(57)【要約】【課題】印刷機のシリンダの洗浄システムに使用する洗浄ファブリック１３のストリップを含浸処理する新規で改良されたシステムを提供する。【解決手段】まず、洗浄ファブリックのストリップを有する洗浄ファブリック供給ロールをシリンダ洗浄システムに配置し、次いで、洗浄ファブリックのストリップを有機化合物溶剤と接触させ、その後、シリンダ１００を含浸処理された洗浄ファブリックのストリップで洗浄する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
現地で洗浄システムの布を予め含浸処理する方法であって、
（ａ） 洗浄ファブリックのストリップを周囲温度および圧力で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤と接触させ、前記洗浄ファブリックのストリップに前記溶剤を含浸させ、
（ｂ） 前記洗浄ファブリックのストリップを巻き、洗浄ファブリック供給ロールを形成し、
（ｃ） ヒートシールされたプラスチックスリーブを前記ファブリックロールのまわりに配置せず、前記ファブリックロール内の前記溶剤の分布状態を乱さず、前記ファブリックの洗浄力に悪影響を及ぼさず、前記含浸処理された洗浄ファブリック供給ロールを洗浄されるシリンダを有する印刷機に係合させることを特徴とする方法。
【請求項２】
過度の溶剤を除去し、平衡状態まで含浸処理されたファブリックを得ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記過度の溶剤を除去する工程は前記洗浄ファブリックのストリップを少なくとも一対の絞りローラ間で絞る工程からなることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
巻き工程後、前記接触および除去工程がなされることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記巻き工程前、前記接触および除去工程がなされることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記接触工程は前記洗浄ファブリックのストリップを前記溶剤が充填された容器に通す工程からなることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
沈下手段を使用し、前記洗浄ファブリックのストリップを前記溶剤を有する容器内に沈下させ、これによって前記接触工程が達成され、前記除去工程は前記洗浄ファブリックのストリップを前記沈下手段と絞り手段間で絞る工程からなることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記沈下手段はローラであり、前記絞り手段もローラであることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記接触工程は前記洗浄ファブリックのストリップを測定された量の溶剤と接触させる工程からなり、前記溶剤の吸収後、前記洗浄ファブリックのストリップが平衡状態になることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
現地で洗浄ファブリックを予め含浸処理する方法であって、
（ａ） 洗浄ファブリックのストリップをバルクロールから巻き戻し、
（ｂ） 周囲圧力および温度で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤を少なくとも１つのローラに付与し、
（ｃ） 巻き戻された洗浄ファブリックのストリップを前記少なくとも１つのローラと接触させ、前記洗浄ファブリックのストリップに溶剤を含浸させ、（ｄ） 含浸処理された洗浄ファブリックのストリップを洗浄ファブリック供給ロールに巻くことを特徴とする方法。
【請求項１１】
さらに、過度の溶剤を前記含浸処理されたファブリックから除去し、溶剤が平衡状態まで含浸したファブリックを得ることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
現地で洗浄ファブリックのストリップを予め含浸処理する装置であって、
（ａ） シャフトのまわりに巻かれた洗浄ファブリックのストリップを有するバルク供給ロールを取り付ける手段と、
（ｂ） 周囲圧力および温度で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤を前記洗浄ファブリックのストリップに付与する溶剤付与手段と、
（ｃ） 洗浄ファブリック供給ロールを形成する手段とからなる装置。
【請求項１３】
前記シャフト上の前記洗浄ファブリックのストリップの厚さを減少させ、長さを増大させ、前記洗浄ファブリック供給ロールの直径を増大させないカレンダ手段を備えたことを特徴とする請求項１２に記載の現地で洗浄ファブリックのストリップを含浸処理する装置。
【請求項１４】
さらに、前記溶剤が平衡状態まで含浸された洗浄ファブリックのストリップを得る過度の溶剤の除去手段を備えたことを特徴とする請求項１２に記載の現地で洗浄ファブリックのストリップを含浸処理する装置。
【請求項１５】
前記溶剤付与手段に係合する絞り手段を備え、前記洗浄ファブリックのストリップを前記溶剤付与手段と前記絞り手段間で絞るようにしたことを特徴とする請求項１２に記載の現地で洗浄ファブリックのストリップを含浸処理する装置。
【請求項１６】
前記溶剤付与手段は少なくとも１つのローラからなり、前記絞り手段も少なくとも１つのローラからなることを特徴とする請求項１５に記載の現地で洗浄ファブリックのストリップを含浸処理する装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、コアまたはシャフトのまわりに巻かれた洗浄ファブリックのストリップを使用し、洗浄ファブリック供給ロールを形成する洗浄システムに関するものである。洗浄ファブリックのストリップは使用前、現地で含浸処理されるか、または印刷機上で含浸処理される。
