【手続補正書】
【提出日】平成19年10月17日(2007.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能回路に接続した複数の電極を備えた上部を有する制御基板と、
複数のミラープレートであって、各ミラープレートは上部反射面と下部導電部とを有し、該下部導電部は、該下部導電部に埋め込まれたキャビティと、該キャビティ内に位置するトーションヒンジとを有する、複数のミラープレートと、
該制御基板上の複数のヒンジ支柱であって、各ヒンジ支柱は、該複数のミラープレートのうちの関連するミラープレートの完全に下に位置し、各支柱は、関連するトーションヒンジを、該関連するトーションヒンジの軸の周りのミラープレート回転を容易にするように、支持する、複数のヒンジ支柱と
を備える、空間光変調器。
【請求項２】
前記電極の各々が、ステップ電極であり、該ステップ電極は、各ミラープレートと、該ミラープレートの下の前記制御基板との間の距離を狭くするように該制御基板の表面の上方に隆起した部分を有する、請求項１に記載の空間光変調器。
【請求項３】
前記制御基板が、各ミラープレートの動作を制限するように、該制御基板の表面に垂直な方向に向けられた複数のランディングチップをさらに備える、請求項１に記載の空間光変調器。
【請求項４】
前記複数のミラープレートのうちの各ミラープレートは、０．２ミクロン以下の空間だけ全ての隣接ミラープレートから離れている、請求項１に記載の空間光変調器。
【請求項５】
前記隆起したキャビティの各々は、前記下部導電部内の該キャビティと、該キャビティの直下に位置する前記トーションヒンジとの間の距離によって規定される高さを有し、該高さは、前記ヒンジ支柱の幅と、前記ミラープレートが回転可能な最大偏向角のサインとの積の少なくとも２分の１である、請求項１に記載の空間光変調器。
【請求項６】
前記複数の電極のうちの少なくとも１つが、複数のレベルを有するステップ電極であり、各レベルは、前記制御基板の上方に別個の高さを有する、請求項１に記載の空間光変調器。
【請求項７】
機能回路に接続した複数の電極を備えた上部を有する制御基板と、
複数のミラープレートと、
該制御基板上の複数のヒンジ支柱と
を備える、空間光変調器であって、
各ミラープレートは、上部反射面と下部導電部とを有し、
該下部導電部は、キャビティと該キャビティ内のヒンジとを有し、
各ミラープレートは、前縁部と、後縁部と、少なくとも１つの側面縁部とを備え、
該前縁部または該後縁部の少なくとも一部は、半径ｒを有する複数の曲線に沿っており、
該少なくとも１つの側面縁部は、ａの側面長を有し、
該半径ｒは、ａよりも小さく、
該ヒンジ支柱は、対応するヒンジを、該ヒンジの軸の周りのミラープレート回転を容易にするように、支持する、空間光変調器。
【請求項８】
前記前縁部は、前記曲線に沿った全ての点で前記後縁部に平行である、請求項７に記載の空間光変調器。
【請求項９】
前記ミラープレートの側面縁部の長さは、約１０ミクロンである、請求項７に記載の空間光変調器。
【請求項１０】
前記曲線の半径ｒは、２．５ミクロンである、請求項７に記載の空間光変調器。
【請求項１１】
機能回路に接続した複数の電極を備えた上部を有する制御基板と、
複数のミラープレートと、
該制御基板上の複数のヒンジ支柱と
を備える、空間光変調器であって、
各ミラープレートは、上部反射面と下部導電部とを有し、
該下部導電部は、凹部と、該凹部内に位置するトーションヒンジとを有し、
隣接するミラープレート間には間隙があり、
該間隙は、０．２ミクロンより小さく、
各ヒンジ支柱は、関連するミラープレートの完全に下にあり、
各支柱は、関連するトーションヒンジを、該関連するトーションヒンジの軸の周りのミラープレート回転を容易にするように、支持する、空間光変調器。
【請求項１２】
制御ウエハの表面の上に複数の電極を形成することと、
該制御ウエハの上に複数のミラーを形成することと
を包含する、空間光変調器を製造する方法であって、
該複数のミラーの各々は、該ミラーの下部にキャビティを有し、
該キャビティ内にヒンジがあり、
該ヒンジは、該ミラーと該制御基板との間にあるヒンジ支柱によって支持される、空間光変調器を製造する方法。
【請求項１３】
前記複数のミラーを形成することが、
