(57)【要約】【課題】  カラーフィルター基板もしくは色変換基板にガスの透過するピンホールの存在しないバリア積層膜を少ない工程数と低コストで設けるとともに、局所的なガスの通過をなくすことで有機ＥＬ素子の劣化を防ぎ、ダークエリア等の欠陥のない良好な画像表示を可能とする光学フィルターの製造方法、及びこれを用いて構成された有機ＥＬディスプレイを提供する。【解決手段】  透明基板１上に、各画素毎の入射光を色補正するカラーフィルター層３が少なくとも形成された光学フィルター１０の製造方法であって、前記カラーフィルター層３の上に透明なガスバリア層６を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層６の上に透明層７をウェット塗布法で形成する工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】  図２
2006047689.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、各画素毎の入射光を色補正するカラーフィルター層が少なくとも形成された光学フィルターの製造方法であって、
前記カラーフィルター層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、
前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で形成する工程と、
を含むことを特徴とする光学フィルターの製造方法。
【請求項２】
透明基板上に、各画素毎の入射光を色変換する色変換層が少なくとも形成された光学フィルターの製造方法であって、
前記色変換層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、
前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で形成する工程と、
を含むことを特徴とする光学フィルターの製造方法。
【請求項３】
透明基板上に、各画素毎の入射光を色補正するカラーフィルター層、および各画素毎の入射光を色変換する色変換層の少なくとも二層がこの順に積層された光学フィルターの製造方法であって、
前記色変換層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、
前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で形成する工程と、
を含むことを特徴とする光学フィルターの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、
前記カラーフィルター層または前記色変換層の上に平坦化層を形成する工程と、
前記平坦化層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、
前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で形成する工程と、
を含むことを特徴とする光学フィルターの製造方法。
【請求項５】
前記ガスバリア層が単層または多層の窒化酸化シリコン膜であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の前記透明層が、アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂のいずれかの樹脂で形成された層であることを特徴とする光学フィルターの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の前記透明層が、環状ポリオレフィン系樹脂またはノルボルネン系樹脂のいずれかの樹脂で形成された層であることを特徴とする光学フィルターの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の前記透明層が、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサンオリゴマーからなるゾルゲル樹脂、ポリシロキサンオリゴマーと有機ポリマーとからなる有機−無機ハイブリッド材料のいずれかから選ばれた樹脂もしくは材料で形成された層であることを特徴とする光学フィルターの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法により得られた光学フィルター上に、各画素ごとに発光する発光層を備えた有機ＥＬ素子が配置されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイをはじめとする種々のディスプレイに用いられるカラーフィルター基板もしくは色変換基板において、ダークエリア等の欠陥のない良好な画像表示を可能とする光学フィルターの製造方法、及びこれを用いて構成された有機ＥＬディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、原理的には、陽極と陰極との間に有機ＥＬ発光層をはさんだ構造を有するものであるが、実際に、有機ＥＬ素子を用いてカラー表示の可能な有機ＥＬディスプレイとするには、（１）三原色の各色をそれぞれ発光する有機ＥＬ素子どうしを配列する方式、（２）白色光に発光する有機ＥＬ素子を三原色のカラーフィルター層と組み合わせる方式、並びに（３）青色発光する有機ＥＬ素子と、青→緑、及び青→赤にそれぞれ色変換する色変換層（ＣＣＭ層）とを組み合わせるＣＣＭ方式等がある。
【０００３】
中でも、（３）のＣＣＭ方式では、同じ色に発光する有機ＥＬ素子を一種類使用すればよいので、上記（１）の方式の有機ＥＬディスプレイにおけるように、各色の有機ＥＬ素子の特性を揃える必要が無く、また、（２）の方式の有機ＥＬディスプレイにおけるように、三原色のカラーフィルターで色分解する際の白色光の利用率が低い欠点が解消され、ＣＣＭ層の変換効率を高めることにより、ディスプレイの輝度を向上させることが可能である。
【０００４】
ところで、光学フィルター上に有機ＥＬ素子を直接積層した場合、光学フィルター及び光学フィルターの保護膜である有機層から発生する水蒸気、酸素、有機モノマー成分、低分子成分等のガスにより有機発光層が劣化し、発光を維持することが困難になる。そこで、従来、有機層と有機ＥＬ素子との間に透明バリア層を設けることにより、有機層成分の有機ＥＬ素子への侵入を防止している（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
