(57)【要約】【課題】  従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属を容易に且つ効率的に着磁可能とする技術を提供する。【解決手段】  磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に、着磁されるべき金属２２を位置せしめると共に、比透磁率の絶対値が該金属２２の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内において、該金属２２に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめることにより、該金属２２を着磁するように構成した。【選択図】      図  １
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に、着磁されるべき金属を位置せしめると共に、該磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が該金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内において、該金属に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめることにより、該金属を着磁するようにしたことを特徴とする金属の着磁方法。
【請求項２】
前記磁気ベクトルポテンシャル誘導体の比透磁率の絶対値が、前記着磁されるべき金属の比透磁率の絶対値の１００００００倍以下である請求項１に記載の被着磁物の着磁方法。
【請求項３】
前記磁気ベクトルポテンシャル誘導体が、前記磁場内で、前記磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面に対して直角な方向において、前記着磁されるべき金属に対して重合せ乃至は対向せしめられることにより接触状態又は非接触状態とされて、近接、位置せしめられている請求項１又は請求項２に記載の金属の着磁方法。
【請求項４】
前記磁気ベクトルポテンシャル誘導体が、前記着磁されるべき金属に対して接触下又は非接触下で、該金属を包囲するか、若しくは該金属にて包囲されることにより、該金属に対して近接、位置せしめられている請求項１乃至請求項３のうちの何れか１項に記載の金属の着磁方法。
【請求項５】
前記磁場が、永久磁石を用いて発生せしめられた前記磁気ベクトルポテンシャルによって生ぜしめられている請求項１乃至請求項４のうちの何れか１項に記載の金属の着磁方法。
【請求項６】
前記磁場が、コイルへの通電により発生せしめられた前記磁気ベクトルポテンシャルによって生ぜしめられている請求項１乃至請求項４のうちの何れか１項に記載の金属の着磁方法。
【請求項７】
所定の磁場を発生して、該磁場内で金属を着磁する装置であって、磁気ベクトルポテンシャルを生じ、該磁気ベクトルポテンシャルによって前記磁場を発生せしめる磁場発生手段と、該磁場発生手段によって発生せしめられる該磁場内で、前記金属に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめられて、該磁気ベクトルポテンシャルを該金属に誘導する、比透磁率の絶対値が該金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体とを含んで構成したことを特徴とする金属の着磁装置。
【請求項８】
金属と非金属との混合物中から該金属を分離する方法にして、
前記混合物を、磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に位置せしめる工程と、
前記磁場を発生せしめる前記磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が前記混物中の前記金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内に、該混合物に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめることにより、該混合物中の該金属を着磁する工程と、
かかる着磁工程にて着磁された前記金属に対して磁力を作用せしめることにより、該金属を前記非金属と分離して、前記混合物中から分離する工程と、
を含むことを特徴とする金属の分離方法。
【請求項９】
金属を含む溶液中から該金属を分離する方法にして、
前記溶液を、磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に位置せしめる工程と、
前記磁場を発生せしめる前記磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が前記溶液中の前記金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内に、該溶液に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめることにより、該溶液中の該金属を着磁する工程と、
かかる着磁工程にて着磁された前記金属を含む前記溶液に対して磁気ベクトルポテンシャルを作用せしめることにより、該着磁された金属の該溶液中での濃度勾配を生ぜしめる工程と、
かかる濃度勾配発生工程で前記金属の濃度勾配が生ぜしめられた前記溶液を、該金属の濃度が高い部分と該金属の濃度が低い部分とに分離することにより、該溶液中から該金属を分離する工程と、
を含むことを特徴とする金属の分離方法。
【請求項１０】
所定の非金属製被覆体にて被覆された金属を該非金属製被覆体と分離する方法にして、
前記非金属製被覆体にて被覆された前記金属を、磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に位置せしめる工程と、
前記磁場を発生せしめる前記磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が前記金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内に、該金属に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめて、該金属を着磁すると共に、かかる着磁により生ずるバレット効果にて該金属の体積を増大させることで、該金属を被覆する前記非金属製被覆体を破壊して、該非金属製被覆体による該金属の被覆状態を解消せしめる工程と、
かかる着磁工程で着磁されると共に前記非金属製被覆体による被覆状態が解消された前記金属に対して磁力を作用せしめることにより、該金属を該非金属製被覆体と分離する工程と、
を含むことを特徴とする金属の分離方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属の着磁方法及び装置、並びに金属の分離方法に係り、特に、磁気ベクトルポテンシャルを利用して、所定の金属を着磁する方法と、そのような方法の実施に際して有利に用いられる金属の着磁装置、更には、かかる金属の着磁方法を利用した金属の分離方法とに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
よく知られているように、各種の機械装置や電子機器、通信機器、或いは医療機器乃至器具等には、磁気（磁性）を帯びた金属部品が、多く使用されている。そして、このような磁気を帯びた金属部品は、一般に、磁気を帯びていない金属部品又は金属材料が、コンデンサ式着磁電源装置や強力な永久磁石等を用いて得られる磁場内に位置せしめられて、着磁（磁気化）されることにより製作されている。
【０００３】
ところが、このような一般的な着磁方法では、特定の金属、例えば、金や銀等の金属単体や、熱減磁された各種の金属単体、オーステナイト系ステンレス鋼等のある種の合金、或いは各種の金属イオン、金属コロイド等を着磁することが困難乃至は不可能であった。
【０００４】
そのため、従来では、様々な装置や機器に使用される金属部品の種類が制限されてしまうといった問題が惹起されていた。また、金属と非金属の両方が存在せしめられた物質やそれらの混合物中から金属を分離するに際して、かかる金属を磁力にて吸着させて、分離する手法が知られているが、上記の如き一般的な着磁方法で着磁が困難乃至は不可能な金属には、そのような金属の分離方法が適用出来ないといった不具合もあったのである。なお、上述の説明から明らかなように、本明細書で、金属とは、金属単体、合金、金属間化合物、金属イオン、及び金属コロイドを含めたものを言うこととする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここにおいて、本発明は、上述せる如き事情を背景にして為されたものであって、その解決課題とするところは、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属の多くを容易に且つ効率的に着磁し得るようにした金属の着磁方法を提供することにある。また、本発明においては、そのような金属の着磁方法に有利に使用され得る金属の着磁装置を提供すること、更には、かかる金属の着磁方法を利用して、金属を選択的に分離する方法を提供することをも、その解決課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
そして、本発明者は、かかる課題を解決するための研究過程で、既にその存在が立証されてはいるものの、実用的には殆ど利用されていない磁気ベクトルポテンシャルについて、着目した。
【０００７】
ここで、よく知られているように、磁束密度をＢ、磁気ベクトルポテンシャルをＡとすると、磁束密度：Ｂは、div Ｂ＝０を満足し、また、磁気ベクトルポテンシャル：Ａは、Ｂ＝rot Ａとして定義される。つまり、図６に示されるように、例えば、下端面がＮ極で上端面がＳ極とされた磁石：Ｍにおいては、磁気ベクトルポテンシャル：Ａが、その中心軸：Ｐ回りに、Ｎ極側からＳ極側を見た状態で右回り（時計回り）の方向に回転するように発生せしめられる。そして、そのような磁気ベクトルポテンシャルＡにて形成される、中心軸：Ｐに対して直角な平面αの中心を貫くように、磁束：Ｂ’が、中心軸：Ｐに平行で且つＮ極からＳ極に向かう方向に進む向きをもって発生せしめられるのである。
【０００８】
