(57)【要約】【課題】ジベンゾイルメタン誘導体に、有効量のビスレゾルシニルトリアジンと、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物とを組合せることによって、これらの同じジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性（または光安定性）を実質的に且つ顕著に改良できることを見出した。【解決手段】かくして、本発明の主題の一つによれば、前記ジベンゾイルメタン誘導体に、少なくとも一つのビスレゾルシニルトリアジンと、以下のもの：ｉ．4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体；ｉｉ．フルオレン誘導体；ｉｉｉ．ピペリジノール塩；ｉｖ．これらの混合物から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物とを組合せることを含む、ＵＶ放射に対する少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改良するための方法が提案される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
化粧品的に許容可能な支持体中に、
（ａ）ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも一つのＵＶスクリーニング剤、及び
（ｂ）少なくとも一つのビスレゾルシニルトリアジン化合物、及び
（ｃ）以下のもの：
ｉ．4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体；
ｉｉ．フルオレン誘導体；
ｉｉｉ．ピペリジノール塩；
ｉｖ．これらの混合物
から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物
を含むことを特徴とする、局所使用のための光保護組成物。
【請求項２】
前記ジベンゾイルメタン誘導体が以下のもの：
−  2-メチルジベンゾイルメタン；
−  4-メチルジベンゾイルメタン；
−  4-イソプロピルジベンゾイルメタン；
−  4-tert-ブチルジベンゾイルメタン；
−  2,4-ジメチルジベンゾイルメタン；
−  2,5-ジメチルジベンゾイルメタン；
−  4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン；
−  4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン；
−  4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン
から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ジベンゾイルメタン誘導体が、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンまたはブチルメトキシジベンゾイルメタンである、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して0.01から10重量％、より好ましくは0.1から6重量％の範囲の含量で存在する、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
ビスレゾルシニルトリアジン化合物が、下式（Ｉ）：
【化１】
2006117670.tif 000020
［式中、
（ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっても良く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基；Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基、または式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１残基を表し、式中Ｔ１は水素原子あるいはＣ１−Ｃ８アルキル基であり；
（ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっても良く、下式（１）の残基を表しても良く：
【化２】
2006117670.tif 000021
式中、
−  Ｒ６は共有結合；直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ４アルキル基、または式−Ｃｍ１Ｈ２ｍ１−Ｏ−残基を表し、式中ｍ１は１から４の数であり；
−  ｐ１は０から５の数であり；
−  Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９基は、同一でも異なっても良く、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基；Ｃ１−Ｃ１８アルコキシ基、または下式の残基を表し；
【化３】
2006117670.tif 000022
式中、Ｒ１０はＣ１−Ｃ５アルキル基であり；
−  Ａ１は、下式の一つに対応する残基を表し：
【化４】
2006117670.tif 000023
式中、
−  Ｒ３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−（ＣＨ２ＣＨＲ５−Ｏ）ｎ１Ｒ４の残基を表し、式中ｎ１は１から１６の数、または式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２ＯＴ１残基を表し、式中Ｔ１は上述と同じ意味を有し、
−  Ｒ４は水素、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５アルキル基、または式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１残基を表し、式中ｍ２は１から４の数であり、Ｔ１は上述と同じ意味を有し、
−  Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基である］
に対応する、請求項１から４のいずれか一項に記載の組成物。。
【請求項６】
式（Ｉ）のビスレゾルシニルトリアジン化合物が以下のもの：
−  2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(3-(2-プロピルオキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-[4-(2-メトキシエチルカルボニル)フェニルアミノ]-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-トリス(トリメチルシロキシシリルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(2"-メチルプロペニルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(1',1',1',3',5',5',5'-ヘプタメチルトリシロキシ-2"-メチルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(3-(2-プロピルオキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ]-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-[(4-エチルカルボキシル}フェニルアミノ]-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(1-メチルピロール-2-イル)-1,3,5-トリアジン
から選択される、請求項５に記載の組成物。。
【請求項７】
式（Ｉ）のビスレゾルシニルトリアジン化合物が、2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン（ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン）から選択される、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
ビスレゾルシニルトリアジン化合物が、組成物の全重量に対して0.1から20重量％、好ましくは1から10重量％、より好ましくは2から8重量％の範囲の濃度で存在する、請求項１から７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物が、40kcal/molから70kcal/molの範囲の励起三重項エネルギーを有する、請求項１から８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体が下式（Ｖ）のもの：
【化５】
2006117670.tif 000024
［式中、
Ａはカルボニル官能基を含む二つの一価基を含む、ＵＶ放射を吸収する発色団基であり；
Ｒ１４は水素、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基を表し、
Ｒ１５は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基を表す］
から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
式（Ｖ）の化合物が下式（Ｖａ）のもの：
【化６】
2006117670.tif 000025
［式中、
Ｒ１４は水素、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基を表し、
Ｒ１５は水素、あるいは直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基を表し、
Ｒ１６は−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＯ２Ｒ１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、及び−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１３）２から選択され、
ＸはＯまたはＮＨを表し、
Ｒ１７は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基を表し、
Ｒ１８は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ２０アルキル基を表し、
Ｒ１９はそれぞれ独立に直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ１８アルキル基を表す］
から選択される、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
式（Ｖ）の化合物が、下式（Ｖｂ）または（Ｖｃ）のもの：
【化７】
2006117670.tif 000026
［式中、
Ｒ１６は−ＣＯ２Ｒ１２を表し、
Ｒ１７は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基を表し、
Ｒ１８は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基を表し、
ＸはＯを表す］
から選択される、請求項１０に記載の組成物。。
【請求項１３】
式（Ｖｂ）の化合物が下式：
【化８】
2006117670.tif 000027
を有するジエチルヘキシルシリンギリデンマロナートである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
フルオレン誘導体が、下式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）、（ＸＩ）、（ＸＩＩ）、及び（ＸＩＩＩ）：
【化９】
2006117670.tif 000028
【化１０】
