(57)【要約】  【課題】放射線入射側に配設されている変換層から入射放射線で生じた電荷を読み出す電荷読み出し用基板を撓ませずに支持できるようにする。  【解決手段】この発明の２次元放射線検出器は、放射線入射側に配設されている変換層から電荷情報を読み出す電荷読み出し用基板２の放射線非入射側において、電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８と全面的に当接して電荷読み出し用基板を受け止めている受け止め面９は、検出特性改善用の光を照射する光照射領域１０と光照射領域の外側の非光照射領域１１との高さが、例えば１．０ｍｍ以下に揃えられている。電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８が全面にわたって満遍なく受け止め面に当接した状態で受け止められるので、電荷読み出し用基板２を撓ませることなく支えられる。その結果、電荷読み出し用基板２を、撓ませずに支持することができる。【選択図】    図３
2006322746.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光または放射線を電荷情報に変換する変換層と、変換された電荷情報を読み出す電荷読み出し用基板を備えているのに加え、電荷読み出し用基板の放射線非入射側から電荷読み出し用基板ごしに前記変換層に検出特性改善用の光を照射する光照射機構を備えていて、電荷読み出し用基板が放射線非入射側で受け止められて支持されている２次元放射線検出器において、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面と当接して電荷読み出し用基板を受け止めている受け止め面は、検出特性改善用の光を照射する光照射領域と、この光照射領域の外側の非光照射領域とであって、前記両領域の高さが揃えられていることを特徴とする２次元放射線検出器。
【請求項２】
請求項１に記載の２次元放射線検出器において、電荷読み出し用基板の支持機能を発揮する基板支持部材を受け止め面の非光照射領域に対応する位置に備えている２次元放射線検出器。
【請求項３】
請求項１または２に記載の２次元放射線検出器において、受け止め面における光照射領域と非光照射領域との高さの違いが１．０ｍｍ以下である２次元放射線検出器。
【請求項４】
請求項２または３に記載の２次元放射線検出器において、光照射機構が、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面に検出特性改善用の光を導く導光板と、導光板および基板支持部材の間に配置されている検出特性改善用の光を放出する光源を有するのに加えて、光源および基板支持部材と電荷読み出し用基板との間に電磁シールドが介在しており、導光板の光導出側の表面が受け止め面の光照射領域となり、電磁シールドの表面が受け止め面の非光照射領域となっている２次元放射線検出器。
【請求項５】
請求項４に記載の２次元放射線検出器において、導光板は、導光板本体と導光板本体の光照射面側に積層された光拡散シートとを有し、受け止め面の光照射領域である導光板の光導出側の表面が光拡散シートの表面である２次元放射線検出器。
【請求項６】
請求項２から５のいずれかに記載の２次元放射線検出器において、基板支持部材は、検出特性改善用の光が通る区域が開口となっていると共に支持機能を発揮する枠状側壁部を有する有底平箱状体であり、有底平箱状体の底に導光板が光導出側の表面を有底平箱状体の開口側に向けた状態で据えられている２次元放射線検出器。
【請求項７】
請求項６に記載の２次元放射線検出器において、有底平箱状体の底面と導光板の裏面の間にシート状シムが介在している２次元放射線検出器。