(57)【要約】      （修正有）【課題】リソグラフィ装置を使用し、複数のパターン形成済みビームを、基板テーブル上で支持された基板上に導くためのシステム及び方法を提供すること。【解決手段】複数のパターン形成済みビーム群は、基板の標的部分上に投影され、基板とパターン形成済みビームとの間の相対変位により、ビームが基板を横切って走査される。第１の投影デバイスは、基板の実質的な部分を横切って延びる第１の比較的大きな面積の部分を投影し、第２の投影デバイスは、相対変位の方向で延びる、基板の第２の細長い部分を投影し、第３の投影デバイスは、相対変位の方向に対して横断方向で延びる、基板の第３の細長い部分を投影することができる。【選択図】図２
2006054459.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線のビーム群を供給する照明システムと、
前記ビーム群をパターン形成するパターン形成システムと、
前記パターン形成済みビーム群を基板の標的部分上に投影する投影システムであって、
前記基板の実質的な部分を横切って延びる、前記パターン形成済みビーム群のうちの第１の比較的大きな面積のビームを投影する第１の投影デバイス、及び、
前記パターン形成済みビーム群のうちの少なくとも１つの第２の比較的小さな面積のビームを前記基板上に投影する第２の投影デバイスを備える投影システムと、
前記基板と前記パターン形成済みビーム群との間で、所定の方向で相対変位を引き起こす変位システムとを備え、
前記第２のビームが、少なくとも前記所定の方向に対して横断する方向で、前記第１の投影デバイスに対して選択的に位置決め可能であるリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記投影システムが、少なくとも１つの第３の比較的小さな面積のパターン形成済みビームを前記基板上に投影する第３の投影デバイスをさらに備え、前記第３のビームが、前記基板と前記第１の投影デバイスとの間の相対変位中に、前記所定の方向と前記横断方向の双方で、前記第１の投影デバイスに対して選択的に変位可能である請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記横断方向で分布する複数の第１の光学カラムをさらに備え、前記複数の第１の光学カラムのそれぞれが、前記第１のビームを形成するそれぞれのパターン形成済みビームを生成する請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記投影システムが、前記横断方向で分布する複数の第２の光学カラムをさらに備え、前記複数の第２の光学カラムのそれぞれが、
それぞれの第２の比較的小さな面積のパターン形成済みビームを生成し、
前記基板テーブルの上に延びるブリッジ上で支持され、
前記ブリッジ上で、前記横断方向で変位可能である請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記投影システムが、前記横断方向で分布する複数の第３の光学カラムをさらに備え、前記第３の光学カラムのそれぞれが、
それぞれの第３の比較的小さな面積のパターン形成済みビームを生成し、
前記基板テーブルの上に延びるキャリッジ上で支持され、
前記キャリッジ上で、前記横断方向で変位可能であり、
前記キャリッジが、前記所定の方向で変位可能である請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記基板を支持する基板テーブルをさらに備え、前記基板テーブルと第１の投影デバイスが適所で固定され、前記変位システムが、前記基板テーブルを横切って前記基板の変位を引き起こす請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記パターン形成システムが、個別に制御可能な要素の１つ又は複数のアレイを備え、前記パターン形成済みビームのそれぞれが、個別に制御可能な要素の前記１つ又は複数のアレイのそれぞれの１つによって生成される請求項１に記載の装置。
【請求項８】
（ａ）放射線のビームをパターン形成するステップと、
（ｂ）前記パターン形成済みビームを基板の標的部分上に投影するステップと、
（ｃ）前記基板を所定の方向で前記パターン形成済みビームに対して支持する基板テーブルを変位するステップとを含むデバイス製造方法であって、
ステップ（ｂ）が、前記基板の実質的な部分を横切って延びるように第１の比較的大きな面積の細長いビームを投影し、
ステップ（ｂ）が、少なくとも１つの第２の比較的小さな面積のパターン形成済みビームを前記基板上に投影し、
前記第２のパターン形成済みビームが、少なくとも前記所定の方向に対して横断する方向で、前記第１の投影デバイスに対して選択的に位置決めされる方法。
【請求項９】
少なくとも１つの第３の比較的小さな面積のパターン形成済みビームが前記基板上に投影され、前記第３のパターン形成済みビームが、前記基板と前記第１の投影デバイスの間の相対変位中に、前記所定の方向でも前記横断方向でも前記第１の投影デバイスに対して選択的に変位される請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１のパターン形成済みビームが、前記横断方向で分布する複数の第１の光学カラムによって生成され、各第１の光学カラムが、それぞれのパターン形成済みビームを生成する請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２のパターン形成済みビームが、前記基板テーブルの上に延びるブリッジ上で、前記横断方向で分布する複数の第２の光学カラムによって生成され、前記第２の光学カラムが、前記基板の上に選択的に位置決めされるように前記ブリッジ上で、前記横断方向で変位される請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
複数の第３のパターン形成済みビームが、前記基板テーブルの上に延びるキャリッジ上で、前記横断方向で分布する複数の第３の光学カラムによって生成され、前記第３の光学カラムが、前記キャリッジ上で、前記横断方向で変位され、前記キャリッジが、前記第３の光学カラムを前記基板の上に選択的に位置決めさせるように前記所定の方向で変位される請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記基板テーブルと第１の投影デバイスが適所で固定され、前記基板が、前記基板テーブルを横切って変位される請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
各パターン形成済みビームが、個別に制御可能な要素のアレイによって生成される請求項８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板の標的部分上に付ける機械である。リソグラフィ装置は、たとえば、集積回路（ＩＣ）、フラット・パネル・ディスプレイ、及び微細構造を含む他のデバイスの製造時に使用することができる。従来のリソグラフィ装置では、選択可能にマスク又はレチクルと呼ばれるパターン形成手段を使用してＩＣ（又は他のデバイス）の個々の層に対応する回路パターンを生成することができ、このパターンを、感放射線性材料（たとえば、レジスト）の層を有する基板（たとえば、シリコン・ウェハ又はガラス板）上の（たとえば、１つ又は複数のダイの一部を含む）標的部分上に結像することができる。パターン形成手段は、マスクの代わりに、回路パターンを生成する個別に制御可能な要素のアレイを含むことができる。
