(57)【要約】【課題】  透明性が高く、屈折率及びアッベ数が共に高く、耐熱性、耐候性、耐衝撃性に優れた光学用レンズを提供する。【解決手段】  ナトリウムＤ線（波長５８９．３ｎｍ）における屈折率（ｎd ）及びアッベ数（νd ）が、下記式（Ｉ）の関係を満たし、  −１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０≦νd   ・・（Ｉ）かつ粘度平均分子量が１２０００以上、ガラス転移温度が１００℃以上である芳香族ポリカーボネート樹脂からなる光学用レンズである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナトリウムＤ線（波長５８９．３ｎｍ）における屈折率（ｎd ）及びアッベ数（νd ）が、下記式（Ｉ）の関係を満たし、
−１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０≦νd   ・・（Ｉ）
かつ粘度平均分子量が１２０００以上、ガラス転移温度が１００℃以上である芳香族ポリカーボネート樹脂からなる光学用レンズ。
【請求項２】
前記芳香族ポリカーボネート樹脂が脂環式炭化水素構造を有する請求項１に記載の光学用レンズ。
【請求項３】
前記芳香族ポリカーボネート樹脂が、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む請求項１又は２に記載の光学用レンズ。
【化１】
2006047736.tif 000011
［一般式（１）中、Ｘは、下記一般式（２）〜（５）のいずれかで表される二価の基、
【化２】
2006047736.tif 000012
（一般式（２）〜（５）におけるＲは、それぞれ独立に、単結合、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルケニル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルオキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基である。ただし、Ｒ基のうちの少なくとも２つは単結合であり、一般式（１）のベンゼン環に直接結合している。一般式（３）におけるｎ１は２〜１０の整数を表す。）
一般式（１）中、Ｙは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルオキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリールオキシ基を表す。ｎは０〜４の整数を表す。］
【請求項４】
前記芳香族ポリカーボネート樹脂が、下記一般式（６）で表される繰返し単位を含む請求項１〜３のいずれかに記載の光学用レンズ。
【化３】
2006047736.tif 000013
［一般式（６）中、Ａｒは、下記一般式（７）〜（９）のいずれかで表される基からなる。
【化４】
2006047736.tif 000014
｛一般式（７）〜（９）中、Ｒ1 は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルオキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリールオキシ基を表す。ｎ２は０〜４の整数、ｎ３は０〜３の整数を表す。
一般式（７）中、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＲ2 Ｒ3 −（Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基である。）、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリーレン基、置換もしくは無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基、置換もしくは無置換の炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基、置換もしくは無置換の９，９−フルオレニリデン基、下記一般式（１０）〜（１２）のいずれかで表される天然テルペン類から誘導される二価の基、
【化５】
2006047736.tif 000015
又は下記一般式（１３）で表される炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基を表す。
【化６】
2006047736.tif 000016
（一般式（１０）〜（１３）中、Ｒ4 は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルオキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリールオキシ基を表す。）｝］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用レンズに関し、特に、透明性が高く、屈折率及びアッベ数が共に高く、耐熱性、耐候性、耐衝撃性に優れた光学用レンズに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック製のメガネレンズは、ガラスレンズに比べて軽量であることから需要が高まっている。従来メガネレンズ用プラスチックとしては、屈折率の高さと分散性の低さを同時に達成するため、種々の熱硬化型樹脂が用いられてきた。しかしながら、これらは金型中で２４時間程度の時間をかけゆっくり重合させて製造する必要があり、生産性が極めて悪いという問題点があった。また、これら熱硬化型樹脂は、いずれも耐衝撃性が低いという問題もあった。この問題点を解決するため、熱可塑性樹脂を用い、射出成形により製造したレンズが提案されている。
これらに用いられる材料として、脂環式炭化水素からなる樹脂などが知られており、低分散（高アッベ数）の樹脂が報告されている。しかしながら、これらの樹脂は一様に屈折率が１．５５以下と低く、屈折率を高くするにはレンズが厚くなってしまうという問題点があった。また、これらの樹脂は耐衝撃性が低く、ハードコート無しでは非常に割れやすいという欠陥があった。一方、ビスフェノールＡ型の芳香族ポリカーボネート樹脂をメガネ用に適用する試みもなされており、特に米国ではプラスチックレンズの主流品として使用されている。ポリカーボネートは、耐衝撃性は極めて優れており、屈折率も約１．５８と比較的高い点はメガネ用として好ましい物性であるが、その反面アッベ数が３０程度と極端に悪く、色にじみなどの問題が指摘されていた。
【０００３】
本発明者らは、ビスフェノールＡのイソプロピリデン基や芳香族環へ種々の置換基を導入することにより、屈折率、アッベ数の異なる数種のポリカーボネート樹脂を製造し、得られた樹脂の屈折率とアッベ数を測定したところ、屈折率を高くするほどアッベ数が低くなるという強い負の相関が見られることを見出した。また、これら樹脂の屈折率（ｎd ）とアッベ数（νd ）をグラフ上にプロットすると、相関係数が０．９７という非常に高い一次関数近似が可能であり、ナトリウムＤ線（波長５８９．３ｎｍ）におけるνd ≒−１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０で表されることを見出した（図１参照）。すなわち、屈折率の増大と、アッベ数の増加は、完全なトレードオフの関係にあり、単純な置換基変更の手法では、屈折率とアッベ数を相対的に向上する、すなわち、νd の値を−１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０以上とすることは極めて困難であった。
【０００４】
ここで、特許文献１には、ビスフェノールＡと類似骨格を持つ芳香族化合物と、脂環式化合物とを共重合し共重合ポリカーボネート樹脂とすることで、ナトリウムＤ線（波長５８９．３ｎｍ）におけるνd が−１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０以上の値となっているが、この共重合ポリカーボネートを製造するには、既存の界面重縮合法が適用できないため、エステル交換法（溶融重合法）や、ピリジンとホスゲンを用いる方法などにより樹脂を製造する必要があった。しかし、溶融重合法は高温で反応させる必要があり、得られた樹脂が着色しやすいため、光学用途としては適用が困難であった。また、溶融重合法によると、反応副生成物であるフェノール化合物や、原料である炭酸エステル形成用モノマー（ジフェニルカーボネート）が残留しやすく、これが成形体の劣化を促進するという問題があった。また、ピリジンとホスゲンを用いる方法は、得られたポリカーボネートからピリジンを除去するのが困難であり、微量残留したピリジンにより得られたポリカーボネートの熱分解や着色などの問題があった。さらに、この共重合ポリカーボネートにおける脂環式化合物成分の耐熱性が不十分であることが多く、ガラス転移温度が低くなり、レンズ加工時に熱を加える工程などでレンズが変形したり、所望の形状のレンズが得られないなど問題が生じることがあった。
