(57)【要約】【課題】  被処理基板に対する処理が正常終了した場合のみならず，被処理基板に対する処理が正常終了していない場合においても，被処理基板を十分に除電する。【解決手段】  載置台例えば下部電極１２０の静電チャック１２２に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板例えばウエハＷを，静電チャック１２２から脱離する場合に除電処理を行う基板処理装置であって，ウエハＷの除電を行う前にウエハＷに対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し，正常終了したと判断した場合は正常時除電条件情報記憶手段からの正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し，正常終了していないと判断した場合は非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し，設定した除電条件に基づいてウエハＷの除電処理を実行する。【選択図】    図１
2006269854.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室内に配設された載置台に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板を，前記載置台から脱離する場合に行われる被処理基板の除電方法であって，
前記被処理基板の除電を行う前に前記被処理基板に対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し，正常終了したと判断した場合は正常時除電条件情報記憶手段に記憶された正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し，正常終了していないと判断した場合は非正常時除電条件情報記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する除電条件設定工程と，
前記除電条件設定手段により設定した除電条件に基づいて前記被処理基板の除電処理を実行する除電処理実行工程と，
を有することを特徴とする被処理基板の除電方法。
【請求項２】
前記除電条件設定工程は，前記被処理基板に対する処理が正常に終了しなかった場合にメンテナンスに移行されたか否かを判断し，メンテナンスに移行されたと判断した場合には，そのメンテナンスから復帰した場合にも，前記装置パラメータ記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の被処理基板の除電方法。
【請求項３】
前記除電処理実行工程は，前記除電処理状況を検出し，その検出値と許容限界条件とを比較し，前記除電処理状況の検出値が許容限界条件を満たす場合には前記除電処理が異常状態と判断して前記除電処理を停止し，前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件に基づいて除電条件を設定して，前記除電処理を再試行する工程を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の被処理基板の除電方法。
【請求項４】
前記許容限界条件は，前記除電処理が異常となる異常条件と，この異常条件よりも緩い条件の警告条件との２段階とし，
前記除電処理実行工程は，前記除電処理状況の検出値が前記異常条件を満たす場合には前記除電処理が異常状態と判断して前記除電処理を停止し，前記除電処理状況の検出値が前記警告条件を満たす場合には前記除電処理が警告状態と判断して前記警告処理を行う工程を含むことを特徴とする請求項３に記載の被処理基板の除電方法。
【請求項５】
前記除電処理実行工程は，前記被処理基板の除電処理の終了後に，前記除電処理の再試行するか否かの選択を求め，前記除電処理の再試行が選択された場合には，前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する工程を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の被処理基板の除電方法。
【請求項６】
前記非正常時除電条件情報は，入力手段により編集可能であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の被処理基板の除電方法。
【請求項７】
前記非正常時除電条件情報は，編集可能な除電条件のパラメータの数が前記正常時除電条件情報よりも多いことを特徴とする請求項６に記載の被処理基板の除電方法。
【請求項８】
前記非正常時除電条件情報に基づいて設定された除電条件に基づいて実行される除電処理には，前記被処理基板の裏面と前記載置台との間を真空引きする工程を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の被処理基板の除電方法。
【請求項９】
前記除電処理には，前記処理室内に配設された載置台に前記被処理体を静電吸着させる静電吸着手段への印加電圧の極性反転を繰返す工程を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の被処理基板の除電方法。
【請求項１０】
前記非正常時除電条件情報は，少なくとも前記静電吸着手段への印加電圧，前記処理室内圧力，前記処理室内へ処理ガスを供給する複数のガスラインからのガス流量の各パラメータを含むことを特徴とする請求項９に記載の被処理基板の除電方法。
【請求項１１】
処理室内に配設された載置台に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板を前記載置台から脱離する場合に前記被処理基板の除電を行う基板処理装置であって，
正常時除電条件情報を記憶する正常時除電条件情報記憶手段と，
非正常時除電条件情報を記憶する非正常時除電条件情報記憶手段と，
前記被処理基板の除電を行う前に前記被処理基板に対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し，正常終了したと判断した場合は前記正常時除電条件情報記憶手段からの正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し，正常終了していないと判断した場合は前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する除電条件設定手段と，
前記除電条件設定手段により設定した除電条件に基づいて前記被処理基板の除電処理を実行する除電処理実行手段と，
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１２】
前記除電条件設定手段は，前記被処理基板に対する処理が正常に終了しなかった場合にメンテナンスに移行されたか否かを判断し，メンテナンスに移行されたと判断した場合には，そのメンテナンスから復帰した場合にも，前記装置パラメータ記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定することを特徴とする請求項１１に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記除電処理実行手段は，前記除電処理状況を検出し，その検出値と許容限界条件とを比較し，前記除電処理状況の検出値が許容限界条件を満たす場合には前記除電処理が異常状態と判断して前記除電処理を停止し，前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件に基づいて除電条件を設定して，前記除電処理を再試行することを特徴とする請求項１１又は１２に記載の基板処理装置。
【請求項１４】
前記許容限界条件は，前記除電処理が異常となる異常条件と，この異常条件よりも緩い条件の警告条件との２段階とし，
前記除電処理実行手段は，前記除電処理状況の検出値が前記異常条件を満たす場合には前記除電処理が異常状態と判断して前記除電処理を停止し，前記除電処理状況の検出値が前記警告条件を満たす場合には前記除電処理が警告状態と判断して前記警告処理を行うことを特徴とする請求項１３に記載の基板処理装置。
【請求項１５】
前記除電処理実行手段は，前記被処理基板の除電処理の終了後に，前記除電処理の再試行するか否かの選択を求め，前記除電処理の再試行が選択された場合には，前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定することを特徴とする請求項１１〜１４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１６】
前記非正常時除電条件情報は，入力手段により編集可能であることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１７】
前記非正常時除電条件情報は，編集可能な除電条件のパラメータの数が前記正常時除電条件情報よりも多いことを特徴とする請求項１６に記載の基板処理装置。
【請求項１８】