【０００３】
一般に、単一の基板は、連続して露光される、隣接する標的部分のネットワークを含むことになる。周知のリソグラフィ投影装置には、パターン全体を一度に標的部分上に露光することによって各標的部分が照射されるステッパと、所与の方向（「走査」方向）でビームを介してパターンを走査し、一方、この方向に平行又は逆平行で基板を同期走査することによって各標的部分が照射されるスキャナとが含まれる。
【０００４】
あるタイプの比較的大きな、比較的解像度の低い領域と、関連する、異なるタイプの比較的小さな、比較的解像度の高い領域とを有するデバイスを効率的に製造することができるようになることが望まれている。たとえば、フラット・パネル・ディスプレイ（ＦＰＤ）画面では、第１の比較的大きな領域は、表示される画像を形成するように意図された大量のピクセルを含み、矩形領域の周縁部以外すべてを占有する。ピクセル領域内の解像度は、比較的低い。しかし、個々のピクセルを駆動するために、電子回路も設けられる。これらの電子回路は、ピクセル領域の周辺部の周りで構成される。一般に、電子回路の細長いアレイがピクセル領域の水平の１辺と垂直の１辺に沿って設けられるが、電子回路は、ピクセル領域の４辺すべてに沿って設けることができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＦＰＤ画面の製造に対する従来の手法は、（１）リソグラフィ法を使用してピクセル領域を作り出し、（２）別々に製造された集積回路を、画面の裏側に接着し、（３）集積回路をピクセル領域の個々のピクセルに接続することであった。集積回路のための設計規則（たとえば、限界寸法（ｃｒｉｔｉｃａｌ  ｄｉｍｅｎｓｉｏｎｓ）など）は、ますます厳しくなり、ＦＰＤ画面のピクセル領域のための設計規則は、はるかに厳しくなっている。ＦＰＤ画面のピクセル領域は、継続的に改善されており、これは、集積回路についての急速な設計変化の速度とあいまって、ＦＰＤ画面を構成する構成要素の組合せが、設計において、画面のピクセル領域のどの集積回路よりも急速に変化することを意味する。これは、ＦＰＤ画面の製造に対して本当の挑戦課題を提示する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施形態によれば、放射線のビーム群を供給する照明システムと、ビーム群の断面にパターンを与えるように働くパターン形成システムと、基板を支持する基板テーブルと、基板の標的部分上にパターン形成済みビーム群を投影するための投影システムと、基板テーブル上の基板とパターン形成済みビーム群との間で、所定の方向で相対変位を引き起こす変位システムとを備えるリソグラフィ装置が提供される。投影システムは、基板テーブル上で支持された基板の実質的な部分を横切って延びる第１の比較的大きな面積のパターン形成済みビームを投影するための第１の投影デバイスと、少なくとも１つの第２の比較的小さな面積のパターン形成済みビームを基板上に投影するための第２の投影デバイスとを備える。第２のパターン形成済みビームは、少なくとも所定の方向に対して横断する方向で、第１の投影デバイスに対して選択的に位置決め可能である。
【０００７】
本発明の他の実施形態は、基板を提供するステップと、照明システムを使用して放射線のビーム群を提供するステップと、ビーム群の断面にパターンを与えるステップと、基板の標的部分上に放射線のパターン形成済みビーム群を投影するステップと、基板テーブル上の基板とパターン形成済みビーム群との間で、所定の方向で相対変位を引き起こすステップとを含むデバイス製造方法を提供する。第１の比較的大きな面積のビームは、基板テーブル上で支持された基板の実質的な部分を横切って延びるように投影される。少なくとも１つの第２の比較的小さな面積のパターン形成済みビームは、基板上に投影される。第２のパターン形成済みビームは、少なくとも所定の方向に対して横断する方向で、第１の投影デバイスに対して選択的に位置決めされる。
【０００８】
したがって、上記の諸実施形態によれば、単一のツールで、比較的大きな、解像度の低い領域と、関連する、比較的小さな、解像度の高い領域に適した形で基板を露光することが可能である。
【０００９】
一実施形態では、少なくとも１つの第３の比較的小さな面積のパターン形成済みビームを基板上に投影するために、第３の投影デバイスを設けることができる。第３のビームは、基板と第１の投影デバイスの間の相対変位中に、所定の方向でも横断方向でも第１の投影デバイスに対して選択的に変位可能である。
【００１０】
一実施形態では、基板テーブルと第１の投影デバイスは、適所で固定させることができ、変位システムは、基板を横切って、また３つの投影デバイスのそれぞれの下で基板の変位を引き起こすように構成することができる。
【００１１】
一実施形態では、第１のパターン形成済みビームは、光学カラム（ｏｐｔｉｃａｌ  ｃｏｌｕｍｎｓ）と基板の間の相対移動の方向に対して横断する方向で分布する第１の光学カラムのアレイによって生成することができる。これは、１回の通過で基板の全幅の露光を可能にする。たとえば、フラット・パネル・ディスプレイ画面の場合には、第１の光学カラムは、最終製品の比較的大きなピクセル領域に必要な露光を提供することになる。
【００１２】
一実施形態では、第２の投影デバイスは、基板とビーム群の間の相対移動の方向に対して横断する方向で分布する第２の光学カラムのアレイを備えることができる。第２の光学カラムは、それぞれの第２のパターン形成済みビームを生成し、基板テーブルの上に延びるブリッジ上で変位可能である。第２の光学カラムは、基板と第２の光学カラムの間の相対変位の方向に平行な方向で延びる、基板の細長い部分を露光するように、ブリッジ上で静止させておくことができる。
【００１３】
一実施形態では、第３の投影デバイスは、横断方向で分布する第３の光学カラムのアレイを備えることができる。第３の光学カラムは、それぞれの第３のパターン形成済みビームを生成する。第３の光学カラムは、基板の上に延びるキャリッジ上で支持させることができる。キャリッジは、基板と第１の投影デバイスの間の相対変位の方向で変位可能であり、第３の光学カラムは、キャリッジ上で、横断方向で変位可能である。
【００１４】
一実施形態では、パターン形成済みビーム群は、任意の適切なデバイスによって生成することができる。たとえば、各パターン形成済みビームは、個別に制御可能な要素のアレイによって、「マスクレス」の態様で生成される。
【００１５】
パターン形成済みビーム群はまた、個別に制御可能な要素のアレイではなく、マスクを使用して作り出すこともできる。
【００１６】
本発明の他の諸実施形態、特徴、利点、並びに本発明の様々な実施形態の構造及び動作について、以下、添付の図面を参照しながら詳しく述べる。
【００１７】
本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を形成する添付の図面は、本発明を例示し、説明と共に、さらに本発明の原理を説明するように、また当業者が本発明を製造し使用することができるように働く。
