(57)【要約】【課題】  電子部品、金属部品、セラミック部品などに付着している油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去するのに使用されるアルカリ洗浄剤であって、特に垂直配向タイプのポリイミド配向膜の剥離が可能で、かつ耐アルミ腐蝕性に優れた新規な洗浄剤、洗浄方法および洗浄された電子部品を提供すること。【解決手段】  アルカリ成分（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）からなり、３０℃における電導度が０．１〜３．０ｍＳ／ｃｍである洗浄剤。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ成分（Ａ）、および親水性有機溶剤（Ｂ）からなり、３０℃における電導度が０．１〜３．０ｍＳ／ｃｍであることを特徴とする洗浄剤。
【請求項２】
前記（Ａ）が一般式（１）で示される有機アルカリ（Ａ）であることを特徴とする請求項１記載の洗浄剤。
【化１】
2006063201.tif 000005
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基または−（Ｒ5Ｏ）p−Ｈで表される基であり、Ｒ5は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数を表す。〕
【請求項３】
前記（Ｂ）が炭素数１〜２４の１価の脂肪族アルコールのアルキレンオキサイド付加物（Ｂ１）および下記一般式（２）で示されるアルキルエーテル（Ｂ２）からなる群から選ばれる１種以上の親水性有機溶剤であることを特徴とする請求項１または２記載の洗浄剤。
【化２】
2006063201.tif 000006
〔式中、Ｒ6およびＲ7は炭素数１〜８の炭化水素基、Ａ1は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４の整数を表す。〕
【請求項４】
さらに電導度調整剤（Ｃ）を配合してなる請求項１〜３のいずれか記載の洗浄剤。
【請求項５】
前記（Ｃ）が、１０〜３０の溶解度パラメーター（ＳＰ値）を有する少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項４記載の洗浄剤。
【請求項６】
前記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の合計重量に基づいて、（Ａ）を０．１〜２５重量％、（Ｂ）を２５〜９９．８９重量％、（Ｃ）を０．０１〜５０重量％含有する請求項４または５のいずれか記載の洗浄剤。
【請求項７】
前記（Ａ）に対する（Ｃ）の重量比［（Ｃ）／（Ａ）］が１／１００〜１００／１である請求項４〜６のいずれか記載の洗浄剤。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか記載の洗浄剤を用いて、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬および浸漬揺動から選ばれる１種以上の方法で洗浄することを特徴とする電子部品、電気部品の洗浄方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか記載の洗浄剤を用いて、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬および浸漬揺動から選ばれる１種以上の方法で洗浄することを特徴とするアルミ建材の洗浄方法。
【請求項１０】
電子部品がガラス基板である請求項８記載の洗浄方法。
【請求項１１】
ガラス基板が少なくとも一部にアルミニウムを使用したガラス基板である請求項１０記載の洗浄方法。
【請求項１２】
請求項８記載の洗浄方法で洗浄し、リンスした後、乾燥して得られる電子部品、電気部品。
【請求項１３】
請求項９記載の洗浄方法で洗浄し、リンスした後、乾燥して得られるアルミ建材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品、金属部品、セラミック部品などに付着している油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去するのに使用されるアルカリ洗浄剤、更に詳しくは液晶パネルの垂直配向ポリイミド膜の剥離液として使用される洗浄剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、アルカリ洗浄剤は中性洗浄剤に比べて、油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去する能力に優れているので、電子部品、金属部品、セラミック部品などの生産現場において幅広く使用されている。しかしながら、アルカリ洗浄剤はアルミなどの非鉄金属を容易に腐蝕させるので、アルミが部品の一部または全部に使用されている電子部品などの洗浄には使用できないのが現状であった。例えば、電子部品とくに液晶パネルのポリイミド配向膜はこれまで水平配向タイプであったが、広視野角の液晶パネルの要望が強くなるにつれて垂直配向タイプのポリイミド配向膜が増える趨勢にある。水平配向タイプのポリイミド配向膜ガラス基板は完全焼成（焼成温度：約１８０℃）前の半焼成状態（約８０℃で脱溶剤した半硬化膜）であれば、その不具合品はＮ−メチルピロリドンなどの溶剤でアルミ薄膜（配線）を腐蝕することなく配向膜を剥離できるが、垂直配向タイプのポリイミド配向膜の場合には、該半焼成状態であっても溶剤ではポリイミド配向膜（半焼成）を剥離できないので、アルカリ洗浄剤を使用して配向膜剥離を行っている（特許文献１参照）。その際、ガラス基板のアルミ薄膜（配線）は腐蝕するのでアルミ薄膜部分をワックスなどで保護して洗浄し、次に炭化水素などの溶剤でワックス除去して基板を再生させるか、配向膜と同時にアルミ薄膜を完全に剥離・溶解させてからガラス基板だけを再生させる方法がとられていた。
【０００３】
【特許文献１】特開平６−３０６６６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、垂直配向タイプのポリイミド配向膜の剥離が可能で、かつ耐アルミ腐蝕性に優れた新規な洗浄剤、洗浄方法および洗浄された電子部品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは上記の洗浄剤を得るべく鋭意検討した結果、該洗浄剤の３０℃における電導度を０．１〜３．０ｍＳ／ｃｍに調整することにより上記問題点を解決できることを見いだし、本発明に到達した。
【０００６】
