【手続補正書】
【提出日】平成19年6月7日(2007.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子線で処理可能な材料であって：
上側と下側とを有する基材と；
該基材の上側の、粒子線で処理可能なラッカー・コーティングと；
該基材の下側の、放射線不安定化層と
を含み、該ラッカー・コーティングが、該ラッカー・コーティングに対する化学反応を引き起こすための、110kボルト以下の範囲の電圧で操作する粒子線処理装置によって生成された高加速粒子に対して暴露することにより処理される、
粒子線で処理可能な材料。
【請求項２】
該ラッカー・コーティングが、フリーラジカル重合のためのアクリル酸エステル及び多官能価アクリレート、カチオン重合のためのビニルエーテル、脂環式ジエポキシド及びポリオール系から本質的に成る官能基から成る群から選択される、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項３】
該多官能価アクリレートが、
分子量150〜600のアクリル化ポリオール；
分子量1000〜2000のポリエステルアクリレート；
分子量200〜1500のポリエーテルアクリレート；
分子量400〜2000のポリエステルウレタンアクリレート；
分子量400〜2000のポリ尿素アクリレート；
分子量300〜1000のエポキシアクリレート；及び
多官能価アクリレートの混合物
から本質的に成る群から選択される、請求項2に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項４】
該多官能価アクリレートがさらに：
ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリス-t2ヒドロキシ-エチルイソシアヌレートのトリアクリレートエステル、ヘキサンジオールジアクリレート及びジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、及びこれらのエトキシル化誘導体及びプロポキシル化誘導体から成る群から選択される、請求項3に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項５】
該ラッカー・コーティングが、0.5〜20グラム/m2の範囲の標準化厚を有する、請求項2に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項６】
該高加速粒子が0.5〜10Mradの範囲のエネルギーを放出することにより、該ラッカー・コーティングに対する化学反応を引き起こす、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項７】
該化学反応が重合である、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項８】
該重合が、液体状態から固体状態へ変化させることにより、該ラッカー・コーティングを硬化させる、請求項7に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項９】
該化学反応が滅菌である、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１０】
該化学反応が架橋である、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１１】
該基材が：
配向ポリプロピレン(OPP)；キャスト・ポリプロピレン、ポリエチレン及びポリエチレン・コポリマーを含むポリオレフィン；ポリスチレン；ポリエチレンテレフタレート(PET)又はポリエチレンナフタレート(PEN)を含むポリエステル；エチレンビニルアセテート、エチレンアクリル酸及びエチレンビニルアルコール(EVOH)、ポリビニルアルコール及びこれらのコポリマーを含むポリオレフィン・コポリマー；ナイロン及びMXD6を含むポリアミド；ポリイミド；ポリアクリロニトリル；ポリ塩化ビニル；ポリ二塩化ビニル；ポリ塩化ビニリデン；ポリアクリレート；イオノマー；再生セルロースを含む多糖類；ゴム又はシーラントを含むシリコーン；天然又は合成ゴム；グラシン又はクレイをコーティングされた紙；厚紙；クラフト紙；及び金属化フィルム、及びAlOx、SiOx又はTiOxを含む蒸着金属酸化物をコーティングされたポリマー・フィルム
から成る群から選択された材料から形成される、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１２】
該基材が、10〜200グラム/m2の範囲の標準化厚を有する、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１３】
さらに、該基材の上側にプリントされ、該ラッカー・コーティングによって保護されたラベルプリントを含む、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１４】
