(57)【要約】【課題】小型化を図りつつ所望のフィルタ特性をもつフィルタ装置を得ること。【解決手段】このフィルタ装置(1)は、誘電体部材(10)に、並列する複数の貫通孔(111-113,121-123)を形成し、貫通孔が開口する第１および第２の端面(11,14)のうち第１の端面を除いた誘電体部材の外周面および各貫通孔の内面に導体層(132-136,171-173)を形成して、貫通孔内の導体層を互いに容量性結合とした複数の共振器(L1-L3)からなるフィルタ装置において、共振器(L1-L3)の配列方向の両端面に導体層を除去して一対の対向する端子電極(141,142)を形成するとともに、これらの端子電極(141,142)と第２の端面(14)の貫通孔(111-113)の開口部との間の外周面に導体層の一部を除去した周波数調整部(165,166)を設けたことを特徴とする。【選択図】図２
2006109235.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体部材に、並列する複数の貫通孔を形成し、前記貫通孔が開口する第１および第２の端面のうち第１の端面を除いた前記誘電体部材の外周面および前記各貫通孔の内面に導体層を形成して、前記貫通孔内の導体層を互いに容量性結合とした複数の共振器からなるフィルタ装置において、
前記共振器の配列方向の両端面に前記導体層を除去して一対の対向する端子電極を形成するとともに、
これらの端子電極と前記第２の端面の前記貫通孔の開口部との間の外周面に前記導体層の一部を除去した周波数調整部を設けたこと
を特徴とするフィルタ装置。
【請求項２】
前記周波数調整部は、前記端子電極と前記第２の端面との間の両側面に前記導体層の一部を除去してなることを特徴とする請求項１に記載のフィルタ装置。
【請求項３】
前記周波数調整部は、前記第２の端面に形成されたことを特徴とする請求項１に記載のフィルタ装置。
【請求項４】
前記周波数調整部は、前記第２の端面の前記共振器配列方向の両端に形成されたことを特徴とする請求項３に記載のフィルタ装置。
【請求項５】
前記周波数調整部は、前記第２の端面の前記共振器配列方向の両縁部に形成されたことを特徴とする請求項４に記載のフィルタ装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載のフィルタ装置を少なくとも１つ具備したことを特徴とするデュプレクサ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば誘電体材料に共振器を形成してなるフィルタ装置、デュプレクサ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
通信装置の小型化と利用周波数の高周波数化に伴い、フィルタ装置の小型化に関する技術開発が進められている。このようなフィルタ装置として、誘電体材料に共振器を形成してなる誘電体フィルタが知られている。コムラインタイプの誘電体フィルタにおいては、径大部を有する複数の共振器を結合させることによりフィルタ回路を構成する。隣り合う共振器間の結合のあり方としては、容量性結合と磁界性結合の二つが知られている。この関連技術として、容量性結合を得るための貫通孔に径大部（座ぐり）と径小部を設ける技術（例えば特許文献１）、共振孔に屈曲型の偏心部を設けて段間結合を得る技術（例えば特許文献２）などが提案されている。共振器を容量性結合により結合させたフィルタ装置においては、径大部を互いに近づく方向へ偏心させて径大部間に容量性結合を生じさせ、通過帯域の低域側へ極を発生させている。
【０００３】
ところで、このような構造を有するフィルタ装置では、入出力端子と共振器とを容量性結合させており、入出力端子を他の接地導体部から分離させる為に誘電体部材の露出部が必要となるが、この露出部は入出力端子と対向する共振器の共振周波数を高くする作用があることが知られている。一方、当該露出部により高くなった共振器の共振周波数を周波数の低い方向へ補整するには、共振器の軸方向の長さ、すなわち共振器全体の共振長を長くする方法が知られているが、結果としてフィルタ装置の大きさを大きくしてしまう。同様に、共振器の共振周波数を低い方向へ補整するには、共振器の径大部の径を大きくする方法も知られているが、この方法もフィルタ装置の大きさを大きくしてしまう。従って、共振器の共振周波数を目的の周波数にすることとフィルタ装置全体の大きさを小さくすることの両立は困難であった。
