(57)【要約】【課題】  ベースの歪みを抑えること。【解決手段】  ベース（２）に固定支持された固定側シャフト支持部（２２）と、前記ベース（２）に固定支持され且つ前記固定側シャフト支持部（２２）に対向して配置された調整側シャフト支持部（２３）と、一端が前記固定側シャフト支持部（２２）に固定支持され、他端が前記調整側シャフト支持部（２３）に移動可能に支持された調整シャフト（２４）と、前記調整シャフト（２４）にシャフト軸方向に沿って移動可能且つ前記調整側シャフト支持部（２３）を押圧する歪み調整部材（２６）とを備えたベース歪み調整装置（２１）。【選択図】  図１
2006269606.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の構成要件（Ａ01）〜（Ａ04）を備えたことを特徴とするベース歪み調整装置、
（Ａ01）ベースに固定支持された固定側シャフト支持部、
（Ａ02）前記ベースに固定支持され且つ前記固定側シャフト支持部に対向して配置された調整側シャフト支持部、
（Ａ03）一端が前記固定側シャフト支持部に固定支持され、他端が前記調整側シャフト支持部に移動可能に支持された調整シャフト、
（Ａ04）前記調整シャフトのシャフト軸方向に沿って移動可能に構成され且つ前記調整側シャフト支持部を押圧する歪み調整部材。
【請求項２】
下記の構成要件（Ａ05），（Ａ06）を備えたことを特徴とする請求項１記載のベース歪み調整装置、
（Ａ05）試料を保持する試料ホルダが表面に配置された前記ベース、
（Ａ06）前記ベースの裏面に配置された前記固定側シャフト支持部および前記調整側シャフト支持部。
【請求項３】
下記の構成要件（Ａ07），（Ａ08）を備えたことを特徴とする請求項１または２記載のベース歪み調整装置、
（Ａ07）平板状の前記ベースに対して、互いに直交するＸ軸およびＹ軸を設定した場合に、前記調整シャフトが前記Ｘ軸に沿うように配置された前記固定側シャフト支持部、前記調整側シャフト支持部、前記調整シャフトおよび前記歪み調整部材を有するＸ軸方向歪み調整装置、
（Ａ08）前記調整シャフトが前記Ｙ軸に沿うように配置された前記固定側シャフト支持部、前記調整側シャフト支持部、前記調整シャフトおよび前記歪み調整部材を有するＹ軸方向歪み調整装置。
【請求項４】
下記の構成要件（Ａ09）を備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか記載のベース歪み調整装置、
（Ａ09）平板状の前記ベースに対して、互いに直交するＸ軸およびＹ軸を設定した場合に、前記調整シャフトが前記Ｘ軸およびＹ軸に対して４５°を成すように配置された前記固定側シャフト支持部、前記調整側シャフト支持部、前記調整シャフトおよび前記歪み調整部材を有する斜め方向歪み調整装置。
【請求項５】
下記の構成要件（Ａ010）を備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか記載のベース歪み調整装置、
（Ａ010）前記ベースに形成された低剛性部に配置された前記固定側シャフト支持部、前記調整側シャフト支持部、前記調整シャフトおよび前記歪み調整部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ベース部材の歪みを調整するためのベース歪み調整装置に関する。特に、本発明の歪み調整装置は、精密な平板状態のベースが要求される半導体検査装置等に好適に使用可能である。
【背景技術】
【０００２】
図１２は、従来の半導体検査装置の説明図である。
図１２において、従来使用されている半導体検査装置０１は、ベース０２を有している。前記ベース０２上には、検査対象のウェハ（試料）０３を支持するウェハホルダ（試料ホルダ）０４がレール０６に沿って移動可能に支持されている。前記ベース０２には、一対の送りネジ支持部材０７，０８が支持されており、前記送りネジ支持部材０７，０８には送りネジ０９が支持されている。前記送りネジ０９の一端部には、モータ０１１が連結されており、送りネジ０９の中央部でウェハホルダ０４にネジ連結されている。したがって、前記モータ０１１の駆動により前記送りネジ０９が回転すると、前記ウェハホルダ０４が前記レール０６に沿って移動する。