【００１８】
次に、本発明について、添付の図面を参照しながら述べる。図面では、同様の参照番号が、同一の又は機能的に同様な要素を示す可能性がある。
【実施例】
【００１９】
（概要及び用語）
本文中では、集積回路（ＩＣ）製造時におけるリソグラフィ装置の使用を具体的に参照することがあるが、本明細書で述べられているリソグラフィ装置には、集積光学系、磁区メモリ用のガイド及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどの製造など、他の応用分野があり得ることを理解されたい。当業者なら、そのような代替の応用例の文脈において、本明細書における「ウェハ」又は「ダイ」という用語のどのような使用も、それぞれ、より一般的な用語である「基板」又は「標的部分」と同義と見なすことができることを理解するであろう。本明細書で参照されている基板は、露光の前後に、たとえば、トラック（たとえば、一般に、レジストの層を基板に付着し、露光されたレジストを現像するツール）、又は測定若しくは検査ツール内で処理することができる。適用可能な場合、本明細書における開示は、そのような、また他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、たとえば多層ＩＣを作成するために複数回処理することができ、その結果、本明細書で使用される基板という用語は、複数の処理済みの層をすでに含む基板を指すこともあり得る。
【００２０】
本明細書では、「個別に制御可能な要素のアレイ」という用語は、パターン形成された断面を入来放射線ビームに与えるために使用することができ、その結果、所望のパターンを基板の標的部分内で形成することができる任意のデバイスを指すものとして広く解釈すべきである。また、「ライト・バルブ」及び「空間光変調器（ＳＬＭ）」という用語をもこの明細書で使用することができる。そのようなパターン形成デバイスの諸実施例について、以下で論じる。
【００２１】
プログラム可能なミラー・アレイは、粘弾性制御層及び反射表面を有するマトリクス・アドレス可能な表面を備えることができる。そのような装置の背景にある基本原理は、たとえば、反射表面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射し、一方、アドレスされない領域が入射光を非回折光として反射することである。適切な空間フィルタを使用して、その非回折光を反射ビームから逃がし、回折光だけ基板に達するように残すことができる。このようにして、マトリクス・アドレス可能な表面のアドレッシング・パターンに従って、ビームがパターン形成済みのものとなる。
【００２２】
別法として、このフィルタは、回折光を逃がし、非回折光を基板に達するように残すことができることを理解されたい。回折光学微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイスのアレイをも対応する態様で使用することができる。各回折光学ＭＥＭＳデバイスは、入射光を回折光として反射する回折格子を形成するように互いに変形することができる複数の反射リボンを含むことができる。
【００２３】
他の代替の実施例は、小さな鏡の行列構成を使用するプログラム可能なミラー・アレイを含むことができ、それぞれの鏡は、適切な局所電界を印加することにより、又は圧電始動手段を使用することにより、軸の周りで個別に傾斜させることができる。この場合も、鏡はマトリクス・アドレス可能であり、その結果、アドレスされた鏡は、アドレスされない鏡に対して異なる方向で入来放射線ビームを反射することになり、このようにして、反射されたビームは、マトリクス・アドレス可能な鏡のアドレッシング・パターンに従ってパターン形成される。必要とされるマトリクス・アドレッシングは、適切な電子手段を使用して実施することができる。
【００２４】
上述の状況のどちらも、個別に制御可能な要素のアレイは、１つ又は複数のプログラム可能なミラー・アレイを備えることができる。本明細書で参照されているミラー・アレイに関するさらなる情報は、たとえば、米国特許第５，２９６，８９１号及び米国特許第５，５２３，１９３号、並びにＰＣＴ特許出願ＷＯ９８／３８５９７及びＷＯ９８／３３０９６から得ることができ、これらは、その全文を参照により本明細書に組み込む。
【００２５】
プログラム可能なＬＣＤアレイをも使用することができる。そのような構造の一実施例は、米国特許第５，２２９，８７２号にあり、これは、その全文を参照により本明細書に組み込む。
【００２６】
たとえば、フィーチャのプリバイアス（ｐｒｅ−ｂｉａｓｉｎｇ  ｏｆ  ｆｅａｔｕｒｅｓ）、光学近接補正機能（ｏｐｔｉｃａｌ  ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ  ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ  ｆｅａｔｕｒｅｓ）、位相変動技法（ｐｈａｓｅ  ｖａｒｉａｔｉｏｎ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ）、及び複数の露光技法が使用される場合、個別に制御可能な要素のアレイ上で「表示」されたパターンは、基板に属する、又は基板上の層に最終的に転写されるパターンと実質的に異なる可能性がある。同様に、基板上で最終的に生成されるパターンは、個別に制御可能な要素のアレイ上で任意のある瞬間に形成されたパターンに対応しない可能性がある。これは、基板の各部上で形成される最終的なパターンが所与の時間又は所与の露光回数にわたって構築され、その間に個別に制御可能な要素のアレイ上のパターン及び／又は（ａｎｄ／ｏｒ）基板の相対位置が変化する構成の場合があり得る。
【００２７】
本文中では、ＩＣ製造時におけるリソグラフィ装置の使用を具体的に参照する可能性があるが、本明細書で述べられているリソグラフィ装置には、たとえば、ＤＮＡチップ、ＭＥＭＳ、ＭＯＥＭＳ、集積光学系、磁区メモリ用のガイド及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどの製造など、他の応用分野があり得ることを理解されたい。当業者なら、そのような代替応用例の文脈において、本明細書における「ウェハ」又は「ダイ」という用語のどのような使用も、それぞれ、より一般的な用語である「基板」又は「標的部分」と同義と見なすことができることを理解するであろう。本明細書で参照されている基板は、露光の前後に、たとえば、トラック（一般に、レジストの層を基板に付着し、露光されたレジストを現像するツール）、又は測定若しくは検査ツール内で処理することができる。適用可能な場合、本明細書における開示は、そのような、また他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、たとえば多層ＩＣを作成するために複数回処理することができ、その結果、本明細書で使用される基板という用語は、複数の処理済みの層をすでに含む基板を指すこともあり得る。
【００２８】
本明細書で使用される「放射線」及び「ビーム」という用語は、（たとえば、波長３６５、２４８、１９３、１５７、又は１２６ｎｍを有する）紫外線（ＵＶ）及び（たとえば、５〜２０ｎｍの範囲内の波長を有する）極紫外線（ＥＵＶ）、並びに、イオン・ビーム又は電子ビームなど粒子ビームを含む、あらゆるタイプの電磁放射線を包含する。
