(57)【要約】【課題】固体電解質キャパシタの、誘電皮膜と導電性ポリマーとの間の付着の改善、並びに固体電解質キャパシタのわずかな容量の改善【解決手段】誘電性の表面（１０）を有する導電性ボディ（５）と、前記ボディ（５）上に配置された、約５０〜５００ｍ２／ｇの比表面積を有するＳｉＯ２を有するアモルファス層（１５）とを有する電気素子（１）用の電極（１Ａ）。【選択図】図１
2006352055.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電性の表面（１０）を有する導電性ボディ（５）と、
前記ボディ（５）上に配置された、約５０〜５００ｍ２／ｇの比表面積を有する、ＳｉＯ２を有するアモルファス層（１５）とを有する
電気素子（１）用の電極（１Ａ）。
【請求項２】
アモルファス層（１５）が最大３０μｍの厚さを有する、請求項１記載の電極（１Ａ）。
【請求項３】
導電性ボディ（５）が焼結された弁金属を有する、請求項１又は２記載の電極（１Ａ）。
【請求項４】
セラミックボディ（５）の誘電性の表面（１０）がＴａ２Ｏ５又はＮｂ２Ｏ５を有する、請求項１から３までのいずれか１項記載の電極（１Ａ）。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１項記載の電極（１Ａ）と、
アモルファス層（１５）上に配置された導電性被覆（２０）とを有する
電気素子（１）。
【請求項６】
導電性被覆（２０）が、次の構成要素：導電性ポリマー及びＭｎＯ２を有するグループから選択される、請求項５記載の電気素子（１）。
【請求項７】
導電性被覆（２０）は導電性ポリマーを有し、前記導電性ポリマーは、ピロール、チオフェン、アニリン及びこれらの誘導体から選択される少なくとも２種のモノマーからなるコポリマーである、請求項５又は６記載の電気素子。
【請求項８】
導電性被覆（２０）は複数の部分層（２０Ａ，２０Ｂ）を有し、これらの部分層は同じ又は異なる導電性ポリマーを有する、請求項５から７までのいずれか１項記載の電気素子。
【請求項９】
導電性被覆（２０）が導電性ポリマーを有し、かつ
アモルファス層（１５）は次の成分：シリカゲル及び少なくとも１つの有機置換基を有する架橋可能なシランを有する、導電性ボディ（５）上に存在する溶液（５０）の乾燥により得られる、請求項５から８までのいずれか１項記載の電気素子。
【請求項１０】
導電性被覆（２０）が導電性金属酸化物を有し、かつ
アモルファス層（１５）は次の成分：シリカゲル及び無機及び有機の加水分解可能な置換基から選択される置換基を有する架橋可能なシランを有する、導電性ボディ（５）上に存在する溶液（５０）の乾燥により得られる、請求項５から８までのいずれか１項記載の電気素子。
【請求項１１】
次の方法工程：
Ａ）  誘電性表面（１０）を有する導電性ボディ（５）を準備し、かつ前記ボディ（５）上に、ＳｉＯ２を含有し、約５０〜５００ｍ２／ｇの比表面積を有するアモルファス層（１５）を作成する工程を有する、電気素子（１）用の電極（１Ａ）の製造方法。
【請求項１２】
方法工程Ａ）において導電性ボディ（５）を
ケイ酸及び
架橋可能なシラン
を有する溶液（５０）と接触させ、引き続き乾燥によりアモルファス層（１５）を作成する、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
方法工程Ａ）においてケイ酸として親水性のケイ酸を使用する、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
方法工程Ａ）においてケイ酸として熱分解ケイ酸を使用する、請求項１２又は１３記載の方法。
【請求項１５】
方法工程Ａ）において、架橋可能なシランとして、
テトラアルコキシ−シラン、トリアルコキシ−グリシドオキシアルキル−シラン及びトリアルコキシ−メタクリルオキシアルキル−シラン、トリアルコキシ−ビニル−シラン、テトラハロゲン−シランから選択される化合物を使用する、請求項１２から１４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
