(57)【要約】【課題】  光学的なマーク検出装置において、回転体に形成された複数のマークを検出するセンサの受光量が変動しても、回転体の回転量を制御するための制御信号を精度良く得ることである。【解決手段】  回転体に所定の周期パターンで配列された複数のマークを光源からの光により検出するマーク検出装置に、光が通過する複数のスリットを有して光源からの光を分割するスリットマスク３３と、分割されてマークに照射された光を受光する受光部３４とを設け、複数のスリットを２つの領域に分けて一方の領域を他方の領域に対して複数のマークの周期パターンの１／２周期だけずらし、マークに照射された光を２つの領域毎に受光部３４で受光して光電変換し、それらから制御信号を生成するようにした。【選択図】    図３
2006017615.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転体にその回転方向に所定の周期パターンで配列されて設けられた複数のマークを光源から出射された光により検出するマーク検出装置において、
前記回転体と前記光源との光路上に設けられ、光が通過する複数のスリットを有して前記光源から出射された光を分割するスリットマスクと、
前記スリットマスクで分割され前記マークに照射された光を受光し、その光を光電変換して電気信号を生成する受光部と、
生成された前記電気信号から前記回転体の回転量を制御するための制御信号を生成する信号生成手段と、
を備え、
前記スリットマスクは、前記複数のスリットを２つの領域に分け、一方の領域を他方の領域に対して前記複数のマークの周期パターンの（２ｎ＋１）／２（ｎは０を含む自然数）周期だけずらして形成されており、
前記受光部は、前記スリットマスクで分割され前記マークに照射された光を前記２つの領域毎に受光して光電変換することで２つの電気信号を生成し、
前記信号生成手段は、生成された前記２つの電気信号から前記制御信号を生成する、
ことを特徴とするマーク検出装置。
【請求項２】
前記２つの領域は前記回転体の回転方向に分けられている、ことを特徴とする請求項１記載のマーク検出装置。
【請求項３】
前記複数のマーク及び前記複数のスリットは、前記回転体の回転方向に対する直角方向に広い形状に形成されている、ことを特徴とする請求項１又は２記載のマーク検出装置。
【請求項４】
前記光源は、前記回転体の回転方向に対する垂直面内に設けられている、ことを特徴とする請求項１、２又は３記載のマーク検出装置。
【請求項５】
前記光源は、出射した光が前記回転体の表面に対して垂直に入射するように設けられている、ことを特徴とする請求項１、２、３又は４記載のマーク検出装置。
【請求項６】
前記信号生成手段は、前記２つ電気信号のクロスポイントをしきい値とし、前記２つの電気信号から前記制御信号として２値化信号を生成する、ことを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載のマーク検出装置。
【請求項７】
前記信号生成手段は、前記２つの電気信号からそれらの差信号を求め、その差信号から前記制御信号として２値化信号を生成する、ことを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載のマーク検出装置。
【請求項８】
回転体にその回転方向に所定の周期パターンで配列されて設けられた複数のマークを光源から出射された光により検出するマーク検出装置において、
前記回転体と前記光源との光路上に設けられ、光が通過する複数のスリットを有して前記光源から出射された光を分割するスリットマスクと、
前記スリットマスクで分割され前記マークに照射された光を受光し、その光を光電変換して電気信号を生成する受光部と、
生成された前記電気信号から前記回転体の回転量を制御するための制御信号を生成する信号生成手段と、
を備え、
前記スリットマスクは、前記複数のスリットを４つの領域に分け、それぞれの領域を他の領域に対して前記複数のマークの周期パターンの（２ｎ＋１）／４周期（ｎは０を含む自然数）だけずらして形成されており、
前記受光部は、前記スリットマスクで分割され前記マークに照射された光を前記４つの領域毎に受光して光電変換することで４つの電気信号を生成し、
前記信号生成手段は、生成された前記４つの電気信号から前記制御信号を生成する、
ことを特徴とするマーク検出装置。
【請求項９】
回転体にその回転方向に所定の周期パターンで配列されて設けられた複数のマークを光源から出射された光により検出するマーク検出装置において、
前記回転体と前記光源との光路上に設けられ、前記光源から出射された光を偏光分離する偏光分離マスクと、
前記偏光分離マスクで偏光分離され前記マークに照射された光を受光し、その光を光電変換して電気信号を生成する受光部と、
生成された前記電気信号から前記回転体の回転量を制御するための制御信号を生成する信号生成手段と、
を備え、
前記偏光分離マスクは、光のＰ偏光成分を遮断するＰ偏光遮断部と光のＳ偏光成分を遮断するＳ偏光遮断部とを前記複数のマークの周期パターンと同じ周期パターンで交互に有しており、
前記受光部は、前記偏光分離マスクで偏光分離され前記マークに照射された光をＰ偏光成分及びＳ偏光成分それぞれ別に受光して光電変換することで２つの電気信号を生成し、
前記信号生成手段は、生成された前記２つの電気信号から前記制御信号を生成する、
ことを特徴とするマーク検出装置。
【請求項１０】
回転体と、
請求項１ないし９のいずれか一記載のマーク検出装置と、
前記マーク検出装置により生成された制御信号に基づいて前記回転体の回転量が一定になるように前記回転体を駆動制御する制御手段と、
を備える回転体駆動装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の回転体駆動装置を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マーク検出装置、回転体駆動装置及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、感光体ベルトや中間転写ベルトなどの画像形成用の回転体を備えた画像形成装置が広く普及している。このような画像形成装置では、回転体上やその回転体により搬送される転写材上での画像位置合わせを高精度に行うために、その回転体の回転量（移動量）を正確に制御することが要求される。ところが、回転体の回転量は何らかの原因で変動することが多々あり、画像位置の誤差を抑制することは困難である。特に、カラー画像形成装置では、回転体の回転量の変動により、本来重なるべき位置に画像が重ならず、色間で位置ずれが生ずるという問題が発生する。
