(57)【要約】【課題】基材から剥がれ難い塗膜を基材上に形成する。【解決手段】樹脂材料Ｒを滴下する滴下部と、吐出口６１を移動させる移動機構と、基材１１を回転させる回転機構と、樹脂材料Ｒに放射線を照射して硬化させる硬化処理部と、制御部とを備えて、樹脂材料Ｒを展延して硬化させた塗膜を基材１１の表面１１ａに形成可能に構成され、制御部は、基材１１の表面１１ａと外周面１１ｃとの角部１１ｄに吐出口６１を移動させた状態で角部１１ｄに樹脂材料Ｒを滴下させる第１滴下処理と、基材１１の中央部に吐出口６１を移動させた状態で中央部に樹脂材料Ｒを滴下させる第２滴下処理とを実行した後に、基材１１の回転速度を上昇させて中央部に滴下した樹脂材料Ｒを角部１１ｄまで展延させる展延処理と、展延させた樹脂材料Ｒに放射線を照射させて樹脂材料Ｒを硬化させる硬化処理とを実行する。【選択図】図６
2006181427.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線硬化型の塗液を基材上に滴下する滴下部と、当該滴下部の塗液吐出口を移動させる移動機構と、前記基材を回転させる回転機構と、前記塗液に放射線を照射して硬化させる硬化処理部と、制御部とを備えて、前記塗液を展延して硬化させた塗膜を前記基材の一面に形成可能に構成され、
前記制御部は、前記移動機構を制御して前記基材の前記一面と外周面との角部に前記塗液吐出口を移動させた状態で前記滴下部を制御して当該角部に前記塗液を滴下させる第１滴下処理と、前記移動機構を制御して前記基材の前記一面における中央部に前記塗液吐出口を移動させた状態で前記滴下部を制御して当該中央部に前記塗液を滴下させる第２滴下処理とを実行した後に、前記回転機構を制御して前記基材の回転速度を上昇させて前記中央部に滴下した前記塗液を前記角部まで展延させる展延処理と、前記硬化処理部を制御して前記展延させた塗液に向けて前記放射線を照射させて当該塗液を硬化させる硬化処理とを実行する塗膜形成装置。
【請求項２】
前記基材の前記一面に展延させた前記塗液のうちの前記角部近傍の前記塗液に対する前記放射線の照射を規制する照射規制部を備え、
前記制御部は、前記硬化処理に際して前記照射規制部を制御して前記角部近傍の塗液に対する前記放射線の照射を規制させる請求項１記載の塗膜形成装置。
【請求項３】
放射線硬化型の塗液を展延して硬化させた塗膜を基材の一面に形成する際に、
前記基材の前記一面と外周面との角部に前記塗液を滴下する第１滴下処理と、前記基材の前記一面における中央部に前記塗液を滴下する第２滴下処理とを実行した後に、前記基材の回転速度を上昇させて前記中央部に滴下した前記塗液を前記角部まで展延させる展延処理と、前記展延させた塗液に向けて前記放射線を照射して当該塗液を硬化させる硬化処理とを実行する塗膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗液を展延させて硬化させた塗膜を基材の一面に形成する塗膜形成装置および塗膜形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の塗膜形成方法として、紫外線硬化性樹脂を基板に塗布して硬化させることで基板の上に光透過層（塗膜）を形成する光ディスクの製造方法が特開平１１−８６３５５号公報に開示されている。この製造方法では、まず、基板の信号面に紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、次いで、基板の回転を停止させた状態で基板上の紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して硬化させることで基板の上に光透過層を形成する。この場合、この種の形成方法によって光透過層を形成したときには、回転停止に伴って遠心力が低下した際に、スピンコート時に遠心力によって基板の外周部から外側にはみ出していた紫外線硬化性樹脂が表面張力によって基板の外縁部上に引き戻される結果、基板の外縁部に上向きの盛り上がり部分が形成される。したがって、この製造方法では、紫外線の照射工程が完了したディスクを回転装置に装着して回転させつつ、ダイヤモンド砥石等のトリミング用工具を用いて盛り上がり部分を切削して除去する。これにより、光ディスクが完成する。