【背景技術】
【０００２】
印刷機のシリンダを洗浄する種々のブランケット洗浄システムおよびそれを使用する装置が知られている。洗浄ブランケットおよび洗浄溶液を含む代表的ブランケット洗浄システム、およびそれを使用する装置として米国特許第４，１３５，４４８号（特許文献１）のものがあり、これは圧力ローラに達する前、洗浄流体または溶液で湿潤される洗浄布が設けられたシリンダを洗浄する機構に関するものであり、同第４，９３４，３９１号はインキを除去する組成物に関するもので、これは低い蒸気圧を示し、低い蒸気圧の有機化合物であり、同第４，９８６，１８２号は洗浄布を液体で湿潤させる洗浄装置に関するものであり、同第５，００９，７１６号は低い揮発性の有機化合物からなるインキを除去する洗浄方法に関するものであり、同第５，０１２，７３９号は洗浄媒体で湿潤された洗浄布からなる洗浄装置に関するものであり、同第５，０６９，１２８号は洗浄液体が含浸した洗浄布からなる印刷機のシリンダを洗浄する装置に関するものである。
【０００３】
さらに、米国特許第５，１０４，５６７号は印刷機からインキを洗浄する液体に関するものであり、同第５，１２５，３４２号は印刷機のシリンダを洗浄する方法に関するものであり、同第５，１４３，６３９号はインキを除去する低い蒸気圧の洗浄剤を湿潤させた布に関するものであり、同第５，１８８，７５４号は洗浄フォーミュラを含浸させた布に関するものであり、同第５，１９４，１７３号は印刷機からインキを除去する方法に関するものである。さらに、米国特許第４，３４４，３６１号および同第４，７５７，７６３号は印刷機のブランケットシリンダに接触する洗浄ファブリックが設けられた自動ブランケットシリンダ洗浄装置に関するものである。一方、米国特許第５，１７５，０８０号は印刷機に使用するブランケットシリンダの布供給システムに関するものである。
【０００４】
前述した特許のものはその目的をある程度達成するが、種々の欠点がある。たとえば、実際に使用する前、洗浄溶剤または溶液を洗浄ファブリックに導入する自動ブランケット洗浄システムの部品として、ポンプ、スプレイバー、マニホルドライン、バルブなどの装置が要求される。
【０００５】
米国特許第５，３６８，１５７号（特許文献２）はこれらの問題を克服するためのものである。この特許は印刷機などに使用し、そのシリンダを洗浄する予め包装され、予め含浸された洗浄システムに関するものであり、それは低い揮発性の有機化合物溶剤が平衡状態まで含浸され、細長い円筒状コアのまわりに配置された予め含浸されたファブリックロールと、ファブリックロールのまわりに配置され、それと接触するシールされるか、または収縮またはシールされたプラスチックスリーブとからなり、予め含浸処理されたロールを垂直および／または水平に搬送および保管することができ、ファブリックロールの溶剤の分布状態が乱れず、ファブリックの洗浄力に有害作用が生じないようにすることができる。
【０００６】
米国特許第５，３６８，１５７号の発明はその企図された目的を達成するが、改良すべきところも知られている。特許の製品が垂直位置に配置されるとき、溶剤が排気処理されたパッケージ内で下方に変位する。パッケージが水平位置に戻されると、溶剤はロール内で均衡状態に流動する。この流動については、ロールのファブリック内のエアポケットによってそれが生じる。
【０００７】
したがって、前述した状態を改良したブランケット洗浄システムを提供することが要望されている。この発明は、この要望に応じるものである。
【特許文献１】米国特許第４，１３５，４４８号明細書
【特許文献２】米国特許第５，３６８，１５７号明細書
【発明の開示】
【０００８】
したがって、この発明の目的は、シリンダ洗浄システムに使用する洗浄ファブリックのストリップを含浸処理する新規で改良されたシステムを提供することにある。
【０００９】
他の目的は、前述した欠点を克服する洗浄ファブリックのストリップを含浸させる新規で改良されたシステムを提供することにある。
【００１０】
他の目的は、洗浄ファブリックのストリップが印刷機と同一の位置または印刷機に近接した位置で予め含浸され、洗浄ファブリック供給ロールの溶剤の分布状態を乱さず、ファブリックの洗浄力に悪影響を与えず、予め含浸された洗浄ファブリック供給ロールを印刷機に搬送することができる新規で改良された方法を提供することにある。
【００１１】
他の目的は、バルクロールから巻き戻された後、コアまたはシャフト上の洗浄ファブリック供給ロールに巻かれる前、洗浄ファブリックのストリップに低い揮発性の有機化合物溶剤が平衡状態まで含浸される新規で改良されたシステムを提供することにある。
【００１２】
他の目的は、印刷機上に配置した状態でシリンダ洗浄装置の洗浄ファブリックのストリップを含浸処理する新規で改良された方法を提供することにある。
【００１３】
他の目的は、洗浄ファブリックのストリップがコアまたはシャフト上の洗浄ファブリック供給ロールに巻かれた状態で、洗浄ファブリックのストリップを含浸処理する新規で改良された方法を提供することにある。
【００１４】
他の目的は、過度の溶剤を洗浄ファブリックのストリップから除去し、洗浄ファブリックのストリップに保持される溶剤の流体を制御する調節手段を使用する新規で改良された方法を提供することにある。
【００１５】
他の目的は、単一のローラによって洗浄ファブリックのストリップに溶剤を含浸させ、洗浄ファブリックのストリップの過度の溶剤を除去する新規で改良された印刷機上含浸システムを提供することにある。
【００１６】
