(57)【要約】      （修正有）【課題】反射防止フィルムに孔開きが生じず、且つ高温下、高湿下の経年使用においても、性能が変化しない防眩性反射防止フィルムの製造方法及びフィルム。【解決手段】（Ａ）易エンボス性ハードコート前駆層を基材上に塗設する前駆層塗設工程、（Ｂ）該易エンボス性ハードコート前駆層上に直接又は他の層を介して、上記基材と異なる屈折率を有する1層以上の薄層からなる反射防止層を塗設する反射防止層形成工程、（Ｃ）エンボス処理して該防眩性反射防止フィルムの表面に凹凸を形成するエンボス処理工程、及び（Ｄ）該エンボス処理工程後に該易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させてハードコート層とする硬化工程からなる、鏡面反射率が３%以下、表面鉛筆硬度が２Ｈ以上の防眩性反射防止フィルムの製造方法。エンボス処理時の貯蔵弾性率が３ＭＰａ〜３，０００ＭＰａで、損失弾性率が１ＭＰａ〜３００ＭＰａである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）易エンボス性ハードコート前駆層を基材上に塗設する前駆層塗設工程、
（Ｂ）該易エンボス性ハードコート前駆層上に直接又は他の層を介して、上記基材と異なる屈折率を有する1層以上の薄層からなる反射防止層を塗設する反射防止層形成工程、
（Ｃ）エンボス処理して該反射防止層の表面に凹凸を形成するエンボス処理工程、及び
（Ｄ）該エンボス処理工程後に該易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させてハードコート層とする硬化工程、
を含有する、鏡面反射率が３%以下であり、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、上記エンボス処理時の貯蔵弾性率が３ＭＰａ〜３，０００ＭＰａであり、損失弾性率が１ＭＰａ〜３００ＭＰａであることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
上記反射防止層形成工程における反射防止層を形成するための反射防止層形成用塗布液の塗設時に、該反射防止層の最下層を塗設される直下の層が、該反射防止層形成用塗布液に溶解及び拡散が実質的に起こらないようになされることを特徴とする請求項１記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
上記エンボス処理は、上記反射防止層を構成する全ての層の塗設後に連続的に行い、
該エンボス処理による反射防止層の変形率が３%以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
上記エンボス処理は、上記反射防止層の全ての層の塗設後に、Ｒａ＜５μｍ、ＲＳｍ＜５０μｍの版を用いて、０．５ｋＮ／ｃｍ以上３０ｋＮ／ｃｍ以下の線圧で且つ０．１ｍ／ｍｉｎ以上の速度で連続的に行い、これにより防眩性反射防止フィルムの最表面に凹凸が形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項５】
上記（Ａ）の前駆層塗設工程後、（Ｂ）の反射防止層形成工程を行う前に、仮硬化を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項６】
上記易エンボス性ハードコート前駆層の硬化を更にエンボス処理と同時にも行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
上記易エンボス性ハードコート前駆層の硬化は、紫外線、Ｘ線、電子線（ＥＢ）又は熱により行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法により得られた防眩性反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項８に記載の防眩性反射防止フィルムが、偏光板における２枚の保護フィルムのうちの一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
【請求項１０】
請求項８に記載の防眩性反射防止フィルムまたは請求項９に記載の偏光板がディスプレイの最表面に用いられていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防眩性反射防止フィルムの製造方法及び装置並びに防眩性反射防止フィルムに関し、特に液晶表示装置、ＥＬディスプレー、プラズマディスプレー等の画像表示装置に用いられる防眩性反射防止フィルム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている。反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法により形成されている。金属酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学的性質を有している。しかしながら、蒸着による形成方法は、生産性が低く大量生産に適していない。ＰＶＤ法による反射防止膜は、用途に応じて表面凹凸を有する基材上に形成されて防眩性が付与され、これは、平滑な基材上に形成されたものに比べ平行光線透過率は減少するが、背景の映り込みが表面凹凸によって散乱されて低下するため防眩性を発現し、反射防止効果とあいまって、画像形成装置に適用するとその表示品位が改善される。
【０００３】
蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により反射防止フィルムを形成する方法が提案されている。特許文献１は、微細空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層を開示している。反射防止層は、塗布により形成される。また、微細空孔は、層の塗布後に活性化ガス処理を行い、ガスが層から離脱することによって形成される。
特許文献２は、基材、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反射防止フィルムを開示している。同特許文献には、基材と高屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止フィルムも開示されている。低屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形成されている。
【０００４】
上述したような塗布による反射防止フィルムに防眩性を付与する手段として、表面凹凸を有する基材上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を反射防止層中に添加する方法等が検討されてきた。しかし、前者の方法では、反射防止層の塗布液が凸の部分から凹の部分へ流動することにより面内での膜厚ムラが生じ、平滑な基材面への塗布膜と比較して著しく反射防止性能が悪化してしまうという問題がある。また、後者の方法では、十分な防眩性を発現するために必要な１ミクロン前後からそれ以上の粒径を有するマット粒子を０．１から０．３ミクロン程度の膜厚の薄膜中に埋め込むので、マット粒子の粉落ちの問題が生じる。
【０００５】
また、凹凸を形成する手段としては、特許文献３、特許文献４、及び特許文献７などに記載されているような、特定の顔料を含有する組成物（塗料）を塗工し凹凸形成したアンダーコート層にハードコート層を設けたり、凹凸を形成しながら硬化させたコーティング層を基材に付着、転写したりすることで表面凹凸を形成したハードコートフィルムを作製する方法が開示されているが、凹凸形成の工程が複雑であり、凹凸形成後さらに機能層を塗布するときに上述した問題が生じる。
【０００６】
この対策として、特許文献５及び特許文献６において、透明基材を凹凸にしたり、マット粒子を反射防止層に添加したりして反射防止層の表面に凹凸を付与するのではなく、反射防止層が設けられた反射防止フィルムを金属製のエンボスローラと金属製のバックアップローラによりプレスする方法が提案されている。
しかしながら、その後の研究で、反射防止フィルムをエンボスローラとバックアップローラとでプレスする方法は、反射防止フィルムにプレス圧力を付与する過程において、反射防止層の表面に凹凸を付けるためのエンボスローラの凸部が、反射防止フィルムを貫通し、反射防止フィルムに孔が開いてしまう可能性があるという問題があることが判った。この対策として、プレス圧力を調整することである程度は改善されるが、完全に孔開きを解決することができない。また、孔開きを確実になくすまでプレス圧力を小さくすると、転写精度が極端に悪くなる。
【０００７】
また、エンボスローラによる凹凸は、ハードコート層をその厚みを（凹部凸部によらず）保ったまま変形させる必要があり、凹凸が基材のフィルムに形成される（このため、凹部凸部による厚みの差は主に基材に生じる）ことから、エンボス処理の温度は基材のフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）よりも高温にする必要があり、処理時に基材に意図しない変形が生じたり、基材のハンドリングが困難になるという問題がある。また、防眩性反射防止フィルムは、液晶表示装置などの表面に貼られて、その視認性を向上させる目的で使用されることから、高温下、高湿下の経年使用においても、その性能が変わらないことが要求される。しかし、エンボス加工により反射防止フィルムに形成された凹凸形状は、基材に残留した変形歪みにより、経年とともに変化して防眩性が失われてしまうという問題がある。
【０００８】