前記非正常時除電条件情報に基づいて設定された除電条件に基づいて実行される除電処理には，前記被処理基板の裏面と前記載置台との間を真空引きする処理を含むことを特徴とする請求項１１〜１７のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１９】
前記除電処理には，前記処理室内に配設された載置台に前記被処理体を静電吸着させる静電吸着手段への印加電圧の極性反転を繰返す処理を含むことを特徴とする請求項１１〜１８のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項２０】
前記非正常時除電条件情報は，少なくとも前記静電吸着手段への印加電圧，前記処理室内圧力，前記処理室内へ処理ガスを供給する複数のガスラインからのガス流量の各パラメータを含むことを特徴とする請求項１９に記載の基板処理装置。
【請求項２１】
処理室内に配設された載置台に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板を，前記載置台から脱離する場合に行われる被処理基板の除電処理を実行するためのプログラムであって，
コンピュータに，
前記被処理基板の除電を行う前に前記被処理基板に対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し，正常終了したと判断した場合は正常時除電条件情報記憶手段に記憶された正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し，正常終了していないと判断した場合は非正常時除電条件情報記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する除電条件設定手順と，
設定した除電条件に基づいて前記被処理基板の除電処理を実行する除電処理実行手順と，
を実行させるためのプログラム。
【請求項２２】
前記除電条件設定手順は，前記被処理基板に対する処理が正常に終了しなかった場合にメンテナンスに移行されたか否かを判断し，メンテナンスに移行されたと判断した場合には，そのメンテナンスから復帰した場合にも，前記装置パラメータ記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する手順を含むことを特徴とする請求項２１に記載のプログラム。
【請求項２３】
前記除電処理実行手順は，前記除電処理状況を検出し，その検出値と許容限界条件とを比較し，前記除電処理状況の検出値が許容限界条件を満たす場合には前記除電処理が異常状態と判断して前記除電処理を停止し，前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件に基づいて除電条件を設定して，前記除電処理を再試行する手順を含むことを特徴とする請求項２１又は２２に記載のプログラム。
【請求項２４】
前記許容限界条件は，前記除電処理が異常となる異常条件と，この異常条件よりも緩い条件の警告条件との２段階とし，
前記除電処理実行手順は，前記除電処理状況の検出値が前記異常条件を満たす場合には前記除電処理が異常状態と判断して前記除電処理を停止し，前記除電処理状況の検出値が前記警告条件を満たす場合には前記除電処理が警告状態と判断して前記警告処理を行う手順を含むことを特徴とする請求項２３に記載のプログラム。
【請求項２５】
前記除電処理実行手順は，前記被処理基板の除電処理の終了後に，前記除電処理の再試行するか否かの選択を求め，前記除電処理の再試行が選択された場合には，前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する手順を含むことを特徴とする請求項２１〜２４のいずれかに記載のプログラム。
【請求項２６】
前記非正常時除電条件情報は，入力手段により編集可能であることを特徴とする請求項２１〜２５のいずれかに記載のプログラム。
【請求項２７】
前記非正常時除電条件情報は，編集可能な除電条件のパラメータの数が前記正常時除電条件情報よりも多いことを特徴とする請求項２６に記載のプログラム。
【請求項２８】
前記非正常時除電条件情報に基づいて設定された除電条件に基づいて実行される除電処理には，前記被処理基板の裏面と前記載置台との間を真空引きする手順を含むことを特徴とする請求項２１〜２７のいずれかに記載のプログラム。
【請求項２９】
前記除電処理には，前記処理室内に配設された載置台に前記被処理体を静電吸着させる静電吸着手段への印加電圧の極性反転を繰返す手順を含むことを特徴とする請求項２１〜２８のいずれかに記載のプログラム。
【請求項３０】
前記非正常時除電条件情報は，少なくとも前記静電吸着手段への印加電圧，前記処理室内圧力，前記処理室内へ処理ガスを供給する複数のガスラインからのガス流量の各パラメータを含むことを特徴とする請求項２９に記載のプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，被処理基板を載置台から脱離する場合に行われる被処理基板の除電方法，基板処理装置，プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハやガラス基板等の被処理基板に対してエッチング，成膜等の所定の処理を行う基板処理装置では，例えば被処理基板を処理室内に搬送アームなどにより搬入し，載置台上に載置して吸着保持させた状態でエッチング等の処理を実行し，処理が終了すると，例えば昇降自在に設けられたリフトピンを押上げて被処理基板を載置台から脱離し，搬送アームなどにより搬出するようになっている。
【０００３】
このとき，載置台に被処理基板を吸着保持するための治具としては，例えば誘電部材内に埋設された電極板に直流電圧を印加して被処理基板をクーロン力等の静電力によって吸着保持する静電チャックが多用されている。ところが，このような静電チャックで被処理基板を吸着した場合には，処理後に静電チャックに印加した電圧をオフにしても被処理基板に電荷が残留し，吸着保持力が残存する場合がある。従って，このような状態で例えばリフトピンによって被処理基板を載置台から脱離させると，被処理基板の割損やずれが発生する可能性がある。このため，被処理基板を脱離させる前には，被処理基板の除電処理を実行して静電吸着力を弱めるようにしている（例えば特許文献１，２参照）。
【０００４】
このような除電処理を行う際には，例えば被処理基板の処理条件（処理レシピ）とともに予め記憶された除電条件（例えば静電チャックへの印加電圧，処理室内圧力，処理室内に導入するガス流量など）のパラメータを読出して除電条件を設定し，設定した除電条件に基づいて除電処理を実行するようになっている。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−６４０２１号公報
【特許文献２】特開平１１−２７４１４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら，予め記憶された除電条件は通常は，被処理基板に対する処理が正常終了したときの被処理基板の状態で除電することを前提に各パラメータの値が決められているので，被処理基板の除電を実行する際における被処理基板の状態によっては被処理基板を十分に除電できない場合があった。
【０００７】
例えば被処理基板に施すエッチングなどの処理の途中で基板処理装置に異常が発生し，正常に終了しなかった場合には，その異常の原因や放置時間などによっては被処理基板が過吸着状態になる。従って，このような状態で被処理基板を取除くために被処理基板の除電を実行しても，予め記憶された除電条件では被処理基板を十分に除電できず，被処理基板の割損やずれが発生する虞があるという問題があった。
【０００８】
そこで，本発明は，このような問題に鑑みてなされたもので，その目的とするところは，被処理基板に対する処理が正常終了した場合のみならず，被処理基板に対する処理が正常終了していない場合においても，被処理基板を十分に除電できる基板処理装置，被処理基板の除電方法，プログラムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，処理室内に配設された載置台に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板を，前記載置台から脱離する場合に行われる被処理基板の除電方法であって，前記被処理基板の除電を行う前に前記被処理基板に対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し，正常終了したと判断した場合は正常時除電条件情報記憶手段に記憶された正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し，正常終了していないと判断した場合は非正常時除電条件情報記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する除電条件設定工程と，前記除電条件設定手段により設定した除電条件に基づいて前記被処理基板の除電処理を実行する除電処理実行工程とを有することを特徴とする被処理基板の除電方法が提供される。
【００１０】