2006117670.tif 000029
［式中、
−  Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７、及びＲ３８基は、同一でも異なっても良く、任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基；任意に置換されたＣ３−Ｃ８シクロアルキル；任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基；任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール；任意に置換されたＣ３−Ｃ１４ヘテロシクロアルキル；アミノまたはシアノ基；下式のエステル基を表し；
【化１１】
2006117670.tif 000030
｛式中Ｒは任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基、または任意に置換されたＣ３−Ｃ８シクロアルキルを表す｝
−  Ｒ３９及びＲ４４基は、同一でも異なっても良く、置換されたまたはされていないジフェニルメチレン；置換されたまたはされていない9H-フルオレンを表し；
−  Ｒ４５基は、任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基；任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０ヒドロキシアルキル；任意に置換されたＣ３−Ｃ８シクロアルキル；任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基；任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール；任意に置換されたＣ３−Ｃ１４ヘテロシクロアルキル；任意に置換されたエーテル；アミノ基を表し；
−  Ｒ４６及びＲ４７基は、互いに独立に、水素、任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基；任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０ヒドロキシアルキル；任意に置換されたＣ３−Ｃ８シクロアルキル；任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基；任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール；任意に置換されたＣ３−Ｃ１４ヘテロシクロアルキル；アミノ基、シアノ、ヒドロキシル、アミドまたはイミド、ハロゲン、任意に置換されたエーテル、エステル、またはウレタンを表し；
ｑ、ｒ、ｓ、及びｔは1から100の数であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆは0から4の数であり；
ｕは0から100の数である］。
の一つに対応するもの、並びにこれらの化合物の混合物から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
式（ＶＩ）の化合物が、Ｒ２０及びＲ２１基が分枝状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基を表す化合物である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
、式（ＶＩ）の化合物が、2-エチルヘキシル（9H-フルオレン-9-イリデン）アセタートの化合物である、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
式（ＶＩＩ）の化合物が、Ｒ２２及びＲ２３基が分枝状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基を表す化合物である、請求項１４に記載の化合物。
【請求項１８】
式（ＶＩＩ）の化合物が、ジイソプロピルフルオレンマロナート及びビス（2-エチルヘキシル）フルオレンマロナートの化合物から選択される、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
式（ＶＩＩＩ）の化合物が、Ｒ２４及びＲ２５基が分枝状Ｃ３−Ｃ２０アルキル基を表す化合物、特に同時に2-エチルヘキシルを表す化合物である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項２０】
式（Ｘ）の化合物が、Ｒ２８、Ｒ２９、及びＲ３０基が分枝状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基を表す化合物、とりわけＲ２８及びＲ３０基が同時に2-エチルヘキシルを表す化合物である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項２１】
式（ＸＩ）の化合物が、Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３基が分枝状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基を表す化合物、とりわけＲ３１及びＲ３３基が同時に2-エチルヘキシルを表す化合物である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項２２】
式（ＸＩＩ）の化合物が、Ｒ４０及びＲ４２基がＣ１−Ｃ１５アルキル基、特に2-メチルプロピル基を表し、Ｒ４１が直鎖状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基、特にn-ブチル基を表し；Ｒ３８及びＲ４３基が同時にシアノ基を表し、Ｒ３９及びＲ４４基がジフェニルメチレン基を表す化合物である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項２３】
式（ＸＩＩ）のフルオレン誘導体が、以下の構造：
【化１２】
2006117670.tif 000031
［式中、ｔ＝１であり、ｕは2から10の数である］
を有するポリマーである、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
式（ＸＩＩＩ）の化合物が、ｅ及びｆは0に等しく、Ｒ４５基が分枝状Ｃ３−Ｃ２０アルキル基またはＣ１−Ｃ１５ヒドロキシアルキル基を表す化合物である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項２５】
Ｒ４５基が、ヒドロキシルエチル、1-ヒドロキシプロピル、2-ヒドロキシプロピル、1-ヒドロキシ-n-ブチル、1-ヒドロキシ-1-メチルプロピル、1-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピル、及び2-ヒドロキシ-2-メチルプロピルから選択されるヒドロキシアルキルを表す、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
式（ＸＩＩＩ）の化合物が、2-エチルヘキシルシアノ（9H-フルオレン-9-イリデン）アセタート（またはオクトフルオレン）の化合物である、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２７】
ピペリジノール塩が、下式（ＸＩＶ）の化合物：
【化１３】
2006117670.tif 000032
［式中、
Ｒ１は水素またはメチルを表し；
ｘは1または2であり；
１）ｘが1に等しい場合、
Ｒ２は水素；Ｃ１−Ｃ１８アルキル基；Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基；プロパルギル基；グリシジル基；1から20の酸素原子で中断されたＣ２−Ｃ５０アルキル基であって、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたもの；カルボキシル基または−ＣＯＯＺ基で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
式中、Ｚは水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、フェニル、（ＣＯＯ−）ｐＭｐ＋基で置換されたＣ１−Ｃ４アルキルを表し、
式中、ｐは1から3の整数であり、Ｍは周期表の1、2及び3族から得られる金属イオン、またはＺｎ、Ｃｕ、Ｎｉ若しくはＣｏであり、あるいは別法としてＭはＮＰ+（Ｒ”）４基であり、Ｒ”はＣ１−Ｃ８アルキルまたはベンジルである；
２）ｘが2である場合、
Ｒ’はＣ１−Ｃ１２アルキレン基；Ｃ４−Ｃ１２アルケニレン基；キシリレン基；1から20の酸素原子で中断されたＣ１−Ｃ５０アルキレン基で、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたものを表し；
Ｙは有機または鉱物アニオンを表し；
カチオンｙの総電荷はアニオンｚの総電荷に等しい］
から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項２８】
式（ＸＩＶ）の化合物が、Ｒ１及びＲ２が水素を表し、ｘ＝１であり、Ｙがシトラートアニオンを表す化合物から選択される、請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
式（ＸＩＶ）の化合物が、以下の構造：
【化１４】
2006117670.tif 000033
［式中、ｙ＝３である］。
のトリス（テトラメチルヒドロキシピペリジノール）シトラートである、請求項２８に記載の化合物。
【請求項３０】
ジベンゾイルメタン誘導体の三重項エネルギーを受容可能な化合物が、組成物の全重量に対して0.1から25重量％、好ましくは0.2から10重量％、より好ましくは0.2から7重量％の範囲の含量で存在する、請求項１から２９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３１】
更に水溶性または脂溶性または一般的に使用される化粧品溶媒に不溶性である、他のＵＶＡ活性及び／またはＵＶＢ活性有機または鉱物光保護剤を含むことを特徴とする、請求項１から３０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３２】
更なる有機光保護剤が、アントラニラート；サリチル酸誘導体；カンファー誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン；ビス-ベンザゾリル誘導体；p-アミノ安息香酸（PABA)誘導体；メチレンビス（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール）誘導体；ベンゾキサゾール誘導体；スクリーニングポリマー及びスクリーニングシリコーン；α-アルキルスチレンベースのダイマー誘導体；4,4-ジアリールブタンジエン、並びにこれらの混合物から選択される、請求項３１に記載の組成物。
【請求項３３】
有機ＵＶスクリーニング剤が以下の化合物：
エチルヘキシルサリチラート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンカンファースルホン酸、
二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート、
メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
エチレンヘキシルトリアゾン、
ビス（エチルヘキシルオキシフェノール）メトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びこれらの混合物
から選択されることを特徴とする、請求項３２に記載の組成物。。
【請求項３４】
更なる鉱物光保護剤が、処理化または非処理の金属酸化物の顔料またはナノ顔料であることを特徴とする、請求項３１に記載の組成物。
【請求項３５】
