(57)【要約】【課題】低粘度で、かつ吐出安定性が良好で、硬化性に優れ、特にインク非吸収性媒体上に形成された硬化皮膜の溶剤耐性や密着性に優れた活性エネルギー線硬化型インクジェットインキの提供。【解決手段】顔料、顔料分散剤、表面調整剤、モノマー、および下記一般式１で表される化合物（Ｕ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ。一般式１Ａ−Ｅ１−Ｉ−（−Ｅ２−Ｉ−）ｘ−Ｅ１−Ａ（式中、Ａは（メタ）アクリル酸由来構造を表し、Ｅ１、Ｅ２は繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ９）グリコールを含むジオール化合物由来の構造を表し、Ｉはジイソシアネート由来の構造を表し、ｘは１以上５以下の整数を表し、ＡとＥ１およびＡとＥ２の間の結合はエステル結合で、ＩとＥ１およびＩとＥ２の間の結合はウレタン結合である。）。【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料、顔料分散剤、モノマー、および下記一般式１で表される化合物（Ｕ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ。
一般式１
Ａ−Ｅ１−Ｉ−（−Ｅ２−Ｉ−）ｘ−Ｅ１−Ａ
（式中、Ａは（メタ）アクリル酸由来構造を表し、Ｅ１、Ｅ２は繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ９）グリコールを含むジオール化合物由来の構造を表し、Ｉはジイソシアネート由来の構造を表し、ｘは１以上５以下の整数を表し、ＡとＥ１およびＡとＥ２の間の結合はエステル結合で、ＩとＥ１およびＩとＥ２の間の結合はウレタン結合である。）。
【請求項２】
基材上に請求項１記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキで画像形成した後、該インキを活性エネルギー線で硬化してなる印刷物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、密着性に優れた活性エネルギー線硬化型インクジェットインキに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、耐水性の良好なインクジェットインキとしては、油溶性染料を高沸点溶剤に分散ないし溶解したもの、油溶性染料を揮発性の溶剤に溶解したものがあるが、染料は耐光性等の諸耐性で顔料に劣るため、着色剤として顔料を用いたインキが望まれている。しかしながら、顔料を安定して有機溶剤に分散することは困難であり、安定な分散性および吐出性を確保することも難しい。一方、高沸点溶剤を用いたインキは、非吸収性の受像体においては、インキ中の溶剤が揮発せず、溶剤の蒸発による乾燥は困難なので、非吸収性の基材への印字は不可能である。
【０００３】
揮発性の有機溶剤を用いたインキにおいては、使用する樹脂の密着性および溶剤の揮発によって非吸収性の基材においても良好な印字を形成することができる。しかしながら、揮発性の溶剤がインキの主成分となるためヘッドのノズル面において溶剤の揮発による乾燥が非常に早く、頻繁なメンテナンスを必要とする。また、インキは本質的に溶剤に対する再溶解性が必要とされるため、溶剤に対する耐性が十分得られないことがある。
【０００４】
このような特性を満足させるため、揮発性のないモノマー類を使用して、ヘッドでの乾燥を防ぎ、その一方、活性エネルギー線を与えることで硬化させる型のインキの利用もおこなわれている。活性エネルギー線硬化型インクジェットインキとしては、特許文献１ないし特許文献５において記載されているが、何れのインキもポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ガラス、アクリルに直接印刷すると密着性が低く、実用上適さないものばかりであった。
【０００５】
【特許文献１】特開平５−２１４２８０号公報
【特許文献２】特開平９−１８３９２９号公報
【特許文献３】特開２００２−１６７５３７号公報
【特許文献４】特表２００４−５１８７８７号公報
【特許文献５】特許第３６１９７７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、密着性に優れた活性エネルギー線硬化型インクジェットインキの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明は、顔料、顔料分散剤、表面調整剤、モノマー、および下記一般式１で表される化合物（Ｕ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキに関する。
一般式１
Ａ−Ｅ１−Ｉ−（−Ｅ２−Ｉ−）ｘ−Ｅ１−Ａ
（式中、Ａは（メタ）アクリル酸由来構造を表し、Ｅ１、Ｅ２は繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ９）グリコールを含むジオール化合物由来の構造を表し、Ｉはジイソシアネート由来の構造を表し、ｘは１以上５以下の整数を表し、ＡとＥ１およびＡとＥ２の間の結合はエステル結合で、ＩとＥ１およびＩとＥ２の間の結合はウレタン結合である。）。
【０００８】
更に本発明は、基材上に上記活性エネルギー線硬化型インクジェットインキで画像形成した後、該インキを活性エネルギー線で硬化してなる印刷物に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、低粘度で、かつ吐出安定性が良好で、硬化性に優れ、特にインク非吸収性媒体上に形成された硬化皮膜の溶剤耐性や密着性に優れた活性エネルギー線硬化型インクジェットインキを提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキは、下記一般式１で表される化合物（Ｕ）を含有することを特徴とする。
一般式１
Ａ−Ｅ１−Ｉ−（−Ｅ２−Ｉ−）ｘ−Ｅ１−Ａ
（式中、Ａは（メタ）アクリル酸由来構造を表し、Ｅ１、Ｅ２は繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ９）グリコールを含むジオール化合物由来の構造を表し、Ｉはジイソシアネート由来の構造を表し、ｘは１以上５以下の整数を表し、ＡとＥ１およびＡとＥ２の間の結合はエステル結合で、ＩとＥ１およびＩとＥ２の間の結合はウレタン結合である。）。
【００１１】