【特許文献１】特開２０００−１３６２４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、低温で反応可能な界面重縮合法により重合可能であり、残留金属、残留モノマー量を実用上問題ないレベルまで容易に低減可能な芳香族ポリカーボネート樹脂を用い、νd の値を−１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０以上とすることができ、透明性が高く、屈折率及びアッベ数が共に高く、耐熱性、耐候性、耐衝撃性に優れた光学用レンズを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、屈折率の向上によるアッベ数の悪化を防止するため、芳香族ポリカーボネート上に脂環構造を持たせることにより、屈折率向上させ、かつアッベ数も悪化することが無いことを見出し、さらにこの芳香族ポリカーボネート樹脂を用いることにより、前記の好ましい性質を有する光学用レンズが得られ、本発明を完成するに至ったものである。
【０００７】
すなわち、本発明は、ナトリウムＤ線（波長５８９．３ｎｍ）における屈折率（ｎd ）及びアッベ数（νd ）が、下記式（Ｉ）の関係を満たし、
−１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０≦νd         ・・（Ｉ）
かつ粘度平均分子量が１２０００以上、ガラス転移温度が１００℃以上である芳香族ポリカーボネート樹脂からなる光学用レンズを提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学用レンズは、透明性が高く、屈折率及びアッベ数が共に高く、耐熱性、耐候性、耐衝撃性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明はの光学用レンズは、ナトリウムＤ線（波長５８９．３ｎｍ）における屈折率（ｎd ）及びアッベ数（νd ）が、下記式（Ｉ）の関係を満たし、
−１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０≦νd   ・・（Ｉ）
かつ粘度平均分子量が１２０００以上、ガラス転移温度が１００℃以上である芳香族ポリカーボネート樹脂からなる。
【００１０】
前記式（Ｉ）において、１．５０≦ｎd であると好ましく、１．５８≦ｎd であるとさらに好ましい。
また、νd ＞２０であると好ましく、νd ＞３０であるとさらに好ましい。
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は１２０００以上であり、１５０００以上であると好ましい。粘度平均分子量が１２０００未満であると、機械的強度が弱くなり、レンズが割れやすくなる恐れがある。
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は１００以上であり、１２０以上であると好ましい。ガラス転移温度が１００℃未満であると、レンズ加工時、使用時、保管時などにレンズが変形する恐れがある。
【００１１】
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂は、脂環式炭化水素構造を有すると好ましい。脂環式炭化水素構造は、フェノール芳香族環の置換基の形で導入されていてもよく、ビスフェノールにおける芳香族環の間に導入されていてもよい。
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むと好ましい。
また、一般式（１）で表される繰返し単位の含有量としては、本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂の総量に対して、１０〜１００重量％であると好ましい。
【００１２】
【化１】
2006047736.tif 000002
一般式（１）中、Ｘは、下記一般式（２）〜（５）のいずれかで表される二価の基である。
【化２】
2006047736.tif 000003
【００１３】
一般式（２）〜（５）におけるＲは、それぞれ独立に、単結合、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルケニル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルオキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基である。ただし、Ｒ基のうちの少なくとも２つは単結合であり、一般式（１）のベンゼン環に直接結合しているか、又は他の基（例えば、炭素数１〜６のアルキレン基、アリーレン基、エーテル基、エステル基、アミド基等）を介して結合している。一般式（３）におけるｎ１は２〜１０の整数を表す。
【００１４】
前記Ｒのハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
前記Ｒのアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフルオロメチル基（ＣＦ3 ）等が挙げられる。
前記Ｒのアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１，３−ブタンジエニル基、１−メチルビニル基等が挙げられる。
前記Ｒのアリール基としては、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、ビフェニル基、ジクロロフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基等が挙げられる。
前記Ｒのアルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、各種ペンチルオキシ基、各種ヘキシルオキシ基等が挙げられる。
前記Ｒのアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、各種ペンチルチオ基、各種ヘキシルチオ基等が挙げられる。
【００１５】
一般式（１）中、Ｙは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルオキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリールオキシ基を表す。
【００１６】
前記Ｙのハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
前記Ｙのアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。
前記Ｙのアリール基としては、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、ビフェニル基、ジクロロフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基等が挙げられる。また、アリーレン基としては、これらの基を２価の基としたものが挙げられる。
前記Ｙのシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
前記Ｙのアルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、各種ペンチルオキシ基、各種ヘキシルオキシ基等が挙げられる。
前記Ｙのアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
一般式（１）中、ｎは、０〜４の整数を表す。
【００１７】
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂は、下記一般式（６）で表される繰返し単位を含みブロック共重合体を形成していると好ましい。
