(57)【要約】【課題】  有機材料に効率的に電子線照射を行って架橋等の改質処理が行えるとともに分解生成物を抑制して照射室等システムの健全性阻害を防止し、被照射物の内部に分解生成物が留まり品質劣化が生じることも防止できる電子線照射システム及び電子線照射方法。【解決手段】  電子線照射システム及び電子線照射方法を、電子線照射を出射する電子線照射装置と、被照射物として有機材料を搬入・搬出するためのコンベアと、被照射物に対して第１の所定の範囲の温度に加熱して電子線照射を行う照射室と、照射室に接続し電子線照射後の被照射物を第２の所定の範囲の温度に加熱する揮発室とを有し、第１の所定の範囲の温度は電子線照射を受けた被照射物から放出する分解生成物の量が照射室の健全性を阻害する有意量とならない範囲の温度とし、第２の所定の範囲の温度は有機材料内に残留する分解生成物が放出される範囲の温度とするように構成した。【選択図】            図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射処理に供する電子線照射を出射する電子線照射装置と、被照射物として有機材料を電子線照射システム内に搬入・搬出するためのコンベアと、当該被照射物に対して第１の所定の範囲の温度に加熱して電子線照射を行う照射室と、同照射室に接続し同照射室から電子線照射後の前記被照射物が移送され同被照射物を第２の所定の範囲の温度に加熱する揮発室とを有し、前記第１の所定の範囲の温度は電子線照射を受けた前記被照射物から放出する分解生成物の量が前記照射室の健全性を阻害する有意量とならない範囲の温度とし、前記第２の所定の範囲の温度は前記電子線照射を受けた前記有機材料内に残留する前記分解生成物が放出される範囲の温度としてなることを特徴とする電子線照射システム。
【請求項２】
請求項１に記載の電子線照射システムにおいて、前記第１の所定の温度の範囲は、常温以上で前記有機材料のガラス転移温度未満の範囲において設定されることを特徴とする電子線照射システム。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の電子線照射システムにおいて、前記第２の所定の温度の範囲は、前記第１の所定の温度以上で融点未満の所定の範囲において設定されてなることを特徴とする電子線照射システム。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の電子線照射システムにおいて、前記照射室と揮発室はそれぞれの排風機を備え、前記照射室内の領域より前記揮発室内の領域のほうが低圧となるように前記各排風機の吸引圧を設定してなることを特徴とする電子線照射システム。
【請求項５】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の電子線照射システムにおいて、前記照射室と揮発室の接続部分にエアカーテンを備えてなることを特徴とする電子線照射システム。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の電子線照射システムを用い、前記被照射物としての有機材料を前記照射室内に送入して前記第１の所定の範囲の温度に加熱し、前記電子線発生部からの電子線を照射して前記有機材料の照射処理を行い、次いで、電子線照射された前記被照射物を前記揮発室に送り、前記第２の所定の範囲の温度に加熱することを特徴とする電子線照射方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機材料に対して電子線照射を行って架橋等の改質処理を行う電子線照射システム及び電子線照射方法に関し、当該改質処理を高効率で実施可能にせしめると共に当該改質処理時に発生する分解生成物の被照射物への残留量を低減させることを可能とする電子線照射システム及び電子線照射方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリテトラフロロエチレン（ＰＴＦＥ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の有機材料に電子線を照射して、架橋等の改質処理を施して材料の強化、耐熱性向上、濡れ性改善等が行われる。
【０００３】
従来、一般的な電子線照射システムの構成は、例えば特開平２００２−３３３４９９号（特許文献１）に記載されるものを図３に示すように、図示しない真空排気装置により内部に真空領域Ａを形成する真空容器０６内に電子線発生部０４を設け、真空容器０６内で図示しない加速電源及び加速電極により所定エネルギまで加速発生させた電子線０２を、真空領域Ａと大気圧領域Ｂとを隔絶する照射窓０３を通して大気圧領域Ｂ中に出射させる。これによって、照射窓０３に対峙して配置された被照射物０７への照射処理が行われる。なお、通常、電子線照射は常温で行われる。
