(57)【要約】【課題】  感光層と支持体とを積層してなる感光フィルムを感光層の側を基板上に貼り付けて構成した板状積層体における感光層に所定のパターンを露光する際に、支持体が剥離された板状積層体における感光層の酸素との反応をできるだけ小さくする。【解決手段】  露光装置１内に、感光材料１５０から支持体を剥離するための剥離装置１８０を設け、剥離装置１８０により感光材料１５０から支持体を剥離した後、直ちにスキャナ１６２により、感光材料１５０にパターンの露光を行う。【選択図】          図１
2006133593.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光層と支持体とを積層してなる感光フィルムを前記感光層の側を基板上に貼り付けて構成した板状積層体における該感光層に、所定のパターンを露光する露光手段と、
所定の搬送経路に沿って該露光手段に前記板状積層体を搬送する搬送手段と、
前記所定の搬送経路における前記露光手段の上流側に設けられた、前記板状積層体から前記支持体を剥離する剥離手段とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記支持体を剥離した後の前記感光層近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下に低減する酸素分圧低減手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記酸素分圧低減手段は、装置内を減圧する手段であることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記酸素分圧低減手段は、前記板状積層体に向けて不活性ガスを噴出する手段であることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光源から発せられた光ビーム等によりプリント配線板の配線パターン等の所定のパターンを、感光層と支持体とを積層してなる板状積層体の感光層に露光する露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、レジスト層あるいはカラーフィルタ層等の感光層を支持体上に積層した感光フィルムが知られており、このような感光フィルムは、感光層の側が、例えばガラス基板上に貼り付けられて板状の積層体とされた後、この板状積層体から支持体を剥離して、ガラス基板に感光層のみが積層された状態で利用されている。
【０００３】
例えば、上記板状積層体を構成する感光フィルムが感光層としてレジスト層を積層したものである場合には、この板状積層体から支持体が剥離されてガラス基板上にレジスト層のみが積層された状態で露光工程に投入され、また、板状積層体を構成する感光フィルムが感光層としてカラーフィルタ層を積層したものである場合には、この板状積層体から支持体が剥離されてガラス基板上にカラーフィルタ層のみが積層された状態で次の露光工程に投入される。
【０００４】
そして露光工程により感光層における露光がなされた部分において光重合反応が生じ、これにより感光層が硬化する。さらにその後、現像およびエッチングにより、基板にパターンが形成される。
【０００５】
ところで、上記のように基板の表面に支持体（カバーフィルム、あるいは保護フィルムともいう）が積層された板状積層体においては、露光工程において支持体が不要となるため、板状積層体から支持体を剥離する必要がある。
【０００６】
このように板状積層体から支持体を剥離する方式として、搬送される板状積層体の支持体の側を粘着ロールの外周面で粘着し剥離して支持体をこの粘着ロールに巻き取るものが知られている（特許文献１，２参照）。
【０００７】
また、従来、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子を利用して、画像データに応じて変調された光ビームにより画像露光を行う露光装置が種々提案されている。このような露光装置の用途の一つとして、プリント配線板の製造工程における利用が知られている（例えば特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２００１−２４０３０５号公報
【特許文献２】特開平０６−２８２０７６号公報
【特許文献３】特開２００４−１２４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、板状積層体から支持体を剥離すると、感光層が大気に晒されるため、感光層が酸素と反応してしまうことから、露光工程において感光層の光重合反応が阻害されてしまうという問題がある。このため、剥離装置により支持体を剥離した後は、できるだけ早く露光工程に板状積層体を搬送する必要がある。しかしながら、搬送中においても板状積層体は大気に晒されてしまうことから、感光層の酸素との反応を完全に防止することはできなかった。