【特許文献１】特開平１１−８６３５５号公報（第４頁、第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、従来の製造方法には、以下の問題点がある。すなわち、この製造方法では、光ディスクの製造過程において基板の外縁部上に形成される盛り上がり部分を除去するために、トリミング用工具を用いて盛り上がり部分を切削している。この場合、盛り上がり部分が比較的小さいため、この盛り上がり部分のみを切削することが困難である。このため、実際には、光透過層における盛り上がり部分のみならず、基板までもが切削されることとなる。したがって、この製造方法によって製造された光ディスクでは、基板と光透過層との境界部分がその外周面において露出した状態となる。このため、基板と光透過層との間に空気が侵入し易いため、例えば光ディスクを落下させたときには、基板および光透過層に生じる部分的な変形に起因して境界部分に空気が侵入することに起因して、光透過層が基板から剥離するおそれがある。このように、従来の製造方法には、形成した光透過層（塗膜）が基板（基材）から剥がれ易いという問題点がある。
【０００４】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、基材から剥がれ難い塗膜を基材上に形成し得る塗膜形成装置および塗膜形成方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成すべく本発明に係る塗膜形成装置は、放射線硬化型の塗液を基材上に滴下する滴下部と、当該滴下部の塗液吐出口を移動させる移動機構と、前記基材を回転させる回転機構と、前記塗液に放射線を照射して硬化させる硬化処理部と、制御部とを備えて、前記塗液を展延して硬化させた塗膜を前記基材の一面に形成可能に構成され、前記制御部は、前記移動機構を制御して前記基材の前記一面と外周面との角部に前記塗液吐出口を移動させた状態で前記滴下部を制御して当該角部に前記塗液を滴下させる第１滴下処理と、前記移動機構を制御して前記基材の前記一面における中央部に前記塗液吐出口を移動させた状態で前記滴下部を制御して当該中央部に前記塗液を滴下させる第２滴下処理とを実行した後に、前記回転機構を制御して前記基材の回転速度を上昇させて前記中央部に滴下した前記塗液を前記角部まで展延させる展延処理と、前記硬化処理部を制御して前記展延させた塗液に向けて前記放射線を照射させて当該塗液を硬化させる硬化処理とを実行する。なお、本発明における第１滴下処理および第２滴下処理については、展延処理の開始前であればその実行順序は特に限定されない。また、本明細書における硬化には、塗液の流動性が低下する程度の硬化状態から塗液の全てが硬化反応をした硬化状態に至るまでの全ての硬化状態が含まれる。
【０００６】
また、本発明に係る塗膜形成装置は、前記基材の前記一面に展延させた前記塗液のうちの前記角部近傍の前記塗液に対する前記放射線の照射を規制する照射規制部を備え、前記制御部が前記硬化処理に際して前記照射規制部を制御して前記角部近傍の塗液に対する前記放射線の照射を規制させる。
【０００７】
また、本発明に係る塗膜形成方法は、放射線硬化型の塗液を展延して硬化させた塗膜を基材の一面に形成する際に、前記基材の前記一面と外周面との角部に前記塗液を滴下する第１滴下処理と、前記基材の前記一面における中央部に前記塗液を滴下する第２滴下処理とを実行した後に、前記基材の回転速度を上昇させて前記中央部に滴下した前記塗液を前記角部まで展延させる展延処理と、前記展延させた塗液に向けて前記放射線を照射して当該塗液を硬化させる硬化処理とを実行する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法によれば、基材の一面と外周面との角部に塗液を滴下する第１滴下処理と、基材の中央部に塗液を滴下する第２滴下処理とを実行した後に、展延処理と硬化処理とを実行して塗膜を形成することにより、例えば基材の角部に突出部（コブ）等が形成されていたとしても、第１滴下処理時において角部上に滴下した塗液が突出部に邪魔されることなく、基材の他面に向かって外周面を沿って伝わり落ちるため、基材の全周に亘ってこの塗液を外周面の全域に塗布することができる。