(57)【要約】 【課題】  簡単な構成で良好に現像残渣を分離除去するウェット処理装置を提供する。【解決手段】  露光処理したワークに現像液を噴出して現像処理した後の処理現像液を、沈殿分離槽３２２Ａに流入させ、現像残渣を除去した現像処理液と、現像残渣を含む現像濃縮液とに沈殿分離する。処理現像液は、現像処理で利用する現像液に未使用の現像液を補充する量と略同量で沈殿分離槽３２２Ａから排出する現像濃縮液の最大沈殿量に対応する水深位置Ｘの直上近傍で周方向に内周面に沿って流入させる。上澄み分を現像処理液として回収し、現像濃縮液は、遠心分離装置３２３Ａにてスラリと分離液とに分離する。【選択図】 図２
2006318998.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記現像処理後の現像液を、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成方法であって、
前記現像再生液の少なくとも一部を前記現像処理に再利用する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のパターン形成方法であって、
前記現像処理で利用する現像液に未使用の現像液を補充する量と略同量、または前記補充する量よりも少ない量で、前記沈殿分離にて分離する前記現像濃縮液を抽出する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のパターン形成方法であって、
前記現像濃縮液を遠心分離により前記現像残渣と現像廃液とに分離する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のパターン形成方法であって、
前記現像処理後の現像液を、沈殿分離している前記現像液の水面下で合流させる
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項６】
請求項５に記載のパターン形成方法であって、
前記現像処理後の現像液を、沈殿分離している前記現像残渣の位置より上方で合流させる
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項７】
請求項５に記載のパターン形成方法であって、
前記現像処理後の現像液を、沈殿分離している前記現像液の貯留する水位における、前記沈殿分離にて前記現像濃縮液として分離する量に相当する水深位置より上方で合流させる
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれかに記載のパターン形成方法であって、
プラズマディスプレイパネル用のパターンを前記基板上に形成する前記フォトリソグラフィにおける現像処理後の現像液を沈殿分離する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項９】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法にて前記現像処理した後の現像液を処理する現像液処理装置であって、
前記現像液が流入されて貯留し、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と、前記現像残渣を含む現像濃縮液と分離して排出可能な沈殿分離槽を具備した
ことを特徴とした現像液処理装置。
【請求項１０】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成させる現像処理装置と、
この現像処理装置の前記現像処理後の現像液を処理する請求項９に記載の現像液処理装置と、
を具備したことを特徴としたパターン形成装置。
【請求項１１】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記現像処理後の現像液が流入されて貯留し、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と、前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離して排出可能な沈殿分離装置を具備した
ことを特徴としたパターン形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法、その装置、および、現像液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えばプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）や液晶表示パネルの製造あるいは各種半導体パターンの形成などにおいて、フォトリソグラフィ、すなわち露光して現像液にて現像処理して基板上に各種パターンを形成するパターン形成方法が知られている。そして、パターン形成方法にて利用した現像処理後の現像液を遠心分離により現像液中に含まれる現像残渣を除去し、繰り返し使用する構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載のものは、ＰＤＰ用部材の製造における現像工程で利用した残渣を含んだ現像液を、遠心分離機構のボウル部にフィードバックパイプから挿入し、モータにてボウル部が回転され、２０００Ｇ以上の遠心効果により、残渣をボウル部外周に沈殿させる。残渣は、減速機によりボウル部と相対差速が与えられてモータにて回転されるスクリューコンベアにより送り出し、脱液した残渣のみを取り出し、清澄した現像液と分離し、連続的に排出している。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−５６４７２号公報（第３頁左欄−第４頁右欄）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載のような従来の構成では、２０００Ｇ以上の大きな遠心力により残渣を分離しているので、遠心力を発生させるための回転機構などの複雑な機構を備えているため、残渣を分離するための装置構成が大型となる。特に、インライン、すなわち処理後の現像液を遠心分離処理した後に再び利用する設備構成では、ライン規模が大型化してしまう不都合があるなどの問題点が一例として挙げられる。
【０００６】
本発明は、このような実情などに鑑みて、簡単な構成で良好に現像残渣を分離除去するパターン形成方法、その装置、および、現像液処理装置を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、前記現像処理後の現像液を、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離することを特徴とするパターン形成方法である。