【０００４】
特に、フィルタ装置の小型化を進めることにより、隣り合う共振器間の距離も小さくなるため隣合う共振器間の結合が強くなることに加えて、入出力端子を他の接地導体部と分離する為のセラミック露出部（電極除去部）の影響によって隣り合う共振器間の容量性結合が大きくなることから、必要以上に隣り合う共振器間の容量性結合が強くなってしまうという問題があった。すなわち、誘電体部材に共振器を形成してなるフィルタ装置においては、フィルタ装置の小型化によりフィルタ特性も変化するため、小型化を図りつつ所望のフィルタ特性をもつフィルタ装置を得ることが困難であった。
【特許文献１】実開昭５９−１４４０２号公報
【特許文献２】特開平１０−２５６８０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このように従来のフィルタ装置、デュプレクサ装置では、小型化を図りつつ所望のフィルタ特性をもつフィルタ装置を得ることが困難であるという問題がある。
【０００６】
本発明はこのような課題を解決するためになされたもので、フィルタ装置の小型化を図りつつ所望のフィルタ特性を得ることのできるフィルタ装置、デュプレクサ装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記した目的を達成するために、本発明の第１の発明に係るフィルタ装置は、誘電体部材に、並列する複数の貫通孔を形成し、貫通孔が開口する第１および第２の端面のうち第１の端面を除いた誘電体部材の外周面および各貫通孔の内面に導体層を形成して、貫通孔内の導体層を互いに容量性結合とした複数の共振器からなるフィルタ装置において、共振器の配列方向の両端面に導体層を除去して一対の対向する端子電極を形成するとともに、これらの端子電極と第２の端面の貫通孔の開口部との間の外周面に導体層の一部を除去した周波数調整部を設けたことを特徴としている。
【０００８】
第２の発明に係るフィルタ装置は、第１の発明に係るフィルタ装置において、周波数調整部は、端子電極と第２の端面との間の両側面に導体層の一部を除去してなることを特徴としている。
【０００９】
第３の発明に係るフィルタ装置は、第１の発明に係るフィルタ装置において、周波数調整部は、第２の端面に形成されたことを特徴としている。
【００１０】
第４の発明に係るフィルタ装置は、第３の発明に係るフィルタ装置において、周波数調整部は、第２の端面の共振器配列方向の両端に形成されたことを特徴としている。
【００１１】
第５の発明に係るフィルタ装置は、第４の発明に係るフィルタ装置において、周波数調整部は、第２の端面の共振器配列方向の両縁部に形成されたことを特徴としている。
【００１２】
第６の発明に係るデュプレクサ装置は、第１ないし第５の発明に係るフィルタ装置を少なくとも１つ具備したことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、フィルタ装置の小型化を図りつつ所望のフィルタ特性を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の１実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明に係る一つの実施形態のフィルタ装置の原理的回路構成を示す図である。図１に示すように、このフィルタ装置１は、共振器を３つ備えたコムラインタイプのフィルタであり、共振器Ｌ１ないしＬ３、結合インダクタＬ１１ないしＬ１３、結合容量Ｃ１１ないしＣ１３、入出力容量Ｃ１およびＣ２から構成されている。
【００１５】
共振器Ｌ１は、一端が入出力容量Ｃ１を介して入出力端子Ｔ１と接続され、他端が接地された共振体である。共振器Ｌ１は、誘電体材料に貫通孔を形成し、当該貫通孔内壁面に導体層を形成して管状導体をなすことにより構成される。共振器Ｌ１は、フィルタ装置１の通過周波数に応じた大きさに形成され、目標周波数の波長の略四分の一の長さの共振長を有している。
【００１６】