所定の厚みで犠牲材料を堆積することにより、前記制御ウエハの表面の上に第１の犠牲層を形成することであって、該第１の犠牲層は、該第１の犠牲層の上に電極を有する、ことと、
該第１の犠牲層をパターニングすることにより、複数のヒンジ支柱のためのバイアを形成することと、
第１の素子材料を堆積することにより、該バイアを充填し、第１の素子層を形成することと、
該第１の層に複数の開口部をパターニングし、該第１の層に複数のトーションヒンジを形成することと、
犠牲材料を堆積し、該トーションヒンジ付近の該複数の開口部を充填し、該第１の層の表面に所定の厚みで第２の犠牲層を形成することと、
該第２の犠牲層をパターニングし、該複数のトーションヒンジの上に複数のスペーサを形成することと、
第２の素子材料を堆積することにより、該第２の犠牲層の表面を覆い、第２の素子層を形成することと、
該第２の素子層を所定のミラー厚さまで平坦化することと、
該第２の素子層に複数の開口部をパターニングすることにより、個々のミラープレート間に複数の間隙を形成することと
を包含する、請求項１２に記載の空間光変調器を製造する方法。
【請求項１４】
前記複数のミラーを形成することは、部分的に製造されたウエハを形成し、
前記方法は、該ウエハを個別の空間光変調素子ダイに分離することをさらに包含し、
該ウエハを分離することは、
犠牲材料の層を堆積し、該部分的に製造されたウエハの表面を覆うことと、
部分的に切断および分断することによって、該部分的に製造されたウエハを個別のダイに分離することと、
残留犠牲材料を除去することと、
該ミラーに摩擦防止層をコーティングすることと
を包含する、請求項１２に記載の空間光変調器を製造する方法。
【請求項１５】
前記制御ウエハの上の構造の表面をパッシベーションすることをさらに包含する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記複数のミラーを形成することは、前記複数のミラープレートの各々が０．２ミクロン以下の空間だけ全ての隣接ミラープレートから離れているように、各ミラープレートを形成することを包含する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
前記複数のミラーを形成することは、各ミラープレートの下に前記キャビティを形成することを包含し、
該キャビティは、該ミラープレートの下部導電部と前記トーションヒンジとの間の距離によって規定される高さを有し、
該キャビティの高さは、前記ヒンジ支柱の幅と、該ミラープレートが回転可能な最大偏向角のサインとの積の少なくとも２分の１である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
前記ミラーを形成することは、前記ヒンジ支柱が前記ミラープレートの境界を越えないように、該ミラーを形成することを包含する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１９】
前記複数のミラーを形成することは、各ミラーが前縁部と後縁部と少なくとも１つの側面縁部とを有するように形成することを包含し、
該前縁部または該後縁部の少なくとも一部は、半径ｒを有する複数の曲線に沿っており、
該少なくとも１つの側面縁部は、ａの側面縁部の長さを有し、
該半径ｒは、ａよりも小さい、請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
前記複数のミラーを形成することは、各ミラープレートが約１０ミクロンの縁部の長さを有するように形成することを包含する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記複数のミラーを形成することは、各ミラープレートが２．５ミクロンの半径ｒを有するように形成することを包含する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
制御基板と、
該制御基板の上に支持された複数のミラープレートと
を備える、空間光変調器であって、
各ミラープレートは、上部反射面を有し、
該複数のミラープレートは、該ミラープレートの該上部反射表面によって形成された反射領域と、該反射領域間の間隙とを含む区域を規定し、
該反射領域は、該区域の少なくとも９６％を構成する、空間光変調器。