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【手続補正書】
【提出日】平成19年8月22日(2007.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  卵管口内に挿入できる小さなプロフィールの形態から大きなプロフィールの形態に拡張可能な避妊器具と、近位端部及び遠位端部を備えると共に遠位端部に隣接して設けられていて、避妊器具をリリース自在に受け入れる受け具を備えた第１の細長い本体と、第１の細長い本体の近位端部のところに設けられていて、片手で掴むのに適した寸法形状の近位取っ手と、近位取っ手に取り付けられた少なくとも１つのアクチュエータとを有し、手で取っ手を掴んだ状態でこの手でアクチュエータを動かして避妊器具を大きなプロフィールの形態に拡張させ、避妊器具を卵管口内に取り付けることができるようになっていることを特徴とする避妊器具送達用システム。
【請求項２】  前記少なくとも１つのアクチュエータの動作により、シースが避妊器具から近位側へ引っ込められるよう受け具を摺動自在に受け入れるルーメンを備えたシースを更に有していることを特徴とする請求項１記載の避妊器具送達用システム。
【請求項３】  露出状態の避妊器具を拡張させる手段を更に有していて、前記拡張手段は、避妊器具に結合されていて、シースを避妊器具の近位側へ引っ込めた後、避妊器具の拡張によってはシースの近位側への運動が阻害されないように少なくとも１つのアクチュエータによって動作可能であることを特徴とする請求項２記載の避妊器具送達用システム。
【請求項４】  取っ手と避妊器具との間に延びる第２の細長い本体を更に有し、前記少なくとも１つのアクチュエータは、シースを引っ込めた後、露出状態の避妊器具を拡張させて、避妊器具がシースの近位側への運動を妨げないように第１の細長い本体に対する第２の細長い本体の運動を生じさせることを特徴とする請求項２記載の避妊器具送達用システム。
【請求項５】  取っ手に対する二重機能式アクチュエータの第１の運動により、第２の細長い本体を第１の細長い本体に対して動かさないで、シースが第１の細長い本体に対して動き、第１の運動後における二重機能式アクチュエータの第２の運動により、第２の細長い本体が第１の細長い本体に対して動くようになっていることを特徴とする請求項４記載の避妊器具送達用システム。
【請求項６】  第１の細長い本体は、避妊器具に螺合した状態で取っ手に回転自在に取り付けられていて、拡張状態の避妊器具に対する取っ手の回転により避妊器具が取っ手から結合解除されるようになっていることを特徴とする請求項５記載の避妊器具送達用システム。
【請求項７】  第１の細長い本体は、避妊器具に螺合した状態で結合解除アクチュエータに回転自在に結合されていて、取っ手に対する結合解除アクチュエータの運動により、避妊器具が第１の細長い本体及び取っ手から結合解除されるようになっていることを特徴とする請求項５記載の避妊器具送達用システム。
【請求項８】  第１の細長い本体に対する１対の細長い本体の運動を拘束する解除自在なラッチを更に有していることを特徴とする請求項５記載の避妊器具送達用システム。
【請求項９】  ラッチは、手で取っ手を掴んだ状態でこの手で作動できるよう取っ手に設けられていることを特徴とする請求項８記載の避妊器具送達用システム。
【請求項１０】  卵管口内に挿入できる小さなプロフィールの形態から大きなプロフィールの形態に拡張可能な避妊器具と、近位端部及び遠位端部を備えると共に遠位端部に隣接して設けられていて、避妊器具をリリース自在に受け入れる受け具を備えた第１の細長い本体と、避妊器具の少なくとも一部を摺動自在に受け入れるルーメンを備えたシースと、避妊器具から近位端部まで近位側へ延びる第２の細長い本体と、第１の細長い本体の近位端部のところに設けられた近位取っ手とを有し、取っ手は、少なくとも１つのアクチュエータを有し、前記少なくとも１つのアクチュエータの第１の運動により、シースが避妊器具から近位側へ引っ込められ、前記少なくとも１つのアクチュエータの第２の運動により、第２の細長い本体が第１の細長い本体に対して動いて避妊器具が大きなプロフィールの形態に拡張されるようになっていることを特徴とする避妊器具送達用システム。
【請求項１１】  避妊器具は、シースの遠位側へ延びる遠位部分を有し、遠位部分は、避妊器具を卵管口内に遠位側へ前進させるための遠位ガイドワイヤとして働くような寸法及び可撓性を有していることを特徴とする請求項１０記載の避妊器具送達用システム。
【請求項１２】  取っ手は、避妊器具に隣接してシースを横方向に受け入れるスロット及び子宮鏡の作業ルーメン内への遠位部分の導入を容易にするようシースをスロット内に拘束する戻止めを有していることを特徴とする請求項１１記載の避妊器具送達用システム。
【請求項１３】  シースを摺動自在に受け入れる作業ルーメンを備えた子宮鏡を更に有していることを特徴とする請求項１０記載の避妊器具送達用システム。
【請求項１４】  近位端部及び遠位端部を備えていて、横方向に可撓性があり且つ身体内管腔を遠位側へたどって動くのに適するよう遠位端部に向かって可撓性が増大している細長い案内構造部材と、案内構造部材の近位端部に隣接して取り付けられた近位取っ手とを有する医用器具であって、取っ手は、遠位端部に隣接して案内構造部材を横方向に受け入れるスロット及びルーメン内への遠位部分の導入を容易にするようシースを案内構造部材をスロット内に拘束する戻止めを有していることを特徴とする医用器具。
【請求項１５】  電気エネルギ、熱エネルギ、生分解性の栓、生物活性剤、苛性剤及び接着剤のうち少なくとも１つを近位取っ手に隣接したところから避妊器具に隣接したところへ送り出す手段を更に有していることを特徴とする請求項１記載の避妊器具送達用システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月14日(2007.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１圧伸成形材料で形成された中央プランジャ（１２）の周囲に第２材料を、該第２材料が前記中央プランジャの外側表面に対応するハウジング（１１）を形成するように成形しかつ硬化させることを特徴とする確実送出形物質サンプリングおよびディスペンシング器具（１０）を製造する方法。
【請求項２】  前記第１圧伸成形材料が、引き抜きワイヤまたは押し出し金属であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記第１圧伸成形材料が、金属、プラスチック、およびセラミックのうちの１つであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記第２材料が、プラスチック材料であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】  前記第１圧伸材料を能動的に冷却することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】  前記第１圧伸成形材料が、第２材料よりも高い熱伝導率および／または比熱を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】  前記第２材料を成形することが、射出成形、融着、同時押し出し成形、鋳造、およびディップコーティングのうちの１つであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  前記ハウジングを、均一な筒となるように形成することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  第１圧伸成形材料で形成された中央プランジャ（１２）と、