共振器Ｌ２は、一端が、互いに並列接続された結合インダクタＬ１１および結合容量Ｃ１１を介して共振器Ｌ１および入出力容量Ｃ１の接続点と接続され、他端が接地された共振体である。共振器Ｌ２は、共振器Ｌ１と同様に誘電体材料に貫通孔を形成し、その内壁面に導体層を形成して管状導体をなすことにより構成されるが、共振器Ｌ１とは異なる立体形状を有している。共振器Ｌ２は、フィルタ装置１の通過周波数に応じた大きさに形成され、目標周波数の波長の略四分の一の長さの共振長を有している。
【００１７】
共振器Ｌ３は、一端が、互いに並列接続された結合インダクタＬ１２および結合容量Ｃ１２を介して共振器Ｌ２および結合インダクタＬ１１ならびに結合容量Ｃ１１の接続点と接続され、他端が接地された共振体である。共振器Ｌ３は、共振器Ｌ１と対をなしており、略同一の大きさおよび形状を有している。共振器Ｌ３の一端はまた、入出力容量Ｃ２を介して入出力端子Ｔ２と接続されている。さらに、共振器Ｌ３の一端は、互いに並列接続された結合インダクタＬ１３および結合容量Ｃ１３を介して共振器Ｌ１の一端とも接続されている。
【００１８】
このように、この実施形態に係るフィルタ装置１は、それぞれ並列接続された結合インダクタＬ１１ないしＬ１３および結合容量Ｃ１１ないしＣ１３を介して、共振器Ｌ１ないしＬ３を並列接続してなる。すなわち、このフィルタ装置１は、三段構成の共振器からなり、その回路構成は対称構造となっている。
【００１９】
続いて、図２ないし図４を参照して、この実施形態に係るフィルタ装置の構成を詳細に説明する。図２は、この実施形態に係るフィルタ装置１の外観を示す斜視図であり、図３は、図２と逆の視点からみた斜視図であり、図４は、図２の矢視ＡＢから底面１３方向の断面を示す断面図である。
【００２０】
図２に示すように、このフィルタ装置１は、例えばセラミックなどの誘電体材料を直方体形状に形成した誘電体部材１０からなり、正面１１、平面１２、底面１３、背面１４、側面１５および１６を有している。正面１１には、貫通孔１１１ないし１１３と、座ぐり孔１２１ないし１２３とが形成されている。平面１２には、電極１４１および１４２と、接地導体１３２とが形成されている。底面１３には、接地導体１３３が形成されている。背面１４には、貫通孔１１１ないし１１３と、接地導体１３４とが形成されている。側面１５および１６には、それぞれ接地導体１３５および１３６と、補助電極１５５および１５６と、切り欠き部１６５および１６６とが形成されている。
【００２１】
貫通孔１１１ないし１１３は、正面１１から背面１４へ向けて貫通した貫通孔であり、略円形断面を有している。貫通孔１１１ないし１１３は、正面１１の短手方向の略中心位置で正面１１の長手方向にほぼ一列に形成されている。
【００２２】
座ぐり孔１２１ないし１２３は、正面１１から背面１４へ向けて形成された凹型領域（盲穴）である。座ぐり孔１２２の正面１１における断面の中心軸は、貫通孔１１２の同じく断面の中心軸と略同一位置に形成されるが、座ぐり孔１２１および１２３の正面１１における断面の中心軸は、それぞれ貫通孔１１１および１１３の同じく断面の中心軸と正面１１の長手方向に接近する方向に偏心して形成されている。座ぐり孔１２１ないし１２３の断面は、貫通孔１１１ないし１１３の断面とそれぞれ正面１１の並行方向に重複して形成されている。従って、座ぐり孔１２１ないし１２３は、貫通孔１１１および１１３とその断面が重複する部分において背面１４へ向けて貫通している。
【００２３】
また、図４に示すように、座ぐり孔１２１ないし１２３は、それぞれ貫通孔１１１ないし１１３と段部を介して一体的に形成されている。そして、座ぐり孔１２１ないし１２３ならびに貫通孔１１１ないし１１３の内壁面は、接地導体１３４と一体的に形成された導体層により管状導体１７１ないし１７３を構成している。
【００２４】
座ぐり孔１２１ないし１２３と貫通孔１１１ないし１１３は、前述のとおりそれぞれ段部を介して一体的に形成され、それぞれ大径部と小径部とからなる管状導体１７１ないし１７３を構成する。そして、管状導体１７１ないし１７３は、その小断面側において接地導体１３４と一体的に形成され、それぞれ図１に示す共振器Ｌ１ないしＬ３を構成する。管状導体１７１ないし１７３からなる共振器Ｌ１ないしＬ３は、誘電体部材１０による仮想的な結合インダクタＬ１１ないしＬ１３および結合容量Ｃ１１ないしＣ１３を介してそれぞれ互いに結合している。管状導体１７１ないし１７３は、例えば銀などの導体材料を誘電体部材１０の壁面に塗布して焼成したり、銅などの導電体材料をメッキすることで形成される。前述のとおり、座ぐり孔１２１および１２３の正面１１における断面の中心軸は、それぞれ貫通孔１１１および１１３の同じく断面の中心軸と正面１１の長手方向に接近する方向に偏心して形成されているから、結合インダクタよりも結合容量の方が支配的となり、管状導体１７１ないし１７３は、互いに容量性結合している。
