(57)【要約】【課題】  駆動用モータの動力伝達機構により、リフター機構の高さが高くなることのないリフター機構等を提供する。【解決手段】  アクチュエータ１９１により正逆回転されるリードねじ１９２と、左右雄ねじ部２０２ａ、ｂにそれぞれ螺合する左右雌ねじ部材１９３，１９３と、左右雌ねじ部材１９３，１９３のスライド移動を動力変換して、これを昇降させる運動変換機構１９４と、を備え、運動変換機構１９４は、右雌ねじ部材１９３に固定され第１カム溝２３３を有する第１運動変換部材２２１と、左雌ねじ部材１９３に固定され第２カム溝２３３を有する第２運動変換部材２２１と、第１、第２運動変換部材をスライド自在に支持するスライドガイド２２２と、第１、第２カム溝２３３，２３３にそれぞれ係合する第１、第２従動子２５３、２３３を有し、ピンベース１７２を昇降自在に支持する昇降部材２２３と、を有する。【選択図】  図６
2006068675.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のリフターピンを立設したピンベースを昇降させることにより、ワークをセットするセットテーブルに形成した複数の遊挿孔から前記複数のリフターピンを出没させ、前記セットテーブルの直上に位置しワークが搬出入される搬出入位置と、前記セットテーブル上に位置するセット位置と、の間でワークを昇降させるリフター機構において、
前記ピンベースを昇降させるための動力源となるアクチュエータと、
同軸上に同一ピッチの右雄ねじ部および左雄ねじ部を有して水平に延在し、前記アクチュエータにより正逆回転されるリードねじと、
前記右雄ねじ部に螺合する右雌ねじ部材と
前記左雄ねじ部に螺合する左雌ねじ部材と、
前記ピンベースを昇降自在に支持し、前記右雌ねじ部材および前記左雌ねじ部材のスライド移動を前記ピンベースの昇降動に動力変換して、前記ピンベースを昇降させる運動変換機構と、を備え、
前記運動変換機構は、前記右雌ねじ部材に固定され、前記右雌ねじ部材の進退方向に延在する第１カム溝を有する第１運動変換部材と、
前記左雌ねじ部材に固定され、前記第１カム溝と鏡映対称な第２カム溝を有する第２運動変換部材と、
前記リードねじの延在方向に対して、前記第１運動変換部材および前記第２運動変換部材をスライド自在に支持するスライドガイドと、
前記第１カム溝に係合する第１従動子と前記第２カム溝に係合する第２従動子とを有し、前記ピンベースを水平姿勢のまま昇降自在に支持する昇降部材と、を有していることを特徴とするリフター機構。
【請求項２】
複数のリフターピンを立設したピンベースを昇降させることにより、ワークをセットするセットテーブルに形成した複数の遊挿孔から前記複数のリフターピンを出没させ、前記セットテーブルの直上に位置しワークが搬出入される搬出入位置と、前記セットテーブル上に位置するセット位置と、の間でワークを昇降させるリフター機構において、
前記ピンベースを昇降させるための動力源となるアクチュエータと、
同軸上に同一ピッチの右雄ねじ部および左雄ねじ部を有して水平に延在し、前記アクチュエータにより正逆回転されるリードねじと、
前記右雄ねじ部に螺合する右雌ねじ部材と
前記左雄ねじ部に螺合する左雌ねじ部材と、
前記ピンベースを昇降自在に支持し、前記右雌ねじ部材および前記左雌ねじ部材のスライド移動を前記ピンベースの昇降動に動力変換して、前記ピンベースを昇降させる運動変換機構と、を備え、
前記運動変換機構は、前記右雌ねじ部材に固定され、前記右雌ねじ部材の進退方向に延在する第１リブを有する第１運動変換部材と、
前記左雌ねじ部材に固定され、前記第１リブと鏡映対称な第２リブを有する第２運動変換部材と、
前記リードねじの延在方向に対して、前記第１運動変換部材および前記第２運動変換部材をスライド自在に支持するスライドガイドと、
前記第１リブを挟持する一対の第１従動子と前記第２リブを挟持する一対の第２従動子とを有し、前記ピンベースを水平姿勢のまま昇降自在に支持する昇降部材と、を有していることを特徴とするリフター機構。
【請求項３】
前記ピンベースおよび前記運動変換機構は、重なり合うよう配設されており、
前記ピンベースには、スライド移動する前記第１運動変換部材および前記第２運動変換部材との干渉を避けるための開口が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のリフター機構。
【請求項４】
前記第１従動子および前記第２従動子は、ローラフォロアで構成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のリフター機構。
【請求項５】
前記スライドガイドは、前記第１運動変換部材を支持する第１スライダと、
前記第２運動変換部材を支持する第２スライダと、
前記リードねじの延在方向に延在し、前記第１スライダおよび前記第２スライダをスライド自在に支持すると共に、これらのスライド移動を案内するスライドレールと、を有するＬＭガイドで構成されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のリフター機構。
【請求項６】
前記右雄ねじ部とこれに螺合する前記右雌ねじ部材、および前記左雄ねじ部およびこれに螺合する左雌ねじ部材は、それぞれボールねじで構成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のリフター機構。
【請求項７】
セットテーブルにセットしたワークに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動することにより、前記ワーク上に機能液を吐出して描画を行う液滴吐出装置において、
請求項１ないし６のいずれかに記載のリフター機構を備え、当該リフター機構を用いて、前記セットテーブルに対して、ワークの除給を行うことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
請求項７に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項７に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項９に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークをセットするセットテーブルに形成した複数の遊挿孔から複数のリフターピンを出没させ、セットテーブルの直上に位置しワークが搬出入される搬出入位置と、セットテーブル上に位置するセット位置と、の間でワークを昇降させるリフター機構、これを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、セットテーブル（基板保持台）に形成した複数の遊挿孔から複数のリフターピン（突き上げピン）を昇降させることにより、セットテーブルに対してワーク（基板）を離接させるリフター機構（基板突き上げ機構）が知られている。リフター機構は、複数のリフターピンと、複数のリフターピンを立設したピンベース（突き上げ板）と、ピンベースに配設した２個の従動子と、２個の従動子に係合する２条のカム溝を有した円筒溝カムと、減速器を介して駆動用モータおよび円筒溝カムを連結するベルトプーリ機構と、を備えている。ベルトプーリ機構は、ピンベースの昇降に干渉しないように、円筒溝カムの下側に設けられており、円筒溝カムの下端部には、タイミングベルトを架け渡すための（従動）プーリが固定されている。そして、駆動用モータを駆動すると、ベルトプーリ機構を介して円筒溝カムが正逆回転して、２個の従動子がカム溝を昇降する。これにより、ピンベースが昇降され、リフターピンの昇降が行われる。
【特許文献１】特開２００２−１９８３５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このように、従来のリフター機構では、駆動用モータの動力伝達機構を構成するベルトプーリ機構を円筒カムの下側に設けており、ピンベースの昇降範囲を逃げてベルトプーリ機構を配設するようにしている。このため、リフター機構には、円筒カムの高さに加え、ベルトプーリ機構を収容するための高さ（空間）が必要となり、リフター機構全体の高さが高くなるといった問題が生じる。