前記中央プランジャの周囲に第２材料を成形しかつ硬化させることにより第２材料で形成されたハウジング（１１）と、を含み、
前記ハウジングが内側コア（１４）を有し、前記中央プランジャが外側表面を有し、前記内側コアおよび外側表面の各々が均一な筒であり、前記内側コアはその長さ全体に沿って前記外側表面に対応していることを特徴とする確実送出形物質サンプリングおよびディスペンシング器具（１０）。
【請求項１０】  可撓性ストリップに取り付けられており、使用中、該可撓性ストリップにさらに別の器具（１０）が取り付けられる請求項９に記載の器具（１０）。
【請求鋼１１】  前記可撓性ストリップは、該可撓性ストリップに取り付けられている器具（１０）を駆動および整合させるスプロケット孔を有することを特徴とする請求項１０に記載の器具（１０）。
【請求項１２】  前記器具（１０）は、熱シール可能な先端部を有するように形成されていることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の器具（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月13日(2007.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  重力供給式液体噴霧装置用の液体供給組立体において、
上端部及び下端部を有する側壁と該側壁の該下端部に位置して該下端部を閉じる底壁とを含む堅い高分子材料製の混合カップであって、該側壁の該上端部が該カップに開口部を形成し、該側壁に、複数の異なる液体をそれら液体間の所定の比率を得るべく該カップに順次注ぐときの液面を示す目盛が設けられる混合カップと、
互いに反対側の内面及び外面を有する高分子材料製の第１アダプターであって、貫通孔を有する中心部と、前記混合カップの前記上端部に密封係合可能な溝を該内面に沿って形成した周縁部を有する横断部とを備えた第１アダプターと、
互いに離れた第１端部及び第２端部とそれら第１及び第２端部を貫通する貫通孔とを有する第２アダプターであって、該第１端部が重力供給式液体噴霧装置の入口に離脱可能に係合するようになっている第２アダプターとを具備し、
前記第１アダプターの前記中心部及び前記第２アダプターの前記第２端部は、前記第１アダプターの前記貫通孔と前記第２アダプターの前記貫通孔とが互いに連通した状態でそれら第１及び第２アダプターの間に手動で離脱可能な液密係合をもたらすコネクタ部を有すること、
を特徴とする液体供給組立体。
【請求項２】  前記底壁に近接して前記混合カップの前記側壁を貫通するテーパ付き着脱可能ピンを更に具備する、請求項１に記載の液体供給組立体。
【請求項３】  前記第１アダプターの前記中心部の前記貫通孔に係合する出口部であって、貫通孔を有する出口部を備えた枠体を含む着脱可能フィルタ組立体を更に具備し、該枠体が、前記第１アダプターの前記内面から突出する入口部であって、該出口部の該貫通孔に連通する複数の入口通路とそれら入口通路を横切るフィルタスクリーンとを有する入口部を更に含む、請求項１又は２に記載の液体供給組立体。
【請求項４】  上端部及び下端部を有する側壁と該側壁の該下端部に位置して該下端部を閉じる底壁とを含む堅い高分子材料製の混合カップであって、該側壁の該上端部が該カップに開口部を形成し、該側壁に、複数の異なる液体をそれら液体間の所定の比率を得るべく該カップに順次注ぐときの液面を示す目盛が設けられる混合カップを、重力供給式液体噴霧装置用の液体供給組立体の一部として用いるためのアダプター装置において、
互いに反対側の内面及び外面を有する高分子材料製の第１アダプターであって、貫通孔を有する中心部と、前記混合カップの前記上端部に密封係合可能な溝を該内面に沿って形成した周縁部を有する横断部とを備えた第１アダプターと、
互いに離れた第１端部及び第２端部とそれら第１及び第２端部を貫通する貫通孔とを有する第２アダプターであって、該第１端部が重力供給式液体噴霧装置の入口に離脱可能に係合するようになっている第２アダプターとを具備し、
前記第１アダプターの前記中心部及び前記第２アダプターの前記第２端部は、前記第１アダプターの前記貫通孔と前記第２アダプターの前記貫通孔とが互いに連通した状態でそれら第１及び第２アダプターの間に手動で離脱可能な液密係合をもたらすコネクタ部を有すること、
を特徴とするアダプター装置。
【請求項５】  前記底壁に近接して前記混合カップの前記側壁を貫通するようになっているテーパ付き着脱可能ピンを更に具備する、請求項４に記載のアダプター装置。
【請求項６】  前記第１アダプターの前記中心部の前記貫通孔に係合する出口部であって、貫通孔を有する出口部を備えた枠体を含む着脱可能フィルタ組立体を更に具備し、該枠体が、前記第１アダプターの前記内面から突出する入口部であって、該出口部の該貫通孔に連通する複数の入口通路とそれら入口通路を横切るフィルタスクリーンとを有する入口部を更に含む、請求項４又は５に記載のアダプター装置。
【請求項７】  重力供給式液体噴霧装置用の液体供給組立体において、
上端部及び下端部を有する側壁と該側壁の該下端部に位置して該下端部を閉じる底壁とを含む堅い高分子材料製の混合カップであって、該側壁の該上端部が該カップに開口部を形成し、該側壁に、複数の異なる液体をそれら液体間の所定の比率を得るべく該カップに順次注ぐときの液面を示す目盛が設けられる混合カップと、
互いに反対側の内面及び外面を有するアダプター組立体であって、前記混合カップの前記上端部に密封係合可能な溝を該内面に沿って形成した周縁部を有する横断部と、該横断部とは反対側に位置し、重力供給式液体噴霧装置の入口に離脱可能に係合するようになっている第１端部とを備え、該内面に該横断部及び該第１端部を貫通する貫通孔が形成されるアダプター組立体と、
前記底壁に近接して前記混合カップの前記側壁を貫通するテーパ付き着脱可能ピンとを具備すること、
を特徴とする液体供給組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月12日(2007.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  それぞれ、０．０１〜１０重量％の、イリジウムと、バナジウム、ニオブ、タンタル、それらの各塩及びそれらの混合物からなる群から選ばれる第２の金属とから本質的になり、イリジウム及び第２の金属が固体触媒担体材料と組み合わされている、低級アルキルアルコール、エーテル、エステル及びエステル−アルコール混合物を含む反応体から気相カルボニル化方法においてエステル及びカルボン酸を製造するのに有用なカルボニル化触媒。
【請求項２】  前記担体が炭素、活性炭、軽石、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、マグネシア、珪藻土、ボーキサイト、チタニア、ジルコニア、クレイ、珪酸マグネシウム、炭化珪素、ゼオライト、セラミックス及びそれらの組み合わせからなる群から選ばれる請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項３】  前記固体担体が炭素である請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項４】  前記炭素担体が活性炭である請求項２に記載のカルボニル化触媒。
