(57)【要約】【課題】  簡単な作業でペリクル膜及び仮枠を成膜基板から確実に剥離させる大型ペリクル用剥離装置を提供すること。【解決手段】  少なくとも一辺が７００ｍｍ以上である大型のペリクル膜を形成するための成膜基板を載置する載置台と、前記載置台上に位置決めされた成膜基板に対して粘着固定される仮枠に当接し該仮枠を連続的に上昇させる上昇機構と、を有することを特徴とする大型ペリクル用剥離装置。【選択図】  図１
2006133305.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一辺が７００ｍｍ以上である大型のペリクル膜を形成するための成膜基板を載置する載置台と、
前記載置台上に位置決めされた成膜基板に対して粘着固定される仮枠に当接し該仮枠を連続的に上昇させる上昇機構と、を有することを特徴とする大型ペリクル用剥離装置。
【請求項２】
前記仮枠が、剥離動作が開始される剥離開始辺と、剥離動作を終了する剥離最終辺と、を有し、
前記上昇機構は、前記剥離開始辺を上昇させるように配置されることを特徴とする請求項１に記載の大型ペリクル用剥離装置。
【請求項３】
前記仮枠は、剥離動作が開始される剥離開始辺と、剥離動作を終了する剥離最終辺と、を有し、
前記上昇機構は、前記剥離最終辺を上昇させるように配置されることを特徴とする請求項１に記載の大型ペリクル用剥離装置。
【請求項４】
前記仮枠は、剥離動作が開始される剥離開始辺と、剥離動作を終了する剥離最終辺と、を有し、
前記上昇機構は、前記剥離開始辺及び前記剥離最終辺を上昇させるように配置されることを特徴とする請求項１に記載の大型ペリクル用剥離装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は大型ペリクル用剥離装置に係り、詳しくは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を構成する薄膜トランジスター（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）を製造する際に用いられるフォトマスクに、異物が付着することを防止するために使用されるペリクルを製造する際に用いられる大型ペリクル用剥離装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
（ペリクル）
従来、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を構成する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）を製造する際に、リソグラフ工程で使用されるフォトマスクに異物が付着することを防止するため、ペリクルと称する防塵手段が用いられている。ＬＣＤを構成するＴＦＴを製造する際のリソグラフ工程において、フォトマスクにペリクルを載置して、該フォトマスクへの異物の付着を防止する。
【０００３】
フォトマスクの表面に異物が付着した場合、その異物が液晶パネル上に形成されたフォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因となる。ここで、フォトマスクにペリクルを載置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォーカス位置のずれによって液晶パネル上に形成されたフォトレジスト上に結像することがない。このように、ペリクルを使用することで、回路パターンに欠陥が生じさせないようにすることができる。ここで、特にペリクルの面積が１，０００ｃｍ２以上のものを大型ペリクルと称する（例えば、特許文献１乃至５参照）。
【０００４】
（大型ペリクルの製法）
ここで、大型ペリクルを製造する従来の一例を説明する。図５は、従来の大型ペリクルの製作方法を説明する断面図である。
【０００５】
