(57)【要約】【課題】  カソード電極のエッチングやめっき膜の不均一分布の発生を効果的に防止できるウエハ把持機構を提供する。【解決手段】  基板処理装置の台座上に処理すべきウエハを搬送するロボット装置のウエハ把持機構であって、搬送すべきウエハの外周端に当接してウエハを把持するアーム部材と、把持したウエハを台座上に案内する案内部材とを備えている。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置の台座上に処理すべきウエハを搬送するロボット装置のウエハ把持機構であって、搬送すべきウエハの外周端に当接して該ウエハを把持するアーム部材と、該把持したウエハを前記台座上に案内する案内部材とを備えたことを特徴とするウエハ把持機構。
【請求項２】
前記案内部材が、前記台座の外周位置をティーチングする複数の案内ロッドを含んでいることを特徴とする請求項１に記載のウエハ把持機構。
【請求項３】
前記案内部材が、前記アーム部材に取り付けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のウエハ把持機構。
【請求項４】
前記アーム部材が、前記ウエハの外周端に複数方向から当接して把持する複数のアームを含んでいることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のウエハ把持機構。
【請求項５】
前記基板処理装置が、電解めっき処理装置であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のウエハ把持機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばめっき処理装置等の基板処理装置においてウエハを搬送するロボット装置のウエハ把持機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
フェイスアップ型電解めっき処理装置においては、ウエハ搬送装置によってウエハをウエハ台（台座）上に搬送し、このウエハ台をめっき槽の底面の開口まで上昇させてこの開口を閉塞し、めっき液を満たしてめっき処理を行なう（例えば、特許文献１）。
【０００３】
このようなウエハ台上にウエハを搬送する場合、従来は、図１に示すごときロボット爪を用いていた。即ち、先端部にウエハ１０の端縁部が入り込む凹溝１１ａを有する４本のロボット爪１１によってこのウエハ１０を掴み、ウエハ１０とほぼ同寸法の円形のウエハ台１２まで搬送してその上に載置するものである。このような構造のロボット爪１１を使用する場合、ウエハ台１２には、ロボット爪１１の先端部を受け入れる４つの切り欠き１２ａを設ける必要がある。こられ切り欠き１２ａは、ウエハ１０を掴んだロボット爪１１をウエハ台１２の所望の位置に載置するための位置決めの役割をも有している。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１７２７９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような切り欠き１２ａを有するウエハ台１２を用いて電解めっき処理を行なうと、めっき液がこれら切り欠き１２ａの部分を通って外部に回り込み、その部分のカソード電極がエッチングされ易くなる。また、その切り欠きによってカソード電極がウエハに均等に押し当たらず抵抗差が生じることから、めっき膜の分布が均一とならないおそれがある。
【０００６】
従って本発明の目的は、カソード電極のエッチングやめっき膜の不均一分布の発生を効果的に防止できるウエハ把持機構を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、基板処理装置の台座上に処理すべきウエハを搬送するロボット装置のウエハ把持機構であって、搬送すべきウエハの外周端に当接してウエハを把持するアーム部材と、把持したウエハを台座上に案内する案内部材とを備えたウエハ把持機構が提供される。
【０００８】
アーム部材が搬送すべきウエハの外周端に当接してウエハを把持し、案内部材が把持したウエハを台座上に案内する。従って、台座に従来のように切り欠きを設ける必要がなくなる。その結果、めっき処理装置においては、カソード電極の不要なエッチングやめっき膜の不均一分布の発生がなくなり、基板処理装置の保守が容易になるのみならず、良好な分布のめっき膜を提供可能となる。
【０００９】
案内部材が、台座の外周位置をティーチングする複数の案内ロッドを含んでいることが好ましい。
【００１０】
案内部材が、アーム部材に取り付けられていることも好ましい。
