(57)【要約】【課題】  本発明は、感光基板の搭載する向きを変えることなく露光できるように、Ｘ方向又はＹ方向のどちらにも基板ステージと同期して走査が可能なマスクステージ部を備えた走査型露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】  マスクステージに保持されたマスクのパターンを基板ステージに保持された感光基板上に走査しながら転写する走査型露光装置において、前記マスクステージ及び基板ステージを第一の方向及び該第一の方向に直交する第二の方向に走査駆動する複数の駆動装置と、前記複数の駆動装置を同期して制御する制御装置と、前記走査の方向を切換える切換え手段とを備えることを特徴とする。【選択図】  図１
2006003785.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクステージに保持されたマスクのパターンを基板ステージに保持された感光基板上に走査しながら転写する走査型露光装置において、前記マスクステージ及び基板ステージを第一の方向及び該第一の方向に直交する第二の方向に走査駆動する複数の駆動装置と、前記複数の駆動装置を同期して制御する制御装置と、前記走査の方向を切換える切換え手段とを備えることを特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】
露光用の照明光を射出する照明系内に複数のインテグレータを備え、走査方向に応じて前記複数のインテグレータを切換えることを特徴とする、請求項１に記載の走査型露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイス又は液晶ディスプレイ用パネルの製造時に使用する露光装置に関し、特に投影光学系によりレチクルまたはマスク面上の回路パターンの像をガラスプレート上の各パターン領域に順次投影露光して該ガラスプレートの各パターン領域に転写して複数個の液晶ディスプレイ用パネルを製造するために使用する走査型露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶ディスプレイ用パネル製造用のデバイスをフォトリソグラフィ工程で製造する際には、露光光によりマスクを照明し、マスクのパターンを投影光学系を介してガラス基板上のフォトレジスト層に露光するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置（以下、走査型露光装置）が用いられている。
【０００３】
前記の走査型露光装置では、基板を繰返しステッピングさせると共に、マスクと基板とを同期してスキャン（走査）させることにより、マスクのパターンをガラス基板上に転写（走査露光）する。ガラス基板やマスクは、それぞれ専用のステージ装置に保持されており、各ステージ装置の移動により前述したステッピング動作やスキャン動作を行う。
【０００４】
図４には、前述の走査型露光装置における、マスクＭ用のステージ装置としてのマスクステージ部８０の概略構成が示されている。このマスクステージ部８０は、マスクステージベース８１と、マスクステージ８１上を単一方向に移動可能なマスク走査ステージ８２と、マスク走査ステージ８２を単一の走査方向に移動させるための推力を発生する複数の駆動装置８５，８８と、マスクＭを保持するためにマスク走査ステージ８２上に移動及び回転自在に配置されるマスク微動ステージ９１と、マスク走査ステージ８２上でマスク微動ステージ９１を移動させるための推力を発生する複数の駆動装置９４，９７，１００，１０３とを備えている。マスクステージ部８０は、例えば図示しない基板とマスクとをアライメントしたり基板交換したりする露光準備時にはほぼ静止状態に保持される一方、前述した図示しない走査露光時には繰返し走査状態に駆動される。
【０００５】
図４のような従来の走査型露光装置では、マスクステージの走査方向に直交する方向へのステージ移動は微動補正分のみで、単一方向にしか走査駆動しない構造になっている。そのためマスクパターンをガラス基板に転写する際、一方向（例えばＹ方向）にのみスキャン（走査）露光動作を行い、直交する他方向（例えばＹ方向に対してＸ方向）には基板ステージがステップ動作のみ行っていた。
