(57)【要約】      （修正有）【課題】疎水性トップコート層を有する眼科用レンズを成形型から作製する方法を提供する。【解決手段】以下の工程を含む、一対の成形型の少なくとも片側の成形型の製造方法：（ａ）各が協働して成形キャビティの輪郭を定めるように意図された互いに対向した光学表面を有する一対の成形型を準備する工程、（ｂ）前記一対の成形型の少なくとも片側の前記光学表面に、疎水性トップコート層を形成する工程、および（ｃ）前記疎水性トップコート層上に、反射防止膜を形成する工程、ここで、- 該反射防止膜は、高屈折率および低屈折率の交互に積層した誘電体層を含み、かつ- 前記疎水性トップコート層上に成膜した第１の誘電体層は、第１段階において、真空成膜により第１の誘電体サブレイヤを成膜し、第２段階において、イオンアシスト真空蒸着により第２サブレイヤを成膜する２段階プロセスを用いて成膜される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を含む、一対の成形型の少なくとも片側の成形型の製造方法：
（ａ）各が協働して成形キャビティの輪郭を定めるように意図された互いに対向した光学表面を有する一対の成形型を準備する工程、
（ｂ）前記一対の成形型の少なくとも片側の前記光学表面に、疎水性トップコート層を形成する工程、および
（ｃ）前記疎水性トップコート層上に、反射防止膜を形成する工程、
ここで、
- 該反射防止膜は、高屈折率および低屈折率の交互に積層した誘電体層を含み、かつ
- 前記疎水性トップコート層上に成膜した第１の誘電体層は、第１段階において、真空成膜により第１の誘電体サブレイヤを成膜し、第２段階において、イオンアシスト真空蒸着により第２サブレイヤを成膜する２段階プロセスを用いて成膜される。
【請求項２】
前記少なくとも片側の成形型がプラスチック材料製である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記積層体の各層が真空成膜層である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の誘電体がＳｉＯ2である請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１サブレイヤの厚みが２ないし１２ｎｍの範囲であり、第２サブレイヤの厚みが６８ないし９８ｎｍの範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記積層の誘電体層が、ＳｉＯ2／ＺｒＯ2／ＳｉＯ2／ＺｒＯ2４層の積層である請求項１に記載の方法。
【請求項７】
耐擦傷性膜に対する接着性を高めるため、前記反射防止膜上に、付加的なＳｉＯ2層を形成する工程をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記付加的なＳｉＯ2層の厚みが１ないし５０ｎｍの範囲である請求項７に記載の方法。
【請求項９】
工程（ｂ）に先立って、前記片側の成形型の光学表面上に保護膜を形成する工程をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記保護膜が、
- 紫外線硬化したアクリル層、
- アミン含有ポリシロキサン層、
- フルオロカーボンポリマー層、
- 真空成膜したフッ化マグネシウム層
から選ばれる請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記疎水性トップコート層がシリコーンまたはフルオロシリコーン製である請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記疎水性トップコート層の厚みが２ないし１５ｎｍの範囲である請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記片側の成形型が、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリサルフォン、ポリエチレンテレフタレートとポリカーボネートの共重合体、結晶性ポリエチレンテレフタレート、ガラス繊維強化ポリエチレンテレフタレートおよびポリノルボルネンからなる群より選ばれるプラスチック材料製である請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記プラスチック材料がポリカーボネートである請求項２に記載の方法。
【請求項１５】
前記成形型のプラスチック材料が離型剤を含む請求項２に記載の方法。
【請求項１６】
前記離型剤が、トリメチルクロロシラン、クロロメチルトリメチルシラン、クロロプロピルトリメチルシラン、クロロメチルドデシルジメチルシラン、塩素末端ポリジメチルシロキサン、（3,3-ジメチルブチル）ジメチルクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、アミノプロピルジメチル末端ポリジメチルシロキサン、3-トリメトキシシリルプロピルオクタデシルジメチルアンモニウムクロライド、テトラデシルジメチル（3-トリメトキシシリルプロピル）アンモニウムクロライド、トリメチルエトキシシランおよびオクタデシルトリメトキシシランからなる群より選ばれる請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
耐擦傷性膜を前記反射防止膜上に形成する工程をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記耐擦傷性膜が、エポキシアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシランおよびコロイダルシリカまたはそれらの加水分解物を主成分として含む組成物の硬化により形成される請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記耐擦傷性膜組成物が、有効量のカプリング剤として、エポキシアルコキシシランおよび不飽和アルコキシシランの予備縮合液をさらに含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記エポキシアルコキシシランが、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルペンタメチルジシロキサン、γ-グリシドキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、（γ-グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、γ-グリシドプロピルジメチルエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルジイソプロピルエトキシシランおよび（γ-グリシドキシプロピル）ビス（トリメチルシロキシ）メチルシランからなる群より選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記不飽和アルコキシシランが、トリス（2-メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリスイソブトキシシラン、ビニルトリ-t-ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルビス（トリメチルシロキシ）シラン、ビニルジメトキシエトキシシラン、アルキルトリエトキシシラン、アルキルトリエトキシシランおよびアリルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、3-アクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、アクリロプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルエチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、3-アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、n-(3-アクリロキシ-2-ヒドロキシプロピル）-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリス（ビニルジメチルシロキシ）シラン、3-メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、3-メタクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラン、3-メタクリプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリルプロピルメチル-ジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、3-メタクリルプロペニルトリメトキシシランおよび3-メタクリロキシプロピルビス（トリメチルシロキシ）メチルシランからなる群より選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
