(57)【要約】【課題】低温域（250℃付近）及び高温域（350℃付近）の広範囲の温度域で触媒活性が高く、かつ、低コスト化及び小スペース化した排ガス浄化用触媒を提供する。また、簡易な方法で、広範囲の温度域で触媒活性の高い排ガス浄化用触媒が得られる排ガス浄化用触媒の調製方法を提供する。【解決手段】  同一の多孔質体Ｃ上に、粒径が1nm〜5nmである触媒Ｉ粒子２と粒径が10 nm〜30nmである触媒II粒子３とが担持され、かつ、触媒Ｉ粒子２及び触媒II粒子３は、貴金属Ａ粒子、又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子から形成されることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一の多孔質体Ｃ上に、粒径が1nm〜5nmである触媒Ｉ粒子と粒径が10 nm〜30nmである触媒II粒子とが担持され、かつ、前記触媒Ｉ粒子及び触媒II粒子は、貴金属Ａ粒子、又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子から形成されることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
【請求項２】
前記触媒Ｉは、前記触媒Ｉと前記触媒IIとを含む全体の触媒量に対して、50％以上の割合で混合されていることを特徴とする請求項１記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項３】
前記貴金属Ａは、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Ce及びAuの中から選択される少なくとも一種の元素であることを特徴とする請求項１記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項４】
前記遷移金属Ｂは、Mn、Fe、Co、Ni、Cu及びZnの中から選択される少なくとも一種の元素であることを特徴とする請求項１記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項５】
前記多孔質体Ｃは、Al2O3、CeO2、ZrO2、SiO2、TiO2、シリカアルミナ、酸化タングステン及び酸化バナジウムの中から選択される少なくとも一種の化合物であることを特徴とする請求項１記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項６】
逆ミセル法を用いて貴金属Ａ粒子又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子から各々形成し、粒径が異なる触媒Ｉ粒子と触媒II粒子とを同一の多孔質体Ｃ上に担持することを特徴とする排ガス浄化用触媒の調製方法。
【請求項７】
逆ミセル法を用いて逆ミセル溶液中のミセル内部で貴金属Ａ粒子又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子を析出させた後、前記ミセル内部で多孔質酸化物前駆体を不溶化又は沈殿させて、粒径が1nm〜5nmの前記貴金属Ａまたは前記貴金属Ａと前記遷移金属Ｂの複合粒子を有する触媒Ｉ前駆体を調製する第１の工程と、
逆ミセル法を用いて逆ミセル溶液中のミセル内部で貴金属Ａ粒子又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子を析出させた後、前記ミセル内部で多孔質酸化物前駆体を不溶化又は沈殿させて、粒径が10nm〜30nmの前記貴金属Ａまたは前記貴金属Ａと前記遷移金属Ｂの複合粒子を有する触媒II前駆体を調製する第２の工程と、
前記第１の工程及び第２の工程で調製した粒径が異なる前記触媒Ｉ前駆体と前記触媒II前駆体とを混合して、同一基材上に触媒Ｉ粒子及び触媒II粒子を同時に析出させる工程と、を含むことを特徴とする排ガス浄化用触媒の調製方法。
【請求項８】
さらに、前記ミセルを崩壊して、得られた沈殿物を焼成する焼成工程を含むことを特徴とする請求項７記載の排ガス浄化用触媒の調製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、自動車等の移動体に搭載され、排ガス中に含まれるCO、HC及びNOxなどの有害成分を浄化する排ガス浄化用触媒及びその調製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
排ガス中に含まれるCO、HC、NOxなどの有害成分を浄化する排ガス浄化用触媒の開発が、従来から各種進められている。
【０００３】
排ガス浄化用触媒に流入する排ガスの温度は、エンジンに供給される空気とガソリン燃料との比率（空燃比（A/F比））に応じて変動する。A/F比＝14.7付近（理論空燃比）では、空気とガソリンとが完全燃焼して燃焼温度が高くなるが、A/F比が理論空燃比よりも低くなると、燃焼温度が低下して排ガスの温度も低下する。低温の排ガスが排ガス浄化用触媒中に流入すると、活性サイトの貴金属が活性化温度よりも低温となり、触媒性能が低下して排ガス浄化率が下がる要因となる。このため、低温域での触媒活性を高めることが触媒性能を向上させる点で重要な課題となっている。
【０００４】
例えば、酸化物基材上に、Pd、Pt、Rh等の貴金属と、Fe、Co、Ni等の遷移金属と、を複合担持した飽和炭化水素酸化用触媒が開示されている（例えば、特許文献１参照）。飽和炭化水素酸化用触媒によれば、一部の貴金属と遷移金属との複合体を形成するため、互いの粒成長を抑制して耐久性を高めるだけでなく、貴金属の熱的安定性が高まり、低温域での飽和炭化水素の酸化活性を向上することができる。
【０００５】
しかし、特許文献１記載の発明では、一部の貴金属と遷移金属とにより複合体を形成して貴金属の熱的安定性を高めたにすぎず、複合体の粒径を調製したものではなかった。このため、排ガス浄化用触媒に流入する排ガス温度が低温域であれば高い触媒活性が得られるが、排ガス温度が高温域になると触媒活性が低下してしまう恐れがあった。
【０００６】
そこで、貴金属粒子を微粒子化する逆ミセル法を用いて、粒径を制御した貴金属粒子を基材に担持した触媒が開示されている。この触媒は、具体的には、排ガス（高温ガス）の流通方向に配置した触媒装置に使用されており、排ガスの流動方向の上流側、即ち、エンジン直下に粒径が大である第１の触媒を配置し、第１の触媒の下流側に、第１の触媒よりも粒径が小である第２の触媒を配置して、触媒装置を構成している（例えば、特許文献２参照）。本触媒装置によれば、エンジン直下に粒径が大である第１の触媒を配置することにより、排ガスの熱を各触媒に伝えて、速やかに活性化温度まで昇温することができる。
【特許文献１】特開２００２−１１３３６７号公報（第３頁）
【特許文献２】特開２００３−３１１１２８号公報（第３頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献２記載の発明では、逆ミセル法を用いて貴金属粒子の粒径を正確に制御したものであるが、高温ガスの流動方向に、粒径の異なる貴金属粒子を担持した第１の触媒と第２の触媒との両者を個別に設置する必要があった。このため、製造コストが高騰すると共に、各触媒を設置する広いスペースが必要となっていた。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、本発明の排ガス浄化用触媒は、同一の多孔質体Ｃ上に、粒径が1nm〜5nmである触媒Ｉ粒子と粒径が10 nm〜30nmである触媒II粒子とが担持され、かつ、触媒Ｉ粒子及び触媒II粒子は、貴金属Ａ粒子、又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子から形成されることを要旨とする。
