(57)【要約】  【課題】ラビングむらを効率良く防止できる配向膜のラビング方法を提供する。  【解決手段】配向膜パターン26の周縁に無秩序な周期性のない凹凸形状の無秩序部28を形成する。ラビングローラ32の移動方向Ｂに沿った上流側にアレイパターン７が形成されている。アレイパターン７にて配列が変化したラビングバフ33を無秩序部28で配向膜パターン26のラビング前に無秩序化できる。ラビングバフ33を効率良く整列でき、ラビングバフ33の磨耗を効率良く防止できる。ラビングバフ33によるラビング強度を配向膜パターン26の全体に亘って均一化できる。配向膜パターン26の液晶配向状態の差を防止できる。  【選択図】図１
2006003516.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期性のない凹凸状の周縁部を有する配向膜パターンを基板の一主面に形成し、
ラビングローラにて前記配向膜パターンをラビングする
ことを特徴とする配向膜のラビング方法。
【請求項２】
配向膜パターンと、この配向膜パターンの一側縁に位置し周期性のない凹凸状の周縁部を有する無秩序化パターンとのそれぞれを基板の一主面に形成し、
ラビングローラにて前記無秩序化パターンをラビングしてから前記配向膜パターンをラビングする
ことを特徴とする配向膜のラビング方法。
【請求項３】
周縁部は、点状に形成されている
ことを特徴とする請求項１または２記載の配向膜のラビング方法。
【請求項４】
配向膜パターンを有するアレイ基板と、
配向膜パターンを有しこの配向膜パターンを前記アレイ基板の配向膜パターンに対向させて配設された対向基板と、
この対向基板の配向膜パターンおよび前記アレイ基板の配向膜パターンの間に介挿された液晶層とを具備し、
前記アレイ基板および対向基板の少なくとも一方の配向膜パターンは、周期性のない凹凸状の周縁部を有する
ことを特徴とした液晶表示装置。
【請求項５】
配向膜パターンを有するアレイ基板と、
配向膜パターンを有しこの配向膜パターンを前記アレイ基板の配向膜パターンに対向させて配設された対向基板と、
この対向基板の配向膜パターンおよび前記アレイ基板の配向膜パターンの間に介挿された液晶とを具備し、
前記アレイ基板および対向基板の少なくとも一方の配向膜パターンの一側縁には、周期性のない凹凸状の周縁部を有する無秩序化パターンが設けられている
ことを特徴とした液晶表示装置。
【請求項６】
配向膜パターンを有するアレイ基板と、配向膜パターンを有しこの配向膜パターンを前記アレイ基板の配向膜パターンに対向させて配設された対向基板と、この対向基板の配向膜パターンおよび前記アレイ基板の配向膜パターンの間に介挿された液晶とを具備し、前記アレイ基板および対向基板の少なくとも一方の配向膜パターンが周期性のない凹凸状の周縁部を有する液晶表示装置の製造方法であって、
ラビングローラにて前記周期性のない凹凸状の周縁部を有する配向膜パターンをラビングする
ことを特徴とした液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
配向膜パターンを有するアレイ基板と、配向膜パターンを有しこの配向膜パターンを前記アレイ基板の配向膜パターンに対向させて配設された対向基板と、この対向基板の配向膜パターンおよび前記アレイ基板の配向膜パターンの間に介挿された液晶とを具備し、前記アレイ基板および対向基板の少なくとも一方の配向膜パターンの一側縁には、周期性のない凹凸状の周縁部を有する無秩序化パターンが設けられた液晶表示装置の製造方法であって、
ラビングローラにて前記無秩序化パターンをラビングしてから前記配向膜パターンをラビングする
ことを特徴とした液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
配向膜パターンと、この配向膜パターンの一側縁に位置しこの配向膜パターンをラビングローラにてラビングする際の回転方向に略沿った複数の溝部を有するダミーパターンとのそれぞれを基板の一主面に形成し、
前記ラビングローラにて前記ダミーパターンをラビングしてから前記配向膜パターンをラビングする
ことを特徴とする配向膜のラビング方法。
【請求項９】
ダミーパターンは、配向膜パターンをラビングする際のラビングローラの移動方向に交差する方向に亘って設けられている
ことを特徴とする請求項８記載の配向膜のラビング方法。
【請求項１０】
ダミーパターンの溝部は、ラビングローラの回転方向に交差する方向に亘って複数形成されている
ことを特徴とする請求項８または９記載の配向膜のラビング方法。
【請求項１１】
ダミーパターンは、配向膜パターンと同一材料にて構成されている
ことを特徴とする請求項８ないし１０いずれか記載の配向膜のラビング方法。
【請求項１２】
配向膜パターンを有するアレイ基板と、
配向膜パターンを有しこの配向膜パターンを前記アレイ基板の配向膜パターンに対向させて配設された対向基板と、
