(57)【要約】    【課題】  短時間で基板のない光学フィルタを製造することができる光学フィルタの製造方法を提供する。    【解決手段】  真空蒸着によってガラス基板１０上にＷＯ3 からなる剥離層２０を形成した後、剥離層２０の上にスパッタリングによって光学フィルタ多層膜３０を形成する。光学フィルタ多層膜３０及び剥離層２０を積層方向へ切断した後、ＮａＯＨ水溶液に浸漬させて剥離層２０を溶解し、光学フィルタ多層膜チップ３０ａを得る。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に酸化タングステンからなる剥離層を形成する工程と、
この剥離層上に多層膜を形成する工程と
を含むことを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記多層膜を形成する工程の後、前記多層膜及び前記剥離層を積層方向へ切断する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の光学フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は光学フィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板上に可溶性担体からなる剥離層を介して多層膜を形成し、その後溶媒によって剥離層を溶解させて基板から多層膜を剥離し、多層膜だけで構成された光学フィルタを得る方法は知られている（下記特許文献参照）。
【特許文献１】特開平３−２７４５０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
可溶性担体としてはアルカリに可溶な金属、例えばアルミニウムがある。
【０００４】
しかし、アルミニウムを剥離層とした場合、ＮａＯＨ水溶液に浸漬された剥離層が溶解して、基板と多層膜とが分離するには長時間を要する。
【０００５】
例えば、ガラス基板（材料：ＢＫ７（ｎ＝１．５１６））上にアルミニウムからなる剥離層（膜厚：３００Å）を介して光学フィルタ（中心波長：１５５０ｎｍ、層数：１０９層）を形成し、それをＮａＯＨ水溶液（濃度：１ｗｔ％、液温：８℃）に浸漬したとき、ガラス基板と光学フィルタとの分離に２４時間程度かかる。
【０００６】
この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題は短時間で基板のない光学フィルタを製造することができる光学フィルタの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため請求項１記載の発明は、透明基板上に酸化タングステンからなる剥離層を形成する工程と、この剥離層上に多層膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の光学フィルタの製造方法において、前記多層膜を形成する工程の後、前記多層膜及び前記剥離層を積層方向へ切断する工程を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明の光学フィルタの製造方法によれば、短時間で基板のない光学フィルタを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１１】
図１（Ａ）〜（Ｄ）はこの発明の一実施形態に係る光学フィルタの製造方法を説明する工程図である。
【００１２】
光学フィルタ多層膜（多層膜）３０は高屈折率物質（例えばＮｂ2Ｏ5）と低屈折率物質（例えばＳｉＯ2 ）とを交互に積層して形成されている。
【００１３】
なお、図１に記載されている光学フィルタ多層膜３０の層数は実際に形成される多層膜の層数と異なる。
【００１４】
ガラス基板（透明基板）１０の上面は所定の平面度を有する。ガラス基板１０としてはＢＫ７（ｎ＝１．５１６）の平板が用いられる。
【００１５】
まず、ガラス基板１０の表面を洗浄する。洗浄は例えば薬液を用いて行なわれる。なお、洗浄後、ガラス基板１０を乾燥させる。
【００１６】
次に、真空蒸着装置の真空容器（図示せず）内に酸素ガスを導入し、電子銃加熱法でガラス基板１０上にＷＯ3（酸化タングステン）を真空蒸着させ、ＷＯ3  からなる剥離層（膜厚：３００Å）２０をガラス基板１０上に形成する（図１（Ａ）参照）。なお、タングステンと酸素との化学量論比はこの比になってなくてもよい。
【００１７】
