(57)【要約】【課題】  本発明は、環境制御されたチャンバー内部に基板の搬出入を行うロードロック機構において、チャンバー内部とロードロック内部の圧力差を短時間でなくし、ロードロック内部とチャンバー内部を繋いだときのパーティクルの巻き上げ等を防止することのできるロードロック機構を提供することを目的とする。【解決手段】  本発明は、互いに独立した2つ以上の異なる雰囲気の空間のそれぞれとゲートバルブを介して連結自在であるロードロック機構において、前記空間のうち少なくとも1つの空間と、少なくとも1つのロードロック機構とを、少なくとも１つの圧力調整手段を介して連結したことを特徴とする。【選択図】  図１
2006012964.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに独立した２つ以上の異なる雰囲気の空間のそれぞれとゲートバルブを介して連結自在であるロードロック機構において、前記空間のうち少なくとも１つの空間と、少なくとも１つのロードロック機構とを、少なくとも１つの圧力調整手段を介して連結したことを特徴とするロードロック機構。
【請求項２】
前記ロードロック機構において、前記ロードロック機構の圧力調整手段により、圧力調整手段を介して連結された空間とロードロック機構とを等しい圧力にすることを特徴とする請求項１記載のロードロック機構。
【請求項３】
前記ロードロック機構において、前記ロードロック機構の圧力調整手段につなぐ少なくとも一つの配管に流量絞りを配置したことを特徴とする請求項１記載のロードロック機構。
【請求項４】
前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段がシリンダー機能を有した機構であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載のロードロック機構。
【請求項５】
前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段が膜によって区切られた筒体機構であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載のロードロック機構。
【請求項６】
前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段の前記筒体機構を区切っている膜が、弾性を持った膜であることを特徴とする請求項５記載のロードロック機構。
【請求項７】
前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段の前記筒体機構を区切っている膜が、筒体断面積より大きい面積の膜であることを特徴とする請求項５又は６に記載のロードロック機構。
【請求項８】
前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段が仕切り板によって区切られたジャバラ機構であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載のロードロック機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体製造システムにおいて、密封されたクリーンな環境を大気等によって汚染することなくウェハなどの搬出入するのに用いられるロードロック機構に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に半導体製造システムは複数の処理をウェハに行うことにより製造されており、各々の処理において、各々の処理に適する環境に環境制御された状態で処理が行われている。しかしながら各々の装置に適する環境はそれぞれの異なるため、各々の処理装置及び搬送中においてウェハの環境を管理する必要性が出てきている。
【０００３】
特に半導体ウェハや液晶表示基板等の基板に回路パターンなどの微細パターンを転写する半導体露光装置においては、転写パターンの微細化とスループットの向上が求められている。転写パターンの微細化のために半導体露光装置では、露光光の波長を短波長化しなければならず、露光波長が３６５ｎｍのｉ線から最近では２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーの開発が行われている。また今後更なる微細化のために、１５７ｎｍのＦ２エキシマレーザー、ＥＵＶの開発が必要とされている。
【０００４】
しかしＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー、ＥＵＶは大気中での減衰が激しいため、半導体露光装置の露光部を露光チャンバー内に収納し、前記露光チャンバーを上記レーザー光の減衰の少ない減圧空間、またはＮ２、Ｈｅ等の不活性ガスでのパージ空間にし、減圧空間またはパージ空間での露光を行う必要がある。
