(57)【要約】【課題】  基板のサイズの変化、リニアスケールなどの精度変化、装置自体の精度変化が発生しても、機能液の吐出位置精度を保持できる液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供する。【解決手段】  ワークＷをエリア毎に区画して、このエリア毎に検出開始位置を示す特徴点５４を配置しておき、この特徴点５４を検出する特徴点検出部７０と、特徴点検出部７０の位置検出結果に基づいて機能液の吐出を駆動制御する。この特徴点５４の検出に基づいて、特徴点検出部７０による検出内容をエリア毎に配置された特徴点５４をリセットしてから、印字開始位置を決める。【選択図】      図４
2006021104.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することにより、基板上に描画を行う描画位置補正方法であって、
前記液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、
複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置された前記基板と、
前記基板をエリア毎に区画し、前記エリアに検出開始位置を示す特徴点を備え、
前記ヘッドユニットと、前記基板とを相対的に移動させる移動工程と、
前記エリア毎に配置された特徴点を検出する検出工程と、
前記検出工程で検出された特徴点の位置と、基板設計値情報とに基づいて補正位置を按分補正する工程と、
描画する工程と、
を備えたことを特徴とする描画位置補正方法。
【請求項２】
請求項１に記載の描画位置補正方法において、
特徴点の位置を検出し、按分して、吐出する工程と、を備え
吐出しながら特徴点を検出することを特徴とする描画位置補正方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の描画位置補正方法によって製造されたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することにより、基板上に描画を行う液滴吐出装置であって、
前記液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、
複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置された前記基板と、
前記ヘッドユニットと、前記基板とを、相対的に移動させる移動機構と、
前記基板をエリア毎に区画し、前記エリアに検出開始位置を示す特徴点を有し、当該特徴点は、前記エリア毎に配置されており、前記特徴点の位置を検出する特徴点検出部と、
前記特徴点検出部の位置検出結果に基づき、描画位置を按分しながらエリア毎に補正し、
描画することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液滴吐出装置において、
前記特徴点は、前記描画領域にスルーホールが形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項４に記載の液滴吐出装置において、
前記特徴点は、前記非描画領域にマークが形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項４に記載の液滴吐出装置において、
前記特徴点は、前記非描画領域にコーナが形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
請求項４〜請求項７のいずれか一項に記載の液滴吐出装置で製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項８に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することにより、基板上に描画を行なう液滴吐出方法、液滴吐出装置、及び電気光学装置、並びに電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、インクジェット方式の印刷ヘッドを用いた液滴吐出装置は、微小な液滴をドット状に精度良く吐出することができるので、各種部品の製造分野で応用が期待されている。ここで、例えば有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置などの製造方法にも用いられ、ガラス基板上に、発光材料や、フィルタ材料などの機能液を吐出して、有機ＥＬ表示装置における画素の形成や、液晶表示装置におけるフィルタエレメントの形成が行なわれている。この場合、バンクで区切られた微小な部分に機能液を吐出するために、高精度な液滴吐出方法と、液滴吐出装置とが必要であった。
【０００３】
例えば、特許文献１に開示されているように、これら有機ＥＬ装置や、液晶表示装置の製造方法には、エンコーダ（リニアエンコーダ又はロータリーエンコーダ）を使用して、ガラス基板の位置検出を行い、この位置検出結果（エンコーダ信号の出力）に基づいて、吐出位置制御を行なっていた（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３４７２３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、このような有機ＥＬ表示装置や、液晶表示装置などを製造する場合、上記のように、エンコーダがガラス基板の領域にわたって移動走査して、この移動走査によって得られるリニアスケールからのフィードバックパルスの分周クロックの情報を検出していた。さらに、この検出結果から液滴吐出ヘッドの位置を制御して機能液を吐出する方法であって、このように、あらかじめガラス基板の所定方向の全領域を検出してから機能液の着弾位置を決める方法であった。
【０００６】
ここで、有機ＥＬ表示装置や、液晶表示装置などで用いられるようなガラス基板は、サイズが大きいために、温度変化による熱膨張でガラス基板にサイズ変化を生じたり、リニアスケールの伸び・縮みの変化を生じたり、装置自体の機械精度の変化などが生じて、結果的に誤差が発生してしまう恐れがあった。このような誤差があった場合に、ガラス基板の所定方向の全領域を検出してから機能液の着弾位置を決める方法だと、個々の描画領域の狙った位置に対して、ずれた位置に機能液が着弾してしまう恐れがあった。従って、このような機能液の着弾位置をより精度よく加工できる液滴吐出方法と、液滴吐出装置とが必要であった。