また、一般式（６）で表される繰返し単位の含有量としては、本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂の総量に対して、０〜９０重量％であると好ましい。
【化３】
2006047736.tif 000004
【００１８】
一般式（６）中、Ａｒは、下記一般式（７）〜（９）のいずれかで表される基からなる。
【化４】
2006047736.tif 000005
【００１９】
｛一般式（７）〜（９）中、Ｒ1 は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルオキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリールオキシ基を表す。ｎ２は０〜４の整数、ｎ３は０〜３の整数を表す。
一般式（７）中、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＲ2 Ｒ3 −（Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基である。）、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリーレン基、置換もしくは無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基、置換もしくは無置換の炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基、置換もしくは無置換の９，９−フルオレニリデン基、下記一般式（１０）〜（１２）で表されるいずれかの天然テルペン類から誘導される二価の基、
【化５】
2006047736.tif 000006
又は下記一般式（１３）で表される炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基を表す。
【００２０】
【化６】
2006047736.tif 000007
（一般式（１０）〜（１３）中、Ｒ4 は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキルオキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜１２のアリールオキシ基を表す。）｝
【００２１】
前記Ｒ1 のハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
前記Ｒ1 のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。
前記Ｒ1 のアリール基としては、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、ビフェニル基、ジクロロフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基等が挙げられる。また、アリーレン基としては、これらの基を２価の基としたものが挙げられる。
前記Ｒ1 のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
前記Ｒ1 のアルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、各種ペンチルオキシ基、各種ヘキシルオキシ基等が挙げられる。
前記Ｒ1 アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００２２】
前記Ｒ2 及びＲ3 のアルキル基及びアリール基の具体例としては、前記Ｒ1 と同様である。
前記Ｚのアリーレン基の具体例としては、前記Ｒ1 のアリール基を２価の基としたものが挙げられる。
前記Ｚのシクロアルキリデン基の具体例としては、前記Ｒ1 のシクロアルキル基を２価の基としたものが挙げられる。
前記Ｚのα，ω−アルキレン基としては、エチレン基、ｎ−プロピレン基、ｎ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、ｎ−ヘキシレン基、ｎ−ヘプチレン基、ｎ−オクチレン基等が挙げられる。
前記Ｒ4 のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基の具体例としては、前記Ｒ1 と同様である。
【００２３】
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂は、直鎖状、環状いずれの構造を有するものあってもよく、合成時に末端停止剤や分岐剤を用いることにより、ポリマー鎖中に特殊な末端構造や特殊な分岐構造が導入されているものであってもよい。また、本発明の目的に支障のない範囲で、前記以外の他の繰り返し単位を有していてもよく、他のポリマーや添加物を適宜添加配合して使用することもできる。
【００２４】
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の温度２０℃における還元粘度［ηsp/C］が０．１ｄｌ／ｇ以上であると好ましい。この還元粘度が、０．１ｄｌ／ｇ以上であると、機械的強度が高くレンズが割れる恐れが無い。
また、さらに好ましい還元粘度は０．２〜５．０ｄｌ／ｇであり、特に好ましくは０．３〜４．０ｄｌ／ｇである。この還元粘度が５．０ｄｌ／g 以下であれば、溶融粘度が高くならず、成形加工が容易である。
【００２５】
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂は、その製造方法としては特に制限はなく、芳香族ポリカーボネート樹脂を構成するのに必要なモノマーを用い、公知の方法（反応雰囲気、条件、反応方式及び操作法など）に準じて製造することができる。例えば、次に示す方法によって製造することが出来る。
すなわち、（Ａ）脂環構造を有するフェノール化合物単独、又は（Ａ）成分及び（Ｂ）ビスフェノール化合物を、炭酸エステル形成性化合物と反応させることにより行われる。使用する（Ａ）及び（Ｂ）成分の割合を適宜選定することにより、共重合の割合を調節することができる。
【００２６】
前記（Ａ）成分として使用可能な脂環構造を有するフェノール化合物としては、例えば、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−プロピル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−ｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ  ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−イソブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−プロピル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−ｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ  ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−イソブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、３，３−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ケトン、３，３’−ジシクロヘキシル−４，４’−ビフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ビシクロ  ［２．２．１］ヘプタン、８，８−ビス（４−ヒドロキシフェニル）トリシクロ［５．２．１．０２．６］デカン等が挙げられる。
【００２７】
これらの中でも、特に、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、３，３−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ケトン、３，３’−ジシクロヘキシル−４，４’−ビフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、８，８−ビス（４−ヒドロキシフェニル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンが好ましい。