【特許文献１】特開平１０−３２６７３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、こうした従来の走査型露光装置では、以下のような問題が存在する。
【０００７】
現在主に使用されているガラス基板は長方形であり、露光装置ではガラス基板上に複数層のパターンを重ねて形成するので、1枚のガラス基板から取り出すパネルのレイアウトあるいはパターンによっては、デバイスによってガラス基板の向きを変更して露光したほうがパターンの配置上有利になる場合がある。また、１台の露光装置で使用されるガラス基板の向きは１方向に限らず、デバイスに応じて向きを変えるものが存在する。
【０００８】
従来の走査型露光装置では、前述したようにマスクステージの走査方向がＸ方向又はＹ方向のどちらか一方向のみに限られているため、露光装置はガラス基板の搭載する向き（縦置き・横置き）に対応する、例えば基板を回転させるための回転機構を備えなければならず、そのため基板ステージが大型化・重量増加してしまい、それに伴って前記基板ステージを搭載する露光装置全体も大型化してしまうといった問題があった。
【０００９】
またガラス基板のサイズや形状によっては、パネルレイアウトがステージのスキャン方向に制約を受けるため自由度が少なくなり、製造したい大きさ・形状のパネルを効率よく取ることができないといった問題があった。
【００１０】
更に、露光装置は、高い像性能と重ね合わせ精度が求められる。特に携帯用端末や携帯電話用の液晶ガラス基板には高精細化と大型化の両方が求められている。それに伴い露光装置に使用され、移動する基板ステージは高い剛性と高精度が必要とされる。
【００１１】
また、携帯用端末や携帯電話用のパネルレイアウトは、大型のガラス基板1枚に多数（数十枚以上）のパネル配置を行うため、スキャンとステップを多数繰り返して露光することになる。そのような場合、一方向のみに同期して走査露光していては効率が悪いだけでなく、重ね合わせ精度の劣化及び追い込みの困難化が懸念される。
【００１２】
そこで本発明は、上述した課題を鑑みてなされたものであり、その第１の目的は、ガラス基板の搭載する向きを変えることなく露光できるように、Ｘ方向又はＹ方向のどちらにも基板ステージと同期して走査が可能なマスクステージ部を備えた、液晶ディスプレイ製造用の走査型露光装置を提供することにある。
【００１３】
また、本発明の第２の目的は、Ｘ方向又はＹ方向に走査露光する際に、照明系がそれぞれの走査方向に最適な照明領域に集光するインテグレータを選択できる走査露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、マスクステージ部２２とＸ方向の駆動装置５４，５７、マスク走査ステージＸ３１、及びＸ方向に垂直なＹ方向の駆動装置６２，６５、マスク走査ステージＹ３２とを備え、前記Ｘ方向の駆動装置５４，５７によって発生する推力により前記マスク走査ステージＸ３１をＸ方向に移動させ、またＸ方向に直交する前記Ｙ方向の駆動装置６２，６５によって発生する推力により前記マスク走査ステージＹ３２をＹ方向に移動させるマスクステージ装置を備えた走査型露光装置であって、前記マスクステージ部２２がＸ方向又はＹ方向のいずれにも走査移動できることを特徴としている。
【００１５】
また、請求項２に係る発明は、露光用の照明光を射出する照明光学系内にインテグレータレンズ切換え機構を有し、複数のインテグレータレンズを切換えることで、Ｘ方向と該Ｘ方向に直交するＹ方向とのいずれの走査方向に対しても照明系の照明領域を走査露光に最適な形状に設定することができることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ガラス基板の搭載する向きを変更せずにＸ方向又はＹ方向のいずれにも走査露光を行うことができる。
【００１７】
パネルレイアウトや露光パターン、デバイスによってガラス基板の向きを変更する必要がないため、基板ステージも単一のガラス基板の向きにのみ対応してあればよく、基板ステージが簡素化・軽量化できると共に、走査駆動するステージ装置への負担も軽減されるため、露光精度を向上させることが可能となる。
【００１８】
また、マスクからガラス基板へのパターンの転写の自由度が高まるため、ガラス基板に無駄なくマスクのパターンを転写することが可能になる。