【請求項５】  前記触媒が前記イリジウム及び少なくとも１種の前記第２の金属をそれぞれ０．０１〜１０重量％含む請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項６】  前記触媒が前記イリジウム及び少なくとも１種の前記第２の金属をそれぞれ０．１〜２重量％含む請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項７】  前記第２の金属がニオブ、タンタル、それらの各塩及びそれらの混合物からなる群から選ばれる請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項８】  Ｉ2、Ｂｒ2及びＣｌ2、ハロゲン化水素、気体ヨウ化水素酸、炭素数１２以下のハロゲン化アルキル及びアリール並びにそれらの混合物からなる群から選ばれるハライドからなる群から選ばれるハライド促進成分を含む第２の成分を更に含んでなる請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項９】  前記ハライド促進成分がヨウ化水素、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、１−ヨードプロパン、２−ヨードブタン、１−ヨードブタン、臭化水素、臭化メチル、臭化エチル、ヨウ化ベンジル及びそれらの混合物からなる群から選ばれる請求項８に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１０】  前記ハライド促進成分がヨウ化水素、ヨウ化メチル、臭化水素、臭化メチル及びそれらの混合物からなる群から選ばれる請求項８に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１１】  固体触媒担体材料と組み合わされた、イリジウムとバナジウム、ニオブ、タンタル、それらの各塩及びそれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の第２の金属それぞれ０．０１〜１０重量％含む、気相カルボニル化方法において酢酸、酢酸メチル及びそれらの混合物を製造するのに有用なカルボニル化触媒。
【請求項１２】  前記固体担体が炭素である請求項１１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１３】  前記固体担体が活性炭である請求項１１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１４】  Ｉ2、Ｂｒ2及びＣｌ2、ハロゲン化水素、気体ヨウ化水素酸、炭素数１２以下のハロゲン化アルキル及びアリール並びにそれらの混合物からなる群から選ばれるハライド促進成分を含む第２成分を更に含んでなる請求項１１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１５】  イリジウムと、バナジウム、ニオブ、タンタル、それらの各塩及びそれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の第２の金属とをそれぞれ０．０１〜１０重量％含む固体担持成分と、Ｉ2、Ｂｒ2及びＣｌ2、ハロゲン化水素、気体ヨウ化水素酸、炭素数１２以下のハロゲン化アルキル及びアリール並びにそれらの混合物からなる群から選ばれる蒸気ハライド成分から本質的になり、気相カルボニル化方法において酢酸、酢酸メチル及びそれらの混合物を製造するのに有用なカルボニル化触媒。
【請求項１６】  前記固体担体が炭素である請求項１５に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１７】  前記固体担体が活性炭である請求項１５に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１８】  （ａ）炭素、活性炭、軽石、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、マグネシア、珪藻土、ボーキサイト、チタニア、ジルコニア、クレイ、珪酸マグネシウム、炭化珪素、ゼオライト、セラミックス及びそれらの組み合わせからなる群から選ばれる固体担体材料を準備し；
（ｂ）その担体材料を、イリジウムと、バナジウム、ニオブ、タンタル、それらの各塩及びそれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の第２の金属とを含む溶液と接触させ；そして
（ｃ）０．０１〜１０重量％のイリジウムと、少なくとも１種の第２の金属とが組み合わされた固体担体材料を乾燥させる
工程を含んでなる、エステル及びジカルボン酸を製造する低級アルキルアルコール、エーテル及びエステル−アルコール混合物の気相カルボニル化に有用な固体担持触媒組成物の製造方法。
【請求項１９】  前記固体担体材料と、Ｉ2、Ｂｒ2、Ｃｌ2、ヨウ化水素、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、１−ヨードプロパン、２−ヨードブタン、１−ヨードブタン、臭化メチル、臭化エチル、ヨウ化ベンジル及びそれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の成分とを接触させることを更に含んでなる請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】  前記担体材料が活性炭である請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  有効量のイリジウムと、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、それらの各塩及びそれらの混合物からなる群から選ばれる第２の金属とから本質的になり、イリジウム及び少なくとも１種の第２の金属が固体触媒担体材料と組み合わされている、低級アルキルアルコール、エーテル、エステル及びエステル−アルコール混合物を含む反応体からエステル及びカルボン酸を製造するのに有用なカルボニル化触媒。
【請求項２】  前記担体が炭素、活性炭、軽石、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、マグネシア、珪藻土、ボーキサイト、チタニア、ジルコニア、クレイ、珪酸マグネシウム、炭化珪素、ゼオライト、セラミックス及びそれらの組み合わせからなる群から選ばれる請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項３】  前記固体担体が炭素である請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項４】  前記炭素担体が活性炭である請求項２に記載のカルボニル化触媒。
