(57)【要約】【課題】  平板ディスプレイ装置を提供する。【解決手段】  基板と、基板の上部に備えられた第１ゲート電極と、第１ゲート電極と絶縁される第１電極と、第１ゲート電極と絶縁され、第１電極を同一平面で取り囲む第２電極と、第１ゲート電極と絶縁され、第１電極及び第２電極に接する半導体層と、第１電極及び第２電極のうち何れか一つの電極に電気的に連結された画素電極を備えるディスプレイ素子と、を備えることを特徴とする平板ディスプレイ装置である。【選択図】  図４
2006047999.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上部に備えられた第１ゲート電極と、
前記第１ゲート電極と絶縁される第１電極と、
前記第１ゲート電極と絶縁され、前記第１電極を同一平面で取り囲む第２電極と、
前記第１ゲート電極と絶縁され、前記第１電極及び前記第２電極に接する半導体層と、
前記第１電極及び前記第２電極のうち何れか一つの電極に電気的に連結された画素電極を備えるディスプレイ素子と、を備えることを特徴とする平板ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記第１電極及び前記第２電極は、前記第１ゲート電極の上部に備えられることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項３】
前記第１ゲート電極は、前記第１電極及び前記第２電極の間の領域に対応するように備えられることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記第１電極は、第１ドレイン電極であり、前記第２電極は、第１ソース電極であり、前記画素電極に連結された電極は、前記第１電極であることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項５】
前記第１ゲート電極に連結される第１キャパシタ電極と、
前記第２電極に連結される第２キャパシタ電極と、をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項６】
前記第１キャパシタ電極と前記第１ゲート電極とは、一体に備えられ、前記第２キャパシタ電極と前記第２電極とは、一体に備えられることを特徴とする請求項５に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項７】
第２ゲート電極と、
前記第２ゲート電極と絶縁される第３電極と、
前記第２ゲート電極と絶縁され、前記第３電極を取り囲む第４電極と、
前記第２ゲート電極と絶縁され、前記第３電極及び前記第４電極に接する半導体層と、をさらに備え、
前記第３電極及び前記第４電極のうち何れか一つの電極が、前記第１ゲート電極に電気的に連結されることを特徴とする請求項５に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項８】
前記第３電極及び前記第４電極は、前記第２ゲート電極の上部に備えられることを特徴とする請求項７に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項９】
前記第２ゲート電極は、前記第３電極及び前記第４電極の間の領域に対応するように備えられることを特徴とする請求項７に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記第３電極は、第２ドレイン電極であり、前記第４電極は、第２ソース電極であり、前記第１ゲート電極に電気的に連結された電極は、前記第３電極であることを特徴とする請求項７に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記第１ゲート電極、前記第２ゲート電極及び前記第１キャパシタ電極を覆うように、前記基板の全面にゲート絶縁膜がさらに備えられ、前記第１電極ないし前記第４電極、前記第２キャパシタ電極及び前記半導体層を覆うように、前記基板の全面に保護膜がさらに備えられることを特徴とする請求項１０に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１２】
前記半導体層は、前記第１電極ないし前記第４電極の上部に備えられ、
前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とは、
前記第３電極の一部が露出されるように、前記保護膜及び前記半導体層に備えられた第１コンタクトホールと、
前記第１キャパシタ電極の一部が露出されるように、前記保護膜、前記半導体層及び前記ゲート絶縁膜に備えられた第２コンタクトホールと、
前記保護膜上部と、にわたって備えられた配線で連結されたことを特徴とする請求項１１に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とを連結する配線は、前記ゲート絶縁膜に備えられる第２コンタクトホールを通じて前記第１キャパシタ電極に連結され、前記ゲート絶縁膜上に備えられ、前記第４電極と同じ材料で形成される金属層をさらに備えることを特徴とする請求項１２に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１４】
前記第１電極ないし前記第４電極は、前記半導体層の上部に備えられ、
前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とは、
前記第３電極の一部が露出されるように、前記保護膜に備えられた第１コンタクトホールと、
前記第１キャパシタ電極の一部が露出されるように、前記保護膜、前記半導体層及び前記ゲート絶縁膜に備えられた第２コンタクトホールと、
前記保護膜上部と、にわたって備えられた配線で連結されたことを特徴とする請求項１１に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とを連結する配線は、前記ゲート絶縁膜及び前記半導体層に備えられる第２コンタクトホールを通じて前記第１キャパシタ電極に連結され、
前記半導体層上に備えられ、前記第４電極と同じ材料で形成される金属層をさらに備えることを特徴とする請求項１４に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記画素電極は、前記保護膜上に備えられ、
前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とを連結する配線は、前記画素電極と同じ材料で形成されたことを特徴とする請求項１２に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記画素電極は、前記保護膜上に備えられ、
前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とを連結する配線は、前記画素電極と同じ材料で形成されたことを特徴とする請求項１４に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記第３電極は、第２ソース電極であり、前記第４電極は、第２ドレイン電極であり、前記第１ゲート電極に電気的に連結された電極は、前記第４電極であることを特徴とする請求項７に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記第１ゲート電極、前記第２ゲート電極、前記第１電極ないし第４電極、前記第１キャパシタ電極、前記第２キャパシタ電極及び前記半導体層を覆うように、前記基板の全面に保護膜をさらに備え、前記画素電極は、前記保護膜上に備えられることを特徴とする請求項１８に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項２０】