【００１９】
また、ガラス基板を露光装置に搬入する開口部の大きさも固定できるため、必要最小限の大きさの開口寸法を取れば良く、露光装置内の空気環境への影響を少なくできる。
【００２０】
ガラス基板の置き方を限定できるため、露光装置のサイズをコンパクトにできる。
【００２１】
さらに、照明光を走査方向に最適な照明領域に集光して露光することができるため、スループットを向上させることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の一実施例について図１〜図４を参照して説明する。図３には、本発明に係るマスクステージ装置を備えた露光装置１０の全体構成が概略的に示されている。
【００２３】
この露光装置１０は、マスクＭと基板Ｐとを２次元方向（ここでは、図３における紙面左右方向であるＹ方向とＹ方向に垂直なＸ方向）に同期移動させつつ、マスクＭに形成された回路パターンを投影光学系ＰＬを介してガラス基板Ｐの各ショットに領域に転写する、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置である。なおここで、投影光学系ＰＬの光軸に垂直な面内で図３の紙面直交方向をＸ方向、同面内でＸ方向に垂直な方向をＹ方向、投影光学系ＰＬの光軸に平行な方向をＺ方向、同光軸に平行な軸線を中心とする回転方向をθ方向とする。
【００２４】
露光装置１０は、光源２０、この光源２０からの照明光によりマスクＭを照明する照明系２１、マスクＭを保持するマスクステージ部２２、マスクＭから射出される照明光をガラス基板Ｐ上に投射する投影光学系ＰＬ、ガラス基板Ｐを保持する基板ステージ部２３、及び装置全体を統括的に制御する主制御装置２４等を備えている。
【００２５】
光源２０としては、例えば高圧水銀灯などの光源が用いられる。照明系２１は、光源２０からの照明光を、正方形や矩形等の所定の照明領域に整形し、その照明光をマスクＭに均一に射出するものであり、図示しないリレーレンズ、インテグレータ、インテグレータ切換え機構、コンデンサレンズ等の各種レンズ系や、開口絞り及び前記マスクＭのパターン面と共役な位置に配置されたマスキング等を含んで構成されている。
【００２６】
また、前記照明系２１のうち、図示しないインテグレータ切換え機構は、走査方向に対応した複数の集光形状の図示しないインテグレータを備え、走査方向に対して最適な照明領域のインテグレータを選択することができるように構成されている。
【００２７】
マスクステージ部２２は、マスクステージベース３０上に配置されており、マスクステージベース３０上でＸ方向の走査方向に所定のストロークで移動するマスク走査ステージＸ３１、このマスク走査ステージＸ３１上に配置されＹ方向の走査方向に所定のストロークで移動するマスク走査ステージＹ３２、このマスク走査ステージＹ３２上に配置されマスクＭを真空吸着等により保持しかつＸ方向、Ｙ方向、及びθ方向（回転方向）にそれぞれ微小移動するマスク微動ステージ３３を含んで構成されている。これらマスク走査ステージＸ３１、マスク走査ステージＹ３２、及びマスク微動ステージ３３は、マスク走査ステージ駆動系Ｘ３４、マスク走査ステージ駆動系Ｙ３５、及びマスク微動ステージ駆動系３６によって各移動方向に駆動されるように構成されている。なお、このマスク走査ステージ駆動系Ｘ３４、マスク走査ステージ駆動系Ｙ３５、及びマスク微動ステージ駆動系３６の構成については後述する。
【００２８】
また、マスク走査ステージＸ３１、マスク走査ステージＹ３２及びマスク微動ステージ３３には、それぞれの位置や移動量を計測するための位置検出装置であるマスクレーザ干渉計３７，３８からの測長ビーム（レーザービーム）を反射するバーミラー３９、４０が取り付けられている。
【００２９】