【００２８】
前記（Ｂ）成分として使用可能なビスフェノール化合物としては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒト゛ロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３−メチル−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３−フルオロ−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３−クロロ−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３−フェニル−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フ゛タン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１ービス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニルー４ーヒドロキシフェニル）プロパン、２ー（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４’−ビフェノール、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジフェニル−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジクロロ−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５ーメチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン  、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−���ス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４ーヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモー４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、２，２−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−プロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔｅｒｔブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４ーヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４’−（１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）ビスフェノール、４，４’−（１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）ビスフェノール、末端フェノールボリジメチルシロキサンが挙げられる。
【００２９】
これらの中でも、特に、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−プロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔｅｒｔ  ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンが好ましい。
【００３０】
本発明で用いる芳香族ポリカーボネート樹脂を製造する際に用いる炭酸エステル形成性化合物としては、ホスゲン等のジハロゲン化カルボニル、クロロホルメート等のハロホルメート化合物が挙げられる。このような炭酸エステル形成性化合物を用いる場合、この反応は、適当な有機溶媒中で、酸受容体（例えば、アルカリ金属水酸化物やアルカリ金属炭酸塩等の塩基性アルカリ金属化合物、あるいはピリジン等の有機塩基等）の存在下で行うことができる。
このようなアルカリ金属水酸化物やアルカリ金属炭酸塩としては、各種のものが使用可能であるが、経済的な面から、通常、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が好ましく、これらは、通常は水溶液として使用される。
【００３１】
前記炭酸エステル形成性化合物の使用割合は、反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜調整すればよい。また、ホスゲン等のガス状の炭酸エステル形成性化合物を使用する場合、これを反応系に吹き込む方法を用いると好ましい。
前記酸受容体の使用割合も、同様に反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜定めればよい。具体的には、使用するビスフェノール化合物の合計モル数（通常、１モルは当量に相当）に対して２当量もしくはこれより若干過剰量の酸受容体を用いることが好ましい。
前記芳香族ポリカーボネート樹脂を製造する際に用いる有機溶媒としては、公知のポリカーボネート製造の際に使用されるものなど各種の溶媒を１種単独であるいは混合溶媒として使用すればよい。代表的な例としては、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロベンゼンをはじめとするハロゲン化炭化水素溶媒などが挙げられる。
【００３２】
また、重合反応を促進するために、トリエチルアミンのような第三級アミン又は第四級アンモニウム塩などの触媒を、また、重合度を調整するために、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールやクミルフェノール、フェニルフェノール等の末端停止剤や、フロログリシン、ピロガロール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ヘプテン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス〔４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル〕プロパン、２，４−ビス〔２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェノール、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラキス〔４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ〕メタン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸などの分岐剤を添加して反応を行うことができる。
【００３３】
重合反応は、通常０〜１５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲の温度で行われる。
反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常は、常圧もしくは反応系の自圧程度で行われる。
反応時間は、通常０．５分間〜１０時間、好ましくは１分間〜２時間程度である。
反応方式としては、連続法、半連続法、回分法等のいずれも採用可能であり、本発明においては、特に、低温で反応可能な界面重縮合法により重合可能である。
【００３４】
なお、得られるポリマーの還元粘度［ηsp/C］を０．１ｄｌ／ｇ以上にするには、例えば、前記反応条件を調節したり、分子量調節剤の使用量などを調節するなど各種の方法によって前記範囲を満たすことができる。また、場合により、得られたポリマーに適宜物理的処理（混合、分画等）及び／又は化学的処理（ポリマー反応、架橋処理、部分分解処理など）を施して所定の還元粘度とすることもできる。
得られた反応生成物は（粗生成物）は公知の分離・精製法などの各種の後処理を施して、所望の純度（精製度）の芳香族ポリカーボネート樹脂として回収することができる。
【００３５】
