(57)【要約】      （修正有）【課題】  塗膜の厚みムラが少ないディスク状基板への塗膜形成方法。【解決手段】  ディスク状基板を回転させるとともに、スリットを有するスリットダイを使用して塗布液をディスク状基板表面に塗布して塗膜を形成する方法であって、スリットからの塗布液の吐出量を、ディスク状基板の周速度に比例し、かつ次の条件式（１）を満足するように増加させる塗膜形成方法、及び基板の一方の面側にレーザー光の照射により少なくとも情報の再生が可能な情報領域を有し、他方の面側にプリンタブル層を有する光ディスクの製造方法であって、プリンタブル層の形成において、基板を回転させるとともに、スリットを有するスリットダイを使用して塗布液を基板表面に塗布する工程を有し、スリットからの塗布液の吐出量を、基板の周速度に比例し、かつ次の条件式（１）を満足するように増加させる光ディスクの製造方法である。2006244565.tif 000012【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク状基板を回転させるとともに、スリットを有するスリットダイを使用して塗布液を前記ディスク状基板表面に塗布して塗膜を形成するディスク状基板への塗膜形成方法であって、
前記スリットから吐出する塗布液の吐出幅方向における吐出量の勾配を、前記ディスク状基板の外周に向かって周速に比例して増加させるとともに、次の条件式（１）を満足させるように塗布することを特徴とするディスク状基板への塗膜形成方法。
【数１】
2006244565.tif 000010
［条件式（１）中、（ｄＱ／ｄｒ）outは、塗布最外周での吐出量勾配を示し、（ｄＱ／ｄｒ）inは塗布最内周での吐出量勾配を示し、Ｒoutは塗布最外周の半径を示し、Ｒinは塗布最内周の半径を示す。］
【請求項２】
前記スリットからの吐出量の時間変動を３０％以下とすることを特徴とする請求項１に記載のディスク状基板への塗膜形成方法。
【請求項３】
前記スリットダイの先端と前記ディスク状基板表面との間隔を、形成しようとする塗膜のウェット厚みの１．５〜２．５倍に設定し、かつ該間隔の一周内及び半径方向での分布を１０％以下とすることを特徴とする請求項１または２に記載のディスク状基板への塗膜形成方法。
【請求項４】
前記ディスク状基板の角速度の時間的変化を３０％以下とすることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のディスク状基板への塗膜形成方法。
【請求項５】
前記スリットダイによる塗布開始部と塗布終端部の、周方向における重なり長さを、全周の０〜１０％とすることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のディスク状基板への塗膜形成方法。
【請求項６】
前記塗布液の主溶媒の沸点が９０℃以上であること、前記塗布液の固形分濃度が５質量％以上であること、及び塗膜の厚みがウェット厚で５０μｍ以上であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のディスク状基板への塗膜形成方法。
【請求項７】
基板の一方の面側にレーザー光の照射により少なくとも情報の再生が可能な情報領域を有し、他方の面側にプリンタブル層を有する光ディスクの製造方法であって、
前記プリンタブル層の形成において、基板を回転させるとともに、スリットを有するスリットダイを使用して塗布液を前記基板表面に塗布して塗膜を形成する工程を有し、
前記スリットから吐出する塗布液の吐出幅方向における吐出量の勾配を、前記基板の外周に向かって周速に比例して増加させるとともに、次の条件式（１）を満足させるように塗布することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【数２】
2006244565.tif 000011
［条件式（１）中、（ｄＱ／ｄｒ）outは、塗布最外周での吐出量勾配を示し、（ｄＱ／ｄｒ）inは塗布最内周での吐出量勾配を示し、Ｒoutは塗布最外周の半径を示し、Ｒinは塗布最内周の半径を示す。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスク状基板の表面に塗膜を形成する塗膜形成方法、及び光ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスク状基板への塗膜の形成手法として、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法などのドライプロセスを用いた方法や、顔料を溶媒中に分散させた塗布液や電子線硬化樹脂やＵＶ硬化樹脂を含有する塗布液を塗布手段を用いて塗布した後、乾燥、電子線照射、ＵＶ照射を行いと塗膜を固化させるウェットプロセスが知られている。
【０００３】
ウェットプロセスにおいて、ディスク基板上へ塗布液を塗布する方法として、スピンコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スタンプ法、インクジェット塗布法、ダイコート法などがあるが、近年、塗布後の処理が簡便であることなどからダイコート法が注目を浴びている。ダイコート法では、ディスク状基板の上方にダイのスリットがディスク状基板の径方向に延びるように配置し、スリット先端部をディスク状基板に近接するとともにディスク状基板を回転させた状態でスリットから帯状に吐出させた塗布液をディスク状基板に塗布して塗膜を形成する。ところが、ダイコート法では、以下の場合に塗布厚みムラが発生したり、スリットダイの塗布上流部に形成されるビート部（液だまり部）で横流れが発生し塗布幅が大きく変わったりする。１）スリットから吐出される塗布液の塗布幅方向の吐出量分布が適切でない場合、２）スリットから吐出される吐出量が時間的に変動した場合、３）スリットの先端部とディスク状基板との距離が変動した場合、４）ディスク状基板の回転ムラがあった場合、５）塗布液の塗布開始部と塗布終端部が重なった場合、である。
【０００４】
一方、広く市場に受け入れられている光ディスクの規格として、ＣＤ（コンパクトディスク）とＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）などの光ディスクがある。
ＣＤとしては、読み出し専用のＣＤ−ＲＯＭ、１回限り情報の記録が可能な追記型のＣＤ−Ｒ、何回でも情報の記録が書き換えられる書き換え可能型のＣＤ−ＲＷがある。
ＣＤ−ＲＯＭは、例えば、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの透明基板に１．６μｍのトラックピッチでピット列が形成され、約６５０Ｍバイトの記録容量を有しており、線速度を１．２〜１．４ｍ／ｓで一定とし波長７７０〜７９０ｎｍのレーザー光を照射して情報を再生する。
【０００５】
一方、ＤＶＤもＣＤの場合と同様に、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷがある。
ＤＶＤ−ＲＯＭは記録密度がＣＤの約６〜８倍で、構成としては厚さ０．６ｍｍ程度の２枚の基板を貼り合わせた構成等があり、０．７４μｍのトラックピッチでピットが形成され、線速度を３．５ｍ／ｓ程度で一定とし波長６３５〜６５０ｎｍのレーザー光を照射して情報を再生する。
【０００６】
近年、このようなＣＤやＤＶＤにおいて、情報の再生面とは反対側の面に、インクジェットプリンターで画像の印画ができるようにプリンタブル層が形成された光ディスクが開発されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００７】
このような光ディスクのプリンタブル層の形成において、該プリンタブル層の形成用の塗布液の塗布はダイコートにより行うことができる。ダイコート法をこのような光ディスクの製造に適用した場合、上述のような塗膜の膜厚にムラが発生すると、インクジェットプリンターで印字した際の画質が低下する問題が発生する。良好な画質が得られる塗布厚みムラの許容値はおよそ３０％であることが分かっている。
【特許文献１】特開２００２−２４５６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前述の従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、塗膜の厚みムラが少ないディスク状基板への塗膜形成方法、及びプリンタブル層を有する光ディスクのプリンタブル層の厚みムラが少ない光ディスクの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  ディスク状基板を回転させるとともに、スリットを有するスリットダイを使用して塗布液を前記ディスク状基板表面に塗布して塗膜を形成するディスク状基板への塗膜形成方法であって、前記スリットから吐出する塗布液の吐出幅方向における吐出量の勾配を、前記ディスク状基板の外周に向かって周速に比例して増加させるとともに、次の条件式（１）を満足させるように塗布することを特徴とするディスク状基板への塗膜形成方法である。
【００１０】
【数１】
2006244565.tif 000002
［条件式（１）中、（ｄＱ／ｄｒ）outは、塗布最外周での吐出量勾配を示し、（ｄＱ／ｄｒ）inは塗布最内周での吐出量勾配を示し、Ｒoutは塗布最外周の半径を示し、Ｒinは塗布最内周の半径を示す。］
【００１１】
＜２＞  前記スリットからの吐出量の時間変動を３０％以下とすることを特徴とする前記＜１＞に記載のディスク状基板への塗膜形成方法である。
【００１２】
＜３＞  前記スリットダイの先端と前記ディスク状基板表面との間隔を、形成しようとする塗膜のウェット厚みの１．５〜２．５倍に設定し、かつ該間隔の一周内及び半径方向での分布を１０％以下とすることを特徴とする前記＜１＞または＜２＞に記載のディスク状基板への塗膜形成方法である。
【００１３】
＜４＞  前記ディスク状基板の角速度の時間的変化を３０％以下とすることを特徴とする前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のディスク状基板への塗膜形成方法である。
【００１４】
＜５＞  前記スリットダイによる塗布開始部と塗布終端部の、周方向における重なり長さを、全周の０〜１０％とすることを特徴とする前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のディスク状基板への塗膜形成方法である。
【００１５】
＜６＞  前記塗布液の主溶媒の沸点が９０℃以上であること、前記塗布液の固形分濃度が５質量％以上であること、及び塗膜の厚みがウェット厚で５０μｍ以上であることを特徴とする前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のディスク状基板への塗膜形成方法である。
【００１６】
＜７＞  基板の一方の面側にレーザー光の照射により少なくとも情報の再生が可能な情報領域を有し、他方の面側にプリンタブル層を有する光ディスクの製造方法であって、前記プリンタブル層の形成において、基板を回転させるとともに、スリットを有するスリットダイを使用して塗布液を前記基板表面に塗布して塗膜を形成する工程を有し、前記スリットから吐出する塗布液の吐出幅方向における吐出量の勾配を、前記基板の外周に向かって周速に比例して増加させるとともに、次の条件式（１）を満足させるように塗布することを特徴とする光ディスクの製造方法である。
【００１７】
【数２】
2006244565.tif 000003
［条件式（１）中、（ｄＱ／ｄｒ）outは、塗布最外周での吐出量勾配を示し、（ｄＱ／ｄｒ）inは塗布最内周での吐出量勾配を示し、Ｒoutは塗布最外周の半径を示し、Ｒinは塗布最内周の半径を示す。］
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、塗膜の厚みムラが少ないディスク状基板への塗膜形成方法、及びプリンタブル層を有する光ディスクのプリンタブル層の厚みムラが少ない光ディスクの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
＜ディスク状基板への塗膜形成方法＞
本発明のディスク状基板への塗膜形成方法（以下、単に「塗膜形成方法」と呼ぶ場合がある。）は、ディスク状基板を回転させるとともに、スリットを有するスリットダイを使用して塗布液を前記ディスク状基板表面に塗布して塗膜を形成するディスク状基板への塗膜形成方法であって、前記スリットから吐出する塗布液の吐出幅方向における吐出量の勾配を、前記ディスク状基板の外周に向かって周速に比例して増加させるとともに、次の条件式（１）を満足させるように塗布することを特徴としている。