方法工程Ａ）において、溶液（５０）中で付加的に弱有機酸を使用する、請求項１２から１５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
方法工程Ａ）において、
ケイ酸  ０．１〜１０質量％、
弱有機酸  ０．１〜１０質量％、
架橋可能なシラン  ０．１〜１０質量％及び
溶剤  約１０質量％を有する
溶液を使用する、請求項１２から１６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１８】
方法工程Ａ）において、４０℃〜１５０℃の温度で乾燥させる、請求項１２から１７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１９】
付加的な方法工程Ｂ）において、導電性被覆（２０）をアモルファス層（１５）上に作成する、電気素子（１）の作成のための、請求項１２から１８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２０】
方法工程Ｂ）において導電性被覆を、ピロール、チオフェン、アニリン及びそれらの誘導体から選択されるモノマーの重合により作成する、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
方法工程Ｂ）において、少なくとも２種の異なるモノマーからなるコポリマーを作成する、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
同じ又は異なる導電性ポリマーを有する複数の部分層を有する導電性被覆（２０）を作成する、請求項１９から２１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２３】
溶液（５０）が付加的に弱酸を含有する、請求項９又は１０記載の電気素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気素子用の電極、電極を有する素子及び電極並びに素子のための製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
US 6,483,694 B1からは固体電解質キャパシタは公知であり、このキャパシタは誘電層で被覆されたアルミニウム電極を有し、その際、この誘電層上にシロキサン化合物を有する化合物が被覆されている。このシロキサン化合物は、この場合、誘電皮膜と、なお塗布すべき導電性ポリマーとの間の接着を改善する。この種の固体電解質キャパシタの欠点は、このキャパシタがわずかな容量を有することにある。
【特許文献１】US 6,483,694 B1
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の課題は、前記の欠点に関して改善された電気素子用の電極、前記電極を備えた電気素子並びに前記電極及び前記電気素子用の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記の課題は、本発明の場合に請求項１記載の電極により解決される。この電極並びに前記電極を有する電気素子及び前記電極及び前記電気素子の製造方法の有利な実施態様は他の請求項の対象である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
本発明は、
−  誘電性表面を備えた導電性ボディと、
−  前記ボディ上に設けられた、約５０〜５００ｍ２／ｇの比表面積を有するアモルファス層とを有し、その際、この層は二酸化ケイ素を含有する、
電気素子用の電極を記載する。
【０００６】