耐衝撃性プライマー層を前記耐擦傷性膜上に形成することをさらに含む請求項１７に記載の方法。
【請求項２３】
前記耐衝撃性プライマー層が、ポリ（メタ）アクリル系組成物またはポリウレタン系組成物の硬化により形成される請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記各組成物がラテックスである請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記耐衝撃性プライマー層が、有効量のカプリング剤として、エポキシアルコキシシランおよび不飽和アルコキシシランの予備縮合液をさらに含む請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記エポキシアルコキシシランが、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルペンタメチルジシロキサン、γ-グリシドキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、（γ-グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルジイソプロピルエトキシシランおよび（γ-グリシドキシプロピル）ビス（トリメチルシシロキシ）メチルシランからなる群より選ばれる請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記不飽和アルコキシシランが、トリス（2-メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリスイソブトキシシラン、ビニルトリ-t-ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルビス（トリメチルシロキシ）シラン、ビニルジメトキシエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アルキルトリエトキシシランおよびアリルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、3-アクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、アクリルプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルエチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、3-アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、n-(3-アクリロキシ-2-ヒドロキシプロピル）-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシトリス（ビニルジメチルシロキシ）シラン、3-メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、3-メタクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピル-ペンタメチルジシロキサン、3-メタクリロキシプロピル-メチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピル-メチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルジメチル-エトキシシラン、3-メタクリロキシプロペニルトリメトキシシランおよび3-メタクリロキシプロピルビス（トリメチルシロキシ）メチルシランからなる群より選ばれる請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記付加的なＳｉＯ2層上に、耐擦傷性膜を形成する工程をさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項２９】
前記耐擦傷性膜上に耐衝撃性プライマー層を形成することをさらに含む請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
互いに協働して成形キャビティの輪郭を定めるように意図された対向した光学表面を有する一対の成形型の片側の成形型であって、該片側の成形型の光学表面は、疎水性トップコート層および該疎水性トップコート層上の反射防止膜で被覆されており、該反射防止膜は、高屈折率および低屈折率の交互に積層した誘電体層を含み、かつ前記疎水性トップコート層上に成膜した第１の誘電体層は、真空成膜により成膜された誘電体の第１サブレイヤと、イオンアシスト真空蒸着により成膜された誘電体の第２サブレイヤとを含む、前記成形型。
【請求項３１】
前記片側の成形型がプラスチック材料製である請求項３０に記載の成形型。
【請求項３２】
前記第１の誘電体がＳｉＯ2である請求項３０に記載の成形型。
【請求項３３】
前記第１サブレイヤの厚みが２ないし１２ｎｍの範囲であり、第２サブレイヤの厚みが６８ないし９８ｎｍの範囲である、請求項３０に記載の成形型。
【請求項３４】
前記積層の誘電体層が、ＳｉＯ2／ＺｒＯ2／ＳｉＯ2／ＺｒＯ2４層の積層である請求項３０に記載の成形型。
【請求項３５】
前記反射防止膜上に、耐擦傷性膜に対する接着性を高めるための付加的なＳｉＯ2層をさらに含む請求項３０に記載の成形型。
【請求項３６】
前記付加的なＳｉＯ2層の厚みが１ないし５０ｎｍの範囲である請求項３５に記載の成形型。
【請求項３７】
前記反射防止膜上に、耐擦傷性膜をさらに含む請求項３０に記載の成形型。
【請求項３８】
前記耐擦傷性膜上に、耐衝撃性プライマー層をさらに含む請求項３７に記載の成形型。
【請求項３９】
前記疎水性トップコート層がシリコーンまたはフルオロシリコーン製である請求項３０に記載の成形型。
【請求項４０】
前記疎水性トップコート層の厚みが２ないし１５ｎｍの範囲である請求項３９に記載の成形型。
【請求項４１】
前記片側の成形型が、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリサルフォン、ポリエチレンテレフタレートとポリカーボネートの共重合体、結晶性ポリエチレンテレフタレート、ガラス繊維強化ポリエチレンテレフタレートおよびポリノルボルネンからなる群より選ばれるプラスチック材料製である請求項３０に記載の成形型。
【請求項４２】
前記片側の成形型の光学表面上に保護膜をさらに含む請求項３０に記載の成形型。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
背景技術
本発明は、光学物品、より詳しくは表面に疎水性トップコート層を有する眼科用レンズなどの眼科用物品を成形型から作製する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
眼科用レンズの技術分野では、最終製品レンズに、光学または機械的性質を特別に付与するか、またはこれら性質の改善を加えるための種々の被覆層を、眼科用レンズの少なくとも片表面に設けることが一般的によく行われる。たとえば、概ね有機ガラス材料で作製された眼科用レンズの少なくとも片表面に、該基材の表面から始まって、順次に、耐衝撃性膜（耐衝撃性プライマー層）、耐擦傷性膜（ハードコート層）、反射防止膜および疎水性トップコート層からなる被覆層を形成することは、常套手段である。
【０００３】
一般的に、有機ガラス材料製の光学物品は、二部材を組み立てた時に成形キャビティの輪郭を定める光学表面をそれぞれ有する２つの別部材から構成される成形型中で成形される。それから、液状の硬化性組成物を上記成形キャビティ内に導入し、硬化させて光学物品を形成することができる。その後、型部材を解体し、光学物品を回収する。
【０００４】
一対の成形型および成形方法の具体例は、米国特許第５，５４７，６１８号および米国特許第５，６６２，８３９号（特許文献１〜２）に開示されている。
【０００５】
また、一対の成形型の各部材の光学表面上に、耐擦傷性膜組成物を塗布し、必要ならばそれを予備硬化させ、型部材を組み立て、成形キャビティを光学的液状硬化性材料で満たし、該光学材料を硬化させた後、型部材を解体して、その表面に成膜かつ密着した耐擦傷性膜を有する光学物品の成形品を回収することも、当技術分野ではよく知られている。