この発明によれば、印刷機上含浸システムを使用する印刷機のシリンダを洗浄する方法が提供され、まず、洗浄ファブリックのストリップを有する洗浄ファブリック供給ロールがシリンダ洗浄システムに配置される。次いで、洗浄ファブリックのストリップが周囲温度および圧力で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤または洗浄剤と接触し、洗浄ファブリックのストリップに溶剤または洗浄剤が含浸される。洗浄ファブリックのストリップが洗浄ファブリック供給ロールの一部であるとき、またはそれが洗浄ファブリック供給ロールから巻き戻された後、含浸処理がなされる。任意的第３工程では、過度の溶剤または洗浄剤が洗浄ファブリックのストリップから除去され、平衡状態まで含浸処理された洗浄ファブリックのストリップが得られる。最後に、洗浄ファブリックのストリップがシリンダの洗浄に使用される。
【００１７】
この方法の好ましい実施例では、洗浄ファブリックの使用されたストリップが巻取ロールに巻き取られる。
【００１８】
方法の他の実施例では、洗浄ファブリック供給ロールの少なくとも一部が溶剤を含む容器内に沈下される。洗浄ファブリック供給ロールが回転し、洗浄ファブリック供給ロール全体に溶剤が含浸することが好ましい。
【００１９】
方法の他の実施例では、溶剤と接触する前、洗浄ファブリックのストリップが洗浄ファブリック供給ロールから巻き戻される。好ましい方法では、沈下ローラにより洗浄ファブリックのストリップが溶剤と接触する。
【００２０】
方法の他の実施例では、絞りローラによって洗浄ファブリックのストリップが絞られ、これによって過度の溶剤が除去される。方法の他の実施例では、洗浄ファブリックのストリップを沈下させるローラは、洗浄ファブリックのストリップを絞るものと同一のローラである。他の実施例では、絞りローラの位置を調節し、洗浄ファブリックのストリップの溶剤の量を制御することができる。
【００２１】
さらに、この発明は、印刷機シリンダ洗浄システムに使用する印刷機上含浸組立体に関するものである。この組立体は印刷機に取り付けられた取付組立体からなる。洗浄ファブリックのストリップを含む洗浄ファブリック供給ロールが取付組立体に回転可能に取り付けられる。洗浄ファブリックのストリップの少なくとも一部に、周囲温度および圧力で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤を含浸させる含浸手段が使用され、過度の溶剤を除去する除去手段が使用され、洗浄ファブリックのストリップに溶剤または洗浄剤が平衡状態まで含浸する。洗浄ファブリックのストリップを洗浄されるシリンダに接触させるシリンダ洗浄手段が使用され、巻取手段によって洗浄ファブリックの使用されたストリップが回収される。
【００２２】
他の実施例では、洗浄ファブリック供給ロールから引き出される前、含浸手段が洗浄ファブリックのストリップを溶剤に接触させる。
【００２３】
他の実施例では、洗浄手段は洗浄ファブリックのストリップを前記溶剤内に配置し、洗浄ファブリックのストリップを含浸処理するローラ手段を有する。他の実施例では、除去手段は過度の溶剤を絞る絞り手段を有し、前記絞り手段および前記ローラ手段は一体構造である。
【００２４】
さらに、この発明は、印刷機に取り付けられ、印刷機上含浸組立体を支持する取付組立体を有する印刷機上含浸組立体に関するものである。洗浄ファブリックのストリップを有する洗浄ファブリック供給ロールが取付組立体に回転可能に取り付けられる。周囲温度および圧力で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤が取付組立体と係合する容器内に配置され、洗浄布供給ロールの少なくとも一部が溶剤内に配置され、洗浄ファブリックのストリップが含浸処理される。少なくとも１つの絞りローラが洗浄ファブリックにストリップに係合し、過度の溶剤が洗浄ファブリックのストリップから除去され、溶剤が平衡状態まで含浸した洗浄ファブリックのストリップが得られる。少なくとも１つのローラが容器の表面に移動固定関係をもって係合し、絞りローラと容器の側面間で絞られ、過度の溶剤が洗浄ファブリックのストリップから除去されることが好ましい。
【００２５】
他の実施例では、前記印刷機に取り付けられ、印刷機上含浸組立体を支持する取付組立体が設けられる。洗浄ファブリックのストリップを含む洗浄ファブリック供給ロールが取付組立体に回転可能に取り付けられる。周囲温度および圧力で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤が取付組立体と係合する少なくとも１つの容器内に配置される。沈下手段が少なくとも部分的に溶剤内に沈下される。洗浄ファブリックのストリップが容器の表面と絞り手段間のギャップ内に配置され、それと接触し、洗浄ファブリックのストリップが絞られ、過度の溶剤が除去され、容器内に配置され、洗浄ファブリックのストリップが平衡状態に保たれる。平衡状態に含浸処理した洗浄ファブリックのストリップを、洗浄されるシリンダおよび洗浄装置に接触させるシリンダ洗浄手段が使用される。使用された洗浄ファブリックのストリップを回収する巻取手段が使用される。
【００２６】
他の実施例では、溶剤を貯留する単一の容器が使用される。この実施例では、沈下手段および絞り手段は同一のローラからなる。他の実施例では、沈下手段および／または絞り手段は別個のローラである。
【００２７】
さらに、この発明は、洗浄ファブリックのストリップを現地で予め含浸処理する方法に関するものである。この方法では、洗浄ファブリックのストリップが周囲温度および圧力で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤と接触し、洗浄ファブリックのストリップに溶剤が含浸される。洗浄ファブリックのストリップがコアまたはシャフトに巻かれ、これによって洗浄ファブリック供給ロールが形成される。シールされたプラスチックスリーブをファブリックロールのまわりに配置せず、洗浄ファブリック供給ロールの溶剤の分布状態を乱さず、ファブリックのストリップの洗浄力に悪影響を与えず、洗浄ファブリック供給ロールを洗浄されるシリンダを有する印刷機に係合させることができる。
【００２８】
洗浄ファブリックのストリップが溶剤に接触した後、洗浄ファブリックのストリップに溶剤が平衡状態まで含浸されることが好ましい。これを達成する好ましい方法は、溶剤の測定吸収方法である。これに代えて、過度の溶剤を洗浄ファブリックの含浸処理されたストリップから除去してもよい。
