(57)【要約】【課題】  低コストで基板上の樹脂に傾斜面傾斜面等をより自由に形成可能な電気光学装置の製造方法及び該電気光学装置の製造方法で用いられる電気光学装置の製造装置を提供すること。【解決手段】  マルチギャップ層２４形成用の感光性樹脂を露光する工程（ＳＴ１０５）等では、光の透過率が段階的に回転方向Ａに変化する遮光領域３ａ〜３ｍを有するフィルター３を介し、第１基板９の方向Ｂの移動に同期して、フィルター３の遮光領域３ａ〜３ｍを透過する光量が段階的に変わるようにフィルター３を回転方向Ａに回転させるので、例えば段階的に異なる光量で感光性樹脂の異なる場所を露光することができ、現像後例えば傾斜面２８等のパターンを形成可能となる。従って、第１基板９上の感光性樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学物質を保持する基板を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記基板に塗布された感光性の樹脂を、フィルターを介して光量を連続的又は段階的に変化させることで、時間経過に伴い連続的又は段階的に光量を変えて露光する工程と、
前記露光に同期して、光源から射出され前記フィルターを透過して前記樹脂に照射される光に対して前記基板を移動させる工程と、
前記露光された樹脂を現像する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記露光する工程では、光の透過率が一方向に沿って連続的又は段階的に変化する遮光領域を有するフィルターを介し、前記基板の移動に同期して、前記フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるように前記一方向に沿うように前記フィルターを移動させることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記露光する工程では、光の透過率が連続的又は段階的に回転方向に変化する遮光領域を有するフィルターを介し、前記基板の移動に同期して、前記フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるように前記フィルターを前記回転方向に回転させることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記露光する工程では、前記基板の移動に同期して、前記露光の時間に対応して前記光源から射出される光量を変化させることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記露光する工程では、前記露光の時間に対応して前記フィルターの前記一方向への移動速度を変化させることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記露光する工程では、前記露光の時間に対応して前記フィルターの回転速度を変化させることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記露光工程は、前記フィルターにより光量が変えられた光をマスクを介して前記樹脂に選択的に照射させることを特徴する請求項１から請求項６のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
電気光学物質を保持する基板を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記基板に塗布された感光性の樹脂を露光する工程と、
光源から射出され前記感光性の樹脂に照射される光に対して、前記露光の時間に対応して前記基板の移動速度を変化させて前記基板を移動させる工程と、
前記露光された樹脂を現像する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
基板を固定する固定部と、
前記基板に塗布された感光性の樹脂を露光するための光源と、
前記光源から射出され前記樹脂に照射される光の光路中に設けられ、光の透過率が連続的又は段階的に変化する遮光領域を有するフィルターと、
前記フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるように前記フィルターを移動させる機構と、
前記フィルターの移動に同期して、前記樹脂に照射される光に対して前記固定部を移動させる機構と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項１０】
前記フィルターは、光の透過率が連続的又は段階的に一方向に沿って変化する遮光領域を有し、
前記フィルターを移動させる機構は、該フィルターを前記一方向に沿うように移動させるものであることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１１】
前記フィルターは、光の透過率が連続的又は段階的に回転方向に変化する遮光領域を有し、
前記フィルターを移動させる機構は、該フィルターを前記回転方向に回転させるものであることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１２】
前記露光の時間に対応して前記フィルターの前記一方向への移動速度を変化させる第１の制御部を更に具備することを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１３】
前記露光の時間に対応して前記フィルターの回転速度を変化させる第２の制御部を更に具備することを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１４】
前記固定部の移動に同期して、前記露光の時間に対応して前記光源から射出される光量を変化させる第１の制御部を更に具備することを特徴とする請求項９から請求項１３に記載の電気光学装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーソナルコンピュータや携帯電話機器等に用いられる電気光学装置の製造方法及び該電気光学装置の製造方法で用いられる電気光学装置の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば感光性樹脂等を用いて基板上にパターンを形成する方法としては、ネガ型等の感光性樹脂を基板上に塗布、乾燥し、透光部と遮光部とを有するフォトマスクを介して紫外線を照射し、現像することで基板上にパターンを形成していた。しかし、この方法では、パターンの側面が例えば基板の表面に対して略垂直となっているため、パターンの側面と表面とで形成された角で、このパターン上に設けられた配線が破断してしまう、という問題があった。
【０００３】
この問題を解決するために、例えば、フォトマスクの透光部と遮光部との境界に露光量を変化させることができる境界部を有するフォトマスクを用い例えば傾斜する面を形成する方法が開示されている。（例えば、特許文献１参照。）  
【特許文献１】特開２００３−２３４２８３号公報（段落[００１０]、[００１１]）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した技術では、フォトマスクを用いるのでコスト高となると共に、フォトマスクの透光部の形状に合わせたパターンしか形成することができない、すなわち、フォトマスクに汎用性がないので、異なるパターンを形成するときに異なるフォトマスクが必要となる、という問題がある。
