(57)【要約】【課題】  本発明は、占める空間が狭く、光学素子の数が少なく、信頼性が高い機能を有するプロジェクタ装置を提供する。【解決手段】  プロジェクタ装置（１０）において、スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）が、第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１、ＰＢＳ１、及び、１２、ＰＢＳ２）と、波長選択性光学素子（ＷＳＯＥ）を備え、これらが、スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）の主な機能及び／又は全機能を実現する。【選択図】  図２Ａ
2006011458.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロジェクタ装置において、
第１、第２及び第３の画像生成手段（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）と、
スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）と、
順に構成及び／又は配置された光投写ユニット（ＯＰ）とを備え、
上記第１、第２及び第３の画像生成手段（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）は、第１、第２及び第３の部分画像（Ｉ１、Ｉ２、Ｉ３）をそれぞれ生成するように構成及び／又は配置され、
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）は、一次照明光（Ｌ１）が入射されるように構成及び／又は配置され、
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）は、第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１）、１２（ＰＢＳ２））を備え、
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）の第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））は、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の単一の共通面（１１−１）である第１の面（１１−１）を介して、上記一次照明光（Ｌ１）の第１、第２及び第３の一次照明光成分（Ｌ１ｒ、Ｌ１ｇ、Ｌ１ｂ）が入射されるように構成及び／又は配置され、
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））と上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））との間にある該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第２の面（１１−２）と、該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第１の面（１２−１）との間、及び／又はこれらの構成要素間の光路に、波長選択性光学素子（ＷＳＯＥ）が設けられ、
上記波長選択性光学素子（ＷＳＯＥ）は、
第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の一次照明光成分（Ｌ１ｒ）又はその派生成分が入射され、該第１の一次照明光成分（Ｌ１ｒ）を殆ど反射するとともに、該第１の偏光状態又はｓ偏光状態を第２の偏光状態又はｐ偏光状態に変え、
第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第２の一次照明光成分（Ｌ１ｇ）又はその派生成分が入射され、該第２の一次照明光成分（Ｌ１ｇ）を殆ど反射するとともに、該第１の偏光状態又はｓ偏光状態を第２の偏光状態又はｐ偏光状態に変え、
第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第３の一次照明光成分（Ｌ１ｂ）又はその派生成分が入射され、該第３の一次照明光成分（Ｌ１ｂ）を殆ど反射するとともに、該第１の偏光状態又はｓ偏光状態を変えないように構成及び／又は配置され、
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）の主な機能及び／又は全機能は、上記第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１）、１２（ＰＢＳ２））と、上記波長選択性光学素子（ＷＳＯＥ）によって略完全に実現されていることを特徴とするプロジェクタ装置。
【請求項２】
上記波長選択性光学素子（ＷＳＯＥ）は、第１の１／４波長層（Ｑ１）と、ダイクロイック層（Ｄ）と、第２の１／４波長層（Ｑ２）と、波長依存性位相差層（Ｒ）とを、上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））から上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））に向かって順に、及び／又は下の透明基板（Ｓ）に基づいて備えていることを特徴とする請求項１に記載のプロジェクタ装置。
【請求項３】
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）は、
実質的にスペクトル的に分離された及び／又は相補的な上記第１、第２及び第３の一次照明光成分（Ｌ１ｒ、Ｌ１ｇ、Ｌ１ｂ）からなる一次照明光（Ｌ１）が入射され、
上記一次照明光（Ｌ１）の第１、第２及び第３の一次照明光成分（Ｌ１ｒ、Ｌ１ｇ、Ｌ１ｂ）又はその派生成分を、スペクトル成分に分離して、上記第１、第２及び第３の部分画像（Ｉｒ、Ｉｇ、Ｉｂ）用の光として機能する第１、第２及び第３の二次照明光成分（Ｌ２ｒ、Ｌ２ｇ、Ｌ２ｂ）とし、
上記第１、第２及び第３の二次照明光成分（Ｌ２ｒ、Ｌ２ｇ、Ｌ２ｂ）を上記第１、第２及び第３の画像生成手段（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）に入射し、
上記第１、第２及び第３の画像生成手段（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）からの光が、生成された第１、第２及び第３の部分画像（Ｉ１、Ｉ２、Ｉ３）用の光としての第１、第２及び第３の三次照明光成分（Ｌ３ｒ、Ｌ３ｇ、Ｌ３ｂ）として入射され、
上記第１、第２及び第３の三次照明光成分（Ｌ３ｒ、Ｌ３ｇ、Ｌ３ｂ）を、少なくとも部分的に再合成して、上記光投写ユニット（ＯＰ）に入射するように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１又は２のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項４】
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）は、順に構成及び／又は配置され、
上記光投写ユニット（ＯＰ）は、
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）から、上記第１、第２及び第３の三次照明光成分（Ｌ３ｒ、Ｌ３ｇ、Ｌ３ｂ）又はその派生成分又は合成成分が入射され、
上記第１、第２及び第３の三次照明光成分（Ｌ３ｒ、Ｌ３ｇ、Ｌ３ｂ）、その派生成分又は合成成分を出射して投写することにより、上記第１、第２及び第３の部分画像（Ｉｒ、Ｉｇ、Ｉｂ）を合成したものを、表示する画像（Ｉ）として画像化、投写するように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項５】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光（Ｌ１）の第１、第２及び第３の一次照明光成分（Ｌ１ｒ（ＳＰ１）、Ｌ１ｇ（ＳＰ２）、Ｌ１ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分が入射されるように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項６】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光（Ｌ１）の第１、第２及び第３の一次照明光成分（Ｌ１ｒ（ＳＰ１）、Ｌ１ｇ（ＳＰ２）、Ｌ１ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分が入射されるように構成及び／又は配置された第１の面（１１−１）を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項７】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光（Ｌ１）の第１、第２及び第３の一次照明光成分（Ｌ１ｒ（ＳＰ１）、Ｌ１ｇ（ＳＰ２）、Ｌ１ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分を上記波長選択性光学素子（ＷＳＯＥ）と相互作用させて、上記第１、第２及び第３の部分画像（Ｉｒ、Ｉｇ、Ｉｂ）用の光としての二次照明光（Ｌ２）の第１、第２及び第３の二次照明光成分（Ｌ２ｒ（ＳＰ１）、Ｌ２ｇ（ＳＰ２）、Ｌ２ｂ（ＳＰ３））を生成するために、該第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光（Ｌ１）の第１、第２及び第３の一次照明光成分（Ｌ１ｒ（ＳＰ１）、Ｌ１ｇ（ＳＰ２）、Ｌ１ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分を当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））から出射するように構成及び／又は配置された第２の面（１１−２）を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項８】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第２の面（１１−２）は、上記波長選択光学素子（ＷＳＯＥ）との相互作用の後に、上記一次照明光（Ｌ１）の第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第１の一次照明光成分（Ｌ１ｒ（ＳＰ１））及び／又はその派生成分から得られる、上記第１の部分画像（Ｉｒ）用の光としての二次照明光（Ｌ２）の第１の二次照明光成分（Ｌ２ｒ（ＳＰ１））が、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））に再び入射されるように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項７に記載のプロジェクタ装置。