すなわち、本発明は、アルカリ成分（Ａ）、および親水性有機溶剤（Ｂ）からなり、３０℃における電導度が０．１〜３．０ｍＳ／ｃｍであることを特徴とする洗浄剤；該洗浄剤を用いて、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬および浸漬揺動から選ばれる１種以上の方法で洗浄することを特徴とする電子部品、電気部品またはアルミ建材の洗浄方法；該洗浄方法で洗浄し、リンスした後、乾燥して得られる電子部品、電気部品またはアルミ建材である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の洗浄剤は、耐金属腐蝕性に優れているため、例えば液晶パネル用ガラス基板のアルミ配線、カラーフィルター部材にダメージを与えずに半焼成垂直配向ポリイミド膜を短時間に剥離・洗浄できる。したがって、配向膜剥離洗浄工程（ガラス基板再生工程）において従来のガラス基板の再生だけでなく、アルミ配線、カラーフィルター部材も同時に再生使用できる。また、本発明の洗浄剤は、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明における（Ａ）としては、（Ａ１）金属水酸化物［アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物（水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウムなど）など］、（Ａ２）炭酸塩［アルカリ金属塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金属塩（例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムなど）］、（Ａ３）リン酸塩［アルカリ金属塩（例えば、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、トリポリリン酸カリウムなど）、アルカリ土類金属塩（例えば、ピロリン酸カルシウム、ピロリン酸マグネシウム、ピロリン酸バリウム、トリポリリン酸カルシウム、トリポリリン酸マグネシウム、トリポリリン酸バリウムなど）］、（Ａ４）ケイ酸塩［アルカリ金属塩（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムなど）、アルカリ土類金属塩（例えば、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸バリウムなど）］、（Ａ５）アンモニア、（Ａ６）ヒドロキシルアミン、（Ａ７）下記一般式（１）で表される有機アルカリおよびこれらの混合物などが挙げられる。
【０００９】
【化１】
2006063201.tif 000002
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基または−（Ｒ5Ｏ）p−Ｈで表される基であり、Ｒ5は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数を表す。］
【００１０】
一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4としては、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基などが挙げられる。直鎖もしくは分岐の飽和炭化水素基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、オクタデシル基など）；直鎖もしくは分岐の不飽和炭化水素基としては、アルケニル基（例えば、ビニル基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基など）；脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基など）など；芳香環含有炭化水素基としては、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）；アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基など）；アルキルアリール基（例えば、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ノニルフェニル基、メチルナフチル基、エチルナフチル基など）などが挙げられる。これらの炭化水素基の中では、洗浄性の観点から好ましいのはアルキル基、アルケニル基である。
【００１１】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4の炭素数は、通常１〜２４であり、洗浄性（または剥離性、以下同じ）の観点から、好ましくは１〜１４である。
またＲ5としては、例えばエチレン基、プロピレン基、ブチレン基などの炭素数２〜４のアルキレン基が挙げられる。ｐは１〜６（好ましくは１〜３）の整数である。
【００１２】
一般式（１）で示される有機アルカリ（Ａ７）の具体例としては、下記（１）〜（４）のテトラアルキルアンモニウムカチオン、ハイドロカルビル基を有するアンモニウムカチオンおよび下記（５）のオキシアルキレン基を有するアンモニウムカチオンとハイドロオキサイドアニオンとの塩およびこれら塩の混合物が挙げられる。
（１）炭素数１〜６のアルキル基を４個含むカチオン
［例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ（ｎ−またはｉ−）プロピルアンモニウム、テトラ（ｎ−、ｉ−またはｔ−）ブチルアンモニウム、テトラペンチルアンモニウム、テトラヘキシルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウムおよびテトラエチルアンモニウムなど］；
（２）炭素数１〜６のアルキル基を３個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を１個含むカチオン
［例えば、トリメチルへプチルアンモニウム、トリメチルオクチルアンモニウム、トリメチルデシルアンモニウム、トリメチルドデシルアンモニウム、トリメチルステアリルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、トリエチルへキシルアンモニウム、トリエチルオクチルアンモニウム、トリエチルステアリルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリブチルオクチルアンモニウムおよびトリへキシルステアリルアンモニウムなど］；
（３）炭素数１〜６のアルキル基を２個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を２個含むカチオン
［例えば、ジメチルジオクチルアンモニウム、ジエチルジオクチルアンモニウムおよびジメチルジベンジルアンモニウムなど］；
（４）炭素数１〜６のアルキル基を１個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を３個含むカチオン
［例えば、メチルトリオクチルアンモニウム、エチルトリオクチルアンモニウムおよびメチルオクチルジベンジルアンモニウムなど］。
【００１３】
（５）オキシアルキレン基を有するアンモニウムカチオン
（ｉ）オキシアルキレン基を１個有するカチオン［例えば、ヒドロキシエチルトリメチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルトリエチルアミンカチオン、ヒドロキシプロピルトリメチルアミンカチオン、ヒドロキシプロピルトリエチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルジメチルエチルアミンカチオンおよびヒドロキシエチルジメチルオクチルアミンカチオンなど］；
