(57)【要約】      （修正有）【課題】  強撥油性化合物のパターンを用い、高精細の有機ＥＬ素子を容易に製造する方法を提供する。【解決手段】１）一方の電極が形成された基材表面に、光開裂によるラジカル重合開始部位を有する化合物をパターン状に結合させる工程と、前記基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を接触させた後、全面露光を行い、重合開始部位を起点としてグラフトポリマーを生成させ生成領域と非生成領域とを形成する工程と、前記非生成領域に有機半導体材料を含有する流動体を付与し、有機化合物層を形成する工程と、を有する。２）前記基材表面に、光開裂によるラジカル重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を結合させる工程と、前記基材上にラジカル重合性化合物を接触させた後、パターン状に露光を行い、グラフトポリマーを生成させ、生成領域と非生成領域とを形成する工程と、前記非生成領域に有機化合物層を形成する工程と、を有する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に有機発光層を含む有機化合物層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
一方の電極が形成された基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物をパターン状に結合させる工程と、
前記光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物がパターン状に結合された基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を接触させた後、全面露光を行い、前記重合開始部位を起点としてグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを形成する工程と、
前記グラフトポリマーの非生成領域に、有機半導体材料を含有する流動体を付与して、前記有機化合物層を形成する工程と、
を有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
一方の電極が基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物をパターン状に結合させる工程が、
光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を、一方の電極が形成された基材表面に結合させる工程と、
パターン露光を行い、露光領域の前記重合開始部位を失活させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
一対の電極間に有機発光層を含む有機化合物層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
一方の電極が形成された基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を結合させる工程と、
前記光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物がパターン状に結合された基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を接触させた後、パターン状に露光を行い、露光領域の前記重合開始部位を起点としてグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを形成する工程と、
前記グラフトポリマーの非生成領域に、有機半導体材料を含有する流動体を付与して、有機発光層を含む有機化合物層を形成する工程と、
を有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記重合開始部位が、Ｃ−Ｃ結合、Ｃ−Ｎ結合、Ｃ−Ｏ結合、Ｃ−Ｃｌ結合、Ｎ−Ｏ結合、及びＳ−Ｎ結合からなる群より選択されるいずれかを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子の製造方法に関し、より詳細には、高精細にパターニングされた有機ＥＬ素子が容易に得られる有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、他の発光素子に比べて製造が容易であり、薄型かつ軽量の発光素子が構成できる等の利点を有していることから、薄型表示素子として研究開発が進められてきた。近年では、発光輝度、発光効率、耐久性等の点でも発光ダイオード（ＬＥＤ）に匹敵する高性能の有機ＥＬ素子が得られている。有機ＥＬ素子は、特に、安価な大面積フルカラー表示素子を実現するものとしても有望である。
【０００３】
有機ＥＬ素子の製造において、一対の電極間に設けられる有機化合物層である薄膜パターンを形成する方法としては、真空蒸着法、スピンコーティング法、印刷法、インクジェット法等が行われている。これらの中でも、インクジェット法は、精度の高いパターニングができること、大面積のパターン形成に適用可能であること、高度な真空装置を用いる必要がなく低価格化が可能であること、等の利点を有し、特に高分子系の有機化合物層の形成に好適である。インクジェット法を適用した有機ＥＬ素子の製造方法は、各種開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
ところで、インクジェット法を用いて基材上に薄膜パターンを形成に際して、薄膜パターンの形成精度を向上させるためには、基材上の薄膜パターン形成領域（有機化合物層の形成領域）以外の部分に、撥液性のバンク（凸状の隔壁）を設けることが行われている。例えば、特許文献２には、基板上に、インクジェット法を用いて簡便に撥インク性の被覆部を形成する目的で、基材上にアルキルシラン及び／又はフルオロアルキルシランを含有する光反応性組成物が塗布されたパターン形成用基板を、露光、現像して、光反応性組成物の被覆部と基板露出部とからなるパターンを形成する技術が開示されている。また、特許文献３には、有機半導体膜等の薄膜をインクジェット法により形成する際に、画素毎の膜厚のばらつきを抑えるために、所定の条件を満足するバンクを基板上に形成する技術が開示されている。
【０００５】
しかしながら、高精細な薄膜パターンを容易に形成するという観点からは、上記いずれの技術も充分なものとはいえず、特に、インクジェット法を適用して有機化合物層の形成を行う場合に、高精細なパターニングが、複雑な工程や高価な装置を必要とせず容易に行える有機ＥＬ素子の製造方法については、未だ提供されていないのが現状である。
【特許文献１】特開平１１−４０３５８号公報
【特許文献２】特開２００３−２９７５６７号公報
【特許文献３】特開２０００−３５３５９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記従来の問題点を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、フッ素化合物などの強撥油性を示す化合物を用いたパターン状の撥油性領域を備えるパターン材料を用い、複雑な工程や高価な装置を必要とせず、高精細にパターニングされた有機ＥＬ素子を容易に製造することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は鋭意検討の結果、光により局所的に重合開始活性点を生じうる機能を有する基材を用い、その重合開始活性点を起点として、フッ素化合物などの強撥油性官能基を有するグラフトポリマーをパターン状に生成させたパターン材料を形成し、そのパターン材料を用いることにより、上記目的を達成しうることを見出して本発明を完成した。
【０００８】
即ち、本発明の請求項１に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、一対の電極間に有機発光層を含む有機化合物層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、一方の電極が形成された基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物（以下、適宜「光開裂化合物」と称する。）をパターン状に結合させる工程と、前記光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物がパターン状に結合された基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を接触させた後、全面露光を行い、前記重合開始部位を起点としてグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを形成する工程と、前記グラフトポリマーの非生成領域に有機半導体材料を含有する流動体を付与して、前記有機化合物層を形成する工程と、を有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法である（以下、「本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第１の態様」と称する）。
【０００９】
上記一方の電極が基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物（以下、適宜、「光開裂化合物」と称する。）をパターン状に結合させる工程には、特に制限はなく、例えば、基材表面全体に光開裂化合物を結合させた後、所望のパターン露光により露光領域の重合開始部位を分解（失活）させる方法や、マイクロコンタクトプリンティングにより所望のパターン状に光開裂化合物を基材表面に付着させ、結合させる方法などを用いることができる。