【００２９】
洗浄ファブリックのストリップを含浸処理する方法の他の実施例では、洗浄ファブリックのストリップがバルクロールから巻き戻される。周囲圧力および温度で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤が少なくとも１つのローラに付与される。巻かれていない洗浄ファブリックのストリップが少なくとも１つのローラと接触し、洗浄ファブリックのストリップに溶剤が含浸される。洗浄ファブリックのストリップに溶剤が平衡状態まで含浸されることが好ましい。含浸処理された洗浄ファブリックのストリップがコアに巻かれるか、またはシャフトに直接巻かれ、これによって洗浄ファブリック供給ロールが形成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、この発明の実施例を説明する。
【００３１】
図１Ａおよび図１Ｂを参照すると、この発明の洗浄ファブリック供給ロール１０が示されている。図１Ａの実施例は、洗浄ファブリックのストリップ１３を支持することができる強度の比較的重い厚紙で製造された細長いコア１１を有する。洗浄ファブリック１３のストリップはコア１１のまわりに巻かれている。これに代えて、コア１１をプラスチックまたはスチール、アルミニウムなどの金属などの他の適宜の材料で製造してもよい。コア１１は適宜のシリンダ洗浄装置に設置することができる開口両端を有することが好ましい。コア１１は完全に中空のもので、シャフト、ロッドなど１５をコア１１内に挿入し、これによってシリンダ洗浄装置に設置することができる。この実施例では、洗浄ファブリック供給ロール１０はコア１１および洗浄ファブリック１３のストリップからなる。図１Ｂの実施例では、洗浄ファブリック１３のストリップが直接シャフト１５のまわりに巻かれ、これによって洗浄ファブリック供給ロール１０が形成されている。コア１１および／またはシャフト１５は円筒状のものであることが好ましい。しかしながら、コア１１および／またはシャフト１５は３つ、４つ、５つまたは６つの側面を有するもの、または長円状などの他の適宜の形状であってもよい。
【００３２】
洗浄ファブリック供給ロール１０を形成する洗浄ファブリック１１のストリップには種々のものがある。たとえば、それを紙、布、フィルム、デュポンのソンタラなどの木材パルプとポリエステルの混合物または他の適宜の材料で製造してもよい。布のファブリックが使用される場合、それは合成または天然繊維またはその混合物で製造された製織または不織布のファブリックであってもよい。布のファブリックに使用することができる適宜の合成繊維は、ポリエステル繊維、レーヨン繊維、ナイロン繊維およびアクリル繊維などである。使用することができる天然繊維は、綿の繊維、木材パルプ繊維、麻の繊維などである。
【００３３】
紙がファブリック材料として使用される場合、製紙技術に従って化学的に木材パルプから製造される紙のファブリックが適当である。
【００３４】
一方、この発明の実施にどのようなファブリックが使用されても、使用される材料は溶剤または洗浄剤で含浸され、湿潤する高い受容性をもつことが好ましい。この溶剤または洗浄剤はファブリックに含浸する低い揮発性の有機化合物であることが好ましい。これについては、そのファブリックはおよそ０．００３インチからおよそ０．０３０インチの範囲内の厚さをもち、それはおよそ０．００８インチからおよそ０．０２０インチの範囲内であることが好ましく、低い揮発性の有機化合物溶剤が含浸したとき、それは通常の試験方法でファブリックのｉｎ2 当たりおよそ０．０２ｃｃからおよそ０．５ｃｃの溶剤を保つことができるものであることが好ましい。
【００３５】
この発明の実施に使用することができる製織および不織ファブリックは平方ヤード当たりおよそ１．５オンスから平方ヤード当たりおよそ６．０オンスの範囲内の基礎重量、前述した範囲内の厚さ、およびインチ当たりおよそ２０ｌｂｓ．からインチ当たりおよそ２００ｌｂｓ．の範囲内の長さ（機械）方向、およびインチ当たりおよそ１５ｌｂｓ．からインチ当たりおよそ１２５ｌｂｓ．の範囲内の幅（クロス）方向の引っ張り強さをもつ。
【００３６】
紙がこの発明のシステムの洗浄ファブリックとして使用されるとき、それはおよそ４０ｌｂｓ．からおよそ９０ｌｂｓ．の範囲内の基礎重量、およそ０．００３インチからおよそ０．１０インチの範囲内の厚さ、インチ当たりおよそ２０ｌｂｓ．からインチ当たりおよそ８０ｌｂｓ．の範囲内の長さ（機械）方向、およびインチ当たりおよそ１５ｌｂｓ．からインチ当たりおよそ５０ｌｂｓ．の範囲内の幅（クロス）方向の引っ張り強さをもち、１００ｃｃの低い揮発性の有機化合物溶剤または水を受けたとき、およそ１．０ｓｅｃからおよそ１０ｓｅｃの範囲内の多孔率をもち、およそ１．０％からおよそ６．０％の範囲内の伸張力をもつことが好ましく、その数値はすべて通常の試験方法で決定されるところのものである。
【００３７】
この発明の実施に使用される低い揮発性の有機化合物溶剤２０には種々のものがあり、それは容易に蒸発しない少なくとも１つの低バイタリティの有機化合物溶剤、それと低い揮発性有機化合物溶剤、または通常の揮発性の有機化合物溶剤との混合物を含む。このタイプの適宜の溶剤材料は、植物油および柑橘油などから選定される有機化合物溶剤である。一般に、このような溶剤材料は、通常の試験方法で決定されるおよそゼロからおよそ３０．０％の範囲内の揮発性をもち、それはおよそ０％からおよそ２０．０％の範囲内の揮発性であることが好ましい。適宜の溶剤は通常の揮発性の有機化合物溶剤、すなわち、ミネラルエキスおよび脂肪族炭化水素溶剤などから選定される容易に蒸発するものを含むこともこの発明の範囲内である。このような溶剤材料は、通常の試験方法で決定されるゼロからおよそ１００％の揮発性をもつ。溶剤の揮発性が低いほど、少量の溶剤が蒸発するだけであり、ファブリックは長く有効であり、低い揮発性の溶剤を使用することが好ましい。揮発性が０％に近いほど、印刷機シリンダ洗浄装置上の予め含浸されたファブリックの寿命は長い。
