(57)【要約】【課題】ビーズ状研磨体を用いて電極部表面の付着物質を適切に除去可能であって、ビーズ状研磨体の系外への流出を防止することができる流体性状測定装置を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、検査容器５１と、被検査流体の性状を測定する電極部５２と、電極部表面５２ａの洗浄処理を行うビーズ状研磨体５９とを備え、検査容器５１は、流入部５３から流出部５４に至る被検査流体の主経路と、主経路から分岐して下流側が分岐部よりも上方位置で前記主経路に接続する被検査流体およびビーズ状研磨体５９の循環経路５５とを備えて構成されており、前記電極部５２は、電極部表面５２ａが前記循環経路５５の内周に表出するとともに、循環経路５５には、ビーズ状研磨体５９の動きを前記電極部表面５２ａ側に向けるための凹部が電極部表面５２ａとは反対側に形成されている構成を特徴としている。【選択図】図４
2006133239.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査流体の流入部および流出部を有する検査容器と、前記検査容器内に流入した前記被検査流体の性状を測定する電極部と、前記電極部表面の洗浄処理を行う複数のビーズ状研磨体とを備えた流体性状測定装置であって、
前記検査容器は、前記流入部から流出部に至る被検査流体の主経路と、前記主経路から分岐して下流側が前記分岐部よりも上方位置で前記主経路に接続する被検査流体およびビーズ状研磨体の循環経路とを備えて構成されており、
前記電極部は、前記電極部表面が前記循環経路の内周に表出するとともに、前記循環経路には、ビーズ状研磨体の動きを前記電極部表面側に向けるための凹部が電極部表面とは反対側に形成されている
ことを特徴とする流体性状測定装置。
【請求項２】
前記凹部は、前記電極部表面の中間部近傍の位置から上流側の位置に跨って形成されている
請求項１に記載の流体性状測定装置。
【請求項３】
前記循環経路は、管状であり、前記凹部は、循環経路の流路径を広げることにより形成されている
請求項１又は２に記載の流体性状測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体の性状を測定する流体性状測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
上水処理あるいは下水処理の際には、塩素を用いた殺菌処理が義務付けられている。このような塩素殺菌処理を行う場合には、通常、液体の殺菌状態（いわゆる液体の残留塩素濃度の状態）を判断するために、定期的あるいは連続的に、液体（被検査流体）の性状の一つである残留塩素濃度の測定が行われている。
【０００３】
残留塩素濃度を連続的に測定する方法としては、バッファ剤を加えて被検査流体のｐＨを３．００〜３．５２に調整して測定する方法や、ヨウ化カリあるいは臭化カリ等を被検査流体に溶解させ通液し、また同時にバッファ剤として酢酸溶液を通液しながら、陽極電極および陰極電極を被検査流体中に設け、一定の直流電圧を印加して電解電流値を計測する方法が知られている。
【０００４】
ここで、電解液としてヨウ化カリ溶液を用いた場合の電解反応を示すと、
２ＫＩ  ＋  Ｃｌ2  →  ２ＫＣｌ  ＋  Ｉ2
となり、続いて電極面での反応を示すと
２Ｈ+  ＋  ２ｅ    →  ２Ｈ
Ｉ2    ＋  ２Ｈ+  →  ２ＨＩ    （陰極反応）
２Ｉ-  ＋  ２ｅ    →  Ｉ2      （陽極反応）
となる。
【０００５】
被検査流体中の残留塩素濃度が高い場合、または長時間に渡り連続的に測定する場合においては、陽極反応で生じたヨウ素が陽極電極表面に析出付着し、測定値の定量性に欠け、この陽極電極表面に析出付着したヨウ素は誤動作の原因ともなる。また、陽極反応で生成されたヨウ素が被検査流体に溶けて陰極に達すると、上記の陰極反応を起こし同様に電流が流れる。さらに、臭化カリ溶液を用いた場合も同様に臭素が陽極電極表面に付着して同様な現象を生じる。
【０００６】
一方、無試薬にて（すなわち薬品を一切使用せずに）、上記と同様に陽極電極および陰極電極を被検査流体中に設け印加電圧を印加して残留塩素濃度を測定することも可能である。しかし、薬品を添加した場合には、印加電圧０．２Ｖ〜０．４Ｖの範囲で残留塩素濃度の測定が可能であったのに対して、無試薬の場合には、印加電圧を０．７Ｖ〜０．９８Ｖ程度に上昇させなければ電流値が小さくなって測定誤差を生じやすくなる。