（ｉｉ）オキシアルキレン基を２個有するカチオン［例えば、ジヒドロキシエチルジメチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルジエチルアミンカチオン、ジヒドロキシプロピルジメチルアミンカチオン、ジヒドロキシプロピルジエチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルメチルエチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルメチルオクチルアミンカチオンおよびビス（２−ヒドロキシエトキシエチル）オクチルアミンカチオンなど］；
（ｉｉｉ）オキシアルキレン基を３個有するカチオン［例えば、トリヒドロキシエチルメチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルエチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルブチルアミンカチオン、トリヒドロキシプロピルメチルアミンカチオン、トリヒドロキシプロピルエチルアミンカチオンおよびトリヒドロキシエチルオクチルアミンカチオンなど］。
【００１４】
アルカリ成分（Ａ）のうち、洗浄性とリンス性の観点から、好ましいのは（Ａ１）および（Ａ７）、特に好ましくは（Ａ７）である。
（Ａ１）のうち洗浄性の観点から好ましいのは、アルカリ金属水酸化物、更に好ましいのは水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムである。
（Ａ７）のうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのは、テトラハイドロカルビルアンモニウムカチオンのハイドロオキサイドアニオン塩であり、さらに好ましいのは、上記（１）および（２）、特に好ましいのは（１）、最も好ましいのはテトラメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオンのハイドロオキサイドアニオン塩およびこれらの併用である。
【００１５】
本発明における洗浄剤は水を含有していてもよい。水としては、水道水、工業用水、地下水、蒸留水、イオン交換水、超純水など特に限定はないが、好ましくはイオン交換水、超純水である。
【００１６】
本発明における親水性有機溶剤（Ｂ）としては、２０℃における水に対する溶解度（ｇ／１００ｇＨ2Ｏ）が３以上、好ましくは１０以上のものであり、下記の（Ｂ１）〜（Ｂ７）の化合物が挙げられる。
【００１７】
（Ｂ１）後述する１価の脂肪族（炭素数１〜２４）アルコール（Ｃ１−１）アルキレン（炭素数２〜４）オキサイド（以下、ＡＯと略記）付加物｛活性水素当たりの付加モル数（以下、付加モル数と略記）１〜７｝
｛例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルなど｝；
（Ｂ２）前記（Ｂ１）、後述する２価アルコール（Ｃ１−２）もしくは後述する３価以上の多価アルコール（Ｃ１−３）の水酸基を除いた残基と炭素数１〜８（好ましくは１もしくは２）のアルキル基とから構成されるアルキルエーテル
｛例えば、下記一般式（２）で表されるグリコールエーテル（例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびトリエチレングリコールジエチルエーテルなど）など；
【化２】
2006063201.tif 000003
［式中、Ｒ6およびＲ7は炭素数１〜８の炭化水素基、Ａ1は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜７の整数を表す。］
【００１８】
（Ｂ３）窒素原子含有親水性溶媒
｛例えば、ピロリドン系溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、２−ピロリドンなど）、ホルムアミド系溶剤（例えば、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミドなど）、アセトアミド系溶剤（例えば、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなど）、プロピオンアミド系溶剤（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミドなど）、オキサゾリジノン系溶剤（例えば、Ｎ−メチル−２−オキサゾリジノン、３，５−ジメチル−２−オキサゾリジノンなど）、ニトリル系溶剤（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、アクリロニトリル、メタクリルニトリル、ベンゾニトリルなど）およびヘキサメチルホスホリルアミドなど｝；
（Ｂ４）ラクトン系親水性溶媒｛例えば、炭素数３〜１２のラクトン（γ−ブチロラクトン、α−アセチル−γ−ブチロラクトン、β−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトンなど）など｝；
（Ｂ５）ケトン系親水性溶媒｛例えば、アセトン、ジエチルケトン、アセトフェノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジアセトンアルコールなど｝；
（Ｂ６）環状エーテル系親水性溶媒｛例えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランなど｝；
（Ｂ７）エステル系親水性溶媒｛例えば、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、アセト酢酸エチルなど｝；などが挙げられる。
【００１９】
（Ｂ）のうち洗浄性と耐金属腐蝕性の観点から好ましいのは（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ４）であり、特に好ましくは（Ｂ１）、（Ｂ２）である。またこれらは混合物として用いても良い。
【００２０】
また、（Ｂ１）もしくは（Ｂ２）の数平均分子量｛以下、Ｍｎと略記。測定はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による｝は、洗浄後のリンス性の観点から、好ましくは７５〜５００、特に好ましくは７５〜２００である。
【００２１】
本発明の洗浄剤は、３０℃における電導度が０．１〜３．０ｍＳ／ｃｍであることを特徴とする。電導度が０．１ｍＳ／ｃｍよりも小さいと洗浄性が低下し易くなる傾向があり、また電導度が３．０ｍＳ／ｃｍを越えると金属腐食性が著しく低下し易くなる傾向がある。これらの範囲の内で、洗浄性と金属腐食性の観点から、好ましくは０．５〜２．５、特に好ましくは１．０〜２．０、最も好ましくは１．２〜１．９である。
本発明において電導度の測定方法は、測定用セルに仕込んだサンプルを３０℃に温調した水槽中（小数点第一位まで温度コントロール可能なもの）で温調し、サンプルの温度が３０．０℃で一定になった時の電導度を、電気伝導率計｛東亜電波工業（株）製、ＣＭ−４０Ｓ｝を用いて測定する方法である。
【００２２】