このような方法は、たとえば欧州特許第１０２８４７号明細書（特許文献３）に開示されている。
【０００６】
米国特許第５，０９６，６２６号（特許文献４）は、表面に耐擦傷性膜および／または反射防止膜を有する光学物品の製造方法を開示する。該方法は、
- 一対の成形型の各光学表面上に、反射防止膜および／または耐擦傷性膜を形成し、
- 一対の成形型を組み立て、
- 成形キャビティ内に光学的液状硬化性組成物を注入し、
- 該光学組成物を硬化させた後、
- 表面に、耐擦傷性膜、または耐擦傷性膜とともに反射防止膜を有する光学物品の成形品を回収するために一対の成形型を解体することからなる方法であって、
該方法において、上記反射防止膜および／または耐擦傷性膜の形成に先立って、少なくとも１の離型剤を耐擦傷性膜中に包含させるか、または型部材の光学表面上に少なくとも１の離型剤からなる層を形成するかのいずれかを行う。
上記米国特許第５，０９６，６２６号の方法に使用しうる好適な離型剤は、フルオロシリコーン類、フルオロアルキルアルコキシシラン類およびこれらの混合物である。
【０００７】
米国特許第５，１６０，６６８号（特許文献５）は、光学素子の表面に反射防止膜を転写する方法を開示する。該方法は、
- 一対の成形型の一部材の光学表面上に、水溶性無機塩からなる離型層を形成し、
- 該離型層の上面に、反射防止膜層を形成し、
- 型部材を組み立て、
- 成形キャビティ内に液状光学硬化性組成物を注入し、
- 該光学組成物を硬化させ、
- 型部材を解体した後、水中で離型層を溶解して、被覆層を設けた光学素子を回収することからなる。
【０００８】
米国特許第５，７３３，４８３号（特許文献６）は、型内で着色および被覆した光学素子を成形型から形成する方法を開示する。該方法は、
- 一対の成形型の少なくとも一部材の光学表面上に、ポリマー離型層、反射防止膜層、カプリング剤層およびハードコート層を続けて形成し、
- 一対の成形型を組み立て、
- 成形キャビティ内に光学液状硬化性材料を注入し、
- 該光学材料とともに上記反射防止膜層、カプリング剤層およびハードコート層を硬化させた後、
- 型部材を解体し、被覆層を設けた光学素子を回収することからなる。
【０００９】
上記ポリマー離型層は、ポリビニル酸（ＰＡＡ）、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリ（Ｎ-ビニルピロリドン）（ＰＮＶＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）またはポリアクリルアミド（ＰＡＭ）などの水溶性ポリマー；ポリブタジエン-ジアクリラート（ＰＢＤ-ＳＡ）、ポリエチレングリコール-ジアクリラート（ＰＥＧ-ＤＡ）または高度に架橋したアクリラートなどの非水溶性の紫外線硬化性ポリマー、およびダウコーニング２０リリエース（Release）などの市販の離型剤で作製することができる。
【００１０】
上記カプリング剤層は、通常、（メタ）アクリロキシトリアルコキシシランからなる。このカプリング剤層は、成形型から反射防止膜を抜き出しやすくするために使用される。
【００１１】
疎水性トップコート層は、最終の光学製品、特に反射防止膜をもつ光学製品の防汚性を改善するために慣行的に設けられている。
【００１２】
このような疎水性トップコート層に付随する問題は、それが光学基材、特に被覆層付き光学基材の反射防止膜と密着しにくい傾向をもつことである。
【００１３】
疎水性トップコート層の光学基材特に被覆層付き光学基材の反射防止膜に対する密着性を改善するとともに、疎水性トップコート層を、成形型から、光学基材特に被覆層付き光学基材の反射防止膜表面に容易に転写させる方法が求められている。
【特許文献１】米国特許第５，５４７，６１８号明細書
【特許文献２】米国特許第５，６６２，８３９号明細書
【特許文献３】欧州特許第１０２８４７号明細書
【特許文献４】米国特許第５，０９６，６２６号明細書
【特許文献５】米国特許第５，１６０，６６８号明細書
【特許文献６】米国特許第５，７３３，４８３号明細書
【発明の開示】
【００１４】
この発明の目的は、疎水性トップコート層を、成形型から光学基材表面に、容易に転写するための方法を提供することである。
またこの発明の目的は、疎水性トップコート層を、成形型から被覆層をもつ光学基材の反射防止膜の表面に容易に転写するための方法を提供することである。
【００１５】
この発明のさらなる目的は、疎水性トップコート層の光学基材表面への特に被覆層をもつ光学基材の反射防止膜表面への密着性に改善をもたらす上記のような方法を提供することである。
【００１６】
上記目的は、下記の本発明により達成されることが以下で明らかになる；すなわち疎水性トップコート層を光学基材表面に転写する方法であって、該方法は以下の工程を含む：
- 各が協働して成形キャビティの輪郭を定める互いに対向した光学表面を有する一対の（two-part）プラスチック成形型を準備する工程；
- 前記成形型の光学表面の少なくとも一方に、疎水性トップコート層を形成する工程；
- 前記成形キャビティを、光学基材の液状硬化性組成物で満たす工程；
- 前記液状硬化性組成物を硬化させる工程、および
- 少なくとも一方の表面に成膜かつ密着した疎水性トップコート層を有する光学基材を含む光学物品を回収するために一対の成形型を解体する工程。
【００１７】
好ましい態様例において、上記プラスチック成形型は、ポリカーボネートまたはポリノルボルネン製である。
【００１８】
上記被覆層付き光学物品を、成形型から一層離型しやすくするために、成形型のプラスチック材料中に離型剤を含ませるか、または型部材の光学表面を離型剤層で被覆することができる。
【００１９】
より好ましい態様例では、本発明に係る方法は、成形型を光学基材組成物で満たす前に予め、疎水性トップコート層の上面に反射防止膜を設けるか、この順序で、さらに耐擦傷性膜および／または耐衝撃性プライマー層を設けてもよい。
【００２０】
上記反射防止膜は、通常、高および低屈折率の交互に多層積層した誘電体で構成され、該誘電体は一般的に無機酸化物であり、好ましくは真空成膜される。
【００２１】
特に好ましい態様例において、上記積層膜の最表層（疎水性トップコート層表面に、じかに成膜された反射防止膜の第１層である）は、２段階プロセスにより真空成膜される。
【００２２】
第１段階では、適切な誘電体の真空蒸着により、第１の薄層サブレイヤを、疎水性トップコート層上にじかに成膜する。第２段階では、イオンアシスト真空成膜法を用いて、第１のサブレイヤ上に、同一の誘電体からなる第２の薄層サブレイヤを成膜する。好ましくは、上記第１のサブレイヤの誘電体はＳｉＯ2である。
【００２３】
以下に本発明の目的および利点をより理解するために、添付図面に示される符号を参照しながら本発明をより詳細に説明する。図１Ａ〜１Ｃは、本発明に係る方法の一態様の主な工程を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下の説明では、本発明に係る光学機能性の被覆層を光学物品の片面のみに設けるが、本発明の方法を用いて光学物品の両面に同時に形成し得ることはいうまでもない。
【００２５】
図１Ａには、一対の成形型の前面側部材１が図示され、その光学表面１ａ上には、疎水性トップコート層１０、反射防止膜２０、耐擦傷性膜３０および耐衝撃性プライマー層３１が順次形成されている。
【００２６】
本発明の方法で用いられる一対の成形型は、光学表面１ａをもつ前面側部材１と、光学表面２ａをもつ背面側部材２（図１Ｂ）とから構成される。
成形型の二部材１，２は、通常、これら型部材の各光学表面１ａ，２ａが協働して成形キャビティの輪郭を定めるように、ガスケットまたは接着テープ（図示せず）を介して組み立てられる。
【００２７】
上記型部材１，２は、好ましくはプラスチック材料からなる。
一対の成形型に使用しうるプラスチック材料としては、以下のものが挙げられる：ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエチレンテレフタレートとポリカーボネートの共重合体（ＰＥＴ-ＣＰ）、結晶性ポリエチレンテレフタレート（結晶性ＰＥＴ）、ガラス繊維強化ポリエチレンテレフタレート、およびポリノルボルンネンなどのポリオレフィン。好ましいプラスチック材料は、ポリカーボネートおよびポリノルボルンネンである。
【００２８】
一対の成形型に使用しうる特に好適なプラスチック材料は、下記単位を含有する共重合体である。
【化１】
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このような共重合体は、ＡＰＥＣの商品名でバイエル社から入手することができる。
