(57)【要約】【課題】  常に一定の紫外線強度をもって処理基板を処理できる熱安定化装置を提供する。【解決手段】  処理基板Ｗに照射する紫外線強度については予め決めておき、この値とセンサ１６で検出した紫外線強度とが異なる場合には、昇降部材１５によってランプハウジング１２を昇降動させ、所定の強度の紫外線を処理基板Ｗに照射する。このようにして、処理基板Ｗの表面に形成したレジスト膜に、減圧下で、加熱と紫外線照射を施すことで、熱安定化処理が終了し、この後は通路６を介して処理空間Ｓ内に不活性ガスを充填し、処理基板Ｗを払い出し、この後例えばエッチングにてパターンを形成するとともにパターン間にめっき液を供給する。【選択図】        図１
2006003608.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一部を透明板とした蓋体でテーブルに形成した開口部の上面が閉塞され、前記開口部に処理基板を載置したステージを下方から臨ませ、ステージに設けた加熱部材で処理基板を加熱し、また蓋体上方に配置した紫外線ランプから紫外線を照射しつつ、前記ステージ上面と蓋体下面と開口部側面とで形成される処理空間内で処理基板を減圧処理する熱安定化装置において、前記紫外線ランプはテーブルに対し昇降可能とされた保持部に取り付けられていることを特徴とする熱安定化装置。
【請求項２】
請求項１に記載の熱安定化装置において、この熱安定化装置は前記処理空間内の紫外線照度を検出するセンサを備え、このセンサによる検出が所定の値になるように前記保持部を昇降動せしめることを特徴とする熱安定化装置。
【請求項３】
請求項１に記載の熱安定化装置において、前記紫外線ランプのハウジング内側に紫外線照度を検出するセンサを備え、このセンサによる検出値に応じて前記保持部を昇降動せしめることを特徴とする熱安定化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＳＯＧ（ＳｉＯ２）膜やレジスト膜の安定化を図るための熱安定化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板表面に塗布したＳＯＧ液やレジスト液を加熱硬化せしめる際に紫外線を照射することで、熱的に安定した被膜が得られることが従来から特許文献１〜３に開示されている。
【０００３】
特許文献１に開示される熱安定化装置は、ボックス状ケース内にウェーハの保持台を設け、この保持台の上方に紫外線ランプを、下方にオゾンを生成するための電極を配置した構造になっている。
【０００４】
特許文献２及び３に開示される熱安定化装置は、テーブルに開口部が形成され、この開口部に下方から加熱部材を備えたステージを挿入可能とし、また開口部の上面を透明板で閉塞し、この透明板とステージ上面との間に密閉された処理空間を形成し、この処理空間を真空引き装置につなげるとともに処置空間内のウェーハ（処理基板）に透明板の上方に配置した紫外線ランプから紫外線を照射する構造になっている。
【特許文献１】特開平１−２４８５２８号公報
【特許文献２】特開昭６３−２４８７１０号公報
【特許文献３】特開昭６３−２６００２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した従来の熱安定化装置において問題となるのは、経時的な紫外線ランプの劣化と、処理空間内面の汚れである。
即ち、熱安定化装置は高温下で使用されるため、紫外線ランプの劣化が早く、この劣化は徐々に起こるため、ランプの交換時期の見極めが遅れると、耐熱性に優れた被膜が得られず、交換が早いとコスト的に不利が生じ、更に処理空間内における反応によって紫外線が透過する透明板の内面が汚れ、紫外線が劣化していないにも拘らず、紫外線強度が不足することがある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明に係る熱安定化装置は、少なくとも一部を透明板とした蓋体でテーブルに形成した開口部の上面が閉塞され、前記開口部に処理基板を載置したステージを下方から臨ませ、ステージに設けた加熱部材で処理基板を加熱し、また蓋体上方に配置した紫外線ランプから紫外線を照射しつつ、前記ステージ上面と蓋体下面と開口部側面とで形成される処理空間内で処理基板を減圧処理する熱安定化装置において、前記紫外線ランプをテーブルに対し昇降可能とされた保持部に取り付けた。
【０００７】
上記構成とすることで、例えば、前記処理空間内の紫外線照度若しくは紫外線ランプから発せられる紫外線照度を検出するセンサを設け、このセンサによる検出が所定の値になるように前記保持部を昇降動せしめることで、一定の強度の紫外線を処理基板に照射することができる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る熱安定化装置は、紫外線ランプと処理基板との距離が調整可能なため、紫外線ランプの劣化あるいは処理空間を画成する透明板の内側の汚れなどが生じても、一定強度の紫外線を処理基板に照射することができる。
【０００９】
したがって、例えば厚膜用のレジスト液を処理基板表面に塗布した後、露光及び現像を行い、更に本発明に係る熱安定化装置を用いて、真空下で紫外線を照射することで、レジスト膜の耐熱性が向上し、その後に行なうエッチング工程でのエッチング形状が向上する。
【００１０】
また、レジスト膜でパターンを形成し、パターンとパターンの間にめっきを施す場合、予め本発明に係る熱安定化装置を用いて、真空下で紫外線を照射しておくことで、レジストの接触角を下げることができ、めっき液の密着性が向上し、まためっきの膨張を抑制して良好なめっき形状を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明に係る熱安定化装置の全体構成図、図２は同熱安定化装置のランプハウジングが下降した状態を示す図である。
【００１２】