本発明を構成する化合物（Ｕ）は、以下の二つの合成方法どちらかで得るのが好ましい。
合成方法（イ）：繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ９）グリコール（Ｐ）とジイソシアネート（Ｄ）とを（Ｐ）のモル数が（Ｄ）のモル数より多くなるように反応させた後、残存水酸基に（メタ）アクリル酸もしくは（メタ）アクリル酸ハライドを付加させる方法。
合成方法（ロ）：繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ９）グリコール含むジオールのモノ（メタ）アクリレート（Ｍ）と、ジイソシアネート（Ｄ）と、繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ９）グリコール（Ｐ）とを反応させる方法。このとき、（Ｍ）と（Ｄ）と（Ｐ）とを同時に反応させても、（Ｄ）と（Ｐ）とを反応させた後（Ｍ）を反応させても、（Ｍ）と（Ｄ）を反応させた後（Ｐ）を反応させても構わない。
【００１２】
繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ９）グリコール（Ｐ）として具体的には、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、２?メチル?２，４?ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，７−ヘプタンジオール、２，３−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，２−オクタンジオール、１，３−オクタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、２−ブチルー２−エチル−１，３−プロパンジオール、ジブチレングリコール、トリブチレングリコール、テトラブチレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリ（エチレングリコール−ｃｏ−ブチレングリコール）、ポリエチレングリコール−Ｂｌｏｃｋ―ポリブチレングリコール、ポリ（プロピレングリコール−ｃｏ−ブチレングリコール）、ポリプロピレングリコール−Ｂｌｏｃｋ―ポリブチレングリコールなどが挙げられる。
【００１３】
この中で、繰り返し数が１のものとしてはＣ５〜Ｃ９アルキレングリコール、繰り返し数が２〜２０のものとしてはＣ４アルキレングリコールを含むものが、基材密着性の点で好ましい。さらには繰り返し数が２〜１５のＣ４アルキレングリコールを含むものが好ましい。
【００１４】
繰り返し数が１〜２０のアルキレン（Ｃ４〜Ｃ６）グリコール含むジオールのモノ（メタ）アクリレート（Ｍ）として、具体的には、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，２−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、２?メチル?２，４?ペンタンジオールモノ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，７−ヘプタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２，３−ヘプタンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，２−オクタンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，３−オクタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−エチル−１，３−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ブチルー２−エチル−１，３−プロパンジオールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００１５】
この他具体的な商品名では日本油脂株式会社製のブレンマー５５ＰＥＴ−４００、ブレンマー３０ＰＥＴ−８００、ブレンマー５５ＰＥＴ−８００、ブレンマーＡＥＴシリーズ、ブレンマー３０ＰＰＴ−８００、ブレンマー５０ＰＰＴ−８００、ブレンマー７０ＰＰＴ−８００、ブレンマーＡＰＴシリーズ、ブレンマー１０ＰＰＢ−５００Ｂ、ブレンマー１０ＡＰＢ−５００Ｂなど（上記に列挙した商品は２〜１０の繰り返しのブチレングリコール構造が存在するモノ（メタ）アクリレートである）が挙げられる。
【００１６】
この中で、Ｃ４アルキレングリコールを含むモノ（メタ）アクリレートが、基材密着性の点で好ましい。
【００１７】
ジイソシアネート（Ｄ）としては、芳香族ポリイソシアネ−ト、脂肪族ポリイソシアネ−ト、芳香脂肪族ポリイソシアネ−ト、脂環族ポリイソシアネ−ト等が挙げられる。
【００１８】
芳香族ポリイソシアネ−トとしては、例えば１，３−フェニレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニルジイソシアネ−ト、１，４−フェニレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、２，４−トリレンジイソシアネ−ト、２，６−トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−トルイジンジイソシアネ−ト、２，４，６−トリイソシアネ−トトルエン、１，３，５−トリイソシアネ−トベンゼン、ジアニシジンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニルエ−テルジイソシアネ−ト、４，４’，４”−トリフェニルメタントリイソシアネ−ト等を挙げることができる。
【００１９】
脂肪族ポリイソシアネ−トとしては、例えばトリメチレンジイソシアネ−ト、テトラメチレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、ペンタメチレンジイソシアネ−ト、１，２−プロピレンジイソシアネ−ト、２，３−ブチレンジイソシアネ−ト、１，３−ブチレンジイソシアネ−ト、ドデカメチレンジイソシアネ−ト、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ−ト等を挙げることができる。
【００２０】
