(57)【要約】      （修正有）【課題】高容量積層セラミツクコンデンサのために、単純な工程でニッケル粒子の表面処理を施すことができ、表面が滑らかでタップ密度の高いニッケル粒子を与える、ニッケル粒子の表面処理方法を提供する。【解決手段】分散液を得るためにニッケルナノ粒子を還元性有機溶媒に分散させる段階と、前記ニッケルナノ粒子の表面均質性を増加させるために、前記分散液を加熱する段階と、前記加熱された分散液から前記ニッケルナノ粒子を分離する段階と、前記分離されたニッケルナノ粒子を洗浄および乾燥させる段階とを含むニッケルナノ粒子を表面処理する方法により、上記課題は解決される。【選択図】図２
2006152439.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）分散液を得るためにニッケルナノ粒子を還元性有機溶媒に分散させる段階と、
２）前記ニッケルナノ粒子の表面均質性を増加させるために、前記分散液を加熱する段階と、
３）加熱された前記分散液から前記ニッケルナノ粒子を分離する段階と、
４）分離された前記ニッケルナノ粒子を洗浄および乾燥させる段階とを含む、有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項２】
前記ニッケルナノ粒子は、表面の不純物が除去されたことを特徴とする、請求項１に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項３】
前記還元性有機溶媒は、第１級アルコール、第２級アルコールまたはグリコール系溶媒であることを特徴とする、請求項１または２に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項４】
前記還元性有機溶媒は、炭素数３〜８の第１級もしくは第２級アルコール、または炭素数２〜６のグリコールであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項５】
前記還元性有機溶媒は、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレグリコール、ヘキシレングリコールまたはブチレングリコールであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項６】
前記ニッケルナノ粒子は、前記有機溶媒を基準として５〜１０質量％の割合で使用されることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項７】
前記１）の段階において前記分散液に塩基溶液を追加することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項８】
前記塩基溶液は、還元性有機溶媒に対して０．１質量％以上の割合で追加されることを特徴とする、請求項７に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項９】
前記分散液は、前記還元性有機溶媒の沸点より１０〜５０℃低い温度で加熱されることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法によって表面処理されたニッケルナノ粒子。
【請求項１１】
前記ニッケルナノ粒子は、１００〜１０００ｎｍの直径を有することを特徴とする、請求項１０に記載の表面処理されたニッケルナノ粒子。
【請求項１２】
前記ニッケルナノ粒子は、表面の不純物が除去されたことを特徴とする、請求項１０または１１に記載の有機溶液を用いたニッケルナノ粒子。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のニッケルナノ粒子を含むことを特徴とする、導電性ペースト。
【請求項１４】
有機バインダおよび有機溶媒をさらに含むことを特徴とする、請求項１３に記載の導電性ペースト。
【請求項１５】
前記有機バインダは、エチルセルロースであることを特徴とする、請求項１４に記載の導電性ペースト。
【請求項１６】