【０００５】
また、フォトマスクや複雑なパターンを形成するために多くの工程を必要とするなどの理由からパターン形成の自由度が狭くなる、という問題もある。
【０００６】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされるもので、低コストで基板上の樹脂に傾斜面等をより自由に形成可能な電気光学装置の製造方法及び該電気光学装置の製造方法で用いられる電気光学装置の製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学物質を保持する基板を有する電気光学装置の製造方法であって、前記基板に塗布された感光性の樹脂を、フィルターを介して光量を連続的又は段階的に変化させることで、時間経過に伴い連続的又は段階的に光量を変えて露光する工程と、前記露光に同期して、光源から射出され前記フィルターを透過して前記樹脂に照射される光に対して前記基板を移動させる工程と、前記露光された樹脂を現像する工程とを具備することを特徴とする。
【０００８】
本発明では、基板に塗布された感光性の樹脂を、フィルターを介して光量を連続的又は段階的に変化させることで、時間経過に伴い連続的又は段階的に光量を変えて露光する工程と、露光に同期して、光源から射出されフィルターを透過して樹脂に照射される光に対して基板を移動させる工程とを備えているので、連続的又は段階的に光量を変えて基板上の樹脂の異なる場所を露光することができ、現像後例えば傾斜面等のパターンを形成可能となる。従って、基板上の樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。また、より複雑な樹脂構造を極めて簡単に形成することができる。
【０００９】
本発明の一の形態によれば、前記露光する工程では、光の透過率が一方向に沿って連続的又は段階的に変化する遮光領域を有するフィルターを介し、前記基板の移動に同期して、前記フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるように前記一方向に沿うように前記フィルターを移動させることを特徴とする。これにより、露光する工程では、光の透過率が一方向に沿って連続的又は段階的に変化する遮光領域を有するフィルターを介し、基板の移動に同期して、フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるように一方向に沿うようにフィルターを移動させるので、例えば透過率が連続的又は段階的に一方向に変化するだけの単純な構造のフィルターにより連続的又は段階的に異なる光量で基板上の樹脂の異なる場所を露光することができ、現像後例えば傾斜面等のパターンを形成可能となる。なお、遮光領域を透過する光量を連続的又は段階的に変化させることができれば、フィルターを例えば直線的、ジグザグ、曲線的に移動させてもよい。
【００１０】
本発明の一の形態によれば、前記露光する工程では、光の透過率が連続的又は段階的に回転方向に変化する遮光領域を有するフィルターを介し、前記基板の移動に同期して、前記フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるように前記フィルターを前記回転方向に回転させることを特徴とする。これにより、露光する工程では、光の透過率が連続的又は段階的に回転方向に変化する遮光領域を有するフィルターを介し、基板の移動に同期して、フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるようにフィルターを回転方向に回転させるので、例えば連続的又は段階的に異なる光量で基板上の樹脂の異なる場所を露光することができ、現像後例えば傾斜面等のパターンを形成可能となると共に、例えばフィルターを移動させる場合に比べて、フィルターの移動スペースが不要なので、小型の電気光学装置の製造装置を用いて電気光学装置を製造することができる。また、フィルターを複数回転させることで、周期的なパターンを容易に形成することができる。
【００１１】
本発明の一の形態によれば、前記露光する工程では、前記基板の移動に同期して、前記露光の時間に対応して前記光源から射出される光量を変化させることを特徴とする。ここで、露光の時間とは、例えば露光開始時刻からの経過時間をいう。これにより、露光する工程では、基板の移動に同期して、露光の時間に対応して光源から射出される光量を変化させるので、例えば、フィルターと併用することで、より細かいパターンを形成することができる。
【００１２】
本発明の一の形態によれば、前記露光する工程では、前記露光の時間に対応して前記フィルターの前記一方向への移動速度を変化させることを特徴とする。これにより、露光する工程では、露光の時間に対応してフィルターの一方向への移動速度を変化させるので、例えば移動速度を増加させることで樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を増加させたり、移動速度を減少させることで樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を減少させたりして、より細かいパターンを形成することができる。
【００１３】
本発明の一の形態によれば、前記露光する工程では、前記露光の時間に対応して前記フィルターの回転速度を変化させることを特徴とする。これにより、露光する工程では、露光の時間に対応してフィルターの回転速度を変化させるので、例えば回転速度を増加させることで樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を増加させたり、回転速度を減少させることで樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を減少させたりして所望のパターンを形成することができると共に、フィルターを複数回転させることで、より細かい周期的なパターンを容易に形成することができる。
【００１４】
本発明の一の形態によれば、前記露光工程は、前記フィルターにより光量が変えられた光をマスクを介して前記樹脂に選択的に照射させることを特徴する。これにより、露光工程は、フィルターにより光量が変えられた光をマスクを介して樹脂に選択的に照射させるので、マスクとフィルターとの用いてより複雑なパターンを形成することが可能となる。
【００１５】
本発明の他の観点にかかる電気光学装置の製造方法は、電気光学物質を保持する基板を有する電気光学装置の製造方法であって、前記基板に塗布された感光性の樹脂を露光する工程と、光源から射出され前記感光性の樹脂に照射される光に対して、前記露光の時間に対応して前記基板の移動速度を変化させて前記基板を移動させる工程と、前記露光された樹脂を現像する工程とを具備することを特徴とする。
【００１６】
ここで、露光の時間とは、例えば露光開始時刻からの経過時間をいう。
【００１７】
本発明では、基板に塗布された感光性の樹脂を露光する工程と、光源から射出され感光性の樹脂に照射される光に対して、露光の時間に対応して基板の移動速度を変化させて基板を移動させる工程と、露光された樹脂を現像する工程とを備えているので、例えばフィルターを用いることなく基板の移動速度を徐々に早くして基板上の樹脂の単位面積当たりの露光量を変化させて、現像後例えば傾斜面等のパターンを形成可能となる。従って、基板上の樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。また、より複雑な樹脂構造を極めて簡単に形成することができる。
