(57)【要約】【課題】  本発明は、ロジウム（Ｒｈ）を含有した触媒とパティキュレートフィルタを備えた排気浄化装置において、ロジウム（Ｒｈ）のＨＣ酸化能低下を好適に解消することが可能な技術を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、ロジウム（Ｒｈ）を含有した吸蔵還元型ＮＯｘ触媒とパティキュレートフィルタを備えた排気浄化装置において、パティキュレートフィルタのＰＭ強制再生処理が実行された後の吸蔵還元型ＮＯｘ触媒が降温する過程において、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒が所定温度以上となる期間にリッチスパイク制御を禁止するとともに吸蔵還元型ＮＯｘ触媒を還元雰囲気とすることにより、ロジウム（Ｒｈ）のＨＣ酸化能低下を解消することを特徴とする。【選択図】  図３
2006017083.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の排気系にロジウムを含有した触媒とパティキュレートを捕集するパティキュレートフィルタとが一体又は別体で配置された排気浄化装置の制御方法であり、
前記パティキュレートフィルタ及び触媒を昇温させて前記パティキュレートフィルタの捕集能力を強制再生させ、その強制再生終了後の触媒温度が低下する過程において前記触媒を還元雰囲気にすることを特徴とする排気浄化装置の制御方法。
【請求項２】
請求項１において、前記触媒温度が所定温度以上となる期間に前記触媒を還元雰囲気とすることを特徴とする排気浄化装置の制御方法。
【請求項３】
請求項２において、前記所定温度は凡そ４００℃であることを特徴とする排気浄化装置の制御方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一において、前記触媒が吸蔵還元型ＮＯｘ触媒であり、
前記触媒を還元雰囲気にする場合には、該触媒のＮＯｘ吸蔵能力を再生させる処理の実行を禁止することを特徴とする排気浄化装置の制御方法。
【請求項５】
請求項４において、前記触媒を還元雰囲気にする場合は、ＮＯｘ吸蔵能力の再生処理時よりリッチ度合いを低くすることを特徴とする排気浄化装置の制御方法。
【請求項６】
内燃機関の排気系に設けられたパティキュレートフィルタと、
前記パティキュレートフィルタと一体又は別体で前記排気系に設けられ、ロジウムを含有した触媒と、
前記パティキュレートフィルタ及び前記触媒を昇温させてパティキュレートフィルタの捕集能力を強制的に再生させる再生手段と、
前記パティキュレートフィルタの強制再生終了後の触媒温度が低下する過程において、前記触媒を還元雰囲気とする劣化解消手段と、
を備えることを特徴とする排気浄化装置の制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ロジウム（Ｒｈ）を含有した触媒とパティキュレートフィルタとを備えた排気浄化装置の制御技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、車両などに搭載される内燃機関の排気浄化装置では、白金（Ｐｔ）を含有した触媒が劣化したときに、触媒を所定時間リッチ雰囲気にすることで触媒の劣化を解消する方法が知られている（たとえば、特許文献１を参照）。
【特許文献１】実開昭６３−１２８２２１号公報
【特許文献２】特開平６−２７２５４１号公報
【特許文献３】特開２００３−１３７７７号公報
【特許文献４】特開２０００−２９７６３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
また、圧縮着火式内燃機関（ディーゼルエンジン）では、ロジウム（Ｒｈ）を含有した触媒と、パティキュレート（以下、ＰＭと記す）を捕集するためのパティキュレートフィルタとを排気系に一体又は別体で配置した排気浄化装置が知られている。
【０００４】
このような排気浄化装置では、パティキュレートフィルタのＰＭ捕集能力を再生させる際に触媒が高温且つリーンな雰囲気に曝される。ロジウム（Ｒｈ）を含有した触媒が高温且つリーンな雰囲気に曝されると、ロジウム（Ｒｈ）が触媒担体の内部へ移動して触媒の浄化能力が低下してしまう。
【０００５】
上記したような触媒浄化能力の低下は、触媒が凡そ４００℃以上の高温且つリッチな雰囲気に曝されたときに解消される。しかしながら、圧縮着火式内燃機関は排気温度が低いため触媒の温度を４００℃以上の高温まで昇温させるには燃費の悪化を伴うという問題がある。
【０００６】