【００２９】
本明細書で使用される「投影システム」という用語は、たとえば、使用される露光放射線に対して、或いは、浸漬流体の使用又は真空の使用など他の要因に対して適切なように、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系を含む様々なタイプの投影システムを包含すると広く解釈すべきである。本明細書における「レンズ」という用語のどの使用も、より一般的な用語である「投影システム」と同義と見なすことができる。
【００３０】
照明システムはまた、放射線のビームを誘導する、形作る、又は制御するために、屈折構成要素、反射構成要素、カタディオプトリック光学構成要素を含む様々なタイプの光学構成要素を包含することができ、そのような構成要素もまた下記で、集合的に、又は単数で「レンズ」と称される可能性がある。
【００３１】
リソグラフィ装置は、２つ（例えばデュアル・ステージ）以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプのものとすることができる。そのような「複数ステージ」機では、追加テーブルを同時に使用することができ、或いは、１つ又は複数の他のテーブルが露光用に使用されている間に、１つ又は複数のテーブルに対して準備ステップを実施することができる。
【００３２】
リソグラフィ装置はまた、比較的高い屈折率を有する液体（たとえば水）に基板が浸漬され、投影システムの最終要素と基板の間の空間を満たすタイプのものとすることができる。また、浸漬液は、リソグラフィ装置内の他の空間、たとえば、マスクと投影システムの最初の要素との間に用いることができる。浸漬技法は、投影システムの開口数を増大するために、当技術分野で周知である。
【００３３】
さらに、本装置は、流体と、基板の照射された部分との間の相互作用を可能にするために（たとえば、化学薬品を基板に選択的に添着するために、或いは基板の表面構造を選択的に修正するために）、流体処理セルを備えることができる。
【００３４】
（リソグラフィ投影装置）
図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置１００を概略的に示す。装置１００は、少なくとも放射システム１０２と、個別に制御可能な要素のアレイ１０４と、物体テーブル１０６（たとえば、基板テーブル）と、投影システム（レンズ）１０８とを含む。
【００３５】
放射システム１０２は、放射線のビーム１１０（たとえば、ＵＶ放射線）を供給するために使用することができ、この特定の場合には、放射線源１１２をも備える。
【００３６】
個別に制御可能な要素のアレイ１０４（たとえば、プログラム可能なミラー・アレイ）は、ビーム１１０にパターンを付けるために使用することができる。一般に、個別に制御可能な要素のアレイ１０４の位置は、投影システム１０８に対して固定とすることができる。しかし、代替の構成では、個別に制御可能な要素のアレイ１０４を、投影システム１０８に対して正確に位置決めするために、位置決めデバイス（図示せず）に接続することができる。本明細書では、個別に制御可能な要素１０４は、（たとえば、個別に制御可能な要素の反射型アレイを有する）反射タイプのものである。
【００３７】
物体テーブル１０６は、基板１１４（たとえば、レジスト・コーティング済みシリコン・ウェハ又はガラス基板）を保持するための基板ホルダ（具体的に図示せず）を備えることができ、物体テーブル１０６は、基板１１４を投影システム１０８に対して正確に位置決めするために位置決めデバイス１１６に接続することができる。
【００３８】
投影システム１０８（たとえば、石英及び／又はＣａＦ２レンズ系、或いは、そのような材料製のレンズ要素、又はミラー系を備えるカタディオプトリック系）は、ビーム・スプリッタ１１８から受け取られたパターン形成済みビームを、基板１１４の標的部分１２０（たとえば、１つ又は複数のダイ）上に投影するために使用することができる。投影システム１０８は、個別に制御可能な要素のアレイ１０４の像を基板１１４上に投影することができる。別法として、投影システム１０８は、個別に制御可能な要素のアレイ１０４の諸要素がシャッタとして動作する２次線源の像を投影することができる。投影システム１０８はまた、２次線源を形成するために、また、マイクロスポットを基板１１４上に投影するために、マイクロ・レンズ・アレイ（ＭＬＡ）を備えることができる。
【００３９】
線源１１２（たとえば、エキシマ・レーザ）は、放射線のビーム１２２を生成することができる。ビーム１２２は、直接に、或いは、たとえばビーム・エキスパンダ１２６など調節デバイス１２６を横断した後で照明システム（イルミネータ）１２４内に送られる。イルミネータ１２４は、ビーム１２２内の強度分布の（一般にそれぞれσ−ｏｕｔｅｒ及びσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）外部及び／又は内部径方向範囲を設定するための調整デバイス１２８を備えることができる。さらに、イルミネータ１２４は、一般にインテグレータ１３０及びコンデンサ１３２など、様々な他の構成要素を含むことになる。このようにして、個別に制御可能な要素のアレイ１０４上に衝突するビーム１１０は、その断面において所望の均一性及び強度分布を有する。
【００４０】
図１に関して、線源１１２は、（たとえば、線源１１２が水銀ランプの場合にしばしばそうであるように）リソグラフィ投影装置１００のハウジング内にある可能性があることに留意されたい。代替の実施例では、線源１１２はまた、リソグラフィ投影装置１００から離すことができる。この場合、放射線ビーム１２２は、（たとえば、適切な誘導ミラーの助けにより）装置１００内に導かれることになる。この後者の状況は、線源１１２がエキシマ・レーザである場合に多い。これらの状況は共に、本発明の範囲内で企図されていることを理解されたい。
【００４１】
その後、ビーム１１０は、ビーム・スプリッタ１１８を使用して導かれた後で、個別に制御可能な要素のアレイ１０４を横切る。ビーム１１０は、個別に制御可能な要素のアレイ１０４によって反射されて投影システム１０８を通過し、投影システム１０８は、ビーム１１０を基板１１４の標的部分１２０上に集束する。
【００４２】
基板テーブル１０６は、位置決めデバイス１１６（また、任意選択で、ビーム・スプリッタ１４０を介して干渉ビーム１３８を受け取る、ベース・プレート１３６上の干渉測定デバイス１３４）の助けにより、様々な標的部分１２０をビーム１１０の経路内で位置決めするように、正確に移動することができる。個別に制御可能な要素のアレイ１０４用の位置決めデバイスは、使用される場合、たとえば走査中に、ビーム１１０の経路に対して、個別に制御可能な要素のアレイ１０４の位置を正確に補正するために使用することができる。一般に、物体テーブル１０６の移動は、図１には明示的に示されていないが、ロング・ストローク・モジュール（粗い位置決め）及びショート・ストローク・モジュール（細かい位置決め）の助けにより実現される。また、同様なシステムを使用し、個別に制御可能な要素のアレイ１０４を位置決めすることもできる。必要とされる相対移動を実現するために、別法として／追加として投影ビーム１１０を移動可能とし、一方、物体テーブル１０６及び／又は個別に制御可能な要素のアレイ１０４が固定位置を有することができることを理解されたい。