【０００３】
また、画像形成装置では、感光体ベルトや中間転写ベルトなどの回転体であるベルトの速度変動（回転量の変動）は、ベルトの厚み変動、ローラの偏心および駆動モータの速度ムラなどにより発生してしまう。特に、カラー画像形成装置では、図１３に示すように、ベルトの速度変動による位置決め誤差は、複数の周波数成分を有する波形になってしまう。ベルトの速度変動中に各トナー像を重ね合わせて形成された画像は、各色の位置が合わない画像となるため、ベルトの速度変動は色ずれや色変わりなどの画質劣化の原因になっている。
【０００４】
そこで、回転体の速度変動による画像の位置誤差を抑制するために、回転体を駆動する駆動ローラの回転軸やその他の回転軸にロータリーエンコーダを直結し、このエンコーダで検出された回転体の回転角速度に基づいて駆動モータの回転角速度を制御する画像形成装置が提案されている（特許文献１参照）。ところが、このような画像形成装置は、駆動モータの回転角速度を制御することにより、回転体の回転量（移動量）を間接的にしか制御することができず、その回転量を精度良く制御することは困難である。
【０００５】
そこで、回転体であるベルトの表面にマークを形成し、そのマークをセンサで検出して得たパルス間隔からベルト表面速度を算出することで、ベルトの回転量をフィードバック制御する技術が開示されている（特許文献２および特許文献３参照）。このような技術によれば、ベルト表面の挙動を直接観測できるため、ベルトの回転量（移動量）を直接制御することができる。
【０００６】
【特許文献１】特開平６−１７５４２７号公報
【特許文献２】特開平６−２６３２８１号公報
【特許文献３】特開平９−１１４３４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献２および特許文献３では、ベルト上へのマーク形成方法およびマーク検出方法について言及されていない。また、一般的に、画像形成装置などの用途に使われるベルトは、柔軟性、厚み偏差および変形性を有している。これにより、ベルト表面に形成されたマークとそれを検出するセンサとの距離変動や角度変動が発生してしまう。
【０００８】
ここで、図１４に従来のフォトインタラプタ（以下、センサという）１００を使ってマーク検出する場合の模式図を示す。図１４に示すように、複数の搬送ローラ１０１に支持されたベルト１０２は、複数の反射マーク（以下、マークという）１０３がベルト１０２の回転方向（ベルト１０２の周面の移動方向）に並ぶスケール１０４をその端部に有している。反射マーク１０３を検出するセンサ１００はスケール１０４に対向させて設けられている。このセンサ１００は、光源であるＬＥＤおよび受光素子であるフォトダイオード（いずれも図示せず）を備えている。このような構成で、センサ１００が反射マーク１０３を検出することで得られる電気信号は、図１５に示すような実線の波形となる。センサ１００が反射マーク１０３を検出している際に、ベルト１０２が上下動したり、あるいはうねったりすると、センサ１００で受光する受光量が変化してしまうため、図１５に示すような破線の波形になる。なお、図１５に示す電気信号は、ハイパスフィルタなどによりセンサ１００からの電気信号からオフセットが取り除かれた信号である。
【０００９】
一般に、回転体の回転量を制御するための２値化信号（パルス信号）を得るためには、図１５に示すような基準レベル（０）を中心として上下にスイングする信号（アナログ交番信号）を基準レベルより上のレベルか又は下のレベルかコンパレータにより比較することで２値化信号を得る。このとき、信号や基準レベル電圧にはノイズがのっている。そこで、しきい値を基準レベルから上下にわずかにずらしてエッジ部分で信号が不安定にならないようにするためには、ヒステリシス回路、あるいはシュミット回路と呼ばれる回路が用いられる。
【００１０】
このような回路を用いると、図１５に示すように、マーク１０３とセンサ１００との距離や角度が変動しない場合には、実線の波形の電気信号から実線の２値化信号が生成され、一方、マーク１０３とセンサ１００との距離や角度が変動した場合には、破線の波形の電気信号から破線の２値化信号が生成される。このように、ベルト１０２が上下動したり、あるいはうねったりする、すなわち、マーク１０３とセンサ１００との距離や角度が変動すると、２値化信号のエッジ部分がずれてしまい、さらに、パルス間隔も不正確になってしまう。例えば、マークピッチが１ｍｍである場合には、計測誤差が１％であるだけで、１０μｍの誤差が生じてしまうことになる。その誤差は、１２００ｄｐｉのカラー画像形成装置の１ドットが２１μｍ程度であることから無視できない大きさである。このように、マーク１０３とセンサ１００との距離や角度の変動が大きく生じると、センサ１００の受光量が変動してしまい、回転体の回転量を制御するための制御信号を精度良く得ることができない。
【００１１】
本発明の目的は、回転体に形成された複数のマークとそれらのマークを検出するセンサとの距離変動や角度変動が大きく生じてセンサの受光量が変動しても、回転体の回転量を制御するための制御信号を精度良く得ることである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
請求項１記載の発明は、回転体にその回転方向に所定の周期パターンで配列されて設けられた複数のマークを光源から出射された光により検出するマーク検出装置において、前記回転体と前記光源との光路上に設けられ、光が通過する複数のスリットを有して前記光源から出射された光を分割するスリットマスクと、前記スリットマスクで分割され前記マークに照射された光を受光し、その光を光電変換して電気信号を生成する受光部と、生成された前記電気信号から前記回転体の回転量を制御するための制御信号を生成する信号生成手段と、を備え、前記スリットマスクは、前記複数のスリットを２つの領域に分け、一方の領域を他方の領域に対して前記複数のマークの周期パターンの（２ｎ＋１）／２（ｎは０を含む自然数）周期だけずらして形成されており、前記受光部は、前記スリットマスクで分割され前記マークに照射された光を前記２つの領域毎に受光して光電変換することで２つの電気信号を生成し、前記信号生成手段は、生成された前記２つの電気信号から前記制御信号を生成する、ことを特徴とする。
【００１３】
請求項２記載の発明は、請求項１記載のマーク検出装置において、前記２つの領域は前記回転体の回転方向に分けられている、ことを特徴とする。
【００１４】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載のマーク検出装置において、前記複数のマーク及び前記複数のスリットは、前記回転体の回転方向に対する直角方向に広い形状に形成されている、ことを特徴とする。