【０００７】
本発明の目的は、基板のサイズの変化、リニアスケール等の精度変化、装置自体の精度変化が発生しても、機能液の吐出位置精度を保持できる液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の描画位置補正方法は、液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することにより、基板上に描画を行う描画位置補正方法であって、前記液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置された前記基板と、前記基板をエリア毎に区画し、前記エリアに検出開始位置を示す特徴点を備え、前記ヘッドユニットと、前記基板とを相対的に移動させる移動工程と、前記エリア毎に配置された特徴点を検出する検出工程と、前記検出工程で検出された特徴点の位置と、基板設計値情報とに基づいて補正位置を按分補正する工程と、描画する工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この発明によれば、エリア毎に特徴点を配置しておいて、配置された特徴点の設計値情報と、検出された特徴点の位置とを比較して補正値をエリア毎に取得してから、液滴吐出装置を制御してエリア毎に吐出位置補正をしてから機能液滴を吐出する。このことによって、基板のサイズが変化しても、また、基板が熱膨張して変形しても、エリア毎に吐出位置制御を行なう方法なので、機能液を狙った位置に着弾できる。
【００１０】
本発明の描画位置補正方法は、特徴点の位置を検出し、按分して、吐出する工程と、を備え、吐出しながら特徴点を検出することが望ましい。
【００１１】
この発明によれば、より微細な吐出位置制御を行なう方法なので、機能液を狙った位置に着弾できる。
【００１２】
本発明の電気光学装置の製造方法は上記の描画位置補正方法によって製造されたことを特徴とする。
【００１３】
この発明によれば、基板が大きくなっても機能液の吐出精度を維持できる液滴吐出方法なので、電気光学装置を精度よく製造することが可能となる。
【００１４】
本発明の液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することにより、基板上に描画を行う液滴吐出装置であって、前記液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置された前記基板と、前記ヘッドユニットと、前記基板とを、相対的に移動させる移動機構と、前記基板をエリア毎に区画し、前記エリアに検出開始位置を示す特徴点を有し、当該特徴点は、前記エリア毎に配置されており、前記特徴点の位置を検出する特徴点検出部と、前記特徴点検出部の位置検出結果に基づき、描画位置を按分しながらエリア毎に補正し、描画することを特徴とする。
【００１５】
この発明によれば、機械精度の変化があっても特徴点の位置を検出しながら按分して補正する吐出制御装置なので、精度良く描画ができる。
【００１６】
本発明の液滴吐出装置は、前記特徴点は、前記描画領域にスルーホールが形成されていることが望ましい。
【００１７】
この発明によれば、穴を特徴点にして特徴点位置検出ができるので、薄い基板または自由に曲がる基板および透明な基板などにもこの装置が使用できる。
【００１８】
本発明の液滴吐出装置は、前記特徴点は、前記非描画領域にマークが形成されていることをが望ましい。
【００１９】
この発明によれば、マークを特徴点にして特徴点位置検出ができるから、ワーク（ガラス基板等の基板）が大きくなってもマークの位置検出をすればよいので、この装置が使用できる。
【００２０】
本発明の液滴吐出装置は、前記特徴点は、前記非描画領域にコーナが形成されていることが望ましい。
【００２１】
この発明によれば、コーナを特徴点にして特徴点位置検出ができるから、ワークが貼り合わせた状態であってもこのコーナの段差部を位置検出できるので、この装置が使用できる。
【００２２】
本発明の電気光学装置は液滴吐出装置で製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【００２３】
この発明によれば、基板が大きくなっても機能液の吐出精度を維持できる液滴吐出方法で製造することができるので、電気光学装置を精度よく製造することが可能となる。なお、電気光学装置としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ・Ｄｉｓｐｌａｙ・Ｐａｎｅｌ）装置、および電気泳動表示装置等が考えられる。また、電子放出装置はいわゆるＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ・Ｅｍｉｓｓｉｏｎ・Ｄｉｓｐｌａｙ）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成、および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２４】
本発明の電子機器は、上記の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２５】
この発明によれば、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他に、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を具体化した液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器について、添付図面に沿って詳細に説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、いわゆるフラットパネルディスプレイの一種である有機ＥＬ装置の製造ラインに組み込まれるものであり、有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子（成膜部）を形成するものである。
（第１実施形態）
【００２７】
ここでは先ず、液滴吐出装置の説明に先立ち、有機ＥＬ装置の構造および製造工程について簡単に説明する。
【００２８】
図１は、有機ＥＬ装置の断面図を示した図である。また、図２はＲ、Ｇ、Ｂ画素の配列を示す説明図である。
