(57)【要約】 【課題】  カップに付着した固着物を容易に除去することができる液処理装置を提供する。【解決手段】  レジスト塗布処理ユニット（ＣＯＴ）は、ウエハＷを保持し回転させるスピンチャック４１と、スピンチャック４１に保持されたウエハＷを囲繞するように配置されたカップ４３と、ウエハＷにレジスト液を供給するレジストノズル４４と、スピンチャック４１に保護膜形成用治具６０を保持させた際にその保護膜形成用治具６０に保護膜形成用薬液を供給するための第１・第２薬液ノズル４６・４７と、を有する。ウエハＷにレジスト膜を形成する際に、カップ４３において回転するウエハＷから振り切られたレジスト液があたる部分に、剥離自在な保護膜１０が形成された構造とした。【選択図】  図１
2006245304.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持し回転させる基板回転機構と、
前記基板回転機構に保持された基板を囲繞するように配置されたカップと、
前記基板回転機構に保持された基板に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
を具備し、
前記カップにおいて回転する基板から振り切られた処理液があたる部分に、剥離自在な保護膜が形成されていることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記処理液はレジスト液であり、
前記保護膜に付着して固化したレジスト固着物は、前記カップから前記保護膜を剥離することにより容易に除去することができることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記保護膜は、前記カップに直接に形成された第１の保護膜と、基板にレジスト膜を形成する際に基板から振り切られたレジスト液によって前記第１の保護膜の表面に形成されたレジスト膜と、前記レジスト膜の表面に形成された第２の保護膜と、を有することを特徴とする請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記保護膜を形成するための塗布液を供給する塗布液供給機構をさらに具備し、
前記保護膜は、前記基板回転機構に前記保護膜を形成するための所定の基板状治具をセットし、当該基板状治具を回転させながら当該基板状治具に前記塗布液供給機構から塗布液を供給することで前記基板状治具から振り切られた塗布液によって、前記カップに形成されたものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記塗布液供給機構は、前記基板回転機構に保持された基板状治具の表面および裏面に塗布液を供給する２つのノズルを具備することを特徴とする請求項４に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記カップの上方から前記カップの内部に向けて所定温度に加熱された温風をダウンフローする温風供給装置をさらに具備し、
前記温風供給装置は、前記塗布液供給機構および前記基板状治具を用いて前記保護膜を形成する際または前記塗布液供給機構からの塗布液吐出後に、前記カップの内部に向けて温風を供給することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記カップは、その上部と下部とが着脱自在な構造を有し、
前記保護膜は、前記カップの上部を下部から取り外し、当該上部の内面の所定部分に刷毛塗りまたはスプレー塗布により形成されたものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項８】
前記カップはステンレスからなることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項９】
前記カップは硬質フッ素系樹脂からなり、前記保護膜が形成される部分は表面処理により面粗度が粗くなっていることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１０】