【００１５】
請求項４記載の発明は、請求項１、２又は３記載のマーク検出装置において、前記光源は、前記回転体の回転方向に対する垂直面内に設けられている、ことを特徴とする。
【００１６】
請求項５記載の発明は、請求項１、２、３又は４記載のマーク検出装置において、前記光源は、出射した光が前記回転体の表面に対して垂直に入射するように設けられている、ことを特徴とする。
【００１７】
請求項６記載の発明は、請求項１、２、３、４又は５記載のマーク検出装置において、前記信号生成手段は、前記２つの電気信号のクロスポイントをしきい値とし、前記２つの電気信号から前記制御信号として２値化信号を生成する、ことを特徴とする。
【００１８】
請求項７記載の発明は、請求項１、２、３、４又は５記載のマーク検出装置において、前記信号生成手段は、前記２つの電気信号からそれらの差信号を求め、その差信号から前記制御信号として２値化信号を生成する、ことを特徴とする。
【００１９】
請求項８記載の発明は、回転体にその回転方向に所定の周期パターンで配列されて設けられた複数のマークを光源から出射された光により検出するマーク検出装置において、前記回転体と前記光源との光路上に設けられ、光が通過する複数のスリットを有して前記光源から出射された光を分割するスリットマスクと、前記スリットマスクで分割され前記マークに照射された光を受光し、その光を光電変換して電気信号を生成する受光部と、生成された前記電気信号から前記回転体の回転量を制御するための制御信号を生成する信号生成手段と、を備え、前記スリットマスクは、前記複数のスリットを４つの領域に分け、それぞれの領域を他の領域に対して前記複数のマークの周期パターンの（２ｎ＋１）／４周期（ｎは０を含む自然数）だけずらして形成されており、前記受光部は、前記スリットマスクで分割され前記マークに照射された光を前記４つの領域毎に受光して光電変換することで４つの電気信号を生成し、前記信号生成手段は、生成された前記４つの電気信号から前記制御信号を生成する、ことを特徴とする。
【００２０】
請求項９記載の発明は、回転体にその回転方向に所定の周期パターンで配列されて設けられた複数のマークを光源から出射された光により検出するマーク検出装置において、前記回転体と前記光源との光路上に設けられ、前記光源から出射された光を偏光分離する偏光分離マスクと、前記偏光分離マスクで偏光分離され前記マークに照射された光を受光し、その光を光電変換して電気信号を生成する受光部と、生成された前記電気信号から前記回転体の回転量を制御するための制御信号を生成する信号生成手段と、を備え、前記偏光分離マスクは、光のＰ偏光成分を遮断するＰ偏光遮断部と光のＳ偏光成分を遮断するＳ偏光遮断部とを前記複数のマークの周期パターンと同じ周期パターンで交互に有しており、前記受光部は、前記偏光分離マスクで偏光分離され前記マークに照射された光をＰ偏光成分及びＳ偏光成分それぞれ別に受光して光電変換することで２つの電気信号を生成し、前記信号生成手段は、生成された前記２つの電気信号から前記制御信号を生成する、ことを特徴とする。
【００２１】
請求項１０記載の発明の回転体駆動装置は、回転体と、請求項１ないし９のいずれか一記載のマーク検出装置と、前記マーク検出装置により生成された制御信号に基づいて前記回転体の回転量が一定になるように前記回転体を駆動制御する制御手段と、を備える。
【００２２】
請求項１１記載の発明の画像形成装置は、請求項１０記載の回転体駆動装置を備える。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１、８又は９記載の発明によれば、回転体に形成された複数のマークとそれらのマークを検出するセンサである受光部との距離変動や角度変動が大きく生じて受光部の受光量が変動しても、回転体の回転量を制御するための制御信号を精度良く得ることができる。
【００２４】
請求項２記載の発明によれば、精度良く安定したマーク検出を行うことができる。
【００２５】
請求項３記載の発明によれば、特に回転体の傾きや蛇行に対して精度良く安定したマーク検出を行うことができる。
【００２６】
請求項４記載の発明によれば、より精度良く安定したマーク検出を行うことができる。
【００２７】
請求項５記載の発明によれば、より精度良く安定したマーク検出を行うことができる。
【００２８】
請求項６記載の発明によれば、確実に精度良く制御信号を得ることができる。
【００２９】
請求項７記載の発明によれば、確実に精度良く制御信号を得ることができる。
【００３０】
請求項１０記載の発明によれば、請求項１ないし９のいずれか一記載の発明と同様な効果を奏する。
【００３１】
請求項１１記載の発明によれば、請求項１０記載の発明と同様な効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
＜第一の実施の形態＞
本発明の第一の実施の形態を図１ないし図７に基づいて説明する。本実施の形態は、マーク検出装置を画像形成装置に適応した一例である。
【００３３】
図１は本実施の形態の画像形成装置を概略的に示す縦断側面図である。
【００３４】
図１に示すように、本実施の形態の画像形成装置１は、記録媒体としての転写用の用紙２を搬送する回転体である搬送ベルト３に沿ってその搬送ベルト３の回転方向（搬送方向）の上流側から順に、複数個の電子プロセス部１Ｋ（ブラック）、１Ｍ（マゼンタ）、１Ｙ（イエロー）、１Ｃ（シアン）が配列されて構成されている。この画像形成装置１は、いわゆるタンデムタイプといわれるカラー画像形成装置である。
【００３５】
複数個の電子プロセス部１Ｋ、１Ｍ、１Ｙ、１Ｃは画像形成部として機能する。電子プロセス部１Ｋはブラック、電子プロセス部１Ｍはマゼンタ、電子プロセス部１Ｃはシアン、電子プロセス部１Ｙはイエローの各画像を形成する。各電子プロセス部１Ｋ、１Ｍ、１Ｙ、１Ｃは、形成する画像の色が異なるだけで、それらの内部構成は共通である。以下の説明では、電子プロセス部１Ｋについて具体的に説明するが、他の電子プロセス部１Ｍ、１Ｙ、１Ｃについては、電子プロセス部１Ｋにかかる構成要素のＫに代えて、Ｍ、Ｙ、Ｃなどの符号を付して図に表示する。
【００３６】
搬送ベルト３は、その一方が駆動回転させられる駆動ローラ４であり、他方が従動回転させられる従動ローラ５である搬送ローラ４、５によって回動可能に支持されたエンドレスベルト（無端状のベルト）から構成されており、これらの搬送ローラ４、５の回転と共に、図１中の矢印の向きに回転する構造になっている。このような搬送ベルト３の下方には、用紙２が収納された給紙トレイ６が備えられている。給紙トレイ６に収納された用紙２のうち、最上位置にある用紙２は、画像形成時に送り出されて静電吸着により搬送ベルト３に吸着される。搬送ベルト３に吸着された用紙２は最初の電子プロセス部１Ｋに搬送され、ここでブラック（黒）の画像が転写される。