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、支持体が剥離された板状積層体における感光層の酸素との反応をできるだけ小さくすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明による露光装置は、感光層と支持体とを積層してなる感光フィルムを前記感光層の側を基板上に貼り付けて構成した板状積層体における該感光層に、所定のパターンを露光する露光手段と、
所定の搬送経路に沿って該露光手段に前記板状積層体を搬送する搬送手段と、
前記所定の搬送経路における前記露光手段の上流側に設けられた、前記板状積層体から前記支持体を剥離する剥離手段とを備えたことを特徴とするものである。
【００１１】
なお、本発明による露光装置においては、前記支持体を剥離した後の前記感光層近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下に低減する酸素分圧低減手段をさらに備えるようにしてもよい。
【００１２】
この場合、前記酸素分圧低減手段を、装置内を減圧する手段としてもよい。
【００１３】
また、前記酸素分圧低減手段を、前記板状積層体に向けて不活性ガスを噴出する手段としてもよい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、板状積層体から支持体を剥離する剥離手段を、露光装置内における露光手段の上流側に設けたため、支持体が剥離された板状積層体は露光手段へ直ちに搬送されることとなる。これにより、支持体が剥離された板状積層体が大気に晒される時間を極力少なくすることができ、その結果、感光層の酸素との反応をできるだけ少なくすることができる。したがって、感光層の光に対する感度の低下を防止し、パターンの露光を良好に行うことができる。
【００１５】
とくに、支持体を剥離した後の感光層近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下とすることにより、感光層と酸素との反応をより少なくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図１は本発明の実施形態による露光装置の外観を示す斜視図である。図１に示すように、本実施形態による露光装置１は、シート状の感光材料１５０を表面に吸着して保持する平板状のステージ１５２を備えている。また４本の脚部１５４に支持された厚い板状の設置台１５６の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド１５８が設置されている。ステージ１５２は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド１５８によって往復移動可能に支持されている。なお、この露光装置１には、ステージ１５２をガイド１５８に沿って駆動するための図示しない駆動装置が設けられている。
【００１７】
設置台１５６の中央部には、ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート１６０が設けられている。コ字状のゲート１６０の端部の各々は、設置台１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側にはスキャナ１６２および剥離装置１８０が設けられ、他方の側には感光材料１５０の先端および後端を検知する複数（例えば２個）の検知センサ１６４が設けられている。スキャナ１６２および検知センサ１６４は各々ゲート１６０に取り付けられて、ステージ１５２の移動経路の上方に固定配置されている。また、剥離装置１８０はスキャナ１６２を介してゲート１６０に取り付けられて、ステージ１５２の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ１６２、検知センサ１６４および剥離装置１８０は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。
【００１８】
また、設置台１５６の上方には、感光材料１５０と大気とを遮蔽するためのカバー１２０が設けられている。ステージ１５２、ガイド１５８、ゲート１６０の一部、スキャナ１６２、検知センサ１６４および剥離装置１８０は、カバー１２０内に設けられることとなる。また、カバー１２０にはカバー１２０内の空間を減圧するための真空ポンプ１２２が接続されている。真空ポンプ１２２は不図示のコントローラにより、カバー１２０内の空間を減圧して、支持体４３を剥離した後の感光材料１５０近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下とするように制御される。
【００１９】
図２は本実施形態において使用される感光材料１５０の拡大断面図である。図２に示すように、感光材料１５０は、光の照射による硬化する感光層であるレジスト層４２と支持体４３とを積層してなる感光フィルム４５をレジスト層４２の側を基板４１上に貼り付けることにより構成されている。なお、基板４１はガラス、支持体４３はＰＥＴ樹脂製のフィルムからなる。
【００２０】
次いで、剥離装置１８０について説明する。
