【手続補正書】
【提出日】平成19年5月8日(2007.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機又は有機基体上の強力接着性被覆の製造方法であって、
ａ）無機又は有機基体上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を行い、
ｂ）無機又は有機基体上に、１つ以上の光開始剤、又は光開始剤と少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含むモノマー若しくは／及びオリゴマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液又は乳濁液を適用し、そして場合により
ｃ）適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ／又は電磁波で照射し、そして
光開始剤として少なくとも１つの式（Ｉ）、（II）、（III）及び／又は（IV）：
【化１】
2007506550.tif 000001
［式中、
ＩＮ及びＩＮ1は、それぞれ他と独立に、モノアシルホスフィン、モノアシルホスフィンオキシド又はモノアシルホスフィンスルフィド光開始剤基であり；
Ｌ、Ｌ1及びＬ2は、それぞれ他と独立に、単結合又はスペーサー基であり；
ＲＧは、少なくとも１個のエチレン性不飽和なＣ＝Ｃ結合を有する１価ラジカルであり；そして
ＲＧ1及びＲＧ2は、それぞれ他と独立に、少なくとも１個のエチレン性不飽和なＣ＝Ｃ結合を有する２価ラジカルである］で示される化合物を使用する方法。
【請求項２】
無機又は有機基体上の強力接着性被覆の製造方法であって、
ａ）無機又は有機基体上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を行い、
ｂ）無機又は有機基体上に、１つ以上の請求項１記載の式（Ｉ）、（II）、（III）及び／若しくは（IV）の光開始剤、又はこのような光開始剤と少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含むモノマー若しくは／及びオリゴマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液又は乳濁液を適用し、場合により
ｃ）適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ／又は電磁波で照射し、そして
ｄ１）こうして光開始剤でプレコーティングした基体を、少なくとも１つのエチレン不飽和モノマー又はオリゴマーを含む組成物でコーティングし、そしてこの被覆をＵＶ／ＶＩＳ線又は電子ビームを用いて硬化させるか；又は
ｄ２）こうして光開始剤でプレコーティングした基体を、印刷インキでコーティングして乾燥するか；又は
ｄ３）金属、半金属、金属酸化物又は半金属酸化物を、こうして光開始剤でプレコーティングした基体上に気相から堆積させる方法。
【請求項３】
式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）の化合物において、
ＩＮ及びＩＮ1が、それぞれ他と独立に、下記式：
【化２】
2007506550.tif 000002
［式中、
Ｅは、Ｏ又はＳであり；
ｘは、０又は１であり；
Ａは、下記式：
【化３】
2007506550.tif 000003
で示される基、シクロペンチル、シクロヘキシル、ナフチル、ビフェニリル、アントリル又はＯ−、Ｓ−若しくはＮ−含有５員若しくは６員複素環（ここで、ラジカル：シクロペンチル、シクロヘキシル、ナフチル、ビフェニリル、アントリル又はＯ−、Ｓ−若しくはＮ−含有５員若しくは６員複素環は、非置換であるか、又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ4アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換されている）であり；
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ他と独立に、Ｃ1−Ｃ24アルキル、ＯＲ11、ＣＦ3又はハロゲンであり；
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ他と独立に、水素、Ｃ1−Ｃ24アルキル、ＯＲ11又はハロゲンであるか；あるいは
ラジカル：Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4又はＲ5のうち２個は、一緒になって、Ｃ2−Ｃ12アルキレン（中断されていないか、又は１個以上のＯ、Ｓ若しくはＮＲ14により中断されている）であり；