【００３７】
電子プロセス部１Ｋは、像担持体としての感光体ドラム７Ｋと、この感光体ドラム７Ｋの周囲に配置された帯電器８Ｋ、露光器９Ｋ、現像器１０Ｋ、感光体クリーナ１１Ｋなどから構成されている。露光器９Ｋとしてはレーザスキャナが用いられ、レーザスキャナはレーザ光源（図示せず）からのレーザ光をポリゴンミラーで反射させ、ｆθレンズや偏向ミラーなどを用いた光学系（図示せず）を介して出射する構造になっている。
【００３８】
画像形成に際し、感光体ドラム７Ｋの周面は、暗中にて帯電器８Ｋにより一様に帯電された後、露光器９Ｋからの黒画像に対応した露光光１２Ｋ、本実施の形態ではレーザ光により露光され、静電潜像が形成される。この静電潜像は、現像器１０Ｋにおいて黒トナーにより可視像化され、感光体ドラム７Ｋ上に黒のトナー像が形成される。
【００３９】
このトナー像は感光体ドラム７Ｋと搬送ベルト３上の用紙２とが接する位置、いわゆる転写位置で転写器１３Ｋの働きにより用紙２上に転写され、その用紙２上に単色（黒）の画像が形成される。転写を終えた感光体ドラム７Ｋは、その周面に残留した不要なトナーが感光体クリーナ１１Ｋにより除去され、次の画像形成に備えられる。
【００４０】
このようにして、電子プロセス部１Ｋで単色（黒）を転写された用紙２は、搬送ベルト３によって次の電子プロセス部１Ｍに搬送される。電子プロセス部１Ｍでは、電子プロセス部１Ｋと同様のプロセスにより感光体ドラム７Ｍ上に形成されたマゼンタのトナー像が用紙２上の黒のトナー像に重ね転写される。
【００４１】
用紙２はさらに次の電子プロセス部１Ｙに搬送され、同様にして感光体ドラム７Ｙ上に形成されたイエローのトナー像が、用紙２上にすでに形成されている黒およびマゼンタのトナー像に重ね転写される。さらに、次の電子プロセス部１Ｃでも、同様にしてシアンのトナー像が重ね転写されて、フルカラーのカラー画像が得られる。このフルカラーのカラー画像が形成された用紙２は、電子プロセス部１Ｃを通過した後、搬送ベルト３から剥離されて定着器１４にて定着された後、排紙される。
【００４２】
図２は搬送ベルト３を概略的に示す外観斜視図である。
【００４３】
図２に示すように、搬送ベルト３は、駆動ローラ４および従動ローラ５に掛け渡されており、その端部にスケール２１を有している。このスケール２１は、搬送ベルト３の回転方向（搬送ベルト３の周面の移動方向）に交互に並ぶ複数の反射マーク２１ａと複数のスリット２１ｂとから構成されている。これらの反射マーク２１ａ及びスリット２１ｂは、所定の周期パターンであるマーク周期で設けられている。
【００４４】
なお、本実施の形態では、反射マーク２１ａがマークとして機能する。また、スリット２１ｂを透過した光を検出する場合には、スリット２１ｂもマークとして機能する。すなわち、マークとしては、反射率もしくは透過率が変化するマークであれば良く、例えば白や黒などの色の違う印刷パターンでも良いし、アルミ蒸着膜などのような全反射パターンでも良い。このような反射マーク２１ａ及びスリット２１ｂは、その数に応じて単一又は連続した反射率変化を生じさせる。
【００４５】
スケール２１の反射マーク２１ａを検出するマークセンサ２２は、スケール２１に対向して搬送ベルト３から所定の距離（検出距離）だけ離反した位置に設けられている。また、駆動ローラ４は、減速機２３を介して駆動モータ２４に接続されており、駆動モータ２４による駆動力によって回転駆動される。
【００４６】
図３はマークセンサ２２の内部構成を概略的に示す縦断側面図である。
【００４７】
図３に示すように、マークセンサ２２は、光ビームを出射する光源３１、その光源３１から出射された光ビームを集光して搬送ベルト３のスケール２１に照射するレンズ３２、レンズ３２からの光ビームを所望の形状に整形するスリットマスク３３、およびスケール２１の反射マーク２１ａにより反射・散乱した光を受光して光電変換を行う受光部である受光素子３４などから構成されている。なお、スケール２１の反射マーク２１ａにより反射・散乱された光を受光素子３４に集光するレンズを設けるように構成しても良い。
【００４８】
このようなマークセンサ２２は、光源３１からスケール２１に光ビームを照射し、その反射光を受光素子３４により検出するセンサである。すなわち、マークセンサ２２は、スケール２１の反射マーク２１ａによる反射光を検出することにより、その反射マーク２１ａとマークセンサ２２との相対位置情報を得るセンサである。詳しくは、スケール２１により反射される光ビームの反射率が反射マーク２１ａとスリット２１ｂとで異なるので、反射マーク２１ａで反射あるいは散乱する光ビームの光量は変化する。マークセンサ２２は、その光量の変化を受光素子３４で検出することにより、反射マーク２１ａの位置を判断する。
【００４９】
光源３１は、光ビームの光軸を搬送ベルト３の表面に対して傾けて搬送ベルト３の回転方向に対する直交面内に設けられている。これにより、光源３１は、搬送ベルト３の回転方向に対して角度を持たないように設けられているため、誤差が無いマーク検出を行うことができる。
【００５０】
光源３１としては、例えば発光ダイオード（ＬＥＤ）が用いられるが、これに限るものではなく、例えば半導体レーザや電球などが用いられても良い。なお、平行度が良い光ビームを用いることが好ましいので、半導体レーザや点光源ＬＥＤなどのように発光面積の小さい光源が好ましい。また、レンズ３２としては、例えばコリメートレンズなどが用いられる。受光素子３４としては、光の強度を電気信号に変換できる素子であれば良く、例えばフォトダイオードやフォトトランジスタなどが用いられる。
【００５１】
スリットマスク３３は、光が通過する複数のスリット３３ａを有している（図４参照）。スリット３３ａは、スケール２１に照射する照射光を所望の形状にするため、所定のパターン形状で形成された開口部である。
【００５２】
ここで、図４はスリットマスク３３のスリット数が２つの場合を示し、（ａ）はスリットマスク３３の平面図、（ｂ）は光ビームがスリットマスク３３を介して照射されているスケール２１の平面図である。
【００５３】
図４（ａ）に示すように、スリットマスク３３は、２つのスリット３３ａを２つの領域Ａ，＊Ａに分け、一方の領域Ａを他方の領域＊Ａに対してマーク周期の１／２周期だけずらして形成されている。すなわち、２つのスリット３３ａは、一方のスリット３３ａを他方のスリット３３ａに対してマーク周期の１／２周期だけずらして形成されている。これにより、図４（ｂ）に示すように、光ビームはスリットマスク３３を通過して２つのスポット（２つの光ビーム）Ｓに分割されてスケール２１に到達する。これらのスポットＳの位置は、マーク周期の１／２周期だけずれている。
