(57)【要約】【課題】  アクティブマトリクス基板において２重露光処理される継ぎ部領域が目視されるおそれがなく、高精細化された液晶表示パネルの表示品位を著しく向上させることができる。【解決手段】  基板上に形成される各画素に対応した光透過部のパターンを、基板を分割した複数の分割領域の露光処理によって形成するとともに、各分割領域の間に設けられる継ぎ部領域の各光透過部のパターンを、各分割領域のそれぞれの露光処理によって形成される２重露光領域を介して、相互に重ならないように単一露光領域を離散的に形成する２重露光処理を行う。この場合、各露光処理において、行方向および列方向において、それぞれ相互に隣接する一対の光透過部の画素を１単位として各画素に対応したパターンをそれぞれ形成する。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、複数の画素がマトリクス状に配置されたアクティブマトリクス基板の製造方法であって、
前記基板上に形成される各画素に対応したパターンを、前記基板を分割した複数の分割領域の露光処理によって形成するとともに、前記各分割領域の間に設けられる継ぎ部領域の各画素に対応したパターンを、各分割領域に対するそれぞれの露光処理によって形成される２重露光領域を介して、相互に重ならないように単一露光領域を離散的に形成するとともに、前記各露光処理において、列方向に隣接する複数の画素を１単位として各画素に対応したパターンをそれぞれ形成することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
【請求項２】
基板上に、複数の画素がマトリクス状に配置されたアクティブマトリクス基板の製造方法であって、
前記基板上に形成される各画素に対応したパターンを、前記基板を分割した複数の分割領域の露光処理によって形成するとともに、前記各分割領域の間に設けられる継ぎ部領域の各画素に対応したパターンを、各分割領域に対するそれぞれの露光処理によって形成される２重露光領域を介して、相互に重ならないように単一露光領域を離散的に形成するとともに、前記各露光処理において、行方向および列方向において、それぞれ相互に隣接する複数の画素を１単位として各画素に対応したパターンをそれぞれ形成することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
【請求項３】
基板上に複数の画素がマトリクス状に配置されており、カラーフィルタが設けられた対向基板との間に液晶層が設けられることによって液晶表示パネルを構成するアクティブマトリクス基板の製造方法であって、
前記基板上に形成される各画素に対応したパターンを、前記基板を分割した複数の分割領域の露光処理によって形成するとともに、前記各分割領域の間に設けられる継ぎ部領域の各画素に対応したパターンを、各分割領域に対するそれぞれの露光処理によって形成される２重露光領域を介して、相互に重ならないように単一の露光処理を離散的に形成するとともに、前記各露光処理において、行方向に隣接するｎ個（但し、ｎは３の倍数以外の整数）の画素を１単位として各画素パターンをそれぞれ形成することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載された製造方法によって製造されたアクティブマトリクス基板を有する液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルに使用されるアクティブマトリクス基板の製造方法に関し、特に、分割露光処理が適用されるアクティブマトリクス基板の製造方法および液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
