(57)【要約】      （修正有）【課題】高スループットで、比較的小さな構造のパターンを基板上に転写することのできるリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】本発明は、２ステージ・リソグラフィ装置に関し、２つの基板ステージは、ステージの第１ステージによって保持される第１基板と装置の投影システムの最終要素との間に液浸液が閉じ込められる第１状況から、２つのステージの第２ステージによって保持される第２基板と最終要素との間に液体が閉じ込められる第２状況に向かってリソグラフィ装置を導くためのジョイント走査移動を実施するために、互いに協動するように構築され構成され、それによって、ジョイント走査移動中に、液体は、最終要素に対して前記空間内に実質的に閉じ込められる。【選択図】図９
2006332656.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン形成放射ビームを形成するために放射ビームの断面において前記放射ビームにパターンを与えることが可能であるパターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいて前記パターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板の間に液体を閉じ込める液体閉じ込めシステムと、
位置決めシステム及び基板を保持するように構築された少なくとも２つの基板ステージとを備え、前記位置決めシステムは、前記計量ステーションと前記露光ステーションの間で前記ステージを移動するように構築され、前記位置決めシステムは、基板を保持する前記ステージの１つのステージを、前記基板の少なくとも１つの測定された特性に基づいて、露光中に前記露光ステーション内で位置決めするように構築されるリソグラフィ装置であって、
前記ステージは、前記ステージの第１ステージによって保持される第１基板と前記最終要素との間に前記液体が閉じ込められる第１状況から、前記２つのステージの第２ステージによって保持される第２基板と前記最終要素との間に前記液体が閉じ込められる第２状況に向かってリソグラフィ装置を導くためのジョイント走査移動を実施するために、互いに協動するように構築され、それによって、前記ジョイント走査移動中に、前記液体は、前記最終要素に対して前記空間内に実質的に閉じ込められるリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記第１ステージと第２ステージのそれぞれは、前記ジョイント走査移動中に、別のステージの液浸クロス・エッジと協動するように構築された、前記ステージの側面部か、又は、その近くの液浸クロス・エッジを有する請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
各液浸クロス・エッジは、実質的に平坦な表面を備える請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記位置決めシステムは、前記各液浸クロス・エッジの表面が実質的に相互一定距離にあるままとなるように、前記ジョイント走査移動中に前記各ステージを位置決めするように構築され、それによって、前記距離は０〜１ミリメートルであり、好ましい距離は約０．１ミリメートルである請求項２又は３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記ステージの少なくとも１つは、前記ステージの前記液浸クロス・エッジの表面に開口を有するチャネル・システムを備え、前記チャネル・システムは、前記ジョイント走査移動中に前記液浸クロス・エッジに沿ってガス流及び／又は液体流を生成するように構築される請求項２から４までの一項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記ステージの少なくとも１つのステージは、前記ステージの液浸クロス・エッジの下に水樋を備え、前記水樋は、前記液浸クロス・エッジに沿って滴下する可能性のある液体を捕捉することが可能である請求項２から５までの一項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記２つのステージの少なくとも１つのステージは、前記液浸クロス・エッジの近くに干渉計ミラーを備え、前記干渉計ミラーは、汚染及び／又は損傷から前記干渉計ミラーを保護するために、前記液浸クロス・エッジに対して千鳥状に配置され、好ましくは、ステージのニッチに設置される請求項２から６までの一項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記ステージの少なくとも１つのステージは、前記液浸クロス・エッジの近くに干渉計ミラーを備え、前記干渉計ミラーは、汚染から前記干渉計ミラーを保護するために、前記水樋の高さより低い高さに設置される請求項２から７までの一項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
第１計量ステーションと第２計量ステーションの間に位置する１つの露光ステーションを有し、それによって、前記第１計量ステーションによって測定される基板と、前記第２計量ステーションによって測定される基板が交互に、前記露光ステーションに向かって供給されることができる前記請求項の一項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記測定システムと前記投影システムを支持するメトロ・フレームを搭載するベース・フレームを有し、前記メトロ・フレームは、前記ベース・フレームから動的に分離され、前記測定システムは、前記ステージの１つのステージ部に設置され、前記ステージの位置を測定するためのエンコーダ・ヘッドと協動する少なくとも１つのエンコーダ・プレートを備える前記請求項の一項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのエンコーダ・プレートは、前記露光ステーションと前記計量ステーション内に延びる請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
リソグラフィ装置は、好ましくは、前記ベース・フレームから分離した機械フレームを備え、前記機械フレームは、平面モータの第１部分であって、前記各ステージにおいて、前記平面モータのそれぞれの第２部分と協動する、平面モータの第１部分を備え、前記位置決めシステムは、前記計量ステーションと前記露光ステーションの間で前記ステージを６自由度で位置決めするために、前記平面モータを制御するように構築される請求項１０又は１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
リソグラフィ装置は、好ましくは、前記ベース・フレームから分離した機械フレームを備え、前記機械フレームは、水平平面内で、第１方向で延びる実質的に平行な２つのガイドを有し、各ガイドは、モータによって前記ガイドに沿って移動することができる要素に結合され、各要素は、前記水平平面内で配向された、前記第１方向に垂直な第２方向で前記ステージを移動させるモータによってステージに結合し、前記位置決めシステムは、前記平面内で前記ステージを移動させるために、前記モータを制御するように構築される請求項１０又は１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
リソグラフィ装置であって、
パターン形成放射ビームを形成するために放射ビームの断面において前記放射ビームにパターンを与えることが可能である、パターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいて前記パターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
位置決めシステム及び基板を保持するように構築された少なくとも２つの基板ステージとを備え、前記位置決めシステムは、前記ステージを前記計量ステーションと前記露光ステーションの間で移動させるように構築され、前記位置決めシステムは、基板を保持する前記ステージの１つのステージを、前記基板の少なくとも１つの測定された特性に基づいて、露光中に前記露光ステーション内で位置決めするように構築され、
