(57)【要約】【課題】広い範囲の工業上及び商業上の用途における使用に適切な特性を有する新規の界面活性剤を提供する。【解決手段】式（Ｉ）  Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）（式中、ＺはＳ，ＳＯ又はＳＯ２である）による界面活性剤化合物を含む組成物は、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の特定の値によってある範囲の平衡及び／又は動的表面張力及びある範囲の気泡性能を有することができる。式（Ｉ）の化合物はチオールとグリシジルエーテルとの反応を含むプロセスによって製造されうる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
（式中、Ｒ４はＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、カルボニル基又はＯ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を有するＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分と、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分と、式Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分とからなる群より選ばれ、Ｒ５はＨ又は直鎖のＣ１〜Ｃ１２のアルキルであり、
Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ及び直鎖もしくは枝分かれのＣ１〜Ｃ３のアルキル及びアルケニル基からなる群より選ばれ、
Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ、スルホ又はホスホ置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨと、
−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔと、
−（ＣＨ２）ｍＴと、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２とからなる群より選ばれ、
ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、ｐは１又は２であり、ｑは１〜１５の整数であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２であり、但し、Ｒ１が−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨである場合にはＺはＳでない。）による化合物を含む組成物。
【請求項２】
ＺはＳである、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
ＺはＳＯ又はＳＯ２である、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
Ｒ２及びＲ３は各々Ｈである、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ４はＣ４〜Ｃ２０の直鎖アルキル部分からなる群より選ばれる、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
Ｒ４はブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル及びこれらのいずれかの混合物からなる群より選ばれる、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
下記式（ＩＩ）
【化１】
2006117664.tif 000024
による少なくとも１つの化合物をメルカプタンＲ１−ＳＨと接触させることを含む、
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
による化合物の製造方法、
（式中、Ｒ４はＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、カルボニル基又はＯ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を有するＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分と、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分と、式Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分とからなる群より選ばれ、Ｒ５はＨ又は直鎖のＣ１〜Ｃ１２のアルキルであり、
Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ及び直鎖もしくは枝分かれのＣ１〜Ｃ３のアルキル及びアルケニル基からなる群より選ばれ、
Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ、スルホ又はホスホ置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨと、
−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔと、
−（ＣＨ２）ｍＴと、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２とからなる群より選ばれ、
ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、ｐは１又は２であり、ｑは１〜１５の整数であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２であり、但し、Ｒ１が−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨである場合にはＺはＳでない。）。
【請求項８】
前記接触工程の生成物を酸化剤と混合させることをさらに含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
Ｒ１は−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨである、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記接触の前に、希釈剤を含む反応媒体中に式（ＩＩ）による前記少なくとも１つの化合物を分散させることをさらに含む、請求項７記載の方法。
【請求項１１】
前記希釈剤は、イソプロパノール、エタノール、メタノール、アセトニトリル、エチレングリコール、プロピレングリコール、水とアセトニトリルとの組み合わせ、水とメタノールとの組み合わせ、水とイソプロパノールとの組み合わせ、水とエタノールとの組み合わせ、及び、これらのいずれかの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記希釈剤はイソプロパノールである、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
式（Ｉ）以外の界面活性剤及び湿潤化剤、溶剤、アルカリ金属水酸化物、水性、水分散性又は水溶性の樹脂、流動化剤、レベリング剤、顔料、加工助剤、脱泡剤、可溶化剤、農薬、植物成長調節剤、水溶性被膜形成性高分子化合物、水溶性アルコール、グリコールもしくはポリオール、水溶性酸もしくはその塩、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、乳化剤、アルカノールアミン、有機モノ酸、殺生物剤、キレート化剤、洗浄剤ビルダー、洗浄剤コビルダー、染料、香料、再付着防止助剤、サンスクリーン剤、可溶化剤、ポリマー、オリゴマー、機能性(functional)セメント添加剤、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ギ酸セシウム、塩酸、フッ化水素酸、酢酸、ギ酸及び水からなる群より選ばれる１つ以上の成分を合計で０．１〜９９．９ｗｔ％含む配合物であって、
下記式（Ｉ）による１つ以上の化合物を０．００１〜４５ｗｔ％含み、
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
（式中、Ｒ４はＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、カルボニル基又はＯ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を有するＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分と、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分と、式Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分とからなる群より選ばれ、Ｒ５はＨ又は直鎖のＣ１〜Ｃ１２のアルキルであり、
Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ及び直鎖もしくは枝分かれのＣ１〜Ｃ３のアルキル及びアルケニル基からなる群より選ばれ、
Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ、スルホ又はホスホ置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨと、
−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔと、
−（ＣＨ２）ｍＴと、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２とからなる群より選ばれ、
ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、ｐは１又は２であり、ｑは１〜１５の整数であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２である。）、
前記１つ以上の成分は式（Ｉ）による１つ以上の化合物のいずれかを調製するためのプレもしくはポスト調製合成反応混合物の成分を含まない、配合物。
【請求項１４】
前記配合物は、水と、合計で０．１〜９９ｗｔ％の、式（Ｉ）以外のアニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、溶剤及びアルカリ金属水酸化物からなる群より選ばれる１つ以上の成分とを含む硬質表面クリーニング配合物であり、前記配合物は０．００１〜２５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項１５】
前記配合物は、５〜９９．９ｗｔ％の水性、水分散性又は水溶性の樹脂、合計で０．０１〜１０ｗｔ％の、式（Ｉ）以外の界面活性剤、湿潤化剤、流動化剤及びレベリング剤からなる群より選ばれる１つ以上の添加剤を含むコーティング配合物であり、前記配合物は０．００１〜５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項１６】
前記配合物は、１〜５０ｗｔ％の顔料、５〜９９．９ｗｔ％の水性、水分散性又は水溶性の樹脂、０．０１〜１０ｗｔ％の、式（Ｉ）以外の界面活性剤又は湿潤化剤、及び、合計で０．０１〜１０ｗｔ％の、加工助剤、脱泡剤及び可溶化剤からなる群より選ばれる１つ以上の他の添加剤を含むインク配合物であり、前記配合物は０．００１〜５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項１７】
前記配合物は、０．１〜５０ｗｔ％の農薬又は植物成長調節剤、及び、０．０１〜１０ｗｔ％の、式（Ｉ）以外の界面活性剤又は湿潤化剤を含む農業用配合物であり、前記配合物は０．００１〜５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項１８】
前記配合物は０．０５〜１０ｗｔ％の水溶性被膜形成性高分子化合物、１〜２５ｗｔ％の水溶性アルコール、グリコール又はポリオール、０．０１〜２０ｗｔ％の水溶性酸もしくはその塩、及び、３０〜９８．９ｗｔ％の水を含む、平板印刷用ファウンテン溶液配合物であり、前記配合物は０．００１〜５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項１９】
前記配合物は０．１〜３ｗｔ％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、及び、９２．５〜９９．９ｗｔ％の水を含む、フォトレジスト現像剤配合物であり、前記配合物は０．００１〜５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２０】
前記配合物は２．５〜１０ｗｔ％の乳化剤、１０〜２５ｗｔ％のアルカノールアミン、２〜１０ｗｔ％の有機モノ酸、１〜５ｗｔ％の殺生物剤、及び、４０〜８４．４ｗｔ％の水を含む、合成金属加工流体配合物であり、前記配合物は０．００１〜５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２１】
前記配合物は水、及び、５〜２０ｗｔ％のキレート化剤を含むリンス助剤配合物であり、前記配合物は０．００１〜４５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２２】
前記配合物は０．１〜５０ｗｔ％の１つ以上の洗浄剤界面活性剤、及び、２５〜６０ｗｔ％のビルダーもしくはコビルダーを含む粉末化洗濯洗剤配合物であり、前記配合物は０．００１〜１５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２３】
前記配合物は０．１〜６５ｗｔ％の１つ以上の洗浄剤界面活性剤、３〜３６ｗｔ％のビルダーもしくはコビルダー、合計で０．１〜５ｗｔ％の香料と染料とからなる群より選ばれる１つ以上の添加剤、及び、合計で１〜７５ｗｔ％の水と他の溶剤とからなる群より選ばれる１つ以上の他の添加剤を含む水性液体洗濯洗剤配合物であり、前記配合物は０．００１〜３０ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２４】
前記配合物は０．１〜４２ｗｔ％の１つ以上の洗浄剤界面活性剤、及び、２５〜６０ｗｔ％のビルダーもしくはコビルダー、０．５〜５ｗｔ％の再付着防止助剤を含む非水性洗濯洗剤配合物であり、前記配合物は０．００１〜３０ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２５】
前記配合物は水及び０．０１〜２ｗｔ％の再付着防止助剤を含む産業用及び企業用洗濯洗剤配合物であり、前記配合物は０．００１〜２０ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２６】
前記配合物は水及び０．１〜３０ｗｔ％のアニオン性界面活性剤を含むシャンプー又は液体ボディーウォッシュ配合物であり、前記配合物は０．００１〜５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２７】
前記配合物は水及び０．１〜１０ｗｔ％の式（Ｉ）以外のノニオン性界面活性剤を含むヘアコンディショナー配合物であり、前記配合物は０．００１〜１０ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２８】
前記配合物は水及び１〜３０ｗｔ％のサンスクリーン剤を含む水性サンスクリーン配合物であり、前記配合物は０．００１〜３０ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項２９】
前記配合物は４０〜７５ｗｔ％の水及び合計で０．１〜２０ｗｔ％の、１つ以上の可溶化剤、ポリマー、オリゴマー又は機能性添加剤を含むセメント混和剤配合物であり、前記配合物は０．００１〜５ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む、請求項１３記載の配合物。
【請求項３０】
Ｒ４はブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル及びこれらのいずれかの混合物からなる群より選ばれ、Ｒ１は−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨ（式中、ｎは０又は１である）又はこれらの混合物であり、Ｒ２及びＲ３は両方ともＨである、請求項１３記載の配合物。
【請求項３１】
ＺはＳである、請求項１３記載の配合物。
【請求項３２】
地下のガス井又は油井でのドリリング、コンプリーティング（completing)、セメンティング、スティミュレイティング(stimulating)、フラクチャリング(fracturing)、酸性化(acidizing)、又はワーキングオーバーのための流体、又は、油又はガス含有累層からの油又はガスの生産物を処理又は改良するための流体であり、
前記流体は合計で５〜９９．８５ｗｔ％の少なくとも１つの有機液体及び水を含み、さらに、合計で０．１〜８０ｗｔ％の、加重剤(weighting agents)、粘度調節剤(viscosifiers)、分散剤、ドリリングマッドベースオイル、乳化剤、可溶性塩、セメント、プロパント(proppants)、鉱酸、有機酸、殺生物剤、脱泡剤、脱乳化剤、腐食防止剤、減摩剤、ガスハイドレート防止剤、硫化水素除去剤もしくは硫化水素抑制剤、アスファルテン抑制剤、パラフィン抑制剤及びスケール抑制剤からなる群より選ばれる１つ以上の成分を含み、
