(57)【要約】【課題】  溶融成形性に優れ、気泡等の内部欠陥が少なく、また製造設備の長寿命化が図れるため、大幅なコストダウンを達成することが可能であり、さらにオーバーフローダウンドロー法で板状に成形できるため、うねりが小さく、無研磨で出荷することが可能なガラス基板とその製造方法を提供する。【解決手段】  歪点が５３０〜６３０℃、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１３７０〜１５２０℃、液相温度における粘度が１０００００ポアズ以上のガラスからなり、透光面が無研磨面である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
歪点が５３０〜６３０℃、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１３７０〜１５２０℃、液相温度における粘度が１０００００ポアズ以上のガラスからなり、透光面が無研磨面であることを特徴とするガラス基板。
【請求項２】
ガラスが、質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １〜２０％、Ｂ2Ｏ3  ０〜１５％、アルカリ金属酸化物  １〜２５％、アルカリ土類金属酸化物  ０〜３０％を含有することを特徴とする請求項１に記載のガラス基板。
【請求項３】
ガラスが、質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜６５％、Ａｌ2Ｏ3  ２〜１５％、Ｂ2Ｏ3  ０〜１０％、アルカリ金属酸化物  ２〜２０％、アルカリ土類金属酸化物  ２〜２５％を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス基板。
【請求項４】
透光面の表面うねりが０．０５μｍ以下、表面粗さが５Å以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のガラス基板。
【請求項５】
ヤング率が６５ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガラス基板。
【請求項６】
一方又は両方の透光面に、アルカリバリア膜が形成されてなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガラス基板。
【請求項７】
液晶ディスプレイ用ガラス基板として用いられることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のガラス基板。
【請求項８】
質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １〜２０％、Ｂ2Ｏ3  ０〜１５％、アルカリ金属酸化物  １〜２５％、アルカリ土類金属酸化物  ０〜３０％を含有するガラスとなるように原料を調製し、溶融した後、ダウンドロー法で板状に成形することによって、歪点が５３０〜６３０℃、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１３７０〜１５２０℃、液相温度における粘度が１０００００ポアズ以上のガラス基板を製造することを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項９】
ガラスが、質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜６５％、Ａｌ2Ｏ3  ２〜１５％、Ｂ2Ｏ3  ０〜１０％、アルカリ金属酸化物  ２〜２０％、アルカリ土類金属酸化物  ２〜２５％を含有することを特徴とする請求項８に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
ダウンドロー法がオーバーフローダウンドロー法であることを特徴とする請求項８又は９記載のガラス基板の製造方法
【請求項１１】
透光面が無研磨面であり、その表面うねりが０．０５μｍ以下、表面粗さが５Å以下であることを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
