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【手続補正書】
【提出日】平成19年8月15日(2007.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１および第２の部材間の接合部をシールするための環状シールリングであって、
径方向外側の円筒状壁、径方向内側の円筒状壁、軸方向に離間された前部および後部表面、径方向外側の円筒状壁と径方向内側の円筒状壁との間の略中間の位置において前部表面から外方に突出する環状リップシール、および後部表面から突出する取付セグメントを有する環状体と、
環状体内に完全に封入され、環状体のリップシールと後部表面との間の位置に配置した環状バネと、
を具備することを特徴とする、環状シールリング。
【請求項２】  後部表面から突出し、取付セグメントから離間されたスラスト抵抗セグメントをさらに具備することを特徴とする請求項１に記載の環状シールリング。
【請求項３】  環状バネは円錐台状バネであることを特徴とする請求項１に記載の環状シールリング。
【請求項４】  環状バネは、径方向外側の円筒状壁に近接する位置から径方向内側の円筒状壁に近接する位置まで延びることを特徴とする請求項１に記載の環状シールリング。
【請求項５】  スラスト抵抗セグメントは、径方向内側の円筒状壁に近接する位置における後部表面に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の環状シールリング。
【請求項６】  環状シールアセンブリであって、
長手方向軸を有する細長い円筒状部材上に並置して同軸に取り付けた第１および第２の部材であって、第１および第２の部材は長手方向軸の回りで互いに対して回動可能であり、第１の部材はその内部に画成されたカウンタボアを有する、第１および第２の部材と、
第１および第２の部材間に挿入し、カウンタボア内に配置する環状シールリングであって、径方向外側の円筒状壁、径方向内側の円筒状壁、軸方向に離間された前部および後部表面、第１の部材とシール接触して後部表面から突出する取付セグメント、および径方向外側の円筒状壁と径方向内側の円筒状壁との間の略中間位置において第２の部材とシール接触して前部表面から外方に突出する環状リップシールを有する、環状体を備えるシールリングと、
環状リップシールと軸方向に整列し、環状体内に完全に封入されている環状バネであって、環状体における環状リップシールと後部表面との間の位置に配置している、環状バネと、
を具備することを特徴とする、環状シールアセンブリ。
【請求項７】  後部表面から突出し、取付セグメントから離間されたスラスト抵抗セグメントをさらに具備することを特徴とする請求項６に記載の環状シールリング。
【請求項８】  環状バネは円錐台状バネであることを特徴とする請求項６に記載の環状シールリング。
【請求項９】  スラスト抵抗セグメントは、径方向内側の円筒状壁に近接する位置における後部表面に配置していることを特徴とする請求項７に記載の環状シールリング。
【請求項１０】  環状シールリングの環状体は高分子材料から形成されていることを特徴とする請求項６に記載の環状シールリング。
【請求項１１】  環状シールリングの環状体は約４５〜約５５のショアＤ硬さを有する材料から形成されていることを特徴とする請求項６に記載の環状シールリング。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月9日(2007.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  相並んで延びる少なくとも２つの管路を相関的に位置固定するためのホルダであって、当該ホルダが、管路（５）を収容するための２つまたはそれ以上の保持シェル（３，３′）を備えた下側部分（１）と、装入された管路（５）を締め込むための相応の対向シェル（４，４′）を備えた上側部分（２）と、該上側部分（２）と下側部分（１）とを結合するための係止手段とから成っている形式のものにおいて、互いに隣り合って位置する２つの保持シェル（３，３′）と、相応の対向シェル（４，４′）との間に両シェルの中心軸線に対して垂直に孔（１３）が設けられており、該孔（１３）の円筒面によって保持シェル（３，３′）と対向シェル（４，４′）とが切り込まれるように、孔（１３）の直径が寸法設定されており、孔（１３）を塞ぐピン（１４）が設けられており、該ピン（１４）が、管路（５）を締め込みかつ上側部分（２）と下側部分（１）とを結合した後で孔（１３）内に打込み可能であると同時に管外壁（１５）を変形させるようになっていることを特徴とする、ホルダ。
【請求項２】  請求項１記載の管路ホルダであって、両保持部分（１，２）が、一方の側において、肉薄のウェブ（６）を介してフィルムヒンジ形式で互いに結合されていて、下側部分（１）に突出部（７）をならびに上側部分（２）に切欠き（８）を有しており、該切欠き（８）内に突出部（７）が、上側部分（２）の降下時に係合するようになっている形式のものにおいて、保持部分（１，２）の反対の側で保持シェル（３′）の自由端部に、外向きに張り出した、該保持シェル（３′）から短い間隔を置いてほぼ直角に上方に案内された係止ウェブ（９）が一体成形されており、該係止ウェブ（９）の上側の端部で、内方に向けられた係止突起（１０）が張り出しており、これに対して、向かい合って位置する対向シェル（４′）の自由端部に、外向きに張り出した係止突起（１２）を備えた、下方に向けられたウェブ（１１）が一体成形されていることを特徴とする、請求項１記載の管路ホルダ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月24日(2007.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一種のアルカリ金属塩の水溶液を含むアノード隔室と、カソード隔室と、およびアノード隔室とカソード隔室を互いに分離する固体電解質とを含む電解槽であって、
アノード隔室と接触する固体電解質の表面部分、および／またはカソード隔室と接触する固体電解質の表面部分が、少なくとも一層のイオン伝導層をさらに持つことを特徴とする電解槽。
【請求項２】
(ａ）少なくとも一種のアルカリ金属塩がリチウム塩またはその二種以上の混合物であり、固体電解質が、リチウム−β−アルミニウムオキシド、リチウム−β”−アルミニウムオキシド、リチウム−β／β”−アルミニウムオキシド、ＮＡＳＩＣＯＮセラミックのリチウム類似体、ＬＩＳＩＣＯＮ、およびペロブスカイト構造をもつリチウムイオン伝導体からなる群より選択されるか、または
（ｂ）少なくとも一種のアルカリ金属塩がナトリウム塩またはその二種以上の混合物であり、固体電解質が、ナトリウム−β−アルミニウムオキシド、ナトリウム−β”−アルミニウムオキシド、ナトリウム−β／β”−アルミニウムオキシド、およびＮＡＳＩＣＯＮセラミックからなる群より選択されるか、または
（ｃ）少なくとも一種のアルカリ金属塩がカリウム塩またはその二種以上の混合物であり、固体電解質が、カリウム−β−アルミニウムオキシド、カリウム−β”−アルミニウムオキシド、カリウム−β／β”−アルミニウムオキシド、およびＮＡＳＩＣＯＮセラミックのカリウム類似体からなる群より選択される、請求項１に記載の電解槽。
