【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  チタンを含むかまたはチタンから成り、組織辺縁および／または骨成長領域に適用できる１つまたはそれ以上の表面を持ち、１つまたはそれ以上の前記表面に骨成長開始または骨成長刺激物質の補給所が配置され、この補給所がチタン上の比較的厚い酸化物層内の細孔構成によって形成されるインプラントにおいて、前記物質がある期間、それぞれの周囲組織または組織／骨成長領域への物質の好ましくは基本的に制御された放出を可能にする、１つまたはそれ以上の放出機能によって作用するか、または１つまたはそれ以上の放出機能をもって作用することを特徴とするインプラント。
【請求項２】  １つまたはそれ以上の前記表面の１つまたはそれ以上の領域内の異なる細孔構成によって２つまたはそれ以上の放出構成が得られることを特徴とする、請求項１に記載のインプラント。
【請求項３】  １つまたはそれ以上の領域内に例えば、開口しているか多少閉じている細孔、細孔深さ、細孔密度、細孔容積等が配置されることを特徴とする、請求項１または２に記載のインプラント。
【請求項４】  所望の経時的放出シーケンスを達成するために、より大きい細孔とより小さい細孔の組合せを構成することにより、放出機能が作動することを特徴とする、請求項１、２、または３に記載のインプラント。
【請求項５】  より大きい細孔がより迅速な放出を達成し、より小さくかつ／または深い細孔が遅い放出を達成することを特徴とする、請求項４に記載のインプラント。
【請求項６】  異なる領域に異なる細孔特性を設けることを特徴とする、請求項１ないし５のいずれかに記載のインプラント。
【請求項７】  前記酸化物層の表面が約２０％のチタン、約５５％の酸素、および約２０％の炭素を含み、それ以外の層が二酸化チタンから成ることを特徴とする、請求項１ないし６のいずれかに記載のインプラント。
【請求項８】  前記酸化物層が約１〜５μｍまたはそれ以下の粗面度を持つことを特徴とする、請求項１ないし７のいずれかに記載のインプラント。
【請求項９】  前記酸化物層が約１〜２０μｍ、好ましくは２〜２０μｍの範囲内の厚さを持つことを特徴とする、請求項１ないし８のいずれかに記載のインプラント。
【請求項１０】  前記酸化物層が非常に多孔であり、細孔径が０．０１〜１０μｍの範囲であることを特徴とする、請求項１ないし９のいずれかに記載のインプラント。
【請求項１１】  組織および／または骨、例えば顎骨内に形成された穴に適用するインプラントにおいて、それが穴の形成と協働できるチタン部を含むこと、前記チタン部が、穴形成時に組織および／または骨に当てて配置することのできる表面を有する１つまたはそれ以上の非常に厚い酸化チタン層を持つように設計されること、各酸化物層に、骨成長開始および／または骨成長刺激物質、例えばＴＧＦ−β上科に属する物質の補給所として機能する細孔構成が設けられること、および前記補給所に物質が充填され、前記インプラントが前記穴に適切に配置されると、前記物質を前記骨に放出するための放出機能が作動するようになることを特徴とするインプラント。
【請求項１２】  前記放出機能が選択された期間にわたり制御されることを特徴とする、請求項１１に記載のインプラント。
【請求項１３】  前記放出機能が前記層内または層上の細孔構成および細孔特性の選択によって制御されることを特徴とする、請求項１２に記載のインプラント。
【請求項１４】  前記酸化物層が非常に多孔であることを特徴とする、請求項９ないし１３のいずれかに記載のインプラント。
【請求項１５】  前記酸化物層および表面をそのねじ上に支えるスクリュー・インプラントであることを特徴とする、請求項９ないし１４のいずれかに記載のインプラント。