【請求項９】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））は、上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における二次照明光（Ｌ２）の第１の二次照明光成分（Ｌ２ｒ（ＳＰ１））及び／又はその派生成分を上記第１の部分画像（Ｉｒ）用の第１の画像生成手段（Ｐ１）と相互作用させて、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の部分画像（Ｉｒ）用の光としての三次照明光（Ｌ３）の第１の三次照明光成分（Ｌ３ｒ（ＳＰ１））を生成するために、該第２の偏光状態又はｐ偏光状態における二次照明光（Ｌ２）の第１の二次照明光成分（Ｌ２ｒ（ＳＰ１））及び／又はその派生成分を、上記第１の部分画像（Ｉｒ）用の光として、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））から出射するように構成及び／又は配置さた第３の面（１１−３）を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１０】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の部分画像（Ｉｒ）用の光としての三次照明光（Ｌ３）の第１の三次照明光成分（Ｌ３ｒ（ＳＰ１））及び／又はその派生成分を、上記光投写ユニット（ＯＰ）に向けて、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））から出射するように構成及び／又は配置された第４の面（１１−４）を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１１】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態の光を殆ど反射するとともに、第２の偏光状態又はｐ偏光状態の光を実質的に透過するように構成及び／又は配置された偏光選択又は選択インタフェース（１１ｃ）を有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１２】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の偏光選択又は選択インタフェース（１１ｃ）は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光（Ｌ１）の第１、第２及び第３の一次照明光成分（Ｌ１ｒ（ＳＰ１）、Ｌ１ｇ（ＳＰ２）、Ｌ１ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分を、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第１の面（１１−１）から、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第２の面（１１−２）に向けて殆ど反射するように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１１に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１３】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の偏光選択又は選択インタフェース（１１ｃ）は、特に上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における、上記第１の部分画像（Ｉｒ）用の光としての二次照明光（Ｌ２）の上記第１の二次照明光成分（Ｌ２ｒ（ＳＰ１））及び／又はその派生成分を、上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の上記第２の面（１１−２）から、上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第３の面（１１−３）に向けて実質的に透過するように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１１又は１２に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１４】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の偏光選択又は選択インタフェース（１１ｃ）は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における、上記第１の部分画像（Ｉｒ）用の光としての三次照明光（Ｌ３）の第１の三次照明光成分（Ｌ３ｒ（ＳＰ１））及び／又はその派生成分を、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第３の面（１１−３）から、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第４の面（１１−４）に向けて殆ど反射するように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１５】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））は、それぞれ上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における、あるいは上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における、上記生成される第２及び第３の部分画像（Ｉｇ、Ｉｂ）用の光としての二次照明光（Ｌ２）の第２及び第３の二次照明光成分（Ｌ２ｇ（ＳＰ２）、Ｌ２ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分が、上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第２の面（１１−２）から、上記波長選択性光学素子（ＷＳＯＥ）との相互作用後に当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））に入射されるように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１６】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））は、それぞれ上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における、あるいは上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における、上記生成される第２及び第３の部分画像（Ｉｇ、Ｉｂ）用の光としての二次照明光（Ｌ２）の第２及び第３の二次照明光成分（Ｌ２ｇ（ＳＰ２）、Ｌ２ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分が、上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第２の面（１１−２）から、上記波長選択性光学素子（ＷＳＯＥ）との相互作用後に当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））に入射されるように構成及び／又は配置された第１の面（１２−１）を有することを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１７】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））は、上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における二次照明光（Ｌ２）の第２の二次照明光成分（Ｌ２ｇ（ＳＰ２））及び／又はその派生成分を上記第２の部分画像（Ｉｇ）用の第２の画像生成手段（Ｐ２）と相互作用させて、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第２の部分画像（Ｉｇ）用の光としての三次照明光（Ｌ３）の第２の三次照明光成分（Ｌ３ｇ（ＳＰ２））を生成するために、該二次照明光（Ｌ２）の第２の二次照明光成分（Ｌ２ｇ（ＳＰ２））及び／又はその派生成分を当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））から出射するように構成及び／又は配置された第２の面（１２−２）を有することを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１８】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第２の面（１２−２）は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における三次照明光（Ｌ３）の第２の三次照明光成分（Ｌ３ｇ（ＳＰ２））及び／又はその派生成分が、上記第２の部分画像（Ｉｇ）の光として当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））に再び入射されるように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１７に記載のプロジェクタ装置。
