(57)【要約】【課題】  光の漏れ、もしくはノイズの発生を防ぐＣＷＤＭフィルタを提供する。【解決手段】  少なくとも２つのファブリ・ペロットキャビティー構造を含む第１部分と、該第１部分上に高、低屈折率のフィルム層を交互に積層した複数層の非４分の１波長フィルム層構造を含む第２部分とによってＣＷＤＭフィルタを構成する。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つのファブリ・ペロットキャビティー構造を含む第１部分と、
該第１部分上に高、低屈折率のフィルム層を交互に積層した複数層の非４分の１波長フィルム層構造を含む第２部分と、を包含することを特徴とするＣＷＤＭフィルタ。
【請求項２】
前記第２部分が２９層交互して積層した複数の高、低屈折率のフィルム層を含むことを特徴とする請求項１に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項３】
前記第２部分の非４分の１波長フィルム層の膜厚が予め設定した波長の範囲に基づき、１４７０ｎｍの中心波長でコンピュータを介してランダムに発生させることを特徴とする請求項２に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項４】
前記第１部分の少なくとも２つのファブリ・ペロットキャビティー構造が、（ＬＨ）３６Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）３２Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３４Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３４Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３２Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）３６Ｌ（ＨＬ）２Ｈ／Ｎｓのルールに従って形成され、該Ｎｓが基板を表し、該Ｌがλ０／４の低屈折率フィルム層、該Ｈがλ0／４の高屈折率フィルム層を表すことを特徴とする請求項１に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項５】
前記第２部分のフィルム層構造が、第１３７層は高屈折率フィルム層で第１３６層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．６１４７倍の４分の１波長であって、第１３８層は低屈折率フィルム層で第１３７層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さがは０．９１５０倍の４分の１波長であって、第１３９層は高屈折率フィルム層で第１３８層上に積層し、フィルムの厚さが０．８５６０倍の４分の１波長であって、第１４０層は低屈折率フィルム層で第１３９層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８３８３倍の４分の１波長であって、第１４１層は高屈折率フィルム層で第１４０層上に積層し、フィルムの厚さが０．７８３６倍の４分の１波長である。第１４２層は低屈折率フィルム層で第１４１層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８１４６倍の４分の１波長であって、第１４３層は高屈折率フィルム層で第１４２層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．７６９８倍の４分の１波長であって、第１４４層は低屈折率フィルム層で第１４３層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．７９９３倍の４分の１波長であって、第１４５層は高屈折率フィルム層で第１４４層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８２８６倍の４分の１波長であって、第１４６層は低屈折率フィルム層で第１４５層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．９１７２倍の４分の１波長であって、第１４７層は高屈折率フィルム層で第１４６層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８５４０倍の４分の１波長であって、第１４８層は低屈折率フィルム層で第１４７層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが１．