前記流体中に０．０５〜１０ｗｔ％の式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含み、
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
（式中、Ｒ４はＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、カルボニル基又はＯ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を有するＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分と、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分と、式Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分とからなる群より選ばれ、Ｒ５はＨ又は直鎖のＣ１〜Ｃ１２のアルキルであり、
Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ及び直鎖もしくは枝分かれのＣ１〜Ｃ３のアルキル及びアルケニル基からなる群より選ばれ、
Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ、スルホ又はホスホ置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨと、
−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔと、
−（ＣＨ２）ｍＴと、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２とからなる群より選ばれ、
ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、ｐは１又は２であり、ｑは１〜１５の整数であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２である）、
前記１つ以上の成分は式（Ｉ）による１つ以上の化合物のいずれの調製のためのプレもしくはポスト調製合成反応混合物の成分を含まない、流体。
【請求項３３】
地下の井をドリリング、コンプリーティング（completing)、セメンティング、スティミュレイティング(stimulating)、フラクチャリング(fracturing)、酸性化(acidizing)、又はワーキングオーバー又は処理する方法であり、
前記井中に式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む流体を注入することを含む方法、
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
（式中、Ｒ４はＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、カルボニル基又はＯ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を有するＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分と、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分と、式Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分とからなる群より選ばれ、Ｒ５はＨ又は直鎖のＣ１〜Ｃ１２のアルキルであり、
Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ及び直鎖もしくは枝分かれのＣ１〜Ｃ３のアルキル及びアルケニル基からなる群より選ばれ、
Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ、スルホ又はホスホ置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨと、
−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔと、
−（ＣＨ２）ｍＴと、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２とからなる群より選ばれ、
ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、ｐは１又は２であり、ｑは１〜１５の整数であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２である）。
【請求項３４】
油及びガスを含有する累層からの油又はガスの生成物流を処理する方法であり、前記生成物流中に式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む流体を注入することを含む方法、
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
（式中、Ｒ４はＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、カルボニル基又はＯ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を有するＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分と、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分と、式Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分とからなる群より選ばれ、Ｒ５はＨ又は直鎖のＣ１〜Ｃ１２のアルキルであり、
Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ及び直鎖もしくは枝分かれのＣ１〜Ｃ３のアルキル及びアルケニル基からなる群より選ばれ、
Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ、スルホ又はホスホ置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨと、
−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔと、
−（ＣＨ２）ｍＴと、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２とからなる群より選ばれ、
ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、ｐは１又は２であり、ｑは１〜１５の整数であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２である）。
【請求項３５】
ｉ）式（Ｉ）による１つ以上の化合物からなる第一の成分、
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
（式中、Ｒ４はＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、カルボニル基又はＯ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を有するＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分と、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分と、式Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分とからなる群より選ばれ、Ｒ５はＨ又は直鎖のＣ１〜Ｃ１２のアルキルであり、
Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ及び直鎖もしくは枝分かれのＣ１〜Ｃ３のアルキル及びアルケニル基からなる群より選ばれ、
Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ、スルホ又はホスホ置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨと、
−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔと、
−（ＣＨ２）ｍＴと、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２とからなる群より選ばれ、
ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、ｐは１又は２であり、ｑは１〜１５の整数であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２である）、及び、
ｉｉ）不揮発性有機材料及び不揮発性無機材料ならびにそれらの混合物からなる群より選ばれる１つ以上の材料からなり、式（Ｉ）による１つ以上の化合物のいずれの調製のためのプレもしくはポスト調製合成反応混合物の成分を含まない、第二の成分、
を含み、２５℃において流体である、配合物。
【請求項３６】
前記第二の成分は前記第一の成分よりも多量の重量で存在する、請求項３５記載の配合物。
【請求項３７】
前記配合物は水性キャリアを含む、請求項３６記載の配合物。
【請求項３８】
前記第二の成分は、式（Ｉ）以外の界面活性剤又は湿潤化剤、溶剤、アルカリ金属水酸化物、水性、水分散性又は水溶性の樹脂、流動化剤、レベリング剤、顔料、加工助剤、脱泡剤、可溶化剤、農薬、植物成長調節剤、水溶性被膜形成性高分子化合物、水溶性アルコール、グリコールもしくはポリオール、水溶性酸もしくはその塩、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、乳化剤、アルカノールアミン、有機モノ酸、殺生物剤、キレート化剤、洗浄剤ビルダー、洗浄剤コビルダー、染料、香料、再付着防止助剤、サンスクリーン剤、可溶化剤、ポリマー、オリゴマー及び機能性(functional)セメント添加剤からなる群より選ばれる１つ以上の材料からなる、請求項３５記載の配合物。
【請求項３９】
Ｒ４はブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル及びこれらのいずれかの混合物からなる群より選ばれ、Ｒ１は−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨ（式中、ｎは０、１又はこれらの混合物である）であり、Ｒ２及びＲ３は両方ともＨである、請求項３５記載の配合物。
【請求項４０】
ＺはＳである、請求項３９記載の配合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、界面活性剤組成物に関する。より詳細には、本発明はグリシジルエーテルとチオールのアダクト及び水性系における表面張力低減のためのその使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
水の表面張力を低減させる能力は水性配合物の分野において非常に重要である。というのは、低減された表面張力は使用の間の基材の改良された湿潤化性を意味するからである。良好な湿潤性を要求する水性組成物の例は、コーティング、インク、接着剤、平板印刷用ファウンテン溶液、クリーニング組成物、金属加工流体、農薬配合物、エレクトロニクス洗浄及び半導体処理用組成物、パーソナルケア製品、及び、ティスタイル処理及び油田用途用配合物を含む。水性系中の表面張力の低減は一般に界面活性剤の添加により達成され、改良された表面被覆、より少ない欠陥及びより均一な分布をもたらす。平衡表面張力（ＥＳＴ）は系が静止しているときに重要であり、一方、動的表面張力（ＤＳＴ）は高速適用条件下で表面張力を低減しそして湿潤化性を付与する界面活性剤の能力の測定値を提供する。
【０００３】
低い使用量で低い表面張力を達成するための界面活性剤の能力、気泡形成性能に影響を及ぼす能力、及び、有効な乳化及び可溶化を提供する界面活性剤の能力の重要性は、全て産業上かなり重要であることは当業界でよく評価されているとおりである。平衡表面張力低減効率は幾つかの用途では重要であるが、他の用途では平衡表面張力及び動的表面張力の低減の両方を要求することがある。
【０００４】
界面活性剤の気泡形成性も、界面活性剤が適切な用途を決めるのを助けることができるので重要である。たとえば、気泡は鉱物フローテーション及びクリーニングなどの用途では所望されることがある。一方、コーティング、グラフィックアート及び接着剤用途では、気泡は適用を複雑にしそして欠陥形成をもたらすことがあるので所望されない。このため、気泡形成特性はしばしば重要な性能パラメータである。
【０００５】
界面活性剤を使用する幅広い用途及びその結果として性能要求の多様性により、これらの種々の性能要求に合わせた、対応する多数の界面活性剤が要求され、かかる界面活性剤を製造するための適切な方法が要求されている。
【発明の開示】
【０００６】
第一の態様において、本発明は下記式（Ｉ）による化合物を含む組成物を提供する。
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
式（Ｉ）において、Ｒ４はＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、カルボニル基又はＯ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を有するＣ３〜Ｃ３０の枝分かれ、直鎖及び環式のアルキル、アルケニル、アリール及びアラルキル部分と、式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分と、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分と、式Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分とからなる群より選ばれ、Ｒ５はＨ又は直鎖のＣ１〜Ｃ１２のアルキルである。Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ及び直鎖もしくは枝分かれのＣ１〜Ｃ３のアルキル及びアルケニル基からなる群より選ばれる。Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ、スルホ又はホスホ置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨと、
−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔと、
−（ＣＨ２）ｍＴと、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２とからなる群より選ばれる。
【０００７】
上記の構造において、ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、ｐは１又は２であり、ｑは１〜１５の整数であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２であり、但し、Ｒ１が−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨである場合にはＺはＳでない。
【０００８】
第二の態様において、本発明は上記の式（Ｉ）による化合物の製造方法を提供し、この方法は、下記式（Ｉ）
【０００９】
【化１】
2006117664.tif 000002
【００１０】
による少なくとも１つの化合物をメルカプタンＲ１−ＳＨと接触させることを含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記に規定のとおりである。
【００１１】
第三の態様において、本発明は、式（Ｉ）以外の界面活性剤及び湿潤化剤、溶剤、アルカリ金属水酸化物、水性、水分散性又は水溶性の樹脂、流動化剤、レベリング剤、顔料、加工助剤、脱泡剤、可溶化剤、農薬、植物成長調節剤、水溶性被膜形成性高分子化合物、水溶性アルコール、グリコール、ポリオール、水溶性酸もしくはその塩、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、乳化剤、アルカノールアミン、有機モノ酸、殺生物剤、キレート化剤、洗浄剤ビルダー、洗浄剤コビルダー、染料、香料、再付着防止助剤、サンスクリーン剤、可溶化剤、ポリマー、オリゴマー、機能性(functional)セメント添加剤及び水から選ばれる１つ以上の成分を合計で０．１〜９９．９ｗｔ％含む配合物を提供する。この配合物は、また、上記のとおりの式（Ｉ）による１つ以上の化合物を０．００１〜４５ｗｔ％含むが、Ｒ１が−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨである場合にＺはＳであってもよい。
【００１２】