各種モニター用の画像表示装置に使用されるカラー液晶表示パネルでは、アクティブマトリクス基板と、カラーフィルタ基板との間に液晶層を封止した構成が採用されている。図１は、このような液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の一部の概略平面図、図２はそのＡ−Ａ線に沿った断面図である。このアクティブマトリクス基板１０は、透明基板であるガラス基板１１（図２参照）上に、それぞれが相互に平行になった複数のゲート配線１２が配置されており、各ゲート配線１２に対してゲート絶縁膜１８を介してそれぞれが直交するように複数のソース配線１３がそれぞれ相互に平行に配置されている。
【０００３】
各ゲート配線１２と各ソース配線１３との交差部の近傍には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１４がそれぞれ設けられている。各ＴＦＴ１４は、各ゲート配線１２からソース配線１３に沿って一方向に延出したゲート電極１４ａと、そのゲート電極１４ａ上にゲート絶縁膜１８を介して積層されたａ−Ｓｉ層１４ｂと、ａ−Ｓｉ層１４ｂ上に積層されるようにソース配線１３から一方向に延出したソース電極１４ｃと、ａ−Ｓｉ層１４ｂ上にソース電極１４ｃとはチャネル保護層１４ｅによって電気的に分離された状態で積層されたドレイン配線１４ｄとをそれぞれ有している。
【０００４】
このような構成の各ＴＦＴ１４は、層間絶縁膜１６によって覆われており、この層間絶縁膜１６上に、各ゲート配線１２およびソース配線１３にて囲まれた領域内に対応するように、各画素電極１５が配置されている。各画素電極１５と、各画素電極１５に近接して配置された各ＴＦＴ１４のドレイン電極１４ｄとが、層間絶縁膜１６に設けられたコンタクトホール１６ａを介して電気的に接続されている。
【０００５】
このような構成のアクティブマトリクス基板１０は、カラーフィルタおよび対向電極が設けられたカラーフィルタ基板と適当な間隔をあけて対向配置されて、両者の間隙内に液晶層が封止されることによって、カラー液晶表示パネルとされる。カラーフィルタ基板に設けられるカラーフィルタは、例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のフィルタ層が、ソース配線１３に沿って配置された画素電極１５の各列に対してそれぞれ配置されている。各色のフィルタ層は、各ゲート配線１２方向に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のフィルタ層がその順番で繰り返した状態で配置されている。また、図３に示すように、カラーフィルタ基板には、各画素電極１５の間のゲート配線１２およびソース配線１３に重なるように、また、各ＴＦＴ１４を覆うように、ブラックマトリクス２１が設けられている。
【０００６】
アクティブマトリクス基板１０は、次のようにして製造される。まず、ガラス基板１１上にゲート配線１２およびゲート電極１４ａとなる金属層を積層し、ゲート配線１２およびゲート電極１４ａに対応したパターンに露光して現像処理する。これにより、ガラス基板１１上にゲート配線１２およびゲート電極１４ａを形成する。その後、ガラス基板１１の全面にわたってゲート絶縁膜１８が形成される。次いで、そのゲート絶縁膜１８上にａ−Ｓｉ層が積層され、所定パターン形状に露光して現像処理することによって、ＴＦＴ１４のａ−Ｓｉ層１４ｂを形成する。
【０００７】
その後に、ソース配線１３、ソース電極１４ｃ、ドレイン電極１４ｄとなる金属層をガラス基板１１上に積層し、ソース配線１３、ソース電極１４ｃ、ドレイン電極１４ｄに対応したパターンに露光して現像処理する。これにより、ガラス基板１１上にソース配線１３、ソース電極１４ｃ、ドレイン電極１４ｄが形成される。
【０００８】
このような状態になると、ガラス基板１１上に層間絶縁膜１６を積層して、所定の位置にコンタクトホール１６ａを形成する。その後に、層間絶縁膜１６上に画素電極１５となる透明導電膜が設けられて、所定のパターンに露光して現像処理することにより、コンタクトホール１６ａを介して各ＴＦＴ１４のドレイン電極１４ｄと接続された画素電極１５をそれぞれ形成する。
【０００９】