１４２１倍４分の１波長であって、第１４９層は高屈折率フィルム層で第１４８層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８３５６倍の４分の１波長であって、第１５０層は低屈折率フィルム層で第１４９層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８９６７倍の４分の１波長であって、第１５１層は高屈折率フィルム層で第１５０層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８０８７倍の４分の１波長であって、第１５２層は低屈折率フィルム層で第１５１層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８４７９倍の４分の１波長であって、第１５３層は高屈折率フィルム層で第１５２層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８０３１倍の４分の１波長であって、第１５４層は低屈折率フィルム層で第１５３層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８５１５倍の４分の１波長であって、第１５５層は高屈折率フィルム層で第１５４層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８３６２倍の４分の１波長であって、第１５６層は低屈折率フィルム層で第１５５層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８５７１倍の４分の１波長であって、第１５７層は高屈折率フィルム層で第１５６層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８８１６倍の４分の１波長であって、第１５８層は低屈折率フィルム層で第１５７層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８６１０倍の４分の１波長であって、第１５９層は高屈折率フィルム層で第１５８層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８００８倍の４分の１波長であって、第１６０層は低屈折率フィルム層で第１５９層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．９３６３倍の４分の１波長であって、第１６１層は高屈折率フィルム層で第１６０層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８６１４倍の４分の１波長であって、第１６２層は低屈折率フィルム層で第１６１層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．７３３９倍の４分の１波長であって、第１６３層は高屈折率フィルム層で第１６２層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８３０６倍の４分の１波長であって、第１６４層は低屈折率フィルム層で第１６３層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８８７１倍の４分の１波長であって、第１６５層は高屈折率フィルム層で第１６４層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．５５２６倍の４分の１波長であることを特徴とする請求項４に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項６】
前記中心波長λ０が１４７０ｎｍであることを特徴とする請求項４に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項７】
前記中心波長λ０が１４９０ｎｍであることを特徴とする請求項４に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項８】
前記ＣＷＤＭフィルタのピーク値透過率が９０％より大きいことを特徴とする請求項４、請求項６、もしくは請求項７に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項９】
前記ＣＷＤＭフィルタのカットオフ波長が、短波で１２３０ｎｍ〜１４５７ｎｍであって、長波で１４８３ｎｍから１８３０ｎｍであることを特徴とする請求項４、請求項７、もしくは請求項８に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項１０】
前記第１部分の隣り合う２つのファブリ・ペロットキャビティーが、カップリング層を介して連結することを特徴とする請求項４、請求項６又は請求項７のいずれか一項に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【請求項１１】
前記ファブリ・ペロットキャビティー構造のそれぞれのスペーサー層が、偶数の４分の１波長低屈折率のフィルム層を用いることを特徴とする請求項４に記載のＣＷＤＭフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は光フィルタに関し、特に光波長多重伝送装置(coarse wavelength division multiplex、以下ＣＷＤＭと称する)に応用されるＣＷＤＭフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
光フィルタは濾光器(optical filter)とも称し、一種の波長を選択する素子である。特に、光ファイバ通信システム、光センサシステムにおいては重要な部分として応用されている。光フィルタは、受動、能動の二種類のタイプに大別することができる。受動タイプの光フィルタは、基本的にプリズム、回折格子、スペクトル（周波数）フィルタであって、能動タイプの光フィルタは能動タイプの光フィルタと調整可能な検波器との組み合わせであって、それぞれの検波器を特定の周波数に調整することができる。
