Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月4日(2007.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式 (I)の化合物、そのN1-オキシド、ラセミ体、その個々のエナンチオマー、その個々のジアステレオマー、そのEまたはZ体、その混合物、または医薬上許容される塩：
【化１】
2007518688.tif 000001
（Ｉ）
［式中：
【化２】
2007518688.tif 000002
mは、0または1の数;
ZおよびZ'は、同じであっても異なっていてもよく、0〜2の整数;
YおよびY'は、同じであっても異なっていてもよく、(CH2)n1; (CH2)n2-CH[NRVII(CH2)n4-NHRI]-(CH2)n3; CH2-CH[CH2-CH2]2-または(CH2)n2-N[(CH2)n4-NHRIV]-(CH2)n3;
Y''は、H; シクロアルキル C3-C7; (CH2)n5-N[CH2-CH2]2N-(CH2)n6NHRV; (CH2)n7-CH[CH2- CH2]2NRVからなる群から選択され;
Xは、Oまたは単結合;
n-n8は同じであっても異なっていてもよく、0〜5の整数;
RI、RII、RIII、RIV、および RVは、同じであっても異なっていてもよく、それらが結合している窒素のための保護基; CO2RVI; CO2CH2Ar; CO2(9-フルオレニルメチル); (CH2)n5-NHCO2RVI; CH2Ar; COAr; (CH2)n5-NHCO2CH2Ar; (CH2)n5-NHCO2-(9-フルオレニルメチル)；
RVIは、直鎖状または分枝状 (C1-C6) アルキル; 
RVIIは、HまたはRI-RV;
Arは、フェニルを含むC6-C12 芳香族残基であり、以下から選択される１以上の基で置換されていてもよい: ハロゲン、ヒドロキシ、C1-C5 アルキル、C1-C5 アルコキシ、フェニル、シアノ、ニトロ、-NRVIIIRIX、ここで、RVIII およびRIXは同じであっても異なっていてもよく、水素、直鎖状または分枝状 (C1-C5) アルキル、あるいはArは、複素環基であり、該複素環基は(C1-C5) アルキル基で置換されていてもよい窒素原子および/または酸素および/または硫黄から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む;該複素環は以下から選択される１以上の基で置換されていてもよい：ハロゲン、ヒドロキシ、C1-C5 アルキル、C1-C5 アルコキシ、フェニル、シアノ、ニトロ、-NRVIIIRIX、ここでRVIII および RIXは同じであっても異なっていてもよく、水素、直鎖状または分枝状 (C1-C5) アルキルである］。
【請求項２】
保護基が親油性の嵩高い基である請求項1の化合物。
【請求項３】
保護基が以下からなる群から選択される請求項1の化合物: CO2RVI; CO2CH2Ar; CO2-(9-フルオレニルメチル); (CH2)n5-NHCO2RVI; (CH2)n5-NHCO2CH2Ar; (CH2)n5-NHCO2-(9-フルオレニルメチル)、ここで RVIは直鎖状または分枝状 (C1-C6) アルキル。
【請求項４】
保護基が以下からなる群から選択される請求項3の化合物:tert-ブトキシカルボニル; ベンジルオキシカルボニル; 9-フルオレニルメチルオキシカルボニル。
【請求項５】
mが0である請求項1-4のいずれかの化合物。
【請求項６】
以下からなる群から選択される請求項5の化合物: 
- 20S-(4-{[3-(7-カンプトテシンイリデン-アミノ)-プロピル]-tert-ブトキシカルボニル-アミノ}-ブチル)-(3-tert-ブトキシカルボニルアミノプロピル)-カルバミン酸tert-ブチルエステル;
- 20S-(4-{[3-(7-カンプトテシンイリデン-アミノ)-プロピル]-tert-ブトキシカルボニル-アミノ}-ブチル)-カルバミン酸tert-ブチルエステル;
- 20S-[3-(7-カンプトテシンイリデン-アミノ)-ブチル]-カルバミン酸tert-ブチルエステル;
-20S-7-[3-(N-tert-ブトキシカルボニルアミノ)プロポキシイミノ-メチル]-カンプトテシン。
【請求項７】
mが1である請求項1-4のいずれかの化合物。
【請求項８】
以下からなる群から選択される請求項7の化合物:  
- 20RS-(4-{[3-(7-ホモカンプトテシンイリデン-アミノ)-プロピル]-tert-ブトキシカルボニル-アミノ}-ブチル)-(3-tert-ブトキシカルボニルアミノプロピル)-カルバミン酸tert-ブチルエステル; 
- 20RS-(4-{[3-(7-ホモカンプトテシンイリデン-アミノ)-プロピル]-tert-ブトキシカルボニル-アミノ}-ブチル)-カルバミン酸tert-ブチルエステル;
- 20RS-[3-(7-ホモカンプトテシンイリデン-アミノ)-ブチル]-カルバミン酸tert-ブチルエステル;
-20R,S-7-[3-(N-tert-ブトキシカルボニルアミノ)プロポキシイミノ-メチル]-ホモカンプトテシン。
【請求項９】
少なくとも１つの医薬上許容される媒体および/または賦形剤と混合して活性成分として請求項 1-8のいずれかの少なくとも１つの化合物を含む医薬組成物。
【請求項１０】
請求項 1-8のいずれかの化合物を含む、トポイソメラーゼI阻害活性を有する医薬組成物。
【請求項１１】
抗癌活性を有する、請求項10の医薬組成物。
【請求項１２】
抗寄生虫活性を有する、請求項10の医薬組成物。
【請求項１３】
抗ウイルス活性を有する、請求項10の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月30日(2007.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−フェニルエチルアルコールのアリールカルボン酸エステルである、フェニルエチルエステル中に可溶化される活性な又は機能を有する有機化合物の組成物であって、前記活性化合物が固体の有機化合物である上記組成物。
【請求項２】
前記フェニルエチルエステルが２−フェニルエチルベンゾアート、２−フェニルエチルトルエートまたはジ−２−フェニルエチルフタラートである請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記活性な又は機能を有する化合物が自己医療（パーソナルケア）薬品、化粧品化合物、医薬化合物、農業用または工業用化合物である請求項１記載の組成物。
【請求項４】
日焼け止め組成物である請求項３記載の組成物。
【請求項５】
前記日焼け止め組成物が臨界波長及びＵＶＡ／ＵＶＢ吸光度比の増加を示す、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢ化学化合物を含む請求項４記載の日焼け止め組成物。
【請求項６】
前記活性化合物が少なくとも２０％(w/w)の量で可溶化される請求項４記載の日焼け止め組成物。
【請求項７】
前記活性物質がアボベンゾン又はベンゾフェノン-3である請求項４記載の日焼け止め組成物。
【請求項８】