【０００５】
このような前記減圧またはパージ空間である露光チャンバー内部に効率よくウェハ、レチクルの搬出入を行うためにロードロック機構を外部空間との連絡部に設けられている。外部からウェハ、レチクルを搬入する場合には、一旦ロードロック空間を外気と遮断した後、ロードロック機構内を減圧、または不活性ガスでパージした後、露光チャンバー内部に搬入する。また露光装置からウェハ、レチクルを搬出する場合には、一旦ロードロック空間を露光チャンバーと遮断した後、ロードロック機構内を大気開放した後、外部空間に搬出する。
【特許文献１】特開平５−２９２６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記ロードロック機構を用いてウェハまたはレチクルを搬出入する際、ロードロック室を露光チャンバー内部と同程度まで減圧を行っている。しかしロードロック室と露光チャンバー内部の容積の違いや、真空引きポンプの能力の違い等により、ロードロック内部と露光チャンバー内部との間に微小な圧力差が生じてしまう。ロードロック内部と露光チャンバー内部との間に微小な圧力差があると、ロードロックを開放するときに微小な圧力差により空気の流れが生じ、ロードロック内部または露光チャンバー内部にパーティクルの巻き上げが発生して、ウェハやレチクルへのパーティクルの付着等の問題を生じていた。
【０００７】
半導体露光装置内部でのパーティクルの巻き上げは、ウェハおよびレチクルへのパーティクルの付着による半導体デバイスの歩留まりの低下、また露光装置自体の故障原因ともなるので、露光装置内部でのパーティクル減少は必要とされている。
【０００８】
またロードロック内部と露光チャンバー内部の圧力差によるパーティクルの巻き上げを防止するために、露光チャンバーと同一の圧力にするようにロードロックの圧力制御を精確に行おうとすると、露光チャンバーとロードロックの圧力を精確に計測するセンサーが必要なだけではなく、露光チャンバーとロードロックの圧力制御も大変長い時間かかってしまう。
【０００９】
上記のような課題がでてきたため、本発明の目的は、環境制御されたチャンバー内部に基板の搬出入を行うロードロック機構において、チャンバー内部とロードロック内部の圧力差を短時間でなくし、ロードロック内部とチャンバー内部を繋いだときのパーティクルの巻き上げ等を防止することのできるロードロック機構を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本出願に係る第１の発明は、互いに独立した２つ以上の異なる雰囲気の空間のそれぞれとゲートバルブを介して連結自在であるロードロック機構において、前記空間のうち少なくとも１つの空間と、少なくとも１つのロードロック機構とを、少なくとも１つの圧力調整手段を介して連結したことを特徴とする。
【００１１】
請求項２の発明では、前記ロードロック機構において、前記ロードロック機構の圧力調整手段により、圧力調整手段を介して連結された空間とロードロック機構とを等しい圧力にすることを特徴とする。
【００１２】
請求項３の発明では、前記ロードロック機構において、前記ロードロック機構の圧力調整手段につなぐ少なくとも一つの配管に流量絞りを配置したことを特徴とする。
【００１３】
請求項４の発明では、前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段がシリンダー機能を有した機構であることを特徴とする。
【００１４】
請求項５の発明では、前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段が膜によって区切られた筒体機構であることを特徴とする。
【００１５】
請求項６の発明では、前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段の前記筒体機構を区切っている膜が、弾性を持った膜であることを特徴とする。
【００１６】
請求項７の発明では、前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段の前記筒体機構を区切っている膜が、筒体断面積より大きい面積の膜であることを特徴とする。
【００１７】
請求項８の発明では、前記ロードロック機構において、前記圧力調整手段が仕切り板によって区切られたジャバラ機構であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、ロードロック機構とロードロック室と連通される装置の間をシリンダー機構等によって繋ぐことにより、処理室内の圧力とロードロック室内の圧力が近傍になると、微妙な圧力変動及び圧力残差はシリンダー部が移動することにより吸収され、処理室内とロードロック室内が均圧にすることができる。