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の２次元放射線検出器において、受け止め面の広さを有する透明プレートが電荷読み出し用基板の放射線非入射側面に直に接する状態で介設されていて、透明プレートの表面が受け止め面全体を構成している２次元放射線検出器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光または放射線を電荷情報に変換する変換層と、変換された電荷情報を読み出す電荷読み出し用基板を備えているのに加え、電荷読み出し用基板の放射線非入射側から電荷読み出し用基板ごしに前記変換層に検出特性改善用の光を照射する光照射機構を備えていて、電荷読み出し用基板が放射線非入射側で受け止められて支持されている２次元放射線検出器に係り、光または放射線入射側に配設されている前記変換層に生じた電荷を読み出す電荷読み出し用基板を前記変換層ごと支持するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の２次元放射線検出器として、医療用のＸ線透視撮影装置などで被検体の透過Ｘ線像を検出する為に用いられている直接変換型及び間接変換型のフラットパネル型二次元放射線検出器（以下、適宜「ＦＰＤ」と略記）が挙げられる。直接変換型のＦＰＤの場合、図７に示すように、入射放射線を直接電荷に変換する変換層としての半導体膜７１が電荷読み出し用基板７２の放射線入射側に配設されていて、入射放射線が半導体膜７１で直に電荷に変換されると共に、半導体膜７１で生じた電荷が、電荷読み出し用基板７２により読み出された後、電気回路（図示省略）により増幅されてからＡＤ変換されて放射線検出信号（Ｘ線検出信号）となる。間接変換型のＦＰＤの場合、入射放射線が光シンチレータ等で一旦、光に変換され、この変換された光が光電変換膜で電荷情報に変換され、この変換された電荷情報が読み出し用基板で読み出される。
【０００３】
半導体膜７１としては、例えばアモルファスＳｅ系の半導体膜が挙げられ、半導体膜７１の表面にはバイアス電圧印加用の共通電極（図示省略）が形成されており、放射線の入射により半導体膜７１で生成された電荷は半導体膜７１の裏面側に二次元マトリックス配列で設けられている個別電極（図示省略）毎に読み出されて、各個別電極の位置で検出された放射線検出信号として出力される。
ＦＰＤをＸ線透視撮影装置に用いた場合であれば、放射線検出信号にしたがって個別電極が画素に対応したかたちで被検体の透過Ｘ線像に相応するＸ線透視用ないしＸ線写真用のＸ線画像が取得される。
【０００４】
そして、本願出願人は、ＦＰＤにおいて、電荷読み出し用基板７２の放射線非入射側から電荷読み出し用基板７２ごしに半導体膜７１に検出特性改善用の光を照射する光照射機構７３を設け、検出特性改善用の光を照射している間に放射線を検出することで検出感度の変動を抑えたり、放射線の入射停止時も検出特性改善用の光を照射することで残留電荷の発生を抑えることを提案している（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１４６７６９号公報（第１１〜１２頁，図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
さらに、本願出願人は、上記の検出特性改善用の光を照射する機構を備えたＦＰＤにおいて、放射線検出面の更なる大面積化を進める過程で、ＦＰＤから出力される放射線検出信号には、放射線検出信号にしたがって取得される放射線画像上に現れて画質低下をもたらすノイズが混入している事実を見出した。そして、鋭意、放射線検出信号にノイズが混入する原因の解明に努めた結果、入射放射線を電荷に変換する半導体からなる変換層７１が配設されている電荷読み出し用基板７２が、撓んだ状態で支えられているので、電荷読み出し用基板７２から電荷を読み出す以前の微弱な信号の段階でノイズが混入するという知見を得るに至った。
【０００７】
電荷読み出し用基板７２を放射線非入射側で受け止めて支えるのであるが、放射線検出面の大面積化に伴って電荷読み出し用基板７２も大判化すると共に、電荷読み出し用基板７２の放射線非入射側には、光照射機構７３も設けられていたりして、電荷読み出し用基板７２を撓まないようには支持できていなかったことを、発明者は究明することができたのである。
【０００８】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、放射線入射側に配設されている変換層から電荷情報を読み出す電荷読み出し用基板を撓ませずに支持することができる２次元放射線検出器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明は、上記の目的を達成するために、次のような構成をとる。
