(57)【要約】【課題】光ファイバ素線の外周と外被（二次被覆）との間に摺動剤層を均一に塗布、形成方法を工夫すること。【解決手段】光ファイバ素線ｆを摺動剤塗布装置、乾燥装置、押出樹脂被覆装置、冷却水槽の順で通す光ファイバ心線の製造装置において、上記摺動剤塗布装置が縦置きの塗布槽１を備え、当該塗布槽１の下端中央にニップル２、上端中央にダイ３があり、その底面がテーパ面になっており、上記乾燥装置が摺動剤塗布装置の上方にあり、光ファイバ素線ｆが上記ニップル２を経て塗布槽１に導入され、上記ダイ３を経て塗布槽１から上方に引き出されて、その後、上方に引き上げられて乾燥装置を通過するように構成されている光ファイバ心線の製造装置。【選択図】図  ２
2006003720.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバ素線を摺動剤塗布装置、乾燥装置、押出樹脂被覆装置、冷却水槽の順で通す光ファイバ心線の製造装置において、
上記摺動剤塗布装置が縦置きの塗布槽を備え、当該塗布槽の下端中央にニップル、上端中央にダイがあり、その底面がテーパ面になっており、
上記乾燥装置が摺動剤塗布装置の上方にあり、
光ファイバ素線が上記ニップルを経て塗布槽に導入され、上記ダイを経て塗布槽から上方に引き出されて、その後、上方に引き上げられて乾燥装置を通過するようになっている光ファイバ心線の製造装置。
【請求項２】
摺動剤塗布装置、乾燥装置、押出樹脂被覆装置、冷却水槽の順で光ファイバ素線を通す光ファイバ心線の製造方法において、
光ファイバ素線が、上記摺動剤塗布装置の縦置き塗布槽の下端中央のニップルから上記摺動剤塗布装置の縦置き塗布槽内に引き込まれ、塗布槽内の塗布液を下から上方に通過し、上端中央のダイから上方に引き出され、光ファイバ素線に付着した摺動剤塗布膜の膜厚を上記ダイによって調整し、
摺動剤塗布膜厚を上記ダイによって調整された光ファイバ素線を、垂直に走行させて乾燥装置を通過させ、摺動剤塗布液を乾燥させるようにした光ファイバ心線の製造方法。
【請求項３】
請求項２の製造方法で製造されたものであって、光ファイバ素線と二次被覆との間の摺動剤層の厚さが周方向及び長手方向においてむらがなくほぼ均等である光ファイバ心線。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光ファイバ心線の製造装置又は製造方法に関するものであり、光ファイバ素線外面に摺動剤を塗布して、光ファイバ素線とその二次被覆との間に摺動剤層を形成する光ファイバ心線の製造装置及び製造方法について、光ファイバ素線の外周に均一に、安定的、能率的に摺動剤層を形成することができ、光ファイバ心線の外被（二次被覆）の除去操作を、一様に、簡単・容易にすることができるものである。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバ心線は光機器類の内配線、外配線のいずれにも使用されるものであり、光ファイバ素線をポリアミド樹脂などで二次被覆したものである。この光ファイバ心線は、光ファイバ素線を口出しするとき、その先端部分の上記二次被覆を取り除き易いように、光ファイバ素線と二次被覆との間に摺動剤層を介在させている。この摺動剤層は微粒子状の摺動剤によるもので極めて薄く、摺動剤が欠損しているとそこで上記二次被覆が光ファイバ素線の外表面に付着し、光ファイバ素線の外表面に付着して口出ししにくくなるので、光ファイバ素線全周について満遍なく介在していることが必要である。
このような光ファイバ心線の製造方法の概要は次のとおりである（図３（ａ）参照）。
光ファイバ素線を、塗布装置、乾燥装置、押出樹脂被覆装置、冷却水槽の順で通すものであり、塗布装置で摺動剤溶液を塗布し、これを乾燥装置で乾燥させて摺動剤層を形成し、これを押出樹脂被覆装置を通して二次被覆を施し、その後、冷却水槽を通して冷却硬化させる。
上記摺動剤の塗布方法、塗布装置を詳細に記載した公知文献は見出せないが、難燃剤の塗布と同様の方法で一般的に行われている。そして、この難燃剤の塗布方法は例えば、特開２００３−３４４７３０号公報に記載されているようなものである。
