクションが第１のスクリューブレードおよび第２のスクリューブレードを含み、第１のスクリューブレードが第２のスクリューブレードとは異なる角度でピッチ設定されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
パドルセクションが第１のパドルおよび第２のパドルを含み、第１のパドルが第２のパドルとは異なる角度でピッチ設定されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
第１のパドルから延びるブラシを備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
廃棄物が熱分解室の端部から遠くにおいてよりも端部の近くにおいてより迅速な速度で熱分解室を経て移動するように、第１のパドルおよび第２のパドルがさらにピッチ設定されている、請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
スクリューコンベヤセクションおよびパドルセクションが、熱分解室の長手に沿って延びる共通シャフトに結合される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
パドルセクションが、スクリューコンベヤセクションよりもシャフトに沿って中央に配置されるパドルを備える、請求項６に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月17日(2007.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料塗布装置であって、
入口端及び出口端を有し、材料入口のある後方部分、中間部分、及び材料出口のある前方部分を有し、前記中間部分は、前記後方部分に比して実質的に細長く、前記後方部分は支持装置を有するハウジングと、
前記後方部分の前記支持装置付近に配置された電圧倍率器と
を備える材料塗布装置。
【請求項２】
前記支持装置は、手動ガンのグリップである請求項１に記載の材料塗布装置。
【請求項３】
前記支持装置は、前記材料塗布装置を支持体に取り付ける請求項１に記載の材料塗布装置。
【請求項４】
前記支持体は、ガン移動装置である請求項３に記載の材料塗布装置。
【請求項５】
前記材料出口付近に配置される帯電電極と、前記電圧倍率器の出口から前記細長い中間部分を通って抵抗素子まで延在している電気ケーブルとを備え、前記抵抗素子は、前記ハウジングの前記前方部分において前記電気ケーブル及び前記帯電電極に電気結合されている請求項１に記載の材料塗布装置。
【請求項６】
前記ハウジングは、前記入口端から前記出口端まで延在している給送管によって一緒に保持される３つの個別の部分で形成されている請求項１に記載の材料塗布装置。
【請求項７】
前記ハウジングは、端面図で見ると下側部分と比較してより急勾配な側面を有する狭く丸められた上側部分を有する外形を有することで、そうでない場合は前記ハウジングに降りかかるであろう材料を流す請求項１に記載の材料塗布装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロジェクタであって、光を放出するランプと、楕円反射板とを有し、前記楕円反射板は、前記楕円反射板の第１の焦点からの前記光を捕捉し、前記光をインテグレータロッドと一致した第２の焦点のところで合焦させ、前記プロジェクタは、前記楕円反射板による反射のために前記第１の焦点を通って光を前記第２の焦点へ逆反射する球面反射板を更に有し、
空気を前記楕円反射板の外部でこれに沿って導き、そして前記球面反射板の内部に沿って導くよう前記楕円反射板及び前記球面反射板の形状を適合させ、
前記球面反射板は、前記球面反射板と前記楕円反射板のインタフェースのところで前記楕円反射板よりも大きな直径を有し、空気が楕円反射板の外部でこれに沿って強制的に送られ、次に前記球面反射板の内部に沿って通るようになっている、プロジェクタ。
【請求項２】
前記楕円反射板及び前記球面反射板は、ガラスである、請求項１記載のプロジェクタ。
【請求項３】
前記楕円反射板及び前記球面反射板は、金属である、請求項１記載のプロジェクタ。
【請求項４】
前記楕円反射板及び前記球面反射板の外面は、ＩＲ光散乱を減少させ、それによりＩＲ透過量を増加させるよう研磨されている、請求項２記載のプロジェクタ。
【請求項５】
前記球面反射板は、空気流を前記球面反射板の内面に沿って差し向けて前記ランプの端部に当てるよう形作られている、請求項１記載のプロジェクタ。
【請求項６】
プロジェクタであって、光を放出するランプと、楕円反射板とを有し、前記楕円反射板は、前記楕円反射板の第１の焦点からの前記光を捕捉し、前記光をインテグレータロッドと一致した第２の焦点のところで合焦させ、前記プロジェクタは、前記楕円反射板による反射のために前記第１の焦点を通って光を前記第２の焦点へ逆反射する球面反射板を更に有し、