この共重合体は、成形型材料として使用する際に利点となりうる高い剛性をもつ。
【００２９】
各型部材の厚み中心は、好ましくは少なくとも４ｍｍである。
【００３０】
成形型の離型性、特に疎水性トップコート層との離型性をよくするため、成形型のポリマー材料中に、１または複数の離型剤を包含させることができる。このような離型剤としては、たとえばトリメチルクロロシラン、クロロメチルトリメチルシラン、クロロプロピルトリメチルシラン、クロロメチルドデシルジメチルシラン、塩素末端ポリジメチルシロキサン、（3,3-ジメチルブチル）ジメチルクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、オクタメチルテトラシラザン、アミノプロピルジメチル末端ポリジメチルシロキサン、3-トリメトキシシリルプロピルオクタデシルジメチルアンモニウムクロライド、テトラデシルジメチル（3-トリメトキシシリルプロピル）アンモニウムクロライド、トリメチルエトキシシランおよびオクタデシルトリメトキシシランである。
【００３１】
必要に応じて、プラスチック成形型の各部材の光学表面１ａ，２ａに、予め保護および／または離型性の被覆層を形成してもよい。これらのどちらでも、操作中に生じることがある擦傷（スクラッチ）などの不具合から光学表面を保護する。この保護および／または離型性被覆層は、光学表面を滑らかにもし、かつ／または離型効果をも高める。
【００３２】
このような被覆層の例としては、
- 上記離型剤の少なくとも１つを付加的に含む紫外線硬化性アクリル層、または上記離型剤の少なくとも１つを付加的に含むアミン含有ポリシロキサン層、
- ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）ポリマー、たとえば、テフロンTMＡＦ、テフロンTMＰＴＦＥ ＦＥＰおよびテフロンTMＰＴＦＥ ＰＦＡなどのフルオロカーボンポリマー層、
- 通常、レンズに耐擦傷性を付与するために用いられる真空成膜したフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）層またはシロキサン系皮膜などからなる、成形型の光学表面からも、離型するトップコート層からも薄く剥がれるバッファ層。これらの層はいずれも、成形型、特にポリカーボネート成形型の光学表面から容易に剥離する。光学物品を成形型から取り出した後、これら層は除去される。
【００３３】
上記保護および／または離型性被覆層は、ディップコートまたはスピンコートにより成膜することができ、それらの技術的特徴に応じて紫外線硬化および／または熱硬化するかまたは単に乾燥することができる。このような保護および／または離型性被覆層の厚みは、通常、２ｎｍないし１０μｍである。
【００３４】
プラスチック材料製の型部材は、紫外線透過性であり、各層および特に光学基材組成物の紫外線硬化および／または熱硬化を可能にする。型部材のポリマー材料は、好ましくは紫外線を吸収しないものである。
【００３５】
図１Ａに示すように、たとえばポリカーボネートからなる第１部材１の光学表面１ａ上に成膜されている最初の層は、疎水性トップコート層である。
【００３６】
疎水性トップコート層１０は、最終の光学製品においては光学基材上の最外表面を構成し、最終の光学製品の、特に反射防止膜の防汚性を改善する。
【００３７】
当技術分野で知られているように、疎水性トップコート層は、脱イオン水に対する静的接触角が少なくとも６０°、好ましくは少なくとも７５°、より好ましくは少なくとも９０°の層である。静的接触角は、光学物品上に直径２ｍｍより小さい水滴を形成してその接触角を測定する液滴法により決定される。
【００３８】
本発明で用いられる好ましい疎水性トップコート層は、１４ｍＪ／ｍ2より小さい表面エネルギーをもつものである。
本発明では、特に、表面エネルギーが１３ｍＪ／ｍ2より小さい、さらには１２ｍＪ／ｍ2より小さい疎水性トップコート層を用いると利点がある。
ここに示した表面エネルギーの値は、次の文献に記載されたオーエンス（Owens）ウェンツ（Wendt）法に準じて算出される：“ポリマーの表面力エネルギー概算” Owens D.K. Wendt R.G. (1969) J. Appl. Polym. Sci.,1741-1747。
【００３９】
このような疎水性トップコート層は、当技術分野において周知であり、通常フルオロシリコーンまたはフルオロシラザン、すなわちフッ素含有基をもつシリコーンまたはシラザンで作製される。疎水性トップコート層材料の好ましい例は、信越化学工業（Shin Etu）からＫＰ８０１Ｍの商品名で市販されている製品である。
【００４０】
トップコート層１０は、どのような種類の成膜方法を用いて型部材１の光学表面１ａ上に成膜してもよいが、好ましくは熱蒸着技術を用いる。
疎水性トップコート層１０の厚みは、通常、１ないし３０ｎｍ、好ましくは１ないし１５ｎｍの範囲である。
【００４１】
反射防止膜およびその作製方法は、当技術分野において周知である。反射防止膜は、最終の光学製品における反射防止性を改善するものであれば、いかなる層または積層膜であってもよい。
反射防止膜は、好ましくは、ＳｉＯ、ＳｉＯ2Ｓｉ3Ｎ4、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＦ2またはＴａ2Ｏ5、またはこれらの混合物などの誘電体からなる単層膜または多層膜からなる。
【００４２】
反射防止膜の被覆には、特に、以下の技術の１つによる真空成膜法を適用することができる。
１）-蒸着により、付加的にイオンビームアシストして、
２）-イオンビームを用いるスプレーにより、
３）-陰極スパッタリングにより、あるいは
４）-プラズマアシスト気相化学蒸着により。
【００４３】
上記膜を単層と数える場合には、その光学的厚みを、４５０〜６５０ｎｍの波長λに対し、λ／４に相当させるべきである。
【００４４】
好ましくは、反射防止膜は、高および低の屈折率が交互した３以上の誘電体層からなる積層膜である。
勿論、積層反射防止膜の誘電体層は、最終の光学製品で存在すべき順序の逆順で疎水性トップコート層上に成膜される。
【００４５】
図１Ａに示される態様では、反射防止膜２０は、真空成膜により形成された４層の積層膜からなり、たとえば約１００〜１６０ｎｍの光学厚みをもつ第１のＳｉＯ2層２１、約１２０〜１９０ｎｍの光学厚みをもつ第２のＺｒＯ2層２２、約２０〜４０ｎｍの光学厚みをもつ第３のＳｉＯ2層２３、約３５〜７５ｎｍの光学厚みをもつ第４のＺｒＯ2層２４の４層からなる。
【００４６】
反射防止膜２の疎水性トップコート層１０表面への密着性を向上させ、また疎水性トップコート層１０を型部材１の光学表面から離型するために、反射防止膜の上記ＳｉＯ2層２１は、２段階プロセスを用いて、トップコート層１０上に成膜される。
第１段階では、トップコート層の疎水性材料の上に、ＳｉＯ2からなる薄層の第１サブレイヤをじかに真空蒸着して成膜する。第２段階では、該第１サブレイヤの上に、イオンアシスト真空蒸着法により、ＳｉＯ2からなる薄層の第２サブレイヤを成膜する。
【００４７】
最終的なＳｉＯ2薄層２１の物理的厚みは、８０〜１２０ｎｍ（光学厚み１００〜１６０ｎｍ）の範囲である。
上記のような２段階プロセスを用いると、トップコート層と反射防止膜との間に良好な密着性効果がもたらされる。
【００４８】
好ましくは、上記４層積層の反射防止膜の成膜後、厚み１〜５０ｎｍのＳｉＯ2からなる薄層２５を成膜する。この層２５は、積層反射防止膜と、その次に成膜される耐擦傷性膜３０との密着性を高める。
【００４９】
次に成膜される層は耐擦傷性膜３０である。耐擦傷性膜３０の形成には、公知の光学的耐擦傷性膜組成物がどれでも使用することができる。したがって、耐擦傷性膜組成物は、紫外線硬化および／または熱硬化硬化性組成物であればよい。
【００５０】
耐擦傷性膜は、該耐擦傷性膜をもたないこと以外は同一の光学製品に比べ、最終の光学製品の耐磨耗性を、改善する被覆層である、と定義される。
【００５１】
好ましい耐擦傷性膜は、エポキシアルコキシシランもしくはその加水分解物、シリカおよび硬化触媒を含む前駆組成物を硬化させることによって作製されるものである。このような組成物としては、たとえば米国特許第４，２１１，８２３号、国際特許出願公開９４／１０２３０号、米国特許第５，０１５，５２３号に開示されている。
【００５２】
特に好ましい耐擦傷性膜組成物は、たとえばγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＬＹＭＯ）などのエポキシアルコキシシランおよびたとえばジメチルジエトキシシラン（ＤＭＤＥＳ）などのジアルキルジアルコキシシラン、コロイダルシリカおよび触媒量の硬化触媒たとえばアルミニウムアセチルアセトナトもしくはその加水分解物を主成分として含むそれであり、残余は、本質的に通常これら組成物の調製に使用される溶媒からなる。