第２ゲート電極と、
前記第２ゲート電極と絶縁される第３電極と、
前記第２ゲート電極と絶縁され、前記第３電極を取り囲む第４電極と、
前記第２ゲート電極と絶縁され、前記第３電極及び前記第４電極に接する半導体層と、をさらに備え、
前記第３電極及び前記第４電極のうち何れか一つの電極が、前記第１ゲート電極に電気的に連結されたことを特徴とする請求項４に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項２１】
前記第３電極及び前記第４電極は、前記第２ゲート電極の上部に備えられることを特徴とする請求項２０に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項２２】
前記第２ゲート電極は、前記第３電極及び前記第４電極の間の領域に対応するように備えられることを特徴とする請求項２０に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項２３】
前記第３電極は、第２ドレイン電極であり、前記第４電極は、第２ソース電極であり、前記第１ゲート電極に電気的に連結された電極は、前記第３電極であることを特徴とする請求項２０に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項２４】
前記第３電極は、第２ソース電極であり、前記第４電極は、第２ドレイン電極であり、前記第１ゲート電極に電気的に連結された電極は、前記第４電極であることを特徴とする請求項２０に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項２５】
前記半導体層は、有機半導体層であることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項２６】
前記ディスプレイ素子から放出される光は、前記基板の逆方向に出射されることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
【請求項２７】
前記ディスプレイ素子は、電界発光素子であることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板ディスプレイ装置に関わり、さらに詳細には、クロストークが最小化されたトランジスタを備えた平板ディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、従来のインバーティドコプラナ型薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を概略的に示す断面図である。
【０００３】
図１を参照すれば、基板８１上にゲート電極１１，５１が備えられており、その上部にソース電極１２，５２及びドレイン電極１３，５３が備えられており、前記ソース電極１２，５２及びドレイン電極１３，５３を前記ゲート電極１１，５１から絶縁させるために、その間にゲート絶縁膜８３が介在されている。そして、前記ソース電極１２，５２及びドレイン電極１３，５３にそれぞれ接する半導体層８０が備えられている。もちろん、前記ソース電極１２，５２とドレイン電極１３，５３は、互いに入れ替わることもある。
【０００４】
前記のような構造において、前記半導体層８０がパターニングされておらず、隣接した二つのＴＦＴ １０，５０において、一体に備えられている。このような場合、漏れ電流によって隣接したＴＦＴが互いに影響を与える可能性があるなど、いわば、クロストークの発生する恐れがあるので、これを防止するために、前記半導体層を各ＴＦＴ単位にパターニングするのが良い。しかし、前記半導体層８０として有機半導体層を利用した有機ＴＦＴの場合、前記有機半導体層をパターニングするのは非常に難しく、前記有機半導体層がパターニングされても、前記有機半導体層の電気的特性が非常に悪くなるという問題点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記問題点を含んで色々な問題点を解決するためのものであって、クロストークが最小化されたトランジスタを備えた平板ディスプレイ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的及びその他の様々な目的を達成するために、本発明は、基板と、前記基板の上部に備えられた第１ゲート電極と、前記第１ゲート電極と絶縁される第１電極と、前記第１ゲート電極と絶縁され、前記第１電極を同一平面で取り囲む第２電極と、前記第１ゲート電極と絶縁され、前記第１電極及び前記第２電極に接する半導体層と、前記第１電極及び前記第２電極のうち何れか一つの電極に電気的に連結された画素電極を備えるディスプレイ素子と、を備えることを特徴とする平板ディスプレイ装置を提供する。
【０００７】
このような本発明の他の特徴によれば、前記第１電極及び前記第２電極は、前記第１ゲート電極の上部に備えられうる。
【０００８】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１ゲート電極は、前記第１電極及び前記第２電極間の領域に対応するように備えられうる。
【０００９】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１電極は、第１ドレイン電極であり、前記第２電極は、第１ソース電極であり、前記画素電極に連結された電極は、前記第１電極でありうる。
【００１０】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１ゲート電極に連結される第１キャパシタ電極と、前記第２電極に連結される第２キャパシタ電極とをさらに備えることができる。
【００１１】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１キャパシタ電極と前記第１ゲート電極は、一体に備えられ、前記第２キャパシタ電極と前記第２電極は、一体に備えられうる。
【００１２】
本発明のさらに他の特徴によれば、第２ゲート電極と、前記第２ゲート電極と絶縁される第３電極と、前記第２ゲート電極と絶縁され、前記第３電極を取り囲む第４電極と、前記第２ゲート電極と絶縁され、前記第３電極及び前記第４電極に接する半導体層と、をさらに備え、前記第３電極及び前記第４電極のうち何れか一つの電極が、前記第１ゲート電極に電気的に連結されうる。
【００１３】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第３電極及び前記第４電極は、前記第２ゲート電極の上部に備えられうる。
【００１４】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第２ゲート電極は、前記第３電極及び前記第４電極間の領域に対応するように備えられうる。
【００１５】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第３電極は、第２ドレイン電極であり、前記第４電極は、第２ソース電極であり、前記第１ゲート電極に電気的に連結された電極は、前記第３電極でありうる。
【００１６】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１ゲート電極、前記第２ゲート電極及び前記第１キャパシタ電極を覆うように、前記基板の全面にゲート絶縁膜がさらに備えられ、前記第１電極ないし前記第４電極、前記第２キャパシタ電極及び前記半導体層を覆うように、前記基板の全面に保護膜がさらに備えられうる。