前記顔料またはナノ顔料が、処理化または非処理の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム、または酸化セリウム、及びこれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項３４に記載の組成物。
【請求項３６】
更に皮膚を人工的に日焼けさせる及び／または着色化するための少なくとも一つの薬剤
を含むことを特徴とする、請求項１から３５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３７】
更に脂肪物質、有機溶媒、イオン性または非イオン性の、親水性または親油性の増粘剤、柔軟剤、湿潤剤、不透明化剤、安定化剤、皮膚軟化剤、シリコーン、消泡剤、香料、防腐剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、両イオン性または両性界面活性剤、活性剤、フィラー、ポリマー、噴射剤、及び酸性化剤または塩基性化剤から選択される少なくとも一つのアジュバントを含む、請求項１から３６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３８】
皮膚、唇、爪、毛髪、睫毛、眉毛、及び／または頭皮の美容処理用製品を製造するための、請求項１から３７のいずれか一項に記載の組成物の使用。
【請求項３９】
皮膚、唇、爪、毛髪、及び／または頭皮のケア製品を製造するための、請求項１から３７のいずれか一項に記載の組成物の使用。
【請求項４０】
メイクアップ製品を製造するための、請求項１から３７のいずれか一項に記載の組成物の使用。
【請求項４１】
ビスレゾルシニルトリアジン化合物と、請求項１から３７のいずれか一項に定義された前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物との組合せを介した、ＵＶ放射に対する請求項１から３７のいずれか一項に定義されたジベンゾイルメタン誘導体の光安定化方法。
【請求項４２】
ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ光に対する安定化を改良するための、請求項１から３７のいずれか一項に定義された少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体を含む化粧品または皮膚科学的組成物における、ビスレゾルシニルトリアジン化合物と、請求項１から３７のいずれか一項に定義されたジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物との組み合わせの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジベンゾイルメタン誘導体、ビスレゾルシニルトリアジン化合物、及び以下のもの：
ｉ．4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体；
ｉｉ．フルオレン誘導体；
ｉｉｉ．ピペリジノール塩；
ｉｖ．これらの混合物
から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物を含む、局所使用のための光保護組成物に関する。
【０００２】
本発明はまた、ビスレゾルシニルトリアジン化合物と、前述のもののようなジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを許容可能な化合物との組合せを介した、ＵＶ照射に対する少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体の光安定化方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
２８０ｎｍから４００ｎｍの間の波長を有する光照射はヒトの表皮のタンニングを生じ、とりわけＵＶ−Ｂ光線として知られている２８０から３２０ｎｍの間の波長を有する光線は自然な日焼けの形成を害することができる皮膚火傷と紅斑を引き起こすことが既知である。これらの理由及び美的な理由のため、この自然な日焼けを制御して、皮膚の色を制御する手段に対する一定の需要が存在している；かくしてこのＵＶ−Ｂ照射は遮断されるべきである。
【０００４】
皮膚の日焼けを生ずる３２０から４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ−Ａ光線は、特に敏感肌または日光照射に継続的に曝露されている肌の場合、そこに負の変化を誘導する傾向を有することも知られている。ＵＶ−Ａ光線は、皮膚の未成熟な老化を導く皮膚の弾性の損失としわの出現を特に生ずる。それらは、紅斑反応の誘引を促進し、または特定の患者においてこの反応を増幅し、光毒性または光アレルギー性反応の原因ともなり得る。かくして、例えば皮膚の自然な弾性の保存のような美的及び美容的な理由のため、ますます増大する多数の人々が、その肌に対するＵＶ−Ａ光線の効果を制御することを望んでいる。かくして、ＵＶ−Ａ照射を遮断することも所望されている。
【０００５】
ＵＶ照射に対する皮膚及びケラチン物質の保護の目的のため、ＵＶ−Ａ範囲及びＵＶ−Ｂ範囲で活性である有機スクリーニング剤を含む抗日光組成物が一般的に使用されている。これらのスクリーニング剤の大多数は脂溶性である。
【０００６】
この点で、ＵＶ−Ａスクリーニング剤の一つの特に有利なファミリーは、ジベンゾイルメタン誘導体、特に高い固有の吸収力を有する4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンから現在ではなる。ＵＶ−Ａ範囲で活性であるスクリーニング剤としてそれ自体周知である製品であるこれらのジベンゾイルメタン誘導体は、特に仏国特許出願FR-A-2 326 405及びFR-A-2 440 933、並びに欧州特許出願EP-A-0 114 607に記載されている；4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンはさらに、Roche Vitamins社により"Parsol 1789"の商標名で現在市販されている。
【０００７】
不幸にも、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線照射（特にＵＶ−Ａ）に比較的感受性である製品であることが見出されており、即ちとりわけ、それらはこのＵＶの作用の下で多かれ少なかれ迅速に分解する厄介な傾向を有する。かくして、天然で受けることを企図されている紫外線照射に対するジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性のこの実質的な欠如は、日光に長期的に曝露されている間に一定の保護を達成することを不可能にし、そのためユーザーは、ＵＶ光線に対する肌の有効な保護を得るために、規則的且つ緊密な時間間隔でその適用を繰り返さなければならない。
【０００８】
この技術的問題を解決するために、ジベンゾイルメタン誘導体を、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物と組み合わせることが従来技術ですでに提案されている。これは例えば、米国特許第5 993 789号、第6 113 931号、第6 126 925号、及び第6 284 916号においてナフタレン誘導体について記載されている。さらに、米国特許出願第2004 0057912号、第2004 0057914号、第2004 0057916号、及び第2004 06272号においてフルオレン誘導体について記載されている。これはまた、特許出願WO 03/007906に記載されているもののような4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体の場合に当てはまる。しかしながら、これらの化合物で得られるジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性は、いまだ十分に満足とはいえない。
【０００９】
特許出願WO 02/17873、DE 100 08 895、及びFR 2 801 812は、ジベンゾイルメタン、ビスレゾルシニルトリアジンスクリーニング剤、及びナフタレンジカルボン酸ジエステルまたはポリエステル（即ち2,6-ジエチルヘキシルナフタラート）の組合せを含む製剤を開示している。これらの特定の化合物は、皮膚寛容の問題を呈する傾向を有する。
【特許文献１】仏国特許出願FR-A-2 326 405
【特許文献２】仏国特許出願FR-A-2 440 933
【特許文献３】欧州特許出願EP-A-0 114 607
【特許文献４】米国特許第5 993 789号
【特許文献５】米国特許第6 113 931号
【特許文献６】米国特許第6 126 925号
【特許文献７】米国特許第6 284 916号
【特許文献８】米国特許出願第2004 0057912号
【特許文献９】米国特許出願第2004 0057914号
【特許文献１０】米国特許出願第2004 0057916号
【特許文献１１】米国特許出願第2004 06272号
【特許文献１２】国際出願WO 03/007906
【特許文献１３】国際出願WO 02/17873
【特許文献１４】DE 100 08 895
【特許文献１５】FR 2 801 812
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本出願人は驚くべきことに、上述のジベンゾイルメタン誘導体に、有効量のビスレゾルシニルトリアジンと、以下のもの：
ｉ．4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体；
ｉｉ．フルオレン誘導体；
ｉｉｉ．ピペリジノール塩；
ｉｖ．これらの混合物
から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物とを組合せることによって、これらの同じジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性（または光安定性）を実質的に且つ顕著に改良できることを見出した。
【００１１】
この本質的な発見は、本発明の基礎を形成する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
かくして、本発明の主題の一つによれば、前記ジベンゾイルメタン誘導体に、少なくとも一つのビスレゾルシニルトリアジンと、以下のもの：
ｉ．4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体；
ｉｉ．フルオレン誘導体；
ｉｉｉ．ピペリジノール塩；
ｉｖ．これらの混合物
から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物とを組合せることを含む、ＵＶ放射に対する少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改良するための方法が提案される。
【００１３】
本発明の別の主題は、化粧品的に許容可能な支持体中に、
（ａ）ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも一つのＵＶスクリーニング剤、及び
（ｂ）少なくとも一つのビスレゾルシニルトリアジン化合物、及び
（ｃ）以下のもの：
ｉ．4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体；
ｉｉ．フルオレン誘導体；
ｉｉｉ．ピペリジノール塩；
ｉｖ．これらの混合物
から選択される、ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物
を含むことを特徴とする、、局所使用のための化粧品または皮膚科学的組成物に関する。
【００１４】
本発明の主題はまた、ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ光に対する安定性を改良するための、少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体を含む化粧品または皮膚科学的組成物における、ビスレゾルシニルトリアジンと、前述のようなジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物との組み合わせの使用である。