また、印加電圧を上昇させると、被検査流体中に含まれる微量の重金属や有機物等が電極表面の発生基の酸素（Ｏ）や発生基の水素（Ｈ）と反応し、例えば、陰極電極では微量の重金属が還元されその電極表面に付着する。さらに、陽極電極では、銅等の無電解で付着しやすい物質が、陽極酸化によって陽極電極表面に付着する場合がある。また、有機物等も同様に陽極酸化され、簡単に陽極電極表面に付着してしまい、電極反応を阻害し測定誤差の原因となっている。
【０００７】
さて、温泉やスーパー銭湯に対しては、最近、厚生労働省生活衛生局長通達として、「公衆浴場における衛生等管理要領等の改正について」、公衆浴場および旅館業におけるレジオネラ症発生防止対策等、一層の衛生水準の維持、確保を図るため、「公衆浴場における水質基準に関する指針」、「公衆浴場における衛生など管理要領」および「旅館業における衛生等管理要領」の改正が行われた。
【０００８】
温泉やスーパー銭湯等では、一般に循環式の浴槽が使用されている。循環式浴槽とは、温泉水や水道水の使用量を少なくする目的で、浴槽の湯をろ過器を通して循環させることにより、浴槽内の湯を清浄に保つ構造の浴槽を云う。このような循環式浴槽の中で「連日使用型循環浴槽」と呼ばれるものは、浴槽内の温水が浴槽底部から取り出されて、この取り出された温水が、循環配管中に設けられた集毛器（ヘアーキャッチャ）、循環ポンプ、消毒剤注入部、ろ過器、過熱器（熱交換器）を介して、再度浴槽中に注がれるように構成されている。すなわち、このような方式の浴槽は、浴槽内の温水を浄化しつつ適温に保つように構成されている。
【０００９】
以上のように構成された浴槽においては、従来の施設設備の設置、管理方法では、消毒剤の注入箇所がろ過器の後（下流側）でもよかったが、上述したこの度の厚生労働省の通達では、「浴槽水の消毒に用いる塩素系薬剤の注入箇所は、浴槽水がろ過器に入る直前であることが望ましい」と改正された。すなわち、ろ過器はバイオフィルムの発生が懸念されるため、このろ過器内の殺菌が重要になっていると考えられる。
【００１０】
浴槽水の消毒に用いる塩素系薬剤は、「浴槽水中の遊離残留塩素濃度を１日２時間以上０．２ｍｇ／Ｌ〜０．４ｍｇ／Ｌに保つことが望ましい」と義務付けられているため、ろ過器前の浴槽水についてこの値を維持しようとすれば、残留塩素濃度を測定可能な装置を用いて連続モニタリングを行い、浴槽水の残留塩素濃度を一定値に自動的に制御する必要がある。
【００１１】
従来は、ろ過器の下流側の浴槽水を用いて残留塩素濃度を測定していたため、特に問題はなかったが、上述した改正が行われた後においては、ヘアーキャッチャを通過した後のろ過処理前の浴槽水を被検査流体として残留塩素測定装置に通液させなければならない。
浴槽水中にはたんぱく質や粒子状の浮遊物が多く含有されているため、従来用いられていた残留塩素測定装置では、これらの微粒子が装置内の流路に付着して必要とする通液量が得られず、測定誤差を生じるという問題があった。
【００１２】
また、従来技術にかかる残留塩素測定装置としては、電極表面の洗浄等を行うために電極近傍にビーズを設けた構成の装置が知られている（例えば、特許文献１）。このような構成の装置においては、被検査流体の水流によってビーズが系外に飛び出すことを防止するために、ＳＵＳ製の金網が設けられている。
このような構成の装置をろ過器の前に設けると、上述した浴槽水中のたんぱく質や粒子状の浮遊物が金網に付着し流路が閉塞状態となり、残留塩素濃度の測定を正確に行うことができないという問題が生じる。
【００１３】
さらに、従来技術（例えば、特許文献１）にかかる残留塩素測定装置においては、電極が電極ホルダの下部に設けられているため、メンテナンス性が悪いという問題があった。
【００１４】
【特許文献１】特開２００１−２２８１１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
そこで、本発明は、上記従来技術の問題を解決するためになされたもので、ビーズ状研磨体を用いて電極部表面の付着物質を適切に除去可能であって、被検査流体の流通経路を広く確保して浮遊物質等の付着を防ぎ、ビーズ状研磨体の系外への流出を防止することができる、流体性状測定装置を提供することを課題とする。つまり、本発明は、電極部表面への付着物質を除去して測定部における誤差をなくし、被検査流体の流通経路の閉塞を防止することによって必要量の被検査流体を確保して、安定した流体性状（例えば、残留塩素濃度）の測定を実施可能な流体性状測定装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、メンテナンス性に優れた流体性状測定装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するための本発明は、被検査流体の流入部および流出部を有する検査容器と、前記検査容器内に流入した前記被検査流体の性状を測定する電極部と、前記電極部表面の洗浄処理を行う複数のビーズ状研磨体とを備えた流体性状測定装置であって、前記検査容器は、前記流入部から流出部に至る被検査流体の主経路と、前記主経路から分岐して下流側が前記分岐部よりも上方位置で前記主経路に接続する被検査流体およびビーズ状研磨体の循環経路とを備えて構成されており、前記電極部は、前記電極部表面が前記循環経路の内周に表出するとともに、前記循環経路には、ビーズ状研磨体の動きを前記電極部表面側に向けるための凹部が電極部表面とは反対側に形成されていることを特徴としている。
