(57)【要約】【課題】  高密度情報記録媒体用の原盤を得るための原盤露光方法を提供すること。【解決手段】  原板表面に塗布されたフォトレジスト層に所定の露光信号に従った第１のレーザビーム（ビーム１）を照射してプリピット部１０２を露光し、更に、プリピット部１０２のトラック方向の先端露光部１０４と後端露光部１０５とを、第１のレーザビーム（ビーム１）と共に第１のレーザビーム（ビーム１）に同期させた第２のレーザビーム（ビーム２−１）及び第３のレーザビーム（ビーム２−２）の合計３本のレーザビームを用いて露光する原盤露光方法によれば、端部が矩形状に形成されたプリピットを有する情報記録媒体用の原盤が得られる。【選択図】  図４
2006012334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原板表面に塗布されたフォトレジスト層に所定の露光信号に従ったレーザビームを照射してプリピット部分を露光し、
前記プリピット部分のトラック方向の端部を、前記レーザビームと共に当該レーザビームに同期させた他のレーザビームを用いて露光することを特徴とする原盤露光方法。
【請求項２】
前記端部が、先端部又は後端部であることを特徴とする請求項１記載の原盤露光方法。
【請求項３】
前記レーザビームが第１のレーザビームであり、前記他のレーザビームが前記第１のレーザビームの両側に配置された第２及び第３のレーザビームであることを特徴とする請求項１記載の原盤露光方法。
【請求項４】
前記他のレーザビームの強度が、前記レーザビームの強度の５０％以下であることを特徴とする請求項１記載の原盤露光方法。
【請求項５】
前記フォトレジスト層の前記プリピット部分が形成されない部分に、前記レーザビームと逆位相の前記他のレーザビームを更に照射することを特徴とする請求項１記載の原盤露光方法。
【請求項６】
前記他のレーザビームの強度が、前記レーザビームの強度の１０％以下であることを特徴とする請求項４記載の原盤露光方法。
【請求項７】
前記フォトレジスト層は、ポジ型フォトレジストから構成されることを特徴とする請求項１記載の原盤露光方法。
【請求項８】
原板表面に塗布されたフォトレジスト層に所定の露光パターンを形成する光学露光装置であって、
前記露光パターンにおけるプリピット部分のトラック方向の端部に、所定の露光信号に同期させた複数のレーザビームを同時に照射するレーザ照射手段と、
前記原板とレーザビームとの相対的位置を変動させる変動手段と、
を有することを特徴とする光学露光装置。
【請求項９】
前記レーザ照射手段は、レーザ光源より出射されたレーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分割するビーム分割手段と、前記第２のレーザビームをπの光路差を有する２本のレーザビームにさらに分割する位相シフトマスクと、を備えることを特徴とする請求項８記載の光学露光装置。
【請求項１０】
プリピットを有する情報記録媒体用原盤を形成する原盤形成工程と、
形成された前記情報記録媒体用原盤の前記プリピットの形状を転写した金属スタンパを形成するスタンパ形成工程と、を有し、
前記原盤形成工程が、原板表面に塗布されたフォトレジスト層に所定の露光信号に従った第１のレーザビームを用いてプリピット部分を露光するとともに、前記第１のレーザビームに同期させた第２及び第３のレーザビームを用いて前記プリピット部分の先端と後端とを露光することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
情報記録媒体用原盤のフォトレジスト層に形成されたプリピットの形状を転写した情報記録媒体用スタンパであって、
最短マークのプリピットの幅（Ｗ）と、前記最短マークのプリピットのトラック方向の端部の曲率半径（Ｒ）とが、下記式（１）で表される関係を有することを特徴とする情報記録媒体用スタンパ。
Ｒ＜（Ｗ／２）      （１）
【請求項１２】
スパイラル状又は同心円状に形成されたトラックに所定の大きさのプリピットが形成された基板を有し、
前記プリピットは、最短マークのプリピットの幅（Ｗ）とトラック方向の端部の曲率半径（Ｒ）とが、下記式（１）で表される関係を有することを特徴とする情報記録媒体。
Ｒ＜（Ｗ／２）      （１）
【請求項１３】
前記最短マークのプリピットに基づく再生信号のジッターが１０％以下であることを特徴とする請求項１２記載の情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原盤露光方法等に関し、より詳しくは、情報記録媒体用原盤が得られる原盤露光方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光ディスク等の情報記録媒体における重要な技術的課題である記録密度の向上は、情報トラックに沿った線記録密度の改善と、トラックピッチの狭小化による面記録密度の改善と、の両面から検討が行われている。