本発明による電極の利点は、特に、頻繁に多孔性でもあるアモルファス層が、本発明による電極を使用することができる電気素子、例えばキャパシタにおいて使用される粒子に対して特に良好なバリアとして使用できることにある。それにより、特に有利に、粒子と誘電体との接触時に短絡もしくはリーク電流を抑制できる。アモルファス層の高い比表面積の理由で、更にこの電極を電気素子中に使用する際に、例えば導電性ポリマー又は他の導電性材料、例えば金属酸化物を、電気素子中の対電極として本発明による電極と一緒に使用する場合に、ＥＳＲついての不利な作用が見込まれない。本発明による電極は、この場合に、液体並びに固体電解質を有する電気素子中で使用できる。この電気素子は、例えばキャパシタ、例えば固体電解質キャパシタであることができる。
【０００７】
本発明による電極のボディ上に設けられたアモルファス層の比表面積は、特に当業者に公知の方法、例えばBrunauer, Emmett及びTellerによるＢＥＴ法により特に簡単に決定される。この方法を用いて、場合によりアモルファス層の孔径分布も決定できる。このＢＥＴ法は、この場合に、ガス又は蒸気を固体ボディ、例えば電極のアモルファス層に、測定可能な吸着熱を放出しながらます単分子層の形で吸着することから出発する。次に例えば、−１９６℃で使用した圧力に依存して吸着剤上に、この場合にアモルファス層に吸着する窒素ガスの体積を測定する。
【０００８】
アモルファス層の表面積は、有利に７０〜３８０ｍ２／ｇ、たいていは有利に約２００ｍ２／ｇである。比表面積のこの種の値の場合に、本発明による電極のこのアモルファス層は、例えば導電性ポリマー又は金属酸化物の形の導電性被覆の製造時に使用される溶剤が特に容易に浸透する。アモルファス層のこの特性に基づき、ＥＳＲに不利な影響を与えずに、導電性被覆を低い反応サイクルで十分な厚さでアモルファス層上に作成できる。
【０００９】
本発明の他の実施態様の場合には、このアモルファス層は、最大３０μｍ、有利に約２０〜３０μｍの厚さを有する。この種の厚さの場合には、本発明による電極のアモルファス層は、粒子、例えば電気素子中の黒鉛に対する特に有効なバリアであり、このバリアは導電性ボディの誘電性表面との接触時に短絡もしくはリーク電流を引き起こさない。
【００１０】
本発明の他の実施態様の場合には、本発明の電極の導電性ボディが焼結された弁金属を有する。弁金属とは、この場合に、アノード分極で、高電圧でも及び場合により過電圧でも導電性にならない酸化層で被覆される金属と解釈される。これには、特に金属のタンタル、ニオブ、ハフニウム、ジルコニウム、チタン、バナジウム、タングステン、ベリリウム及びアルミニウムが該当する。例えば、タンタル又はニオブを焼結した形で有する導電性ボディの場合に、導電性ボディの誘電性表面はそれに応じて五酸化タンタルＴａ２Ｏ５又は五酸化ニオブＮｂ２Ｏ５からなる。
【００１１】
本発明の対象は、更に、本発明による電極及び本発明の電極のアモルファス層上に配置された導電性被覆を有する電気素子である。この導電性被覆は、この場合に頻繁に本発明による電極の対電極である。この種の電気素子の例としての固体電解質キャパシタの場合に、頻繁に本発明による電極をアノードとして及びアモルファス層上に配置された導電性被覆をカソードとして接続する。
【００１２】
この導電性被覆は、有利に、例えば電気化学的又は化学的重合によりモノマーから製造することができる導電性ポリマーを有する材料を含有する。このモノマーはピロール、チオフェン、アニリン及びこれらの誘導体から選択することができる。更に、この導電性被覆は導電性金属酸化物、例えば二酸化マンガンＭｎＯ２から製造することができる。この種の電気素子の場合に、アモルファス層の高い表面積及び多孔性状態に基づき特に簡単に導電性ポリマー又は導電性金属酸化物を十分な厚さで作成できる。大きな内部表面積及び多孔性に基づき、このアモルファス層はこの場合に、導電性ポリマー又は金属酸化物の出発物質が溶解又は懸濁している溶剤が容易に浸透することができる。
【００１３】