【０００９】
本発明の排ガス浄化用触媒の調製方法は、逆ミセル法を用いて貴金属Ａ粒子又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子から各々形成し、粒径が異なる触媒Ｉ粒子と触媒II粒子とを同一の多孔質体Ｃ上に担持することを要旨とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の排ガス浄化用触媒によれば、低温域（250℃付近）及び高温域（350℃付近）の広範囲の温度域で触媒活性が高く、かつ、低コスト化及び小スペース化を図ることができる。
【００１１】
本発明の排ガス浄化用触媒の調製方法によれば、簡易な方法で、低温域（250℃付近）及び高温域（350℃付近）の広範囲の温度域で触媒活性の高い排ガス浄化用触媒を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態に係る排ガス浄化用触媒及びその調整方法について、図１及び図２を用いて説明する。
【００１３】
図１は、排ガス浄化用触媒の構成を説明する概略図である。図１に示す排ガス浄化用触媒１は、同一の多孔質体Ｃ上に、粒径が1nm〜5nmである触媒Ｉ粒子２と粒径が10 nm〜30nmである触媒II粒子３とが担持されており、触媒Ｉ粒子２と触媒II粒子３とは、貴金属Ａ粒子、又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子から形成されている。
【００１４】
このように粒径1nm〜5nmの触媒Ｉ粒子２と粒径10 nm〜30nmの触媒II粒子３とを同一の多孔質体Ｃ上に担持することにより、低温域及び高温域での触媒活性を高めて、排ガスの浄化率を向上させたものである。また、同一の多孔質体Ｃ上に粒径の異なる触媒粒子を担持して触媒活性を高めたため、製造コストを低減できるだけでなく設置場所の小スペース化を図ることができる。
【００１５】
低温域において触媒活性が高まった理由は、粒径が大である触媒II粒子３が効率的に熱を蓄え、すなわち、熱を蓄えるホットポイントして機能し、周囲に分散した触媒Ｉ粒子２に熱を与えて、触媒Ｉ粒子２が活性温度に達するまでの時間が促進されたためであると考えられる。このため、排ガス温度が低下した場合であっても、粒径が小である触媒Ｉ粒子２の触媒活性を抑制することができ、触媒全体を高温に保持することができ、この結果、低温域でも触媒活性を高めることができる。なお、触媒II粒子３をホットポイントとして使用するためには、特に、触媒II粒子３の粒径を20nm以上とすることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の実施の形態に係る排ガス浄化用触媒１は、高温域（350℃）においても高い触媒活性を得ることができるが、この理由は、触媒Ｉ粒子２の粒径を1nm〜5nmに調製することにより、単位面積あたりの活性サイト数が増加したからであると考えられる。なお、触媒Ｉ粒子２の粒径が5nmを超えると単位面積あたりの活性サイト数が減少し、高温域での触媒活性が低下するため上記範囲の粒径とすることが好ましい。
【００１７】
また、上記排ガス浄化用触媒において、触媒Ｉは、触媒Ｉと前記触媒IIとを含む全体の触媒量に対して、50％以上の割合で混合されることが好ましい。この理由は、全体の触媒量に対して触媒II粒子の比率が高くなると、高温域での触媒活性が低下してしまうからである。なお、実際、排ガス浄化用触媒１の使用温度に応じて、触媒Ｉ粒子２と触媒II粒子３との混合比率を変える必要がある。具体的に、250℃から350℃までの広範囲の温度域で使用する場合には、触媒Ｉ粒子２と触媒II粒子３との混合割合（触媒Ｉ粒子：触媒II粒子）は、３:１とすることが好ましい。
【００１８】
さらに、触媒Ｉ粒子２及び触媒II粒子３は、単独の貴金属Ａから形成するだけでなく、貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子から形成しても良い。遷移金属Ｂは、焼成後に酸化物を形成して基材と反応する場合もあるが、貴金属Ａのシンタリングを抑制する効果や還元雰囲気下での貴金属Ａへのスピルオーバ効果等が得られ、排ガスの浄化率を高められたものと考えられる。
【００１９】
上記排ガス浄化用触媒を形成する貴金属Ａは、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Ce及びAuの中から選択される少なくとも一種の元素であることが好ましい。また、遷移金属Ｂは、Mn、Fe、Co、Ni、Cu及びZnの中から選択される少なくとも一種の元素であることが好ましい。さらに、多孔質体Ｃは、Al2O3、CeO2、ZrO2、SiO2、TiO2、シリカアルミナ、酸化タングステン及び酸化バナジウムの中から選択される少なくとも一種の化合物であることが好ましい。なお、貴金属Ａ、遷移金属Ｂ及び多孔質体Ｃは、選択可能な金属、酸化物の種類を示したものであり、少なくとも１種を用いることが好ましいが、１種類に限定されるものではない。また、製造する触媒の用途や種類に応じて最適な貴金属Ａを選択することもできる。例えば、貴金属ＡとしてPt、遷移金属ＢとしてCo、多孔質体ＣとしてAl2O3を用いた排ガス浄化用触媒とすることが好ましい。
【００２０】
また、貴金属Ａを２種類の元素から形成しても良く、この場合には、後述するように、同一のミセル内部にPt塩とRh塩とを混合した溶液を用いて、多孔質体の表面又は内部にPt-Rhを製造することができる。
【００２１】
さらに、上記排ガス浄化用触媒を用いて触媒層を形成することができる。
【００２２】
なお、本発明の実施形態に係る排ガス浄化用触媒は、排ガスを浄化する用途に限定されるものではなく、燃料電池用の触媒として利用できることはもちろんである。
【００２３】
[排ガス浄化用触媒の調製方法]
本発明の実施の形態に係る排ガス浄化用触媒の製造方法は、基本的に、逆ミセル法を用いて貴金属Ａ粒子又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子から各々形成し、活性成分の粒径が異なる触媒Ｉ粒子と触媒II粒子とを同一の多孔質体Ｃ上に担持するものである。さらに具体的には、逆ミセル法を用いて逆ミセル溶液中のミセル内部で粒径が1nm〜5nmの貴金属Ａ粒子又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子を析出させた後、ミセル内部で多孔質酸化物前駆体を不溶化又は沈殿させた触媒Ｉ前駆体を調製する第１の工程と、逆ミセル法を用いて逆ミセル溶液中のミセル内部で粒径が10nm〜30nmの貴金属Ａ粒子又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子を析出させた後、ミセル内部で多孔質酸化物前駆体を不溶化又は沈殿させた触媒II前駆体を調製する第２の工程と、を含む。その後、第１の工程と第２の工程とにより調製した粒径の異なる触媒Ｉ前駆体と触媒II前駆体とを混合して、同一基材上に触媒Ｉ粒子及び触媒II粒子を同時に析出させる工程を経た後、ミセルを崩壊して、得られた沈殿物を焼成する（焼成工程）。
【００２４】
図２は、本発明の実施の形態に係る排ガス浄化用触媒の調整方法の概略的な工程を示す図である。なお、多孔質体Ｃ上に担持する触媒Ｉ粒子及び触媒II粒子として、貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子とした例を挙げて説明する。