【００２９】
図１に示すように、有機ＥＬ装置７０１は、基板７１１、回路素子部７２１、画素電極７３１、バンク部７４１、発光素子７５１、陰極７６１（対向電極）、および封止用基板７７１から構成された有機ＥＬ素子７０２に、フレキシブル基板（図示省略）の配線および駆動ＩＣ（図示省略）を接続したものである。
【００３０】
図１に示すように、有機ＥＬ素子７０２の基板７１１上には、回路素子部７２１が形成され、回路素子部７２１上には、複数の画素電極７３１が整列している。そして、各画素電極７３１間には、バンク部７４１が格子状に形成されており、バンク部７４１により生じた凹部開口７４４に、発光素子７５１が形成されている。バンク部７４１および発光素子７５１の上部全面には、陰極７６１が形成され、陰極７６１の上には、封止用基板７７１が積層されている。
【００３１】
有機ＥＬ素子７０２の製造プロセスは、バンク部７４１を形成するバンク部形成工程と、発光素子７５１を適切に形成するためのプラズマ処理工程と、発光素子７５１を形成する発光素子形成工程と、陰極７６１を形成する対向電極形成工程と、封止用基板７７１を陰極７６１上に積層して封止する封止工程とを備えている。すなわち、有機ＥＬ素子７０２は、予め回路素子部７２１および画素電極７３１が形成された基板７１１（ワークＷ）の所定位置にバンク部７４１を形成した後、プラズマ処理、発光素子７５１および陰極７６１（対向電極）の形成を順に行い、さらに、封止用基板７７１を陰極７６１上に積層して封止することにより製造される。なお、有機ＥＬ素子７０２は、大気中の水分等の影響を受けて劣化しやすいため、有機ＥＬ素子７０２の製造は、ドライエアーまたは不活性ガス（窒素、アルゴン、ヘリウム等）雰囲気で行うことが好ましい。
【００３２】
また、各発光素子７５１は、正孔注入／輸送層７５２およびＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）のいずれかの色に着色された発光層７５３から成る成膜部で構成されており、発光素子形成工程には、正孔注入／輸送層７５２を形成する正孔注入／輸送層形成工程と、３色の発光層７５３を形成する発光層形成工程と、が含まれている。この場合、上記バンク部７４１により形成した多数の凹部開口７４４に対し、３色の発光層７５３の配列は、例えば図２に示すように、ストライプ配列（図２（ａ））、モザイク配列（図２（ｂ））およびデルタ配列（図２（ｃ））が知られている。
【００３３】
そして、有機ＥＬ装置７０１は、有機ＥＬ素子７０２を製造した後、有機ＥＬ素子７０２の陰極７６１にフレキシブル基板の配線を接続すると共に、駆動ＩＣに回路素子部７２１の配線を接続することにより製造される。
【００３４】
液滴吐出装置１は、注入／輸送層形成工程に用いるものと、発光層形成工程に用いるものとがあるが、装置自体は同一構造のものが用いられるため、ここでは、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の発光層７５３を形成するための液滴吐出装置１を例に挙げて、詳細に説明する。
【００３５】
図３は液滴吐出装置１の平面模式図である。
【００３６】
図３に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置された描画装置３と、描画装置３に添設するように機台２上に載置したヘッド機能回復装置４とを有している。描画装置３によりワークＷ上の描画領域Ｗ１に対して機能液による描画を行うと共に、ヘッド機能回復装置４により適宜、描画装置３に備える機能液滴吐出ヘッド５の機能回復処理（メンテナンス）を行うようにしている。
【００３７】
描画装置３は、Ｘ軸テーブル（主走査手段）１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３からなるＸ・Ｙ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けたメインキャリッジ１４と、メインキャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１５とを備えている。ヘッドユニット１５には、サブキャリッジ１６を介して、Ｒ色、Ｇ色およびＢ色の３つのノズル列６が配列された機能液滴吐出ヘッド５が搭載されている。
【００３８】
Ｘ軸テーブル１２には、ワークテーブル１０に設置されたワークＷの位置を読み取るためのリニアスケール５２ａが搭載されており、リニアセンサ５１ａ（ＳＣＡＮ用）がワークテーブル１０に搭載されている。また、Ｙ軸テーブル１３には、ヘッドユニット１５に設置されたヘッド５の現在位置を読み取るためのリニアスケール５２ｂが搭載されており、リニアセンサ５１ｂ（ＦＥＥＤ用）がメインキャリッジ１４に搭載されている。
【００３９】
この場合、基板であるワークＷは、透光性（透明）のガラス基板で構成されており、Ｘ軸テーブル１２に搬入した段階で、これに臨む一対のワーク認識カメラ１８，１８で一対の特徴点５４，５４を認識することにより、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態でセットされる。また、ワークＷには、マトリクス状に配置されると共に機能液が吐出される（描画が行われる）描画領域Ｗ１と、当該描画領域Ｗ１を区画すると共に非描画領域Ｗ２とが配置されている。なお、サブキャリッジ１６には、３つのノズル列６が配列された機能液滴吐出ヘッド５が１つ搭載されているが、これら３つのノズル列６を異なる機能液滴吐出ヘッド５に配列したものを搭載しても良い。また、各色に対応するノズル列６が複数列で構成されていても良い。
【００４０】
Ｙ軸テーブル１３上に特徴点検出部７０が配置されていて、ワークＷがＸ軸方向に移動すると、特徴点検出部７０が、ワークＷに設けられた特徴点５４の位置を検出するように構成されている。ここで使用した特徴点検出部７０はＣＣＤカメラ７１である。
【００４１】
ヘッド機能回復装置４は、機台２上に載置した移動テーブル２１と、移動テーブル２１上に載置した保管ユニット２２、吸引ユニット２３およびワイピングユニット２４とを備えている。保管ユニット２２は、装置の稼動停止時に、機能液滴吐出ヘッド５のノズル５ａの乾燥を防止すべくこれを封止する。吸引ユニット２３は、機能液滴吐出ヘッド５から機能液を強制的に吸引すると共に、機能液滴吐出ヘッド５の全ノズル５ａからの機能液の捨て吐出を受けるフラッシングボックスの機能を有している。ワイピングユニット２４は、主に、機能液吸引を行った後の機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂをワイピング（拭き取り）するように構成されている。