ガラス基板が、液晶ディスプレイ用ガラス基板として用いられることを特徴とする請求項８〜１１のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、電荷結合素子（ＣＣＤ）、等倍近接型固体撮像素子（ＣＩＳ）、ＣＭＯＳイメージセンサー等の各種イメージセンサー、ハードディスク、フィルター等に適用できるガラス基板に関し、特にＴＶ用液晶ディスプレイに好適なガラス基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来よりＴＶ用液晶ディスプレイには、応答速度や視野角、色再現性といったＴＶ用として必要な画質を得るため、アクティブマトリックス型液晶ディスプレイ、特に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）で駆動するＴＦＴ−ＬＣＤが用いられている。このＴＦＴ−ＬＣＤ用ガラス基板の表面には、金属膜や絶縁膜、透明導電膜、半導体膜が成膜され、またフォトリソ−エッチング工程において、アモルファスシリコンや多結晶シリコンのＴＦＴを始め、種々の回路やパターンが多数形成される。ＴＦＴ形成の工程で、ガラス基板には、最高で３５０〜４００℃程度の熱処理が施されると共に、硫酸、塩酸、アルカリ溶液、フッ酸、バファードフッ酸等の種々の薬品による処理が施される。またガラス中にアルカリ金属酸化物が含まれていると、ガラス中のアルカリイオンが熱処理中に半導体膜に拡散して膜特性の劣化を招く虞れがあるため、アルカリ金属酸化物を含有しないことが要求される。
【０００３】
このような事情から、この種のガラス基板には、特許文献１〜３に開示されているような、耐熱性と化学的耐久性に優れ、アルカリ金属酸化物を含有しない無アルカリガラス基板が使用されている。
【特許文献１】特許第２６４４６２２号公報
【特許文献２】特許第２９９０３７９号公報
【特許文献３】特許第３４６５２３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一般にＴＦＴ−ＬＣＤに用いられる無アルカリガラス基板は、非常に粘度が高く、また融剤として作用するアルカリ金属酸化物を含有しないため、溶融が困難である。ガラス中の気泡は、ガラス製品の代表的な内部欠陥であるが、ＴＦＴ−ＬＣＤ用ガラス基板では、１ｍ角以上（ガラス質量換算で約２ｋｇ以上）の大型のガラス基板に、長さ１００μｍの気泡が１個でも存在すると、良品にならないという厳しい製品スペックがある。そのためガラスをできるだけ高温で溶融し、ガラス中の気泡を減らす試みがなされているが、溶融が困難な無アルカリガラスを、高い歩留まりで製造することは非常に難しい。また溶融温度が上昇すると、ガラスを成形する時の温度も上昇し、成形設備の寿命を短くするという問題も発生する。
【０００５】
ところで近年、ＴＦＴの形成温度を下げる開発が行われ、従来では、最高で３５０〜４５０℃程度であったが、これを２５０〜３００℃程度に低下することが実現しつつある。この技術革新により、耐熱性の低いガラス基板が使用できる可能性が出てきた。具体的には、従来ではガラスの歪点が６５０℃以上であることが要求されていたが、それより１００℃以上低いガラスでも使用可能になりつつある。
【０００６】
また特に大型液晶ＴＶに用いられる液晶ディスプレイには、高精細で高画質であることが要求されるが、これを達成するためには、ガラス基板の表面の平坦度が極めて重要となる。つまり液晶ディスプレイは、二枚の薄いガラス基板間に挟まれた液晶層が、光を遮断したり、透過したりする、光シャッターの役割を果たすことで表示が行われる。この液晶層は、数μｍ〜数十μｍと非常に薄い厚みに保持されており、ガラス基板の平坦度、特に表面うねりと呼ばれるミクロンレベルの凹凸が大きいと、この液晶層の厚み（セルギャップ）に影響を与え、表示ムラ等の表示不良の原因となる。最近の液晶ディスプレイ、特に液晶ＴＶ用途では、さらなる高速応答及び高精細化の目的で、セルギャップがより薄くなる傾向があり、ガラス基板の表面うねりの低減はますます重要となってきている。ガラス基板の表面うねりを小さくするためには、シリコンウエハ等のようにガラス基板の表面を精密に研磨して平坦化すれば良いが、ガラスの製造コストが非常に高くなる。