【００２０】
【数３】
2006244565.tif 000004
［条件式（１）中、（ｄＱ／ｄｒ）outは、塗布最外周での吐出量勾配を示し、（ｄＱ／ｄｒ）inは塗布最内周での吐出量勾配を示し、Ｒoutは塗布最外周の半径を示し、Ｒinは塗布最内周の半径を示す。］
【００２１】
一般に直線的に搬送される基板にダイコートで塗布する場合、スリットから吐出される塗布液の吐出量分布が均一になるようなダイ設計を行う。ところが、回転するディスク状基板にダイコートする場合には、ディスクの半径方向の周速が半径ｒに従い増大する。つまり、前述の通り、スリットダイを使用したディスク状基板への塗布は、ディスク状基板を回転させた場合、周速度は内周よりも外周の方が速いため、径方向において同一の量を塗布するスリットダイでは、内周よりも外周の方が膜厚が薄くなる傾向にあり、ムラが発生する。従って、吐出量分布も半径ｒに比例して吐出する必要がある。そこで、本発明においては、周速度に比例して塗布量を増加させることにより、径方向の塗膜の膜厚のムラを抑制することができる。
【００２２】
本発明のディスク状基板への塗膜形成方法において、ディスク状基板としては、光ディスク、光磁気ディスク、その他塗布する面形状が円形で平らな基板等が挙げられる。
【００２３】
スリットダイは、ダイ内に供給された塗布液を塗布幅方向に整流するマニホールド部と吐出方向に整流するスリットとを有する。図１、図２にスリットダイを概念的に示す。図１は、ディスク状基板の最内周半径ｒ1から最外周半径ｒ2までの範囲に、スリットダイを用いて塗布液を塗布する様相を示す概念図であり、図２は、スリットダイの内部を概念的に示す図である。図２に示すスリットダイ１４は、側面に流入部を有するマニホールド部１４Ａと、マニホールド部１４Ａに連通するスリット部１４Ｂとを有し、塗布液はマニホールド部１４Ａの側面から流入し、マニホールド部１４Ａを通過し、スリット部１４Ｂに流入し、スリット部１４Ｂから吐出される。
【００２４】
以下に図面を参照しながら、スリットダイの側面から給液した場合の吐出量分布について説明する。ダイ側面から入った塗布液はマニホールド部を通ってスリット部に流入する。塗布する最内周半径ｒ1、最外周半径ｒ2とすると、ｒ1部分に吐出する吐出量Ｑr1はマニホールドで部の抵抗係数Ｒm1とスリット部での抵抗係数ＲS1を用いて概略Ｑr1＝Ｐ／（Ｒm1＋Ｒs1）である。同様にｒ2部分に吐出する吐出量Ｑr2は、Ｑr2＝Ｐ／（Ｒr2＋Ｒs2）である。ここで、Ｐはマニホールド部入り口の圧力である。
【００２５】
ここで、マニホールド部での流動係数Ｒmはマニホールド部の断面形状が円形の場合その半径をａ、塗布液粘度をηとすると、Ｒm＝８η／（πａ4）で表され、スリット部での抵抗係数Ｒsは、スリットギャップｄとするとＲs＝１２η／ｄ3で表される。
マニホールド形状が円形でない場合やスリットダイの側面から給液しない場合は計算が複雑になる。マニホールド部とスリット部での抵抗係数比Ｒm／Ｒsが非常に大きい場合には吐出量分布はマニホールド部の抵抗係数を受けやすくなり、小さい場合にはスリット部での抵抗係数の影響を受けやすくなる。
【００２６】
ディスク状基板の外周に向かって吐出量分布を増大させる場合、マニホールド形状で分布をつけようとするとスリットギャップに比べ非常に小さい径ａを選定し、かつマニホールドの長さ方向に径を増大させてゆく必要があり加工上非常に困難である。このため、抵抗係数比を小さくしスリットギャップをマニホールドの長さ方向に増大する方が加工上有利である。マニホールドの影響を１％以下にするためにはＲm／Ｒsを０．０１以下にする必要がある。
【００２７】
スリットのような平板流れの場合、スリット内部での液流速ｕ（ｘ）はニュートン流体では次式（１）で表される２次曲線になる。当該２次曲線のグラフを図３に示す。
ｕ（ｘ）＝（１／２η）（ｘ2−（ｄ／２）2）・ΔＰ    …式（１）
（ΔＰはｘ方向の圧力勾配である。）
【００２８】
前記式（１）を、ｕ（ｙ）を−１／２〜１／２までｙ方向に積分し、ｚ方向のスリット長さｔを掛けた値がｘ方向の吐出量勾配ｄＱ／ｄｒとなる。すなわち、次式（２）が与えられる。
ｄＱ／ｄｒ＝（１／１２）・ｄ3／η・（Ｐ0／ｔ）  …式（２）
ここで、Ｐ0はスリット入り口とスリット出口の圧力変化であり、マニホールドでの抵抗係数がスリットでの抵抗係数に比べ非常に小さいときは一定値と考えることができる。
【００２９】
ディスクの半径方向の吐出流量勾配ｄＱ／ｄｒを周速に比例して増加させるには、次式（３）を満たす必要がある。
（ｄＱ／ｄｒ）out／（ｄＱ／ｄｒ）in＝Ｖout／Ｖin＝Ｒout／Ｒin  …式（３）
Ｖout：塗布最外周の周速
Ｖin：塗布最内周の周速
Ｒout：塗布最外周の半径
Ｒin：塗布最内周の半径
【００３０】
以上から、式（２）と式（３）とから与えられる次式（４）を満足すればよい。
（ｄout3・ｔin）／（ｄin3・ｔout）＝Ｒout／Ｒin  …（４）
ｄout：塗布最外周のスリットギャップ
ｄin：塗布最内周のスリットギャップ
ｔout：塗布最外周のスリット長さ
ｔin：塗布最内周のスリット長さ
【００３１】
前記式（４）を満足するスリットダイの形状としては、以下の１）、２）の形状が挙げられる。
１）ｒ方向のスリット長さｔを一定にして、ｄをｒの１／３乗に比例する曲線で加工する。
ｄ（ｒ）＝ｄin−（ｒ／Ｒin）1/3
２）スリットギャップｄを一定にしてｔをｒに反比例した直線とする。
ｔ（ｒ）＝ｔin・Ｒin／ｒ
【００３２】
また、１）、２）を組み合わせ、前記式（４）を満足する関係にしてもよい。さらに、１）、２）に近似した曲線を使うこともできる。例えば、（４）式を満足するｄout、ｄinを決定しスリットギャップを直線的に増加させても吐出量勾配ははずれない。
【００３３】
本発明においては、条件式（１）において、（ｄＱ／ｄｒ）out／（ｄＱ／ｄｒ）inの下限を０．９・Ｒout／Ｒinとしているが、０．９未満では、外周に比べ内周が厚塗りとなり、ひどい場合にはスジ状の未塗布部が発生してしまう。また、上限を１．１・Ｒout／Ｒinとしているが、１．１を超えると、内周に比べ外周が厚塗りとなり、ひどい場合には液が外周部に溢れ出てしまう。
【００３４】
本発明においては、前記スリットからの吐出量の時間変動は３０％以下とすることが好ましい。例えば、スリットダイの吐出精度により、吐出量に時間変動があると、塗膜のムラが発生する。そこで、吐出量の時間変動を３０％以下に抑えることにより、塗膜の膜厚のムラを抑制することができる。また、均一な塗布幅を得ることができる。
吐出量の時間変動は、２０％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、理想的には０％である。
なお、吐出量の時間変動を３０％以下とするには、ギアポンプ等の定量性の良いポンプを用いて送液することや、リニアアクチュエーターにより定速度でシリンジの押し込み量を抑制する方法が好ましい。さらに、配管途中に流量計を配し、流量をフィードバックしてポンプ送液量やシリンジ押込量を制御することが好ましい。
【００３５】
さらに、本発明においては、スリットダイの先端とディスク状基板表面との間隔を、形成しようとする塗膜のウェット厚みの１．５〜２．５倍に設定し、かつ該間隔の一周内及び半径方向での分布を１０％以下とすることが好ましい。ディスク状基板を回転させると、ディスク状基板の反りなどがあると、スリットダイの先端とディスク状基板表面との間隔は一定ではない。従って、該間隔の変化に起因する塗膜の膜厚のムラが発生する。そこで、前記間隔を形成しようとする塗膜のウェット厚みの１．５〜２．５倍に設定するとともに、該間隔の一周内及び半径方向での分布を１０％以下とすることにより膜厚のムラの発生を抑制することができる。
【００３６】
スリットダイ先端と基板表面との距離は、得ようとするウェット厚みの略２倍に設定することが好ましいが、スリットダイの先端形状や基板の移送速度、液粘度により良好に塗布できる条件が異なる。例えば、基板の移送速度が速い場合にはスリットダイの塗布上流のビードが壊れてしまいスジ状の欠陥が発生する。この場合にはダイ先端と基板との距離を小さくすることによりスジ状故障を軽減することができる。また、液粘度が低い場合には、ビード部で横流れが発生しやすく、スリットダイの先端とディスク状基板との間隔を大きくすることにより横流れを軽減することができる。以上のように、前記間隔を形成しようとする塗膜のウェット厚みの１．５〜２．５倍に設定することにより所望の厚みを容易に得ることができる。
【００３７】
より具体的には、例えば、形成しようとする塗膜のウェット厚みが２００μｍの場合、スリットダイの先端とディスク状基板表面との間隔は、形成しようとする塗膜のウェット厚みの１．５〜２．５倍の２００〜５００μｍに設定し、かつ該間隔の一周内及び半径方向での分布を１０％以下とする。
スリットダイの先端とディスク状基板表面との間隔を前記数値範囲とするには、ディスク状基板の反り量を３０μｍ以下に抑える。例えば、平面のうねりが３０μｍ以下の回転テーブルに真空吸着機構を設け、ディスク状基板を回転テーブルにならわせる方法がある。この場合、吸着面が情報記録面であるような場合、キズつき防止のため、回転テーブルを樹脂で作製するか、表面に樹脂コーティングすることが好ましい。
【００３８】
さらに、本発明においては、ディスク状基板の角速度の時間的変化を３０％以下とすることが好ましい。スリットダイを使用し回転するディスク状基板表面に塗布液を塗布する場合において、周方向における塗布量はディスク状基板の角速度に依存し変化する。従って、ディスク状基板の角速度の変化を３０％以下に抑えることにより、塗膜の膜厚のムラを抑制することができる。ディスク状基板の角速度の変化は、３０％以下とすることが好ましく、１０％以下とすることがさらに好ましく、理想的には０％である。
ディスク状基板の角速度の時間的変化を３０％以下とするには、回転駆動方式としてＡＣサーボモータやパルスモータを用いた上で、回転加速が終了してから塗布を塗布を開始すればよい。
【００３９】
さらに、本発明においては、スリットダイによる塗布開始部と塗布終端部の、周方向における重なり長さを、全周の０〜１０％とすることが好ましい。例えば、１．２周分塗布して塗膜の重なり部分が生じると塗膜の膜厚のムラとなることは自明である。従って、前記重なり長さを０〜１０％とすることにより、塗膜の膜厚のムラが許容範囲内となり、全体としてムラの発生を抑制することができる。前記重なり長さは、０〜１０％以下とすることが好ましく、０〜５％以下とすることがさらに好ましい。
前記重なり長さを０〜１０％とするには、０〜１０％に塗布が完了するように吐出時間を設定するとともに０〜１０％で回転を停止すればよい。また、０％を過ぎ吐出を停止するまでの間、徐々に吐出量を下げていくことがさらに好ましい。
【００４０】
さらに、本発明においては、１）塗布液の主溶媒の沸点が９０℃以上であること、２）塗布液の固形分濃度が５質量％以上であること、及び３）塗膜の厚みがウェット厚で５０μｍ以上であることが好ましい。ここで、前記「主溶媒」とは、塗布液中の溶媒としての性質を有する液体中７０％以上存在する液体のことを意味する。
前記１）〜３）の条件を満足することにより、塗布開始部と塗布終端部に若干の重なり部が生じ、厚みムラとなっても蒸発による粘度変化が小さくレベリングにより、塗膜の膜厚のムラを軽減することができる。
【００４１】
前記１）における溶媒としては、水や、シクロヘキサン、トルエン、酢酸などの有機溶媒などが挙げられる。該溶媒の沸点としては、９５℃以上であることがより好ましく、１００℃以上であることがさらに好ましい。沸点の上限としては、１５０℃であることが好ましい。
前記２）における塗布液の固形分濃度としては、７質量％以上であることがより好ましく、９質量％以上であることがさらに好ましい。
前記３）における塗膜の厚みはウェット厚として、１００μｍ以上であることがより好ましい。ウェット厚とは、塗布液を塗布した直後の膜厚である。
【００４２】
＜光ディスクの製造方法＞
本発明の光ディスクの製造方法は、基板の一方の面側にレーザー光の照射により少なくとも情報の再生が可能な情報領域を有し、他方の面側にプリンタブル層を有する光ディスクの製造方法であって、前記プリンタブル層の形成において、基板を回転させるとともに、スリットを有するスリットダイを使用して塗布液を前記基板表面に塗布して塗膜を形成する工程を有し、前記スリットからの塗布液の吐出量を、前記基板の周速度に比例し、かつ次の条件式（１）を満足するように増加させることを特徴としている。なお、当該本発明の光ディスクの製造方法は、既述の本発明のディスク状基板への塗膜形成方法における構成要素と同じ名称の構成要素は同じ概念であり、ディスク状基板への塗膜形成方法において説明した内容は、ディスク状基板を基板と置き換えることで、本発明の光ディスクの製造方法にそのまま妥当する。