したがって、完成した情報記録媒体等の外周面において基材と塗膜との境界部分を露出させることなく、基材の一面から外周面にかけて途切れることなく連続する塗膜を形成することができる。この結果、基材と塗膜との間に空気が侵入し難くなるため、落下等に起因する剥がれが生じ難い塗膜を有する情報記録媒体を製造することができる。なお、第１滴下処理において、基材の一面と外周面との角部に対して、基材の少なくとも一周に亘って塗液を滴下するのが好ましい。ただし、この場合の「１周に亘って滴下」とは、滴下自体をリング状に一周に亘って行うのに限らず、滴下自体は一周未満であっても、塗液が広がって（平坦化して）実質的に基材の一周に亘って滴下されるのも含まれる。
【０００９】
また、本発明に係る塗膜形成装置によれば、制御部が硬化処理に際して照射規制部を制御して角部近傍の塗液に対する放射線の照射を規制させることにより、基材における一面の外縁部を除く他の部分（中央部分）に展延させられている塗液を硬化させた状態で基材を回転させることで、基材の一面における外縁部上の僅かな塗液だけを遠心力によって基材の外側に押し出すことができる。したがって、回転の停止に伴って基材の一面における外縁部側に塗液が引き戻されたときに、その厚みが既に硬化させられている部位と同程度となる結果、外縁部に上向きの凸部の存在しない塗膜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法の最良の形態について、図面を参照して説明する。
【００１１】
最初に、光記録媒体製造装置１００の構成について、図面を参照して説明する。
【００１２】
図１に示す光記録媒体製造装置１００は、図２に示す光記録媒体（情報記録媒体）１を製造する装置であって、基材成形装置２０、情報層形成装置３０、樹脂層形成装置４０および中心孔形成装置５０を備えている。この場合、図２に示すように、光記録媒体１は、記録データが記録される情報層１２と、情報層１２を覆うようにして形成された樹脂層１３（本発明における塗膜の一例）とが基材１１の表面（本発明における一面）にこの順で形成されて、樹脂層１３側からレーザービームが照射されることによって情報層１２に対する記録データの記録および再生が可能に構成されている。また、光記録媒体１は、直径が１５ｍｍ程度の装着用中心孔１ａがその中心部に形成されている。
【００１３】
基材１１は、図５に示すように、基材成形装置２０によってポリカーボネート等を成形材料として射出成形され、直径が１２０ｍｍ程度で厚みが１．２ｍｍ程度の円板状（平板形状）となるように形成されている。この基材１１の表面１１ａ（本発明における一面。図２における上面）には、基材成形装置２０のスタンパー（図示せず）の凹凸形状が転写され、形成ピッチが例えば０．３２μｍ程度のグルーブおよびランドが形成されている。また、基材１１の表面１１ａにおける中央部には、円筒状の突起１１ｆが形成されている。さらに、基材１１の裏面１１ｂ（同図において下面）における中央部には、中心孔形成装置５０によって底面が打ち抜かれることで装着用中心孔１ａの一部を構成する平面視円形の凹部１１ｅが形成されている。
【００１４】
この場合、図３に示すように、基材１１の表面１１ａと外周面１１ｃとの角部１１ｄには、基材成形装置２０による射出成形時に突出部（コブ）１１ｘが形成されることがある。この突出部１１ｘは、基材成形装置２０にセットされたスタンパーの製造誤差に起因して形成される。具体的には、例えば、スタンパーの厚みが設計当初の厚みよりも５μｍほど薄厚となったときには、固定側金型に固定されたスタンパーと、可動側金型の外周リングとの間のガス抜き用の隙間が規定値（一例として、２０μｍ程度）よりも５μｍ程度広くなって２５μｍ程度となる。この結果、キャビティ内に射出された成形材料が上記の隙間に侵入して突出部１１ｘが形成される。この突出部１１ｘは、一例として、基材１１ａからの厚み方向における突出長Ｌ１が１５μｍ程度で、外周面１１ｃからの直径方向における突出長Ｌ２も１５μｍ程度で形成される。
