(57)【要約】【課題】取り扱いが容易で安全性に優れる電解研磨液の提供。【解決手段】下記一般式（I）で表される化合物ならびにアルカリ金属塩化物および／またはアルカリ土類金属塩化物を含む電解研磨液。表面に鏡面部を有する金属製品の製造方法。前記金属製品を陽極とし、前述の電解研磨液を電解液として電解処理を行う。【化１】2006348336.tif 000007（式中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、ｎは１〜３の範囲の整数である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（I）で表される化合物ならびにアルカリ金属塩化物および／またはアルカリ土類金属塩化物を含む電解研磨液。
【化１】
2006348336.tif 000006
（式中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、ｎは１〜３の範囲の整数である。）
【請求項２】
前記化合物は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、およびプロピレングリコールからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の電解研磨液。
【請求項３】
前記アルカリ金属塩化物は、塩化ナトリウム、塩化リチウムおよび塩化カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項１または２に記載の電解研磨液。
【請求項４】
前記アルカリ土類金属塩化物は、塩化カルシウムおよび塩化ストロンチウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項１〜３のいずれか１項に記載の電解研磨液。
【請求項５】
表面に鏡面部を有する金属製品の製造方法であって、前記金属製品を陽極とし、請求項１〜４のいずれか１項に記載の電解研磨液を電解液として電解処理を行うことを特徴とする、前記製造方法。
【請求項６】
前記金属製品は、チタン系金属製品、アルミニウム系金属製品、マグネシウム系金属製品、ニッケル系金属製品、鉄系金属製品、亜鉛系金属製品またはステンレス系金属製品である請求項５に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、取り扱いが容易で安全性に優れる電解研磨液に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属製品の鏡面仕上げ方法としては、バフ研磨、バレル研磨などの機械的研磨法、化学研磨法、電解研磨法、電解複合研磨法などが知られている。中でも、電解研磨法は、比較的複雑な形状、線材なども研磨でき、また、電気化学的な作用で研磨するため、砥粒の研磨面への食い込みもないという利点がある。
【０００３】
従来、例えば、チタン系金属製品用電解研磨液としては、過塩素酸系またはフッ化物系のものが使用されていた。また、近年、アルコール系溶液をチタンの電解研磨に使用することも提案されている（非特許文献１参照）。しかし、これら電解研磨液は、引火、爆発、有毒ガス発生の危険性等の問題がある。
【非特許文献１】森田直久、歯科技術・器械Ｖｏｌ．９  Ｎｏ．２  ｐ２１８〜２３９（１９９０）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、取り扱いが容易で安全性に優れる電解研磨液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成する手段は、以下の通りである。
[１]  下記一般式（I）で表される化合物ならびにアルカリ金属塩化物および／またはアルカリ土類金属塩化物を含む電解研磨液。
【化１】
2006348336.tif 000002
（式中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、ｎは１〜３の範囲の整数である。）
[２]  前記化合物は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、およびプロピレングリコールからなる群から選ばれる少なくとも一種である[１]に記載の電解研磨液。
[３]  前記アルカリ金属塩化物は、塩化ナトリウム、塩化リチウムおよび塩化カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である[１]または[２]に記載の電解研磨液。