【００４３】
本発明に係る光ディスクは、ディスク状、カートリッジ収納型でもよく、カートリッジ収納型の場合はリムーバブルであることが好ましい。本発明に係る光ディスクは、ＣＤ、ＤＶＤ、青紫色レーザーで記録再生する光ディスクなど、如何なるものであってもよい。
青紫色レーザーで記録する媒体の場合、ＤＶＤのような貼り合わせタイプ（ＨＤ  ＤＶＤ）と、１．１ｍｍ基板上に記録層とカバー層とが形成され、カバー層側からレーザー光が入射するタイプとがあるが、いずれであってもよい。
プリンタブル層を形成する箇所は、レーザー光が入射する面の反対側が基本であるが、レーザー光が入射する側でも入射エリア以外の領域であればプリンタブル層を形成することができる。
本発明に係る光ディスクは、ＲＯＭ型でも、書き換え可能型、及び追記型のいずれでもよいが、特に、追記型が好ましい。
【００４４】
以下に、本発明の光ディスクの製造方法について、該製造方法によって製造される光ディスクの層構成を通じて説明する。なお、以下に示す光ディスクのプリンタブル層の形成においては、塗膜としてインク受容層を形成する態様を示す。なお、以下の構成は一例であり、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４５】
＜プリンタブル層＞
本発明に係る光ディスクにおけるプリンタブル層は、少なくとも、下地層とインク受容層とを含む構成とすることが好ましい。以下、プリンタブル層の各層について説明する。
【００４６】
〔インク受容層〕
インク受容層は、微粒子と、結合剤と、架橋剤と、を少なくとも有する構成とすることができ、更に、必要に応じて、前記一般式（１）で表される化合物及び／又は前記一般式（２）で表される化合物、各種添加剤などを含んでいてもよい。
【００４７】
また、本発明におけるインク受容層の層厚は、１０〜２００μｍの範囲であることが好ましく、２０〜５０μｍの範囲がより好ましい。
インク受容層の層厚が１０〜２００μｍの範囲であることにより、インクの液滴を吸収する十分な吸収容量が得られ、ニジミを抑制することができるとともに、光ディスクの反りや面振れなどを防止することができる。
以下に、インク受容層中の各成分について説明する。
【００４８】
［微粒子］
上述の通り、インク受容層は、微粒子を含有する。微粒子としては、気相法シリカ、擬ベーマイト、酸化アルミニウム、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ベーマイト等が挙げられ、中でも、気相法シリカ、擬ベーマイト、酸化アルミニウムが好ましい。
【００４９】
（気相法シリカ）
シリカ微粒子は、通常その製造法により湿式法粒子と乾式法（気相法）粒子とに大別される。上記湿式法では、ケイ酸塩の酸分解により活性シリカを生成し、これを適度に重合させ凝集沈降させて含水シリカを得る方法が主流である。一方、気相法は、ハロゲン化珪素の高温気相加水分解による方法（火炎加水分解法）、ケイ砂とコークスとを電気炉中でアークによって加熱還元気化し、これを空気で酸化する方法（アーク法）によって無水シリカを得る方法が主流であり、「気相法シリカ」とは該気相法によって得られた無水シリカ微粒子を意味する。
【００５０】
上記気相法シリカは、上記含水シリカと表面のシラノール基の密度、空孔の有無等に相違があり、異なった性質を示すが、空隙率が高い三次元構造を形成するのに適している。この理由は明らかではないが、含水シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が５〜８個／ｎｍ2で多く、シリカ微粒子が密に凝集（アグリゲート）し易く、一方、気相法シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が２〜３個／ｎｍ2であり少ないことから疎な軟凝集（フロキュレート）となり、その結果、空隙率が高い構造になるものと推定される。
【００５１】
上記気相法シリカは、比表面積が特に大きいので、インクの吸収性、保持の効率が高く、また、屈折率が低いので、適切な粒子径まで分散を行えばインク受容層に透明性を付与でき、高い色濃度と良好な発色性が得られるという特徴がある。
【００５２】
上記気相法シリカの平均一次粒子径としては３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましく、３〜１０ｎｍが最も好ましい。上記気相法シリカは、シラノール基による水素結合によって粒子同士が付着しやすいため、平均一次粒子径が３０ｎｍ以下の場合に空隙率の大きい構造を形成することができ、インク吸収特性を効果的に向上させることができる。
【００５３】
また、気相法シリカのインク受容層における固形分含有量は、４０質量％以上が好ましく、より好ましくは５０質量％以上である。このように気相法シリカの含有量が５０質量％以上である場合、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインキ吸収性を備えたインク受容層が得られるため好ましい。ここで、気相法シリカのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成分中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００５４】
また、含水シリカ微粒子、コロイダルシリカ、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ベーマイト、擬ベーマイト等の他の無機顔料微粒子を併用してもよい。該他の無機顔料微粒子と上記気相法シリカとを併用する場合、全無機顔料微粒子中、気相法シリカの含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
【００５５】
（擬ベーマイト）
擬ベーマイトは、Ａｌ2Ｏ3・ｘＨ2Ｏ（１＜ｘ＜２）で表され、一般にその結晶は（０２０）面が巨大な平面を形成する層状の化合物であり、その格子定数ｄは０．６７ｎｍである。ここで、擬ベーマイトは、過剰な水を（０２０）面の層間に含んだ構造を有するものである。擬ベーマイトは、インクを良く吸収し定着し、インクの吸収性及び経時ニジミを向上させることができる。
また、容易に平滑な層が得られることから、ゾル状の擬ベーマイト（擬ベーマイトゾル）を原料として用いることが好ましい。
【００５６】
擬ベーマイトの一次平均粒子径は５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることが更により好ましく、２０〜３ｎｍの範囲内であることが特に好ましい。擬ベーマイトの平均一次粒子径が上記範囲内にあると、空隙率の大きい構造を形成することができ、更にインク受容層のインク吸収性を向上させることができる。なお、前記平均一次粒子径は、例えば、電子顕微鏡を用いて測定することができる。
また、擬ベーマイトのＢＥＴ比表面積としては、４０〜５００ｍ2／ｇが好ましく、２００〜５００ｍ2／ｇが更に好ましい。
【００５７】
更に、上記擬ベーマイトのアスペクト比としては、３〜１０が好ましい。擬ベーマイトの細孔構造については、その平均細孔半径は１〜３０ｎｍが好ましく、２〜１５ｎｍがより好ましい。また、その細孔容積は０．３〜２．０ｍｌ／ｇ（ｃｃ／ｇ）が好ましく、０．５〜１．５ｍｌ／ｇ（ｃｃ／ｇ）がより好ましい。ここで、上記細孔半径及び細孔容積の測定は、窒素吸脱着法により測定されるもので、例えば、ガス吸脱着アナライザー（例えば、コールター社製の商品名「オムニソープ３６９」）により測定できる。
【００５８】
また、擬ベーマイトのインク受容層における固形分含有量は、５０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上である。このように擬ベーマイトの含有量が６０質量％以上である場合、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインキ吸収性を備えたインク受容層が得られるため好ましい。ここで、擬ベーマイトのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成分中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００５９】
また、擬ベーマイトは、水系溶媒に分散して用いるのが好ましい。分散して用いる場合の分散液中における擬ベーマイトの含有量としては、６０質量％以下が好ましく、５〜６０質量％がより好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。
擬ベーマイトは、上記範囲で特に効果的に分散させることができ、例えば、分散時において擬ベーマイト同士の粒子間距離が短くなること等に起因する増粘やゲル化等を効果的に抑制することができる。
【００６０】
擬ベーマイト（Ａ）と、気相法シリカ（Ｓ）と、を併用する場合、その含有比（Ｓ：Ａ）としては、９５：５〜５：９５となる範囲が好ましく、８０：２０〜２０：８０の範囲がより好ましく、７０：３０〜３０：７０の範囲が特に好ましい。
前記含有比の範囲で気相法シリカと擬ベーマイトを併用すると、複数色の全てのインクの経時ニジミを色相に依存することなく効果的に防止することができ、多色に画像形成する場合でも高解像度で鮮やかな画像を形成し、保持することができる。
【００６１】
（酸化アルミニウム）
本発明における酸化アルミニウムとしては、例えば、α−アルミナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ、χ−アルミナ等の無水アルミナや、活性酸化アルミニウムが挙げられる。
これらの中でも好ましいアルミナ微粒子は、δ−アルミナであり、また、製造方法による観点からは、気相法により製造されるアルミナ微粒子、即ち、酸水素反応の際に発生する水の存在の下で、また、そのような反応に特徴的な温度において、気体状の金属塩化物を加水分解することにより得られる気相法アルミナ微粒子が、比表面積が大きいため好ましい。
【００６２】
上記酸化アルミニウムの形態としては、例えば、所定の粒子径を有する微細な粒子、微粒子、微細粒子、粉体、微粉、微細粉等を採用することができ、その平均一次粒子径は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５〜１００ｎｍであるのが更に好ましく、特に５〜２０ｎｍであることが好ましい。上記アルミナ微粒子の平均一次粒径が上記範囲内にあると、空隙率の大きい構造を形成することができ、更にインク受容層のインク吸収性を向上させることができる。なお、上記平均一次粒子径は、例えば、電子顕微鏡を用いて測定することができる。
【００６３】
また、本発明において酸化アルミニウムは、分散液に分散して用いるのが好ましい。上記分散液中の酸化アルミニウムの含有量は、６０質量％以下が好ましく、５〜６０質量％が更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。酸化アルミニウムの含有量が上記範囲内にあると、酸化アルミニウムをより効果的に分散させることができる。上記分散液における酸化アルミニウムの含有量が多くても６０質量％以下であると、例えば、分散液中において酸化アルミニウム微粒子同士の粒子間距離が短くなること等に起因する増粘やゲル化等を効果的に抑制することができる。
また、上記分散液には凝集防止剤として、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、第４級アンモニウム塩基を有するカチオンポリマーを添加してもよい。上記凝集防止剤の添加量としては、酸化アルミニウム微粒子に対して、１〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％が更に好ましい。該添加量が、１質量％未満では分散性に劣る場合があり、１０質量％を超えるとインク受容層に印画した際、色濃度が低下することがあるため好ましくない。
【００６４】
上記酸化アルミニウムのインク受容層における固形分含有量は、５０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上である。上記含有量が６０質量％を超えていると、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインク吸収性を備えたインク受容層が得られるので好ましい。ここで、上記酸化アルミニウムのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成物中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００６５】
