(57)【要約】【課題】表示特性を向上させることができる液晶表示装置を開示する。【解決手段】画像が表示される表示領域ＤＡを取り囲む非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２に部分的に配置された有機絶縁膜パターン１４０、１５０を具備する。パターン１４０、１５０の間の有機絶縁膜が存在しない空間は、第１基板１００と第２基板２００が結合される時に閉じ込められた空気が排出される通路になる。したがって、第１基板１００と第２基板２００が結合される時に閉じ込められた空気を迅速に排出することができ均一なセルギャップを維持することができて、表示特性を向上させることができる。【選択図】図２
2006189857.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する第１領域及び前記第１領域を取り囲む第２領域に区分され、前記第２領域に部分的に配置された有機絶縁膜パターンを具備する第１基板と、
前記第１基板と互いに対向するように結合された第２基板と、
前記第１領域で前記第１基板と前記第２基板との間に封入された液晶層と、
前記第２領域で前記有機絶縁膜パターン上に位置して、前記第１基板及び前記第２基板を所定距離だけ離隔する第１セルギャップ維持部材と、を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記有機絶縁膜パターンは、互いに所定距離だけ離隔されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１領域に位置し、前記第１基板及び前記第２基板を所定距離だけ離隔する第２セルギャップ維持部材を更に含むことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１セルギャップ維持部材の幅は、前記第２セルギャップ維持部材の幅より約１０倍乃至約２０倍大きいことを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１セルギャップ維持部材の幅は、約１００μｍ乃至約２００μｍであることを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１基板のエッジと隣接して位置する前記第１セルギャップ維持部材は第１幅を有し、互いに隣接した２つの第１領域の間に位置する前記第１セルギャップ維持部材は第２幅を有し、
前記第１幅は、前記第２幅より大きいことを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１幅は、約２００μｍであることを特徴とする請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第２幅は、約１００μｍであることを特徴とする請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項９】
互いに隣接する２つの前記第１セルギャップ維持部材は第１間隔だけ離隔され、互いに隣接する２つの前記第２セルギャップ維持部材は第２間隔だけ離隔され、
前記第１間隔と前記第２間隔は異なる大きさであることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１間隔は、前記第２間隔より約４倍乃至約６倍大きいことを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１基板のエッジと隣接した領域で互いに隣接した２つの前記第１セルギャップ維持部材は第３間隔だけ離隔され、互いに隣接した２つの前記第１領域間で互いに隣接した２つの前記第１セルギャップ維持部材は第４間隔だけ離隔され、
前記第３間隔は前記第４間隔より大きいことを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１基板のエッジから前記第１セルギャップ維持部材までの最短距離は約５ｍｍであることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第２領域で前記第１基板と前記第２基板との間に位置して、前記第１基板と第２基板を結合して前記液晶層を封止する結合部材を更に含むことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記結合部材は、前記液晶層を形成する液晶を注入するための液晶注入口を有することを特徴とする請求項１３記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第１セルギャップ維持部材の一部は、前記液晶注入口に位置することを特徴とする請求項１４記