芳香脂肪族ポリイソシアネ−トとしては、例えばω，ω’−ジイソシアネ−ト−１，３−ジメチルベンゼン、ω，ω’−ジイソシアネ−ト−１，４−ジメチルベンゼン、ω，ω’−ジイソシアネ−ト−１，４−ジエチルベンゼン、１，４−テトラメチルキシリレンジイソシアネ−ト、１，３−テトラメチルキシリレンジイソシアネ−ト等を挙げることができる。
【００２１】
脂環族ポリイソシアネ−トとしては、例えば３−イソシアネ−トメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネ−ト、１，３−シクロペンタンジイソシアネ−ト、１，３−シクロヘキサンジイソシアネ−ト、１，４−シクロヘキサンジイソシアネ−ト、メチル−２，４−シクロヘキサンジイソシアネ−ト、メチル−２，６−シクロヘキサンジイソシアネ−ト、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネ−ト）、１，３−ビス（イソシアネ−トメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネ−トメチル）シクロヘキサン等を挙げることができる。
【００２２】
本発明を構成する化合物（Ｕ）を製造する際には、公知の触媒を使用することができる。例えば３級アミン系化合物、有機金属系化合物等が挙げられる。
【００２３】
３級アミン系化合物としては、例えばトリエチルアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等が挙げられる。
【００２４】
有機金属系化合物としては錫系化合物、非錫系化合物を挙げることができる。錫系化合物としては、例えばジブチル錫ジクロライド、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ジブロマイド、ジブチル錫ジマレエ−ト、ジブチル錫ジラウレ−ト、ジブチル錫ジアセテ−ト、ジブチル錫スルファイド、トリブチル錫スルファイド、トリブチル錫オキサイド、トリブチル錫アセテ−ト、トリエチル錫エトキサイド、トリブチル錫エトキサイド、ジオクチル錫オキサイド、トリブチル錫クロライド、トリブチル錫トリクロロアセテ−ト、２−エチルヘキサン酸錫等が挙げられる。非錫系化合物としては、例えばジブチルチタニウムジクロライド、テトラブチルチタネ−ト、ブトキシチタニウムトリクロライドなどのチタン系、オレイン酸鉛、２−エチルヘキサン酸鉛、安息香酸鉛、ナフテン酸鉛などの鉛系、２−エチルヘキサン酸鉄、鉄アセチルアセトネ−トなどの鉄系、安息香酸コバルト、２−エチルヘキサン酸コバルトなどのコバルト系、ナフテン酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛などの亜鉛系、ナフテン酸ジルコニウムなどが挙げられる。これらは単独使用、もしくは併用することもできる。
本発明の酸性基含有ウレタン樹脂はこれまで挙げた原料のみで製造することも可能であるが、高粘度になり反応が不均一になるなどの問題から溶剤を用いるのが好ましい。使用される溶剤としては、公知のものを使用できる。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、アセトニトリル等が挙げられる。
本発明の酸性基含有ウレタン樹脂を得る反応の温度は４０〜１２０℃が好ましい。更に好ましくは５０〜１００℃である。
【００２５】
本発明のウレタン結合含有モノマーを製造する際には溶剤を用いない方が好ましいが、製造時の粘度調整のためにアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、アセトニトリル等を用いても構わない。
【００２６】
本発明を構成する化合物（Ｕ）を得る反応の温度は４０〜１５０℃が好ましい。更に好ましくは５０〜１００℃である
【００２７】
本発明を構成する化合物（Ｕ）は数平均分子量が１０００以上４０００以下であることが好ましい。数平均分子量が１０００未満であると、ポリ塩化ビニル密着性が不足し、４０００を超えると硬化後の印刷物の耐性が不足する。さらに好ましくは１２００以上３０００以下の場合である。
【００２８】
本発明に使用するモノマーとしては、エチレン性二重結合含有化合物であれば特に制限を受けるものでは無い。具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヒドロキシピバリン酸トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化リン酸トリアクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート）トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、ジプロピレングリコールアクリレート、β-カルボキシルエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、Ｎ-ビニルホルムアミド、エチルジグリコールアクリレート、トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、トリ（メタ）アリルイソシアヌレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、エトキシ化トリブロモフェニルアクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート等が挙げられる。これら化合物は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。
【００２９】
