(57)【要約】【課題】  インクが塗布されてなる塗布膜の厚みを均一化すること、又はインクが塗布されてなる塗布領域の輪郭を滑らかにすることができる表示装置の製造方法及び成膜方法を提供する。【解決手段】  非表示領域である遮光領域ＡＲ１１において、表示領域ＡＲ１０との境界に沿った領域ＡＲ１２に第１のインクの液滴を噴射することにより第１のインクを塗布し、第１の遮光膜を形成する工程と、遮光領域ＡＲ１１の境界に囲まれた全域に第２のインクの液滴を噴射することにより第２のインクを塗布し、第２の遮光膜を形成する工程とを備える。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非表示領域である遮光領域において、表示領域との境界に沿った領域に第１のインクの液滴を噴射することにより第１のインクを塗布し、第１の遮光膜を形成する工程と、
前記遮光領域の前記境界に囲まれた全域に第２のインクの液滴を噴射することにより第２のインクを塗布し、第２の遮光膜を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１の遮光膜を形成する工程は、前記第１のインクを塗布し、この塗布された第１のインクを乾燥させる工程であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
基板上の成膜領域の輪郭に沿って第１のインクの液滴を噴射することにより第１のインクを塗布し、第１の薄膜を形成する工程と、
前記成膜領域内の全域に第２のインクの液滴を噴射することにより第２のインクを塗布し、第２の薄膜を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする薄膜の成膜方法。
【請求項４】
前記成膜領域の輪郭には曲線を含み、前記第１の薄膜を形成する工程は、前記曲線を含む輪郭に沿って前記第１のインクを塗布する工程であることを特徴とする請求項３に記載の薄膜の成膜方法。
【請求項５】
前記第１のインクを塗布し、この塗布された第１のインクを乾燥させることにより前記第１の薄膜を形成した後に、前記第２のインクを塗布することにより前記第２の薄膜を形成することを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の薄膜の成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばカラーフィルタの周囲に遮光膜が成膜されてなる液晶表示パネル等の表示装置の製造方法及びその遮光膜等の薄膜の成膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
パーソナルコンピュータ等においては、その表示装置として液晶ディスプレイが用いられている。この液晶ディスプレイの製造工程においては、ノズルから微小な液滴を噴射するようになされたいわゆるインクジェット塗布装置（特許文献１参照）を用いて、透明基板上にR（赤）、G（緑）、B（青）の各色のインクを順次塗布することにより、これら各色のドットが順次配列されてなるカラーフィルタを作成するようになされている。
【０００３】
カラーフィルタの周囲には、バックライトからの光を遮光するための遮光領域が設けられている。このような遮光領域においては、例えば黒色のインクを領域内の全面に塗布することにより、表示領域の周囲においてバックライトからの不要な光を遮光するようになされている。
【０００４】
また、例えばシリコンウエハ上に形成された半導体パターンなどの不良を光学的に検出する検査装置においては、検査の対象外である下地のパターンをマスクするためのマスクパターンが形成されたフィルタを検査装置の光学系の一部に介挿して下地のパターンが検出されないようになされている。このようなフィルタにおいては、マスクするパターンに応じてフィルタ上にインクを塗布することにより、遮光膜であるマスクパターンを形成するようになされている。このようなマスクパターンを形成する方法として、インクジェット塗布装置によりインクを塗布する方法が考えられている。