【００２５】
接地導体１３２ないし１３６は、フィルタ装置１が実装されたときに接地されるグラウンド電極であり、互いに一体的に形成されている。接地導体１３２ないし１３６は、例えば銀などの導体材料を誘電体部材１０の壁面に塗布して焼成したり、銅などの導電体材料をメッキすることで形成される。
接地導体１３２は、貫通孔１１１ないし１１３の列がなす面と平行する平面１２上に形成された導体層であり、例えば銀厚膜や銅厚膜などである。接地導体１３２には、貫通孔１１１ないし１１３の列方向に対向する両辺に沿わせて誘電体部材１０の露出部により接地導体１３２から分離された電極１４１および１４２が形成されている。
接地導体１３３は、接地導体１３２と対向する底面１３のほぼ全面に形成された導体層である。接地導体１３４は、座ぐり孔１２１ないし１２３が形成された正面１１と対向する背面１４の全面に形成された導体層である。接地導体１３５および１３６は、貫通孔１１１および１１３の列方向に対向する側面１５および１６に形成された導体層である。側面１５および１６には、電極１４１および１４２と対応する位置に当該電極１４１および１４２と一体的に形成された補助電極１５５および１５６が形成されるとともに、貫通孔１１１ないし１１３の短絡端が接地導体１３４に接する背面１４と接する領域に切り欠き部１６５および１６６が形成されている。
【００２６】
電極１４１および１４２は、平面１２上における正面１１近傍に形成された矩形の面状導体領域であり、このフィルタ装置１の入出力端子Ｔ１およびＴ２に対応する。電極１４１および１４２は、平面１２の平行方向での座ぐり孔１２１および１２３の位置および大きさに対応して形成され、座ぐり孔１２１および１２３との間で入出力容量Ｃ１およびＣ２を形成している。電極１４１および１４２は、例えば接地導体１３２について、エッチング等により矩形形状に取り囲むような誘電体部材１０の露出部を設けたり、スクリーン印刷などにより形成される。
【００２７】
補助電極１５５および１５６は、側面１５および１６においてそれぞれ電極１４１および１４２と一体的に形成された矩形の面状導体領域である。補助電極１５５および１５６は、誘電体部材を露出させて接地導体と分離させて形成される。したがって、接地導体１３３、１３５および１３６には、補助電極１５５および１５６を形成する誘電体部材露出部が形成されている。
この実施形態のフィルタ装置１では、正面１１から背面１４に向けて貫通孔１１１ないし１１３および座ぐり孔１２１ないし１２３からなる共振器Ｌ１ないしＬ３が構成されている。そして、電極１４１および１４２は、共振器Ｌ１ないしＬ３の列がなす平面と平行する平面１２上に形成され、入出力容量Ｃ１およびＣ２を構成している。補助電極１５５および１５６は、共振器Ｌ１ないしＬ３の列方向に共振器Ｌ１およびＬ３と対向する側面１５および１６に、それぞれ電極１４１および１４２と一体的に形成されている。すなわち、電極１４１および１４２は、補助電極１５５および１５６とそれぞれ一体となって共振器Ｌ１およびＬ３を取り囲むように配置されることになる。補助電極１５５および１５６は、入出力容量Ｃ１およびＣ２の容量を大きくしてフィルタ装置１の周波数特性を向上する作用をする。
【００２８】
切り欠き部１６５および１６６は、共振器Ｌ１ないしＬ３の列方向に対向する側面１５および１６上であって、貫通孔１１１ないし１１３の開口部が形成された背面１４の接地導体１３４と接する端部に矩形に形成された誘電体部材１０の露出領域である。切り欠き部１６５および１６６は、座ぐり孔１２１ないし１２３が形成された正面１１と対向する背面１４と接するように、それぞれ接地導体１３５および１３６をエッチングや切削などすることにより、誘電体部材１０が露出するように形成される。そして、切り欠き部１６５および１６６は、その面積や形を調整することで共振器Ｌ１およびＬ３を構成する貫通孔１１１および１１３を囲む接地導体を増減し、共振器Ｌ１およびＬ３の特性周波数を調整する周波数調整部として作用をする。