この問題については特許文献９に熱可塑性樹脂をエンボスロールの温度、エンボス終了時の樹脂シート裏面温度、樹脂シートの温度低下挙動を制御することによりエンボス戻りの少ない、シートの寸度安定性に優れたエンボスシートを提供する方法が開示されている。この方法はエンボスが掛かる層の温度をエンボス時にＴｇ以上とし、エンボス後時間をかけて冷却することで樹脂中の残留応力を減らすことによりエンボス戻りを抑制するものである。基材とは別にエンボスが掛かる層を設置すれば、上記の基材の変形やハンドリングの問題もなく十分なエンボス戻り防止効果が期待できると考えられる。しかし表面に反射防止層を設けた樹脂シートにおいては、反射防止層は最外層に設置されることから十分な硬度を発現させるため、またエンボス中に層厚みを変化させないために３次元的な架橋をかける必要があり、Ｔｇが存在しないかまたは実質的に熱的に残留応力を解放することができない。このため使用時の高温、高湿下の経年使用でエンボス戻りが発生する可能性が高い。
【０００９】
さらには、反射防止層は、架橋点を増やすことで硬度を付与し、熱的に軟化しない状態になっているため、エンボス時に硬化した上層（反射防止層）を変形させることができず、実質的にエンボスが掛からない状態となるという問題が生じることがあった。
さらにまた、エンボスによる凹凸形成によって、反射防止層が引き延ばされ、反射防止層の破断、穴あきなどの問題が発生してしまうという問題が生じることがあった。
【００１０】
反射防止層を硬化後にエンボスする方法も知られているが、この方法では実質的にハードコート層をエンボスで破壊し、応力を緩和しない限りエンボス戻りは解決できないことに加え、エンボスに高い圧力を必要とするため加工速度、エンボス版の劣化、加工機の軸受け劣化などの加工負荷の増大や、エンボスムラの発生、凹凸周期の微細化が難しく高精細表示への対応が難しい等の性能的問題があった。
【００１１】
特許文献８は、反射防止層を有さず、凹凸樹脂層を最上層として、エンボス後に一度硬化するのみで凹凸形状を得る方法が開示されている。詳細には、熱可塑性電磁放射線硬化型モノマー及び重合開始剤からなる非流動性樹脂組成物層をシート状基材上に形成してシート状積層体を形成し、その後、シート状積層体を加熱し樹脂組成物層を軟化させた後、エンボスを行いながら電磁放射線を樹脂組成物層に基材を通して照射することにより、凹凸樹脂層を基材上に形成する方法である。
【特許文献１】特公昭６０−５９２５０号公報
【特許文献２】特開昭５９−５０４０１号公報
【特許文献３】特開２００２−３７０３０３号公報
【特許文献４】特開平８−１１２８６６号公報
【特許文献５】特開２０００−２７５４０４号公報
【特許文献６】特開２０００−３２９９０５号公報
【特許文献７】特開平５−１７７７０６号公報
【特許文献８】特開平７−１１２４９０号公報
【特許文献９】特開平７−１４８８４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明はかかる事情に鑑みて成されたもので、エンボス加工により反射防止フィルムの反射防止層の表面に凹凸を付与するにあたって、反射防止フィルムに孔開きが生じることがなく、且つ高温下、高湿下の経年使用においても、その性能が変化することがない防眩性反射防止フィルムの製造方法及び防眩性反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的は、以下の製造方法、以下の製造方法によって製造される防眩性反射防止フィルムによって、達成された。
（１）（Ａ）易エンボス性ハードコート前駆層を基材上に塗設する前駆層塗設工程、
（Ｂ）該易エンボス性ハードコート前駆層上に直接又は他の層を介して、上記基材と異なる屈折率を有する1層以上の薄層からなる反射防止層を塗設する反射防止層形成工程、
（Ｃ）エンボス処理して該反射防止層の表面に凹凸を形成するエンボス処理工程、及び
（Ｄ）該エンボス処理工程後に該易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させてハードコート層とする硬化工程、
を含有する、鏡面反射率が３%以下であり、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、上記エンボス処理時の貯蔵弾性率が３ＭＰａ〜３，０００ＭＰａであり、損失弾性率が１ＭＰａ〜３００ＭＰａであることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
（２）上記反射防止層形成工程における反射防止層を形成するための反射防止層形成用塗布液の塗設時に、該反射防止層の最下層を塗設される直下の層が、該反射防止層形成用塗布液に溶解及び拡散が実質的に起こらないようになされることを特徴とする（１）記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
（３）上記エンボス処理は、上記反射防止層を構成する全ての層の塗設後に連続的に行い、
該エンボス処理による反射防止層の変形率が３%以下であることを特徴とする（１）又は（２）記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
（４）上記エンボス処理は、上記反射防止層の全ての層の塗設後に、Ｒａ＜５μｍ、ＲＳｍ＜５０μｍの版を用いて、０．５ｋＮ／ｃｍ以上３０ｋＮ／ｃｍ以下の線圧で且つ０．１ｍ／ｍｉｎ以上の速度で連続的に行い、これにより防眩性反射防止フィルムの最表面に凹凸が形成されることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
（５）  上記（Ａ）の前駆層塗設工程後、（Ｂ）の反射防止層形成工程を行う前に、仮硬化を行うことを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
（６）  上記易エンボス性ハードコート前駆層の硬化を更にエンボス処理と同時にも行うことを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
（７）  上記易エンボス性ハードコート前駆層の硬化は、紫外線、Ｘ線、電子線（ＥＢ）又は熱により行うことを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
（８）  上記（１）〜（７）のいずれかに記載の製造方法により得られた防眩性反射防止フィルム。
（９）  上記（８）に記載の防眩性反射防止フィルムが、偏光板における２枚の保護フィルムのうちの一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
（１０）  上記（８）に記載の防眩性反射防止フィルムまたは（９）に記載の偏光板がディスプレイの最表面に用いられていることを特徴とする画像表示装置。
【００１４】
本発明者らは、前記目的を達成する為に鋭意検討した結果、基材上に易エンボス性ハードコート前駆層を設けると共に、該易エンボス性ハードコート前駆層の上に少なくとも一層の反射防止層を設けて反射防止フィルムを形成した後、転写面に多数の凹凸を有するエンボス部材と支持部材とで反射防止フィルムをニップして前記反射防止層の表面に前記エンボス部材の凹凸形状を転写し、この転写を行うに際して、エンボス処理時の貯蔵弾性率が３ＭＰａ〜３０００ＭＰａかつ損失弾性率が１ＭＰａ〜３００ＭＰａに調整し、易エンボス層への凹凸の転写を行った後に最終硬化させることで上記目的を達成しうることを知見したものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の防眩性反射防止フィルムは、所望の防眩性を有し、その特性を高温、高湿下の経年使用でも劣化せず、かつ製造適性に優れたものである。また、本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法は、エンボス加工により反射防止フィルムの反射防止層の表面に凹凸を付与するにあたって、反射防止フィルムに孔開きが生じることがなく、且つ高温下、高湿下の経年使用においても、その性能が変化することがない防眩性反射防止フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
最初に、本明細書で用いられる用語、特性値の測定法を説明する。
（鉛筆硬度）
試験サンプルを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の方法で測定する。このとき荷重は４．９Ｎで行い、以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなる最も高い硬度を評価値とする。
５回の試験において傷なし〜傷１つ        ：ＯＫ
５回の試験において傷が３つ以上          ：ＮＧ
装置としては安田精機製作所５５３型、トヨミツ精機  Ｃ−２２２１Ａなどが利用できる。
【００１７】
（鏡面反射率）
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定して、このデータから４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率を算出し、この値をもって鏡面反射率とする。
【００１８】
（透過写像性）
スガ試験器  写像性測定器ＩＣＭ−１を用いて測定できる。本測定器は透過画像と反射画像を評価できる。本来なら防眩性（アンチグレア性：ＡＧ性）は膜表面への画像の写り込みの防止性能であるから、反射画像の写像性試験で評価すべきであるが、安定性、再現性の観点から透過法で評価する。
【００１９】
（貯蔵／損失弾性率）
まず、試験サンプルを作製する。易エンボス性ハードコート前駆層の塗布液処方を固形分濃度５５％〜１０％に調液する以外はそのままで、乾燥後の膜厚が５０μｍ〜１５０μｍになるようにガラス板上でアプリケーターを用いて製膜する。この膜を溶媒の沸点及び樹脂のＴｇを超えない温度で１２時間乾燥後、樹脂のＴｇを超えない温度で４８時間乾燥して試験サンプルとする。この過程で添加剤の析出、昇華、分解が起こり、膜質が大きく変化しうる場合は添加剤を省略して製膜し、このサンプルを試験サンプルとする。
