(57)【要約】      （修正有）【課題】簡単で迅速に製造が可能で、且つ反射防止性及び帯電防止性に優れたＦＥＤ用反射防止フィルを提供すること。【解決手段】透明基板の一方の表面に反射防止膜が、他方の表面に透明導電層が設けられ、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム；及び一方の表面に反射防止膜が設けられた透明基板と、一方の表面に透明導電層が設けられ別の透明基板との、２枚の透明基板が、該膜形成されていない表面と該層が形成されていない表面同士で接着されてなる積層体であって、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムＦＥＤ用反射防止フィルの製造方法、及び電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされた電界放出型ディスプレイ。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の一方の表面に反射防止膜が、他方の表面に透明導電層が設けられ、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項２】
一方の表面に反射防止膜が設けられた透明基板と、一方の表面に透明導電層が設けられ別の透明基板との、２枚の透明基板が、該膜形成されていない表面と該層が形成されていない表面同士で接着されてなる積層体であって、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項３】
表面抵抗値が、１０5〜１０8Ω／□の範囲である請求項１又は２に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項４】
透明導電層が、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層である請求項１〜３のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項５】
ポリマーが、紫外線硬化性樹脂の硬化樹脂である請求項４に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項６】
透明導電層が、紫外線硬化性樹脂及び無機化合物の導電性粒子を含む塗工液を塗工し、次いで紫外線硬化させることにより得られる塗工層である請求項１〜５のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項７】
透明導電層が、導電性ポリマーを含む塗工層である請求項１〜６のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項８】
反射防止膜が、少なくとも１層の塗工層を含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項９】
反射防止膜が、塗工形成されたハードコート層、及びその上に設けられたハードコート層より屈折率の高い塗工形成された高屈折率層を含む膜である請求項１〜８のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項１０】
透明基板がプラスチックフィルムである請求項１〜９のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項１１】
透明導電層の上に粘着層が設けられている請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項１２】
粘着層の上に剥離シートが設けられている請求項１１に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項１３】
光線透過率が５０％以上である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項１４】
透明基板の一方の表面に反射防止膜を塗工法により形成する工程、次いで他方の表面に透明導電層を塗工法により形成する工程を含む電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムを製造する方法。
【請求項１５】
透明基板の一方の表面に反射防止膜形成用紫外線硬化性樹脂塗工液を塗工、紫外線硬化することにより反射防止膜を形成する工程、次いで他方の表面に、透明導電層形成用紫外線硬化性樹脂塗工液を塗工、紫外線硬化することにより透明導電層を形成する工程を含む電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムを製造する方法。
【請求項１６】
透明導電層形成用紫外線硬化性樹脂塗工液が、紫外線硬化性樹脂及び無機化合物の導電性粒子を含む塗工液である請求項１５に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項１７】
一方の表面に反射防止膜が設けられた透明基板と、一方の表面に透明導電層が設けられ別の透明基板との、２枚の透明基板を、該膜又は層が形成されていない表面同士対向させて粘着剤層を介して圧着する工程を含む電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムを製造する方法。
【請求項１８】
反射防止膜、透明導電層及び粘着剤層の少なくとも１層の形成が、全て塗工により行われる請求項１７に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムを製造する方法。
【請求項１９】
得られる電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムの表面抵抗値が、１０5〜１０8Ω／□の範囲である請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム。
【請求項２０】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とする電界放出型ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）用導電層付き反射防止フィルム及びその製造方法、並びにこの電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムを用いた電界放出型ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜の設置等、種々対策がなされている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、ＰＤＰに対しては、導電性を有するＰＤＰ用反射防止フィルム（電磁波シールド性光透過窓材）が種々提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００４】
