Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月13日(2007.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセッサ（ＣＰＵ）またはコンピュータが、独立したオペレーティング・システム（ＯＳ）、ＣＰＵまたはコンピュータ間通信ドライバ、およびドライバと関連するＣＰＵまたはコンピュータ間の相互接続を含み、２つ以上のＣＰＵまたはコンピュータを備えるシステムにおけるＣＰＵ間またはコンピュータ間のプロセス信号通信用装置であって、
バーチャル・リンク・ハンドラ（ＶＬＨ）が、別のＣＰＵまたはコンピュータに常駐する少なくとも１つの実際のプロセスと通信する実際のプロセスの各々について少なくとも１つのシャドウ・プロセス（ＳＰ）と、各々が少なくとも１つのＳＰおよび／またはＯＳと通信する複数のドライバ・アダプタ（ＤＡ）と、を備えることを特徴とする前記装置。
【請求項２】
前記システムのＣＰＵまたはコンピュータと関連するシャドウ・プロセスが、前記システムの別のＣＰＵまたはコンピュータと関連する前記実際のプロセスのプロセス識別子（ＰＩＤ）と同一のＰＩＤによって識別されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
シャドウ・プロセス識別子（ＳＰＩＤ）が各プロセスに割り当てられることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記ＳＰＩＤ自体が前記システム全体を通して固有のプロセス識別子であることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記プロセッサまたはコンピュータ・アドレスと連係する前記ＳＰＩＤが前記システム全体を通して固有のプロセス識別子であることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記実際のプロセスが前記システムの特定のＣＰＵまたはコンピュータと静的に関連するかまたはそれらに常駐することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
前記ＶＬＨが前記実際のプロセスの前記システムのそれぞれのＣＰＵまたはコンピュータとの関連の参照リストを保持することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
前記システムの通信するＣＰＵまたはコンピュータの各々に設定されたアドレス表が前記参照リストから生成されることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
１つのＣＰＵまたはコンピュータにおける１つのプロセスから別のＣＰＵまたはコンピュータにおける別のプロセスへ伝送される信号が、少なくとも前記受け手のＳＰの前記ＰＩＤを含むために一時的に変更されることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
１つのＣＰＵまたはコンピュータにおける１つのプロセスから別のＣＰＵまたはコンピュータにおける別のプロセスへ伝送される信号が、前記送り手のＳＰの前記ＰＩＤを含むために一時的に変更されることを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
１つのＣＰＵまたはコンピュータの前記ＤＡが、同じＣＰＵまたはコンピュータと関連する前記ＳＰおよび／または前記ＯＳへのインタフェースを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
１つのＣＰＵまたはコンピュータの前記ＤＡが、同じＣＰＵまたはコンピュータと関連するＣＰＵまたはコンピュータ相互接続用の前記ドライバへのインタフェースを備えることを特徴とする請求項１または１１に記載の装置。
【請求項１３】
ＣＰＵまたはコンピュータが、独立したオペレーティング・システム（ＯＳ）、ＣＰＵ間またはコンピュータ間の通信ドライバ、およびドライバと関連するＣＰＵまたはコンピュータ間の相互接続を含み、２つ以上のＣＰＵまたはコンピュータを備えるシステムにおけるＣＰＵ間またはコンピュータ間のプロセス信号通信方法であって、ＣＰＵまたはコンピュータにおいて、別のＣＰＵまたはコンピュータの別のプロセスへ向けた信号を、発信プロセスから他方のプロセスを表すシャドウ・プロセスへと転送するステップと、
前記シャドウ・プロセスによる前記信号のパラメータと、他方のプロセスのシステム・アドレスを含む表とを補正するステップと、
ドライバ・アダプタと、前記ドライバと、ドライバに関連する前記相互接続とによって、前記補正された信号を他方のＣＰＵまたはコンピュータに転送するステップと、
前記信号の前記発信プロセスを表すシャドウ・プロセスによって、前記補正された信号を、他方のＣＰＵまたはコンピュータで受信するステップと、
前記受信信号によって伝送されるパラメータによって、前記受け手のシャドウ・プロセスによる受信信号を補正するステップと、前記補正された受信信号を、前記信号が所望された他方のプロセスに転送するステップと、
を含むことを特徴とする前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月4日(2007.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光ファイバの試験を自動化するためのシステムであって、
前記光ファイバが巻回されたスプールと、
前記光ファイバの第１端末を第１試験装置に案内し、かつ前記光ファイバに対し試験を施すのに適した少なくとも一つの自動化されたテストステーションと、
前記光ファイバを前記テストステーションへ搬送するのに適した自動化されたコンベアシステムと、
を備えていることを特徴とする前記システム。
【請求項２】  前記光ファイバの第１端末および第２端末から被覆を自動的に剥ぎ取り、前記光ファイバの第１端末および第２端末を自動的に切り取るのに適した準備ステーションをさらに備え、
前記準備ステーションまたは前記テストステーションは、前記光ファイバの第１端末および第２端末を前記試験装置に案内するのに適しており、
前記自動化されたコンベアシステムは、前記スプールを前記準備ステーションから前記テストステーションに搬送するのにさらに適していることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】  前記テストステーションは、
前記光ファイバの第１端末および第２端末を引き出し、
前記第１端末から第１長さの光ファイバを切り取り、
前記第２端末から第２長さの光ファイバを切り取り、
前記第１長さおよび前記２長さの光ファイバを廃棄するのにさらに適していることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項４】  前記スプールを載置するパレットと、
該パレットに設けられて、スプール識別データ、試験手順指令、および試験結果を含むデータを格納するのに適した高周波（ＲＦ）タグと、
前記自動化されたコンベアシステムの近傍に配置されて、前記ＲＦタグに対しデータの読取り・書込みを行なうのに適した複数のＲＦタグ装置と、
をさらに備えていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項５】  光ファイバの試験を自動化する方法であって、
ファイバ保管スプール上に保管された長尺の光ファイバを、自動化された搬送システムにより第１テストステーションに搬送し、