【０００３】
受動タイプの光フィルタは一種の干渉フィルムを具える。該フィルムはガラスなどの材質による基板上に、高、低屈折率の材料を所定の厚さ（通常はλ０／４）に堆積させて必要とする波長のレスポンス特性を得る。媒質フィルム干渉フィルタは、通常それぞれの層の厚さがλ０／４の高屈折率、低屈折率のフィルムを交差させて重ねる。高屈折率層内の反射光線は位相が反転しないが、低屈折率層内の反射光線は位相が１８０°反転する。光線のストロークの差異（２＊λ／４の倍数）によって反射光線を逐次前面で重ね合わせて複合し、狭い波長の範囲内で高強度反射ビームを発生させる。また、この波長の範囲外で出力される波長は減少する。かかるフィルタは、ハイパスフィルター、ローパスフィルター、もしくは高反射層とすることができる。その光学特性は、工学フィルムの反射、透過特性によって決まる。また、光学フィルムは通常メッキによってバンドパスフィルター、ローパスフィルターかハイパスフィルター、もしくはバンド・リジェクトフィルターとする。
【０００４】
中華人民共和国実用新案ＺＬ９８２２３７４４．８は、４．６５μｍの４分の１波長狭帯フィルタを提供するものであって、三酸化二アルミニウムをベースとしてセレン化亜鉛、テルル化鉛をフィルム層の材料とし、真空成膜法を採用する。フィルムは間隔層、多半波構造であって、カットオフ領域はＴＭＡＸ＜０．３％である。その応用範囲は化学工程、環境保全、鋼鉄、炭鉱、医学等における微量一酸化炭素ガス分析の領域である。
【０００５】
先進的にメッキ成膜技術を利用することによって、多層媒質フィルム干渉フィルタを超狭帯域型パスフィルタとすることができる。係る製造方法によって高密度波長多重伝送装置(coarse wavelength division multiplex、以下ＣＷＤＭと称する)を作成することができる。そのチャネルスペースは１ｎｍより狭い。
【０００６】
中華人民共和国特許出願ＣＮ０１１３９８２．４は超狭帯域パスフィルタを提供するものであって、ガラス基板上に真空蒸着でベース層フィルムと、中間層フィルムと、上層フィルムとを形成する。該ベース層フィルムは低屈折率の無秩序性フィルム層と、高屈折率の無秩序性フィルム層とを交互に複数回積層してなり、該中間層フィルムは高屈折率の無秩序性フィルム層と、中間屈折層の無秩序性フィルム層とを交互に複数回積層してなる。該上層フィルムは高屈折率の無秩序性フィルム層と、中間屈折層の無秩序性フィルム層とを交互に複数回積層してなる。無秩序性フィルム層はランダムな騰落の方法で生成する。
【０００７】
アメリカ合衆国特許ＵＳＰ６，４０４，５２１号ＤＷＤＭシステムを調整するための透過性フィルタシステムを提供するものであって、Ｎ＋１階調の光ファイバツリー状構造を具え、多層フィルムフィルタと結合する場合、光を遮蔽する機能を有する。該多層フィルムフィルタはファブリ・ペロットエタロンであってもよい。
【０００８】
メトロポリタン・エリア・ネットワークに対して、システムのシングルモード光ファイバの伝送減衰に関する要求は高くなく、光ファイバ増幅器を用いる必要もない。このため１２００〜１７００ｎｍの広さのホールを使用することができる。隣り合う波長の間隔は１０ｎｍ、もしくは２０ｎｍに至るまで拡張することができ、同様にして経路が数十ｎｍになる多重波長伝送システムを構成することができる。これがいわゆる光波長多重伝送装置（ｃｏａｒｓｅ  ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ  ｄｉｖｉｓｉｏｎ  ｍｕｌｔｉｐｌｅｘ：ＣＷＤＭ）システムである。同一光ファイバ内で伝送される、異なる波長の間のピッチはＤＷＤＭとＣＷＤＭの主要パラメータに分けられる。ＤＷＤＭシステムの波長のピッチは一般に２００ＧＨｚ（１．６ｎｍ）か、１００ＧＨｚ（０．８ｎｍ）か、もしくは５０ＧＨｚ（０．４ｎｍ）である。将来のシステムにおいては、更に狭いピッチが出現するかもしれない。但し、ＣＷＤＭ技術はメトロポリタン・エリア・ネットワークの伝送距離が短いという特徴を十分に利用したものであって、ＥＤＦＡ（ｅｒｂｉｕｍ  ｄｏｐｅｄ  ｆｉｂｅｒ  ａｍｐｌｉｆｉｅｒ）の波長増幅範囲の制限を受けることなく１３１０〜１５６０ｎｍの光ファイバ伝送ウィンドウ全体においてＤＷＤＭシステムより十分に広い波長の間隔で波長の構成要素を多重伝送することができる。
【０００９】
マルチプレッサと、デマルチプロセッサについて、ＤＷＤＭとＣＷＤＭの製造コストの差は主にＣＷＤＭのフィルタに包含されるフィルム層の数にある。よってＣＷＤＭフィルタのコストはＤＷＤＭフィルタより低い。ＤＷＤＭシステムに用いる０．８ｎｍのフィルタは、一般に約３００層である。ＣＷＤＭシステムの２０ｎｍフィルタは約１５０層である。ＣＷＤＭフィルタのコストはＤＷＤＭフィルタのコストより５０％少ないことになる。ＣＷＤＭシステムにおいて隣り合う波長のチャネルのピッチは２０ｎｍに拡張することができる。よって、コストの低いマルチプレッサ、デマルチプレッサなどを使用することができる。このためＣＷＤＭシステムのコストを節減することができる。
【００１０】
