(57)【要約】【課題】  回路パターンの形成精度を長期間にわたって維持できる液晶製造用露光装置を実現する。【解決手段】  露光のための光を照射するための照明光学系３を設ける。液晶パネル用の基板７のレジスト膜上に回路パターン光を投影レンズ６により投影するための露光処理室４を設ける。投影レンズ６を露光処理室４の他と区画するための投影レンズ区画室６ｂを設ける。露光処理室４内をケミカル浄化するための露光処理室循環路４ｄを設ける。複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えた露光処理系内フィルタ部４ｂを露光処理室循環路４ｄ内に設ける。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光処理室と、
照明光学系室と、
投影レンズと、
露光処理室内の他と区画するための投影レンズ区画室と、
露光処理室内をケミカル浄化するためのケミカルエアー循環路と、
ケミカルエアー循環路内に設けられた、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えたフィルタ部と、を有することを特徴とする液晶製造用露光装置。
【請求項２】
さらに、投影レンズ区画室内に浄化エアーを導入するための投影レンズ用エアー導入部を有する、請求項１記載の液晶製造用露光装置。
【請求項３】
照明光学系を露光処理室内の他と区画するための光学系区画室と、
浄化エアーを光学系区画室内に導入する光学系導入路と、
光学系導入路に設けられた、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えた光学系フィルタ部とを有する、請求項１または２記載の液晶製造用露光装置。
【請求項４】
さらに、照明光学系は、光源と、光源からの光反射する第一ミラーと、第一ミラーからの光を投影レンズに向かって反射する第二ミラーとを備え、
光学系区画室は、光源と第一ミラーを含む光学系第一区画室と、第二ミラーを含む光学系第二区画室とを備え、
光学系第一区画室と、光学系第二区画室とを迂回させて浄化エアーを流すための光学系迂回路を有する、請求項１ないし３の何れか１項に記載の液晶製造用露光装置。
【請求項５】
外部から露光処理室へ導入される浄化エアーは、アニオンとして有機物を除き１μｇ／ｍ3以下、カチオンとしてアンモニアが５μｇ／ｍ3以下、および総有機物量が２００μｇ／ｍ3以下までそれぞれ低減されたものである、請求項１ないし４の何れか１項に記載の液晶製造用露光装置。
【請求項６】
複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタは、それぞれ、アニオン、カチオンおよび有機物を除去するためのものである、請求項１ないし５の何れか１項に記載の液晶製造用露光装置。
【請求項７】
複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタは、それぞれ、アニオン除去用、カチオン除去用および有機物除去用が、この順にて、浄化エアーの流れ方向に沿って配置されている、請求項６記載の液晶製造用露光装置。
【請求項８】
アニオン除去用、カチオン除去用および中性有機物除去用の各ケミカルフィルタは、互いに隣り合って配置されている、請求項７記載の液晶製造用露光装置。
【請求項９】
カチオンは、アンモニアである、請求項５ないし８の何れか１項に記載の液晶製造用露光装置。
【請求項１０】
アニオンは、ＳＯｘである、請求項５ないし９の何れか１項に記載の液晶製造用露光装置。
【請求項１１】
有機物は、沸点３００℃以下のものである、請求項５ないし１０の何れか１項に記載の液晶製造用露光装置。
【請求項１２】
露光処理室からの回路パターン光の波長は、１５０ｎｍ〜４０６ｎｍの範囲内である、請求項１ないし１１の何れか１項に記載の液晶製造用露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィーを用いて製造する液晶パネルなどの半導体装置に対し回路パターンを露光により形成するための液晶製造用露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶パネルなどの半導体装置の回路パターンを形成するためにフォトリソグラフィーが広く使われており、その露光には、形成する回路パターンの１０倍または５倍の大きさのマスク（レチクル）を用い、投影レンズ系にて上記マスクを通した回路パターンを縮小して、ウエハ上のレジストに順次転写するステッパと呼称される露光装置が用いられている。
【０００３】