【請求項３】
アノード隔室と接触する固体電解質の表面と関係する少なくとも一層のイオン伝導層が、重合体電解質、セラミック電解質、請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩のアルカリ金属イオンを挿入する化合物、またはこれらの二種以上の混合物である、請求項１または２に記載の電解槽。
【請求項４】
カソード隔室と接触する固体電解質の表面と関係する少なくとも一層のイオン伝導層が、アルカリ金属が請求項１に記載のアルカリ金属塩のアルカリ金属と同一であるアルカリ金属塩、請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩のアルカリ金属イオンを挿入する化合物、またはこれらの二種以上の混合物である、請求項１から３のいずれかに記載の電解槽。
【請求項５】
(ａ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がリチウム塩またはその二種以上の混合物であり、および
（ａａ）カソード隔室と接触する固体電解質の表面と関係するアルカリ金属塩が、ＬｉＯＨ、ＬｉＮＨ2、ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＬｉＩ、ＬｉＯＲおよびこれらの二種以上の混合物からなる群より選択され、
（ｂｂ）リチウムイオンを挿入する化合物がグラファイト、Ｃ6Ｌｉまたはこれらの混合物であるか、または
（ｂ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がナトリウム塩またはその二種以上の混合物であり、および
（ａａ）カソード隔室と接触する固体電解質の表面と関係するアルカリ金属塩が、ＮａＯＨ、ＮａＮＨ2、ＮａＣｌ、ＮａＢｒ、ＮａＩ、ＮａＯＲおよびこれらの二種以上の混合物からなる群より選択され、
（ｂｂ）ナトリウムイオンを挿入する化合物がグラファイト、Ｃ8Ｎａまたはこれらの混合物であるか、または
（ｃ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がカリウム塩またはその二種以上の混合物であり、および
（ａａ）カソード隔室と接触する固体電解質の表面と関係するアルカリ金属塩が、ＫＯＨ、ＫＮＨ2、ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＫＩ、ＫＯＲおよびこれらの二種以上の混合物からなる群より選択され、
（ｂｂ）カリウムイオンを挿入する化合物がグラファイト、Ｃ8Ｋまたはこれらの混合物であり、
Ｒが１から５個の炭素原子を有する直鎖または分枝のアルキルである、請求項４に記載の電解槽。
【請求項６】
(ａ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がリチウム塩かまたはその二種以上の混合物であり、カソードがリチウムからなり、または
（ｂ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がナトリウム塩かまたはその二種以上の混合物であり、カソードがナトリウムからなり、または
（ｃ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がカリウム塩かまたはその二種以上の混合物であり、カソードがカリウムからなる、請求項１から５のいずれかに記載の電解槽。
【請求項７】
カソードが鋼カソードであり、液体電解質、好ましくは溶融電解質により固体電解質から分離されている、請求項１から６のいずれかに記載の電解槽。
【請求項８】
(ａ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がリチウム塩またはその二種以上の混合物であり、溶融電解質が、溶融ＬｉＯＨであり、または（ｂ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がナトリウム塩またはその二種以上の混合物であり、溶融電解質が溶融ＮａＯＨ、溶融ＮａＮＨ2およびこれらの混合物からなる群より選択され、または
（ｃ）請求項１に記載の少なくとも一種のアルカリ金属塩がカリウム塩またはその二種以上の混合物であり、溶融電解質が溶融ＫＯＨ、溶融ＫＮＨ2およびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項７に記載の電解槽。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の電解槽を用いて、少なくとも一種のアルカリ金属の塩を含む水溶液からアルカリ金属を製造する方法。
【請求項１０】
少なくとも一種のアルカリ金属塩の水溶液が、アルカリ金属廃棄物から得られたものである、請求項９に記載された方法。
【請求項１１】
リチウム塩の水溶液が、リチウム廃棄物から得られたものである、請求項９に記載された方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月30日(2007.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  硬化性シリコーンベースのコーティング組成物であって、
Ａ．少なくとも２つのケイ素結合基Ｒ（式中、Ｒはオレフィン系不飽和炭化水素置換基、アルコキシ基またはヒドロキシル基を意味する）で末端ブロックされたオルガノポリシロキサンポリマー、
Ｂ．少なくとも３つのケイ素結合反応基を有する架橋有機ケイ素物質、
Ｃ．化合物Ａのケイ素結合基Ｒと化合物Ｂのケイ素結合反応基との間の反応を促すことが可能な触媒、
Ｄ．任意に非補強充填剤、ならびに
Ｅ．任意に最大３重量％までの補強充填剤
を含み、前記オルガノポリシロキサンポリマー（Ａ）が、ビニルメチルシロキサン単位を含有する重合度１５０以下のシロキサン主鎖を有し、また硬化時に、１５ｇ／ｍ２までの被覆重量で柔軟性コーティングに硬化可能であることを特徴とする当該組成物。
【請求項２】  シロキサン単位の１０〜５０モル％がビニルメチルシロキサン単位のオルガノシロキサン（Ａ）であることを特徴とする請求項１記載の硬化性コーティング組成物。
【請求項３】  シロキサン単位の１〜１０モル％がビニルメチルシロキサン単位であるオルガノポリシロキサン（Ａ）をさらに含む請求項２記載の硬化性コーティング組成物。
【請求項４】  オルガノポリシロキサン（Ａ）はビニルジメチルシロキシ末端基を含有し、さらに、２５℃で４〜１００ｍＰａ・ｓの粘度を有するα，ω−ビニルジメチルシロキシポリジメチルシロキサンポリマーを含む請求項１ないし３のいずれか記載の硬化性コーティング組成物。
【請求項５】  オルガノポリシロキサン（Ａ）は、ケイ素結合ビニル基およびケイ素結合ヒドロキシル基の両方を含有するポリシロキサンを含む請求項１ないし３のいずれかに記載の硬化性コーティング組成物。
【請求項６】  ビニル基およびヒドロキシル基の両方を含有する前記ポリシロキサンは、ヒドロキシ末端ポリ（ジメチル、ビニルメチルシロキサン）である請求項５記載の硬化性コーティング組成物。