前記有機溶媒は、テルピネオール、ジヒドロキシテルピネオール、１−オクタノールまたはケロシン（ｋｅｒｏｓｅｎｅ）であることを特徴とする、請求項１４または１５に記載の導電性ペースト。
【請求項１７】
前記ニッケルナノ粒子４０〜５６質量％、前記有機バインダ０．８〜４質量％および前記有機溶媒４０〜５６質量％を含むことを特徴とする、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の導電性ペースト。
【請求項１８】
可塑剤、増粘防止剤および分散剤をさらに含むことを特徴とする、請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の導電性ペースト。
【請求項１９】
請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の導電性ペーストを用いて形成された内部電極を含むことを特徴とする、積層セラミックコンデンサ。
【請求項２０】
前記ニッケルナノ粒子は、表面の不純物が除去されたことを特徴とする、請求項１９に記載の積層セラミックコンデンサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法に係り、より詳しくは、１）分散液を得るためにニッケルナノ粒子を還元性有機溶媒に分散させる段階と、２）前記ニッケルナノ粒子の表面均質性（ｓｕｒｆａｃｅ  ｈｏｍｏｇｅｎｅｉｔｙ）を増加させるために、前記分散液を加熱する段階と、３）前記加熱された分散液から前記ニッケルナノ粒子を分離する段階と、４）前記分離されたニッケルナノ粒子を洗浄および乾燥させる段階とを含む有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、積層セラミックコンデンサ（ＭＬＣＣ：ｍｕｌｔｉ−ｌａｙｅｒ  ｃｅｒａｍｉｃ  ｃａｐａｃｉｔｏｒ）は、多数の誘電体薄膜層および多数の内部電極を積層することにより製造される。このような構造のＭＬＣＣは、小さい体積でも大きいキャパシタンスを発揮するため、例えばコンピュータ、移動通信機器などの電子機器に広く用いられている。
【０００３】
ＭＬＣＣの内部電極の材料としては、Ａｇ−Ｐｄ合金が使用されてきた。Ａｇ−Ｐｄ合金は、空気中で焼結できるので、ＭＬＣＣの製造に容易に適用できるが、高価であるという欠点がある。したがって、１９９０年代の後半からＭＬＣＣのコストをダウンさせるために、内部電極の材料を相対的に低コストのニッケルで置き換えようとする努力が行われてきた。ＭＬＣＣの内部ニッケル電極は、ニッケル金属粒子を含む導電性ペーストで形成される。
【０００４】
ニッケル金属粒子を製造する方法は、気相法と液相法に大別される。気相法は、ニッケル金属粒子の形状および不純物の制御が比較的容易なので広く使用されているが、粒子の微細化と量産の面では不利である。これとは異なり、液相法は、量産に有利であり、初期投資費用および工程費用が低いという利点を持っている。
【０００５】
液相法は、さらに２通りに分類される。その一つは、ニッケル金属粒子に転換される出発物質として水酸化ニッケルを使用する第１の方法であり、もう一つは、ニッケル金属粒子に転換される出発物質として水酸化ニッケル以外のニッケル前駆物質、例えばニッケル塩またはニッケル酸化物を使用する第２の方法である。
【０００６】
第１の方法は、工程が比較的簡単であるという利点を持っているが、出発物質としての水酸化ニッケルが高価であり、ニッケル金属粒子の粒度制御が容易ではないという欠点を持っている。
【０００７】
第２の方法は、工程が比較的複雑であるという欠点を持っているが、出発物質として硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ニッケル酢酸などの低廉なニッケル前駆物質を使用することができ、数十〜数百ナノメートルの範囲にわたって粒度の制御が比較的容易であるという利点を持っている。
【０００８】
液相法に関連した特許として、例えば特許文献１、特許文献２などがある。
【０００９】
