(57)【要約】【課題】  均一な膜厚の発光層を所望のパターンで形成する方法と、高品質な表示が可能で信頼性が高い有機発光デバイスを提供する。【解決手段】  表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるブランケットと、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰの範囲であり、溶媒の表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で、かつ、沸点が１５０〜２５０℃の範囲である発光層用インキとを使用し、発光層用インキをグラビア版のセルに充填させ、このセルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の発光層用インキを発光層被形成面に転移させて発光層を形成する。【選択図】  図１
2006318850.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの発光層形成方法において、
少なくとも有機発光材料を含有する発光層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の発光層用インキを発光層被形成面に転移する工程を有し、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記発光層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰの範囲であり、前記発光層用インキに用いる溶媒は表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で、かつ、沸点が１５０〜２５０℃の範囲であることを特徴とする発光層形成方法。
【請求項２】
前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の発光層形成方法。
【請求項３】
前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の発光層形成方法。
【請求項４】
前記ブランケットは、グラビア版から発光層用インキを受理する位置と発光層用インキを発光層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の発光層形成方法。
【請求項５】
前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の発光層形成方法。
【請求項６】
前記発光層用インキにおける前記有機発光材料の含有量は、１．５〜４．０重量％の範囲であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項７】
前記グラビア版のセルは、最大開口長が２０〜２００μｍの範囲であり、深さが１０〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項８】
前記グラビア版は、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるものであり、１つの絵柄幅を２００μｍ以上とすることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項９】
複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項１０】
グラビア版を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成することを特徴とする請求項８に記載の発光層形成方法。
【請求項１１】
透明基材と、該透明基材上に所望のパターンで形成された透明電極層と、前記透明基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記透明電極層を被覆するとともに前記開口部の周縁の前記絶縁層に乗り上げるように形成され少なくとも発光層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、請求項１乃至請求項１０のいずれかの方法により形成されたものであることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項１２】
基材と、該基材上に所望のパターンで形成された電極層と、前記基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記電極層を被覆するとともに前記開口部の周縁の前記絶縁層に乗り上げるように形成され少なくとも発光層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された透明電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、請求項１乃至請求項１０のいずれかの方法により形成されたものであることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項１３】
前記発光素子層を構成する前記発光層のうち、前記開口部内に位置する部位の厚み変動が１０％以下であることを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の有機発光デバイス。
【請求項１４】
前記発光素子層は、少なくとも正孔注入層／発光層／電子注入層がこの順に積層されたものであることを特徴とする請求項１１乃至請求項１３のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１５】
パッシブマトリックス型であることを特徴とする請求項１１乃至請求項１４のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１６】
アクティブマトリックス型であることを特徴とする請求項１１乃至請求項１４のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１７】
最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであることを特徴とする請求項１１乃至請求項１５のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１８】
カラーフィルタ層を備えることを特徴とする請求項１１乃至請求項１７のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１９】
前記カラーフィルタ層と前記透明電極との間に色変換蛍光体層を備えることを特徴とする請求項１８に記載の有機発光デバイス。
【請求項２０】
前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであることを特徴とする請求項１１乃至請求項１９のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２１】
前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていることを特徴とする請求項１９に記載の有機発光デバイス。
【請求項２２】
前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えることを特徴とする請求項１４乃至請求項２１のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光デバイスを構成する発光層をグラビアオフセット印刷法により形成する方法と有機発光デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子（有機発光素子）は、自発光により視認性が高いこと、液晶ディスプレーと異なり全固体ディスプレーであること、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の有機発光デバイスとして実用化が進んでいる。
有機発光素子には、発光層を構成する有機発光材料が低分子タイプのものと高分子タイプのものとがあり、例えば、高分子タイプの発光層は、有機発光材料を含有する発光層用インキを使用して種々の印刷方式、あるいはインクジェット方式により製造することができる。
このような例として、粘度が１００〜６００００ｃＰでチキソトロピー性の有機発光材料含有インキを用いて、凹版からシリコンブランケットに受理させ、その後、枚葉の基板に転移させるオフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献１）。
【０００３】
また、水分溶解度が５重量％以下の溶媒に有機発光材料を含有させたインキを用い、凹版からブランケットに受理させ、その後、基板に転移させるオフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献２）。
また、有機発光材料を含有するインキをグラビアロールを介してシリコンブランケット表面に供給して塗布膜を形成し、この塗布膜に凸版を押圧し、押圧部位の塗布膜を除去し、その後、シリコンブランケット表面に残った塗布膜を被形成面に転写して発光層を形成する方法がある（特許文献３）。
【０００４】
さらに、有機発光材料を含有するインキと、このインキに用いる溶剤に浸漬したときの体積変化率が４０％以下であるシリコーンエラストマーからなるブランケットとを使用し、インキを凹版の凹部からブランケットに転移させ、さらに、基板上に転写させる凹版オフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献４）。
また、従来の有機発光デバイスとして、アノードを形成した基板上に所望のパターンで絶縁層を設け、絶縁層が形成されていない領域（発光表示領域）の電極パターン上に発光層を含む発光素子層を形成し、この発光素子層と接触するように絶縁層上にカソードを所望のパターンで形成したフルカラー、あるいはエリアカラーの表示装置が開発されている（特許文献５）。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−２９１５８７号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８９１５号公報
