(57)【要約】【課題】  耐刷性に優れ、印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料、並びにそれを与える支持体を提供すること。【解決手段】  アルミニウム板またはアルミニウム合金板に粗面化処理を施し、次いで陽極酸化処理を施して形成される感光性平版印刷版用支持体において、該粗面化処理の電解液が塩酸系電解液であり、平均粗さ（Ｒａ）が０．４０〜０．６５μｍ、ＪＩＳ  Ｂ０６７１−２によるＭｒ１が３．０〜６．０％、Ｍｒ２が８０〜８６％であることを特徴とする感光性平版印刷版用支持体。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム板またはアルミニウム合金板に粗面化処理を施し、次いで陽極酸化処理を施して形成される感光性平版印刷版用支持体において、該粗面化処理の電解液が塩酸系電解液であり、平均粗さ（Ｒａ）が０．４０〜０．６５μｍ、ＪＩＳ  Ｂ０６７１−２によるＭｒ１が３．０〜６．０％、Ｍｒ２が８０〜８６％であることを特徴とする感光性平版印刷版用支持体。
【請求項２】
請求項１に記載の感光性平版印刷版用支持体上に画像形成層を有することを特徴とする感光性平版印刷版材料。
【請求項３】
前記画像形成層が感熱画像形成層であることを特徴とする請求項２に記載の感光性平版印刷版材料。
【請求項４】
前記画像形成層が光重合型画像形成層であることを特徴とする請求項２に記載の感光性平版印刷版材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性平版印刷版材料、並びにそれを与える感光性平版印刷版用支持体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、オフセット印刷用の印刷版の作製技術において、画像のデジタルデータをレーザー光源で直接印刷版材料に記録するＣＴＰ（コンピューター・トゥー・プレート）システムが普及してきた。
【０００３】
またこれらのＣＴＰシステムに使用される印刷版材料として、特別な薬剤（例えば、アルカリ、酸、溶媒など）を含む処理液による現像処理を必要とせず、従来の印刷機に適用可能である印刷版材料が求められており、例えば、全く現像処理を必要としない相変化タイプの印刷版材料、水もしくは水を主体とした実質的に中性の処理液で処理をする印刷版材料、印刷機上で印刷の初期段階で現像処理を行い、特に現像工程を必要としない印刷版材料などのケミカルフリータイプ印刷版材料やプロセスレスタイプ印刷版材料と呼ばれる印刷版材料が知られている。
【０００４】
これらのプロセスレスタイプ印刷版材料としては、画像形成層の非画像部を印刷機上で除去する機上現像タイプの印刷版材料が知られており、これらの印刷版材料を用い、画像露光済みの印刷版材料に印刷機の湿し水供給ローラ、印刷インキ供給ローラから湿し水、印刷インキを供給して印刷機上で現像を行う製版方法が知られている（例えば、特許文献１、２参照。）。
【０００５】
また、機上現像タイプの印刷版材料としては、例えば、特許２９３８３９７号公報や特許２９３８３９８号公報に開示されているような、親水性層もしくはアルミ砂目上に熱可塑性微粒子、水溶性の結合剤、光熱変換素材を含有する感熱画像形成層を設けた印刷版材料、あるいは親水性層に光熱変換素材を含有させ、この光熱変換素材の発熱により画像を形成させる印刷版材料が知られている（例えば、特許文献３参照。）。
【０００６】
これらのうち、比較的高い耐刷力を要求される印刷の分野においては、アルミニウム板を支持体としてその上に画像記録層有する印刷版材料を用いることが知られている。
【０００７】
アルミニウム板としては、一般的に粗面化処理及び陽極酸化処理を施したものが使用されるが、多量の印刷を行う際に小点が損傷したり汚れが発生する場合があるなどの問題があった。これらの問題を改善する目的で、例えば、特開２０００−２５５１７７号公報に記載のアルミニウム板支持体を用いた印刷版材料として、アルミニウム砂目支持体表面にベーマイトからなる特定の平均高さを有する突起状物を生成し、その上に重合性組感光層を設けた印刷版材料が知られている。
【０００８】
また特定の粗面化処理を施し、陽極酸化処理した後、ポリビニルホスホン酸で親水化処理を施したアルミニウム支持体を用いた印刷版材料（例えば、特許文献４参照。）、アルミニウム支持体と感光層の間にポリビニルホスホン酸を含む中間層を設けた印刷版材料（例えば、特許文献５参照。）が知られている。
【０００９】
しかしながら、上記の印刷版材料においても多量の印刷を行う際、小点が損傷したり印刷時の汚れが発生する場合があり、耐刷性、汚れ防止性において充分ではなかった。
【特許文献１】特開平９−２１１８５２号公報
【特許文献２】特開２００２−２１９８８１号公報
【特許文献３】特開２００３−２３１３７４号公報
【特許文献４】特開２００２−１０３８３４号公報
【特許文献５】特開２００３−５７８３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、耐刷性に優れ、印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料、並びにそれを与える支持体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の目的は、下記の構成により達成される。
【００１２】
（請求項１）
アルミニウム板またはアルミニウム合金板に粗面化処理を施し、次いで陽極酸化処理を施して形成される感光性平版印刷版用支持体において、該粗面化処理の電解液が塩酸系電解液であり、平均粗さ（Ｒａ）が０．４０〜０．６５μｍ、ＪＩＳ  Ｂ０６７１−２によるＭｒ１が３．０〜６．０％、Ｍｒ２が８０〜８６％であることを特徴とする感光性平版印刷版用支持体。
【００１３】
（請求項２）
請求項１に記載の感光性平版印刷版用支持体上に画像形成層を有することを特徴とする感光性平版印刷版材料。
【００１４】
（請求項３）
前記画像形成層が感熱画像形成層であることを特徴とする請求項２に記載の感光性平版印刷版材料。
【００１５】
（請求項４）
前記画像形成層が光重合型画像形成層であることを特徴とする請求項２に記載の感光性平版印刷版材料。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、耐刷性に優れ、印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料、並びにそれを与える支持体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明において、感光性平版印刷版用支持体はアルミニウム板またはアルミニウム合金板に粗面化処理を施し、次いで陽極酸化処理を施し、次いで後処理を施して形成される感光性平版印刷版用支持体において、該粗面化処理の電解液が塩酸系電解液であり、平均粗さ（Ｒａ）が０．４０〜０．６５μｍ、ＪＩＳ  Ｂ０６７１−２によるＭｒ１が３．０〜６．０％、Ｍｒ２が８０〜８６％であることを特徴とする。
【００１８】
感光性平版印刷版材料の砂目の粗度の測定として、ＪＩＳＢ０６０１−２００１／ＩＳＯ４２８７−１９９７において、ベアリングカーブとしてさまざまなパラメータが定義されている。砂目の実験結果とこのうちの平均粗さ（Ｒａ）とＪＩＳ  Ｂ０６７１−２によるＭｒ１、Ｍｒ２を振ったサンプルを調べていくと３つのパラメータにより、印刷汚れと耐刷性に特異な範囲があることを本発明者は見出した。
【００１９】
即ち、砂目の平均粗さが０．４０μｍ以下だと耐刷性が劣化する。また０．６５μｍを超えると耐刷性が劣化する。本発明の感光性平版印刷版材料において、画像形成層の付着量は１．５〜１．８ｍｇ／ｍ2であり、粗度が大きくなると砂目の山が画像形成層を突き破っているものと推定しており、画像形成層と砂目の界面が印刷時にたたかれて耐刷性が劣化したものと推定している。またＭｒ１が大きくなると耐刷性が劣化することから、砂目の高い部分に山が多くなるためと推定している。Ｍｒ２が小さくなると深い谷が多く出来ていると思われ、この部分にインキが絡みやすく、印刷汚れが悪くなると推定している。そして、これら耐刷性とインキによる印刷汚れを満足するＲａとＭｒ１とＭｒ２の範囲を見出すに到った。
【００２０】
以下、図１においてＪＩＳ  Ｂ０６７１−２によるＭｒ１、Ｍｒ２を説明する。図１の左側に示す測定により得られる平滑化粗さ曲線より、右側に示す線形負荷曲線が得られる。この線形負荷曲線において、等価直線（６）を引き、その０％、１００％の点に対する線形負荷曲線上の点がそれぞれＭｒ１、Ｍｒ２を表す。
【００２１】
（感光性平版印刷版用支持体及び表面処理）
本発明の感光性平版印刷版用支持体は、純アルミニウム板またはアルミニウム合金板である。
【００２２】
アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられ、各種圧延方法により製造されたアルミニウム板が使用できる。また、近年普及しつつあるスクラップ材及びリサイクル材などの再生アルミニウム地金を圧延した再生アルミニウム板も使用できる。
【００２３】
本発明の感光性平版印刷版用支持体のアルミニウム板またはアルミニウム合金板は、粗面化（砂目立て処理）するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。また、脱脂処理には苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し、デスマット処理を施すことが好ましい。
【００２４】
次いで粗面化処理が施される。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。本発明では、塩酸を主体とする電解液中での交流電解粗面化処理が好ましいが、それに先立ち機械的粗面化処理及び硝酸を主体とする電解粗面化処理を施してもよい。
【００２５】
機械的粗面化方法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径０．２〜０．８ｍｍのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径１０〜１００μｍの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径１０〜１００μｍの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。また、例えば、支持体表面に粒径１０〜１００μｍの研磨剤粒子を、１００〜２００μｍの間隔で２．５×１０3〜１０×１０3個／ｃｍ2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。
【００２６】
上記の機械的粗面化法で粗面化した後は、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては０．５〜５ｇ／ｍ2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸等の酸あるいはそれらの混酸に浸漬し、中和処理を施すことが好ましい。
【００２７】
塩酸を主体とする電解液中での交流電解粗面化処理は塩酸濃度は５〜２０ｇ／Ｌであり、好ましくは６〜１５ｇ／Ｌである。電流密度は１５〜１２０Ａ／ｄｍ2であり、好ましくは２０〜９０Ａ／ｄｍ2である。電気量は４００〜２０００Ｃ／ｄｍ2であり、好ましくは５００〜１２００Ｃ／ｄｍ2である。周波数は４０〜１５０Ｈｚの範囲で行うことが好ましい。電解液の温度は１０〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液には必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、ホウ酸、酢酸、シュウ酸、アルミニウムイオン等を加えることができる。
【００２８】
