(57)【要約】【課題】新規なチロシン配糖体を提供すること。【解決手段】チロシン誘導体とペンタアセチルグルコースとを酸触媒下反応させ、チロシン配糖体を製造する。続いて、糖残基部分の脱保護化および必要に応じてカルボン酸エステル部分のカルボン酸への変換を行うことにより、新規なチロシン誘導体を製造する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2006131587.tif 000028
（式中、Ｒ１は水素原子、無置換または置換の炭素数１〜３０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基、無置換または置換のフェニル基、無置換または置換のヘテロ環基を示す。）で表される化合物又は該化合物のアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩。
【請求項２】
一般式（２）
【化２】
2006131587.tif 000029
（式中、Ｒ１は前記請求項１に記載の一般式（１）中のＲ１と同義。）で表される化合物。
【請求項３】
一般式（３）
【化３】
2006131587.tif 000030
（式中、Ｒ１は水素原子、無置換または置換の炭素数１〜３０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基、無置換または置換のフェニル基、無置換または置換のヘテロ環基を示し、Ｒ２は無置換または置換の炭素数１〜１０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基または無置換または置換のフェニル基を示す。）で表される化合物。
【請求項４】
一般式（４）
【化４】
2006131587.tif 000031
（式中R２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物またはその酸塩とＲ１−ＣＯ−Ｘ（式中、Ｒ１は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１と同義であり、Ｘはハロゲン原子またはＯ−ＣＯ−Ｒ１（Ｒ１は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１と同義。））で表される化合物を塩基の存在下で反応させて一般式（５）
【化５】
2006131587.tif 000032
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造し、次いで該一般式（５）で表される化合物とペンタアセチルグルコースを酸触媒の存在下で反応させて一般式（６）
【化６】
2006131587.tif 000033
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造した後、該一般式（６）で表される化合物のグルコース残基上のアセチル基を脱保護化する、一般式（３）
【化７】
2006131587.tif 000034
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物の製造法。
【請求項５】
一般式（７）
【化８】
2006131587.tif 000035
（式中、Ｒ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物またはその酸塩とＲ１−ＣＯ−Ｘ（式中、Ｒ１は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１と同義であり、Ｘはハロゲン原子またはＯ−ＣＯ−Ｒ１（Ｒ１は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１と同義。））で表される化合物を塩基の存在下で反応させて一般式（８）
【化９】
2006131587.tif 000036
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造し、次いで該一般式（８）で表される化合物とペンタアセチルグルコースを酸触媒の存在下で反応させて一般式（９）
【化１０】
2006131587.tif 000037
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造した後、該一般式（９）で表される化合物のグルコース残基上のアセチル基を脱保護化する、一般式（１０）
【化１１】
2006131587.tif 000038
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物の製造法。
【請求項６】
酸触媒が三フッ化ホウ素（BＦ３）である、請求項４または請求項５に記載の製造法。
【請求項７】
一般式（１１）
【化１２】
2006131587.tif 000039
（式中、Ｒ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物とペンタアセチルグルコースを三フッ化ホウ素（BＦ３）の存在下で反応させて一般式（１２）
【化１３】
2006131587.tif 000040
（式中、Ｒ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物を製造した後、該一般式（１２）で表される化合物のグルコース残基上のアセチル基を脱保護化する、一般式（１３）
【化１４】
2006131587.tif 000041
（式中、Ｒ２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物の製造法。
【請求項８】
請求項７に記載の一般式（１３）で表される化合物を加水分解してN-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンを製造し、次いで該N-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンをさらに加水素化分解するO-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンの製造法。
【請求項９】
一般式（１）
【化１５】
2006131587.tif 000042
（式中、Ｒ１は水素原子、無置換または置換の炭素数１〜３０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基、無置換または置換のフェニル基、無置換または置換のヘテロ環基を示す。）で表される化合物又は該化合物のアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩からなる殺菌剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬品、農薬、化粧品素材をはじめ多方面において有用なチロシン配糖体、その製造方法及びその用途に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フェノール性水酸基が配糖化された生理活性を有する有用化合物が注目されている。例えば、医薬品分野では、腎臓における糖の再吸収を阻害することによって新規な糖尿病治療薬として期待されている新規なフロリジン配糖体（T-１０９５等）が報告されている（非特許文献１参照。）。また、化粧品素材としては、ハイドロキノンにグルコースが配糖化したアルブチン（特許文献１参照。）や没食子酸にグルコースが配糖化した化合物（特許文献２参照）等が見出され、広く利用されている。
【０００３】
一般的には、化合物が配糖化されることで、糖に由来する特異な生理活性の発現が期待されるとともに、配糖化される前の化合物に比べて、水溶性の向上や溶解性の向上等の物性的な改善効果も期待できる。さらに、毒性を有する化合物を配糖化することにより該化合物の毒性が低減し、また生体適合性が向上すると考えられている。
【０００４】
このように、配糖化による有用な効果が広く知られるようになると、より多くの新規配糖体が、工業的な観点から安定的にかつ安価に供給されることが強く期待されるようになってきた。例えば、チロシンは毛髪等に多く含有され生体にとって必須なアミノ酸の一つであるが、チロシンが配糖化された化合物群は、医薬品、農薬、化粧品素材をはじめ多方面において高い生理活性および高い生体適合性が期待されている。しかしながら、チロシンおよびチロシン誘導体の配糖体に関する報告例は少ない。