前記保護膜は、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂またはアクリル系樹脂のいずれかからなることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）に代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用のガラス基板や半導体ウエハ等の基板にレジスト膜やカラーレジスト膜、層間絶縁膜等の膜をスピンコートにより形成する液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＬＣＤや半導体デバイスの製造工程においては、フォトリソグラフィー技術を用いて、ガラス基板や半導体ウエハ等の基板にレジスト液を供給してレジスト膜を形成し、これを乾燥、熱処理した後に、露光処理、現像処理を逐次行うことにより、基板に所定の回路パターンを形成している。このようなレジスト膜の形成には、一般的に、スピンコート法が用いられている。
【０００３】
このスピンコート法は、例えば、基板の中心部にレジスト液を滴下した後、基板を高速で回転させることでレジスト液を遠心力によって基板全体に拡げ、基板の表面に均一な膜を形成するものであり、その際に、余剰のレジスト液が基板から振り切られる。そのため、こうして基板から振り切られる余剰のレジスト液を受け止め、回収するために、基板の回転は基板を囲繞するように配置されたカップの内側で行われる。このカップの内壁面には、レジスト液が乾燥して固着し、これがパーティクルの発生原因にもなることから、定期的に、カップの内面を洗浄し、固着したレジストを除去する洗浄処理を行う必要がある。
【０００４】
このようなカップの洗浄方法としては、レジスト液を溶解させる溶剤（シンナー等）を回転するダミー基板（製品としない基板）に供給してダミー基板からカップの内面に飛散させ、レジスト固着物を溶解させて除去する装置および方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
しかしながら、近時、固着したレジストを再び溶剤により液化させることが困難なレジスト材料が増えてきており、前述した方法でのカップ洗浄は困難となってきている。そのため、カップを分解して機械的に剥がしたり、溶剤中に長時間浸漬させて放置し、そうして固着物が柔らかくなった後にこれを剥ぎ取る等の方法が用いられるようになっているが、このような方法では、装置の分解と組み立てを頻繁に行う必要があり、かつ、その作業に時間が掛かり、またカップの洗浄処理にも長時間を要する。そのため、このような作業および処理の間は液処理装置を稼働させることができず、生産性が低下する。複数のカップを交換自在な構成とすることもできるが、その場合にも、カップの交換作業が必要なことには変わりなく、さらに装置コストが高くなるという新たな問題が発生する。
【特許文献１】特開２０００−３１５６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、カップに付着した固着物を容易に除去することができる液処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、基板を保持し回転させる基板回転機構と、
前記基板回転機構に保持された基板を囲繞するように配置されたカップと、
前記基板回転機構に保持された基板に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
を具備し、
前記カップにおいて回転する基板から振り切られた処理液があたる部分に、剥離自在な保護膜が形成されていることを特徴とする液処理装置、が提供される。
【０００８】
本発明に係る液処理装置において、好適に用いられる処理液はレジスト液であり、保護膜に付着して固化したレジスト固着物は、カップから保護膜を剥離することにより容易に除去することができる。保護膜は１層構造である必要はなく、例えば、カップに直接に第１の保護膜を形成し、その後、所定枚数の基板にレジスト膜を形成し、その際に基板から振り切られたレジスト液によってこの第１の保護膜の表面にレジスト膜を形成し、さらにこうして形成されたレジスト膜の表面に第２の保護膜を形成することによって、複数層からなる構成とすることも好ましく、例えば、複数種のレジスト液を切り換えて使用する場合に、それらが付着反応することで保護膜の剥離が困難となるのを防止することができ、また、このように層状とすることでカップからの剥離も容易となる。