マスクレーザ干渉計３７，３８には、図示しない固定手段によってそれぞれマスクステージベース３０上に固定されており、投影光学系ＰＬの上端部側面に固定された図示しない固定ミラーを基準として、マスク走査ステージＸ３１、マスク走査ステージＹ３２及びマスク微動ステージ３３のＸＹ面内の位置を所定の分解能で検出するようになっている。マスクレーザ干渉計３７，３８によって計測されるマスク走査ステージＸ３１、マスク走査ステージＹ３２及びマスク微動ステージ３３の位置情報（または速度情報、加速度情報）は主制御装置２４に送られる。主制御装置２４は、マスクレーザ干渉計３７，３８から出力される位置情報（または速度情報、加速度情報）に基づいてマスク走査ステージ駆動系Ｘ３４，マスク走査ステージＹ３５及びマスク微動ステージ駆動系３６を制御するようになっている。なお実際には、マスク微動ステージ３３にはＸ軸に直交する反射面を有するＸバーミラーとＹ軸に直交する反射面を有するＹバーミラーが設けられ、これらに対応してマスクレーザ干渉計もＸ軸位置計測用のＸ軸レーザ干渉計とＹ軸位置計測用のＹ軸レーザ干渉計とが設けられている。図３ではこれらが代表的にバーミラー４０、マスクレーザ干渉計３８として図示されている。
【００３０】
投影光学系としては、ここでは、両側テレセントリックで所定の倍率（例えば１／１）を有するものが使用されている。このため、マスクＭと基板Ｐの位置合わせが行われた状態で、照明系２１からの照明光によりマスクＭが照明されると、マスクＭのパターンの等倍像、又は縮小像が投影光学系ＰＬを介して、表面にフォトレジストが塗布されたガラス基板Ｐ上に投影露光される。
【００３１】
基板ステージ部２３は、基板ステージベース４１に配置されており、基板ステージベース４１上でＹ方向に移動する基板ステージＹ４２、この基板ステージＹ４２上をＸ方向に移動する基板ステージＸ４３、この基板ステージＸ４３上に配置されＺ方向に移動及びθ方向に回転可能な基板ステージθＺ４４等を備えている。基板ステージθＺ４４の上面で前記照明光の経路上には図示しない基板保持部を介してガラス基板Ｐが真空吸着等により保持されている。また、基板ステージＹ４２、基板ステージＸ４３及び基板ステージθＺ４４は、基板ステージ駆動系４５によってそれぞれの移動方向に駆動される。さらに、基板ステージＸ４２及び基板ステージＹ４３には、その位置や移動量を計測するための位置検出装置である基板レーザ干渉計４６からの測長ビームを反射するバーミラー４７が取り付けられており、基板ステージＸ４２及び基板ステージＹ４３の２次元座標は基板レーザ干渉計４６から主制御装置２４に供給される。主制御装置２４には供給された座標に基づいて基板ステージ駆動系４５を制御する。
【００３２】
主制御装置２４は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード・オンリ・メモリ）、ＲＡＭ（ランダム・アクセス・メモリ）等を含むマイクロコンピュータ（又はミニコンピュータ）から構成され、前述したようにマスクレーザ干渉計３８の計測値をモニタしつつ前述したマスクステージ２２や基板ステージ２３の位置制御を行うほか、マスクステージ部２２や基板ステージ部２３の各駆動系が備える駆動装置としての後述するリニアモータに供給する電流の値を制御する。
【００３３】
次に、図１及び図２を参照して、マスクステージ部２２のマスク走査ステージ駆動系Ｘ３４、マスク走査ステージ駆動系Ｙ３５、及びマスク微動ステージ駆動系３６について説明する。図１に示されるように、マスク走査ステージ駆動系Ｘ３４は、マスク走査ステージＸ３１をＸ方向に案内するためにＸ軸に平行に配設されるリニアガイド５０，５１、固定子５２及び可動子５３より構成される第１のＸ走査用リニアモータ５４、固定子５５及び可動子５６により構成される第２のＸ走査用リニアモータ５７で構成され、またマスク走査ステージ駆動系Ｙ３５は、マスク走査ステージＸ３１上でマスク走査ステージＹ３２をＹ方向に案内するためにＹ軸に平行に配設されるリニアガイド５８，５９、固定子６０及び可動子６１より構成される第１のＹ走査用リニアモータ６２、固定子６３及び可動子６４により構成される第２のＹ走査用リニアモータ６５等を含んで構成されている。可動子５３，５６はマスク走査ステージＸ３１に、また可動子６１，６４はマスク走査ステージＹ３２に固定され、固定子５２，５５は可動子５３，５６をＸ方向に案内するようにリニアガイド５０，５１に平行な状態でマスクステージベース３０上に固定されており、また固定子６０、６３は可動子６１，６４をＹ方向に案内するようにリニアガイド５８，５９に平行な状態でマスク走査ステージＸ３１上に固定されている。Ｘ走査用リニアモータ５４，５７，及びＹ走査用リニアモータ６２，６５は固定子５２，５５，６０，６３に推力を発生し、これによりマスク走査ステージＸ３１をマスクステージベース３０に対して＋Ｘ方向又は-Ｘ方向に、マスク走査ステージＹ３２をマスクステージベース３０に対して＋Ｙ方向又は−Ｙ方向に移動させる。
