【手続補正書】
【提出日】平成19年3月26日(2007.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
三フッ化窒素と少なくとも１種の不純物との混合物において、二フッ化二窒素および四フッ化二窒素よりなる群から選択される前記少なくとも１種の不純物の濃度を低減する方法であって、
前記混合物を、電解研磨した金属、セラミックアルミナ、およびサファイヤよりなる群から選択される内部壁を有する容器中の気相で、少なくとも約１５０℃の温度で加熱するステップと、
前記少なくとも１種の不純物の濃度が低減された三フッ化窒素生成物を回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
三フッ化窒素と少なくとも１種の不純物との混合物において、二フッ化二窒素および四フッ化二窒素よりなる群から選択される前記少なくとも１種の不純物の濃度を低減する方法であって、
容器に、電解研磨した金属、セラミックアルミナ、およびサファイヤよりなる群から選択される内部壁を提供するステップと、
前記容器の前記内部壁を、フッ素ガスを含む不動態化組成物と接触させることによって、不動態化された容器を形成するステップと、
前記混合物を、前記不動態化された容器中の気相で、約１５０℃〜約３００℃の温度で加熱するステップと、
前記少なくとも１種の不純物の濃度が低減された三フッ化窒素生成物を回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
三フッ化窒素、並びに、二フッ化二窒素および四フッ化二窒素よりなる群から選択される少なくとも１種の不純物を含む三フッ化窒素組成物を精製する方法であって、
前記三フッ化窒素組成物を、ニッケルを含む電解研磨した金属の内部壁を有する容器中の気相で、約１５０℃〜約３００℃の温度で加熱するステップと、
約１０ｐｐｍ−モル以下の前記少なくとも１種の不純物を含む三フッ化窒素生成物を回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
三フッ化窒素、並びに、二フッ化二窒素および四フッ化二窒素よりなる群から選択される少なくとも１種の不純物を含む三フッ化窒素組成物を精製する方法であって、
容器に、電解研磨した金属、セラミックアルミナ、およびサファイヤよりなる群から選択される内部壁を提供するステップと、
前記容器の前記内部壁を、フッ素ガスを含む不動態化組成物と接触させることによって、不動態化された容器を形成するステップと、
前記三フッ化窒素組成物を、前記不動態化された容器中の気相で、約１５０℃〜約３００℃の温度で加熱するステップと、
約１０ｐｐｍ−モル以下の前記少なくとも１種の不純物を含む三フッ化窒素生成物を回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
不純物二フッ化二窒素および四フッ化二窒素を、三フッ化窒素から選択的に除去する容器であって、第１および第２の開口端、並びに、電解研磨した金属、セラミックアルミナ、およびサファイヤよりなる群から選択される内部壁を有するシリンダを含み、
前記内部壁は、フッ素ガスを含む不動態化組成物と接触させられていることを特徴とする容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本方法によって製造される三フッ化窒素生成物は、場合によりさらに処理して、不純物二フッ化二窒素および四フッ化二窒素が分解した生成物を除去することができる。例えば、本方法の加熱ステップは、不純物二フッ化二窒素および四フッ化二窒素を、窒素およびフッ素に分解する可能性がある。こうして製造されたフッ素は、周知のプロセスによって、例えば、この生成物を、水溶水酸化カリウム・スクラビング溶液に通過させることによって、あるいは、アルミナペレット、ゼオライト系モレキュラーシーブ、またはシリカゲルを詰めた床に通過させることによって、三フッ化窒素生成物から除去することができる。こうして製造された窒素は、周知のプロセスによって、例えば、三フッ化窒素生成物を蒸留することによって除去することができ、それによって、窒素は蒸留の塔頂留出物として除去され、三フッ化窒素は塔底生成物として回収される。
以下に本明細書に記載の発明につき列記する。
１．  三フッ化窒素と少なくとも１種の不純物との混合物において、二フッ化二窒素および四フッ化二窒素よりなる群から選択される前記少なくとも１種の不純物の濃度を低減する方法であって、
前記混合物を、電解研磨した金属、セラミックアルミナ、およびサファイヤよりなる群から選択される内部壁を有する容器中の気相で、少なくとも約１５０℃の温度で加熱するステップと、
前記少なくとも１種の不純物の濃度が低減された三フッ化窒素生成物を回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