他の実施態様の場合には、アモルファス層上の導電性被覆は導電性ポリマーを有し、この導電性ポリマーは、ピロール、チオフェン、アニリン及びこれらの誘導体から選択される少なくとも２種のモノマーからなるコポリマーである。電気素子、例えば、この種の導電性被覆を電極として有する固体電解質キャパシタは、公知のキャパシタと比べて低いリーク電流及び低いＥＳＲ値と同時に、改善された老化挙動により優れている。特に有利なコポリマーは、この場合にピロールとチオフェンとのモノマーから製造することができる。この種の導電性被覆の製造は、例えば、すでにモノマーの混合物を含有しかつ引き続き化学的又は電気化学的に酸化重合される溶液を使用することにより行うことができる。しかしながら、これらのモノマーを異なる湿潤過程でアモルファス層上に塗布することもできる。前記のモノマーのための有利な酸化剤は、金属イオンの酸化作用する塩、例えばＦｅ（ＩＩＩ）塩である。前記モノマーの化学合成による導電性ポリマーの形成は、Ｃｕ（ＩＩ）、Ｃｅ（ＩＶ）、過塩素酸塩並びに過酸化物を含有する他の酸化剤を用いて行うこともできる。
【００１４】
本発明による電極のアモルファス層上に配置された導電性被覆は、同じ又は異なる導電性ポリマーを有する複数の部分層を有することができる。この場合に、個々の部分層は別個に上記の製造方法を用いて塗布することができる。異なる化学量論もしくはモル比の異なるモノマーのバリエーションもしくはコンビネーションは、この場合に、それぞれのモノマーの所望の特性を兼ね備えるカスタムメイドの導電性コポリマーの合成を可能にする。導電性被覆の部分層は、唯一のモノマーだけから製造された導電性ホモポリマーも有することができる。
【００１５】
導電性被覆が導電性ポリマーを有し、かつアモルファス層は導電性ボディ上に存在する溶液の乾燥により得られ、その際、この溶液は
−  シリカゲル及び
−  少なくとも１個の有機置換基を有する架橋可能なシラン
を有する電気素子が特に有利である。
【００１６】
上記の成分を含有する溶液の乾燥の間に、ケイ酸粒子の縮合によりアモルファスのポリマーの二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）ｘが生じる。同時に、個々のケイ酸粒子は架橋可能なシランにより相互に結合できるため、すでに前記したアモルファスの多孔性の二酸化ケイ素を有する、５０〜５００ｍ２／ｇの高い比表面積を有する層を形成することができる。この場合、架橋可能なシラン中に存在する有機置換基は、アモルファス層の一成分でもある。この有機置換基により、導電性有機ポリマーを導電性被覆として簡単に結合することができる。この場合、導電性ポリマーのアモルファス層上での特に良好な付着は、ポリマーとアモルファス層の有機置換基との結合を介して生じる。架橋可能なシランの有機置換基は、この場合に例えばエチレン性不飽和の基又はエポキシ基を含有し、例えばビニル基、グリシドオキシプロピル基及びメタクリルオキシアルキル基から選択される。この種の有機置換基を有する架橋可能なシランは、例えばトリアルコキシ−グリシドオキシアルキル−シラン、トリアルコキシ−メタクリルオキシアルキル−シラン及びトリアルコキシ−ビニル−シランである。この種のシランの具体的な例は、３−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン又は（３−メタクリルオキシプロピル）−トリメトキシシランである。アルキル置換基及び特に芳香族置換基、例えばアリール置換基、例えばナフチル基を有する架橋可能なシランも使用可能である。この種の置換基を有する架橋可能なシランは、導電性ポリマーの非局在化されたπ電子系に対する高い親和性に基づき、導電性ポリマーが導電性被覆として使用された場合に良好な結合が可能である。ケイ素原子の加水分解により分解されるのではなく、つまり加水分解可能ではない有機置換基、例えばケイ素とアルキレン架橋を介して結合している有機置換基、例えば前記のグリシドオキシアルキル基を有する架橋可能なシランが特に有利である。
【００１７】
本発明の他の実施態様の場合には、この溶液は更に弱酸、有利に弱有機酸を有する。弱酸が存在する場合に、ケイ酸の架橋はより迅速に進行することができる。