【請求項７】有機ケイ素物質（Ｂ）は一般式（VIII）または（IX）：
【化１】
2003507588.tif 000001
（式中、Ｒ６は炭素原子数１０までのアルキルまたはアリール基を示し、Ｒ７は基Ｒ６または水素原子であり、ｐは０〜２０の値を有し、ｑは１〜７０の値を有し、そして１分子あたり少なくとも３つのケイ素結合水素原子が存在する）
を有するものから選択される請求項１ないし６のいずれかに記載の硬化性コーティング組成物。
【請求項８】  フィロシリケート、金属フレーク、エキスパンデッド黒鉛、層状石英、ゼオライト、粘土、マイカ、層状黒鉛、パイロフィライト、タルク、マイカ、バーミキュライトおよび緑粘土から選択される充填剤（Ｄ）を、オルガノポリシロキサン（Ａ）に基づいて５０〜１５０重量％含有する請求項１ないし７のいずれかに記載の硬化性コーティング組成物。
【請求項９】  請求項１ないし８のいずれかに記載の硬化性コーティング組成物が、１〜２５ｇ／ｍ２の厚みで、シリコーンベースエラストマーコーティングで予被覆された織布に適用され、柔軟性コーティングに硬化されることを特徴とするエラストマー生成組成物による編織布をコーティングする方法。
【請求項１０】 前記エラストマーコーティングは、請求項１ないし８のいずれかに記載のコーティング組成物の硬化生成物である１〜２５ｇ／ｍ２の柔軟性コーティングで、上塗りされることを特徴とするエラストマー被覆編織布。
【請求項１１】  請求項１０記載の被覆編織布を包含する、エアバッグ、膨張式安全カーテン、バルーンおよび落下傘から選択される膨張性安全拘束装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
硬化性シリコーンベースのコーティング組成物は、３重量％より多い強補強充填剤のいずれも含有しない。このような充填剤としてはシリカ、チタニア、石英粉末、アルミノシリケートおよび有機ケイ素樹脂が挙げられる。３重量％より多い量のこのような充填剤の存在は摩擦係数を非許容可能レベルに増大する、ということをわれわれは見出した。好ましくは、補強充填剤は存在しない。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月27日(2007.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  (a)主要量のメチルメタクリレートと少量の1種以上のエチレン系不飽和モノマーとのメチルメタクリレートコポリマーおよび
(b)このコポリマーの静電荷散逸性を助長させるのに有効量のポリエーテルエステルアミドを含み、このポリエーテルエステルアミドが前記コポリマーの屈折率の約0.005単位以内の屈折率を有し、
0.125インチ(0.3175 cm)厚のプラックとして射出成型したときに、得られたプラックが約25％を越えない曇り度と少なくとも約60％の光透過度を示すような実質的に透明で成型可能な熱可塑性マルチポリマー組成物。
【請求項２】  主要量のメチルメタクリレートと少量の1種以上のエチレン系不飽和モノマーとの実質的に透明で成型可能な熱可塑性メチルメタクリレートコポリマーの静電荷散逸性を助長させる方法において、
前記コポリマーを、前記コポリマーの静電荷散逸性を助長させるのに有効量のポリエーテルエステルアミドと混合する工程を含み；前記ポリエーテルエステルアミドが前記コポリマーの屈折率の約0.005単位以内の屈折率を有し、得られた前記コポリマーとポリエーテルエステルアミドとのブレンドを0.125インチ(0.3175 cm)厚のプラックとして射出成型したときに、得られたプラックが約25％を越えない曇り度と少なくとも約60％の光透過度を示すようにすることを特徴とする方法。
【請求項３】  主要量のメチルメタクリレートと少量の1種以上のエチレン系不飽和モノマーとの実質的に透明で成型可能な熱可塑性メチルメタクリレートコポリマーの静電荷散逸性を助長させる方法において、
前記コポリマーを、衝撃改良剤および前記コポリマーの静電荷散逸性を助長させるのに有効量のポリエーテルエステルアミドと混合する工程を含み；前記衝撃改良剤が前記コポリマーの屈折率の約0.005単位以内の屈折率を有し、前記ポリエーテルエステルアミドが前記コポリマーの屈折率の約0.005単位以内の屈折率を有し、得られた前記コポリマー、衝撃改良剤およびポリエーテルエステルアミドのブレンドを0.125インチ(0.3175 cm)厚のプラックとして射出成型したときに、得られたプラックが約25％を越えない曇り度と少なくとも約60％の光透過度を示すようにすることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月23日(2007.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリエーテルの製造方法であって、以下の工程
a）少なくとも１つの活性水素含有基を有する開始剤化合物をセシウム重合触媒と反応させて、活性水素含有基の水素原子の少なくとも一部をセシウムカチオンで置換してアルコキシド開始剤を形成すること、
b）前記アルコキシド開始剤を少なくとも１種のアルキレンオキシドと反応させて粗製ポリエーテルを形成すること、
c）エマルジョンが形成しかつセシウム重合触媒が水相中に溶解又は懸濁した水酸化セシウムに変換されるような条件下に、前記粗製ポリエーテルを水と混合すること、
d）前記エマルジョンが水酸化セシウムを含有する水性相と、セシウム重合触媒を実質的に含まないポリエーテル相とに分離されるような条件下に、前記エマルジョンを凝集媒質に通過させること、及び
e）工程d）において得られた水酸化セシウムの少なくとも一部を工程a）に再循環してもどすこと
を含む方法。
【請求項２】  工程d）において得られた水酸化セシウムを含有する水相を水の除去により濃縮することによって濃縮された水酸化セシウム溶液を形成し、そして濃縮された水酸化セシウム溶液を工程e）において工程a)に再循環させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  水酸化セシウムを含有する水相から除去された水の少なくとも一部を再循環し、工程c）において使用してエマルジョンを形成する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記凝集媒質が粒状二酸化ジルコニウムを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  粗製ポリエーテルを形成しかつこの粗製ポリエーテルからセシウム触媒を除去する方法であって、以下の工程
a）少なくとも１種の開始剤化合物及び有効量のセシウム重合触媒の存在下において少なくとも１種のアルキレンオキシドを重合させて粗製ポリエーテルを形成すること、
b）エマルジョンが形成するような条件下において、前記粗製ポリエーテルを水と混合すること、
c）エマルジョンが水酸化セシウムを含有する水相と、セシウム重合触媒を実質的に含まないポリエーテル相とに分離されるような条件下において、前記エマルジョンを凝集媒質に通過させること、