【０００８】
請求項９に記載の発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法にて前記現像処理した後の現像液を処理する現像液処理装置であって、前記現像液が流入されて貯留し、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と、前記現像残渣を含む現像濃縮液と分離して排出可能な沈殿分離槽を具備したことを特徴とした現像液処理装置である。
【０００９】
請求項１０に記載の発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成させる現像装置と、この現像装置の前記現像処理後の現像液を処理する請求項９に記載の現像液処理装置と、を具備したことを特徴としたパターン形成装置である。
【００１０】
請求項１１に記載の発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、前記現像処理後の現像液が流入されて貯留し、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と、前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離して排出可能な沈殿分離装置を具備したことを特徴としたパターン形成装置である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に、本発明のパターン形成装置としてのウェット処理装置の一実施の形態の構成について図面を参照して説明する。なお、本実施の形態では、例えばプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）用の電極パターンをフォトリソグラフィ法の現像処理工程を実施するパターン形成装置について例示するが、この限りではない。例えば、ＰＤＰ用に限らず、液晶表示パネル用など各種部材を対象とすることができる。また、電極パターンを形成する場合に限らず、スイッチング素子やセルを形成するための隔壁あるいは引き出し端子など、各種半導体パターンを形成する構成に適用できる。さらに、パターンを形成する基板として、ガラス基板を例示するが、ガラス基板に限らず、例えば樹脂フィルムなど、いずれの基板を対象とすることができる。また、現像処理として、現像液を噴出する処理を例示するが、例えば現像液中に浸漬して現像するなど、いずれの現像方法を利用できる。図１は、本発明における一実施の形態に係るウェット処理装置の概略構成を示す概念図である。図２は、ウェット処理装置の現像装置の概略構成を示す概念図である。なお、図１は、説明の都合上、現像装置の一部の構成を省略している。
【００１２】
〔ウェット処理装置の構成〕
図１において、１００はウェット処理装置で、このウェット処理装置１００は、例えばフォトリソグラフィ法により電極パターンをガラス基板上に形成する現像処理を実施する装置である。このウェット処理装置１００は、露光装置２００と、現像装置３００と、水洗装置４００と、を備えている。
【００１３】
（露光装置）
露光装置２００は、前処理工程でガラス基板上に感光性の電極材料層が形成された被処理物であるワーク１０を露光処理する。すなわち、ワーク１０の例えば紫外線硬化型の電極材料層が形成された被処理面に、所定のパターンの例えば紫外光を照射して露光し、所定の部位の電極材料層を硬化させる。この露光装置２００は、露光処理筐体２１０を備えている。また、露光処理筐体２１０の内部には、露光搬送機構２２０および露光機構２３０が設けられている。露光処理筐体２１０は、ワーク１０が搬入される位置に露光搬入窓２１１が開口形成され、ワーク１０が搬出される位置に露光搬出窓２１２が開口形成されている。これら露光搬入窓２１１および露光搬出窓２１２は、露光処理が施されている間は閉じる機構を有している。
【００１４】
露光搬送機構２２０は、ワーク１０を搬送する例えばローラコンベヤで、複数の搬送ローラ２２１、図示しないベルト、および、図示しないモータを備えている。これら複数の搬送ローラ２２１は、軸方向が水平面かつワーク１０を搬送する搬送方向に対して直行する方向に沿って所定間隔で配設されている。これら搬送ローラ２２１の軸方向の一端部は、モータの出力軸に掛け渡されたベルトが掛け渡されている。そして、露光搬送機構２２０は、モータの駆動により回行するベルトを介して各搬送ローラ２２１が同方向に回転され、ワーク１０を搬送する。なお、ワーク１０の搬送経路は、直線状に限らず、適宜屈曲する形態としてもよい。露光機構２３０は、所定のパターンに対応した図示しない露光マスクを有し、この露光マスクを介して所定のパターンでワーク１０を露光する。なお、露光の条件は、使用する感光性材料の種類によって適宜設定される。
【００１５】
（現像装置）
現像装置３００は、露光装置２００にて露光処理したワーク１０を、このワーク１０の被処理面に現像液を噴出し、感光せずに硬化しないままガラス基板上に残された未硬化電極材料を溶解し、ワーク１０上から除去する装置である。この現像装置３００は、ワーク１０を現像処理する現像処理装置３１０と、現像処理した現像液を処理する現像液処理装置３２０と、を備えている。
【００１６】
現像処理装置３１０は、現像処理筐体３１１と、現像搬送機構３１２と、現像液噴出機構３１３と、を備えている。現像処理筐体３１１は、現像液に対して耐性を有する材料にて形成されたり、内面が現像液に対して耐性を有する材料で被覆処理されたりして形成されている。この現像処理筐体３１１には、上述した露光処理筐体２１０と同様に、露光処理筐体２１０の露光搬出窓２１２に略連続して対向する状態に開口しワーク１０が搬入される現像搬入窓３１１Ａと、ワーク１０が搬出される現像搬出窓３１１Ｂとが開口形成されている。これら現像搬入窓３１１Ａおよび現像搬出窓３１１Ｂは、現像処理が実施されている間、閉じられる機構を有している。また、現像処理筐体３１１の底部には、上方に向けて拡開する略漏斗状に形成され、現像処理筐体３１１内に噴出された現像処理後の現像液である処理現像液を回収する回収部３１１Ｃが形成されている。さらに、回収部３１１Ｃの底部には、回収した処理現像液を現像液処理装置３２０へ流出する流出口３１１Ｄが開口形成されている。
【００１７】