【００１８】
本発明の対象は、導電性被覆が導電性金属酸化物、例えば二酸化マンガンを有し、かつアモルファス層は導電性ボディ上に存在する溶液の乾燥により得られ、その際、この溶液は
−  シリカゲル及び
−  もっぱら無機置換基を有するかもしくは無機及び有機の加水分解可能な置換基を有する架橋可能なシラン
を有する電気素子でもある。
【００１９】
この種の溶液の乾燥時に、アモルファス層が生じ、このアモルファス層は有機置換基を有しておらずかつ従って無機の性質の表面を有する。この種のアモルファス層の場合に、無機の導電性金属酸化物の特に良好な付着が生じる。この種の架橋可能なシランの例は、例えば４つの有機置換基はすべて加水分解可能なテトラアルコキシ−シラン、例えばテトラエトキシ−シラン、又はもっぱら無機置換基だけを有するテトラハロゲン−シラン、例えば四塩化ケイ素ＳｉＣｌ４である。架橋可能なシランの加水分解可能な置換基の数により、アモルファスＳｉＯ２を有する層の架橋度は簡単に影響される。
【００２０】
すでに前記したように、この溶剤は有利に付加的に弱酸を含有することができる。
【００２１】
本発明の対象は、更に電気素子用の電極の製造方法であり、その際、方法工程Ａ）において誘電性表面を有する導電性ボディを準備し、引き続き約５０〜５００ｍ２／ｇの比表面積を有する、二酸化ケイ素を含有するアモルファス層を前記ボディ上に作成する。
【００２２】
アモルファス層は例えば、導電性ボディを方法工程Ａ）において、ケイ酸及び架橋可能なシランを含有する溶液と接触させ、引き続き乾燥させることによりアモルファス層を形成させることにより作成することができる。電極の導電性ボディと溶液との接触は、多様な方法を用いて、例えば浸漬塗布又は噴霧塗布を用いて行うことができる。有利に４０℃〜１５０℃の温度で行う乾燥の間に、この場合に個々のケイ酸粒子から加水分解によりアモルファスの多孔性二酸化ケイ素粒子が形成され、この二酸化ケイ素粒子は架橋可能なシランを介して相互に結合することができる。乾燥の間に、開始時には約４０〜５０℃の低い温度で作業し、溶液の溶剤、例えば水又は水性有機溶剤、例えばメタノール又はエタノールを蒸発させるのが有利である。引き続き約１００〜１５０℃のより高い温度で、個々のケイ酸粒子の加水分解及び結合を実施する。
【００２３】
この溶液は、更に酸、特に弱有機酸を含有することができ、この弱酸は架橋を促進する。
【００２４】
方法工程Ａ）において、親水性のケイ酸を使用することができる。この種の親水性のケイ酸は、本発明による電極上の導電性被覆としての導電性ポリマーの特に良好な付着を可能にする。これは、特に電気的ポリマーがイオン性にと付されていて、適当な対イオン、例えば有機スルホン酸のようなアニオンによって安定化されていて、従って親水性ケイ酸と良好に相互作用できることに帰することができる。
【００２５】
しかしながら、ポリジアルキルシロキサン、例えばポリジメチルシロキサンで処理された疎水性ケイ酸を使用することもできる。
【００２６】
使用されたケイ酸は、例えば熱分解ケイ酸であることができ、この熱分解ケイ酸とは、炎内加水分解、例えば爆鳴気炎中でのＳｉＣｌ４の分解により製造される高分散性ケイ酸であると解釈される。同様に、例えばアルカリ金属ケイ酸塩水溶液から鉱酸を用いた沈殿により製造される沈降ケイ酸を使用することもできる。
【００２７】
酸として、有利に弱有機酸、例えば酢酸が使用される。この酸は、脱離基の脱離を、架橋可能なシランの置換基の脱離及び更にケイ酸からのポリマーのアモルファス二酸化ケイ素への縮合を促進する。
【００２８】