【００１５】
なお、スタンパーの製造誤差（厚みの差異）に起因して形成される突出部１１ｘは、基材１１の外周全体に形成されるのではなく、スタンパーの厚みが規定値である部位には、突出部１１ｘが形成されずに（または、突出長Ｌ１，Ｌ２がごく短い突出部１１ｘが形成され）、スタンパーの厚みが規定値を下回る部位のみに突出部１１ｘが形成される。したがって、一般的なスピンコート法（基材の中央部に塗液を滴下して遠心力で基材全域に展延させる塗布方法）を採用した場合には、この突出部１１ｘによって外周面１１ｃ側への樹脂材料Ｒの移動が規制される結果、突出部１１ｘが存在する部位では外周面１１ｃに樹脂材料Ｒが付着しないで、突出部１１ｘが存在しない部位では外周面１１ｃに樹脂材料Ｒが付着する。この結果、外周面１１ｃに樹脂材料Ｒが付着していない部位において基材１１から樹脂層１３が剥がれ易くなると共に、光記録媒体１の美観が損なわれることとなる。
【００１６】
情報層１２は、一例として、反射層、誘電体層および相変化型記録層等が積層されて構成されている。この情報層１２は、情報層形成装置３０によって基材１１の表面１１ａに各種材料がスパッタリングされ、全体として数十μｍ程度の厚みに形成されている。樹脂層１３は、本発明における塗膜の一例であって、この光記録媒体１ではレーザービームを透過させる光透過層として機能する。この樹脂層１３は、樹脂層形成装置４０によって本発明に係る塗膜形成方法に従って形成され、一例として、その厚みが１００μｍ程度となるように形成される。
【００１７】
一方、基材成形装置２０は、前述したようにポリカーボネート等を成形材料として用いて基材１１を射出成形する。情報層形成装置３０は、基材１１の表面１１ａに各種材料をスパッタリングして情報層１２を形成する。樹脂層形成装置４０は、本発明に係る塗膜形成装置に相当し、図４に示すように、滴下部４１、回転機構４２、紫外線照射部４３、照射規制部４４、制御部４５および記憶部４６を備え、本発明に係る塗膜形成方法に従って基材１１の表面１１ａに樹脂層１３（塗膜）を形成して中間体２（図１２参照）を製造する。この場合、制御部４５は、滴下部４１、回転機構４２、紫外線照射部４３および照射規制部４４を制御し、記憶部４６は、制御部４５の動作プログラムを記憶する。
【００１８】
また、滴下部４１は、吐出口（塗液吐出口）６１、樹脂材料供給機構６２および移動機構６３を備えて制御部４５の制御に従って回転機構４２上に載置された基材１１の上に樹脂材料Ｒを滴下する。この場合、樹脂材料Ｒは、本発明における放射線硬化型の塗液に相当し、一例として、ウレタンアクリレート（紫外線硬化型樹脂）が用いられている。樹脂材料供給機構６２は、制御部４５の制御に従って吐出口６１に樹脂材料Ｒを供給することにより、吐出口６１から基材１１の上に樹脂材料Ｒを滴下させる。移動機構６３は、制御部４５の制御に従って基材１１上の任意の位置に吐出口６１を移動させる。この場合、移動機構６３が本発明における移動機構に相当する。回転機構４２は、円板状に形成されたターンテーブル７１と、制御部４５の制御に従ってターンテーブル７１を回転させるモータ７２とを備えている。紫外線照射部４３は、本発明における硬化処理部に相当し、ターンテーブル７１の上方に配設されて制御部４５の制御に従ってターンテーブル７１上の基材１１に向けて紫外線（本発明における放射線の一例）を照射することにより、基材１１の表面１１ａに塗布された樹脂材料Ｒを硬化させる。
【００１９】