透明バリア層の成膜は、無機酸化物系の膜を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の真空成膜方式で形成することが主流である。しかし、これらの膜においてピンホールが存在すると、有機層から発生したガスが局所的にピンホールに集中し、バリア層を通過して有機ＥＬ素子層に到達し、有機ＥＬ素子を劣化させることになる。このような有機ＥＬの劣化は、発光不良箇所（ダークエリア）を生じ、画像品質を低下させる因子となる。このことから、ピンホールの発生を防止するため、同一材料や異なった材料からなる多層構造膜とする必要があり、透明バリア層を多層構造膜とする場合には、複数回の成膜による工程数や材料の増加等、製造コストの点で好ましくないという問題があった。
【特許文献１】特許第３２４７３８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明においては、カラーフィルター基板もしくは色変換基板にガスの通過するピンホールの存在しないバリア積層膜を少ない工程数と低コストで設けるとともに、局所的なガスの通過をなくすことで有機ＥＬ素子の劣化を防ぎ、ダークエリア等の欠陥のない良好な画像表示を可能とする光学フィルターの製造方法、及びこれを用いて構成された有機ＥＬディスプレイを提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１の発明は、透明基板上に、各画素毎の入射光を色補正するカラーフィルター層が少なくとも形成された光学フィルターの製造方法であって、前記カラーフィルター層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で形成する工程と、を含むことを特徴とする光学フィルターの製造方法に関するものである。
【０００８】
第２の発明は、透明基板上に、各画素毎の入射光を色変換する色変換層が少なくとも形成された光学フィルターの製造方法であって、前記色変換層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で形成する工程と、を含むことを特徴とする光学フィルターの製造方法に関するものである。
【０００９】
第３の発明は、透明基板上に、各画素毎の入射光を色補正するカラーフィルター層、および各画素毎の入射光を色変換する色変換層の少なくとも二層がこの順に積層された光学フィルターの製造方法であって、前記色変換層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で形成する工程と、を含むことを特徴とする光学フィルターの製造方法に関するものである。
【００１０】
第４の発明は、第１〜第３の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、前記カラーフィルター層または前記色変換層の上に平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で形成する工程と、を含むことを特徴とするものである。
【００１１】
第５の発明は、前記ガスバリア層が単層または多層の窒化酸化シリコン膜であることを特徴とする光学フィルターの製造方法に関するものである。
【００１２】
第６の発明は、第１〜第４の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、前記透明層が、アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂のいずれかの樹脂で形成された層であることを特徴とするものである。
【００１３】
第７の発明は、第１〜第４の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、前記透明層が、環状ポリオレフィン系樹脂またはノルボルネン系樹脂のいずれかの樹脂で形成された層であることを特徴とするものである。
【００１４】
第８の発明は、第１〜第４の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、前記透明層が、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサンオリゴマーからなるゾルゲル樹脂、ポリシロキサンオリゴマーと有機ポリマーとからなる有機−無機ハイブリッド材料のいずれかから選ばれた樹脂もしくは材料で形成された層であることを特徴とするものである。
【００１５】
第９の発明は、第１〜第８の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法により得られた光学フィルター上に、各画素ごとに発光する発光層を備えた有機ＥＬ素子が配置されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイに関するものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、カラーフィルター層もしくは色変換層もしくは平坦化層上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層を真空成膜法で形成し、さらにウェット塗布法により透明層を積層することにより、ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて、ガスバリア性をさらに高めた光学フィルター、あるいは、ガスバリア層を通過したガスを透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくした光学フィルターが可能となる。さらに、本発明の製造方法による光学フィルターを用いることにより、有機ＥＬ素子の劣化を防止し、ダークスポット、ダークエリア等のない良好な画像表示を可能とする信頼性の高い有機ＥＬディスプレイが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は、本発明の光学フィルターの製造方法の一例を示す工程断面図である。図２は、図１に続く本発明の光学フィルターの製造方法を示す工程断面図であり、本発明の製造方法で得られた光学フィルター１０の断面構造を示すものである。図３は、図２に示した本発明の製造方法で得られた光学フィルターを用いた本発明の有機ＥＬディスプレイ２０の断面構造を示す模式図である。
以下、本発明の製造方法の一例としての図１、図２、およびに本発明の有機ＥＬディスプレイとしての図３に基づいて説明する。図１、図２、および図３を引用して説明する以下の例では、有機ＥＬ発光層は、その層全域に渡って同じ色を発光するものであり、有機ＥＬディスプレイはＣＣＭ方式により、光の三原色を利用したフルカラー表示を行うものとする。また、平坦化層も設けた構成としている。もとより、本発明は上記の方式、構成に限定されるものではない。
【００１８】
（透明基板）