現像搬送機構３１２は、上述した露光搬送機構２２０と同様に、複数の搬送ローラ３１２Ａが図示しないモータの駆動にて回行するベルトにより同方向に回転し、ワーク１０を搬送する。なお、現像搬送機構３１２は、現像処理筐体３１１と同様に、現像液に対して耐性を有する材料にて形成されたり、内面が現像液に対して耐性を有する材料で被覆処理されたりして形成されていることが好ましい。現像液噴出機構３１３は、現像液供給管３１３Ａと、噴出装置３１３Ｂと、を備えている。現像液供給管３１３Ａは、供給用ポンプ３１３Ａ１を有し、例えば希炭酸ナトリウム水溶液などの現像液を噴出装置３１３Ｂへ供給する。噴出装置３１３Ｂは、現像液供給管３１３Ａに接続され、供給される現像液を現像搬送機構３１２で搬送されるワーク１０へ噴出する複数の噴出ノズル３１３Ｂ１を有している。
【００１８】
現像液処理装置３２０は、現像処理筐体３１１の回収部３１１Ｃの流出口３１１Ｄと、現像液噴出機構３１３の現像液供給管３１３Ａとの間に位置して配設される。この現像液処理装置３２０は、貯留槽３２１と、沈殿分離装置３２２と、濃縮液処理装置３２３と、現像再生液貯留槽３２４と、現像液補充装置３２５と、などを備えている。貯留槽３２１は、現像処理筐体３１１の流出口３１１Ｄに、流出管３２１Ａを介して接続されている。この貯留槽３２１は、回収部３１１Ｃで回収された処理現像液が流出管３２１Ａを介して流入され、適宜貯留する。
【００１９】
沈殿分離装置３２２は、搬送ポンプ３２６Ａを有した搬送管３２６を介して貯留槽３２１に接続され、搬送管３２６を介して貯留槽３２１から搬送される処理現像液を、沈殿分離により、処理現像液中に含まれる現像残渣である未硬化電極材料などを除去した現像再生液と、現像残渣を含む現像濃縮液と、に分離する。この沈殿分離装置３２２は、沈殿分離槽３２２Ａと、流入管３２２Ｂと、現像再生液回収部３２２Ｃと、を備えている。この沈殿分離槽３２２Ａは、例えば径寸法に対して軸方向の寸法である高さ寸法が長い略円筒状に形成され、処理現像液を貯留可能に構成されている。また、沈殿分離槽３２２Ａの底部には、上方に向けて拡開する略漏斗状で現像残渣が沈殿されて回収する沈殿部３２２Ａ１が設けられている。この沈殿部３２２Ａ１の底部には、沈殿される現像残渣を現像濃縮液として排出する図示しない排出口が開口形成されている。この排出口は、排出する現像濃縮液を所定の流量で流出可能に構成、例えば流量計およびバルブなどが設けられて、排出する現像濃縮液の流量を調整可能となっている。そして、排出口から排出する現像濃縮液の量は、現像液補充装置３２５で補充する現像液の量と略同量で排出させる。なお、後述する水洗装置４００などにて損出する現像液をも考慮した場合には、排出口から排出される現像濃縮液の量は、現像液補充装置３２５で補充する現像液の量よりも少ない量で排出される。また、沈殿分離槽３２２Ａには、現像再生液回収部３２２Ｃが設けられている。この現像再生液回収部３２２Ｃは、沈殿分離槽３２２Ａの上部近傍に設けられ、貯留する処理現像液の上澄み分が現像再生液として回収可能に構成されている。
【００２０】
流入管３２２Ｂは、軸方向が鉛直方向に略沿う状態で沈殿分離槽３２２Ａ内にこの沈殿分離槽３２２Ａの内面側に略近接する状態に配設されている。流入管３２２Ｂは、上端が搬送管３２６に接続される。また、流入管３２２Ｂの下端は、沈殿分離槽３２２Ａの沈殿部３２２Ａ１の上部の位置に開口している。この開口位置は、現像処理で利用する現像液に未使用の現像液を補充する量と略同量で、沈殿する現像残渣が現像濃縮液として沈殿部３２２Ａ１から排出されるまでに沈殿される最大沈殿量に対応する水深位置Ｘよりも上方に設けられ、好ましくは水深位置Ｘの直上近傍に設けられている。さらに、流入管３２２Ｂは、側方に向けて開口、すなわち沈殿分離槽３２２Ａの内周面の周方向に略沿う方向に向けて開口する状態に形成されている。なお、流入管３２２Ｂを用いず、例えば沈殿分離槽３２２Ａの沈殿部３２２Ａ１の上面位置で、周方向に略沿う方向に向けて開口する状態に搬送管３２６を接続するなどしてもよい。
【００２１】
濃縮液処理装置３２３は、排出ポンプ３２７Ａを有した排出管３２７を介して沈殿分離槽３２２Ａの沈殿部３２２Ａ１の排出口に接続され、排出管３２７を介して沈殿分離槽３２２Ａから搬送される現像濃縮液を、遠心分離により、現像残渣分であるスラリと、現像廃液である分離液とに、分離する。この濃縮液処理装置３２３は、ライン外（いわゆるオフライン）に設けられ、遠心分離装置３２３Ａと、スラリ処理装置５００と、廃液処理装置５１０と、を備えている。遠心分離装置３２３Ａは、排出管３２７に接続され、現像濃縮液をスラリと分離液とに遠心分離する。この遠心分離装置３２３Ａは、各種構成が利用できる。そして、分離したスラリは、スラリ処理装置５００へ搬出され、適宜処理される。また、分離液は、廃液処理装置５１０へ搬出され、適宜処理される。なお、分離液の少なくとも一部を廃液処理装置５１０へ排出するのではなく、図示しない配管などを介して沈殿分離槽３２２Ａへ返送することによって、現像再生液として再利用してもよい。
【００２２】
現像再生液貯留槽３２４は、流通ポンプ３２９Ａを有した流通管３２９を介して沈殿分離槽３２２Ａの現像再生液回収部３２２Ｃに接続され、流通管３２９を介して沈殿分離槽３２２Ａから現像再生液回収部３２２Ｃで回収した現像再生液が流入されて貯留可能に構成されている。そして、この現像再生液貯留槽３２４には、現像再生液を現像液として供給させる現像液噴出機構３１３の現像液供給管３１３Ａが接続されている。なお、現像再生液貯留槽３２４あるいは流通管３２９は、現像再生液回収部３２２Ｃから分離された現像再生液の一部を、図示しない廃液処理装置へ廃液として処理させるために排出可能に構成してもよい。
【００２３】
現像液補充装置３２５は、未使用の現像液を現像液供給管３１３Ａで供給される現像液に補充する装置である。この未使用の現像液の補充は、現像液のリフレッシュ化を目的としている。この現像液補充装置３２５は、調製槽３２５Ａと、補充管３２５Ｂと、を備えている。調製槽３２５Ａは、適宜調製された未使用の現像液を貯留可能に構成されている。この調製槽３２５Ａには、補充バルブ３２５Ｂ１を有した補充管３２５Ｂの一端が接続されている。また、補充管３２５Ｂは、現像液供給管３１３Ａに接続され、調製槽３２５Ａに貯留する現像液を、開度が適宜調整された補充バルブ３２５Ｂ１により所定量で現像液供給管３１３Ａに供給する。この補充する量は、例えば別途設けられた図示しない流量計にて計測する流量に基づいて補充バルブ３２５Ｂ１の開度が適宜調整されて制御される。なお、現像液補充装置３２５は、現像液供給管３１３Ａに現像液を補充する構成に限らず、例えば現像再生液貯留槽３２４に貯留する現像再生液に補充する構成としたり、現像再生液貯留槽３２４からの現像再生液を搬送する現像液供給管３１３Ａと異なる独立した現像液供給管３１３Ａに供給してこの現像液供給管３１３Ａに接続する噴出装置３１３Ｂから噴出させて、現像処理筐体３１１の回収部３１１Ｃで別途噴出された現像再生液と合流して補充する構成としたりするなど、いずれの位置で補充する構成とすることができる。また、現像液補充装置３２５は、間欠的に現像液を補充したり、現像処理の際に連続的に補充したり、いずれの補充タイミングとすることができる。