また、既知の如く、磁性は、電子のスピン磁気モーメントに由来するが、磁性体自身が磁性を有するための条件として、交換相互作用により原子間の量子力学的な協力作用が働くことが必須となる。そして、磁気ベクトルポテンシャルは、この交換相互作用を維持出来る安定な磁気構造を生ぜしめると考えられる。
【０００９】
従って、本発明者は、このような磁気ベクトルポテンシャルを有効に利用して、金属に対して確実に作用せしめれば、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属の着磁が容易となるとの予測を立てた。そして、その予測に基づいて、更に鋭意研究を重ねた。その結果、磁気ベクトルポテンシャルによって生ずる磁場内に、着磁されるべき金属と、磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、所定の比透磁率を備えた磁気ベクトルポテンシャル誘導体とを、特定の配置状態で位置せしめることによって、着磁されるべき金属に対して磁気ベクトルポテンシャルを有効に作用させることが出来、以て、かかる金属に対する着磁の効率化を効果的に実現し得ることを、見出したのである。
【００１０】
すなわち、本発明は、かくの如き知見の基づいて完成されたものであって、その要旨とするところは、磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に、着磁されるべき金属を位置せしめると共に、該磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が該金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内において、該金属に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめることにより、該金属を着磁するようにしたことを特徴とする金属の着磁方法にある。
【発明の効果】
【００１１】
そして、このような本発明に従う金属の着磁方法にあっては、比透磁率の絶対値が着磁されるべき金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を用いることによって、磁気ベクトルポテンシャルが、より効率的に誘導せしめられて、着磁されるべき金属に対して、より強く作用せしめられる。しかも、そのような磁気ベクトルポテンシャル誘導体が、磁場内で、金属に対して、接触下又は非接触下で近接、位置せしめられているため、金属の各部位に作用せしめられる磁気ベクトルポテンシャル同士のキャンセル量が効果的に減少せしめられるようになる。それ故に、磁場内で、磁気ベクトルポテンシャルが、金属に対して、極めて有効に作用せしめられ得ることとなる。
【００１２】
従って、かくの如き本発明に従う金属の着磁方法によれば、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属の多くを、容易に且つ効率的に着磁せしめることが出来るのである。
【発明の態様】
【００１３】
ところで、本発明は、少なくとも、以下に列挙する如き各種の態様において、好適に実施され得るものである。
【００１４】
＜１＞  磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に、着磁されるべき金属を位置せしめると共に、該磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が該金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内において、該金属に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめることにより、該金属を着磁するようにしたことを特徴とする金属の着磁方法。
【００１５】
＜２＞  上記の態様＜１＞において、前記磁気ベクトルポテンシャル誘導体の比透磁率の絶対値が、前記着磁されるべき金属の比透磁率の絶対値の１００００００倍以下であること。この本態様によれば、磁気ベクトルポテンシャルが、磁気ベクトルポテンシャル誘導体により一層効率的に誘導せしめられて、着磁されるべき金属に対して、更に一段と強く作用せしめられ得る。それ故、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属の多くが、より一層容易に且つ効率的に着磁せしめられ得ることとなる。なお、このような作用・効果をより確実に得る上において、磁気ベクトルポテンシャル誘導体の比透磁率の絶対値が、着磁されるべき金属の比透磁率の絶対値の１０倍以上、１００００００倍以下であることが、より望ましい。
【００１６】
＜３＞  上記の態様＜１＞又は態様＜２＞において、前記磁気ベクトルポテンシャル誘導体が、前記磁場内で、前記磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面に対して直角な方向において、前記着磁されるべき金属に対して重合せ乃至は対向せしめられることにより接触状態又は非接触状態とされて、近接、位置せしめられていること。このような本態様によれば、磁気ベクトルポテンシャルが、磁気ベクトルポテンシャル誘導体により一層効率的に誘導せしめられて、着磁されるべき金属に対して、より強く作用せしめられると共に、金属の各部位に作用せしめられる磁気ベクトルポテンシャル同士のキャンセル量が更に一層効果的に減少せしめられ得る。そして、その結果として、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属の多くが、更に一段と確実に且つ効率的に着磁せしめられ得ることとなる。
【００１７】
＜４＞  上記の態様＜１＞乃至態様＜３＞のうちの何れか一つにおいて、前記磁気ベクトルポテンシャル誘導体が、前記着磁されるべき金属に対して接触下又は非接触下で、該金属を包囲するか、若しくは該金属にて包囲されることにより、該金属に対して近接、位置せしめられていること。かかる本態様によれば、磁気ベクトルポテンシャルが、金属に対して、より強く且つより十分に作用せしめられ得、それによって、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属の着磁が、更に確実に且つ効率的に行われ得る。
【００１８】
＜５＞  上記の態様＜１＞乃至態様＜４＞のうちの何れか一つにおいて、前記磁場が、永久磁石を用いて発生せしめられた前記磁気ベクトルポテンシャルによって生ぜしめられていること。このような本態様によれば、例えば電磁石等を用いる場合とは異なって、磁気ベクトルポテンシャルを発生するために電気エネルギー等を何等必要とせず、従って、可及的に低いランニングコストで、磁場をより容易に発生して、金属の着磁が可能となる。
【００１９】
＜６＞  上記の態様＜１＞乃至態様＜４＞のうちの何れか一つにおいて、前記磁場が、コイルへの通電により発生せしめられた前記磁気ベクトルポテンシャルによって生ぜしめられていること。この本態様によれば、コイルへの通電量によって、磁場の大きさを容易に可変と為すことが出来る。
【００２０】
＜７＞  所定の磁場を発生して、該磁場内で金属を着磁する装置であって、磁気ベクトルポテンシャルを生じ、該磁気ベクトルポテンシャルによって前記磁場を発生せしめる磁場発生手段と、該磁場発生手段によって発生せしめられる該磁場内で、前記金属に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめられて、該磁気ベクトルポテンシャルを該金属に誘導する、比透磁率の絶対値が該金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体とを含んで構成したことを特徴とする金属の着磁装置。
【００２１】
このような本態様に係る金属の着磁装置を用いれば、前述せる如き特徴的な金属の着磁方法が有利に且つ確実に実施され得るのであり、以て、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属の多くが、容易に且つ効率的に着磁せしめられ得ることとなる。
【００２２】
＜８＞  金属と非金属との混合物中から該金属を分離する方法にして、（ａ）前記混合物を、磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に位置せしめる工程と、（ｂ）前記磁場を発生せしめる前記磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が前記混物中の前記金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内に、該混合物に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめることにより、該混合物中の該金属を着磁する工程と、（ｃ）かかる着磁工程にて着磁された前記金属に対して磁力を作用せしめることにより、該金属を前記非金属と分離して、前記混合物中から分離する工程とを含むことを特徴とする金属の分離方法。
【００２３】
かくの如き本態様に係る金属の分離方法においては、着磁が容易な金属は勿論、従来において着磁が困難乃至は不可能とされた金属を、非金属との混合物中において確実に且つ効率的に着磁することが出来る。従って、このような本態様によれば、従来において着磁が困難乃至は不可能とされた金属を、磁力の作用により、非金属との混合物中から、優れた作業性をもって確実に分離することが可能となる。
【００２４】
＜９＞  金属を含む溶液中から該金属を分離する方法にして、（ａ）前記溶液を、磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に位置せしめる工程と、（ｂ）前記磁場を発生せしめる前記磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が前記溶液中の前記金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内に、該溶液に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめることにより、該溶液中の該金属を着磁する工程と、（ｃ）かかる着磁工程にて着磁された前記金属を含む前記溶液に対して磁気ベクトルポテンシャルを作用せしめることにより、該着磁された金属の該溶液中での濃度勾配を生ぜしめる工程と、（ｄ）かかる濃度勾配発生工程で前記金属の濃度勾配が生ぜしめられた前記溶液を、該金属の濃度が高い部分と該金属の濃度が低い部分とに分離することにより、該溶液から該金属を分離する工程とを含むことを特徴とする金属の分離方法。