先ず、透明基板を準備する。本発明において、透明基板１は、光学フィルターを支える支持体であるとともに、その上に形成したカラーフィルター等を保護する機能を有し、透明で表面平滑なガラス基板やプラスチック基板が用いられる。具体的には、ガラス基板（無アルカリガラス、ソーダライムガラスの他、ポリイミド系やメタクリル酸系樹脂等の透明なプラスチック基材を含む。）等を用いることができる。また、透明基板１の厚さも特に限定されるものではないが、通常０．５〜１．５ｍｍ程度である。透明基板１は、必要に応じて、さらに、観察側に擦傷防止のためのハードコート層、帯電防止層、汚染防止層、反射防止層、防眩層等が直接積層されていてもよく、あるいはタッチパネルのような機能が付加されていてもよい。
【００１９】
（ブラックマトリックス層の形成）
次に、図１（ａ）に示すように、透明基板１上にブラックマトリックス層２を形成する。
本発明において、ブラックマトリックス層２は、各画素毎に発光する区域を区画すると共に、発光する区域どうしの境界における外光の反射を防止し、画像、映像のコントラストを高めるためのもので、必ずしも設けなくてよいが、コントラストを向上させる以外に、カラーフィルター層をはじめ、有機ＥＬディスプレイを構成するブラックマトリックス層２以降の各層を、ブラックマトリックス層２の開口部に対応させて作製する上で、形成することが好ましい。ブラックマトリクス層２は、通常は、黒色の細線で構成された、縦横の格子状等、もしくは一方向のみの格子状等の、開口部を有するパターン状に形成されたものである。有機ＥＬ素子の発光による光は、このブラックマトリックス層２の開口部を経由し、観察側に到達する。
【００２０】
ブラックマトリックス層２は、クロム等の金属または金属酸化物を、蒸着、イオンプレーティング、もしくはスパッタリング等により薄膜形成し、その表面にフォトレジストを塗布し、パターンマスクで露光し、現像、エッチング、及び洗浄等の各工程を経て形成することができる。あるいは無電解メッキ法で形成し、あるいはカーボンブラック等の黒色の顔料もしくは染料を含む感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法で形成したり、もしくは黒色のインキ組成物を用いた印刷法等を利用しても形成することができる。ブラックマトリクス層２の厚みは、薄膜で形成する場合には、０．２μｍ〜０．４μｍ程度であり、黒色の顔料もしくは染料を含む感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法あるいは印刷法によるときは０．５μｍ〜２μｍ程度である。
【００２１】
本発明において、ブラックマトリックス層２を黒色の感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法あるいは印刷法により形成する場合、ブラックマトリックス層２を構成する樹脂としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の透明樹脂を例示することができる。顔料を含有する感光性樹脂を用いる場合は、通常、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂、特に電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂を使用することができる。
【００２２】
（カラーフィルター層の形成）
次に、図１（ｂ）に示すように、ブラックマトリクス層２を形成した透明基板１上に、カラーフィルター層３を形成する。
本発明において、カラーフィルター層３は、通常は、青色用、緑色用、及び赤色用の三種類が規則的に配列したものであり、各色の顔料もしくは染料とバインダー樹脂で構成されている。カラーフィルター層３の各色の部分は、ブラックマトリクス層２がある場合、その開口部毎に設けたものであってもよいが、便宜的には、図１における手前側から奥側の方向に帯状に設けたものであってよい。
【００２３】
カラーフィルター層３を形成するには、顔料もしくは染料等の着色剤、好ましくは顔料の配合により着色した感光性樹脂組成物の層をフォトリソグラフィ法によってパターン化するか、もしくは、所定の色に着色したインキ組成物を調製して、各色毎に所定の位置に印刷する等の方法によって行う。カラーフィルター層３の厚みは、１μｍ〜３μｍ程度である。
【００２４】
赤色カラーフィルター層形成用の顔料としては、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、もしくはイソインドリン系顔料等から選択された顔料の１種もしくは２種以上、緑色カラーフィルター層形成用の顔料としては、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、もしくはイソインドリノン系の顔料の１種もしくは２種以上、また、青色カラーフィルター層形成用の顔料としては、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、もしくはジオキサジン系顔料の１種もしくは２種以上を挙げることが好ましい。
【００２５】
上記の着色剤を配合するカラーフィルター層３のバインダー樹脂としては、透明な樹脂が用いられ、印刷法を用いる場合には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の透明樹脂を例示することができる。
上記のようなバインダー樹脂中に、上記の着色剤を、形成されるカラーフィルター層３中に５〜５０%含有されるように配合して、着色した塗布用の組成物を調製する。このとき、分散剤を顔料１００重量部に対して３０〜１００重量部の範囲で含有させることができる。
【００２６】
さらに、顔料を含有する感光性樹脂を用いフォトリソグラフィ法によりパターン化する場合は、通常、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂、特に電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂を使用することができる。紫外線硬化性樹脂を使用する場合には、バインダー樹脂に光重合開始剤が単独または複数組み合わせて使用される。
なお、紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有してもよい。
【００２７】
（色変換層の形成）
次に、図１（ｃ）に示すように、カラーフィルター層３上に色変換層４を積層する。
本発明において、色変換層（ＣＣＭ層）４を用いる場合には、色変換層４としては、蛍光色素を透明樹脂中に分散したものが用いられる。例えば、青色発光の有機発光層を用いる場合には、色変換層４は、青色の入射光を赤色または緑色に変える機能をもつものを意味する。