【請求項５】  前記触媒が前記イリジウム及び少なくとも１種の前記第２の金属をそれぞれ０．０１〜１０重量％含む請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項６】  前記触媒が前記イリジウム及び少なくとも１種の前記第２の金属をそれぞれ０．１〜２重量％含む請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項７】  前記第２の金属がジルコニウム、その各塩及びそれらの混合物から選ばれる請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項８】  Ｉ2、Ｂｒ2及びＣｌ2からなる群から選ばれる分子ハライド、ハロゲン化水素、気体ヨウ化水素酸、炭素数１２以下のハロゲン化アルキル及びアリール並びにそれらの混合物からなる群から選ばれるハライド促進成分を含む第２成分を更に含んでなる請求項１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項９】  前記ハライド促進成分がヨウ化水素、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、１−ヨードプロパン、２−ヨードブタン、１−ヨードブタン、臭化水素、臭化メチル、臭化エチル、ヨウ化ベンジル及びそれらの混合物からなる群から選ばれる請求項８に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１０】  前記ハライド促進成分がヨウ化水素、ヨウ化メチル、臭化水素、臭化メチル及びそれらの混合物からなる群から選ばれる請求項８に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１１】  固体触媒担体材料と組み合わされた、イリジウムと、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、それらの各塩及びそれらの混合物からなる群から選ばれた少なくとも１種の第２の金属それぞれ０．０１〜１０重量％から本質的になる、気相カルボニル化方法において酢酸、酢酸メチル及びそれらの混合物を製造するのに有用なカルボニル化触媒。
【請求項１２】  前記固体担体が炭素である請求項１１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１３】  前記固体担体が活性炭である請求項１１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１４】  Ｉ2、Ｂｒ2及びＣｌ2からなる群から選ばれる分子ハライド、ハロゲン化水素、気体ヨウ化水素酸、炭素数１２以下のハロゲン化アルキル及びアリール並びにそれらの混合物からなる群から選ばれるハライド促進成分からなる第２の成分を更に含んでなる請求項１１に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１５】  それぞれ０．０１〜１０重量％の、イリジウムと、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、それらの各塩及びそれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の第２の金属とから本質的になる固体担持成分；並びにＩ2、Ｂｒ2及びＣｌ2、ハロゲン化水素、気体ヨウ化水素酸、炭素数１２以下のハロゲン化アルキル及びアリール並びにそれらの混合物からなる群から選ばれるハライドを含んでなり、前記イリジウム及び少なくとも１種の第２の金属が固体触媒担体材料と組み合わされている、気相カルボニル化方法において酢酸、酢酸メチル及びそれらの混合物を製造するのに有用なカルボニル化触媒。
【請求項１６】  前記固体担体が炭素である請求項１５に記載のカルボニル化触媒。
【請求項１７】  前記固体担体が活性炭である請求項１５に記載のカルボニル化触媒。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月13日(2007.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  研磨パッドであって、
該研磨パッドが、少なくとも１つの光透過性領域を有し、各光透過性領域が該研磨パッドの残りと同じ化学的配合を有し；
該材料配合が、各光透過性領域では光透過性相であり；
該材料配合が、該研磨パッドの残りでは不透明な領域であり；
該材料配合が、各光透過性領域と該研磨パッドの残りとの間に構造的に明確な境界をもたずに該光透過性領域から該不透明な領域への移行を与える
ことを特徴とする研磨パッド。
【請求項２】  材料配合が、不透明な領域では結晶質相の、及び各光透過性領域では非晶質相の、単一の半結晶質熱可塑性樹脂を含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項３】  材料配合が、不透明な領域では、光を散乱する相対的に大きい微結晶の、及び、各光透過性領域では、光の散乱を防止する相対的に小さな微結晶の、結晶質相の熱可塑性樹脂を含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項４】  材料配合が、不透明な領域では不相溶性であり、及び各光透過性領域では相溶性である、熱可塑性ポリマーの組合せを含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項５】  材料配合が、不透明な領域では熱硬化性樹脂相の、及び各光透過性領域では重合されたゲル相の、反応性熱硬化性ポリマーを含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項６】  不透明な領域と、
少なくとも１つの光透過性領域と、
該２つの領域は同じ材料配合を有すること、そして
不透明な領域から各光透過性領域への移行が、該２つの領域の間に構造的に明確な境界をもたずに材料配合によって与えられること
を含む研磨パッド。
【請求項７】  材料配合が、不透明な領域では結晶質相の、及び各光透過性領域では非晶質相の、単一の半結晶質熱可塑性樹脂を含む、請求項６に記載の研磨パッド。
【請求項８】  材料配合が、不透明な領域では、光を散乱する相対的に大きい微結晶の、及び各光透過性領域では、光の散乱を防止する相対的に小さな微結晶の、結晶質相の熱可塑性樹脂を含む、請求項６に記載の研磨パッド。
【請求項９】  材料配合が、不透明な領域中で不相溶性であり、及び各光透過性領域中で相溶性である、熱可塑性ポリマーの組合せを含む、請求項６に記載の研磨パッド。
【請求項１０】  材料配合が、不透明な領域では熱硬化性樹脂相の、及び各光透過性領域では重合されたゲル相の、反応性熱硬化性ポリマーを含む、請求項６に記載の研磨パッド。
【請求項１１】  不透明な領域と、
少なくとも１つの光透過性領域と、
該２つの領域は、不透明な領域における不透明な相と同じポリマー材料配合を有すること、及び、
不透明な領域の不透明な相から各光透過性領域の光透過性相への移行が、該２つの領域の間に構造的に明確な境界をもたずに材料配合によって与えられること
を含む研磨パッド。
【請求項１２】  材料配合が、不透明な領域では結晶質相の、及び各光透過性領域では非晶質相の、単一の半結晶質熱可塑性樹脂を含む、請求項１１に記載の研磨パッド。
【請求項１３】  材料配合が、不透明な領域では、光を散乱する相対的に大きい微結晶の、及び各光透過性領域では、光の散乱を防止する相対的に小さな微結晶の、結晶質相の熱可塑性樹脂を含む、請求項１１に記載の研磨パッド。
【請求項１４】  材料配合が、不透明な領域中で不相溶性であり、及び各光透過性領域中で相溶性である、熱可塑性ポリマーの組合せを含む、請求項１１に記載の研磨パッド。