【００１７】
このような構成によれば、循環運動している前記ビーズ状研磨体が前記電極部表面に接触するように構成されているため、前記電極部表面の付着物質を適切に除去することができる。
また、本発明においては、前記ビーズ状研磨体が前記検査容器内を循環運動すべく構成されているため、前記ビーズ状研磨体は前記検査容器外に流出しない。したがって、本発明によれば、前記ビーズ状研磨体の流出を防止するための金網等を設ける必要がない。よって、従来のように、浮遊物等が金網に付着し流路が閉塞状態となることがなく、残留塩素濃度等の流体性状の測定を正確に行うことができる。
【００１８】
また、本発明にかかる流体性状測定装置においては、前記凹部は、前記電極部表面の中間部近傍の位置から上流側の位置に跨って形成されている構成が好ましい。
【００１９】
また、本発明にかかる流体性状測定装置においては、循環経路は、管状であり、前記凹部は、循環経路の流路径を広げることにより形成されている構成が好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
以上のように、本発明によれば、ビーズ状研磨体を用いて電極部表面の付着物質を適切に除去可能であって、被検査流体の流通経路を広く確保して浮遊物質等の付着を防ぎ、ビーズ状研磨体の系外への流出を防止することができる、流体性状測定装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面に基づいて参考例及び本発明の実施形態を説明する。
【００２２】
図１は、後述する参考例及び本発明の各実施形態にかかる残留塩素測定装置（流体性状測定装置）を適用して構成可能な連日使用型循環浴槽（以下、「循環浴槽」という。）の一例を示すシステムフロー図である。
図１に示された循環浴槽は、補給湯が随時補給可能な浴槽１を用いて構成されており、この浴槽１は、その底部１ａから浴槽内の温水を導出させることができるように構成されている。そして、この循環浴槽は、浴槽１の底部１ａから導出された温水が、循環ラインＬ１およびこの循環ラインＬ１に設けられた種々の装置を介して、再び浴槽１の循環導入口１ｂから導入されるように構成されている。
【００２３】
循環ラインＬ１上には、集毛器２、ポンプ３、残留塩素測定装置４（流体性状測定装置）、ろ過器５、および加熱器６が設けられており、残留塩素測定装置４の下流側の循環ラインＬ１４には、温水中に消毒薬剤を注入するための消毒薬剤注入装置７から薬剤を注入するための薬剤注入ラインＬ２が接続されている。
【００２４】
循環浴槽は、図１に示すように構成され、上記のように循環ラインＬ１および薬剤注入ラインＬ２には種々の装置が設けられているため、浴槽１の温水を適切に浄化して適温に保つことができる。
【００２５】
また、循環浴槽においては、先に説明した厚生労働省の通達を満足すべく、消毒薬剤の注入箇所は、温水がろ過器５に入る直前に設けられている。つまり、残留塩素測定装置４を用いてろ過器５に入る前の温水の残留塩素濃度が測定され、その測定結果に基づいて消毒薬剤注入装置７を制御し、薬剤注入ラインＬ２を介して残留塩素測定装置４の下流側循環ライン（ろ過器５の上流側循環ライン）Ｌ１４に消毒薬剤が注入される。
【００２６】
ろ過器５に入る前の温水中には、たんぱく質や粒子状の浮遊物質が存在しているため、従来技術にて説明したような電極部表面の洗浄用のビーズや金網等を有する残留塩素測定装置を用いたのでは、流路の閉塞等が生じて、残留塩素測定装置にて必要とされる被検査流体の流量を得ることができず、正確な残留塩素濃度（被検査流体の性状）の測定を行うことができない。
【００２７】
そこで、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、電極部表面に付着する付着物質の除去を行いつつ、流路の閉塞が起こらない構造を有し、安定して被検査流体を流通させつつ正確な残留塩素濃度（被検査流体の性状）の測定を実施可能な残留塩素測定装置（流体性状測定装置）を得るに至った。
以下、残留塩素測定装置の具体的な構成について説明する。