【請求項１９】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における二次照明光（Ｌ２）の第３の二次照明光成分（Ｌ２ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分を上記第３の部分画像（Ｉｂ）用の第３の画像生成手段（Ｐ３）と相互作用させて、上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第３の部分画像（Ｉｂ）用の光としての三次照明光（Ｌ３）の第３の三次照明光成分（Ｌ３ｂ（ＳＰ３））を生成するために、該二次照明光（Ｌ２）の第３の二次照明光成分（Ｌ２ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分を当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））から出射するように構成及び／又は配置された第３の面（１２−３）を有することを特徴とする請求項１乃至１８のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項２０】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第３の面（１２−３）は、上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における三次照明光（Ｌ３）の第３の三次照明光成分（Ｌ３ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分が、上記第３の部分画像（Ｉｂ）の光として当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））に再び入射されるように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１９に記載のプロジェクタ装置。
【請求項２１】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第２の部分画像（Ｉｇ）用の光としての三次照明光（Ｌ３）の第２の三次照明光成分（Ｌ３ｇ（ＳＰ２））及び／又はその派生成分を、上記光投写ユニット（ＯＰ）に向けて、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））から出射し、及び／又は上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第３の部分画像（Ｉｂ）用の光としての三次照明光（Ｌ３）の第３の三次照明光成分（Ｌ３ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分を、該光投写ユニット（ＯＰ）に向けて、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））から出射するように構成及び／又は配置された第４の面（１２−４）を有することを特徴とする請求項１乃至２０のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項２２】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態の光を殆ど反射するとともに、第２の偏光状態又はｐ偏光状態の光を実質的に透過するように構成及び／又は配置された偏光選択又は選択インタフェース（１２ｃ）を有することを特徴とする請求項１乃至２１のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項２３】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の偏光選択又は選択インタフェース（１２ｃ）は、上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における二次照明光（Ｌ２）の第３の二次照明光成分（Ｌ２ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分を、上記生成される第３の部分画像（Ｉｂ）の光として、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第１の面（１２−１）から、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第３の面（１２−３）に向けて殆ど反射し、及び／又は上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における三次照明光（Ｌ３）の第２の三次照明光成分（Ｌ３ｇ（ＳＰ２））及び／又はその派生成分を、上記生成される第２の部分画像（Ｉｇ）の光として、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第２の面（１２−２）から、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第４の面（１２−４）に向けて殆ど反射するように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項２２に記載のプロジェクタ装置。
【請求項２４】
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の偏光選択又は選択インタフェース（１２ｃ）は、上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における三次照明光（Ｌ３）の第３の三次照明光成分（Ｌ３ｂ（ＳＰ３））及び／又はその派生成分を、上記生成される第３の部分画像（Ｉｂ）の光として、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第３の面（１２−３）から、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第４の面（１２−４）に実質的に透過させ、及び／又は上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における二次照明光（Ｌ２）の第２の二次照明光成分（Ｌ２ｇ（ＳＰ２））及び／又はその派生成分を、上記生成される第２の部分画像（Ｉｇ）の光として、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第１の面（１２−１）から、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第２の面（１２−２）に実質的に透過させるように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項２２又は２３のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項２５】
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））と上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２）は、当該第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第２の面（１１−２）と、当該第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第１の面（１２−１）が、実質的に互いに対向し、及び／又は互いに近接し、及び／又はそれらの間に形成された光路を有するように構成及び／又は配置されていることを特徴とする請求項１乃至２４のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項２６】
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）は、
上記第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１２（ＰＢＳ２））の第４の面（１２−４）に隣接又は近接して構成及び／又は配置された波長選択性偏光子（ＷＳＰ）であって、
上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第３の三次照明光成分（Ｌ３ｂ（ＳＰ３））を透過させ、
上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第２の三次照明光成分（Ｌ３ｇ（ＳＰ２））を透過させ、
上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態におけるオフ光又は損出光成分（Ｌ３ｇ’（ＳＰ２’））を遮断、反射及び／又は吸収する波長選択性偏光子（ＷＳＰ）を備えることを特徴とする請求項１乃至２５のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【請求項２７】
上記スペクトル分離及び再合成ユニット（ＳＳＲ）は、
上記第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子（１１（ＰＢＳ１））の第４の面（１１−４）に隣接又は近接して構成及び／又は配置された検光子（Ａ）であって、
上記第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の三次照明光成分（Ｌ３ｒ（ＳＰ１））を透過させ、
上記第２の偏光状態又はｐ偏光状態におけるオフ光又は損失光成分（Ｌ３ｒ’（ＳＰ１’））を遮断、反射及び／又は吸収する検光子（Ａ）を備えることを特徴とする請求項１乃至２６のいずれか１項に記載のプロジェクタ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロジェクタ装置（projector arrangement）に関する。特に、本発明は、小型の照明部と、３枚の反射型表示パネル及び２個のみのビームスプリット素子又はキューブ（two beam splitting device or cube）を用いたビームスプリット部とを有するプロジェクタ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、大部分のプロジェクタ装置又はプロジェクション方式（projection system）は、所謂３板式構造（three panel arrangement）を採用しており、３つの画像生成手段、ユニット又は素子を用いている。一般的に、一次照明光、例えば白色光を発生し、３原色分離してスペクトル的に異なる３つの光成分を生成し、これらの光成分を用い、画像生成ユニット又は素子を照明して部分的な画像を生成し、これらの部分画像を重ね合わせて、最終的に表示する画像を得ている。
【０００３】
小型のプロジェクタ装置を製造する工程における主な問題は、入射される一次照明光を分離して部分画像を生成する光学素子と、これらの部分画像の重ね合わせとして表示される画像を最終的に得るために部分画像を再合成する光学素子とが、ある程度の数必要であることである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、占める空間が狭く、光学素子の数が少なく、信頼性が高い機能を有するプロジェクタ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、本発明の独立請求項１の特徴に係るプロジェクタ装置を用いて達成される。本発明に係るプロジェクタ装置の好ましい実施形態は、従属請求項の範囲に含まれる。
