(57)【要約】【課題】            植物病害防除効力を有する新規な化合物を提供すること。【解決手段】        式（１）2006117540.tif 000056［式中、Ｑはハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい５員又は６員のヘテロアリール基を表し、Ｒ4はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ5はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表す］で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有する植物病害防除剤。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2006117540.tif 000055
［式中、Ｑはハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい５員又は６員のヘテロアリール基を表し、Ｒ4はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ5はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表す。］
で示されるアミド化合物。
【請求項２】
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい下記のＡ群の５員又は６員のヘテロアリール基である請求項１記載のアミド化合物。
Ａ群：
ピロリル基、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テロラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基；ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基。
【請求項３】
請求項１記載のアミド化合物を有効成分として含有する植物病害防除剤。
【請求項４】
請求項１記載のアミド化合物の有効量を植物又は植物の生育する土壌に処理する植物病害の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミド化合物及びその植物病害防除用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、植物病害を防除するための薬剤の開発が行われ、植物病害に防除活性のある化合物が数多く見出されているが、その効力は必ずしも十分でない場合がある。新規の植物病害防除活性化合物の開発が求められている。
【特許文献１】国際特許出願公開明細書  ＷＯ２００４／０５８６８５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、優れた植物病害防除効力を有するアミド化合物及び植物病害防除剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討をした結果、下記式（１）で示されるアミド化合物が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式（１）
2006117540.tif 000002
［式中、Ｑはハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい５員又は６員のヘテロアリール基を表し、Ｒ4はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ5はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表す。］
で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有する植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物又は植物の生育する土壌に処理する植物病害の防除方法を提供する。
【発明の効果】
【０００５】
本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明において、式（１）における置換基について、下記に詳細に記す。
Ｑで示されるハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい５員のヘテロアリール基における５員のヘテロアリール基としては、例えばピロリル基、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テロラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基及びオキサジアゾリル基が挙げられ；
Ｑで示されるハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい６員のヘテロアリール基としては、例えばピリジル基、ピリミジニル基及びピリダジニル基が挙げられ；
該５員または６員のヘテロアリール基としては、より具体的には下記の式（ａ）〜（ａｄ）で示される基が挙げられる。
【０００７】
2006117540.tif 000003
【０００８】
2006117540.tif 000004
【０００９】
Ｑで示されるハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい５員又は６員のヘテロアリール基における、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられ、Ｃ１−Ｃ５アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基が挙げられ、Ｃ１−Ｃ５アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基が挙げられる。
【００１０】
Ｒ4で示されるＣ１−Ｃ４アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基である。
【００１１】
Ｒ5で示されるＣ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基及び３−ブチニル基が挙げられる。
【００１２】
本発明化合物としては、例えば以下の態様の化合物が挙げられる。
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい５員のヘテロアリール基である式（１）で示されるアミド化合物；
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい６員のヘテロアリール基である式（１）で示されるアミド化合物；
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい下記のＡ群の５員又は６員のヘテロアリール基である式（１）で示されるアミド化合物
Ａ群：
ピロリル基、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テロラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基；ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基；
Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい下記の式（ａ）〜（ａｄ）で示される基である式（１）で示されるアミド化合物；
【００１３】
2006117540.tif 000005
【００１４】
2006117540.tif 000006
【００１５】
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよいフリル基である式（１）で示されるアミド化合物；
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよいピロリル基である式（１）で示されるアミド化合物；
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよいオキサゾリル基である式（１）で示されるアミド化合物；
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよいピラゾリル基である式（１）で示されるアミド化合物；
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよいイミダゾリル基である式（１）で示されるアミド化合物；
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよいピリジル基である式（１）で示されるアミド化合物；
式（１）において、Ｑがハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよいピリミジニル基である式（１）で示されるアミド化合物；
【００１６】
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がメチル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ4がエチル基であるアミド化合物；
【００１７】
式（１）において、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるアミド化合物；
式（１）において、Ｒ5が２−プロピニル基であるアミド化合物；
【００１８】
式（１）において、Ｘが酸素原子であるアミド化合物。
【００１９】
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は例えば以下の（製造法Ａ）、（製造法Ｂ）、（製造法Ｃ）、（製造法Ｄ）及び／又は（製造法Ｅ）により製造することができる。
【００２０】
（製造法Ａ）
本発明化合物のうち、Ｘが酸素原子である式（１−１）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2006117540.tif 000007
〔式中、Ｒ4、Ｒ5及びＱは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
式（３）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（２）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、下記のような後処理操作を行うことにより、式（１−１）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）又は塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄した後、該有機層を乾燥、濃縮する。
（ｉｉ）反応混合物に水を加えた後に、該混合物を減圧下で有機溶媒を留去し、生じた固体を濾集する。
単離された式（１−１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２１】
（製造法Ｂ）
本発明化合物のうち、Ｘが酸素原子である式（１−１）で示される化合物は、式（２）で示される化合物又はその塩酸塩と、式（４）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することもできる。