【００４３】
この実施例の代替の構成では、基板１１４が基板テーブル１０６の上で移動可能な状態で、基板テーブル１０６を固定とすることができる。これが行われる場合、基板テーブル１０６は、平坦な最上面上に多数の開口を備え、その開口を介してガスが供給され、基板１１４を支持することが可能であるガス・クッションを提供する。これは、従来、空気支承構成と呼ばれる。基板１１４は、基板１１４をビーム１１０の経路に対して正確に位置決めすることが可能である１つ又は複数のアクチュエータ（図示せず）を使用して、基板テーブル１０６の上で移動される。別法として、基板１１４は、開口を介したガスの通過を選択的に開始及び停止することによって、基板テーブル１０６の上を移動させることができる。
【００４４】
本発明によるリソグラフィ装置１００は、本明細書では、基板上のレジストを露光するためのものとして述べられているが、本発明は、この使用に限定されず、レジストレス・リソグラフィにおいて使用するために、装置１００を使用し、パターン形成済み投影ビーム１１０を投影することができることを理解されたい。
【００４５】
図の装置１００は、４つの好ましいモードで使用することができる。
１．ステップ・モード：個別に制御可能な要素のアレイ１０４上のパターン全体が標的部分１２０上に１回で（すなわち、１回の「フラッシュ」）投影される。次いで、基板テーブル１０６は、パターン形成済みビーム１１０によって照射される異なる標的部分１２０について異なる位置に、ｘ及び／又はｙ方向で移動される。
２．走査モード：本質的にステップ・モードと同じであるが、所与の標的部分１２０が１回の「フラッシュ」で露光されない。その代わりに、個別に制御可能な要素のアレイ１０４は、所与の方向（いわゆる「走査方向」、たとえばｙ方向）に速さｖで移動可能であり、その結果、パターン形成済みビーム１１０は個別に制御可能な要素のアレイ１０４全体にわたって走査させられる。それと共に、基板テーブル１０６は、同方向又は反対方向に速さＶ＝Ｍｖで同時に移動される。この式でＭは、投影システム１０８の倍率である。このようにして、解像度を損なうことなく、比較的大きな標的部分１２０を露光することができる。
３．パルス・モード：個別に制御可能な要素のアレイ１０４が本質的に静止したまま保たれ、パターン全体が、パルス放射システム１０２を使用して、基板１１４の標的部分１２０上に投影される。基板テーブル１０６は、パターン形成済みビーム１１０に基板１０６を横切ってラインを走査させるように、本質的に一定の速さで移動される。個別に制御可能な要素のアレイ１０４上のパターンは、放射システム１０２のパルス間で必要に応じて更新され、パルスは、連続する標的部分１２０が基板１１４上の必要とされる位置で露光されるように計時される。したがって、パターン形成済みビーム１１０は、基板１１４の帯について完全なパターンを露光するように、基板１１４を横切って走査することができる。このプロセスは、完全な基板１１４がラインごとに露光されるまで繰り返される。
４．連続走査モード：本質的にパルス・モードと同じであるが、実質的に一定の放射システム１０２が使用され、個別に制御可能な要素のアレイ１０４上のパターンは、パターン形成済みビーム１１０が基板１１４を横切って走査し、それを露光したとき更新される。
【００４６】
上述の使用モード又は全く異なる使用モードに対する組合せ及び／又は変形形態をも、使用することができる。
【００４７】
図１に示されている実施例では、個別に制御可能な要素のアレイ１０４は、プログラム可能なミラー・アレイである。プログラム可能なミラー・アレイ１０４は、小さな鏡の行列構成を備え、鏡のそれぞれは、軸の周りで個別に傾斜させることができる。傾斜の度合いが各鏡の状態を規定する。鏡は、要素に欠陥がないとき、コントローラからの適切な制御信号によって制御可能である。欠陥のない各要素は、投影された放射パターンにおける、その対応するピクセルの強度を調整するように、一連の状態のいずれか１つを採用するように制御可能である。
【００４８】
一実施例では、一連の状態には、（ａ）鏡によって反射された放射線が、その対応するピクセルの強度分布に対して最小限の貢献をする、或いはまったく貢献しない黒状態（ｂｌａｃｋ  ｓｔａｔｅ）、（ｂ）反射された放射線が最大限の貢献をするホワイテスト状態（ｗｈｉｔｅｓｔ  ｓｔａｔｅ）、及び（ｃ）反射された放射が中間的な貢献をする、間の複数の状態、が含まれる。諸状態は、通常のビームのパターン形成／プリンティングのために使用される通常セットと、欠陥のある要素の作用を補償するために使用される補償セットとに分割される。通常セットは、黒状態と、第１のグループの中間状態とを含む。この第１のグループは、グレー状態（ｇｒｅｙ  ｓｔａｔｅｓ）として述べられることになり、最小黒値から、ある通常最大まで、対応するピクセル強度に対する貢献が漸進的に高まるように選択可能である。補償セットは、ホワイテスト状態と共に、残りの、第２のグループの中間状態を含む。この第２のグループの中間状態は、白状態（ｗｈｉｔｅ  ｓｔａｔｅｓ）として述べられることになり、ホワイテスト状態に対応する真の最大まで漸進的に高まって、通常最大より大きく貢献するように選択可能である。第２のグループの中間状態は白状態として述べられているが、これは単に、通常露光ステップと補償露光ステップとの区別を容易にするためであることを理解されたい。或いは、複数の状態全体を、グレースケール・プリンティングを可能にするように選択可能な、黒と白の間の一連のグレー状態として述べることもできる。
【００４９】
（複数の投影システムを有する例示的なリソグラフィ・システム）
図１は、大まかに言えば、基板を単一のパターン形成済みビームで露光するために使用することができるリソグラフィ装置の構成部分を示す。しかし、一実施例では、本発明は、第１、第２、第３の投影システムによって基板に送達されたパターン形成済みビーム群で基板を露光する。第１、第２、第３の投影システムのそれぞれは、複数のパターン形成済みビーム発生装置を組み込む。そのような各パターン形成済みビーム発生装置は、以下で「光学カラム」と呼ばれ、これらのカラムのそれぞれは、図１に示されている構成要素の多数を組み込むことができる。たとえば、各カラムは、照明システムと、個別に制御可能な要素のアレイ（或いはマスク）と、パターン形成済みビームを基板上に結像するためのレンズ系とを含むことができる。
【００５０】
図２は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置の上方からの概略図である。図３は、本発明の一実施例による図２の装置の片側からの概略図である。
【００５１】
図２及び図３を参照すると、基板テーブル１は、矢印３の方向（たとえば、走査方向又はｙ方向）で変位可能な基板２を保持する。この実施例では、テーブル１は単一構造であるが、テーブル１は、基板移送の方向で互いに隣接して構成された一連のステージで構成することができる。一実施例では、基板２は、テーブル１を横切って駆動される移送ドライブ（図示せず）上で支持することができる。一実施例では、基板２は、テーブル１内の装置（図示せず）を介してくみ出される空気の噴射によって生成される空気ベアリング上で支持される。第１、第２、第３の投影デバイス４、５、６は、基板２が３つの投影デバイス４、５、６の下を連続的に通過するようにテーブル１の上方で構成される。