この対向基板の配向膜パターンおよび前記アレイ基板の配向膜パターンの間に介挿された液晶とを具備し、
前記アレイ基板および対向基板の少なくとも一方の配向膜パターンの一側縁には、この配向膜パターンをラビングするラビングローラの回転方向に略沿った複数の溝部を有するダミーパターンが設けられた
ことを特徴とした液晶表示装置。
【請求項１３】
配向膜パターンを有するアレイ基板と、配向膜パターンを有しこの配向膜パターンを前記アレイ基板の配向膜パターンに対向させて配設された対向基板と、
この対向基板の配向膜パターンおよび前記アレイ基板の配向膜パターンの間に介挿された液晶とを具備し、前記アレイ基板および対向基板の少なくとも一方の配向膜パターンの一側縁に、この配向膜パターンをラビングローラにてラビングする際の回転方向に略沿った複数の溝部を有するダミーパターンが設けられた液晶表示装置の製造方法であって、
前記ラビングローラの回転方向に沿って前記ダミーパターンをラビングしてから前記配向膜パターンをラビングする
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配向膜パターンをラビングする配向膜のラビング方法、液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の配向膜のラビング方法としては、ガラス基板上に形成した配向膜パターンよりも、この配向膜パターンをラビングする際のラビングローラの回転方向であるラビング方向に沿った上流側のガラス基板上に間隙を介して配向膜ダミーパターンを形成している。そして、この配向膜ダミーパターンよりも上流側のガラス基板上にラビングローラの表面に取り付けられたバフを接触させる。この後、このラビングローラを移動させて、このガラス基板上の配向膜パターンをラビングすることによって、この配向膜パターンのラビングむらや剥がれ、毛ばねなどを配向膜パターンにて防止する構成が知られている(例えば、特許文献１参照。)。
【特許文献１】特開２００３−２８７７５１号公報（第３頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上述した配向膜のラビング方法では、配向膜ダミーパターンを介して配向膜パターンをラビングローラにてラビングしている。このため、この配向膜ダミーパターンによってラビングローラのバフの配列の変化をある程度整列できるが、この配向膜ダミーパターンが配向膜パターンの上流側に間隙を介して設けられているに過ぎないから、ラビングローラのバフの整列が効率良くできない。よって、このラビングローラによる配向膜パターンに対するラビング強度の均一化が容易でないので、この配向膜パターンのラビングむらを効率良く防止することが容易でないという問題を有している。
【０００４】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、ラビングむらを効率良く防止できる配向膜のラビング方法、液晶表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、周期性のない凹凸状の周縁部を有する配向膜パターンを基板の一主面に形成し、ラビングローラにて前記配向膜パターンをラビングするものである。
【０００６】
そして、周期性のない凹凸状の周縁部を有する配向膜パターンを基板の一主面に形成した後、この配向膜パターンをラビングする。このとき、この配向膜パターンの周期性のない凹凸状の周縁部によってラビングローラが効率良く整列される。このため、このラビングローラによる配向膜パターンに対するラビング強度が均一化されるので、この配向膜パターンのラビングむらが効率良く防止される。
【０００７】
また、配向膜パターンと、この配向膜パターンの一側縁に位置し周期性のない凹凸状の周縁部を有する無秩序化パターンとのそれぞれを基板の一主面に形成し、ラビングローラにて前記無秩序化パターンをラビングしてから前記配向膜パターンをラビングするものである。
【０００８】
そして、配向膜パターンと、この配向膜パターンの一側縁に位置し周期性のない凹凸状の周縁部を有する無秩序化パターンとのそれぞれを基板の一主面に形成する。この後、ラビングローラにて無秩序化パターンをラビングしてから配向膜パターンをラビングする。このとき、無秩序化パターンの周期性のない凹凸状の周縁部によってラビングローラが効率良く整列されてから配向膜パターンがラビングされる。したがって、ラビングローラによる配向膜パターンに対するラビング強度が均一化されるので、この配向膜パターンのラビングむらが効率良く防止される。
【０００９】
さらに、配向膜パターンと、この配向膜パターンの一側縁に位置しこの配向膜パターンをラビングローラにてラビングする際の回転方向に略沿った複数の溝部を有するダミーパターンとのそれぞれを基板の一主面に形成し、前記ラビングローラにて前記ダミーパターンをラビングしてから前記配向膜パターンをラビングするものである。