【００２１】
図３は剥離装置１８０の剥離部分における構成を示す図、図４は粘着ロールで支持体を剥離していく過程を示す図である。
【００２２】
剥離装置１８０は、外周面２４が粘着材料で構成された４つの粘着ロール２３と、各粘着ロール２３のそれぞれが各軸芯２３Ｃの周りに回転可能となるようにして各粘着ロール２３を回転軸３５の周りに観覧車状に配置してなる、各粘着ロール２３を回転軸３５の周りに回転移送する粘着ロール回転移送部３０とを備えている。
【００２３】
また、剥離装置１８０は、剥離動作を終了した粘着ロール２３に巻き取られた支持体４３を、この粘着ロール２３から取り外す支持体取外し部１０と、支持体４３が取り外された粘着ロール２３をクリーニングするクリーニング部１５とを備えている。
【００２４】
粘着ロール回転移送部３０は、感光材料１５０の搬送経路上側に配設されており、搬送される感光材料１５０の幅方向両側に対向配設された一対のターレット板３４を備える。回転軸３５はターレット板３４を不図示のベアリングを介して、不図示の回転モータにより回転自在に支持するものである。
【００２５】
ターレット板３４の周縁部には脚部３６が等間隔に４個突設されており、対向する各脚部３６の先端間には粘着ロール２３がそれぞれ感光材料１５０と幅方向に接するように回転自在に軸支されている。
【００２６】
支持体取外し部１０を構成する支持体取外しロール１１は高粘着質の材料、例えば外周面に高い粘着力を有する接着剤が塗布されて成形されたものであって、粘着ロール回転移送部３０においては、各粘着ロール２３に上方から接触可能になるように、回転軸３５の真上（図３の支持体取外し位置Ｈ）に配設されており、図３の反時計方向（図示の矢印方向）に、図示しない駆動部によって回転するように構成されている。したがって、各粘着ロール２３によって剥離されその周面に巻回された支持体４３は、上方から接触してくる支持体取外しロール１１によって、図示の支持体取外し位置Ｈにおいて粘着され、粘着ロール２３の周面から剥ぎ取られるものである。
【００２７】
クリーニング部１５を構成するクリーニングロール１６は、回転軸３５の真横、すなわち図３の側面視で同レベルに位置し、かつ各粘着ロール２３よりも感光材料１５０の搬送方向上流側、すなわち、剥離実施位置Ｊの上流側に配設されて、図示しない駆動部によって、図３において時計方向に回転させられており、支持体取外しロール１１によって支持体４３が剥ぎ取られた各粘着ロール２３に水平方向から面接して、各粘着ロール２３の表面に付着したゴミなどを除去し、その粘着度を維持向上させるようになっている。
【００２８】
次いで、スキャナ１６２の構成について説明する。
【００２９】
スキャナ１６２は、図５および図６（ｂ）に示すように、ｍ行ｎ列（例えば３行５列）の略マトリックス状に配列された複数（例えば１４個）の露光ヘッド１６６を備えている。この例では、感光材料１５０の幅との関係で、３行目には４個の露光ヘッド１６６が配置されている。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド１６６ｍｎと表記する。
【００３０】
露光ヘッド１６６による露光エリア１６８は、副走査方向を短辺とする矩形状である。したがって、ステージ１５２の移動に伴い、感光材料１５０には各露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア１６８ｍｎと表記する。
【００３１】
また、図６（ａ）および（ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域１７０が副走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッドの各々は、配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、本実施の形態では２倍）ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア１６８１１と露光エリア１６８１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア１６８２１と３行目の露光エリア１６８３１とにより露光することができる。
【００３２】
露光ヘッド１６６１１〜１６６ｍｎの各々は、図７および図８に示すように、入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）５０を備えている。このＤＭＤ５０は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えた図示しないコントローラに接続されている。このコントローラのデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。なお、制御すべき領域については後述する。また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、反射面の角度の制御については後述する。
【００３３】