【００２５】
まず、有機溶媒中に界面活性剤と水とを混合し、界面活性剤から形成される逆ミセルを多数形成し、有機溶媒中に複数の逆ミセルを分散した逆ミセル溶液を調製する。調製した逆ミセル溶液中に、貴金属Ａ塩水溶液と遷移金属Ｂ塩水溶液とを混合した後、還元剤を投入し、同一の逆ミセルの内部で、貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子を同時に析出させる。すると、図２(a)に示すように、界面活性剤により構成された球状の逆ミセル４内部に水相５が形成され、水相５中に貴金属Ａと遷移金属Ｂとの複合粒子が析出する。析出した複合粒子の粒径は、1nm〜5nmの触媒Ｉ粒子である。
【００２６】
次に、シクロヘキサンなどの有機溶媒中に多孔質酸化物前駆体（例えば、アルミニウムイソプロポキシド等）を分散した混合溶液を作製し、この混合溶液を図２(a)に示す逆ミセルを多数含有する逆ミセル溶液中に混合する。すると、図２(b)に示すように、逆ミセルの内部に多孔質酸化物前駆体が含まれる。多孔質酸化物前駆体としてアルミニウムイソプロポキシド等のアルコキシドを逆ミセル溶液中に混合すると、アルコキシドは逆ミセル４内の水相５に進入すると同時に加水分解されて、直ちに水酸化アルミニウム等の水酸化物が形成される。
【００２７】
また、前述した方法と同様の方法を用いて、界面活性剤と水とのモル比RW（[水]/[界面活性剤]）を制御して、図２の（c）及び（d）に示すように粒径が10 nm〜30nmである触媒II粒子を調製した。
【００２８】
その後、一つの容器内に、図２(b)に示す逆ミセルを含有する逆ミセル溶液と、図２(d)に示す逆ミセルを含有する逆ミセル溶液と、を混合した後、逆ミセル溶液中に、例えば、メタノール（CH3OH）等のアルコールを添加し、逆ミセルを崩壊して沈殿物とする。
【００２９】
得られた沈殿物を水及びアルコールにより不純物を洗浄し、その後、120℃で12時間以上乾燥する。さらに、乾燥後に得られた粉末を、400℃の空気気流下で1時間焼成する。すると、図２(e)に示すように、同一の多孔質体Ｃ上に、粒径が1nm〜5nmである触媒Ｉ粒子２と、粒径が10 nm〜30nmである触媒II粒子３と、が担持される。
【００３０】
上記排ガス浄化用触媒の調製方法において、基材は、金属アルコキシドの加水分解物により包接する方法（包接法）を用いて形成したが、本方法に限定されるものではない。例えば、多孔質酸化物の前駆体塩水溶液と多孔質酸化物の前駆体塩を水酸化物として沈殿又は不溶化させて沈殿剤又は不溶化剤を混合し、その後に焼成して、多孔質酸化物の表面又は内部に貴金属及び金属化合物を担持する方法である。
【００３１】
上記排ガス浄化用触媒の調製方法において、反応場として２つの逆ミセル溶液を用いて粒径の異なる貴金属粒子を調製する。粒径の異なる貴金属Ａ又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子は、それぞれ逆ミセルの内部で基材成分の水酸化物により包接した後、同一溶液中に混合し焼成することで同一基材上に２種類の粒径の異なる活性サイトを有する触媒を調製することができる。
【００３２】
貴金属Ａ又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子の粒径は、逆ミセルの粒径を調製すると共に、内包する貴金属Ａ濃度、貴金属Ａ及び遷移金属Ｂを析出させる還元剤の種類や量を調節することにより決定することができる。なお、逆ミセルの粒径は、界面活性剤と水とのモル比RW（RW （[水]/[界面活性剤]））により制御することができる。逆ミセルの粒径を1 nm〜5nmの範囲とするためには、モル比をRW＜5とすることが好ましく、逆ミセルの粒径を10 nm〜20nmの範囲とするためには、RWを10<RW≦20とすることが好ましい。これは、モル比（RW）が20を超えると逆ミセルが不安定となり、逆ミセル内部で貴金属Ａ又は貴金属Ａと遷移金属Ｂとを含む複合粒子を析出させることができないからである。
【００３３】
以下、上記排ガス浄化用触媒の調製方法において使用する材料を説明する。
【００３４】
逆ミセル溶液の油相としては、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、ヘプタノール、オクタノール、ドデシルアルコール、セチルアルコール、イソオクタン、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−デカン、ベンゼン、トルエン、キシレン等を使用することができる。また、これらの２種以上の混合溶液を用いても良く、例えば、貴金属Ａを含むミセルと遷移金属Ｂを含むミセルの油相を異なる溶液を用いて調製しても良い。
【００３５】
逆ミセル溶液の界面活性剤としては、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ラウリン酸マグネシウム、カプリン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、ナトリウムフェニルステアレート、アルミニウムジカプリレート、テトライソアミルアンモニウムチオシアネート、ｎ−オクタデシルトリｎ−ブチルアンモニウム蟻酸塩、
ｎ−アミルトリｎ−ブチルアンモニウムヨウ化物、ナトリウムビス（２−エチルヘキシル）琥珀酸塩、ナトリウムジノニルナフタレンスルホネート、カルシウムセチルサルフェート、ドデシルアミンオレイン酸塩、ドデシルアミンプロピオン酸塩、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジドデシルジメチルアンモニウムブロマイド、ジテトラデシルジメチルアンモニウムブロマイド、ジドデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジテトラデシルジメチルアンモニウムクロライド、（2−オクチルオキシ−1−オクチルオキシメチル）ポリオキシエチレンエチルエーテル等を使用することができる。また、これらの２種以上の混合溶液を用いて良く、例えば、貴金属Ａを含むミセルと遷移金属Ｂを含むミセルとの界面活性剤を異なる溶液を使用して調製しても良い。
【００３６】
多孔質酸化物前駆体としては、硝酸アルミニウム、硝酸セリウム、チタンテトライソプロポキシド、オルトケイ酸テトラエチル、アンモニウムイソプロポキシド等を用いることができる。また、多孔質酸化物の耐熱性を高めるために、硝酸アルミニウムと硝酸セリウム、硝酸アルミニウムと硝酸ランタン等を混合して用いることもできる。
【００３７】
貴金属塩としては、例えば、ジニトロジアンミンPt(II)硝酸酸性水溶液、ヘキサクロロPt（IV）酸溶液、ヘキサアンミンPt（IV）テトラクロライド溶液、塩化Pd水溶液、硝酸パラジウム水溶液、ジニトロジアンミンPdジクロライド溶液、塩化ロジウム溶液、硝酸ロジウム溶液、塩化ルテニウム溶液、硝酸ルテニウム溶液、ヘキサクロロイリジウム酸水溶液等を使用することができる。
【００３８】
沈殿剤としては、アンモニア水、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、水酸化ナトリウム等、遷移金属Ｂの水酸化物が得られるものを用いることができる。
【００３９】
還元剤としては、ヒドラジン、ホウ素化水素ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、クエン酸、クエン酸ナトリウム、L−アスコルビン酸、水素化ホウ素ナトリウム、ギ酸、ホルムアルデヒド、メタノール、エタノール、エチレン、ビタミンＢ等を使用することができる。また、これらの２種以上の混合溶液を用いても良い。