一方、情報記録媒体の基板の元になる原盤は、レーザ光源より出射され、光変調器によりパルス状に強度変調されたレーザビームが、通常、光分解型のポジ型レジストからなるフォトレジスト層に対物レンズを経て集光される光学露光装置を用いてカッティングされ、プリピットが形成される。
【０００３】
ところが、線記録密度を改善するために露光信号のパルス幅を狭小化すると、露光信号のパルス幅がフォトレジスト層上に集光されるレーザスポットの直径よりも小さくなった段階で、ピットの形状が大型化する。即ち、トラック方向においては、隣接するプリピットの間のスペース部分において、各プリピットの周辺部分に生じた低露光部が互いに重なり合い、いわゆる「かぶり」を生じ、スペース長が小型化する。その結果、ピットエッジ位置がトラック方向へシフトし、再生信号のジッターが大きくなる現象が見られる。同様に、半径方向においても、隣接するトラックからの「かぶり」の影響をうけ、ピットの形状が大型化する。
【０００４】
従来、このような「かぶり」の影響を緩和する方法としては、例えば、レーザスポットの直径を考慮して、露光信号にいわゆる「削り」を入れたり、露光する際に隣接するトラックからのかぶり光を計算して露光量を調整する方法が考えられている。しかし、例えば、ＤＶＤ−ＲＯＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ  Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）等に採用されているＣＬＶ（Ｃｏｎｓｔａｎｔ  Ｌｉｎｅａｒ  Ｖｅｌｏｃｉｔｙ）フォーマットの場合、ＣＬＶ回路の誤差から一周後に露光する隣のトラックの情報を正確に予測する事は困難であるため、隣接トラック間で信号のクロストークを生じやすくなる問題がある。
【０００５】
このような不都合を解消するため、本願出願人は先に、先行する隣接トラックに記録する情報信号と、記録しようとするトラックに記録する情報信号と、後行する隣接トラックに記録する情報信号とを、第１乃至第３のメモリに取り込んで論理回路により各メモリに記憶された情報信号の論理積をとることにより、原盤又は光情報記録媒体の半径方向に関する各トラックに記録される情報信号のオーバーラップ状態を検出し、レーザビームのかぶりの状態に関わり無く、同一の情報信号に対応するマーク（プリピット）を記録した光ディスク用原盤を製造する方法について報告した（特許文献１参照）。
【０００６】
また、レーザ光源より出射されたレーザビームを分割して得た２本のレーザビームを、ピット列を露光するレーザビームの内周側及び外周側に照射し、カッティングしようとするプリピットの周囲における他のプリピットの配列状態に応じてランド部に対するレーザビームのかぶりを均一化することによって、ピットサイズ及びピット形状の変動を抑制する方法について報告した（特許文献２参照）。
【０００７】
例えば、図７は、特許文献２に記載されているような従来の露光方式を説明する図である。図７（ａ）は、フォトレジスト層の露光状態であり、図７（ｂ）は、ビットデータであり、図７（ｃ）は、プリピット部７０２を形成するレーザビーム（ビーム１）の露光波形であり、図７（ｄ）は、プリピット部７０２の内周側及び外周側を照射する２個のレーザビーム２（ビーム２−１，２−２）の露光波形である。
【０００８】
図７（ｃ）及び図７（ｄ）に示すように、図７（ｂ）に示す露光信号に従い、ピット列に強度変調されたビーム１を照射し、ビーム１と逆位相の信号に従い強度変調された２個レーザビーム２（ビーム２−１，２−２）を、ビーム１が照射されない場合にピット列の内周側及び外周側に照射する。ここでは、ビーム２（ビーム２−１，２−２）において、露光波形における削りＬ１をＬ１＝１Ｔとし、また、ビーム２（ビーム２−１，２−２）の強度をビーム１の１０％としている。このように低強度のビーム２（ビーム２−１，２−２）を用いてトラック間を露光することにより、図７（ａ）に示すように、カッティングしようとするプリピット部７０２の周囲における他のプリピットの配列状態に応じ、網掛け部分（低露光部７０３）で示すように、ランド部に対するレーザビームのかぶりを均一化することができる。そして、トラックピッチを狭小化してもピットサイズ及びピット形状の変動が抑制され、ジッターは１０％程度に低減される。
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−１４８１３９号公報
【特許文献２】特開２００３−３４６３９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかし、特許文献１に記載された光学露光装置を用いる場合は、フォーマッタに蓄えられた情報信号を、各情報信号毎に、前後の隣接トラックに記録される情報信号を参照して補正する方法を採用しているので、複雑な構成の信号補正回路が必要になるという問題がある。