【００２４】
（水洗装置）
水洗装置４００は、現像装置３００における現像処理により現像液や現像残渣である未硬化電極材料の塊状体などが付着したワーク１０を水洗する装置である。この水洗装置４００は、水洗処理筐体４１０と、水洗搬送機構４２０と、水洗機構４３０と、を備えている。水洗処理筐体４１０は、上述した露光処理筐体２１０および現像処理筐体３１１と同様に、現像処理筐体３１１の現像搬出窓３１１Ｂに略連続して対向する状態に開口しワーク１０が搬入される水洗搬入窓４１１と、ワーク１０が搬出される水洗搬出窓４１２とが開口形成されている。そして、これら水洗搬入窓４１１および水洗搬出窓４１２は、水洗処理の間、閉じられる機構を有している。
【００２５】
水洗搬送機構４２０は、上述した露光搬送機構２２０および現像搬送機構３１２と同様に、複数の搬送ローラ４２１が図示しないモータの駆動にて回行するベルトにより同方向に回転し、ワーク１０を搬送する。水洗機構４３０は、ワーク１０に洗浄用水が噴出される。この洗浄用水は、図示しない浄化処理装置にて適宜浄化され、循環利用される。そして、水洗搬送機構４２０で水洗されたワーク１０は、次工程を実施する図示しない装置に搬送される。
【００２６】
なお、露光装置２００、現像装置３００および水洗装置４００は、図１にも示すように、露光処理筐体２１０、現像処理筐体３１１および水洗処理筐体４１０とを、一連に連続する構成、すなわち露光搬出窓２１２および現像搬入窓３１１Ａが略連続する構成、現像搬出窓３１１Ｂおよび水洗搬入窓４１１が略連続する構成に限らず、分離した構成としてもよい。また、露光搬送機構２２０、現像搬送機構３１２、および水洗搬送機構４２０は、一連の構成、すなわち、ウェット処理装置１００で１つの搬送機構の構成としてもよい。
【００２７】
〔ウェット処理装置の動作〕
次に、上記ウェット処理装置の動作として、現像処理動作について説明する。
【００２８】
（現像処理）
あらかじめ薄膜形成工程で、ガラス基板上にスクリーン印刷などにより形成した感光性の銀（Ａｇ）電極材料層を設けてワーク１０を作成しておく。この薄膜形成工程で作製されたワーク１０に、現像処理工程における露光処理工程を実施する。すなわち、ワーク１０をウェット処理装置１００の露光装置２００に搬送する。この露光装置２００では、露光搬送機構２２０の搬送ローラ２２１上に平面が略水平となる状態に載置されて、適宜開口する露光搬入窓２１１から露光処理筐体２１０内に搬送されたワーク１０を、所定の露光位置まで搬送する。そして、露光機構２３０にて図示しない露光マスクを介して、電極材料層が設けられた側となる被処理面に紫外光を照射し、電極材料層を所定のパターンで硬化させる。この露光処理が終了されたワーク１０は、露光搬送機構２２０により適宜開口された露光搬出窓２１２を介して露光処理筐体２１０から現像装置３００へ搬送される。
【００２９】
露光搬送機構２２０から現像搬送機構３１２へ移送され現像装置３００へ搬送されたワーク１０は、適宜開口する現像搬入窓３１１Ａから現像処理筐体３１１内に搬送され、現像処理される。すなわち、現像搬入窓３１１Ａおよび現像搬出窓３１１Ｂが閉じられて現像処理可能な状態を、例えば図示しないセンサなどにて検出すると、現像液噴出機構３１３の供給用ポンプ３１３Ａ１が駆動し、現像液供給管３１３Ａから噴出装置３１３Ｂへ現像液を供給させ、噴出ノズル３１３Ｂ１から現像液をワーク１０の全面に噴出される状態、例えばワーク１０の上下面へ噴出させる。この現像液の噴出により、露光処理で紫外光が照射されずに未硬化の電極材料が洗い流されるようにワーク１０から除去される。そして、未硬化の電極材料は、一部が現像液に溶解され、また残部は塊状体となって現像液とともに現像処理筐体３１１の回収部３１１Ｃに現像残渣として回収される。さらに、回収部３１１Ｃに回収された現像処理後の現像残渣を含む現像液である処理現像液は、流出口３１１Ｄを介して現像液処理装置３２０へ流出される。
【００３０】
そして、現像処理が終了されたワーク１０は、現像搬送機構３１２により適宜開口された現像搬出窓３１１Ｂを介して現像処理筐体３１１から水洗装置４００へ搬送される。そして、現像搬送機構３１２から水洗搬送機構４２０へ移送されて水洗装置４００へ搬送されたワーク１０は、適宜開口する水洗搬入窓４１１から水洗処理筐体４１０内に搬送され、水洗処理される。すなわち、水洗搬入窓４１１および水洗搬出窓４１２が閉じられて水洗処理可能な状態を、例えば図示しないセンサなどにて検出すると、水洗機構４３０が適宜動作し、洗浄用水をワーク１０の全面に噴出、例えばワーク１０の上下面へ噴出する。この洗浄用水の噴出により、ワーク１０に付着する現像液などが洗い流されるようにワーク１０から除去される。この水洗処理後の回収した洗浄用水は、図示しない浄化処理装置にて適宜浄化され、水洗機構４３０で再び洗浄用水として再利用される。この水洗処理後、ワーク１０は、水洗搬送機構４２０により水洗処理筐体４１０外へ搬出され、適宜次工程に搬送される。
【００３１】
（現像液処理）
現像装置３００における現像処理により現像処理筐体３１１の回収部３１１Ｃで回収され、流出口３１１Ｄを介して流出された処理現像液は、現像液処理装置３２０に流入して処理される。すなわち、流出口３１１Ｄを介して現像処理筐体３１１から流出した処理現像液は、貯留槽３２１に一時貯留され、搬送ポンプ３２６Ａの駆動により搬送管３２６を介して沈殿分離装置３２２の沈殿分離槽３２２Ａへ適宜流入される。この処理現像液の流入は、搬送管３２６に連結する流入管３２２Ｂを流通し、沈殿分離槽３２２Ａの沈殿部３２２Ａ１の上面に位置する最大沈殿量に対応する水深位置Ｘの上方、好ましくは直上近傍で沈殿分離槽３２２Ａの内周面に沿う状態に周方向に向けて流入される。そして、沈殿分離槽３２２Ａに流入した処理現像液は、混入する現像残渣が沈殿部３２２Ａ１に沈殿する。特に、処理現像液が沈殿分離槽３２２Ａの内周面に沿って周方向に流入されるので、沈殿分離槽３２２Ａの中心部で流速が最も遅くなり、中心部で現像残渣の沈殿分離が進行する。また、周方向に向けて流入させていることから、単に下方に向けて流入させる場合に比して、既に沈殿している現像残渣が巻き上げられる状態が防止され、効率よく分離される。さらに、流入させる位置が、沈殿部３２２Ａ１の上面位置、すなわち現像残渣が現像濃縮液として沈殿部３２２Ａ１から排出するまでに沈殿される最大沈殿量に対応する水深位置Ｘよりも上方で流入管３２２Ｂが開口することから、流入する処理現像液により既に沈殿した現像残渣が巻き上げられる状態が防止され、さらに水深位置Ｘの直上近傍に流入管３２２Ｂの開口を設けることによって、処理現像液中に存在して流入された現像残渣は現像再生液回収部３２２Ｃより下方で沈殿部３２２Ａ１の近傍で流出されることから、単に沈殿部３２２Ａ１の上方に設ける場合に比べて沈殿する速度が上がり、効率よく沈殿分離される。そして、沈殿された現像残渣は、自重などにより沈殿部３２２Ａ１の底部にしたがって次第に凝集する状態に沈殿される。