【０００４】
照射窓０３内において、電子線と当該窓材自身との相互作用により、当該照射窓０３に入射した電子線０２はエネルギ損失及び反射逸損を生じる。また、照射窓０３は真空領域Ａと大気圧領域Ｂとの差圧（約１気圧）に耐える強度を有する必要がある。本目的に合致するために、照射窓０３には、例えば厚さ１０数μｍ程度のチタン箔が用いられる。
【０００５】
上記特許文献１においては、前記エネルギ損失に基づく照射窓０３の過加熱を防ぐため冷却ノズル０５からの冷却用気体で照射窓０３を冷却することにつき記載されているが、以下に述べる本発明の目的とする被照射物からの分解生成物発生による問題の抑制については示されていない。
【０００６】
本発明に係る有機材料の電子線照射による照射処理においては、被照射物０７としての有機材料は通常シート状のものであり、連続巻取りシートあるいは枚葉シートとして照射窓０３に対峙して搬送されつつ照射を受けるが、大気圧領域Ｂは、処理内容に応じて雰囲気制御（空気の窒素置換等）を行うため図３中、２点鎖線で示すように照射室０８として区画された空間に形成される。
【０００７】
しかしながら、有機材料に電子線を照射した場合、ポリマ鎖の切断や官能基の脱離等が起こり、分解生成物を生じる。有機材料には酸化防止剤等の添加剤が含まれていることもあり、分解生成物は多種類に亘る。このうち一部は揮発性や腐食性が高いものもある。有機材料への照射処理時には一般に雰囲気温度が高いほどを架橋等の照射効果が促進されるが、本対応を行った場合、併せて放出量が促進される当該分解生成物は照射室内０８を漂い、照射室０８内面に付着し、腐食等により装置の健全性に支障をきたす可能性がある。特に照射窓０３は前述のとおり薄膜であるため腐食による肉厚減損に伴う強度劣化で大気圧と真空との差圧保持を行い得なくなること、照射窓面への当該分解性生物付着による電子線エネルギ損失量増大や照射窓冷却効率低下を生じること等のために、結果として電子線照射システムに甚大な影響を及ぼす恐れが大きい。このため、例えば前述のように加熱雰囲気にて被照射物０７の電子線照射処理をして、結果として価値劣化にも繋がっていた。
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−３３３４９９号公報（第２頁、図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、有機材料に効率的に電子線照射を行って架橋等の改質処理が行えるとともに電子線照射時の分解生成物の放出量を抑制して当該分解生成物による照射室内構成要素の健全性阻害を防止し、併せ被照射物の内部に分解生成物が留まり被照射物の品質劣化が生じることも防止できる電子線照射システム及び電子線照射方法を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記の課題を解決するためになされ、下記の（１）から（６）の手段を提供するものであり、以下、特許請求の範囲に記載の順に説明する。
【００１１】
（１）その第１の手段として、照射処理に供する電子線照射を出射する電子線照射装置と、被照射物として有機材料を電子線照射システム内に搬入・搬出するためのコンベアと、当該被照射物に対して第１の所定の範囲の温度に加熱して電子線照射を行う照射室と、同照射室に接続し同照射室から電子線照射後の前記被照射物が移送され同被照射物を第２の所定の範囲の温度に加熱する揮発室とを有し、前記第１の所定の範囲の温度は電子線照射を受けた前記被照射物から放出する分解生成物の量が前記照射室の健全性を阻害する有意量とならない範囲の温度とし、前記第２の所定の範囲の温度は前記電子線照射を受けた前記有機材料内に残留する前記分解生成物が放出される範囲の温度としてなることを特徴とする電子線照射システムを提供する。
【００１２】
（２）第２の手段としては、第１の手段の電子線照射システムにおいて、前記第１の所定の温度の範囲は、常温以上で前記有機材料のガラス転移温度未満の範囲において設定されることを特徴とする電子線照射システムを提供する。
【００１３】
（３）また、第３の手段として、第１または第２の手段の電子線照射システムにおいて、前記第２の所定の温度の範囲は、前記第１の所定の温度以上で融点未満の所定の範囲において設定されてなることを特徴とする電子線照射システムを提供する。
【００１４】
（４）第４の手段として、第１ないし第３の手段のいずれかの電子線照射システムにおいて、前記照射室と揮発室はそれぞれの排風機を備え、前記照射室内の領域より前記揮発室内の領域のほうが低圧となるように前記各排風機の吸引圧を設定してなることを特徴とする電子線照射システムを提供する。
【００１５】