【請求項１６】  組織および／または骨、好ましくは顎骨に形成された穴に適用するように意図されたインプラントを作製するための方法において、前記インプラントが例えば機械加工によって作製され、前記インプラントが前記穴に適切に配置されるときに前記骨および／または組織に当てて配置することができる表面を持つチタンの部分を持つこと、前記表面の前記チタンが、高い多孔性および比較的厚い酸化物層が各関係表面に得られる程度に陽極酸化にさらされること、骨成長開始物質または骨成長刺激物質、例えばＴＧＦ−β上科に属する物質が、例えば飽和または浸漬によって前記多孔性の厚い層に施用されること、および前記インプラントが前記穴内のその位置に配置されると、結果的に前記骨への前記物質の放出プロセスが、前記組織および／または骨の成分の放出によって開始されることを特徴とする方法。
【請求項１７】  前記インプラントの前記表面を支持する部分に１つまたはそれ以上のねじが設けられること、および前記インプラントが前記骨にねじ込まれることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  前記酸化物層が前記物質を保持する容器内に浸漬されることを特徴とする、請求項１６または１７に記載の方法。
【請求項１９】  骨成長開始または骨成長刺激物質、例えばＴＧＦ−β上科に属する物質が加えられた非常に多孔な厚い酸化チタン層の使用において、前記酸化チタン層が、組織および／または骨、好ましくは顎骨の穴内に装着することができるインプラント上に使用されることを特徴とする使用。
【請求項２０】  前記酸化チタン層が前記インプラントのねじおよび／または前記ねじより上の領域に使用されることを特徴とする、請求項１９に記載の使用。
【請求項２１】  前記酸化チタン層が軟質かつ／または退縮した骨が関与する穴内に使用されることを特徴とする、請求項１９または２０に記載の使用。
【請求項２２】  チタンを含むかまたはチタンから成り、組織辺縁および／または骨成長領域に適用できる１つまたはそれ以上の表面を持ち、１つまたはそれ以上の前記表面に骨成長開始または骨成長刺激物質、例えばＴＧＦ−β上科に属する物質の補給所が配置され、この補給所がチタン上の比較的厚い酸化物層内の細孔構成によって形成されるインプラントにおいて、前記酸化物層が１〜２０μｍの範囲、例えば２〜２０μｍの厚さを持つことを特徴とするインプラント。
【請求項２３】  前記酸化物層が０．４〜５μｍの範囲の粗面度を持つことを特徴とする、請求項２２に記載のインプラント。
【請求項２４】  前記酸化物層が非常に多孔であり、１×１０７〜１×１０１０個／ｃｍ２の細孔を持つことを特徴とする、請求項２２または２３に記載のインプラント。
【請求項２５】  各表面が基本的に０．１〜１０μｍの範囲の直径の細孔を持つこと、かつ／または総細孔容積が５×１０−２〜１０−５ｃｍ３の範囲内であることを特徴とする、請求項２２、２３、または２４に記載のインプラント。
【請求項２６】  チタンを含むかまたはチタンから成るインプラント上に、陽極酸化によって、１つまたはそれ以上の組織および／または骨成長領域に当てて配置するかまたはそれに隣接して配置するように意図された１つまたはそれ以上のチタン表面上の比較的厚い酸化物層を生成するための方法であって、少なくとも前記表面を支持する部分を作製して電解液に浸漬し、前記インプラントを電解液面より上の電気エネルギ源に接触させ、電解液中に配置された対向電極も前記エネルギ源に接続させることによって前記酸化物プロセスが確立される方法において、前記電解液の組成に希無機酸、希有機酸、および／または少量のフッ化水素酸または過酸化水素を加えること、および前記エネルギ源を１５０〜４００ボルトの範囲の電圧値で作動するように選択することを特徴とする方法。
【請求項２７】  同一表面領域内に異なる細孔径を形成するために、同一インプラントに対して様々なときに電圧を変化させることを特徴とする、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】  異なる酸化物厚さおよび／または異なる空隙率または細孔特性を持つ領域を形成するために、前記電解液の組成および／または電圧と共に、前記電解液中の前記インプラントの位置を変化させることを特徴とする、請求項２６または２７に記載の方法。