(57)【要約】【課題】非液体対応部への浸入を防ぐことができ、露光処理ミスを発生させることなく運用することができる液浸露光装置を提供すること。【解決手段】基板の搬送ステージが構成される液浸露光装置において、前記搬送ステージに排水手段、排水量検知手段、漏水検知手段の少なくとも１つを設けて投影光学系と基板間を液材で満たすことを特徴とする。又、基板の搬送ステージが粗動ステージと微動ステージにより構成される液浸露光装置において、微動ステージの液材と基板吸着手段間に第１の漏水検知手段を、液材と位置計測手段間に第２の漏水検知手段を、粗動ステージ外周部に第３の漏水検知手段を少なくとも１つ配置したことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の搬送ステージが構成される液浸露光装置において、
前記搬送ステージに排水手段、排水量検知手段、漏水検知手段の少なくとも１つを設けて投影光学系と基板間を液材で満たすことを特徴とする液浸露光装置。
【請求項２】
前記搬送ステージに設けられた排水量検知手段又は漏水検知手段の情報から、投影光学系と基板間に満たす液材供給量又は回収量を制御することを特徴とする請求項１記載の液浸露光装置。
【請求項３】
液材と基板吸着手段間、或は液材と位置計測手段間に排水機構を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の液浸露光装置。
【請求項４】
前記排水機構は、多孔体セラミック、多細穴セラミックプレート等の多孔体材料で構成されることを特徴とする請求項３記載の液浸露光装置。
【請求項５】
前記多孔体材料は、前記搬送ステージの基板面と略同一面上面に配置され、基板保持手段上面に埋め込まれるように一体となり構成されることを特徴とする請求項４記載の液浸露光装置。
【請求項６】
基板の搬送ステージが粗動ステージと微動ステージにより構成される液浸露光装置において、
微動ステージの液材と基板吸着手段間に第１の漏水検知手段を、液材と位置計測手段間に第２の漏水検知手段を、粗動ステージ外周部に第３の漏水検知手段を少なくとも１つ配置したことを特徴とする液浸露光装置。
【請求項７】
前記第１〜３の漏水検知手段において、各漏水検知手段からの情報により排水機構の排水量又は液供給回収量を個別に制御することを特徴とする請求項６記載の液浸露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原版、基板を搬送するステージ装置の排水手段、漏水検知手段、液供給回収手段、液供給回収制御手段に関するものである。特に、半導体露光装置及び液晶露光装置に使用される。
【背景技術】
【０００２】
図６は従来の半導体露光装置を示す断面図である。
【０００３】
半導体露光装置は、原版であるレチクル３を保持するレチクルステージ４、レチクル３上露光光を照射する照明系部６、露光されるウェハ１を保持するウェハステージ２、レチクル３からの露光光を所定の倍率でウェハ１に投影する投影光学系５、ウェハ１上のアライメントマーク及びステージ上の基準マークを計測し、ウェハ１内のアライメントとウェハ１とレチクル３間のアライメントを行うアライメント光学系８、床から除振手段を介して各々の構成要素を保持している本体構造体７、装置内部を精密に温度調整するためのチャンバ９により構成されている。
【０００４】
以上のような構成において、不図示のウェハ搬送系により供給されたウェハ１を照明系部６より照射した光は、レチクルステージ４上のレチクル３を通過し、投影光学系５により所定の倍率に変化させてウェハステージ２上にあるウェハ１にレチクルパターンが転写される。
【０００５】
半導体露光製造システムは、露光方式によりステッパとスキャナがある。ステッパでは、アライメント光学系８によりレチクル３に対する目標位置を不図示の干渉計データに変換し、この干渉計データを目標にしてウェハステージ２とレチクルステージ４を所望の位置で静止させてレチクルパターンをウェハ１上に転写を行っており、スキャナではウェハステージ２とレチクルステージ４をアライメント光学系８によりレチクル３に対する目標位置を不図示の干渉計データに変換し、この干渉計データを目標にして所望の位置で同期駆動させて、レチクルパターンをウェハ１上に転写している。
【０００６】
レチクルパターンを精度良くウェハ１上に転写するためには、温度安定が重要となる。温度差が生じると、各部品に線膨張差が起こり、位置決め精度の悪化や干渉計等のセンサに誤差が生じる等の問題が発生する。
【０００７】
レチクルステージ４、ウェハステージ２等、各部駆動系ではリニアモータ等の電動機が使われており、電動機の発熱を冷却により一定温度に保つ必要がある。そのため、装置内の各部には液冷用の配管等が配置されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来露光装置では、冷媒使用箇所には漏水検知手段を設けていたが、レチクル、ウェハを搭載するステージ上には検知手段、排水手段を設けていなかった。そのため、不慮の漏水等が発生し、ステージ上に浸入した場合、計測ミラーに付着して計測不能或はステージ装置故障及び露光装置内環境悪化、処理中のウェハに不具合が生じる等の欠点があった。