２．  前記加熱が、約１５０℃〜約３００℃の温度で実行されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
３．  前記加熱が、約２００℃〜約２５０℃の温度で実行されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
４．  前記加熱が、約２３５℃の温度で実行されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
５．  前記加熱の間、不活性キャリヤーガスが、前記混合物と共に存在することを特徴とする前記１．に記載の方法。
６．  前記容器が、円筒状であることを特徴とする前記１．に記載の方法。
７．  前記容器が、充填物がないことを特徴とする前記１．に記載の方法。
８．  前記容器の前記内部壁が、アルミニウム、クロム、コバルト、銅、金、鉄、ニッケル、銀、スズ、チタン、および亜鉛よりなる群から選択される電解研磨した金属を含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
９．  前記容器の前記内部壁が、ニッケルを含む電解研磨した金属であることを特徴とする前記１．に記載の方法。
１０．  前記金属が、インコネル（登録商標）、ハステロイ（登録商標）、またはモネル（登録商標）を含むことを特徴とする前記９．に記載の方法。
１１．  前記容器の前記内部壁が、約７０マイクロインチ以下のＲａ値を有することを特徴とする前記１．に記載の方法。
１２．  前記容器の前記内部壁が、約２０マイクロインチ以下のＲａ値を有することを特徴とする前記１．に記載の方法。
１３．  前記容器の前記内部壁が、約１０マイクロインチ以下のＲａ値を有することを特徴とする前記１．に記載の方法。
１４．  前記容器の前記内部壁を、フッ素ガスを含む不動態化組成物と接触させるステップをさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１５．  前記接触が、約２５℃の温度、かつ約１気圧の圧力で実行され、前記不動態化組成物が、ヘリウム中に５体積パーセントのフッ素を含むことを特徴とする前記１４．に記載の方法。
１６．  前記三フッ化窒素生成物が、約１０ｐｐｍ−モル以下の前記少なくとも１種の不純物を含有することを特徴とする前記１．に記載の方法。
１７．  三フッ化窒素と少なくとも１種の不純物との混合物において、二フッ化二窒素および四フッ化二窒素よりなる群から選択される前記少なくとも１種の不純物の濃度を低減する方法であって、
容器に、電解研磨した金属、セラミックアルミナ、およびサファイヤよりなる群から選択される内部壁を提供するステップと、
前記容器の前記内部壁を、フッ素ガスを含む不動態化組成物と接触させることによって、不動態化された容器を形成するステップと、
前記混合物を、前記不動態化された容器中の気相で、約１５０℃〜約３００℃の温度で加熱するステップと、
前記少なくとも１種の不純物の濃度が低減された三フッ化窒素生成物を回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
１８．  三フッ化窒素、並びに、二フッ化二窒素および四フッ化二窒素よりなる群から選択される少なくとも１種の不純物を含む三フッ化窒素組成物を精製する方法であって、
前記三フッ化窒素組成物を、ニッケルを含む電解研磨した金属の内部壁を有する容器中の気相で、約１５０℃〜約３００℃の温度で加熱するステップと、
約１０ｐｐｍ−モル以下の前記少なくとも１種の不純物を含む三フッ化窒素生成物を回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
１９．  三フッ化窒素、並びに、二フッ化二窒素および四フッ化二窒素よりなる群から選択される少なくとも１種の不純物を含む三フッ化窒素組成物を精製する方法であって、
容器に、電解研磨した金属、セラミックアルミナ、およびサファイヤよりなる群から選択される内部壁を提供するステップと、
前記容器の前記内部壁を、フッ素ガスを含む不動態化組成物と接触させることによって、不動態化された容器を形成するステップと、
前記三フッ化窒素組成物を、前記不動態化された容器中の気相で、約１５０℃〜約３００℃の温度で加熱するステップと、
約１０ｐｐｍ−モル以下の前記少なくとも１種の不純物を含む三フッ化窒素生成物を回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
２０．  不純物二フッ化二窒素および四フッ化二窒素を、三フッ化窒素から選択的に除去する容器であって、第１および第２の開口端、並びに、電解研磨した金属、セラミックアルミナ、およびサファイヤよりなる群から選択される内部壁を有するシリンダを含み、
前記内部壁は、フッ素ガスを含む不動態化組成物と接触させられていることを特徴とする容器。