【０００６】
本発明では、プロジェクタ装置は、表示する画像の第１、第２及び第３の部分画像をそれぞれ生成するように構成及び／又は配置された第１、第２及び第３の画像生成手段、ユニット又は素子を備える。本発明では、プロジェクタ装置は、さらに、スペクトル分離及び再合成ユニットと、光投写ユニットとを備える。
【０００７】
本発明では、スペクトル分離及び再合成ユニットは、一次照明光が入射されるように構成及び／又は配置されている。
【０００８】
スペクトル分離及び再合成ユニットは、第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子を備える。
【０００９】
スペクトル分離及び再合成ユニット、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子を備え、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の単一の共通面を介して、すなわちその第１の面を介して、一次照明光の第１、第２及び第３の一次照明光成分が入射されるように構成及び／又は配置されている。これは小型化を達成するためである。
【００１０】
また、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子と第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子との間、すなわち第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面と第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第１の面との間、及び／又はこれらの構成要素の間に形成された光路に、波長選択性光学素子が設けられている。
【００１１】
本発明では、波長選択性光学素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の一次照明光成分（Ｌ１ｒ）又はその派生成分が入射され、第１の一次照明光成分（Ｌ１ｒ）を殆ど反射するとともに、第１の偏光状態又はｓ偏光状態を第２の偏光状態又はｐ偏光状態に変え、及び／又は第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第２の一次照明光成分（Ｌ１ｇ）又はその派生成分が入射され、第２の一次照明光成分（Ｌ１ｇ）を殆ど反射するとともに、第１の偏光状態又はｓ偏光状態を第２の偏光状態又はｐ偏光状態に変え、及び／又は第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第３の一次照明光成分（Ｌ１ｂ）又はその派生成分が入射され、第３の一次照明光成分（Ｌ１ｂ）を殆ど反射するとともに、特に第１の偏光状態又はｓ偏光状態を変えないように構成及び／又は配置されている。
【００１２】
本発明の更なる特徴として、スペクトル分離及び再合成ユニット（spectral splitting and recombination unit）の主な機能及び／又は全ての機能は、第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子と、波長選択性光学素子によって略完全に実現されている。
【００１３】
本発明では、スペクトル分離及び再合成ユニットは、第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子と、それらの間の波長選択性光学素子とを備える。また、本発明では、スペクトル分離及び再合成ユニットの主な機能及び／又は全ての機能は、第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子と、波長選択性光学素子とによって略完全に実現されている。
【００１４】
したがって、スペクトル分離及び再合成ユニットが、第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子と波長選択性光学素子のみを用いて、スペクトル分離及び再合成ユニットの主な機能及び／又は全機能を略実現するようなプロジェクタ装置を得ることが、本発明の基本的な概念である。
【００１５】
これは、従来のスペクトル分離及び再合成ユニットの主な機能及び／又は全機能を実現するのに、多数の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子又はユニットを必要とする従来のプロジェクタ装置とは異なる。したがって、本発明では、プロジェクタ装置の信頼性及び画質を落とすことなく、光学素子の数、特に偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の数が増加することを避けることができる。
【００１６】
本発明に係るプロジェクタ装置の好ましい一実施形態では、波長選択性光学素子は、特に第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子から第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子に向かって順に、及び／又は下の透明基板に基づいて、第１の１／４波長層と、ダイクロイック層と、第２の１／４波長層、及び／又は波長依存性位相差層とを備える。
【００１７】
好ましくは、スペクトル分離及び再合成ユニットは、以下の機能を実現するように構成及び／又は配置されている。すなわち、実質的にスペクトル的に分離された及び／又は相補的な第１、第２及び第３の一次照明光成分からなる一次照明光が入射され、一次照明光をスペクトル的に分離して、互いに重なり合わず、及び／又はスペクトル的に相補な第１、第２及び第３の一次照明光成分、すなわち生成される第１、第２及び第３の部分画像用の二次照明光として機能する第１、第２及び第３の一次照明光成分の派生成分としの第１、第２及び第３の二次照明光成分を第１、第２及び第３の画像生成手段に入射し、第１、第２及び第３の画像生成手段により生成された第１、第２及び第３の部分画像の光が、第１、第２及び第３の三次照明光成分として、第１、第２及び第３の画像生成手段から入射され、第１、第２及び第３の三次照明光成分を少なくとも部分的に再合成し、光投写ユニットに向ける。
【００１８】
本発明の更なる実施形態では、光投写ユニットは以下の機能を実現するように構成及び／又は配置されている。すなわち、第１、第２及び第３の三次照明光成分、その派生成分又は合成成分が、スペクトル分離及び再合成ユニットから入射され、第１、第２及び第３の三次照明光成分、その派生成分又は合成成分を出射して投写することにより、第１、第２及び第３の部分画像を合成又は重ね合わせたものを、表示する画像として画像化、投写する。
【００１９】
本発明に係るプロジェクタ装置の好ましい一実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光の第１、第２及び第３の一次照明光成分及び／又はその派生成分が入射されるように構成及び／又は配置されている。これにより、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、一次照明光の入射領域又は入射部となる。
【００２０】
本発明の更なる好ましい実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光の第１、第２及び第３の一次照明光成分及び／又はその派生成分が、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子に入射されるように構成及び／又は配置された第１の面を有する。これにより、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第１の面は、一次照明光の入射領域又は入射部として機能又は働く。
【００２１】
本発明の更なる代替的実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光の第１、第２及び第３の一次照明光成分及び／又はその派生成分を、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子から出射するように構成及び／又は配置された第２の面を有する。これは、一次照明光の第１、第２及び第３の一次照明光成分及び／又はその派生成分を、波長選択性光学素子と相互作用させるためのものである。
【００２２】
本発明の更なる好ましい実施形態では、本発明に係るプロジェクタ装置は、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面が、第２の偏光状態又はｐ偏光状態における一次照明光の第１、第２及び第３の一次照明光成分及び／又はその派生成分を、第１の二次照明光成分として波長選択光学素子と相互作用させ、生成される第１の部分画像用の光を第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子に再び入射されるように構成及び／又は配置されている。
【００２３】
本発明の更なる好ましい実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第１の二次照明光成分及び／又はその派生成分を、第１の部分画像の光として、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子から出射させ、第１の二次照明光成分及び／又はその派生成分を、第１の部分画像用の第１の画像生成手段と相互作用させて、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の部分画像用の光としての第１の三次照明光成分を生成するように構成及び／又は配置された第３の面を有する。
【００２４】
本発明の更なる代替的又は追加的実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の部分画像用の光としての第１の三次照明光成分及び／又はその派生成分を、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子から、光投写ユニットに向けて出射するように構成及び／又は配置された第４の面を有する。
【００２５】
本発明の更なる代替的又は追加的実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態の光を殆ど反射するとともに、第２の偏光状態又はｐ偏光状態の光を実質的に透過するように構成及び／又は配置された偏光選択又は選択インタフェースを有する。
【００２６】
