(57)【要約】【課題】  生産性の高いメッキ技術による軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、ノイズ、特にスパイクノイズを抑制した垂直磁気記録媒体を提供する。【解決手段】  本垂直磁気記録媒体は、無電解メッキによって作製された軟磁性裏打ち層であって、その下面側部分が上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する軟磁性裏打ち層を垂直磁気記録層の下側に有する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直磁気記録層の下側に軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、
当該軟磁性裏打ち層が無電解メッキによって作製されたものであり、
当該軟磁性裏打ち層の下面側部分が上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する
垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
前記無電解メッキが、実質的に同一組成のメッキ液を使用して行われたものである、請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
前記無電解メッキが、メッキ浴から被メッキ物を取り出すことなく行われたものである、請求項１または２に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項４】
前記軟磁性裏打ち層が、その上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する中間部分を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項５】
裏打ち層の請求項１〜４のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、
無電解メッキにおける、メッキ液濃度、メッキ液温度、付与する磁界およびメッキ浴の撹拌条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を変更して、前記下面側部分と上面側部分とを作製する、
垂直磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気記録層の下側に軟磁性裏打ち層が形成された垂直磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録の高密度化を実現するための技術として、従来の長手磁気記録方式に代えて、垂直磁気記録方式が注目されつつある（たとえば非特許文献１参照。）特に、情報記録を担う垂直磁気記録層の下側に、磁気ヘッドから発生する磁束を通しやすい軟磁性裏打ち層と呼ばれる軟磁性膜を付与した垂直磁気記録媒体は２層垂直磁気記録媒体と呼ばれることがあり、磁気ヘッドから発生する磁界の強度とその勾配を増大でき、記録分解能を向上させ得るとともに媒体からの漏洩磁束も増加させ得ることから、高密度記録が可能な垂直磁気記録媒体として好適である。
【特許文献１】特開平６−１８０８３４号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開平１０−２１４７１９号公報（特許請求の範囲）
【非特許文献１】先端デバイス材料ハンドブック，電子情報通信学会編，オーム社，１９９３年，ｐ．３３４−３３８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記のごとく、垂直磁気記録媒体に軟磁性裏打ち層として軟磁性膜を付与することは記録再生特性の向上に非常に効果的であるが、その適当とされる膜厚は約２００〜４００ｎｍ以上と記録層と比較して倍以上の厚さが必要であり、従来の媒体各層の成膜に用いられるスパッタリング法でそのすべてを形成すると生産コストが非常に割高となり、量産化が困難である。
【０００４】
これに対し、無電解メッキ法は、成膜スピードが大きく、容易に厚膜を得ることができ、なおかつバッチ処理が可能であるため非常に生産性に優れる。しかしながら、従来の無電解メッキ法により、軟磁性膜を、単層でもしくは単一の条件で成膜して軟磁性裏打ち層に用いようとした場合、軟磁性裏打ち層に必要な条件である磁区の安定性、磁気異方性の制御および低保磁力化といった条件を全て満足させることは困難であり、軟磁性裏打ち層起因のノイズが低減できないという課題があった。
【０００５】
このような軟磁性裏打ち層起因のノイズとしては、スパイクノイズ、消磁時のノイズ、広域トラックイレーズノイズ（ＷＡＴＥＲ：Ｗｉｄｅ−Ａｒｅａ  Ｔｒａｃｋ  Ｎｏｉｓｅ）を挙げることができる。スパイクノイズとは、磁区の形成により生じるノイズで、軟磁性裏打ち層に形成された磁壁により生じるものであることが知られている。消磁時のノイズとは、ＤＣイレーズ等の消磁時に残存するノイズで、Ｓ／Ｎ比を悪化させる原因となる。一般的には垂直方向の磁気異方性が小さい方がノイズを小さくできるとされている。広域トラックイレーズノイズとは、情報の記録時に本来記録されるべきビットから離れた広い範囲のビットの磁化が減磁あるいは消磁されてしまう現象で、面方向の磁気異方性が大きい方がノイズを小さくできると考えられている。
【０００６】
このような軟磁性裏打ち層の磁壁形成の制御については、軟磁性裏打ち層の上層や下層にＣｏ合金等の強磁性層を形成し、これを所望の方向に磁化させるように着磁する方法や、同様に、反強磁性薄膜を形成し層間の交換結合を利用して磁化を一方向に固定する方法（たとえば特許文献１，２参照。）などが提案されているが、構成が複雑であったり、高コストである等の問題があり、更に、高品質化への強い要請もあって、ノイズを低減させる技術へのニーズは強い。
【０００７】