即ち、請求項１に記載の発明に係る２次元放射線検出器は、光または放射線を電荷情報に変換する変換層と、変換された電荷情報を読み出す電荷読み出し用基板を備えているのに加え、電荷読み出し用基板の放射線非入射側から電荷読み出し用基板ごしに前記変換層に検出特性改善用の光を照射する光照射機構を備えていて、電荷読み出し用基板が放射線非入射側で受け止められて支持されている２次元放射線検出器において、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面に当接して電荷読み出し用基板を受け止めている受け止め面は、検出特性改善用の光を照射する光照射領域と、この光照射領域の外側の非光照射領域とであって、前記両領域の高さが揃えられていることを特徴とするものである。
【００１０】
［作用・効果］請求項１の発明の２次元放射線検出器（以下、適宜「放射線検出器」と略記）の場合、電荷読み出し用基板の放射線入射側に配設されている変換層で入射放射線が電荷に変換されて電荷読み出し用基板により読み出されることにより入射放射線の検出が行なわれると共に、光照射機構により変換層へ検出特性改善用の光が照射されるので、検出感度の変動や残留電荷の発生が抑えられる。
【００１１】
また、請求項１の発明の放射線検出器の場合、電荷読み出し用基板の放射線非入射側において、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面と全面的に当接して電荷読み出し用基板を受け止めている受け止め面は、検出特性改善用の光を照射する光照射領域と、この光照射領域の外側の非光照射領域とであって、前記両領域の高さが揃えられているので、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面が全面にわたって満遍なく受け止め面に当接して受け止められる結果、電荷読み出し用基板の撓みを抑えることができる。
【００１２】
また、請求項２の発明は、請求項１に記載の２次元放射線検出器において、電荷読み出し用基板の支持機能を発揮する基板支持部材を受け止め面の非光照射領域に対応する位置に備えているものである。
【００１３】
［作用・効果］請求項２の発明の放射線検出器の場合、電荷読み出し用基板の支持機能を発揮する基板支持部材を受け止め面の非光照射領域に対応する位置に備えていて、基板支持部材が光照射機構とは別に電荷読み出し用基板の支持機能を発揮するので、電荷読み出し用基板を確実に支持できる。
【００１４】
また、請求項３の発明は、請求項１または２に記載の２次元放射線検出器において、受け止め面における光照射領域と非光照射領域との高さの違いが１．０ｍｍ以下であるものである。
【００１５】
［作用・効果］請求項３の発明の放射線検出器の場合、受け止め面における光照射領域と非光照射領域との高さの違いが１．０ｍｍ以下と僅かな高低差であり、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面が全面にわたってより満遍なく受け止め面に当接するので、電荷読み出し用基板が撓むのを確実に抑えられる。
【００１６】
また、請求項４の発明は、請求項２または３に記載の２次元放射線検出器において、光照射機構が、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面に検出特性改善用の光を導く導光板と、導光板および基板支持部材の間に配置されている検出特性改善用の光を放出する光源を有するのに加えて、光源および基板支持部材と電荷読み出し用基板との間に電磁シールドが介在しており、導光板の光導出側の表面が受け止め面の光照射領域となり、電磁シールドの表面が受け止め面の非光照射領域となっているものである。
【００１７】
［作用・効果］請求項４の発明の放射線検出器の場合、検出特性改善用の光を放出する光源および基板支持部材と電荷読み出し用基板との間に介在している電磁シールドが電磁遮蔽機能を発揮して光源から電気ノイズが放射線の検出系統に混入するのを防止する。加えて、請求項４の発明の放射線検出器では、導光板の光導出側の表面が受け止め面の光照射領域となり、電磁シールドの表面が受け止め面の非光照射領域となっていて、電磁シールドの厚み調整により受け止め面の非光照射領域の高さの微調整が可能となるので、非光照射領域と光照射領域の高さを正確かつ容易に揃えられる。