【００２５】
このような本態様に係る金属の分離方法においては、着磁が容易な金属は勿論、従来において着磁が困難乃至は不可能とされた金属を、それが含まれる溶液中において確実に且つ効率的に着磁することが出来る。それ故、このような本態様によれば、磁気ベクトルポテンシャルを利用して、従来において着磁が困難乃至は不可能とされた金属の溶液中での濃度勾配を確実に生ぜしめることが出来、また、そのような濃度勾配に基づいて、金属を高濃度に含む部分と低濃度の部分とに分離することが出来る。従って、特に、従来において着磁が困難乃至は不可能とされた金属を含む溶液中から、かかる金属を、優れた作業性をもって、容易に且つ効率的に分離することが可能となるのである。なお、このような本態様に係る金属の分離方法は、例えば、金属イオンを含む溶液中から金属イオンを分離する際や、金属コロイドを含む疑似溶液中から金属コロイドを分離する際等において、好適に採用されることとなる。
【００２６】
＜１０＞  所定の非金属製被覆体にて被覆された金属を該非金属製被覆体と分離する方法にして、（ａ）前記非金属製被覆体にて被覆された前記金属を、磁気ベクトルポテンシャルによって生じる磁場内に位置せしめる工程と、（ｂ）前記磁場を発生せしめる前記磁気ベクトルポテンシャルを誘導する、比透磁率の絶対値が前記金属の比透磁率の絶対値よりも高い磁気ベクトルポテンシャル誘導体を、該磁場内に、該金属に対して接触下又は非接触下で近接、位置せしめて、該金属を着磁すると共に、かかる着磁により生ずるバレット効果にて該金属の体積を増大させることで、該金属を被覆する前記非金属製被覆体を破壊して、該非金属製被覆体による該金属の被覆状態を解消せしめる工程と、（ｃ）かかる着磁工程で着磁されると共に前記非金属製被覆体による被覆状態が解消された前記金属に対して磁力を作用せしめることにより、該金属を該非金属製被覆体と分離する工程とを含むことを特徴とする金属の分離方法。
【００２７】
この本態様に係る金属の分離方法においては、着磁が容易な金属は勿論、従来において着磁が困難乃至は不可能とされた金属を、非金属製被覆体にて被覆された状態において、容易に且つ効率的に着磁することが出来、また、そのような着磁に伴うバレット効果による体積の増大によって、非金属製被覆体を確実に破壊させることが出来る。従って、このような本態様によれば、非金属製被覆体にて被覆された金属が、従来において着磁が困難乃至は不可能とされた金属であっても、優れた作業性をもって、非金属製被覆体と確実に分離することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
ところで、本発明に従う着磁方法によって着磁される被着磁物としての金属には、IVｂ族（第４族）のＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ、Ｖｂ族（第５族）のＶ，Ｎｂ，Ｔａ、VIｂ族（第６族）のＣｒ，Ｍｏ，Ｗ、VIIｂ 族（第７族）のＭｎ，Ｔｃ，Ｒｅ、VIII族（第８族、第９族、第１０族）のＦｅ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ、Ｉｂ族（第１１族）のＣｕ，Ａｇ，Ａｕ、IIｂ族（第１２族）のＺｎ，Ｃｄ，Ｈｇ等、従来から着磁が容易とされる金属と従来において着磁が困難乃至は不可能とされている金属の単体と、それらの金属を含む合金及び金属間化合物と、それらの金属のイオン及びコロイドが挙げられる。
【００２９】
また、被着磁物として用いられる上記の各種の金属を含む合金としては、例えば、ステンレス鋼、デュ・プレックスステンレス鋼、コバルト・クロム合金、ニッケル・銅合金、鉄・ニッケル合金、パラジウム・コバルト合金、白金・ニッケル合金、白金・イリジウム合金、白金・鉄合金、金・銀・パラジウム合金、白金加金等が、例示される。更に、これらの合金や上記の各種の金属単体は、所定の成形体や構造体を構成する前の材料の状態であっても、或いは所定の成形体や構造体として構成された状態においても、更には、塑性加工等の各種の加工や、熱減磁等の熱処理等が施されたものについても、被着磁物として用いられる。更にまた、上記の各種の金属のイオンやコロイドは、各種の溶液乃至は疑似溶液中（本明細書では、これら溶液と疑似溶液とを含めて溶液と言う）に含まれているものが被着磁物として用いられるのであって、その溶媒乃至は疑似溶媒は、特に限定されるものではない。
【００３０】
そして、かくの如き金属からなる被着磁物は、例えば、図１に示される如き着磁装置１０を用いて、有利に着磁される。なお、以下からは、上述の金属を含む合金からなる被着磁物の一例として、ステンレス鋼からなる円筒状のステントを用い、これを着磁する装置と方法の一実施形態について説明する。
【００３１】
すなわち、かかる図１から明らかなように、本実施形態において使用される着磁装置１０は、磁場発生手段としての磁場発生装置１１と磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２とを有して、構成されている。
【００３２】
より詳細には、磁場発生装置１１は、複数の永久磁石１４と、磁性体カバー１６とを更に有している。また、かかる磁場発生装置１１を構成する複数の永久磁石１４は、円柱状を呈し、高さ方向の一端面と他端面とが、それぞれ、Ｎ極とＳ極とされている。一方、磁性体カバー１６は、永久磁石１４が接触状態で内挿可能な内径と所定の高さとを備えた円筒部１８と、かかる円筒部１８が一体的に立設される基板部２０とにて構成されている。また、この磁性体カバー１６の円筒部１８は、磁性体材料である鉄製のパイプの外周面がステンレスの薄膜にて被覆されている。
【００３３】
そして、複数の永久磁石１４が、異極同士において吸着されるように、同軸上において直列に配置されている。これにより、それら複数の永久磁石１４が、全体として、上端面と下端面のうちの何れか一方がＮ極とされ、且つそれらのうちの何れか他方がＳ極とされた長手の１個の棒磁石形態を呈するようになっている。そしてまた、そのような長手の１個の棒磁石形態を呈する複数の永久磁石１４の全部が、磁性体カバー１６の円筒部１８に内挿されて、磁場発生装置１１が、構成されているのである。
【００３４】
また、ここでは、特に、図１に明示されてはいないものの、永久磁石１４として、大きな磁気ベクトルポテンシャルを発生するネオジム・鉄・ボロン磁石が、１２個用いられている。そして、そのような１２個の強力な永久磁石１４が、上記せるように、同軸上において直列に繋げられ、磁性体カバー１６の基板部２０上に吸着された状態で、円筒部１８内に挿入されている。かくして、直列に繋げられた１２個の永久磁石１４の磁気回路が閉回路とされている。また、それにより、かかる磁場発生装置１１にて、１２個の永久磁石１４の中心軸：Ｐに対して直角な平面内において、それらの永久磁石１４のＮ極からＳ極に向かって右回りに回転せしめられる磁気ベクトルポテンシャルが、極めて大きな大きさをもって発生せしめられ、その結果として、極めて大きな磁束密度を有する磁場が、容易に形成乃至は生ぜしめられるようになっているのである。
【００３５】
一方、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２は、細長い円柱形状を呈している。そして、その外径が、円筒状とされた被着磁物（ステント）２２の内径よりも僅かに小さくされている。また、その軸方向長さは、かかる被着磁物２２よりも所定寸法長く、且つ前記磁場発生装置１１における永久磁石１４の端面の直径と略同程度の寸法とされている。
【００３６】
ここで、かかる磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２は、文字通り、磁場発生装置１１にて発生せしめられる磁気ベクトルポテンシャルを誘導し、それを被着磁物２２に対して効率的に且つ強く作用せしめる機能を発揮するものである。従って、そのような機能が十分に発揮され得るように為す上で、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の比透磁率の絶対値が、被着磁物２２の比透磁率の絶対値よりも高い値（１倍を越えた値）とされていなければならない。そのため、ここでは、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２が、ステンレス鋼からなる被着磁物２２よりも比透磁率の絶対値が高い材料、例えば、パーマロイ鋼等を用いて、形成されている。
【００３７】
而して、このような磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と磁場発生装置１１とを有する着磁装置１０を用いて、被着磁物２２を着磁する際には、先ず、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２が、その軸方向の中間部において、被着磁物２２の内孔内に挿入される。換言すれば、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の軸方向中間部が、被着磁物２２にて包囲されて、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２が、被着磁物２２に対して接触下で近接位置せしめられることにより、それら磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２とが、互いに組み付けられる。
【００３８】