【００５２】
この実施例では、第１の投影デバイス４は、テーブル１に対して適所で固定される９つの光学カラム７を備える。特定の応用例に対して適切なように、より多くの、又はより少ない光学カラムが存在することができることを理解されたい。各光学カラム７は、図２では単純な方形で表されているが、それぞれが、パターン形成済みビームをテーブル１上の基板２上に投影するために必要な構成要素すべてを含むことを理解されたい。
【００５３】
光学カラム７によって投影されたパターン形成済みビーム群は共に、基板２が横断する経路の全幅を横切って、横断して延びる、単一の細長い第１のパターン形成済みビームと見なすことができるものを形成する。したがって、光学カラム７のそれぞれが第１のパターン形成済みビームのそれぞれの部分に貢献する状態で、基板２の全幅を、投影デバイス４の下を基板２が１回通過する際に露光することができる。
【００５４】
この実施例では、第２の投影デバイス５は、５つの光学カラム８を備え、光学カラム８のそれぞれは、やはりパターン形成済みビームを生成することが可能である。カラム８は、移送方向に対して横断する方向で（たとえば、図２で表されているようにｘ方向で）テーブル１の上に延びるブリッジ上で離隔される。カラム８は、矢印９によって表されているように、その横断ｘ方向で選択的に変位可能である。したがって、各カラム８は、矢印３のｙ方向で延びる細長い基板部分を露光するために使用することができ、ｘ方向における細長い部分の位置が選択的に制御可能であるそれぞれの第２のパターン形成済みビームを生成する。
【００５５】
この実施例では、第３の投影デバイス６は、支持体１２上で矢印１３によって表されているｙ方向で変位可能なキャリッジ１１上に取り付けられた３つの光学カラム１０を備える。カラム１０は、基板移送方向に対して横断するｘ方向で、キャリッジ１１に対して変位可能である。基板２が、第３の投影デバイス６の下にあるとき変位するのと同期して、キャリッジ１１がｙ方向で移送され、カラム１０が、矢印１４によって表されている横断ｘ方向で同時に移送される場合、各カラム１０を使用し、横断ｘ方向に平行に、またｙ方向に直角に延びる細長い基板部分を露光することができる、それぞれの第３のパターン形成済みビームを生成することができる。
【００５６】
より多くの、又はより少ない光学カラムを、投影デバイス５及び／又は投影デバイス６内に組み込むことができることを理解されたい。
【００５７】
図４は、本発明の一実施例による、図２及び図３の装置を使用して製造することができるタイプのフラット・パネル・ディスプレイ画面の概略平面図である。この実施例では、図４は、フラット・パネル・ディスプレイのレイアウトを概略的に表す。領域１５は、画像が表示されるパネルの領域を表す。領域１５は、ピクセル要素（図示せず）の規則的なアレイによって占有され、ピクセル要素のそれぞれは、表示画像の単一のピクセルを形成する。ピクセル要素は、各要素を制御するために使用される駆動電子回路に接続される。駆動電子回路は、画像ディスプレイ又はピクセル領域１５上で収容することができず、したがって、パネルの２つの縁部に沿って延びる、パネルの比較的細長い部分上に位置する。
【００５８】
この実施例では、駆動電子回路１６は、ピクセル要素の各行（たとえば、ライン）に制御電圧を送達し、駆動電子回路１７は、ピクセル要素の各列に制御電圧を送達する。これらの列及びライン制御電圧は、共に、各ピクセル要素の状態を制御する。述べられているＦＰＤ駆動電子回路１６及び１７は、ピクセル領域１５の２辺だけに沿って設けられているが、いくつかの設計では、駆動電子回路がピクセル領域の４辺すべてに沿って設けられ、これは、本発明の範囲内で企図されている。
【００５９】
図５は、本発明の一実施例による、図４に表されている一般フォーマットの６つのフラット・パネル画面が形成されたフラット・パネル・ディスプレイ基板の概略平面図である。たとえば、基板は、約２メートル四方、たとえば、約１．８ｍ×約２．２ｍである。例示的な実施例では、基板には、３つの異なるパネル・サイズ又はフォーマットが形成されている。第１は、ピクセル要素領域１８と、駆動電子回路１９及び２０を有する比較的大きなパネルである。第２は、ピクセル要素領域２１及び２２と、駆動電子回路２３、２４、２５、２６とを有する２つの中間サイズ・パネルである。第３は、ピクセル要素領域２７、２８、２９と、駆動電子回路３０、３１、３２、３３、３４、３５とを有する３つの小さなパネルである。
【００６０】
一実施例では、図５に示されている６つのピクセル要素領域のそれぞれと１２個の制御要素領域のそれぞれは、以下、図６、７を参照しながら述べるように、図２及び図３の装置を使用して露光することができる。
【００６１】
この実施例では、６つのピクセル領域１８、２１、２２、２７、２８、２９が、第１の投影デバイス４の下を基板２が１回通過する間に露光される。光学カラム７は、テーブル１に対して静止しており、基板２がテーブル１を渡って進むとき、投影されるパターンを調整するように制御される。
【００６２】
基板移送方向に平行に延びる６つの制御電子回路領域１９、２３、２５、３０、３２、３４は、第２の投影デバイス５の下を基板２が１回通過する間に露光される。これは、ピクセル要素領域を露光するために使用されるのと同じ通過とすることができる。光学カラム８は、そのそれぞれが、露光される領域が存在する５つのトラックのそれぞれのトラックと位置合わせされるように位置決めされる。領域１９、３０、３２、３４は、他のどの領域とも位置合わせされないが、領域２３と２５は位置合わせされ、また同一であり、したがって、領域２３は、領域２５を露光するために使用されたパターンの１回の「繰り返し」によって露光することができることに留意されたい。
【００６３】
基板移送方向に直角に延びる６つの制御電子回路領域２０、３１、３３、３５、２６、２４は、第３の投影デバイス６の下を基板２が１回通過する間に露光される。これは、ピクセル要素領域、及び制御電子回路領域１９、２３、２５、３０、３２、３４を露光するために使用されるのと同じ通過とすることができる。最初に、３つの光学カラム１０をそれぞれ使用し、領域３１、３３、３５のそれぞれの１つを露光し、次いで、３つの光学カラム１０の１つを使用し、領域２０を露光し、次いで、３つの光学カラム１０の別の１つを使用し、領域２６及び２４を露光する。領域２０、３１、３３、３５、２６、２４のいずれか１つの露光中には、キャリッジ１１が基板２と同期して変位され、露光間では、キャリッジ１１は、初期又は開始位置に向かって反対方向で変位される。そのような変位のタイミングは、露光すべき領域の位置及び長さの関数である。
【００６４】
図６、７は、本発明の諸実施例による、図５に表されている６つの画面を作り出すための、図２及び図３の装置に組み込まれた光学カラムの変位を表すグラフである。
【００６５】