なお、得られるパターンの解像度及びデジタルデータへの応用を考慮すれば、本発明の請求項２に係る有機ＥＬ素子の製造方法のように、一方の電極が基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物をパターン状に結合させる工程と、パターン露光を行い、露光領域の前記重合開始部位を失活させる工程と、を含む方法を用いることが好ましい。
【００１０】
本発明の請求項３に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、一対の電極間に有機発光層を含む有機化合物層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、一方の電極が形成された基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を結合させる工程と、前記光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物がパターン状に結合された基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を接触させた後、パターン状に露光を行い、露光領域の前記重合開始部位を起点としてグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを形成する工程と、前記グラフトポリマーの非生成領域に有機半導体材料を含有する流動体を付与して、有機発光層を含む有機化合物層を形成する工程と、有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法である（以下、「本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第２の態様」と称する）。
【００１１】
本発明において、重合開始活性点を生じうる前記重合開始部位としては、Ｃ−Ｃ結合、Ｃ−Ｎ結合、Ｃ−Ｏ結合、Ｃ−Ｃｌ結合、Ｎ−Ｏ結合、及びＳ−Ｎ結合からなる群より選択されるいずれかを含むことが好ましい態様である。
【００１２】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法において、グラフトポリマーの生成は、上記したいずれの態様も、露光により光開裂が生起した重合開始部位を起点として、フリーラジカル重合を用いた重合反応で行われるため、重合速度が速く、また、重合反応に厳密な制御を必要としない。そのため、基材表面には、容易に、高撥油性を有するグラフトポリマーの生成領域と非生成領域とからなるパターンを形成することが可能になったものと考えられる。
また、本発明においては、例えば、フッ素化合物を用いた単分子膜の層厚と比較して、グラフトポリマーの生成領域の層厚が厚いため、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域との間に、接触角の違いに加え、隔壁効果が発現する。このため、グラフトポリマーの非生成領域には、より精度よく、有機化合物層を形成するための有機半導体材料を含有する流動体を付与することができるものと推測される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、フッ素化合物などの強撥油性を示す化合物を用いたパターン状の撥油性領域を備えるパターン材料を用い、複雑な工程や高価な装置を必要とせず、高精細にパターニングされた有機ＥＬ素子を容易に製造することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明について詳細に説明する。
≪本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第１の態様≫
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第１の態様では、まず、一方の電極が形成された基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位を有する化合物（光開裂化合物）をパターン状に結合させる工程を行うことを特徴とする。
なお、以下の説明においては、「電極が形成された基材」又は「電極が形成された基材表面」を、単に「基材」又は「基材表面」という場合がある。
【００１５】
この光開裂化合物結合工程には、一方の電極が形成された基材表面全体に光開裂化合物を結合させた後、所望のパターン露光により露光領域の重合開始部位を分解（失活）させる方法や、マイクロコンタクトプリンティングにより所望のパターン状に光開裂化合物を基材表面に付着させ、結合させる方法などを用いることができる。
この態様において最も好ましいのは、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材表面に結合させる工程（以下、適宜、「光開裂化合物結合工程（Ａ）」と称する。）と、パターン露光を行い、露光領域の前記重合開始部位を失活させる工程（以下、適宜、「重合開始能失活工程」と称する。）とを有する方法である。
【００１６】
この工程に続いて、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第１の態様は、一方の電極が形成された基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を接触させた後、全面露光を行い、光開裂が生起した前記重合開始部位を起点としてグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを形成する工程（以下、適宜、「グラフトポリマー生成工程（Ａ）」と称する。）と、前記グラフトポリマーの非生成領域に、有機半導体材料を含有する流動体を付与して、有機発光層を含む有機化合物層を形成する工程（以下、適宜、「有機化合物層形成工程」と称する。）と、を行うことを特徴とする。
【００１７】
以下、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第１の態様について、最も好ましい例を用いて、グラフトポリマー生成工程（Ａ）までの概略について、図１を用いて説明する。
ここで、図１は、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第１の態様における各工程の概略を例示的に示す概念図である。
【００１８】
図１（ａ）に示されるように、基材表面には当初より官能基（図中、Ｚで表される）が存在する。この基材表面に、基材結合部位（Ｑ）と、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位（Ｙ）と、を有する化合物（Ｑ−Ｙ）を接触させる。これにより、図１（ｂ）に示されるように、基材表面に存在する官能基（Ｚ）と、基材結合部位（Ｑ）と、が結合して、基材表面に化合物（Ｑ−Ｙ）が導入される〔光開裂化合物結合工程（Ａ）〕。
その後、この化合物（Ｑ−Ｙ）が導入された面に、図１（ｂ）の矢印のようにパターン露光を行う。これにより、重合開始部位（Ｙ）は、露光エネルギーにより光開裂する。その結果、図１（ｃ）に示されるように、露光領域の化合物（Ｑ−Ｙ）は、重合開始部位（Ｙ）が分解・失活して、重合開始能失活部位（Ｓ）となる〔重合開始能失活工程〕。
その後、図１（ｄ）に示されるように、撥油性の官能基を有するモノマー等のグラフトポリマーの原料を接触させた状態で、図１（ｄ）の矢印のように全面露光を行う。これにより、図１（ｅ）に示されるように、重合開始部位（Ｙ）が残存している領域において、化合物（Ｑ−Ｙ）の重合開始部位（Ｙ）を起点としてグラフトポリマーが生成する。〔グラフトポリマー生成工程（Ａ）〕。
【００１９】
以下、このような各工程について具体的に説明する。
図１において（Ｚ）で表示される基は、基材表面に存在する官能基であり、具体的には、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。これらの官能基はシリコン基材、ガラス基材における基材の材質に起因して基材表面にもともと存在しているものでもよく、基材表面にコロナ処理などの表面処理を施すことにより表面に存在させたものであってもよい。
【００２０】
本発明における基材及び一対の電極（陰極及び陽極）は、有機ＥＬ素子の構成により適宜選択される。即ち、例えば、有機ＥＬ素子において、後述する有機発光層からの発光が基材側から放出される場合には、基材及び陽極は、各々、透明基板及び透明電極とすることが好ましい。この場合、陰極は反射電極とするか、又は陰極における有機化合物層と隣接しない側に反射膜を設けることが好ましい。
一方、有機ＥＬ素子において、有機発光層からの発光が陽極側から放出される場合には、陰極を反射電極とするか、又は、陽極と基材との間に反射膜を設けることが好ましい。この場合、基材は透明であってもよいし不透明であってもよい。
本発明により製造される有機ＥＬ素子の構成としては、光の取出し効率の観点から、有機発光層からの発光が基材側から放出される構成とすることが好ましい。
【００２１】
ここで、本発明に適用される基材及び電極について説明する。
本発明における基材としては、通常、有機ＥＬ素子に用いられるものであれば特に限定されないが、有機化合物層から発せられる光を散乱又は減衰させない基材であることが好ましく、かかる観点からは透明基板を用いることが好ましい。具体的には、ガラス、石英、透明樹脂（ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、及びポリスルホン、等）などが好適に用いられる。基板の厚みは、機械的強度及び熱的強度を保つのに充分であれば特に制限はないが、通常、１０μｍ以上、好ましくは５０μｍ〜５ｍｍ程度のものを用いる。