前記ベース０１の右端部には、上方に延び、その上端部から前記ウェハホルダ０４の上方まで延びるセンサ支持アーム０１２が支持されている。前記センサ支持アーム０１２の先端には、ウェハ０３の表面との距離を検出することによりウェハ０３表面の検査を行う表面検査センサ０１３が支持されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
（従来技術の問題点）
図１３は図１２に示す従来技術の半導体検査装置の問題点の説明図である。
図１２、図１３において、前記従来の半導体検査装置０１では、半導体検査装置０１設置後に、加工時の残留応力の解除等により、ベース０２等の各部材に歪みが生じていることがある（図１３参照）。ベース０２に歪みが生じると、表面検査センサ０１３は、前記ウェハ０３表面の高さ方向の歪みにベース０２の歪みが加わった値を検出してしまう。特に、半導体検査装置０１では、１μｍオーダーでウェハ０３表面の高さを測定するため、ベース０２の歪みが数μｍでも大きな影響を受け、ウェハ０３表面の高さ方向の歪みを精確に検出することができなくなるという問題がある。また、ベース０２が歪むと、ウェハホルダ０４は歪んだベース０２のレール０６上を移動することになり、ウェハホルダ０４の位置を精確に制御できないと言う問題がある。
【０００４】
本発明は、前述の事情に鑑み、次の記載内容（Ｏ01）を技術的課題とする。
（Ｏ01）ベースの歪みを抑えること。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
次に、前記課題を解決するために案出した本発明を説明するが、本発明の要素には、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。
また、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明の範囲を実施例に限定するためではない。
【０００６】
（第１発明）
前記技術的課題を解決するために、第１発明のベース歪み調整装置（２１）は、下記の構成要件（Ａ01）〜（Ａ04）を備えたことを特徴とする。
（Ａ01）ベース（２）に固定支持された固定側シャフト支持部（２２）、
（Ａ02）前記ベース（２）に固定支持され且つ前記固定側シャフト支持部（２２）に対向して配置された調整側シャフト支持部（２３）、
（Ａ03）一端が前記固定側シャフト支持部（２２）に固定支持され、他端が前記調整側シャフト支持部（２３）に移動可能に支持された調整シャフト（２４）、
（Ａ04）前記調整シャフト（２４）のシャフト軸方向に沿って移動可能に構成され且つ前記調整側シャフト支持部（２３）を押圧する歪み調整部材（２６）。
【０００７】
（第１発明の作用）
前記構成要件（Ａ01）〜（Ａ04）を備えた第１発明のベース歪み調整装置（２１）では、固定側シャフト支持部（２２）はベース（２）に固定支持されている。調整側シャフト支持部（２３）は、前記ベース（２）に固定支持され且つ前記固定側シャフト支持部（２２）に対向して配置されている。調整シャフト（２４）の一端は、前記固定側シャフト支持部（２２）に固定支持されている。前記調整シャフト（２４）の他端は、前記調整側シャフト支持部（２３）に移動可能に支持されている。前記調整シャフト（２４）のシャフト軸方向に沿って移動可能な歪み調整部材（２６）は、調整側シャフト支持部（２３）を押圧する。
したがって、第１発明のベース歪み調整装置（２１）は、ベース（２）に歪みが生じた場合に、ベース（２）に固定支持された調整側シャフト支持部（２３）を押圧する歪み調整部材（２６）を調整して、ベース（２）の歪みを調整（矯正）できる。この結果、ベース（２）の歪みを抑えることができる。
【０００８】
