(57)【要約】【課題】  光記録媒体に中心孔を形成する工程で基板に割れやヒビが生じたり、中心孔の形成位置がずれたりすることのない光記録媒体製造装置を提供する。【解決手段】  本発明による光記録媒体製造装置１０は、一方の面にガイド溝を有する基板を成型する成型装置１１と、ガイド溝を用いて位置決めしながら、基板の他方の面側に少なくとも紫外線硬化性樹脂を主成分とする層を形成する成膜装置１２と、ガイド溝に沿って基板を切断することにより基板に中心孔を形成する中心孔形成装置１３とを備えている。本発明によれば、後から形成する中心孔をガイド溝に沿って形成していることから、基板に割れやヒビが生じたり、中心孔の形成位置がずれたりすることなく、精度の高い中心孔を簡単に形成することが可能となる。【選択図】          図１
2006012264.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面にガイド溝を有する基板を成型する成型装置と、
前記ガイド溝を用いて位置決めしながら、前記基板の他方の面側に少なくとも紫外線硬化性樹脂を主成分とする層を形成する成膜装置と、
前記ガイド溝に沿って前記基板を切断することにより前記基板に中心孔を形成する中心孔形成装置と、を備えることを特徴とする光記録媒体製造装置。
【請求項２】
前記成膜装置は、前記紫外線硬化性樹脂を主成分とする層を形成する回転塗布装置を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体製造装置。
【請求項３】
前記成膜装置は、前記基板と前記紫外線硬化性樹脂を主成分とする層との間に機能層を形成するスパッタリング装置をさらに含んでいることを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体製造装置。
【請求項４】
前記成型装置は、前記ガイド溝に囲まれた領域に貫通孔を持たない基板を成型することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光記録媒体製造装置。
【請求項５】
一方の面にガイド溝を有する基板を成型する第１のステップと、
前記ガイド溝を用いて位置決めしながら、前記基板の他方の面側に少なくとも紫外線硬化性樹脂を主成分とする層を形成する第２のステップと、
前記ガイド溝に沿って中心孔を形成する第３のステップと、を備えることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記紫外線硬化性樹脂を主成分とする層をスピンコート法により形成することを特徴とする請求項５に記載の光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体製造装置及び光記録媒体の製造方法に関し、特に、中心孔を持つ光記録媒体の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）に代表される光記録媒体は、通常、反射層や保護層など各種の層を基板上に順次形成することにより作製される。このうち、ＣＤやＤＶＤに用いられる保護層や、次世代型の光記録媒体に用いられる光透過層は、所定厚みのシートを貼り付けたり、回転塗布法（スピンコート法）によって形成される。ＣＤやＤＶＤに用いられる保護層や、次世代型の光記録媒体に用いられる光透過層は、通常、紫外線硬化性樹脂によって構成され、スピンコート法により未硬化の紫外線硬化性樹脂（塗膜）を均一に塗布した後、紫外線を照射することによって形成される。
【０００３】
スピンコート法により形成される塗布膜の膜厚は、塗布液の供給位置がディスクの中心に近いほど均一となるため、膜厚精度を高めるためには、できるかぎりディスクの中心に近い位置に紫外線硬化性樹脂を供給することが好ましい（特許文献１）。膜厚のばらつきは、ＣＤやＤＶＤに用いられる保護層ではあまり問題とならないが、次世代型の光記録媒体に用いられる光透過層では大きな問題となる。