2006117540.tif 000008
〔式中、Ｒ4、Ｒ5及びＱは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
式（４）で示される化合物１モルに対して、式（２）で示される化合物又はその塩酸塩が通常１〜３モルの割合、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、下記のような後処理操作を行うことにより、式（１−１）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）又は塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄した後、該有機層を乾燥、濃縮する。
（ｉｉ）反応混合物に水を加えた後に、該混合物を減圧下で有機溶媒を留去し、生じた固体を濾集する。
単離された式（１−１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２２】
（製造法Ｃ）
本発明化合物のうち、Ｘが硫黄原子である式（１−４）で示される化合物は、例えば式（１−１）で示される化合物を２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（以下、ローソン試薬と記す。）と反応させることにより製造することができる。
2006117540.tif 000009
〔式中、Ｒ4、Ｒ5及びＱは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
式（１−１）で示される化合物１モルに対して、ローソン試薬が通常１〜１０モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−４）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２３】
式（１）において、Ｑで示されるハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で選ばれる置換基で置換されていてもよい５員又は６員のヘテロアリール基を、後で構築することにより、本発明化合物を製造することもできる。
（製造法Ｄ−１）
本発明化合物のうち、Ｑがオキサゾリル基である式（１−２）で示される化合物は、式（５）で示される化合物と式（６）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2006117540.tif 000010
〔式中、Ｒ4、Ｒ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
式（５）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜５モルの割合、式（６）で示される化合物が通常１〜３モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄した後、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２４】
（製造法Ｄ−２）
本発明化合物のうち、Ｑがピリミジニル基である式（１−３）で示される化合物は、式（７）で示される化合物と式（８）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
2006117540.tif 000011
〔式中、Ｒ4、Ｒ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばホルムアミドが挙げられる。
式（７）で示される化合物１モルに対して、式（８）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常１００〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄した後、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２５】
（製造法Ｅ）
本発明化合物のうち、ＱがＱ1である式（１−５）で示される化合物は、式（３６）で示される化合物と式（１６）で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
2006117540.tif 000012
〔式中、Ｑ1は環上の炭素原子上に結合位置がある、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で置換されていてもよい５員又は６員のヘテロアリール基を表し、Ｌ2は塩素原子、臭素原子又はメタンスルホニルオキシ基を表し、Ｒ4及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、溶媒の存在下で行うこともできる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
式（３６）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１６）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を、必要に応じて有機溶媒を加えた後に、濾過し、該濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−５）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２６】
次に、本発明化合物を製造する為の製造中間体の製造法について説明する。
式（３）で示される化合物及び式（４）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006117540.tif 000013
〔式中、Ｒ10はメチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｌ1は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｌ2は塩素原子、臭素原子又はメタンスルホニルオキシ基を表し、Ｒ4及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
【００２７】
工程（Ｉ−１）
式（１２）で示される化合物は、式（１０）で示される化合物と式（１１）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下に反応を行うこともできる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
式（１０）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１１）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２８】
工程（Ｉ−２）
式（１４）で示される化合物は、式（１２）で示される化合物と式（１３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシドが挙げられる。
式（１２）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１３）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２９】
工程（Ｉ−３）
式（１５）で示される化合物は、式（１４）で示される化合物と水素とを、水素添加触媒の存在下、反応させることにより製造することができる。
該反応は通常１〜１００気圧の水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素添加触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
式（１４）で示される化合物１モルに対して、水素が通常１モルの割合、水素化触媒の量が通常０．００１〜０．５モルの割合で用いられる。
該反応は、必要に応じて酸（塩酸等）を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、該濾液に有機溶媒を加えて、水層を分離し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１５）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３０】
工程（Ｉ−４）
式（１７）で示される化合物は、式（１５）で示される化合物と式（１６）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下で行うこともできる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
式（１５）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１６）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えた後に、濾過し、該濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１７）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３１】
工程（Ｉ−５）
式（４）で示される化合物は、式（１７）で示される化合物と水とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は有機溶媒の存在下で行うこともできる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
式（１７）で示される化合物１モルに対して、水が通常１モル〜過剰量の割合、塩基が通常１〜１０モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００３２】
工程（Ｉ−６）
式（３）で示される化合物は、式（４）で示される化合物と塩素化剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下で行うこともできる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル及びオキシ塩化リンが挙げられる。
式（４）で示される化合物１モルに対して、塩素化剤が通常１〜１０モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常３０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物をそのまま濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３）で示される化合物は、通常精製することなく次の工程の反応に用いられるが、必要により蒸留等により精製することができる。
【００３３】
式（５）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006117540.tif 000014
〔式中、Ｒ4及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
【００３４】
工程（II−１）：式（３）で示される化合物を用いる場合
式（１９）で示される化合物は、式（１８）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
