(57)【要約】      （修正有）【課題】基板処理のスループットを低減させることなく、基板搬送路上で基板を真っ直ぐに搬送しつつ、基板を傾斜姿勢に変更することができる基板搬送装置の提供。【解決手段】駆動軸２３の各マグネットギア２３１と、各搬送ローラ２１のマグネットギア２１５とは、近接かつ非接触となる位置に配置されている。これにより、駆動軸２３が上記駆動モータ等からの回転駆動力で回転すると、駆動軸２３のマグネットギア２３１から、搬送ローラ２１のマグネットギア２１５に向けて回転駆動力が伝達されるようになっている。各搬送ローラ２１は、その基板搬送方向上流側の搬送ローラ２１から、下流側の搬送ローラ２１となるに連れて、基板Ｂの搬送方向に対して直交する方向において水平となる姿勢から徐々に傾斜が大きくなるように設けられる。【選択図】      図７
2006321623.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
並列された複数の搬送ローラにより基板を搬送する基板搬送装置であって、
複数の搬送ローラのうちの１つの搬送ローラを、その回転軸周りに回転自在に支持する第１支持手段と、
前記複数の搬送ローラのうち、前記第１支持手段に支持された搬送ローラに隣り合う搬送ローラを、その回転軸の長手方向中央部分に直交する方向に延びる水平軸周りに回動させて傾斜させた状態で、当該回転軸周りに回転自在に支持する第２支持手段と、
前記第１支持手段及び第２支持手段に支持された両搬送ローラを含む前記複数の搬送ローラを回転駆動する回転駆動手段とを備え、
前記回転駆動手段によって回転駆動される搬送ローラによって基板を搬送し、前記第１支持手段及び第２支持手段に支持された両搬送ローラ間で当該基板を移動させて当該基板の傾斜姿勢を変更する基板搬送装置。
【請求項２】
前記回転駆動手段は、前記水平軸がその回転軸周りに回転し、前記水平軸に取り付けられたマグネットギアによって、前記複数の搬送ローラの各回転軸の中央部分から前記複数の搬送ローラのそれぞれに対して回転駆動力を伝達する請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記回転駆動手段は、前記水平軸がその回転軸周りに回転し、前記水平軸と前記複数の搬送ローラの各回転軸との間に掛け渡されたベルトによって、前記複数の搬送ローラの各回転軸の中央部分から前記複数の搬送ローラのそれぞれに対して回転駆動力を伝達する請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記複数の搬送ローラの各回転軸には、その長手方向における予め定められた位置に、前記回転駆動手段からの駆動力が伝達されずに自由回転して前記基板を支持するフリーローラが設けられている請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記各搬送ローラの回転軸に設けられているフリーローラは、隣り合う前記搬送ローラに設けられているフリーローラに対して、回転軸長手方向における位置を異ならせて配設されている請求項４に記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、並列された複数の搬送ローラにより基板を搬送する基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、基板処理時に基板表面に供給された処理液の基板表面からの捌けを良くするために、基板処理部に対して基板を傾斜させた姿勢で搬送する基板搬送装置が知られている。このような基板搬送装置が採用された基板処理装置として、例えば、下記特許文献１に示されるように、水平姿勢の基板を受け入れると、基板搬送路の基板搬送方向に直交する方向における一方端部が上方に移動することで基板を傾斜姿勢に変更して、基板処理部の下流側では、基板搬送路の基板搬送方向に直交する方向における一方端部が下方に移動して、基板を水平姿勢に戻すものがある。
【０００３】
