(57)【要約】【課題】  プラズマ処理装置において、プラズマ処理によって生成されるプラズマ、荷電粒子、およびダストなどの拡散を防止することで、プラズマ処理前の被処理物あるいはプラズマ処理後の被処理物へのプラズマ処理に係る影響を防止し、被処理物の品質を一定に保つようにする。【解決手段】  プラズマ処理装置１０は、被処理物２０を巻出す巻出装置４、巻出装置４から巻出された被処理物２０にプラズマ照射するプラズマ照射部６、及びプラズマ照射部６でプラズマを照射された被処理物２０を巻取る巻取装置５を、閉塞された空間内に設置している。そして、プラズマ照射部６とその両側の巻出装置４及び巻取装置５との間にプラズマ照射部６にて生成したプラズマや荷電粒子や帯電したダストなどの拡散を防止する磁場シールド８を設けている。【選択図】図１
2006068576.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を巻出す巻出装置、前記巻出装置から巻出された被処理物にプラズマ照射するプラズマ照射部、及び前記プラズマ照射部でプラズマを照射された被処理物を巻取る巻取装置を、閉塞された空間内に設置したプラズマ処理装置において、
前記プラズマ照射部とその両側の巻出装置及び巻取装置との間に前記プラズマ照射部にて生成したプラズマや荷電粒子や帯電したダストなどの拡散を防止する磁場シールドを設けた
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
被処理物を巻出す巻出装置を収納した巻出槽と、前記巻出装置から巻出された被処理物にプラズマ照射するプラズマ照射部を収納した処理槽と、前記プラズマ照射部でプラズマを照射された被処理物を巻取る巻取装置を収納した巻取槽とをこの順に連結したプラズマ処理装置において、
被処理物が通る前記巻出槽と前記処理槽との連結部、および被処理物が通る前記処理槽と前記巻取槽との連結部に、前記プラズマ照射部にて生成したプラズマや荷電粒子や帯電したダストなどの拡散を防止する磁場シールドをそれぞれ設けた
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載されたプラズマ処理装置において、前記巻出槽と前記処理槽との連結部、および前記処理槽と前記巻取槽との連結部をそれぞれ筒状に構成し、この筒状部の外周に各連結部と直角方向に磁界が生じる永久磁石を設けて前記磁場シールドを構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ処理装置に係り、特にバッチ式プラズマ処理装置に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理を行う装置として、例えば、塩化ビニル系樹脂成形品といった被処理物に可塑剤移行防止性、濡れ性、接着性、および帯電防止性等の効果を持たせるために、従来からバッチ式プラズマ装置が広く用いられてきた。
【０００３】
従来のバッチ式プラズマ処理装置１０は、図３に示すように、被処理物２０をプラズマ照射部６へ巻出す巻出装置４、被処理物２０にプラズマ処理を施すプラズマ照射部６、および被処理物２０をプラズマ照射部６から巻取る巻取装置５が、巻出槽１、処理槽２および巻取槽３で構成される同一のチャンバ内に収納されている。
【０００４】
なお、従来のプラズマ処理を連続式で行なう装置に関連する特許文献としては、例えば特開平８−１８７７８９号公報（特許文献１）が挙げられる。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１８７７８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図３に示す従来のバッチ式プラズマ処理装置１０では、プラズマ処理により生成したプラズマや荷電粒子や帯電したダストなどが拡散して、プラズマ処理前の被処理物２０あるいはプラズマ処理後の被処理物２０に影響を及ぼし、被処理物２０の品質を変化させてしまい、品質がばらつくといった問題があった。
【０００７】
また、被処理物２０をプラズマ処理することで、処理槽２内にダストが拡散し、プラズマ処理前の被処理物２０、およびプラズマ処理後の被処理物２０に付着することで、被処理物２０の品質を変化させてしまうという問題があった。