【請求項１５】  材料配合が、不透明な領域では熱硬化性樹脂相の、及び各光透過性領域では重合されたゲル相の、反応性熱硬化性ポリマーを含む、請求項１１に記載の研磨パッド。
【請求項１６】  成形装置の成形用キャビティ内で、流動状態で透明である流動性ポリマー材料を研磨パッドの形状に成形すること；
成形用キャビティの第１の領域で流動性ポリマー材料を相対的に速い速度で冷却して、第１の領域でポリマー材料を相対的に透明な状態に固化させること；及び
成形用キャビティ内の隣接する領域で、流動性ポリマー材料を相対的により遅い速度で冷却して、隣接する領域でポリマー材料を相対的に不透明な状態に固化させること
を含む研磨パッドの製造方法。
【請求項１７】  流動性ポリマー材料が、実質的に単一の熱可塑性樹脂材料であり、及び第１の領域で流動性ポリマー材料を冷却する工程が、さらに結晶化温度を下回る温度に速やかに冷却して、結晶化を最小化し、そしてポリマーを実質的に非晶質及び透明に保持する工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  流動性ポリマー材料が、実質的に単一の熱可塑性樹脂材料であり、及び第１の領域で流動性ポリマー材料を冷却する工程が、さらに結晶化温度を下回る温度に速やかに冷却して、単一の熱可塑性樹脂材料を固化し、光を散乱するのに小さ過ぎる大きさの微結晶にする工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】  流動性ポリマー材料が、実質的に相溶性の熱可塑性樹脂材料の混合物であり、及び第１の領域で流動性ポリマー材料を冷却する工程が、さらに相溶性の熱可塑性ポリマーが不相溶性の相分離したポリマーへ固化する温度を下回るまで急速に冷却し、相溶性の熱可塑性ポリマーの相分離を防止する工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】  流動性ポリマー材料が、固化して、相分離ミクロ−ドメインを形成する、実質的に反応性熱硬化性ポリマーであり、及び第１の領域で流動性ポリマー材料を冷却する工程が、さらに反応性熱硬化性ポリマーが相分離ミクロ−ドメインを形成する温度を下回るまで急速に冷却する工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月4日(2007.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ２以上の孔の内部で異なるレベル又はパターンの金属除去を同時に行うための電解加工法に使用するための電解加工機械であって、
少なくとも２つの電極（１００）を含み、該電極（１００）の各々が、被加工物（１１０）内に予め穿孔されたそれぞれの孔（１０１）の内表面上に形成されるべき隆起区域を形成するパターンに絶縁被覆（１０３）で部分的に被覆された外表面を有する導電性円筒体（１０５）を含み、前記電極（１００）のうちの少なくとも１つが、他とは異なる絶縁被覆（１０３）のパターンを有する、電解加工機械。
【請求項２】  前記円筒体（１０５）が中実である、請求項１記載の電解加工機械。
【請求項３】  前記円筒体（１０５）が中空である、請求項１記載の電解加工機械。
【請求項４】  電解液のための前記円筒体（１０５）内への入口（１１２）と、電解液のための前記円筒体（１０５）からの少なくとも１つの出口（１１４）とを更に含む、請求項３記載の電解加工機械。
【請求項５】  前記入口が前記円筒体（１０５）の一端に配置され、前記出口が前記円筒体（１０５）の他端に配置されている、請求項４記載の電解加工機械。
【請求項６】  被加工物（１１０）内に予め穿孔された２以上の孔（１０１）の壁に隆起区域を形成するための電解加工法であって、
前記孔（１０１）の壁に形成されるべき隆起区域を形成するパターンに絶縁材料（１０３）で被覆された電極（１００）であって、該電極（１００）のうちの少なくとも１つが他とは異なる絶縁被覆（１０３）のパターンを有するような電極（１００）を、それぞれの孔（１０１）の中に置く段階と、
各それぞれの孔（１０１）の内部で異なるレベルの金属除去を同時に行わせるために、電解液を前記孔（１０１）を通して循環させながら、該孔（１０１）の中に置かれた前記電極（１００）と被加工物（１１０）との間に電流を流すことにより、各孔（１０１）の壁に少なくとも１つの球状部（１２０）を加工する段階と、を含む電解加工法。
【請求項７】  前記電極（１００）を用いて、前記孔（１０１）の表面内に複数の隆起区域を同時に形成する段階を更に含む、請求項６記載の電解加工法。
【請求項８】  前記複数の隆起区域が前記電極（１００）を用いて同時に形成されている間、前記電極（１００）は前記孔（１０１）内に静止して置かれる、請求項７記載の電解加工法。
【請求項９】  前記孔（１０１）が非円形の横断面を有しており、前記孔（１０１）の中心に前記電極（１００）を位置決めする段階を更に含む、請求項６記載の電解加工法。
【請求項１０】  前記電極（１００）と組み合わされたロケータにより、前記孔（１０１）の中心に電極（１００）を位置決めする段階を更に含む、請求項６記載の電解加工法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月20日(2007.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （a）複数のキーを表示したデータ入力スクリーンをディスプレイ上に描写するステップであって、前記複数のキーのうち１つのキーが前記複数のキーの残りに対して中央部に配置されている、データ入力スクリーンをディスプレイ上に描写するステップと、
（b）前記中心部に配置した１つのキーを起点とするステップと、
（c）カーソルまたは強調表示部分を上、下、左、または右に動かすことにより、前記複数のキーからいずれか１つのキーを選択できるようにするステップと、
（d）前記複数のキーからいずれか１つのキーの選択があった後に、前記カーソルまたは強調表示部分を前記中央部に配置した１つのキーに戻すステップと、
（e）データ入力が終了するまで、上記（c）および（d）を繰り返すステップと
を備えたことを特徴とするデータ入力方法。
【請求項２】  前記複数のキーからいずれか１つのキーを選択できるようにするステップは、リモコンの上、下、左、及び右の矢印キーにより、前記複数のキーのうちのいずれか一つのキーにナビゲートすることを特徴とする請求項１に記載のデータ入力方法。
【請求項３】  前記データ入力スクリーンをディスプレイ上に描写するステップは、前記中央部に配置したキーがＸＹ座標系の原点となるようにし、前記複数のキーは、それぞれ、ＸＹ座標系内に具体的な座標値を有し、前記複数のキーのうち第１のキーは、プラス最大縦座標値を規定し、前記複数のキーのうち第２のキーはマイナス最大縦座標値を規定し、前記複数のキーのうち第３のキーはプラス最大横座標値を規定し、前記複数のキーのうち第４のキーはマイナス最大横座標値を規定し、前記複数のキーの残りはそれぞれ、前記プラス最大縦座標値以下であり、前記マイナス最大縦座標値以下であり、前記プラス最大横座標値以下であり、マイナス最大横座標値以下であることを特徴とする請求項１に記載のデータ入力方法。
【請求項４】  前記複数のキーは複数の英数字データ入力キーであり、前記中央部に配置されたキーはスペースキーまたは起点キーであることを特徴とする請求項３に記載のデータ入力方法。
