(57)【要約】【課題】  二層目以降の基板とマスクとのアライメント精度の向上を図る。【解決手段】  プリアライメント装置５０から基板ステージ２に搬送されて該基板ステージ２上に保持された基板Ｗについて、該基板Ｗに一層目の露光で焼き付けられたアライメントマーク４０のアライメントカメラ３０の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいてプリアライメント装置５０側で次回の基板Ｗの位置を補正する。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリアライメント装置から搬送された被露光材としての基板を保持する基板ステージと、露光すべきパターンを有するマスクをマスク保持枠を介して保持するマスクステージと、前記基板に一層目の露光で焼付けられたアライメントマークと前記マスク側のアライメントマークとを撮像する撮像手段と、前記基板側のアライメントマークと前記マスク側のアライメントマークとが整合するように前記マスクの位置を前記マスク保持枠を介して調整するマスク位置調整手段と、前記マスクのパターンを前記基板に露光転写すべく露光用の光を前記マスクに向けて照射する照射手段と備えた近接露光装置において、
前記基板ステージに保持された前記基板側のアライメントマークの前記撮像手段の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいて前記プリアライメント装置側で次回の基板の位置を補正することを特徴とする近接露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイ等の基板上にマスクのパターンを近接（プロキシミティ）露光転写するのに好適な近接露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近接露光は、表面に感光剤を塗布した透光性の基板（被露光材）を近接露光装置の基板ステージ上に保持すると共に、該基板をマスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに接近させて両者のすき間を例えば数１０μｍ〜数１００μｍにし、次いで、マスクの基板から離間する側から照射装置によって露光用の光をマスクに向けて照射することにより該基板上に該マスクに描かれたパターンを露光転写するようにしたものである。
【０００３】
例えば、液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造に際しては、基坂上に、まず、１層目として、ブラックマトリックスのパターンが形成され、次いで、各色（赤、緑、青）のパターンが一色ずつ順次形成される。
ここで、各色のパターンを露光する工程においては、既に形成されているパターンと、これから露光するパターンとの位置合わせを精密に行う必要がある。
【０００４】
そこで、１層目（ブラックマトリックス）のパターン形成時に、ブラックマトリックス自体のパターンとともに、アライメントマークのパターンも同時に形成し、後段の露光時のマスクと基板との精密な位置合わせ（アライメント）に際して、このアライメントマークとこれに対応するようにマスクに設けられたアライメントマークとを使用することが行われている。
【０００５】
すなわち、これらの２つのアライメントマークを光学的に検出し、その画像データに基づいて、マスクと基板との位置合わせを行うものである。例えば、両アライメントマークの中心同士が一致するように位置合わせした場合に、正しい位置に露光されるように設定される。以上のことは、例えは、回路パターン等の形成で、重ね露光を行う場合も同様である。
【０００６】
ところで、近接露光装置の基板ステージに基板を搬入し、保持した状態で前記アライメント調整が可能な状態でなければならない。例えば、アライメント検出時に、アライメントカメラの視野内に基板のアライメントマークが入るように位置決めされていないと、アライメントが不可能となる。そのため、搬送装置により基板を搬入するのに先立ち、プリアライメント装置により、後で行われるアライメントが可能となるような位置決め（プリアライメント）が行われる場合がある。
【０００７】
プリアライメント装置は、例えは、基板の水平面内の位置及び姿勢を知るために、基板の一辺の２箇所及びこれと直交する他の一辺の１箇所の位置検出を行うセンサと、センサによる検出結果に基づき、基板のプリアライメントを行うアクチュエータとを備えてなるのものである。
基板をプリアライメント装置から露光装置の基板ステージ上に搬送する搬送装置は、例えば、基板を吸着・保持するアームを備え、該アームをＸ、Ｙ、Ｚの３軸方向位置決め及び垂直軸（Ｚ軸）周りの旋回位置決めを行えるものである。
【０００８】