【００１１】
また、特許文献２に示された方式によれば、ピット形成部の周辺部分に生じた低露光部が互いに重なり合う「かぶり」の影響を減少させることができるが、情報記録媒体の高密度化に対応する狭小化したトラックに細いプリピットを形成するには、以下に説明するように、さらに改良が必要である。
【００１２】
図８は、従来の方式でカッティングされたピットデータのピット長の長さ分散を説明する図である。図８は、横軸がピット長（Ｐｉｔ  Ｌｅｎｇｔｈ）であり、縦軸がピット幅（Ｗｉｄｔｈ）である。即ち、図８に示すように、３Ｔマーク〜８Ｔマークのピット幅（Ｗｉｄｔｈ）が略均一であり、ピット形状の変動が抑制されているものの、特に最短ピット（２Ｔ）におけるピット幅が、他のマークと比較して減少し、ピット形状の変動が大きいことが分かる。このため、最短マーク（２Ｔ）のジッターが増大するので、これを低減する必要がある。
【００１３】
本発明は、このような従来技術をさらに改良するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、情報記録媒体用原盤を得るための原盤露光方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、情報記録媒体用原盤を得るための光学露光装置を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、情報記録媒体の製造方法を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、情報記録媒体用スタンパを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、情報記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
そこで本発明者等は鋭意検討の結果、カッティングにより長円状に形成されるプリピットは、その先端及び後端に湾曲部分を有することにより、再生信号の立ち上がりが遅れ、その結果、ジッターが増大することを見出し、かかる知見に基づき本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、原板表面に塗布されたフォトレジスト層に所定の露光信号に従ったレーザビームを照射してプリピット部分を露光し、プリピット部分のトラック方向の端部を、レーザビームと共にレーザビームに同期させた他のレーザビームを用いて露光することを特徴とする原盤露光方法が提供される。
【００１５】
本発明が適用される原盤露光方法においては、所定の露光信号に従ったレーザビームを照射してプリピット部分を露光するとともに、プリピット部分のトラック方向の先端部又は後端部を、レーザビームと共にレーザビームに同期させた他のレーザビームを用いて露光することを特徴とすれば、プリピット部分のトラック方向の端部が矩形状に露光され、全体として矩形状のプリピットが形成された情報記録媒体用の原盤を製造することができる。
【００１６】
この場合、プリピット部分を露光するレーザビームが第１のレーザビームであり、レーザビームと共にプリピット部分のトラック方向の先端部又は後端部を露光する他のレーザビームが、第１のレーザビームの両側に配置された第２及び第３のレーザビームであり、合計３本のレーザビームを用いてプリピット部分の端部を照射することが好ましい。
また、他のレーザビームの強度が、レーザビームの強度の５０％以下とすることにより、プリピットの端部の形状を、効率よく矩形状にすることができる。
【００１７】
さらに、本発明が適用される原盤露光方法において、フォトレジスト層のプリピット部分が形成されない部分に、レーザビームと逆位相の他のレーザビームを更に照射することが好ましい。このように他のレーザビームをプリピットが形成されない部分に照射することにより、カッティングしようとするプリピット部分の周囲における他のプリピットの配列状態に応じて生じるレーザビームのかぶりが均一化され、ピットサイズ及びピット形状の変動が抑制される。
この場合、他のレーザビームの強度は、プリピット部分に照射されるレーザビームの強度の１０％以下であることが好ましく、現像処理によってフォトレジスト層が消失することがない。尚、所定の基板表面に塗布されたフォトレジスト層は、ポジ型フォトレジストから構成されることが好ましい。
【００１８】
次に、本発明によれば、原板表面に塗布されたフォトレジスト層に所定の露光パターンを形成する光学露光装置であって、露光パターンにおけるプリピット部分のトラック方向の端部に、所定の露光信号に同期させた複数のレーザビームを同時に照射するレーザ照射手段と、原板とレーザビームとの相対的位置を変動させる変動手段と、を有することを特徴とする光学露光装置が提供される。