方法工程Ａ）において使用された溶液は、この場合に有利にケイ酸０．１〜１０質量％、弱有機酸０．１〜１０質量％、架橋可能なシラン０．１〜１０質量％、及び溶剤、例えば水性有機溶剤又は水自体約１０質量％を有することができる。このケイ酸及び架橋可能なシランの濃度の調節により、生じたアモルファス層の厚さ並びにアモルファス層の架橋度を特に簡単に調節できる。弱酸としての酢酸１〜４質量％、シリカゲル１〜４質量％及び架橋可能なシラン、例えば３−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン１〜４質量％及びエタノール５〜１５質量％を有する溶液が特に有利である。
【００２９】
本発明の対象は、更になお、製造工程Ａ）の後の付加的な方法工程Ｂ）において、アモルファス層上に導電性被覆を作成する電気素子の製造方法である。すでに前記したように、この導電性被覆は、例えば導電性ポリマー又は導電性金属酸化物、例えば二酸化マンガンを含有することができる。
【００３０】
次に、本発明を実施例及び図面を用いて詳細に説明する。
【００３１】
図１は、固体電解質キャパシタとして構成されている本発明による電気素子を表す。
【００３２】
図２Ａ〜２Ｄは、電気素子の、この場合に固体電解質キャパシタの本発明による製造方法のバリエーションを表す。
【００３３】
図１は、タンタル−固体電解質キャパシタの実施例に関する、焼結されたタンタル金属からなる導電性ボディ５を示し、このボディはアノード線５Ａを用いて電気的に接続可能である。陽極酸化を用いて、この導電性タンタルボディ５上に、五酸化タンタルＴａ２Ｏ５からなる誘電性表面１０を作成した。この誘電性五酸化タンタル表面１０上に、高多孔性の二酸化ケイ素からなるアモルファス層１５が存在し、このアモルファス層はケイ酸、架橋可能なシラン及び弱酸の溶液の乾燥により製造された。このアモルファス二酸化ケイ素層１５上に導電性ポリマーが導電性被覆２０として配置されている。アモルファス二酸化ケイ素層１５の高い比表面積及び多孔性に基づき、固体電解質キャパシタ中にカソードとして接続される導電性ポリマーを簡単に作成できる。このアモルファス二酸化ケイ素層は、この場合に付加的に黒鉛粒子のマイグレーションを抑制でき、かつ黒鉛粒子が誘電層と接触した際に生じる短絡もしくはリーク電流を抑制できる。この黒鉛粒子は、この場合に黒鉛層の成分であり、この黒鉛層は頻繁に電気接触のために導電性ポリマー上に設けられている。
【００３４】
図２Ａは、本発明による方法の方法工程Ａ）の間の五酸化タンタルからなる誘電層１０を有する多孔性タンタル焼結ボディ５を示す。この場合、タンタル焼結ボディ５を、ケイ酸、架橋可能なシラン、溶剤及び弱酸を含有する溶液５０中に浸漬する。タンタル焼結ボディ５を溶液５０から取り出した後に、前記ボディの表面上に溶剤皮膜が残留する。この種の表面皮膜は、例えば吹き付け被覆によっても作成できる。
【００３５】
図２Ｂ中に、方法工程Ａ）の後の本発明による電極が示されている。この場合、図２Ａで塗布された液体皮膜を乾燥により、すでに前記した高い比表面積及び高い多孔性を有するアモルファス二酸化ケイ素被覆１５に変換した。
【００３６】
図２Ｃは、本発明による方法の方法工程Ｂ）の間の本発明による素子を示す。この場合、導電性ポリマーを、素子中でカソードとして用いることができる導電性被覆２０としてアモルファス二酸化ケイ素被覆１５上に作成した。すでに前記したように、この導電性被覆は多様なモノマーからなるホモポリマー又はコポリマーを含有することができる。アモルファスのケイ素被覆１５の特に高い内部表面及び多孔性に基づき、この被覆はモノマー溶液の溶剤が特に良好に浸透できるため、わずかな反応サイクルを用いて、ＥＳＲに関して不利な影響を与えずに、導電性ポリマーからなる十分に厚い導電性被覆２０を作成できる。
【００３７】
図２Ｄ中に、本発明によるタンタル固体電解質キャパシタが示されていて、この場合に方法工程Ｂ）の間に、導電性ポリマーの同じ又は異なるホモポリマー又はコポリマーからなる２つの導電性部分層２０Ａ及び２０Ｂがアモルファス二酸化ケイ素被覆１５上に作成される。すでに前記したように、導電性ポリマーの多様な塗布された部分領域によって、固体電解質キャパシタの電気特性は、それぞれの所与性に特に簡単に適合させられる。
【実施例】
【００３８】
実施例１