（第１発明の形態１）
第１発明の形態１のベース歪み調整装置（２１）は、前記第１発明において、下記の構成要件（Ａ05），（Ａ06）を備えたことを特徴とする。
（Ａ05）試料（３）を保持する試料ホルダ（４）が表面に配置された前記ベース（２）、
（Ａ06）前記ベース（２）の裏面に配置された前記固定側シャフト支持部（２２）および前記調整側シャフト支持部（２３）。
【０００９】
（第１発明の形態１の作用）
前記構成要件（Ａ05），（Ａ06）を備えた第１発明の形態１のベース歪み調整装置（２１）では、前記ベース（２）の表面には、試料（３）を保持する試料ホルダ（４）が表面に配置されている。前記固定側シャフト支持部（２２）および前記調整側シャフト支持部（２３）は、ベース（２）の裏面に配置されている。したがって、第１発明の形態１のベース歪み調整装置（２１）は、表面側に配置された部材の操作や表面側の部材の配置や設計等に影響を与えることなく、ベース（２）に生じた歪みの調整を行うことができる。
【００１０】
（第１発明の形態２）
第１発明の形態２のベース歪み調整装置（２１）は、前記第１発明または第１発明の形態１において、下記の構成要件（Ａ07），（Ａ08）を備えたことを特徴とする。
（Ａ07）平板状の前記ベース（２）に対して、互いに直交するＸ軸およびＹ軸を設定した場合に、前記調整シャフト（２４）が前記Ｘ軸に沿うように配置された前記固定側シャフト支持部（２２）、前記調整側シャフト支持部（２３）、前記調整シャフト（２４）および前記歪み調整部材（２６）を有するＸ軸方向歪み調整装置（２１ｘ）、
（Ａ08）前記調整シャフト（２４）が前記Ｙ軸に沿うように配置された前記固定側シャフト支持部（２２）、前記調整側シャフト支持部（２３）、前記調整シャフト（２４）および前記歪み調整部材（２６）を有するＹ軸方向歪み調整装置（２１ｙ）。
【００１１】
（第１発明の形態２の作用）
前記構成要件（Ａ07），（Ａ08）を備えた第１発明の形態２のベース歪み調整装置（２１）では、Ｘ軸方向歪み調整装置（２１ｘ）は、前記調整シャフト（２４）が前記Ｘ軸に沿うように配置された前記固定側シャフト支持部（２２）、前記調整側シャフト支持部（２３）、前記調整シャフト（２４）および前記歪み調整部材（２６）を有する。Ｙ軸方向歪み調整装置（２１ｙ）は、前記調整シャフト（２４）が前記Ｙ軸に沿うように配置された前記固定側シャフト支持部（２２）、前記調整側シャフト支持部（２３）、前記調整シャフト（２４）および前記歪み調整部材（２６）を有する。したがって、第１発明の形態２のベース歪み調整装置（２１）は、Ｘ軸方向歪み調整装置（２１ｘ）およびＹ軸方向歪み調整装置（２１ｙ）により、平板状のベース（２）に生じた２次元の歪みを調整できる。
【００１２】
（第１発明の形態３）
第１発明の形態３のベース歪み調整装置（２１）は、前記第１発明および第１発明の形態１，２のいずれかにおいて、下記の構成要件（Ａ09）を備えたことを特徴とする。
（Ａ09）平板状の前記ベース（２）に対して、互いに直交するＸ軸およびＹ軸を設定した場合に、前記調整シャフト（２４）が前記Ｘ軸およびＹ軸に対して４５°を成すように配置された前記固定側シャフト支持部（２２）、前記調整側シャフト支持部（２３）、前記調整シャフト（２４）および前記歪み調整部材（２６）を有する斜め方向歪み調整装置（２１ｘｙ）。
【００１３】
（第１発明の形態３の作用）
前記構成要件（Ａ09）を備えた第１発明の形態３のベース歪み調整装置（２１）では、斜め方向歪み調整装置（２１ｘｙ）は、前記調整シャフト（２４）が前記Ｘ軸およびＹ軸に対して４５°を成すように配置された前記固定側シャフト支持部（２２）、前記調整側シャフト支持部（２３）、前記調整シャフト（２４）および前記歪み調整部材（２６）を有する。したがって、第１発明の形態３のベース歪み調整装置（２１）は、前記斜め方向歪み調整装置（２１ｘｙ）により、ベース（２）に生じた歪みを、さらに精密に調整することができる。
【００１４】
（第１発明の形態４）