【００２８】
＜参考例＞
図２は、参考例にかかる残留塩素測定装置（流体性状測定装置）の模式図を示したものである。また、図３は、この残留塩素測定装置（流体性状測定装置）の概略図を示したものである。図３（ａ）は、残留塩素測定装置の全体を示した概略断面図であり、図３（ｂ）は、ビーズ状研磨体の挿入方法を説明するための概略図である。
【００２９】
残留塩素測定装置４は、先に説明した図１のポンプ３の下流側循環ラインＬ１３と、ろ過器５の上流側循環ラインＬ１４との間に設けられるものである。
なお、参考例においては、図１および図２に示すように、循環ラインＬ中に残留塩素測定装置４を設け、連続的に残留塩素濃度の測定を行い、この残留塩素測定装置４内を流通した温水を再度循環ラインＬに戻す場合について示しているが、この構成に限定されない。したがって、例えば、循環ラインＬから定期的に温水をサンプリングして残留塩素濃度の測定を行い、残留塩素濃度の測定が行われた後は、「ドレン」として排出してもよい。つまり、循環されている温水の一部を被検査流体である「サンプル水」として抽出して、検査後は「ドレン」として系外に排出してもよい。
【００３０】
図２および図３に示すように、残留塩素測定装置４は、被検査流体の流入部４３および流出部４４を備えた検査容器４１と、この検査容器４１内に流入した被検査流体の残留塩素濃度を測定する一対の電極部を有する電極ホルダ４２と、この電極ホルダ４２から表出した一対の電極部表面４２ａに付着した付着物を除去するビーズ状研磨体４９とを用いて構成されている。また、電極ホルダ４２は検査容器４１の電極ホルダ取付部４１ａに取り付けられており、流出部４４の下流側には、検査容器４１内を流通する被検査流体の流通量を調整する流量調整弁４６が設けられている。電極ホルダ４２は、その先端部の電極部表面４２ａが、下方に向くような状態で電極ホルダ取付部４１ａに取り付けられている。
【００３１】
流入部４３には、被検査流体を検査容器４１内に噴出させる噴出孔４３ａが設けられている。この噴出孔４３ａは、噴出される被検査流体が検査容器４１内において上下方向（縦方向）（矢印Ｘ方向、図２参照）に循環するように、流入部４３から検査容器４１の下方の底部４５に向けて被検査流体が噴出されるように構成されている。そして、この検査容器４１の底部４５は、ビーズ状研磨体４９を貯留可能な凹部形状を有し、この凹部形状を有する底部４５は、被検査流体にて移動させられるビーズ状研磨体４９が効果的に電極部表面４２ａに接触するような形状となっている。すなわち、この底部４５が、「流体制御部」にも相当する。
【００３２】
すなわち、参考例においては、検査容器４１内に噴出された被検査流体は、噴出孔４３ａと底部４５と電極部表面４２ａとを結んだ領域を中心として循環流Ｘを形成することとなり、ビーズ状研磨体４９は、このような被検査流体の循環流Ｘによって、噴出孔４３ａと底部４５と電極部表面４２ａとを結んだ領域を中心として循環運動することとなる。そして、このように循環運動するビーズ状研磨体４９が上方へ移動中に電極部表面４２ａに連続的に衝突することによって、電極部表面４２ａの付着物等が適切に除去されることとなる。
【００３３】
また、参考例においては、検査容器４１内に流入した被検査流体を検査容器４１外に流出させる流出部４４が、検査容器４１の上方部に設けられている。
つまり、参考例においては、検査容器４１の下方部に流入部４３が設けられ、この流入部４３の噴出孔４３ａから噴出された被検査流体にて検査容器４１の下方領域で循環流が形成され、検査容器４１内の被検査流体は、上方部に設けられた流出部４４を介して検査容器４１外に排出されることとなる。
【００３４】
参考例においては、上述したように、検査容器４１の下方部に流入部４３が設けられ、上方部に流出部４４が設けられることによって、検査容器４１の下方領域において被検査流体による循環流が形成され、被検査流体は上方から排出される。また、この際、検査容器４１内を流通する被検査流体の流通量は、流出部４４の下流側に設けられた流量調整弁４６にて調整される。
したがって、参考例によれば、ビーズ状研磨体４９の循環運動は、被検査流体の循環流に沿って、検査容器４１の下方領域でのみ行われることとなるため、上方に位置する流出部４４から系外（検査容器４１外）にビーズ状研磨体４９が流出することはない。つまり、検査容器４１の高さ方向の寸法は、噴出孔４３ａの位置、流出部４４の位置、および被検査流体の流通量等に基づいて、ビーズ状研磨体４９が系外に流出しないように定められている。
【００３５】
以上のように構成された残留塩素装置４においては、以下のようにして、循環される温水（被検査流体）の残留塩素濃度（流体性状）の測定が行われる。