陽極酸化されたタンタル焼結ボディは、酢酸０．１〜１０質量％、Degussa社のAerosil R200  ０．１〜１０質量％、３−グリシドオキシプロピル−トリメトキシシラン０．１〜１０質量％及びエタノール及び水１０質量％からなる溶液中に浸漬した。引き続き、段階的な乾燥を４０℃から１５０℃まで行い、まず溶剤をできる限り穏和に除去し、引き続き高めた温度でアモルファス二酸化ケイ素層の形成を可能にした。その後、陽極酸化されたタンタル焼結ボディは、２種のモノマーの混合物を含有する第１の溶液に浸漬した。この溶液は、３，４−エチレン−ジオキシチオフェン０．５〜５質量％、ピロール０．５〜５質量％、アルキルナフチルスルホン酸ナトリウム１０〜２０質量％及びイソプロパノール５〜２５質量％を含有し、その際、残りは水である。引き続き、この陽極酸化されたタンタル焼結ボディを、硫酸鉄（ＩＩＩ）１０〜２５質量％、硫酸０．５質量％及び水を含有する酸化剤の水溶液中に浸漬した。ピロール及びエチレンジオキシチオフェンの導電性コポリマーからなるカソードの形成を、引き続き−５〜１０５℃の温度で実施した。この電気素子を、引き続き、例えばトルエンスルホン酸、リン酸及びクエン酸を含有することができる酸性水溶液中で洗浄しかつリフォーミングした。このように、第１の部分層を導電性ポリマーで作成することができた。この種の方法は、５〜１２回繰り返し、更に導電性ポリマー部分領域を塗布することができた。このように製造された電気素子は、５〜１５ｍＯｈｍのＥＳＲ及び１〜５μＡのＬＣ（リーク電流）を示した。
【００３９】
実施例２
実施例１からの陽極酸化されたタンタル−焼結ボディの代わりに、陽極酸化されたニオブ−焼結ボディを使用した。他のすべての方法工程は第１の実施例に一致する。
【００４０】
このように製造された電気素子は、１０〜２５ｍＯｈｍのＥＳＲ及び５〜１０μＡのＬＣ（リーク電流）を示した。
【００４１】
実施例３
陽極酸化されたタンタル−焼結ボディの代わりに、陽極酸化されたアルミニウムシートを導電性ボディとして使用した。残りの方法工程は実施例１に記載された方法工程と同様である。
【００４２】
このように製造された電気素子は、５〜１０ｍＯｈｍのＥＳＲ及び５〜２０μＡのＬＣ（リーク電流）を示した。
【００４３】
本発明は、ここに示された実施例に限定されない。他のバリエーションは、例えば導電性ボディ用の焼結した金属の選択並びにアモルファス二酸化ケイ素被覆を製造する溶剤の組成の選択において可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】固体電解質キャパシタとして構成されている本発明による電気素子
【図２Ａ】電気素子の、この場合に固体電解質キャパシタの本発明による製造方法の実施態様
【図２Ｂ】電気素子の、この場合に固体電解質キャパシタの本発明による製造方法の実施態様
【図２Ｃ】電気素子の、この場合に固体電解質キャパシタの本発明による製造方法の実施態様
【図２Ｄ】電気素子の、この場合に固体電解質キャパシタの本発明による製造方法の実施態様
【図１】
2006352055.tif 000003
【図２Ａ】
2006352055.tif 000004
【図２Ｂ】
2006352055.tif 000005
【図２Ｃ】
2006352055.tif 000006
【図２Ｄ】
2006352055.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月5日(2005.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006352055.tif 000008
【図２Ａ】
2006352055.tif 000009
【図２Ｂ】
2006352055.tif 000010
【図２Ｃ】
2006352055.tif 000011
【図２Ｄ】
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