【０００５】
一方、配糖体を工業的に製造しようとする場合、収率の問題や目的化合物の単離精製の問題（非特許文献２参照。）等がある。よって、従来技術だけでは、より多くの新規配糖体に対して、工業的な観点から安定的にかつ安価に製造する方法が十分に確立されているとは言い難く、より効果的な製造方法の確立が望まれている。
【特許文献１】特開昭62-263194号公報
【特許文献２】WO2003/026598
【非特許文献１】J. Med. Chem. 1999, 42, 5311-5324
【非特許文献２】Insect. Biochem. 12(4), 377-381, 1982
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、新規なチロシン配糖体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、チロシンメチルエステルのアミノ基を化学修飾し、次いで酸触媒の存在下でペンタアセチルグルコースと反応させて配糖化されたチロシン誘導体を生成させ、さらに、配糖化されたチロシン誘導体の水酸基、アミノ基、カルボキシル基のそれぞれの保護基を除去することにより新規なチロシン配糖体を製造できることを見出すとともに、該チロシン誘導体が抗菌作用を有することを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明は、一般式（１）
【０００９】
【化１】
2006131587.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｒ１は水素原子、無置換または置換の炭素数１〜３０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基、無置換または置換のフェニル基、無置換または置換のヘテロ環基を示す。）で表される化合物、該化合物の製造方法及び用途に関するものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、新規なチロシン配糖体及びその製造方法を提供することができる。また、該チロシン配糖体は抗菌剤として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の化合物は、一般式（１）で表される化合物又は該化合物のアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩である。
【００１３】
一般式（１）中、Ｒ１は水素原子、置換していてもよい炭素数１〜1０のアルキル基、置換していてもよいアラルキル基、置換していてもよいフェニル基、置換していてもよいヘテロ環基を示す。
【００１４】
「無置換または置換の炭素数１〜３０のアルキル基」とは、炭素数１〜３０の無置換アルキル基または炭素数１〜３０のアルキル基の任意の水素原子が置換基で置換されたアルキル基を意味する。アルキル基としては、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、アラキジル基またはアリル基等を挙げることができる。また、アルキル基の置換基としては、水酸基、メトキシ基、ベンジルオキシ基またはメトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基あるいはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
【００１５】
「無置換または置換のアラルキル基」とは、無置換のアラルキル基またはアラルキル基の任意の水素原子が置換基で置換されたアラルキル基を意味する。アラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェニルエチル基または９−フルオレニルメチル基等が挙げられる。アラルキル基の置換基としては、メチル基、tert-ブチル基またはベンジル基等のアルキル基、シクロプロパン、シクロペンタンまたはシクロヘキサン等のシクロアルキル基、フェニル基、水酸基、メトキシ基、ベンジルオキシ基またはメトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基あるいはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
【００１６】
「無置換または置換のフェニル基」とは、無置換のフェニル基またはフェニル基の任意の水素原子が置換基で置換されたフェニル基を意味する。フェニル基の置換基としては、メチル基、tert-ブチル基またはベンジル基等のアルキル基、シクロプロパン、シクロペンタンまたはシクロヘキサン等のシクロアルキル基、フェニル基、水酸基、メトキシ基、ベンジルオキシ基またはメトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基あるいはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
【００１７】
「無置換または置換のヘテロ環基」とは、無置換のヘテロ環基またはヘテロ環基の任意の水素原子が置換基で置換されたヘテロ環基を意味する。ヘテロ環基としては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチエニル基、ピペリジル基、モルホリニル基、ピペラジニル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、フルフリル基、テニル基、ピリジルメチル基、ピリミジル基、ピラジル基、イミダゾイル基、イミダゾイルメチル基、インドリル基、インドリルメチル基、イソキノリル基、キノリル基またはチアゾリル基等が挙げられる。ヘテロ環基の置換基としては、メチル基、tert-ブチル基またはベンジル基等のアルキル基、シクロプロパン、シクロペンタンまたはシクロヘキサン等のシクロアルキル基、フェニル基、水酸基、メトキシ基、ベンジルオキシ基またはメトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基あるいはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
【００１８】
一般式（１）で表される化合物には、次に示すように、窒素原子が結合した位置に不斉炭素原子が存在するが、一般式（１）で表される化合物として、例えば、一般式（２）
【００１９】
【化２】
2006131587.tif 000003
【００２０】
（式中、Ｒ１は前記の一般式（１）中のＲ１と同義。）で表される化合物は経済性の観点から好ましい。
一般式（２）中のＲ１は、前記一般式（１）中のＲ１と同義である。
前記の一般式（１）で表される化合物は、一般式（３）
【００２１】
【化３】
2006131587.tif 000004
【００２２】
（式中、Ｒ１は水素原子、無置換または置換の炭素数１〜３０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基、無置換または置換のフェニル基、無置換または置換のヘテロ環基を示し、Ｒ２は無置換または置換の炭素数１〜１０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基または無置換または置換のフェニル基を示す。）で表される化合物から製造することができるため、一般式（３）で表される化合物は一般式（１）で表される化合物の合成中間体である。
【００２３】
一般式（３）中、Ｒ１は水素原子、無置換または置換の炭素数１〜３０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基、無置換または置換のフェニル基、無置換または置換のヘテロ環基を示し、Ｒ２は無置換または置換の炭素数１〜１０のアルキル基、無置換または置換のアラルキル基または無置換または置換のフェニル基を示す。
【００２４】
一般式（３）におけるＲ１又はＲ２中の「無置換または置換の炭素数１〜３０のアルキル基」、「無置換または置換のアラルキル基」、「無置換または置換のフェニル基」及び「無置換または置換のヘテロ環基」はそれぞれ、前記の一般式（１）中のＲ１について説明した個所に記載したこれらの基と同義である。