また、下記特許文献２には、基板搬送ローラが、回転軸の長さ方向両端に配設された保持ローラ及び支持ローラを有し、回転軸が支持ローラを支点として保持ローラ側が上方となるように傾斜して配設された基板洗浄装置が示されている。この基板洗浄装置において、基板の姿勢を変更するために基板洗浄部の上流側に配設されたユニットでは、複数の基板搬送ローラが、基板搬送方向下流側の基板洗浄部に近づくに連れて、水平方向に対する傾斜角度が０°から１５°まで緩やかに傾斜していく状態に形成され、また、基板洗浄部の下流側に配設されたユニットは、複数の基板搬送ローラが、傾斜角度１５°から０°まで緩やかに傾斜するように形成されている。これにより、基板洗浄部に向けて徐々に基板の姿勢を傾斜させ、基板洗浄が終了すると、徐々に基板の姿勢を水平に戻すようにしている。
【特許文献１】特開平９−１５５３０６号公報
【特許文献２】実開平５−７９９７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に記載の基板処理装置の場合、基板の姿勢を変更するには、基板を受け入れてから一旦基板搬送を停止した状態で、基板搬送路の片側を上昇又は下降させる動作を行わなければならないので、姿勢変更の行われる基板が当該基板搬送路から搬出されるまでは次の基板を搬送できず、複数の基板を連続して姿勢変更させることができない。このことは、基板処理装置のスループット向上を妨げる要因となっている。
【０００５】
また、上記特許文献２に記載の基板洗浄装置の場合、基板搬送路を構成する各搬送ローラは、回転軸が支持ローラを支点として、保持ローラ側が上方となるように、傾斜角度が０°から１５°まで、又は１５°から０°まで徐々に傾斜させて配設されているので、隣り合う搬送ローラ同士の間隔は、搬送ローラの回転軸の長手方向における支持ローラ側と保持ローラ側とで異なる。つまり、図９の概略図に示すように、傾斜の支点となる支持ローラ６側では基板搬送ローラ同士の間隔Ｓ３は均一であるが、上方に位置する保持ローラ７側における基板搬送ローラ同士の間隔Ｓ４は、隣り合う搬送ローラに対する傾斜角度に応じて拡がる。そのため、隣り合う基板搬送ローラ同士の間隔は、搬送ローラの回転軸の長手方向における支持ローラ６側と保持ローラ７側とで異なる。従って、基板搬送路の支持ローラ６側と保持ローラ７側とで基板搬送に速度差が生じることとなり、基板搬送路上で基板を真っ直ぐに搬送することができない。
【０００６】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、基板処理のスループットを低減させることなく、基板搬送路上で基板を真っ直ぐに搬送しつつ、基板を傾斜姿勢に変更することができる基板搬送装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の請求項１に記載の発明は、並列された複数の搬送ローラにより基板を搬送する基板搬送装置であって、
複数の搬送ローラのうちの１つの搬送ローラを、その回転軸周りに回転自在に支持する第１支持手段と、
前記複数の搬送ローラのうち、前記第１支持手段に支持された搬送ローラに隣り合う搬送ローラを、その回転軸の長手方向中央部分に直交する方向に延びる水平軸周りに回動させて傾斜させた状態で、当該回転軸周りに回転自在に支持する第２支持手段と、
前記第１支持手段及び第２支持手段に支持された両搬送ローラを含む前記複数の搬送ローラを回転駆動する回転駆動手段とを備え、
前記回転駆動手段によって回転駆動される搬送ローラによって基板を搬送し、前記第１支持手段及び第２支持手段に支持された両搬送ローラ間で当該基板を移動させて当該基板の傾斜姿勢を変更するものである。
【０００８】
この構成によれば、基板の傾斜姿勢を変更するために搬送ローラが有していなければならない傾斜を、第２支持手段が、搬送ローラをその回転軸の長手方向中央部分に直交する方向に延びる水平軸の周りに回動させて傾斜させた状態として支持することで付与しているので、これら隣り合う搬送ローラ同士の間隔は、搬送ローラの回転軸の長手方向における一方端側と他方端側とで異ならずに同一となる。そのため、基板搬送路の基板搬送方向に直交する方向における一方端側と他方端側とでは基板搬送速度が同一となり、速度差が生じないので、上記複数の搬送ローラによって構成される基板搬送路上で基板を真っ直ぐに搬送することができる。また、基板搬送路は上下動せず、第２支持手段によって搬送ローラに付与されている傾斜によって、搬送中の基板の傾斜姿勢を徐々に変化させるので、基板の搬送を停止させることなく、複数の基板の傾斜姿勢を連続して変更でき、基板処理のスループットを低減させることがない。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板搬送装置であって、前記回転駆動手段は、前記水平軸がその回転軸周りに回転し、前記水平軸に取り付けられたマグネットギアによって、前記複数の搬送ローラの各回転軸の中央部分から前記複数の搬送ローラのそれぞれに対して回転駆動力を伝達するものである。