【００１９】
また処理室内とロードロック室内の間の微妙な圧力変動及び圧力残差は、シリンダー部等によって吸収されるので、きわめて精確なロードロック室内の圧力調整が必要なく、ロードロック室の圧力調整時間を高速に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面により本発明の実施例を説明する。
【００２１】
図１は、本発明の第一実施例に係るロードロック機構の側面図を示す。
【００２２】
この実施例において、図１は第一実施形態の半導体製造装置を示すもので、基板６の処理を行う処理室１は、大気圧よりも減圧され不活性ガスであるＮ２雰囲気に制御されており、また大気圧の空気雰囲気の搬送室２より処理室１内に基板６の供給・回収を行う。処理室１と搬送室２との間にそれぞれと連通自在である密閉空間を有するロードロック室３を配置し、処理室１とロードロック室３の間に開閉自在の扉である４で示すゲートバルブ１を設け、搬送室２とロードロック室３の間に開閉自在の扉である５で示すゲートバルブ２を設ける。
【００２３】
ロードロック室３内には基板戴置台１２を備えており、搬送室２より供給され処理室１内に搬送される基板６を、また処理室１で処理され搬送室２に戻される基板６をロードロック室３内部に一時的に保管することができる。また、ロードロック室３は、ロードロック室３内の空気を排気するための真空ポンプ７と、真空ポンプ７により減圧されたロードロック室３内にＮ２を供給するためのＮ２供給源８と、減圧されたロードロック室３内を大気圧雰囲気に戻すためにロードロック室３内に空気を供給するＡｉｒ源９を備える。
【００２４】
本実施例のロードロック室３は、処理室１とロードロック室３の間を均圧用シリンダー１０を介して連結されている。均圧用シリンダー１０内のピストン１１は非常にわずかな軽い作動力で動くことが可能で、ピストン１１が移動することにより、ピストン１１で隔てられている処理室１側の領域体積とロードロック３側の領域体積を変化させることができる。このことにより処理室１とロードロック室３の間のわずかな圧力差があると、均圧用シリンダー１０内のピストン１１は移動し、均圧用シリンダー１０内の処理室１側の領域体積とロードロック室３側の領域体積を変化させることが可能である。
【００２５】
本実施例のロードロック機構において、大気雰囲気である搬送室２から、減圧Ｎ２パージ雰囲気の処理室１に基板６を搬送するシーケンスを説明する。このシーケンスは以下のようなシーケンスから成り立っており、初期状態においては４で示すゲートバルブ１、５で示すゲートバルブ２とも閉じており、ロードロック室３内は大気圧の空気雰囲気となっている。
【００２６】
搬送室２とロードロック室３の間の５で示すゲートバルブ２を開け、搬送室２内の搬送装置１３により、ロードロック室３内に基板６を搬送し、基板戴置台１２の上に基板６を戴置する。搬送室２とロードロック室３の間の５で示すゲートバルブ２を閉め、ロードロック室３が密閉状態になった状態で真空ポンプ７によって、ロードロック室３内を所定の真空度まで真空排気する。ロードロック室３内が所定の真空度に達した後、Ｎ２供給源８よりＮ２を供給して、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が同一の圧力になるように調整を行い、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が同一の圧力になった時点で４で示すゲートバルブ１を開け、図示していない搬送装置によって処理室１内に基板６を搬送し、４で示すゲートバルブ１を閉じ処理室１を密閉空間とし、処理室１内で所望の処理を基板６に行う。
【００２７】
上記シーケンスでは、ロードロック室３内が所定の真空度に達した後、Ｎ２供給源８よりＮ２を供給して、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が同一の圧力になるように調整を行っているのだが、本実施例では均圧用シリンダー１０を用いて以下のような方法で処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が同一の圧力になるように調整を行っている。
【００２８】
ロードロック室３を真空ポンプ７によって所定の真空度まで真空排気する時点では、ロードロック室３の圧力は処理室１の圧力よりも小さくなっているので、均圧用シリンダー１０内のピストン１１は処理室１内の圧力に押されて均圧用シリンダー１０のロードロック側端部まで移動している。