さらに、該基材の上側及び下側の一方にバリア層を含むことにより、包装された製品の内容物の状態を維持する、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１５】
さらに、該バリア層の上側にプリントされ、該ラッカー・コーティングによって保護されたラベルプリントを含む、請求項14に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１６】
該バリア層が真空蒸着法によって適用される、請求項14に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１７】
該バリア層が、酸化アルミニウム(AlOx)層を含む、蒸着アルミニウム層を含む、請求項14に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１８】
該蒸着アルミニウム層の厚さが100〜1000オングストロームの範囲にある、請求項17に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項１９】
該バリア層が、酸化ケイ素(SiOx)層を含む、請求項14に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項２０】
該酸化ケイ素(SiOx)層の厚さが100〜1000オングストロームの範囲にある、請求項19に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項２１】
該放射線不安定化層が、包装された製品をヒートシールするのに適した材料から成るシーリング層である、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項２２】
該ヒートシール層が、温度範囲100〜150℃の融点を有するポリマーから形成される、請求項21に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項２３】
該ヒートシール層が、ポリエチレン、ポリビニルアセテート、エチレンプロピレン・コポリマー、ターポリマー・エチレンアクリル酸、メタロセン、イオノマー及びこれらの組み合わせから成る群から選択された材料から形成される、請求項21に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項２４】
該放射線不安定化層が、包装された製品をコールドシールするのに適した材料から成るシーリング層である、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項２５】
該コールドシール層が、天然ゴム、ポリアミド及びこれらの組み合わせから成る群から選択された材料から形成される、請求項24に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項２６】
該放射線不安定化層が、5〜50グラム/m2の範囲の標準化厚を有する、請求項1に記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項２７】
粒子線で処理可能な材料を形成する方法であって：
上側と下側とを有する基材を準備し；
該基材の下側に、放射線不安定化層を適用し；
該基材の上側に、粒子線で処理可能なラッカー・コーティングを適用し；そして
該放射線不安定化層に影響を与えることなしに該ラッカー・コーティングに対する化学反応を引き起こすための、110kボルト以下の範囲の電圧で操作する粒子線処理装置によって生成された高加速粒子に対して、該ラッカー・コーティングを暴露する
ことを含む、粒子線で処理可能な材料を形成する方法。
【請求項２８】
該ラッカー・コーティングが、フリーラジカル重合のためのアクリル酸エステル、カチオン重合のためのビニルエーテル、脂環式ジエポキシド及びポリオール系、並びに多官能価アクリレートから本質的に成る群から選択される、請求項27に記載の粒子線で処理可能な材料を形成する方法。
【請求項２９】
該多官能価アクリレートが、
分子量150〜600のアクリル化ポリオール；
分子量1000〜2000のポリエステルアクリレート；
分子量200〜1500のポリエーテルアクリレート；
分子量400〜2000のポリエステルウレタンアクリレート；
分子量400〜2000のポリ尿素アクリレート；
分子量300〜1000のエポキシアクリレート；及び
多官能価アクリレートの混合物
から本質的に成る群から選択される、請求項28に記載の方法。
【請求項３０】
該多官能価アクリレートがさらに、
ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリス-t2ヒドロキシ-エチルイソシアヌレートのトリアクリレートエステル、ヘキサンジオールジアクリレート及びジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、及びこれらのエトキシル化誘導体及びプロポキシル化誘導体から本質的に成る群から選択される、請求項29に記載の方法。