本発明は、上記ニーズに応え、生産性の高いメッキ技術による軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、ノイズ、特にスパイクノイズを抑制し、更にその他のノイズの抑制も容易にできる、垂直磁気記録媒体を提供することを目的としている。本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第一の態様によれば、垂直磁気記録層の下側に軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、軟磁性裏打ち層が無電解メッキによって作製されたものであり、軟磁性裏打ち層の下面側部分が上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する垂直磁気記録媒体が提供される。
【０００９】
本発明態様により、生産性の高いメッキ技術による軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、ノイズ、特にスパイクノイズを抑制した垂直磁気記録媒体が得られる。更にその他のノイズの抑制も容易にできる場合もあり得る。
【００１０】
無電解メッキが、実質的に同一組成のメッキ液を使用して行われたものであること、無電解メッキが、メッキ浴から被メッキ物を取り出すことなく行われたものであること、軟磁性裏打ち層の下面側部分のＨｃが５Ｏｅ以下であること、軟磁性裏打ち層の上面側部分のＨｃが１０Ｏｅ以上であること、軟磁性裏打ち層が、その上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する中間部分を有すること、膜厚が、下面側部分については０．１〜１．０μｍの範囲、上面側部分については０．１〜１．０μｍの範囲にあること、軟磁性裏打ち層が、Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉからなる群から選ばれた少なくとも一つの材料を含むことおよび、軟磁性裏打ち層がさらにＢとＰの少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。
【００１１】
本発明の他の一態様によれば、上記垂直磁気記録媒体の製造方法において、無電解メッキにおける、メッキ液濃度、メッキ液温度、付与する磁界およびメッキ浴の撹拌条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を変更して、上記下面側部分と上面側部分とを作製する垂直磁気記録媒体の製造方法が提供される。
【００１２】
本発明態様により、ノイズ、特にスパイクノイズを抑制した垂直磁気記録媒体を、生産性よく得ることができる。
【００１３】
めっき液として、Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉからなる群から選ばれた少なくとも一つの材料の塩を含むめっき液を使用することおよび、メッキの還元剤としてＢを含有する化合物とＰを含有する化合物の少なくともいずれか一方を使用することが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、生産性の高いメッキ技術による軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、ノイズ、特にスパイクノイズを抑制した垂直磁気記録媒体が得られる。更にその他のノイズの抑制も容易にできる場合もあり得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明の実施の形態を図、表、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、表、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。
【００１６】
本発明に係る垂直磁気記録媒体は、図１に例示するように、垂直磁気記録層の下側に軟磁性裏打ち層を有し、軟磁性裏打ち層の下面側部分が上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する。軟磁性裏打ち層は無電解メッキによって作製される。
【００１７】
図１には、基板１の上に軟磁性裏打ち層の下面側部分２，軟磁性裏打ち層の上面側部分３，第１中間層（ＮｉＦｅ）５，第２中間層（Ｔａ）６，第３中間層（Ｒｕ）７，垂直磁気記録層（ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ2）８を積層した断面構造が示されている。下面側部分２と上面側部分３とで軟磁性裏打ち層４が構成されている。なお、図１はあくまで例示である。本発明に係る垂直磁気記録媒体は、本発明の趣旨に反しない限り、上記と異なる構成でもよく、その他の層を含んでいてもよい。
【００１８】
このような構造にすることにより、磁壁の発生を抑えスパイクノイズを抑制することができる。表１は、相対的に低いＨｃの軟磁性膜（条件１）と相対的に高いＨｃの軟磁性膜（条件２）と、条件１の膜を下側に、条件２の膜を上側に積層した軟磁性膜（条件３）についての成膜条件およびＨｃ値を示す例であり、図２はそれらの磁気光学Ｋｅｒｒ効果による観察結果を示す写真である。
【００１９】
条件１の写真では磁壁が観察されている。条件２の写真では磁壁が観察されなくなるが、表１に示すごとくＨｃが大きく軟磁性膜の特徴を損なっている。これに対し、これら二つの条件の膜を積層した条件３の膜では、磁壁は観察されず、しかも、Ｈｃを低く抑えることが可能であった。
【００２０】
すなわち、軟磁性膜としての性能を確保しつつスパイクノイズを抑制できることが判明した。また、この構成では、下面側部分のＨｃを低くすることにより、上面側部分のＨｃに関する制限を緩和することができるので、別の磁気特性を付与することが容易になる。たとえば、面内方向の磁気異方性を大きくして、スパイクノイズの発生しない条件で高い面内の磁気異方性を実現することが可能となる。このようにすればＷＡＴＥＲを抑制することも可能となる。