【００２９】
図４に示すように、管状導体１７１ないし１７３は、正面１１における開口部が背面１４における開口部よりも大きい断面を有している。管状導体１７１ないし１７３は、正面１１側から貫通孔１１１ないし１１３の長さの略３０％ほどの位置において段部を有しており、貫通孔１１１ないし１１３と、これらより大径の座ぐり孔１２１ないし１２３とを結合している。管状導体１７１および１７３については、断面の大きい座ぐり孔１２１および１２３の領域が貫通孔１１１および１１３の領域よりも貫通孔１１２に向けてそれぞれ寄せられている。一方、管状導体１７２は、大径部の中心軸と小径部の中心軸とが略同一である。
【００３０】
このフィルタ装置１では、入出力端子１４１に入力された高周波信号は、等価的なキャパシタである入出力容量Ｃ１を介して共振器L1に入力される。共振器Ｌ１ないしＬ３相互間は、等価的に互いに並列接続された結合インダクタＬ１１ないしＬ１３および結合容量Ｃ１１ないしＣ１３を介して高周波的に結合している。そのため、座ぐり孔１２１に入力された高周波信号は、共振器L1ないしL3において共振する。共振器L3に共振して励起された高周波信号は、座ぐり孔１２３から等価的なキャパシタである入出力容量Ｃ２を介して入出力端子１４２に出力される。入出力端子１４２に高周波信号が入力される場合は、逆の手順により入出力端子１４１に高周波信号が出力される。
【００３１】
続いて、図１ないし図４を参照して、この実施形態に係るフィルタ装置１の構造と作用との関係について詳細に説明する。
【００３２】
この実施形態に係るフィルタ装置１では、共振器Ｌ１およびＬ３を構成する座ぐり孔１２１および１２３が、共振器列の中心に位置する座ぐり孔１２２に寄せるように形成されており、共振器Ｌ１ないしＬ３間の結合容量が結合インダクタよりも支配的な状態にある。すなわち、共振器Ｌ１ないしＬ３は、容量性結合（磁界性結合よりも容量性結合が支配的な状態）により高周波的に結合している。容量性結合をなすフィルタ装置は、通過周波数帯域の低周波側に減衰特性の極を生ずることが一般に知られている。
【００３３】
ところで、入出力端子Ｔ１およびＴ２を設けるために接地導体１３２に露出部を設けて電極１４１および１４２を形成すると、共振器の中心周波数が設計周波数よりも高い周波数にシフトすることが経験的に知られている。特に、この実施形態に係るフィルタ装置にように、補助電極１５５および１５６を設けるために接地導体１３３、１３５および１３６に誘電体部材露出領域を設けると、その傾向は大きくなる。これは、本来接地導体で囲まれるべき共振器Ｌ１ないしＬ３が、誘電体部材１０の露出部が増えることにより周波数特性が変化するためと考えられている。一方、こうして生じた周波数特性の変化を相殺すべく通過周波数帯域を全体的に低くするには、共振器Ｌ１ないしＬ３の共振長を長くする方法や、共振器Ｌ１ないしＬ３を構成する座ぐり孔１２１ないし１２３の径を大きくする方法が考えられる。
【００３４】
しかし、共振器Ｌ１ないしＬ３の共振長を長くする場合も、座ぐり孔１２１ないし１２３の径を大きくする場合も、フィルタ装置１全体の大きさを大きくしなければならない。従って、誘電体部材に設けた貫通孔を共振器として構成するフィルタ装置において小型化を図る上で障害となっていた。
【００３５】
この実施形態に係るフィルタ装置では、管状導体１７１ないし１７３の接地導体１３４における開口部近傍に切り欠き部１６５および１６６を設けることで、共振器Ｌ１およびＬ３の共振周波数を下げ、結果として通過帯域の周波数を下げることができるものである。すなわち、共振器Ｌ１およびＬ３に対応する管状導体１７１および１７３の接地側端近傍の接地導体を切削して誘電体部材１０を露出させたので、フィルタ装置１全体の大きさを大きくすることなく通過帯域の周波数を低い方向へシフトすることができる。より具体的には、管状導体１７１ないし１７３がなす列方向に対向する表面（側面１５および１６）の、当該管状導体１７１ないし１７３の接地側端の接地導体を切削して誘電体部材１０の露出部を設けたので、フィルタ装置１全体の大きさを大きくすることなく通過帯域の周波数を低い方向へシフトすることができる。
【００３６】
続いて、図２、図３および図５を参照してこの実施形態に係るフィルタ装置１の実施例について説明する。図５は、この実施形態に係るフィルタ装置の１実施例の通過特性（減衰特性）および反射特性を示す図である。