【請求項３１】
該ラッカー・コーティングが、0.5〜20グラム/m2の範囲の標準化厚を有する、請求項28に記載の方法。
【請求項３２】
該ラッカー・コーティングの適用が、ロール・コーティング塗布、オフセット・グラビア塗布、直接グラビア塗布、及びこれらの組み合わせのうちの1つによって塗布することを含む、請求項27に記載の方法。
【請求項３３】
該高加速粒子が0.5〜10Mradの範囲のエネルギーを放出することにより、該ラッカー・コーティングに対する化学反応を引き起こす、請求項27に記載の方法。
【請求項３４】
該化学反応が重合を含む、請求項27に記載の方法。
【請求項３５】
該重合が、液体状態から固体状態へ変化する該ラッカー・コーティングを硬化させる、請求項34に記載の方法。
【請求項３６】
該基材が
配向ポリプロピレン(OPP)；キャスト・ポリプロピレン、ポリエチレン及びポリエチレン・コポリマーを含むポリオレフィン；ポリスチレン；ポリエチレンテレフタレート(PET)又はポリエチレンナフタレート(PEN)を含むポリエステル；エチレンビニルアセテート、エチレンアクリル酸及びエチレンビニルアルコール(EVOH)、ポリビニルアルコール及びこれらのコポリマーを含むポリオレフィン・コポリマー；ナイロン及びMXD6を含むポリアミド；ポリイミド；ポリアクリロニトリル；ポリ塩化ビニル；ポリ二塩化ビニル；ポリ塩化ビニリデン；ポリアクリレート；イオノマー；再生セルロースを含む多糖類；ゴム又はシーラントを含むシリコーン；天然又は合成ゴム；グラシン又はクレイをコーティングされた紙；厚紙；クラフト紙；及び金属化フィルム、及びAlOx、SiOx又はTiOxを含む蒸着金属酸化物をコーティングされたポリマー・フィルム
から本質的に成る群から選択された材料から形成される、請求項27に記載の方法。
【請求項３７】
該基材が、10〜200グラム/m2の範囲の標準化厚を有する、請求項27に記載の方法。
【請求項３８】
さらに、該基材の上側にラベルプリントを適用することを含み、該ラベルプリントが該ラッカー・コーティングによって保護される、請求項27に記載の方法。
【請求項３９】
ラベルプリントの適用が、フレキソグラフィ印刷、ロータ・グラビア印刷、オフセット・リソグラフィ印刷、噴霧印刷、及びこれらの組み合わせのうちの1つによって塗布することを含む、請求項38に記載の方法。
【請求項４０】
さらに、該基材の上側及び下側の一方にバリア層を適用することにより、包装された製品の内容物の状態を維持することを含む、請求項27に記載の方法。
【請求項４１】
さらに、該バリア層の上側にラベルプリントを適用することを含み、該ラベルプリントが該ラッカー・コーティングによって保護される、請求項40に記載の方法。
【請求項４２】
バリア層の適用が、真空蒸着法によって行われる、請求項40に記載の方法。
【請求項４３】
バリア層の適用がさらに、酸化アルミニウム(AlOx)層を含む蒸着アルミニウム層を適用することを含む、請求項40に記載の方法。
【請求項４４】
該蒸着アルミニウム層の厚さが100〜1000オングストロームの範囲にある、請求項43に記載の方法。
【請求項４５】
バリア層の適用がさらに、酸化ケイ素(SiOx)層を適用することを含む、請求項40に記載の方法。
【請求項４６】
該酸化ケイ素(SiOx)層の厚さが100〜1000オングストロームの範囲にある、請求項45に記載の方法。
【請求項４７】
放射線不安定化層の適用がさらに、包装された製品をヒートシールするためのヒートシール層を適用することを含む、請求項27に記載の方法。
【請求項４８】
ヒートシール層の適用がさらに、該基材の下側上に該ヒートシール層を押し出すことを含む、請求項47に記載の方法。
【請求項４９】
該ヒートシール層が、温度範囲100〜150℃の融点を有するポリマーから形成される、請求項47に記載の方法。
【請求項５０】
該ヒートシール層が、ポリエチレン、ポリビニルアセテート、エチレンプロピレン・コポリマー、ターポリマー・エチレンアクリル酸、メタロセン、イオノマー及びこれらの組み合わせから成る群から選択された材料から形成される、請求項47に記載の方法。
【請求項５１】
放射線不安定化層の適用がさらに、包装された製品をコールドシールするためのコールドシール層を適用することを含む、請求項27に記載の方法。
【請求項５２】
該コールドシール層が、天然ゴム、ポリアミド及びこれらの組み合わせから成る群から選択された材料から形成される、請求項51に記載の方法。
【請求項５３】
該コールドシール層が、5〜50グラム/m2の範囲の標準化厚を有する、請求項47に記載の方法。
【請求項５４】
前記高加速粒子を約10マイクロメートル以下のチタン又はその合金の薄ホイル、または、約20マイクロメートル以下のアルミニウム又はその合金の薄ホイルを通過させる、請求項１記載の粒子線で処理可能な材料。
【請求項５５】
前記高加速粒子を約10マイクロメートル以下のチタン又はその合金の薄ホイル、または、約20マイクロメートル以下のアルミニウム又はその合金の薄ホイルを通過させる、請求項27記載の方法。