（５）第５の手段として、第１ないし第３の手段のいずれかの電子線照射システムにおいて、前記照射室と揮発室の接続部分にエアカーテンを備えてなることを特徴とする電子線照射システムを提供する。
【００１６】
（６）第６の手段として、第１ないし第５の手段のいずれかの電子線照射システムを用い、前記被照射物としての有機材料を前記照射室内に送入して前記第１の所定の範囲の温度に加熱し、前記電子線発生部からの電子線を照射して前記有機材料の照射処理を行い、次いで、電子線照射された前記被照射物を前記揮発室に送り、前記第２の所定の範囲の温度に加熱することを特徴とする電子線照射方法を提供する。
【発明の効果】
【００１７】
（１）特許請求の範囲に記載の請求項１の発明によれば、電子線照射システムを上記第１の手段のように構成したので、分解生成物による照射室等電子線照射システムの構成要素の健全性を担保しつつ、被照射物に対して効率的架橋等の改質処理を遂行し且つ当該被照射物への分解生成物残留量を低減し得る。
【００１８】
（２）請求項２の発明によれば、電子線照射システムを上記第２の手段のように構成したので、請求項１の発明の作用効果に加え、被照射物の直接的な支持を行い得ない照射室内の電子線照射領域においても、弾性率の急激な減少を伴うことなく、被照射物の搬送健全性を保ち得る。
【００１９】
（３）請求項３の発明によれば、電子線照射システムを上記第３の手段のように構成したので、請求項１または請求項２の発明の作用効果に加え、被照射物の直接的な支持を行い得る揮発室内おいて、分解生成物の被照射物外への放出を充分に促進し得る。
【００２０】
（４）請求項４の発明によれば、電子線照射システムを上記第４の手段のように構成したので、請求項１ないし請求項３のいずれかの発明の作用効果に加え、照射室と揮発室から揮発・放出した分解生成物が排出されるとともに連通孔を介して揮発室から照射室へ気体が流入することを実質的に阻止し、揮発室で積極的に放出させた分解生成物が照射室内に入り、照射室内の構成機器の健全性への影響、特に照射窓の機能を阻害することを、効果的に防止することができる
（５）請求項５の発明によれば、電子線照射システムを上記第５の手段のように構成したので、請求項１ないし請求項３のいずれかの発明の作用効果に加え、連通孔を介して揮発室から照射室へ気体が流入することを実質的に阻止し、揮発室で積極的に放出させた分解生成物が照射室内に入り、照射室内の構成機器の健全性への影響、特に照射窓の機能を阻害することを、効果的に防止することができる
（６）請求項６の発明によれば、電子線照射システムを上記第６の手段のように構成したので、請求項１ないし請求項５のいずれかの発明の作用効果により、分解生成物による照射室等電子線照射システムの構成要素の健全性も害することなく、被照射物に対して効率的架橋等の改質処理を遂行し且つ当該被照射物への分解生成物残留量を低減し得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明を実施するための最良の形態として、以下に実施例１及び実施例２を説明する。
【実施例１】
【００２２】
図１に基づき本発明の実施例１に係る電子線照射システムを説明する。図１は本実施例の電子線照射システムの模式的な構成概要図であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は（ａ）中Ｘ部の拡大断面図である。
【００２３】
図に示すように、電子線照射システム１は、電子線を出射する電子線照射装置６、被照射物７としての有機材料に電子線照射を行う照射室８と、それに連なり電子線照射後の被照射物７を加熱して被照射物７から分解生成物（以下、単に「分解生成物」という）の放出を促進させる揮発室２０とを備えている。
【００２４】
照射室８はＸ線に対する遮蔽性を有する壁部８ａ囲まれた筐体であり、その内部は後述のように分解生成物を排出するための排気を行うので、内部はその排気圧だけ大気圧より低い略大気圧領域Ｃとなる。当該照射室上部には図示しない真空排気装置によって内部に真空領域Ａが形成されている電子線照射装置６が設置してある。本電子線照射装置６は、真空容器内に設けられた電子線発生部４から放出された電子線２を、図示しない加速電源により１００ｋＶ〜３００ｋＶ程度にまで加速した後に、照射窓３を介して略大気圧領域Ｃに出射する。これにより照射室８内の被照射物７に対して電子線照射を行う。
【００２５】
本実施例における被照射物７は、電子線照射によって照射処理を施される巻取りシート状の有機材料であり、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリテトラフロロエチレン（ＰＴＦＥ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の種々のプラスチックシート部材である。被照射物７は図示しない巻取りシート供給装置から供給路９を介して照射室８の入口１０から照射室８内に送り込まれ、照射窓３に対峙する位置を通過して連通孔１１から出て揮発室２０へ送られる。