具体的に電導度を調整する方法としては、電導度が０．１ｍＳ／ｃｍよりも低い場合には、（Ａ）および／または水の配合量を増やすことで調整可能であり、また電導度が３．０ｍＳ／ｃｍよりも高い場合には、電導度調整剤（Ｃ）を所定量添加することで調整することが可能である。
【００２３】
本発明の（Ｃ）としては、例えば以下の（Ｃ１）〜（Ｃ７）およびこれらの混合物が挙げられる。
（Ｃ１）水酸基を有する化合物（ただし前記（Ｂ１）を除く化合物）；
（Ｃ１−１）１価のアルコール
［例えば、脂肪族（炭素数１〜２４）アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールおよびステアリルアルコールなど）、脂環式（炭素数５〜２４）アルコール（例えば、シクロヘキシルアルコールなど）、芳香族（炭素数６〜２４）アルコール｛例えば、フェノール、アルキル（炭素数１〜１８）フェノール（例えば、メチルフェノール、エチルフェノールなど）など｝など］；
（Ｃ１−２）２価のアルコール
［例えば、炭素数２〜８のアルカンジオール（例えば、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオールおよびネオペンチルグリコールなど）、脂環式ジオール｛例えば、炭素数６〜１５のジオール（例えば、シクロヘキサン−１，２−、１，３−および１，４−ジオール、シクロペンタン−１，２−および１，３−ジオール並びに水素添加ビスフェノールＡなど）など｝、分子中にエーテル基を１個有するジオール（例えば、ジエチレングリコールおよびジプロピレングリコールなど）など］、並びにこれらのＡＯ付加物（付加モル数１〜７モル）など；
（Ｃ１−３）３価以上の多価アルコール
〔例えば、脂肪族多価アルコール（例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン、ペンタグリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトールなど）、糖類｛例えば、グルコース、ショ糖、キシリトール、シュークロース、セルロース系化合物（例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよびそれらのケン化物など）、ゼラチン、デンプン、デキストリン、キチン、キトサンなど｝、トリスフェノール類（例えば、トリスフェノールＰＡなど）、ノボラック樹脂（例えば、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなど）、ポリフェノール、その他の水酸基を有するポリマー［例えば、ポリビニルアルコール、アクリルポリオール｛例えば、ポリヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートと他のビニル系モノマーの共重合物など｝など］など〕、並びにこれらのＡＯ付加物（付加モル数１〜７モル）などが挙げられる。
【００２４】
（Ｃ２）カルボキシル基を有する化合物；
（Ｃ２−１）炭素数１〜２４の脂肪族モノカルボン酸
｛例えば、飽和モノカルボン酸（例えば、ｎ−吉草酸、ｉｓｏ−吉草酸、オクタン酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、エルカ酸、リノール酸、リノレン酸、およびリシノレイン酸など）、不飽和モノカルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸など）、および脂肪族オキシカルボン酸（例えば、グリコール酸、乳酸、オキシ酪酸、オキシカプロン酸、リシノール酸、オキシステアリン酸、グルコン酸など）など｝；
（Ｃ２−２）炭素数７〜３０の芳香族または複素環式モノカルボン酸
｛例えば、芳香族モノカルボン酸（例えば、安息香酸、ナフトエ酸、ケイ皮酸など）、芳香族オキシカルボン酸（例えば、サリチル酸、ｐ−オキシ安息香酸、マンデル酸など）、および複素環式モノカルボン酸（例えば、ピロリドンカルボン酸など）など｝；
（Ｃ２−３）その他のモノカルボン酸
｛例えば、ロジン類（例えば、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、テトラヒドロアビエチン酸、ネオアビエチン酸、ピマル酸、イソピマル酸、レボピマル酸、サンダラコピマル酸、パラストリン酸、エリオチノ酸など）など｝；
【００２５】
（Ｃ２−４）２価以上のポリカルボン酸
〔例えば、炭素数２〜３０の直鎖状または分岐状の脂肪族ポリカルボン酸｛例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバチン酸、ドデセニルコハク酸、ドデカンジカルボン酸、オクタデカンジカルボン酸、ダイマー酸、アルケニルコハク酸（例えば、ドデセニルコハク酸、ペンタデセニルコハク酸、オクタデセニルコハク酸など）、アルキルコハク酸（例えば、デシルコハク酸、ドデシルコハク酸、オクタデシルコハク酸など）など｝、炭素数４〜３０の不飽和ポリカルボン酸（例えば、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸など）、炭素数４〜２０の脂肪族オキシポリカルボン酸（例えば、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸など）、炭素数８〜３０の芳香族ポリカルボン酸［例えば、ジカルボン酸｛例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸およびビフェニルジカルボン酸（２，２’−、３，３’−および／または２，７−体）など｝、トリもしくはテトラカルボン酸（例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸など）など］、硫黄を含有する炭素数４〜３０のポリカルボン酸（例えば、チオジプロピオン酸など）、カルボキシル基を有するポリマー｛例えば、ポリ（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸と他のビニル系モノマーの共重合物など｝など〕；
【００２６】
（Ｃ２−５）炭素数２〜３０のアミノ酸
（例えば、アスパラギン酸、グルタミン酸、システィン酸など）；
（Ｃ２−６）脂肪族アルコール（炭素数８〜２４）のカルボキシメチル化物
｛例えば、オクチルアルコールのカルボキシメチル化物、デシルアルコールのカルボキシメチル化物、ラウリルアルコールのカルボキシメチル化物、のカルボキシメチル化物およびトリデカノール（協和発酵製）のカルボキシメチル化物など｝；
（Ｃ２−７）脂肪族アルコール（炭素数８〜２４）のエチレンオキサイド（以下、ＥＯと略記）および／またはプロピレンオキサイド（以下、ＰＯと略記）１〜２０モル付加物のカルボキシメチル化物
（例えば、オクチルアルコールＥＯ３モル付加物のカルボキシメチル化物、ラウリルアルコールＥＯ２．５モル付加物のカルボキシメチル化物、イソステアリルアルコールＥＯ３モル付加物のカルボキシメチル化物、およびトリデカノールＥＯ２モル付加物のカルボキシメチル化物など）；などが挙げられる。なお、（Ｃ２）は、（Ａ）と塩を形成してもよい。
【００２７】
（Ｃ３）アミノ基含有化合物；
（Ｃ３−１）炭素数１〜２４のモノアミン
