【手続補正書】
【提出日】平成18年12月13日(2006.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電流発生セルにおいて使用するためのセパレーターであって、ここで、該セルは、カソード活性層を有するカソード、アノード、および該カソードと該アノードとの間に挿入された電解質素子を含み、ここで該電解質素子は、該セパレーターおよび電解質を含み；そして該セパレーターは、少なくとも１つの微小多孔性擬ベーマイト層を含み、ここで該セパレーターが、少なくとも１つの保護コーティング層と接触しており；そしてここで該少なくとも１つの保護コーティング層の少なくとも１つが、該セルの該カソード活性層と反対の、該セパレーターのアノードに面する側面上にある、セパレーター。
【請求項２】  前記アノードに面する側面上の前記保護コーティング層の少なくとも１つが、ポリマーを含む、請求項１に記載のセパレーター。
【請求項３】  ポリマーを含む前記保護コーティング層が、単一のイオン伝導層である、請求項２に記載のセパレーター。
【請求項４】  請求項２に記載のセパレーターであって、ポリマーを含む前記保護コーティング層が、ポリ（ｐ−フェニレン）、ポリアセチレン、ポリ（フェニレンビニレン）、ポリアズレン、ポリ（ぺリナフタレン）、ポリアセン、およびポリ（ナフタレン−２，６−ジイル）からなる群から選択される伝導性ポリマーを含む、セパレーター。
【請求項５】  前記アノードに面する側面上の前記保護コーティング層の少なくとも１つが、単一のイオン伝導層である、請求項１に記載のセパレーター。
【請求項６】  前記アノードに面する側面上の前記保護コーティング層の少なくとも１つが、リチウムイオン伝導性の単一のイオン伝導ガラスを含む、請求項１に記載のセパレーター。
【請求項７】  請求項６に記載のセパレーターであって、前記単一のイオン伝導ガラスが、ケイ酸リチウム、ホウ酸リチウム、アルミン酸リチウム、リン酸リチウム、オキシ窒化リンリチウム、酸化リチウムチタン、酸化リチウムランタン、リチウムシリコスルフィド、リチウムボロスルフィド、リチウムアルミノスルフィド、リチウムゲルマノスルフィド、およびリチウムホスホスルフィド、ならびにそれらの組合せからなる群から選択される、セパレーター。
【請求項８】  前記アノードに面する側面上の少なくとも１つの前記保護コーティング層が、オキシ窒化リンリチウムを含む、請求項１に記載のセパレーター。
【請求項９】  前記保護コーティング層が、０．２〜２０μｍの厚みを有する、請求項２に記載のセパレーター。
【請求項１０】  前記保護コーティング層が、５ｎｍ〜５μｍの厚みを有する、請求項６に記載のセパレーター。
【請求項１１】  請求項１に記載のセパレーターであって、ここで前記セパレーターは、第１および第２の保護コーティング層と接触し、ここで該第１の保護コーティング層が、前記カソード活性層と反対の、該セパレーターの側面上で前記擬ベーマイト層と接触し、そして該第２の保護コーティング層が、該擬ベーマイト層と反対の側面上で該第１の保護コーティング層と接触する、セパレーター。
【請求項１２】  前記第２の保護コーティング層が、リチウムイオン伝導性単一のイオン伝導ガラスを含む、請求項１１に記載のセパレーター。
【請求項１３】  前記２つの保護コーティング層の合わせた厚さが、１０ｎｍ〜２０μｍである、請求項１２に記載のセパレーター。
【請求項１４】  請求項２に記載のセパレーターであって、ここで前記保護コーティング層が、式：
Ｒ1（Ｒ2Ｏ）n−Ｒ3
を有するモノマーまたはマクロモノマーからなる群から選択される１つ以上のモノマーまたはマクロモノマーの重合により形成される、１つ以上の部分を含み、この式で：
Ｒ1は、各場合において、同じかまたは異なり、そして以下：
【化１】
2002532852.tif 000001
からなる群から選択され；
Ｒ2は、各場合において、同じかまたは異なり、そして以下：
−ＣＨ2−ＣＨ2−、
−ＣＨ（ＣＨ3）−ＣＨ2−、
−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、
−ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）−ＣＨ2−、
−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−；
からなる群から選択され；
Ｒ3は、各場合において、同じかまたは異なり、そしてシアノ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、フェニル、ブチルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、Ｒ1、−Ｘ−（ＯＲ2）m−Ｒ1、−Ｙ［（ＯＲ2）o−Ｒ1］2、−Ｚ［（ＯＲ2）p−Ｒ1］3からなる群から選択され；
