Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月12日(2007.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
そのような切削インサートは、例えば、後方軸部及び該後方軸部から前方に突出する前方切削ヘッドを備えている切削インサートを開示する特許文献１で知られている。切削ヘッドは、上面、下面、各々が上面を下面に相互に連結する２つの横側面、及び横側面を相互に連結する前方を向いている前側面を含んでいる。各横側面は、上面と鋭角をなしている。前側面と上面との間の移行部は、主切削刃を形成している。各横側面と上面との間の移行部は、側部切削刃を形成している。側部切削刃は、切削ヘッドの中心線のそれぞれの対向する側部に延在し、前方方向で収束する。側部切削刃は、互いの間で鋭角を形成する。各側部切削刃は、そこに形成されている相隔たる複数の溝を含んでいる。それにより、各側部切削刃は、非連続となる。したがって、切削刃は、切削刃区分を備え、各区分は、溝で隣接する区分と分離されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
切削インサート１０の底縁部４０が、また、図３に示されている。該底縁部４０において、周囲側面２０が底面１８に交わっている。理解され得るように、切削インサート１０を上から見て、底縁部４０は、上縁部２２の範囲内に位置している。このことは、周囲側面２０が側部切削刃２６から底縁部４０まで下方に及び内側に延在することを示し、該切削刃２６が溝切り作業中被加工物から逃げることを保証する。周囲側面２０は、端面４２及び該端面４２から後方に向けて延在する２つの対向する側面４４を備えている。端面４２は、主切削刃２４において上面１６に交わり、側面４４は、側部切削刃２６において上面１６に交わる。側面４４各々は、２つの側面部分、上縁部２２に隣接する上部側面部分４４’及び該上部側面部分４４’から底面１８まで延在する下部側面部分４４”、に分割される。上部側面部分４４’の形状は、切削インサート１０を上から見て、上縁部２２の形状に類似している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【図１】本発明に係る切削インサートの斜視図である。
【図２】図１に示される切削インサートの部分的上面図である。
【図３】拡大された図２と同様の図である。
【図４】図１に示される切削インサートの部分的側面図である。
【図５】図１に示される切削インサートの端面図である。
【図６Ａ】図２のＶＩ−ＶＩ線に沿ってとられた断面図である。
【図６Ｂ】図２のＶＩ−ＶＩ線に沿ってとられた断面図である。
【図７】本発明に係る別の切削インサートの斜視図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月29日(2006.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２１】
完全フロインドアジュバンド（CFA）を有するリン酸緩衝液中に希釈した、該ペプチドライブラリーを用いて、５〜６週齢のBALB/c系統マウスを、腹腔内に３回免疫化した。該マウスを、50 μg/頭の投与量で、0.2 mLのペプチド溶液を投与した。該第二、及び第三免疫を、第一免疫後から、それぞれ２週間後、及び４週間後に行った。コントロールグループの動物には、同じスキーム、及び同じ投与量で、ダニ脳炎ウイルスのタンパク質Eの該抗原部位（ペプチド配列：KRDQSDRGWGNHAGLFGKGSIVT（配列番号：１））を擬態したペプチド溶液を投与した。該最後の免疫化後１０日に、該血清中の特異的抗体の滴定量を測定するため、血液試料を、該動物のレトロオービタル静脈から取った。
次の抗原を、免疫酵素分析のため、マイクロタイタープレートの分離ウェル中に固定化した（メッドポリマー、モスコー（Medpolimer、Moscow））：該キメラペプチドライブラリー、及び15の合成ペプチド各々は、異なるHIV-1サブタイプgp120のV3領域のアミノ酸配列を現している。該15の合成ペプチドは、特定のサブタイプと一致した配列を現している。幾つかのペプチドが、一つのサブタイプから与えられた場合、これらは、異なる変異性を示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３５】
【化１】
2006519160.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】配列表
【補正方法】追加
【補正の内容】
【配列表】
2006519160000001.app
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月21日(2007.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも75重量％の純度で第1の亜酸化物相を含み、BET表面積が0.5〜10m2/gである弁金属亜酸化物粉末。
【請求項２】
第1の亜酸化物相の純度が少なくとも85％重量である、請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項３】
第1の亜酸化物相の純度が少なくとも95％重量である、請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項４】
第1の亜酸化物相の純度が少なくとも99.95％重量である、請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項５】
弁金属相をさらに含む、請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項６】
第2の亜酸化物相をさらに含む、請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項７】
少なくとも1つの第3の亜酸化物相をさらに含む、請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項８】
前記弁金属相が、弁金属亜酸化物の約0.01〜約25重量％の量で存在している、請求項５に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項９】
前記第2の亜酸化物相が、0.01〜約25重量％の量で存在している、請求項６に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項１０】
弁金属酸化物を少なくとも部分的に還元するためのものであって、ゲッター材料の存在下において及び酸素原子がニオブ酸化物からゲッター材料に移動するのを可能にする雰囲気の中で、酸素が減少した弁金属酸化物を形成するのに十分な時間及び温度で弁金属酸化物を熱処理することを含む方法において、この方法が、a）出発材料である上記弁金属酸化物を顆粒化すること、b）上記ゲッター材料を顆粒化すること、c）a）とb）の材料を別々に、あるいは混合物として顆粒化すること、又はd）酸素が減少した上記弁金属酸化物をその形成後に顆粒化することをさらに含む、方法。
【請求項１１】
出発材料である上記弁金属酸化物と上記ゲッター材料を混合した後、混合物として顆粒化し、かつ出発材料である上記弁金属酸化物が五酸化ニオブを含み、上記ゲッター材料が金属ニオブまたはハイブリッド化したニオブを含む、請求項10に記載の方法。
【請求項１２】
顆粒化が湿式スクリーニング、湿式顆粒化又は乾式顆粒化を含み、かつ顆粒化により、-40メッシュのサイズの凝集体を形成する、請求項10に記載の方法。
