【手続補正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークピースに対向して置かれた光学素子を介して像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ装置用液体噴射回収システムであって、露光領域が前記光学素子及び前記ワークピースとの間に画定されており、前記システムは、
前記露光領域に近接して位置付けられた開口部を備える複数のノズル列と；
流体制御デバイスであって、前記露光領域の一つまたはそれより多くの選択された側の一つまたはそれより多くのノズルをソースノズルとして選択し、且つ流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと前記光学素子の両方に接触するように、前記ソースノズルを介して前記流体を前記露光領域に供給させる流体制御デバイスとを；備える液浸リソグラフィ装置用液体噴射回収システム。
【請求項２】
前記流体制御デバイスはまた前記ノズルのうち選択された他のノズルを介して前記流体を前記露光領域から回収するよう機能する請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記流体制御デバイスは、前記ノズル列のうち前記露光領域の特定の側の一つの列を介して前記流体を露光領域に供給させ、且つ前記ノズル列のうち前記露光領域の対向する側の別の列を介して前記流体を露光領域から取り除く請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記流体制御デバイスは、前記ノズル列のうち、前記露光領域の互いに直交し隣接する特定の二つの側の二つの列を介して前記流体を露光領域に供給させ、且つ、前記ノズル列のうち前記露光領域の対向する側の列を介して前記流体を露光領域から取り除く請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記流体制御デバイスは、前記ノズル列のうち前記露光領域の互いに対向する二つの特定の側の二つの列を介して前記流体を露光領域に供給させ、且つ、前記ノズル列のうち前記露光領域の前記特定の側と直交する残りの側の他の列を介して前記流体を露光領域から取り除く請求項２に記載のシステム。
【請求項６】
前記列は前記露光領域の周囲全体を実質的に取り囲み、上記流体制御デバイスは全ての列を介して前記流体を露光領域に供給させる請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記光学素子は、接触面にわたって互いに接触し且つ前記接触面上に形成された流路を有する一対の光学プレートを備え、前記流路は前記露光領域に接続し、前記流体制御デバイスは前記流体を前記流路を通過させる請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
ワークピースに対向して置かれた光学素子を介して像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ装置用液体噴射回収システムであって、露光領域が前記光学素子及び前記ワークピースとの間に画定されており、前記システムは、
前記露光領域を取り囲み且つ露光領域に近接して位置付けられた開口部を備える流体供給ノズル列と；
前記流体供給ノズル列を取り囲む流体回収ノズル列と；
流体制御デバイスであって、流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと前記光学素子との両方に接触するように、前記流体供給ノズル列から選択された一つまたはそれより多くの流体供給ノズル列を介して流体を前記露光領域に供給させ、且つ前記流体回収ノズル列から選択された一つまたはそれより多くの流体回収ノズル列を介して前記流体を前記露光領域から回収する流体制御デバイスとを；備える液浸リソグラフィ装置用液体噴射回収システム。
【請求項９】
前記流体回収ノズル列は、前記露光領域に対して解放されている溝に開通している請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記光学素子は、接触面にわたって互いに接触し且つ前記接触面上に形成された流路を有する一対の光学プレートを備え、前記流路は露光領域に接続し、前記流体制御デバイスは流体を流路を通過させる請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
ワークピースに対向して置かれた光学素子を介して像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ方法であって、露光領域が前記光学素子及び前記ワークピースとの間に画定されており、前記方法は、
前記露光領域に近接して位置付けられた開口部を備えたノズル列であって、各ノズルがソースノズルまたは回収ノズルとして選択的に機能するよう適合されているノズル列を設ける工程と；
