【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年8月1日(2007.8.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  熱処理及び研削されたセラミック切削インサートの製造プロセスにおいて、
６０重量％〜９８重量％の窒化シリコンを含有する混合粉末から生セラミック切削インサート成形体を構成する工程と、
焼結された未研削セラミック切削インサート成形体を構成するために、前記生セラミック切削インサート成形体を焼結する工程と、
研削済セラミック切削インサートを構成するために、前記焼結された未研削セラミック切削インサート成形体の少なくとも一部を研削する工程と、
熱処理及び研削されたセラミック切削インサートを構成するために、前記研削済セラミック切削インサートを１６００℃〜２２００℃の範囲の温度で熱処理する工程と、
を有し、
前記研削済切削インサートが、前記熱処理中に硬化粉末と接触し、該硬化粉末が、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、イットリウム、マグネシア、カルシウム、及び周期表のランタニド系金属の酸化物と、シリコン、チタン、ハフニウム、アルミニウム、ジルコニウム、ホウ素、ニオブ及び炭素の窒化物及び/又は炭化物、及び/又はそれらの反応生成物のうちの１つ以上を含有し、
前記熱処理中に、前記研削済切削インサートが前記硬化粉末と反応し、前記研削済切削インサートの表面の組成が変更される、
プロセス。
【請求項２】  前記熱処理が、窒素、アルゴン及び一酸化炭素のうち１つ以上を含有する雰囲気中で行われ、前記熱処理が、１気圧〜２０６．８４ＭＰａの範囲の圧力下で行われ、前記熱処理が、１５分〜６時間の範囲の時間で行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】  前記熱処理が、１気圧の圧力下の窒素雰囲気中で、１８１５℃〜１８６０℃の温度で、１３０分間〜２７０分間の持続時間で行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】  前記熱処理が、１気圧の圧力下のアルゴン雰囲気中で、１６５０℃の温度で、６０分間の持続時間で行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】  前記熱処理及び研削されたセラミック切削インサートをコーティングする工程を更に有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】  前記コーティングが、アルミナ、窒化チタン、炭窒化チタン、炭化チタン、及び窒化チタンアルミニウムからなる群の１つ以上の化合物から選択される、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】  熱処理及び研削されたセラミック切削インサートの製造プロセスにおいて、
６０重量％〜９８重量％の窒化シリコンを含有する混合粉末から生セラミック切削インサート成形体を構成する工程と、
焼結された未研削セラミック切削インサート成形体を構成するために、前記生セラミック切削インサート成形体を焼結する工程と、
未研削セラミック切削インサートブランクを構成するために、前記焼結された未研削セラミック切削インサート成形体をホットアイソスタティック成形する工程と、
研削済セラミック切削インサートを構成するために、前記未研削セラミック切削インサートブランクの少なくとも一部を研削する工程と、
熱処理及び研削されたセラミック切削インサートを構成するために、前記研削済セラミック切削インサートを１６００℃〜２２００℃の範囲の温度で熱処理する工程と、
を有し、
前記研削済切削インサートが、前記熱処理中に硬化粉末と接触し、該硬化粉末が、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、イットリウム、マグネシア、カルシウム、及び周期表のランタニド系金属の酸化物と、シリコン、チタン、ハフニウム、アルミニウム、ジルコニウム、ホウ素、ニオブ及び炭素の窒化物及び/又は炭化物、及び/又はそれらの反応生成物のうちの１つ以上を含有し、
前記熱処理中に、前記研削済切削インサートが前記硬化粉末と反応し、前記研削済切削インサートの表面の組成が変更される、
プロセス。