本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂は、必要に応じ、その製造工程で、前記原料や触媒に加え、酸化防止剤、顔料、染料、強化剤、充填剤、紫外線吸収剤、滑剤、離型剤、結晶核剤、可塑剤、流動性改良材、帯電防止剤等を添加することができる。また、さらに樹脂の特性を改良する目的で前記したもの以外のポリカーボネート樹脂、又は熱可塑性樹脂をブレンドして用いることもできる。
【００３６】
前記酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（４−メチルフェニル）ホスファイト、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（モノノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２−メチル−４−エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２−メチル−４−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ，ジノニルフェニル）ホスファイト、ビス（モノノニルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジメチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス（４−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジメチルフェニル）ヘキシルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ヘキシルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ステアリルホスファイト等のホスファイト化合物、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，１，３−トリス［２−メチル−４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ）−５−ｔ−ブチルフェニル］ブタン等のヒンダードフェノール系化合物、５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン等のラクトン系化合物が挙げられ、有機不純物や金属不純物、塩素等の含有量の殆どない純度の高いものを使用するのが良好な色相を維持するのに好ましい。これらは、単独、もしくは２種以上併用してもよく、特にホスファイト化合物、ヒンダードフェノール系化合物及びラクトン系化合物の各々より１種以上併用するのが有効である。また、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイト等の酸化防止剤を少量添加してもよい。
これらの酸化防止剤の添加量は、前記芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００５〜１重量部、好ましくは、０．０１〜０．５重量部、さらに好ましくは、０．０１〜０．２重量であり、この範囲内であれば所望の効果が得られ、耐熱物性、機械的物性が低下することが無い。
【００３７】
前記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（５−メチル―２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］］、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２，４−ジヒドロキソベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６，−テトラメチルピペリジン重縮合物、ビス（１−オクチロキシ−２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等が挙げられるが、特に２，２’−メチレンビス[ ４−（１、１、３、３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール] ] が好ましく用いられる。これらは、単独もしくは２種以上併用して用いてもよく、また、有機不純物や、金属不純物、塩素等を殆ど含有しない純度の高いものを使用するのが好ましい。
これらの紫外線吸収剤の添加量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００５〜１重量部、好ましくは、０．０１〜０．５重量部、さらに好ましくは、０．０１〜０．３重量であり、この範囲内であれば所望の効果が得られ、色相が低下することが無い。
【００３８】
前記離型剤としては、一般的に使用されているものでよく、例えば、天然、合成パラフィン類、シリコーンオイル、ポリエチレンワックス類、蜜蝋、ステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレート等の脂肪酸エステル等が挙げられ、特にステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレートが好ましい。これらは、単独、または２種以上併用してもよく、また、有機不純物や、金属不純物、塩素等を殆ど含有しない純度の高いものを使用するのが好ましい。添加量としては、通常前記芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００５〜２重量部程度使用されるが、必要とされる離型効果を満足する最低限の添加量にするのが、良好な色相の維持、或いは成形時のモールドデポジットを低減でき望ましい。
【００３９】
その他、顔料、染料、強化剤、充填剤、滑剤、結晶核剤、可塑剤、流動性改良材、帯電防止剤等必要に応じて単独または組み合わせて用いることができる。
上記した各種添加剤は、添加剤自体の熱劣化を抑制するため、芳香族ポリカーボネート樹脂の原料を添加した後に添加するのが好ましいが、この場合、押出工程が複雑となり、押出機のＬ／Ｄを大きくしなくてはならないなど芳香族ポリカーボネート樹脂の押出工程での熱履歴の増加による着色、分子量低下や、或いは押出機、添加剤を供給するための装置の追加などコストアップにもつながるため、これらのバランスを考慮し適宜添加位置を設定するのがよい。また、これら添加剤を用いる場合少なくとも酸化防止剤とを併せて添加するのが有効である。
以上のような特定の構造を有する芳香族ポリカーボネート樹脂は、優れた耐久性や光学特性を有し、種々の用途として有用であり、レンズ、プリズム、ファイバー、光デイスク用基板、フィルターなどの光学材料として使用すると好ましい。
【実施例】
【００４０】
次に、実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明する。
実施例及び比較例において得られた重合体の物性評価は以下の様にして行なった。
（１）粘度平均分子量、還元粘度
塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］を、離合社製、自動粘度測定装置ＶＭＲ−０４２を用い、自動粘度用ウッベローデ改良型粘度計（ＲＭ型）で測定した。
得られた還元粘度の値から、計算により粘度平均分子量を算出した。
（２）屈折率（ｎd ）及びアッベ数（νd ）
実施例及び比較例で得られた樹脂を、温度２３０〜３５０℃の温度で熱プレス成形することにより、厚さ３ｍｍの試験片を作製した。得られた試験片について、アタゴ社製アッベ屈折率計を用いて２０℃にてナトリウムＤ線（波長５８９．３ｎｍ）における屈折率（ｎd ）及びアッベ数（νd ）を測定した。
（３）外観
肉眼でレンズが透明であるか否かを観察した。
レンズが透明な場合には○とし、レンズが不透明な場合には×とした。
（４）耐熱性
（ｉ）ＤＳＣでガラス転移温度を測定した。８０℃未満を×、８０℃以上〜１００℃未満を△、１００℃以上〜１２０℃未満を○、１２０℃以上を◎とした。
（ii）２５０℃、１５分加熱前後での粘度平均分子量を測定した。加熱前分子量を１００とした時の加熱後の分子量相対値が９５以上であるものを○、８５以上９５未満であるものを△、８５未満であるものを×とした。
（５）ポリカーボネート重合における既存プロセス適用制限の有無
界面重縮合が可能な場合を○、不可能な場合を×とした
【００４１】
合成例１
分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンポリカーボネートの合成法