ＤＭＤ５０の光入射側には、１個の水銀ランプ６６、この水銀ランプ６６から発せられた光を光量分布補正した上でＤＭＤ５０上に集光するレンズ系６７、このレンズ系６７を通過した光をＤＭＤ５０に向けて反射させるミラー６９がこの順に配置されている。なお図７ではレンズ系６７を概略的に示してある。
【００３４】
上記レンズ系６７は、図８に示すように、水銀ランプ６６のフィラメント６６ａから出射してリフレクター６６ｂにより前方側に集められた光を平行光化するコリメーターレンズ７１、このコリメーターレンズ７１を通過した光の光路に挿入されたマイクロフライアイレンズ７２、このマイクロフライアイレンズ７２と向かい合う状態に配設された別のマイクロフライアイレンズ７３、およびこのマイクロフライアイレンズ７３の前方つまりミラー６９側に配置されたフィールドレンズ７４から構成されている。マイクロフライアイレンズ７２および７３は、微小レンズセルが縦横に多数配置されてなるものであり、それらの微小レンズセルの各々を通過した光がそれぞれＤＭＤ５０に互いに重なる状態で入射するので、ＤＭＤ５０を照射する光の光量分布が均一化される。
【００３５】
またＤＭＤ５０の光反射側には、ＤＭＤ５０で反射した光を感光材料１５０の走査面（被露光面）５６上に結像するレンズ系５１が配置されている。レンズ系５１は、ＤＭＤ５０と被露光面５６とが共役な関係となるように配置されている。このレンズ系５１は、図７では概略的に示してあるが、図８に詳細を示すように、２枚のレンズ５２，５４からなる拡大結像光学系と、２枚のレンズ５７，５８からなる結像光学系と、これらの光学系の間に挿入されたマイクロレンズアレイ５５と、アパーチャアレイ５９とから構成されている。上記のマイクロレンズアレイ５５は、ＤＭＤ５０の各画素に対応する多数のマイクロレンズ５５ａが配置されてなるものである。またアパーチャアレイ５９は、マイクロレンズアレイ５５の各マイクロレンズ５５ａに対応する多数のアパーチャ５９ａが形成されてなるものである。
【００３６】
ＤＭＤ５０は、図９に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）６０上に、微小ミラー（マイクロミラー）６２が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、６００個×８００個）の微小ミラーを格子状に配列して構成されたミラーデバイスである。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー６２が設けられており、マイクロミラー６２の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、マイクロミラー６２の反射率は９０％以上である。また、マイクロミラー６２の直下には、ヒンジおよびヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造プロセスで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル６０が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【００３７】
ＤＭＤ５０のＳＲＡＭセル６０にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー６２が、対角線を中心としてＤＭＤ５０が配置された基板側に対して±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図１０（ａ）は、マイクロミラー６２がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図１０（ｂ）は、マイクロミラー６２がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。したがって、画像信号に応じて、ＤＭＤ５０の各ピクセルにおけるマイクロミラー６２の傾きを、図９に示すように制御することによって、ＤＭＤ５０に入射された光はそれぞれのマイクロミラー６２の傾き方向へ反射される。
【００３８】
なお、図９には、ＤＭＤ５０の一部を拡大し、マイクロミラー６２が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー６２のオンオフ制御は、ＤＭＤ５０に接続された図示しないコントローラによって行われる。なお、オフ状態のマイクロミラー６２により光ビームが反射される方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
【００３９】
次いで、本実施形態による露光装置の動作について説明する。まず、剥離装置１８０による支持体４３の剥離の動作について説明する。
【００４０】
真空ポンプ１２２を駆動することにより、支持体４３を剥離した後の感光材料１５０近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下とするように、カバー１２０内の空間を減圧する。