d）減圧及び高温を含む条件下においてポリエーテル相から残留水を除去して、部分的に精製されたポリエーテルと、アルキレンオキシドを含有するが他の無機不純物を実質的に含まない水再循環流体を生成すること、
e）水再循環流体の少なくとも一部分を工程b）に再循環して戻すこと、及び
f）工程d）からの部分的に精製されたポリエーテルを処理して残留水、アリルアルコール及び他の有機不純物を除去すること
を含む方法。
【請求項６】  前記アルキレンオキシドがプロピレンオキシドを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記凝集媒質が粒状二酸化ジルコニウムを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  工程c）において得られたセシウム触媒を含有する水相からのセシウム触媒を工程a）に再循環させる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  粗製ポリエーテルを凝集プロセスに付すまでの重合反応が完結する間粗製ポリエーテルを保持する、重合反応において粗製ポリエーテルを製造し、凝集プロセスにおいて粗製ポリエーテルからセシウム触媒を除去する方法であって、以下の工程
a）少なくとも１種の開始剤化合物及び有効量のセシウム重合触媒の存在下において少なくとも１種のアルキレンオキシドを重合させて、セシウム重合触媒残留物を含有する粗製ポリエーテルを生成すること、
b）前記粗製ポリエーテルを十分な水と混合して、セシウム触媒残留物を水中に溶解又は懸濁した水酸化セシウムに変換し、これによりポリエーテルと水性水酸化セシウムの溶液又は懸濁液を形成すること、
c）エマルジョンが形成するような、必要に応じて、より多くの水を添加することを含む条件に、ポリエーテルと水酸化セシウム溶液との混合物を暴露すること、
d）工程c）の前又は後に、ポリエーテルとアルカリ金属水酸化物溶液との混合物を所定の時間の間保持すること、及び
e）エマルジョンが水酸化セシウムを含有する水性相と、セシウム重合触媒を実質的に含まないポリエーテル相とに分離されるような条件下において、前記エマルジョンを凝集媒質に通過させること
を含む方法。
【請求項１０】  粗製ポリエーテルを凝集プロセスに付すまでの重合反応が完結する間の保持期間が少なくとも４時間である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  工程e）において得られたセシウム触媒を含有する水相からの水の少なくとも１部を工程b）、工程c）又は工程b）及びc）の両方に再循環して戻す、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記凝集媒質が粒状二酸化ジルコニウムである、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】  工程e）において得られたセシウム触媒を含有する水相からの水の少なくとも１部を工程a）に再循環して戻す、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  非酸化性雰囲気下において実施する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  非酸化雰囲気下において実施する、粗製ポリエーテルを製造し、この粗製ポリエーテルからセシウム触媒を除去する方法であって、以下の工程
a）少なくとも１種の多価開始剤化合物及び有効量のセシウム重合触媒の存在下において少なくとも１種のアルキレンオキシドを重合させて、粗製ポリエーテルを形成すること、
b）エマルジョンが形成するような条件下において、前記粗製ポリエーテルを水と混合すること、及び
c）エマルジョンが水酸化セシウムを含有する水相と、セシウム重合触媒を実質的に含まないポリエーテル相とに分離されるような条件下において、前記エマルジョンを凝集媒質に通過させること
を含む方法。
【請求項１６】  前記凝集媒質が粒状二酸化ジルコニウムを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  セシウム触媒を含有する水相からの水を工程b）に再循環させる、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  粗製ポリエーテルからセシウム触媒を除去する方法であって、以下の工程
a）エマルジョンが形成するような条件下において、セシウム触媒残留物を含有する粗製ポリエーテルを十分な水と混合してエマルジョンを形成すること、及び
b）エマルジョンが水酸化セシウムを含有する水性相と、セシウム重合触媒を実質的に含まないポリエーテル相とに分離されるような条件下において、前記エマルジョンをジルコニウム酸化物と接触させること
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月3日(2007.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】組成物であって、ｉ．）ポリフェニレンエーテル及びポリスチレンからなる群より選択されるポリマー、
ｉｉ．）アミン又はカルボン酸末端基を含有する少なくとも１つの他のポリマー、及び
ｉｉｉ．）グリシジル−官能化されたニトロキシル開始剤の存在下において少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーのフリーラジカル重合により調製されるオリゴマー、ポリマー、コオリゴマー又はコポリマー
を含む組成物。
【請求項２】均質ブレンド条件で
ｉ．）ポリフェニレンエーテル及びポリスチレンからなる群より選択されるポリマー、
ｉｉ．）アミン又はカルボン酸末端基を含有する少なくとも１つの他のポリマー、
ｉｉｉ．）グリシジル−官能化されたニトロキシル開始剤の存在下において少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーのフリーラジカル重合により調製されるオリゴマー、ポリマー、コオリゴマー又はコポリマー、及び
ｉｖ．）任意の他の添加剤
をブレンドすることを含む高相溶性ポリフェニレンエーテル−ポリアミド混合物の調製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月12日(2007.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  カレンダ掛け装置が後続するヤンキーシリンダを含む抄紙機または板紙抄紙機における紙ウエブおよび／または板紙ウエブの表面処理方法において、該ウエブをヤンキーシリンダによって先ず艶出しおよび乾燥を行ない、その後、シューカレンダ掛け装置もしくはエクステンデッドニップカレンダ掛け装置によって前記ウエブを直ちにカレンダ掛けすることを特徴とする紙ウエブおよび／または板紙ウエブの表面処理方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法において、所定の紙品質もしくは板紙品質を達成しようとする場合、用いる運転速度と、前記ヤンキーシリンダの蒸発能力に依存する最大運転速度との差をカレンダ掛けによって補償する、すなわち前記ヤンキーシリンダの後のカレンダ掛けによって該ヤンキーシリンダの運転速度を、品質、すなわち処理される紙もしくは板紙の光沢および平滑度を損なうこと無しに増大させることができることを特徴とする表面処理方法。