【００５４】
マークセンサ２２は、スケール２１上のスポットＳの位置とそのスポットＳからマーク周期の１／２周期だけずれたスポットＳの位置とをそれぞれ検出する。これにより、１／２周期違い（１８０°位相のずれた）の２つの電気信号（検出信号）が得られる。
【００５５】
なお、スリットマスク３３のスリット数は、２つに限るものではない。ここで、図５はスリットマスク３３のスリット数が６つの場合を示し、（ａ）はスリットマスク３３の平面図、（ｂ）は光ビームがスリットマスク３３を介して照射されているスケール２１の平面図である。
【００５６】
図５（ａ）に示すように、スリットマスク３３は、６つのスリット３３ａを２つの領域Ａ，＊Ａに分け、一方の領域Ａを他方の領域＊Ａに対してマーク周期の１／２周期だけずらして形成されている。すなわち、６つのスリット３３ａは、３つのスリット３３ａ毎にマーク周期の１／２周期だけずらして形成されている。これにより、図５（ｂ）に示すように、光ビームはスリットマスク３３を通過して６つのスポット（６つの光ビーム）Ｓに分割されてスケール２１に到達する。これらのスポットＳの位置は、３つのスポット毎にマーク周期の１／２周期だけずれている。
【００５７】
マークセンサ２２は、スケール２１上の３つのスポットＳの位置とその３つのスポットＳからマーク周期の１／２周期だけずれた３つのスポットＳの位置とをそれぞれ検出する。これにより、１／２周期違い（１８０°位相のずれた）の２つの電気信号が得られる。
【００５８】
ここで、本実施の形態では、２つの領域Ａ，＊Ａをマーク周期の１／２周期だけずらしているが、これに限るものではなく、例えばマーク周期の（２ｎ＋１）／２の周期だけずらしても良い。ここで、ｎは０を含む自然数（非負整数）であり、ｎ＝０，１，２，…となる。
【００５９】
また、スリット３３ａの２つの領域Ａ，＊Ａは、スケール２１の移動方向に分割されていることが望ましい。透過型や垂直入射型の光学配置の場合には、問題は少ないが、反射型の構成で光ビームをスケール２１に対して斜めに照射しなければいけないレイアウトの場合などには、スケール２１の移動方向に対しては光ビームの角度を付けない方が望ましいので、スケール２１とマークセンサ２２との離反距離である検出距離が変動しても、反射光量のバランスが崩れないようにスケール２１の進行方向に位相差を持たせる配置が良い。
【００６０】
また、図４（ｂ）及び図５（ｂ）に示すように、スケール２１のスリット２１ｂは、搬送ベルト３、すなわちスケール２１の移動方向（ｙ方向）に対して直角方向（ｘ方向）に幅を持つように、例えば長方形に形成されている。さらに、図４（ｂ）及び図５（ｂ）に示すように、スケール２１に照射される光ビーム（スポットＳ）は、円形よりもスケール２１の移動方向（ｙ方向）に対して直角方向（ｘ方向）に広がりを持った光ビームであることが望ましい。したがって、スケール２１に照射される光ビームは、スケール２１の汚れや欠落があっても検出する光量が変動しないように、スケール２１の移動方向にマーク周期の１／２の大きさで、スケール２１の移動方向に対して直角方向にスケール２１のスリット２１ｂの長手方向の大きさよりも小さくかつなるべく大きい形状に形成されている。このような細長いビーム形状を形成する方法としては、スリットマスク３３を用いる方法の他にも、円筒面レンズやウェッジプリズムなどで片側のみ拡散させる方法や回折光学素子を使ってビームを多数本に分割する方法などがある。
【００６１】
すなわち、スリットマスク３３のスリット３３ａ及びスケール２１のスリット２１ｂは、搬送ベルト３の回転方向に対する直角方向に広い形状に形成されている。これにより、特に搬送ベルト３の傾きや蛇行に対しても精度良く安定したマーク検出を行うことができる。また、スケール２１のマークが一部汚損されていても、電気信号を得ることができる。
【００６２】
図６は受光素子３４の概略構成を示す平面図である。
【００６３】
図６に示すように、受光素子３４は、２つの位相がずれた光ビームをそれぞれ受光する２つの受光領域４１を有している。このような２つの受光領域４１は、それぞれアンプやコンパレータなどの比較器４２に接続されている。なお、本実施の形態では、１つの受光素子３４が２つの受光領域４１を有しているが、これに限るものではなく、例えば、光ビームを分離してそれぞれ独立の受光素子３４で受光するようにしても良い。
【００６４】
このような受光素子３４は、２つの受光領域４１で受光した光をそれぞれ光電変換して、その受光領域４１毎、すなわち２つの領域Ａ，＊Ａ毎に電気信号を生成する。これにより、受光素子３４の２つの受光領域４１からそれぞれ、電気信号としてＡ相信号及び＊Ａ相（逆相）信号が得られる。なお、＊Ａ相信号は、Ａ相信号に対して同相でオフセット変化する反転信号である。本実施の形態では、これらの信号から搬送ベルト３の回転量を制御するための制御信号である２値化信号（パルス信号）が生成される。すなわち、オフセット・信号振幅変化に対しても精度が高い２値化信号を得るため、Ａ相信号と＊Ａ相信号との比較により２値化信号が得られる。
【００６５】
図７は受光素子３４により生成された電気信号およびその電気信号から生成された２値化信号を示す説明図である。
【００６６】
図７に示すように、Ａ相信号と＊Ａ相信号とのクロスポイント（引き算が０になる位置）をしきい値としてそれらの信号を矩形化することによって、信号変動があっても精度が高いエッジを抽出することができる。すなわち、ここでは、Ａ相信号と＊Ａ相信号とのクロスポイントをしきい値として、それらの信号から２値化信号を生成する（信号生成手段）。なお、これに限るものではなく、例えばＡ相信号と＊Ａ相信号との差信号を求め、その差信号から２値化信号を生成するようにしても良い。このとき、差信号は、同相オフセットが除去されて振幅が元の２倍である信号となる。ここで、Ａ相信号と＊Ａ相信号との差動出力は、スケール２１の反射マーク２１ａによる反射光量のオフセット成分となるため、これらの信号を用いてスケール２１の汚れ具合を検査したり、光源３１の発光光量調整をしたり、増幅器（図示せず）の増幅率を調整したりするなどの利用が可能である。
【００６７】