【特許文献４】特開２００３−３０８９７３号公報
【特許文献５】特開２００４−１１１１５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上述のような従来の発光層の形成方法では、比較的高粘度のインキを使用するので、ドクターブレードによる凹版の凹部へのインキ充填に際し、掻き残しや厚みムラが生じやすく、均一な厚みの発光層形成が困難であった。また、シリコンブランケットにインキが浸透し易く、このため形成された発光層の表面が粗くなるとともに、シリコンブランケットの耐刷力が低下するという問題があった。
【０００６】
一方、有機発光材料を含有するインキをスピンコート法で基板上に塗布、乾燥することにより、均一な厚みの発光層を形成することができる。しかし、スピンコート法は、所望のパターン形状で発光層を形成するには、フォトリソグラフィー法との組み合わせが必要であり工程が複雑となり、また、発光層形成用のインキの使用効率が低いという問題があった。これに対して、インクジェット方式では、パターン形状での発光層形成が容易であるが、吐出されたインキの流動性や表面張力等の制御が不十分であると、均一な厚みの発光層を形成することが困難であった。
【０００７】
さらに、従来のフルカラー、あるいはエリアカラーの表示装置としての有機発光デバイスは、上述のような発光層の厚みムラにより、表示品質の向上に限界があった。また、絶縁層が形成されていない領域（発光表示領域）内に発光素子層の形成不良部位が存在すると、アノードとカソードとの短絡が生じ、信頼性が著しく低下するという問題があった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、均一な膜厚の発光層を所望のパターンで形成する方法と、高品質な表示が可能で信頼性が高い有機発光デバイスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的を達成するために、本発明は、対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの発光層形成方法において、少なくとも有機発光材料を含有する発光層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の発光層用インキを発光層被形成面に転移する工程を有し、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記発光層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰの範囲であり、前記発光層用インキに用いる溶媒は表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で、かつ、沸点が１５０〜２５０℃の範囲であるような構成とした。
【０００９】
本発明の他の態様として、前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、グラビア版から発光層用インキを受理する位置と発光層用インキを発光層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えるような構成とした。
【００１０】
本発明の他の態様として、前記発光層用インキにおける前記有機発光材料の含有量は、１．５〜４．０重量％の範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記グラビア版のセルは、最大開口長が２０〜２００μｍの範囲であり、深さが１０〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記グラビア版は、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるものであり、１つの絵柄幅を２００μｍ以上とするような構成とした。
本発明の他の態様として、複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、グラビア版を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成するような構成とした。
【００１１】
本発明の有機発光デバイスは、透明基材と、該透明基材上に所望のパターンで形成された透明電極層と、前記透明基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記透明電極層を被覆するとともに前記開口部の周縁の前記絶縁層に乗り上げるように形成され少なくとも発光層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上述のいずれかの発光層形成方法により形成されたものであるような構成とした。
【００１２】
また、本発明の有機発光デバイスは、基材と、該基材上に所望のパターンで形成された電極層と、前記基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記電極層を被覆するとともに前記開口部の周縁の前記絶縁層に乗り上げるように形成され少なくとも発光層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された透明電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上述のいずれかの発光層形成方法により形成されたものであるような構成とした。
【００１３】
本発明の他の態様として、前記発光素子層を構成する前記発光層のうち、前記開口部内に位置する部位の厚み変動が１０％以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光素子層は少なくとも正孔注入層／発光層／電子注入層がこの順に積層されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、パッシブマトリックス型であるような構成とした。
本発明の他の態様として、アクティブマトリックス型であるような構成とした。
本発明の他の態様として、最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであるような構成とした。
本発明の他の態様として、カラーフィルタ層を備えるような構成とした。
【００１４】
本発明の他の態様として、前記カラーフィルタ層と前記透明電極との間に色変換蛍光体層を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えるような構成とした。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の発光層の形成方法は、発光層を均一な厚みで形成することができ、また、各発光色毎の発光層を所望のパターンで形成することができ、さらに、樹脂フィルム基材のような可撓性を有する基材への発光層形成も可能であるとともに、ブランケットの耐刷力が極めて高く、有機発光デバイスの製造コスト低減も可能である。
また、本発明の有機発光デバイスは、開口部の周縁の絶縁層に乗り上げるように発光素子層が形成されているので、発光素子層を介して対向する位置に存在する電極間の短絡を生じることがなく信頼性が高いとともに、発光素子層の発光層が本発明の方法で製造されているので、発光層の厚みが均一であり高品質の表示が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
［発光層の形成方法］
図１は、本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。図１において、印刷ユニット１を構成するインキパン９内の発光層用インキ１５は、回転するグラビア版２の表面に供給され、ドクターブレード１０で不要な発光層用インキ１５が掻き取られ、セル３内にのみ発光層用インキ１５が供給される。このセル３内の発光層用インキ１５は、ブランケット４に受理され、その後、圧胴８上を搬送されている基材１１の発光層被形成面１１Ａに転移される。この基材１１は、乾燥ゾーン１３に送られ、発光層用インキ１５が乾燥されて発光層２０が形成される。
【００１７】
本発明では、ブランケット４として、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、好ましくは３５〜６５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲である樹脂フィルム５を、ブランケット胴６の表面に表面層として備えるものを使用する。また、発光層用インキ１５として、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰ、好ましくは２０〜１５０ｃＰの範囲であり、使用している溶媒の表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、好ましくは２０〜３７ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲であり、かつ、沸点が１５０〜２５０℃、好ましくは１７０〜２３０℃の範囲であるインキを使用する。
【００１８】
ブランケット４の表面層を構成する樹脂フィルム５の表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であると、グラビア版２からのインキ受理性が低下し、厚みが均一な発光層２０の形成が困難となる。尚、樹脂フィルム５の表面張力（固体の表面張力［γｓ］）の測定は、２種以上の表面張力が判っている液体（標準物質）を使用して、自動接触角計（協和界面科学（株）製  DropMaster 700型）にて接触角θを測定し、γｓ（固体の表面張力）＝γＬ（液体の表面張力）ｃｏｓθ＋γＳＬ（固体と液体の表面張力）の式に基づいて求める。