図５（ａ）に示すように、大型ペリクル用成膜基板101の表面のガラス板102に対して、特に指定はないが、ニトロセルロースやセルロース誘導体或いはサイトップ（旭硝子株式会社製、商標）、テフロンＡＦ（デュポン株式会社製、商標）等の非晶質フッ素ポリマーを溶媒に溶かした膜材料溶液104ａを溶媒ノズル105より滴下する。
【０００６】
また、成膜法としてはスピンコート法やスリットコート法を用いることができる。スピンコート法では、膜材料溶液104ａの滴下と同時に、大型ペリクル用成膜基板101をスピンコータ等を用いて回転軸106を中心に回転させながら、大型ペリクル用成膜基板101の表面に膜材料溶液104ａを均一に塗布する。これにより乾燥前のペリクル膜104が成膜基板101上にできる。膜材料溶液104ａを均一に塗布された基板101をホットプレート等で乾燥し、溶媒を蒸発させることにより、乾燥したペリクル膜114を成膜する。
【０００７】
大型ペリクル用成膜基板101の表面にペリクル膜114が完全に成膜された後で、大型ペリクル用成膜基板101を移動して剥離ステージ107の上に載置する。
【０００８】
続いて、ペリクル膜114を剥離するために使用される仮枠108をペリクル膜114の表面に粘着固定する。この状態で、図５（ｂ）に示すように仮枠108と共にペリクル膜114の片側面108ａから他側面108ｂに至るまで徐々に上昇させ、ペリクル膜114を大型ペリクル用成膜基板101の表面より剥離する（例えば、特許文献３参照）。ここで、これらの剥離作業は作業者により行われている。
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−２９６７６３
【特許文献２】特開２００１−２０１８４５
【特許文献３】特開２００１−１０９１３５
【特許文献４】特開２００１−０４２５０７
【特許文献５】特開２００１−０４２５０６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、従来の方法においては以下の課題が存在する。
【００１１】
ペリクル膜114の剥離作業においては、ペリクル膜114及び仮枠108をできる限り連続的に上昇させる必要がある。即ち、ペリクル膜114等を上昇させる際、上昇速度が断続的に変化をすると、当該上昇速度変化によりペリクル膜114に局所的な延びが発生する場合がある。このような延びが発生すると、剥離後のペリクル膜114面上にスジとして跡が残ってしまい、上質なペリクルとならない場合がある。
【００１２】
しかしながら、成膜基板101から剥離するペリクル膜114は、１辺が７００ｍｍ以上という大きさがあるため、大きさに相当する重量がある。また、大型ペリクル膜剥離用の仮枠を持ち上げて成膜基板からペリクル膜114を剥離する際には、成膜基板101とペリクル膜114の密着力以上の力が必要になる。この力はペリクル膜114の面積が大きいほど、大きくなる。さらに、大型ペリクルが大きい反面、より大きなペリクルを取得するためには、仮枠108の幅はできる限り小さく構成されることが好ましい。
【００１３】
このような条件を考え合わせると、大型ペリクルの表面積に対して、剥離作業に係る作業者が上昇させるための仮枠の部位は小さいが、作業者はその小さな部位のみを持って、大きな力で持ち上げる必要がある。このため、ペリクル膜114及び仮枠108を連続的に上昇させる作業は、作業者の熟練を要するところであり、経験の少ない作業者が大型ペリクルを量産するには大変困難な作業であった。
【００１４】
本発明は前記課題を解決するものであり、その目的とするところは、簡単な作業でペリクル膜及び仮枠を成膜基板から確実に剥離させる大型ペリクル用剥離装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前記目的を達成するための本発明に係る第１の構成は、少なくとも一辺が７００ｍｍ以上である大型のペリクル膜を形成するための成膜基板を載置する載置台と、前記載置台上に位置決めされた成膜基板に対して粘着固定される仮枠に当接し該仮枠を連続的に上昇させる上昇機構と、を有することを特徴とする大型ペリクル用剥離装置である。
【００１６】