【００１０】
この構成では、搬送ローラに傾斜を付与するための回動中心となる上記水平軸を利用してマグネットギアを取り付け、搬送ローラの各回転軸の中央部分から各搬送ローラに回転駆動力を伝達するようにしているので、回転駆動手段からの回転駆動力を伝達する機構を設けるために別個に新たなスペースが必要となることがない。また、マグネットギアを用いることで、部材同士で摩擦を生じさせることなく、回転駆動手段からの回転駆動力を搬送ローラに伝達するので、塵等を発生させずにクリーンな状態を保って、当該回転駆動力を伝達することができる。
【００１１】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の基板搬送装置であって、前記回転駆動手段は、前記水平軸がその回転軸周りに回転し、前記水平軸と前記複数の搬送ローラの各回転軸との間に掛け渡されたベルトによって、前記複数の搬送ローラの各回転軸の中央部分から前記複数の搬送ローラのそれぞれに対して回転駆動力を伝達するものである。
【００１２】
この構成によれば、搬送ローラに傾斜を付与するための回動中心となる上記水平軸を利用して、搬送ローラの各回転軸との間にベルトを掛け渡し、搬送ローラの各回転軸の中央部分から各搬送ローラに回転駆動力を伝達するようにしているので、回転駆動手段からの回転駆動力を伝達する機構を設けるために別個に新たなスペースが必要となることがない。また、上記ベルトによる駆動力伝達により、部材同士の間に生じる摩擦を極力低減して、回転駆動手段からの回転駆動力を搬送ローラに伝達するので、塵等の発生を抑制して、クリーンな状態で当該回転駆動力を伝達することができる。
【００１３】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置であって、前記複数の搬送ローラの各回転軸には、その長手方向における予め定められた位置に、前記回転駆動手段からの駆動力が伝達されずに自由回転して前記基板を支持するフリーローラが設けられている。
【００１４】
この構成では、大型の基板が搬送ローラによる搬送中に撓んでも、上記フリーローラが基板表面に当接して基板を支持するので、搬送ローラから基板への回転駆動力伝達時における回転駆動力の減損が低減され、基板搬送路の基板搬送方向に直交する方向における一方端側と他方端側とにおける基板搬送速度を更に確実に同一にすることができ、基板搬送路における基板搬送をより確実に真っ直ぐに行うことができる。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の基板搬送装置であって、前記各搬送ローラの回転軸に設けられているフリーローラは、隣り合う前記搬送ローラに設けられているフリーローラに対して、回転軸長手方向における位置を異ならせて配設されているものである。
【００１６】
この構成では、フリーローラを上記千鳥配置として、搬送中の基板が撓む場合に、この基板をやや撓んだ状態としたまま、少ない支持ポイントで支持できるようにして、基板を搬送ローラに更になじませることができるようにしている。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に記載の発明によれば、第２支持手段に支持された搬送ローラを上記水平軸周りに回動させて傾斜させ、基板搬送路の基板搬送方向に直交する方向における一方端側と他方端側の基板搬送速度が同一とすることができるので、基板搬送路上で基板を真っ直ぐに搬送することができる。また、基板搬送路が上下動するのではなく、第２支持手段によって搬送ローラに付与されている傾斜によって、搬送中の基板の傾斜姿勢を徐々に変化させるので、基板の搬送を停止させることなく複数の基板を連続して傾斜姿勢に変更でき、基板処理のスループットを低減させることがない。
【００１８】
請求項２に記載の発明によれば、搬送ローラの回動中心となる上記水平軸を利用してマグネットギアを取り付けて各搬送ローラに回転駆動力を伝達するので、回転駆動手段からの回転駆動力を伝達する機構を設けるために必要となるスペースを削減することができる。また、マグネットギアを用いることにより、部材同士の塵等を発生させずにクリーンな状態を保って、当該回転駆動力を伝達することができる。