【００１０】
そして、配向膜パターンと、この配向膜パターンの一側縁に位置しこの配向膜パターンをラビングローラにてラビングする際の回転方向に略沿った複数の溝部を有するダミーパターンとのそれぞれを基板の一主面に形成する。この後、このラビングローラにてダミーパターンをラビングしてから配向膜パターンをラビングする。このとき、ダミーパターンの複数の溝部によってラビングローラが効率良く整列されてから配向膜パターンがラビングされる。したがって、ラビングローラによる配向膜パターンに対するラビング強度が均一化されるので、この配向膜パターンのラビングむらが効率良く防止される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、配向膜パターンの周期性のない凹凸状の周縁部によってラビングローラを効率良く整列できるため、このラビングローラによる配向膜パターンに対するラビング強度を均一化できるから、この配向膜パターンのラビングむらを効率良く防止できる。
【００１２】
また、無秩序化パターンの周期性のない凹凸状の周縁部によってラビングローラを効率良く整列させてから配向膜パターンをラビングできるので、ラビングローラによる配向膜パターンに対するラビング強度を均一化できるから、この配向膜パターンのラビングむらを効率良く防止できる。
【００１３】
さらに、ダミーパターンの複数の溝部によってラビングローラを効率良く整列させてから配向膜パターンをラビングできるので、ラビングローラによる配向膜パターンに対するラビング強度を均一化できるから、この配向膜パターンのラビングむらを効率良く防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の液晶表示装置の第１の実施の形態の構成を図１ないし図３を参照して説明する。
【００１５】
図２において、１は平面表示装置としての液晶表示装置である液晶パネルで、この液晶パネル１はアクティブマトリクス型である。そして、この液晶パネル１は、薄膜トランジスタ基板としての電極基板である略矩形平板状のアレイ基板２を備えている。このアレイ基板２は、略透明な矩形平板状の絶縁基板としての透光性基板であるガラス基板３を有している。ここで、このガラス基板３上には、複数の画素６がマトリクス状に設けられている。
【００１６】
さらに、このガラス基板３の一主面である表面には、シリコン窒化膜や酸化シリコン膜などにて構成されたアンダーコート層４が積層されて成膜されている。このアンダーコート層４上には、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:ＴＦＴ)５がマトリクス状に設けられている。この薄膜トランジスタ５は、トップゲート型構造としてのトップゲートタイプであり、ガラス基板上の各画素６のそれぞれに設けられている。すなわち、この薄膜トランジスタ５は、１画素構成要素として配設された半導体素子としてのスイッチング素子である。
【００１７】
ここで、図１および図３に示すように、ガラス基板３上の各画素６が形成されている領域の周縁には、アレイパターン７が積層されて形成されている。このアレイパターン７は、ガラス基板３上の各画素６が形成されている領域よりも外側に設けられている。また、このアレイパターン７は、ガラス基板３のラビングローラ32の移動方向Ｂに沿った上流側に設けられている。
【００１８】
さらに、図２に示すように、薄膜トランジスタ５は、アンダーコート層４上に形成された半導体層としての活性層11を備えている。この活性層11は、多結晶半導体としてのポリシリコン(ｐ−Ｓｉ)にて構成された多結晶半導体層としてのポリシリコン半導体層である。すなわち、この活性層11は、非晶質半導体としてのアモルファスシリコン(ａ−Ｓｉ)をエキシマレーザ溶解結晶化であるアニールしてからパターニングして作成した島状のポリシリコン薄膜である。
【００１９】
また、この活性層11は、チャネル部としてのチャネル領域12を有している。チャネル領域12は、活性層11の長手方向に沿った中央部に設けられている。そして、このチャネル領域12の長手方向に沿った両側部には、ソース領域13およびドレイン領域14のそれぞれが設けられている。これらソース領域13およびドレイン領域14は、チャネル領域12とともに活性層11を形成しており、このチャネル領域12の両側に電気的に接続されている。
【００２０】
そして、これらチャネル領域12、ソース領域13およびドレイン領域14のそれぞれを含むアンダーコート層４上には、絶縁性を有する配線絶縁層としてのシリコン酸化膜であるゲート絶縁膜15が積層されて成膜されている。このゲート絶縁膜15は、活性層11を含むアンダーコート層４上に配置されている。さらに、チャネル領域12に対向したゲート絶縁膜15上には、上面視細長矩形状のゲート電極16が積層されて成膜されている。このゲート電極16は、ゲート絶縁膜15を介してチャネル領域12上に対向して電気的に絶縁されている。
