(57)【要約】【課題】記録再生特性が高水準で維持される光記録媒体などを提供する。【解決手段】基板上に、記録層、中間層、接着層およびカバーシートをこの順に有する光記録媒体であって、高温高湿保存試験前の中間層の厚さをｔとした場合に、前記高温高湿保存試験後の前記中間層の厚さｔ1が、「０．８ｔ≦ｔ1≦１．２ｔ」の関係を満たす光記録媒体である。中間層の耐酸性試験後の変化率が、２０％以内であることが好ましい。また、接着層およびカバーシートからなるカバー層の透水率が、１００ｇ／（ｍ2・ｄ）以下であることが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、記録層、中間層、接着層およびカバーシートをこの順に有する光記録媒体であって、
高温高湿保存試験前の中間層の厚さをｔとした場合に、前記高温高湿保存試験後の前記中間層の厚さｔ1が、「０．８ｔ≦ｔ1≦１．２ｔ」の関係を満たす光記録媒体。
【請求項２】
前記中間層の耐酸性試験後の変化率が、２０％以内である請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記接着層および前記カバーシートからなるカバー層の透水率が、１００ｇ／（ｍ2・ｄ）以下である請求項１または２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記記録層が色素を含有する請求項１から３のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記中間層が酸化タンタル（Ｖ）又は酸化ニオブ（Ｖ）からなることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項６】
基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを形成する工程を有する光記録媒体の製造方法であって、
前記中間層の形成を、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして用いたスパッタ法によって行う光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記希ガスに対する酸素ガスの流量比率が、１／１〜１／１００である請求項６に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記中間層が金属酸化物からなる請求項６または７に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項９】
前記中間層が金属酸化物からなり、スパッタ法における金属酸化物ターゲット中の金属と酸素との比率が１０／１ａｔ％〜１／１０ａｔ％であり、前記希ガスと酸素ガスとの流量比率が１／１〜１／１００である請求項６または７に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
前記金属酸化物が、Ｎｂの酸化物又はＴａの酸化物である請求項７または８に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、
前記中間層が、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして用いたスパッタ法によって形成されてなる光記録媒体。
【請求項１２】
前記中間層が、Ｎｂの酸化物又はＴａの酸化物からなることを特徴とする請求項１１に記載の光記録媒体。
【請求項１３】
基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、
前記中間層が次の条件式（１）を満足する光記録媒体。
４０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（１）
（条件式（１）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
【請求項１４】
前記酸化状態が安定な主成分と、前記酸化状態が不安定な成分とが金属酸化物である請求項１３に記載の光記録媒体。
【請求項１５】
前記金属酸化物がＮｂの酸化物であって、次の条件式（２）を満足する請求項１４に記載の光記録媒体。
４０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（２）
（条件式（２）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
【請求項１６】
前記金属酸化物がＴａの酸化物であって、次の条件式（３）を満足する請求項１４に記載の光記録媒体。
７０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（３）
（条件式（３）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
【請求項１７】
基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、
前記中間層が、６０℃純水中に２日間保存した保存前と保存後とにおいて、ＳＥＭ−ＥＤＸ元素分析における保存前のピーク強度をＡ、保存後のピーク強度をＢとしたとき、次の条件式（１）を満足する素材からなる光記録媒体。
０．８≦Ｂ／Ａ≦１    …条件式（１）
【請求項１８】
前記中間層が金属酸化物からなる請求項１７に記載の光記録媒体。
【請求項１９】
前記金属酸化物が、酸化タンタル（Ｖ）又は酸化ニオブ（Ｖ）である請求項１７または１８に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体及びその製造方法に関する。特に本発明は、光記録媒体に関し、より具体的にはヒートモードによる追記型光情報録媒体に関する。また、本発明は記録層とカバーシートとの間に中間層を有する追記型の光記録媒体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる反射層、さらに樹脂製の保護層（カバー層）がこの順に積層したものである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）によりその部分の光学的特性が変化することにより情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化していない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより行われている。
【０００３】
近年、記録密度のより高い光記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案されている（例えば、「日経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッキングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有する記録層、反射層、および保護層をこの順に積層したディスク２枚を記録層を内側にして貼り合わせた構造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを記録層を内側にして貼り合わせた構造を有している。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われており、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。
【０００４】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映開始もあり、画像情報を安価簡便に記録することができる大容量の記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たしているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要である。このため、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長の光で高密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録媒体の開発が進められている。
【０００５】
有機色素を含む記録層を有する光記録媒体において、記録層側から反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が知られている（例えば、特許文献１〜１５参照。）。これらの方法では、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録および再生を行っている。
【０００６】
一方、ＤＶＤとして相変化型の光ディスクが知られているが、これは、記録層としてＧｅＳｂＴｅ等の合金層を採用し、記録層にレーザー光で瞬間的に加熱して、結晶状態からアモルファス状態に相変化させ、相変化により変わる反射率を利用して記録再生する方式である。最近、この相変化型のＤＶＤを用いて、青紫レーザーにより記録再生をおこなうＤＶＲシステムが発表された（「ＩＳＯＭ２０００」２１０〜２１１頁）。このシステムにより、高密度化という課題に対しては一定の成果が達成された。
【０００７】
以上の光記録媒体において、記録層が有機物からなる場合、カバー層を接着剤によって接着すると、記録層を構成する有機物が接着剤に溶解するという問題があった。この問題は、記録層とカバー層との間に中間層を設けることにより解決することができるが、中間層の層厚が厚すぎたり、厚みむらがあると該中間層により反射率の減少を招いたりして記録再生特性が低下するという問題があった。
【０００８】
デジタルハイビジョン放送の開始によって、さらなる画像データ量の増加が見込まれており、それに伴い、記録媒体にも、高容量、高データ転送速度が求められるようになってきた（例えば、特許文献１６参照）。デジタルハイビジョン放送を家庭で録画しようとした場合、ＤＶＤ±Ｒでは既に容量が不足すると言われており、次世代ＤＶＤの開発が盛んに行われている。一例として、ＢＳデジタルハイビジョン放送を２時間録画・再生できるというブルーレイディスクレコーダーが発売されている。
【０００９】
このブルーレイディスクレコーダー用の記録媒体も同時に発売されたが、これは相変化型の記録層を有する媒体であった。相変化型の媒体の製造には大掛かりな真空成膜装置が必要であったり、その層構成が複雑であったりする。その点を考慮して、前記ブルーレイディスクも含めた次世代ＤＶＤシステムでも、より安価に記録媒体を製造するため、有機色素を用いた追記型のブルーレイディスク媒体の開発が進められている。有機色素をスピンコートで成膜する手法を採用した場合、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒの製造で用いられてきた製造設備を継続して使用できるというメリットがある。
また、その反面、追記型のブルーレイディスク媒体にも従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒと同様に高い保存性が求められている。
【００１０】
ところで、追記型のブルーレイディスク媒体は、例えば、基板上に、反射層、記録層、カバーシート（カバー層）がこの順に積層された構成となっている。前記カバーシートは、例えば、粘着剤を介して貼り合わされる。この粘着剤による記録層へ影響を防ぐため、通常は、粘着剤と記録層との間に中間層が設けられる（例えば、特許文献１７参照。）。この中間層により、粘着剤の記録層への影響は遮断された。しかしながら、その中間層は水に対する溶解性が大きく、湿熱保存性に問題があり、それが原因で記録特性に影響が生じることがあった。
【００１１】
このような中間層の材料は、一般には、金属酸化物が用いられ、その成膜にはスパッタ法が採用される。スパッタ法では、通常、真空中にアルゴンガスを導入しながら、基板と、中間層の材料となる金属酸化物のターゲットとの間に直流高電圧を印加し、イオン化したアルゴンガスをターゲットに衝突させて、はじき飛ばされたターゲット物質（金属と酸素）を基板に成膜させる方法である。
ところが、はじき飛ばされたターゲット物質のうち、一部の酸素はアルゴンガスとともに排気され、成膜される金属酸化物膜においては酸素が不足し、しみ状の酸素欠損が認められことがあった。この酸素欠損に起因し、金属酸化物膜たる中間層の光学性能に悪影響を及ぼすことがあり、信号波形が悪化する、振幅が小さくなるなど問題があった。
また、スパッタ条件により、金属酸化物に酸素欠損が生じることがあり、所望の金属酸化物とは酸化状態の異なる金属酸化物が混在し、その金属酸化物が中間層の外観や、記録特性などに悪影響を及ぼすという問題もあった。
【特許文献１】特開平４−７４６９０号公報
【特許文献２】特開平７−３０４２５６号公報
【特許文献３】特開平７−３０４２５７号公報
【特許文献４】特開平８−１２７１７４号公報
【特許文献５】特開平１１−５３７５８号公報
【特許文献６】特開平１１−３３４２０４号公報
【特許文献７】特開平１１−３３４２０５号公報
【特許文献８】特開平１１−３３４２０６号公報
【特許文献９】特開平１１−３３４２０７号公報
【特許文献１０】特開２０００−４３４２３号公報
【特許文献１１】特開２０００−１０８５１３号公報
【特許文献１２】特開２０００−１１３５０４号公報
【特許文献１３】特開２０００−１４９３２０号公報
【特許文献１４】特開２０００−１５８８１８号公報
【特許文献１５】特開２０００−２２８０２８号公報
【特許文献１６】特開平１１−１２０６１７号公報
【特許文献１７】特開２００２−３７３４５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、以上の従来の問題点に鑑みてなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、記録再生特性が高水準で維持される光記録媒体を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、中間層におけるしみ状の酸素欠損が少なく、経時安定性が良好な光記録媒体及びその製造方法をが提供することにある。
さらに、本発明の別の目的は、外観が良好な光記録媒体を提供することにある。
さらに、本発明の別の目的は、湿熱保存性が良好で、優れた記録特性が得られる光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者は、下記本発明に想到し当該課題を解決できることを見出した。すなわち、
＜１＞  基板上に、記録層、中間層、接着層およびカバーシートをこの順に有する光記録媒体であって、
高温高湿保存試験前の中間層の厚さをｔとした場合に、前記高温高湿保存試験後の前記中間層の厚さｔ1が、「０．８ｔ≦ｔ1≦１．２ｔ」の関係を満たす光記録媒体である。
＜２＞  前記中間層の耐酸性試験後の変化率が、２０％以内である＜１＞に記載の光記録媒体である。
＜３＞  前記接着層および前記カバーシートからなるカバー層の透水率が、１００ｇ／（ｍ2・ｄ）以下である＜１＞または＜２＞に記載の光記録媒体である。