Ｒは、Ｃ1−Ｃ24アルキル（非置換であるか、又はＣ3−Ｃ24シクロアルキル、Ｃ3−Ｃ24シクロアルケニル、フェニル、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）Ｒ11、Ｃ（Ｏ）ＯＲ11、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ14）2、ＯＣ（Ｏ）Ｒ11、ＯＣ（Ｏ）ＯＲ11、Ｎ（Ｒ14）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ14）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲ14、Ｎ（Ｒ14）Ｃ（Ｏ）ＯＲ11、ハロゲン、ＯＲ11、ＳＲ11若しくはＮ（Ｒ12）（Ｒ13）により置換されている）であるか；あるいは
Ｒは、Ｃ2−Ｃ24アルキル（不連続のＯ又はＳにより１回以上中断されており、そして非置換であるか、又はフェニル、ＯＲ11、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）Ｒ11、Ｃ（Ｏ）ＯＲ11若しくはＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ14）2により置換されている）であるか；あるいは
Ｒは、Ｃ2−Ｃ24アルケニル（中断されていないか、又は不連続のＯにより１回以上中断されており、そして非置換であるか、又はＯＲ11若しくはＣ1−Ｃ12アルキルにより置換されている）であるか；あるいは
Ｒは、Ｃ5−Ｃ24シクロアルケニル（中断されていないか、又は不連続のＯ、Ｓ若しくはＮＲ14により１回以上中断されており、そして非置換であるか、又はＯＲ11若しくはＣ1−Ｃ12アルキルにより置換されている）であるか；あるいは
Ｒは、Ｃ7−Ｃ24アリールアルキル（非置換であるか、又はアリールラジカルでＣ1−Ｃ12アルキル若しくはＣ1−Ｃ12アルコキシにより置換されている）であるか；あるいは
Ｒは、Ｃ4−Ｃ24シクロアルキル（中断されていないか、又は不連続のＯ、Ｓ若しくはＮＲ14により１回以上中断されており、そして非置換であるか、又はＯＲ11若しくはＣ1−Ｃ12アルキルにより置換されている）であるか；あるいは
Ｒは、下記式：
【化４】
2007506550.tif 000004
で示される基、Ｃ8−Ｃ24アリールシクロアルキル又はＣ8−Ｃ24アリールシクロアルケニルであり；
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ他と独立に、水素、Ｃ1−Ｃ24アルキル（非置換であるか、又はＳＲ11、Ｎ（Ｒ12）（Ｒ13）、ＯＲ11若しくはフェニルにより置換されている）であるか；あるいはＲ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、Ｃ2−Ｃ24アルキル（不連続のＯにより１回以上中断されており、そして非置換であるか、又はＳＲ11、Ｎ（Ｒ12）（Ｒ13）、ＯＲ11若しくはフェニルにより置換されている）であるか；あるいはＲ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、ＳＲ11、Ｎ（Ｒ12）（Ｒ13）、ＯＲ11、フェニル又はハロゲンであり；
Ｒ11は、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、ベンジルであるか；あるいはＲ11は、Ｏにより１回以上中断されているＣ2−Ｃ20アルキル又はＯにより１回以上中断されているＣ2−Ｃ20アルケニルであるか；あるいはＲ11は、フェニル（非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換されている）であり；
Ｒ12及びＲ13は、それぞれ他と独立に、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル又はベンジルであるか；あるいはＲ12及びＲ13は、Ｏにより１回以上中断されているＣ2−Ｃ20アルキル又はＯにより１回以上中断されているＣ2−Ｃ20アルケニルであるか；あるいはＲ12及びＲ13は、フェニル（非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換されている）であるか；あるいはＲ12及びＲ13は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、５員又は６員環（中断されていないか、又はＯ若しくはＮＲ14により中断されている）を形成し；
Ｒ14は、水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル；フェニル（非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換されている）、又はベンジル（非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換されている）であるか；あるいはＲ14は、Ｏにより１回以上中断されているＣ2−Ｃ12アルキルであり；