【００１８】
本発明の他の観点にかかる電気光学装置の製造装置は、基板を固定する固定部と、前記基板に塗布された感光性の樹脂を露光するための光源と、前記光源から射出され前記樹脂に照射される光の光路中に設けられ、光の透過率が連続的又は段階的に変化する遮光領域を有するフィルターと、前記フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるように前記フィルターを移動させる機構と、前記フィルターの移動に同期して、前記樹脂に照射される光に対して前記固定部を移動させる機構とを具備することを特徴とする。
【００１９】
ここで、移動とは、例えば平行移動や回転移動のことをいう。
【００２０】
本発明では、光源から射出され感光性の樹脂に照射される光の光路中に設けられ、光の透過率が連続的又は段階的に変化する遮光領域を有するフィルターと、フィルターを透過する光量が連続的又は段階的に変わるようにフィルターを移動させる機構とを備えているので、移動させる機構によりフィルターを移動させて感光性の樹脂の光量を連続的又は段階的に変化させることができると共に、フィルターの移動に同期して、感光性の樹脂に照射される光に対して固定部を移動させる機構を備えているので、連続的又は段階的に変化する光を感光性の樹脂の異なる場所に露光して現像後に例えば傾斜面等のパターンを形成することができる。従って、基板上の感光性の樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。また、より複雑な樹脂構造を極めて簡単に形成することができる。
【００２１】
本発明の一の形態によれば、前記フィルターは、光の透過率が連続的又は段階的に一方向に沿って変化する遮光領域を有し、前記フィルターを移動させる機構は、該フィルターを前記一方向に沿うように移動させるものであることを特徴とする。これにより、フィルターは、光の透過率が連続的又は段階的に一方向に沿って変化する遮光領域を有し、フィルターを移動させる機構は、該フィルターを一方向に沿うように移動させるものであるので、連続的又は段階的に変化する光を感光性の樹脂の異なる場所に露光して現像後に例えば傾斜面等のパターンを形成することができる。従って、基板上の樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。また、より複雑な樹脂構造を極めて簡単に形成することができる。
【００２２】
本発明の一の形態によれば、前記フィルターは、光の透過率が連続的又は段階的に回転方向に変化する遮光領域を有し、前記フィルターを移動させる機構は、該フィルターを前記回転方向に回転させるものであることを特徴とする。ここで、フィルターの形状については、例えば円形状であってもよいし、多角形状であってもよい。これにより、フィルターは、光の透過率が連続的又は段階的に回転方向に変化する遮光領域を有し、フィルターを移動させる機構は、該フィルターを回転方向に回転させるので、回転させる機構によりフィルターを回転させて感光性の樹脂の光量を連続的又は段階的に変化させることができると共に、フィルターの回転に同期して、感光性の樹脂に照射される光に対して固定部を移動させる機構を備えているので、連続的又は段階的に変化する光を感光性の樹脂の異なる場所に露光して例えば傾斜面等のパターンを形成することができる。従って、基板上の樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。また、例えばフィルターを照射される光に対して移動させる場合に比べて、フィルターを移動させずに回転させればよいので、フィルターの移動スペースが不要となり電気光学装置の製造装置の小型化を図ることができる。また、より複雑な樹脂構造を極めて簡単に形成することができる。
【００２３】
本発明の一の形態によれば、前記露光の時間に対応して前記フィルターの前記一方向への移動速度を変化させる第１の制御部を更に具備することを特徴とする。これにより、露光の時間に対応してフィルターの一方向への移動速度を変化させる第１の制御部を備えているので、例えば、フィルターと併用することで、光源の射出する光量を露光時間に対応して変化させることなくより細かいパターンを形成することができる。
【００２４】
本発明の一の形態によれば、前記露光の時間に対応して前記フィルターの回転速度を変化させる第２の制御部を更に具備することを特徴とする。これにより、露光の時間に対応してフィルターの回転速度を変化させる第２の制御部を備えているので、例えば回転速度を増加させることで樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を増加させたり、回転速度を減少させることで樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を減少させたりして所望のパターンを形成することができると共に、フィルターを複数回転させることで、より複雑な周期的なパターンを容易に形成することができる。
【００２５】
本発明の一の形態によれば、前記固定部の移動に同期して、前記露光の時間に対応して前記光源から射出される光量を変化させる第１の制御部を更に具備することを特徴とする。ここで、露光の時間とは、例えば露光開始時刻からの経過時間をいう。これにより、固定部の移動に同期して、露光の時間に対応して光源から射出される光量を変化させる第１の制御部を備えているので、例えば、フィルターと併用することで、より細かいパターンを形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。なお、以下実施形態を説明するにあたっては、電気光学装置の例として反射半透過型でニ端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（薄膜ダイオード）を用いたアクティブマトリックス方式の液晶装置及びその液晶装置を用いた電子機器について説明するがこれに限られるものではない。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００２７】
（第１の実施形態）  
【００２８】
（液晶装置の製造装置の構成）
【００２９】
図１は本発明に係る第１の実施形態の液晶装置の製造装置の概略ブロック図、図２は図１の液晶装置のフィルターの平面図、図３は図１の液晶装置のマスクの平面図である。
【００３０】
本実施形態の液晶装置の製造装置１（以下、製造装置１と略称する。）は、図１に示すように、光を射出するための光源２と、光源２から射出され後述する第１基板９に塗布された感光性樹脂に照射される光の光路中に設けられた円形状のフィルター３と、フィルター３を回転方向Ａに回転させる回転駆動機構４と、フィルター３を通過した光を第１基板９の方向に反射させるミラー５と、ミラー５からの反射光を選択的に透過させるためのマスク６と、第１基板９を固定するための固定部７と、露光に同期して、光源２から射出され感光性樹脂に照射される光に対して固定部７を移動させる移動機構８とを備えている。なお、製造装置１には、図示を省略したリレーレンズ、コンデンサレンズ、投影レンズ等が設けられている。
【００３１】
光源２は、例えば水銀ランプ等が用いられており、例えば第１基板９に塗布された感光性樹脂に光を照射するために用いられている。
【００３２】