目下、広く使用されている０．８チャネルピッチのＤＷＤＭシステムに使用されるマルチプロセッサは、多層フィルム干渉フィルタを採用している。理想的な干渉フィルムフィルタはλ／４多層フィルム非等厚干渉帯域パスフィルタである。その設計思想は二つの高反射の多層フィルムシステム（ｃａｖｉｔｙ）によるλ／４の多層フィルムにカップリング層を挿入して構成する。挿入する二つの高反射の多層フィルムを積層して形成したフィルムシステム積層領域に反射極小値が存在する。挿入するカップリング層は、反射極小値を消去する作用を有する。即ち反射帯域を展開する作用を有する。高反射の多層フィルムは２ｎ＋１層低、高屈折率を互いに積層した厚さが４分の１中心波長のフィルム厚で構成される。
【００１１】
一般の光通信ＣＷＤＭフィルタは殆どが４分の１波長を積層した構造が同一の複数の多層フィルムによってなる。但し、１２６０ｎｍ〜１６２０ｎｍの波長の範囲においてフィルタに属する信号を除き、その他波長の範囲で光の漏れ、もしくはノイズが発生する。
【特許文献１】中華人民共和国実用新案ＺＬ９８２２３７４４．８号公報
【特許文献２】中華人民共和国特許出願ＣＮ０１１３９８２．４号公報
【特許文献３】米国特許ＵＳＰ６，４０４，５２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
この発明は、光の漏れ、もしくはノイズの発生を防ぐＣＷＤＭフィルタを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
そこで本発明者は、従来の技術に鑑み鋭意研究を重ねた結果、少なくとも２つのファブリ・ペロット（ペロー）キャビティー構造を含む第１部分と、該第１部分上に高、低屈折率のフィルム層を交互に積層した複数層の非４分の１波長フィルム層構造を含む第２部分と、を包含してなるＣＷＤＭフィルタの構造と、その製造方法によって課題を解決できる点に着眼し、係る知見に基づき本発明を完成させた。
以下、この発明について具体的に説明する。
【００１４】
請求項１に記載するＣＷＤＭフィルタは、少なくとも２つのファブリ・ペロットキャビティー構造を含む第１部分と、
該第１部分上に高、低屈折率のフィルム層を交互に積層した複数層の非４分の１波長フィルム層構造を含む第２部分と、を包含する。
【００１５】
請求項２に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項１における第２部分が２９層交互して積層した複数の高、低屈折率のフィルム層を含む。
【００１６】
請求項３に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項２における第２部分の非４分の１波長フィルム層の膜厚が予め設定した波長の範囲に基づき、１４７０ｎｍの中心波長でコンピュータを介してランダムに発生させる。
【００１７】
請求項４に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項１における第１部分の少なくとも２つのファブリ・ペロットキャビティー構造が、（ＬＨ）３６Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）３２Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３４Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３４Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３２Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）３６Ｌ（ＨＬ）２Ｈ／Ｎｓのルールに従って形成され、該Ｎｓが基板を表し、該Ｌがλ０／４の低屈折率フィルム層、該Ｈがλ０／４の高屈折率フィルム層を表す。
【００１８】
請求項６に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項４における第２部分のフィルム層構造が、第１３７層は高屈折率フィルム層で第１３６層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．６１４７倍の４分の１波長であって、第１３８層は低屈折率フィルム層で第１３７層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さがは０．９１５０倍の４分の１波長であって、第１３９層は高屈折率フィルム層で第１３８層上に積層し、フィルムの厚さが０．８５６０倍の４分の１波長であって、第１４０層は低屈折率フィルム層で第１３９層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８３８３倍の４分の１波長であって、第１４１層は高屈折率フィルム層で第１４０層上に積層し、フィルムの厚さが０．７８３６倍の４分の１波長である。第１４２層は低屈折率フィルム層で第１４１層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８１４６倍の４分の１波長であって、第１４３層は高屈折率フィルム層で第１４２層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．７６９８倍の４分の１波長であって、第１４４層は低屈折率フィルム層で第１４３層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．