【００２１】
さらに、このゲート電極16を含むゲート絶縁膜15上には、層間絶縁層としての層間絶縁膜17が積層されて成膜されている。そして、この層間絶縁膜17およびゲート絶縁膜15には、これら層間絶縁膜17およびゲート絶縁膜15のそれぞれを貫通した第１の開口部としての導通部である複数のコンタクトホール18,19が開口されて設けられている。ここで、これらコンタクトホール18,19は、薄膜トランジスタ５のゲート電極16の両側に位置する、この薄膜トランジスタ５のソース領域13およびドレイン領域14上に設けられている。そして、コンタクトホール18は、薄膜トランジスタ５のソース領域13に連通して開口している。また、コンタクトホール19は、薄膜トランジスタ５のドレイン領域14に連通して開口している。
【００２２】
さらに、薄膜トランジスタ５のソース領域13に連通したコンタクトホール18を含む層間絶縁膜17上には、ソース電極21が積層されて成膜されている。このソース電極21は、コンタクトホール18を介して薄膜トランジスタ５のソース領域13に電気的に接続されて導通されている。また、薄膜トランジスタ５のドレイン領域14に連通したコンタクトホール19を含む層間絶縁膜17上には、ドレイン電極22が積層されて設けられている。このドレイン電極22は、コンタクトホール19を介して薄膜トランジスタ５のドレイン領域14に電気的に接続されて導通されている。
【００２３】
ここで、これらソース電極21およびドレイン電極22は、ゲート電極16から離間されて、このゲート電極16に対して電気的に絶縁されている。また、これらソース電極21、ドレイン電極22、活性層11、ゲート絶縁膜15、ゲート電極16および層間絶縁膜17によって薄膜トランジスタ５が構成されている。よって、これら各薄膜トランジスタ５は、ガラス基板３上にマトリクス状の半導体層パターンとして形成されている。
【００２４】
さらに、各薄膜トランジスタ５のソース電極21およびドレイン電極22を含む層間絶縁膜17上には、保護膜としてのパッシベーション膜である平坦化膜23が積層されて成膜されている。この平坦化膜23には、この平坦化膜23を貫通した導通部としてのコンタクトホール24が開口されて設けられている。このコンタクトホール24は、薄膜トランジスタ５のドレイン電極22に連通して開口している。そして、このコンタクトホール24を含む平坦化膜23上には、ＩＴＯ薄膜である画素電極25が積層されて成膜されている。この画素電極25は、コンタクトホール24を介してドレイン電極22に電気的に接続されて導通されている。ここで、この画素電極25は、この画素電極25に電気的に接続されたドレイン電極22を有する薄膜トランジスタ５にてオンオフが制御される。
【００２５】
さらに、この画素電極25を含んだ平坦化膜23上には、配向膜パターン26が印刷されて積層されている。この配向膜パターン26は、ポリイミド(polyimide:ＰＩ)樹脂薄膜にて構成されたＰＩパターンである。さらに、この配向膜パターン26は、図１および図３に示すように、ガラス基板３上の各画素６に対応した行列状としてのマトリクス状に設けられている。すなわち、この配向膜パターン26は、ガラス基板３上の各画素６を覆う複数の平面視矩形状の配向膜27にて構成されている。すなわち、この配向膜パターン26は、配向膜27の印刷パターンである。さらに、これら複数の配向膜27は、ガラス基板３の長手方向および幅方向のそれぞれに沿ってそれぞれが等間隔に離間された行列状に設けられている。そして、これら複数の配向膜27にて構成された配向膜パターン26は、細長円筒状のラビングローラ32にてラビング方向Ａに沿って擦られてラビングされる。
【００２６】
さらに、配向膜パターン26を構成する各配向膜27の長手方向および幅方向に沿った境界面である周縁部には、周期性のない凹凸状である無秩序な形状の周縁部としての無秩序部28が形成されている。この無秩序部28は、配向膜パターン26の境界線29に沿って形成されている。言い換えると、この無秩序部28は、配向膜パターン26が印刷されている領域である印刷部26aと、この配向膜パターン26が印刷されていない非印刷物26bとの境界線29に沿って設けられている。
【００２７】
また、この無秩序部28は、大きさおよび配列のそれぞれにおいて規則性および周期性のないメッシュ状としての点状である。言い換えると、この無秩序部28は、各配向膜27の周縁部に沿った直線状や曲線状ではない形状であり、これら配向膜27の印刷部26aと、非印刷物26bとの境界線29を曖昧にしてぼかすように形成されている。すなわち、この無秩序部28は、配向膜パターン26に対するラビングローラ32による接触強度であるラビング強度を均一化させる形状である。言い換えると、この無秩序部28は、配向膜27の印刷パターンを変換させることによって、この配向膜27にて構成された配向膜パターン26をラビングした際のラビングすじの発生を抑制させる。