少なくとも前記像のパターンが前記光学素子を介して前記ワークピース上に投影されている間は、流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと前記光学素子の両方に接触するように、前記ノズル列から選択されたノズルを介して流体を前記露光領域に供給する工程とを；含む液浸リソグラフィ方法。
【請求項１２】
前記ノズルのうち選択された他のノズルを介して前記流体を前記露光領域から回収する工程をさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記流体は、前記ノズル列のうち前記露光領域の特定の側の一つの列を介して露光領域に供給され、前記ノズル列のうち前記露光領域の対向する側の別の列を介して露光領域から取り除かれる請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記流体は、前記ノズル列のうち前記露光領域の互いに直交し隣接する二つの特定の側の二つの列を介して露光領域に供給され、前記ノズル列のうち前記露光領域の対向する側の他の列を介して露光領域から取り除かれる請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記流体は、前記ノズル列のうち前記露光領域の互いに対向する二つの特定の側の二つの列を介して露光領域に供給され、前記ノズル列のうち前記露光領域の前記特定の側と直交する残りの側の他の列を介して露光領域から取り除かれる請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記列は前記露光領域の周囲全体を実質的に取り囲み、上記流体は前記列の全てを介して露光領域に供給される請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記光学素子は、接触面にわたって互いに接触し且つ前記接触面上に形成された流路を有する一対の光学プレートを備え、前記流路は露光領域に接続し、前記流体は流路を通過させられる請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
ワークピースに対向して置かれた光学素子を介して像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ方法であって、露光領域が前記光学素子及び前記ワークピースとの間に画定されており、前記方法は、
前記露光領域に近接して位置付けられ且つ前記露光領域を全ての側から取り囲む開口部を備える流体供給ノズル列を設ける工程と；
前記流体供給ノズル列を取り囲む流体回収ノズル列を設ける工程と；
流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと光学素子の両方に接触するように、前記流体供給ノズル列から選択された一つまたはそれより多くのノズル列を介して流体を前記露光領域に供給し、且つ、前記流体回収ノズル列から選択された一つまたはそれより多くのノズル列を介して前記流体を前記露光領域から回収する工程とを；含む液浸リソグラフィ方法。
【請求項１９】
前記流体回収ノズル列は、前記露光領域に対して解放されている溝に開通している請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記光学素子は、接触面にわたって互いに接触し且つ前記接触面上に形成された流路を有する一対の光学プレートを備え、前記流路は露光領域に接続し、前記流体は前記流路を通過させられる請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ装置であって、
レチクルを保持するように配置されたレチクルステージと；
前記ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと；
照明源と、前記ワークピースに対向して置かれる光学素子であって、前記レチクルからの像のパターンを前記光学素子を通じてワークピース上に投影させるための光学素子とを有し、露光領域が前記光学素子及び前記ワークピースとの間に画定されている投影光学システムと；
前記露光領域に近接して位置付けられた開口部を備えたノズル列であって、各ノズルがソースノズルまたは回収ノズルとして選択的に機能するよう適合されているノズル列と；
流体制御デバイスであって、前記列のうち、前記露光領域の一つまたはそれより多くの選択された側の一つまたはそれより多くの列のノズルをソースノズルとして選択し、且つ流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと前記光学素子の両方に接触するように、前記ソースノズルを介して流体を前記露光領域に供給させる流体制御デバイスとを備える液浸リソグラフィ装置。
