【手続補正書】
【提出日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  効率的に可視光の一方の偏光を反射させ、他方の偏光を透過させる広帯域ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタであって、
可視光内に配列された薄く細長い素子の一般的な平行配列であって、一般的に（ｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に垂直に配向された偏光を持つ光を透過させ、（ｉｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に配向された偏光を持つ光を反射させるように、可視光の電磁波と相互作用するように配列が構成され素子が一定の大きさに作られた、配列と、
素子の配列が、実質的に全可視スペクトル全域で約５０％より大きなスループットを持ち、スループットは一方の偏光の反射光の全反射光に対する部分量と他方の偏光の透過光の全透過光に対する部分量の積により定義されることを特徴とし、
素子の配列が、反射又は透過のいずれかにおいて約５０より大きな消光を持つことを特徴とする、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタ。
【請求項２】  素子の配列が一方の偏光の少なくとも６７％を反射することを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項３】  素子の配列が一方の偏光の少なくとも６７％を透過することを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項４】  素子の配列が約０度から８０度の間の入射角に向けて配置されることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項５】  素子の配列が約０．２１ｕｍより小さな周期を有することを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項６】  素子が約０．０５ｕｍから０．５ｕｍの間の厚さを持つことを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項７】  素子が幅の周期に対する比率として約０．２５から０．７６を有することを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項８】  素子の各々が底部、底部の反対側の上部、向かい合った左右の側部を持つ台形型の断面を持っており、側部は、底部に対して約６８度から１１２度の間の角度を形成していることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項９】  素子の各々が底部、底部の反対側の上部、向かい合った左右の側部を持つ台形型の断面を持っており、側部は底部に対して異なる角度を形成していることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項１０】  素子の各々が丸められた上部を持つことを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項１１】  素子の断面形状がシヌソイドであることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項１２】  素子が波長４５０ｎｍで０．６１８の約５０％より大きく、波長５５０ｎｍで０．９５８の約５０％より大きく、波長６５０ｎｍで１．４７の約５０％より大きい光学定数ｎを持つアルミニウムから形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項１３】  素子が波長４５０ｎｍで５．４７の約５０％より大きく、波長５５０ｎｍで６．６９の約５０％より大きく、波長６５０ｎｍで７．７９の約５０％より大きい光学定数ｋを持つアルミニウムから形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項１４】  素子が波長４５９．２ｎｍで０．１４４の約８０％より大きく、波長５６３．６ｎｍで０．１２０の約８０％より大きく、波長６５２．６ｎｍで０．１４０の約８０％より大きい光学定数ｎを持つ銀から形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項１５】  素子が波長４５９．２ｎｍで２．５６の約８０％より大きく、波長５６３．６ｎｍで３．４５の約８０％より大きく、波長６５２．６ｎｍで４．１５の約８０％より大きい光学定数ｋを持つ銀から形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項１６】  効率的に可視光の一方の偏光を反射させ、他方の偏光を透過させる広帯域ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタであって、
可視光内に配列された薄く細長い素子の一般的な平行配列であって、一般的に（ｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に垂直に配向された偏光を持つ光を透過させ、（ｉｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に配向された偏光を持つ光を反射させるように、可視光の電磁波と相互作用するように配列が構成され素子が一定の大きさに作られた、配列と、
素子の配列が、約５０％より大きなスループットを持ち、スループットは一方の偏光の反射光の全反射光に対する部分量と他方の偏光の透過光の全透過光に対する部分量の積により定義されることを特徴とし、
素子の配列が約５０より大きな消光を持つことを特徴とし、
素子の配列が約０．２１ｕｍより小さな周期を持つことを特徴とする、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタ。