また、第２の構成は、前記仮枠が、剥離動作が開始される剥離開始辺と、剥離動作を終了する剥離最終辺と、を有し、前記上昇機構は、前記剥離開始辺を上昇させるように配置されることを特徴とする大型ペリクル用剥離装置である。
【００１７】
また、第３の構成は、前記仮枠は、剥離動作が開始される剥離開始辺と、剥離動作を終了する剥離最終辺と、を有し、前記上昇機構は、前記剥離最終辺を上昇させるように配置されることを特徴とする大型ペリクル用剥離装置である。
【００１８】
また、第４の構成は、前記仮枠は、剥離動作が開始される剥離開始辺と、剥離動作を終了する剥離最終辺と、を有し、前記上昇機構は、前記剥離開始辺及び前記剥離最終辺を上昇させるように配置されることを特徴とする大型ペリクル用剥離装置である。
【発明の効果】
【００１９】
第１の構成によれば、位置決めされた成膜基板に粘着固定された仮枠を、上昇機構が連続的に上昇させるため、ペリクル膜が成膜基板から連続的に離間する。このように連続的に離間させることにより、大きな速度変化を抑制することができる。このため、剥離時に剥離速度が変化することにより生じるペリクル膜の延びや縮みという現象が生じにくくなる。
【００２０】
第２の構成によれば、作業者が仮枠をつかまなくても、剥離作業を行うことができるため、作業者の手袋についた塵や埃がペリクル膜につくことを防止することができる。
【００２１】
第３の構成によれば、作業者が仮枠をつかんで剥離開始辺から剥離した後、剥離最終辺のみを上昇機構によって上昇させることにより、作業者が仮枠にモーメントをかけて当該剥離最終辺を剥離する手間を省くことができる。このため、容易に剥離作業を行うことができる。
【００２２】
第４の構成によれば、仮枠の剥離開始辺から剥離最終辺に至るまで、押上部材のみによって剥離作業が行われるため、容易に剥離作業を行うことができる。
【００２３】
以上のように、本発明の大型ペリクル用剥離装置によれば、簡単な作業でペリクル膜及び仮枠を成膜基板から確実に剥離させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
〔第１実施形態〕
図を用いて本発明の第１実施形態を具体的に説明する。図１は大型ペリクル用剥離装置の構成を示す斜視図である。
【００２５】
図１に示すように、ペリクル膜12は従来と同様の方法で８角形の成膜基板10上に形成される。成膜基板10は、その上にペリクル膜12を形成した状態で、載置台20上に載置される。このとき、載置台20は、成膜基板10を真空吸着する。
【００２６】
成膜基板10上に形成されたペリクル膜12の上には、両面の粘着テープ等の粘着剤を介して仮枠13が一体的に固定される。
【００２７】
成膜基板10に粘着固定される仮枠13には、ペリクル膜の外周面に沿って貼着される枠本体13Ａの外部に、突出部が形成される。本実施形態では、８角形の枠本体13Ａの外部に、３角形の４つの突出部13ａ、13ｂ、13ｃ、13ｄが形成される。
【００２８】
載置台20上に載置された成膜基板10は、剥離装置１の上昇機構30によって仮枠13を押し上げられ、ペリクル膜12が成膜基板10から離間される。次に詳細に説明する。
【００２９】
（剥離装置１の構成）
図１に示すように、本実施形態の大型ペリクル用剥離装置１は、成膜基板10が載置される載置台20と、載置台20に載置された成膜基板10上に粘着固定される仮枠13を上昇させる上昇機構30と、を有する。
【００３０】
載置台20は、成膜基板10が載置される載置部21と、載置される成膜基板10の位置決めを行う位置決め機構22（22ａ、22ｂ、22ｃ）とから構成される。
【００３１】
載置部21には、後述の上昇機構30の２つの押上突起31ａ、31ｂが突出するための２つの切欠21ａ、21ｂが形成される。位置決め機構22は、背面位置決め部22ａ、側面位置決め部22ｂ、前面位置決め部22ｃから成る。各位置決め部は水平方向に移動可能に構成され、常に精度よく基板を載置台にセッティングすることができる。このため、成膜基板10に対して確実に位置決めをし、剥離しやすい姿勢にすることができる。
【００３２】