[４]  前記アルカリ土類金属塩化物は、塩化カルシウムおよび塩化ストロンチウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である[１]〜[３]のいずれかに記載の電解研磨液。
[５]  表面に鏡面部を有する金属製品の製造方法であって、前記金属製品を陽極とし、[１]〜[４]のいずれかに記載の電解研磨液を電解液として電解処理を行うことを特徴とする、前記製造方法。
[６]  前記金属製品は、チタン系金属製品、アルミニウム系金属製品、マグネシウム系金属製品、ニッケル系金属製品、鉄系金属製品、亜鉛系金属製品またはステンレス系金属製品である[５]に記載の製造方法。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、取り扱いが容易で安全性に優れる電解研磨液を提供することができる。
更に、本発明によれば、良好な鏡面部を有する金属製品を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明について更に詳細に説明する。
[電解研磨液]
本発明の電解研磨液は、下記一般式（I）で表される化合物ならびにアルカリ金属塩化物および／またはアルカリ土類金属塩化物を含む。
【化２】
2006348336.tif 000003
（式中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、ｎは１〜３の範囲の整数である。）
【０００８】
本発明の電解研磨液は、安全性の高いアルカリ金属塩化物および／またはアルカリ土類金属を溶質として、非引火性のグリコール系化合物を溶媒として含むため、きわめて安全性に優れ、更に、取り扱いが容易であるという利点を有する。
【０００９】
一般式（Ｉ）中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、水素原子であることが好ましい。また、一般式（Ｉ）中、ｎは１〜３、好ましくは１〜２の範囲の整数である。
【００１０】
電解研磨法では、電解処理を行うと研磨面に固体皮膜と液体の粘液膜が生成される。固体皮膜の生成は、研磨効果（鏡面化）に寄与し、粘液膜は、研磨効果（鏡面化）に寄与するとともに、酸化を抑える作用があると考えられる。従って、この粘液膜が所定期間研磨面上に保持されれば、金属表面の酸化が抑制され、鏡面化が進行すると考えられる。そのため、前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、上記粘液膜が所定期間研磨面上に保持される程度の適度な粘性および比重を有することが好ましい。更に、前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、使用する溶質（アルカリ金属塩化物および／またはアルカリ土類金属塩化物）を良好に溶解できるものであることが好ましい。以上の観点から、前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、好ましくは、エチレングリコール、ジエチレングリコール、またはプロピレングリコールであり、最も好ましくはエチレングリコールである。なお、本発明では、前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物の二種以上を併用することも可能である。
【００１１】
前記アルカリ金属塩化物は、好ましくは、塩化ナトリウム、塩化リチウムおよび塩化カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種であり、安全性、入手の容易性等を考慮すると、塩化ナトリウムであることが最も好ましい。また、前記アルカリ土類金属塩化物は、塩化カルシウムおよび塩化ストロンチウムからなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。また、本発明では、二種以上のアルカリ金属塩化物、アルカリ土類金属塩化物を併用することも可能である。
【００１２】