【００２５】
一般式（３）におけるＲ２中の「炭素数１〜１０の無置換または置換のアルキル基」とは、炭素数１〜１０の無置換アルキル基または炭素数１〜１０のアルキル基の任意の水素原子が置換基で置換されたアルキル基を意味する。炭素数１〜１０の無置換アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基またはアリル基等を挙げることができる。また、アルキル基の置換基としては、水酸基、メトキシ基、ベンジルオキシ基またはメトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基あるいはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
【００２６】
一般式（３）で表される化合物の製造方法について、次に説明する。
一般式（４）
【００２７】
【化４】
2006131587.tif 000005
【００２８】
（式中R２は前記の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物またはその酸塩とＲ１−ＣＯ−Ｘ（式中、Ｒ１は前記の一般式（３）中のＲ１と同義であり、Ｘはハロゲン原子またはＯ−ＣＯ−Ｒ１（Ｒ１は前記の一般式（３）中のＲ１と同義。））で表される化合物を塩基の存在下で反応させて一般式（５）
【００２９】
【化５】
2006131587.tif 000006
【００３０】
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造し、次いで該一般式（５）で表される化合物とペンタアセチルグルコースを酸触媒の存在下で反応させて一般式（６）
【００３１】
【化６】
2006131587.tif 000007
【００３２】
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造した後、該一般式（６）で表される化合物のグルコース残基上のアセチル基を脱保護化することにより、一般式（３）で表される化合物を製造することができる。
一般式（４）中のR２は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ２と同義である。
【００３３】
一般式（４）で表される化合物は市販品を入手することができるが、チロシンから公知のエステル化法によって容易に製造することができる。
【００３４】
一般式（４）で表される化合物またはその酸塩とＲ１−ＣＯ−Ｘ（式中、Ｒ１は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１と同義であり、Ｘはハロゲン原子またはＯ−ＣＯ−Ｒ１（Ｒ１は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１と同義。））で表される化合物を塩基の存在下で反応させて一般式（５）で表される化合物を製造することができる。
【００３５】
一般式（４）で表される化合物の酸塩としては、例えば、塩酸塩、臭素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、シュウ酸塩等の有機酸塩等が挙げられる。
【００３６】
Ｒ１−ＣＯ−Ｘにおいて、Ｒ１は前記の一般式（３）中のＲ１と同義であり、Ｘはハロゲン原子またはＯ−ＣＯ−Ｒ１を示す。なお、Ｒ１は前記の一般式（３）中のＲ１と同義である。
【００３７】
Ｒ１−ＣＯ−Ｘとしては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸、無水コハク酸、アセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニルクロライド、ラウロイルクロライド、パルミトイルクロライド、ステアロイルクロライド等が挙げられる。
【００３８】
一般式（４）で表される化合物に対するＲ１―ＣＯ―Ｘの使用量は、特に制限は無いが、好ましくは１〜３当量の範囲である。
【００３９】
一般式（５）で表される化合物を製造する際に用いることができる塩基としては、特に制限はないが、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、金属ナトリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert-ブトキシド等の金属アルコキシド塩基、n-ブチルリチウム、エチルマグネシウムブロマイド等の有機金属塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N-ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロウンデセン等の有機アミン塩基等を挙げることができる。
【００４０】
一般式（５）で表される化合物を製造する際には、通常反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、反応の進行を妨げるものでなければ特に制限はないが、例えば、水、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール性溶媒、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒、酢酸エチル、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ジメチルイミダゾリジノン（DMI）、テトラヒドロフラン（THF）、１，４−ジオキサンまたはジエチルエーテル等を挙げることができる。これら反応溶媒は、任意の比率での混合溶媒としても使用可能であり、例えばトルエンと水等による二相系の使用方法でも用いることができる。
【００４１】
一般式（５）で表される化合物を製造する際の反応温度に特に制限はないが、好ましくは−２０℃〜溶媒の沸点までの範囲である。
【００４２】
一般式（５）中のＲ１およびＲ２は前記一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義である。
【００４３】
一般式（５）で表される化合物とペンタアセチルグルコースを酸触媒の存在下で反応させることにより一般式（６）で表される化合物を製造することができる。
【００４４】
酸触媒としては、特に制限はないが、例えば塩酸、硫酸、リン酸、無水ホウ酸等の無機酸触媒、P-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸触媒、三フッ化ホウ素、塩化スズ（II）、塩化チタン（IV）、臭化亜鉛、塩化マグネシウム、塩化鉄、塩化アルミニウム、ヨウ化銅、トリフルオロメタンスルホン酸銀等のルイス酸触媒、酸化チタン、酸化アルミナ、酸化亜鉛、シリカゲル等の固体酸触媒、リンモリブデン酸、リンタングステン酸等のヘテロポリ酸触媒、Nafion、Amberlite IR-120B plus等の酸性樹脂触媒等を挙げることができる。これらの酸触媒のなかでも、三フッ化ホウ素は好ましい触媒である。
【００４５】
使用する触媒量は、一般式（５）で表される化合物に対して0.001〜１０当量の範囲で実施可能であるが、好ましくは1〜２当量の範囲である。
【００４６】
ペンタアセチルグルコースは、α体、β体あるいは任意の比率での立体異性体の混合物で使用可能である。ただしβ体の方が、より高い反応性を得ることができる。ペンタアセチルグルコースの使用量は、一般式（５）で表される化合物に対して特に制限はないが、好ましくは０．５〜５当量の範囲で、さらに好ましくは１〜２当量の範囲である。
【００４７】
一般式（６）で表される化合物を製造するに際しては通常反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、反応の進行を妨げるものでなければ特に制限はないが、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン(EDC)等のハロゲン系溶媒、酢酸エチル、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ジメチルイミダゾリジノン（DMI）、テトラヒドロフラン（THF）、１，４−ジオキサンまたはジエチルエーテル等を挙げることができる。また、これら反応溶媒は、任意の比率での混合溶媒としても使用可能である。