フィルター３は、図１及び図２に示すように、光の透過率が段階的に回転方向Ａに変化するように構成されている。例えば、フィルター３は、フィルター３の中心点Ｐの周りに１０等分割された遮光領域３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈ、３ｋ及び３ｍを備えている。遮光領域３ａ〜３ｍの透過率は、それぞれ１００％、９０％、８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％及び１０％とされている。ここで、透過率とは、フィルター３に入射した光量に対するフィルター３を透過する光量の百分率である。なお、本実施形態では、フィルター３の分割数を１０、透過率の刻み幅を１０％とする例を示したが、分割数をより多くし透過率の刻み幅をより小さくすることで、後述するように、より細かく透過率を調整することができるようにしてもよい。フィルター３は、例えば光源２とミラー５との間の光路中に、光路に対して略垂直となるように設けられている。
【００３３】
回転駆動機構４は、フィルター３を中心点Ｐの周りに回転させるための例えばモータ等の駆動部と、例えば駆動部のモータの回転速度を制御する（変化させる）ための図示を省略した制御部とを備えている。例えばモータの回転によりフィルター３が回転し、遮光領域３ａ〜３ｍを通過する光量が段階的に変わるように構成されている。回転駆動機構４の制御部は、回転駆動機構４のモータと、後述する移動機構８のモータとを同期して制御する（変化させる）ことができるように構成されている。
【００３４】
ミラー５は、例えばガラス製等の平板形状であり、フィルター３を通過した光源２からの光を第１基板９の側に反射することができるように設けられている。
【００３５】
マスク６は、図１及び図３に示すように、光源２から射出されフィルター３を通過しミラー５で反射された光を透過可能な透光部６ａと、遮断可能な遮光部６ｂとを備えている。透光部６ａは、選択的に光を透過させることができ、例えば図３に示すように矩形状のスリットである。なお、透光部６ａの形状等については、これに限定されず、例えば、透光部６ａのＸ方向の幅ａをより小さくすることで、より細かいパターンに対応することができるようにしてもよい。
【００３６】
固定部７は、例えば第１基板９を載置し固定可能な平板形状を有しており、マスク６と略平行に設けられている。すなわち、後述する移動機構８により固定部７が方向Ｂに移動するときに、マスク６から固定部７のＺ方向の距離が変わらないように設けられている。
【００３７】
移動機構８は、例えば固定部７を例えばマスク６に略平行な方向Ｂに移動させるためのモータを備えている。このモータは正逆方向に回転可能とされている。このモータを例えば正逆回転することで、固定部７を方向Ｂに往復動させることができるように構成されている。なお、この方向Ｂについては、直線的であってもよいし、また、ジグザグ、曲線的であってもよい。
【００３８】
（液晶装置の構成）
【００３９】
図４は液晶装置の製造装置１を用いて製造した液晶装置の部分拡大断面図である。
【００４０】
液晶装置１０は、例えば図４に示すように液晶パネル１１と、液晶パネル１１に光を射出する図示を省略した照明装置及び液晶パネル１１に接続された図示しない回路基板やその他の付帯機構が必要に応じて付設されている。
【００４１】
液晶パネル１１は、相対向する一対の基板であるカラーフィルタ基板１２及び対向基板１３と、カラーフィルタ基板１２及び対向基板１３がシール材（図示しない）を介して貼り合わされ両基板の間隙に封入された例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型の液晶である液晶１４とを備えている。
【００４２】
ここで、カラーフィルタ基板１２は、ガラス板又は合成樹脂板等から形成された透明な第１基板９を其体とし、対向基板１３はカラーフィルタ基板１２に対向し、ガラス板又は合成樹脂板等から形成された透明な第２基板１５を其体とする。また、第１基板９の液晶１４と反対側には位相差板１６及び偏光板１７が配置され、第２基板１５の液晶１４と反対側には同様に位相差板１８及び偏光板１９が配置されている。
【００４３】
カラーフィルタ基板１２は、図４に示すように第１基板９の液晶１４側の表面に下地層２０が形成され、その下地層２０の表面には後述する光の透過領域である開口部２７を有する反射膜２１及び光を遮蔽する光遮蔽層２２が形成されている。また、開口部２７を含めた反射膜２１の液晶側には着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂが光遮蔽層２２で区切られる領域に形成されている。この結果、開口部２７では着色層２３ＲＧ等が直接下地層２０の上に積層されることとなる。
【００４４】
また、カラーフィルタ基板１２は、着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂ及び光遮蔽層２２の表面を覆うマルチギャップ層２４が形成されており、更にマルチギャップ層２４の液晶側にはＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる走査電極２５が形成されている。また、その走査電極２５の液晶１４側には、例えばポリイミド樹脂等からなる配向膜２６が形成されている。
【００４５】
下地層２０は樹脂材料からなり、その表面には細かい凹凸が形成されている。これにより、透過光等を散乱することができ、表示された画面の像が見にくくなるという問題を解消できる。
【００４６】
更に反射膜２１は、例えばアルミニウムや銀等の単体金属膜であって、下地層２０の表面の凹凸により反射膜２１の表面にも細かい凹凸が反映される。これにより、反射膜２１によって反射された反射光も散乱させることができ、表示された画面への映り込み等により見難くなる等という問題を解消できる。
【００４７】
反射膜２１は、例えば図４に示すように一画素を構成する夫々の色のサブ画素の略中央に反射膜２１により下地層２０が覆われていない略矩形状の開口部２７が形成されており、この開口部２７の領域が透過領域Ｃとなる。ここで、サブ画素とは、走査電極２５と後述する画素電極３１とによって特定される領域である。また、図４に示すように開口部２７の周囲は反射膜２１により外部から入射した光を反射させる反射領域Ｄが形成されている。これにより、第１基板９から入射した後述するバックライト等の光が透過領域Ｃから液晶１４へ透過できると共に、反射領域Ｄにより外部光を反射させることができる。なお、開口部２７はこの例に限られるものではなく、例えば円孔或は複数更には略中央でなくてもよい。これにより、種々多様な液晶装置１０で、最も良い表示品位を提供できる。さらに、開口された形状でなくとも、単に反射膜が設けられていない領域であれば良い。
【００４８】
光遮蔽層２２は、各サブ画素間の境界領域の遮光を行なうためのもので、その境界領域に走査電極２５の長手方向（図４のＸ方向）及びこれに交差する方向（図４のＹ方向）に延在される帯状に形成されており、例えば図４に示すように異なる色の後述する着色層が三層積層して配置されている。
【００４９】
また、着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂは、例えば顔料又は染料等の着色材を含むポジ型の感光性樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法によって、透過領域Ｃ及びその透過領域の周りの反射領域Ｄを覆うように形成された原色フィルタである。
【００５０】