＜４＞  前記記録層が色素を含有する＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜５＞  前記中間層が酸化タンタル（Ｖ）又は酸化ニオブ（Ｖ）からなることを特徴とする＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
【００１４】
＜６＞  基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを形成する工程を有する光記録媒体の製造方法であって、
前記中間層の形成を、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして用いたスパッタ法によって行う光記録媒体の製造方法である。
＜７＞  前記希ガスに対する酸素ガスの流量比率が、１／１〜１／１００である＜６＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜８＞  前記中間層が金属酸化物からなる＜６＞または＜７＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜９＞  前記中間層が金属酸化物からなり、スパッタ法における金属酸化物ターゲット中の金属と酸素との比率が１０／１ａｔ％〜１／１０ａｔ％であり、前記希ガスと酸素ガスとの流量比率が１／１〜１／１００である＜６＞または＜７＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜１０＞  前記金属酸化物が、Ｎｂの酸化物又はＴａの酸化物である＜７＞または＜８＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜１１＞  基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、
前記中間層が、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして用いたスパッタ法によって形成されてなる光記録媒体である。
＜１２＞  前記中間層が、Ｎｂの酸化物又はＴａの酸化物からなることを特徴とする＜１１＞に記載の光記録媒体である。
【００１５】
＜１３＞  基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、
前記中間層が次の条件式（１）を満足する光記録媒体である。
４０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（１）
（条件式（１）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
＜１４＞  前記酸化状態が安定な主成分と、前記酸化状態が不安定な成分とが金属酸化物である＜１３＞に記載の光記録媒体である。
＜１５＞  前記金属酸化物がＮｂの酸化物であって、次の条件式（２）を満足する＜１４＞に記載の光記録媒体である。
４０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（２）
（条件式（２）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
＜１６＞  前記金属酸化物がＴａの酸化物であって、次の条件式（３）を満足する＜１４＞に記載の光記録媒体である。
７０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（３）
（条件式（３）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
【００１６】
＜１７＞  基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、
前記中間層が、６０℃純水中に２日間保存した保存前と保存後とにおいて、ＳＥＭ−ＥＤＸ元素分析における保存前のピーク強度をＡ、保存後のピーク強度をＢとしたとき、次の条件式（１）を満足する素材からなる光記録媒体である。
０．８≦Ｂ／Ａ≦１    …条件式（１）
＜１８＞  前記中間層が金属酸化物からなる＜１７＞に記載の光記録媒体である。
＜１９＞  前記金属酸化物が、酸化タンタル（Ｖ）又は酸化ニオブ（Ｖ）である＜１７＞または＜１８＞に記載の光記録媒体である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、記録再生特性が高水準で維持される光記録媒体を提供することができる。また、中間層におけるしみ状の酸素欠損が少なく、経時安定性が良好な光記録媒体及びその製造方法を提供することができる。また、外観が良好な光記録媒体を提供することができる。さらに湿熱保存性が良好で、優れた記録特性が得られる光記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の光記録媒体について説明する。ある実施態様（態様Ａ）では、光記録媒体は、基板上に、記録層、中間層、接着層およびカバーシートをこの順に有し、カバーシート側からレーザー光を照射して情報の記録再生を行う光記録媒体である。
【００１９】
前記態様の光記録媒体における中間層は、高温高湿保存試験において、下記のような特性を示す。すなわち、高温高湿保存試験の中間層の厚さをｔとした場合に、高温高湿保存試験後の中間層の厚さｔ1が、「０．８ｔ≦ｔ1≦１．２ｔ」の関係を満たす。
【００２０】
「０．８ｔ≦ｔ1≦１．２ｔ」の関係を満たさないと、カバー層表面から記録層までの光学距離が変化して初期の記録再生特性を維持できなくなってしまう。また、「０．８ｔ＞ｔ1」の場合は、中間層の機能である接着層と記録層とのバリア効果がなくなり、接着層と記録層とのミキシングが起こり、記録再生特性が著しく劣化する。特に色素を記録層に含む場合は、記録特性の劣化が顕著に起きる。上記関係の好ましい範囲は、０．９ｔ≦ｔ1≦１．１ｔであり、より好ましい範囲は０．９ｔ≦ｔ1≦１．０５ｔである。
【００２１】
ここで、高温高湿保存試験とは、中間層を具備する本発明の光記録媒体を恒温槽中で、６０℃９０％ＲＨの状態で１６８時間保存し、その保存前と保存後とで中間層の膜厚変化の割合を調査する試験である。膜厚変化の割合は、以下に説明するようにして求めることが好ましい。まず、光記録媒体を半分に切断し（または同一の光記録媒体を２枚準備し）、一方の半分を上記条件で保存する。保存前後の光記録媒体をＦＩＢ（フォーカスド・イオン・ビーム）法にて切断し、その切断面のＳＥＭ写真より中間層の平均厚みを計測し、保存前の厚みｔおよび保存後の厚みｔ1から膜厚変化の割合を求めればよい。なお、ＦＩＢの好ましい条件として、装置は、セイコーインスツルメンツ社製の「Ｆｏｃｕｓｅｄ  Ｉｏｎ  Ｂｅａｍ  ＳＭＩ２０５０」を使用し、ビーム条件はＧａを用い、加速電圧は３０ｋＶとする。
【００２２】
光記録媒体の測定位置は、保存前後で同一箇所とし、ｔ1およびｔのそれぞれについて、少なくとも３箇所測定し、これらの平均値をそれぞれの厚みとすることが好ましい。また、膜厚変化の割合を上記の範囲とする例示手段は、後述する。
【００２３】
中間層は、その耐酸性試験後の変化率が、２０％以内であることが好ましく、０〜１０％であることがより好ましい。２０％以内であることで、中間層がアクリル酸性系のものが多い接着層や、記録層（色素）が酸性であった場合に、それらからの侵食を抑えることができる。
【００２４】
当該中間層の耐酸性試験は、以下に説明するようにして行うことが好ましい。すなわち、ガラス板上に中間層を光記録媒体の作製の際の条件と同じ条件で製膜し（厚みは同一でなくてもよい）、半分に切断し、その半分を０．１規定の酢酸水溶液に浸漬し、６０℃の環境で１日浸漬する。浸漬前後のＳＥＭ−ＥＤＡＸの上記中間層に含まれる元素のピーク（例えば、中間層がＮｂＯｘであれば、「Ｎｂ」）変化を変化率として求める。なお、ＳＥＭ−ＥＤＡＸの条件として、装置は日立社製の「Ｓ−８００」を使用することが好ましく、各元素の検出最適な加速電圧条件にて元素を検出することが好ましい。
【００２５】
本実施態様の光記録媒体の層構成を図１に例示する。当該光記録媒体１００は、基板１０上に、任意の反射層１２と、記録層１４と、中間層１６と、接着層１８と、カバーシート２０とをこの順に有している。
【００２６】
ある別の実施態様（態様Ｂ）の光記録媒体の製造方法は、基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを形成する工程を有する光記録媒体の製造方法であって、前記中間層の形成を、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして用いたスパッタ法によって行う。
また、ある別の実施態様（態様Ｃ）の光記録媒体は、基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、前記中間層が、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして用いたスパッタ法によって形成されてなる。
【００２７】
前記実施態様ＢおよびＣの中間層の構成成分としては、金属酸化物が好ましく、金属酸化物としてはＮｂの酸化物又はＴａの酸化物が好ましい。酸化物としては、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＮｂＯ、ＴａＯが好ましい。
【００２８】
前述の通り、スパッタガスとして希ガス（例えば、アルゴンガス）のみを用いる通常のスパッタ法では、スパッタ時にはじき飛ばされる金属酸化物中の酸素が希ガスとともに排気され、形成される膜中の酸素数が減少し酸素欠損を招く。この酸素欠損がしみ状となり、中間層の光学特性に影響を及ぼす。そこで、本実施態様においては、希ガスとともに排気される酸素を補うため、予めスパッタガスに酸素を混入させている。つまり、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして使用することにより、形成される膜には、金属酸化物ターゲット由来の酸素と、スパッタガス由来の酸素とが存在し、スパッタガス中の酸素量を適宜調整することにより、金属酸化物ターゲット中の金属と酸素との比で膜を形成することができる。あるいは、金属酸化物ターゲットの金属と酸素との比と、スパッタガス中の酸素の比率を調整することにより、所望の金属・酸素比の膜を形成することができる。
【００２９】
中間層は、例えば、Ｎｂの酸化物又はＴａの酸化物をターゲットとしたスパッタリングにより成膜することができる。この場合、成膜時の圧力は１×１０-2〜１×１０-5ｍｂａｒとすることが好ましく、レート（スパッタ速度）は０．１〜１０ｎｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。スパッタ電力は０．２〜４ｋＷとすることが好ましく、０．４〜３ｋＷとすることがより好ましく、０．５〜２．５ｋＷとすることがさらに好ましい。
【００３０】
本実施態様においては、既述の通り、スパッタガスは、Ａｒ等の希ガスと酸素ガスとを使用する。該スパッタガスにおいて、希ガスに対する酸素ガスの流量比率（酸素ガス／希ガス）は１／１〜１／１００であることが好ましく、９／１０〜１／１００であることがより好ましく８／１０〜１／１００であることがさらに好ましい。希ガスに対する酸素ガスの流量比率を１／１〜１／１００とすることにより、安定な膜を得ることができる。また、ガスの流量の観点からは、ガスの流量は、希ガス及び酸素ガスのいずれの場合でも、１〜５０ｓｃｃｍ（１〜５０ｍｌ／ｍｉｎ）とすることが好ましい。また、ターゲットが金属酸化物の場合、酸素ガスの流量は、０．１〜２５ｓｃｃｍとすることが好ましく、０．２〜２０ｓｃｃｍとすることがより好ましく、０．５〜１５ｓｃｃｍとすることがさらに好ましい。酸素ガスの流量を０．１〜２５ｓｃｃｍとすることにより、安定な膜を十分な成膜速度で得ることができる。
なお、希ガスと酸素ガスは予め混合して混合ガスとしても、スパッタ時に別々に導入してもよい。
また、スパッタ法における金属酸化物ターゲット中の金属と酸素との比率が金属の価数よって決定される安定な化学量論比に近い場合、前記希ガスと酸素ガスとの比率は、１／２〜１／１００であることが好ましい。例えば、Ｍ＝１価ならＭ2Ｏ、２価ならＭＯ、３価ならＭ2Ｏ3、４価ならＭＯ2、５価ならＭ2Ｏ5が挙げられる。
【００３１】
ＲＦスパッタの場合、そのチューニング（マッチング）を調整して、ＦＷＤに対するＲＥＦは１０％以下とすることが好ましく、５％以下とすることがより好ましく、２．５％以下とすることがさらに好ましい。
【００３２】
ＤＣスパッタの場合、パルススパッタや、チョッパーなどにより、瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。
【００３３】
本実施態様においては、中間層の層厚は１〜８０ｎｍとすることが好ましい。中間層の層厚を当該範囲とすることにより、記録層の有機色素と粘着層との間の分離能が十分得られ、良好な記録再生特性が得られる。当該層厚は、より好ましくは、１〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは、１．５〜２０ｎｍである。
【００３４】
以上のようにして製造された本実施態様の光記録媒体は、中間層にしみ状の欠損が低減されていて、良好な経時安定性を有する。
【００３５】
本実施態様の光記録媒体の好ましい層構成は、基板上に、（中間層）、（反射層）、（中間層）、記録層、中間層、（接着層）、カバー層、（ハードコート層）をこの順に設けた構成である。なお、これ以外として、各層の間に、接着性・記録特性・保存性等を高める目的で他の層が設けられても構わない。また、上記構成中、カッコ内に記載された層は、必要に応じて形成される層を意味する。
【００３６】
本実施態様の光記録媒体の層構成の一例を模式的に図２に示す。図２に示す光記録媒体１０は、基板１２上に、記録層１４と、中間層１６と、接着層１８と、カバーシート２０とがこの順に積層されてなる。
【００３７】
さらに別のある実施態様（態様Ｄ）の光記録媒体は、基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、前記中間層が次の条件式（１）を満足する。
４０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（１）
（条件式（１）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
【００３８】
条件式（１）は、中間層を構成する成分元素の酸化状態に関する条件式であり、条件式（１）を満足することにより、外観が良好で、優れた記録特性が得られる。この原理は、例えば、以下のことから推察することができる。すなわち、中間層の材料は、一般には、金属酸化物が用いられ、その成膜にはスパッタ法が採用される。スパッタ法では、通常、真空中にアルゴンガスを導入しながら、基板と、中間層の材料となる金属酸化物のターゲットとの間に直流高電圧を印加し、イオン化したアルゴンガスをターゲットに衝突させて、はじき飛ばされたターゲット物質（金属と酸素）を基板に成膜させる方法である。ところが、はじき飛ばされたターゲット物質のうち、一部の酸素はアルゴンガスとともに排気され、成膜される金属酸化物膜においては酸素が不足し、しみ状の酸素欠損が認められる。この酸素欠損に起因し、金属酸化物膜たる中間層の光学性能に悪影響を及ぼすことがあり、信号波形が悪化する、振幅が小さくなるなど問題が生じると推察される。換言すると、酸素欠損によって酸化状態が不安定な成分が生じ、その成分が混入することにより中間層の性能、ひいては光記録媒体に悪い影響がでてしまう。そこで、本実施態様においては、中間層における酸化状態の安定な成分と不安定な成分との比率を上記のように規定したのである。酸化状態が安定な成分割合が４０％未満であれば、外観が不良となり、優れた記録特性が得られない。ここで、外観が不良とは、記録層に不均一なまだら模様が生じる現象をいう。なお、酸化状態が安定な成分の上限は１００％であり、それを超えることはあり得ない。