７９９３倍の４分の１波長であって、第１４５層は高屈折率フィルム層で第１４４層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８２８６倍の４分の１波長であって、第１４６層は低屈折率フィルム層で第１４５層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．９１７２倍の４分の１波長であって、第１４７層は高屈折率フィルム層で第１４６層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８５４０倍の４分の１波長であって、第１４８層は低屈折率フィルム層で第１４７層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが１．１４２１倍４分の１波長であって、第１４９層は高屈折率フィルム層で第１４８層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８３５６倍の４分の１波長であって、第１５０層は低屈折率フィルム層で第１４９層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８９６７倍の４分の１波長であって、第１５１層は高屈折率フィルム層で第１５０層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８０８７倍の４分の１波長であって、第１５２層は低屈折率フィルム層で第１５１層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８４７９倍の４分の１波長であって、第１５３層は高屈折率フィルム層で第１５２層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８０３１倍の４分の１波長であって、第１５４層は低屈折率フィルム層で第１５３層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８５１５倍の４分の１波長であって、第１５５層は高屈折率フィルム層で第１５４層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８３６２倍の４分の１波長であって、第１５６層は低屈折率フィルム層で第１５５層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８５７１倍の４分の１波長であって、第１５７層は高屈折率フィルム層で第１５６層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８８１６倍の４分の１波長であって、第１５８層は低屈折率フィルム層で第１５７層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８６１０倍の４分の１波長であって、第１５９層は高屈折率フィルム層で第１５８層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８００８倍の４分の１波長であって、第１６０層は低屈折率フィルム層で第１５９層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．９３６３倍の４分の１波長であって、第１６１層は高屈折率フィルム層で第１６０層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８６１４倍の４分の１波長であって、第１６２層は低屈折率フィルム層で第１６１層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．７３３９倍の４分の１波長であって、第１６３層は高屈折率フィルム層で第１６２層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８３０６倍の４分の１波長であって、第１６４層は低屈折率フィルム層で第１６３層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．８８７１倍の４分の１波長であって、第１６５層は高屈折率フィルム層で第１６４層のフィルム層上に積層し、フィルムの厚さが０．５５２６倍の４分の１波長である。
【００１９】
請求項６に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項４における中心波長λ０が１４７０ｎｍである。
【００２０】
請求項７に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項４における中心波長λ０が１４９０ｎｍである。
【００２１】
請求項８に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項４、請求項６、もしくは請求項７におけるＣＷＤＭフィルタのピーク値透過率が９０％より大きい。
【００２２】
請求項９に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項４、請求項７、もしくは請求項８におけるＣＷＤＭフィルタのカットオフ波長が、短波で１２３０ｎｍ〜１４５７ｎｍであって、長波で１４８３ｎｍから１８３０ｎｍである。
【００２３】
請求項１０に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項４、請求項６、もしくは請求項７における第１部分の隣り合う２つのファブリ・ペロットキャビティーが、カップリング層を介して連結する。
