【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ光源におけるＥＵＶコレクタの反射表面上にプラズマにより生じた残渣デブリを除去するためのデブリ除去システムであって、前記反射表面は第一の材料を含んでなり、前記デブリは第二の材料を含んでなり、
該システムは、制御されたスパッタリングイオン源を具備し；
該スパッタリングイオン源は、
スパッタリングイオン材料の原子を含んでなるガスと；
該スパッタリングイオン材料の原子をイオン化された状態に励起させる誘導機構とを含んでなり、
前記イオン化された状態は、前記第二の材料をスパッタリングする高い可能性を有し、且つ前記第一の材料をスパッタリングする非常に低い可能性を有する選択されたエネルギーピーク周囲の分布を有するように選択されたシステム。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構が、ＲＦまたはマイクロ波誘導機構であることを含んでなる装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記ガスが、選択されたエネルギーピークを部分的に決定する圧力に維持されることを含んでなる装置。
【請求項４】
請求項２に記載の装置であって：更に、
前記ガスが、選択されたエネルギーピークを部分的に決定する圧力に維持されることを含んでなる装置。
【請求項５】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構が前記スパッタリングイオン材料のイオンの流入を形成し、これは、前記第二の材料のプラズマデブリ原子の流入速度に１４以下またはこれを越える、前記反射表面からの前記第二の材料の原子のスパッタ密度を形成することを含んでなる装置。
【請求項６】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記反射表面は、前記第一の材料の層および第三の材料の層のラミネートを含んでなる、ＥＵＶ光に対して高度に反射性で且つ入射に対して垂直な多層反射体であることを含んでなる装置。
【請求項７】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記第二の材料による前記第一の材料のスパッタリングについてのスパッタ厚さ速度は、選択された寿命よりも長期間このようなスパッタリングを維持する、前記第一の材料の単一層を生じる速度以下であることを含んでなる装置。
【請求項８】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記反射表面は第四の材料を含んでなるキャッピング層を具備し、これは選択された時間よりも長期間このようなスパッタリングを維持する第四の材料の単一層を生じる速度以下で前記第二の材料によるスパッタリングをも維持するスパッタ厚さ速度を有するように、且つ周囲環境または動作環境に露出されたときに、前記第一の材料よりも更に好ましい特性を有するように選択されることを含んでなる装置。
【請求項９】
請求項７に記載の装置であって：更に、
前記反射表面は第四の材料を含んでなるキャッピング層を具備し、これは選択された時間よりも長期間このようなスパッタリングを維持する第四の材料の単一層を生じる速度以下で前記第二の材料によるスパッタリングをも維持するスパッタ厚さ速度を有するように、且つ周囲環境または動作環境に露出されたときに、前記第一の材料よりも更に好ましい特性を有するように選択されることを含んでなる装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記第一の材料がモリブデンであることを含んでなる装置。
【請求項１１】
請求項８に記載の装置であって：更に、
前記第一の材料がモリブデンであることを含んでなる装置。
【請求項１２】
請求項９に記載の装置であって：更に、
前記第一の材料がモリブデンであることを含んでなる装置。
【請求項１３】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記第二の材料がリチウムを含有することを含んでなる装置。
【請求項１４】
請求項１１に記載の装置であって：更に、
前記第二の材料がリチウムを含有することを含んでなる装置。
【請求項１５】
請求項１２に記載の装置であって：更に、
前記第二の材料がリチウムを含有することを含んでなる装置。
【請求項１６】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記スパッタリングイオン材料がヘリウムを含有することを含んでなる装置。
【請求項１７】
請求項１０に記載の装置であって：更に、
前記スパッタリングイオン材料がヘリウムを含有することを含んでなる装置。
【請求項１８】
請求項１１に記載の装置であって：更に、
前記スパッタリングイオン材料がヘリウムを含有することを含んでなる装置。
【請求項１９】
請求項１４に記載の装置であって：更に、
前記スパッタリングイオン材料がヘリウムを含有することを含んでなる装置。
【請求項２０】
請求項１５に記載の装置であって：更に、
前記スパッタリングイオン材料がヘリウムを含有することを含んでなる装置。
【請求項２１】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構および前記反射表面の周囲動作環境とは独立に前記反射表面を加熱する、前記反射表面に動作可能に結合された加熱素子を具備する装置。
【請求項２２】