【００１８】
また、請求項５の発明は、請求項４に記載の２次元放射線検出器において、導光板は、導光板本体と導光板本体の光照射面側に積層された光拡散シートとを有し、受け止め面の光照射領域である導光板の光導出側の表面が光拡散シートの表面である。
【００１９】
［作用・効果］請求項５の発明の放射線検出器の場合、検出特性改善用の光が光拡散シートを経ることにより均一に照射されるのに加え、光拡散シートの厚み調整により受け止め面における光照射領域の高さの微調整が可能となるので、光照射領域と非光照射領域の高さに正確かつ容易に揃えられる。
【００２０】
また、請求項６の発明は、請求項２から５のいずれかに記載の２次元放射線検出器において、基板支持部材は、検出特性改善用の光が通る区域が開口となっていると共に支持機能を発揮する枠状側壁部を有する有底平箱状体であり、有底平箱状体の底に導光板が光導出側の表面を有底平箱状体の開口側に向けた状態で据えられているものである。
【００２１】
［作用・効果］請求項６の発明の放射線検出器の場合、基板支持部材である有底平箱状体の枠状側壁部が電荷読み出し用基板の支持機能を発揮する。また、有底平箱状体の底に据えられている導光板は、導光板が光導出側の表面を有底平箱状体の開口側に向けた状態で据えられていて、検出特性改善用の光は導光板を経て有底平箱状体の開口から照射される。加えて、導光板が有底平箱状体の底に据えられていることにより、導光板の厚みが、有底平箱状体の底から受け止め面の光照射領域である導光板の光導出側の表面までの高さに等しい関係にあるので、受け止め面における光照射領域と非光照射領域高さを揃え易くなる。
【００２２】
また、請求項７の発明は、請求項６に記載の２次元放射線検出器において、有底平箱状体の底面と導光板の裏面の間にシート状シムが介在しているものである。
【００２３】
［作用・効果］請求項７の発明の放射線検出器の場合、有底平箱状体の底面と導光板の間にシート状シムが介在していて、シート状シムの厚み調整により、受け止め面の光照射領域である導光板の光導出側の表面の高さの微調整が可能であるので、光照射領域と非光照射領域の高さを正確かつ容易に揃えられる。
【００２４】
また、請求項８の発明は、請求項１から７のいずれかに記載の２次元放射線検出器において、受け止め面の広さを有する透明プレートが電荷読み出し用基板の放射線非入射側面に直に接する状態で介設されていて、透明プレートの表面が受け止め面全体を構成しているものである。
【００２５】
［作用・効果］請求項８の発明の放射線検出器の場合、電荷読み出し用基板を支える受け止め面全体が１枚の透明プレートの表面であるので、受け止め面の光照射領域と非光照射領域が共に透明プレートの同一表面に在ることになり、その結果、光照射領域と非光照射領域の高さを正確かつ容易に揃えられる。
【発明の効果】
【００２６】
請求項１の発明の放射線検出器の場合、放射線入射側に配設されている変換層から電荷情報を読み出す電荷読み出し用基板の放射線非入射側において、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面と当接して電荷読み出し用基板を受け止めている受け止め面は、検出特性改善用の光を照射する光照射領域と、この光照射領域の外側の非光照射領域とであって、前記両領域の高さが揃えられていて、電荷読み出し用基板の放射線非入射側面が全面にわたって満遍なく受け止め面に当接して受け止められるので、電荷読み出し用基板の撓みを抑えられる。
よって、請求項１の発明の２次元放射線検出器によれば、放射線入射側に配設されている変換層から入射放射線で生じた電荷を読み出す電荷読み出し用基板を、撓ませずに支持することができる。
【実施例１】
【００２７】
この発明の放射線検出器の実施例１を図面を参照しながら説明する。図１は実施例１に係る２次元放射線検出器である直接変換型フラットパネル型放射線検出器（以下、適宜「ＦＰＤ」と略記）の要部構成を示す断面図、図２は実施例１のＦＰＤにおける変換層である半導体膜と電荷読み出し用基板を示す平面図である。