【００４８】
一般式（６）で表される化合物を製造する際の反応温度に特に制限はないが、好ましくは−２０℃〜溶媒の沸点までの範囲である。
【００４９】
一般式（６）中のＲ１およびＲ２は、前記の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義である。
【００５０】
一般式（６）で表される化合物のグルコース残基上のアセチル基を脱保護化することにより、一般式（１）で表される化合物を製造することができる。
【００５１】
一般式（６）で表される化合物のグルコース残基上のアセチル基を脱保護化する方法としては、アルコール性溶媒存在下、アルカリ金属アルコキシドを用いるエステル交換による方法等を挙げることができる。
【００５２】
使用可能なアルカリ金属アルコキシドとしては、リイウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム tert-ブトキシド、カリウム  tert-ブトキシド等を挙げることができる。また、アルカリ金属アルコキシドの使用当量は、反応基質に対して触媒量で実施可能である。好ましくは0.001〜1当量の範囲である。反応溶媒は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、tert-ブタノール等のアルコール性溶媒を単独で、あるいは任意の比率での混合溶媒として使用可能である。また、前記のアルコール性溶媒とトルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ジメチルイミダゾリジノン（DMI）、テトラヒドロフラン（THF）、１，４−ジオキサンまたはジエチルエーテル等との混合溶媒としても使用可能である。また、一般式（３）のカルボン酸エステル部分のＲ２は、反応溶媒として使用したアルコール性溶媒に対応したエステル体として得ることも可能である。例えば、アルコール性溶媒としてメタノールを使用すれば、メチルエステル体を得ることができる。反応温度に特に制限はないが、好ましくは−２０℃〜溶媒の沸点までの範囲である。
【００５３】
また、一般式（３）で表される化合物は、反応終了後、陽イオン交換樹脂を使用することで、反応に用いたアルカリ金属を除去することが可能である。陽イオン交換樹脂としては、特に制限はないが、Amberlite 120B plus等の強酸性陽イオン交換樹脂等を挙げることができる。
【００５４】
前記の一般式（４）で表される化合物からの一般式（３）で表される化合物の製造例を示すとすれば、例えば、一般式（７）
【００５５】
【化７】
2006131587.tif 000008
【００５６】
（式中、Ｒ２は前記の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物またはその酸塩とＲ１−ＣＯ−Ｘ（式中、Ｒ１は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１と同義であり、Ｘはハロゲン原子またはＯ−ＣＯ−Ｒ１（Ｒ１は前記請求項３記載の一般式（３）中のＲ１と同義。））で表される化合物を塩基の存在下で反応させて一般式（８）
【００５７】
【化８】
2006131587.tif 000009
【００５８】
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造し、次いで該一般式（８）で表される化合物とペンタアセチルグルコースを酸触媒（例えば、三フッ化ホウ素）の存在下で反応させて一般式（９）
【００５９】
【化９】
2006131587.tif 000010
【００６０】
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造した後、該一般式（９）で表される化合物のグルコース残基上のアセチル基を脱保護化することにより、一般式（１０）
【００６１】
【化１０】
2006131587.tif 000011
【００６２】
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記の一般式（３）中のＲ１およびＲ２と同義。）で表される化合物を製造することができる。
【００６３】
一般式（７）、一般式（８）、一般式（９）及び一般式（１０）中のＲ２は前記の一般式（３）中のＲ２と同義であり、一般式（８）、一般式（９）及び一般式（１０）中のＲ１は前記の一般式（３）中のＲ１と同義である。
【００６４】
また、一般式（１１）
【００６５】
【化１１】
2006131587.tif 000012
【００６６】
（式中、Ｒ２は前記の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物とペンタアセチルグルコースを三フッ化ホウ素（BＦ３）の存在下で反応させて一般式（１２）
【００６７】
【化１２】
2006131587.tif 000013
【００６８】
（式中、Ｒ２は前記の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物を製造した後、該一般式（１２）で表される化合物のグルコース残基上のアセチル基を脱保護化することにより、一般式（１３）
【００６９】
【化１３】
2006131587.tif 000014
【００７０】
（式中、Ｒ２は前記の一般式（３）中のＲ２と同義。）で表される化合物を製造することができる。
【００７１】
一般式（１１）、一般式（１２）及び一般式（１３）中のＲ２は、前記の一般式（３）中のＲ２と同義である。
【００７２】
前記のようにして製造される一般式（３）で表される化合物を加水分解することにより、一般式（１）で表される化合物を製造することができる。
【００７３】
一般式（１）で表される化合物を製造するための加水分解の方法としては、アルカリ金属水酸化物等による方法を挙げることができる。反応に用いることのできるアルカリ金属水酸化物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げることができる。反応を完結させる為には、アルカリ金属水酸化物の使用当量は、一般式（３）の化合物に対して１当量以上を必要とするが、好ましくは１〜３当量の範囲である。反応溶媒は、水、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール性溶媒を単独で、あるいは任意の比率での混合溶媒として使用可能である。また、前記の溶媒とトルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ジメチルイミダゾリジノン（DMI）、テトラヒドロフラン（THF）、１，４−ジオキサンまたはジエチルエーテル等との混合溶媒としても使用可能である。反応温度に特に制限はないが、好ましくは−２０℃〜溶媒の沸点までの範囲である。
【００７４】
一般式（１）で表される化合物の中で、遊離のカルボン酸を有する化合物は、例えば、反応終了後、陽イオン交換樹脂を用い、反応に用いたアルカリ金属を除去することで、製造可能である。この場合に用いる陽イオン交換樹脂としては、特に制限はないが、Amberlite 120B plus等の強酸性陽イオン交換樹脂等を挙げることができる。
【００７５】
また、一般式（１）で表される化合物の中で、カルボン酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩を有する化合物は、一般式（１）で表される化合物の中で、遊離のカルボン酸を有する化合物に対して、アルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物で処理することで、製造可能である。
【００７６】
一般式（３）で表される化合物を加水分解することによる一般式（１）で表される化合物の製造例を示すとすれば、例えば、一般式（１３）で表される化合物を加水分解することにより、N-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンを製造することができる。
【００７７】
