(57)【要約】【課題】表面の残留応力値が−１００MPａ以上であっても、耐食性を発揮するクロムめっき部品を容易かつ安定して得ることができる製造方法を提供する。【解決手段】パルスめっき処理を行ってクラックのないクロム層を形成した後、表面をバフ研磨により仕上加工するクロムめっき部品の製造方法において、前記パルスめっき処理によりクロム層に生じる電着応力値Ａと、前記仕上加工によりクロム層に付与される加工応力値Ｂと、温度上昇や時間の経過により生じるクロム層の応力変化量Ｃとが、式[Ａ＋Ｂ＋Ｃ＜８０ＭＰａ]を満足するように、前記パルスめっき処理におけるパルス波形、電流密度、めっき浴温度、めっき浴組成等を調整し、かつ仕上加工における使用バフの種類、加工条件等を調整する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
クロムめっき処理により、−１００ＭＰａより大きな初期電着応力を有するクラックのないクロム層をワーク表面に形成する工程と、前記クラックのないクロム層の表面を研磨または研削仕上加工することにより、残留応力値を−１００ＭＰａ以下とする工程とからなることを特徴とするクロムめっき部品の製造方法。
【請求項２】
前記研磨または研削仕上加工後、少なくとも常温で放置して使用状態において表面の残留応力値を８０ＭＰａ以下とすることを特徴とする請求項１に記載のクロムめっき部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面に硬質のクロム層を析出させたクロムめっき部品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワーク表面に硬質のクロム層を析出させる汎用の硬質クロムめっき処理によれば、得られるクロム層に金属素地に達するクラックが多数存在し、そのままでは、腐食原因となる媒体が金属素地に到達して、耐食性に劣るものとなる。そこで従来、腐食環境で使用される部品に対しては、一般に前処理としてニッケルめっきや銅めっきを施してクロムめっき層と同程度の膜厚の下地を形成し、この下地の上に硬質クロムめっきを施すようにしていた。しかし、このような対策によれば、めっき処理を工程を変えて２回行わなければならないため、工程増加による製造コストの上昇が避けられないようになる。
【０００３】
一方、パルス電流を利用して、いわゆるパルスめっき処理を行うことで、クラックのないクロム層を形成できることが既に確認されており（例えば、特開平３−２０７８８４号公報参照）、この方法によれば、耐食性に優れたクロムめっき部品を１工程処理で得ることができるようになる。しかし、このパルスめっき処理によれば、熱履歴を受けるとクロム層に大きなクラック（マクロクラック）が発生し易いという問題があり、熱履歴を受ける部品への適用は断念せざるを得ないものとなっていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、本発明者等は、上記マクロクラック発生について鋭意検討した結果、クロム層に１００ＭＰａ以上の圧縮残留応力（−１００ＭＰａ以下）を付与することで、前記熱履歴に起因するクラック発生を防止できることを見出し、既に特開２０００−１９９０９５号公報で明らかにしている。
【０００５】
しかしながら、この圧縮残留応力を付与したクロムめっき部品について、その後さらに追加実験をしてみると、めっき処理の直後に１００ＭＰａより小さい圧縮残留応力（−１００ＭＰａ超）を有しているにもかかわらず、常温で長時間放置しても、また、条件によっては２５０℃程度の高温までマクロクラックが発生しないものがあることが分った。
【０００６】
本発明は、上記した技術的背景に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、常温で長時間放置しても、また、条件によっては、広範な熱履歴を経る場合にも優れた耐食性を発揮するクロムめっき部品を容易かつ安定して得ることができる製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明に係るクロムめっき部品の製造方法は、クロムめっき処理により、−１００ＭＰａより大きな初期電着応力を有するクラックのないクロム層をワーク表面に形成する工程と、前記クラックのないクロム層の表面を研磨または研削仕上加工することにより、残留応力値を−１００ＭＰａ以下とする工程とからなることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