試験装置により所要の長さの光ファイバサンプルを取得し、
前記試験装置により前記所要の長さの光ファイバサンプルを光ファイバテスタに案内し、
該光ファイバテスタにより、前記光ファイバサンプルを試験する、
諸ステップを含むことを特徴とする前記方法。
【請求項６】  前記所要の長さのサンプルを取得するステップの後に、
前記試験装置により、所要の長さの光ファイバサンプルの少なくとも一端から被覆を剥ぎ取り、
前記試験装置により、前記所要の長さの光ファイバサンプルの少なくとも一端を割断し、
前記試験装置により、前記所要の長さの光ファイバサンプルの少なくとも一端を清浄にする、
諸ステップをさらに含むことを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】  前記所要の長さのサンプルを試験するステップの後に、該所要の長さの光ファイバサンプルを廃棄するステップをさらに含むことを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項８】  前記試験をするステップの後に、前記ファイバスプールを第２テストステーションに搬送するステップをさらに含むことを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項９】  光ファイバのスプールを試験する方法であって、
前記光ファイバの第１および第２端末が該第１および第２端末に対する容易なアクセスを提供する態様で外部に延出するように前記光ファイバのスプールをパレット上に配置し、
該パレットをテストステーションに搬送し、
第１の長さの光ファイバが前記スプールからほどかれるように、前記光ファイバの第１端末を試験装置に向かって引き出し、
第２の長さの光ファイバが前記スプールからほどかれるように、前記光ファイバの第２端末を試験装置に向かって引き出し、
前記スプールに巻回された前記光ファイバを試験する、
諸ステップを含むことを特徴とする前記方法。
【請求項１０】  前記光ファイバの第１端末を引き出すステップが、前記光ファイバの第２端末を妨害しないことを特徴とする請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月18日(2007.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  液体サンプルを分析する自動化学分析装置であって、
（ａ）サンプル管区域（１３）に配置した列状のサンプル管（１２）の一部を形成する被選択サンプル管（１２）からサンプル部分を吸引し、反応管区域（１５）に配置した列状の反応管（１４）の一部を形成する被選択反応管（１４）に前記吸引サンプル部分を送出する自動ピペッティング・ユニット（１１）を備え、各サンプル管（１２）が該サンプル管上に、読み取り装置（２７）によって読み取り可能な識別（ＩＤ）を帯びており、前記自動ピペッティング・ユニット（１１）がピペット針を備えていて、
（ｂ）自動化学分析装置はさらに、それぞれが長手軸を有し、それぞれのサンプル管（１２）がサンプルを充填した複数のサンプル管（１２）を収容する複数の細長いサンプル・ラック（１６）と、
（ｃ）前記サンプル管区域（１３）に配置した回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）とを備え、該回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）は、周縁（２２）によって区切った空間内に複数のサンプル・ラック（１６）を収容し、
（ｄ）自動化学分析装置はさらに、サンプル・ラック（１６）をラック供給ユニット（１８）のラック入力装置（１７）から前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）へと移送し、またサンプル・ラック（１６）を該回転式ラック・キャリア（１９）からラック供給ユニット（１８）のラック出力装置（２１）へと選択的に移送する第１のサンプル移送手段を備え、これらラック入力装置（１７）およびラック出力装置（２１）がそれぞれ、複数のサンプル・ラック（１６）を収容して、
（ｅ）前記自動ピペッティング・ユニット（１１）は、回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）が休止している間隔内のある時点で、該サンプル・ラック・キャリア（１９）が担持する被選択サンプル・ラック（１６）内に配置した被選択サンプル管（１２）に含まれるサンプルの一部を吸引するようになっていて、この吸引サンプル部分を反応管区域（１４）の被選択反応管（１１）に送出し、
（ｆ）自動化学分析装置がさらに、前記第１のサンプル移送手段および自動ピペッティング・ユニット（１１）の動作を制御し、調整する手段を備える装置において、
（ｇ）前記自動ピペッティング・ユニット（１１）が、前記ピペット針を相互に対して直交する３方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ）に移動させる手段を備え、
（ｈ）前記サンプル・ラック（１６）は、これらサンプル・ラック（１６）の長手軸がほぼ前記周縁（２２）に直交する状態で、該周縁（２２）に沿って配置され、
（ｉ）各サンプル・ラック（１６）が、前記読み取り装置（２７）によって読み取り可能なＩＤを該サンプル・ラック上に帯びていて、
（ｊ）自動化学分析装置はさらに、前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）の段階的回転を実行する手段を含む第２のサンプル移送手段であって、この段階的回転が回転間隔と、該サンプル・ラック・キャリア（１９）が休止する回転停止間隔とを含む第２のサンプル移送手段と、
（ｋ）各サンプル・ラックが前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）上に留まる時間間隔を最小限にするように前記自動ピペッティング・ユニット（１１）、第１のサンプル移送手段および第２のサンプル移送手段の作動を制御するコンピュータ制御手段とを備えることを特徴とする、自動化学分析装置。
【請求項２】  請求項１に記載の装置において、前記コンピュータ制御手段は、ラック上の全てのサンプル管の処理が終了した後に可能な限り早急に前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）から取り除くラックを選択する、自動化学分析装置。
【請求項３】  請求項１に記載の装置において、前記コンピュータ制御手段は、各回転行程について前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）の回転角度を決定する、自動化学分析装置。
【請求項４】  請求項１から３のいずれかに記載の装置において、前記第１のサンプル移送手段が、
（ｉ）前記ラック供給ユニット（１８）から前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）へ、また、その逆へのサンプル・ラックの移送を実行する移送ライン（２３）と、
（ｉｉ）前記ラック入力装置（１７）から前記移送ライン（２３）へとサンプル・ラック（１６）を順次１つずつ移動させる手段と、