【０００９】
また本発明に係る液処理装置を、保護膜を形成するための塗布液を供給する塗布液供給機構をさらに具備する構成とすれば、基板回転機構に保護膜を形成するための所定の基板状治具をセットし、この基板状治具を回転させながら基板状治具に塗布液供給機構から塗布液を供給することで、基板状治具から振り切られた塗布液によってカップに保護膜を形成することができる。なお、基板状治具は、通常の基板処理において処理液が飛散する範囲よりも広い範囲に塗布液が飛散するように、例えば、フィンや基板表面に傾斜が設けられているものを用いることが好ましい。塗布液供給機構は、基板回転機構に保持された基板状治具の表面および裏面に塗布液を供給する２つのノズルを具備する構成とすることが好ましい。これにより保護膜を広い範囲に形成することができる。
【００１０】
液処理装置には、さらにカップの上方からカップの内部に向けて所定温度に加熱された温風をダウンフローする温風供給装置をさらに設けることが好ましい。塗布液供給機構と基板状治具を用いて保護膜を形成する際または塗布液供給機構からの塗布液吐出後に、この温風供給装置からカップの内部に向けて温風を供給することにより、塗布液の乾燥を速めて、塗布液のカップからの排出量を少なくする（つまり、少量の塗布液で効率的に保護膜を形成する）ことができる。カップをその上部と下部とが着脱自在な構造とし、カップの上部を下部から取り外し、カップの上部の内面の所定部分に刷毛塗りまたはスプレー塗布により保護膜を形成してもよい。
【００１１】
本発明では、ステンレス等の金属製のカップを用いることができる。従来は、ステンレス製のカップに直接に処理液が固着すると除去が困難であったが、カップに保護膜を形成することにより、処理液固着物を除去することができるようになるからである。また、カップとして硬質フッ素系樹脂からなるものを用いる場合には、保護膜の密着性を高めるために、保護膜が形成される部分に、例えば、ケミカル処理やショットブラスト処理等により面粗度を粗くする表面処理（例えば、梨地加工）を施すことが好ましい。但し、保護膜の剥離が容易な表面状態に制限される。保護膜は、耐薬品性に優れたフッ素系樹脂、シリコーン系樹脂またはアクリル系樹脂のいずれかが好適に用いられる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、カップにおいて処理液が当たる部分に剥離容易な保護膜が形成されているので、その保護膜を剥離させることにより、容易にカップの付着物を除去することができる。また、スピンコートと同様の方法でカップに保護膜を形成することができるので、カップを分解する必要がなく、生産性が向上する。さらに、カップへの固着が激しい処理液を用いる装置でも、安価な金属製のものを用いることができるので、装置コストを下げることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。図１にレジスト塗布処理ユニット（ＣＯＴ）の概略断面図を示す。このレジスト塗布処理ユニット（ＣＯＴ）は、ウエハＷを略水平姿勢で保持し、回転させるスピンチャック４１と、スピンチャック４１を昇降させる昇降機構４２と、スピンチャック４１を収容するカップ４３と、スピンチャック４１に保持されたウエハの表面にレジスト液を供給するレジストノズル４４と、ウエハの裏面に付着したレジストを除去するためにシンナー等の溶剤を吐出するバックリンスノズル４５と、を備えている。
【００１４】
スピンチャック４１は、図示しない吸引機構によってウエハＷを減圧吸着して保持することができ、後に図３に示すように、カップ４３の内面の所定部分に保護膜１０を形成するための基板状の保護膜形成用治具６０をウエハＷに代えて保持することができるようになっている。なお、この保護膜形成用治具６０については、後に説明する。
【００１５】