【請求項２２】
像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ装置であって、
レチクルを保持するように配置されたレチクルステージと；
前記ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと；
照明源と、前記ワークピースに対向して置かれる光学素子であって、前記レチクルからの像のパターンを前記光学素子を通じてワークピース上に投影させるための光学素子とを有し、露光領域が前記光学素子及び前記ワークピースとの間に画定されている投影光学システムと；
前記露光領域を取り囲み且つ露光領域に近接して位置付けられた開口部を備える流体供給ノズル列と；
前記流体供給ノズル列を取り囲む流体回収ノズル列と；
流体制御デバイスであって、流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと前記光学素子の両方に接触するように、前記流体供給ノズル列から選択された一つまたはそれより多くの流体供給ノズル列を介して流体を前記露光領域に供給し、且つ前記流体回収ノズル列から選択された一つまたはそれより多くの流体回収ノズル列を介して前記流体を回収する流体制御デバイスとを；備える液浸リソグラフィ装置。
【請求項２３】
クレーム２１に記載の液浸リソグラフィ装置を用いて製造された物体。
【請求項２４】
クレーム２２に記載の液浸リソグラフィ装置を用いて製造された物体。
【請求項２５】
クレーム２１に記載の液浸リソグラフィ装置によって像がその表面に形成されているウェハ。
【請求項２６】
クレーム２２に記載の液浸リソグラフィ装置によって像がその表面に形成されているウェハ。
【請求項２７】
リソグラフィプロセスを使用する物体の製造方法であって、前記リソグラフィプロセスがクレーム２１に記載の液浸リソグラフィ装置を利用する物体の製造方法。
【請求項２８】
リソグラフィプロセスを使用する物体の製造方法であって、前記リソグラフィプロセスがクレーム２２に記載の液浸リソグラフィ装置を利用する物体の製造方法。
【請求項２９】
リソグラフィプロセスを使用するウェハのパターニング方法であって、前記リソグラフィプロセスがクレーム２１に記載の液浸リソグラフィ装置を利用するパターニング方法。
【請求項３０】
リソグラフィプロセスを使用するウェハのパターニング方法であって、前記リソグラフィプロセスがクレーム２２に記載の液浸リソグラフィ装置を利用するパターニング方法。
【請求項３１】
ワークピースを保持するように構成されたステージと；
像を規定するレチクルを保持するように配置されたレチクルステージと；
投影システムであって、照明源と、光学素子とを含み、前記レチクルによって規定された像を前記ワークピース上の露光領域に投影するように構成され、前記光学素子とワークピースとの間に隙間が有る投影システムと；
前記隙間に隣接して配置された一つまたはそれより多くのノズルであって、液浸流体を前記隙間に供給するかまたは前記隙間から出ていく液浸流体を取り除くように選択的に構成された一つまたはそれより多くのノズルとを備えた装置。
【請求項３２】
前記ステージが走査方向に移動する際に、前記一つまたはそれより多くのノズルが、前記液浸流体を前記ワークピース上の露光領域の手前で供給するように構成されている請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記ステージが走査方向に移動する際に、前記一つまたはそれより多くのノズルが、前記ワークピース上の露光領域の手前に位置付けられた第１ノズル列に配置されている請求項３１に記載の装置。
【請求項３４】
前記ステージ上のワークピースが走査方向に移動する際に、前記一つまたはそれより多くのノズルが、前記液浸流体を前記隙間から前記露光領域の後方で回収するように構成されている請求項３１に記載の装置。
【請求項３５】
前記一つまたはそれより多くのノズルが、流体を前記隙間に分注するように構成されている第１群と、前記流体を隙間から回収するように構成されている第２群とに配置されている請求項３１に記載の装置。
【請求項３６】
制御システムであって、前記ステージ上のワークピースが第１走査方向に移動する時に、前記第１群のノズルを制御して前記液浸流体を隙間に分注し且つ前記第２群のノズルを制御して前記液浸流体を隙間から回収するように構成されており、且つ、前記ステージ上のワークピースが第２走査方向に移動する時に、前記第２群のノズルを制御して前記流体を隙間に分注し且つ前記第１群のノズルを制御して前記流体を隙間から回収するように構成されている制御システムをさらに備える請求項３５に記載の装置。
【請求項３７】
前記一つまたはそれより多くのノズルが、前記ワークピース上の露光領域の周辺に配置されている請求項３１に記載の装置。
【請求項３８】