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記液晶注入口に位置する前記第１セルギャップ維持部材の幅は、互いに隣接して位置する２つの第１領域の間に位置する前記第１セルギャップ維持部材の幅と同じであることを特徴とする請求項１５記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記液晶注入口で互いに隣接して位置する２つの前記第１セルギャップ維持部材間の間隔は、２つの第１領域間で互いに隣接して位置する２つの前記第１セルギャップ維持部材間の間隔と同じであることを特徴とする請求項１６記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
画像を表示する第１領域及び前記第１領域を取り囲む第２領域に区分される第１基板と、
前記第１基板と互いに対向するように結合された第２基板と、
前記第１領域で前記第１基板と前記第２基板との間に封入された液晶層と、
前記第２領域で前記第１基板と前記第２基板との間に部分的に配置され、前記第１及び第２基板を所定の距離だけ離隔する第１セルギャップ維持部材と、
前記第１領域で前記第１基板と前記第２基板との間に介在され、前記第１及び第２基板を所定の距離だけ離隔する第２セルギャップ維持部材と、を含み、
互いに隣接する２つの前記第１セルギャップ維持部材は第１間隔だけ離隔され、互いに隣接した２つの前記第２セルギャップ維持部材は、前記第１間隔と異なる第２間隔だけ離隔されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１９】
前記第１間隔は、前記第２間隔より約４倍乃至約６倍大きいことを特徴とする請求項１８記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記第１基板のエッジと隣接した領域で互いに隣接する２つの前記第１セルギャップ維持部材は第３間隔だけ離隔され、互いに隣接した２つの第１領域間で互いに隣接した２つの前記第１セルギャップ維持部材は第４間隔だけ離隔され、
前記第３間隔は、前記第４間隔より大きいことを特徴とする請求項１９記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記第１セルギャップ維持部材の幅は、前記第２セルギャップ維持部材の幅より約１０倍乃至約２０倍大きいことを特徴とする請求項１８記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記第１基板のエッジと隣接して位置する前記第１セルギャップ維持部材は第１幅を有し、互いに隣接した２つの第１領域間に位置する前記第１セルギャップ維持部材は第２幅を有し、
前記第１幅は前記第２幅より大きいことを特徴とする請求項２１記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に関し、より詳細には表示特性を向上させることができる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置は平板表示装置の一種であって、液晶の光学的特性を利用して画像を表示する。液晶表示装置は、光を利用して入力された画像信号に対応する画像を表示する液晶表示パネル及び液晶表示パネルに光を提供するバックライトアセンブリを含む。
【０００３】
液晶表示パネルは薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）がマトリックス形態に形成されたＴＦＴ基板、ＴＦＴ基板と対向して配置されて結合されたカラーフィルター基板、ＴＦＴ基板とカラーフィルター基板との間に形成され電界によって光透過度を調節する液晶層、及び第１基板と第２基板間のセルギャップを維持するスペーサを具備する。
【０００４】
一般に、液晶表示パネルは、製品量産の効率化のために、大型ガラス母基板を利用してＴＦＴ基板及びカラーフィルター基板を形成する。特に、携帯電話、ＰＤＡ等のような中小型製品の場合、一つのガラス母基板に数多くの第１基板又は第２基板が形成される。
【０００５】
液晶表示パネルを形成するために、ＴＦＴ基板が形成されたガラス母基板とカラーフィルター基板が形成されたガラス母基板が結合される。結合された２つのガラス母基板は、ＴＦＴ基板及びカラーフィルター基板が形成されたＬＣＤ単位セル別に切断して液晶表示パネルを完成する。ガラス母基板に形成されたＬＣＤ単位セルは所定の距離だけ離隔され形成される。
【０００６】