【０００９】
又、液浸露光装置になるとウェハ上を液体で満たすため、液体がウェハの吸着部、位置計測系等に浸入するとエラーが生じ、処理を停止しなければならない。更に、復帰作業により装置を一定期間使用できないという事態が発生する可能性がある。
【００１０】
本発明は上記問題に鑑みてなされたもので、その目的とする処は、非液体対応部への浸入を防ぐことができ、露光処理ミスを発生させることなく運用することができる液浸露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明は、基板の搬送ステージが構成される液浸露光装置において、前記搬送ステージに排水手段、排水量検知手段、漏水検知手段の少なくとも１つを設けて投影光学系と基板間を液材で満たすことを特徴とする。
【００１２】
又、本発明は、基板の搬送ステージが粗動ステージと微動ステージにより構成される液浸露光装置において、微動ステージの液材と基板吸着手段間に第１の漏水検知手段を、液材と位置計測手段間に第２の漏水検知手段を、粗動ステージ外周部に第３の漏水検知手段を少なくとも１つ配置したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、露光処理ミスを発生させることなく装置を運用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
【００１５】
＜実施の形態１＞
図１はウェハステージを正面から見た図である。図２及び図３はウェハステージを上から見た図である。
【００１６】
ステージは粗動ステージ９と微動ステージ８で構成されている。微動ステージ８にはウェハ７を吸着するためのチャック６、位置計測のためのバーミラー２が配置されている。
【００１７】
チャック６の外周部に第１の排水溝、第１の漏水センサ、バーミラー２の手前に第２の排水溝、第２の漏水センサ、粗動ステージ９に第３の漏水センサが配置されている。
【００１８】
第１の排水溝、第１の漏水センサによりバキュームチャック部に液体が進入せず、バキュームエラーを回避することができる。第２の排水溝、第２の漏水センサによりバーミラー２に液体が到達せず、計測エラーを回避することができる。第３の漏水センサによりステージ空間、ステージ定盤等への漏水を防ぎ、装置環境内悪化を防ぐことができる。
【００１９】
＜実施の形態２＞
図４及び図５は液浸露光装置の概略図である。
【００２０】
液浸露光装置は投影光学系１０とウェハ７の間に液体を介在させる。液体は液浸液供給口１１より供給ノズル１３を介して供給され、回収ノズル１４を介して液浸液回収口１２より回収される。液体は露光エリアに分布し、チャック６又はバーミラー２には浸入しないよう構成される。
【００２１】
もし、露光範囲外に液が洩れた場合でも、排水溝により漏水を排水し、漏水センサの情報により、液供給回収量を制御し、漏水を防止する。又、制御の時間的遅れを低減するため、絞りを供給ノズル１６の側近に配置しても良い。排水作業は基板処理が終了後に行うよう構成しても良い。
【００２２】
液供給回収の制御としては、第１の漏水センサ４の検知により、液の供給を低減し、第２の漏水センサ５、第３の漏水センサ６の検知により、液の供給を停止する構成でも良い。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態１におけるステージ装置を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態１におけるステージ装置を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態１におけるステージ装置を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態２における液浸露光装置を示す図である。
【図５】本発明の実施の形態２における液浸露光装置を示す図である。
【図６】従来の半導体露光装置を示す図である。
【図７】従来の液浸露光装置を示す図である。
【符号の説明】
【００２４】
１    第１の排水溝（多孔体セラミックス、多細体セラプレート）
２    第２の排水溝（多孔体セラミックス、多細体セラプレート）
３    バーミラー
４    第１の漏水センサ
５    第２の漏水センサ
６   第３の漏水センサ
７  計測用センサ類
８  ステージ天板
９  チャック
１０  ウェハ
１１  微動ステージ
１２  粗動ステージ
１３  投影光学系
１４  液浸液供給口
１５  液浸液回収口
１６  供給ノズル
１７  回収ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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