(57)【要約】      （修正有）【課題】高い平面度と表裏のウェハ主面の平行度を要求される水晶ウェハの保持機構を提供する。【解決手段】水晶ウェハ１をエッチャントに浸漬してウェットエッチングする際に用いられる水晶ウェハの保持機構３において、公転軸４を軸心にして回転する公転板６と、公転板６に設けられた自転軸７を軸心にして自転する水晶ウェハ格納部９と、水晶ウェハ格納部内で水晶ウェハ１を保持する水晶ウェハ保持部１０と、先の公転軸６、及び自転軸７を連動させて回転させるギア１１を備え、公転軸６の回転方向と反対方向に自転軸７が自転し、公転軸６の公転と自転軸７の自転の比率を、１：−１．１〜０．９（自転のマイナス符号は、公転と反対方向にまわることを示す）とした。【選択図】図１
2006332566.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水晶ウェハをエッチャントに浸漬してウェットエッチングする際に用いられる水晶ウェハの保持機構において、
公転軸を軸心にして回転する公転板と、該公転板に設けられた自転軸を軸心にして自転する水晶ウェハ格納部と、該水晶ウェハ格納部内で水晶ウェハを保持する水晶ウェハ保持部と、該公転軸、及び該自転軸を連動させて回転させるギアが備えられたことを特徴とする水晶ウェハの保持機構。
【請求項２】
公転軸の回転方向と反対方向に自転軸が自転することを特徴とする請求項１に記載の水晶ウェハの保持機構。
【請求項３】
公転軸の公転と自転軸の自転の比率が、１：−１．１〜０．９であることを特徴とする請求項１乃至２に記載の水晶ウェハの保持機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い平面度と表裏のウェハ主面の平行度を要求される水晶ウェハのウェットエッチングに用いられる水晶ウェハの保持機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、水晶振動子は携帯電話などの通信端末を含めて、一般の電子機器に用いられるものが多いが、その一方で、基地局向けの水晶発振器などに使用される非常に高精度な製品仕様を必要とされる水晶振動子については、一枚の水晶からなるウェハ上に多数個の水晶振動子を形成し、これらの多数個の水晶振動子を一括的に加工して、最終的な工程でそれぞれの水晶振動子に個割りした後にセラミックなどからなる開口部を有する容器のなかに収容する水晶振動子の製造方法がとられる場合がある。
【０００３】
このことは、最近の傾向では通信分野の伝送系装置等を中核として、その搭載部品について、先述の水晶振動子を含めて、非常に急激な市場からの小型化や低背化、更に加えて軽量化や低価格化の要求があることを一因とする。
【０００４】
先述の一括的な一枚の水晶からなる水晶ウェハ上の多数個の水晶振動子の加工にウェットエッチングを用いる場合、従来の上下揺動式ウェットエッチング装置における水晶ウェハの保持機構では、水晶ウェハはその保持機構に固定されて保持され、一般的にウェットエッチング槽内の下方に載置された、ヒーターなどにより暖められたエッチャント上昇流のなかで水晶ウェハ保持機構を上下に揺動してエッチングが行われていた。
【特許文献１】特開２００３―１９２５００号公報
【０００５】
なお、出願人は前記した先行技術文献情報で特定される先行技術文献以外には、本発明に関連する先行技術文献を本件出願時までに発見するに至らなかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の水晶ウェハ保持機構においては、ウェハ保持機構内に水晶ウェハが固定されている為に、ウェットエッチング槽内の下方に載置された、ヒーターなどにより暖められたエッチャント上昇流で、ウェットエッチング槽内の下方と上方でこのエッチャント上昇流の流速に差が生じ、また、ヒーターからの距離による温度差によるエッチングレート差の発生の結果、高い平面度と表裏のウェハ主面の平行度を要求される水晶ウェハ面内のエッチング量にばらつきが生じてしまうといった問題があった。
【０００７】
本発明は、以上のような技術的背景のもとでなされたものであり、従ってその目的は、高い平面度と表裏のウェハ主面の平行度を要求されるウェットエッチングに用いられる水晶ウェハの保持機構を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明は、水晶ウェハをエッチャントに浸漬してウェットエッチングする際に用いられる水晶ウェハの保持機構において、公転軸を軸心にして回転する公転板と、公転板に設けられた自転軸を軸心にして自転する水晶ウェハ格納部と、水晶ウェハ格納部内で水晶ウェハを保持する水晶ウェハ保持部と、先の公転軸、及び該自転軸を連動させて回転させるギア（Gear）が備えられたことを特徴とする。
【０００９】
また、公転軸の回転方向と反対方向に自転軸が自転することを特徴とする。
【００１０】
また、公転軸の公転と自転軸の自転の比率が、１：−１．１〜０．９であることを特徴とする。（自転のマイナス符号は、公転と反対方向にまわることを示す。）
【発明の効果】
【００１１】
本発明の水晶ウェハの保持機構により、加工対象である水晶ウェハのウェハ面内でのエッチング量のばらつきを著しく少ないものとすることが出来、その結果、著しく生産歩留まり良く、一枚の水晶ウェハ上に多数個形成された個々の水晶振動子のエッチング加工面の平面度と、その表裏のウェハ主面の平行度が高いウェットエッチング加工をすることが出来る。
【００１２】
また、更にその後工程で個々の水晶振動子にエッチング加工を行う場合、そのエッチング加工工程の面精度を保つといった負荷を著しく軽減することが出来、従来の水晶ウェハの保持機構を使用した場合に比べて著しく生産効率良く所望の水晶振動子を製造することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に図面を参照しながら本発明の実施の一形態について説明する。なお、各図においての同一の符号は同じ対象を示すものとする。