【００４２】
保管ユニット２２には、例えば機能液滴吐出ヘッド５に対応する封止キャップ２６が昇降自在に設けられており、装置の稼動停止時にヘッドユニット（の機能液滴吐出ヘッド５）１５に臨んで上昇し、機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂに封止キャップ２６を密接させて、これを封止する。これにより、機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂにおける機能液の気化が抑制され、いわゆるノズル詰まりが防止されるように構成されている。
【００４３】
同様に、吸引ユニット２３には、例えば機能液滴吐出ヘッド５に対応する吸引キャップ２７が、昇降自在に設けられており、ヘッドユニット（の機能液滴吐出ヘッド５）１５に機能液の充填を行う場合や、機能液滴吐出ヘッド５内で増粘した機能液を除去する場合に、吸引キャップ２７を機能液滴吐出ヘッド５に密着させて、ポンプ吸引を行う。また、機能液の吐出（描画）を休止するときには、吸引キャップ２７を機能液滴吐出ヘッド５から僅かに離間させておいて、フラッシング（捨て吐出）を行う。これにより、ノズル詰まりが防止され或いはノズル詰まりの生じた機能液滴吐出ヘッド５の機能回復が図られるように構成されている。
【００４４】
ワイピングユニット２４には、例えば、ワイピングシート２８が繰出し且つ巻取り自在に設けられており、繰り出したワイピングシート２８を送りながら、且つ移動テーブル２１によりワイピングユニット２４をＸ軸方向に移動させながら、機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂを拭き取るようになっている。これにより、機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂに付着した機能液が取り除かれ、機能液吐出時の飛行曲がり等が防止される。
【００４５】
なお、ヘッド機能回復装置４として、上記の各ユニットに加え、機能液滴吐出ヘッド５から吐出された機能液の飛行状態を検査する吐出検査ユニットや、機能液滴吐出ヘッド５から吐出された機能液の重量を測定する重量測定ユニット等を、搭載することが好ましい。さらに、同図では省略したが、この液滴吐出装置１には、各機能液滴吐出ヘッド５に機能液を供給する機能液供給機構や、上記の描画装置３や機能液滴吐出ヘッド５等の構成装置を統括制御する制御装置（制御手段：後述する）などが組み込まれている。
【００４６】
Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ３１を有し、これに吸着テーブル３３およびθテーブル３４等から成るセットテーブル３２を移動自在に搭載して、構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ３６を有し、これにθテーブル３７を介して上記のメインキャリッジ１４を移動自在に搭載して、構成されている。
【００４７】
この場合、Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に直接支持される一方、Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右の支柱３８，３８に支持されている。Ｘ軸テーブル１２とヘッド機能回復装置４とは、Ｘ軸方向に相互に平行に配設されており、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２とヘッド機能回復装置４の移動テーブル２１とを跨ぐように延在している。
【００４８】
そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット（機能液滴吐出ヘッド５）１５を、ヘッド機能回復装置４の直上部に位置する機能回復エリア４１と、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア４２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、機能液滴吐出ヘッド５の機能回復を行う場合には、ヘッドユニット１５を機能回復エリア４１に臨ませ、またＸ軸テーブル１２に導入したワークＷに描画を行う場合には、ヘッドユニット１５を描画エリア４２に臨ませる。また、Ｙ軸テーブル１３の端部には、ワークＷ上のエリア毎に設けられた特徴点５４を検出するように、特徴点検出部７０が搭載されている。
【００４９】
一方、Ｘ軸テーブル１２の他方の端部は、ワークＷをＸ軸テーブル１２にセット（載せ代える）するための移載エリア４３となっており、移載エリア４３には、上記一対のワーク認識カメラ１８，１８が配設されている。そして、この一対のワーク認識カメラ１８，１８により、吸着テーブル３３上に供給されたワークＷの２箇所の特徴点５４，５４が同時に認識され、この認識結果に基づいて、ワークＷのアライメントが為される。
【００５０】
液滴吐出装置（描画装置３）１では、Ｘ軸方向へのワークＷの移動を主走査とし、Ｙ軸方向への機能液滴吐出ヘッド（ヘッドユニット１５）５の移動を副走査として、ワークＷ上をＸ軸方向に走査することによって、各エリア毎の特徴点５４の位置検出が行われるように特徴点検出部７０が配置されている。
【００５１】
描画エリア４２に導入したワークＷに描画を行う場合には、機能液滴吐出ヘッド（ヘッドユニット１５）５を描画エリア４２に臨ませておいて、Ｘ軸テーブル１２による主走査（ワークＷの往復移動）に同期して、上記の特徴点検出部７０の検出結果に基づき、各エリア毎に吐出位置の補正をしながら機能液滴吐出ヘッド５を吐出駆動（機能液の選択的吐出）させる。また、Ｙ軸テーブル１３により適宜、副走査（ヘッドユニット１５の移動）が行われる。この一連の動作により、ワークＷの描画領域Ｗ１に所望の機能液の選択的吐出、すなわち描画が行われる。
【００５２】