第四の態様において、本発明は、地下のガス井又は油井でのドリリング、コンプリーティング（completing)、セメンティング、スティミュレイティング(stimulating)、フラクチャリング(fracturing)、酸性化(acidizing)、又はワーキングオーバーのための流体、又は、油又はガス含有累層からの油又はガスの生産物を処理又は改良するための流体を提供する。この流体は合計で５〜９９．８５ｗｔ％の少なくとも１つの有機液体及び水を含み、さらに、合計で０．１〜８０ｗｔ％の、加重剤(weighting agents)、粘度調節剤(viscosifiers)、分散剤、ドリリングマッドベースオイル、乳化剤、可溶性塩、セメント、プロパント(proppants)、鉱酸、有機酸、殺生物剤、脱泡剤、脱乳化剤、腐食防止剤、減摩剤、ガスハイドレート防止剤、硫化水素除去剤もしくは硫化水素抑制剤、アスファルテン抑制剤、パラフィン抑制剤及びスケール抑制剤からなる群より選ばれる１つ以上の成分を含む。この流体は、０．０５〜１０ｗｔ％の、本発明の第三の態様に規定されるとおりの式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む。
【００１３】
第五の態様において、本発明は、地下の井をドリリング、コンプリーティング（completing)、セメンティング、スティミュレイティング(stimulating)、フラクチャリング(fracturing)、酸性化(acidizing)、又はワーキングオーバー又は処理する方法であり、
前記井中に、本発明の第三の態様において規定されるとおりの式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む流体を注入する工程を含む方法を提供する。
【００１４】
第六の態様において、本発明は、油及びガスを含有する累層からの油又はガスの生成物流を処理する方法であり、前記生成物流中に、本発明の第三の態様において規定されるとおりの式（Ｉ）による１つ以上の化合物を含む流体を注入する工程を含む方法を提供する。
【００１５】
第七の態様において、本発明は、本発明の第三の態様において規定されるとおりの式（Ｉ）による１つ以上の化合物からなる第一の成分と、第二の成分とを含む、配合物を提供する。この配合物は２５℃において流体である。第二の成分は、不揮発性有機材料及び不揮発性無機材料ならびにそれらの混合物からなる群より選ばれる１つ以上の材料からなる。第二の成分は、式（Ｉ）による化合物のいずれの調製のためのプレもしくはポスト調製合成反応混合物の成分を含まない。
【００１６】
本発明は、水性系の動的及び／又は平衡表面張力を有効に低減することができ、及び／又は、このような系の気泡形成性能に影響を及ぼすことができる新規の界面活性剤組成物に関する。この組成物は、式（Ｉ）（式中、ＺはＳ、ＳＯ又はＳＯ２である）による２−ヒドロキシ−３−アルコキシプロピルスルフィド、スルホン及びスルホキシドを含む。
Ｒ４ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ２Ｒ３ＺＲ１        （Ｉ）
式中、Ｒ１はＣ３〜Ｃ１６の直鎖、環式及び枝分かれのアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル及びアルカリール部分、及び、カルボキシ（−ＣＯ２Ｈ）、スルホ（−ＳＯ３Ｈ）又はホスホ（−ＰＯ３Ｈ２）置換基によって置換されている、これらのいずれかの部分と、
−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨ（ｎは０〜５）とからなる群より選ばれる。
【００１７】
式（Ｉ）の化合物を生成させる１つの方法は、式Ｒ１−ＳＨのチオール（すなわち、メルカプタン）によるグリシジルエーテルのエポキシド環の開環、次いで（Ｚ＝ＳＯ又はＳＯ２の場合）、得られたスルフィドの酸化による。式（Ｉ）による化合物は、また、グリシジルエーテルと、１個より多くのＳＨ基を含むメルカプタンとの反応により製造されることもでき、たとえば、ＳＨ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２ＳＨ、ＳＨ（ＣＨ２）ｍＳＨ（ｍは２〜４である）、及び、Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＳＨ）３も本発明に含まれる。１個より多くのＳＨ基はグリシジルエーテルと反応することができる。このため、Ｒ１は−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｔ、−（ＣＨ２）ｍＴ及び−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＯ−Ｒ（Ｏ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２Ｔ）２であることができる。ここで、ｍは２〜４の整数であり、ｐは１又は２であり、ＴはＳＨ又はＺＣＲ２Ｒ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ４であり、Ｒはトリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメントであり、ＺはＲ１が−ＣＨ２（ＣＨＯＨ）ｎＣＨ２ＯＨである場合にはＺはＳでない。「トリメチロールプロパン又はグリセロールをベースとするセグメント」とは、トリエーテルに転化されたトリメチロールプロパン又はグリセロールである基を指す。上記のチオール化合物Ｒ１−ＳＨは全て市販されており、又は、当業者に既知の合成技術によって製造されうる。本発明による使用に適するチオールの制限しない例は、２−メルカプトエタノール、１−チオグリセロール、１−メルカプト−２−プロパノール、３−メルカプト−１−プロパノール、３−メルカプト−２−ブタノール、４−メルカプト−１−ブタノール、オクタンチオール、ドデシルチオール、エタンジチオール、１，４−ブタンジチオール、ビス（エタンチオール）エーテルを含む。
【００１８】
Ｒ２及びＲ３は各々独立に、Ｈ、ＣＨ３、直鎖及び枝分かれのアルキル、アルケニル基で１〜３個の炭素原子を有するものからなる群より選ばれる。
【００１９】
各Ｒ４は独立に、Ｃ３〜Ｃ３０アルキル、アルケニル、アリール又はアラルキル部分であり、枝分かれ、直鎖又は環式であってよい。それは、また、カルボニル基、特に、カルボン酸、エステル又はアミドを含み、及び／又は、Ｏ，Ｓ及びＮから選ばれる１個以上のヘテロ原子を含む、このような部分であってもよい。かかる部分はＲ４上のどの位置にあってもよい。ある態様において、Ｒ４はアシル基である。Ｒ４は式Ｒ５（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のグリコールエーテル部分、式Ｒ５（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）ｑ−のアミノエチレン部分、又は、Ｒ５Ｓ（ＣＨ２）ｑ−のチオエーテル部分（式中、Ｒ５はＨ又は直鎖Ｃ１〜Ｃ１２アルキルであり、ｑは１〜１５の整数である）であってもよい。上記のグリコールエーテルは全て市販されており、又は、当業者に既知の合成技術によって製造されうる。このように、用語「２−ヒドロキシ−３−アルコキシプロピル」は本発明のスルフィド、スルホン及びスルホキシドを記載するために単純化のために用いるが、プロピル基の３−位にあるエーテル酸素上のＲ４基のためにアルキル以外の基が用いられてよい。適切なＲ４基の制限しない例は、ブチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、フェニル、クレシル（いずれかの環位置又はフェノール酸素に結合した、いずれかの異性体、特に、オルト又はパラ）及びそれらの混合物を含む。通常、Ｒ４基は１つ以上のブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル及びテトラデシルであろう。
【００２０】
２つ以上の異なるＲ２、Ｒ３及び／又はＲ４基を有するグリシジルエーテルを含む、グリシジルエーテルの混合物を用いてもよい。適切なグリシジルエーテルの例は、制限するわけではないが、ブチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、オクタデシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、クレシルグリシジルエーテルなど及びそれらの混合物を含む。より好ましいグリシジルエーテルはブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、Ｃ８〜Ｃ１０グリシジルエーテル及びＣ１２〜Ｃ１４アルキルグリシジルエーテルである。
【００２１】