上記の塩酸を主体とする電解液中で電解粗面化処理を施した後は、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、０．５〜２ｇ／ｍ2が好ましい。また、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【００２９】
得られる感光性平版印刷版用支持体の画像形成層側の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．４０〜０．６５μｍが好ましく、粗面化処理での塩酸濃度、電流密度、電気量の組み合わせで制御することができる。
【００３０】
粗面化処理の次には陽極酸化処理を行い、陽極酸化皮膜を形成する。本発明に係る陽極酸化処理の方法は、電解液として硫酸または硫酸を主体とする電解液を用いて行うのが好ましい。硫酸の濃度は５〜５０質量％が好ましく、１０〜３５質量％が特に好ましい。温度は１０〜５０℃が好ましい。処理電圧は１８Ｖ以上であることが好ましく、２０Ｖ以上であることが更に好ましい。電流密度は１〜３０Ａ／ｄｍ2が好ましい。電気量は２００〜６００Ｃ／ｄｍ2が好ましい。
【００３１】
形成される陽極酸化被覆量は２〜６ｇ／ｍ2が好ましく、好ましくは３〜５ｇ／ｍ2である。陽極酸化被覆量は、例えば、アルミニウム板を燐酸クロム酸溶液（燐酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロム（IV）：２０ｇを１Ｌの水に溶解して作製）に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。陽極酸化皮膜にはマイクロポアが生成されるが、マイクロポアの密度は４００〜７００個／μｍ2が好ましく、４００〜６００個／μｍ2が更に好ましい。
【００３２】
陽極酸化処理された支持体は必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。これらのうち、特に珪酸ソーダ処理を行うことが本発明の好ましい態様である。
【００３３】
ポリビニルホスホン酸を含む水溶液での処理は、ポリビニルホスホン酸を含む水溶液にアルミニウム板支持体の上記陽極酸化処理した面を接触させることである。ポリビニルホスホン酸はホスホン基を有するビニル重合体であり、数平均分子量が５０００〜４００００のものが好ましく用いられ。１００００〜２５０００のものが特に好ましい。上記ポリビニルホスホン酸の含有量としては、水溶液に対して０．０５〜０．６質量％の範囲で存在することが好ましい。更に、０．１〜０．４質量％の範囲で使用することがなお好ましい。
【００３４】
ポリビニルホスホン酸を含む水溶液での処理としては、塗布式、スプレー式、ディップ式等の方法が挙げられが、これらに限定されるものではない。この処理としては設備を安価にするにはディップ式が好適である。ディップ式の場合には、ポリビニルホスホン酸の０．１〜０．４質量％の水溶液で処理することが好ましい。また処理温度は２０〜９０℃、処理時間は１０〜１８０秒で行うのが好ましい。
【００３５】
ポリビニルホスホン酸を含む水溶液を支持体に接触させた後、過剰に積層したポリビニルホスホン酸を除去するためスキージ処理または水洗処理を行なってもよい。
【００３６】
これらの処理の後に１５０〜２３０℃で乾燥を行う。１５０〜２３０℃で乾燥を行うとは、支持体表面の温度がこの範囲であることをいう。表面温度は市販の非接触式表面温度計で測定することができる。乾燥時間は２〜６０秒が好ましく、特に５〜４０秒が好ましい。乾燥のための加熱方法は、熱風を用いる乾燥でも、石英ヒーター、遠赤外ヒーターを用いたものでもよい。
【００３７】
（画像形成層）
本発明に係る画像形成層は画像露光によって画像を形成し得る層であり、従来平版印刷版の画像形成層として用いられているネガ型、ポジ型どちらの画像形成層も用いることができる。本発明に係る画像形成層は、特に感熱画像形成層あるいは光重合型画像形成層である場合に本発明は有効である。
【００３８】
感熱画像形成層としては、レーザー露光により生じた熱を利用して画像形成可能な変化を生じるものが好ましく用いられる。
【００３９】
レーザー露光により生じた熱を利用する感熱画像形成層としては、例えば、酸により分解可能な物質を含むポジ型の感熱画像形成層、あるいは重合成分を含む感熱画像形成層や熱可塑性物質を含む感熱画像形成層などのネガ型の感熱画像形成層が好ましく用いられる。上記の酸により分解可能な物質を含むポジ型の画像形成層としては、例えば、特開平９−１７１２５４号公報に記載のレーザー露光により酸を発生する光酸発生剤と発生した酸により分解し、現像液への溶解性が増大する酸分解化合物及び赤外線吸収剤からなる画像形成層が挙げられる。
【００４０】
光酸発生剤としては各種の公知化合物及び混合物が挙げられる。例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＦ6-、ＳｉＦ62-、ＣｌＯ4-などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形成または分離する活性光線感光性成分であり、光酸発生剤として使用することができる。原理的には遊離基形成性の光開始剤として知られるすべての有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸を形成する化合物で光酸発生剤として使用することができる。前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物の例としては、米国特許第３，５１５，５５２号、同３，５３６，４８９号及び同３，７７９，７７８号及び西ドイツ国特許第２，２４３，６２１号の各明細書に記載されているものが挙げられ、また、例えば、西ドイツ国特許第２，６１０，８４２号明細書に記載の光分解により酸を発生させる化合物も使用することができる。また、特開昭５０−３６２０９号公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドを用いることができる。
【００４１】
光酸発生剤として、有機ハロゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感度及び画像形成材料の保存性の面から好ましい。該有機ハロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有するトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有するオキサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−トリアジン類が特に好ましい。
【００４２】
光酸発生剤の含有量は、その化学的性質及び画像形成層の組成あるいは物性によって広範囲に変えることができるが、画像形成層の固形分の全質量に対して、約０．１〜約２０質量％の範囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０質量％の範囲である。
【００４３】
酸分解化合物としては、具体的には特開昭４８−８９００３号、同５１−１２０７１４号、同５３−１３３４２９号、同５５−１２９９５号、同５５−１２６２３６号、同５６−１７３４５号の各公報等に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３７５４９号、同６０−１２１４４６号の各公報に記載されているＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３６２５号、同６０−１０２４７号の各公報に記載されているその他の酸分解化合物。更にまた特開昭６２−２２２２４６号公報に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化合物、特開昭６２−２５１７４３号公報に記載されている炭酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号公報に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭６２−２８０８４２号公報に記載されているオルトケイ酸エステル、特開昭６３−１０１５３号公報に記載されているアセタール及びケタール、特開昭６２−２４４０３８号公報に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物などが挙げられるが、これらのうち前記特開昭５３−１３３４２９号、同５６−１７３４５号、同６０−１２１４４６号、同６０−３７５４９号、同６３−１０１５３号の各公報に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。
【００４４】
酸分解化合物の含有量は、画像形成層を形成する組成物の全固形分に対し５〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは１０〜５０質量％である。酸分解化合物は１種を用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００４５】
この感熱画像形成層は、露光光を熱に変換する光熱変換材を含む態様が好ましい態様である。光熱変換材としては下記の光変換色素その他の光熱変換材が用いられる。
【００４６】
［光熱変換色素］
光熱変換色素としては下記のようなものを用いることができる。
【００４７】
一般的な赤外吸収色素であるシアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。具体的には、特開昭６３−１３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１−１６０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９３３４２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、同３−３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６０９３号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、同３−４２２８１号、同３−９７５８９号、同３−１０３４７６号の各公報等に記載の化合物が挙げられる。これらは１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４８】
また、特開平１１−２４０２７０号、同１１−２６５０６２号、特開２０００−３０９１７４号、同２００２−４９１４７号、同２００１−１６２９６５号、同２００２−１４４７５０号、同２００１−２１９６６７号の各公報に記載の化合物も好ましく用いることができる。
【００４９】
［その他の光熱変換材］
上記光熱変換色素に加えて、それ以外の光熱変換材を併用することも可能である。好ましく用いられる光熱変換材としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。
【００５０】
カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度（ｄ５０）は１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。グラファイトとしては粒径が０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を使用することができる。
【００５１】
金属としては粒径が０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子であればいずれの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等いずれの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子（Ａｇ、Ａｕ等）が好ましい。