さらに、N-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンを加水素化分解することにより、O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンを製造することができる。
【００７８】
加水素化分解は水素雰囲気下で行われる。加水素化分解に使用可能な触媒に特に制限はないが、例えば、パラジウム−炭素、ラネーニッケル等を挙げることができる。触媒の使用量および使用水素圧に特に制限は無い。加水素化分解には通常反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、反応の進行を妨げるものでなければ特に制限はないが、水、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール性溶媒、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルイミダゾリジノン（DMI）、テトラヒドロフラン（THF）、１，４−ジオキサンまたはジエチルエーテル等を挙げることができる。これら反応溶媒は、任意の比率での混合溶媒としても使用可能である。
【００７９】
加水素化分解する際の反応温度に特に制限はないが、好ましくは−２０℃〜溶媒の沸点までの範囲である。
【００８０】
前記の製造方法により製造される一般式（１）で表される化合物は、公知の手段、例えば、ゲルろ過、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる方法、あるいは結晶化操作等により反応混合物から分離回収することができる。
【００８１】
一般式（１）で表される化合物は、イネ紋枯病菌（Pellicularia sasakii ）、灰色カビ病菌（Botrytis cinerea ）、リンゴ斑点落葉病菌（Alternaria mali ）及びキュウリつる割病菌（Fusarium oxysporus f. sp. Cucumerinum ）に対して抗菌作用を有することが判明した。したがって、一般式（１）で表される化合物からなる殺菌剤は、これらの菌を殺菌するのに有用である。一般式（１）で表される化合物のなかでも、N-アセチル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシン及びO-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンは殺菌剤として好ましい化合物である。
【００８２】
以下に、本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
【実施例１】
【００８３】
N-アセチル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステルの製造
[Ｎ-アセチル-L-チロシンメチルエステルの製造] 
【００８４】
【化１４】
2006131587.tif 000015
【００８５】
L-チロシンメチルエステル塩酸塩５０．６ｇをトルエン２５０ｇとメタノール５０ｇに懸濁し、これに炭酸水素ナトリウム２０．４ｇを加え、室温にて３０分間攪拌した。無水酢酸２７．０ｇを滴下し、室温にて４時間攪拌した。水１００ｇを加え、水層を分取した。得られた水層に２０％食塩水５０ｇを加え、酢酸エチル１００ｇで目的化合物を抽出した。残った水層から、再度、酢酸エチル５０ｇで目的化合物を抽出した。得られた酢酸エチル層を減圧濃縮した。得られた残渣にトルエン５０ｇを加え、得られた白色結晶をろ取した。続いて、減圧下、４０℃にて乾燥した。
収量  ：  ４９．５ｇ
収率  ：  ９５％
融点  ：  １２２〜１２４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０MHｚ）  δ６．９４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．７３（ｄ，２Ｈ，８．６Ｈｚ），６．５２（ｓ，１Ｈ），６．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），４．８７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，６．１，７．９Ｈｚ），３．７４（ｓ，３Ｈ），３．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，１４．２Ｈｚ），２．９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．１，１４．２Ｈｚ），１．９９（ｓ，３Ｈ）
【００８６】
[N-アセチル-O-(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-β-D-グルコピラノシル)-L-チロシンメチルエステルの製造]   
【００８７】
【化１５】
2006131587.tif 000016
【００８８】
上記で得られたＮ-アセチル-L-チロシンメチルエステル３０．０ｇを１，２，−ジクロロエタン３００ｇに溶解し、β−ペンタアセチルグルコース６１．６ｇおよび三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体２１．５ｇを加え、３５〜４５℃の範囲で、４時間反応を行った。反応終了後、ＨＰＬＣによる分析によって、反応収率は８１％であった。続いて、反応液を１５℃以下に冷却し、炭酸ナトリウム５０ｇを水３００ｇに溶解したものを滴下した。１５℃以下で１時間攪拌後、有機層を分取した。水１００ｇで洗浄後、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル１８０ｇを加え、０〜１０℃にて３０分間冷却攪拌することで、目的化合物の結晶化を行った。得られた結晶をろ取し、続いて減圧下、４０℃にて乾燥した。
収量  ：  ５１．３ｇ
収率  ：  ７２％
融点  ：１７８〜１８０℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０MHｚ）  δ７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６
Ｈｚ），５．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），５．３４−５．２２（ｍ，２Ｈ），５．１７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），５．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．８６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，５．９，７．６Ｈｚ），４．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，１２．５Ｈｚ），４．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，１２．５Ｈｚ），３．８６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，５．３，９．７Ｈｚ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，１３．８Ｈｚ），３．０５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，１３．８Ｈｚ），２．０８，２．０７，２．０５，２．０４ａｎｄ１．９９（５ｓ，ｅａｃｈ  ３Ｈ）
【００８９】
[  N-アセチル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステルの製造]
【００９０】
【化１６】
2006131587.tif 000017
【００９１】