本発明は上記の実情に鑑みてなされたものであり、その目的はロジウム（Ｒｈ）を含有した触媒とパティキュレートフィルタとが一体又は別体で設けられた内燃機関の排気浄化装置において、触媒浄化能力の低下を好適に解消することができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は上記課題を解決するために以下のような手段を採用した。この発明の要旨は、内燃機関の排気系にロジウム（Ｒｈ）を含有する触媒とパティキュレートフィルタとが一体又は別体で配置された排気浄化装置を制御する方法であって、パティキュレートフィルタのＰＭ強制再生処理終了後の触媒温度が低下する過程において、前記触媒を還元雰囲気にして触媒浄化能力の低下を解消させる点にある。
【０００８】
パティキュレートフィルタのＰＭ捕集能力を再生させる場合には、排気温度の強制的な昇温およびまたは触媒における反応熱量の強制的な増加によってパティキュレートフィルタを昇温させ、以てパティキュレートフィルタに捕集されているＰＭを酸化除去する、所謂ＰＭ強制再生処理が行われる。
【０００９】
上記したようなＰＭ強制再生処理が実行されると、パティキュレートフィルタとともに触媒も高温且つリーンな雰囲気に曝されるため、ロジウム（Ｒｈ）が触媒担体の内部へ埋没する。ロジウム（Ｒｈ）が触媒担体の内部に埋没すると、触媒の浄化能力が低下する。
【００１０】
ロジウム（Ｒｈ）の触媒担体内への埋没は、触媒が高温な還元雰囲気に曝されたときに解消される。つまり、触媒が高温な還元雰囲気に曝されると、ロジウム（Ｒｈ）が触媒担体の表面に再び露出するようになる。
【００１１】
ところで、上記したような触媒の浄化能力低下を解消するためだけに触媒を強制的に昇温させると、燃費の著しい悪化が誘発される場合がある。
【００１２】
そこで、ＰＭ強制再生処理実行後の触媒温度が低下する過程において、触媒温度が十分に下がりきらないうちに触媒を還元雰囲気とすれば、ＰＭ強制再生処理実行時の熱を利用して触媒の浄化能力低下を解消することが可能となる。その結果、触媒の浄化能力低下を解消するために別段の昇温処理を行う必要がなくなり、燃費の悪化が抑制される。
【００１３】
尚、触媒の浄化能力低下は該触媒が凡そ４００℃以上の高温な還元雰囲気に曝されたときに好適に解消されるため、ＰＭ強制再生処理が実行された後の触媒温度が低下する過程において触媒温度が４００℃以上となる期間に触媒を還元雰囲気にするようにしてもよい。この場合、還元雰囲気を形成するために必要となる還元剤の量を必要最小限に抑えることが可能となる。
【００１４】
本発明において、ロジウム（Ｒｈ）を含有した触媒としては、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒を例示することができる。吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＮＯｘ吸蔵能力には限りがあるため、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒を備えた排気浄化装置ではＮＯｘ吸蔵能力を適宜再生させる必要がある。
【００１５】
吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＮＯｘ吸蔵能力を再生させる方法としては、触媒上流の排気中へ還元剤を添加することにより、触媒へ流入する排気をリッチ雰囲気とする、所謂リッチスパイク制御が有効である。
【００１６】
ところで、パティキュレートフィルタと吸蔵還元型ＮＯｘ触媒を備えた排気浄化装置では、パティキュレートフィルタのＰＭ強制再生処理が行われた後に、リッチスパイク制御が実行される可能性がある。
【００１７】
触媒浄化能力が低下した状態でリッチスパイク制御が行われると、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒が保持していたＮＯｘを放出するものの放出されたＮＯｘを十分に還元することができないため、未浄化のＮＯｘが大気中へ放出される虞がある。更に、未浄化のＮＯｘが増加すると、それに応じて未浄化の還元剤（すなわち、ＮＯｘと反応できなかった還元剤）も増加する虞もある。
【００１８】
一方、ＰＭ強制再生処理実行後にリッチスパイク制御が行われると、触媒が高温なリッチ雰囲気に曝されるため、触媒浄化能力の低下が解消されることも考えられる。しかしながら、リッチスパイク制御は排気を断続的にリッチ雰囲気にする制御であり一回当たりのリッチ雰囲気時間が比較的短いため、触媒浄化能力の低下を十分に解消することは難しい。更に、従来のリッチスパイク制御はロジウム（Ｒｈ）の特性を考慮していないため、触媒温度が適当な温度域にある時に触媒がリッチ雰囲気になるとは限らない。
【００１９】