このような構成に適合させて、レジスト塗布処理ユニット（ＣＯＴ）は、スピンチャック４１に保持された保護膜形成用治具６０の表面に保護膜形成用薬液を供給する第１薬液ノズル４６と、スピンチャック４１に保持された保護膜形成用治具６０の裏面に保護膜形成用薬液を供給する第２薬液ノズル４７と、をさらに備えている。
【００１６】
カップ４３の上方にはフィルターファンユニット（ＦＦＵ）４８が設けられており、ここから清浄な空気がダウンフローとして、カップ４３に向けて供給されるようになっている。このフィルターファンユニット（ＦＦＵ）４８はヒータ（図示せず）を備えており、所定温度に加熱した温調空気をカップ４３に供給することができるようになっている。
【００１７】
レジストノズル４４と第１薬液ノズル４６はそれぞれ、図示しない水平／鉛直駆動機構により、水平方向および鉛直方向に移動自在に構成されており、スピンチャック４１の中心とカップ４３の外側の待避位置との間で移動自在となっている。一方、バックリンスノズル４５と第２薬液ノズル４７はそれぞれ、スピンチャック４１に保持されたウエハＷの下側の所定位置に固定されている。
【００１８】
カップ４３は、大略的に、ウエハＷの外側を囲うように配置された外カップ５１と、スピンチャック４１に保持されたウエハ（または保護膜形成用治具６０）の下側に配置された内カップ５２から構成されている。外カップ５１は、筒状の外側鉛直壁部５１ａと、この外側鉛直壁部５１ａの上端に連設されてその内側に第１傾斜壁５３ａが形成された外側傾斜壁部５１ｂと、外側鉛直壁部５１ａの内側に設けられた円筒状の中間壁部５１ｃと、底壁部５１ｄと、を有しており、外側傾斜壁部５１ｂは外側鉛直壁部５１ａに対して着脱自在となっている。
【００１９】
内カップ５２は、ウエハ（または保護膜形成用治具６０）の下側から斜め下に外方に向けて拡がり、外側傾斜壁部５１ｂの傾斜壁５３ａと対面する第２傾斜壁５３ｂと、下側から斜め下に内側に向けて拡がる第３傾斜壁５３ｃを有する内側傾斜壁部５２ａと、内側傾斜壁部５２ａの第２傾斜壁５３ｂの下端に連通する筒状の鉛直壁部５２ｂと、外カップ５１の中間壁部５１ｃの内側に配置された円筒状の内周壁部５２ｃとを有している。この内カップ５２は、床板４９と着脱自在に構成されている。
【００２０】
なお、第３傾斜壁５３ｃの内周端よりも内側に配置されている床板４９には、バックリンスノズル４５および第２薬液ノズル４７から吐出されたシンナーや薬液のごく一部が第３傾斜壁５３ｃを伝って流れ落ちてくることがあるので、それを捕集するためのドレイン４９ａが形成されている。
【００２１】
カップ４３においては、外側傾斜壁部５１ｂと内側傾斜壁部５２ａとの間および外側鉛直壁部５１ａと鉛直壁部５２ｂとの間に排気／排液流路５４が形成されており、外側鉛直壁部５１ａと中間壁部５１ｃとの間の底部に、排液のための排液口５５が形成されている。また、鉛直壁部５２ｂと中間壁部５１ｃとの間および中間壁部５１ｃと内周壁部５２ｃとの間が排気流路５６となっており、排気流路５６と連通する排気口５７が底壁部５１ｄに設けられている。排液口５５には排液管５５ａが、排気口５７には排気管５７ａがそれぞれ取り付けられている。
【００２２】
排気管５７ａの下流には図示しない排気装置が設けられており、カップ４３の内側の雰囲気は、この排気装置を稼働することによって、排気／排液流路５４、排気流路５６、排気口５７、排気管５７ａを通って排気される。また、ウエハＷを回転させた際にウエハＷから振り切られるレジスト液は、実質的に、排気／排液流路５４、排液口５５、排液管５５ａを通って、排気される。なお、排液管５５ａには、切替バルブ５５ｂが設けられており、後に説明するように、レジスト液と保護膜形成用の薬液とを分離して回収することができるようになっている。
【００２３】
図２に第１・第２傾斜壁５３ａ・５３ｂおよびその近傍の拡大図および保護膜１０の形成方法の一例を示す。カップ４３において、第１・第２傾斜壁５３ａ・５３ｂおよびその近傍には、剥離可能な保護膜１０が形成されている。なお、図１の左側部分においては、第１傾斜壁５３ａ等の図示のために保護膜１０を省略している。
【００２４】