【０００４】
そこで、本発明は、駆動用モータの動力伝達機構により、リフター機構の高さが高くなることのないリフター機構、これを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、複数のリフターピンを立設したピンベースを昇降させることにより、ワークをセットするセットテーブルに形成した複数の遊挿孔から複数のリフターピンを出没させ、セットテーブルの直上に位置しワークが搬出入される搬出入位置と、セットテーブル上に位置するセット位置と、の間でワークを昇降させるリフター機構において、ピンベースを昇降させるための動力源となるアクチュエータと、同軸上に同一ピッチの右雄ねじ部および左雄ねじ部を有して水平に延在し、アクチュエータにより正逆回転されるリードねじと、右雄ねじ部に螺合する右雌ねじ部材と左雄ねじ部に螺合する左雌ねじ部材と、ピンベースを昇降自在に支持し、右雌ねじ部材および左雌ねじ部材のスライド移動をピンベースの昇降動に動力変換して、ピンベースを昇降させる運動変換機構と、を備え、運動変換機構は、右雌ねじ部材に固定され、右雌ねじ部材の進退方向に延在する第１カム溝を有する第１運動変換部材と、左雌ねじ部材に固定され、第１カム溝と鏡映対称な第２カム溝を有する第２運動変換部材と、リードねじの延在方向に対して、第１運動変換部材および第２運動変換部材をスライド自在に支持するスライドガイドと、第１カム溝に係合する第１従動子と第２カム溝に係合する第２従動子とを有し、ピンベースを水平姿勢のまま昇降自在に支持する昇降部材と、を有していることを特徴とする。
【０００６】
また、本発明は、複数のリフターピンを立設したピンベースを昇降させることにより、ワークをセットするセットテーブルに形成した複数の遊挿孔から複数のリフターピンを出没させ、セットテーブルの直上に位置しワークが搬出入される搬出入位置と、セットテーブル上に位置するセット位置と、の間でワークを昇降させるリフター機構において、ピンベースを昇降させるための動力源となるアクチュエータと、同軸上に同一ピッチの右雄ねじ部および左雄ねじ部を有して水平に延在し、アクチュエータにより正逆回転されるリードねじと、右雄ねじ部に螺合する右雌ねじ部材と左雄ねじ部に螺合する左雌ねじ部材と、ピンベースを昇降自在に支持し、右雌ねじ部材および左雌ねじ部材のスライド移動をピンベースの昇降動に動力変換して、ピンベースを昇降させる運動変換機構と、を備え、運動変換機構は、右雌ねじ部材に固定され、右雌ねじ部材の進退方向に延在する第１リブを有する第１運動変換部材と、左雌ねじ部材に固定され、第１リブと鏡映対称な第２リブを有する第２運動変換部材と、リードねじの延在方向に対して、第１運動変換部材および第２運動変換部材をスライド自在に支持するスライドガイドと、第１リブを挟持する一対の第１従動子と第２リブを挟持する一対の第２従動子とを有し、ピンベースを水平姿勢のまま昇降自在に支持する昇降部材と、を有していることを特徴とする。
【０００７】
これらの構成によれば、運動変換機構により、右雌ねじ部材および左雌ねじ部材のスライド移動をピンベースの昇降動に動力変換し、運動の向きを変換している。したがって、ピンベースの移動方向となる上下方向に、アクチュエータおよびその動力を伝達するためのリードねじを（直列に）連ね、ピンベースの昇降範囲を高さ方向に外れてこれらを配設する必要がない。このため、ピンベースの昇降範囲となる空間を利用して、アクチュエータおよびリードねじを配設することができ、リフター機構全体の高さを抑えることができる。
【０００８】
そして、請求項１の発明では、第１運動変換部材および第２運動変換部材を溝カムとする直進カム機構が構成されており、請求項２の発明では、第１運動変換部材および第２運動変換部材をリブカムとする直進カム機構が構成されている。したがって、これらの発明では、第１運動変換部材および第２運動変換部材をスライド移動させると、第１従動子および第２従動子に案内されて、昇降部材が昇降する。このとき、第１運動変換部材および第２運動変換部材は、右雌ねじ部材および左雌ねじ部材のスライド移動を受けてスライドするため、これらは逆方向に等距離スライド移動する。このため、第１従動子に生じるスライド方向（水平方向）の分力は、第２従動子に生じるスライド方向の分力に相殺され、ピンベースを安定した状態で昇降させることができる。なお、請求項２の発明では、リブと従動子との間にバックラッシがなく、リブに対して従動子を確動的に摺接させることができ、より安定的にピンベースを昇降させることができる。
【０００９】
この場合、ピンベースおよび運動変換機構は、重なり合うよう配設されており、ピンベースには、スライド移動する第１運動変換部材および第２運動変換部材との干渉を避けるための開口が形成されていることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、ピンベースおよび運動変換機構を重なり合うように配設しても、ピンベースの下降時には、第１運動変換部材および第２運動変換部材のピンベースよりも高く部分は開口に臨んで収まり、第１運動変換部材および第２運動変換部材のスライド移動が開口により許容される。したがって、ピンベースと、第１運動変換部材および第２運動変換部材とを水平面内において重ねて配設して、運動変換機構をコンパクトに配置することができ、リフター機構のコンパクト化を図ることができる。
【００１１】
この場合、第１従動子および第２従動子は、ローラフォロアで構成されていることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、第１従動子および第２従動子は、第１運動変換部材および第２運動変換部材のスライド方向に回転自在なローラフォロアで構成されているため、これらを案内するカム溝またはリブを摺接するときに生じる摩擦を低減させることができる。
【００１３】
この場合、スライドガイドは、第１運動変換部材を支持する第１スライダと、第２運動変換部材を支持する第２スライダと、リードねじの延在方向に延在し、第１スライダおよび第２スライダをスライド自在に支持すると共に、これらのスライド移動を案内するスライドレールと、を有するＬＭガイドで構成されていることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、スライドガイドがＬＭガイドで構成されているため、第１運動変換部材および第２運動変換部材を滑らかにスライド移動させることができ、ピンベースを安定して昇降させることができる。また、ＬＭガイドでは、スライドレールと各スライダとの間にはボール軸受けが設けられている。したがって、スライドレールと各スライダとの摩擦が小さく抑えられており、第１運動変換部材および第２運動変換部材のスライド移動を繰り返し行っても、常にこれらを適切にガイドしながらスライド移動させることができるようになっている。
【００１５】
この場合、右雄ねじ部とこれに螺合する右雌ねじ部材、および記左雄ねじ部およびこれに螺合する左雌ねじ部材は、それぞれボールねじで構成されていることが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、右雄ねじ部とこれに螺合する右雌ねじ部材、および左雄ねじ部およびこれに螺合する左雌ねじ部材は、それぞれボールねじで構成されているので、精度よく右雌ねじ部材および左雌ねじ部材をスライド移動させることができると共に、これらの繰り返しのスライド移動により磨耗し難いようになっている。
【００１７】