【特許文献１】特開２００３−９９９９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、一般的な光記録媒体には「中心孔」が設けられていることから、塗布液の供給位置を完全な中心部とすることは困難である。このような問題は、中心孔を基板の射出成型時に設けるのではなく、スピンコート法により光透過層等を形成した後に設けることにより解決することができる。
【０００５】
ところが、中心孔を後から形成する場合、中心孔の形成過程で基板に割れやヒビが生じたり、中心孔の形成位置がずれたりするといった問題が生じることがある。後者の問題は、基板を射出成型する際、中心孔を形成すべき領域内に位置決め用の貫通孔を形成しておくことである程度解決することができるが、スピンコート法により形成する塗布膜の膜厚精度をよりいっそう高めるためには、このような貫通孔すら持たない基板を用いることが好ましいと言える。
【０００６】
したがって、本発明の目的は、中心孔の形成工程で基板に割れやヒビが生じたり、中心孔の形成位置がずれたりすることのない光記録媒体製造装置及び光記録媒体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による光記録媒体製造装置は、一方の面にガイド溝を有する基板を成型する成型装置と、前記ガイド溝を用いて位置決めしながら、前記基板の他方の面側に少なくとも紫外線硬化性樹脂を主成分とする層を形成する成膜装置と、前記ガイド溝に沿って前記基板を切断することにより前記基板に中心孔を形成する中心孔形成装置と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明による光記録媒体の製造方法は、一方の面にガイド溝を有する基板を成型する第１のステップと、前記ガイド溝を用いて位置決めしながら、前記基板の他方の面側に少なくとも紫外線硬化性樹脂を主成分とする層を形成する第２のステップと、前記ガイド溝に沿って中心孔を形成する第３のステップとを備えることを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、後から形成する中心孔をガイド溝に沿って形成していることから、基板に割れやヒビが生じたり、中心孔の形成位置がずれたりすることなく、精度の高い中心孔を簡単に形成することが可能となる。尚、「紫外線硬化性樹脂を主成分とする」とは、当該層を構成する最も多い材料が紫外線硬化性樹脂であることを意味する。
【００１０】
成膜装置は、前記紫外線硬化性樹脂を主成分とする層をスピンコート法により形成する回転塗布装置を含んでいることが好ましい。本発明では、基板の中心孔が後から形成されるので、前記紫外線硬化性樹脂を主成分とする層の膜厚精度を高めることが可能となる。また、成膜装置は、基板と前記紫外線硬化性樹脂を主成分とする層との間に機能層を形成するスパッタリング装置をさらに含んでいることが好ましい。
【００１１】
また、成型装置は、ガイド溝に囲まれた領域に貫通孔を持たない基板を成型することが好ましい。これによれば、塗布液を基板のほぼ中央に供給することができることから、紫外線硬化性樹脂を主成分とする層の膜厚精度をよりいっそう高めることが可能となる。
【発明の効果】
【００１２】
このように、本発明によれば、基板に位置決め用のガイド溝を形成しておき、基板に成膜した後、ガイド溝に沿って中心孔を形成していることから、基板に割れやヒビが生じたり、中心孔の形成位置がずれたりすることなく、精度の高い中心孔を簡単に形成することが可能となる。このため、本発明は、スピンコート法により形成する光透過層に高い膜厚精度が要求される次世代型の光記録媒体の製造に特に好適である。また、本発明は、位置決め用の貫通孔を用いることなく成膜が可能な再生専用型光記録媒体の製造にも特に好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本発明の好ましい実施形態による光記録媒体製造装置の構成を示すブロック図である。
【００１５】