本発明による例示の組成物は２，３−ジヒドロキシプロピル−２’−ヒドロキシ−３’−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルスルフィド、２，３−ジヒドロキシプロピル−２’−ヒドロキシ−３’−ドデシルオキシプロピルスルフィド、２，３−ジヒドロキシプロピル−２’−ヒドロキシ−３’−ヘキサデシルオキシプロピルスルフィド、２，３−ジヒドロキシプロピル−２’−ヒドロキシ−３’−テトラデシルオキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ブトキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−オクチルオキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ノニルオキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−デシルオキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ドデシルオキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ヘキサデシルオキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−テトラデシルオキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルスルフィド、２−ドデシル−２’−ヒドロキシ−３’−ブトキシプロピルスルフィド、及び、これらのいずれかに対応するスルホキシド及びスルホンである。
【００２２】
式（Ｉ）の化合物の製造
式（Ｉ）による化合物は合成有機化学技術において知られている方法によって製造されうる。本発明の１つの例示の態様では、メルカプタンＲ１−ＳＨと式（ＩＩ）のグリシジルエーテルとの反応により製造されうる。ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記に規定したとおりであり、そしてＺはＳである。
【００２３】
【化２】
2006117664.tif 000003
【００２４】
ＺがＳＯ又はＳＯ２である化合物は、当業界において知られている酸化剤及び酸化技術を用いて、ＺがＳである対応する化合物を酸化することによって製造されうる。本発明の１つの例示の態様では、過酸化水素によって酸化は行なわれるが、他の方法を用いてもよい。
【００２５】
反応において使用されるグリシジルエーテルの量は、通常、メルカプタン１モルあたりに約１．０〜約５．０モルであり、より通常には、約１〜約４モルであり、なおもより通常には、約１〜約２モルであり、そして最も通常には、メルカプタン１モルにあたりに約１モルである。グリシジルエーテルの混合物及び／又はメルカプタンの混合物も用いてよい。
【００２６】
式（Ｉ）による化合物を製造するために、希釈剤を含み、場合により触媒を含む反応媒体中に場合によって分散されていてよいグリシジルエーテルとメルカプタンを、便利な反応速度を提供するために十分に高くかつ有意な副生成物の生成を抑制するために十分に低い温度で反応（付加）させることができる。「分散される」とは、グリシジルエーテルが媒体中に懸濁され、溶解され、又は、その組み合わせであることを意味する。反応温度は約５０℃〜約１５０℃の範囲であってよく、好ましくは約５０℃〜約１３０℃であり、より好ましくは約６０℃〜約１２０℃である。最適な条件は使用する特定の反応体、反応器の構成、溶剤及び他の変数によるであろう。種々の希釈剤は反応のために用いられてよく、１種以上の反応体が本質的に不溶性である液体を含む。より通常には、希釈剤は（使用されるならば）、１種以上の反応体のための溶剤である材料であろう。適切な溶剤は、制限するわけではないが、イソプロパノール、エタノール、メタノール、アセトニトリル、エチレングリコール、プロピレングリコール、水とアセトニトリルとの組み合わせ、水とメタノールとの組み合わせ、水とイソプロパノールとの組み合わせ、水とエタノールとの組み合わせ、及び、それらの混合物を含む。通常、イソプロパノールは用いられるであろう。
【００２７】
式（Ｉ）の化合物の使用
本発明による組成物は、多くの用途のいずれかにおいて式（Ｉ）の化合物を使用することを補助するように種々の他の成分を含んでよい。このような製品の性能特性は、スルフィドの構造の適切な変更及び置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の選択によって特定の用途のために最適化されることができる。このような最適化は常規的な手順であり、特定の用途分野の当業者の能力の範囲内である。これらの変数の操作は、乳化剤もしくは洗浄剤、湿潤化剤、発泡剤、脱泡剤、レオロジー調節剤もしくは結合増粘剤(associative thickners)、分散剤などとして有用であることができる配合物を生じさせることになる。であるから、これらの配合物は、コーティング、インク、接着剤、農薬配合物、ファウンテン溶液、フォトレジストストリッパー及び現像剤、シャンプー及び洗剤その他のクリーニング組成物の用途に有用であることができる。油田探索、開発及び生産用途、たとえば、改良された油回収、フラクチャリング(fracturing)及び刺激(stimulation)プロセス、及び、ドリリング及びセメンティング操作においても用途を見出し、種々の湿潤処理テキスタイル操作、たとえば、繊維の染色及び繊維の精練及びキルボイリング（kier boiling)にも有用であることができる。これらの用途の各々を支配する一般的な配合物の原則は、それぞれの技術分野でよく知られており、多くの用途分野の詳細な説明及び本発明の化合物をこのような配合物中に取り込むために方法の詳細な説明は有効な取り込みのために必要はない。しかし、本発明による化合物の使用可能な広い範囲の例示として、例示的で制限しない配合物を幾つかの用途について以下に示す。
【００２８】
用語「水系」、「水輸送型」、「水性」、又は、「水性媒体」又は「水性キャリア」は、本明細書中に使用されるときに、溶剤もしくは液体分散媒が少なくとも５０ｗｔ％の水、好ましくは少なくとも９０ｗｔ％、より好ましくは少なくとも９５ｗｔ％の水を含む系を指していう。分散媒は本質的に水からなってもよく、すなわち、添加した溶剤を有しなくてもよく、又は、溶剤を含んでもよい。
【００２９】
広汎な観点で、式（Ｉ）による化合物は第二の成分を含む広い範囲の配合物において使用でき、それにより、第二の成分の適用が式（Ｉ）の材料によって提供される界面活性特性から利益を得る。式（Ｉ）による化合物の調製のためのプレもしくはポスト調製合成反応混合物の成分が存在してもよいが、これは本発明の目的での第二の成分の一部にカウントされないことは理解されるべきである。このような材料は、たとえば、単純塩、溶剤、触媒、有機プリカーサー、試薬、副産物を含むことができるが、式（Ｉ）の化合物の調製に関する副生成物は第二の生成物の一部ではない。通常、必須ではないが、配合物中の第二の成分の重量は式（Ｉ）の化合物の重量よりも大きい。
【００３０】
本発明による式（Ｉ）による化合物を含む配合物は、通常、２５℃で流体であるように構成される。配合物は、通常、水性であるが、水性でなくてもよい。第二の成分は、不揮発性有機材料及び不揮発性無機材料ならびにそれらの混合物から選ばれる１種以上の材料からなることができる。本明細書中に使用されるときに、用語「不揮発性」とは、示した材料が沸騰することができないか、又は、７６０トルの圧力で少なくとも１５０℃の温度で沸騰することを意味する。このため、通常の低沸点溶剤は配合物中に含まれてもよいが、第二の成分の一部を構成しない。
【００３１】
不揮発性材料の通常の制限しない例は、以下において、例示の配合物中に示される。本発明による配合物は、そのまま使用できる配合物又は濃厚物を含むことができる。これらのいずれも使用時にさらに希釈されてもよい。そのため、本発明による組成物中の１種以上の式（Ｉ）の化合物の濃度は広い範囲で変更してよい。幾つかの場合には、その量は０．００００１ｗｔ％まで低いことがあるが、通常は、配合物の０．００１〜４５ｗｔ％であろう。全ての用途で要求されるわけではないが、多くの場合、この濃度範囲の上限での組成物は意図した用途での使用の間又はその前に希釈されるであろう。
【００３２】
式（Ｉ）の化合物を使用することによって、水性組成物又は工業プロセスにおいて表面張力を低減することが可能である。このため、本発明は、界面活性有効量で使用されたときに良好な湿潤特性を界面活性剤が提供する、かかる化合物を含む水性組成物を提供する。たとえば、水性の有機化合物含有組成物の湿潤化特性を改良するのに有効な界面活性剤の量は配合物の合計重量を基準として０．００００１〜５ｗｔ％、好ましくは０．０００１〜３ｗｔ％、そして最も好ましくは０．００１〜３ｗｔ％であることができる。最も好ましい量は、気泡特性及び湿潤特性に影響を及ぼすことができる、配合物中に存在する他の化学種、たとえば、ラテックスポリマーの量及びタイプによって、用途ごとに異なることがある。
【００３３】
本発明の界面活性剤を含む典型的な水性コーティング組成物は水性媒体中に３０〜８０％固形分で以下の成分を含むことができる。
【００３４】
【表１】
2006117664.tif 000004
【００３５】
本発明の界面活性剤を含む典型的な水性インク組成物は以下の成分を水性媒体中に２０〜６０％固形分（すなわち、凝集溶剤を含まない）で含むことができる。
【００３６】
【表２】
2006117664.tif 000005
【００３７】