Ｘは、
【化２】
2002532852.tif 000002
および−（ＣＨ2）r−（ここでｒは、３、４、または６）からなる群から選択される、二価基であり；
Ｙは、以下：
【化３】
2002532852.tif 000003
からなる群から選択される三価基であり；
Ｚは、以下：
【化４】
2002532852.tif 000004
からなる群から選択される四価基であり；
ｍは、０〜１００の範囲の整数であり；
ｎは、０〜１００の範囲の整数であり；
ｏは、０〜１００の範囲の整数であり；そして
ｐは、０〜１００の範囲の整数である、
セパレーター。
【請求項１５】  請求項２に記載のセパレーターであって、ここで前記保護コーティング層が、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、エトキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシル化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシル化脂肪族ウレタンアクリレート、エトキシル化アルキルフェノールアクリレート、およびアルキルアクリレートからなる群から選択される１つ以上アクリレートの重合により形成される１つ以上の部分を含む、セパレーター。
【請求項１６】  請求項２に記載のセパレーターであって、ここで前記保護コーティング層が、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、スルホン化スチレン／エチレン−ブチレン／スチレントリブロックポリマー、およびそれらの混合物からなる群から選択されるポリマーを含む、セパレーター。
【請求項１７】  電流発生セルにおける使用のためのセパレーターを作製する方法であって、ここで、該セルは、カソード活性層を有するカソード、アノード、および該カソードと該アノードとの間に挿入された電解質素子を含み、ここで該電解質素子は、該セパレーターおよび電解質を含み；そして該セパレーターは、少なくとも１つの微小多孔性擬ベーマイト層を含み、ここで該セパレーターが、少なくとも１つの保護コーティング層と接触しており；そしてここで該保護コーティング層のうちの少なくとも１つが、該セルの該カソード活性層と反対の、該セパレーターのアノードに面する側面上にあり；
ここで該方法は、以下の工程：
（ａ）ベーマイトゾルを含む第１の液体混合物である、Ａを基材上にコーティングし、第１のコーティング層を形成する工程；
（ｂ）工程（ａ）で形成された該第１のコーティング層を乾燥し、微小多孔性擬ベーマイト層を含む該セパレーターを形成する工程；
（ｃ）工程（ｂ）で形成された該セパレーター上に保護コーティング材料の混合物をコーティングし、第２のコーティング層を形成する工程；
（ｄ）工程（ｃ）で形成された該第２のコーティング層のすべての揮発性液体を除去し、該セパレーターの該アノードに面する側面上に、第１の保護コーティング層を形成する工程、を包含する、方法。
【請求項１８】  請求項１７に記載の方法であって、ここで工程（ｃ）の前記混合物が、１つ以上のポリマー、モノマー、またはマクロモノマーを含み、そしてここで工程（ｄ）が、工程（ｃ）において形成された前記第２のコーティング層を乾燥して、前記第１の保護コーティング層を形成する工程を包含し、ここで該第１の保護コーティング層が、ポリマーを含む、方法。
【請求項１９】  前記第１の保護コーティング層が、工程（ｃ）および（ｄ）における物理蒸着法または化学蒸着法により形成される、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】  前記第１の保護コーティング層が、リチウムイオン伝導性の単一のイオン伝導ガラスを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  請求項２０に記載の方法であって、前記単一のイオン伝導ガラスが、ケイ酸リチウム、ホウ酸リチウム、アルミン酸リチウム、リン酸リチウム、オキシ窒化リンリチウム、酸化リチウムチタン、酸化リチウムランタン、リチウムシリコスルフィド、リチウムボロスルフィド、リチウムアルミノスルフィド、リチウムゲルマノスルフィド、およびリチウムホスホスルフィドからなる群から選択される、方法。
【請求項２２】  前記第１の保護コーティング層が、オキシ窒化リンリチウムを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】  請求項１９に記載の方法であって、ここで前記第１保護コーティング層が、ポリ（ｐ−フェニレン）、ポリアセチレン、ポリ（フェニレンビニレン）、ポリアズレン、ポリ（ペリナフタレン）、ポリアセン、およびポリ（ナフタレン−２，６−ジイル）からなる群から選択される伝導性ポリマーを含む、方法。