上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，処理室内に配設された載置台に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板を前記載置台から脱離する場合に前記被処理基板の除電を行う基板処理装置であって，正常時除電条件情報を記憶する正常時除電条件情報記憶手段と，非正常時除電条件情報を記憶する非正常時除電条件情報記憶手段と，前記被処理基板の除電を行う前に前記被処理基板に対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し，正常終了したと判断した場合は前記正常時除電条件情報記憶手段からの正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し，正常終了していないと判断した場合は前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する除電条件設定手段と，前記除電条件設定手段により設定した除電条件に基づいて前記被処理基板の除電処理を実行する除電処理実行手段とを備えることを特徴とする基板処理装置が提供される。
【００１１】
上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，処理室内に配設された載置台に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板を，前記載置台から脱離する場合に行われる被処理基板の除電処理を実行するためのプログラムであって，コンピュータに，前記被処理基板の除電を行う前に前記被処理基板に対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し，正常終了したと判断した場合は正常時除電条件情報記憶手段に記憶された正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し，正常終了していないと判断した場合は非正常時除電条件情報記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する除電条件設定手順と，設定した除電条件に基づいて前記被処理基板の除電処理を実行する除電処理実行手順とを実行させるためのプログラム。
【００１２】
このような本発明にかかる装置，方法，プログラムにおいては，被処理基板に対する所定の処理が正常終了した場合には，正常時除電条件に基づいて除電処理が実行され，被処理基板に対する所定の処理が正常終了していない場合は，正常時除電条件とは異なる除電条件にすることができる非正常時除電条件に基づいて除電処理が実行されるので，被処理基板に対する所定の処理が正常終了した場合のみならず，正常終了していない場合においても，被処理基板を十分に除電できる。これにより，被処理基板の割損やずれが発生することを確実に防止することができる。
【００１３】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記除電条件の設定では，前記被処理基板に対する処理が正常に終了しなかった場合にメンテナンスに移行されたか否かを判断し，メンテナンスに移行されたと判断した場合には，そのメンテナンスから復帰した場合にも，前記装置パラメータ記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定するようにしてもよい。これにより，メンテナンスから復帰するまでに例えば被処理基板が過吸着状態になっていても，この場合は非正常時除電条件に基づく除電処理が実行されるので，被処理基板を十分に除電することができる。
【００１４】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記除電処理の実行では，前記除電処理実行手段は，前記除電処理状況を検出し，その検出値と許容限界条件とを比較し，前記除電処理状況の検出値が許容限界条件を満たす場合には前記除電処理が異常状態と判断して前記除電処理を停止し，前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件に基づいて除電条件を設定して，前記除電処理を再試行するようにしてもよい。これにより，例えば除電処理の異常によって被処理基板の除電を十分にできなかった場合でも，非正常時除電条件に基づいて除電処理が再試行されるので，被処理基板を十分に除電することができる。
【００１５】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記許容限界条件は，前記除電処理が異常となる異常条件と，この異常条件よりも緩い条件の警告条件との２段階とし，前記除電処理の実行では，前記除電処理状況の検出値が前記異常条件を満たす場合には前記除電処理が異常状態と判断して前記除電処理を停止し，前記除電処理状況の検出値が前記警告条件を満たす場合には前記除電処理が警告状態と判断して前記警告処理を行うようにしてもよい。除電処理が警告状態となったところで，そのことを警告処理などによってオペレータに知らせることができるため，オペレータは除電処理が異常状態になる可能性があることを事前に予測することができる。
【００１６】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記除電処理の実行では，前記被処理基板の除電処理の終了後に，前記除電処理の再試行するか否かの選択を求め，前記除電処理の再試行が選択された場合には，前記非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定するようにしてもよい。これにより，被処理基板の状態に応じて除電処理を再試行することができるので，より確実に被処理基板を除電することができる。
【００１７】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記非正常時除電条件情報は，例えば入力手段により編集可能である。これにより，非正常時除電条件情報に基づく除電処理を行うタイミングでオペレータが被処理基板の状態に応じて除電条件を設定できるので，被処理基板を効率よく十分に除電できる。
【００１８】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記非正常時除電条件情報は，編集可能な除電条件のパラメータの数が前記正常時除電条件情報よりも多くなるようにしてもよい。非正常時除電条件情報に基づく除電処理は，何らかの異常が生じた場合の処理を含むため，正常時除電条件情報２８４よりも細かい設定ができるようにするためである。これにより，除電処理を行う際の被処理基板の状態に応じて除電条件を細かく設定できるので，被処理基板をより十分に除電できる。
【００１９】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記非正常時除電条件情報に基づいて設定された除電条件に基づいて実行される除電処理には，前記被処理基板の裏面と前記載置台との間を真空引きする処理を含むようにしてもよい。被処理基板を載置台から脱離する際の跳ね上がりを防止するためである。
【００２０】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記除電処理には，前記処理室内に配設された載置台に前記被処理体を静電吸着させる静電吸着手段への印加電圧の極性反転を繰返す処理を含むようにしてもよい。これにより，被処理基板をより確実に除電することができる。
【００２１】
上記装置，方法，プログラムにおいて，前記非正常時除電条件情報は，少なくとも前記静電吸着手段への印加電圧，前記処理室内圧力，前記処理室内へ処理ガスを供給する複数のガスラインからのガス流量の各パラメータを含むようにしてもよい。これにより，除電処理の実行中に，例えばあるガスラインに異常が発生してそのガスラインから除電処理に必要な所定流量の処理ガスが供給できない場合でも，他の複数のガスラインからの処理ガスの供給を組合せて，各ガス流量の合計が上記除電処理に必要な所定流量となるように，非正常時除電条件情報を編集することも可能となる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば，被処理基板に対する処理が正常終了した場合のみならず，被処理基板に対する処理が正常終了していない場合においても，被処理基板を十分に除電できる。これにより，被処理基板の割損やずれが発生することを確実に防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２４】
（基板処理装置の構成例）
先ず，本発明にかかる基板処理装置の構成例を図面を参照しながら説明する。図１は，本実施形態にかかる基板処理装置の構成例を示す断面図である。基板処理装置１００は，被処理基板に対してエッチング処理などを施すプラズマ処理装置として構成されたものである。
【００２５】