【００１９】
使用する樹脂フィルム５としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンテレフタレートフィルム、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、コロナ処理を施したポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンナフタレートフィルム、ポリノルボルネンフィルム、メラミン焼付けポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルム５の厚みは、例えば、５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲とすることができる。樹脂フィルム５の厚みが５μｍ未満であると、フィルム加工性、ブランケット胴６への装着性が低下して好ましくない。また、樹脂フィルム５の厚みが２００μｍを超えると、硬度が高くなりすぎ、柔軟性が低下して好ましくない。
【００２０】
尚、図示例では、ブランケット胴６は、表面層である樹脂フィルム５の下層としてクッション層６ａを備えている。このクッション層６ａの硬度は、例えば、２０〜８０°の範囲とすることができ、厚みは、例えば、０．１〜３０ｍｍの範囲とすることができる。尚、上記の硬度は、ＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度である。
【００２１】
また、図１に示される例では、樹脂フィルム５は、ブランケット胴６に一体的に装着されたものであるが、図２に示されるように、ブランケット胴６に巻き付くように樹脂フィルム５がブランケット胴６の回転とともに搬送されるようにしてもよい。この場合、グラビア版２から発光層用インキ１５を受理する位置（矢印ａで示される位置）と、発光層用インキ１５を発光層被形成面１１Ａに転移する位置（矢印ｂで示される位置）と、を少なくとも含む範囲において、ブランケット胴６に樹脂フィルム５を巻き付かせる必要がある。このような樹脂フィルム５は、図示しない供給ロールからブランケット胴６上に搬送供給され、図示しない巻上げローラに巻き上げられるようにすることができる。また、樹脂フィルム５をエンドレスフィルムの形状とし、図示していないローラとブランケット胴６との間の無限軌道上を搬送するようにしてもよい。
【００２２】
また、本発明では、グラビア版を板状としてもよく、図３は、このような実施形態の例を示す図である。図３に示される例では、まず、板状のグラビア版２′の表面に発光層用インキ１５を供給し、図示しないドクターブレードで不要な発光層用インキ１５を掻き取ることによりセル３′内にのみ発光層用インキ１５を供給する。次いで、このセル３′内の発光層用インキ１５は、ブランケット４に受理され、その後、板状の基材１１の発光層被形成面１１Ａに転移され、乾燥されて発光層が形成される。また、圧胴８上を搬送されている基材１１の発光層被形成面１１Ａに発光層用インキ１５を転移して乾燥して発光層を形成してもよい。
【００２３】
上記の発光層用インキ１５のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの発光層の形成が困難となる。一方、２００ｃＰを超えると、グラビア版２のセル目による凹凸大きくなり、均一な厚みの発光層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により、測定温度２３℃で定常流測定モードにより行うものとする。また、発光層用インキ１５は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．５程度となり、ほぼニュートン流動を示すことが好ましい。
【００２４】
また、発光層用インキ１５に使用している溶媒の表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、グラビア版２からの発光層用インキ１５の受理性が低下して好ましくない。さらに、発光層用インキ１５の溶媒の沸点が１５０℃未満であると、ブランケット４を構成する樹脂フィルム５から基材１１の発光層被形成面１１Ａに転移された発光層用インキ１５が直ちに乾燥して、発光層２０にスジが発生し易くなる。また、２５０℃を超えると、乾燥が困難となり、乾燥ゾーン１３での乾燥による基材１１等への影響が生じたり、溶剤の残留を生じることがあり好ましくない。尚、溶媒の表面張力の測定は、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で行うものとする。
【００２５】
発光層用インキ１５に用いる有機発光材料としては、例えば、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００２６】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００２７】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
発光層用インキ１５における上述のような有機発光材料の含有量は、例えば、１．５〜４．０重量％の範囲で設定することができる。
【００２８】
また、発光層用インキ１５に用いる溶媒としては、表面張力が上記の範囲（４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、沸点が上記の範囲（１５０〜２５０℃）を満足するもの、例えば、クメン、アニソール、ｎ−プロピルベンゼン、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、リモネン、ｐ−シメン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン、安息香酸メチル、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、アミルベンゼン、テトラリン、安息香酸エチル、フェニルヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、安息香酸ブチル等を単独で使用することができる。また、混合溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した表面張力と沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、表面張力がＡｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＢ℃の溶媒１と、表面張力がＣｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＤ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した表面張力［（Ａ×３／１０）＋（Ｃ×７／１０）］が上記の範囲（４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ｂ×３／１０）＋（Ｄ×７／１０）］が上記の範囲（１５０〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々の溶媒は、表面張力と沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００２９】
本発明の発光層の形成方法では、グラビア版２のセル３の最大開口長が２０〜２００μｍ、好ましくは３０〜１７０μｍの範囲であり、深さが１０〜２００μｍ、好ましくは１５〜１５０μｍの範囲とすることが望ましい。セル３の最大開口長が２０μｍ未満であると、所望の厚みの発光層の形成が困難であり、２００μｍを超えると、ドクターブレード１０による不要なインキ掻き取りが不十分となる。
また、本発明の発光層の形成方法では、グラビア版２に形成するセルを、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるようにしてもよい。図４は、このような例を示すものであり、複数（図示例では１５個）のセル３により絵柄（鎖線で示す形状）が構成される。この場合、１つの絵柄幅Ｗは２００μｍ以上、好ましくは３００μｍ以上とすることができる。尚、絵柄幅Ｗは、グラビア版２の回転方向（図４に矢印ａで示した方向）に直交する方向の最小幅である。絵柄幅Ｗが２００μｍ未満であると、絵柄のエッジ付近の厚み変動が１０％以上となり好ましくない。
【００３０】
また、本発明の発光層の形成方法では、複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成してもよい。図５は、このような例を示すものであり、赤発光層形成用のグラビア版２Ｒと、ブランケット４、圧胴８を備えたユニット１Ｒ、緑発光層形成用のグラビア版２Ｇと、ブランケット４、圧胴８を備えたユニット１Ｇ、青発光層形成用のグラビア版２Ｂと、ブランケット４、圧胴８を備えたユニット１Ｂとを備えている。各ユニット１Ｒ，１Ｇ，１Ｂは、上述の印刷ユニット１と同様であり、各ユニット１Ｒ，１Ｇ，１Ｂのインキパン９には、対応する赤色発光層用インキ１５Ｒ、緑色発光層用インキ１５Ｇ、青色発光層用インキ１５Ｂが供給されている。そして、基材１１の発光層被形成面１１Ａ側に対して、ユニット１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの順で連続して赤色発光層用インキ１５Ｒ、緑色発光層用インキ１５Ｇ、青色発光層用インキ１５Ｂを転移させ、その後、乾燥することにより、赤色発光層２０Ｒ、緑色発光層２０Ｇ、青色発光層２０Ｂを形成することができる。尚、各発光層の形成パターン等は任意に設定することができ、形成順序は上記の順に限定されるものではない。
【００３１】