【００５２】
金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材または素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。前者としては、黒色酸化鉄（Ｆｅ3Ｏ4）や２種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。後者としては、例えば、ＳｂをドープしたＳｎＯ2（ＡＴＯ）、Ｓｎを添加したＩｎ2Ｏ3（ＩＴＯ）、ＴｉＯ2、ＴｉＯ2を還元したＴｉＯ（酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック）などが挙げられる。また、これらの金属酸化物で芯材（ＢａＳＯ4、ＴｉＯ2、９Ａｌ2Ｏ3・２Ｂ2Ｏ、Ｋ2Ｏ・ｎＴｉＯ2等）を被覆したものも使用することができる。
【００５３】
これらの粒径は０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下である。
【００５４】
これらの光熱変換材のうち、２種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物がより好ましい素材として挙げられる。具体的には、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｂａから選ばれる二種以上の金属からなる複合金属酸化物である。これらは、特開平８−２７３９３号、同９−２５１２６号、同９−２３７５７０号、同９−２４１５２９号、同１０−２３１４４１号の各公報等に開示されている方法により製造することができる。
【００５５】
本発明に用いる複合金属酸化物としては、特にＣｕ−Ｃｒ−Ｍｎ系またはＣｕ−Ｆｅ−Ｍｎ系の複合金属酸化物であることが好ましい。Ｃｕ−Ｃｒ−Ｍｎ系の場合には、６価クロムの溶出を低減させるために、特開平８−２７３９３号公報に開示されている処理を施すことが好ましい。これらの複合金属酸化物は添加量に対する着色、つまり光熱変換効率が良好である。
【００５６】
これらの複合金属酸化物は平均１次粒子径が１μｍ以下であることが好ましく、平均１次粒子径が０．０１〜０．５μｍの範囲にあることがより好ましい。平均１次粒子径が１μｍ以下とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となり、平均１次粒子径が０．０１〜０．５μｍの範囲とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となる。但し、添加量に対する光熱変換能は粒子の分散度にも大きく影響を受け、分散が良好であるほど良好となる。
【００５７】
従って、これらの複合金属酸化物粒子は層の塗布液に添加する前に別途公知の方法により分散して、分散液（ペースト）としておくことが好ましい。平均１次粒子径が０．０１未満となると分散が困難となるため好ましくない。分散には適宜分散剤を使用することができる。分散剤の添加量は複合金属酸化物粒子に対して０．０１〜５質量％が好ましく、０．１〜２質量％がより好ましい。
【００５８】
この画像形成層は必要に応じ結着剤を適宜含んでもよい。また、ポジ型の画像形成層としてｏ−ナフトキノンジアジド化合物を含むものも好ましく利用できる。
【００５９】
上記の光熱変換材は画像形成層に含有されてもよいし、画像形成層に隣接する層を設けこの隣接層に含有されていてもよい。
【００６０】
上記の重合成分を含む感熱画像形成層としては、例えば（ａ）波長７００ｎｍから１３００ｎｍの範囲に吸収を有する光熱変換材、（ｂ）重合開始剤、（ｃ）重合可能な不飽和基含有化合物を含有する感熱画像形成層が挙げられる。
【００６１】
（（ａ）波長７００ｎｍから１３００ｎｍの範囲に吸収を有する光熱変換材）
波長７００ｎｍから１３００ｎｍの範囲に吸収をもつ光熱変換材としては、上記の赤外吸収剤などを用いることができ、好ましくはシアニン色素、スクアリリウム色素、オキソノール色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、ポリメチン色素、油溶性フタロシアニン色素、トリアリールアミン色素、チアゾリウム色素、オキサゾリウム色素、ポリアニリン色素、ポリピロール色素、ポリチオフェン色素が用いられる。
【００６２】
その他、カーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄粉、コロイド銀等の顔料類も好ましく用いることができる。吸光係数、光熱変換効率、価格等の観点から、染料類として特に好ましいのはシアニン色素であり、顔料類として特に好ましいのはカーボンブラックである。
【００６３】
波長７００ｎｍから１３００ｎｍの範囲に吸収をもつ光熱変換材の画像形成層中の添加量は、光熱変換材の吸光係数により異なるが、露光波長における平版印刷版材料の反射濃度が０．３〜３．０の範囲となる量を添加することが好ましい。更に好ましくは該濃度が０．５から２．０の範囲となる添加量とすることである。例えば、上記の好ましい具体例に挙げたシアニン色素の場合は、該濃度とするために１０〜１００ｍｇ／ｍ2程度となる量を画像形成層中に添加する。
【００６４】
これらの光熱変換材は上記と同様に画像形成層に含有させてもよいし、画像形成層に隣接する隣接層を設けこの隣接層に含有させてもよい。
【００６５】
（（ｂ）重合開始剤）
重合開始剤は、レーザー露光により重合可能な不飽和基を有する化合物の重合を開始し得る化合物であり、例えば、Ｊ．コーサー（Ｊ．Ｋｏｓａｒ）著「ライト・センシテイブ・システムズ」第５章に記載されるようなカルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素などが挙げられる。更に具体的な化合物は英国特許１，４５９，５６３号明細書に開示されている。
【００６６】
即ち、重合開始剤としては次のようなものを使用することができる。
【００６７】
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン−ｉ−プロピルエーテル、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体；ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；２−クロロチオキサントン、２−ｉ−プロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；２−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体；Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体；α，α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサントン、ウラニル化合物の他、特公昭５９−１２８１号、同６１−９６２１号、特開昭６０−６０１０４号の各公報記載のトリアジン誘導体；特開昭５９−１５０４号、同６１−２４３８０７号の各公報記載の有機過酸化物；特公昭４３−２３６８４号、同４４−６４１３号、同４４−６４１３号、同４７−１６０４号の各公報並びに米国特許３，５６７，４５３号明細書記載のジアゾニウム化合物；米国特許２，８４８，３２８号、同２，８５２，３７９号、同２，９４０，８５３号の各明細書記載の有機アジド化合物；特公昭３６−２２０６２号、同３７−１３１０９号、同３８−１８０１５号、同４５−９６１０号の各公報記載のｏ−キノンジアジド類；特公昭５５−３９１６２号、特開昭５９−１４０２３号の各公報並びに「マクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）」１０巻，１３０７頁（１９７７年）記載の各種オニウム化合物；特開昭５９−１４２２０５号公報記載のアゾ化合物；特開平１−５４４４０号公報、欧州特許第１０９，８５１号、同１２６，７１２号の各明細書並びに「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」３０巻，１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体；特開平５−２１３８６１号、同５−２５５３４７号の各公報記載の（オキソ）スルホニウム有機硼素錯体；特開昭５９−１５２３９６号、同６１−１５１１９７号の各公報記載のチタノセン類；「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｒｅｖｉｅｗ）」８４巻、８５〜２７７頁（１９８８年）並びに特開平２−１８２７０１号公報記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体；特開平３−２０９４７７号公報記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；四臭化炭素、特開昭５９−１０７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物等。
【００６８】
更に重合開始剤の例としては、特表２００２−５３７４１９号公報記載のラジカルを生成可能な化合物、特開２００１−１７５００６号、同２００２−２７８０５７号、同２００３−５３６３号の各公報記載の重合開始剤等を用いることができる他、特開２００３−７６０１０号公報記載の１分子中にカチオン部を二個以上有するオニウム塩、特開２００１−１３３９６６号公報記載のＮ−ニトロソアミン系化合物、特開２００１−３４３７４２号公報記載の熱によりラジカルを発生する化合物、特開２００２−６４８２号公報記載の熱により酸またはラジカルを発生する化合物、特開２００２−１１６５３９号公報記載のボレート化合物、特開２００２−１４８７９０号公報記載の熱により酸またはラジカルを発生する化合物、特開２００２−２０７２９３号公報記載の重合性の不飽和基を有する光または熱重合開始剤、特開２００２−２６８２１７号公報記載の２価以上のアニオンを対イオンとして有するオニウム塩、特開２００２−３２８４６５号公報記載の特定構造スルホニルスルホン化合物、特開２００２−３４１５１９号公報記載の熱によりラジカルを発生する化合物等の化合物も使用できる。
【００６９】
中でも好ましいものはオニウム塩化合物及びポリハロゲン化合物である。
【００７０】
オニウム塩化合物としては、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）等に記載のジアゾニウム塩；米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、同４，０２７，９９２号の各明細書等に記載のアンモニウム塩；Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎｅｔａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．ＣｕｒｉｎｇＡＳＩＡ，ｐ４７８Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の各明細書等に記載のホスホニウム塩；Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆ａｍｐ；；Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、同３３９，０４９号、同４１０，２０１号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、同２−２９６５１４号の各公報等に記載のヨードニウム塩；Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，ＰｏｌｙｍｅｒＪ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔｅｔａｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，ＰｏｌｙｍｅｒＢｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同３，９０２，１１４号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、ドイツ特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号の各明細書等に記載のスルホニウム塩；Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）等に記載のセレノニウム塩；Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎｅｔａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．ＣｕｒｉｎｇＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）等に記載のアルモニウム塩等が挙げられる。