この保護膜１０が形成されていると、ウエハＷから振り切られたレジスト液は保護膜１０上において固着するため、この保護膜１０を剥離すると、容易にレジスト固着物を除去することができる。なお、図１，図２では、保護膜１０を明瞭に示すためにその厚さを厚く描いているが、保護膜１０の強度は保護膜形成用薬液の種類，組成によって異なるので、保護膜１０の厚さは、カップ４３からの剥離を容易に行うことができる強度が得られるように適宜決定され、後述する薬液の場合には約１０μｍ〜５００μｍである。
【００２５】
保護膜１０の剥離は、レジスト塗布処理ユニット（ＣＯＴ）の運転を停止した状態でオペレータ（作業員）により行われる。その後、例えば、シンナー等の溶剤による洗浄（ウエハＷを回転させながらシンナーをウエハＷに供給してカップ４３にあてる）を行うことも好ましい。このようにして、保護膜１０を剥離した後には、後述する方法を用いて、再び、保護膜１０を形成し、その後、ウエハＷへのレジスト膜形成処理を行う。保護膜１０の剥離作業を行うタイミングは、使用するレジスト液の固着性を考慮して、たとえば、所定枚数のウエハＷを処理した後に行うようにしてもよいし、保護膜１０を形成してから一定時間が経過したら行うようにしてもよい。さらに、目視によりカップ４３の汚れがひどいと判断して、適宜行ってもよい。
【００２６】
保護膜１０は、スピンチャック４１に保護膜形成用治具６０を保持させて、この保護膜形成用治具６０を回転させながら、保護膜形成用治具６０に保護膜形成用薬液を供給することによって行うことができる。
【００２７】
より詳細に説明すると、保護膜形成用治具６０は、図２に示されるように、表面が水平面に対して勾配を有し、また裏面はスピンチャックに保持される部分が水平で、それよりも外周の一部が下に勾配を有する形状を有している。この保護膜形成用治具６０をスピンチャック４１に保持させて、保護膜形成用治具６０を回転させながら、これに第１・第２薬液ノズル４６・４７から保護膜形成用治具６０に保護膜形成用薬液を供給すると、保護膜形成用治具６０から振り切られた薬液がその表裏面の勾配に起因して、通常のウエハＷの処理においてウエハＷからレジスト液が振り切られて飛散する範囲よりも上下に広い範囲に保護膜形成用薬液が飛散する。こうしてカップ４３の第１・第２傾斜壁５３ａ・５３ｂおよびその近傍に付着した保護膜形成用薬液が保護膜１０を形成し、また、これらの壁面に付着した保護膜形成用薬液の一部は壁面に沿って流れ落ちる際に保護膜１０を形成する。
【００２８】
保護膜形成用薬液が外側鉛直壁部５１ａと鉛直壁部５２ｂを伝って流れ落ちると、それらの壁面にも保護膜が形成される。さらに余剰な保護膜形成用薬液は、排液口５５から排液管５５ａを通して、必要に応じて切替バルブ５５ｂを操作することにより、レジスト液とは別ルートで回収することができる。強制的に排液を行うことで、排液口５５の詰まりを防止することができる。前述したように、外側傾斜壁部５１ｂは外側鉛直壁部５１ａに対して着脱自在であり、内カップ５２も床板４９と着脱自在に構成されているので、これらを取り外せば、外側鉛直壁部５１ａと鉛直壁部５２ｂに形成された保護膜も容易に剥離することができる。
【００２９】
なお、ウエハＷ（製品とせず、治具として用いられるもの）を用いて保護膜を形成することもできるが、その場合には、保護膜形成用薬液の飛散範囲がレジスト膜の飛散範囲とほぼ重なってしまうために、保護膜が形成されていない部分にレジスト液が付着するおそれがある。これに対して、前述したように保護膜形成用治具６０を用いて保護膜１０を形成することにより、レジスト液が飛散する範囲よりも広い範囲に保護膜１０を形成することができるので、レジスト液が直接にカップ４３の第１・第２傾斜壁５３ａ・５３ｂおよびその近傍に付着することを防止することができる。また、このようにウエハＷにレジスト膜を形成する方法と同様の方法を用いると、保護膜１０の形成も容易である。
【００３０】
このようにして保護膜１０を形成する際には、フィルターファンユニット（ＦＦＵ）４８からカップ４３の内部に向けて所定温度に加熱された温風をダウンフローさせることが好ましい。これにより保護膜形成用薬液の乾燥を速めて、保護膜１０を形成するための処理時間を短縮し、また、保護膜形成用薬液が膜とならずに流れ落ちて消費されてしまう量を減らして、効率的に保護膜１０を形成することができる。例えば、フィルターファンユニット（ＦＦＵ）４８から７０℃の温風をカップ４３に向けて供給することにより、約５分で保護膜１０を形成することができる。この温風が効率的に排気／排液流路５４に流入するように、保護膜１０を形成する際にも、排気管５７ａからの排気を行う。