空気を前記楕円反射板の外部でこれに沿って導き、そして前記球面反射板の内部に沿って導くよう前記楕円反射板及び前記球面反射板の形状を適合させ、
前記反射板は、インタフェースプレートに連結され、前記インタフェースプレートは、その周囲に沿って設けられていて、空気が前記楕円反射板の外部から前記球面反射板の内部に流れることができるようにするための複数個の通気孔を有する、プロジェクタ。
【請求項７】
空気そらせ板が、前記インタフェースプレートのところで前記楕円反射板及び前記球面反射板に連結されており、前記空気そらせ板は、前記楕円反射板の外面に類似した形状を有する、請求項６記載のプロジェクタ。
【請求項８】
前記空気そらせ板の内面は、前記楕円反射板を透過したＩＲ放射線を吸収し、前記ＩＲ放射線が反射して前記楕円反射板に戻るのを阻止するよう耐熱塗料を用いて黒色に塗装されている、請求項７記載のプロジェクタ。
【請求項９】
空気を前記ランプ上でこれに沿って前記球面反射板に差し向けると共に空気を前記空気そらせ板に差し向け、次いで、空気が、強制的に前記楕円反射板の前記外面に沿って送られ、前記インタフェースのところで前記通気孔を通って強制的に送り出されて前記球面反射板に送り込まれるようにする遠心送風機を更に有する、請求項７記載のプロジェクタ。
【請求項１０】
前記送風機を前記空気そらせ板に連結する管路を更に有し、前記楕円反射板上で一様な循環が得られるよう空気の高速回転渦を生じさせる一連の羽根が、前記管路の内壁に取り付けられている、請求項９記載のプロジェクタ。
【請求項１１】
前記空気そらせ板は、前記空気を前記楕円反射板の前記外面の周りに一様に循環させ、そして、前記ランプ上でこれに沿って差し向けられて前記球面反射板へ送り込まれる空気よりも高い速度で空気を前記インタフェースのところで前記通気孔を通って送り出して前記球面反射板内へ送り込み、それにより前記第１の焦点のところにベンチュリ効果を生じさせて前記ランプを冷却するための渦発生器を有する、請求項７記載のプロジェクタ。
【請求項１２】
前記空気そらせ板の円筒形部分は、前記楕円反射板の後部に設けられていて、空気が前記楕円反射板の外部に沿って流れることができるようにするランプ入口穴の直径よりも大きな直径を有する、請求項７記載のプロジェクタ。
【請求項１３】
前記空気そらせ板と前記楕円反射板との間の間隔は、前記楕円反射板に沿う空気流の速度を増大させる狭い隙間に至るまで減少し、それにより空気を前記ランプ上でこれに沿って引き込むための冷却及びベンチュリ効果が増大している、請求項７記載のプロジェクタ。
【請求項１４】
前記楕円反射板及び前記球面反射板は、ガラスである、請求項６記載のプロジェクタ。
【請求項１５】
前記楕円反射板及び前記球面反射板は、金属である、請求項６記載のプロジェクタ。
【請求項１６】
前記楕円反射板及び前記球面反射板の外面は、ＩＲ光散乱を減少させ、それによりＩＲ透過量を増加させるよう研磨されている、請求項６記載のプロジェクタ。
【請求項１７】
前記球面反射板は、前記球面反射板と前記楕円反射板の間のインターフェイスにおいて前記楕円反射板より大きな直径を有し、空気が前記楕円反射板を越えてその外側へ向けられて前記球面反射板の内側に沿って通過する、請求項６記載のプロジェクタ。
【請求項１８】
前記球面反射板は、前記球面反射板と前記楕円反射板のインタフェースのところで前記楕円反射板よりも大きな直径を有し、空気が楕円反射板の外部でこれに沿って強制的に送られ、次に前記球面反射板の内部に沿って通るようになっている、請求項６記載のプロジェクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月25日(2007.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリズムと、前記プリズムを通過する光を変調するための光弁と、を含む投影機であって、改良点は、前記光弁の結像表面と、前記プリズムと、の間の空気チャネルを含み、
前記光弁は、支持機構により実装され、前記光弁と前記プリズムとの間の前記空気チャネルを規定し、前記空気チャネルの側部は、前記空気チャネルからのダストが前記光弁上に定着するのを最小限にするように、空気流のために開放されており、
前記光弁は、前記空気チャネルの内面と同一平面に着座し、前記プリズムと、前記光弁の前記結像表面と、の間に少なくとも部分的に層状空気流を提供するため、前記空気チャネルは均一な断面積と、前記結像表面に対して十分な長さと、を有する投影機。
【請求項２】