【００３８】
この発明の範囲内において、ファブリックおよび／またはファブリックロールへの溶剤の含浸に対する用語“平衡状態まで含浸”は、測定吸収処理により、または過度の溶剤をファブリックおよび／またはファブリックロールから除去した後、ファブリックおよび／またはファブリックロールがファブリッを十分湿潤させることができる量の溶剤または洗浄剤を含み、それがファブリックに印刷機などの装置のシリンダを洗浄する洗浄力を与えることを意味し、測定吸収処理により、または過度の溶剤の除去後、ファブリックはファブリックのｉｎ2 当たりおよそ０．０２ｃｃからおよそ０．５ｃｃの溶剤を含むことが好ましい。
【００３９】
前述した洗浄ファブリック供給ロール１０および低い揮発性の有機化合物溶剤２０を印刷機上含浸組立体または現地含浸システムに使用することができる。
【００４０】
印刷機上含浸組立体１が図２に示されている。印刷機上含浸組立体１は印刷機（図示せず）に取り付けられ、洗浄ファブリックのストリップによってシリンダ１００を洗浄することができる洗浄装置である。取付組立体３０が印刷機に取り付けられ、印刷機上含浸組立体１を支持する。取付組立体３０は一体構造のものであってもよい。これに代えて、取付組立体３０は印刷機上含浸組立体１のエレメントを印刷機に個々に取り付けるいくつかの個別の部品からなるものであってもよい。第３実施例でも、取付組立体３０は印刷機上含浸組立体１のエレメントを支持する印刷機のこれらのエレメントからなる。
【００４１】
洗浄ファブリック供給ロール１０が取付組立体１に回転可能に取り付けられていることが好ましい。
【００４２】
容器４２が使用され、溶剤２０が貯留され、洗浄ファブリック１３のストリップが溶剤２０内で含浸処理される。ある実施例では、容器４２が取付組立体３０に係合する。他の実施例では、容器４２は取付組立体３０のダクト３２内に配置される。他の実施例では、容器４２は取付組立体３０のダクト３２である。容器４２が取付組立体３０に取り外し可能に連結され、容器４２を容易に洗浄し、溶剤２０を容易に交換することができるようにすることが好ましい。
【００４３】
洗浄ファブリック供給ロール１０を溶剤２０と接触した状態に配置し、洗浄ファブリック１３のストリップを含浸処理することができるようにする必要がある。これを達成する１つの方法は、洗浄ファブリック供給ロール１０を容器４２内に含まれる溶剤２０内に完全に沈下させることである。この発明の目的のため、洗浄ファブリック供給ロール１０はコア１１および／またはシャフト１５のまわりに巻かれたファブリック１３のストリップの部分だけを含み、印刷機上含浸組立体１の他の部分を通る洗浄ファブリック１３のストリップの部分は含まない。洗浄ファブリック供給ロール１０が溶剤２０内に沈下され、洗浄ファブリック１３のストリップが印刷機上含浸組立体１の他の部分に通される前、洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤が含浸される。これに代えて、洗浄ファブリック供給ロール１０が溶剤２０と接触する前、洗浄ファブリック１３のストリップの一部を洗浄ファブリック供給ロール１０から巻き戻してもよい。洗浄ファブリック供給ロール１０の洗浄ファブリック１３のストリップが含浸処理された後、すべての洗浄ファブリック供給ロール１０が溶剤２０内に残されるようにしてもよく、洗浄ファブリック供給ロール１０の一部が溶剤２０から取り出されるようにしてもよく、すべての洗浄ファブリック供給ロール１０が溶剤２０から取り出されるようにしてもよい。
【００４４】
他の実施例では、洗浄ファブリック供給ロール１０の少なくとも半分が溶剤２０に接触し、印刷機の運転のとき、それが接触した状態に保たれる。洗浄ファブリック供給ロール１０が巻き戻されると、洗浄ファブリック供給ロール１０が回転し、溶剤２０に接触していないコア１１および／またはシャフト１５のまわりに巻かれた洗浄ファブリック１３のストリップが溶剤２０内に配置され、これによって含浸させることができる。
【００４５】
最大の効率を得るため、洗浄ファブリック供給ロール１０から離れた後、洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤２０を平衡状態まで含浸させるべきである。溶剤２０の測定吸収処理によってこれを達成することが好ましい。これに代えて、適宜の手段によって洗浄ファブリック１３のストリップの過度の溶剤を除去し、溶剤が平衡状態まで含浸した洗浄ファブリック１３のストリップを得ることができる。
【００４６】
洗浄ファブリック１３のストリップの過度の溶剤を除去する１つの方法は、絞り手段５０を使用し、過度の溶剤を絞り出す方法である。ある実施例では、絞り出し手段５０は少なくとも一対のローラおよび両者間のギャップからなる。洗浄ファブリック１３のストリップがローラ間に配置され、過度の溶剤が洗浄ファブリック１３のストリップから絞られる。少なくとも２つのローラ間のギャップの大きさを制御することにより、除去される過度の溶剤の量が制御され、調整される。他の実施例では、絞り手段５０は回転可能に取り付けられた絞りローラ５２および絞り面５４からなる。絞りローラ５２は絞り面５４に係合するよう配置され、ギャップが絞り面５４と絞りローラ５２間に形成される。絞りローラ５２が絞り面５４に対し移動固定関係をもち、過度の溶剤を除去することができる位置の絞りローラ５２を移動させ、面５４とローラ５２間のギャップの大きさを変化させ、洗浄ファブリック１３のストリップから除去される溶剤の量を制御し、調整することができる。絞りローラ５２が移動可能に取り付けられている場合、それを絞り面５４に近接して配置することができる。
【００４７】