式（３）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１８）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１９）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１９）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３５】
工程（II−１）：式（４）で示される化合物を用いる場合
式（１９）で示される化合物は、式（１８）で示される化合物と式（４）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、ＷＳＣ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
式（４）で示される化合物１モルに対して、式（１８）で示される化合物又が通常１〜３モルの割合、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、下記のような後処理操作を行うことにより、式（１９）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）又は塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄した後、該有機層を乾燥、濃縮する。
（ｉｉ）反応混合物に水を加えた後に、該混合物を減圧下で有機溶媒を留去し、生じた固体を濾集する。
単離された式（１９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３６】
工程（II−２）
式（５）で示される化合物は、式（１９）で示される化合物と酸とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸類、硫酸、塩酸等の鉱酸類、酢酸等のカルボン酸類が挙げられる。
式（１９）で示される化合物１モルに対して、酸が通常０．００１〜１モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（５）で示される化合物は、溶媒洗浄、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３７】
式（７）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006117540.tif 000015
〔式中、Ｒ4及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
【００３８】
工程（III−１）：式（３）で示される化合物を用いる場合
式（２１）で示される化合物は、式（２０）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
式（３）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（２０）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２１）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３９】
工程（III−１）：式（４）で示される化合物を用いる場合
式（２１）で示される化合物は、式（２０）で示される化合物と式（４）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、ＷＳＣ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
式（４）で示される化合物１モルに対して、式（２０）で示される化合物又が通常１〜３モルの割合、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、下記のような後処理操作を行うことにより、式（２１）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）又は塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄した後、該有機層を乾燥、濃縮する。
（ｉｉ）反応混合物に水を加えた後に、該混合物を減圧下で有機溶媒を留去し、生じた固体を濾集する。
単離された式（２１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４０】
工程（III−２）
式（７）で示される化合物は、式（２１）で示される化合物と酸とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸類、硫酸、塩酸等の鉱酸類、酢酸等のカルボン酸類が挙げられる。
式（２１）で示される化合物１モルに対して、酸が通常０．００１〜１モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（７）で示される化合物は、洗浄、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４１】
式（２）で示される化合物は、例えば式（３０）で示される化合物と還元剤とを反応させることにより製造することができる。
2006117540.tif 000016
〔式中、Ｑは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド等の金属水素化物が挙げられる。
還元剤の種類により必要な還元剤の理論量は異なるが、式（３０）で示される化合物１モルに対して、還元剤が通常０．５〜５モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を必要に応じて塩基性水（水酸化ナトリウム水溶液等）で洗浄した後、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製することもできる。また、式（２）で示される化合物は、塩酸塩の形態で単離することもできる。
【００４２】
式（２）で示される化合物は下記のスキームにしたがって製造することもできる。
2006117540.tif 000017
〔式中、Ｑは前記と同じ意味を表し、Ｌ3は塩素原子又は臭素原子を表す。〕
【００４３】
工程（ＩＶ−１）
式（３２）で示される化合物は，式（３１）で示される化合物とフタルイミドカリウムとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
式（３１）で示される化合物１モルに対して、フタルイミドカリウムが通常１〜３モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３２）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４４】
工程（ＩＶ−２）
式（２）で示される化合物は、式（３２）で示される化合物とヒドラジンとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるヒドラジンは、ヒドラジンそのものでも、その水和物でもよい。
式（３２）で示される化合物１モルに対して、ヒドラジンは通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液に水を加えた後に有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製することもできる。また、式（２）で示される化合物は、塩酸塩の形態で単離することもできる。
【００４５】
式（２）で示される化合物は下記のスキームにしたがって製造することもできる。
2006117540.tif 000018
〔式中、Ｑは前記と同じ意味を表す。〕
【００４６】
工程（Ｖ−１）
式（３４）で示される化合物は，式（３３）で示される化合物とヒドロキルアミンとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるヒドロキシルアミンは、ヒドロキシルアミンそのものでも、その塩酸塩等の塩でもよい。
式（３３）で示される化合物１モルに対して、ヒドロキシルアミンが通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して、有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより式（３４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３４）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４７】
工程（Ｖ−２）
式（２）で示される化合物は、式（３４）で示される化合物と水素とを、水素添加触媒の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は通常１〜１００気圧の水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素添加触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
式（３４）で示される化合物１モルに対して、水素が通常１モルの割合、水素添加触媒が通常０．００１〜０．５モルの割合で用いられる。
該反応は、必要に応じて酸（塩酸等）を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、該濾液に有機溶媒を加えて、水層を分離し、該有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。また、式（２）で示される化合物は、塩酸塩の形態で単離することもできる。
【００４８】
式（２）で示される化合物は、例えば式（３５）で示される化合物と水とを、強酸の存在下に反応させることにより製造することもできる。
2006117540.tif 000019
〔式中、Ｑは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下に反応を行うことができる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸等の有機酸、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる強酸としては、トリフルオロ酢酸等のハロゲン化酢酸、塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
式（３５）で示される化合物１モルに対して、水が１モル〜過剰量の割合、強酸が通常０．１〜５０モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物をそのまま濃縮する等の操作を行うことにより、式（２）で示される化合物またはその塩を単離することができる。単離された式（２）で示される化合物は再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４９】