【００２９】
ロードロック室３にＮ２供給源８よりＮ２を供給して、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力の差が、ロードロック室３の体積、処理室１の体積、均圧用シリンダー１０の体積、ロードロック室３の圧力、処理室１の圧力によって決まる所定の圧力範囲に入ると、均圧用シリンダー１０の中のピストン１１は均圧シリンダー１０内をロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になるように所定の位置に移動する。図２はロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になるようにピストン１１が移動している様子を表した図であり、たとえばロードロック室３の圧力が処理室１の圧力よりも大きくなれば、図２−ｃのように、ロードロック室３と処理室１の圧力差によりピストン１１は均圧用シリンダー１０の中を右方向に移動し、ロードロック室３の体積は増加することにより、ロードロック室３の圧力は低下し、また処理室１の体積は減少することにより、処理室１の圧力は上昇する。このようにロードロック室３の圧力は低下し、処理室１の圧力が上昇することにより、ロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一になり、ピストン１１に力が加わらなくなる所定の位置でピストン１１は停止する。またロードロック室３の圧力が処理室１の圧力よりも小さくなれば、図２−ａのように、ピストン１１は均圧用シリンダー１０ーの中を左方向に移動し、ロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になり、ピストン１１に力が加わらなくなる位置までピストン１１は移動する。
【００３０】
このようにロードロック室３と処理室１の間を均圧用シリンダー１０で繋ぐとロードロック室３と処理室１の間に圧力差があっても均圧用シリンダー１０内のピストン１１が移動し、ロードロック室３と処理室１の圧力を同一の圧力に調整することができる。
【００３１】
本実施例のロードロック機構において、減圧Ｎ２パージ雰囲気の処理室１から大気雰囲気である搬送室２に基板６を搬出するシーケンスについても同様なことが言える。初期状態においては４で示すゲートバルブ１、５で示すゲートバルブ２とも閉じており、ロードロック室３内は減圧Ｎ２雰囲気となっていて、処理室１とロードロック室３は均圧用シリンダー１０でつながっているので、均圧用シリンダー１０内のピストン１１の動きにより処理室１とロードロック室３の圧力は同一の圧力に保たれている。処理室１とロードロック室３の圧力は同一の圧力に保たれているので、圧力差によるごみの巻き上げなくことなく４で示すゲートバルブ１を開け、基板６を処理室１よりロードロック室３に搬送することができる。ロードロック室３に基板６が搬送された後、４で示すゲートバルブ１を閉め、ロードロック室３が密閉状態になった状態でロードロック室３にＡｉｒ供給源９より空気を供給し、ロードロック室３を大気圧に戻す。ロードロック室３を大気圧になった後、５で示すゲートバルブ２を開け、搬送装置１３により、ロードロック室３の基板６を搬送室２内に搬出する。
【００３２】
本実施例では、処理室１とロードロック室３を均圧用シリンダー１０で繋ぎ、処理室１とロードロック室３を同一の圧力に調整して４で示すゲートバルブ１を開けることにより、処理室１とロードロック室３の圧力差に伴うごみの巻き上げを防止しているが、搬送室２とロードロック室３も同様に均圧用シリンダー１０で繋ぐことにより、搬送室２とロードロック室３を同一の圧力に調整することができるので、５で示すゲートバルブ２を開ける時の搬送室２とロードロック室３の圧力差に伴うごみの巻き上げを同様に防止することができる。
【００３３】
また均圧用シリンダー１０とロードロック室３をつなぐ配管、および均圧用シリンダー１０と処理室１をつなぐ配管に流量絞り等を配置し、均圧用シリンダー１０に流れ込む流量と均圧用シリンダー１０から流れ出す流量を絞ることにより、ロードロック室３内および処理室１への急激な空気の流入や流出、およびロードロック室３内および処理室１の急激な圧力変動を防止することができる。
【００３４】
次に本発明の第二実施例におけるロードロック機構について説明を行う。
【００３５】