【００１１】
アーム部材が、ウエハの外周端に複数方向から当接して把持する複数のアームを含んでいることも好ましい。
【００１２】
基板処理装置が、電解めっき処理装置、特にフェイスアップ型の電解めっき処理装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、めっき処理装置においては、カソード電極の不要なエッチングやめっき膜の不均一分布の発生がなくなり、基板処理装置の保守が容易になるのみならず、良好な分布のめっき膜を提供可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図２は本発明の一実施形態として、ウエハ把持機構の構成を説明するための平面図であり、図３はウエハ把持機構及び台座部分を概略的に示す側面図である。
【００１５】
これらの図において、２０は半導体ウエハ、薄膜ウエハ等のめっき処理するウエハ、２１はこのウエハ２０を把持するための２つのアーム部材、２２はフェイスアップ型の電解めっき処理装置におけるウエハ用の台座、２３は台座２２へのウエハの案内部材をそれぞれ示している。
【００１６】
アーム部材２１は、ウエハ２０の外周端に両側から当接させ多少の押圧力をかけてこれを挟み、その摩擦力によってウエハ２０を把持するものである。本実施形態においては、２つのアーム部材２１がウエハ２０の両側にそれぞれ設けられている。各アーム部材２１の厚さは１０〜２０ｍｍ程度である。
【００１７】
案内部材２３は、本実施形態では、アーム部材２１に一端が固着された４本の直線状の案内ロッドからなっており、ウエハ２０と同寸法かそれよりわずかに大きい径を有する円形の台座２２の４カ所の外周位置をティーチングするように構成されている。
【００１８】
ウエハ２０の搬送及びめっき処理は、次のようにして行なわれる。
【００１９】
まず、ウエハ把持機構の２つのアーム部材２１が、搬送すべきウエハ２０の両端を押圧して掴み、台座２２の上に移動する。次いで、案内ロッド２３を台座２２の外周面に沿わせた状態でアーム部材２１を下降させ、台座２２の頂面上にウエハ２０を載置して解放する。次いで、アーム部材２１は待機位置に移動する。その後、台座２２が上昇して図示しないめっき槽の底面の開口を閉塞し、めっき槽にめっき液が満たされてめっき処理が行なわれる。
【００２０】
めっき処理後のウエハ２０の搬送も同様にして行なわれる。
【００２１】
このように、本実施形態によれば、アーム部材２１がウエハ２０の外周端に当接してこのウエハ２０を把持するので、台座に従来のように切り欠きを設ける必要がなくなる。このため、フェイスアップ型の電解めっき処理装置において、めっき液の回り込みを確実に防止でき、カソード電極のエッチングを防ぐことができる。また、切り欠きがないため、ウエハ２０を均一な圧力でカソード電極に接触させることができるから、めっき膜の不均一分布の発生がなくなる。その結果、めっき処理装置の保守が容易になるのみならず、良好な分布のめっき膜を提供可能となる。また、台座に切り欠きが無くとも、案内部材２３が、ウエハ２０を台座２２上の位置に案内するので、位置決めも正確に行なわれる。
【００２２】
なお、アーム部材２１の数及び形状並びに案内部材２３の数及び形状は上述した実施形態の例に限定されるものではない。ただし、当然のことながら、アーム部材２１及び案内部材２３は、それぞれ複数個設けられている。
【００２３】
以上述べた実施形態は全て本発明を例示的に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することができる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均等範囲によってのみ規定されるものである。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】従来のウエハ搬送装置におけるロボット爪及びウエハ台の構成を概略的に示す側面図である。
【図２】本発明の一実施形態として、ウエハ把持機構の構成を説明するための平面図である。
【図３】図２の実施形態におけるウエハ把持機構及び台座部分を概略的に示す側面図である。
【符号の説明】
【００２５】
１０、２０  ウエハ
１１  ロボット爪
１１ａ  凹溝
１２  ウエハ台
１２ａ  切り欠き
２１  アーム部材
２２  台座
２３  案内部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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