本発明の電解研磨液におけるアルカリ金属塩化物、アルカリ土類金属塩化物の濃度は、使用する塩化物の溶解度および溶液の粘度を考慮して設定することが好ましい。前記一般式（I）で表わされる化合物としてエチレングリコールを使用する場合、塩化ナトリウム、塩化カリウムの濃度は、例えばエチレングリコール１Lに対して２０ｇ〜７５ｇ、好ましくは４０ｇ〜７５ｇ、最も好ましくは６０ｇ〜７５ｇとすることができる。一方、塩化リチウムの場合には、例えば、エチレングリコール１Lに対して２０ｇ〜１５０ｇ、好ましくは４０ｇ〜１５０ｇ、最も好ましくは６０ｇ〜１３０ｇとすることができる。また、塩化カルシウムの場合には、例えば、エチレングリコール１Lに対して２０ｇ〜１５０ｇ、好ましくは４０ｇ〜１５０ｇ、最も好ましくは６０ｇ〜１１０ｇ、塩化ストロンチウムの場合には、例えば、エチレングリコール１Lに対して２０ｇ〜１８０ｇ、好ましくは４０ｇ〜１８０ｇ、最も好ましくは、６０ｇ〜１６０ｇとすることができる。また、一般式（I）で表わされる化合物として、エチレングリコール以外のものを使用する場合には、前記塩化物の濃度は飽和に近い濃度とすることが好ましい。
【００１３】
本発明の電解研磨液は、無水系電解液であることができる。本発明の電解研磨液は、一般式（I）で表わされる化合物以外の溶媒を、例えば粘性調整のために含むこともできる。混合可能な溶媒としては、エタノール、プロパノール、ポリエチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。但し、その場合、溶媒のうち７０質量％以上が前記一般式（I）で表わされる化合物であることが好ましい。また、本発明の電解研磨液は、前記一般式（I）で表わされる化合物とアルカリ金属塩化物および／またはアルカリ土類金属塩化物からなるものであることが好ましい。
【００１４】
本発明において、良好に研磨が行われたことは、例えば、表面粗さ値の低下、光沢度の向上によって確認することができる。本発明の電解研磨液は、例えば、チタン系金属製品、アルミニウム系金属製品、マグネシウム系金属製品、ニッケル系金属製品、鉄系金属製品、亜鉛系金属製品またはステンレス系金属製品の研磨（鏡面化）に好適である。なお、研磨処理の詳細については後述する。
【００１５】
[金属製品の製造方法]
本発明は、更に、表面に鏡面部を有する金属製品の製造方法であって、前記金属製品を陽極とし、本発明の電解研磨液を電解液として電解処理を行うことを特徴とする、前記製造方法
に関する。
【００１６】
前記製造方法では、安全性に優れ、取り扱いが容易な電解研磨液を使用するため、操作性に優れる。更に、本発明の方法により、表面が滑らかな鏡面仕上りの金属製品を製造することができる。
【００１７】
本発明の製造方法で得られる金属製品は、表面に鏡面部を有する。本発明において、「鏡面」とは、得られる金属製品の表面状態を表すものであり、鏡面光沢度４００以上の面をいう。ここで、鏡面光沢度は、ＪＩＳ  Ｚ８７４１−１９９７に基づき測定した６０度鏡面光沢をいうものとする。
金属製品の鏡面部は、金属製品の表面の一部および全部のいずれであってもよい。
【００１８】
前記金属製品は、チタン系金属製品、アルミニウム系金属製品、マグネシウム系金属製品、ニッケル系金属製品、鉄系金属製品、亜鉛系金属製品またはステンレス系金属製品であることができる。前記金属製品は、純金属であることもでき、または、二種以上の金属成分を含む合金であることもできる。
【００１９】
特に、チタン系金属製品は、耐食性、生体適合性の点から、人工骨や骨折接合用品などのインプラント（埋入材）をはじめ医療用、歯科用器具において広く使用されており、生体への安全性（雑菌の付着と繁殖の防止）を向上させる目的で、鏡面仕上げが行われている。先に説明したように、本発明では、安全性に優れる電解研磨液を使用するため、上記のような医療用途、歯科用途に使用されるチタン系金属製品に好適である。
【００２０】
本発明において使用されるチタン系金属製品は、純チタンまたはチタン合金であることができる。チタン系金属の具体例としては、純チタン；Ｔｉ−１５Ｍｏ、Ｔｉ−５Ａｌ−２．５Ｓｎ、Ｔｉ−６Ａｌ−４Ｖ  ＥＬＩ、Ｔｉ−６Ａｌ−４Ｖ、Ｔｉ−６Ａｌ−７Ｎｂ、Ｔｉ−１５Ｍｏ−５Ｚｒ、Ｔｉ−５Ａｌ−３Ｍｏ−４Ｚｒ、Ｔｉ−１３Ｎｂ−１３Ｔａ、Ｔｉ−１２Ｍｏ−６Ｚｒ−２Ｆｅ、Ｔｉ−１５Ｚｒ−４Ｎｂ−２Ｔａ−０．２Ｐｄ、Ｔｉ−３５．３Ｎｂ−５．１Ｔａ−４．６Ｚｒ、Ｔｉ−２９Ｎｂ−１３Ｔａ−４．６Ｚｒ、Ｔｉ−１５Ｓｎ−４Ｎｂ−２Ｔａ−０．２Ｐｄ、その他Ｔｉを多量に含む合金等が挙げられる。
【００２１】
本発明の方法では、鏡面仕上げを行う金属製品を陽極とし、該陽極と陰極との間に、本発明の電解研磨液を配置して電解処理を行うことができる。例えば、陽極と陰極を電解研磨液中に浸漬して電解処理を行うことができる。