【００１５】
本発明の特徴、態様、及び利点は、以下の明細書の記載を読むことで明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
ジベンゾイルメタン誘導体としては、非制限的な態様で、以下のものが特に挙げられる：
−  2-メチルジベンゾイルメタン；
−  4-メチルジベンゾイルメタン；
−  4-イソプロピルジベンゾイルメタン；
−  4-tert-ブチルジベンゾイルメタン；
−  2,4-ジメチルジベンゾイルメタン；
−  2,5-ジメチルジベンゾイルメタン；
−  4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン；
−  4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン；
−  4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン。
【００１７】
前述のジベンゾイルメタン誘導体の中では、下式に対応するMerck社により"Eusolex 8020"の名称で市販されている4-イソプロピルジベンゾイルメタンが特に使用される：
【化１】
2006117670.tif 000002
【００１８】
Roche Vitamins社により"Parsol 1789"の商標名で市販されている、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンまたはブチルメトキシジベンゾイルメタンを使用することがとりわけ好ましい；このスクリーニング剤は、下式に対応する：
【化２】
2006117670.tif 000003
【００１９】
ジベンゾイルメタン誘導体（類）は、本発明に係る組成物中に、組成物の全重量に対して好ましくは0.01から10重量％、より好ましくは0.1から6重量％の範囲の含量で存在して良い。
【００２０】
本発明に係るビスレゾルシニルトリアジン化合物は、下式（Ｉ）に対応する：
【化３】
2006117670.tif 000004
［式中、
（ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっても良く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基；Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基、または式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１残基を表し、式中Ｔ１は水素原子あるいはＣ１−Ｃ８アルキル基であり；
（ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっても良く、下式（１）の残基を表しても良く：
【化４】
2006117670.tif 000005
式中、
−  Ｒ６は共有結合；直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ４アルキル基、または式−Ｃｍ１Ｈ２ｍ１−Ｏ−残基を表し、式中ｍ１は１から４の数であり；
−  ｐ１は０から５の数であり；
−  Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９基は、同一でも異なっても良く、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基；Ｃ１−Ｃ１８アルコキシ基、または下式の残基を表し；
【化５】
2006117670.tif 000006
式中、Ｒ１０はＣ１−Ｃ５アルキル基であり；
−  Ａ１は、下式の一つに対応する残基を表し：
【化６】
2006117670.tif 000007
式中、
−  Ｒ３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−（ＣＨ２ＣＨＲ５−Ｏ）ｎ１Ｒ４の残基を表し、式中ｎ１は１から１６の数、または式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１残基を表し、式中Ｔ１は上述と同じ意味を有し、
−  Ｒ４は水素、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５アルキル基、または式−ＣＨ２ｍ２−ＯＴ１残基を表し、式中ｍ２は１から４の数であり、Ｔ１は上述と同じ意味を有し、
−  Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基である］。
【００２１】
前述の式（Ｉ）及び（１）から（５）では、
−  アルキル基は直鎖状または分枝状であり、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、アミル、イソアミル、tert-アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、またはオクタデシルから選択されて良く；
−  アルケニル基は例えば、アリル、メタリル、イソプロペニル、2-ブテニル、3-ブテニル、イソブテニル、n-ペンタ-2,4-ジエニル、3-メチルブト-2-エニル、n-オクト-2-エニル、n-ドデス-2-エニル、イソドデセニル、及びn-オクタデス-4-エニルから選択され；
−  アルコキシ基は直鎖状または分枝状であり、例えばメトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、アミロキシ、イソアミロキシ、及びtert-アミロキシから選択され；
−  Ｃ１−Ｃ５モノアルキルアミノまたはジアルキルアミノ基は、例えばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、n-ブチルアミノ、sec-ブチルアミノ、tert-ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、及びメチルエチルアミノ；
−  金属カチオンは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、または例えばリチウム、カリウム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、銅、及び亜鉛から選択される金属カチオンである。
【００２２】
本発明の式（Ｉ)のビスレゾルシニルトリアジン誘導体は、それ自体すでに既知であるスクリーニング剤である。それらは、特許出願EP-A-0 775 698に記載され、そこに示された合成方法によって調製される。
【００２３】
使用されて良い式（Ｉ）の化合物の例として、以下のものが挙げられる：
−  2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(3-(2-プロピルオキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-[4-(2-メトキシエチルカルボニル)フェニルアミノ]-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-トリス(トリメチルシロキシシリルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(2"-メチルプロペニルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(1',1',1',3',5',5',5'-ヘプタメチルトリシロキシ-2"-メチルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(3-(2-プロピルオキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ]-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-[(4-エチルカルボキシル}フェニルアミノ]-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(1-メチルピロール-2-イル)-1,3,5-トリアジン。
【００２４】
本発明によってとりわけ好ましいビスレゾルシニルトリアジンから由来する化合物は、以下のものからなる群から選択される：
−  2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-トリス(トリメチルシロキシシリルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン；
−  2,4-ビス{[4-(1',1',1',3',5',5',5'-ヘプタメチルトリシロキシ-2"-メチルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン。
【００２５】
Ciba-Geigy社により"Tinosorb S"の商標名で市販されている製品のような、2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、またはビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＩＮＣＩ名）がとりわけ使用される。
【００２６】
式（Ｉ）のビスレゾルシニルトリアジン化合物は、組成物の全重量に対して0.1から20重量％、好ましくは1から10重量％、より好ましくは2から8重量％の範囲の濃度で、本発明に係るスクリーニング組成物中に一般的に存在する。
【００２７】
本発明によれば、ビスレゾルシニルトリアジン（類）は、ＵＶ照射の影響下で励起されるジベンゾイルメタン分子の励起状態を脱活性化し、それを基底状態に戻させるために、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物と組み合わせて使用される。
【００２８】
前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物は、例えば以下のものから選択される：
（ｉ）4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体、または4-ヒドロキシシンナマート誘導体、例えば特許出願WO 03/007 906に記載のもの；
（ｉｉ）フルオレン誘導体、例えば米国特許出願第2004 00579912号、第2004 00579914号、第2004 00579916号、及び第2004 062 726号に記載のもの；
（ｉｉｉ）ピペリジノール塩、例えば特許出願WO 03/007 906に記載のもの；
（ｉｖ）これらの混合物。
【００２９】
一つの好ましい形態によれば、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物は、40kcal/molから70kcal/molの範囲の励起三重項エネルギーを有する。
【００３０】
励起三重項エネルギーは、J, Gonzenbach, T.J. Hill及びT.G. Truscott #The Triplet Enery Levels in UVA and UVB Sunscreen", J. Photocehm. Photobiol. B: Biol., Vo. 16, 337-379頁 (1992)による文献に記載されたように、酸素摂動またはリン光の技術を介して測定されて良い。酸素摂動の技術は、高圧の酸素下、即ち2000psiの環境に配置された際の、化合物のＵＶ吸収スペクトルを測定することを含む。これらの条件下で、スピンスペクトルの法則は摂動され、ＵＶに対する前記化合物の曝露は基底状態の直接励起によって最低の励起三重項を導く。遷移が生じる波長λ（μｍ単位）を使用して、Ｅ＝28.635/λの式からkcal/mol単位の三重項のエネルギーを計算し、この式は等式Ｅ＝ｈｖ（式中Ｅはエネルギーであり、ｈはプランク定数であり、ｖは電磁波の周波数である）から由来する。