【請求項８】  前記ホットアイソスタティック成形する工程の後で、前記未研削セラミック切削インサートが更に焼結工程を経る、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】  前記混合粉末が、６０重量％〜９８重量％の窒化シリコンと、２５重量％までの窒化アルミニウムと、２５重量％までのアルミナと、２重量％までのマグネシアと、７重量％までのイットリアとを含有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】  前記混合粉末が、９８重量％の窒化シリコンと、１重量％のマグネシアと、１重量％のイットリアとを含有する、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１１】  前記混合粉末が窒化シリコンベースであり、前記焼結工程の前に、前記生セラミック切削インサート成形体が硬化粉末と接触し、該硬化粉末が、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、イットリウム、マグネシウム、カルシウム、及びランタニド系元素の金属の酸化物、シリコン、チタン、ハフニウム、アルミニウム、ジルコニウム、ホウ素、ニオブ及び炭素の窒化物及び/又は炭化物、及び/又はそれらの反応生成物のうちの１つ以上を含有する、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１２】  前記混合粉末が、ハフニア、ジルコニア、並びに、チタン、シリコン、ハフニウム及びジルコニウムの窒化物、炭化物及び/又は炭窒化物、並びにそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの３０容量％までの成分を更に含む、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１３】  ６０重量％〜９８重量％の窒化シリコンを含有する混合粉末から生セラミック切削インサート成形体を構成する工程と、
焼結された未研削セラミック切削インサート成形体を構成するために、前記生セラミック切削インサート成形体を焼結する工程と、
研削済セラミック切削インサートを構成するために、前記焼結された未研削セラミック切削インサート成形体の少なくとも一部を研削する工程と、
熱処理及び研削されたセラミック切削インサートを構成するために、前記研削済セラミック切削インサートを１６００℃〜２２００℃の範囲の温度で熱処理する工程と、
を有し、
前記研削済切削インサートが、前記熱処理中に硬化粉末と接触し、該硬化粉末が、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、イットリウム、マグネシア、カルシウム、及び周期表のランタニド系金属の酸化物と、シリコン、チタン、ハフニウム、アルミニウム、ジルコニウム、ホウ素、ニオブ及び炭素の窒化物及び/又は炭化物、及び/又はそれらの反応生成物のうちの１つ以上を含有し、
前記熱処理中に、前記研削済切削インサートが前記硬化粉末と反応し、前記研削済切削インサートの表面の組成が変更されるプロセスによって製造された、熱処理及び研削されたセラミック切削インサート。
【請求項１４】  前記プロセスが、前記熱処理及び研削されたセラミック切削インサートをコーティングする工程を更に有する、請求項１３に記載の切削インサート。
【請求項１５】  ６０重量％〜９８重量％の窒化シリコンを含有する混合粉末から生セラミック切削インサート成形体を構成する工程と、
焼結された未研削セラミック切削インサート成形体を構成するために、前記生セラミック切削インサート成形体を焼結する工程と、
未研削セラミック切削インサートブランクを構成するために、前記焼結された未研削セラミック切削インサート成形体をホットアイソスタティック成形する工程と、
研削済セラミック切削インサートを構成するために、前記未研削セラミック切削インサートブランクの少なくとも一部を研削する工程と、
熱処理及び研削されたセラミック切削インサートを構成するために、前記研削済セラミック切削インサートを１６００℃〜２２００℃の範囲の温度で熱処理する工程と、
を有し、
前記研削済切削インサートが、前記熱処理中に硬化粉末と接触し、該硬化粉末が、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、イットリウム、マグネシア、カルシウム、及び周期表のランタニド系金属の酸化物と、シリコン、チタン、ハフニウム、アルミニウム、ジルコニウム、ホウ素、ニオブ及び炭素の窒化物及び/又は炭化物、及び/又はそれらの反応生成物のうちの１つ以上を含有し、
前記熱処理中に、前記研削済切削インサートが前記硬化粉末と反応し、前記研削済切削インサートの表面の組成が変更されるプロセスによって製造された、熱処理及び研削されたセラミック切削インサート。
【請求項１６】  反応源の存在下で形成された、熱処理及び研削されたセラミック切削インサートにおいて、
すくい面及び逃げ面を定める表面であって、前記すくい面及び前記逃げ面の交差部に切削エッジがある前記表面を有する基体を有し、
該基体は、該基体の表面から内側に延びる表面領域と、該表面領域の内側のバルク領域とが存在するミクロ組織を示し、
前記バルク領域はバルク組成物を有し、
前記表面領域は前記反応源との反応から得られた表面組成物を有し、該表面組成物と前記バルク領域の前記組成物とは異なる、
請求項１３に記載の切削インサート。