上記で得られたN-アセチル-O-(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-β-D-グルコピラノシル)-L-チロシンメチルエステル３５．０ｇをメタノール１７５ｇに懸濁させ、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１．２ｇを加え室温にて１時間攪拌した。続いて、強酸性樹脂(Amberlite  120B plus)１５ｇで中和処理した。ろ過により樹脂を除去した後に、ろ液を減圧濃縮し、メタノール３０ｇから結晶化を行った。目的化合物をろ取し、減圧下、４０℃にて乾燥を行った。
収量  ：  ２４．６ｇ
収率  ：  定量的
融点  ：１７０〜１７２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ，２７０MHｚ）  δ７．１７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），５．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，８．６Ｈｚ），３．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
２．０，１２．０Ｈｚ），３．７３−３．６７（ｍ，１Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），３．６０−３．５１（ｍ，３Ｈ），
３．４４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），３．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，１４．２Ｈｚ），２．９２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
８．６Ｈｚ，１４．２Ｈｚ）
【実施例２】
【００９２】
N-アセチル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンの製造
【００９３】
【化１７】
2006131587.tif 000018
【００９４】
実施例１で得られたN-アセチル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステル
２４．６ｇをメタノール１２３ｇに溶解し、０〜１０℃の範囲で４Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液２３．２ｍｌを滴下した。反応液を０〜１０℃の温度で１時間攪拌し、続いて強酸性樹脂(Amberlite 120B plus)３５ｇで中和処理した。ろ過により樹脂を除去した後に、ろ液を減圧濃縮し、残渣に水２０ｇを加え減圧濃縮を行った。得られた残渣に水１５ｇを加え、０〜５℃で冷却攪拌することで目的化合物の結晶化を行った。得られた白色結晶をろ取し、減圧下、４０℃にて乾燥を行った。
収量  ：  １３．５ｇ
収率  ：  ５７％
融点  ：２１５℃（分解）
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ，２７０MHｚ）  δ７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），５．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．５６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，８．７Ｈｚ），３．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．６Ｈｚ），３．６９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．６，１２．５Ｈｚ），３．５９−３．４０（ｍ，４Ｈ），３．１４（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝５．３，１４．２Ｈｚ），２．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７，１４．２Ｈｚ），１．８９（ｓ，３Ｈ）
【実施例３】
【００９５】
N-ステアロイル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステルの製造
[N-ステアロイル-L-チロシンメチルエステルの製造]
【００９６】
【化１８】
2006131587.tif 000019
【００９７】
L-チロシンメチルエステル塩酸塩５．０ｇをトルエン５０ｇに懸濁し、炭酸水素ナトリウム４ｇを水２５ｇに溶解した溶液を加えた後、０〜１０℃で１５分間攪拌した。続いてステアロイルクロライド７．８５ｇを０〜１０℃で滴下し、滴下終了後、反応液を室温まで昇温し、８時間攪拌した。反応液中に析出した目的化合物をろ取し、トルエン２０ｇ、水２０ｇで順次洗浄した。得られた白色結晶を減圧下、４０℃にて乾燥した。
収量  ：  ９．６５ｇ
収率  ：  ９７％
融点  ：  １０４〜１０６℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０MHｚ）  δ６．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．７４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４
Ｈｚ），５．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），５．７２（ｓ，１Ｈ），４．８９（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．６，６．０，
７．９Ｈｚ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．６，１３．９Ｈｚ），３．００（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
６．０Ｈｚ），２．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．６２−１．５７（ｍ，２Ｈ），１．２６（ｓ，２８Ｈ），０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）
【００９８】
[ N-ステアロイル-O-(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-β-D-グルコピラノシル)-L-チロシンメチルエステルの製造]   
【００９９】
【化１９】
2006131587.tif 000020
【０１００】
上記で得られたN-ステアロイル-L-チロシンメチルエステル２．３１ｇを１，２−ジクロロエタン３５ｇに溶解し、β−ペンタアセチルグルコース２．４４ｇおよび三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体０．８４ｇを加え、３５〜４５℃の範囲で、６時間反応を行った。反応終了後、ＨＰＬＣによる分析によって、反応収率は７８％であった。続いて、反応液を１５℃以下に冷却し、炭酸ナトリウム５ｇを水３０ｇに溶解したものを滴下した。１５℃以下で１時間攪拌後、有機層を分取した。水２０ｇで洗浄後、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル２ｇおよびヘキサン２ｇを加え、０〜１０℃にて３０分間冷却攪拌することで、目的化合物の結晶化を行った。得られた結晶を減圧下、４０℃にて乾燥した。
収量  ：  ２．５ｇ
収率  ：  ６３％
融点  ：  １０９〜１１１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０MHｚ）  δ７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６