【００３６】
まず、循環ラインＬ１３を介して流入部４３から被検査流体が導入され、流入部４３の先端に設けられた噴出孔４３ａから検査容器４１内に噴出される。検査容器４１内においては、この噴出された被検査流体によって、循環流Ｘが形成される。なお、この際、検査容器４１内を流通する被検査流体の流量は、必要に応じて流量調整弁４６によって調整される。
【００３７】
次に、このようにして流入して循環している被検査流体によって、検査容器４１内が満たされ、電極ホルダ４２の先端部に表出している電極部表面４２ａも被検査流体に浸漬した状態となる。また、被検査流体の循環流Ｘによって、検査容器４１の底部４５に設けられていた複数のビーズ状研磨体４９も循環運動することとなる。そうすると、残留塩素濃度の測定部位である電極部表面４２ａ（露出端面）が、複数のビーズ状研磨体４９と接触を繰り返すこととなり、電極部表面４２ａ上における付着物質の除去を行うことができる。
【００３８】
すなわち、上記残留塩素測定装置によれば、電極部表面４２ａの状態を適切に保持しながら被検査流体に浸漬させることができるため、被検査流体の残留塩素濃度を正確に測定することができる。
【００３９】
また、従来技術においては、ビーズが水流によって系外に流出しないように金網で蓋をしているが、このような構成の場合には先にも説明したように、ろ過器での処理を行う前の被検査流体を流入させると、被検査流体中のたんぱく質や粒子状の浮遊物が金網に付着して流路が閉塞状態となり、残留塩素濃度等の流体性状の測定を正確に行うことができなくなるという問題があった。
しかしながら、参考例においては、ビーズ状研磨体４９は検査容器４１の下方領域で循環運動をしているため、上方位置に設けられた流出部４４からビーズ状研磨体４９が流出することはなく、被検査流体を流通させる流通経路を広く確保することができ、従来技術のように金網を設ける必要がない。
【００４０】
すなわち、残留塩素測定装置４によれば、検査容器４１内を流通する被検査流体の流通経路を広く確保することが可能となるため、検査容器４１の如何なる箇所においても、たんぱく質や粒子状の浮遊物の付着等が起こらない。また、金網等を用いていないため、流通する被検査流体の流量変動が少なく、安定した測定を行うことができる。
【００４１】
さらに、参考例においては、ビーズ状研磨体４９が電極部表面４２ａに向けて縦方向に回転するように、噴出孔４３ａの位置や検査容器４１の底部４５（流体制御部）の形状が定められている。したがって、電極部表面４２ａの研磨状態（付着物の除去状態）が非常に良好となる。なお、テストのために、電極部表面４２ａを有機性のインキで塗り潰した後に、ビーズ状研磨体の添加量１ｇ、流通量１Ｌ／ｍｉｎで検査容器４１内へ被検査流体を流入させると、このインキは１０ｍｉｎ程度で略完全に剥離させることが可能であった。
【００４２】
また、参考例においては、電極ホルダ４２の端面に形成されている電極部表面４２ａが下方に向くように、検査容器４１に設けられた電極ホルダ取付部４１ａの上方から、電極ホルダ４２が取り付けられている。
したがって、参考例によれば、電極ホルダ４２の交換等の際には、電極ホルダ取付部４１ａから電極ホルダ４２を取り外すだけでよいため、従来よりも電極交換時のメンテナンス性を向上させることができる。
【００４３】
さらに、参考例においては、図３（ｂ）に示すように、検査容器４１の底部４５が、検査容器４１から着脱自在な下方蓋部４７に形成されている。つまり、参考例においては、底部４５（流体制御部）が検査容器４１から着脱自在であるため、ビーズ状研磨体４９の交換等は、下方蓋部４７のみを取り外すことによって行うことができる。また、この交換の際のビーズ状研磨体４９の添加量等も、この下方蓋部４７に形成された底部４５の形状を目安にして定めることができる。したがって、参考例によれば、ビーズ状研磨体４９の交換時におけるメンテナンス性を向上させることができる。
【００４４】
＜第一実施形態＞
図４は、本発明の第一実施形態にかかる残留塩素測定装置（流体性状測定装置）の概略図を示したものである。
本実施形態にかかる残留塩素測定装置４’は、参考例にかかる残留塩素測定装置４と同様に、先に説明した図１のポンプ３の下流側循環ラインＬ１３と、ろ過器５の上流側循環ラインＬ１４との間に設けられるものである。
なお、本実施形態においても参考例と同様に、以下の説明では、循環ラインＬ中に残留塩素測定装置４’を設け、連続的に残留塩素濃度の測定を行い、この残留塩素測定装置４’内を流通した温水を再度循環ラインＬに戻す場合について示しているが、本発明はこの構成に限定されず、例えば、循環ラインＬから定期的に温水をサンプリングして残留塩素濃度の測定を行い、循環されている温水の一部を被検査流体である「サンプル水」として抽出して、検査後は「ドレン」として系外に排出してもよい。