【００４０】
以下、実施例及び比較例を用いて具体的に説明するが、本発明の排ガス浄化用触媒は、例示した実施例に限定されるものではないことはもちろんである。
【実施例】
【００４１】
[実施例１]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水38.9mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.6ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００４２】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水酸化ホウ素ナトリウム0.03ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００４３】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００４４】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水286.1mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００４５】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.3ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００４６】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００４７】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール1000mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥し、空気雰囲気中において400℃で焼成して、Al2O3 １ｇに対してPtが3wt％担持された触媒粉末を得た。
【００４８】
[実施例２]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水40.3mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.178ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００４９】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.009ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００５０】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン20mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００５１】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水286.1mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００５２】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.3ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００５３】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００５４】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール1000mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥し、空気雰囲気中において400℃で焼成して、Al2O3１gに対してPtが3wt％担持された触媒粉末を得た。
【００５５】
[実施例３]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水40.3mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.178ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００５６】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.09ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００５７】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００５８】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン0.5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）33gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水26.8mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.18ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００５９】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水酸化ホウ素ナトリウム0.03ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００６０】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド2gをシクロヘキサン8mlに分散して、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００６１】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール500mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥して、空気雰囲気中において400℃で焼成し、Al2O3１gに対してPtが3wt％担持された触媒粉末を得た。
【００６２】