【００２１】
下面側部分のＨｃについては、上記条件を満たす限り特に制限はないが、あまり大きいと軟磁性裏打ち層全体としてのＨｃも大きくなるので、５Ｏｅ以下であることが好ましい。
【００２２】
上面側部分のＨｃについても、上記条件を満たす限り特に制限はないが、あまり小さいと、本発明に係る構成を採用する意義が薄れるので、一般的には１０Ｏｅ以上であることが好ましい。
【００２３】
なお、図１では、下面側部分２と上面側部分３とが明確に分けて示してあるが、この層分けは便宜上のものであり、明確に分かれている必要はない。たとえばＨｃが下面側から上面側に向け次第に大きくなるようになっていてもよい。
【００２４】
また、下面側部分と上面側部分との間に中間部分と呼ぶことのできる部分が存在してもよい。下面側部分と中間部分と上面側部分とは、Ｈｃが段階的に変化していてもよいが、次第に変化するようになっていてもよい。そのいずれの場合についても、中間部分としては、上面側部分に比し低いＨｃを有することがスパイクノイズ抑制の上からは好ましい。ただし、そのＨｃは、下面側部分に比し低くても高くてもよい。
【００２５】
下面側部分と上面側部分との膜厚については、特に制限はなく、垂直磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層に必要とされる膜厚を採用すればよい。一般的には、下面側部分については０．１〜１．０μｍの範囲、上面側部分については０．１〜１．０μｍの範囲、軟磁性裏打ち層全体としては０．２〜２．０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００２６】
なお、本発明において、下面側部分と上面側部分との比較におけるＨｃの値は、得られた軟磁性裏打ち層から切り出した部分について測定する必要はなく、下面側部分と上面側部分とがそれぞれ形成される条件で得られた単独の薄膜について測定したＨｃの値を使用すればよい。
【００２７】
本発明に係る軟磁性裏打ち層は、Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉからなる群から選ばれた少なくとも一つの材料を含むものであることが好ましい。このような組成により、好ましい特性を有する軟磁性裏打ち層が得られる。この軟磁性裏打ち層はＢとＰの少なくともいずれか一方を含むことがより好ましい。これらの材料により、上記のＨｃの組み合わせを容易に実現できる。これらの材料は、複数種存在する場合には合金の形態を取るものと考えられる。
【００２８】
上記軟磁性裏打ち層中の各材料の組成割合については特に制限はなく、裏打ち膜としての所望の特性に応じて任意に選択することができる。
【００２９】
垂直磁気記録媒体の製造において、本発明に係る軟磁性裏打ち層を作製するには、公知のメッキ技術を採用することができ、上記下面側部分の特性と上面側部分の特性とは、メッキ条件を変更することにより種々変更することができる。このため、ノイズ、特にスパイクノイズを抑制した垂直磁気記録媒体を、生産性よく得ることができる。
【００３０】
変更できるメッキ条件としては、無電解メッキにおける、メッキ液の組成、メッキ液濃度、メッキ液温度、付与する磁界およびメッキ浴の撹拌条件を挙げることができる。この内、メッキ液の組成は変更が容易でない場合があるが、その他の条件である、メッキ液濃度、メッキ液温度、付与する磁界およびメッキ浴の撹拌条件については一般に変更が容易である。従って、本発明に係る垂直磁気記録媒体の製造方法において、無電解メッキにおける、メッキ液濃度、メッキ液温度、付与する磁界およびメッキ浴の撹拌条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を変更して、上記下面側部分と上面側部分とを作製することは、好ましい特性の軟磁性裏打ち層を容易に作製でき、従って、好ましい特性を有する垂直磁気記録媒体を容易に作製できるので有用である。
【００３１】
メッキ液の組成変更以外の条件変更は、メッキ浴から被メッキ物を取り出すことなく行ってもよい。このようにすると生産性を高くでき、有利である。特に、メッキ液温度、付与する磁界およびメッキ浴の撹拌条件は、実質的に同一組成のメッキ液を使用したまま行えるため有利である。これらの条件にメッキ浴の温度およびメッキ液のｐＨを加えてもよい。ここで、「実質的に」とは、バッチ操作のメッキ中に最初の組成が次第に変化する程度の変化は同一であると見なせることを意味する。より具体的には、Ｈｃと異方性磁界とが目標とする範囲内に収まっていれば実質的に同一組成と考えて差し支えない。
【００３２】
付与する磁界としては、磁界強度、磁界を掛ける方向等の条件を変更することができる。メッキ浴の撹拌条件としては、メッキ液循環量、メッキ浴に備えた撹拌機の撹拌速度および基板回転速度を挙げることができる。
【００３３】
上記条件の変更は、めっき液濃度を変更する場合を除いて、メッキ膜の組成変更を実質的に伴わない。従って、下面側部分と上面側部分とは化学分析では区別できない。上記条件変更をある程度の時間を掛けて行う場合には、Ｈｃの値の変化も段階的ではなく、次第に変化するものとなる。
【００３４】
このメッキには、公知のメッキ液組成を使用することができる。Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉからなる群から選ばれた少なくとも一つの材料の塩を含むメッキ液を使用することができ、好ましい。メッキの還元剤としてＢを含有する化合物とＰを含有する化合物の少なくともいずれか一方を使用することが好ましい。こうすれば、金属への還元をスムーズに行うことができる。
【００３５】
このようにして、本発明に係る垂直磁気記録媒体の製造方法により、軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、ノイズ、特にスパイクノイズを抑制した垂直磁気記録媒体を生産性高く得ることができる。また、この構成では、下面側部分のＨｃを低くすることにより、上面側部分のＨｃに関する制限を緩和することができるので、別の磁気特性を付与することが容易になる。たとえば、面内方向の磁気異方性を大きくして、ＷＡＴＥＲを抑制することも可能となる。