なお、本発明における基材表面は、水酸基、カルボキシル基、アミノ基などの官能基（Ｚ）を有することが必要であることから、基材表面に、コロナ処理、グロー処理、プラズマ処理などの表面処理を行い、水酸基、カルボキシル基などを発生させてもよい。
【００２２】
基材の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、２以上の部材で形成されていてもよい。
【００２３】
基材は、無色透明であっても有色透明であってもよいが、有機発光層から発せられる光を散乱又は減衰等させることがない点で、無色透明であることが好ましい。
【００２４】
本発明における一対の電極（陽極及び陰極）としては、通常、有機ＥＬ素子に用いられる電極であれば特に限定されない。
なお、本発明の第１の態様においては、基材上に、陽極又は陰極の何れか一方の電極が形成された後、光開裂化合物結合工程（Ａ）、重合開始能失活工程、グラフトポリマー生成工程（Ａ）、及び、有機化合物層形成工程が順次行われ、その後に他方の電極が形成される。基材上に先ず形成される電極は、陽極及び陰極のいずれであってもよいが、陽極であることが好ましい。
【００２５】
陽極は、通常、有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。前述のごとく、陽極は、透明陽極として設けられることが好ましい。
【００２６】
陽極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物が好適に挙げられ、仕事関数が４．０ｅＶ以上の材料が好ましい。陽極材料の具体例としては、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫（ＡＴＯ、ＦＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられる。この中で好ましいのは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはＩＴＯが好ましい。
陽極の厚さは、材料により適宜選択可能であるが、通常、５ｎｍ〜１０μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは２０ｎｍ〜０．５μｍである。
【００２７】
陽極の形成方法としては、材料によって種々の方法が用いられるが、例えば、ＩＴＯの場合であれば、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾル−ゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布などの方法で成膜される。
陽極は、洗浄その他の処理により、素子の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などが効果的である。
【００２８】
陰極は、通常、有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられ、仕事関数が４．５ｅＶ以下のものが好ましい。具体例としてはアルカリ金属（たとえば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ等）、アルカリ土類金属（たとえばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属、などが挙げられる。
【００２９】
これらの中でも、陰極を構成する材料としては、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１〜１０質量％のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）をいう。
【００３０】
陰極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の化学的方式などの中から、前記した陰極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って形成することができる。例えば、陰極の材料として、金属等を選択する場合には、その１種又は２種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って行うことができる。
陰極の厚さは、材料により適宜選択可能であるが、通常、５ｎｍ〜１０μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは２０ｎｍ〜０．５μｍである。
【００３１】
次に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位（以下、単に、重合開始部位と称する。）と基材結合部位とを有する化合物（光開裂化合物）の構造について具体的に説明する。
この光開裂化合物について、図１の概念図における、基材結合部位（Ｑ）と、重合開始部位（Ｙ）と、を有する化合物（Ｑ−Ｙ）のモデルを用いて詳細に説明すれば、一般に、重合開始部位（Ｙ）は、光により開裂しうる単結合を含む構造である。
この光により開裂する単結合としては、カルボニルのα開裂、β開裂反応、光フリー転位反応、フェナシルエステルの開裂反応、スルホンイミド開裂反応、スルホニルエステル開裂反応、Ｎ−ヒドロキシスルホニルエステル開裂反応、ベンジルイミド開裂反応、活性ハロゲン化合物の開裂反応などを利用して開裂が可能な単結合が挙げられる。これらの反応により、光により開裂しうる単結合が切断される。この開裂しうる単結合としては、Ｃ−Ｃ結合、Ｃ−Ｎ結合、Ｃ−Ｏ結合、Ｃ−Ｃｌ結合、Ｎ−Ｏ結合、及びＳ−Ｎ結合等が挙げられる。
【００３２】
また、これらの光により開裂しうる単結合を含む重合開始部位（Ｙ）は、グラフトポリマー生成工程（Ａ）におけるグラフト重合の起点となることから、光により開裂しうる単結合が開裂すると、その開裂反応によりラジカルを発生させる機能を有する。このように、光により開裂しうる単結合を有し、かつ、ラジカルを発生可能な重合開始部位（Ｙ）の構造としては、芳香族ケトン基、フェナシルエステル基、スルホンイミド基、スルホニルエステル基、Ｎ−ヒドロキシスルホニルエステル基、ベンジルイミド基、トリクロロメチル基、ベンジルクロライド基などの基を含む構造が挙げられる。
【００３３】
このような重合開始部位（Ｙ）は、露光により開裂してラジカルを発生するため、そのラジカル周辺に重合可能な化合物が存在する場合には、このラジカルがグラフト重合反応の起点として機能し、所望のグラフトポリマーが生成されて、グラフトポリマー生成領域が形成される。
一方、重合開始部位（Ｙ）が露光により開裂してラジカルが発生しても、ラジカルの周辺に重合可能な化合物が存在しない場合には、そのラジカルは使用されず失活してしまい、その結果、重合開始能自体が失活することとなる。その結果、このような領域はグラフトポリマー非生成領域となる。
【００３４】
一方、基材結合部位（Ｑ）としては、基材表面に存在する官能基（Ｚ）と反応して結合しうる反応性基で構成され、その反応性基としては、具体的には、以下に示すような基が挙げられる。
【００３５】
【化１】
2006012735.tif 000002
【００３６】
また、重合開始部位（Ｙ）と、基材結合部位（Ｑ）と、は直接結合していてもよいし、連結基を介して結合していてもよい。この連結基としては、炭素、窒素、酸素、及び硫黄からなる群より選択される原子を含む連結基が挙げられ、具体的には、例えば、飽和炭素基、芳香族基、エステル基、アミド基、ウレイド基、エーテル基、アミノ基、スルホンアミド基等が挙げられる。なお、この連結基は更に置換基を有していてもよく、その導入可能な置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【００３７】
基材結合部位（Ｑ）と、重合開始部位（Ｙ）と、を有する化合物（Ｑ−Ｙ）の具体例〔例示化合物１〜例示化合物１６〕を、開裂部と共に以下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。
【００３８】
【化２】
2006012735.tif 000003
【００３９】
【化３】
2006012735.tif 000004
【００４０】
【化４】
2006012735.tif 000005
【００４１】
本発明における光開裂化合物結合工程（Ａ）は、このような化合物（Ｑ−Ｙ）を基材に結合させる工程である。
例示された如き化合物（Ｑ−Ｙ）を基材表面に存在する官能基（Ｚ）に結合させる方法としては、化合物（Ｑ−Ｙ）を、トルエン、ヘキサン、アセトンなどの適切な溶媒に溶解又は分散し、その溶液又は分散液を基材表面に塗布する方法、又は、溶液又は分散液中に基材を浸漬する方法などを適用すればよい。このとき、溶液中又は分散液の化合物（Ｑ−Ｙ）の濃度としては、０．０１質量％〜３０質量％が好ましく、特に０．１質量％〜１５質量％であることが好ましい。接触させる場合の液温としては、０℃〜１００℃が好ましい。接触時間としては、１秒〜５０時間が好ましく、１０秒〜１０時間がより好ましい。
【００４２】
その後、重合開始能失活工程において、グラフトポリマーを生成させたくない領域に沿ってパターン露光を行い、基材表面に結合している化合物（Ｑ−Ｙ）を光開裂させ、重合開始能を失活させる。その結果、基材表面には、重合開始可能領域と、重合開始能失活領域と、が形成される。
ここで、グラフトポリマーを生成させたくない領域とは、有機化合物層を形成するための有機半導体材料を含有する流動体を付与する領域であって、有機ＥＬ素子における各々の画素に相当する領域である。そのため、本工程においては、この領域に露光を行い、その露光領域のみを重合開始能失活領域とする。