【００２８】
実施例１のＦＰＤの場合、図１に示すように、入射放射線を直接電荷に変換する変換層として（例えば厚み０．５mm程度の）半導体膜１が（例えば厚み０．７mm程度の）電荷読み出し用基板２の放射線入射側に配設されていて、入射放射線が半導体膜１で電荷に変換されると共に、入射放射線で半導体膜１に生じた電荷は、電荷読み出し用基板２により読み出される。
【００２９】
半導体膜１としては、例えばＳｅまたはＳｅ化合物等のアモルファスＳｅ系半導体膜やＣｄＴｅ等の化合物半導体膜などが挙げられる。また、半導体膜１の表面には金属薄膜等のバイアス電圧印加用の共通電極（図示省略）が設けられており、放射線の入射により半導体膜１で生成された電荷は、半導体膜１の裏面側に二次元マトリックス配列で電荷読み出し用基板２に設けられている光透過性の個別電極（図示省略）毎に読み出されて、増幅器３ＡやＡＤ変換器３Ｂなどからなる電子回路３により増幅・ディジタル化されてから、各個別電極の位置で検出された放射線検出信号として出力される。
【００３０】
電荷読み出し用基板２は、透明ガラス基材などが用いられていて、ＩＴＯ膜等の透明性を有する多数個の個別電極（図示省略）が半導体膜１の裏面側となる表面に縦横の２次元マトリックス配列で形成されているのに加え、個別電極毎に薄膜トランジスタ・スイッチやコンデンサが形成されていて、薄膜トランジスタ・スイッチが順次にオン・オフして個別電極（図示省略）毎に読み出されるアクティブマトリックス基板である。すなわち、電荷読み出し用基板２は透明ガラス基材と電荷読み出し回路用の薄膜とからなり、事実上、光に対して透明性を有している。
【００３１】
半導体膜１と電荷読み出し用基板２は、図２に示すように、共に略正方形の平面形状であり、縦・横とも半導体膜１が電荷読み出し用基板２より小さい。放射線検出領域の広さを規定する半導体膜１の縦と横の長さは、特定の寸法に限定されるものではないが、通常、数cm〜５０cm程度の範囲である。
【００３２】
実施例１のＦＰＤが、医用のＸ線透視撮影装置において被検体（患者）の透過Ｘ線像を検出する２次元Ｘ線検出器として用いられた場合であれば、ＦＰＤから出力される放射線検出信号（Ｘ線検出信号）にしたがって個別電極が画素に対応したかたちで被検体の透過Ｘ線像に相応するＸ線画像が取得される。
【００３３】
また、実施例１のＦＰＤは、電荷読み出し用基板２ごしに半導体膜１に検出特性改善用の光を照射する光照射機構４と、光照射機構４の非構成要素として半導体膜１ごと電荷読み出し用基板２を支える機能を発揮する基板支持部材５とを電荷読み出し用基板２の放射線非入射側に備えている。
光照射機構４により電荷読み出し用基板２の放射線非入射側から半導体膜１に検出特性改善用の光が照射されている間に、放射線を検出することで検出感度の変動を抑えられるのに加えて、放射線の入射停止時も検出特性改善用の光を照射することで残留電荷の発生を抑えられる。
基板支持部材５は、検出特性改善用の光が通る区域が開口５Ａとなっていて、電荷読み出し用基板２の外形に略対応する正方形に整形されているアルミニウム製などからなる無底枠状体５Ｂを有し、無底枠状体５Ｂが基板支持機能を発揮する。
【００３４】
光照射機構４は、電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面２Ａに検出特性改善用の光を導く導光板４Ａと、導光板４Ａと基板支持部材５の無底枠状体５Ｂの間に配置されている検出特性改善用の光を放出する光源４Ｂとを有するのに加えて、光源４Ｂおよび基板支持部材５の無底枠状体５Ｂと電荷読み出し用基板２との間に電磁シールド６が介在している。
導光板４Ａは光導出側の表面を基板支持部材５の開口５Ａ側に向けた状態で基板支持部材５の無底枠状体５Ｂに納められており、光源４Ｂは導光板４Ａの外側に位置する配置で基板支持部材５の無底枠状体５Ｂに納められている。
電磁シールド６としては、厚み０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ程度の銅やアルミニウムなどのシート状やテープ状の導電金属製薄体が挙げられる。電磁シールド６は単層構成に限らず多層構成であってもよい。電磁シールド６は、例えば基板支持部材５の無底枠状体５Ｂの上面に接着させることで取り付けられる。