前記測定システム及び前記投影システムを支持するメトロ・フレームを搭載するベース・フレームを備え、前記メトロ・フレームは、前記ベース・フレームから動的に分離され、前記測定システムは、前記ステージの位置を測定するための、前記計量ステーションと前記露光ステーションの両方に延びるエンコーダ・システムを備えるリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記エンコーダ・システムは、前記メトロ・フレーム又は前記投影システムに接続される少なくとも１つのエンコーダ・プレートを備え、前記少なくとも１つのエンコーダ・プレートは、前記ステージの１つのステージ部に設置され、前記ステージの位置を測定するためのエンコーダ・ヘッドと協動するように構築される請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
リソグラフィ装置であって、
パターン形成放射ビームを形成するために放射ビームの断面において前記放射ビームにパターンを与えることが可能である、パターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいて前記パターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
基板を保持するように構築された、リソグラフィ装置の少なくとも２つの基板ステージを位置決めする位置決めシステムと、
前記各ステージにおいて前記平面モータのそれぞれの第２部分と協動する平面モータの第１部分を備える機械フレームとを備え、前記位置決めシステムは、前記計量ステーションと前記露光ステーションの間で前記ステージを移動させ、前記露光ステーションにおいて前記ステージのそれぞれを、前記ステージ上の前記基板の少なくとも１つの測定された特性に基づいて６自由度で移動させるために、前記平面モータを制御するように構築され、前記機械フレームは、前記ステージが、前記計量ステーションと前記露光ステーションの間を移動しながら、互いに通過することを可能にするように構築されるリソグラフィ装置。
【請求項１７】
リソグラフィ装置であって、
パターン形成放射ビームを形成するために放射ビームの断面において前記放射ビームにパターンを与えることが可能である、パターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいて前記パターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
位置決めシステム及び基板を保持するように構築された少なくとも２つの基板ステージとを備え、前記位置決めシステムは、前記ステージを前記計量ステーションと前記露光ステーションの間で移動させるように構築され、前記位置決めシステムは、基板を保持する前記ステージの１つのステージを、前記基板の少なくとも１つの測定された特性に基づいて、露光中に前記露光ステーション内で位置決めするように構築され、
水平平面内で、第１方向で延びる実質的に平行な２つのガイドを有する機械フレームを備え、各ガイドは、モータによって前記ガイドに沿って移動することができる要素に結合され、各要素は、前記水平平面内で配向された、前記第１方向に垂直な第２方向で前記ステージを移動させるモータによってステージに結合し、前記位置決めシステムは、前記平面内で前記ステージを移動させるために、前記モータを制御するように構築され、前記機械フレームは、前記ステージが、前記計量ステーションと前記露光ステーションの間を移動しながら、互いに通過することを可能にするように構築されるリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記請求項の一項に記載のリソグラフィ装置によって生産されるリソグラフィ製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチ・ステージ・リソグラフィ装置ならびにマルチ・ステージ・リソグラフィ装置を使用してデバイスを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板上、通常は基板の標的部分上に所望のパターンを加える機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。この例では、別法として、マスク又はレチクルと呼ばれるパターニング装置を使用して、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンが生成されてもよい。このパターンは、基板（例えば、シリコン・ウェハ）上の（例えば、ダイの一部、１つのダイ、又はいくつかのダイを含む）標的部分上に転写されることができる。パターンの転写は、通常、基板上に設けられた感放射線性材料（レジスト）の層上に結像することによる。一般に、単一基板は、連続してパターニングされる隣接する標的部分のネットワークを含むことになる。知られているリソグラフィ装置は、標的部分上に全体のパターンを一度に露光することによって、それぞれの標的部分が照射される、いわゆるステッパとパターンを放射ビームを所与の方向（「走査」方向）に走査し、一方、基板を、この方向に対して平行又は逆平行に同期して走査することによって、それぞれの標的部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板上にインプリントすることによって、パターニング装置からパターンを基板に転写することも可能である。
【０００３】
現行のリソグラフィ装置を改良する開発が進行している。これによる態様は、スループット（処理量）を増加させることである（スループットは、リソグラフィ装置によって一定時間内に処理することができる基板の数に関連する）。例えば、２ステージ・リソグラフィ装置は、一般に、単一ステージ装置より大きなスループットを有する。その理由は、第２基板ステージ上の別の基板が、計量ステーションにおいて以前に測定されたデータに基づいて、露光ステーションで露光される間に、第１基板ステージ上の基板を計量ステーションにおいて測定することができるためである。別の態様は、（所与の品質を有するが）小さな構造を有するパターンを基板上に転写するリソグラフィ装置の能力を改良することである。例えば、液浸リソグラフィ装置は、非液浸リソグラフィ装置（参照により本明細書に援用する、例えばＥＰ１４８６８２７を参照されたい）と比較して、より小さな構造を有するパターンを転写することが可能である。
【０００４】
米国特許第５，９６９，４４１号（参照により本明細書に援用する）には、基板ステージ（基板保持器１１、１３）用の「Ｈドライブ」（例えば、図４、図５を参照されたい：対向するＹアクチュエータ１０９、１１１及び１１３、１１５の各セットに接続される各Ｘアクチュエータ１０５及び１０７）を備える２ステージ・リソグラフィ装置が記載される。記載される２ステージは、比較的高いスループットをもたらすが、欠点は、計量ステーションと露光ステーションの間を移動しながら、互いに通過するために（欄１６、ライン４７〜５２）、基板ステージが、（基板保持器１１がユニット２５から分離し、ユニット２７に結合し、基板保持器１３がユニット２７から分離し、ユニット２５に結合する、図４と図５の間の移行に従って）「ステージ交換」を必要とすることである。装置は、ステージ交換に時間がかり、スループットの減少が生じるという欠点を有する。
【０００５】
米国特許第６，３４１，００７号（参照により本明細書に援用する）（特に図２、３、４を参照されたい）には、２つの計量ステーション間に位置する１つの露光ステーションを備える２ステージ・リソグラフィ装置が記載される。基板は、バッチで、露光ステーションにおける露光の前に、計量ステーションにおいて交互に測定される。ステージは、計量ステーションと露光ステーションの間を移動しながら、互いに通過することができない（図３を参照されたい）。このリソグラフィ装置の欠点は、２つの計量ステーションを必要とすることである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、２重基板搬送経路を提供する必要性が存在する。追加の計量ステーション及び追加の搬送経路は、高価なリソグラフィ装置をもたらす。さらに、システム・レイアウトは、工場内の比較的大きな（床）空間（大きな占有面積）を占める。さらなる欠点は、この概念がロジスティクスの性質の問題をもたらすことである。さらに、リソグラフィ装置は、液浸リソグラフィ適用形態に適さないため、比較的小さな構造を基板上に投影することができない。