【００３９】
条件式（１）において、Ａ／（Ａ＋Ｂ）は、５５以上１００以下であることが好ましく、８０以上１００以下であることがさらに好ましい。
【００４０】
前記酸化状態が安定な主成分と、前記酸化状態が不安定な成分とは金属酸化物であることが好ましい。具体的には、金属酸化物としては、Ｎｂの酸化物又はＴａの酸化物であることが好ましい。以下、それぞれについて説明する。
【００４１】
［Ｎｂの酸化物］
Ｎｂの酸化物において、酸化状態が安定なものは、Ｎｂ2Ｏ5であり、不安定なものは、ＮｂＯ、ＮｂＯ2が挙げられる。そして、Ｎｂの場合、次の条件式（２）を満足することが好ましい。
４０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（２）
（条件式（２）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
【００４２】
Ｎｂの成分割合において、条件式（２）を満足することにより、外観が良好で、優れた記録特性が得られる。Ｎｂの場合の条件式（２）において、Ａ／（Ａ＋Ｂ）は、５０以上１００以下であることが好ましく、５５以上１００以下であることがさらに好ましい。
なお、Ｎｂ酸化物ターゲットは、化学量論的に安定なＮｂ2Ｏ5ではなく、Ｎｂ2Ｏ4.83の組成のものを用いることが好ましい。Ｎｂ2Ｏ4.83と酸素を少なくすることでＤＣパルススパッタが可能となるメリットを生かすためである。Ｎｂに限らず、Ｔａや他の金属酸化物を用いた場合でも、ターゲットの組成を化学量論的に最も安定な組成より酸素を少なくした場合、許容されるＡ／（Ａ＋Ｂ）の値は小さくなる傾向がある。
【００４３】
［Ｔａの酸化物］
Ｔａの酸化物において、酸化状態が安定なものは、Ｔａ2Ｏ5であり、不安定なものは、ＴａＯ、ＴａＯ2が挙げられる。そして、Ｔａの場合、次の条件式（３）を満足することが好ましい。
７０％≦Ａ／（Ａ＋Ｂ）≦１００％  …条件式（３）
（条件式（３）中、Ａは酸化状態が安定な主成分の割合を表し、Ｂは酸化状態が不安定な成分の割合を表す。）
【００４４】
Ｔａの成分割合において、条件式（３）を満足することにより、外観が良好で、優れた記録特性が得られる。Ｔａの場合の条件式（３）において、Ａ／（Ａ＋Ｂ）は、７０以上１００以下であることが好ましく、９０以上１００以下であることがさらに好ましい。
Ｔａは化学量論的に安定なＴａ2Ｏ5を用いてＲＦスパッタで行うことができる。そのため、酸素欠損が生じにくく、Ａ／（Ａ＋Ｂ）の値の下限が前述のＮｂよりも大きくなっている。Ｔａに限らず、Ｎｂや他の金属酸化物を用いた場合でもターゲットの組成を化学量論的に安定なものとした場合Ａ／（Ａ＋Ｂ）の値の下限は大きくなる傾向がある。
【００４５】
ここで、本実施態様における各成分の測定方法について説明する。
光記録媒体表面から中間層までの、Ｘ線光電子分光装置（島津製作所社製、ＡＸＩＳ  ＵＬＴＲＡ）におけるスパッタ時間に対する深さ方向の組成分析を行い、中間層組成及び表面からバリア層表面までのスパッタ時間を算出する。そのスパッタ時間だけ、光記録媒体をスパッタし、該媒体中の中間層表面を出す。中間層表面から少なくとも１分以上、中間層成分がなくならない程度にスパッタし、中間層の中間面を出す。その中間面の主金属について主金属成分の光電子分光強度プロファイルを取る。得られたプロファイルについてケミカルシフトの解析を行い、成分を定量し、中間層の主金属の持つ価電子が最大の場合のBinding Energy値にピーク中心を持つピークを酸化状態が安定な主成分とし、それ以外のBinding Energy値にピーク中心を持つピークを酸化状態が不安定な成分とする。
【００４６】
次に、本実施態様において、前記各条件式を満足するための手段の一例について示す。
前述の通り、スパッタガスとして希ガス（例えば、アルゴンガス）のみを用いる通常のスパッタリングでは、スパッタ時にはじき飛ばされる金属酸化物中の酸素が希ガスとともに排気され、形成される膜中の酸素数が減少し酸素欠損を招く。この酸素欠損がしみ状となり、中間層の光学特性に影響を及ぼす。そこで、希ガスとともに排気される酸素を補うため、予めスパッタガスに酸素を混入させる。つまり、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして使用することにより、形成される膜には、金属酸化物ターゲット由来の酸素と、スパッタガス由来の酸素とが存在し、膜中の酸素数の減少を防ぐことができる。
【００４７】
中間層は、例えば、Ｎｂの酸化物又はＴａの酸化物をターゲットとしたスパッタリングにより成膜することができる。この場合、成膜時の圧力は１×１０-2〜１×１０-5ｔｏｒｒ（１．３３〜１．３３×１０-3Ｐａ）とすることが好ましく、レート（スパッタ速度）は０．１〜１０ｎｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。スパッタ電力は０．２〜４ｋＷとすることが好ましく、０．４〜３ｋＷとすることがより好ましく、０．５〜２．５ｋＷとすることがさらに好ましい。
【００４８】
希ガスと酸素ガスとを使用するスパッタガスにおいて、希ガスに対する酸素ガスの流量比率は１／１〜０／１であるが好ましく、０．９／１〜０．０１／１であることがより好ましく、０．８／１〜０．０１／１であることがさらに好ましい。希ガスに対する酸素ガスの流量比率を１／１〜０／１とすることにより、安定な膜を得ることができる。また、ガスの流量の観点からは、ガスの流量は、希ガス及び酸素ガスのいずれの場合でも、１〜５０ｓｃｃｍ（１〜５０ｍｌ／ｍｉｎ）とすることが好ましい。また、ターゲットが金属酸化物の場合、酸素ガスの流量は、０．１〜２５ｓｃｃｍとすることが好ましく、０．２〜２０ｓｃｃｍとすることがより好ましく、０．５〜１５ｓｃｃｍとすることがさらに好ましい。酸素ガスの流量を０．１〜２５ｓｃｃｍとすることにより、安定な膜を十分な成膜速度で得ることができる。
なお、希ガスと酸素ガスは予め混合して混合ガスとしても、スパッタ時に別々に導入してもよい。
【００４９】
ＲＦスパッタの場合、そのチューニング（マッチング）を調整して、ＦＷＤに対するＲＥＦは１０％以下とすることが好ましく、５％以下とすることがより好ましく、２．５％以下とすることがさらに好ましい。
【００５０】
ＤＣスパッタの場合、パルススパッタや、チョッパーなどにより、瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。
【００５１】
本実施態様においては、中間層の層厚は１〜８０ｎｍとすることが好ましい。中間層の層厚を当該範囲とすることにより、記録層の有機色素と粘着層との間の分離能が十分得られ、良好な記録再生特性が得られる。当該層厚は、より好ましくは、１〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは、１．５〜２０ｎｍである。
【００５２】
本実施態様の光記録媒体の好ましい層構成は、基板上に、（中間層）、（反射層）、（中間層）、記録層、中間層、（接着層）、カバー層、（ハードコート層）をこの順に設けた構成である。なお、これ以外として、各層の間に、接着性・記録特性・保存性等を高める目的で他の層が設けられても構わない。また、上記構成中、カッコ内に記載された層は、必要に応じて形成される層を意味する。
【００５３】
本実施態様の光記録媒体の層構成の一例を模式的に図２に示す。先と同様に図２に示す光記録媒体１０は、基板１２上に、記録層１４と、中間層１６と、接着層１８と、カバーシート２０とがこの順に積層されてなる。
【００５４】
さらに別のある実施態様（態様Ｅ）の光記録媒体は、基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、前記中間層が、６０℃純水中に２日間保存した保存前と保存後とにおいて、ＳＥＭ−ＥＤＸ元素分析における保存前の中間層の素材として用いている金属のピーク強度をＡ、保存後のピーク強度をＢとしたとき、次の条件式（１）を満足する素材からなる。
０．８≦Ｂ／Ａ≦１    …条件式（１）
【００５５】
前記条件式（１）は、中間層の水に対する溶解性に関する条件であり、条件式（１）を満足することにより、中間層の水に対する溶解性が小さく、湿熱保存性が良好であることを示し、良好な記録特性が得られる。Ｂ／Ａが０．８未満では、溶解性に問題があり、良好な記録特性が得られない。Ｂ／Ａは０．８以上１．０以下が好ましく、０．９以上１．０以下がより好ましい。なお、Ｂ／Ａの１を超えることは考えられない。なお、上記保存試験は、例えば、厚み５〜１００ｎｍで測定すればよい。
【００５６】
以上の条件式（１）を満足させる手段としては、中間層の素材として水に対する溶解性が小さい素材を選定するということなどが挙げられる。そのような観点から、中間層は金属酸化物であることが好ましい。特に、金属酸化物の中でも、特に、水に対して不溶である酸化タンタル（Ｖ）（Ｔａ2Ｏ5）又は酸化ニオブ（Ｖ）（Ｎｂ2Ｏ5）、ＳｎＯなどが挙げられ、中でも特に、酸化タンタル（Ｖ）又は酸化ニオブ（Ｖ）が好ましい。
【００５７】
以下に、前記条件式（１）を満足させることができる中間層の形成方法の一例を挙げる。金属酸化物の成膜の１つとしてスパッタ法が挙げられるが、通常のスパッタ法では、スパッタガスとして希ガス（例えば、アルゴンガス）のみを用い、スパッタ時にはじき飛ばされる金属酸化物中の酸素が希ガスとともに排気され、形成される膜中の酸素数が減少し酸素欠損を招く。この酸素欠損が形成された膜中の金属酸化物の酸化状態に影響する。例えば、水に不溶のＮｂ2Ｏ5を成膜したいときであっても、酸素欠損により、水に可溶のＮｂＯが生成し、湿熱保存時に溶解することとなる。
【００５８】
そこで、希ガスとともに排気される酸素を補うため、予めスパッタガスに酸素を混入させる。つまり、希ガスと酸素ガスとをスパッタガスとして使用することにより、形成される膜には、金属酸化物ターゲット由来の酸素と、スパッタガス由来の酸素とが存在し、膜中の酸素数の減少を防ぐことができる。
なお、酸素欠損は中間層表面においてしみ状となり中間層の光学特性に影響を及ぼすという問題もある。
【００５９】
中間層を、Ｎｂの酸化物又はＴａの酸化物をターゲットとしたスパッタリングにより成膜する場合、成膜時の圧力は１×１０-2〜１×１０-5ｔｏｒｒ（１．３３〜１．３３×１０-3Ｐａ）とすることが好ましく、レート（スパッタ速度）は０．１〜１０ｎｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。スパッタ電力は０．２〜４ｋＷとすることが好ましく、０．４〜３ｋＷとすることがより好ましく、０．５〜２．５ｋＷとすることがさらに好ましい。
【００６０】
希ガスと酸素ガスとを使用するスパッタガスにおいて、希ガスに対する酸素ガスの流量比率は１／１〜１／１００であるが好ましく、９／１０〜１／１００であることがより好ましく、８／１０〜１／１００であることがさらに好ましい。希ガスに対する酸素ガスの流量比率を１／１〜１／１００とすることにより、安定な膜を十分な成膜速度で得ることができる。また、ガスの流量の観点からは、ガスの流量は、希ガス及び酸素ガスのいずれの場合でも、１〜５０ｓｃｃｍ（１〜５０ｍｌ／ｍｉｎ）とすることが好ましい。また、ターゲットが金属酸化物の場合、酸素ガスの流量は、０．１〜２５ｓｃｃｍとすることが好ましく、０．２〜２０ｓｃｃｍとすることがより好ましく、０．５〜１５ｓｃｃｍとすることがさらに好ましい。酸素ガスの流量を０．１〜２５ｓｃｃｍとすることにより、安定な膜を十分な成膜速度で得ることができる。
なお、希ガスと酸素ガスは予め混合して混合ガスとしても、スパッタ時に別々に導入してもよい。
【００６１】
ＲＦスパッタの場合、そのチューニング（マッチング）を調整して、ＦＷＤに対するＲＥＦは１０％以下とすることが好ましく、５％以下とすることがより好ましく、２．５％以下とすることがさらに好ましい。
【００６２】
ＤＣスパッタの場合、パルススパッタや、チョッパーなどにより、瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。
【００６３】
本実施態様においては、中間層の層厚は１〜８０ｎｍとすることが好ましい。中間層の層厚を当該範囲とすることにより、記録層の有機色素と粘着層との間の分離能が十分得られ、良好な記録再生特性が得られる。当該層厚は、より好ましくは、１〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは、１．５〜２０ｎｍである。
【００６４】
以上のようにして光記録媒体は、中間層の水に対する溶解性が小さくすることで、湿熱保存性が良好で、良好な記録特性が得られる。
【００６５】
本実施態様の光記録媒体の好ましい層構成は、基板上に、（中間層）、（反射層）、（中間層）、記録層、中間層、（接着層）、カバー層、（ハードコート層）をこの順に設けた構成である。なお、これ以外として、各層の間に、接着性・記録特性・保存性等を高める目的で他の層が設けられても構わない。また、上記構成中、カッコ内に記載された層は、必要に応じて形成される層を意味する。
【００６６】
本実施態様の光記録媒体の層構成の一例を模式的に図２に示す。先と同様に図２に示す光記録媒体１０は、基板１２上に、記録層１４と、中間層１６と、接着層１８と、カバーシート２０とがこの順に積層されてなる。
以下、主に、基板および各層について説明する。以下の記載は以上に記載の実施態様に共通である。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６７】
＜基板＞
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さ（記録層が形成される領域の平均の厚さ）は、０．５〜１．４ｍｍ、特に１．１±０．３ｍｍの範囲とすることが好ましい。
【００６８】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（グルーブあるいはプレグルーブ）が形成されている。基板の凸部をオングルーブといい、凹部をイングルーブという。ここで、「オングルーブ」を「グルーブ」ということがある。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。グルーブのトラックピッチは、３００〜６００ｎｍ、３００〜３６０ｎｍ、あるいは３１０〜３４０ｎｍの範囲としてもよい。また、ある実施態様ではグルーブの深さ（溝深さ）は、４０〜１５０ｎｍの範囲である。別の実施態様ではグルーブの深さ（溝深さ）は、２０〜５０ｎｍの範囲であり、トラッキングエラー信号が小さくなってトラッキングがかかりにくくなることを防ぎながら、成形が困難となることを防ぐことができる。後者の実施態様ではグルーブの深さ（溝深さ）はより好ましくは、２５〜４０ｎｍである。
