(57)【要約】【課題】  薄く微細な連続した金属層（金属パターン）を確実に形成することにより、電磁波シールド性能の優れた電磁波遮断フィルムを提供する。【解決手段】  透明基材の上に、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂、あるいは、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、紫外線硬化開始剤とを少なくとも含有するベースコート層を形成する第１工程と、該ベースコート層にマスクを配して紫外線を露光後、アルカリ現像し、所定パターンの樹脂層を形成する第２工程と、該樹脂層上に化学還元めっき法により金属層を形成する第３工程とを有する電磁波遮断フィルムの製造方法であって、前記ベースコート層には、前記金属層の形成を促進するめっき促進物質が含まれる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の上に、
アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂、あるいは、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、
紫外線硬化開始剤とを少なくとも含有するベースコート層を形成する第１工程と、
該ベースコート層にマスクを配して紫外線を露光後、アルカリ水溶液または水で現像し、所定パターンの樹脂層を形成する第２工程と、
該樹脂層上に化学還元めっき法により金属層を形成する第３工程とを有する電磁波遮断フィルムの製造方法であって、
前記ベースコート層には、前記金属層の形成を促進するめっき促進物質が含まれることを特徴とする電磁波遮断フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記第１工程は、前記透明基材の上に、前記紫外線硬化型樹脂または前記紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、前記紫外線硬化開始剤と、前記めっき促進物質とを含有する組成物を付着させ、乾燥することを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮断フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記第１工程は、前記透明基材の上に、前記紫外線硬化型樹脂または紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、前記紫外線硬化開始剤とを含有する組成物を付着させ、乾燥した後、前記めっき促進物質を含有する溶液を付着させ、乾燥することを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮断フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記めっき促進物質は、前記金属層を構成している金属と電気的に親和性を有する金属化合物、または、前記金属層を構成している金属と化学結合する官能基と、前記樹脂層と相溶する主骨格とを併有するカップリング剤の少なくとも一方であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の電磁波遮断フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記金属化合物は、ハロゲン化パラジウム、硝酸パラジウム、亜硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、シュウ酸パラジウム、過塩素酸パラジウム、酢酸パラジウムからなる群より選ばれる１種以上を含有するか、または、前記の群より選ばれる１種以上と、塩化第一スズ、塩化銀、塩化第一銅、塩化第二銅からなる群より選ばれる１種以上とを含有することを特徴とする請求項４に記載の電磁波遮断フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記カップリング剤は、メルカプト基、スルフィド基、アミノ基、アミド基、ウレイド基、シアノ基から選ばれた少なくとも一種の官能基を有し、かつ、アルコキシル基とアシル基の少なくとも一方を有するシラン化合物、チタン化合物、アルミニウム化合物からなる群より選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項４または５に記載の電磁波遮断フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記めっき促進物質は、前記紫外線硬化型樹脂と前記紫外線硬化型モノマーの合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部含まれることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の電磁波遮断フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などから発生する電磁波を遮蔽する電磁波遮断フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種電気機器などから発生する電磁波を遮蔽する方法については、種々検討が進められている。例えば、ＰＤＰなどの表示画面から発せられる電磁波を遮蔽する電磁波遮断フィルムには、高い電磁波シールド性能が求められるのはもちろん、画面の前に設けられるものであることから、透明性や、その存在が視認されにくいものであることなども要求される。そこで、従来は、ガラスなどの透明基材に金属薄膜からなる導電層を形成したものが一般に使用されていた。