また、本発明においては酸化アルミニウムと、他の微粒子と併用してもよい。該他の微粒子と上記酸化アルミニウムとを併用する場合、全微粒子中の本発明における酸化アルミニウムの含有量は、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上が更に好ましい。
上記他の微粒子としては、有機微粒子、無機微粒子のいずれでもよいが、インク吸収性及び画像安定性の点から、無機微粒子が好ましい。
【００６６】
［結合剤］
上述の通り、本発明において、インク受容層は結合剤を含有する。当該結合剤としては水溶性樹脂が好ましい。
【００６７】
上記水溶性樹脂としては、例えば、親水性構造単位として水酸基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、アセトアセチル変性ＰＶＡ、カチオン変性ＰＶＡ、アニオン変性ＰＶＡ、シラノール変性ＰＶＡ、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース（ＭＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔例えば、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔例えば、ポリアクリルアミド（ＰＡＡＭ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕などが挙げられる。
また、水溶性樹脂として、解離性基としてカルボキシ基を有するポリアクリル酸塩、マレイン酸樹脂、アルギン酸塩、ゼラチン類等も利用することができる。
【００６８】
以上の中でも、特に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂が好ましい。該ポリビニルアルコール系樹脂の例としては、特公平４−５２７８６号、特公平５−６７４３２号、特公平７−２９４７９号、特許第２，５３７，８２７号、特公平７−５７５５３号、特許第２，５０２，９９８号、特許第３，０５３，２３１号、特開昭６３−１７６１７３号、特許第２６０４３６７号、特開平７−２７６７８７号、特開平９−２０７４２５号、特開平１１−５８９４１号、特開２０００−１３５８５８号、特開２００１−２０５９２４号、特開２００１−２８７４４４号、特開昭６２−２７８０８０号、特開平９−３９３７３号、特許第２７５０４３３号、特開２０００−１５８８０１号、特開２００１−２１３０４５号、特開２００１−３２８３４５号、特開平８−３２４１０５号、特開平１１−３４８４１７号等に記載されたもの等を使用できる。
また、ポリビニルアルコール系樹脂以外の水溶性樹脂の例としては、特開平１１−１６５４６１号公報の段落番号［００１１］〜［００１４］に記載の化合物等も挙げられる。
【００６９】
これら結合剤としての水溶性樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。
本発明において、結合剤としての上記水溶性樹脂の含有量としては、インク受容層の全固形分質量に対して、９〜４０質量％が好ましく、１２〜３３質量％がより好ましい。
【００７０】
また、ポリビニルアルコール系樹脂は、前記その他の水溶性樹脂を併用してもよい。このようにポリビニルアルコール系樹脂とその他の水溶性樹脂とを併用する場合、全水溶性樹脂中、ポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。
【００７１】
上記ポリビニルアルコール系樹脂は、その構造単位に水酸基を有するが、この水酸基とシリカ微粒子表面のシラノール基とが水素結合を形成して、シリカ微粒子の二次粒子を鎖単位とする三次元網目構造を形成しやすくする。上記三次元網目構造の形成によって、空隙率の高い多孔質構造のインク受容層を形成しうると考えられる。
インクジェット記録において、上述のようにして得た多孔質のインク受容層は、毛細管現象によって急速にインクを吸収し、インクニジミのない真円性の良好なドットを形成することができる。
【００７２】
また、透明性の観点から、鹸化度７０〜９９％のポリビニルアルコール系樹脂が更に好ましく、鹸化度８０〜９９％のポリビニルアルコール系樹脂が特に好ましい。
【００７３】
（微粒子と水溶性樹脂（結合剤）との含有比）
インク受容層内において、微粒子（ｘ）と、結合剤である水溶性樹脂（ｙ）と、の質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕は、該インク受容層の膜構造及び膜強度に大きな影響を与える。即ち、該質量含有比〔ＰＢ比〕が大きくなると、空隙率や細孔容積、表面積（単位質量当り）が大きくなるが、密度や強度は低下する傾向にある。
【００７４】
本発明におけるインク受容層では、上記質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕としては、該ＰＢ比が大き過ぎることに起因する、膜強度の低下や乾燥時のひび割れを防止し、かつ、該ＰＢ比が小さ過ぎることによって、該空隙が樹脂によって塞がれ易くなり、空隙率が減少することでインク吸収性が低下するのを防止する観点から、１．５／１〜１０／１が好ましい。
【００７５】
本発明に係る光ディスクがインクジェット記録プリンターの搬送系を通過する場合、該光ディスクに応力が加わることがあるので、インク受容層は十分な膜強度を有していることが好ましい。このようなことを考慮すると、上記ＰＢ比（ｘ／ｙ）としては４／１以下がより好ましく、一方、インクジェット記録プリンターで、高速インク吸収性を確保する観点からは、３／１以上であることがより好ましい。
【００７６】
インク受容層の具体的な形成方法の一例を挙げる。例えば、平均一次粒子径が２０ｎｍ以下の気相法シリカ微粒子と水溶性樹脂とを、ＰＢ比（ｘ／ｙ）３／１〜４／１で水溶液中に完全に分散した塗布液を下地層上に塗布し、該塗膜を乾燥した場合、シリカ微粒子の二次粒子を網目鎖とする三次元網目構造が形成され、その平均細孔径が３０ｎｍ以下、空隙率が５０〜８０％、細孔比容積が０．５ｍｌ／ｇ以上、比表面積が１００ｍ2／ｇ以上の、透光性の多孔質膜を容易に形成することができる。
【００７７】
［架橋剤］
本発明におけるインク受容層は、前記結合剤を架橋し得る架橋剤を含有する。このように架橋剤を含有させることにより、インク受容層を、架橋剤と結合剤との架橋反応によって硬化された多孔質層とすることができる。
【００７８】
前記結合剤である水溶性樹脂として好適なポリビニルアルコールの架橋には、ホウ素化合物が好ましい。該ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩（例えば、オルト硼酸塩、ＩｎＢＯ3、ＳｃＢＯ3、ＹＢＯ3、ＬａＢＯ3、Ｍｇ3（ＢＯ3）2、Ｃｏ3（ＢＯ3）2、二硼酸塩（例えば、Ｍｇ2Ｂ2Ｏ5、Ｃｏ2Ｂ2Ｏ5）、メタ硼酸塩（例えば、ＬｉＢＯ2、Ｃａ（ＢＯ2）2、ＮａＢＯ2、ＫＢＯ2）、四硼酸塩（例えば、Ｎａ2Ｂ4Ｏ7・１０Ｈ2Ｏ）、五硼酸塩（例えば、ＫＢ5Ｏ8・４Ｈ2Ｏ、Ｃａ2Ｂ6Ｏ11・７Ｈ2Ｏ、ＣｓＢ5Ｏ5）等を挙げることができる。中でも、速やかに架橋反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましい。
【００７９】
これを直接、インク受容層を形成するための塗布液（インク受容層塗布液）に添加すると、アニオン電荷を有する気相法シリカとの間で凝集を生ずる懸念があるが、独立の別の溶液として調製し塗布する方法を利用すれば、無機顔料微粒子の凝集を懸念する必要はない。よって、インク受容層とは別の溶液（例えば、架橋剤を含む溶液）に含有して用いることが好ましい。
【００８０】
また、結合剤である水溶性樹脂の架橋剤として、上記のホウ素化合物以外の化合物を使用することもできる。例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、ジアルデヒドスターチ、植物ガムのジアルデヒド誘導体等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、１，２−シクロペンタンジオン、３−ヘキセン−２，５−ジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル）尿素、ビス（２−クロロエチル）スルホン、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン、１，３−ビス（ビニルスルホニル）−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、ジビニルケトン、１，３−ビス（アクリロイル）尿素、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；トリメチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン、メラミン、ベンゾグアナミン、メラミン樹脂等のメラミン化合物；エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリセリンポリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテル、フェノール樹脂のポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；
【００８１】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシナネート等のイソシアネート系化合物；米国特許第３，０１７，２８０号、同第２，９８３，６１１号等に記載のアジリジン系化合物；米国特許第３，１００，７０４号等に記載のカルボジイミド系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；乳酸チタン、硫酸アルミ、クロム明ばん、カリ明ばん、酢酸ジルコニル、酢酸クロム等の金属含有化合物；テトラエチレンペンタミン等のポリアミン化合物；アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物；オキサゾリン基を２個以上含有する低分子又はポリマー等：米国特許第２，７２５，２９４号、米国特許第２，７２５，２９５号、米国特許第２，７２６，１６２号、米国特許第３，８３４，９０２号等に記載の多価酸の無水物、酸クロリド、ビススルホナート化合物；米国特許第３，５４２，５５８号、米国特許第３，２５１，９７２号等に記載の活性エステル化合物等が挙げられる。
上記の架橋剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組合わせて用いることもできる。
【００８２】
上記ポリビニルアルコールにゼラチンを併用する場合には、ゼラチンの硬膜剤として知られている、下記化合物を架橋剤としてホウ素化合物と併用することができる。
例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタールアルデヒド等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、シクロペンタンジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジクロロ−６−Ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン酸、１，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；
【００８３】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物；米国特許第３，０１７，２８０号明細書、同第２，９８３，６１１号明細書に記載のアジリジン系化合物；米国特許第３，１００，７０４号明細書に記載のカルボキシイミド系化合物；グリセロールトリグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；クロム明ばん、カリ明ばん、硫酸ジルコニウム、酢酸クロム等である。この場合、上記ホウ素化合物と他の架橋剤とを併用する場合、全架橋剤中ホウ素化合物の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
なお、上記ホウ素化合物は、一種単独でも、２種以上を組合わせてもよい。
【００８４】
上記架橋剤を付与する際、その溶液は架橋剤を水及び／又は有機溶剤に溶解して調製される。
上記架橋剤溶液中の架橋剤の濃度としては、架橋剤溶液の質量に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜８質量％が特に好ましい。