本発明は、セットテーブルにセットしたワークに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを駆動することにより、ワーク上に機能液を吐出して描画を行う液滴吐出装置において、上記のいずれかに記載のリフター機構を備え、当該リフター機構を用いて、セットテーブルに対して、ワークの除給を行うことを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、液滴吐出装置は、高さを抑えた上記のリフター機構を適用しているため、セットテーブルを配設する高さ位置を低くすることができる。したがって、セットテーブルに対する作業性が向上し、セットテーブルに対して効率よくワークを載せ換えすることができると共に、セットテーブルのメンテナンス性を高めることができる。また、液滴吐出装置の高さ自体も抑えることができ、装置のコンパクト化を図ることができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。また、本発明の電気光学装置は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２０】
これらの構成によれば、上記の液滴吐出装置を用いているため、精度良く成膜部を形成することができ、電気光学装置を効率よく製造することができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２１】
本発明の電子機器は、上記に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置、または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２２】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成する。
【００２４】
図１および図２に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド６２を有する描画装置３と、機台２上で描画装置３に添設させたヘッド保守装置４と、制御装置５（図示省略）と、を備えている。そして、制御装置５による制御に基づいて、描画装置３が、図外のワーク移載ロボットから導入されたワークに対して、描画処理を行うと共に、ヘッド保守装置４が機能液滴吐出ヘッド６２に対して適宜保守処理（メンテナンス）を行うようになっている。
【００２５】
描画装置３は、主走査方向（Ｘ軸方向）に延在するＸ軸テーブル１１と、Ｘ軸テーブル１１に直交するＹ軸テーブル１２と、Ｙ軸テーブル１２に移動自在に取り付けられたメインキャリッジ１３と、メインキャリッジ１３に支持され、（複数の）機能液滴吐出ヘッド６２を搭載したヘッドユニット１４と、を備えている。
【００２６】
Ｘ軸テーブル１１は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するＸ軸モータ（図示省略）駆動のＸ軸スライダ２１に、ワークＷをセットするセットテーブル２２を移動自在に搭載して構成されている。セットテーブル２２は、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル２３と、吸着テーブル２３にセットしたワークＷの位置をθ軸方向に補正するθテーブル２４と、を有している。なお、詳細は後述するが、吸着テーブル２３には、リフター機構１６１が組み込まれており、吸着テーブル２３に対するワークの除給は、リフター機構１６１を介して行われる。
【００２７】
Ｙ軸テーブル１２は、Ｘ軸テーブル１１と略同様に構成されており、Ｙ軸方向の駆動系を構成するＹ軸モータ（図示省略）駆動のＹ軸スライダ３１を有し、メインキャリッジ１３をＹ軸方向に移動自在に搭載している。なお、Ｙ軸テーブル１２は、機台２上に立設した左右の支柱４１を介して、機台２上に配設されたＸ軸テーブル１１およびヘッド保守装置４を跨ぐように配設されており、Ｘ軸テーブル１１およびＹ軸テーブル１２が交わるエリアがワークＷの描画を行う描画エリア４２、Ｙ軸テーブル１２およびヘッド保守装置４が交わるエリアが機能液滴吐出ヘッド６２に対する保守動作を行う保守エリア４３となっている。
【００２８】
メインキャリッジ１３は、ヘッドユニット１４を支持するキャリッジ本体５１と、キャリッジ本体５１を介して、ヘッドユニット１４のθ方向に対する位置補正を行うためのθ回転機構５２と、θ回転機構５２を介して、キャリッジ本体５１（ヘッドユニット１４）をＹ軸テーブル１２に支持させる略Ｉ字状の吊設部材５３と、で構成されている。
【００２９】
ヘッドユニット１４は、ヘッドプレート６１にヘッド保持部材（図示省略）を介して機能液滴吐出ヘッド６２を搭載させて構成されている。図３に示すように、機能液滴吐出ヘッド６２は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針７２を有する機能液導入部７１と、機能液導入部７１に連なる２連のヘッド基板７３と、機能液導入部７１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体７４と、を備えている。接続針７２は、図外の機能液供給装置（機能液タンク）に接続され、機能液導入部７１に機能液を供給する。ヘッド本体７４は、キャビティ７５（ピエゾ圧電素子）と、吐出ノズル７８が開口したノズル面７７を有するノズルプレート７６と、で構成されている。ノズル面７７には、多数（１８０個）の吐出ノズル７８から成るノズル列が形成されている。機能液滴吐出ヘッド６２を吐出駆動すると、キャビティ７５のポンプ作用により、吐出ノズル７８から機能液滴を吐出する。
【００３０】
描画処理時における描画装置３の一連の動作について説明する。先ず、機能液を吐出する前の準備として、ヘッドユニット１４およびセットテーブル２２にセットされたワークＷの位置補正がなされる。次に、Ｘ軸テーブル１１が、ワークＷを主走査（Ｘ軸）方向に往復動させる。ワークＷの往復動と同期して、複数の機能液滴吐出ヘッド６２が駆動し、ワークＷに対する機能液滴の選択的な吐出動作が行われる。ワークＷが一往復動すると、Ｙ軸テーブル１２は、ヘッドユニット１４を副走査（Ｙ軸）方向に移動させる。そして、ワークＷの主走査方向へ往復動と機能液滴吐出ヘッド６２の駆動が再び行われる。すなわち、ヘッドユニット１４の主走査移動と副走査移動を交互に繰り返しながら、機能液滴吐出ヘッドを選択的に吐出駆動させることにより、ワークＷに対する描画処理が為され、ワークＷの画素領域に機能液が吐出されてゆく。
【００３１】
ヘッド保守装置４は、機台２上に載置された移動テーブル８１と、吸引ユニット８２と、ワイピングユニット８３と、を備えている。移動テーブル８１は、Ｘ軸方向に移動可能に構成されている。吸引ユニット８２およびワイピングユニット８３は、Ｘ軸方向に並んで移動テーブル８１上に設置されており、機能液滴吐出ヘッド６２の保守時には、移動テーブル８１が駆動され、吸引ユニット８２およびワイピングユニット８３が適宜保守エリア４３に臨む構成となっている。
【００３２】
吸引ユニット８２は、機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面７７に密着させるキャップ９１と、機能液滴吐出ヘッド６２（ノズル面７７）に対してキャップ９１を離接させるキャップ昇降機構９２（図示省略）と、キャップ９１を介して機能液滴吐出ヘッド６２を吸引可能な単一の吸引ポンプ９３（図示省略）と、を有しており、キャップ９１を介して機能液滴吐出ヘッド６２（吐出ノズル７８）を吸引することにより、吐出ノズル７８から機能液を強制的に排出させる。機能液の吸引は、機能液滴吐出ヘッド６２の目詰まりを解消／防止するために行われる他、液滴吐出装置１を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド６２のヘッド交換を行う場合などに、機能液供給機構から機能液滴吐出ヘッド６２に至る機能液流路に機能液を充填するために行われる。
【００３３】
なお、キャップ９１は、機能液滴吐出ヘッド６２の捨て吐出（予備吐出）により吐出された機能液を受けるフラッシングボックスの機能を有しており、ワークＷの交換時のように、ワークＷに対する描画を一時的に停止するときに行う定期フラッシングの機能液を受けるようになっている。この捨て吐出（フラッシング動作）では、キャップ昇降機構により、キャップ９１は、その上面が機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面７７から僅かに離間する位置まで移動させられる。