｛例えば、脂肪族１級アミン（例えば、エチルアミン、ブチルアミン、ラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンなど）、脂環式１級アミン（例えば、シクロヘキシルアミンなど）、脂肪族２級アミン（例えば、ジエチルアミン、ジブチルアミンなど）、複素環式２級アミン（例えば、モルホリン、ピペリジンなど）、芳香族２級アミン（例えば、Ｎ−メチルアニリンなど）、脂肪族３級アミン（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミンなど）、複素環式３級アミン（例えば、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリンなど）、芳香環含有脂肪族３級アミン（例えば、ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミンなど）、芳香族３級アミン（例えば、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、キノリンなど）など｝；
【００２８】
（Ｃ３−２）ポリアミン
（Ｃ３−２−１）炭素数２〜１８の脂肪族ポリアミン類
［例えば、炭素数２〜６のアルキレンジアミン（例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなど）、ポリアルキレン（炭素数２〜６）ポリアミン｛例えば、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン，トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミンなど｝、これらのアルキル（炭素数１〜４）またはヒドロキシアルキル（炭素数２〜４）置換体｛例えば、ジアルキル（炭素数１〜３）アミノプロピルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、アミノエチルエタノールアミン、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサメチレンジアミン、メチルイミノビスプロピルアミンなど｝、脂環または複素環含有脂肪族ポリアミン｛例えば、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなど｝、炭素数８〜１５の芳香環含有脂肪族アミン類（例えば、キシリレンジアミン、テトラクロル−ｐ−キシリレンジアミンなど）など］；
（Ｃ３−２−２）炭素数４〜１５の脂環式ポリアミン類
｛例えば、１，３−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、４，４´−メチレンジシクロヘキサンジアミン（水添メチレンジアニリン）など｝；
（Ｃ３−２−３）炭素数４〜１５の複素環式ポリアミン
｛例えば、ピペラジン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、１，４−ジアミノエチルピペラジン、１，４ビス（２−アミノ−２−メチルプロピル）ピペラジンなど｝；
【００２９】
（Ｃ３−２−４）炭素数６〜２０の芳香族ポリアミン類
（Ｃ３−２−４Ａ）非置換芳香族ポリアミン
｛例えば、１，２−、１，３−および１，４−フェニレンジアミン、２，４´−および４，４´−ジフェニルメタンジアミン、クルードジフェニルメタンジアミン（ポリフェニルポリメチレンポリアミン）、ジアミノジフェニルスルホン、ベンジジン、チオジアニリン、ビス（３，４−ジアミノフェニル）スルホン、２，６−ジアミノピリジン、ｍ−アミノベンジルアミン、トリフェニルメタン−４，４´，４”−トリアミン、ナフチレンジアミンなど｝；
（Ｃ３−２−４Ｂ）核置換アルキル基（炭素数１〜４）を有する芳香族ポリアミン
｛例えば、２，４−および２，６−トリレンジアミン、クルードトリレンジアミン、ジエチルトリレンジアミン、４，４´−ジアミノ−３，３´−ジメチルジフェニルメタン、４，４´−ビス（ｏ−トルイジン）、ジアニシジン、ジアミノジトリルスルホン、１，３−ジメチル−２，４−ジアミノベンゼン、１，３−ジエチル−２，４−ジアミノベンゼン、１，３−ジメチル−２，６−ジアミノベンゼン、１，４−ジエチル−２，５−ジアミノベンゼン、１，４−ジイソプロピル−２，５−ジアミノベンゼン、１，４−ジブチル−２，５−ジアミノベンゼン、２，４−ジアミノメシチレン、１，３，５−トリエチル−２，４−ジアミノベンゼン、１，３，５−トリイソプロピル−２，４−ジアミノベンゼン、１−メチル−３，５−ジエチル−２，４−ジアミノベンゼン、１−メチル−３，５−ジエチル−２，６−ジアミノベンゼン、２，３−ジメチル−１，４−ジアミノナフタレン、２，６−ジメチル−１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジイソプロピル−１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジブチル−１，５−ジアミノナフタレン、３，３´，５，５´−テトラメチルベンジジン、３，３´，５，５´−テトライソプロピルベンジジン、３，３´，５，５´−テトラメチル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，３´，５，５´−テトラエチル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，３´，５，５´−テトライソプロピル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，３´，５，５´−テトラブチル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，５−ジエチル−３´−メチル−２´，４−ジアミノジフェニルメタン，３，５−ジイソプロピル−３´−メチル−２´，４−ジアミノジフェニルメタン、３，３´−ジエチル−２，２´−ジアミノジフェニルメタン、４，４´−ジアミノ−３，３´−ジメチルジフェニルメタン、３，３´，５，５´−テトラエチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、３，３´，５，５´−テトライソプロピル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、３，３´，５，５´−テトラエチル−４，４´−ジアミノジフェニルエーテル、３，３´，５，５´−テトライソプロピル−４，４´−ジアミノジフェニルスルホンなど、およびこれらの異性体の種々の割合の混合物など；
【００３０】
（Ｃ３−２−４Ｃ）核置換電子吸引基（Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｆなどのハロゲン；メトキシ、エトキシなどのアルコキシ基；ニトロ基など）を有する芳香族ポリアミン