【請求項５】  前記スペースキーまたは起点キーから前記複数の英数字データ入力キーのうちのいずれか他のキーまでの距離は、前記いずれか他のキーの横座標値の自乗と縦座標値の自乗との和の平方根として定義されることを特徴とする請求項４に記載のデータ入力方法。
【請求項６】  横座標値と縦座標値とは全て整数であることを特徴とする請求項３に記載のデータ入力方法。
【請求項７】  前記選択できるようにするステップは、前記ＸＹ座標系の一軸に沿って、前記複数の英数字データ入力キーの前記いずれか１つの前記一軸の座標値に従って、前記カーソルまたは強調表示部分を動かすステップを含むことを特徴とする請求項３に記載のデータ入力方法。
【請求項８】  前記選択できるようにするステップは、前記ＸＹ座標系の他軸と平行な線に沿って、前記複数の英数字データ入力キーの前記いずれか１つの前記他軸の座標値に従って、前記カーソルまたは強調表示部分を動かすステップをさらに含むことを特徴とする請求項７に記載のデータ入力方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年10月16日(2007.10.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
複数の遠隔通信コンピュータ（１１１，．．．，１１４）がディストリビュータ・ユニット（１０１，１０２）を介して接続され、各遠隔コンピュータが対応の通信チャンネルと接続する独立の通信制御ユニット（２１０）を有し、通信チャンネルへのアクセスが巡回時分割多重アクセス方法で行われる耐故障性分散型コンピュータ・システムの遠隔通信コンピュータ・システムの時間領域における耐故障性能を向上させる方法において、
ディストリビュータ・ユニットにとって先験的に既知の、遠隔コンピュータ（１１１，．．．，１１４）の適正伝送挙動により、少なくとも１つのディストリビュータ・ユニット（１０１，１０２）の作用下に、遠隔コンピュータは静的に割り当てられたタイム・スライス以内でのみ、他の遠隔コンピュータに伝送可能となること
を特徴とする前記方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項９】
複数の遠隔コンピュータ（１１１，．．．，１１４）がディストリビュータ・ユニット（１０１，１０２）を介して互いに接続し、各遠隔コンピュータが対応の通信チャンネル（２０１，２０２）と接続する独立の通信制御ユニット（２１１）を有し、通信チャンネルへのアクセスが巡回時分割多重アクセス方法で行われる耐故障性分散型コンピュータ・システムのディストリビュータ・ユニット（１０１，１０２）において、
ディストリビュータ・ユニットにとって先験的に既知の、遠隔コンピュータの適正伝送挙動により、少なくとも１つのディストリビュータ・ユニット（１０１，１０２）の作用下に、遠隔コンピュータは静的に割り当てられたタイム・スライス以内でのみ、他の遠隔コンピュータに伝送可能となること
を特徴とする耐故障性分散型コンピュータ・システムのディストリビュータ・ユニット（１０１，１０２）。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
この目的は本発明の上記方法によって達成される。即ち、本発明では、ディストリビュータ・ユニットにとって先験的に既知の、遠隔コンピュータの適正伝送挙動により、少なくとも１つのディストリビュータ・ユニットの作用下に、遠隔コンピュータは静的に割り当てられたタイム・スライス以内でのみ、他の遠隔コンピュータに伝送可能となる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
上記目的はまた、上記ディストリビュータ・ユニットによって達成される。即ち、本発明では、ディストリビュータ・ユニットにとって先験的に既知の、遠隔コンピュータの適正伝送挙動により、少なくとも１つのディストリビュータ・ユニットの作用下に、遠隔コンピュータは統計的に割り当てられたタイム・スライス以内でのみ、他の遠隔コンピュータに伝送可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月14日(2007.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）患者からの血液サンプルの少なくとも１つの構成要素を含む試験サンプルに試薬を添加するステップと、
ｂ）時間依存性測定プロフィールを引き出せるように試験サンプルと試薬との反応による沈殿物の形成を経時的に測定するステップであって、前記試薬は実質的なフィブリン重合を起こすことなく試験サンプル中で沈殿物を形成できることができるステップと
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月31日(2007.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】雑音を含む音響信号の高品質化
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力信号を強調する方法であって、
該方法は、
雑音のある入力信号の時間−周波数表現を決定することと、
背景雑音レベルと信号対雑音比とを推定することと、
該時間−周波数表現に対する整合低雑音信号テンプレートを決定することと、
該時間−周波数表現の一部を、該時間−周波数表現と該整合低雑音信号テンプレートとの混合に置き換えることであって、該混合は、該信号対雑音比によって重み付けられている、ことと
を包含する、方法。
【請求項２】
前記決定することが、整合低雑音スペクトログラムを決定することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記決定することが、前記時間−周波数表現と、信号モデル内の複数の低雑音信号テンプレートであって、前記整合低雑音信号テンプレートを含む複数の低雑音信号テンプレートとの最小の平均二乗根差を決定することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記複数の低雑音信号テンプレートが、低雑音スペクトログラムを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
信号モデルへの複数の低雑音信号テンプレートであって、前記整合低雑音信号テンプレートを含む複数の低雑音信号テンプレートを収集することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記信号モデルをトレーニングすることをさらに包含する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記方法が、
学習モードがアクティブであるか非アクティブであるかを決定することをさらに包含し、
前記置き換えることが、
該学習モードが非アクティブである場合に、デジタル化された入力信号の一部を、前記時間−周波数表現と前記整合低雑音信号テンプレートとの信号対雑音比で重み付けられた混合に置き換えることをさらに包含する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記トレーニングすることが、前記学習モードがアクティブである場合に、前記時間−周波数表現を用いて前記整合低雑音信号テンプレートを更新することを包含する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記トレーニングすることが、前記学習モードがアクティブである場合に、前記信号モデルへの新しい低雑音信号テンプレートとして前記時間−周波数表現を追加することを包含する、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