【００４３】
また、本工程においては、高解像度のパターン露光を行うことが好ましい。高解像度のパターン露光には、光学系を用いた光ビーム走査露光、マスクを用いた露光などが好適に用いられ、所望のパターンの解像度に応じた露光方法をとればよい。また、ｉ線ステッパー、ＫｒＦステッパー、ＡｒＦステッパーのようなステッパー露光などを用いることができる。
【００４４】
そして、このようにして、重合開始可能領域と、重合開始能失活領域と、が形成された基材に対し、グラフトポリマー生成工程（Ａ）が行なわれる。
このグラフトポリマー生成工程（Ａ）では、重合開始可能領域と重合開始能失活領域とを有する基材上に、所望とするグラフトポリマーの材料となる、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物（例えば、フッ素含有モノマーに代表される撥油性モノマーなど）を接触させた後、全面露光を行い、重合開始可能領域の重合開始部位（Ｙ）を光開裂させてラジカルを発生させ、そのラジカルを起点として、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物のグラフト化反応を生起、進行させる。その結果、重合開始可能領域にのみ、撥油性を有するグラフトポリマーが生成する。
【００４５】
グラフトポリマー生成工程（Ａ）におけるグラフトポリマーの生成方法について詳細に説明する。
本発明におけるグラフトポリマーは、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を原料とし、露光により光開裂した重合開始部位（Ｙ）から発生したラジカルを起点として生成する。
グラフトポリマーの生成の際には、まず、原料である、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を基材上に接触させるが、その方法としては、当該化合物を単独で接触させる、いわゆる無溶媒で接触させる方法、当該化合物が溶解された溶液又は分散された分散液を塗布する方法、その溶液又は分散液中に基材を浸漬する方法などがある。
原料を無溶媒で基材上に接触させる場合、基材上に接触させる組成物中の撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物の濃度は１００％となる。
また、ハンドリング性の観点から、このような撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を溶解しうる溶媒で希釈して、組成物として用いることが好ましい。ここで用いる溶媒には特に制限はないが、メタノール、アセトン、メチルエチルケトン、エタノール、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等が好ましい。また、このとき、該組成物中には、撥油性の官能基を有する撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物と共に、必要に応じて、他の単官能及び多官能モノマーや、界面活性剤、増粘剤等の添加剤を添加してもよい。
【００４６】
撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を含有する組成物を前記基材上に接触させる際には、重合開始部位を有する開始剤化合物層の表面が溶解し、グラフトポリマーの生成が不均一となることを抑制するため、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を含有する組成物中に含まれる溶剤やその他の化合物には、開始剤化合物層を溶解しない物性を有するものを選択することが好ましい。
【００４７】
グラフトポリマーの生成する際の酸素による重合阻害を防止するため、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を含有する組成物の基材への接触、及び、グラフト重合反応を、窒素などの不活性ガス雰囲気下で行なったり、基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を含有する組成物を接触させた後、グラフト重合反応を生起させるための光が透過する材質、例えば、ガラス、石英、透明プラスチック製の板やフィルム等で、当該組成物を覆ってもよい。
【００４８】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第１の態様における露光（パターン露光及び全面露光）には、光開裂化合物の重合開始部位（Ｙ）を光開裂させることができる波長の光であれば、特に制限なく用いることができるが、具体的な波長としては、波長２００〜８００ｎｍ、好ましくは、３００〜６００ｎｍの紫外線及び可視光線が望ましい。
また、その光源としては、具体的には、高圧水銀灯、低圧水銀灯、ハロゲンランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー、色素レーザー、ＹＡＧレーザー、太陽光等が挙げられる。
【００４９】
次に、本発明におけるグラフトポリマー生成工程（Ａ）に用いられる、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物について説明する。
撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物としては、撥油性の官能基を有し、かつ、ラジカル重合性基を有する化合物であれば、如何なるものも用いることができるが、それらは、モノマー、マクロマー、オリゴマー、ポリマーなどのいずれの形態を有するものであってよい。
【００５０】
（撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物）
以下に、グラフトポリマー生成工程（Ａ）において好適に用いられる、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物について例示する。
本発明において、撥油性を有するグラフトポリマーの生成領域と非生成領域との間に高いディスクリミネーションを発現するという観点からは、形成されたグラフトポリマーの空中水滴接触角は、９０度以上あることが望ましい。この高い撥油性の値はＥＳＣＡで測定した表面原子量の割合で予想することができる。例えば、シリコンを含有するシリコン系グラフトポリマーの場合は表面の元素組成中に占めるＳｉの比率がＳｉ、Ｃ、及びＯの合計量に対して１０原子％以上あればほぼ達成できる。また、フッ素を含有するフッ素系グラフトポリマーの場合は表面の元素組成中に占めるＦの比率がＦ、Ｃ、及びＯの合計量に対して３０原子％以上必要である。このような表面原子量を有するグラフトポリマーを生成させるためには、原料として、少なくともシリコン系モノマーの場合には、モノマーの構成原子のうちケイ素量が１０原子％以上であるものを用いることが必要であり、また、フッ素系モノマーの場合は、モノマーの構成原子のうちフッ素量が３０原子％以上であるものを用いることが必要である。従って、高い撥油性を発現させるためには、このような要件を満足するモノマーを使用することが必要である。
また、上記のような表面原子量を有するグラフトポリマーを生成させるための材料としての、マクロマー、オリゴマー、ポリマーなども、同様に、分子中のケイ素やフッ素の原子の含有割合が上記の範囲であるものを用いることが必要である。
【００５１】
上記の要件を満足するような撥油性の官能基を有するモノマーとしては、具体的には、フッ素含有モノマー、ケイ素（シリコーン）含有モノマーなどが挙げられる。
以下、本発明において用いられるフッ素含有モノマー、及びケイ素（シリコーン）含有モノマーについて説明する。
【００５２】
−フッ素含有モノマー−
前記グラフトポリマー生成工程（Ａ）に用いられるフッ素含有モノマーとしては、下記一般式（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）及び（Ｖ）よりなる群から選ばれた少なくとも１種のフッ素含有モノマーが挙げられる。
ＣＨ2＝ＣＲ1ＣＯＯＲ2Ｒf  ・・・  （Ｉ）
〔式中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基、Ｒ2は、−ＣpＨ2p−、−Ｃ（ＣpＨ2p+1）Ｈ−、−ＣＨ2Ｃ（ＣpＨ2p+1）Ｈ−、又は−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を表わし、Ｒfは、−ＣnＦ2n+1、−（ＣＦ2）nＨ、−ＣnＦ2n+1−ＣＦ3、−（ＣＦ2）pＯＣnＨ2nＣiＦ2i+1、−（ＣＦ2）pＯＣmＨ2mＣiＦ2iＨ、−Ｎ（ＣpＨ2p+1）ＣＯＣnＦ2n+1、又は−Ｎ（ＣpＨ2p+1）ＳＯ2ＣnＦ2n+1を表わす。但し、ｐは１〜１０、ｎは１〜１６、ｍは０〜１０、ｉは０〜１６の整数である。〕
【００５３】
ＣＦ2＝ＣＦＯＲg  ・・・  （ＩＩ）
〔式中、Ｒgは、炭素数１〜２０のフルオロアルキル基を表わす。〕
ＣＨ2＝ＣＨＲg  ・・・  （ＩＩＩ）
〔式中、Ｒgは、炭素数１〜２０のフルオロアルキル基を表わす。〕
ＣＨ2＝ＣＲ3ＣＯＯＲ5ＲjＲ6ＯＣＯＣＲ4＝ＣＨ2  ・・・  （ＩＶ）
〔式中、Ｒ3、Ｒ4は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ5、Ｒ6は、各々独立に、−ＣqＨ2q−、−Ｃ（ＣqＨ2q+1）Ｈ−、−ＣＨ2Ｃ（ＣqＨ2q+1）Ｈ−、又は−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を表わし、Ｒjは、−ＣtＦ2t表わす。但し、ｑは１〜１０、ｔは１〜１６の整数である。〕
ＣＨ2＝ＣＨＲ7ＣＯＯＣＨ2（ＣＨ2Ｒk）ＣＨＯＣＯＣＲ8＝ＣＨ2  ・・・  （Ｖ）