【００７１】
以上挙げたオニウム塩のなかでも、ヨードニウム塩、スルフォニウム塩が特に好ましく用いられる。
【００７２】
スルホニウム塩の好ましい具体例としては、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、メチルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジメチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、４−ブトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−クロロフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリ（４−フェノキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４−エトキシフェニル）メチルスルホニウムヘキサフルオロアルゼネート、４−アセトニルフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−チオメトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（メトキシスルホニルフェニル）メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（ニトロフェニル）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（カルボメトキシフェニル）メチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトアミドフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフルオロメチルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ｐ−（フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、１０−メチルフェノキサチイニウムヘキサフルオロホスフェート、５−メチルチアントレニウムヘキサフルオロホスフェート、１０−フェニル−９，９−ジメチルチオキサンテニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを挙げることができる。
【００７３】
ヨードニウム塩の好ましい具体例としては、ジフェニルヨードニウムヨージド、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−クロロフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジ（４−クロロフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−トリフルオロメチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアゼネート、ジトリールヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４−メトキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４−メトキシフェニル）ヨードニウムクロリド、（４−メチルフェニル）フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジ（２，４−ジメチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、２，２′−ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリルクミルジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等を挙げることができる。
【００７４】
ポリハロゲン化合物はトリハロゲンメチル基、ジハロゲンメチル基またはジハロゲンメチレン基を有する化合物であり、特に下記一般式（１）で表されるハロゲン化合物及び上記基がオキサジアゾール環に置換した化合物が好ましく用いられる。この中でも、更に下記一般式（２）で表されるハロゲン化合物が特に好ましく用いられる。
【００７５】
一般式（１）    Ｒ1−ＣＹ2−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ2
式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノスルホニル基またはシアノ基を表す。Ｒ2は一価の置換基を表す。Ｒ1とＲ2が結合して環を形成しても構わない。Ｙはハロゲン原子を表す。
【００７６】
一般式（２）    ＣＹ3−（Ｃ＝Ｏ）−Ｘ−Ｒ3
式中、Ｒ3は一価の置換基を表す。Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ4−を表す。Ｒ4は水素原子、アルキル基を表す。Ｒ3とＲ4が結合して環を形成しても構わない。Ｙはハロゲン原子を表す。これらの中でも、特にポリハロゲンアセチルアミド基を有するものが好ましく用いられる。
【００７７】
またポリハロゲンメチル基がオキサジアゾール環に置換した化合物も好ましく用いられる。
【００７８】
重合開始剤の画像形成層中への添加量は特に制限はないが、好ましくは画像形成層の構成成分中０．１〜２０質量％の範囲が好ましい。更に好ましくは０．８〜１５質量％である。
【００７９】
（（ｃ）重合可能な不飽和基含有化合物）
重合可能な不飽和基含有化合物は分子内に重合可能な不飽和基を有する化合物であり、一般的なラジカル重合性のモノマー類、紫外線硬化樹脂に一般的に用いられる分子内に付加重合可能なエチレン性二重結合を複数有する多官能モノマー類や、多官能オリゴマー類を用いることができる。
【００８０】
これらの重合可能なエチレン性二重結合含有化合物に特に限定はないが、好ましいものとして、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、１，３−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、１，３−ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−ヒドロキシメチル−５−エチル−１，３−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の２官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げることができる。
【００８１】
また、プレポリマーも上記同様に使用することができる。プレポリマーは１種または２種以上を併用してもよいし、上述の単量体及び／またはオリゴマーと混合して用いてもよい。
【００８２】
プレポリマーとしては、例えば、アジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレンオキサイド、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，６−ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール等の多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに（メタ）アクリル酸を導入したポリエステルアクリレート類、例えば、ビスフェノールＡ・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸のようにエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類、例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、１，２−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したウレタンアクリレート、例えば、ポリシロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート等のシリコーン樹脂アクリレート類、その他、油変性アルキッド樹脂に（メタ）アクリロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類等のプレポリマーが挙げられる。
【００８３】
この画像形成層には、ホスファゼンモノマー、トリエチレングリコール、イソシアヌール酸ＥＯ（エチレンオキシド）変性ジアクリレート、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレタン変性アクリレート等の単量体及び該単量体から形成される構成単位を有する付加重合性のオリゴマー及びプレポリマーを含有することができる。
【００８４】
更に併用可能な化合物として、少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を含有する燐酸エステル化合物が挙げられる。該化合物は燐酸の水酸基の少なくとも一部がエステル化された化合物である。
【００８５】
その他に、特開昭５８−２１２９９４号、同６１−６６４９号、同６２−４６６８８号、同６２−４８５８９号、同６２−１７３２９５号、同６２−１８７０９２号、同６３−６７１８９号、特開平１−２４４８９１号の各公報等に記載の化合物などを挙げることができ、更に「１１２９０の化学商品」化学工業日報社、２８６〜２９４頁に記載の化合物、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」高分子刊行会、１１〜６５頁に記載の化合物なども本発明においては好適に用いることができる。これらの中で、分子内に２以上のアクリル基またはメタクリル基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に分子量が１０，０００以下、より好ましくは５，０００以下のものが好ましい。
【００８６】
また分子内に三級アミノ基を含有する付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体もを好ましく用いることができる。構造上の限定は特にないが、水酸基を有する三級アミン化合物をグリシジルメタクリレート、メタクリル酸クロリド、アクリル酸クロリド等で変性したものが好ましく用いられる。具体的には、特開平１−１６５６１３号、同１−２０３４１３号、同１−１９７２１３号の各公報記載の重合可能な化合物等が好ましく用いられる。
【００８７】