【０００５】
インクジェット塗布装置においては、インクを噴射するためのノズルが複数設けられたインクジェットヘッドと塗布対象である基板とを相対的に移動させながらインクの塗布位置においてインクを噴射させるようになされている。このようなインクの塗布位置の制御においては、予め想定されたＸＹ平面上の格子状のポイントを塗布位置とするようになされている。
【特許文献１】特開２００４−１１１０７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
カラーフィルタに形成される遮光領域のように、領域全体に亘って遮光効果を得る必要がある場合、領域全体に一定以上の膜厚が要求される。しかしながら、領域全体を一括して塗布したのでは、周辺部と中心部とにおいてインクの膜厚に差が生じる場合がある。例えばインクの乾燥速度が速い場合には、塗布されたインクの周辺の膜厚が厚くなり中心部の膜厚が薄くなる。これに対してインクの乾燥速度が遅い場合、周辺の膜厚が薄くなり中心部の膜圧が厚くなる。
【０００７】
また、インクジェット塗布装置においては、ＸＹ座標系で表される仮想的な格子状のポイントにインクを噴射して塗布するようになされている。従って、例えば図１２（ａ）に示すように、曲線を含む輪郭を有する領域ＡＲ１に対してインクを塗布する場合には、実際にインクが塗布された際の輪郭は、滑らかな曲線とはならずに階段状となる。
【０００８】
図１２（ｂ）に示すように、階段状となる部分に塗布するインクの液滴量を少なくすることにより、着弾径の小さなインクドットｄ１を塗布して階段状の段差部分を滑らかにする方法も考えられる。しかしながらこの方法においても、液滴の着弾位置はあくまでも格子状のポイントに設定されるため、インクが塗布された領域の輪郭に段差が生じることを避け得なかった。
【０００９】
本発明は、このような技術的課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、インクが塗布されてなる塗布膜の厚みを均一化し、かつインクが塗布されてなる塗布領域の輪郭を滑らかにすることができる表示装置の製造方法及び薄膜の成膜方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の実施の形態に係る第１の特徴は、表示装置の製造方法において、非表示領域である遮光領域において、表示領域との境界に沿った領域に第１のインクの液滴を噴射することにより第１のインクを塗布し、第１の遮光膜を形成する工程と、遮光領域の境界に囲まれた全域に第２のインクの液滴を噴射することにより第２のインクを塗布し、第２の遮光膜を形成する工程とを備えることである。
【００１１】
本発明の実施の形態に係る第２の特徴は、薄膜の成膜方法において、基板上の成膜領域の輪郭に沿って第１のインクの液滴を噴射することにより第１のインクを塗布し、第１の薄膜を形成する工程と、成膜領域内の全域に第２のインクの液滴を噴射することにより第２のインクを塗布し、第２の薄膜を形成する工程とを備えることである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、インクが塗布されてなる塗布膜の厚みを均一化し、かつインクが塗布されてなる塗布領域の輪郭を滑らかにすることを可能とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
（第１の実施の形態）
[インクジェット塗布装置の全体構成]
図１に示すように、本発明の第１の実施の形態に係るインクジェット塗布装置１は、ノズルからインクの液滴を噴射するインクジェットヘッド４２を用いて基板３０にインクを塗布するインク塗布ボックス３と、このインク塗布ボックス３にインクを補給するインク補給ボックス４とを備えている。