【００３２】
そして、処理現像液の流入により、沈殿分離槽３２２Ａ内に既に流入されて現像残渣が沈殿分離された水面近傍に位置する処理現像液は、流入された処理現像液にて押し上げられるように現像再生液回収部３２２Ｃで回収され、現像再生液として分離される。この現像再生液回収部３２２Ｃで回収した現像再生液は、適宜駆動する流通ポンプ３２９Ａにより流通管３２９を介して現像再生液貯留槽３２４へ流入され、一時的に貯留される。そして、この貯留する現像再生液は、現像液噴出機構３１３の供給用ポンプ３１３Ａ１の駆動により、現像液供給管３１３Ａを流通して噴出装置３１３Ｂから、現像液補充装置３２５により適宜補充される未使用の現像液とともに再び現像液として噴出される。
【００３３】
また、沈殿分離槽３２２Ａの沈殿部３２２Ａ１に沈殿分離された現像残渣は、処理現像液の一部とともに現像液補充装置３２５で補充する現像液の量と略同量で沈殿部３２２Ａ１の底部の排出口から濃縮液処理装置３２３へ排出される。この沈殿部３２２Ａ１の排出口から排出された現像濃縮液は、適宜駆動する排出ポンプにより排出管３２７を介して遠心分離装置３２３Ａへ入力される。そして、遠心分離装置３２３Ａは、流入された現像濃縮液を、遠心分離によりスラリと分離液とに分離する。そして、分離した分離液は、廃液処理装置５１０へ適宜流出されて廃液として処理される。また、遠心分離装置３２３Ａで分離したスラリは、例えばスラリ処理装置５００へ搬出され、適宜処理される。なお、このスラリ処理装置５００では、スラリを構成する電極部材である銀などを回収する処理を実施する。
【００３４】
〔ウェット処理装置の作用効果〕
上述したように、上記実施の形態では、現像装置３００で実施する現像処理後の処理現像液を、沈殿分離装置３２２により、処理現像液中に混入する現像残渣を除去した現像処理液と、現像残渣を含む現像濃縮液とに分離している。このため、ライン内において、現像残渣を除去する現像液処理で大きな遠心力を発生させる特別な構成が不要で、現像装置３００における処理現像液を処理する現像液処理装置３２０の構成が簡略化し、現像液処理装置３２０の製造性の向上、装置コストの低減、運転コストの低減、設置スペースの縮小化などが容易に得られる。すなわち、現像残渣の良好な分離除去が簡単な構成で容易にできる。そして、現像濃縮液として現像残渣を分離させるので、固形分のみの現像残渣を沈殿分離して除去する必要がなく、沈殿分離槽３２２Ａが大型化することも抑制でき、より小型化が容易に得られる。そして、現像処理における比較的に微細で現像液との質量比に差が生じにくい処理現像液を処理する場合、遠心分離では特に大きな遠心力が必要となる処理でも、構成の簡略化が容易に得られ、特に有益である。
【００３５】
そして、沈殿分離にて分離した現像再生液の少なくとも一部は、現像液供給管３１３Ａを介して噴出装置３１３Ｂから噴出させて現像処理に再利用している。このため、現像液を有効利用でき、現像処理コストを低減できる。さらに、このように現像処理後の処理現像液を順次分離回収した現像再生液を再利用するインライン構造の構成において、特に構成の簡略化が有効である。
【００３６】
また、沈殿分離にて分離した現像濃縮液を、現像処理で利用する現像液に未使用の現像液を補充する量と略同量で抽出、すなわち沈殿分離槽３２２Ａから排出させる。このため、現像処理に利用される現像液の少なくとも一部が未使用の現像液に順次置換・補充される状態となり、良好な現像処理が実施できる。
【００３７】
さらに、沈殿分離にて分離した現像濃縮液を、遠心分離によりスラリと分離液とに分離している。このため、処理現像液から沈殿分離により分離した現像残渣分（現像濃縮液）をさらに固形分濃度が高い状態で分集することができ、分離処理効率が簡単な構成で向上できる。また、従来の構成においては、処理現像液に対して直接遠心分離処理を行っていたのに対して、本実施の形態では処理現像液よりもスラリ濃度が高い現像濃縮液を遠心分離処理する構成であるので、従来の構成における遠心分離装置に対して本実施の形態で用いる遠心分離装置はより小型な装置を利用することができ、さらには、現像濃縮液を遠心分離することによって、スラリの分離能力が従来の構成に比べ、飛躍的に高くなる。特にＰＤＰの場合、Ａｇ（銀）などの高価な金属が電極材料として用いられることが一般的であり、スラリの分離能力、すなわち高価な電極材料の分離能力の向上によって、例えば分離回収した電極材料を再利用することなどにより製造コストを大幅に削減することができるのである。
【００３８】
さらに、遠心分離にて分離した分離液を、廃液として処理している。このため、処理現像液中に溶解して分離されないスラリ分が順次排出され、現像再生液中の溶解するスラリ分の濃縮を防止でき、適宜順次補充される未使用の現像液により、現像処理で利用する現像液の現像処理能力が低減することなく、安定した現像処理が得られる。また、遠心分離にて分離した分離液の少なくとも一部を、沈殿分離槽３２２Ａに返送して再び沈殿分離処理した場合、処理現像液からの現像残渣分をより効率よく分離除去できる。
【００３９】
また、現像処理後の処理現像液を沈殿分離するために沈殿分離槽３２２Ａに流入させる際、既に沈殿分離槽３２２Ａ内に貯留されて沈殿分離されている処理現像液の水面下で合流させている。このため、沈殿分離により現像残渣が既に沈降された水面近傍の現像再生液を現像再生液回収部３２２Ｃで回収する際に、新たに流入する処理現像液と混合して新たに現像残渣が存在してしまう不都合を防止でき、効率よく現像再生液を簡単な構成の現像再生液回収部３２２Ｃにより効率よく分離できる。さらに、現像残渣が沈殿分離槽３２２Ａの底部に位置する沈殿部３２２Ａ１に沈降するまでの距離が短くなり、現像残渣が効率よく沈殿部３２２Ａ１に沈殿分離でき、処理現像液の処理効率を向上できる。特に、流入させる位置が沈殿部３２２Ａ１の上面位置であることから、より現像残渣の沈降距離が短くなり、より現像残渣の効率的な分離除去が得られる。
【００４０】