上記したように、本発明に係るクロムめっき部品の製造方法によれば、常温付近においても、また、条件によっては、広範な熱履歴を経る場合にも優れた耐食性を発揮するクロムめっき部品を安定して得ることができる。また、めっき条件のわずかの変更と研磨仕上げの加工条件のわずかの変更で対処できるので、生産性はもとより製造コストが犠牲になることもなく、総じて本発明の利用価値は大なるものがある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００１０】
本実施の形態においては、先ず、パルスめっき処理を行ってワーク表面にクラックのないクロム層を形成し、その後、ワーク表面をバフ研磨で仕上加工する。しかして、前記パルスめっき処理および研磨仕上加工に際しては、クロム層に生じる電着応力値Ａと、前記研磨仕上加工によりクロム層に付与される加工応力値Ｂと、後に詳述するクロム層の微視的歪と相関する、温度上昇および時間経過により生じるクロム層の応力変化量Ｃとが、式（１）[Ａ＋Ｂ＋Ｃ≦８０ＭＰａ]を満足するように、換言すれば、ワークを製品化した使用状態において応力値が８０ＭＰａ以下となるように前記パルスめっき処理並びに研磨仕上加工の条件を調整する。なお、仕上加工としては、前記研磨仕上加工に限らず、例えばワーク表面を砥石で研削する研削仕上加工としてもよい。
【００１１】
上記パルスめっき処理に際しては、めっき浴として、表１に示すような有機スルフォン酸を含むものを用いる。このめっき浴は、特公昭６３−３２８７４号公報に記載されたものと同じ成分組成を有しており、クロム酸と硫酸根とをベースとして有機スルフォン酸を１〜１８g/L 好適には１.５〜１２g/L含んでいる。
なお、有機スルフォン酸を含まない、クロム酸−硫酸浴（サージェント浴）や珪弗化物（ＳｉＦ6）を含む混合触媒浴を用いてもよい。
【００１２】
【表１】
2006188767.tif 000002
【００１３】
また、パルスめっき処理に際して印加するパルス電流の波形としては、図１に示すように最大電流密度IUと最小電流密度ILとの間を交番し、かつ最大電流密度IUと最小電流密度ILとに所定時間T1、T2保持する形態となっている。最小電流密度ILは、ここではゼロ（オフ）に設定しているが、最大電流密度IUとゼロとの間の任意の値に設定してもよいことはもちろんである。また、保持時間T1およびT2については、同一の値に設定しても異なる値に設定してもよい。
【００１４】
本実施の形態においては、上記最大電流密度IU並びに最小電流密度ILおよび上記保持時間T1、T2を適当な値に設定し、さらに浴温度を50〜80℃として上記めっき浴中でパルスめっき処理を行って、上記したクロム層に生じる電着応力値Ａおよび雰囲気の温度上昇により生じるクロム層の応力変化量Ｃを制御する。
一方、研磨仕上加工に際しては、不織布を基材とするセンタレスバフ（クレノートン社製ベアテックスＧＤ）を用い、負荷電流を調整して上記した研磨仕上加工によりクロム層に付与される加工応力値Ｂを制御する。
【００１５】
ここで、温度上昇によるクロム層の応力変化はクロム層の熱収縮に起因する現象であり、その応力変化量Ｃは、図２に示すようにクロム層の微視的歪εおよび雰囲気温度と相関する。前記微視的歪εは、Ｘ線回折法による回折Ｘ線のプロファイルの広がりを半価幅として測定することで、下記のHallの式（２）から求めることができる。
β・cosθ／λ＝１／Ｄ＋ε・sinθ／λ    …（２）
この式において、βは半価幅、εは微視的歪、Ｄは結晶子の大きさ、λはＸ線の波長であり、半価幅βの測定は、同一方向の格子面である｛１１０｝と｛２２０｝で行う。
【００１６】
図２は、後述の実施例データに基いて求めたもので、微視的歪εが小さいほど加熱によるクロム層の応力変化量Ｃは小さく、熱的に安定する。
また、応力変化量Ｃは、時間と共に変化するが、時間の経過により安定し、変化が小さくなる。常温では、１ケ月程度で安定し、1５０℃では１日程度で安定する。
【００１７】
このようにして製造されたクロムめっき部品は、めっき処理によりクロム層に生じる電着応力値Ａと、前記研磨仕上げによりクロム層に付与される加工応力値Ｂと、温度上昇および時間の経過により生じるクロム層の応力変化量Ｃとが、上記（１）式を満足するように制御されているので、広範な熱履歴を経てもクロム層にマクロクラックが発生せず、優れた耐食性を維持するものとなる。
