(57)【要約】【課題】基板が配置されるステージを改善させることにより、ローラーに巻き付けられたラビング布の損傷を防止することができる液晶表示装置製作用のラビング装置を提供すること。【解決手段】基板２３０を載せるステージ２１０と、基板２３０上にコーティングされた化合物膜を擦って配向膜を形成するローラー２２０とを具備し、ステージ２１０は、基板２３０を吸着し、ローラー２２０が基板２３０に加える圧力に応じて上下移動が可能な吸着手段２１２と、基板２３０の周辺に配置され、基板２３０の側面と接触する部分が高く形成された傾斜面を有し、基板２３０とステージ２１０の間に形成された段差を緩和する段差緩和手段２１１とを具備している。【選択図】図２Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載せるステージと、
前記基板上にコーティングされた化合物膜を擦って配向膜を形成するローラーとを具備する液晶表示装置製作用のラビング装置において、
前記ステージは、
前記基板を吸着し、前記ローラーが前記基板に加える圧力に応じて上下移動が可能な吸着手段と、
前記基板の周辺に配置され、前記基板の側面と接触する部分が高く形成された傾斜面を有し、前記基板と前記ステージの間に形成された段差を緩和する段差緩和手段とを具備することを特徴とする液晶表示装置製作用のラビング装置。
【請求項２】
前記段差緩和手段は、前記基板の大きさに応じて前後又は／及び左右方向に移動が可能な複数のパーツを備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置製作用のラビング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置製作用のラビング装置に関し、特に、基板を載せるステージを改善させたラビング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示装置(以下、ＬＣＤと称する)の液晶セルの形成工程は、カラーフィルター層及び共通電極が形成されたカラーフィルター基板と薄膜トランジスター(以下、ＴＦＴと称する)及び画素電極が形成されたＴＦＴ基板との間に液晶を注入し、液晶を封入した２つの基板を含む層状構造に駆動回路を加えて画像表示が可能な液晶セルを製作する工程を言う。このような液晶セル形成工程は、液晶分子の配向のための配向膜形成工程、セルキャップ(Cap)形成工程、液晶注入工程、及び偏光フィルム付着工程などに分けることができる。
【０００３】
このうち、配向膜形成工程では、人為的に有機高分子膜を基板上に形成し、そして該有機高分子膜を機械的にラビング処理する。このラビング処理は、基板上にポリイミド(Polyimide)系高分子複合材料を塗布して形成された均一な膜を、機械的ラビング装置を利用して一定の方向に擦ることを意味する。このようなラビングをすると、基板上の液晶分子はラビング方向に整列する。
【０００４】
このようなラビング処理のためのラビング装置は、フラットな基板を載せるステージと、基板をラビングするローラーと、を具備する。
【０００５】
図１は、従来の、基板をラビングするラビング装置の平面図である。
【０００６】
図１に示されているように、従来のラビング装置はステージ１１０とローラー１２０を具備する。ステージ１１０に基板１３０が載せられると、ローラー１２０は一定の方向に基板１３０をラビングする。
【０００７】
しかし、ローラー１２０が基板１３０をラビングするために基板１３０に向けて移動し始める時、基板１３０とステージ１１０との間に形成された一定高さの段差は、棉やレーヨン(rayon)系纎維のウールで作られた、ローラー１２０に巻き付けられたラビング布を損傷することがある。さらに、このような損傷によって生成される異物が基板１３０に四散することがある。特に、基板１３０の端が平坦ではない場合、さらに多い量の異物が生成されて基板１３０に四散することがある。このような異物が基板１３０にまき散らされると、ＬＣＤの品質が低下するという問題が発生する。そのため、四散した異物を除去するために、通常基板１３０上に形成された配向膜を除去して再度膜形成及びラビングをする。しかし、このような再作業は、また、ＬＣＤ製作に要する時間と費用を増加させてしまうという問題を生じさせる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、本発明は、上記した従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、本発明の目的は、基板を載せるステージを改善することで、ＬＣＤ製作に要する経費と時間を減少させ、且つハイクオリティーのＬＣＤ製作が可能なラビング装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の問題を解決するために、本発明に係る液晶表示装置製作用のラビング装置は、基板を載せるステージと、前記基板上にコーティングされた化合物膜を擦って配向膜を形成するローラーとを具備するラビング装置であって、前記ステージは、前記基板を吸着し、前記ローラーが前記基板に加える圧力に応じて上下移動が可能な吸着手段と、前記基板の周辺に配置され、前記基板の側面と接触する部分が高く形成された傾斜面を有し、前記基板と前記ステージの間に形成された段差を緩和する段差緩和手段とを具備することを特徴とする。
【００１０】
また、好ましくは、前記段差緩和手段は、前記基板の大きさに応じて前後又は／及び左右方向に移動が可能な複数のパーツを備える。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る液晶表示装置製作用のラビング装置によれば、ローラーに巻き付けられたラビング布が損傷されることを防止して、損傷により発生した異物が基板に四散することを減少させることができる。これにより、ハイクオリティーのＬＣＤを製作しつつ、四散した異物除去のために必要な時間と経費を減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施の形態を詳しく説明する。