【請求項２４】  前記第１の保護コーティング層が、０．２〜２０μｍの厚さを有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２５】  前記第１の保護コーティング層が、５ｎｍ〜５μｍの厚さを有する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２６】  請求項１７に記載の方法であって、工程（ｄ）の後に、該方法が、第２の保護コーティング層を、工程（ｄ）において形成された層上にコーティングする工程である工程（ｅ）を包含する、方法。
【請求項２７】  請求項２６に記載の方法であって、ここで工程（ｅ）が、
（ｉ）工程（ｄ）において形成された前記第２のコーティング層上に、保護コーティング材料の混合物をコーティングして、第３のコーティング層を形成する工程；
（ｉｉ）工程（ｉ）において形成された該第３のコーティング層のすべての揮発性液体を除去し、前記セパレーターの前記アノードに面する側面上に第２保護コーティング層を形成する工程、を包含する、方法。
【請求項２８】  前記第２の保護層が、物理蒸着法または化学蒸着法により工程（ｅ）において形成される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】  請求項１８に記載の方法であって、ここで、工程（ｄ）に続いて、エネルギー供給源の使用により前記保護コーティング層を硬化させ、硬化保護コーティング層を形成する工程である工程（ｅ）が存在する、方法。
【請求項３０】  前記硬化工程が、熱、紫外光、可視光、赤外照射、および電子ビーム照射からなる群から選択されるエネルギー供給源を使用して行なわれる、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】  前記１つ以上のポリマー、モノマーおよびマクロモノマーのうちの少なくとも１つが、前記微小多孔性擬ベーマイト層の細孔内に含浸するには大き過ぎる分子量を有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項３２】  請求項１８に記載の方法であって、前記保護コーティング層の形成の際の使用のための、前記１つ以上のモノマーおよびマクロモノマーのうちの少なくとも１つが、以下の式：
Ｒ1（Ｒ2Ｏ）n−Ｒ3
を有するモノマーまたはマクロモノマーからなる群から選択され、ここで：
Ｒ1は、各場合において、同じかまたは異なり、そして以下：
ＣＨ2＝ＣＨ（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、
ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、
ＣＨ2＝ＣＨ−、
【化５】
2002532852.tif 000005
からなる群から選択され；
Ｒ2は、各場合において、同じかまたは異なり、そして以下：
−ＣＨ2−ＣＨ2−
−ＣＨ（ＣＨ3）−ＣＨ2−、
−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、
−ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）−ＣＨ2−、
−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−；
からなる群から選択され；
Ｒ3は、各場合において、同じかまたは異なり、そしてシアノ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、フェニル、ブチルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、Ｒ1、−Ｘ−（ＯＲ2）m−Ｒ1、−Ｙ［（ＯＲ2）o−Ｒ1］2、−Ｚ［（ＯＲ2）p−Ｒ1］3からなる群から選択され；
Ｘは、以下；
【化６】
2002532852.tif 000006
【化７】
2002532852.tif 000007
および−（ＣＨ2）r−（ここでｒは、３、４、または６）からなる群から選択される二価基であり；
Ｙは、以下；
【化８】
2002532852.tif 000008
からなる群から選択される三価基であり；
Ｚは、以下；
【化９】
2002532852.tif 000009
からなる群から選択される四価基であり；
ｍは、０〜１００の範囲の整数であり；
ｎは、０〜１００の範囲の整数であり；
ｏは、０〜１００の範囲の整数であり；そして
ｐは、０〜１００の範囲の整数である、
方法。