【請求項１７】  素子が約０．０５ｕｍから０．５ｕｍの間の厚さを持つことを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項１８】  素子が幅の周期に対する比率として約０．２５から０．７６を持つことを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項１９】  素子の配列が一方の偏光の少なくともの６７％を反射することを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２０】  素子の配列が一方の偏光の少なくともの６７％を透過することを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２１】  素子の配列が約０度から８０度の間の入射角に向けて配置されることを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２２】  素子の各々が底部、底部の反対側の上部、向かい合った左右の側部を持つ台形型の断面を持っており、側部は、底部に対して約６８度から１１２度の間の角度を形成していることを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２３】  素子の各々が底部、底部の反対側の上部、向かい合った左右の側部を持つ台形型の断面を持っており、側部は底部に対して異なる角度を形成していることを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２４】  素子の各々が丸められた上部を持つことを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２５】  素子の各々が台形型の断面を持つことを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２６】  素子が波長４５０ｎｍで０．６１８の約５０％より大きく、波長５５０ｎｍで０．９５８の約５０％より大きく、波長６５０ｎｍで１．４７の約５０％より大きい光学定数ｎを持つアルミニウムから形成されていることを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２７】  素子が波長４５０ｎｍで５．４７の約５０％より大きく、波長５５０ｎｍで６．６９の約５０％より大きく、波長６５０ｎｍで７．７９の約５０％より大きい光学定数ｋを持つアルミニウムから形成されていることを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２８】  素子が光学定数ｎおよびｋを持つ銀から形成されることを特徴とし、ｎは波長４５９．２ｎｍで０．１４４の約８０％より大きく、波長５６３．６ｎｍで０．１２０の約８０％より大きく、波長６５２．６ｎｍで０．１４０の約８０％より大きく、ｋは波長４５９．２ｎｍで２．５６の約８０％より大きく、波長５６３．６ｎｍで３．４５の約８０％より大きく、波長６５２．６ｎｍで４．１５の約８０％より大きいことを特徴とする、請求項１６に記載のビームスプリッタ。
【請求項２９】  効率的に可視光の一方の偏光を反射させ、他方の偏光を透過させる広帯域ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタであって、
約０．４から０．７ミクロンの間の範囲の波長を持つ光源ビームを放射する光源と、
可視光内に配列された薄く細長い素子の一般的な平行配列であって、一般的に（ｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に垂直に配向された偏光を持つ光を透過させ、（ｉｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に配向された偏光を持つ光を反射させるように、実質的に全可視スペクトル全域で光源ビームの電磁波と相互作用するように配列が構成され素子が一定の大きさに作られた、配列と、
素子の配列が約０．２１ｕｍより小さな周期を持つことを特徴とし、
素子が約０．０５から０．５ｕｍの間の厚さを持つことを特徴とし、
素子が幅の周期に対する比率として約０．２５から０．７６の間の値を持つことを特徴とする、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタ。
【請求項３０】  素子の配列が、実質的に可視スペクトル全域で約５０％より大きなスループットを持ち、スループットが一方の偏光の反射光の全反射光に対する部分量と他方の偏光の透過光の全透過光に対する部分量の積により定義されることを特徴とし、
素子の配列が、全反射光に対する一偏光の反射光の部分量と全透過光に対する他方の偏光の透過光の部分量との積により定義される約５０％より大きなスループットを持つことを特徴とし、
素子の配列が約５０より大きな消光を持つことを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３１】  素子の配列が一方の偏光の少なくとも６７％を反射することを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３２】  素子の配列が一方の偏光の少なくとも６７％を透過することを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３３】  素子の配列が約０度から８０度の間の入射角に向けて配置されることを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３４】  素子の各々が底部、底部の反対側の上部、向かい合った左右の側部を持つ台形型の断面を持っており、側部は、底部に対して約６８度から１１２度の間の角度を形成していることを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３５】  素子の各々が底部、底部の反対側の上部、向かい合った左右の側部を持つ台形型の断面を持っており、側部は底部に対して異なる角度を形成していることを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３６】  素子の各々が丸められた上部を持つことを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３７】  素子の各々が台形型の断面を持つことを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３８】  素子が光学定数ｎおよびｋを持つアルミニウムから形成されており、ｎは波長４５０ｎｍで０．６１８の約５０％より大きく、波長５５０ｎｍで０．９５８の約５０％より大きく、波長６５０ｎｍで１．４７の約５０％より大きいことを特徴とし、ｋは波長４５０ｎｍで５．４７の約５０％より大きく、波長５５０ｎｍで６．６９の約５０％より大きく、波長６５０ｎｍで７．７９の約５０％より大きいことを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項３９】  素子が波長４５９．２ｎｍで０．１４４の約８０％より大きく、波長５６３．６ｎｍで０．１２０の約８０％より大きく、波長６５２．６ｎｍで０．１４０の約８０％より大きい光学定数ｎを持つ銀から形成されていることを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項４０】  素子が波長４５９．２ｎｍで２．５６の約８０％より大きく、波長５６３．６ｎｍで３．４５の約８０％より大きく、波長６５２．６ｎｍで４．１５の約８０％より大きい光学定数ｋを持つ銀から形成されていることを特徴とする、請求項２９に記載のビームスプリッタ。