【００１５】
インク塗布ボックス３においては、架台２の上面にＹ軸方向ガイド板２０が固定されており、このＹ軸方向ガイド板２０の上面には、Ｙ軸方向に複数のガイド溝２１が延設されている。このガイド溝２１にはＹ軸方向移動テーブル２２の下面に設けられたガイド用の突起部（図示せず）が係合され、これによりＹ軸方向移動テーブル２２は、ガイド溝２１にガイドされてＹ軸方向に移動自在に支持されている。このＹ軸方向移動テーブル２２は、Ｙ方向移動モータ（図示せず）を用いた駆動機構によりガイド溝２１に沿ってＹ軸方向に移動される。
【００１６】
またＹ軸方向移動テーブル２２の上面には、Ｘ軸方向に複数のガイド溝（図示せず）が延設されている。このガイド溝には、Ｘ軸方向移動テーブル２３の下面に設けられたガイド用の突起部（図示せず）が係合され、これによりＸ軸方向移動テーブル２３は、このガイド溝にガイドされてＸ軸方向に移動自在に支持されている。このＸ軸方向移動テーブル２３は、Ｘ方向移動モータ（図示せず）を用いた駆動機構によりガイド溝に沿ってＸ軸方向に移動される。
【００１７】
Ｘ軸方向移動テーブル２３の上面には、基板保持テーブル２６が固定されており、この基板保持テーブル２６の上面には把持機構２７により、インクの塗布対象である基板３０を把持して固定し得る。なお基板３０の固定方法は、把持機構２７による把持に代えて、例えば吸着機構により吸着する方法を用いるようにしてもよい。
【００１８】
基板保持テーブル２６のＸ方向への移動量は、Ｘ方向エンコーダ（図示せず）のパルス状の出力信号に基づいて検出することができ、基板保持テーブル２６のＹ方向への移動量は、Ｙ方向エンコーダ（図示せず）のパルス状の出力信号に基づいて検出することができる。
【００１９】
またインク塗布ボックス３において、架台２の上面には、インクジェットヘッドユニット４０がＸ軸方向、Ｙ軸方向及び上下方向であるＺ軸方向に移動自在に支持されている。
【００２０】
すなわちインク塗布ボックス３において、架台２の上面には、Ｙ軸方向スライド板２０を挟む位置に１組のコラム３３ａ、３３ｂが立設されており、このコラム３３ａ、３３ｂの上部にはＸ方向ガイド板３５が横架されている。
【００２１】
Ｘ方向ガイド板３５の前面には、Ｘ方向にガイド溝３６が延設されており、このガイド溝３６には、複数のインクジェットヘッドユニット４０を垂設するベース板４１の突起部が係合されている。これによりベース板４１は、このガイド溝３６にガイドされてＸ軸方向に移動自在に支持されている。このベース板４１は、ヘッドユニット移動用モータ（図示せず）を用いた駆動機構によりガイド溝３６に沿ってＸ軸方向に移動される。
【００２２】
インク塗布ボックス３においては、インクジェット塗布装置１の動作を制御する制御部１０により、これらＹ方向移動テーブル２２のＹ軸方向への移動、Ｘ方向移動テーブル２３のＸ軸方向への移動及びベース板４１のＸ軸方向への移動をそれぞれ制御し、これにより基板保持テーブル２６に保持された基板３０とベース板４１に垂設されたインクジェットヘッドユニット４０との相対位置を種々に変化させることができる。
【００２３】
またベース板４１には、複数（例えば３つ）のインクジェットヘッドユニット４０が垂設されており、このインクジェットヘッドユニット４０において、その下端部に設けられたインクジェットヘッド４２により下方にインクを噴射するようになされている。これら複数のインクジェットヘッドユニット４０は、それぞれ同一の構成を有する。
【００２４】