式（３０）で示される化合物は、市販されているか、公知の方法により製造することができる。例えば、４−ブロムベンゾニトリルとヘテロアリール錫化合物（ｅｘ．Ｑ1−ＳｎＢｕ3；Ｑ1は環上の炭素原子上に結合位置がある、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で置換されていてもよい５員又は６員のヘテロアリール基を表す。）とをパラジウム化合物存在下に反応させる方法（参考例２３を参照。）や、４−ブロムベンゾニトリルとヘテロアリール化合物（ｅｘ．Ｑ2−Ｈ；Ｑ2は環上の窒素原子上に結合位置がある、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ５アルキル基及びＣ１−Ｃ５アルコキシ基で置換されていてもよい５員又は６員のヘテロアリール基で表す。）とを、塩基の存在下に反応させる方法で製造することができる。
【００５０】
式（３１）で示される化合物は、市販されているか、公知の方法により製造することができる。
【００５１】
式（３３）で示される化合物は、市販されているか、公知の方法により製造することができる。例えば、４−ブロムベンズアルデヒドとヘテロアリールボロン酸化合物（ｅｘ．Ｑ1−Ｂ（ＯＨ）2；Ｑ1は前記と同じ意味を表す。）とをパラジウム化合物存在下に反応させる方法（参考例１３を参照。）や、４−ブロムベンズアルデヒドとヘテロアリール化合物（ｅｘ．Ｑ2−Ｈ；Ｑ2は前記と同じ意味を表す。）とを、塩基の存在下に反応させる方法（参考例１６を参照。）で製造することができる。
【００５２】
式（３５）で示される化合物は、市販されているか、公知の方法により製造することができる。例えば、（４−ブロムベンジル）カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチルとヘテロアリール錫化合物（ｅｘ．Ｑ1−ＳｎＢｕ3；Ｑ1は前記と同じ意味を表す。）又はヘテロアリールボロン酸化合物（ｅｘ．Ｑ1−Ｂ（ＯＨ）2；Ｑ1は前記と同じ意味を表す。）とをパラジウム化合物の存在下に反応させる方法（参考例２１及び２２を参照。）で製造することができる。
【００５３】
式（３６）で示される化合物は、式（３７）で示される化合物と式（３８）で示される化合物とをパラジウム化合物の存在下で反応させることにより製造することができる。
2006117540.tif 000020
〔式中、Ｒ4、Ｌ1及びＱ1は前記と同じ意味を表す。〕
【００５４】
式（３７）で示される化合物は、例えば国際特許出願公開明細書  ＷＯ２００４／０５８６８５に記載された化合物であるか、あるいは該特許に記載された方法に準じて製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、２−プロパノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられるパラジウム化合物としては、酢酸パラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、｛１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム塩化メチレン錯体及びビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロライド等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（３７）で示される化合物１モルに対して式（３８）で示される化合物が通常０．５〜５モルの割合であり、パラジウム化合物が通常０．００１〜０．１モルの割合である。
該反応には必要に応じて塩基（酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸カリウム、リン酸三カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基があげられる。）及び／または相間移動触媒（テトラブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩があげられる。）の存在下で行うこともできる。
該反応の反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常５０〜１２０℃の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の後処理操作を行うことにより、式（３６）で示される化合物を単離することができる。
（i）反応混合物を有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ii）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えた後、濾過し、濾液を濃縮する方法。
単離された式（３６）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５５】
本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害が挙げられ、具体的には例えば次の病害が挙げられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophthora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。
【００５６】
本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものでもよいが、固体担体及び／又は液体担体、必要に応じて界面活性剤やその他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等の形態に製剤化されたものも含む。これらの製剤においては、通常０．１〜９０重量％の本発明化合物を含有する。
【００５７】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げられ、液体担体としては、例えば、キシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル及び水が挙げられる。
【００５８】
界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられる。
【００５９】
その他の製剤用補助剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤が挙げられる。
【００６０】
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより、当該植物を植物病害から保護することができる。また、本発明の植物病害防除剤を土壌に処理することにより、当該土壌に生育する植物を植物病害から保護することができる。
【００６１】
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理する場合又は土壌に処理する場合、その処理量は防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ2あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇの範囲である。
【００６２】
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常を水で希釈した後に散布する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま散布する。
【００６３】
本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等における植物の病害を防除する。
【００６４】
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。種子消毒の方法としては、例えば、本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する；本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を植物の種子に噴霧もしくは塗沫する；及び植物の種子に粉剤形態の本発明の植物病害防除剤を粉衣する等の方法があげられる。
【００６５】
本発明の植物病害防除方法は、本発明化合物の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／又は病害の発生した植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。
【００６６】
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／又は肥料と共に用いることもできる。
【００６７】
かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ボスカリド、フェンヘキサミド、キノキシフェン、プロキナジット、ジエトフェンカルブ、アシベンゾラールＳメチル、グアザチン及びペンチオピラドが挙げられる。
【００６８】
本発明化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
式（i）〜（xii）で示されるアミド化合物
【００６９】
2006117540.tif 000021
式（i）〜（xii）において、Ｚは以下に示される群より選ばれるいずれかの基を表す。
４−（ピロール−１−イル）フェニル基、４−（３−メチル−ピロール−１−イル）フェニル基、４−（フラン−３−イル）フェニル基、４−（フラン−２−イル）フェニル基、４−（５−メチル−フラン−２−イル）フェニル基、４−（４−メチル−フラン−２−イル）フェニル基、４−（チオフェン−３−イル）フェニル基、４−（４−メチル−チオフェン−３−イル）フェニル基、４−（２−メチル−チオフェン−３−イル）フェニル基、４−（チオフェン−２−イル）フェニル基、４−（５−クロロ−チオフェン−２−イル）フェニル基、４−（４−メチル−チオフェン−２−イル）フェニル基、４−（３−ブロモ−チオフェン−２−イル）フェニル基、４−（１−メチル−ピラゾール−４−イル）フェニル基、４−（１−メチル−ピラゾール−５−イル）フェニル基、４−（ピラゾール−１−イル）フェニル基、４−（イミダゾール−１−イル）フェニル基、４−（１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル基、４−（１，２，４−トリアゾール−４−イル）フェニル基、４−（テトラゾール−１−イル）フェニル基、
４−（テトラゾール−２−イル）フェニル基、４−（オキサゾール−５−イル）フェニル基、４−（オキサゾール−２−イル）フェニル基、４−（オキサゾール−４−イル）フェニル基、４−（チアゾール−５−イル）フェニル基、４−（チアゾール−２−イル）フェニル基、４−（チアゾール−４−イル）フェニル基、４−（１，２，４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル基、４−（１，２，４−オキサジアゾール−５−イル）フェニル基、４−（ピリジン−２−イル）フェニル基、４−（５−メチル−ピリジン−２−イル）フェニル基、４−（６−メトキシ−ピリジン−２−イル）フェニル基、４−（ピリジン−３−イル）フェニル基、４−（２−クロロ−ピリジン−３−イル）フェニル基、
４−（４−メトキシ−ピリジン−３−イル）フェニル基、４−（５−ブロモ−ピリジン−３−イル）フェニル基、４−（６−フルオロ−ピリジン−３−イル）フェニル基、４−（ピリジン−４−イル）フェニル基、４−（５−メチル−ピリジン−４−イル）フェニル基、４−（６−クロロ−ピリジン−４−イル）フェニル基、