第１発明の形態４のベース歪み調整装置（２１）は、前記第１発明および第１発明の形態１〜３のいずれかにおいて、下記の構成要件（Ａ010）を備えたことを特徴とする。
（Ａ010）前記ベース（２）に形成された低剛性部（２ｂ）に配置された前記固定側シャフト支持部（２２）、前記調整側シャフト支持部（２３）、前記調整シャフト（２４）および前記歪み調整部材（２６）。
【００１５】
（第１発明の形態４の作用）
前記構成要件（Ａ010）を備えた第１発明の形態４のベース歪み調整装置（２１）では、前記固定側シャフト支持部（２２）、前記調整側シャフト支持部（２３）、前記調整シャフト（２４）および前記歪み調整部材（２６）は、前記ベース（２）に形成された低剛性部（２ｂ）に配置されている。したがって、第１発明の形態４のベース歪み調整装置（２１）は、歪みの発生しやすい低剛性部（２ｂ）に生じた歪みを調整することができる。
【発明の効果】
【００１６】
前述の本発明は、下記の効果（Ｅ01）を奏する。
（Ｅ01）ベースの歪みを抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
次に図面を参照しながら、本発明の実施の形態の具体例（実施例）を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、以後の説明の理解を容易にするために、図面において、前後方向をＸ軸方向、左右方向をＹ軸方向、上下方向をＺ軸方向とし、矢印Ｘ，−Ｘ，Ｙ，−Ｙ，Ｚ，−Ｚで示す方向または示す側をそれぞれ、前方、後方、右方、左方、上方、下方、または、前側、後側、右側、左側、上側、下側とする。
また、図中、「○」の中に「・」が記載されたものは紙面の裏から表に向かう矢印を意味し、「○」の中に「×」が記載されたものは紙面の表から裏に向かう矢印を意味するものとする。
【実施例１】
【００１８】
図１は、本発明の実施例１のベース歪み調整装置を有する半導体検査装置の説明図である。
図２は、固定側シャフト支持部の要部拡大説明図である。
図３は、調整側シャフト支持部の要部拡大説明図である。
次に、図１〜図３を使用して実施例１のベース歪み調整装置を有する半導体検査装置の説明を行うが、前記図１２、図１３で説明した従来の半導体検査装置と同一の構成については、符号の最初の「０」を除いた符号を付し詳細な説明は省略する。
図１〜図３において、実施例１の半導体検査装置１のベース２の下面には、ベース歪み調整装置２１が設けられている。前記ベース歪み調整装置２１は、ベース２下面の左側に固定支持された固定側シャフト支持部２２と、ベース２下面の右側に前記固定側シャフト支持部２２に対向して配置された調整側シャフト支持部２３とを有する。図２、図３において、前記固定側シャフト支持部２２および調整側シャフト支持部２３には、それぞれ、シャフト貫通孔２２ａ、２３ａが形成されている。
【００１９】
図１〜図３において、一対のシャフト支持部２２，２３には、シャフト貫通孔２２ａ、２３ａを貫通する調整シャフト２４が支持されている。図２において、前記調整シャフト２４の左端（−Ｙ端、一端）には、シャフト係止部２４ａが形成されている。したがって、調整シャフト２４の左端は、シャフト係止部２４ａが固定側シャフト支持部２２の左端面に係止され位置決めされた状態で固定側シャフト支持部２２に固定支持されている。なお、前記固定側シャフト支持部２２と調整シャフト２２とは、圧入、接着または溶接等により固定支持することができる。図３において、前記調整シャフト２４の右端部（＋Ｙ端部、他端部）には、ネジ部２４ｂが形成されている。前記調整シャフト２４のネジ部２４ｂには、歪み調整ナット（歪み調整部材）２６がネジ嵌合している。前記歪み調整ナット２６は、調整側シャフト支持部２３の右側面に当接する内側押圧用調整ナット２６ａと、調整側シャフト支持部２３の左側面に当接する外側押圧用調整ナット２６ｂと、を有する。
前記固定側シャフト支持部２２、調整側シャフト支持部２３、調整シャフト２４および歪み調整ナット２６等により実施例１のベース歪み調整装置２１が構成されている。