【００１３】
図２Ａは、本発明の１実施の形態に係る、基板をラビングするラビング装置の側断面図である。
【００１４】
図２Ａに示されているように、ラビング装置はステージ２１０とローラー２２０を具備している。図２Ａでは、ラビング装置によってラビングされる基板２３０がステージ２１０上に置かれている。
【００１５】
ステージ２１０はさらに、段差緩和器２１１と吸着器２１２を具備する。段差緩和器２１１は、基板２３０の側面と接触する部分が高く形成された傾斜面を有し、ローラー２２０が基板２３０を擦るために基板２３０上に移動する時、基板２３０とステージ２１０との間に形成された一定高さの段差を緩和し、ローラー２２０がこの段差に引っ掛かる、又はこの段差によって損傷されることなく基板２３０上に滑らかに移動することを可能にする。段差緩和器２１１は、ゴム(Rubber)、又はテフロン(Teflon)などのような弾性材料、又は高分子化合物または金属が添加された弾性材料により製作されることができる。これにより、従来と異なって、ラビング時に基板２３０の端によって発生される異物の散乱が顕著に減少する。また、吸着器２１２は吸入口２１３を通じて基板２３０を吸着し、ラビング時にローラー２２０が基板２３０に加える圧力に応じて上下に移動する。
【００１６】
ラビング装置が基板２３０をラビングする一連の過程は次の通りである。
【００１７】
まず、吸着器２１２が基板２３０を吸入口２１３を通じて吸着する。すなわち、吸着器２１２が基板２３０を吸着して該基板２３０をステージ２１０に据えるのである。次に、段差緩和器２１１を基板２３０の端の外側に、基板２３０の端の側面と接触するように配置し、そしてローラー２２０が段差緩和器２１１の上を通ってステージ２１０上から基板２３０上に移動する。その後、移動したローラー２２０が基板２３０をラビングする。これにより、基板２３０上に液晶分子の初期配列方向が決定される。ローラー２２０が基板２３０をラビングする間に、吸着器２１２はローラー２２０が基板２３０に加える圧力に応じて上下に移動する。
【００１８】
図２Ｂは、本発明の１実施の形態に係る、基板をラビングするラビング装置の平面図である。
【００１９】
図２Ｂに示されているように、ラビング装置はステージ２１０と、ローラー２２０を具備し、ラビング装置のステージ２１０上に基板２３０が置かれている。段差緩和器２１１は基板２３０の周囲に基板２３０を取り囲むように配置されている。
【００２０】
ラビング装置が基板２３０をラビングする一連の過程は前述したと同様である。
【００２１】
図３は、本発明の他の実施の形態に係るラビング装置の平面図であり、ラビング装置の段差緩和器が基板の大きさに応じて調整可能になっている。
【００２２】
図３に示されているように、ラビング装置はステージ３１０と、ローラー３２０を具備し、ラビング装置のステージ３１０には基板３３０が置かれている。特に、段差緩和器３１１は、４つの分離可能なバー(bar)で構成されており、４つのバーが、基板３３０の大きさに応じて左右または／及び前後方向に移動調整されて基板３３０を取り囲むことができる。
【００２３】
ラビング装置が基板３３０をラビングする一連の過程は前述したと同様である。
【００２４】
次に、従来の装置と本発明に係るラビング装置を比較し、そして本発明の優位性について説明する。
【００２５】
図１に示した従来のラビング装置では、ローラー１２０は基板１３０とステージ１１０との間に形成された一定高さの段差をそのまま通らなければならない。その結果、段差によってローラーに巻き付けられたラビング布が損傷されて、損傷時に発生される異物が基板に四散する可能性がある。
【００２６】
しかし、図２Ａ、図２Ｂ、及び図３に示された本発明のラビング装置では、基板２３０、３３０とステージ２１０、３１０との間に形成された一定高さの段差が段差緩和器２１１、３１１によって緩和され、ローラー２２０、３２０はこの段差をそのまま通る必要がなくなった。すなわち、段差緩和器２１１、３１１を通ってローラー２２０、３２０が基板２３０、３３０上に移動するので、段差によって発生したローラー２２０、３２０に巻き付けられたラビング布の損傷を防止し、その結果損傷時に発生される異物の散乱を減少させることができる。
【００２７】
以上では、本発明の実施の形態を詳細に説明したが、本発明は上記説明した実施の形態に限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば本発明の思想と精神を離れることなく、上記実施の形態を修正または変更できるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】従来のラビング装置の平面図である。
【図２Ａ】本発明の１実施の形態に係るラビング装置の側断面図である。
【図２Ｂ】本発明の１実施の形態に係るラビング装置の平面図である。
【図３】本発明の他の実施の形態に係るラビング装置の平面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１１０、２１０、３１０  ステージ
１２０、２２０、３２０  ローラー
１３０、２３０、３３０  基板
２１１、３１１  段差緩和器
２１２  吸着器
２１３  吸入口
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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