【００２８】
一方、図２に示すように、アレイ基板２の表面には、矩形平板状の対向基板41が対向して配設されている。この対向基板41は、略透明な矩形平板状の絶縁基板としての透光性基板であるガラス基板42を備えている。このガラス基板42におけるアレイ基板２に対向した側の一主面である表面には、カラーフィルタ層43が積層されて設けられている。このカラーフィルタ層43は、少なくとも２色以上である１組の色単位、例えば赤(Red:Ｒ)、緑(Green:Ｇ)および青(Blue:Ｂ)の３つのドットが繰り返し配置されて構成された色層である。
【００２９】
また、このカラーフィルタ層43は、アレイ基板２に対向基板41を対向させた際に、このアレイ基板２の各画素６に対応して対向するように設けられている。さらに、このカラーフィルタ層43の表面には、共通電極としての矩形平板状の対向電極44が積層されて設けられている。この対向電極44は、対向基板41の表面とアレイ基板２の表面とを対向させた際に、このアレイ基板２のガラス基板３の各画素６全体に亘って対向する矩形状の大きな電極である。
【００３０】
言い換えると、この対向電極44は、アレイ基板２に対向基板41を対向させた際に、このアレイ基板２の各画素６の画素電極25のそれぞれと相対するように配置されている。さらに、この対向電極44上には、配向膜パターン45が積層されて成膜されている。この配向膜パターン45は、アレイ基板２の配向膜パターン26と同様に形成されている。
【００３１】
そして、対向基板41は、この対向基板41の配向膜パターン45をアレイ基板２の配向膜パターン26に対向させた状態で、この対向基板41にアレイ基板２が取り付けられている。このとき、このアレイ基板２の画素電極25は、対向基板41の対向電極44に対向して配設されている。さらに、これら対向基板41の配向膜パターン45とアレイ基板２の配向膜パターン26との間には、図示しない液晶が挟持されて介挿されて封止されて光変調層としての液晶層46が形成されている。この液晶層46は、アレイ基板２の画素電極25と対向基板41の対向電極44との間に液晶容量を形成させる。
【００３２】
次に、配向膜パターンをラビングするラビング装置について説明する。
【００３３】
図１および図３において、31はラビング装置で、このラビング装置31は、アレイ基板２のガラス基板３上に形成された配向膜パターン26を一方の方向であるラビング方向Ａに向けてラビング(Rubbing)して、この配向膜パターン26を構成する各配向膜27に配向性を与えて液晶層46中の液晶粒子を所定の向きに配向させる。また、このラビング装置31は、細長円筒状のラビングローラ32を備えている。このラビングローラ32は、ガラス基板３の幅方向に沿った幅寸法よりも大きな長手寸法を有している。
【００３４】
そして、このラビングローラ32は、このラビングローラ32の中心軸を回転中心とした回転方向であるラビング方向Ａに沿って回転可能に設けられている。すなわち、このラビングローラ32は、周方向に向けて回転可能に取り付けられている。さらに、このラビングローラ32は、このラビングローラ32の軸方向をガラス基板３の幅方向に対して約４５度の角度で傾斜させた状態で、このガラス基板３上の配向膜パターン26を、ガラス基板３の長手方向である移動方向Ｂに沿って移動しつつラビング方向Ａに向けて回転してラビングする。
【００３５】
また、このラビングローラ32の周面部には、布などで構成されたシート状のラビングバフ33が周方向に亘って貼り付けられて取り付けられている。このラビングバフ33は、ラビングローラ32の周面部の長手方向に沿った全域に貼り付けられている。言い換えると、このラビングバフ33は、ラビングローラ32の周面部全体に貼り付けられて取り付けられている。
【００３６】
したがって、ラビング装置31は、ラビングローラ32の軸方向を、ガラス基板３の幅方向に対して約４５度傾斜させ、このラビングローラ32に取り付けられたラビングバフ33をガラス基板３の長手方向に沿った移動方向Ｂの上流端側に接触させた状態で、このラビングローラ32をラビング方向Ａに向けて回転させながら移動方向Ｂに沿って移動させて、ガラス基板３上の配向膜パターン26をラビング処理する。
【００３７】
次に、上記第１の実施の形態の液晶表示装置の製造方法を説明する。
【００３８】
まず、ガラス基板３上にプラズマＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)法でアンダーコート層４を形成する。
【００３９】
この後、ＰＥ(Plasma Enhanced)−ＣＶＤ法あるいはスパッタリング法などにて、このアンダーコート層４上に非晶質半導体薄膜である図示しないアモルファスシリコン薄膜を堆積する。