熱安定化装置はベース１にテーブル２が固定され、このテーブル２には開口部３が形成され、この開口部３の上面は透明板からなる蓋体４で気密に閉塞され、また開口部３の内周面には真空引き用の通路５及びパージ用の通路６が形成され、
真空引き用の通路５はチューブ７を介して図示しない真空源（真空ポンプ）に接続され、パージ用の通路６には不活性ガス供給配管８が接続されている。
【００１３】
ベース１上には昇降部材１ａを介してステージ９が支持されている。このステージ９は前記開口部３の下方に位置し、上半部の径は開口部３よりも小径でその上面にはウェーハなどの処理基板Ｗが載置可能とされ、上半部の内部にはホットプレートなどの加熱部材１０が設けられ、下半部は開口部３よりも大径とされ、その上面にはシール部材１１が設けられている。
【００１４】
一方、テーブル２の上方にはランプハウジング１２が配置されている。このランプハウジング１２は紫外線ランプ１３と反射板１４からなり、またランプハウジング１２はシリンダダユニット或いはボールネジ機構を組み込んだ昇降部材１５に支持されている。
【００１５】
また、前記開口部３の内周面で、ステージ９の上昇限よりも上の位置には紫外線センサ１６が取り付けられ、蓋体４とランプハウジング１２との間には開閉自在なシャッター１７が配置されている。
【００１６】
以上において、紫外線を照射して熱安定化処理を行なうには、先ず図１に示すように、ステージ９を下降せしめて上面に処理基板Ｗを載置する。この後、加熱部材１０によって基板表面に露光・現像したレジスト膜が形成されている処理基板Ｗを所定温度まで加熱する。
【００１７】
処理基板Ｗは後述するように減圧下で紫外線が照射されレジスト成分の架橋反応が促進されるが、減圧下では熱が伝わりにくく処理基板Ｗを所定温度まで加熱するのに時間がかかる。そこで、本実施例では前もって処理基板Ｗを所定温度まで加熱しておくことで、トータルの処理時間の短縮を図っている。
【００１８】
次いで、ステージ９のシール部材１１がテーブル２の下面に当接するまでステージ９を上昇せしめる。このステージ９の上昇によって、ステージ９の上面と蓋体４下面と開口部３内周面にて画成される気密な処理空間Ｓが形成される。
【００１９】
気密な処理空間Ｓが形成されたならば、通路５を介して処理空間Ｓ内を減圧するとともに、シャッター１７を開とし、紫外線ランプ１３をオンにする。紫外線ランプ１３をオンにすると紫外線が処理空間Ｓの処理基板Ｗに照射され、またこの紫外線強度をセンサ１６によって検知する。
【００２０】
処理基板Ｗに照射する紫外線強度については予め決めておき、この値とセンサ１６で検出した紫外線強度とが異なる場合には、昇降部材１５によってランプハウジング１２を昇降動させ、所定の強度の紫外線を処理基板Ｗに照射する。このようにして、処理基板Ｗの表面に形成したレジスト膜に、減圧下で、加熱と紫外線照射を施すことで、熱安定化処理が終了し、この後は通路６を介して処理空間Ｓ内に不活性ガスを充填し、処理基板Ｗを払い出し、この後例えばエッチングにてパターンを形成したり、パターン間にめっき液を供給する。
【００２１】
図３は別実施例を示す図２と同様の図であり、この実施例では、蓋体４の上面に透明板４１を嵌めこむとともに、蓋体４の側面にも透明板を嵌め込んだ窓部４２を形成し、この窓部４２の外側となるテーブル２の段部に紫外線センサ４３を設け、更にランプハウジング１２の内側部にも紫外線センサ４４を設け、これら紫外線センサ４３，４４の検出信号を制御装置４５に出力し、制御装置４５ではセンサ４３，４４からの信号に基づいてランプハウジング１２を昇降動せしめる。
【００２２】
具体的には、ランプハウジング１２の内側部に設けたセンサ４４が検出した値が制御装置４５に出力される。制御装置４５には予め設定値が入力されており、この設定値よりもセンサ４４の検出値が小さい場合には紫外線ランプ１３が劣化したと判断し、制御装置４５は昇降部材１５に所定位置まで下がる信号を発し、所定の照度を維持する。
【００２３】
一方、窓部４２の外側に設けられた紫外線センサ４３も処理空間Ｓ内の紫外線照度を検出する。この紫外線センサ４３による検出値が低下している場合の原因は、紫外線ランプ１３が劣化したか、窓部４２の内側面が反応生成物で汚れてしまったかの何れかである。
【００２４】
そして、この場合において前記センサ４４による検出値が正常であると、窓部４２の内側面が汚れていると判断され、同時に透明板４１の内面も汚れていると判断できるので、処理空間Ｓ内の清掃を行なう。このようにセンサを２つ設けることで、処理空間の内面の汚れを知ることができ、効率のよいタイミングで処理空間内を清掃することが可能になる。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明に係る熱安定化装置は、レジストにてパターンを形成し、このパターンを形成し、エッチングにて基板に加工する場合、またこのパターン間にめっきを施す場合等に予めレジスト膜を安定化せしめる工程で使用される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に係る熱安定化装置の全体構成図
【図２】同熱安定化装置のランプハウジングが下降した状態を示す図
【図３】別実施例を示す図２と同様の図
【符号の説明】
【００２７】
１…ベース、２…テーブル、３…開口部、４…蓋体、５…真空引き用の通路、６…パージ用の通路、７…チューブ、８…不活性ガス供給配管、９…ステージ、１０…加熱部材、１１…シール部材、１２…ランプハウジング、１３…紫外線ランプ、１４…反射板、１５…昇降部材、１６…紫外線センサ、１７…シャッター、４１…透明板、４２…窓部、４３，４４…紫外線センサ、４５…制御装置、Ｓ…処理空間、Ｗ…処理基板。
【図１】
2006003608.tif 000003
【図２】
2006003608.tif 000004
【図３】
2006003608.tif 000005