【００２２】
陰極の材料は、電解研磨液の組成等に応じて適宜選択できる。陰極の材料としては、例えば、チタン、白金、ステンレス、銅などを挙げることができ、陽極での析出の弊害を防ぐためには、チタンであることが好ましい。また陰極の形状については特に制限はなく、研磨する製品の形状に応じて、電流が均一に流れるような形状にすることが好ましく、例えば、円筒状とすることができる。
【００２３】
電解処理は、公知の方法で行うことができ、電解条件は、処理対象の金属製品に応じて適宜設定することができる。例えば、電流密度は、３〜４００ｍＡ／ｃｍ2、極間電圧は３〜４０Ｖとすることができる。電解処理は、例えば１〜１２０分間行うことができる。
【００２４】
電解処理を行う際の電解液の温度は、例えば常温（室温）程度とすることができ、５〜３０℃の範囲とすることが好ましい。
【００２５】
前述のように、電解研磨法では、研磨面に固体皮膜と液体の粘液膜が生成され、この固体皮膜の生成と粘液膜は、研磨効果（鏡面化）に寄与する。しかし、電解により剥離可能な固体皮膜や、被研磨金属表面に元々存在する酸化膜の研磨面への滞留は、研磨の進行、または均一な進行を妨げるおそれがある。特に、チタン系金属製品の場合は、その傾向がある。そこで、処理対象の金属製品がチタン系金属製品である場合には、研磨時間短縮および皮膜除去のため、チタン系金属製品（陽極）と陰極との間に電解研磨液を配置し（例えば両電極を電解研磨液に浸漬し）、比較的高い電流密度における第一の電解工程を行い、次いで、第一の電解工程よりも低電流密度での第二の電解工程を行うことが好ましい。具体的には、４０〜２００ｍＡ／ｃｍ2の範囲の電流密度で電解研磨する高電流密度電解工程を行い、次いで、前記高電流密度電解工程での電流密度より低い電流密度であって、５〜４０ｍＡ／ｃｍ2の範囲の電流密度で電解研磨する低電流密度電解工程を行うことが好ましい。なお、定電圧で電解を行う場合には、電圧印加直後には電流値が変動することがある。本発明における「電流密度」とは、電流密度の時間（秒）平均値をいうものとする。
【００２６】
比較的高電流密度で電解研磨を行うと、短時間で研磨を行うことができる。しかし、高電流密度での電解研磨のみで鏡面仕上げを行うと、時間がある程度以上になると、熱、温度、皮膜等が不均一になり易く、気泡も発生する。このような熱、温度、皮膜等の不均一性と気泡の発生が研磨効果を阻害することにより、白あるいは灰色の曇り面が研磨面の一部あるいは全面に生じてしまう。
一方、比較的低電流密度で電解研磨を行うと、安定性の高い鏡面を形成することができるが、長時間を要する。また、比較的低電流密度で電解研磨を行った場合、表面に皮膜が形成された後、自然に剥離する部分と滞留する部分とができ、その結果、研磨面が不均一になる。そのため、均一な鏡面にするためには、超音波処理、電解研磨液の攪拌等の皮膜除去工程を行う必要がある。
それに対し、比較的高電流密度での電解研磨と比較的低電流密度での電解研磨とを組み合わせることにより、表面が滑らかな鏡面仕上がりのチタン系金属製品を、短時間で得ることができる。
この点について、より詳細に説明する。
チタン系金属製品の電解研磨においては、皮膜を形成する反応と皮膜を除去する反応とが同時に進行していると考えられる。陰極と陽極（被研磨物）に電圧を加えると、陽極面近傍に粘液層が生じ、電圧を加えた直後（初期）には、この粘液層は薄いため、皮膜の生成が皮膜除去よりも優位に進行する。一方、時間が経ち粘液層が十分厚くなると、皮膜を剥離する反応も進行し、研磨効果が現れる。つまり、チタン系金属製品の電解研磨は、皮膜の生成→剥離により進行すると考えられる。高電流密度電解工程において短時間で研磨を行い、曇り面が生じる前に低電流密度電解工程に切り替えることで、高電流密度電解工程で研磨しきれなかった部分を研磨し、均一な鏡面を得ることができる。低電流密度電解工程では、研磨効果のある反応は穏やかにしか進行しないが、研磨面の皮膜の生成と剥離、発熱と放熱等が平衡し、時間が経っても均一な電解研磨が保たれるため、安定性の高い鏡面を形成することができる。このように、高電流密度電解工程と低電流密度電解工程とを組み合わせることにより、短時間で安定性の高い鏡面を形成することができる。
【００２７】