このようにして製造されるアクティブマトリクス基板１０では、金属層によって形成されるゲート配線１２、ゲート電極１４ａ、ソース配線１３、ソース電極１４ｃ、ドレイン電極１４ｄは、光を遮光する遮光部となり、これら以外の部分が光を透過する光透過部となる。従って、この光透過部のパターンは、ゲート配線１２およびゲート電極１４ａの形成のための露光処理、ソース配線１３およびソース電極１４ｃの形成のための複数の露光処理等を経て形成される。
【００１０】
また、カラーフィルタ基板に形成されたブラックマトリクス２１部分も、光を遮光する遮光部となり、カラーフィルタ基板においては、ブラックマトリクス以外の部分が光透過部となる。従って、液晶表示パネルの開口部（画素）は、アクティブマトリクス基板の光透過部とカラーフィルタ基板の光透過部とが重なった部分によって形成されることになり、図３において一点鎖線にて示す１つの開口部（画素）１９は、１つのコーナー部が切り欠かれた長方形状になっている。
【００１１】
アクティブマトリクス基板の製造に際して実施される露光処理は、液晶表示パネルの画面サイズが大きくなると、所定パターンが形成されたフォトマスクに配置されるパターンも大きくなり、また、フォトマスクサイズの制約により、１つの画面に対して１つのフォトマスクによって１度に露光処理することが困難となる。このような問題を解決するために、一般的に画面を複数の露光領域に分割して、分割された各露光領域毎に露光処理する分割露光が実施されている。すなわち、ガラス基板における分割された１つの露光領域に対して、前述した所定の光透過部パターンが形成されるように露光処理された後に、他の露光領域に対して所定の光透過部パターンが形成されるように露光処理される。
【００１２】
しかしながら、このように、複数の露光領域に分割して、所定の光透過部パターンが形成されるように露光処理する場合には、分割露光される領域の分割線の両側において形成される光透過部パターンにずれが生じ、これにより、分割線が目視されて表示品位が低下するおそれがある。
【００１３】
このために、特開平２−５０１３０号公報（特許文献１）には、分割露光によって画素パターンを形成する際に、分割領域の境界部分に継ぎ部領域を設定して、設定された継ぎ部領域の光透過部パターンを各分割領域それぞれに対する露光処理によって、すなわち、２重露光処理によって形成することが開示されている。
【００１４】
また、特開平６−３２４４７４号公報（特許文献２）には、継ぎ部領域の光透過部パターンを２重露光処理によって形成する際に、１回目の露光処理によって形成される光透過部パターンと、２回目の露光処理に形成される光透過部パターンとが、離散的かつ重複しないようにする構成が開示されている。すなわち、図４に示すように、ガラス基板１１において、１回目の露光処理が行われる領域１１ａと、２回目の露光処理が行われる領域１１ｂと、１回目および２回目の両方の露光処理が行われる継ぎ部領域１１ｃとが設けられて、継ぎ部領域１１ｃにおいては、１回目の露光処理によって、それぞれが１画素単位の各光透過部１１ｄが形成され、２回目の露光処理によって、それぞれが１画素単位の各光透過部１１ｅが形成される。この場合、１回目の露光処理によってそれぞれが形成される１画素単位の各光透過部１１ｄと、２回目の露光処理によってそれぞれが形成される１画素単位の各光透過部１１ｅとが、２重露光領域１７を介して、それぞれ相互に重複しない離散状態で形成される。例えば、図１に示すように、１回目の露光処理に際しては、２回目の露光処理によって形成される光透過部１１ｅが、１画素単位で遮光領域１１ｆによって遮光されて、２重露光領域１７を介して、各光透過部１１ｃがそれぞれ形成される。
【００１５】
このような構成によって、継ぎ部領域１１ｃにおいて、分割露光される各領域の分割線が目視されることが抑制され、継ぎ部領域１１ｃの表示品位が低下することが防止される。なお、１回目および２回目のそれぞれの露光処理にて形成される各光透過部１１ｄおよび１１ｅは、ガラス基板１１の大きさ、継ぎ部領域１１ｃの大きさ等に基づいて、密度が異なるように配置される。
【００１６】