【００１９】
請求項３に記載の発明によれば、搬送ローラの回動中心となる上記水平軸を利用して、搬送ローラの各回転軸との間にベルトを掛け渡して各搬送ローラに回転駆動力を伝達するので、回転駆動手段からの回転駆動力を伝達する機構を設けるために必要となるスペースを削減することができる。また、上記ベルトによる駆動力伝達とすることにより、部材同士の摩擦を極力低減して、クリーンな状態で当該回転駆動力を伝達することができる。
【００２０】
請求項４に記載の発明によれば、大型の基板が搬送ローラによる搬送中に撓んでも、上記フリーローラが基板表面に当接して基板を支持するので、搬送ローラから基板への回転駆動力伝達時における回転駆動力の減損が低減され、基板搬送路の基板搬送方向に直交する方向における一方端側と他方端側とにおける基板搬送速度が更に確実に同一なものとでき、基板搬送路における基板搬送をより確実に真っ直ぐに行うことができる。
【００２１】
請求項５に記載の発明によれば、搬送中に撓んだ状態となった基板を、やや撓んだ状態としたまま、少ない支持ポイントで支持することができるので、基板を搬送ローラに更になじませることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の一実施形態に係る基板搬送装置について図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態に係る基板搬送装置が備えられた基板処理装置を示す説明図である。この図に示すように、基板処理装置１は、前工程からの基板Ｂを受け入れる基板導入部２、内部に基板Ｂの処理空間を有する処理装置本体３、及び処理後の基板Ｂを後工程に受け渡す基板導出部４が直列に配設されている。基板処理装置１は、基板導入部２、処理装置本体３及び基板導出部４の順に基板Ｂを搬送して基板Ｂに所定の処理を施すものである。この基板導入部２又は基板導出部４が、本発明に係る基板搬送装置の一実施形態である。
【００２３】
基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロボット等からなる上流側引継ぎ手段２０を介して基板導入部２に移され、ついで搬送手段５の駆動によって基板導入部２から処理装置本体３に導入されて所定の処理が施される。この処理後、基板Ｂは基板導出部４に移送され、基板導出部４の下流端でコンベアあるいはロボット等からなる下流側引継ぎ手段４０によって次工程に導出される。
【００２４】
処理装置本体３内には、ローラコンベアからなる搬送手段５が設けられている。搬送手段５を構成する各ローラ５１は、その軸心が基板Ｂの搬送方向に対して直交する面内であって、水平方向に対して傾斜して設けられている。処理装置本体３内の各ローラ５１の傾斜角度は全て同一角度に設定されて基板搬送路５ａを形成している。これによって基板Ｂは処理装置本体３内において傾斜姿勢で基板搬送路５ａを搬送されつつ所定の処理が施される。
【００２５】
上記処理装置本体３は、本実施形態においては、薬洗部３１、水洗部３２、及び乾燥部３７が直列に配設されて形成されている。薬洗部３１は、搬送手段５によって搬送されつつある基板Ｂの表裏に所定の薬液を供給して基板Ｂを洗浄（薬洗）する。薬洗部３１には、薬液供給ノズル３１ｂが、基板搬送路５ａを挟むように上下に設けられており、上下の薬液供給ノズル３１ｂからの薬液吐出によって基板Ｂの表裏面に薬液が供給される。この薬液の存在下で、基板搬送路５ａを搬送されつつある基板Ｂの表裏面は複数個のブラシ３１ｆでブラッシング処理され、清浄化される。
【００２６】
基板Ｂに供給された薬液、すなわち基板Ｂを洗浄することによって汚染物を含有しつつある薬液は、基板Ｂの傾斜面に沿って流下する。これにより、短い洗浄時間で高い洗浄作用が得られる。しかも、基板Ｂの傾斜面に沿って速やかに流下するので、基板Ｂによる薬液の持ち出し量も低減され、薬液の消費量も低減され、また、良好な液切りが行われる。
【００２７】
水洗部３２は、搬送手段５によって搬送される上記薬洗後の基板Ｂに洗浄水を供給して洗浄（水洗）する。水洗部３２の内部は、低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５及び純水供給部３６に区分されている。薬洗部３１から導出された基板Ｂは、低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５、及び純水供給部３６に順次導入され、所定の水洗処理が施された後、乾燥部３７に向けて導出される。