【００４０】
次いで、このアモルファスシリコン薄膜にエキシマレーザビームを照射してレーザアニールして、このアモルファスシリコン薄膜を溶解させてから結晶化させて多結晶半導体薄膜であるポリシリコン薄膜にする。
【００４１】
この後、このポリシリコン薄膜を島状にパターニングして複数の活性層11を形成する。
【００４２】
次いで、これら複数の活性層11を含むアンダーコート層４上に、ＰＥ−ＣＶＤ法やＥＣＲ(Electron-Cyclotron Resonance)−ＣＶＤ法などにて、シリコン酸化膜(ＳｉＯＸ)などによるゲート絶縁膜15を形成する。
【００４３】
この後、薄膜トランジスタ５のチャネル領域12となる部分の活性層11上に、モリブデン−タンタル合金(Ｍｏ−Ｔａ)やモリブデン−タングステン合金(Ｍｏ−Ｗ)などをスパッタ法などにて成膜してからパターニングしてゲート電極16を形成する。
【００４４】
この状態で、このゲート電極16をマスクとして用いて、薄膜トランジスタ５のソース領域13およびドレイン領域14となる部分の活性層11の両側部にｎ型のリン(Ｐ)やｐ型のボロン(Ｂ)などの不純物を高濃度にイオンドーピングしてｎ＋層あるいはｐ＋層として、薄膜トランジスタ５のソース領域13およびドレイン領域14のそれぞれを形成する。
【００４５】
この後、各薄膜トランジスタ５の活性層11をアニールして、これら薄膜トランジスタ５の活性層11にドーピングした不純物を活性化させる。
【００４６】
次いで、これら各薄膜トランジスタ５それぞれのゲート電極16を含むゲート絶縁膜15上に、酸化シリコン膜などを成膜して層間絶縁膜17を形成する。
【００４７】
この後、この層間絶縁膜17およびゲート絶縁膜15をパターニングしてコンタクトホール18,19を開口させて、各薄膜トランジスタ５のソース領域13およびドレイン領域14のそれぞれの一部を露出させる。
【００４８】
この状態で、これらコンタクトホール18,19を含む層間絶縁膜17上に金属層をスパッタ法などにて形成してからドライエッチングして、各薄膜トランジスタ５のソース電極21およびドレイン電極22のそれぞれを形成する。
【００４９】
この後、これらソース電極21およびドレイン電極22のそれぞれを含む層間絶縁膜17上にシリコン窒化膜(ＳｉＮ)である平坦化膜23を形成して、各薄膜トランジスタ５を完成する。
【００５０】
この後、この平坦化膜23にコンタクトホール24を形成して、薄膜トランジスタ５のドレイン電極22の一部を露出させる。
【００５１】
この状態で、このコンタクトホール24を含む平坦化膜23上に透明導電膜をスパッタしてからパターニングして画素電極25を形成する。この後、この画素電極25を含む平坦化膜23上に配向膜パターン26を形成する。
【００５２】
次いで、図１に示すように、この配向膜パターン26が形成されたガラス基板３上のラビングローラ32の移動方向Ｂに沿った上流側の縁部に、このガラス基板３の幅方向に対してラビングローラ32の軸方向を約４５度の角度で傾斜させた状態で、このラビングローラ32のラビングバフ33を接触させる。
【００５３】
この状態で、図３に示すように、このラビングローラ32をラビング方向Ａに向けて回転させながら移動方向Ｂに移動させて、このラビングローラ32のラビングバフ33にてガラス基板３上の配向膜パターン26を擦ってラビングして、この配向膜パターン26の各配向膜27に配向性を与えて、アレイ基板２を完成させる。
【００５４】
この後、このアレイ基板２の配向膜パターン26側に、対向基板41の配向膜パターン45側を対向させて取り付けた後、これらアレイ基板２の配向膜パターン26と対向基板41の配向膜パターン45との間に液晶層46を介挿させて封止する。さらに、これらアレイ基板２および対向基板41に図示しないシステム回路や偏光板、バックライトなどの様々な部材を組み合わせて液晶パネル１とする。
【００５５】
上述したように、上記第１の実施の形態によれば、ガラス基板３上の配向膜パターン26にラビング装置31のラビングローラ32を接触させてラビングさせる際に、このガラス基板３上のラビングローラ32による移動方向Ｂに沿った上流側に設けられたアレイパターン７などによって、このラビングローラ32の周面部に取り付けられたラビングバフ33の配列が変化してしまう。
【００５６】
そして、このラビングローラ32のラビングバフ33の配列が変化した状態で、ガラス基板３上の配向膜パターン26をラビングした場合には、アレイパターン７の下流側に位置する配向膜パターン26の一部のラビング強度が、この配向膜パターン26の他の部分のラビング強度とは異なってしまう。このため、図７に示すように、従来の配向膜のラビング方法では、このアレイパターン７の下流側に位置する配向膜パターン26の一部に移動方向Ｂに沿ったラビングすじＤが形成されてしまい、この配向膜パターン26の均一な液晶配向状態の形成が容易ではない。