【００１７】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記半導体層は、前記第１電極ないし前記第４電極の上部に備えられ、前記第３電極と前記第１キャパシタ電極は、前記第３電極の一部が露出されるように、前記保護膜及び前記半導体層に備えられた第１コンタクトホールと、前記第１キャパシタ電極の一部が露出されるように、前記保護膜と前記半導体層及び前記ゲート絶縁膜に備えられた第２コンタクトホールと、前記保護膜の上部と、にわたって備えられた配線で連結されうる。
【００１８】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とを連結する配線は、前記ゲート絶縁膜に備えられる第２コンタクトホールを通じて前記第１キャパシタ電極に連結され、前記ゲート絶縁膜上に備えられ、前記第４電極と同じ材料で形成される金属層をさらに備えることができる。
【００１９】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１電極ないし前記第４電極は、前記半導体層の上部に備えられ、前記第３電極と前記第１キャパシタ電極は、前記第３電極の一部が露出されるように、前記保護膜に備えられた第１コンタクトホールと、前記第１キャパシタ電極の一部が露出されるように、前記保護膜と前記半導体層及び前記ゲート絶縁膜に備えられた第２コンタクトホールと、前記保護膜の上部と、にわたって備えられた配線で連結されうる。
【００２０】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とを連結する配線は、前記ゲート絶縁膜及び前記半導体層に備えられる第２コンタクトホールを通じて前記第１キャパシタ電極に連結され、前記半導体層上に備えられ、前記第４電極と同じ材料で形成される金属層をさらに備えることができる。
【００２１】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記画素電極は、前記保護膜上に備えられ、前記第３電極と前記第１キャパシタ電極とを連結する配線は、前記画素電極と同じ材料で形成されうる。
【００２２】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第３電極は、第２ソース電極であり、前記第４電極は、第２ドレイン電極であり、前記第１ゲート電極に電気的に連結された電極は、前記第４電極でありうる。
【００２３】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１ゲート電極、前記第２ゲート電極、前記第１電極ないし第４電極、前記第１キャパシタ電極、前記第２キャパシタ電極及び前記半導体層を覆うように、前記基板の全面に保護膜をさらに備え、前記画素電極は、前記保護膜上に備えられうる。
【００２４】
本発明のさらに他の特徴によれば、第２ゲート電極と、前記第２ゲート電極と絶縁される第３電極と、前記第２ゲート電極と絶縁され、前記第３電極を取り囲む第４電極と、前記第２ゲート電極と絶縁され、前記第３電極及び前記第４電極に接する半導体層と、をさらに備え、前記第３電極及び前記第４電極のうち何れか一つの電極が、前記第１ゲート電極に電気的に連結されうる。
【００２５】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第３電極及び前記第４電極は、前記第２ゲート電極の上部に備えられうる。
【００２６】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第２ゲート電極は、前記第３電極及び前記第４電極の間の領域に対応するように備えられうる。
【００２７】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第３電極は、第２ドレイン電極であり、前記第４電極は、第２ソース電極であり、前記第１ゲート電極に電気的に連結された電極は、前記第３電極でありうる。
【００２８】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第３電極は、第２ソース電極であり、前記第４電極は、第２ドレイン電極であり、前記第１ゲート電極に電気的に連結された電極は、前記第４電極でありうる。
【００２９】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記半導体層は、有機半導体層でありうる。
【００３０】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記ディスプレイ素子から放出される光は、前記基板の逆方向に出射されうる。
【００３１】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記ディスプレイ素子は、電界発光（ＥＬ）素子でありうる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の平板ディスプレイ装置によれば、次のような効果が得られる。
【００３３】
第一に、ソース電極及びドレイン電極のうち、何れか一つの電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴを備えた平板ディスプレイ装置を通じて、半導体層がパターニングされていないＴＦＴ間のクロストークを防止できる。
【００３４】
第二に、ソース電極及びドレイン電極のうち、何れか一つの電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴのドレイン電極とキャパシタの一電極とを、コンタクトホール及び保護膜の上部にわたって備えられた配線で連結するのにおいて、前記配線に、前記キャパシタの一電極に連結される金属層を備えさせることによって、前記配線と前記キャパシタの一電極との接触を確実にすることができる。
【００３５】
第三に、ＴＦＴのドレイン電極をソース電極を同一平面で取り囲む構造にすることによって、前記ドレイン電極とキャパシタの一電極との連結をさらに簡単かつ確実にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、添付された図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を詳細に説明すれば、次の通りである。
【００３７】
前述したように、半導体層、特に、有機半導体層がパターニングされておらず、隣接した二つ以上のＴＦＴにおいて一体に備えられる場合、漏れ電流によって、隣接したＴＦＴが互いに影響を与えることがあるなど、いわば、クロストークの発生する恐れがあるという問題点がある。本発明では、これを防止するために、それぞれのＴＦＴのソース電極及びドレイン電極の構造において、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴを備えた平板ディスプレイ装置を提案する。
【００３８】
このような本発明の望ましい第１実施形態による平板ディスプレイ装置をさらに詳細に説明すれば、まず、基板の上部に第１ゲート電極が備えられ、前記第１ゲート電極と絶縁される第１電極と、前記第１ゲート電極と絶縁され、前記第１電極を同一平面で取り囲む第２電極とが備えられる。前記第１電極及び前記第２電極は、それぞれドレイン電極またはソース電極となりうる。そして、前記第１ゲート電極と絶縁され、前記第１電極及び前記第２電極に接する半導体層と、前記第１電極及び前記第２電極のうち何れか一つの電極に電気的に連結された画素電極を備えるディスプレイ素子とが備えられる。特に、前記半導体層は、有機半導体層で備えられうる。このとき、前記ゲート電極は、前記第１電極と、前記第１電極を同一平面で取り囲む前記第２電極との間の空間に対応するように備えられることが可能である。