〔式中、Ｒ7、Ｒ8は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表わし、Ｒkは、−ＣyＦ2y+1を表わす。但し、ｙは１〜１６の整数である。）
【００５４】
前記グラフトポリマー生成工程（Ａ）に用いられるフッ素含有モノマーの具体例を挙げるが、本発明はこれに制限されるものではない。
一般式（Ｉ）で示されるモノマーとしては、例えば、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）4ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、Ｃ7Ｆ15ＣＯＮ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）6（ＣＨ2）3ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）10（ＣＨ2）3ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）4ＣＨ（ＣＨ3）ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、
【００５５】
【化５】
2006012735.tif 000006
【００５６】
、ＣＦ3ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、（ＣＦ3）2ＣＦＯ（ＣＨ2）5ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）4ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5ＣＯＮ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）2ＣＯＮ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｈ（ＣＦ2）6Ｃ（Ｃ2Ｈ5）ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、Ｈ（ＣＦ2）8ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｈ（ＣＦ2）4ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｈ（ＣＦ2）ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、
【００５７】
【化６】
2006012735.tif 000007
【００５８】
、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）（ＣＨ2）10ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）（ＣＨ2）4ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）Ｃ（Ｃ2Ｈ5）ＨＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2などが挙げられる。
【００５９】
また、一般式（II）及び（III）で表わされるフルオロアルキル化オレフィンとしては、例えば、Ｃ3Ｆ7ＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ4Ｆ9ＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ10Ｆ21ＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ3Ｆ7ＯＣＦ＝ＣＦ2、Ｃ7Ｆ15ＯＣＦ＝ＣＦ2、及びＣ8Ｆ17ＯＣＦ＝ＣＦ2などが挙げられる。
【００６０】
一般式（IV）及び（Ｖ）で表わされるモノマーとしては、例えば、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2（ＣＦ2）3ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ（ＣＨ2Ｃ8Ｆ17）ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2などが挙げられる。
【００６１】
フッ素含有グラフトポリマーの材料となるモノマーとして、上記フッ素含有モノマーに加えて、本発明の効果を損なわない限りにおいて、フッ素を有しない他のモノマーを併用することができる。そのようなモノマーとしては、ラジカル重合可能なものであれば特に限定されないが、具体的には（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸類、及びそのアルキル又はグリシジルエステル類、スチレン、アルキル酸のビニルエステル類、ケイ素含有モノマーなどが挙げられる。
併用する場合の配合量は、フッ素含有モノマーに対して５０質量％以下が好ましい。
【００６２】
−ケイ素含有モノマー−
グラフトポリマー生成工程（Ａ）に用いられるケイ素含有モノマーとしては、Ｓｉ−ＣＨ3基若しくはＯ−Ｓｉ−ＣＨ3基を有するケイ素含有モノマーを挙げることができる。具体的には、シリコンアクリレート又はシリコンメタクリレートであり、一般式（ＣＨ3Ｏ）nＳｉ（ＣＨ3）4−ｎ−Ｒ3−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ4＝ＣＨ2で表されるものでり、Ｒ3は連結基であり、Ｒ4はメチル若しくは水素である。その他、例えば、特開２００３−３３５９８４公報の段落番号〔００２５〕に記載されるシリコン系モノマーもまた、好適なものとして挙げることができる。
【００６３】
本発明におけるグラフトポリマー生成工程（Ａ）では、上記フッ素含有モノマー、ケイ素含有モノマーに加え、フッ素系の官能基、ケイ素系の官能基などの撥油性の官能基と、ラジカル重合性基と、を有するポリマー（以下、「ラジカル重合性基含有撥油性ポリマー」と称する。）も使用することができる。
【００６４】
−ラジカル重合性基含有撥油性ポリマー−
本発明におけるラジカル重合性基含有撥油性ポリマーとは、分子内に、撥油性の官能基と、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリル基などのラジカル重合性を有するエチレン付加重合性不飽和基と、が導入されたポリマーを指す。このラジカル重合性基含有撥油性ポリマーは、ラジカル重合性基を主鎖末端及び／又は側鎖に有することを要し、その双方にラジカル重合性基を有することが好ましい。
【００６５】
このようなラジカル重合性基含有撥油性ポリマーは以下のようにして合成することができる。
合成方法としては、前記で挙げたフッ素含有モノマーなどの撥油性モノマーを使用し、（ａ）撥油性モノマーとエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとを共重合する方法、（ｂ）撥油性モノマーと二重結合前駆体を有するモノマーとを共重合させ、次に塩基などの処理により二重結合を導入する方法、（ｃ）カルボン酸などの官能基を有する撥油性ポリマーの官能基とエチレン付加重合性不飽和基を有する化合物とを反応させる方法、が挙げられる。これらの中でも、特に好ましいのは、合成適性の観点から、（３）撥油性ポリマーの官能基とエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとを反応させる方法である。
【００６６】
ラジカル重合性基含有撥油性ポリマーの合成に用いられる撥油性モノマーとしては、上述したフッ素モノマー、シリコーン系モノマーなどが挙げられる。
また、ラジカル重合性基含有撥油性ポリマーの合成に用いられる撥油性ポリマーとしては、これらの撥油性モノマーから選ばれる少なくとも一種を用いて得られる撥油性ホモポリマー若しくはコポリマーが挙げられる。
【００６７】
（ａ）の方法でラジカル重合性基含有撥油性ポリマーを合成する際、撥油性モノマーと共重合するエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、例えば、アリル基含有モノマーがあり、具体的には、アリル（メタ）アクリレート、２−アリルオキシエチルメタクリレートが挙げられる。
【００６８】
また、（ｂ）の方法でラジカル重合性基含有撥油性ポリマーを合成する際、撥油性モノマーと共重合する二重結合前駆体を有するモノマーとしては、２−（３−クロロ−１−オキソプロポキシ）エチルメタクリレー卜が挙げられる。
【００６９】
更に、（ｃ）の方法でラジカル重合性基含有撥油性ポリマーを合成する際、撥油性ポリマー中のカルボキシル基、アミノ基若しくはそれらの塩と、水酸基及びエポキシ基などの官能基と、の反応を利用して不飽和基を導入するために用いられる付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレートなど挙げられる。
【００７０】
これらの撥油性の官能基を有するモノマーや、ラジカル重合性基含有撥油性ポリマーは、その１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【００７１】
このようにして、グラフトポリマー生成領域と非生成領域とが形成された基材は、溶剤浸漬などの処理を行って、残存するホモポリマーを除去し、精製することが好ましい。具体的には、水やアセトンによる洗浄、乾燥、などが挙げられる。ホモポリマーの除去性の観点からは、超音波などの手段を採ることが好ましい。
精製後の基材は、その表面に残存するホモポリマーが完全の除去され、基材と強固に結合したパターン状の撥油性グラフトポリマーのみが存在することになる。