そこで、本発明では、ロジウム（Ｒｈ）を含有した触媒が吸蔵還元型ＮＯｘ触媒である場合には、ＰＭ強制再生処理実行後のリッチスパイク制御を禁止して触媒を還元雰囲気と
するようにしてもよい。
【００２０】
尚、触媒を還元雰囲気にする際のリッチ度合いは、リッチスパイク制御によってリッチ雰囲気とされる場合のリッチ度合いより低くすることが好ましい。
【００２１】
これは、触媒の浄化能力が低下しているときに、リッチスパイク制御と同様のリッチ雰囲気が形成されると、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒から比較的多量のＮＯｘが放出されてしまい、大気中へ放出される未浄化のＮＯｘ量が増加する可能性があるからである。
【００２２】
触媒を還元雰囲気にする方法としては、リッチスパイク制御より短い周期に少量の還元剤を排気中へ添加する方法や、内燃機関の空燃比をリッチ雰囲気にする方法などを例示することができる。
【００２３】
また、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒とパティキュレートフィルタを備えた排気浄化装置では、ＰＭ強制再生処理に続けて吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の硫黄被毒解消処理が実行される場合がある。
【００２４】
本発明に係る制御と硫黄被毒解消処理とでは、本発明に係る制御が触媒温度の強制的な昇温や温度維持を行わずに触媒を還元雰囲気とするのに対し、硫黄被毒解消処理が触媒温度の強制的な昇温や温度維持を行いつつ触媒を還元雰囲気とする点で異なる。
【００２５】
但し、硫黄被毒解消処理が実行されると、触媒が高温なリッチ雰囲気に曝されるため、触媒の浄化能力低下を解消することが可能である。
【００２６】
従って、ＰＭ強制再生処理に続いて硫黄被毒解消処理が実行される場合には本発明の制御を禁止し、ＰＭ強制再生処理に続いて硫黄被毒解消処理が実行されない場合には本発明の制御を実行するようにすればよい。この場合、触媒が不必要に還元雰囲気とされることがなくなるため、燃費の悪化が防止される。
【発明の効果】
【００２７】
本発明に依れば、ロジウム（Ｒｈ）を含有した触媒とパティキュレートフィルタが一体又は別体で設けられた排気浄化装置において、燃費の悪化等を抑制しつつ触媒の浄化能力低下を解消することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の具体的な実施形態について図面に基づいて説明する。図１は、本発明を適用する内燃機関の概略構成を示す図である。
【００２９】
図１に示す内燃機関１は、圧縮着火式の内燃機関（ディーゼルエンジン）である。内燃機関１は、吸気通路２と排気通路３を備えている。吸気通路２には吸気絞り弁４が設けられている。排気通路３にはパティキュレートフィルタ５が設けられている。このパティキュレートフィルタ５には、ロジウム（Ｒｈ）を含有した吸蔵還元型ＮＯｘ触媒が担持されている。
【００３０】
パティキュレートフィルタ５より上流の排気通路３には、内燃機関１の燃料を還元剤として噴射する還元剤添加弁６が設けられている。パティキュレートフィルタ５より下流の排気通路３には、排気温度センサ７が設けられている。
【００３１】
また、吸気通路２と排気通路３はＥＧＲ通路８によって連通されている。ＥＧＲ通路８にはＥＧＲ弁９が設けられている。
【００３２】
前記した吸気絞り弁４、還元剤添加弁６、排気温度センサ７、及びＥＧＲ弁９はＥＣＵ１０と各々電気的に接続されている。
【００３３】
ＥＣＵ１０は、上記した排気温度センサ７や内燃機関１の運転状態に基づいて燃料噴射制御やＥＧＲ制御等の既知の制御を行うとともに、本発明の要旨となる触媒浄化能力再生制御を実行する。以下、触媒浄化能力再生制御について述べる。
【００３４】
パティキュレートフィルタ５のＰＭ捕集能力には限界があるため、ＥＣＵ１０はＰＭ捕集能力が飽和する前にＰＭ強制再生処理を実行する。ＰＭ強制再生処理では、ＥＣＵ１０は、ポスト噴射およびまたは還元剤添加弁６から排気中への燃料添加などを利用して排気温度の上昇およびまたは吸蔵還元型ＮＯｘ触媒における反応熱量の増加を図ることにより、パティキュレートフィルタ５を強制的に昇温させる。
【００３５】
パティキュレートフィルタ５のＰＭ強制再生処理が実行されると、該パティキュレートフィルタ５に担持された吸蔵還元型ＮＯｘ触媒も高温且つリーンな雰囲気に曝される。このとき、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のロジウム（Ｒｈ）が触媒担体の内部に埋没するため、該吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の浄化能（特に、炭化水素（ＨＣ）の酸化能）が低下する。