（ｉｉｉ）前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）の段階的回転を実行する手段とを備え、この段階的回転が、回転間隔と、該サンプル・ラック・キャリア（１９）が休止する回転停止間隔とを含み、この段階的回転は、各回転行程の最後で、サンプル・ラック（１６）のうちの選択した１つが、前記ラック供給ユニット（１８）のラック出力装置（２１）への移送のために、前記移送ライン（２３）と整列して該移送ラインに移送される準備が整うか、或いは前記サンプル・ラック・キャリア（１９）上でサンプル・ラック（１６）を受け取るために使用可能な自由位置（２４）が、前記移送ライン（２３）を介して前記サンプル・ラック・キャリア（１９）へと到着したサンプル・ラック（１６）を受け取るため、該移送ライン（２３）と整列するように行われ、さらに、
（ｉｖ）前記回転停止間隔のうちの１つで、前記移送ライン（２３）を介して到着した被選択サンプル・ラック（１６）を前記サンプル・ラック・キャリア（１９）上の自由位置（２４）へと移動させ、前記回転停止間隔のうちの別の１つで、被選択サンプル・ラック（１６）を該サンプル・ラック・キャリア（１９）上の該被選択サンプル・ラックの位置から前記移送ライン（２３）へと移動させる働きをする手段と、
（ｖ）前記移送ライン（２３）から前記ラック出力装置（２１）へとサンプル・ラック（１６）を１つずつ移動させる手段と、
（ｖｉ）各サンプル・ラック（１６）のＩＤ、そしてその中に含まれる各サンプル管（１２）のＩＤを、前記ラック供給ユニット（１８）から前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）へと移送する間に読み取る読み取り装置（２７）とを含む、自動化学分析装置。
【請求項５】  請求項４に記載の装置において、前記回転角度は、各回転行程の最後に、前記回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）上のサンプル・ラック（１６）のうちで選択したサンプル・ラックが前記ラック出力装置（２１）への移送のために前記移送ライン（２３）に整列して移送される準備が整うか、或いは、前記サンプル・ラック・キャリア（１９）上でサンプル・ラック（１６）を受け取るために自由位置（２４）が、前記移送ライン（２３）を介して該回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）へと到着したサンプル・ラック（１６）を受け取るために使用可能な、該回転式サンプル・ラック・キャリア（１９）上の自由位置（２４）が前記移送ライン（２３）と整列する回転角度である、自動化学分析装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月24日(2007.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項０１】  互いに可動な２つの物体間の角度を非接触式に測定する角度測定系において、この場合、これらの物体の各々が、角度測定系の構成群に接続されていて、第１構成群が、１つの光源（１）を有し、第２構成群が、１つの光検出器（２．２）を有し、さらに、１つの格子（２．１）が、この第１構成群か又は第２構成群のどちらか一方に敷設されていて、この格子（２．１）は、振幅格子と位相格子を組合わせて格子として形成されている角度測定系。
【請求項０２】  互いに可動な２つの物体間の角度を非接触式に測定する角度測定系において、この場合、これらの物体の各々が、角度測定系の構成群に接続されていて、第１構成群が、１つの光源（１）と１つの光検出器（２．２）を有し、第２構成群は、１つの逆反射素子を有し、さらに、１つの格子（２．１）が、この第１構成群か又は第２構成群のどちらか一方に敷設されていて、この格子（２．１）は、振幅格子と位相格子を組合わせた格子として形成されている角度測定系。
【請求項０３】  請求項１又は２に記載の角度測定系において、この場合、格子（２．１）は、遷移強度の sin2 的な変化を呈し、 180°の移相が、この遷移強度変化の零点内で起こる角度測定系。
【請求項０４】  請求項３に記載の角度測定系において、この場合、格子（２．１）は、１枚の光透過性の支持材（ＴＲ）を有し、振幅部分（ＡＴ）の複数の光非透過性層及び位相部分（ＰＴ）の複数の光透過層が、この光透過性の支持材（ＴＲ）上に配置されている角度測定系。
【請求項０５】  請求項４に記載の角度測定系において、この場合、各第２中間空間内の格子（２．１）の側面上では、位相部分（ＰＴ）の１つの位相ウェブが、振幅部分（ＡＴ）の２つのウェブ間に配置されていて、この位相ウェブは、光が通過したときに位相を 180°だけずらす角度測定系。
【請求項０６】  請求項４に記載の角度測定系において、この場合、格子の側面上では、位相部分の複数の位相ウェブが、振幅部分の光透過性のウェブとウェブとの間に配置されていて、これらの位相ウェブは、通過した光の位相を 180°だけずらす角度測定系。
【請求項０７】  請求項３に記載の角度測定系において、この場合、格子（２．１）は、１枚の２次元の振幅部分（ＡＴ）を有し、この振幅部分（ＡＴ）内では、特定の複数の地点（Ｐ１１−Ｐ２３）だけが光透過性であり、この場合、１つの位相部分が、これらの光透過性の地点（Ｐ１１−Ｐ２３）に対して水平方向と垂直方向に交互に１つずつ配置されていて、この位相部分は、0 °又は180 °の移相を引き起こす角度測定系。
【請求項０８】  請求項１に記載の角度測定系において、この場合、格子（２．１）は、第２構成群に敷設されていて、この格子（２．１）は、光検出器（２．２）に対して空間的に一定の関係で配置されていて、光源（１）と格子（２．１）との間の距離（ｕ）は、格子（２．１）と光検出器（２．２）との間の距離（ｖ）よりも大きい角度測定系。    【請求項０９】  請求項１又は２に記載の角度測定系において、この場合、光検出器（２．２）は、構造化された光検出器（２．２）として構成されていて、この光検出器（２．２）は、より多くの個別光素子を有し、これらの個別光素子は、光源（１）と光学格子（２．１）によって形成された干渉縞（３）に対して平行に配置されている角度測定系。
【請求項１０】  請求項９に記載の角度測定系において、この場合、光検出器（２．２）上の干渉縞の平均化された周期（ｄI ）が、光源（１）と光検出器（２）との間の所定の距離に対してこの構造化された光検出器（２．２）の構造周期の少なくとも整数倍である角度測定系。
【請求項１１】  請求項１に記載の角度測定系において、光ビームの放射中心が、光検出器（２．２）に対する光源（１）のそれぞれ可能な相対位置に対して同じ位置に存在することを特徴とする角度測定系。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
米国特許発明第 5,196 900号明細書から、角度測定システムがカメラシステムによって実現される。この角度測定システムでは、１つの点光源を２次元の感光性領域上に投影するためのレンズが利用される。角度測定システムのレンズの回転対称的な焦点が検出され、角度測定システムがこれによって校正された後に、２つの角度が非接触式に同時に算定され得る。この目的のために、各光源に対して２次元の角度値を算出する画像処理ユニットが設けられている。さらに、各光源に対してこれらの光源の空間内の座標を算定するためのプロセッサが設けられている。２次元感光性領域から隣合った領域素子によって算出された強度値が統計的に分析されることによって、精度が向上する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