２つのガラス母基板、すなわち、ＴＦＴ基板とカラーフィルター基板が結合される時、ＴＦＴ基板とカラーフィルター基板との間に空気が閉じ込められて空気層ができてしまう。この空気層内の空気が外部に逃がされずに、ＬＣＤ単位セル内に残ると、シールラインが狭くなる虞があるため、均一なセルギャップを維持することができない。その結果、液晶表示パネルのセルギャップが不均一になって表示品質が低下する。又、シールラインが狭くなると、シールラインが狭くなる部分のニュートンリングに屈曲が生じて、表示品質が低下する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、均一なセルギャップを維持して表示特性を向上させることができる液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した本発明の目的を実現するための一特徴による液晶表示装置は、第１基板、第２基板、液晶層、及び第１セルギャップ維持部材で構成される。
【０００９】
第１基板は、画像を表示する第１領域及び第１領域を取り囲む第２領域に区分され、第２領域に部分的に配置された有機絶縁膜パターンを具備する。第２基板は、第１基板と互いに対向するように配置されて結合されている。液晶層は、第１領域で第１基板と第２基板との間に封入されていて、外部から提供される光の透過率を調節する。第１セルギャップ維持部材は、第２領域で有機絶縁膜パターン上に位置して、第１及び第２基板を所定の距離だけ離隔する。
【００１０】
また、本発明は、画像を表示する第１領域及び前記第１領域を取り囲む第２領域に区分される第１基板と、前記第１基板と互いに対向するように結合された第２基板と、前記第１領域で前記第１基板と前記第２基板との間に封入された液晶層と、前記第２領域で前記第１基板と前記第２基板との間に部分的に配置され、前記第１及び第２基板を所定の距離だけ離隔する第１セルギャップ維持部材と、前記第１領域で前記第１基板と前記第２基板との間に介在され、前記第１及び第２基板を所定の距離だけ離隔する第２セルギャップ維持部材と、を含み、互いに隣接する２つの前記第１セルギャップ維持部材は第１間隔だけ離隔され、互いに隣接した２つの前記第２セルギャップ維持部材は、前記第１間隔と異なる第２間隔だけ離隔されることを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１１】
このような液晶表示装置によると、第２領域に位置する有機絶縁膜パターンは部分的に配置されていることで、第２領域において有機絶縁膜の存在しない空間が形成されている。これにより液晶表示装置は第１基板と第２基板が結合する時に閉じ込められた空気が排出される空間をより多く確保することができる。したがって、この液晶表示装置は第１領域内に空気層が形成されることを防止することができ、これによって、均一なセルギャップを維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本発明をより詳細に説明する。
【００１３】
図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示す平面図である。
【００１４】
図１を参照すると、本発明による液晶表示装置は、第１基板１００、前記第１基板１００と互いに対向するように配置されて結合している第２基板２００、及び前記第１基板１００と前記第２基板２００との間に介在される液晶層３００を含む。
【００１５】
より詳細には、前記第１及び第２基板１００及び２００は画像が表示される多数の表示領域ＤＡ、及び各表示領域ＤＡを取り囲む非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２に区分される。前記非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２は、前記多数の表示領域を取り囲む第１非表示領域ＰＡ１及び互いに隣接した２つの表示領域間に位置する第２非表示領域ＰＡ２で構成される。前記第１非表示領域ＰＡ１は、前記第１及び第２基板１００、２００のエッジ領域を言う。
【００１６】
前記第１及び第２基板１００、２００は、前記各表示領域ＤＡ別に切断され液晶表示パネルを形成する。
【００１７】
図２は、図１のＩ−Ｉ’に沿って切断した断面図である。
【００１８】
図２を参照すると、前記液晶表示装置は、前記第１基板１００、前記第２基板２００、前記液晶層３００、前記第１基板１００と前記第２基板２００との間のセルギャップを均一に維持するための第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０、及び前記第１基板１００と前記第２基板２００を結合するシーラント５００（結合部材）を含む。
【００１９】
より詳細には、前記第１基板１００は、第１透明基板１１０、前記第１透明基板１１０上に具備されスイッチング素子として動作する薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）１２０、及び前記ＴＦＴ１２０の上部に具備される有機絶縁膜パターン１３０、１４０、１５０を具備する。