プリズムと、前記プリズムを通過する光を変調するための光弁と、を含む投影機であって、改良点は、前記光弁の結像表面と、前記プリズムと、の間の空気チャネルを含み、
前記光弁は、支持機構により実装され、前記光弁と前記プリズムとの間の前記空気チャネルを規定し、前記空気チャネルの側部は、前記空気チャネルからのダストが前記光弁上に定着するのを最小限にするように、空気流のために開放されており、
前記空気チャネルは、収束調整を可能にするために前記支持機構によって前記光弁に取り付けられる投影機。
【請求項３】
プリズムと、前記プリズムを通過する光を変調するための光弁と、を含む投影機であって、改良点は、前記光弁の結像表面と前記プリズムとの間の空気チャネルと、前記空気チャネルを前記プリズムに対してシールするためのガスケットと、を含み、
前記光弁は、支持機構により実装され、前記光弁と前記プリズムとの間の前記空気チャネルを規定し、前記空気チャネルの側部は、前記空気チャネルからのダストが前記光弁上に定着するのを最小限にするように、空気流のために開放される投影機。
【請求項４】
プリズムと、このプリズムを通過する光を変調するための複数の光弁と、を含む投影機であって、改良点は、
前記複数の光弁の各々の結像表面と前記プリズムとの間の複数の空気チャネルと、
送風機と、
前記送風機に連結された多岐管と、
前記複数の光弁を冷却するため前記空気チャネルの各々を通して空気を吹き出すように前記多岐管の各々の引き込み口と前記空気チャネルの各々との間に接続される複数の導管と、を含み、
前記複数の光弁は、支持機構により実装され、前記複数の光弁と前記プリズムとの間の前記複数の空気チャネルを規定し、前記複数の空気チャネルの各々の側部は、前記空気チャネルからのダストが前記複数の光弁の各々の上に定着するのを最小限にするように、空気流のために開放される投影機。
【請求項５】
前記空気チャネル内のダストを減少させるため、前記送風機に隣接するフィルタをさらに備える請求項４記載の投影機。
【請求項６】
前記送風機の電源が切られているときに、前記ダストが前記光弁の各々に再度入るのを防止するため、前記空気チャネルの各々の少なくとも一方の端部を覆うフィルタをさらに備える請求項４記載の投影機。
【請求項７】
前記送風機の速度を増加させて、前記空気チャネル内に乱気流を生成し、前記光弁上に定着したダストをパージするための手段をさらに備える請求項４記載の投影機。
【請求項８】
プリズムと、このプリズムを通過する光を変調するための複数の光弁と、を含む投影機であって、改良点は、前記複数の光弁の各々の結像表面と、前記プリズムとの間の複数の空気チャネルと、を含み、
前記複数の光弁は、支持機構により実装され、前記複数の光弁と前記プリズムとの間の前記複数の空気チャネルを規定し、前記複数の空気チャネルの各々の側部は、前記空気チャネルからのダストが前記複数の光弁の各々の上に定着するのを最小限にするように、空気流のために開放されており、
前記空気チャネルは、送風機と直列接続され、閉鎖ループ空気循環システムを形成する投影機。
【請求項９】
前記空気循環システムによって収集される熱を放射するため、前記送風機に隣接する放熱板をさらに備える請求項８記載の投影機。
【請求項１０】
前記放熱板を冷却するための追加の送風機をさらに備える請求項９記載の投影機。
【請求項１１】
前記放熱板は、空気対空気熱交換器である請求項９記載の投影機。
【請求項１２】
前記放熱板は、空気対水熱交換器である請求項９記載の投影機。
【請求項１３】
前記送風機の速度を増加させて、前記空気チャネル内に乱気流を生成し、前記光弁上に定着したダストをパージするための手段をさらに備える請求項８記載の投影機。
【請求項１４】
プリズムと、このプリズムを通過する光を変調するための複数の光弁と、を含む投影機であって、改良点は、前記複数の光弁の各々の結像表面と、前記プリズムとの間の複数の空気チャネルと、を含み、
前記複数の光弁は、支持機構により実装され、前記複数の光弁と前記プリズムとの間の前記複数の空気チャネルを規定し、前記複数の空気チャネルの各々の側部は、前記空気チャネルからのダストが前記複数の光弁の各々の上に定着するのを最小限にするように、空気流のために開放されており、
前記空気チャネルは、前記ダストをパージするため、清潔なガス空気の外部加圧源と直列接続される投影機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月27日(2007.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
いくつかの分析事前処理装置と協働して制御されるコンベヤおよび多数の患者サンプルについて評価分析を行うようになっているアナライザを含むサンプル取り扱いシステムを自動的に作動させる方法であって、