【００５３】
耐擦傷性膜３０のその次に成膜される耐衝撃性プライマー層３１に対する密着性を改善するために、有効量の少なくとも１のカプリング剤を耐擦傷性膜組成物に添加することができる。
好ましいカプリング剤は、エポキシアルコキシシランと、好ましくはエチレン性二重結合末端を有する不飽和アルコキシシランとの予備縮合液である。
【００５４】
エポキシアルコキシシランは、たとえばγ-グリシドキシプロピルトリ（ter）メトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルペンタメチルジシロキサン、γ-グリシドキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、（γ-グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、γ-グリシドプロピルジメチルエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルジイソプロピルエトキシシランおよび（γ-グリシドキシプロピル）ビス（トリメチルシシロキシ）メチルシランなどである。
好ましいエポキシアルコキシシランは、（γ-グリシドキシプロピル）トリメトキシシランである。
【００５５】
不飽和アルコキシシランは、ビニルシラン、アリルシラン、アクリルシランまたはメタクリルシランなどである。
ビニルシランは、たとえばビニルトリス（2-メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリスイソブトキシシラン、ビニルトリ-t-ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルビス（トリメチルシロキシ）シランおよびビニルジメトキシエトキシシランなどである。
【００５６】
アリルシランは、たとえばアリルトリメトキシシラン、アルキルトリエトキシシランおよびアリルトリス（トリメチルシロキシ）シランなどである。
【００５７】
アクリルシランは、たとえば3-アクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、3-アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、n-(3-アクリロキシ-2-ヒドロキシプロピル）-3-アミノプロピルトリエトキシシランなどである。
【００５８】
メタクリルシランは、たとえば3-メタクリロキシプロピルトリス（ビニルジメトキシシロキシ）シラン、3-メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、3-メタクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、3-メタクリロキシプロペニルトリメトキシシランおよび3-メタクリロキシプロピルビス（トリメチルシロキシ）メチルシランなどである。
好ましいシランは、アクリロキシプロピルトリメトキシシランである。
【００５９】
上記カプリング剤の調製に使用されるエポキシアルコキシシラン類および不飽和アルコキシシラン類の量は、好ましくは下記重量比Ｒが０．８≦Ｒ≦１．２となる条件である。
【数１】
2006021537.tif 000003
【００６０】
カプリング剤は、上記エポキシアルコキシシラン類と不飽和アルコキシシラン類とから得られる固形物を、好ましくは少なくとも５０重量％、より好ましくは６０重量％含む。
【００６１】
カプリング剤は、液状の水および／または有機溶媒の含有量が、好ましくは４０重量％未満、より好ましくは３５重量％未満である。
【００６２】
“エポキシアルコキシシラン類と不飽和アルコキシシラン類とから得られる固形物”とは、これらシラン類からの理論上の乾燥抽出物を意味し、ＱkＳｉＯ(4-k)/2（ここでＱはエポキシまたは不飽和基を含む有機基）単位の計算重量値であり、ＱkＳｉＯ(4-k)/2は、ＳｉＲ'が加水分解反応してＳｉＯＨを形成するＱkＳｉＲ'Ｏ(4-k)に由来する。
ｋは１ないし３の整数であり、好ましくは１に相当する。
Ｒ'は、好ましくはたとえばＯＣＨ3などのアルコキシ基である。
【００６３】
上記した水および有機溶媒は、初期のカプリング剤組成物中に添加されたもの、およびカプリング剤組成物中に存在するアルコキシシラン類の加水分解および縮合により生じる水およびアルコールに由来する。
【００６４】
カプリング剤の好ましい調製方法としては下記が挙げられる。
１）アルコキシシラン類の混合
２）好ましくは塩酸などの酸添加による、上記アルコキシシラン類の加水分解
３）上記混合物の撹拌
４）付加的に有機溶媒の添加
５）１または数種のたとえばアルミニウムアセチルアセトナトなどの触媒の添加
６）撹拌（一般的処理時間：一夜）
【００６５】
耐擦傷性膜組成物中に導入されるカプリング剤は、通常、全組成物重量の０．１〜１５重量％、好ましくは１〜１０重量％の量で存在する。
【００６６】
耐擦傷性膜組成物は、スピンコート法、ディップまたはフローコート法などの慣用されているいずれかの方法を用いて反射防止膜上に適用することができる。
【００６７】
耐擦傷性膜組成物は、単に乾燥することができ、あるいは次の耐衝撃性プライマー層３１を設ける前に付加的に予備硬化させることができる。耐擦傷性膜組成物の特徴に応じて、熱硬化、紫外線硬化またはこれら両方を組合わせを利用することができる。
【００６８】
耐擦傷性膜３０の硬化後の厚みは、通常、１ないし１５μｍ、好ましくは２ないし６μｍである。
【００６９】
耐擦傷性膜上に耐衝撃性プライマー層を設ける前に、耐擦傷性膜の表面に、密着性を高めるためのコロナ処理または真空プラズマ処理を施すことができる。
【００７０】
耐衝撃性プライマー層３１は、最終光学製品の耐衝撃性を高めるために一般的に使用されるどのような被覆層であってもよい。またこの被覆層は、通常、最終光学製品の基材への耐擦傷性膜３０の密着性をも高める。
【００７１】
耐衝撃性プライマー層は、該耐衝撃性プライマー層をもたないこと以外は同一の光学製品に比べ、最終の光学製品の耐衝撃性を改善する被覆層である、と定義される。
【００７２】
耐衝撃性プライマー層は、具体的に、（メタ）アクリル系コーティング膜およびポリウレタン系コーティング膜である。
（メタ）アクリル系耐衝撃性コーティング膜は、たとえば、なかでも熱可塑性の架橋したポリウレタン樹脂コーティング膜を開示する米国特許第５，０１５，５２３号中、日本特許６３−１４１００１号および６３−８７２２３号、欧州特許第０４０４１１１および米国特許第５，３１６，７９１中に開示されている。
【００７３】
より具体的に、本発明に係る耐衝撃性プライマー層は、ポリ（メタ）アクリルラテックス、ポリウレタンラテックスまたはポリエステルラテックスなどのラテックス組成物から作製することができる。
好ましい（メタ）アクリル系耐衝撃性プライマー組成物として、たとえばテトラエチレングリコールジアクリラート、ポリエチレングリコール（２００）ジアクリラート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリラート、ポリエチレングリコール（６００）ジ（メタ）アクリラートとともに、ウレタン（メタ）アクリラートおよびこれらの混合物などのポリエチレングリコール（メタ）アクリラート系組成物を挙げることができる。
【００７４】
耐衝撃性プライマー層は、好ましくは３０℃より低いガラス転移点（Ｔｇ）を有する。
好ましい（メタ）アクリル系耐衝撃性プライマー組成物として、ゼネカ（Zeneca）より商品名アクリルラテックスＡ−６３９で販売されているアクリルラテックスおよびバクセンデン（Baxenden）により商品名Ｗ-２４０およびＷ-２３４で販売されているポリウレタンラテックスを挙げることができる。
【００７５】
好ましい態様において、耐衝撃性プライマー層は、光学基材および／または耐擦傷性膜に対する該プライマー層の接着性を高めるための有効量のカプリング剤を含んでいてもよい。
【００７６】
耐擦傷性膜組成物のためのものと同じカプリング剤を、同量で、耐衝撃性プライマー層組成物にも使用することができる。
【００７７】
耐衝撃性プライマー層組成物は、スピンコート法、フローコート法などの慣用されているいずれかの方法を用いて耐擦傷性膜３０上に適用することができる。
【００７８】
耐衝撃性プライマー層は、単に乾燥することができ、あるいは光学基材の成形前に付加的に予備硬化させることができる。