図２に示すように、インクジェットヘッドユニット４０においては、ベース板４１に支持され、移動部４４ａをＺ方向（上下方向）に移動自在に支持するＺ方向移動機構４４と、このＺ方向移動機構４４の移動部４４ａに支持され、移動部４５ａをＹ方向に移動自在に支持するＹ方向移動機構４５と、このＹ方向移動機構４５の移動部４５ａに支持され、回転部４６ａをＺ方向周りの回転方向であるθ方向に回転自在に支持するθ方向回転機構４６と、このθ方向回転機構４６の回転部４６ａに垂下されるインクジェットヘッド４２とを有し、Ｚ方向移動機構４４によりインクジェットヘッド４２の位置を基板３０に対してＺ方向に調整することができると共に、Ｙ方向移動機構４５によりインクジェットヘッド４２の位置を基板３０に対してＹ方向に調整することができる。また、θ方向回転機構４６によりインクジェットヘッド４２の向きを基板３０に対してθ方向に回転させることができる。なお、Ｙ方向移動機構４５及びＺ方向移動機構４４には、それぞれヘッド調整用モータ（図示せず）が設けられ、これらによりインクジェットヘッド４２をモータ駆動によってＹ方向、Ｚ方向へ移動させることができる。また、θ方向回転機構４６には、θ方向回転モータ（図示せず）が設けられており、これによりインクジェットヘッド４２をモータ駆動によってθ方向に回転させることができる。またインクジェットヘッド４２のθ方向への回転量は、θ方向エンコーダ（図示せず）のパルス状の出力信号に基づいて検出することができる。
【００２５】
このようにインクジェットヘッドユニット４０においては、基板保持テーブル２６に対するインクジェットヘッド４２の位置を種々に調整することができる。
【００２６】
図３に示すように、このインクジェットヘッドユニット４０の下端部に設けられたインクジェットヘッド４２において、その下方に向けられたノズル面４８には複数のノズルがそれぞれノズル噴射口５０を下方に向けるようにして一定の間隔を隔てて直列に穿設されている。
【００２７】
インクジェットヘッド４２の内部には、各ノズルに連通してなるインクタンクが設けられており、このインクタンクの上面には各ノズル毎にダイアフラム及び圧電素子が設けられている。制御部１０からの噴射制御信号によってこの圧電素子を駆動させることにより、インクタンク内の圧力を変化させて該インクタンク内のインクをノズルより噴射させるようになされている。インクジェットヘッドユニット４０では、このようにしてノズル噴射口から下方にインクを噴射させることにより、インクジェットヘッド４２の下方において基板保持テーブル２６に保持された基板３０の上面にインクを塗布する。
【００２８】
[制御部の構成]
次に、インクの塗布処理を制御する制御部１０について説明する。図４に示すように、制御部１０においては、基板保持テーブル２６及びインクジェットヘッド４２を移動制御すると共にインクジェットヘッド４２におけるインクの噴射を制御するインク噴射制御回路１１が設けられている。このインク噴射制御回路１１には、Ｘ方向移動モータ、Ｙ方向移動モータ及びθ方向回転モータを駆動させるための駆動回路１２が接続されている。
【００２９】
また制御部１０には、Ｙ方向エンコーダ及びＸ方向エンコーダの各パルス出力をそれぞれカウントするＹ方向カウンタ１３及びＸ方向カウンタ１４が設けられており、これらのカウンタは、Ｘ方向エンコーダ、Ｙ方向エンコーダから出力されるパルスの数のカウント結果が予め設定されるカウント値に達したときに該カウント値に達したことを表すカウント結果信号をインク噴射制御回路１１に送出する。また制御部１０には、θ方向エンコーダのパルス出力をカウントするθ方向カウンタ１５が設けられており、このカウンタは、θ方向エンコーダから出力されるパルスの数のカウント結果が予め設定されるカウント値に達したときに該カウント値に達したことを表すカウント結果信号をインク噴射制御回路１１に送出する。
【００３０】
これによりインク噴射制御回路１１は、各モータに対して駆動信号を送出した際に基板保持テーブル２６が予め設定される移動量だけ移動したか否かをＹ方向カウンタ１３及びＸ方向カウンタ１４からそれぞれ出力されるカウント結果信号に基づいて判断することができ、またインクジェットヘッド４２が予め設定される回転量だけ回転したか否かをθ方向カウンタ１５から出力されるカウント結果信号に基づいて判断することができる。