Ｈｚ），５．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），５．３０−５．１３（ｍ，３Ｈ），５．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．９１−４．８６（ｍ，１Ｈ），４．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，１２．２Ｈｚ），４．１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，１２．２Ｈｚ），３．８９−３．８３（ｍ，１Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．１０−３．０７（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．０８，２．０７，２．０５ａｎｄ２．０４（４ｓ，ｅａｃｈ  ３Ｈ），１．６３−１．５８（ｍ，２Ｈ），１．２６（ｓ，２８Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）
【０１０１】
[ N-ステアロイル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステルの製造]   
【０１０２】
【化２０】
2006131587.tif 000021
【０１０３】
反応２で得られたN-ステアロイル-O-(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-β-D-グルコピラノシル)-L-チロシンメチルエステル１．５ｇをメタノール２０ｇに溶解し、室温にて２８％−ナトリウムメトキシドメタノール溶液０．２ｇを加えた。反応液を室温にて３時間攪拌し、１Ｎ−塩酸１．１ｍｌで反応を停止させた。反応液に、酢酸エチル３０ｇおよび水３０ｇを加え、有機層を分取した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤をろ別後、ろ液を減圧濃縮し、目的物のアモルファス状残渣を得た。
収量  ：  １．０９ｇ
収率  ：  ９２％
１Ｈ−ＮＭＲ（DMSO-d6，２７０MHｚ）  δ８．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．１１（ｄ．２Ｈ，Ｊ＝
８．６Ｈｚ），６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），５．２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），５．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．３Ｈｚ），４．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），４．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．５３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝
５．８Ｈｚ），４．３９（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８，７．６，９．２Ｈｚ），３．７１−３．６４（ｍ，１Ｈ），３．５８（ｓ，３Ｈ），３．５０−３．３９（ｍ，２Ｈ），３．３０−３．１２（ｍ，３Ｈ），２．９４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８，１３．７Ｈｚ），２．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．２，１３．７Ｈｚ），２．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．４６−
１．３５（ｍ，２Ｈ），１．２４（ｓ，２８Ｈ），０．８５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）
【実施例４】
【０１０４】
N-ステアロイル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンの製造
【０１０５】
【化２１】
2006131587.tif 000022
【０１０６】
実施例３で得られたN-ステアロイル-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステル６２５ｍｇをメタノール１５ｇに溶解し、室温にて２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液１ｍＬを加えた。反応液を室温にて１時間攪拌した後に、強酸性樹脂(Amberlite IR-120B plus)１ｇにて処理した。樹脂をろ別後、ろ液を減圧濃縮し、目的物のアモルファス状残渣を得た。
収量  ：  ６１０ｍｇ
収率  ：  １００％
１Ｈ−ＮＭＲ（DMSO-d6，２７０MHｚ）  δ８．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ），６．９１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），５．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），５．０５（ｓ，１Ｈ），
４．９９（ｓ，１Ｈ），４．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．５３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），４．３５（ｄｄｄ，
１H，Ｊ＝４．９，７．９，９．２Ｈｚ），３．７１−３．６３（ｍ，１Ｈ），３．５０−３．１５（ｍ，５Ｈ），２．９６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１３．９Ｈｚ），２．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ−９．２，１３．９Ｈｚ），２．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．４５−１．３５（ｍ，２Ｈ），１．２３（ｓ，２８Ｈ），０．８５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）
【実施例５】
【０１０７】
N-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステルの製造
[  N-カルボベンゾキシ-O-(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-β-D-グルコピラノシル)-L-チロシンメチルエステルの製造] 
【０１０８】
【化２２】
2006131587.tif 000023
【０１０９】
N-カルボベンゾキシ-L-チロシンメチルエステル４０ｇを１，２−ジコロロエタン６００ｇに溶解し、β−ペンタアセチルグルコース５８．９ｇおよび三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体２０．６ｇを加え、３５〜４５℃の範囲で、６時間反応を行った。反応終了後、ＨＰＬＣによる分析によって、反応収率は８０％であった。続いて、反応液を１５℃以下に冷却し、炭酸ナトリウム４８ｇを水４３０ｇに溶解したものを滴下した。１５℃以下で１時間攪拌後、有機層を分取した。２％食塩水３００ｇで２回洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル８０ｇおよびヘキサン８０ｇを加え、０〜１０℃にて２時間冷却攪拌することで、目的化合物の結晶化を行った。得られた結晶をろ取し、続いて減圧下、４０℃にて乾燥した。
収量  ：  ５５ｇ
収率  ：  ６９％
融点  ：  １１０〜１１２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０MHｚ）  δ７．３９−７．２９（ｍ，５Ｈ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），５．３３−５．０３（ｍ，６Ｈ），５．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），