次に、かかる磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２との組付体が、磁場発生装置１１における最上部に位置する永久磁石１４の上端面上に、横転して、磁場発生装置１１の中心軸：Ｐに対して直角な方向に延びるように位置せしめられる。即ち、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２とのそれぞれの少なくとも一部が、磁場発生装置１１の複数の永久磁石１４によって生ぜしめられる磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面（図６参照）、つまり、図１においてαにて示される平面（図１では、二点鎖線によって示されている）に対して直角な方向、換言すれば、各永久磁石１４の磁束の向き（図１において矢印Ｂ’にて示される方向）に平行な方向において、互いに重ね合わされた状態で、磁場発生装置１１の複数の永久磁石１４にて発生せしめられる磁気ベクトルポテンシャルによって生ずる磁場内に、配置されるのである。
【００３９】
このとき、前述せる如く、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の比透磁率の絶対値が、被着磁物２２の比透磁率の絶対値よりも高い値となっているところから、磁気ベクトルポテンシャルが、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２にて効率的に誘導されて、被着磁物２２に対して、より強く作用せしめられるようになる。また、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２が、少なくとも一部を、磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面：αに対して直角な方向において、被着磁物２２と互いに重ね合わされることで、被着磁物２２に対して接触させて、近接位置せしめられているため、被着磁物２２の各部位に対して回転下で作用せしめられる磁気ベクトルポテンシャル同士が相互にぶつかり合って、互いにキャンセルせしめられる量が、一層効果的に減少せしめられるようになる。そして、それらによって、磁場発生装置１１にて生ずる磁場内で、磁気ベクトルポテンシャルが、被着磁物２２に対して、極めて有効に作用せしめられ、以て、被着磁物２２が着磁されることとなるのである。
【００４０】
なお、被着磁物２２の比透磁率の絶対値よりも高い値（１倍を越えた値）とされた磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の比透磁率の絶対値は、その上限値が特に限定されるものではないものの、前述せる如き各種の金属からなる被着磁物２２の比透磁率の絶対値の１００００００倍を越えるような材質のものは、現状では殆ど無く、たとえそのような材質のものからなる磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２を用いようとしても、極めて高コストとなってしまう。従って、現実的には、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の比透磁率の絶対値が、被着磁物２２の比透磁率の絶対値の１００００００倍以下であることが好ましいのである。なお、被着磁物２２の着磁に際して、被着磁物２２に対する磁気ベクトルポテンシャルの強力な作用を、より十分に確保する上においては、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の比透磁率の絶対値が、被着磁物２２の比透磁率の絶対値の１０倍以上、１００００００倍以下であることが、より望ましい。
【００４１】
そして、比透磁率の絶対値が上述の如き条件を満たす値とされて、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２として使用され得るものとしては、具体的には、例えば、パーマロイ鋼の他、スーパーマロイ、鉄（不純物を０．２％程度含む）、純鉄（不純物を０．０５％以下の範囲で含む）、珪素鉄、パーメンジュール、アモルファス、センダスト、ＭｎＺｎフェライト等の材質からなるものが、例示される。
【００４２】
このように、本実施形態においては、単に、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２を被着磁物２２内に挿入して、それらを組み付けた状態で、かかる組付体を、磁場発生装置１１にて生ずる磁場内に、磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面：αに対して平行に配置するだけで、従来から着磁が容易とされた金属は勿論、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属からなる被着磁物２２が、容易に且つ効率的に着磁され得る。従って、特に、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属が、各種の機械装置や電子機器、通信機器、或いは医療機器乃至器具等において、極めて有効に利用され得ることとなるのである。
【００４３】
しかも、磁場内で、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２が、その少なくとも一部を、磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面：αに対して直角な方向において、被着磁物２２と互いに重ね合わされることで、被着磁物２２に対して接触させて、近接位置せしめられているため、磁気ベクトルポテンシャルが、被着磁物２２に対して、より強く且つ十分に作用せしめられ、以て、被着磁物２２が、更に一層確実に且つ効率的に着磁され得るのである。
【００４４】
また、本実施形態にあっては、複数の永久磁石を用いて構成された磁場発生装置１１にて、磁気ベクトルポテンシャルが発生せしめられて、磁場が生ぜしめられるようになっているところから、例えば、電磁石（コイル）等を用いて構成された磁場発生装置１１とは異なって、被着磁物２２の着磁に際して、電気エネルギー等が、何等必要とされない。従って、多数の被着磁物２２を、順次、着磁する場合にあっても、その際のランニングコストが嵩んでコスト高となるようなことが、有利に解消乃至は抑制され得る。
【００４５】
ところで、前述せる如く、被着磁物２２の着磁に際して、被着磁物２２の各部位に作用せしめられる磁気ベクトルポテンシャル同士のキャンセル量の減少は、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２が、被着磁物２２に対して近接、位置せしめられるようにした、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２との磁場内での特別な配置形態が採用されることによって、有利に実現され得るものである。
【００４６】
従って、そのような特別な配置形態は、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２が被着磁物２２にて包囲されることによって実現される他、例えば、図２に示されるように、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２を、被着磁物２２の外径よりも所定寸法大きな内径を有する内孔２４を備えた筒体にて構成し、かかる磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の内孔２４内に、被着磁物２２を挿入すること、換言すれば、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２が、被着磁物２２にて包囲されるように為すことでも、上記の如き磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２との磁場内での特別な配置形態が実現され得ることとなる。そして、これによっても、被着磁物２２が、例えば、従来において着磁が困難乃至は不可能とされたいた金属が、容易に且つ効率的に着磁され得るのである。
【００４７】
また、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２を被着磁物２２にて包囲する場合にあっても、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２として、例示される円柱形状を呈するもの以外の如何なる形状のものであっても良く、更に、使用される磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の個数も、特に限定されるものではない。一方、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２にて、被着磁物２２を包囲する場合にあっても、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２として、例示される筒体の他、例えば、筐体やケース等の形態のものであっても、何等差し支えない。
【００４８】
また、そのような磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２との配置形態では、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２とが必ずしも接触せしめられている必要はなく、それらの間に間隙が形成されて、互いに非接触とされていても良い。
【００４９】
さらに、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２を板材やブロック体等にて形成して、被着磁物２２と接触下で又は非接触下で積層乃至は重ね合わせるようにして、近接、位置せしめることも出来る。勿論、その場合には、板状の磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２の複数のもので、被着磁物２２をサンドイッチ状に挟んだり、或いは複数の被着磁物２２にて、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２を接触下又は非接触下で挟んだりした状態で、それら磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２とを近接、位置させるようにしても良い。そして、そのような配置形態を採用する場合にあっても、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２との重合せ乃至は対向方向を、磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面：αに対して直角な方向とすれば、被着磁物２２の着磁が、より確実に且つ効率的に行われ得ることとなる。