各評価分析に、較正状態および品質管理状態の評価分析に特定の必要レベルを割り当て；
行うべき評価分析を各アナライザの較正状態および品質管理状態と比較し；
アナライザを、較正状態および品質管理状態の評価分析に特定の必要レベルを遵守する較正状態および品質管理状態を有する第１群のアナライザと、較正状態および品質管理状態の評価分析に特定の必要レベルを遵守しない第２群のアナライザに細分し；そして次に
第１アナライザ群内のアナライザに患者サンプルを供給するようにサンプル取り扱いシステムを作動させるか、または
第２アナライザ群内の少なくとも１つのアナライザに、較正状態および品質管理状態の評価分析に特定の必要レベルを遵守させるようにサンプル取り扱いシステムを作動させ、次いで第２群におけるアナライザに患者サンプルを供給する（ここで第２アナライザ群内の少なくとも１つのアナライザに、較正状態および品質管理状態の評価分析に特定の必要レベルを遵守させるようにすることは、該アナライザに較正溶液および品質管理溶液を供給し、そして較正プロセスを行うことからなる）；
ことからなる上記方法。
【請求項２】
較正状態および品質管理状態の評価分析に特定の必要レベルは、所定の範囲および日付内にある品質管理結果を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
較正状態および品質管理状態の評価分析に特定の必要レベルは、所定の標準偏差内にある品質管理結果を含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月17日(2007.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プライマリサイトが処理リソースの構成を含む、障害迂回状況に応答するための処理リソースを提供する方法であって、
前記プライマリサイトの処理リソースの構成を記述する仕様を生成すること、
前記仕様を、ソフトウェアコマンドに応答して処理エリアネットワークを配備することが可能な構成変更可能な処理プラットホームを有する障害迂回サイトに提供すること、
前記構成変更可能なプラットホームにソフトウェアコマンドを生成するための前記仕様を使用して、前記仕様に対応する処理リソースを配備すること、
を備える方法。
【請求項２】
前記プライマリサイトにおける前記処理リソースは、前記障害迂回サイトにおける前記構成変更可能な処理プラットホームと互換性がある構成変更可能な処理プラットホーム上に配備されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プライマリサイトにおける前記処理リソースの構成を記述するための仕様を生成することは、前記プライマリサイトの前記構成変更可能な処理プラットホームに特有の構成状態を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも一つの他のサイトが処理リソースを含み、および、
仕様が前記少なくとも一つの他のサイトにおける前記処理リソースの構成を記述するために生成され、および、
前記少なくとも一つの他のサイトにおける前記処理リソースの構成の仕様は、前記障害迂回サイトに提供され、および、
前記仕様のうち少なくとも一つは、前記構成変更可能なプラットホームにソフトウェアコマンドを生成するために使用されて、前記一つの仕様に対応する処理エリアネットワークを配備する、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記プライマリサイトにおける前記処理リソースは複数の独立の処理エリアネットワークを含み、および、前記仕様は前記複数の独立の処理エリアネットワークの下位集団だけを記述することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記プライマリサイトにおける前記処理リソースは複数の独立の処理エリアネットワークを含み、および、前記仕様は前記独立の処理エリアネットワークの全てを記述することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