ところが、高い電磁波シールド性能を得るためには、導電層を厚くすることが必要で、一方、導電層が厚いと透明性が低下してしまうという問題があり、電磁波シールド性能と透明性の両立が困難であった。
【０００３】
そこで、比較的最近では電磁波遮断フィルムの製造方法として、特許文献１および２に記載されているように、透明プラスチック基材に導電性材料の金属箔を接着剤で貼り付けた後、この金属箔をケミカルエッチングプロセスなどで幾何学図形に形成し、さらに幾何学図形の金属箔を特定の接着剤で被覆したり接着剤の層の中に配設したりする方法が検討されている。
【特許文献１】特許第３３８６７４３号公報
【特許文献２】特許第３３８８６８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、金属箔はある程度以上の厚さになってしまい、また、蒸着法、めっき法などで形成される金属層ほどは微細なパターンが形成されにくいという問題があった。また、蒸着法、めっき法などでも、従来、連続性のある微細なパターンを形成するのは困難であった。
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、薄く微細な連続した金属層（金属パターン）を確実に形成することにより、電磁波シールド性能の優れた電磁波遮断フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の電磁波遮断フィルムの製造方法は、透明基材の上に、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂、あるいは、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、紫外線硬化開始剤とを少なくとも含有するベースコート層を形成する第１工程と、該ベースコート層にマスクを配して紫外線を露光後、アルカリ水溶液または水で現像し、所定パターンの樹脂層を形成する第２工程と、該樹脂層上に化学還元めっき法により金属層を形成する第３工程とを有する電磁波遮断フィルムの製造方法であって、前記ベースコート層には、前記金属層の形成を促進するめっき促進物質が含まれることを特徴とする。
前記第１工程は、前記透明基材の上に、前記紫外線硬化型樹脂または前記紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、前記紫外線硬化開始剤と、前記めっき促進物質とを含有する組成物を付着させ、乾燥する工程であることが好ましい。
また、前記第１工程は、前記透明基材の上に、前記紫外線硬化型樹脂または紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、前記紫外線硬化開始剤とを含有する組成物を付着させ、乾燥した後、前記めっき促進物質を含有する溶液を付着させ、乾燥する工程であってもよい。
前記めっき促進物質は、前記金属層を構成している金属と電気的に親和性を有する金属化合物、または、前記金属層を構成している金属と化学結合する官能基と、前記樹脂層と相溶する主骨格とを併有するカップリング剤の少なくとも一方であることが好ましい。
前記金属化合物は、ハロゲン化パラジウム、硝酸パラジウム、亜硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、シュウ酸パラジウム、過塩素酸パラジウム、酢酸パラジウムからなる群より選ばれる１種以上を含有するか、または、前記の群より選ばれる１種以上と、塩化第一スズ、塩化銀、塩化第一銅、塩化第二銅からなる群より選ばれる１種以上とを含有することが好ましい。
前記カップリング剤は、メルカプト基、スルフィド基、アミノ基、アミド基、ウレイド基、シアノ基から選ばれた少なくとも一種の官能基を有し、かつ、アルコキシル基とアシル基の少なくとも一方を有するシラン化合物、チタン化合物、アルミニウム化合物からなる群より選ばれる１種以上であることが好ましい。
前記めっき促進物質は、前記紫外線硬化型樹脂と前記紫外線硬化型モノマーの合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部含まれることが好ましい。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の電磁波遮断フィルムの製造方法によれば、ベースコート層には金属層の形成を促進するめっき促進物質が含まれ、その結果、金属層が形成される樹脂層にめっき促進物質が存在した状態となるので、薄く微細な連続したパターンを有する金属層を確実に形成でき、電磁波シールド性能の優れた電磁波遮断フィルムを製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明について実施形態例を挙げて詳細に説明する。