そして、プリアライメント装置によりプリアライメントされた基板を搬送装置により基板ステージ上に搬入し、保持すると、基板ステージをアライメント調整が行われる露光位置に移動した際に、アライメントカメラの視野内に基板のアライメントマークが位置するように設定されている。
近接露光装置では、プリアライメント装置側でプリアライメントがなされた基板を基板ステージ上に搬送して露光位置に保持し、次に、制御装置が基板ステージの上下動を行う装置及びギャップセンサを用い、基板上方に対向配置されたマスクの下面と基板の上面とのすき間量が予め定められた目標値となるよう基板ステージを上下動させる所謂ギャップ制御を行う。
【０００９】
次に、前記すき間量が目標値になった状態で、前記のようなマスクと基板とのアライメント調整が行われ、その後、照射手段から露光用の光をマスクに向けて照射して該マスクのパターンを基板に露光転写する。
なお、露光後、ステップ式の露光装置の場合は、基板ステージを下方に微動させてマスクの下面と基板の上面とのすき間量を一定量拡大し、この状態で、基板ステージをマスクに対して１ステップ量だけ送る、所謂ステップ送りを行い、ギャップ調整、アライメント調整、露光転写を行う。複数段のステップ露光の場合は、以降同様の工程を繰り返す。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記従来の近接露光装置においては、露光の際に、プリアライメント装置側でのプリアライメント精度やプリアライメントされた基板の搬送装置による搬送時の位置決め誤差等によって、図５に示すように、基板ステージ上に搬送された基板のアライメントマーク（一層目の露光で基板に焼付け）４０がアライメントカメラの視野中心からはずれてしまう場合がある。
【００１１】
この場合、基板側のアライメントマーク４０（この例では十字状）とマスク側のアライメントマーク４１（この例では四角状）との位置を整合させるには、マスク保持枠を介してマスクの位置を調整するようにしているので、カメラ視野中心からずれた位置でアライメントを行うことになり、アライメント精度が低下したり、場合によっては、カメラ視野に収まらなかったり、位置合わせが不能となったりするという問題がある。
本発明はこのような不都合を解消するためになされたものであり、それぞれに設けられたアライメントマークを使用する基板とマスクとのアライメント精度の向上を図ることができる近接露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、プリアライメント装置から搬送された被露光材としての基板を保持する基板ステージと、露光すべきパターンを有するマスクをマスク保持枠を介して保持するマスクステージと、前記基板に一層目の露光で焼付けられたアライメントマークと前記マスク側のアライメントマークとを撮像する撮像手段と、前記基板側のアライメントマークと前記マスク側のアライメントマークとが整合するように前記マスクの位置を前記マスク保持枠を介して調整するマスク位置調整手段と、前記マスクのパターンを前記基板に露光転写すべく露光用の光を前記マスクに向けて照射する照射手段と備えた近接露光装置において、
前記基板ステージに保持された前記基板側のアライメントマークの前記撮像手段の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいて前記プリアライメント装置側で次回の基板の位置を補正することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、プリアライメント装置から基板ステージに搬送されて該基板ステージ上に保持された基板について、該基板のアライメントマークの撮像手段の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいてプリアライメント装置側で次回の基板の位置を補正するようにしているので、次回の基板を基板ステージ上に搬送した際に該基板のアライメントマークを撮像手段の視野の略中心に位置させることができ、これにより、基板側のアライメントマークとマスク側のアライメントマークとを撮像手段の略中心位置で整合させることができ、二層目以降の基板とマスクとのアライメント精度の向上を図ることができる。
また、次回の基板を基板ステージ上に搬送した際に該基板のアライメントマークを撮像手段の視野の略中心に位置させることができことから、前記視野平面内で上下左右均等にアライメント可能範囲を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態の一例を図を参照して説明する。
図１は本発明の実施の形態の一例である近接露光装置を説明するための一部を破断した説明図、図２は近接露光装置とプリアライメント装置の平面配置図、図３は図１の矢印Ａ方向から見た図、図４はカメラ視野内の基板側のアライメントマークとマスク側のアライメントマークと示す図である。