【０００７】
上記欠点のうちの１つを少なくとも部分的に緩和することが望ましい。特に、比較的高いスループット及び比較的小さな構造を有するパターンを基板上に転写する能力を有するリソグラフィ装置を提供することが、本発明の態様である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
要求を満たすために、本発明は、
パターン形成放射ビームを形成するために、放射ビームの断面において放射ビームにパターンを与えることが可能であるパターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいてパターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
投影システムの最終要素と基板の間に液体を閉じ込める液体閉じ込めシステムと、
位置決めシステム及び基板を保持するように構築された少なくとも２つの基板ステージとを備え、位置決めシステムは、計量ステーションと露光ステーションの間でステージを移動させるように構築され、位置決めシステムは、基板を保持するステージの１つのステージを、その基板の少なくとも１つの測定された特性に基づいて、露光中に前記露光ステーション内で位置決めするように構築されるリソグラフィ装置であって、
ステージは、前記ステージの第１ステージによって保持される第１基板と最終要素との間に前記液体が閉じ込められる第１状況から、２つのステージの第２ステージによって保持される第２基板と最終要素との間に前記液体が閉じ込められる第２状況に向かってリソグラフィ装置を導くためのジョイント走査移動を実施するために、互いに協動するように構築され、それによって、ジョイント走査移動中に、液体は、最終要素に対して前記空間内に実質的に閉じ込められるリソグラフィ装置を提案する。ジョイント走査移動は、従来の液浸リソグラフィ装置に比べて増加したスループットをもたらし、前記第１状況から前記第２状況への移行の間に液体を閉じ込めるために、別個の閉鎖ディスクが使用される。
【０００９】
要求を満たすために、本発明は、リソグラフィ装置であって、
パターン形成放射ビームを形成するために、放射ビームの断面において放射ビームにパターンを与えることが可能であるパターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいてパターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
基板を保持するように構築されたリソグラフィ装置の少なくとも２つの基板ステージを位置決めする位置決めシステムと、
各ステージにおいて平面モータのそれぞれの第２部分と協動する平面モータの第１部分を備える機械フレームとを備え、位置決めシステムは、計量ステーションと露光ステーションの間でステージを移動させ、露光ステーションにおいて前記ステージのそれぞれを、ステージ上の基板の少なくとも１つの測定された特性に基づいて６自由度で移動させるために、平面モータを制御するように構築され、機械フレームは、ステージが、計量ステーションと露光ステーションの間を移動しながら、互いに通過することを可能にするように構築されるリソグラフィ装置を提案する。ステージは互いに通過することができるため、「ステージ交換」についての必要性は存在しない。こうして、装置は、ただ１つの計量ステーションとただ１つの露光ステーションを有しながら、比較的高いスループットを有し、装置は、比較的小さな「占有面積」を有する。
【００１０】
要求を満たすために、本発明は、リソグラフィ装置であって、
パターン形成放射ビームを形成するために、放射ビームの断面において放射ビームにパターンを与えることが可能であるパターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいてパターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
位置決めシステム及び基板を保持するように構築された少なくとも２つの基板ステージとを備え、位置決めシステムは、計量ステーションと露光ステーションの間でステージを移動させるように構築され、位置決めシステムは、基板を保持するステージの１つのステージを、その基板の少なくとも１つの測定された特性に基づいて、露光中に露光ステーション内で位置決めするように構築され、
水平平面内で、第１方向で延びる実質的に平行な２つのガイドを有する機械フレームを備え、各ガイドは、モータによってガイドに沿って移動することができる要素に結合され、各要素は、水平平面内で配向された、第１方向に垂直な第２方向でステージを移動させるモータによってステージに結合し、位置決めシステムは、平面内でステージを移動させるために、モータを制御するように構築され、機械フレームは、ステージが、計量ステーションと露光ステーションの間を移動しながら、互いに通過することを可能にするように構築されるリソグラフィ装置を提案する。ステージは互い通過することができるため、「ステージ交換」についての必要性は存在しない。こうして、装置は、ただ１つの計量ステーションとただ１つの露光ステーションを有しながら、比較的高いスループットを有し、装置は、比較的小さな「占有面積」を有する。
【００１１】
要求を満たすために、本発明は、リソグラフィ装置であって、
パターン形成放射ビームを形成するために、放射ビームの断面において放射ビームにパターンを与えることが可能であるパターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいてパターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
位置決めシステム及び基板を保持するように構築された少なくとも２つの基板ステージとを備え、位置決めシステムは、ステージを計量ステーションと露光ステーションの間で移動させるように構築され、位置決めシステムは、基板を保持するステージの１つのステージを、その基板の少なくとも１つの測定された特性に基づいて、露光中に前記露光ステーション内で位置決めするように構築され、
測定システムと投影システムを支持するメトロ・フレームを搭載するベース・フレームを有し、メトロ・フレームは、ベース・フレームから動的に分離され、測定システムは、ステージの位置を測定するための、計量ステーションと露光ステーションの両方に延びるエンコーダ・システムを備えるリソグラフィ装置を提案する。前記エンコーダ・システムは、例えば、頻繁なＴＩＳアライメントの（参照により本明細書に援用するＥＰ１５１０８７０に記載される透過画像センサによって、一方のマスク／レチクルを、他方の基板と位置合わせするという。特に図８Ａ、８Ｂを参照されたい）必要性を減らす。頻繁なＴＩＳアライメントの必要性の減少は、リソグラフィ装置のスループットを増加させる。
【００１２】
本発明の実施例は、ここで、添付の略図を参照して、実施例としてだけ述べられるであろう。略図において、対応する参照記号は、対応する部分を示す。
【実施例】
【００１３】
図１Ａは、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を概略的に示す。装置は、
−  放射ビーム４（例えば、ＵＶ放射）を調整するように構成された照射システム（照射器）２と、
−  パターニング装置（例えば、マスク）８を支持するように構築され、一定のパラメータに従ってパターニング装置を正確に位置決めするように構成された第１ポジショナ（位置決め装置）１０に結合された支持体構造（例えば、マスク・テーブル）６と、
−  基板（例えば、レジストをコーティングしたウェハ）１４を保持するように構築され、一定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２ポジショナ１６に（ミラー・ブロックＭＢを介して）結合された基板テーブル（例えば、ウェハ・テーブル）と、