【００３４】
また、吸引ユニット８２は、液滴吐出装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド６２を保管するためにも用いられる。この場合、保守エリア４３にヘッドユニット１４を臨ませ、機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面７７にキャップ９１を密着させることにより、ノズル面７７を封止し、機能液滴吐出ヘッド６２（吐出ノズル７８）の乾燥を防止できるようになっている。
【００３５】
ワイピングユニット８３は、洗浄液を噴霧したワイピングシート１０１で機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面７７に付着した汚れを払拭するためのものであり、ロール状に巻回したワイピングシート１０１を繰り出しながら巻き取ってゆく巻取りユニット１０２と、繰り出したワイピングシート１０１に洗浄液を散布する洗浄液供給ユニット１０３と、洗浄液が散布されたワイピングシート１０１でノズル面７７を拭取る拭取りユニット１０４と、を備えている。
【００３６】
次に、図４を参照しながら液滴吐出装置１の主制御系について説明する。液滴吐出装置１は、描画装置３を有し、ワークＷに描画を行う描画部１１１と、ヘッド保守装置４を有し、機能液滴吐出ヘッド６２を保守するヘッド保守部１１２と、後述するリフター機構１６１を有し、セットテーブル２２に対してワークを除給するための除給材部１１３と、描画装置３やヘッド保守装置４の各種センサ（後述する上限位置検出センサ２９１および下限位置検出センサ２９２を含む）を有し、各種検出を行う検出部１１４、各種ドライバを有し、各部を駆動する駆動部１１５と、各部に接続され、液滴吐出装置１全体の制御を行う制御部１１６（制御装置５）と、を備えている。
【００３７】
制御部１１６は、描画装置３およびヘッド保守装置４を接続するためのインタフェース１２１と、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ１２２と、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ１２３と、ワークＷに描画を行うための描画データや、描画装置３およびヘッド保守装置４からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク１２４と、ＲＯＭ１２３やハードディスク１２４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ１２５と、これらを互いに接続する内部バス１２６と、を備えている。
【００３８】
そして、制御部１１６は、描画装置３、ヘッド保守装置４等からの各種データを、インタフェース１２１を介して入力すると共に、ハードディスク１２４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等の外部入力装置から順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ１２５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース１２１を介して描画装置３やヘッド保守装置４等に出力することにより、両装置３、４の各手段を制御している。
【００３９】
ところで、上記した吸着テーブル２３には、リフター機構１６１が組み込まれており、液滴吐出装置１では、リフター機構１６１を介してワークＷの除給が行われる。すなわち、リフター機構１６１は、ワーク移載ロボット（ロボットアーム）から未処理のワークＷを受け取って、これを吸着テーブル２３に受け渡すと共に、処理済みのワークＷをセットテーブル２２からリフトアップさせて受け取り、これをワーク移載ロボットに受け渡す。
【００４０】
以下、リフター機構１６１の説明を行うが、これに先立ち、先ず吸着テーブル２３の構成について説明する。吸着テーブル２３は、ワークＷを吸着セットするテーブル本体１３１と、θテーブル２４に着脱可能に固定されたテーブルベース１３２と、テーブル本体１３１をテーブルベース１３２に支持させるテーブル支持機構１３３と、を有している。
【００４１】
図５（ａ）に示すように、テーブル本体１３１は、石材等の厚板で構成されており、平面視方形に形成されている。テーブル本体１３１には、リフター機構１６１の複数のリフターピン１７１（後述する）を遊挿する複数の遊挿孔１４１が（縦６列に）整列して形成されていると共に、テーブル本体１３１のワークＷをセットする側の面（セット面１３１ａ）には、遊挿孔１４１を逃げるように、ワークＷを吸着（吸引）するための吸引溝１４２が形成されている。吸引溝１４２には、図外のエアー吸引装置（図示省略）に接続された吸引孔（図示省略）が連通しており、ワークＷを吸引セットするための吸引力は、吸引溝１４２を介して作用する。
【００４２】
テーブルベース１３２上には、テーブル支持機構１３３を介してテーブル本体１３１が支持されている他、リフター機構１６１、吸引孔に接続するエアー配管（図示省略）等が配設されている（図５（ｂ）参照）。そして、テーブルベース１３２は、吸着テーブル２３の重心がθテーブル２４の回転軸（θ軸）と一致するように、θテーブル２４に固定されており、θテーブル２４は、安定して吸着テーブル２３をθ回転させることができるようになっている。
【００４３】
テーブル支持機構１３３は、３本の柱状支持部材１５２によりテーブル本体１３１を３点支持する３点支持機構１５１を有している。３本の柱状支持部材１５２は、テーブルベース１３２に略正三角形状に配設・固定され、各柱状支持部材１５２が、テーブル本体１３１の重量を略均等に支えている。なお、本実施形態では、各柱状支持部材１５２に、テーブル本体１３１の支持高さを微調整するテーブル高さ調整機構（図示省略）が組み込まれている。したがって、１つの柱状支持部材１５２のテーブル本体１３１の支持高さを基準として、他の２つの柱状支持部材１５２の支持高さをテーブル高さ調整機構で調整することにより、テーブル本体１３１の水平面に対する平行度を高精度に調整可能である。
【００４４】
次にリフター機構１６１について説明する。図５に示すように、リフター機構１６１は、Ｘ軸方向を列方向として６列に整列させた複数のリフターピン１７１を有しており、中央２列のリフターピン１７１をテーブル本体１３１から出没させる第１リフターユニット１６２と、外側に位置する各２列のリフターピン１７１をテーブル本体１３１から出没させる一対（２個）の第２リフターユニット１６３と、で構成されている。第１リフターユニット１６２および第２リフターユニット１６３は、ユニット内におけるリフターピン１７１の列間ピッチ（Ｙ軸方向におけるリフターピン１７１同士の間隔）が異なる（第１リフターユニット１６２の列間ピッチの方が第２リフターユニット１６３の列間ピッチよりも広くなっている）点を除いては、同一の構成であるため、ここでは第１リフターユニット１６２を例に説明する。
【００４５】
図６および図７に示すように、第１リフターユニット１６２は、２列（２２本）のリフターピン１７１と、２列のリフターピン１７１を支持するピンベース１７２と、ピンベース１７２を昇降自在に支持し、２列のリフターピン１７１を同時に昇降させるリフター昇降機構１７３と、リフター昇降機構１７３を支持し、テーブルベース１３２上に固定されたリフターベース１７４と、を備えている。
【００４６】
ピンベース１７２は、Ｘ軸方向に平行に延在する一対（２本）のピン支持部１８１と、所定の間隙を有するように一対のピン支持部１８１を連結し、かつＹ軸方向に平行に配置された一対（２本）の連結部１８２と、を一体に構成したものであり、対称形に形成されている。各ピン支持部１８１には、上記した吸着テーブル２３（テーブル本体１３１）の遊挿孔１４１の配置に倣って、１列１１本のリフターピン１７１が等間隔（等ピッチ）に支持されている。