また、本発明の発光層の形成方法では、グラビア版２を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成してもよい。図６は、このような例を説明するための図面であり、グラビア版２を軸方向（矢印ｂ方向）に３つ（２Ｇ，２Ｒ，２Ｂ）に区画し、各区画にはエリアカラー用の絵柄を形成するための複数のセル３が形成されている。そして、緑色発光層用インキ１５Ｇ、赤色発光層用インキ１５Ｒ、青色発光層用インキ１５Ｂを、それぞれ、区画２Ｇ，２Ｒ，２Ｂに供給（例えば、ディスペンサー方式）し、上述のように、基材１１の発光層被形成面１１Ａ側に対して、赤色発光層用インキ１５Ｒ、緑色発光層用インキ１５Ｇ、青色発光層用インキ１５Ｂを同時に転移させ、その後、乾燥することにより、エリアカラー絵柄である赤色発光層２０Ｒ、緑色発光層２０Ｇ、青色発光層２０Ｂを形成することができる。尚、絵柄のパターン、寸法、位置関係等は任意に設定することができる。
尚、上述の実施形態におけるブランケット４は、グラビア版２と圧胴８の回転方向に対し順方向回転であるが、形成する発光層のパターンに応じて、逆方向回転としてもよい。また、基材１１は枚葉であってもよく、グラビア版２への発光層用インキ１５の供給は、インキパン９を使用せずにディスペンサー等を用いてもよい。
【００３２】
［有機発光デバイス］
図７は、本発明の有機発光デバイスの一実施形態を示す部分断面斜視図である。図７において、有機発光デバイス３１は、透明基材３２と、この透明基材３２上に矢印ａ方向に延設さられた帯状パターンの複数の透明電極層３３と、ストライプ形状の開口部３５を有する絶縁層３４と、各透明電極層３３上に位置するストライプ形状の開口部３５内の透明電極層３３を被覆するように配設された発光素子層３６と、この発光素子層３６上に透明電極層３３と直交するように矢印ｂ方向に延設された帯状パターンの複数の電極層４０とを備えている。
上記の絶縁層３４の開口部３５は、矢印ａ方向に沿ったストライプ形状の開口部であり、各透明電極層３３上に位置している。
【００３３】
また、発光素子層３６は、絶縁層３４と各開口部３５内の透明電極層３３とを被覆するように配設された正孔注入層３７と、開口部３５内の透明電極層３３（正孔注入層３７）を被覆するとともに開口部３５の周縁の絶縁層３４に乗り上げるように各開口部３５毎に配設された複数の発光層３８と、これらを被覆するように配設された電子注入層３９と、からなる。図示例では、発光層３８は、帯状パターンの赤色発光層３８Ｒ、緑色発光層３８Ｇ、青色発光層３８Ｂが、この順に繰り返し配列されている。尚、電子注入層３９は、絶縁層３４を覆うように形成されているが、電極層４０の下層となる領域のみに形成されたものであってもよい。
【００３４】
このような有機発光デバイス３１は、帯状パターンの透明電極層３３と電極層４０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型であり、発光素子層３６の発光層３８は、本発明の発光層の形成方法により形成されたものである。そして、有機発光デバイス３１は、開口部３５の周縁の絶縁層３４に乗り上げるように発光素子層３６が形成されているので、発光素子層３６を挟持する位置に存在する透明電極層３３と電極層４０との短絡を生じることがなく信頼性が高いものである。また、発光素子層３６の発光層３８が本発明の製造方法で製造されたものであり、その厚み変動は１０％以下で厚みが均一であるため、高品質の表示が可能である。尚、発光層３８の厚み変動は、［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）で計算される。また、発光層３８の厚みの測定は、セイコーインスツルメンツ（株）製のＮａｎｏｐｉｃｓ  １０００を使用し、この装置標準のコンタクトモード用カンチレバーを用いて、測定エリア１００μｍ、スキャンスピード９０sec／frameで行う。
【００３５】
次に、本発明の有機発光デバイス３１の各構成部材について説明する。
有機発光デバイス３１を構成する透明基材３２は、通常、観察者側の表面に設けられ、発光層３８からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有するものである。尚、後述するように、発光層３８からの光を取り出す方向を反対方向とする場合には、透明基板３２に替えて不透明な基板を使用してもよい。
透明基板３２（これに替わる不透明な基板も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００３６】
上記の樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機発光デバイス用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基板３２の厚さは、通常、５０μｍ〜１．１ｍｍ程度である。
【００３７】
このような透明基板３２においては、その用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基板３２に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。
また、有機発光デバイス３１を構成する透明電極層３３は、図示例では陽極であり、発光層３８に正電荷（正孔）を注入するために、正孔注入層３７に隣接して配設されている。尚、透明電極層３３は陰極であってもよく、この場合、発光素子層３６を構成する正孔注入層３７と電子注入層３９とが入れ替わって配設される。
【００３８】
透明電極層３３は、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。中でも、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。
透明電極層３３は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層３３の厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
この透明電極層３３は、周辺の端子部から中央の画素領域まで所望のパターン形状で配設されている。このようなパターン形状の透明電極層３３は、スパッタリング法や真空蒸着法等によりメタルマスクを用いてパターン形状、または、全面に成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることにより形成される。
【００３９】
有機発光デバイス３１を構成する絶縁層３４は、各透明電極層３３上に位置するストライプ形状の開口部３５を有している。この絶縁層３４は、例えば、透明電極層３３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、パターン露光、現像を行って形成したり、熱硬化性樹脂材料を用いて形成することができ、この絶縁層３４が形成された部分は非発光部となる。絶縁層３４の厚みは、絶縁層３４を構成する樹脂固有の絶縁抵抗に応じて適宜設定できるが、例えば、０．０５〜５．０μｍ程度とすることができる。また、上述の樹脂材料にカーボンブラックや、チタン窒化物、チタン酸化物、チタン酸窒化物等のチタン系黒色顔料の１種、あるいは２種以上の遮光性微粒子を混合することにより、ブラックマトリックスを形成して絶縁層３４としてもよい。
尚、このような絶縁層３４の形状は、上述の形状に限定されるものではない。
【００４０】
有機発光デバイス３１を構成する発光素子層３６は、図示例では、透明電極層３３側から正孔注入層３７、発光層３８、および電子注入層３９が積層された構造であるが、発光層３８単独からなる構造、正孔注入層３７と発光層３８とからなる構造、発光層３８と電子注入層３９とからなる構造、さらに、正孔注入層３７と発光層３８との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層３８と電子注入層３９との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
また、発光波長を調整したり、発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
【００４１】
発光素子層３６の発光層３８は、図示例では、赤色発光層３８Ｒ、緑色発光層３８Ｇ、青色発光層３８Ｂからなっているが、有機発光デバイスの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で、また、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせ等、いずれであってもよい。
発光素子層３６の発光層３８に用いる有機発光材料は、上述の本発明の発光層の形成方法で挙げた有機発光材料を使用することができる。
【００４２】
発光素子層３６の各層に用いるドーピング材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子注入材料等は、下記に例示するような無機材料、有機材料いずれでもよい。発光素子層３６の各層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。
（ドーピング材料）
ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。
【００４３】
（正孔輸送材料）
オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
【００４４】
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
【００４５】
（正孔注入材料）
フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００４６】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
【００４７】
（電子注入材料）
カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。
【００４８】
発光素子層３６を構成する各層の形成は、発光層３８については、上述の本発明の発光層の形成方法により形成する。