米国特許発明第 4,218,615号明細書から、光学式インクリメンタル回転検出器が公知である。この光学式インクリメンタル回転検出器では、１つのスリットが１つの光源によって照射される。このスリットを通過する光が、この光源とこのスリットとに対して相対的に固定されている第１格子を照射する。１つのパターンが、この格子によってトルボット面内に形成される。測定方向に沿ってこの第１格子に対して相対移動可能な第２格子が、これらのトルボット面のうちの１つに沿って配置される。測定方向に沿って第２格子を第１格子に対して相対移動させることによって、この第２格子の後に配置された光検出器の振幅が、この第１格子に対するこの第２格子の相対移動に応じて変化する。これによって、この光検出器によって出力された電圧変調が、測定方向に沿った第１格子に対する第２格子の相対移動に関する目安になる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この課題は、請求項１に記載の特徴を呈する角度測定系によって解決される。
さらに、この課題は、請求項２に記載の特徴を呈する角度測定システムによって解決される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月27日(2007.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
早くも１９６０年代および１９７０年代に、光散乱測定は、ウイルス構成成分およびウイルス粒子の集合および凝集を試験するために用いられた（Smith et al., Biochemistry
6:2457-2465, 1967；Cummins et al., Biophys. J. 9:518-546, 1969；Camerini-Otero et al., Biochemistry 13:960-970, 1974）。ウイルスおよびウイルス構成成分の拡散係数、分子量および粒子寸法は、光散乱技術を用いて全て試験されてきた。これらの研究は、ウイルス粒子の凝集、会合、解離などに応じた、ウイルス粒子当たりの光散乱の変化を際立たせた。現代の光散乱検出器は、濃度検出器として補助検出器（例えば紫外線吸光度検出器または屈折率検出器）を用いる分子および粒子、例えばウイルスのサイズ分布の特性化を可能にするよう設計されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月24日(2007.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  暗号化システムであって、
受信自動利得制御回路の調整されたデータビットから乱数を発生する乱数選択器サブシステムと、なお前記調整されたデータビットは受信された信号について動作する前記自動利得制御回路から生成され、そして
前記乱数を使用して信号を暗号化する暗号化器と、
を含むシステム。
【請求項２】  暗号化システムであって、
入力信号の直流オフセット成分の瞬時変動から乱数を発生する乱数選択器サブシステムと、なお前記変動は受信された信号について動作する前記直流オフセット補正ループ回路から生成され、そして
前記乱数を使用して信号を暗号化する暗号化器と、
を含むシステム。
【請求項３】  暗号化システムであって、
受信信号伝搬遅延オーバータイムの変動から乱数を発生する乱数選択器サブシステムと、なおＣＤＭＡ時間追随ループ回路が受信信号伝搬遅延オーバータイムにおける前記変動を追随するために動作し、そして
前記乱数を使用して信号を暗号化する暗号化器と、
を含むシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  パターンを作成するためのフォトリソグラフィ方法において、前記方法が：
波長が３００ｎｍより短い紫外光λを発生し、前記紫外光λに指向性をもたせるための照明サブシステムを提供する工程；
光透過性フォトグラフィマスクをもつマスクサブシステムを提供する工程；前記フォトリソグラフィマスクはフォトリソグラフィパターンが描画された低複屈折性溶融石英ＳｉＯ２ガラスウエハを含み、前記ＳｉＯ２ガラスウエハの６３２．８ｎｍで測定したガラス複屈折性は２ｎｍ／ｃｍ以下である；
投影光学系サブシステムを提供する工程；
感光性転写サブシステムを提供する工程；前記転写サブシステムは感光性転写媒体を含む；及び
前記照明サブシステム、前記マスクサブシステム、前記投影光学系サブシステム及び前記感光性転写サブシステムを位置合わせして、前記紫外光λで前記フォトリソグラフィマスクを照射し、よって前記低複屈折性ＳｉＯ２ガラスウエハマスクの前記描画フォトリソグラフィパターンが、前記紫外光λの偏光モード分散が抑制されている状態で、前記感光性転写媒体上に投影される工程；
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月25日(2007.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  超吸収性材料及び繊維性マトリックスを含む複数の層を有する物品を形成する方法であって、
形成チャンバ内で形成経路長さに沿って形成面を移動させる段階と、
第１の層厚を有する繊維材料の第１の繊維層を前記形成面の上に重なるように堆積させる段階と、
前記第１の繊維層との選択された組合せを形成して第１の超吸収材含有層を形成するために、第１の量の超吸収性材料を導く段階と、
第２の層厚を有する繊維材料の第２の繊維層を前記第１の繊維層の上に重なるように堆積させる段階と、
前記第２の繊維層との選択された組合せを形成して第２の超吸収材含有層を形成するために、第２の量の超吸収性材料を導く段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  前記第１の量の超吸収性材料の前記導く段階は、前記形成面の第１の局所的区域に対して第１のノズル角で方向付けされた第１のノズルを用いて、第１の量の第１の超吸収性材料を導びき、前記第１の繊維層の前記第１の層厚内に第１の超吸収材豊富な層を形成し、
前記第２の量の超吸収性材料の前記導く段階は、前記形成面の第２の局所的区域に対して第２のノズル角で方向付けされた第２のノズルを用いて、第２の量の第２の超吸収性材料を導びき、前記第２の繊維層の前記第２の層厚内に第２の超吸収材豊富な層を形成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記第１の量の超吸収性材料の前記導く段階は、前記形成面の第１の局所的区域から第１のノズル距離に位置した第１のノズルを用いて、第１の量の第１の超吸収性材料を導びき、前記第１の繊維層の前記第１の層厚内に第１の超吸収材豊富な層を形成し
前記第２の量の超吸収性材料の前記導く段階は、前記形成面の第２の局所的区域から第２のノズル距離に位置した第２のノズルを用いて、第２の量の第２の超吸収性材料を導びき、前記第２の繊維層の前記第２の層厚内に第２の超吸収材豊富な層を形成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記第１の量の超吸収性材料は、前記第１の層厚内で繊維と混合され、前記第２の量の超吸収性材料は、前記第２の層厚内で繊維と混合されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記第１の量の超吸収性材料は、実質的に前記第１の層厚内に包含され、前記第２の量の超吸収性材料は、実質的に前記第２の層厚内に包含されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記第１のノズルは、実質的に前記形成経路長さの第１の２５％に相当する前記形成面の一部分上に前記第１の量の超吸収性材料を導くように位置していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記第２のノズルは、実質的に前記形成経路長さの第２の２５％に相当する前記形成面の一部分上に前記第２の量の超吸収性材料を導くように位置していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記第１のノズルは、前記形成面から離れて少なくとも約２センチメートルである第１のノズル距離に配置され、