４−（ピリミジン−２−イル）フェニル基、４−（ピラジン−２−イル）フェニル基、４−（ピリミジン−３−イル）フェニル基、４−（ピリダジン−２−イル）フェニル基、４−（ピリミジン−５−イル）フェニル基４−（２−メトキシ−ピリミジン−５−イル）フェニル基４−（ピリダジン−３−イル）フェニル基。及び４−（６−クロロ−ピリダジン−３−イル）フェニル基。
【実施例】
【００７０】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
【００７１】
製造例１
Ｎ−（４−ホルミルベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド０．５ｇ、p−トルエンスルホニルイソシアニド０．３３g、炭酸カリウム０．２６g及びメタノール１０mlの混合物を、還流下で３時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、Ｎ−｛４−（オキサゾール−５−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物１と記す。）０．４６ｇを得た。
本発明化合物１
2006117540.tif 000022
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.90 (1H, s), 7.58 (2H, d, J=8.1Hz), 7.34 (1H, s), 7.19 (2H, d, J=8.1Hz), 6.94 (1H, d, J=8.3Hz), 6.72-6.75 (2H, m), 5.63 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4Hz), 4.12 (2H, d, J=5.5Hz), 3.82 (3H, s), 2.96 (2H, t, J=7.5Hz), 2.53 (2H, t, J=7.5Hz), 2.48 (1H, t, J=2.4Hz)
【００７２】
製造例２
４−（ピラゾール−１−イル）ベンジルアミン２６０ｍｇ、トリエチルアミン１６７ｍｇ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合物に、氷冷下で３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物３７９ｍｇのテトラヒドロフラン溶液を滴下し、更に室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物を水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、Ｎ−｛４−（ピラゾール−１−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物２と記す。）４４８ｍｇを得た。
本発明化合物２
2006117540.tif 000023
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.92 (1H, dd, J=2.4Hz, 0.8Hz), 7.71 (1H, d, J=1.6Hz),  7.62 (2H, d, J=8.4Hz), 7.21 (2H, d, J=8.8Hz), 6.94 (1H, d, J=8.4Hz), 6.70-6.77 (2H, m), 6.44-6.48 (1H, m), 5.63 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4Hz), 4.43 (2H, d, J=5.6Hz), 3.81 (3H, s), 2.96 (2H, t, J=7.6Hz), 2.52 (2H, t, J=7.6Hz), 2.48 (1H, t, J=2.4Hz)
【００７３】
製造例３
４−（ピリジン−４−イル）ベンジルアミン塩酸塩０．３７ｇ、トリエチルアミン０．６６ｍｌ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合物に、氷冷下で３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物０．３０ｇとテトラヒドロフラン約５ｍｌの混合物を徐々に加え、更に室温で５時間攪拌した。その後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水で２回、及び飽和食塩水で１回順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、Ｎ−｛４−（ピリジン−４−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物３と記す。）０．１６ｇを得た。
本発明化合物３
2006117540.tif 000024
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm):8.64-8.66 (2H, m), 7.57 (2H, d, J=8.1Hz), 7.48-7.50 (2H, m), 7.24 (2H, d, J=8.1Hz), 6.95 (1H, d, J=7.9Hz), 6.74-6.76 (2H, m), 5.70 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4Hz), 4.46 (2H, d, J=5.5Hz), 3.81 (3H, s), 2.97 (2H, t, J=7.5Hz), 2.54 (2H, t, J=7.5Hz), 2.46 (1H, t, J=2.4Hz)
【００７４】
製造例４
４−（イミダゾール−３−イル）ベンジルアミン塩酸塩０．３５ｇおよび３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物０．３０ｇを使用し、製造例３と同様の方法により、Ｎ−｛４−（イミダゾール−３−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物４と記す。）０．１６ｇを得た。
本発明化合物４
2006117540.tif 000025
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.83 (1H, s), 7.26-7.32 (3H, m), 7.19-7.21 (3H, m), 6.96 (1H, d, J=8.7Hz), 6.73-6.76 (2H, m), 5.78 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4Hz), 4.43 (2H, d, J=5.9Hz), 3.80 (3H, s), 2.97 (2H, t, J=7.5Hz), 2.54 (2H, t, J=7.5Hz), 2.47 (1H, t, J=2.4Hz)
【００７５】
製造例５
４−（ピロール−１−イル）ベンジルアミン塩酸塩１．０ｇおよび３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物１．２ｇを使用し、製造例３と同様の方法により、Ｎ−｛４−（ピロール−１−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物５と記す。）１．６ｇを得た。
本発明化合物５
2006117540.tif 000026
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm):7.32 (2H, d, J=8.5Hz), 7.18 (2H, d, J=8.5Hz), 7.07 (2H, t, J=2.2Hz), 6.95 (1H, d, J=8.3Hz), 6.73-6.75 (2H, m), 6.34 (2H, t, J=2.2Hz), 5.64 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4Hz), 4.41 (2H, d, J=5.9Hz), 3.81 (3H, s), 2.96 (2H, t, J=7.5Hz), 2.52 (2H, t, J=7.5Hz), 2.43 (1H, t, J=2.4Hz)
【００７６】
製造例６
Ｎ−（４−アセチルベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド２．７ｇ、ｔｒｉｓ−ホルムアミノメタン２．１ｇおよびホルムアミド３０ｍｌの混合物を１６０℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物を氷冷し、３％水酸化ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、更にエタノールから再結晶を行い、Ｎ−｛４−（ピリミジン−４−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物６と記す。）０．３７ｇを得た。
本発明化合物６
2006117540.tif 000027
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.26 (1H, d, J=1.2Hz), 8.77 (1H, d, J=5.5Hz), 8.02 (2H, d, J=8.3Hz), 7.22 (1H, dd, J=5.5Hz,1.2Hz), 7.26 (2H, d, J=8.3Hz), 6.95 (1H, d, J=7.9Hz), 6.72-6.76 (2H, m), 5.70 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4Hz), 4.48 (2H, d, J=5.9Hz), 3.81 (3H, s), 2.97 (2H, t, J=7.5Hz), 2.55 (2H, t, J=7.5Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4Hz)
【００７７】
製造例７
｛４−（ピリジン−２−イル）ベンジル｝カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル０．４３ｇ、トリフルオロ酢酸０．２３ｍｌ、酢酸１０ｍｌおよび水５ｍｌの混合物を６０℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下に濃縮した。得られた残渣、トリエチルアミン０．６ｍｌ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合物に氷冷下で３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物０．２８ｇとテトラヒドロフラン約５ｍｌの混合物を徐々に加え、更に室温で２時間攪拌した。その後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水、飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛４−（ピリジン−２−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物７と記す。）０．３５ｇを得た。
本発明化合物７
2006117540.tif 000028