【００２８】
低圧水供給部３３は、基板搬送路５ａを挟むように上下に配設された低圧水供給ノズル３３ａを有し、高圧水供給部３４は同様に配設された高圧水供給ノズル３４ａを有している。また、超音波洗浄水供給部３５には、基板搬送路５ａを通過する基板Ｂの表面に吐出口を向けた超音波水供給ノズル３５ａが設けられ、純水供給部３６には基板搬送路５ａを挟むように上下に配設された純水供給ノズル３６ａが設けられている。
【００２９】
このような一連の低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５及び純水供給部３６からなる水洗部３２においては、基板Ｂはその搬送方向に直交する面内で傾斜したローラ５１によって傾斜姿勢で搬送されるようになっており、これによって各供給部３３，３４，３５，３６で基板Ｂに供給された洗浄用の水は速やかに基板Ｂの傾斜面を流下するため、下流側の乾燥部３７には最小限度の洗浄水しか持ち込まれない。
【００３０】
乾燥部３７は、水洗部３２の純水供給部３６から導出された基板Ｂを乾燥するためのものであり、内部には基板搬送路５ａを挟むように設けられた上下一対のエアーナイフ３７ｂを備えている。この乾燥部３７においても薬洗槽３１ａにおけると同様にローラ５１は基板Ｂの搬送方向に直交する面内で水平方向に対して傾斜され、これによって基板Ｂに付着している洗浄水の液切りが良好に行われる。乾燥部３７での処理を終えた基板Ｂは基板導出部４に搬出され、下流側引継ぎ手段４０により次工程に向けて導出される。
【００３１】
次に、基板導入部２について説明する。図２は基板導入部２の平面図、図３は基板導入部２を図１の矢印ａ方向から見た側面図、図４は基板導入部２を図１の矢印ｂ方向から見た側面図、図５は、駆動軸２３のマグネットギア２３１と、搬送ローラ２１のマグネットギア２１５とを示す斜視図、図６は基板導入部２を構成する搬送ローラ２１の傾斜姿勢を概念的に示す斜視図、図７は各搬送ローラ２１の傾斜姿勢を示す側面図である。なお、図３では、図１の矢印Ａ方向から見た最も手前側の搬送ローラ２１及びローラ支持機構２２等を示しており、傾斜角度の異なる他の搬送ローラ２１の図示は省略している。
【００３２】
上述したように、基板導入部２は、上流側引継ぎ手段２０から受け取った基板Ｂを処理装置本体３に向けて搬送するが、上流側引継ぎ手段２０から水平な姿勢で受け取った基板Ｂを、基板搬送方向に対して直交する方向であって水平面に対して傾斜した姿勢に基板Ｂの姿勢を変更してから、基板Ｂを処理装置本体３に搬出するものである。
【００３３】
基板導入部２には、複数の搬送ローラ２１が、その回転軸２１１が基板搬送方向に直交する方向に延び、かつ、それぞれの搬送ローラ２１が水平面に対して予め定められた傾斜角度を有した状態で配設されている。各搬送ローラ２１は、その回転軸２１１が、その回転軸２１１周りに回転自在となる状態でローラ支持機構（第１又は第２支持手段）２２に支持されている。このローラ支持機構２２は、搬送ローラ２１の回転軸２１１の両端部を支持する２つの側壁部２２ａと、これら側壁部２２ａが取り付けられる底面部２２ｂとを有し、底面部２２ｂは搬送ローラ２１の長手方向に延び、底面部２２ｂの長手方向両端部にそれぞれ設けられた側壁部２２ａ間に搬送ローラ２１の回転軸２１１が掛け渡されている。これら各ローラ支持機構２２のそれぞれが、上記予め定められた傾斜角度が付与されて取り付けられており、これら各ローラ支持機構２２にそれぞれ搬送ローラ２１が軸支されることで、各搬送ローラ２１が上記予め定められた傾斜角度をもって基板搬送路を構成するようになっている。
【００３４】
各搬送ローラ２１の回転軸２１１には、その長手方向の両端部近傍に、コロ２１２が取り付けられている。回転軸２１１は、後述する回転駆動軸からの回転駆動力で回転駆動し、コロ２１２は回転軸２１１に伴って回転軸２１１周りに回転する。各搬送ローラ２１に設けられたコロ２１２の上部に基板Ｂが載置され、搬送ローラ２１の回転軸２１１及びコロ２１２が処理装置本体３側に向かう方向に回転することで、コロ２１２上の基板Ｂが処理装置本体３に向けて搬送される。
【００３５】