｛例えば、メチレンビス−ｏ−クロロアニリン、４−クロロ−ｏ−フェニレンジアミン、２−クロル−１，４−フェニレンジアミン、３−アミノ−４−クロロアニリン、４−ブロモ−１，３−フェニレンジアミン、２，５−ジクロル−１，４−フェニレンジアミン、５−ニトロ−１，３−フェニレンジアミン、３−ジメトキシ−４−アミノアニリン；４，４´−ジアミノ−３，３´−ジメチル−５，５´−ジブロモ−ジフェニルメタン、３，３´−ジクロロベンジジン、３，３´−ジメトキシベンジジン、ビス（４−アミノ−３−クロロフェニル）オキシド、ビス（４−アミノ−２−クロロフェニル）プロパン、ビス（４−アミノ−２−クロロフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−メトキシフェニル）デカン、ビス（４−アミノフェニル）スルフイド、ビス（４−アミノフェニル）テルリド、ビス（４−アミノフェニル）セレニド、ビス（４−アミノ−３−メトキシフェニル）ジスルフイド、４，４´−メチレンビス（２−ヨードアニリン）、４，４´−メチレンビス（２−ブロモアニリン）、４，４´−メチレンビス（２−フルオロアニリン）、４−アミノフェニル−２−クロロアニリンなど｝；
【００３１】
（Ｃ３−２−４Ｄ）２級アミノ基を有する芳香族ポリアミン
［例えば、上記の芳香族ポリアミンの−ＮＨ2の一部または全部が−ＮＨ−Ｒ8（Ｒ8はアルキル基たとえばメチル，エチルなどの低級アルキル基）で置き換ったもの｛例えば、４，４´−ジ（メチルアミノ）ジフェニルメタン、１−メチル−２−メチルアミノ−４−アミノベンゼンなど｝など］。
【００３２】
（Ｃ３−２−５）その他のポリアミン
［例えば、ポリエーテルポリアミン｛例えば、ポリエーテルポリオール（ポリアルキレングリコールなど）のシアノエチル化物の水素化物など｝、ポリエチレンイミン、ポリビニルアミン、ポリ（ジ）アリルアミンなど］；
【００３３】
（Ｃ３−３）前記（Ｃ３−１）または（Ｃ３−２）で例示した１または２級アミンのＡＯ付加物（付加モル数１〜７）
｛例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、エチレンジアミンのＥＯ付加物（付加モル数１〜７）など｝；などが挙げられる。なお、（Ｃ２）と（Ｃ３）は塩を形成しても良い。
【００３４】
（Ｃ４）アミド基またはウレア基含有化合物｛ただし（Ｂ３）を除く化合物｝；
例えば、（ポリ）尿素、ポリビニルピロリドン、ポリアミドポリアミン｛例えば、ジカルボン酸（ダイマー酸など）と過剰の（酸１モル当り２モル以上の）ポリアミン類（上記アルキレンジアミン，ポリアルキレンポリアミンなど）との縮合により得られるポリアミドポリアミンなど｝、ポリウレタン｛例えば、多官能イソシアネート（例えば、ＴＤＩ、ＭＤＩなど）とポリアミン類（上記アルキレンジアミン，ポリアルキレンポリアミンなど）および／またはポリアルキレン（炭素数２〜４）グリコールとの重付加反応により得られるポリウレタンなど｝、前記（Ｃ２）のアミド化物｛例えば、ｎ−吉草酸アミド、ｉｓｏ−吉草酸アミド、オクタン酸アミドなど｝など。
【００３５】
（Ｃ５）アミジン骨格を含有する化合物
例えば、グアニジン類（例えば、グアニジン、メチルグアニジン、テトラメチルグアニジン、エチルグアニジン、１，３，４，６，７，８−ヘキサヒドロ−２Ｈ−ピリミド［１,２−ａ］ピリミジン、１，３，４，６，７，８−ヘキサヒドロ−１−メチル−２Ｈ−ピリミド［１,２−ａ］ピリミジンなど）、環式および非環式アミジン類（例えば、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセン−７、１，６−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノネン−５など）、プロトンスポンジ誘導体（例えば、キノリジン、イソキノリン、２，７−ナフチリジンなど）など。
【００３６】
（Ｃ６）カーボネート化合物；
例えば、エチレンカーボネート、プロピオンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなど。
（Ｃ７）スルホキシド化合物；
例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ブチルスルホン、３−メチルスルホラン、２，４−ジメチルスルホランなど。
【００３７】
これらの内で、金属腐食性の観点から、好ましくは（Ｃ１）、（Ｃ３）、より好ましくは（Ｃ１）、特に好ましくは（Ｃ１−２）、（Ｃ１−３）である。また（Ｃ）は２種以上の混合物として用いても良い。
【００３８】
（Ｃ）の作用機構については、十分わかっていないが、（Ｃ）が（Ａ）もしくは水に対して、何らかの作用を及ぼし、（Ａ）の解離度を抑制しているものと考えられる。このため、比較的少量で解離度抑制効果を発揮し、金属腐食性が発揮できる点から、（Ｃ）の溶解度パラメーター（以下，ＳＰ値と略記）が、好ましくは１０〜３０、特に好ましくは１５〜２５である。
ここでいうＳＰ値とは、下記に示したように凝集エネルギー密度と分子容の比の平方根で表される。
[ＳＰ値]＝（△Ｅ／Ｖ）1/2
ここで△Ｅは凝集エネルギー密度を表す。Ｖは分子容を表し、その値は、ロバート  エフ．フェドールス（Ｒｏｂｅｒｔ  Ｆ．Ｆｅｄｏｒｓ）らの計算によるもので、例えばポリマー  エンジニアリング  アンド  サイエンス（Ｐｏｌｙｍｅｒ  ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  ａｎｄ  ｓｃｉｅｎｃｅ）第１４巻、１４７〜１５４頁（１９７４）に記載されている。
【００３９】
本発明の洗浄剤における（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の含有量（重量％）は、洗浄性と耐金属腐蝕性の観点から、（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の合計重量に基づき、（Ａ）は好ましくは０．１〜２５、さらに好ましくは０．５〜１０であり、（Ｂ）は好ましくは２５〜９９．８９、さらに好ましくは６０〜９９．４であり、（Ｃ）は好ましくは０．０１〜５０、さらに好ましくは０．１〜３０である。また洗浄剤中に水を含有する場合、水の含有量は洗浄剤の重量に基づき、０．００１〜５０、さらに好ましくは１〜３０である。
【００４０】
本発明において、洗浄剤中に水を含有する場合、（Ａ）に対する水の重量比［水／（Ａ）］は、洗浄性の観点から、好ましくは１／１００〜１００／１であり、特に好ましくは１／１〜２０／１である。
また（Ｃ）を使用する場合における（Ａ）に対する（Ｃ）の重量比［（Ｃ）／（Ａ）］は、金属腐食性の観点から、好ましくは１／１００〜１００／１であり、特に好ましくは１／２〜２０／１である。
さらに水を含有した洗浄剤中において（Ｃ）を使用する場合、水に対する（Ｃ）の重量比［（Ｃ）／水］は、同様の観点から、好ましくは１／１，０００〜１０／１であり、特に好ましくは１／１０〜５／１である。
【００４１】
本発明の洗浄剤は、（Ａ）、（Ｂ）および必要により（Ｃ）を用いる以外に、さらに必要により界面活性剤（Ｄ）、その他の添加剤（Ｅ）を配合させてもよい。
【００４２】
界面活性剤（Ｄ）としては、非イオン界面活性剤（Ｄ１）、アニオン界面活性剤（Ｄ２）、カチオン界面活性剤（Ｄ３）、両性界面活性剤（Ｄ４）およびこれらの混合物が挙げられる。但し、（Ｄ１）には、上記（Ｂ）または（Ｃ）の範囲の化合物は含まれない。また、（Ｄ３）には一般式（１）で示される有機アルカリは含まれない。
【００４３】