第１の実施形態例においては、まず、透明基材の上に、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂、あるいは、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、紫外線硬化開始剤と、めっき促進物質とを少なくとも含有する組成物を塗布するなどして付着させ、乾燥し、ベースコート層を形成する第１工程を行う。
【０００９】
ここで透明基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などの樹脂からなるフィルムであり、全可視光透過率が７０％以上であるものが好ましい。また、透明基材は、これら樹脂のうち１種以上から形成された単層フィルムでもよいし、多層フィルムでもよい。好ましい透明基材としては、透明性、耐熱性、取扱性に優れるうえ、安価であることから、ＰＥＴフィルムが挙げられる。また、透明基材の厚さは５〜５００μｍが好ましい。５μｍ未満では、取扱性が悪く、５００μｍを超えると可視光透過率が低下し、電磁波遮断フィルムへの使用に適さない可能性がある。より好ましくは１０〜２００μｍである。
【００１０】
アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基などラジカル反応性のエチレン性不飽和結合を含有するアクリル樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂などであって、カルボキシル基、スルフォキシル基などアルカリ可溶性の酸性官能基をポリマーに導入したもの、または、水酸基、（ポリ）エチレングリコール基、塩など親水性官能基をポリマーに導入したものを用いることができる。好ましい具体例としては、カルボキシル基導入のエポキシアクリレートである新中村化学製のＮＫオリゴ（ＥＡ−６３４０）などが挙げられる。
また、現像性を損なわない範囲に限り、上記以外の樹脂を併用できる。
【００１１】
アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基などラジカル反応性のエチレン性不飽和結合を含有するモノマーであって、カルボキシル基、スルフォキシル基などアルカリ可溶性の酸性官能基、または水酸基、複素環、（ポリ）エチレングリコール鎖、塩など親水性官能基を有するものを用いることができる。好ましい具体例としては、（メタ）アクリル酸、ｐ−スチレンスルフォン酸、マレイン酸、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−アクリロイルフォリン、ビニルカプロラクタム、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、（メタ）アクリル酸ナトリウム、ｐ−スチレンスルフォン酸ナトリウム、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートクロライドなどが挙げられ、これらを単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、現像性を損なわない範囲に限り上記以外のモノマーを併用できる。
また、上記の紫外線硬化型樹脂と紫外線硬化型モノマーは併用してもよいし、いずれか一方のみ使用してもよい。
【００１２】
紫外線硬化開始剤の具体例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシー２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシー２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等のアミノアセトフェノン類；２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン等のアントラキノン類；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；又はキサントン類；（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネイト等のフォスフィンオキサイド類；各種パーオキサイド類などが挙げられ、これらを単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。好ましい具体例としては、チバスペシャリティケミカルズのイルガキュア５００が挙げられる。
紫外線硬化開始剤は、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂と、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーとの合計１００質量部に対して、０．５〜２０質量部の範囲で使用されることが好ましい。
【００１３】