処理リソースを配備するためにコマンドを生成するための前記仕様を使用する行為は、障害迂回状況の受信に応答したものであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記仕様は、前記プライマリサイトにおける最小構成または処理リソースを記述することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記生成する行為は、前記プライマリサイトにおける装置構成に特有のデータを指定することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記プライマリサイトは、プロセッサ集団を有する構成変更可能な処理プラットホームを含み、および前記生成する行為は、前記プロセッサが前記プライマリサイトにおいてどのようにプールされるかを記述した情報を指定することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記生成する行為は、前記プライマリサイトに関連する管理情報を指定することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記生成する行為は、プロセッサのロジック的分割およびロジック的処理ネットワークへの相互結線を記述するためのデータを指定することを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
プライマリサイトが処理リソースの構成を含む、障害迂回状況に応答するための処理リソースを提供するシステムであって、
前記プライマリサイトの処理リソースの構成を記述するコンピュータ可読の仕様と、
ソフトウェアコマンドに応答して処理エリアネットワークを配備することが可能な、構成変更可能な処理プラットホームと、
前記仕様に対応する処理リソースを配備するために前記構成変更可能なプラットホームにソフトウェアコマンドを生成するロジックと、
を備えるシステム。
【請求項１４】
前記プライマリサイトにおける前記処理リソースは、前記障害迂回サイトにおける前記構成変更可能な処理プラットホームと互換性がある構成変更可能な処理プラットホーム上に配備されることを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
少なくとも一つの他のサイトが処理リソースを含み、および、前記システムは前記少なくとも一つの他のサイトにおける前記処理リソースの構成を記述するための仕様を更に含み、
前記少なくとも一つの他のサイトにおける前記処理リソースの構成の前記仕様は、前記障害迂回サイトに提供され、および、
前記生成するためのロジックは、前記構成変更可能なプラットホームにソフトウェアコマンドを生成するための前記仕様のうちの少なくとも一つを使用して、前記一つの仕様に対応する処理エリアネットワークを配備する、
ことを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１６】
前記プライマリサイトにおける前記処理リソースは複数の独立の処理エリアネットワークを含み、および、前記仕様は前記複数の独立の処理エリアネットワークの下位集団だけを記述することを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１７】
前記プライマリサイトにおける前記処理リソースは複数の独立の処理エリアネットワークを含み、および、前記仕様は前記独立の処理エリアネットワークの全てを記述する
ことを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月18日(2007.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶回路と、
同記憶回路に結合されたアクセス起動回路と、
を含み、同アクセス起動回路が前記記憶回路への読み込みアクセスを起動し、同読み込みアクセスに対応した読み込み割り当て標識を前記記憶回路に供給する、装置。
【請求項２】
読み込みアクセスを実行する方法であって、
読み込みアクセスを起動する工程と、
前記読み込みアクセスに対応した読み込み割り当て標識を供給する工程と、
少なくとも前記読み込み割り当て標識に基づいて、前記読み込みアクセス中に読み込み割り当てを選択的に実行する工程と、を含む方法。  
【請求項３】
情報を記憶する記憶素子と、
前記記憶素子に結合された読み込み割り当て回路と、
を含み、同読み込み割り当て回路が読み込み割り当て標識に応答し、同読み込み割り当て標識に基づいて、前記記憶素子への読み込みアクセス中に前記読み込み割り当て回路が読み込み割り当てを選択的に実行する装置。
【請求項４】
読み込みアクセスを実行する方法であって、
キャッシュへの読み込みアクセスを必要としデバッグ操作のタイプを有するデバッグ操作を起動する工程と、
少なくとも前記デバッグ操作のタイプに基づいて前記読み込みアクセス中に読み込み割り当てを選択的に実行する工程と、を含む方法。
【請求項５】
キャッシュと、
前記キャッシュに結合された相互接続回路と、
前記相互接続回路に結合されたデバッグ回路と、