【請求項３】  請求項１に記載の方法において、前記ヤンキーシリンダにより艶出しした前記ウエブの表面を前記カレンダ掛け装置において艶出しすることを特徴とする表面処理方法。
【請求項４】  カレンダ掛け装置が後続するヤンキーシリンダを含む抄紙機または板紙抄紙機における紙および／または板紙の表面処理装置において、該装置は、機械方向に先ずヤンキーシリンダを配置し次いでカレンダ掛け装置を配置した組合せによって形成され、該カレンダ掛け装置はシューカレンダ掛け装置もしくはエクステンデッドニップカレンダ掛け装置によって形成されることを特徴とする紙および／または板紙の表面処理装置。
【請求項５】  請求項４に記載の装置において、所定の紙品質もしくは板紙品質を達成しようとする場合、用いる運転速度と、前記ヤンキーシリンダの蒸発能力に依存する最大運転速度との間の差を前記カレンダ掛け装置によって補償する、すなわち前記ヤンキーシリンダの後に配した該カレンダ掛け装置によって運転速度を、品質、すなわち紙もしくは板紙の光沢および平滑度を損なうこと無しに増大させることができることを特徴とする表面処理装置。
【請求項６】  請求項４に記載の装置において、前記カレンダ掛け装置は、前記ヤンキーシリンダによって艶出しされたウエブの表面を艶出しすることを特徴とする表面処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも２リットルの容積のポリエチレン容器の製造方法であって、バイモーダルHDPEをブロー成形することを含み、該HDPEがエチレンホモポリマーおよびエチレンコポリマーを含む、上記方法。
【請求項２】  該HDPEが、重量平均分子量20,000〜40,000Dを有するエチレンホモポリマーを含む請求項１記載の方法。
【請求項３】  該HDPEが、945〜975 kg/m3の密度を有する請求項１または２記載の方法。
【請求項４】  該HDPEが、945〜960 kg/m3の密度、250,000〜350,000Dの重量平均分子量、7,000〜18,000Dの数平均分子量、18〜50の分子量分布、３〜８g/10分のMFR21、少なくとも900mPaの引張り弾性率および１〜２重量％のコモノマー含量を有する請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  少なくとも２リットルの容積および、少なくとも500時間のESCR F50を有する、ブロー成形したバイモーダルHDPE容器であって、該HDPEがエチレンホモポリマーおよびエチレンコポリマーを含む、上記容器。
【請求項６】  少なくとも８リットルの容積を有する請求項５記載の容器。
【請求項７】  該バイモーダルHDPEが以下の特性：
940〜970 kg/m3の密度；
200,000〜450,000Dの重量平均分子量；
6,000〜20,000Dの数平均分子量；
15〜55の分子量分布；
２〜12g/10分のMFR21；
少なくとも900mPaの引張り弾性率；および
0.5〜10重量％のコモノマー含量
を有する、請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月13日(2007.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）固体である特定の反応体のナノ規模粒子を圧密し、予め選択された化学量論比の素地にするステップと、
（ｂ）（ｉ）前記固体微粒子反応体からの反応生成物の合成が開始する温度になるまで前記素地のジュール熱を生じるように、前記素地に十分な強度の電流を通すこと、及び（ｉｉ）前記反応生成物の相対密度が前記素地の相対密度よりも実質的に大きくなるような十分高い圧力を前記素地に加えること、を同時に行うステップと、
を含む、ナノ結晶材料を同時に合成及び高密化する方法。
【請求項２】  直径が１ミクロン以上のサイズの粒子を粉砕することによって前記ナノ規模粒子を形成することを更に含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記ナノ規模粒子の直径が２００ｎｍ未満である、請求項１記載の方法。
【請求項４】  前記ナノ規模粒子の直径が１０ｎｍ〜２００ｎｍである、請求項１記載の方法。
【請求項５】  前記電流が１０００Ａ〜２５００Ａである、請求項１記載の方法。
【請求項６】  前記電流が１２００Ａ〜１８００Ａである、請求項１記載の方法。
【請求項７】  前記圧力が３０ＭＰａ〜３００ＭＰａである、請求項１記載の方法。
【請求項８】  前記圧力が５０ＭＰａ〜２００ＭＰａである、請求項１記載の方法。
【請求項９】  前記圧力が７０ＭＰａ〜１１０ＭＰａである、請求項１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【表４】
2003507571.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  長手方向軸を画成し、第１表面と第２表面とを有する細長い延伸剥離式接着剤テープを含む細長い延伸剥離式接着剤テープ物品であって、該第１表面が該長手方向軸の方向に細長く、略平行に配置された細長い連続接着剤領域および１つあるいは複数の接着剤テープ幅よりも狭い該長手方向軸と略平行に配置されている細長い非接着剤領域を含み、該非接着剤領域の少なくとも一部が、ユーザが該テープを装着された基材から延伸除去する際、把持して該長手方向に延伸させることのできる、該長手方向軸に沿って配置されたプルタブを含むテープ物品。
【請求項２】  前記細長い非接着剤領域が連続である、請求項１に記載のテープ物品。
【請求項３】  前記延伸剥離式接着剤テープに沿って断続的に形成され、前記長手方向軸から略横方向に延在する破断可能な接合部を更に含む、請求項１に記載のテープ物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月1日(2007.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  I）一般式（I）：
【化１】
2003507564.tif 000001
〔式中、
Ｒ1は、Ｃ1〜Ｃ18アルキルおよび／またはＣ6〜Ｃ20アリールであり、分子中でＲ1は同じでもまたは異なっていても良く、
Ｘは、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ6〜Ｃ20アリールオキシ、Ｃ1〜Ｃ6アシルオキシ、好ましくはＯＨ、メトキシまたはエトキシからなる群から選ばれる基であり、
ｎは、０〜２であり、
ｍは、２〜６であり、
ｐは、２以上の整数であり、
Ｗは、直鎖、環式または分枝のシランまたはシロキサンのいずれかである。〕
で表される多官能性カルボシランおよび／またはカルボシロキサン、および／またはそれらの（部分）縮合生成物、