【００６９】
オングルーブの半値幅は、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。かかる範囲とすることで、トラッキングエラーが低下を防ぎながら、ジッターを低減させることができる。より好ましくは７０〜１９０ｎｍの範囲とし、さらに好ましくは９０〜１８０ｎｍとする。
【００７０】
なお、後述する反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００７１】
＜反射層＞
反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率としては、７０％以上である。
反射率の高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金（Ａｇ：５０質量％以上でもよい）である。
【００７２】
反射層は、例えば前述した光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。当該反射層は、以下の記録層の反射率が十分大きい場合には必ずしも必要ではない。
【００７３】
＜記録層＞
ある実施態様（主に態様Ａに適用可能だがこれに限定されない）では記録層は、基板もしくは上記反射層上に形成され、少なくとも、波長が３８０〜５００ｎｍで、レンズ開口率ＮＡが０．７以上のレーザ光により情報の記録再生が可能な有機物（色素）を含有する層であることが好ましい。
【００７４】
前記有機物としては、トリアゾール系化合物、フタロシアニン化合物、ポリフィリン系化合物、アミノブタジエン系化合物、シアニン系化合物、オキソノール化合物（オキソノール色素）等でこれらの少なくとも一種であることが好ましい。特に、フタロシアニン色素およびオキソノール色素が好ましい。
【００７５】
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素を併用することができる。
【００７６】
さらに、上記色素には限定されず、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール誘導体等の有機化合物も好適に用いられる。これらの化合物の中では、ベンゾトリアゾール誘導体、フタロシアニン化合物が特に好ましい。
【００７７】
以下、特に好ましい色素であるフタロシアニン色素およびオキソノール色素について説明する。
【００７８】
当該フタロシアニン色素は、下記一般式（Ａ）で表される構造を有することが好ましい。
【００７９】
【化１】
2006318628.tif 000002
【００８０】
一般式（Ａ）中、Ｒα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のヘテロ環基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシル基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数１〜１０のヘテリルスルホニル基、炭素数１〜２５の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数０〜３２の置換若しくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１５のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基、又は炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のスルホニルアミノ基を表す。また、Ｒα1〜Ｒα8のすべてが水素原子であることはなく、Ｒα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8のうち少なくとも８つは水素原子である。Ｍは、２個の水素原子、２価〜４価の金属原子、２価〜４価のオキシ金属原子、又は配位子を有する２価〜４価の金属原子を表す。
【００８１】
一般式（Ａ）におけるＲα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8の好ましいものとしては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル）、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｐ−オクタデシルフェニル）、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−オクチルオキシ）、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基（フェノキシ、ｐ−エトキシフェノキシ）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、ｎ−オクチルスルホニル）、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基（例えば、トルエンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、炭素数０〜２０の置換若しくは無置換のスルファモイル基（メチルスルファモイル基、ｎ−ブチルスルファモイル）、炭素数１〜１７のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル）、炭素数７〜１５の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、ｍ−クロロフェニルカルボニル）、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ｎ−ヘキシルアミノ）、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ、ｎ−ブタンスルホニルアミノ）である。
【００８２】
中でも、Ｒα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8のより好ましいものは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基である。
更に好ましいものは、Ｒα1〜Ｒα8が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基であり、Ｒβ1〜Ｒβ8が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子である。
特に好ましいものは、Ｒα1〜Ｒα8が、それぞれ独立に、水素原子、スルホ基、炭素数１〜２０の無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の無置換のアリールスルホニル基、炭素数７〜２０の無置換のスルファモイル基であり、Ｒβ1〜Ｒβ8が、水素原子である。
【００８３】
前記一般式（Ａ）における、Ｒα1及びＲα2のいずれか一方、Ｒα3及びＲα4のいずれか一方、Ｒα5及びＲα6のいずれか一方、Ｒα7及びＲα8のいずれか一方の計４つの置換基は、同時に水素原子ではないことが好ましい。
【００８４】
一般式（Ａ）におけるＲα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8は、更に置換基を有していてもよく、その導入可能な置換基の例としては、以下に記載のものを挙げることができる。
炭素数１〜２０の鎖状又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基）、炭素数６〜１８の置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル基、クロロフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、１−ナフチル基）、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルケニル基（例えば、ビニル基、２−メチルビニル基）、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルキニル基（例えば、エチニル基、２−メチルエチニル基、２−フェニルエチニル基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、サリチロイル基、ピバロイル基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、炭素数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、１−ナフトキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、ブチルチオ基、ベンジルチオ基、３−メトキシプロピルチオ基）、炭素数６〜２０の置換若しくは無置換のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、４−クロロフェニルチオ基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、
【００８５】
炭素数６〜２０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、パラトルエンスルホニル基）、炭素数１〜１７の置換若しくは無置換のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ｎ−ブチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基）、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、炭素数２〜１０の置換若しくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基）、炭素数２〜１０の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、及び５員若しくは６員の置換若しくは無置換のヘテロ環基（例えば、ピリジル基、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基等の芳香族ヘテロ環基；ピロリジン環基、ピペリジン環基、モルホリン環基、ピラン環基、チオピラン環基、ジオキサン環基、ジチオラン環基等のヘテロ環基）。
【００８６】
また、Ｒα1〜Ｒα8及びＲβ1〜Ｒβ8に導入可能な置換基として好ましいものは、炭素数１〜１６の鎖状又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、ハロゲン原子、炭素数２〜１７の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアシルアミノ基である。
【００８７】
より好ましいものは、炭素数１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、塩素原子、炭素数２〜１１の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜７の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数１〜８の置換若しくは無置換のアシルアミノ基である。
【００８８】
更に好ましいものとしては、炭素数１〜８の鎖状分岐又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数１〜８の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数３〜９の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、フェニル基、塩素原子である。
最も好ましいものは、炭素数１〜６の無置換のアルコキシ基である。
【００８９】
一般式（Ａ）におけるＭは、２価〜４価の金属原子であることが好ましく、中でも、銅原子、ニッケル原子、又はパラジウム原子が好ましく、更に、銅原子又はニッケル原子がより好ましく、特に、銅原子が好ましい。
【００９０】
一般式（Ａ）で表される化合物（フタロシアニン色素）は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよい。また、一般式（Ａ）で表される化合物は、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【００９１】
以下に、一般式（Ａ）で表されるフタロシアニン色素の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９２】
下記表１〜表７において、例えば、Ｒx／Ｒy（ｘ及びｙは、α１〜α８、β１〜β８のいずれかを表わす）という表記はＲx又はＲyのいずれか一方という意味を表しており、従ってこの表記のある化合物は置換位置異性体の混合物である。また、無置換の場合、即ち水素原子が置換している場合は表記を省略している。
【００９３】
【表１】
2006318628.tif 000003
【００９４】
【表２】
2006318628.tif 000004
【００９５】
【表３】
2006318628.tif 000005
【００９６】
【表４】
2006318628.tif 000006
【００９７】
【表５】
2006318628.tif 000007
【００９８】
【表６】
2006318628.tif 000008
【００９９】
【表７】
2006318628.tif 000009
【０１００】
本発明において色素記録層に含有する色素として、一般式（Ａ）で表されるフタロシアニン色素を使用する場合、１種を単独で使用してもよく、また、構造の異なったものを複数種混合して用いてもよく、更に、他の色素と併用してもよい。特に、色素記録層の結晶化を防ぐ目的で、置換基の置換位置が異なる異性体の混合物を使用することが好ましい。
【０１０１】
また、本発明においてオキソノール色素とは、アニオン性発色団を有するポリメチン色素と定義する。記録特性に優れる点で、下記一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素が特に好適に用いられる。
【０１０２】
【化２】
2006318628.tif 000010
【０１０３】
一般式（Ｉ）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基であり、ＡとＢもしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙt+はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。
【０１０４】