【００２０】
具体的に前記第１透明基板１１０は、前記第１基板１００の下部に具備されたバックライトアセンブリ（図示せず）から提供される光が前記第２基板２００に提供されるようにガラス、石英、及びサファイア等の透明な材質からなる。
【００２１】
前記第１透明基板１１０の上面に具備される前記ＴＦＴ１２０は、前記表示領域ＤＡに位置する。前記ＴＦＴ１２０はマトリックス形態に形成され、信号電圧を前記液晶層３００に印加して、遮断する。
【００２２】
図示していないが、前記表示領域は画像を表示する基本単位である画素で構成される。前記ＴＦＴ１２０は各画素別に位置し、前記信号電圧は前記各画素別に印加される。
【００２３】
前記ＴＦＴ１２０が形成された前記第１透明基板１１０の上部には、前記有機絶縁膜パターン１３０、１４０、１５０が具備される。前記有機絶縁膜パターン１３０、１４０、１５０は、前記表示領域ＤＡ及び前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１及びＰＡ２に具備される。
【００２４】
前記表示領域ＤＡに位置する有機絶縁膜パターン１３０は、前記ＴＦＴ１２０の上部に位置して前記ＴＦＴ１２０を保護する。
【００２５】
前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２に位置する有機絶縁膜パターン１４０、１５０は部分的に除去されており、一つの前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２において、少なくとも１本ずつ形成されている（図においては第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２それぞれにおいて、２本ずつ形成されている。）。
【００２６】
前記第１非表示領域ＰＡ１に位置する有機絶縁膜パターン１４０は、前記第１スペーサ４１０と対応して位置し、前記第２非表示領域ＰＡ２に位置する有機絶縁膜パターン１５０は、前記第２スペーサ４２０と対応して位置する。
【００２７】
このように、前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２に位置する有機絶縁膜パターン１４０、１５０は、前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２を完全にふさぐことなく、部分的に除去されて所定の間隔をあけて形成されているのでので、前記第１及び第２基板１００、２００が互いに結合される時、前記第１基板１００と第２基板２００との間に閉じ込められた空気を外部に迅速に排出することができる。即ち、前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２で前記有機絶縁膜パターン１４０、１５０が部分的に廃止され、有機絶縁膜の存在しない部分は、閉じ込められた空気が排出される通路の役割を果たす。
【００２８】
前記液晶表示装置は、前記有機絶縁膜パターン１４０、１５０下形成されて有機絶縁膜の存在しない分だけ前記空気が排出される空間を更に確保することができるので、前記空気を迅速に排出することができる。これによって、前記液晶表示装置は、前記空気が前記表示領域ＤＡに閉じ込められて前記シーラント５００を圧迫してその幅が狭くなり、前記シーラント５００の高さが高くなるようなことを防止することができる。これによって、前記液晶表示装置は均一なセルギャップを維持することができるので、表示特性を向上させることができる。
【００２９】
前記第１基板１００の上部には、前記第２基板２００が具備される。前記第２基板２００は、第２透明基板２１０、光を利用して所定の色を発現するカラーフィルター層２２０、及び共通電圧を前記液晶層３００に印加する共通電極２３０を含む。
【００３０】
具体的に、前記第２透明基板２１０は、前記第１透明基板１１０と同じ材質からなる。
【００３１】
前記第２透明基板２１０の上部には、前記カラーフィルター層２２０及び前記共通電極２３０が順次に具備される。前記カラーフィルター層２２０は、前記表示領域ＤＡに位置し、薄膜工程によって形成される。前記カラーフィルター層２２０は、前記液晶層３００を通過した光を利用して、所定の色を発現する色画素２２１、及び前記色画素２２１を取り囲み、前記色画素２２１から漏洩する光を遮断するブラックマトリックス２２２を具備する。
【００３２】
前記色画素２２１はＲＧＢ色画素２２１ａ、２２１ｂ、２２１ｃで構成され、前記各画素にはＲＧＢ色画素２２１ａ、２２１ｂ、２２１ｃのうち、いずれか一つの色画素が位置する。前記ＲＧＢ色画素２２１ａ、２２１ｂ、２２１ｃは、赤色、緑色、及び青色の顔料又は染料を有するフォトレジストで形成される。
【００３３】