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ；ビスＡ）７４重量部を６重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液５８５重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンポリカーボネート（以後、ビスＡオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００４２】
合成例２
分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネートの合成法
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＺ；ビスＺ）８７重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネート（以後、ビスＺオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００４３】
合成例３
分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンポリカーボネートの合成法
２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＣＨＡ；ビスＣＨＡ）１２７重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンポリカーボネート（以後、ビスＣＨＡオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００４４】
合成例４
分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネートの合成法
１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＣＨＺ；ビスＣＨＺ）１４０重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネート（以後、ビスＣＨＺオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００４５】
合成例５
分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタンポリカーボネートの合成法
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン（２，２−アダマンタンビスフェノール；ビス２２Ａｄ）１０４重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタンポリカーボネート（以後、ビス２２Ａｄオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００４６】
合成例６
分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネートの合成法
１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＥＰＺ；ビスＥＰＺ）１０５重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネート（以後、ビスＥＰＺオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００４７】
合成例７
分子末端がクロロホーメート基であるテルペンビスフェノールポリカーボネートの合成法
以下のテルペンビスフェノール（Ｉ’−１）及び（II’−１）を特開平９−６８８１７号公報の合成例１の方法で合成した。
【化７】
2006047736.tif 000008
【００４８】
すなわち、フェノール（２０００ｇ、２１．２モル）、γ−テルピネン（４２４．５ｇ、３．１１モル）及び酸性イオン交換樹脂（２００．０ｇ、東京有機化学社製アンバーリスト３１、樹脂１ｇ当たり４．９４ミリ当量のＨ+ をもつスルホン化ポリスチレン−ジビニルベンゼンゲル）の混合物を約１００℃で２４時間加熱した。粗生成物を濾過してイオン交換樹脂ビーズを除去した。濾液からフェノールを減圧蒸留により除去し、蒸留残渣を得た。この残渣にクロロホルム６００ミリリットルを加え、５０℃に加熱後、ゆっくりと冷却し、黄褐色結晶状の（Ｉ’−１）粗生成物を得、吸引濾過により（Ｉ’−１）の粗生成物と残渣濾液を得た。粗生成（Ｉ’−１）をクロロホルムから再結晶して（Ｉ’−１）の白色結晶２８０ｇを得た。また、それぞれの濾液を濃縮し、（II’−１）の粗生成物を得、イソプロピルアルコールから再結晶し、白色の（II’−１）、２９ｇを得た。
このテルペンビスフェノール（Ｉ’−１）及び（II’−１）の混合物（モル混合比９：１）（テルペンビスフェノール；ビスＴＰＰ）１０５重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホルメート基であるテルペンビスフェノールポリカーボネート（以後、ビスＴＰＰオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００４９】
合成例８
分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンポリカーボネートの合成法
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（トリメチルシクロヘキシルビスフェノール；ビスＩ）１０１重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンポリカーボネート（以後、ビスＩオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００５０】
合成例９
分子末端がクロロチオホーメート基である４，４’−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）ビスフェノールポリカーボネートの合成法
４，４’−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）ビスフェノール（トリシクロデカンビスフェノール；ＢＰ−ＴＣＤ）１０４重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である４，４’−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）ビスフェノールポリカーボネート（以後、ＢＰ−ＴＣＤオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００５１】
合成例１０
分子末端がクロロホーメート基である４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィドポリカーボネートの合成法
４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィド（Ｚ４Ｓ）９３重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィド（以後、Ｚ４Ｓオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００５２】
合成例１１
分子末端がクロロホーメート基である４，４−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィドポリカーボネートの合成法
４，４−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィド（ＣＺ４Ｓ）１０２重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である４，４−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィドポリカーボネート（以後、ＣＺ４Ｓオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００５３】
合成例１２