図６は、本発明の一実施例による、領域１９、２３、２５、３０、３２、３４を露光するために使用される一連のイベントを示す。これらの各領域の露光に対応する、図６に示されている波形の一部分は、それらの領域に割り振られたそれぞれの数字によって符号が付けられている。最初に（時間ｔ＝Ｔ０）、５つの光学カラム８が、それぞれ開始位置ｘ１、ｘ２、ｘ３、ｘ４、ｘ５で位置決めされる。次いで、（ｘ方向で数えて）第２、第３、第５の光学カラム８が、時間Ｔ１で、それぞれライン３０、３２、３４の所望のｘ座標位置と位置合わせされるように変位される。次いで、これらの３つの光学カラム８を使用し、時間ｔ＝Ｔ２で基板２が位置決めされるまで、領域３０、３２、３４を適切に露光するために時変パターンを生成し、その結果、領域３０、３２、３４の全長が露光されている。次いで、露光ビームの投影が終了され、光学カラム８が、それらの開始位置ｘ２、ｘ３、ｘ５に戻る。
【００６６】
時間ｔ＝Ｔ３で、領域１９の先端が第２の投影デバイス５に達し、（ｘ方向で）第１の光学カラム８が、領域１９と位置合わせされ、適切なパターン形成済みビームを投影するために使用される。
【００６７】
時間ｔ＝Ｔ４で、領域２５の先端が第２の投影デバイス５に達し、（ｘ方向で数えて）第４の光学カラム８が、領域２５と位置合わせされ、次いで、適切なパターン形成済みビームを投影するために使用される。このビーム投影は、時間ｔ＝Ｔ５（領域２５の後端の、光学カラム８との位置合わせ）で終了され、次いで、同じビーム・パターンが、ｔ＝Ｔ６からＴ７の期間内で繰り返される。ビーム露光領域１９もまた、時間ｔ＝Ｔ７で終了される。したがって、ｙ方向で延びる６つの領域すべてが、第２の投影デバイス５の下を基板が１回通過する際に露光される。
【００６８】
図７上図は、本発明の一実施例による、領域３１、３３、３５、２０、２６、２４の露光中における図２及び図３の支持体１２に対するキャリッジ１１の変位を表す。これらの領域の露光に対応する波形の区間は、それらの領域に割り振られたそれぞれの数字によって示される。時間ｔ＝ｔ１で、領域３１、３３、３５が光学カラム１０と位置合わせされる。次いで、キャリッジ１１は、時間ｔ＝ｔ２までｙ方向で基板２と同期して移動し、時間ｔ２では、以下で述べるように、光学カラム１０がｘ方向で変位した結果として、領域３１、３３、３５が露光されている。次いで、キャリッジ１１は、その開始位置に戻る。
【００６９】
時間ｔ＝ｔ３で、領域２０が光学カラム１０と位置合わせされる。次いで、キャリッジ１１は、再び基板２と同期して移動される。
【００７０】
時間ｔ＝ｔ４で、領域２０の全長が露光されており、キャリッジ１１は、その開始位置に戻り始める。
【００７１】
時間ｔ＝ｔ５で、キャリッジ１１がその開始位置に戻る時間になる前に、領域２６が光学カラム１０と位置合わせされる。次いで、光学カラム１０は、時間ｔ＝ｔ６まで、キャリッジ１１上でｙ方向で、基板２の変位と同期して再び変位され、時間ｔ＝ｔ６では、領域２６の全長が露光されている。次いで、キャリッジ１１は、その開始位置に戻る。
【００７２】
時間ｔ＝ｔ７で、領域２４が光学カラム１０と位置合わせされ、キャリッジ１１は再び、時間ｔ＝ｔ８で領域２４の全長が露光されるまで、ｙ方向で基板２と同期して変位される。次いで、キャリッジ１１は、その開始位置に戻り、したがって、時間ｔ＝ｔ８後すぐに、他の同一基板の処理を開始することができる。
【００７３】
図７下図は、本発明の一実施例による、領域３１、３３、３５、２０、２６、２４を露光するために必要な、キャリッジ１１に対する３つの光学カラム１０の変位を表す。これらの領域の露光に対応する図７下図の波形の区間は、領域に割り振られたそれぞれの数字によって示される。
【００７４】
基板２の前縁がカラム１０と位置合わせされる時間ｔ＝ｔ０で、３つの光学カラムが開始位置Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３にある。次いで、３つのカラム１０は図のように変位され、その結果、時間ｔ＝ｔ１で、それぞれが、領域３１、３３、３５のそれぞれの１つの、ｘ方向での位置と位置合わせされる。次いで、３つの光学カラム１０は、時間ｔ＝ｔ２までキャリッジ１１上で変位され、時間ｔ＝ｔ２では、領域３１、３３、３５の全長が露光されている。
【００７５】
時間ｔ＝ｔ２直後の間隔において、（ｘ方向で数えて）第１の光学カラム１０は、領域２０の近端（より低いｘ座標）との位置合わせ状態に移動され、第２の光学カラム１０は、領域２０の遠端を越えた位置に移動され、領域２６及び２４の近端と位置合わせされ、第３の光学カラム１０は、領域２６及び２４の遠端を越えた位置に移動される。
【００７６】
時間ｔ＝ｔ３で、第１の光学カラム１０は、領域２０を露光するためにｘ方向で変位され、その変位は、時間ｔ＝ｔ４で終了され、次いで、第１の光学カラム１０は、その開始位置（ｘ＝Ｘ１）に戻る。
【００７７】
時間ｔ＝ｔ５で、第２の光学カラム１０は、領域２６を露光するためにｘ方向で変位され、その変位は、時間ｔ＝ｔ６で終了される。次いで、第２の光学カラム１０は、領域２４の近端との位置合わせ状態に移動され、次いで、時間ｔ＝ｔ７で始まる期間内にｘ方向で再び変位される。
【００７８】
時間ｔ＝ｔ８で、第２及び第３の光学カラム１０の、それらの開始位置への戻りが開始される。
【００７９】
時間ｔ＝ｔ９から先では、３つの光学カラム１０が適所にあり、その結果、他の同一基板の処理を開始することができる。
【００８０】
光学カラム７、８、１０のそれぞれは、どの適切なタイプのものとすることもできることを理解されたい。一実施例では、光学カラム７、８、１０は、（たとえば、投影ビームをパターン形成するために、個別に制御可能な要素のアレイに依拠して）マスクレスとすることができる。他の実施例では、光学カラム７、８、１０は、マスク（たとえば、レチクル）をベースとするものとすることができる。他の実施例では、光学カラム７、８、１０は、その２つの組合せとすることができる。
【００８１】
一実施例では、マスクレス大面積投影デバイス（図２及び図３のデバイス４）が、解像度約１ｍｍ程度を有する露光パターンを作り出す。これは、制限された開口数（ＮＡ＜０．５）を使用し、位相シフトを使用せずに、「白」「グレー」又は「黒」要素だけ達成して行われる。また、小面積マスクレス投影デバイス（図２及び図３のデバイス５及び６）は、より大きな開口数（たとえば、ＮＡ＞０．５、さらには浸漬を用いたＮＡ＞１．０）を用いて、またおそらくは、白／グレー／黒及びネガのグレー／白要素を達成するためにパターン形成済みビームの隣接するピクセル間で位相シフトを使用して、解像度のより高い（たとえば、約３５マイクロメートル）露光パターンを提供する。
【００８２】
第１の投影デバイス４内に９つの光学カラムが、また第２の投影デバイス５内に５つの光学カラムが、また第３の投影デバイス６内に３つの光学カラムがあるが、各投影デバイス内に設けられる光学カラムの数は、特定の応用例に適しているように選択されることになることも理解されたい。
【００８３】
また、第１、第２、第３の投影デバイスのすべてが、装置を介した基板の各通過時に必ずしも使用されることにならないことを理解されたい。たとえば、必要とされるピクセル要素領域露光及び駆動電子回路領域露光の性質に応じて、３つの投影デバイス４、５、６の下を基板が何回か通過する際に、これらの投影デバイスの１つ又は２つだけを使用し、基板を露光することができる。しかし、全体的に、特定の最終製品を生産するために必要な、装置を介した基板の通過の総数は、同じ製品を、単一の露光デバイスを備えるだけの装置内で生産することに比べて、実質的に削減されることになる。