【請求項１３】
前記混合物をミリングによって形成し、かつミリングがボール・ミリングである、請求項10に記載の方法。
【請求項１４】
顆粒化が、湿潤状態の材料をタンブリングすることを含み、かつ顆粒化により、サイズが5ミクロン〜約1,000ミクロンの顆粒を形成する、請求項10に記載の方法。
【請求項１５】
前記雰囲気が、水素雰囲気または不活性雰囲気であり、かつ前記水素雰囲気が、約10トル〜約2,000トルの圧力で存在している、請求項10に記載の方法。
【請求項１６】
真空下または不活性ガス中で少なくとも1回の後熱処理を行なうことをさらに含み、かつ後熱処理を約600℃〜約1400℃の温度で行なう、請求項10に記載の方法。
【請求項１７】
弁金属と酸素の原子比が1：2.5未満であり、サイズが約5ミクロン〜約1,000ミクロンの顆粒を含む弁金属酸化物。
【請求項１８】
ASTM B213で測定した流量が約100〜約1,000mg/秒である、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項１９】
前記流量が約300〜約700mg/秒である、請求項18に記載の弁金属酸化物。
【請求項２０】
前記顆粒のサイズが約30〜約300ミクロンである、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項２１】
ニオブと酸素の原子比が1：2.5未満のニオブ酸化物である、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項２２】
ニオブと酸素の原子比が1：1.5未満のニオブ酸化物である、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項２３】
前記原子比が1：1.1である、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項２４】
前記原子比が1：0.7である、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項２５】
前記原子比が1：0.5である、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項２６】
前記弁金属の比表面積が約0.5〜約10m2/gである、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項２７】
前記ニオブ酸化物がNbOを含む、請求項21に記載の弁金属酸化物。
【請求項２８】
前記ニオブ酸化物が、NbO0.7、またはNbO1.1、またはこれらの組み合わせを含む、請求項21に記載の弁金属酸化物。
【請求項２９】
窒素をさらに含む、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項３０】
弁金属酸化物の形状が、小さな塊状、フレーク状、尖った形状、またはこれらの組み合わせである、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項３１】
前記第1の亜酸化物相がNbOである、請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末。
【請求項３２】
請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末を含むキャパシタ。
【請求項３３】
請求項1に記載の弁金属亜酸化物粉末を含む、キャパシタ用アノード。
【請求項３４】
請求項17に記載の弁金属亜酸化物を含むキャパシタ。
【請求項３５】
請求項17に記載の弁金属亜酸化物を含む、キャパシタ用アノード。
【請求項３６】
少なくとも75重量％の純度で第1の亜酸化物相を含む、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項３７】
少なくとも90重量％の純度で第1の亜酸化物相を含む、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項３８】
少なくとも99.95重量％の純度で第1の亜酸化物相を含む、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項３９】
弁金属相を含む、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【請求項４０】
第2の亜酸化物相を含む、請求項17に記載の弁金属酸化物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月19日(2006.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
口腔表面をコーティングするために適切な歯科用ホワイトニング組成物であって、
歯用ホワイトニング剤と、
極性基または分極性基を含む繰り返し単位、および
フッ化物放出基を含む繰り返し単位
を含むポリマーと、
を含み、
前記ポリマーがペンダントエチレン系不飽和部分を含まない、歯科用ホワイトニング組成物。
【請求項２】
口腔表面をコーティングするために適切な歯科用ホワイトニング組成物であって、
歯用ホワイトニング剤と、
極性基または分極性基を含む繰り返し単位、ならびに
疎水性炭化水素基、グラフトポリシロキサン鎖、疎水性フッ素含有基およびそれらの組み合わせよりなる群から選択される基を含む繰り返し単位
を含むポリマーと、
を含み、
前記ポリマーがペンダントエチレン系不飽和部分を含まない、歯科用ホワイトニング組成物。
【請求項３】
口腔表面をコーティングするために適切な歯科用ホワイトニング組成物であって、
歯用ホワイトニング剤と、
極性基または分極性基を含む繰り返し単位、および
フッ化物放出基を含む繰り返し単位
を含むポリマーと、
を含み、
過酸化水素を含まない、歯科用ホワイトニング組成物。
【請求項４】
口腔表面をコーティングするために適切な歯科用ホワイトニング組成物であって、
歯用ホワイトニング剤と、
極性基または分極性基を含む繰り返し単位、ならびに
疎水性炭化水素基、グラフトポリシロキサン鎖、疎水性フッ素含有基およびそれらの組み合わせよりなる群から選択される基を含む繰り返し単位
を含むポリマーと、
を含み、
過酸化水素を含まない、歯科用ホワイトニング組成物。
【請求項５】
歯科用ホワイトニング組成物の総重量を基準として、１０重量％より多い歯用ホワイトニング剤と、
極性基または分極性基を含む繰り返し単位、および
フッ化物放出基を含む繰り返し単位
を含むポリマーと、
を含む、口腔表面をコーティングするために適切な、請求項１または４に記載の歯科用ホワイトニング組成物。
【請求項６】
歯科用ホワイトニング組成物の総重量を基準として、１０重量％より多い歯用ホワイトニング剤と、
極性基または分極性基を含む繰り返し単位、ならびに
疎水性炭化水素基、グラフトポリシロキサン鎖、疎水性フッ素含有基およびそれらの組み合わせよりなる群から選択される基を含む繰り返し単位
を含むポリマーと、
を含む、口腔表面をコーティングするために適切な、請求項２または４に記載の歯科用ホワイトニング組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１種以上の芳香族スルホンポリマーからなる芳香族スルホンポリマー組成物［組成物(I)］の溶融粘度を低下させる方法であって、１種以上の過フッ素化モノオレフィン及び１種以上のペルフルオロアルキルビニルエーテルから誘導される繰り返し単位を含む１種以上のフルオロカーボンポリマーからなる添加剤［添加剤(A)］を用いることを含む方法。