照射規制部４４は、遮蔽用部材８１および移動機構８２を備えている。この照射規制部４４は、紫外線照射部４３による樹脂材料Ｒの硬化処理時に、制御部４５の制御に従って基材１１の表面１１ａにおける外縁部上の樹脂材料Ｒに対する紫外線の照射を規制する。遮蔽用部材８１は、紫外線の遮蔽が可能な例えば金属によって平面視円弧状に形成された３つの遮蔽板８１ａ（図１０参照）で構成されている。この遮蔽用部材８１は、各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａが移動機構８２によって移動させられて連結されることで、基材１１の外縁部を覆って紫外線の照射を規制するリング状の外周マスクとして機能する。この場合、遮蔽用部材８１は、各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａが連結された状態（リング状となった状態）において、その外径が基材１１の直径よりもやや大径（一例として１２６ｍｍ程度）で、その内径が基材１１の直径よりも小径（一例として１１８ｍｍ程度）となるように構成されている。
【００２０】
移動機構８２は、制御部４５の制御に従って所定の退避位置から基材１１の外縁部上に各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａを移動させる。この場合、各遮蔽板８１ａが基材１１上に移動させられた状態において各遮蔽板８１ａと基材１１の表面１１ａとの間の隙間が１０ｍｍを超える状態では、表面１１ａの外縁部上に展延されている樹脂材料Ｒに対する紫外線の照射を確実に規制するのが困難となる。一方、上記の隙間が２ｍｍ未満の状態では、回転機構４２によって回転させられている基材１１の振動等によって基材１１（樹脂材料Ｒ）が遮蔽用部材８１に接触するおそれがある。したがって、移動機構８２は、上記の隙間が５ｍｍ程度となるように各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａを基材１１の角部１１ｄ上に移動させる。
【００２１】
中心孔形成装置５０は、樹脂層形成装置４０によって作製された中間体２（基材１１）における凹部１１ｅの底面を打ち抜いて装着用中心孔１ａを形成する。具体的には、中心孔形成装置５０は、円筒状の打ち抜き刃と、打ち抜き刃を上下動させる移動機構と、打ち抜き刃を超音波振動させる超音波発生源（いずれも図示せず）とを備え、超音波発生源によって打ち抜き刃を超音波振動させつつ移動機構によって打ち抜き刃を基材１１に押し込むことで装着用中心孔１ａを形成する。
【００２２】
次に、光記録媒体製造装置１００による光記録媒体１の製造方法について、樹脂層形成装置４０による樹脂層１３の形成方法（本発明に係る塗膜形成方法）を中心にして図面を参照して説明する。
【００２３】
まず、基材成形装置２０によって例えばポリカーボネートを成形材料として用いて基材１１を射出成形する。この場合、前述したように、基材成形装置２０の固定側金型にセットされたスタンパーによっては、成形された基材１１の外縁部の一部に突出部１１ｘが形成されることがある。次いで、情報層形成装置３０によって反射層、誘電体層、相変化型記録層および誘電体層を基材１１の表面１１ａにこの順序で形成することにより、図５に示すように、基材１１上に情報層１２を形成する。
【００２４】
続いて、樹脂層形成装置４０によって情報層１２を覆うようにして基材１１の上に樹脂層１３を形成する。具体的には、まず、情報層１２の形成面（表面１１ａ）を上向きにして回転機構４２におけるターンテーブル７１の上に基材１１を載置する。次いで、図示しない操作ボタンを操作して、樹脂層形成装置４０に樹脂材料Ｒのスピンコートを開始させる。この際には、モータ７２が制御部４５の制御に従って例えば３０ｒｐｍの回転速度でターンテーブル７１を回転させる。また、制御部４５の制御に従い、移動機構６３が基材１１の表面１１ａと外周面１１ｃとの角部１１ｄの上方に吐出口６１を移動させる。この場合、表面１１ａと外周面１１ｃとの角部１１ｄには、基材成形装置２０による射出成形時に形成された突出部１１ｘが存在する。次いで、樹脂材料供給機構６２が制御部４５の制御に従って吐出口６１に樹脂材料Ｒを供給することにより、図６に示すように、吐出口６１から基材１１の角部１１ｄに樹脂材料Ｒを滴下させる。この際に、制御部４５は、一例として、角部１１ｄへの樹脂材料Ｒの滴下開始からターンテーブル７１（光記録媒体１）が一周するまでの間だけ樹脂材料供給機構６２に樹脂材料Ｒを供給させることにより、基材１１の一周に亘って樹脂材料Ｒを角部１１ｄ上に滴下させる。以上により、本発明における第１滴下処理が完了する。なお、樹脂材料Ｒの滴下自体をリング状に一周に亘って行うのに限らず、滴下自体は一周未満であっても、樹脂材料Ｒが広がって実質的に基材１１の一周に亘って滴下されればよい。