しかもガラス基板を研磨すると、ガラス表面に無数の微小なキズやクラックが発生しやすい。液晶ＴＶ用途のような高性能の液晶ディスプレイでは、ＴＦＴを駆動する信号線、電極線の幅が細くなる傾向があり、ガラス基板表面に微小なキズやクラックが存在すると、信号線や電極線が断線し、表示不良の原因となる。従って、この種のガラス基板は、溶融ガラスからできるだけ表面うねりが小さい板ガラスを成形し、表面の研磨を不要とすることが望ましく、このようなガラス基板を得るためには、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法と呼ばれる成形法が適している。
【０００７】
本発明の目的は、溶融成形性に優れ、気泡等の内部欠陥が少なく、また製造設備の長寿命化が図れるため、大幅なコストダウンを達成することが可能であり、さらにオーバーフローダウンドロー法で板状に成形できるため、うねりが小さく、無研磨で出荷することが可能なガラス基板とその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のガラス基板は、歪点が５３０〜６３０℃、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１３７０〜１５２０℃、液相温度における粘度が１０００００ポアズ以上のガラスからなり、透光面が無研磨面であることを特徴とする。
【０００９】
また本発明のガラス基板の製造方法は、質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １〜２０％、Ｂ2Ｏ3  ０〜１５％、アルカリ金属酸化物  １〜２５％、アルカリ土類金属酸化物  ０〜３０％を含有するガラスとなるように原料を調製し、溶融した後、ダウンドロー法で板状に成形することによって、歪点が５３０〜６３０℃、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１３７０〜１５２０℃、液相温度における粘度が１０００００ポアズ以上のガラス基板を製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のガラス基板は、２５０〜３５０℃のＴＦＴ形成温度に対し、十分な耐熱性を有し、従来の無アルカリガラス基板に比べて、ガラスの溶融温度と成形温度が低く、しかもオーバーフローダウンドロー法で板状に成形することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明のガラス基板は、歪点が５３０〜６３０℃、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１３７０〜１５２０℃、液相温度における粘度が１０００００ポアズ以上である。
【００１２】
本発明者等の知見によると、ＴＦＴの形成温度が２５０〜３００℃まで下がると、ガラス基板に対する耐熱性の要求が緩和され、歪点が５３０〜６３０℃のガラス基板でも使用可能となる。またガラス基板中にアルカリ金属酸化物が含まれていても、このような低温プロセスでは、アルカリイオンが半導体膜へ拡散するのが抑制されるため、アルカリ含有ガラス基板でも使用可能となる。ただしアルカリ含有ガラス基板を使用する場合には、ガラスからのアルカリ溶出量が少なくなるように組成を規制すべきである。また必要に応じて、ガラス基板の表面にアルカリバリア膜を形成しても良い。アルカリバリア膜は、ガラス基板から溶出するアルカリイオンが半導体膜へ拡散するのを防止できる膜であれば、いずれも使用できる。特に成膜性やコストを考慮すると、ＳｉＯ2やＳｉＮｘの膜が適しており、その膜厚としては、５００Å以上が適当である。
【００１３】