市販の動的粘弾性試験器（たとえばアイティー計測制御株式会社製ＤＶＡ−２２５等）を用い室温からＴｇ（ｔａｎδの極大を与える温度)＋２０℃の範囲で昇温速度２℃／分、振動周波数１０Ｈｚで測定を行い、エンボス時のエンボスローラー温度における貯蔵弾性率、損失弾性率を求める事ができる。
【００２０】
「反射防止層の最下層を塗設される直下の層が、反射防止層形成用塗布液に溶解及び拡散が実質的に起こらない」とは隣接層から樹脂の拡散が起こり、反射防止層の層厚みが増加したり、隣接層へ反射防止層のポリマーが拡散し層厚が減少したり、屈折率の変化が起ったりしない事を指し、現実的には反射防止層の性能に劣化がないことを指して言う。
【００２１】
なお、本明細書において、「数値Ａ」〜「数値Ｂ」という記載は、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「数値Ａ以上数値Ｂ以下」の意味を表す。
【００２２】
以下、添付図面に従って本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法及び防眩性反射防止フィルムの好ましい実施の形態について詳説する。
【００２３】
本発明の防眩性反射防止フィルムは、基材と、特定の硬度をもつハードコート層と、反射防止層とをこの順に有し、鏡面反射率が３％以下であり、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である。以下、通常のハードコート層とは、区別するために、本発明におけるハードコート層を易エンボス性ハードコート硬化層と言う。
すなわち、本発明の防眩性反射防止フィルムは、図２に示すように、基材２０と、基材２０上に設けられた易エンボス性ハードコート硬化層２５と、易エンボス性ハードコート硬化層２５上に設けられた反射防止層２４とをこの順に有する。なお、易エンボス性ハードコート硬化層及び反射防止層は、それぞれ、基材より上及び易エンボス性ハードコート硬化層より上にあれば易エンボス性ハードコート硬化層と基材との間及び反射防止層と易エンボス性ハードコート硬化層との間に他の層を介在させても良い。
まず、本発明の防眩性反射防止フィルムを構成する各層について説明する。
【００２４】
［基材］
本発明において基材２０としては、５０μｍから１００μｍ程度の厚みのプラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、シクロオレフィンポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート及びポリエチレンテレフタレートが好ましい。
基材２０の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。基材２０のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。基材２０の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００２５】
［易エンボス性ハードコート前駆層、易エンボス性ハードコート硬化層］
上記易エンボス性ハードコート硬化層は、易エンボス性ハードコート前駆層を塗設し、反射防止層を塗設し、エンボス処理後、最後に該易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させることにより形成される層である。
上記易エンボス性ハードコート前駆層は、易エンボス性ハードコート前駆層形成用塗布液を前記基材上に塗設することにより形成される。
【００２６】
前記易エンボス性ハードコート前駆層には、公知の硬化性樹脂のいずれもを使用することが出来る。例えば、外部から加えられる各種エネルギーによって硬化する反応性基を同一分子内に２個以上含む硬化性樹脂、開環重合性基を含む硬化性樹脂等が挙げられる。反応性基としては公知の反応性基、及びその組み合わせのいずれもが使用でき、反応性方法としては硬化のためのトリガー、すなわち電磁波、ＥＢ（電子線）、熱、放射線などの各種エネルギー線で（１）ラジカルを発生し、ラジカル重合を行う方法、（２）酸やアルカリなどの触媒を発生し架橋を進行する方法、（３）反応部位のブロックがはずれ架橋を進行する方法のいずれも使用可能である。具体的な例としては（ｉ）エチレン性不飽和基をラジカル発生剤で重合する方法、（ｉｉ）エポキシに酸発生剤を組み合わせ酸の発生によりエポキシを重合する方法、（ｉｉｉ）ＥＢ架橋型の樹脂を使用する方法、（ｉｖ）ブロックされたイソシアネートと水酸基を持つ物質を混合し熱的にブロックをはずす方法などが挙げられる。
ＥＢ架橋型の樹脂を使用する場合にはＥＢにより２次電子を放出する金属イオン、ナノ粒子を添加したり、ＥＢによりラジカルを発生する物質を添加することもできる。
【００２７】
易エンボス性ハードコート硬化層に、無機、有機フィラーを添加することができる。
上記樹脂形成材料を溶媒に添加して、易エンボス性ハードコート前駆層形成用塗布液とすることが好ましい。溶媒としては、従来型のハードコート層形成用塗布液に使用するものと同じ溶媒のいずれでも使用することができ、使用する硬化性樹脂に応じて適宜選択することができる。
上記易エンボス性ハードコート前駆層の層厚みは、１μｍ〜５０μｍが好ましい。層厚みがこの範囲であれば、エンボスの転写効果が小さいために防眩性が劣ったりすることがなく、表面の硬度が低下することなく、また硬化に時間がかかることなく、カールを抑えることができ、好ましい。また、層厚みは３μｍ〜２０μｍが更に好ましく、さらに４μｍ〜１２μｍが好ましい。
【００２８】
［反射防止層］
上記反射防止層２４は、低屈折率の単層、低屈折率層と高屈折率層との２層構造あるいは低屈折率層と中屈折率層と高屈折率層との３層構造、あるいは更に多層構造とすることができる。二層あるいは三層構成の反射防止層が、製造の面と低反射率の面から好ましい。
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５５であることがさらに好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層と高屈折率層との間の値になるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。
【００２９】
｛低屈折率層｝
低屈折率層は、この種の反射防止フィルムにおける反射防止層と同様に、無機微粒子と有機ポリマーからなる多孔質層として形成することができ、また含フッ素ポリマーを主成分とする塗布液を用いて形成することもできる。低屈折率層の層厚みとしては５０〜４００ｎｍがよく、５０〜２００ｎｍが更に好ましい。多孔質層の場合には、無機微粒子の表面を修飾し、有機ポリマーとの密着性を改善すること、有機ポリマーに熱または電離放射線により架橋可能なモノマー、ポリマーまたはそれらの混合物を用いることで、膜強度に優れた低屈折率層を得ることができる。含フッ素ポリマーを用いる場合は、低屈折率という観点からフッ素含有率が高いもの、あるいは自由体積が大きいものが好ましく、密着性の観点から架橋性を有するものが好ましい。架橋の様式は、熱硬化型、電離放射線硬化型のいずれでもよく、市販品として入手できる。
【００３０】
｛中屈折率層および高屈折率層｝
中屈折率層および高屈折率層は、通常この種の反射防止フィルムにおける中屈折率層及び高屈折率層と同様に構成することができるが、比較的屈折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。
上記中屈折率層及び上記高屈折率層の層厚みは、５０〜４００μｍとするのが好ましく、５０〜２００μｍとするのが更に好ましい。
【００３１】
［他の層］
本発明の防眩性反射防止フィルムには、さらに、後述する拡散防止層や、通常この種の反射防止フィルムに設けられる変形層、防湿層、帯電防止層、防汚層及び保護層を設けてもよい。
【００３２】
また、本発明の易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させたハードコート層（易エンボス性ハードコート硬化層）とは別に、さらに従来から用いられているハードコート層を有してもよい。防眩性反射防止フィルムの硬度を更に高めることができ、好ましい。また、本発明の易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させたハードコート層と反射防止層との接着を強化することもできる。
【００３３】
［防眩性反射防止フィルムの製造方法］
次に、本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法について説明する。
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法は、
（Ａ）易エンボス性ハードコート前駆層を基材上に塗設する前駆層塗設工程、
（Ｂ）該易エンボス性ハードコート前駆層上に直接又は他の層を介して、上記基材と異なる屈折率を有する1層以上の薄層からなる反射防止層を塗設する反射防止層形成工程、
（Ｃ）エンボス処理して該防眩性反射防止フィルムの表面に凹凸を形成するエンボス処理工程、及び
（Ｄ）該エンボス処理工程後に該易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させてハードコート層（易エンボス性ハードコート硬化層）とする硬化工程、
とを行うことにより実施でき、上記エンボス処理時の貯蔵弾性率が３ＭＰａ〜３，０００ＭＰａであり、損失弾性率が１ＭＰａ〜３００ＭＰａであることを特徴とする。
【００３４】
｛前駆層塗設工程｝
本工程は、上記前駆層形成用塗布液を上記基材上に塗設することにより行うことができる。塗設方法や塗設条件は、通常この種の反射防止フィルムにおけるハードコート層の形成方法や条件と同様のものとすることができる。