この実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の偏光選択又は選択インタフェースは、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における一次照明光の第１、第２及び第３の一次照明光成分及び／又はその派生成分を、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第１の面から、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面に向けて殆ど反射するように構成及び／又は配置されている。
【００２７】
本発明の更なる好ましい実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の偏光選択又は選択インタフェースは、第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第１の部分画像用の光としての二次照明光の第１の二次照明光成分及び／又は派生成分を、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面から、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第３の面に向けて実質的に透過するように構成及び／又は配置されている。
【００２８】
さらに、追加的又は代替的に、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の偏光選択又は選択インタフェースは、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の部分画像用の光としての三次照明光の第１の三次照明光成分を、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第３の面から、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第４の面に向けて殆ど反射するように構成及び／又は配置されている。
【００２９】
追加的又は代替的に、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、それぞれ第２の偏光状態又はｐ偏光状態における、あるいは第１の偏光状態又はｓ偏光状態における、生成される第２及び第３の部分画像用の光としての一次照明光の第２及び第３の一次照明光成分、二次照明光の第２及び第３の二次照明光成分、及び／又はその派生成分が、波長選択性光学素子との相互作用後に、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面、及び／又は波長選択性光学素子から入射されるように構成及び／又は配置されている。
【００３０】
第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子と同様に、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子も、第１、第２、第３及び第４の面と、偏光選択又は選択インタフェースとを有する。
【００３１】
本発明の更なる好ましい実施形態では、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、それぞれ第２の偏光状態又はｐ偏光状態における、あるいは第１の偏光状態又はｓ偏光状態における、生成される第２及び第３の部分画像用の光としての二次照明光の第２及び第３の二次照明光成分及び／又はその派生成分が、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面から、波長選択性光学素子との相互作用後に第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子に入射されるように構成及び／又は配置された第１の面を有する。
【００３２】
追加的又は代替的に、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第２の偏光状態又はｐ偏光状態における二次照明光の第２の二次照明光成分及び／又はその派生成分を、第２の部分画像用の第２の画像生成手段と相互作用させて、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第２の部分画像用の光としての三次照明光の第２の三次照明光成分とを生成するために、二次照明光の第２の二次照明光成分及び／又はその派生成分を第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子から出射するように構成及び／又は配置された第２の面を有する。
【００３３】
本発明の更なる有利な実施形態では、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における三次照明光の第２の三次照明光成分及び／又はその派生成分が、第２の部分画像の光として第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子に再び入射されるように構成及び／又は配置されている。
【００３４】
本発明の更なる有利な実施形態では、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における二次照明光の第３の二次照明光成分及び／又はその派生成分を第３の部分画像用の第３の画像生成手段と相互作用させて、第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第３の部分画像用の光としての三次照明光の第３の三次照明光成分を生成するために、二次照明光の第３の二次照明光成分及び／又はその派生成分を第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子から出射するように構成及び／又は配置された第３の面を有する。
【００３５】
追加的又は代替的に、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第３の面は、第２の偏光状態又はｐ偏光状態における三次照明光の第３の三次照明光成分及び／又はその派生成分が、第３の部分画像の光として第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子に再び入射されるように構成及び／又は配置されている。
【００３６】
更なる代替的又は追加的実施形態として、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第２の部分画像用の光としての三次照明光の第２の三次照明光成分を、光投写ユニットに向けて、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子から出射し、及び／又は第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第３の部分画像用の光としての三次照明光の第３の三次照明光成分を、光投写ユニットに向けて、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子から出射するように構成及び／又は配置された第４の面を有する。
【００３７】
本発明の更なる好ましい実施形態では、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光状態又はｓ偏光状態の光を殆ど反射するとともに、第２の偏光状態又はｐ偏光状態の光を実質的に透過するように構成及び／又は配置された偏光選択又は選択インタフェースを有する。
【００３８】
第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の偏光選択又は選択インタフェースは、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における二次照明光の第３の二次照明光成分及び／又はその派生成分を、生成される第３の部分画像用の光として、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第１の面から、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第３の面に向けて殆ど反射し、及び／又は第１の偏光状態又はｓ偏光状態における三次照明光の第２の三次照明光成分及び／又はその派生成分を、生成される第２の部分画像用の光として、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面から、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第４の面に向けて殆ど反射するように構成及び／又は配置されている。
【００３９】
追加的又は代替的に、本発明では、プロジェクタ装置において、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の偏光選択又は選択インタフェースは、第２の偏光状態又はｐ偏光状態における三次照明光の第３の三次照明光成分及び／又はその派生成分を、生成される第３の部分画像用の光として、第２の偏光選択偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第３の面から、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第４の面に実質的に透過させる、及び／又は第２の偏光状態又はｐ偏光状態における二次照明光の第２の二次照明光成分及び／又はその派生成分を、生成される第２の部分画像用の光として、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第１の面から、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面に実質的に透過させるように構成及び／又は配置されている。
【００４０】
更なる好ましい追加的又は代替的実施形態では、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子と第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子は、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面と、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第１の面が、実質的に互いに対向し、及び／又は互いに近接し、及び／又はそれらの間に形成された光路を有するように構成及び／又は配置されている。