最近では、ＣＲＴの様な明るくコントラストの高い画面を大型平面ディスプレイで実現することができるディスプレイとして、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）及び電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）が注目されている。ＳＥＤはＦＥＤの範疇に含まれるものとされている。このようなＦＥＤにおいても、外光の反射のため、内部の視覚情報が見えにくいとの問題があると指摘されている。また、ＦＥＤにも、従来の表示デバイスと同様に電磁波輻射の問題、或いは表面帯電の問題、さらには発光特性の補正の問題があると考えられている。
【０００５】
しかしながら、このようなＦＥＤにおける、反射防止、電磁波輻射、或いは帯電防止、発光特性の補正等の問題については、まだ本格的な研究の段階に入っていないのが現状である。ＦＥＤに関しては、例えば、特許文献１（特開２００１−７４９０６号公報）には、基材フィルム上にハードコート層、透明導電層、反射防止層がこの順で積層されたＰＤＰ又はＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムが提案されている。この反射防止フィルムは、ハードコート層にシリコン系化合物を用いることにより、良好な層間密着性、高硬度なフィルムを得たとしている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−７４９０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者等の検討によれは、ＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムとして要求される反射防止性、電磁波遮断性或いは帯電防止性（電子線が蛍光物質に衝突した蛍光物質が形成されているガラス表示面が帯電すると考えられる）は、その発光機構、即ち、電子を真空中に放って蛍光面に塗工された蛍光物質に衝突させるとの機構から、ＰＤＰに求められるものとは異なる構成の反射防止フィルムが必要であると考えられる。このような観点から、本発明者等は検討を重ねてきた。
【０００８】
特許文献１に提案されている反射防止フィルムは、ハードコート層以外は気相成膜法により作製されており、製造が複雑で、経済的にも不利なものである。さらに、本発明者等の検討により、層構成についても効率が良いとは言えないものであることが判明した。
【０００９】
従って、本発明は、簡単に製造が可能で、且つ反射防止性、帯電防止性に優れたＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【００１０】
また本発明は、簡単に製造が可能で、且つ反射防止性、電磁波遮断性及び帯電防止性に優れたＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【００１１】
さらに本発明は、上記優れた特性のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされた電界放出型ディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者等の検討によれば、ＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムには、例えば、その発光機構から、ＰＤＰに求められるものとは異なる構成の反射防止フィルムが必要であること、またＰＤＰに求められるほどの反射防止性、電磁波遮断性或いは帯電防止を確保する必要が無いことから、簡単な方法で作製できるＦＥＤ用として特有な層構成が存在することが明らかとなった。
【００１４】
従って、本発明は、
透明基板の一方の表面に反射防止膜が、他方の表面に透明導電層が設けられ、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム；及び
一方の表面に反射防止膜が設けられた透明基板と、一方の表面に透明導電層が設けられ別の透明基板との、２枚の透明基板が、該膜形成されていない表面と該層が形成されていない表面同士で接着されてなる積層体であって、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムにある。
【００１５】
即ち、電界放出型ディスプレイにおいては、上記層構成を有するものであれば、塗工による導電層で十分な帯電防止機能が得ることが可能である。
【００１６】
本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムの好適態様は以下の通りである。
【００１７】
（１）表面抵抗値が、１０5〜１０8Ω／□の範囲である。電界放出型ディスプレイでは、比較的高い抵抗値の導電層で十分な帯電防止機能が得られる。表面抵抗値は、反射防止フィルムの透明導電層上を、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１−１９９５に従い測定した。
【００１８】
（２）透明導電層が、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層である。このような塗工による導電層で、十分な帯電防止機能が得られる。
【００１９】
（３）ポリマーが、紫外線硬化性樹脂の硬化樹脂である。極めて簡便に、且つ迅速に透明導電層を得ることができる。
【００２０】
（４）透明導電層が、紫外線硬化性樹脂及び無機化合物の導電性粒子を含む塗工液を塗工し、次いで紫外線硬化させることにより得られる塗工層である。極めて簡便に、且つ迅速に透明導電層を得ることができる。
【００２１】
（５）透明導電層が、導電性ポリマーの塗工層である。このような塗工による導電層で、十分な帯電防止機能が得ることができる。
【００２２】
（６）反射防止膜が、少なくとも１層の塗工層を含んでいる。塗工層でも、電界放出型ディスプレイでは、十分な反射防止効果が得られ易い。
【００２３】