耐衝撃性プライマー層組成物の特徴に応じて、熱硬化、紫外線硬化またはこれら両方の組合わせを利用することができる。
【００７９】
耐衝撃性プライマー層３１の硬化後の厚みは、通常、０．０５ないし２０μｍ、好ましくは０．５ないし１０μｍ、より好ましくは０．６ないし６μｍである。
【００８０】
本発明の次の工程では、図１Ｂに示されるように、疎水性トップコート層、反射防止膜、耐擦傷性膜および耐衝撃性プライマー層２０、３０、３１を有する前面側部材１を、たとえば米国特許第５，５４７，６１８号および５，５６２，８３９に開示されるような一対の成形型の背面側部材２と組み立てる。
【００８１】
その後、成形キャビティに、硬化して光学基材４０を形成する液状の硬化性光学組成物を充填する。
光学基材は、当光学分野で使用される液状で硬化性組成物のどれからでも作製することができる。
【００８２】
このような光学基材は、たとえば下記重合により得られる基材である。
- ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）系組成物、
-（メタ）アクリルモノマー系組成物、たとえばビスフェノール-Ａから誘導される（メタ）アクリルモノマーを含む組成物など、
- チオ（メタ）アクリルモノマー系組成物、
- ポリチオウレタン前駆モノマー系組成物、および
- エポキシおよび／またはエピスルフィドモノマー系組成物。
【００８３】
硬化性光学材料の特徴に応じて、光学材料は、熱硬化、紫外線硬化または両者の組合わせにより硬化、または環境温度で硬化することができる。
【００８４】
図１Ｃに示すように、一旦、光学基材４０が硬化すると、この際に耐擦傷性膜３０および耐衝撃性プライマー層３１が予備硬化されてなければ付随して硬化すると、型部材１０、１１を解体して、その表面に移行した、耐衝撃性プライマー層３１、耐擦傷性膜３０、反射防止膜２０および疎水性トップコート層１０を有する光学基材４０を回収する。
【００８５】
以下に本発明を実施例で説明する。これら実施例において、特にことわらない限り部およびパーセントはすべて重量による。
【００８６】
１．一対の成形型
実施例では、すべてポリカーボネート製成形型を使用した（ゼネラルエレクトリック社）。
【００８７】
２．疎水性トップコート層
実施例で使用した疎水性トップコート層は、信越化学工業からＫＰ８０１Ｍの商品名で販売されているフルオロシラザンである。
【００８８】
３．耐擦傷性膜組成物（ハードコート層組成物）
以下に示す各成分の混合により、下記熱および／または紫外線硬化性ハードコート層組成物を調製した。
【００８９】
【表１】
2006021537.tif 000004
【００９０】
【表２】
2006021537.tif 000005
【００９１】
【表３】
2006021537.tif 000006
【００９２】
【表４】
2006021537.tif 000007
【００９３】
【表５】
2006021537.tif 000008
【００９４】
(1)日産化学工業（NISSAN）社製Sun Colloid MA-ST（固形ＳｉＯ2３０重量％含有）
(2)ＦＣ４３０：３Ｍ社販売の界面活性剤
【化２】
2006021537.tif 000009
【００９５】
４．耐衝撃性プライマー層組成物（プライマー層組成物）
以下に示す種々成分の混合により、プライマー層組成物をいくつか作製した。
【００９６】
【表６】
2006021537.tif 000010
【００９７】
【表７】
2006021537.tif 000011
【００９８】
【表８】
2006021537.tif 000012
【００９９】
【表９】
2006021537.tif 000013
【０１００】
【表１０】
2006021537.tif 000014
【０１０１】
【表１１】
2006021537.tif 000015
【０１０２】
（5）Dowanol ＰＭ：ダウケミカルより市販されている1-メトキシ-2-プロパノール
および2-メトキシ-1-プロパノール溶媒
（6）Dowanol ＰｎＰ：以下の混合物であるダウケミカルから販売されている溶媒：                    1-プロポキシ-2-プロパノール、
2-プロポキシ-1-プロパノール、
プロピレングリコール、
ジエチレングリコール、
ジプロピルグリコールモノプロピルエーテル
（7）ＩＴＸ      ：イソプロピルチオキサントン
（8）Irgacure５００：ベンゾフェノン  ＋  1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニル                    の１／１混合物
（9）Baxendenより市販されているポリウレタンラテックス
（10）ＯＳＩSpecialitiesより市販されているＬ７７界面活性剤
（11）Zenecaより市販されているアクリルラテックスＡ-６３９
（12）ＵＶＲ６１１０：3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキシルカーボネート ＋ 3-シクロヘキセニルメチル-3-シクロカルボキシラートのモノエポキシド
（13）ＨＤＯＤＡ：1,6-ヘキサンジオールジアクリラート
（14）ＧＥ２１：1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル
【０１０３】
５．光学基材組成物
【表１２】
2006021537.tif 000016
【０１０４】
【表１３】
2006021537.tif 000017
【０１０５】
【表１４】
2006021537.tif 000018
【０１０６】
(15)Irgacure 1850：下記の混合物（50/50重量比）：
【化３】
2006021537.tif 000019
(18)UV 5411：2-（2-ヒドロキシ-5-t-オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール
(19)Irgacure 819：下式で示される光開始剤：
【化４】
2006021537.tif 000020
【０１０７】
６．成形型の準備
特にことわらない限り、実施例で使用するポリカーボネート成形型は、以下のように作製した：
ａ）射出成形したポリカーボネート成形型をゲート除去した後エッジ処理した。
エッジ処理は、成形型の表面にスリ傷をつけることがあるため、エッジ処理の間、成形型表面の少なくとも中心部を覆うテープを用いる。
ｂ）エッジ処理後、成形型を拭き、超音波系中で洗浄し、その後、清浄オーブン中、１００℃で半時間加熱する。
【０１０８】
７．疎水性トップコート層および反射防止膜の成膜
特にことわらない限り、疎水性トップコート層および反射防止膜は、上記成形型の前面側部材の光学表面上に、以下のようにして成膜した：
疎水性トップコート層および反射防止処理は、公知の真空蒸着処理に用いる標準的ボックスコーター中で施した。
【０１０９】
ａ- 成形型を、Balzers ＢＡＫ７６０などの標準的ボックスコーター中に挿入し、 チャンバーを高真空に引いた。
【０１１０】
ｂ- 疎水性トップコート層であるフルオロシラザン（信越化学工業ＫＰ８０１Ｍ）を、熱蒸着法により、成形型の第１部材の光学表面上に、厚み２−１５ｎｍまで堆積する。
【０１１１】
高率および低率の材料の積層膜からなる誘電性多層構造の反射防止（ＡＲ）膜を、正順の逆で堆積する。この堆積を以下に詳細する：
【０１１２】
ｃ１- 堆積される反射防止積層膜中の第１酸化層はＳｉＯ2である。このＳｉＯ2層は、２段階法により作成される。その第１段階では、真空蒸着により、堆積の間特別なエネルギー補佐を加えず、疎水材料の上にじかに、２-１２ｎｍのＳｉＯ2を堆積する。その後、このＳｉＯ2堆積を一旦中断する。
【０１１３】
ｃ2 - この最初の量のＳｉＯ2を堆積した後、再びイオン源のスイッチを入れ、アルゴンガス、酸素ガスまたはこれら２つのガスの混合物のエネルギー性イオンを用いて、ＳｉＯ2の表面をイオン攻撃する。このＳｉＯ2層は、２段階法により作成される。
【０１１４】
ｃ３- レンズの表面はイオン衝撃を受けるが、再びＳｉＯ2堆積が始まる。このＳｉＯ2堆積の第２段階は、イオン源からのエネルギー性イオン衝撃に付随して遂行されるため、このＳｉＯ2堆積は、“イオンアシスト型”であると考えられる。この第２段階のＳｉＯ2成膜は、材料が、ほぼ６８-９８ｎｍに成長堆積する。このため、第１のＳｉＯ2層（上記２段階のＳｉＯ2堆積により作成される）の厚みは、８０-１１０ｎｍ（光学厚み約１００-１６０ｎｍ）である。
【０１１５】
ｃ４- 上記第１ＳｉＯ2層堆積工程を実施した後、堆積の間イオンアシストを必要としない標準的真空蒸着成膜技術により、４層反射防止膜の残余部分を、正順の逆に堆積する。
【０１１６】