−  パターニング装置８によって放射ビーム４に与えられたパターンを、基板１４の標的部分Ｃ（例えば、１つ又は複数のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズ系）１８を備える。
【００１４】
照射システムは、放射を誘導し、成形し、制御するための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電、又は他のタイプの光学部品、或いは、それらの任意の組合せ等の種々のタイプの光学部品を含んでもよい。
【００１５】
支持体構造は、パターニング装置を支持する、即ち、その重量を搭載する。支持体構造は、パターニング装置の向き、リソグラフィ装置の設計、及び、例えば、パターニング装置が真空環境内で保持されるか否か等の他の条件に応じるように、パターニング装置を保持する。支持体構造は、パターニング装置を保持するために、機械式、真空式、静電式、又は他の締付け技法を使用することができる。支持体構造は、例えば、必要であれば、固定されるか又は可動であることができる、フレーム又はテーブルであってよい。支持体構造は、パターニング装置が、例えば、投影システムに対して所望の位置にあることを確実にしてもよい。本明細書における、「レチクル」又は「マスク」という用語の任意の使用は、「パターニング装置」という、より一般的な用語と同意語であると考えられてもよい。
【００１６】
本明細書で使用される「パターニング装置」という用語は、基板の標的部分にパターンを作成するため等で、放射ビームの断面において、放射ビームにパターンを与えるのに使用することができる任意の装置のことを指しているものと、幅広く解釈されるべきである。例えば、パターンが位相シフト・フィーチャ、即ち、いわゆる補助フィーチャを含む場合、放射ビームに与えられるパターンは、基板の標的部分の所望のパターンに正確に対応しない場合があることが留意されるべきである。一般に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路等の、標的部分において作成されるデバイスの特定の機能層に相当するであろう。
【００１７】
パターニング装置は、透過式か、又は、反射式であってよい。パターニング装置の実施例は、マスク、プログラム可能なミラー・アレイ、及びプログラム可能なＬＣＤパネルを含む。マスクは、リソグラフィではよく知られており、バイナリ、レベンソン型位相シフト、及びハーフトーン型位相シフト等のマスク・タイプ、並びに、種々のハイブリッド・マスク・タイプを含む。プログラム可能なミラー・アレイの実施例は、小さなミラーのマトリクス配置構築を採用し、ミラーのそれぞれは、個々に傾斜して、到来する放射ビームを異なる方向へ反射することができる。傾斜したミラーは、ミラー・マトリクスによって反射される放射ビームに、パターンを与える。
【００１８】
本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射、或いは、液浸液の使用、又は、真空の使用等の、他の要因に適切である、屈折式、反射式、反射屈折式、磁気式、電磁式、及び静電式光学系、又は、それらの任意の組合せを含む、任意のタイプの投影システムを包含するものと、幅広く解釈されるべきである。本明細書における、「投影レンズ」という用語の任意の使用は、「投影システム」という、より一般的な用語と同意語であると考えられてもよい。
【００１９】
本明細書で示すように、装置は、透過タイプ（例えば、透過マスクを採用する）である。別法として、装置は反射タイプ（例えば、先に参照したタイプのプログラム可能なミラー・アレイを採用するか、又は、反射式マスクを採用する）であってよい。
【００２０】
リソグラフィ装置は、２つ（２ステージ）以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプであってよい。こうした機械では、付加的なテーブルが平行に使用されるか、又は、準備工程が、１つ又は複数のテーブルに関して実行され、一方、１つ又は複数の他のテーブルが露光のために使用されてもよい。
【００２１】
リソグラフィ装置はまた、投影システムと基板の間の空間を充填するために、基板の少なくともある部分が、比較的高い屈折率を有する液体、例えば、水によって覆われることができるタイプであってもよい。液浸液は、例えば、マスクと投影システムの間の、リソグラフィ装置の他の空間に適用されてもよい。投影システムの開口数を増加するための液浸技法は、当技術分野でよく知られている。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板等の構造が、液体内に浸らねばならないことを意味するのではなく、むしろ、露光中に、液体が投影システムと基板の間にあることを意味するだけである。
【００２２】
図１Ａを参照すると、照射器２は、放射源２０からの放射ビームを受け取る。例えば、放射源がエキシマ・レーザである時、放射源及びリソグラフィ装置は、別々の実体であってもよい。こうした場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部(part)を形成するとは考えられず、放射ビームは、例えば、適した誘導ミラー及び／又はビーム・エキスパンダを備えるビーム送出システム２２を使用して、放射源２０ら照射器２へ送られる。他の場合では、例えば、放射源は水銀ランプである時、放射源は、リソグラフィ装置と一体の部分であってよい。放射源２０及び照射器２は、必要であれば、ビーム送出システム２２と共に、放射システムと呼ばれてもよい。
【００２３】
照射器２は、放射ビームの角度強度分布を調整するための調整器２４を備えてもよい。一般に、照射器の瞳面内強度分布、少なくとも外部及び／又は内部径方向範囲（一般に、それぞれ、σ−外部及びσ−内部と呼ぶ）を調整することができる。さらに、照射器２は、積分器２６及びコンデンサ２８等の種々の他の部品を備えてもよい。照射器は、放射ビームの断面において所望の均一性及び強度分布を有するように、放射ビームを調節するのに使用されてもよい。
【００２４】
放射ビーム４は、支持体構造（例えば、マスク・テーブル６）上に保持される、パターニング装置（例えば、マスク８）上に入射し、パターニング装置によってパターニングされる。マスク８を横切って、放射ビーム４は投影システム１８を通過し、投影システム１８は基板１４の標的部分Ｃ上にビームを収束させる。第２ポジショナ１６及び位置センサ３０（例えば、干渉装置、リニア・エンコーダ又は容量性センサ）を使用して、ウェハ・ステージＳｔの基板テーブルＷＴは、例えば、放射ビーム４の経路内で異なる標的部分Ｃを位置決めするために、正確に移動することができる。このために、フィードバック・ループ及び／又はフィードフォワード・ループを有する、知られている測定及び制御アルゴリズムが使用されてもよい。同様に、第１ポジショナ１０及び別の位置センサ（図１Ａには明示的には示さず）を使用して、例えば、マスク・ライブラリから機械的に取出した後か、又は、スキャン中に、放射ビーム４の経路に対してマスク８を正確に位置決めすることができる。一般に、マスク・テーブル６の移動は、第１ポジショナ１０の一部を形成する、ストロークの長いモジュール（粗い位置決め）とストロークの短いモジュール（精密な位置決め）を使用して実現してもよい。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２ポジショナ１６の一部を形成する、ストロークの長いモジュールとストロークの短いモジュールを使用して実現してもよい。ステッパの場合（スキャナと対照的に）、マスク・テーブル６は、ストロークの短いアクチュエータだけに接続されるか、又は、固定されてもよい。マスク８及び基板１４は、マスク・アライメント・マークＭ１、Ｍ２、及び、基板アライメント・マークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせされてもよい。示される基板アライメント・マークは、専用の標的部分を占めるが、標的部分どうしの間の空間内に位置してもよい（これらは、スクライブ・レーン・アライメント・マークとして知られる）。同様に、２つ以上のダイがマスク８上に設けられる状況では、マスク・アライメント・マークは、ダイの間に位置してもよい。