【００３１】
このような温風のダウンフローは、回転する保護膜形成用治具６０に保護膜形成用薬液を供給して保護膜１０を形成する際および／または保護膜形成用薬液の吐出を終了した後に所定時間にわたって、カップ４３に供給することが好ましい。当然に、保護膜形成用治具６０上で保護膜形成用薬液が乾燥してしまわないように、保護膜形成用薬液の粘度や温風の温度、送風量を制御しなければならない。また、保護膜形成用治具６０そのものにも保護膜が形成されない（保護膜形成用薬液が付着しない）ように、保護膜形成用治具６０にはフッ素樹脂がコーティングされているか、または、保護膜形成用治具６０そのものをフッ素樹脂で構成することが好ましい。
【００３２】
上述した保護膜形成用治具６０を用いて保護膜１０を形成する方法に代えて、カップ４３を構成する外カップ４３では外側傾斜壁部５１ｂが外側鉛直壁部５１ａに着脱自在となっているので、外側傾斜壁部５１ｂを外側鉛直壁部５１ａから取り外して、第１傾斜壁５３ａおよびその近傍に、例えば、刷毛塗りやスプレー塗布等の方法により、保護膜１０を形成してもよい。その場合、上述した保護膜形成用治具６０を用いる方法と比較すると、カップの脱着操作が必要となるデメリットはあるが、所望の部分（例えば、上記方法でもカバーできない部分）に保護膜１０を形成して、カップ４３を保護することができ、また、塗布液の使用量も低減することができる。
【００３３】
なお、外側傾斜壁部５１ｂを外側鉛直壁部５１ａから取り外した状態では、第２傾斜部５３ｂ・第３傾斜部５３ｃに、刷毛塗り等の方法で保護膜１０を形成することは容易である。
【００３４】
カップ４３を構成する外カップ５１と内カップ５２にはそれぞれステンレス等の金属からなるものを用いることができる。従来は、金属製のカップではレジスト固着物を化学的にも物理的にも完全に除去することが困難であったために、金属製のカップを用いることは、実用的ではなかったが、保護膜１０を形成することにより、金属製のカップも用いることができるようになる。また、金属製のカップの場合には、保護膜１０のカップ表面への密着性も高く、耐久性が高められる。
【００３５】
カップ４３としては硬質フッ素系樹脂からなるものを用いてもよい。硬質フッ素系樹脂は、一般的に他の物質との密着性が悪い材料であるため、保護膜１０を形成する部分の面粗度を、例えば、ブラスト加工等の表面処理によって粗くすることが好ましい。これにより、保護膜１０の密着性と剥離容易性を両立させることができる。保護膜１０としては、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂またはアクリル系樹脂が好適に用いられる。このような保護膜１０を形成するための保護膜形成用薬液は、１液（例えば、空気に触れることで硬化する性質のもの、一定温度以上となることで硬化するもの等）である必要はなく、複数の液を混合することにより硬化する性質が現れるものであってもよい。複数の液の混合によって硬化する薬液を用いる場合には、カップ４３への塗布の直前にこれらを混合することが好ましく、例えば、第１・第２薬液ノズル４６・４７において複数の液を混合されるようにその内部構造を設計することが好ましい。
【００３６】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明はこのような形態に限定されるものではない。例えば、上記説明においては、保護膜１０を形成し、その上に基板Ｇにレジスト膜を形成して、その後、所定のタイミングで保護膜１０を剥離する方法について説明したが、図３の断面図に示す保護膜１０′のように、カップ４３の所定部分（第１，第２傾斜壁５３ａ，５３ｂ等）に直接に第１の保護膜１０ａを形成した後、所定枚数の基板Ｇにレジスト膜を形成する通常の処理を行い、その際に基板Ｇから振り切られたレジスト液によってこの第１の保護膜１０ａの表面にレジスト膜１２が形成されたら、これらを剥離することなく、さらにレジスト膜１２の表面に第２の保護膜１０ｂを形成して、層構造としてもよい。