（Ｄ１）としては、例えば、ＡＯ付加型非イオン界面活性剤［例えば、前記（Ｃ１）〜（Ｃ３）で例示したものの内、活性水素を有する化合物｛例えば、高級アルコール（炭素数８〜１８）、アルキル（炭素数１０〜２４）フェノール、高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）または高級アルキルアミン（炭素数８〜２４）など｝に直接ＡＯを付加（付加モル数８〜５，０００）させたもの］、ポリオキシアルキレングリコール（Ｍｎ１５０〜６，０００）に高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）などを反応させたもの、ジオール｛前記（Ｃ１−２）として例示したもの｝または３価以上の多価アルコール｛前記（Ｃ１−３）として例示したもの｝などの水酸基含有化合物中に含まれる一部の水酸基に高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）を反応させて得られたエステル化物の残った水酸基にＡＯを付加させたもの（Ｍｎ２５０〜３０，０００）、高級脂肪酸（炭素数８〜２４）アミドにＡＯを付加させたもの（Ｍｎ２００〜３０，０００）、多価アルコール（前記のもの）アルキル（炭素数８〜６０）エーテルにＡＯを付加させたもの（Ｍｎ１２０〜３０，０００）など］、および多価アルコール（炭素数３〜２０）型非イオン界面活性剤［多価アルコール脂肪酸（炭素数８〜６０）エステル、多価アルコールアルキル（炭素数８〜６０）エーテル、脂肪酸（炭素数８〜６０）アルカノールアミドなど］などが挙げられる。
【００４４】
（Ｄ２）としては、例えば、硫酸エステル塩［高級アルコール硫酸エステル塩（炭素数８〜１８の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩など）など］、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩［炭素数８〜１８の脂肪族アルコールのＥＯ（１〜１０モル）付加物の硫酸エステル塩］、硫酸化油（天然の不飽和油脂または不飽和のロウをそのまま硫酸化して中和した塩）、硫酸化脂肪酸エステル（不飽和脂肪酸の低級アルコールエステルを硫酸化して中和した塩）、硫酸化オレフィン（炭素数１２〜１８のオレフィンを硫酸化して中和した塩）、スルホン酸塩［アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジエステル型、α−オレフィン（炭素数１２〜１８）スルホン酸塩、イゲポンＴ型など］およびリン酸エステル塩［高級アルコール（炭素数８〜６０）リン酸エステル塩、高級アルコール（炭素数８〜６０）ＥＯ付加物リン酸エステル塩、アルキル（炭素数４〜６０）フェノールＥＯ付加物リン酸エステル塩など］が挙げられる。
上記の塩としては、アルカリ金属（ナトリウム、カリウムなど）塩、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウムなど）塩、アンモニウム塩、アルキルアミン（炭素数１〜２０）塩およびアルカノールアミン（炭素数２〜１２、例えばモノー、ジ−およびトリエタノールアミン）塩などが挙げられる。但し、これらの塩を形成するアミンが前記（Ｃ３）である場合は、該アミンは（Ｃ）と見なし（Ｃ）の含有量に含むものとする。
【００４５】
（Ｄ３）としては、第４級アンモニウムのハロゲン塩型［テトラアルキル（炭素数４〜１００）アンモニウムクロライド（例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイドなど）、トリアルキル（炭素数３〜８０）ベンジルアンモニウムクロライド｛例えば、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド（塩化ベンザルコニウム）など｝、アルキル（炭素数２〜６０）ピリジニウム塩（例えば、セチルピリジニウムクロライド）、ポリオキシアルキレン（炭素数２〜４）トリアルキルアンモニウムクロライド（例えば、ポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライドなど）、サパミン型第４級アンモニウム塩（例えば、ステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェートなど）］；
アミン塩型［前記（Ｃ３−１）またはその他の脂肪族高級アミン（炭素数２５〜６０）（例えば、ロジンアミンなど）の無機酸（塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸など）塩など］などが挙げられる。但し、（Ｃ３−１）のアミンからなるアミン塩を用いる場合は、該アミンは（Ｃ）と見なし（Ｃ）の含有量に含むものとする。
【００４６】
（Ｄ４）としては、アミノ酸型両性界面活性剤［高級アルキルアミン（炭素数１２〜１８）のプロピオン酸ナトリウムなど］、ベタイン型両性界面活性剤［アルキル（炭素数１２〜１８）ジメチルベタイン、アルキル（炭素数１２〜１８）ジヒドロキシエチルベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタインなど］、硫酸エステル塩型両性界面活性剤［高級アルキル（炭素数８〜１８）アミンの硫酸エステルナトリウム塩、ヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルナトリウム塩など］、スルホン酸塩型両性界面活性剤（ペンタデシルスルフォタウリン、イミダゾリンスルホン酸など）、リン酸エステル塩型両性界面活性剤［グリセリン高級脂肪酸（炭素数８〜２２）エステル化物のリン酸エステルアミン塩］などが挙げられる。
【００４７】
（Ｄ１）〜（Ｄ４）の中では、洗浄性と耐金属腐蝕性の観点から好ましいのは（Ｄ１）および（Ｄ２）、さらに好ましいのは（Ｄ１）である。
（Ｄ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、通常３０％以下、好ましくは１〜２０％である。
【００４８】
その他の添加剤（Ｅ）としては、防錆剤［前記アミン化合物（Ｃ３）の内、活性水素を有する１級アミンまたは２級アミン化合物のＥＯ（付加モル数８〜２０）付加物、クロム酸塩、亜硝酸塩］、酸化防止剤［フェノール化合物（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなど）、含硫化合物（ジラウリルチオジプロピオネートなど）、リン化合物（トリフェニルホスファイトなど）など］、金属イオン封鎖剤（エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムなど）などが挙げられる。
（Ｅ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、防錆剤は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％、酸化防止剤は通常５％以下、好ましくは０．１〜１％、金属イオン封鎖剤は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％である。
【００４９】