【００７２】
続いて、本態様においては、上記のようにして得られた、グラフトポリマーの非生成領域、つまり、基材の露出部に、有機半導体材料を含有する流動体を付与して、有機化合物層を形成する工程（有機化合物層形成工程）が行われる。
本発明において用いられる有機半導体材料としては、形成される有機化合物層の特性に応じて種々の材料を用いることができる。通常は、有機半導体材料を含有する流動体として、有機化合物層を構成する各種の有機半導体材料を含有する液状の組成物が用いられる。
【００７３】
本発明において形成される有機化合物層について説明する。
有機化合物層は、少なくとも有機発光層を含んで構成され、有機発光層以外の他の有機化合物層としては、例えば、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、等の各層が挙げられる。
【００７４】
有機発光層を構成する有機半導体材料としては、電界印加時に陽極又は正孔注入層等の陽極側から正孔を注入することができると共に、陰極又は電子注入層等の陰極側から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであればよい。
有機発光層の膜厚は、特に限定されるものではないが、通常、０．０１μｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは０．０５μｍ〜２μｍであり、更に好ましくは０．１μｍ〜１μｍである。
【００７５】
本発明における有機発光層に好適に用いられる発光材料（有機半導体材料）としては、耐久性に優れた点で共役系高分子有機化合物又はその前駆体が好ましく、例えば、加工性に優れた点でポリアリレンビニレン又はその前駆体等が例示される。ポリアリレンビニレンとしては、例えば、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリ（２，５−ジメトキシ−１，４−フェニレンビニレン）（ＭＯ−ＰＰＶ）、ポリ（２，５−ビスヘキシルオキシ−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン））（ＣＮ−ＰＰＶ）及びポリ（２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシルオキシ）−ｐ−フェニレンビニレン）（ＭＥＨ−ＰＰＶ）等及びその誘導体を包含する。発光材料としては、上記以外にも発光特性を向上させるために、公知の発光材料やドーパント材料を混合してもよい。例えば、金属オシノイド化合物（８−ヒドロキシキノリン金属錯体）、ブタジエン誘導体、クマリン誘導体、ジシアノメチレンピラン誘導体、フルオレッセイン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、アミノピレン誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、スチリルアミン誘導体、ビススチリルベンゼン誘導体及びトリススチリルベンゼン誘導体などが挙げられる。さらに、アロマティックジアミン誘導体（ＴＤＰ）、オキシジアゾールダイマー（ＯＸＤ）、オキシジアゾール誘導体（ＰＢＤ）、ジスチルアリーレン誘導体（ＤＳＡ）、キノリノール系金属錯体、ベリリウム−ベンゾキノリノール錯体（Ｂｅｂｑ）、トリフェニルアミン誘導体（ＭＴＤＡＴＡ）、ジスチリル誘導体、ピラゾリンダイマー、ルブレン、キナクリドン、トリアゾール誘導体、ポリフェニレン、ポリアルキルフルオレン等のポリフルオレン誘導体、ポリアルキルチオフェン、アゾメチン亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、フェナントロリンユウロピウム錯体、等も好適に用いられる。
【００７６】
発光材料を含む流動体の具体例としては、例えば、赤色有機発光層の用途には、ＰＰＶ前駆体を含む流動体にドーパント材料としてローダミン、ジスチリルビフェニル、ペリレン等をドープしたもの、ＰＰＶ前駆体（ＭＥＨ−ＰＰＶ）を含む流動体等が挙げられる。また、青色有機発光層の用途には、ポリフルオレン誘導体をキシレン等の芳香族系溶媒に含有させることによって調製された流動体などが挙げられる。
【００７７】
本発明においては、有機化合物層として、上述した有機発光層の他、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、などを形成してもよい。有機発光層以外の各層に適用される有機半導体材料としては、公知の有機ＥＬ素子に用いられる各種の材料が、本発明においても同様に用いることができる。例えば、特開平１１−４０３５８号公報、特開２０００−３５３５９４号公報等に記載される有機ＥＬ素子にを構成する各層及び使用される有機半導体材料が、本発明においても同様に適用しうる。
【００７８】
有機化合物層の形成は、インクジェット法、パターン印刷法、等により、これらの層を構成する有機半導体材料を含有する流動体を、所定の領域に付与することにより行われる。また、有機化合物層は、一方の電極が形成された基材表面を、有機半導体材料を含有する流動体に浸漬する方法によっても形成することができる。
本工程における有機半導体材料を含有する流動体の付与方法としては、インクジェット法が最も好ましい。
【００７９】
本発明において、流動体とは、常温（２５℃）において、５０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有し、好ましくは、インクジェット装置のインク吐出ノズルより吐出可能な流動性を有するものである。かかる条件を具備するものであれば、インクジェット法の他、パターン印刷法等の他の方法においても好適に使用することができる。
【００８０】
有機半導体材料を含有する流動体は、有機化合物層を形成する化合物が、溶剤に溶解又は分散された液体であることが好ましい。溶剤は、親水性である基材表面との親和性の観点からは、極性溶剤であることが好ましい。
極性溶剤としては、水、メタノール、エタノール、１−プロパノール及び２−プロパノールなどのアルコール系溶剤、エチレングリコール及びグリセリンなどのグリコール系溶剤（多価アルコール系溶剤）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルイミダゾリン及びＮ−メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの中でも、水が好ましく、水に少量のエチレングリコールやグリセリンを混合したものが特に好ましい。また、これらは主溶剤として一種単独で用いてもよい二種以上混合して用いてもよい。
【００８１】
また、有機半導体材料を含有する流動体には、有機化合物層の耐久性を高めるなどの目的で、必要に応じて光安定剤、酸化防止剤、ｐＨ調整剤、防腐剤及び構造安定剤などの添加剤が添加されていてもよい。
【００８２】
−インクジェット法による層形成−
本発明におけるインクジェット法の使用は、例えば、（１）デジタルデータから直接パターン形成ができる点、（２）フルカラー及びモノカラーの何れの態様であっても有機半導体材料を含有する流動体を、グラフトポリマーの非生成領域に適用できる点、等において優れたものである。
【００８３】
以下、本発明において好適に用いられるインクジェット記録装置について説明する。
このようなインクジェット記録装置では、まず、基材上に形成すべき有機化合物層のパターン情報を、コンピュータのような情報供給源から、バスのような伝達手段を通し、インクジェット記録装置上に供給する。
このようなインクジェット記録装置としては、有機半導体材料を含有する流動体の液滴を吐出可能に設けられたインクジェット記録用へッド及びそれを任意のパターンに従って駆動させる制御系を備えたものを用いればよい。この装置により、パターン情報に従って移動するインクジェット記録用へッドのノズル穴（吐出口）から有機半導体材料を含有する流動体の液滴を、基材上のグラフトポリマーの非生成領域に吐出することで、パターン情報に従って流動体が付着する。
インクジェット記録装置に備えられているインクジェット記録用へッドには、有機半導体材料を含有する流動体を充填可能に構成されたキャビティが備えられ、該キャビティに体積変化を生じさせることが可能に構成された圧電素子に任意のパターンに応じた電圧を印加させ、キャビティ内の体積を変化させることで、中に貯えられた有機半導体材料を含有する流動体を吐出口から微小な液滴状にして、基材上のグラフトポリマーの非生成領域に所定の画像様に供給して吸着させ、その後、有機半導体材料を含有する流動体中の溶媒や分散媒が除去されて、有機化合物層が形成されるのである。このような方式が主流であるが、本発明においては、他の原理を利用するインクジェット記録ヘッドも当然のことながら利用できる。
以上のようにして、有機化合物層が形成された後、基材上の形成された電極と対をなす他方の電極が形成されることにより、第１の態様の有機ＥＬ素子が得られる。
【００８４】
≪本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第２の態様≫
次に、本発明のグラフトパターン形成方法の第２の態様について説明する。
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第２の態様は、一方の電極が設けられた基材表面に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を結合させる工程（以下、適宜、「光開裂化合物結合工程（Ｂ）」と称する。）と、
前記一方の電極が設けられ基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を接触させた後、パターン状に露光を行い、光開裂が生起した露光領域の前記重合開始部位を起点としてグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを形成する工程（以下、適宜、「グラフトポリマー生成工程（Ｂ）」と称する。）と、