プロセッサと、
該プロセッサに結合されたメモリと
を備えた信号強調システムであって、
該メモリは、該プロセッサに、
複数の低雑音信号テンプレートを含む信号モデルを確立させ、
入力信号を取得させ、
該入力信号に対する該信号モデル内の整合低雑音信号テンプレートを決定させ、
該入力信号の一部を、該入力信号と該整合低雑音信号テンプレートとの信号対雑音比で重み付けられた混合に置き換えさせる命令を含む、システム。
【請求項１１】
前記メモリは、前記プロセッサに前記入力信号の入力信号スペクトログラムを決定させる命令をさらに含み、
前記プロセッサに整合低雑音信号テンプレートを決定させる命令は、該プロセッサに整合低雑音スペクトログラムテンプレートを決定させ、
前記プロセッサに入力信号の一部を置き換えさせる命令は、該プロセッサに、該入力信号スペクトログラムの一部を入力信号スペクトルと該整合低雑音スペクトログラムテンプレートとの信号対雑音比で重み付けられた混合に置き換えることによって、低雑音スペクトログラムを生成させる、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記メモリは、前記プロセッサに前記低雑音スペクトログラムから低雑音出力時系列を合成させる命令をさらに含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記プロセッサに整合低雑音信号テンプレートを決定させる命令は、該プロセッサに前記入力信号と前記複数の低雑音信号テンプレートの各々との間の信号対雑音比で重み付けられた距離を決定させ、それによって、該入力信号における周波数帯域は、当該周波数帯域の信号対雑音比に比例して、該信号対雑音比で重み付けられた距離に寄与する、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１４】
前記メモリは、前記プロセッサに前記信号モデルをトレーニングさせる命令をさらに含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１５】
前記プロセッサに信号モデルをトレーニングさせる命令は、該プロセッサに該信号モデル内の前記複数の低雑音信号テンプレートのうちの少なくとも１つを更新させる命令を含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記プロセッサに信号モデルをトレーニングさせる命令は、該プロセッサに新しい低雑音信号テンプレートとして前記入力信号を該信号モデルに追加させる命令を含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１７】
コンピュータ読み取り可能な媒体と、
該コンピュータ読み取り可能な媒体上の命令であって、プロセッサに、
複数の低雑音信号テンプレートを含む信号モデルから雑音のある入力信号に対する整合低雑音信号テンプレートを決定させ、
該入力信号の一部を該入力信号と該整合低雑音信号テンプレートとの信号対雑音比で重み付けられた混合に置き換えさせる命令と
を含む、製品。
【請求項１８】
前記命令は、前記プロセッサにさらに、前記雑音のある入力信号の入力信号スペクトログラムを決定させ、
前記整合低雑音信号テンプレートを決定する命令は、該プロセッサに、
該入力信号スペクトログラムと前記複数の低雑音信号テンプレートの各々との間の信号対雑音比で重み付けられた距離を決定させ、
該整合低雑音信号テンプレートとして、該信号対雑音比で重み付けられた距離のうちの最小の距離を有する該信号モデル内の低雑音信号テンプレートを選択させ、
それによって、該雑音のある入力信号における周波数帯域は、当該周波数帯域の信号対雑音比に比例して、該信号対雑音比で重み付けられた距離に寄与する、請求項１７に記載の製品。
【請求項１９】
前記媒体は、前記プロセッサに前記整合低雑音信号テンプレートを決定する前に前記雑音のある入力信号における過渡現象を検出させる命令をさらに記憶する、請求項１７に記載の製品。
【請求項２０】
前記過渡現象は、音声の過渡現象である、請求項１９に記載の製品。
【請求項２１】
前記媒体は、前記プロセッサに、
前記雑音のある入力信号における過渡現象を検索させ、
該過渡現象が存在しない場合に背景雑音推定を更新させ、
該過渡現象の検出の後、前記整合低雑音信号テンプレートを決定し、該入力信号の一部を置き換えさせる命令をさらに記憶する、請求項１７に記載の製品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月26日(2007.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画像内の焦点値を決定する方法であって、
前記画像内の関心領域を選択するステップと、
関心カラー・プレーンを選択するステップと、
前記関心カラー・プレーンを前記関心領域内でフィルタリングして、フィルタリングされた領域を生成するステップと、
前記フィルタリングされた領域の平均絶対値を決定するステップと、
前記フィルタリングされた領域の平均絶対値が、先に計算された最大平均絶対値のある割合より大きいかどうかを決定するステップと、
前記フィルタリングされた領域の平均絶対値が、先に計算された最大平均絶対値より大きかった場合、最適焦点距離を画像がキャプチャされる前記焦点距離と等しくなるように設定するステップと、
前記フィルタリングされた領域の平均絶対値が、先に計算された最大平均絶対値の前記割合より大きくなかった場合、前記最適焦点距離を出力するステップと、
とから構成されることを特徴とする方法。
【請求項２】  プロセッサと、前記プロセッサに結合したメモリとを有する画像の焦点値を決定する装置であって、
前記メモリには、プロセッサにより実行されたとき、画像内の関心領域を選択させ、関心カラー・プレーンを選択させ、前記関心カラー・プレーンを前記関心領域内でフィルタリングして、フィルタリングされた領域を生成させ、前記フィルタリングされた領域の平均絶対値を決定させ、前記フィルタリングされた領域の平均絶対値が、先に計算された最大平均絶対値のある割合より大きいかどうかを決定させ、前記フィルタリングされた領域についての前記平均絶対値が、前記先に計算された最大平均絶対値より大きかった場合、最適焦点距離を画像がキャプチャされる焦点距離と等しくなるように設定させ、更に前記フィルタリングされた領域の平均絶対値が、先に計算された最大平均絶対値の前記割合より大きくなかった場合、前記最適焦点距離を出力させる命令情報が格納されていることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月30日(2007.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  水処理可能な光酸発生剤、水または水性塩基、及び水溶性ポリマーを含む水処理可能なポジフォトレジストであって、前記ポリマーが、熱処理により前記ポリマーを水または水性塩基に不溶性にする熱不安定性官能基、及び酸の光化学的発生によりポリマーの水または水性塩基への溶解性を復帰させる酸不安定性官能基を有する、上記フォトレジスト。