前記第２のノズルは、前記形成面から離れて少なくとも約２センチメートルである第２のノズル距離に配置される、
ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項９】  前記第１のノズルは、前記形成面から離れて約１００センチメートルを超えない第１のノズル距離に配置され、
前記第２のノズルは、前記形成面から離れて約１００センチメートルを超えない第２のノズル距離に配置される、
ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記第１の繊維層と前記第２の繊維層との間に挟まれた位置に繊維材料の第３の繊維層を堆積させる段階を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  前記第２の繊維層の上に重なるように繊維材料の第４の繊維層を堆積させる段階を更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記第２の繊維層の反対側にある前記第１の繊維層の表面に隣接して置かれるように繊維材料の第５の繊維層を堆積させる段階を更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記第１の繊維層と前記形成面との間に置かれるように繊維材料の第５の繊維層を堆積させる段階を更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】  前記第２の量の超吸収性材料の前記導く段階は、前記第２の超吸収性材料を前記第１の超吸収性材料の構成と実質的に同等の構成で形成することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１５】  前記第２の量の超吸収性材料の前記導く段階は、前記第２の超吸収性材料を前記第１の超吸収性材料の構成と異なる構成で形成することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】  前記第２の量の超吸収性材料の前記導く段階は、前記第２の超吸収性材料を前記第１の超吸収性材料の組成と実質的に同じ組成で形成することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  前記第２の量の超吸収性材料の前記導く段階は、前記第２の超吸収性材料を前記第１の超吸収性材料の組成と異なる組成で形成することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  超吸収性材料及び繊維性マトリックスを含む複数の層を有する物品を形成する装置であって、
形成チャンバと、
形成経路長さに沿って前記形成チャンバを通って移動することができる形成面と、
前記形成面の上に重なるように第１の層厚を有する繊維材料の第１の繊維層を堆積させることができる機構と、
前記第１の繊維層との選択された組合せを形成して第１の超吸収材含有層を形成するために、第１の量の超吸収性材料を導くことができる第１のノズルと、
前記第１の繊維層の上に重なるように第２の層厚を有する繊維材料の第２の繊維層を堆積させることができる機構と、
前記第２の繊維層との選択された組合せを形成して第２の超吸収材含有層を形成するために、第２の量の超吸収性材料を導くことができる第２のノズルと、
を含むことを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月6日(2007.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基材と、
マイクロ構造層に付けられた複数のマイクロ構造特徴群を画定する非平滑表面を有するマイクロ構造層とを有する熱転写エレメントであって、
前記熱転写エレメントが、前記マイクロ構造層の少なくとも一部を、その部分の前記マイクロ構造特徴群を実質的に保持しつつ、受容体に転写するように構成および配置されていることを特徴とする熱転写エレメント。
【請求項２】  受容体基材を、マイクロ構造層に付けられた複数のマイクロ構造特徴群を画定する非平滑表面を有するマイクロ構造層を有する熱転写エレメントと接触させる工程と、
前記マイクロ構造層の少なくとも一部を、その部分の前記マイクロ構造特徴群を実質的に保持しつつ、前記受容体基材に選択的に転写する工程と
を含む物品の製造方法。
【請求項３】  基材と、
マイクロ構造層に付けられた複数のマイクロ構造特徴群を画定する非平滑表面を有するマイクロ構造部品とを有する物品であって、
前記マイクロ構造部品が、前記マイクロ構造層を含む熱転写エレメントから前記マイクロ構造層の少なくとも一部を熱転写することにより前記基材上に形成されている物品。
【請求項４】  基材と、
１つ以上の縁によって画定されている主表面を有し、該主表面が非平滑でかつ該表面の縁の間にある領域中の複数のマイクロ構造特徴群を画定しているマイクロ構造層とを有する熱転写エレメントであって、
前記熱転写エレメントが、前記マイクロ構造層の少なくとも一部を、その部分の前記マイクロ構造特徴群を実質的に保持しつつ、受容体に転写するように構成及び配置されていることを特徴とする熱転写エレメント。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月28日(2007.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  木材の表面を修正するための方法であって、大気圧の下で木材の表面と電極の間の放電を惹起するために、電極が、修正すべき木材の表面に対して配置されかつ交流高電圧が電極に印加され、誘電体層が電極と修正すべき木材の表面との間に配置され、交流高電圧が６００ Hz より大きい周波数で印加される方法において、
修正すべき木材の表面(7) を有する木製部片(6) が電極(1) に対する対向電極(2) として使用されることを特徴とする方法。