本実施形態による光記録媒体製造装置１０は、再生専用の次世代型光記録媒体を製造するための装置であり、図１に示すように、成型装置１１と、成膜装置１２と、中心孔形成装置１３によって構成され、仕掛品が各装置内をこの順に通過することによって、順次加工がなされる。
【００１６】
図２は、本実施形態による光記録媒体製造装置１０により製造される光記録媒体２０の構造を概略的に示す切り欠き斜視図である。
【００１７】
光記録媒体２０は外径が約１２０ｍｍ、厚みが約１．２ｍｍである円盤状の光記録媒体であり、図２に示すように、中心孔２９を有する支持基板２１と、支持基板２１の表面に設けられた反射層（機能層）２２と、反射層２２の表面に設けられた光透過層２３とを備えて構成されている。このような構成を有する光記録媒体２０は、波長λが３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、好ましくは約４０５ｎｍであるレーザビーム３０を光透過層２３の表面である光入射面２３ａより照射することによってデータの再生を行うことが可能な再生専用の光記録媒体である。光記録媒体２０からのデータの再生においては、開口数が０．７以上、好ましくは０．８５程度の対物レンズ３１が用いられ、これによって、レーザビーム３０の波長をλ、対物レンズ３１の開口数をＮＡとした場合、λ／ＮＡ≦６４０ｎｍに設定される。
【００１８】
以下、本実施形態による光記録媒体製造装置１０を用いた光記録媒体２０の製造方法について説明する。
【００１９】
まず、成型装置１１によって支持基板２１を射出成型する。支持基板２１は、光記録媒体２０に求められる厚み（約１．２ｍｍ）を確保するために用いられる厚さ約１．１ｍｍの円盤状の基板であり、図２に示すように、その一方の面２１ａには、その中心部近傍から外縁部に向けて、或いは、外縁部から中心部近傍に向けて、データの内容を示す複数のピット２１ｂが螺旋状又は同心円状に形成されている（図２では、ピット２１ｂの大きさを強調して表している）。支持基板２１の材料としては、射出成型が可能な樹脂が用いられる。このような樹脂としてはポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。中でも、加工性などの点からポリカーボネート樹脂やオレフィン樹脂が特に好ましい。但し、支持基板２１は、レーザビーム３０の光路とはならないことから、高い光透過性を有している必要はない。
【００２０】
図３は、成型装置１１によって射出成型された支持基板２１の略断面図である。
【００２１】
図３に示すように、成型装置１１によって射出成型された支持基板２１は、いわゆる中心孔を有しておらず、その一方の面２１ａは、ピット２１ｂ（図３では図示せず）を除き、平坦面となっている。支持基板２１の他方の面２１ｃには、円環形のガイド溝２１ｄが形成されている。ガイド溝２１ｄの深さとしては、特に限定されるものではないが、０．４ｍｍ以上、１．０５ｍｍ以下に設定することが好ましく、その径は、１５ｍｍ程度に設定することが好ましい。尚、この段階で中心孔を形成していないのは、内周のスパッタマスクを支持基板自体にではなく、スパッタリング装置内に設けることができるからである。
【００２２】
成型装置１１によって射出成型された支持基板２１は、図示しない冷却装置によって室温近辺まで冷却された後、成膜装置１２へ搬送される。このとき、支持基板２１に割れやヒビが無いかどうか、検査することが好ましい。
【００２３】
図４は、成膜装置１２の構成を示すブロック図である。
【００２４】
図４に示すように、成膜装置１２は、スパッタリング装置１４と、ディスペンサー９０と、回転塗布装置１００と、紫外線照射装置１５によって構成されており、支持基板２１がこれら装置内をこの順に通過することによって、支持基板２１の一方の表面２１ａに反射層２２及び光透過層２３が形成される。
【００２５】
図５は、スパッタリング時の様子を模式的に示す断面図である。
【００２６】