を含み、前記デバッグ回路が、前記キャッシュへの読み込みアクセスを必要とするデバッグ操作を起動し、前記読み込みアクセスに対応した前記キャッシュに前記相互接続回路を介して読み込み割り当て標識を供給する、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータにおける異常システム状態を検出する方法であって、
コンピュータ集団の複数のコンピュータ各々から、コンピュータの状態を示すデータが含まれるスナップショットを受信し、
前記コンピュータ集団の特性に合わせてカスタマイズされ、前記複数のコンピュータのスナップショットの中からパターンを識別することによって生じる規則セットを含み、前記複数のコンピュータの正常な状態を示すような適応基準モデルを自動的に生成し、
少なくとも1つのコンピュータの状態に異常があるか否かを判別するために、少なくとも1つのコンピュータのスナップショットと、前記適応基準モデルとを比較すること、を有する。
【請求項２】
請求項１記載の方法であって、
少なくとも１つのコンピュータの障害状態を診断するために、前記異常と認識フィルターとを比較し、
障害状態において、当該障害状態に対する応答を生成すること、をさらに有する。
【請求項３】
請求項２記載の方法であって、
前記応答は、少なくとも1つのコンピュータの特定のアセットに固有なものでなく、一般的な応答であり、
前記一般的な応答と、少なくとも1つのコンピュータのスナップショットから検出され、異常の状態にある少なくとも1つのコンピュータのアセットを示す異常のセットと、を送信し、
障害状態を補正するために、前記一般的な応答を異常アセットに適用すること、をさらに有する。
【請求項４】
請求項１記載の方法であって、
各スナップショットには、システムファイル、アプリケーションファイル、レジストリ、性能カウンタ、プロセス、通信ポート、ハードウェア構成要素、ログファイル、実行中タスク、サービスおよびネットワークコネクションの少なくとも1つに関するデータが含まる。
【請求項５】
コンピュータにおける異常システム状態を検出するシステムであって、
コンピュータ集団の複数のコンピュータにそれぞれ配置され、各コンピュータの状態を示すデータが含まれるスナップショットを生成する、複数のソフトウェアエージェントと、
前記コンピュータ集団の特性に合わせてカスタマイズされた規則セットを含み、前記複数のコンピュータの正常な状態を示すような適応基準モデルを自動的に生成する、使用可能な分析部と、を有し、
前記規則セットは、前記複数のコンピュータのスナップショットの中からパターンを識別することによって生じ、
前記分析部は、少なくとも1つのコンピュータの状態に異常があるか否かを判別するために、少なくとも1つのコンピュータのスナップショットと、前記適応基準モデルとを比較する。
【請求項６】
請求項５記載のシステムであって、
前記分析部は、少なくとも１つのコンピュータの障害状態を診断するために、前記異常と認識フィルターとを比較する。
【請求項７】
請求項６記載のシステムであって、
前記分析部は、前記障害状態と、応答エージェントライブラリとを比較し、前記障害状態の応答を生成する。
【請求項８】
コンピュータに、
コンピュータ集団の複数のコンピュータ各々から、コンピュータの状態を示すデータが含まれるスナップショットを受信する機能、
前記コンピュータ集団の特性に合わせてカスタマイズされ、前記複数のコンピュータのスナップショットの中からパターンを識別することによって生じる規則セットを含み、前記複数のコンピュータの正常な状態を示すような適応基準モデルを自動的に生成する機能、
少なくとも1つのコンピュータの状態に異常があるか否かを判別するために、少なくとも1つのコンピュータのスナップショットと、前記適応基準モデルとを比較する機能
を実現させるインストラクションを記憶したコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項９】
請求項８記載のコンピュータ読み取り可能な媒体であって、
少なくとも１つのコンピュータの障害状態を診断するために、前記異常と認識フィルターとを比較し、障害状態において、当該障害状態に対する応答を生成する機能
を実現させるインストラクションをさらに記憶したコンピュータ読み取り可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月4日(2007.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバッグ回路のセキュリティを確保する方法であって、
デバッグ回路をイネーブルの状態にする工程と、
第１不揮発性素子に書き込みを行なってデバッグ回路をディスエーブルにする工程と、
第１不揮発性素子に書き込みを行なった後に第２不揮発性素子に書き込みを行なって、デバッグ回路を再イネーブルする操作およびデバッグ回路を永久的にディスエーブルにする操作の内の一つを実行する工程と、