【００４５】
図４に示すように、本実施形態にかかる残留塩素測定装置４’は、被検査流体の流入部５３および流出部５４を備えた検査容器５１と、この検査容器５１内に流入した被検査流体の残留塩素濃度を測定する一対の電極部を有する電極ホルダ５２と、この電極ホルダ５２から表出した一対の電極部表面５２ａに付着した付着物を除去するビーズ状研磨体５９とを用いて構成されている。また、電極ホルダ５２は検査容器５１の電極ホルダ取付部５１ａに取り付けられており、流入部５３の上流側あるいは流出部５４の下流側には、検査容器５１内を流通する被検査流体の流通量を調整する流量調整弁（図示省略）が設けられている。電極ホルダ５２は、その先端部の電極部表面５２ａが、下方に向くような状態で電極ホルダ取付部５１ａに取り付けられている。
【００４６】
さらに、本実施形態にかかる残留塩素測定装置４’を成す検査容器５１には、流入された被検査流体およびビーズ状研磨体５９を循環させるべく、循環経路５５が形成されている。つまり、本実施形態においては、この循環経路５５を用いて上下方向（縦方向）に被検査流体が循環するように検査容器５１が構成され、この循環流によって検査容器５１内に設けられているビーズ状研磨体５９も循環運動することとなる。
【００４７】
より具体的には、循環経路５５には、ビーズ状研磨体５９が一時的に貯留される貯留部５５Ｂと吸い込み部５５Ｃとが設けられており、流入部５３から噴出された被検査流体の速度に応じて、貯留部５５Ｂ内のビーズ状研磨体５９が吸い込み部５５Ｃから吸い込まれ、循環経路５５中を循環運動することとなる。
ビーズ状研磨体５９は、このような構成に基づいて検査容器５１内の循環経路５５中を連続して循環運動することとなるため、検査容器５１の流出部５４から被検査流体を流出させる場合であっても、上方に位置する流出部５４から系外（検査容器５１外）に流出することはない。
【００４８】
また、循環経路５５には、循環運動中のビーズ状研磨体５９を効果的に電極部表面５２ａに接触させるために、流体制御部５５Ａが設けられている。この流体制御部５５Ａは、被検査流体およびビーズ状研磨体５９の動きを上方に向けて、循環経路５５に対して上方から表出している電極部表面５２ａに対して、ビーズ状研磨体５９の接触状態をより向上させるべく設けられたものである。
ここで、流体制御部５５Ａとは、図４に示すように、電極部表面５２ａの少し上流側で循環経路５５の流路径を広げた位置から、電極部表面５２ａの中間部近傍で循環経路５５の流路径を狭めた（元に戻した）位置までの領域をいう。
【００４９】
図４に示すように流体制御部５５Ａを設ければ、この流体制御部５５Ａにて、循環経路５５を循環している被検査流体の流速が低下すると共に、流体圧力が向上する。したがって、この流体制御部５５Ａを経た被検査流体およびビーズ状研磨体５９は、電極部表面５２ａ方向に移動して、電極部表面５２ａの付着物等を適切に除去することができる。
電極部表面５２ａに接触した後のビーズ状研磨体５９は、貯留部５５Ｂに至り、その後再び吸い込み部５５Ｃを介して循環経路５５内を循環運動する。
【００５０】
また、本実施形態においては、検査容器５１内に流入した被検査流体を検査容器５１外に流出させる流出部５４は、検査容器５１の上方部に設けられている。そして、上述したように、ビーズ状研磨体５９は、検査容器５１の循環経路５５（貯留部５５Ｂ、吸い込み部５５Ｃ、および流体制御部５５Ａ）を循環する被検査流体によって循環運動させられる。
つまり、本実施形態においては、流出部５４の下方位置においてビーズ状研磨体５９が循環運動しているため、検査容器５１の上方位置に設けられた流出部５４から被検査流体が排出されても、それによってビーズ状研磨体５９が系外に流出することはない。すなわち、検査容器５１の高さ方向の各寸法は、流入部５３の位置、循環経路５５の位置、および被検査流体の流通量等に基づいて、ビーズ状研磨体５９が系外に流出しないように定められている。
【００５１】
以上のように構成された本実施形態にかかる残留塩素装置４’においては、以下のようにして、循環される温水（被検査流体）の残留塩素濃度（流体性状）の測定が行われる。
【００５２】
まず、循環ラインＬ１３を介して流入部５３から被検査流体が導入され、この被検査流体が、流入部５３の下流側に設けられた吸い込み部５５Ｃでインジェクション効果にて貯留部５５Ｂ内のビーズ状研磨体５９を吸い込み、この被検査流体とビーズ状研磨体５９とが循環経路５５を循環する。なお、この際、検査容器５１内を流通する被検査流体の流量は、必要に応じて流量調整弁によって調整される。