このような青色の発光部材の発光を、橙色から赤色発光にまたは緑色に変換する蛍光色素については、例えば、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリン）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−〔４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル〕−ピリジウム−パーコラレイト（以下ピリジン１）等のピリジン系色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、他にオキサジン系を挙げることができる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等）も蛍光性があれば可能である。また、前記蛍光色素を樹脂中にあらかじめ練りこんで顔料化したものでもよい。
これらの蛍光色素は、必要に応じて、単独または混合して用いてもよい。特に赤色への蛍光変換効率が低いので、上記色素を混合して用いて、発光から蛍光への変換効率を高めることもできる。
【００２８】
一方、蛍光色素を分散する透明樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を挙げることができる。なお、色変換層のパターン形成をフォトリソグラフィ法により行なう場合には、透明な感光性樹脂も選ぶことができる。たとえば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト材料が挙げられる。また、印刷法を用いる場合には、透明な樹脂を用いた印刷インキを選ぶことができる。たとえば、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂のモノマー、オリゴマー、ポリマー、またポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を用いることができる。
【００２９】
色変換層４が主に蛍光色素からなる場合は、所望の色変換層パターンのマスクを介して真空蒸着またはスパッタリング法で成膜され、一方、蛍光色素と樹脂からなる場合は、蛍光色素と上記樹脂およびレジストを混合、分離または可溶化させ、スピンコート、ロールコート法等の方法で塗布し、フォトリソグラフィ法で所望の色変換部材パターンでパターニングしたり、スクリーン印刷等の方法で所望の色変換層パターンでパターニングすることができる。
【００３０】
このような色変換層４の厚みは、赤色変換蛍光体層および緑色変換蛍光体層が青色有機ＥＬ素子層で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、５〜１５μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層と緑色変換蛍光体層との厚みが異なる場合があってもよい。
【００３１】
（平坦化層の形成）
次に、図１（ｄ）に示すように、色変換層４上に平坦化層５を形成する。
本発明において、平坦化層５は、下層を保護する役割を有すると共に、下層の厚みが一定しない場合には、それらの表面をならして平坦化した面とし、上層を形成する工程での影響を低減する目的で設けられる。
本発明において、カラーフィルター層３もしくは色変換層４の上に平坦化層５を設ける場合には、平坦化層５は、例えば、色変換層４より下層の構成により段差（表面凹凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、有機発光層形成における厚みムラ発生を防止する平坦化作用をなすものである。
【００３２】
本発明において、平坦化層５は、透明樹脂により形成することができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。
上記の平坦化層５の形成は、上記の樹脂材料が液体の場合、スピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、光硬化型樹脂の場合は紫外線照射後に必要に応じて熱硬化させ、熱硬化型樹脂の場合は成膜後そのまま熱硬化させる。また、使用材料がフィルム状に成形されている場合、直接、あるいは、粘着剤を介して貼着することができる。このような平坦化層５の厚みは、例えば、２〜７μｍ程度とすることができる。
【００３３】
（ガスバリア層の形成）
次に、図１（ｅ）に示すように、平坦化層５の上にガスバリア層６を真空成膜法により形成する。
本発明において、ガスバリア層６としては、低温真空成膜による透明無機膜、または透明樹脂膜、あるいは有機−無機ハイブリッド材料による膜が用いられるが、ガスバリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。透明無機膜の形成は、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されず、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、ＥＢ蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、レーザーアブレーション法等が挙げられる。このうち、有機ＥＬ素子の生産を考慮すると、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法が好ましく、さらには、スパッタリング法を用いることがより好ましい。スパッタリング法を用いることにより、高生産性で、品質安定性に優れたガスバリア層６を形成することができる。
【００３４】
本発明において、ガスバリア層６に真空成膜法による透明無機膜を用いる場合には、例えば、酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化マグネシウム等の酸化物、窒化シリコン等の窒化物、窒化酸化シリコン等の窒化酸化物が用いられ、ピンホールや突起が生じにくくガスバリア性が高いことから、スパッタリング法により形成された窒化酸化シリコン膜が好適である。上記の透明無機膜は、単層のみならず、多層としてガスバリア層６に用いることも可能であり、例えば、窒化酸化シリコン膜を窒化酸化シリコンの２層以上の多層膜とすることにより、ガスバリア性はさらに高まる。
本発明において、ガスバリア層６の厚さは、特に限定されるものではなく、透明無機膜を堆積する基板や薄膜の種類、単層か多層かによっても左右されるので一概に規定できないが、通常、全体で５０ｎｍ〜２μｍ程度である。ガスバリア層６の膜厚が１００ｎｍ未満であるとガスバリア性が不十分であり、また２μｍを超えると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易いからである。
【００３５】
（透明層の形成）