【請求項２】
−組成物(I)の構成成分を提供する工程、
−添加剤(A)の構成成分を提供する工程、及び
−組成物(I)の構成成分及び添加剤(A)の構成成分からなる芳香族スルホンポリマー組成物［組成物(II)］を調製する工程、
を含む方法であって、組成物(II)の溶融粘度が、組成物(I)の溶融粘度より低い請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記組成物(II)の、４９８．６秒-1の剪断速度下３８０℃において測定された粘度が、６００パスカル秒未満である請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記組成物(II)の、４９８．６秒-1の剪断速度下３８０℃において測定された粘度が、同一温度及び同一剪断速度下において測定された組成物(I)の粘度の１／２倍未満である請求項２又は３記載の方法。
【請求項５】
前記組成物(II)が、超靭性である請求項２乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記組成物(II)の耐火性が、組成物(I)のそれより増大する請求項２乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記組成物(II)の火災条件下の放熱量が、組成物(I)のそれより低い請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記芳香族スルホンポリマーが、１種以上のポリビフェニルエーテルスルホンを含む請求項２乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記芳香族スルホンポリマーの８０質量％以上が、ポリビフェニルエーテルスルホンからなる請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記芳香族スルホンポリマーが、２０質量％より多くの１種以上のビスフェノールAポリスルホンを更に含む請求項８記載の方法。
【請求項１１】
前記フルオロカーボンポリマーが、テトラフルオロエチレン及びペルフルオロメチルビニルエーテルから誘導される繰り返し単位を含む請求項２乃至１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記組成物(II)が、組成物(II)の総質量に対して１０質量％未満のフルオロカーボンポリマーを含む請求項２乃至１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記添加剤(A)が更に、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリ(アリールエーテルケトン)、及び液晶ポリマーからなる群から選択されるポリマーを含む請求項２乃至１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記組成物(II)が、無機難燃剤を含まないか、芳香族スルホンポリマーの質量に対して２質量部未満の無機難燃剤を含む請求項２乃至１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記組成物(II)が、二酸化チタンを含まないか、芳香族スルホンポリマーの質量に対して３質量部未満の二酸化チタンを含む請求項２乃至１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記組成物(II)が、芳香族スルホンポリマーの質量に対して３質量部以上の二酸化チタンを含む請求項２乃至１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
１種以上の芳香族スルホンポリマーからなる芳香族スルホンポリマー組成物［組成物(I)］を含む航空機構成部品を製造する方法であって、請求項１乃至１６のいずれかに記載の方法を前記芳香族スルホンポリマー組成物に適用することを含む方法。
【請求項１８】
その溶融粘度を低下させる必要のある芳香族スルホンポリマー組成物を調製する方法であって、
−１種以上の芳香族スルホンポリマーを提供する工程、
−前記芳香族スルホンポリマー組成物の溶融粘度を低下させるのに有効な量の、１種以上の過フッ素化モノオレフィン及び１種以上のペルフルオロアルキルビニルエーテルから誘導される繰り返し単位を含む１種以上のフルオロカーボンポリマーからなる添加剤［添加剤(A)］の構成成分を提供する工程、
−前記芳香族スルホンポリマー及び添加剤(A)の構成成分を接触する工程、
を含む方法。
【請求項１９】
−１種以上の芳香族スルホンポリマー、及び
−１種以上の過フッ素化モノオレフィン及び１種以上のペルフルオロアルキルビニルエーテルから誘導される繰り返し単位を含む１種以上のフルオロカーボンポリマーを含む添加剤［添加剤(A)］
を含む芳香族スルホンポリマー組成物［組成物(II)］であって、その溶融粘度が、添加剤(A)なしの同一組成物［組成物(I)］の溶融粘度より低い芳香族スルホンポリマー組成物。
【請求項２０】
請求項１９記載の芳香族スルホンポリマー組成物を含む航空機構成部品。
【請求項２１】
頭上の乗客サービス設備、窓枠、空気戻しグリル、航空機の壁板、航空機の頭上の貯蔵用ロッカー、航空機の料理用トレイ、航空機のシートバック、航空機室隔壁、及び航空機の管からなる群から選択される請求項２０記載の航空機構成部品。
【請求項２２】
請求項２０又は２１記載の航空機構成部品を含む航空機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月28日(2007.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高アスペクト比のホールを備えて成るプリント回路基板を電気めっきする方法であって、
ａ．０．１ｍｍより大きい直径から１．０ｍｍまでの直径を有する高アスペクト比のホールを備えて成るプリント回路基板を提供することと、
ｂ．プリント回路基板及び少なくとも一つの陽極を金属めっき電解液と接触させ、当該プリント回路基板は、プリント回路基板の表面に対する電解液流速で金属めっき電解液をプリント回路基板の表面に向かって送ることで接触させられ、プリント回路基板の表面での電解液流速は、プリント回路基板の表面に垂直な速度成分で少なくとも１ｍ／ｓであることと、
ｃ．プリント回路基板と陽極との間に電圧を印加することで、その結果、電流の流れがプリント回路基板に生じ、そこで、電流の流れが、それぞれの周期時間中に、少なくとも一つの順電流パルスと少なくとも一つの逆電流パルスとを有する最大でも６Ｈｚの周波数を有したパルス逆電流流れとなり、一周期の逆電流パルスの持続時間に対する順電流パルスの持続時間の比率は、５から７５までの範囲に設定され、加工品での順電流パルスのピーク電流密度は、３Ａ／ｄｍ２から１５Ａ／ｄｍ２までの範囲に設定され、プリント回路基板での逆電流パルスのピーク電流密度は、１０Ａ／ｄｍ２から６０Ａ／ｄｍ２までの範囲に設定されることとを、備えて成る方法。
【請求項２】
一周期の順電流パルスの持続時間を少なくとも１００ｍｓに設定することを備えて成る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
一周期の逆電流パルスの持続時間を少なくとも０．５ｍｓに設定することを備えて成る、請求項１〜２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４】