塗布装置としては、エクストルージョン法、ディープコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラコート法、ロッドコート法、グラビアコート法等の既存の塗布装置を使用することができる。
【００３５】
乾燥装置は、熱風による対流乾燥方式、赤外線等の輻射熱による輻射乾燥方式等の何れの乾燥方式でもよく、乾燥装置内の反射防止フィルムの搬送方式としてはローラ搬送等の接触搬送方式、エアや気体で浮上させながら搬送する非接触方式の何れかでもよい。
熱で硬化する方法を採る場合はその乾燥工程のいずれにおいても塗布膜面の温度を硬化温度以下で乾燥させることが好ましく、更に好ましくは硬化温度−１０℃で、更に好ましくは硬化温度−２０℃で乾燥させることが好ましい。
【００３６】
乾燥後に近紫外領域の光を照射し、予備硬化する場合には、４００〜４８０nmの波長域を主に放出し、４２０ｎｍ付近に放出ピークを持つ様に蛍光体を設けた熱陰極蛍光ランプや、放出波長の分布が広いメタルハライドランプなどの照射光を短波長カットフィルターで短波長側の発光をカットした光を用いることができる。また各種金属イオンをドープしたメタルハライドランプや水銀ランプも好ましく使用することができる。
【００３７】
｛拡散防止工程｝
また、本発明においては、反射防止層を形成するための反射防止層形成用塗料の塗設時に、該反射防止層の最下層を塗設される直下の層が、該反射防止層形成用塗布液に溶解及び拡散が実質的に起こらないようになされることが好ましい。
ここで、溶解及び拡散が実質的に起こらないようにするには、仮硬化、易エンボス性ハードコート前駆層への硬化剤及び／又は重合開始剤の塗布・硬化、拡散防止層の設置などの拡散防止工程を行えばよい。これらの拡散防止工程は、一つのみでも複数を組み合わせてもよい。
以下、それぞれについて説明する。
【００３８】
（仮硬化）
易エンボス性ハードコート前駆層は塗設後に仮硬化を行ってもよい。仮硬化を行う場合には、最終硬化で使用する硬化機構とは別の硬化機構を組み込む必要がある。硬化機構としては電磁波（長波、短波（赤外、可視、紫外（長波）、紫外（短波）、Ｘ線等の波長差を利用））、ＥＢ、放射線などの各種エネルギー線、熱（低温、高温）による硬化機構を任意に組み合わせることができる。
本発明においては易エンボス性ハードコート前駆層の仮硬化、本硬化以外にも反射防止層の硬化も勘案する。反射防止層の硬化方法も上記方法の任意のものを用いることができる。反射防止層の硬化方法は、より好ましくは、易エンボス性ハードコート前駆層の本硬化（最終硬化）と同一の方法を用いることである。また反射防止層は層を構成する各層の硬化時に該層が完全に硬化する必要はなく、各層の塗布時に層間混合が実質的に起こらなければ、また、エンボス時に反射防止層の各層の膜厚が変化しないようにして、易エンボス性ハードコート前駆層の最終硬化と同時に最終硬化を行っても良い。
易エンボス性ハードコート前駆層の仮硬化、反射防止層の硬化を行う場合、これらの硬化と易エンボス性ハードコート前駆層の最終硬化を総合して考えて、その硬化方法を選択し、電磁波の波長差を利用する場合には長波長の硬化手段を、温度差を利用する場合は低温の硬化手段を先に使用する。またＥＢ、放射線などによる硬化は、実質的にＵＶによる硬化や可視光による硬化など他の硬化手段を妨げてしまう可能性が高いため、これらは最終硬化の手段として用いることが好ましい。
該手段の具体的な好ましい組み合わせとして、
(1)ＵＶ長波（仮硬化）、ＵＶ長波（反射防止層硬化）、ＵＶ全光又は短波（本硬化）
(2)電磁波（仮硬化）、電磁波（反射防止層硬化）、ＥＢ（本硬化）
(3)電磁波（仮硬化）、電磁波（反射防止層硬化）、熱（本硬化）
(4)熱（低温）（仮硬化）、電磁波（反射防止層硬化）、熱（高温）（本硬化）
(5)熱（低温）（仮硬化）、熱（低温）（反射防止層硬化）、熱（高温）（本硬化）
が挙げられ、この中でも(1)、(2)、(3)が特に好ましい。
以下、必要に応じて、仮硬化後の層を仮硬化していない層と区別するために「易エンボス性ハードコート仮硬化層」ということがある。通常、「易エンボス性ハードコート前駆層」は、仮硬化を行わない層、仮硬化を行った層の両方ともを指す。
【００３９】
（硬化剤及び／又は重合開始剤の塗布・硬化）
拡散防止工程として、反射防止層を構成する層を塗布する前に易エンボス性ハードコート前駆層の硬化剤及び／または重合開始剤を塗布、硬化を行うこともできる。これにより易エンボス性ハードコート前駆層の上部のみを選択的に硬化させることができる。このとき硬化部分の厚みの制御方法としては、厚みを厚くしたければ易エンボス性ハードコート前駆層中への硬化剤、重合開始剤の拡散を多くすれば良い。すなわち(1)易エンボス性ハードコート前駆層の膨潤量を大きくする溶剤を使用し、(2)該層の乾燥時間が長くなるようにし、また(3)硬化剤、重合開始剤の分子量を小さくする、(5)硬化剤、重合開始剤と易エンボス性ハードコート前駆層を構成するポリマーの相溶性を上げる、等の方法で制御ができる。また硬度の制御は易エンボス性ハードコート前駆層中に拡散する硬化剤、重合開始剤の濃度を上げることで実現できる。具体的には(1)塗布液濃度を上げる、(2)乾燥時間を早くする、(3)硬化剤、重合開始剤の分子量を大きくする、(4)ラジカル重合を行う場合は周囲の酸素濃度を下げる、などが挙げられる。硬化層を薄くしたい場合、硬度を下げたい場合は上記と反対の操作により実現できる。
【００４０】
（拡散防止層の設置）
拡散防止層は、反射防止層と易エンボス性ハードコート前駆層との間に、反射防止層に易エンボス性ハードコート層のポリマーが拡散して、屈折率を変化させたり、層厚みが実質的に変化して反射防止層の性能を劣化させたりすることを防止できる。また両層の密着改良層として機能させることもできる。
拡散防止層の設置方法としては熱、電磁波の一部の領域、電子線などで硬化する樹脂組成物を塗設後硬化させる方法、複数の材料を混合し、しかる時間の後に硬化する樹脂組成物を塗布する方法等いずれでもよい。ここで言う「しかる時間の後に硬化」とは、塗布液の調液が完了してから塗布が終了するまでに大幅な粘度増加を伴うことが無く、かつ次層の塗布までに所望の硬化が完了している状態を言う。
拡散防止層の設置方法の別の態様として易エンボス性ハードコート前駆層を実質的に溶解しない溶剤を用い、最下層の反射防止層の溶剤に溶解しない樹脂を塗布することでも実現ができる。
【００４１】
拡散防止工程、すなわち、易エンボス性ハードコート前駆層の仮硬化、該層の上部のみの硬化（硬化剤及び／又は重合開始剤の塗布・硬化）、拡散防止層の設置は、更に上層に塗布する反射防止層の層間混合防止の観点からも好ましい。特に反射防止層の最下層と易エンボス性ハードコート前駆層の塗布液溶媒が同じである場合に有用である。
以下、（硬化剤及び／又は重合開始剤の塗布・硬化）において記載した、易エンボス性ハードコート前駆層の上部のみを選択的に硬化させて得られた層も、便宜上拡散防止層という。
拡散防止層の厚みは厚くなればなるほどエンボス時にエンボスが掛かりにくくなり高精細表示に対応する微細な凹凸を付けることが難しくなる。またエンボス時の易エンボス性ハードコート前駆層の貯蔵弾性率を上げる必要が出てくることから、エンボス時の荷重、時間を増やす等の製造工程への負荷が大きくなる。この観点から拡散防止層は効果がある範囲内で薄い方が好ましい。
【００４２】
｛反射防止層形成工程｝
次に、少なくとも一層の反射防止層を塗設する。前記［反射防止層］に記載したように、複数層からなる反射防止層とすることもできる。複数層からなる反射防止層は、屈折率の異なる層を組み合わせて、塗布して作製することができる。反射防止層の形成方法としては、公知のいずれの方法を用いることもできる。
反射防止層は、表面強度、硬度を確保するために硬化性樹脂を主体とする塗布液から形成されることが好ましく、硬化性樹脂としては、熱硬化または紫外線硬化樹脂が好ましく、特に紫外線硬化樹脂が好ましい。紫外線硬化樹脂を用いる場合の硬化方法は、該紫外線硬化樹脂を用い、近紫外領域に吸収端がある開始剤を添加し、近紫外領域の光で硬化させることが好ましい。
（仮硬化）において前記したように、反射防止層形成工程において完全に硬化する必要はなく、各層の塗布時に層間混合が実質的に起こなければ、また、エンボス時に反射防止層の各層の膜厚が変化しないようにして、易エンボス性ハードコート前駆層の最終硬化と同時に最終硬化を行っても良い。
【００４３】
｛エンボス処理工程｝
次にエンボス処理工程を行う。本発明においては、エンボス時の前記易エンボス性ハードコート前駆層の貯蔵弾性率が３〜３，０００ＭＰａであり、損失弾性率が、１〜３００ＭＰａであることを特徴とする。貯蔵弾性率および損失弾性率は、好ましくは１０〜１，５００ＭＰａ及び１〜２００ＭＰａ、更に好ましくは２０〜１，０００ＭＰａ及び１０〜１００ＭＰａである。
上記貯蔵弾性率及び上記損失弾性率が高すぎると易エンボス性ハードコート前駆層の変形が抑制される結果エンボスが掛かりにくくなり、エンボスに高圧が必要になる。またエンボス時にエンボスローラーの凹部に反射防止層を押し込む力はエンボスローラーの押しつけ圧力に対する易エンボス性ハードコート前駆層の反力であることから、易エンボス性ハードコート前駆層の貯蔵弾性率、損失弾性率が上述の範囲よりも低いと反射防止層に十分な変形を与えられなくなり、結果的にエンボスが掛からない状態になる。
貯蔵弾性率／損失弾性率を上記の範囲内にするには、（１）硬化時の電磁波、ＥＢ、放射線などの各種エネルギー、熱などを調節する、（２）硬化性樹脂の組成比を調節するなどにより、範囲内とすることができる。
【００４４】
以下、図面にしたがって、エンボス処理工程の好適な実施の形態について、説明する。
図１は、エンボス処理を行う転写装置である。