【００４７】
リフター昇降機構１７３は、ピンベース１７２を昇降させるための動力源となる昇降モータ１９１（サーボモータ：アクチュエータ）と、Ｘ軸方向に延在し、昇降モータ１９１により正逆回転する昇降リードねじ１９２と、昇降リードねじ１９２に螺合し、Ｘ軸方向に（水平）移動する一対の雌ねじ部材１９３と、一対（２個）の雌ねじ部材１９３の水平移動（水平運動）を上下運動に変換し、ピンベース１７２の昇降移動させる運動変換機構１９４と、ピンベース１７２の昇降移動をガイドする２組４本のベース昇降ガイド１９５と、を有している。昇降モータ１９１を除いて、リフター昇降機構１７３は鏡映対称（Ｘ軸方向を左右方向としたときに左右対称）に構成されており、ピンベース１７２を均等に支持すると共に、これを安定した状態で昇降させることができるようになっている。
【００４８】
昇降モータ１９１の出力軸は、Ｘ軸方向に延在しており、カップリング２０１を介して昇降リードねじ１９２に接続されている。昇降リードねじ１９２は、右ねじ部２０２ａと左ねじ部２０２ｂとを同一軸上に有する、いわゆる複合ねじで構成されており、軸受け２０３に両持ちで支持されている。右ねじ部２０２ａおよび左ねじ部２０２ｂは、同一ピッチに形成されており、右ねじ部２０２ａには雌ねじ部材１９３の一方（右雌ねじ部材）が、左ねじ部２０２ｂには雌ねじ部材１９３の他方（左雌ねじ部材）が螺合している。すなわち、昇降モータ１９１を駆動すると、昇降リードねじ１９２が正逆回転して、一対の各雌ねじ部材１９３が逆方向に等距離進退し、Ｘ軸方向に離接する。右ねじ部２０２ａとこれに螺合する雌ねじ部材１９３、および左ねじ部２０２ｂとこれに螺合する雌ねじ部材１９３は、いわゆるボールねじであり、これらの間にはボールが介設されている。なお、昇降モータ１９１および昇降リードねじ１９２は、第１リフターユニット１６２（第２リフターユニット１６３）のＹ軸方向略中間位置に配設されている（図５参照）。各雌ねじ部材１９３は、昇降リードねじ１９２に螺合する雌ねじ部２１１と、雌ねじ部２１１に固定され、雌ねじ部２１１と各運動変換機構１９４とを固定する固定片２１２と、で構成されている。
【００４９】
図６ないし図８に示すように、運動変換機構１９４は、一対の各雌ねじ部材１９３にそれぞれ固定され、Ｘ軸方向にスライド移動可能に構成された一対（２個）の運動変換部材２２１と、一対の運動変換部材２２１をスライド自在に支持し、各運動変換部材２２１のスライド移動を案内するスライドガイド２２２と、ピンベース１７２（一対の連結部１８２）の下面に固定されると共に、運動変換部材２２１に昇降自在に支持された２組４個の昇降部材２２３と、を備えている。
【００５０】
図６に示すように、各運動変換部材２２１は、略直角三角形に形成した１対２個の三角板２３１と、一対の三角板２３１の対辺同士を連結する方形の連結板２３２と、を備え、三角柱状に構成されている。各三角板２３１には、同一方向（Ｘ軸方向）に傾斜して延在するカム溝２３３が形成されており、このカム溝２３３に（２組４個の）昇降部材２２３が１個ずつ係合している。カム溝２３３は、三角板２３１の斜辺に略沿うように形成されていると共に、ピンベース１７２（リフターピン１７１）の昇降速度が目標値となるように所定の傾斜（カーブ）に形成されている。一対の各運動変換部材２２１は、連結板２３２を内側に向け連結板２３２同士が対面する状態でスライドガイド２２２に支持されている。この場合、一対の運動変換部材２２１に形成したカム溝２３３同士は、鏡映対称となっており、Ｘ軸方向において逆傾斜となっている。連結板２３２には、雌ねじ部材１９３の固定片２１２がねじ止めされている。
【００５１】
スライドガイド２２２は、ＬＭガイド（リニアモーションガイド）であり、リフターベース１７４の短辺方向（Ｙ軸方向）の中間位置に固定され、昇降リードねじ１９２と並んでＸ軸方向に延在する一対（２本）のスライドガイドレール２４１と、一対のスライドガイドレール２４１に係合した状態でこれにスライド自在に支持され、一対の運動変換部材２２１を支持する一対（２個）のスライダ２４２と、スライドガイドレール２４１およびスライダ２４２間に介設された転がり軸受け部（図示省略）を有している。
【００５２】
２組４個の昇降部材２２３は、各運動変換部材２２１に１組ずつ対応しており、各昇降部材２２３は、それぞれ各三角板２３１に対応している。各昇降部材２２３は、ピンベース１７２の連結部１８２（の長手方向中間位置から僅かに外れた位置）に固定される固定部２５１と、固定部２５１から下方に垂設された垂設部２５２と、垂設部２５２からＹ軸方向（運動変換部材２２１側）に延び、上記したカム溝２３３に係合する係合部２５３と、を有している。２組４個の昇降部材２２３は、ピンベース１７２に対して対称に配置されており、ピンベース１７２を４個の昇降部材２２３で均等かつ水平に一対の運動変換部材２２１に支持させることができるようになっている。各係合部２５３は、Ｙ軸方向に延びる回転軸２６１と、回転軸２６１にＸ軸方向（運動変換部材２２１のスライド方向）に回転自在に軸支され、カム溝２３３に当接するローラ２６２（ローラフォロア）と、で構成されている。したがって、運動変換部材２２１をＸ軸方向にスライド移動させると、ローラ２６２が回転しながらカム溝２３３を摺接するため、係合部２５３とカム溝２３３との摩擦を著しく低減させることができる。
【００５３】
４本の各ベース昇降ガイド１９５は、リフターベースに立設されたガイドシャフト２７１と、ピンベース１７２に固定され、かつガイドシャフト２７１に摺動自在に係合するフランジ付きリニアブシュ２７２（ボールスプライン）と、で構成されている。４本のベース昇降ガイド１９５は、ピンベース１７２の一対のピン支持部１８１と一対の連結部１８２とが交わる４交点に対応して配置されている。すなわち、２組４本のベース昇降ガイド１９５は、ピンベース１７２に対してＸ軸方向に対して対称に配置されており、ピンベース１７２の昇降を安定してガイドできるようになっている。
【００５４】
ここで、運動変換機構１９４の動作について説明する。昇降モータ１９１の正駆動により、一対の雌ねじ部材１９３がＸ軸方向に離間してゆくと、スライドガイド２２２に案内されながら、各運動変換部材２２１がＸ軸方向にスライド移動し、一対の運動変換部材２２１も離間してゆく。このとき、２組４個の各昇降部材２２３（係合部２５３）は、移動する各運動変換部材２２１のカム溝２３３（の上側の辺２３３ａ）に案内されながらこれを摺接してゆき、当該カム溝２３３を登り上がってゆく。これにより、２組の昇降部材２２３に固定されたピンベース１７２が、４本のベース昇降ガイド１９５に案内されて水平姿勢のまま上昇し、これと共に２列のリフターピン１７１も上昇（リフトアップ）する。
【００５５】
一方、昇降モータ１９１の逆駆動により、一対の雌ねじ部材１９３がＸ軸方向に接近してゆくと、スライドガイド２２２に案内されながら、一対の運動変換部材２２１もＸ軸方向に接近してゆく。このとき、２組４個の各昇降部材２２３は、カム溝２３３（の下側の辺２３３ｂ）に案内されながらこれを滑り下りてゆく。この昇降部材２２３の下降に伴って、ベース昇降ガイド１９５に案内された状態でピンベース１７２も水平姿勢で下降してゆき、２列のリフターピン１７１が下降する。
【００５６】
すなわち、運動変換機構１９４では、各運動変換部材２２１を駆動節（溝カム）、各昇降部材２２３（係合部２５３）を従動節（従動子）とする直進カム機構が構成されている。したがって、リフター昇降機構１７３では、一対の運動変換部材２２１をＸ軸方向に往復動（水平移動）させるという比較的簡易な構成で、雌ねじ部材１９３の水平運動を昇降部材２２３の上下運動に変換して、ピンベース１７２昇降させることができるようになっている。また、Ｘ軸方向における２組４個の各昇降部材２２３の進退方向は相互に逆方向となるため、各昇降部材２２３が対応するカム溝２３３を摺接するときに生じるＸ軸方向（水平方向）の分力は相互に相殺され、安定した状態でピンベースを昇降させることができる。
【００５７】