図５に示すように、スパッタリングを行う際には、支持基板２１の一方の表面２１ａがターゲット１４ａと対向するよう、ガイド溝２１ｄと係合する突起１４ｂを持った支持具１４ｃによって支持基板２１を固定し、さらに、マスク１４ｄによって表面２１ａの外周部及び内周部を覆う。この状態でスパッタリングを行うことにより、支持基板２１の一方の表面２１ａのうち、マスク１４ｄによって覆われた領域を除く全面に反射層２２が形成される。反射層２２の材料としては、銀（Ａｇ）を主成分とする合金や、アルミニウム（Ａｌ）を主成分とする合金などを用いることができる。本明細書では、機能層（本実施形態では反射層２２）が形成された支持基板２１を「光記録媒体用中間体（２０ａ）」と呼ぶ。
【００２７】
反射層２２の形成が完了すると、光記録媒体用中間体をディスペンサー９０へ搬送する。
【００２８】
図６は、ディスペンサー９０の構造を概略的に示す断面図である。
【００２９】
ディスペンサー９０は、紫外線硬化性樹脂を光記録媒体用中間体２０ａの表面（反射層２２側）に供給するための装置であり、図６に示すように、紫外線硬化性樹脂４０を供給するノズル９１と、支持基板２１のガイド溝２１ｄと係合する突起９２ａを持ったステージ９２によって構成されている。ノズル９１は突起９２ａの真上に位置しており、このためガイド溝２１ｄが突起９２ａと係合すると、ノズル９１は光記録媒体用中間体２０ａの中心部の真上に位置することになる。したがって、ノズル９１より紫外線硬化性樹脂４０が滴下されると、紫外線硬化性樹脂４０は光記録媒体用中間体２０ａのほぼ中心部分に供給されることになる。
【００３０】
図７は、回転塗布装置１００の構造を概略的に示す断面図である。
【００３１】
回転塗布装置１００は、ディスペンサー９０によって供給された紫外線硬化性樹脂４０を光記録媒体用中間体２０ａの表面に塗り広げるとともに、これを半硬化させるための装置であり、スピンカップ１１０と、駆動部１２０と、紫外線ランプ１３０によって構成されている。
【００３２】
スピンカップ１１０は、下部カバー１１１、上部カバー１１２及び収容部１１３によって構成されており、下部カバー１１１には第１の開口部１１１ａが形成され、上部カバー１１２には第２の開口部１１２ａが形成されている。図７及び略上面図である図８に示すように、第１の開口部１１１ａ及び第２の開口部１１２ａはいずれも円形であり、光記録媒体用中間体２０ａとほぼ同心円となる構造を有している。
【００３３】
ここで、光記録媒体用中間体２０ａの径をＤ０、第１の開口部１１１ａの径をＤ１、第２の開口部１１２ａの径をＤ２とすると、これらＤ０、Ｄ１及びＤ２の関係は、
Ｄ２<Ｄ０<Ｄ１
に設定されている。このことは、光記録媒体用中間体２０ａを第２の開口部１１２ａから、つまり上側からスピンカップ１１０内に搬入することができず、第１の開口部１１１ａから、つまり下側からスピンカップ１１０内に搬入する必要があることを意味する。一般的な回転塗布装置では、第２の開口部１１２ａに対応する開口部の径（Ｄ２）が光記録媒体用中間体の径（Ｄ０）よりも十分に大きく（Ｄ２>Ｄ０）、このため、光記録媒体用中間体を上側からスピンカップ内に搬入可能であるのと対照的である。
【００３４】
駆動部１２０は、光記録媒体用中間体２０ａを第１の開口部１１１ａからスピンカップ１１０内に搬入するとともに、スピンカップ１１０内に搬入された光記録媒体用中間体２０ａを回転させる役割を果たす。具体的に説明すると、駆動部１２０は、ボールスライド軸１２１と、ボールスライド軸１２１を駆動する上下用モータ１２２と、ボールスライド軸１２１に連動するスライドユニット１２３と、スライドユニット１２３に固定された回転用モータ１２４と、回転用モータ１２４により駆動される回転軸１２５と、回転軸１２５に固定されたスピンテーブル１２６とを備えている。図７に示すように、スピンテーブル１２６の表面には、支持基板２１のガイド溝２１ｄと係合する突起１２６ａが設けられており、これにより光記録媒体用中間体２０ａを正しく位置決めしつつ、図示しないチャッキング機構により固定することが可能となる。
【００３５】