また、特開２００２−１０７７５８号公報（特許文献３）には、カラー液晶表示パネルのアクティブマトリクス基板の製造に際して実施される分割露光時に、２重露光処理される継ぎ部領域において、１回目の露光処理および２回目の露光処理によって、それぞれ３画素単位で光透過部を形成する構成が開示されている。
【特許文献１】特開平２−５０１３０号公報
【特許文献２】特開平６−３２４４７４号公報
【特許文献３】特開２００２−１０７７５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
特開平６−３２４４７４号公報（特許文献２）においては、１回目および２回目の各露光処理によって、１画素単位の各光透過部１１ｄおよび１１ｅがそれぞれ形成される。この場合、１回目および２回目の露光処理のいずれかまたは両方において露光ずれが生じると、継ぎ部領域１１ｃに形成される開口部が開口率設計値に対して変化するという問題がある。
【００１８】
例えば、図５に示すように、１回目の露光によってそれぞれが形成される光透過部１１ｄと、２回目の露光によってそれぞれ形成される光透過部１１ｅとが、行方向（ｘ方向）に隣接して形成される構成において、１回目の露光によって形成される光透過部１１ｄが、２回目の露光によって形成される光透過部１１ｅに対して行方向（ｘ方向）にずれた状態になっていると、２重露光領域１７を介して、光透過部１１ｄおよび１１ｅにより形成される開口部１９ａおよび１９ｂの開口率が変化する。同様に、１回目の露光によって形成される光透過部１１ｄのパターンと、２回目の露光によって形成される光透過部１１ｅのパターンとが、列方向（ｙ方向）にずれた場合にも、２重露光領域１７を介して、光透過部１１ｄおよび１１ｅにより形成される開口部１９ａおよび１９ｂの開口率が変化する。
【００１９】
例えば、図５（ａ）に示すように、アクティブマトリクス基板１１の継ぎ部領域１１ｃにおいて光透過部１１ｄが光透過部１１ｅに対して距離ｄｘだけずれると、開口部１９ａの面積Ｓ（ｘ１）は、ｄｘ×Ｍｙ１だけ広がり、開口部１９ａの面積の設計値Ｓａに対して、Ｓ（ｘ１）＝Ｓａ＋ｄｘ×Ｍｙ１となる。
【００２０】
さらに、開口部１９ｂの面積Ｓ（ｘ２）は、ｄｘ×Ｍｙ２だけ狭くなり、Ｓ（ｘ２）＝Ｓａ−ｄｘ×Ｍｙ２となる。
【００２１】
２重露光処理によって配線パターンを形成する場合には、２重露光領域１７にある配線パターンの一部が２重露光されることによって、設計幅よりも小さな設計幅になることがあり、これによっても、開口部の面積が変化する。この場合の開口部の面積の変化（増加）をΔＳａとし、さらには、継ぎ部領域１１ｃにおける開口部１９ａおよび１９ｂの密度をそれぞれＧａ、Ｇｂ（％）とすると、ｘ方向のずれのみを考えた場合における継ぎ部領域１１ｃ内の開口率Ｍｘは、Ｍｘ＝Ｓ（ｘ１）×（Ｇａ／１００）＋Ｓ（ｘ２）×（Ｇｂ／１００）＋Ｓａ×（（１００−Ｇａ−Ｇｂ）／１００）＋ΔＳａとなる。
【００２２】
同様に、図５（ｂ）に示すように、アクティブマトリクス基板１１の継ぎ部領域１１ｃにおいて形成される光透過部１１ｄが光透過部１１ｅに対して距離ｄｙだけｙ方向にずれると、開口部１９ａの面積Ｓ（ｙ１）は、ｄｙ×Ｍｘ１だけ広がり、開口部１９ａの面積の設計値Ｓａに対して、Ｓ（ｙ１）＝Ｓａ＋ｄｙ×Ｍｘ１となる。
【００２３】
さらに、開口部１９ｂの面積Ｓ（ｙ２）は、ｄｙ×Ｍｘ２だけ狭くなり、Ｓ（ｙ２）＝Ｓａ−ｄｙ×Ｍｘ２となる。その結果、ｙ方向のずれのみを考えた場合における継ぎ部領域１１ｃ内の開口率Ｍｙは、Ｍｙ＝Ｓ（ｙ１）×（Ｇａ／１００）＋Ｓ（ｙ２）×（Ｇｂ／１００）＋Ｓａ×（（１００−Ｇａ−Ｇｂ）／１００）＋ΔＳａとなる。
【００２４】
このような継ぎ部領域１１ｃ内の開口率Ｍｘ、Ｍｙが、各分割領域１１ａおよび１１ｂとの開口率と大きく相違すると、両者の開口率差によって、継ぎ部領域１１ｃが目視されて、表示品位が低下するおそれがある。
【００２５】
特に、高精細化によって開口率が低下した液晶表示パネルでは、このような継ぎ部領域が目視されるおそれが大きくなる。
【００２６】