図１に示すように，基板処理装置１００は，アルミニウム等の導電性材料からなる処理室（チャンバ）１０２を備える。処理室１０２は例えば上部に開口部を有する容器本体１０３と，この容器本体１０３の開口部を閉塞するカバー（蓋部）１０４とを備える処理容器から構成される。カバー１０４は容器本体１０３にボルトなどの締結部材により脱着自在に気密に取付けられる。また，カバー１０４と容器本体１０３の間にはＯリングなどのシール部材（図示しない）が介在されている。これにより，カバー１０４と容器本体１０３との間はより高い気密性が確保される。なお，処理室１０２は保安接地されている。
【００２６】
処理室１０２内には，被処理基板例えば半導体ウエハ（以下，単に「ウエハ」とも称する。）Ｗを載置する載置台を兼ねた円板状の下部電極（サセプタ）１２０と，この下部電極１２０に対向して配設され，処理ガスやパージガスなどを導入するシャワーヘッドを兼ねた上部電極１４０とを備える。
【００２７】
下部電極１２０には第１高周波電源１６２が整合器１６４を介して接続され，上部電極１４０には上記第１高周波電源１６２より周波数の高い第２高周波電源１７２が整合器１７４を介して接続されている。また，下部電極１２０には第２高周波電源１７２からの下部電極１２０に流入した高周波電流を濾過するハイパスフィルタ（ＨＰＦ）１６６が接続されており，上部電極１４０には第１高周波電源１６２からの上部電極１４０に流入した高周波電流を濾過するローパスフィルタ（ＬＰＦ）１７６が接続されている。
【００２８】
上部電極１４０には処理室１０２内での処理に必要なガスを供給する処理ガス供給部１４２がガス導入管を介して接続されている。処理ガス供給部１４２は，例えば処理室１０２内でのウエハのプロセス処理や処理室１０２内のクリーニング処理などに必要な処理ガスやパージガスなどを供給するガス供給源，ガス供給源からのガスの導入を制御するバルブ及びマスフローコントローラを有する複数のガスラインから構成される。
【００２９】
なお，処理ガス供給部１４２は，例えば制御部２００からの制御信号に基づいて選択可能に構成された複数のガスラインを備える。例えば異なる種類の処理ガスは異なるガスラインで供給することができ，また同じ種類の処理ガスを複数のガスラインにより供給することもできるようになっている。これによれば，いずれかのガスラインに異常が発生しても，同じ処理ガスを他のガスラインにより供給することができる。また，１つのガスラインだけでは供給できないほどの流量の処理ガスでも複数のガスラインにより供給できるので，必要な流量の処理ガスを供給することができる。
【００３０】
また，処理室１０２の底面には排気口１８０が設けられている。この排気口１８０には処理室１０２内を排気する排気装置１８２が排気管を介して接続されている。排気装置１８２は，例えば真空ポンプを備え，処理室１０２内を所定の真空度まで減圧することができるようになっている。
【００３１】
下部電極１２０には，ウエハＷを静電吸着力で保持するための静電チャック１２２が設けられている。この静電チャック１２２は例えば導電膜からなる静電チャック電極１２４を絶縁膜内に挟み込んで構成される。静電チャック電極１２４には正電圧印加，負電圧印加が切換え可能な直流電源１２５が可変抵抗１２６及びスイッチ１２７を介して電気的に接続されている。
【００３２】
このように構成される静電チャック１２２によれば，スイッチ１２７が端子１２８に接続して直流電源１２５により正電圧が印加されることにより，クーロン力でウエハＷを静電チャック１２２上に吸着保持することができる。また，スイッチ１２７が端子１２９に接続して直流電源１２５により負電圧が印加されることにより，静電吸着時とは逆極性の電圧がかかるので，被処理基板を除電することができる。また，可変抵抗１２６により直流電源１２５からの印加電圧を調整することにより，ウエハＷの吸着保持力を調整することができる。なお，静電吸着時の極性と除電時の極性は，上記の場合に限られず，静電チャック１２２の構成に応じて逆にしてもよい。
【００３３】
下部電極１２０には，ウエハＷを静電チャック１２２の上面から引き離すための脱離手段（図示しない）を備える。脱離手段は，例えば下部電極１２０に鉛直方向に延びて静電チャック１２２の上面から突抜け可能な複数（例えば４本）のリフトピン（リフタピン又は支持ピンとも称してもよい）を昇降部材に取付けて構成される。このリフトピンは，例えばエアシリンダーやボールネジ機構などからなる駆動機構により昇降部材を介して昇降可能に構成され，リフトピンの昇降に応じてリフトピンの先端が例えば下部電極１２０に形成される孔部を介して静電チャック１２２の表面上に突没して，静電チャック１２２上のウエハＷを脱離できるようになっている。
【００３４】
静電チャック１２２の上面縁部には，ウエハＷの外周を囲むようにフォーカスリング１３２が配設されている。さらに，下部電極１２０の上面縁部には静電チャック１２２とフォーカスリング１３２を囲むようにカバーリング１３４が配設されている。これらフォーカスリング１３２，カバーリング１３４により，ウエハＷにプラズマを集めるようにしている。なお，これらフォーカスリング１３２とカバーリング１３４は必ずしも別体で構成する必要はなく，一体で構成してもよい。
【００３５】
また，下部電極１２０の内部には冷却機構が設けられている。この冷却機構は，例えば下部電極１２０内の円周方向に延在する冷媒室１３６に，チラーユニット１３８からの所定温度の冷媒（例えば冷却水）を配管を介して循環供給するように構成される。冷媒の温度によって静電チャック１２２上のウエハＷの処理温度を制御できる。
【００３６】
さらに，伝熱ガス供給部１３９からの例えばＨｅガスなどの伝熱ガス（冷却ガス，バックガス）が，ガス供給ラインを介して静電チャック１２２の上面とウエハＷの裏面との間に供給される。これにより，下部電極１２０とウエハＷ間の熱伝達が促進される。伝熱ガス供給部１３９は，静電チャック１２２の上面とウエハＷの裏面との間を真空引きできるように構成されている。これにより，静電チャック１２２の上面とウエハＷの裏面の圧力調整が可能である。
【００３７】
また，下部電極１２０の下面と処理室１０２の底面間には例えばアルミニウム製のベローズ１０５が介在している。下部電極１２０には昇降機構（図示しない）が設けられており，この昇降機構により下部電極１２０を昇降させることにより，ウエハＷに対する処理に応じて上部電極１４０との隙間を適宜設定できるようになっている。また，処理室の側壁には，ウエハＷの搬入出口を開閉するゲートバルブ１０６が取付けられている。
【００３８】
シャワーヘッドを兼ねる上部電極１４０は，多数のガス通気孔１４５を有する下面の電極板１４４と，この電極板１４４を着脱可能に支持する電極支持体１４６とを備える。電極板１４４は例えばシリコン材で構成され，電極支持体１４６は例えばアルミニウム材で構成される。電極支持体１４６内にはバッファ室１４７が形成され，このバッファ室１４７のガス導入口に上記処理ガス供給部１４２がガス導入管を介して接続されている。
【００３９】
上部電極１４０には，その外周を囲むように絶縁部材１４８が取付けられており，処理室１０２と絶縁されるようになっている。絶縁部材１４８の下面と電極板１４４の下面は面一になっており，この絶縁部材１４８の下面と電極板１４４の下面縁部には，シールドリング１５０が取付けられている。シールドリング１５０は例えば石英，アルミナ等の無機酸化物によって形成される。なお，シールドリング１５０は必ずしも絶縁部材１４８と別体で構成する必要はなく，一体で構成して絶縁部材を兼ねるようにしてもよい。
【００４０】
上記基板処理装置１００は，その各部を制御する制御部２００を備える。制御部２００は，例えば第１及び第２高周波電源１６２，１７２，整合器１６４，１７４，処理ガス供給部１４２，排気装置１８２，静電チャック１２２用のスイッチ１２７及び可変抵抗１２６，チラーユニット１３８，伝熱ガス供給部１３９等に接続されている。
【００４１】
また，基板処理装置１００には各種センサ（図示しない）が設けられている。各種センサとしては，上部電極１４０及び下部電極１２０の印加電圧や静電チャック１２２の印加電圧などを測定する電気センサ，処理ガス供給部１４２による処理ガスの流量や伝熱ガス供給部１３９による伝熱ガスの流量を検出するガス流量センサ，上部電極１４０や下部電極１２０などの温度を検出する温度センサが挙げられる。また，各種センサには，処理室１１の側壁に設けられた透明窓を介して取付けられるプラズマ発光分光器（図示しない）も含まれる。プラズマ発光分光器３１は，特定波長のプラズマを分光してプラズマの状態の変化を検出したり，この特定波長のプラズマの強度の変化に基づいてエッチングの終点を検出したりするものである。これら各種センサは，制御部２００に接続されている。
【００４２】
制御部２００は，上述したような電気センサ，ガス流量センサ，温度センサ，プラズマ発光分光器などの各種センサを介してエッチングなどのウエハに対する処理（ウエハ処理）の状況や後述する除電処理状況を検出し，これらの検出値に基づいて処理ガス供給部１４２，排気装置１８２，伝熱ガス供給部１３９など各部を制御して処理を行う。そして，各種センサの検出値により，ウエハ処理や後述する除電処理などが正常に実行されているか否かを判断し，基板処理装置１００の故障やプロセス異常など異常が検知された場合には，アラームなどの報知手段２６０を駆動させてオペレータに知らせるようになっている（インターロック処理）。