分子末端がクロロホーメート基である４，４−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィドポリカーボネートの合成法
４，４−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィド（ＣＨＺ４Ｓ）１４６重量部を９．４重量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７重量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４重量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを４．２重量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である４，４−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルフィドポリカーボネート（以後、ＣＨＺ４Ｓオリゴマーと記載）の塩化メチレン溶液を得た。
【００５４】
実施例１
上記ビスＺオリゴマーの塩化メチレン溶液２００ｍｌに塩化メチレンを加えて全量を４５０ｍｌとした後、ビスＺ（１８．０ｇ）、１２．２重量％濃度の水酸化カリウム水溶液（１５０ｍｌ）を混合し、分子量調節剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１．２ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒として７重量％濃度のトリエチルアミン水溶液を２ｍｌ加え、２８℃において攪拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１Ｌで希釈し、次いで水１．５Ｌで２回、０．０１規定塩酸１Ｌで１回、水１Ｌで２回の順で洗浄し、有機層をメタノール中に投入し、析出したポリマーをろ過、乾燥し、ポリチオカーボネート樹脂（ＰＣ−１）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４０ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１６４００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００５５】
実施例２
実施例１において、ビスＺオリゴマーの代わりにビスＣＨＡオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにビスＣＨＡ（２６．３ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４４ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１７７００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００５６】
実施例３
実施例１において、ビスＺオリゴマーの代わりにビスＣＨＡオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにビスＣＨＡ（２９．０ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４２ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１７０００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００５７】
実施例４
実施例１において、ビスＺオリゴマーの使用量を１００ｍｌとし、さらにビス２２Ａｄオリゴマー（１００ｍｌ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．５２ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は２２４００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００５８】
実施例５
実施例１において、ビスＺオリゴマーの代わりにビスＥＰＺオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにビスＥＰＺ（２１．７ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４３ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１８０００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００５９】
実施例６
実施例１において、ビスＺオリゴマーの代わりにビスＴＰＰオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにビスＴＰＰ（２１．７ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４７ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１９２００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００６０】
実施例７
実施例１において、ビスＺオリゴマーの代わりにビスＩオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにビスＩ（２０．８ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４１ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１６５００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００６１】
実施例８
実施例１において、ビスＺオリゴマーの変わりにＢＰ−ＴＣＤオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにＢＰ−ＴＣＤ（２１．５ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４４ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１７８００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００６２】
実施例９
実施例１において、ビスＺオリゴマーの変わりにＺ４Ｓオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにＺ４Ｓ（１９．２ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４５ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１８３００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００６３】
実施例１０
実施例１において、ビスＺオリゴマーの代わりにＣＺ４Ｓオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにＣＺ４Ｓ（２１．１ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４３ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１７８００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００６４】
実施例１１
実施例１のビスＺオリゴマーの代わりにＣＨＺ４Ｓオリゴマーを用い、ビスＺの代わりにＣＨＺ４Ｓ（３０．２ｇ）を用いた以外は同様の方法でポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）を得た。
得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）の構造は 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。また、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４５ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１８２００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