【００２５】
次いで、制御部４５は、回転機構４２を制御してターンテーブル７１の回転速度を３０ｒｐｍに維持させつつ、移動機構６３を制御して、基材１１の表面１１ａにおけるｃ中央部に吐出口６１を移動させる。この際に、図７に示すように、基材１１の外縁部側の角部１１ｄに滴下された樹脂材料Ｒは、移動機構６３によって吐出口６１が中央部に向けて移動させられたときから後述する樹脂材料Ｒの滴下終了までの間において、外周面１１ｃに沿って外周面１１ｃの裏面１１ｂ側の端部まで伝わり落ちる。この結果、基材１１の全周に亘って外周面１１ｃの全域が樹脂材料Ｒによって覆われた状態となる。一方、制御部４５は、吐出口６１を基材１１の表面１１ａにおける中央部に移動させた状態で、樹脂材料供給機構６２を制御して吐出口６１に樹脂材料Ｒを供給させる。この際には、図８に示すように、樹脂材料供給機構６２から供給された樹脂材料Ｒが吐出口６１から突起１１ｆの周囲に滴下される。以上により、本発明における第２滴下処理が完了する。なお、上記の第１滴下処理と第２滴下処理との実行順序については、上記の例に限定されず、第２滴下処理を実行した後に第１滴下処理を実行することもできるし、２つの吐出口６１，６１を別個独立して移動させるように滴下部４１を構成して第１滴下処理および第２滴下処理を並行して実行することもできる。
【００２６】
続いて、制御部４５は、回転機構４２を制御して樹脂材料Ｒの展延処理を開始させる。具体的には、制御部４５は、モータ７２を制御してターンテーブル７１の回転速度を上昇させ（一例として、１７００ｒｐｍ）、予め規定された所定時間に亘って回転速度を維持させる。この際には、基材１１の回転に伴って生じる遠心力によって表面１１ａの中央部に滴下された樹脂材料Ｒが外縁部に向けて表面１１ａを移動し、図９に示すように、角部１１ｄ上に滴下された樹脂材料Ｒと共に基材１１上からその周囲に飛散する。この結果、基材１１の中央部から外縁部までほぼ均一な厚みに展延させられた樹脂材料Ｒの膜が基材１１上に形成される。一方、制御部４５は、回転機構４２によって樹脂材料Ｒの展延処理が開始されてから所定時間が経過した時点で、照射規制部４４を制御して遮蔽用部材８１を基材１１の外縁部上に移動させる。具体的には、制御部４５は、図１０に示すように、移動機構８２を制御して各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａを基材１１の外縁部上に移動させてリング状の遮蔽用部材８１を形成させる。この場合、前述したように、遮蔽用部材８１と基材１１の表面１１ａとの間の隙間が５ｍｍ程度と比較的狭いため、樹脂材料Ｒと共に基材１１の中央部から外縁部に向かって移動した空気がこの隙間を通過することで樹脂材料Ｒの遮蔽用部材８１への付着が回避される。これにより、展延処理が完了する。
【００２７】
次いで、制御部４５は、回転機構４２および紫外線照射部４３を制御して第１の硬化処理を実行させる。具体的には、制御部４５は、回転機構４２を制御してターンテーブル７１の回転速度を維持させた状態で、紫外線照射部４３を制御して、基材１１上の樹脂材料Ｒに向けて紫外線を照射させる。この際に、図１０に示すように、基材１１における表面１１ａに展延させられた樹脂材料Ｒのうち、遮蔽用部材８１によって覆われている外縁部を除く部分に塗布されている樹脂材料Ｒ（同図における樹脂材料Ｒａ）は、紫外線照射部４３から射出された紫外線が照射されて徐々に硬化する。