更に着色層２３は、例えば図４に示すように光を透過させる透過領域Ｃでの着色層表面が反射領域Ｄでの着色層表面より液晶１４側に突出し、透過領域Ｃでの厚さＥが反射領域Ｄでの厚さＦより厚く（Ｅ>Ｆ）なるように形成されており、透過領域Ｃでの光路長と反射領域Ｄでの光路長とを略同様にできる。
【００５１】
更にマルチギャップ層２４は、例えば図４に示すように反射領域Ｄでの厚さＧが透過領域Ｃでの厚さＨより厚く（Ｇ>Ｈ）、反射領域Ｄでのマルチギャップ層表面が透過領域Ｃでのマルチギャップ層表面より液晶側に突出するように形成されている。これにより、液晶１４は透過領域Ｃでの液晶１４の厚さが反射領域Ｄでの液晶１４の厚さより厚くなるというマルチギャップ構造により、液晶１４での透過領域Ｃと反射領域Ｄとの光路長差等を是正することができる。第１基板９の表面に対して傾斜する傾斜面２８が、透過領域Ｃでのマルチギャップ層２４の表面と、反射領域Ｄでのマルチギャップ層２４の表面との間に設けられている。傾斜面２８に沿うように走査電極２５が設けられているので、マルチギャップ層２４の角により走査電極２５が破断することを防止することができる。
【００５２】
また、走査電極２５は所定の方向（図４のＸ方向）に延在する帯状に形成され、複数の走査電極２５が相互に並列してストライプ状に構成されている。更に配向膜２６は、ポリイミド等の有機薄膜であり、液晶１４の配向状態を規定するためにラビング処理が施されている。
【００５３】
次に対向基板１３は、例えば図４に示すように第２基板１５の液晶側の表面に、マトリックス状に配列する複数の画素電極３１と、各画素電極３１の境界領域において上述した走査電極２５と交差する方向（図４のＹ方向）に帯状に延びる複数の図示を省略したデータ線と、画素電極３１及びデータ線に電気的に接続されたＴＦＤ３３とが配置され、その液晶側には配向膜３４が形成されている。ここで、画素電極３１は例えばＩＴＯ等の透明導電体により形成されている。
【００５４】
また、ＴＦＤ３３は例えば図４に示すように第２基板１５の表面に成膜された下地層３２の上に形成されている。更に配向膜３４は、第１基板９の配向膜２６と同様に有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。
【００５５】
（液晶装置の製造方法）
【００５６】
次に、液晶装置１０の製造方法についてマルチギャップ層２４の傾斜面２８の製造工程を中心に説明する。
【００５７】
図５は第１の実施形態の液晶装置１０の製造工程を示すフローチャート、図６はマルチギャップ層２４形成工程時の感光性樹脂の露光状態を示す断面図、図７はマルチギャップ層２４が形成された第１基板９の断面図である。
【００５８】
まず、図１に示すように第１基板９を製造装置１の固定部７に固定する（ＳＴ１０１）。
【００５９】
次に、第１基板９上に均一に樹脂材料をスピンコート等により塗布し、フォトレジスト等により凹凸を有する下地層２０を形成する（ＳＴ１０２）。
【００６０】
そして、下地層２０に蒸着法やスパッタリング法等によってアルミニウム等を薄膜状に成膜し、これにフォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることによって、例えば図４に示すように各サブ画素の略中央に透過領域Ｃである矩形状の開口部２７を設けると共に、その周囲に反射領域Ｄを有する反射膜２１を形成する（ＳＴ１０３）。
【００６１】
次に、透過領域Ｃと反射領域Ｄとで厚さの異なる着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂ及び光遮蔽層２２を形成する（ＳＴ１０４）。以下、ＳＴ１０４について詳述する。
【００６２】
まず、例えば反射膜２１等の上に緑色の感光性材料である感光性着色材が分散されたポジ型の感光性樹脂をスピンコート等により塗布する。次いで、塗布された感光性樹脂を、マスク６を介して露光する。すなわち、例えば光源２からの光を遮断したり透過したりするための図示しないシャッターを開くのに同期して、移動機構８のモータを駆動し、光源２から射出され感光性樹脂に照射される光に対して第１基板９を図１の方向Ｂに移動させる。このとき、第１基板９の移動に同期して、光源２の露光の時間等に応じてフィルター３の遮光領域３ａ〜３ｍを透過する光量が段階的に変わるように回転方向Ａにフィルター３を回転させる。ここで、露光の時間とは、露光開始時刻からの経過時間をいう。具体的には、着色層２３Ｇの透過領域Ｃでの厚さＥが反射領域Ｄでの厚さＦより厚くなるようにするために、フィルター３の透過率が時間の経過と共に、例えば９０％、２０％、９０％となるように、フィルター３を回転させる。続いて、露光された感光性樹脂を現像することにより、透過領域Ｃと反射領域Ｄとで厚さの異なる緑色の着色層２３Ｇを形成する。本実施形態では、ポジ型の感光性樹脂を用いるので、透過率が９０％の領域では、透過率が２０％の領域に比べて、現像後に薄くなる。赤の着色層２３Ｒ、青の着色層２３Ｂ、光遮蔽層２２も同様に形成する。
【００６３】
次に、図４に示すように透過領域Ｃと反射領域Ｄとで厚さの異なるマルチギャップ層２４を形成する（ＳＴ１０５）。以下、ＳＴ１０５について詳述する。
【００６４】
まず、着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂ及び光遮蔽層２２が形成されている上に、ポジ型の感光性樹脂をスピンコート法等により塗布する。続いて、塗布された感光性樹脂を、マスク６を介して露光する。この露光により、図６に示すように、感光性樹脂が露光された領域２４ａが形成される。すなわち、例えば光源２からの光を遮断したり透過したりするための図示しないシャッターを開くのに同期して、移動機構８のモータを駆動し、光源２から射出され感光性樹脂に照射される光に対して基板９を方向Ｂに移動させる。このとき、第１基板９の移動に同期して、フィルター３を透過する光量が段階的に変わるように回転方向Ａにフィルター３を回転させる。具体的には、傾斜面２８を形成するためには、図６に示すように、移動機構８のモータを駆動し第１基板９を方向Ｂに距離ｂだけ移動させる間に、フィルター３の透過率が例えば２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％に変化するようにフィルター３を回転方向Ａに回転させる。続いて、フィルター３の回転を止めて透過率を９０％としたままで距離ｃだけ第１基板９を方向Ｂに移動させ、更に続く距離ｄだけ第１基板９を方向Ｂに移動させる間に、フィルター３の透過率が例えば９０％、８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％に変化するようにフィルター３を回転方向Ａに回転させる。これにより、図６に示すように感光性樹脂が露光されるＺ方向の深さを変えることができる。続いて、露光された感光性樹脂を現像することにより、図７に示すように傾斜面２８を有するマルチギャップ層２４を形成する。本実施形態では、ポジ型の感光性樹脂を用いるので、透過率が２０％〜９０％に増加するのに伴い、感光性樹脂に照射される光量が多くなるので、現像後徐々に厚さが薄くなる。
【００６５】
次いで、ＳＴ１０５で形成されたマルチギャップ層２４の上に走査電極２５の材料であるＩＴＯ等をスパッタリング法により被着し、例えばフォトリソグラフィ法によってパターニングして図４に示すようにＸ方向に所定の幅をもって走査電極２５をストライプ状に形成する。更にその走査電極２５を形成した上に配向膜２６を形成し、ラビング処理を施して第１基板９側の製造が終了する（ＳＴ１０６）。