【００８４】
図８は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置の上方からの図である。図９は、本発明の一実施例による図８の装置の片側からの図である。図８及び図９は、図４に示されているタイプの単一のＦＰＤを露光するのに適した本発明の代替の実施例を示す。図２及び図３の実施例の場合のように３つの投影デバイスを有するのではなく、図８及び図９の実施例では、２つの投影デバイスが設けられているだけである。第１の投影デバイス３６は、図４に示されているようなピクセル領域１５を露光するのに適した、基板全体にわたる、比較的大きな面積のビームを送達する。第２の投影デバイス３７は、走査３８の方向で変位させることが可能な、また、図４に示されているような駆動電子回路領域１６及び１７を形成するのに適した比較的小さな面積の単一ビームを送達する。投影デバイス３６は、図２及び図３のデバイス４と同一であり、一方、投影デバイス３７は、１つの光学カラム３９が設けられているだけである限りにおいて、図２及び図３のデバイス６と異なる。単一の光学カラム３９は、キャリッジ４０上で、矢印４１の方向で変位可能である。キャリッジ４０は、支持体４２上で、矢印４３の方向で変位可能である。図２及び図３の実施例の場合と同様に、基板４４は、基板テーブル４５上で、投影デバイスの下を変位可能である。
【００８５】
この実施例では、図４のＦＰＤを露光するために、光学カラム３９が最初に、図４に示されているような電子回路領域１７の下端と位置合わせされる。次いで、基板は投影デバイス３６の下を前進し、デバイス３６は、ピクセル領域１５を露光する。電子回路領域１７がｙ方向で光学カラム９と位置合わせされたとき、すぐにキャリッジ４０は、基板２と同期してｙ方向で変位され、光学カラム３９は、キャリッジ４０上で、「負のｘ」方向で変位される。これにより、領域１７の全長の露光が可能になる。領域１７が露光された後で、光学カラム３９は、キャリッジ４０と同様に静止したまま維持される。次いで、基板２は、領域１６が光学カラム３９の下を通過し、光学カラム３９で領域１６を適切に露光することが可能になるようにさらに前進する。次いで、キャリッジ４０は、後続の製造サイクルの準備ができているように、その元の位置に戻る。
【００８６】
したがって、この実施例によれば、図４に示されているＦＰＤの３つの領域１５、１６、１７は、２つだけの光学カラムの下を基板２が１回通過する際に露光される。
【００８７】
図４に示されているタイプの、しかしさらにピクセル領域の４辺すべてに沿って駆動電子回路が設けられたＦＰＤは、２つの光学カラム３９を使用して、各光学カラム３９が、ｘ方向で延びる駆動電子回路領域の１つと、ｙ方向で延びる電子回路領域の１つを露光して、適切に露光することができることを理解されたい。また、単一のガラス・パネル上の複数のＦＰＤは、適切な数の光学カラム３９を使用して露光することができることを理解されたい。本発明について、フラット・パネル・ディスプレイとして働くことが意図されている製品を形成するという状況で述べたが、当然ながら、本発明は、あるタイプの比較的大きな面積の部分と、異なるタイプの比較的小さな面積の部分とを必要とするどの製品の製造にも適用することができる。
【００８８】
本発明の様々な実施例について上記で述べたが、それらは例として示されているにすぎず、限定するものではないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲から逸脱することなしに、形態及び細部における様々な変更を本発明に加えることができることを、当業者なら理解するであろう。したがって、本発明の広さ及び範囲は、上述の例示的な実施例のいずれかによって限定すべきでなく、添付の特許請求の範囲とその均等物だけに従って規定すべきである。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置の上方からの概略図である。
【図３】本発明の一実施例による図２の装置の片側からの概略図である。
【図４】本発明の一実施例による、図２及び図３の装置を使用して製造することができるタイプのフラット・パネル・ディスプレイ画面の概略平面図である。
【図５】本発明の一実施例による、図４に表されている一般フォーマットの６つのフラット・パネル画面が形成されたフラット・パネル・ディスプレイ基板の概略平面図である。
【図６】本発明の一実施例による、図５に表されている６つの画面を作り出すための、図２及び図３の装置に組み込まれた光学カラムの変位を表すグラフである。
【図７】本発明の一実施例による、図５に表されている６つの画面を作り出すための、図２及び図３の装置に組み込まれた光学カラムの変位を表すグラフである。
【図８】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置の上方からの図である。
【図９】本発明の一実施例による図８の装置の片側からの図である。
【符号の説明】
【００９０】
１  テーブル
２  基板
３  矢印
４  投影デバイス
５  投影デバイス
６  投影デバイス
７  光学カラム
８  光学カラム
９  矢印
１０  光学カラム
１１  キャリッジ
１２  支持体
１３  矢印
１４  矢印
１５  ピクセル領域
１６  駆動電子回路領域
１７  駆動電子回路領域
１８  ピクセル領域
１９  駆動電子回路
２０  駆動電子回路
２１  ピクセル領域
２２  ピクセル領域
２３  駆動電子回路
２４  駆動電子回路
２５  駆動電子回路
２６  駆動電子回路
２７  ピクセル領域
２８  ピクセル領域
２９  ピクセル領域
３０  駆動電子回路
３１  駆動電子回路
３２  駆動電子回路
３３  駆動電子回路
３４  駆動電子回路
３５  駆動電子回路
３６  第１の投影デバイス
３７  第２の投影デバイス
３８  走査
３９  光学カラム
４０  キャリッジ
４１  矢印
４２  支持体
４３  矢印
４４  基板
４５  基板テーブル
１００  リソグラフィ投影装置
１０２  放射システム
１０４  個別に制御可能な要素のアレイ
１０６  物体テーブル、基板テーブル
１０８  投影システム
１１０  ビーム
１１２  放射線源
１１４  基板
１１６  位置決めデバイス
１１８  ビーム・スプリッタ
１２０  標的部分
１２２  ビーム
１２４  照明システム（イルミネータ）
１２６  ビーム・エキスパンダ、調整デバイス
１２８  調整デバイス
１３０  インテグレータ
１３２  コンデンサ
１３４  干渉測定デバイス
１３６  ベース・プレート
１３８  干渉ビーム
１４０  ビーム・スプリッタ
【図１】
2006054459.tif 000003
【図２】
2006054459.tif 000004
【図３】
2006054459.tif 000005
【図４】
2006054459.tif 000006
【図５】
2006054459.tif 000007
【図６】
2006054459.tif 000008
【図７】
2006054459.tif 000009
【図８】
2006054459.tif 000010
【図９】
2006054459.tif 000011