本発明においてめっき促進物質とは、後述する第３工程において金属層の形成を促進し、ベースコート層との密着性を改善するためのものであって、具体的には、金属層を構成する金属と電気的に親和性を有し、金属層の核となる金属化合物や、金属層を構成する金属と化学結合する官能基を有するとともに後述する第２工程で形成される樹脂層と相溶する主骨格を有することにより、樹脂層の上に選択的に金属層を形成させるカップリング剤を例示できる。
金属化合物としては、ハロゲン化パラジウム、硝酸パラジウム、亜硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、シュウ酸パラジウム、過塩素酸パラジウム、酢酸パラジウムからなる群より選ばれる１種以上を含有するか、または、前記の群より選ばれる１種以上と、塩化第一スズ、塩化銀、塩化第一銅、塩化第二銅からなる群より選ばれる１種以上をさらに含有するものが好ましい。より好ましくは、塩化パラジウムと塩化第一スズとを併用する。
また、カップリング剤としては、メルカプト基、スルフィド基、アミノ基、アミド基、ウレイド基、シアノ基から選ばれた少なくとも一種の官能基を有し、かつ、アルコキシル基とアシル基の少なくとも一方を有するシラン化合物、チタン化合物、アルミニウム化合物からなる群より選ばれる１種以上を使用する。シラン化合物の具体例としては、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メチルチオプロピオン酸エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシランが挙げられる。チタン化合物、アルミニウム化合物としては、これらシラン化合物のシリコンの代わりに、チタン、アルミニウムをそれぞれ有する化合物が例示できる。
これら、金属化合物およびカップリング剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１４】
第１工程の具体的な方法としては、例えば、アルカリ可溶性の紫外線硬化型樹脂の樹脂液と、水溶性の紫外線硬化型モノマーと、紫外線硬化開始剤と、塩化パラジウム、塩化第一スズなどのめっき促進物質と、必要に応じて使用される硫酸バリウム、炭酸カルシウムなどの体質顔料および鉄黒（酸化鉄系）などの黒色顔料と、トルエン、メチルイソブチルケトンなどの有機溶媒とを、ジルコニアビーズなどの分散メディアを備えたペイントシェーカーなどの分散攪拌容器、または３本ロールミルなどで分散攪拌し、スラリー状の組成物とする。また、ここで各成分は、あらかじめ水、有機溶媒などに溶解しておいてもよい。
なお、ここで体質顔料は、めっき促進物質として金属化合物を使用した場合、その分散安定性を向上させたり、形成する金属層のパターンをよりシャープにしたり、さらには、形成するベースコート層の表面タックを軽減したりするために使用される。また、ここで黒色顔料は、形成される金属層からの反射光を防止するために、組成物の紫外線硬化性を損なわない程度に添加される。
ついで、必要に応じてこのスラリー状の組成物をシンナーなどで希釈した後、透明基材上に、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、浸漬法、ロールコーティング方法、カーテンコーティング方法、スプレー塗装法などで２〜３０μｍの厚みに付着させた後、８０℃、３０分間程度の条件で乾燥し、ベースコート層を形成する。
【００１５】
ここで組成物中における各成分の含有比には特に制限はないが、紫外線硬化型樹脂と紫外線硬化型モノマーとの合計を１００質量部とした場合に、めっき促進物質は好ましくは０．１〜２０質量部、より好ましくは０．５〜５質量部である。ここで、めっき促進物質が０．１質量部未満では、めっき促進剤を添加した効果が十分とならず、形成される金属層のパターンが一部不連続となる可能性がある。一方、めっき促進物質が２０質量部を超えると、形成される金属層のパターンが一部滲む場合がある。また、紫外線硬化型樹脂と紫外線硬化型モノマーとの合計を１００質量部とした場合、紫外線硬化開始剤は通常、０．５〜２０質量部、体質顔料は０〜１００質量部である。
また、ここで形成されたベースコート層の厚さは、通常２〜３０μｍである。
【００１６】
ついで第２工程において、第１工程で形成されたベースコート層の上に、例えば線幅２０μｍ、間隔１００μｍの正方形メッシュ（開口率６４％）など所定のパターンのマスクを配して紫外線露光する。ここで紫外線の照射は、高圧水銀灯、ハロゲンランプ、レーザー光メタルハライドランプ、ブラックランプ、無電極ランプなどを使用して１００〜２０００ｍJ／ｃｍ２程度の条件で行う。
ついで、例えば炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ケイ酸ナトリウムなどの金属アルカリ水溶液や、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン水溶液などのアルカリ水溶液からなる現像液、または蒸留水、イオン交換水を、３ｋｇ／ｃｍ２のスプレー圧で３０秒間程度スプレーする方法、あるいはこのような現像液に浸漬する方法などにより未露光部分を十分に除去して現像し、さらに、イオン交換水を吹き付けるなどの方法で水洗することによって、所定のパターンの樹脂層を形成する。