[実施例４]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水40.4mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.06ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００６３】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.003ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００６４】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン20mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００６５】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水286.1mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００６６】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.3ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００６７】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン20mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００６８】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール1000mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥後に、空気雰囲気中において400℃で焼成した後、Al2O3１gに対してPtが3wt％担持された触媒粉末を得た。
【００６９】
[実施例５]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水40.3mlで希釈した20.76％硝酸パラジウム0.24ｇを混合し、2時間撹拌してPdイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００７０】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.054ｇを添加してPdイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPdメタルを含む溶液を得た。
【００７１】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPdメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPdメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００７２】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水269mlで希釈した20.76％硝酸パラジウム0.74ｇを混合し、2時間撹拌してPdイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００７３】
次に、Pdイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.55ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPdメタルを含む溶液を得た。
【００７４】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPdメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPdメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００７５】
容器内で、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノールを1000ml添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥し、空気雰囲気中において400℃焼成して、触媒粉末を得た。
【００７６】
[実施例６]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水40.5mlで希釈した20.76％硝酸パラジウム0.02ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００７７】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液に水素化ホウ素ナトリウム0.005ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPdメタルを含む溶液を得た。
【００７８】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPdメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００７９】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水269mlで希釈した20.76％硝酸パラジウム0.74ｇを混合し、2時間撹拌してPdイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００８０】
次に、Pdイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.55ｇを添加してPdイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPdメタルを含む溶液を得た。
【００８１】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPdメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPdメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００８２】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール1000mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥し、空気雰囲気中において400℃で焼成して、触媒粉末を得た。
【００８３】
[実施例７]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）を330g添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水40.4mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.06ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００８４】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.003ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【００８５】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン20mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００８６】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水267mlで希釈した5.76％硝酸ロジウム2.68ｇを混合し、2時間撹拌してRhイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００８７】
次に、Rhイオンを含む逆ミセル溶液中に水素化ホウ素ナトリウム0.57ｇを添加してRhイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にRhメタルを含む溶液を得た。