【００３１】
インク噴射制御回路１１にはメモリ装置１７が接続されており、このメモリ装置１７には、インクジェットヘッド４２の各ノズルの圧電素子に印加する電圧波形のデータ及び各インクドット毎のインク噴射条件に関するパラメータが予め記憶される。メモリ装置１７は、これらの電圧波形データ及びパラメータを各インクドット位置を表すデータに対応させて記憶している。このメモリ装置１７としては、例えば書き換え可能なＥＰＲＯＭ（イレイザブル・プログラマブル・ロム）が用いられる。
【００３２】
ノズルの圧電素子に印加される電圧波形を変化させることにより、インクジェットヘッド４２のノズルから噴射されるインクの液滴量を制御可能であることから、各インクドット位置に応じて最適な液滴量となる電圧波形データがメモリ装置１７に記憶される。
【００３３】
インク噴射制御回路１１には、インクジェットヘッド４２の各ノズルの圧電素子に電圧を印加するためのノズル駆動回路１８が接続されており、インク噴射制御回路１１は、基板３０に対するインクジェットヘッド４２の相対位置がインク塗布位置に到達した際に、メモリ装置１７に記憶されているそのインク塗布位置（インクドット位置）に対応した電圧波形データを読み出してノズル駆動回路１８に送出する。ノズル駆動回路１８は、電圧波形データに基づいて電圧を発生させてノズルに印加する。これにより基板３０のインク塗布位置に到達したインクジェットヘッド４２のノズルからインクを噴射させることができる。
【００３４】
なおインクジェットヘッド４２においては、複数のノズル毎に圧電素子が設けられており、インクを噴射するインクドット位置ごとに使用するノズルが予めメモリ装置１７に記憶されている。このようにメモリ装置１７においては、各インクドット位置のデータと、このインクドット位置に対応して使用するノズルと、このノズルの圧電素子に印加する電圧波形のデータとが記憶されており、インク噴射制御回路１１は、メモリ装置１７に記憶されているこれらのデータを用いて基板３０に対するインクの塗布処理を実行する。
【００３５】
ここで、インクジェット塗布装置１においては、この塗布処理に先立って、基板３０における各インクドット位置について、インクを噴射するノズルを決定し、このノズルをインクドット位置に対応させてメモリ装置１７に記憶させる。
【００３６】
この実施の形態においては、図５（ａ）に示すように、液晶ディスプレイのカラーフィルタを構成する基板３０の周囲の非表示領域ＡＲ１１の全面に黒色のインクを塗布して遮光膜を形成する場合について説明する。非表示領域ＡＲ１１とは、液晶ディスプレイの画像表示領域ＡＲ１０の周囲のバックライトの光を遮光する領域を意味する。
【００３７】
非表示領域ＡＲ１１へのインクの塗布方法としては、図５（ｂ）に示すように、非表示領域ＡＲ１１における表示領域ＡＲ１０との境界Ｋ１に沿った輪郭領域ＡＲ１２を塗布することにより第１の遮光膜を形成した後、輪郭領域ＡＲ１２に囲まれた輪郭内領域ＡＲ１３を全面塗布することにより第２の遮光膜を形成する。
【００３８】
このような輪郭領域ＡＲ１２を塗布する際の各インクドット位置とノズルとの対応と、輪郭内領域ＡＲ１３を塗布する際の各インクドット位置とノズルとの対応とをそれぞれメモリ装置１７に予め記憶させる。
【００３９】
[インク塗布処理]
インクドット位置とノズルとの対応がメモリ装置１７に記憶された状態において、インク塗布処理を開始すると、インク噴射制御回路１１は、輪郭領域ＡＲ１２の塗布工程に入り、インクドット位置とノズルとの対応に基づいて基板保持テーブル２６を移動させながら、インクジェットヘッド４２のノズルからインクの液滴を順次噴射させることにより、基板保持テーブル２６に保持された基板３０の輪郭領域ＡＲ１２におけるインクドット位置にインクの液滴を順次塗布する。