次に、図２に示すように、ガスバリア層６の上に透明層７をウェット塗布法により形成する。
ウェット塗布する透明層７の材料としては、有機ポリマー、有機−無機ハイブリットポリマー、無機物分散溶液等の、ウェット塗布法により成膜可能な、粘度５ｃｐ〜１００ｃｐの溶液材料を用いる。さらに、低吸湿性、脱水分性に優れ、後工程のプロセスに適するような耐熱性、低揮発性の材料が好ましく、低吸水性のポリマー、気体透過性の低いポリマー、耐熱性ポリマー等が好ましい。
例えば、透明層７を形成する塗布材料として樹脂を用いる場合には、ポリカーボネ‐ト樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ノルボルネン系樹脂、４−メチルペンテン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリプロピレンテレフタレート樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン樹脂、ポリアクリレート樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、もしくはマレイン酸樹脂等の透明樹脂が挙げられる。または、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂、特に電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂を使用することができる。さらには、ポリシロキサンオリゴマー等からなるゾルゲル材料もしくはポリシロキサンオリゴマー等と有機ポリマー等とからなる有機−無機ハイブリッド材料を使用することもできる。
【００３６】
上記の材料の中で、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂は、汎用溶剤への溶解性が高く、電離放射線硬化性樹脂等へのレジスト化が容易であり、透明性の高い膜を形成することができ、ディスプレイ部材として十分な透明性を得ることが可能なので、透明層７を形成する材料として、より好ましい。
【００３７】
また、上記の材料の中で、環状ポリオレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂は、耐熱性が高く、かつ光学フィルターの作製工程における水分の吸収が低く、光学フィルターに含まれる水分量も低くなるため、結果的にダークエリアの低減につながり、透明層７を形成する材料として、より好ましい。
【００３８】
また、上記の材料の中で、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサンオリゴマーからなるゾルゲル材料もしくはポリシロキサンオリゴマーと有機ポリマーとからなる有機−無機ハイブリッド材料は、耐熱性が高く、光学フィルターの作製工程における加熱工程での耐性が高く、分解物および揮発物の発生が低くなるため、結果的にダークエリアの低減につながり、透明層７を形成する材料として、より好ましい。
【００３９】
上記の塗布材料は、それぞれの材料に適した塗布溶媒を用いて塗布する。ウェット塗布法としては、スピンコート、ダイコート、スリットコート、スロットコート、バーコート、スクリーンコート、ビードコート、グラビアコート等の方法が用いられる。
本発明において、透明層７の厚みとしては、下層の凹凸状態にもよるが０．５μｍ〜５μｍ程度で用いられる。
【００４０】
上記のような構成とすることにより、図２に示すように、本発明の製造方法による光学フィルター１０は、カラーフィルター層３もしくは色変換層４もしくは平坦化層５の上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層６を真空成膜法で形成し、さらにガスバリア層６の上にウェット塗布法により透明層７を形成することにより、ガスバリア層６のピンホールを透明層７で埋めたり、ガスバリア層６の突起を透明層７で均しくして埋めることにより、ガスバリア性をさらに高めるものである。さらに、ガスバリア層６を通過したガスを透明層７で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくした光学フィルター１０が得られる。
【００４１】
（有機ＥＬ素子）
図３の有機ＥＬ素子２１は、図中には示はしていないが、各画素に対応して、第１電極層（透明電極層）、有機ＥＬ発光層、及び第２電極層（背面電極層）とが積層されたものから基本的に構成され、駆動方式としては、パッシブマトリクス、もしくはアクティブマトリクスのいずれのものであってもよい。さらに必要に応じて、封止材が積層され得るものである。
【００４２】
有機ＥＬ素子２１において、第１電極層は、第２電極層との間にはさんだ有機ＥＬ発光層に電圧をかけ、所定の位置で発光を起こさせるためのものである。第１電極層は、例えば、ブラックマトリクス層２の開口部の幅に相当する幅の帯状の形状を有する各電極が、図３で言えば、図の左右方向に配置され、図の手前から奥に向かう方向に間隔をあけて配列したもので、配列のピッチはブラックマトリクス層２の開口部の配列ピッチと同じである。
【００４３】
第１電極層は、透明性及び導電性を有する金属酸化物の薄膜で構成され、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、もしくは酸化第二錫等を素材として構成され、これらの素材の一様な薄膜を蒸着法もしくはスパッタリング法等によって形成した後に、フォトリソグラフィ法により不要部を除去することにより形成することが好ましい。
【００４４】
有機ＥＬ発光層は、先に挙げたように、（１）三原色を配列する方式においては、赤色発光用、緑色発光用、及び青色発光用の各色発光用の有機ＥＬ発光層を並べたものであり、（２）白色光に発光する有機ＥＬ素子を三原色のカラーフィルター層と組み合わせる方式においては、白色発光用の有機ＥＬ発光層であり、また、（３）ＣＣＭ方式においては、青色発光用、もしくは青色及び緑色発光用の有機ＥＬ発光層である。
【００４５】
有機ＥＬ発光層は、代表的には、（１）有機ＥＬ発光層単独から構成されたもの、（２）有機ＥＬ発光層の透明電極層側に正孔注入層を設けたもの、（３）有機ＥＬ発光層の背面電極層側に電子注入層を設けたもの、もしくは（４）有機ＥＬ発光層の透明電極層側に正孔注入層を設け、背面電極層側に電子注入層を設けたもの、等種々の構造のものがあり得る。
【００４６】
有機ＥＬ発光層は、例えば、色素系、金属錯体系、もしくは高分子系の有機蛍光体で構成され得る。
色素系のものとしては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、もしくはピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【００４７】