上昇機構30は、仮枠13を略鉛直方向に上昇させる押上突起31（31ａ、31ｂ）と、押上突起31の移動量及び速度を制御する制御部32と、制御部32を作動させる作動入力手段33とを有する。
【００３３】
押上突起31は、先端が仮枠13の突出部と当接するように平面で構成され、制御部32の制御によって上昇、下降を制御される。押上突起31ａ、31ｂはそれぞれ、作業者側から見て手前側の左右両端にある載置部21の切欠21ａ、21ｂから突出して、仮枠13の突出部13ａ、13ｂを上昇させる。
【００３４】
制御部32は、不図示の、空圧式、油圧式、電動式又はカム機構のような機械式等の機構により、押上突起31を略鉛直方向に上昇させる制御を行う。制御としては、主に押上突起31ａ、31ｂを上昇させる移動量や速度を制御する。
【００３５】
作動入力手段33は、本実施形態においては、作業者が足で踏むことで装置を作動させるフットペダル式のものを示す。フットペダル式でなくとも、レバーやスイッチのように、作業者の意志により作動開始を促すことができればよい。
【００３６】
（剥離装置１の動作）
以上のような構成により、剥離装置１の動作は以下のように行う。図２は第１実施形態の剥離作業の説明図である。
【００３７】
まず、図１に示すように、載置台20の載置部21上に、ペリクル膜12が形成された成膜基板10を載置する。成膜基板10を載置する際には、成膜基板10の奥側を背面位置決め部22ａに突き当ててつつ載置するとよい。その後、側面位置決め部22ｂにより成膜基板10の側面が位置決めされ、前面位置決め部22ｃにより成膜基板10の前面が位置決めされることで、確実に成膜基板10の位置決めがされる。
【００３８】
尚、載置台20は、成膜基板10を真空吸着する機構を有する。このため、成膜基板10は位置決めされた後、載置部21に対して真空吸着される。
【００３９】
次に、成膜基板10の上に仮枠13を粘着固定する。粘着固定にあたっては、粘着テープ等の粘着剤を用いるとよい。仮枠13を粘着固定する場合には枠本体13Ａが成膜基板10の８角形の形状に沿うように固定する。すると、仮枠13の突出部13ａ、13ｂが、切欠21ａ、21ｂの上部になるように位置決めされる。
【００４０】
この状態で、作業者が作動入力手段33を踏むと、予め制御部32にて設定されている条件のもと、押上突起31が作動する。
【００４１】
押上突起31の作動においては、作業者の左右にある押上突起31ａ及び押上突起31ｂが同時に連続的に上方に移動する。すると、仮枠13の突出部13ａ及び突出部13ｂは、その下面が押上突起31ａ及び押上突起31ｂから押し上げられる。成膜基板10は載置台20に真空吸着されているため、突出部13ａ及び突出部13ｂを押し上げられた仮枠13及びそれに貼着されるペリクル膜12と、成膜基板10とが剥離する。
【００４２】
突出部13ａ及び突出部13ｂが連続的に上昇するに伴って、ペリクル膜12は成膜基板10から徐々に連続的に剥がれていく。剥がれる方向は、突出部13ａ及び突出部13ｂのある手前側から奥側への向きである。このようにして押上突起31ａ及び押上突起31ｂが上昇してその最高到達点に及ぶと、押上突起31ａ及び押上突起31ｂは上昇動作を停止し、その高さでその姿勢を維持する。
【００４３】
この状態において仮枠13は、突出部13ａ、13ｂを押上突起31ａ、31ｂによって支持されつつ、成膜基板10から剥離最終辺13Ａ２を除いて離間した状態となる。ここで、剥離最終辺13Ａ２とは、突出部13ａと突出部13ｂとに挟まれる辺を仮枠13の剥離開始辺13Ａ１とすると、これと対向する辺のことをいう。
【００４４】
最後に、作業員が枠本体13Ａの剥離開始辺13Ａ１をつかんで、仮枠13と成膜基板10とを離間させることにより、ペリクル膜12を成膜基板10から完全に剥離させることができる。この際には、ペリクル膜12のほとんどが、押上突起31によって成膜基板10から剥がされている。このため、離間する際には、作業員がほとんど力を入れずに離間させることができる。
【００４５】