【００３９】
前記のような構造において、前記ゲート電極によるチャンネルは、前記第１電極、及び同一平面でこれを取り囲んでいる第２電極の間にのみ形成され、さらに前記第１電極、及びそれを同一平面で取り囲んでいる第２電極の間でのみ電流が流れるため、前記半導体層がパターニングされておらずとも、隣接したＴＦＴ間のクロストークを防止できる。
【００４０】
一方、前記のような構造のＴＦＴにおいて、前記半導体層が前記第１電極、及びそれを同一平面で取り囲む第２電極の上部に備えられたインバーティドコプラナ型ＴＦＴとなることもあり、これと違って、前記半導体層が前記第１電極及び前記第２電極の下部に備えられたインバーティドスタガード型ＴＦＴが備えられることもあるなど、ＴＦＴのソース電極及びドレイン電極のうち、一電極を他の電極を同一平面で取り囲む構造にさえすれば、いかなる構造のＴＦＴも可能である。
【００４１】
一方、前記第１ゲート電極は、前記第１電極、及び前記第１電極を同一平面で取り囲む前記第２電極の間に対応する部分にのみ備えられるように、すなわち、前記第１ゲート電極は、その中央部分が空いているドーナッツ状の形状を備えるようにする。これは、前記第１ゲート電極がドーナッツ状ではなくて、前記第１電極、及び同一平面で前記第１電極を取り囲む前記第２電極の間に対応する部分以外の、前記第１電極に対応する部分にも備えられることになれば、前記第１電極と前記第１ゲート電極との間に寄生キャパシタンスが発生することもあるためである。したがって、前記第１ゲート電極は、前記第１電極、及び同一平面で前記第１電極を取り囲む前記第２電極の間に対応する部分にのみ備えられるように、すなわち、前記第１ゲート電極は、その中央部分が空いているドーナッツ状の形状を備えるようにするのが良い。
【００４２】
前記のような構造のＴＦＴ及びそれに連結されたディスプレイ素子を備えた平板ディスプレイ装置において、前記ディスプレイ素子は、ＴＦＴに連結されて駆動されるものであれば、いかなるディスプレイ素子ともなりうるところ、例えば、ＥＬ素子または液晶素子が挙げられる。
【００４３】
本発明による平板ディスプレイ装置は、特に、ＥＬディスプレイ装置となりうるところ、そのような構造の平板ディスプレイ装置を説明すれば、次の通りである。
【００４４】
ＥＬディスプレイ装置は、発光層での発光色相によって多様な画素パターンを備えるが、例えば、赤色、緑色及び青色の画素を備える。前記赤色、緑色及び青色で形成される各副画素は、自発光素子であるＥＬ素子及び前記ＥＬ素子に連結される少なくとも一つ以上のＴＦＴを備えるが、前記ＴＦＴは、前述したように、ソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴとなり、その場合、前述したような構造で前記ＥＬ素子に連結される。
【００４５】
前記ＥＬ素子は、電流駆動方式の発光素子であって、前記素子を構成する両電極間の電流のフローによって、赤色、緑色または青色の光を発光して所定の画像を具現する。前記ＥＬ素子の構成を簡略に説明すれば、前記ＥＬ素子は、前述したように、ＴＦＴの第１電極または第２電極のうち何れか一つの電極に連結された画素電極と、全体画素を覆うようにまたは各画素に対応するように備えられた対向電極と、これら画素電極と対向電極の間に配置される少なくとも発光層を含む中間層と、で構成される。本発明は、必ずしも前記のような構造に限定されず、多様なＥＬディスプレイ装置の構造がそのまま適用されうる。
【００４６】
前記画素電極は、アノード電極の機能を遂行し、前記対向電極は、カソード電極の機能を遂行するが、もちろん、これら画素電極と対向電極の極性は、逆になっても良い。
【００４７】
前記画素電極は、透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で備えられうる。反射型電極として使われる時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒまたはこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたは Ｉｎ２Ｏ３で備えられうる。
【００４８】
前記対向電極も、透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇまたはこれらの化合物が前記中間層に向かうように蒸着した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたは Ｉｎ２Ｏ３のような透明電極形成用物質で補助電極層やバス電極ラインを備えさせることができる。そして、反射型電極として使われる時には、前記Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇまたはこれらの化合物を全面蒸着して形成する。しかし、必ずしもこれに限定されず、画素電極及び対向電極として導電性ポリマーのような有機物を使用することもある。
【００４９】
一方、前記中間層が無機膜で形成されているか、または有機膜で形成されているかによって、無機ＥＬ素子と有機ＥＬ素子とに分けられる。後者の場合、有機膜で備えられた中間層としては、低分子有機膜または高分子有機膜で備えられうる。
【００５０】
低分子有機膜を使用する場合、前記中間層は、ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：ＥＭｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）及び電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）が単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ,Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ,Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）をはじめとして、多様に適用可能である。このような低分子有機膜は、真空中で有機物を加熱して蒸着する方式で形成されうる。もちろん、前記中間層の構造は、必ずしもこれに限定されず、必要に応じて多様な層として構成できる。
【００５１】
高分子有機膜を使用する場合には、前記中間層は、大体、ＨＴＬ及びＥＭＬで備えられうる。前記高分子ＨＴＬは、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）やポリアニリン（ＰＡＮＩ）を使用して、インクジェットプリンティングやスピンコーティング法によって形成されうる。前記高分子有機発光層は、ポリ（１,４−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、溶解性ＰＰＶ、Ｃｙａｎｏ−ＰＰＶ、ポリフルオレンで備えられ、インクジェットプリンティングやスピンコーティングまたはレーザを利用した熱転写方式などの通常の方法でカラーパターンを形成できる。もちろん、このような高分子有機層の場合にも、前記中間層の構造は、必ずしもこれに限定されず、必要に応じて多様な層として構成できる。
【００５２】
無機ＥＬ素子の場合には、前記中間層は、無機膜で備えられ、これは、ＥＭＬ及び前記ＥＭＬと電極との間に介在された絶縁層で備えられうる。もちろん、前記中間層の構造は、必ずしもこれに限定されず、必要に応じて多様な層として構成できる。
【００５３】