【００８８】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にRhメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でRhメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００８９】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール1000mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥し、空気雰囲気中において400℃で焼成して、触媒粉末を得た。
【００９０】
[実施例８]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、イオン交換水40.4mlで各々希釈した貴金属Ａとして8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.06ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸コバルト0.124ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００９１】
次に、PtイオンとCoイオンを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.068ｇを添加して、PtイオンとCoイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液を得た。
【００９２】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタル、Coメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００９３】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、イオン交換水268mlで各々希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸コバルト1.3ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００９４】
次に、PtイオンとCoイオンを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン2.63ｇを添加して、PtイオンとCoイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液を得た。
【００９５】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタル、Coメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【００９６】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール1000mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥後に、空気雰囲気中において400℃で焼成した後、触媒粉末を得た。
【００９７】
[実施例９]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、イオン交換水40.4mlで各々希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.06ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸コバルト0.124ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液を調製した。
【００９８】
次に、PtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.068ｇを添加してPtイオンとCoイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液を得た。
【００９９】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタル、Coメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１００】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン0.5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）を33g添加した後、イオン交換水26.7mlで各々希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.18ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸コバルト0.13ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１０１】
次に、PtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.067ｇを添加してPtイオンとCoイオンとをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液を得た。
【０１０２】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタル、Coメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１０３】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール500mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥後に、空気雰囲気中において400℃で焼成した後、触媒粉末を得た。
【０１０４】
[実施例１０]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、イオン交換水40.4mlで各々希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.06ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸ニッケル0.14ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１０５】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.068ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【０１０６】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１０７】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、イオン交換水40.4mlで各々希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸ニッケル1.5ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１０８】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.789ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【０１０９】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１１０】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール500ml添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥後に、空気雰囲気中において400℃で焼成した後、触媒粉末を得た。