さらに、各搬送ローラ２１の回転軸２１１には、その長手方向における所定位置に、回転軸２１１には固定されず、回転軸２１１が回転しても空回りする状態でフリーローラ２１３が取り付けられている。すなわち、フリーローラ２１３は、回転駆動軸からの駆動力の伝達を受けずに、回転軸２１１とは別個に自由回転して、搬送ローラ２１のコロ２１２上を搬送される基板Ｂを下方から支持する。各搬送ローラ２１におけるフリーローラ２１３は、図２に示すように、例えば、ある搬送ローラ２１では、回転軸２１１の長手方向中央部近傍位置に１つ取り付けられ、当該搬送ローラ２１に隣り合う別の搬送ローラ２１では、回転軸２１１両端部と長手方向中央部との各中間位置にそれぞれ取り付けられる。そして、続く各搬送ローラ２１においても、これら２つの搬送ローラ２１と同様の取り付け位置にフリーローラ２１３が取り付けられる。複数の搬送ローラ２１によって構成される基板搬送路全体としては、フリーローラ２１３の配置を平面視で見た場合、図２に示すように、複数のフリーローラ２１３が千鳥配置となるように配置されている。これにより、大型の基板Ｂが搬送ローラ２１による搬送中に撓んでも、各フリーローラ２１３が基板Ｂの下面に当接して、基板Ｂをやや撓んだ状態で支持するようになっている。
【００３６】
また、上記のようにして傾斜を有する各搬送ローラ２１の下方となる回転軸２１１端部側には、各搬送ローラ２１の間に、サイドガイドローラ２１４が設けられている。このサイドガイドローラ２１４は、コロ２１４ａと、コロ２１４ａの下部に取り付けられた回転軸２１４ｂとを有し、この回転軸２１４ｂは、上記ローラ支持機構２２の底面部２２ｂに、当該回転軸２１４ｂ周りに回転自在として取り付けられている。搬送ローラ２１によって搬送される基板Ｂが、その自重により、傾斜姿勢にある搬送ローラ２１上を、下方側となるコロ２１２に向かって移動してくると、当該基板Ｂの側部がサイドガイドローラ２１４がに当接して、サイドガイドローラ２１４が基板Ｂの傾斜下方側への移動を規制するようになっている。サイドガイドローラ２１４は、上記したように、回転軸２１４ｂが回転自在とされているので、基板Ｂの処理装置本体３方向への搬送に伴って、基板Ｂの当該移動を妨げない方向に回転する。
【００３７】
上記複数の搬送ローラ２１の長手方向における略中央部には、その下方に、各搬送ローラ２１に対して直交する方向に延びる回転駆動軸（水平軸）２３が設けられている。この駆動軸２３は、図略の駆動モータ等からの回転駆動力でその回転軸周りに回転する。各搬送ローラ２１には、当該駆動軸２３の上方となる位置（搬送ローラ２１の長手方向における略中央部）に、マグネットギア２１５が設けられている。一方、駆動軸２３には、搬送ローラ２１と交差する各位置（各搬送ローラ２１のマグネットギア２１５の下方位置）に、マグネットギア２３１が設けられている。駆動軸２３の各マグネットギア２３１と、各搬送ローラ２１のマグネットギア２１５とは、近接かつ非接触となる位置に配置されている。これにより、駆動軸２３が上記駆動モータ等からの回転駆動力で回転すると、駆動軸２３のマグネットギア２３１から、搬送ローラ２１のマグネットギア２１５に向けて回転駆動力が伝達されるようになっている。これら駆動モータ、駆動軸２３及びマグネットギア２３１は、特許請求の範囲でいう回転駆動手段の一例である。但し、回転駆動手段を駆動モータ、駆動軸２３及びマグネットギア２３１からなる構成に限定するものではない。
【００３８】
図５に示すように、搬送ローラ２１のマグネットギア２１５は、その周面に永久磁石のＮ極帯とＳ極帯とが交互に設けられている。一方、駆動軸２３のマグネットギア２３１は、その周面に永久磁石のＮ極帯とＳ極帯とが螺旋状に設けられている。搬送ローラ２１のマグネットギア２１５のＮ極帯とＳ極帯は、駆動軸２３のマグネットギア２３１のＮ極帯とＳ極帯に対して、最接近した状態で吸引し合う状態を常に維持しようとするため、駆動軸２３が回転して、駆動軸２３のマグネットギア２３１のＮ極帯とＳ極帯が回転軸方向に順次移動すると、搬送ローラ２１のマグネットギア２１５周面のＮＳ両極帯は、駆動軸２３のマグネットギア２３１のＮＳ両極帯の移動を追って連続的に移動する。そのため、駆動軸２３のマグネットギア２３１の回転に追動して搬送ローラ２１のマグネットギア２１５が回転し、駆動軸２３から各搬送ローラ２１に回転駆動力が伝達される。
【００３９】