【請求項２】  修正すべき木材の表面(7) を有する木製部片(6) が接地されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  誘電体材料(5) からなる搬送ベルト(4) 上の、修正すべき木材の表面(7) を有する木製部片（6)が、平らな電極(1) に対し平行に配置された平らな対向電極(2) の上を搬送されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  電極(1) が、修正すべき木材の表面(7) を有する木製部片(6) に対して、修正すべき木材の表面(7) に平行に移動することを特徴とする請求項１から３までのうちのいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】  修正すべき木材の表面(7) に向けられた電極(1) の面積が修正すべき木材の表面(7) の面積と比較して小さく選択されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】  修正すべき木材の表面(7) が放電(11)の横断面積の少なくとも９０％を覆うように、電極(1) の面積が、修正すべき木材の表面(7) の面積に対して寸法決めされることを特徴とする請求項１から５までのうちのいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】  交流高電圧を５〜３０００ kHzの周波数で印加することを特徴とする請求項１から６までのうちのいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】  交流高電圧が個々の高電圧パルスで構成され、そのパルス間隔がパルス持続時間より大きいことを特徴とする請求項１から７までのうちのいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】  交互の極性を有する交流高電圧を印加することを特徴とする請求項１から８までのうちのいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】  誘電体層(3) を有する電極(1) が修正すべき木材の表面(7) に対して１〜２５ mm の間隔(8) で配置されることを特徴とする請求項１から９までのうちのいずれか一つに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月17日(2007.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  空気より重く、かつ放射線硬化の間保護ガスの側方からの流出を好適な装置または処置により阻止する保護ガス下に放射線硬化性コンパウンドを硬化させることにより支持体上に塗膜を製造するための方法において、三次元的な成形体または支持体上への塗布を実施することを特徴とする、支持体上に塗膜を製造する方法。
【請求項２】  空気より重く、かつ放射線硬化の間保護ガスの側方からの流出を好適な装置または処置により阻止する保護ガス下に放射線硬化性コンパウンドを硬化させることにより支持体上に塗膜を製造するための方法において、３００ｎｍ未満の波長領域内で、１０００ｎｍを下回る全波長領域にわたって放射される強度の積分値の２０％未満を有する放射線で照射することを特徴とする、支持体上に塗膜を製造する方法。
【請求項３】  放射光の分散が、４００ｎｍを越える最大強度を有する、請求項１から２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項４】  支持体または成形材料を、保護ガスを含有する浸漬タンク中に浸漬する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  保護ガスが二酸化炭素である、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】  保護ガスをドライアイスを蒸発させることにより製造する、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  支持体をその表面から１０ｃｍまでの距離で取り囲む保護ガス雰囲気中の酸素含量が全ガス量に対して１５質量％未満である、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】  支持体を紙、厚紙、フィルムおよび繊維製品からなる群から選択する、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】  放射線硬化される三次元的な成形体または支持体を、家具、自動車車体を包含する群、ケーシングおよびインスツルメントの構造体から選択する、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】  放射線硬化性コンパウンドがメラミン基、イソシアネート基、エポキシド基、無水物基、アルコール基およびカルボン酸基からなる群から選択される反応性基を更に有する、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】  放射線硬化性コンパウンドが有機溶剤または水中の溶液として、水性懸濁液として、または粉末として存在する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】  放射線硬化性コンパウンドが２０質量％未満の有機溶剤および／または水を含有する、請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】  放射線硬化性コンパウンドが有機溶剤不含または水不含である、請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】  放射線硬化性コンパウンドがベンゾフェノン、アルキルベンゾフェノン、ハロゲンメチル化ベンゾフェノン、ミヒラーのケトン、アントロンおよびハロゲン化ベンゾフェノン、ベンゾイン、アントラキノン、アシルホスフィンオキシドおよびビスアシルホスフィンオキシドからなる群から選択される光開始剤を含有する、請求項１から１３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】  ランプを白熱ランプ、ハロゲンランプおよびキセノンランプからなる群から選択する、請求項１から１４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】  ランプを通常の家庭用交流を用いる電源で作動させる、請求項１から１５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】  放射線硬化用のランプが２０ｋｇを下回る質量を有する、請求項１から１６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１８】  ランプが容器内部または容器内壁中に設置されている、請求項１から１７までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月4日(2007.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリントエリアを他の複数のプリントエリアと区別するアイデンティティ情報を表わすアイデンティティ・データをそれぞれが含む複数のプリントエリアの１つまたは複数の上にドキュメント情報を印刷するプリンタであって、前記１つまたは複数のプリントエリアの前記アイデンティティ情報を検出する少なくとも１個のセンサを備えたプリンタ。
【請求項２】
前記アイデンティティ・データが、前記プリントエリア上に、コード化形式で表わされ、前記プリンタは、前記少なくとも１個のセンサからコード化データを受け取って、少なくとも前記アイデンティティ・データ、または少なくとも前記アイデンティティ情報を表わすデコード化データを出力するデコーダを含むことを特徴とする請求項１記載のプリンタ。
【請求項３】
各アイデンティティ情報は、少なくとも２つの個別のデータ項目によって前記プリントエリア上に表わされ、また、前記デコーダは、前記少なくとも２つの個別のデータ項目を受け取った後で、少なくとも前記アイデンティティ情報を表わすデコード化データを出力することを特徴とする請求項１または２に記載のプリンタ。