本発明の界面活性剤を含む典型的な水性農薬組成物は以下の成分を水性媒体中に０．０１〜８０％で含むことができる。
【００３８】
【表３】
2006117664.tif 000006
【００３９】
本発明の界面活性剤を含む典型的な平板印刷用ファウンテン溶液組成物は以下の成分を含むことができる。
【００４０】
【表４】
2006117664.tif 000007
【００４１】
本発明の界面活性剤を含む典型的な硬質表面クリーナーは以下の成分を含むことができる。
【００４２】
【表５】
2006117664.tif 000008
【００４３】
本発明の界面活性剤を含む典型的な水性フォトレジスト現像剤又はエレクトロニクスクリーニング組成物は以下の成分を含むことができる。
【００４４】
【表６】
2006117664.tif 000009
【００４５】
本発明の界面活性剤を含む典型的な金属加工流体は以下の成分を含むことができる。
【００４６】
【表７】
2006117664.tif 000010
【００４７】
界面活性剤は、また、パーソナルケアならびに家庭及び産業用クリーニングの分野における種々の製品中にも用いられる。本発明の界面活性剤はこれらの配合物のいずれかの中に用いて１つ以上の利益を得ることができ、界面活性剤化合物の正確な構造は特定の用途に要求される特定の性能特性によって決まる。これらの市場で用いられる典型的な配合物は、Louis Ho Tan Taiの本、Formulating Detergents and Personal Care Products: A Complete Guide to Product Development (Champaign, IL:AOCS Press, 2000)に記載されており、また、他の本、文献、製品処方などは当業者に知られている。幾つかの代表的な例示の配合物を例示としてここに記載する。たとえば、家庭用自動食器洗浄機又は産業及び企業製品洗浄機における使用のためのリンス助剤は以下の成分を含むことができる。
【００４８】
【表８】
2006117664.tif 000011
【００４９】
【表９】
2006117664.tif 000012
【００５０】
【表１０】
2006117664.tif 000013
【００５１】
【表１１】
2006117664.tif 000014
【００５２】
【表１２】
2006117664.tif 000015
【００５３】
【表１３】
2006117664.tif 000016
【００５４】
【表１４】
2006117664.tif 000017
【００５５】
【表１５】
2006117664.tif 000018
【００５６】
セメント混和剤配合物
セメント混和剤は、超可塑化、可塑化、促進、硬化抑制、空気捕獲、耐水、腐蝕防止及び他のタイプを含む幾つかのタイプのいずれかであることができる。このような混和剤は、コンクリート、モルタルなどのセメント製品の加工性、沈降性及び最終特性（強度、不透過性、耐久性及びフロスト／脱氷塩耐性など)を制御するために使用される。混和剤は、通常、水溶液として提供され、そして、配合の間のある時点でセメント系に添加されることができる。本発明の界面活性剤は、このような系で使用されるときに、湿潤性、気泡制御性、流動化性及びレベリング性、減水性、腐蝕防止性、高イオン濃度耐性及び相溶性ならびに他の利点を提供することができる。
【００５７】
【表１６】
2006117664.tif 000019
【００５８】
油田及びガス田配合物
単独で使用されるか又は配合物中の成分として使用される、本発明の界面活性剤は、油及びガス工業における種々の用途で表面張力低減、気泡制御及び改良された湿潤性を提供することができる。これらは、たとえば、以下の使用のための配合物を含むことができる。
【００５９】
ドリリング用途では、界面活性剤はクレー及びドリル研削物の分散、ＲＯＰ（侵入速度）の向上、乳化及び脱乳化、表面湿潤化及び表面張力低減、シェール安定化、及び、固体添加剤の水和性及び溶解性の向上のために配合物中で使用されてよい。
【００６０】
セメンティング、スティミュレイティング及びワークオーバー用途では、使用は、スペーサ、セメント分散体、脱空気混入及び脱泡、セメントリターデーション、フラクチャリング流体、コールベッドメタンのスティミュレーション、表面もしくは界面張力低減、オイル／水湿潤化及びクリーニング流体のための配合物を含むことができる。
【００６１】
オイル及びガスの製造において、使用は、リグ洗浄配合物、クルードの脱泡、水フラッディング／注入、酸性ガススイートニングのための脱泡、オイル／水分離、向上したオイル回収、及び、アスファルテン、水和物、スケール及びワックスの抑制もしくは分散を含むことができる。
【００６２】
地下の井（ウエル）のドリリング、コンプリーティング（completing)、セメンティング、スティミュレイティング(stimulating)、フラクチャリング(fracturing)、酸性化(acidizing)、又はワーキングオーバーのための例示の流体、又は、油又はガス含有累層からの生産を向上し、生産された油又はガスを処理するための例示の流体は、水及び／又は有機液体を含む流体であって、有機液体が通常、流体の５〜９９．８５ｗｔ％を構成する流体中に０．０５〜１０ｗｔ％の本発明の界面活性剤を通常に含む。有機液体は、通常、必須ではないが、石油製品であり、たとえば、原油又は下記に記載されるあらゆるドリリングマッドベースオイルを含むことができる。もし水が含まれているならば、清水、海水又は塩水源に由来するものであってよく、又は、塩化水素酸、フッ化水素酸、硫酸などの鉱酸水溶液に含まれることで提供されてもよい。このような用途のための流体は、通常、加重剤(weighting agents)、粘度調節剤(viscosifiers)、分散剤、ドリリングマッドベースオイル、乳化剤、可溶性塩、セメント、プロパント(proppants)、鉱酸、有機酸、殺生物剤、脱泡剤、脱乳化剤、腐食防止剤、減摩剤、ガスハイドレート防止剤、硫化水素除去剤もしくは硫化水素抑制剤、アスファルテン抑制剤、パラフィン抑制剤及びスケール抑制剤からなる群より選ばれる１つ以上の成分を合計で０．１〜８０ｗｔ％含む。様々な特定の材料はこれらの機能を発揮することが当業界において知られている。これらの材料の幾つかの適切な例で制限しないものを下記に示す。他の材料は当業者に明らかであろう。
加重剤(weighting agents)：硫酸バリウム、ヘマタイト及びイルメナイト、
粘度調節剤(viscosifiers)：クレー（たとえば、ベントナイト、アタパルガイト）、水溶性ポリマー（たとえば、キサンタンガム、グアー、ポリサッカリド、変性ポリサッカリド）、親有機性クレー及び油溶性ポリマー、
分散剤：リグノスルホネート、ナフタレンスルホネート、スルホン化メラミンホルムアルデヒド樹脂、
ドリリングマッドベースオイル：ディーゼル、鉱油、オレフィンオイル、パラフィンオイル及びエステル、
乳化剤：脂肪酸、脂肪族アミド、アニオン性界面活性剤、ノニオン性アルコキシル化界面活性剤、
可溶性塩（たとえば、比重調節、シェール安定化又は浸透圧制御）：ＮａＣｌ、ＮａＢｒ、ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＣａＣｌ２、ＣａＢｒ２、ＺｎＣｌ２、ＺｎＢｒ２、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム及びギ酸セシウム、
セメント：
他の界面活性剤：カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、アルキルグルコシド、ホスフェートエステル及びフルオロ界面活性剤、
プロパント(Proppants)：セラミックス、焼結ボーキサイト、サンド、及び、樹脂コートサンド、
有機酸：ギ酸、酢酸、クエン酸、
鉱酸：塩化水素酸及びフッ化水素酸。
【００６３】
上記のクラスの材料は、種々の油田用途で、本発明の界面活性剤と組み合わせて用いることで用途を見出す。正確な用途及び所望の効果によって、組成物は、全て当業者のよく知る方法によって、井（ウエル）中に注入されるか、又は、井により生産されたオイル又はガスのストリーム中に添加されることができる。
【００６４】
典型的な用途及びこれらの目的で配合物を製造するのに一般に（必ずではないが）使用される成分を直ぐ下に示す。他の成分も存在してよい。これらの配合物の各々は、また、本発明の界面活性剤を含むことが理解されるであろう。
【００６５】
水性ドリリングマッド：加重剤、粘度調節剤及び分散剤、
油性ドリリングマッド：ベースオイル、乳化剤及び粘度調節剤、
コンプリーション流体：比重調節のための可溶性塩、
セメント配合物：分散剤と組み合わせたセメント自体、
スペーサ：加重剤及び界面活性剤、
酸性化流体：界面活性剤及び鉱酸及び有機酸の一方又は両方、
フラクチャリング流体：粘度調節剤、プロパント及び界面活性剤。
【００６６】