このようにして、搬送ベルト３の回転によってスケール２１が移動していくと、マークセンサ２２によってスケール２１の移動速度に応じた２つの電気信号が得られる。これらの電気信号から２値化信号が生成され、その２値化信号に基づいて搬送ベルト３の回転量が一定になるように搬送ベルト３が駆動制御される（制御手段）。このとき、マークセンサ２２は、マーク周期の１／２周期ずれた２つの領域Ａ，＊Ａ毎に反射マーク２１ａから光ビームを受光して光電変換し、１／２周期違いの２つの電気信号を生成する。その２つの電気信号から搬送ベルト３の回転量を制御するための２値化信号が生成される。
【００６８】
このように本実施の形態によれば、１／２周期違い（１８０°位相のずれた）の２つの電気信号が得られ、それらの電気信号から２値化信号が生成されるため、スケール２１とマークセンサ２２との距離変動や角度変動が大きく生じてマークセンサ２２の受光量が変動しても、搬送ベルト３の回転量を制御するための２値化信号を精度良く得ることができる。さらに、信号全体のオフセットレベルを知ることができるため、スケール２１の反射状態などを確認することができる。また、２値化信号をＰＬＬ制御に用いて搬送ベルト３の回転量を制御することで、精度が高いベルト搬送を行うことができる。
【００６９】
また、本実施の形態によれば、マーク周期の１／２周期だけずれた２つの領域Ａ，＊Ａによりレーザ光を分割することで、１／２周期違い（１８０°位相のずれた）の２つの電気信号が得られるため、スケール２１の汚れや欠陥に対して安定したマーク検出を行うことができる。特に、スケール２１に２つだけのスリット２１ｂを設けるだけではなく、多数のスリット２１ｂを設け、光ビームを複数に分けてそれらを同時に検出することで、より安定したマーク検出を行うことができる。
【００７０】
また、本実施の形態のマークセンサ２２は、電子写真やインクジェットプリンタなどの画像形成装置におけるローラや無端ベルトの位置計測用や位置決め用などのエンコーダセンサに用いられる。このため、スケール２１の高さ変動や汚れ欠陥などで、全体光量やオフセットレベルが変動しやすいが、精度良くスケール２１の反射マーク２１ａの位置を検出することができる。
【００７１】
また、本実施の形態のスケール２１は、電子写真装置の中間転写ベルトや搬送ベルト３上に形成される。これらのベルトは厚み０．１ｍｍ程度の樹脂素材でできていることから、変形や歪み、弛みなどを起こしやすく、その変形方向もベルトの回転方向のみとは限らずベルトの回転方向を中心に角度を持つこともある。例えば、丸いビームと丸いマークを利用した場合には、その角度変動でマークと光ビームとのアライメントがずれてしまう。また、ベルトはその回転方向に対して直角方向に蛇行することもあり、光ビームとマークとがベルトの回転方向で一致しなくなり、検出信号を得ることができなくなる場合もある。そこで、スリットマスク３３のスリット３３ａ及びスケール２１のスリット２１ｂを、搬送ベルト３の回転方向に対する直角方向に広い形状に形成することで、特に搬送ベルト３の傾きや蛇行に対しても精度良く安定したマーク検出を行うことができる。
【００７２】
また、一般的な反射型のフォトインタラプタは、マークを読みとる際にマークの移動方向に対して角度を持たせて設置されることが推奨されており、光軸と検出面とに角度を持たせて設置されていることが多い。このため、フォトインタラプタが、その光軸と検出面の法線とがマークの移動方向に対して所定の角度ｄθを持って配置されていると、検出面が所定量ｄｚだけ変化することによりｄｚ・ｔａｎ（ｄθ）のビーム照射位置変化が生じてしまう。このようにフォトインタラプタがその光軸を検出面に対して垂直にして設けられていないため、マークの位置検出誤差が生じてしまう。そこで、本実施の形態では、光源３１が搬送ベルト３の回転方向に対して角度を持たないように設けられているので、精度良く安定したマーク検出を行うことができる。
【００７３】
＜第二の実施の形態＞
本発明の第二の実施の形態を図８に基づいて説明する。
【００７４】
本実施の形態は、第一の実施の形態と基本的に同じである。第一の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。本実施の形態では、第一の実施の形態と異なる点について説明する。
【００７５】
図８は本実施の形態のマークセンサの内部構成を概略的に示す縦断側面図である。
【００７６】
図８に示すように、マークセンサ５１は、光ビームを出射する光源３１、その光源３１から出射された光ビームを集光してスケール２１に照射するレンズ３２、光が通過する複数のスリット３３ａ（図４及び図５参照）を有してレンズ３２からの光ビームを所望の形状に整形するスリットマスク３３、スリットマスク３３からの光ビームを透過しスケール２１により反射・散乱した光を偏向する偏向器５２、および偏向器５２からの光ビームを受光して光電変換を行う受光部である受光素子３４などから構成されている。
【００７７】
光源３１は、出射した光ビームが搬送ベルト３の表面に対して垂直に入射するように設けられている。また、偏向器５２としては、例えばビームスプリッタや回折格子などが用いられる。また、投光と受光でビーム径が異なる光学配置の場合には、部分反射ミラーが用いられても良い。
【００７８】
このように本実施の形態によれば、光源３１からの光ビームがスケール２１に対して垂直に入射するため、搬送ベルト３の上下動や角度変動に対しても、精度良く安定したマーク検出を行うことができる。また、第一の実施の形態と同様な効果を奏する。
【００７９】
ここで、光ビームに角度が付いていると、搬送ベルト３の上下動によって光ビームの反射位置が変動してしまい計測誤差が生じやすい。そこで、光源３１は、反射マーク２１ａに対して垂直に光ビームを入射するように設けられている。これにより、マークセンサ２２とスケール２１との検出距離変化や検出角度変化があっても、計測誤差無くマーク検出を行うことができる。
【００８０】
＜第三の実施の形態＞
本発明の第三の実施の形態を図９および図１０に基づいて説明する。
【００８１】
本実施の形態は、第一の実施の形態と基本的に同じである。第一の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。本実施の形態では、第一の実施の形態と異なる点について説明する。
【００８２】
図９は本実施の形態のスリットマスクを概略的に示す平面図、図１０は受光素子により生成された電気信号を示す説明図である。
【００８３】
図９に示すように、スリットマスク３３は、１２個のスリット３３ａを４つの領域Ａ，Ｂ，＊Ａ，＊Ｂに分け、それぞれの領域を他の領域に対してマーク周期の１／４周期だけずらして形成されている。すなわち、１２個のスリット３３ａは、３つのスリット３３ａ毎にマーク周期の１／４周期だけずらして形成されている。これにより、光ビームはスリットマスク３３を通過して１２個のスポット（１２個の光ビーム）に分割されてスケール２１に到達する。これらのスポットの位置は、３つのスポット毎にマーク周期の１／４周期だけずれている。