特許文献１は、金、パラジウム、白金、イリジウム、オスミウム、銅、銀、ニッケル、コバルト、鉛、カドミウムなどの酸化物、水酸化物または塩を、還元剤である液状のポリオール中に分散させた後加熱することにより、前記金属の粉末を得る方法を開示している。
【００１０】
特許文献２は、水酸化ナトリウム水溶液を硫酸ニッケル水溶液と混合して水酸化ニッケルを生成させる段階と、生成された水酸化ニッケルをヒドラジンに還元してニッケルを生成させる段階と、生成されたニッケルを回収する段階とを含むニッケル金属粉末の製造方法を開示している。
【００１１】
このような方法において、ニッケル前駆化合物の水酸化ニッケルへの転換のためにアルカリが添加される。前記アルカリとしては、通常、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを使用する。微粉のニッケルを合成するためには条件に応じて強塩基で反応させなければならず、このような環境はニッケルの表面にＮｉ（ＯＨ）２を形成させ、反応条件によっては、このように形成された表面Ｎｉ（ＯＨ）２は板状または針状のような２次粒子に成長する。
【００１２】
特許文献３は、粉末のタップ密度（ｔａｐ  ｄｅｎｓｉｔｙ）を制御するために、有機溶媒に溶解させたステアリン酸に金属粉末を添加して混合物から有機溶媒を蒸発除去する方法を開示している。特許文献４は、タップ密度が高く、ペースト中におけるニッケル微粉末の充填密度が高いと同時に、特に所定の厚さへの積層セラミックコンデンサの内部電極を得るためのペーストの塗布厚さを薄くすることができるよう、ニッケル微粒子の表面をデカン酸、カプリン酸、パルミチン酸、リノール酸、オノレイン酸、オレイン酸、ステアリン酸などで処理している。特許文献５は、ニッケル粉末の表面を、水溶性脂肪酸塩を含んだ水溶液で１次処理した後、加熱して溶媒を揮発させる方法などを開示している。
【特許文献１】米国特許第４，５３９，０４１号明細書
【特許文献２】米国特許第６，１２０，５７６号明細書
【特許文献３】特開平４−２３５２０１号公報
【特許文献４】特開平１２−３４５２０２号公報
【特許文献５】特開平１５−１２９１０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
特許文献２に記載の方法では、高容量ＭＬＣＣのためには、パッキング密度が高くなければならない。ところが、ＭＬＣＣ工程中、このような２次粒子は、パッキングの際に低密度を持たせる原因およびショートを発生させる原因となる。よって、粒子の表面は滑らかでなければならない。特許文献３〜５の方法では、それぞれ加熱の際に粒子間の凝集が発生するおそれがあるため、単純な工程でニッケル粒子の表面処理を施すことができる方法が要求されているのが実情である。そこで本発明は、単純な工程で、表面が滑らかであり、且つタップ密度が増加したニッケルナノ粒子を得る手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明のある形態によれば、１）分散液を得るためにニッケルナノ粒子を還元性有機溶媒に分散させる段階と、２）前記ニッケルナノ粒子の表面均質性を増加させるために、前記分散液を加熱する段階と、３）前記加熱された分散液から前記ニッケルナノ粒子を分離する段階と、４）前記分離されたニッケルナノ粒子を洗浄および乾燥させる段階とを含む、有機溶液を用いたニッケルナノ粒子の表面処理方法を提供する。
【００１５】
また、本発明の他の形態によれば、前記方法によって表面処理されたニッケルナノ粒子を提供する。
【００１６】
また、本発明の別の形態によれば、前記ニッケルナノ粒子を含む導電性ペーストを提供する。
【００１７】
また、本発明の別の形態によれば、前記導電性ペーストを用いて形成された内部電極を含むＭＬＣＣを提供する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の方法を用いてニッケルナノ粒子を表面処理すると、表面に残存していた不純物が除去されて表面が滑らかであり且つタップ密度が増加したニッケルナノ粒子を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照して本発明をより詳細に説明する。
【００２０】