前記グラフトポリマーの非生成領域に、有機半導体材料を含有する流動体を付与して、有機発光層を含む有機化合物層を形成する工程（以下、適宜、「有機化合物層形成工程（Ｂ）」と称する。）と、を有することを特徴とする。
【００８５】
以下、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第２の態様について、光開裂化合物結合工程（Ｂ）及びグラフトポリマー生成工程（Ｂ）の概略について、図２を用いて説明する。
ここで、図２は、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第２の態様における各工程の概略を例示的に示す概念図である。
図２（ａ）に示されるように、基材表面には当初より官能基（図中、Ｚで表される）が存在する。この基材表面に、基材結合部位（Ｑ）と、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位（Ｙ）と、を有する化合物（Ｑ−Ｙ）を接触させる。これにより、図２（ｂ）に示されるように、基材表面に存在する官能基（Ｚ）と、基材結合部位（Ｑ）と、が結合して、基材表面に化合物（Ｑ−Ｙ）が導入される〔光開裂化合物結合工程（Ｂ）〕。
その後、図２（ｃ）に示されるように、モノマー等の公知のグラフトポリマー原料を接触させた状態で、パターン露光を行う。これにより、図２（ｄ）に示されるように、露光領域においては、化合物（Ｑ−Ｙ）の重合開始部位（Ｙ）を起点としてグラフトポリマーが生成される〔グラフトポリマー生成工程（Ｂ）〕。一方、未露光領域においては、グラフトポリマーは生成せず、グラフトポリマーの非生成領域が形成される。
【００８６】
以下、このような各工程について具体的に説明する。
図２において（Ｚ）で表示される基は、前記第１の態様において説明した基材表面に存在する官能基（Ｚ）と同じものであり、具体的には、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。また、官能基（Ｚ）を有する基材の具体例やその形状、厚みなども、前記第１の態様と同様である。
なお、本発明の第２の態様においては、基材上に、陽極又は陰極の何れか一方の電極が形成された後、光開裂化合物結合工程（Ｂ）、グラフトポリマー生成工程（Ｂ）、及び、有機化合物層形成工程が順次行われ、その後に他方の電極が形成される。形成される電極の詳細については、前記第１の態様と同様である。
【００８７】
次に、光開裂によりラジカル重合を開始させうる重合開始部位（以下、単に、重合開始部位と称する。）と基材結合部位とを有する化合物の構造について具体的に説明する。この化合物について、図２の概念図における、基材結合部位（Ｑ）と、重合開始部位（Ｙ）と、を有する化合物（Ｑ−Ｙ）も、前記第１の態様で示した、基材結合部位（Ｑ）と、重合開始部位（Ｙ）と、を有する化合物（Ｑ−Ｙ）と同義であり、その構造及び具体例も同様である。
この第２の態様においては、前記第１の態様の如く、予め、パターン露光により重合開始部位を失活させることはないため、グラフトポリマー生成工程（Ｂ）の際には、ラジカルを発生可能な重合開始部位（Ｙ）は基材表面全域に存在する。
【００８８】
このような重合開始部位（Ｙ）は、パターン露光により開裂して、ラジカルが発生すると、そのラジカル周辺に重合可能な化合物が存在する場合には、このラジカルがグラフト重合反応の起点として機能し、所望のグラフトポリマーを生成して、グラフトポリマー生成領域が形成される。その一方、露光が行われなかった領域においては、重合開始部位（Ｙ）の開裂が起きず、当該領域にはグラフトポリマーが生成せず、グラフトポリマー非生成領域が形成される。
【００８９】
本発明における光開裂化合物結合工程（Ｂ）は、このような化合物（Ｑ−Ｙ）を基材に結合させる工程である。本工程は、前記第１の態様における光開裂化合物結合工程（Ａ）における方法や条件と同様である。
【００９０】
本発明におけるグラフトポリマー生成工程（Ｂ）では、前述した光開裂化合物結合工程（Ｂ）を経た基材に、所望とするグラフトポリマーの材料となる撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物（例えば、撥油性の官能基を有するモノマーなど）を接触させた後、パターン露光を行い、露光領域の重合開始部位（Ｙ）を光開裂させてラジカルを発生させ、そのラジカルを起点として、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物のグラフト化反応を生起、進行させる。その結果、露光領域にのみ、撥油性を有するグラフトポリマーが生成して、グラフトポリマーの生成領域が形成される。
また、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の第２の態様においては、グラフトポリマーの非生成領域には、光開裂が生じていない状態の重合開始部位（Ｙ）を有する化合物（Ｑ−Ｙ）が残存することになる。
【００９１】
撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を基材表面に接触させる方法は、前記第１の態様と同様の方法をを用いることができる。また、本工程において用いられる撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物としても、前記第１の態様において挙げられたものと同様である。
【００９２】
本発明におけるグラフトポリマー生成工程（Ｂ）に用いうるパターン状に露光する方法には、光開裂化合物の重合開始部位（Ｙ）を光開裂させることができる波長の光であれば、制限なく用いることができ、具体的な波長としては、前記第１の態様において用いられる光源と同様に、紫外線や可視光線が用いられる。
また、本工程においても、高解像度のパターン露光を行うことが好ましく、前記第１の態様と同様に、光学系を用いた光ビーム走査露光、マスクを用いた露光、ｉ線ステッパー、ＫｒＦステッパー、ＡｒＦステッパーのようなステッパー露光などを用いることが好ましい。
【００９３】
続いて、本発明における有機化合物層形成工程を行う。
本工程においては、上記グラフトポリマー生成工程（Ｂ）において、撥油性のグラフトポリマーの生成領域と非生成領域（円形状）とが形成された基材に対し、前記第１の態様と同様の方法を用いることで、有機化合物層を形成することができる。
なお、この第２の態様では、グラフトポリマーの非生成領域には光開裂が生じていない化合物（Ｑ−Ｙ）が存在しており、前記第１の態様とは異なり、基材が露出していないが、第２の態様においても、グラフトポリマーの生成領域による撥油性と、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域との間に発現する隔壁効果と、を有することから、第１の態様と同様の方法で、画素部を形成することができる。
有機化合物層の形成後は、第１の態様と同様、基材上の形成された電極と対をなす他方の電極が形成されることにより、第２の態様の有機ＥＬ素子が得られる。
【００９４】
以上述べたように、本発明によれば、複雑な工程や高価な装置を必要とせず、高精細にパターニングされた有機ＥＬ素子を容易に製造をすることができる。本発明により得られた有機ＥＬ素子は、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、光通信等の分野に好適に用いることができる。
【実施例】
【００９５】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（合成例１：化合物Ａの合成）
前記例示化合物１の合成は、以下の２つのステップにより行われる。それぞれのステップのスキームを挙げて説明する。
１．ステップ１（化合物ａの合成）
ＤＭＡｃ５０ｇとＴＨＦ５０ｇとの混合溶媒に、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２４．５ｇ（０．１２ｍｏｌ）を溶かし、氷浴下で、ＮａＨ（６０％  ｉｎ  ｏｉｌ）７．２ｇ（０．１８ｍｏｌ）を徐々に加えた。そこに、１１−ブロモ−１−ウンデセン（９５％）４４．２ｇ（０．１８ｍｏｌ）を滴下し、室温で反応を行った。１時間で反応が終了した。反応溶液を氷水中に投入し、酢酸エチルで抽出し、黄色溶液状の化合物ａを含む混合物が得られた。この混合物３７ｇをアセトニトリル３７０ｍｌに溶かし、水７．４ｇを加えた。そこに、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物１．８５ｇを加え、室温で２０分間撹拌した。酢酸エチルで有機相を抽出し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（充填剤：ワコーゲルＣ−２００、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／８０）で化合物ａを単離した。
合成スキームを以下に示す。
【００９６】
【化７】
2006012735.tif 000008
【００９７】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ  ＣＤＣｌ3）
δ＝１．２−１．８（ｍｂ，２４Ｈ），２．０（ｑ，２Ｈ），３．２（ｔ，Ｊ＝６．６，２Ｈ），４．９−５．０（ｍ，２Ｈ）５．８（ｄｄｔ，Ｊ＝２４．４，Ｊ＝１０．５，Ｊ＝６．６，１Ｈ.），７．４（ｔ，Ｊ＝７．４，２Ｈ），７．５（ｔ，Ｊ＝７．４，１Ｈ），８．３（ｄ，１Ｈ）
【００９８】