【００３１】
リン光の技術は、励起三重項の脱活性化の間に多くの化合物がリン光を放射するという事実に基づく。リン光が生ずる波長を測定することによって、励起三重項エネルギーは上記のように計算されて良い。励起三重項エネルギーは、リン光アクセサリーを備えた分光測定器を使用して、サンプルのリン光スペクトルを測定することによって決定されて良い。そのような励起三重項は、例えばA.J. Gordon及びR.A. Ford, "The Chemist Companion", John Wiley & Sons, 351-355頁 (1992)による文献において広く報告されている。
【００３２】
好ましく使用される4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体として、下式（Ｖ）のものが挙げられる：
【化７】
2006117670.tif 000008
［式中、
Ａはカルボニル官能基を含む二つの一価基を含む、ＵＶ放射を吸収する発色団基であり；
Ｒ１４は水素素、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基を表し、
Ｒ１５は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基を表す］。
【００３３】
これらの化合物として、下式（Ｖａ）のものが好ましく使用される：
【化８】
2006117670.tif 000009
［式中、
Ｒ１４は水素、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基を表し、
Ｒ１５は水素、あるいは直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基を表し、
Ｒ１６は−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＯ２Ｒ１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、及び−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１３）２から選択され、
ＸはＯまたはＮＨを表し、
Ｒ１７は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基を表し、
Ｒ１８は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ２０アルキル基を表し、
Ｒ１９はそれぞれ独立に直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ１８アルキル基を表す］。
【００３４】
これらの化合物として、下式（Ｖｂ）または（Ｖｃ）のものが特に好ましく使用される：
【化９】
2006117670.tif 000010
［式中、
Ｒ１６は−ＣＯ２Ｒ１２を表し、
Ｒ１７は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基を表し、
Ｒ１８は直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ８アルキル基を表し、
ＸはＯを表す］。
【００３５】
特に使用される化合物として、下式を有するジエチルヘキシルシリンギリデンマロナート（ＩＮＣＩ名）が挙げられる：
【化１０】
2006117670.tif 000011
例えばMerck社によりOxynex STの商標名で市販されている市販品である。
【００３６】
本発明に係るフルオレン誘導体としては、下式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）、（ＸＩ）、（ＸＩＩ）、及び（ＸＩＩＩ）の一つに対応するもの、例えば米国特許出願第2004 00579912号、第2004 00579914号、第2004 00579916号、及び第2004 062776号に記載されたもの、及びこれらの化合物の混合物が好ましく使用される：
【化１１】
2006117670.tif 000012
【化１２】
2006117670.tif 000013
【化１３】
2006117670.tif 000014
［式中、
−  Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７、及びＲ３６基は、同一でも異なっても良く、任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基；任意に置換されたＣ３−Ｃ８シクロアルキル；任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基；任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール；任意に置換されたＣ３−Ｃ１４ヘテロシクロアルキル；アミノまたはシアノ基；下式のエステル基を表し；
【化１４】
2006117670.tif 000015
｛式中Ｒは任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基、または任意に置換されたＣ３−Ｃ８シクロアルキルを表す｝
−  Ｒ３９及びＲ４４基は、同一でも異なっても良く、置換されたまたはされていないジフェニルメチレン；置換されたまたはされていない9H-フルオレンを表し；
−  Ｒ４５基は、任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基；任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０ヒドロキシアルキル；任意に置換されたＣ３−Ｃ８シクロアルキル；任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基；任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール；任意に置換されたＣ３−Ｃ１４ヘテロシクロアルキル；任意に置換されたエーテル；アミノ基を表し；
−  Ｒ４６及びＲ４７基は、互いに独立に、水素、任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０アルキル基；任意に置換された直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３０ヒドロキシアルキル；任意に置換されたＣ３−Ｃ８シクロアルキル；任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基；任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール；任意に置換されたＣ３−Ｃ１４ヘテロシクロアルキル；アミノ基、シアノ、ヒドロキシル、アミドまたはイミド、ハロゲン、任意に置換されたエーテル、エステル、またはウレタンを表し；
ｑ、ｒ、ｓ、及びｔは1から100の数であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆは0から4の数であり；
ｕは0から100の数である］。
【００３７】
式（ＶＩ）の化合物としては、Ｒ２０及びＲ２１基が分枝状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基を表す化合物、とりわけ同時に2-エチルヘキシルを表す化合物（即ち2-エチルヘキシル（9H-フルオレン-9-イリデン）アセタート）が特に好ましく使用される。
【００３８】
式（ＶＩＩ）の化合物としては、Ｒ２２及びＲ２３基が分枝状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基を表す化合物、とりわけＲ１６及びＲ１７基が同時にイソプロピルまたは2-エチルヘキシルを表す化合物が特に好ましく使用される。
【００３９】
特にジイソプロピルフルオレンマロナート（またはジイソプロピル9H-フルオレン-9-イリデンマロナート）、及びビス（2-エチルヘキシル）フルオレンマロナート（またはビス（2-エチルヘキシル）9H-フルオレン-9-イリデンマロナート）が挙げられる。
【００４０】
式（ＶＩＩＩ）の化合物としては、Ｒ２４及びＲ２５基が分枝状Ｃ３−Ｃ２０アルキル基を表す化合物、特に同時に2-エチルヘキシルを表す化合物が特に好ましく使用される。
【００４１】
式（Ｘ）の化合物としては、Ｒ２８、Ｒ２９、及びＲ３０基が分枝状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基を表す化合物、とりわけＲ２８及びＲ３０基が同時に2-エチルヘキシルを表す化合物が特に好ましく使用される。
【００４２】
式（ＸＩ）の化合物としては、Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３基が分枝状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基を表す化合物、とりわけＲ３１及びＲ３３基が同時に2-エチルヘキシルを表す化合物が特に好ましく使用される。
【００４３】
式（ＸＩＩ）の化合物としては、Ｒ４０及びＲ４２基がＣ１−Ｃ１５アルキル基、特に2-メチルプロピル基を表し、Ｒ４１が直鎖状Ｃ１−Ｃ１５アルキル基、特にn-ブチル基を表し；Ｒ３８及びＲ４３基が同時にシアノ基を表し、Ｒ３９及びＲ４４基がジフェニルメチレン基を表す化合物が特に好ましく使用される。
【００４４】
とりわけ以下の構造を有するポリマーの使用が好ましい：
【化１５】
2006117670.tif 000016
［式中、ｔ＝１であり、ｕは2から10の数である］。
【００４５】
式（ＸＩＩＩ）の化合物としては、ｅ及びｆは0に等しく、Ｒ４５基が分枝状Ｃ３−Ｃ２０アルキル基またはＣ１−Ｃ１５ヒドロキシアルキル基を表す化合物が特に好ましく使用される。
【００４６】
式（ＸＩＩＩ）の化合物としては、Ｒ４５基が、ヒドロキシルエチル、1-ヒドロキシプロピル、2-ヒドロキシプロピル、1-ヒドロキシ-n-ブチル、1-ヒドロキシ-1-メチルプロピル、1-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピル、及び2-ヒドロキシ-2-メチルプロピルから選択されるヒドロキシアルキルを表す化合物が特に好ましく使用される。
【００４７】
とりわけ（ＸＩＩＩ）の化合物としては、ｅ及びｆが0に等しく、Ｒ３９基が2-エチルヘキシルを表す化合物（即ち2-エチルヘキシルシアノ（9H-フルオレン-9-イリデン）アセタートまたはオクトフルオレン）が特に好ましく使用される。
【００４８】
本発明に係るピペリジノールとしては、下式（ＸＩＶ）の化合物が好ましく使用される：
【化１６】
2006117670.tif 000017
［式中、
Ｒ１は水素またはメチルを表し；
ｘは1または2であり；
１）ｘが1に等しい場合、
Ｒ２は水素；Ｃ１−Ｃ１８アルキル基；Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基；プロパルギル基；グリシジル基；1から20の酸素原子で中断されたＣ２−Ｃ５０アルキル基であって、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたもの；カルボキシル基または−ＣＯＯＺ基で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
式中、Ｚは水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、フェニル、（ＣＯＯ−）ｐＭｐ＋基で置換されたＣ１−Ｃ４アルキルを表し、
式中、ｐは1から3の整数であり、Ｍは周期表の1、2及び3族から得られる金属イオン、またはＺｎ、Ｃｕ、Ｎｉ若しくはＣｏであり、あるいは別法としてＭはＮＰ+（Ｒ”）４であり、Ｒ”はＣ１−Ｃ８アルキルまたはベンジルである；