【請求項４１】  所望範囲の入射角全域で動作可能であり実質的に可視スペクトル全域で動作可能であり、所定の消光を持つ広帯域ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタを設計する方法であって、
可視スペクトルの下限を使用して様々な素子の厚さでの入射角の所定の上限および下限に対する透過効率を決定するステップと、
少なくとも周期および幅の周期に対する比率を含む他のパラメータを選択するステップと、
入射角の上限および下限に対する透過効率が同じである素子の厚さを決定するステップと、
決定された素子の厚さで入射角の上限および下限の両方における消光を決定するステップと、
所定の消光に達するまで少なくとも一つのパラメータを変化しつつ上述のステップを繰り返すステップと、
を含む方法。
【請求項４２】  所望範囲内の異なる様々な入射角および可視スペクトル内の様々な波長に対する透過効率を決定するステップと、
透過効率が少なくとも８０％になり、一般的に可視スペクトル全域で同じになるまで少なくとも一つのパラメータを変化させて上述ステップを繰り返すステップと、
をさらに含むことを特徴とする、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】  ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタであって、
可視光内に配列されるように構成された薄く細長い素子の一般的な平行配列であって、一般的に（ｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に垂直に配向された偏光を持つ光を透過させ、（ｉｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に配向された偏光を持つ光を反射させるように、可視光の電磁波と相互作用するように配列が構成され素子が一定の大きさに作られた、配列と、
素子の配列が、一方の偏光の反射光の全反射光に対する部分量と他方の偏光の透過光の全透過光に対する部分量の積により定義される約５０％より大きなスループットを持つことを特徴とし、
素子の配列が、反射又は透過のいずれかにおいて約５０より大きな消光を持つことを特徴とすることを特徴とし、
少なくともいくつかの素子が底部、底部の反対側の上部、向かい合った左右の側部を有する台形型の断面を持つことを特徴とし、
側部が底部に対して異なる角度を形成していることを特徴とする、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタ。
【請求項４４】  ワイヤグリッドビームスプリッタであって、
可視光内に配列されるように構成された薄く細長い素子の一般的な平行配列であって、一般的に（ｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に垂直に配向された偏光を持つ光を透過させ、（ｉｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に配向された偏光を持つ光を反射させるように、可視光の電磁波と相互作用するように配列が構成され素子が一定の大きさに作られた、配列と、
素子の配列が、一方の偏光の反射光の全反射光に対する部分量と他方の偏光の透過光の全透過光に対する部分量の積により定義される約５０％より大きなスループットを持つことを特徴とし、
素子の配列が、反射又は透過のいずれかにおいて約５０より大きな消光を持つことを特徴とすることを特徴とし、
少なくともいくつかの素子が丸められた上部を持つことを特徴とする、
ワイヤグリッドビームスプリッタ。
【請求項４５】  ワイヤグリッドビームスプリッタであって、
可視光内に配列されるように構成された薄く細長い素子の一般的な平行配列であって、一般的に（ｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に垂直に配向された偏光を持つ光を透過させ、（ｉｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に配向された偏光を持つ光を反射させるように、可視光の電磁波と相互作用するように配列が構成され素子が一定の大きさに作られた、配列と、
素子の配列が、一方の偏光の反射光の全反射光に対する部分量と他方の偏光の透過光の全透過光に対する部分量の積により定義される約５０％より大きなスループットを持つことを特徴とし、
素子の配列が、反射又は透過のいずれかにおいて約５０より大きな消光を持つことを特徴とすることを特徴とし、
少なくともいくつかの素子がシヌソイド型の断面を持つことを特徴とする、
ワイヤグリッドビームスプリッタ。
【請求項４６】  ワイヤグリッドビームスプリッタであって、
可視光内に配列されるように構成された薄く細長い素子の一般的な平行配列であって、一般的に（ｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に垂直に配向された偏光を持つ光を透過させ、（ｉｉ）少なくとも一つの素子および入射光ビームの方向を含む平面に配向された偏光を持つ光を反射させるように、可視光の電磁波と相互作用するように配列が構成され素子が一定の大きさに作られた、配列と、
素子の配列が、一方の偏光の反射光の全反射光に対する部分量と他方の偏光の透過光の全透過光に対する部分量の積により定義される約５０％より大きなスループットを持つことを特徴とし、
素子の配列が、反射又は透過のいずれかにおいて約５０より大きな消光を持つことを特徴とすることを特徴とし、
素子が波長４５９．２ｎｍで０．１４４の約８０％より大きく、波長５６３．６ｎｍで０．１２０の約８０％より大きく、波長６５２．６ｎｍで０．１４０の約８０％より大きい光学定数ｎを持つ銀から形成されていることを特徴とし、
素子が波長４５９．２ｎｍで２．５６の約８０％より大きく、波長５６３．６ｎｍで３．４５の約８０％より大きく、波長６５２．６ｎｍで４．１５の約８０％より大きい光学定数ｋを持つ銀から形成されていることを特徴とする、ビームスプリッタ。