前記活性化物質が、アボベンゾン、ベソフェノン-3、パラアミノ安息香酸(PABA)、カンファーベンザルコニウムメトスルフェート、ホモサラート、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、テレフタリデンジカンファースルホン酸、ベンジリデンカンファースルホン酸、オクトクリレン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー、エチルヘキシルメトキシシンナメート、ポリエチレングリコール-25（PEG-25）パラアミノ安息香酸、イソアミルパラメトキシシンナメート、エチルヘキシルトリアゾン、ドロムトリゾール（Drometrizole）トリシロキサン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、４−メチルベンジリデンカンファー、3-ベンジリデンカンファー、エチルヘキシルサリチラート、エチルヘキシルジメチルパラアミノ安息香酸、ベンゾフェノン-4、ベンゾフェノン-5、メチレンビス−ベンズトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、二ナトリウムフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホナート、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェノールトリアジン、ポリシリコーン-15、及びこれらの混合物からなる群から選択される請求項４記載の日焼け止め組成物。
【請求項９】
前記活性な又は機能を有する有機化合物が、フロセミド、ロバスタチン、クラリスロマイシン、ジクロフェナク、ファモチジン、カルバマゼピン（Carbamaxepine）、ジピリダモール、クロルチアジド（Chlorthiazide）、スピロノラクトン、ジランチン、イミプラミン、メルフロキン（Melfloquine）、サイクロスポリン、グリブリド、ニモジピン及びこれらの混合物からなる群から選択される請求項１記載の組成物。
【請求項１０】
紫外線フィルター、化粧品化合物及び医薬化合物からなる群から選択される少なくとも２つの活性な又は機能を有する有機化合物を含む請求項１記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月9日(2007.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１５位に２つのヘテロ原子を有するプロスタグランジン化合物を活性成分として含む、哺乳類対象における育毛を促進する組成物。
【請求項２】
該プロスタグランジン化合物が下記式(I)によって示される化合物である請求項１の組成物：
【化１】
2007518685.tif 000001
［式中、Ｌ、ＭおよびＮは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ（低級）アルキル、低級アルカノイルオキシまたはオキソ（ここでＬおよびＭの少なくとも１つは水素以外の基であり、五員環は少なくとも１つの二重結合を有していてもよい）；
Ａは、−ＣＨ３、または−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＯＨまたはそれらの官能性誘導体；
Ｂは、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−；
Ｚ１およびＺ２は、酸素、窒素または硫黄；
Ｒ２およびＲ３は置換されていてもよい低級アルキルであり、一緒につながって低級アルキレンを形成してもよい；
Ｒ１は、非置換またはハロゲン、アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アリールまたは複素環基で置換された飽和または不飽和二価低〜中級脂肪族炭化水素残基であり、脂肪族炭化水素における少なくとも１つの炭素原子は、酸素、窒素または硫黄によって置換されていてもよい；そして、
Ｒａは、非置換またはハロゲン、オキソ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ（低級）アルキル、シクロ（低級）アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環基または複素環オキシ基で置換された飽和または不飽和の低〜中級脂肪族炭化水素残基；低級アルコキシ；低級アルカノイルオキシ；シクロ（低級）アルキル；シクロ（低級）アルキルオキシ；アリール；アリールオキシ；複素環基；複素環オキシ基］。
【請求項３】
プロスタグランジン化合物が式(II)で示される請求項2の組成物:
【化２】
2007518685.tif 000002
[式中、Ｌ、Ｍ、Ａ、Ｂ、Ｚ１、Ｚ２、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は請求項2と同じ；
Ｘ１およびＸ２は、水素、低級アルキルまたはハロゲン;
Ｒ４は、単結合または低級アルキレン；そして、
Ｒ５は、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ（低級）アルキル、シクロ（低級）アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環基または複素環オキシ基］。
【請求項４】
該プロスタグランジン化合物が１３，１４-ジヒドロ-１５,１５-エチレンジオキシ-２０-エチル-ＰＧＦ２αイソプロピルエステルである請求項1の組成物。
【請求項５】
該プロスタグランジン化合物が１３，１４-ジヒドロ-１５,１５-エチレンジオキシ-１７-フェニル-１８，１９，２０-トリノール-ＰＧＦ２α イソプロピルエステルである請求項1の組成物。
【請求項６】
該プロスタグランジン化合物が１３，１４-ジヒドロ-１５,１５-トリメチレンジオキシ-２０-エチル-ＰＧＦ２α イソプロピルエステルである請求項1の組成物。
【請求項７】
該プロスタグランジン化合物が１３，１４-ジヒドロ-１５,１５-ジメトキシ-２０-エチル-ＰＧＦ２α イソプロピルエステルである請求項1の組成物。
【請求項８】
該プロスタグランジン化合物が１３，１４-ジヒドロ-１５,１５-エチレンジオキシ-２０-エチル-ＰＧＦ２α エチルエステルである請求項1の組成物。
【請求項９】
下記式(I)の化合物：
【化３】
2007518685.tif 000003
［式中、Ｌ、ＭおよびＮは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ（低級）アルキル、低級アルカノイルオキシまたはオキソ（ここでＬおよびＭの少なくとも１つは水素以外の基であり、五員環は少なくとも１つの二重結合を有していてもよい）；
Ａは、−ＣＨ３、または−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＯＨまたはそれらの官能性誘導体；
Ｂは、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−；
Ｚ１およびＺ２は、酸素、窒素または硫黄；
Ｒ２およびＲ３は置換されていてもよい低級アルキルであり、一緒につながって低級アルキレンを形成してもよい；
Ｒ１は、非置換またはハロゲン、アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アリールまたは複素環基で置換された飽和または不飽和二価低〜中級脂肪族炭化水素残基であり、脂肪族炭化水素における少なくとも１つの炭素原子は、酸素、窒素または硫黄によって置換されていてもよい；そして、