一方、表面１１ａに展延させられた樹脂材料Ｒのうち、遮蔽用部材８１によって覆われている外縁部上および外周面１１ｃに付着している樹脂材料Ｒ（同図における樹脂材料Ｒｂ）は、紫外線照射部４３から射出された紫外線が照射規制部４４（遮蔽用部材８１）によって遮蔽されているため、硬化することなく、流動性を有した状態を維持する。この場合、上記したように、基材１１の表面１１ａの外縁部と各遮蔽用部材８１との間の隙間が５ｍｍ程度となるように規定されているため、表面１１ａの外縁部上の樹脂材料Ｒに対する紫外線の照射が確実に規制されると共に、例えば回転によって基材１１が振動したとしても、表面１１ａの外縁部と遮蔽用部材８１とが接触する事態が確実に回避される。
【００２８】
続いて、制御部４５は、紫外線照射部４３を制御して紫外線の照射を維持させた状態で、回転機構４２を制御してターンテーブル７１の回転速度を低下（一例として、１４００ｒｐｍ）させる。次いで、制御部４５は、紫外線照射部４３による紫外線の照射を停止させた後に、回転機構４２を制御して所定時間だけターンテーブル７１の回転速度を維持させる。この際に、流動性を有している外縁部上の樹脂材料Ｒｂは、図１０に示すように、基材１１の回転に伴う遠心力によって基材１１よりも外周側に押し出されて、その厚みが基材１１における他の部分の樹脂材料Ｒａよりも薄い状態となる。続いて、制御部４５は、モータ７２を制御してターンテーブル７１を停止させる。この際に、図１１に示すように、基材１１よりも外周側に押し出されていた樹脂材料Ｒｂがターンテーブル７１の停止に伴って表面張力で表面１１ａの外縁部側に引き戻される。この場合、その引き戻される量が僅かで、しかも表面１１ａの外縁部上の樹脂材料Ｒｂの厚みが、基材１１の停止前における他の部分（遮蔽用部材８１によって覆われていなかった部位）よりも薄くなっていたため、表面１１ａの外縁部上の樹脂材料Ｒｂは上方向へ大きく突出する凸部が存在しない状態に維持される。
【００２９】
次いで、制御部４５は、照射規制部４４を制御して基材１１上から各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａを退避位置に移動させる。続いて、制御部４５は、紫外線照射部４３を制御して樹脂材料Ｒ（Ｒａ，Ｒｂ）に向けて紫外線を所定時間照射させる第２の硬化処理を実行させる。この際に、遮蔽用部材８１が退避位置に移動させられているため、表面１１ａの外縁部上の樹脂材料Ｒｂおよび外周面１１ｃに付着している樹脂材料Ｒｂに対しても紫外線照射部４３から射出された紫外線が照射される。これにより、図１２に示すように、基材１１上に滴下されたすべての樹脂材料Ｒが完全（または、ほぼ完全）に硬化して表面１１ａおよび外周面１１ｃの全域を覆うようにして樹脂層１３が形成される。これにより、中間体２が完成する。この後、中心孔形成装置５０によって中間体２おける凹部１１ｅの底面を打ち抜いて装着用中心孔１ａを形成する。以上により、図２に示すように、光記録媒体１が完成する。
【００３０】
このように、この光記録媒体製造装置１００における樹脂層形成装置４０および塗膜形成方法によれば、基材１１の表面１１ａと外周面１１ｃとの角部１１ｄに樹脂材料Ｒを滴下する第１滴下処理と、基材１１の中央部に樹脂材料Ｒを滴下する第２滴下処理とを実行した後に、展延処理と硬化処理とを実行して樹脂層１３を形成することにより、例えば基材１１の角部１１ｄに突出部１１ｘ等が形成されていたとしても、第１滴下処理時において角部１１ｄ上に滴下した樹脂材料Ｒが突出部１１ｘに邪魔されることなく裏面１１ｂに向かって外周面１１ｃを沿って伝わり落ちるため、基材１１の全周に亘ってこの樹脂材料Ｒを外周面１１ｃの全域に塗布することができる。したがって、完成した光記録媒体１の外周面１１ｃにおいて基材１１と樹脂層１３との境界部分を露出させることなく、表面１１ａから外周面１１ｃにかけて途切れることなく連続する樹脂層１３を形成することができる。この結果、基材１１と樹脂層１３との間に空気が侵入し難くなるため、落下等に起因する剥がれが生じ難い樹脂層１３を有する光記録媒体１を製造することができる。
【００３１】