さらに、沈殿部３２２Ａ１の上面位置で沈殿分離槽３２２Ａ内に処理現像液を流入させている。このため、流入させる流入管３２２Ｂが沈殿する現像残渣にて塞がれることがなく、また沈殿する現像残渣の上方で流入されることとなり、沈殿する現像残渣が流入した処理現像液により巻き上げられる状態を防止でき、良好に現像残渣の沈殿分離ができる。特に、現像残渣が現像濃縮液として沈殿部３２２Ａ１から排出するまでに沈殿される最大沈殿量に対応する水深位置Ｘの直上近傍であることから、沈殿した現像残渣が巻き上げられることなく現像残渣の沈降距離が最も短くなり、現像残渣のより効率的な分離除去が得られる。
【００４１】
そして、沈殿分離槽３２２Ａとして略円筒形に形成し、処理現像液を周方向に内周面に沿う状態に流入させている。このため、沈殿分離槽３２２Ａの底部の沈降する現像残渣あるいは沈殿分離槽３２２Ａの上部に位置する上澄み分の現像再生液とが、流入する処理現像液と混ざりにくく、また流入する水深位置における沈殿分離槽３２２Ａの中心部と周囲とで流速が異なる状態となって、この水深位置で流速が遅くなる中心部で現像残渣の沈殿分離が進行することとなり、略漏斗状の沈殿部３２２Ａ１に効率よく現像残渣が沈降し、簡単な構成でより効率よく現像残渣を分離除去できる。
【００４２】
また、沈殿分離槽３２２Ａを、内径に対して軸方向である高さ寸法が長い形状に形成している。このため、流入位置から水面位置までの距離が長くなり、水面位置の上澄み液では現像残渣が十分に沈降されており、簡単な構成で良好に現像残渣を分離除去でき、再生利用に不都合がない良質の現像再生液を分集できる。
【００４３】
〔実施の形態の変形〕
なお、本発明は、上述した各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。
【００４４】
すなわち、感光性の電極材料層が形成されたワーク１０を露光処理した後の現像処理の際に利用する現像液を処理する構成について例示したが、電極材料層を非感光性の材料とし、電極材料層の上に感光性のレジスト層を形成したワークに対しても適応可能である。またその場合、現像処理の際に利用する現像液を処理する場合のみならず、例えば現像処理の次工程であるエッチング処理工程におけるエッジング処理後の処理液を処理する構成に適用が可能である。また、画素を形成するリブ形成工程や形成されたセル内に蛍光体を設ける工程に適用したりするなど、フォトリソグラフィ法により各種パターンを形成する際のいずれの現像処理に適用することができる。また、プラズマディスプレイパネル用の電極パターンを形成するための現像処理を例示したが、パターン形成としては、プラズマディスプレイ用に限らず、液晶表示パネルや有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示パネル、ＣＲＴ（Cathode-Ray Tube）、ＦＥＤ（Field Emission Display）、電気泳動ディスプレイパネルなど、いずれの表示装置用のパターン、さらには回路基板やフレキシブルプリント基板など、各種パターンを形成する現像処理に適用できる。
【００４５】
そして、現像処理として、現像液を噴出ノズル３１３Ｂ１から噴出して説明したが、例えばシャワー状に噴出させるノズルや、ノズルが可動式で噴出位置が移動する構成など、いずれの噴出形態を利用できる。また、ワーク１０の上下面から噴出して説明したが、この限りではなく、未硬化の電極材料やレジストなどの除去する物質をワーク１０から良好に除去できるいずれの噴出形態とすることができる。
【００４６】
また、現像液処理装置３２０として、貯留槽３２１と、沈殿分離装置３２２と、濃縮液処理装置３２３と、現像再生液貯留槽３２４と、現像液補充装置３２５と、を備えた構成を例示して説明したが、例えば貯留槽３２１や現像再生液貯留槽３２４を設けないなど、処理現像液を沈殿分離にて現像再生液と現像濃縮液とに分離するいずれの構成が適用できる。さらに、回収した現像再生液を再利用せず、例えば廃液処理装置にて廃液として処理し、現像処理では未使用の現像液を利用するなどしてもよい。
【００４７】
そして、沈殿分離装置３２２として、略円筒状の沈殿分離槽３２２Ａを用いる構成について説明したが、例えば角形状や楕円状、平面断面が略８字形状など、いずれの形状のものを利用できる。また、上方に向けて拡開する略漏斗状の沈殿部３２２Ａ１を設けて説明したが、現像残渣を沈降させる底部の形状は、いずれの形状でもよい。なお、漏斗状とすることで、沈降する現像残渣を良好にまとめて回収分離することが簡単な構成で容易にできる。さらに、現像再生液回収部３２２Ｃにて回収、例えばオーバーフローにより現像再生液を回収して説明したが、例えば流通ポンプ３２９Ａの駆動により流通管３２９にて引き抜く構成とするなどしてもよい。
【００４８】
なお、処理現像液の流入位置より上方に位置して、沈殿分離槽３２２Ａの内面に内方に向けてフランジ状の縮径部を突出形成してもよい。この構成により、より上澄み分と流入する処理現像液とが混ざり難くなり、さらに効率よく現像残渣の沈殿分離ができる。
【００４９】
また、現像濃縮液を濃縮液処理装置３２３で処理して説明したが、この濃縮液処理装置３２３を設けず、例えばスラリ処理装置５００あるいは廃液処理装置５１０で直接的に廃液処理してもよい。また、現像濃縮液を遠心分離にてスラリと分離液とに分離して説明したが、遠心分離に限らず、例えば膜分離あるいは沈殿分離を実施してもよく、これらをさらに組み合わせてもよい。
【００５０】
そして、沈殿分離槽３２２Ａを直列に複数設ける構成としてもよい。すなわち、上流に設けられた沈殿分離槽３２２Ａから排出された現像濃縮液がその下流にある沈殿分離槽３２２Ａの処理現像液として流入される。このプロセスを複数回繰り返すことによって、最終的に排出される現像濃縮液の濃度が高くなり、遠心分離装置３２３Ａでの分離処理の負荷が軽減される。また、それに伴いＡｇなどの電極材料の分離回収能力をあげることができる。また、各沈殿分離槽３２２Ａから回収される現像再生液の純度が高くなり、高い現像処理能力を確保することができる。
【００５１】
さらに、遠心分離装置３２３Ａから排出された分離液の少なくとも一部を排出管３２７へ返送する構成とし、この返送された分離液を更に遠心分離装置３２３Ａにてスラリと分離液とに分離する構成としてもよい。この場合、Ａｇなどの電極材料の分離回収能力が更に向上する。
【００５２】
なお、各実施の形態で用いられる沈殿分離槽３２２Ａは自然沈殿方式の濃縮タンクの他、サイクロン方式などの各種の沈殿分離方式が利用可能である。
【００５３】