【００４０】
この結果、図６（ａ）に示すように、非表示領域ＡＲ１１における輪郭領域ＡＲ１２が塗布されて表示領域ＡＲ１０と非表示領域ＡＲ１１との境界Ｋ１が形成される。インク噴射制御回路１１は、輪郭領域ＡＲ１２が塗布された後、輪郭内領域ＡＲ３のインクドット位置とノズルとの対応に基づいて基板保持テーブル２６を移動させながら、インクジェットヘッド４２のノズルからインクの液滴を順次噴射させることにより、輪郭内領域ＡＲ１３におけるインクドット位置にインクの液滴を順次塗布する。これにより図６（ｂ）に示すように、輪郭に囲まれた輪郭内領域ＡＲ１３にインクが全面塗布される。
【００４１】
図７（ａ）に示すように、輪郭領域ＡＲ１２に塗布されたインク膜３１は、輪郭内領域ＡＲ１３のように広い領域を塗布する場合に比してインクが比較的乾燥し易い状態となる。そしてこの輪郭領域ＡＲ１２に対してインクが塗布された後に、輪郭内領域ＡＲ１３に対してインクの液滴を全面塗布する。これにより図７（ｂ）に示すように、輪郭内領域ＡＲ１３に塗布されたインク膜３２においては、輪郭内領域ＡＲ１３の周囲においてある程度乾燥した輪郭領域ＡＲ１２のインク膜３１によってインクが流れ広がらないように堰き止められる。これにより非表示領域ＡＲ１１に形成される遮光膜は、その断面形状のばらつきが少なくなり、遮光膜全体として膜厚が不均一となることを抑制することができる。
【００４２】
このように膜厚の不均一が抑制された遮光膜においては、バックライトからの光の漏れを一様に防止することができる。
【００４３】
本発明の第１の実施の形態に係るインクジェット塗布装置１においては、非表示領域ＡＲ１１における表示領域ＡＲ１０との境界に沿った輪郭領域ＡＲ１２にインクの液滴を塗布した後、輪郭領域ＡＲ１２に囲まれた輪郭内領域ＡＲ３にインクの液滴を全面塗布することにより、遮光膜の膜厚が不均一となることを抑制することができる。
【００４４】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態に係るインクジェット塗布装置１は、例えば半導体パターンの検査装置の光学系に介挿されるフィルタを製造する場合に、ガラス基板上において、曲線を含んだ輪郭をなす遮光膜形成領域にインクの液滴を塗布することにより、遮光膜でなるマスクパターンを成膜する。
【００４５】
この場合、図８（ａ）に示すように、インクジェット塗布装置１は、基板上における遮光膜を形成する遮光膜形成領域ＡＲ２１の曲線をなす輪郭に沿って矢印Ｒで示す方向にインクの液滴を順次塗布することにより、輪郭領域ＡＲ２２にインクによる第１の薄膜を成膜した後、図８（ｂ）に示すように、輪郭領域ＡＲ２２に囲まれた輪郭内領域ＡＲ２３において矢印Ｙで示す方向にインクの液滴を順次塗布することにより、この輪郭内領域ＡＲ２３の全域にインクによる第２の薄膜を形成する。これにより、図８（ｃ）に示すように、遮光膜形成領域ＡＲ２１の全面にインク膜を形成する。
【００４６】
輪郭領域ＡＲ２２にインクの液滴を順次塗布する場合の各インク塗布位置（インクドット位置）を表す位置データは、Ｘ方向及びＹ方向に一定間隔で仮想的に設定された格子点上の位置に限らず、格子点間の種々の位置に設定される。例えば図９（ａ）に示すように、輪郭に沿って第１の塗布位置Ｐ１及びこれに続く第２の塗布位置Ｐ２が設定される場合、これらの塗布位置Ｐ１、Ｐ２は、格子点上の位置に限らず輪郭に合わせて設定される。インクジェット塗布装置１の制御部１０は、メモリ装置１７に記憶されたこのような位置データに基づいてインクジェットヘッド４２を基板に対して矢印Ｅ方向に相対移動させる。この場合、図９（ｂ）に示すように、移動方向Ｅとして、Ｘ方向にｘ１、Ｙ方向にｙ１だけ移動させる必要があり、制御部１０は、このＸ方向の移動量及びＹ方向の移動量をそれぞれ第１の塗布位置Ｐ１及び第２の塗布位置Ｐ２を表すデータに基づいて算出する。制御部１０は、この算出結果に基づいて、基板保持テーブル２６をＸ方向に移動させるためのＸ方向移動モータをＸ方向エンコーダの出力パルスに基づいてｘ１だけ移動させ、またＹ方向に移動させるためのＹ方向移動モータをＹ方向エンコーダの出力パルスに基づいてｙ１だけ移動させる。これによりインクジェットヘッド４２を、基板３０に対して相対的に矢印Ｅ方向に移動させることができる。