前記一つまたはそれより多くのノズルが、前記露光領域の回りに同心パターンで配置されており、第１パターンが前記液浸流体を隙間に供給するように構成されたノズルを含み、第２パターンが前記液浸流体を隙間から回収するように構成されたノズルを含む請求項３１に記載の装置。
【請求項３９】
前記一つまたはそれより多くのノズルが、前記露光領域の一つの側の第１列及び前記露光領域の対向する側の第２列に配置されている請求項３１に記載の装置。
【請求項４０】
前記一つまたはそれより多くのノズルと接続する一つまたはそれより多くの流路を更に備え、前記流路が前記液浸流体をノズルから隙間に分注するように構成されている請求項３１に記載の装置。
【請求項４１】
ワークピースを保持するように構成されたステージと；
像を規定するレチクルを保持するように配置されたレチクルステージと；
投影システムであって、照明源と、光学素子とを含み、前記レチクルによって規定された像を前記ワークピース上の露光領域に投影するように構成され、前記光学素子と前記ワークピースの間に隙間が有る投影システムと；
前記隙間に隣接して配置され、液浸流体を前記隙間に供給するように構成されたソースノズルの組と；
前記隙間に隣接して配置され、前記隙間から出て行く液浸流体を回収するように構成された回収ノズルの組とを；備えた装置。
【請求項４２】
前記ソースノズルが、前記露光領域の少なくとも二つの側に配置された請求項４１に記載の装置。
【請求項４３】
前記ソースノズルが、前記露光領域の少なくとも四つの側に配置された請求項４１に記載の装置。
【請求項４４】
前記回収ノズルが、前記露光領域の少なくとも二つの側に配置された請求項４１に記載の装置。
【請求項４５】
前記回収ノズルが、前記露光領域の少なくとも四つの側に配置された請求項４１に記載の装置。
【請求項４６】
前記回収ノズルが、前記露光領域の回りに第１パターンにて配置された請求項４１に記載の装置。
【請求項４７】
前記ソースノズルが、前記露光領域の回りに第２パターンにて配置された請求項４１に記載の装置。
【請求項４８】
前記ソースノズルの第２の同心状パターンが、前記回収ノズルの第１パターンと露光領域の間に設けられている請求項４７に記載の装置。
【請求項４９】
前記ソースノズルがいつ液浸流体を前記隙間に供給するかを選択的に制御するように構成されている制御システムをさらに備える請求項４１に記載の装置。
【請求項５０】
前記制御システムはさらに、前記ステージ上のワークピースが第一方向に走査する時に、前記ソースノズルに液浸流体を前記露光領域の手前で供給させるように構成されている請求項４９に記載の装置。
【請求項５１】
ワークピースに対向しワークピースとの間に隙間を設けて置かれた光学素子を介して像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ方法であって、露光領域が前記光学素子及び前記ワークピースの間に画定されており、前記方法は、
一つまたはそれより多くのノズルを前記隙間に隣接して設ける工程と；
少なくとも前記像のパターンが前記光学素子を介して前記ワークピース上に投影されている間は、液浸流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと前記光学素子の両方に接触するように、前記一つまたはそれより多くのノズルを介して液浸流体を前記隙間に供給するか、または、前記隙間から出て行く液浸流体を取り除くかを選択的に行う工程とを；含む液浸リソグラフィ方法。
【請求項５２】
前記ステージが走査方向に移動する際に、前記一つまたはそれより多くのノズルは前記液浸流体を前記ワークピース上の露光領域の手前で供給するように構成されている請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記ステージが走査方向に移動する際に、前記一つまたはそれより多くのノズルは前記ワークピース上の露光領域の手前に位置付けられた第１ノズル列に配置されている請求項５１に記載の方法。
【請求項５４】
前記ステージ上のワークピースが走査方向に移動する際に、前記一つまたはそれより多くのノズルは、前記液浸流体を前記露光領域の後方で前記隙間から回収するように構成されている請求項５１に記載の方法。
【請求項５５】
前記一つまたはそれより多くのノズルが、流体を前記隙間に分注するように構成されている第１群と、流体を隙間から回収するように構成されている第２群とに配置されている請求項５１に記載の方法。
【請求項５６】
制御システムであって、前記ステージ上のワークピースが第１走査方向に移動する時に、前記第１群のノズルを制御して前記液浸流体を隙間に分注し且つ前記第２群のノズルを制御して前記液浸流体を隙間から回収するように構成されており、且つ、前記ステージのワークピースが第２走査方向に移動する時に、前記第２群のノズルを制御して前記液浸流体を隙間に分注し且つ前記第１群のノズルを制御して前記液浸流体を隙間から回収するように構成されている、制御システムを備える工程をさらに含む請求項５５に記載の方法。
