(57)【要約】【課題】  良好な剥離性を有し、面状に優れ、且つ、生産性に優れたセルロースアシレートフィルムの溶液製膜法による製造方法を提供する。【解決手段】  下記式を満足するセルロースアシレートの溶液を−５０℃〜８０℃の支持体上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成し、該フィルムの残存溶媒量が１０〜２５０質量％の状態で１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍの荷重をかけて支持体から剥離する。      ２．２≦Ａ＋Ｂ≦３．０      １．０≦Ｂ≦３．０〔Ａはアセチル基の置換度、Ｂはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和〕【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
流延部において下記式（１）および（２）で表される置換度を満足するセルロースアシレートを有するセルロースアシレート溶液を−５０℃〜８０℃に保温した支持体上に流延し、前記セルロースアシレート溶液中の溶媒の一部を蒸発させてセルロースアシレートフィルムを形成するフィルム形成工程と、前記セルロースアシレートフィルムを前記支持体から剥離する剥離工程と、を含むセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、剥離点での残存溶媒量が１０質量％〜２５０質量％の状態のセルロースアシレートフィルムを、１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍの荷重をかけて剥離するセルロースアシレートフィルムの製造方法。
２．２≦Ａ＋Ｂ≦３．０          ・・・式（１）
１．０≦Ｂ≦３．０              ・・・式（２）
〔式中、Ａはアセチル基の置換度を示す。Ｂはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。〕
【請求項２】
前記支持体から前記セルロースアシレートフィルムを剥離する際、前記セルロースアシレートフィルムの残存溶媒中における沸点が８０℃〜１６０℃の有機溶媒の含有量が、全残存溶媒量に対して１．５質量％〜５０．０質量％であることを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【請求項３】
前記沸点が８０℃〜１６０℃の有機溶媒がアルコールであることを特徴とする請求項２に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【請求項４】
前記流延部において前記溶媒の一部を蒸発させるために、支持体上に流延されたセルロースアシレートの支持体に接する側とは反対側に、風速２０〜４０ｍ／秒で気体を送風することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【請求項５】
前記セルロースアシレート溶液に含まれる溶媒のうち溶媒組成の最も大きい溶媒が塩素系有機溶媒であって、且つ、前記流延部の空間温度が前記溶媒組成の最も大きい溶媒の沸点に対して−９０℃〜＋９０℃であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【請求項６】
前記セルロースアシレート溶液に含まれる溶媒のうち溶媒組成の最も大きい溶媒が非塩素系有機溶媒であって、且つ、前記流延部の空間温度が溶媒組成の最も大きい溶媒の沸点に対して−１１０℃〜＋３０℃であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶画像表示装置に有用なセルロースアシレートフィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、セルロースエステルフィルムを延伸し、面内のレターデーション（Ｒｅ；以下、単に「Ｒｅ」と称する場合がある。）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ；以下、単に「Ｒｔｈ」と称する場合がある。）を発現させ、液晶表示装置の位相差膜として使用し、視野角拡大を図ることが実施されている。また、ＳＴＮ型液晶表示装置とセルロースエステルフィルムとを併用する場合、あまり大きなＲｅやＲｔｈを必要とせず、従来２〜３置換のセルロースアセテートフィルムが中心に使用されてきた。しかし、近年バーティカルアラインメント（ＶＡ）方式等の液晶表示装置が開発され、より高いＲｅおよびＲｔｈを持った光学フィルムが必要となってきている。このような状況に対応するため、アセチル基以外にプロピオニル基やブチリル基にて置換したセルロースアシレートフィルムを支持体上に流延し、溶媒を蒸発させてセルロースアシレートフィルムを形成し、製膜したフィルムを光学用途に用いる技術が提案されている（特許文献１〜３参照）。
【０００３】
また近年では、セルロースアシレート液を支持体上へ流延し、溶媒を蒸発させた後、支持体上から剥離してセルロースアシレートフィルムを形成する溶液製膜法において、その生産性を向上させることが課題となっている。しかしながら、上述の方法では、特に残水酸基の多いセルロースアシレート（トータル置換度（Ａ＋Ｂ）が２．８以下〔Ａ：アセチル基の置換度、Ｂ：プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和〕）を用いた場合は、支持体上で成形したセルロースアシレートフィルムを支持体から剥離する際に大きな剥ぎ取り荷重が必要となる。このため、剥ぎ取りテンションが変動し、フィルム表面が塑性変形して、段ムラ（剥ぎ段）が発生し、面状が悪化してしまう場合がある。また、剥ぎ取り荷重が大きいと、フィルムを支持体から剥離する前に、フィルムが破断してしまう場合があり、生産性に乏しく、その改良が必要であった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１８８１２８号公報
【特許文献２】特開２００２−７１９５７号公報
【特許文献３】特開２００１−３１５１４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、支持体上にセルロースアシレート溶液を流延し、溶媒を蒸発させることでセルロースアシレートフィルムを形成する溶液製膜法において、トータル置換度が小さいセルロースアシレートを用いても、フィルムの面状が良好であり、且つ、生産性に優れたセルロースアシレートフィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
（１）流延部において下記式（１）および（２）で表される置換度を満足するセルロースアシレートを有するセルロースアシレート溶液を−５０℃〜８０℃に保温した支持体上に流延し、前記セルロースアシレート溶液中の溶媒の一部を蒸発させてセルロースアシレートフィルムを形成するフィルム形成工程と、前記セルロースアシレートフィルムを前記支持体から剥離する剥離工程と、を含むセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、剥離点での残存溶媒量が１０質量％〜２５０質量％の状態のセルロースアシレートフィルムを、１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍの荷重をかけて剥離するセルロースアシレートフィルムの製造方法。
２．２≦Ａ＋Ｂ≦３．０          ・・・式（１）
１．０≦Ｂ≦３．０              ・・・式（２）
〔式中、Ａはアセチル基の置換度を示す。Ｂはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。〕
【０００７】
（２）前記支持体から前記セルロースアシレートフィルムを剥離する際、前記セルロースアシレートフィルムの残存溶媒中における沸点が８０℃〜１６０℃の有機溶媒の含有量が、全残存溶媒量に対して１．５質量％〜５０．０質量％であることを特徴とする（１）に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（３）前記沸点が８０℃〜１６０℃の有機溶媒がアルコールであることを特徴とする（２）に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（４）前記流延部において前記溶媒の一部を蒸発させるために、支持体上に流延されたセルロースアシレートの支持体に接する側とは反対側に、風速２０〜４０ｍ／秒で気体を送風することを特徴とする（１）〜（３）に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法
【０００８】
（５）前記セルロースアシレート溶液に含まれる溶媒のうち溶媒組成の最も大きい溶媒が塩素系有機溶媒であって、且つ、前記流延部の空間温度が前記溶媒組成の最も大きい溶媒の沸点に対して−９０℃〜＋９０℃であることを特徴とする（１）〜（４）に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（６）前記セルロースアシレート溶液に含まれる溶媒のうち溶媒組成の最も大きい溶媒が非塩素系有機溶媒であって、且つ、前記流延部の空間温度が溶媒組成の最も大きい溶媒の沸点に対して−１１０℃〜＋３０℃であることを特徴とする（１）〜（４）に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【０００９】
（７）（１）〜（６）に記載のセルロースアシレートの製造方法によって製造されたことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
（８）偏光層に（７）に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
（９）（７）に記載のセルロースアシレートフィルムを基材に用いたことを特徴とする液晶表示板用光学補償フィルム。
（１０）（７）に記載のセルロースアシレートフィルムを基材に用いたことを特徴とする反射防止フィルム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、支持体上にセルロースアシレート溶液を流延し、溶媒を蒸発させてセルロースアシレートフィルムを形成する溶液製膜法において、良好な剥離性を有し、フィルムの面状に優れ、且つ、生産性に優れたセルロースアシレートフィルムの製造方法を提供するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下において、本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の代表例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００１２】
本発明者は、上述の溶液製膜によるセルロースアシレートフィルムの面状や、生産性に関係する物性を随意検討した結果、かかる課題は、支持体上で成形したセルロースアシレートフィルムを支持体から剥離する際に、剥離に必要な最低荷重（以下、「剥ぎ取り荷重」と称する。）に関係する事を明らかにした。即ち、剥ぎ取り荷重が小さい程、フィルムの面状が良好となり、また生産性も向上する。尚、本発明でいう剥ぎ取り荷重は、製膜の際の支持体温度と同じ温度に保温した支持体上にセルロースアシレート溶液を流延し、該支持体上に成形したセルロースアシレートフィルムを、ロードセルを用いて支持体から剥離する方法にて測定した値をあらわす。
【００１３】
本発明における剥離点（予め定められた剥離を行う位置）での剥離は、セルロースアシレートフイルムの残存溶媒量が１０質量％〜２５０質量％の状態で行う。２５０質量％を超えた状態で剥離すると、支持体上にセルロースアシレートの剥げ残りが発生し好ましくない。１０質量％未満では、セルロースアシレートのゲル強度が増し、回転している支持体の曲率に追従できなくなり、搬送時において支持体の下側にフィルムが位置した時点で落下し、搬送不良を生じる場合があるため好ましくない。
また、本発明における剥離点での剥ぎ取り荷重は、１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍであり、１．５ｇ／ｃｍ〜５０ｇ／ｃｍであることが好ましく、２．０ｇ／ｃｍ〜４５ｇ／ｃｍであることが最も好ましい。本発明では製膜前に上述の方法にて、剥離点での残存溶媒量の状態における剥離荷重が１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍの範囲にあるか否かを事前確認することで、実際の製膜時における現象を予測できる。剥離点における上記剥ぎ取り荷重が６０ｇ／ｃｍを越えると、剥離する際の荷重が大きいために、剥ぎ取りテンションが変動し、フィルム表面が塑性変形して、段ムラ（剥ぎ段）が発生し、フィルムの面状が悪化してしまう。
また、剥ぎ取り荷重が大きすぎると、フィルムを支持体から剥離する前に、フィルムが破断する場合がある。
更に、剥ぎ取り荷重が１ｇ／ｃｍ未満で剥離できるセルロースアシレートフイルムは膜強度が大きく、回転している支持体の曲率に追従できなくなり、剥離点に到達する前に、支持体の下側にフィルムが位置した時点で落下し、搬送不良を生じる場合がある。
【００１４】
また、本発明によれば、残水酸基が多いのセルロースアシレート（特に、トータル置換度（Ａ＋Ｂ）が２．８以下のセルロースアシレート〔Ａ：アセチル基の置換度、Ｂ：プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和〕）を用いても、支持体からセルロースアシレートフィルムを剥離する際にセルロースアシレートフィルム中の残存溶媒において、沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒の含有量を、全残存溶媒量に対して１．５質量％〜５０．０質量％とすることで、上述の剥ぎ取り荷重を制御して、面状や生産性を改良することができる。
【００１５】
本発明においては、セルロースアシレート溶液の調製工程における上記沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒中の含有量が、全溶媒量に対して１質量％〜２５質量％であることが好ましく、２質量％〜２０質量％であることがより好ましく、３質量％〜１５質量％であることが最も好ましい。上記２５質量％を越えると、セルロースアシレート溶液の溶解性が低下し、透明性の点から好ましくない。また、１質量％未満であると、後の剥離工程において、剥離の際に上述の剥ぎ段による面状故障が発生したり、フイルムが破断する場合がある。
【００１６】
更に、剥離工程において、セルロースアシレートフィルムを支持体から剥離する際のセルロースアシレートフィルム中の残存溶媒中における沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒の含有量は、全残存溶媒量に対して１．５質量％〜５０．０質量％であることが好ましく、２質量％〜４５質量％であることがより好ましく、３質量％〜５０質量％であることが最も好ましい。上記沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒の含有量が１．５質量％未満では、剥ぎ取り荷重を小さくすることができず、上述の剥ぎ段による面状故障が発生したり、フィルムが破断する場合がある。また、５０．０質量％を越えると、セルロースアシレート溶液の溶解性が低下してフィルムが白化する場合や、剥ぎ取り荷重が１ｇ／ｃｍ未満となり、上述の搬送不良が発生する場合がある。
【００１７】