【請求項３３】  請求項１８に記載の方法であって、ここで前記１つ以上のモノマーまたはマクロモノマーのうちの少なくとも１つが、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、エトキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシル化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシル化脂肪族ウレタンアクリレート、エトキシル化アルキルフェノールアクリレート、およびアルキルアクリレートからなる群から選択されるアクリレートである、方法。
【請求項３４】  前記第１の保護コーティング層の前記ポリマーが、１０，０００よりも大きい分子量を有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項３５】  工程（ｃ）の前記混合物が、ポリマーを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項３６】  請求項３５に記載の方法であって、前記ポリマーが、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、スルホン化スチレン／エチレン−ブチレン／スチレントリブロックポリマー、およびそれらの混合物からなる群から選択される、方法。
【請求項３７】  電流発生セルにおける使用のための電解質素子を作製するための方法であって、ここで該電解質素子が、少なくとも１つの微小多孔性擬ベーマイト層を含むセパレーターを含み、ここで該セパレーターが、少なくとも１つの保護コーティング層と接触しており；そしてここで該保護コーティング層のうちの少なくとも１つが、該セルのカソード活性層と反対の、該セパレーターのアノードに面する側面上にあり；
ここで該方法は、以下の工程：
（ａ）ベーマイトゾルを含む第１の液体混合物であるＡを基材上にコーティングし、第１のコーティング層を形成する工程；
（ｂ）工程（ａ）において形成された該第１のコーティング層を乾燥し、微小多孔性擬ベーマイト層を含む該セパレーターを形成する工程；
（ｃ）保護コーティング材料の混合物を、工程（ｂ）において形成された該セパレーター上にコーティングし、第２のコーティング層を形成する工程；
（ｄ）工程（ｃ）において形成された該第２のコーティング層のすべての揮発性液体を除去し、該アノードに面する側面上に第１の保護コーティング層を形成する工程；および
（ｅ）工程（ｄ）において形成された構造物の表面を電解質と接触させる工程であって、それにより該セパレーターの細孔内への該電解質の導入を生じる、工程、を包含する、方法。
【請求項３８】  前記方法が、工程（ｄ）の後でかつ工程（ｅ）の前に、前記セパレーター層を前記基材から層間剥離させる工程を包含する、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】  前記基材の少なくとも１つの最外部表面が、カソード活性層を含み、そして工程（ａ）の前記第１の液体混合物が、該カソード活性層上にコーティングされる、請求項３７に記載の方法。
【請求項４０】  前記電解質が、液体電解質、ゲルポリマー電解質、および固体ポリマー電解質からなる群から選択される１つ以上の材料を含む、請求項３７に記載の方法。
【請求項４１】  前記電解質が有機電解質である、請求項３７に記載の方法。
【請求項４２】  前記電解質が水性電解質である、請求項３７に記載の方法。
【請求項４３】  カソードを含む電流発生セルであって、該セルは、カソード活性層、アノード、および該カソードと該アノードとの間に挿入された電解質素子を含み、ここで該電解質素子が、以下：
（ａ）セパレーター；および
（ｂ）電解質；
を含み、
ここで該セパレーターは、少なくとも１つの微小多孔性擬ベーマイト層を含み；ここで該セパレーターが少なくとも１つの保護コーティング層と接触しており；そしてここで該少なくとも１つの保護コーティング層のうちの少なくとも１つが、該セルの該カソード活性層と反対の、該セパレーターの該アノードに面する側面上にあり、そして該電解質が該セパレーターの細孔内に含まれる、セル。
【請求項４４】  前記セルが、２次電流発生セルである、請求項４３に記載のセル。
【請求項４５】  前記セルが、１次電流発生セルである、請求項４３に記載のセル。
【請求項４６】  カソード、アノード、および該カソードと該アノードとの間に挿入された電解質素子を含む、電流発生セルであって、ここで該電解質素子が以下：
（ａ）セパレータ；および
（ｂ）有機電解質；
を含み、ここで該セパレーターが以下：
（ｉ）（ｉｉ）と接触している微小多孔性擬ベーマイト層；
（ｉｉ）ポリマーを含む保護コーティング層；
を含み、そしてここで該有機電解質が、該セパレーターの細孔内に含まれる、セル。
【請求項４７】  前記保護コーティング層が、前記カソード反対の、前記セパレーターの前記アノードに面する側面上にある、請求項４６に記載のセル。
【請求項４８】  前記電解質が、液体電解質、ゲルポリマー電解質、および固体ポリマー電解質からなる群から選択される１つ以上の電解質を含む、請求項４３または４６に記載のセル。