更に、本発明では分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、及び分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物も好ましく用いられる。特に３級アミノ基及びアミド結合を有する化合物が好ましく用いられる。
【００８８】
ここでいう分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコールとしては、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ−ｔｅｒｔ．−ブチルジエタノ−ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシエチル）アニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−２−ヒドロキシプロピルエチレンジアミン、ｐ−トリルジエタノ−ルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−２−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）アニリン、アリルジエタノールアミン、３−（ジメチルアミノ）−１，２−プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオ−ル、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−プロピル）アミノ−２，３−プロパンジオール、Ｎ，Ｎ−ジ（ｉｓｏ−プロピル）アミノ−２，３−プロパンジオール、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）−１，２−プロパンジオ−ル等が挙げられるが、これに限定されない。
【００８９】
ジイソシアネート化合物としては、ブタン−１，４−ジイソシアネート、ヘキサン−１，６−ジイソシアネート、２−メチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、オクタン−１，８−ジイソシアネート、１，３−ジイソシアナートメチル−シクロヘキサノン、２，２，４−トリメチルヘキサン−１，６−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，２−フェニレンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、トリレン−２，４−ジイソシアネート、トリレン−２，５−ジイソシアネート、トリレン−２，６−ジイソシアネート、１，３−ジ（イソシアナートメチル）ベンゼン、１，３−ビス（１−イソシアナート−１−メチルエチル）ベンゼン等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００９０】
分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピレン−１，３−ジメタクリレート、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート等が挙げられる。
【００９１】
これらの反応は通常のジオール化合物、ジイソシアネート化合物、ヒドロキシル基含有アクリレート化合物の反応で、ウレタンアクリレートを合成する方法と同様に行うことができる。
【００９２】
これらの分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、及び分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物において具体例を以下に示す。
【００９３】
Ｍ−１：トリエタノールアミン（１モル）、ヘキサン−１，６−ジイソシアネート（３モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３モル）の反応生成物
Ｍ−２：トリエタノールアミン（１モル）、イソホロンジイソシアネート（３モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート（３モル）の反応生成物
Ｍ−３：Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン（１モル）、１，３−ビス（１−イソシアナート−１−メチルエチル）ベンゼン（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート（２モル）の反応生成物
Ｍ−４：Ｎ−ｎ−ブチルジエタノ−ルアミン（１モル）、１，３−ジ（イソシアナートメチル）ベンゼン（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート（２モル）の反応生成物
Ｍ−５：Ｎ−メチルジエタノールアミン（１モル）、トリレン−２，４−ジイソシアネート（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１，３−ジメタクリレート（２モル）の反応生成物
Ｍ−６：トリエタノールアミン（１モル）、１，３−ビス（１−イソシアナート−１−メチルエチル）ベンゼン（３モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３モル）の反応生成物
Ｍ−７：エチレンジアミンテトラエタノール（１モル）、１，３−ビス（１−イソシアナート−１−メチルエチル）ベンゼン（４モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（４モル）の反応生成物
この他にも、特開平１−１０５２３８号、同２−１２７４０４号の各公報記載のアクリレートまたはアルキルアクリレートが用いることができる。
【００９４】
重合可能な不飽和基含有化合物の添加量は、画像形成層層に対して５〜８０質量％が好ましく、１５〜６０質量％であることがより好ましい。
【００９５】
上記の重合成分を含む感熱画像形成層は、アルカリ可溶性高分子化合物を含むことが好ましい。
【００９６】
アルカリ可溶性高分子化合物は酸価を有する高分子化合物であり、具体的には以下の様な各種の構造を有する共重合体を好適に使用することができる。
【００９７】
上記共重合体として、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、その他の天然樹脂等が使用できる。これらを２種以上併用しても構わない。
【００９８】
これらのうちカルボキシル基、水酸基を有するポリマーが好ましく用いられ、特にカルボキシル基を有するポリマーが好ましく用いられる。
【００９９】
これらのうちアクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合が好ましく用いられる。更に共重合組成として、（ａ）カルボキシル基含有モノマー、（ｂ）メタクリル酸アルキルエステル、またはアクリル酸アルキルエステルの共重合体であることが好ましい。
【０１００】
カルボキシル基含有モノマーの具体例としては、α，β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。その他、フタル酸と２−ヒドロキシメタクリレートのハーフエステル等のカルボン酸も好ましい。
【０１０１】
メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル等の無置換アルキルエステルの他、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル等の環状アルキルエステルや、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等の置換アルキルエステルも挙げられる。
【０１０２】
更に他の共重合モノマーとして、下記１）〜１４）に記載のモノマー等を用いたものも使用できる。
【０１０３】
１）芳香族水酸基を有するモノマー、例えば、ｏ−（またはｐ−、ｍ−）ヒドロキシスチレン、ｏ−（またはｐ−、ｍ−）ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【０１０４】
２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【０１０５】
３）アミノスルホニル基を有するモノマー、例えば、ｍ−（またはｐ−）アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−（またはｐ−）アミノスルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等。
【０１０６】
４）スルホンアミド基を有するモノマー、例えば、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド等。
【０１０７】
５）アクリルアミドまたはメタクリルアミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ニトロフェニル）アクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
【０１０８】
６）弗化アルキル基を含有するモノマー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
【０１０９】
７）ビニルエーテル類、例えば、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。
【０１１０】
８）ビニルエステル類、例えば、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
【０１１１】
９）スチレン類、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【０１１２】
１０）ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
【０１１３】
１１）オレフィン類、例えば、エチレン、プロピレン、ｉ−ブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
【０１１４】
１２）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【０１１５】
１３）シアノ基を有するモノマー、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノエチルアクリレート、ｏ−（またはｍ−、ｐ−）シアノスチレン等。
【０１１６】
１４）アミノ基を有するモノマー、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ｉ−プロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。
【０１１７】
更に、これらのモノマーと共重合し得る他のモノマーを共重合してもよい。また、上記ビニル系共重合体の分子内に存在するカルボキシル基に、分子内に（メタ）アクリロイル基とエポキシ基を有する化合物を付加反応させることによって得られる、不飽和結合含有ビニル系共重合体も好ましく用いられる。
【０１１８】
分子内に不飽和結合とエポキシ基を共に含有する化合物としては、具体的にはグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、特開平１１−２７１９６９号公報に記載のあるエポキシ基含有不飽和化合物等が挙げられる。
【０１１９】
これらのアルカリ可溶性高分子化合物の中でも、酸価が３０〜２００の化合物が好ましく、このうち特に質量平均分子量が１５，０００〜５００，０００であるものが、更に好ましい。
【０１２０】
これらのうち重合可能な不飽和基を有するものが好ましく、特に重合可能な不飽和基を有する単位の割合が、高分子化合物全体の繰り返し単位に対して５〜５０％であるものが好ましい。