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 8.68-8.69 (1H, m), 7.93 (2H, d, J=8.7Hz), 7.71-7.77 (2H, m), 7.21-7.26 (3H, m), 6.95 (1H, d, J=7.9Hz), 6.73-6.77 (2H, m), 5.67 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4Hz), 4.46 (2H, d, J=5.9Hz), 3.83 (3H, s), 2.97 (2H, t, J=7.5Hz), 2.53 (2H, t, J=7.5Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4Hz)
【００７８】
製造例８
｛４−（ピリジン−３−イル）ベンジル｝カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル０．５０ｇを使用し、製造例７と同様の方法により、Ｎ−｛４−（ピリジン−３−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物８と記す。）０．３５ｇを得た。
本発明化合物８
2006117540.tif 000029
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 8.74 (1H, d, J=1.6Hz), 8.56 (1H, dd, J=4.7Hz,1.6Hz), 7.84-7.87 (1H, m), 7.48 (2H, d, J=8.3Hz), 7.36 (1H, ddd, J=7.9Hz,4.7Hz,0.8Hz), 7.23 (2H, d, J=8.3Hz), 6.94 (1H, d, J=7.9Hz), 6.72-6.76 (2H, m), 6.13 (1H, br.s), 4.72 (2H, d, J=2.4Hz), 4.45 (2H, d, J=5.9Hz), 3.79 (3H, s), 2.97 (2H, t, J=7.5Hz), 2.54 (2H, t, J=7.5Hz), 2.47 (1H, t, J=2.4Hz)
【００７９】
製造例９
４−（フラン−２−イル）ベンジルアミン塩酸塩０．７４ｇおよび３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物０．７０ｇを使用し、製造例３と同様の方法により、Ｎ−｛４−（フラン−２−イル）ベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド（以下、本発明化合物９と記す。）０．６２ｇを得た。
本発明化合物９
2006117540.tif 000030
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.60 (2H, d, J=8.6Hz), 7.46-7.46 (1H, m), 7.16 (2H, d, J=8.6Hz), 6.94 (1H, d, J=7.9Hz), 6.72-6.76 (2H, m), 6.64 (1H, d, J=3.6Hz), 6.47 (1H, dd, J=3.6Hz,2.0Hz), 5.61 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4Hz), 4.40 (2H, d, J=5.5Hz), 3.82 (3H, s), 2.96 (2H, t, J=7.5Hz), 2.51 (2H, t, J=7.5Hz), 2.48 (1H, t, J=2.4Hz)
【００８０】
次に本発明化合物の製造中間体の製造例を、参考例として記す。
参考例１
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）アクリル酸５０ｇ、５％パラジウム炭素０．５ｇ、３６％塩酸約０．０５ｇ、エタノール２５０ml及びテトラヒドロフラン１００mlの混合物を、水素雰囲気下で撹拌した。水素ガスの吸収が停止した後、反応混合物を濾過した。濾液を減圧下に濃縮し、３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸５２ｇを得た。
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸
2006117540.tif 000031
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.83（1H, dd, J=7.3Hz、0.8Hz）、6.70〜6.81（2H, m）、3.86（3H, s）、2.88（2H, t, J=7.6Hz）、2.65（2H, t, J=7.6Hz）
【００８１】
参考例２
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸５０ｇ、臭化プロパルギル５０ml、炭酸カリウム８８ｇ及びアセトニトリル５００mlの混合物を８０℃で３時間撹拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷し、酢酸エチルを加え、濾過した。濾液を減圧下に濃縮し、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２−プロピニル６７ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２−プロピニル
2006117540.tif 000032
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.96（1H, d, J=7.8Hz）、6.68〜6.75（2H, m）、4.73（2H, d, J=2.2Hz）、4.68（2H, d, J=2.2Hz）、3.87（3H, s）、2.93（2H, ｔ, J=7.3Hz）、2.67（2H, t, J=7.3Hz）、2.47〜2.50（2H, m）
【００８２】
参考例３
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２−プロピニル６７ｇ、水酸化リチウム８．０８ｇ、テトラヒドロフラン４００ml及び水２００mlの混合物を６５℃で３時間撹拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷し、水を加え、減圧下に濃縮した。残渣に５％塩酸を加え、クロロホルムで３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸５１ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2006117540.tif 000033
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.96（1H, d, J=8.2Hz）、6.73〜6.75（2H, m）、4.73（2H, d, J=2.4Hz）、3.85（3H, s）、2.91（2H, t, J=8Hz）、2.67（2H, t, J=8Hz）、2.49（1H, t, J=2.4Hz）
【００８３】
参考例４
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸１２．７ｇ、塩化チオニル４．３ml、トルエン１００ml及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド約０．０５ｇの混合物を８０℃で３０分間撹拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷し、減圧下に濃縮し、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物１４．６ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物
2006117540.tif 000034
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.97（1H, d ,J=8.8Hz）、6.72〜6.74（2H, m）、4.73（2H, d, J=2.4Hz）、3.87（3H, s）、3.19（2H, ｔ, J=7.2Hz）、2.99（2H, t, J=7.2Hz）、2.49（1H, t, J=2.4Hz）
【００８４】
参考例５
４−シアノアセトフェノン１０ｇ、エチレングリコール６．４ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸約０．１ｇおよびトルエン１５０ｍｌの混合物を、系より脱水を行いながら還流条件下で３時間攪拌した。更に、エチエングルコール５ｍｌを加え、系より脱水を行いながら還流条件下で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、４−（２−メチル−［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンゾニトリル１１ｇを得た。
４−（２−メチル−［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンゾニトリル
2006117540.tif 000035
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.58-7.65 (4H, m), 4.02-4.15 (2H, m), 3.71-3.86 (2H, m), 1.63 (3H, s)
【００８５】
参考例６
リチウムアルミニウムハイドライド４．４ｇをテトラヒドロフラン１５０ｍｌに混合し、４−（２−メチル−［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンゾニトリル１０ｇとテトラヒドロフラン３０ｍｌの混合物を徐々に加えた。混合物を還流条件下で２時間攪拌した。反応混合物を、室温に冷却し、２０％水酸化ナトリウム水溶液９ｍｌおよび水１１ｍｌを徐々に加え、室温で１時間攪拌し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、４−（２−メチル−［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンジルアミン１１ｇを得た。
４−（２−メチル−［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンジルアミン
2006117540.tif 000036
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.44 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.28 (2H, d, J=8.1 Hz), 4.02-4.05 (2H, m), 3.86 (2H, s), 3.76-3.79 (2H, m), 1.65 (3H, s)1.46 (2H, br.s)
【００８６】
参考例７
４−（２−メチル−［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンジルアミン１０．７ｇ、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパン酸１１．８ｇ、ＷＳＣ１０．６ｇおよびジメチルホルムアミド１５０ｍｌの混合物を室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水、および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣にアセトン約１００ｍｌおよびｐ−トルエンスルホン酸約０．１ｇを加え、混合物を５０℃で３時間攪拌した。該混合物を冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて濃縮し、酢酸エチルを加え、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残査をヘキサンで洗浄し、Ｎ−（４−アセチルベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド１２．５ｇを得た。