【００２５】
図１Ｂは、図１Ａによるリソグラフィ装置用の基板ステージＳｔ（基板チャックとも呼ばれる）を示す。ステージＳｔは、第２ポジショナ１６の非固定部分、ミラー・ブロックＭＢ、及びミラー・ブロックＭＢに取り付けられた基板テーブルＷＴを備える。この実施例では、ミラー・ブロックＭＢは、ミラー・ブロックＭＢの位置を測定するために、干渉計と協動するように構成された干渉計ミラーを備える。
【００２６】
第２ポジショナ１６は、ミラー・ブロックＭＢと基板テーブルＷＴを位置決めするように構成される。第２ポジショナ１６は、ストロークの短いモジュール（ストロークの短いモータＳｈＭを備える）とストロークの長いモジュール（ストロークの長いモータＬｏＭを備える）を備える。
【００２７】
ストロークの長いモータＬｏＭは、固定フレーム又はバランス・マス（図示せず）に取り付けることができる固定部分ＬＭＳ及び固定部分に対して変位可能である非固定部分ＬＭＭを備える。ストロークの短いモータＳｈＭは、第１非固定部分ＳＭＳ（ストロークの長いモータの非固定部分ＬＭＭに取り付けることができる）と第２非固定部分ＳＭＭ（ミラー・ブロックＭＢに取り付けることができる）を備える。
【００２８】
マスク・テーブル６と第１ポジショナ１０（図１Ａを参照されたい）は、図１Ｂに示すのと同じ構造を有してもよい。
【００２９】
いわゆる、２ステージ（マルチ・ステージ）機械は、述べるように、２つ（又は、それ以上）のステージを装備してもよい。各ステージは、（基板テーブルＷＴ等の）オブジェクト・テーブルを備えることができる。こうした配置構築では、オブジェクト・テーブルの１つの上に配設された基板の高さマップの測定等の準備工程を、別のオブジェクト・テーブル上に配設された基板の露光と平行して実施することができる。以前に測定され基板を露光するために、ステージは、測定ロケーションから露光ロケーションへ（また、逆に）位置が変わってもよい。別法として、オブジェクト・テーブルは、ステージごとに移動することができる。
【００３０】
図１Ａに示す装置を、以下のモードの少なくとも１つのモードで使用することができるであろう。
１．ステップ・モードでは、マスク・テーブル６及び基板テーブルＷＴは、放射ビームに与えられる全体のパターンが、標的部分Ｃ上に１度で投影される間、実質的に固定したままに保たれる（即ち、単一静的露光）。基板テーブルＷＴは、異なる標的部分Ｃを露光できるようにＸ及び／又はＹ方向に動かされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光で結像される標的部分Ｃのサイズを制限する。
２．スキャン・モードでは、マスク・テーブル６及び基板テーブルＷＴは、放射ビームに与えられる、パターンが標的部分Ｃ上に投影される間、同期して走査される（即ち、単一動的露光）。マスク・テーブル６に対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システム１８の（縮小率)拡大率及びイメージ反転特性によって決めることができる。スキャン・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光の標的部分の（走査しない方向の）幅を制限し、走査運動の長さは、標的部分の（走査方向の）高さを決める。
３．別のモードでは、プログラム可能なパターニング装置を保持するマスク・テーブル６は、実質的に固定したままに保たれ、基板テーブルＷＴは、放射ビームに与えられるパターンが、標的部分Ｃ上に投影される間、移動する、又は、走査される。このモードでは、一般に、パルス放射源が採用され、プログラム可能なパターニング装置は、基板テーブルＷＴのそれぞれの移動後か、又は、走査中における連続放射パルスの間に、必要であれば更新される。この動作モードは、先に参照したタイプのプログラム可能なミラー・アレイ等の、プログラム可能なパターニング装置を利用するマスク無しリソグラフィに容易に適用することができる。
【００３１】
上述した使用モードに関する組合せ、及び／又は、変形、或いは、全く異なる使用モードが採用されてもよい。
【００３２】
図４は、図１Ａに概略的に示すリソグラフィ装置のドライブ及びステージ構築の実施例の略平面図である。部分は、図１Ａにおいてラインｌｌによって示される平面によって規定される。リソグラフィ装置は、第１計量ステーション３２．１、第２計量ステーション３２．２、及び第１計量ステーション３２．１と３２．２の間に位置する露光ステーション３４を備える。
【００３３】
図２では、計量ステーション３２の略側面図が提供される。計量ステーションは、メトロ・フレーム３８を搭載するベース・フレーム３６によって支持される。ベース・フレーム３６は、工場の床に直接設置されてもよい。ベース・フレーム３６とメトロ・フレーム３８は、分離手段４０によって動的に分離される（分離手段４０は、エアマウント等の受動分離手段、空気圧ピストン等の能動分離手段、又はその組合せであってよい）。動的分離のために、ベース・フレームにおける振動又は他の乱れ運動がメトロ・フレーム内に伝わることが防止される（乱れは、少なくとも、著しく大きく減少することになる）。メトロ・フレーム及びメトロ・フレームに接続される要素は、「サイレント・ワールド」と呼ばれることがある。
【００３４】
図２はまた、基板１４を保持する（基板）ステージ４２及び高さ測定センサ４６と位置センサ３０を備える測定システム４４を示す。この実施例では、位置センサ３０は、６自由度でステージ４２の位置を測定することが可能である。測定システム４４は、メトロ・フレームによって搭載され、したがって、サイレント・ワールドの一部である。センサ４６、３０は、ステージ４２によって保持される基板１４の特性（高さマップ）を測定するのに使用されてもよい。高さマップは、後で、露光中に露光ステーション３４で使用される。
【００３５】
ステージ４２の位置を測定する位置センサ３０は、干渉計センサ４８．１であってよく、干渉計センサ４８．１は、ステージ４２に取り付けた干渉計ミラー５２に向かって干渉計測定ビーム５０を送ることが可能である。別法として、位置センサは、ステージ４２の位置を測定するエンコーダ・システム４８．２であってよい。しかし、干渉計とエンコーダの組合せ、それによる干渉計システムは、エンコーダ可能であるものと異なるパラメータを測定することが留意される。
【００３６】
図２の提示される実施例では、エンコーダ・システム４８．２は、メトロ・フレーム３８に取り付けられるエンコーダ・プレートである。ステージ４２は、ステージ４２の位置を測定するためのエンコーダ・プレート４８．２と協動することが可能であるエンコーダ・ヘッド５４を備える。エンコーダ・プレートは、基板の表面の高さを測定するために、高さ測定センサ４６が基板１４の表面上の切り取り部を通して光測定ビームを送るようにさせるための切り取り部を備える。好ましくは、ステージ４２の上部表面の各角（各角において、又は、各角の近くで）は、エンコーダ・ヘッド５４を備える。ステージの位置は、エンコーダ・システム４８．２を用いて、切り取り部の下の任意のロケーションにおいて測定されることができる。
【００３７】
図３は、露光ステーション３４の略側面図である。露光ステーション３４は、ベース・フレーム３６によって支持される。ベース・フレーム３６はメトロ・フレーム３８を搭載し、メトロ・フレーム３８は、分離手段４０によってベース・フレーム３６から動的に分離される。投影システム１８は、支持部材５６（支持部材５６は動的分離手段であってもよい）を介してメトロ・フレーム３８によって支持される。この実施例では、メトロ・フレーム３８は、位置センサ３０を搭載する（干渉計４８．１及び／又はエンコーダ・システム４８．２、それによって、エンコーダ・システム４８．２は、投影システム１８用の切り取り部を備えることが留意される）。しかし、位置センサ３０は、投影システム１８によって（又は、等価的に、投影システム１８に取り付けられたフレームによって）搭載されてもよいことが留意される。
【００３８】
位置センサ３０がエンコーダ・プレート４８．２である場合、このエンコーダ・プレートは、露光ステーション３４と計量ステーション３２の両方に延びてもよい。進歩した実施例では、計量ステーション３２から露光ステーション３４まで十分に延びるただ１つのエンコーダ・プレートが存在する。