そして、ワーク１０を搬送する構成として、搬送ローラ２２１，３１２Ａ，４２１を備えたいわゆるローラコンベヤの構成を例示したが、例えばワーク１０の周縁を保持する回行するベルトにて搬送するいわゆるベルトコンベヤや、ワーク１０を吊り下げ支持しつつ搬送するコンベヤなど、いずれの搬送機構を適用できる。なお、ウェット処理装置１００として、露光処理が良好に実施でき、現像液や洗浄用水を噴出させて現像残渣などを除去できる搬送機構で、搬送形態が露光処理、現像処理、水洗処理で変更しない構成とすることが好ましい。
【００５４】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造などに適宜変更できる。
【００５５】
〔実施の形態の作用効果〕
上述したように、現像装置３００で実施する現像処理後の処理現像液を、沈殿分離装置３２２により、処理現像液中に混入する現像残渣を除去した現像処理液と、現像残渣を含む現像濃縮液とに分離している。このため、現像残渣を除去する現像液処理で大きな遠心力を発生させる特別な構成が不要で、現像装置３００における処理現像液を処理する現像液処理装置３２０の構成が簡略化し、簡単な構成で良好に現像残渣を分離除去できる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施の形態におけるウェット処理装置の概略構成を示す概念図である。
【図２】前記一実施の形態における現像装置の概略構成を示す概念図である。
【符号の説明】
【００５７】
１００……パターン形成装置としてのウェット処理装置
３００……現像装置
３１０……現像処理装置
３２０……現像液処理装置
３２２……沈殿分離装置
３２２Ａ…沈殿分離槽
３２３Ａ…遠心分離装置
Ｘ……水深位置
【図１】
2006318998.tif 000003
【図２】
2006318998.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月2日(2006.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記現像処理後の現像液を、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成方法であって、
前記現像再生液の少なくとも一部を前記現像処理に再利用する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のパターン形成方法であって、
前記現像処理で利用する現像液に未使用の現像液を補充する量と略同量、または前記補充する量よりも少ない量で、前記沈殿分離にて分離する前記現像濃縮液を抽出する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のパターン形成方法であって、
前記現像処理後の現像液を、沈殿分離している前記現像液の水面下で合流させる
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項５】
請求項４に記載のパターン形成方法であって、
前記現像処理後の現像液を、沈殿分離している前記現像残渣の位置より上方で合流させる
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項６】
請求項４に記載のパターン形成方法であって、
前記現像処理後の現像液を、沈殿分離している前記現像液の貯留する水位における、前記沈殿分離にて前記現像濃縮液として分離する量に相当する水深位置より上方で合流させる
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載のパターン形成方法であって、
プラズマディスプレイパネル用のパターンを前記基板上に形成する前記フォトリソグラフィにおける現像処理後の現像液を沈殿分離する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項８】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法にて前記現像処理した後の現像液を処理する現像液処理装置であって、
前記現像液が流入されて貯留し、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と、前記現像残渣を含む現像濃縮液と分離して排出可能な沈殿分離槽を具備した
ことを特徴とした現像液処理装置。
【請求項９】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成させる現像処理装置と、
この現像処理装置の前記現像処理後の現像液を処理する請求項８に記載の現像液処理装置と、
を具備したことを特徴としたパターン形成装置。
【請求項１０】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記現像処理後の現像液が流入されて貯留し、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と、前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離して排出可能な沈殿分離装置を具備した
ことを特徴としたパターン形成装置。
【請求項１１】
フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成し、前記現像処理後の現像液を、沈殿分離により前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離し、前記現像再生液の少なくとも一部を前記現像処理にて再利用するパターン形成工程にて現像廃液として排出される前記現像濃縮液に対して処理を施す現像廃液の処理方法であって、
前記現像濃縮液を遠心分離により前記現像残渣と廃液とに分離する
ことを特徴とする現像廃液の処理方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の現像廃液の処理方法であって、
前記パターン形成工程は、プラズマディスプレイ用のパターンを前記基板上に形成する製造工程であり、
前記現像濃縮液は、前記製造工程を経た後に排出される現像廃液である