【００１９】
本発明が適用される光学露光装置におけるレーザ照射手段は、レーザ光源より出射されたレーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分割するビーム分割手段と、第２のレーザビームをπの光路差を有する２本のレーザビームにさらに分割する位相シフトマスクと、を備えることが好ましい。このようなビーム分割手段を備えることにより、１台のレーザ発光装置により、複数のレーザビームを生成することができ、装置の小型化を図ることができる。
【００２０】
一方、本発明は、プリピットを有する情報記録媒体用原盤を形成する原盤形成工程と、形成された情報記録媒体用原盤のプリピットの形状を転写した金属スタンパを形成するスタンパ形成工程と、を有し、原盤形成工程が、原板表面に塗布されたフォトレジスト層に所定の露光信号に従った第１のレーザビームを用いてプリピット部分を露光するとともに、第１のレーザビームに同期させた第２及び第３のレーザビームを用いてプリピット部分の先端と後端とを露光することを特徴とする情報記録媒体の製造方法として把握することができる。
【００２１】
また、本発明によれば、情報記録媒体用原盤のフォトレジスト層に形成されたプリピットの形状を転写した情報記録媒体用スタンパであって、最短マークのプリピットの幅（Ｗ）と、最短マークのプリピットのトラック方向の端部の曲率半径（Ｒ）とが、下記式（１）で表される関係を有することを特徴とする情報記録媒体用スタンパが提供される。
Ｒ＜（Ｗ／２）      （１）
本発明が適用される情報記録媒体用スタンパを用いて、例えば、射出成形等の方法によりプリピットの形状の変動が抑制された情報記録媒体用基板を成形することができる。
【００２２】
さらに、本発明によれば、スパイラル状又は同心円状に形成されたトラックに所定の大きさのプリピットが形成された基板を有し、プリピットは、最短マークのプリピットの幅（Ｗ）とトラック方向の端部の曲率半径（Ｒ）とが、下記式（１）で表される関係を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
Ｒ＜（Ｗ／２）      （１）
本発明が適用される情報記録媒体は、上記の式（１）の関係を有し、端部が矩形状に形成されたプリピットを有する基板を備えることにより、最短マークのプリピットに基づく再生信号のジッターが１０％以下に低減される。
【発明の効果】
【００２３】
かくして本発明によれば、情報記録媒体用原盤の製造方法が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
次に、本発明を実施するための最良の形態（以下、実施の形態）について、図面に基づき詳述する。
図１は、本実施の形態が適用される光学露光装置を説明する図である。図１（ａ）は、光学露光装置の光学系であり、図１（ｂ）は、光学系とフォトレジスト層を塗布した原板との相対位置を変動させる変動手段である。図１（ａ）に示された光学露光装置１００は、フォトレジスト層（図示せず）を有する原板１を回転駆動するターンテーブル２と、所定の位置に固定された固定光学系３と、ターンテーブル２と固定光学系３との間に配置された移動光学系４とから構成されている。
【００２５】
固定光学系３上には、レーザ光源１１と、レーザ光源１１から出射されたレーザビーム１２の光路を変更する第１のミラー１３と、レーザビーム１２中に含まれるノイズを除去するノイズイータ１４と、レーザビーム１２を２分割する第１のビーム分割手段としてのハーフミラー１５と、ハーフミラー１５によって分割された第１のレーザビーム１６を原板１にカッティングしようとするピット列の露光信号にしたがって強度変調する第１の光変調器としての第１の音響光学効果光変調器１７（ＡＯＭ１）と、第１の音響光学効果光変調器１７（ＡＯＭ１）への第１のレーザビーム１６の入射角度を制御する第１のレンズ１８と、第１の音響光学効果光変調器１７（ＡＯＭ１）を通過した第１のレーザビーム１６の光路を調整する第２のレンズ１９と、ハーフミラー１５によって分割された第２のレーザビーム２０を、露光信号にしたがって強度変調する第２の光変調器としての第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）と、第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）への第２のレーザビーム２０の入射角度を制御する第３のレンズ２２と、第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）を通過した第２のレーザビーム２０の光路を調整する第４のレンズ２３と、第４のレンズ２３を通過した第２のレーザビーム２０の偏光軸を９０度傾ける１／２波長板２４（λ／２板）と、第１のレーザビーム１６の光路を移動光学系４側に変更する第２のミラー２５と、第２のレーザビーム２０の光路を移動光学系４側に変更する第３のミラー２６とからなる固定光学系が搭載される。また、第１の光変調器としての第１の音響光学効果光変調器１７（ＡＯＭ１）及び第２の光変調器としての第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）を、ピット列の露光信号に従い制御する制御部２７を有している。