また、機能液滴吐出ヘッド５の機能回復を行う場合には、移動テーブル２１により吸引ユニット２３を機能回復エリア４１に移動させると共に、Ｙ軸テーブル１３によりヘッドユニット１５を機能回復エリア４１に移動させ、機能液滴吐出ヘッド５のフラッシング或いはポンプ吸引を行う。また、ポンプ吸引を行った場合には、続いて移動テーブル２１によりワイピングユニット２４を機能回復エリア４１に移動させ、機能液滴吐出ヘッド５のワイピングを行う。同様に、作業が終了して装置の稼動を停止する時には、保管ユニット２２により、機能液滴吐出ヘッド５にキャッピングが行われる。
【００５３】
図４は、ワークＷに特徴点５４が配置された状態を示す平面図である。
【００５４】
図４に示すように、ワークＷはエリア１からエリア１２まで区画形成されていて、１２箇所のエリアが設けられている。この１２箇所に区画形成されたエリアの周囲には特徴点５４がパターン形成法（スパッタリング法、真空蒸着法などの薄膜形成法）により形成されていて、ワークＷ上に設けられている。ここで、液滴吐出ヘッド５およびワークＷがＸ軸方向に移動走査する。この移動走査方向が、ＳＣＡＮ方向である。同様に、液滴吐出ヘッド５およびワークＷがＹ軸方向に移動走査する。この移動走査方向が、ＦＥＥＤ方向である。
【００５５】
ワークＷ上の特徴点５４の検出を行う場合には、描画するときと同様に、ワークＷを臨むように特徴点検出部７０を描画エリア４２に配置し、Ｘ軸テーブル１２による主走査（ワークＷの往復移動）のときに、特徴点検出部７０が各エリア毎の特徴点５４の位置（Ｘ、Ｙ方向の位置）を検出するように構成されている。なお、ここで、ワークＷは大きさが１５００ｍｍ×１５００ｍｍのガラス基板が使用され、主に、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などの製造に用いられる。ここで、ワークＷは図４に示す各エリア毎に区画されていて、この区画されたエリアには例えば、有機ＥＬ素子のような各チップが複数配置されている。さらに、このチップには例えば、有機ＥＬ素子を構成する各画素が配列されている。
【００５６】
図５は、特徴点５４の位置を検出するときの模式図であって、（ａ）は側断面図、（ｂ）は平面図である。
【００５７】
図５（ａ）に示すように、ワークＷには特徴点５４が形成されていて（図４参照）、この特徴点５４がＣＣＤカメラ７１により画像が取得される。この取得された画像は、画像処理部２１５により画像処理されて図示しないモニタに表示される。このとき、例えば図５（ｂ）に示すように、特徴点５４が本来の位置に対して、ＣＣＤカメラ７１によって取得された位置（実際の位置）が、ずれていたときには、そのズレ量が定量的に検出されて、Ｘ方向にずれた場合のズレ量Ｘと、Ｙ方向にずれた場合のズレ量Ｙが求められる。なお、このズレ量をエリア毎に求めることで、各エリア毎のズレ量が全て把握できる。
【００５８】
このような構成により、ワークＷ上を特徴点検出部７０が走査して、エリア１から順番にエリア１２までの（図４に示す）特徴点５４の位置を検出して、各エリア毎の印字開始位置を取得しておき、各エリア毎の位置検出結果をＲＡＭ２３０にあるワークエリアブロック２３１のそれぞれに格納する。
【００５９】
図６は、液滴吐出装置１の制御ブロック図である。
【００６０】
ここで、液滴吐出装置１の制御構成について、図６を参照して説明する。液滴吐出装置１は、インタフェース１１１を有し、ホストコンピュータ３００から送信された吐出パターンデータ（各ノズル５ａの機能液の吐出・非吐出を決定するためのデータ）、駆動波形データ（各ノズル５ａの圧電素子を駆動するために印加される波形データ）および各種制御データを取得するように構成されている。
【００６１】
液滴吐出装置１内部における処理状況等に関するデータをホストコンピュータ３００に対して出力するデータ入出力部１１０と、電源スイッチ１２１を有し、電源の供給および切断を行なう電源部１２０と、リニアセンサ５１およびリニアスケール５２を有し、ワークＷの現在位置を検出するリニアエンコーダ５０と、ＣＣＤカメラまたはレーザ変位計測器７１を有し、ワークＷの特徴点５４を検出する特徴点検出部７０と、機能液滴吐出ヘッド５を有し、ワークＷ上に描画を行なう描画部１４０と、キャリッジモータ１５１および送りモータ１５２並びに特徴点検出部キャリッジモータ１５３を有し、機能液滴吐出ヘッド５が搭載されたメインキャリッジ１４（ヘッドユニット１５）およびワークＷを移動・搬送する搬送部１５０（移動機構）と、ヘッドドライバ１６１、キャリッジモータドライバ１６２および送りモータドライバ１６３並びに特徴点検出部キャリッジモータドライバ１６４を有し、各部を駆動する駆動部１６０と、各部と接続され、液滴吐出装置１全体を制御する制御部２００と、によって構成されている。
【００６２】
制御部２００は、ＣＰＵ２１０、ＲＯＭ２２０、ＲＡＭ２３０および入出力制御装置（以下、「ＩＯＣ：Ｉｎｐｕｔ・Ｏｕｔｐｕｔ・Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ」という）２５０を備え、互いに内部バス２６０により接続されている。ＲＯＭ２２０は、各ノズル５ａ（ノズル列６）の吐出を駆動制御するためのプログラムの他、ＣＰＵ２１０で処理する各種プログラムを記憶する制御プログラムブロック２２１と、各種テーブルを含む制御データを記憶する制御データブロック２２２とを有している。
【００６３】
制御部２００に備えられた画像処理部２１５は、特徴点検出部７０から検出された特徴点５４の画像を処理するとともに、図示しないモニタにて画像を表示することができるように構成されている。
【００６４】
ＲＡＭ２３０は、フラグ等として使用されるワークエリアブロック２３１の他、ホストコンピュータ３００より送信された吐出パターンデータを記憶する吐出パターンデータブロック２３２を有し、制御処理のための作業領域として使用される。また、ＲＡＭ２３０は電源が切断されても記憶したデータを保持しておくように常にバックアップされている。
【００６５】
ＩＯＣ２５０には、ＣＰＵ２１０の機能を補うと共に各種周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が、ゲートアレイやカスタムＬＳＩなどにより構成されて組み込まれている。これにより、ＩＯＣ２５０は、ホストコンピュータ３００からの吐出パターンデータや制御データをそのまま或いは加工して内部バス２６０に取り込むと共に、ＣＰＵ２１０と連動して、ＣＰＵ２１０から内部バス２６０に出力されたデータや制御信号を、そのまま或いは加工して駆動部１６０に出力する。