紫外線ランプ１３０は、上部カバー１１２に設けられた第２の開口部１１２ａを介して、光記録媒体用中間体２０ａの表面に塗布された紫外線硬化性樹脂４０に紫外線を照射するためのランプである。
【００３６】
図９は、ディスペンサー９０及び回転塗布装置１００の動作を説明するためのフローチャートである。
【００３７】
まず、図６に示したディスペンサー９０を用いて光記録媒体用中間体２０ａの表面（反射層２２側）の中心部に紫外線硬化性樹脂４０（塗布液）を供給した後（ステップＳ１）、光記録媒体用中間体２０ａを回転塗布装置１００に搬送し、スピンテーブル１２６に載置する（ステップＳ２）。ディスペンサー９０から回転塗布装置１００への搬送は、支持基板２１の他方の面２１ｃ及び側面の少なくとも一方を支持しながら、スピンテーブル１２６がスピンカップ１１０の下部カバー１１１よりもさらに下側に保持された状態、つまり搬入／搬出位置にて行われる。図７には、スピンテーブル１２６及び光記録媒体用中間体２０ａが搬入／搬出位置に保持された状態が示されている。
【００３８】
次に、上下用モータ１２２による駆動によりスピンテーブル１２６を上昇させ、光記録媒体用中間体２０ａを回転位置まで移動させた後（ステップＳ３）、回転用モータ１２４によってスピンテーブル１２６を回転させる（ステップＳ４）。スピンテーブル１２６及び光記録媒体用中間体２０ａが回転位置に保持された状態は図１０に示されている。図１０に示すように、回転位置とは、光記録媒体用中間体２０ａが第１の開口部１１１ａを下側から通過し、スピンカップ１１０に収容される位置であり、この場合、光記録媒体用中間体２０ａと第２の開口部１１２ａとの距離はＬ１である。
【００３９】
光記録媒体用中間体２０ａを回転させると、その表面に供給されていた紫外線硬化性樹脂４０がほぼ均一（約１００μｍ）に塗り広げられ、図１０に示すように、余分な紫外線硬化性樹脂４０は遠心力によって振り切られ、収容部１１３に溜められる。このスピンコートにおいては、ディスペンサー９０によって光記録媒体用中間体２０ａのほぼ中心部分に紫外線硬化性樹脂４０が供給されていることから、非常に良好な膜厚均一性を得ることが可能となる。
【００４０】
次に、スピンテーブル１２６を回転させたまま、上下用モータ１２２による駆動によりスピンテーブル１２６をさらに上昇させ、光記録媒体用中間体２０ａを照射位置まで移動させた後（ステップＳ５）、紫外線ランプ１３０を点灯（或いは図示しないシャッタを開放）する（ステップＳ６）。このとき照射する紫外線の量は、光記録媒体用中間体２０ａの表面にスピンコートされた紫外線硬化性樹脂４０が完全に硬化しない程度の量、例えば、積算光量を３００ｍＪ程度に設定する。スピンテーブル１２６及び光記録媒体用中間体２０ａが照射位置に保持された状態は図１１に示されている。図１１に示すように、照射位置は回転位置よりもさらに上方であり、光記録媒体用中間体２０ａと第２の開口部１１２ａとの距離をＬ２とすると、回転位置におけるこれらの距離Ｌ１と照射位置におけるこれらの距離Ｌ２との関係は、
Ｌ１>Ｌ２
となっている。
【００４１】
光記録媒体用中間体２０ａが照射位置に保持されると、紫外線ランプ１３０より照射される紫外線１３１のうち、光記録媒体用中間体２０ａの最外周よりもさらに径方向外側の空間へ放射される紫外線１３１ａは、上部カバー１１２によって遮られ、スピンカップ１１０内には届かない。このため、遠心力によって光記録媒体用中間体２０ａの径方向外側の空間へ振り切られた紫外線硬化性樹脂４０には紫外線が照射されず、振り切られた紫外線硬化性樹脂４０は全く硬化しない。したがって、紫外線硬化性樹脂４０が光記録媒体用中間体２０ａの最外周部分を超えた部分で硬化することがないので、このような不要部分を除去する工程が不要となる。また、より多くの塗布液を回収することも可能となる。
【００４２】