【００３５】
光源４Ｂにはシールドタイプの電線７を介して（検出器に内蔵ないし外付けの）光源点灯用電源部（図示省略）から点灯電力が供給されるのに伴って光源４Ｂが点灯して検出特性改善用の光が導光板４Ａへ導入される。光源４Ｂの点灯に伴って電気ノイズが発生するが、電磁シールド６が電磁遮蔽機能を発揮して、光源４Ｂ側から電気ノイズが放射線の検出系統に混入するのを防止する。
また、導光板４Ａの場合、導光板本体４Ａ１と導光板本体４Ａ１の光照射面側に積層された光拡散シート４Ａ２を有しており、検出特性改善用の光は光拡散シート４Ａ２で拡散されて均一に照射される。光拡散シート４Ａ２を設ける代わりに、導光板本体４Ａ１の表面を粗化加工により粗化面にして光拡散性をもたせてもよい。
【００３６】
導光板本体４Ａ１としては、透明ガラス板やアクリル樹脂板などが挙げられる。導光板本体４Ａ１の裏面側は光反射膜を蒸着形成したり、光反射シートを貼り付ける等して光反射面にして検出特性改善用の光の散逸（漏洩）を防ぐ構成とされている。
光拡散シート４Ａ２としては、厚み０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ程度の光拡散用プラスチックシートが挙げられる。光拡散シート４Ａ２は、例えば導光板本体４Ａ１の上面に接着させることで取り付けられる。
【００３７】
また、光照射機構４の導光板４Ａと基板支持部材５の無底枠状体５Ｂは、図１に一点鎖線で示すように、収納ケース（全体の図示は省略）の内側面に設けられた受け台ＨＤに据え付けられており、半導体膜１および電荷読み出し用基板２は導光板４Ａと無底枠状体５Ｂを介して収納ケースに固定されていることになる。
【００３８】
そして、実施例１のＦＰＤは、電荷読み出し用基板２の放射線非入射側において、図３（ａ）に示す電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８が、図３（ｂ）に示す受け止め面９に全面的に当接して受け止めていることで支持されている。さらに、実施例１のＦＰＤの場合、電荷読み出し用基板２を支えている受け止め面９は、検出特性改善用の光を照射する光照射領域１０と光照射領域の外側の非光照射領域１１との高さが揃っている点を特徴としているので、以下、具体的に説明する。
【００３９】
実施例１の場合、図１に示すように、受け止め面９の光照射領域１０は、導光板４Ａの光導出側の表面である光拡散シート４Ａ２の表面であり、非光照射領域１０は電磁シールド６の表面である。但し、光拡散シート４Ａ２を設ける代わりに、導光板本体４Ａ１の表面に光拡散用粗化を施した場合は、受け止め面９の光照射領域１０は、導光板４Ａの光導出側の表面である導光板本体４Ａ１の表面となる。
また、導光板４Ａおよび電磁シールド６の一方または両方が、電荷読み出し用基板２と接着する接着材を表面に有している場合は、導光板４Ａの接着材の表面が、受け止め面９の光照射領域１０となり、電磁シールド６の接着材の表面が、受け止め面９の非光照射領域１１となる。
【００４０】
このように、実施例１のＦＰＤによれば、電荷読み出し用基板２の放射線非入射側において、電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８と全面的に当接して電荷読み出し用基板を受け止めている受け止め面９は、検出特性改善用の光を照射する光照射領域１０と光照射領域の外側の非光照射領域１１との高さが揃えられていて、電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８が全面にわたって満遍なく受け止め面に当接した状態で受け止められるので、電荷読み出し用基板２の撓みを抑えることができる。
よって、実施例１のＦＰＤの場合、放射線入射側に配設されている直接変換型の変換層である半導体膜１から入射放射線で生じた電荷を読み出す電荷読み出し用基板２を、撓ませずに支持することができる。
【００４１】