【請求項５７】
前記一つまたはそれより多くのノズルが前記ワークピース上の露光領域の周辺に配置されている請求項５１に記載の方法。
【請求項５８】
前記一つまたはそれより多くのノズルが前記露光領域の回りに同心パターンで配置されており、第１パターンが前記液浸流体を隙間に供給するように構成されたノズルを含み、第２パターンが前記液浸流体を隙間から回収するように構成されたノズルを含む請求項５１に記載の方法。
【請求項５９】
前記一つまたはそれより多くのノズルが、前記露光領域の一つの側の第１列及び前記露光領域の対向する側の第２列に配置されている請求項５１に記載の方法。
【請求項６０】
前記一つまたはそれより多くのノズルと接続された一つまたはそれより多くの流路を更に備え、前記流路は前記液浸流体をノズルから隙間に分注するように構成されている請求項５１に記載の方法。
【請求項６１】
ワークピースに対向しワークピースとの間に隙間を設けて置かれた光学素子を介して像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ方法であって、露光領域が前記光学素子と前記ワークピースの間に画定されており、前記方法は、
ソースノズルの組を前記隙間に隣接して備える工程と；
回収ノズルの組を前記隙間に隣接して備える工程と；
少なくとも前記像のパターンが前記光学素子を介してワークピース上に投影されている間は、流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと前記光学素子の両方に接触するように、前記ソースノズルの組を介して流体を前記隙間に供給する工程と；
前記隙間から出て行く前記液浸の流体を前記回収ノズルの組を介して取り除く工程とを；含む液浸リソグラフィ方法。
【請求項６２】
前記ソースノズルが、前記露光領域の少なくとも二つの側に配置されている請求項６１に記載の方法。
【請求項６３】
前記ソースノズルが、前記露光領域の少なくとも四つの側に配置されている請求項６１に記載の方法。
【請求項６４】
前記回収ノズルが、前記露光領域の少なくとも二つの側に配置されている請求項６１に記載の方法。
【請求項６５】
前記回収ノズルが、前記露光領域の少なくとも四つの側に配置されている請求項６１に記載の方法。
【請求項６６】
前記回収ノズルが、前記露光領域の回りに第１パターンにて配置されている請求項６１に記載の方法。
【請求項６７】
前記ソースノズルが、前記露光領域の回りに第２パターンにて配置されている請求項６６に記載の方法。
【請求項６８】
前記ソースノズルの第２の同心状パターンが、前記回収ノズルの第１パターンと露光領域の間に設けられている請求項６７に記載の方法。
【請求項６９】
前記ソースノズルがいつ液浸流体を前記隙間に供給するかを選択的に制御するように構成されている制御システムを設けることをさらに含む請求項６１に記載の方法。
【請求項７０】
前記制御システムはさらに、前記ステージ上のワークピースが第１方向に走査する時に、前記ソースノズルに液浸流体を前記露光領域の手前で供給させるように構成されている請求項６９に記載の方法。
【請求項７１】
前記液浸流体と前記一つまたはそれより多くのノズルとの間にそれぞれ流体を連通させる一つまたはそれより多くの溝をさらに備える請求項３１に記載の装置。
【請求項７２】
前記液浸流体と前記一つまたはそれより多くのノズルとの間にそれぞれ流体を連通させる一つまたはそれより多くの溝をさらに備える請求項４１に記載の装置。
【請求項７３】
前記隙間から出ていく液浸流体を取り除く工程が、前記液浸流体と前記一つまたはそれより多くのノズルとの間に流体を連通させる一つまたはそれより多くの溝を介して、前記流体を取り除くことをさらに含む請求項５１に記載の方法。
【請求項７４】
前記液浸流体と前記回収ノズルとの間で流体を連通させる一つまたはそれより多くの溝を備えることをさらに含む請求項６１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本発明に従うシステムは、概して、均一で気泡を含まない水の層を光学素子とウェハとの間に供給することが出来る。また、この隙間に液体を満たす速度及び、レンズの外側の領域またはウェハを取り巻くステージ領域において液体を取り除く速度を早め得る。さらに、液浸流体との接触によって影響を受け得るレンズまたは光学素子表面の劣化を防止する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2006523029.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2006523029.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2006523029.tif 000003