【００３９】
レチクル・ステージ又はマスク・ステージ６は、投影システム１８の上にある。レチクル・ステージの位置とマスク／レチクルの位置は、測定システム６０によって測定される。測定システム６０は、投影システム１８の下で、マスク／レチクルを基板１４と位置合わせするために、位置センサ３０と協動する。基板に対するマスク／レチクルの位置合わせは、通常、ゼロ点センサ及びＴＩＳアライメント技法に従って実施される（説明についてはＥＰ１５１０８７０を参照されたい）。ＴＩＳアライメントを適用するために、基板がＴＩＳセンサの捕捉範囲内にあるように、ベース・フレーム３６に対する基板の位置（精密なＴＩＳ測定のための開始点としてのおよその目安）が一定の精度内でわかっていることが必要とされる。
【００４０】
一般に、干渉計センサは、（フリンジを計数することによって）相対位置を測定する。干渉計センサによって絶対位置測定値を得るために、干渉計センサは、絶対位置測定値を得るために基準点が規定されることを意味する、いわゆるゼロ操作によってゼロにすることができる。こうした基準点の規定は、マルチ・ステージ装置では特に関心がある。その理由は、こうした装置では、１つのステージは、別のステージを覆い隠し、既に規定した基準点を失うことになることである。このことが起こる場合、（新しいゼロ操作に従って）規定されるべき新しい基準点を規定することが必要になる場合があり、時間が費やされ、スループットを減少させる。しかし、エンコーダ・プレートの適用は、絶対測定システムをもたらすことができ、必要なゼロ操作を減らすか、又は、なくしさえし、スループットにとって有益である。さらに、エンコーダ・プレートが高い精度を有する場合、ＴＩＳアライメント自体の頻度もまた、減るか、又は、なくなりさえし（少なくとも部分的に、エンコーダ測定によって置き換えられる）、それによって、対応する装置のスループットがさらに増加する。
【００４１】
図４に示すように、基板を保持するステージは、一方で計量ステーション３２．１、３２．２と、他方で露光ステーション３４との間で交換することができる。これは、以降でより詳細に述べられるであろう。図４は、水平平面内で第１方向（Ｘ方向）に延びる２つのガイド６２．１、６２．２を概略的に示す。ガイド６２は、ベース・フレーム３６に取り付けられることができるが、前記ベース・フレーム３６、メトロ・フレーム３８、及び投影レンズ１８から完全に分離した（したがって、動的結合が無い）機械フレームに、ガイド６２を取り付けることが好ましい。
【００４２】
各ガイド６２は、位置決めシステムのモータによって第１方向（Ｘ方向）にガイド６２に沿って移動することができる要素６４に結合する。図４の構築では、各ステージ４２．１、４２．２は２つの要素６４に結合する。各ステージは、要素６４内のモータによって、水平平面内でＹ方向（第１方向と実質的に垂直である）に移動することができる。好ましい実施例では、ガイド６２及び／又は要素６４内のモータは、反力の影響を減らすために、バランス・マスと協動する。ステージ４２．１、４２．２は、空気軸受けを介しベース・フレーム３６によって支持されることができ、空気軸受けは、ベース・フレーム２６とステージ４２．１、４２．２の動的分離をもたらす。述べたドライブ構築の別法として、平面モータ構築が提供されてもよいことが留意される。
【００４３】
図４の構築では、ステージは互いに通過することができない。したがって、この構築に属するリソグラフィ装置の作動シーケンスは、次の通りである。基板１４．１は、第１ステージ４２．１上で、第１基板搬送経路を介して第１計量ステーション３２．１に供給される。こうして、この基板は、水平平面で走査されながら（ステージ４２．１は、このために、水平平面で移動する）、計量ステーション３２．１において測定される（図２、測定システム４４、高さマップの生成を参照されたい）。ステージ４２．１、４２．２の位置は、図４の実施例では、干渉計システム４８．１によって測定される。次に、ステージは、露光ステーション３４へ移送されて、ステージ４２．１によって保持された基板１４．１が露光される。露光は、基板１４．１の測定された高さマップに基づき、基板を保持するステージ４２．１は、位置決めシステムによって位置決めされる。（前記モータは、投影システム１８の下で、６自由度であるが、制限範囲内でステージを位置決めすることが可能である。）同時に、他のステージ４２．２は、第２計量ステーション３２．２内にあり、測定される基板１４．２を保持する。基板１４．２は、第２基板搬送経路を介して供給されている。基板１４．１の露光が実施された後、露光済み基板を有するステージ４２．１は、第１計量ステーション３２．１に移動し、露光済み基板１４．１は、第１基板搬送経路を介して搬送され、測定される新しい基板が、第１基板搬送経路を介してステージ４２．１上に装填される。同時に、ステージ４２．２によって保持された基板１４．２が露光される。シーケンスはこうして続く。構築が、２重基板搬送経路を必要とすることが明らかである。
【００４４】
干渉計のビームは、干渉計システムと、ステージに取り付けられた干渉計ミラーとの間の比較的長い距離をブリッジしなければならないことがあることが留意される（図４、Ｘ方向の干渉計ビームを参照されたい）。これは、空気の圧力変動が干渉計測定ビームを乱すため、この方向の測定精度を落とす（この作用は、距離の増加に伴って増加する）。説明したエンコーダ・システム４８．２の適用によって、この欠点が緩和され、高い測定精度がもたらされる場合がある。
【００４５】
図６は、図１のラインＬＬで規定される平面図で、別の２ステージ概念を概略的に示す。この概念では、基板４２．１、４２．２を有するステージは、計量ステーション３２と露光ステーション３４の間で交換することができる。概念は、水平平面内で第１方向（Ｘ方向）に延びる２つのガイド６２．１、６２．２を与えられる。ガイド６２は、ベース・フレーム３６に取り付けられることができるが、前記ベース・フレーム３６、メトロ・フレーム３８、及び投影レンズ１８から完全に分離した（したがって、動的結合が無い）機械フレームに、ガイド６２を取り付けることが好ましい。各ガイド６２は、位置決めシステム（の一部であり、且つ、位置決めシステム）によって制御されるモータによって、ガイド６２に沿って第１方向（Ｘ方向）に移動することができる要素６４を搭載する。この実施例では、要素６４は、いわゆる「Ｔドライブ」の一部であるＴ要素である。各ステージ４２．１、４２．２は、１つのＴ要素６４に結合し、Ｔ要素６４は、結合するステージを、要素６４内に存在してもよいモータによってＹ方向に移動することができる。モータは、位置決めシステム（の好ましくは一部であり、且つ位置決めシステム）によって制御される。好ましい実施例では、ガイド６２の、且つ／又は、要素６４のモータは、反力の影響を減らすために、バランス・マスと協動する。ステージ４２．１、４２．２は、動的分離用の空気軸受けを介してベース・フレーム３６によって支持されてもよいことが留意される。
【００４６】
図６による２ステージ概念は、ステージ４２．１と４２．２が、計量ステーション３２と露光ステーション３４の間を移動しながら、互いに通過することを可能にする。Ｔドライブに基づくこの概念は、（米国特許第５，９６９，４４１号に記載のＨドライブ概念と対照的に）ステージ交換を必要としない。したがって、交換のために停止することなく、ステージの連続した移送運動が可能であるため、比較的高いスループットを達成することができる。
【００４７】
述べた「Ｔドライブ・システム」（図６のガイド６２．１、６２．２及びＴ要素６４）の別法として、平面モータ構築を使用することができる。平面モータ構築によれば、計量ステーション３２と露光ステーション３４の間で、位置決めシステムが前記ステージ４２．１、４２．２のそれぞれを移動することができるように、前記ステージ４２．１、４２．２内の磁石及び／又はコイル（平面モータの各第２部分）と協動するための、コイル及び／又は磁石（平面モータの第１部分）を有する機械フレームを備える。こうした平面モータはまた、ステージを露光ステーション３４に６自由度で位置決めするのに使用することができる。機械フレームは、ベース・フレーム３６の一部であってよく（したがって、コイル及び／又は磁石はベース・フレーム３６に一体にされ）、又は、機械フレームは、ベース・フレーム３６から分離される（動的に分離される）。平面モータは、位置決めシステムの制御下にある。