【００３７】
まず図２に示す誘電体部材１０として、比誘電率４５のセラミックを幅３．００ｍｍ、高さ１．４４ｍｍ、奥行（長さ）４．３２ｍｍの直方体に切り出した。そして、切り出した誘電体部材の正面１１（３．００ｍｍ×１．４４ｍｍの面）の短手方向の略中央位置に、直径０．４ｍｍの貫通孔１１１ないし１１３を３つ一列に形成した。貫通孔間の距離は、１ｍｍとした。正面における３つの貫通孔の断面について、長円の座ぐり孔１２１ないし１２３を形成した。このうち、両端の座ぐり孔１２１および１２３は、中央の座ぐり孔１２２に寄せるようにその中心軸を貫通孔１１１および１１３の貫通孔から偏心させた。
【００３８】
得られたフィルタ装置１の特性例を図５に示す。図５において、実線で示すのはフィルタ装置１の通過特性（減衰特性）であり、破線で示すのは同じく反射特性である。図５に示すように、通過周波数帯域の低周波側の減衰特性（減衰カーブ）が急峻であり、１．９ＧＨｚ付近に減衰の極が得られた。また、反射特性は、通過周波数帯域全域においておよそ１５ｄＢ以上であり、良好なフィルタ装置が得られた。
【００３９】
続いて、この実施形態に係るフィルタ装置の第１の変形例について説明する。図６および図７は、この実施形態のフィルタ装置１の第１の変形例を示す斜視図である。なお、図２および図３と同一の構成部分については同一の符号を付して示し、重複する説明は省略する。
【００４０】
図６および図７に示す変形例は、図２および図３に示す第１の実施形態と同様の貫通孔１１１ないし１１３、座ぐり孔１２１ないし１２３、接地導体１３２ないし１３６、電極１４１および１４２、ならびに補助電極１５５および１５６を有している。この変形例が第１の実施形態と異なるのは、側面１５および１６に形成された切り欠き部１６５および１６６に代えて、背面１４に切り欠き部２６５および２６６を形成した点である。
【００４１】
図７に示すように、この変形例に係るフィルタ装置２では、電極１４１および１４２が形成された平面１２と接する背面１４の長辺と、貫通孔１１１および１１３の短絡端との間に、それぞれ長辺が背面１４の長辺と平行の矩形の切り欠き部２６５および２６６が形成されている。切り欠き部２６５および２６６は、第１の実施形態における切り欠き部１６５および１６６と同様、共振器Ｌ１およびＬ３に対応する管状導体１７１および１７３の接地側に誘電体部材露出部を設けるものであり、共振器Ｌ１およびＬ３に対応する接地導体を減らすことでフィルタ装置２全体の通過周波数帯域全体を低周波側へシフトさせる作用をする。
【００４２】
次に、この実施形態に係るフィルタ装置の第２の変形例について説明する。図８は、この実施形態のフィルタ装置の第２の変形例を示す斜視図である。なお、図６および図７と同一の構成部分については同一の符号を付して示し、重複する説明は省略する。
【００４３】
第２の変形例においても、図６および図７に示す第１の変形例と同様、貫通孔１１１ないし１１３、座ぐり孔１２１ないし１２３、接地導体１３２ないし１３６、電極１４１および１４２、ならびに補助電極１５５および１５６を有している。この変形例が第１の変形例と異なるのは、背面１４に形成された切り欠き部２６５および２６６に代えて切り欠き部３６５および３６６を形成した点である。
【００４４】
図８に示すように、この変形例に係るフィルタ装置３では、背面１４の短辺に沿わせた矩形の切り欠き部３６５および３６６が形成されている。切り欠き部３６５および３６６は、第１の変形例における切り欠き部２６５および２６６と同様、共振器Ｌ１およびＬ３に対応する管状導体１７１および１７３の接地側に誘電体部材露出部を設けるものであり、共振器Ｌ１およびＬ３に対応する接地導体を減らすことでフィルタ装置３全体の通過周波数帯域全体を低周波側へシフトさせる作用をする。
【００４５】
さらに、この実施形態に係るフィルタ装置の第３の変形例について説明する。図９は、この実施形態のフィルタ装置の第３の変形例を示す斜視図である。なお、図６および図７と同一の構成部分については同一の符号を付して示し、重複する説明は省略する。
【００４６】