ａ．第一電圧をプリント回路基板の第一側面と少なくとも一つの第一陽極の間に印加し、その結果、各周期時間に少なくとも一つの第一順電流パルスと少なくとも一つの第一逆電流パルスの流れを有する第一パルス逆電流の流れがプリント回路基板の第一側面に生じることと、
ｂ．第二電圧をプリント回路基板の第二側面と少なくとも一つの第二陽極の間に印加し、その結果、各周期時間に少なくとも一つの第二順電流パルスと少なくとも一つの第二逆電流パルスの流れを有する第二パルス逆電流の流れがプリント回路基板の第二側面に生じることを備えて成る、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
第二順及び逆電流パルスに対して第一順及び逆電流パルスをそれぞれ相殺することを備えて成る、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
およそ１８０度で第二電流パルスに対して第一電流パルスを相殺することを備えて成る、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
各周期時間に、二つの順電流パルス及び、これら二つの順電流パルス間に一つのゼロ電流遮断を伴う一つの逆電流パルスを有する電流の流れが生じることを備えて成る、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
プリント回路基板を金属めっきしているうちに、パルス逆電流の流れの少なくとも一つのパラメーターであって、一周期の逆電流パルスの持続時間に対する順電流パルスの持続時間の比率と、逆電流パルスのピーク電流密度に対する順電流パルスのピーク電流密度の比率を備えるグループから選択されたパラメーターが変化することを備えて成る、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
プリント回路基板を金属めっきしているうちに、逆電流パルスのピーク電流密度に対する順電流パルスのピーク電流密度の比率を増加させること、及び／又は、プリント回路基板を金属めっきしているうちに、一周期の逆電流パルスの持続時間に対する順電流パルスの持続時間の比率を減少させることを備えて成る、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
陽極が不活性で且つ寸法安定である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
金属めっき電解液が銅めっき電解液である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
銅めっき電解液が、金属銅を銅イオンへ酸化させることの出来る少なくとも一種の化合物を含有し、付加された金属銅片が銅めっき電解液と接触させられる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
金属銅を銅イオンへ酸化させることの出来る化合物が鉄化合物である、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月5日(2007.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき液を保持するめっき槽と、
被めっき材を保持して該被めっき材の被めっき面を前記めっき槽内のめっき液に接触させるホルダと、
前記めっき槽の内部に配置され、前記ホルダで保持した被めっき材の被めっき面に向けてめっき液を噴射して前記めっき槽内にめっき液を供給する複数のめっき液噴射ノズルを有するリング状のノズル配管とを備えたことを特徴とするめっき装置。
【請求項２】
前記複数のめっき液噴射ノズルから噴射されるめっき液は、ホルダに保持された被めっき材の被めっき面のほぼ中央乃至該被めっき面のほぼ中央の手前で合流することを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項３】
前記めっき装置は、アノードを備え、該アノードと前記被めっき材との間にめっき電圧を印加して被めっき材に電気めっきを行う電気めっき装置であることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項４】
前記アノードに向けてめっき液を噴射してめっき液をめっき槽内に供給するめっき液噴射ノズルを更に有することを特徴とする請求項３記載のめっき装置。
【請求項５】
前記めっき装置は、無電解めっき液を被めっき材の被めっき面に接触させて該被めっき材に無電解めっきを行う無電解めっき装置であることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項６】
前記被めっき材は、水平に配置されることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項７】
前記被めっき材は、鉛直に配置されることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項８】
前記ノズル配管は、被めっき材の外形に沿った形状に形成されていることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項９】
前記ノズル配管は、前記ホルダで保持した被めっき材に対して相対的に移動自在であることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項１０】
前記ノズル配管及び／または前記めっき液噴射ノズルは、電気絶縁材料で構成されていることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の好ましい一様態のめっき装置は、めっき液を保持するめっき槽と、該めっき槽内のめっき液中に浸漬されて被めっき材の被めっき面と対向する位置に配置され、被めっき材の被めっき面と平行に往復運動してめっき液を攪拌する攪拌翼を備えた攪拌機構とを有し、前記攪拌翼の少なくとも１辺には凹凸が形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明の好ましい一様態のめっき装置は、めっき液を保持するめっき槽と、該めっき槽内のめっき液中に浸漬されて該めっき液を攪拌する攪拌翼を備えた攪拌機構とを有し、前記攪拌機構は、それぞれ独立した駆動機構で駆動される複数の攪拌翼を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明の好ましい一様態のめっき装置は、めっき液を保持するめっき槽と、該めっき槽内のめっき液中に浸漬されて被めっき材の被めっき面と対向する位置に配置され、被めっき材の被めっき面と平行に往復運動してめっき液を攪拌する攪拌翼を備えた攪拌機構とを有し、前記攪拌翼は、往復運動によって運動方向が変化するのに合わせて該攪拌翼の被めっき材の被めっき面に対する角度を変化させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本発明の好ましい一様態のめっき装置は、めっき液を保持するめっき槽と、該めっき槽のめっき液に浸漬させて被めっき材の被めっき面と対向する位置に配置されるアノードと、前記めっき槽内のめっき液を攪拌する攪拌機構を有し、前記攪拌機構は、前記被めっき材の被めっき面の近傍に配置される第１の攪拌翼と、前記アノードの近傍に配置される第２の攪拌翼を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