しかも、照射位置にある光記録媒体用中間体２０ａと第２の開口部１１２ａとの距離（Ｌ２）が非常に近いことから回折の影響が少なく、このため、紫外線１３１を照射する領域と遮蔽する領域との境界を高精度に調整することが可能となる。紫外線１３１を照射する領域と遮蔽する領域との境界は、光記録媒体用中間体２０ａの最外周と一致させることが理想であるが、多少のマージンを考慮して、光記録媒体用中間体２０ａの最外周から僅かに内側に設定しても構わない。以上により、光記録媒体用中間体２０ａの表面に塗布された紫外線硬化性樹脂４０はその流動性が大幅に低下し、半硬化した状態となる。
【００４３】
このようにして半硬化が完了すると、回転用モータ１２４によるスピンテーブル１２６の回転を停止し（ステップＳ７）、図７に示す搬送／搬入位置までこれらを移動させる（ステップＳ８）。
【００４４】
以上が、ディスペンサー９０及び回転塗布装置１００の動作である。
【００４５】
このようにして、紫外線硬化性樹脂４０の半硬化が完了すると、光記録媒体用中間体２０ａを回転塗布装置１００から紫外線照射装置１５へ搬送する。
【００４６】
紫外線照射装置１５へ搬送された光記録媒体用中間体２０ａは、十分な量の紫外線、例えば、積算光量３０００ｍＪ程度の紫外線が照射され、これによって紫外線硬化性樹脂４０が完全に硬化して光透過層２３となる。このとき、半硬化によって紫外線硬化性樹脂４０の流動性が十分に低下していることから、回転塗布装置１００から紫外線照射装置１５へ搬送する間に、表面張力によって塗膜がディスクの最外周部分で盛り上がるといった問題が生じることはない。このため、次世代型の光記録媒体に用いられる光透過層のように、膜厚の比較的厚い層を高精度に形成することが可能となる。
【００４７】
以上により、成膜装置１２（スパッタリング装置１４、ディスペンサー９０、回転塗布装置１００及び紫外線照射装置１５）を用いた反射層２２及び光透過層２３の成膜が完了する。
【００４８】
成膜が完了した光記録媒体用中間体２０ａは、中心孔形成装置１３へ搬送される。中心孔形成装置１３は中心孔２９を形成するための装置であり、図１２に示すように、ガイド溝２１ｄに沿って支持基板２１（及び光透過層２３）の中心部を除去する。これにより、光記録媒体用中間体２０ａには中心孔２９が形成され、図２に示す光記録媒体２０が完成する。中心孔形成装置１３では、ガイド溝２１ｄに沿った支持基板２１及び光透過層２３の切断を行っていることから、精度の高い中心孔２９を簡単に形成することが可能となる。
【００４９】
以上により、光記録媒体製造装置１０を用いた一連の製造工程が完了する。
【００５０】
このように、本実施形態による光記録媒体製造装置１０は、支持基板２１に位置決め用のガイド溝２１ｄを形成しておき、スピンコート法によって光透過層２３を形成した後、ガイド溝２１ｄに沿って中心孔２９を形成していることから、支持基板２１に割れやヒビが生じたり、中心孔２９の形成位置がずれたりすることなく、精度の高い中心孔２９を簡単に形成することが可能となる。また、スピンコートを行う時点では、支持基板２１に中心孔２９や位置決め用の貫通孔が形成されていないことから、塗布液である紫外線硬化性樹脂４０を光記録媒体用中間体２０ａのほぼ中央に供給することができる。これにより、膜厚精度が非常に高い光透過層２３を形成することが可能となる。
【００５１】
次に、本発明の好ましい他の実施形態について説明する。
【００５２】
本実施形態による光記録媒体製造装置の概要は、成膜装置１２の構成が異なっている他は、上記実施形態による光記録媒体製造装置１０と同様である。まず、本実施形態による光記録媒体製造装置によって製造される光記録媒体の構造について説明する。
【００５３】
図１３は、本実施形態による光記録媒体製造装置によって製造される光記録媒体５０の構造を概略的に示す切り欠き斜視図である。図１３に示すように、光記録媒体５０は、光透過層２３の表面にハードコート層２４が設けられている他は、図２に示した光記録媒体２０と同様の構成を有している。したがって、光記録媒体５０ではハードコート層２４の表面が光入射面２４ａとなる。
【００５４】