【０１２１】
重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性高分子化合物は、公知の方法を制限なく使用できる。例えば、カルボキシル基にグリシジル基を反応させる方法、水酸基にイソシアネート基を反応させる方法等を挙げることができる。
【０１２２】
具体的には、カルボキシル基を有するモノマー単位を有する共重合体に、例えば、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマール酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、または３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ基、不飽和基含有化合物を、該カルボキシル基と反応させることにより得られた反応生成物である。本発明においては、該カルボキシル基とエポキシ基、不飽和基含有化合物が反応したモル％をユニット比率とし、感度、耐刷性の面で反応した単位が５〜５０モル％であることが好ましく、特に好ましくは１０〜３０モル％である。
【０１２３】
カルボキシル基を有するモノマー単位を有する共重合体とエポキシ基、不飽和基含有化合物との反応は、例えば、８０〜１２０℃程度の温度、１〜５０時間程度で反応させることができる。該反応生成物の合成方法としては、一般的に知られた重合方法にて合成することができ、例えば、「高分子合成実験法」東京化学同人、Ｗ．Ｒ．Ｓｏｒｅｎｓｏｎ、Ｔ．Ｗ．Ｃａｍｐｂｅｌｌ共著等の文献や特開平１０−３１５５９８号、同１１−２７１９６３号の各公報等に記載された方法等及びこれに準じて合成することができる。
【０１２４】
アルカリ可溶性高分子化合物の添加量は、画像形成層に対して１０〜９０質量％が好ましく、１５〜７０質量％であることがより好ましい。特に好ましくは２０〜５０質量％である。
【０１２５】
また、上記カルボキシル基を有するモノマー単位を有する共重合体として、下記（１）〜（１７）のモノマーの少なくとも１種を構成要素として有する共重合体が挙げられる。
【０１２６】
（１）芳香族水酸基を有するモノマー
（２）脂肪族水酸基を有するモノマー
（３）アミノスルホニル基を有するモノマー
（４）スルホンアミド基を有するモノマー
（５）α，β−不飽和カルボン酸類
（６）置換または無置換のアルキルアクリレート
（７）置換または無置換のアルキルメタクリレート
（８）アクリルアミドまたはメタクリルアミド類
（９）弗化アルキル基を含有するモノマー
（１０）ビニルエーテル類
（１１）ビニルエステル類
（１２）スチレン類
（１３）ビニルケトン類
（１４）オレフィン類
（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン等
（１６）シアノ基を有するモノマー
（１７）アミノ基を有するモノマー。
【０１２７】
具体的な化合物としては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、１，３−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、１，３−ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル；例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−ヒドロキシメチル−５−エチル−１，３−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の２官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル；例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、及びこれらのＥＯ変性体、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げることができる。
【０１２８】
（高分子結合材）
上記の感熱画像形成層は更に高分子結合材を含有することができる。
【０１２９】
高分子結合材としては、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、その他の天然樹脂等が使用できる。またこれらを２種以上併用しても構わない。
【０１３０】
（重合禁止剤）
上記の感熱画像形成層は重合禁止剤を必要に応じ含有することができる。
【０１３１】
重合禁止剤としては、例えば、塩基定数（ｐＫｂ）が７〜１４であるピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物等が挙がられる。重合禁止剤の添加量は重合可能な不飽和基含有化合物に対して、約０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％が特に好ましく、更に０．１〜５質量％が好ましい。
【０１３２】
上記感熱画像形成層には、上記した重合禁止剤の他に他の重合禁止剤を添加してもよい。他の重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート等が挙げられる。
【０１３３】
また、上記感熱画像形成層には着色剤も使用することができ、着色剤としては市販のものを含め従来公知のものが好適に使用できる。例えば、改訂新版「顔料便覧」、日本顔料技術協会編（誠文堂新光社）、カラーインデックス便覧等に述べられているものが挙げられる。
【０１３４】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的には、無機顔料（二酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄、並びに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等）及び有機顔料（アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等）が挙げられる。
【０１３５】
これらの中でも、使用する露光レーザーに対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場合、使用するレーザー波長での積分球を用いた顔料の反射吸収が０．０５以下であることが好ましい。また顔料の添加量としては、上記組成物の固形分に対し０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．２〜５質量％である。
【０１３６】
本発明に係る上記光重合型画像形成層は、重合開始剤、重合可能な不飽和基含有化合物を含有する画像形成層であり、上記の重合成分を含む感熱画像形成層に用いられる重合開始剤、重合可能な不飽和基含有化合物と同様のものを用いることができる。
。
【０１３７】
光重合型画像形成層に用いられる光重合開始剤としては、チタノセン化合物、モノアルキルトリアリールボレート化合物、鉄アレーン錯体化合物、トリハロアルキル化合物など好ましく用いられる。
【０１３８】
チタノセン化合物としては、特開昭６３−４１４８３号、特開平２−２９１号の各公報に記載される化合物等が挙げられるが、更に好ましい具体例としては、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ジ−クロライド、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−フェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７２７Ｌ：チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７８４：チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，４，６−トリフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウムビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，４，６−トリフルオロ−３−（２−５−ジメチルピリ−１−イル）フェニル）チタニウム等が挙げられる。
【０１３９】
モノアルキルトリアリールボレート化合物としては、特開昭６２−１５０２４２号、同６２−１４３０４４号の各公報に記載される化合物等挙げられるが、更に好ましい具体例としては、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルートリナフタレン−１−イル−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルートリフェニル−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルートリ−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ヘキシルートリ−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムｎ−ヘキシルートリ−（３−フルオロフェニル）−ボレート等が挙げられる。
【０１４０】
鉄アレーン錯体化合物としては、特開昭５９−２１９３０７号公報に記載される化合物等挙げられるが、更に好ましい具体例としては、η−ベンゼン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−クメン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−フルオレン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−ナフタレン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−キシレン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−ベンゼン−（η−シクロペンタジエニル）鉄テトラフルオロボレート等が挙げられる。
【０１４１】
トリハロアルキル化合物としては、上記のトリハロアルキル化合物を使用することができる。
【０１４２】
その他に、前記と同様に任意の光重合開始剤の併用が可能である。
【０１４３】
重合開始剤としては、例えば、特開平８−１２９２５８号公報のＢ−１からＢ−２２のクマリン誘導体、特開２００３−２１９０１号公報のＤ−１からＤ−３２のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０６号公報の１から２１のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０７号公報の１から４０のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０８号公報の１から３４のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０９号公報の１から５６のクマリン誘導体等も好ましく使用可能である。
【０１４４】
光重合型画像形成層は、高分子結合剤として前記の高分子結合材を含むことができる。
【０１４５】
（各種添加剤）
本発明に用いられる光重合型画像形成層には、上記した成分の他に感光性平版印刷版材料の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合単量体の不要な重合を阻止するために、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物及びその他の重合防止剤を添加してもよい。
【０１４６】