【００３７】
第２の保護膜１０ｂを形成するタイミングは、レジスト膜を形成する基板Ｇのロット毎、または所定枚数毎とすることができる。また、第２の保護膜１０ｂ上にさらにレジスト膜が形成された場合、そのレジスト膜上に第３の保護膜を形成する等、保護膜の層構造は図３に示す３層構造に限定されるものではない。
【００３８】
このような保護膜１０′が形成されるように基板Ｇを処理することにより、基板Ｇのロット毎や所定枚数毎の保護膜の剥離作業を省くことができる。つまり、カップ４３の洗浄回数を減らして、レジスト塗布処理ユニット（ＣＯＴ）のスループットを上げることができる。また、異なる種類のレジスト液を使用する場合に、それらが付着反応して下地の保護膜の剥離が困難となる等の不都合の発生を防止することができる。さらに、保護膜１０′は層状で厚くなり、膜全体の強度が高まるので、カップ４３からの剥離も容易に行うことができるようになるという利点もある。
【００３９】
上記説明においては、レジスト塗布処理ユニット（ＣＯＴ）においてカップ４３に向けて供給するダウンフローの温度をフィルターファンユニット（ＦＦＵ）４８により調節することができる構成を示したが、一般的なフィルターファンユニット（ＦＦＵ）を配設し、その下側に、例えば、網目状のヒータを配置し、通常のウエハＷの処理の際にはこのヒータをＯＦＦの状態に維持し、保護膜を形成する際にこのヒータを所定の温度に保持することで、温風をカップ４３に送る構成としてもよい。一方、保護膜を形成する壁面を有する部材の内部にヒータを取り付けて、保護膜を形成する際にこのヒータを発熱させて、保護膜を形成する面の温度を上げてもよい。
【００４０】
また、上記形態においては、保護膜１０を剥離することでカップ４３を洗浄する方法を示したが、例えば、保護膜１０を容易に溶解することができる溶剤を、保護膜形成用治具６０を用いてカップ４３に飛散させれば、保護膜１０が溶解することで、保護膜１０に固着したレジスト固着物を除去することもできる。
【００４１】
上記実施の形態においては、１種類のレジスト膜を形成する装置を例に挙げたが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、カラーレジスト膜を形成するために各色に対応するノズルを交換自在な構造を有するレジスト膜形成装置や、層間絶縁膜を形成するための装置等にも適用することができる。また、基板に膜を形成する装置に限定されず、洗浄処理や現像処理等にも適用すれば、例えば、カップの洗浄が容易となり、従来はフッ素系樹脂を用いて構成するしかなかったカップをステンレス等の安価な金属製のものに交換することができる等の利点が生まれる。
【００４２】
カップ４３の構造として、外側カップ５１と内側カップ５２からなるものを取り上げたが、カップの構造はこのような構造に限定されるものではなく、公知の各種カップに保護膜を形成することができる。また、基板として半導体ウエハを取り上げたが、基板はこれに限定されるものではなく、マスク基板、ＬＣＤ等のディスプレイ用ガラス基板、プラスチック基板であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は、レジスト膜や層間絶縁膜等の成膜に用いる液処理装置として、好適である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】レジスト膜形成装置の概略構造を示す垂直断面図。
【図２】図１記載のレジスト膜形成装置を構成するカップにおいて、保護膜を形成する部分および保護膜の形成方法を模式的に示す説明図。
【図３】多層保護膜の概略構造を示す断面図。
【符号の説明】
【００４５】
１０・１０′；保護膜
１０ａ；第１の保護膜
１０ｂ；第２の保護膜
４１；スピンチャック
４４；レジストノズル
４６；第１薬液ノズル
４７；第２薬液ノズル
５１；外カップ
５２；内カップ
６０；保護膜形成用治具
【図１】
2006245304.tif 000003
【図２】
2006245304.tif 000004
【図３】
2006245304.tif 000005