一般式（Ｉ）はアニオンの局在位置の表記の違いによる複数の互変異性体を含むものであるが、特にＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかが−ＣＯ−Ｅ（Ｅは置換基）である場合、酸素原子上に負電荷を局在させて表記することが一般的である。例えばＤが−ＣＯ−Ｅである場合、表記としては下記一般式（ＩＩ）が一般的であり、このような表記のものも一般式（Ｉ）に含まれる。
【０１０５】
【化３】
2006318628.tif 000011
【０１０６】
一般式（ＩＩ）におけるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｒ、ｍ、ｎ、Ｙt+、ｔの定義は一般式（Ｉ）と同一である。
【０１０７】
以下、上記一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素について説明する。一般式（ＩＩ）において、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、ＡとＢのハメットの置換基定数σｐ値の合計及びＣとＤのハメットの置換基定数σｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基を表す。Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはそれぞれ同一でもよく、また異なっていてもよい。また、ＡとＢ、もしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよい。Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値は、それぞれ独立に０．３０〜０．８５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、０．３５〜０．８０の範囲である。
【０１０８】
ハメットの置換基定数σｐ値（以下、σｐ値という）は、例えばＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）及びこれに引用されている参考文献に記載されており、記載されていないものについても同文献記載の方法によって求めることが可能である。ＡとＢ（ＣとＤ）が連結して環を形成している場合、Ａ（Ｃ）のσｐ値は、−Ａ−Ｂ−Ｈ（−Ｃ−Ｄ−Ｈ）基のσｐ値を意味し、Ｂ（Ｄ）のσｐ値は、−Ｂ−Ａ−Ｈ（−Ｄ−Ｃ−Ｈ）基のσｐ値を意味する。この場合、両者は結合の方向が異なるためσｐ値は異なる。
【０１０９】
Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基の好ましい具体例としては、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１乃至１０のアシル基（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイル）、炭素原子数２乃至１２のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、デシルオキシカルボニル）、炭素原子数７乃至１１のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル）、炭素原子数１乃至１０のカルバモイル基（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルホニル基（例、メタンスルホニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルホニル基（例、ベンゼンスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のアルコキシスルホニル基（例、メトキシスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のスルファモイル基（例、エチルスルファモイル、フェニルスルファモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフィニル基（例、ベンゼンスルフィニル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフェニル基（例、メタンスルフェニル、エタンスルフェニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフェニル基（例、ベンゼンスルフェニル）、ハロゲン原子、炭素原子数２乃至１０のアルキニル基（例、エチニル）、炭素原子数２乃至１０のジアシルアミノ基（例、ジアセチルアミノ）、ホスホリル基、カルボキシル基、５員もしくは６４０員のヘテロ環基（例えば、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル、３−ピリジル、５−（１Ｈ）−テトラゾリル、４−ピリミジル）を挙げることができる。
【０１１０】
一般式（Ｉ）において、Ｒで表されるメチン炭素上の置換基としては、例えば以下に記載のものを挙げることができる。炭素原子数１〜２０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル）、炭素原子数６〜１８の置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−アミル、１−ナフチル）、アルケニル基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、アルキニル基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メトキシプロピルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、
【０１１１】
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭素原子数２〜１２のイミド基、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）である。
【０１１２】
Ｒとして好ましいものは、ハロゲン原子、炭素原子数１乃至８の鎖状又は環状のアルキル基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数１乃至８のアルコキシ基、炭素原子数６乃至１０のアリールオキシ基、炭素原子数３乃至１０のヘテロ環基であり、特に塩素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基（例：メチル、エチル、イソプロピル）、フェニル、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基（例：メトキシ、エトキシ）、フェノキシ、炭素原子数４乃至８の含窒素ヘテロ環基（例：４−ピリジル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル）が好ましい。
【０１１３】
ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表すが、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。このとき環員数は４乃至８が好ましく、特に５又は６が好ましく、環の構成原子は炭素原子、酸素原子又は窒素原子が好ましく、特に炭素原子が好ましい。
【０１１４】
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＲは更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、一般式（Ｉ）におけるＲで表される一価の置換基の例として先に挙げたものと同様のものを挙げることができる。
【０１１５】
光記録媒体に用いられる色素としては熱分解性の観点からＡとＢ、またはＣとＤが連結して環を形成することが好ましく、そのような環の例として以下のようなものが挙げられる。なお、例示中、Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【０１１６】
【化４】
2006318628.tif 000012
【０１１７】
【化５】
2006318628.tif 000013
【０１１８】
【化６】
2006318628.tif 000014
【０１１９】
【化７】
2006318628.tif 000015
【０１２０】
上記のうち好ましい環は、Ａ−８、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１１、Ａ−１２、Ａ−１３、Ａ−１４、Ａ−１６、Ａ−１７，Ａ−３６、Ａ−３９、Ａ−４１、Ａ−５４、及びＡ−５７で示されるものである。更に好ましい環は、Ａ−８、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１３、Ａ−１４、Ａ−１６、Ａ−１７及びＡ−５７で示されるものである。最も好ましい環は、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１３、Ａ−１７及びＡ−５７で示されるものである。
【０１２１】
Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃで表される置換基は、それぞれ前記Ｒで表される置換基として挙げたものと同義である。またＲａ、Ｒｂ及びＲｃはそれぞれ互いに連結して炭素環又は複素環を形成してもよい。炭素環としては、例えば、シクロヘキシル環、シクロペンチル環、シクロヘキセン環、及びベンゼン環などの飽和または不飽和の４〜７員の炭素環を挙げることができる。また複素環としては、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロフラン環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、及びピラジン環などの飽和または不飽和の４〜７員の複素環を挙げることができる。これらの炭素環または複素環は更に置換されていてもよい。更に置換し得る基としては、前記Ｒで表される置換基として挙げたものと同義である。
【０１２２】
一般式（Ｉ）において、ｍは０乃至３の整数であるが、このｍの値によって該オキソノール色素の吸収波長が大きく変化する。記録再生に用いるレーザの発振波長に応じて最適な吸収波長の色素を設計する必要があるが、この点においてｍの値の選択は重要である。録再生に用いるレーザの中心発振波長が７８０ｎｍの場合（ＣＤ−Ｒ記録用の半導体レーザ）、一般式（Ｉ）においてｍは２又は３が好ましく、中心発振波長が６３５ｎｍ又は６５０ｎｍの場合（ＤＶＤ−Ｒ記録用の半導体レーザ）、ｍは１又は２が好ましく、中心発振波長が５５０ｎｍ以下の場合（例えば、中心発振波長４０５ｎｍの青紫色半導体レーザ）は、ｍは０又は１が好ましい。
【０１２３】
一般式（Ｉ）において、Ｙt+で表されるｔ価のカチオンは、無機又は有機の何れのカチオンでもよく、無機のカチオンとしては、例えば、水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン（ＮＨ4+）を挙げることができ、好ましくは金属イオンであり、特にアルカリ金属イオン（例：Ｌｉ+、Ｎａ+、Ｋ+）又は遷移金属イオン（例：Ｃｕ2+、Ｃｏ2+）が好ましい。また、遷移金属イオンの場合、有機リガンドが配位しているものでも良い。
【０１２４】
Ｙt+で表されるｔ価の有機のカチオンとしては、オニウムイオンが好ましく、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるものが特に好ましい。これらの化合物は、対応するジピリジルと目的の置換基を持つハロゲン化物とのメンシュトキン反応（例えば、特開昭６１−１４８１６２号公報参照）、あるいは特開昭５１−１６６７５号公報および特開平１−９６１７１号公報に記載の方法に準ずるアリール化反応により容易に得ることができる。
【０１２５】
【化８】
2006318628.tif 000016
【０１２６】
式中Ｒ31およびＲ32はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｒ33は置換基を表し、ｓは０乃至８の整数を表し、ｓが２以上の整数のとき、複数個のＲ33はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよい。
【０１２７】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるアルキル基は、炭素原子数１〜１８が好ましく、更に炭素数１〜８が好ましく、直鎖、分岐又は環状であってもよく、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、イソアミル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−オクチルを挙げることができる。
【０１２８】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるアルケニル基は、炭素数２〜１８が好ましく、更に炭素数２〜８が好ましく、例えばビニル、２−プロペニル、２−メチルプロペニル、１，３−ブタジエニルを挙げることができる。
【０１２９】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるアルキニル基は、炭素数２〜１８が好ましく、更に炭素数２〜８が好ましく、例えばエチニル、プロピニル、３，３−ジメチルブチニルを挙げることができる。
【０１３０】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるアリール基は、炭素数６〜１８が好ましく、更に炭素数６〜１０が好ましく、例えばフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルを挙げることができる。
【０１３１】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ31もしくはＲ32で表されるヘテロ環基は、炭素数４〜７の飽和又は不飽和のヘテロ環基が好ましく、含有されるヘテロ原子としては窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、例えば４−ピリジル、２−ピリジル、２−ピラジル、２−ピリミジル、４−ピリミジル、２−イミダゾリル、２−フリル、２−チオフェニル、２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンゾチオキサゾリルを挙げることができる。
【０１３２】
一般式（ＩＩＩ）のＲ31およびＲ32は更に置換基を有していてもよく、置換基としては一般式（Ｉ）のＲを表す置換基として例示したものと同様のものを挙げることが
できる。
【０１３３】
一般式（ＩＩＩ）においてＲ33で表される置換基は、一般式（ＩＩ）のＲと同義であり、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜８の無置換アルキル基である。
【０１３４】