２）ｘが2である場合、
Ｒ’はＣ１−Ｃ１２アルキレン基；Ｃ４−Ｃ１２アルケニレン基；キシリレン基；1から20の酸素原子で中断されたＣ１−Ｃ５０アルキレン基で、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたものを表し；
Ｙは有機または鉱物アニオンを表し；
カチオンｙの総電荷はアニオンｚの総電荷に等しい］。
【００４９】
アニオンＹとしては、ホスファート、ホスホナート、カルボナート、ビカルボナート、ニトラート、クロリド、ブロミド、ビスルフィト、スルフィト、ビスルファート、ボラート、ホルマート、アセタート、ベンゾアート、シトラート、オキサラート、タートラート、アクリラート、ポリアクリラート、フマラート、マレアート、イタコナート、グリコラート、グルコナート、マラート、マンデラート、チグラート、アスコルバート、ポリメタクリラート、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチレンジアミン三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレンジアミン五酢酸のカルボキシラート、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホナート、アルキルスルホナート、またはアリールスルホナートが挙げられる。
【００５０】
式（ＸＩＶ）の化合物としては、Ｒ１及びＲ２が水素を表し、ｘ＝１であり、Ｙがシトラートアニオンを表す化合物、特に以下の構造のトリス（テトラメチルヒドロキシピペリジノール）シトラートが特に好ましく使用される：
【化１７】
2006117670.tif 000018
［式中、ｙ＝３である］。
例えばCiba-Geigy社によりTinoguard QまたはTinoguard S-FXの名称で市販されている製品が挙げられる。
【００５１】
本発明に係るジベンゾイルメタン誘導体の三重項エネルギーを受容可能な化合物は、本発明に係る組成物中に、組成物の全重量に対して0.1から25重量％、好ましくは0.2から10重量％、より好ましくは0.2から7重量％の範囲の含量で存在して良い。
【００５２】
本発明によれば、ジベンゾイルメタン誘導体の三重項エネルギーを受容可能な化合物／ビスレゾルシニルトリアジンの光安定化混合物は、所定の組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体の光安定性の適切で有意な改良を得るための十分量で使用される。使用される光安定化剤のこの最小量は、組成物の開始時点で存在するジベンゾイルメタンの量に従って、且つ組成物に採用される化粧品的に許容可能な支持体の性質に従って変化してよい。それは、光安定性を測定するための標準試験によって困難なく決定されて良い。
【００５３】
本発明に係る組成物はまた、水溶性または脂溶性または一般的に使用される化粧品溶媒に不溶性である、他の更なるＵＶＡ活性及び／またはＵＶＢ活性有機または鉱物光保護剤を含んでも良い。
【００５４】
更なる有機光保護剤は、アントラニラート；サリチル酸誘導体；カンファー誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ビスレゾルシニルトリアジンタイプのもの以外のトリアジン誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン；特許EP 669 323及びUS 2 463 264に記載されたようなビス-ベンザゾリル誘導体；p-アミノ安息香酸（PABA)誘導体；特許出願US 5 237 071、US 5 165 355、GB 2 303 549、DE 197 26 184、及びEP 893 119に記載されたようなメチレンビス（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール）誘導体；特許出願EP 0 832 642；EP 1 027 883、EP 1 300 137、及びDE 101 62 844に記載されたもののようなベンゾキサゾール誘導体；特許出願WO 93/04665に特に記載されたもののようなスクリーニングポリマー及びスクリーニングシリコーン；特許出願DE 198 55 649に記載されたもののようなα-アルキルスチレンから誘導されたダイマー；特許出願EP 0 967 200、DE 197 46 654、DE 197 55 649、EP-A-1 008 586、EP 1 133 980、及びEP 133 981に記載されたもののような4,4-ジアリールブタンジエン、並びにこれらの混合物から特に選択されて良い。
【００５５】
更なる有機光保護剤の例として、ＩＮＣＩ名で以下に表されるものが挙げられる：
【００５６】
パラ-アミノ安息香酸誘導体：
ＰＡＢＡ、
エチルＰＡＢＡ、
エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
ISP社により"Escalol 507"の名称で特に市販されているエチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ、
グリセリルＰＡＢＡ、
BASF社により"Uvinul P25"の名称で市販されているＰＥＧ-25ＰＡＢＡ。
【００５７】
サリチル酸誘導体：
Rona/EM Industries社により"Eusolex HMS"の名称で市販されているホモサラート、
Harrmann and Reimer社により"Neo Heliopan"の名称で市販されているエチルヘキシルサリチラート、
Scher社により"Dipsal"の名称で市販されているジプロピレングリコールサリチラート、
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan TS"の名称で市販されているＴＥＡサリチラート。
【００５８】
β,β-ジフェニルアクリラート誘導体：
BASF社により"Univul N539"の商標名で特に市販されているオクトクリレン、
BASF社により"Uvinul N35"の商標名で特に市販されているエトクリレン。
【００５９】
ベンゾフェノン誘導体：
BASF社により"Uvinul 400"の商標名で市販されているベンゾフェノン-1、
BASF社により"Uvinul D50"の商標名で市販されているベンゾフェノン-2、
BASF社により"Uvinul M40"の商標名で市販されているベンゾフェノン-3またはオキシベンゾン、
BASF社により"Uvinul MS40"の商標名で市販されているベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
Norquay社により"Helisorb 11"の商標名で市販されているベンゾフェノン-6、
American Cyanamid社により"Spectra-Sorb UV-24"の商標名で市販されているベンゾフェノン-8、
BASF社によりの商標名で市販されているベンゾフェノン-9、
ベンゾフェノン-12、
BASF社により"Uvinul A Plus"の商標名で市販されているジエチルアミノフヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート。
【００６０】
ベンジリデンカンファー誘導体：
Chimex社により"Mexoryl SD"の名称で製造されている3-ベンジリデンカンファー、
Merck社により"Eusolex 6300"の名称で市販されている4-メチルベンジリデンカンファー、
Chimex社により"Mexoryl SL"の名称で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
Chimex社により"Mexoryl SO"の名称で製造されているカンファーベンズアルコニウムメトスルファート、
Chimex社により"Mexoryl SX"の名称で製造されているテレフタリリデンカンファースルホン酸、
Chimex社により"Mexoryl SW"の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
【００６１】
フェニルベンズイミダゾール誘導体：
Merck社により"Eusolex 232"の商標名で特に市販されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan AP"の商標名で市販されている二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート。
【００６２】
フェニルベンゾトリアゾール誘導体：
Rhodia Chimie社により"Silatrizole"の名称で市販されているドロメトリゾールトリシロキサン、
Fairmount Chemical社により"MIXXIM BB/100"の商標名で固体形態で、またはCiba Specialty Chemicals社により"Tinosorb M"の商標名で水性分散物として微粉化形態で市販されている、メチレンビス（ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール。
【００６３】
トリアジン誘導体：
BASF社により"Uvinul T150"の商標名で特に市販されているエチルヘキシルトリアゾン、
Sigma 3V社により"Uvasorb HEB"の商標名で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4,6-トリス（ジイソブチル4'-アミノベンザルマロナート）-s-トリアジン。
【００６４】
アントラニリン酸誘導体：
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan MA"の商標名で市販されているメンチルアントラニラート。
【００６５】
イミダゾリン誘導体：
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
【００６６】
ベンザルマロナート誘導体：
Hoffmann LaRoche社により"Parsol SLX"の商標名で市販されている、例えばポリシリコーン-15といった、ベンザルマロナート官能基を含むポリオルガノシロキサン。
【００６７】
4,4-ジアリールブタンジエン誘導体：
1,1-ジカルボキシ（2,2'-ジメチルプロピル）-4,4-ジフェニルブタンジエン。
【００６８】
ベンゾキサゾール誘導体：
Sigma 3V社によりUvasorb K2Aの名称で市販されている2,4-ビス[5-(1-ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン
並びにこれらの混合物。
好ましい更なる有機光保護剤は以下のものから選択される：
エチルヘキシルサリチラート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンカンファースルホン酸、
二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート、
メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
エチレンヘキシルトリアゾン、
ビス（エチルヘキシルオキシフェノール）メトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びこれらの混合物。
【００６９】
更なる鉱物光保護剤は、処理化または非処理の金属酸化物の顔料、とりわけナノ顔料（主要粒子の平均径が一般的に5nmから100nmの間、好ましくは10nmから50nmの間であるもの）、例えば酸化チタン（非晶質またはルチル及び/またはアナターゼ形態の結晶化されたもの）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、または酸化セリウムのナノ顔料から選択される。
【００７０】