Ｒａは、非置換またはハロゲン、オキソ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ（低級）アルキル、シクロ（低級）アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環基または複素環オキシ基で置換された飽和または不飽和の低〜中級脂肪族炭化水素残基；低級アルコキシ；低級アルカノイルオキシ；シクロ（低級）アルキル；シクロ（低級）アルキルオキシ；アリール；アリールオキシ；複素環基または複素環オキシ基］。
【請求項１０】
該化合物が式 (II)で表される請求項9の化合物:
【化４】
2007518685.tif 000004
[式中、Ｌ、Ｍ、Ａ、Ｂ、Ｚ１、Ｚ２、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は請求項9と同じ；
Ｘ１およびＸ２は、水素、低級アルキルまたはハロゲン;
Ｒ４は、単結合または低級アルキレン；そして、
Ｒ５は、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ（低級）アルキル、シクロ（低級）アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環基または複素環オキシ基］。
【請求項１１】
Ｒ２とＲ３とが一緒につながってＣ３アルキレンを形成する請求項10の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月7日(2007.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−［４−［２−（７−トリフルオロメチルベンゾオキサゾール−２−イルチオ）エチル］ピペラジン−１−イル］−Ｎ−［４−ヒドロキシ−２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］アセトアミド又はその塩。
【請求項２】
２−［４−［２−（７−トリフルオロメチルベンゾオキサゾール−２−イルチオ）エチル］ピペラジン−１−イル］−Ｎ−［４−ヒドロキシ−２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］アセトアミド又はその塩を有効成分とする医薬。
【請求項３】
動脈硬化症の予防・治療薬である請求項２記載の医薬。
【請求項４】
２−［４−［２−（７−トリフルオロメチルベンゾオキサゾール−２−イルチオ）エチル］ピペラジン−１−イル］−Ｎ−［４−ヒドロキシ−２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］アセトアミド又はその塩、及び薬学的に許容される担体を含有する医薬組
成物。
【請求項５】
下記式（２）
【化１】
2007518681.tif 000001
〔式中、Ｒ1は水素原子又はＸＣＨ2ＣＯ−基（ここで、Ｘはハロゲン原子を示す）を示し、Ｒ2は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいベンジル基及び置換基を有していてもよいシリル基から選ばれる保護基を示す。〕
で表される２，６−ビス（トリフルオロメチル）アニリン化合物及びそのアニリド誘導体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月27日(2007.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2007518682.tif 000001
（式中、環Ａおよび環Ｂは、（１）環Ａが置換されていてもよい単環不飽和異項環であり、環Ｂが置換されていてもよい単環不飽和異項環、置換されていてもよい二環縮合不飽和異項環、または置換されていてもよいベンゼン環であるか、（２）環Ａが置換されていてもよいベンゼン環であり、環Ｂが置換されていてもよい単環不飽和異項環、置換されていてもよい二環縮合不飽和異項環、または置換されていてもよいベンゼン環であるか、または（３）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和異項環であり、ここにおいて−ＮＲ−基および−ＣＨ２−基は両方とも、当該二環縮合不飽和異項環の同じ環に結合し、環Ｂが置換されていてもよい単環不飽和異項環、置換されていてもよい二環縮合不飽和異項環、または置換されていてもよいベンゼン環であり、
Ｒは水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル基または低級アルコキシカルボニル基である）
で示される化合物、その医薬的に許容しうる塩、またはそれらのプロドラッグ；
ただし、Ｎ−［４−［（４−アミノ−３−クロロフェニル）メチル］−２−クロロフェニル］−β−Ｄ−グルコピラノシルアミンを除く。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月26日(2007.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗客輸送用の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータであって、該動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータは、
コンベヤと、
固定基部に支持されるフレームと、
手摺とを含み、
前記フレームは、該コンベヤが設置され、該コンベヤを案内する案内路が設けられた２つの長尺状のフレーム部分を含み、
前記手摺は、手摺枠と、該手摺枠上に取り付けられて乗客が支えとして手で掴める上部掴み部分および該フレーム部内部に配置された下部戻り部分とを有する輪として設けられた循環手摺ベルトを含む動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、
前記フレーム部は連続材からなって端部同士が連続的に結合された複数の外郭金属体で構成され、該外郭金属体は押し出し成形された１つ以上の外郭体で構成され、前記動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータは、互いに距離をおいて前記外郭金属体に結合されて前記循環手摺ベルトの戻り部分を支持する複数の懸架具を含むことを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項２】
請求項１に記載の動く歩道、可動スロープ、またはエスカレータにおいて、前記手摺ベルトは断面が実質的にC形状であり、その内側に内溝を画成し、前記手摺ベルトの戻り部分における該内溝は上向きに開き、該内溝の各端部には間隙を挟んで対向する出縁が設けられ、前記懸架具は前記手摺ベルトの間隙を通って前記内溝に伸びる桁腹部、および前記出縁の下側で該桁腹部の両端に広がる懸架具フランジとを含み、手摺ベルトを支持することを特徴とする動く歩道、可動スロープ、またはエスカレータ。
【請求項３】