反射防止フィルム３０は、易エンボス性ハードコート層２５および反射防止層２４が塗設されており、該反射防止フィルム３０は、転写装置１６により反射防止層２４側の面に凹凸形状が転写された後、紫外線照射を行い易エンボス性ハードコート層２５が硬化されてから巻取装置（不図示）に巻き取られ、防眩性反射防止フィルム３２が製造される。
【００４５】
転写装置１６は、図１に示すように、転写面であるローラ面に多数の凹凸を有するエンボスローラ３４と、エンボスローラ３４に対向配置されたバックアップローラ３６とで構成される。エンボスローラ３４及びバックアップローラ３６のロール径は、１００ｍｍφ〜８００ｍｍφの範囲が好ましい。エンボスローラ３４の下方に隣接してバックアップローラ３６が平行に配置される。
【００４６】
図２にエンボス加工により凹凸が転写された防眩性反射防止フィルムの断面図を示す。
図２に示すように、エンボス処理工程によって反射防止フィルム３０に形成される凹凸は、表面の凸部３０Ａから隣接する凸部３０Ａまでの平均ピッチ（Ｐ）は５〜６０μｍの範囲であることが好ましく、１０〜４０μｍの範囲が更に好ましい（この場合において、ＰはＲＳｍとほぼ同義である。）。凸部３０Ａの先端から凹部３０Ｂの底までの平均深さ（Ｄ）は０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましく、０．０５〜１μｍの範囲が更に好ましい（ＤはＲａの約２倍にほぼ相当する。）。従って、図１に示すエンボスローラ３４のロール面に形成される凹凸のピッチ寸法（Ｐ）と深さ寸法（Ｄ）は、製品である防眩性反射防止フィルム３２によって異なるが、転写精度からみた場合、ローラ面の凸部３４Ａから隣接する凸部３４Ａまでの平均ピッチ（Ｐ）は５０μｍより小さく、５〜３０μｍの範囲であることが好ましく、１０〜２５μｍの範囲が更に好ましい（この場合において、Ｐはエンボス版のＲＳｍに相当する。）。凸部３４Ａの先端から凹部３４Ｂの底までの平均深さ（Ｄ）は５μｍより小さく、０．３〜１．５μｍの範囲であることが好ましく、０．５〜１μｍの範囲が更に好ましい（この場合において、Ｄはエンボス版のＲａの２倍に相当する。）。また、転写後に基材２０の弾性により転写された凹凸の寸法が多少小さくなるので、使用するエンボスローラ３４の凹凸のピッチ寸法（Ｐ）と深さ寸法（Ｄ）は、基材２０の材質に応じて反射防止フィルム３０に転写する目標の平均ピッチ（Ｐ）や平均深さ（Ｄ）よりも０％〜１００％大きいものを使用するとよい。この場合、反射防止層２４のエンボス加工による凹凸の写りが反射防止層２４の反対面にでることもあるが、エンボス加工された後の反射防止フィルム３０の裏面が完全に平坦でなくてもよい。また、エンボスローラ３４のロール面に形成される凸部３４Ａの形状は、回転楕円体の一部が好ましい。エンボスローラ３４のローラ面に凹凸を形成する方法としては、フォトリソグラフィー、機械加工、放電加工、レーザ加工等、エンボスローラの材質や凹凸の形状に応じて公知の各種方法を採用できる。
【００４７】
バックアップローラ３６は、ローラの縦弾性率や硬度がエンボスローラ３４の縦弾性率や硬度よりも小さいローラを使用する。即ち、バックアップローラ３６の縦弾性率は１×１０3 ＭＰａ 以上、２．１×１０5 ＭＰａ以下になるように規定することが好ましく、より好ましくは１×１０3 ＭＰａ以上、１．５×１０4 ＭＰａ以下に規定する。硬度で規定する場合には、バックアップローラ３６の表層の鉛筆硬度が２Ｂ以上、７Ｈ以下になるように規定し、より好ましくはＨ以上、５Ｈ以下になるように規定する。また、縦弾性率と鉛筆硬度の両方で規定してもよい。この縦弾性率や硬度の条件を満足するローラ材質のものであれば何でもよいが、プラスチック製のローラ、特に硬質処理を施したポリアミド樹脂（通称、ＭＣナイロン）やポリアセタール樹脂を好適に使用することができる。
【００４８】
このように、バックアップローラ３６の縦弾性率や鉛筆硬度を、エンボスローラ３４の縦弾性率や鉛筆硬度よりも小さくすることで、図１に示すように、エンボスローラ３４とバックアップローラ３６とで反射防止フィルム３０をニップして反射防止層２４の表面に凹凸を付与するときに、エンボスローラ３４の凸部３４Ａが反射防止フィルム３０を介してバックアップローラ３６を押圧する圧力をバックアップローラ３６によって分散することができる。この圧力分散により、エンボスローラ３４の凸部３４Ａが反射防止フィルム３０を貫通して反射防止フィルム３０に孔を開けてしまうことを防止できる。また、通常、バックアップローラ３６の縦弾性率や硬度を小さくし過ぎると転写精度が悪くなるが、縦弾性率の下限を１×１０3 ＭＰａに、バックアップローラ３６の表層の鉛筆硬度の下限を２Ｂに規定すれば、充分な転写精度を維持することができ好ましい。この転写操作における他の条件としては、エンボスローラ３４とバックアップローラ３６とで反射防止フィルム３０をニップするプレス圧（線圧）は、０．５ｋＮ／ｃｍ〜３０ｋＮ／ｃｍが好ましく、より好ましくは１ｋＮ／ｃｍ〜１５ｋＮ／ｃｍである。従って、このプレス圧が得られるように、反射防止フィルム３０の厚みに応じて、エンボスローラ３４とバックアップローラ３６とのクリアランスやプレス荷重を調整するとよい。クリアランスを設定する際のクリアランスの実測は、マイクロメータ、レーザ測定器等を使用することができる。転写処理速度は、０．１ｍ／分以上が好ましく、より好ましくは０．１ｍ／分〜５０ｍ／分の範囲であり、さらに好ましくは１ｍ／分〜２０ｍ／分の範囲である。
【００４９】
尚、本実施の形態では、転写装置１６として、エンボスローラ３４とバックアップローラ３６とに帯状の反射防止フィルム３０を連続的に流してエンボス加工する連続方式で説明したが、単葉状の反射防止フィルム３０を一枚ずつエンボスローラ３４とバックアップローラ３６にニップさせるバッチ方式でもよい。このバッチ方式の場合には、エンボスローラ３４とバックアップローラ３６に代えて、図３に示すような転写面に多数の凹凸が形成された版型７０を使用し、版型７０に対向させて、上述したバックアップローラ３６と同じ縦弾性率や硬度を有する平板な支持部材７２を支持台７４に配置し、版型７０と支持部材７２で単葉状の反射防止フィルム３０をプレスする構成も使用できる。
【００５０】
上記エンボス処理は、該防眩性反射防止フィルムを構成する全て層の塗設後に連続的に行い、該エンボス処理による反射防止層の変形率が３％以下であるのが好ましい。
反射防止層の変形率はエンボス後のフィルムを（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ社製の「マイクロマップ」機で測定した表面積（Ｓａ値）と元の平滑面の表面積（Ｓａ値）の比として求めることができる。本発明においては、この変形率は３％以下であることが好ましく、更に好ましくは２％以下、最も好ましくは１．５％以下である。この範囲内とすれば、表面の反射防止層が破断せず、好ましい。
上記エンボス処理は、上記防眩性反射防止フィルムの全ての層の設置後に、Ｒａ＜５μｍ、ＲＳｍ＜５０μｍの版（エンボスロール）を用いて、０．５ｋＮ／ｃｍ以上３０ｋＮ／ｃｍ以下の線圧で且つ０．１ｍ／ｍｉｎ以上の速度で連続的に行い、これにより防眩性反射防止フィルムの最表面に凹凸が形成されるのが好ましい。
さらには、上記易エンボス性ハードコート前駆層の硬化を更にエンボス処理と同時にも行うことができる。
【００５１】
｛硬化工程（最終硬化）｝
硬化工程は、エンボス処理終了後に最後に、易エンボス性ハードコート前駆層（易エンボス性ハードコート仮硬化層も含む）をさらに硬化させることにより行う。硬化工程に利用する硬化機構としては、（仮硬化）において前述した硬化機構と同じものが挙げられる。すなわち易エンボス性ハードコート層の硬化は、紫外線、Ｘ線、電子線（ＥＢ）又は熱により行うのが好ましい。前述の仮硬化も行う場合には、好ましい硬化の組み合わせは、（仮硬化）において前述したとおりである。例えば、仮硬化と最終硬化に、エネルギー線を用いる場合には、仮硬化と最終硬化に照射波長の分布の異なるエネルギー線を照射する。例えば、仮硬化の際に近紫外領域の光を照射する場合には、本工程では紫外線領域の光を照射する。
図１に紫外線照射装置の一例を示す。図１の紫外線照射装置１７は、転写装置１６からみて反射防止フィルム３０の搬送方向下流位置に、反射防止フィルム３０側のみが開放されたケーシング８０内に設けられ、転写装置１６で反射防止層２４に凹凸形状が転写後の防眩性反射防止フィルム３２に紫外線が照射される。図１では紫外線照射装置１７を反射防止層２４側に位置させたが、防眩性反射防止フィルム３２を挟んで反射防止層の反対側にもう一台紫外線照射装置１７を設けてもよい。
【００５２】
前駆層塗設工程と、反射防止層形成工程と、エンボス処理工程と、硬化工程を行って製造された本発明の反射防止フィルムの鏡面反射率は、３％以下となり、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上となる。鏡面反射率は、好ましくは１．５％以下、更に好ましくは１％以下とする。鏡面反射率は前述のとおり算出する。ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う表面の鉛筆硬度は、好ましくは、３Ｈ以上である。鉛筆硬度は前述のとおり測定する。
また、本発明の防眩性反射防止フィルムは、その透過写像性が５０〜９５％であるのが、防眩性、ギラツキの点で好ましく、５０〜９０％であるのがより好ましく、６０〜９０％であるのが更に好ましい。透過写像性は、前述の特定の凹凸の版を用いて反射防止フィルムの表面に特定の凹凸を形成することによって、上述の範囲にすることができる。
【００５３】