【００３４】
一方、微動ステージ駆動系３６は、マスク走査ステージＹ３２とマスク微動ステージ３３との間に配される球状の複数個の転動体（図２において代表的に転動体７８，７９が示されている）と、マスク微動ステージ３３に推力を作用させる駆動装置としての複数（ここでは４つ）のリニアモータ６６，６７，６８，６９とを備えている。このうち、転動体７８，７９は、マスク微動ステージ３３をマスク走査ステージＹ３２上の平面状で滑らかに移動させるためのものである。
【００３５】
また、各リニアモータ６６〜６９は、マスク走査ステージＹ３２に固定された固定子７０〜７３とマスク微動ステージ３３の側面に固定された可動子７４〜７７とからなり、固定子７０〜７３に推力を発生させることによって可動子７４〜７７に直線的な力が加わるように構成されている。なお、これらのリニアモータ６６〜６９へ供給される電流は、主制御装置２４によって制御される。
【００３６】
リニアモータ６６〜６９は、マスク微動ステージ３３のマスクＭの搭載面にほぼ平行な面内で、走査露光時のＹ方向の走査方向である+Ｙ方向及びその逆方向である-Ｙ方向に各々が推力を発生する第１ペアのリニアモータ６７，６９と、Ｙ方向に直交するＸ方向の走査方向である+Ｘ方向及びその逆方向である-Ｘ方向に各々が推力を発生する第２ペアのリニアモータ６６，６８との２つに組み合わされて配されている。これにより、第１ペアのリニアモータ６７，６９及び第２ペアのリニアモータ６６，６８がマスク微動ステージ３３に対して同一方向に推力を発生させることにより、マスク微動ステージ３３がＹ方向又はＸ方向に直線的に駆動され、また、第１ペアのリニアモータ６７，６９又は第２ペアのリニアモータ６６，６８がマスク微動ステージ３３に対して互いに逆方向に推力を作用させることにより、マスク微動ステージ３３がθ方向（回転方向）に駆動されるようになっている。さらに、可動子７４〜７７が固定子７０〜７３に接触しない範囲で行われる。
【００３７】
次に、上述のように構成される露光装置１０の動作及びこの動作時における露光装置としてのマスクステージ部２２の駆動方法について図１及び図２を参照して説明する。前述したようにこの露光装置１０は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置であり、同期移動するマスクＭとガラス基板Ｐとに対して、光源２０からの照明光を射出することにより、マスクＭに形成された回路パターンを投影露光系ＰＬを介して基板Ｐの各ショット領域に転写する（走査露光）。すなわち、この走査露光時において、主制御装置２４は、マスクＭ側のマスクステージ部２２を駆動して照明光の経路に対してマスクＭを相対移動（走査）させるとともに、これと同期してガラス基板Ｐ側の基板ステージ部２３を移動させ、基板Ｐ上に複数設定されるショット領域の一つにマスクＭのパターン像を投影露光する。このとき、マスク走査ステージＸ３１又はマスク走査ステージＹ３２を走査方向（Ｘ方向又はＹ方向）に速度Ｖで操作させるのと同期して、走査方向に対応する基板Ｐ側の基板ステージＸ４２又は基板ステージＹ４３を前記走査方向と逆方向に速度Ｖ（等倍の場合）で走査させる。そのため、Ｘ方向に走査する場合は基板ステージＸ４２に対してマスク走査ステージＸ３１を等倍の速度で移動させることになり、またＹ方向に走査する場合は基板ステージＹ４３に対してマスク走査ステージＹ３２を等倍の速度で移動させることになる。主制御装置２４は、必要に応じてマスク微動ステージ３３を駆動してマスクＭの位置調整を行う。さらに、ガラス基板Ｐ側の基板ステージＸ４２及び基板ステージＹ４３をステッピング移動させることにより、各ショット領域のそれぞれにマスクＭのパターン像を順次転写する。
【００３８】
上述したスキャン露光動作によりガラス基板Ｐ上の全てのショット領域に対して完了すると、露光装置１０は、基板ステージ部２３上に次のガラス基板Ｐを搭載するとともに、そのガラス基板Ｐの搭載位置をアライメントする。
【００３９】