本発明のインクジェットインキには、上記モノマー以外にオリゴマー、プレポリマーと呼ばれるものを使用できる。具体的には、ダイセルＵＣＢ社製「Ｅｂｅｃｒｙｌ２３０、２４４、２４５、２７０、２８０／１５ＩＢ、２８４、２８５、４８３０、４８３５、４８５８、４８８３、８４０２、８８０３、８８００、２５４、２６４、２６５、２９４／３５ＨＤ、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、１２９０．１２９０Ｋ、５１２９、２０００、２００１、２００２、２１００、ＫＲＭ７２２２、ＫＲＭ７７３５、４８４２、２１０、２１５、４８２７、４８４９、６７００、６７００−２０Ｔ、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０、７７０、ＩＲＲ５６７、８１、８４、８３、８０、６５７、８００、８０５、８０８、８１０、８１２、１６５７、１８１０、ＩＲＲ３０２、４５０、６７０、８３０、８３５、８７０、１８３０、１８７０、２８７０、ＩＲＲ２６７、８１３、ＩＲＲ４８３、８１１、４３６、４３８、４４６、５０５、５２４、５２５、５５４Ｗ、５８４、５８６、７４５、７６７、１７０１、１７５５、７４０／４０ＴＰ、６００、６０１、６０４、６０５、６０７、６０８、６０９、６００／２５ＴＯ、６１６、６４５、６４８、８６０、１６０６、１６０８、１６２９、１９４０、２９５８、２９５９、３２００、３２０１、３４０４、３４１１、３４１２、３４１５、３５００、３５０２、３６００、３６０３、３６０４、３６０５、３６０８、３７００、３７００−２０Ｈ、３７００−２０Ｔ、３７００−２５Ｒ、３７０１、３７０１−２０Ｔ、３７０３、３７０２、ＲＤＸ６３１８２、６０４０、ＩＲＲ４１９」、サートマー社製「ＣＮ１０４、ＣＮ１２０、ＣＮ１２４、ＣＮ１３６、ＣＮ１５１、ＣＮ２２７０、ＣＮ２２７１Ｅ、ＣＮ４３５、ＣＮ４５４、ＣＮ９７０、ＣＮ９７１、ＣＮ９７２、ＣＮ９７８２、ＣＮ９８１、ＣＮ９８９３、ＣＮ９９１」、ＢＡＳＦ社製「Ｌａｒｏｍｅｒ  ＥＡ８１、ＬＲ８７１３、ＬＲ８７６５、ＬＲ８９８６、ＰＥ５６Ｆ、ＰＥ４４Ｆ、ＬＲ８８００、ＰＥ４６Ｔ、ＬＲ８９０７、ＰＯ４３Ｆ、ＰＯ７７Ｆ、ＰＥ５５Ｆ、ＬＲ８９６７、ＬＲ８９８１、ＬＲ８９８２、ＬＲ８９９２、ＬＲ９００４、ＬＲ８９５６、ＬＲ８９８５、ＬＲ８９８７、ＵＰ３５Ｄ、ＵＡ１９Ｔ、ＬＲ９００５、ＰＯ８３Ｆ、ＰＯ３３Ｆ、ＰＯ８４Ｆ、ＰＯ９４Ｆ、ＬＲ８８６３、ＬＲ８８６９、ＬＲ８８８９、ＬＲ８９９７、ＬＲ８９９６、ＬＲ９０１３、ＬＲ９０１９、ＰＯ９０２６Ｖ、ＰＥ９０２７Ｖ」、コグニス社製「フォトマー３００５、３０１５、３０１６、３０７２、３９８２、３２１５、５０１０、５４２９、５４３０、５４３２、５６６２、５８０６、５９３０、６００８、６０１０、６０１９、６１８４、６２１０、６２１７、６２３０、６８９１、６８９２、６８９３−２０Ｒ、６３６３、６５７２、３６６０」、根上工業社製「アートレジンＵＮ−９０００ＨＰ、９０００ＰＥＰ、９２００Ａ、７６００、５２００、１００３、１２５５、３３２０ＨＡ、３３２０ＨＢ、３３２０ＨＣ、３３２０ＨＳ、９０１Ｔ、１２００ＴＰＫ、６０６０ＰＴＭ、６０６０Ｐ」、日本合成化学社製「紫光  ＵＶ−６６３０Ｂ、７０００Ｂ、７��１０Ｂ、７４６１ＴＥ、３０００Ｂ、３２００Ｂ、３２１０ＥＡ、３３１０Ｂ、３５００ＢＡ、３５２０ＴＬ、３７００Ｂ、６１００Ｂ、６６４０Ｂ、１４００Ｂ、１７００Ｂ、６３００Ｂ、７５５０Ｂ、７６０５Ｂ、７６１０Ｂ、７６２０ＥＡ、７６３０Ｂ、７６４０Ｂ、２０００Ｂ、２０１０Ｂ、２２５０ＥＡ、２７５０Ｂ」、日本化薬社製「カヤラッドＲ−２８０、Ｒ−１４６、Ｒ１３１、Ｒ−２０５、ＥＸ２３２０，Ｒ１９０、Ｒ１３０、Ｒ−３００，Ｃ−００１１、ＴＣＲ−１２３４、ＺＦＲ−１１２２、ＵＸ−２２０１，ＵＸ−２３０１，ＵＸ３２０４、ＵＸ−３３０１、ＵＸ−４１０１，ＵＸ−６１０１、ＵＸ−７１０１、ＭＡＸ−５１０１、ＭＡＸ−５１００，ＭＡＸ−３５１０、ＵＸ−４１０１」等が挙げられる。
【００３０】
本発明のインクジェットインキに含まれる顔料は、カーボンブラック、酸化チタン、炭酸カルシウム等の無彩色の顔料または有彩色の有機顔料が使用できる。有機顔料としては、トルイジンレッド、トルイジンマルーン、ハンザエロー、ベンジジンエロー、ピラゾロンレッドなどの不溶性アゾ顔料、リトールレッド、ヘリオボルドー、ピグメントスカーレット、パーマネントレッド２Ｂなどの溶性アゾ顔料、アリザリン、インダントロン、チオインジゴマルーンなどの建染染料からの誘導体、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどのフタロシアニン系有機顔料、キナクリドンレッド、キナクリドンマゼンタなどのキナクリドン系有機顔料、ペリレンレッド、ペリレンスカーレットなどのペリレン系有機顔料、イソインドリノンエロー、イソインドリノンオレンジなどのイソインドリノン系有機顔料、ピランスロンレッド、ピランスロンオレンジなどのピランスロン系有機顔料、チオインジゴ系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、キノフタロンエローなどのキノフタロン系有機顔料、イソインドリンエローなどのイソインドリン系有機顔料、その他の顔料として、フラバンスロンエロー、アシルアミドエロー、ニッケルアゾエロー、銅アゾメチンエロー、ペリノンオレンジ、アンスロンオレンジ、ジアンスラキノニルレッド、ジオキサジンバイオレット等が挙げられる。
【００３１】
有機顔料をカラーインデックス(C.I.)ナンバーで例示すると、C.I.ピグメントエロー１２、１３、１４、１７、２０、２４、７４、８３、８６  ９３、１０９、１１０、１１７、１２０、１２５、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１６６、１６８、１８０、１８５、C.I.ピグメントオレンジ１６、３６、４３、５１、５５、５９、６１、C.I.ピグメントレッド９、４８、４９、５２、５３、５７、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２０２、２０６、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２３８、２４０、C.I.ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３７、４０、５０、C.I.ピグメントブルー１５、１５：１、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０、６４、C.I.ピグメントグリーン７、３６、C.I.ピグメントブラウン２３、２５、２６等が挙げられる。
【００３２】
カーボンブラックの具体例としては、デグサ社製「Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ３５０、２５０、１００、５５０、５、４、４Ａ、６」「ＰｒｉｎｔｅｘＵ、Ｖ、１４０Ｕ、１４０Ｖ、９５、９０、８５、８０、７５、５５、４５、４０、Ｐ、６０、Ｌ６、Ｌ、３００、３０、３、３５、２５、Ａ、Ｇ」、キャボット社製「ＲＥＧＡＬ４００Ｒ、６６０Ｒ、３３０Ｒ、２５０Ｒ」「ＭＯＧＵＬ  Ｅ、Ｌ」、三菱化学社製「ＭＡ７、８、１１、７７、１００、１００Ｒ、１００Ｓ、２２０、２３０」「＃２７００、＃２６５０、＃２６００、＃２００、＃２３５０、＃２３００、＃２２００、＃１０００、＃９９０、＃９８０、＃９７０、＃９６０、＃９５０、＃９００、＃８５０、＃７５０、＃６５０、＃５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃４５Ｌ、＃４４、＃４０、＃３３、＃３３２、＃３０、＃２５、＃２０、＃１０、＃５、ＣＦ９、＃９５、＃２６０」等が挙げられる。