その後、剥離層２０の上に、スパッタリング成膜法（高エネルギーの粒子を固体（ターゲット）に照射したときに、ターゲット構成原子がターゲット表面から放出される現象を利用した成膜法））によって、光学フィルタ多層膜（中心波長：１５５０ｎｍ、層数：１０９層）３０を形成する(図１（Ｂ）参照)。
【００１８】
次に、光学フィルタ多層膜３０及び剥離層２０をダイシングソー（図示せず）によって積層方向に切断（ダイシング）する。
【００１９】
このとき、光学フィルタ多層膜３０及び剥離層２０だけでなく、ガラス基板１０の一部（上面部分）も切断する（図１（Ｃ）参照）。
【００２０】
光学フィルタ多層膜３０は例えば一辺２ｍｍの碁盤目状に切断される。
【００２１】
なお、切断は通常のダイシングと同様に冷却水を光学フィルタ多層膜３０の表面に注ぎながら行なわれる。
【００２２】
その後、ダイシングされた光学フィルタ多層膜３０をガラス基板１０とともにＮａＯＨ水溶液（濃度：１ｗｔ％、液温：８℃）に浸漬させる。
【００２３】
１時間程度経過したとき、剥離層２０が溶解し、ガラス基板１０から光学フィルタ多層膜チップ（光学フィルタ）３０ａが剥離した(図１（Ｄ）参照)。
【００２４】
最後に、光学フィルタ多層膜チップ３０ａの洗浄を行なう。
【００２５】
この実施形態によれば、アルミニウムを剥離層とした場合よりも短時間で剥離層２０を溶解させることができるので、短時間で基板のない光学フィルタ多層膜チップ３０ａを製造することができる。
【００２６】
図２（Ａ）〜（Ｄ）は上記実施形態の変形例に係る光学フィルタの製造方法を説明する工程図であり、上記実施形態と共通する部分には同一符号を付してその説明を省略する。
【００２７】
なお、ＷＯ3 からなる剥離層（膜厚：３００Å）２０をガラス基板（ＢＫ７（ｎ＝１．５１６））１０上に形成する工程の図示は省略されている。
【００２８】
この変形例は光学フィルタ多層膜３０をダイシングソーによって切断する前に、光学フィルタ多層膜３０の上面にＵＶテープ４０を貼り付けるようにした点で上記実施形態と相違する。
【００２９】
剥離層２０の上にスパッタリングによって光学フィルタ多層膜（中心波長：１５５０ｎｍ、層数：１０９層）３０を形成する（図２（Ａ）参照）。
【００３０】
なお、図２に記載されている光学フィルタ多層膜３０の層数は実際に形成される多層膜の層数と異なる。
【００３１】
その後、光学フィルタ多層膜３０の上面にＵＶテープ４０を貼り付ける(図２（Ｂ）参照)。
【００３２】
次に、光学フィルタ多層膜３０及び剥離層２０をＵＶテープ４０の上からダイシングソー（図示せず）によって積層方向に切断（ダイシング）する。
【００３３】
このとき、光学フィルタ多層膜３０及び剥離層２０だけでなく、ガラス基板１０の一部も切断する（図２（Ｃ）参照）。
【００３４】
光学フィルタ多層膜３０は例えば一辺２ｍｍの碁盤目状に切断される。
【００３５】
その後、光学フィルタ多層膜３０をガラス基板１０とともにＮａＯＨ水溶液に浸漬する。
【００３６】
１時間程度経過したとき、剥離層２０が溶解し、ガラス基板１０から光学フィルタ多層膜チップ３０ａが剥離した。また、光学フィルタ多層膜チップ３０ａからＵＶテープ４０が剥がれた（図２（Ｄ）参照）。
【００３７】
なお、図示しないが、光学フィルタ多層膜チップ３０ａからＵＶテープ４０を確実に剥がすため、ＵＶテープ４０にＵＶ光が照射される。
【００３８】
最後に、光学フィルタ多層膜チップ３０ａの洗浄を行なう。
【００３９】
この変形例によれば、上記実施形態と同様の効果を奏するとともに、光学フィルタ多層膜３０と剥離層２０を介して密着したガラス基板１０とが切断時に不意に剥がれることがない。切断時にかかる力により光学フィルタ多層膜３０がガラス基板１０から剥がれてしまう場合に本実施形態の変形例を採用することが好ましく、光学フィルタ多層膜３０の切断作業における歩留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】図１はこの発明の一実施形態に係る光学フィルタの製造方法を説明する工程図である。
【図２】図２は図１に示す実施形態の変形例に係る光学フィルタの製造方法を説明する工程図である。
【符号の説明】
【００４１】
１０  ガラス基板（透明基板）  
２０  剥離層
３０  光学フィルタ多層膜（多層膜）
３０ａ  光学フィルタ多層膜チップ（光学フィルタ）
４０  ＵＶテープ
【図１】
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【図２】
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