II）ＯＨ官能性溶媒中で固形分が少なくとも４０質量％、好ましくは少なくとも５０質量％である、一般式（II）：
【化２】
2003507564.tif 000002
〔式中、
Ｍは、Ｓｉ、Ｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｚｎ、好ましくはＳｉであり、
Ｒ2は、Ｏ、Ｎ、Ｓ、Ｐからなる群からの少なくとも１種により置換されていても良い、同じまたは異なる非加水分解性Ｃ1〜Ｃ14アルキル基またはＣ6〜Ｃ20アリール基であり、
Ｙは、加水分解性基、好ましくはＣ1〜Ｃ8アルコキシまたはＣ2〜Ｃ8アシルオキシ、特に好ましくはＣ1〜Ｃ2アルコキシであり、
ａは、０〜３、好ましくは０または１であり、
ｂは、１〜４であり、ａ＋ｂは、３または４である。〕
で表される１種またはそれ以上の加水分解性化合物の重縮合生成物、
III）一般式（III）：
【化３】
2003507564.tif 000003
〔式中、
Ｚは、ヒドロキシまたはＣ1〜Ｃ4アルコキシであり、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ18アルキルまたはアルケニルであり、分子中でＲ3は同じでもまたは異なっていても良く、
ｃは、１〜６０、好ましくは３〜２５である。〕
で表されるα,ω-官能性直鎖オリゴシロキサン、
IV）酸性触媒、塩基性触媒または金属触媒からなる群から、好ましくは塩酸、硫酸、ｐ-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、酢酸またはギ酸のような酸からなる群から選ばれる触媒、
並びに、任意に、
V）無機フィラーおよび／または無機ナノ粒子、および
VI）塗料技術に属する通常の補助物質
を少なくとも含有する塗料組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月26日(2007.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １本の延伸剥離式接着剤テープと、該１本のテープから切断される別個のストリップの選択箇所に手動で係合可能なプルタブを形成するために利用可能なライナとを含む延伸剥離式接着剤テープ物品であって、
（ａ）第１および第２の互いに反対に向く主面を有し、少なくとも該第１の主面が接着性を有する細長い１本の延伸剥離式テープと、
（ｂ）該第１の接着剤表面上に配置された第１のライナであって、隣接する片から分離されて個々に該第１の接着剤表面から除去されることにより、該第１の接着剤表面の選択部分を露出させることができ、ユーザが該テープを基材から延伸除去する際に把持できるプルタブとして機能するように、少なくとも１枚の片を該第１の接着剤表面に接着した状態で残すことのできる複数片に該ライナを分割する少なくとも１つの破断可能な接合部を含むライナと、
を含む接着剤テープ物品。
【請求項２】  前記テープの第１および第２の表面がそれぞれ接着性を有する、請求項１に記載の接着剤テープ物品。
【請求項３】  前記ライナの幅が、前記テープの幅のおよそ２倍であることにより、前記第１のライナを、前記第１の接着剤表面の反対側である前記第２の表面上に折り曲げて前記プルタブを形成することができる、請求項１に記載の接着剤テープ物品。
【請求項４】  １本の延伸剥離式接着剤テープと、該１本のテープから切断される別個のストリップの選択箇所に手動で係合可能なプルタブを形成するために利用可能な複数枚のライナとを含む延伸剥離式接着剤テープ物品であって、
（ａ）第１および第２の互いに反対に向く主面を有し、少なくとも該第１の主面が接着性を有する細長い１本の延伸剥離式テープと、
（ｂ）該第１の接着剤表面上に配置された複数枚のライナであって、各該ライナが該第１の接着剤表面から選択的に除去可能であることにより、該第１の接着剤表面の選択部分を露出させ、ユーザが該テープを基材から延伸除去する際に把持できるプルタブとして機能するように少なくとも１枚の片を該第１の接着剤表面に接着した状態で残すことのできるライナと、
を含む接着剤テープ物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月5日(2007.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の全量基準で５重量パーセントから３０重量パーセント未満までの、少なくとも０．８５グラム／立方センチメートルの密度及び３０ｄｇ／分より小さいメルトフローインデックスを有する、エチレンと少なくとも１種のＣ３〜Ｃ２０α−オレフィンとの均一な線状又は実質的に線状の共重合体並びに
（ｂ）（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の全量基準で５０重量パーセントから８０重量パーセントまでの粘着付与樹脂並びに
（ｃ）（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の全量基準で５重量パーセントから３５重量パーセントまでの可塑剤
を含む、ホットメルト感圧接着剤。
【請求項２】  請求項１に記載の接着剤を含有する吸収性物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月15日(2007.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザと、
可飽和ブラッグ反射器を含む反射ミラーを有する光共振キャビティと
を備えてなる１０００フェムト秒未満の短パルスを発生可能なレーザ。
【請求項２】
請求項１に記載のレーザにおいて、
前記半導体レーザが埋込みヘテロ構造多重量子井戸レーザを含む
ことを特徴とするレーザ。
【請求項３】
請求項２に記載のレーザにおいて、
前記埋込みヘテロ構造多重量子井戸レーザがＩｎＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓＰ／ＩｎＰ埋込みヘテロ構造多重量子井戸レーザを含む
ことを特徴とするレーザ。
【請求項４】
請求項３に記載のレーザにおいて、
前記ＩｎＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓＰ／ＩｎＰ埋込みヘテロ構造多重量子井戸レーザが有機金属気相エピタキシを使用して製作される
ことを特徴とするレーザ。
【請求項５】
請求項１に記載のレーザにおいて、
前記光共振キャビティが外部キャビティである
ことを特徴とするレーザ。
【請求項６】
請求項１に記載のレーザにおいて、
前記光共振キャビティが内部キャビティである
ことを特徴とするレーザ。
【請求項７】
請求項６に記載のレーザにおいて、
前記内部キャビティが反共振ファブリ−ペロ可飽和吸収体を含む
ことを特徴とするレーザ。
【請求項８】
請求項７に記載のレーザであって、さらに、
前記内部キャビティ内に配置された一対の回折ブラッグ反射器を含んでなり、
前記反共振ファブリ−ペロ可飽和吸収体が前記一対の回折ブラッグ反射器の間に配置されている
ことを特徴とするレーザ。
【請求項９】
請求項７に記載のレーザであって、さらに、