（７）反射防止膜が、塗工形成されたハードコート層、及びその上に設けられたハードコート塗工層より屈折率の高い塗工形成された高屈折率層を含む膜である。
【００２４】
（８）透明基板がプラスチックフィルム（好ましくはＰＥＴ）である。長尺状フィルムを用いることにより連続製造が可能とある。
【００２５】
（９）透明導電層の上に粘着剤層が設けられている。電界放出型ディスプレイの画像表示表面への貼付が容易である。
【００２６】
（１０）粘着層の上に剥離シートが設けられている。取り扱いが容易となる。
【００２７】
（１１）光線透過率が５０％以上（好ましくは７０％以上）である。ディスプレイの画像が見やすい。
【００２８】
上記本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムは、以下の製造方法により有利に得ることができる。
【００２９】
即ち、透明基板の一方の表面に反射防止膜を塗工法により形成する工程、次いで他方の表面に透明導電層を塗工法により形成する工程を含む電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムを製造する方法(1)；
透明基板の一方の表面に反射防止膜形成用紫外線硬化性樹脂塗工液を塗工、紫外線硬化することにより反射防止膜を形成する工程、次いで他方の表面に、透明導電層形成用紫外線硬化性樹脂塗工液を塗工、紫外線硬化することにより透明導電層を形成する工程を含む電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムを製造する方法(2)；或いは
一方の表面に反射防止膜が設けられた透明基板と、一方の表面に透明導電層が設けられ別の透明基板との、２枚の透明基板を、該膜又は層が形成されていない表面同士対向させて粘着剤層を介して圧着する工程を含む電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムを製造する方法(3)。
【００３０】
上記製造方法(1)及び(2)において、透明導電層形成用紫外線硬化性樹脂塗工液が、紫外線硬化性樹脂及び無機化合物の導電性粒子を含む塗工液であることが好ましい。
【００３１】
また上記製造方法(3)において、反射防止膜、透明導電層及び粘着剤層の少なくとも１層の形成が、全て塗工により行われる。
【００３２】
上記製造方法(1)〜(3)において、得られる電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムの表面抵抗値が、１０5〜１０8Ω／□の範囲であることが好ましい。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムは、透明基板の一方の表面に反射防止膜、他方の表面に透明導電層が設けられた特定の構成を有し、且つ透明導電層が塗工により形成されている。これにより反射防止機能に加えて、比較的高い表面抵抗値の透明導電層で有効に帯電防止、電磁波の遮断が可能となっている。即ち、塗工により形成される透明導電層は、表面抵抗値を大幅に低下させることはできないが、１０5〜１０8Ω／□の範囲の程度には低下させることができ、これにより、上記構成を採用すれば帯電防止性、電磁波の遮断性を充分に獲得することができる。
【００３４】
特に、透明導電層だけでなく、反射防止膜も塗工法で形成することにより、簡単で迅速な製造方法で得ることができ、生産性に優れた電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムであると言うこともできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
本発明の反射防止性、電磁波遮断性及び帯電防止性に優れた電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）用導電層付き反射防止フィルムについて、以下に詳細に説明する。
【００３６】
本発明のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムの典型的な１例の概略断面図を図１に示す。図１において、透明基板１１の一方の表面に反射防止膜１３が設けられ、他方の表面には透明導電層１２が設けられている。反射防止膜１３は、一般に基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた高屈折率層との複合膜であるか、好ましくは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜１３は基板より屈折率の高いハードコート層のみであっても、或いは低屈折率層のみであっても有効である。このような反射防止膜１３を構成する層は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。透明導電層１２は、導電性を有する塗工層であり、例えば、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層、或いは導電性ポリマーの塗工層である。本発明のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムは、上記構成を有し、且つこのフィルムの表面抵抗値が一般に１０5〜１０8Ω／□の範囲、特に１０6〜１０8Ω／□の範囲であることが好ましい。
【００３７】
本発明では、図１に示すように、透明導電層が、反射防止膜が設けられた側と反対側の表面に設けられている。このような構成を採ることにより、電子線が蛍光物質に衝突することにより発生する帯電、電磁波の発生を有効に解消することが可能であり、その際、透明導電層として、塗工により得られる比較的高い表面抵抗値の層であっても充分に有効に作用する。従って、上記ＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムは、透明基板の一方の表面に反射防止膜形成用塗工液を塗工、乾燥し、次いで他方の表面に、透明導電層形成用塗工液を塗工、乾燥することにより容易に、且つ経済的に得ることが可能である。
【００３８】
本発明のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムにおける別の典型的な１例の概略断面図を図２に示す。図２において、透明基板２１Ａの一方の表面に反射防止膜２３が設けられ、透明基板２１Ｂの一方の表面には透明導電層２２が設けられ、これら２枚の透明基板を、この反射防止膜又は透明導電層が形成されていない表面同士対向させて、粘着剤層２４を介して圧着されている。このような構成のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムは、反射防止膜２３が設けられた透明基板２１Ａ、透明導電層が設けられた透明基板２１Ｂを予め作製し、所望の時期にこれらを圧着することにより得ることができるので、製造の自由度が拡大するとの利点がある。