架橋剤溶液を構成する溶媒としては、一般に水が使用され、該水と混和性を有する有機溶媒を含む水系混合溶媒であってもよい。
上記有機溶剤としては、架橋剤が溶解するものであれば任意に使用することができ、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル；トルエン等の芳香族溶剤；テトラヒドロフラン等のエーテル、及びジクロロメタン等のハロゲン化炭素系溶剤等を挙げることができる。
【００８５】
［媒染剤］
本発明においては、形成画像の耐水性、耐経時ニジミの更なる向上を図るために、インク受容層に媒染剤が含有されることが好ましい。
上記媒染剤としてはカチオン性のポリマー（カチオン性媒染剤）が好ましく、該媒染剤をインク受容層中に存在させることにより、アニオン性染料を色材として有する液状インクとの間で相互作用し色材を安定化し、耐水性や経時ニジミを向上させることができる。
【００８６】
上記カチオン性媒染剤としては、カチオン性基として、第１級〜第３級アミノ基、又は第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好適に用いられるが、また、カチオン性の非ポリマー媒染剤も使用することができる。
上記ポリマー媒染剤としては、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体（媒染モノマー）の単独重合体や、該媒染モノマーと他のモノマー（以下、「非媒染モノマー」という。）との共重合体又は縮重合体として得られるものが好ましい。また、これらのポリマー媒染剤は、水溶性ポリマーや、水分散性のラテックス粒子の形態で使用できる。
【００８７】
上記単量体（媒染モノマー）としては、例えば、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−オクチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メチル）ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−フェニル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、
【００８８】
トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（３−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムアセテート、
【００８９】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドのメチルクロライド、エチルクロライド、メチルブロマイド、エチルブロマイド、メチルアイオダイド若しくはエチルアイオダイドによる４級化物、又はそれらのアニオンを置換したスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、酢酸塩若しくはアルキルカルボン酸塩等が挙げられる。
【００９０】
具体的には、例えば、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、
【００９１】
Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムブロマイド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムブロマイド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムスルホネート、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムアセテート等を挙げることができる。
その他、共重合可能なモノマーとして、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール等も挙げられる。
【００９２】
上記非媒染モノマーとは、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基等の塩基性或いはカチオン性部分を含まず、インクジェットインク中の染料と相互作用を示さない、或いは相互作用が実質的に小さいモノマーをいう。
上記非媒染モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；酢酸アリル等のアリルエステル類；塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類；等が挙げられる。
【００９３】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部位の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等が挙げられる。
中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。
上記非媒染モノマーも、一種単独で、又は二種以上組合せて使用できる。
【００９４】
更に、ポリマー媒染剤として、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリメタクリロイルオキシエチル−β−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド、ポリエチレニミン、ポリアリルアミン、ポリアリルアミン塩酸塩、ポリアミド−ポリアミン樹脂、カチオン化でんぷん、ジシアンジアミドホルマリン縮合物、ジメチル−２−ヒドロキシプロピルアンモニウム塩重合物、ポリアミジン、ポリビニルアミン等も好ましいものとして挙げることができる。
【００９５】
上記ポリマー媒染剤の分子量としては、重量平均分子量で１，０００〜２００，０００が好ましく、重量平均分子量で３，０００〜６０，０００が更に好ましい。上記分子量が１，０００〜２００，０００の範囲にあると、耐水性が不十分となることがなく、また、粘度が高くなりすぎてハンドリング適正が低下するのを防止できる。
【００９６】
上記カチオン性の非ポリマー媒染剤としては、例えば、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、塩化マグネシウム等の水溶性金属塩が好ましい。
【００９７】
［一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物］
本発明の光ディスクは、前記インク受容層に、更に、下記一般式（１）で表される化合物及び／又は下記一般式（２）で表される化合物を含むことが好ましい。下記一般式（１）で表される化合物及び下記一般式（２）で表される化合物は、高沸点溶剤である。
【００９８】
ＲＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＨ                            一般式（１）
［一般式（１）中、Ｒは、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。］
ＲＯ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）nＨ                    一般式（２）
［一般式（２）中、Ｒは、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。］
【００９９】
上記一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物をインク受容層に含むことで、３次元網目構造（多孔質構造）形成時のインク受容層の乾燥収縮を抑制することができる。これは、一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物が、気相法シリカ表面のシラノール基とポリビニルアルコールの水酸基との水素結合を適度に阻害するためにインク受容層の乾燥収縮が緩和されるためと推測される。これにより３次元網目構造形成時におけるインク受容層の膜割れを防止でき、光ディスクの生産歩留まりや品質を向上させることができる。
【０１００】
上記一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒは炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表し、炭素数１〜４の飽和炭化水素基が好ましい。
上記飽和炭化水素基の炭素数は１〜１２であり、好ましくは１〜８であり、更に好ましくは１〜４ある。該飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環族炭化水素基等が挙げられる。該飽和炭化水素基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基などが挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。
【０１０１】
上記不飽和炭化水素基の炭素数は１〜１２であり、好ましくは１〜８であり、更に好ましくは１〜４である。該不飽和炭化水素基としては、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。該不飽和炭化水素基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、ビニル基、アリル基、エチニル基、１，３−ブタジエニル基、２−プロピニル基等が挙げられ、アリル基が好ましい。
【０１０２】
上記アシル基としては、炭素数１〜８のアシル基が好ましく、１〜４のアシル基が更に好ましい。該アシル基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基が挙げられ、ブチリル基が好ましい。
【０１０３】
上記一般式（１）及び一般式（２）において、ｎは１〜３の整数を表し、２又は３が好ましい。
【０１０４】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物としては、水溶性の化合物が好ましい。ここで「水溶性」とは、水に１質量％以上溶解するものをいう。
【０１０５】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノドデシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテルが好ましい。
【０１０６】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物は、その少なくとも１種をインク受容層に含んでいればよい。従って、一般式（１）で表される化合物又は（２）で表される化合物を単独又は２種以上含んでいてもよいし、一般式（１）で表される化合物と一般式（２）で表される化合物とを併用してもよい。一般式（１）で表される化合物〔ｘ〕及び一般式（２）で表される化合物〔ｙ〕を併用する場合、その混合比（質量比；ｘ：ｙ）については特に限定はないが、好ましくは１００：１〜１００：１００であり、更に好ましくは１００：１０〜１００：５０である。
また、インク受容層中に含まれる一般式（１）で表される化合物及び（２）で表される化合物の総含有量としては、０．１〜５．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．２〜３．０ｇ／ｍ2が更に好ましい。
【０１０７】
［他の成分］
インク受容層は、必要に応じて、下記成分を含んでいてもよい。
色材の劣化を抑制する目的で、各種の紫外線吸収剤、酸化防止剤、一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤を含んでいてもよい。
上記紫外線吸収剤としては、桂皮酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフェノール誘導体等が挙げられる。例えば、α−シアノ−フェニル桂皮酸ブチル、ｏ−ベンゾトリアゾールフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−ｐ−クロロフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−オクチルフェノール等が挙げられる。ヒンダートフェノール化合物も紫外線吸収剤として使用でき、具体的には少なくとも２位又は６位のうち１ヵ所以上が分岐アルキル基で置換されたフェノール誘導体が好ましい。
【０１０８】