【００４１】
さらに、追加的又は代替的に、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子と第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子との間、すなわち第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第２の面と、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第１の面との間、及び／又はこれらの間に形成された光路に、波長選択性光学素子を設けてもよい。
【００４２】
本発明の更なる実施形態に係るプロジェクタ装置を提案するが、このプロジェクタ装置において、スペクトル分離及び再合成ユニットは、第２の偏光状態又はｐ偏光状態における第３の三次照明光成分を透過させ、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第２の三次照明光成分を透過させ、第２の偏光状態又はｐ偏光状態におけるオフ光又は損失光成分を遮断、反射及び／又は吸収するように、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第４の面に隣接又は近接して、波長選択性偏光子を備える。
【００４３】
本発明の更なる実施形態に係るプロジェクタ装置を提案するが、このプロジェクタ装置において、スペクトル分離及び再合成ユニットは、第１の偏光状態又はｓ偏光状態における第１の三次照明光成分を透過させ、第２の偏光状態又はｐ偏光状態におけるオフ光又は損失光成分を遮断、反射及び／又は吸収するように、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子の第４の面に隣接又は近接して、検光子を備える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
本発明のこれらの特徴及び更なる特徴について、以下、より詳細に説明する。
【００４５】
以下の説明において、機能及び構成が同じ構成要素及び構造体については、同じ参照符号を付している。また、これらの構成要素及び構造体の詳細な説明については、繰り返さない。
【００４６】
概要
本発明では、特に、反射型表示パネル３枚と、ビームスプリッタキューブ（cube）２個のみを用いたプロジェクタ装置の光学エンジンについて説明する。
【００４７】
ここで説明する光学エンジンは、非常に小型の照明及びビームスプリッタ部を有している。この光学エンジンは、有利な短い後側焦点距離（back-focal length）を有しているが、２枚の投写レンズ、又は特別な「ダブルツーワン（double to one）」折り曲げ投写レンズ（folded projection lens）のいずれかを用いている。
【００４８】
背景技術と課題
現在の３板式プロジェクタ装置では、ビームスプリッタユニットが嵩張るという問題がある。まず、多数のダイクロイックミラー、折り曲げミラー又は偏光ビームスプリッタによって、白色光を赤色、緑色、青色の３原色に分離し、表示パネルで反射又は表示パネルを透過させた後、幾つかのプリズムキューブにより光を再合成し、その後、共通の投写レンズで投写する。反射型表示パネルの場合、これにより、後側焦点距離（back-focal length：以下、ＢＦＬという。各表示パネルと投写レンズの第１主面との距離）が長くなる。ＢＦＬが長くなると、投写レンズの設計は難しくなる。図１Ａ及び図１Ｂに、３枚の反射型表示パネルを有する光学エンジンで一般的に用いられている２種類の構造を示す。図１Ａに示す所謂「３ＰＢＳ構造（3PBS architecture）」では、光を、ダイクロイックミラーと折り曲げミラーとによって分離し、Ｘキューブによって再合成する。図１Ｂに示す所謂「カラークワッド（ColorQuad）」構造では、４つの偏光ビームスプリッタ及び波長選択性位相差板（wavelength-selective retarder）によって光の分離及び再合成を行っている。
【００４９】
本発明の特徴
・Ａ
図２Ａは、本発明に基づく基本的な構造を示す図である。この構造は、２つの偏光ビームスプリッタＰＢＳ１、ＰＢＳ２と、１つの波長選択性光学素子ＷＳＯＥと、３枚の表示パネルＰ１、Ｐ２、Ｐ３と、光投写ユニットＯＰを構成する２枚の投写レンズＰＬ１、ＰＬ２により構成されている。波長選択性光学素子ＷＳＯＥは、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１と偏光ビームスプリッタＰＢＳ２との間に配置されている。偏光ビームスプリッタＰＢＳ１には１枚の表示パネルＰ１が取り付けられ、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２には２枚の表示パネルＰ２、Ｐ３が取り付けられている。投写レンズＰＬ１は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１に取り付けられ、投写レンズＰＬ２は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２に取り付けられている。
【００５０】
白色光のｓ偏光一次照明光（以下、白色光ビームともいう。）Ｌ１，ｗは、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１に入射し、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の被膜によって、波長選択性光学素子ＷＳＯＥの方向に反射される。白色光ビームＬ１，ｗの１つのスペクトル成分ＳＰ１は、波長選択性光学素子ＷＳＯＥによって反射されることにより、その偏光状態がｓ偏光からｐ偏光に変わる。そして、ｐ偏光のスペクトル成分ＳＰ１は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１を透過して、表示パネルＰ１に入射する。スペクトル成分ＳＰ２、ＳＰ３は、互いに、そして、スペクトル成分ＳＰ１に対して完全又は部分的に異なるが、波長選択性光学素子ＷＳＯＥを透過することにより、スペクトル成分ＳＰ２の偏光状態がｓ偏光からｐ偏光に変わる。透過後もｓ偏光のままのスペクトル成分ＳＰ３は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の被膜により反射されて、表示パネルＰ３に入射する。ｐ偏光のスペクトル成分ＳＰ２は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の被膜を透過して、表示パネルＰ２に入射する。
【００５１】
図２Ｂに示すように、オン状態では、表示パネルＰ１、Ｐ２、Ｐ３でそれぞれ反射された後、スペクトル成分ＳＰ１、ＳＰ２の偏光状態は、ｐ偏光からｓ偏光に変わり、スペクトル成分ＳＰ３の偏光状態は、ｓ偏光からｐ偏光に変わる。そして、ｓ偏光のスペクトル成分ＳＰ１は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の被膜で反射され、投写レンズＰＬ１に入射する。ｓ偏光のスペクトル成分ＳＰ２は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の被膜で反射され、投写レンズＰＬ２に入射する。ｐ偏光のスペクトル成分ＳＰ３は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２を透過して、投写レンズＰＬ２に入射する。
【００５２】
図２Ｃに示すように、オフ状態では、表示パネルＰ１、Ｐ２、Ｐ３によりそれぞれ反射された後も、スペクトル成分ＳＰ１、ＳＰ２の偏光状態は、ｐ偏光のままであり、スペクトル成分ＳＰ３の偏光状態は、ｓ偏光のままである。そして、全てのスペクトル成分ＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３は、照明ユニットの方向に再方向付けられる。
【００５３】
・Ｂ
図３に示すように、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１には共通の照明光学ユニットを取り付けることができる。この照明ユニットから白色光ビームＬ１，ｗが発せられ、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１に入射する。照明光学ユニットは、表示パネルＰ１、Ｐ２、Ｐ３に照明光ビームの焦点を合わせるように構成されている。波長選択性光学素子ＷＳＯＥは、表示パネルＰ１に対するスペクトル成分ＳＰ１の光学的距離が、それぞれ表示パネルＰ２、Ｐ３に対するスペクトル成分ＳＰ２、ＳＰ３の距離と同じになるように、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１と偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の間に配置されている。
【００５４】
・Ｃ
波長選択性光学素子ＷＳＯＥは、図４に示すように、２つの１／４波長層Ｑ１、Ｑ２３と、例えばガラス等の透明基板Ｓ上のダイクロイック層Ｄと、波長依存性位相差板（wavelength dependent retarder）Ｒとを備えている。
【００５５】
波長選択性光学素子ＷＳＯＥに入射する直線ｓ偏光の白色光は、第１の１／４波長層Ｑを通過することにより、偏光状態が直線偏光から円偏光に変わる。次に、光ビームは、ダイクロイック層Ｄにより、スペクトル成分ＳＰ１を反射するとともに、円偏光の光の偏光面の回転方向（chirality）を、例えば左回りから右回りに変える。そして、反射されたスペクトル成分ＳＰ１は、再び第１の１／４波長層を通過することにより、偏光状態が直線ｐ偏光に変わる。
【００５６】
そして、透過されたスペクトル成分ＳＰ２、ＳＰ３は、第２の１／４波長層Ｑ２を通過することにより、偏光状態が円偏光から直線偏光に変わる。波長選択性位相差板Ｒを通過することにより、スペクトル成分ＳＰ２の偏光状態がｓ偏光からｐ偏光に変わるか、あるいはスペクトル成分ＳＰ３の偏光状態がｐ偏光からｓ偏光に変わる。
【００５７】
・Ｄ
スペクトル成分ＳＰ２の光は、図５に示すように、表示パネルＰ２がオフ状態のときは、表示パネルＰ２からｐ偏光モードで反射される。理想的には、ｐ偏光の光は全て、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２を偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の方向に通過する。しかしながら、偏光ビームスプリッタの一般的属性として、ｐ偏光の光の約１０％が偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の被膜で反射される。したがって、オフ（＝ブラック）状態であっても、光の約１０％は投写レンズＰＬ２に入射するので、コントラストが悪くなる。