【請求項４】
前記少なくとも１個のセンサは、前記それぞれのプリントエリア上の前記ドキュメント情報の印刷が開始した後で、前記アイデンティティ・データを検出するように位置づけられることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項５】
前記少なくとも１個のセンサは、前記それぞれのプリントエリア上の前記ドキュメント情報の印刷が開始する前に、前記アイデンティティ・データを検出するように位置づけられることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項６】
前記少なくとも１個のセンサは、前記それぞれのプリントエリア上の前記ドキュメント情報の印刷中に、前記アイデンティティ・データを検出するように位置づけられることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項７】
情報をコンピュータシステムに送る送信機をさらに備えた請求項１ないし６のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項８】
前記アイデンティティ・データまたはアイデンティティ情報を前記コンピュータシステムに送る送信機をさらに備えた請求項１ないし６のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項９】
プリントエリア上にドキュメント情報を正しく印刷できない障害を検出し、前記障害の検出時に無効信号を発生させるための手段をさらに備え、前記送信機が、前記無効信号を前記コンピュータシステムに送ることを特徴とする請求項７または８に記載のプリンタ。
【請求項１０】
前記ドキュメント情報は、少なくとも一部、コンピュータシステムから受け取られたドキュメントデータを基準にしていることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項１１】
プリントエリアと関連づけられたドキュメントデータを受け取る前に、プリントエリアと関連づけられたアイデンティティ・データまたはアイデンティティ情報を得て(derive,引き出す、派生する)、それらをコンピュータシステムに送ることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項１２】
プリントエリアと関連づけられたドキュメントデータを受け取る前に、プリントエリアと関連づけられたアイデンティティ・データまたはアイデンティティ情報を得て、それらをコンピュータシステムに送るプリンタであって、前記ドキュメントデータが、少なくとも一部、前記プリントエリアの前記アイデンティティ情報を基準にしていることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項１３】
既存のドキュメント情報を有するプリントエリアを刷り重ねて(over-print,オーバープリント)、前記既存のドキュメント情報を読み取れないようにするように作動することを特徴とする請求項１ないし１２のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項１４】
プリントエリアの少なくとも２つの上に、実質的に同時に印刷するプリント機構を含むことを特徴とする請求項１ないし１３のいずれかに記載のプリンタ。
【請求項１５】
前記少なくとも１個のセンサは、イメージセンサと磁気センサと化学センサから選択されることを特徴とする請求項１ないし１４のいずれかに記載のプリンタ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月29日(2007.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  かじ取り可能な自動車の車輪をハンドル旋回に応答して転向するためのかじ取り補助配置であって、
自動車の車輪の旋回運動を引起すために移動可能な歯車を備えるラック配置（１）を含み、ラック配置（１）は、歯車（５）を備える第一のラック部分領域（２）と、中間領域（３）と、さらにボールスピンドル（４）として形成される第二のラック領域（４）との三つの部分領域を有し、さらに
ハンドルによって旋回可能であり、かつ第一のラック部分（２）の歯車（５）と係合してかじ取り動力を歯車（５）を備えるラック配置に与える小歯車（６）を備える配置と、
ボールスピンドル（４）に係合し、ハウジング（１８）に対し旋回可能なようにベアリング配置（８）によって載置されるボールナット（７）と、
ラック配置（１）に対して同軸で配置される固定子（１０）と回転子（９）とを備える電気モータ配置（９，１０，１２）とを含み、回転子（９）はボールナット（７）と作用接続される配置であって、
ベアリング配置（８）は回転子（９）の一方的な支持のために単一のベアリング（８）を有し、回転子（９）およびボールナット（７）は共に旋回可能にベアリング（８）によって載置されることを特徴とする、かじ取り補助配置。
【請求項２】  回転子（９）が鐘形状である、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項３】  電気モータ配置（９，１０，１２）が電気整流モータ配置として形成される、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項４】  固定子（１０）はラック配置（１）に向き合う側に固定配置され、固定子（１０）はコイルとして形成される、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項５】  回転子（９）に永久磁石（１２）が装備される、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項６】  永久磁石（１２）はコバルト−サマリウムおよびネオジム磁石から構成されるグループから選択される希土類磁石である、請求項５に記載のかじ取り補助配置。
【請求項７】  前記回転子（９）と前記固定子（１０）との間に、２ｍｍ以下の空気間隙が設けられ、空気間隙幅公差が空気間隙幅の１０％以下である、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項８】  空気間隙幅が１．５ｍｍ以下である、請求項７に記載のかじ取り補助
配置。
【請求項９】  中間領域（３）の近傍に滑走可能な支持手段（１１，１１ａ）が、中間領域（３）とガイド管部分（１９）との間に配置されて設けられる、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１０】  支持手段（１１，１１ａ）は、接触表面の近傍に、合成材料やすべり焼結材料でできたすべり材料で適合されて設けられる、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１１】  ベアリング配置（８）の近傍に、冷却空気が空気間隙（２１）を通って通過するための、空気流通開口部（１６，１７）が設けられる、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１２】  ベアリング配置（８）はローラベアリングである、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１３】  ベアリング配置は斜向ボールベアリングである、請求項１２に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１４】  斜向ボールベアリングは二列に配列される、請求項１３に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１５】  ボールナット（７）は循環式ボールナットである、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１６】  ナット（７）とベアリング配置（８）とを備えた電気モータ配置（９，１０，１２）の最大直径（ｄ）が１２０ｍｍであり、最大長さ（ｌ）が１４０ｍｍである、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１７】  ハンドルが旋回した際のトルクを測定するための測定手段が設けられ、前記手段は、電気モータ配置（９，１０）を備えた制御装置および／または調整装置と作用接続される、請求項１に記載のかじ取り補助配置。