続いて、図６及び図７を参照して、基板導入部２の各搬送ローラ２１の傾斜姿勢について説明する。なお、以下に説明する各搬送ローラ２１の傾斜姿勢は、例えば、ローラ支持機構２２を基板導入部２のケーシングに傾斜角度を付けて取り付けることによって付与される。図６に示すように、各搬送ローラ２１は、その基板搬送方向上流側の搬送ローラ２１から、下流側の搬送ローラ２１となるに連れて、基板Ｂの搬送方向に対して直交する方向において水平となる姿勢から徐々に傾斜が大きくなるように設けられ、最下流の搬送ローラ２１は、処理装置本体３内の各ローラ５１と同一の傾斜角か、或いは、各ローラ５１の傾斜角に近い傾斜角であって、基板導入部２から処理装置本体３３内のローラ５１にスムーズに基板Ｂを移動させることができる傾斜角となるように設定されている。例えば、複数の搬送ローラ２１は、基板搬送方向最上流位置の搬送ローラ２１が上記水平方向とされ、処理装置本体３の手前となる基板搬送方向最下流位置のローラが上記水平方向に対して最も傾斜角が大きくなるように設定される。これら最上流位置と最下流位置の両搬送ローラ２１の間に配設されている各搬送ローラ２１は、隣り合う上流側の搬送ローラ２１に対して徐々に一定角度ずつ傾斜が付けられ、最終的に最下流位置の搬送ローラ２１の傾斜角度等となるように設定されている。これら隣り合う搬送ローラ２１の一方を支持するローラ支持機構２２が特許請求の範囲でいう第１支持手段の一例であり、他方の搬送ローラ２１を支持するローラ支持機構２２が特許請求の範囲でいう第２支持手段の一例となる。
【００４０】
上記各搬送ローラ２１に付与される傾斜角は、各搬送ローラ２１の長手方向の略中央位置を中心として回動させ、各搬送ローラ２１をその長手方向における一端部を上方又は下方に位置させた状態とすることで付与される。例えば、図７に示すように、各ローラ支持機構２２の底面部２２ｂの長手方向略中央位置に、駆動軸２３周りにローラ支持機構２２が回転自在となるように駆動軸２３を内包する連結部２２ｃを設ける。そして、各搬送ローラ２１を必要な傾斜角度分だけ駆動軸２３周りに回動させ、各ローラ支持機構２２を基板導入部２のケーシングに固定する。このように構成することで、図６に示すように、隣り合う搬送ローラ２１同士の間隔は、搬送ローラ２１の長手方向における一端側の間隔Ｓ１と、他端側の間隔Ｓ２とが、同じ間隔となるように設定されている。
【００４１】
続いて、基板導出部４について説明する。基板導出部４は、処理装置本体３から傾斜姿勢で搬出されてきた基板Ｂを水平姿勢に変更するものであるが、基板導出部４を構成する複数の搬送ローラも、基板導入部２と各搬送ローラ２１と同様に構成される。すなわち、基板導出部４の各搬送ローラに付与される傾斜角は、各搬送ローラ２１の長手方向の中央位置を中心として、各搬送ローラ２１を長手方向における一端部を上方又は下方に位置させて、隣り合う上流側の搬送ローラ２１に対して一定角度を付けることによって行われ、隣り合う搬送ローラ同士の間隔を比較した場合に、搬送ローラ２１の長手方向における一端側の間隔と、他端側の間隔とが同じ間隔とされる。但し、基板導出部４では、各搬送ローラは、その基板搬送方向最上流側では、処理装置本体３内におけるローラ５１と同一の傾斜角か、或いは、各ローラ５１の傾斜角に近い傾斜角であって、基板導出部４が処理装置本体３内のローラ５１からスムーズに基板Ｂを受け取ることができる傾斜角となるように設定され、これに続く複数の搬送ローラは、隣り合う上流側の搬送ローラ２１に対して徐々に一定角度ずつ傾斜が付けられ、最終的に最下流位置の搬送ローラ２１に至った時点で、水平姿勢となるように設定されている。
【００４２】
例えば、上記基板導入部２及び基板導出部４の各搬送ローラに付与される傾斜角度は、隣り合う上流側の搬送ローラに対して角度差が0.3度未満（理想的には0.28度以下）とされる。なお、この場合における各搬送ローラ２１間の間隔は100〜200mm未満（理想的には190mm）、搬送速度15m/分、基板Ｂの基板搬送方向長さは2400mmである。
【００４３】
上記構成でなる基板導入部２が上流側引継ぎ手段２０から水平姿勢の基板Ｂを受け取ると、複数の搬送ローラ２１による処理装置本体３方向への搬送が進むに連れて、徐々に基板Ｂの姿勢が、処理装置本体３内で複数のローラ５１によって形成される基板搬送路５ａの傾斜角度とほぼ同一の傾斜を有するように変更され、当該傾斜姿勢に変更された基板Ｂは処理装置本体３に引き渡される。