【００５８】
このコントラストの低下を防ぐためには、漏れるｐ偏光の光を遮断するために、投写レンズＰＬ２の手前にＰ偏光を除去する新たな偏光子を設ける必要がある。スペクトル成分ＳＰ２のｐ偏光の光のみを遮断しなければならないため、このＰ偏光除去の偏光子は、波長選択性偏光子ＷＳＰでなければならない。表示パネルＰ３がオン状態のときは、表示パネルＰ３で反射されたスペクトル成分ＳＰ３のｐ偏光の光が波長選択性偏光子ＷＳＰに入射され、このｐ偏光成分の光は、波長選択性偏光子ＷＳＰを透過しなければならない。
【００５９】
・Ｅ
Ｄで述べた波長選択性偏光子ＷＳＰとしては、以下の種類のものを用いることができる。
−調整された１／４波長層を有するコレステリック偏光子（cholesteric polarizer：以下、ＣＦという。）。このＣＦは、スペクトル成分ＳＰ２の漏れるｐ偏光の光を反射するとともに、スペクトル成分ＳＰ３とスペクトル成分ＳＰ２のｓ偏光の光は全て透過する。
−色選択性位相差板（Colour selective retarder）。この色選択性位相差板は、スペクトル成分ＳＰ２の偏光状態をｐ偏光からｓ偏光に、またｓ偏光からｐ偏光に変えるとともに、スペクトル成分ＳＰ３の偏光状態をそのままにしておく。そして、新たに吸収型偏光子を設け、ｓ偏光の光を全て吸収する。
−吸収型波長選択性偏光子。この吸収型波長選択性偏光子は、スペクトル成分ＳＰ２のｐ偏光の光を吸収し、スペクトル成分ＳＰ３のｐ偏光の光とスペクトル成分ＳＰ２からのｓ偏光の光が透過されるように構成されている。
【００６０】
・Ｆ
スペクトル成分ＳＰ１の光は、図５に示すように、表示パネルＰ１がオフ状態のときは、表示パネルＰ１によってｐ偏光モードで反射される。理想的には、ｐ偏光の光は全て、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１を偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の方向に通過する。しかしながら、偏光ビームスプリッタの一般的属性として、ｐ偏光の光の約１０％が偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の被膜で反射される。したがって、オフ（＝ブラック）状態であっても、光の約１０％は投写レンズＰＬ１に入射するので、コントラストが悪くなる。
【００６１】
このコントラストの低下を防ぐためには、漏れるｐ偏光の光を遮断するために、投写レンズＰＬ１の手前にＰ偏光を除去する新たな偏光子又は検光子を設ける必要がある。Ｄとは異なり、スペクトル成分ＳＰ１の光のみが影響を受けるので、このＰ偏光を除去する偏光子Ａは、標準タイプのものであればよい。
【００６２】
・Ｇ
実際には、投写レンズＰＬ１、ＰＬ２の径は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１、ＰＢＳ２のキューブ径よりも大きい。その結果、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１と偏光ビームスプリッタＰＢＳ２との距離は、両方の投写レンズＰＬ１、ＰＬ２に適合するように十分な距離でなければならない。特にリアプロジェクタ装置（rear projection）の投写レンズは、大径の前玉（front lens）を有する。
【００６３】
この空間的条件を克服するには、図６Ａに示すように、投写レンズを、Ｐ偏光ビームスプリッタＢＳ１、ＰＢＳ２のそれぞれに取り付けられた２つの独立した第１のレンズブロックＬＢ１、ＬＢ２と、共通の第２の、すなわち前玉ブロックＦＬＢとに分割すればよい。折り曲げミラーＦＭ１、ＦＭ２は、第１のレンズブロックＬＢ１、ＬＢ２からの２つの別々の光路を結合して、共通の前玉ブロックＦＬＢに導く。ＸプリズムＸは、レンズブロックＬＢ１からの光をレンズブロックＬＢ２からの光と合成する。ＸプリズムＸは、２つの異なるダイクロイックの被膜を有している。一方の被膜はスペクトル成分ＳＰ１の光を、他方の被膜はスペクトル成分ＳＰ２、ＳＰ３の光を、共通の前玉ブロックＦＬＢに向けて反射するものである。
【００６４】
・Ｈ
あるいは、図６Ｂに示すように、ＸプリズムＸを９０度回転させて、共通の光路を前玉ブロックＦＬＢと一緒にＸ−Ｙ平面の外に折り曲げることもできる。この場合、設置面積が小さいという利点があり、光学エンジンをリアプロジェクタ装置の投写キューブ内で使用することができる。
【００６５】
・Ｉ
ＸプリズムＸを用いて２つの光路を１つに再結合するのではなく、図７の構成を用いることもできる。この場合、３つの折り曲げミラーＦＭ１、ＦＭ２、ＦＭ３と、１つのダイクロイックミラープリズムＤＭを用いて、２つの光路を再結合する。
【００６６】
本発明の特徴
３枚の反射型表示パネルを用いた従来のプロジェクタ装置では、３〜４個のビームスプリッタキューブを使用しているため、投写レンズの後側焦点距離を長くする必要がある。本発明は、２個のビームスプリッタキューブのみを使用した、非常に小型の照明及びビームスプリッタ部を有するプロジェクタ装置を提供する。
【００６７】
作用動作
上述したように、図１Ａ及び図１Ｂに示す従来のプロジェクタ装置１００は、比較的数多くの光学素子を備えているため、図１Ａ及び図１Ｂのブロック図からも明らかなように、本発明に係るプロジェクタ装置よりも複雑である。
【００６８】
図２Ａ〜図２Ｃは、本発明に係るプロジェクタ装置の一実施形態の基本的な構造を、３つの動作状態について説明するためのブロック図である。
【００６９】
図２Ａ〜図２Ｃに示すように、本発明に係るプロジェクタ装置１０は、基本的な構成要素として、スペクトル分離及び再合成ユニットＳＳＲと、光投写ユニットＯＰとを備える。さらに、プロジェクタ装置１０は、第１、第２及び第３の画像生成手段、素子又はユニットである表示パネル（以下、画像生成手段／ユニットという。）Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３を備える。第１、第２及び第３の画像生成手段／ユニットＰ１、Ｐ２、Ｐ３は、表示する画像Ｉの第１、第２及び第３の部分画像Ｉｒ、Ｉｇ、Ｉｂを生成するように構成及び配置されている。
【００７０】
スペクトル分離及び再合成ユニットＳＳＲは、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１である偏光ブームスプリッタＰＢＳ１（以下、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）という。）と、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）とを備えている。第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）、１２（ＰＢＳ２）は、所謂ビームスプリッタキューブ等により構成することができる。第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）は、第１、第２、第３及び第４の面１１−１、１１−２、１１−３、１１−４を有する。さらに、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）は、偏光選択又は選択インタフェース１１ｃを有する。
【００７１】
同様に、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）は、第１、第２、第３及び第４の面１２−１、１２−２、１２−３、１２−４と、偏光選択又は選択インタフェース１２ｃとを有する。
【００７２】
第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の第１の面１１−１は、スペクトル分離及び再合成ユニットＳＳＲの、したがって、本発明に係るプロジェクタ装置１０の光入射部として機能する。白色光ｗは、ここではｓ偏光状態を有し、スペクトル的に分離され、互いに重なり合わず、相補的な第１、第２及び第３の一次照明光成分Ｌ１ｒ、Ｌ１ｇ、Ｌ１ｂであるスペクトル成分ＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３（以下、第１、第２及び第３の一次照明光成分Ｌ１ｒ（ＳＰ１）、Ｌ１ｇ（ＳＰ２）、Ｌ１ｂ（ＳＰ３）という。）を構成する。この白色光ｗは、一次照明光Ｌ１として、上述の光入射部である第１の面１１−１に入射する。白色光ｗの偏光状態はｓ偏光状態であることから、一次照明光Ｌ１、具体的には第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の第１の面１１−１から入射された第１、第２及び第３の一次照明光成分Ｌ１ｒ（ＳＰ１）、Ｌ１ｇ（ＳＰ２）、Ｌ１ｂ（ＳＰ３）は、偏光選択又は選択インタフェース１１ｃによって、第２の面１１−２に向けて反射され、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）から出射され、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の第２の面１１−２と第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第１の面１２−１との間に、すなわちこれらの面の間の光路に設けられた波長選択性光学素子ＷＳＯＥと相互作用（interact）する。
【００７３】
相互作用により、一次照明光Ｌは、その異なるスペクトル成分に分離され、すなわち、第１、第２及び第３の一次照明光成分Ｌ１ｒ（ＳＰ１）、Ｌ１ｇ（ＳＰ２）、Ｌ１ｂ（ＳＰ３）は、それぞれ上述した部分画像Ｉｒ、Ｉｇ、Ｉｂを生成する二次照明光Ｌ２の二次照明光成分Ｌ２ｒ、Ｌ２ｇ、Ｌ２ｂとされる。第１の二次照明光成分Ｌ２ｒは、第１の一次照明光成分Ｌ１ｒ（ＳＰ１）から生じるものであり、波長選択性光学素子ＷＳＯＥの相互作用によって反射されるとともにｐ偏光状態とされ、再び第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）に、第２の面１１−２を介して入射される。この第１の二次照明光成分Ｌ２ｒは、ｐ偏光状態であることから、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の偏光選択又は選択インタフェース１１ｃを透過し、この第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）から第３の面１１−３を介して出射され、第３の面１１−３に隣接又は近接して設けられた第１の部分画像Ｉｒ用の第１の画像生成手段／ユニットＰ１に、第１の部分画像Ｉｒ用の光として入射され、それと相互作用する。