【００５７】
ここで、ラビングローラ32のラビングバフ33による配向膜パターン26へのラビング強度の差が生じる原因としては、この配向膜パターン26をラビングローラ32にて擦り始める前に、このラビングローラ32のラビングバフ33が擦り始める部分に存在するアレイパターン７などによって、このラビングバフ33が磨耗したり、この部分のラビングバフ33の配列が変化したりしてしまうからである。
【００５８】
そこで、ガラス基板３上の配向膜パターン26を構成する各配向膜27それぞれの周縁部に、無秩序な周期性のない凹凸形状の無秩序部28を形成した。この結果、これら配向膜27にて構成された配向膜パターン26をラビング装置31のラビングローラ32にてラビングする際に、このラビングローラ32の移動方向Ｂに沿った上流側にアレイパターン７が形成されている場合であっても、配向膜パターン26の無秩序部28によって、このアレイパターン７にて配列が変化したラビングバフ33を各配向膜27のラビング前に無秩序化できるから、このラビングバフ33を効率良く整列できるとともに、このラビングバフ33の磨耗を効率良く防止できる。
【００５９】
したがって、ガラス基板３上の配向膜パターン26に対するラビングローラ32のラビングバフ33によるラビング強度を、この配向膜パターン26の全体に亘って均一化できる。このため、このラビングローラ32にて配向膜パターン26に均一なラビング強度のラビング処理を施すことによって、この配向膜パターン26中にすじとして見える部分と、それ以外の部分とでのラビング強度が変化することによる、この配向膜パターン26の液晶配向状態の差を防止できる。よって、この配向膜パターン26へのラビングすじの発生を抑制でき、この配向膜パターン26へのラビングむらの形成を効率良く防止できるため、この配向膜パターン26に均一な液晶配向状態を形成できる。
【００６０】
なお、上記第１の実施の形態では、ガラス基板３上の配向膜パターン26の周縁に無秩序部28を形成したが、図４に示す第２の実施の形態のように、配向膜パターン26よりも上流側のガラス基板３上に平面視細長矩形状の無秩序化パターン51を形成することもできる。この場合、この無秩序化パターン51は、配向膜パターン26のラビングローラ32の移動方向Ｂに沿った上流側の一側縁よりも上流側に向けて間隙を介したガラス基板３上に積層されて設けられている。言い換えると、この無秩序化パターン51は、配向膜パターン26の移動方向Ｂに沿った上流縁よりも上流側に向けて離間された位置に設けられている。
【００６１】
また、この無秩序パターン51は、ガラス基板３の幅方向に沿った長手方向を有しており、配向膜パターン26の幅寸法より若干大きな長手寸法を有している。すなわち、この無秩序化パターン51は、配向膜パターン26の上流側の周縁を、この配向膜パターン26の幅方向に沿った全域に亘って覆っている。ここで、この無秩序化パターン51の周縁には、無秩序部28が全周に亘って形成されている。また、この無秩序化パターン51は、アレイパターン７や図示しないオーバーコートなどにて構成されている。すなわち、この無秩序化パターン51は、アレイパターン７やオーバーコートなどの形状を平面視細長矩形状とし、これらアレイパターン７やオーバーコートなどの周縁に無秩序部28を形成することによって構成されている。
【００６２】
したがって、ガラス基板３上の配向膜パターン26をラビング装置31のラビングローラ32にてラビングする際に、このガラス基板３上の無秩序化パターン51よりも上流側からラビング処理を開始して、この無秩序化パターン51をラビング処理してから配向膜パターン26をラビング処理する。この結果、この無秩序化パターン51の無秩序部28によって、配向膜パターン26のラビング前にラビングローラ32のラビングバフ33を無秩序化できる。よって、このラビングローラ32による配向膜パターン26へのラビング強度を均一化できるから、上記第１の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
【００６３】
さらに、図５に示す第３の実施の形態のように、ガラス基板３上の配向膜パターン26より移動方向Ｂに沿った上流側に平面視細長矩形状のダミーパターン52を形成することもできる。このダミーパターン52は、配向膜パターン26の上流側の一側縁より上流側に向けて間隙を介して離間させたガラス基板３上に印刷されて積層されている。言い換えると、このダミーパターン52は、配向膜パターン26のラビングローラ32の移動方向Ｂに沿った上流縁よりも上流側に向けて離間された位置に設けられている。
【００６４】