【００２６】
揮発室２０は、壁部が遮蔽壁２０ａで囲まれた筐体であり、後述のように分解生成物を排出するために排気を行うので、内部はその排気圧だけ大気圧より低い略大気圧領域Ｄとなる。被照射物７は揮発室２０内を通過し出口１２から外部へ出て取出路１３経由で図示しない巻取り装置を含む後流工程に送られる。ここで、上記巻取りシート供給装置、巻取り装置は被照射物７を電子線照射システム内に搬入、搬出するためのコンベアとなる。
【００２７】
なお、取出路１３は図示のように屈曲路に形成され屈曲部はローラ１３ａによってガイドされる。なお、供給路９も同様に図示しない屈曲路に形成され屈曲部において被照射物７はローラによってガイドされる。また、上記の遮蔽壁８ａ、２０ａ、及び供給路９、取出路１３の屈曲路は、照射室８における電子線照射によって微量に発生する放射線を装置外に放出させないように遮蔽するためのものである。
【００２８】
照射室８において、通過する被照射物７を挟んで照射窓３の反対側には反射板１４が設けられ、被照射物７の送り方向において反射板１４の上流側および下流側には被照射物７を挟んでヒータ１５が設けられ、ヒータ１５の周りには熱遮蔽板１５ａが設けられている。また、照射室８の上部に吸引口１７ｂを位置させて排風機１７の排気ダクト１７ａが設けられ、照射室８内に発生した分解生成物を系外に排気するようになっている。なお、照射窓３への分解生成物付着防止のため、排風機１７の吸引口１７ｂは照射室８の上部で且つ照射窓３近傍となる位置に配置されることが望ましい。
【００２９】
反射板１４は、被照射物７に照射されてさらに被照射物７を透過した電子線２が照射室８内の他のものに不要に照射され過熱等の問題が生じるのを防止するとともに、反射した電子線で再度、被照射物７を照射して照射処理効率を向上させるものであり、高原子番号材である金などをコーティングした、またはタンタル板、タングステン板などを取り付けた、水冷銅ブロックなどで構成される。
【００３０】
また、ヒータ１５は、被照射物７を所定の範囲の温度まで加熱した状態で電子線照射を行い、効率のよい照射処理を行うためのものであるが、加熱によって被照射物７から放出される分解生成物は照射窓３付着などにより照射室８等電子線照射システムの健全性に甚大な影響を及ぼす恐れがあることは前述の通りである。
【００３１】
そこで、照射室８内のヒータ１５は、被照射物７から有意量（照射室８の健全性を阻害する量）の分解生成物が発生しない（分解生成物の発生を所定の範囲内とする）所定の範囲の温度（本発明の「第１の所定の範囲の温度」）に加熱するように設定され、あるいは図示しない温度検知器等により温度制御される。その温度の範囲は、電子線照射による効果的な照射処理とともに電子線照射時における有機材料の物理的性質の変化を避けるため、例えば常温以上で被照射物７としての有機材料のガラス転移温度未満の範囲内において設定する。したがって、照射室８内の電子線照射領域において被照射物７の直接的な支持を行い得ない場合も、弾性率の急激な減少を伴うことなく、被照射物７の搬送健全性を保ち得る。
【００３２】
なお好ましくは、照射室８内を内部筐体１６で仕切り、照射窓３は内部筐体１６内に位置するように配置し、被照射物７は内部筐体１６内を通過し、内部筐体１６内に反射板１４、ヒータ１５、熱遮蔽板１５ａ等を配置して、吸引口１７ｂは内部筐体１６内に向けて開口するようにすれば、排気効率、加熱効率が向上する。
【００３３】
揮発室２０内には、通過する被照射物７を挟むようにヒータ２１が設けられ、ヒータ２１の周りには熱遮蔽板２１ａが設けられている。また、必要に応じて搬送される被照射物７を支持する図示しない摺動板、摺動用ワイヤ、ネット等を設けてもよい。照射処理により発生した分解生成物の一部は当該被照射物内に留まって被照射物７を品質劣化させる恐れがあるので、揮発室２０では、照射室８を出た後の被照射物７としての有機材料内に残る分解生成物の放出が促進される範囲の温度（本発明の「第２の所定の範囲の温度」）に被照射物を加熱させるものであり、ヒータ２１はそのように設定され、あるいは図示しない温度検知器等により温度制御される。その温度の範囲は、分解生成物の放出を促進し且つ被照射物７の変質、変形を避けるため、第１の所定の範囲の温度よりも高く且つ融点未満の範囲内、例えばガラス転移温度以上、融点未満の範囲内、において設定されることが好ましく、揮発室２０内において被照射物７の直接的な支持を行い得る場合は、分解生成物の被照射物７外への放出を充分に促進し得る。
【００３４】