【００１５】
本発明の実施の形態一例である近接露光装置は、図１に示すように、被露光材としての基板Ｗより小さいマスクＭを用い、該マスクＭをマスクステージ１のマスク保持枠２５で保持すると共に、基板Ｗを基板ステージ２で保持し、この状態で基板ステージ２をマスクＭに対してＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にマスクＭと基板Ｗとを近接して対向配置した状態で、照射手段３からパターン露光用の光をマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンを基板Ｗ上に露光転写するようにしたものである。特に、既に少なくとも一層目のパターンが形成済の基板Ｗに別のパターンを露光するための近接露光装置である。
【００１６】
図１において符号４は装置ベース４であり、この装置ベース４上には基板ステージ２をＸ軸方向にステップ移動させるためのＸ軸ステージ送り機構５が設置され、Ｘ軸ステージ送り機構５のＸ軸送り台５ａ上には基板ステージ２をＹ軸方向にステップ移動させるためのＹ軸ステージ送り機構６が設置され、該Ｙ軸ステージ送り機構６のＹ軸送り台６ａ上に基板ステージ２が設置されている。該基板ステージ２上には、図２を参照して、プリアライメント装置５０で予めプリアライメントがなされた基板Ｗが搬送装置５１によって搬送され、該基板ステージ２上に搬送された基板Ｗはワークチャック等で真空吸引された状態で保持されるようになっている。
【００１７】
プリアライメント装置５０は、例えば、基板Ｗの水平面内の位置及び姿勢を知るために、基板Ｗの一辺の２箇所及びこれと直交する他の一辺の１箇所の位置検出を行うセンサと、センサによる検出結果に基づき、基板のプリアライメントを行うアクチュエータとを備えてなるのものである。
搬送装置５１は、例えば、基板Ｗを吸着・保持するアームを備え、該アームをＸ，Ｙ，Ｚの３軸方向位置決め及び垂直軸（Ｚ軸）周りの旋回位置決めを行えるものである。
【００１８】
そして、プリアライメント装置５０によりブリアライメントされた基板Ｗを搬送装置＿5 １により基板ステージ２上に搬入し、保持すると、基板ステージ２をアライメント調整が行われる露光位置に移動した際に、後述のアライメントカメラ３０の視野内に基板Ｗのアライメントマークが位置するように設定されている。
Ｙ軸ステージ送り機構６と基板ステージ２の間には、基板ステージ２の単純な上下動作を行う上下粗動装置７と、基板ステージ２を上下に微動させるとともに傾きの微調整機能も備え、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を所定量に微調整する上下微動装置（進退移動手段）８が設置されている。上下粗動装置７は、後述の微動ステージ６ｂに対し、基板ステージ２を上下動させる。
【００１９】
上下微動装置８は、Ｙ軸送り台６ａに固定された固定台９と、該固定台９にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール１０とを備えており、該案内レール１０に跨架されたスライダ１１を介して案内レール１０に沿って往復移動するスライド体１２にはボールねじのナット（図示せず）が連結されると共に、該スライド体１２の上端面は微動ステージ６ｂに固定されたフランジ１２ａに対して水平方向に摺動自在に接している。
【００２０】
また、フランジ１２ａと固定台９とは図３に示すような板ばね１５によって連結されている。この板ばね１５は三枚の舌片１６ａ，１６ｂ，１６ｃを有しており、中央の舌片１６ｂがフランジ１２ａに固定され、両側の舌片１６ａ，１６ｃが固定台９に固定されている。
そして、固定台９に取り付けられたモータ１７によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ１１及びスライド体１２が一体となって案内レール１０に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ１２ａが上下微動する。このような上下微動運動は、板ばね１５の弾性変形によりにより許容される。一方、このとき、フランジ１２ａの水平方向の変位は板ばね１５によって規制される。
【００２１】
この上下微動装置８は、Ｚ軸送り台６ａのＸ軸方向の一端側（図１の左端側）に１台、他端側に２台合計３台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置８は、後述するギャップセンサ３１によるマスクＭの下面と基板Ｗの上面との位置の測定結果に基づいて図示しない制御装置で求められたマスクＭの下面と基板Ｗの上面とのすき間量が予め定められた目標値となるように制御装置によって制御されることで、基板ステージ２の高さを微調整すると共に、水平面に対する傾斜の微調整を行う。
【００２２】