図１は本発明の液相還元法によって製造されたニッケルナノ粒子のＳＥＭ写真である。液相還元法によって得られたニッケルナノ粒子は、図１に示すように、その表面にＮｉ（ＯＨ）２またはＮｉ２Ｏ３が成長または生成されているところ、これを図２に示した本発明に係る一連の表面処理過程によって除去する。本発明の一具現例において、ニッケルナノ粒子は、還元性有機溶媒に分散されている。前記ニッケルナノ粒子および還元性有機溶媒の分散液は、前記ナノ粒子の表面均質性を増加させるために、好ましくは前記ナノ粒子表面の不純物が除去されるまで加熱される。このような加熱処理後、前記ニッケルナノ粒子は前記分散液から分離されて洗浄および乾燥される。
【００２１】
本発明のニッケルナノ粒子の表面処理方法の第１段階は、ニッケルナノ粒子を還元性有機溶媒に分散させる段階である。
【００２２】
本発明で使用される「還元性有機溶媒」とは、それ自体が酸化しながら他の化合物を還元させることが可能な有機溶媒を意味する。したがって、還元性有機溶媒としては、酸化可能な有機溶媒であればいずれでも使用することができるが、好ましくは第１級または第２級アルコール溶媒、あるいはグリコール系溶媒を使用する。より好ましくは、炭素数３〜８の第１級または第２級アルコール、炭素数２〜６のグリコールを使用する。具体的に、特に制限されないが、例えばプロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ブチレングリコールなどを使用することができる。
【００２３】
前記還元性有機溶媒の使用量は、特に制限されるものではないが、好ましくは有機溶媒を基準としてニッケルナノ粒子が５〜１０質量％の量で使用することが効果的である。
【００２４】
前記還元性有機溶媒の種類によっては、ニッケル金属に対する反応速度が異なる。沸点が２００℃以上の場合、速度が速くて粒子間の凝集を誘発するおそれがある。すなわち、本発明において、還元性有機溶媒は、還元剤であると同時に、ニッケル前駆化合物に対する溶媒なので、凝集を無くすためには反応速度の制御が必要である。ところが、エチレングリコール、１，２−プロパンジオールまたはオクタノールのような沸点２００℃以下の溶媒は、適切な反応速度を有するが、例えばジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，３−プロパンジオールまたは１，４−ブタンジオールなどの溶媒は、沸点２００℃以上の場合であって、反応が最も速い。かかる問題点を解決するために、後者の場合には必須的に塩基性溶液を添加しなければならず、前者の場合には選択的に塩基性溶液を添加することができる。前記塩基溶液は、特に制限されるものではないが、好ましくはＮａＯＨ、ＫＯＨなどを例として挙げることができる。
【００２５】
前記塩基性溶液は、本発明のニッケルナノ粒子の表面処理方法の第１段階において、ニッケルナノ粒子を分散させる前または後に、還元性有機溶媒に添加することができる。前記反応速度の問題点を効果的に解決するために好ましい塩基性溶液の添加量は、還元性有機溶媒の０．１質量％以上であり、より好ましくは０．２〜１質量％である。塩基をあまり多く入れると、さらに効果的に凝集を制御することはできるが、反応中に粘度が上昇して分離および洗浄に困難さがある。
【００２６】
本発明に係るニッケルナノ粒子の表面処理方法の第２段階は、ニッケルナノ粒子の分散溶液を加熱する段階である。加熱温度は、使用する溶媒によって異なるが、還元性有機溶媒の沸点付近でなければならない。すなわち、ニッケル金属の分散溶液内でニッケル金属表面の還元反応が十分起こりうる温度が好ましい。通常、加熱段階の温度を上昇させるほど、前記還元反応の促進程度は向上する。ところが、ある程度以上の温度では、前記還元反応促進程度の向上が飽和してしまい、しかも反応物質の変質が発生するおそれもある。かかる点を考慮すると、前記加熱段階の温度は、還元性有機溶媒の沸点より１０〜５０℃程度低いことがより好ましい。
【００２７】
本発明の方法は、開放された反応容器または密閉された反応容器を用いて実施できるが、前記加熱段階の温度を沸点付近に上昇させる場合、密閉された反応容器を用いることがさらに好ましい。本発明の実施のために用いられる開放または密閉された反応容器は、凝縮器または還流凝縮器を備えることもできる。