第２層は、約１６０ｎｍの光学厚みをもつＺｒＯ2層であり、第３層は、約３０ｎｍの光学厚みをもつＳｉＯ2層であり、第４層は、約５５ｎｍの光学厚みをもつＺｒＯ2層である（光学厚みは、波長５５０ｎｍにおける値である）。
【０１１７】
ｄ - ４層の反射防止膜の堆積が完了した時点で、１-５０ｎｍの物理的厚みをもつＳｉＯ2薄層が成膜される。この層は、酸化物反射防止積層膜と、その次の、後に被覆成形型表面に堆積されるハードコート層との接着性を高める。
【実施例１】
【０１１８】
予め疎水性トップコート層およびＡＲ膜が形成されたポリカーボネート一対の成形型の前面側部材を、ハードコート層組成物No.１でコーティングした。ハードコート層の塗布速度を４００rpmで８秒間、スピンオフ速度８００rpmで１０秒間に設定した。ハードコート層組成物は、Lesco（レスコ）ＩＲ硬化ユニットを用いて、７２５Ｆに設定したＩＲを３０秒間適用して硬化される。表面コートされた成形型を室温まで冷却し、衝撃性プライマー層組成物No.１ａを、上記と同様の速度およびタイミングで塗布する。衝撃性プライマー層組成物を、フュージョンシステム（Fusion system）Ｈバルブを用いて、ベルト速度（毎分５フィート）１．５２６ｍ／分で紫外線照射により硬化する。
最後に、LescoＩＲ硬化ユニット一式を用いて、７２５Ｆで３０秒間、被覆層の硬化を行った。
【０１１９】
表面コートされたプラスチック成形型を組み立て、光学基材組成物No.１を注入して充満し、２０分間重合した。プラスチック成形型を解体すると、すべての被覆層はレンズ製品側に移行した。
【実施例２】
【０１２０】
予め疎水性トップコート層およびＡＲ膜が形成されたポリカーボネート一対の成形型の前面側部材を、ハードコート層組成物No.１でコーティングした。ハードコート層の塗布速度を４００rpmで８秒間、スピンオフ速度８００rpmで１０秒間に設定した。ハードコート層組成物は、Lesco ＩＲ硬化ユニットを用いて、７２５Ｆに設定したＩＲを３０秒間適用して硬化される。表面コートされた成形型を室温まで冷却し、衝撃性プライマー層組成物No.１ｂを、上記と同様の速度およびタイミングで塗布する。衝撃性プライマー層組成物を、Fusion system Ｈバルブを用いて、ベルト速度（毎分５フィート）１．５２４ｍ／分で紫外線照射により硬化する。
最後に、LescoＩＲ硬化ユニット一式を用いて、７２５Ｆで３０秒間、被覆層の硬化を行った。
【０１２１】
表面コートされたプラスチック成形型を組み立て、光学基材組成物No.１を注入して充満し、２０分間重合した。プラスチック成形型を解体すると、すべての被覆層はレンズ製品側に移行した。
【実施例３】
【０１２２】
予め疎水性トップコート層およびＡＲ膜が形成されたポリカーボネート一対の成形型の前面側部材を、ハードコート層組成物No.２でコーティングした。ハードコート層の塗布速度を５００rpmで８秒間とし、１２００rpmで１０秒間スピンオフした。ハードコート層は、加熱オーブン中で、８０℃で１０分間予備硬化した。表面コートされた成形型を室温まで冷却した。衝撃性プライマー層組成物No.２を、塗布速度４００rpmで８秒間、スピンオフを１０００rpmで１０秒間として塗布した。衝撃性プライマー層を、上記ハードコート層と同温で同時間、予備硬化させた。
最後に、加熱オーブン中、９０℃で１時間、被覆層の硬化を行った。
【０１２３】
表面コートされたプラスチック成形型を組み立て、光学基材組成物No.１を注入して充満し、２０分間重合した。プラスチック成形型を解体すると、すべての被覆層はレンズ製品側に移行した。
【実施例４】
【０１２４】
予め疎水性トップコート層およびＡＲ膜が形成されたポリカーボネート一対の成形型の前面側部材を、ハード組成物No.３でコーティングし、このハードコート層はカプリング剤を含んでいなかった。ハードコート層塗布速度は５００rpm.で８秒間とし、１２００rpm.で１０秒間スピンオフした。ハードコート層は、加熱オーブン中で、８０℃で１０分間予備硬化した。表面コートされた成形型を室温まで冷却した。衝撃性プライマー層組成物No.２を、塗布速度４００rpmで８秒間、スピンオフを１０００rpmで１０秒間として塗布した。衝撃性プライマー層を、上記ハードコート層と同温で同時間、予備硬化させた。
最後に、加熱オーブン中、９０℃で１時間、被覆層の硬化を行った。
【０１２５】
表面コートされたプラスチック成形型を組み立て、光学基材組成物No.１を注入して充満し、２０分間重合した。プラスチック成形型を解体すると、すべての被覆層はレンズ製品側に移行した。
【実施例５】
【０１２６】
予め疎水性トップコート層およびＡＲ膜が形成されたポリカーボネート一対の成形型の前面側部材を、ハードコート層組成物No.２でコーティングした。ハードコート層の塗布は速度５００rpm.で８秒間とし、１２００rpm.で１０秒間スピンオフした。ハードコート層は、加熱オーブン中で、８０℃で１０分間予備硬化した。表面コートされた成形型を室温まで冷却した。衝撃性プライマー層組成物No.３を、塗布速度６００rpmで８秒間、スピンオフ１５００rpmで１０秒間にて塗布した。衝撃性プライマー層を、ハードコート層組成物No.２と同温で同時間、予備硬化させた。
最後に、加熱オーブン中、９０℃で２時間、被覆層の硬化を行った。
【０１２７】
表面コートされたプラスチック成形型を組み立て、光学基材組成物No.１を注入して充満し、２０分間重合した。プラスチック成形型を解体すると、すべての被覆層はレンズ製品側に移行した。
【実施例６】
【０１２８】
予め疎水性トップコート層およびＡＲ膜が形成されたポリカーボネート一対の成形型の前面側部材を、ハードコート層組成物No.４でコーティングした。ハードコート層塗布速度は６００rpm.で８秒間、スピンオフ速度１２００rpm.で１０秒間に設定した。ハードコート層は、Fusion system Ｈバルブにより、（毎分５フィート）１．５２４ｍ／分で紫外線硬化し、次いで、LescoＩＲ硬化ユニットを用いて、７２５Ｆで３０秒間の３０秒ＩＲ硬化を行った。表面コートされた成形型を室温まで冷却し、衝撃性プライマー層組成物No.４を、上記と同速度、同時間で塗布した。衝撃性プライマー層は、Fusion system Ｈバルブにより、ベルト速度（毎分５フィート）１．５２４ｍ／分で、紫外線照射により硬化させた。
最後に、LescoＩＲ硬化ユニット一式を用いて、７２５Ｆで３０秒間、被覆層の硬化を行った。
【０１２９】
表面コートされたプラスチック成形型を組み立て、光学基材組成物No.１を注入して充満し、２０分間重合した。プラスチック成形型を解体すると、すべての被覆層はレンズ製品側に移行した。
【実施例７】
【０１３０】
予め疎水性トップコート層およびＡＲ膜が形成されたポリカーボネート一対の成形型の前面側部材を、ハードコート層組成物No.４でコーティングした。ハードコート層塗布速度は６００rpm.で８秒間、スピンオフ速度１２００rpm.で１０秒間に設定した。ハードコート層は、Fusion system Ｈバルブにより、（毎分５フィート）１．５２４ｍ／分で紫外線硬化し、次いで、LescoＩＲ硬化ユニットを用いて、７２５Ｆで３０秒間の３０秒ＩＲ硬化を行った。表面コートされた成形型を室温まで冷却し、衝撃性プライマー層組成物No.５を、上記と同速度、同時間で塗布した。衝撃性プライマー層は、Fusion SYSTEM Ｈバルブにより、ベルト速度（毎分５フィート）１．５２４ｍ／分で、紫外線照射により硬化させた。
最後に、LescoＩＲ硬化ユニット一式を用いて、７２５Ｆで３０秒間、被覆層の硬化を行った。
【０１３１】
表面コートされたプラスチック成形型を組み立て、光学基材組成物No.１を注入して充満し、２０分間重合した。プラスチック成形型を解体すると、すべての被覆層はレンズ製品側に移行した。
【０１３２】
実施例１〜７の最終レンズ製品の性能を以下の表に示す。
【表１５】
2006021537.tif 000021
Ｔｃ＝中心の厚み
【実施例８】
【０１３３】
この実施例は、成形型の光学表面への保護・離型層の適用を説明する。
保護・離型層組成物は以下のとおりである：
【表１６】
2006021537.tif 000022
【０１３４】
ポリカーボネート成形型を、石鹸と水で洗浄し、圧縮空気で乾燥する。次いで、成形型表面に、上記保護・離型層組成物を、塗布速度６００rpmで３秒間および乾燥速度１２００rpmで６秒間のスピンコートによりコーティングする。コーティング膜を、Fusion System Ｈ+バルブを用いて、（毎分５フィート）１．５２４ｍ／分の速度で硬化した。疎水性トップコート層および逆順積層の真空成膜したＡＲ層を、前述したような通常手順により、上記表面コートされた成形型表面にじかに設ける。ＡＲ成膜が完了したら、成形型に、まずハードコート層組成物No.１を、次いで衝撃性プライマー層組成物No.２をコーティングし、硬化させ、その後、レンズを光学基材組成物No.１からキャスト成形する。