また、Ｙ軸送り台６ａ上には、基板ステージ２のＹ軸方向位置を検出する送り誤差検出手段としてのＹ軸レーザ干渉計１８のバーミラー１９と、基板ステージ２のＸ軸方向位置を検出する送り誤差検出手段としてのＸ軸レーザ干渉計のバーミラー（共に図示せず）とが設置されている。
なお、Ｙ軸レーザ干渉計１８は、Ｘ軸方向に離間して２台設けられており、２つのＹ軸レーザ干渉計１８によるデータに基づき、ヨーイング誤差が得られる。
Ｙ軸レーザ干渉計１８のバーミラー１９はＹ軸送り台６ａの一側でＸ軸方向に沿って延びており、Ｘ軸レーザ干渉計のバーミラーはＹ軸送り台６ａの一端側でＹ軸方向に沿って延びている。Ｙ軸レーザ干渉計及びＸ軸レーザ干渉計はそれぞれバーミラーに対向配置されて装置ベース４に支持されている。
【００２３】
２台のＹ軸レーザ干渉計１８によるＹ軸送り台６ａひいては基板ステージ２の２つのＹ軸方向の位置データの検出信号及びＸ軸レーザ干渉計による基板ステージ２のＸ軸方向の位置データの検出信号を制御装置（図示せず）に出力し、制御装置がこれらの検出信号に基づいてステップ送り誤差及びこれを解消する補正量を算出して、その算出結果を後述するマスク位置調整手段（及び必要に応じて上下微動装置８）の駆動回路に出力することで、該補正量に応じてマスク位置調整手段等が制御されてＸ軸方向、Ｙ軸方向の位置ずれ及びヨーイング誤差が補正され、Ｘ軸方向或いはＹ軸方向のステップ位置の位置決めがなされる。
【００２４】
なお、本実施の形態においては、ステップ送り誤差があまり大きくない場合、レーザ干渉計を用いた上記のような測定は必須ではなく、レーザ測長器やバーミラー等を省いてもよい。
マスクステージ１は、略長方形状の枠体からなるマスクフレーム２４と、該マスクフレーム２４の中央部開口にすき間を介して挿入されてＸ，Ｙ，θ方向（Ｘ，Ｙ平面内）に移動可能に支持されたマスク保持枠２５とを備えており、マスクフレーム２４は装置ベース４から突設された支柱４ａによって基板ステージ２の上方の定位置に保持されている。
【００２５】
マスク保持枠２５の中央部開口の下面には内方に張り出すフランジ２６が開口の全周に沿って設けられている。このフランジ２６の下面に露光すべきパターンが描かれているマスクＭが真空式吸着装置（図示せず）等を介して着脱自在に保持されるようになっている。
また、フランジ２６の上方には、マスクＭの下面と基板Ｗの上面との対向面間のすき間量を測定する手段としてのギャップセンサ３１、及びマスクＭの露光領域に設けられた四角状のアライメントマーク４１（図４参照）と、基板Ｗ側に一層目の露光で焼付けられた十字状のアライメントマーク４０とを撮像する手段としてのアライメントカメラ３０がそれぞれ移動可能にマスクステージ１に支持されている。
【００２６】
ギャップセンサ３１は、投光部からマスクＭの下面と基板Ｗの上面にレーザー光を当て、各面での反射光を受光部（例えばラインセンサ）で受けてマスクＭの下面と基板Ｗの上面との位置を測定するものであり、フランジ２６のＹ軸方向に沿う二辺の内側上方に互いに離間して適宜配置し、少なくとも３箇所配置されている。
これらの少なくとも３個のギャップセンサ３１による測定結果に基づいて図示しない制御装置で演算処理を行うことで、マスクＭの下面と基板Ｗの上面とのすき間量をそれぞれの箇所について求めることができ、この結果に応じて上述した３台の上下微動装置８による傾斜調整機能も兼ねた上下微動機能が制御されてマスクＭと基板Ｗとの対向面間の平行度が確保され、かつ、すき間量を所定の値にするようになっている。
【００２７】
アライメントカメラ３０はフランジ２６のＹ軸方向に沿う二辺の各内側上方でＹ軸方向の略中央部にそれぞれ一カ所ずつ合計２カ所配置されおり、これらの２個のアライメントカメラ３０で、マスクＭの露光領域に設けられた四角状のアライメントマーク４１と、基板Ｗ側に一層目の露光で焼付けられた十字状のアライメントマーク４０とを撮像してその画像データに基づいて図示しない制御装置で演算処理を行うことで、マスクＭと基板Ｗ（又は基板ステージ２）との平面ずれ量を検出することができ、この検出平面ずれ量に応じてマスク位置調整手段がマスク保持枠２５をＸ，Ｙ，θ方向に移動させて該マスク保持枠２５に保持されたマスクＭの基板Ｗに対する向きを調整するようになっている。
【００２８】
ここで、この実施の形態では、二層目以降の露光時にプリアライメント装置５０から搬送装置５１によって基板ステージ２に搬送されて該基板ステージ２上に保持された基板Ｗについて、該基板Ｗの十字状のアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０で撮像してその画像データに基づいて制御装置がアライメントマーク４０のカメラ視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいてプリアライメント装置５０側の駆動装置を制御して次回の基板Ｗの位置を補正、即ち、次回の基板Ｗのアライメントマーク４０が基板ステージ２上でカメラ視野中心に位置するように補正するようにしている。