【００４１】
感光材料１５０を表面に吸着したステージ１５２は、図示しない駆動装置により、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の上流側から下流側に一定速度で移動される。そして、ステージ１５２が剥離装置１８０の下を通過する際に、支持体４３の剥離が行われる。
【００４２】
図４（ａ）〜（ｄ）に示すように、粘着ロール２３は図示の矢印方向に回転し、ステージ１５２に吸着されて搬送される感光材料１５０を構成する支持体４３の剥離を開始する（図４（ａ）参照）。その後、粘着ロール２３が感光材料１５０を押圧しながら剥離させた支持体４３の巻き取りを続け（図４（ｂ）参照）、感光材料１５０の搬送方向最上流側端部まで粘着ロール２３による感光材料１５０の搬送が行われることにより（図４（ｃ）参照）、感光材料１５０から支持体４３を全量剥離する。なお、図４（ｄ）に示すように、全量剥離され粘着ロール２３に巻き取られた支持体４３の後端は下方に垂れ下がった状態となり、この支持体４３の後端の下方に垂れ下がった終端部が把持されて支持体取り外し部１０において粘着ロール２３から支持体４３が取り外される。その後、クリーニング部１５において粘着ロール２３の表面がクリーニングされる。支持体４３が剥離された感光材料１５０は、ステージ１５２に吸着された状態でさらにスキャナ１６２に向けて搬送される。
【００４３】
次いで、スキャナ１６２の動作について説明する。
【００４４】
図７および図８に示す水銀ランプ６６から発せられた例えば波長３６０〜４２０ｎｍ帯の光は、前述のようにレンズ系６７を通して、光量分布が均一化された上でＤＭＤ５０に照射される。このＤＭＤ５０に接続された図示外のコントローラには、露光パターンに応じた画像データが入力され、コントローラ内のフレームメモリに一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。
【００４５】
また、支持体４３が剥離された感光材料１５０を吸着したステージ１５２がゲート１６０下を通過する際に、ゲート１６０に取り付けられた検知センサ１６４により感光材料１５０の先端が検出されると、上記フレームメモリに記憶されている画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、この読み出された画像データに基づいてデータ処理部で各露光ヘッド１６６毎に制御信号が生成される。そして、ミラー駆動制御部により、生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０のマイクロミラーの各々がオンオフ制御される。
【００４６】
水銀ランプ６６からの光がＤＭＤ５０に照射されているとき、ＤＭＤ５０のオン状態のマイクロミラーで反射した光は、レンズ系５１により集光されて、感光材料１５０の被露光面５６上で集束する。このようにして、水銀ランプ６６から出射した光がＤＭＤ５０の各マイクロミラー毎にオンオフされて、感光材料１５０がＤＭＤ５０の使用画素数と略同数の画素単位（露光エリア１６８）で露光される。また、感光材料１５０がステージ１５２と共に一定速度で移動されることにより、感光材料１５０がスキャナ１６２によりステージ移動方向と反対の方向に副走査され、各露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。
【００４７】
スキャナ１６２による感光材料１５０の副走査が終了し、検知センサ１６４で感光材料１５０の後端が検出されると、ステージ１５２は、図示しない駆動装置により、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の最上流側にある原点に復帰し、再度、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の上流側から下流側に一定速度で移動される。
【００４８】
なお、露光が終了した感光材料１５０は現像され、さらにエッチングされて配線パターンが形成される。
【００４９】
このように、本実施形態においては、剥離装置１８０を露光装置１におけるスキャナ１６２の感光材料１５０の搬送方向上流側に設けたため、支持体４３が剥離された感光材料感光材料１５０は直ちに露光がなされることとなる。これにより、支持体４３が剥離された感光材料１５０のレジスト層４２が大気に晒される時間を極力少なくすることができ、その結果、レジスト層４２の酸素との反応をできるだけ少なくすることができる。したがって、レジスト層４２の光に対する感度の低下を防止し、スキャナ１６２によるパターンの露光を良好に行うことができる。
【００５０】
とくに、支持体４３を剥離した後の感光材料１５０近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下とすることにより、レジスト層と酸素との反応をより少なくすることができる。
【００５１】