前記ＲＧＢ色画素２２１ａ、２２１ｂ、２２１ｃを形成するために、前記ブラックマトリックス２２２が形成された前記第２透明基板２１０上に前記フォトレジストが塗布される。前記塗布されたフォトレジストを露光及び現像工程を利用してパターニングすると、前記ＲＧＢ色画素２２１ａ、２２１ｂ、２２１ｃが形成される。この際、前記ＲＧＢ色画素２２１ａ、２２１ｂ、２２１ｃは、約１．０μｍ〜２．０μｍ程度の高さに形成され、色を配列する規則によって一定のパターンに配置される。
【００３４】
前記ブラックマトリックス２２２は、前記ＲＧＢ色画素２２１ａ、２２１ｂ、２２１ｃから漏洩する光を遮断して対比比（Ｃ／Ｒ）を向上させる。前記ブラックマトリックス２２２は、クロム／クロム酸化物（ＣｒＯｘ）からなるか、カーボン顔料又はＲＧＢ混合顔料が分散されたフォトレジストからなる。前記ＴＦＴ１２１は、前記ブラックマトリックス２２２と対応する領域に形成され、外部で前記ＴＦＴ１２１を認識しないようにする。
【００３５】
前記カラーフィルター層２２０の上面に具備される前記共通電極２３０は、前記表示領域ＤＡに具備される。前記共通電極２３０は、透明な導電性金属、例えば、インジウムティンオキサイド（以下、ＩＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（以下、ＩＺＯ）等からなり、前記液晶層３００に前記共通電圧を印加する。
【００３６】
一方、前記第１基板１００と前記第２基板２００との間には、前記液晶層３００が介在される。前記液晶層３００は前記表示領域ＤＡに位置し、前記第１基板１００と前記共通電極２３０との間に形成される電界によって前記光の透過度を調節する。
【００３７】
前記第１基板１００と前記第２基板２００との間には、前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０が具備される。前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０は、前記第１基板１００と前記第２基板２００を所定の距離だけ離隔する。前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０は弾性を有する有機物質からなり、好ましくは、前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０は、フォトリソグラフィ工程を通じて形成されるカラムスペーサで形成される。なお、前記第１及び第２スペーサ４１０及び４２０は第１セルギャップ維持部材、第３スペーサ４３０は第２セルギャップ維持部材として機能するものである。
【００３８】
前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０は、前記第１基板１００及び前記第２基板２００のうち、いずれか一つの基板に形成される。前記第１基板１００に前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０を形成する場合、前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０を形成する工程過程で前記ＴＦＴ１２０や配線に圧力が印加されてラインが断絶される虞があるので、前記第２基板２００に形成することが好ましい。
【００３９】
具体的に、前記第１スペーサ４１０は前記第１非表示領域ＰＡ１に位置し、前記有機絶縁膜パターン１４０上に位置する。前記第２スペーサ４２０は前記第２非表示領域ＰＡ２に位置し、前記有機絶縁膜パターン１５０上に位置する。
【００４０】
前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２は、前記液晶層３００が具備されない。このため、前記第１基板１００と前記第２基板２００がこの部分で互いに密着したり、前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２のセルギャップが前記表示領域ＤＡのセルギャップより少なくなるおそれがある。これによって、前記第１基板１００と前記第２基板２００が互いに結合される時に閉じ込められる空気を排出するのが困難になる。前記第１及び第２スペーサ４１０、４２０は、前記有機絶縁膜パターン１４０及び１５０上に位置させていることで、前記有機絶縁膜パターン１４０及び１５０と共に、いっそう前記空気が外部に排出されるように、前記第１基板１００と前記第２基板２００を所定距離だけ離隔することができる。
【００４１】
前記表示領域ＤＡに位置する前記第３スペーサ４３０は、前記表示領域ＤＡのセルギャップを均一に維持する。
【００４２】
基板のエッジと隣接して位置する前記第１スペーサ４１０の幅Ｗ１は、互いに隣接した２つの表示領域ＤＡ（第１領域）の間に位置する前記第２スペーサ４１０の幅Ｗ２より大きい。