また、特開２００２−１０７７５８号公報（特許文献３）に開示されているように、カラー液晶表示パネルにおけるアクティブマトリクス基板を分割露光処理する際に２重露光処理される継ぎ部領域の各露光処理によって、３画素単位で光透過部をそれぞれ形成する場合には、カラーフィルタにおける色フィルタ層との関係で、継ぎ部領域が目視されるおそれがある。
【００２７】
このことについて、さらに説明する。２重露光処理の各露光処理によって、３画素に対応する３つの光透過部を１単位として形成すると、前述したように、１回目の露光処理によって形成された１単位の３つの光透過部と、２回目の露光処理によって形成された１単位の３つの光透過部とが露光ずれによって位置ずれすることになる。この場合には、１単位である３つの光透過部の中央の画素部は、両側の２つの光透過部に対して位置ずれするおそれがない。これに対して、両側の２つの光透過部が、異なる露光処理によって形成された３つの光透過部の両側のいずれか一方の光透過部に対して位置ずれした状態になる。
【００２８】
カラーフィルタにおける色フィルタ層は、通常、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つの色フィルタ層を１組として行方向に並んで配置されており、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つの色フィルタ層に対して３つの光透過部がそれぞれ対応している。その結果、１単位の３つの光透過部において、位置ずれを起こす光透過部は、ＲおよびＢのいずれかに対応した両側の光透過部になり、Ｇに対応した中央部の光透過部は、両側の光透過部に対して位置ずれを起こさない。このことから、２重露光処理に際しての露光ずれによって、ＲまたはＢに対応した画素が強調されることになり、これによって、継ぎ部が目視されるおそれがある。
【００２９】
本発明は、このような問題を解決するものであり、その目的は、アクティブマトリクス基板において２重露光処理される継ぎ部領域が目視されるおそれがなく、特に高精細化された液晶表示パネルの表示品位を著しく向上させることができるアクティブマトリクス基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００３０】
本発明のアクティブマトリクス基板の製造方法は、基板上に、複数の画素がマトリクス状に配置されたアクティブマトリクス基板の製造方法であって、前記基板上に形成される各画素に対応したパターンを、前記基板を分割した複数の分割領域の露光処理によって形成するとともに、前記各分割領域の間に設けられる継ぎ部領域の各画素に対応したパターンを、各分割領域に対するそれぞれの露光処理によって形成される２重露光領域を介して、相互に重ならないように単一露光領域を離散的に形成するとともに、前記各露光処理において、列方向に隣接する複数の画素を１単位として各画素に対応したパターンをそれぞれ形成することを特徴とする。
【００３１】
また、本発明のアクティブマトリクス基板の製造方法は、基板上に、複数の画素がマトリクス状に配置されたアクティブマトリクス基板の製造方法であって、前記基板上に形成される各画素に対応したパターンを、前記基板を分割した複数の分割領域の露光処理によって形成するとともに、前記各分割領域の間に設けられる継ぎ部領域の各画素に対応したパターンを、各分割領域に対するそれぞれの露光処理によって形成される２重露光領域を介して、相互に重ならないように単一露光領域を離散的に形成するとともに、前記各露光処理において、行方向および列方向において、それぞれ相互に隣接する複数の画素を１単位として各画素に対応したパターンをそれぞれ形成することを特徴とする。
【００３２】