端部が開いている整形素子により所定の形の氷のブロックを形成するための方法であって、前記氷のブロックを形成するための水を、それぞれが冷凍素子を囲むように配置されている前記整形素子内に導入するステップと、前記整形素子内に位置する前記冷凍素子により前記整形素子により囲まれている水を冷凍するステップと、その後で前記整形素子により整形された前記氷のブロックが前記整形素子の下の開放端部を通してここから移動することができるように、前記氷に対して前記整形素子および前記冷凍素子を加熱するステップとを含む方法。
【請求項２】
前記整形素子の少なくとも一部がチャンバ内に導入される水の中に浸漬できるように、前記チャンバ内に前記整形素子を位置させるステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記冷凍素子を前記整形素子に導入し、そこから取り出すステップを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記氷に対して前記整形素子および冷凍素子を加熱する前記ステップが、前記整形された氷のブロックが前記整形素子の前記下の開いた端部から落下できるようにする、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項５】
前記チャンバ内の前記氷のブロックの少なくとも一時的な収集ができるようにするために、前記氷のブロックの冷凍の後で、前記チャンバ内に残っている水を排出するステップを含む、請求項１、２、３または４に記載の方法。
【請求項６】
凍らせる水を受け入れるように配置されている端部が開いている整形素子と、前記整形素子内で水を凍らせるために、前記整形素子内に収容されるように配置されている冷凍素子と、整形された氷のブロックを前記整形素子の下の開放端部から取り出すことができるように、前記氷に対して前記整形素子および冷凍素子を加熱するための手段とを備える氷成形装置。
【請求項７】
前記整形素子の少なくとも一部を浸漬するために、水を導入することができるチャンバ内に位置するように前記整形素子が配置される、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記チャンバ内の前記凍ったブロックの前記少なくとも一時的な収集ができるように、前記凍ったブロックの形成後に前記チャンバから水を排出するための手段を含む、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記冷凍素子が前記整形素子に対して前後に移動できるように配置される、請求項６、７または８に記載の装置。
【請求項１０】
前記整形された氷のブロックが前記整形素子の前記下の開いた端部を通して落下することができる程度に加熱されるように前記整形および冷凍素子が配置される、請求項６、７、８または９に記載の装置。
【請求項１１】
前記整形素子の前記開放端部が、類似の形および寸法をしている、請求項６、７、８、９または１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記整形素子が前記装置内に取り外すことができるように装着されている、請求項６〜１１のうちの任意の１つまたは複数に記載の装置。
【請求項１３】
前記整形素子がポリマー材料から形成される、請求項６〜１２のうちの任意の１つまたは複数に記載の装置。
【請求項１４】
複数の横方向に間に間隔を有する整形素子を含む、請求項６〜１３のうちの任意の１つまたは複数に記載の装置。
【請求項１５】
前記横方向に間に間隔を有する整形素子が整形素子の格子を含む、請求項１４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクチュエータハウジング内に含まれる少なくとも１つのピストン；および
該少なくとも１つのピストンの軸方向移動を選択的に調節するために該少なくとも１つのピストンの少なくとも一部分と選択的に係合する調節機構を含む、バルブアクチュエータであって、ここで該調節機構は、該１つのピストンを動かすために該調節機構を通って加圧流体を連通させるように構成されている、バルブアクチュエータ。
【請求項２】
前記調節機構が、第１のセットスクリューを含み、該第１のセットスクリューは、前記アクチュエータハウジングとねじにより係合する、請求項１に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項３】
前記調節機構に対して前記少なくとも１つのピストンを付勢する付勢部材をさらに備える、請求項１に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項４】
前記調節機構は、前記ピストンのステム部分を係合する、請求項１に記載のバルブアクチュエーター。
【請求項５】
前記少なくとも１つのピストンは、前記アクチュエータ入口ポートに適用される流体の経路のための流れチャネルを備える、請求項１に記載のバルブアクチュエーター。
【請求項６】
前記アクチュエータハウジングは、前記調節機構を受容するように適合された端部キャップを備える、請求項１に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項７】
前記端部キャップは、前記アクチュエータハウジングのベース部分に組み立てられる、請求項６に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項８】
アクチュエータハウジング内に含まれる少なくとも１つのピストン；および
該少なくとも１つのピストンの軸方向移動を選択的に調節するために該少なくとも１つのピストンの少なくとも一部分と選択的に係合する調節機構を含む、バルブアクチュエータであって、ここで該調節機構は、アクチュエータ入口ポートに組み立てられた第１のセットスクリューを含み、該調節機構は、該バルブアクチュエータの外側から調節可能であり、ここで該調節機構は、該１つのピストンを動かすために該調節機構を通って加圧流体を連通させるように構成されている、バルブアクチュエータ。
【請求項９】
前記調節機構に対して前記少なくとも１つのピストンを付勢する付勢部材をさらに備える、請求項８に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項１０】
前記調節機構は、前記ピストンのステム部分を係合する、請求項８に記載のバルブアクチュエーター。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのピストンは、前記アクチュエータ入口ポートに適用される流体の経路のための流れチャネルを備える、請求項８に記載のバルブアクチュエーター。
【請求項１２】
前記アクチュエータハウジングは、前記調節機構を受容するように適合された端部キャップを備える、請求項８に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項１３】
前記端部キャップは、前記アクチュエータハウジングのベース部分に組み立てられる、請求項１２に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項１４】
アクチュエータハウジング内に含まれる少なくとも１つのピストン；
該少なくとも１つのピストンの軸方向移動を選択的に調節するために該少なくとも１つのピストンの少なくとも一部分と選択的に係合する調節機構；および
該少なくとも１つのピストンを該調節機構から離して付勢するスプリング、
を含む、バルブアクチュエータであって、ここで該調節機構は、該１つのピストンを動かすために該調節機構を通って加圧流体を連通させるように構成されている、バルブアクチュエータ。