【実施例１】
【００１８】
JIS Ｓ４５Ｃからなる鋼棒（直径20mm）を供試材とし、めっき浴としてクロム酸250 g/L 、硫酸根3.5 g/L 、有機スルフォン酸４g/L の成分組成のものを用い、浴温59℃、最大電流密度ＩU ＝200 A/dm2 、最小電流密度ＩL ＝０ A/dm2（図１のパターン）、最大電流密度ＩU における保持時間（オンタイム）Ｔ1 ＝0.6 、0.4、0.2ｍｓ、最小電流密度ＩL における保持時間（オフタイム）Ｔ2 ＝0.2 ｍｓの条件でパルスめっき処理を行い、ワーク表面に厚さ約20μｍのクロム層を有しかつ初期電着応力（残留応力）Ａが３水準に異なる３種類の試料１,２,３を得た。
なお、初期電着応力の測定は、日本非破壊検査協会編「非破壊検査」第37巻第８号636〜642頁に記載される「Ｘ線応力測定法」を用いて行った。以下、クロム層の残留応力の測定には本法を用いた。
【００１９】
次に、上記試料１〜３をバフ研磨に供し、その表面を仕上加工した。バフ研磨は、前記不織布を基材とするセンタレスバフを用い、加工速度を1400mm/minに固定して、負荷電流を変えて表面クロム層に付与する加工応力を調整した。バフ研磨条件（負荷電流、加工速度）の指標としては、試料の仕上加工に要した単位表面積あたりの消費エネルギー（仕事量）Ｗを以下の式（３）から導いた。
Ｗ＝Ｅ・Ｉ・ｎ／ｖ・π・ｄ（単位は、V・A・min/mm2）    …（３）
ここで、Ｅ：モータの負荷電圧
Ｉ：モータの負荷電流（仕上加工時のモータ電流−無負荷電流）
ｎ：加工回数
ｖ：加工速度（試料送り速度）
π：円周率
ｄ：試料外径
上記（３）式より、消費エネルギー（仕事量）Ｗは、モータ負荷電流が＋１Aの場合、試料の外径を20mm、モータ負荷電圧を200V、加工速度を1400mm/min、加工回数を１とすると、0.00227（V・A・min/mm2）となる。同様に、モータ負荷電流が＋２A、＋３Aの場合は、それぞれＷ＝0.00455（V・A・min/mm2）、Ｗ＝0.00682（V・A・min/mm2）となる。
【００２０】
上記の要領でバフ研磨（仕上加工）を行って、各試料１〜３について残留応力値が３水準に異なる３種類の試料１Ａ,１Ｂ,１Ｃ、２Ａ,２Ｂ,２Ｃ、３Ａ,３Ｂ,３Ｃを得た。この場合、各試料のバフ研磨後の残留応力値から上記初期電着応力値Ａを減算した値が、バフ研磨によりクロム層に付与された加工応力Ｂとなる。
【００２１】
次に、上記試料１Ａ〜Ｃ、２Ａ〜Ｃ、３Ａ〜Ｃを熱処理に供し、20℃（常温）に23064時間、150℃に２時間、200℃に２時間保持する熱履歴をそれぞれ与えて、それぞれ９種類の試料を得た。この９種類の試料については、以下、前記試料１Ａ〜Ｃ、２Ａ〜Ｃ、３Ａ〜Ｃに前記温度を付して、試料１Ａ20，１Ａ150，１Ａ200…  …３Ｃ20，３Ｃ150，３Ｃ200のように表記することとする。そして、このようにして得た試料について残留応力を測定すると共に、クロム層内におけるクラック（マクロクラック）の有無を観察した。この場合、加熱後残留応力値から上記バフ研磨後残留応力値を減算した値が、温度上昇により生じるクロム層の応力変化量Ｃとなる。
【００２２】
表２は、上記した各試料についてのパルスめっき条件、熱履歴条件、残留応力の測定結果、残留応力の測定結果から求めた加工応力値Ｂおよび応力変化量Ｃ、クラックの観察結果等を一括して示したものである。また、図３〜５は、パルスめっき処理後、仕上加工後、熱処理後における残留応力変化並びにクラック発生状況を各試料１，２，３ごとに整理して示したものである。
【００２３】
【表２】
2006188767.tif 000003
【００２４】
表２および図１〜３に示す結果より、クラックのないクロム層の残留応力は、初期電着応力（残留応力）が引張残留応力であるか圧縮残留応力であるかにかかわらず、バフ研磨（仕上加工）により一旦圧縮側へ変化した後、加熱処理により引張側へ変化している。また、クラック発生の有無との関係でみれば、全体としては、初期電着応力値が小さくかつバフ研磨後の圧縮残留応力値が大きいほどクラックが発生し難くなっている。しかし、初期電着応力値が同じでかつバフ研磨後の残留応力値が同じであっても、クラックを発生しないものと発生するものとがあり（１Ｃ150と１Ｃ200、２Ｂ150と２Ｂ200、２Ｃ150と２Ｃ200、３Ａ150と３Ａ200）、クラック発生に対して加熱による応力変化量も大きく影響していることが明らかである。さらに、初期電着応力値Ａと、加工応力値Ｂと加熱による応力変化量Ｃとの合計量（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）とクラック発生の有無との間には密接な相関が認められ、この合計量が８３ＭＰａ（１Ｂ20）以上ではクラックが発生しているのに対し、この合計量が６４ＭＰａ（１Ｃ150）以下ではクラック発生が皆無となっている。