【００３６】
吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＨＣ酸化能が低下すると、該吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＮＯｘ浄化能が低下する。すなわち、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＨＣ酸化能が低下すると、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＮＯｘ吸蔵能力を再生させる時、すなわち還元剤添加弁６から排気中へ断続的に燃料（炭化水素（ＨＣ））を添加するリッチスパイク制御が実行された時に、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒において炭化水素（ＨＣ）が活性種へ変態し難くなるため、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒から放出されたＮＯｘや吸蔵還元型ＮＯｘ触媒へ供給された炭化水素（ＨＣ）が未浄化のまま大気中へ放出される虞がある。
【００３７】
図２は、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＮＯｘ浄化能が活性する温度を示した図である。パティキュレートフィルタ５のＰＭ強制再生処理が実行される前は吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＮＯｘ浄化能は３００℃前後で活性するが、ＰＭ強制再生処理が実行された後は凡そ３５０℃以上まで活性しなくなっている。
【００３８】
圧縮着火式内燃機関の排気温度は高負荷運転時を除いて３００℃前後となるため、上記したようにＮＯｘ浄化能の活性温度が高くなると、リッチスパイク制御が実行された時に、大気中へ放出されるＮＯｘやＨＣが増加する可能性が高くなる。
【００３９】
従って、ＰＭ強制再生処理が実行された時には、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＨＣ酸化能の低下を解消する必要がある。ＨＣ酸化能の低下を解消するためには、触媒担体に埋没したロジウム（Ｒｈ）を再び露出させる必要がある。
【００４０】
触媒担体に埋没したロジウム（Ｒｈ）は４００℃以上の高温な還元雰囲気に曝されることにより触媒担体の表面に露出するため、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒を４００℃以上まで昇温させた上で該吸蔵還元型ＮＯｘ触媒に流入する排気を還元雰囲気とすれば、ＨＣ酸化能の低下を解消することができる。
【００４１】
ところで、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒を４００℃以上の高温域まで昇温させる方法としては、ポスト噴射により排気温度を上昇させる方法や排気中に燃料を添加して吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の反応熱を増加させる方法等が有効であるが、何れの方法も燃費の悪化を招くという欠点がある。
【００４２】
そこで、本実施形態に係る触媒浄化能力再生制御では、ＰＭ強制再生処理実行後の触媒温度が低下する過程において、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の温度が４００℃以上となる期間にパティキュレートフィルタ５内が還元雰囲気となるようにした。
【００４３】
以下、触媒浄化能力再生制御について図３に基づいて説明する。図３は、触媒浄化能力再生制御ルーチンを示すフローチャート図である。触媒浄化能力再生制御ルーチンは、予めＥＣＵ１０のＲＯＭに記憶されているルーチンであり、ＰＭ強制再生処理実行完了をトリガとしてＥＣＵ１０が実行する割り込みルーチンである。
【００４４】
触媒浄化能力再生制御ルーチンでは、ＥＣＵ１０は、先ずＳ１０１においてＰＭ強制再生完了フラグの値が“１”であるか否かを判別する。ＰＭ強制再生完了フラグは、予めＲＡＭ等に設定された記憶領域であり、ＰＭ強制再生処理の実行が完了したときに“１”が記憶され、当該触媒浄化能力再生制御の実行完了時に“０”が記憶される。
【００４５】
前記Ｓ１０１においてＰＭ強制再生完了フラグが“０”であると判定された場合は、ＥＣＵ１０は本ルーチンの実行を終了する。一方、前記Ｓ１０１においてＰＭ強制再生完了フラグが“１”であると判定された場合は、ＥＣＵ１０はＳ１０２へ進む。