従来のように剥離作業を手作業で行った場合、作業者の熟練度によっては、ペリクル膜を成膜基板から連続的に剥離することが困難で、断続的に剥離することもあった。この場合、剥離速度が大きく変化したところにおいて、ペリクル膜12の延びや縮みが生じ、スジが発生することもあった。これに対し本実施形態においては、載置台20に固定される仮枠13の突出部13ａを連続的に上昇させることで、ペリクル膜12を成膜基板10から連続的に離間させることができる。このため、ペリクル膜12の延びや縮みが生じにくく、ペリクル膜12のスジが発生することを防止し、品質の高い大型ペリクルをより確実に得ることができる。
【００４６】
また、従来は作業者が仮枠自体をつかんで、剥離作業をしていたため、作業者の衣類や手袋についている塵や埃が、剥離作業中のペリクル膜に付着するおそれもあった。本実施形態によれば、仮枠13を上昇させるのは押上突起31であることから、作業者がペリクル膜12に近接しなくとも剥離作業を行うことができる。このため、作業者の衣類や手袋についた塵や埃が、ペリクル膜12に付着することを防止し、品質の高い大型ペリクルを得ることができる。
【００４７】
また、本実施形態においては、押上突起31ａ、31ｂを同時に上昇させたがこれに限るものではない。例えば、片方ずつ順番に上昇させてもよい。このようにすると、剥離される面は小さな面から徐々に大きな面となり、無理な力がかかりにくい。このため、効率よく剥離を行うことができる。
【００４８】
また、本実施形態においては、突出部13ａを連続的に上昇させるとした。ここで、連続的に上昇という場合、一度も完全に停止させることなく上昇させることが望ましいが、多段に分けて連続的に上昇させる構成としてもよい。
【００４９】
〔第２実施形態〕
図を用いて本発明の第２実施形態を具体的に説明する。図３は第２実施形態の剥離作業の説明図である。
【００５０】
（剥離装置51の構成）
図３に示すように、本実施形態の剥離装置51は、載置台20を挟んで作業者に対向する位置に押上突起31ａ、31ｂが配置される。その他の構成については前述と同様であるため説明を省略する。
【００５１】
（剥離装置51の動作）
図３に示すように、本実施形態の剥離装置51においても、まず、成膜基板10が載置台20に載置され、位置決め機構22により位置決めされる。同時に、仮枠13が成膜基板10上に粘着固定される。
【００５２】
その後、作業者が作動入力手段33を作動させることにより、上昇機構30の押上突起31ａ、31ｂが順次、連続的に上昇する。押上突起31は連続的に上昇するため、ペリクル膜12の成膜基板10からの剥離も連続的に行われ、前述のように品質の良いペリクルを得ることができる。
【００５３】
本実施形態においては、押上突起31ａ及び押上突起31ｂが両方上昇した状態において、作業者側が剥離最終辺13Ａ２となる。このため、作業者は対向する辺がある位置まで回り込む必要がなく、より容易にペリクル膜12を成膜基板10から完全に離間させることができる。
【００５４】
尚、本実施形態の構成を用いて、剥離最終辺13Ａ２のみを押上突起31により上昇させることもできる。即ち、ペリクル膜12の成膜基板10からの剥離は熟練した作業員の手作業により行い、剥離最終辺13Ａ２を離間するためにのみ、押上突起31を上昇させることもできる。
【００５５】
大型ペリクルは、表面積や重量がともに大きい。このため、従来、枠本体13Ａをつかみながら剥離最終辺13Ａ２を離間することは、大きなモーメントを仮枠13に与える必要があり、熟練した作業員にとっても大変な労力であった。本実施形態においては、この作業を軽減することができ、より容易に大型ペリクルを得ることができる。
【００５６】
〔第３実施形態〕
図を用いて本発明の第３実施形態を具体的に説明する。図４は第３実施形態の剥離作業の説明図である。
【００５７】
（剥離装置61の構成）
図４に示すように、本実施形態の剥離装置61は、仮枠13の剥離開始辺13Ａ１側及び剥離最終辺13Ａ２側の両方に押上突起31（31ａ、31ｂ、31ｃ、31ｄ）がある。
【００５８】
（剥離装置61の動作）