前記ＥＭＬは、ＺｎＳ、ＳｒＳ、ＣａＳのような金属硫化物またはＣａＧａ２Ｓ４、ＳｒＧａ２Ｓ４ようなアルカリ希土類カルシウム硫化物、及びＭｎ、Ｃｅ、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｅｒ、Ｐｒ、Ｐｂを含む遷移金属またはアルカリ希土類金属のような発光中心原子で備えられうる。
【００５４】
前述したような構造で形成されたＥＬディスプレイ装置は、前記ＥＬ素子の画素電極に、前述したように、ソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴのドレイン電極が連結されて、前記画素電極に流入される電流の流れを制御することによって、各画素の発光如何を制御する。
【００５５】
一方、前述したように、液晶ディスプレイパネルにも前記有機ＴＦＴが備えられうるところ、前記液晶ディスプレイパネルの構造を簡略に説明すれば、次の通りである。
【００５６】
互いに対向した第１基板と第２基板の間に、液晶層を配向する配向膜を備えられ、前記配向膜と前記第１基板の間には画素電極が、前記配向膜と第２基板の間には対向電極が備えられ、前記第２基板と前記対向電極の間にはカラーフィルタ層が備えられる。
【００５７】
前記第１基板の前記第２基板方向の反対面には、第１偏光層が、前記第２基板の前記第１基板方向の反対面には、第２偏光層が備えられ、前記第２偏光層の上面には、保護フィルムが備えられる。
【００５８】
前記のような構造の液晶パネルにおいて、前記画素電極が、前述したようなソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴのドレイン電極に連結されることによって、前記ＴＦＴによって制御された外部信号によって、前記画素電極と前記対向電極との間に電位差が形成され、前記電位差によって前記液晶層の配列が決定され、前記液晶層の配列によって、前記液晶パネルの第１基板の下部に備えられるバックライトユニット（ＢＬＵ：Ｂａｃｋ Ｌｉｇｈｔ Ｕｎｉｔ）から供給される可視光線が遮蔽または通過され、通過された光が前記カラーフィルタ層を通過しつつ色を帯びて画像を具現する。
【００５９】
もちろん、前述した本発明によるＴＦＴは、前記ＥＬディスプレイ装置や液晶ディスプレイ装置以外の多様な平板ディスプレイ装置にも備えられ、平板ディスプレイ装置以外の電子シート、スマートカード、商品タグまたはＲＦＩＤ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ＩＤｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）用プラスチックチップ（スマートタグ、ＲＦＩＤ）など、ＴＦＴを備える全ての装置に備えられうる。以下で後述する実施形態においては、便宜上、ソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴに連結されたディスプレイ素子がＥＬ素子である場合について説明する。
【００６０】
図２は、本発明の望ましい第２実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の回路を概略的に示す回路図であり、図３は、図２のＡ部分を示す回路図であり、図４は、図２及び図３のＡ部分を概略的に示す能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の平面図であり、図５は、前記実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を図４のＰ１ないしＰ８に沿って概略的に示す断面図である。
【００６１】
前記図面を参照すれば、本発明の望ましい第２実施形態による平板ディスプレイ装置は、ディスプレイ素子を駆動する、ソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造の第１ＴＦＴ ２５０と、前記第１ＴＦＴ ２５０に電気的に連結されたキャパシタ２４０と、前記第１ＴＦＴ ２５０を駆動するソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造の第２ＴＦＴ ２１０と、を備える。
【００６２】
前記第１ＴＦＴ ２５０は、基板２８１の上部に第１ゲート電極２５１を備え、前記第１ゲート電極２５１と絶縁される第１電極２５３を備え、前記第１ゲート電極２５１と絶縁され、前記第１電極２５３を同一平面で取り囲む第２電極２５２を備える。そして、前記第１ゲート電極２５１と絶縁され、前記第１電極２５３及び前記第２電極２５２に接する半導体層２８０を備える。このとき、前記第１電極２５３及び前記第２電極２５２のうち、何れか一つの電極にディスプレイ素子の画素電極２６１が連結され、図４及び図５では、前記第１電極２５３に前記画素電極２６１が連結されている。このとき、前記ＴＦＴの第１電極２５３は、ドレイン電極となり、前記第１電極２５３を取り囲む前記第２電極２５２は、ソース電極となりうる。以下で後述する実施形態においては、前記第１電極２５３がドレイン電極である場合について説明する。
【００６３】
図４を参照すれば、前記画素電極２６１が前記第１ＴＦＴ ２５０、前記第２ＴＦＴ ２１０及び前記ストレージキャパシタ２４０が備えられていない副画素領域に備えられている、すなわち、前記画素電極２６１に連結されるディスプレイ素子から発生した光が、前記基板２８１の方向に取り出される、いわば、背面発光型のディスプレイ装置に該当する構造になっているが、これは、便宜上、前記のように示したものである。すなわち、前記画素電極２６１は、図４に示されたものと違って、前記第１ＴＦＴ ２５０、前記ストレージキャパシタ２４０及び前記第２ＴＦＴ ２１０の上部にまで備えられることもあり、これは、後述する実施形態においても同様である。
【００６４】
図４及び図５では、半導体層２８０が第１電極２５３及び第２電極２５１の上部に備えられたインバーティドコプラナ型のＴＦＴが示されているが、これと違って、半導体層２８０が第１電極２５３及び第２電極２５１の下部に備えられたインバーティドスタガード型ＴＦＴが備えられることもある。後者のＴＦＴが備えられた構造については、別途の実施形態として後述する。
【００６５】
一方、図４及び図５を参照すれば、前記第１ゲート電極２５１は、前記第１電極２５３、及び前記第１電極２５３を同一平面で取り囲む前記第２電極２５２の間に対応する部分にのみ備えられるように、すなわち、前記第１ゲート電極２５１の中央部分が空いている形態に備えられている。これは、前記第１ゲート電極２５１が、図４及び図５に示されたようなドーナッツ状ではなくて、前記第１電極２５３、及び前記第１電極２５３を同一平面で取り囲む前記第２電極２５２の間に対応する部分以外の、前記第１電極２５３に対応する部分にも備えられれば、前記第１電極２５３と前記第１ゲート電極２５１との間に寄生キャパシタンスが発生することもあるためである。したがって、前記第１ゲート電極２５１は、前記第１電極２５３、及び前記第１電極２５３を同一平面で取り囲む前記第２電極２５２の間に対応する部分にのみ備えられるように、すなわち、前記第１ゲート電極２５１の中央部分を空いている形態に備えさせることが良い。
【００６６】
一方、図２ないし図５を参照すれば、前記第１ＴＦＴ ２５０には、ストレージキャパシタ２４０がさらに備えられうる。これについてさらに詳細に説明すれば、前記ストレージキャパシタ２４０には、第１キャパシタ電極２４１及び第２キャパシタ電極２４２が備えられるが、前記第１キャパシタ電極２４１は、前記第１ゲート電極２５１に連結され、前記第２キャパシタ電極２４２は、前記第２電極２５２及び第３導線２７０に連結される。
【００６７】
このとき、図４及び図５に示されたように、前記第１キャパシタ電極２４１と前記第１ゲート電極２５１とは一体に備えられ、前記第２キャパシタ電極２４２と前記第２電極２５２とは一体に備えられうる。