容器４２については容器４４を取付組立体３０に係合させてもよく、取付組立体３０のダクト３４内に配置してもよく、それが取付組立体３０のダクト３４であってもよく、その組み合わせであってもよい。他のタイプの容器４４を使用することもできる。面５４は容器４４のエレメントであることが好ましい。これに代えて、絞り面５４が取付組立体３０の面であってもよい。
【００４８】
過度の溶剤の除去後、洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤が平衡状態まで含浸される。シリンダ洗浄手段が使用され、洗浄ファブリック１３のストリップが洗浄されるシリンダに接触し、シリンダ１００が洗浄される。シリンダ洗浄手段の例が１９９２年１０月２日付け米国特許出願０７／９５５，６９４号明細書、米国特許第４，８６７，０６４号明細書、および米国特許第５，１５０，６５３号明細書に記載されている。
【００４９】
シリンダ１００の洗浄に使用された後、洗浄布１３のストリップの使用された部分が巻取手段７０に巻き取られる。巻取手段７０は取付組立体７０に回転可能に取り付けられたシャフト７２であることが好ましい。洗浄ファブリック１３の使用されたストリップが巻取シャフト７２のまわりに巻かれ、これによって巻取ロールが形成される。
【００５０】
図３はこの発明の他の実施例を示す。この実施例では、洗浄布供給ロール１０は溶剤２０内で含浸処理されない。これに代えて、洗浄ファブリック１３のストリップが少なくとも部分的に洗浄布供給ロール１０から引き出される。含浸手段８０が使用され、洗浄ファブリック１３のストリップの少なくとも一部が溶剤２０内で含浸処理される。この実施例では、含浸手段８０は沈下手段８２および容器４２を有する。容器４２に溶剤が貯留され、沈下手段８２が少なくとも部分的に溶剤２０内に配置される。沈下手段８２が洗浄ファブリック１３のストリップの一部を溶剤２０内に配置し、洗浄ファブリック１３のストリップが溶剤２０内で含浸処理される。沈下手段８２は取付組立体に回転可能に取り付けられたローラであることが好ましいが、適宜の沈下手段を使用してもよい。印刷機上含浸組立体１の他の部分は図２に示されている装置と同様に作用する。
【００５１】
この発明の改良された実施例が図４に示されている。この実施例では、溶剤貯留容器４２および除去された過度の溶剤の貯留容器４４に代えて、単一の貯留容器４６だけが使用されている。第１容器４４から第２容器４２に移さず、除去された過度の溶剤をそのまま使用することができるため、容器の洗浄および／または再充填が要求される前、印刷機上含浸組立体１を長期間にわたって作用させることができる。
【００５２】
容器４２および４４と同様、容器４６を種々の様式で構成することができる。たとえば、容器４６を取付組立体３０に永久的に取り付けてもよく、取り外し可能に取り付けることが好ましい。容器４６を取付組立体３０のダクト３６内に配置または固定してもよい。これに代えて、ダクト３６を容器に使用してもよい。前述したものの組み合わせを使用してもよい。たとえば、容器４６はダクト内に配置された容器であってもよく、ダクトが容器を越えてのびるようにしてもよい。これに代えて、容器４６の他の適宜の構造を使用してもよい。
【００５３】
他の実施例では、マルチ容器４６が使用される。各容器４６において洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤２０が含浸され、過度の溶剤が洗浄ファブリック１３の含浸処理されたストリップから除去される。
【００５４】
図５は前述した単一の容器の実施例を改良したもので、単一の本体９０が使用され、洗浄ファブリックのストリップが容器４６内に貯留された溶剤２０内に沈下し、洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤を含浸させ、洗浄ファブリック１３の含浸処理されたストリップを本体９０と絞り面５４間で絞ることにより、過度の溶剤を除去することができる。本体９０は取付組立体３０に回転可能に取り付けられたローラであることが好ましい。この実施例において、本体９０を面５４に対し移動可能に取り付け、除去される過度の溶剤の量を制御および調整することができる。
【００５５】
この発明の利点を得る他の方法は、印刷機に近い位置で洗浄布１３のストリップを予め含浸処理し、予め含浸処理された洗浄布を洗浄されるシリンダを有する印刷機またはその付近に供給することができるようにし、洗浄ファブリックロール１０のまわりにシールおよび／またはヒートシールされたプラスチックスリーブを配置せず、ファブリックロールの溶剤の分布状態が乱れず、ファブリックの洗浄力に悪影響が生じないようにすることである。
【００５６】
この発明の方法によれば、洗浄ファブリック１３のストリップが周囲圧力および温度で容易に蒸発しない低い粘度の有機化合物溶剤に接触する。種々の方法で、洗浄ファブリック１３のストリップと溶剤２０を接触させることができる。たとえば、測定された量の溶剤を付与し、ファブリックに平衡状態まで予め含浸させることができる。この溶剤付与方法は、溶剤の測定吸収処理として知られている。測定吸収処理に代えて、過度の溶剤を洗浄ファブリックのストリップに付与してもよい。洗浄ファブリックのストリップを溶剤タンク内で含浸処理することによってこれを達成することができる。これがなされる場合、過度の溶剤を辞去し、溶剤が平衡状態まで含浸された洗浄ファブリックのストリップを得る必要がある。過度の溶剤を除去し、平衡状態まで含浸された洗浄ファブリックのストリップを得る適宜の方法を、洗浄ファブリックのストリップの排液処理または洗浄ファブリックのストリップのスピニング処理を含む前述した接触方法のいずれかと共に使用することができる。洗浄ファブリック１３のストリップが巻かれ、洗浄ファブリック供給ロール１０が形成される前、またはその後、洗浄ファブリックのストリップに低い揮発性の有機化合物溶剤が予め含浸される。
【００５７】