第３の変形例においても、図６および図７に示す第１の変形例と同様、貫通孔１１１ないし１１３、座ぐり孔１２１ないし１２３、接地導体１３２ないし１３６、電極１４１および１４２、ならびに補助電極１５５および１５６を有している。この変形例は、第１の実施形態に、第１の変形例の切り欠き部２５５および２５６と、第２の変形例の切り欠き部３６５および３６６とを追加したものである。
【００４７】
図８に示すように、この変形例に係るフィルタ装置４では、管状導体１７１ないし１７３における接地導体１３４と接する近傍に設けられた切り欠き部１６５および１６６と、電極１４１および１４２が形成された平面１２と接する背面１４の長辺と貫通孔１１１および１１３の短絡端との間に形成された切り欠き部２６５および２６６と、背面１４の短辺に沿わせた矩形の切り欠き部３６５および３６６とが形成されている。このように構成することで、共振器Ｌ１およびＬ３に対応する管状導体１７１および１７３の接地側に設けられる誘電体部材露出部の露出面積がより大きくなり、共振器Ｌ１およびＬ３に対応する接地導体領域をさらに減らしてフィルタ装置４全体の通過周波数帯域全体を低周波側へシフトさせることができる。
【００４８】
続いて、図１０および図１１を参照して、本発明の第２の実施形態について詳細に説明する。図１０および図１１は、第２の実施形態に係るデュプレクサ装置の全体構成を示す斜視図である。この実施形態に係るデュプレクサ装置は、本発明の第１の実施形態に係るフィルタ装置を用いてデュプレクサ装置を構成したものである。
【００４９】
図１０に示すように、このデュプレクサ装置５は、例えばセラミックなどの誘電体材料を直方体形状に形成した誘電体部材５０からなり、貫通孔５１１ないし５１７と、座ぐり孔５２１ないし５２６と、接地導体５３２ないし５３６と、電極５４１ないし５４３と、補助電極５５５および５５６と、切り欠き部５６５とが形成されている。貫通孔、座ぐり孔、電極、補助電極は、それぞれ第１の実施形態に係る貫通孔、座ぐり孔、電極、補助電極と対応している。
【００５０】
この実施形態に係るデュプレクサ装置５は、貫通孔５１１ないし５１３と座ぐり孔５２１ないし５２３とにより構成される共振器からなる通過帯域の低域側に減衰極を有するフィルタ装置と、貫通孔５１４ないし５１６と座ぐり孔５２４ないし５２６により構成される共振器からなる通過帯域の高域側に減衰極を有するフィルタ装置とを組み合わせたものである。
【００５１】
貫通孔５１１ないし５１６は、誘電体部材５０の正面５１から背面５４へ向けて貫通した貫通孔であり、略円形断面を有している。貫通孔５１１ないし５１６は、正面５１の短手方向の略中心位置で正面５１の長手方向にほぼ一列に形成されている。座ぐり孔５２１ないし５２６は、誘電体部材５０の正面５１から背面５４へ向けて形成された凹型領域（盲穴）であり、互いに略同一断面を有している。座ぐり孔５２１ないし５２６は、長軸が正面の短辺と平行となるような長円の断面を有している。座ぐり孔５２１および５２３は、第１の実施形態と同様に、その断面の中心軸がそれぞれ貫通孔５１１および５１３の同じく断面の中心軸と、正面５１の長手方向に互いに接近する方向に偏心して形成されている。すなわち、貫通孔５１１ないし５１３と座ぐり孔５２１ないし５２３は、互いに容量性結合をなしており、通過周波数帯域の低周波側に極をもつフィルタ装置を構成している。一方、座ぐり孔５２４および５２６は、その断面の中心軸がそれぞれ貫通孔５１４および５１６の同じく断面の中心軸と、正面５１の長手方向に互いに離間する方向に偏心して形成されている。すなわち、貫通孔５１４ないし５１６と座ぐり孔５２４ないし５２６は、互いに磁界性結合をなしており、通過周波数帯域の高周波側に極を持つフィルタ装置を構成している。
【００５２】
電極５４１および５４２は、平面５２上における正面５１近傍に、矩形形状に取り囲むような誘電体部材５０の露出部を設けることにより形成された矩形の面状導体領域であり、座ぐり孔５２１および５２６と等価的入出力容量を介して結合し、電極５４３は、貫通孔５１７と接続されている。貫通孔５１７は座ぐり孔５２３および５２４と電磁的に結合している。すなわち、このデュプレクサ装置５は、電極５４３をアンテナ端子、電極５４１及び５４２を送信或いは受信端子としたデュプレクサを構成している。
【００５３】