前述の実施形態と同様に載置、位置決めされた成膜基板10に対して粘着固定される仮枠13に対して、押上突起31による押し上げが連続的に行われる。４つの押上突起31の押し上げの順序は任意である。また、押上突起31を１つずつ押し上げてもよいし、４つの押上突起31を同時に押し上げてもよい。また、仮枠13の剥離開始辺13Ａ１側にある押上突起31ａ、31ｂを押し上げた後、剥離最終辺13Ａ２を離間させるために押上突起31ｃ、31ｄを上昇させることとしてもよい。
【００５９】
本実施形態によれば、作業者の手を使うことなく、仮枠13とともにペリクル膜12が、成膜基板10から完全に離間する。このように、作業者の手を使うことがないため、剥離作業中に作業者の衣類や手袋についた塵や埃が、ペリクル膜12に付着することを防止し、品質の高い大型ペリクルを得ることができる。また、作業者の手を使うことがないため、容易に大型ペリクルを得ることができる。
【００６０】
〔他の実施形態〕
前述の実施形態の他、第２実施形態の剥離装置61のような装置を使って、剥離最終辺13Ａ２のみを押上突起31で上昇させることとしてもよい。即ち、剥離開始辺13Ａ１側に作業員が立ち、作業員が剥離開始辺13Ａ１から徐々に仮枠13を上昇させていく。そして、剥離最終辺13Ａ２以外の剥離が終了したら、剥離最終辺13Ａ２のみを押上突起31によって上昇させる構成としてもよい。
【００６１】
また、前述の実施形態においては、仮枠の突出部を上昇させる構成としたが、これに限るものではなく、突出している部分がない仮枠の仮枠自体を上昇させる構成としてもよい。
【００６２】
前述した実施形態においては、載置台20に切欠21ａ、21ｂを有し、当該切欠21ａ、21ｂの下方から押上突起31にて仮枠13を上昇させる構成としたが、切欠は必ずしも必要ではない。例えば、仮枠を、載置台より突出した部分を有するように構成し、当該突出した部分を押上突起31により押し上げることによって、ペリクル膜を成膜基板から剥離する構成としてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６３】
本発明は、大型の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を構成する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）を製造する際に使用される大型ペリクルの製作時に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】大型ペリクル用剥離装置の構成を示す斜視図。
【図２】第１実施形態の剥離作業の説明図。
【図３】第２実施形態の剥離作業の説明図。
【図４】第３実施形態の剥離作業の説明図。
【図５】従来のペリクル剥離作業の説明図。
【符号の説明】
【００６５】
１ …剥離装置、
10 …成膜基板、
12 …ペリクル膜、
13 …仮枠、
13Ａ …枠本体、
13Ａ１ …剥離開始辺、
13Ａ２ …剥離最終辺、
13ａ …突出部、
13ｂ …突出部、
13ｃ …突出部、
13ｄ …突出部、
20 …載置台、
21 …載置部、
21ａ …切欠、
21ｂ …切欠、
22 …位置決め機構、
22ａ …背面位置決め部、
22ｂ …側面位置決め部、
22ｃ …前面位置決め部、
30 …上昇機構、
31 …押上突起、
31ａ …押上突起、
31ｂ …押上突起、
31ｃ …押上突起、
32 …制御部、
33 …作動入力手段、
51 …剥離装置、
61 …剥離装置、
101 …成膜基板、
102 …ガラス板、
104ａ …膜材料溶液、
105 …溶媒ノズル、
106 …回転軸、
107 …剥離ステージ、
108 …仮枠、
108ａ …片側面、
108ｂ …他側面、
114 …ペリクル膜
【図１】
2006133305.tif 000003
【図２】
2006133305.tif 000004
【図３】
2006133305.tif 000005
【図４】
2006133305.tif 000006
【図５】
2006133305.tif 000007