【００６６】
そして、ＣＰＵ２１０は、上記の構成により、ＲＯＭ２２０内の制御プログラムにしたがって、ＩＯＣ２５０を介してホストコンピュータ３００および液滴吐出装置１内の各部から各種信号・データを入力して、ＲＡＭ２３０内の各種データを処理し、ＩＯＣ２５０を介して液滴吐出装置１内の各部に、各種信号・データを出力することにより、各ノズル５ａからの機能液の吐出タイミングを駆動制御し、ワークＷ上に描画を行う。なお、本実施形態では、ノズル列６方向におけるノズル間隔を画素ピッチに合わせることで、ノズル列６毎に吐出タイミングの駆動制御を行うように構成されている。
【００６７】
一方、ホストコンピュータ３００は、吐出パターンデータ、駆動波形データおよび各種制御データを出力すると共に、液滴吐出装置１から送信された装置内部における処理状況等に関するデータを入力するインタフェース３１０と、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭ等のメモリを有している。また、パソコン全体を制御する中央制御部３２０と、ウィンドウズ（登録商標）等のＯＳ３３０と、液滴吐出装置１を制御するためのドライバ３４０とを備えている。また、中央制御部３２０内（ＲＡＭ等）には、リニアスケール５２のマーク位置と当該マーク位置に対応する吐出・非吐出を決定するための対応テーブル３５０を有しており、当該対応テーブル３５０を参照して、各ノズル列６からの機能液の吐出タイミングを決定するための吐出パターンデータを生成する。
【００６８】
なお、ホストコンピュータ３００から送信された吐出パターンデータに基づいて機能液の吐出を駆動制御するのではなく、液滴吐出装置１内に上記の対応テーブル３５０を記憶しておき、これに基づいて、各ノズル列６の機能液の吐出・非吐出を決定する構成としても良い。
【００６９】
第１実施形態における液滴吐出装置１の構成は以上のようであって、図３、図４、図５、図７を参照しながら、特徴点５４の位置を検出して補正する方法について説明をする。
【００７０】
図３に示すように、メインキャリッジ１４が描画領域４２から離れているときに、ワークＷがワークテーブル１０上にセットされ、送りモータ１５２により主走査方向（Ｘ軸方向）にワークテーブル１０が移動する。ここで、ワークＷが描画エリア４２に達したら、特徴検出部キャリッジモータ１５３により副走査方向（Ｙ軸方向）に特徴点検出部７０を移動させて特徴点５４を検出する。なお、特徴点検出部７０は、図５（ａ）、図５（ｂ）に示すＣＣＤカメラ７１を採用して図４に示すパターンを例に特徴点５４の検出を行う。ここで、特徴点５４の検出において、位置情報の実測値は、リニアエンコーダ５０ｂに備えられたリニアセンサ５１ｂからのフィードバックパルスをカウントして得られる。
【００７１】
図７は、ワークＷのエリア毎の特徴点５４の位置を検出して補正演算する工程を示すフローチャートである。
【００７２】
特徴点検出部７０がワークＷ（ガラス基板）の表面上に設けられたエリア毎の特徴点５４の位置を検出してから、その検出された位置情報を格納するまでの工程を図７に示す。なお、ここではワークＷに描画を行なうための描画工程については説明を省略する。
【００７３】
描画エリア４２にワークＷがセットされると、ステップＳ１では、駆動部１６０に備えられた特徴点検出部キャリッジモータドライバ１６４によって、搬送部１５０に備えられた特徴点検出部キャリッジモータ１５３が駆動して、特徴点検出部７０が図４に示すエリア毎に走査移動する。同様に、Ｘ方向に走査移動する。
【００７４】
ステップＳ２では、特徴点検出部７０が特徴点５４の位置情報を表す検出信号を取得して、この取得された検出信号がＩＯＣ２５０に送信される。この検出信号は、ＩＯＣ２５０から制御部２００に備えられた画像処理部２１５にさらに送信されて、画像処理部２１５が画像処理をして、特徴点５４を画像認識する。ＣＣＤ７１に撮像された画像を図示しないモニタに表示する。
【００７５】
ステップＳ３では、実測の特徴点５４の位置情報をリニアセンサ５１ｂからのフィードバックパルスをカウントして得る。すなわち、ＣＣＤ７１が画像を撮像したときの位置をリニアセンサ５１ｂからのフィードバックパルスをカウントして得るとともに、その画像内で特徴点５４の画像認識を行って、画像の基準位置に対する特徴点５４の画像認識位置に相対位置（Ｘ１、Ｙ１）を算出し、基準位置（Ｘ０、Ｙ０）と、相対位置（Ｘ１、Ｙ１）とから、特徴点５４の位置情報（位置座標）（ｘ、ｙ）（＝Ｘ０＋Ｘ１、Ｙ０＋Ｙ１）を求める。または、ＣＣＤ７１が撮像した画像の中心に特徴点５４があるか否かを画像認識で判断し、特徴点５４があった場合はその画像を撮像したときの位置を特徴点５４の位置情報（Ｘ、Ｙ）として、算出する。
【００７６】
ステップＳ４では、特徴点５４のワーク設計値情報（本来の位置）と、検出された特徴点の位置情報を比較する。ここで、ワーク設計値情報（本来の位置）と、検出された特徴点の位置情報とが照合（補正値無し）していたら、ステップＳ６に進む。
【００７７】
ステップＳ５では、ステップＳ４でワーク設計値情報（本来の位置）と、検出された特徴点の位置情報とが照合せずにズレていたときに、このズレ量（補正値）をエリア補正値演算する。このときに求められるズレ量は、図５（ｂ）に示すように、エリア毎の特徴点５４のＸ方向のズレ量Ｘと、Ｙ方向のズレ量Ｙとであって、これらズレ量がＸ方向の補正値とＹ方向の補正値となり、この補正値はエリア毎に演算される。
【００７８】
ステップＳ６では、演算して求められたエリア毎の補正値をＲＡＭ２３０に備えられたワークエリアブロック２３１に格納し、補正値から演算子、印字開始位置、吐出間隔の情報をエリア毎にワークエリアブロック２３１に保存する。配置された特徴点５４のうち、少なくとも対角の２点の特徴点５４の位置を求め、領域内におけるドットの吐出開始位置（終了位置）Ｘ、Ｙの補正値を按分して求める。
【００７９】
ステップＳ７では、上記の方法で特徴点検出部７０がワークＷの全エリアを走査して、特徴点５４の位置情報の取得を終了したら、ヘッドユニット１５に設けられた液滴吐出ヘッド５によって、ワークＷ上に描画を開始できる。
【００８０】
なお、ここでは特徴点５４をパターン形成法によって形成したが、バンプを形成するパターンを特徴点５４に採用しても同様にできる。
【００８１】
以上のような第１実施形態では、次のような効果が得られる。