そして、貫通孔５１１および５１６と貫通孔列方向に対向する側面５５には、貫通孔５１１の接地端側に切り欠き部５６５が形成され、誘電体部材５０の露出領域が形成されている。従って、このデュプレクサ装置５では、切り欠き部５６５を有するので、電極５４１や補助電極５５５を形成する誘電体露出部に起因する通過周波数帯のずれを、貫通孔や座ぐり孔の大きさを大きくすることなく調整することができる。
【００５４】
続いて、図１２および図１３を参照して、本発明の第２の実施形態の変形例について説明する。図１２および図１３は、第２の実施形態の変形例に係るデュプレクサ装置の全体構成を示す斜視図である。この実施形態に係るデュプレクサ装置は、本発明の第２の実施形態に係るデュプレクサ装置について、低域側に減衰極を有するフィルタ装置にのみ切り欠き部６６５を設けたものである。この変形例に係るデュプレクサ装置６においても、切り欠き部６６５を有するので、低域側に減衰極を有するフィルタ装置側に生じる通過帯域周波数帯のシフトを、貫通孔および座ぐり孔の多きさを大きくすることなく補整することができる。
【００５５】
なお、本発明は上記実施形態のみに限定されるものではない。
上記実施形態では、フィルタ装置の誘電体部材を直方体としているが、これには限定されない。すなわち、貫通孔および座ぐり孔からなる共振器が同一方向に併設されるものであれば、同様の効果を得ることができる。
【００５６】
また、上記実施形態では、誘電体部材をセラミックにより構成しているが、これにも限定されない。すなわち、フィルタ装置を構成するのに適した比誘電率を有する誘電体材料であれば、同様に適用することができる。
さらに、上記実施形態では、特性周波数を調整する切り欠き部を、フィルタ装置の入出力端子が形成された平面の両側面端部や、接地された貫通孔開口部が形成された背面端部等に形成しているが、これにも限定されない。すなわち、接地された貫通孔開口部と入出力端子をなす電極部との間の外周面上の位置、より好ましくは、当該接地された貫通孔開口部に寄せた位置に形成されていても同様の効果を奏することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明は、電気通信機器製造業等に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の第１の実施形態のフィルタ装置の原理的回路構成を示す図である。
【図２】この実施形態に係るフィルタ装置の外観を示す斜視図である。
【図３】この実施形態に係るフィルタ装置の外観を図２と逆の視点から示した斜視図である。
【図４】図２の矢視ＡＢから底面方向の断面を示す断面図である。
【図５】この実施形態に係るフィルタ装置の１実施例の特性例を示す図である。
【図６】この実施形態のフィルタ装置の第１の変形例の外観を示す斜視図である。
【図７】この実施形態のフィルタ装置の第１の変形例の外観を図６と逆の視点から示した斜視図である。
【図８】この実施形態のフィルタ装置の第２の変形例の外観を示す斜視図である。
【図９】この実施形態のフィルタ装置の第３の変形例の外観を示す斜視図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態に係るデュプレクサ装置の外観を示す斜視図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態に係るデュプレクサ装置の外観を図１０と逆の視点から示す斜視図である。
【図１２】本発明の第２の実施形態に係るデュプレクサ装置の変形例の外観を示す斜視図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係るデュプレクサ装置の変形例の外観を図１２と逆の視点から示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５９】
１…フィルタ装置、５…デュプレクサ装置、１０…誘電体部材、１１…正面、１２…平面、１３…底面、１４…背面、１５，１６…側面、１１１ないし１１３…貫通孔、１２１ないし１２３…ざぐり孔、１３２ないし１３６…接地導体、１４１，１４２…入出力端子、１５５，１５６…補助電極、１６５，１６６，２６５，２６６，３６５，３６６…切り欠き部、１７１ないし１７３…管状導体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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