したがって、揮発室２０にも、分解生成物排出のため排風機２２の排気ダクト２２ａが設けられ、揮発室２０内の空気、ガスを室外に排気するようになっている。なお、照射室８の排風機１７、揮発室２０の排風機２２は共に適宜な排ガス処理器に接続されるのが好ましい。
【００３５】
照射室８と揮発室２０を結ぶ連通孔１１の揮発室２０側には、図１（ｂ）に示すように、エアカーテンノズル２３が設けられ、図示しないエアカーテン気体供給装置からエアカーテン気体２４が供給されエアカーテンを形成することで、連通孔１１を介して揮発室２０から照射室８へ気体が流入することを実質的に阻止し、揮発室２０で積極的に放出させた分解生成物が照射室８内に入り、昭射室８内の構成機器の健全性への影響を防止し、特に照射窓３の機能を阻害することを防止するようになっている。なお、エアカーテンを設けることに代えて、照射室８の略大気圧領域Ｃより揮発室２０の略大気圧領域Ｄのほうが低圧となるように排風機１７、２２の吸引圧を設定することで、同様に連通孔１１を介して揮発室２０から照射室８へ気体が流入することを実質的に阻止してもよく、その両者を合わせ備えてもよい。
【００３６】
以上のように構成された本実施例の電子線照射システム１による電子線照射方法によれば、下記のように巻取りシート状の有機部材である被照射物７は電子線照射による架橋等の改質処理が施される。
【００３７】
被照射物７としての有機材料を照射室８内に送入し、被照射物７から有意量（照射室８の健全性を阻害する量）の分解生成物が発生しない（分解生成物の発生を所定の範囲内とする）所定の範囲の温度で、例えば常温以上でその有機材料のガラス転移温度未満において、加熱して電子線照射装置６から照射窓３を介して電子線２を照射し、照射処理を行う。
【００３８】
前記第１の所定の範囲の温度に加熱され電子線照射が行われるので、被照射物７からは分解生成物の発生が前記有意量以下に止まり、排風機１７による排気により分解生成物が照射室８から排出されるため、分解生成物による照射室８内部機器、特に照射窓３の健全性に悪影響が生じることが防がれ、また、有機材料の弾性係数等物理的性質への影響も防止される。そして、ヒータ１５による加熱により効率的に照射処理が施される。
【００３９】
また、反射板１４は被照射物７を透過した電子線２を反射して被照射物７に照射させるので、被照射物７に充分な照射処理を施せると共に、透過した電子線２が照射室３内部を不要に照射し加熱することも防止される。
【００４０】
次いで、電子線照射による照射処理済の被照射物７を、連通孔１１を通し揮発室２０に送り、ヒータ２１により前記第２の所定の範囲の温度、例えば第１の所定の範囲の温度以上、融点未満の温度に一時加熱することで、被照射物７内部に留まっていた分解生成物を放出するので、被照射物７に留まっている分解生成物による有機部材の品質劣化が防止される。
【００４１】
放出された分解生成物は、排風機２２により揮発室２０から排出されるとともに、分解生成物を放出した被照射物７は、出口１２から取り出されるが、連通孔１１はエアカーテンノズル２３からのエアカーテン気体２４によるエアカーテンにより、あるいは揮発室２０の略大気圧領域Ｄを照射室８の略大気圧領域Ｃより低圧に設定することにより、揮発室２０から照射室８へ分解生成物が侵入することが防止され、照射室８内での前記の問題を発生させることが防止される。
【００４２】
また、照射室８、揮発室２０はともに壁部が遮蔽壁８ａ、２０ａで覆われる構造であるとともに、被照射物７の出入り部分である入口１０、出口１２はともに屈曲路に形成された供給路９、取出路１３に接続しており、連通孔１１も遮蔽壁８ａ、２０ａの延長部で覆われているため、電子線照射によって微量発生する放射線が外部に放出されることも防止される。
【００４３】
以上の本実施例の電子線照射システム、また、電子線照射方法によって、被照射物７としての有機材料には、照射室８において適切な加熱下、効率的な照射処理を施すことができ、且つ分解生成物による機器への悪影響等が防止され、また、被照射物７内部に発生し留まっていた分解生成物を揮発室２０において放出させることができ、事後の品質劣化の恐れを取り除くことができる。
【実施例２】
【００４４】
図２に基づき本発明の実施例２に係る電子線照射システムを説明する。図２は本実施例の電子線照射システムの模式的な構成概要図であり、縦断面図である。
【００４５】