剥離前の支持体上でのセルロースアシレートの乾燥工程において、セルロースアシレート中の溶剤の一部を蒸発させる方法としては、支持体裏側及びセルロースアシレート側から加熱風を供給する方法、支持体の裏面から加熱液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法などがある。本発明によれば、支持体上でのセルロースアシレートの溶剤の一部を蒸発させる方法、及び、上述の剥離点におけるセルロースアシレートフィルムに含まれる沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒の残存量を制御する手段として、セルロースアシレート側から加熱風をあてる熱供給方式を用い、流延部に熱供給の為に送風される気体の風速と空間温度を下記のように制御する手段を用いることができる。即ち、流延部において支持体上に流延されたセルロースアシレート（溶液）の支持体と接する側とは反対側（空気側）に熱供給の為に気体を送風し、その風速を制御することで上記沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒の残存量を制御することができる。流延部における風速としては、２０ｍ／秒〜４０ｍ／秒であることが好ましく、２５ｍ／秒〜３５秒であることがより好ましく、３０ｍ／秒〜３５秒であることが最も好ましい。上記流延部における風速は、支持体上に流延されたセルロースアシレートの支持体に接する側とは反対側（空気側）に供給される気体の風速をあらわす。流延部に熱供給の為に送風される気体の風速が４０ｍ／秒を越えると風むらや発泡により面状が低下することがある。また、２０ｍ／秒未満では、支持体上に剥げ残りが発生することがある。本発明における風速の範囲は、従来のアセチル基と水酸基を有するセルロースアシレートフィルムの製膜方法の際の風速と比較して大きいことが特徴である。従来の製膜方法（例えば、上記特許文献３に記載の方法）においては、セルロースアシレートフィルムの流延の際の空気側に熱供給の為に送風される温風の風速は１０ｍ／秒〜２０ｍ／秒が好ましいとされていたが、本発明者の検討により、アセチル基以外にプロピオニル基やブチリル基にて置換したセルロースアシレートフィルムの製膜の場合は剥離の際の剥ぎ段や剥げ残り等によるフィルムの面状の低下を防ぐ観点から、流延部に熱供給する温風の風速を増加させたほうが好ましいことが分かり、本発明に至った。流延部に熱供給の為に送風する気体は特に限定されないが、例えば、空気、窒素、アルゴンが好ましく、溶媒に非塩素系有機溶媒を使う場合は防爆の観点で窒素、アルゴンが更に好ましい。
また、流延部の空間温度においては、セルロースアシレート溶液に含まれる溶媒のうち、溶媒組成の最も大きい溶媒（以下、「主溶媒」と称する場合がある。）が塩素系有機溶媒の場合、流延部の空間温度を該主溶媒の沸点に対して−９０℃〜＋９０℃にすることが好ましく、−８０℃〜＋８０℃にするのがより好ましく、−７０℃〜＋７０℃にするのが最も好ましい。一方、主溶媒が非塩素系溶媒の場合、流延部の空間温度を主溶媒の沸点に対して−１１０℃〜＋３０℃にすることが好ましく、−１００〜＋２５℃にすることがより好ましく、−９０℃〜＋２０℃にすることが最も好ましい。通常、流延部の空間温度が、溶媒組成の最も大きい溶媒（主溶媒）の沸点と比較して＋３０℃を越えると、フィルムの支持体側の温度も上昇するため、フィルム表面に気泡が発生し、フィルムの面状が悪化する。特に、主溶媒が非塩素系の場合はこれに当てはまる。しかし、塩素系溶媒の場合は、ある程度空間温度が高くても蒸発潜熱の効果により、フィルムの温度が上昇しにくいため、＋９０℃でも問題ない。
【００１８】
−沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒−
上述の沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒は、剥ぎ取り荷重が小さく、面状や生産性に問題なければ、その種類は特に限定されず、例えば、ケトン、エーテル、アルコール、および、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。上記ケトン、および、エーテルは環状構造を有していてもよい。また、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も溶媒として用いることができ、例えば、アルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。二種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
沸点８０℃〜１６０℃のケトン類の例としては、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。沸点８０℃〜１６０℃のエーテル類の例としては、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサンが挙げられる。沸点８０℃〜１６０℃の二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例としては、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール等が挙げられる。
【００１９】
沸点８０℃〜１６０℃のアルコールは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素系アルコールであることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。例えば、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノールおよびｎ−ヘキサノール等が挙げられる。
さらに上記炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。また、上記炭化水素としては、芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。沸点８０℃〜１６０℃の炭化水素の例としては、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等が挙げられる。なかでも、沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒としてはアルコールが、セルロースアシレートと支持体との間の水素結合を抑制し、剥ぎ取り荷重を低減する効果が大きい理由から好ましく、乾燥効率の観点からは沸点８０℃〜１４０℃である溶媒が好ましい。例えば、このような沸点８０℃〜１４０℃である溶媒としては、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール等が挙げられる。
【００２０】
（セルロースアシレート溶液の調製工程）
本発明に用いられるセルロースアシレート溶液は以下の調製工程において調製することができる。前記調製工程における溶媒は、上記沸点８０℃〜１６０℃の溶媒を全溶媒量に対して１質量％〜２５質量％含み、セルロースアシレートを溶解できれば、下記の塩素系有機溶媒と非塩素系有機溶媒とのいずれも用いることができる。
上記塩素系有機溶媒としては、好ましくはジクロロメタン、またはクロロホルムであり、特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の非塩素系有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合は、ジクロロメタン等の塩素系有機溶媒は少なくとも５０質量％使用することが好ましい。
上記非塩素系有機溶媒について以下に記す。すなわち、好ましい非塩素系有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。上記エステル、ケトン、および、エーテルは環状構造を有していてもよい。上記エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。二種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
上記炭素原子数が３〜１２のエステル類の例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、および、蟻酸ペンチルが挙げられる。上記炭素原子数が３〜１２のケトン類の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、および、ジイソブチルケトンが挙げられる。上記炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例としては、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。上記二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例としては、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが挙げられる。
【００２１】
上記アルコールは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素系アルコールであることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよく、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ノニルアルコール等が含まれる。尚上記アルコールとしては、フッ素系アルコールも用いることができる。該フッ素系アルコールとしては、例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどが挙げられる。
【００２２】
さらに上記炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素とのいずれも用いることができる。上記脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。これらのアルコールおよび炭化水素は単独でもよいし２種類以上の混合物でもよく特に限定されない。
これら溶媒のうち、製造取り扱い性と、セルロースアシレートの溶解性と、流延したフィルム中への残留という観点からは、ジクロロメタン、酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチル、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチル、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、シクロヘキサン、ヘキサンを挙げることができる。
【００２３】
本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製工程に用いられる溶媒が、沸点８０℃〜１６０℃の溶媒を全溶媒量に対して１質量％〜２５質量％含み、且つ、主溶媒として塩素系有機溶媒を含む場合、その好ましい組み合わせとしては以下を挙げることができる。但し、本発明はこれらに限定されるものではない（下記の括弧内の数字は質量部を示す）。
【００２４】
・ジクロロメタン／ｎ−ブタノール（７５．０／２５．０）
・ジクロロメタン／メタノール／ｎ−プロパノール（８１．６／１４．８／３．６）
・ジクロロメタン／メタノール／ｉｓｏ−プロパノール（８１．６／１４．８／３．６）
・ジクロロメタン／メタノール／ｎ−ブタノール（８１．６／１４．８／３．６）
・ジクロロメタン／メタノール／ｉｓｏ−ブタノール（８１．６／１４．８／３．６）
・ジクロロメタン／メタノール／ｓｅｃ−ブタノール（８１．６／１４．８／３．６）
・ジクロロメタン／メタノール／ｔｅｒｔ−ブタノール（８１．６／１４．８／３．６）
・ジクロロメタン／メタノール／ｎ−ペンタノール（８１．６／１４．８／３．６）
・ジクロロメタン／メタノール／ｎ−ヘキサノール（８１．６／１４．８／３．６）
・ジクロロメタン／メタノール／エタノール／ｎ−ブタノール（８０／１０／５／５）
・ジクロロメタン／アセトン／メタノール／ｉｓｏ−プロパノール（８０／１０／５／５）
・ジクロロメタン／メタノール／ｎ−ブタノール／シクロヘキサン（８０／１０／５／５）
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／メタノール／ｎ−ブタノール（８０／１０／５／５）
・ジクロロメタン／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／ｉｓｏ−プロパノール（７５／１０／５／５／５）
・ジクロロメタン／シクロペンタノン／メタノール／ｉｓｏ−プロパノール（８０／７／８／５）
・ジクロロメタン／酢酸メチル／ｎ−ブタノール（８０／１０／１０）
・ジクロロメタン／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン（８０／１２／４／４）
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／ｎ−ブタノール（５０／２０／２０／５／５）
・ジクロロメタン／１，３ジオキソラン／メタノール／ｎ−ブタノール（７０／２０／５／５）
・ジクロロメタン／ジオキサン／アセトン／メタノール／ｎ−ブタノール（６０／２０／１０／５／５）
・ジクロロメタン／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ｉｓｏ−ブタノール／シクロヘキサン（７３／１０／４／５／４／４）
・ジクロロメタン／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ｎ−ブタノール／ヘキサン（６５／１０／１０／５／５／５）
・ジクロロメタン／シクロペンタノン／エタノール／ｎ−ブタノール（７８／７／１０／５）
【００２５】
さらに、本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製工程に用いる溶媒に関し、沸点８０℃〜１６０℃の溶媒を全溶媒量に対して１質量％〜２５質量％含み、且つ、塩素系有機溶媒を含まない場合に好ましく用いることのできる溶媒としては、例えば、異なる３種類以上の非塩素系有機溶媒の混合溶媒であって、第１の溶媒が酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、および、ジオキサンから選ばれる少なくとも一種或いはそれらの混合液であり、第２の溶媒が、炭素原子数４〜７のケトン類またはアセト酢酸エステルから選ばれ、第３の溶媒として、炭素数が１〜１０のアルコール、炭化水素を含むものが挙げられる。尚第１の溶媒が、２種以上の溶媒の混合液である場合は、第２の溶媒を用いなくてもよい。
【００２６】
上記第１の溶媒は、さらに好ましくは、酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチル或いはこれらの混合物である。上記第２の溶媒としては、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合液であってもよい。
上記第３の溶媒として用いられるアルコールは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。上記アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。上記アルコールの例には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ノニルアルコール等が含まれる。尚上記アルコールとしては、フッ素系アルコールも用いることができる。該フッ素系アルコールとしては、例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどが挙げられる。
【００２７】
さらに上記第３の溶媒として用いることのできる炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。また、芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素とのいずれも用いることができる。上記脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。上記炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。これらの第３の溶媒であるアルコールおよび炭化水素は単独でもよいし２種類以上の混合物でもよく特に限定されない。
【００２８】