【請求項１８】  制御装置および／または調整装置が、あらかじめ設定可能な伝動特性を規定または追跡するためのプログラム制御を含む、請求項１７に記載のかじ取り補助配置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月1日(2006.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製薬上許容できるキャリアーと１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩を含む製薬組成物。
【請求項２】
組成物中の（Ｒ）−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の量が、組成物中の１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の総重量の８５重量％以上である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
組成物中の（Ｒ）−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の量が、組成物中の１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の総重量の９０重量％以上である請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
組成物中の（Ｒ）−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の量が、組成物中の１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の総重量の９５重量％以上である請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
組成物中の（Ｒ）−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の量が、組成物中の１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の総重量の９９重量％以上である請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
組成物中の（Ｓ）−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の量が、組成物中の１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の総重量の８５重量％以上である請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
組成物中の（Ｓ）−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の量が、組成物中の１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の総重量の９０重量％以上である請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
組成物中の（Ｓ）−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の量が、組成物中の１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の総重量の９５重量％以上である請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
組成物中の（Ｓ）−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の量が、組成物中の１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はその製薬上許容できる塩の総重量の９９重量％以上である請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
個体においてＬＴＢ4により誘起される炎症性障害の発病を治療、予防又は遅延するために使用される請求項１〜９いずれか１項記載の組成物。
【請求項１１】
上記障害が炎症性腸疾患、潰瘍性大腸炎、乾癬、リューマチ様関節炎、クローン病又は放射線により誘起された胃腸の炎症である請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
個体においてＴＸＡ2により誘起された障害の発病を治療、予防又は遅延するために使用される請求項１〜９いずれか１項記載の組成物。
【請求項１３】
上記障害が慢性疲労症候群／線維筋痛、不妊、顎の骨壊死、多発性硬化症、鬱病、自閉症、クローン病、炎症性腸疾患、後期ライム病、シオグレン症候群、一過性虚血性発作、注意欠陥障害、パーキンソン病、凝固の免疫系活性化、痛み、喘息、進行性腫瘍と関連した脈管形成の群から選ばれる請求項１２に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
ＬＴＢ4により誘起される炎症性障害を治療し若しくは予防するため又はＴＸＡ2により誘起される障害を治療するためには、ラセミ−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピン又はそのエナンチオマーの治療上の利益を得るための特定の薬量は、患者の身長、体重、年齢及び性別を含めて個々の患者の特別の環境によって決定される。また、疾病の種類と状態及び投与経路も決定的なことである。一般に、毎日約１００〜１５００ｍｇ／日の投薬量を用いることができる。好ましくは、毎日約１００〜１０００ｍｇ／日の投薬量を用いることができる。更に好ましくは、毎日約１００〜５００ｍｇ／日の投薬量を用いることができる。これらよりも多く又は少ない薬量も意図される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
例１：ラセミ−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピンの合成
反応式１の経路に従ってラセミ−１−（３−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−エチル−７，８−ジメトキシ−５Ｈ−２，３−ベンゾジアゼピンを合成した。
【化１】
2006514084.tif 000001