なお、運動変換機構１９４では、２組の昇降部材２２３がピンベース１７２の連結部１８２に固定されており、運動変換部材２２１およびスライドガイド２２２は、ピンベース１７２の一対のピン支持部１８１の間に位置している。したがって、Ｘ軸方向にスライド移動する各運動変換部材２２１に、昇降するピンベース１７２（の一対のピン支持部１８１）が干渉することなく、各運動変換部材２２１は、一対のピン支持部１８１と一対の連結部１８２とに囲まれた空間（開口部２８１）からピンベース１７２の高さ位置より高い部分を突出させて収まるようになっている。このように、ピンベース１７２の開口部２８１により、各運動変換部材２２１のスライド移動が許容されるため、本実施形態では、ピンベース１７２および各運動変換部材２２１を重なり合わせて配設し、運動変換機構１９４をコンパクトに配置することができるようになっている。また、運動変換部材２２１の連結板２３２の高さ（直角三角形の対辺の長さ）分をピンベース１７２の昇降距離（リフターピン１７１のストローク距離）とすることができ、リフター昇降機構１７３自体の厚みをピンベース１７２の昇降距離と略同様の長さに抑えることができる。
【００５８】
また、一対の各運動変換部材２２１は、カム溝２３３同士が、一対の運動変換部材２２１のスライド方向（Ｘ軸方向）に対して相互に逆傾斜となるように配置すればよく、一対の各運動変換部材２２１の連結板２３２を外側に向けて配置させることも可能である。この場合、一対のピン支持部１８１と各連結部１８２とによって形成される「コ」字状（または逆「コ」字状）の一対の開口に、一対の運動変換部材２２１のピンベース１７２の高さ位置より高い部分が臨むようになっている。
【００５９】
図中の符号２９１は、各運動変換部材２２１（または各雌ねじ部材１９３）の（Ｘ軸方向の）位置に基づいて、ピンベース１７２の上限位置を検出する一対（２個）の上限位置検出センサであり、符号２９２は、運動変換部材２２１の位置に基づいて、ピンベース１７２の下限位置を検出する一対（２個）の下限位置検出センサである。これら両検出センサ２９１、２９２を介して、リフターピン１７１の上動端位置および下動端位置を検出し、リフターピン１７１を適切な昇降範囲で昇降可能に構成されている。
【００６０】
次に、リフター機構１６１の一連の動作について説明する。上述したように、リフター機構１６１は、第１リフターユニット１６２と、第１リフターユニット１６２の両側に位置する一対（２個）の第２リフターユニット１６３と、で構成されており、これら各ユニット１６２，１６３を協働させることにより、未処理のワークＷを適切に吸着テーブル２３に載置できると共に、吸着テーブル２３から処理済みのワークＷをリフトアップすることができるようになっている。
【００６１】
未処理のワークＷを吸着テーブル２３に載置する場合、先ず、第１リフターユニット１６２および第２リフターユニット１６３の昇降モータ１９１を駆動して、（６列６６本）の全リフターピン１７１を上動端位置まで移動させておき、図外のワーク移載ロボットにより搬入されたワークＷを、全リフターピン１７１により吸着テーブル２３の直上部、すなわちワーク搬出入位置で受け取る。次に、第１リフターユニット１６２の昇降モータ１９１のみを駆動し、第１リフターユニット１６２のリフターピン１７１のみを下降させていく。これによりワークＷは自重で歪み、上反り状態で６列のリフターピン１７１に支持される。続いて、第１リフターユニット１６２の昇降モータ１９１を駆動したまま、一対の第２リフターユニット１６３の昇降モータ１９１を駆動して、第２リフターユニット１６３のリフターピン１７１も下降させ、ワークＷを吸着テーブル２３（のセット位置）に載置する。
【００６２】
このように、未処理のワークＷをワーク搬出入位置で受け取った後、第２リフターユニット１６３に先行して、第１リフターユニット１６２のリフターピン１７１を下降させることにより、先ずワークＷの（Ｙ軸方向）中央部を吸着テーブル２３に接触させ、これに追従するようにワークＷの（Ｙ軸方向）両端部を吸着テーブル２３に接触させている。これにより、ワークＷおよび吸着テーブル２３間の空気は、ワークＷの中央部から両端部に向けて押し出されるように逃げてゆくため、ワークＷと吸着テーブル２３との間に空気を残留させることなく、吸着テーブル２３にワークＷを載置することができる。
【００６３】
一方、描画処理を終えたワークＷを吸着テーブル２３（のセット位置）から持ち上げる（引き剥がす）ときには、ワークＷを載置する場合の逆順序で第１リフターユニット１６２および第２リフターユニット１６３を駆動する。すなわち、先ず、一対の各第２リフターユニット１６３のリフターピン１７１を同時に上昇させ、ワークＷの両端部を突き上げるように持ち上げてから、第１リフターユニット１６２を駆動して、ワークＷの中央部分も持ち上げるようにする。このように、ワークＷを弧状に反らせた状態で吸着テーブル２３から引き剥がすことにより、ワークＷとテーブル本体１３１との間に、その端から徐々に空気を流入させることができ、ワークＷに無理な力をかけることなくワークＷを吸着テーブル２３から離間させることができるようになっている。そして、吸着テーブル２３からワークＷが完全に引き剥がされた後、第１リフターユニット１６２および第２リフターユニット１６３の全リフターピン１７１は、上動端位置まで達するまで上昇し、ワークＷがワーク搬出入位置までリフトアップされる。
【００６４】
なお、カム溝２３３をＳ字カーブ状に形成し、ワークＷを吸着テーブル２３に離接させる瞬間のリフターピン１７１の昇降速度を抑えるように構成することが好ましい。これにより、吸着テーブル２３からの離接により、ワークＷが受ける衝撃を小さく抑えると共に、ワークＷの昇降にかかる時間を削減することが可能である。なお、カム溝２３３を直線状に形成し、昇降モータ１９１の駆動を制御し、リフターピン１７１の昇降速度を調整することによっても、同様の効果を得ることができる。
【００６５】
次に、本実施形態のリフター機構１６１の変形例について説明する。変形例のリフター機構１６１も、運動変換機構１９４の一部を除いて、上記リフター機構１６１と略同様に構成されており、ピンベース１７２の昇降範囲に併せてその高さが抑えられている。以下、運動変換機構１９４を中心に説明を行う。この運動変換機構１９４は、上記リフター機構１６１の運動変換機構１９４と同様、一対の各雌ねじ部材１９３にそれぞれ固定され、Ｘ軸方向にスライド移動可能に構成された一対の運動変換部材２２１と、一対の運動変換部材２２１をスライド自在に支持し、各運動変換部材２２１のスライド移動を案内するスライドガイド２２２と、ピンベース１７２（一対の連結部１８２）の下面に固定されると共に、運動変換部材２２１に昇降自在に支持された２組の昇降部材２２３と、を備えている。
【００６６】
図９に示すように、一対の各運動変換部材２２１は、上記各運動変換部材２２１と略同様に構成されているが、一対の各三角板２３１にはカム溝が形成されておらず、Ｘ軸方向に延在して傾斜するリブ３０１が突設されている。リブ３０１の傾斜は、上記のカム溝２３３の傾斜と同様となっている。２組の昇降部材２２３も、上記各昇降部材２２３と略同様に構成されているが、係合部２５３に代えて挟持部３０２を有している。挟持部３０２は、上側の上ローラ３０３と下側の下ローラ３０４とから成り、これら両ローラ３０３，３０４でリブ３０１を挟持するようになっている。
【００６７】
したがって、運動変換部材２２１がＸ軸方向にスライド移動すると、上ローラ３０３がリブ３０１の上端面を摺接すると共に、下ローラ３０４がリブ３０１の下端面を摺接し、挟持部３０２に案内された状態で、昇降部材２２３がリブ３０１の傾斜を昇降する。すなわち、この運動変換機構１９４では、一対の各運動変換部材２２１がリブカムに相当し、従動子となる昇降部材２２３がリブ３０１により案内される。この場合、リブ３０１と昇降部材２２３との間にバックラッシが生じることがないため、昇降部材２２３の水平姿勢を維持した状態で、がたつきなくこれを昇降させることができる。
【００６８】