【００４３】
前記第２スペーサ４２０の幅Ｗ２は、前記第３スペーサ４３０の幅Ｗ３（第２セルギャップ維持部材の幅）より大きい。好ましくは、前記第１及び第２スペーサ４１０、４２０の幅Ｗ１、Ｗ２は、前記第３スペーサ４３０の幅Ｗ３より約１０倍乃至約２０倍大きい。
【００４４】
一般に、前記第３スペーサ４３０の幅Ｗ３は約１０μｍである。したがって、前記第１及び第２スペーサ４１０、４２０の幅Ｗ１、Ｗ２は、約１００μｍ乃至約２００μｍに形成されることが好ましい。特に、前記第１スペーサ４１０は、前記第２スペーサ４２０より大きい幅を有するので、前記第１スペーサ４１０の幅Ｗ１は約２００μｍに形成され、前記第２スペーサ４２０の幅Ｗ２は約１００μｍに形成されることが好ましい。
【００４５】
一方、前記シーラント５００は、前記第１基板１００と前記第２基板２００との間に位置し、前記表示領域ＤＡを取り囲む。前記シーラント５００は、前記第１基板１００と前記第２基板２００を結合して、前記液晶層３００を封止する。
【００４６】
前記第１基板１００と前記第２基板２００を結合するために、まず、前記シーラント５００を前記第１基板１００及び前記第２基板２００のうち、いずれか一つの基板に塗布する。前記シーラント５００が形成された前記第１基板１００と前記第２基板２００を結合し、液晶を真空注入して、前記液晶層３００を形成する。前記シーラント５００は、前記第１及び第２基板１００、２００の両面（またはいずれか一方）から照射させた紫外線によって硬貨させて、前記第１及び第２基板１００、２００を結合する。
【００４７】
図３は、図２に図示された第１基板を示す断面図である。
【００４８】
図３を参照すると、前記第１基板１００に具備される前記ＴＦＴ１２０は、前記第１透明基板１１０上に具備されるゲート電極１２１、前記ゲート電極１２１の上部に位置するゲート絶縁膜１２２、前記ゲート絶縁膜１２２上に具備されるアクティブ層１２３、前記アクティブ層１２３上に具備されるオームコンタクト層１２４、及び前記オームコンタクト層１２４上に具備されるソース及びドレイン電極１２５、１２６を含む。
【００４９】
より詳細には、前記ゲート電極１２１は、ゲート信号を伝送するゲートライン（図示せず）から分岐され前記ゲート信号の印加を受ける。前記ゲート電極１２１は、アルミニウム（Ａｌ）又はアルミニウムネオジウム（ＡｌＮｄ）のようなアルミニウム合金、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）等のような導電性金属材質からなる。この実施形態において、前記ゲート電極１２１は単一膜で形成されるが、二重膜又は三重膜で形成することもできる。
【００５０】
前記ゲート電極１２１が形成された前記第１透明基板１１０の上部には、前記ゲート絶縁膜１２２が具備される。前記ゲート絶縁膜１２２は、金属物質と接着力が良く、界面に空気層の形成を抑制する酸化シリコン（ＳｉＯ２）や窒化シリコン（ＳｉＮｘ）のような絶縁物質からなる。
【００５１】
前記ゲート絶縁膜１２２の上面に具備される前記アクティブ層１２３は、前記ゲート電極１２１が形成された領域に位置する。前記アクティブ層１２３は非晶質シリコンからなる。
【００５２】
前記アクティブ層１２３の上面に具備される前記オームコンタクト層１２４は、ｎ＋非晶質シリコンからなり、中央部が除去され形成されたチャンネル領域ＣＡを有する。前記アクティブ層１２３は、前記チャンネル領域ＣＡを通じて部分的に露出される。
【００５３】
前記オームコンタクト層１２４の上面には、前記ソース及びドレイン電極１２５、１２６が具備される。前記ソース及びドレイン電極１２５、１２６は、アルミニウム又はアルミニウムネオジウムのようなアルミニウム合金、クロム、モリブデン等のような導電性金属材質からなる。
【００５４】
この実施形態において、前記ソース及びドレイン電極１２５、１２６は単一膜で形成されるが、二重膜又は三重膜で形成されることもできる。
【００５５】
前記ソース電極１２５は、データ信号を伝送するデータライン（図示せず）から分岐され前記データ信号の印加を受ける。前記ソース電極１２５は、第１端部が前記オームコンタクト層１２４の上面に位置し、前記第１端部と対向する第２端部は前記ゲート絶縁膜１２２上に位置する。
【００５６】
前記ドレイン電極１２６は、前記チャンネル領域ＣＡを中心として前記ソース電極１２５と互いに向かい合う。前記ドレイン電極１２６は、第１端部が前記オームコンタクト層１２４の上面に位置し、前記第１端部と対向する第２端部が前記ゲート絶縁膜１２２の上面に位置する。
【００５７】