【００２９】
マスク位置調整手段は、マスクフレーム２４のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられたＹ軸方向駆動装置（図示せず）と、マスク保持枠２５のＹ軸方向に沿う一辺に互いにＹ軸方向に離間して取り付けられた二台のＸ軸方向駆動装置（図示せず）とを備えており、Ｙ軸方向駆動装置によりマスク保持枠２５のＹ軸方向の調整を、二台のＸ軸方向駆動装置によりマスク保持枠２５のＸ軸方向及びθ軸方向（Ｚ軸まわりの揺動）の調整を行うようになっている。
なお、図１において符号２８は、マスク保持枠２５に保持されたマスクＭ上の任意の範囲の露光光を必要に応じて遮光することで露光範囲を制限する遮光ブレードを有するマスキングアパーチャ機構である。
【００３０】
上記構成の近接露光装置を用いて例えばＹ軸方向にステップ露光を行うには、まず、少なくとも一層目のパターン形成が終了し、これから行うパターン形成のためのレジスト塗布等の必要な前処理の行われた基板Ｗがプリアライメント装置５０でプリアライメントが搬送装置５１によって基板ステージ２上に搬送され、露光位置に保持される。
次に、この状態で制御装置が上下粗動装置７により基板ＷをマスクＭに接近させ、上下微動装置８及びギャップセンサ３１によってマスクＭの下面と基板Ｗの上面とのすき間量が前記目標値となるように制御して基板ステージ２を上下微動させるギャップ制御を行う。
【００３１】
次に、前記すき間量が目標値になった状態で、基板Ｗ側の十字状アライメントマーク４０とマスク側の四角状アライメントマーク４１とをアライメントカメラ３０で撮像して撮像してその画像データに基づいて制御装置で演算処理を行うことで、マスクＭと基板Ｗとの平面ずれ量を検出し、この検出平面ずれ量に応じてマスク位置調整手段がマスク保持枠２５をＸ，Ｙ，θ方向（θ方向はＺ軸回りの旋回方向）に移動させて該マスク保持枠２５に保持されたマスクＭの基板Ｗに対する向きを調整して基板ＷとマスクＭの位置を合わせ、この状態で照射手段３から露光用の光をマスクＭに向けて照射して該マスクＭのパターンを基板Ｗに露光転写する。
【００３２】
ここで、本実施の形態では、最初のギャップ調整の直後、すなわち、アライメント調整前の基板Ｗの十字状のアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０で撮像した際の画像データに基づいて制御装置がアライメントマーク４０のカメラ視野中心からのずれ量を求め、記憶しておく。記憶された該ずれ量がプリアライメント装置５０による次回の基板Ｗのプリアライメント時の補正のために使用される。
【００３３】
露光後、制御装置が上下微動装置８により基板ステージ２を下降させてマスクＭの下面と基板Ｗの上面とのすき間量を一定量拡大し、この状態で、基板ステージ２をマスクＭに対して１ステップ量だけ送り、上記同様にして次ステップ目の露光を行う。
このようにして一枚目の基板Ｗの露光が終了した後、二枚目の基板Ｗを基板ステージ２上に搬送して露光位置に保持し、上記同様の工程で２枚目の基板Ｗに対してステップ露光を行う。
【００３４】
このとき、上述したように、一枚目の基板Ｗを基板ステージ２上に保持した際に、該基板２の十字状のアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０で撮像することで、該アライメントマーク４０のカメラ視野中心からのずれ量に基づいてプリアライメント装置５０側の駆動装置を制御して次回（二枚目）の基板Ｗの位置を補正している。
すなわち、プリアライメント装置５０による３箇所のセンサによる検出値に基づいて定まるＸ方向、Ｙ方向及びθ方向のそれぞれの調整移動量に対し、前記ずれ量に対応するＸ方向成分、Ｙ方向成分及びθ方向成分を補正値として加味して前記ずれが解消するようにしているので、次回の基板Ｗをプリアライメント装置５０から搬送装置５１によって基板ステージ２上に搬送した際に、該基板Ｗのアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０のカメラ視野の略中心に位置させることができる。
【００３５】
このようにこの実施の形態では、次回の基板Ｗをプリアライメント装置５０から搬送装置５１によって基板ステージ２上に搬送した際に、該基板Ｗのアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０のカメラ視野の略中心に位置させることができるので、基板Ｗ側のアライメントマーク４０とマスクＭ側のアライメントマーク４１とをアライメントカメラ３０のカメラ視野の略中心位置でアライメントすることができ、これにより、基板ＷとマスクＭとのアライメント精度の向上を図ることができる。