請求項２に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記懸架具は導線を固定するための結合要素を１つ以上備えることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記懸架具は摩擦係数が実質的に低い素材で形成されていることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項５】
請求項７ないし９のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記懸架具フランジと接触する前記手摺ベルトの縁の接触面は、摩擦係数が実質的に低い素材でコーティングされることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記フレームは、前記コンベヤを案内する案内路が設けられた２つの長尺状のフレーム部を含み、該フレーム部は端部同士が連続的に結合された互いに同一の外郭金属体で構成され、該外郭金属体は連続材からなって該１つの外郭金属体に一体化した結合要素、支持要素および／または案内要素を含み、前記フレームは前記フレーム部間で横に渡って該フレーム部を互いに離して平行に保持する複数の横渡し部材を含むことを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項７】
請求項６に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記外郭金属体は、アルミニウムまたはアルミ合金などの軽金属を押し出し成形した１つ以上の外郭材より構成されることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記コンベヤは、複数の連続するパレットおよびリンクチェーンまたはベルトなどの駆動要素を備えるパレットコンベヤであって、パレットを作動するために該パレットが駆動要素に接続され、該駆動要素は上段部および下段部を有する循環ループとして設けられることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項９】
請求項６ないし８のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、連続材からなる１つの外郭金属体は、次のグループ、すなわち
−前記フレーム部の外見的に可視の外面を構成する壁
−固定基部に支持されるように合わせられた底部、
−前記パレットを支持して案内する案内路を形成する第１の支え面、
−前記手摺枠を支持する第２の支え面、
−前記手摺枠を固定する締結要素の取り付け口、
−前記懸架具を固定する第１の結合要素、
−内壁を形成する外郭体などの第２の外郭体を横方向から結合する第２の結合要素、
−前記支え面に磨耗板を固定する第３の結合要素、
−前記手摺ベルトの戻り部分を内部に収容する第１の空間、
−前記駆動要素の上段部を内部に収容する第２の空間、
−前記駆動要素の下段部を内部に収容する第３の空間、
−前記外郭金属体の端部同士を連続的に結合する拡張結合部品を内部に収容する第４の空間、および
−前記外郭金属体の突き合わせの位置を決めるための位置決めピンを内部に収容する第５の空間、
のうちの１つ以上の要素を一体化して含むことを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、該動く歩道、動くスロープまたはエスカレータは、床やその他の支持体などの固定基部に設置するように設計された低構造の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータであることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月26日(2007.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンベヤと、固定基部に支持されるフレームとを備え、該コンベヤが該フレーム上に設置され、前記フレームは複数の外郭金属体を含み、該複数の外郭金属体は連続材からなって連続的に結合して、前記外郭金属体と一体化した結合要素、支持要素および／または案内要素を含む動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記フレームは２つの長尺状のフレーム部を含み、前記外郭金属体は該フレーム部の外見的に可視の外面を構成する一体化された壁を含むことを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項２】
請求項１に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記フレームの２つのフレーム部には前記コンベヤを案内する案内路が設けられ、該フレーム部は前記連続的に結合された外郭金属体で構成され、前記フレームは複数の横渡し部材を含み、該複数の横渡し部材は前記フレーム部間で横に渡って該フレーム部を互いに離して平行に保持することを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項３】
請求項２に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記外郭金属体は、アルミニウムまたはアルミ合金などの軽金属を押し出し成形した１つ以上の外郭材より構成されることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記コンベヤは、連続する複数のパレットと、該パレットを固定して該パレットを作動するリンクチェーンまたはベルトなどの駆動要素9とを備えるパレットコンベヤであり、該駆動要素は上段部および下段部を有する循環ループとして設けられることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、該動く歩道、動くスロープまたはエスカレータは手摺を含み、該手摺は手摺枠および循環手摺ベルトを含み、該循環手摺ベルトは乗客が支えとして手で掴むことができる上部掴み部分、および前記フレーム部内部に配置された下部戻り部分を有する輪として設けられていることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項６】
請求項５に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、該動く歩道、動くスロープまたはエスカレータは、複数の懸架具を含み、該複数の懸架具は、互いに距離をおいて前記外郭金属体に結合されて前記手摺ベルトの戻り部分を支持することを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項７】
請求項６に記載の動く歩道、可動スロープ、またはエスカレータにおいて、前記手摺ベルトは断面が実質的にC形状であり、その内側に内溝を画成し、前記手摺ベルトの戻り部分における該内溝は上向きに開き、該内溝の各端部には出縁が間隙を挟んで対向して設けられ、前記懸架具は前記手摺ベルトの間隙を通って前記内溝に伸びる桁腹部と、前記出縁の下側で該桁腹部の両端に広がる懸架具フランジとを含んで前記手摺ベルトを支持することを特徴とする動く歩道、可動スロープ、またはエスカレータ。
【請求項８】
請求項７に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記懸架具は導線を固定するための結合要素を１つ以上備えることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項９】