一般式（ＩＩＩ）において、ｓは０乃至８の整数を表すが、ｓは０〜４が好ましく、更に０〜２であることが好ましく、特に０が好ましい。ｓが２以上の整数のとき、複数個のＲ33はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよい。また、一般式（ＩＩＩ）において二つのピリジン環は、何れの位置で連結していてもよいが、ピリジン環の２位もしくは４位で連結するのが好ましく、特に両ピリジン環の４位同士で連結するのが好ましい。
【０１３５】
一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【０１３６】
一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素の具体例としては、特開昭６３−２０９９９５号公報、特開平１０−２９７１０３号公報、同１１−７８１０６号公報、同１１−３４８４２０公報、特開２０００−５２６５８公報、特願平１１−７８１０６号公報に記載されたオキソノール色素の具体例を挙げることができる。その一部の化合物を以下に例示する。
【０１３７】
【化９】
2006318628.tif 000017
【０１３８】
【化１０】
2006318628.tif 000018
【０１３９】
【化１１】
2006318628.tif 000019
【０１４０】
【化１２】
2006318628.tif 000020
【０１４１】
記録層は、その耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有することが好ましい。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。
【０１４２】
好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（ＩＶ）で表わされる化合物を挙げることができる。
【０１４３】
【化１３】
2006318628.tif 000021
【０１４４】
（但し、上記式中、Ｒ31は置換基を有していてもよいアルキル基を表わし、Ｑ-はアニオンを表わす。）
【０１４５】
一般式（ＩＶ）において、Ｒ31は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキ
ル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニオンの例としては、ＣｌＯ4-、ＡｓＦ6-、ＢＦ4-、及びＳｂＦ6-が好ましい。
【０１４６】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０１４７】
記録層は、上記色素（有機物等）等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して記録層塗布液を調製し、次いでこの記録層塗布液を基板表面に形成された反射層上に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより形成される。記録層塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。また、記録物質等を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー、加温等の方法を適用することができる。
【０１４８】
記録層塗布液を調製する際の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
【０１４９】
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１５０】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；等を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０１５１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。また、塗布温度としては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃、さらに好ましくは２５〜３７℃である。
【０１５２】
粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好ましく、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい。
【０１５３】
一方、記録層として相変化記録層を使用することもできる。相変化記録層は、レーザー光の照射によって結晶相と非晶相との相変化を繰り返すことができる材料からなる層である。
例えば、以下のような方法により結晶相と非晶相の相変化を繰り返すものが挙げられる。即ち、情報記録時は、集中したレーザー光パルスを短時間照射し、相変化記録層を部分的に溶融する。溶融した部分は熱拡散により急冷され、固化し、非晶状態の記録マークが形成される。また、消去時には、記録マーク部分にレーザー光を照射し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加熱し、かつ除冷することによって、非晶状態の記録マークを結晶化し、もとの未記録状態に戻す。
【０１５４】
相変化記録層を構成する材料の具体例としては、Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｖ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、等が挙げられる。なかでも、多数回の書き換えが可能であることから、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金が好ましい。
相変化記録層の層厚としては、１０〜５０ｎｍとすることが好ましく、１５〜３０ｎｍとすることがより好ましい
【０１５５】
以上の相変化記録層は、スパッタ法、真空蒸着法などの気相薄膜堆積法、等によって形成することができる。
【０１５６】
ある別の実施形態（主に実施形態Ｂ−Ｅに適用可能だがこれに限定されない）では記録層は、反射層上に形成され、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能な層で、有機色素を含有する色素型である。
前記有機色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
【０１５７】
また、有機色素としては、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
さらに、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も、記録層素材として好適に用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、オキソノール色素、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロシアニン化合物が好ましく、オキソノール色素が特に好ましい。これらは先に記載した実施態様中で使用可能な色素として記載された色素から選ばれてもよい。
【０１５８】
記録層は、有機色素である記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に形成された反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【０１５９】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１６０】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０１６１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【０１６２】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【０１６３】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、有機色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０１６４】
＜中間層＞
ある実施態様（主に態様Ａに適用可能だがこれに限定されない）では、中間層は、少なくとも、上記記録層と後述する接着層との間に形成される。記録層上に接着層を形成すると、接着層の接着剤が記録層の有機物を溶解してしまうが、中間層を設けることにより、接着剤が記録層に直接接触せず、記録層が接着剤によって溶解されるのを防止することができる。
【０１６５】
また、既述のように、当該中間層は、高温高湿保存試験前の中間層の厚さをｔとした場合に、高温高湿保存試験後の中間層の厚さｔ1が、「０．９ｔ≦ｔ1≦１．１ｔ」の関係を満たす。このような関係を満足させるには、中間層の構成成分、酸化度、窒化度、膜密度、厚み、ターゲットの種類および製膜条件等を検討する必要がある。
【０１６６】
中間層の構成成分として、金属酸化物を使用することが好ましく、金属酸化物としてはＴａの酸化物又はＮｂの酸化物が好ましい。Ｔａを含む化合物又はＮｂを含む化合物からなる中間層としては、それぞれ、Ｔａ又はＮｂの各酸化物、窒化物を挙げることができ、中でも、酸化物が好ましい。酸化物としては、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏx、ＮｂＯ、ＴａＯが好ましい。
【０１６７】
中間層を形成する際に行われる、通常の希ガス（例えば、アルゴンガス）のみを導入してのスパッタリングでは、スパッタ時にはじき飛ばされる金属酸化物中の酸素が希ガスとともに排気され、形成される膜中の酸素数が減少し酸素欠損を招く。この酸素欠損がしみ状となり、中間層の光学特性に影響を及ぼす。そこで、本発明においては、希ガスとともに排気される酸素を補うため、予め導入ガスに酸素を混入させる。つまり、希ガスと酸素とを混合した混合ガスを導入ガスとして使用することにより、形成される膜には、ターゲットの金属酸化物由来の酸素と、混合ガス由来の酸素とが存在し、導入ガス中の酸素量を適宜調整することにより、ターゲット側の金属酸化物の金属と酸素との比で膜を形成することができる。あるいは、ターゲット側の金属酸化物の金属と酸素との比と、混合ガス中の酸素の比率を調整することにより、所望の金属・酸素比の膜を形成することができる。
【０１６８】
中間層は、例えば、Ｔａを含む化合物又はＮｂを含む化合物をターゲットとしたスパッタリングにより成膜することができる。この場合、成膜時の圧力は１×１０-2〜１×１０-5ｔｏｒｒ（１．３３〜１．３３×１０-3Ｐａ）とすることが好ましく、レート（スパッタ速度）は０．１〜１０ｎｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。スパッタ電力は０．２〜４ｋＷとすることが好ましく、０．４〜３ｋＷとすることがより好ましく、０．５〜２．５ｋＷとすることがさらに好ましい。
【０１６９】
本発明においては、既述の通り、スパッタで使用するガスの種類は、Ａｒ等の希ガスと酸素ガスとを使用する。ガスの流量は、希ガス及び酸素ガスのいずれの場合でも、１〜５０ｓｃｃｍ（１〜５０ｍｌ／ｍｉｎ）とすることが好ましい。また、ターゲットが金属酸化物の場合、酸素ガスの流量は、０．１〜２５ｓｃｃｍとすることが好ましく、０．２〜２０ｓｃｃｍとすることがより好ましく、０．５〜１５ｓｃｃｍとすることがさらに好ましい。酸素ガスの流量を０．１〜２５ｓｃｃｍとすることにより、安定な膜を十分な成膜速度で得ることができる。
【０１７０】
なお、希ガスと酸素ガスは予め混合して混合ガスとしても、スパッタ時に別々に導入してもよい。
【０１７１】
ＲＦスパッタの場合、そのチューニング（マッチング）を調整して、ＦＷＤに対するＲＥＦは１０％以下とすることが好ましく、５％以下とすることがより好ましく、２．５％以下とすることがさらに好ましい
【０１７２】
ＤＣスパッタの場合、パルススパッタや、チョッパーなどにより、瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。
【０１７３】
本発明においては、中間層の層厚は１〜８０ｎｍとすることが好ましい。中間層の層厚を当該範囲とすることにより、記録層の有機色素と粘着層との間の分離能が十分で、良好な記録再生特性が得られる。当該層厚は、より好ましくは、１〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは、１．５〜２０ｎｍである。
ある別の実施形態（主に実施形態Ｂ−Ｅに適用可能だがこれに限定されない）では、中間層は、既述の材料を用いて既述の方法により記録層上に形成される。なお、中間層は、記録層とカバー層との間に形成されることを必須とし、その他、「基板と反射層との間」および「反射層と記録層と間」の少なくともいずれかに形成されていてもよい。
【０１７４】
＜カバー層＞
ある実施態様（主に態様Ａに適用可能だがこれに限定されない）では、カバー層は、光記録媒体内部への水分の侵入を防ぐために形成される層で、接着層とカバーシートとからなる。該カバー層は、厚さ０．０５〜０．０９ｍｍのカバーシートを、２５℃における硬化前の粘度が１３０ｍＰａ・ｓ以上５９０ｍＰａ・ｓ以下のＵＶ硬化性接着剤を用いて貼り合わせて形成されたものであることが好ましい。カバーシートの材料は、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料である。また、カバーシートの厚さは、好ましくは、０．０７〜０．０９ｍｍであり、より好ましくは、０．０８〜０．０９ｍｍである。カバーシートの厚さが０．０５ｍｍ未満では、接着層の厚みが厚くなり、均一に塗布することが困難となり、厚みムラ±３μｍの規格を満足することができなくなる。また、０．０９ｍｍを超えると、カバー層の厚さの規格（０．１ｍｍ）を満足することが困難になる。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【０１７５】
接着層およびカバーシートからなるカバー層の透水率は、１００ｇ／（ｍ2・ｄ）以下であることが好ましく、８０ｇ／（ｍ2・ｄ）以下であることがより好ましい。透水率が、１００ｇ／（ｍ2・ｄ）以下であることで、光記録媒体内への水の浸入を効果的に防ぐことができる。
【０１７６】
当該透水率は、以下に説明するようにして求めることができる。すなわち、ＪＩＳ  Ｋ７１２９Ｂに準拠した方法を採用し、測定機としては、ＭＯＣＯＮ社製の「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ  Ｗ３／３１」を使用し、温度を４０℃、相対湿度を９０％（上部セル１０％、下部セル１００％）とし、測定フィルム面積を５ｃｍ2として測定することが好ましい。
【０１７７】
そして、下記にて作製した試験片を透過セルに取り付ける。試験片は、上下２つの測定セルの中間に挿入される構造であり、下部セルは相対雰囲気の高い雰囲気を保つ。上部セルは試験片を通過してきた水蒸気を蓄積する構造となっており、上部セルにある赤外線湿度センサーにて通過してきた水分量を測定する。
【０１７８】