【０００３】
上記従来の光ファイバ心線の製造方法（図３（ａ））における摺動剤の塗布方法は、次ぎのとおりである（図３（ｂ））。
横置きの塗布槽１０がニップル１１、ダイ１２を備えており、光ファイバ素線ｆがニップル１１から塗布槽１０に引き込まれ、塗布槽１０内で塗布液を塗布され、ダイ１２で塗布液層の厚さが整えられて、乾燥装置に送り込まれる。
そして、上記の塗布槽１０の塗布液はハイドロフルオロエーテル溶液にメラミンシアヌレート微粒子（平均粒径２μｍ）を溶かしたものであり、メラミンシアヌレート微粒子の濃度分布の偏りを防ぐために塗布槽１０に振動を加えて内容液に撹拌作用を加えながら光ファイバ素線ｆを通すようにしている。
ところで、微粒子の自然沈降等のために、内容液に外力を加えてこれを振動させても、塗布槽１０内での微粒子濃度分布は均一にならない。このために、光ファイバ素線ｆに付着した塗布液膜内での微粒子密度が不安定で、均等にならない。また、ダイ１２を通過した直後において上記塗布液膜が重力のために下方に垂れて、下面の膜厚が厚く、上面の膜厚が薄くなり、かつ、微粒子が重力のために塗布液膜内を下方に移動する等のために、塗布膜状態での長手方向の微粒子の分布密度が不均等になることが不可避であり、したがって、乾燥装置で乾燥されたとき、光ファイバ素線ｆの上方外面、側方外面の摺動剤が微量であるなど、光ファイバ素線ｆの全周面に摺動剤を安定的に均等に付着させることはできない。
このために、光ファイバ心線の二次被覆層はその摺動性、あるいは剥離性のばらつきが大きい。
【特許文献１】特開２００３−３４４７３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、この発明の課題は、光ファイバ素線と二次被覆との間に摺動剤を塗布して摺動剤層を形成した光ファイバ心線の製造方法について、光ファイバ素線の外周に均一に、安定的、能率的に摺動剤層を形成することができるように、当該摺動剤層の塗布、形成方法を工夫することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するための手段は、光ファイバ素線を摺動剤塗布装置、乾燥装置、押出樹脂被覆装置、冷却水槽の順で通す、光ファイバ心線の製造装置を前提として、次ぎの（イ）（ロ）（ハ）によるものである。
（イ）上記摺動剤塗布装置が縦置きの塗布槽を備えており、当該塗布槽はその下端中央にニップル、上端中央にダイがあり、底面がテーパ面になっていること、
（ロ）上記乾燥装置が摺動剤塗布装置の上方にあること、
（ハ）光ファイバ素線が上記ニップルを経て塗布槽に導入され、上記ダイを経て塗布槽から上方に引き出されて、その後、上方に引き上げられて乾燥装置を通過するようにしたこと。
【０００６】
〔作用〕
光ファイバ素線は、上記ニップルを経て縦置きの塗布槽の塗布液内を上記ダイに向かって上方に走行する。塗布槽内の塗布液の微粒子濃度は微粒子の沈降のために上下方向において不均一であるが、光ファイバ素線は塗布槽の塗布液内を下から上に貫通するので、上記の濃度分布の不均一のために、光ファイバ素線外周に付着した液膜の微粒子濃度がその全周において不均等になることはない。
また、塗布槽内の液面から脱して後は、光ファイバ素線はほぼ垂直に上昇するので、重力は光ファイバ素線の全周に付着した塗布膜に等しくかつ同方向に作用するので、当該塗布膜の厚さが重力のために不均等になることはなく、塗布膜内の微粒子濃度が重力のために全周において不均等になることはない。
また、塗布槽の塗布液内の底部と上部における濃度が時間の経過によって変化すると、光ファイバ素線に付着した塗布液膜の微粒子濃度が変化し、経時的安定性を損なわれるおそれがあるが、上記ファイバ素線はダイに向かって上方に走行することで、塗布液と光ファイバ素線間の摩擦力で、光ファイバ素線近傍の塗布液が上方に引き上げられ、また、上記テーパ底面によってその中央の方に誘導されるので、光ファイバ素線を中心とする上下方向の対流が塗布槽内に生じる。この対流によって塗布液が縦方向、横方向に撹拌されるので（図２参照）、塗布槽の塗布液濃度の均一化が図られる。したがって、光ファイバ素線に塗布された塗布液膜の微粒子濃度が、塗布槽内塗布液濃度分布の変化に因って変動することが確実に防止される。