以上の、沸点８０℃〜１６０℃の溶媒を全溶媒量に対して１質量％〜２５質量％含んだ非塩素系有機溶剤の混合溶媒は、第１の溶媒が２０〜９５質量％、第２の溶媒が２〜６０質量％さらに第３の溶媒が５〜３０質量％の比率で含まれることが好ましく、第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜５０質量％、さらに第３の溶媒が３〜２５質量％含まれることが更に好ましい。また特に第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜３０質量％、第３のアルコールが３〜１５質量％含まれることが最も好ましい。尚、第１の溶媒が混合液で第２の溶媒を用いない場合は、第１の溶媒が２０〜９０質量％、第３の溶媒が５〜３０質量％の比率で含まれることが好ましく、さらに第１の溶媒が３０〜８６質量％であり、第３の溶媒が７〜２５質量％含まれることが更に好ましい。
【００２９】
以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒について、さらに詳細には発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１２頁〜１６頁に詳細に記載されている。
【００３０】
本発明においてセルロースアシレート溶液の調製工程に用いられる溶媒として用いることのできる、沸点８０℃〜１６０℃の溶媒を全溶媒量に対して１質量％〜１２質量％含んだ非塩素系有機溶媒の好ましい組み合わせを以下挙げる。但し、本発明は、これらに限定されるものではない（括弧内の数字は質量部を示す）。
・酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／ｎ−ブタノール（７５／１０／５／５／５）
・酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／ｉｓｏ−プロパノール（７５／１０／５／５／５）
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ｎ−ブタノール／シクロヘキサン（７５／１０／５／５／５）
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ｎ−ブタノール（８１／８／７／４）
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ｎ−ブタノール（８２／１０／４／４）
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ｉｓｏ−ブタノール（８０／１０／４／６）
・酢酸メチル／メチルエチルケトン／メタノール／ｎ−ブタノール（８０／１０／５／５）
・酢酸メチル／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／ｉｓｏ−プロパノール（７５／１０／５／５／５）
・酢酸メチル／シクロペンタノン／メタノール／ｉｓｏ−プロパノール（８２／８／６／４）
・酢酸メチル／アセトン／ｎ−ブタノール（８５／１０／５）
・酢酸メチル／シクロペンタノン／アセトン／エタノール／ｎ−ブタノール（６８／８／１５／５／４）
・酢酸メチル／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン（７８／１２／５／５）
・酢酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／エタノール／ｎ−ブタノール（５０／２０／２０／５／５）
・酢酸メチル／１、３ジオキソラン／エタノール／ｎ−ブタノール（７０／２０／５／５）
・酢酸メチル／ジオキサン／アセトン／エタノール／ｎ−ブタノール（６０／２０／１０／５／５）
・酢酸メチル／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ｉｓｏ−ブタノール／シクロヘキサン（７３／１０／６／５／３／３）
・ギ酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／エタノール／ｎ−ブタノール  （５０／２０／２０／５／５）
・ギ酸メチル／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ｎ−ブタノール／ヘキサン  （６５／１０／１０／５／５／５）
・アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ｎ−ブタノール（７８／８／１０／４）
・アセトン／１，３ジオキソラン／エタノール／ｎ−ブタノール  （６５／２０／１０／５）
・１，３ジオキソラン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン／エタノール／ｎ−ブタノール（７０／８／１３／５／４）
【００３１】
更に下記のように、溶解後、一部の溶剤をさらに追加添加し、多段で溶解することも好ましい（括弧内の数字は質量部を示す）。
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８１／８／７／４）でセルロースアシレート溶液を調製し、ろ過・濃縮後に２質量部のブタノールを追加添加
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８４／１０／４／２）でセルロースアシレート溶液を調製し、ろ過・濃縮後に４質量部のブタノールを追加添加
酢酸メチル／アセトン／エタノール（８４／１０／６）でセルロースアシレート溶液を調製し、ろ過・濃縮後に５質量部のブタノールを追加添加
【００３２】
本発明におけるセルロースアシレートとしては、アシレート基が下記式（１）および（２）で表される置換度を満足するセルロースアシレートが用いられる。
２．２≦Ａ＋Ｂ≦３．０          ・・・式（１）
１．０≦Ｂ≦３．０              ・・・式（２）
〔式中、Ａはアセチル基の置換度を示す。Ｂはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。〕
【００３３】
更に、本発明におけるセルロースアシレートとしては、下記式（１ａ）および（２ａ）で表される置換度を満足するセルロースアシレートが好ましい。
２．２≦Ａ＋Ｂ≦３．０          ・・・式（１ａ）
１．２５≦Ｂ≦３                ・・・式（２ａ）
【００３４】
より好ましくは、下記の条件を満足する置換度を有するセルロースアシレートである。
・Ｂの１／２以上がプロピオニル基の場合
２．３≦Ａ＋Ｂ≦２．９５
２．０≦Ｂ≦２．９５
・Ｂの１／２未満がプロピオニル基の場合
２．３≦Ａ＋Ｂ≦２．９５
１．３≦Ｂ≦２．５
【００３５】
特に好ましくは、下記の条件を満足する置換度を有するセルロースアシレートである。
・Ｂの１／２以上がプロピオニル基の場合
２．６≦Ａ＋Ｂ≦２．９５
２．４≦Ｂ≦２．９
・Ｂの１／２未満がプロピオニル基の場合
２．６≦Ａ＋Ｂ≦２．９５
１．３≦Ｂ≦２．０
【００３６】
本発明では、支持体からセルロースアシレートフィルムを剥離する際のセルロースアシレートフィルム中の残存溶媒における、沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒の含有量が全残存溶媒量に対して１．５質量％〜５０．０質量％含有する方法を用いるのが好ましい。係る方法は、セルロースアシレートのトータル置換度（Ａ＋Ｂ）を少なくしても性能上問題ないことが特徴である。従来、セルロースアシレートのトータル置換度が小さく、残水酸基の数が多くなる程、支持体との水素結合が強まりにより剥ぎ取り荷重が大きくなっていた。
【００３７】
また、本発明の製造方法は、アセチル基の置換度を少なくし、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基の置換度の総和を多くしていることが特徴である。このような効果は以下のように考えることができる。
即ち、セルロースアシレートは主鎖（セルロース骨格）と直交して配置するアシレート基の誘電ベクトルの和によってＲｅおよびＲｔｈが発現するものと予想されるが、湿度が変化すると吸着水の可塑化効果でアシレート基が回転し易くなり、両者のベクトル和が変化しＲｅおよびＲｔｈが変化するものと推察される。このため、より回転し難いバルキーな基でエステル化することが好ましい。このためには、アセチル基より大きなプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基が好ましく、より好ましくはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基であり、さらに好ましくはプロピオニル基、ブチリル基である。これら以上に炭素数の多いカルボン酸を用いたセルロースアシレートは力学強度が弱く、溶液製膜の残留溶剤を揮発させる乾燥過程で収縮応力により膜が破断しやすく好ましくない。
【００３８】
これらのセルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。具体的には、綿花リンターや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、或いは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（或いは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理によりセルロースアシレートを得ることができる。
【００３９】
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度１５０〜５００、好ましくは２００〜４００、更に好ましくは２５０〜３５０である。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
このような重合度の調整は、セルロースアシレート中の低分子量成分を除去することでも達成できる。低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。さらに重合方法でも分子量を調整できる。例えば、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。
【００４０】
本発明で用いられるセルロースエステルは、質量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは２．０〜５．０であり、更に好ましくは２．５〜５．０であり、更に好ましくは３．０〜５．０のセルロースエステルが好ましく用いられる。
これらのセルロースアシレートは１種類のみを用いてもよく、２種以上混合してもよい。また、セルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。
【００４１】
本発明におけるセルロースアシレート溶液は、塩素系、非塩素系有機溶媒いずれの場合でも、セルロースアシレートを有機溶媒に１０〜３５質量％溶解していることが好ましく、１２〜３３質量％溶解していることがより好ましく、１４〜３０質量％溶解していることが最も好ましい。これらのセルロースアシレート濃度を達成する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように実施してもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法でも本発明におけるセルロースアシレート溶液の濃度を調整することができる。
【００４２】
また、セルロースアシレートの溶解に先立ち、未製膜または製膜後のセルロースアシレートを乾燥し、含水率を２質量％以下、より好ましくは１質量％以下にしておくことが好ましい。
更に、これらのセルロースアシレートと溶剤とを混合した後、セルロースアシレートを０℃〜５０℃で０．１時間〜１００時間膨潤させることが好ましい。
【００４３】
本発明では、一度溶液製膜したセルロースアシレートフィルムを、未製膜のセルロースアシレートと混合して使用するのが好ましい。全セルロースアシレート中に含まれる溶液製膜セルロースアシレートの割合は１質量％〜５０質量％が好ましく、より好ましくは２質量％〜４５質量％、さらに好ましくは３質量％〜４０質量％である。一度溶液製膜したセルロースアシレートは、製膜中に結晶が生成しており、これが再溶解しても溶け残り、製膜する時に結晶核となり結晶生成を促すことで、剥ぎ取りの際のフィルムの強度を確保できる。
製膜したセルロースアシレートは、そのまま溶解してもよく、破砕した後溶解してもよいが、溶解効率を上げる上で後者が好ましい。
【００４４】
本発明では、セルロースアシレートを溶解するために常温で溶解しても、冷却・昇温法で溶解してもよい。冷却・昇温法は、特開平１１−３２３０１７号公報、同１０−６７８６０号公報、同１０−９５８５４号公報、同１０−３２４７７４号公報、同１１−３０２３８８号公報に記載のような方法を用いることができる。即ち、溶剤とセルロースアシレートとを混合し膨潤させたものを、冷却ジャケットを付与したスクリュー型混練機を用い溶解することができる。
さらに本発明のセルロースアシレート溶液は、濃縮，ろ過を実施することが好ましく、これらは発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の２５頁に詳細に記載されているものを使用できる。
【００４５】
本発明におけるセルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、剥離促進剤、可塑剤、紫外線防止剤、赤外吸収剤、微粒子、劣化防止剤、光学異方性コントロール剤など）を加えることができる。これら添加剤は、固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。
【００４６】
本発明における剥離促進剤のｐＫａは１．０〜５．０であることが好ましく、１．５〜４．５であることがより好ましい。セルロースアシレートには置換基に合成法由来のＣＯＯＣａやＯＳＯ3Ｃａなどの置換基が存在し、その置換基のＣａが支持体表面の酸素原子と相互作用することで剥ぎ取り荷重を増加させている。ｐＫａが上述の範囲にある剥離促進剤を添加し、セルロースアシレートの置換基をＣＯＯＣａからＣＯＯＨに変えることにより、セルロースアシレートフィルムと支持体との相互作用を弱めることができ、剥ぎ取り荷重を低減することができる。
本発明において、剥離促進剤の含有量は、セルロースアシレートに対して１ｐｐｍ〜４０００ｐｐｍであることが好ましく、５ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍであることがより好ましく、１０ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍであることが最も好ましい。上記含有量が４０００ｐｐｍを越えると、セルロースアシレートフィルムの乾燥過程で剥離促進剤が蒸発する量が増し、冷えて液滴となった剥離促進剤がフィルム上に落下して面状を悪化させる場合や、製造系内を汚染する場合があり、好ましくない。また、１ｐｐｍ未満であると、剥ぎ取り荷重に対する効果がほとんど無く、生産性が不十分である。
上記剥離促進剤は、例えば、燐酸系エステル、スルホン酸、および酸解離定数ｐＫａが１．０〜５．０の酸またはその塩から選ばれる少なくとも１種の剥離促進剤であることが好ましい。上記剥離促進剤の例としては、蟻酸、酢酸、乳酸、安息香酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、グルコール酸、リンゴ酸、スベリン酸、酒石酸、クエン酸、および、それらの塩を挙げることができる。これらのうち、上記剥離促進剤としては、グルコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸およびそれらの塩であることが好ましい。
【００４７】
上記可塑剤は、例えば、特開２０００−３５２６２０号公報に記載のものを使用することができる。好ましくは、湿度によるＲｅおよびＲｔｈ変化の軽減に効果のある点で、例えば、アルキルフタリルアルキルグリコレート類や、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。上記アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
上記リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることができる。