【００３９】
本発明のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムにおける好適態様の１例を描いた概略断面図を図３に示す。図３において、透明基板３１の一方の表面に、ハードコート層３５、高屈折率層３６及び低屈折率層３７からなる反射防止膜３３が順に設けられ、他方の表面には透明導電層３２及び粘着剤層３４が順に設けられている。このように３層から構成される反射防止膜１３は、高い反射防止機能を有する。また粘着剤層３４が設けられているので、電界放出型ディスプレイの画像表示表面への貼付が容易である。粘着剤層は設けなくても良い。透明基板３１は、図２に示したように２枚の基板からなるものでも良い。
【００４０】
本発明のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムにおける好適態様の別の１例を描いた概略断面図を図４に示す。図４において、透明基板４１の一方の表面に、ハードコート層４５、高屈折率層４６及び低屈折率層４７からなる反射防止膜４３が設けられ、さらにその上に保護層４９が形成されており、他方の表面には透明導電層４２、粘着剤層４４及び剥離シート４８が順に設けられている。粘着剤層４４上に剥離シート４８が設けられているので、取り扱いが容易であり、電界放出型ディスプレイの画像表示表面への貼付を適宜行うことができる。透明基板４１は、図２に示したように２枚の基板からなるものでも良い。
【００４１】
本発明では、透明導電層だけでなく、反射防止膜も、塗工により形成されることが好ましい。特に、両者とも、紫外線硬化性樹脂を用いて、塗工、硬化を連続して行って形成することにより、高い生産性で反射防止フィルムを製造することができる。また粘着剤層を設ける場合も、塗工法を用いることが好ましい。このような膜、層は、一般に、矩形の透明基板（一般にフィルム又はシート）上、或いは連続フィルム上に形成することができる。矩形の透明基板の場合、各層はバッチ式で形成され、連続フィルム上に形成する場合は、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成される。本発明では、特に後者が好ましい。
【００４２】
本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムに使用される材料について以下に説明する。
【００４３】
透明基板は、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、屈折率が高いので好ましい。
【００４４】
前記透明基板の厚さとしては、電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜５ｍｍ程度が好ましい。
【００４５】
本発明の透明導電層は、得られる電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムの表面抵抗値が、好ましくは１０5〜１０8Ω／□の範囲、特に１０6〜１０8Ω／□の範囲となるように設定される。本発明の透明導電層は、塗工層である。
【００４６】
透明導電層は、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層であることが好ましい。
【００４７】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、さらに１０〜１００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００４８】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００４９】
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【００５０】
透明導電層中の、紫外線硬化性樹脂等のポリマーと導電性粒子との質量比は、一般に４０〜９０：６０〜１０（ポリマー：導電性粒子）、特に５０〜８０：５０〜２０が好ましい。
【００５１】
上記塗工による透明導電層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【００５２】
上記塗工形成された透明導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、帯電防止機能が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００５３】
本発明の塗工形成された透明導電層は、導電性ポリマーの塗工層であることも好ましい。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー；ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの透明導電層の厚さとしては、上記と同様、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、帯電防止機能が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００５４】
本発明の反射防止膜は、一般に基板より屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折層との複合膜であるか、好ましくは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は基板より屈折率の高いハードコート層のみであっても、或いは低屈折率層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた高屈折層との複合膜、或いは高屈折率層上にさらに低屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００５５】