以上のように、本実施形態の液滴吐出装置１は、上記のリフター機構１６１を備えているため、これを組み込む吸着テーブル２３の厚みを抑えることができ、吸着テーブル２３（テーブル本体１３１）のセット面の高さ位置（ワークＷのセット位置）を低くすることができる。また、吸着テーブル２３に対してワークＷを適切に離接させることができる。したがって、吸着テーブル２３に対して、効率よくワークＷの載せ換えを行うことができ、各ワークＷに対する全体の処理効率を向上させることができる。
【００６９】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【００７０】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１０は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１１は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１１（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００７１】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図１１（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１１（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド６２により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００７２】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【００７３】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１１（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド６２によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド６２を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７４】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１１（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７５】
図１２は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図１１に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７６】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７７】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図１２において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００７８】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【００７９】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００８０】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド６２で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド６２で行うことも可能である。
【００８１】
図１３は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００８２】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【００８３】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８４】
図１４は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８５】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【００８６】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８７】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００８８】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００８９】
次に、図１５は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【００９０】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００９１】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【００９２】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【００９３】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第1層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【００９４】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【００９５】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【００９６】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【００９７】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００９８】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【００９９】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１００】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１０１】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図１６〜図２４を参照して説明する。
この表示装置７００は、図１６に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１０２】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１７に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図１８に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１０３】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド６２を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１０４】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２３に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１０５】