また、このダミーパターン52は、ガラス基板３の幅方向に沿った長手方向を有しており、配向膜パターン26の幅寸法より若干大きな長手寸法を有している。すなわち、このダミーパターン52は、配向膜パターン26の上流側の周縁を、この配向膜パターン26の幅方向に沿った全域に亘って覆っている。言い換えると、このダミーパターン52は、配向膜パターン26をラビングローラ32にてラビングする際の、このラビングローラ32の移動方向Ｂに交差する方向、すなわち直交する方向である配向膜パターン26の幅方向に亘って設けられている。
【００６５】
ここで、このダミーパターン52は、配向膜パターン26を構成する配向膜27と同一材料にて構成された配向膜ダミーパターンである。さらに、このダミーパターン52には、ラビングローラ32のラビング方向Ａに沿った複数の溝部53が形成されている。言い換えると、これら複数の溝部53は、ラビング方向Ａに平行な分断方向Ｃに向けて形成されている。さらに、これら複数の溝部53は、ダミーパターン52の長手方向に向けて等間隔に離間された状態で設けられている。すなわち、これら複数の溝部53は、配向膜パターン26をラビングローラ32にてラビングする際の、このラビングローラ32のラビング方向Ａに交差、すなわち直交する方向に亘ったダミーパターン52全体に設けられている。また、これら複数の溝部53は、ラビングローラ32のラビング方向Ａに沿った分断方向Ｃに沿ってダミーパターン52を分断している。
【００６６】
したがって、ガラス基板３上の配向膜パターン26をラビング装置31のラビングローラ32にてラビングする際に、このガラス基板３上のダミーパターン52よりも上流側からラビング処理を開始して、このダミーパターン52をラビング処理してから配向膜パターン26をラビング処理する。このとき、このダミーパターン52の複数の溝部53によって、配向膜パターン26のラビング前にラビングローラ32のラビングバフ33の配列がラビング方向Ａに平行に効率良く整列されて均一化されるから、上記第１の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
【００６７】
さらに、図６に示す第４の実施の形態のように、アレイパターン７や図示しないオーバーコートなどでダミーパターン52を形成することもできる。この場合、このダミーパターン52は、アレイパターン７やオーバーコートなどの形状を平面視細長矩形状とし、これらアレイパターン７やオーバーコートなどに複数の溝部53を形成することによって構成される。この結果、このダミーパターン52の複数の溝部53によって、配向膜パターン26のラビング前にラビングローラ32のラビングバフ33の配列がラビング方向Ａに沿って整列されて均一化されるから、上記第１の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
【００６８】
なお、上記各実施の形態では、トップゲートタイプの薄膜トランジスタ５以外の、例えばボトムゲート型構造であるボトムゲートタイプの薄膜トランジスタ５であっても対応させて用いることができる。また、アレイ基板２および対向基板41のそれぞれに無秩序部28や無秩序化パターン51、ダミーパターン53を形成しなくても、これらアレイ基板２および対向基板41の少なくともいずれか一方に無秩序部28や無秩序化パターン51、ダミーパターン53を形成すれば、上記各実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明の配向膜のラビング方法の第１の実施の形態を示す説明図である。
【図２】同上配向膜を備えた液晶表示装置を示す説明断面図である。
【図３】同上配向膜のラビング方法にて配向膜パターンをラビングしている状態を示す説明図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態の配向膜のラビング方法を示す説明図である。
【図５】本発明の第３の実施の形態の配向膜のラビング方法を示す説明図である。
【図６】本発明の第４の実施の形態の配向膜のラビング方法を示す説明図である。
【図７】従来の配向膜のラビング方法を示す説明図である。
【符号の説明】
【００７０】
１    液晶表示装置としての液晶パネル
２    アレイ基板
３    基板としてのガラス基板
26    配向膜パターン
28    周縁部としての無秩序部
32    ラビングローラ
41    対向基板
42    基板としてのガラス基板
45    配向膜パターン
46    液晶層
51    無秩序化パターン
52    ダミーパターン
53    溝部
Ａ    回転方向としてのラビング方向
Ｂ    移動方向
【図２】
2006003516.tif 000003
【図１】
2006003516.tif 000004
【図３】
2006003516.tif 000005
【図４】
2006003516.tif 000006
【図５】
2006003516.tif 000007
【図６】
2006003516.tif 000008
【図７】
2006003516.tif 000009