また、この光記録媒体製造装置１００における樹脂層形成装置４０によれば、制御部４５が硬化処理に際して照射規制部４４を制御して角部１１ｄ近傍の樹脂材料Ｒに対する紫外線の照射を規制させることにより、基材１１における表面１１ａの外縁部を除く他の部分（中央部分）に展延させられている樹脂材料Ｒａを硬化させた状態で基材１１を回転させることで、表面１１ａの外縁部上の僅かな樹脂材料Ｒｂだけを遠心力によって基材１１の外側に押し出すことができる。したがって、回転の停止に伴って表面１１ａの外縁部側に樹脂材料Ｒｂが引き戻されたときに、その厚みが既に硬化させられている部位と同程度となる結果、外縁部に上向きの凸部の存在しない樹脂層１３を形成することができる。
【００３２】
なお、本発明は上記の構成や方法に限定されない。例えば、本発明における塗液には、上記した紫外線硬化型の樹脂材料Ｒに限定されず、電子線硬化型の塗液や熱線硬化型の塗液などの各種放射線硬化型の塗液がこれに含まれる。この場合、樹脂硬化用の放射線としての電子線や熱線を照射可能な放射線照射部を紫外線照射部４３に代えて採用すると共に、これらの放射線を遮蔽可能な遮蔽用部材を遮蔽用部材８１に代えて用いることにより、上記の各種の塗液で樹脂層１３を形成することができる。また、本発明における塗液は、樹脂に限定されず、各種の有機材料がこれに含まれる。また、第１滴下処理において角部１１ｄに対して基材１１の一周に亘ることなく部分的に滴下することもできるが、光記録媒体１の外周面１１ｃにおいて基材１１と樹脂層１３との境界部分を露出させることなく樹脂層１３を形成する点からすれば、一周に亘って樹脂材料Ｒを実質的に滴下するのが好ましい。さらに、レーザービームの照射側に位置する光透過層としての樹脂層１３を形成する例について説明したが、本発明における塗膜形成方法によって形成する塗膜には、カバー層やトップコート層として機能する各種の塗膜が含まれる。
【００３３】
また、反射層、誘電体層および相変化型記録層等で構成された情報層１２を有する光記録媒体１を製造する際に本発明を適用する例について上記したが、追記型の記録層を有する情報記録媒体や、基材およびスペーサ層の表面に情報用の凹凸パターンを形成した再生専用の情報記録媒体などを製造する際に本発明を適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】光記録媒体製造装置１００の構成を示す構成図である。
【図２】光記録媒体１の断面図である。
【図３】基材１１の断面図である。
【図４】樹脂層形成装置４０の構成を示す構成図である。
【図５】表面１１ａに情報層１２を形成した状態の基材１１の断面図である。
【図６】基材１１の外縁部側角部１１ｄに樹脂材料Ｒを滴下している状態の断面図である。
【図７】図６に示す状態から数秒が経過した時点の基材１１の断面図である。
【図８】基材１１の中央部に樹脂材料Ｒを滴下している状態の断面図である。
【図９】図８に示す状態の基材１１を回転させて樹脂材料Ｒを展延させている状態の断面図である。
【図１０】展延させた樹脂材料Ｒに紫外線を照射している状態の基材１１の断面図である。
【図１１】回転を停止した状態の基材１１の断面図である。
【図１２】中間体２の断面図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  光記録媒体
２  中間体
１１  基材
１１ａ  表面
１１ｃ  外周面
１１ｄ  角部
１１ｘ  突出部
１３  樹脂層
４０  樹脂層形成装置
４１  滴下部
４２  回転機構
４３  紫外線照射部
４４  照射規制部
４５  制御部
６１  吐出口
６２  樹脂材料供給機構
６３  移動機構
７１  ターンテーブル
７２  モータ
８１  遮蔽用部材
８１ａ  遮蔽板
８２  移動機構
１００  光記録媒体製造装置
Ｒ  樹脂材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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