上記カルボン酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートおよびジエチルヘキシルフタレート等のフタル酸エステル類、およびクエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等のクエン酸エステル類を挙げることができる。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン等を単独或いは併用するのが好ましい。
【００４８】
これらの可塑剤の含有量はセルロースアシレートに対し０質量％〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０質量％〜１０質量％であり、さらに好ましくは０質量％〜８質量％である。これらの可塑剤は必要に応じて、２種類以上を併用して用いてもよい。
【００４９】
上記紫外線防止材としては、例えば、特開平２００１−１５１９０１号公報に記載されているものが挙げられる。さらに、上記赤外吸収剤としては、例えば、特開平２００１−１９４５２２号公報に記載のものを使用でき、それぞれセルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％含有させることが好ましい。上記微粒子は、平均粒径が５〜３０００ｎｍのものを使用することが好ましい。該微粒子としては、金属酸化物や架橋ポリマーから成るものを使用でき、セルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％含有させることが好ましい。
上記劣化防止剤としては、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等が挙げられ、セルロースアシレートに対して０．０００１〜２質量％含有させることが好ましい。光学異方性コントロール剤としては、例えば特開２００３−６６２３０号公報、特開２００２−４９１２８号公報に記載のものを使用でき、セルロースアシレートに対して０．１〜１５質量％含有させることが好ましい。
【００５０】
これら添加剤の添加する時期はセルロースアシレート溶液の調整工程において何れで添加してもよいが、該調製工程の最後に添加剤を添加し、調製する工程を加えて行ってもよい。更に、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されず、例えば、それぞれ上述の好ましい範囲とすることができる。
【００５１】
（セルロースアシレートフィルムの製造方法）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムを製造する方法および設備としては、従来のセルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置を用いることができる。各製造工程については、発明協会、発明協会公開技報、公技番号２００１−１７４５、２５〜３０頁（２００１年３月１５日）に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離、延伸などに分類される。
以下に本発明の具体的な実施方法を手順に従って説明する。
【００５２】
−フィルム形成工程−
フィルム形成工程は、−５０℃〜８０℃に保温した支持体上にセルロースアシレート溶液を流延し、前記セルロースアシレート溶液中の溶媒を蒸発させてセルロースアシレートフィルムを形成する工程である。
具体的には、まず、溶解機（釜）から調製されたセルロースアシレート溶液（以下、「ドープ」と称する場合がある。）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、濾過、および、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。上記ドープを、ドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の−５０℃〜８０℃に保温された金属支持体上に均一に流延する。流延は単層流延してもよいし、２種類以上のセルロースアシレート溶液を同時およびまたは逐次共流延してもよい。２層以上からなる流延工程を有する場合は、各層のドープのセルロースアシレート、溶剤、添加剤の種類、濃度は同一であってもよく、異なっていてもよい。
前記流延部における金属支持体（金属支持体のフィルム形成面の温度）の温度は−５０〜８０℃が好ましく、−３０〜２５℃がより好ましく、−２０〜１５℃が最も好ましい。上記支持体の温度が−５０℃未満であると、溶剤の蒸発が遅れ、剥離点での剥離の際に支持体上にセルロース足レートの剥げ残りが発生してしまい好ましくない。８０℃を超えると、溶剤の急速な蒸発による発泡にて面状が悪化してしまう。上記流延部における金属支持体の温度を上記温度に保つためには、上述のように流延部に冷却した気体を導入して達成することができ、或いは、冷却装置を流延部に配置して流得部（空間）を冷却してもよい。この時、水が付着しないように注意することが重要であり、乾燥した気体を利用するなどの方法で実施することが好ましい。
【００５３】
−剥離工程−
本発明における剥離工程とは、支持体上に形成されるセルロースアシレートフィルムを該支持体から剥離する工程である。
剥離工程では、流延部においてエンドレスに走行している金属支持体がほぼ一周した点を剥離点とすることができ、生乾きのセルロースアシレートフィルム（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。
本発明において、金属支持体上から生乾きのセルロースアシレートフィルム（ウェブ）を剥ぎ取る際のフィルム中の残留溶剤量は、１０質量％〜２５０質量％であり、１５質量％〜２３０質量％がより好ましく、２０質量％〜２２０質量％が最も好ましい。ここでいう残留溶剤量とは下記（１）式を満足する値である。
残存溶剤量＝（Ｍ−Ｎ）×１００／Ｎ
（Ｍは延伸時点でのセルロースアシレートフィルムの質量であり、Ｎは該セルロースアシレートフィルムを１２０℃で３時間乾燥させた後の質量を意味する。）
【００５４】
残留溶剤量が２５０質量％を越えると、支持体上にセルロースアシレートの剥げ残りが発生する場合がある。また、１０質量％未満では、セルロースアシレートのゲル強度が増し、回転している支持体の曲率に追従できなくなり、搬送時において支持体の下側にフィルムが位置した時点で落下し、搬送不良を生じる場合がある。また、既に説明したように該剥離工程においては、−５０℃〜８０℃に保温された支持体から、残存溶媒量が１０質量％〜２５０質量％の状態のセルロースアシレートフィルムを、１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍの荷重をかけて剥離する。
同様に、前記セルロースアシレートフィルムを剥離する際、前記セルロースアシレートフィルムの残存溶媒中における沸点が８０℃〜１６０℃の有機溶媒の含有量が、全残存溶媒量に対して１．５質量％〜５０．０質量％であることが好ましい。
【００５５】
−乾燥工程−
本発明においては、支持体から剥離して得られるセルロースアシレートフィルムを乾燥する乾燥工程を設けるのが好ましい。乾燥工程においては、例えば、剥離して得られるセルロースアシレートフィルムの両端をクリップで挟み、幅を保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取ることができる。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。ハロゲン化銀写真感光材料や電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。
【００５６】
上記乾燥工程における乾燥方法は特に限定しないが、フィルムの光弾性を確保する観点で、溶剤を含んだ状態から徐々にフィルムの温度を上げる徐昇温乾燥が好ましい。本発明のようなセルロースアシレートフィルムからなる位相差板は、液晶表示装置内で偏光層と貼り合わせて使用されることが多い。偏光層はポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素を含浸し１軸延伸したものが多い。ＰＶＡは親水性のため湿度変化に伴い伸張、収縮を繰り返す。このため、一緒に貼り合わせられたセルロースアシレートフィルムは収縮、伸張応力を受け、この結果セルロースアシレート分子の配向に変化が生じ、ＲｅおよびＲｔｈが変化する。このような応力に伴うＲｅおよびＲｔｈの変化は光弾性として測定でき、この光弾性は５×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）〜３０×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）が好ましく、より好ましくは６×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）〜２５×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）が好ましく、さらに好ましくは７×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）〜２０×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）である。
このような光弾性を達成する上でのポイントは、結晶化度を上昇させ弾性率を向上させることである。セルロースアセテートに比べ本発明のような長鎖のエステル基を持つセルロースアシレートは、立体障害が大きく結晶化が進行しにくいため、かかる徐昇温乾燥にて、結晶化度の上昇を促すことができる。従来の方法では、支持体からセルロースアシレートフィルムを剥ぎ取った後、例えば１５０℃／分以上の速度で急激に加熱するため、結晶化に有効な残留溶剤が揮発してしまい、結晶化が進み難かった。かかる徐昇温乾燥は、４０℃から１２０℃の間の昇温速度を４℃／分〜６０℃／分にすることが好ましく、６℃／分〜４０℃／分にすることがより好ましく、８℃／分〜３０℃／分にすることが最も好ましい。
このような徐昇温乾燥は、昇温ゾーンをいくつかに分割し不連続に昇温してもよく、一つの乾燥ゾーン中の入口と出口との吹き込み風の温度を変え、乾燥ゾーン内に温度勾配を作製し、連続的に昇温してもよい。より好ましくは後者であり、これにより、より効率的に結晶化をさせることができる。
【００５７】
このような徐昇温中は延伸を行わないほうが好ましい。これは、セルロースアシレートは延伸中に体積が増大するため、同時に自由体積も増大し、徐昇温の効果を相殺するためである。
【００５８】
本発明における乾燥工程における乾燥完了後および延伸後の冷却方法は特に限定されないが、フィルムのＲｅおよびＲｔｈの湿度変化を抑制する観点から、乾燥完了後または延伸後の冷却速度を遅くすることがより好ましい。セルロースアシレートは主鎖（セルロース骨格）と、直交して配置するアシレート基の誘電ベクトルの和によってＲｅおよびＲｔｈが発現するものと予想されるが、湿度が変化すると吸着水の可塑化効果でアシレート基が回転し易くなり、両者のベクトル和が変化しＲｅおよびＲｔｈが変化するものと推察される。
湿度によるＲｅおよびＲｔｈの低下の原因と予想される吸湿によるセルロースアシレート分子の側鎖の回転を抑制する方法としては、セルロースアシレート分子間の隙間（自由体積）を小さくする方法が有効である。これには、乾燥完了後または延伸後の冷却速度を遅くするのが好ましく、乾燥ゾーンおよび延伸ゾーン出口温度から５０℃までの間の冷却速度は、２℃／分〜６０℃／分が好ましく、より好ましくは３℃／分〜４０℃／分であり、さらに好ましくは４℃／分〜３０℃／分である。通常は１００℃／分以上で冷却されるため、上記条件は、かなりゆっくり冷却することになる。
セルロースアシレートは、冷却に伴い体積収縮するが、ガラス転移温度（Ｔｇ）を下回るとセルロースアシレート分子の運動性が急激に低下するため、冷却速度に分子の収縮が追いつかず、自由体積が大きくなりやすい。このため、上述のように徐冷して自由体積を小さくすることで、ＲｅおよびＲｔｈの湿度変化を小さくできるものと思われる。
このようなＴｇ以上からＴｇ以下への冷却は乾燥、延伸後に生じやすく、この際には上記のように徐冷することが特に好ましい。
該徐冷はどんな方式で実施してもよいが、例えば熱処理ゾーン出口をいくつかに分割し室温まで段階的に冷却することでも達成できる。また、熱処理ゾーン出口に温調風を吹き付けたり、熱源（例えば赤外線ヒーター、ハロゲンヒーター、パネルヒーター等）を設けることでも実施できる。
【００５９】
−巻き取り工程−
本発明の製造方法においては、上述の方法で乾燥させた後、両端をトリミングし、型押し加工（ナーリング付与）して、それを巻き取る巻き取り工程を設けることができる。このようにして乾燥の終了したセルロースアシレートフィルム中の残留溶剤は０％〜５％が好ましく、より好ましくは０％〜２％、さらに好ましくは０％〜１％である。乾燥終了後、両端をトリミングして巻き取る。好ましい幅は０．５ｍ〜５ｍであり、０．７ｍ〜３ｍが好ましく、１ｍ〜２ｍが更に好ましい。好ましい巻長は３００ｍ〜３００００ｍであり、より好ましくは５００ｍ〜１００００ｍであり、さらに好ましくは１０００ｍ〜７０００ｍである。
【００６０】
−延伸工程−
本発明の製造方法においては、ＲｅおよびＲｔｈを発現させるために、セルロースアシレートフィルムを延伸させる延伸工程を設けることが好ましい。延伸は、製膜中未乾燥の状態（例えば、流延後支持体から剥ぎ取った後から乾燥完了までの間）で実施してもよく、乾燥終了後に実施してもよい。これらの延伸は製膜工程中、オン−ラインで実施してもよく、製膜完了後、一度巻き取った後オフ−ラインで実施してもよい。
上記延伸は（Ｔｇ〜Ｔｇ＋５０℃）で実施するのが好ましく、より好ましくは（Ｔｇ＋１℃）〜（Ｔｇ＋３０℃）、さらに好ましくは（Ｔｇ＋２℃）〜（Ｔｇ＋２０℃）である。好ましい延伸倍率は１％〜５００％であり、より好ましくは３％〜４００％であり、さらに好ましくは５％〜３００％である。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施してもよい。ここでいう「延伸倍率」とは、下記の式を用いて求めたものである。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／延伸前の長さ
【００６１】
このような延伸は出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて、長手方向に延伸してもよく（縦延伸）、フィルムの両端をチャックで把持しこれを直交方向（長手方向と直角に交わる方向）に広げてもよい（横延伸）。一般には、いずれの場合も、延伸倍率を大きくすると、Ｒｔｈ大きくすることができる。また、縦延伸の倍率と横延伸の倍率との差を大きくすることでＲｅを大きくすることができる。
【００６２】
さらにＲｅおよびＲｔｈの比を自由に制御するには、縦延伸の場合、ニップロール間をフィルム幅で割った値（縦横比）を制御することで達成できる。即ち縦横比を小さくすることで、Ｒｔｈ／Ｒｅ比を大きくすることができる。横延伸の場合、直交方向に延伸すると同時に縦方向にも延伸したり、逆に緩和させたりすることで制御することができる。即ち縦方向に延伸することでＲｔｈ／Ｒｅ比を大きくすることができ、逆に縦方向に緩和することでＲｔｈ／Ｒｅ比を小さくすることができる。
このような延伸速度は１０％／分〜１００００％／分が好ましく、より好ましくは２０％／分〜１０００％／分、特に好ましくは３０％／分〜８００％／分である。
また製膜方向（長手方向）と、フィルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θが０°、＋９０°若しくは−９０°に近いほど好ましい。即ち、縦延伸の場合は０°に近いほど好ましく、０±３°が好ましく、より好ましくは０±２°であり、さらに好ましくは０±１°である。横延伸の場合は、９０±３°或いは−９０±３°が好ましく、より好ましくは９０±２°或いは−９０±２°であり、さらに好ましくは９０±１°或いは−９０±１°である。
【００６３】
延伸前後のセルロースアシレートフィルムのＲｅおよびＲｔｈは下式を満足することが好ましい。
Ｒｔｈ≧Ｒｅ
２００≧Ｒｅ≧０