【請求項１５】
アクチュエータハウジング内に含まれる少なくとも１つのピストン；
該少なくとも１つのピストンの軸方向移動を選択的に調節するために該少なくとも１つのピストンの少なくとも一部分と選択的に係合する調節機構；および
該少なくとも１つのピストンを該調節機構から離して付勢するスプリング、
を含む、バルブアクチュエータであって、ここで該調節機構は、アクチュエータ入口ポートに組み立てられた第１のセットスクリューを含み、該調節機構は、該１つのピストンを動かすために該調節機構を通って加圧流体を連通させるように構成されている、バルブアクチュエータ。
【請求項１６】
アクチュエータハウジング内に含まれる少なくとも１つのピストン；および
該調節機構に対して該少なくとも１つのピストンを付勢する付勢部材、
を含む、バルブアクチュエータであって、ここで該調節機構は、該１つのピストンを動かすために該調節機構を通って加圧流体を連通させるように構成されている、バルブアクチュエータ。
【請求項１７】
前記付勢部材はスプリングを含む、請求項１６に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項１８】
前記付勢部材は、前記少なくとも１つのピストンを前記調節機構から離して付勢する、請求項１６に記載のバルブアクチュエーター。
【請求項１９】
アクチュエータハウジング内に含まれる少なくとも１つのピストン；
該少なくとも１つのピストンの軸方向移動を選択的に調節するために該少なくとも１つのピストンの少なくとも一部分と選択的に係合する調節機構；および
該調節機構に対して該少なくとも１つのピストンを付勢する付勢部材、
を含む、バルブアクチュエータであって、ここで該調節機構は、アクチュエータ入口ポートに組み立てられた第１のセットスクリューを含み、該調節機構は、該１つのピストンを動かすために該調節機構を通って加圧流体を連通させるように構成されている、バルブアクチュエータ。
【請求項２０】
前記付勢部材はスプリングを含む、請求項１９に記載のバルブアクチュエータ。
【請求項２１】
前記付勢部材は、前記少なくとも１つのピストンを前記調節機構から離して付勢する、請求項１９に記載のバルブアクチュエーター。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月26日(2007.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースシートと前記ベースシートから突出している複数の平行リブとを含んで、第１の摺動可能なファスナーを形成している、再閉可能なファスナーフィルムと；
ベースシートと前記ベースシートから突出している複数の平行リブとを含んで、第１のベアリングピースを形成している、再閉可能なファスナーフィルムと；
ベースシートと前記ベースシートから突出している複数の平行リブとを含んで、第２のベアリングピースを形成している、再閉可能なファスナーフィルムと；
ベースシートと前記ベースシートから突出している複数の平行リブとを含んで、第２の摺動可能なファスナーを形成している、再閉可能なファスナーフィルムと；
を有し；
前記第２のベアリングピースの前記リブが、前記第１のベアリングピースの前記リブに対して平行とならないようにして、前記第１のベアリングピースの前記リブ付き面の反対側の前記ベースシートの平坦側が、前記第２のベアリングピースの前記リブ付き面の反対側の前記ベースシートの平坦側と連結されて、ベアリングが形成され；
前記第２の摺動可能なファスナーが前記第１の摺動可能なファスナーに対して平行にならないようにして、前記第１のベアリングピースの前記リブが、前記第１の摺動可能なファスナーの前記リブと相互係合し、且つ前記第２のベアリングピースの前記リブが、第２の摺動可能なファスナーの前記リブと相互係合し；
前記第１および第２の摺動可能なファスナーは、互いに実質的に制限されない二軸運動を行い；且つ
前記第１および第２の摺動可能なファスナーは、前記摺動可能なファスナーに対して垂直の軸方向について実質的に運動を制限されている、
ベアリング組立体。
【請求項２】
前記第１のベアリングピースと前記第２のベアリングピースとの間に配置された基材をさらに有し、ここで、前記第２のベアリングピースの前記リブが、前記第１のベアリングピースの前記リブと平行とならないようにして、前記第１のベアリングピースの前記リブ付き面の反対側の前記ベースシートの前記平坦側が、前記基材に取り付けられかつ、前記第２のベアリングピースの前記リブ付き面の反対側の前記ベースシートの前記平坦側が、同じ基材の反対側に取り付けられて、ベアリングが形成されている、請求項１に記載のベアリング組立体。
【請求項３】
前記ベアリングが、前記ベアリングに取り付けられた回転要素をさらに有し、前記ベアリングが、前記ベアリングを通って延在する仮想軸のまわりの回転運動を提供しながら、前記ベアリングに対して垂直の運動を実質的に防止する、請求項１に記載のベアリング組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月23日(2007.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状の内輪（１）とこの内輪と同軸な外輪（２）との間で円周方向に互いに前後に配置された締付要素（５）を備え、
前記締付要素（５）は各々、ケージ（３，９，１１，１７，１８）に設けられたポケット（６，１９）内において案内されつつ、前記ケージ（３，９，１１，１７，１８）に対して半径方向に当接するとともにばね舌片（７，１４，２２）を有する帯ばね（４，１５，１６）によって荷重が負荷されるようにされており、
前記締付要素（５）を受け入れるための前記ポケット（６，１９）の各々に、前記締付要素（５）の前記ケージ（３，９，１１，１７，１８）上での支持を可能とする制限壁（８，１２，２３）が設けられており、 
前記制限壁（８，１２，２３）を有している前記ケージ（３，９，１１，１７，１８）の全ての半径方向領域に、前記ケージの外側表面に一体的に形成された補強用の水平棚状突起（１０）が設けられており、
前記締付要素（５）は、トルクの受け取りの始めにおいては前記締付要素（５）の締付軌道に対する摩擦によるロックと、それと同時にトルクにより生じる前記締付要素（５）の回り込み運動とが促進され、かつ、トルクが増大する間に、ゼロ位置を通過するときに懸架力がその方向を変えるように、懸架されていることを特徴とするオーバーラニングクラッチ。
【請求項２】
前記制限壁（８）が、前記ケージ（３，９）の内側表面から始まる斜面であることを特徴とする請求項１に記載のオーバーランニングクラッチ。
【請求項３】
前記制限壁（１２）が、前記ケージ（１１）の内側表面から始まる凸状アーチ型の表面部分であることを特徴とする請求項１に記載のオーバーランニングクラッチ。
【請求項４】
前記制限壁（１２）がすべてのポケットの隙間内に配置され、
前記隙間（１３）の軸線方向寸法が前記ばね舌片（１４）の軸線方向長さに一致していることを特徴とする請求項１に記載のオーバーランニングクラッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月8日(2007.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多用途生体分子溶解物を製造する方法であって、
（ａ）組織病理学的に加工処理された生物サンプルと反応バッファーを含んでなる組成物を、前記生物サンプルにおいてタンパク質架橋に負の影響を及ぼすのに十分な温度および時間で加熱する工程、ならびに