【００５３】
次に、このようにして流入して循環している被検査流体によって、検査容器５１内が満たされ、電極ホルダ５２の先端部に表出している電極部表面５２ａも被検査流体に浸漬した状態となる。また、被検査流体と複数のビーズ状研磨体５９とが循環経路５５内を循環し、電極部表面５２ａ近傍には流体制御部５５Ａが設けられているため、残留塩素濃度の測定部位である電極部表面５２ａ（露出端面）が、複数のビーズ状研磨体５９と接触を繰り返すこととなり、電極部表面５２ａ上における付着物質の除去を行うことができる。
【００５４】
すなわち、本実施形態にかかる残留塩素測定装置４’によれば、電極部表面５２ａの状態を適切に保持しながら被検査流体に浸漬させることができるため、被検査流体の残留塩素濃度を正確に測定することができる。
【００５５】
また、従来技術においては、ビーズが水流によって系外に流出しないように金網で蓋をしているが、本実施形態にかかる残留塩素測定装置４’は、先に説明した参考例と同様に、検査容器５１の下方領域でビーズ状研磨体５９が循環運動し、検査容器５１の上方位置に流出部５４が設けられているため、金網なしでビーズ状研磨体５９の流出を防止することが可能である。よって、かかる構成に基づく種々の効果を、参考例と同様に得ることができる。
【００５６】
すなわち、本実施形態においても、参考例と同様に、検査容器５１内を流通する被検査流体の流通経路を広く確保することが可能となるため、検査容器５１の如何なる箇所においても、たんぱく質や粒子状の浮遊物の付着等が起こらない。また、金網等を用いていないため、流通する被検査流体の流量変動が少なく、安定した測定を行うことができる。
【００５７】
さらに、本実施形態においては、循環経路５５中を流れる所定量の被検査流体と共にビーズ状研磨体５９を循環運動させて、電極部表面５２ａを研磨して電極部表面５２ａを活性化させている。また、この循環経路５５中の電極部表面５２ａ近傍には流体制御部５５Ａが設けられているため、より効果的にビーズ状研磨体５９を電極部表面５２ａに接触させることができる。また、電極部表面５２ａに接触するビーズ状研磨体５９と被検査流体の流れとが一定化しているために、電極部表面５２ａの拡散層の厚みが一定となって、安定した残留塩素濃度（流体性状）の測定を行うことができる。
【００５８】
また、本実施形態においては、電極ホルダ５２の端面に形成されている電極部表面５２ａが下方に向くように、電極ホルダ取付部５１ａの上方から、電極ホルダ５２が取り付けられている。
したがって、本実施形態によれば、電極ホルダ５２の交換等の際には、電極ホルダ取付部５１ａから電極ホルダ５２を取り外すだけでよいため、従来よりも電極交換時のメンテナンス性を向上させることができる。
【００５９】
＜第二実施形態＞
図５は、本発明の第二実施形態にかかる残留塩素測定装置（流体性状測定装置）の模式図を示したものである。
【００６０】
本実施形態にかかる残留塩素測定装置４”は、参考例にて説明した装置（残留塩素測定装置４（図２参照））（本実施形態における以下の説明においては「測定部」という。）と、定水槽６０とを用いて構成されたものであり、この残留塩素測定装置４”も他の実施形態と同様に、先に説明した図１のポンプ３の下流側循環ラインＬ１３と、ろ過器５の上流側循環ラインＬ１４との間に設けられるものである。なお、本実施形態の説明においては、残留塩素測定装置４”は、参考例にて説明した残留塩素測定装置４と、定水槽６０とを用いて構成されるものとして説明するが、参考例にて説明した残留塩素測定装置４の代えて、第一実施形態における残留塩素測定装置４’を用いることは、当然に可能な事項である。
【００６１】
つまり、本実施形態にかかる残留塩素測定装置４”は、定水槽６０を設けたこと以外は、参考例と同様であるため、以下の説明においては、主に定水槽の構成および効果について説明する。
【００６２】
なお、本実施形態においても参考例および第一実施形態と同様に、以下の説明では、循環ラインＬ中に残留塩素測定装置４”を設け、連続的に残留塩素濃度の測定を行い、この残留塩素測定装置４”内を流通した温水を再度循環ラインＬに戻す場合について示しているが、本発明はこの構成に限定されず、例えば、循環ラインＬから定期的に温水をサンプリングして残留塩素濃度の測定を行い、循環されている温水の一部を被検査流体である「サンプル水」として抽出して、検査後は「ドレン」として系外に排出してもよい。
【００６３】
本実施形態にかかる残留塩素測定装置４”を成す定水槽６０は、図５に示すように、本体容器６１と、この本体容器６１内に設けられた導入部６２、導出部６３、およびオーバーフロー管６４とを用いて構成されている。
【００６４】