また、正孔注入層３７、電子注入層３９は、画像表示領域に相当する開口部を備えたフォトマスク（周辺部の透明電極層３３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成することができる。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により正孔注入層３７、電子注入層３９を形成することもできる。
【００４９】
また、正孔注入層３７と発光層３８の形成を、正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成することにより行うこともできる。この場合、正孔注入層用の塗膜は、上述の本発明の発光層形成方法と同様の方法により、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰの範囲であり、用いる溶媒は表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で、かつ、沸点が１５０〜２５０℃の範囲である正孔注入層用インキを使用して形成することもできる。
【００５０】
有機発光デバイス３１を構成する電極層４０は、図示例では陰極であり、発光層３８に負電荷（電子）を注入するために、電子注入層３９に隣接して配設されている。尚、電極層４０は陽極であってもよく、この場合、発光素子層３６を構成する正孔注入層３７と電子注入層３９とが入れ替わって配設される。
このような電極層４０の材料としては、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、上述の透明電極層３３と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。中でも、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層４０はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層４０の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
上記の電極層４０は、上述の電極材料を用いてマスクを介したスパッタリング法や真空蒸着法等の方法によりパターン形状に成膜して形成することができる。
【００５１】
本発明の有機発光デバイスは、例えば、上述の有機発光デバイス３１において、電極層４０を透明な電極層とすることにより、光を取り出す方向を反対方向とした有機発光デバイスが可能である。この場合、基材３２は透明でなくてもよく、また、透明電極層３３は不透明な電極層であってもよい。
また、本発明の有機発光デバイスは、アクティブマトリックス型であってもよい。図８および図９は、アクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスの一例を説明するための図である。図８は電極配線パターンを示す図であり、透明基材（図示せず）上に形成された電極配線パターン５３は、信号線５３Ａ、走査線５３Ｂ、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）５３Ｃ、透明電極（画素電極）層５３Ｄからなる。また、これらの電極配線パターン５３を被覆するように絶縁層５４（図８で斜線を付した部位）が形成されており、この絶縁層５４は、各透明電極層５３Ｄ上に位置する開口部５５を備えている。また、絶縁層５４には、各開口部５５内の透明電極層５３Ｄを被覆するように発光素子層（図示せず）が形成され、この発光素子層上に電極（共通電極）層（図示せず）が配設される。
【００５２】
上記の発光素子層は、絶縁層５４と各開口部５５内の透明電極層５３Ｄとを被覆するように配設された正孔注入層と、開口部５５内の透明電極層５３Ｄ（正孔注入層）を被覆するとともに開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように各開口部５５毎に配設された複数の発光層と、これらを被覆するように配設された電子注入層と、から構成することができる。図９は、絶縁層５４の開口部５５と発光層との関係を示す図である。図９では、発光層は、開口部５５よりも大きい所望のパターン形状の赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂからなっている。
【００５３】
このようなアクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスも、発光層（赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂ）は、本発明の発光層の形成方法により形成されたものである。そして、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように発光素子層が形成されているので、発光素子層を挟持する位置に存在する透明電極層５３Ｄと電極層（図示せず）との短絡を生じることがなく信頼性が高いものである。また、発光素子層の発光層（赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂ）が本発明の製造方法で製造されたものであり、その厚み変動は１０％以下とすることができ、厚みが均一であり高品質の表示が可能である。
尚、上記の発光素子層は、上述の実施形態と同様に、発光層単独からなる構造、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００５４】
図１０は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分斜視図であり、図１１は図１０に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線における断面図である。図１０および図１１において、有機発光デバイス６１は、透明基材６２と、この透明基材６２上に長方形状に形成された透明電極層６３と、ひし形開口部６５ａと長方形状開口部６５ｂとを有する絶縁層６４と、各開口部６５ａ、６５ｂ内の透明電極層６３を被覆するように配設された発光素子層６６と、この発光素子層６６を被覆するように形成された電極層７０とを備えている。
上記の発光素子層６６は、積層配設された正孔注入層６７、発光層６８、電子注入層６９からなっており、各開口部６５ａ、６５ｂの周縁の絶縁層６４に乗り上げるように形成されている。
【００５５】
このような有機発光デバイス６１は、各開口部６５ａ、６５ｂが存在する部位が表示領域となるエリアカラー表示であり、発光素子層６６の発光層６８は、本発明の発光層の形成方法により形成されたものである。この有機発光デバイス６１では、開口部６５ａ、６５ｂの周縁の絶縁層６４に乗り上げるように発光素子層６６が形成されているので、発光素子層６６を挟持する位置に存在する透明電極層６３と電極層７０との短絡を生じることがなく信頼性が高いものである。また、発光素子層６６の発光層６８が本発明の形成方法で製造されたものであり、その厚み変動は１０％以下とすることができ、厚みが均一であり高品質の表示が可能である。
【００５６】
尚、発光層６８は、各開口部６５ａ、６５ｂの周縁の絶縁層６４に乗り上げる程度の大きさとしてもよく、また、この場合、各開口部６５ａ、６５ｂに位置する各発光層の発光色が異なるものであってもよく、さらに、各開口部６５ａ、６５ｂ上に配設される電極層７０を電気的に独立したものとして、各発光層毎に発光できるようにしてもよい。
また、上記の発光素子層６６は、上述の実施形態と同様に、発光層単独からなる構造、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層を設けた構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００５７】
本発明の有機発光デバイスは、上述の実施形態に限定されるものではない。
図１２は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１２に示される有機発光デバイス７１は、透明基材７２と、この透明基材７２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層７３Ｒ、緑色着色層７３Ｇ、青色着色層７３Ｂからなるカラーフィルタ層７３と、このようなカラーフィルタ層７３を覆うように配設された透明平滑化層７５と、この透明平滑化層７５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス３１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層３３と、各透明電極層３３上にストライプ形状の開口部３５が位置するように配設された絶縁層３４と、各開口部３５内の透明電極層３３を被覆するように配設された発光素子層３６と、この発光素子層３６上に透明電極層３３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層４０とを備えている。
【００５８】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層３３は、帯状パターンの赤色着色層７３Ｒ、緑色着色層７３Ｇ、青色着色層７３Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層３６は、絶縁層３４と各開口部３５内の透明電極層３３とを被覆するように配設された正孔注入層３７と、開口部３５内の透明電極層３３（正孔注入層３７）を被覆するとともに開口部３５の周縁の絶縁層３４に乗り上げるように各開口部３５毎に配設された複数の発光層３８と、これらを被覆するように配設された電子注入層３９と、からなる。図示例では、発光層３８は、帯状パターンの白色発光層である。
【００５９】