また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤等も使用できる。例えば、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同３，７０７，３７５号明細書、同３，７５４，９１９号明細書、同４，２２０，７１１号明細書等に記載されている。
【０１０９】
蛍光増白剤も紫外線吸収剤として使用でき、例えば、クマリン系蛍光増白剤等が挙げられる。具体的には、特公昭４５−４６９９号公報、同５４−５３２４号公報等に記載されている。
【０１１０】
上記酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、同３０９４０２号公報、同３１０５５１号公報、同第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８５３５号公報、同６０−１０７３８４号公報、同６０−１０７３８３号公報、同６０−１２５４７０号公報、同６０−１２５４７１号公報、同６０−１２５４７２号公報、同６０−２８７４８５号公報、同６０−２８７４８６号公報、同６０−２８７４８７号公報、同６０−２８７４８８号公報、同６１−１６０２８７号公報、同６１−１８５４８３号公報、同６１−２１１０７９号公報、同６２−１４６６７８号公報、同６２−１４６６８０号公報、同６２−１４６６７９号公報、同６２−２８２８８５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−０５１１７４号公報、同６３−８９８７７号公報、同６３−８８３８０号公報、同６６−８８３８１号公報、同６３−１１３５３６号公報、
【０１１１】
同６３−１６３３５１号公報、同６３−２０３３７２号公報、同６３−２２４９８９号公報、同６３−２５１２８２号公報、同６３−２６７５９４号公報、同６３−１８２４８４号公報、特開平１−２３９２８２号公報、特開平２−２６２６５４号公報、同２−７１２６２号公報、同３−１２１４４９号公報、同４−２９１６８５号公報、同４−２９１６８４号公報、同５−６１１６６号公報、同５−１１９４４９号公報、同５−１８８６８７号公報、同５−１８８６８６号公報、同５−１１０４９０号公報、同５−１１０８４３７号公報、同５−１７０３６１号公報、特公昭４８−４３２９５号公報、同４８−３３２１２号公報、米国特許第４８１４２６２号、同第４９８０２７５号等に記載のものが挙げられる。
【０１１２】
具体的には、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４，−テトラヒドロキノリン、シクロヘキサン酸ニッケル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２−メチル−４−メトキシ−ジフェニルアミン、１−メチル−２−フェニルインドール等が挙げられる。
【０１１３】
上記褪色性防止剤は、単独でも２種以上を併用してもよい。この上記褪色性防止剤は、水溶性化、分散、エマルション化してもよく、マイクロカプセル中に含ませることもできる。
上記褪色性防止剤の添加量としては、インク受容層塗布液の０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１１４】
また、無機顔料微粒子の分散性を高める目的で、各種無機塩類、ｐＨ調整剤として酸やアルカリ等を含んでいてもよい。
更に、表面の摩擦帯電や剥離帯電を抑制する目的で、電子導電性を持つ金属酸化物微粒子を、表面の摩擦特性を低減する目的で各種のマット剤を含んでいてもよい。
【０１１５】
［インク受容層の形成］
−インク受容層塗布液の調製−
本発明において、一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物と、気相法シリカ（微粒子）と、ポリビニルアルコール（結合剤）と、を少なくとも含むインク受容層塗布液は、例えば、以下のようにして調製することができる。
即ち、微粒子と分散剤とからなる水分散物に、上記一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物及び結合剤を含む溶液と、架橋剤及び媒染剤を含む溶液と、をそれぞれ添加し、再分散して得られる。具体的には、気相法シリカを水中に添加して（例えば、１０〜２０質量％）、高速回転湿式コロイドミル（例えば、クレアミックス（エム・テクニック（株）製））を用いて、例えば１０，０００ｒｐｍ（好ましくは５，０００〜２０，０００ｒｐｍ）の高速回転の条件で２０分間（好ましくは１０〜３０分間）分散させた後、ポリビニルアルコール水溶液（例えば、気相法シリカの１／３程度の質量のＰＶＡとなるように）を加え、更に一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物を添加し、上記と同じ回転条件で分散を行い、更に、架橋剤及び媒染剤を含む溶液とを混合し、再分散して得られる。
【０１１６】
そして、得られた塗布液を、下地層上に塗布して塗膜を形成し、その後、該塗膜を硬化させる方法によって形成する。当該方法においてインク受容層を形成する塗布液のｐＨは２．５〜４．０であり、酸性を示す。当該方法を用いると、光沢度及び印画濃度が向上するため好ましい。この方法を用いた場合の塗膜の硬化方法及びその条件としては、具体的には、Ｃ．Ａ．Ｆｉｎｃｈｉ編、“Chemistry and Technology of Water-Soluble Polymers”（１９８３年）に記載されている硬化方法及びその条件を適用することができる。
【０１１７】
なお、上記分散の処理方法としては、高速回転分散機、媒体攪拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、本発明では形成されるダマ状微粒子の分散を効率的に行うという点から、コロイドミル分散機又は高圧分散機が好ましく用いられる。
【０１１８】
上記インク受容層塗布液には、必要に応じて、更に、界面活性剤、ｐＨ調整剤、帯電防止剤等を添加することもできる。
【０１１９】
上記分散剤としては、カチオン性のポリマーを用いることができる。カチオン性ポリマーとしては、上述の媒染剤の例として挙げた、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体の単独重合体や、該単量体と他のモノマーとの共重合体又は縮重合体として得られるものを好適に使用することができる。また、これらの分散剤は、水溶性ポリマーの形態で使用するのが好ましい。
【０１２０】
上記分散剤の分子量は、重量平均分子量で１，０００〜２００，０００が好ましく、３，０００〜６０，０００が更に好ましい。該分子量が１，０００より小さいと分散性に劣る場合があり、２００，０００を超えると水分散物の粘度が高くなる場合がある。上記分散剤の気相法シリカに対する添加量は、１％〜３０％が好ましく、３％〜２０％が更に好ましい。該添加量が、１％未満では分散性に劣る場合があり、３０％を超えるとインク受容層に印画した際、色濃度が低下することがあるため好ましくない。
【０１２１】
また、微粒子と分散剤とからなる水分散剤の調製は、微粒子水分散液を予め調製し、該水分散液を分散剤水溶液に添加してもよいし、分散剤水溶液を微粒子水分散液に添加してよいし、同時に混合してもよい。また、微粒子水分散液ではなく、粉体の微粒子を用いて上記のように分散剤水溶液に添加してもよい。
上記の微粒子と分散剤とを混合した後、該混合液を分散機を用いて細粒化することで、平均粒子径５０〜３００ｎｍの水分散液を得ることができる。該水分散液を得るために用いる分散機としては、高速回転分散機、媒体攪拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、形成されるダマ状微粒子の分散を効率的に行うという点から、コロイドミル分散機又は高圧分散機が好ましい。
【０１２２】
また、インク受容層塗布液に用いられる溶媒としては、水、有機溶媒、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０１２３】
−インク受容層塗布液の塗布−
インク受容層塗布液の塗布は、スリットダイを使用したダイコートにより、インク受容層を形成しようとする被塗布面が外部に露出した基板を回転させながら塗布する。なお、インク受容層の層厚（膜厚）のムラの発生を抑制することができるという原理については、既述の本発明の塗膜形成方法において説明した内容と同様である。
【０１２４】
本発明において、インク受容層塗布液の粘度は、厚みを確保するため、５０〜１０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１００〜５００ｍＰａ・ｓがより好ましい。
【０１２５】
スピンコート法による塗布の好ましい条件について以下に記す。回転数としては、ディスペンス時においては、１０〜１，０００ｒｐｍとすることが好ましく、５０〜６００ｒｐｍとすることがより好ましく、１００〜４００ｒｐｍとすることが更に好ましい。振り切り時においては、徐々に回転数を上げ、上げ方はステップでもなだらかでもよく、具体的には、１００〜１０，０００ｒｐｍとすることが好ましく、２００〜５，０００ｒｐｍとすることがより好ましく、３００〜３，０００ｒｐｍとすることが更に好ましい。ノズルの形状は、長さは１〜１００ｍｍであることが好ましく、５〜５０ｍｍであることがより好ましく、１０〜３０ｍｍであることが更に好ましい。ノズルの内径は、０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．３〜３ｍｍであることがより好ましく、０．５〜２ｍｍであることが更に好ましい。ノズルの肉厚は０．１〜１ｍｍであることが好ましく、０．２〜０．５ｍｍであることがより好ましい。また、ノズルは流れに沿って斜めに設置してもよい。ワークからの距離としては、０．５〜１００ｍｍが好ましく、１〜５０ｍｍがより好ましく、２〜２０ｍｍが更に好ましい。温度としては、１０〜４０℃が好ましく、１５〜３５℃がより好ましく、２０〜３０℃が更に好ましい。湿度としては、５〜７０％ＲＨが好ましく、１０〜４０％ＲＨがより好ましく、２０〜５０％ＲＨが更に好ましい。
【０１２６】
上記の通り、インク受容層塗布液の塗布し塗膜を形成した後、該塗膜は乾燥されるが、その乾燥条件の詳細について以下に述べる。
【０１２７】
インク受容層の塗膜の乾燥は、自然乾燥、温風乾燥、低温セット乾燥、赤外・遠赤外線乾燥、高周波乾燥、オーブン乾燥など、いかなる乾燥手法で行ってもよい。
自然乾燥の場合、塗膜の乾燥時間は、０．１〜１００００秒とすることが好ましく、１〜１０００秒とすることがより好ましく、１０〜５００秒とすることが更に好ましい。乾燥温度は、０〜４０℃とすることが好ましく、１０〜３５℃とすることがより好ましく、２０〜３０℃とすることが更に好ましい。乾燥湿度１０〜７０％ＲＨとすることが好ましく、２０〜６０％ＲＨとすることがより好ましく、３０〜５０％ＲＨとすることが更に好ましい。
【０１２８】
温風乾燥の場合、塗膜の乾燥時間は、０．１〜５０００秒とすることが好ましく、１〜１０００秒とすることがより好ましく、１０〜５００秒とすることが更に好ましい。乾燥温度は、４０〜２００℃とすることが好ましく、６０〜１５０℃とすることがより好ましく、８０〜１３０℃とすることが更に好ましい。乾燥湿度０．０１〜５０％ＲＨとすることが好ましく、０．１〜３０％ＲＨとすることがより好ましく、１〜２０％ＲＨとすることが更に好ましい。
【０１２９】
低温セット乾燥の場合、塗膜の乾燥温度は、２〜２５℃とすることが好ましく、５〜１５℃とすることがより好ましい。乾燥湿度１０〜５０％ＲＨとすることが好ましく、１０〜３０％ＲＨとすることがより好ましい。この温・湿度は、乾燥の進行に伴い、低温低湿から高温高湿ヘ、徐々に或いは段階的にあげていることが好ましい。なお、風速は、減率乾燥速度を示したら、塗膜に対して平行に３ｍ／ｓ以上であることが好ましい。
【０１３０】
赤外・遠赤外乾燥の場合、塗膜の乾燥時間は、０．１〜１０００秒とすることが好ましく、１〜５００秒とすることがより好ましく、１０〜３００秒とすることが更に好ましい。出力は、１０〜２０００Ｗとすることが好ましく、５０〜１５００Ｗとすることがより好ましく、１００〜１０００Ｗとすることが更に好ましい。
高周波乾燥の場合の乾燥条件も赤外・遠赤外乾燥の場合と同様である。
【０１３１】
オーブン乾燥の場合、塗膜の乾燥時間は、０．１〜１，０００秒とすることが好ましく、１〜５００秒とすることがより好ましく、１０〜３００秒とすることが更にが好ましい。
【０１３２】
また、インク受容層の細孔径は、メジアン径で０．００５〜０．０３０μｍが好ましく、０．０１〜０．０２５μｍがより好ましい。