からなる方法。
【請求項２】
第１不揮発性素子に書き込みを行なった後で、かつ第２不揮発性素子に書き込みを行なう前に、デバッグ回路を、認証操作に応答して選択的にイネーブルにすることができる請求項１記載の方法。
【請求項３】
第１不揮発性素子は第１フューズを含み、そして第２不揮発性素子は第２フューズを含み、そして
第１不揮発性素子に対する書き込みでは第１フューズを飛ばし、そして
第２不揮発性素子に対する書き込みでは第２フューズを飛ばす、請求項１記載の方法。
【請求項４】
デバッグ回路のセキュリティを確保する方法であって、
デバッグ回路を、認証操作に応答して選択的にイネーブルにすることができるセキュアデバッグ状態にする工程と、
デバッグ回路を認証操作に応答してイネーブルにする工程と、
デバッグ回路を認証操作に応答してイネーブルにした後、第１不揮発性素子に書き込みを行なう工程と、
第１不揮発性素子に書き込みを行なった後に第２不揮発性素子に書き込みを行ない、第２不揮発性素子に書き込みを行なった後、デバッグ回路は再びイネーブルセキュアデバッグ状態になり、同再びイネーブルセキュアデバッグ状態では、デバッグ回路を認証操作に応答して選択的にイネーブルにすることができる、方法。
【請求項５】
デバッグ回路と、
第１不揮発性素子と、
第２不揮発性素子と、
第１不揮発性素子及び第２不揮発性素子に基づいて、デバッグイネーブル表示子をデバッグ回路に供給するデバッグイネーブル回路と、
を備え、
第１不揮発性素子は、デバッグ回路が、認証操作に応答して選択的にイネーブルにするこ
とができるセキュアデバッグ状態にあるかどうかを示し、
第２不揮発性素子は、第１不揮発性素子による設定を無効にすべきかどうかを示す、集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月8日(2007.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
車体上の１以上のコーティングを硬化する方法であって、
（ｉ）  少なくとも１の電子ビーム硬化性コーティングで前記車体をコーティングし、
（ｉｉ）  １以上の中〜高電力、中〜高エネルギー電子ビーム中に、前記車体を１回以上通過させ、
前記車体上のコーティングの少なくとも一部は、前記１以上の電子ビームの視線方向から外れている方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
車体上の１以上のコーティングを硬化するための方法であって、
（ｉ）  少なくとも１のＸ線硬化性コーティングで前記車体をコーティングし、
（ｉｉ）  中〜高電力、中〜高エネルギー電子ビームを金属目標物に衝突させて生成される１以上のＸ線照射野中に、前記車体を１回以上通過させ、
前記車体上のコーティングの少なくとも一部は、前記１以上のＸ線照射野の視線方向から外れている方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月21日(2007.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上側の縫いヘッドおよび下側のフックアセンブリをその上に支持するフレームと、
縫われる材料を支持する面の下に取り付けられボビン収容部を含んだフックアセンブリであって、駆動軸によって駆動され、また、前記駆動軸の軸線回りに動作のための第１位置からボビン装着のための第２位置へ回転できるフックアセンブリと、
前記装着のための第２の位置にある前記フックアセンブリに隣接した位置で動作できるよう取り付けられたボビン装着機であって、残っているボビンの芯を除く除去装置と、前記フックアセンブリにおける前記ボビン装着機から取替え用のボビンを前記ボビン収容部内へ入れるボビン供給機とを含むボビン装着機と、
を具えたことを特徴とするミシン。
【請求項２】
前記フックアセンブリは前記ボビンがほとんど使い果たされたことを検出するためのセンサを含んでいることを特徴とする請求項１に記載のミシン。
【請求項３】
前記ミシンを通すように材料を駆動する、複数の歯付きローラとして形成された回転ドッグをさらに具え、前記複数の歯付き歯車は前記フックアセンブリが前記動作のための第１位置から前記ボビン装着のための第２位置へ動くとき駆動ホイールとの係合が解かれることを特徴とする請求項１または２に記載のミシン。
【請求項４】
前記ボビン装着機は、供給捧に装着されたボビンの補給物を含んでいることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のミシン。
【請求項５】