【実施例】
【００３６】
次に本発明の実施例を詳述する。Ｈｃは、理研電子社製のＶＳＭ（Ｖｉｂｒａｔｉｎｇ  Ｓａｍｐｌｅ  Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ：試料振動型磁力計）で測定した。
【００３７】
［実施例１］
硫酸鉄、硫酸ニッケル、硫酸コバルトおよび還元剤としてホウ素化合物を含むメッキ液を使用し、表１に示す条件で、相対的に低いＨｃの軟磁性膜（条件１）、相対的に高いＨｃの軟磁性膜（条件２）および条件１の膜を下側に、条件２の膜を上側に積層した軟磁性膜（条件３）を作製した。この結果、表１に示すＨｃと図２の結果が得られた。なお、表中の回転速度は、基板（ディスク）を、ディスクの回転軸（すなわち、ディスクの中心を通り、ディスク面に垂直な軸）を中心に回転させたときの回転数を表す。メッキ液濃度は一定に保ち、メッキ液温度は６０℃に保った。
【００３８】
条件１の軟磁性膜のみでは表１のＨｃおよびＢ−Ｈ曲線より理解できるように、軟磁性は充分であるが磁区が観察された。また、条件２の軟磁性膜のみでは写真から分かるように磁区は抑制できるが、表１およびＢ−Ｈ曲線より理解できるように軟磁性は不十分であった。これに対し、条件３の軟磁性膜では、表１のＨｃおよびＢ−Ｈ曲線より理解できるように、軟磁性を充分低く保つことができ、かつ、写真から分かるように磁区も抑制できた。
【００３９】
【表１】
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なお、上記に開示した内容から、下記の付記に示した発明が導き出せる。
【００４０】
（付記１）
垂直磁気記録層の下側に軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、
当該軟磁性裏打ち層が無電解メッキによって作製されたものであり、
当該軟磁性裏打ち層の下面側部分が上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する
垂直磁気記録媒体。
【００４１】
（付記２）
前記無電解メッキが、実質的に同一組成のメッキ液を使用して行われたものである、付記１に記載の垂直磁気記録媒体。
【００４２】
（付記３）
前記無電解メッキが、メッキ浴から被メッキ物を取り出すことなく行われたものである、付記１または２に記載の垂直磁気記録媒体。
【００４３】
（付記４）
前記軟磁性裏打ち層の下面側部分のＨｃが５Ｏｅ以下である、付記１〜３のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【００４４】
（付記５）
前記軟磁性裏打ち層の上面側部分のＨｃが１０Ｏｅ以上である、付記１〜４のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【００４５】
（付記６）
前記軟磁性裏打ち層が、その上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する中間部分を有する、付記１〜５のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【００４６】
（付記７）
膜厚が、前記下面側部分については０．１〜１．０μｍの範囲、前記上面側部分については０．１〜１．０μｍの範囲にある、付記１〜６のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【００４７】
（付記８）
前記軟磁性裏打ち層が、Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉからなる群から選ばれた少なくとも一つの材料を含む、付記１〜７のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【００４８】
（付記９）
前記軟磁性裏打ち層がさらにＢとＰの少なくともいずれか一方を含む、付記８に記載の垂直磁気記録媒体。
【００４９】
（付記１０）
付記１〜９のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、
無電解メッキにおける、メッキ液濃度、メッキ液温度、付与する磁界およびメッキ浴の撹拌条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を変更して、前記下面側部分と上面側部分とを作製する、
垂直磁気記録媒体の製造方法。
【００５０】
（付記１１）
前記めっき液として、Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉからなる群から選ばれた少なくとも一つの材料の塩を含むめっき液を使用する、付記１０に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
【００５１】
（付記１２）
前記メッキの還元剤としてＢを含有する化合物とＰを含有する化合物の少なくともいずれか一方を使用する、付記１０または１１のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明に係る垂直磁気記録媒体の模式的横断面図である。
【図２】本発明に係る軟磁性裏打ち層の効果を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５３】
１    基板
２    軟磁性裏打ち層の下面側部分
３    軟磁性裏打ち層の上面側部分
４    軟磁性裏打ち層
５    第１中間層
６    第２中間層
７    第３中間層
８    垂直磁気記録層
【図１】
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【図２】
2006244605.tif 000005