図３は第二実施例におけるロードロック機構の概略図を表しており、第一実施例と同様に、大気圧よりも減圧され不活性ガスであるＮ２雰囲気に制御された処理室１と、大気圧の空気雰囲気の搬送室２は、処理室１と搬送室２のそれぞれに連通自在である密閉空間を有するロードロック室３によって繋がっている。また処理室１と搬送室２のそれぞれの間には、開閉自在の扉である４で示すゲートバルブ１と５で示すゲートバルブ２が設けられている。また第一実施例と同様にロードロック室３には、基板戴置台１２が設置され、真空ポンプ７とＮ２供給源８とＡｉｒ源９がロードロック室３内の環境を制御するために繋がっている。
【００３６】
本実施例のロードロック室３は処理室１とロードロック室３の間を均圧用筒体１４を介して連結されており、均圧用筒体１４の中は弾性膜１５により処理室１側の領域とロードロック室３側の領域に隔てられている。弾性体１５はごく小さな力で大きな弾性変形をするゴムのような素材が望ましく、処理室１とロードロック室３の間にわずかな圧力差があり弾性膜１５に力が加わると、弾性膜１５は弾性変形し、均圧用筒体１４内の処理室１側の領域体積とロードロック室３側の領域体積を変化させることが可能である。
【００３７】
このような均圧用筒体１４によって処理室１とロードロック室３が繋がれたロードロック機構において、第１実施例と同様なシーケンスで搬送室２から処理室１に基板６の搬送を行っており、処理室１とロードロック室３の圧力を同一の圧力に調整して４で示すゲートバルブ１を開けるときに、均圧用筒体１４は以下のような動きをして、処理室１とロードロック室３の圧力を同一の圧力に調整している。
【００３８】
基板６をロードロック室３内に搬送して、５で示すゲートバルブ２を閉め、ロードロック室３内を密閉状態にした後、ロードロック室３を真空ポンプ７によって所定の真空度まで真空排気し、ロードロック室３にＮ２供給源８よりＮ２を供給して、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が同一の圧力になるように調整を行っている。処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が同一の圧力になるように圧力調整を行っているとき、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が、ロードロック室３の体積、処理室１の体積、均圧用筒体１４の体積、ロードロック室３の圧力、処理室１の圧力によって決まる所定の圧力範囲に入ると、均圧用筒体１４の中の弾性膜１５は均圧用筒体１４内をロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になるように所定の位置に弾性変形をする。図４はロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になるように弾性変形をしている様子を表した図であり、たとえばロードロック室３の圧力が処理室１の圧力よりも大きくなれば、図４−ｃのように、ロードロック室３と処理室１の圧力差により弾性膜１５は均圧用筒体１４の中で右方向に伸び、ロードロック室３の体積は増加することにより、ロードロック室３の圧力は低下し、また処理室１の体積は減少することにより、処理室１の圧力は上昇する。このようにロードロック室３の圧力は低下し、処理室１の圧力が上昇することにより、ロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一になり、弾性膜１５に力が加わらなくなる所定の位置で弾性膜１５の弾性変形による伸びが終わる。またロードロック室３の圧力が処理室１の圧力よりも小さくなれば、図４−ａのように弾性膜１５は均圧用筒体１４の中で左方向に伸び、ロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になり弾性膜１５に力が加わらなくなる位置まで弾性膜１５は弾性変形する。
【００３９】
このようにロードロック室３と処理室１の間を均圧用筒体１４で繋ぐとロードロック室３と処理室１の間に圧力差があっても均圧用筒体１４内の弾性膜１５が弾性変形により伸び、ロードロック室３と処理室１の圧力を同一の圧力に調整することができる。
【００４０】
本実施例のロードロック機構において、減圧Ｎ２パージ雰囲気の処理室１から大気雰囲気である搬送室２に基板６を搬出するシーケンスについても、第１実施例と同様にロードロック室３と処理室１の圧力を同一の圧力に調整することができる。また本実施例では、処理室１とロードロック室３を均圧用筒体１４で繋ぎ、処理室１とロードロック室３の同一の圧力に調整をしているが、第一実施例と同様に搬送室２とロードロック室３も同様に均圧用筒体１４で繋ぐことにより、搬送室２とロードロック室３を同一の圧力に調整することができる。
【００４１】