【実施例２】
【００２５】
JIS Ｓ４５Ｃからなる鋼棒（直径20mm）を供試材とし、めっき浴としてクロム酸250 g/L 、硫酸根3.5 g/L 、有機スルフォン酸４g/L の成分組成のものを用い、浴温59℃、最大電流密度ＩU ＝120 A/dm2 、最小電流密度ＩL ＝０ A/dm2（図１のパターン）、オンタイムＴ1 ＝0.6、0.4、0.2 ｍｓ、オフタイムＴ2 ＝0.2 ｍｓの条件でパルスめっき処理を行い、表面に厚さ約20μｍのクロム層を有しかつ初期電着応力（残留応力）Ａが３水準に異なる３種類の試料４,５,６を得た。
【００２６】
次に、上記試料４〜６をバフ研磨に供し、実施例１と同様に、不織布を基材とするセンタレスバフを用いて、加工速度固定（1400mm/min）のもと、負荷電流を変えて表面クロム層に付与する加工応力を調整し、各試料４〜６について残留応力値が３水準に異なる３種類の試料４Ａ,４Ｂ,４Ｃ、５Ａ,５Ｂ,５Ｃ、６Ａ,６Ｂ,６Ｃを得た。この場合、各試料のバフ研磨後の残留応力値から上記初期電着応力値Ａを減算した値が、バフ研磨によりクロム層に付与された加工応力Ｂとなることは、実施例１の場合と同様である。
【００２７】
次に、上記試料４Ａ〜Ｃ、５Ａ〜Ｃ、６Ａ〜Ｃを熱処理に供し、20℃（常温）に23064時間、150℃に２時間、200℃に２時間保持する熱履歴をそれぞれ与えて、それぞれ９種類の試料を得た。この９種類の試料については、以下、前記試料４Ａ〜Ｃ、５Ａ〜Ｃ、６Ａ〜Ｃに前記温度を付して、試料４Ａ20，４Ａ150，４Ａ200…  …６Ｃ20，６Ｃ150，６Ｃ200のように表記することとする。そして、このようにして得た試料について残留応力を測定すると共に、クロム層内におけるクラック（マクロクラック）の有無を観察した。この場合、加熱後残留応力値から上記バフ研磨後残留応力値を減算した値が、温度上昇により生じるクロム層の応力変化量Ｃとなることは、実施例１の場合と同様である。
【００２８】
表３は、上記した各試料についてのパルスめっき条件、熱履歴条件、残留応力の測定結果、残留応力の測定結果から求めた加工応力値Ｂおよび応力変化量Ｃ、クラックの観察結果等を一括して示したものである。また、図６〜８は、パルスめっき処理後、仕上加工後、熱処理後における残留応力変化並びにクラック発生状況を各試料４，５，６ごとに整理して示したものである。
【００２９】
【表３】
2006188767.tif 000004
【００３０】
表３および図６〜８に示す結果より、クラックのないクロム層の残留応力は、実施例１と同様にバフ研磨（仕上加工）により一旦圧縮側へ変化した後、加熱処理により引張側へ変化している。また、クラック発生との相関でみれば、全体としては、初期電着応力値が小さくかつバフ研磨後の圧縮残留応力値が大きいほどクラックが発生し難くなっている。しかし、初期電着応力値が同じでかつバフ研磨後の残留応力値が同じであっても、クラックを発生しないものと発生するものとがあり（４Ｂ20と４Ｂ150、４Ｃ150と４Ｃ200、５Ａ20と５Ａ150、５Ｂ150と５Ｂ200、６Ａ150と６Ａ200）、実施例１と同様にクラック発生に対して加熱による応力変化量も大きく影響していることが明らかである。さらに、初期電着応力値Ａと、加工応力値Ｂと加熱による応力変化量Ｃとの合計量（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）とクラック発生の有無との間には密接な相関が認められ、この合計量が８３ＭＰａ（６Ａ200）以上ではクラックが発生しているのに対し、この合計量が７４ＭＰａ（４Ｂ20）以下ではクラック発生が皆無となっている。すなわち、初期電着応力値Ａと、加工応力値Ｂと加熱による応力変化量Ｃとの合計量（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）の８０ＭＰａ付近に、クラック発生の有無の分岐点が存在することは明らかで、したがって、広範な熱履歴を経る場合にも優れた耐食性を発揮するクロムめっき部品を得るには、前記合計量（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）を８０ＭＰａ未満に抑える必要がある。なお、応力値は８０ＭＰａ以下（負の値を含む）であればよく、その下限はないが、実験上では−５００ＭＰａ以下のものは製造不能である。