このような有機発光デバイス７１は、カラーフィルタ層７３と透明平滑化層７５とを備え、発光層３８が白色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス３１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層３６は、上述の実施形態と同様に、発光層単独からなる構造、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００６０】
上記のカラーフィルタ層７３は、発光素子層３６からの光を色補正したり、色純度を高めるものである。カラーフィルタ層７３を構成する赤色着色層７３Ｒ、緑色着色層７３Ｇ、青色着色層７３Ｂは、発光素子層３６の発光特性に応じて適宜材料を選択することができ、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。このようなカラーフィルタ層７３の厚みは、各着色層の材料、有機ＥＬ素子層の発光特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、１〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。
【００６１】
また、透明平滑化層７５は、カラーフィルタ層７３以下の構成により段差（表面凹凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、発光素子層３６の厚みムラ発生を防止する平坦化作用をなす。このような透明平滑化層７５は、透明（可視光透過率５０％以上）樹脂により形成することができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。
このような透明平滑化層７５の厚みは、使用する材料を考慮し、平坦化作用が発現できる範囲で設定することができ、例えば、１〜５μｍ程度の範囲で適宜設定することができる。
【００６２】
また、図１３は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１３に示される有機発光デバイス８１は、透明基材８２と、この透明基材８２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層８３Ｒ、緑色着色層８３Ｒ、青色着色層８３Ｂからなるカラーフィルタ層８３と、このようなカラーフィルタ層８３の赤色着色層８３Ｒ、緑色着色層８３Ｒ、青色着色層８３Ｂを覆うように帯状パターンの赤色変換蛍光体層８４Ｒ（青色光を赤色蛍光に変換する層）、緑色変換蛍光体層８４Ｇ（青色光を緑色蛍光に変換する層）、青色変換ダミー層８４Ｂ（青色光をそのまま透過する層）からなる色変換蛍光体層８４が設けられ、さらに、これらを覆うように配設された透明平滑化層８５と、この透明平滑化層８５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス３１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層３３と、各透明電極層３３上にストライプ形状の開口部３５が位置するように配設された絶縁層３４と、各開口部３５内の透明電極層３３を被覆するように配設された発光素子層３６と、この発光素子層３６上に透明電極層３３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層４０とを備えている。
【００６３】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層３３は、帯状パターンの赤色変換蛍光体層８４Ｒ、緑色変換蛍光体層８４Ｇ、青色変換ダミー層８４Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層３６は、絶縁層３４と各開口部３５内の透明電極層３３とを被覆するように配設された正孔注入層３７と、開口部３５内の透明電極層３３（正孔注入層３７）を被覆するとともに開口部３５の周縁の絶縁層３４に乗り上げるように各開口部３５毎に配設された複数の発光層３８と、これらを被覆するように配設された電子注入層３９と、からなる。図示例では、発光層３８は、帯状パターンの青色発光層である。
【００６４】
このような有機発光デバイス８１は、カラーフィルタ層８３と色変換蛍光体層８４と透明平滑化層８５とを備え、発光層３８が青色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス３１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。また、カラーフィルタ層８３、透明平滑化層８５は、上述のカラーフィルタ層７３、透明平滑化層７５と同様であり、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層３６は、上述の実施形態と同様に、発光層単独からなる構造、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００６５】
上記の赤色変換蛍光体層８４Ｒおよび緑色変換蛍光体層８４Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるいは、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層８４Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層８４Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層８４Ｒおよび緑色変換蛍光体層８４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。
【００６６】
また、青色変換ダミー層８４Ｂは、発光素子層３６で発光された青色光をそのまま透過してカラーフィルタ層８３に送るものであり、赤色変換蛍光体層８４Ｒ、緑色変換蛍光体層８４Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層８４Ｒおよび緑色変換蛍光体層８４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層８４のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層８４Ｂに使用することができる。
【００６７】
色変換蛍光体層８４を構成する赤色変換蛍光体層８４Ｒと緑色変換蛍光体層８４Ｇは、蛍光色素単体で形成する場合、例えば、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成する場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤色変換蛍光体層８４Ｒや緑色変換蛍光体層８４Ｇを形成することができる。また、青色変換ダミー層８４Ｂは、所望の感光性樹脂塗料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により形成することができる。
【００６８】
このような色変換蛍光体層８４の厚みは、赤色変換蛍光体層８４Ｒおよび緑色変換蛍光体層８４Ｇが発光素子層３６で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層８４Ｒと緑色変換蛍光体層８４Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。
青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
【００６９】
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系；  ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系；  ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
【００７０】
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
【００７１】
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
【００７２】
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。
尚、上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、カラーフィルタ層７３，８３の非形成部位にブラックマトリックスを備えるものであってもよい。
【実施例】
【００７３】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
下記組成の赤色発光層用のインキＡ１を調製した。このインキＡ１のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により定常流測定モードで測定した結果、８０ｃＰであった。また、溶媒として使用するメシチレンとテトラリンの表面張力を、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で測定した。
（赤色発光層用のインキＡ１の組成）
・ポリフルオレン誘導体系の赤色発光材料                …    ２．５重量％
（分子量：300,000）
・溶媒（メシチレン：テトラリン＝５０：５０の混合溶媒）…  ９７．５重量％
（混合溶媒の表面張力＝３２ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１８６℃）
（メシチレンの表面張力＝２８ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１６５℃）
（テトラリンの表面張力＝３５．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝２０７℃）
【００７４】