【００５０】
なお、磁気ベクトルポテンシャル誘導体１２と被着磁物２２の形状や大きさは、それらの配置形態に拘わらず、様々な形状や大きさが採用され得ることは、言うまでもないところである。
【００５１】
また、磁場発生装置１１の構造も、複数の永久磁石１４を用いた例示のものに、特に限定されるものではなく、磁気ベクトルポテンシャルを発生し、その磁気ベクトルポテンシャルによって磁場を生ぜしめ得るものであれば、如何なる構造のものも採用され得る。従って、例えば、コイルへの通電によって磁気ベクトルポテンシャルを発生して、磁場を生ぜしめるようにした構造の磁場発生装置も、例示の磁場発生装置１１に代えて、使用され得る。そして、このような構造の磁場発生装置を用いる場合にあっては、コイルへの通電量を調節することによって、磁気ベクトルポテンシャルの強さ、ひいては磁場の強さを、所望の大きさに変更することが出来る。その結果として、着磁された金属の磁気力の大きさを、所望の大きさに効率的に設定することが出来るといった利点が得られる。
【００５２】
さらに、本実施形態では、被着磁物２２が、先に例示した金属を含む合金からなっていたが、かかる被着磁物２２が、そのような金属の単体や、かかる金属を含む金属間化合物からなっていても良い。
【００５３】
次に、上述せる如き金属の着磁方法利用して、金属単体と非金属単体との混合物から金属単体を分離する方法に係る実施形態について、説明する。
【００５４】
すなわち、図３から明らかなように、本実施形態において使用される分離装置は、磁場発生装置２６と磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８とを備えた着磁装置２９を有している。また、かかる分離装置は、図示しない公知の磁気選別機等も備えている。そして、この着磁装置２９の磁場発生装置２６は、前記せる第一の実施形態における磁場発生装置１１と同一の構造を有している。なお、かかる磁場発生装置２６に関しては、図１に示された磁場発生装置１１と同一な構成とされた部位及び部材について、図１と同一の符号を付すことにより、その詳細な説明は省略することとする。
【００５５】
一方、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８は、本体ケース３０と蓋体３２とを更に含んで構成されている。そして、本体ケース３０は、上方に開口する矩形の筐体形態を有しており、内部に、前述せる如き各種の金属からなる、分離されるべき金属単体としての金属片３４と、例えば合成樹脂材料等からなる非金属単体としての非金属片３６との混合物が収容可能な大きさを備えている。
【００５６】
また、蓋体３２は、本体ケース３０の開口部を覆蓋する大きさを有し、かかる本体ケース３０に対して、その開口部を覆蓋して、組み付けられるようになっている。そして、このような磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８を構成する本体ケース３０と蓋体３２とが、何れも、比透磁率の絶対値が金属片３４の比透磁率の絶対値よりも高い前述せる如き材料（例えば、パーマロイ鋼）にて、形成されている。
【００５７】
而して、かくの如き分離装置を用いて、金属片３４と非金属片３６との混合物から金属片３４を分離するには、先ず、かかる混合物が、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８の本体ケース３０内に収容された状態で、かかる本体ケース３０の開口部が、蓋体３２にて覆蓋される。これにより、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８が、金属片３４と非金属片３６との混合物に対して部分的に接触せしめられた状態で、近接、位置せしめられる。
【００５８】
その後、混合物を収容した磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８が、磁場発生装置２６における最上部に位置する永久磁石１４の上端面上に載置される。かくして、磁場発生装置２６の複数の永久磁石１４にて生ぜしめられる磁気ベクトルポテンシャルにより発生せしめられる磁場内において、金属片３４と非金属片３６との混合物が、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８に対して、磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面α（図１及び図６参照）に直角な方向において重合せ乃至は対向せしめられ、接触乃至は非接触とされて、近接、位置せしめられた状態とされる。そして、これによって、混合物中の金属片３４が、たとえ、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていたものであっても、容易に且つ効率的に着磁される。
【００５９】
次いで、非金属片３６と着磁された金属片３４との混合物が、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８の本体ケース３０内から取り出される。そして、それらの混合物が、図示しない磁気選別機等に投入されて、着磁された金属片３４が磁力により吸着される。以て、かかる金属片３４が、非金属片３６との混合物中から分離される。
【００６０】
このように、本実施形態によれば、金属片３４が、たとえ、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていたものであっても、かかる金属片３４と非金属片３６との混合物を、単に、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８の本体ケース３０内に収容させた状態で着磁した後、磁気選別機に投入するだけの極めて簡略な作業によって、金属片３４を、混合物中から、極めて容易に且つ効率的に分離することが出来るのである。
【００６１】
なお、かくして金属片３４と非金属片３６との混合物中から金属片３４を分離する際において使用される磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８は、比透磁率の絶対値が、金属片３４の比透磁率の絶対値よりも高く、しかも、磁場内で、金属片３４と非金属片３６との混合物に対して接触又は非接触下で近接、位置せしめられ得るようになっておれば良い。
【００６２】
従って、例えば、先に例示される如き材質を有する磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８を筒体にて構成して、内孔内に、混合物を収容したり、或いはかかる磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８を板材や棒材、ブロック体等にて構成して、混合物中に挿入したり、混合物の上方や下方、或いは側方の何れかに配置したり、混合物を間に挟んで位置せしめたりすることも出来る。
【００６３】
また、本実施形態では、混合物中から分離される金属片３４が、先に例示した金属の単体からなっていたが、かかる金属片３４が、そのような金属を含む合金や金属間化合物からなっていても良い。
【００６４】
さらに、磁気ベクトルポテンシャルを発生せしめて、磁場を生ぜしめるのに、永久磁石１４以外の、例えばコイル等を用いても良い。
【００６５】
更にまた、着磁された金属片３４を混合物中から分離する操作は、かかる混合物に磁気を作用せしめて、金属片３４を分離し得るものであれば、磁気選別機以外の装置を用いて、自動的に行うようにしても良く、また、例えば、永久磁石や電磁石等を用い、それに金属片３４を吸着させて分離する手動操作で実施しても良い。
【００６６】
さらに、混合物中の金属片３４を着磁させる操作を行うことが出来る構造と、着磁された金属片３４を含む混合物に磁力を作用せしめて、金属片３４を混合物中から分離する操作を行うことが出来る構造とを、一体に有する一つの装置を用いて、それらの操作を行うようにしても良い。
【００６７】
次に、前述せる如き金属の着磁方法利用して、金属イオンを含む溶液中から金属イオンを分離する方法に係る実施形態について、説明する。
【００６８】
すなわち、図４から明らかなように、本実施形態において使用される分離装置は、分離されるべき金属イオン３８を含む溶液４０（例えば、水溶液）が一方向（ここでは、図４中、左側から右側方向）に流通せしめられる流路を形成する流路形成部材４２を、有している。この流路形成部材４２は、全体として、所定長さを有する筒体からなり、その長さ方向において、溶液４０が流通せしめられるようになっている。なお、このような流路形成部材４２内での溶液４０の流通は、例えば、流路形成部材４２が、長さ方向の一方側に向かって下傾するように位置せしめられるか、或いは、図示しないポンプ等が作動せしめられることにより、容易に実現される。
【００６９】
そして、かかる流路形成部材４２にあっては、その内部に、内側空間を上下に液密に仕切る仕切板４４が、溶液４０の流通方向の中間部から、その下流側に向かって延びるように設けられて、かかる下流側の端部開口部が、上下に二つに分割せしめられている。
【００７０】
これによって、流路形成部材４２における溶液４０の流通方向上流側の端部に、かかる端部側開口部からなる、溶液４０の流入口４５が設けられている一方、その反対側の端部には、仕切板４４を隔てて、その上側と下側とにそれぞれ位置する上側流出口４６と下側流出口４７とが、形成されている。また、かかる流路形成部材４２の内側空間のうち、流入口４５から仕切板４４までの部位が、第一流路４８とされており、更に、流路形成部材４２の上側筒壁部と仕切板４４とにて挟まれた部位が、第二流路４９とされる一方、流路形成部材４２の下側筒壁部と仕切板４４とにて挟まれた部位が、第三流路５０とされている。そして、流入口４５を通じて流路形成部材４２内に流入せしめられた溶液４０が、第一流路４８内を流通せしめられた後、仕切板４４にて分離されて、第二流路４９と第三流路５０の何れかの流路内を経て、上側流出口４６と下側流出口４７とから、それぞれ外部に排出され得るようになっている。即ち、この流路形成部材４２における仕切板４４の配設部分にて、分離手段としての分離部５２が、構成されているのである。