【００８４】
受光素子３４は、光ビームの４つの領域Ａ，Ｂ，＊Ａ，＊Ｂに対応する４つの受光領域４１を有しているが、これに限るものではなく、例えば、光ビームを分離してそれぞれ独立の受光素子３４で受光するようにしても良い。
【００８５】
なお、本実施の形態では、４つの領域Ａ，Ｂ，＊Ａ，＊Ｂをマーク周期の１／４周期だけずらしているが、これに限るものではなく、例えばマーク周期の（２ｎ＋１）／４の周期だけずらしても良い。ここで、ｎは０を含む自然数（非負整数）であり、ｎ＝０，１，２，…となる。
【００８６】
また、本実施の形態では、４つ領域Ａ、Ｂ、＊Ａ、＊Ｂはそれぞれ順に１／４ピッチずつ位相をずらして配置されている。この順序は限定されているものではなく、例えば、Ａ相の信号に対して９０°位相ずれした信号がＢ相の信号となり、１８０°位相ずれした信号が＊Ａ相の信号となり、２７０°位相ずれした信号が＊Ｂ相の信号となるので、電気信号として区別できれば順序はどのようでも構わない。領域Ａ、Ｂ、＊Ａ、＊Ｂの分割方向もスケール２１の移動方向（進行方向）に並んでいる必要はなく、領域Ａ及び領域Ｂはスケール２１の移動方向に対して横に並んでいても良い。ただし、領域Ａと領域＊Ａとの組、および領域Ｂと領域＊Ｂとの組は、前述したようなオフセット除去などの面からスケール２１の進行方向に並んでいる配置が望ましい。
【００８７】
このように本実施の形態によれば、４つの位相がずれた光ビームにより得られる電気信号は、図１０に示すように、Ａ相信号とＢ相信号とは９０°位相がずれた信号になる。このため、エンコーダで使われるＡ相信号およびＢ相信号と同じ扱いができ、信号の組み合わせにより４逓倍カウントなどを行うことができる。また、第一の実施の形態と同様な効果を奏する。
【００８８】
＜第四の実施の形態＞
本発明の第四の実施の形態を図１１に基づいて説明する。
【００８９】
本実施の形態は、第二の実施の形態と基本的に同じである。第二の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。本実施の形態では、第二の実施の形態と異なる点について説明する。
【００９０】
図１１は本実施の形態の偏光分離マスクを概略的に示す平面図である。
【００９１】
図１１に示すように、本実施の形態では、スリットマスク３３に代えて偏光分離マスク６１が設けられている。この偏光分離マスク６１は、スリット３３ａの形状と同じ形状であるＰ偏光遮断領域６２とＳ偏光遮断領域６３とが交互に連続して設けられて形成されている。Ｐ偏光遮断領域６２とＳ偏光遮断領域６３とは、複数の反射マーク２１ａの周期パターンであるマーク周期と同じ周期パターンで交互に設けられている。Ｐ偏光遮断領域６２は、光のＰ偏光成分を遮断するＰ偏光遮断部であり、Ｓ偏光遮断領域６３は、光のＳ偏光成分を遮断するＳ偏光遮断部である。
【００９２】
本実施の形態では、偏光分離マスク６１を介して光ビームをスケール２１に照射する。この光ビームは光強度的には一様に見えるが、スリット状に偏光ビームが並んだ光ビームとなっている。
【００９３】
偏向器５２としては、例えば偏光ビームスプリッタが用いられている。なお、スケール２１は全反射もしくは透過スリットなので、受光素子３４に入射する光ビームは偏光を保持しているため、光ビームを偏光ビームスプリッタなどで分離してそれぞれの偏光成分を光電変換するか、２つの光ビームに分離して偏光フィルタ付きの受光素子で受光することなどにより、それぞれの偏光成分の光を受光することができる。
【００９４】
このように本実施の形態によれば、２つの偏光ビームはスケール２１上で１／２ピッチずれた位置に照射されるので、第二の実施の形態と同様に、互いに逆位相のＡ相信号および＊Ａ相信号を得ることが可能になる。また、第二の実施の形態と同様な効果を奏する。
【００９５】
ここで、オフセット除去を行うためには、できれば隣接したスリット３３ａで位相をずらした検出を行うことが良い。しかし、スリットマスク３３を用いた場合には、光ビームの幅が１／２ピッチで、隣接して１／２ピッチずらした光ビームを作ると、全体が開口になってしまう。そこで、光の偏光を利用してスケール２１上の隣接した位置における逆位相信号を得ることで、それぞれの信号の汚れや欠陥による反射光量の差が少なく、オフセット除去率を高め、より安定したマーク検出を行うことができる。
【００９６】
＜第五の実施の形態＞
本発明の第五の実施の形態を図１２に基づいて説明する。本実施の形態は、マーク検出気装置を画像形成装置（回転体駆動装置）に適応した一例である。
【００９７】
本実施の形態は、第一の実施の形態と基本的に同じである。第一の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。本実施の形態の画像形成装置２００では、回転体である中間転写ベルト２０２が設けられ、この中間転写ベルト２０２の端部にスケール２１が設けられ、スケール２１に対向する位置にマークセンサ２２が設けられている（図２参照）。
【００９８】
図１２は本実施の形態の画像形成装置を概略的に示す縦断側面図である。
【００９９】
図１２に示すように、本実施の形態の画像形成装置２００は、原稿の画像を読取るスキャナ２００ａと、この読取った画像に基づいて用紙上に電子写真方式で画像形成を行うプリンタ２００ｂと、マイクロコンピュータを中心に構成され画像形成装置２００の全体を集中的に制御する制御部（図示せず）とを備えている。また、スキャナ２００ａ上には、原稿自動搬送装置（ＡＤＦ）２０１が設けられており、プリンタ２００ｂは、スキャナ２００ａの下に位置している。
【０１００】
プリンタ２００ｂは、タンデム型間接転写方式の電子写真装置である。プリンタ２００ｂは、中央に、無端ベルト状の中間転写ベルト２０２を具備している。像担持体である中間転写ベルト２０２は、ベース層に、例えば、伸びの少ないフッ素系樹脂や伸びの大きなゴム材料に帆布など、伸びにくい材料で構成された基層を設け、その上に弾性層を設けてなるものである。弾性層は、例えばフッ素系ゴムやアクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴムなどでつくる。その弾性層の表面は、例えば、フッ素系樹脂をコーティングして平滑性のよいコート層で被って構成されている。
【０１０１】
中間転写ベルト２０２は、３つの支持ローラ２１４、２１５、２１６に掛け回されて図１２中時計回りに回転搬送可能である。そして、図１２において、第２の支持ローラ２１５の左側には、画像転写後に中間転写ベルト２０２上に残留する残留トナーを除去する中間転写体クリーニング装置２１７が設けられている。