【００４６】
Ｓ１０２では、ＥＣＵ１０は排気温度センサ７の出力信号（流出排気温度）：Ｔoutを入力する。
【００４７】
Ｓ１０３では、前記Ｓ１０２で入力された流出排気温度：Ｔoutが所定温度：Ｔｓ（例えば、４００℃）以上であるか否かを判別する。
【００４８】
前記Ｓ１０３において流出排気温度：Ｔoutが所定温度：Ｔｓ以上ではない（Ｔout＜Ｔｓ）場合には、ＥＣＵ１０は、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の床温が所定温度：Ｔｓ未満であると推定し、Ｓ１１０へ進む。Ｓ１１０では、ＥＣＵ１０は、ＰＭ強制再生完了フラグの値を“０”に変更して本ルーチンの実行を終了する。
【００４９】
前記Ｓ１０３において前記流出排気温度：Ｔoutが前記所定温度：Ｔｓ以上（Ｔout≧Ｔｓ）であると判定された場合は、ＥＣＵ１０は、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の床温が所定温度：Ｔｓ以上であると推定し、Ｓ１０４へ進む。
【００５０】
Ｓ１０４では、ＥＣＵ１０は、リッチスパイク制御の実行を禁止する。
【００５１】
Ｓ１０５では、ＥＣＵ１０は、パティキュレートフィルタ５へ流入する排気を還元雰囲気（リッチ雰囲気）とするための排気リッチ化処理を実行する。排気リッチ化処理では、ＥＣＵ１０は、排気中へ断続的に燃料を添加させるべく還元剤添加弁６を制御する。
【００５２】
その際、ＥＣＵ１０は、図４に示すように、還元剤添加弁６から一回当たりに添加される燃料量がリッチスパイク制御時より少なくなり、且つ、燃料の添加間隔がリッチスパイク制御時より短くなるように、還元剤添加弁６を制御する。
【００５３】
還元剤添加弁６が一回当たりに噴射する燃料量をリッチスパイク制御時より少なくする理由は、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＨＣ酸化能が低下しているときにリッチスパイク制御時と同量の炭化水素（ＨＣ）が吸蔵還元型ＮＯｘ触媒へ供給されると、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒から放出されるＮＯｘ量が増加し、それに応じて大気中へ放出される未浄化のＮＯｘ量も増加するからである。
【００５４】
更に、還元剤添加弁６が一回当たりに噴射する燃料量をリッチスパイク制御時より少な
くする他の理由は、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＨＣ酸化能が低下しているときにリッチスパイク制御時と同量の燃料が排気中へ添加されると、ＮＯｘと反応できずに大気中へ放出される炭化水素（ＨＣ）の量が増加する可能性もあるからである。
【００５５】
また、還元剤添加弁６の燃料添加間隔をリッチスパイク制御時より短くする理由は、ＰＭ強制再生処理の実行完了後はパティキュレートフィルタ５及び吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の温度が急速に低下するため、リッチスパイク制御時と同様の添加間隔で燃料が添加されると、ＨＣ酸化能が再生される前に吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の温度が所定温度：Ｔｓ未満へ低下する可能性があるからである。
【００５６】
Ｓ１０６では、ＥＣＵ１０は、排気温度センサ７の出力信号（流出排気温度）：Ｔoutを再度入力する。
【００５７】
Ｓ１０７では、ＥＣＵ１０は、前記Ｓ１０６で入力された流出排気温度：Ｔoutが所定温度：Ｔｓ未満に低下したか否かを判別する。
【００５８】
前記Ｓ１０７において流出排気温度：Ｔoutが所定温度：Ｔｓ未満に低下していない（Ｔout≧Ｔｓ）と判定された場合は、ＥＣＵ１０は、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の床温が未だ所定温度：Ｔｓ以上であるとみなし、前述したＳ１０５以降の処理を再度実行する。
【００５９】
前記Ｓ１０７において流出排気温度：Ｔoutが所定温度：Ｔｓ未満に低下した（Ｔout＜Ｔｓ）と判定された場合は、ＥＣＵ１０は、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の床温が所定温度：Ｔｓ未満に低下したとみなし、Ｓ１０８へ進む。
【００６０】
Ｓ１０８では、ＥＣＵ１０は、排気リッチ化処理の実行を終了する。
【００６１】
Ｓ１０９では、ＥＣＵ１０は、リッチスパイク制御の実行禁止を解除する。
【００６２】