【００７１】
また、かかる流路形成部材４２は、磁気ベクトルポテンシャルを誘導可能な、先に例示された金属の比透磁率の絶対値よりも高い比透磁率の絶対値を有する材質（例えば、パーマロイ鋼）からなっている。つまり、流路形成部材４２の全体が、磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３として構成されている。更に、そのような磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３（流路形成部材４２）の第一流路４８と第二及び第三流路４９，５０との境界部位には、その上側筒壁部の上面と下側筒壁部の下面とに、円柱状の永久磁石５６が、それぞれ、１個ずつ、接触配置されている。そして、それら各永久磁石５６は、何れも、上端面がＳ極とされる一方、下端面がＮ極とされている。
【００７２】
これによって、かかる分離装置では、磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３の第一流路４８と第二及び第三流路４９，５０との境界部位において、各永久磁石５６から発生する磁気ベクトルポテンシャルにて、磁場が生ぜしめられるようになっており、以て、そのような磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３における２個の永久磁石５６，５６の配置部分とそれら２個の永久磁石５６，５６とにて、着磁部５８が形成されているのである。
【００７３】
而して、このような分離装置を用いて、溶液４０中から金属イオン３８を分離するには、例えば、先ず、磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３の流入口４５に対して、溶液４０を導く導入パイプ６０が接続される一方、上側流出口４６と下側流出口４７とに、上側排出パイプ６２と下側排出パイプ６４とが、それぞれ別個に接続される。
【００７４】
その後、金属イオン３８を含む溶液４０が、導入パイプ６０から、流入口４５を通じて、磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３内に流入せしめられて、その内部を流入口４５側から上側及び下側流出口４６，４７側に向かって流通せしめられる。
【００７５】
このとき、溶液４０中の金属イオン３８が、着磁部５８を構成する磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３部分の第一流路４８内を流通せしめられる際に、２個の永久磁石５６，５６にて生ずる磁気ベクトルポテンシャルにより発生せしめられる磁場内で、磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３に接触下で近接、位置せしめられた状態とされる。これによって、かかる金属イオン３８が、例えば、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金属のイオンであっても、容易に且つ効率的に着磁される。そして、この着磁された金属イオン３８は、各永久磁石５６，５６から発する磁気ベクトルポテンシャルにより、そのＳ極側、つまり、着磁部５８における磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３の上側筒壁部側に多く集められる。その結果、第一流路４８内で、溶液４０に、磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３の上側筒壁部側に位置する部分での金属イオン３８の濃度が高く、下側筒壁部側に位置する部分での金属イオン３８の濃度が低くなるといった濃度勾配が生ぜしめられるようになる。
【００７６】
その後、このような濃度勾配が生ぜしめられた溶液４０が、磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３内を更に流通せしめられて、仕切板４４にて内部が上下に仕切られた分離部５２に達すると、溶液４０のうち、金属イオン３８を高濃度に含む部分が、仕切板４４よりも上側の第二流路４９内を流通せしめられる一方、金属イオン３８の濃度が低い部分が、仕切板４４よりも下側の第三流路５０内を流通せしめられるようになる。
【００７７】
そして、第二流路４９内を流通せしめられた金属イオン３８の高濃度溶液が、上側流出口４６を通じて、上側排出パイプ６２内に排出される一方、第三流路５０内を流通せしめられた金属イオン３８の低濃度溶液が、下側流出口４６を通じて、下側排出パイプ６４内に排出される。これによって、金属イオン３８が高濃度に集められて、溶液４０から可及的に多くの量において分離せしめられる。なお、図４では、金属イオン３８の分離手法の理解を容易とするために、金属イオン３８が模式的に示されていることが理解されるべきである。
【００７８】
このように、本実施形態によれば、溶液４０中に含まれる金属イオン３８が、たとえ、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていたものであっても、かかる金属イオン３８を含む溶液４０を、単に、磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３の第一流路４８内に流し込むだけの極めて簡単な操作で、金属イオン３８の可及的に多くの量を、溶液４０中から、極めて容易に且つ効率的に分離することが出来るのである。
【００７９】
なお、かくして金属イオン３８を溶液４０中から分離する際において使用される磁気ベクトルポテンシャル誘導体４３は、金属イオン３８の比透磁率の絶対値よりも高い比透磁率の絶対値を有する材料からなり、且つ磁場内で、金属イオン３８を含む溶液４０に対して接触又は非接触下で近接、位置せしめられ得るようになっておれば良い。従って、例えば、Ｕ字溝のような溝体の全体を、磁気ベクトルポテンシャル誘導体として構成したり、筒体乃至は管体の内面、或いは溝の内面等に、前述せる如き材質の板材等を貼り付けて、それらの内面にて、磁気ベクトルポテンシャル誘導体を構成したりすることも出来る。
【００８０】
また、本実施形態では、金属イオン３８を含む溶液４０中から金属イオン３８を分離する方法を示したが、かかる本実施形態と同様な操作により、金属コロイドを含む溶液（疑似溶液）中から、金属コロイドを分離することも出来る。
【００８１】
さらに、磁気ベクトルポテンシャルを発生せしめて、磁場を生ぜしめるのに、永久磁石５６以外の、例えばコイル等を用いても良い。
【００８２】
更にまた、溶液４０中の金属イオン３８を着磁させて、溶液４０に金属イオン３８の濃度勾配を発生させる操作と、かかる濃度勾配に基づいて、金属イオン３８を溶液４０中から分離する操作とを、別個の装置を用いて段階的に行うことも、勿論可能である。
【００８３】
次に、前述せる如き金属の着磁方法を利用して、非金属製被覆体にて被覆された金属単体を、非金属製被覆体から分離する方法に係る実施形態について、説明する。
【００８４】
すなわち、図５から明らかなように、本実施形態において使用される分離装置は、金属単体と非金属単体との混合物から金属単体を分離する方法に係る前記した第二の実施形態において用いられる装置と同一の装置が使用されている。即ち、磁場発生装置２６と磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８とを備えた着磁装置２９を有して、構成されている。そして、ここでは、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８における本体ケース３０内に、例えばセラミックスパッケージ等の２個の非金属製被覆体６６，６６にて、固着状態でサンドイッチ状に積層されることにより被覆された、前述せる如き各種の金属の単体からなる金属部品６８が、収容せしめられるようになっている。なお、ここで使用される着磁装置２９に関しては、図３に示された着磁装置２９と同一な構成とされた部位及び部材について、図３と同一の符号を付すことにより、その詳細な説明は省略することとする。
【００８５】
そして、かくの如き分離装置を用いて、非金属製被覆体６６，６６にて固着状態で被覆された金属部品６８を、非金属製被覆体６６，６６から分離するには、先ず、非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８が、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８の本体ケース３０内に収容された状態で、かかる本体ケース３０の開口部が、蓋体３２にて覆蓋される。これにより、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８が、非金属製被覆体６６を介して金属部品６８と部分的に接触せしめられた状態で、近接、位置せしめられる。
【００８６】
その後、金属部品６８を収容した磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８が、磁場発生装置２６における最上部に位置する永久磁石１４の上端面上に載置される。かくして、磁場発生装置２６の複数の永久磁石１４にて生ぜしめられる磁気ベクトルポテンシャルにより発生せしめられる磁場内において、非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８が、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８に対して、磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面α（図１及び図６参照）に直角な方向において重合せ乃至は対向せしめられ、接触乃至は非接触とされて、近接、位置せしめられた状態とされる。
【００８７】
これによって、金属部品６８が、たとえ、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていたものであっても、容易に且つ効率的に着磁される。また、このとき、金属部品６８が着磁されると、バレット効果が生ぜしめられて、金属部品６８の体積が増大せしめられる。そして、そのような金属部品６８の体積の増大により、非金属製被覆体６６，６６にヒビが入って、破壊せしめられる。以て、非金属製被覆体６６，６６による金属部品６８の被覆状態が解消される。