【００２０】
（実施例１の作用）
図４は実施例１のベース歪み調整装置の作用説明図であり、ベースが凹湾曲して歪んだ状態の説明図である。
図５は実施例１のベース歪み調整装置の作用説明図であり、ベースが凸湾曲して歪んだ状態の説明図である。
前記構成を備えたベース歪み調整装置２１を有する半導体検査装置１では、半導体検査装置１を設置した後に、残留応力の解除等により、図４に示すようにベース２の両端部が中央部に対して上方に歪む凹湾曲の状態（凹状に反った状態）になることがある。この状態では、前記歪み調整ナット２６を回転させて内側（図４の矢印参照）に移動させ、内側押圧用調整ナット２６ａにより、調整側シャフト支持部２３を内側に押圧する。この結果、調整側シャフト支持部２３が固定支持されたベース２の下面が内側に押圧されるので、凹湾曲が矯正され、図４に示す状態から図１に示す状態に歪みを調整することができる。
【００２１】
一方、図５に示すようにベース２の両端部が中央部に対して下方に歪む凸湾曲の状態（凸状に反った状態）になった場合、前記歪み調整ナット２６を回転させて外側（図５の矢印参照）に移動させ、外側押圧用調整ナット２６ｂにより、調整側シャフト支持部２３を外側に押圧する。これにより、調整側シャフト支持部２３が固定支持されたベース２の下面が外側に押圧されるので、凸湾曲が矯正され、図５に示す状態から図１に示す状態に歪みを調整することができる。
【００２２】
したがって、実施例１のベース歪み調整装置２１は、ベース２の歪みを調整（矯正）して、ベース２を精度良く平坦な状態とすることができる。この結果、半導体検査装置１において、表面検査センサ１３とウェハ３との距離にベース２の歪みが影響せず、表面検査センサ１３により精確な検査を行うことができる。また、ベース２の歪みが調整されるので、レール６の歪みが抑えられ、ウェハホルダ４の位置も精確に制御できる。なお、前記ベース２の歪み量の検出は、ゲージ等の従来公知の計測装置を使用することが可能である。
【実施例２】
【００２３】
図６は本発明の実施例２のベース歪み調整装置の説明図であり、図６Ａは下方から見た図、図６Ｂは図６Ａの矢印ＶＩＢ方向から見た図、図６Ｃは図６Ａの矢印ＶＩＣ方向から見た図である。
なお、この実施例２の説明において、前記実施例１の構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
この実施例２は、下記の点で前記実施例１と相違しているが、他の点では前記実施例１と同様に構成されている。
なお、図６において、ベース２上に配置されるウェハホルダ４等は図示を省略している。
【００２４】
図６において、実施例２のベース歪み調整装置２１は、ベース２の前後方向（Ｘ軸方向）の歪みを調整する（矯正する）ためのＸ軸方向歪み調整装置２１ｘと、ベース２の左右方向（Ｙ軸方向）の歪みを調整するためのＹ軸方向歪み調整装置２１ｙとを有する。
前記Ｘ軸方向歪み調整装置２１ｘおよびＹ軸方向歪み調整装置２１ｙは、それぞれ、固定側シャフト支持部２２、調整側シャフト支持部２３、調整シャフト２４および歪み調整ナット２６を有しており、各軸方向の歪みを調整可能に構成されている。
【００２５】
（実施例２の作用）
図７は、実施例２のベース歪み調整装置の作用説明図であり、図７Ａは図６Ａに対応する下方から見た図、図７Ｂは図７Ａの矢印ＶＩＩＢ方向から見た図、図７Ｃは図７Ａの矢印ＶＩＩＣ方向から見た図である。
前記構成を備えた実施例２のベース歪み調整装置２１は、図７に示すようにベース２がＸ軸方向およびＹ軸方向に凸湾曲した２次元の歪みが生じていても、それぞれの調整ナット２６を回転して外側に移動させて調整することにより、歪みを矯正することができる。図示は省略するが、凹湾曲した場合には、各調整ナット２６を内側に移動させて調整することにより、歪みを矯正できる。したがって、実施例２のベース歪み調整装置２１は２次元の歪みも調整できるので、実施例１の場合（１次元の歪みを調整する場合）と比べ、より精確に歪みを調整することができる。