【００４３】
（制御部の構成例）
次に，上述したような制御部の構成例について，図２を参照しながら説明する。図２に示すように，制御部２００は，制御部本体を構成するＣＰＵ（中央処理装置）２１０，ＣＰＵ２１０が各部を制御するためのプログラムデータ（例えばウエハＷに対する所定の処理，ウエハＷの除電処理等を実行するためのプログラムデータ）等を格納したＲＯＭ（リード・オンリ・メモリ）２２０，ＣＰＵ２１０が行う各種データ処理のために使用されるメモリエリア等を設けたＲＡＭ（ランダム・アクセス・メモリ）２３０を備える。
【００４４】
また，制御部２００は，操作画面や選択画面などを表示する液晶ディスプレイなどで構成される表示手段２４０，オペレータによる例えばキーボードやタッチパネルなどの操作により種々のデータを入力できる入力手段とオペレータによる操作により種々のデータをプリンタや外部記憶装置などに出力できる出力手段を備える入出力手段２５０，例えばブザーのような警報器等で構成される報知手段２６０，基板処理装置１００の各部（例えば処理ガス供給部１４２，伝熱ガス供給部１３９，静電チャック１２２用のスイッチ１２７など）を制御するための各種コントローラ２７０，正常時除電条件情報記憶手段の１例としてのレシピパラメータ記憶手段２８０，非正常時除電条件情報記憶手段の１例としての装置パラメータ記憶手段２９０を備える。
【００４５】
上記ＣＰＵ２１０と，ＲＯＭ２２０，ＲＡＭ２３０，表示手段２４０，入出力手段２５０，報知手段２６０，各種コントローラ２７０，レシピパラメータ記憶手段２８０，装置パラメータ記憶手段２９０とは制御バス，システムバス，データバス等のバスラインにより電気的に接続されている。
【００４６】
各種コントローラ２７０には，例えば第１及び第２高周波電源１６２，１７２，整合器１６４，１７４，処理ガス供給部１４２，排気装置１８２，静電チャック１２２用のスイッチ１２７及び可変抵抗１２６，チラーユニット１３８，伝熱ガス供給部１３９等を制御するコントローラが含まれる。
【００４７】
上記レシピパラメータ記憶手段２８０は，主として例えば基板処理装置１００によるウエハＷに対する処理などが自動実行される際に参照される情報を記憶するものであるのに対して，装置パラメータ記憶手段２９０は，主として例えば基板処理装置１００による処理が停止され，オペレータにより基板処理装置１００の各種の設定やメンテナンス処理等が行われる場合に参照する情報を記憶するものである。
【００４８】
本実施形態では，ウエハＷに対するエッチングなどの所定の処理（以下，「ウエハ処理」とも称する）が連続実行される際に，ウエハ処理が正常終了したときに実施される正常時除電条件情報２８４については，レシピパラメータ記憶手段２８０に記憶し，ウエハ処理が正常終了していないときに実施される非正常時除電条件情報２９４については，装置パラメータ記憶手段２９０に記憶する。これにより，ウエハ処理が正常終了したときには，ウエハ処理終了後に除電処理を自動的に実行可能となるので，処理のスループットを向上させることができる。これに対して，例えば何らかの異常が発生してウエハ処理が正常終了していないときには，例えばウエハ処理を停止してウエハＷを取除く必要が生じた場合に，その異常の原因や放置時間などによって異なるウエハＷの状態に応じて最適な除電条件を設定できるので，ウエハＷを十分に除電することができる。
【００４９】
以下，このようなレシピパラメータ記憶手段２８０及び装置パラメータ記憶手段２９０に記憶される情報ついて説明する。レシピパラメータ記憶手段２８０には，ウエハ処理条件（処理レシピ）情報２８２及び正常時除電条件（除電レシピ）情報２８４が記憶されている。ウエハ処理条件情報２８２は，処理室１０２でウエハ処理を行うのに基板処理装置１００の各部を制御するための条件である。ウエハ処理条件情報２８２は，例えば図３に示すように処理室内電圧，処理ガスの種類や流量，上部電極や下部電極に印加する高周波電圧等の複数のパラメータを有する。
【００５０】
正常時除電条件情報２８４は，ウエハ処理条件情報２８２に基づくウエハ処理が正常終了した場合に実行される除電処理において，基板処理装置１００の各部を制御するための条件である。従って，正常時除電条件情報２８４は，ウエハ処理が正常終了したときのウエハＷの状態で十分な除電ができるように各パラメータの値を決めるようにすれば足りる。正常時除電条件情報２８４は，例えば図４に示すように静電チャック印加電圧，処理ガスのガス流量，処理室内圧力等の複数のパラメータを有する。静電チャック印加電圧は，静電チャック１２２に印加する電圧で，例えば静電吸着時とは逆極性の電圧である。処理ガスのガス流量は，処理ガス供給部１４２から供給する処理ガス例えばＮ２ガスのガス流量である。処理室内圧力は，処理室１０２内の圧力であり，例えば上記処理ガスの導入及び処理室１０２内の排気量を制御することにより調整される。
【００５１】
なお，正常時除電条件情報２８４における除電条件の各パラメータは，例えばオペレータによる入出力手段２５０の操作によって編集可能にしてもよい。例えばウエハ処理を実行する前にウエハ処理条件などを変更した場合に，それに応じて除電条件も変更の必要が生じる場合もあるからである。
【００５２】
装置パラメータ記憶手段２９０には，除電処理の許容限界条件情報２９２及び非正常時除電条件（除電レシピ）情報２９４が記憶されている。除電処理の許容限界条件情報２９２は，図５に示すように除電処理の実行中に除電処理が正常に実行されているか否かをチャックする場合の許容限界条件を記憶するものである。
【００５３】
許容限界条件は，除電条件の全部又は一部のパラメータごとに複数段階に設定可能である。図５に示す許容限界条件情報２９２では，例えば静電チャック印加電圧，ガス流量，処理室内圧力などの各パラメータごとに許容限界条件１，２の２段階に設定している。これらの許容限界条件は，入出力手段２５０により任意の値に設定可能である。
【００５４】
許容限界条件２は，除電条件のパラメータが例えば除電処理を続行できない程度に各センサの検出値が除電条件の設定値よりも外れているような異常状態となる許容限界条件である。許容限界条件１は，除電条件のパラメータが例えば除電処理を続行できない程度ではないが，除電条件のパラメータの設定値からある程度以上外れている警告状態となる許容限界条件であり，許容限界条件２よりも緩い許容限界条件を設定するものである。
【００５５】
許容限界条件は，除電処理が異常状態となる許容限界条件２のみの１段階で設定するようにしてもよいが，上記のように２段階にすることによって，除電処理が異常状態となる許容限界条件２に達する前に，必ず除電処理が警告状態となる許容限界条件１に達するため，除電処理が警告状態となったところで，除電処理が警告状態であることを後述する警告処理などによってオペレータに知らせることができるため，オペレータは除電処理が異常状態になる可能性があることを事前に予測することができる。
【００５６】
また，除電処理中の基板処理装置１００の状態や周囲環境などによっては，除電条件のパラメータについての各センサによる検出値が変動する場合がある。このため，一時的に許容限界条件を満たしても，直ぐに所定範囲内に戻って除電処理自体には支障がない場合もある。従って，図６に示すように許容限界条件としては，各許容限界条件１，２ごとに除電条件の各パラメータの設定値から離れた程度（例えば各パラメータの設定値に対する割合）を示す範囲のみならず，この範囲を超えている時間についても設定できるようにした。これにより，各パラメータの値が少し変動して，一時的に許容限界条件の範囲を超えても，その状態が設定された時間以上続かない限り，異常と判断されない。こうすることにより，除電処理中に真に異常が生じた場合に異常状態と判断することができる。
【００５７】
なお，本実施形態では，除電処理のインターロック処理に使用するための許容限界条件情報２９２について説明したが，ウエハＷに対するエッチング処理などの所定の処理のインターロック処理についての許容限界条件情報も許容限界条件情報２９２と同様に構成して，例えば装置パラメータ記憶手段に記憶するようにしてもよい。これにより，ウエハＷに対する処理が正常か否かの判断なども除電処理の場合と同様に行うことができる。
【００５８】
非正常時除電条件情報２９４は，ウエハ処理条件情報２８２に基づくウエハ処理が正常終了していない場合に実行される除電処理において，基板処理装置１００の各部を制御するための条件である。ウエハ処理が正常終了していない場合は，後述するように例えば何らかの異常が発生してウエハ処理が途中で停止された場合のみならず，異常発生の有無に拘らずオペレータによりウエハ処理が途中で停止された場合も含まれる。
【００５９】
非正常時除電条件情報２９４における除電条件の各パラメータは，例えばオペレータによる入出力手段２５０の操作によって編集可能である。これにより，非正常時除電条件情報２９４に基づく除電処理を行うタイミングでオペレータがウエハＷの状態に応じて除電条件を設定できるので，ウエハＷを効率よく十分に除電できる。
【００６０】