５００≧Ｒｔｈ≧３０
【００６４】
また、下式を満足することがより好ましい。
Ｒｔｈ≧Ｒｅ×１．１
１５０≧Ｒｅ≧１０
４００≧Ｒｔｈ≧５０
【００６５】
更に、下記式を満足することが特に好ましい。
Ｒｔｈ≧Ｒｅ×１．２
１００≧Ｒｅ≧２０
３５０≧Ｒｔｈ≧８０
【００６６】
延伸前後のセルロースアシレートフィルムの厚みはいずれも２０μｍ〜３００μｍが好ましく、より好ましくは３０μｍ〜２５０μｍ、特に好ましくは４０μｍ〜２００μｍである。セルロースアシレートフィルムの厚みむらは未延伸、延伸後とも、厚み方向、幅方向いずれも０％〜２％が好ましく、より好ましくは０％〜１．５％であり、特に好ましくは０％〜１％である。
【００６７】
本発明において、ＲｅおよびＲｔｈは下記の式で示される。
Ｒｅ（ｎｍ）＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ（ｎｍ）＝｜｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ｜×ｄ
（いずれにおいて、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚはそれぞれ、製膜方向、幅方向、厚み方向の屈折率を示し、ｄは厚み（ｎｍ）を示す。）
【００６８】
ＲｅおよびＲｔｈの湿度変化は、相対湿度１０％でのＲｅおよびＲｔｈと相対湿度８０％でのＲｅおよびＲｔｈとの差を、それぞれ相対湿度６０％で測定したＲｅおよびＲｔｈで割り百分率で示したものである。
このような湿度に伴うＲｅおよびＲｔｈ変化は、湿度変化に伴い短時間（数時間）で発生し、かつ可逆的な変化であり、耐湿性（長時間（数週間以上）高湿に曝すことで発生する非可逆的な変化）とは異なる。
【００６９】
−表面処理−
未延伸、延伸後のセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着性の向上を図ることができる。該表面処理としては、例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいう「グロー放電処理」とは、プラズマ励起性気体存在下でフィルム表面にプラズマ処理を施す処理である。グロー放電処理は、１０-3〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３〜２７００Ｐａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更に、大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。前記プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンのようなフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。
これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。尚、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋＥｖ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋＥｖ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これら表面処理の中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理であり、セルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
【００７０】
上記アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬してもよく（浸漬法）、鹸化液を塗布してもよい（塗布方法）。前記浸漬法の場合は、ＮａＯＨやＫＯＨ等のｐＨ１０〜１４の水溶液を２０℃〜８０℃に加温した槽を０．１分〜１０分通過させたあと、中和、水洗、乾燥することで達成できる。
前記塗布方法の場合、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。
また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨが更に好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上が更に好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗或いは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設とを、連続して行うことができ、工程数を減少することができる。これらの鹸化方法は、具体的には、例えば、特開２００２−８２２２６号公報、国際公報ＷＯ０２／４６８０９号公報に記載の内容が挙げられる。
【００７１】
また、機能層との接着のため下塗り層を設ける下塗り工程を経ることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁に記載されている。
これらの表面処理や下塗り層を形成する下塗り工程は、製膜工程（フィルム形成工程）の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
【００７２】
−機能層付与−
本発明の製造方法を用いて製造されたセルロースアシレートフィルムに、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光層の付与（偏光板）、光学補償層の付与（液晶表示板用光学補償シート）、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。
（１）偏光層の付与（偏光板の作製）
［使用素材］
現在、市販の偏光層は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素若しくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、若しくは二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光層は、Ｏｐｔｉｖａ  Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光層におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素或いはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。また、二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法、公技番号２００１−１７４５号、５８頁（発行日２００１年３月１５日）に記載の化合物が挙げられる。
【００７３】
偏光層のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマー或いは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。バインダーには、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。また、シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。前記バインダーとしては、水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。更にポリビニルアルコールの質量平均重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号公報、同９−１５２５０９号公報および同９−３１６１２７号公報の各々に記載がある。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
【００７４】
前記偏光層においてバインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よく、例えば、現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。
偏光層のバインダーは架橋していてもよい。このため、架橋性の官能基を有するポリマー、モノマーをバインダー中に混合してもよく、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与してもよい。架橋は、光、熱或いはｐＨ変化により行うことができ、これにより架橋構造をもったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光層の耐湿熱性が良好となる。
架橋反応が終了後でも、未反応の架橋剤は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、耐候性が向上する。
【００７５】
［偏光層の延伸］
偏光層は、偏光膜を延伸するか（延伸法）、若しくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸はＭＤ方向に平行に行ってもよく（平行延伸）、斜め方向におこなってもよい（斜め延伸）。これらの延伸は、１回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。
より好ましい延伸方法は、斜め方向に１０°から８０°の傾きを付けて延伸する斜め延伸である。
（イ）平行延伸法
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させるのが好ましい。この際、膨潤度は１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後との質量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、１５〜５０℃、就中１７〜４０℃の浴温で延伸するのが好ましい。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後／初期状態の長さ比（以下同じ）に基づくが前記作用効果の点より、１．２〜３．５倍が好ましく、就中１．５〜３．０倍である。この後、５０℃〜９０℃において乾燥させて偏光層を得る。
【００７６】
（ロ）斜め延伸法
斜め延伸法としては特開２００２−８６５５４号公報に記載の斜め方向に傾斜め方向に張り出したテンターを用い延伸する方法を用いることができる。この延伸は空気中で延伸するため、事前に含水させて延伸しやすくすることが必用である。好ましい含水率は５％〜１００％、より好ましくは１０％〜１００％である。
延伸時の温度は４０℃〜９０℃が好ましく、より好ましくは５０℃〜８０℃である。湿度は相対湿度５０％〜１００％が好ましく、より好ましくは相対湿度７０％〜１００％であり、さらに好ましくは相対湿度８０％〜１００％である。長手方向の進行速度は、１ｍ／分以上が好ましく、より好ましくは３ｍ／分以上である。
延伸の終了後、５０℃〜１００℃より好ましくは６０℃〜９０℃で、０．５分〜１０分乾燥する。より好ましくは１分〜５分である。
このようにして得られた偏光層の吸収軸は１０°〜８０°が好ましく、より好ましくは３０°〜６０°であり、さらに好ましくは実質的に４５°（４０°〜５０°）である。
【００７７】
［貼り合せ］
上記鹸化後のセルロースアシレートフィルムと、延伸して調製した偏光層とを貼り合わせ偏光板を作製することができる。張り合わせる方向は、セルロースアシレートフィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向とが４５°になるように行うのが好ましい。
貼り合わせの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。
このようにして得た偏光板の光線透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
さらに、このようにして得た偏光板はλ／４板と積層し、円偏光を作製することができる。この場合λ／４の遅相軸と偏光板の吸収軸を４５°になるように積層する。この時、λ／４は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し２０°〜７０°傾いた吸収軸を有する偏光層、および液晶性化合物からなる光学異方性層から成るλ／４板を用いることが好ましい。
【００７８】
（２）光学補償層の付与（液晶表示板用光学補償シートの作製）
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、セルロースアシレートフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。
［配向膜］
上記表面処理したセルロースアシレートフィルム上に配向膜を設けることができる。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、或いはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与或いは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、或いは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
【００７９】
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー或いは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。また、シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。前記ポリマーとしては、水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの質量平均ｖ重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
【００８０】
液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定することができる。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、或いは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、液晶表示板用光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
【００８１】
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。前記架橋剤としては、反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或いは高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、および架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、上述のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行うことができる。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【００８２】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには加熱乾燥温度が６０℃〜１００℃であることが好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
配向膜は、透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【００８３】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴム或いはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