また、実施例１のＦＰＤの受け止め面９では光照射領域１０と非光照射領域１１との高さの違いが１．０ｍｍ以下であることが好ましく、更には０．２ｍｍ以下であることがより好ましい。光照射領域１０と非光照射領域１１との高さの違いが１．０ｍｍ以下であると、電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８が、より満遍なく受け止め面９に当接するので、電荷読み出し用基板２が撓むのを確実に抑えられる。光照射領域１０と非光照射領域１１との高さの違いが０．２ｍｍ以下であると、電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８の全体が受け止め面９にピッタリ当接するので、電荷読み出し用基板２が撓むのをより確実に抑えられる。
【００４２】
加えて、実施例１のＦＰＤの場合、電荷読み出し用基板２の支持機能を発揮する基板支持部材５を受け止め面９の非光照射領域１１に対応する位置に光照射機構４の非構成要素として備えていて、基板支持部材５が電磁シールド６と協働して電荷読み出し用基板２の支持機能を光照射機構４とは別に発揮するので、電荷読み出し用基板２の支持が確実なものとなる。
さらに、実施例１のＦＰＤの場合、電磁シールド６の厚み調整、あるいは、光拡散シート４Ａ２の厚み調整により、受け止め面９の光照射領域１０や非光照射領域１１の高さの微調整ができるので、光照射領域１０と非光照射領域１１の高さを正確かつ容易に揃えられる。
【実施例２】
【００４３】
続いて、この発明の実施例２に係るＦＰＤを図面を参照しながら説明する。図４は実施例２のＦＰＤの要部構成を示す断面図である。
実施例２のＦＰＤは、実施例１のＦＰＤにおける基板支持部材５に替わるものとして、検出特性改善用の光が通る区域が開口１２Ａとなっていると共に支持機能を発揮する枠状側壁部１２Ｂを有する光照射機構４の非構成要素としての有底平箱状体１２を受け止め面９の非光照射領域１１に対応する位置に備えている以外は、実施例１と同様であるので、共通点の説明は省略し、相違点のみを説明する。
【００４４】
実施例２のＦＰＤの場合、図４に示すように、光照射機構４の導光板４Ａが光導出側の表面を有底平箱状体１２の開口１２Ａ側に向けた状態で光源４Ｂと共に有底平箱状体１２の底に据えられている。有底平箱状体１２の枠状側壁部１２Ｂは電荷読み出し用基板２の支持機能を発揮するのに加え、導光板４Ａや光源４Ｂも有底平箱状体１２は底部１２Ｃで支えられているかたちとなる。有底平箱状体１２は、図４に一点鎖線で示すように、収納ケース（全体の図示は省略）の内側面に設けられた受け台ＨＤに据え付けられており、半導体膜１および電荷読み出し用基板２は、導光板４Ａと有底平箱状体１２を介して収納ケースに固定されていることになる。
【００４５】
また、有底平箱状体１２の底に据えられている導光板４Ａは、導光板４Ａの光導出側の表面を有底平箱状体１２の開口１２Ａの側に向けた状態で据えられていて、検出特性改善用の光は導光板４Ａを経て有底平箱状体１２の開口１２Ａから照射される。
加えて、導光板４が有底平箱状体１２の底に据えられていることにより、導光板４Ａの厚みが、有底平箱状体１２の底から受け止め面９の光照射領域１０である導光板４の光導出側の表面までの高さに等しい関係にあるので、受け止め面９における光照射領域１０と非光照射領域１１の高さを揃え易くなる。
なお、有底平箱状体１２は板状基材に座繰り加工で導光板４を収める凹部を形成することにより製作したり、別々に作成した枠状側壁部１２Ｂと底部１２Ｃを組み付けること等により製作できる。
【実施例３】
【００４６】
続いて、この発明の実施例３に係るＦＰＤを図面を参照しながら説明する。図５は実施例３のＦＰＤの要部構成を示す断面図である。
実施例３のＦＰＤは、実施例２のＦＰＤにおいて、有底平箱状体１２の底面１２ａと導光板４の裏面４ａの間に２枚構成のシート状シム１３が介在している以外は、実施例２と同様であるので、共通点の説明は省略し、相違点のみを説明する。
【００４７】
実施例３のＦＰＤは、図５に示すように、シート状シム１３が例えば厚み０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ程度のシム用薄層体１３Ａ，１３Ｂを重ね合わせた構成となっている。ただし、シート状シム１３を構成するシム用薄層体の枚数は、特定の数に限られるものではなく、１枚でもよいし、３枚以上でもよい。また、各シム用薄層体の厚みも、全て同一の厚みである必要はなく、シム用薄層体の間で異なっていてもよい。具体的なシム用薄層体としては、プラスチック製シートや金属製シート等が挙げられる。