【００２６】
移動光学系４上には、第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）によって強度変調された第２のレーザビーム２０を更に２本の分割ビーム３３に分割する第２のビーム分割手段としての位相シフトマスク３２と、位相シフトマスク３２にて得られた分割ビーム３３の光路を変更する集光位置調整器としての第４のミラー３４と、第１の音響光学効果光変調器１７（ＡＯＭ１）によって強度変調された第１のレーザビーム１６と第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）によって強度変調された分割ビーム３３とを合成する偏光ビームスプリッタ３５と、合成されたレーザビーム３６を原板１のフォトレジスト層に集光する対物レンズ３７と、対物レンズ３７のデフォーカスを検出するフォーカス検出器３８と、原板１からの反射光を選択的にフォーカス検出器３８に導くダイクロックミラー３９とからなる移動光学系が搭載される。
【００２７】
図１（ｂ）は、光学露光装置１００と原板１との相対位置を変動させる変動手段を説明する図である。前述したように、ターンテーブル２上の原板１からの反射光は、ダイクロックミラー３９を介してフォーカス検出器３８に導かれ、対物レンズ３７のデフォーカスが検出される。位相シフトマスク３２を搭載した移動光学系４は、所定のキャリッジ（図示せず）により、対物レンズ３７を原板１の半径方向に移送するように所定の範囲で往復駆動され、原板１と対物レンズ３７との相対位置の変動が行われる。
【００２８】
原板１は、例えば、ガラス板等により形成された平滑なディスク状基板の表面に、均一厚さのフォトレジスト層が形成されている。ターンテーブル２は、原板１を着脱可能に装着し、装着された原板１を所要の回転駆動方式で回転駆動する。原板１の回転駆動方式には、ＣＡＶ方式、ＺＣＡＶ方式又はＣＬＶ方式があり、製造される光ディスクの回転駆動方式に応じて選択される。原板１の表面には、ポジ型のフォトレジスト層が塗布されている。
【００２９】
図２は、位相シフトマスク３２を説明する図である。図２に示すように、位相シフトマスク３２は、石英ガラス製の光透過性光学素子であって、円盤状の基盤表面の中央部には、入射するレーザビームを、πの光路差を有する２本の分割ビーム３３に分割する段差（２１４ｎｍ）が形成されている。
【００３０】
図３は、位相シフトマスク３２を透過したレーザビームの強度分布を説明する図である。図３（ａ）は、位相シフトマスク３２前のレーザビームの強度分布であり、図３（ｂ）は、位相シフトマスク３２を透過した後、対物レンズ３７により集光されたレーザビームの強度分布である。図３（ａ）及び図３（ｂ）中の横軸は、レーザビームの中心からの半径位置（ｎｍ）を示し、縦軸は、相対強度を示す。図３（ａ）に示すように、位相シフトマスク３２を透過する前のレーザビームの強度分布は、Ｘ方向の断面とこれに垂直なＹ方向の断面とにおいて、両者共にレーザビームの中心に相対強度の最大値を有している。次に、図３（ｂ）に示すように、位相シフトマスク３２を透過したレーザビームは、Ｘ方向の断面において、ビーム間隔が２２０ｎｍ〜２４０ｎｍを有する２本の分割ビームに分割され、πの光路差を有することにより、Ｙ方向の断面の相対強度が０になる。このように、第２のビーム分割手段として位相シフトマスク３２を備えることにより、２本のレーザビームの間隔を狭くすることができ、高密度化した情報記録媒体の狭小化したトラックに形成するプリピットのピット長及びスペース長をより厳密に制御することができる。
【００３１】
次に、図１に示す光学露光装置１００の作用について説明する。
図１に示すように、レーザ光源１１から発振された波長２５７ｎｍのレーザビーム１２は、ノイズイータ１４を透過してノイズが取り除かれ、ハーフミラー１５により第１のレーザビーム１６と第２のレーザビーム２０とに光路が２つに分割される。第１のレーザビーム１６には第１の音響光学効果光変調器１７（ＡＯＭ１）により露光信号を付与される。また、第２のレーザビーム２０には第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）により信号が付与される。第２のレーザビーム２０に付与される信号は、露光信号がＯＦＦの場合（即ち、プリピットが形成されない）にはＯＮになるように逆の信号が付与される。また、後述するように、プリピットを形成する場合は、プリピットの先端及び後端において、所定時間、露光信号と同期させたＯＮの信号が付与され、プリピットの中間部分においては、ＯＦＦになるように逆の信号が付与される。
