【手続補正書】
【提出日】平成19年3月23日(2007.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    
【請求項１】    汚染された場所より汚染質を取り除くためのプロセスであって、前記プロセスが、
前記場所上でPteridaceae、Adiantaceae、Aspleniaceae、Dryopteridaceae、又はOleandraceacからなる群より選択されたシダ植物を生長させる過程と、
ヒ素、銅、クロム、及びリンからなる群より選択された前記汚染質を前記シダ植物のバイオマス中に蓄積する過程であって、前記汚染質が、ファイトレメディエーションによって前記シダ植物の空気乾燥されたバイオマスの少なくとも１％になるようにし、それによって前記シダ植物が前記場所より前記汚染質を取り除く、該過程とを有することを特徴とするプロセス。
【請求項２】    前記汚染された場所が水溶液を含むことを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】    前記汚染された場所が下水を含むことを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】    前記汚染された場所が湿地帯を含むことを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】    前記汚染された場所が地下水を含むことを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】    前記汚染された場所が地上水を含むことを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】    ヒ素が、乾燥重量ベースにして１００ｍｇ／ｋｇより多い量で前記植物中に蓄積することを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】    ヒ素が、乾燥重量ベースにして１０００ｍｇ／ｋｇより多い量で前記植物中に蓄積することを特徴とする請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】    ヒ素が、乾燥重量ベースにして１００００ｍｇ／ｋｇより多い量で前記植物中に蓄積することを特徴とする請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】    前記ヒ素が、前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度と比較して、少なくとも２倍高い濃度まで前記植物中に蓄積することを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】    ヒ素の前記濃度が、前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度の少なくとも１０倍であることを特徴とする請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】    ヒ素の前記濃度が、前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度の少なくとも５０倍であることを特徴とする請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】    ヒ素の前記濃度が、前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度の少なくとも１００倍であることを特徴とする請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１４】    前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度が、５ｍｇ／ｋｇより大きいことを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項１５】    前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度が、５０ｍｇ／ｋｇより大きいことを特徴とする請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】    前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度が、１００ｍｇ／ｋｇより大きいことを特徴とする請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】    前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度が、少なくとも５００ｍｇ／ｋｇであることを特徴とする請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】    前記ヒ素が取り除かれる前記場所中の前記ヒ素濃度が、１０００ｍｇ／ｋｇより大きいことを特徴とする請求項１７に記載のプロセス。
【請求項１９】    前記シダ植物がAdiantaceae属であることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２０】    前記シダ植物がAdiantum raddianum属であることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２１】    前記シダ植物がPteridium mayii属であることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２２】    前記シダ植物がParkeriiであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２３】    前記シダ植物がPteris albo-lineataであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２４】    前記シダ植物がPteris vittataであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２５】    前記シダ植物がBrakeシダであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２６】    前記場所中のヒ素が最大１００％取り除かれることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２７】    前記場所中の前記ヒ素濃度が最大１００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項２８】    水溶液中より汚染質を取り除くためのプロセスであって、
前記水溶液上でPteridaceae、Adiantaceae、Aspleniaceae、Dryopteridaceae、及びOleandraceacからなる群より選択されたシダ植物を水栽培で生長させる過程と、
ヒ素、銅、クロム、及びリンからなる群より選択された前記汚染質をファイトレメディエーションによって前記シダ植物のバイオマス中に蓄積する過程であって、前記汚染質が前記シダ植物の一部分に蓄積するように行われ、前記シダ植物の前記一部分が、葉（leaf）、茎、葉（frond）、及び根からなる群より選択される、該過程とを有することを特徴とするプロセス。
【請求項２９】    前記汚染された場所が下水を含むことを特徴とする請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３０】    前記汚染された場所が湿地帯を含むことを特徴とする請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３１】    前記汚染された場所が地下水を含むことを特徴とする請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３２】    前記汚染された場所が地上水を含むことを特徴とする請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３３】    前記汚染質がヒ素であることを特徴とする請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３４】    前記水溶液中のヒ素が最大１００％取り除かれることを特徴とする請求項３３に記載のプロセス。
【請求項３５】    前記水溶液中の前記ヒ素濃度が最大１００ｐｐｍであることを特徴とする請求項３３に記載のプロセス。
【請求項３６】    ヒ素を含む既知の水溶液のある場所に人工的に植え付けられたシダ植物の収穫された部分を含む組成物であって、
前記シダ植物の部分のヒ素濃度が、乾燥重量ベースにして、少なくとも１００ｍｇ／ｋｇであることを特徴とする組成物。
【請求項３７】    前記シダ植物がPteridaceae、Adiantaceae、Aspleniaceae、Dryopteridaceae、及びOleandraceacからなる群より選択されることを特徴とする請求項３６に記載の組成物。
【請求項３８】    前記水溶液が下水を含むことを特徴とする請求項３６に記載の組成物。
【請求項３９】    前記水溶液が湿地帯を含むことを特徴とする請求項３６に記載の組成物。
【請求項４０】    前記水溶液が地下水を含むことを特徴とする請求項３６に記載の組成物。
【請求項４１】    前記水溶液が地上水を含むことを特徴とする請求項３６に記載の組成物。
【請求項４２】    前記水溶液中のヒ素が最大１００％取り除かれることを特徴とする請求項３６に記載の組成物。
【請求項４３】    前記水溶液中の前記ヒ素濃度が最大１００ｐｐｍであることを特徴とする請求項３３に記載の組成物。
【請求項４４】    水溶液中よりヒ素をファイトメディエーションによって取り除く方法であって、
ヒ素を含む前記水溶液中でPteridaceae、Adiantaceae、Aspleniaceae、Dryopteridaceae、及びOleandraceacからなる群より選択されたシダ植物を生長させる過程と、
前記ヒ素をファイトレメディエーションによって前記シダ植物のバイオマス中に蓄積する過程と、
前記シダ植物を収穫する過程であって、それによって前記水溶液のヒ素濃度が低下する、該過程とを有することを特徴とする方法。
【請求項４５】    前記水溶液中のヒ素が最大１００％取り除かれることを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】    前記水溶液中の前記ヒ素濃度が最大１００ｐｐｍであることを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４７】    ヒ素が、乾燥重量ベースにして１００ｍｇ／ｋｇより多い量で前記シダ植物中に蓄積することを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４８】    汚染された場所よりヒ素、銅、クロム、及びリンからなる群より選択された汚染質を取り除くプロセスであって、
前記場所でPteridaceae、Adiantaceae、Aspleniaceae、Dryopteridaceae、及びOleandraceacからなる群より選択されたシダ植物を生長させる過程と、
前記汚染質をファイトレメディエーションによって前記シダ植物のバイオマス中に乾燥重量ベースにして１００００ｍｇ／ｋｇより多い量で蓄積する過程であって、それによって前記シダ植物が前記場所から前記汚染質が取り除かれる、該過程とを有することを特徴とするプロセス。
【請求項４９】    前記場所が水溶液を含むことを特徴とする請求項４８に記載のプロセス。