前記高電流密度電解工程における電流密度は、４０〜２００ｍＡ／ｃｍ2の範囲であることができ、好ましくは５０〜１００ｍＡ／ｃｍ2、特に好ましくは６０〜８０ｍＡ／ｃｍ2の範囲である。電流密度が２００ｍＡ／ｃｍ2以下であれば、研磨面に曇り面が生じにくく、また、研磨面の発熱により、電解液の温度が上昇したり、電解液に対流が起こり、陽極面近傍に生じる粘液層を破壊し、電解研磨の進行が妨げられるという問題を回避することもできる。一方、電流密度が４０ｍＡ／ｃｍ2以上であれば、研磨時間の短縮が可能である。電解研磨における電流密度は、印加する電圧を調整することにより所望の値に設定することができる。
【００２８】
前記低電流密度電解工程における電流密度は、前記高電流密度電解工程における電流密度より低い電流密度であって、５〜４０ｍＡ／ｃｍ2の範囲であることができ、好ましくは５〜３０ｍＡ／ｃｍ2、特に好ましくは５〜１５ｍＡ／ｃｍ2の範囲である。低電流密度電解工程での電流密度が上記範囲内であれば、良好な研磨を行うことができる。
【００２９】
前記高電流密度電解工程では、短時間で鏡面を形成することができるが、過度に長時間行うと、研磨面に曇り等が発生してしまうおそれがある。よって、前記高電流密度電解工程は、０．５〜１０分間行うことが好ましく、１〜５分間行うことがより好ましい。一方、前記低電圧電解工程は、長時間行っても研磨面に悪影響を与えることはないが、短時間で安定な鏡面を得るという観点から、例えば、５〜４０分間、好ましくは５〜２０分間行うことができる。
【００３０】
高電流密度電解工程と低電流密度電解工程を１回行うだけで、鏡面部を有する製品を得ることができるが、表面粗さを低減するためには、これらの工程を２回以上繰りかえすことが好ましい。高電流密度電解工程と低電流密度電解工程は、例えば、２回以上、好ましくは３回以上行うことができる。但し、これらの工程を繰り返すと、研磨により被研磨物の形状精度が低下することがある。よって、高電流密度電解工程と低電流密度電解工程の回数は、形状精度と表面粗さとのバランスを考慮し、適宜設定することが好ましい。前記工程の繰り返し回数の上限は、例えば１０回とすることができる。
【００３１】
本発明においては、電解を休止することなく全工程を連続して行うこともできるが、高電流密度電解工程と低電流密度電解工程との間、および／または、次の高電流密度電解工程への移行前に、電解を一旦休止することもできる。高電流密度電解工程、低電流密度電解工程のいずれにおいても、前述のように、電圧を加えた直後（初期）は陽極面近傍の粘液層が薄いため、皮膜の生成が剥離と比べて優位に進行する。チタン系金属製品の電解研磨においては、皮膜が剥離した後に光沢面（鏡面）が得られることから、皮膜の生成も、表面粗さ低減に必要な反応と考えられる。つまり、電解初期の皮膜生成は、表面粗さ低減に効果があると考えられる。よって、皮膜の生成を剥離と比べて優位に進行させるために、電解を休止して電解液を攪拌したり、被研磨物に振動を与えるなどして、粘液層を電解液中に拡散させることにより、電解液を電圧を加える前の状態（初期状態）に戻すことによって、より表面粗さが低減された鏡面を得ることができる。また、電解を休止することは、高電流密度電解工程、低電流密度電解工程で生じた研磨面近傍の熱を放出する効果もあると考えられる。
【００３２】
前述のように、チタン表面に形成された皮膜の研磨面への滞留は、研磨の進行、または均一な進行を妨げるおそれがある。そこで、本発明の製造方法は、研磨を良好に進行させるために、電解処理後、チタン表面に形成された皮膜を除去するための工程を更に含むこともできる。
但し、高低２種類の電流密度での電解研磨を行う前述の方法においてチタン表面に生成される皮膜は、特に振動を加えなくても電解中に剥離したり、電解停止後に軽く液を撹拌するだけで剥がれるものであるので、皮膜除去の工程は必須ではない。皮膜除去方法としては、液の撹拌、超音波処理等を挙げることができる。超音波処理を行う場合には、一般の超音波洗浄に用いられる超音波洗浄装置をそのまま用いることができる。使用する超音波は、例えば、振動数１０〜１００ＭＨｚ、出力２５〜３００Ｗの超音波であることができる。
【００３３】
以上説明した高低２種類の電流密度での電解研磨を行う方法は、強固な皮膜が形成されやすいチタン系金属製品の処理に好適であるが、アルミニウム系金属製品、マグネシウム系金属製品、ニッケル系金属製品、鉄系金属製品、亜鉛系金属またはステンレス系金属製品に適用することも、もちろん可能である。
【実施例】
【００３４】
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。