ことを特徴とする現像廃液の処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法、その装置、現像液処理装置、および、パターン形成方法にて排出された使用済みの現像液を現像廃液として処理する現像廃液の処理方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、このような実情などに鑑みて、良好に現像残渣を分離除去するパターン形成方法、その装置、現像液処理装置、および、現像廃液の処理方法を提供することを１つの目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項８に記載の発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成方法にて前記現像処理した後の現像液を処理する現像液処理装置であって、前記現像液が流入されて貯留し、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と、前記現像残渣を含む現像濃縮液と分離して排出可能な沈殿分離槽を具備したことを特徴とした現像液処理装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項９に記載の発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成させる現像処理装置と、この現像処理装置の前記現像処理後の現像液を処理する請求項８に記載の現像液処理装置と、を具備したことを特徴としたパターン形成装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項１０に記載の発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、前記現像処理後の現像液が流入されて貯留し、沈殿分離により、前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と、前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離して排出可能な沈殿分離装置を具備したことを特徴としたパターン形成装置である。
請求項１１に記載の発明は、フォトリソグラフィにおける現像処理にて基板上にパターンを形成し、前記現像処理後の現像液を、沈殿分離により前記現像液中に含まれる現像残渣を除去した現像再生液と前記現像残渣を含む現像濃縮液とに分離し、前記現像再生液の少なくとも一部を前記現像処理にて再利用するパターン形成工程にて現像廃液として排出される前記現像濃縮液に対して処理を施す現像廃液の処理方法であって、前記現像濃縮液を遠心分離により前記現像残渣と廃液とに分離することを特徴とする現像廃液の処理方法である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
現像液処理装置３２０は、現像処理筐体３１１の回収部３１１Ｃの流出口３１１Ｄと、現像液噴出機構３１３の現像液供給管３１３Ａとの間に位置して配設される。この現像液処理装置３２０は、貯留槽３２１と、沈殿分離装置３２２と、現像再生液貯留槽３２４と、現像液補充装置３２５と、などを備えている。貯留槽３２１は、現像処理筐体３１１の流出口３１１Ｄに、流出管３２１Ａを介して接続されている。この貯留槽３２１は、回収部３１１Ｃで回収された処理現像液が流出管３２１Ａを介して流入され、適宜貯留する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（現像廃液処理装置としての濃縮液処理装置）
濃縮液処理装置３２３は、排出ポンプ３２７Ａを有した排出管３２７を介して沈殿分離槽３２２Ａの沈殿部３２２Ａ１の排出口に接続され、排出管３２７を介して沈殿分離槽３２２Ａから搬送される現像濃縮液を、遠心分離により、現像残渣分であるスラリと、廃液である分離液とに、分離する。すなわち、この濃縮液処理装置３２３は、パターン形成装置としての現像装置３００から、再生されずに使用済みの現像廃液として排出される現像濃縮液に対して処理を施す現像廃液処理装置である。この濃縮液処理装置３２３は、ライン外（いわゆるオフライン）に設けられ、遠心分離装置３２３Ａと、スラリ処理装置５００と、廃液処理装置５１０と、を備えている。遠心分離装置３２３Ａは、排出管３２７に接続され、現像濃縮液をスラリと分離液とに遠心分離する。この遠心分離装置３２３Ａは、各種構成が利用できる。そして、分離したスラリは、スラリ処理装置５００へ搬出され、適宜処理される。また、分離液は、廃液処理装置５１０へ搬出され、適宜処理される。なお、分離液の少なくとも一部を廃液処理装置５１０へ排出するのではなく、図示しない配管などを介して沈殿分離槽３２２Ａへ返送することによって、現像再生液として再利用してもよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
（現像廃液処理）
また、沈殿分離槽３２２Ａの沈殿部３２２Ａ１に沈殿分離された現像残渣は、処理現像液の一部とともに現像液補充装置３２５で補充する現像液の量と略同量で沈殿部３２２Ａ１の底部の排出口から濃縮液処理装置３２３へ排出される。この沈殿部３２２Ａ１の排出口から排出された現像濃縮液は、適宜駆動する排出ポンプにより排出管３２７を介して遠心分離装置３２３Ａへ入力される。そして、遠心分離装置３２３Ａは、流入された現像濃縮液を、遠心分離によりスラリと分離液とに分離する。そして、分離した分離液は、廃液処理装置５１０へ適宜流出されて廃液として処理される。また、遠心分離装置３２３Ａで分離したスラリは、例えばスラリ処理装置５００へ搬出され、適宜処理される。なお、このスラリ処理装置５００では、スラリを構成する電極部材である銀などを回収する処理を実施する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
また、現像液処理装置３２０として、貯留槽３２１と、沈殿分離装置３２２と、現像再生液貯留槽３２４と、現像液補充装置３２５と、を備えた構成を例示して説明したが、例えば貯留槽３２１や現像再生液貯留槽３２４を設けないなど、処理現像液を沈殿分離にて現像再生液と現像濃縮液とに分離するいずれの構成が適用できる。さらに、回収した現像再生液を再利用せず、例えば廃液処理装置にて廃液として処理し、現像処理では未使用の現像液を利用するなどしてもよい。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
【図１】本発明の一実施の形態におけるウェット処理装置の概略構成を示す概念図である。
【図２】前記一実施の形態における現像装置および現像廃液処理装置としての濃縮液処理装置の概略構成を示す概念図である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
１００……パターン形成装置としてのウェット処理装置
３００……現像装置
３１０……現像処理装置
３２０……現像液処理装置
３２２……沈殿分離装置
３２２Ａ…沈殿分離槽
３２３……現像廃液処理装置である濃縮液処理装置
３２３Ａ…遠心分離装置
Ｘ……水深位置