【００３３】
酸化チタンの具体例としては、石原産業社製「タイペークＣＲ−５０、５０−２、５７、８０、９０、９３、９５、９５３、９７、６０、６０−２、６３、６７、５８、５８−２、８５」「タイペークＲ−８２０，８３０、９３０、５５０、６３０、６８０、６７０、５８０、７８０、７８０−２、８５０、８５５」「タイペークＡ−１００、２２０」「タイペークＷ−１０」「タイペークＰＦ−７４０、７４４」「ＴＴＯ−５５（Ａ）、５５（Ｂ）、５５（Ｃ）、５５（Ｄ）、５５（Ｓ）、５５（Ｎ）、５１（Ａ）、５１（Ｃ）」「ＴＴＯ−Ｓ−１、２」「ＴＴＯ−Ｍ−１、２」、テイカ社製「チタニックスＪＲ−３０１、４０３、４０５、６００Ａ、６０５、６００Ｅ、６０３、８０５、８０６、７０１、８００、８０８」「チタニックスＪＡ−１、Ｃ、３、４、５」、デュポン社製「タイピュアＲ−９００、９０２、９６０、７０６、９３１」等が挙げられる。
【００３４】
上記顔料の中で、キナクリドン系有機顔料、フタロシアニン系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、イソインドリノン系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、キノフタロン系有機顔料、イソインドリン系有機顔料等は耐光性が優れているため好ましい。  有機顔料は、レーザー散乱による測定値で平均粒径１０〜１５０ｎｍの微細顔料であることが好ましい。顔料の平均粒径が１０ｎｍ未満の場合は、粒径が小さくなることによる耐光性の低下が生じ、１５０ｎｍを越える場合は、分散の安定維持が困難になり、顔料の沈澱が生じやすくなる。
【００３５】
有機顔料の微細化は下記の方法で行うことができる。すなわち、有機顔料、有機顔料の３重量倍以上の水溶性の無機塩および水溶性の溶剤の少なくとも３つの成分からなる混合物を粘土状の混合物とし、ニーダー等で強く練りこんで微細化したのち水中に投入し、ハイスピードミキサー等で攪拌してスラリー状とする。次いで、スラリーの濾過と水洗を繰り返して、水溶性の無機塩および水溶性の溶剤を除去する。微細化工程において、樹脂、顔料分散剤等を添加してもよい。
水溶性の無機塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム等が挙げられる。これらの無機塩は、有機顔料の３重量倍以上、好ましくは２０重量倍以下の範囲で用いる。無機塩の量が３重量倍よりも少ないと、所望の大きさの処理顔料が得られない。また、２０重量倍よりも多いと、後の工程における洗浄処理が多大であり、有機顔料の実質的な処理量が少なくなる。
【００３６】
水溶性の溶剤は、有機顔料と破砕助剤として用いられる水溶性の無機塩との適度な粘土状態をつくり、充分な破砕を効率よく行うために用いられ、水に溶解する溶剤であれば特に限定されないが、混練時に温度が上昇して溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から沸点１２０〜２５０℃の高沸点の溶剤が好ましい。水溶性溶剤としては、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−ブトキシエタノール、２−（イソペンチルオキシ）エタノール、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、液体ポリエチレングリコール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、低分子量ポリプロピレングリコール等が挙げられる。
【００３７】
本発明において顔料は、十分な濃度および十分な耐光性を得るため、インクジェットインキ中に３〜１５重量％の範囲で含まれることが好ましい。
【００３８】
本発明では、顔料の分散性およびインキの保存安定性を向上させるために顔料分散剤を添加するのが好ましい。顔料分散剤としては、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルの塩、高分子量不飽和酸エステル、高分子共重合物、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ステアリルアミンアセテート等を用いることができる。
【００３９】
分散剤の具体例としては、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−Ｕ（ポリアミノアマイド燐酸塩）」、「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−２０３／２０４（高分子量ポリカルボン酸塩）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミノアマイド燐酸塩と酸エステル）、１０７（水酸基含有カルボン酸エステル）、１１０、１１１（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアマイド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「４００」、「Ｂｙｋｕｍｅｎ」（高分子量不飽和酸エステル）、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸）」、「Ｐ１０４Ｓ、２４０Ｓ（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン系）」、「Ｌａｃｔｉｍｏｎ（長鎖アミンと不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン）」が挙げられる。
【００４０】