また本実施例では、均圧用筒体１４内を弾性膜１５によって仕切ったが、均圧用筒体１４の内部断面積より表面積が大きく、ごく小さな力で曲がることが可能な膜によって、均圧用筒体１４内を仕切ってもよい。このような膜により、弾性膜よりもより小さな力で均圧用筒体１４内の区切られたそれぞれの領域を変化させることができる。
【００４２】
また均圧用筒体１４とロードロック室３をつなぐ配管、および均圧用筒体１４と処理室１をつなぐ配管に流量絞り等を配置し、均圧用筒体１４に流れ込む流量と均圧用筒体１４から流れ出す流量を絞ることにより、ロードロック室３内および処理室１への急激な空気の流入や流出、およびロードロック室３内および処理室１の急激な圧力変動を防止することができる。
【００４３】
次に本発明の第三実施例におけるロードロック機構について説明を行う。
【００４４】
図５は第三実施例におけるロードロック機構の概略図を表しており、第一、二実施例と同様に、大気圧よりも減圧され不活性ガスであるＮ２雰囲気に制御された処理室１と、大気圧の空気雰囲気の搬送室２は、処理室１と搬送室２のそれぞれに連通自在である密閉空間を有するロードロック室３によって繋がっている。また処理室１と搬送室２のそれぞれの間には、開閉自在の扉である４で示すゲートバルブ１と５で示すゲートバルブ２が設けられている。また第一実施例と同様にロードロック室３には、基板戴置台１２が設置され、真空ポンプ７とＮ２供給源８とＡｉｒ源９がロードロック室３内の環境を制御するために繋がっている。
【００４５】
本実施例のロードロック室３は処理室１とロードロック室３の間を均圧用ジャバラ１６を介して連結されており、均圧用ジャバラ１６の中は仕切り板１７により処理室１側の領域とロードロック室３側の領域に隔てられている。均圧用ジャバラ１６は仕切り板１７に加わるごく小さい力により、仕切り板１７を移動させることが可能で、仕切り板１７が移動することにより、仕切り板１７で隔てられている処理室１側の領域体積とロードロック室３側の領域体積を変化させることができる。このことにより、処理室１とロードロック室３の間のわずかな圧力差があると、均圧用ジャバラ１６内の仕切り板１７は移動し、均圧用ジャバラ１６内の処理室１側の領域体積とロードロック室３側の領域体積を変化させることが可能である。
【００４６】
このような均圧用ジャバラ１６によって処理室１とロードロック室３が繋がれたロードロック機構において、第一、二実施例と同様なシーケンスで搬送室２から処理室１に基板６の搬送を行っており、処理室１とロードロック室３の圧力を同一の圧力に調整して４で示すゲートバルブ１を開けるときに、均圧用ジャバラ１６は以下のような動きをして、処理室１とロードロック室３の圧力を同一の圧力に調整している。
【００４７】
基板６をロードロック室３内に搬送して、５で示すゲートバルブ２を閉め、ロードロック室３内を密閉状態にした後、ロードロック室３を真空ポンプ７によって所定の真空度まで真空排気し、ロードロック室３にＮ２供給源８よりＮ２を供給して、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が同一になるように調整を行っている。処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が同一の圧力になるように圧力調整を行っているとき、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力が、ロードロック室３の体積、処理室１の体積、均圧用ジャバラ１６の体積、ロードロック室３の圧力、処理室１の圧力によって決まる所定の圧力範囲に入ると、均圧用ジャバラ１６の中の仕切り板１７は均圧用ジャバラ１６内をロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になるように所定の位置に移動し、均圧用ジャバラ１６を変形させる。図６はロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になるように仕切り板１７が移動し、均圧用ジャバラ１６を変形させている様子を表した図であり、たとえばロードロック室３の圧力が処理室１の圧力よりも大きくなれば、図６−ｃのように、ロードロック室３と処理室１の圧力差により仕切り板１７は均圧用ジャバラ１６の中で右方向に移動し、ロードロック室３の体積は増加することにより、ロードロック室３の圧力は低下し、また処理室１の体積は減少することにより、処理室１の圧力は上昇する。このようにロードロック室３の圧力は低下し、処理室１の圧力が上昇することにより、ロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一になり、仕切り板１７に力が加わらなくなる所定の位置で仕切り板１７は停止する。またロードロック室３の圧力が処理室１の圧力よりも小さくなれば、図６−ａのように仕切り板１７は均圧用ジャバラ１６の中で左方向に伸び、ロードロック室３の圧力と処理室１の圧力が同一の圧力になり仕切り板１７に力が加わらなくなる位置まで仕切り板１７は移動する。