【００８８】
その後、かくして破壊された非金属製被覆体６６，６６と金属部品６８とが、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８の本体ケース３０内から取り出される。そして、図示されてはいないものの、本体ケース３０内から取り出された非金属製被覆体６６，６６と金属部品６８とに対して、例えば、永久磁石を用いた磁気選別が行われる。以て、かかる金属部品６８が、非金属製被覆体６６，６６から分離される。
【００８９】
このように、本実施形態によれば、非金属製被覆体６６，６６に固着された状態で、それら非金属製被覆体６６，６６て被覆された金属部品６８が、たとえ、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていたものであっても、かかる非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８を、単に、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８の本体ケース３０内に収容させた状態で着磁した後、磁気選別を行うだけの極めて簡略な作業によって、金属部品６８を非金属製被覆体６６，６６と極めて容易に且つ効率的に分離することが出来るのである。
【００９０】
なお、かくして、金属部品６８とそれに被覆された非金属製被覆体６６，６６とを分離する際において使用される磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８は、金属部品６８の比透磁率の絶対値よりも高い比透磁率の絶対値を有して、磁場内で、非金属製被覆体６６，６６が被覆された金属部品６８に対して接触又は非接触下で近接、位置せしめられ得るようになっておれば良い。
【００９１】
従って、例えば、先に例示される如き材料からなる磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８を筒体にて構成して、内孔内に、非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８を収容したり、かかる磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８を板材や棒材、ブロック体等にて構成して、その複数のものにて、非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８を更に挟んだり、或いはそのような磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８を、非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８の複数のものにて挟んだり、若しくは、かかる磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８を非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８に積層したりして、磁気ベクトルポテンシャル誘導体２８を、非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８に対して接触又は非接触下で近接、位置せしめるように為すことも可能である。
【００９２】
また、本実施形態では、非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８が、先に例示した金属の単体からなっていたが、かかる金属部品６８が、そのような金属を含む合金や金属間化合物からなっていても良い。
【００９３】
また、磁気ベクトルポテンシャルを発生せしめて、磁場を生ぜしめるのに、永久磁石１４以外の、例えばコイル等を用いても良い。
【００９４】
さらに、非金属製被覆体６６，６６にて被覆された金属部品６８を着磁して、非金属製被覆体６６，６６を破壊する操作を行うための構造と、着磁された金属部品６８と、破壊された非金属製被覆体６６，６６とが混在する物質に磁力を作用せしめて、金属部品６８を非金属製被覆体６６，６６から分離する操作を行うための構造とを一体に有する一つの装置を用いて、それらの操作を行うようにしても良い。
【実施例】
【００９５】
以下に、本発明の実施例を含む幾つかの試験例を示し、本発明を更に具体的に明らかにすることとするが、本発明が、そのような試験例の記載によって、何等の制約をも受けるものでないことは、言うまでもないところである。また、本発明には、以下の実施例の他にも、更には上記した具体的記述以外にも、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修正、改良等を加え得るものであることが、理解されるべきである。
【００９６】
＜試験例１＞
先ず、着磁されるべき被着磁物として、全体として筒状のストラット構造を有する、オーステナイト系ＳＵＳ３１６Ｌ製のステントを３個準備した。また、それとは別に、磁気ベクトルポテンシャル誘導体として、準備されたステントの内孔内に挿入可能な大きさを有するパーマロイ鋼製の丸棒を１個準備した。なお、それら準備されたステントとパーマロイ鋼棒のそれぞれの比透磁率の絶対値は、前者が１．０で、後者が１０００００となっており、後者が前者の１０００００倍となっていた。
【００９７】
そして、この準備された３個のステントのうちの１個のものの内孔内にパーマロイ鋼棒を挿入した後、ステントクリンパーを使用して、それらステントとパーマロイ鋼棒とを密接させた。その後、図１に示される如き構造を有する磁場発生装置を用い、この磁場発生装置の最上部に位置する永久磁石の上面上に、パーマロイ鋼棒が内部に挿入されたステントを、図１に示される如き状態で配置した。これによって、磁気ベクトルポテンシャルによって生ずる磁場内に、比透磁率の絶対値が、被着磁物たるステントの比透磁率の絶対値よりも高い値とされた磁気ベクトルポテンシャルとしてのパーマロイ鋼棒を、磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面に対して直角な方向においてステントに重ね合わせることにより、ステントに対して接触させた状態で、近接、位置せしめた。なお、ここで使用される磁場発生装置における永久磁石としては、直径１４ｍｍ、長さ２２ｍｍのネオジム・鉄・ボロン磁石の４個を用いた。また、かかる磁場発生装置で生ずる磁場の磁束密度は１．５Ｔであった。
【００９８】
引き続き、その状態で、３６時間放置して、ステントに対する着磁操作を行った後、ステントからパーマロイ鋼棒を引き抜いた。そして、かくの如き着磁操作が行われたステントを供試品１とした。
【００９９】
一方、比較のために、先に準備された３個のステントのうち、上述の如き着磁操作が行われていない２個の中の１個と、供試品１のステントの着磁操作に使用された磁場発生装置とを用いて、かかる１個のステントを、その内孔内にパーマロイ鋼棒を何等挿入しない状態で、磁場発生装置の最上部に位置する永久磁石の上面上に配置した。そして、その状態において３６時間放置して、ステントに対する着磁操作を行った。かくして着磁操作が行われたされたステントを比較供試品１とした。また、最後に残った、着磁操作が何等施されなかった残りの１個のステントを比較供試品２とした。
【０１００】
その後、供試品１のステントと比較供試品１及び２のステントのそれぞれの磁束密度を、テスラメーター（商品名：テスラメーター磁束密度計 TM-601 、株式会社佐藤商事製）を用いて測定したところ、供試品１のステントの磁束密度は０．１Ｔで、比較供試品１のステントと比較供試品２のステントの磁束密度は、何れも０．００１Ｔであった。
【０１０１】
次に、供試品１のステントと比較供試品２のステントとにおけるナノサイズの磁区のそれぞれの向きを、ＭＦＭ（磁気顕微鏡：セイコーインストルメンツ製）を用いて、各々観察、測定した。なお、この観察、測定に際しては、同一測定条件、同一ばね定数（４０Ｎ／ｍ）のカンチレバーで、各ステントの縦１μｍ、横０．５μｍの矩形範囲を相対比較測定した。供試品１のステントの測定結果を図７に示し、また、比較供試品２のステントの測定結果を図８に示した。
【０１０２】
図７から明らかなように、本発明手法に従って着磁操作が施された供試品１のステントにあっては、ナノサイズの磁区が、互いに同一方向の向きに揃って、Ｎ極（図７における黒色部分）とＳ極（図７における白色部分）が生じており、確実に着磁されていることが、明確に認められる。これに対して、図８から明らかなように、本発明手法に従う着磁操作が何等施されていない、比較供試品２のステントにあっては、ナノサイズの磁区が、互いにバラバラの向きとなっており、磁極が何等生じておらず、全く着磁されていないことが認められる。
【０１０３】
このような供試品１のステントと比較供試品１及び２のステントのそれぞれにおける磁束密度の測定結果やＭＦＭを用いた測定結果から、本発明手法に従って着磁操作を行えば、従来において着磁が不可能とされていた金属の１種であるオーステナイト系ＳＵＳ３１６Ｌからなるステントを簡単に且つ確実に着磁出来ることが、容易に認識され得る。
【０１０４】
＜試験例２＞
先ず、着磁されるべき被着磁物として、金製の棒材を３個準備した。また、それとは別に、磁気ベクトルポテンシャル誘導体として、筒状を呈し、準備された金製棒材が挿入可能な大きさの内孔を有するパーマロイ鋼製の円筒体を１個準備した。なお、それら準備された金製棒材とパーマロイ鋼製円筒体のそれぞれの比透磁率の絶対値は、前者が１．０で、後者が１０００００となっており、後者が前者の１０００００倍となっていた。
【０１０５】
そして、この準備された３個の金製棒材のうちの１個のものを、パーマロイ鋼製円筒体の内孔内に挿入した後、磁束密度２．５Ｔの磁場を発生するパルス着磁機（電子磁気工業製）を用いて、このパルス着磁機にて生ずる磁場内に、パーマロイ鋼製円筒体の内孔内に挿入された金製棒材を、横倒しの状態で配置した。これによって、磁気ベクトルポテンシャルによって生ずる磁場内に、比透磁率の絶対値が、被着磁物たる金製棒材の比透磁率の絶対値よりも高い値とされた磁気ベクトルポテンシャルとしてのパーマロイ鋼製円筒体を、磁気ベクトルポテンシャルが形成する平面に対して直角な方向において金製棒材に重ね合わせることにより、かかる金製棒材に対して接触させた状態で、近接、位置せしめた。