前記内部キャビティ内の前記反共振ファブリ−ペロ可飽和吸収体に向けて光を導く傾斜したモノリシックミラーを含んでなる
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１０】
請求項８に記載のレーザであって、さらに、
前記内部キャビティ内の前記一対の回折ブラッグ反射器間に配置された前記反共振ファブリ−ペロ可飽和吸収体に向けて光を導く傾斜したモノリシックミラーを含んでなる
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１１】
請求項７に記載のレーザであって、さらに、
ベース基板を含んでなり、
前記反共振ファブリ−ペロ可飽和吸収体が前記ベース基板に配置され、前記半導体レーザが前記反共振ファブリ−ペロ可飽和吸収体に配置されている
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１２】
請求項７に記載のレーザであって、さらに、
ベース基板を含んでなり、
前記半導体レーザが前記ベース基板に配置され、前記反共振ファブリ−ペロ可飽和吸収体が前記半導体レーザに配置されている
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１３】
請求項１に記載のレーザにおいて、
前記可飽和ブラッグ反射器が、基板と、前記基板に配置されたブラッグスタックと、前記ブラッグスタックに配置された多重量子井戸とを含んで構成されている
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１４】
請求項１３に記載のレーザにおいて、
前記基板がＧａＡｓで構成され、前記ブラッグスタックがＧａＡｓ／ＡｌＡｓの多層で構成され、そして前記多重量子井戸がＩｎＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓＰの多層で構成されている
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１５】
請求項１に記載のレーザであって、
さらに、前記半導体レーザからの出力を受け取り伝送するために前記半導体レーザに光学的に結合された分散性光ファイバを含んでなり、
もって、周波数チャープを低減する
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１６】
請求項１５に記載のレーザにおいて、
前記光ファイバは長さを有し、その長さが前記半導体レーザからの前記出力のパルス幅を最小にするように選択されている
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１７】
半導体埋込みヘテロ構造多重量子井戸レーザと、
光共振キャビティのための反射ミラーとしての可飽和ブラッグ反射器を有する外部光共振キャビティと
を備えてなるレーザ。
【請求項１８】
請求項１７に記載のレーザにおいて、
前記可飽和ブラッグ反射器が、基板と、前記基板に配置されたブラッグスタックと、前記ブラッグスタックに配置された多重量子井戸とを含んで構成されている
ことを特徴とするレーザ。
【請求項１９】
請求項１８に記載のレーザにおいて、
前記基板がＧａＡｓで構成され、前記ブラッグスタックがＧａＡｓ／ＡｌＡｓの多層で構成され、そして前記多重量子井戸がＩｎＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓＰの多層で構成されている
ことを特徴とするレーザ。
【請求項２０】
請求項１７に記載のレーザであって、さらに、
前記半導体レーザからの出力を受け取り伝送するために前記半導体レーザに光学的に結合された分散性光ファイバを含んでなり、
もって、周波数チャープを低減する
ことを特徴とするレーザ。
【請求項２１】
モードロックレーザにおいて１０００フェムト秒未満の短いレーザパルスを発生させる方法であって、
半導体レーザを提供するステップと、
可飽和ブラッグ反射器を含む反射ミラーを有する外部光共振キャビティを提供するステップと、
前記光共振キャビティを前記半導体レーザと整合させて結合するステップと、
外部キャビティの整合具合、前記半導体レーザにおけるオンチップ可飽和吸収体の逆バイアス電圧および前記半導体レーザにおける利得部の順方向利得電流を調整して、安定な光パルス出力を得るステップと、
前記順方向利得電流および逆バイアス電圧をバイアス設定して、前記安定な光パルス出力のパルス幅を最小にするステップと
を含んでなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月2日(2007.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ネットワークスイッチ構成であって、
複数のマルチポートネットワークスイッチと、
複数のローカルバッファメモリとを含み、前記複数のローカルバッファメモリの各々は、対応するマルチポートネットワークスイッチと結合され、前記ネットワークスイッチ構成はさらに
前記複数のネットワークスイッチを連結式に接続する単方向データバスリングを含み、各マルチポートネットワークスイッチは、対応する受信されたデータフレームを均等の長さのセグメントへと区分しかつ、前記マルチポートネットワークスイッチのうち別の少なくとも１つの前記ローカルバッファメモリでの記憶のために、前記単方向データバスリングを通じて前記マルチポートネットワークスイッチの前記別の少なくとも１つへと前記均等の長さのセグメントの少なくとも１つを転送するように構成される、ネットワークスイッチ構成。
【請求項２】 各々の対応するネットワークスイッチを前記単方向データバスリングに接続するように構成された対応する外部メモリインターフェイスを有する前記複数のネットワークスイッチの各々をさらに含み、各外部メモリインターフェイスはまた、対応するネットワークスイッチに関連付けられた各ローカルバッファメモリにセグメントを読出しかつ書込むように構成される、請求項１に記載のネットワークスイッチ構成。
【請求項３】  前記複数のネットワークスイッチの各々を接続するアドレスバスをさらに含み、前記アドレスバスは、各々の前記複数のローカルバッファメモリ内の特定のメモリ位置を指し示すメモリアドレス位置ポインタを送信するように構成される、請求項１に記載のネットワークスイッチ構成。
【請求項４】  前記アドレスバスは、前記ローカルバッファメモリ内で前記均等の長さのセグメントを検索することと、これを記憶することとのうち少なくとも１つを目的として、前記メモリアドレス位置ポインタを送信するように構成される、請求項３に記載のネットワークスイッチ構成。
【請求項５】  前記ネットワークスイッチは、送信がなされる連続時間スロット中に前記データフレームのセグメントを各々保持および送信するように構成される、請求項１に記載のネットワークスイッチ構成。
【請求項６】  前記単方向データバスリングは６４ビットデータバスである、請求項１に記載のネットワークスイッチ構成。
【請求項７】  前記単方向データバスリングは１００ＭＨｚのクロック速度で動作する、請求項１に記載のネットワークスイッチ構成。