【００１７】
ついで、このように第２工程で形成された樹脂層の上に、化学還元めっき法により、金属層を選択的に形成する第３工程を行う。金属層は、銀、銅、ニッケル、パラジウム、金、白金、ロジウム、スズ、コバルト、鉛、ルテニウムなどの金属から形成されることが好ましいが、特に銀は電気導電性に優れるため好ましい。
具体的には、例えば硝酸銀などの金属塩を０．２〜１．０％の濃度で含有するアンモニア水溶液などのめっき液と、グリオキサール、ホルムアルデヒド、硫酸ヒドラジン、水酸化ヒドラジンなどの還元剤を０．５〜２．０％の濃度で含有する還元液とが同体積ずつ吐出されるように２ヘッドタイプのスプレーを調整し、３ｋｇ／ｃｍ２などの条件で約１０〜３０秒間、樹脂層の上に同量ずつ吹き付ける。このように吹き付けた後、所定時間静置することにより、めっき液から金属が還元析出し、樹脂層の上に金属層が形成される。金属層が形成された後には、イオン交換水を吹き付けるなどの方法で水洗後、８０℃、３０分間の条件などで乾燥する。
【００１８】
ここで形成される金属層は、通常、線幅１０〜５０μｍで、線同士の間隔が１００〜５００μｍ、開口率が５０〜９６％の正方形、長方形などのメッシュパターンとなる。
【００１９】
このように、第１工程において、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂、あるいは、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、紫外線硬化開始剤とに加え、めっき促進物質を含有する組成物からベースコート層を形成することによって、形成されたベースコート層の表面には、めっき促進物質の少なくとも一部が存在することとなる。そして、その後第２工程で形成された樹脂層の表面にもめっき促進物質が存在した状態となる。
その結果、第３工程でこの樹脂層の表面に金属層を形成する際において、めっき促進物質である金属化合物が金属層の核として作用したり、カップリング剤が樹脂層の上に選択的に金属層が形成するように作用したりして、途切れや滲みのない、薄く微細な連続した金属層を樹脂層上に選択的かつ確実に形成することができる。
【００２０】
以上説明した第１の実施形態例では、第１工程において、透明基材の上に、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂と、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、紫外線硬化開始剤と、めっき促進物質とを含有する組成物を付着させ、乾燥し、ベースコート層を形成したが、このような紫外線硬化型樹脂と、紫外線硬化型モノマーと、紫外線硬化開始剤と、めっき促進物質とを少なくとも含有するベースコート層が透明基材上に形成されればよく、その具体的方法には制限はない。
例えば、第２の実施形態例として、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型樹脂、あるいは、アルカリ可溶性または水溶性の紫外線硬化型モノマーの少なくとも一方と、紫外線硬化開始剤とを含有する組成物を塗布するなどして透明基材の上に付着させ、乾燥した後、めっき促進物質を含有する溶液を透明基材の上に別途付着させ、乾燥することによって、ベースコート層を形成する方法が例示できる。
めっき促進物質を含有する溶液としては、例えば塩化パラジウムと塩化第一スズを含む水溶液、好ましくは塩化パラジウム濃度および塩化第一スズ濃度が０．００１〜１質量％、より好ましくは０．０１〜１質量％の水溶液や、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランのトルエン溶液、好ましくはγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン濃度が０．０１〜１質量％程度のトルエン溶液などが挙げられ、これら溶液を、例えば、３ｋｇ／ｃｍ２などの条件で３０秒間スプレーすればよい。
このような方法によれば、大部分のめっき促進物質がベースコート層の表面近傍に存在することとなるので、第１の実施形態例よりも少ないめっき促進物質の使用量で、同等の効果を得ることができる。第２工程以降については、第１の実施形態例と同様に行えばよい。
【００２１】
このような電磁波遮断フィルムの製造方法によれば、ベースコート層には、金属層の形成を促進するめっき促進物質が含まれ、その結果、金属層が形成される樹脂層にめっき促進物質が存在した状態となるので、薄く微細な連続したパターンを有する金属層を確実に形成でき、電磁波シールド性能の優れた電磁波遮断フィルムを製造できる。
【実施例】
【００２２】
以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。
［試験例１］
１）第１工程
透明基材として、厚さ１００μｍであって、全可視光透過率８５％（ＪＩＳ  Ｋ６７１４）のＰＥＴフィルム（東レ製、ルミラー１００−Ｓ１０）を用意した。