請求項８に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構および前記反射表面の周囲動作環境とは独立に前記反射表面を加熱する、前記反射表面に動作可能に結合された加熱素子を具備する装置。
【請求項２３】
請求項９に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構および前記反射表面の周囲動作環境とは独立に前記反射表面を加熱する、前記反射表面に動作可能に結合された加熱素子を具備する装置。
【請求項２４】
請求項１に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は前記反射表面に結合されており、且つ信号発生器を具備することを含んでなる装置。
【請求項２５】
請求項８に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は前記反射表面に結合されており、且つ信号発生器を具備することを含んでなる装置。
【請求項２６】
請求項９に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は前記反射表面に結合されており、且つ信号発生器を具備することを含んでなる装置。
【請求項２７】
請求項２４に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は、着火時の際には本質的に一定である信号を提供し、また該着火時から後続の着火時までの時間の少なくとも一部においては高周波交互信号を提供することを含んでなる装置。
【請求項２８】
請求項２５に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は、着火時の際には本質的に一定である信号を提供し、また該着火時から後続の着火時までの時間の少なくとも一部においては高周波交互信号を提供することを含んでなる装置。
【請求項２９】
請求項２６に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は、着火時の際には本質的に一定である信号を提供し、また該着火時から後続の着火時までの時間の少なくとも一部においては高周波交互信号を提供することを含んでなる装置。
【請求項３０】
請求項２７に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は、前記着火時の際には第一の本質的に一定の直流電流を与え、且つ前記着火時から後続の着火時までの時間の際には反対極性の第二の本質的に一定の直流電流を与える電流発生器を具備することを含んでなる装置。
【請求項３１】
請求項２８に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は、前記着火時の際には第一の本質的に一定の直流電流を与え、且つ前記着火時から後続の着火時までの時間の際には反対極性の第二の本質的に一定の直流電流を与える電流発生器を具備することを含んでなる装置。
【請求項３２】
請求項２９に記載の装置であって：更に、
前記誘導機構は、前記着火時の際には第一の本質的に一定の直流電流を与え、且つ前記着火時から後続の着火時までの時間の際には反対極性の第二の本質的に一定の直流電流を与える電流発生器を具備することを含んでなる装置。
【請求項３３】
ＥＵＶ光源におけるコレクタ反射表面からデブリを連続的に除去して、プラズマにより生成した前記反射表面上の残渣デブリを除去する方法であって：前記反射表面は第一の材料を含んでなり、また前記残渣デブリは第二の材料を含んでなり、
前記方法は、制御されたスパッタリングイオン源を作製するステップを具備し、
該ステップは、
前記スパッタリングイオン材料の原子を含有するガスを準備するステップと、
前記スパッタリングイオン材料の原子をイオン化された状態に励起させるステップとを含んでなり、
前記イオン化された状態は、前記第二の材料をスパッタリングする高い可能性を有し、且つ前記第一の材料をスパッタリングする非常に低い可能性を有する選択されたエネルギーピーク周囲の分布を有するように選択される方法。
【請求項３４】
ＥＵＶ光源におけるコレクタ反射表面からデブリを連続的に除去して、プラズマにより生成した前記反射表面上の残渣デブリを除去する方法であって：前記反射表面は第一の材料を含んでなり、また前記残渣デブリは第二の材料および該第二の材料の化合物を含んでなり、
前記方法は、
前記反射表面に堆積した第二の材料を含んでなる残渣デブリを有効に除去するために、前記反射表面を加熱するステップと；
制御されたスパッタリングイオン源を作製するステップと；
を具備し、
前記イオン源を作製するステップは、
前記スパッタリングイオン材料の原子を含有するガスを準備するステップと、
前記スパッタリングイオン材料の原子をイオン化された状態に励起させるステップとを含んでなり、
前記イオン化された状態は、前記第二の材料の化合物をスパッタリングする高い可能性を有し、且つ前記第一の材料をスパッタリングする非常に低い可能性を有する選択されたエネルギーピーク周囲の分布を有するように選択される方法。
【請求項３５】
ＥＵＶ光源におけるコレクタ反射表面からデブリを連続的に除去して、プラズマにより生成した前記反射表面上の残渣デブリを除去する方法であって：前記反射表面は第一の材料を含んでなり、また前記残渣デブリは第二の材料および該第二の材料の化合物を含んでなり、
前記方法は、
前記反射表面に堆積した第二の材料を含んでなる残渣デブリを有効に除去するために、前記反射表面を加熱するステップと；
前記プラズマ中で生成した前記第二の材料のイオンを使用して、前記反射表面上に堆積した前記第二の材料の化合物をスパッタリングするステップと；
を含んでなる方法。