【００６６】
次に、第２基板１５上にＴＦＤ３３、データ線及び画素電極３１を形成する（ＳＴ１０７）。
【００６７】
そして、ＴＦＤ３３、データ線及び画素電極３１の上に配向膜３４を形成し、ラビング処理を施して第２基板１５側の製造が終了する（ＳＴ１０８）。
【００６８】
次に、第２基板１５側の配向膜３４上にギャップ材（図示せず）をドライ散布等により散布し、シール材を介してカラーフィルタ基板１２と対向基板１３とを貼り合わせる（ＳＴ１０９）。その後、シール材の開口部から液晶を注入し（ＳＴ１１０）、シール材の開口部を紫外線硬化性樹脂等の封止材によって封止する。更に位相差板１６、１８及び偏光板１７、１９を第１基板９及び第２基板１５の各外面上に貼着等の方法により取り付け、最後に必要な配線や照明装置及びケース体等を取り付けて、液晶装置１０を製造する（ＳＴ１１１）。
【００６９】
なお、本実施形態では、着色層２３Ｒ、２３Ｇ及び２３Ｂ、マルチギャップ層２４の形成にポジ型の感光性樹脂を用いたがこれに限られるものではなく、例えばネガ型の感光性樹脂を用いてもよい。例えば、傾斜面２８を形成するためには、図６に示すように、移動機構８のモータを駆動し第１基板９を方向Ｂに距離ｂだけ移動させる間に、フィルター３の透過率が例えば９０％、８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％に変化するようにフィルター３を回転方向Ａに回転させる。続いて、フィルター３の回転を止めて透過率を２０％としたままで距離ｃだけ第１基板９を方向Ｂに移動させ、更に続く距離ｄだけ第１基板９を方向Ｂに移動させる間に、フィルター３の透過率が例えば２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％に変化するようにフィルター３を回転方向Ａに回転させることで、同様に傾斜面２８等を形成することができる。
【００７０】
以上で液晶装置１０の製造方法の説明を終了する。
【００７１】
このように本実施形態によれば、マルチギャップ層２４形成用の感光性樹脂を露光する工程（ＳＴ１０５）等では、光の透過率が段階的に回転方向Ａに変化する遮光領域３ａ〜３ｍを有するフィルター３を介し、第１基板９の方向Ｂの移動に同期して、フィルター３の遮光領域３ａ〜３ｍを透過する光量が段階的に変わるようにフィルター３を回転方向Ａに回転させるので、例えば段階的に異なる光量で感光性樹脂の異なる場所を露光することができ、現像後例えば傾斜面２８等のパターンを形成可能となる。従って、第１基板９上の感光性樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。また、例えば後述するようにフィルター３を移動させる場合に比べて、フィルター３の移動スペースが不要なので、小型の製造装置１を用いて液晶装置１０を製造することができる。
【００７２】
また、製造装置１は、光源２からの光の光路中に設けられ、光の透過率が段階的に回転方向Ａに変化する円形状のフィルター３と、光が透過するフィルター３の遮光領域３ａ〜３ｍが回転方向Ａに変わるようにフィルター３を回転させる回転駆動機構４とを備えているので、回転駆動機構４によりフィルター３を回転方向Ａに回転させて例えばマルチギャップ層２４形成用の感光性樹脂の露光量を段階的に変化させることができることができると共に、フィルター３の回転に同期して、光源２から射出され感光性樹脂に照射される光に対して固定部７を方向Ｂに移動させる機構を備えているので、段階的に変化する光を感光性樹脂の異なる場所に露光して例えば現像後に傾斜面２８等を形成することができる。従って、感光性樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。また、例えばフィルター３を移動させずに回転させればよいので、フィルター３の移動スペースが不要となり液晶装置１０の製造装置１の小型化を図ることができる。
【００７３】
更に、マルチギャップ層２４用の感光性樹脂を露光する工程（ＳＴ１０５）等で、露光時間に対応してフィルター３の回転方向Ａへの回転速度を変化させるようにすることで、例えば回転速度を増加させることで感光性樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を増加させたり、回転速度を減少させることで感光性樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を減少させたりしてより細かい面を形成することができる。また、フィルター３を複数回転させると共に第１基板９を方向Ｂに移動させることで、周期的なパターンを容易に形成することができる。
【００７４】
また、マルチギャップ層２４形成用の感光性樹脂を露光する工程（ＳＴ１０５）は、フィルター３により光量が変えられた光をマスク６を介して感光性樹脂に選択的に照射させるので、マスク６とフィルター３との用いてより複雑なパターンを形成することが可能となる。
【００７５】
（第１の変形例）
【００７６】
本変形例の液晶装置１０の図示を省略した製造装置は、製造装置１に比べてフィルター３のみが異なっているので、フィルターについて説明する。なお、本変形例以降の実施形態及び変形例では、上記実施形態と同一の構成部材等には同一の符号を付してその説明を省略し、異なる箇所を中心に説明する。
【００７７】
図８は第１の変形例の液晶装置１０の製造装置のフィルターの平面図である。
【００７８】
本変形例の液晶装置１０の製造装置のフィルター３７は、フィルター３と同様に円形状であり、例えばフィルター３７の中心点Ｐの周りに時計回りに（図９の回転方向Ｍに沿って）透過率が連続的に変化するように構成されている。
【００７９】
このように本変形例によれば、フィルター３７の中心点Ｐの周りに時計回りに（図８の回転方向Ｍに沿って）透過率が連続的に変化しているので、例えば第１の実施形態のようにマルチギャップ層２４に傾斜面２８を形成するために露光するときに、第１基板９の方向Ｂへの移動に同期して、フィルター５０を中心点Ｐの周りに回転させることで、感光性樹脂の露光量を連続的に変化させて露光することができ、現像後段差等がないより滑らかな傾斜面を形成することができる。
【００８０】
（第２の実施形態）
【００８１】
本発明に係る第２の実施形態について説明する。
【００８２】
（液晶装置の製造装置の構成）
【００８３】
図９は本発明に係る液晶装置１０の製造装置の概略ブロック図である。
【００８４】
本実施形態の液晶装置１０の製造装置４０は、フィルター３を備える代りに矩形状のフィルター４１を備え、図１の回転駆動機構４の代りに移動機構４２を備えている。
【００８５】
フィルター４１は、例えば方向Ｋに１０等分割された遮光領域４１ａ、４１ｂ、４１ｃ、４１ｄ、４１ｅ、４１ｆ、４１ｇ、４１ｈ、４１ｋ及び４１ｍを備えている。遮光領域４１ａ〜４１ｍの透過率は、それぞれ８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％及び１０％とされている。なお、本実施形態では、フィルター４１の分割数を１０、透過率の刻み幅を１０％とする例を示したが、分割数をより多くし透過率の刻み幅をより小さくすることで、より細かく透過率を調整することができるようにしてもよい。フィルター４１は、例えば図９に示すように、遮光領域４１ａ〜４１ｍが順に上から下に設けられるように、光源２から射出されミラー５に到達する光の光路に垂直に設けられている。
【００８６】