Ｓ１１０では、ＥＣＵ１０は、ＰＭ強制再生処理実行完了フラグの値を“０”に変更する。
【００６３】
このようにＥＣＵ１０が触媒浄化能力再生制御ルーチンを実行することにより、ＰＭ強制再生処理実行時の熱を利用して吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＨＣ酸化能を再生させることができる。このため、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の昇温に伴う燃費悪化を抑制することができる。
【００６４】
また、本実施形態では、リッチスパイク制御時より少量の燃料を短周期に排気中へ添加するようにしたため、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の床温が所定温度：Ｔｓ以上となる期間内に該吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＨＣ酸化能を再生させることが可能になるとともに、大気中へ放出される未浄化のＮＯｘや炭化水素（ＨＣ）を減少させることも可能となる。
【００６５】
尚、ＰＭ強制再生処理の実行後に排気リッチ化処理が実行されると、ロジウム（Ｒｈ）と炭化水素（ＨＣ）の反応熱によって吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の床温が長期にわたって所定温度：Ｔｓ以上を維持する可能性もある。そのような場合には、（１）排気リッチ化処理の実行時間が所定時間以上となったことをトリガにして排気リッチ化処理の実行を終了する、（２）燃料添加量を添加回数の増加に応じて減少させることにより吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の温度を徐々に低下させる、（３）一定回数の燃料添加毎にインターバルを設けて吸蔵還元型ＮＯｘ触媒の温度を段階的に低下させる等の方法を採用しても良い。
【００６６】
また、本実施形態では、排気リッチ化処理の具体的な実行方法として、還元剤添加弁６
から排気中へ燃料を添加する例について述べたが、ＥＧＲガス量を増加させることによって内燃機関１から排出される排気の空燃比を低下させるようにしてもよい。
【００６７】
また、本実施形態では、パティキュレートフィルタ５と吸蔵還元型ＮＯｘ触媒が一体で排気通路３に設けられる例について述べたが、パティキュレートフィルタ５と吸蔵還元型ＮＯｘ触媒が別体で排気通路３に設けられるようにしてもよい。
【００６８】
例えば、パティキュレートフィルタ５と吸蔵還元型ＮＯｘ触媒が排気通路３に直列に配置（好ましくは吸蔵還元型ＮＯｘ触媒をパティキュレートフィルタ５より上流に配置）するようにすればよい。但し、還元剤添加弁６は吸蔵還元型ＮＯｘ触媒より上流に配置されることが前提となる。
＜他の実施例＞
【００６９】
内燃機関１の使用燃料に含有される硫黄成分量が多い場合は、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒が硫黄被毒（Ｓ被毒）するため、ＰＭ強制再生処理に続けてＳ被毒解消処理が実行される可能性がある。
【００７０】
硫黄被毒解消処理は吸蔵還元型ＮＯｘ触媒を高温に維持しつつ触媒をリッチ雰囲気にする処理であるため、吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＨＣ酸化能低下を解消することが可能である。
【００７１】
従って、ＥＣＵ１０は、ＰＭ強制再生処理に続いて硫黄被毒解消処理を実行する場合には触媒浄化能力再生制御の実行を禁止し、ＰＭ強制再生処理に続いて硫黄被毒解消処理を実行しない場合には触媒浄化能力再生制御を実行すればよい。
【００７２】
この場合、触媒浄化能力再生制御が不要に実行されることがなくなるため、触媒浄化能力再生制御に係る燃料消費を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明を適用する内燃機関の概略構成を示す図
【図２】吸蔵還元型ＮＯｘ触媒のＮＯｘ浄化能が活性する温度を測定した結果を示す図
【図３】触媒浄化能力再生制御ルーチンを示すフローチャート図
【図４】排気リッチ化処理の具体的な実行方法を示す図
【符号の説明】
【００７４】
１・・・・・内燃機関
３・・・・・排気通路
５・・・・・パティキュレートフィルタ
６・・・・・還元剤添加弁
７・・・・・排気温度センサ
１０・・・・ＥＣＵ
【図１】
2006017083.tif 000003
【図２】
2006017083.tif 000004
【図３】
2006017083.tif 000005
【図４】
2006017083.tif 000006