【０００７】
〔実施態様１〕
実施態様１は、解決手段における縦置きの塗布槽の内径が３０〜１００ｍｍ、塗布液深さが、５０〜１００ｍｍで、テーパ底の高さが３０〜５０ｍｍであることである。
〔作用〕
光ファイバ心線の製造工程での光ファイバ素線の走行速度は５０〜１０００ｍ／分が一般的である。この走行速度で塗布槽内を光ファイバ素線が縦方向に走行するとき、実施態様１の塗布槽によれば当該塗布槽内での対流による撹拌効果が最も顕著である。
【発明の効果】
【０００８】
光ファイバ素線とその二次被覆層との間に、均等な厚さの摺動剤層を満遍なく介在させることができ、簡単容易に、かつ安定的に均等厚さの摺動剤層を形成することができる。
したがって、円周方向及び長手方向においてむらがなく均等な厚さの摺動剤層を備えた光ファイバ心線を比較的廉価に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
線径２５０μｍの光ファイバ素線に摺動剤（メラミンシアヌレート微粒子）の層を介して二次被覆して線径５００μｍの光ファイバ心線を製造するについての実施例を、図面を参照しながら説明する。
【実施例１】
【００１０】
この実施例１における塗布槽１は上部が円筒部１ａで、下部が円錐底部１ｂになっているものであり、円筒部１ａの内径が５０ｍｍ、高さが１００ｍｍであり、円錐底部１ｂの高さが４０ｍｍである。
塗布槽１のフランジ１ｃが支持台４に支持されている。
塗布槽１に充填されている塗布液は、ハイドロフルオロエーテル溶液にメラミンシアヌレート微粒子（平均粒径２μｍ）を０．６重量％を溶かしたものであり、溶液の高さは４０〜８０ｍｍの範囲に調整される。
塗布槽１の下端中央にニップル２があり、上端中央にダイ３が設けられている。
光ファイバ素線ｆが、ニップル２から入り、塗布液Ｗを経てダイ３から抜け出て、さらに上方へ走行する。
【００１１】
走行速度１００ｍ／分で上方へ走行する光ファイバ素線ｆに、たとえば厚さ約３０μｍの塗布液Ｗの被膜が均等に付着する。このときの被膜の厚さは光ファイバ素線の円周方向、及び長手方向においてともにほぼ均等である。なお、光ファイバ素線ｆに付着する塗布液の被膜層の厚さは、メラミンシアヌレート微粒子の濃度が不変でも、塗布液の温度によっても変化する、光ファイバ素線の塗布液被膜の厚さがほぼ上記の程度になるように、塗布液の温度を制御する。
光ファイバ素線ｆが上記ダイ３を通過することで上記被膜厚さが１０μｍに調整される。これが乾燥装置５で乾燥されたとき、光ファイバ素線ｆの外面に、その円周方向、及び長手方向においてともにほぼ均等な摺動剤層が形成される。そして、その外にポリアミド樹脂が被覆されて線径５００μｍの光ファイバ心線が製作されたとき、当該光ファイバ心線は光ファイバ素線と二次被覆（上記ポリアミド樹脂被覆）との間に、摺動剤が均等な厚さで満遍なく介在しているので、光ファイバ口出しのために、二次被覆層の先端部分を除去することが容易である。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】は実施例の全体を概略的に示す正面図である。
【図２】は実施例における摺動剤塗布装置の塗布槽の拡大断面図である。
【図３】（ａ）は従来の光ファイバ心線の製造方法を概略的に示す正面図であり、（ｂ）は上記製造方法における摺動剤塗布装置の塗布槽の拡大断面図である。
【符号の説明】
【００１３】
１・・・塗布槽
１ａ・・・円筒部
１ｂ・・・円錐底部
１ｃ・・・フランジ
２・・・ニップル
３・・・ダイ
４・・・支持台
５・・・乾燥装置
Ｗ・・・塗布液（摺動剤を含む塗布液）
ｆ・・・光ファイバ素線
【図１】
2006003720.tif 000003
【図２】
2006003720.tif 000004
【図３】
2006003720.tif 000005