また本発明のガラス基板は、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１３７０〜１５２０℃であるため、溶融性に優れている。つまり１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１５２０℃以下であるため、従来の無アルカリガラス基板の溶融温度よりも低温で溶融することが可能である。よって基板寸法が１ｍ角（１０００×１０００ｍｍ）以上のガラス基板のように、厳しい泡品位が要求される大型ガラス基板として適している。ただし、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度は、歪点とトレードオフの関係にあり、その温度が１３７０℃以下になると、歪点が低下しすぎるため好ましくない。具体的には、１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度を１３７０〜１５２０℃に規制することによって、歪点を５３０〜６３０℃に規制することが可能である。
【００１４】
また本発明のガラス基板は、液相温度における粘度が１０００００ポアズ以上であるため、ダウンドロー法で容易に板状に成形でき、さらにはオーバーフローダウンドロー法により板状に成形することも可能である。つまりガラス基板をオーバーフローダウンドロー法で製造する場合、ガラスの耐失透性が高いことが要求される。これはガラスの耐失透性が低いと、成形時にガラス中に失透物が発生し、透光性が損なわれるからである。ガラスの耐失透性は、液相温度における粘度が高いほど優れていることになり、その値が１０００００ポアズ以上であると、オーバーフローダウンドロー法による実生産が可能である。またオーバーフローダウンドロー法は、成形時にガラス板の両面が、成形部材と接触しない成形法であり、得られたガラス基板の両面（透光面）は、研磨しなくても、表面うねりが０．０５μｍ以下、表面粗さが５Å以下の高い表面品位を容易に得ることができる。液相温度における粘度は、２０００００ポアズ以上、さらに４０００００ｄポアズ以上、さらには８０００００ポアズ以上、最も望ましくは１００００００ポアズ以上であることが望ましい。
【００１５】
また特に２０インチを超えるような大型ＴＶ用途の液晶ディスプレイでは、ガラス基板の微小な変形に起因する表示ムラが発生しやすく、このような変形を抑えるためには、ガラス基板のヤング率を高める必要がある。本発明のガラス基板は、６５ＧＰａ以上、さらには７０ＧＰａ以上のヤング率を有することが好ましい。
【００１６】
本発明のガラス基板は、質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １〜２０％、Ｂ2Ｏ3  ０〜１５％、アルカリ金属酸化物  １〜２５％、アルカリ土類金属酸化物  ０〜３０％を含有し、好ましくは、ＳｉＯ2  ５０〜６５％、Ａｌ2Ｏ3  ２〜１５％、Ｂ2Ｏ3  ０〜１０％、アルカリ金属酸化物  ２〜２０％、アルカリ土類金属酸化物  ２〜２５％を含有する。
【００１７】
以下、本発明のガラス基板の組成を上記のように限定した理由を説明する。
【００１８】
ＳｉＯ2は、ガラスのネットワークフォーマーとなる成分である。ＳｉＯ2の含有量が少なくなると、ガラスの歪点が低くなる、耐熱性が低下する、化学的耐久性が低下する、という傾向がある。一方、多くなると、ガラスの高温粘度が上昇し、溶融性や成形性が低下するという傾向がある。よってＳｉＯ2は、５０〜７０％、好ましくは５０〜６５％である。
【００１９】
Ａｌ2Ｏ3は、ガラスの歪点やヤング率を高め、かつ失透性を改善する成分である。Ａｌ2Ｏ3の含有量が少なくなると、上記の効果が小さくなり、一方、多くなると、ガラスの高温粘度が上昇し、溶融性や成形性が低下するという傾向がある。よってＡｌ2Ｏ3は、１〜２０％、好ましくは２〜１５％、より好ましくは２〜１０％である。
【００２０】
Ｂ2Ｏ3は、ガラスの高温粘度を低下し、溶融性を促進すると共に、耐薬品性、特にフッ酸系の薬液に対する耐久性を高める成分である。しかしＢ2Ｏ3の含有量が多くなると、ガラスの歪点やヤング率が低下する傾向がある。よってＢ2Ｏ3は、０〜１５％、好ましくは０〜１０％、より好ましくは０〜４％である。
【００２１】