【００７４】
第２の一次照明光成分Ｌ１ｇ（ＳＰ２）は、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の第２の面１１−２と第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第１の面１２−１との間の波長選択性光学素子ＷＳＯＥとの相互作用により、偏光状態がｐ偏光状態に変化された第２の二次照明光成分Ｌ２ｇとなり、生成される第２の部分画像Ｉｇ用の光とされる。この第２の二次照明光成分Ｌ２ｇは、ｐ偏光状態であることから、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第１の面１２−１から、偏光選択又は選択インタフェース１２ｃを透過して直接第２の面１２−２に至り、この第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）から第２の面１２−２を介して出射され、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第２の面１２−２に隣接又は近接して設けられた第２の部分画像Ｉｇ用の第２の画像生成手段／ユニットＰ２に入射され、それと相互作用する。
【００７５】
第３の一次照明光成分Ｌ１ｂ（ＳＰ３）は、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の第２の面１１−２と第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第１の面１２−１との間の波長選択性光学素子ＷＳＯＥとの相互作用により、偏光状態がｓ偏光状態のままとされた第３の二次照明光成分Ｌ２ｂとなり、生成される第３の部分画像Ｉｂ用の光とされる。この第３の二次照明光成分Ｌ２ｂは、ｓ偏光状態であることから、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第１の面１２−１から、偏光選択又は選択インタフェース１２ｃによって第３の面１２−３に反射され、この第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第３の面１１−３を介して出射され、第３の部分画像Ｉｂ用の第３の画像生成手段／ユニットＰ３に入射され、それと相互作用する。
【００７６】
第１、第２及び第３の部分画像Ｉｒ、Ｉｇ、Ｉｂ用の光としての第１、第２及び第３の二次照明光成分Ｌ２ｒ、Ｌ２ｇ、Ｌ２ｂと、第１、第２及び第３の画像生成手段／ユニットＰ１、Ｐ２、Ｐ３との相互作用によって生成される第１、第２及び第３の部分画像Ｉｒ、Ｉｇ、Ｉｂ用の光としての第１、第２及び第３の三次照明光成分Ｌ３ｒ、Ｌ３ｇ、Ｌ３ｂは、それぞれｓ偏光状態、ｓ偏光状態、ｐ偏光状態を有する。これらの第１、第２及び第３の三次照明光成分Ｌ３ｒ、Ｌ３ｇ、Ｌ３ｂは、それぞれ、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の第３の面１１−３、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第２の面１２−２、第３の面１２−３を介して、再び第１及び第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）、１２（ＰＢＳ２）にそれぞれ入射する。これらの第１、第２及び第３の三次照明光成分Ｌ３ｒ、Ｌ３ｇ、Ｌ３ｂは、それぞれ、各偏光選択又は選択インタフェース１１ｃ、１２ｃとの相互作用により、第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の第３の面１１−３から第４の面１１−４に反射、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第２の面１２−２から第４の面１２−４に反射、そして、第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１２（ＰＢＳ２）の第３の面１２−３から第４の面１２−４に透過されて、各偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）、１２（ＰＢＳ２）から出射され、光投写ユニットＯＰに入射する。光投写ユニットＯＰは、偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）の第４の面１１−４及び偏光選択又は偏光ビームスプリット素子１１（ＰＢＳ１）１２（ＰＢＳ２）の第４の面１２−４に近接又は隣接して、すなわちその光路に設けられている。
【００７７】
図２Ａは、この実施形態の基本的な構造を示し、図２Ｂ及び図２Ｃは、第１、第２及び第３の画像生成手段／ユニットＰ１、Ｐ２、Ｐ３のオン状態及びオフ状態を示す。なお、第１、第２及び第３の画像生成手段／ユニットＰ１、Ｐ２、Ｐ３は、図２Ａ〜図２Ｃの場合、反射型画像生成パネルである。また、図２Ｃは、各成分Ｌ３ｒ’、Ｌ３ｇ’、Ｌ３ｂ’を有するオフ光又は損失光成分ＳＰ１’、ＳＰ２’、ＳＰ３’を示している。
【００７８】
図３は、図２Ａ〜図２Ｃの実施形態と同様の実施形態を示すが、ここでは、さらに、一次照明光Ｌ１を照射するように構成及び配置された照明ユニットを設けた場合を示している。
【００７９】
図４は、上述した波長選択性光学素子ＷＳＯＥの可能な実施形態を示している。
【００８０】
図５は、上述した本発明に係るプロジェクタ装置の機能及び信頼性をさらに高める幾つかの遮断機構を設けた場合を示している。
【００８１】
図６Ａ、図６Ｂ及び図７は、光投写ユニットＯＰについて異なる構造を有する、本発明のプロジェクタ装置の更なる実施形態を示している。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１Ａ】従来のプロジェクタ装置の概略ブロック図である。
【図１Ｂ】従来のプロジェクタ装置の概略ブロック図である。
【図２Ａ】本発明に係るプロジェクタ装置の第１の実施形態を説明する概略ブロック図である。
【図２Ｂ】本発明に係るプロジェクタ装置の第１の実施形態を説明する概略ブロック図である。
【図２Ｃ】本発明に係るプロジェクタ装置の第１の実施形態を説明する概略ブロック図である。
【図３】本発明に係るプロジェクタ装置の更なる実施形態の特徴を概略ブロック図により示す図である。
【図４】本発明に係るプロジェクタ装置の更なる実施形態の特徴を概略ブロック図により示す図である。
【図５】本発明に係るプロジェクタ装置の更なる実施形態の特徴を概略ブロック図により示す図である。
【図６Ａ】本発明に係るプロジェクタ装置の更なる実施形態の特徴を概略ブロック図により示す図である。
【図６Ｂ】本発明に係るプロジェクタ装置の更なる実施形態の特徴を概略ブロック図により示す図である。
【図７】本発明に係るプロジェクタ装置の更なる実施形態の特徴を概略ブロック図により示す図である。
【符号の説明】
【００８３】
１０  プロジェクタ装置、１１  第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子、１１−１  第１の面、１１−２  第２の面、１１−３  第３の面、１１−４  第４の面、１１ｃ  偏光選択又は選択インタフェース、１２  第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子、１２−１  第１の面、１２−２  第２の面、１２−３  第３の面、１２−４  第４の面、１２ｃ  偏光選択又は選択インタフェース、Ａ  検光子、Ｄ  ダイクロイック層、ＤＭ  ダイクロイックミラープリズム、ＦＬＢ  前玉ブロック、ＦＭ１  折り曲げミラー、ＦＭ２  折り曲げミラー、ＦＭ３  折り曲げミラー、Ｉｒ  第１の部分画像、Ｉｇ  第２の部分画像、Ｉｂ  第３の部分画像、Ｌ１  一次照明光、Ｌ１ｒ  第１の一次照明光成分、Ｌ１ｇ  第２の一次照明光成分、Ｌ１ｂ  第３の一次照明光成分、Ｌ２  二次照明光、Ｌ２ｒ  第１の二次照明光成分、Ｌ２ｇ  第２の二次照明光成分、Ｌ２ｂ  第３の二次照明光成分、Ｌ３  三次照明光、Ｌ３ｒ  第１の三次照明光成分、Ｌ３ｒ’  第１の三次照明光成分のオフ光又は損失光成分、Ｌ３ｇ  第２の三次照明光成分、Ｌ３ｇ’  第２の三次照明光成分のオフ光又は損失光成分、Ｌ３ｂ  第３の三次照明光成分、Ｌ３ｂ’  第３の三次照明光成分のオフ光又は損失光成分、ＬＢ１  レンズブロック、ＬＢ２  レンズブロック、ＯＰ  光投写ユニット、Ｐ１  第１の画像生成手段、素子又はユニット、Ｐ２  第２の画像生成手段、素子又はユニット、Ｐ３  第３の画像生成手段、素子又はユニット、ＰＢＳ１  第１の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子、ＰＢＳ２  第２の偏光選択又は偏光ビームスプリット素子、ＰＬ１  投写レンズ、投写光学系、ＰＬ２  投写レンズ、投写光学系、Ｑ１  １／４波長位相差板、Ｑ２  １／４波長位相差板、Ｒ  波長選択性位相差板、Ｓ  基板、ＳＰ１  第１のスペクトル成分、ＳＰ１’  第１のスペクトル成分のオフ光又は損失光成分、ＳＰ２  第２のスペクトル成分、ＳＰ２’  第２のスペクトル成分のオフ光又は損失光成分、ＳＰ３  第３のスペクトル成分、ＳＰ３’  第３のスペクトル成分のオフ光又は損失光成分、ＳＳＲ  スペクトル分離及び再合成ユニット、ｗ  白色光、Ｘ  Ｘキューブ、カラーキューブ、ＷＳＯＥ  波長選択性光学素子、ＷＳＰ  波長選択性偏光子
【図１Ａ】
2006011458.tif 000003
【図１Ｂ】
2006011458.tif 000004
【図２Ａ】
2006011458.tif 000005
【図２Ｂ】
2006011458.tif 000006
【図２Ｃ】
2006011458.tif 000007
【図３】
2006011458.tif 000008
【図４】
2006011458.tif 000009
【図５】
2006011458.tif 000010
【図６Ａ】
2006011458.tif 000011
【図６Ｂ】
2006011458.tif 000012
【図７】
2006011458.tif 000013
【外国語明細書】
2006011458000001.pdf
2006011458000002.pdf
2006011458000003.pdf
2006011458000004.pdf