【００４４】
また、処理装置本体３から搬出されてきた傾斜姿勢の基板Ｂは、ほぼその傾斜姿勢のままで基板導出部４に受け取られ、複数の搬送ローラ２１による下流側引継ぎ手段４０方向への搬送が進むに連れて、徐々に基板Ｂが水平姿勢に変更され、当該水平姿勢に変更された基板Ｂは下流側引継ぎ手段４０に引き渡される。
【００４５】
このような基板導入部２又は基板導出部４によれば、上記複数の搬送ローラによって構成される基板搬送路の基板搬送方向に直交する方向における一方端側と他方端側とにおける基板搬送速度が同一となり速度差が生じないので、基板搬送路上で基板Ｂを真っ直ぐに搬送しつつ、当該搬送に伴って、基板Ｂの傾斜姿勢を変更することができる。また、基板搬送路は上昇又は下降の動作を行わず、各搬送ローラ２１に付与された傾斜により、基板搬送に伴って基板Ｂの傾斜姿勢を変化させていくので、基板Ｂの姿勢変更のために基板搬送を停止させる必要がなく、複数の基板Ｂを連続して傾斜姿勢に変更できる。そのため、基板処理のスループットを低減させることがない。
【００４６】
なお、本発明は上記実施の形態の構成に限られず種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、基板導入部２における駆動軸２３から各搬送ローラ２１への回転駆動力伝達は、駆動軸２３のマグネットギア２３１と、搬送ローラ２１のマグネットギア２１５とによって行われているが、この回転駆動力伝達機構は一例に過ぎない。例えば、図８に示すように、駆動軸２３と各搬送ローラ２１とを、駆動軸２３及び搬送ローラ２１の回転に伴って、駆動軸２３及び搬送ローラ２１の周面を移動するＯリング状のベルト２８で連結し、このベルト２８を介して駆動軸２３の回転駆動力が各搬送ローラ２１に伝達されるようにしてもよい。基板導出部４における回転駆動力伝達機構も同様である。
【００４７】
また、上記実施形態では、基板導入部２に複数の搬送ローラ２１が設けられ、基板搬送方向最上流側の搬送ローラ２１最下流側の搬送ローラ２１にかけて、隣り合う搬送ローラに対して一定の傾斜角度を順次付与していくことで、これら複数の搬送ローラ２１からなる基板搬送路上を搬送される基板Ｂの傾斜姿勢が変更されるようにしているが、搬送ローラ２１の数は特に限定されない。例えば、ある搬送ローラ２１が、隣り合う基板搬送方向上流側の搬送ローラ２１に対して一定の傾斜角度を付与され、これら搬送ローラ２１のいずれかに並設されている他の搬送ローラ２１は、隣り合う搬送ローラ２１に対して傾斜が付与されていない構成とされていても、本発明の目的を達成することができる。基板導出部４における各搬送ローラも同様である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板搬送装置が備えられた基板処理装置を示す説明図である。
【図２】基板導入部の平面図である。
【図３】基板導入部を図１の矢印ａ方向から見た側面図である。
【図４】基板導入部を図１の矢印ｂ方向から見た側面図である。
【図５】回転駆動軸のマグネットギアと、搬送ローラのマグネットギアとを示す斜視図である。
【図６】基板導入部を構成する搬送ローラの傾斜姿勢を概念的に示す斜視図である。
【図７】各搬送ローラの傾斜姿勢を示す側面図である。
【図８】搬送ローラを回転駆動する機構の他の実施形態を示す図である。
【図９】従来の基板搬送機構における搬送ローラの傾斜姿勢を概念的に示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４９】
１        基板処理装置
２        基板導入部
３        処理装置本体
４        基板導出部
２１      搬送ローラ
２１１    回転軸
２１２    コロ
２１３    フリーローラ
２１４    サイドガイドローラ
２１４ａ  コロ
２１４ｂ  回転軸
２１５    マグネットギア
２２      ローラ支持機構
２２ａ    側壁部
２２ｂ    底面部
２２ｃ    連結部
２３      駆動軸
２３１    マグネットギア
２８      ベルト
Ｂ        基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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