【実施例１】
【００１４】
図１は本発明の、ウェットエッチングに用いる水晶ウェハの保持機構３をその公転軸４に対して垂直な方向からみた概略の模式図である。本発明の水晶ウェハの保持機構３では、公転軸４、及び自転軸７を互いに連動させて回転させるギア１１が備えられており、公転軸４を軸心５にして回転する公転板６と、この公転板６に設けられた自転軸７を軸心８にして自転する水晶ウェハ格納部９と、水晶ウェハ格納部９内で水晶ウェハを保持する水晶ウェハ保持部１０を有する。このために、単一の回転機構を有する場合と比較して、それぞれの水晶ウェハ１の外側の部分への新しいエッチャント２の供給がされるため水晶ウェハ１の中心部に比べエッチングが進行して、その結果、ひとつのウェハ面上で部位でのエッチング量のばらつきが生じる問題を無くすことが出来る。ここで全ての図について、取り付けられる場所に関わらずギアは符合１１としているが、それぞれの場所のギアの働きについて説明すれば、この図１において、ギア１が回転することでウェハ格納部９が公転し、ギア２の回転によりギア３がギア４に回転が伝達されることによりそれぞれのウェハ格納部９が自転する。ここで、ギア１、及びギア２はそれぞれ独立に回転させることが出来るため、ギア比が異なるギアに変えることにより自在に本発明の水晶ウェハの保持機構３の公転とそれぞれの水晶ウェハ格納部９の自転の比率を変えることが出来る。なお、本発明はエッチャント２の中において、公転軸と自転軸の２軸を有し、それぞれを軸として公転、自転する機構であることに特徴があることは言うまでもない。
【００１５】
図２は本発明の、ウェットエッチングに用いる水晶ウェハの保持機構３をその公転軸４に対して平行な方向からみた概略の模式図である。加えて本発明の水晶ウェハの保持機構３では、公転軸４の回転方向と反対方向に自転軸７が自転するために、ひとつのウェハ面上で部位でのエッチング量のばらつきを生じさせる原因となるそれぞれの水晶ウェハ１の外側の部分と水晶ウェハ１中心部でのエッチャントの供給量の差異が僅少となり、ここでもひとつのウェハ面上でその部位によるエッチング量のばらつきが生じる問題を無くすことが出来る。なお、この図２では、図を見易くするためにひとつの水晶ウェハ格納部を点線で示している。
【００１６】
図３は本発明のウェットエッチングに用いる水晶ウェハの保持機構３をその公転軸４に対して平行な方向からみた別の概略の模式図である。先述のように、それぞれ１から４の水晶ウェハ格納部９がおのおのの自転軸７を軸心８として、公転軸４の回転方向と反対方向に自転するためにひとつのウェハ面上で部位でのエッチング量のばらつきを生じさせる原因となるそれぞれの水晶ウェハ１の外側の部分と水晶ウェハ１中心部でのエッチャントの供給量の差異が僅少となり、ひとつのウェハ面内の部位でのエッチング量のばらつきが生じる問題を無くすことが出来る。発明者は実験により、公転軸４の公転と自転軸７の自転の比率が、１：−１．１〜０．９（自転のマイナス符号は、公転と反対方向にまわることを示す。）としたときに、ウェハ面内での部位によるエッチング量のばらつきが最も僅少となることを見出し、先の公転軸４の公転と自転軸７の自転の比率となるように、公転軸４、及び自転軸７を互いに連動させて回転させるギア比を決定した。本図３では水晶ウェハ格納部９は１から４の四つとしているが、これに限るものでは無く、水晶ウェハ格納部９の数が他の場合においても本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでも無い。なお、また、本発明のウェハの保持機構３は、水晶ウェハ１以外の材質のウェハにも使用することが出来るのは言うまでも無い。なお、図２、及び図３に示される本発明の水晶ウェハの保持機構３は実際にはエッチャント２のなかに浸されて使用されるが、これらの図において、エッチャント２は図示されていない。
【００１７】
図４は、従来の、一般的なウェハ格納部が上下に揺動されるウェットエッチング装置に搭載された水晶ウェハの保持機構３を水平方向からみた概略の模式図である。従来の水晶ウェハの保持機構３では、ウェットエッチング槽内の下方と上方でこのエッチャント上昇流の流速に差が生じ、また、ヒーターからの距離による温度差によるエッチングレート差の発生の結果、高い平面度と表裏のウェハ主面の平行度を要求される水晶ウェハ１面内のエッチング量にばらつきが生じてしまうといった問題があった。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明のウェットエッチングに用いる水晶ウェハの保持機構をその公転軸に対して垂直な方向からみた概略の模式図である。
【図２】本発明のウェットエッチングに用いる水晶ウェハの保持機構を    その公転軸に対して平行な方向からみた概略の模式図である。
【図３】本発明のウェットエッチングに用いる水晶ウェハの保持機構をその公転軸に対して平行な方向からみた別の概略の模式図である。
【図４】従来の、一般的なウェットエッチング装置に搭載された水晶ウェハの保持機構を水平方向からみた概略の模式図である。
【符号の説明】
【００１９】
１    水晶ウェハ
２    エッチャント
３    水晶ウェハの保持機構
４    公転軸
５    （公転軸の）軸心
６    公転板
７    自転軸
８    （自転軸の）軸心
９    水晶ウェハ格納部
１０  水晶ウェハ保持部
１１  ギア
【図１】
2006332566.tif 000003
【図２】
2006332566.tif 000004
【図３】
2006332566.tif 000005
【図４】
2006332566.tif 000006