また、本発明のアクティブマトリクス基板の製造方法は、基板上に複数の画素がマトリクス状に配置されており、カラーフィルタが設けられた対向基板との間に液晶層が設けられることによって液晶表示パネルを構成するアクティブマトリクス基板の製造方法であって、前記基板上に形成される各画素に対応したパターンを、前記基板を分割した複数の分割領域の露光処理によって形成するとともに、前記各分割領域の間に設けられる継ぎ部領域の各画素に対応したパターンを、各分割領域に対するそれぞれの露光処理によって形成される２重露光領域を介して、相互に重ならないように単一の露光処理を離散的に形成するとともに、前記各露光処理において、行方向に隣接するｎ個（但し、ｎは３の倍数以外の整数）の画素を１単位として各画素パターンをそれぞれ形成することを特徴とする。
【００３３】
本発明の液晶表示パネルは、前記いずれかの製造方法によって製造されたアクティブマトリクス基板を有する。
【発明の効果】
【００３４】
本発明のアクティブマトリクス基板の製造方法では、分割露光に際して２重露光処理される継ぎ部領域にて形成される画素の開口率が変化することが抑制されるために、このようなアクティブマトリクス基板を使用した液晶表示パネルでは、継ぎ部領域が目視されるおそれがなく、表示品位が著しく向上する。特に、カラー液晶表示パネルにおいては、継ぎ部領域の画素の開口率の変化が、カラーフィルタのフィルタ層によって強調されるおそれがなく、表示品位が著しく向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の最良の形態を図面に基づいて説明する。本発明は、図６に示すように、液晶表示パネルのアクティブマトリクス基板１０を製造する方法に関する。図６に示すアクティブマトリクス基板は、図１および図２に示すアクティブマトリクス基板と同様の構成になっており、詳細な説明は省略する。本発明では、このようなアクティブマトリクス基板１０の製造に際して分割露光を実施するようになっており、分割露光に際して２重露光処理が行われる継ぎ部領域１１ｃを、１回目の露光処理によって行方向および列方向において相互に隣接する各２つずつ合計４つの光透過部（画素部）１１ｄを１単位として形成し、２回目の露光処理によっても、行方向および列方向において相互に隣接する各２つずつ合計４つの光透過部（画素部）１１ｅを１単位として形成するようになっている。
【００３６】
従って、１回目の露光処理によって光透過部１１ｄを形成する場合には、２回目の露光処理によって形成される光透過部１１ｅが、４画素単位の遮光部１１ｆによって遮光される
このように、２重露光処理におけるそれぞれの露光処理を４画素単位で行うことによって、同時に形成される４つの光透過部（画素部）１１ｄ、および１１ｅは、相互に位置ズレするおそれがない。１画素単位で各光透過部１１ｄおよび１１ｅを形成する場合には、１回目の露光処理によって形成される各光透過部１１ｄと、２回目の露光処理によって形成される各光透過部１１ｅとが、行方向または列方向にずれることによって、光透過部１１ｄと１１ｅからなる開口部１９ａおよび１９ｂは全て、開口部面積が変化することになるが、４画素単位で各光透過部１１ｄおよび１１ｅを形成する場合には、行方向または列方向に露光ずれが生じても、４画素単位内の行方向および列方向に相互に隣接する各一対の光透過部１１ｄ、１１ｅ同士は位置ズレするおそれがなく、従って、開口部面積が変化する１９ａおよび１９ｂの個数は、それぞれ１／２程度に低減されることになる。
【００３７】
その結果、継ぎ部領域１１ｃと、各分割領域１１ａおよび１１ｂとにおける開口率差を低減することができ、継ぎ部領域１１ｃが目視されることを確実に防止することができる。
【００３８】
このように、行方向および列方向に２画素ずつ合計４画素を１単位として、２重露光処理の各露光処理をそれぞれ実施する方法を、画素ピッチが４０μｍ程度で画素内の光透過部領域の割合が３２％の高精細な液晶表示パネルのアクティブマトリクス基板に採用した場合、２重露光処理における露光ズレが０．７μｍの場合に、継ぎ部領域１１ｃと、各分割領域１１ａおよび１１ｂとにおける開口率差は０．５％以下になり、継ぎ部領域１１ｃは、全く目視することができなかった。なお、同じ条件で、１画素単位で２重露光処理の各露光処理をそれぞれ実施した場合には、継ぎ部領域１１ｃと、各分割領域１１ａおよび１１ｂとにおける開口率差は１〜２％程度になり目視された。