現地で洗浄ファブリックのストリップに予め含浸させる方法の他の実施例が図６に示されている。洗浄ファブリック１３のストリップが最初にシャフトまたはコア１１５のまわりに巻かれ、バルクロール１１０が形成される。バルクロール１１０はロール形成組立体に回転可能に取り付けられる。バルクロール１１０のファブリックの量はマルチ洗浄ファブリックロール１０を形成するに十分である。洗浄ファブリック１３のストリップの一部がバルクロール１１０から巻き出される。望まれたとき、少なくとも一対のカレンダローラ１５０を使用し、洗浄ファブリック１３のストリップをカレンダ処理してもよい。少なくとも一対のカレンダローラ１５０が洗浄ファブリック１３のストリップを圧縮する。少なくとも一対のローラ１５０の温度は室温よりも高いことが好ましい。少なくとも一対のローラ１５０の温度はおよそ室温であるか、または室温よりも低くてもよい。カレンダ処理されたファブリックの溶剤の湿潤性および分布状態は、きわめて良好であることがわかった。
【００５８】
カレンダ処理の大きい利点は、ファブリックの長さが増大し、洗浄ファブリック供給ロール１０の直径は増大しないということである。洗浄手段は特定の直径までのファブリックロールを使用するよう設計されるため、これは重要な利点をもたらす。たとえば、ある自動ブランケット洗浄装置はおよそ２．７５インチの直径をもつ洗浄ファブリックロールだけを使用することができる。この特定の長さのため、カレンダ処理された布のファブリックロールを同一の直径の同一のファブリックの標準的ファブリックロールよりも多い洗浄回数をもって使用することができる。これは２つの利点をもつ。まず、洗浄当たりのコストが減少する。次に、布のロール当たりの洗浄回数が多いため、印刷機の作業者が洗浄ファブリックのロールを頻繁に交換する必要はない。したがって、印刷機をより効率的に運転することができる。ファブリックが予め含浸および／または予め包装されているかどうかにかかわらず、この利点を得ることができる。
【００５９】
カレンダ処理による布の長さの増大量については、使用されるファブリックおよびカレンダ処理の量によってそれが決定される。たとえば、およそ０．１２インナの厚さおよびおよそ１２ヤードの長さのデュポンのソンタラの布がおよそ１．５インチの直径のコアのまわりに配置されるとき、ファブリックロールは２．７５インチの直径をもつ。カレンダ処理された後、同様のコア上に配置されるとき、布はおよそ０．００８５インチの厚さ、および１６ヤードの長さをもち、およそ２．７５インチの直径をもつ。したがって、この状態のとき、洗浄ファブリック供給ロール１０の直径を増大させず、カレンダ処理によってファブリックの長さをおよそ２５％〜およそ３０％増大させることができる。ファブリックのタイプおよびカレンダ処理の量により、およそ１０％からおよそ５０％増大させることもできる。
【００６０】
溶剤付与システム１２０が使用され、測定された量の溶剤２０が洗浄ファブリック１３のストリップに付与される。容器１２２が使用され、溶剤２０が貯留される。回転可能に取り付けられた溶剤供給ローラ１２４が部分的に溶剤２０内に沈下される。回転可能に取り付けられた付与ローラ１２６が溶剤２０内に沈下していない溶剤供給ローラ１２４の部分で溶剤供給ローラ１２４に近接し、それに接触する。溶剤供給ローラ１２４および付与ローラ１２６が回転可能に取り付けられ、両者が逆方向に回転する。溶剤供給ローラ１２４および付与ローラ１２６の回転により、溶剤２０が溶剤供給ローラ１２４からニップ１２５を介して付与ローラ１２６に伝達される。望まれたとき、複数の溶剤供給ローラ１２４を使用し、溶剤２０を容器１２２から付与ローラ１２６に送ってもよい。この実施例では、複数の溶剤供給ローラ１２４が互いに近接し、接触し、ローラ列を形成し、１つの溶剤供給ローラ１２４が溶剤２０内に沈下され、他の溶剤供給ローラ１２４は付与ローラ１２６に接触し、近接する。洗浄ファブリック１３のストリップが回転ローラ１２８と付与ローラ１２６間に配置され、それに近接する。回転付与ローラ１２６が測定された量の溶剤２０を洗浄ファブリック１３のストリップに接触させ、ファブリック１３に溶剤２０を含浸させることができる。洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤２０が平衡状態まで含浸されることが好ましい。これに代えて、過度の量の溶剤を洗浄ファブリック１３のストリップに含浸させてもよい。ファブリック１３のストリップを少なくとも一対のローラ１６０に通し、走行させるか、または他の適宜の手段により過度の溶剤を除去することができる。その後、洗浄ファブリック１３の含浸処理されたストリップがコア、シャフトまたは他の適宜の本体のまわりに巻かれ、洗浄ファブリック供給ロール１０が形成される。洗浄ファブリック供給ロール１０が形成される前、またはその後、ファブリックに付与された過度の溶剤を除去してもよい。適宜の直径の洗浄ファブリック供給ロール１０が形成されたとき、洗浄ファブリック１３のストリップが切断されるか、または引き裂かれ、洗浄ファブリック供給ロール１０が取り出され、新しいシャフトまたはコアが他の洗浄ファブリック供給ロールの形成に使用される。
【００６１】
前述したシステムにおいて、洗浄ファブリック１３のストリップを洗浄ファブリック供給ロール１０に巻くと、洗浄ファブリック１３のストリップを溶剤付与システム１２０、少なくとも一対のカレンダローラ１５０および一対のローラ１６０に通し、移動させることができる。
【００６２】
すべてのエレメント、カレンダローラ１５０、対のローラ１６０および洗浄ファブリック供給ロール１０を含む溶剤付与システム１２０をすべてロール形成組立体に取り付けてもよい。
【００６３】