移動機構４２は、フィルター４１を上下動させるための例えばモータ等の駆動部と、駆動部の回転速度を制御する（変化させる）ための図示を省略した制御部とを備えている。例えばモータの駆動によりフィルター４１を上下動させて、遮光領域４１ａ〜４１ｍを通過する光量が段階的に変わるように構成されている。制御部は、フィルター４１の移動速度を増減することができるように構成されている。
【００８７】
（液晶装置の製造方法）
【００８８】
次に、液晶装置１０の製造装置４０を用いた液晶装置１０の製造方法について、マルチギャップ層２４の形成工程（ＳＴ１０５）を中心に説明する。
【００８９】
まず、図４に示すように着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂ及び光遮蔽層２２が形成されている上に、ポジ型の感光性樹脂をスピンコート法等により塗布する。続いて、塗布された感光性樹脂を、マスク６を介して露光する。すなわち、例えば光源２の点灯に同期して、移動機構８のモータを駆動可能とし、光源２から射出され感光性樹脂に照射された光に対して第１基板９を方向Ｂに移動させる。このとき、第１基板９の移動に同期して、遮光領域４１ａ〜４１ｍを透過する光量が段階的に変わるようにフィルター４１を方向Ｋに移動させる。具体的には、傾斜面２８を形成するためには、図６に示すように、移動機構８のモータを駆動し第１基板９を方向Ｂに距離ｂだけ移動させる間に、フィルター４１の透過率が例えば１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％に変化するようにフィルター４１を方向Ｋに移動させる。続いて、フィルター４１の移動を止めて透過率を８０％としたままで距離ｃだけ第１基板９を方向Ｂに移動させ、更に続く距離ｄだけ第１基板９を方向Ｂに移動させる間に、フィルター４１の透過率が例えば８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％、１０％に変化するようにフィルター４１を方向Ｋに移動させる。これにより、図６に示すように感光性樹脂が露光されるＺ方向の深さを変えることができる。続いて、露光された感光性樹脂を現像することにより、図７に示すように傾斜面２８を有するマルチギャップ層２４を形成する。
【００９０】
このように本実施形態によれば、マルチギャップ層２４形成用の感光性樹脂を露光する工程（ＳＴ１０５等）では、透過率が段階的に方向Ｋに変化する遮光領域４１ａ〜４１ｍを有するフィルター４１を介し、第１基板９の方向Ｂへの移動に同期して、遮光領域４１ａ〜４１ｍを透過する光量が段階的に変わるようにフィルター４１を方向Ｋに移動させるので、例えば段階的に異なる露光量で感光性樹脂の異なる場所を露光することができ、現像後傾斜面２８等のパターンを形成可能となる。従って、感光性樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。
【００９１】
また、製造装置４０は、光源２から射出され感光性樹脂に照射される光の光路中に設けられ、透過率が段階的に方向Ｋに変化する遮光領域４１ａ〜４１ｍを有するフィルター４１と、遮光領域４１ａ〜４１ｍを透過する光量が段階的に変わるようにフィルター４１を方向Ｋに移動させる移動機構４２とを備えているので、移動機構４２によりフィルター４１を方向Ｋに移動させて感光性樹脂の露光量を段階的に変化させることができると共に、フィルター４１の移動に同期して、光源２から射出され感光性樹脂に照射された光に対して固定部７を方向Ｂに移動させる移動機構８を備えているので、段階的に変化する光を感光性樹脂の異なる場所に露光して現像後に所望のパターンを形成することができる。従って、第１基板９上の感光性樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。
【００９２】
更に、マルチギャップ層２４形成用の感光性樹脂を露光する工程（ＳＴ１０５等）で、露光時間に対応してフィルター４１の方向Ｋの移動速度を変化させるようにすることで、例えば移動速度を増加させることで感光性樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を増加させたり、移動速度を減少させることで感光性樹脂の単位面積当たりの露光量の変化量を減少させたりして、所望のパターンを形成することができる。
【００９３】
（第２の変形例）
【００９４】
本変形例の液晶装置１０の図示を省略した製造装置は、製造装置４０と比べてフィルター４１のみが異なっているので、フィルターについて説明する。
【００９５】
図１０は第１の変形例の液晶装置１０の製造装置のフィルターの平面図である。
【００９６】
本変形例の液晶装置１０の製造装置のフィルター５０は、フィルター４１と同様に矩形状であり、例えばフィルター５０の一端辺Ｈから他端辺Ｌに向けて透過率が連続的に変化するように構成されている。例えば、一端辺Ｈの透過率が１００％、他端辺Ｌの透過率が０％になるように透過領域が形成されている。
【００９７】
このように本変形例によれば、フィルター５０の一端辺Ｈから他端辺Ｌに向けて透過率が連続的に変化するように構成されているので、例えば第２の実施形態のようにマルチギャップ層２４に傾斜面２８を形成するために露光するときに、第１基板９の方向Ｂへの移動に同期して、フィルター５０を一端辺Ｈから他端辺Ｌに向けて移動させることで、感光性樹脂の露光量をより連続的に変化させて露光することができ、現像後段差等がないより滑らかな傾斜面を形成することができる。
【００９８】
（第３の変形例）
【００９９】
（液晶装置１０の製造装置の構成）
【０１００】
図１１は第３の変形例の液晶装置１０の製造装置の概略ブロック図である。
【０１０１】
本変形例の液晶装置１０の製造装置６０は、第１の実施の形態の製造装置１に設けられたフィルター３と、回転駆動機構４と、フィルター３の回転速度を制御するための図示を省略した制御部とを備えておらず、その代わりに固定部７の方向Ｂへの移動速度を制御（変化させることが）可能な制御部６１を備えている。
【０１０２】
制御部６１は、移動機構８の駆動部であるモータの回転数を変化させることができるように構成されている。
【０１０３】
（液晶装置１０の製造方法）
【０１０４】
次に、液晶装置１０の製造装置６０を用いた液晶装置１０の製造方法について、マルチギャップ層２４の形成工程（ＳＴ１０５）を中心に説明する。
【０１０５】
マルチギャップ層２４形成用の感光性樹脂を露光する工程（ＳＴ１０５）において、制御部６１により移動機構８の駆動部であるモータの回転数を変化させて、光源２から射出され感光性樹脂に照射された光に対して露光の時間に対応して第１基板９の方向Ｂへの移動速度を変化させる。ここで、露光の時間とは、例えば露光開始時刻からの経過時間をいう。具体的には、移動機構８のモータを駆動し第１基板９を方向Ｂに距離ｂだけ移動させる間に、徐々に第１基板９の移動速度を遅くし感光性樹脂当たりの単位面積当たりの露光量を増加させ、続いて移動速度を遅くしたままで一定速度で距離ｃだけ第１基板９を方向Ｂに移動させ、更に続く距離ｄだけ第１基板９を方向Ｂに移動させる間に徐々に第１基板９の移動速度を早くし感光性樹脂の単位面積当たりの露光量を減少させる。
【０１０６】