請求項６ないし８のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記懸架具は摩擦係数が実質的に低い素材で形成されていることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項１０】
請求項７ないし９のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記懸架具フランジと接触する前記手摺ベルトの縁の接触面は、摩擦係数が実質的に低い素材でコーティングされることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、連続材からなる１つの外郭金属体は、次のグループ、すなわち
−固定基部に支持されるように合わせられた底部、
−前記パレットを支持して案内する案内路を形成する第１の支え面、
−前記手摺枠を支持する第２支え面、
−前記手摺枠を固定する締結要素の取り付け口、
−前記懸架具を固定する第１の結合要素、
−内壁を形成する外郭体などの第２外郭体を横方向から結合する第２の結合要素、
−前記支え面に磨耗板を固定する第３の結合要素、
−前記手摺ベルトの戻り部分を内部に収容する第１の空間、
−前記駆動要素の上段部を内部に収容する第２の空間、
−前記駆動要素の下段部を内部に収容する第３の空間、
−前記外郭金属体の端部同士を連続的に結合する拡張結合部品を内部に収容する第４の空間、および
−前記外郭金属体の突き合わせの位置を決めるための位置決めピンを内部に収容する第５の空間、
のうちの１つ以上の要素を一体化して含むことを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、該動く歩道、動くスロープまたはエスカレータは、床やその他の支持体などの固定基部に設置するように設計された低構造の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータであることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月11日(2007.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物の製造方法であって、
【化１】
2007518680.tif 000001
（式中、
R1は、分枝されている又は分枝されていないC1-10アルキル又はC3-10シクロアルキルであり、それぞれは任意に部分的又は完全にハロゲン化されていてもよく、
R2は、分枝されている又は分枝されていないC1-10アルキル、分枝されている又は分枝されていないC1-10アルコキシ、C3-10シクロアルキルであり、それぞれは任意に部分的又は完全にハロゲン化されていてもよく、且つ任意にアリールで置換されていてもよく、又はR2はアリールであり、
R3は、フェニル環の3-位又は4-位に結合しており、水素、C1-10アルキル、炭素環、複素環、複素アリール又はR4-S(O)2-NH-であり、R4は、C1-5アルキル又は炭素環から選択され、
R4は、C1-5アルキル又はC1-5アルコキシから選択され、
N(Ra)2に関して、Raは、水素、C1-5アルキル、アリール、アリールC1-3アルキル、C3-7シクロアルキル、C3-7シクロアルキルC1-3アルキル、C1-5アルコキシC1-5アルキル及び複素環C1-3アルキルから独立して選択され、該複素環は、テトラヒドロフラン、ピロリジニル及びモルホリニルから選択され、各Raは、1つ又は2つのC1-5アルキル、C1-5アルコキシ、又はC1-5アルキル二置換アミノによって任意に置換されていてもよい。）
a）非プロトン性溶媒及び非プロトン性塩基の存在下、0℃〜100℃の温度で1〜24時間、アリールアミン（ＩＩ）を、式（ＩＩＩ）のカルバメートと反応させて、式（ＩＶ）の中間化合物を製造し、
【化２】
2007518680.tif 000002
b）極性溶媒及び非プロトン性塩基の存在下、0℃〜100℃の温度で1〜24時間、式（ＩＶ）の中間化合物を、式（Ｖ）の化合物と反応させて、式（ＶＩ）の中間化合物を製造し、
【化３】
2007518680.tif 000003
（式（Ｖ）中、Y1は、Cl、Br、I及びFから選択されるハロゲンであり、Y2は、Cl及びFから選択されるハロゲンである。）
c）極性溶媒及び非プロトン性塩基の存在下、0℃〜100℃の温度で1〜24時間、式（ＶＩ）の化合物を、HN(Ra)2化合物（式中、Raは上記の通り）と反応させて、式（Ｉ）の化合物を製造し、その後に生成化合物を単離することを含む、方法。
【化４】
2007518680.tif 000004
【請求項２】
請求項１記載の方法であって、
工程a）において、
非プロトン性溶媒が、NMP、DMSO、THF、EtOAc及びジオキサンから選択され、
非プロトン性塩基が、N-メチルピロリジノン、N-メチルピロリジン、トリエチルアミン、DMAPから選択され、
時間が16時間であり、及び
温度が45℃であり、
工程b）において、
Y1がClであり、Y2がClであり、
極性溶媒がC1-5アルコールであり、
非プロトン性塩基がカルボネートであり、
時間が24時間であり、及び
温度が45℃であり、
工程c）において、
極性非プロトン性溶媒が、KFを含んだジオキサン、トルエン、TGME、トリエチレングリコールから選択され、
時間が18時間であり、及び
温度が60℃である、方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法であって、
工程a）において、
非プロトン性溶媒が、NMP、DMSO、THF、EtOAc、及びジオキサンから選択され、
非プロトン性塩基が、N-メチルピロリジノン、N-メチルピロリジン、トリエチルアミン及びDMAPから選択され、トリエチルアミンは1.35当量の量であり、DMAPは0.2当量の量であり、
工程b）において、
Y1がClであり、Y2がClであり、
極性溶媒がエタノールであり、
カルボネートがNa2CO3であり、
工程c）において、
極性非プロトン性溶媒が、KFを含んだTGMEである、方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法であって、
R1が、-CF3、-CH(CH3)(CF3)、-CH(CF3)2、-OCF3、又は-CF2CF3であり、
R2が、-O-C1-5アルキルであり、
R3が、水素又はR4-S(O)2-NH-であり、R4は、C1-5アルキル又は炭素環から選択され、
R4が、C1-4アルキル又はC1-4アルコキシから選択される、方法。
【請求項５】
請求項４記載の方法であって、
R2が、-O-C1-3アルキルであり、
N(Ra)2に関して、Raが、水素、C1-5アルキル、フェニルC1-3アルキル、C3-6シクロアルキル、C3-6シクロアルキルC1-3アルキル、C1-3アルコキシC1-3アルキル及び複素環C1-3アルキルから独立して選択され、該複素環は、テトラヒドロフラン、ピロリジニル及びモルホリニルから選択され、各Raは、1つ又は2つのC1-3アルキル、C1-3アルコキシ、又はC1-2アルキル二置換アミノで任意に置換されていてもよく、
R4が、C1-3アルキル又はC1-3アルコキシから選択される、方法。