【０１０６】
そして、その状態で、パルス着磁機にて、磁場を、１回５ｍ秒の時間で３回発生せしめて、金製棒材に対する着磁操作を行った後、金製棒材をパーマロイ鋼製円筒体の内孔から引き抜いた。そして、このような着磁操作が行われた金製棒材を供試品２とした。
【０１０７】
一方、比較のために、先に準備された３個の金製棒材のうち、上述の如き着磁操作が行われていない２個の中の１個と、供試品１の金製棒材の着磁操作に使用されたパルス着磁機とを用いて、かかる１個の金製棒材を、パーマロイ鋼製円筒体の内孔内に何等挿入しない状態で、パルス着磁機にて生ぜしめられる磁場内に配置した。そして、その状態において、供試品２の金製棒材を着磁した際と同様の条件で、パルス着磁機により、磁場を３回発生せしめて、金製棒材に対する着磁操作を行った。かくして着磁操作が行われたされた金製棒材を比較供試品３とした。また、最後に残った、着磁操作が何等施されなかった残りの１個の金製棒材を比較供試品４とした。
【０１０８】
その後、供試品２の金製棒材と比較供試品３及び４の金製棒材のそれぞれの磁束密度を、試験例１で用いられたものと同じテスラメーターを使用して測定したところ、供試品２の金製棒材の磁束密度は０．０２Ｔで、比較供試品３及び４の金製棒材の磁束密度は、何れも０．００１Ｔであった。
【０１０９】
次に、供試品２の金製棒材と比較供試品４の金製棒材とにおけるナノサイズの磁区のそれぞれの向きを、ＭＦＭ（磁気顕微鏡：セイコーインストルメンツ製）を用いて、各々観察、測定した。なお、この観察、測定は、試験例１と同様にして実施した。供試品２の金製棒材の測定結果を図９に示し、また、比較供試品４の金製棒材の測定結果を図１０に示した。
【０１１０】
図９から明らかなように、本発明手法に従って着磁操作が施された供試品２の金製棒材にあっては、ナノサイズの磁区が、互いに同一方向の向きに揃って、Ｎ極（図９における黒色部分）とＳ極（図９における白色部分）が生じており、確実に着磁されていることが、明確に認められる。これに対して、図１０から明らかなように、本発明手法に従う着磁操作が何等施されていない、比較供試品４の金製棒材にあっては、ナノサイズの磁区が、互いにバラバラの向きとなっており、磁極が何等生じておらず、全く着磁されていないことが認められる。
【０１１１】
このような供試品２の金製棒材と比較供試品３及び４の金製棒材のそれぞれにおける磁束密度の測定結果やＭＦＭを用いた測定結果から、本発明手法に従って着磁操作を行えば、従来において着磁が不可能とされていた金属の１種である金材料からなる部材を簡単に且つ確実に着磁出来ることが、容易に認識され得る。
【０１１２】
＜試験例３＞
先ず、金含有量８０ｇ／ｔの菱刈鉱山産金鉱石の所定量を、公知のジョークラッシャーで粗粉砕して、粗粉砕物を得た後、この粗粉砕物をボールミルにて、１８０メッシュ以下に更に粉砕した。これによって、金と銀と非金属とが混合せしめられた混合物を形成して、準備した。また、それとは別に、磁気ベクトルポテンシャル誘導体として、パーマロイ鋼板を準備した。なお、試験例２に示されるように、パーマロイ鋼板の比透磁率の絶対値は、金の比透磁率の絶対値に対して、１０００００倍となっていた。また、銀の比透磁率の絶対値は１．０で、パーマロイ鋼板の比透磁率の絶対値は、銀の比透磁率の絶対値に対して、１０００００倍となっていた。
【０１１３】
次に、上述の如くして準備された金と銀と非金属との混合物の所定量を、パーマロイ鋼板で覆った後、かかる混合物に対して、試験例２と同様な方法により、パルス着磁機を用いた着磁操作を行った。これにより、混合物中の金と銀とを着磁した。
【０１１４】
その後、０．５Ｔの磁束密度を有するネオジム・鉄・ボロン磁石を用い、これを、上述の如き着磁操作が行われた混合物に対して磁気力が作用せしめ得るように近接させて、着磁された金と銀の磁気選別を行った。その結果、金と銀とを混合物から分離させることが出来た。この結果から、本発明手法に従えば、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金と銀とを、非金属との混合物中において容易に且つ確実に着磁することが出来、そして、そのような金と銀とを、磁気力の作用により、かかる混合物中から効率的に分離し得るようになることが、明確に認識され得るのである。
【０１１５】
＜試験例４＞
先ず、金イオンを１０ｐｐｍの濃度で含む金メッキ廃液を１０リットル準備した。また、それとは別に、図４に示される如き構造を有する分離装置を準備した。なお、ここで使用される分離装置の磁気ベクトルポテンシャル誘導体（流路形成部材）に設置される永久磁石には、１．２Ｔの磁束密度を有するネオジム・鉄・ボロン磁石を用いた。また、磁気ベクトルポテンシャル誘導体（流路形成部材）は、パーマロイ鋼板にて形成した。
【０１１６】
そして、準備された分離装置における磁気ベクトルポテンシャル誘導体の第一流路内に、準備された金メッキ廃液を、流入口を通じて、毎分１リットルの流量で流し込んだ。これにより、第一流路内で廃液中に含まれる金イオンを着磁すると共に、廃液中での金イオンの濃度勾配を生ぜしめた。そして、かかる廃液のうち、金イオンを高濃度に含む部分を、第二流路から上側流出口を通じて、外部に排出させて回収する一方、金イオンの濃度が低い部分を、第三流路から下側流出口を通じて、外部に排出させて回収した。
【０１１７】
その後、上側流出口を通じて回収された廃液中の金イオンの濃度を、プラズマ発光分光計を用いて測定したところ、７ｐｐｍであった。一方、下側流出口を通じて回収された廃液中の金イオンの濃度を、同様にして測定したところ、３ｐｐｍであった。この結果から、本発明手法に従えば、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金イオンを含む溶液中において、金イオンを容易に且つ確実に着磁することが出来、そして、そのような金イオンを溶液中から効率的に分離し得るようになることが、明確に認識され得るのである。
【０１１８】
＜試験例５＞
先ず、金ボンディングワイヤやニッケルリードフレーム等の金属部品が、非金属製被覆体としてのセラミックスパッケージに固着されて、サンドイッチ状態で被覆されてなるＣＰＵと、磁気ベクトルポテンシャル誘導体としてのパーマロイ鋼板とを準備した。また、それとは別に、試験例２で使用されたパルス着磁機を準備した。なお、ニッケルの比透磁率の絶対値は、１．０で、パーマロイ鋼板からなる磁気ベクトルポテンシャル誘導体の比透磁率の絶対値は、かかるニッケルの比透磁率の絶対値の１０００００倍であった。
【０１１９】
そして、準備されたＣＰＵをパーマロイ鋼板で覆った後、かかるＣＰＵに対して、試験例２と同様な方法により、パルス着磁機を用いた着磁操作を行って、ＣＰＵ内の金ボンディングワイヤとニッケルリードフレームを着磁した。このとき、それら金ボンディングワイヤとニッケルリードフレームのそれぞれの体積を、着磁によるバレット効果により増大せしめ、それにより、セラミックスパッケージを粉々に破壊した。かくして、粉々となったセラミックスパッケージの破片と金ボンディングワイヤとニッケルリードフレームとが混在する混在物を得た。
【０１２０】
その後、０．５Ｔの磁束密度を有するネオジム・鉄・ボロン磁石を用い、破壊されて、粉々となったセラミックスパッケージの破片と着磁された金ボンディングワイヤ及びニッケルリードフレームとが混在する混在物に対して、かかる磁石を、磁気力が作用せしめられ得るように近接させて、着磁された金ボンディングワイヤとニッケルリードフレームの磁気選別を行った。その結果、金ボンディングワイヤとニッケルリードフレームとを、破壊されたセラミックスパッケージとの混在物から分離させることが出来た。この結果から、本発明手法に従えば、非金属製被覆体にて被覆された、ニッケルや、従来において着磁が困難乃至は不可能とされていた金を、容易に且つ確実に着磁し得ると共に、非金属製被覆体を破壊することが出来、そして、磁力の作用により、そのようなニッケル及び金と非金属製被覆体とを効率的に分離し得るようになることが、明確に認識され得るのである。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】本発明に従う着磁装置の一例を用いて、本発明手法に従って、被着磁物を着磁している状態の一例を示す説明図である。
【図２】本発明に従う着磁装置の別の例を用いて、本発明手法に従って、被着磁物を着磁している状態を示す図１に対応する図である。
【図３】本発明手法に従って、金属と非金属との混合物中の金属を着磁している状態の一例を示す説明図である。
【図４】本発明手法に従って、金属を含む溶液中の金属を着磁して、かかる溶液中から分離している状態の一例を概念的に示す説明図である。
【図５】本発明手法に従って、非金属製被覆体にて被覆された金属を着磁している状態の一例を示す説明図である。
【図６】永久磁石に生ぜしめられる磁気ベクトルポテンシャルと磁束とを概念的に示す説明図である。
【図７】試験例１において作製される供試品１の表面を磁気顕微鏡で観察、測定して得られる顕微鏡写真である。
【図８】試験例１において使用される比較供試品２の表面を磁気顕微鏡で観察、測定して得られる顕微鏡写真である。
【図９】試験例２において作製される供試品２の表面を磁気顕微鏡で観察、測定して得られる顕微鏡写真である。
【図１０】試験例２において使用される比較供試品４の表面を磁気顕微鏡で観察、測定して得られる顕微鏡写真である。
【符号の説明】
【０１２２】
１０，２６  磁場発生装置
１２，２８，４３  磁気ベクトルポテンシャル誘導体
２２  被着磁物
２９  着磁装置
３４  金属片
３６  非金属片
３８  金属イオン
４０  溶液
５２  分離部
５８  着磁部
６６  非金属製被覆体
６８  金属部品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2006286712.tif 000008
【図７】
2006286712.tif 000009
【図８】
2006286712.tif 000010
【図９】
2006286712.tif 000011
【図１０】
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