ガス又はオイル含有累層からの生産のスティミュレイティング又は向上のための流体はプロパントを除いてはフラクチャリング流体中に見られる成分と同様の成分を含むことができる。最後に、上記のように生産されたオイル及びガスを処理するための流体は、１種以上の殺生物剤、脱泡剤、脱乳化剤、腐蝕防止剤、減摩剤、ガス水和物抑制剤、硫化水素除去又は制御剤、アスファルテン制御剤、パラフィン制御剤及びスケール制御剤を含むことができる。
【００６７】
上記の議論に照らして評価されるとおり、本発明の界面活性剤は種々の用途に有用性を見出すことができる。本発明は以下の例においてさらに例示され、以下の例は本発明の方法及び組成物を例示する目的で示され、制限するものではない。
【００６８】
例
例１
Ｎ２インレット、ゴム隔膜、ガラスストッパー及びマグネチック攪拌棒を備えた１００ｍＬ３つ口丸底フラスコ中で、窒素下に、イソプロパノール（１０ｍＬ）中の２−エチルヘキシルグリシジルエーテル（９．０４ｇ、４８．５３ミリモル）の溶液を１−チオグリセロール（５ｇ、４６．２２ミリモル）で処理した。混合物を９０℃で加熱し、出発材料の消失及び生成物の生成について、ガスクロマトグラフィー／マススペクトロメトリー（ｇ．ｃ．ｍ．ｓ）によって完了をモニターした。３時間後に反応は完了したものと判断された。混合物を周囲温度に冷却し、溶剤を真空中に蒸留し、生成物を提供した。生成物である２，３−ジヒドロキシプロピル−２’−ヒドロキシ−３’−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルスルフィドをマススペクトロメトリー並びに１Ｈ及び１３ＣＮＭＲによって同定した。
【００６９】
例２−Ｃ１２〜Ｃ１６グリシジルエーテルと１−チオグリセロールとの反応
この反応は例１に記載されるのと同様に行なったが、１−チオグリセロール（５ｇ、４６．２２ミリモル）及びグリシジルエーテル混合物（１２．３ｇ、約５０．８４ミリモル）を用いて出発した。生成物である２，３−ジヒドロキシプロピル−２’−ヒドロキシ−３’−ドデシルオキシプロピルスルフィド、２，３−ジヒドロキシプロピル−２’−ヒドロキシ−３’−テトラデシルオキシプロピルスルフィド及び２，３−ジヒドロキシプロピル−２’−ヒドロキシ−３’−ヘキサデシルオキシプロピルスルフィドの混合物を例１と同様に同定した。
【００７０】
例３−ブチルグリシジルエーテルと２−メルカプトエタノールとの反応
この反応は例１に記載されるのと同様に行なったが、イソプロパノール５ｍＬ中の２−メルカプトエタノール（２．０ｇ、２６．６ミリモル）及びブチルグリシジルエーテル（３．５０ｇ、２６．８８ミリモル）を用いて出発した。生成物である２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ブトキシプロピルスルフィドを例１と同様に同定した。
【００７１】
例４−Ｃ１２〜Ｃ１６グリシジルエーテル混合物と２−メルカプトエタノールとの反応
この反応は例１に記載されるのと同様に行なったが、イソプロパノール５ｍＬ中の２−メルカプトエタノール（２．０ｇ、２６．６ミリモル）及びＣ１２〜Ｃ１６グリシジルエーテル混合物（６．５０ｇ、約２６．８８ミリモル）を用いて出発した。生成物は２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ドデシルオキシプロピルスルフィド、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−テトラデシルオキシプロピルスルフィド及び２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ヘキサデシルオキシプロピルスルフィドの混合物であった。これを例１と同様に同定した。
【００７２】
例５−２−エチルヘキシルグリシジルエーテルと２−メルカプトエタノールとの反応
この反応は例１に記載されるのと同様に行なったが、イソプロパノール５ｍＬ中の２−メルカプトエタノール（２．０ｇ、２６．６ミリモル）及び２−エチルヘキシルグリシジルエーテル（５．０３ｇ、２６．８８ミリモル）を用いて出発した。生成物である２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルスルフィドを例１と同様に同定した。
【００７３】
例６−Ｃ８〜Ｃ１０グリシジルエーテル混合物と２−メルカプトエタノールとの反応
この反応は例１に記載されるのと同様に行なったが、イソプロパノール１０００ｍＬ中の２−メルカプトエタノール（９８５ｇ、１２．６１モル）及びＣ８〜Ｃ１０グリシジルエーテル混合物（１２００ｇ、約６．４５モル）を用いて出発した。生成物は２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−オクチルオキシプロピルスルフィド及び２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−デシルオキシプロピルスルフィドの混合物であり、それを例１と同様に同定した。
【００７４】
例７−２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ドデシルプロピルスルフィドのスルホキシド及びスルホン誘導体の調製
Ｎ２インレット、ゴム隔膜、ガラスストッパー及びマグネチック攪拌棒を備えた１００ｍＬ３つ口丸底フラスコ中で、窒素下に、イソプロパノール（２０ｍＬ）中のスルフィド（５．０ｇ、１５．０６ミリモル）の溶液を、水中のＨ２Ｏ２３０％溶液（６．８３ｍＬ、６０．２４ミリモル）で処理する。混合物を６０℃で２４時間加熱し、周囲温度に冷却し、ＮａＨＳＯ３飽和水溶液（５．０ｍＬ）で処理し、そして酢酸エチル（５０ｍＬ）中に抽出する。有機相をＭｇＳＯ４上で乾燥し、ろ過し、そして真空中で蒸発させて、２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ドデシルオキシプロピルスルホキシド及び２−ヒドロキシエチル−２’−ヒドロキシ−３’−ドデシルオキシプロピルスルホンの約１：１混合物を生成物として提供する。
例１〜６の反応体及び生成物を下記の表１に示す。
【００７５】
【表１７】
2006117664.tif 000020
【００７６】
例８〜１３−平衡表面張力
定温循環バスによって２５±１℃に温度を維持して、白金ウィルヘルミプレートを用いたクラス(Kruss)Ｋ−１２テンシオメータを用いて、例１〜６で調製した化合物について平衡表面張力を決定した。表２に示す結果は１０分間にわたる１０回の測定の平均であり、標準偏差は０．０１ダイン／ｃｍ未満である。
【００７７】
【表１８】
2006117664.tif 000021
【００７８】
例１４〜１９−チオール／グリシジルエーテルアダクトの気泡特性
０．１ｗｔ％の界面活性剤溶液を用いて、ロスマイルスフォーム試験によって気泡高さ及び安定性（ゼロ気泡に達するまでの時間）を測定した。これらの決定の結果を表３に示す。
【００７９】
【表１９】
2006117664.tif 000022
【００８０】
表３の結果はグリシジルエーテルキャッピング基により、ある範囲の気泡特性が得られることを示す。コーティング、インク及び接着剤などの用途は低い気泡形成性又はすばやく消失する気泡を要求するが、クリーニング又は鉱物フローテーションなどの用途は制御した量の気泡が存在しそして持続することを要求する。それゆえ、式（Ｉ）による化合物を含む組成物は広い範囲の用途を見出すことができる。
【００８１】
例２０〜２５−動的表面張力データ
クラス(Kruss)ＢＰ−２バブル圧力テンシオメータを用いて、例１〜５において調製した化合物について、０．１ｗｔ％及び１．０ｗｔ％のレベルで、動的表面張力データを決定した。これらの決定の結果を表４に示す。
【００８２】
【表２０】
2006117664.tif 000023
【００８３】
表４のデータは、広い範囲の動的表面張力の低減が可能であることを示し、この群の分子は水性溶液又は配合物の強（例２０，２４）、中（例２２、２３）又は低（例２１）表面張力低減のための異なる界面活性剤を提供する。湿潤化されるべき基材及び配合物の適用の様式によって（産業コーティングのブラシ塗布、産業クリーナーのスプレー塗布、接着剤のローラー塗布）、このような広い範囲の動的表面張力低減を提供する界面活性剤は有意な商業上の有用性を見出すことができる。
【００８４】
本発明は広い範囲の工業上及び商業上の用途における使用に適切な特性を有する新規の界面活性剤を提供する。このような用途は、水性コーティング、インク、接着剤、農薬配合物、水性及び非水性クリーニング組成物、パーソナルケア用途及びテキスタイル処理及びオイルフィールド用途のための配合物を含む。
【００８５】
本発明は特定の態様を参照して例示しそして説明してきたが、添付の特許請求の範囲は示された詳細に制限されることは意図されない。むしろ、当業者はこれらの詳細に種々の変更がなされることが期待され、その変更は請求された技術事項の精神及び範囲内にはいるであろう。そしてこれらの請求の範囲はそのように解釈されることが意図される。