【請求項６】
請求項５記載の方法であって、
R1が、-CF3、-CH(CH3)(CF3)、-CH(CF3)2又は-CF2CF3であり、
R2が、-O-C1-2アルキルであり、
R4が、C1-2アルキル又はC1-2アルコキシから選択される、方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法であって、
R1が、-CF3であり、
R2が、-O-CH3であり、
R4が、メチル又はメトキシである、方法。
【請求項８】
請求項７記載の方法であって、
R4が、メチルであり、
N(Ra)2が、NH2、NH(CH3)、-NHCH2CH2N(CH3)2、-NHCH2CH2-O-CH3、-NH-CH2-N(CH3)2、
【化５】
2007518680.tif 000005
である、方法。
【請求項９】
【化６】
2007518680.tif 000006
から選択される、化合物。
【請求項１０】
工程(c)において、
極性非プロトン性溶媒がKFを含んだTGMEである、請求項３記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月4日(2006.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転自在に取り付けられた駆動シャフトに設けられた複数のロータ要素を有する多段遠心コンプレッサ機構と、その上流で、駆動シャフトに設けられた少なくとも１つのロータ要素を有する分子ドラッグ機構と、を含み、分子ドラッグ排気機構の少なくとも１つのロータ要素が駆動シャフトを回転させるためのモータを少なくとも部分的に囲む、真空ポンプ。
【請求項２】
分子ドラッグ排気機構の少なくとも１つのロータ要素は、コンプレッサ機構のロータ要素と一緒に回転運動するように設けられたシリンダからなる、請求項１による真空ポンプ。
【請求項３】
分子ドラッグ機構は多段分子ドラッグ排気機構である、請求項１又は２による真空ポンプ。
【請求項４】
分子ドラッグ機構の段は並列に配置される、請求項３による真空ポンプ。
【請求項５】
分子ドラッグ機構は、各々ポンプ入口から流体を受け、排気流体を共通の排気口に排気する複数の流れチャンネルを構成する、請求項１ないし４のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項６】
ポンプの温度を監視するための手段と、監視した温度に応じてシャフトの回転速度を制御するための手段と、を有する請求項１ないし５のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項７】
多段遠心コンプレッサ機構は、駆動シャフトを回転自在に取り付けるハウジングと、ハウジング内に配置され、複数の相互に連結された流体室を構成する複数の固定部材と、を有し、コンプレッサ機構のロータ要素は、駆動シャフトに取り付けられ、圧縮流体をそれぞれの流体室に放出するように固定部材に対して配置された複数のインペラからなり、コンプレッサ機構は、流体を、圧縮せずに流体室の２つの間を迂回させることができるよにするためにこれら２つの流体室間に延びるバイパスチャンネルと、バイパスチャンネルを通る流体の流量を制御するための手段と、を更に有する、請求項１ないし６のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項８】
制御手段は、流体室の前記２つの間の圧力差の作用によりバイパスチャンネルを開くように構成される、請求項７による真空ポンプ。
【請求項９】
制御手段は、流体室の前記２つの内の上流の流体室内の圧力が、流体室の前記２つのうちの下流の流体室内の圧力よりも大きい時にバイパスチャンネルを開くように構成される、請求項７又は８による真空ポンプ。
【請求項１０】
流体室の前記２つは、コンプレッサ機構の隣接した流体室である、請求項７ないし９のいずれかにによる真空ポンプ。
【請求項１１】
バイパスチャンネルは隣接した流体室間に配置された固定部材を通る、請求項１０による真空ポンプ。
【請求項１２】
制御手段は弁手段からなる、請求項７ないし１１のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項１３】
制御手段は、使用中、加圧流体によって閉位置と開位置の間を移動できる弁部材からなる請求項１２による真空ポンプ。
【請求項１４】
弁部材は、フラップ弁からなる、請求項１３による真空ポンプ。
【請求項１５】
弁手段は、流体室内に配置される、請求項１２ないし１４のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項１６】
流体室毎に、流体室と隣接し下流の流体室の間に延びるそれぞれのバイパスチャンネルを有し、且つ各バイパスチャンネルを通る流体の流量を制御するための手段を有する、請求項７ないし１５のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項１７】
多段遠心コンプレッサ機構内のサージを制御するためのサージ制御手段を更に有する、請求項７ないし１６のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項１８】
サージ制御手段は、流体の流れを各流体室に運ぶための手段と、各流体室への流体流れの流量を制御するための手段と、を有する、請求項１７による真空ポンプ。
【請求項１９】
運ぶ手段は、パージガスの流れを各流体室に運ぶように構成されている、請求項１８による真空ポンプ。
【請求項２０】
パージガスは、空気又は不活性ガスからなる、請求項１９による真空ポンプ。
【請求項２１】
運ぶ手段は、加圧流体の流れを下流の流体室から各流体室に運ぶように構成される、請求項１８による真空ポンプ。
【請求項２２】
運ぶ手段が、流体室毎に、その流体室と隣接した下流の流体室の間に延びる流体通路を有する、請求項２１による真空ポンプ。
【請求項２３】
流体通路は同軸である、請求項２２による真空ポンプ。
【請求項２４】
各流体通路はそれぞれの固定部材を通る、請求項２２又は２３による真空ポンプ。
【請求項２５】
制御手段は、前記運ぶ手段と流体連通している弁手段からなる請求項２１ないし２４のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項２６】
弁手段はスプール弁からなる、請求項２５による真空ポンプ。
【請求項２７】
各固定部材はハウジングのそれぞれの部品に取り付けられ又はそれと一体であるディスクからなる請求項７ないし２６のいずれかに記載の真空ポンプ。
【請求項２８】
固定部材を冷却するための手段を有する、請求項７ないし２７のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項２９】
冷却手段は、各固定部材の片側に配置された複数の冷却フィンからなる、請求項２８による真空ポンプ。
【請求項３０】
冷却手段は、冷却材の流れを各固定部材に供給するための手段からなる、請求項２８又は２９による真空ポンプ。
【請求項３１】
多段遠心コンプレッサ機構の少なくとも一部の周りに延びる冷却ジャケットを有する、請求項１ないし３０のいずれかによる真空ポンプ。
【請求項３２】
補助ポンプと直列にブースタポンプを有する真空排気装置であって、ブースタポンプが請求項１ないし３１のいずれかによる真空ポンプからなる、上記真空排気装置。