このように本変形例では、感光性樹脂を露光すると共に、光源２から射出され感光性樹脂に照射された光に対して露光時間に対応して第１基板９の移動速度を徐々に減少させたり増加させたりするように制御して第１基板９を方向Ｂに移動させるので、第１基板９の移動速度に応じて感光性樹脂の露光量を増加させたり減少させたりして、現像後に例えば傾斜面２８を形成可能となる。なお、本変形例では、光源２から射出される光量を変化させずに、固定部７の移動速度を制御する例を示したが、第１基板９の方向Ｂへの移動に同期して、露光時間に対応して光源２から射出される光量を変化させることが可能な図示を省略した光量制御部を更に設けることで、より細かいパターンを形成することができる。
【０１０７】
なお、上記実施形態及び変形例の製造装置１、４０、６０を用いて傾斜面２８を有するマルチギャップ層２４を形成する例を示したが、製造装置１、４０、６０を用いることで、例えば図１２に示すような階段状の傾斜面５５等も同様に形成することができる。階段状の傾斜面５５は、第１基板９の表面からの高さがそれぞれｈ、２ｈ、３ｈ、４ｈ、５ｈ、６ｈ、７ｈ、８ｈの領域５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅ、５５ｆ、５５ｇ、５５ｈを備えている。この階段状の傾斜面５５を形成するときに、例えば製造装置１を用いる場合には、フィルター３の透過率が時間の経過と共に、例えば８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％、１０％となるように、フィルター３を回転させる。このとき、各領域５５ａ〜５５ｈの幅ｒが例えばそれぞれ同じとなるように第１基板９の移動速度は一定としている。続いて、露光されたポジ型の感光性樹脂を現像することにより、階段状の傾斜面５５を形成することができる。このように、多種多様な形状の面を樹脂に形成することができる。
【０１０８】
（第３の実施形態・電子機器）
【０１０９】
次に、上述した液晶装置１０を備えた本発明の第３の実施形態に係る電子機器について説明する。
【０１１０】
図１３は本発明の第３の実施形態にかかる電子機器の表示制御系の全体構成を示す概略構成図である。
【０１１１】
電子機器３００は、表示制御系として例えば図１３に示すように液晶パネル１１及び表示制御回路３９０などを備え、その表示制御回路３９０は表示情報出力源３９１、表示情報処理回路３９２、電源回路３９３及びタイミングジェネレータ３９４などを有する。
【０１１２】
また、液晶パネル１１には表示領域Ｉを駆動する駆動用ＩＣを含む駆動回路３６１を有する。
【０１１３】
表示情報出力源３９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源３９１は、タイミングジェネレータ３９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路３９２に供給するように構成されている。
【０１１４】
また、表示情報処理回路３９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３６１へ供給する。また、電源回路３９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。
【０１１５】
このように本実施形態によれば、製造装置１を用いて低コストでマルチギャップ層２４形成に傾斜面２８等を形成することができるので、電子機器の低コスト化を図ることができる。
【０１１６】
具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータなどの他に液晶装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶装置１０が適用可能なのは言うまでもない。
【０１１７】
なお、本発明の電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲において上述した各例を組み合わせても良い。
【０１１８】
例えば、上述の実施形態では薄膜ダイオード素子アクティブマトリクス型の液晶装置について説明したがこれに限られるものではなく、例えば薄膜トランジスタ素子アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶装置であってもよい。更には、反射半透過型に限らず透過型、反射型であってもよい。
【０１１９】
また、上記実施形態及び変形例では、着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｇ及びマルチギャップ層２４を形成するときに、製造装置１、４０、６０を用いる例を示した。しかし、例えば反射膜や下地層を形成するときにも、フォトマスクを用いずに製造装置１等を用いるようすることで、必要となるフォトマスクの数を減少させて更に製造コストを低下させることができる。
【０１２０】
また、本発明を、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を備えた装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）などに適用することもできる。さらに、無機或は有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ及びＳｕｒｆａｃｅ‐Ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ‐Ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ等）などの各種電気光学装置であってもよい。
【０１２１】
更に、例えばフィルター３と、フィルター３とは光の透過率が異なる図示を省略したフィルターとを複数枚順次入れ替える又はこの図示を省略したフィルターを追加する機能を更に備えるようにして、光量を連続的又は段階的に変化させてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】本発明に係る第１の実施形態の液晶装置の製造装置の概略ブロック図である。
【図２】図１の液晶装置のフィルターの平面図である。
【図３】図１の液晶装置のマスクの平面図である。
【図４】図１の液晶装置の製造装置を用いて製造した液晶装置の部分拡大断面図である。
【図５】第１の実施形態の液晶装置の製造工程を示すフローチャートである。
【図６】マルチギャップ層形成工程時の感光性樹脂の露光状態を示す断面図である。
【図７】マルチギャップ層形成が形成された第１基板の断面図である。
【図８】第１の変形例の液晶装置の製造装置のフィルターの平面図である。
【図９】本発明に係る第２の実施形態の液晶装置の製造装置の概略ブロック図である。
【図１０】第２の変形例の液晶装置の製造装置のフィルターの平面図である。
【図１１】第３の変形例の液晶装置の製造装置の概略ブロック図である。
【図１２】本発明の製造装置で製造された傾斜面を有する下地層の断面図である。
【図１３】第３の実施形態に係る電子機器の表示制御系の概略構成図である。
【符号の説明】
【０１２３】
１  液晶装置の製造装置、  ２  光源、  ３、４１、３７、５０  フィルター、  ４  回転駆動機構、  ７  固定部、  ８  移動機構、  ９  第１基板、  １０  液晶装置、  ３００  電子機器
【図１】
2006189547.tif 000003
【図２】
2006189547.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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