【００４７】
このように本実施の形態に係るインクジェット塗布装置１においては、インクの塗布位置を格子点上に限らず種々の位置に設定するようにしたことにより、この位置データに基づいて基板保持テーブル２６を移動させれば、基板に対向するインクジェットヘッド４２を、遮光膜形成領域ＡＲ２１の曲線を含む輪郭に沿って矢印Ｒ方向に相対移動させることができる。そして各インク塗布位置においてインクの液滴を噴射させることにより、図８（ａ）に示すように、遮光膜形成領域ＡＲ２１の輪郭に沿ってインクの液滴を順次塗布することができる。
【００４８】
一方、輪郭内領域ＡＲ２３にインクの液滴を塗布する場合の各インク塗布位置（インクドット位置）を表す位置データは、Ｘ方向及びＹ方向に一定間隔で仮想的に設定された格子点上に設定される。これにより、図１０（ｂ）に示すように、制御部１０は、メモリ装置１７に記憶されたこれらの位置データに基づいて基板保持テーブル２６を移動させることにより、インクジェットヘッド４２を基板に対して矢印Ｙ１、Ｙ２で示す方向に順次相対移動させる。そして格子点上に設定された各インク塗布位置においてインクの液滴を噴射させることにより、インクの液滴を輪郭内領域ＡＲ２３の格子点上に順次塗布することができる。
【００４９】
なお本実施の形態においては、図１１（ａ）に示すように、輪郭領域ＡＲ２２に順次インクの液滴を塗布する際に、基板上に着弾した隣り合うインクドット同士が重なり合うようにすることで、隣り合うインクドット３５の段差ｈを小さくする。例えば図１１（ｂ）に示すように、隣り合うインクドット３５の塗布位置のピッチをインクドット３５の着弾径Ｄとした場合には、液滴同士が重ならず、段差ｈはＤ／２（Ｄは着弾径）となる。これに対して、図１１（ａ）に示すように、インクドット３５の塗布位置のピッチをＤ（３１／２）／２以下とすることにより、段差ｈをＤ／４以下とすることができる。制御部１０においては、段差ｈをＤ／４以下とするインク塗布位置をメモリ装置１７に記憶させておき、この塗布位置に対してインクを塗布する。これにより塗布されたインクドットの段差ｈを小さくすることができ、インクドット３５が配列してなる輪郭領域ＡＲ２２の外形形状を滑らかにすることができる。この輪郭領域ＡＲ２２の外形形状は、遮光膜形成領域ＡＲ２１の輪郭を形成するものであり、この外形形状を滑らかにすることで遮光膜の輪郭を滑らかに形成することができる。
【００５０】
本発明の第２の実施の形態に係るインクジェット塗布装置１においては、遮光膜形成領域ＡＲ１１の輪郭に沿ってインクの液滴が塗布された後、この輪郭に囲まれた輪郭内領域ＡＲ２３の全面にインクの液滴が塗布される。これにより輪郭内領域ＡＲ２３に塗布されたインクは、ある程度乾燥した輪郭領域ＡＲ２３のインク膜によって流れ広がらないように堰き止められる。これにより塗布されたインクの膜により形成される遮光膜の膜厚が不均一になることを抑制することができる。
【００５１】
また遮光膜形成領域ＡＲ２１の輪郭に沿ってインクを塗布することにより、輪郭形状が曲線である場合に輪郭を一段と滑らかに形成することができる。
【００５２】
（他の実施の形態）