【請求項２】  該熱不安定性基がカルボン酸または塩であり、該ポリマーが熱により脱炭酸を受けるものであり、脱炭酸前は該ポリマーは水または水性塩基に溶解性であるが、脱炭酸後は水または水性塩基に不溶性である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】  該カルボン酸塩がアンモニウム塩または低分子量アルキルアンモニウム塩である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】  該カルボン酸または塩がアルファシアノ、アルファカルボキシまたはベータカルボニル基を有する、請求項２に記載の組成物。
【請求項５】  該カルボン酸または塩が置換マロン酸または塩を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項６】  該ポリマーが約６０℃〜約１９０℃の温度で脱炭酸を受ける、請求項２に記載の組成物。
【請求項７】  該酸不安定性基がカルボン酸エステルであり、該エステルが酸条件下で開裂を受けるものであり、該ポリマーはエステル開裂前は水または水性塩基に不溶性であるが、エステル開裂後は水及び水性塩基に溶解性である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】  該カルボン酸エステルがカルボン酸のtert-ブチルエステルである、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】  該カルボン酸エステルがカルボン酸のイソボルニルエステルである、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】  該ポリマーがスチレンまたはアクリレートである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】  該ポリマーがコポリマーである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】  該コポリマーがアクリレートコポリマーである、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】  該光酸発生剤がポリマーの約０．５〜１５質量％である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】  該光酸発生剤が、アリールジアゾニウム塩、アリールスルホニウム塩、アリールヨードニウム塩及びイミドスルホネートからなる群より選択される、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】  さらに増感剤を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１６】  (a)少なくとも一つのカルボン酸塩及び少なくとも一つの酸不安定性基を含み、熱処理により脱炭酸を受け、かつ酸処理により開裂を受けるポリマー; (b)水溶性光酸発生剤; 及び(c)水または水性塩基; を含む水処理可能なポジフォトレジスト組成物であって、前記組成物は組成物の乾燥フイルムを製造することができること、前記フイルムは前記ポリマーの熱処理前は水または水性塩基に溶解性であり、熱処理後は水または水性塩基に不溶性であり、また前記フイルムを照射線に暴露すると水または水性塩基に溶解性になること、を特徴とする、上記組成物。
【請求項１７】  下記の工程を含む水処理可能なポジフォトレジストの製造方法； (a)熱不安定性官能基及び酸不安定性官能基を有し、熱処理により水不溶性型ポリマーに変換可能であり、かつ照射により水溶性型ポリマーに復帰可能な水溶性ポリマー、水処理可能な光酸発生剤、及び水または水性塩基を含む溶液を基板に塗布して被覆基板を作成する工程; (b)前記被覆基板を加熱して、基板から水を除去して該基板上にフイルムを形成し、かつ前記水溶性ポリマーを水不溶性型ポリマーに変換する工程; (c)前記フイルムを照射線に選択的に暴露して水処理可能な光酸発生剤から酸を発生させて、発生した酸により水不溶性ポリマーを水溶性型ポリマーに復帰させる工程; 及び(d)前記暴露フイルムを水性現像液で現像して、ポジフォトレジストを製造する工程。
【請求項１８】  該基板が、セラミック材、シリコンウエハ、平版印刷版、磁気ディスク、プリント回路基板及びフレックスな回路要素用基板からなる群より選択される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  該溶液を、浸漬、スピンコーティング、ロールコーティング、スクリーン印刷、またはアプリケーターコーティングにより塗布する、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】  該水溶性ポリマー及び水処理可能な光酸発生剤を、いずれかの順序で連続した操作で基板に塗布する、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】  該熱不安定性基がカルボン酸または塩であり、該ポリマーが熱により脱炭酸を起こす、請求項１７に記載の方法。
【請求項２２】  該カルボン酸塩がアンモニウム塩または低分子量アルキルアンモニウム塩である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】  該カルボン酸または塩がアルファシアノ、アルファカルボキシまたはベータカルボニル基を有する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】  該カルボン酸または塩が置換マロン酸または塩を含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】  該被覆基板を約６０℃〜約１９０℃の温度で加熱する、請求項１７に記載の方法。
【請求項２６】  該酸不安定性基がカルボン酸エステルであり、該エステルが酸条件下で開裂を受ける、請求項１７に記載の方法。
【請求項２７】  該カルボン酸エステルがカルボン酸のtert-ブチルエステルである、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】  該カルボン酸エステルがカルボン酸のイソボルニルエステルである、請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】  該照射線の波長が約１５７ｎｍ〜約３６５ｎｍである、請求項１７に記載の方法。
【請求項３０】  該照射線が、Ｘ線、極紫外線、及びイオンビーム照射線からなる群より選択される、請求項１７に記載の方法。
【請求項３１】  該水性現像液が水または水性塩基である、請求項１７に記載の方法。
【請求項３２】  下記の工程を含むプロセスにより製造される水処理可能なポジフォトレジスト組成物；
(a)熱不安定性官能基及び酸不安定性官能基を有し、熱処理により水不溶性型ポリマーに変換可能であり、かつ照射により水溶性型ポリマーに復帰可能な水溶性ポリマー、水処理可能な光酸発生剤、及び水または水性塩基を含む溶液を基板に塗布して被覆基板を作成する工程; (b)前記被覆基板を加熱して、基板から水を除去して該基板上にフイルムを形成し、かつ前記水溶性ポリマーを水不溶性型ポリマーに変換する工程; (c)前記フイルムを照射線に選択的に暴露して水処理可能な光酸発生剤から酸を発生させて、発生した酸が水不溶性ポリマーを水溶性型ポリマーに復帰させる工程; 及び(d)前記暴露フイルムを水性現像液で現像して、ポジフォトレジストを製造する工程。