研磨装置
電解研磨装置の構成を、図１に示す。
電源は、直流電源（（株））エー・アンド・ディ、ＡＤ−８７２３、０〜３０Ｖ）を用いた。電解槽には３００ｍｌのガラス製ビーカーを用い、電極（陰極）は純チタン板（厚さ０．２ｍｍ）、を円筒状に曲げ、ビーカーの壁面に沿わせるように配置した。
【００３５】
評価方法
（１）表面粗さＲａ
表面粗さ・輪郭形状測定機ＳＶ−Ｃ６２４（（株）ミツトヨ）において、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に基づき算術平均粗さとして測定した。
（２）鏡面光沢度
光沢計ＶＧＳ−３００Ａ（日本電色（株））において、ＪＩＳ  Ｚ８７４１−１９９７に基づき６０度鏡面光沢として測定した。
【００３６】
[実施例１]
以下の方法で、図２に示す研磨試料を作製した。
純チタン板（厚さ１ｍｍ；工業用２種）をワイヤ放電加工機で帯状（幅５ｍｍ）に加工し、図２に示すように研磨面積を熱収縮チューブで２０ｍｍ×５ｍｍに調整し、研磨試料を得た。この試料の研磨前の表面粗さＲａは０．２８μｍ、鏡面光沢度は７５であった。
エチレングリコール３００ｍｌに塩化ナトリウム２０ｇを溶解して電解研磨液を調製した。この電解研磨液を用いて、図１に示す電解研磨装置を用いて研磨試料を、極間電圧２５Ｖで３分間電解処理後、電解を休止して液を攪拌し、次いで極間電圧２５Vで３分間、極間電圧１０Ｖで３０分間電解処理した。処理後の試料の状態を図３に示す。処理後の試料の表面粗さは０．１２μｍ、鏡面光沢度は４４４であり、上記電解研磨液を用いた電解処理により、研磨が良好に行われたことが確認された。
【００３７】
[実施例２]
実施例１と同様の電解研磨液および電解研磨装置（但し、３００ｍｌビーカーに代えて２Lビーカーを使用した）を用いて、純チタンの丸棒（φ１０ｍｍ×１５０ｍｍ；（株）ニラコ製）を、「極間電圧２５Ｖ、３分間→極間電圧１０Ｖ、３０分間→液攪拌」のプロセスを２回繰り返して電解処理を行った。処理後の試料の状態を図４に示す。処理前の丸棒の表面粗さＲａは０．６７μｍであったのに対し、処理後の丸棒の試料の表面粗さＲａは０．１９μｍであり、研磨が良好に行われたことが確認された。
【００３８】
[実施例３〜６]
表１に示す各種条件にて、実施例１で用いた試料と同様の試料の電解処理を行った。表１に示すように、いずれの条件でも、処理前後で鏡面光沢度、表面粗さが改善され、研磨が良好に行われたことが確認された。
【００３９】
【表１】
2006348336.tif 000004
【００４０】
[実施例７〜１４]
表２に示す各種条件にて、各種金属試料の電解処理を行った。金属試料は、実施例１と同様に加工した。表２に示すように、いずれの条件でも、処理前後で鏡面光沢度が改善され、処理後の表面粗さも低く、研磨が良好に行われたことが確認された。
【００４１】
【表２】
2006348336.tif 000005
【００４２】
[実施例１５]
図１に示す電解研磨装置を用いて、純マグネシウム丸棒（φ６ｍｍ×２０ｍｍ）の研磨を行った。この丸棒の表面粗さＲａは０．４９μｍであった。エチレングリコール３００ｍｌに塩化カリウム２０ｇを溶解した電解研磨液を使用した。液温は２５℃に設定した。極間電圧１５Ｖで２分間の電解処理を行った後、液攪拌を行う工程を１０回繰り返した。処理後の試料の表面粗さＲａは０．２１μｍであった。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明により、表面が滑らかな鏡面仕上がりの金属製品を得ることができる。本発明の電解研磨液および金属製品の製造方法は、例えば、不純物が混入するおそれの少ないステント、人工歯根、歯列矯正ワイヤ、ガイドワイヤ、チタンの柑子などの医療器具や、メガネ、指輪、イヤリング、ネックレス、腕時計、ブローチなどの装身具、細胞培養装置部品、半導体製造装置部品等への応用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】実施例で使用した電解研磨装置の概略図である。
【図２】実施例で使用した研磨試料の概略図である。
【図３】実施例１において処理した試料の状態を示す。
【図４】実施例２において処理した試料の状態を示す。
【図２】
2006348336.tif 000008
【図１】
2006348336.tif 000009
【図３】
2006348336.tif 000010
【図４】
2006348336.tif 000011