また、グラビア版として、セル間隔２５μｍとなるように格子形状に配列された正方形のセル（セルの一辺が１００μｍ、セルの深さ３５μｍ）を備えた板状のグラビア版（有効幅５０ｍｍ）を準備した。このグラビア版では、正方形のセルの対角線方向を、後述のブランケットの稼動方向と一致させた。
【００７５】
また、樹脂フィルムとして、下記の５種の樹脂フィルム（Ｆ１〜Ｆ５）を準備した。尚、これらの樹脂フィルム（幅１５０ｍｍ）の表面張力の測定は、下記のように行った。
（樹脂フィルム）
・Ｆ１  ：ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製  トレファンBOタイプ2500）、
厚み５０μｍ、表面張力３０ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ２  ：メラミン焼付けポリエチレンテレフタレートフィルム（パナック（株）製
ＰＥＴ１００ＳＧ−１）、厚み１００μｍ、表面張力３５ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ３  ：ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  Ｔ６０）、
厚み７５μｍ、表面張力３８ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ４  ：ポリエチレンナフタレートフィルム（帝人（株）製  Ｑ５１）、
厚み７５μｍ、表面張力４５ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ５  ：易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  Ｕ１０）、
厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ
【００７６】
（樹脂フィルムの表面張力の測定方法）
２種以上の表面張力が判っている液体（標準物質）を使用して、自動接触角計（協和界面科学（株）製  DropMaster 700型）にて接触角θを測定し、γｓ（樹脂フィルムの表面張力）＝γＬ（液体の表面張力）ｃｏｓθ＋γＳＬ（樹脂フィルムと液体の表面張力）の式に基づいて求めた。
次いで、直径１２ｃｍ、胴幅３０ｃｍのブランケット胴（表面にクッション層（硬度７０°）を備える）の周面に、上記の各樹脂フィルム（Ｆ１〜Ｆ５）を装着して５種のブランケットを作製した。尚、クッション層の硬度はＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度である。
【００７７】
次に、上記のグラビア版と各ブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、グラビア版に上記の赤色発光層用のインキＡ１を供給し、ブレードを用いて不要なインキＡ１を除去してセル内にインキＡ１を充填した。次いで、基材として、洗浄処理と紫外線プラズマ洗浄を施したガラス基板を準備し、グラビア版からブランケットにインキＡ１を受理させ、その後、ブランケットからガラス基板上にインキＡ１を転移させることにより、赤色発光層（厚み約７０ｎｍ）の形成を行った。尚、印刷速度は１０００ｍｍ／秒であり、乾燥は、１２０℃に設定したホットプレート上で１時間とした。
【００７８】
上記のように、表面張力が異なる樹脂フィルムを装着したブランケットを使用した赤色発光層の形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）を測定して、結果を下記の表１に示した。尚、赤色発光層の厚みは、セイコーインスツルメンツ（株）製のＮａｎｏｐｉｃｓ  １０００を使用し、この装置標準のコンタクトモード用カンチレバーを用いて、測定エリア１００μｍ、スキャンスピード９０sec／frameで測定した。
【００７９】
【表１】
2006318850.tif 000003
表１に示されるように、樹脂フィルムの表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であるブランケットＦ２〜Ｆ５を使用することにより、実用レベルの赤色発光層を形成できる。
【００８０】
［実施例２］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、下記の表２に示される沸点の混合溶媒を使用した８種の赤色発光層用のインキ（Ａ１〜Ａ８）を調製した。尚、混合溶媒の表面張力は４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、せん断速度１００／秒におけるインキ粘度（インキ温度２３℃）は５〜２００ｃＰの範囲内であった。
一方、グラビア版として、実施例１と同じグラビア版を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、実施例１の樹脂フィルムＦ３（東レ（株）製  Ｔ６０、厚み７５μｍ、表面張力３８ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
【００８１】
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ１〜Ａ８）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層（厚み約７０ｎｍ）の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、沸点が異なる溶媒を用いた赤色発光層用のインキ（８種）を使用しての赤色発光層形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）を測定して、結果を下記の表２に示した。
【００８２】
【表２】
2006318850.tif 000004
表２に示されるように、沸点が１５０〜２５０℃の範囲の溶媒を用いたインキ（Ａ３〜Ａ７）を使用することにより、実用レベルの赤色発光層を形成できる。
【００８３】
［実施例３］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、下記の表３に示される表面張力の混合溶媒を使用した８種の赤色発光層用のインキ（Ａ′１〜Ａ′８）を調製した。尚、混合溶媒の沸点は１５０〜２５０℃の範囲内であり、せん断速度１００／秒におけるインキ粘度（インキ温度２３℃）は５〜２００ｃＰの範囲内であった。
一方、グラビア版として、実施例１と同じグラビア版を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、実施例１の樹脂フィルムＦ３（東レ（株）製  Ｔ６０、厚み７５μｍ、表面張力３８ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
【００８４】
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ′１〜Ａ′８）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層（厚み約７０ｎｍ）の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、表面張力が異なる溶媒を用いた赤色発光層用のインキ（８種）を使用しての赤色発光層形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）を測定して、結果を下記の表３に示した。
【００８５】
【表３】
2006318850.tif 000005
表３に示されるように、表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の溶媒を用いたインキ（Ａ′１〜Ａ′７）を使用することにより、実用レベルの赤色発光層を形成できる。
【００８６】
［実施例４］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、赤色発光材料の含有量を２〜３重量％の範囲で適宜変更し、また、混合溶媒のメシチレンとテトラリンの混合比を変えることにより表面張力を２５〜４０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲で、沸点を１５０〜２５０℃の範囲で適宜変更して、下記表４に示されるように、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を３ｃＰ〜２５０ｃＰまで振った１１種の赤色発光層用のインキＡ″２〜Ａ″１２を調製した。
一方、グラビア版として、実施例１と同じグラビア版を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、実施例１の樹脂フィルムＦ３（東レ（株）製  Ｔ６０、厚み７５μｍ、表面張力３８ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
【００８７】
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ″１〜Ａ″１２）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層（厚み約７０ｎｍ）の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、粘度が異なる赤色発光層用のインキ（１２種）を使用した赤色発光層の形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）を測定して、結果を下記の表４に示した。
【００８８】
【表４】
2006318850.tif 000006
表４に示されるように、インキ粘度が５〜２００ｃＰであるインキ（Ａ″３〜Ａ″７、Ａ″１、Ａ″８〜Ａ″１１）を使用することにより、実用レベルの赤色発光層を形成できる。
【００８９】
［実施例５］
（透明電極層の形成）
まず、ガラス基板（厚み０．７ｍｍ）に対して、イオンプレーティング法により膜厚２００ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、幅２．２ｍｍのストライプ形状の透明電極層を４ｍｍピッチで１０本形成した。