本発明で得られる電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが、画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて作製された電界放出型ディスプレイの表示画面が、適度な明るさと、高いコントラストそして鮮やかな色調が得られるようにするため、本発明の透明導電層には、色素等を含有させることにより、特定波長に吸収を有するように設定することができる。本発明では、本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが、５６０〜６４０ｎｍの波長範囲において、光線透過率５０〜８０％（好ましくは５０〜６５％）の極小値を有することが好ましい。これにより作製された電界放出型ディスプレイの表示画面が、適度な明るさと、高いコントラストそして鮮やかな色調を得ることができる。
【００５６】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００５７】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００５８】
紫外線硬化性樹脂は、例えば、炭素炭素二重結合等の光重合性基を有するモノマー及び／又はオリゴマー（好ましくは（メタ）アクリル系モノマー及び／又はオリゴマー）、そして光重合開始剤等を含むものである。
【００５９】
上記モノマー及び／又はオリゴマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；
ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。特にウレタンアクリレート、アクリレートモノマーの混合物が好ましい。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００６０】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００６１】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００６２】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００６３】
ハードコート層は、透明基板より屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。
【００６４】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ2Ｏ3，ＳｂＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００６５】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層２の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００６６】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００６７】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４５〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００６８】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００６９】
反射防止膜が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜９０ｎｍ、低屈折率層の厚さは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。
【００７０】
反射防止膜の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００７１】
塗工の具体的な方法としては、（メタ）アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記透明導電層も同様に形成することができる。
【００７２】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００７３】
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００７４】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【００７５】
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００７６】
粘着剤層の材料としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。その厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍである。
【００７７】
保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【００７８】
剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【００７９】
このようにして得られる本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムは、電界放出型ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが貼付された電界放出型ディスプレイの一例の断面図を図５に示す。
【００８０】
カソードガラスシート５５上に設けられたマイクロティップ５４から、カソードとゲート電極５３との電圧差によって生じる電子（電荷放出電子）が放出される。この電子がアノードガラスシート５２の内側に形成された蛍光物質５６に衝突し光を放つ。本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム５１は、アノードガラスシート５２の外側に貼付され、特に反射防止効果、帯電防止効果を奏する。
【００８１】
従って、本発明の電界放出型ディスプレイ（ＳＥＤを含むＦＥＤ）は、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんど無いので、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。
【実施例】
【００８２】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００８３】
［実施例１］