金属錯体系のものとしては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、又はＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、もしくはキノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。
【００４８】
高分子系のものとしては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、もしくはポリビニルカルバゾール誘導体、又は前記の色素系のもの、もしくは金属錯体系のものを高分子化したもの等を挙げることができる。
【００４９】
上記した有機蛍光体には、発光効率の向上、もしくは発光波長を変化させる目的でドーピングを行うことができる。このドーピング材料としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィレン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等を挙げることができる。
以上のような材料からなる、もしくは含有する有機ＥＬ発光層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００５０】
正孔注入層を構成する材料としては、従来、非伝導材料の正孔注入材料として使用されているものや、有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている公知の物の中から任意に選択して使用することができ、正孔の注入、もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであって、有機物、もしくは無機物のいずれであってもよい。
【００５１】
具体的に正孔注入層を構成する材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、もしくはチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに正孔注入層の材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、もしくはスチリルアミン化合物等を例示することができる。
【００５２】
具体的には、ポルフィリン化合物としては、ポルフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン銅（ＩＩ）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、もしくは銅オクタメチルフタロシアニン等、芳香族第三級アミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４’−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、もしくは４，４’，４”−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を例示することができる。
以上に例示したような材料からなる正孔注入層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００５３】
電子注入層を構成する材料としては、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、もしくはオキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、もしくはジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。
以上に例示したような材料からなる電子注入層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００５４】
背面電極層は、有機ＥＬ発光層を発光させるための他方の電極をなすものである。背面電極層は、仕事関数が４ｅＶ以下程度と小さい金属、合金、もしくはそれらの混合物から構成される。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、インジウム、もしくはリチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等を例示することができ、より好ましくは、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、もしくはリチウム／アルミニウム混合物を挙げることができる。これらの素材からなる第２電極層は、これらの素材の一様な薄膜を蒸着法もしくはスパッタリング法等によって形成した後に、フォトリソグラフィ法により不要部を除去することにより形成することが好ましい。
上記のように、本発明の有機ＥＬディスプレイ２０は、本発明の製造方法による光学フィルター１０と上記の有機ＥＬ素子２１を用いることにより得られる。
【００５５】
また、上記のように、本発明によれば、カラーフィルター層３もしくは色変換層４もしくは平坦化層５の上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層６を真空成膜法で形成し、さらにガスバリア層６の上に透明層７をウェット塗布法により積層することにより、透明なガスバリア層６のピンホールや突起を埋め、バリア膜の性能をさらに高めたものである。例え、ガスバリア層６のピンホールからガスが通過しても、ウェット塗布による透明層７によりガスを拡散し、局所的なガスの通過をなくすことで有機ＥＬ素子２１の劣化を防ぎ、ダークスポットやダークエリア等の欠陥発生を抑止し、良好な画像表示を可能とする有機ＥＬディスプレイ２０が得られるものである。
【実施例】
【００５６】
（実施例１）
（ブラックマトリクス層の形成）
透明基板として、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのソーダガラス（セントラル硝子社製）を準備した。上記の透明基板上に、スパッタリングにより酸化窒化複合クロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成した。この複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、及び複合クロム薄膜のエッチングを順次行って、８０μｍ×２８０μｍの長方形状の開口部が、短辺方向に１００μｍのピッチ、長辺方向に３００μｍのピッチでマトリックス状に配列したブラックマトリックス層を形成した。
【００５７】
（カラーフィルター層の形成）