【００４８】
このようにロードロック室３と処理室１の間を均圧用ジャバラ１６で繋ぐとロードロック室３と処理室１の間に圧力差があっても均圧用ジャバラ１６内の仕切り板１７が移動することにより均圧用ジャバラ１６を変形させ、ロードロック室３と処理室１の圧力を同一の圧力に調整することができる。
【００４９】
本実施例のロードロック機構において、減圧Ｎ２パージ雰囲気の処理室１から大気雰囲気である搬送室２に基板６を搬出するシーケンスについても、第１実施例と同様にロードロック室３と処理室１の圧力を同一に調整することができる。また本実施例では、処理室１とロードロック室３を均圧用ジャバラ１６で繋ぎ、処理室１とロードロック室３を同一の圧力に調整をしているが、第一実施例と同様に搬送室２とロードロック室３も同様に均圧用ジャバラ１６で繋ぐことにより、搬送室２とロードロック室３を同一の圧力に調整することができる。
【００５０】
また本実施例では、均圧用ジャバラ１６内を仕切り板１７によって仕切ったが、仕切り板１７は、第二実施例のような弾性膜でも問題なく、また均圧用ジャバラ１６の内部断面積より表面積が大きく、ごく小さな力で曲がることが可能な膜でも問題ない。
【００５１】
また均圧用ジャバラ１６とロードロック室３をつなぐ配管、および均圧用ジャバラ１６と処理室１をつなぐ配管に流量絞り等を配置し、均圧用ジャバラ１６に流れ込む流量と均圧用ジャバラ１６から流れ出す流量を絞ることにより、ロードロック室３内および処理室１への急激な空気の流入や流出、およびロードロック室３内および処理室１の急激な圧力変動を防止することができる。
【００５２】
本発明の実施例では、処理室１は大気圧よりも減圧され不活性ガスであるＮ２雰囲気に制御されている環境としたが、処理室１は減圧された空気の環境でもよく、また大気圧程度の不活性ガスのパージ空間、大気圧以上の不活性ガスのパージ空間でも良い。また、処理室１内にパージされた不活性ガスはＨｅ等のガスでも良い。
【００５３】
また本発明における実施例では、ロードロック機構の搬送対象物は基板についてのみ記載したが、例えばレチクル等のロードロック機構を介して処理室内に搬送するものならば何でも良い。
【００５４】
また本実施例では、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力を均圧に調整する手段として、均圧用シリンダー１０または均圧用筒体１４または均圧用ジャバラ１６をロードロック室３と処理室１の間に配置したが、処理室１とロードロック室３の間のゲートバルブに均圧用シリンダー機能、または均圧用筒体機能、または均圧用ジャバラ機能を持たせて、処理室１内の圧力とロードロック室３内の圧力を均圧に調整するのと同時に、ゲートバルブに均圧調整機構を持たせることによる省スペース化を図っても良い。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の第一実施例に係るロードロック機構の側面図を示す。
【図２】本発明の第一実施例に係るロードロック機構における均圧用シリンダー内のピストンの動きをあらわした側面図である。
【図３】本発明の第二実施例に係るロードロック機構の側面図を示す。
【図４】本発明の第二実施例に係るロードロック機構における均圧用筒体内の弾性膜の動きをあらわした側面図である。
【図５】本発明の第三実施例に係るロードロック機構の側面図を示す。
【図６】本発明の第三実施例に係るロードロック機構における均圧用ジャバラ内の仕切り板の動きをあらわした側面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  処理室
２  搬送室
３  ロードロック室
４  ゲートバルブ１
５  ゲートバルブ２
６  基板
７  真空ポンプ
８  Ｎ２供給源
９  Ａｉｒ源
１０  均圧用シリンダ
１１  ピストン
１２  基板載置台
１３  搬送装置
１４  均圧用筒体
１５  弾性膜
１６  均圧用ジャバラ
１７  仕切り板
【図１】
2006012964.tif 000003
【図２】
2006012964.tif 000004
【図３】
2006012964.tif 000005
【図４】
2006012964.tif 000006
【図５】
2006012964.tif 000007
【図６】
2006012964.tif 000008