【００３１】
また、実施例１との相違は、パルスめっき処理時における最大電流密度ＩU として、実施例１（200 A/dm2）より小さい120 A/dm2を選択した点にある。そして、このめっき条件の変更により、めっき層に生じる初期電着応力値Ａは、実施例１よりも平均的に３０ＭＰａほど引張側へ増大しているが、これと相対に、加熱による応力変化量Ｃは、実施例１よりも４０〜７５ＭＰａほど小さくなっている。すなわち、本実施例２によれば、初期電着応力値Ａの増大分を相殺する量よりも大きな、加熱による応力変化量Ｃの低減を得ており、この結果、全体としてクラックを発生する試料の数が少なくなっている。
【実施例３】
【００３２】
JIS Ｓ４５Ｃからなる鋼棒（直径20mm）を供試材とし、めっき浴としてクロム酸250 g/L 、硫酸根3.5 g/L 、有機スルフォン酸４g/L の成分組成のものを用い、浴温65℃、最大電流密度ＩU ＝120 A/dm2 、最小電流密度ＩL ＝０ A/dm2（図１のパターン）、オンタイムＴ1 ＝0.8、0.6、0.4、0.2 ｍｓ、オフタイムＴ2 ＝0.2 ｍｓの条件でパルスめっき処理を行い、表面に厚さ約20μｍのクロム層を有しかつ初期電着応力（残留応力）Ａが４水準に異なる４種類の試料７,８,９,１０を得た。
【００３３】
次に、上記試料７〜１０をバフ研磨に供し、その表面を、前記不織布を基材とするセンタレスバフを用いて、加工速度固定（1400mm/min）のもと、負荷電流を変えて表面クロム層に付与する加工応力を調整し、各試料７〜１０について残留応力値が３水準に異なる３種類の試料７Ａ,７Ｂ,７Ｃ、８Ａ,８Ｂ,８Ｃ、９Ａ,９Ｂ,９Ｃ、１０Ａ,１０Ｂ,１０Ｃを得た。この場合、各試料のバフ研磨後の残留応力値から上記初期電着応力値Ａを減算した値が、バフ研磨によりクロム層に付与された加工応力Ｂとなることは、実施例１、２の場合と同様である。
【００３４】
次に、上記試料７Ａ〜Ｃ、８Ａ〜Ｃ、９Ａ〜Ｃ、１０Ａ〜１０Ｃを熱処理に供し、20℃（常温）に23064時間、150℃に２時間、200℃に２時間保持する熱履歴をそれぞれ与えて、それぞれ１２種類の試料を得た。この１２種類の試料については、以下、前記試料７Ａ〜Ｃ、８Ａ〜Ｃ、９Ａ〜Ｃ、１０Ａ〜１０Ｃに前記温度を付して、試料７Ａ20，７Ａ150，７Ａ200…  …１０Ｃ20，１０Ｃ150，１０Ｃ200のように表記することとする。そして、このようにして得た試料について残留応力を測定すると共に、クロム層内におけるクラック（マクロクラック）の有無を観察した。この場合、加熱後残留応力値から上記バフ研磨後残留応力値を減算した値が、温度上昇により生じるクロム層の応力変化量Ｃとなることは実施例１、２の場合と同様である。
【００３５】
表４および表５は、上記した各試料についてのパルスめっき条件、熱履歴条件、残留応力の測定結果、残留応力の測定結果から求めた加工応力値Ｂおよび応力変化量Ｃ、クラックの観察結果等を一括して示したものである。また、図９〜１２は、パルスめっき処理後、仕上加工後、熱処理後における残留応力変化並びにクラック発生状況を各試料７，８，９,１０ごとに整理して示したものである。
【００３６】
【表４】
2006188767.tif 000005
【００３７】
【表５】
2006188767.tif 000006
【００３８】