【００２４】
請求項１１に記載するＣＷＤＭフィルタは、請求項４における前記ファブリ・ペロットキャビティー構造のそれぞれのスペーサー層が、偶数の４分の１波長低屈折率のフィルム層を用いる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明のＣＷＤＭフィルタは、光の漏れ、もしくはノイズが発生する現象を解消し、光通信の波長範囲内において広く応用できるという利点がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
この発明はＣＷＤＭフィルタを提供するものであって、少なくとも２つのファブリ・ペロットキャビティー構造を含む第１部分と、該第１部分上に高、低屈折率のフィルム層を交互に積層した複数層の非４分の１波長フィルム層構造を含む第２部分と、を包含してなるＣＷＤＭフィルタの構造によって光の漏れ、もしくはノイズが発生する現象を解消するという目的を、実現した。
係る構成のＣＷＤＭフィルタについて、その構造と特徴を詳述するために具体的な実施例を挙げ、以下に説明する。
［実施例］
【００２７】
図１から３にこの発明によるＣＷＤＭフィルタを開示する。図面によれば、ＣＷＤＭフィルタ１は第１部分と第２部分とを含んでなる。第１部分は少なくとも２つのファブリ・ペロットキャビティー構造を含む。第２部分は、第１部分上に高、低屈折率のフィルム層を交互に積み重ねた複数層の非４分の１フィルム層構造を含む。
【００２８】
第２部分に積み重ねる高、低屈折率のフィルム層は、層の数が２８層、４０層、５０層、もしくは６０層であってもよい。層の数は具体的な要求と環境に対する応用によって確定する。本発明においては４０層のフィルム層を実施例とする。
【００２９】
第１部分の少なくとも２つのファブリ・ペロットキャビティー構造は、次に掲げるルールに従って形成する。即ち、（ＬＨ）３６Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）３２Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３４Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３４Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）４６Ｌ（ＨＬ）４Ｈ（ＬＨ）３２Ｌ（ＨＬ）３Ｈ（ＬＨ）３６Ｌ（ＨＬ）２Ｈ／Ｎｓである。このうちＮｓは基板を表し、Ｌはλ０／４の低屈折率フィルム層、Ｈはλ０／４の高屈折率フィルム層を表し、また、λ０は中心波長を表す。
【００３０】
光通信には８つのチャネルが常用される（１４７０ｎｍ、１４９０ｎｍ、１５１０ｎｍ、１５３０ｎｍ、１５５０ｎｍ、１５７０ｎｍ、１５９０ｎｍ、１６１０ｎｍ）。この発明は１４７０ｎｍに対するものであって、その他チャネルに対する設計の原理はいずれも該チャネルに基づきこれを延伸させたものである。例えば中心波長を１４９０ｎｍに移動させれば本発明を適用することができる。よって、本発明の中心波長λ０は、１４７０ｎｍか、もしくは１４９０ｎｍであってもよい。
【００３１】
本発明のＣＷＤＭフィルタ１の透過率は、ピーク値が９０％より大きくなる。そのカットオフ波長は短波が１２３０ｎｍ〜１４５７ｎｍ、長波が１４８３ｎｍ〜１８３０ｎｍである。基板１０は表面ポリッシング直径が９０ｎｍ、厚さ１０ｎｍで酸化ケイ素、バリウム、リチウム、ナトリウム等の元素を含む。低屈折率フィルム層は酸化ケイ素フィルムであって、高屈折率フィルム層は酸化フィルムであってもよい。この発明のＣＷＤＭフィルタ１のそれぞれの４分の１フィルム層（低屈折率フィルム層、高屈折率フィルム層等）、及び基板１０の材料は具体的な要求、もしくは条件によって確定することができる。
【００３２】
第１部分の隣り合う両ファブリ・ペロットキャビティー構造は、間にカップリング層を設けて連結する。それぞれのファブリ・ペロットキャビティー構造は、二つの奇数、または偶数層のスタック構造を構成する。それぞれのファブリ・ペロットキャビティー構造のスペーサー層１５は偶数の４分の１波長低屈折率のフィルム層を用いる。
【００３３】
図１に開示するように、ＣＷＤＭフィルタ１の基板１０は、上面に高屈折率４分の１波長のフィルムを予め積層した後、更に低屈折率４分の１波長のフィルムを積層し、この順に従って第１３６層に至るまで積層する。第６層は４分の１波長のフィルムを６回積層し、第２０層は４分の１波長のフィルムを２回積層し、第３６層は４分の１波長のフィルムを６回積層し、第５２層は４分の１波長のフィルムを４回積層し、第６８層は４分の１波長のフィルムを６回積層し、第８４層は４分の１波長のフィルムを４回積層し、第１００層は４分の１波長のフィルムを６回積層し、第１１６層は４分の１波長のフィルムを６回積層し、第１３０層は４分の１波長のフィルムを６回積層して、この発明によるノイズを消去するＣＷＤＭフィルタ１における高、低屈折率フィルム層を４分の１波長フィルムを積層した第１段階のレイアウトを構成する。そのスペクトル特性は図４に開示するように１２６０ｎｍ〜１２８８ｎｍの波長の範囲にノイズが存在する。このノイズを消去するためには更に第２段階のフィルム層積層レイアウトを必要とする。
【００３４】