アルカリ可溶性の紫外線硬化型樹脂であるフェノールノボラックタイプのエポキシアクリレート（樹脂分７０質量％、新中村化学製ＮＫオリゴ、ＥＡ−６３４０）と、水溶性の紫外線硬化型モノマーであるＮ−ビニルピロリドンと、紫外線硬化開始剤であるチバスペシャリティケミカルズのイルガキュアー５００と、めっき促進物質である塩化パラジウムおよび塩化第一スズと、体質顔料である硫酸バリウム（堺化学製バリファインＢＦ−２０）と、黒色酸化鉄顔料（大日精化製ダイピロキサイドブラック♯９５１０）と、有機溶媒であるトルエンとを表１に示す質量比で含有する組成物を、直径１ｍｍφのジルコニアビーズを攪拌メディアとして備えたペイントシェーカーで攪拌、調製した。
この組成物１００質量部に対して、５０質量部のシンナー（キシレン／ジイソブチルケトン＝５０／５０質量比）を加えた溶液を、ＰＥＴフィルムにスプレー塗装法で塗装し、バッチ式温風対流型乾燥機で８０℃、３０分間乾燥し、膜厚５μｍ（電磁膜厚計による）のベースコート層を形成した。
【００２３】
２）第２工程
第１工程で形成されたベースコート層の上に、線幅２０μｍ、間隔１００μｍの正方形メッシュ（開口率６４％）のマスクを配して紫外線露光（高圧水銀灯、８００ｍJ／ｃｍ２）した。ついで、現像液として１％炭酸水素ナトリウム水溶液を、３ｋｇ／ｃｍ２のスプレー圧で３０秒間程度スプレーして未露光部分を十分に除去して現像し、正方形メッシュパターンの樹脂層を形成した。さらに、イオン交換水を３ｋｇ／ｃｍ２のスプレー圧で１０〜３０秒間吹き付けて水洗した。
【００２４】
３）第３工程
第２工程で形成された樹脂層の上に、化学還元めっき法により金属層を形成した。すなわち、銀化合物として硝酸銀を含有するめっき液（濃度０．４４％）と、還元剤としてヒドラジンを含有する還元液（濃度０．４７％）とを、２ヘッドタイプのスプレーに充填し、これら２液が同体積ずつスプレーされるように調整し、３ｋｇ／ｃｍ２、１０〜３０秒間の条件で樹脂層の上に吹き付けた。その後、１分間静置して、めっき液から金属を還元析出させ、樹脂層の上に銀からなる金属層を形成した。その後、イオン交換水を３ｋｇ／ｃｍ２のスプレー圧で１０〜３０秒間吹き付けて水洗し、バッチ式温風対流型乾燥機で８０℃、３０分間乾燥した。
【００２５】
４）測定および評価
第３工程で形成された銀からなる金属層について、以下の測定および評価を行った。
結果を表２に示す。
ａ）顕微鏡による外観観察
表中、記号は以下の内容を示す。
Ａ：滲みがなく連続した非常に良好な金属層が形成された。
Ｂ：若干滲みがあるが連続性のある良好な金属層が形成された。
Ｃ：連続性が若干劣るが滲みのない良好な金属層が形成された。
×：連続した金属層が形成されなかった。
ｂ）金属層の厚さの測定
特に良好な金属層が形成されたものについてのみ、顕微鏡での断面観察より計測した。
ｃ）表面電気抵抗値
特に良好な金属層が形成されたものについてのみ、電極幅１ｃｍ、間隔１ｃｍの電極を用いて電気抵抗値を測定した。
【００２６】
【表１】
2006012891.tif 000002
【００２７】
【表２】
2006012891.tif 000003
【００２８】
［試験例２〜７］
第１工程における組成物の組成を表１に示すようにした以外は試験例１と同様にして第１〜第３工程を行い、測定、評価も同様に行った。結果を表２に示す。
【００２９】
［試験例８］
１）第１工程
アルカリ可溶性の紫外線硬化型樹脂であるフェノールノボラックタイプのエポキシアクリレート（樹脂分７０質量％、新中村化学製ＮＫオリゴ、ＥＡ−６３４０）と、水溶性の紫外線硬化型モノマーであるＮ−ビニルピロリドンと、紫外線硬化開始剤であるチバスペシャリティケミカルズのイルガキュアー５００と、体質顔料である硫酸バリウム（堺化学製バリファインＢＦ−２０）と、黒色酸化鉄顔料（大日精化製ダイピロキサイドブラック♯９５１０）と、有機溶媒であるトルエンとを、試験例７と同じ質量比で含有する組成物を、直径１ｍｍφのジルコニアビーズを攪拌メディアとして備えたペイントシェーカーで攪拌、調製した。
この組成物１００質量部に対して、５０質量部のシンナー（キシレン／ジイソブチルケトン＝５０／５０質量比）を加えた溶液を、ＰＥＴフィルムにスプレー塗装法で塗装し、バッチ式温風対流型乾燥機で８０℃、３０分間乾燥し、膜厚５μｍ（電磁膜厚計による）のベースコート第１層を形成した。
ついで、めっき促進物質として塩化パラジウムと塩化第一スズと、３７質量％の濃塩酸と、イオン交換水とを表３に示す質量比で配合した表面処理液を調製し、これをベースコート第１層の上に、３ｋｇ／ｃｍ２のスプレー圧で３０秒間吹き付けた後、バッチ式温風対流型乾燥機で８０℃、３０分間乾燥した。
２）第２工程、３）第３工程、４）測定および評価は、試験例１と同様に行った。結果を表４示す。
【００３０】
【表３】
2006012891.tif 000004
【００３１】
【表４】
2006012891.tif 000005
【００３２】
［試験例９〜１３］
第１工程における表面処理液の組成を表３に示すようにした以外は試験例８と同様にして第１〜第３工程を行い、測定、評価も同様に行った。結果を表４に示す。
【００３３】
表から明らかなように、めっき促進物質をベースコート層に含有させることによって、連続性が優れた薄膜を形成することができた。