【請求項３３】
ブースタポンプからの排気口と補助ポンプからの排気口の間に接続されたバイパス導管と、バイパスを通る流体の流量を制御するための手段と、を有する請求項３２による真空排気装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月21日(2007.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力キャリアに接続される入力部材を備え、前記入力キャリアは入力シャフトに接続される、プラネタリギアトレーンと、
サンギア及びリングギアと、
前記入力キャリアは、前記サンギア及び前記リングギアとそれぞれ噛み合う複数のプラネタリ部材を備え、
前記サンギアは、ブレーキ部材に接続され、
前記リングギアは、出力部材に接続され、
前記入力キャリアと前記出力部材との間に動作可能に設けられるワンウェイクラッチとを備えるツースピードトランスミッション。
【請求項２】
前記入力部材はプーリを備える請求項１に記載のツースピードトランスミッション。
【請求項３】
前記出力部材はプーリを備える請求項１に記載のツースピードトランスミッション。
【請求項４】
前記プラネタリギアトレーンは出力部材の幅の中に実質的に設けられる請求項３に記載のツースピードトランスミッション。
【請求項５】
前記ブレーキ部材は入力部材の幅の中に実質的に設けられる請求項２に記載のツースピードトランスミッション。
【請求項６】
前記出力部材は補機に直接接続するための手段をさらに備える請求項３に記載のツースピードトランスミッション。
【請求項７】
前記入力部材及び前記出力部材は同軸である請求項１に記載のツースピードトランスミッション。
【請求項８】
前記ブレーキ部材は電磁式である請求項１に記載のツースピードトランスミッション。
【請求項９】
前記ブレーキと前記入力シャフトとの間に設けられるベアリングと、
前記サンギアと前記入力シャフトとの間に設けられるベアリングとをさらに備える請求項１に記載のツースピードトランスミッション。
【請求項１０】
入力手段と、
出力手段と、
前記入力手段及び前記出力手段は同軸に設けられ、
前記入力手段及び前記出力手段との間に設けられるプラネタリギア手段と、
サンギア手段に接続される電磁ブレーキ手段と、
前記入力手段及び前記出力手段との間に設けられるワンウェイクラッチ手段と、
を備え、
前記ワンウェイクラッチ手段は前記電磁ブレーキ手段が解放されたときに係合されるツースピードトランスミッション。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月25日(2007.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊離反応基を有する生体分子を、反応して共有結合を形成するラベル化合物によってラベリングする方法であって、両方の化合物の溶液をマイクロミキサー、好ましくはスタティックミキサーに所定量の流量で供給し、ミキサーにおいて激しく混合し、次いで反応混合物を必要に応じて滞留構造体に供給し、該構造体の体積および反応混合物の流量に応じて所定の時間放置し、反応条件に応じて所定の時間の後に反応を終了させることを特徴とする方法。
用いる滞留構造体において反応混合物を循環させてポンピングし、マイクロミキサーが必要に応じてサーキット内に挿入されていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法を実施するための装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
加えて、マイクロミキサーで調製したサンプルは、後の活性試験において、常套的に調製されたサンプルに比べて少し向上した活性を示した。
尚、本発明は、以下の態様を含む：
（態様１）
遊離反応基を有する生体分子を、反応して共有結合を形成するラベル化合物によってラベリングする方法であって、両方の化合物の溶液をマイクロミキサー、好ましくはスタティックミキサーに所定量の流量で供給し、ミキサーにおいて激しく混合し、次いで反応混合物を必要に応じて滞留構造体に供給し、該構造体の体積および反応混合物の流量に応じて所定の時間放置し、反応条件に応じて所定の時間の後に反応を終了させることを特徴とする方法。
（態様２）
遊離反応基は、アミノ、チオール、アルコール、アルデヒド／ケトンおよび／またはカルボン酸基であることを特徴とする、態様１に記載の方法。
（態様３）
生体分子は、プロテイン、核酸および／または単糖類であることを特徴とする、態様１および／または２に記載の方法。
（態様４）
１００μｍより小さいチャンネル幅を有するマイクロミキサーを用いることを特徴とする、態様１〜３のいずれかに記載の方法。
（態様５）
用いるマイクロミキサーは、マルチラミネーションミキサーまたは分割・再合流型ミキサーであることを特徴とする、態様１〜４のいずれかに記載の方法。
（態様６）
用いる滞留構造体は、所定の体積または均一な流れを伴う他の体積もしくは均一な流れを伴うアレンジメントを有するキャピラリーであることを特徴とする、態様１〜５のいずれかに記載の方法。
（態様７）
用いる滞留構造体において反応混合物を循環させてポンピングし、マイクロミキサーが必要に応じてサーキット内に挿入されていることを特徴とする、態様１〜６のいずれかに記載の方法。
（態様８）
態様１〜７のうちの１つ又は複数に記載の方法を実施するための装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月5日(2007.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め決められた長さのマルチナノ構造体を同時に作成する製造方法であって、
触媒を有する第１基板上に形成され、基部とアペックスからなる少なくともマルチチップの各々の部分を被覆するステップと、
前記マルチチップから前記第２基板の前記第１面の距離が、前記マルチナノ構造体の所定の最大長に関連するように、前記マルチチップの末端に第２基板の第１面を位置付けするステップと、
前記マルチチップの各々のアペックスと前記第２基板の前記第１面との間に前記マルチチップを形成するステップと
を有することを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記マルチナノ構造体が、カーボンナノチューブからなることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記触媒で被覆されたチップの部分が、該チップの基部からなることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
前記触媒で被覆されたチップの部分が、該チップのアペックスからなることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】
前記マルチナノ構造体が、
更なる成長が前記第２基板によって制限されるまで、カーボンナノチューブが前記チップに被覆されたマルチ触媒からはみ出して成長するように、カーボンを含むガスを前記アペックスに被覆された触媒に向けて流すステップと、
前記第１基板と前記第２基板との間の領域に非反応性のガスを吹き付けるステップと