前述の試験片は、以下の２種類（方法１および方法２）のいずれかの方法で作製することが好ましい。これら２種の方法は、接着する方法や中間層を設ける場所等に応じて選ぶことができる。
【０１７９】
方法１（ディスク（光記録媒体）から剥離し測定する方法）：
作製した光記録媒体の記録層より上部（中間層からカバー層まで）を剥離する。剥離したフィルム（カバー層）を開口部にあわせて切り出す。透過面積が５ｃｍ2になるように一部をアルミニウムでマスクして、試験片とする。
【０１８０】
方法２（基板上に貼り合せる前に測定する方法）：
貼り合せる前のカバー層（カバーシート）をセルの開口部にあわせて切り出す。透過面積が５ｃｍ2になるように一部をアルミニウムでマスクして、試験片とする。このとき、通常、記録層上に設ける中間層は同条件でカバーフィルム上に成膜して、フィルム状のカバー層とする。
【０１８１】
カバー層は、真空脱気泡した前記ＵＶ硬化性接着剤を、所定温度で中間層上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、カバーシートを貼り合わせて、このカバーシートの上から光を照射して塗布膜を硬化させて形成される。このように形成されるカバー層の厚さは、０．０１〜０．２ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０３〜０．１ｍｍの範囲であることがより好ましく、０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲であることがさらに好ましい。
【０１８２】
ＵＶ硬化性接着剤としては、２５℃における硬化前の粘度が１３０ｍＰａ・ｓ以上５９０ｍＰａ・ｓ以下のものを用いることが好ましい。該ＵＶ硬化性接着剤の粘度は、より好ましくは１４０ｍＰａ・ｓ以上５００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに好ましくは１５０ｍＰａ・ｓ以上４００ｍＰａ・ｓ以下である。該粘度が１３０ｍＰａ・ｓ未満では、脱気泡してもＵＶ硬化性接着剤の気泡が抜けなくなることがあり、５９０ｍＰａ・ｓを超えると、厚みムラが発生してしまうことがある。また、ＵＶ硬化性接着剤の硬化収縮率は、９％以下が好ましい。
【０１８３】
前記ＵＶ硬化性接着剤は、スピンコート法により、光記録媒体の内周から３０ｍｍ以内の領域に吐出し、塗布することが好ましい。このとき、光記録媒体を、例えば３０〜８０００ｒｐｍまで変化させながら回転させ、該ＵＶ硬化性接着剤を全面に満遍なく広げる。このようにしてＵＶ硬化性接着剤を塗布すると、よりカバー層の厚みムラを少なくすることができる。
【０１８４】
ＵＶ硬化性接着剤としては、ディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化性接着剤としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性接着剤を挙げることができる。
【０１８５】
ＵＶ硬化性接着剤の使用においては、以下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要となる。光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。２５４，３１３，８６５ｎｍの波長において吸光係数の比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−２ジエトキシアセトフェノン、Ｍｉｃｈｌｅｒ'ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使用できる。芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａ）１００質量部に対し０．５〜２０質量部、好ましくは２〜１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加したものが市販されており、それを使用してもかまわない。紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は２０〜２００Ｗ／ｃｍのランプを用い速度０．３ｍ／分〜２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好ましい。
【０１８６】
なお、カバーシートの貼り合わせ面に粘着剤が設けられている場合は、貼り合わせ後の粘着剤からなる層が、接着層となる。
【０１８７】
また、本実施形態の光記録媒体においては、反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて誘電体層または光透過層を形成することができる。例えば、記録層との接着性向上のための光透過層を設けてもよく、相変化型の記録層を設けた場合には、放熱のための誘電体層を設けてもよい。誘電体層としては、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物を含む材料を使用することが好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2のようなものであってもよい。光透過層としては、レーザー波長で９０％以上の透過率があるものであれば如何なる材料をも使用することができる。
【０１８８】
上記誘電体層または光透過層は、従来公知の方法により形成することができる。誘電体層の厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましく、光透過層の厚さは、２〜５０ｎｍとすることが好ましい。
【０１８９】
また、透明シート上にはハードコート層を設けてもよい。ハードコート層は、傷の発生を防止するための層であり、その材料としては、放射線硬化樹脂を用いることが好ましい。ハードコート層に使用される放射線硬化樹脂としては、放射線照射により硬化可能な樹脂であればよく、より詳細には、分子中に、２個以上の放射線官能性の２重結合を有する樹脂であることが好ましい。
【０１９０】
例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等が挙げられる。中でも、好ましくは、２官能以上のアクリレート化合物、メタクリレート化合物である。
ある別の実施形態（主に実施形態Ｂ−Ｅに適用可能だがこれに限定されない）では、カバー層は、光記録媒体内部を汚染や傷、衝撃などから防ぐため、あるいは水分の浸入などを防ぐなどのために形成される。材料としては、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等からなるカバーシートで、少なくとも一方の面に粘着剤が付与されたものを挙げることができる。
なお、「透明」とは、記録光および再生光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【０１９１】
カバーシートの粘着剤が付与された面とは反対の面には、カバーシートの傷つき防止のためハードコート層形成しておいてもよい。かかるカバーシートを記録層上に形成するには、以下のようにして行うことが好ましい。
まず、ロール状に巻回されたカバーシートの一方の面に、放射線硬化樹脂塗布液を連続的に塗布する。塗布により形成された塗膜に放射線を連続照射し、硬化させてカバーシート上にハードコート層を設ける。その後、カバーフィルムの他方の面に、粘着剤からなる粘着層を連続的に設け、ハードコート層及び粘着層が設けられたカバーシートを所定の形状（ディスク状）に打ち抜く。このディスク状のカバーシートの粘着層を貼り合わせ面として、記録層上に当該カバーシートを設けて、カバー層を形成する。なお、カバーシートの貼り合わせ方法等は、単なる例示であり、種々の方法を適用することができる。
【０１９２】
カバーシートの厚さは、０．０３〜０．１５ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、取り扱いが容易となり、しかも、コマ収差を抑えることができるという利点がある。
【０１９３】
粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。なお、予め粘着剤が付与された市販のカバーシートを使用することもできる。
【０１９４】
また、ハードコート層に使用される放射線硬化樹脂としては、放射線照射により硬化可能な樹脂であればよく、より詳細には、分子中に、２個以上の放射線官能性の２重結合を有する樹脂であることが好ましい。
例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等が挙げられる。中でも、好ましくは、２官能以上のアクリレート化合物、メタクリレート化合物である。
【０１９５】
次に、本発明の光記録媒体への情報の記録方法および記録した情報の再生方法について説明する。
光記録媒体への情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光記録媒体を定線速度にて回転させながら、カバーシート側（基板の反対側）から記録用の３５０〜５００ｎｍ（好ましくは、４００〜４４０ｎｍ）のレーザ光を照射する。このレーザ光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性が変化する。この光学的特性の変化により、情報が記録される。
【０１９６】
３５０〜５００ｎｍの発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長約４３０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズの開口率（ＮＡ）は０．７以上が好ましく、０．８０以上がより好ましい。
【０１９７】
一方、記録された情報の再生は、光記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら、情報の記録に使用したレーザと同一波長もしくはそれ以下の波長のレーザ光をカバーシート側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【実施例】
【０１９８】
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１９９】
［実施例１］
厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍのスパイラル状のグルーブ（トラックピッチ：３２０ｎｍ、溝深さ：４５ｎｍ、溝幅：１６０ｎｍ）を有する射出成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有する面に、Ａｇをスパッタリングして１２０ｎｍの膜厚の反射層を形成した。
【０２００】
フタロシアニン系色素（商品名：オラゾールブルーＧＮ、ｃｉｂａスぺシャリティケミカル社製）１．００ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００ｍｌに溶解し、塗布液を調製した。この塗布液をスピンコート法により上記反射層上に塗布し、２３℃５０％ＲＨで２時間アニール処理を施して、記録層を形成した。
【０２０１】
加熱処理後、真空成膜法によりＮｂ2Ｏ4.83からなるターゲットを用いて、パルスＤＣ法で１０ｎｍの厚みの中間層を製膜した。投入電力は１．５ｋＷ、スパッタガスはＡｒガスとＯ2ガスとを使用し、Ａｒガス流量は、５０ｓｃｃｍ（５０ｍｌ／ｍｉｎ）とし、Ｏ2ガス流量は、２ｓｃｃｍ（２ｍｌ／ｍｉｎ）とした。
【０２０２】
その後、ＵＶ硬化性接着剤（大日本インキ社製ＳＤ６４０）をスピンコート法により３０ｍｍより内周に３０〜３００ｒｐｍで塗布し、その上に、カバー層（カバーシート）としてのポリカーボネートシート（帝人化成社製のピュアエース、厚さ：８０μｍ）を重ね合わせ、３０ｒｐｍから８０００ｒｐｍまで変化させながら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化させ、光記録媒体を作製した。
【０２０３】
なお、前述の透水率測定方法により測定したカバー層（接着層およびカバーシート）の透水率は、７２ｇ／（ｍ2・ｄ）であった。また、試験片は、既述の方法１によって作製した。
【０２０４】
［実施例２］
Ｔａ2Ｏ5からなるターゲットを用い、ＲＦ法（投入電力：１．０ｋＷ）で中間層を製膜した以外は、実施例１と同様にして、光記録媒体を作製した。
【０２０５】
［実施例３］
色素として、オラゾールブルーＧＮを下記化学式で表されるフタロシアニン系の色素Ｘに代えた以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２０６】
【化１４】
2006318628.tif 000022
【０２０７】
［比較例１］
ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3からなるターゲットを用い、ＲＦ法（投入電力：１．０ｋＷ）で中間層を製膜した以外は、実施例１と同様にして、光記録媒体を作製した。
【０２０８】
［比較例２］
スパッタガスにおけるＯ2ガスの流量を、０ｓｃｃｍ（０ｍｌ／ｍｉｎ）とした以外は、実施例１と同様にして、光記録媒体を作製した。
【０２０９】
［比較例３］
ポリカーボネートシートをＴＡＣ（富士写真フィルム社製「フジタック」、厚み８０μｍ）に代えた以外は実施例１と同様にして、光記録媒体を作製した。
【０２１０】
［評価］
実施例および比較例で作製した光記録媒体について、下記のような試験を行い、それぞれについて評価を行った。
【０２１１】
（高温高湿保存試験）
実施例および比較例で作製した光記録媒体を６０℃９０％に調整した高温高湿槽に１６８時間保存した。λ＝４０５ｎｍで発光する青紫色レーザーと、開口数ＮＡ＝０．８５の対物レンズから構成されるピックアップを有した記録再生装置ＤＤＵ１０００（パルステック工業社製）を用いて、１７ＬＬ変調信号の記録と再生を行い、信号再生ジッターを測定した。
【０２１２】
また、実施例および比較例で作製した光記録媒体をそれぞれ２枚用意し、１枚を６０℃９０％に調整した高温高湿槽に１６８時間保存した。保存後の光記録媒体と保存していない光記録媒体のそれぞれを、（フォーカスド・イオン・ビーム）法にて切断し、その切断面のＳＥＭ写真により中間層の厚みを計測し、保存前の厚み（ｔ）と保存後の厚み（ｔ1）から、膜厚変化の割合を求めた。結果を下記表８に示す。
【０２１３】
（耐酸性）
ガラス板上に中間層を光記録媒体の作製の際の条件と同じ条件で製膜し（厚みは同一でなくてもよい）、半分に切断し、その半分を０．１規定の酢酸水溶液に浸漬し、６０℃の環境で１日浸漬した。浸漬前後のＳＥＭ−ＥＤＡＸの上記中間層に含まれる元素のピーク（例えば、中間層がＮｂＯｘであれば、「Ｎｂ」）変化を変化率として求めた。結果を下記表８に示す。
【０２１４】
【表８】
2006318628.tif 000023
【０２１５】
表８の結果より、高温高湿保存後の中間層の厚さｔ1が、「０．８ｔ≦ｔ1≦１．２ｔ」の関係を満たす実施例の光記録媒体は、保存後でも良好なジッターであることがわかった。
【０２１６】
［実施例４］
帝人化成（株）社製ポリカーボネート樹脂（パンライトＡＤ５５０３）を用いて射出成形により厚さ１．１ｍｍの基板を成形した。基板の溝トラックピッチは３２０ｎｍ、オングルーブ部の半値幅は１２０ｎｍ、溝深さは３５ｎｍであった。