ヒンダードフェノール系化合物の例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３′−ビス−（４′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート等が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリレート基を有する２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレートの等が挙げられる。
【０１４７】
ヒンダードアミン系化合物の例としては、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルー４−ピペリジル）セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【０１４８】
その他の重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第１セリウム塩、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体等のヒンダードアミン類等が挙げられる。
【０１４９】
重合防止剤の添加量は、上記組成物の全固形分の質量に対して約０．０１〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で光重合性感光性層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５〜約１０％が好ましい。
【０１５０】
本発明に用いられる光重合型画像形成層には、上記した成分の他に上記と同様に着色剤も使用することができる。
【０１５１】
（塗布）
本発明に係る画像形成層用の塗布液を調製する際に使用する溶剤としては、例えば、アルコール類：ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ヘキサノール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，５−ペンタンジオール等；エーテル類：プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等；ケトン類、アルデヒド類：ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等；エステル類：乳酸エチル、乳酸ブチル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル等；が好ましく挙げられる。
【０１５２】
調製された塗布組成物（画像形成層塗布液）は、従来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、光重合性感光性平版印刷版材料を作製することができる。塗布液の塗布方法としては、例えば、エアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることができる。
【０１５３】
画像形成層の乾燥温度は６０〜１６０℃の範囲が好ましく、より好ましくは８０〜１４０℃、特に好ましくは９０〜１２０℃の範囲である。
【０１５４】
（保護層）
本発明に係る画像形成層層の上側には、保護層を設けることが好ましい。保護層（酸素遮断層）は現像液（一般にはアルカリ水溶液）への溶解性が高いことが好ましい。
【０１５５】
保護層を構成する素材として好ましくは、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド等が挙げられる。これらの化合物を単独または２種以上併用し保護層塗布組成物とし用いることができる。特に好ましい化合物としてはポリビニルアルコールが挙げられる。
【０１５６】
保護層塗布組成物を調製するには、上記の素材を適当な溶剤に溶解して塗布液とすることができ、この塗布液を本発明に係る光重合性画像形成層上に塗布し、乾燥して保護層を形成することができる。保護層の厚みは０．１〜５．０μｍが好ましく、特に好ましくは０．５〜３．０μｍである。保護層には更に必要に応じて界面活性剤、マット剤等を含有することができる。
【０１５７】
保護層の塗布方法としても、上記画像形成層の塗布において挙げた公知の塗布方法を好適に用いることができる。保護層の乾燥温度は、画像形成層の乾燥温度よりも低い方が好ましく、好ましくは画像形成層乾燥温度との差が１０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、上限はせいぜい５０℃程度である。
【０１５８】
また、保護層の乾燥温度が画像形成層が含有するバインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）より低いことが好ましい。保護層の乾燥温度と画像形成層が含有するバインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）の差は２０℃以上であることが好ましく、より好ましくは４０℃以上であり、上限はせいぜい６０℃程度である。
【０１５９】
（製版−印刷）
本発明の感光性平版印刷版材料は、画像露光により画像形成され必要に応じ現像処理を施されて印刷に供される。
【０１６０】
画像露光の光源としては、例えば、レーザー、発光ダイオード、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を挙げることができる。
【０１６１】
一括露光する場合には、光重合性画像形成層上に所望の露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマスク材料を重ね合わせ、露光すればよい。
【０１６２】
発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ等の光源を液晶、ＰＬＺＴ等の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ましい。この場合は、マスク材料を使用せず直接書込みを行うことができる。
【０１６３】
レーザー露光の場合には、光をビーム状に絞り画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク材料を使用せず直接書込みを行うのに適している。またレーザーを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。
【０１６４】
レーザーの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査ではドラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側から照射し、光学系の一部または全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の一部または全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとｆθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円筒内面走査の方が光学系の精度を高め易く、高密度記録には適している。
【０１６５】
現像処理が必要な場合には、自動現像機を用いて感光性平版印刷版材料を現像処理する方法が態様である。
【０１６６】
印刷は一般的な平版印刷機を用いて行うことができる。
【０１６７】
近年印刷業界においても環境保全が叫ばれ、印刷インキにおいては石油系の揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を使用しないインキが開発されその普及が進みつつあるが、本発明の効果はこのような環境対応の印刷インキを使用した場合に特に顕著である。環境対応の印刷インキとしては、大日本インキ化学工業社製の大豆油インキ“ナチュラリス１００”、東洋インキ社製のＶＯＣゼロインキ“ＴＫハイエコーＮＶ”、東京インキ社製のプロセスインキ“ソイセルボ”等が挙げられる。
【実施例】
【０１６８】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。なお、実施例における「部」は特に断りのない限り「質量部」を指す。
【０１６９】
実施例１
〔感光性平版印刷版用支持体の作製〕
（支持体−１）
０．３０ｍｍ厚、ＪＩＳ  １０５０のアルミニウム版を、脱脂処理として５％水酸化ナトリウム水溶液中、５０℃、１０秒間浸漬し、その後水洗した。表面のアルカリ除去と脱脂によってできた水酸化アルミニウムスマットを、１０％硝酸水溶液中、２５℃で１０秒間浸漬処理した後、水洗した。このアルミニウム版の電解粗面化を行った。その条件は塩酸１０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム８／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ｂにて電流密度８０Ａ／ｄｍ2で１０秒間電解粗面化を行った。その後デスマット処理として、１％水酸化ナトリウム水溶液中で２０℃、１０秒間処理し、更に１０％硝酸水溶液中、２５℃で１０秒間浸漬して中和した後、水洗した。
【０１７０】
次いで陽極酸化処理として、２０％硫酸水溶液中で２５℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2、４０秒間陽極酸化処理を施し、陽極酸化膜皮膜質量が２．５ｇ／ｍ2を得た。引き続いて水洗した。続いて親水化後処理として、７０℃でポリビニルホスホン酸の０．２％水溶液中に３０秒間浸漬し水洗した。この基板は乾燥温度１５０℃にて５０秒間乾燥して、感光性平版印刷版用支持体として使用した。
【０１７１】
（支持体−２）
上記の電解粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１７２】
電解粗面化処理：塩酸１０ｇ／Ｌ、酢酸１０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム８／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ａにて電流密度８０Ａ／ｄｍ2で１秒通電し、１秒休止時間を取って１０回通電で１０秒間電解粗面化を行った。
【０１７３】
（支持体−３）
支持体−１の電解粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１７４】
電解粗面化処理：塩酸１０ｇ／Ｌ、酢酸２０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム２／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ｂにて電流密度８０Ａ／ｄｍ2で１０秒間通電し、電解粗面化を行った。
【０１７５】
（支持体−４）
支持体−１の電界粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１７６】
電解粗面化処理：塩酸１０ｇ／Ｌ、酢酸１０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム８／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ａにて電流密度８０Ａ／ｄｍ2で１秒通電し、１秒休止時間を取って１２回繰り返し電解粗面化を行った。
【０１７７】
（支持体−５）
支持体−１の電解粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１７８】
電解粗面化処理：塩酸１０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム２／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流波形Ａにて電流密度３０Ａ／ｄｍ2で３０秒間通電し、電解粗面化を行った。