図に示すように、本実施例の電子線照射システム１′は、電子線照射によって照射処理を施される被照射物７′としての有機材料が、枚葉状の有機材料、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリテトラフロロエチレン（ＰＴＦＥ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等種々のプラスチックシート部材が枚葉状のものである点が実施例１と異なり、被照射物７′は適宜の被照射物供給機１９から照射室８の入口１０経由で照射室８内に送り込まれ、揮発室２０から出口１２経由で適宜の被照射物取出機２７へ取り出されることと、連続した巻取りシート状でないため、照射室８、揮発室２０内に設けられたコンベア１８、２５、２６、連通孔１１に設けられたコンベア１１ａによって搬送されることが異なることを除き、前述の実施例１と同じである。また、図２中Ｙ部には、図１中Ｘ部と同様にエアカーテンが備えられておる。
【００４６】
コンベア１８、２５は、特に種類を限定するものではないが、照射室８のコンベア１８は、電子線２の照射に耐えられるもので、反射板１４からの反射電子線を再度被照射物７′に照射することができるものが好ましく、例えば上流端、下流端のスプロケット間に渡された循環ワイヤによるものである。揮発室２０のコンベア２５は、被照射物７′の一時加熱に絶えられるものであり、例えば同様に上流端、下流端のスプロケット間に渡された循環ワイヤによるものである。
【００４７】
図２に示す実施例２の揮発室２０においては、ヒータ２１の熱遮蔽板２１ａを出た後は別のコンベア２６が搬送を行い、また、連通孔１１においては、ローラコンベア１１ａを設けているが、コンベアの配置、種類は搬送形態によって適宜のものとしてよい。また、被照射物供給機１９、被照射物取出機２７は適宜の遮蔽構造を備え、電子線照射に伴い微量発生する放射線が外部に放出されないように構成される。
【００４８】
本実施例の電子線照射システム、また、電子線照射方法によれば、電子線照射による照射処理、照射室８における温度調整、分解生成物発生抑制及び排出、揮発室２０における温度調整、分解生成物放出、及び排出、連通孔１１での揮発室２０から照射室８への分解生成物の侵入防止等の作用効果は、上記実施例１と同様に奏するものとなる。
【００４９】
前記実施例１のように巻取りシート状のプラスチックシートのような被照射物７の場合は被照射物７搬送のためのコンベア類を照射室８、揮発室２０外に設けて、照射室８、揮発室２０内に設けることが不要な場合が多く装置構造を簡潔にし易いのに対して、本実施例の場合は装置構成が内部に設けたコンベア類で複雑になり易い面があるが、特に本実施例は、硬質であったり、平面性が重視されたりして、巻取りシート状としてハンドリングするに適しないプラスチックシート等の有機材料の照射処理に適合するものとなる。
【００５０】
以上、本発明を図示の実施例について説明したが、本発明は上記の実施例に限定されず、本発明の範囲内でその具体的構造、構成に種々の変更を加えてよいことはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の実施例１に係る電子線照射システムの模式的な構成概要図であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は（ａ）中Ｘ部の拡大断面図である。
【図２】本発明の実施例２に係る電子線照射システムの模式的な構成概要図であり、縦断面図である。
【図３】従来の電子線照射システムの模式的な構成概要図であり、縦断面図である。
【符号の説明】
【００５２】
１、１′            電子線照射システム
２                  電子線
３                  照射窓
４                  電子線発生部
６                  電子線照射装置
７、７′            被照射物
８                  照射室
８ａ                遮蔽壁
９                  供給路
１０                入口
１１                連通孔
１１ａ              コンベア
１２                出口
１３                取出路
１５                ヒータ
１６                内部筐体
１７                排風機
１８                コンベア
１９                被照射物供給機
２０                揮発室
２０ａ              遮蔽壁
２１                ヒータ
２２                排風機
２５                コンベア
２６                コンベア
２７                被照射物取出機
【図１】
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【図２】
2006322718.tif 000004
【図３】
2006322718.tif 000005