厚さ１００μｍの長尺状ＰＥＴフィルムの一方の表面に、シリカ微粒子分散紫外線硬化性樹脂（商品名Ｚ７５０１；ＪＳＲ（株）製）を分散させた紫外線硬化性樹脂（アクリロイル基を有する樹脂組成物）からなるハードコート層形成用塗工液（シリカ含有量：５１質量％（固形分））を、グラビアコータで塗工、乾燥後、紫外線照射して硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層（図３の３５に対応）を形成した。
【００８４】
次いで、このハードコート層の上に、ＩＴＯ微粒子（平均粒径４０ｎｍ）を分散させた紫外線硬化性樹脂（ＩＴＯ含有量：３５質量％（固形分））を、前記と同様に塗工、硬化させて厚さ０．１μｍの高屈折率層（図３の３６に対応）を形成した。
【００８５】
さらに、高屈折率層の上にポーラスシリカ（中空シリカ、平均粒径４０μｍ、比表面積    ｍ3／ｇ）を分散させた紫外線硬化性樹脂（シリカ含有量：２０．５質量％（固形分））を、前記と同様に塗工、硬化させて厚さ０．１μｍの低屈折率層（図３の３７に対応）を形成した。上記工程を連続的に実施して、ロール状の反射防止フィルム１を作製した。
【００８６】
得られた反射防止フィルム１の他方の表面に、ＩＴＯ微粒子（平均粒径４０ｎｍ）を分散させた紫外線硬化性樹脂（ＩＴＯ含有量：３５質量％（固形分））を、前記と同様に塗工、硬化させて厚さ１μｍの透明導電層（図３の３２に対応）を形成した。これによりロール状の透明導電層付き反射防止フィルムＡを作製した。
【００８７】
［実施例２］
実施例１で得られた反射防止フィルム１の他方の表面に、ポリチオフェン系ポリマーを、前記と同様に塗工し、加熱乾燥して厚さ１μｍの透明導電層（図３の３２に対応）を形成した。これによりロール状の透明導電層付き反射防止フィルムＢを作製した。
【００８８】
［実施例３］（剥離シート付き透明導電層付き反射防止フィルムの作製）
アクリル系粘着剤（商品名ＳＫダイン１８１１Ｌ；綜研化学（株）製）を、酢酸エチル／トルエン（８０／２０質量比）で希釈して固形分１９質量％の塗工液を得た。剥離シートの基板の長尺状のＰＥＴフィルム（厚さ７５μｍ）の離型面に塗工、乾燥し、厚さ１７μｍの粘着剤層を形成した。この粘着剤層の上に別のＰＥＴフィルムをラミネートし、粘着剤層をサンドイッチしたロール状粘着フィルムを得た。
【００８９】
次に、実施例１及び２で得られたロール状の反射防止フィルムＡ及びＢのそれぞれの導電層が形成された表面に、上記ロール状粘着フィルムを、その片面のＰＥＴフィルムを剥離しながら、連続的にラミネートし、反射防止膜／ＰＥＴフィルム／透明導電層／粘着剤層／剥離シートの構成を有するロール状の透明導電層付き反射防止フィルムＡ３及びＢ３を得た。
【００９０】
［実施例４］（剥離シート付き透明導電層付き反射防止フィルムの作製）
アクリル系粘着剤（商品名ＳＫダイン１８１１Ｌ；綜研化学（株）製）を、酢酸エチル／トルエン（８０／２０質量比）で希釈して固形分１９質量％の塗工液を得た。剥離シートの基板の長尺状のＰＥＴフィルム（厚さ７５μｍ）の離型面に塗工、乾燥し、厚さ１７μｍの粘着剤層を形成した。これにより粘着剤層を有するロール状粘着フィルムを得た。
【００９１】
次に、実施例１及び２で得られたロール状の反射防止フィルムＡ及びＢのそれぞれの導電層が形成された表面に、上記ロール状粘着フィルムの粘着剤層を直接、連続的にラミネートし、反射防止膜／ＰＥＴフィルム／透明導電層／粘着剤層／剥離シートの構成を有するロール状の透明導電層付き反射防止フィルムＡ４及びＢ４（構成は実施例３と同一）を得た。
【００９２】
［透明導電層付き反射防止フィルムの評価］
（１）表面抵抗値
得られた反射防止フィルムの透明導電層上を、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１−１９９５に従い測定した。
【００９３】
（２）可視光線透過率
ＪＩＳ−Ｋ−７１０５−１９８７に従い測定した。測定波長は４００〜７００ｎｍであった。測定器は（Ｕ４０００、日立（株）製）を使用した。下記のように評価した。
【００９４】
○：光線透過率が平均で８０％以上。
△：光線透過率が平均で５０％以上８０％未満。
×：光線透過率が平均で５０％未満
【００９５】
（３）帯電防止性
得られた透明導電層付き反射防止フィルムを電界放出型ディスプレイの画面サイズに合わせて裁断して、そのディスプレイの画面（ガラス板）の表面に貼り付けた。この状態で、ディスプレイに通電して画像を表示させ、１時間後、表面の帯電状態を目視で以下のように評価した。
【００９６】
○：ほとんどホコリが付いていない。
△：ホコリがすこし付いている。
×：ホコリが多量に付いている。
【００９７】
試験結果を表１に示す。
【００９８】
【表１】
2006189783.tif 000003
【００９９】
尚、実施例４で得られた反射防止フィルムＡ４及びＢ４についても上記と同様の結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明に従うＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムの典型的な１例の概略断面図である。
【図２】本発明に従うＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムの別の典型的な１例の概略断面図である。
【図３】本発明のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムにおける好適態様の１例を描いた概略断面図である。
【図４】本発明のＦＥＤ用導電層付き反射防止フィルムにおける好適態様の別の１例を描いた概略断面図である。
【図５】本発明の電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが貼付された電界放出型ディスプレイの一例の断面図である。
【符号の説明】
【０１０１】
１１、２１、３１、４１  透明基板
１２、２２、３２，４２  透明導電層
１３、２３、３３、４３  反射防止膜
３５、４５  ハードコート層
３６、４６  高屈折率層
３７、４７  低屈折率層
２４、４４  粘着剤層
４８  剥離シート
４９  保護層
【図１】
2006189783.tif 000004
【図２】
2006189783.tif 000005
【図３】
2006189783.tif 000006
【図４】
2006189783.tif 000007
【図５】
2006189783.tif 000008