【０１１１】
[実施例１１]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、イオン交換水40.4mlで各々希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.06ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸鉄0.2ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１１２】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.068ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【０１１３】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１１４】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、イオン交換水40.4mlで各々希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸鉄2.09ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１１５】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.789ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【０１１６】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１１７】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール500mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥し、空気雰囲気中において400℃で焼成して、触媒粉末を得た。
【０１１８】
その後、前述した実施例１から実施例１１までの各実施例で得られた各触媒粉末を用いて、触媒粉末50ｇ、ベーマイト10ｇ、10％硝酸含有水溶液157ｇをアルミナ製磁性ポットに各々投入して、アルミナボールとともに振とう粉砕し、実施例１から実施例１１までの各触媒スラリを得た。得られた各スラリをコージェライト製のハニカム担体（900セル/2.5ミル、容量0.06L）に投入し、空気流下にて余剰スラリを除去して120℃で乾燥した後、400℃の空気気流中で焼成して各実施例の触媒を得た。
【０１１９】
[比較例１]
ジニトロジアミンPt硝酸酸性水溶液（Pt濃度8.46wt％）0.06ｇと硝酸コバルト1.34ｇとを分散させた水溶液中に、酸化アルミニウム（γ−Al2O3）1ｇを投入して約1時間攪拌した後、150℃で12時間乾燥させて純水を除去し、空気流通下400℃で焼成して触媒粉末を調製した。
【０１２０】
また、ジニトロジアミンPt硝酸酸性水溶液（Pt濃度8.46wt％）1.83ｇと硝酸コバルト1.34gとを分散させた水溶液中に、酸化アルミニウム（γ−Al2O3）1gを投入して約1時間攪拌した後、150℃で12時間乾燥させて純水を除去し、空気流通下700℃で焼成して触媒粉末を調製した。
【０１２１】
調製した各触媒粉末を重量比1：1で混合し、400℃で焼成して触媒粉末を得た。
【０１２２】
その後、得られた触媒粉末500ｇ、ベーマイト50ｇ、10％硝酸含有水溶液1570ｇをアルミナ製磁性ポットに投入し、アルミナボールとともに振とう粉砕し、触媒スラリを得た。更に、得られた触媒スラリをコージェライト製のハニカム担体（900セル/2.5ミル）に投入し、空気流にて余剰スラリを除去した後、120℃で乾燥し、その後、400℃の空気気流中で焼成して比較例1の触媒を得た。
【０１２３】
[比較例２]
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水40.32mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇを混合し、2時間攪拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１２４】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.0039ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【０１２５】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１２６】
調製した触媒前駆体にメタノール500mlを添加して逆ミセルを崩壊した後、ろ過、乾燥し、空気雰囲気中において400℃で焼成した後、触媒粉末を得た。
【０１２７】
その後、得られた触媒粉末50ｇ、ベーマイト10ｇ、10％硝酸含有水溶液157ｇをアルミナ製磁性ポットに投入し、アルミナボールとともに振とう粉砕し、触媒スラリを得た。更に、得られた触媒スラリをコージェライト製のハニカム担体（900セル/2.5ミル、容量0.06L）に投入し、空気流下にて、余剰スラリを除去して120℃で乾燥した後、400℃の空気気流中で焼成して比較例2の触媒を得た。
【０１２８】
[比較例３]
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、貴金属Ａとしてイオン交換水269mlで希釈した8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇを混合し、2時間撹拌してPtイオンを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１２９】
次に、Ptイオンを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.397ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液を得た。
【０１３０】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１３１】
調製した触媒前駆体にメタノール500mlを添加して逆ミセルを崩壊した後、ろ過、乾燥し、空気雰囲気中において400℃で焼成した後、触媒粉末を得た。
【０１３２】
その後、得られた触媒粉末50ｇを用いて、比較例2と同様の処理を行い、比較例3の触媒を得た。
【０１３３】