また、Ｅｆｋａ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製「エフカ４４、４６、４７、４８、４９、５４、６３、６４、６５、６６、７１、７０１、７６４、７６６」、「エフカポリマー１００（変性ポリアクリレート）、１５０（脂肪族系変性ポリマー）、４００、４０１、４０２、４０３、４５０、４５１、４５２、４５３（変性ポリアクリレート）、７４５（銅フタロシアニン系）」、共栄社化学社製「フローレン ＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）、「フローノンＳＨ−２９０、ＳＰ−１０００」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合物）」、楠本化成社製「ディスパロン ＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４（高分子分散剤）、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル型）」が挙げられる。
【００４１】
さらに、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＥＰ」、「ホモゲノールＬ−１８（ポリカルボン酸型高分子）、「エマルゲン９２０、９３０、９３１、９３５、９５０、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）、「アセタミン２４（ココナッツアミンアセテート）、８６（ステアリルアミンアセテート）」、アビシア社製「ソルスパーズ５０００（フタロシアニンアンモニウム塩系）、１３９４０（ポリエステルアミン系）、１７０００（脂肪酸アミン系）、２４０００ＧＲ、３２０００、３３０００、３９０００、４１０００、５３０００」、日光ケミカル社製「ニッコール Ｔ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）、Ｈｅｘａｇｌｉｎｅ ４−０（ヘキサグリセリルテトラオレート）」、味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、８２２、８２４」等が挙げられる。
【００４２】
分散剤はインキ中に０．１〜１０重量％含まれることが好ましい。
【００４３】
本発明のインクジェットインキには、顔料の分散性およびインキの保存安定性をより向上させるために、有機顔料の酸性誘導体を顔料の分散時に配合することが好ましい。
【００４４】
本発明のインクジェットインキには、基材への濡れ性を向上させるために表面調整剤を加えることが好ましい。表面調整剤の具体例としては、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４０、３４４、３７０、３７５、３７７、３５０、３５２、３５４、３５５、３５６、３５８Ｎ、３６１Ｎ、３５７、３９０、３９２、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０」テゴケミー社製「Ｔｅｇｏｒａｄ−２１００，２２００、２２５０、２５００、２７００」等が挙げられる。これら表面調整剤は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。
【００４５】
表面調整剤はインキ中に、０．００１〜１重量％含まれることが好ましい。
【００４６】
本発明において活性エネルギー線として紫外線を使用するときは、光ラジカル重合開始剤をインキ中に配合する。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明に好適である。具体例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。
【００４７】
また上記光ラジカル重合開始剤に対し、増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光ラジカル重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００４８】
光ラジカル重合開始剤と増感剤は紫外線硬化性組成物総量に対して０．１〜２０質量％，好ましくは，４〜１２質量％の範囲で用いる。
【００４９】
本発明のインクジェットインキには、インキの経時での安定性、記録装置内での機上の安定性を高めるため、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、t-ブチルカテコール、ピロガロール、ブチルヒドロキシトルエン等の重合禁止剤をインキ中０．０１〜５重量％配合することが好ましい。
【００５０】
本発明の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキは可塑剤、表面調整剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤等の種々の添加剤を使用することができる。
【００５１】
本発明のインクジェットインキは、モノマー、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め顔料高濃度の濃縮液を作成しておいてモノマーで希釈することが好ましい。通常の分散機による分散においても充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インキ成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインキが調製される。インキは、孔径３μｍ以下さらには、１μ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。
【００５２】
本発明のインクジェットインキは、２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインキは、特に通常の４〜１０ＫＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ＫＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。
粘度が５ｍＰａ・ｓ未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、５０ｍＰａ・ｓを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。
【００５３】
また、本発明のインクジェットインキは、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインキとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。