【０００８】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、プラズマ処理によって生成されるプラズマ、荷電粒子、および帯電したダストなどの拡散を防止することで、プラズマ処理前の被処理物あるいはプラズマ処理後の被処理物へのプラズマ処理に係る影響を防止し、被処理物の品質を一定に保つことができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明の第１の態様は、被処理物を巻出す巻出装置、前記巻出装置から巻出された被処理物にプラズマ照射するプラズマ照射部、及び前記プラズマ照射部でプラズマを照射された被処理物を巻取る巻取装置を、閉塞された空間内に設置したプラズマ処理装置において、前記プラズマ照射部とその両側の巻出装置及び巻取装置との間に前記プラズマ照射部にて生成したプラズマや荷電粒子や帯電したダストなどの拡散を防止する磁場シールドを設けた構成としたものである。
【００１０】
前記目的を達成するために、本発明の第２の態様は、被処理物を巻出す巻出装置を収納した巻出槽と、前記巻出装置から巻出された被処理物にプラズマ照射するプラズマ照射部を収納した処理槽と、前記プラズマ照射部でプラズマを照射された被処理物を巻取る巻取装置を収納した巻取槽とをこの順に連結したプラズマ処理装置において、被処理物が通る前記巻出槽と前記処理槽との連結部、および被処理物が通る前記処理槽と前記巻取槽との連結部に、前記プラズマ照射部にて生成したプラズマや荷電粒子や帯電したダストなどの拡散を防止する磁場シールドをそれぞれ設けた構成としたものである。
【００１１】
係る本発明の態様におけるより好ましい具体的な構成例は次の通りである。
（１）前記巻出槽と前記処理槽との連結部、および前記処理槽と前記巻取槽との連結部をそれぞれ筒状に構成し、この筒状部の外周に各連結部と直角方向に磁界が生じる永久磁石を設けて前記磁場シールドを構成したこと。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、プラズマ処理前の被処理物あるいはプラズマ処理後の被処理物へのプラズマ処理に係る影響を防止し、被処理物の品質を一定に保つことができるプラズマ処理装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態のプラズマ処理装置について図１および図２を用いて説明する。図１は本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置の断面構成図、図２は図１における磁場シールドの説明図である。なお、本発明は、この実施形態に開示した形態に限られるものではなく、公知技術などに基づく変更を許容するものである。
【００１４】
プラズマ処理装置１０は、図１に示すように、被処理物２０を巻出す巻出装置４を収納した巻出槽１と、巻出装置４から巻出された被処理物２０にプラズマ照射するプラズマ照射部６を収納した処理槽２と、プラズマ照射部６でプラズマを照射された被処理物２０を巻取る巻取装置５を収納した巻取槽３とをこの順に連結して構成されている。本実施のプラズマ処理装置１０は、例えば、塩化ビニル系樹脂成形品といった被処理物に可塑剤移行防止性、濡れ性、接着性、および帯電防止性等の効果を持たせるために用いられる。
【００１５】
巻出槽１と処理槽２とは、処理前の被処理物２０が通る連結部９を介して連結されている。また、処理槽２と巻取槽３とは、処理後の被処理物２０が通る連結部９を介して連結されている。巻出槽１で形成する空間１ａと処理槽２で形成する空間２ａと巻取槽３で形成する空間３ａとが連結部９を介して連通されており、これらの空間で閉鎖された空間が構成されている。また、連結部９は、被処理物２０が通るのに若干の余裕を持たせた外形で筒状に形成されており、巻出槽１、処理槽２および巻取槽３の外形より大幅に小さくなっている。これによって、後述する磁場シールド８のシールド効果を高めている。
【００１６】