[比較例４]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、それぞれイオン交換水39.8mlで希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.6ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸コバルト0.124ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１３４】
次に、PtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン0.102ｇを添加してPtイオンとCoイオンとをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液を得た。
【０１３５】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタル、Coメタルを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１３６】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、それぞれイオン交換水39.8mlで希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液1.83ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸コバルト1.3ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１３７】
次に、PtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液中にヒドラジン2.63ｇを添加してPtイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液を得た。
【０１３８】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散し、これを逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルとCoメタルとを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１３９】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール1000mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥後に、空気雰囲気中において400℃で焼成した後、触媒粉末を得た。
【０１４０】
その後、得られた触媒粉末50ｇを用いて、比較例２と同様に処理して比較例4の触媒を得た。
【０１４１】
[比較例５]
触媒Ｉの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、それぞれイオン交換水40.4mlで希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液0.06ｇと、遷移金属Ｂとしての硝酸コバルト0.124ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１４２】
次に、PtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液にヒドラジン0.068ｇを添加してPtイオンとCoイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液を得た。
【０１４３】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散して、これを逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルとCoメタルとを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１４４】
触媒IIの調製
溶媒であるシクロヘキサン5Lに界面活性剤としてポリエチレングリコール-モノ4-ノニルフェニルエーテル（NP5）330gを添加した後、それぞれイオン交換水266mlで希釈した貴金属Ａとしての8.46％ジニトロジアミン白金溶液3.1ｇと、遷移金属Ｂとして硝酸コバルト1.3ｇとを混合し、2時間撹拌してPtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液を調製した。
【０１４５】
次に、PtイオンとCoイオンとを含む逆ミセル溶液にヒドラジン2.91ｇを添加してPtイオンとCoイオンをメタル化し、逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液を得た。
【０１４６】
多孔質体Ｃとしてアルミニウムイソプロポキシド20gをシクロヘキサン80mlに分散してこれを逆ミセル溶液内にPtメタル、Coメタルを含む溶液に滴下し、逆ミセル内でPtメタルとCoメタルとを水酸化アルミニウムで包接した溶液を得た。
【０１４７】
容器内に、調製した触媒前駆体Ｉと触媒前駆体IIとを入れて混合し、2時間撹拌した後、メタノール1000mlを添加して逆ミセルを崩壊した。その後、ろ過、乾燥後に、空気雰囲気中において400℃で焼成した後、触媒粉末を得た。
【０１４８】
その後、得られた触媒粉末50ｇを用いて、比較例２と同様に処理して比較例4の触媒を得た。
【０１４９】
上記方法から得られた実施例１〜実施例１１及び比較例１〜比較例５の各触媒について、触媒耐久試験を行った後、触媒の性能を評価した。
【０１５０】
[触媒耐久試験]
触媒耐久試験は、各触媒をマッフル炉内に配置し、空気流通下、700℃の温度で30時間焼成した。
【０１５１】
[触媒の性能評価]
触媒耐久試験を行った耐久後の触媒を切断し、触媒容量40ccについて各色倍の性能を評価した。なお、触媒の性能評価は、反応ガスとして、酸素量と還元剤量とが等しいストイキの組成としたガスを使用し、反応ガス流量40L/分、反応ガス温度を250℃及び350℃として、表１に示す成分の反応ガスを使用した。
【表１】
2006021141.tif 000003
【０１５２】
このうち触媒入口NOx濃度と出口NOx濃度とが安定した時点で、その比からNOx浄化率を算出し、反応ガス温度を250℃及び350℃とした場合におけるCO浄化率（％）を表２に示した。
【表２】
2006021141.tif 000004
【０１５３】
表２に示すように、比較例１では、触媒Ｉ及び触媒IIの粒径が本発明の範囲外であり、また含浸法を用いて触媒を調製したため、低温域（250℃）及び高温域（350℃）でのCO浄化率がいずれも低下していた。また、比較例２及び比較例３では、粒径は本発明の範囲内であったが、触媒Iのみから触媒を構成したため低温域（250℃）におけるCO浄化率がいずれも低下していた。さらに、比較例４では触媒Ｉの粒径が大きく、また、比較例５では触媒IIの粒径が本発明の範囲を外れていたため、いずれも低温域（250℃）において触媒活性が低下してしまうことが判明した。
【図面の簡単な説明】
【０１５４】
【図１】本発明の実施の形態に係る排ガス浄化用触媒の構成を説明する概略図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る排ガス浄化用触媒の調製方法の各工程を説明する概略図である。
【符号の説明】
【０１５５】
１…排ガス浄化用触媒,
２…触媒Ｉ粒子,
３…触媒II粒子,
【図１】
2006021141.tif 000005
【図２】
2006021141.tif 000006