【００５４】
本発明のインクジェットインキを使用するには、まずこのインクジェットインキをインクジェット記録方式用プリンタのプリンタヘッドに供給し、このプリンタヘッドから基材上に吐出し、その後紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射する。これにより印刷媒体上の組成物は速やかに硬化する。
【００５５】
なお、活性エネルギー線の光源としては、紫外線を照射する場合には、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、紫外線レーザー、および太陽光を使用することができる。電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶ以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。
【００５６】
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に特に限定されるものではない。なお、実施例中、「部」は「重量部」を表す。
（合成例１）
【００５７】
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロ−トを備えた５口セパラブルフラスコに、ポリテトラメチレングリコール（保土ヶ谷化学株式会社製：ＰＴＧ８５０、水酸基価１２７．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）を８１．６部、イソホロンジイソシアネートを４１．４部仕込み乾燥空気を導入しながら６０℃に昇温した。ここへジブチル錫ジラウレートを０．０５部添加し、１時間反応させた。別途、滴下ロートに４−ヒドロキシブチルアクリレートを２７．０部、ハイドロキノンモノメチルエーテルを０．１５部仕込み、１時間かけてセパラブルフラスコへ滴下した。滴下終了後、３時間８０℃で攪拌を続けた後、赤外線吸収スペクトルにてイソシアナト基の吸収ピークがないことを確認し反応を終了した。生成物の数平均分子量は１７００、重量平均分子量は４３００であった。
（合成例２）
【００５８】
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロ−トを備えた５口セパラブルフラスコに、１，９−ノナンジオールを２１．８部、イソホロンジイソシアネートを６１．０部仕込み乾燥空気を導入しながら６０℃に昇温した。ここへジブチル錫ジラウレートを０．０５部添加し、１時間反応させた。別途、滴下ロートにアクリル酸にプロピレンオキサイド１ｍｏｌ、テトラヒドロフラン６ｍｏｌ付加させた化合物（日本油脂株式会社製：ブレンマー１０ＡＰＢ−５００Ｂ）を６７．１部、ハイドロキノンモノメチルエーテルを０．１５部仕込み、１時間かけてセパラブルフラスコへ滴下した。滴下終了後、３時間８０℃で攪拌を続けた後、赤外線吸収スペクトルにてイソシアナト基の吸収ピークがないことを確認し反応を終了した。生成物の数平均分子量は１２００、重量平均分子量は２９００であった。
（合成例３）
【００５９】
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロ−トを備えた５口セパラブルフラスコに、水酸基価２８２ｍｇＫＯＨ／ｇのポリエチレングリコールを５５．２部、イソホロンジイソシアネートを６２．１部仕込み乾燥空気を導入しながら６０℃に昇温した。ここへジブチル錫ジラウレートを０．０５部添加し、１時間反応させた。別途、滴下ロートに２−ヒドロキシエチルアクリレートを３２．７部、ハイドロキノンモノメチルエーテルを０．１５部仕込み、１時間かけてセパラブルフラスコへ滴下した。滴下終了後、３時間８０℃で攪拌を続けた後、赤外線吸収スペクトルにてイソシアナト基の吸収ピークがないことを確認し反応を終了した。生成物の数平均分子量は１２００、重量平均分子量は２６００であった。
（合成例４）
【００６０】
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロ−トを備えた５口セパラブルフラスコに、水酸基価１１２ｍｇＫＯＨ／ｇのポリプロピレングリコールを８７．７部、イソホロンジイソシアネートを３９．２部仕込み乾燥空気を導入しながら６０℃に昇温した。ここへジブチル錫ジラウレートを０．０５部添加し、１時間反応させた。別途、滴下ロートに２−ヒドロキシプロピルアクリレートを２３．１部、ハイドロキノンモノメチルエーテルを０．１５部仕込み、１時間かけてセパラブルフラスコへ滴下した。滴下終了後、３時間８０℃で攪拌を続けた後、赤外線吸収スペクトルにてイソシアナト基の吸収ピークがないことを確認し反応を終了した。生成物の数平均分子量は１８００、重量平均分子量は４５００であった。
【００６１】
まず、下記のような配合で顔料分散体Ａを作成した。この分散体は有機溶剤中に顔料および分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約１時間分散して作成した。
・ＬＩＯＮＯＬ  ＢＬＵＥ  ＦＧ−７４００Ｇ（東洋インキ製造社製  フタロシアニン顔料）                                                      ３０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製  顔料分散剤）              ９．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート                              ６１．０部
【００６２】
更に、下記のような配合で顔料分散体Ｂを作成した。この分散体は有機溶剤中に顔料および分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約１．５時間分散して作成した。
・Ｙｅｌｌｏｗ  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｅ４ＧＮ（バイエル社製  ニッケル錯体アゾ顔料）                                              