他の溶剤付与システム１７０を使用した現地含浸システムが図７に示されている。少なくとも１つの配置装置１７４、たとえば、ローラが使用され、洗浄ファブリック１３のストリップが周囲圧力および温度で容易に蒸発しない低い揮発性の有機化合物溶剤２０を貯留する容器１７２の上方に配置される。沈下手段１７６、たとえば、回転可能に取り付けられたローラが使用され、洗浄ファブリック１３のストリップが溶剤２０内に沈下される。これが洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤２０を平衡状態まで含浸させる。溶剤２０から引き出されるとき、洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤が平衡状態まで含浸されることが好ましい。そうでない場合、過度の溶剤を除去せねばならない。過度の溶剤を除去するどのような方法を使用してもよい。洗浄ファブリック１３のストリップを一対のローラ１６０間で絞り、これによって過度の溶剤を除去することが好ましい。
【００６４】
他の実施例が図７Ａに示されている。この実施例では、溶剤付与システム１８０は容器１８２、沈下ローラ１８４および絞りローラ１８６を有する。溶剤または洗浄剤２０が容器１８２内に貯留されている。沈下ローラ１８４が使用され、洗浄ファブリック１３のストリップが溶剤または洗浄剤２０内に沈下される。洗浄ファブリック１３のストリップに溶剤または洗浄剤２０が含浸される。その後、洗浄ファブリック１３のストリップが溶剤から引き出され、過度の溶剤が洗浄ファブリック１３のストリップから除去され、それに溶剤２０が平衡状態まで含浸する。溶剤２０の上方の位置で洗浄ファブリック１３のストリップを沈下ローラ１８４と絞りローラ１８４間で絞り、これによって除去を達成してもよい。このシステムの利点は、除去された過度の溶剤が容器１８２内に落下し、除去された過度の溶剤の個別の容器が要求されないということである。
【００６５】
図７Ａに位置決め手段１９０が示されている。位置決め手段１９０はローラであることが好ましい。位置決め手段１９０を使用し、予め含浸された洗浄ファブリック１３のストリップを的確に位置決めすることができる。位置決め手段１９０が図７Ａにだけ示されているが、位置決め手段をどの実施例に使用してもよい。位置決め手段を前述した印刷機上含浸システムに使用してもよい。
【００６６】
図６、図７および図７Ａに示されている実施例に、ローラ１５０を設ける必要はない。ローラ１５０が設けられていない場合、標準のカレンダ処理されていないファブリックが使用され、溶剤の低い安定性が得られる。
【００６７】
現地で予め含浸された後、洗浄ファブリック１３のストリップを有する洗浄ファブリック供給ロール１０が洗浄されるシリンダ１００を有する印刷機上に配置される。
【００６８】
さらに、印刷機は洗浄ファブリックを的確に位置決めし、シリンダ１００を洗浄することができるようにする手段を有する。この目的を達成するいくつかの方法がある。たとえば、洗浄ファブリック１３を洗浄されるシリンダ１００に近接するよう位置決めしてもよい。他の実施例において、洗浄ファブリック１３を洗浄されるシリンダ１００に近接させ、それに係合させてもよい。他の実施例において、ファブリック１３がシリンダ１００に送られるとき、洗浄ファブリック１３がシリンダ１００に係合し、シリンダ１００を洗浄することができる。１つの装置が図８に示されている。これはこの発明の実施例にすぎず、この発明を限定する性質のものではない。
【００６９】
この発明の洗浄システムの利点は、使用前、洗浄溶剤または溶液を洗浄ファブリックに導入するポンプ、スプレイバー、マニホルドライン、バルブなどの複雑な装置を印刷機に使用される自動ブランケット洗浄システムの部品として使用する必要がないということである。
【００７０】
さらに、この発明の洗浄システムは、多数の他の利点を有する。たとえば、その構造が比較的簡単であり、容易に入手することができる材料が使用され、複雑で高価な処理を伴わず、比較的簡単に構成することができる。さらに、米国特許第５，３６８，１５７号のものと比較すると、保管のとき、溶剤の変位量が小さく、ファブリックロールの重心の変化が小さい。
【００７１】
この発明には、他の実施例が考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】Ａはコアのまわりに形成される洗浄ファブリック供給ロールの縦断面図であり、Ｂはシャフトのまわりに形成される洗浄ファブリック供給ロールの縦断面図である。
【図２】洗浄ファブリック供給ロールに溶剤を含浸させるこの発明の印刷機上含浸組立体の横断面図である。
【図３】溶剤を貯留する単一のダクトまたは容器を有するこの発明の印刷機上含浸組立体の横断面図である。
【図４】付与される溶剤および除去された過度の溶剤を貯留する個別のダクトを有するこの発明の印刷機上含浸組立体の横断面図である。
【図５】洗浄ファブリックのストリップを沈下させ、絞る単一のローラを有するこの発明の印刷機上含浸組立体の横断面図である。
【図６】この発明の現地含浸システムの横断面図である。
【図７】溶剤を付与し、過度の溶剤を除去する個別のローラを有するこの発明の現地含浸システムの他の実施例の横断面図であり、Ａは同一のローラが溶剤の付与および除去に使用されるこの発明の現地含浸システムの他の実施例の横断面図である。
【図８】洗浄されるシリンダおよびこの発明の現地含浸式洗浄システムの横断面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１０ 洗浄ファブリック供給ロール
１１ コア
１３ 洗浄ファブリック
１５ シャフト
２０ 溶剤
１００ シリンダ
【図１】
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【図２】
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【図３】
2006321246.tif 000005
【図４】
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【図５】
2006321246.tif 000007
【図６】
2006321246.tif 000008
【図７】
2006321246.tif 000009
【図８】
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