Ｎ−｛４−アセチルベンジル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド
2006117540.tif 000037
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.87 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.20 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.94 (1H, d, J=7.5 Hz), 6.72-6.74 (2H, m), 5.73 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.50 (2H, d, J=6.3 Hz), 3.81 (3H, s), 2.59 (3H, s), 2.53 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.96 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.50 (1H, J=2.4 Hz)
【００８７】
参考例８
４−シアノベンズアルデヒド１１ｇ、エチレングリコール８．６ｇを使用し、参考例５と同様の方法により、４−（［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンゾニトリル１３ｇを得た。
４−（［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンゾニトリル
2006117540.tif 000038
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.67 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.59 (2H, d, J=8.4 Hz), 5.85 (1H, s), 4.09-4.11 (2H, m), 4.05-4.07 (2H, m)
【００８８】
参考例９
リチウムアルミニウムハイドライド５．５ｇ及び４−（［１，３］ジオキソラン−２イル）−ベンゾニトリル１３ｇを使用し、参考例６と同様の方法により、４−（［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンジルアミン１３ｇを得た。
４−（［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンジルアミン
2006117540.tif 000039
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.44 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.32 (2H, d, J=8.0 Hz), 5.80 (1H, s), 4.07-4.16 (2H, m), 4.01-4.05 (2H, m), 3.88 (2H, s)1.43 (2H, br.s)
【００８９】
製造例１０
４−（［１，３］ジオキソラン−２−イル）ベンジルアミン１３．０ｇ及び３−３−｛メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパン酸１５．５ｇを使用し、参考例７と同様の方法により、Ｎ−（４−ホルミルベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド１４．７ｇを得た。
Ｎ−（４−ホルミルベンジル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロパンアミド
2006117540.tif 000040
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.98 (1H, s), 7.79-7.81 (2H, m), 7.26-7.28 (2H, m), 6.35 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.71-6.75 (2H, m), 5.74 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.48 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s), 2.96 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.55 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz)
【００９０】
参考例１１
４−ブロモベンゾニトリル５．０ｇ、ピラゾール２．２ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルイミダゾリノン１００ｍｌの混合物に、水素化ナトリウム１．４４ｇを少しずつ加え、更に２０分間攪拌した。混合物に、ヨウ化銅（I）１．６ｇを加え、１３０℃で４時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で３回、水、飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−（イミダゾール−１−イル）ベンズアルデヒド２．８４ｇを得た。
４−（イミダゾール−１−イル）ベンズアルデヒド
2006117540.tif 000041
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.99 (1H, d, J=2.8Hz), 7.83-7.86 (2H, m), 7.78 (1H, d, J=1.6Hz) , 7.73-7.77 (2H, m), 6.54 (1H, dd, J=2.8Hz,1.6Hz),
【００９１】
参考例１２
水素化アルミニウムリチウム０．３３ｇおよびテトラヒドロフラン３０ｍｌの混合物に、氷冷下で４−ピラゾール−１−イル−ベンゾニトリル１．０ｇのテトラヒドロフラン溶液を滴下し、更に室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を０〜５℃に冷却し、苛性ソーダ水を滴下した。該混合物を濾過し、濾液を減圧下に濃縮した。残査にクロロホルムと水を加え、分液した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して、４−（ピラゾール−１−イル）ベンジルアミン０．８８ｇを得た。
４−（ピラゾール−１−イル）ベンジルアミン
2006117540.tif 000042
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.91 (1H, dd, J=2.6Hz, 0.8Hz), 7.72 (1H, d, J=1.2Hz) , 7.66 (2H, d, J=8.8Hz), 7.40 (2H, d, J=8.8Hz), 6.42-6.48 (1H, m), 3.91 (2H, s), 1.43 (2H, br.s)
【００９２】
参考例１３
４−ブロモベンズアルデヒド２．７８ｇ、４−ピリジンボロン酸１．８４ｇ、燐酸三カリウム水和物９．５５ｇ、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（II）塩化メチレン錯体３６７ｍｇおよびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル４０ｍｌの混合物を８０℃で６時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、濾過し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−（ピリジン−４−イル）ベンズアルデヒド１．５ｇを得た。
４−（ピリジン−４−イル）ベンズアルデヒド
2006117540.tif 000043
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 10.1 (1H, s), 8.70-8.75 (2H, m), 8.01 (2H, d, J=8.3Hz), 7.80 (2H, d, J=8.3Hz), 7.50-7.57 (2H, m)
【００９３】
参考例１４
４−（ピリジン−４−イル）ベンズアルデヒド１．５ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．７６g、ピリジン０．８１ｍｌおよびエタノール３０ｍｌの混合物を６０℃で８時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧下で濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、４−（ピリジン−４−イル）ベンズアルデヒドオキシム１．５ｇを得た。
４−（ピリジン−４−イル）ベンズアルデヒドオキシム
2006117540.tif 000044
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 11.4 (1H, s), 8.65 (2H, d, J=5.9Hz), 8.22 (1H, s), 7.86 (2H, d, J=8.7Hz), 7.73-7.75 (4H, m)
【００９４】
参考例１５
４−（ピリジン−４−イル）ベンズアルデヒドオキシム０．９３ｇ、１０％パラジウム炭素０．９ｇ、３６％塩酸約２ｍｌ、エタノール２０ｍｌの混合物を水素雰囲気下で攪拌した。水素ガスの吸収が停止した後、反応混合物を濾過し、濾液を減圧下に濃縮し、４−（ピリジン−４−イル）ベンジルアミン塩酸塩１．１ｇを得た。
４−（ピリジン−４−イル）ベンジルアミン塩酸塩
2006117540.tif 000045
1H-NMR (CD3SOCD3, TMS) δ (ppm): 8.93 (2H, d, J=6.3Hz), 8.69 (3H,br. s), 8.33 (2H, d, J=6.3Hz), 8.07 (2H, d, J=7.9Hz), 7.75 (2H, d, J=7.9Hz), 4.13 (2H, q, J=5.5Hz)
【００９５】
参考例１６
４−ブロモベンズアルデヒド５．５５ｇ、イミダゾール２．４５ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド１００ｍｌの混合物に、氷冷下で水素化ナトリウム１．４４ｇを少しずつ加え、更に３０分間攪拌した。該混合物にヨウ化銅（I）０．５７ｇを加え、１００〜１３０℃で６時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、水を加え、濾過した。濾液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−（イミダゾール−１−イル）ベンズアルデヒド０．７７ｇを得た。