前記ＴＦＴ１２０が形成された前記第１透明基板１１０の上部には、保護膜１６０が具備される。前記保護膜１６０は、前記ＴＦＴ１２０及び前記第１透明基板１１０上に形成される配線を保護する。前記保護膜１６０は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）や窒化シリコン（ＳｉＮｘ）のような無機絶縁物質からなり、約２０００Åの厚さを有することが好ましい。
【００５８】
前記保護膜１６０の上部には、前記有機絶縁膜パターン１３０、１５０が具備される。前記第２非表示領域ＰＡ２に位置する有機絶縁膜パターン１５０は、前記保護膜１６０上に部分的に位置する。
【００５９】
前記表示領域ＤＡに位置する有機絶縁膜パターン１３０及び前記保護膜１６０は、前記ドレイン電極１２６を部分的に露出するように一部分が除去され、コンタクトホールＣＨを形成する。
【００６０】
前記有機絶縁膜パターン１３０の上面には、前記液晶層３００（図２参照）に前記信号電圧を印加する画素電極１７０が具備される。前記画素電極１７０は、前記コンタクトホールＣＨを通じて前記ドレイン電極１２６と電気的に連結される。前記画素電極１７０は、ＩＴＯ又はＩＺＯのような導電性酸化膜からなる。
【００６１】
図示していないが、前記液晶表示装置が反射−透過型液晶表示装置である場合には、前記画素電極１７０の上面に外部から入射される光を反射する反射電極を更に具備することができる。
【００６２】
図４は、図２に図示された液晶表示装置を示す部分平面図であり、図５は、図４に図示されたＡ部分を拡大して示す平面図である。
【００６３】
図４は、第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０の位置関係をより明確に図示するために、前記第１基板１００を省略して図示した。
【００６４】
図４及び図５を参照すると、前記第２基板２００の前記第１非表示領域ＰＡ２には前記第１スペーサ４１０が位置する。互いに隣接した２つの第１スペーサ４１０は第１間隔ｄ１だけ離隔されている。前記第１スペーサ４１０と前記第２基板２００のエッジとの間の最短距離ｄ４は従来の約１０ｍｍより狭い約５ｍｍである。
【００６５】
第１表示領域ＤＡ１と前記第１表示領域ＤＡ１と隣接した第２表示領域ＤＡ２との間に位置する前記第２非表示領域ＰＡ２には、前記第２スペーサ４２０が位置する。互いに隣接した２つの第２スペーサは、前記第１間隔ｄ１より狭い第２間隔ｄ２だけ離隔される。例えば、前記第２間隔ｄ２が約１０００μｍである場合、前記第１間隔ｄ１は約２５００μｍである。
【００６６】
前記第２基板２００の前記第１及び第２表示領域ＤＡ１、ＤＡ２には、前記第３スペーサ４３０が位置する。
【００６７】
図５を参照すると、前記第３スペーサ４３０は、前記ブラックマトリックス２２２の上部に位置する。互いに隣接した２つの第３スペーサは、前記第２間隔ｄ２より狭い第３間隔ｄ３だけ離隔される。前記第３間隔ｄ３は、前記液晶表示装置のサイズ及び画素の大きさによって増加されるか減少される。
【００６８】
前記第１及び第２間隔ｄ１、ｄ２は、前記第３間隔ｄ３より約４倍乃至約６倍大きい。このように、前記第１及び第２間隔ｄ１、ｄ２が前記第３間隔ｄ３より大きく形成される。したがって、前記第１基板１００及び第２基板２００からそれぞれの第１及び第２スペーサ４１０、４２０に加わる圧力は、それぞれの第３スペーサ４３０に加わる圧力より大きい。このような点を補完するために、図２に示されたように、前記第１及び第２スペーサ４１０、４２０は、前記第３スペーサ４３０より大きく形成されている。
【００６９】
前述したように、前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０は、互いに異なる間隔だけ離隔される。前記第１及び第２スペーサの離隔距離は、前記第３スペーサの離隔距離より大きい。したがって、前記第１基板１００（図２参照）と前記第２基板２００が結合する時に閉じ込められた前記空気を排出することができる空間をより多く確保することができる。これによって、前記液晶表示装置は、前記空気を迅速に排出することができるので、前記空気によってシールラインが狭くなることを防止し、均一なセルギャップを維持することができる。
【００７０】
前記第１表示領域ＤＡ１を取り囲む前記シーラント５００は、前記液晶層３００を形成する液晶が注入されるように一部分が開口され形成された液晶注入口ＩＡを有する（図４参照）。前記液晶注入口ＩＡには、前記第２スペーサ４２０が具備される。前記液晶注入口ＩＡに位置する前記第２スペーサ４２０は、前記液晶注入口ＩＡを通じて前記空気が迅速に排出されるように、前記第１基板１００と前記第２基板２００を所定距離だけ離隔する。
【００７１】
図６は、図２に図示された第２基板を示す部分斜視図である。
【００７２】