処理化ナノ顔料は、例えばCosmetics & Toiletries, 1990年2月, Vol. 105, pp. 53-64に記載されたような化合物、例えばアミノ酸、ビーズワックス、脂肪酸、脂肪アルコール、アニオン性界面活性剤、レイシチン、脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄、またはアルミニウム塩、金属（チタンまたはアルミニウム）アルコキシド、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲンまたはエラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、酸化金属、ナトリウムヘキサメタホスファート、アルミナ、またはグリセロールで、化学的,電気的、機械化学的、及び/または機械的性質の一つ以上の表面処理を施した顔料である。
【００７１】
処理化ナノ顔料は、特に以下のもので処理された酸化チタンであって良い：
−  シリカ及びアルミナ、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 500 SA"及び"Microtitanium Dioxide MT 100 SA"の製品、並びにTioxide社製の"Tioveil Fin"、"Tioveil OP"、"Tioveil MOTG"、及び"Tioveil IPM"の製品、
−  アルミナ及びアルミニウムステアラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 T"の製品、
−  アルミナ及びアルミニウムラウラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 S"の製品、
−  酸化鉄及び鉄ステアラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 F"の製品、
−  シリカ、アルミナ、及びシリコーン、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 SAS"、"Microtitanium Dioxide MT 600 SAS"、及び"Microtitanium Dioxide MT 500 SAS"の製品、
−  ナトリウムヘキサメタホスファート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 150 W"の製品、
−  オクチルトリメトキシシラン、例えばDegussa社製の"T-805"の製品、
−  アルミナ及びステアリン酸、例えばKemira社製の"UVT-M160"の製品、
−  アルミナ及びグリセロール、例えばKemira社製の"UVT-M212"の製品、
−  アルミナ及びシリコーン、例えばKemira社製の"UVT-M262"の製品。
【００７２】
シリコーンで処理された他の酸化チタンナノ顔料は、好ましくは基本粒子の平均径が25nmから40nmの間であるオクチルトリメチルシランで処理されたＴｉＯ２、例えばDegussa Silices社により"T805"の商標名で市販されている製品、基本粒子の平均径が21nmであるポリジメチルシロキサンで処理されたＴｉＯ２、例えばCardre社により"70250 Cardre UF TiO2SI3"の商標名で市販されている製品、基本粒子の平均径が25nmであるポリジメチルハイドロゲンシロキサンで処理されたアナターゼ／ルチルＴｉＯ２、例えばColor Techniques社により"Microtitanium Dioxide USP Grade Hydrophobic"の商標名で市販されている製品である。
【００７３】
非被覆酸化チタンナノ顔料は、例えば"Microtitanium Dioxide MT 500 B"または"Microtitanium Dioxide MT 600 B"の商標名でTayca社により市販されている製品、"P 25"の名称でDegussa社により市販されている製品、"Oxyde de titane trasparent PW"の名称でWacker社により市販されている製品、"UFTR"の名称でMyoshi Kasei社により市販されている製品、"ITS"の名称でTomen社により市販されている製品、並びに"Tioveil AQ"の名称でTioxide社により市販されている製品である。
【００７４】
非被覆酸化亜鉛ナノ顔料は、例えば以下のものである：
−  Sunsmart社により"Z-Cote"の名称で市販されている製品；
−  Elementis社により"Nanox"の名称で市販されている製品；
−  Nanophase Technologies社により"Nanogard WCD 2025"の名称で市販されている製品。
【００７５】
被覆酸化亜鉛ナノ顔料は、例えば以下のものである：
−  Toshibi社により"Zinc Oxide CS-5"の名称で市販されている製品（ポリメチルハイドロゲンシロキサンで被覆されたＺｎＯ）；
−  Nanophase Technologies社により"Nanogard Zinc Oxide FN"の名称で市販されている製品（Finsolv TN、Ｃ１２−Ｃ１５アルキルベンゾアート中の40％分散物として）；
−  Daito社により"Daitopersion ZN-30"及び"Daitopersion ZN-50"の名称で市販されている製品（シクロポリメチルシロキサン／オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散物、シリカとポリメチルハイドロゲンシロキサンで被覆された30％または50％のナノ酸化亜鉛を含む）；
−  Daikin社により"NFD Ultrafine ZNO"の名称で市販されている製品（シクロペンタシロキサン中の分散物として、パーフルオロアルキルホスファートと、パーフルオロアルキルエチルに基づくコポリマーとで被覆されたＺｎＯ）；
−  Shin-Etsu社により"SPD-Z1"の名称で市販されている製品（シクロジメチルシロキサン中に分散された、シリコーングラフト化アクリルポリマーで被覆されたＺｎＯ）；
−  ISP社により"Escalol Z100"の名称で市販されている製品（エチルヘキシルメトキシシンナマート／ＰＶＰ-ヘキサデセン／メチコーンコポリマー混合物中に分散されたアルミナ処理化ＺｎＯ）；
−  Fuji Pigment社により"Fuji ZNO-SMS-10"の名称で市販されている製品（シリカとポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたＺｎＯ）；
−  Elementis社により"Nanox Gel TN"の名称で市販されている製品（ヒドロキシステアリン酸重縮合物を有するＣ１２−Ｃ１５アルキルベンゾアート中に55％の濃度で分散されたＺｎＯ）。
【００７６】
非被覆酸化セリウムナノ顔料は、Rhone-Poulenc社により"Colloidal Cerium Oxide"の名称で市販されている。
【００７７】
非被覆酸化鉄ナノ顔料は、例えば"Nanogard WCD 2002 (FE 45B)"、"Nanogard Iron FE 45 BL AQ"、"Nanogard FE 45R AQ"、及び"Nanogard WCD 2006 (FE 45R)"の名称でArnaud社により、または"TY-220"の名称でMitsubishi社により市販されている。
【００７８】
被覆酸化鉄ナノ顔料は、例えば"Nanogard WCD 2008 (FE 45B FN)"、"Nanogard WCD 2009 (FE 45B 556)"、"Nanogard FE 45 BL 345"、及び"Nanogard FE 45 BL"の名称でArnaud社により、または"Transparent Iron Oxide"の名称でBASF社により市販されている。
【００７９】
金属酸化物の混合物、特に二酸化チタンと二酸化セリウムのシリカ被覆等重量混合物を含む、二酸化チタンと二酸化セリウムの混合物が特に挙げられ、それは"Sunveil A"の名称でIkeda社により市販され、並びに二酸化チタンと二酸化亜鉛のアルミナ、シリカ、及びシリコーン被覆混合物が挙げられ、それは例えばKemira社により市販されている"M 261"の製品であり、または二酸化チタンと二酸化亜鉛のアルミナ、シリカ、及びグリセロール被覆混合物が挙げられ、それは例えばKemira社により市販されている"m 211"の製品である。ナノ顔料は、非変性形態または顔料ペーストの形態で、即ち例えば文献GB-A-2 206 339に記載されているように、分散剤との混合物として、本発明に係る組成物に導入されて良い。
【００８０】
更なる光保護剤は、本発明に係る組成物中に、組成物の全重量に対して0.01から20重量％の範囲で、好ましくは組成物の全重量に対して0.1から10重量％の範囲の割合で一般的に存在する。
【００８１】
本発明に係る組成物は、皮膚を人工的に日焼けさせる及び／または着色化するための薬剤（自己日焼け剤）、とりわけジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）を含んでも良い。それらは好ましくは、組成物の全重量に対して0.1から10重量％の範囲の量で存在する。
【００８２】
本発明に係る組成物はさらに、脂肪物質、有機溶媒、イオン性または非イオン性の、親水性または親油性の増粘剤、柔軟剤、湿潤剤、不透明化剤、安定化剤、皮膚軟化剤、シリコーン、消泡剤、香料、防腐剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、両イオン性または両性界面活性剤、活性剤、フィラー、ポリマー、噴射剤、酸性化剤または塩基性化剤、あるいは化粧品及び／または皮膚科学において通常使用されるいずれかの他の成分から特に選択される、標準的な化粧品アジュバントを含んでも良い。
【００８３】
脂肪物質は、オイルまたはワックスまたはそれらの混合物からなってよい。用語「オイル」は、室温で液体である化合物を意味する。用語「ワックス」は、室温で固体または実質的に固体であり、一般的に３５℃より高温の融点を有する化合物を意味する。
【００８４】
オイルとしては、鉱物オイル（パラフィン）；植物オイル（スイートアーモンドオイル、マカダミアオイル、グレープシードオイル、またはホホバオイル）；合成オイル、例えばパーヒドロスクアレン、脂肪アルコール、脂肪酸、または脂肪エステル（例えばWitco社により"Finsolv TN"または"Witconol TN"の商標名で市販されているＣ１２−Ｃ１５アルキルベンゾアート、オクチルパルミタート、イソプロピルラノラート、及びカプリン酸／カプリル酸トリグリセリドを含むトリグリセリド）、オキシエチレン化またはオキシプロピレン化脂肪エステル及びエーテル；シリコーンオイル（シクロメチコーン及びポリジメチルシロキサン、またはＰＤＭＳ）、あるいはフルオロオイル、及びポリアルキレンが挙げられる。
【００８５】
ワックス状化合物としては、パラフィン、カルナウバワックス、ビーズワックス、及び水素化ヒマシオイルが挙げられる。
【００８６】
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールが挙げられる。これらのポリオールは、グリコール及びグリコールエーテル、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコール、またはジエチレングリコールから選択されて良い。
【００８７】