このように構成されていることにより、本実施形態においては、導入部６２から導入された被検査流体の水位が、本体容器６１内の導出部６３の開口部６３ａより高くなった段階で定水槽６０から測定部４に対して被検査流体が送られる。そして、被検査流体の水位が、本体容器６１内のオーバーフロー管６４の開口部６４ａよりも高くなれば、高くなった分の被検査流体は、オーバーフロー管６４を介して残留塩素測定装置４”（を成す定水槽６０）外に排出される。
【００６５】
すなわち、本実施形態によれば、導入部６２からの被検査流体の導入量にかかわらず、導出部６３から測定部４に対しては、所定ヘッド内の圧力に調整された被検査流体が送られることとなる。また、オーバーフロー管６４の長さを上下に調整することによって、測定部４に送られる被検査流体の搬送量を容易に調整することができる。
【００６６】
以上のことから、本実施形態にかかる残留塩素測定装置４”は、水量の多い箇所でのモニタリングに非常に有効であり、しかも測定部４に流れる被検査流体の流量が所定値内に制限可能であるため、安定した流体性状の測定を行うことができる。
【００６７】
また、測定部４は図２等にて説明した装置と同様であるため、本実施形態にかかる残留塩素測定装置４”においても、先に説明した装置４が有する種々の効果を当然の如く得ることができる。
【００６８】
以上説明したように、本発明の各実施形態においては、被検査流体の流速を利用してビーズ状研磨体を上下方向に回転（循環運動）させることによって、ビーズ状研磨体の微細な動きを電極部表面にて生じさせ、電極部表面における付着物質の除去を行うことができる。
また、上述したように、各実施形態においては、被検査流体を流通させる流通経路を広く確保可能な構成を有しているため、たんぱく質や粒子状の浮遊物の付着を防止して、流通経路が閉塞しない流体性状測定装置を得ることができる。
【００６９】
さらに、上記各実施形態においては、ビーズ状研磨体の形成材料および大きさについては特に言及しなかったが、これらは必要に応じて適宜選択可能である。ビーズ状研磨体の形成材料としては、例えば、セラミック、ガラス、およびアルミナが用いられる。また、ビーズ状研磨体は、例えば、その直径が０．５ｍｍ〜１．２ｍｍ程度に形成される。
【００７０】
なお、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
【００７１】
上記各実施形態においては、流体性状の一つとして「残留塩素濃度」の測定を行う場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。したがって、一対の電極を用いて測定可能である流体性状であれば、例えば、「二酸化塩素濃度」等の他の流体性状を測定するために各実施形態にかかる流体性状測定装置を用いてもよい。
【００７２】
また、上記各実施形態においては、本発明にかかる流体性状測定装置が、「浴槽」内の温水中の残留塩素濃度を測定するものとして適用される場合について説明したが、本発明はこの構成に限定されず、必要に応じて、プールあるいは飲料水の貯水槽等内の被検査流体を測定する装置として用いられてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の各実施形態にかかる残留塩素測定装置を適用して構成可能な連日使用型循環浴槽の一例を示すシステムフロー図である。
【図２】参考例にかかる残留塩素測定装置の模式図である。
【図３】参考例にかかる残留塩素測定装置の概略断面図である。
【図４】本発明の第一実施形態にかかる残留塩素測定装置の概略断面図である。
【図５】本発明の第二実施形態にかかる残留塩素測定装置の模式図である。
【符号の説明】
【００７４】
１…浴槽、１ａ…底部、２…集毛器、３…ポンプ、４，４’，４”…残留塩素測定装置（流体性状測定装置）、５…ろ過器、６…加熱器
４１…検査容器、４１ａ…電極ホルダ取付部、４２…電極ホルダ、４２ａ…電極部表面、４３…流入部、４３ａ…噴出孔、４４…流出部、４５…底部（流体制御部）、４６…流量調整弁、４７…下方蓋部、４９…ビーズ状研磨体
５１…検査容器、５１ａ…電極ホルダ取付部、５２…電極ホルダ、５２ａ…電極部表面、５３…流入部、５４…流出部、５５…循環経路、５５Ａ…流体制御部、５５Ｂ…貯留部、５５Ｃ…吸い込み部、５９…ビーズ状研磨体
６０…定水槽、６１…本体容器、６２…導入部、６３…導出部、６３ａ…開口部、６４…オーバーフロー管、６４ａ…開口部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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