【００６５】
比較例１
市販のビスフェノールＡ共重合を比較対象とし、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４９ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は２０１００であった。さらに、前記（２）〜（５）を評価した結果を表１に示す。
比較例２
特開２００２−２０１２７７号公報の実施例１に記載の１，４−シクロヘキサンジチオールと１，４−シクロヘキサンジオールとを原料モノマーとして、界面重縮合により重合を試みたが、１，４−シクロヘキサンジチオール単独の重合体の合成は可能であったが、脂環族モノマーである１，４−シクロヘキサンジオールとの共重合は全く進行しなかった。
同公報の実施例１に記載のように、溶液重合法にて１，４−シクロヘキサンジチオールと１，４−シクロヘキサンジオールとを原料モノマーとするポリカーボネート樹脂を合成した。
得られたポリカーボネート樹脂について、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４７ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１９２００であった。さらに、前記（３）、（４）（ii）及び（５）を評価した結果を表１に示す。また、（２）及び（４）（ｉ）は、同公報に記載の結果を用いて表１に示した。
【００６６】
比較例３
特開２００２−２０１２７７号公報の比較例４に記載のシクロヘキサンジチオールとヒドロキノンとを原料モノマーとして、界面重縮合により重合を試みたところ、合成は可能であったが、前記（３）の方法にて外観を観察したところ得られた樹脂は褐色に着色しており、その後の精製によっても無色透明なポリマーを得ることはできなかった。
得られたポリカーボネート樹脂について、前記（１）の方法にて測定した還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は０．４３ｄｌ／ｇであり、粘度平均分子量は１７８００であった。さらに、前記（４）（ii）及び（５）を評価した結果を表１に示す。また、（２）及び（４）（ｉ）は、同公報に記載の結果を用いて表１に示した。
【００６７】
【表１】
2006047736.tif 000009
※比較例２及び３における耐熱性（ｉ）、屈折率及びアッベ数は公報に記載の結果。
【００６８】
実施例１２
実施例５で得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）を下記条件にて成形しレンズを作製した。
使用成形機：東芝製ＩＳ−２５ＥＰ
可塑化温度：ノズルより  ２９０  ２８０  ２７０  ２７０℃
スクリュー回転数：１００ｒｐｍ
背圧：２０ｋｇ/ ｃｍ2 
金型設定温度：可動側  ８０℃  固定側  １２０℃
射出時間：８．０秒
計量時間：２０秒
冷却時間：３０秒
サイクルタイム：５８秒
型締め力：２０トン
得られたレンズ（中心厚１．５２０ｍｍ、レンズ度数パワ−０．００Ｄ) は設定されたレンズ形状を保持していた。また、前記（２）の方法で測定した屈折率、アッベはそれぞれ１．５９、３１であった。さらに、前記（４）（ｉ）の方法で測定した耐熱温度（Ｔｇ）は１８５℃であった。
【００６９】
実施例１３
実施例１２で得られたレンズに、以下のハ−ドコ−ト膜及び反射防止膜を施した。
〔ハ−ドコ−ト膜の形成〕
ガラス製容器に、有機ケイ素化合物のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１４２重量部を加え、撹拌しながら、０．０１Ｎ塩酸１．４重量部、水３２重量部を滴下した。滴下終了後、２４時間撹拌を行いγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解溶液を得た。この溶液に、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル（メタノール分散、全金属酸化物３１．５重量％、平均粒子径１０〜１５ミリミクロン）４６０重量部、エチルセロソルブ３００重量部、滑剤としてシリコーン系界面活性剤０．７重量部、硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート８重量部を加え、充分に撹拌した後、濾過を行ってコーティング液を得た。
アルカリ水溶液で前処理した実施例１２のレンズを、前記コーティング液の中に浸漬させ、浸漬終了後、引き上げ速度２０ｃｍ／分で引き上げたプラスチックレンズを１２０℃で２時間加熱してハ−ドコ−ト層を形成した。
〔反射防止膜の作成〕
このハードコート層を有するプラスチックレンズを８０℃に加熱し、ハードコート層の上に真空蒸着法（真空度２×１０-5Ｔｏｒｒ）により基板側から第１層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．４７λ（λ＝５００ｎｍ））を形成した。次に、第２層に二酸化チタン（５９．５重量部）、五酸化ニオブ（２５．５重量部) 、酸化ジルコニウム（１０．０重量部) 及び酸化イットリウム（５．０重量部) の混合物で作製したペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．０６２９λ）を形成し、その上に第３層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．０５２８λ）を形成した。その上に第４層として第2 層と同じ組成のペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．４４３２λ）を形成し、その上に第５層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．２３７０λ）を形成して反射防止膜を形成した。さらにこの反射防止膜を形成したプラスチックレンズの裏面にも同様にして反射防止膜を形成し、両面に５層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
〔物性評価〕
耐衝撃性テスト：前記工程により得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズに関し、１２７ｃｍの高さから重量の異なる剛球を順次落下させて、割れ、ないしクラックが発生した時の重量により評価を行った。結果を表に記載した。
落球重量＝１，２，4.5 ，8.5 ，１６，３２，６７，１１２，２５６，５１０，１０００ｇ
また、前記（３）の方法にて外観を観察した。それらの結果を表２に示す。
【００７０】
比較例４
実施例１２において、実施例５で得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）の代わりに、比較例１で用いたビフェノールＡ共重合を用いた以外は同様にして、レンズを作製し、実施例１３と同様にしてハ−ドコ−ト膜及び反射防止膜を施し、同様に物性を評価した。それらの結果を表２に示す。
比較例５
市販の熱硬化レンズ（表面コートなど未実施のレンズ基材，屈折率１．６０）を用い、ハードコート、実施例１３と同様にしてハ−ドコ−ト膜及び反射防止膜を施し、同様に物性を評価した。それらの結果を表２に示す。
【００７１】
【表２】
2006047736.tif 000010
【産業上の利用可能性】
【００７２】
本発明の光学用レンズは、低温で反応可能な界面重縮合法により重合可能であり、残留金属、残留モノマー量を実用上問題ないレベルまで容易に低減可能な芳香族ポリカーボネート樹脂を用い、νd の値を−１２６．６９×ｎd ＋２３１．４０以上とすることができ、透明性が高く、屈折率及びアッベ数が共に高く、耐熱性、耐候性、耐衝撃性に優れている。また、特に高い面精度を有し軽量で耐衝撃性に優れることから、本発明の光学用レンズは、眼鏡用レンズやカメラレンズとして使用するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】ポリカーボネート樹脂における屈折率とアッベ数との関係を説明する図である。
【図１】
2006047736.tif 000017