工業的に実施する場合、搬送している配向膜のついたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成するが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ（偏芯）はいずれも３０μｍ以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０゜が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は１〜１００ｍ／ｍｉｎが好ましい。ラビング角は０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０゜が好ましい。４５゜が特に好ましい。
このようにして得た配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００８４】
次に、配向膜の上に光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、或いは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
［棒状液晶性分子］
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
尚、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基或いはカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報明細書中の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
【００８５】
［円盤状液晶性分子］
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。前記円盤状液晶性分子は、分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基とは、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］〜「０１６８」記載の化合物等が挙げられる。
【００８６】
ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）と偏光層の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光層の面からの距離の増加と共に増加または減少している。前記角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少とを含む変化、或いは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、前記角度は連続的に変化することが好ましい。
配向層側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子或いは配向層の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子或いは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
【００８７】
［光学異方性層の他の組成物］
前記液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上させることができる。これらは液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、或いは配向を阻害しないことが好ましい。
前記重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが更に好ましい。前記重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
このようなポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【００８８】
［光学異方性層の形成］
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。また、二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００８９】
［液晶性分子の配向状態の固定］
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。前記重合反応としては、光重合反応が好ましい。
前記光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２，３６７，６６１号、同第２，３６７，６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２，４４８，８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２，７２２，５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３，０４６，１２７号、同第２，９５１，７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３，５４９，３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４，２３９，８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４，２１２，９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
また、保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
【００９０】
この光学補償フィルムと偏光層とを組み合わせることも好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光層の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光層と光学異方性層との間にポリマーフィルムを使用することなく、偏光層の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板を作製できる。本発明のセルロースアシレートフィルムを含む偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。
偏光層と光学補償層との傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光層の透過軸と液晶セルの縦または横方向とのなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５゜である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５゜でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【００９１】
［液晶表示装置］
このような光学補償フィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。
（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモード液晶表示装置は、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【００９２】
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
ＯＣＢモード液晶表示装置は、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）  液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【００９３】
（ＶＡモード液晶表示装置）
ＶＡモード液晶表示装置は、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【００９４】
（ＩＰＳモード液晶表示装置）
ＩＰＳモード液晶表示装置は、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１号公報、特開２００４−１２７３１号公報、特開２００４−２１５６２０号公報、特開２００２−２２１７２６号公報、特開２００２−５５３４１号公報、特開２００３−１９５３３３号公報に記載のものなどを使用できる。
【００９５】
（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードに対しても、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
【００９６】
（３）反射防止層の付与（反射防止フィルム）
反射防止層は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を本発明におけるセルロースアシレートフィルム上に設けてなる。
屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。
一方、生産性が高い反射防止層として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止層が各種提案されている。
また、前記反射防止層としては、上述したような塗布によって形成される反射防止フィルム上に最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。
【００９７】
［塗布型反射防止フィルムの層構成］
本発明におけるセルロースアシレートフィルムである基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなる反射防止層は、以下の関係式を満足する屈折率を有する様に設計される。
関係式：高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体（本発明におけるセルロースアシレートフィルム）と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更に反射防止層は、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。
前記反射防止フィルムについては、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。また、上述の各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００９８】
［高屈折率層および中屈折率層］
反射防止層の高い屈折率を有する層（高屈折率層）は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜からなる。
高屈折率の無機化合物超微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。高屈折率の無機化合物超微粒子としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等（特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報）、アニオン性化合物或いは有機金属カップリング剤（特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤との併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号第６，２１０，８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等が挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、マトリックスを形成する材料としては、ラジカル重合性および／またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上有する多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有する有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。このような硬化性膜は、例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整するのが好ましい。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【００９９】
［低屈折率層］
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
前記低屈折率層は、耐擦傷性、および防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段としては表面への滑り性の付与が有効であり、従来公知のシリコーン化合物によるシリコーンの導入、含フッ素化合物によるフッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
該フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
【０１００】
上記シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基或いは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
架橋性基または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤や増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、低屈折率層としては、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下において縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
これらシランカップリング剤としては、例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基である（ポリ）パーフルオロアルキルエーテル基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよい。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１０１】
［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、本発明におけるセルロースアシレートフィルムである基材の表面に設けることができる。特に、ハードコート層は、基材と前記高屈折率層との間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性化合物の硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開ＷＯ０／４６６１７号公報等記載のものが挙げられる。
また、上述の高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１０２】
［前方散乱層］
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合に、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設けることができる。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
前記前方散乱層としては、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等に記載のものが挙げられる。
【０１０３】
［その他の層］
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
［塗布方法］
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許第２，６８１，２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。