【００９０】
（絶縁層の形成）
次に、上記のガラス基板（厚み０．７ｍｍ）に、洗浄処理と紫外線プラズマ洗浄を施し、その後、アクリル樹脂を主成分とするネガ型感光性レジストをスピンコート法で塗布し、フォトリソグラフィープロセスでパターニングして、各透明電極層上に２ｍｍ×２ｍｍの発光エリア（開口部）が４ｍｍピッチで存在するような絶縁層（厚み１μｍ）を形成した。
【００９１】
（正孔注入層の形成）
次いで、正孔注入層用インキとして、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）（バイエル社製  Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＣＨ８０００）をスピンコート法で塗布し、１５０℃に設定したホットプレート上で３０分間乾燥させて正孔注入層を形成した。この正孔注入層は５０ｍｍ×５０ｍｍであり、上記の絶縁層の開口部を被覆するように形成した。尚、ＰＥＤＯＴ塗布時のスピンコートの回転数は、正孔注入層の厚みが７０ｎｍとなるように調整した。
【００９２】
（赤色発光層の形成）
グラビア版として、実施例１と同じグラビア版を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、実施例１の樹脂フィルムＦ３（東レ（株）製  Ｔ６０、厚み７５μｍ、表面張力３８ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、実施例１の赤色発光層用のインキＡ１（せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃＰ、混合溶媒の表面張力３２ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１８６℃）を用いて、実施例１と同様にして、正孔注入層上に赤色発光層（厚み約７０ｎｍ）の形成を行った。
【００９３】
（電子注入層の形成）
赤色発光層を形成した面側に、２．２ｍｍ幅のストライプ状の開口部を４ｍｍピッチで備えたメタルマスクを、この開口部が上記のストライプ形状の透明電極層と直交し、かつ、上記の絶縁層の発光エリア（開口部）上に位置するように配置した。次に、このマスクを介して真空蒸着法によりカルシウムを蒸着（蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜して電子注入層（厚み１０ｎｍ）を４ｍｍピッチで１０本形成した。
【００９４】
（電極層の形成）
次に、電子注入層の形成に用いたメタルマスクをそのまま使用して、真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着（蒸着速度＝０．４ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、電子注入層上に、アルミニウムからなる幅２．２ｍｍのストライプ形状の電極層（厚み３００ｎｍ）を形成した。
最後に、電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせることにより、本発明の有機発光デバイスを得た。
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ2の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が０．９ｃｄ／Ａ、素子寿命が３００００時間であった。尚、素子寿命は、初期の輝度が１００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定し、その電流で連続駆動させ、５０ｃｄに半減するまでの時間で評価した。
【００９５】
［実施例６］
下記組成の緑色発光層用のインキＢを調製した。このインキＢのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を実施例１と同様に測定した結果、８０ｃＰであった。
（緑色発光層用のインキＢの組成）
・ポリフルオレン誘導体系の緑色発光材料                …    ２．５重量％
（分子量：200,000）
・溶媒（メシチレン：テトラリン＝６７：３３の混合溶媒）…  ９７．５重量％
（混合溶媒の表面張力＝３３ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１９３℃）
【００９６】
この緑色発光層用のインキＢを使用して、実施例５と同様にして、本発明の有機発光デバイスを得た。
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ2の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が８．５ｃｄ／Ａ、素子寿命が２００００時間であった。
【００９７】
［実施例７］
下記組成の青色発光層用のインキＣを調製した。このインキＣのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を実施例１と同様に測定した結果、６０ｃＰであった。
（青色発光層用のインキＣの組成）
・ポリフルオレン誘導体系の青色発光材料                …    ２．５重量％
（分子量：300,000）
・溶媒（メシチレン：テトラリン＝２５：７５の混合溶媒）…  ９７．５重量％
（混合溶媒の表面張力＝３４ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１９７℃）
【００９８】
この青色発光層用のインキＣを使用して、実施例５と同様にして、本発明の有機発光デバイスを得た。但し、電子注入層の形成では、カルシウム層を真空蒸着で形成する前に、フッ化リチウムを１ｎｍの厚みで真空蒸着（蒸着速度＝０．０１ｎｍ／秒）により形成した。
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ2の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が４．０ｃｄ／Ａ、素子寿命が１０００時間であった。
【００９９】
［実施例８］
下記組成の白色発光層用のインキＤを調製した。このインキＤのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を実施例１と同様に測定した結果、４５ｃＰであった。
（白色発光層用のインキＤの組成）
・ポリフルオレン誘導体系の白色発光材料                …    ２．５重量％
（分子量：300,000）
・溶媒（メシチレン：テトラリン＝２５：７５の混合溶媒）…  ９７．５重量％
（混合溶媒の表面張力＝３４ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１９７℃）
【０１００】
この白色発光層用のインキＤを使用して、実施例５と同様にして、本発明の有機発光デバイスを得た。
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ2の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が４．０ｃｄ／Ａ、素子寿命が１０００時間であった。
【産業上の利用可能性】
【０１０１】
フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の種々の有機発光デバイスの製造において有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図２】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図３】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図４】グラビア版のセルを説明するための図である。
【図５】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図６】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図７】本発明の有機発光デバイスの一実施形態を示す部分断面斜視図である。
【図８】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す平面図である。
【図９】発光層と絶縁層の開口部との関係を示す図である。
【図１０】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す斜視図である。
【図１１】図９に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線での断面図である。
【図１２】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。
【図１３】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。
【符号の説明】
【０１０３】
２，２′…グラビア版
３，３′…セル
４…ブランケット
５…樹脂フィルム
６…ブランケット胴
１１Ａ…発光層被形成面
２０…発光層
３１，６１，７１，８１…有機発光デバイス
３２，６２，７２，８２…透明基材
３３…透明電極層
３４，５４…絶縁層
３５，５５…開口部
３６…発光素子層
３７…正孔注入層
３８，３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂ，５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｇ…発光層
３９…電子注入層
４０…電極層
５３…電極配線パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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