なお、上記実施形態においては、真空ポンプ１２２を設けて、カバー１２０内の空間を減圧することにより、支持体４３を剥離した後の感光材料１５０近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下としているが、支持体４３が剥離された感光材料１５０に窒素ガス等の不活性ガスを吹き付けることにより、支持体４３を剥離した後の感光材料１５０近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下としてもよい。
【００５２】
この場合、図１１に示すように、不活性ガス供給装置１９０およびこれに接続されて不活性ガスを噴出するノズル１９１を設け、不図示のコントローラにより不活性ガス供給装置の駆動を制御して、支持体４３を剥離した後の感光材料１５０近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下となるように、ノズル１９１から感光材料１５０に向けて不活性ガスを噴出する。
【００５３】
このように、不活性ガスを感光材料１５０に向けて噴出することによっても、支持体４３を剥離した後の感光材料１５０近傍の酸素分圧を大気圧の酸素分圧の８０％以下とすることができ、これにより、レジスト層４２と酸素との反応をより少なくすることができる。
【００５４】
また、上記実施形態においては、プリント配線板作成用の感光材料１５０を用いているが、基板としてガラス基板、感光層としてカラーフィルタフィルムを積層した液晶パネルのカラーフィルタ作成用の感光材料であっても、上記実施形態と同様に、支持体を剥離した直後にカラーフィルタフィルムに所定のパターンを露光することが可能である。
【００５５】
また、上記実施形態においては、光ビームを用いてパターンを露光しているが、パターン形状に対応する透過部分を有するマスクおよび面露光光源を使用し、面露光光源から発せられた光をマスクを介して感光材料１５０に照射することにより、感光材料１５０にパターンを露光するようにしてもよい。
【００５６】
また、上記実施形態においては、露光装置１の光源として水銀ランプを用いているが、レーザ光源を用いてもよい。
【００５７】
また、上記実施形態においては、プリント配線板に露光を行う露光装置について説明しているが、これに限定されるものではなく、カラーフィルタや、柱材、リブ材、スペーサおよび隔壁等のディスプレイ材料、あるいはホログラム、マイクロマシンおよびプルーフ等のパターン形成用の記録媒体を露光する場合にも、本発明の露光装置を適用できることはもちろんである。
【００５８】
また、本発明は上記実施形態に限られるものではなく、特開２０００−２２７６６１号公報に開示されているような、光走査光学系として、レーザ光源、レーザ光源の光変調を行うＡＯＭおよびポリゴンミラーを用いた露光装置等、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施の形態による露光装置の外観を示す斜視図
【図２】感光材料の拡大断面図
【図３】剥離装置の剥離部分における構成を示す図
【図４】粘着ロールで支持体を剥離していく過程を示す図
【図５】図１の露光装置に用いられるスキャナを示す斜視図
【図６】感光材料に形成される露光済み領域を示す平面図（ａ）と、各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す図（ｂ）
【図７】図１の露光装置における露光ヘッドの概略構成を示す斜視図
【図８】図７に示す露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った副走査方向の断面図
【図９】デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の部分拡大図
【図１０】ＤＭＤの動作を説明する説明図
【図１１】不活性ガスを噴出するノズルを設けたスキャナの構成を示す図
【符号の説明】
【００６０】
１    露光装置
１０    支持体取り外し部
１５    クリーニング部
４１    基板
４２    レジスト層
４３    支持体
４５    感光フィルム
２３    粘着ロール
３０    粘着ロール回転移送部
５０    デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）
５２，５４，５７，５８    結像光学系のレンズ
５５    マイクロレンズアレイ
５６    被露光面
５９    アパーチャアレイ
６６    水銀ランプ
６７    照射レンズ系
７１    コリメーターレンズ
７２，７３    マイクロフライアイレンズ
７４    フィールドレンズ
１２０    カバー
１２２    真空ポンプ
１５０    感光材料
１５２    ステージ
１６２    スキャナ
１６６    露光ヘッド
１６８    露光エリア
１７０    露光済み領域
１８０    剥離装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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