［アンチグレア機能］
反射防止フィルムは、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止フィルムの表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止フィルムがアンチグレア機能を有する場合、反射防止フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
反射防止フィルム表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層またはハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。
【０１０４】
［測定方法］
以下に本発明で使用した測定法について記載する。
（１）剥ぎ取り荷重の測定
剥ぎ取り荷重は、製膜の際の支持体温度と同じ温度（１５℃）保温したステンレス板（ＳＵＳ板）上にセルロースアシレート溶液を流延し、経時により溶媒を蒸発させてＳＵＳ板上にセルロースアシレートフィルムを形成した後、２００ｍｍ／秒の速度でセルロースアシレートフィルムをＳＵＳ板から剥ぎ取る際の荷重をロードセルを用いておこなうことができる。また、この際にセルロースアシレートフィルムの残存溶剤量を、剥ぎ取りの際のフィルムの質量と、そのフィルムを１２０℃にて３時間乾燥した後の質量から計算する。剥離点での好ましい残存溶媒量である１０質量％〜２５０質量％での剥ぎ取り荷重が１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍの範囲にあるか否かを事前確認する。結果を表１に示す。
【０１０５】
（２）剥ぎ取りフィルムの中の沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒量の測定
剥ぎ取りフィルムの中の沸点８０℃〜１６０℃の有機溶媒量は、支持体から剥ぎ取ったセルロースアシレートフィルムを速やかにジオキソランの入った秤量瓶にいれ、セルロースアシレートを十分に溶解した後、かかるセルロースアシレート溶液中の溶媒量をガスクロマトグラフィー（ＧＣ−１８Ａ：島津製作所（株）製）にて定量し、剥ぎ取ったフィルムに残存した溶媒の組成を求めることにより、全溶媒量に対する沸点８０℃〜１６０℃の溶媒量を算出することができる。
また、この際にかかる測定にて求めた溶媒残存量と、上述の質量法で求めた値に差が無いことを確認する。
【０１０６】
（３）剥ぎ段ムラ
剥ぎ段ムラの有無は、剥ぎ取りフィルムの片面を、例えば黒インク等にてムラ無く均等に塗りつぶし、塗布した面とは反対側の面から透過光の反射像を、角度を変えて目視にて観察し、直線状のスジやムラが観察されるか否かで判断することができる。
【０１０７】
（４）ＲｅおよびＲｔｈ、並びに、湿度に伴うＲｅおよびＲｔｈ変動
まず、幅方向３点（中央、端部（両端から全幅の５％の位置））を長手方向に１０ｍごとに３回サンプリングし、１ｃｍ□の大きさのサンプルを９枚取り出す。
次いで、前記サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％に３時間以上調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ／ＰＲ：王子計測器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、サンプルフィルム表面に対し垂直方向および、フィルム面法線から±４０°傾斜させて方向から波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定する。垂直方向から面内のレターデーション（Ｒｅ）を、また、垂直方向の測定値とフィルム面法線から±４０°方向の測定値から厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を算出する。これらをＲｅ（６０）、Ｒｔｈ（６０）とする。断らない場合のＲｅ，Ｒｔｈは、この値をさす。
さらに、これらのサンプルをそのまま用い、２５℃・相対湿度１０％中で測定しＲｅ（１０）、Ｒｔｈ（１０）を求める。さらにこれらのサンプルを２５℃・相対湿度８０％中で測定し、Ｒｅ（８０）、Ｒｔｈ（８０）とする。
各サンプルについて、下記式に従い湿度Ｒｅ変動、湿度Ｒｔｈ変動を求め、各９点の測定点の平均を求める。
湿度Ｒｅ変動（％／相対湿度％）＝［１００×｛Ｒｅ（８０）とＲｅ（１０）の差の絶対値｝／Ｒｅ（６０）］／７０
湿度Ｒｔｈ変動（％／相対湿度％）＝［１００×｛Ｒｔｈ（８０）とＲｔｈ（１０）の差の絶対値｝／Ｒｔｈ（６０）］／７０
【０１０８】
（５）光弾性係数
(ア)まず、サンプルを１ｃｍ幅×１０ｃｍ長（測定方向（ＭＤ  ｏｒ  ＴＤ）が１０ｃｍになるようにする）に切り出す。
(イ)これをエリプソ測定装置（日本分光製、Ｍ−１５０）にセットし、長手方向（１０ｃｍ長）に沿って１００ｇ、２００ｇ、３００ｇ、４００ｇ、および５００ｇの荷重を掛けながら、順次２５℃・相対湿度６０％において６３２．８ｎｍの光でＲｅを測定する。
(ウ)次いで、横軸に応力（荷重をフィルム断面積で割った値（ｋｇｆ／ｃｍ2））、縦軸にＲｅ変化（ｎｍ）をプロットし、この傾きから光弾性（ｃｍ2／ｋｇｆ）を求めることができる。
【０１０９】
（６）セルロースアシレートの置換度
セルロースアシレートのアシル置換度は、Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．２７３（１９９５）８３−９１（手塚他）に記載の方法で１３Ｃ−ＮＭＲにより求めた。
【実施例】
【０１１０】
以下に本発明のセルロースアシレートフィルムについての具体的な実施態様を記述するが、これらに限定されるものではない。
［実施例１］
１．セルロースアシレートフィルムの製膜
（１）セルロースアシレートの調製
アセチル基の置換度が１．５およびブチリル基の置換度が１．３であり、且つ、粘度平均重合度が３００であるセルロースアシレートを作製した。該セルロースアシレートは、カルボン酸、カルボン酸無水物（無水酢酸とプロピオン酸無水物）、ならびに、触媒としての硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）の混合物を−２０℃に冷却してからセルロースに添加し、最高温度を３０℃に調整してアシル化を行った。この時の、アセチルとブチリルの仕込みモル比はアセチル：ブチリル＝０．３６：０．６４であった。アシル化が完了してから反応混合物に水を加えて酸無水物を加水分解し、さらに、６０℃で１．５時間熟成を行って全置換度を調整した。得られたセルロースアシレート中のアセチルとブチリルの含量は、1Ｈ−ＮＭＲの面積強度比により決定した。また、セルロースアシレートの重合度は下記の方法で求めた。
【０１１１】
（重合度測定法）
絶乾したセルロースアシレート約０．２ｇを精秤し、メチレンクロリド：エタノール＝９：１（質量比）の混合溶剤１００ｍｌに溶解した。これをオストワルド粘度計にて２５℃で落下秒数を測定し、重合度を下記式（１）〜（３）により求めた。
ηｒｅｌ＝Ｔ／Ｔ0              ・・・（１）
［η］＝（ｌｎηｒｅｌ）／Ｃ   ・・・（２）
ＤＰ＝［η］／Ｋｍ           ・・・（３）
Ｔ：測定試料の落下秒数
Ｔ0：溶剤単独の落下秒数
ｌｎ：自然対数
Ｃ：濃度（ｇ／ｌ）
Ｋｍ：６×１０-4
【０１１２】
（２）セルロースアシレートの溶解
（ｉ）溶剤の調製
溶媒組成が、ジクロロメタン（８１．６質量％）、メタノール（１４．８質量％）、ｎ−ブタノール（３．６質量％）からなる溶剤を調製した。
（ii）セルロースアシレートの乾燥
上述のセルロースアシレートを乾燥し含水率を０．５％以下とした。
（iii）添加剤の添加
下記組成の添加剤を前記から得られた溶剤に添加した。尚、下記添加量（質量％）は全てセルロースアシレートの絶乾燥質量に対する割合である。
〔添加剤組成〕
・可塑剤Ａ：トリフェニルフォスフェート（３質量％）
・可塑剤Ｂ：ビフェニルジフェニルフォスフェート（１質量％）
・光学異方性コントロール剤：特開２００３−６６２３０号公報に記載の（化１）に記載の板状化合物（３質量％）
・ＵＶ剤ａ：２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン（０．５質量％）
・ＵＶ剤ｂ：２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール（０．２質量％）
・ＵＶ剤ｃ：２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール（０．１質量％）
・微粒子：二酸化ケイ素（粒径２０ｎｍ、モース硬度：約７）（０．２５質量％）
・クエン酸エチルエステル（モノエステル：ジエステル（＝１：１混合））（０．２質量％）
【０１１３】
（iv）膨潤・溶解
前記から得られた添加剤を含んだ溶液中に、前記セルロースアシレートを撹拌しながら添加した。撹拌停止後、２５℃で３時間膨潤させスラリーを作製した。該スラリーを再度撹拌し、セルロースアシレートを完全に溶解した。
【０１１４】
（ｖ）ろ過・濃縮
この後、前記スラリーを絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過し、セルロースアシレート溶液を得た。セルロースアシレート溶液の濃度は２５質量％（全固形分×１００／（全固形分量＋溶剤量）であった。
【０１１５】
（３）剥離性テスト
１５℃に保温したＳＵＳ板上にセルロースアシレート溶液を乾燥後の厚みが８０μｍになるように流延した。経時により溶媒を蒸発させてＳＵＳ板上にセルロースアシレートフィルムを形成した後、２００ｍｍ／秒の速度でセルロースアシレートフィルムをＳＵＳ板から剥ぎ取り、この際の荷重をロードセルを用いて測定した。また、セルロースアシレートフィルムの残存溶剤量を、剥ぎ取りの際のフィルムの質量と、そのフィルムを１２０℃にて３時間乾燥した後の質量から計算した。更に、残存溶剤量が１００質量％の時点で剥ぎ取ったセルロースアシレートフィルムを速やかにジオキソランの入った秤量瓶にいれ、セルロースアシレートを十分に溶解した後、かかるセルロースアシレート溶液中の溶媒量をガスクロマトグラフィー（ＧＣ−１８Ａ：島津製作所（株）製）にて定量し、剥ぎ取ったフィルムに残存した溶媒の組成を求め、全溶媒量に対する沸点８０℃〜１６０℃の溶媒量を算出した。結果を工程適性と共に表１に示す。
上記セルロースアシレートフィルムの剥ぎ取り荷重は、残存溶剤量１０質量％〜２５０質量％の状態で４〜２０ｇ／ｃｍであり、１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍの範囲内に入ることを確認した。
【０１１６】
（４）製膜
上述のセルロースアシレート溶液を３５℃に加温し、下記のバンド方法で鏡面ステンレス支持体上に流延した。該バンド方法においては、セルロースアシレート溶液をギーサーに通して、１５℃に保温したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。使用したギーサーは、特開平１１−３１４２３３号公報に記載の形態に類似するものを用いた。また、流延部の空間温度を４０℃とし、更に熱供給の為の空気を風速３０ｍ／秒で送風した。残留溶剤が１００質量％となった時点でセルロースアシレートフィルムを鏡面ステンレス支持体から荷重２０ｇ／ｃｍで剥ぎ取り、４０℃〜１２０℃の間を昇温速度が３０℃／分となるように昇温（除昇温）した。その後、１２０℃で５分、更に１４５℃で２０分乾燥した後、３０℃／分で徐冷し、セルローストリアシレートフィルムを得た。得られたフィルムは両端を３ｃｍトリミングした後、両端から２〜１０ｍｍの部分に高さ１００μｍのナーリングを付与し、３０００ｍロール状に巻き取った。
【０１１７】
かかる方法で作製したセルロースアシレートフィルムの面状は、剥ぎ段もなく、良好な面状を示した。
【０１１８】
［実施例２］
実施例１において、セルロースアシレート溶液の溶媒組成をジクロロメタン（８０．５質量％）、メタノール（１４．７質量％）、ｎ−ブタノール（４．８質量％）に変更した以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重２５ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１１９】
［実施例３］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が１．０およびブチリル置換度が１．３であり、且つ、粘度平均重合度３００のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（８２．６質量％）、メタノール（１５．０質量％）、ｎ−ブタノール（２．４質量％）に変更し、前記「１．（２）（iii）添加剤の添加」において、添加剤を、可塑剤Ａ：トリフェニルフォスフェート（９質量％）、可塑剤Ｂ：ビフェニルジフェニルフォスフェート（３質量％）になるよう調製し、「（４）製膜」において流延部の熱供給の為の空気の風速を４０ｍ／秒にした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重３５ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１２０】
［実施例４］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．８およびブチリル置換度が１．７であり、且つ、粘度平均重合度３００のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（８３．６質量％）、メタノール（１５．２質量％）、ｎ−ヘキサノール（１．２質量％）になるよう変更し、「（４）製膜」において製膜時の空間温度を１２０℃にした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重１２ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１２１】
［実施例５］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が１．０およびブチリル置換度が１．３であり、且つ、粘度平均重合度３００のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成を酢酸メチル（８２．０質量％）、アセトン（１０．０質量部）、エタノール（４．０質量％）、ｎ−ブタノール（４．０質量％）に変更し、前記「１．（２）（iii）添加剤の添加」において、添加剤を、可塑剤Ａ：トリフェニルフォスフェート（９質量％）、可塑剤Ｂ：ビフェニルジフェニルフォスフェート（３質量％）になるよう調製し、投入攪拌後のセルロースアシレート溶液を軸中心部が、４０℃に加温したスクリューポンプで送液して、そのスクリュー外周部から冷却し、−７５℃で３分間となるように冷却部分を通過させ、「（４）製膜」において製膜時の空間温度を８０℃にし、流延部の熱供給の為の空気の風速を２０ｍ／秒にした以外は、実施例１と同等に実施した。この際、剥ぎ取り荷重４０ｇ／ｃｍで剥離を行った。尚、冷却は冷凍機で冷却した−８０℃の冷媒を用いて実施した。
【０１２２】
［実施例６］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．３およびプロピオニル置換度が２．５であり、且つ、粘度平均重合度３５０のセルロースアシレートフィルムを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（７６．５質量％）、メタノール（１３．９質量％）、ｉｓｏ−プロパノール（９．６質量％）になるよう調製し、「（４）製膜」において製膜時の流延部の空間温度を２０℃とし、熱供給の為の空気の風速を２０ｍ／秒とした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重４４ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１２３】