第２段階においては第１段階の最後の層の上に非４分の１波長のフィルムを積層する。即ち第１３６層の上に高、低屈折率材料の４分の１波長のフィルム層を第１６５層に至るまで積層して、この発明の第２部分を得る。
【００３５】
図１、２に開示する実施例のフィルム層構造を全体的に説明すると、第１部分は第１層をガラス基板１０上に形成する。第１層は高屈折率フィルム層でフィルムの厚さが４分の１波長である。第２層は低屈折率フィルム層で第１層の高屈折率フィルム層上に積層する。フィルムの厚さは４分の１波長である。・・・第６層は低屈折率フィルム層で第５層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは６倍の４分の１波長である。・・・第２０層は低屈折率フィルム層で第１９層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは２倍の４分の１波長である。・・・第３６層は低屈折率フィルム層で第３５層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは６倍の４分の１波長である。・・・第５２層は低屈折率フィルム層で第５１層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは４倍の４分の１波長である。・・・第６８層は低屈折率フィルムで第６７層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは６倍の４分の１波長である。・・・第８４層は低屈折率フィルム層で第８３層の高屈折率フィルム層上に積層する。フィルムの厚さは４倍の４分の１波長である。・・・第１００層は低屈折率フィルム層で第９９層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは６倍の４分の１波長である。・・・第１１６層は低屈折率フィルム層で第１１５層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは２倍の４分の１波長である。・・・第１３０層は低屈折率フィルム層で第１２９層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは６倍の４分の１波長である。・・・第１３６層は低屈折率フィルム層で第１３５層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは４倍の４分の１波長である。
【００３６】
第２部分について、第１３７層は高屈折率フィルム層で第１３６層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．６１４７倍の４分の１波長である。第１３８層は低屈折率フィルム層で第１３７層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．９１５０倍の４分の１波長である。第１３９層は高屈折率フィルム層で第１３８層上に積層する。フィルムの厚さは０．８５６０倍の４分の１波長である。第１４０層は低屈折率フィルム層で第１３９層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８３８３倍の４分の１波長である。第１４１層は高屈折率フィルム層で第１４０層上に積層する。フィルムの厚さは０．７８３６倍の４分の１波長である。第１４２層は低屈折率フィルム層で第１４１層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８１４６倍の４分の１波長である。第１４３層は高屈折率フィルム層で第１４２層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．７６９８倍の４分の１波長である。第１４４層は低屈折率フィルム層で第１４３層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．７９９３倍の４分の１波長である。第１４５層は高屈折率フィルム層で第１４４層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８２８６倍の４分の１波長である。第１４６層は低屈折率フィルム層で第１４５層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．９１７２倍の４分の１波長である。第１４７層は高屈折率フィルム層で第１４６層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８５４０倍の４分の１波長である。第１４８層は低屈折率フィルム層で第１４７層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは１．１４２１倍４分の１波長である。第１４９層は高屈折率フィルム層で第１４８層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８３５６倍の４分の１波長である。第１５０層は低屈折率フィルム層で第１４９層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８９６７倍の４分の１波長である。第１５１層は高屈折率フィルム層で第１５０層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８０８７倍の４分の１波長である。