また，非正常時除電条件情報２９４の除電条件の編集可能なパラメータの数は，正常時除電条件情報２８４の除電条件のパラメータの数よりも多くなっている。例えば非正常時除電条件情報２９４では，処理室１０２内の圧力調整などを行う時間や静電チャック１２２に電圧を印加する時間についても編集可能である。非正常時除電条件情報２９４に基づく除電処理は，何らかの異常が生じた場合の処理を含むため，正常時除電条件情報２８４よりも細かい設定ができるようにするためである。これにより，除電処理を行う際のウエハＷの状態に応じて除電条件を細かく設定できるので，ウエハＷをより十分に除電できる。
【００６１】
また，非正常時除電条件情報２９４における除電条件の各パラメータのデフォルト値は，正常時除電条件情報２８４と同じ値にしておいてもよい。ウエハ処理が正常終了していない場合でも，例えば放置時間が短かった場合などウエハＷの状態が処理正常終了の場合とほとんど変らない場合には，正常時除電条件と同じ条件でもウエハＷを十分に除電できるからである。また，最初は正常時除電条件と同じ条件で除電処理を実行させてみて，ウエハＷの状態を見ながら，非正常時除電条件情報２９４を編集して除電を再試行してみることもできる。
【００６２】
また，非正常時除電条件情報２９４における除電条件の各パラメータのデフォルト値は，すべて０にしておいてもよい。これにより，基板処理装置１００ごとに非正常時除電条件情報２９４の出荷時のデフォルト値を変える手間を省くことができる。すなわち，基板処理装置１００の構成（例えば処理ガス供給部１４２のガスライン数やガスラインで供給可能な最大ガス流量など）によっては設定可能な非正常時除電条件情報２９４も変るので，非正常時除電条件情報２９４における除電条件の各パラメータのデフォルト値を０にしない場合は，基板処理装置１００ごとに非正常時除電条件情報２９４の出荷時のデフォルト値を変える必要が生じる。このような場合でも，基板処理装置１００ごとに非正常時除電条件情報２９４の出荷時のデフォルト値を変える必要がなくなる。
【００６３】
なお，上記のように非正常時除電条件情報２９４における除電条件の各パラメータのデフォルト値をすべて０にする場合は，除電処理を実行する前に非正常時除電条件情報２９４を編集する必要がある。但し，もし非正常時除電条件情報２９４の除電条件を編集し忘れて除電処理が実行されたとしても，除電条件の各パラメータがすべて０のままでは，その除電処理が正常に実行されないため，そのような状態で例えばリフトピンによってウエハＷが静電チャック１２２から脱離されることはない。
【００６４】
また，本実施形態では，非正常時除電条件情報２９４は，装置パラメータ記憶手段２９０に記憶する場合について説明したが，必ずしもこれに限定されるものではなく，レシピパラメータ記憶手段２８０に記憶して，後述する除電処理において非正常時除電条件情報２９４が必要な場合は，レシピパラメータ記憶手段２８０から読出して除電条件を設定するようにしてもよい。
【００６５】
非正常時除電条件情報２９４は，例えば図６に示すように静電チャック印加電圧，静電チャックに印加する電圧の印加時間，処理室内圧力，圧力等の調整時間，処理ガス供給部１４２の各ガスラインごとの処理ガスのガス流量等のパラメータを有する。
【００６６】
なお，処理ガス供給部１４２の各ガスラインは基板処理装置１００が有する全部のガスラインについてのパラメータを記憶できるようにしてもよく，一部の複数のガスラインについてのパラメータを記憶できるようにしてもよい。また，除電処理に必要な処理ガス（例えばＮ２ガスや不活性ガス）を供給するガスラインだけを設定できるようにしてもよい。これにより，除電処理の実行中に，例えばあるガスラインに異常が発生してそのガスラインから除電処理に必要な所定流量の処理ガスが供給できない場合でも，他の複数のガスラインからの処理ガスの供給を組合せて，各ガス流量の合計が上記除電処理に必要な所定流量となるように，非正常時除電条件情報２９４を編集することも可能となる。
【００６７】
このような構成の制御部２００によって基板処理装置１００の各部を制御して，ウエハ処理として例えばエッチング処理を実行する場合，搬送アームなどによりウエハＷを処理室１０２内へ搬入し，載置台を兼ねる下部電極１２０上に載置させて，静電チャック１２２によりウエハＷを静電吸着する。そして，処理ガス供給部１４２により処理室１０２内に所定の処理ガスを導入し，排気装置１８２により処理室１０２内を排気することにより，所定の真空度にする。
【００６８】
このように所定の真空度を維持した状態で，第１高周波電源１６２から下部電極１２０に例えば２ＭＨｚの第１高周波電力を印加するとともに，第２高周波電源１７２から上部電極１４０に例えば６０ＭＨｚの第２高周波電力を印加することにより，第２高周波電力の働きで下部電極１２０と上部電極１４０との間に処理ガスのプラズマが発生するとともに，第１高周波電力の働きで下部電極１２０にセルフバイアス電位が発生する。これにより，下部電極１２０上のウエハＷに対して例えば反応性イオンエッチング等のプラズマ処理を実行することができる。制御部２００は，このようなウエハ処理の実行中に上記各種センサからの検出値に基づいて異常検出を行い，異常が発生したか否かをチェックする（インターロック処理）。
【００６９】
そして，異常が検出されずにウエハＷのプロセス処理が正常に終了した場合には，ウエハＷの除電処理を行って，例えばリフトピンを押上げてウエハＷを静電チャック１２２から脱離し，搬送アームなどにより処理室１０２から搬出する。この場合の除電条件としてはウエハ処理が正常終了した場合のウエハＷの状態を想定して予め決められた除電条件に基づいて除電処理を行えば足りる。
【００７０】
ところが，ウエハ処理が正常に終了していない場合には，その異常の原因や放置時間などによってはウエハＷの状態が過吸着状態になる虞がある。ウエハ処理が正常に終了していない場合とは，例えばウエハ処理の実行中に基板処理装置１００の故障，停電，漏電，プロセス異常などが発生してウエハ処理が停止された場合，メンテナンスなどに移行され，異常などの原因が取除かれた後に基板処理装置が再起動され，復帰した場合などである。
【００７１】
このような場合には，例えば異常状態からの復帰に時間がかかったり，ウエハＷが吸着したまま放置されたりする場合が多いので，除電処理を行う際のウエハＷの状態は，ウエハ処理が正常終了した時よりも過吸着状態になる。従って，このような状態でウエハＷを静電チャック１２２から脱離させるために上記と同じ除電条件でウエハＷの除電処理を実行しても，ウエハＷを十分に除電できない。このため，リフトピンを押上げてウエハＷを静電チャック１２２から脱離する際にウエハＷの割損が生じたり，搬送アームによりウエハＷを搬出する際にウエハＷのずれが生じたりするという問題があった。
【００７２】
そこで，本発明では，ウエハ処理が正常終了したときのウエハＷの状態で除電することを前提に各パラメータの値が決められた正常時除電条件の他に，除電条件の各パラメータを編集可能な非正常時除電条件を設け，ウエハ処理が正常終了した場合は正常時除電条件に基づいて除電処理を実行し，ウエハ処理が正常終了していない場合は非正常時除電条件に基づいて除電処理を実行する。これにより，正常時除電条件とは異なる除電条件で除電処理を実行することができるので，ウエハ処理が正常に終了していない場合においても，ウエハＷを十分に除電できる。従って，ウエハＷの割損やずれが発生することを確実に防止できる。
【００７３】
（ウエハの除電処理の具体例）
ここで，上述したような本実施形態にかかるウエハの除電処理の具体例について説明する。図７はウエハの除電処理の具体例を示すフローチャートである。図７に示すように，ステップＳ１００にてウエハＷの状態に応じた除電条件の設定を行い（除電条件設定手段，除電条件設定工程，除電条件設定段階），ステップＳ２００にて設定された除電条件でウエハＷの除電処理を実行する（除電処理実行手段，除電処理実行工程，除電処理実行段階）。
【００７４】
先ず，除電条件の設定（ステップＳ１００）についての具体例について説明する。除電条件の設定は，例えば図８に示すようなサブルーチンにより行われる。ステップＳ１１０にてウエハ処理が正常終了したか否かを判断する。具体的には，上述したような制御部２００のインターロック処理により，ウエハ処理の実行中に異常が発生したか否かをチェックし，異常が発生しないままウエハ処理が終了した場合には，ウエハ処理が正常終了したと判断する。また，ウエハ処理の実行中に例えば基板処理装置１００の故障，停電，漏電，プロセス異常などが発生しウエハ処理が停止された場合にはウエハ処理が正常終了していないと判断する。なお，ここでは，異常が発生したか否かに拘わらず，オペレータの入出力手段２５０によりウエハ処理が停止された場合にも，ウエハ処理が正常終了していないと判断する。
【００７５】
ステップＳ１１０にてウエハ処理が正常終了したと判断した場合はステップＳ１６０にて正常時除電条件情報を除電条件として設定して，図７に示すメインルーチンに戻ってステップＳ２００の処理に移る。ウエハ処理が正常終了した場合には正常時除電条件情報２８４に基づく除電処理により十分な除電を行うことができるからである。具体的にはレシピパラメータ記憶手段２８０から正常時除電条件情報２８４を読取って，各パラメータをこれから実行する除電処理の除電条件として設定する。