図１９に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド６２から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図２０に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【０１０６】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１０７】
そして次に、図２１に示すように、各色のうちの何れか（図２１の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１０８】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２２に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１０９】
同様に、機能液滴吐出ヘッド６２を用い、図２３に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１１０】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１１１】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２４に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１１２】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１１３】
次に、図２５は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１４】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１１５】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１１６】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１７】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２３に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド６２により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１１８】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０１１９】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド６２から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０１２０】
次に、図２６は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０１２１】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１２２】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１２３】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２４】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２５】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図２７（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２７（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２６】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２７】
【図１】本発明の実施形態に係る描画装置の平面模式図である。
【図２】本発明の実施形態に係る描画装置の正面模式図である。
【図３】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図４】液滴吐出装置の主制御系を示したブロック図である。
【図５】吸着テーブル廻りの説明図であり、（ａ）は、テーブル本体の平面図、（ｂ）は、テーブル本体を除いた吸着テーブルの平面図である。
【図６】第１リフターユニット（第２リフターユニット）の外観斜視図である。
【図７】（ピンベースを上限位置まで移動させたときの）第１リフターユニット（第２リフターユニット）の側面図（Ｙ軸方向における正面図）である。
【図８】運動変換機構廻りの説明図である。
【図９】変形例におけるリフター機構の運動変換機構廻りの説明図である。
【図１０】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１１】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１４】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１５】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１６】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１７】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１８】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１９】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２０】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２２】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２３】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２４】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２５】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２６】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２７】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１２８】
１  液滴吐出装置                  ５  制御装置
２２  セットテーブル              ６２  機能液滴吐出ヘッド
１４１  遊挿孔                    １７１  リフターピン
１７２  ピンベース                １６１  リフター機構
１９１  昇降モータ                １９２  昇降リードねじ
１９３  雌ねじ部材                １９４  運動変換機構
２０２ａ  右雌ねじ部              ２０２ｂ  左雌ねじ部
２２１  運動変換部材              ２２２  スライドガイド
２２３  昇降部材                  ２３３  カム溝
２４１  スライドガイドレール      ２４２  スライダ
２６２  ローラ                    ２８１  開口部
３０１  リブ                      ３０２  挟持部
３０３  上ローラ                  ３０４  下ローラ
Ｗ  ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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