４−（イミダゾール−１−イル）ベンズアルデヒド
2006117540.tif 000046
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 10.05 (1H, s), 8.02 (2H, d, J=8.5Hz), 7.97 (1H, s), 7.58 (2H, d, J=8.5Hz), 7.37-7.37 (1H, s), 7.26 (1H, s)
【００９６】
参考例１７
４−（イミダゾール−１−イル）ベンズアルデヒド０．７７ｇを使用して、参考例１４および参考例１５と同様の方法により、４−（イミダゾール−１−イル）ベンジルアミン塩酸塩０．５１ｇを得た。
４−（イミダゾール−１−イル）ベンジルアミン塩酸塩
2006117540.tif 000047
1H-NMR (CD3SOCD3, TMS) δ (ppm): 9.82 (1H, s), 8.80 (3H,br. s), 8.34 (1H, s) , 7.93 (1H, s), 7.89 (2H, d, J=8.5Hz), 7.97 (2H, d, J=8.5Hz), 4.10-7.12 (2H, m)
【００９７】
参考例１８
４−アミノベンゾニトリル５．０ｇおよび酢酸５０ｍｌの混合物に、２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン５．９ｇを徐々に加え、還流下で３時間攪拌した。反応混合物を放冷し、減圧下に濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−（ピロール−１−イル）ベンゾニトリル４．５ｇを得た。
４−（ピロール−１−イル）ベンゾニトリル
2006117540.tif 000048
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm):7.22 (2H, d, J=8.7Hz), 7.48 (2H, d, J=8.7Hz), 7.14 (2H, t, J=2.0Hz), 6.41 (2H, t, J=2.0Hz)
【００９８】
参考例１９
４−（ピロール−１−イル）ベンゾニトリル１．０ｇを使用し、参考例１２と同様の方法により、４−（ピロール−１−イル）ベンジルアミン１．０ｇを得た。
４−（ピロール−１−イル）ベンジルアミン
2006117540.tif 000049
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm):7.36 (4H, s), 7.08 (2H, t, J=2.4Hz), 6.34 (2H, t, J=2.4Hz), 3.90 (2H,br. s),
【００９９】
参考例２０
４−ブロムベンジルアミン１０ｇ、ジｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート１１ｇ、トリエチルアミン７．５ｍｌ、ジメチルアミノピリジン約１０ｍｇおよびテトラヒドロフラン１５０ｍｌの混合物を室温で４時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残査をヘキサンで洗浄し、（４−ブロムベンジル）カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル６．７ｇを得た。
（４−ブロムベンジル）カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル
2006117540.tif 000050
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm):7.44 (2H, d, J=8.1Hz), 7.15
(2H, d, J=8.1Hz), 4.89 (1H,br. s), 4.26 (2H,br. s) , 1.45 (9H, s)
【０１００】
参考例２１
（４−ブロムベンジル）カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル１．５ｇ、２−（トリブチル錫）ピリジン２．３ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．３ｇおよびキシレン３０ｍｌの混合物を還流下で４時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、｛４−（ピリジン−２−イル）ベンジル）カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル０．５０ｇを得た。
｛４−（ピリジン−２−イル）ベンジル）カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル
2006117540.tif 000051
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm):8.69 (1H, d, J=4.4Hz), 7.96 (2H, d, J=8.1Hz), 7.70-7.77 (2H, m), 7.39 (2H, d, J=8.1Hz), 7.21-7.24 (1H, m), 4.88 (1H, br.s), 4.37 (2H, d, J=5.1Hz), 1.47 (9H, s)
【０１０１】
参考例２２
（４−ブロムベンジル）カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル１．５ｇ、３−（ジエチルホウ素）ピリジン０．９２ｇ、｛１、１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（II）塩化メチレン錯体０．２１ｇ、燐酸三カリウムｎ水和物５．５ｇおよびジメトキシエタン３０ｍｌの混合物を８０℃で４時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、｛４−（ピリジン−２−イル）ベンジル｝カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル０．７４ｇを得た。
｛４−（ピリジン−２−イル）ベンジル｝カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル
2006117540.tif 000052
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm):8.84 (1H, d, J=2.4Hz), 8.59 (1H, dd, J=4.7Hz,1.6Hz), 7.84-7.87 (1H, m), 8.55 (2H, d, J=7.9Hz), 7.40 (2H, d, J=7.9Hz), 7.34-7.38 (1H, m), 4.89 (1H, br.s), 4.38 (2H, d, J=5.5Hz), 1.48 (9H, s)
【０１０２】
参考例２３
４−ブロムベンゾニトリル１．５ｇ、２−（トリブチル錫）フラン３．５ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４７ｇおよびキシレン３０ｍｌの混合物を還流下で４時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−（フラン−２−イル）ベンゾニトリル０．５１ｇを得た。
４−（フラン−２−イル）ベンゾニトリル
2006117540.tif 000053
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.74 (2H, d, J=8.5Hz), 7.65 (2H, d, J=8.5Hz), 7.54 (1H, d, J=1.6Hz), 6.81 (1H, d, J=3.8Hz), 6.53 (1H, dd, J=3.6Hz,1.6Hz)
【０１０３】
参考例２４
４−フラン−２−イル−ベンゾニトリル０．５１ｇを使用し、参考例１２と同様の方法により、４−（フラン−２−イル）ベンジルアミン０．５２ｇを得た。
４−（フラン−２−イル）ベンジルアミン
2006117540.tif 000054
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.64 (2H, d, J=8.1Hz), 7.46-7.46 (1H, m), 7.65 (2H, d, J=8.1Hz), 6.62-6.63 (1H, m), 6.47 (1H, dd, J=3.2Hz,1.6Hz)
【０１０４】
次に製剤例を示す。部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物１〜９の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
【０１０５】
製剤例２
本発明化合物１〜９の各々２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコ−ル２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル１０部を加えて攪拌混合し各々のフロアブル製剤を得る。
【０１０６】
製剤例３
本発明化合物１〜９の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。
【０１０７】
製剤例４
本発明化合物１〜９の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。
【０１０８】
製剤例５
本発明化合物１〜９の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレ−６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。
【０１０９】
製剤例６
本発明化合物１〜９の各々１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。
【０１１０】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。
【０１１１】
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物１、２、３、５、６，７、８及び９の各々を製剤例６に準じて製剤とした後、水で所定濃度（５００ｐｐｍ）に希釈し、希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室で４日間栽培した。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物１、２、３、５、６，７、８及び９を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１１２】
試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種：ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物１、２，３，４，５，６，７、８及び９の各々を製剤例６に準じて製剤とした後、水で所定濃度（２００ｐｐｍ）に希釈し、希釈液をブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物１、２，３，４，５，６，７、８及び９を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。