上記空隙率及び細孔メジアン径は、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。
【０１３３】
また、インク受容層は、透明性に優れていることが好ましいが、その目安としては、インク受容層を透明支持体上に形成したときのヘイズ値が、３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましい。
上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ：スガ試験機（株））を用いて測定することができる。
【０１３４】
本発明によって得られる光ディスクは、６０°において３０％以上の光沢度を示すことができる。該光沢度は、デジタル変角光沢度計（ＵＧＶ−５０ＤＰ，スガ試験機（株）製）等によって測定することができる。
【０１３５】
以上のように、プリンタブル層を形成することにより、プリンタブル層、特に、インク受容層の膜厚にムラが少ない光ディスクを得ることができる。また、本発明の光ディスクにおけるインク受容層は、紫外線硬化樹脂によって形成したものとは異なり、光ディスクに照射する紫外線の量を減少させることができ、ジッタなどの記録特性を向上させることができる。また、紫外線硬化樹脂のように皮膚刺激性がなく、取り扱い安全性が高い。
【０１３６】
〔下地層〕
本発明においては、インク受容層と基板との間に下地層を有することが好ましい。不透明性の高い下地層を設けると、紙に近い拡散性を有し、画質が向上する。特に、白色の下地層を設けると色再現性を良好とすることができる。下地層を光沢性の高いものにすると、光沢写真のように仕上がり、マット性の高いものとすると、マット写真のように仕上がる。下地層は、様々な色を用いると、様々な印象の画像を形成することができる。また、蛍光性の下地層の場合、蛍光性の画質とすることができる。このような下地層の形成手法は問わないが、生産性の観点から、放射線硬化樹脂をスクリーン印刷により形成することが好ましい。放射線硬化樹脂は、紫外線、電子ビーム、Ｘ線、γ線、赤外線等の電磁波によって硬化する樹脂であり、放射線としては、中でも、紫外線、電子ビームが好ましい。
【０１３７】
下地層の層厚としては、０．１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが最も好ましい。
【０１３８】
〔中間層〕
本発明の光ディスクには、インク受容層と下地層との間に中間層を設けてもよい。中間層をインク吸収性の高い層とすると、受容できるインク量が増し、印画時に色濃度を向上させ、画質を向上させることができる。或いは、下地層と基板との間に中間層を設けてもよい。この場合、下地層と基板との密着性を向上させたり、光ディスク全体の反りを調整することができる。
【０１３９】
中間層の層厚としては、０．１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが最も好ましい。
【０１４０】
〔表面層〕
本発明の光ディスクは、インク受容層の上に表面層があってもよい。表面層により、表面強度を更に向上させたり、印画の保存性を向上させたりすることができる。表面層は、インクを受容するか、或いは速やかに透過させる性質を有する必要がある。
【０１４１】
表面層の層厚としては、０．０１〜１００μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがより好ましく、０．５〜５μｍが最も好ましい。
【０１４２】
以下、本発明に使用される基板及び各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４３】
＜基板＞
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。
【０１４４】
基板には、トラッキング用の案内溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。
青紫色レーザーで記録する媒体の場合、プリグルーブのトラックピッチは、２００〜８００ｎｍの範囲とすること好ましく、２００〜５００ｎｍとすることがより好ましく、２００〜４００ｎｍとすることが更に好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１０〜１８０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましい。
更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１４５】
ＤＶＤ−Ｒ又はＤＶＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることが更に好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１３０〜１４０ｎｍとすることが更に好ましい。
更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１４６】
ＣＤ−Ｒ又はＣＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、１．２〜２．０μｍの範囲とすること好ましく、１．４〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．５５〜１．６５μｍとすることが更に好ましい。
プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることが更に好ましい。
プリグルーブの半値幅は、４００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、４８０〜６００ｎｍとすることがより好ましく、５００〜５８０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１４７】
＜記録層＞
ＣＤ−Ｒ又はＤＶＤ−Ｒの場合、記録層は、記録物質である色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液をスピンコート法により基板のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。
スピンコート法を適用する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
【０１４８】
当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、なかでも、フタロシアニン色素、オキソノール色素が好ましい。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。
【０１４９】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、或いは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１５０】
結合剤を使用する場合に、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０１５１】
塗布方法としては、既述のようにスピンコート法を適用するが、その際に使用する装置等については、従来公知のものを使用することができる。
また、記録層は単層でも重層でもよく、その層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【０１５２】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【０１５３】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０１５４】
ＣＤ−ＲＷ又はＤＶＤ−ＲＷの場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
【０１５５】
＜光反射層＞
記録層形成後、該記録層上に光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして光反射層を形成する。光反射層の形成に際しては、通常マスクが使用され、これによって光反射層の形成領域を調節することができる。
【０１５６】
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ或いはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【０１５７】
＜保護層、保護基板＞
光反射層を形成した後は、該光反射層上に保護層が形成される。
保護層は、スピンコート法により形成される。スピンコート法を適用することで、記録層にダメージ（色素の溶解、色素と保護層材料との化学反応等）を与えることなく保護層を形成することができる。スピンコートする際の回転数は、均一な層形成及び記録層へのダメージの防止の観点から、５０〜８０００ｒｐｍとすることが好ましく、１００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましい。
なお、保護層に放射線硬化樹脂（紫外線硬化樹脂）を使用した場合は、スピンコート法により保護層を形成した後、該保護層上から紫外線照射ランプ（メタルハライドランプ）により紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させる。
また、形成する保護層の厚みムラを無くすため、樹脂を硬化させる前に一定時間放置する等の処理を適宜行ってもよい。
【０１５８】
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止することができる。保護層を構成する材料としては、放射線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも放射線硬化樹脂であることが好ましい。該放射線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光及び再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【０１５９】
ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷの場合は、保護層に代わって、紫外線硬化樹脂等からなる接着層及び保護基板としての基板（厚さ：０．６ｍｍ程度、材質については前記基板と同様）を積層する。
即ち、光反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０等）をスピンコート法によって２０〜６０μｍの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、例えば、保護基板としてのポリカーボネート基板（厚さ０．６ｍｍ）を載置し、基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせる。
【０１６０】
以上のようにして、基板上に記録層、光反射層、保護層又は接着層を介した保護基板（ダミー基板）、等が設けられた積層体からなる光ディスクが作製される。
なお、本発明の光ディスクは、基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチや、記録層を構成する材料等を適宜設定することで、従来のＤＶＤ等よりトラックピッチが狭く、使用されるレーザ光より小さい波長のレーザ光で情報の記録再生を行うことが可能な光ディスクにも適用することができる。
【０１６１】
本発明の光ディスクの厚みとしては、下限としては、０．３ｍｍが好ましく、０．５ｍｍがより好ましく、０．７ｍｍが更に好ましい。また、上限としては、１００ｍｍが好ましく、２０ｍｍがより好ましく、５ｍｍが更に好ましい。薄すぎると、曲げたときに欠陥が発生することがある。厚すぎると、リムーバブル性に劣ることがある。
【実施例】
【０１６２】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」及び「％」は、全て「質量部」及び「質量％」を表す。
【０１６３】
＜塗布装置＞