【００６８】
一方、前記図面を参照すれば、前述したように、本実施形態による能動駆動型のＥＬ素子を備えた平板ディスプレイ装置は、さらに一つのＴＦＴ、特に、ソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造の第２ＴＦＴ ２１０をさらに備えることができる。これについて、図４及び図５を参照して説明すれば、第２ゲート電極２１１が備えられ、前記第２ゲート電極２１１と絶縁される第３電極２１３が備えられ、前記第２ゲート電極２１１と絶縁され、前記第３電極２１３を同一平面で取り囲む第４電極２１２を備え、前記第２ゲート電極２１１と絶縁され、前記第３電極２１３及び前記第４電極２１２に接する半導体層２８０が備えられる。このとき、前記第３電極２１３及び前記第４電極２１２のうち、何れか一つの電極が前記第１ゲート電極２５１に電気的に連結されるところ、図４及び図５では、前記第３電極２１３に連結されている。
【００６９】
前記のような構造において、前記第３電極２１３及び前記第４電極２１２は、前記第２ゲート電極２１１の上部に備えられれば良いところ、この場合にも、インバーティドコプラナ型またはインバーティドスタガード型となりうる。但し、図５に示された平板ディスプレイ装置においては、インバーティドコプラナ型に備えられている。これは、前述した第１ＴＦＴ ２５０と同じ構造にするためであり、後述する実施形態のように、前記第１ＴＦＴ ２５０と前記第２ＴＦＴ ２１０とをインバーティドスタガード型に備えさせることができる。これについては、後述する。
【００７０】
前述したような構造の第２ＴＦＴ ２１０においても、前述したような理由で、前記第２ゲート電極２１１は、前記第３電極２１３及び前記第４電極２１２の間の領域に対応するように備えられうる。そして、前記第３電極２１３と前記第４電極２１２のうち、何れか一つの電極はソース電極となり、他の電極はドレイン電極となるところ、図４及び図５には、前記第３電極２１３が第２ドレイン電極となり、前記第４電極２１２が第２ソース電極となる構造を示している。これと違って、前記第３電極２１３が第２ソース電極となり、前記第４電極２１２が第２ドレイン電極となる構造は、別途の実施形態として後述する。
【００７１】
前記のような構造において、前記第１ゲート電極２５１、前記第２ゲート電極２１１及び前記第１キャパシタ２４１の電極を覆うように、前記基板２８１の全面にゲート絶縁膜２８３がさらに備えられ、前記第１電極２５３ないし前記第４電極２１２、前記第２キャパシタ電極２４２及び前記半導体層２８０を覆うように、前記基板２８１の全面に保護膜２８５をさらに備えさせることができる。この場合、前記ストレージキャパシタ２４０を前記第１ＴＦＴ ２５０及び前記第２ＴＦＴ ２１０に連結させて備えさせるためには、コンタクトホールが備えられねばならないところ、これについて説明する。
【００７２】
前述したように、本実施形態による平板表示装置のＴＦＴは、前記半導体層２８０が前記第１電極２５３ないし前記第４電極２１２の上部に備えられるインバーティドコプラナ型ＴＦＴである場合である。このとき、前述したように、前記第３電極２１３と前記第１キャパシタ電極２４１とが互いに連結されるところ、このために、前記第３電極２１３の一部が露出されるように、前記保護膜２８５及び前記半導体層２８０に第１コンタクトホール２８５ｂが備えられ、前記第１キャパシタ電極２４１の一部が露出されるように、前記保護膜２８５、前記半導体層２８０及び前記ゲート絶縁膜２８３に第２コンタクトホール２８５ｃが備えられる。前記第３電極２１３と前記第１キャパシタ電極２４１は、前記第１コンタクトホール２８５ｂ、前記第２コンタクトホール２８５ｃ、そして前記保護膜２８５の上部にわたって備えられた配線で連結される。このとき、前記第３電極２１３と前記第１キャパシタ電極２４１とを連結する前記配線は、前記第１ＴＦＴ ２５０の第１電極２５３、すなわち、第１ドレイン電極に連結される画素電極２６１を形成する時、前記画素電極２６１と同一材料で同時に形成させることができる。
【００７３】
前記のような構造において、図２ないし図５を参照して、各構造の相互関係を有機的に説明する。前記第２ＴＦＴ ２１０の第４電極２１２は、第１導線２２０によって駆動回路に連結され、第２ＴＦＴの第２ゲート電極２１１は、第２導線２３０によって駆動回路に連結され、第２ＴＦＴの第３電極２１３は、ストレージキャパシタ２４０の第１キャパシタ電極２４１及び第１ＴＦＴ ２５０の第１ゲート電極２５１に連結される。前記のような構造において、前記第４電極２１２は、前記第２ＴＦＴ ２１０のソース電極となり、前記第３電極２１３は、前記第２ＴＦＴ ２１０のドレイン電極となる。また、前記第１導線２２０をデータの伝送するデータライン、第２導線２３０をスキャンラインに該当させ、この場合、前記第２トランジスタ２１０がスイッチングトランジスタの役割を行い、前記第１トランジスタ２５０がドライビングトランジスタの役割を行う。もちろん、前記選択駆動回路において、二つ以上のトランジスタを使用することもある。本実施形態及び後述する実施形態においては、スイッチングトランジスタとドライビングトランジスタの２つのトランジスタが使われた場合について説明する。
【００７４】
前記ストレージキャパシタ２４０の第２キャパシタ電極２４２と前記第１ＴＦＴ ２５０の第２電極２５２とは第３導線２７０に連結され、前記第１ＴＦＴ ２５０の第１電極２５３は、表示部２６０の画素電極２６１に連結される。前記のような構造において、前記第２電極２５２は、前記第１ＴＦＴ ２５０のソース電極となり、前記第１電極２５３は、前記第１ＴＦＴ ２５０のドレイン電極となる。
【００７５】
前述したように、前記表示部２６０は、ＥＬ素子となりうるところ、この場合、図５から分かるように、ディスプレイ部の対向電極２６２は、前記画素電極２６１と所定の間隙をおいて対向配置され、前記画素電極２６１と前記対向電極２６２との間には、少なくともＥＭＬを含む中間層２８７が備えられる。前記画素電極２６１、対向電極２６２、そしてその間に介在される少なくともＥＭＬを含む中間層２８７の構造及び材料は、前述した通りである。
【００７６】
前記のような能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の作動原理を簡略に説明すれば、次の通りである。
【００７７】
駆動回路によって第２ゲート電極２１１に電圧が印加されれば、第４電極、すなわち、第２ソース電極２１２と第３電極、すなわち、第２ドレイン電極２１３を連結する半導体層２８０に導電チャンネルが形成されるが、このとき、第１導線２２０によって、ＥＭＬを含む中間層２８７から発生する光量を決定するデータを有する電荷が前記第２ソース電極２１２に供給されれば、前記電荷が前記第２ドレイン電極２１３に移動する。そして、前記電荷は、前記第２ドレイン電極２１３を経て第１キャパシタ電極２４１に蓄積され、また、第３導線２７０を通じて供給された所定の電荷が第２キャパシタ電極２４２に蓄積され、前記第１キャパシタ電極２４１と前記第２キャパシタ電極２４２の両端に、ＥＭＬを含む中間層２８７から発生する光量を決定するデータを有する電圧が形成される。そして、前記電圧が第１ゲート電極２５１と第２電極、すなわち第１ソース電極２５２の間の電圧となって、前記第３導線２７０を通じて前記第１ソース電極２５２に供給された電荷のうち、第１ドレイン電極２５３を経て表示部、すなわち、ＥＬ素子２６０の画素電極２６１に移動する電荷量、すなわち、ＥＭＬを含む中間層２８７から発生する光量を決定する電荷量を調節する。
【００７８】