図１４は、本実施形態による光記録媒体製造装置に含まれる成膜装置１２の構成を概略的に示すブロック図である。図１４に示すように、本実施形態では、上流側からこの順に配置されたスパッタリング装置１４、第１のディスペンサー９０、第１の回転塗布装置１００、第２のディスペンサー１９０、第２の回転塗布装置２００及び紫外線照射装置１５によって成膜装置１２が構成されている。スパッタリング装置１４、第１のディスペンサー９０、第１の回転塗布装置１００及び紫外線照射装置１５は、上記実施形態で用いたスパッタリング装置１４、ディスペンサー９０、回転塗布装置１００及び紫外線照射装置１５と同じ装置である。したがって、上記実施形態における回転塗布装置１００と紫外線照射装置１５との間に、第２のディスペンサー１９０と第２の回転塗布装置２００が挿入された構成であると言える。
【００５５】
本実施形態では、第１のディスペンサー９０によって第１の紫外線硬化性樹脂が光記録媒体用中間体に供給され、第１の回転塗布装置１００によってこれがスピンコートされ、さらに半硬化される。半硬化状態の第１の紫外線硬化性樹脂は、その後光透過層２３となる。この点は、上記実施形態と同様である。
【００５６】
次に、第２のディスペンサー１９０によって、半硬化した第１の紫外線硬化性樹脂の表面に、ハードコート層２４の材料である第２の紫外線硬化性樹脂を供給し、第２の回転塗布装置２００によってこれをスピンコートする。以上により、半硬化状態である第１の紫外線硬化性樹脂の表面に、未硬化状態である第２の紫外線硬化性樹脂が重ねて塗布された状態となる。
【００５７】
そして、紫外線照射装置１５を用いて第１の紫外線硬化性樹脂及び第２の紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させれば、光透過層２３及びハードコート層２４が形成される。ここで、ハードコート層２４の材料である第２の紫外線硬化性樹脂を半硬化させることなく、紫外線照射装置１５によって直ちに完全硬化させているのは、ハードコート層２４の厚みが光透過層２３に比べて十分に薄いため（１〜５μｍ）、回転を停止しても最外周部分での盛り上がりがあまり生じないからである。
【００５８】
このように、本実施形態では、成膜装置１２によって半硬化状態の第１の紫外線硬化性樹脂及び未硬化状態の第２の紫外線硬化性樹脂を重ねて塗布していることから、紫外線照射装置１５を用いた紫外線の照射により、光透過層２３及びハードコート層２４が同時に形成される。これにより、光透過層２３とハードコート層２４の界面が連続的となる（層がはっきりと別れない）ことから、ハードコート層２４に熱膨張係数の差によるクラックが生じにくくなる。また、本実施形態でも、中心孔形成装置１３を用いてガイド溝２１ｄに沿って中心孔２９を形成していることから、支持基板２１に割れやヒビが生じたり、中心孔２９の形成位置がずれたりすることなく、精度の高い中心孔２９を簡単に形成することが可能となる。
【００５９】
本発明は、以上説明した実施の形態に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【００６０】
例えば、上記各実施形態では、再生専用の次世代型光記録媒体を製造する場合を例に説明したが、本発明による光記録媒体製造装置や本発明による光記録媒体の製造方法によって製造される光記録媒体がこれに限定されるものではなく、他の種類の光記録媒体を製造することも可能である。つまり、本発明は、中心孔を最後に形成し得る光記録媒体全般の製造に有効であると言える。したがって、記録可能な光記録媒体を製造する場合に本発明を適用することも可能であるし、ＣＤ型やＤＶＤ型の光記録媒体を製造する場合に本発明を適用することも可能である。記録可能な光記録媒体の場合、「機能層」には記録層が含まれることになる。但し、中心孔を後から形成するのは、光透過層に高い膜厚精度が要求されるためである点を考慮すれば、本発明は、次世代型光記録媒体の製造に特に有効であると言える。
【００６１】
また、上記各実施形態では、紫外線硬化性樹脂を供給するディスペンサーとこれをスピンコートする回転塗布装置がそれぞれ別個の装置であるが、紫外線硬化性樹脂の供給とスピンコートを一つの装置によって行っても構わない。