【００４８】
本発明によるリソグラフィ装置の実施例によれば、投影システム１８の最終光学（レンズ）要素と、基板１４の標的部分の間に液浸液６６が存在する（図３）。液浸流体の適用によって、露光中に、液浸流体の無い匹敵するシステムに比べて、パターンのより小さい構造を、レチクル又はマスクから基板１４に転写することができるという利点が生まれる。リソグラフィ装置は、投影システムの最終要素と基板の間で液体を閉じ込める液体閉じ込めシステムを有する。液体閉じ込めシステムは、いわゆる液浸フード６８（図９を参照されたい）を備える。液浸流体は、液浸フード６８によって照射中に所定場所に保たれることができる。液浸フード６８は、機械的接触シールを備えてもよく、且つ／又は、その動作が、閉じ込められる流体に向かって圧力ガス流を誘導することに基づく非接触シールを備えてもよい（組合せが可能である）。
【００４９】
基板の露光後に、基板を保持するステージは、例えば、計量ステーションに向かって、移動しなければならない。液浸流体６６は、投影システム１８の最終要素の下の空間に保たれることが望ましいため、ステージが、液浸流体６６の空間の下の位置から移動する前に、特別な処置がとられなければならない。可能性のある処置は、露光される基板を保持するステージが、閉鎖ディスク／閉鎖ステージの場所を占めるまで、底部の空間を閉じる別個の閉鎖ディスク又は別個の小閉鎖ステージ（基板を保持することができない）を使用することである。
【００５０】
しかし、前記閉鎖ディスク／閉鎖ステージは、余分な引継ぎ操作を生じ、引継ぎ操作は、貴重な時間を費やし、リソグラフィ装置のスループットを大幅に減少させるようである。
【００５１】
したがって、閉鎖ディスク（又は、閉鎖ステージ）の必要性をなくし、リソグラフィ装置であって、ステージが、前記ステージの第１ステージによって保持される第１基板と最終要素との間に前記液体が閉じ込められる第１状況から、２つのステージの第２ステージによって保持される第２基板と最終要素との間に前記液体が閉じ込められる第２状況に向かってリソグラフィ装置を導くためのジョイント走査移動を実施するために、互いに協動するように構築され、それによって、ジョイント走査移動中に、液体が、最終要素に対して前記空間内に実質的に閉じ込められる、リソグラフィ装置を提供することが本発明の態様である。
【００５２】
ステージ４２．１と４２．２の前記ジョイント走査移動は、図９に概略的に示される（矢印７１は、投影システム１８に対するステージの移動方向を示す）。ジョイント走査移動は、液体６６が最終レンズ要素７０の下の空間に閉じ込められたままになるように実施される。空間の底部において、ステージ４２．１、４２．２が液体６６を閉じ込める。側面において、液体６６を閉じ込めるのは液浸フード（好ましくは、投影システム１８に対して実質的に固定位置のままである）である。
【００５３】
進歩した実施例では、それぞれの第１ステージ４２．１と第２ステージ４２．２は、それぞれの液浸クロス・エッジ７２．１、７２．２（関連するステージの側面に、又は、側面の近くに位置する、図９を参照されたい）を有し、液浸クロス・エッジは、ジョイント走査移動中に互いに協動するように構築される。好ましくは、各液浸クロス・エッジ７２は、１つ又は複数の実質的に平坦且つ平滑な表面（複数可）を備える。そのため、異なる液浸クロス・エッジの平坦表面の間に明確に規定される空間（例えば、平行表面によって規定される空間）が得られるように、前記ジョイント走査移動を実施することが可能である。図９では、ステージの協動式液浸クロス・エッジが、ジョイント走査移動中に、相互距離Ｄを有する空間を規定する実施例が提供される。
【００５４】
異なる形状の液浸クロス・エッジ７２．１、７２．２は、図１０に示される。図１０では、ステージ４２．１は、それぞれ、垂直平面Ａ、水平平面Ｂ、及び垂直平面Ｃを有する液浸クロス・エッジを示す。これらの平面は、液浸クロス・エッジ７２．２の各平面Ｄ、Ｅ、Ｆと協動するように構築される。
【００５５】
本発明によるリソグラフィ装置は、関連するモータ用の設定点信号を計算するために、ステージ（測定は、測定システム４４によって実施されてもよい）の位置測定値（実際には、限界位置測定値は、位置、速度、加速度、及び／又は、加加速度測定値を含んでもよい）を供給されることができる（フィードバック・ループ及び／又はフィードフォワード・ループを使用した）制御システムを備えてもよい。モータは、各液浸クロス・エッジの平面間の相互の一定距離Ｄが、所定の関数に対応するように、ステージのジョイント走査移動中に、設定点信号に従って位置決めシステムによって制御される。所定の関数は、液浸クロス・エッジ間の空間が、液体流路特性の機能を果たすように選択されてもよい（さらなる説明については以下を参照されたい）。
【００５６】
リソグラフィ装置の実施例によれば、位置決めシステムは、ステージ４２．１が、ジョイント走査移動中にステージ４２．２を軽く押すようステージを移動させるためにモータを制御するように構築される。それによって、位置決めシステムの（フィードバック・ループ及び／又はフィードフォワード・ループを使用した）制御システムは、（測定システム４４によって実施される）ステージの位置測定値（実際には、限界位置測定値は、位置、速度、加速度、及び／又は、加加速度測定値を含んでもよい）を供給され、関連するモータ用の設定点信号を計算する。次に、モータは、各液浸クロス・エッジの平面間の相互の一定距離Ｄが、実質的にゼロになるように、設定点信号に従って位置決めシステムによって制御される。
【００５７】
リソグラフィ装置の好ましい実施例によれば、位置決めシステムは、ジョイント走査移動中に、前記相互距離Ｄが、ゼロより大きいが１ミリメートルより小さくなるように、ステージを移動させるためにモータを制御するように構築される。好ましい相互距離Ｄは、０．０５〜０．２ミリメートルであるようである。この距離範囲の距離Ｄは、ステージのうちの１つのステージが、液浸クロス・エッジの開口に対してつながる流路システム７４を備える場合、特に好ましく、流路システム７４は、ジョイント走査移動中に液浸クロス・エッジに沿ってガス流及び／又は液体流を生成するように構築される。この流れの生成は、液浸液６６内に気泡（気泡は、基板上へのパターンの投影を変質させる）が生成する可能性を減らすために重要である。安定し且つ十分に制御された距離Ｄは、安定し且つ十分に好ましい流れをもたらし、それによって、ジョイント走査移動中の液浸液における気泡の生成がなくなる。
【００５８】
流路システム７４の適用は、ステージ４２の下からのガス流（指示Ｇを有する実施例１１を参照されたい）及びステージの上からの液体流（指示Ｌを有する実施例１１を参照されたい）をもたらしてもよい。こうして、ガスと液体の混合物が、流路システム７４を介して流れ出ることになる（指示Ｌ／Ｇを参照されたい）。混合物Ｌ／Ｇのさらなる輸送のために、柔軟チューブがステージ（の流路システム７４）に接続されてもよい。
【００５９】
図１１の実施例では、各ステージ（それぞれ、４２．１、４２．２）は、流路システム（それぞれ、７４．１、７４．２）を有し、各流路システムは、液浸クロス・エッジ（それぞれ、７２．１、７２．２）の平坦表面の開口につながる。図１０の実施例では、ステージ４２．２のみが、流路システム７４を備え、流路システム７４は、液浸クロス・エッジ７２．２の表面Ｅに３つの開口を有する。流路システム７４内の短い矢印は、ジョイント走査移動中の流れの方向を示す。
【００６０】
図１０、１３、１４は、ステージ４２．１、４２．２が、液浸クロス・エッジ７２．１、７２．２の下に水樋７６．１、７６．２を備える構築を示す。水樋は、ジョイント走査移動の前、その最中、及びその後で、液浸クロス・エッジに沿って滴下する可能性のある液体を捕捉することが可能である。ステージのうちのただ１つのステージに取り付けられるただ１つの水樋の適用は、原理上は、ジョイント走査移動中に液体を捕捉するだけにとって十分である。
【００６１】