第１５２層は低屈折率フィルム層で第１５１層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８４７９倍の４分の１波長である。第１５３層は高屈折率フィルム層で第１５２層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８０３１倍の４分の１波長である。第１５４層は低屈折率フィルム層で第１５３層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８５１５倍の４分の１波長である。第１５５層は高屈折率フィルム層で第１５４層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８３６２倍の４分の１波長である。第１５６層は低屈折率フィルム層で第１５５層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８５７１倍の４分の１波長である。第１５７層は高屈折率フィルム層で第１５６層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８８１６倍の４分の１波長である。第１５８層は低屈折率フィルム層で第１５７層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８６１０倍の４分の１波長である。第１５９層は高屈折率フィルム層で第１５８層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８００８倍の４分の１波長である。第１６０層は低屈折率フィルム層で第１５９層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．９３６３倍の４分の１波長である。第１６１層は高屈折率フィルム層で第１６０層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８６１４倍の４分の１波長である。第１６２層は低屈折率フィルム層で第１６１層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．７３３９倍の４分の１波長である。第１６３層は高屈折率フィルム層で第１６２層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８３０６倍の４分の１波長である。第１６４層は低屈折率フィルム層で第１６３層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．８８７１倍の４分の１波長である。第１６５層は高屈折率フィルム層で第１６４層のフィルム層上に積層する。フィルムの厚さは０．５５２６倍の４分の１波長である（第２部分のスペクトル特性は図５に開示する通りである。選択したチャネルのノイズは既に消去されている）。
【００３７】
通常、４分の１フィルムの厚さはｎｄ＝λ／４の場合に極限値が発生する。透過式で精度が０．０１％の自動制御システムでフィルムの厚さを監視制御する。即ちフィルムの厚さが極限値（ピーク値、もしくはボトム値）に至ると光制御システムが即監視制御を中止する。高屈折率フィルム層の屈折率は一般に２．１から２．４であって、低屈折率フィルム層の屈折率は一般に１．４４である。非４分の１波長のフィルムの厚さは予め設定した波長の範囲に基づき、１４７０ｎｍの中心波長でコンピュータを介してランダムに発生させる。
【００３８】
一般に、光通信用のＣＷＤＭフィルタは殆どが４分の１波長を積層した複数の構造が同様の多層フィルムシステムによってなる。但し、係る構造は１２６０ｎｍ〜１６４０ｎｍの波長の範囲においてフィルタに属する信号以外にその他波長の範囲において光の漏れ、もしくはノイズが発生する。この発明のノズルを消去するＣＷＤＭフィルタは、構造が同様の複数のキャビティの基礎上に４分の１波長を積層し、更に複数の構造が異なる４分の１波長のフィルム層を積層して従来の技術に見られる光の漏れ、もしくはノイズが発生する現象を消去する。このため光通信の波長の範囲内において広く応用することができる。
【００３９】
以上はこの発明の好ましい実施例であって、この発明の実施の範囲を限定するものではない。よって、当業者のなし得る修正、もしくは変更であって、この発明の精神の下においてなされ、この発明に対して均等の効果を有するものは、いずれも本発明の特許請求の範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】この発明における第１部分の構造を示した説明図である。
【図２】この発明における第２部分の構造を示した説明図である。
【図３】この発明によるＣＷＤＭフィルタの全体構造をしめした説明図である。
【図４】この発明における第１部分のスペクトル特性図である。
【図５】この発明によるＣＷＤＭフィルタのスペクトル特性図である。
【符号の説明】
【００４１】
１        ＣＷＤＭフィルタ
１０      基板
１５      スペーサー層
【図１】
2006003890.tif 000003
【図２】
2006003890.tif 000004
【図３】
2006003890.tif 000005
【図４】
2006003890.tif 000006
【図５】
2006003890.tif 000007