【実施例３】
【００２６】
図８は実施例２の図７に対応する実施例３のベース歪み調整装置の説明図であり、図８Ａは下方から見た図、図８Ｂは図８Ａの矢印ＶＩＩＩＢ方向から見た図、図８Ｃは図８Ａの矢印ＶＩＩＩＣ方向から見た図である。
なお、この実施例３の説明において、前記実施例１、２の構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
この実施例３は、下記の点で前記実施例１、２と相違しているが、他の点では前記実施例１、２と同様に構成されている。
図８において、実施例３のベース歪み調整装置２１は、Ｘ軸方向歪み調整装置２１ｘおよびＹ軸方向歪み調整装置２１ｙを２組ずつ有している。
【００２７】
（実施例３の作用）
前記構成を備えた実施例２のベース歪み調整装置２１は、２組ずつ設けられたＸ軸方向歪み調整装置２１ｘおよびＹ軸方向歪み調整装置２１ｙにより、さらに精確に歪みを調整できる。
【実施例４】
【００２８】
図９は実施例２の図７に対応する実施例４のベース歪み調整装置の説明図であり、図９Ａは下方から見た図、図９Ｂは図９Ａの矢印ＩＸＢ方向から見た図、図９Ｃは図９Ａの矢印ＩＸＣ方向から見た図である。
なお、この実施例４の説明において、前記実施例１〜３の構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
この実施例４は、下記の点で前記実施例１〜３と相違しているが、他の点では前記実施例１〜３と同様に構成されている。
図９において、実施例４のベース歪み調整装置２１は、Ｘ軸方向歪み調整装置２１ｘおよびＹ軸方向歪み調整装置２１ｙを３組ずつ有し、さらに、Ｘ軸およびＹ軸に対して４５°を成す方向に設けられた２つの斜め方向歪み調整装置２１ｘｙを有する。
【００２９】
（実施例４の作用）
前記構成を備えた実施例４のベース歪み調整装置２１では、斜め方向歪み調整装置２１ｘｙを使用して、さらに精確な歪みの調整を行うことができる。
【実施例５】
【００３０】
図１０は実施例５のベース歪み調整装置の説明図であり、図１０Ａは斜視図、図１０Ｂは図１０Ａの矢印ＸＢ方向から見た図である。
なお、この実施例５の説明において、前記実施例１〜４の構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
この実施例５は、下記の点で前記実施例１〜４と相違しているが、他の点では前記実施例１〜４と同様に構成されている。
【００３１】
図１０において、実施例５のベース２の右部には、切り込み部２ａが形成されている。したがって、ベース２は切り込み部２ａの右側の歪みやすい低剛性部２ｂと、切り込み部２ａ左側のベース本体２ｃと、前記ベース本体２ｃと低剛性部２ｂとを接続する接続部２ｄとを有する（図１０Ｂ参照）。
図１０において、前記低剛性部２ｂの接続部２ｄ側には、ベース歪み調整装置２１が配置されている。
【００３２】
（実施例５の作用）
図１１は、実施例５のベース歪み調整装置の作用説明図であり、低剛性部の先端部が下方に湾曲した状態の説明図である。
前記構成を備えた実施例５のベース歪み調整装置２１において、図１１に示すように、ベース２の低剛性部２ｂの先端部が下方に湾曲することがある。この湾曲により、ベース本体２ｃも影響を受ける場合がある。
したがって、この場合、前記ベース歪み調整装置２１の歪み調整ナット２６を回転させて内側（図１１の矢印参照）に移動させることにより、下方に湾曲した低剛性部２ｂを図１０Ａに示すように平坦状に調整する（矯正する）ことができる。図示は省略するが、低剛性部２ｂが上方に湾曲した場合には、歪み調整ナット２６を外側に移動させることにより低剛性部２ｂの歪みを調整できる。
したがって、実施例５のベース歪み調整装置２１のように、ベース２の全面の歪みを調整するのではなく、ベース２の中の歪みが発生しやすい低剛性部２ｂにのみベース歪み調整装置２１を設け、その部分に生じた歪みを調整することができる。
【００３３】
(変更例)