【００２８】
前記加熱段階で、前記混合物の組成は時間経過によって変化する。初期に、前記分散溶液はＮｉ（ＯＨ）２またはＮｉ２Ｏ３のような微粒子と共に存在するニッケル粒子および還元性有機溶媒を含む。表面のＮｉ（ＯＨ）２またはＮｉ２Ｏ３のような微粒子のニッケル金属への還元が進みながら、ニッケル金属粒子が共存可能である。一定の時間が経過すると、実質的にニッケル表面に存在する二次粒子が、ニッケル金属粒子に還元される。前記加熱段階を維持する時間は、加熱段階の温度によって異なり、当業者ならば必要に応じて容易に適切な時間に調節することができる。
【００２９】
本発明の方法の第３段階は、前記加熱された分散溶液からニッケルナノ粒子を分離した後、これを洗浄および乾燥させることである。
【００３０】
前記洗浄に使用される溶媒は、通常使用されるものであれば特に制限されないが、例えばアセトンまたはエタノールなどを使用することができる。
【００３１】
前記乾燥は、一般的な雰囲気中で行うことができるが、好ましくは真空雰囲気中で常温に乾燥させることができる。
【００３２】
本発明の他の形態として、本発明は、前記方法を用いて、表面不純物の除去されたニッケルナノ粒子を提供する。粒子サイズは、特に制限されるものではないが、１００〜１０００ｎｍの範囲でありうる。本発明のニッケルナノ粒子は、電子回路の内部配線材料や触媒などのいろいろの用途で使用できる。特に、本発明のニッケルナノ粒子は、表面不純物が除去され且つタップ密度が高いため、ＭＬＣＣの内部電極用材料として非常に適する。
【００３３】
本発明の別の形態として、前記表面処理されたニッケルナノ粒子、有機バインダおよび有機溶媒を含む導電性ペーストを提供する。前記有機バインダとしては、特に制限されないが、例えばエチルセルロースなどが使用できる。前記有機溶媒としては、特に制限されないが、テルピネオール、ジヒドロキシテルピネオール、１−オクタノールまたはケロシンなどが使用できる。本発明の導電性ペーストにおいて、例えば前記ニッケルナノ粒子の含量は４０〜５６質量％、前記有機バインダの含量は０．８〜４質量％、前記有機溶媒の含量は４０〜５６質量％程度であってもよい。しかし、このような組成に限定されず、用途に応じて様々な組成に変形して使用することができる。また、本発明の導電性ペーストは、例えば可塑剤、増粘防止剤、分散剤などの添加剤をさらに含むこともできる。本発明の導電性ペーストを製造する方法は、公知の様々な方法が使用できる。
【００３４】
本発明の別の形態として、本発明は、前記導電性ペーストを用いて形成された内部電極を含むＭＬＣＣを提供する。
【００３５】
本発明のＭＬＣＣの一具現例を図３に示した。図３のＭＬＣＣは、内部電極１０および誘電層２０からなる積層体３０と、端子電極４０とから構成される。前記内部電極１０は、いずれか一方の端子電極に接触させるために、その先端部が積層体３０の一面に露出するように形成される。
【００３６】
本発明のＭＬＣＣを製造する方法の一例は、次のとおりである。誘電材料を含む誘電層形成用ペーストと本発明の導電性ペーストを交互に印刷した後、こうして得られた積層物を焼成する。焼成された積層体３０の断面に露出している内部電極１０の先端部と電気的および機械的に接合されるように、導電性ペーストを積層体３０の断面に塗布した後焼成することにより端子電極４０を形成する。本発明のＭＬＣＣは、図３の具現例に限定されるものではなく、様々な形状、寸法、積層数および回路構成などを持つことができる。
【実施例】
【００３７】
以下、本発明を実施例によってより具体的に説明する。ところが、下記の実施例は本発明を例示するためのもので、本発明を制限するものではない。
【００３８】
実施例１