表４、表５および図９〜１２に示す結果より、クラックのないクロム層の残留応力は、実施例１、２と同様にバフ研磨（仕上加工）により一旦圧縮側へ変化した後、加熱処理により引張側へ変化している。また、クラック発生との相関でみれば、全体としては、初期電着応力値が小さくかつバフ研磨後の圧縮残留応力値が大きいほどクラックが発生し難くなっている。しかし、初期電着応力値が同じでかつバフ研磨後の残留応力値が同じであっても、クラックを発生しないものと発生するものとがあり（８Ａ20と８Ａ150、８Ｂ150と８Ｂ200、９Ａ150と９Ａ200）、実施例１、２と同様にクラック発生に対して加熱による応力変化量も大きく影響していることが明らかである。さらに、初期電着応力値Ａと、加工応力値Ｂと加熱による応力変化量Ｃとの合計量（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）とクラック発生の有無との間には密接な相関が認められ、この合計量が１１９ＭＰａ（８Ｂ200）以上ではクラックが発生しているのに対し、この合計量が７５ＭＰａ（８Ａ20）以下ではクラック発生が皆無となっている。さらに、試料７においては初期電着応力が１２３ＭＰａと大きいにもかかわらず、研磨後に５０ＭＰａ以下として、使用時に合計量が６７ＭＰａ以下であればクラックは発生していない。
【００３９】
また、実施例２との相違は、パルスめっき処理時における浴温度として、実施例２（59℃）より６℃ほど高い65℃に設定した点にある。そして、このめっき条件の変更により、めっき層に生じる初期電着応力値Ａは、実施例２とほとんど差がないものの、加熱による応力変化量Ｃは、実施例２よりも４０〜１００ＭＰａほど小さくなっている。すなわち、本実施例３によれば、実施例２よりもさらに、加熱による応力変化量Ｃの大きな低減を得ており、この結果、全体としてクラックを発生する試料の数は著しく少なくなっている。
【００４０】
上記した実施例１乃至３より以下のような条件により残留圧縮応力が１００ＭＰａ以上（−１００ＭＰａ以下）であっても、クラックの発生しないクロムめっき部品を得ることができることが分った。
1)表面仕上を行った後の応力値が、−１００ＭＰａ以下であれば、使用雰囲気温度が１５０℃程度まではクラックが発生しない。
2)クロムめっきを施したクラックのない部品が、使用状態において応力値が８０ＭＰａ以下を保つことができればクラックは発生しない。この応力値の増加を防ぐことは、表面処理完了時の微視的歪を小さくすることにより達成できる。
3)初期電着応力値が８０ＭＰａ以上であっても、表面の仕上加工により８０ＭＰａ以下とし、使用状態においても応力値が８０ＭＰａ以下に保つことができれば、クラックは発生しない（試料７参照）。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明で実施するクロムめっき処理におけるパルス波形の一例を示すグラフである。
【図２】加熱による応力変化量に及ぼすクロム層の微視的歪および加熱温度の影響を示すグラフである。
【図３】実施例１の１つのグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図４】実施例１の他のグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図５】実施例１のさらに他のグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図６】実施例２の１つのグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図７】実施例２の他のグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図８】実施例２のさらに他のグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図９】実施例３の１つのグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図１０】実施例３の他のグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図１１】実施例３のさらに他のグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図１２】実施例３のさらに他のグループにおける残留応力の各処理による変化とクラック発生状況とを示すグラフである。
【図１】
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【図２】
2006188767.tif 000008
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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