Ｌは、−Ｚ−［（Ａ1）a−Ｙ］c−［（Ａ2）b−Ｘ］d−ラジカルであり；
Ｘ、Ｙ及びＺは、それぞれ他と独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ16）−、−（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−、−（ＣＯ）Ｎ（Ｒ16）−、−Ｏ−（ＣＯ）−、−Ｎ（Ｒ16）−（ＣＯ）−又は−Ｎ（Ｒ16）−（ＣＯ）Ｏ−であり；
Ａ1及びＡ2は、それぞれ他と独立に、Ｃ1−Ｃ12アルキレン、Ｃ3−Ｃ12シクロアルキレン、フェニレン、フェニレン−Ｃ1−Ｃ4アルキレン又はＣ1−Ｃ4アルキレン−フェニレン−Ｃ1−Ｃ4アルキレンであり；
ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ他と独立に、０〜４の数であり；そして
Ｒ16は、水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル又はフェニルである］で示される基であり、
ＲＧが、−ＲdＣ＝ＣＲeＲfラジカルであり；
ＲＧ1及びＲＧ2が、それぞれ他と独立に、−ＲdＣ＝ＣＲe−又は下記式：
【化５】
2007506550.tif 000005
で示される基であり；そして
Ｒd、Ｒe及びＲfは、それぞれ他と独立に、水素、Ｃ1−Ｃ4アルキル、フェニル、（ＣＯ）Ｏ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）又はＣ1−Ｃ4アルキルフェニルである、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
式（Ｉ）、（II）、（III）及び／又は（IV）の化合物に加えて、更に別の光開始剤（ｐ）が使用される、請求項１又は２記載の方法。
【請求項５】
式（Ｉ）、（II）（III）及び／又は（IV）の光開始剤、あるいはモノマー又はオリゴマーとのその混合物を、１つ以上の液体（溶媒又は水など）と組合せて、溶液、懸濁液及び乳濁液の形で使用する、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
工程ｂ）において光開始剤（単数又は複数）の濃度が、０．０１〜９９．５％である、請求項１又は２記載の方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項記載の方法により得られる、強力接着性被覆。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項記載の方法における、請求項１記載の式（Ｉ）、（II）、（III）又は（IV）の化合物の使用。
【請求項９】
式（Ｉ'）、（II'）、（III'）又は（IV'）：
【化１３】
2007506550.tif 000006
［式中、
ＩＮ及びＩＮ1は、それぞれ他と独立に、モノアシルホスフィン、モノアシルホスフィンオキシド又はモノアシルホスフィンスルフィド光開始剤基であり；
Ｑ、Ｑ1及びＱ2は、単結合又は式：−Ｚ1−［（Ａ1）a−Ｙ］c−［（Ａ2）b−Ｘ］d−のスペーサー基であり；
Ｘ及びＹは、それぞれ他と独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ16）−、−（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−、−（ＣＯ）Ｎ（Ｒ16）−、−Ｏ−（ＣＯ）−、Ｎ（Ｒ16）−（ＣＯ）−又は−Ｎ（Ｒ16）−（ＣＯ）Ｏ−であり；
Ｚ1は、単結合、−Ｓ−、−（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−、−（ＣＯ）Ｎ（Ｒ16）−、−Ｏ−（ＣＯ）−、Ｎ（Ｒ16）−（ＣＯ）−又は−Ｎ（Ｒ16）−（ＣＯ）Ｏ−であり；
Ａ1及びＡ2は、それぞれ他と独立に、Ｃ1−Ｃ12アルキレン、Ｃ3−Ｃ12シクロアルキレン、フェニレン、フェニレン−Ｃ1−Ｃ4アルキレン又はＣ1−Ｃ4アルキレン−フェニレン−Ｃ1−Ｃ4アルキレンであり；
ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ他と独立に、０〜４の数であり；
Ｒ16は、水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル又はフェニルであり；
ＲＧは、少なくとも１個のエチレン性不飽和なＣ＝Ｃ結合を有する１価ラジカルであり；そして
ＲＧ1及びＲＧ2は、それぞれ他と独立に、少なくとも１個のエチレン性不飽和なＣ＝Ｃ結合を有する２価ラジカルである（ただし、
スペーサー基Ｑがメチレンであり、同時にＲＧがビニルである式（Ｉ）の化合物、及びスペーサー基Ｑが単結合であり、同時にＲＧがアリルである式（Ｉ）の化合物は、除外され；そして
Ｚ1が−Ｏ（ＣＯ）−であり、ａ及びｃが０でなく、そして同時にＡ1が単結合でないとき）］で示される化合物。