【００７６】
ステップＳ１１０にてウエハ処理が正常終了していないと判断した場合は，メンテナンスに移行するか否かを判断する。上述したように，ウエハ処理の実行中などに異常が発生した場合は，アラームなどの報知手段により報知される。この場合，オペレータは異常原因を取除いたり，各部の修理を行ったりするためにメンテナンス処理に移行することができる。メンテナンス処理に移行されたか否かは，例えば表示手段２４０に表示された選択画面などによりメンテナンス移行が選択されたか否かにより判断するようにしてもよい。
【００７７】
ステップＳ１２０にてメンテナンスに移行すると判断した場合は，ステップＳ１３０にてメンテナンスから復帰されたか否かを判断し，メンテナンスから復帰されるまで待つ。
【００７８】
ステップＳ１２０にてメンテナンスに移行しないと判断した場合は，ステップＳ１４０にてウエハ処理を再試行するか否かを判断する。ウエハ処理の実行中などに異常が発生し，アラームなどの報知手段により報知された場合には，上述したメンテナンスへの移行の他に，例えばウエハ処理を再試行するか，又はウエハ処理を停止するかについて表示手段２４０に表示された選択画面によりオペレータが選択できるようになっている。なお，ここでいうウエハＷの再試行には，ウエハ処理を同じ処理条件で最初から実行する場合のみならず，残りの処理を実行する場合も含まれる。
【００７９】
ステップＳ１４０にてウエハ処理を再試行すると判断した場合には，同じ処理条件でウエハ処理が再試行され，ステップＳ１５０にてウエハ処理が正常終了したか否かを判断する。ステップＳ１５０の処理は，ステップＳ１１０の処理と同様である。
【００８０】
ステップＳ１５０にてウエハ処理が正常終了していないと判断した場合は，ステップＳ１２０の処理に戻る。また，ステップＳ１５０にてウエハ処理が正常終了したと判断した場合は，ステップＳ１６０にて正常時除電条件を除電条件として設定する。ウエハ処理が再試行されて正常終了した場合も，正常時と同じ除電条件でウエハＷの除電が可能だからである。
【００８１】
これに対して，ステップＳ１３０にてメンテナンスから復帰したと判断した場合，及びステップＳ１４０にてウエハ処理を再試行しないと判断した場合（例えばウエハ処理を停止すると判断した場合）はともに，後述するステップＳ１７０以降の処理に移り，非正常時除電条件を除電条件として設定して，図７に示すメインルーチンに戻ってステップＳ２００の処理に移る。このようなメンテナンスから復帰した場合やウエハ処理を停止する場合などには，ウエハＷの過吸着状態により正常時除電条件では十分にウエハＷを除電できない場合があるからである。
【００８２】
上記ステップＳ１７０にて非正常時除電条件を編集するか否かを判断する。除電処理を実行する前に，非正常時除電条件を編集可能とするためである。これにより，オペレータは，ウエハＷの状態を確認しながら，又は過去の経験などに基づいて，自由に非正常時除電条件を編集することができる。
【００８３】
ステップＳ１７０にて非正常時除電条件を編集すると判断した場合は，ステップＳ１８０にて非正常時除電条件の編集の終了待ちとなる。ステップＳ１８０にて非正常時除電条件の編集が終了したと判断した場合は，装置パラメータ記憶手段２９０の非正常時除電条件情報２９４を更新して編集後の非正常時除電条件を記憶し，ステップＳ１９０にて編集後の非正常時除電条件を除電条件として設定する。具体的には装置パラメータ記憶手段２９０から更新された非正常時除電条件情報２９４を読取って，各パラメータをこれから実行する除電処理の除電条件として設定する。
【００８４】
ステップＳ１７０にて非正常時除電条件を編集しないと判断した場合はステップＳ１９０にてそのまま非正常時除電条件を除電条件として設定する。この場合は，例えば非正常時除電条件の各パラメータのデフォルト値を除電条件として設定する。また，装置パラメータ記憶手段２９０をハードディスクや不揮発性メモリなどで構成すれば，非正常時除電条件が過去に編集された場合はその編集後の非正常時除電条件が既に記憶されているので，そのような過去に編集された非正常時除電条件をそのまま除電条件として設定するようにしてもよい。
【００８５】
次に，除電処理の実行（ステップＳ２００）についての具体例について説明する。除電処理の実行は，例えば図９に示すようなサブルーチンにより行われる。すなわち，ステップＳ２１０にて設定された除電条件で除電処理を実行する。具体的には除電条件の設定（ステップＳ１００）により正常時除電条件のパラメータが除電条件として設定されている場合は，正常時除電条件のパラメータに基づいて除電処理を実行し，非正常時除電条件のパラメータが除電条件として設定されている場合は，非正常時除電条件のパラメータに基づいて除電処理を実行する。
【００８６】
除電処理は例えば次のように実行される。先ず，処理ガス供給部１４２の所定のガスラインから処理ガス例えばＮ２ガスを除電条件に設定されたガス流量で処理室１０２内へ導入しながら，排気装置により真空引きを行って，処理室１０２内が除電条件に設定された圧力になるように調整する。
【００８７】
このとき，非正常時除電条件による除電処理の場合には伝熱ガス供給部１３９を制御して，静電チャック１２２の上面とウエハＷの裏面との間を真空引きする。これはウエハＷを静電チャックから脱離する際の跳ね上がりを防止するためである。すなわち，ウエハＷの裏面圧力が処理室内圧力より高い状態になると，ウエハＷの裏面と静電チャック１２２との間に残留した伝熱ガスが処理室内圧力との圧力差により噴出し，ウエハＷが静電チャック１２２上で飛び跳ねて，ウエハＷずれを起こしたり，ウエハＷのエッジ部のデポ物などが処理室１０２内に舞い上がってウエハＷ上に付着したりするなどの不都合が生じるため，これを防止するためである。
【００８８】
特に，非正常時除電条件による除電処理の場合は，異常の発生などによりウエハ処理が正常終了していない場合なので，異常の原因などによってはウエハＷの裏面などの状態が予測できないため，ウエハＷの裏面圧力が処理室内圧力より高い状態になる蓋然性も高い。従って，非正常時除電条件による除電処理の場合は，ウエハＷの跳ね上がりを確実に防止する目的で，念のためにウエハＷの裏面を真空引きしておくことが好ましい。この点，正常時除電条件による除電処理の場合は，ウエハＷの裏面圧力や処理室内圧力がわかるので，必要に応じてウエハＷの裏面を真空引きを行うようにすればよい。
【００８９】
そして，処理室１０２内が除電条件に設定された圧力になると，その圧力を保持しつつ，スイッチ１２７を切換えて静電チャック１２２に例えば静電吸着時とは逆極性の電圧（逆印加電圧）を印加させる。このとき，静電チャック１２２へ印加する電圧値は除電条件に設定された電圧値にする。この状態で所定時間が経過すると，静電チャック１２２への逆印加電圧をオフするとともに，処理ガスの導入をオフして，処理室１０２内の圧力制御を停止しする。
【００９０】
なお，除電処理における静電チャック１２２の制御処理としては，上記のように静電チャック１２２へ印加する電圧値は除電条件に設定された電圧値にする処理に限られることはない。例えば静電チャック１２２のスイッチ１２７を切換制御することにより，除電条件に設定された電圧値をその極性反転を繰返して静電チャック１２２に印加する処理としてもよい。
【００９１】
ステップＳ２２０にて上記除電処理が正常に実行されているか否かを判断する。除電処理中は，インターロック処理が行われ，例えば基板処理装置１００の故障，停電，漏電，除電処理異常などが発生したか否かが判断される。このうち，除電処理異常については，例えば静電チャック印加電圧，ガス流量，処理室内圧力など除電条件のパラメータについて電気センサ，ガス流量センサ，圧力センサなどの各センサによる検出値を監視し，例えば図５に示すような許容限界条件情報２９２に基づいて，異常が発生しているかチェックする。
【００９２】
このような除電処理のインターロック処理は例えば以下のように実行される。除電条件のパラメータについての各センサによる検出値が，許容限界条件１を満たし，かつ許容限界条件２を満たしていない場合には，アラームなどの報知手段２６０によって報知し，表示手段２４０への警告表示を行うなどの警告処理（ワーニング処理）を行う。この場合には，例えば許容限界条件１を満たした回数などを除電処理状況として例えば許容限界条件情報２９２に記憶しておく。
【００９３】
また，除電条件のパラメータについての各センサによる検出値が，許容限界条件２を満たす場合には，アラームなどの報知手段２６０により報知し，表示手段２４０への異常発生表示を行って，除電処理を停止する。
【００９４】
ステップＳ２２０にて除電処理が正常であると判断した場合，例えば上記インターロック処理において各センサからの検出値が許容限界条件２を満たしていない場合には，ステップＳ２３０にて除電処理が終了したか否かを判断し，除電処理が終了していないと判断した場合はステップＳ２１０の処理に戻る。
【００９５】