本発明の防眩性反射防止フィルムは、その最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０５〜２μｍであることが好ましく、０．０７〜１．５μｍの範囲であることがより好ましく、０．０９〜１．２μｍの範囲であることがさらに好ましく、０．１〜１μｍの範囲であることが最も好ましい。この範囲にすると、十分な防眩機能を得ることができ、また解像度が低下したり、外光が当たった際に像が白く光ったりするのを防止できる点で好ましい。
算術平均粗さ（Ｒａ）は、防眩性を付与したサンプルの凹凸表面を（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ社製の「マイクロマップ」機を用いて測定できる。
【００５４】
［偏光板、画像表示装置］
本発明の偏光板は、上述の本発明の防眩性反射防止フィルムが、偏光板における２枚の保護フィルムのうちの一方に用いられていることを特徴とする。
また、本発明の画像表示装置は、上述の本発明の防眩性反射防止フィルムまたは本発明の偏光板がディスプレイの最表面に用いられていることを特徴とする。
すなわち、本発明の防眩性反射防止フィルムは、偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
また、本発明の防眩性反射防止フィルムまたは偏光板は、液晶表示装置の視野角を改良する視野角拡大フィルムなどの光学補償フィルム、位相差板等を組み合わせて使用することもできる。また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、本発明の防眩性反射防止フィルムまたは偏光板は、λ／４板と組み合わせることで、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用できる。
【実施例】
【００５５】
以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[実施例１]
（易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−１）塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−１）塗布液とした。
すなわち、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７５０．０質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部及び光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３０．０質量部、光酸発生剤ジ−４−ｔ−ブチリルフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロフォスフェート（Di-4-tert-butylphenyliodonium hexafluorophosphate）１５質量部を添加してなる組成物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−１）塗布液を調整した。
【００５６】
（易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−２）塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−２）塗布液とした。
すなわち、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）２５０．０質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）７５０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部及び光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）１０．０質量部、光酸発生ジ−４−ｔ−ブチリルフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロフォスフェート（Di-4-tert-butylphenyliodonium hexafluorophosphate）４０質量部を添加してなる組成物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−２）塗布液を調整した。
【００５７】
（易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−３）塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−３）塗布液とした。
すなわち、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）２５０．０質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）７５０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部及び熱重合開始剤（ベンゾイルパーオキサイド）１０．０質量部、下記熱酸発生剤（１）３０質量部、光酸発生剤ジ−４−ｔ−ブチリルフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロフォスフェート（Di-4-tert-butylphenyliodonium hexafluorophosphate）４質量部を添加してなる組成物を攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−３）塗布液を調製した。
【００５８】
【化１】
2006062240.tif 000002
【００５９】
（易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−４）塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−４）塗布液とした。
すなわち、ＰＭＭＡ（重量平均分子量１５００００）７５．０質量部に、メチルエチルケトン７３０．０質量部を添加してなる組成物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−４）塗布液を調整した。
【００６０】
（易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−５）塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−５）塗布液とした。
すなわち、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）２５０．０質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）７５０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部及び熱重合開始剤（ベンゾイルパーオキサイド）１０．０質量部、熱酸発生剤（１）３０質量部を添加してなる組成物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−５）塗布液を調整した。
【００６１】
（易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−６）塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−６）塗布液とした。
すなわち、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）６５０．０質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）３５０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部及び光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２５．０質量部、熱酸発生剤（１）１５質量部を添加してなる組成物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−６）塗布液を調整した。
【００６２】
（易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−７）塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−７）塗布液とした。
すなわち、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）４００．０質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）６００．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部及び光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２０．０質量部、熱酸発生剤（１）２５質量部を添加してなる組成物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して得られた易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−７）塗布液を調製した。
【００６３】
（二酸化チタン微粒子分散液の調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９Ｃ、石原産業（株）製、ＴｉＯ2：Ｃｏ3Ｏ4：Ａｌ2Ｏ3：ＺｒＯ2＝９０．５：３．０：４．０：０．５質量比）を使用した。
この粒子２５７．１質量部に、下記分散剤４１．１質量部、およびシクロヘキサノン７０１．８質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン微粒子分散液を調製した。