図６を参照すると、前記第２基板２００の前記表示領域ＤＡには前記カラーフィルター層２２０が具備される。前記カラーフィルター層２２０の上部には、前記第３スペーサ４３０が具備される。前記第３スペーサ４３０は、前記カラーフィルター層２２０と接する下部面から前記第１基板１００（図２参照）と接する上部面に行くほど幅が減少する。したがって、前記第３スペーサ４３０の側面は平行四辺形状を有する。
【００７３】
この実施形態において、前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０は四角柱形状を有するが、円柱形状等の多様な形状に形成されることができる。
【００７４】
前記シーラント５００は前記カラーフィルター層２２０の外郭を取り囲む。
【００７５】
前記第１非表示領域ＰＡ１の前記第２透明基板２１０の上面には、前記第１スペーサ４１０が具備される。前記第２非表示領域ＰＡ２の前記第２透明基板２１０の上面には前記第２スペーサ４２０が具備される。前記第１及び第２スペーサ４１０、４２０は前記シーラント５００と所定の距離だけ離隔され位置する。
【００７６】
前記第１及び第２スペーサ４１０、４２０は、前記第３スペーサ４３０と同じ形状に形成される。前記第１乃至第３スペーサ４１０、４２０、４３０は、互いに異なる幅に形成され、その高さは同じに形成される。
【００７７】
図７は、図２に図示された第１基板を示す部分斜視図である。
【００７８】
図７を参照すると、前記第１透明基板１１０の前記表示領域ＤＡには前記有機絶縁膜パターン１３０が全領域に形成される。
【００７９】
図示していないが、前記表示領域ＤＡに位置する有機絶縁膜パターン１３０は、前記第３スペーサ４３０（図６参照）と対応するように位置する。
【００８０】
前記第１及び第２表示領域ＰＡ１、ＰＡ２に位置する前記有機絶縁膜パターン１４０、１５０は、前記シーラント５００（図６参照）が形成されるシールライン領域ＳＬで除去される。前記第１及び第２非表示領域ＰＡ１、ＰＡ２に位置する前記有機絶縁膜パターン１４０、１５０は、前記第１透明基板１１０と接する下部面から上部面に行くほど幅が減少する。
【００８１】
図示していないが、前記第１非表示領域ＰＡ１に位置する有機絶縁膜パターン１４０は、前記第１スペーサ４１０（図６参照）と対応するように位置し、前記第２非表示領域ＰＡ２に位置する有機絶縁膜パターン１５０は、前記第２スペーサ４２０（図６参照）と対応されるように位置する。
【００８２】
以上説明した本実施形態によると、液晶表示装置は、第１及び第２非表示領域で部分的に除去されている有機絶縁膜パターンを具備する。第１及び第２非表示領域に位置する第１及び第２スペーサは前記有機絶縁膜パターンの上面に位置する。前記液晶表示装置は、第１基板と第２基板を結合する時に、有機絶縁膜パターンが存在しない部分の空間を通して閉じ込められた空気を迅速に排出することができる。
【００８３】
これによって、液晶表示装置は表示領域内に空気層が形成されることを防止して、空気層のためにシールラインが狭くなることを防止することができる。これによって、液晶表示装置は均一なセルギャップを維持することができ、表示特性を向上させることができる。
【００８４】
又、第１及び第２非表示領域に位置する第１及び第２スペーサの幅は表示領域に位置する第３スペーサの幅より大きく、第１及び第２スペーサの間隔は第３スペーサの間隔より広い。即ち、第１及び第２スペーサは、単位面積当たり具備される個数が第３スペーサより少ない代わりに、第３スペーサより大きく形成される。これによって、液晶表示装置は表示領域内に位置する空気層を迅速に排出することができるので、均一なセルギャップを維持することができ、表示特性を向上させることができる。
【００８５】
以上、本発明を実施形態によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正又は変更できる。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の一実施形態による液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ’に沿って切断した断面図である。
【図３】図２に図示された第１基板を示す断面図である。
【図４】図２に図示された液晶表示装置を示す部分平面図である。
【図５】図４に図示されたＡ部分を拡大して示す平面図である。
【図６】図２に図示された第２基板を示す部分斜視図である。
【図７】図２に図示された第１基板を示す部分斜視図である。
【符号の説明】
【００８７】
１００…第１基板、
１３０、１４０、１５０…有機絶縁膜パターン、
２００…第２基板、
３００…液晶層、
４１０、４２０、４３０…スペーサ、
５００…シーラント。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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