アルカリ金属酸化物（Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ）は、ガラスの溶融性を飛躍的に高める成分である。しかしアルカリ金属酸化物が多くなると、ガラスからのアルカリ溶出量が増える傾向にあるため好ましくない。よってアルカリ金属酸化物の含有量は、１〜２５％、好ましくは２〜２０％である。特にＮａ+は、比較的移動しやすいアルカリ金属イオンであり、ＴＦＴ素子等の薄膜中へ拡散しやすい性質があるため、Ｎａ2Ｏの含有量は、０〜１０％、好ましくは０〜８％、より好ましくは０〜６％に規制すべきである。またＫ+は、比較的移動しにくいアルカリ金属イオンであるため、Ｎａ2Ｏより多く含有させることができ、具体的には、０〜１５％、好ましくは０〜１３％である。またＬｉ+は、非常に移動しやすいアルカリ金属イオンであるため、Ｌｉ2Ｏは最小限の使用量に抑えるべきである。具体的には、０〜３％、好ましくは０〜１％である。
【００２２】
アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ）は、ガラスの溶融性を改善する成分である。しかしアルカリ土類金属酸化物が多くなると、ガラスの失透傾向が増すため好ましくない。よってアルカリ土類金属酸化物は、０〜３０％、好ましくは２〜２５％である。ＭｇＯは、ガラスの歪点を下げずに高温粘性を下げ、溶融性を向上すると共に、ガラスのヤング率を高める成分であるが、多く含有すると、ガラスが失透しやすく成形性が悪くなると共にフッ酸系の薬液に対する耐久性が低下する。よってＭｇＯの含有量は０〜１０％、好ましくは０〜８％に規制すべきである。ＣａＯは、ＭｇＯと同様の作用を有する成分であるが、多く含有すると、ガラスが失透しやすく成形が困難になると共にフッ酸系の薬液に対する耐久性が低下する。よってＣａＯの含有量は、０〜１５％、好ましくは０〜１０％、より好ましくは０〜７％に規制すべきである。ＳｒＯ及びＢａＯは、ＭｇＯやＣａＯほどではないが、ガラスの高温粘度を改善し、またガラスの耐失透性や耐薬品性を改善する成分である。しかし、ＳｒＯやＢａＯを多く含有すると、ＳｒやＢａに起因する失透ブツが発生しやすくなると共に、これらの成分は原料コストが高いため、生産コストが上昇する。よってＳｒＯを０〜２０％、好ましくは０〜１５％に規制し、またＢａＯを０〜２０％、好ましくは０〜１５％に規制するべきである。
【００２３】
また本発明においては、上記以外の成分についても、ガラスの特性を損なわない範囲で含有させることが可能である。但し、上記以外の成分（他成分）を多く含有させると、特にガラスの製造のしやすさが損なわれる、具体的には、耐失透性が低下する虞れが高くなるため注意が必要である。よって他成分の含有量は、合量で１０％以下に抑えるべきである。
【００２４】
例えばＺｒＯ2は、ガラスの化学的耐久性を向上させ目的で含有させる成分であるが、多く含有すると、ガラスの溶融性が低下すると共に、成形時に失透が発生しやすいため、その含有量は０〜９％、好ましくは０〜７％、より好ましくは０〜５％に規制すべきである。
【００２５】
またＴｉＯ2は、ガラスの紫外線による着色を防止する成分である。つまり液晶ディスプレイの製造工程では、ＵＶ洗浄工程等でガラス基板が強い紫外線に曝される。また液晶ＴＶでは、画面の明るさを確保するため、多数のバックライトをガラス基板の背面に配置するため、作動中にも紫外線に曝される。そのためガラス基板は、紫外線によって着色しないことが要求される。しかしＴｉＯ2は、着色剤であるため、これを添加しすぎると、ガラスが着色し、透過率が低下する虞れがある。よってＴｉＯ2は、０〜５％、好ましくは０〜３％、より好ましくは０〜２％に規制すべきである。
【００２６】
またガラスから気泡を除去する目的で清澄剤を２％まで含有させることが望ましい。清澄剤としては、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｃｌ、Ｆ、ＳＯ3、Ｃ、ＣｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3等の酸化物や、Ａｌ、Ｓｉ等の金属粉末を使用することができる。尚、Ａｓ2Ｏ3は、清澄剤として非常に効果の大きい成分であり、市販されている殆どの無アルカリガラス基板に使用されている。しかしＡｓ2Ｏ3は、環境負荷の大きい化学物質であり、実質的に含有しないことが望ましい。本発明のガラス基板は、溶融性に優れているため、清澄剤として、Ａｓ2Ｏ3以外の成分を使用しても、高い清澄作用が得られ、優れた泡品位を得ることができる。
【００２７】