親水性増粘剤としては、カルボキシビニルポリマー、例えばカルボポール製品（カーボマー）及びペミュレン製品（アクリラート／Ｃ１０−Ｃ３０アルキルアクリラートコポリマー）；ポリアクリルアミド、例えばSEPPIC社によりSepigel 305（ＣＴＦＡ名：ポリアクリルアミド／Ｃ１３−１４イソパラフィン／ラウレス７）またはSimulgel 600（ＣＴＦＡ名：アクリルアミド／ナトリウムアクリロイルジメチルタウラートコポリマー／イソヘキサデカン／ポリソルバート８０）の名称で市販されている架橋化コポリマー；2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ポリマー及びコポリマーで任意に架橋化及び／または中和されたもの、例えば"Hostacerin AMPS"の商標名でHoechst社により市販されているポリ(2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸）（ＣＴＦＡ名：アンモニウムポリアクリルジメチルタウラミド）；ヒドロキシエチルセルロースのようなセルロースベースの誘導体；ポリサッカリド、特にキサンタンゴムのようなゴム；並びにこれらの混合物が挙げられる。
【００８８】
親油性増粘剤、変性クレー、例えばヘクトライト及びその誘導体、例えばベントンの名称で市販されている製品が挙げられる。
【００８９】
活性剤としては以下のものが挙げられる:
−  抗汚染剤及び／またはフリーラジカル捕獲剤；
−  脱色素剤及び／または色素沈着促進剤；
−  抗グリケーション剤；
−  ＮＯシンターゼインヒビター；
−  皮膚または表皮巨大分子の合成の刺激剤及び／またはその分解の防止剤；
−  線維芽細胞増殖の刺激剤；
−  ケラチノサイト増殖の刺激剤；
−  筋弛緩剤；
−  引き締め剤；
−  角質溶解剤；
−  保湿剤；
−  抗炎症剤；
−  細胞のエネルギー代謝への作用剤；
−  駆虫剤；
−  サブスタンスＰまたはＣＧＲＰアンタゴニスト。
【００９０】
言うまでもなく、当業者は上述の任意の更なる化合物（類)及びその量を選択するのに注意を払い、本発明に係る組成物に固有に関連する有利な特性が、考慮される添加によって負に影響されないまたは実質的に負に影響されないようにするであろう。
【００９１】
本発明に係る組成物は、特に水中油型または油中水型のエマルションの調製のために企図されるものといった、当業者に周知の方法によって調製されて良い。それらは特に、クリームまたは乳液のような単純なまたは複雑なエマルション（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、Ｗ／Ｏ／Ｗエマルション）の形態で存在して良く、あるいはローション、パウダー、または固体チューブの形態で存在して良く、あるいはエアゾールとして任意に実装されても良く、ムースまたはスプレーの形態で存在しても良い。
【００９２】
本発明に係る組成物は好ましくは、水中油型または油中水型エマルションの形態で存在する。
【００９３】
前記エマルションは一般的に、両性、アニオン性、カチオン性、及び非イオン性乳化剤から選択される少なくとも一つの乳化剤を含み、それらは単独でまたは混合物として使用される。全記入化剤は、得られるエマルション（Ｗ／ＯまたはＯ／Ｗ）に従って適切に選択される。
【００９４】
Ｗ／Ｏエマルションの調製のために使用されて良い乳化界面活性剤としては、例えばソルビタン、グリセロールまたは糖アルキルエステルまたはエーテル；シリコーン界面活性剤、例えばジメチコーンコポリオール、例えばDow Corning社により"DC 5225 C"の名称で市販されているシクロメチコーンとジメチコーンコポリオールとの混合物、及びDow Corning社により"Dow Corning 5200 Formulation Aid"の名称で市販されているラウリルメチコーンコポリオールのようなアルキルジメチコーンコポリオール；Goldschmidt社によりAbil EM 90Rの名称で市販されている製品のようなセチルジメチコーンコポリオール、及びGoldschmidt社によりAbil WE O9の名称で市販されている、セチルジメチコーンコポリオール、ポリグリセリルイソステアラート（４ｍｏｌ）、及びヘキシルラウラートの混合物が挙げられる。一つ以上の共乳化剤がそこに添加されても良く、それらはポリオールアルキルエステルを含む群から有利に選択されて良い。ポリオールアルキルエステルとしては特に、グリセロール及び／またはソルビタンエステル、例えばポリグリセリルイソステアラート、例えばGoldschmidt社によりIsolan GI 34の名称で市販されている製品、ソルビタンイソステアラート、例えばICI社によりArlacel 987の名称で市販されている製品、ソルビタングリセリルイソステアラート、例えばICI社によりArlacel 986の名称で市販されている製品、及びこれらの混合物が挙げられる。
【００９５】
Ｏ／Ｗエマルションのための乳化剤としては、非イオン性乳化剤、例えばソルビタンのオキシアルキレン化（とりわけポリオキシエチレン化）脂肪酸エステル；オキシアルキレン化（オキシエチレン化及び／またはオキシプロピレン化）脂肪酸エステル；オキシアルキレン化（オキシエチレン化及び／またはオキシプロピレン化）脂肪アルキルエーテル；糖エステル、例えばスクロースステアラート；糖の脂肪アルキルエーテル、特にポリアルキルグルコシド（ＡＰＧ）、例えば例えばPlantaren 2000及びPlantaren 1200の名称でしれぞれHenkel社により市販されているデシルグルコシド及びラウリルグルコシド、例えばSEPPIC社によりMontanov 68の名称で、Goldschmidt社によりTegocare CG90の名称で、及びHenkel社によりEmulgade KE3302の名称で市販されている、任意にセトステアリルアルコールとの混合物としてのセトステアリルグルコシド、並びにSEPPIC社によりMontanov 202の名称で市販されている、例えばアラキジルアルコール、ベヘニルアルコール、及びアラキジルグルコシドの混合物の形態のアラキジルグルコシドが挙げられる。本発明の一つの特定の実施態様によれば、前述のアルキルポリグルコシドと対応する脂肪アルコールとの混合物は、例えば文献WO-A-92/06778に記載されているように、自己乳化組成物の形態で存在してよい。
【００９６】
エマルションである場合、このエマルションの水性相は、既知の工程にしたがって調製された非イオン性ベシクル分散物を含んでも良い(Bangham, Standish and Watkins, J. Mol. Biol. 13, 238 (1965), FR 2 315 991、及びFR 2 416 008)。
【００９７】
本発明に係る組成物は、特に皮膚、唇、及び／または毛髪の保護及び／またはケア、及び／または皮膚及び／または唇のメイクアップのための、皮膚（頭皮を含む）、唇、及び毛髪、数多くの処理、特に美容的処理における応用が見出される。
【００９８】
本発明の別の主題は、皮膚、唇、爪、毛髪、睫毛、眉毛、及び／または頭皮を処理するための化粧品製品、特にケア製品及びメイクアップ製品の製造のための、上述の本発明に係る組成物の使用からなる。
【００９９】
本発明に係る化粧品組成物は例えば、液体から半液体の顔及び／または身体のためのケア製品及び／または抗日光製品、例えば乳液、多かれ少なかれ濃厚なクリーム、クリーム−ゲル、及びペーストとして使用されて良い。それらは任意にエアゾールとして実装されて良く、ムースまたはスプレーの形態で存在して良い。
【０１００】
本発明によれば、蒸発可能な流体ローションの形態の本発明に係る組成物は、加圧装置によって細かい粒子の形態で皮膚または毛髪に適用される。本発明に係る装置は当業者に周知であり、エアゾールポンプまたは「アトマイザー」、または噴射剤を含むエアゾール容器、並びに噴射剤として圧縮エアを使用するエアゾールポンプを含む。後者のポンプは、米国特許第4 077 441号及び第4 850 517号に記載されている（この明細書の内容の内挿的な一部を形成する）。
【０１０１】
本発明によれば、エアゾール形態に実装された組成物は一般的に、従来の噴射剤、例えばヒドロフルオロ化合物、ジクロロジフルオロメタン、ジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブタン、n-ブタン、プロパン、またはトリクロロフルオロメタンを含む。それらは組成物の全重量に対して15から50重量％の範囲の量で好ましくは存在する。
【０１０２】
本発明を説明する具体的であるが非制限的ではない実施例が以下に提供される。
【実施例】
【０１０３】
組成例１及び２
以下の化合物が調製され、量は重量パーセンテージを表す。
【０１０４】
【表１】
2006117670.tif 000019
【０１０５】
方法：
全ての成分を含む水性相（Ｂ相）を、ウォーターバスで８０℃に加熱する。全ての成分を含む脂肪相（Ａ相）をウォーターバスで８０℃に加熱する。ローターステイター（Moritz社製の機械）で攪拌しながらＡ相をＢ相に乳化する。Ｃ相を取り込ませ、穏やかに攪拌しながら混合物を室温に冷却する。製造の最後で所望の値にｐＨを調節するために、トリエタノールアミンを導入する。
【外国語明細書】
2006117670.tif 000034
2006117670.tif 000035
2006117670.tif 000036
2006117670.tif 000037
2006117670.tif 000038
2006117670.tif 000039
2006117670.tif 000040
2006117670.tif 000041
2006117670.tif 000042
2006117670.tif 000043
2006117670.tif 000044
2006117670.tif 000045
2006117670.tif 000046
2006117670.tif 000047
2006117670.tif 000048
2006117670.tif 000049
2006117670.tif 000050
2006117670.tif 000051
2006117670.tif 000052
2006117670.tif 000053
2006117670.tif 000054
2006117670.tif 000055
2006117670.tif 000056
2006117670.tif 000057
2006117670.tif 000058
2006117670.tif 000059
2006117670.tif 000060
2006117670.tif 000061
2006117670.tif 000062
2006117670.tif 000063
2006117670.tif 000064
2006117670.tif 000065
2006117670.tif 000066
2006117670.tif 000067
2006117670.tif 000068
2006117670.tif 000069
2006117670.tif 000070
2006117670.tif 000071
2006117670.tif 000072
2006117670.tif 000073
2006117670.tif 000074
2006117670.tif 000075
2006117670.tif 000076
2006117670.tif 000077
2006117670.tif 000078
2006117670.tif 000079
2006117670.tif 000080
2006117670.tif 000081
2006117670.tif 000082
2006117670.tif 000083
2006117670.tif 000084
2006117670.tif 000085
2006117670.tif 000086
2006117670.tif 000087
2006117670.tif 000088
2006117670.tif 000089
2006117670.tif 000090
2006117670.tif 000091
2006117670.tif 000092
2006117670.tif 000093
2006117670.tif 000094
2006117670.tif 000095
2006117670.tif 000096
2006117670.tif 000097
2006117670.tif 000098
2006117670.tif 000099
2006117670.tif 000100
2006117670.tif 000101
2006117670.tif 000102