（ｂ）得られた組成物を、有効量のタンパク質分解酵素で、前記生物サンプルの組織および細胞構造を破砕するのに十分な時間処理する工程
を含んでなる、方法。
【請求項２】
手によるホモジナイゼーション、ボルテックス混合、および物理的混合からなる群から選択される少なくとも１つの技法により、前記生物サンプルを機械的に破砕する工程をさらに含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記生物サンプルが約８０℃〜約１００℃の温度まで加熱される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記生物サンプルが約１０分間〜約４時間加熱される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記タンパク質分解酵素処理が約３０分間〜約２４時間続けられる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記タンパク質分解酵素処理が約３７℃〜約６５℃の温度で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記反応バッファーが界面活性剤を含んでなるものである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記タンパク質分解酵素がプロテイナーゼＫ、キモトリプシン、パパイン、ペプシン、トリプシン、プロナーゼ、およびエンドプロテイナーゼＬｙｓ−Ｃからなる群から選択されるものである、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記組織病理学的に加工処理された生物サンプルが、ホルマリン固定組織／細胞、ホルマリン固定／パラフィン包埋（ＦＦＰＥ）組織／細胞、ＦＦＰＥ組織ブロックおよびこれらのブロックからの細胞、ならびにホルマリン固定および／またはパラフィン包埋した組織培養細胞からなる群から選択されるものである、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
工程（ｂ）の産物に対して少なくとも１つの生化学アッセイを行う工程をさらに含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
１以上の分析物を含有する疑いのある多用途生体分子溶解物において、その１以上の分析物を検出する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の方法によって得られた多用途生体分子溶解物をアレイと接触させる工程であって、該アレイが、位置識別可能な形で支持体表面に固定化されている、既知の結合特異性を有する１以上の捕捉剤を含んでなるものである、工程、および
（ｂ）前記溶解物中の１以上の分析物の、前記固定化捕捉試薬に対する結合または結合の不在を検出する工程
を含んでなり、前記分析物の少なくとも１つが核酸である、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月27日(2007.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビスフェノールモノマー類として、式（Ｉ）：
【化１】
2006519901.tif 000001
［式中、Ｒ１〜Ｒ４は互いに独立して水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲン、好ましくは水素、Ｃ１−Ｃ４アルキルまたはハロゲンおよび特に好ましくはすべて同一の基、特に水素またはｔ−ブチルを示す。］
で表される化合物０．１モル％〜４６モル％、好ましくは１１モル％〜３４モル％および特に２６モル％〜３４モル％および式（II）： 
【化２】
2006519901.tif 000002
［式中、Ｒ５〜Ｒ８は互いに独立して水素、ＣＨ３、塩素または臭素を示し、およびＸはＣ１−Ｃ５アルキレン、Ｃ２−Ｃ５アルキリデン、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキレン、Ｃ５−Ｃ１０シクロアルキリデンを示す。］
で表される補足量、すなわち９９．９モル％〜５４モル％、好ましくは８９モル％〜６６モル％および特に７４モル％〜６６モル％の化合物
から合成されるコポリカーボネート（Ａ）８９〜９９重量％、およびポリブチルアクリレートコアシェル変性剤、オレフィン変性剤、ポリ（スチレン−ｂ−エチレン−コブチレン−ｂ−スチレン）変性剤、少なくとも１つのビニルモノマーグラフトポリマーを有するゴムグラフトポリマーまたはそれらの変性剤の２種以上の混合物からなる群から選択される変性剤（Ｂ）１１〜１重量％を含有する組成物。
【請求項２】
（Ａ）が式（Ｉ）のビスフェノールモノマー３４〜２６モル％と補足量の式（II）のビスフェノールモノマーから合成されることを特徴とする、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
（Ｂ）がメチルメタクリレートでグラフトされたブチルアクリレートゴムまたはメチルメタクリレートでグラフトされたシリコーンブチルアクリレートコンポジットゴムであることを特徴とする、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
成形部品および押出品を製造するための、請求項１記載の組成物の使用。
【請求項５】
請求項１記載の組成物から製造された成形部品および押出品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
したがって、本発明はビスフェノールモノマーとして、式（Ｉ）：
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【化２】
2006519901.tif 000003
［式中、Ｒ５〜Ｒ８は互いに独立して水素、ＣＨ３、塩素または臭素を示し、およびＸはＣ１−Ｃ５アルキレン、Ｃ２−Ｃ５アルキリデン、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキレン、Ｃ５−Ｃ１０シクロアルキリデンを示す。］
で表される補足量、すなわち９９．９モル％〜５４モル％、好ましくは８９モル％〜６６モル％および特に７４モル％〜６６モル％の化合物
から合成されるコポリカーボネート（Ａ）８９〜９９重量％、およびポリブチルアクリレートコアシェル変性剤、オレフィン変性剤、ポリ（スチレン−ｂ−エチレン−コブチレン−ｂ−スチレン）変性剤、少なくとも１つのビニルモノマーグラフトポリマーを有するゴムグラフトポリマーまたはそれらの変性剤の２種以上の混合物からなる群から選択される変性剤（Ｂ）１１〜１重量％を含有する組成物に関する。コポリマー（Ａ）とそれに対応する変性剤（Ｂ）との好ましい混合物は、（Ａ）９１〜９９重量％、最も特に好ましくは（Ａ）９３〜９９重量％と補足量の変性剤（Ｂ）である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
最も特に好ましく、かつ本発明によって提供されたそれら自身は、コポリカーボネート（Ａ）と変性剤（Ｂ）との混合物であり、この場合コポリカーボネート（Ａ）は式（Ｉ）のビスフェノールモノマー３４−２６モル％、特に３３−２７モル％、より特に３２−２８モル％、最も特に３１−２９モル％およびその中でも最も特に３０モル％（各場合式（II）の補足量のビスフェノールモノマーによって補完される）から合成される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月5日(2007.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