赤色、緑色、及び青色の各色カラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物を調整した。赤色着色剤としては縮合アゾ系顔料（チバガイギー社製、クロモフタルレッドＢＲＮ）、緑色着色剤としてはフタロシアニン系緑色顔料（東洋インキ製造社製、リオノールグリーン２Ｙ−３０１）、及び青色着色剤としてはアンスラキノン系顔料（チバガイギー社製、クロモフタルブルーＡ３Ｒ）をそれぞれ用い、バインダー樹脂としてはポリビニルアルコール（１０％水溶液）を用い、ポリビニルアルコール水溶液１０部に対し、各着色剤を１部（部数はいずれも質量基準。）の割合で配合して、十分に混合分散させ、得られた溶液１００部に対し、１部の重クロム酸アンモニウムを架橋剤として添加し、各色カラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物を得た。
【００５８】
上記の各色カラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物を順次用いて各色のカラーフィルター層を形成した。すなわち、ブラックマトリックス層が形成された上記の透明基板上に、赤色のカラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物をスピンコート法により塗布し、１００℃の温度で５分間のプリベイクを行った。その後、フォトマスクを用いて露光し、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行った。次いで、２００℃の温度で６０分間のポストベイクを行い、ブラックマトリックス層のパターンに同調させ、幅８５μｍ、厚み１．５μｍの帯状の赤色パターンを、その幅方向がブラックマトリックス層の開口部の短辺方向になるよう形成した。以降、緑色のカラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物、及び青色のカラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物を順次用い、緑色のパターン、及び青色のパターンを形成し、三色の各パターンが幅方向に繰り返し配列したカラーフィルター層を形成した。
【００５９】
（色変換層の形成）
ブラックマトリックス層及びカラーフィルター層が形成された上に、青色変換ダミー層形成用塗布液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製、透明感光性樹脂組成物、商品名：「カラーモザイクＣＢ−７０１」）をスピンコート法により塗布し、温度１００℃で５分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行った。これにより、青色カラーフィルター層上に、幅８５μｍ、厚み１０μｍの帯状の青色変換ダミー層を形成した。
【００６０】
次いで、緑色変換蛍光体（アルドリッチ社製、クマリン６）を分散させたアルカリ可溶性ネガ型感光性レジストを緑色変換層形成用塗布液とし、上記と同様の手順により、緑色カラーフィルター層上に、幅８５μｍ、厚み１０μｍの帯状の緑色変換層を形成した。
さらに、赤色変換蛍光体（アルドリッチ社製、ローダミン６Ｇ）を分散させたアルカリ可溶性ネガ型感光性レジストを赤色変換層形成用塗布液とし、上記と同様の手順により、赤色カラーフィルター層上に、幅８５μｍ、厚み１０μｍの帯状の赤色変換層を形成した。
【００６１】
（平坦化層の形成）
次いで、色変換層が形成された上に、アクリレート系光硬化性樹脂（新日鐵化学社製、品名：「Ｖ−２５９ＰＡ／ＰＨ５」）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した平坦化層形成用塗布液を調整し、スピンコート法により塗布し、温度１２０℃で５分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行って、色変換層上に厚み５μｍで色変換層全体を覆う透明な保護層を形成した。
【００６２】
（ガスバリア層の形成）
次に、上記の平坦化層上にスパッタリング法により、Ｓｉ3 Ｎ4 ターゲット（３Ｎ）を用い、アルゴンガス導入量：４０ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：４３０ｋＷ、基板温度１００℃でスパッタリング成膜し、厚み１５０ｎｍの酸化窒化シリコン膜を積層し、透明なガスバリア層を形成した。
【００６３】
（透明層の形成）
次に、上記バリア層上に、エポキシ系熱硬化性樹脂（新日鐵化学社製、品名：「Ｖ−２５９ＥＨ／２１０Ｘ６」）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した透明層形成用塗布液を調整し、スピンコート法により塗布し、温度１２０℃で５分間のプリベイクを行った後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行って、透明基板上の全体を覆う透明層を形成した。
上記の結果、透明基板上に、カラーフィルター層、色変換層、平坦化層の順に積層された光学フィルターの平坦化層上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層を真空成膜法で形成し、さらにウェット塗布法により透明層を積層して形成した光学フィルターが得られた。
【００６４】
（第１電極層の形成）
次いで、上記の光学フィルターの透明層上にイオンプレーティング法により膜厚１５０ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、第１電極層第１電極層（透明電極層）を形成した。
【００６５】
（補助電極の形成）
次に、上記の透明電極層を覆うように透明バリア層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。この補助電極は、透明基板上から色変換蛍光体層上に乗り上げるように透明電極層上に形成されたストライプ上のパターンであった。
【００６６】
（絶縁層と隔壁部の形成）
平均分子量が約１０００００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ社製：ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈した透明保護層用塗布液を使用し、スピンコート法により透明電極層を覆うように透明バリア層上に塗布した後、ベーク（１００℃、３０分）を行って絶縁膜（厚み１μｍ）を形成した。次に、この絶縁膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、絶縁膜のエッチングを行って絶縁層を形成した。この絶縁層は、透明電極層と直角に交差するストライプ状（幅２０μｍ）のパターンであり、ブラックマトリクス層の遮光部上に位置するものとした。