【００３２】
また、第１のレンズ１８に、第１の音響光学効果光変調器１７（ＡＯＭ１）における粗密進行波の進行方向に関して前向きに第１のレーザビーム１６が入射し、第３のレンズ２２は、第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）における粗密進行波の進行方向に関して後向きに第２のレーザビーム２０が入射する。これにより、第１の音響光学効果光変調器１７（ＡＯＭ１）によって回折される第１のレーザビーム１６の周波数と第２の音響光学効果光変調器２１（ＡＯＭ２）によって回折される第２のレーザビーム２０の周波数とがドップラーシフトでそれぞれ逆方向にシフトし、周波数差が大きくなるように構成されている。プリピットが形成されない場合は、２本のレーザビーム（第１のレーザビーム１６、第２のレーザビーム２０）の信号が重ならないように遅延回路及び削り回路により調整する。また、露光信号と逆の信号を有する第２のレーザビーム２０の強度は、現像後のレジストが底切りにならない程度に強度を減衰させる。さらに、露光信号と同期させる第２のレーザビーム２０の強度は、露光信号と逆の信号を有する場合と比較して強度を増大させる。
【００３３】
次に、露光信号と逆の信号が付与された第２のレーザビーム２０を１／２波長板２４（λ／２板）により偏光を９０°傾斜させ、次いで、石英ガラス製の位相シフトマスク３２により、２本の分割ビーム３３に更に分割する。続いて、第１のレーザビーム１６と、２本の分割ビーム３３に分割された第２のレーザビーム２０とを、偏光ビームスプリッタ３５により合流し、合成されたレーザビーム３６は、対物レンズ３７（Ｎａ＝０．９）を通して原板１上に集光される。露光信号を有する第１のレーザビーム１６は、原板１にカッティングされるピット列に照射され、第２のレーザビーム２０は、第１のレーザビーム１６の照射位置（第１のレーザスポット）の両側部分に照射される（第２のレーザスポット及び第３のレーザスポット）。
【００３４】
このとき、プリピットの非形成部における露光量を均一化するため、対物レンズ３７を介して原板１上に形成される第２のレーザスポットと第３のレーザスポットとの照射間隔は、位相シフトマスク３２を用いることにより、原板１にカッティングされるピット列のピッチよりも狭くなるように調整される。具体的には、例えば、ピット列のピッチが３２０ｎｍの場合、第２のレーザスポットと第３のレーザスポットとの照射間隔は、２２０〜２４０ｎｍである。また、第２のレーザスポット及び第３のレーザスポットの原板１上における照射位置は、ピット列を形成する第１のレーザスポットからそれぞれ等距離の位置に配置される。
【００３５】
次に、図１に示す光学露光装置１００を用いて、原板１に塗布されたフォトレジスト層に矩形上のプリピットを形成する露光方法を説明する。
図４は、光学露光装置１００により照射されたレーザビームの露光波形とフォトレジスト層の露光状態を説明する図である。図４（ａ）は、原板１に塗布されたフォトレジスト層の露光状態であり、図４（ｂ）は、ビットデータであり、図４（ｃ）は、プリピット部１０２を形成するレーザビーム（ビーム１）の露光波形であり、図４（ｄ）は、プリピット部１０２の内周側及び外周側を照射する２本のレーザビーム（ビーム２（ビーム２−１，２−２））の露光波形である。
【００３６】
図４（ｃ）に示すビーム１は、原板１に塗布されたポジ型のフォトレジスト層に照射し、プリピット部１０２をカッティングするためのレーザビームを生成する露光信号であり、図４（ｄ）に示すビーム２（ビーム２−１，２−２）は、ビーム１と同期して、プリピット部１０２の先端露光部１０４及び後端露光部１０５を照射するレーザビームを生成する信号である。また、プリピット部１０２を形成しない場合は、ビーム２（ビーム２−１，２−２）はビーム１と逆位相のレーザビームを生成する信号である。
【００３７】
図４（ｃ）及び図４（ｄ）に示すように、各プリピット部１０２の先端露光部１０４及び後端露光部１０５において、ビーム１のレーザビームと同期してビーム２（ビーム２−１，２−２）のレーザビームが低強度で照射される。その結果、図４（ａ）に示すように、先端露光部１０４及び後端露光部１０５のフォトレジスト層が露光され（濃い網掛けで示す部分）、矩形状のプリピットが形成される。このとき、プリピット部１０２の原板１の半径方向の幅（Ｗ）とプリピット部１０２の先端露光部１０４及び後端露光部１０５の曲率半径（Ｒ）とは、下記式（１）で表される関係を有している。
Ｒ＜（Ｗ／２）      （１）
【００３８】