４．６６−４．６１（ｍ，１Ｈ），４．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，１２．２Ｈｚ），４．１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），３．８７−３．８１（ｍ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．０９−３．０５（ｍ，２Ｈ），２．０７，２．０６，２．０５ａｎｄ２．０３（４ｓ，ｅａｃｈ  ３Ｈ）
【０１１０】
[ N-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステルの製造]   
【０１１１】
【化２３】
2006131587.tif 000024
【０１１２】
上記で得られたN-カルボベンゾキシ-O-(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-β-D-グルコピラノシル)-L-チロシンメチルエステル４５ｇをメタノール２２５ｇに懸濁し、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液を加えて室温にて２時間攪拌した。反応液を強酸性樹脂(Amberlite IR-120B plus)４４ｇで処理し、続いて樹脂をろ別した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣に水１１５ｇを加え、室温にて３０分間攪拌した。続いて０〜１０℃にて１時間冷却攪拌し、析出した目的化合物をろ取した。得られた白色結晶を、減圧下、４０℃にて乾燥した。
収量  ：  ３１．９ｇ
収率  ：  ９５％
融点  ：  １７２〜１７４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，２７０MHｚ）  δ７．３６−７．２８（ｍ，５Ｈ），７．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），５．０３（ｓ，２Ｈ），４．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．４０（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝５．６，８．９Ｈｚ），３．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ），３．７３−３．６２（ｍ，１Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），３．４７−３．３８（ｍ，４Ｈ），３．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．６，１４．０Ｈｚ），２．８９（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．９，１４．０Ｈｚ）
【実施例６】
【０１１３】
O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンの製造
[ N-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンの製造]   
【０１１４】
【化２４】
2006131587.tif 000025
【０１１５】
実施例５で得られたN-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンメチルエステル２０．０ｇをメタノール２００ｇに溶解し、4N-水酸化ナトリウム水溶液１５．３ｍＬを加え、室温にて１時間攪拌した。反応液を強酸性樹脂(Amberlite IR-120B plus)４４ｇで処理し、続いて樹脂をろ別した。ろ液を減圧濃縮し、目的化合物をアモルファス状固体として得た。
収量  ：  １９．０ｇ
収率  ：  ９８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，２７０MHｚ）  δ７．３２−７．２９（ｍ，５Ｈ），７．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），５．０３（ｓ，２Ｈ），４．８５−４．７０（ｍ，１Ｈ），４．３８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０，８．８Ｈｚ），３．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ），３．６９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．０，１１．５Ｈｚ），３．４６−３．４１（ｍ，４Ｈ），３．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０，１３．８Ｈｚ），２．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８，１３．８Ｈｚ）
【０１１６】
[ O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシンの製造]  
【０１１７】
【化２５】
2006131587.tif 000026
【０１１８】
上記で得られたN-カルボベンゾキシ-O-β-D-グルコピラノシル-L-チロシン１９．０ｇをメタノール２００ｇに溶解し、１０％パラジウム−炭素触媒（５０％含水品）３．０ｇを加え、水素雰囲気下（大気圧）、室温にて２時間攪拌を行った。反応終了後、水１０００ｇを加え、析出した目的化合物を溶解し、セライトを用いて触媒をろ別した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣に水１５ｇおよびエタノール１５ｇを加え、続いて０〜１０℃にて攪拌することで、結晶化を行った。得られた白色結晶をろ取し、減圧下、４０℃にて乾燥した。
収量  ：  １０．６ｇ
収率  ：  ７７％
融点  ：２６０℃（分解）
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ，２７０MHｚ）  δ７．２３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），５．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．９４−３．８５（ｍ，２Ｈ），３．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．６，１２．２Ｈｚ），３．６２−３．５２（ｍ，４Ｈ），３．４５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），３．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，
１４．４Ｈｚ），３．０４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９，１４．４Ｈｚ）
【実施例７】
【０１１９】
実施例２および６で得られた化合物に関して、抗菌試験を実施した。
[試験方法]
直径９ｃｍの培地を含む滅菌シャーレ上に植菌し、サンプル濃度１００ｐｐｍ、２５℃で抗菌試験を実施した。実施した病原菌は以下のものである。
イネ紋枯病菌：Pellicularia sasakii (以下、「PS」と略記する。)
灰色カビ病菌：Botrytis cinerea (以下、「BC」と略記する。)
リンゴ斑点落葉病菌：Alternaria mali (以下、「AM」と略記する。)
キュウリつる割病菌：Fusarium oxysporus f. sp. Cucumerinum (以下、「FO」と略記する。)
また、阻害率を以下の式で求めた。
阻害率（％）＝[（コントロールの菌糸伸張−処理区の菌糸伸張）／コントロールの菌糸伸張]×１００
[試験結果]
実施例２および６記載の化合物において抗菌作用が見られた。試験結果を表１に示す。
【０１２０】
【表１】
2006131587.tif 000027
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
本発明は、新規なチロシン配糖体を提供するのに有用である。また、本発明の新規なチロシン配糖体は抗菌作用を有するため、殺菌剤として有用である。