以上、本発明の実施例を詳述したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更例（Ｈ01）〜（Ｈ05）を下記に例示する。
（Ｈ01）本発明のベース歪み調整装置２１は、半導体検査装置に限定されず、歪みを補正する必要のあるベースを有する装置に使用可能である。
（Ｈ02）前記実施例において、ベースは角形の平板状のものに限定されず、円板状やドーナツ型、短冊状等任意の形状のものを使用可能である。
【００３４】
（Ｈ03）前記実施例において、ベース歪み調整装置２１は、ベース２の下面（裏面）に限定されず、ベース２の上面（表面）側に配置することも可能である。
（Ｈ04）前記実施例において、ベース歪み調整装置２１を、調整側シャフト支持部２３、ネジ部２４ｂを有する調整シャフト２４と歪み調整ナット２６とにより構成したが、これに限定されず、ネジ部の無い調整シャフトと、調整シャフトを軸方向にずれないように把持可能な歪み調整部材とを有し、歪み調整部材による把持を解除した状態で調整側シャフト支持部に対して調整シャフトを相対移動させて歪みを調整した後、歪み調整部材により把持することにより歪みを調整する構成とすることも可能である。なお、前記相対移動は、手動または装置を使用することが可能である。
（Ｈ05）前記実施例において、斜め方向歪み調整装置２１ｘｙはＸ軸およびＹ軸に対して４５°を成すように配置したが、成す角は任意の角度に変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】図１は、本発明の実施例１のベース歪み調整装置を有する半導体検査装置の説明図である。
【図２】図２は、固定側シャフト支持部の要部拡大説明図である。
【図３】図３は、調整側シャフト支持部の要部拡大説明図である。
【図４】図４は実施例１のベース歪み調整装置の作用説明図であり、ベースが凹湾曲して歪んだ状態の説明図である。
【図５】図５は実施例１のベース歪み調整装置の作用説明図であり、ベースが凸湾曲して歪んだ状態の説明図である。
【図６】図６は本発明の実施例２のベース歪み調整装置の説明図であり、図６Ａは下方から見た図、図６Ｂは図６Ａの矢印ＶＩＢ方向から見た図、図６Ｃは図６Ａの矢印ＶＩＣ方向から見た図である。
【図７】図７は、実施例２のベース歪み調整装置の作用説明図であり、図７Ａは図６Ａに対応する下方から見た図、図７Ｂは図７Ａの矢印ＶＩＩＢ方向から見た図、図７Ｃは図７Ａの矢印ＶＩＩＣ方向から見た図である。
【図８】図８は実施例２の図７に対応する実施例３のベース歪み調整装置の説明図であり、図８Ａは下方から見た図、図８Ｂは図８Ａの矢印ＶＩＩＩＢ方向から見た図、図８Ｃは図８Ａの矢印ＶＩＩＩＣ方向から見た図である。
【図９】図９は実施例２の図７に対応する実施例４のベース歪み調整装置の説明図であり、図９Ａは下方から見た図、図９Ｂは図９Ａの矢印ＩＸＢ方向から見た図、図９Ｃは図９Ａの矢印ＩＸＣ方向から見た図である。
【図１０】図１０は実施例５のベース歪み調整装置の説明図であり、図１０Ａは斜視図、図１０Ｂは図１０Ａの矢印ＸＢ方向から見た図である。
【図１１】図１１は、実施例５のベース歪み調整装置の作用説明図であり、低剛性部の先端部が下方に湾曲した状態の説明図である。
【図１２】図１２は、従来の半導体検査装置の説明図である。
【図１３】図１３は図１２に示す従来技術の半導体検査装置の問題点の説明図である。
【符号の説明】
【００３６】
２…ベース、
２ｂ…低剛性部、
３…試料、
４…試料ホルダ、
２１…ベース歪み調整装置、
２１ｘ…Ｘ軸方向歪み調整装置、
２１ｙ…Ｙ軸方向歪み調整装置、
２１ｘｙ…斜め方向歪み調整装置、
２２…固定側シャフト支持部、
２３…調整側シャフト支持部、
２４…調整シャフト、
２６…歪み調整部材。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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