干渉計システム４８．１は、位置測定のために、ステージに取り付けられた干渉計ミラーを使用する。図４の実施例では、干渉計システム４８．１が、液浸クロス・エッジの両面で、ステージ上に干渉計ミラー５２を有することは意味がない。しかし、図６のドライブ及びステージ構築の場合、液浸クロス・エッジの両面で、ステージ上に干渉計ミラー５２を有することは有利である場合がある（例えば、一般に、比較的高い測定精度をもたらす、干渉計ビームの距離を比較的短くするために）。これはまた、図８の構築の場合、例えば、ステージ４２．１が露光ステーション３４を訪れる状況において有効である（液浸クロス・エッジは、正のＸ方向の側にあり、左Ｘ方向には、比較的長い干渉計ビーム経路がある）。これらの場合、ステージは、液浸クロス・エッジ部に干渉計ミラー５２を備えることが好ましい。ジョイント走査移動中に生じる汚染（液体流）及び／又は損傷の可能性は、他の干渉計ミラーの場合より大きいことが留意される。したがって、図１２に示すように、液浸クロス・エッジに対して干渉計ミラーを千鳥状に配置することが有利である。別法として、干渉計ミラー５２は、図１３に示すように、ステージの保護用ニッチ内に設置される。別の別法は、液体（及びおそらくは汚染）を捕捉する前記水樋７６の下に干渉計ミラー５２を設置することである。図１４は、述べた処置の組合せの実施例を示し、それによって、干渉計ミラーは、液浸クロス・エッジ７２に対して千鳥状に配置されると同時に、水樋７６の下の高さに設置される。こうして、干渉計は、汚れず、損傷を受けないままになり、測定システムの信頼性のある性能をもたらす。
【００６２】
本明細書において、ＩＣの製造においてリソグラフィ装置の使用を特に参照する場合があるが、本明細書で述べるリソグラフィ装置は、集積化した光学系、磁気ドメイン・メモリ用の誘導及び検出パタ−ン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造のような他の適用形態を有することが理解されるべきである。こうした代替の適用形態において、本明細書における、「ウェハ」又は「ダイ」という用語のいずれの使用も、それぞれ、「基板」又は「標的部分」という、より一般的な用語と同意語であると考えることができることを当業者は理解するであろう。本明細書で言及される基板は、露光の前又は後で、例えば、トラック・ツール（通常、レジスト層を基板に塗布し、露光されたレジストを現像するツール）、計量ツール、及び／又は、検査ツールで処理されてもよい。適用可能である場合、本明細書における開示を、こうした、また、他の基板処理ツールに適用してもよい。さらに、基板は、例えば、多層ＩＣを作るために、２回以上処理されてもよいため、本明細書で使用する基板という用語は、処理された複数の層を既に含む基板のことを言ってもよい。
【００６３】
光リソグラフィにおける本発明の実施例の使用を特に参照したが、本発明は、他の適用形態、例えば、インプリント・リソグラフィにおいて使用されてもよく、状況が許せば、光リソグラフィに限定されないことが理解されるであろう。インプリント・リソグラフィでは、パターニング装置のトポグラフィが、基板上に作られるパターンを規定する。パターニング装置のトポグラフィは、基板に供給されるレジスト層内に押し付けられてもよく、その後、基板上で、電磁放射、熱、圧力、又はその組合せを加えることによってレジストが硬化してもよい。パターニング装置は、レジストが硬化した後に、レジストの外に移動し、レジスト内にパターンが残る。
【００６４】
本明細書で使用する「放射」及び「ビ−ム」という用語は、紫外（ＵＶ）放射（例えば、３６５、３５５、２４８、１９３、１５７、又は１２６ｎｍの波長を有する）、及び、極紫外（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びに、イオン・ビーム又は電子ビーム等の粒子ビームを含む、全てのタイプの電磁放射を包含する。
【００６５】
状況が許す場合、「レンズ」という用語は、屈折式、反射式、磁気式、電磁式、及び静電式光学部品を含む種々のタイプの光学部品の任意の１つ、又は、組合せを指してもよい。
【００６６】
本発明の特定の実施例を先に述べたが、本発明は、述べた以外の方法で実施されてもよいことが理解されるであろう。例えば、本発明は、先に開示した方法を記述する機械読み取り可能命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータ・プログラム、或いは、こうしたコンピュータ・プログラムを中に記憶しているデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気ディスク、又は光ディスク）の形態をとってもよい。
【００６７】
先の説明は、具体的に示すことを意図し、制限することを意図しない。そのため、添付特許請求項の範囲から逸脱することなく、変更を、述べられた本発明に対して加えることができることが、当業者には明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１Ａ】本発明の実施例によるリソグラフィ装置の略側面図である。
【図１Ｂ】図１Ａによるリソグラフィ装置のステージを示す図である。
【図２】本発明によるリソグラフィ装置の計量ステーションの略側面図である。
【図３】本発明によるリソグラフィ装置の露光ステーションの略側面図である。
【図４】図１Ａによる２ステージ液浸リソグラフィ装置のドライブ及びステージ構想の第１の実施例の略平面図である。
【図５】ジョイント走査移動を示す図４の装置の略平面図である。
【図６】図１Ａによる２ステージ液浸リソグラフィ装置のドライブ及びステージ構想の第２の実施例の略平面図である。
【図７】ジョイント走査移動を示す図６の装置の略平面図である。
【図８】リソグラフィ装置がジョイント走査移動を実施する、図１Ａによる２ステージ液浸リソグラフィ装置のドライブ及びステージ構想の第３の実施例の略平面図である。
【図９】ステージがジョイント走査移動を実施する、２つの基板ステージを垂直断面で示す略側面図である。
【図１０】図９のステージの第１の実施例の略垂直断面図である。
【図１１】図９のステージの第２の実施例の略垂直断面図である。
【図１２】図９のステージの第３の実施例の略垂直断面図である。
【図１３】図９のステージの第４の実施例の略垂直断面図である。
【図１４】図９のステージの第５の実施例の略垂直断面図である。
【符号の説明】
【００６９】
２  照射システム
４  放射ビーム
６  マスク・テーブル
８  パターニング装置
１０  第１ポジショナ
１４、１４．１、Ｗ  基板
１６  第２ポジショナ
１８  投影システム
２０  放射源
２２  ビーム送出システム
２４  調整器
２６  積分器
２８  コンデンサ
３０  位置センサ
ＷＴ  基板テーブル
Ｃ  標的部分
Ｍ１、Ｍ２  マスク・アライメント・マーク
Ｐ１、Ｐ２  基板アライメント・マーク
Ｓｔ  基板ステージ
ＭＢ  ミラー・ブロック
ＳｈＭ  ストロークの短いモータ
ＬｏＭ  ストロークの長いモータ
ＬＭＳ  ストロークの長いモータの固定部分
ＬＭＭ  ストロークの長いモータの非固定部分
ＳＭＳ  ストロークの短いモータの第１非固定部分
ＳＭＭ  ストロークの短いモータの第２非固定部分
３２  計量ステーション
３２．１  第１計量ステーション
３２．２  第２計量ステーション
３４  露光ステーション
３６  ベース・フレーム
３８  メトロ・フレーム
４０  分離手段
４２  （基板）ステージ
４２．１、４２．２  ステージ
４４  測定システム
４６  高さ測定センサ
４８．１  干渉計センサ
４８．２  エンコーダ・システム
５０  干渉計測定ビーム
５２  干渉計ミラー
５４  エンコーダ・ヘッド
５６  支持部材
６０  測定システム
６２．１、６２．２  ガイド
６４  （ガイドに沿って移動可能）要素
６６  液体（液浸流体）
６８  液浸フード
７０  最終レンズ要素
７２．１、７２．２  液浸クロス・エッジ
７４  流路システム
７６．１、７６．２  水樋
Ｅ  液浸クロス・エッジの表面
【図１Ａ】
2006332656.tif 000003
【図１Ｂ】
2006332656.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【外国語明細書】
2006332656000001.pdf