また、その他の成分の中で、環境負荷の大きい化学物質、例えばＰｂＯ、ＺｎＯ、Ｃｒ2Ｏ3、Ｖ2Ｏ5、ＣｄＯ、ＴｌＯ2等については、できるだけ含有量を少なくするべきである。具体的には、各々の含有量を３％未満、好ましくは１％未満、さらには実質的に含有しないことが望ましい。
【実施例】
【００２８】
以下、実施例に基づいて本発明のガラス基板を説明する。
【００２９】
表１、２は、いずれも実施例を示すものである。
【００３０】
【表１】
2006137631.tif 000002
【００３１】
【表２】
2006137631.tif 000003
【００３２】
表１、２のガラス基板は、次のようにして作製した。まず表中のガラス組成となるように原料を調合し、これを白金ルツボに入れた後、電気炉で１５００〜１５５０℃の温度で４時間溶融し、この溶融ガラスをカーボン上に流し出して板状に成形した。次いで、このガラス板の両面を研磨することによってガラス基板を作製した。
【００３３】
こうして得られた各ガラス基板について、密度、熱膨張係数、歪点、１０2.5ｄＰａ・ｓの粘度、液相温度、液相温度における粘度、熱膨張係数、ヤング率、耐薬品性を評価し、その結果を表に示した。表から明らかなように、各ガラス基板とも、歪点が５２０℃以上であり、また液相温度における粘度が１２００００ポアズ以上であるため耐失透性に優れ、オーバーフローダウンドロー法に適したものであった。また１０2.5ｄＰａ・ｓに相当する温度が１５１５℃以下であるため溶融性に優れていた。またヤング率、耐薬品性についても、大型ＴＶに用いられるＴＦＴ液晶ディスプレイのガラス基板として十分使用できるものであった。
【００３４】
尚、表における密度は、周知のアルキメデス法によって求めた。熱膨張係数は、ディラトメーターを用い、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測定したものである。歪点は、ＡＳＴＭ  Ｃ３３６−７１の方法に基づいて測定した。１０2.5ポイズ温度は、周知の白金球引き上げ法により高温粘度である１０2.5ポイズの温度を測定した。液相温度は、白金ボートに２９７〜５００μｍの粒径を有するガラス粉末を入れ、これを温度勾配炉内で４８時間保持し、失透が析出した時の温度を観察によって求めた。また液相温度における粘度は、失透が析出した時のガラスの粘度を求めた。耐酸性は、ガラス基板を薬液中に浸漬した後でガラス表面を目視で観察し、全く変化がない場合は○とした。尚、薬液による処理は、１０％塩酸を用いて８０℃、３時間の条件で行った。アルカリ溶出量は、ＪＩＳ  Ｒ３５０２に記載の方法に基づいて測定した。
【００３５】
次に表１の試料Ｎｏ．１〜３のガラスを溶融してから、オーバーフローダウンドロー法で板状に成形し、１０００×１０００×０．７ｍｍのガラス基板を作製した後、その表面うねりと表面粗さを測定した。結果を表３に示す。
【００３６】
【表３】
2006137631.tif 000004
【００３７】
表３から明らかなように、各ガラス基板の表面うねりは０．０４μｍ以下、表面粗さは１〜２Åであり、いずれも高い表面品位を備えていた。尚、表面うねりは、ＳＥＭＩ  ＳＴＤ  Ｄ１５−１２９６「ＦＰＤガラス基板の表面うねりの測定方法」に準拠した方法で測定し、測定時のカットオフは０．８〜８ｍｍ、ガラス基板の引き出し方向に対して垂直な方向に測定し、うねりの最大値を求めた。また表面粗さは、ＳＥＭＩ  Ｄ７−９４「ＦＰＤガラス基板の表面粗さの測定方法」に準拠した方法で測定し、測定時のカットオフは０．０８ｍｍ、測定長は０．４ｍｍとした。
【００３８】
また上記ガラス基板の両方の透光面に、スパッタ法によってＳｉＯ2膜を形成したところ、平均厚みが１０００Åの均質な膜が得られた。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明のガラス基板は、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、電荷結合素子（ＣＣＤ）、等倍近接型固体撮像素子（ＣＩＳ）、ＣＭＯＳイメージセンサー等の各種イメージセンサー、ハードディスク、フィルター等に適用でき、特にＴＶ用液晶ディスプレイに好適である。