【０１０２】
また、中間転写ベルト２０２上方には、その搬送方向に沿って、イエロー、シアン、マゼンタ、ブラックの各色のトナー画像を形成する４つのプリンタエンジン２１８Ｙ，２１８Ｍ，２１８Ｃ，２１８Ｋを横に並べて配置して構成されたタンデム画像形成装置２２０が設けられている。各プリンタエンジン２１８Ｙ，２１８Ｍ，２１８Ｃ，２１８Ｋは、いずれも感光体ドラムと、その回りに配置されて帯電装置、現像装置など、電子写真プロセスで各色のトナー画像を形成する各装置とからなる。そのタンデム画像形成装置２２０の上方には、露光装置２２１が設けられている。露光装置２２１は、各プリンタエンジン２１８Ｙ，２１８Ｍ，２１８Ｃ，２１８Ｋの感光体ドラム上に静電潜像を光書込みする。
【０１０３】
一方、中間転写ベルト２０２を挟んでタンデム画像形成装置２２０と反対の側には、２次転写装置２２２が設けられている。この２次転写装置２２２は、例えば、２つのローラ２２３間に、無端ベルトである２次転写ベルト２２４を掛け渡して構成され、中間転写ベルト２０２を介して第３の支持ローラ２１６に押し当てて配置され、中間転写ベルト２０２上の画像を用紙などのシートに転写する。
【０１０４】
また、図１２において、２次転写装置２２２の左側には、シート上の転写画像を定着する定着装置２２５が設けられている。２次転写装置２２２は、画像転写後のシートをこの定着装置２２５へと搬送するシート搬送機能も兼ねている。さらに、２次転写装置２２２は転写ローラや非接触のチャージャを備えていても良い。各給紙カセット２４４はシートを収納しており、分離ローラ２４５はそのシートを１枚ずつ分離して給紙路２４６に供給する。プリンタ２００ｂ本体の給紙路２４８には、レジストローラ２４９が設けられている。
【０１０５】
次に、画像形成装置２００の基本動作について説明する。スタートスイッチ（図示せず）が押されると、スキャナ２００ａにより原稿の画像が読取られ、この画像に基づいてプリンタ２００ｂがシート上に画像形成を行なう。
【０１０６】
すなわち、画像形成装置２００は、駆動モータ（図示せず）によりローラ２１４〜２１６を回転駆動して、中間転写ベルト２０２を回転搬送する。同時に、各プリンタエンジン２１８Ｙ，２１８Ｍ，２１８Ｃ，２１８Ｋで、その感光体を回転して各感光体上にそれぞれ、ブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの単色トナー画像を形成する。そして、中間転写ベルト２０２の搬送とともに、それらの単色画像を順次転写して中間転写ベルト２０２上に各トナー画像を重ね合わせた合成カラー画像を形成する。
【０１０７】
そして、給紙カセット２４４の１つからシートを繰り出し、分離ローラ２４５で１枚ずつ分離して給紙路２４６に入れ、搬送ローラ２４７で搬送してプリンタ２００ｂ本体の給紙路２４８に導き、中間転写ベルト２０２上の合成カラー画像にタイミングを合わせてレジストローラ２４９を回転し、中間転写ベルト２０２と２次転写装置２２２との間にシートを送り込み、２次転写装置２２２で転写してシート上にカラー画像を記録する。
【０１０８】
このような画像形成装置２００においては、中間転写ベルト２０２の駆動精度が最終画像の品質に大きく影響しており、より高精度な駆動が望まれる。そこで、この中間転写ベルト２０２端部にスケール２１を設け、そのスケール２１をマークセンサ２２により検出することで（図２参照）、他の実施の形態と同様、スケール２１とマークセンサ２２との距離変動や角度変動が大きく生じてマークセンサ２２の受光量が変動しても、中間転写ベルト２０２の回転量を制御するための２値化信号を精度良く得ることができる。また、中間転写ベルト２０２の回転量のフィードバック制御や書き込みタイミング制御などで高精度に画像形成を行うことが可能になり、色ずれが少ない高精細な画像を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】本発明の第一の実施の形態の画像形成装置を概略的に示す縦断側面図である。
【図２】本発明の第一の実施の形態の搬送ベルトを概略的に示す外観斜視図である。
【図３】本発明の第一の実施の形態のマークセンサの内部構成を概略的に示す縦断側面図である。
【図４】本発明の第一の実施の形態のスリットマスクのスリット数が２つの場合を示し、（ａ）はスリットマスクの平面図、（ｂ）は光ビームがスリットマスクを介して照射されているスケールの平面図である。
【図５】本発明の第一の実施の形態のスリットマスクのスリット数が６つの場合を示し、（ａ）はスリットマスクの平面図、（ｂ）は光ビームがスリットマスクを介して照射されているスケールの平面図である。
【図６】本発明の第一の実施の形態の受光素子の概略構成を示す平面図である。
【図７】本発明の第一の実施の形態の受光素子により生成された電気信号およびその電気信号から生成された２値化信号を示す説明図である。
【図８】本発明の第二の実施の形態のマークセンサの内部構成を概略的に示す縦断側面図である。
【図９】本発明の第三の実施の形態のスリットマスクを概略的に示す平面図である。
【図１０】本発明の第三の実施の形態の受光素子により生成された電気信号を示す説明図である。
【図１１】本発明の第四の実施の形態の偏光分離マスクを概略的に示す平面図である。
【図１２】本発明の第五の実施の形態の画像形成装置を概略的に示す縦断側面図である。
【図１３】ベルト位置変動の状態を示す説明図である。
【図１４】従来のフォトインタラプタを使ってマーク検出する場合の模式図を示す。
【図１５】従来のフォトインタラプタにより生成された電気信号およびその電気信号から生成された２値化信号を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１１０】
１          画像形成装置
３          回転体（搬送ベルト）
２１ａ      マーク（反射マーク）
２１ｂ      マーク（スリット）
３１        光源
３３        スリットマスク
３３ａ      スリット
３４        受光部（受光素子）
６１        偏光分離マスク
６２        Ｐ偏光遮断部（Ｐ偏光遮断領域）
６３        Ｓ偏光遮断部（Ｓ偏光遮断領域）
２００      画像形成装置
２０２      回転体（中間転写ベルト）
Ａ，＊Ａ    領域
【図１】
2006017615.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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