また，ステップＳ２２０にて除電処理が正常でないと判断した場合，例えば上記インターロック処理において各センサからの検出値が許容限界条件２を満たした場合には，ステップＳ２２２にて除電処理を停止し，ステップＳ２７０〜ステップＳ２９０にて非正常時除電条件の設定処理を実行する。ステップＳ２７０〜ステップＳ２９０の処理は，図８に示すステップＳ１７０〜ステップＳ１９０の処理と同様である。
【００９６】
このように除電処理を実行した場合にはその除電処理の途中で異常が発生して除電処理が停止した場合は，設定された除電条件に拘らず，ウエハＷが十分に除電されていないと考えられる。従って，このような場合には，非正常時除電条件の設定して再度除電処理を実行可能とする。これにより，十分にウエハＷを除電できるようになる。
【００９７】
ステップＳ２３０にて除電処理が終了したと判断した場合はステップＳ２４０にて除電処理状況を表示手段２４０に表示する。このとき，除電処理状況とともに除電処理の再試行選択画面を表示手段２４０に表示するようにしてもよい。除電処理の再試行選択画面としては，例えば除電処理を再試行するか否かを，「ＹＥＳ」，「ＮＯ」で選択できるように表示する。
【００９８】
また，除電処理状況としては，例えば図５に示すような許容限界条件情報２９２の除電処理状況に記憶された許容限界条件１を満たした回数などを表示する。例えば許容限界条件１を満たした回数が０の場合は，除電処理についての警告が一度も発生せずに正常に除電処理が終了したことを意味するので，その旨を表示するようにしてもよい。また，許容限界条件１を満たした回数が１以上の場合は，除電処理についての警告が少なくとも１回以上発生したものの，許容限界条件２を満たすほどには至らずに，除電処理が終了したことを意味する。従って，このような場合，除電選択画面で再試行を選択することも可能である。
【００９９】
次いでステップＳ２５０にて除電処理を再試行するか否かを判断する。具体的には上記除電選択画面で「ＹＥＳ」が選択された場合には除電処理を再試行すると判断し，「ＮＯ」が選択された場合には除電処理を再試行しないと判断する。
【０１００】
ステップＳ２５０にて除電処理を再試行すると判断した場合は，ステップＳ２７０〜ステップＳ２９０にて非正常時除電条件の設定処理を実行し，ステップＳ２１０に戻り，除電処理を再試行する。すなわち，除電処理を再試行する場合に，非正常時除電条件の編集を可能とすることにより，除電条件を変えて除電処理を再試行可能としたものである。これにより，ウエハＷの除電が不十分なまま静電チャック１２２からウエハＷが脱離されることを確実に防止できる。
【０１０１】
また，図９に示すフローチャートでは，ステップＳ２５０にて除電処理の再試行しないと判断されるまでは，ステップＳ２１０〜ステップＳ２５０及びステップＳ２７０〜ステップＳ２９０が繰返されるので，何度でも除電条件を変えて除電処理を再試行できる。これにより，例えば除電条件を少しずつ変えながら除電処理を実行して除電処理状況を確認できるので，より確実にウエハＷの除電を行うことができる。
【０１０２】
ステップＳ２５０にて除電処理を再試行しないと判断した場合はステップＳ２６０にて静電チャック１２２からウエハＷを脱離して図７の処理に戻り，一連の除電処理を終了する。具体的には例えばリフトピンを押し上げることにより，載置台を兼ねる下部電極１２０の静電チャック１２２からウエハＷを脱離して，除電処理を終了する。これにより，ウエハ処理が正常終了した場合のみならず，ウエハ処理が正常終了していない場合においても，ウエハＷを十分に除電できるため，ウエハＷが割損したり，ずれたりすることなく，ウエハＷを搬送アームなどにより搬出させたり，取除いたりすることができる。
【０１０３】
また，上述した実施形態の機能（例えばウエハ処理機能，除電処理機能）を実現するソフトウェアのプログラムを記憶した記憶媒体等の媒体をシステム或いは装置に供給し，そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ）が記憶媒体等の媒体に格納されたプログラムを読み出して実行することによっても，本発明が達成されることは言うまでもない。
【０１０４】
この場合，記憶媒体等の媒体から読み出されたプログラム自体が上述した実施形態の機能を実現することになり，そのプログラムを記憶した記憶媒体等の媒体は本発明を構成することになる。プログラムを供給するための記憶媒体等の媒体としては，例えば，フロッピー（登録商標）ディスク，ハードディスク，光ディスク，光磁気ディスク，ＣＤ−ＲＯＭ，ＣＤ−Ｒ，ＣＤ−ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ−ＲＡＭ，ＤＶＤ−ＲＷ，ＤＶＤ＋ＲＷ，磁気テープ，不揮発性のメモリカード，ＲＯＭ，或いはネットワークを介したダウンロードなどを用いることができる。
【０１０５】
なお，コンピュータが読み出したプログラムを実行することにより，上述した実施形態の機能が実現されるだけでなく，そのプログラムの指示に基づき，コンピュータ上で稼動しているＯＳなどが実際の処理の一部または全部を行い，その処理によって上述した実施形態の機能が実現される場合も，本発明に含まれる。
【０１０６】
さらに，記憶媒体等の媒体から読み出されたプログラムが，コンピュータに挿入された機能拡張ボードやコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれた後，そのプログラムの指示に基づき，その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるＣＰＵなどが実際の処理の一部または全部を行い，その処理によって上述した実施形態の機能が実現される場合も，本発明に含まれる。
【０１０７】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明は，被処理基板を載置台から脱離する場合に行われる被処理基板の除電方法，基板処理装置，プログラムに適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】本発明の実施形態にかかる基板処理装置の構成例を示す断面図である。
【図２】図１に示す制御部の構成例を示すブロック図である。
【図３】図２に示すウエハ処理条件情報のデータテーブルの具体例を示す図である。
【図４】図２に示す正常時除電条件情報のデータテーブルの具体例を示す図である。
【図５】図２に示す許容限界条件情報のデータテーブルの具体例を示す図である。
【図６】図２に示す非正常時除電条件情報のデータテーブルの具体例を示す図である。
【図７】同実施形態にかかる除電処理の具体例を示すフローチャートである。
【図８】図７に示す除電条件の設定の具体例を示すフローチャートである。
【図９】図７に示す除電処理の実行の具体例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【０１１０】
１００      基板処理装置
１０２      処理室
１０３      容器本体
１０４      カバー
１０５      ベローズ
１０６      ゲートバルブ
１２０      下部電極
１２２      静電チャック
１２４      静電チャック電極
１２５      直流電源
１２６      可変抵抗
１２７      スイッチ
１２８，１２９      端子
１３２      フォーカスリング
１３４      カバーリング
１３６      冷媒室
１３８      チラーユニット
１３９      伝熱ガス供給部
１４０      上部電極
１４２      処理ガス供給部
１４４      電極板
１４５      ガス通気孔
１４６      電極支持体
１４７      バッファ室
１４８      絶縁部材
１５０      シールドリング
１６２      第１高周波電源
１６４      整合器
１６６      ハイパスフィルタ（ＨＰＦ）
１７２      第２高周波電源
１７４      整合器
１７６      ローパスフィルタ（ＬＰＦ）
１８０      排気口
１８２      排気装置
２００      制御部
２１０      ＣＰＵ
２２０      ＲＯＭ
２３０      ＲＡＭ
２４０      表示手段
２５０      入出力手段
２６０      報知手段
２７０      各種コントローラ
２８０      レシピパラメータ記憶手段
２８２      ウエハ処理条件情報
２８４      正常時除電条件情報
２９０      装置パラメータ記憶手段
２９２      許容限界条件情報
２９４      非正常時除電条件情報
Ｗ        ウエハ
【図１】
2006269854.tif 000003
【図２】
2006269854.tif 000004
【図３】
2006269854.tif 000005
【図４】
2006269854.tif 000006
【図５】
2006269854.tif 000007
【図６】
2006269854.tif 000008
【図７】
2006269854.tif 000009
【図８】
2006269854.tif 000010
【図９】
2006269854.tif 000011