前述したような構造の能動駆動型ＥＬ素子においては、各副画素別にドライビングトランジスタ及びスイッチングトランジスタなどの複数個のＴＦＴが使われるところ、前記のようなＴＦＴにおいて、クロストークが発生すれば、表示部２６０での光量の調節が正しくなされなくなり、その結果、正しい像を表現できなくなる。
【００７９】
したがって、前述したようなソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴを使用すれば、半導体層をパターニングせずともそのようなクロストークを防止することによって、さらに鮮明かつ正確な像を表せる。
【００８０】
図６は、本発明の望ましい第３実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。
【００８１】
本実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置が、前述した第２実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置と異なる点は、第２ＴＦＴ ３１０の第３電極３１３と、ストレージキャパシタ３４０の第１キャパシタ電極３４１とを連結するのにおいて、金属層３４３がさらに備えられているという点である。
【００８２】
前述したように、前記第３電極３１３と前記第１キャパシタ電極３４１とを連結するために、前記第３電極３１３の一部が露出されるように、保護膜３８５及び半導体層３８０に第１コンタクトホール３８５ｂが備えられ、前記第１キャパシタ電極３４１の一部が露出されるように、前記保護膜３８５、前記半導体層３８０及びゲート絶縁膜３８３に第２コンタクトホール３８５ｃが備えられる。前記第３電極３１３と前記第１キャパシタ電極３４１は、前記第１コンタクトホール３８５ｂ、前記第２コンタクトホール３８５ｃ、そして前記保護膜３８５の上部にわたって備えられた配線で連結する。もちろん、前述したように、前記第３電極３１３と前記第１キャパシタ電極３４１とを連結する前記配線は、第１ＴＦＴ ３５０の第１電極３５３、すなわち第１ドレイン電極に連結される画素電極３６１を形成する時、前記画素電極３６１と同一材料で同時に形成させることができる。これは、後述する実施形態においても同様である。
【００８３】
前記のような形態の配線で前記第３電極３１３と前記第１キャパシタ電極３４１とを連結するのにおいて、前記配線と前記第１キャパシタ電極３４１との接触を確実にするために、前記第１キャパシタ電極３４１を覆っているゲート絶縁膜３８３上に備えられ、前記ゲート絶縁膜３８３に備えられた第２コンタクトホール３８５ｃを通じて、前記第１キャパシタ電極３４１に連結される金属層３４３を前記形態の配線にさらに備えさせることができる。この場合、前記金属層３４３は、第１電極３５３ないし第４電極３１２、そして第２キャパシタ電極３４２を形成する時、同時に同じ材料で形成させることができる。
【００８４】
前記のような構造にすることによって、前記第３電極３１３と前記第１キャパシタ電極３４１とを連結するのにおいて、第２コンタクトホール３８５ｃ内で前記配線が前記第１キャパシタ電極３４１に接触されえないという不良を防止できる。
【００８５】
図７は本発明の望ましい第４実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。本実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置が、前述した第２実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置と異なる点は、第１ＴＦＴ ４５０及び第２ＴＦＴ ４１０がインバーティドコプラナ型ではない、インバーティドスタガード型という点である。すなわち、第１電極４５３ないし第４電極４１２が半導体層４８０の上部に備えられている。
【００８６】
前記のように、半導体層４８０が各ＴＦＴ別にパターニングされていないインバーティドスタガード型のＴＦＴを使用しても、ソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴを使用して、図７に示されたような構造を有させることによって、クロストークを防止してさらに鮮明かつ正確な像を表せる。
【００８７】
図８は、本発明の望ましい第５実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。本実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置は、前述した第４実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置と同一の、インバーティドスタガード型ＴＦＴを備えている。本実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置が、前述した第４実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置と異なる点は、第２ＴＦＴ ５１０の第３電極５１３と、ストレージキャパシタ５４０の第１キャパシタ電極５４１とを連結するのにおいて、金属層５４３がさらに備えられているという点である。
【００８８】
本実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置においても、前記第３電極５１３と前記第１キャパシタ電極５４１とを連結するために、前記第３電極５１３の一部が露出されるように、保護膜５８５及び半導体層５８０に第１コンタクトホール５８５ｂが備えられ、前記第１キャパシタ電極５４１の一部が露出されるように、前記保護膜５８５、前記半導体層５８０及びゲート絶縁膜５８３に第２コンタクトホール５８５ｃが備えられる。
【００８９】
前記第３電極５１３と前記第１キャパシタ電極５４１は、前記第１コンタクトホール５８５ｂ、前記第２コンタクトホール５８５ｃ、そして前記保護膜５８５の上部にわたって備えられた配線で連結されるのは、前述した第４実施形態による能動駆動型ＥＬ素子と同一である。
【００９０】
本実施形態では、前記のような形態の配線で前記第３電極５１３と前記第１キャパシタ電極５４１とを連結するのにおいて、前記配線と前記第１キャパシタ電極５４１との接触を確実にするために、前記第１キャパシタ電極５４１を覆っている半導体層４８０上に備えられ、前記半導体層４８０及びその下部のゲート絶縁膜５８３に備えられた第２コンタクトホール５８５ｃを通じて、前記第１キャパシタ電極５４１に連結される金属層５４３を前記形態の配線にさらに備えさせることができる。この場合、前記金属層５４３は、第１電極５５３ないし第４電極５１２、そして第２キャパシタ電極５４２を形成する時、同時に同じ材料で形成させることができる。
【００９１】
前記のような構造にすることによって、前記第３電極５１３と前記第１キャパシタ電極５４１とを連結するのにおいて、第２コンタクトホール５８５ｃ内で前記配線が前記第１キャパシタ電極５４１に接触されえないという不良を防止できる。
【００９２】
図９は、本発明の望ましい第６実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。
【００９３】
本実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置が、前述した第２実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置と異なる点は、第２ＴＦＴ ６１０のソース電極及びドレイン電極の位置が異なるという点である。
【００９４】