［実施例７］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．３およびプロピオニル置換度が２．５であり、且つ粘度平均重合度３５０であるセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（７８．５質量％）、メタノール（１４．３質量％）、ｎ−プロパノール（７．２質量％）になるよう調製し、「（４）製膜」において流延部の熱供給の為の空気の風速を２０ｍ／秒とした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重４５ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１２４】
［実施例８］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．３およびプロピオニル置換度が２．５であり、粘度平均重合度が３５０であるセルロースアシレートを調製した以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重４５ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１２５】
［実施例９］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．３およびプロピオニル置換度が２．５であり粘度平均重合度３５０のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（８１．６質量％）、メタノール（１４．８質量％）、ｎ−ペンタノール（３．６質量％）になるよう調製した以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重４０ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１２６】
［実施例１０］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が１．５およびプロピオニル置換度が１．３であり、且つ、粘度平均重合度３５０のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（７５．０質量％）、ｎ−ブタノール（２５．０質量％）になるよう調製し、「（４）製膜」において製膜時の空間温度を−４０℃にし、熱供給の為の空気の風速を２０ｍ／秒にした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重５９ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１２７】
［実施例１１］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が１．０およびプロピオニル置換度が１．３であり、且つ、粘度平均重合度３００のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成を酢酸メチル（８１．０質量％）、アセトン（８．０質量部）、エタノール（７．０質量％）、ｎ−ブタノール（４．０質量％）にし、前記「１．（２）（iii）添加剤の添加」において、添加剤を、可塑剤Ａ：トリフェニルフォスフェート（９質量％）、可塑剤Ｂ：ビフェニルジフェニルフォスフェート（３質量％）になるよう調製し、投入攪拌後のセルロースアシレート溶液を軸中心部を４０℃に加温したスクリューポンプで送液して、そのスクリュー外周部から冷却し、−７５℃で３分間となるように冷却部分を通過させ、「（４）製膜」において製膜時の流延部の空間温度を−４０℃にし、熱供給の為の空気の風速を２０ｍ／秒にした以外は、実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重５８ｇ／ｃｍで剥離を行った。尚、冷却は冷凍機で冷却した−８０℃の冷媒を用いて実施した。
【０１２８】
［実施例１２］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．３およびプロピオニル置換度が２．５であり、且つ粘度平均重合度３５０のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（８０．０質量％）シクロペンタノン（７．０質量部）、メタノール（８．０質量％）、エタノール（５．０質量％）になるよう調製し、「（４）製膜」において流延部の熱供給の為の空気の風速を２５ｍ／秒にした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重５８ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１２９】
［実施例１３］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．３およびプロピオニル置換度が２．５であり、且つ粘度平均重合度３５０のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（８１．６質量％）、メタノール（１４．８質量％）、２−エトキシエタノール（３．６質量％）になるよう調製し、「（４）製膜」において流延部の熱供給の為の空気の風速を３０ｍ／秒にした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。この際、剥ぎ取り荷重５９ｇ／ｃｍで剥離を行った。
【０１３０】
［比較例１］
実施例１の「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（６７．０質量％）、エタノール（３３．０質量％）になるように調製し、「（４）製膜」において製膜時の流延部の空間温度を１４０℃にし、熱供給の為の空気の風速を１０ｍ／秒にした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。製膜前の剥ぎ取り荷重の測定では、１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍを満足せず、製膜を想定した剥離点での残存溶媒量の状態の剥離荷重が１００ｇ／ｃｍであったので、実際の製膜では、剥ぎ取り荷重１００ｇ／ｃｍで剥離を行った。結果として、剥ぎ段が発生した。
【０１３１】
［比較例２］
実施例１の「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（８４．６質量％）、メタノール（１５．０質量％）、ｎ−ブタノール（０．４質量％）になるよう調製し、「（４）製膜」において製膜時の流延部の空間温度を１４０℃とし、熱供給の為の空気の風速を５５ｍ／秒にした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。製膜前の剥ぎ取り荷重の測定では、１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍを満足せず、製膜を想定した剥離点での残存溶媒量の状態の剥ぎ取り荷重が６６ｇ／ｃｍであったので、実際の製膜では、剥ぎ取り荷重６６ｇ／ｃｍで剥離を行った。結果として、剥ぎ段が発生した。
【０１３２】
［比較例３］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．３およびブチリル置換度が２．５であり、且つ、粘度平均重合度３５０のセルロースアシレートを調製し、前記「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成をジクロロメタン（８４．６質量％）、メタノール（１５．０質量％）、ｎ−ヘプタノール（０．４質量％）になるよう調製し，「（４）製膜」において流延部の空間温度を１４０℃とし、熱供給の為の空気の風速を６０ｍ／秒とした以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。製膜前の剥ぎ取り荷重の測定では１ｇ／ｃｍ未満であった。製膜の際、剥離点に到達する前にフイルムが落下し、搬送不良が発生した。
【０１３３】
［比較例４］
実施例１における「１．（１）セルロースアシレートの調製」において、アセチル置換度が０．３およびブチリル置換度が２．５であり、且つ粘度平均重合度３５０のセルロースアシレートを調製し、「１．（２）（ｉ）溶剤の調製」において、溶媒組成を酢酸メチル（８１．０質量％）、アセトン（８．０質量部）、エタノール（１０．８質量％）、ｎ−ブタノール（０．２質量％）にし、前記「１．（２）（iii）添加剤の添加」において、添加剤を、可塑剤Ａ：トリフェニルフォスフェート（９質量％）、可塑剤Ｂ：ビフェニルジフェニルフォスフェート（３質量％）になるよう調製し、投入攪拌後のセルロースアシレート溶液を軸中心部を４０℃に加温したスクリューポンプで送液して、そのスクリュー外周部から冷却し、−７５℃で３分間となるように冷却部分を通過させ、「（４）製膜」において製膜時の流延部の空間温度を９５℃にし、熱供給の為の空気の風速を６０ｍ／秒にした以外は、実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。製膜前の剥ぎ取り荷重の測定では、１．０ｇ／ｃｍ〜６０ｇ／ｃｍを満足せず、製膜を想定した剥離点での残存溶媒量の状態の剥ぎ取り荷重が７７ｇ／ｃｍであったので、実際の製膜では剥ぎ取り荷重７７ｇ／ｃｍで剥離を行ったところ剥ぎ段が発生した。尚、冷却は冷凍機で冷却した−８０℃の冷媒を用いて実施した。
【０１３４】
〔評価〕
かかる方法で作製したセルロースアシレートフィルムのＲｅおよびＲｔｈおよびこれらの湿度依存性、光弾性を測定した。結果、実施例１〜１３のセルロースアシレートフィルムは下記範囲を満足する良好な特性を示した。
０≦Ｒｅ（ｎｍ）≦２００
３０≦Ｒｔｈ（ｎｍ）≦５００
０≦ΔＲｅ（％／相対湿度％）≦９０
０≦ΔＲｔｈ（％／相対湿度％）≦９０
５×１０-7≦光弾性（ｃｍ2／ｋｇｆ）≦３０×１０-7
【０１３５】
さらに発明協会公開技報告（公技番号２０１−１７４５）の実施例１に従い、各実施例で調製したセルロースアシレート溶液を用いて３層共流延を実施したが、上記と同様に良好な結果が得られた。
【０１３６】
【表１】
2006063131.tif 000002
【０１３７】
表１から実施例１〜１３のセルロースアシレートフィルムは剥離性に優れ、工程適性も良好であるのがわかる。これに対し、比較例１〜４のセルロースアシレートフィルムは、工程適性に欠陥が見られた。ここで、工程適性は、剥離の際に剥ぎ段ムラが発生するか否か、また剥離点の手前でフイルムが落下して搬送不良が発生するか否か、フイルム表面に風ムラや発泡跡が発生するか否かによって判断した。
【０１３８】
【表２】
2006063131.tif 000003
【０１３９】
２．セルロースアシレートフィルムの応用
２−１）延伸フィルムの作製
上述の各実施例の未延伸フィルムを延伸し、それぞれのセルロースアシレートフィルムのＴｇより１０℃高い温度で、１００％／秒でＭＤ延伸、２０％／秒でＴＤ延伸をした。延伸方法は縦延伸の後横延伸を行う逐次延伸と、縦横同時に延伸する同時２軸延伸で実施した。かかる延伸方法で作製したセルロースアシレートフィルムのＲｅおよびＲｔｈおよびこれらの湿度依存性、光弾性を測定し、実施例１〜１３のセルロースアシレートフィルムはどれも下記範囲を満足する良好な結果を得た。
０≦Ｒｅ（ｎｍ）≦２００
３０≦Ｒｔｈ（ｎｍ）≦５００
０≦ΔＲｅ（％／相対湿度％）≦９０
０≦ΔＲｔｈ（％／相対湿度％）≦９０
５×１０-7≦光弾性（ｃｍ2／ｋｇｆ）≦３０×１０-7
【０１４０】
尚、各セルロースアシレートフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は以下の方法で測定した。
ＤＳＣの測定パンにセルロースアシレートフィルムを２０ｍｇ入れた。これを窒素気流中で、１０℃／分で３０℃から２５０℃まで昇温した後（１ｓｔ−ｒｕｎ）、３０℃まで−１０℃／分で冷却した。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温した（２ｎｄ−ｒｕｎ）。該２ｎｄ−ｒｕｎにおいてガラス転移温度（Ｔｇ）を求めた。該Ｔｇはベースラインが低温側から偏奇し始める温度を指す。
【０１４１】
２−２）偏光板の作製
（１）セルロースアシレートフィルムの鹸化
上述の実施例１〜１３および比較例１〜４のセルロースアシレートフィルムについて、未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムを下記の方法で鹸化をおこなった。
ＮａＯＨの１．５規定水溶液を鹸化液として用いた。これを６０℃に調温し、セルロースアシレートフィルムを２分間浸漬した。この後、０．１Ｎの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、水洗浴を通した。
（２）偏光層の作製
特開平２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、厚み２０μｍの偏光層を作製した。
【０１４２】
（３）貼り合わせ
このようにして得た偏光層と、上記鹸化処理した未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムのうちから２枚選び、これらで上記偏光層を挟んだ後、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光軸とセルロースアシレートフィルムとの長手方向が９０°となるように張り合わせた。このうち未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムを特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置液晶表示装置に２５℃・相対湿度６０％下で取り付け、これを２５℃・相対湿度１０％の中に持ち込んだ。実施例１〜１３を使用したものは、色調変化が小さく、表示むらの少ない良好な性能が得られた。
また、特開平２００２−８６５５４号公報の実施例１に従い、テンターを用い延伸軸が斜め４５°となるように延伸した偏光板についても同様に実施例１〜１３のセルロースアシレートフィルムを用い作製したものは、上記同様良好な結果が得られた。
【０１４３】
２−３）光学補償フィルムの作製
特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、上述の鹸化済みの延伸セルロースアシレートフィルムを使用し、これを、特開２００２−６２４３１号公報の実施例９に記載のベンド配向液晶セルに２５℃・相対湿度６０％下で取り付け、これを２５℃・相対湿度１０％の中に持ち込んだ。実施例１〜１３を使用したものはコントラストの変化の小さい良好な表示性能が得られた。
【０１４４】
さらに特開平７−３３３４３３号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムに代わって、実施例１〜１３の延伸セルロースアシレートフィルムに変更し光学補償フィルターフィルムを作製た。この場合も同様に、良好な光学補償フィルムを作製できた。
また、実施例１〜１３のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板、位相差偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置、特開２００４−１２７３１の図１１に記載のＩＰＳ型液晶表示装置に用いたところ、良好な液晶表示装置を得た。
【０１４５】
２−４）低反射フィルムの作製
発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）の実施例４７に従い、上述の延伸セルロースアシレートフィルムを用いて低反射フィルムを作製したところ、実施例１〜１３のセルロースアシレートフィルムを使用したものは、良好な光学性能が得られた。
さらに上記低反射フィルムを、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置液晶表示装置の最表層に貼り評価を行ったところ、良好な液晶表示装置を得た。
【産業上の利用可能性】
【０１４６】
本発明の製造方法によれば、良好な剥離性を有し、面状に優れ、且つ、生産性に優れたセルロースアシレートフィルムを製造することができる。したがって本発明は、産業上の利用可能性が高い有用な発明である。