【０２１７】
この基板上に、Ａｇ：９８．４ａｔ％、Ｎｄ：０．７ａｔ％、Ｃｕ：０．９ａｔ％、からなるターゲットを用いて、真空成膜法により反射層を１００ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５ｓｃｃｍで行った。
【０２１８】
下記化学式で表される有機色素Ａを、ＴＦＰ１００ｍｌに対し２ｇの比率になるよう秤量して溶解させた。該液に超音波を２時間照射して色素を溶解させた後、２３℃５０％の環境に０．５時間以上静置し、０．２μｍのフィルターで濾過した。この液を用いて、スピンコート法で反射層上に厚さ１１０ｎｍの記録層を形成した。その後、８０℃のクリーンオーブン中で１時間加熱処理した。
【０２１９】
【化１５】
2006318628.tif 000024
【０２２０】
加熱処理後、真空成膜法により、Ｎｂ2Ｏ4.83からなるターゲットを用いてパルスＤＣスパッタ法で８ｎｍの厚みの中間層を成膜した。投入電力は１．５ｋＷ、スパッタガスとしてＡｒとＯ2とを使用し、Ａｒ流量は１０ｓｃｃｍ、Ｏ2流量は２ｓｃｃｍで行った。
【０２２１】
中間層を形成した後、一方の面に厚さ２０μｍの粘着層が形成されたポリカーボネートフィルム（厚み８０μｍ）を貼り合せて光記録媒体を作製した。
【０２２２】
［実施例５］
中間層形成時におけるＯ2流量を１ｓｃｃｍとしたこと以外は実施例４と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２２３】
［比較例４］
中間層形成時にＯ2を使用せず、Ａｒガスのみとしたこと以外は実施例４と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２２４】
［評価］
−しみの評価−
（１）作製した各光記録媒体を、ポリカーボネートフィルム側からＫＯＷＡ社製テレセントリック顕微鏡ＴＬ−１０を用いて色素記録層表面を観察し、しみ状欠陥の有無を観察した。観察結果を以下の評価基準に従って評価した。結果を表９に示す。
−評価基準−
×：光記録媒体を静止した状態で明確なしみ状欠陥が観察される。
△：光記録媒体を静止した状態ではしみ状欠陥は観察されないが、光記録媒体を動かすと観察視野中のコントラスト変動が感じられる（＝極弱いしみ状欠陥があると推定される。）。
○：光記録媒体を静止した状態でも動かした状態でも欠陥は観察されない。
（２）室温にて経時させ、１１日後、２２日後に（１）と同様の評価を行った。結果を表９に示す。
【０２２５】
【表９】
2006318628.tif 000025
【０２２６】
−信号特性−
作製した試料を波長：４０７ｎｍ、ＮＡ＝０．８５のレーザー光学系を搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業（株）製）にセットして、８Ｔ単一信号を記録・再生して、アナログオシロスコープで８Ｔ信号を評価し、８Ｔ信号振幅／８Ｔ信号Ｈレベルを８Ｔ変調度として求めた。この時、線速は５．２８ｍ／ｓで、記録時のレーザーの発光パターンを最適化して行った。１１日後にも同様の測定を行い、「１−"１１日目の８Ｔ変調度／１日目の８Ｔ変調度"」を変化率として求めた。結果を表１０に示す。
【０２２７】
【表１０】
2006318628.tif 000026
【０２２８】
また、作製後４日経過後、試料を、波長：４０７ｎｍ、ＮＡ＝０．８５のレーザー光学系を搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業（株）製）にセットして、４ｍＷのパワーで２Ｔ単一信号を記録、再生して、スペクトラムアナライザーで２Ｔ信号キャリア出力（１６．５ＭＨｚ）を評価した。この時、線速は５．２８ｍ／ｓで、記録時のレーザーの発光パターンを最適化して行った。１８日後も同様の測定を行い、「１−"１８日目のＣＮ比／４日目のＣＮ比"」を変化率として求めた。結果を表１１に示す。
【０２２９】
【表１１】
2006318628.tif 000027
【０２３０】
表９より、実施例４〜５の光記録媒体は、いずれも、１日〜２２日間保存しても、実用上問題がないレベルであったが、比較例４の光記録媒体は、１１日保存後にしみ状欠陥が認められた。
また、表１０より、実施例４〜５の光記録媒体は、比較例４の光記録媒体と比較して、１日〜１１日と保存しても変調度の変化率が小さく、経時安定性が良好であることが分かる。これに対して、
さらに、表１１より、実施例４〜５の光記録媒体は、比較例４の光記録媒体と比較して、１日〜１８日と保存してもＣＮＲの変化率が小さく、経時安定性が良好であることが分かる。
【０２３１】
［実施例６］
中間層の膜厚を５０ｎｍ以上にした以外は実施例４と同様に光記録媒体を作製した。
【０２３２】
［実施例７］
中間層形成時におけるＯ2流量を１ｓｃｃｍとしたこと、及び中間層の層厚を８ｎｍにしたこと以外は実施例６と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２３３】
［実施例８］
中間層の層厚を８ｎｍにしたこと以外は実施例６と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２３４】
［実施例９］
中間層形成時におけるターゲットをＴａ2Ｏ5に変更したこと、及び中間層形成時にＯ2を使用せず、Ａｒガスのみとしたこと以外は実施例６と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２３５】
［実施例１０］
中間層形成時におけるターゲットをＴａ2Ｏ5に変更したこと、及び中間層形成時におけるＯ2流量を２ｓｃｃｍとしたこと以外は実施例６と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２３６】
［実施例１１］
中間層形成時におけるターゲットをＴａ2Ｏ5に変更したこと、及び中間層形成時におけるＯ2流量を１０ｓｃｃｍとしたこと以外は実施例６と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２３７】
［比較例５］
中間層形成時にＯ2を使用せず、Ａｒガスのみとしたこと以外は実施例６と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２３８】
［比較例６］
中間層形成時におけるＯ2流量を１ｓｃｃｍとしたこと以外は実施例６と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２３９】
［比較例７］
中間層形成時にＯ2を使用せず、Ａｒガスのみとしたこと、中間層の層厚を８ｎｍにしたこと以外は実施例６と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２４０】
［評価］
《酸化物の割合の測定》
作製した各光記録媒体に対して、Ｘ線光電子分光装置（島津製作所社製、ＡＸＩＳ  ＵＬＴＲＡ）を用い、Ａｒスパッタ２ｍｉｎ後の媒体表面を分析し、得られた金属のピークをピーク分離して、最大酸化数を持つ金属ピークを呼び出しそのピーク面積比を求め、それから主成分の割合を求めた。得られた金属のピークを図３〜図１１に示す。
［測定条件；Ａｎｏｄｅ：モノクロＡｌ，Ｓｔｅｐ  １００ｅＶ，Ｐａｓｓ  ｅｎｅｒｇｙ：１０ｅＶ，Ｓｗｅｅｐ数：３回］
ＮｂＯｘ及びＴａＯｘ膜の解析条件は表１２に示す。
【０２４１】
【表１２】
2006318628.tif 000028
【０２４２】
《外観検査》
作製した各光記録媒体を、ポリカーボネートフィルム側からＫＯＷＡ社製テレセントリック顕微鏡ＴＬ−１０を用いて色素記録層表面を観察し、しみ状欠陥の有無を観察した。観察結果を以下の評価基準に従って評価した。結果を表１３に示す。
−評価基準−
○：光記録媒体を静止した状態でも動かした状態でも欠陥は観察されない。
△：光記録媒体を静止した状態ではしみ状欠陥は観察されないが、光記録媒体を動かすと観察視野中のコントラスト変動が感じられる（＝極弱いしみ状欠陥があると推定される。）ものの実用上問題がないレベル。
×：光記録媒体を静止した状態で明確なしみ状欠陥が観察される。
【０２４３】
【表１３】
2006318628.tif 000029
【０２４４】
《記録特性》
−信号特性−
作製した試料を波長：４０７ｎｍ、ＮＡ＝０．８５のレーザー光学系を搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業（株）製）にセットして、８Ｔ単一信号を記録・再生して、アナログオシロスコープで８Ｔ信号を評価し、８Ｔ信号振幅／８Ｔ信号Ｈレベルを８Ｔ変調度として求めた。この時、線速は５．２８ｍ／ｓで、記録時のレーザーの発光パターンを最適化して行った。１１日後にも同様の測定を行い、「１−"１１日目の８Ｔ変調度／１日目の８Ｔ変調度"」を変化率として求めた。結果を表１３（表１４）に示す。表１３における「ａ−１」、「ｂ−１」、「ｃ−１」は、表１４における同符号に対応している。
【０２４５】
【表１４】
2006318628.tif 000030
【０２４６】
また、作製後４日経過後、試料を、波長：４０７ｎｍ、ＮＡ＝０．８５のレーザー光学系を搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業（株）製）にセットして、４ｍＷのパワーで２Ｔ単一信号を記録、再生して、スペクトラムアナライザーで２Ｔ信号キャリア出力（１６．５ＭＨｚ）を評価した。この時、線速は５．２８ｍ／ｓで、記録時のレーザーの発光パターンを最適化して行った。１８日後も同様の測定を行い、「１−"１８日目のＣＮ比／４日目のＣＮ比"」を変化率として求めた。結果を表１３（表１５）に示す。表１３における「ａ−２」、「ｂ−２」、「ｃ−２」は、表１５における同符号に対応している。
なお、実施例６及び７、比較例７以外は、中間層が厚いため最適な記録特性を評価していない。
【０２４７】
【表１５】
2006318628.tif 000031
【０２４８】
表１３より、実施例６〜１１の光記録媒体は、比較例５〜７と比較して、いずれも、良好な外観が得られた。特に、実施例７及び８は、記録特性においても優れた結果が得られた。
【０２４９】
［実施例１２］
実施例４と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２５０】
［実施例１３］
中間層形成時におけるスパッタでのターゲットをＴａ2Ｏ5としＲＦスパッタ法で成膜したこと以外は実施例１２と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２５１】
［比較例８］
中間層形成時におけるスパッタでのターゲットをＴａ2Ｏ5としＲＦスパッタ法で成膜したこと、及びスパッタガスをＡｒのみとしたこと以外は実施例１２と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２５２】
［比較例９］
中間層形成時におけるスパッタでのターゲットをＺｎＯ・Ｇａ2Ｏ3としたこと以外は実施例１２と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２５３】
［比較例１０］
中間層形成時におけるスパッタでのターゲットをＺｎＳ・ＳｉＯ2としたこと、及びスパッタガスをＡｒのみとしたこと以外は実施例１２と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２５４】
［比較例１１］
中間層形成時におけるスパッタでのターゲットをＭｎＯxとしたこと、及びスパッタガスをＡｒのみとしたこと以外は実施例１２と同様にして光記録媒体を作製した。
【０２５５】
［評価］
−ピーク強度比の測定−
実施例１２〜１３、及び比較例８〜１１の中間層の材料及び形成方法と同様にして、基板上に膜厚５０ｎｍの中間層を形成し、それぞれに対応する中間層のサンプルを得た。つまり、各サンプルの特性を各光記録媒体の中間層の特性と見なし、以下の測定を行った。これらのサンプルについて、ＳＥＭ−ＥＤＸ（日立製、Ｓ−４７００）元素分析により中間層に起因するピーク強度（ピーク強度Ａ）を測定した。次いで、６０℃純水中に２日間保存した後、同様にピーク強度（ピーク強度Ｂ）を測定し、保存前後におけるピーク強度比（Ｂ／Ａ）を求めた。結果を表１６に示す。
−ジッターの評価−
作製した光記録媒体を、波長：４０３ｎｍ、ＮＡ＝０．８５のレーザー光学系を搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業（株）製）にセットして、５．５ｍＷのパワーで１−７変調されたランダム信号（２Ｔ〜８Ｔ）を記録し、０．３５ｍＷのパワーで再生してジッターを評価した。この時、線速は５．２８ｍ／ｓで、記録時のレーザーの発光パターンを最適化して行った。ジッターはコンベンショナルイコライザーを使用して測定した。結果を表１に示す。記録後に、６０℃９０％ＲＨ１６８時間保存したサンプルのジッター（シェルフジッター）が１５％以下のものが良い。
【０２５６】
【表１６】
2006318628.tif 000032
【０２５７】
表１６より、条件式（１）の範囲内である実施例１２〜１３の光記録媒体は、いずれもシェルフジッターが１５％以下であり、比較例８〜１１の光記録媒体と比較して良好な結果が得られた。これは、中間層の水に対する溶解性が低く、湿熱保存性が良好であるからと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０２５８】
【図１】本発明の光記録媒体のある実施態様の層構成の一例を示す模式図である。
【図２】本発明の光記録媒体のある実施態様の層構成を示す模式断面図である。
【図３】実施例６における中間層の金属ピークを示す図である。
【図４】実施例７における中間層の金属ピークを示す図である。
【図５】実施例８における中間層の金属ピークを示す図である。
【図６】実施例９における中間層の（Ａ）表面の金属ピーク、（Ｂ）スパッタ開始２分後の金属ピークを示す図である。
【図７】実施例１０における中間層の（Ａ）表面の金属ピーク、（Ｂ）スパッタ開始２分後の金属ピークを示す図である。
【図８】実施例１１における中間層の（Ａ）表面の金属ピーク、（Ｂ）スパッタ開始２分後の金属ピークを示す図である。
【図９】比較例５における中間層の金属ピークを示す図である。
【図１０】比較例６における中間層の金属ピークを示す図である。
【図１１】比較例７における中間層の金属ピークを示す図である。
【符号の説明】
【０２５９】
１０  光記録媒体
１２  基板
１４  記録層
１６  中間層
１８  接着層
２０  カバーシート
【図１】
2006318628.tif 000033
【図２】
2006318628.tif 000034
【図３】
2006318628.tif 000035
【図４】
2006318628.tif 000036
【図５】
2006318628.tif 000037
【図６】
2006318628.tif 000038
【図７】
2006318628.tif 000039
【図８】
2006318628.tif 000040
【図９】
2006318628.tif 000041
【図１０】
2006318628.tif 000042
【図１１】
2006318628.tif 000043