１つのボビンを前記フックアセンブリの前記ボビン収容部に装填するため、供給捧上のボビンが、最後のボビンがスライドして前記供給捧の端から抜け前記ボビン収容部に入るように、押し器によって前方へ押されることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のミシン。
【請求項６】
前記ボビン装着機は、少なくとも２つの軸線の動きができるように取り付けられ、前記フックアセンブリが前記装着のための第２位置にあるとき、前記フックアセンブリに向かって、また、前記フックアセンブリから離れるように動くことができることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のミシン。
【請求項７】
前記除去装置は吸引チューブを備えたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のミシン。
【請求項８】
下糸切断機をさらに具え、該切断機は、下糸と係合し、当該下糸を、ボビン収容器におけるボビンがほとんど使い果たされたことを検出したときに切断することを特徴とする請求項２ないし７のいずれかに記載のミシン。
【請求項９】
上糸切断機をさらに具え、該切断機は、上糸と係合し、当該上糸を切断してボビン取替え動作の間にさらに糸を引っ張ることを防止することを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載のミシン。
【請求項１０】
前記フックアセンブリは前記駆動軸に沿ってスライドでき、当該アセンブリは複数の位置のいずれにも位置することができることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のミシン。
【請求項１１】
上側の第２のヘッドおよび下側の第２のフックアセンブリをさらに具え、前記上側のヘッドおよび前記フックアセンブリは、前記フレームおよび前記駆動軸に沿ってスライドでき、これによって、ミシンのスロート幅を調節でき、および／または多数の縫いヘッドをそれぞれの間の距離を変えて配置することができることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれかに記載のミシン。
【請求項１２】
前記ボビンは空気圧による噴流を利用して前記フックアセンブリの前記ボビン収容部内に入れられることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれかに記載のミシン。
【請求項１３】
前記ボビン装着機は、１つまたはそれ以上の新しいボビンを当該ミシンが動作し続ける間に装着できる補給位置に移動できることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれかに記載のミシン。
【請求項１４】
前記フレームに取り付けられた複数の縫いヘッドおよびフックアセンブリを具え、前記複数の縫いヘッドおよびフックアセンブリはそれぞれの間隔を調整でき、複数の縫いを同時に実施できることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれかに記載のミシン。
【請求項１５】
前記上側ヘッドの上糸保持針は針キャリッジに取り付けられ、前記ミシンが厚い材料の複数の層を貫いて縫うことを可能にすることを特徴とする請求項１ないし１４のいずれかに記載のミシン。
【請求項１６】
前記針キャリッジは、縫われつつある材料の前記ミシンを通る移動に合わせて、水平方向にスライドして移動できるように取り付けられることを特徴とする請求項１５に記載のミシン。
【請求項１７】
前記針は、当該針が縫い動作の間ほぼ平行で垂直な配置を維持されて当該針の傾きが除かれるように挿入されることを特徴とする請求項１５または１６に記載のミシン。
【請求項１８】
上糸の上側ヘッドに配された糸引きおよび糸切り装置をさらに具え、該糸引きおよび糸切り装置は、アクチュエータによって駆動されて上糸に余分なたるみを生成する第１フックと、針からアクチュエータ駆動の切断装置に糸を引っ張る第２アクチュエータとを含み、前記切断装置は針を通る糸の尾が未だ残っている間に当該糸を切断し、再び針に糸を通すことなく縫い動作を再開することを特徴とする請求項１ないし１７のいずれかに記載のミシン。
【請求項１９】
上側の縫いヘッドおよび下側のフックアセンブリをその上に支持するフレームを具え、
前記上側ヘッドの上糸保持針は針キャリッジに取り付けられ、
前記針キャリッジは、縫われつつある材料の前記ミシンを通る移動に合わせて、水平方向にスライドして移動でき、それによって、前記針は、当該針が縫い動作の間ほぼ平行で垂直な配置を維持されて当該針の傾きが除かれるように挿入されて、前記ミシンが厚い材料の複数の層を貫いて縫うことを可能にすることを特徴とするミシン。