【００４８】
実施例３のＦＰＤの場合、有底平箱状体１２の底面１２ａと導光板４の裏面４ａの間にシート状シム１３が介在しているので、シート状シム１３の厚み調整により、受け止め面９における光照射領域１０である導光板４ａの光導出側の表面の高さの微調整が可能であるので、光照射領域１０と非光照射領域１１の高さを正確かつ容易に揃えられる。
【実施例４】
【００４９】
続いて、この発明の実施例４に係るＦＰＤを図面を参照しながら説明する。図６は実施例４のＦＰＤの要部構成を示す断面図である。
実施例４のＦＰＤは、実施例１のＦＰＤにおいて、受け止め面９の広さを有する透明プレート１４が電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８に直に接する状態で介設されていて、透明プレート１４の表面が受け止め面９全体を構成している以外は、実施例１と同様であるので、共通点の説明は省略し、相違点のみを説明する。
【００５０】
実施例４のＦＰＤの場合、電荷読み出し用基板２を支える受け止め面９全体が１枚の透明プレート１４の表面であるので、受け止め面９の光照射領域１０と非光照射領域１１が共に透明プレート１４の同一表面に在ることになる結果、光照射領域１０と非光照射領域１１の高さを正確かつ容易に揃えられる。
なお、透明プレート１４が透明プレート本体（図示省略）と透明プレート本体の表面の少なくとも一部に積層された接着材とからなり、接着材によって電荷読み出し用基板２の放射線非入射側面８に接着されている場合、接着材の存在するところは、接着材の表面が受け止め面９を構成することになる。
【００５１】
この発明は、上記実施の形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００５２】
（１）実施例２または実施例３のＦＰＤにおいて、実施例４のように、透明プレート１４を介設させた他は同一の構成のＦＰＤを、それぞれ変形例として挙げられる。
【００５３】
（２）実施例１〜４のＦＰＤは直接変換型のＦＰＤであったが、この発明は間接変換型のＦＰＤにも適用することができる。
【００５４】
（３）実施例１〜４のＦＰＤは、医用分野以外に、非破壊検査などの工業用分野、あるいは原子力用分野に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】実施例１のＦＰＤの要部構成を示す断面図である。
【図２】実施例１のＦＰＤにおける変換層としての半導体膜と電荷読み出し用基板を示す平面図である。
【図３】実施例１のＦＰＤの電荷読み出し用基板の放射線非入射側面と電荷読み出し用基板を支える受け止め面を示す模式的断面図である。
【図４】実施例２のＦＰＤの要部構成を示す断面図である。
【図５】実施例３のＦＰＤの要部構成を示す断面図である。
【図６】実施例４のＦＰＤの要部構成を示す断面図である。
【図７】従来のＦＰＤの基本構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１        …半導体膜（変換層）
２        …電荷読み出し用基板
４        …光照射機構
４Ａ      …導光板
４Ａ１    …導光板本体
４Ａ２    …光拡散シート
４ａ      …（導光板の）裏面
４Ｂ      …光源
５        …基板支持部材
６        …電磁シールド
８        …放射線非入射側面
９        …受け止め面
１０      …光照射領域
１１      …非光照射領域
１２      …有底平箱状体（基板支持部材）
１２Ａ    …開口
１２ａ    …（有底平箱状体の）底面
１２Ｂ    …枠状側壁部
１３      …シート状シム
１４      …透明プレート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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