即ち、各プリピットの先端及び後端において、露光信号を有するビーム１のレーザビームと、これに同期させたビーム２の２本のレーザビームとの合計３本のレーザビームを、所定時間、同時に照射することにより、従来の方式と比較して、プリピットの形状を矩形状にすることができる。さらに、本実施の形態が適用される方法によれば、最短マーク（２Ｔ）のプリピットを矩形状に形成することが可能となり、特に２Ｔマークに基づく再生信号のジッターを低減することができる。
尚、この場合、図４（ｄ）に示すように、プリピットの先端及び後端において照射されるビーム２の幅Ｌ２は（Ｌ２＝１Ｔ）となるように調整され、（３／５）Ｔピットと重なるように露光する。また、この場合、プリピットの先端及び後端に露光するレーザ強度は露光信号用のレーザビームであるビーム１の（１／３）程度に調整されている。
【００３９】
次に、図４（ｃ）及び図４（ｄ）に示すように、プリピットを形成しない場合は（ビーム１の露光信号がＯＦＦ）、ビーム１の露光信号と逆位相の信号を有するビーム２がＯＮになり、ビーム１の露光信号が出ていない間、隣接トラックとの間を露光する（薄い網掛けで示す部分（低露光部１０３））。この場合、ビーム２のレーザビームの強度は、露光信号用のビーム１のレーザビーム強度の８％程度である。
即ち、プリピットを形成しない場合、２個のレーザビーム（ビーム２）を、ピット列の露光信号にしたがい強度変調されたレーザビーム（ビーム１）の内周側及び外周側に照射することにより、カッティングしようとするプリピットの周囲における他のプリピットの配列状態に応じてランド部に対するレーザビームのかぶりを均一化する。このため、ピットサイズ及びピット形状の変動が抑制され、再生信号のジッターがさらに低減する。
【００４０】
図５は、本実施の形態が適用される方法によりカッティングされたピットデータのピット長の長さ分散を説明する図である。図５は、横軸がピット長（Ｐｉｔ  Ｌｅｎｇｔｈ）であり、縦軸がピット幅（Ｗｉｄｔｈ）である。即ち、図５に示すように、２Ｔマーク〜８Ｔマークのピット幅（Ｗｉｄｔｈ）が略均一であり、ピット形状の変動が大幅に抑制されていることが分かる。特に最短ピット（２Ｔ）におけるピット幅の減少が抑制され、ピット形状の変動が低減されている。
即ち、後述する方法により、原板１に基づき作製した光ディスクは、矩形状のプリピットの再生信号波形の立ち上がりが急峻であり、ジッターが７％程度に低減している。
【００４１】
図６は、光ディスク用原盤の表面形状を説明する図である。図６には、露光されたレジストをフォトマスクとしてＲＩＥ（反応性イオンエッチング）により形成した光ディスク用原盤のＡＦＭ像が示されている。長手方向が光ディスク用原盤のトラック方向を表す。図６に示すように、光学露光装置１００を用いることにより、光ディスク用原盤の表面には、矩形状のプリピットが形成されることが分かる。
【００４２】
次に、光学露光装置１００を用いてレーザ光が照射された原板１から光ディスク用原盤を調製する方法について説明する。
初めに、フォトレジスト薄膜を塗布した原板１の作製方法について説明する。
原板１の基板としては、例えば、シリコンウェハー、石英ガラス、ソーダガラス、表面に導電層を形成した石英ガラス、表面に導電層を形成したソーダガラス等が挙げられ、特に限定されない。
【００４３】
フォトレジストとしては、レーザ光の照射により極性が変化し、現像によりパターンが形成できるものであれば、特に限定はされない。通常、クレゾールノボラック樹脂とナフトキノンジアジドと混合系、ポリヒドロキシスチレン誘導体と光酸発生剤との混合系等のポジ型フォトレジスト等が挙げられる。中でも、露光開始時点と露光終了時点とにおける現像後に形成されるプリピットの大きさが、より均一であることから、クレゾールノボラック樹脂とナフトキノンジアジドとの混合系が特に望ましい。
【００４４】
上述したフォトレジストを基板上にスピンコートし、加熱処理を行って余剰の溶剤を除去し、基板表面にフォトレジスト薄膜が塗布された原板１を得る。続いて、所定の条件で露光ビームを照射し、極性変化の生じた露光ビーム照射領域をアルカリ現像液で溶解し、レジストパターンが形成された原板１を得る。現像液としては、極性変化の生じたフォトレジスト薄膜を溶解できるものであれば特に限定されないが、例えば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液、水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液、燐酸緩衝液、及びこれらの混合物が挙げられる。これらの中でも、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液が、現像後のフォトレジストの側壁角が急峻であり、好適である。
【００４５】