３５．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製  顔料分散剤）              ７．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート                              ５８．０部
【実施例１】
【００６３】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ａ                                                  １１．４部
・２−フェノキシエチルアクリレート                              ４０．０部
・ＢＹＫ−３３１（ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製  シリコン樹脂）        ０．１部
・トリプロピレングリコールジアクリレート                        １５．７部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート              ２０．０部
・合成例１で得られた化合物                                        ４．８部
・イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製  光ラジカル重合開始剤）                ４．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製  光ラジカル重合開始剤）                ４．０部
【実施例２】
【００６４】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｂ                                                    ８．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート                                ２．５部
・Ｎ−ビニルカプロラクタム                                      ４０．０部
・トリプロピレングリコールジアクリレート                        １８．０部
・エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート              ２３．０部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製  シリコン樹脂）  ０．１部
・合成例２で得られた化合物                                        ３．５部
・イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製  光ラジカル重合開始剤）                ３．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製  光ラジカル重合開始剤）                ５．０部
（比較例１）
【００６５】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｃ                                                  １６．５部
・イソボロニルアクリレート                                        ２．５部
・トリプロピレングリコールジアクリレート                        １８．０部
・エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート              ２３．０部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製  シリコン樹脂）  ０．１部
・合成例３で得られた化合物                                        ３．５部
・イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製  光ラジカル重合開始剤）                ３．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製  光ラジカル重合開始剤）                ５．０部
（比較例２）
【００６６】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｃ                                                  １６．５部
・イソボロニルアクリレート                                        ２．５部
・トリプロピレングリコールジアクリレート                        １８．０部
・エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート              ２３．０部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製  シリコン樹脂）  ０．１部
・合成例４で得られた化合物                                        ３．５部
・イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製  光ラジカル重合開始剤）                ３．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製  光ラジカル重合開始剤）                ５．０部
【００６７】
実施例１〜２、比較例１〜２で得られたインクジェットインキをＵＶＩＪプリンターにてポリ塩化ビニルシートに印刷し、印刷面をクロスカットしセロハンテープで剥離試験を実施し密着性を評価。
【００６８】
その結果、実施例１〜２のインキはポリ塩化ビニルシートからインキが剥がれず、密着性が良好であったが、比較例１〜２のインキはポリ塩化ビニルからインキが剥がれた。