【請求項１７】  前記表面組成物における一の元素の含有量が、前記バルク組成物における前記一の元素の含有量よりも高い、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項１８】  前記表面組成物における一の元素の含有量が、前記バルク組成物における前記一の元素の含有量よりも低い、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項１９】  前記表面領域が第１のミクロ組織及び第１の硬さを有し、前記バルク領域が第２のミクロ組織及び第２の硬さを有し、前記表面領域の前記第１のミクロ組織が前記バルク領域の前記第２のミクロ組織とは異なり、前記表面領域の前記第１の硬さが前記バルク領域の前記第２の硬さよりも硬い、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２０】  前記すくい面及び前記逃げ面上にコーティングを更に有する、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２１】  前記表面領域が第１の破壊抵抗を有し、前記バルク領域が第２の破壊抵抗を有し、前記表面領域の前記第１の破壊抵抗が前記バルク領域の前記第２の破壊抵抗よりも大きい、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２２】  前記表面領域が第１の耐摩耗性を有し、前記バルク領域が第２の耐摩耗性を有し、前記表面領域の前記第１の耐摩耗性が前記バルク領域の前記第２の耐摩耗性よりも大きい、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２３】  前記基体が窒化シリコンベースの組成物であり、前記表面領域の前記第１のミクロ組織がβ−窒化シリコン相及びＹ2Ｓｉ3Ｏ3Ｎ4相を有し、前記バルク領域の前記第２のミクロ組織が本質的にβ−窒化シリコン及び粒界相で構成される、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２４】  前記表面領域のアルミニウム含有量が、前記バルク領域のアルミニウム含有量よりも高い、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２５】  前記基体がサイアロンベースの組成物であり、前記表面領域の前記第１のミクロ組織がβ'−サイアロン、α'−サイアロン及びＮ−ＹＡＭを有し、前記バルク領域の前記第２のミクロ組織がα'−サイアロン及びβ'−サイアロンの混合物を有する、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２６】  前記基体がサイアロンベースの組成物であり、前記表面領域の前記第１のミクロ組織がβ'−サイアロン及び１５Ｒ相を有し、前記バルク領域の前記第２のミクロ組織が本質的にβ'−サイアロンで構成される、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２７】  前記基体がサイアロンベースの組成物であり、前記表面領域の前記第１のミクロ組織がβ'−サイアロン及びＮ−メリライトを有し、前記バルク領域の前記第２のミクロ組織が本質的にβ'−サイアロン、Ｂ相及びＮ−α−ウォラストナイトで構成される、請求項１６に記載の切削インサート。
【請求項２８】  反応源の存在下で形成された、熱処理及び研削されたセラミック切削インサートにおいて、
すくい面及び逃げ面を定める表面であって、前記すくい面及び前記逃げ面の交差部に切削エッジがある前記表面を有する基体を有し、
該基体は、該基体の表面から内側に延びる表面領域と、該表面領域の内側のバルク領域とが存在するミクロ組織を示し、
前記バルク領域は、β'サイアロン相及び粒界相を有するバルクミクロ組織を有し、
前記表面領域は前記反応源との反応から得られた表面ミクロ組織を有し、該表面ミクロ組織はβ'サイアロン及びα'サイアロンを有する、
請求項１３に記載の切削インサート。
【請求項２９】  反応源の存在下で形成された、熱処理及び研削されたセラミック切削インサートにおいて、
すくい面及び逃げ面を定める表面であって、前記すくい面及び前記逃げ面の交差部に切削エッジがある前記表面を有する基体を有し、
該基体は、該基体の表面から内側に延びる表面領域と、該表面領域の内側のバルク領域とが存在するミクロ組織を示し、
前記表面領域は、前記反応源の存在下における熱処理で形成された１つ以上の相を有し、該１つ以上の相は前記反応源の反応生成物を有し、前記反応源は、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、イットリウム、マグネシウム、カルシウム、及び周期表のランタニド系金属の酸化物と、シリコン、チタン、ハフニウム、アルミニウム、ジルコニウム、ホウ素、ニオブ及び炭素の窒化物及び/又は炭化物、又はそれらの反応生成物のうちの１つ以上を含有する、
請求項１３に記載の切削インサート。
【請求項３０】  前記相が窒化チタンを有する、請求項２９に記載の熱処理及び研削された切削インサート。