巻出槽１および巻取槽３と処理槽２との間の連結部９に磁場シールド８が設けられている。この磁場シールド８を設ける為の機構としては、本実施形態では永久磁石を配置するものを例にとっている。この永久磁石は矩形の連結部９の上下面に予め設置され、この状態の連結部９を巻出槽１、処理槽２および巻取槽３の各側面に形成された開口部をカバーするように設置する。これによって、磁場シールド８および連結部９を簡単に各槽間に設置することができる。
【００１７】
処理槽２は被処理物２０を真空状態で連続的にプラズマ処理するものであり、内部にプラズマ照射部６を有するものとなっている。この処理槽２に巻出槽１、および巻取槽３が接続されており処理槽２、巻出槽１、および巻取槽３が同一の減圧空間となっている。この処理槽２、巻出槽１、および巻取槽３は、それぞれに接続している真空ポンプにより４パスカル程度の圧力に保持するよう排気管を介して真空排気され、その後プラズマ処理に用いられるガスを処理槽に封入することにより１３パスカル程度の圧力に保持される。
【００１８】
巻出槽１は、プラズマ処理前の被処理物２０を配置して、処理槽２に巻出す巻出装置４を有するものとなっている。また、巻出槽１から被処理物２０はガイドローラ７を介して処理槽２へ巻出される。
【００１９】
巻取槽３は、プラズマ処理後の被処理物２０を処理槽２から巻取り配置する巻取装置５を有するものとなっている。また、処理槽２から被処理物２０はガイドロール７を介して巻取槽３へと巻取られる。
【００２０】
前述したように連結部９には磁場シールド８が設けられており、処理槽２で生成したプラズマ、荷電粒子、および帯電したダストなどが巻出槽１あるいは巻取槽３へ拡散することを防止するようになっている。
【００２１】
すなわち、図２に示すように、被処理物２０の通過する連結部９の上下に永久磁石を設けたことにより、連結部９と直角を成す方向に磁界が生じる。これによって、プラズマ、荷電粒子、および帯電したダストなどは磁界に直行して移動することはできず、磁界の影響により磁界が働いている方向に平行に移動することとなる。その為、処理槽２で生成されたプラズマ、荷電粒子、および帯電したダストなどは処理槽２より巻出槽１、巻取槽３に拡散することが防止される。これによって、プラズマ処理前の被処理物２０あるいはプラズマ処理後の被処理物２０に影響を及ぼすことを防止でき、被処理物２０の品質を一定に保つことができる。また、連結部９は筒状に形成されているので、プラズマ、荷電粒子、および帯電したダストなどが連結部９を通って拡散しようとしても、この連結部９で捕捉される。
【００２２】
本実施形態によれば、被処理物２０を巻出す巻出装置４を収納した巻出槽１と、巻出装置４から巻出された被処理物２０にプラズマ照射するプラズマ照射部６を収納した処理槽２と、プラズマ照射部６でプラズマを照射された被処理物２０を巻取る巻取装置５を収納した巻取槽３とをこの順に連結し、被処理物２０が通る巻出槽１と処理槽２との連結部９、および被処理物２０が通る処理槽２と巻取槽３との連結部９に、プラズマ照射部６にて生成したプラズマや荷電粒子や帯電したダストなどの拡散を防止する磁場シールド８をそれぞれ設けているので、プラズマ処理前の被処理物あるいはプラズマ処理後の被処理物へのプラズマ処理に係る影響を防止し、被処理物の品質を一定に保つことができる。
【００２３】
上述した実施形態では、処理槽２と巻出槽１との間にある連結部９、および処理槽２と巻取槽３との間にある連結部９に磁場シールド８を設けるものとして永久磁石を用いることを例にとったが、例えばコイルや電磁石を用いた磁場シールドとしてもよく、本発明においては、磁場を発生させる機構に関しては問わない。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置の断面構成図である。
【図２】図１における磁場シールドの説明図である。
【図３】従来のプラズマ処理装置の断面構成図である。
【符号の説明】
【００２５】
１…巻出槽、
２…処理槽、
３…巻取槽、
４…巻出装置、
５…巻取装置、
６…プラズマ照射部、
７…ガイドローラ、
８…磁場シールド、
９…連結部、
１０…プラズマ処理装置、
２０…被処理物。
【図１】
2006068576.tif 000003
【図２】
2006068576.tif 000004
【図３】
2006068576.tif 000005