化学式中、（  ）に添えられた数字は、モル比率を表す。
【００６４】
【化２】
2006062240.tif 000003
【００６５】
（中屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液９９．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）６８．０質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３．６質量部、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．２質量部、メチルエチルケトン２７９．６質量部およびシクロヘキサノン１０４９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
【００６６】
（高屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液４６９．８質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４０．０質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３．３質量部、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１質量部、メチルエチルケトン５２６．２質量部、およびシクロヘキサノン４５９．６質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。
【００６７】
（低屈折率層用塗布液の調製）
特開２００４−４５４６２号公報にしたがって合成した、下記共重合体をメチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）を該共重合体固形分に対して３％、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）を該共重合体固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。
【００６８】
【化３】
2006062240.tif 000004
【００６９】
（反射防止フィルム前駆フィルム１の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルム１を得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−１）塗布液をグラビアコーターで塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
【００７０】
中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。
【００７１】
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍであった。
【００７２】
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
硬化後の低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止フィルム前駆フィルム１を作製した。
【００７３】
（反射防止フィルム前駆フィルム２の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルム２を得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−２）塗布液をグラビアコーターで塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。硬化条件は反射防止フィルム前駆フィルム１と同様に行い、同様の膜厚、屈折率の層を得た。
【００７４】
（反射防止フィルム前駆フィルム３の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルム３を得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−３）塗布液をグラビアコーターで塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍの易エンボス性ハードコート前駆層を形成した。
易エンボス性ハードコート前駆層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。硬化条件は反射防止フィルム１と同様に行い、ほぼ同様の膜厚の層を得た。
【００７５】
（反射防止フィルム前駆フィルム４の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルムを得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−３）塗布液をグラビアコーターで塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍの易エンボス性ハードコート前駆層を形成した。
易エンボス性ハードコート前駆層の上に、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）１０．０質量部をエチルアルコール９０質量部に溶解した溶液を固形分質量で０．８ｇ／ｍ2となるように塗布、１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して易エンボス性ハードコート前駆層の上部を硬化させた。
更にその上に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。硬化条件は反射防止フィルム前駆フィルム１と同様に行い、同様の膜厚、屈折率の層を得た。
【００７６】
（反射防止フィルム前駆フィルム５の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルムを得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−４）塗布液をグラビアコーターで塗布し、１００℃で乾燥し、厚さ８μｍの易エンボス性ハードコート前駆層を形成した。
易エンボス性ハードコート前駆層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。硬化条件は反射防止フィルム前駆フィルム１と同様に行った。
【００７７】
（反射防止フィルム前駆フィルム６の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルムを得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−５）塗布液をグラビアコーターで塗布し、１００℃で乾燥し、厚さ８μｍの易エンボス性ハードコート前駆層を形成した。
易エンボス性ハードコート前駆層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。硬化条件は反射防止フィルム前駆フィルム１と同様に行った。
【００７８】
（反射防止フィルム前駆フィルム７の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルムを得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−５）塗布液をグラビアコーターで塗布した。１００℃で乾燥し、厚さ８μｍの易エンボス性ハードコート前駆層を形成した。
ハードコート層の上に、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）１０．０質量部をエチルアルコール９０質量部に溶解した溶液を固形分質量で０．８ｇ／ｍ2となるように塗布、１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射してハードコート層の上部を硬化させた。
更にその上に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。硬化条件は反射防止フィルム前駆フィルム１と同様に行い、同様の膜厚、屈折率の層を得た。
【００７９】
（反射防止フィルム前駆フィルム８の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルムを得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−６）塗布液をグラビアコーターで塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍの易エンボス性ハードコート前駆層を形成した。
易エンボス性ハードコート前駆層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。硬化条件は反射防止フィルム前駆フィルム１と同様に行い、ほぼ同様の膜厚の層を得た。
【００８０】
（反射防止フィルム前駆フィルム９の作製）
以下のように前駆層塗設工程と反射防止層形成工程とを行い、反射防止フィルム前駆フィルムを得た。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、易エンボス性ハードコート前駆層（Ｅ−７）塗布液をグラビアコーターで塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍの易エンボス性ハードコート前駆層を形成した。
易エンボス性ハードコート前駆層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。硬化条件は反射防止フィルム前駆フィルム１と同様に行い、ほぼ同様の膜厚の層を得た。