を有することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】
前記マルチチップの末端に位置付けられた前記第２基板の前記第１面上に導電性材料の層を蒸着するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項７】
前記マルチチップ上に成長する各々のカーボンナノチューブの長さを短縮するように、前記第２基板と前記マルチチップとの間に差電位を印加するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項８】
前記第２基板から前記カーボンナノチューブの２つ又はそれ以上を劈開するように、前記第２基板の前記第１面と前記第２基板の前記第２面との間に差電位を印加するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項９】
前記第２基板から前記カーボンナノチューブの２つ又はそれ以上を劈開し、かつ前記マルチチップ上に成長した前記カーボンナノチューブの長さを短縮するように、前記第２基板と前記マルチチップとの間に０．５〜５０ボルトの差電位を印加するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記第２基板から前記カーボンナノチューブを劈開し、劈開された該カーボンナノチューブを短縮するように液相化学法を用いるステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記第２基板から前記カーボンナノチューブを劈開し、劈開された該カーボンナノチューブを短縮するように気相化学法を用いるステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項１２】
カーボンを含むガスを前記アペックスに被覆された触媒に向けて流すステップが
炉内において前記第１基板を前記第２基板に結合するように配置するステップと、
少なくとも炉の温度が約７５０℃の温度に到達するまで加熱するステップと、
Ｈ２、ＣＯ、エタノール及びメタンの一つからなるガスを炉内に流すステップと
をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記ガスが、約１５分間あるいはそれ以下で前記炉内に流されることを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記炉を約室温に冷却するステップと、
前記室温に冷却される間、前記炉内にアルゴンを流すステップと
をさらに有することを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１５】
マルチナノ構造体の装置であって、
マルチチップを備えた表面を有し、各々のチップが、基部とアペックスからなる第１基板と、
近接した端部と末端とを有し、前記端部が各々のチップから伸びているナノ構造体と、
表面を有し、各々のチップから表面までの距離が、実質的に前記ナノ構造物の末端に関連している第２基板と
を備えたことを特徴とする装置。
【請求項１６】
前記近接した端部が、実質的に各々のアペックスから垂直に延びていることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記各々のナノ構造物が、カーボンナノチューブからなることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１８】
前記各々のアペックスが、実質的に約９０°の角度で前記第１基板から離れて位置していることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１９】
前記第１基板の表面が、実質的に前記第２基板と平行であり、前記各々のカーボンナノチューブの最大長が、前記各々のチップからの表面の距離に関連していることを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
少なくとも前記各々のチップの部分上の被覆物と、少なくとも、触媒、遷移金属、遷移金属酸化物の一つからなる被覆物とをさらに備えたことを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ナノ構造体チップの製造方法及びその装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ナノ構造体チップの製造方法及びその装置に関し、より詳細には、カーボンナノチューブＡＦＭチップの製造方法及びその装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、ナノ構造体チップの製造方法及びその装置を提供することにある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月1日(2007.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、
前記基板上に作製される複数の集積回路、
前記集積回路の隣り合う回路の間に配置されるダイシングチャネルであって、前記集積回路の側壁を露出させるチャネル、
前記集積回路の上面および側壁の上に配置される第一の誘電体材料の層、および
前記第一の誘電体材料の層の上に配置される少なくとも一つの第二の誘電体材料の少なくとも一つの層を
含み、前記第一の誘電体材料は、前記第二の誘電体材料より少なくとも１０倍大きな臨界歪みエネルギー放出率またはクラック伝播エネルギーＧＣ値を有する半導体ウエハ。
【請求項２】
前記第一の誘電体材料はポリアリーレンエーテルである、請求項１に記載の半導体ウエハ。
【請求項３】
前記第二の誘電体材料は、ＳｉＮＸ、ＳｉＯ２、ＳｉＣ、ＴＥＯＳ、ＦＴＥＯＳ、ＦＳＧおよびＯＳＧからなる群から選ばれる、請求項１に記載の半導体ウエハ。
【請求項４】
前記ダイシングチャネルは、前記集積回路の側壁および前記基板の側壁を露出する、請求項１に記載の半導体ウエハ。
【請求項５】
前記第一の誘電体材料および前記第二の誘電体材料中に埋め込まれ、前記複数の集積回路と接触する複数の導電体をさらに含む、請求項１に記載の半導体ウエハ。
【請求項６】
前記導電体は、Ｓ字形、スプリング形、またはジョグ形である、請求項５に記載の半導体ウエハ。
【請求項７】
前記半導体ウエハは、前記少なくとも一つの第二の誘電体材料の複数の層を含む、請求項１に記載の半導体ウエハ。
【請求項８】
前記第二の誘電体材料の層の少なくとも一つはＳｉＯ２であり、前記第二の誘電体材料の層の少なくとも一つはＳｉＮＸである、請求項７に記載の半導体ウエハ。
【請求項９】
基板上に形成された集積回路チップの上にエッジシール構造物を形成させる方法であって、
前記集積回路チップを囲む切りみぞ領域中にチャネルをエッチングし、それによって、前記集積回路チップの側壁を露出させる工程、
前記集積回路チップ上および前記チャネル中に第一の誘電体材料の平坦化層を堆積させる工程、および
前記第一の誘電体材料の上に少なくとも一つの第二の誘電体材料を堆積させる工程を含み、
前記第一の誘電体材料は、前記第二の誘電体材料より少なくとも１０倍大きな臨界歪みエネルギー放出率またはクラック伝播エネルギーＧＣ値を有する方法。
【請求項１０】
導体を前記第一の誘電体材料および前記第二の誘電体材料中に埋め込む工程をさらに含む、請求項９に記載の方法。