先ず、以下の実施例及び比較例に供する、後述するインク受容層塗布液Ａの塗布に用いる塗布装置について説明する。図１は、インク受容層を形成すべき光ディスクが載置された塗布装置の側面を概念的に示す図である、塗布装置１０は、パルスモータにより回転制御される回転台１２と、スリットダイ１４と、塗布液供給機構１６とを有する。回転台１２上に光ディスク１８が載置されていて、光ディスク１８の上方にはスリットダイ１４が位置している。スリットダイ１４は、塗布液供給機構１６に配管を介して接続されていて、塗布液供給機構１６からスリットダイに１４に塗布液が供給される。塗布液供給機構１６は、スリットダイ１４からの配管に接続されたシリンジ１６Ｂと、該シリンジ１６Ｂに塗布液を供給するリニアアクチュエーター１６Ｂとが接続されてなる。塗布装置１０によってインク受容層塗布液を塗布する場合、回転台１２を回転して光ディスクを回転させ、塗布液供給機構１６を制御してスリットダイ１４に適量の塗布液を供給する。スリットダイ１４から塗布液が吐出し、回転する光ディスク１８の表面に塗布液が塗布される。
【０１６４】
次いで、スリットダイ１４の先端形状について説明する。スリットダイ１４のスリットが延びる方向から見た断面形状を図５に示す。スリットダイの先端形状は図５に示すように、スリットの上流及び下流にディスク表面と略平行となる平面を有し、それぞれの平面の長さＬ１、Ｌ２はともに２ｍｍとした。スリット長ｔ、スリットギャップｄについては表１に示すＡ〜Ｅの形状で５つのスリットダイを作製した。
【０１６５】
【表１】
2006244565.tif 000005
【０１６６】
［実施例１−１〜１−３、比較例１−１〜１−２］
《ディスク状基板の作製》
射出成形により、表面にスパイラル状のグルーブ（ランド）とＬＰＰとを形成したポリカーボネート基板（厚さ：０．６ｍｍ、外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）を作製した。溝深さ：１４０ｎｍ、溝幅：３１０ｎｍ、溝ピッチ：７４０ｎｍであった。
【０１６７】
下記オキソノール色素（Ａ）とオキソノール色素（Ｂ）とを６５：３５の割合で混合した色素１ｇを、２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解し、記録層形成用塗布液を調製した。この記録層形成用塗布液を、得られた基板のグルーブ面に、回転数を３００〜３０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコート法により塗布し、乾燥して記録層を形成した。記録層の厚さは、記録層の断面をＳＥＭにより観察して計測したところグルーブ内では１５０ｎｍ、ランド部では１１０ｎｍであった。
【０１６８】
【化１】
2006244565.tif 000006
【０１６９】
次いで、アルゴン雰囲気中での、ＤＣスパッタリングにより、記録層上に厚さ約１５０ｎｍのＡｇからなる光反射層を形成した。なお、チャンバー内の圧力は０．５Ｐａであった。
【０１７０】
更に、光反射層上に、ＵＶ硬化性樹脂（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業（株）製）を環状にディスペンスし、別に用意したポリカーボネート製の円盤状保護基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を中心を一致させて重ね合わせ、回転数５０００ｒｐｍで３秒間回転させ、ＵＶ硬化性樹脂（ＳＤ６４０、大日本インキ化学工業（株）製）を全面に広げ且つ余分なＵＶ硬化性樹脂を振り飛ばした。ＵＶ硬化性樹脂が全面に広がったところで、高圧水銀灯により紫外線を照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、記録層及び光反射層が形成された基板と円盤状保護基板とを貼り合わせた。貼り合わせ層の厚さは２５μｍであり、気泡の混入もなく貼り合せることができた。
【０１７１】
次いで、レーザー光入射面と反対側のディスク状保護基板の表面に、以下のようにして、プリンタブル層を形成した。
【０１７２】
円盤状保護基板上に、紫外線硬化インク（Ｗｈｉｔｅ  Ｎｏ．３、帝国インキ製造（株）製）をスクリーン印刷で印刷し、印刷後、その上からメタルハライドランプで８０Ｗ／ｃｍの紫外線を照射して硬化させ８μｍの下地層（白色層）を繰り返し２層、トータルで１６μｍの厚みで形成した。スクリーンは３００本／インチメッシュ、糸径３１μｍ、オープニング３８μｍのテトロン製スクリーンを用いた。
【０１７３】
次に、下地層上にインク受容層を形成するため以下の工程を経た。
【０１７４】
−インク受容層塗布液の調製−
下記組成中の（１）気相法シリカ微粒子、（２）イオン交換水を混合し、高速回転式コロイドミル（クレアミックス、エム・テクニック（株）製）を用いて、回転数１００００ｒｐｍで２０分間分散させた。その後、その水分散物に、（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル、（４）ポリビニルアルコール９％水溶液、及び（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテルから構成される第１の溶液と、（６）硼酸、（７）媒染剤、及び（８）イオン交換水からなる第２の溶液と、をそれぞれ添加し、更に上記と同一条件で再分散を行い、インク受容層塗布液Ａを調製した。
シリカ微粒子と水溶性樹脂との質量比（ＰＢ比／（１）：（４））は、３．５：１であり、インク受容層塗布液ＡのｐＨは３．４であり、酸性を示した。
このインク受容層塗布液Ａの固形分濃度は１２質量％であった。
【０１７５】
〔インク受容層塗布液Ａの組成〕
（１）気相法シリカ微粒子（無機顔料微粒子）                        １０．０部
（平均一次粒子径７ｎｍ；アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）
（２）イオン交換水                                                ５５．２部
［第１の溶液］
（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤）              ３．５部
（エマルゲン１０９Ｐ（１０％）、花王（株）製、ＨＬＢ値１３．６）
（４）ポリビニルアルコール９％水溶液（水溶性樹脂）                ３１．７部
（ＰＶＡ４２０、（株）クラレ製、鹸化度８１．８％、重合度２，０００）
（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテル                        ０．５部
（一般式（１）で表される化合物）
［第２の溶液］
（６）硼酸（６％；架橋剤）                                          １０．４部
（７）媒染剤（ＰＡＳ−Ｆ５０００；２０％水溶液、日東紡（株）製）      ２．５部
（８）イオン交換水                                                    ５．３部
【０１７６】
−インク受容層の形成−
表１に示すＡ〜Ｅのスリットダイを用い、ウェット厚みが２００μｍのインク受容層を形成するべく、スリットダイ先端とディスク状基板表面との間隔を４００μｍとし、吐出幅方向の精度を５％以内となるように設定した。回転テーブルは、パルスモータにより回転制御するとともに、装置に敷設されたエンコーダにより角速度をモニターした。回転数は５ｒｐｍとし、この際の角速度のばらつきは１％以下であった。インク受容層塗布液の吐出は、ディスク状基板が回転を開始し角速度が立ち上がってから開始し、塗布開始部と塗布終端部がわずかに重なるように１．０５周回転した時点で吐出を停止するとともに回転も停止した。なお、本実施例及び比較例においては、塗布最内周の半径Ｒin＝９ｍｍ、塗布最外周の半径Ｒout＝５９ｍｍとした。
【０１７７】
吐出流量は上記の条件で２００μｍのウェット厚みが得られるように以下に示す計算により最適流量を求め、リニアアクチュエータによりシリンジの押し込み量を制御した。このときの吐出流量の変化は１％以下であった。
−最適流量の計算−
回転数Ω＝５（ｒｐｍ）
塗布最内周Ｒin＝９（ｍｍ）
塗布最外周Ｒout＝５９（ｍｍ）
にウェット厚みＷｔ＝２００（μｍ）塗布する場合、
単位時間当たりに塗布すべき基板面積Ｓ（ｍｍ2／ｓｅｃ）は、
Ｓ＝π・（Ｒout2−Ｒin2）・Ω／６０＝８９０（ｍｍ2／ｓｅｃ）
単位時間当たりに塗布する液量は、
Ｖ＝Ｓ・Ｗｔ＝１７８（ｍｍ3／ｓｅｃ）
となる。この流量をシリンジからスリットダイに送り込めばよい。
また、シリンジの断面積Ａ（ｍｍ）とすると、リニアアクチュエータはＶ／Ａ（ｍｍ／ｓｅｃ）の速度で移動させればよい。
【０１７８】
その後、低温低湿庫にて５℃、１０％ＲＨ環境で、表面の塗布液の流動性が抑えられるまで乾燥させた。塗膜は、この期間恒率乾燥速度を示した。その直後、熱風乾燥機にて、２０℃、２０％ＲＨの環境（風速４ｍ／ｓｅｃ）で１０分間乾燥させた。
【０１７９】
＜評価＞
上記より得られた実施例１−１〜１−３の光ディスク、及び比較例１−１〜１−２の光ディスクについて、以下の評価を行い、同時に塗布の状況を目視にて観察した。
１．厚みムラ
塗布の状況を観察するとともに図６に示す光ディスク内の６点の乾燥厚みを測定した。以下の評価基準に従い評価した。結果を表２に示す。なお、図７は同心円の外側の円が光ディスクの外周を示し、内側の円が光ディスクのセンター孔を示し、ハッチングを付した６個の小円が測定点を示している。
［評価基準」
○：１０％以下
△：１０〜１５％
×：１５〜３０％
××：３０％以上又は未塗布部あり
【０１８０】
【表２】
2006244565.tif 000007
【０１８１】
なお、表２には、最内周における吐出量Ｑinに対する最外周における吐出量のＱoutの比の理論値を示した。
【０１８２】
表２より、実施例１〜３の光ディスクのプリンタブル層（インク受容層）は厚みムラの発生が少なく、インクジェットプリンタで画像を印刷した際の画像評価においても良好な結果が得られた。これに対し、比較例１〜３の光ディスクのプリンタブル層は、多くの厚みムラが発生し、印刷した画像ににじみ等の画像不良が発生した。
【０１８３】
［実施例２−１〜２−７］
スリットダイ先端と光ディスク表面との距離を変化させるともに、内外周での距離に偏差をつけたこと以外は実施例１〜３と同様にして実施例２−１〜２−７の光ディスクを作製した。なお、スリットダイは表１のＡの形状のものを用いた。前記厚みムラの評価を既述の手法と同様にして行った。結果を表３に示す。
【０１８４】
【表３】
2006244565.tif 000008
【０１８５】
表３より、スリットダイの先端とディスク状基板表面との間隔を、形成しようとする塗膜のウェット厚み（０．２ｍｍ）の１．５〜２．５倍に設定し、かつ該間隔の一周内及び半径方向での分布を１０％以下とした実施例２−１〜実施例２−４では、それらいずれかを満足しない実施例２−５〜２−７よりも良好な結果が得られたことが分かる。
【０１８６】
［実施例３−１〜３−６］
回転数及び吐出流量を塗布開始から塗布終端に向け直線的に増加させたこと、回転数変更時は周回数が１．０５周になるように吐出時間を適宜変更したこと、及び吐出量は全体の総量が常に一定値となるように適宜決定した以外は実施例１〜３と同様にして実施例３−１〜３−６の光ディスクを作製した。前記厚みムラの評価を既述の手法と同様にして行った。結果を表４に示す。
【０１８７】
【表４】
2006244565.tif 000009
【０１８８】
表４より、スリットからの吐出量の時間変動を３０％以下とした、又はディスク状基板の角速度の時間的変化を３０％以下とした実施例３−１〜３−４は、それらいずれかを満足しない実施例３−５〜３−６よりも良好な結果が得られたことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１８９】
【図１】ディスク状基板の最内周半径ｒ1から最外周半径ｒ2までの範囲に、スリットダイを用いて塗布液を塗布する様相を示す概念図である。
【図２】スリットダイの内部を概念的に示す図である。
【図３】スリット内部のスリットギャップｄ方向における液流速をグラフで示す図である。
【図４】本発明の製造方法に使用することができる塗布装置を概念的に示す図である。
【図５】スリットダイの先端を示す断面図である。
【図６】厚みムラに評価における６点の測定点を示す図である。
【符号の説明】
【０１９０】
１０  塗布装置
１２  回転台
１４  スリットダイ
１４Ａ  マニホールド部
１４Ｂ  スリット部
１６  塗布液供給機構
１８  光ディスク
【図１】
2006244565.tif 000013
【図２】
2006244565.tif 000014
【図３】
2006244565.tif 000015
【図４】
2006244565.tif 000016
【図５】
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【図６】
2006244565.tif 000018