すなわち、前述した第２実施形態においては、第３電極２１３を第４電極２１２が取り囲んでおり、前記第３電極２１３はドレイン電極、前記第４電極２１２はソース電極となり、前記第３電極２１３は、ストレージキャパシタ２４０の第１キャパシタ電極２４１に連結されていた。しかし、本実施形態においては、第３電極６１３を第４電極６１２が取り囲んでいるのは同様であるが、前記第２実施形態とは違って、前記第３電極６１３はソース電極となり、前記第４電極６１２は、ドレイン電極となり、前記第４電極６１２は、ストレージキャパシタ６４０の第１キャパシタ電極６４１に連結され、第１ゲート電極６５１に電気的に連結されており、前記第３電極５１３は、第２配線６２０に連結されている。
【００９５】
前記のような構造において、前記第４電極６１２と前記第１キャパシタ電極６４１とが連結されるところ、前述した実施形態と違って、保護膜６８５の上部を経る形態の配線を使用せずとも、前記第４電極６１２と前記第１キャパシタ電極６４１とを連結できるという長所がある。また、前述した第３実施形態及び第５実施形態によるＥＬディスプレイ装置と違って、前記第４電極６１２と前記第１キャパシタ電極６４１との連結において、前記第１キャパシタ電極６４１への連結を確実にするために、金属層をさらに備える必要がないという長所がある。
【００９６】
一方、本実施形態の能動駆動型のＥＬディスプレイ装置では、半導体層６８０が第１電極６５３及び第４電極６１２の上部に備えられたインバーティドコプラナ型ＴＦＴを備えたディスプレイ装置であるが、もちろん、図１０に示された本発明の望ましい第７実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置のように、半導体層７８０が第１電極７５３及び第４電極７１２の下部に備えられたインバーティドスタガード型ＴＦＴを備えたディスプレイ装置にも本発明が適用されうる。
【００９７】
図１１は、本発明の望ましい第８実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置を概略的に示す平面図である。
【００９８】
前述したように、半導体層が、パターニングされておらず、ＴＦＴにおいて一体に備えられている場合、漏れ電流によって隣接したＴＦＴが互いに影響を与えることがあるなど、いわば、クロストークが発生しうるので、これを防止するために、前記半導体層を各ＴＦＴ単位にパターニングするのが良い。しかし、前記半導体層として有機半導体層を利用した有機ＴＦＴの場合、前記有機半導体層をパターニングすることは非常に難しく、前記有機半導体層がパターニングされても、前記有機半導体層の電気的特性が非常に悪くなるという問題点がある。
【００９９】
したがって、本発明では、前記のような問題点を解決するために、クロストークを防止できる、ソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴを導入した平板ディスプレイ装置を開示しているところ、このような構造のＴＦＴ間のクロストーク発生の可能性をさらに最小化するために、図１１に示されたように、第１ＴＦＴ ８５０と第２ＴＦＴ ８１０とをさらに遠く離隔させることができる。前記のような構造にすることによって、隣接したＴＦＴ間のクロストーク発生可能性をさらに最小化でき、これを通じてさらに正確かつ鮮明な像を具現できる。
【０１００】
一方、図４ないし図１１を参照すれば、ソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面で取り囲む構造のＴＦＴは、従来のＴＦＴに比べて占める面積が大きいため、前記のような構造のＴＦＴに連結されたディスプレイ素子から発生した光が、前記ＴＦＴの備えられた基板の逆方向に取り出される前面発光型である場合に、その効用性が大きいといえるが、本発明は、必ずしもそれに限定されず、背面発光型または両面発光型にも適用されうる。
【０１０１】
一方、前記第２実施形態ないし第８実施形態において、ディスプレイ素子としてＥＬ素子が備えられ、前記ＥＬ素子に電気的に連結され、前記ＥＬ素子を駆動させるものとして、二つのＴＦＴ及びキャパシタが備えられた構造を例として説明したが、本発明は、これに限定されない。すなわち、前述したように、ディスプレイ素子として液晶素子が備えられることもあり、そのような場合には、一つのＴＦＴと一つのキャパシタ、またはそれ以上のＴＦＴが備えられることもあり、キャパシタなしに二つまたはそれ以上のＴＦＴのみが備えられることもあるなど、色々な変形例が可能である。
【０１０２】
本発明は、図面に示された実施形態を参考として説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であることが分かる。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明のソース電極及びドレイン電極のうち、一電極が他の電極を同一平面に取り囲む構造のＴＦＴを備えた平板ディスプレイ装置を通じて、半導体層がパターニングされずとも、ＴＦＴ間のクロストークを防止することによって、製造コストが節減され、イメージ再現力が向上した平板ディスプレイ装置は、例えば平板表示装置の製造分野に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】従来のインバーティドコプラナ型ＴＦＴを概略的に示す断面図である。
【図２】本発明の望ましい一実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の回路を概略的  に示す回路図である。
【図３】図２のＡ部分を示す回路図である。
【図４】図２及び図３のＡ部分を概略的に示す能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の平面図である。
【図５】前記実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を図４のＰ１ないしＰ８に沿って概略的に示す断面図である。
【図６】本発明の望ましいさらに他の実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。
【図７】本発明の望ましいさらに他の実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。
【図８】本発明の望ましいさらに他の実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。
【図９】本発明の望ましいさらに他の実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。
【図１０】本発明の望ましいさらに他の実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置の副画素部を概略的に示す断面図である。
【図１１】本発明の望ましいさらに他の実施形態による能動駆動型のＥＬディスプレイ装置を概略的に示す平面図である。
【符号の説明】
【０１０５】
２１０  第２ＴＦＴ
２１１  第２ゲート電極
２１２  第４電極
２１３  第３電極
２２０  第１導線
２３０  第２導線
２４０  キャパシタ
２４１  第１キャパシタ電極
２４２  第２キャパシタ電極
２５０  第１ＴＦＴ
２５１  第１ゲート電極
２５２  第２電極
２５３  第１電極
２６１  画素電極
２７０  第３導線
２８５  保護膜
２８５ａ  コンタクトホール
２８５ｂ  第１コンタクトホール
２８５ｃ  第２コンタクトホール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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