液相法で製造したＮｉ４０ｇをエチレングリコール５００ｇに分散させた分散液を製造した。この分散液を、上部に凝縮器を備えたフラスコに仕込んで攪拌した。前記フラスコ内の混合物を磁石攪拌器付きヒーティングマントルで約１９０℃の温度で２時間加熱し、表面の滑らかなニッケル金属粉末を生成させた。生成したニッケル金属粉末を濾過して分離した後、アセトンとエタノールで洗浄した。こうして得られたニッケル金属粉末を真空内で２５℃の温度で一晩乾燥させた。得られたニッケル粒子のＳＥＭ写真を撮影して図４に示した。タップ密度は、５０ｍＬのシリンダに一定量の粉末を仕込んだ後約２０００回タッピングし、その後体積を読み取る方法で測定した。測定の結果、表面処理前の粒子のタップ密度は１．４２ｇ／ｍｌであったが、表面処理後の粒子のタップ密度は１．７７ｇ／ｍｌであった。得られたＮｉ粒子に対してＸＰＳ（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）で分析した結果を図５に示した。図５のスペクトル１は実施例１で得られたＮｉナノ粒子を、スペクトル２は実施例１において加熱時間を４時間にして得られたＮｉナノ粒子を示す。ＸＰＳの結果より、表面のＮｉ（ＯＨ）２が多く除去されたこと及び相対的にＮｉの含量が増加したことを確認することができる。
【００３９】
実施例２
液相法で製造したＮｉ４０ｇをオクタノール５００ｇに分散させた分散液を製造した。この分散液を、上部に凝縮器を備えたフラスコに仕込んで攪拌した。前記フラスコ内の混合物を磁石攪拌器付きヒーティングマントルで約１９０℃の温度で２時間加熱し、表面の滑らかなニッケル金属粉末を生成させた。生成されたニッケル金属粉末を濾過して分離した後、アセトンとエタノールで洗浄した。こうして得られたニッケル金属粉末を真空内で２５℃の温度で一晩乾燥させた。得られたニッケル粒子のＳＥＭ写真を撮影して図６に示した。表面処理前後の粒子のタップ密度を測定したところ、表面処理前の粒子のタップ密度は１．４２ｇ／ｍｌであるが、表面処理後の粒子のタップ密度は１．７８ｇ／ｍｌであって約２５％上昇していることが分かる。
【００４０】
実施例３
トリエチレングリコール５００ｇとＮａＯＨ１ｇを混合して第１溶液を製造し、液相法で製造したＮｉ４０ｇを第１溶液に分散させて第２溶液を製造した。第２溶液を、上部に凝縮器を備えたフラスコに仕込んで攪拌した。前記フラスコ内の混合物を磁石攪拌器付きヒーティングマントルで約２３０℃の温度で２時間加熱し、表面の滑らかなニッケル金属粉末を生成させた。生成したニッケル金属粉末を濾過して分離した後、アセトンとエタノールで洗浄した。こうして得られたニッケル金属粉末を真空内で２５℃の温度で一晩乾燥させた。得られたニッケル粒子のＳＥＭ写真を撮影して図７に示した。表面処理前後の粒子のタップ密度を測定したところ、表面処理前の粒子のタップ密度は１．４２ｇ／ｍｌであるが、表面処理後の粒子のタップ密度は１．９８ｇ／ｍｌであった。得られたＮｉ粒子に対してＸＰＳ（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）で分析した結果を図５に示した。図５のスペクトル３は実施例３で得られたＮｉナノ粒子を、スペクトル４は実施例３において加熱時間を４時間にして得られたＮｉナノ粒子を示す。ＸＰＳの結果より、表面のＮｉ（ＯＨ）２が多く除去されることおよび相対的にＮｉの含量が増加したことを確認することができた。
【００４１】
実施例４
１，３−プロパンジオール５００ｇとＮａＯＨ１ｇを混合して第１溶液を製造し、液相法で製造したＮｉ４０ｇを第１溶液に分散させて第２溶液を製造した。第２溶液を、上部に凝縮器を備えたフラスコに仕込んで攪拌した。前記フラスコ内の混合物を磁石攪拌器付きヒーティングマントルで約１９０℃の温度で２時間加熱し、表面の滑らかなニッケル金属粉末を生成させた。生成したニッケル金属粉末を濾過して分離した後、アセトンとエタノールで洗浄した。こうして得られたニッケル金属粉末を真空内で２５℃の温度で一晩乾燥させた。得られたニッケル粒子のＳＥＭ写真を撮影して図８に示した。表面処理前後の粒子のタップ密度を測定したところ、表面処理前の粒子のタップ密度は１．４２ｇ／ｍｌであるが、表面処理後の粒子のタップ密度は１．９９ｇ／ｍｌであって約４０％増加していることが分かる。
【００４２】
比較例１