【００６２】
また、上記各実施形態では、紫外線照射装置によって紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させているが、この段階で紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させることは必須でなく、半硬化状態の紫外線硬化性樹脂をさらに硬化させれば足りる。
【００６３】
さらに、ガイド溝２１ｄの形状としては円環形に限定されるものではなく、支持基板２１の位置決めができ、且つ、中心孔２９を形成する際のガイドとなり得る限り、他の形状であっても構わない。例えば、中心孔２９となるべき領域の全体を他の領域よりも薄くし、これをガイド溝として利用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の好ましい実施形態による光記録媒体製造装置１０の構成を示すブロック図である。
【図２】光記録媒体製造装置１０により製造される光記録媒体２０の構造を概略的に示す切り欠き斜視図である。
【図３】成型装置１１によって射出成型された支持基板２１の略断面図である。
【図４】成膜装置１２の構成を示すブロック図である。
【図５】スパッタリング装置１４内の構造を模式的に示す断面図である。
【図６】ディスペンサー９０の構造を概略的に示す断面図である。
【図７】回転塗布装置１００の構造を概略的に示す断面図である。
【図８】回転塗布装置１００の略上面図である。
【図９】ディスペンサー９０及び回転塗布装置１００の動作を説明するためのフローチャートである。
【図１０】光記録媒体２０が回転位置に保持された状態を示す略断面図である。
【図１１】光記録媒体２０が照射位置に保持された状態を示す略断面図である。
【図１２】中心孔形成装置１３により除去する領域を示す断面図である。
【図１３】本発明の好ましい他の実施形態による光記録媒体製造装置により製造される光記録媒体５０の構造を概略的に示す切り欠き斜視図である。
【図１４】成膜装置１２の他の構成を概略的に示すブロック図である。
【符号の説明】
【００６５】
１０        光記録媒体製造装置
１１        成型装置
１２        成膜装置
１３        中心孔形成装置
１４        スパッタリング装置
１４ａ      ターゲット
１４ｂ      突起
１４ｃ      支持具
１４ｄ      マスク
１５        紫外線照射装置
２０，５０  光記録媒体
２０ａ      光記録媒体用中間体
２１        支持基板
２１ａ      支持基板の一方の表面
２１ｂ      ピット
２１ｃ      支持基板の他方の表面
２１ｄ      ガイド溝
２２        反射層
２３        光透過層
２３ａ，２４ａ    光入射面
２４        ハードコート層
２９        中心孔
３０        レーザビーム
３１        対物レンズ
４０        紫外線硬化性樹脂
９０，１９０    ディスペンサー
９１        ノズル
９２        ステージ
９２ａ      突起
１００，２００    回転塗布装置
１１０      スピンカップ
１１１      下部カバー
１１１ａ    第１の開口部
１１２      上部カバー
１１２ａ    第２の開口部
１１３      収容部
１２０      駆動部
１２１      ボールスライド軸
１２２      上下用モータ
１２３      スライドユニット
１２４      回転用モータ
１２５      回転軸
１２６      スピンテーブル
１３０      紫外線ランプ
１３１      紫外線
１３１ａ    遮蔽される紫外線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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