このとき、露光するパターンのレイアウトやデバイスによっては、図４に示すようにガラス基板Ｐに対して露光する方向を変える必要があるが、この露光装置１０では、前記マスク走査ステージ３４がＸ方向及びＹ方向のいずれにも走査可能であり、ガラス基板Ｐの向きを変更することなくＸ方向及びＹ方向のいずれにも露光動作を行うことができるため、単一方向のガラス基板Ｐに対応する基板ステージを設置すればよいので、露光装置を簡素化できるとともに、装置全体をもコンパクトにできる。
【００４０】
また、本実施例では照明系２１内にインテグレータ切換え機構を備えており、照明光をＸ方向又はＹ方向のそれぞれの走査方向において最適な照明領域に集光できるインテグレータを選択して使用することができる。
【００４１】
例えばＸ方向に走査する場合は、Ｙ方向に長い矩形の形状に照明光を集光するインテグレータを選択し、またＹ方向に走査する場合は、Ｘ方向に長い矩形の形状に照明光を集光するインテグレータを選択することで、照度や照射領域の効率的な使用が可能になる。
【００４２】
また、本実施例では駆動系にリニアモータを使用しているが、リニアモータの種類は特に限定されるものではなく、エアベアリングを用いたエア浮上型及びローレンツ力又はリアクタンス力を用いた磁気浮型のどちらを用いてもよい。また、各ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもよいし、ガイドを設けない外ドレスタイプでもよい。さらに、リニアモータに限らず、例えばボイス・コイル・モータ等、他の駆動装置を使用しても同様な効果が得ることができる。
【００４３】
さらに、上述した実施例及び実施形態において示した各構成部材の諸形状や組合せ、及び手順等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求に基づき種々変更可能である。
【００４４】
また、露光装置の用途としては液晶ディスプレイ用の露光装置に限定されることなく、半導体製造用の露光装置にも広く適当できる。
【００４５】
さらに、投影光学系の倍率は等倍系のみならず縮小系及び拡大系のいずれでもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明に係る走査露光装置としてのマスクステージ部を示す平面図である。
【図２】本発明に係る走査露光装置としてのマスクステージ部を示す正面図である。
【図３】図１及び図２の実施例に好適に用いられる本発明に係る露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図４】ガラス基板のパネルレイアウト例を示す模式図である。
【図５】従来の走査露光装置のマスクステージ部を示す平面図（Ａ）及び側面図（Ｂ）である。
【符号の説明】
【００４７】
Ｍ  マスク
Ｐ  ガラス基板
ＰＬ  投影光学系
１０  走査露光装置
２０  光源
２１  照明系
２２，８０  マスクステージ部
２３  基板ステージ部
２４  主制御装置
３０，８１  マスクステージベース
３１  マスク走査ステージＸ
３２  マスク走査ステージＹ
３３，９１  マスク微動ステージ
３４  マスク走査ステージ駆動系Ｘ
３５  マスク走査ステージ駆動系Ｙ
３６  マスク微動ステージ駆動系
３７，３８  マスクレーザ干渉計
３９，４０  バーミラー
４１  基板ステージベース
４２  基板ステージＸ
４３  基板ステージＹ
４４  基板ステージθＺ
４５  基板ステージ駆動系
４６  基板レーザ干渉計
４７  バーミラー
５０，５１  リニアガイドＸ
５８，５９  リニアガイドＹ
５４，５７，６２，６５，６６〜６９，８５，８８，９４，９７，１００，１０３  リニアモータ（駆動装置）
５２，５５，６０，６３，７０〜７３，８３，８６，９２，９５，９８，１０１  固定子
５３，５６，６１，６４，７４〜７７，８４，８７，９３，９６，９９，１０２  可動子
７８，７９  転動体
【図１】
2006003785.tif 000003
【図２】
2006003785.tif 000004
【図３】
2006003785.tif 000005
【図４】
2006003785.tif 000006
【図５】
2006003785.tif 000007