液相法で製造したＮｉ４０ｇをテルピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）５００ｇに分散させて分散液を製造した。この分散液を、上部に凝縮器を備えたフラスコに仕込んで攪拌した。前記フラスコ内の混合物を磁石攪拌器付きヒーティングマントルで約２００℃の温度で１２時間加熱し、表面の滑らかなニッケル金属粉末を生成させた。生成したニッケル金属粉末を濾過して分離した後、アセトンとエタノールで洗浄した。こうして得られたニッケル金属粉末を真空オーブン内で２５℃の温度で一晩乾燥させた。得られたニッケル粒子のＳＥＭ写真を撮影して図９に示した。ＳＥＭの結果より、Ｎｉ（ＯＨ）２および板状の物質が生成され、粒子の凝集のためニッケル粒子の粒径が均一にならないことが分かる。
【００４３】
比較例２
液相法で製造したＮｉ４０ｇをテトラデカン（ｔｅｔｒａｄｅｃａｎｅ）５００ｇに分散させて分散液を製造した。この分散液を、上部に凝縮器を備えたフラスコに仕込んで攪拌した。前記フラスコ内の混合物を磁石攪拌器付きヒーティングマントルで約２００℃の温度で１２時間加熱し、表面の滑らかなニッケル金属粉末を生成させた。生成したニッケル金属粉末を濾過して分離した後、アセトンとエタノールで洗浄した。こうして得られたニッケル金属粉末を真空オーブン内で２５℃の温度で一晩乾燥させた。得られたニッケル粒子のＳＥＭ写真を撮影して図１０に示した。ＳＥＭの結果より、Ｎｉ（ＯＨ）２および板状の物質が生成され、粒子の凝集のためニッケル粒子の粒径が均一にならないことが分かる。
【００４４】
比較例３
液相法で製造したＮｉ４０ｇをテトラエチレングリコール５００ｇに分散させて分散液を製造した。この分散液を、上部に凝縮器を備えたフラスコに仕込んで攪拌した。前記フラスコ内の混合物を磁石攪拌器付きヒーティングマントルで約２００℃の温度で１２時間加熱し、表面の滑らかなニッケル金属粉末を生成させた。生成したニッケル金属粉末を濾過して分離した後、アセトンとエタノールで洗浄した。こうして得られたニッケル金属粉末を真空オーブン内で２５℃の温度で一晩乾燥させた。得られたニッケル粒子のＳＥＭ写真を撮影して図１１に示した。ＳＥＭの結果より、粒子の凝集のためニッケル粒子の粒径が大きくなることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の液相還元法によって得られたニッケルナノ粒子表面のＳＥＭ写真である。
【図２】本発明に係る有機溶液を用いた表面処理方法の概略工程図である。
【図３】本発明に係るＭＬＣＣの一具現例を示す模式図である。
【図４】本発明の実施例１で得られた表面処理されたニッケルナノ粒子のＳＥＭ写真である。
【図５】本発明の実施例１および３で得られた表面処理されたニッケルナノ粒子に対するＸＰＳ分析結果を示すグラフである。
【図６】本発明の実施例２で得られた表面処理されたニッケルナノ粒子のＳＥＭ写真である。
【図７】本発明の実施例３で得られた表面処理されたニッケルナノ粒子のＳＥＭ写真である。
【図８】本発明の実施例４で得られた表面処理されたニッケルナノ粒子のＳＥＭ写真である。
【図９】本発明の比較例１で得られた表面処理されたニッケルナノ粒子のＳＥＭ写真である。
【図１０】本発明の比較例２で得られた表面処理されたニッケルナノ粒子のＳＥＭ写真である。
【図１１】本発明の比較例３で得られた表面処理されたニッケルナノ粒子のＳＥＭ写真である。
【符号の説明】
【００４６】
１０    内部電極、
２０    誘電層、
３０    積層体、
４０    端子電極。
【図１】
2006152439.tif 000003
【図２】
2006152439.tif 000004
【図３】
2006152439.tif 000005
【図４】
2006152439.tif 000006
【図５】
2006152439.tif 000007
【図６】
2006152439.tif 000008
【図７】
2006152439.tif 000009
【図８】
2006152439.tif 000010
【図９】
2006152439.tif 000011
【図１０】
2006152439.tif 000012
【図１１】
2006152439.tif 000013