（１）本実施形態では、温度などの影響で生じるガラス基板が変形や、リニアスケールの伸縮や、装置自体の機械精度の変化（ピッチング、ヨーイング）などによって誤差が発生しても、ガラス基板をエリア毎に区画して、各エリア毎に補正値を求め、この補正値を制御部にフィードバックをしてから、各エリア毎に印字開始位置を決める方法にした。このことによって、液滴を吐出する吐出位置を精度良く制御することができるので、描画精度が向上できる。しかも、将来において、現状のガラス基板よりサイズが大きくなっても、この方法であれば、エリア毎に印字開始位置を決めることになるので、ガラス基板の大きさに依存することがない。したがって、描画精度を維持できる。このような、液滴吐出方法と、液滴吐出装置１とを提供できる。
（第２実施形態）
【００８２】
次に、第２実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、前述の第１実施形態と同じ部品および同様な機能を有する部品には同一符号を付し、その説明を省略する。
【００８３】
図８は、第２実施形態のタイリング基板Ｗ３の特徴点５４を検出するときの模式図である。
【００８４】
ここで、図８に示すタイリング基板Ｗ３は、ベース基板Ｗ４上にパターニング基板Ｗ５が接着剤により貼り合わせられている。このベース基板Ｗ４と、パターニング基板Ｗ５とは材質がガラスであって、これらガラスの貼り合わせにはＵＶ（紫外線）硬化型の接着剤が使用された。図８に示すように、ベース基板Ｗ４上にはパターニング基板Ｗ５が一枚づつ計８枚貼り付けられていて、パターニング基板Ｗ５が各エリアを区画するように構成されている。ここで、このときのベース基板Ｗ４とパターニング基板Ｗ５との段差を特徴点５４とする。なお、ベース基板Ｗ４と、パターニング基板Ｗ５の厚さは各々０．４ｍｍ〜０．７ｍｍである。ここで、液滴吐出ヘッド５およびタイリング基板Ｗ３がＸ軸方向に移動走査する。この移動走査方向が、ＳＣＡＮ方向である。同様に、液滴吐出ヘッド５およびタイリング基板Ｗ３がＹ軸方向に移動走査する。この移動走査方向が、ＦＥＥＤ方向である。
【００８５】
図９は、第２実施形態のレーザ変位計測器７１で、特徴点５４を検出するときの模式図である。
【００８６】
図９に示すように、ワークＷと特徴点検出部７０（レーザ変位計測器７１）とが対峙して配置されている。ここで、レーザ変位計測器７１からワークＷ上に向けてレーザ光Ｒ１が出射されると、ワークＷ上で反射した反射光Ｒ２がレーザ変位計測器７１に入射するように構成されている。。なお、ワークＷとレーザ変位計測器７１とが矢印方向に相対的に移動することで、各検出地点でのワークＷとレーザ変位計測器７１との間隔Ｈ（変位量）を取得するように構成されている。なお、ここで使用したレーザ変位計測器は、波長が６７０ｎｍで可視光半導体レーザである（オムロン株式会社製）。
【００８７】
第２実施形態におけるタイリング基板Ｗ３と、特徴点検出部７０との構成は以上のようであって、図８、図９を参照しながら、その動作について説明する。
【００８８】
エリア１〜エリア８までの各エリアをエリア毎にレーザ変位計測器７１が、Ｘ軸方向にＳＣＡＮして、段差のある個所の特徴点５４の位置情報を各エリア毎に求める。同様に、エリア１〜エリア８までの各エリアをエリア毎にレーザ変位計測器７１が、Ｙ軸方向にＦＥＥＤして、段差のある個所の特徴点５４の位置情報を各エリア毎に求める。
【００８９】
上記によって求められた特徴点５４の各エリア毎の位置情報（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）を、図７に示すフローチャートにしたがって、第１実施形態と同様に演算処理が行なわれる。
【００９０】
以上のような第２実施形態では、第１実施形態で得られた効果以外に、次のような効果が得られる。
（２）基板同士を接着剤などで貼り合わせたタイリング基板Ｗ３の構成では、接着剤とガラス基板との熱膨張の違いなどで生じる影響で誤差が生じてしまうため、描画位置を予め想定するのは困難であった。しかし、貼り合わせの段差部を特徴点５４にして、エリア毎の位置情報を取得して、補正してから描画する方法にしたことによって、基板同士の貼り合わせ精度を考慮しなくても良いので描画精度を維持できる。つまり、このような液滴吐出方法と、液滴吐出装置１とを提供できる。
（第３実施形態）
【００９１】
次に、第３実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、前述の第１実施形態および第２実施形態と同じ部品および同様な機能を有する部品には同一符号を付し、その説明を省略する。
【００９２】
図１０は、第３実施形態のフレキシブルテープ回路基板の特徴点５４を検出するときの模式図である。
【００９３】
ここで、図１０に示すフレキシブルテープ回路基板は、材質が樹脂製であって自由に曲げることができる高分子材料である。図１０に示すように、フレキ基板（以下、単にフレキ基板という）Ｗ６の上に形成されているスルーホール（穴）を特徴点５４とする。この特徴点５４はエリア１〜エリア３の各エリア毎に備えられている。なお、フレキ基板Ｗ６の厚さは０．２ｍｍ〜０．５ｍｍであって、長さが３００ｍ〜４００ｍである。また、このフレキ基板Ｗ６は、片面だけでなく両面に描画することも可能である。
【００９４】
フレキ基板Ｗ６はテープ形状であるため、描画時にはフレキ基板Ｗ６を走査することは困難であるので、液滴吐出ヘッド５をＹ軸方向に移動させて、フレキ基板Ｗ６上に描画することになる。つまり、特徴点５４の位置情報を取得する場合でも、描画するときと同様に、レーザ変位計測器７１をＹ軸方向に移動させて、フレキ基板Ｗ６上を走査する。
【００９５】
このとき、図９、図１０に示すように、レーザ変位計測器７１でスルーホールの特徴点５４を検出することになる。ここで、特徴点５４が穴であるため入社光Ｒ１が通過してしまい、反射光Ｒ２がレーザ変位計測器７１に受光されないので、間隔Ｈを求めることはできない。逆に、Ｘ軸方向またはＹ軸方向にレーザ変位計測器７１が移動走査することで、フレキ基板Ｗ６上で反射した反射光Ｒ２がレーザ変位計測器７１で受光することができる。このとき、間隔Ｈを求めることができる。このようにして、スルーホールを特徴点５４にした場合でもこの特徴点５４の有無をレーザ変位計測器７１で検出することによって、各エリア毎の特徴点５４の位置情報（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）が取得できるように構成されている。