【００３９】
本発明では、このように、行方向および列方向に２画素ずつ合計４画素を１単位として、２重露光処理の各露光処理をそれぞれ実施する構成に限らず、例えば、行方向または列方向の一方向にて相互に隣接する一対の光透過部を１単位として、２重露光処理の各露光処理をそれぞれ実施するようにしてもよい。
【００４０】
特に、カラー液晶表示パネルのアクティブマトリクス基板を製造する場合には、行方向に相互に隣接する２画素を１単位として２重露光処理の各露光処理をそれぞれ実施することが好ましい。この場合、１単位となる２画素それぞれの各光透過部は、カラーフィルタにおいて行方向に順番に並んだＲ、Ｇ、Ｂの色フィルタ層の同じ色の色フィルタ層に対応するおそれがない。その結果、２重露光処理の露光ズレによって、各露光処理によって形成される光透過部同士が位置ズレを起こしても、カラーフィルタによって位置ズレを起こした画素部が強調されるおそれがなく、継ぎ部１１ｃが目視されるおそれがない。
【００４１】
なお、カラー液晶表示パネルのアクティブマトリクス基板の製造に際しては、このように、行方向に相互に隣接する２画素を１単位として２重露光処理の各露光処理をそれぞれ実施する構成に限らず、３の倍数の個数の画素を１単位としなければ、行方向に相互に隣接する４画素部以上を１単位として２重露光処理の各露光処理をそれぞれ実施する構成とすればよい。
【００４２】
さらには、本発明では、開口部（画素）１９のような構成に限らず、図７に示すように、各画素の一部に反射機能をもたせた反射領域を有する構成であってもよい。図７に示す画素では、画素電極１５が、光を反射する金属によって形成されており、その画素電極１５の一部に光透過部１５ａが形成されている。この場合、画素内の占める開口率は、若干低下する。
【００４３】
以上のように、本発明の好ましい実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明は、、液晶表示パネルに使用されるアクティブマトリクス基板の製造方法において、製造される継ぎ部領域が目視されるおそれがなく、高精細化された液晶表示パネルの表示品位を著しく向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】液晶表示パネルに使用されるアクティブマトリクス基板の概略平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線における断面図である。
【図３】アクティブマトリクス基板の開口部を説明するための概略平面図である。
【図４】分割露光処理における継ぎ部領域を説明するための概略平面図である。
【図５ａ】分割露光処理における継ぎ部領域での開口部の変化を説明するための概略平面図である。
【図５ｂ】分割露光処理における継ぎ部領域での開口部の変化を説明するための概略平面図である。
【図６】本発明方法を説明するためのアクティブマトリクス基板の概略平面図である。
【図７】本発明が適用される他のアクティブマトリクス基板における画素の概略平面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０  アクティブマトリクス基板
１１  ガラス基板
１１ａ  分割領域
１１ｂ  分割領域
１１ｃ  継ぎ部領域
１１ｄ  光透過部
１１ｅ  光透過部
１１ｆ  遮光部
１２  ゲート配線
１３  ソース配線
１４  ＴＦＴ
１５  画素電極
１６  層間絶縁膜
１７  ２重露光領域
１９  画素部
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図７】
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【図１】
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【図６】
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