続いて、原板１を反応性イオンエッチング処理後、基板表面に残ったフォトレジストを除去し、光ディスク用原盤が完成する。フォトレジストの除去方法は、光ディスク用原盤に転写した形状を劣化させないものであれば特に限定されない。具体的には、酸素プラズマアッシング、有機溶剤による溶解、アルカリ水溶液による溶解等をが挙げられ、中でも、レジスト残渣が少ないアルカリ水溶液による溶解が特に好適である。
【００４６】
さらに、このように調製した光ディスク用原盤を用いて以下のように情報記録媒体を調製する。フォトレジストパターンを転写した光ディスク用原盤表面に導電膜を形成し、ニッケル電気めっきを行い、フォトレジストパターンを形成した光ディスク用原盤より剥離することによって情報記録媒体用スタンパが得られる。
【００４７】
また、フォトレジストパターンをエッチングマスクとして、反応性イオンエッチングによりフォトレジストパターンを原板１に転写し、この表面に導電膜を形成し、ニッケル電気めっきを行い、フォトレジストパターンを形成した光ディスク用原盤より剥離することによって光ディスク用スタンパが得ることもできる。このような方法によれば、再生信号のノイズがより低い情報記録媒体を調製することができる。
反応性イオンエッチングに用いる気体は、フォトレジストのエッチング速度に対する基板のエッチング速度、即ちエッチング選択比が１．０以上であれば特に限定されないが、例えば、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６等の炭化フッ素ガスは、エッチング選択比が大きく好適である。中でも、Ｃ２Ｆ６はエッチング速度の面内均一性が良好となり特に好適である。
【００４８】
更に、情報記録媒体用スタンパを用いて、２Ｐ法、射出成型法等により、フォトレジストパターンを表面に形成した基板を得、これに金属反射膜を形成し、保護コート膜を形成することにより情報記録媒体を作成する。このように作成される情報記録媒体は、プリピットの形状が矩形状であり、且つ、隣接するトラックのかぶり光の影響によるピット形状の変形が軽減され、再生信号に基づくジッターが大幅に低減される。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本実施の形態が適用される光学露光装置を説明する図である。図１（ａ）は、光学露光装置の光学系であり、図１（ｂ）は、光学系とフォトレジスト層を塗布した原板との相対位置を変動させる変動手段である。
【図２】位相シフトマスクを説明する図である。
【図３】位相シフトマスクを透過したレーザビームの強度分布を説明する図である。図３（ａ）は、位相シフトマスクを透過する前のレーザビームの強度分布であり、図３（ｂ）は、位相シフトマスクを透過したレーザビームの強度分布である。
【図４】光学露光装置により照射されたレーザビームの露光波形とフォトレジスト層の露光状態を説明する図である。図４（ａ）は、原板に塗布されたフォトレジスト層の露光状態であり、図４（ｂ）は、ビットデータであり、図４（ｃ）は、プリピットを形成するレーザビーム（ビーム１）の露光波形であり、図４（ｄ）は、プリピットの内周側及び外周側を照射する２本のレーザビーム（ビーム２）の露光波形である。
【図５】本実施の形態が適用される方法によりカッティングされたピットデータのピット長の長さ分散を説明する図である。
【図６】光ディスク用原盤の表面形状を説明する図である。
【図７】従来の露光方式を説明する図である。図７（ａ）は、フォトレジスト層の露光状態であり、図７（ｂ）は、ビットデータであり、図７（ｃ）は、プリピットを形成するレーザビームの露光波形であり、図７（ｄ）は、プリピットの内周側及び外周側を照射する２個のレーザビームの露光波形である。
【図８】従来の方式でカッティングされたピットデータのピット長の長さ分散を説明する図である。
【符号の説明】
【００５０】
１…原板、２…ターンテーブル、３…固定光学系、４移動光学系、１１…レーザ光源、１２…レーザビーム、１３…第１のミラー、１４…ノイズイータ、１５…ハーフミラー、１６…第１のレーザビーム、１７…第１の音響光学効果光変調器、１８…第１のレンズ、１９…第２のレンズ、２０…第２のレーザビーム、２１…第２の音響光学効果光変調器、２２…第３のレンズ、２３…第４のレンズ、２４…１／２波長板、２５…第２のミラー、２６…第３のミラー、２７…制御部、３２…位相シフトマスク、３３…分割ビーム、３４…第４のミラー、３５…偏光ビームスプリッタ、３６…合成されたレーザビーム、３７…対物レンズ、３８…フォーカス検出器、３９…ダイクロックミラー、１００…光学露光装置、１０２，７０２…プリピット部、１０３，７０３…低露光部、１０４…先端露光部、１０５…後端露光部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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