［０３７］  図４ｃに、磨耗インサートの別の実施形態を示す。このような実施形態において、磨耗インサート４０６の底部４２２は、２つの対向する鳩尾部４２４，４２６を含む。この実施形態は、図３ｃの弓形フライヤ１００における縦方向凹部３０２内に滑動自在に係合するように設けられている。この実施形態において、磨耗インサート４０６の底部４２２の幅は、縦方向凹部３０２内の横断寸法ｅ−ｅと実質的に同じである。また、この実施形態において、２つの鳩尾部４２４，４２６の横断寸法および高さは、図３ｃの弓形フライヤ１００における縦方向凹部３０４，３０６の構成と実質的に同じであり、磨耗インサートを縦方向凹部３０２内に縦方向に滑動させるとともに、これが径方向および横方向に移動することを制止することができるようになっている。図４ｃの磨耗インサートは、磨耗インサートへ印加される径方向の負荷が磨耗インサートの外側横断端部だけにかからないという利点を有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
［０３９］  本発明のこの局面によると、弓形フライヤの縦方向凹部に滑動自在に係合するように設けられた弓形体係合部を有する少なくとも１つのガイドが設けられており、縦方向凹部への係合によって縦方向凹部における磨耗インサートの径方向の大きな移動が制止される。本実施形態において、図５ａから図５ｃに示されるように、ガイド５０２，５０４，５０６が設けられている。図５ａの実施形態において、ガイド５０２は、図１、図２および図３ａの弓形フライヤ１００に示される相補的な縦方向凹部１０２内に嵌合するように設けられた２つの対向する三角形凸部５１０，５１２を有するガイドの底部で構成される係合部５０８を含む。この実施形態において、ガイド５０２の底部５０８の幅は、縦方向凹部１０２内の横断寸法ａ−ａと実質的に同じである。また、この実施形態において、底部５０８の角度は、ガイドを縦方向凹部１０２内に縦方向に滑動させることができるように縦方向凹部１０２の角度に合致している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
［０４３］  図５ｃに磨耗インサートの別の実施形態を示す。このような実施形態において、磨耗インサート５０６の底部５２２は、２つの対向する鳩尾部５２４，５２６を含む。この実施形態は、図３ｃの弓形フライヤ１００における縦方向凹部３０２内に滑動自在に係合するように配置されている。この実施形態において、磨耗インサート５０６の底部５２２の幅は、縦方向凹部３０２内の横断寸法ｅ−ｅと実質的に同じである。また、この実施形態において、２つの鳩尾部５２４，５２６の横断寸法および高さは、図３ｃの弓形フライヤ１００の縦方向凹部３０４，３０６の構成と実質的に同じであり、ガイドを縦方向凹部３０２内に縦方向に滑動させかつかつ径方向および横方向に移動することを制止することができるようになっている。図５ｃのガイドは、磨耗インサートへ印加される径方向の負荷がガイドの外側横断端部だけにかからないという利点を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
［０４６］  ストッパが、縦方向凹部に滑動自在に係合するように設けられた弓形体係合部を含むことがさらに好ましい。ストッパの縦方向凹部への係合により、縦方向凹部に配置された際のストッパの径方向の大きな移動が制止される。さらに、締結具（図示せず）が、ストッパ１１２を弓形フライヤ１００に取り付け、かつ、ストッパおよび縦方向凹部１０２内の全構成要素の縦方向における大きな移動を制止する。本実施形態において、図２に示されるように、ストッパ１１２は、隣接する磨耗インサート４０２に当接しており、それにより連続する磨耗インサート４０２’，４０２’’並びにガイド４０２が当接される。このように、弓形フライヤの縦方向凹部内の構成要素は、過剰な数の締結具を用いることなく、径方向および水平方向において制止される。磨耗インサートおよびガイドは、多数の締結具を外すための労力を必要することなく容易に交換することができる。また、多数の締結具が不要となることで、このような締結具がゆるみ、装置が使用されている設備に飛び出す可能性が低くなる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年2月14日(2007.2.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
第三の実施形態のＣＭＰ系は、任意選択で更に研磨添加剤を含有する。この研磨添加剤は任意の適切な研磨添加剤であることができる。例えばこの研磨添加剤は、第一及び第二の実施形態に関して上記で考察した研磨添加剤のいずれかであることができる。好適な研磨添加剤としては更に、カルボン酸塩とそれらの酸、ヒドロキシ酸塩とそれらの酸、カルボニレートとそれらの酸、ピロリン酸塩、縮合リン酸塩、ホスホン酸とそれらの塩、アミン、アミノアルコール、アミド、イミン、イミノ酸とそれらの塩、ニトリル、ニトロ、チオール、チオエステル、チオエーテル、カルボチオール酸とそれらの塩、カルボチオン酸とそれらの塩、チオカルボン酸とそれらの塩、スルホン酸とそれらの塩、チオサリチル酸とそれらの塩、及びこれらの混合物が挙げられる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
これらのＣＭＰ系は、任意選択で更にペル型（ｐｅｒ−ｔｙｐｅ）酸化剤を含む。第二の実施形態のＣＭＰ系はペルオキシ型酸化剤を含む。このペル型酸化剤は任意の適切なペル型酸化剤であることができる。好適なペル型酸化剤としては、無機及び有機ペル化合物が挙げられる。ペル化合物（Ｈａｗｌｅｙ’ｓ  Ｃｏｎｄｅｎｓｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｄｉｃｔｉｏｎａｒｙにより定義される）は、少なくとも１つのペルオキシ基（−−Ｏ−−Ｏ−−）を有する化合物、又はその最も高い酸化状態にある元素を有する化合物である。少なくとも１つのペルオキシ基を有する化合物の例としては、過酸化水素と、尿素過酸化水素や過炭酸塩などのそのアダクト、過酸化ベンゾイルや過酢酸や過酸化ジ−ｔｅｒｔ−ブチルなどの有機過酸化物、モノ過硫酸塩（ＳＯ52-）、ジ過硫酸塩（Ｓ2Ｏ82-）、及び過酸化ナトリウムが挙げられるが、これらには限定されない。その最も高い酸化状態にある元素を有する化合物の例としては、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸塩、過臭素酸、過臭素酸塩、過塩素酸、過塩素酸塩、過ホウ酸、過ホウ酸塩及び過マンガン酸塩が挙げられるが、これらには限定されない。ペル型酸化剤は好ましくは、過酸化水素、過硫酸塩（例えば過硫酸アンモニウム）、過ヨウ素酸塩、及び過マンガン酸塩からなる群より選択される。より好ましくはこのペル型酸化剤は、過硫酸アンモニウム又は過酸化水素である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
【表１】
2006519490.tif 000001
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
【表２】
2006519490.tif 000002
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
【表３】
2006519490.tif 000003