【０１７９】
（支持体−６）
支持体−１の電解粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１８０】
電解粗面化処理：塩酸１０ｇ／Ｌ、酢酸１０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム２／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ｃにて電流密度８０Ａ／ｄｍ2で１０秒間通電し、電解粗面化を行った。
【０１８１】
（支持体−７）
支持体−１の電解粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１８２】
電解粗面化処理：塩酸７ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム２／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ａにて電流密度４０Ａ／ｄｍ2で２５秒間通電し、電解粗面化を行った。
【０１８３】
（支持体−８）
支持体−１の電解粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１８４】
電解粗面化処理：塩酸１６ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム２／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ａにて電流密度８０Ａ／ｄｍ2で８秒間通電し、電解粗面化を行った。
【０１８５】
（支持体−９）
支持体−１の電解粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１８６】
電解粗面化処理：塩酸１０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム８／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ａにて電流密度８０Ａ／ｄｍ2で１４秒間通電し、電解粗面化を行った。
【０１８７】
（支持体−１０）
支持体−１の電解粗面化の条件を下記のように行った以外は、支持体−１と同じ処理を行った。
【０１８８】
電解粗面化処理：塩酸１０ｇ／Ｌ、酢酸３０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム８／Ｌの水溶液中で、温度３０℃、交流の電流波形Ａにて電流密度８０Ａ／ｄｍ2で１０秒間通電し、電解粗面化を行った。
【０１８９】
《粗度の測定》
小坂研究所製ＳＥ１７００α、スタイラス先端径２μｍを用いた。測定条件は走査速度０．１０ｍｍ／秒、カットオフ値（λｃ）０．８ｍｍ、走査長さ４ｍｍで行った。解析方法はＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１に準じた。
【０１９０】
〔感光性平版印刷版材料（赤外線レーザー用）の作製〕
（画像形成層Ａ塗布液）
ノボラック樹脂（下記）                                          ８．０部
ケタール化合物（下記）                                          ２．０部
１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−メチル−ｓ−トリアジン    ０．１部
赤外線吸収色素（下記）                                          ０．１部
シアノ基含有樹脂（下記）                                        １．０部
２−ブタノン                                                  ５４．０部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                        ３６．０部
ノボラック樹脂：ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、フェノール（６０／３５／５）混合物のホルムアルデヒド縮合体（Ｍｗ＝４０００）
シアノ基含有樹脂：メタクリロニトリル、４−ヒドロキシフェニルマレイミド、メチルメタクリレートの３０：２０：５０共重合体（Ｍｗ＝２０，０００）
【０１９１】
【化１】
2006327068.tif 000002
【０１９２】
上記表面処理済み支持体上（支持体−１〜支持体−１０）に、上記組成の画像形成層Ａ塗布液を乾燥時１．８ｇ／ｍ2になるようワイヤーバーで塗布し、９５℃で１．５分間乾燥し、表１記載の感光性平版印刷版材料（実施例１〜４、比較例１〜６）を作製した。
【０１９３】
〔露光、現像〕
得られた感光性平版印刷版材料を赤外線レーザーで画像状に走査露光し、Ａ珪酸カリウム２００ｇ／Ｌ、ＫＯＨ４０ｇ／Ｌの現像液で３０℃、２０秒間撹拌浸漬し、露光部を溶出することにより現像を行った。その際、露光部が完全に溶出するのに必要なエネルギー量は、１２５ｍＪ／ｃｍ2であった。またこの際、画線部に相当する未露光部は現像処理によって溶解されることがなく、明瞭な画像が得られた。
【０１９４】
〔感光性平版印刷版材料（光重合型）の作製〕
（画像形成層Ｂ塗布液）
高分子結合剤Ｂ（下記）                                        ４０．０部
増感色素（下記）                                                ３．０部
光重合開始剤（下記）                                            ４．０部
付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合含有単量体（下記）      ４０．０部
ＮＫエステル４Ｇ（新中村化学社製ポリエチレングリコールジメタクリレート）
１５．０部
ヒンダードアミン系化合物（ＬＳ−７７０：三共社製）              ２．５部
トリハロアルキル化合物（下記）                                  ５．０部
フタロシアニン顔料（ＭＨＩ４５４：御国色素社製）                ６．０部
弗素系界面活性剤（Ｆ１７８Ｋ：大日本インキ化学工業社製）        ０．５部
メチルエチルケトン                                                ８０部
シクロヘキサノン                                                ８２０部
（高分子結合材Ｂの合成）
窒素気流下の三ツ口フラスコにメチルメタクリレート（１２５部：１．２５モル）、エチルメタクリレート（１２部：０．１０モル）、メタクリル酸（６３部：０．７３モル）、シクロヘキサノン（２４０部）、イソプロピルアルコール（１６０部）及びα，α′−アゾビスイソブチロニトリル（５部）を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させて高分子重合体を得た。その後、該重合体にトリエチルベンジルアンモニウムクロライド４部及びグリシジルメタクリレート（５２部：０．７３モル）を加えて、温度２５℃で３時間反応させて高分子結合剤Ｂを得た。重量平均分子量は約５５，０００（ＧＰＣ：ポリスチレン換算）であった。
【０１９５】
【化２】
2006327068.tif 000003
【０１９６】
（保護層塗布液）
ポリビニルアルコール（ＧＬ−０５：日本合成化学社製）              ８９部
水溶性ポリアミド（Ｐ−７０：東レ社製）                            １０部
界面活性剤（サーフィノール４６５：日信化学工業社製）            ０．５部
水                                                              ９００部
上記表面処理済み支持体上（支持体−１〜支持体−１０）に、上記組成の画像形成層Ｂ塗布液を乾燥時１．８ｇ／ｍ2になるようワイヤーバーで塗布し、９５℃で１．５分間乾燥した。その後、更に該画像形成層上に上記組成の保護層塗布液を乾燥時２．０ｇ／ｍ2になるようにアプリケーターで塗布し、７５℃で１．５分間乾燥して、画像形成層上に保護層を有する感光性平版印刷版材料（実施例５〜８、比較例７〜１２）を作製した。
【０１９７】
〔露光、現像〕
このようにして作製した光重合型の感光性平版印刷版材料について、ＦＤ−ＹＡＧレーザー光源を搭載したＣＴＰ露光装置（Ｔｉｇｅｒｃａｔ：ＥＣＲＭ社製）を用いて２４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）の解像度で画像露光を行った。
【０１９８】
次いで、現像前に加熱装置部、保護層を除去する前水洗部、下記現像液組成を充填した現像部、版面に付着した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム液（ＧＷ−３：三菱化学社製を２倍希釈したもの）を備えたＣＴＰ自動現像機（ＰＨＷ２３−Ｖ：Ｔｅｃｈｎｉｇｒａｐｈ社製）で現像処理を行い、感光性平版印刷版を得た。このとき加熱装置部は版面温度１１５℃、版滞在時間１５秒となるように設定した。また露光終了から自現機の加熱装置部への版挿入は６０秒以内に行った。
【０１９９】
（現像液）
珪酸カリウム水溶液（ＳｉＯ2：２６％、Ｋ2Ｏ：１３．５％）  ４０．０ｇ／Ｌ
水酸化カリウム                                              ４．０ｇ／Ｌ
エチレンジアミンテトラ酢酸                                  ０．５ｇ／Ｌ
ポリオキシエチレン（１３）ナフチルエーテルスルホン酸塩    ２０．０ｇ／Ｌ
水にて１Ｌとした。ｐＨは１２．３であった。
【０２００】
〔評価〕
《印刷汚れ性》
刷版された平版印刷版を、印刷機（ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１：三菱重工業製）でコート紙、印刷インキ（プロセスインキ：ＴＯＫＡハイエコー、大豆油インキ：ナチュラリス１００：大日本インキ化学工業社製）及び湿し水（Ｈ液ＳＧ−５１、濃度１．５％：東京インク社製）を用いて印刷を行った。１万枚印刷後にブランケットを拭き、続けて印刷を行い、印刷物が汚れるまでの印刷枚数を確認した。
【０２０１】
《耐刷性》
刷版された平版印刷版を、印刷機（ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１：三菱重工業製）で上質紙、印刷インキ（プロセスインキ：ハイエコー紅：ＴＯＫＡ製）及び湿し水（Ｈ液ＳＧ−５１、濃度１．５％：東京インク社製）を用いて印刷を行った。１７５ＬＰＩ（ＬＰＩとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりの線数を表す）で５％の小点を観察し、点が約１０％なくなった時点を耐刷性の終点とした。
【０２０２】
【表１】
2006327068.tif 000004
【０２０３】
表１より、本発明の感光性平版印刷版材料である実施例１〜８は、比較例１〜１２に比し耐刷性に優れ、印刷時の汚れ防止性に優れていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０２０４】
【図１】線形負荷曲線におけるＭｒ１、Ｍｒ２を示す図である。
【図２】電流波形Ａ、Ｂ、Ｃを示す図である。
【符号の説明】
【０２０５】
１  平滑化粗さ曲線
２  線形負荷曲線
３  突出山部
４  コア部
５  突出谷部
６  等価直線
【図１】
2006327068.tif 000005
【図２】
2006327068.tif 000006