【００９６】
第３実施形態におけるフレキ基板Ｗ６の構成は以上のようであって、図１０を参照しながら、その動作について説明する。
【００９７】
エリア１〜エリア３までの各エリアをエリア毎にレーザ変位計測器７１が、Ｘ軸方向にＳＣＡＮして、特徴点５４の位置情報を各エリア毎に求める。同様に、エリア１〜エリア３までの各エリアをエリア毎にレーザ変位計測器７１が、Ｙ軸方向にＦＥＥＤして、特徴点５４の位置情報を各エリア毎に求める。
【００９８】
上記によって求められた特徴点５４の各エリア毎の位置情報（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）を、図７に示すフローチャートにしたがって、第１実施形態と同様に演算処理を行なう。
【００９９】
以上のような第３実施形態では、第１および第２実施形態で得られた効果以外に、次のような効果が得られる。
（３）基板を自由に曲げることができるようなフレキ基板Ｗ６において、両面描画を考慮して裏面側に既に描画済みであるような場合、フレキ基板Ｗ６を固定した際に裏面側配線パターンによる段差の影響が懸念される。このため、フレキ基板Ｗ６の厚みのバラツキおよび変形などの影響が生じて、描画位置がバラツクことが予測されるが、スルーホールなどを特徴点５４として設け、しかも、この特徴点５４から位置情報を取得してから補正して描画する方法にしたことによって、これらの影響を回避できる。つまり、片面描画の場合でも描画精度が向上するが、両面描画においても裏面側の段差の影響を受けることがなくて描画できるので、描画精度が向上する。つまり、このような液滴吐出方法と、液滴吐出装置１とを提供できる。
【０１００】
なお、上記の実施形態ではワークＷとしてガラス基板や、樹脂製のフィルム状のテープ基板を用いた場合を例に挙げたが、これに限らず、温度変化により熱膨張や変形を生じる基板であれば、本発明を適用可能である。
【０１０１】
また、本発明は、電気光学装置（デバイス）として、上記の有機ＥＬ装置７０１に限らず、液晶表示装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ・Ｄｉｓｐｌａｙ・Ｐａｎｅｌ）装置、および電気泳動表示装置等にも適用可能である。また、電子放出装置はいわゆるＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ・Ｅｍｉｓｓｉｏｎ・Ｄｉｓｐｌａｙ）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成、および光拡散体形成等を包含する装置も考えられる。
【０１０２】
また、上記の電気光学装置を搭載した電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品等が挙げられる。本実施形態の電子機器の具体例について説明する。図１１は携帯電話の一例を示した斜視図である。図１１において、６００は携帯電話本体を示し、６０１は液晶表示装置を備えた液晶表示部を示している。なお、本実施形態の電子機器は液晶装置を備えるものとしたが、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ型表示装置等、他の電気光学装置を備えた電子機器とすることもできる。
【０１０３】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。以下に変形例を示す。
【０１０４】
（変形例１）第１実施形態で、エリアを１〜１２までのエリア数１２にしたが、これにこだわるものではない。例えば、１〜１６までのエリア数１６、またはそれ以上にエリアの数を増やしても良い。
【０１０５】
このようにすれば、第１実施形態よりエリアの数が多くなって、特徴点５４がより多く配置されることになるので、吐出位置の検出と補正とに多少の時間がかかるかも知れないが、第１実施形態よりエリアの面積が狭くなることによって、より精度の高い吐出位置の制御ができるので、精度の高い描画ができる。このような液滴吐出方法と、液滴吐出装置１とを提供できる。
【０１０６】
（変形例２）第１実施形態〜第３実施形態で、特徴点検出部７０にＣＣＤカメラまたはレーザ変位計測器７１を採用したが、これにこだわるものではない。例えば、フォトセンサなどを採用しても良い。
【０１０７】
このようにすれば、前述の第１実施形態〜第３実施形態と同種の効果が得られる。
【０１０８】
（変形例３）第１実施形態〜第３実施形態で、特徴点検出部７０をＹ軸テーブル１３上に配置したが、これにこだわるものではない。例えば、メインキャリッジ１４上に配置しても良い。
【０１０９】
このようにすれば、前述の第１実施形態〜第３実施形態と同種の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】第１実施形態の有機ＥＬ装置の縦断面図。
【図２】有機ＥＬ素子を構成する発光層の配列を示した図であり、（ａ）は、ストライプ配列、（ｂ）は、モザイク配列、（ｃ）は、デルタ配列の説明図。
【図３】液滴吐出装置の平面模式図。
【図４】ワークに配列した特徴点の模式図。
【図５】ＣＣＤカメラ使用時の模式図であり、（ａ）は、側断面図、（ｂ）は、平面図。
【図６】液滴吐出装置の主制御系を示したブロック図。
【図７】特徴点検出のフローチャート。
【図８】第２実施形態のタイリング基板の特徴点を検出するときの模式図。
【図９】レーザ変位計測器使用時の模式図。
【図１０】第３実施形態のフレキ基板に配列した特徴点の模式図。
【図１１】電子機器の具体例を示す図。
【符号の説明】
【０１１１】
１…液滴吐出装置、３…描画装置、５…機能液滴吐出ヘッド、６…ノズル列、５４…特徴点、７０…特徴点検出部、７１…ＣＣＤカメラまたはレーザ変位計測器、１５３…特徴点検出部キャリッジモータ、１６４…特徴点検出部キャリッジモータドライバ、２１５…画像処理部、２３１…ワークエリアブロック、Ｈ…変位量、Ｗ…ワーク、Ｗ１…描画領域、Ｗ２…非描画領域、Ｘ…Ｘ方向のズレ量、Ｙ…Ｙ方向のズレ量、６００…携帯電話、６０１…液晶表示装置を備えた液晶表示部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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