本発明の洗浄剤は、通常、固体または液状であり、使いやすさの観点から好ましいのは液状であり、液状の場合は透明または白濁液状のいずれでもよい。本発明の洗浄剤が液状の場合の２５℃における粘度は、通常２〜３００ｍｍ2／ｓ、洗浄性およびリンス性の観点から、好ましくは３〜１００ｍｍ2／ｓ、特に好ましくは４〜５０ｍｍ2／ｓである。粘度はオストワルドまたはウベローデなどの粘度計にて測定できる。
本発明の洗浄剤のｐＨ（１０％水溶液）は通常１０〜１４、洗浄性および耐腐蝕性の観点から、好ましくは１０．５〜１３．５である。
【００５０】
本発明の洗浄剤の単位重量当たりの３級アミン価は好ましくは０．１〜１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、さらに好ましくは０．３〜７ｍｇＫＯＨ／ｇである。
３級アミン価が０．１〜１０ｍｇＫＯＨ／ｇであれば耐金属腐食性の観点で好ましい。
３級アミン価は以下の方法で測定できる。
（１）試料を０．３〜７ｇを１００ｍｌビーカーに精秤し、メチルアルコール５０ｍｌを加えて溶解する。
（２）これに１０ｍｌの無水酢酸を加えてよく混合し、３０分間室温にて放置後、溶液を電位差滴定装置を用いて、０．０１ｍｏｌ／Ｌアルコール性塩酸標準溶液にて滴定する。
（３）滴定曲線の変曲点を滴定の終点とする。
（４）滴定は２個の試料について行うとともに、空試験を行う。
（５）３級アミン価は、以下の式によって算出する。
３級アミン価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ×０．５６１１／Ｓ
Ａ：本試験に要した０．０１ｍｏｌ／ｌ塩酸標準溶液のｍｌ数
Ｂ：空試験に要した０．０１ｍｏｌ／ｌ塩酸標準溶液のｍｌ数
ｆ：０．０１ｍｏｌ／ｌ塩酸標準溶液の力価
Ｓ：試料の採取量（ｇ）
【００５１】
本発明の洗浄剤が適用できる用途は特に限定はなく、各種の電子部品、電気部品およびアルミ建材などの洗浄に使用される。
具体的には、例えば液晶パネル用ガラス基板（配向膜パターン化の前の洗浄、不具合配向膜の剥離洗浄）、プリント配線基板、半導体基板、プラズマディスプレイガラス基板、サーマルヘッドなどの電子部品、エアコン冷却フィン、空気清浄機アルミ電極板、電気カミソリ刃などの電気部品、アルミ建材などが挙げられる。
これらの用途の内、本発明の効果である優れた耐金属腐食性の点から、好ましくは電子部品の洗浄、特に配線用金属（例えば、アルミニウム、銅、タングステンなど）が部品の一部または全部に使用されている電子部品などの洗浄用であり、特に好ましくは液晶パネル用ガラス基板の洗浄用（例えば、配向膜を薄膜化する前のガラス基板の洗浄用、または配向膜が不具合となったガラス基板の洗浄用）であり、最も好ましくは配線用金属にアルミを使用した液晶パネル用ガラス基板の洗浄用に好適に使用することができる。
また、洗浄の対象物（汚れ）は、油分、指紋、樹脂、有機パーティクルなどの有機物、無機パーティクル（例えば、ガラス粉、セラミック粉、金属粉など）などの無機物が挙げられる。
【００５２】
本発明の洗浄剤を用いて、例えば液晶パネル用ガラス基板の配向膜を剥離洗浄する方法としては、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬、浸漬揺動およびこれらの組み合わせによる洗浄方法が適用できる。
洗浄時の本発明の洗浄剤は、必要によりさらに水で稀釈されて使用されてもよいが、好ましいのは上記の水の含有量の範囲内である。
【００５３】
洗浄温度は、通常１０〜７０℃、好ましくは１５〜６０℃程度である。洗浄時間は通常０．２〜１２０分、好ましくは０．５〜３０分である。水によるリンス温度は、通常５〜９０℃、好ましくは１０〜７０℃であり、リンス方法としては上記洗浄方法と同じ方法が適用できる。リンス後通常５０〜１５０℃、好ましくは６０〜１００℃で通常１〜１２０分間、好ましくは３〜６０分間加熱乾燥することにより清浄な液晶パネル用ガラス基板が得られ、再生使用することができる。
【００５４】
＜実施例＞
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部は重量部を示す。
【００５５】
実施例１〜８、比較例１〜３
表１に記載の部数（純分表示）の各成分を、１Ｌのビーカー中で室温で十分に撹拌・混合して実施例および比較例の洗浄剤を作製した。
表１中の略号は下記の通りである。
Ａ−１：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド
Ａ−２：テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド
Ｂ−１：ジエチレングリコールモノメチルエーテル
Ｂ−２：トリエチレングリコールモノメチルエーテル
Ｃ−１：エチレングリコール
Ｃ−２：グリセリン
Ｃ−３：ソルビトール
Ｃ−４：Ｄ−グルコース
【００５６】
実施例および比較例で得られた洗浄剤の評価試験方法を以下に示し、評価結果を表１に示す。
【００５７】
１．配向膜剥離性
予めＩＴＯ膜（インジウム・スズ酸化膜）を形成されたガラス基板（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）の上にポリイミド樹脂を塗布し、８０℃で焼き付ける作業を３回繰り返し、半焼性の垂直配向ポリイミド膜（膜厚５μｍ）が密着したガラス基板試験片を作成した。試験片を洗浄剤（２５℃）に所定時間浸漬後、試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で１分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥後、顕微鏡で観察して配向膜剥離性を次の５段階で評価した。
＜評価基準＞
５：ガラス基板面に配向膜が全くなし。
４：ガラス基板面に配向膜が痕跡程度残っている。
３：ガラス基板面の一部に配向膜が少し残っている。
２：ガラス基板面の大部分に配向膜が残っている。
１：ガラス基板全面に配向膜が残っている。
【００５８】
２．腐蝕性−１
アルミ薄膜（膜厚０．０３μｍ）が密着したガラス基板試験片（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）を洗浄剤（５０℃）に所定時間浸漬し、アルミ薄膜が完全に溶解するまでの時間を測定して腐蝕時間とした。腐蝕時間が長いほど耐腐蝕性が良いことを表す。
【００５９】
【表１】
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【００６０】
表１に示されるように、本発明の洗浄剤（実施例１〜８）は、１〜２分で半焼成垂直配向ポリイミド膜が剥離でき、しかも腐蝕時間が１８０分以上と耐腐蝕性が非常に良好である。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明の洗浄剤は、耐金属（特に、アルミ）腐食性に極めて優れ、かつ、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れているので、液晶パネル用ガラス基板などの電子部品の洗浄用途だけでなく、電気部品、金属部品および建材などの洗浄用途に適用が可能であり極めて有用性が高い。