【請求項８】  前記アドレスバスは１８ビットデータバスである、請求項３に記載のネットワークスイッチ構成。
【請求項９】 所定のプロトコルに従い前記単方向データバスリングを通じて前記複数のネットワークスイッチのうちの別のものへの、均等の長さのセグメントの前記送信を制御するように構成されかつ、前記それぞれのローカルバッファメモリにおけるデータセグメントの前記読出および書込を制御するようにもまた構成されたスケジューラを有する前記複数のネットワークスイッチの各々をさらに含み、
前記スケジューラは、セグメントが前記それぞれのネットワークスイッチ内に保持されるよう指示し、またセグメントが前記所定のプロトコルに従い決定された所定の時間スロット中に前記単方向データバスを通じて送信されるよう指示し、前記スケジューラはまた、前記所定のプロトコルに従いローカルバッファメモリへのセグメントの前記書込およびこれからの前記読出を指示する、請求項１に記載のネットワークスイッチ構成。
【請求項１０】  データフレームを受信および送信する方法であって、
複数のスイッチのうちの第１のスイッチでデータフレームを受信するステップと、
前記データフレームが受信されると、これを複数の均等のデータセグメントへと区分するステップと、
前記複数の均等のデータセグメントのうちの第１のデータセグメントを、第１の時間スロット中に前記複数のスイッチのうちの前記第１のスイッチで保持するステップと、
前記複数のスイッチを接続する単方向バスリングを通じて前記複数のスイッチのうちの第２のスイッチへと第２のデータセグメントを転送し、かつ第２の時間スロット中に前記第２のデータセグメントを前記第２のスイッチで保持するステップと、
前記バスリングを通じて前記複数のスイッチのうちの第３のスイッチへ前記第２のデータセグメントを転送し、前記バスリングを通じて前記第２のスイッチへと第３のデータセグメントを転送し、かつ第３の時間スロット中に前記第１のスイッチで前記第３のデータセグメントを保持するステップと、
前記第３の時間スロットの終わりに、前記複数のスイッチに結合されたメモリ装置で前記第１、第２および第３のデータセグメントをそれぞれ記憶するステップとを含む、方法。
【請求項１１】  第４の時間スロット中に前記それぞれのメモリ装置から前記複数の均等の単位セグメントを検索するステップと、
前記第４の時間スロットの後、これに続く連続時間スロット中に前記単方向バスを通じて所定のプロトコルに従い前記複数のスイッチの１つまたはそれ以上へと、前記データフレームを構成する前記検索された単位セグメントのすべてを送信するステップと、
前記１つまたはそれ以上の前記複数のスイッチ内のすべての前記セグメントを、ネットワークにわたって送信するために前記スイッチ内のポートへと転送するステップとをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  データフレームを受信および記憶する方法であって、
（ａ）  データバスリングに接続されたネットワークスイッチでデータフレームを受信するステップと、
（ｂ）  前記データフレームを複数の均等のデータセグメントへと分割するステップと、
（ｃ）  前記データセグメントを前記ネットワークスイッチ内に保持すべきかまたは前記データバスリングに接続された１つまたはそれ以上の他のネットワークスイッチへと転送すべきかを、所定のプロトコルに従い前記複数のデータセグメントの各々に関して決定するステップと、
（ｄ）  前記ステップ（ｃ）で転送されるよう決定されたデータセグメントを、前記１つまたはそれ以上の他のネットワークスイッチへと送信するステップと、
（ｅ）  前記ネットワークスイッチの各々に対応するローカルバッファメモリで、前記
複数のデータセグメントのすべてを同時に記憶するステップとを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月23日(2007.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子パッケージであって、
第１面と第２面とを有し、複数の相互接続パッドを画定するようにパターニングされる導電トレース層と、
該導電トレース層の該第１面に取付けられる誘電体層と、
第１導電層と、第２導電層と、該第１導電層と該第２導電層との間に配置される誘電体材料の層と、を有し、該第１導電層が該導電トレース層の該第２面に取付けられるコンデンサと、
該コンデンサの該第１導電層と該誘電体材料層とを通って延在する複数の相互接続領域と、
該コンデンサの該導電層の各々と該相互接続パッドの対応するセットとの間に接続された相互接続部材であって、該コンデンサの該第１導電層が該相互接続パッドの第１セットに電気的に接続され、該コンデンサの該第２導電層が該相互接続パッドの第２セットに電気的に接続され、相互接続パッドの該第２セットに対応する相互接続部材が、該相互接続領域のうちの１つを通って延在する、相互接続部材と、
を具備することを特徴とする電子パッケージ。
【請求項２】
前記コンデンサの前記第２導電層を支持する電気的導電補強部材と、前記誘電体層、前記導電トレース層および該コンデンサを通って延在する機器収容領域と、をさらに具備し、該補強部材の該機器収容領域に取付けられる電子機器をさらに具備することを特徴とする、請求項１記載の電子パッケージ。
【請求項３】
前記コンデンサの前記誘電体材料が、５μｍから３０μｍまでの厚さを有することを特徴とする、請求項１又は２のいずれか１項に記載の電子パッケージ。
【請求項４】
前記誘電体材料が、高誘電率粒子と混合された非導電重合体から作製され、該高誘電率粒子が、チタン酸バリウム、チタン酸バリウムストロンチウム、酸化チタン、チタン酸ジルコン鉛および酸化タンタルからなるグループから選択された材料から形成されていることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電子パッケージ。
【請求項５】
電子パッケージであって、
第１面と第２面とを有し、複数の相互接続パッドを画定するようにパターニングされた導電トレース層と、
該導電トレース層の該第１面に取付けられたフレキシブル誘電体層と、
第１導電層と、第２導電層と、該第１導電層と該第２導電層との間に配置された誘電体材料の層と、を有し、該第１導電層が該導電トレース層の該第２面に取付けられるフレキシブルコンデンサと、
該コンデンサの該第１導電層と該誘電体材料層とを通って延在する複数の相互接続領域と、
該コンデンサの該導電層の各々と該相互接続パッドの対応するセットとの間に接続された相互接続部材であって、該コンデンサの該第１導電層が該相互接続パッドの第１セットに電気的に接続され、該コンデンサの該第２導電層が該相互接続パッドの第２セットに電気的に接続され、相互接続パッドの該第２セットに対応する相互接続部材が、該相互接続領域のうちの１つを通って延在する、相互接続部材と、
該相互接続パッドの各々に隣接する該誘電体層を通って延在する孔と、
該コンデンサの該第２導電層に隣接して取付けられる補強部材と、
該誘電体層、該導電トレース層および該コンデンサを通って形成される機器収容領域と、
を具備することを特徴とする電子パッケージ。