【実施例９】
【０１３５】
離型・保護層組成物を以下のようにした以外は、実施例８を再現した。
【表１７】
2006021537.tif 000023
【０１３６】
トップコート層／ＡＲ膜／ハードコート層／プライマー層の全積層膜は、コーティングしたポリカーボネート成形型からの離型が良好で、耐摩耗性、反射防止性および衝撃特性に優れたレンズが得られた。
【実施例１０】
【０１３７】
離型・保護層組成物を以下のようにした以外は、実施例８を再現した。
【表１８】
2006021537.tif 000024
【０１３８】
トップコート層／ＡＲ膜／ハードコート層／プライマー層の全積層膜は、コーティングしたポリカーボネート成形型からの離型が良好で、耐摩耗性、反射防止性および衝撃特性に優れたレンズが得られた。
【実施例１１】
【０１３９】
以下の離型剤組成物を用いて、以下の手順で、その次の被覆層を設ける前に成形型をコーティングした以外は、実施例８を再現した。
【表１９】
2006021537.tif 000025
【０１４０】
ポリカーボネート成形型を、石鹸と水で洗浄し、圧縮空気で乾燥する。次いで、成形型表面を、成形型コーティング組成物Ａ中で最初に６０秒間ディップコートした後、６０℃の脱イオン水ですすぎ、その後成形型コーティング組成物Ｂをディップしてコートし、再び６０℃の脱イオン水ですすぐことにより処理した。コーティング組成物Ｂを、ブルー（Blue）Ｍの対流オーブンを用いて、８０℃で１５分間硬化させた。
【０１４１】
トップコート層／ＡＲ膜／ハードコート層／プライマー層の全積層膜は、コーティングしたポリカーボネート成形型からの離型が良好で、耐摩耗性、反射防止性および衝撃特性に優れたレンズが得られた。
【実施例１２】
【０１４２】
成形型を、離型剤層として、フルオロカーボンポリマー層で被覆した以外は、実施例８を再現した。
公知の技術にしたがって温水系洗剤中で超音波洗浄した後、すすぎ、乾燥したポリカーボネート成形型を準備した。その後、ポリカーボネート成形型を１００℃で０．１-３時間加熱し、その材料を完全に乾燥した。
【０１４３】
その後、成形型を真空チャンバー内に挿入した。チャンバーを真空レベルまでポンプで引いた。次いで、フルオロポリマーのテフロンを、抵抗または電子ビーム加熱を用いて、２．５〜１５０ｎｍの厚みまで成形型表面上に蒸着した。
【０１４４】
もう一つの方法として、フルオロポリマー層を、真空成膜に先立って、テフロンＡＦ、テフロンＰＴＦＥ ＦＥＰ、またはテフロンＰＴＦＥ ＰＦＡなどの可溶性フルオロポリマーの希釈溶液を用いて、スピンまたはディップ法により成形型表面に設けた。これら被覆層の厚みは、３０〜２００ｎｍであった。
【０１４５】
フルオロポリマー層の成膜後、前述の方法により、疎水性トップコート層（ＫＰ８０１Ｍ）および酸化物反射防止多層積層膜を堆積した（正順の逆に）。
【０１４６】
ＫＰ８０１Ｍ疎水性材料を、抵抗加熱によりフルオロポリマー層の上に蒸着した。その後、ＳｉＯ2層、これはＡＲ積層膜の最表面酸化物層であるが、２段階プロセスにより堆積した。第１段階は、イオン衝撃を用いない２-１２ｎｍのＳｉＯ2の堆積であり、その次がアルゴンイオン衝撃を用いてＳｉＯ2を、ＳｉＯ2の合計厚みがほぼ８５ｎｍとなるように堆積した。ＳｉＯ2層の後、積層膜の残りの各層を標準的な蒸着方法により堆積した。
【０１４７】
積層完了後、最後の真空成膜層として、ＡＲ積層膜のシロキサン系耐擦傷性膜への密着性を高めるためのＳｉＯ2薄層が成膜される。この層は、光学的に活性ではないが、真空成膜されたＡＲ積層膜の反射防止膜への密着性を高めるためだけに包含される。その後に、実施例８に記載した方法に準じて、他の層を堆積し、レンズを硬化する。
【０１４８】
トップコート層／ＡＲ膜／ハードコート層／プライマー層の全積層膜は、テフロンコーティングしたポリカーボネート成形型からの離型が良好で、耐摩耗性、反射防止性および衝撃特性に優れたレンズが得られた。
【実施例１３】
【０１４９】
光学基材組成物No.１を光学基材組成物No.２に代える以外は、実施例３を再現し、その後以下のように硬化させる。
型部材をテープで覆ってキャビティを生じさせ、シリンジを用いて光学基材組成物No.２を注入して充満させる。
ＩＳＴ製の鉄ドープ水銀紫外線バルブを用いて１５秒間予備硬化させた。強度は２５−３０ｍＷ／ｃｍ2（ＯＭ２放射計を用いて４２０ｎｍで測定）であった。
ＩＳＴの２面硬化オーブン中、１７５ｍＷ／ｃｍ2で２分間硬化させた。
その後、熱力学的なエアオーブン中、温度８０℃で８分間、硬化を完結させた。
明瞭な界面をつくり、成形型を分解しやすくするために、組立体をプラスチック成形型とともにエッジ処理した。
全積層膜がレンズ側に移行した。
【実施例１４】
【０１５０】
光学基材組成物No.３を用いる以外は、実施例１３を再現した。
全積層膜がレンズ側に移行した。
【実施例１５】
【０１５１】
３重量％のＩＰＰ（ジイソプロピルパーオキサイド）で触媒され、３５℃から８５℃に１６時間で上昇する温度サイクルにより硬化される、商品名ＣＲ６０７でＰＰＧより供されるモノマーを用いるアリル組成物を用いる以外は、実施例１４を再現した。
積層膜は、前と同じように（once against）レンズ側に移行した。
【実施例１６】
【０１５２】
1,2-ビス（2-メルカプトエチルチオ）-3-メルカプロプロパン５２ｇと、キシレンジイソシアナート４８ｇと混合したＫＳＣＮ触媒１９０ppmとからなる光学基材組成物を用いる以外は、実施例１３を再現した。
室温で５分間でゲルが得られ、エアオーブン中、１２０℃で２時間で硬化させる。
移行がなされ、極めて良好な密着性がみられた。
実施例１３〜１５のレンズの性能を下記表IIに示す。
【０１５３】
【表２０】
2006021537.tif 000026
【０１５４】
バイエル耐摩耗性は、ＡＳＴＭ Ｆ７３５−８１に準拠した振動サンド摩耗機による試験前および後に、被覆有りまたは被覆無しのレンズのヘイズ％を測定することにより求めた。摩耗機は、Specially Ceramic Grains（スペシャリイセラミックグレイン）（前ノートンマテリアル（Norton Materials））社，ニューボンドストリート，ＰＯボックス 15137ウースター，マサチューセッツ州 01615-00137から入手した酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）ＺＦ １５２４１２ を約５００ｇ用いて、３００サイクル振動させた。ヘイズは、Pacific Scientific（パシフィックサイエンティフィック）ヘイズメータXL-211型を用いて測定した。被覆無しのレンズのヘイズ比 (最終−初期）は、被覆効果の基準であり、比が高いほど耐摩耗性も高いことを意味する。
【０１５５】
耐鋼綿擦傷性は、以下のように求めた。
レンズを、１インチ（２．５４ｃｍ）径軸ロッドの端部に、両面テープで被覆面を上にして固定した。その後、鋼綿（０００グレード）を、５ポンド（２．２６７ｋｇ）重量の背圧で、被覆面に押圧した。次いで、レンズを、鋼綿に対し、２００サイクル振動（振動幅１インチ（２．５４ｃｍ））させた後、ヘイズを測定した。Pacific Scientific社ＸＬ-２１１型ヘイズメータで測定されたヘイズの差（最終−初期）を、耐鋼綿擦傷性の値として示す。
【０１５６】
皮膜の接着性を、皮膜に、１ｍｍ間隔で１０条列の切れ目、次いで第１の列に直角に１ｍｍ間隔で１０条列の切れ目を入れ、升目模様を形成することにより測定した。升目模様作成中に付着したゴミをすべて除去するため、空気流を用いて升目模様を吹き飛ばし、次いで透明セロファンテープを升目模様上に貼り、強く押圧した後、被覆層表面から直角方向に皮膜をすばやく引き剥がした。未使用テープの貼着および除去を、さらに２回繰り返した。その後レンズを着色し、着色領域を接着不良として、接着％を求めた。
皮膜は、接着％が９５％より大きい時、接着試験パスとした。
【０１５７】
透過性は、ＢＹＫ GARDNER社のヘイズ測定機能付（Haze-guard plus）装置カタログNo.４７２５を用いて測定した。
【０１５８】
衝撃エネルギーは、独自のシステムを用いて測定した。それは、球の衝撃により、レンズが破壊するかまたは目視で確認できる通常星形のひびが入るまで、球の重量を重くするＦＤＡ落球試験のプロトコルを用いて測定することができる。その時の対応エネルギーが測定される。
【図面の簡単な説明】
【０１５９】
【図１】図１Ａ〜１Ｃは、本発明に係る方法の一態様の主工程を示す図である。
【図１】
2006021537.tif 000027