【００３６】
また、次回の基板Ｗを基板ステージ２上に搬送した際に該基板Ｗのアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０のカメラ視野の略中心に位置させることができることから、前記視野平面内で上下左右均等にアライメント可能範囲を得ることができる。
更に、基板ステージ２をマスクＭに対してＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光用の光を照射することにより、マスクＭの複数のパターンを基板Ｗ上に露光転写するようにしているので、より小さなマスクＭで大きな基板Ｗへの露光を可能して低コスト化及びパターン精度の高精度化を図ることができ、更には、基板Ｗ上により多彩なパターンの作成を可能にすることができる。
【００３７】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
例えば、上記実施の形態では、ずれ量（補正値）取得は、１枚目の基板の露光時に行い、その補正値を２枚目以降のプリアライメント時に使用するようにしたが、定期的に或いは毎回補正値を取得するようにしてもよい。
また、上記実施の形態では、各ステージ送り機構の送り手段として、リニアガイドとボールねじを組合せたものを用いているが、必ずしもこれに限定する必要はなく、例えば、送り手段として、リニアモータ等を用いてもよい。
【００３８】
更に、一枚目の基板Ｗを基板ステージ２上に保持した際に、該基板２の十字状のアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０で撮像することで、該アライメントマーク４０のカメラ視野の略中心からのずれ量に基づいてプリアライメント装置５０側の駆動装置を制御して次回（二枚目）の基板Ｗの位置を補正することに加えて、基板Ｗを基板ステージ２上に保持した際に、該基板２の十字状のアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０で撮像し、このときのアライメントマーク４０のカメラ視野の略中心からのずれ量に基づいてＹ軸ステージ送り機構５及びＸ軸ステージ送り機構６の送り量を制御して基板Ｗのアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０のカメラ視野中心に位置させるようにしてもよい。
【００３９】
このようにすると、一枚目の基板Ｗからアライメントマーク４０をアライメントカメラ３０のカメラ視野の略中心に位置させることができると共に、二枚目以降の基板Ｗについてもアライメントマーク４０とアライメントカメラ３０のカメラ視野の中心との位置決め精度の向上を図ることができる。
更に、上記実施の形態では、基板ステージ２をＸ軸及びＹ軸方向にステップ移動可能な構成としたが、これに代えて、マスクステージ１を照射手段と共にＸ軸及びＹ軸方向にステップ移動可能な構成としても良い。
【００４０】
更に、上記実施の形態では、基板ステージ２をマスクＭに対して二軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光用の光を照射する場合を例に採ったが、これに限定されず、基板ステージ２をマスクＭに対して一軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光用の光を照射する場合、或いはステップ動作を伴わない一括露光方式の場合にも本発明を適用すると、特に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の実施の形態の一例である近接露光装置を説明するための一部を破断した説明図である。
【図２】近接露光装置とプリアライメント装置の平面配置図である。
【図３】図１の矢印Ａ方向から見た図である。
【図４】カメラ視野内の基板側のアライメントマークとマスク側のアライメントマークと示す図である。
【図５】従来におけるカメラ視野内の基板側のアライメントマークとマスク側のアライメントマークと示す図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  マスクステージ
２  基板ステージ
３  照射手段
Ｗ  基板
Ｍ  マスク
２５  マスク保持枠
３０  アライメントカメラ（撮像手段）
４０  基板側のアライメントマーク
４１  マスク側のアライメントマーク
５０  プリアライメント装置
【図１】
2006269952.tif 000003
【図２】
2006269952.tif 000004
【図３】
2006269952.tif 000005
【図４】
2006269952.tif 000006
【図５】
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