次に、隔壁部用塗料（日本ゼオン社製フォトレジスト：ＺＰＮ１１００）をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク（７０℃、３０分間）を行った。その後、所定の隔壁部用フォトマスクを用いて露光し、現像液（日本ゼオン社製：ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、絶縁層上に隔壁部を形成した。この隔壁部は、高さ１０μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅２６μｍである形状を有するものであった。
【００６７】
（青色有機発光層の形成）
次いで、上記の隔壁部をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、発光層、電子注入層からなる青色有機発光層を形成した。
すなわち、まず４，４’，４”―トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを、画像表示領域に相当する開口部を備えたフォトマスクを介して２００ｎｍまで蒸着して成膜し、その後４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁部がマスクパターンとなり、各隔壁部間のみを正孔注入層材料が通過して透明電極層上に正孔注入層が形成された。同様にして、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜することにより発光層とした。その後、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とした。このようにして形成された青色有機発光層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして各隔壁部間に存在するものであり、隔壁部の上部表面にも同様の層構成でダミーの青色有機発光層が形成された。
【００６８】
（第２電極層の形成）
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたフォトマスクを介して、上記の隔壁部が形成されている領域に、真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、隔壁部がマスクとなって、マグネシウム／銀化合物からなる厚み２００ｎｍの第２電極層（背面電極層）を青色有機ＥＬ素子層上に形成した。この背面電極層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして青色有機発光層上に存在するものであり、隔壁部の上部表面にもダミーの背面電極層が形成された。以上の方法により、有機ＥＬ素子を得た。
【００６９】
（有機ＥＬディスプレイ）
上記の有機ＥＬ素子を封止し、有機ＥＬディスプレイを得た。この有機ＥＬディスプレイの透明電極層と背面電極層に直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ2 の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の青色有機発光層を発光させた。
発光部の任意の５mm×５mm領域を光学顕微鏡にて観察したところ、１０μm以上の非発光部は観察されず、ダークエリアによる不良発生がない、高品質の三原色画像表示が可能な有機ＥＬディスプレイが得られた。
【００７０】
（実施例２）
実施例１と同様にして、透明層を形成する樹脂のみを変えた光学フィルターを作製した。すなわち、実施例１と同じ条件で、透明基板上に、ブラックマトリクス層、カラーフィルター層、色変換層、平坦化層、ガスバリア層を形成し、次に、ガスバリア層上に、平均分子量が約１０００００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ社製：ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈した透明層形成用塗布液を調整し、スピンコート法により塗布し、温度８０℃で５分間のプリベイクを行った後、温度１００℃で６０分間のポストベイクを行って、透明基板上の全体を覆う透明層を形成した。
上記の結果、透明基板上に、カラーフィルター層、色変換層、平坦化層の順に積層された光学フィルターの平坦化層上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層を真空成膜法で形成し、さらにウェット塗布法により透明層を積層して形成した光学フィルターが得られた。
この光学フィルターを用い、実施例１と同様に、有機ＥＬディスプレイを作製して発光させたところ、ダークエリアによる不良が生じない高品質の画像表示が得られた。
【００７１】
（比較例）
実施例１および実施例２と同様にして、比較例としての有機ＥＬディスプレイを作製した。ただし、比較例の有機ＥＬディスプレイは、ウェット塗布による透明層の形成を省き、透明層を有さない光学フィルターを用いた。この有機ＥＬディスプレイの透明電極層と背面電極層に、実施例と同じく、直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ2 の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の青色有機発光層を発光させた。
この比較例とした有機ＥＬディスプレイにおいて、発光部の任意の５mm×５mm領域を光学顕微鏡にて観察し、１０μm以上の非発光部を数えたところ、平均１５〜３０箇所の非発光部が観察された。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の光学フィルターの製造方法の一例を示す工程断面図である。
【図２】図１に続く本発明の光学フィルターの製造方法を示す工程断面図であり、本発明の製造方法で得られた光学フィルターの断面構造を示すものである。
【図３】図２に示した本発明の製造方法で得られた光学フィルターを用いた本発明の有機ＥＬディスプレイの断面構造を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７３】
１  透明基板
２  ブラックマトリクス層
３  カラーフィルター層
４  色変換層
５  平坦化層
６  ガスバリア層
７  透明層
１０  光学フィルター
２０  有機ＥＬディスプレイ
２１  有機ＥＬ素子
【図１】
2006047689.tif 000003
【図２】
2006047689.tif 000004
【図３】
2006047689.tif 000005