なお上述の第１及び第２の実施の形態においては、輪郭領域ＡＲ１２、ＡＲ２２に塗布されたインクが自然乾燥した後に輪郭内領域ＡＲ１３、ＡＲ２３を塗布するようにしたが、本発明においてはこれに限られるものではなく、輪郭領域ＡＲ１２、ＡＲ２２に塗布されたインクを強制的に乾燥させるようにしてもよい。この場合、例えば送風機を設けて輪郭領域ＡＲ１２、ＡＲ２２に塗布されたインクを乾燥させる構成又はランプ等の光照射機を設けて輪郭領域ＡＲ１２、ＡＲ２２に塗布されたインクを乾燥させる構成等を適用することができる。光を照射する場合、基板３０には吸収され難くインクには吸収され易い波長の光を照射すれば、照射された光によって基板３０の温度が上昇することを回避することができる。例えば黒色のインクを乾燥させる場合、黒色に吸収され易い可視光を照射すればよい。また発光ダイオード、レーザー照射機を用いて輪郭領域ＡＲ１２、ＡＲ２２のインクを乾燥させるようにしてもよい。
【００５３】
また上述の第１及び第２の実施の形態においては、輪郭領域ＡＲ１２、ＡＲ２２に塗布されるインクと、輪郭内領域ＡＲ１３、ＡＲ２３に塗布されるインクとを同一の沸点を有するインクとした場合について述べたが、本発明においてはこれに限られるものではなく、例えば輪郭領域ＡＲ１２、ＡＲ２２に塗布されるインクとして、輪郭内領域ＡＲ１３、ＡＲ２３に全面塗布されるインクの沸点よりも低いものを用いるようにしてもよい。このようにすれば、輪郭領域ＡＲ１２、ＡＲ２２に塗布されたインクを一段と早く乾燥させることができ、その分、遮光膜の成膜工程に要する時間を短縮することができる。
【００５４】
また上述の第１及び第２の実施の形態においては、基板上にインクを塗布する際に、基板を移動させるようにしたが、インクジェットヘッド４２を移動させるようにしてもよい。
【００５５】
また上述の第１の実施の形態においては、液晶ディスプレイのカラーフィルタの周囲に遮光膜を形成する場合について述べたが、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）等の他の表示装置の遮光膜を形成する場合に適用することができる。
【００５６】
また上述の第２の実施の形態においては、半導体パターンの検査装置の光学系に介挿されるフィルタにマスクパターンを成膜する場合について述べたが、例えば液晶ディスプレイに用いられるフィルタに遮光膜を成膜する場合等に適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るインクジェット塗布装置を示す斜視図である。
【図２】図１のインクジェット塗布装置のインクジェットヘッドユニットを示す斜視図である。
【図３】図１のインクジェット塗布装置のインクジェットヘッドを示す斜視図である。
【図４】図１のインクジェット塗布装置の制御部を示すブロック図である。
【図５】図１のインクジェット塗布装置の塗布対象を示す略線図である。
【図６】図１のインクジェット塗布装置による塗布方法の説明に供する平面図である。
【図７】図６のＢ−Ｂ線を断面にとって示す断面図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係るインクジェット塗布装置による塗布方法の説明に供する略線図である。
【図９】図８の塗布方法の説明に供する略線図である。
【図１０】図８の塗布方法におけるインクジェットヘッドの移動経路を示す略線図である。
【図１１】図８の塗布方法におけるインクドット間の距離の算出方法を示す略線図である。
【図１２】格子点上にインクの液滴を塗布した場合のインクの塗布状態を示す略線図である。
【符号の説明】
【００５８】
１…インクジェット塗布装置、２…架台、３…インク塗布ボックス、４…インク補給ボックス、１０…制御部、１１…インク噴射制御回路、１２…モータ駆動回路、１３…Ｙ方向カウンタ、１４…Ｘ方向カウンタ、１５…θ方向カウンタ、１８…ノズル駆動回路、３０…基板、４０…インクジェットヘッドユニット、４２…インクジェットヘッド、４８…ノズル面、５０…ノズル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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