２．ステップ２（化合物ａのハイドロシリル化による化合物Ａの合成）
化合物ａ５．０ｇ（０．０１４ｍｏｌ）にＳｐｅｉｅｒ  ｃａｔａｌｙｓｔ（Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ／２−ＰｒＯＨ、０．１ｍｏｌ／ｌ）を２滴加え、氷浴下で、トリクロロシラン２．８ｇ（０．０２１ｍｏｌ）を滴下して撹拌した。更に、１時間後にトリクロロシラン１．６ｇ（０．０１２ｍｏｌ）を滴下してから室温に戻した。３時間後に反応が終了した。反応終了後、未反応のトリクロロシランを減圧留去し、化合物Ａを得た。
合成スキームを以下に示す。
【００９９】
【化８】
2006012735.tif 000009
【０１００】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ  ＣＤＣｌ3）
δ＝１．２−１．８（ｍ，３０Ｈ），３．２（ｔ，Ｊ＝６．３，２Ｈ），７．３−７．７（ｍ，３Ｈ），８．３（ｄ，２Ｈ）
【０１０１】
［実施例１］
〔光開裂化合物結合工程（Ｂ）〕
ＩＴＯ基板（日本板硝子（株）製）を、アセトンで充分に洗浄した後、純水で洗浄した。その基材を、窒素置換したセパラブルフラスコ中に入れ１２．５ｗｔ％の化合物Ａの脱水トルエン溶液に１時間浸漬した。取り出し後、トルエン、アセトン、純水で順に洗浄した。得られた基板を基材Ａ１とする。
【０１０２】
〔グラフトポリマー生成工程（Ｂ）〕
フッ素含有モノマーである、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレート（アブマックス（株）社製）０．５ｇと、１−メトキシー２−プロパノール（和光純薬工業（株）社製）０．５ｇと、を混合して均一溶液とした。
前記のようにして得られた基材Ａ１上に上記溶液を約０．５ｍｌ滴下し、上から石英板を被せて、できるだけ均一な液膜を形成した。これにパターンマスク（フォトマスク、エスケーエレクトロニクス社製）を密着させ、露光機（ＵＶＥ２０２Ｓ、三永電気製作所製）を用い、波長２５４ｎｍ、露光強度１５．５ｍＪ／ｍ2の条件で６０秒間露光し、グラフト重合反応を生起させた。なお、用いたパターンマスクのパターン形状は、直径５０μｍ正方形が３μｍおきに直線状に配列されており、正方形部分が光透過しないものである。パターン露光後に石英板を外し、得られたフッ素系グラフトポリマーをアセトンで洗浄し、未反応のフッ素含有モノマーなどの不純物を除去して、フッ素系グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを有する基材Ａ２を得た。
【０１０３】
基材Ａ２における、フッ素系グラフトポリマーの生成領域の撥油性を確認するために、当該領域の水滴の接触角を、測定したところ１１５度であり、優れた撥油性を有することがわかった。また、同様の方法で、グラフトポリマーの非生成領域の撥油性を確認したところ、７０度であった。
また、フッ素系グラフトポリマーの生成領域の撥油性を確認するために、当該領域にマジックインク（マーツキーケア：黒、ゼブラ（株）社製）を付着させたところ、当該生成領域にはインクが付着せず、グラフトポリマーの非生成領域のみに選択的にインクが付着した。
ＥＳＣＡにより、フッ素系グラフトポリマーにおけるフッ素表面原子量を測定したところ、Ｆ：５２原子％（その他の表面原子量Ｃ：４２％、Ｏ：６％）であり、高い撥油性を有していることが認められた。（参考値：モノマーのフッ素含有量：５２原子％、その他の原子量Ｃ：４２％、Ｏ：６％）
グラフトポリマーの生成領域の膜厚を、ナノピクス１０００（セイコーインスツルメンツ社製）を使用して測定したところ、１０ｎｍであった。
【０１０４】
〔有機化合物層形成工程〕
基材Ａ２に、赤色有機発光層材料、緑色有機発光層材料、及び、青色有機発光層材料の各流動体（有機半導体材料を含有する流動体）を、それぞれ所定の画素となる部分に、インクジェットヘッドにより吐出して、Ｒ、Ｇ、Ｂの各有機発光層を形成した。
形成された有機発光層の厚さは、０．５μｍであった。
【０１０５】
なお、緑色有機発光層材料としては、ＰＰＶ前駆体を含む液を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、グリセリン、ジエチレングリコールの混合液で希釈してインク化した流動体を用いた。赤色有機発光層材料としては、、緑色有機発光層材料である流動体に赤色色素であるローダミンをＰＰＶに対して１．５質量％加えた流動体を用いた。青色有機発光層材料としては、ポリオクチルスルフルオレンをキシレンに溶解してインク化した流動体を用いた。
【０１０６】
上記の各流動体がインクジェットヘッドにより付与された部分（有機発光層部分）を、光学顕微鏡（ＵＦＸ−ＤＸ、ニコン（株）製）により観察したところ、各流動体は、グラフトポリマーの非生成領域にのみ付着し、当該領域とグラフトポリマーにより形成されたバンク（隔壁）部分との境界よりバンク側には付着していないことが確認された。
【０１０７】
次いで、ドーピングをしていないアルミニウムキノリノール錯体を、真空蒸着することにより、０．１μｍの電子輸送層を形成した。この電子輸送層を設けることで、本実施例の有機ＥＬ素子は、陰極からの電子注入を容易にできる。また、陰極から発光部分を遠ざけることにより電極消光を防ぎ、陰極と有機化合物層との接触を良好にすることができる。
【０１０８】
最後に、対抗電極（陰極）として、０．８μｍのＡｌＬｉ反射電極を真空蒸着することにより形成した。
以上のようにして、実施例１の有機ＥＬ素子を得た。
【０１０９】
得られた有機ＥＬ素子に対して、印可電圧５Ｖ、電流２０ｍＡ／ｃｍ2、２５℃、相対湿度２３％の条件下で駆動したところ、１ｃｄ／ｍ2以上の発光を観察することができた。
【０１１０】
［実施例２］
〔光開裂化合物結合工程（Ａ）〕
実施例１と同様にして、光開裂化合物を全面に結合させた基材Ａ１を得た。
【０１１１】
〔重合開始能失活工程〕
前記のようにして得られた基材Ａｌ上に実施例１で使用したパターンマスク（フォトマスク、エスケーエレクトロニクス社製）を密着させ、露光機（ＵＶＥ２０２Ｓ、三永電気製作所製）を用い、波長２５４ｎｍ、露光強度１５．５ｍＪ／ｍ2の条件で６０秒間露光したなお、用いたパターンマスクのパターン形状は、直径５０μｍ正方形が３μｍおきに直線状に配列されており、正方形部分が光透過しないものである。この操作により、重合開始可能領域（未露光領域）と、重合開始能失活領域（露光領域）と、が形成された基材Ｂ１を得た。
【０１１２】
〔グラフトポリマー生成工程（Ａ）〕
フッ素含有モノマーである、２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート（アジマックス（株）社製）０．５ｇと、１−メトキシー２−プロパノール（和光純薬工業（株）社製）０．５ｇと、を混合して均一溶液とした。
前記のようにして得られた基材Ｂｌ上に上記溶液を約０．５ｍｌ滴下し、上から石英板を被せて、できるだけ均一な液膜を形成した。つぎに、前記重合開始能失活工程において用いた露光機にて６０秒間全面露光を行い、グラフト重合反応を生起させた。露光後に石英板を外し、得られたフッ素系グラフトポリマーをアセトンで洗浄し、未反応のフッ素含有モノマーなどの不純物を除去して、フッ素系グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを有する基材Ｂ２を得た。
【０１１３】
基材Ｂ２における、フッ素系グラフトポリマーの生成領域の撥油性を確認するために、当該領域の水滴の接触角を実施例１と同様に測定したところ１１３度であり、優れた撥油性を有することがわかった。また、同様の方法で、グラフトポリマーの非生成領域の撥油性を確認したところ、６５度であった。
また、フッ素系グラフトポリマーの生成領域の撥油性を確認するために、当該領域にマジックインク（マーツキーケア：黒、ゼブラ（株）社製）を付着させたところ、当該生成領域にはインクが付着せず、グラフトポリマーの非生成領域のみに選択的にインクが付着した。
ＥＳＣＡにより、フッ素系グラフトポリマーにおけるフッ素表面原子量を測定したところ、Ｆ：４０原子％（その他の表面原子量Ｃ：４８％、Ｏ：１２％）であり、高い撥油性を有していることが認められた。（参考値：モノマーのフッ素含有量：４５原子％、その他の原子量Ｃ：４５％、Ｏ：１０％）
グラフトポリマーの生成領域の膜厚を、ナノピクス１０００（セイコーインスツルメンツ社製）を使用して測定したところ、１０ｎｍであった。
【０１１４】
〔有機化合物形成工程〕
基材Ｂ２に対し、実施例１と同様の方法を用いて、グラフトポリマーの非生成領域に、インクジェット法により実施例１と同様の有機発光層を形成した。
インクジェットヘッドにより、有機発光層を構成する各流動体が付与された部分（有機発光層部分）を、光学顕微鏡（ＵＦＸ−ＤＸ、ニコン（株）製）により観察したところ、各流動体は、グラフトポリマーの非生成領域にのみ付着し、当該領域とグラフトポリマーにより形成されたバンク（隔壁）部分との境界よりバンク側には付着していないことが確認された。
【０１１５】
次いで、実施例１と同様の方法を用いて、電子輸送層及び対抗電極を形成し、実施例２の有機ＥＬ素子を得た。
【０１１６】
得られた有機ＥＬ素子に対して、印可電圧５Ｖ、電流２０ｍＡ／ｃｍ2、２５℃、相対湿度２３％の条件下で駆動したところ、１ｃｄ／ｍ2以上の発光を観察することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本発明の第１の態様におけるグラフトポリマー生成工程までを概略を示す概念である。
【図２】本発明の第２の態様における光開裂化合物結合工程及びグラフトポリマー生成工程の概略を示す概念である。
【図１】
2006012735.tif 000010
【図２】
2006012735.tif 000011