【００８１】
（エンボス処理工程）
［試料１〜７、１０，１１］
上記で作製した反射防止フィルム前駆フィルム１〜９を、図１に示す構成の２００ｍｍφの金属製のエンボスローラと、２００ｍｍφのＭＣナイロン製のバックアップローラとでニップすることによりエンボスローラのロール面に形成した凹凸形状を反射防止フィルムに転写した。エンボスローラの凹凸の周期（Ｒｓｍ）は１２．２μｍ、表面粗さ（Ｒａ）は０．４７μｍであった。この転写操作における転写処理速度は３ｍ／分、エンボスローラのロール表面温度１３０°Ｃとした。プレス圧（線圧）を４ｋＮ／ｃｍとした。
［試料８、９］
反射防止フィルム前駆フィルム１、３をエンボスローラの凹凸の周期（Ｒｓｍ）は５７．３μｍ、表面粗さ（Ｒａ）は０．７２μｍのエンボスローラーにて処理した以外は、試料１、３と同様にして試料８、９を得た。
【００８２】
（硬化工程）
エンボス処理工程終了後に反射防止フィルム前駆フィルム３、４、６、７、８及び９（試料３，４，６，７、９、１０および１１）は１４０℃１０分の熱処理により硬化工程を行った。
【００８３】
得られた各フィルムについて以下の各測定を行った。その結果を表１に示す。
【００８４】
[動的粘弾性（貯蔵弾性率、損失弾性率）]
易エンボス性ハードコート前駆層塗布液Ｅ−１〜Ｅ−７を３倍濃度で調液し、ガラス板面にアプリケーターを用いて膜厚０．５ｍｍで流延した。このガラス板を４０℃で３０分乾燥後、ガラス板より引きはがし、金属枠に４辺を固定して更に１２０℃で４８時間乾燥し、測定サンプルとした。
作製した測定サンプルを、アイティー計測制御株式会社製動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ−２２５）を用いて室温〜１７０℃の範囲で周波数１０Ｈｚにて動的粘弾性測定を行った。
【００８５】
［算術平均粗さ］
反射防止フィルムの反射防止層面側最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、防眩性を付与したサンプルの凹凸表面を（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ社製の「マイクロマップ」機を用いて測定した。
【００８６】
［表面弾性率］
本発明における表面弾性率は微小表面硬度計（（株）フィッシャー・インスツルメンツ社製：フィッシャースコープＨ１００ＶＰ−ＨＣＵ）を用いて求めた。具体的には、ガラス基板上に１０μｍ以上の膜厚を設けたサンプルを作製し、ダイヤモンド製の四角錐圧子（先端対面角度；１３６°）を使用し、押し込み深さが０．５μｍ以上、膜厚の１０％を超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求めた。
【００８７】
［平均反射率］
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの鏡面平均反射率を用いた。
【００８８】
［鉛筆硬度評価］
反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の方法で鉛筆硬度評価を行った。荷重は４．９Ｎで行った。
【００８９】
［ギラツキ評価］
作製した反射防止フィルムを、２００ｐｐｉ（２００ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）に模したセルに距離１ｍｍのところにフィルムを乗せ、ギラツキ（反射防止フィルムの表面突起が原因の輝度バラツキ）の程度を、以下の基準で目視評価した。
全くギラツキが見られない              ：◎
ほとんどギラツキが見られない          ：○
わずかにギラツキがある                ：△
不快なギラツキがある                  ：×
【００９０】
［防眩性評価］
作製した反射防止フィルムを、ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を映し、蛍光灯の反射像のボケの程度を、以下の基準で目視評価した。
蛍光灯がぼけている（防眩性あり）          ：○
蛍光灯がほとんどぼけない（防眩性不足）    ：×
【００９１】
［高温高湿試験］
経年変化における形状変化の評価として高温高湿試験を行った。評価としては６５℃９０％ＲＨの環境下で５００時間おかれた場合の凹凸形状の変化を、該環境下に当該時間置く前後の算術平均粗さを測定することで評価した。
【００９２】
【表１】
2006062240.tif 000005
【００９３】
その結果、実施例の易エンボス性ハードコート前駆層を設け仮硬化し、エンボス後に硬化をおこなったもの（試料３、４、６、７、９、１０、１１）は、エンボスローラの凹凸のピッチ寸法（Ｐ）、深さ寸法（Ｄ）に対応した凹凸が反射防止フィルムに転写され、低反射率と優れた防眩性を有していることが判った。易エンボス性ハードコート前駆層塗布液の組成が光重合性に偏っている、試料１、２及び８は、易エンボス性ハードコート前駆層の貯蔵弾性率、損失弾性率が大きく、エンボス処理による凹凸の転写ができず、試料１、２では防眩性が低下し、試料８では、ギラツキが増した。易エンボス性ハードコート前駆層塗布液が硬化性の組成物を含まない、試料５は、鉛筆硬度が低下して所望の硬度が得られなかった。
【００９４】
［実施例２］
（偏光板用保護フィルムの作製）
１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を５０℃に保温した鹸化液を調整した。さらに、０．００５モル／Ｌの希硫酸水溶液を調製した。
実施例１で作製した防眩性反射防止フィルムにおいて、反射防止層を有する側とは反対側のトリアセチルセルロースフィルムの表面を、上記鹸化液を用いて鹸化処理した。
鹸化処理した透明支持体表面の水酸化ナトリウム水溶液を、水で十分に洗浄した後、上記の希硫酸水溶液で洗浄し、さらに希硫酸水溶液を水で十分に洗浄し、１００℃で十分に乾燥させた。
防眩性反射防止フィルムの反射防止層を有する側とは反対側の、鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルムの表面の水に対する接触角を評価したところ、４０度以下であった。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板の作製）
膜厚７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（（株）クラレ製）を水１０００質量部、ヨウ素７質量部、ヨウ化カリウム１０５質量部からなる水溶液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。
次いで、このフィルムを４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥して偏光膜を作製した。
接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に本発明の防眩性反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルムを同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、反射防止性能に優れ、極めて視認性が優れていた。特にＶＡモードにおいてその効果は顕著であった。
【００９５】
［実施例３］
（偏光板の作製）
光学補償フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ  １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）において、光学補償層を有する側とは反対側の表面を実施例２と同様の条件で鹸化処理した。
実施例２で作製した偏光膜に、接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、実施例２で作製した防眩性反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には鹸化処理した光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない偏光板を装着した液晶表示装置よりも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が非常に広く、さらに、反射防止性能に優れ、極めて視認性と表示品位が優れていた。
特にＶＡモードにおいてその効果は顕著であった。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】反射防止フィルムへエンボス加工を行う転写装置（凹凸転写装置）および紫外線照射装置の一例を示す図である。
【図２】凹凸形状が転写された防眩性反射防止フィルムの一例を示す断面図である。
【図３】凹凸転写装置の別の態様であって版型と支持部材とで構成した模式図である。
【符号の説明】
【００９７】
１６    転写装置
１７    硬化装置（紫外線照射装置）
２０    基材
２４    反射防止層
２５    易エンボス性ハードコート層（易エンボス性ハードコート前駆層、易エンボス性ハードコート仮硬化層、易エンボス性ハードコート硬化層）
３０    反射防止フィルム
３２    防眩性反射防止フィルム
３４    エンボスローラ
３４Ａ  ローラ面凸部
３４Ｂ  ローラ面凹部
３６    バックアップローラ
７０    版型
７２    支持部材
７４    支持台
【図１】
2006062240.tif 000006
【図２】
2006062240.tif 000007
【図３】
2006062240.tif 000008