一般に、投影露光の場合、その解像限界は、(1) レンズの開口数（ＮＡ）に反比例し、(2) 露光波長に比例することが知られている。そこで、回路パターンの高精細化に伴い、露光に用いる光の波長は、短波長化、例えば、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）へと移行し、さらにエキシマレーザ（ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（１９３ｎｍ））への展開も検討されている。
【０００４】
ところが、ｉ線といった短波長化を進めた露光装置を長く（１〜２年）使用していると、露光装置の投影レンズにくもりが生じ、回路パターンの形成精度が劣化するという不都合を生じることがあった。このくもりの原因を調査したところ、露光時の短波長の光による光化学反応によって発生する硫酸アンモニウム（白色）の微粒子がレンズ表面に付着することが原因であることが分かった。硫酸アンモニウムの微粒子は、上記露光装置を稼働させる環境下である、クリーンルーム内のクリーンエアー（塵（パーチクル）除去）に微量含まれるアンモニアと二酸化硫黄（ＳＯｘ）とが、露光時の短波長の光により光化学反応することによって発生している。このような光化学反応による不都合は、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）では特に観察されなかったが、ｉ線（３６５ｎｍ）のような短波長化に伴い、光化学反応性が高まったことにより発生したものと考えられた。
【０００５】
そこで、上記不都合を回避するために、特許文献１に示すように、アンモニアパージクリーンエアーの環境下において、露光装置を稼働させることが考えられている。アンモニアパージクリーンエアーの環境は、クリーンエアーをアンモニア除去用のケミカルフィルタを通してアンモニアパージクリーンエアーとしてクリーンルーム内に導入し、さらに、クリーンルーム内を循環させたアンモニアパージクリーンエアーをアンモニア除去用のケミカルフィルタを通して再循環させて得られている。
【特許文献１】ＷＯ２００２／０５３２６７（国際公開日：２００２年７月１１日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記従来の構成では、アンモニアを除去したアンモニアパージクリーンエアーの環境下において、ｉ線を光源として用いた露光装置を液晶パネルの露光工程にて稼働させてみても、やはり投影レンズの表面にくもりを生じ、液晶パネルの回路パターンの形成精度を維持できず、得られた液晶パネルの歩留りが低下するという問題を生じる。
【０００７】
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、露光装置の投影レンズ表面におけるくもり発生を抑制して、上記露光装置による回路パターン精度の劣化を回避できて、得られた液晶パネルの歩止まりの向上を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る液晶製造用露光装置は、上記課題を解決するために、露光処理室と、照明光学系室と、投影レンズと、露光処理室内の他と区画するための投影レンズ区画室と、露光処理室内をケミカル浄化するためのケミカルエアー循環路と、ケミカルエアー循環路内に設けられた、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えたフィルタ部と、を有することを特徴としている。
【０００９】
上記構成によれば、露光処理室により基板のレジスト膜上に回路パターンを形成できて、上記基板から液晶パネルを製造できる。
【００１０】
また、上記構成は、投影レンズをケミカル浄化するためのケミカルエアー循環路を露光処理室内に設置し、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えたフィルタ部を上記ケミカルエアー循環路内に設けたから、基板や基板上のレジストから発生した汚染物質を上記フィルタ部により低減できて、露光処理室内の環境（エアー）を露光処理室内だけで浄化できる。
【００１１】
よって、上記構成では、露光処理室内の投影レンズを、浄化された環境下つまり光化学反応する化学物質（例えば、アンモニアといったカチオンや硫黄酸化物といったアニオンや炭化水素（ハイドロカーボン）であるトルエンといった中性有機物）をフィルタ部により低減した環境下にて使用できるので、投影レンズを通る露光用光による光化学反応の発生が抑制されて、上記光化学反応により発生した汚染物質による投影レンズのレンズ表面上へのくもり発生を回避できる。
【００１２】
この結果、上記構成は、上記くもり発生に起因する回路パターンの形成精度の劣化を防止できるので、回路パターンの形成精度の維持を長期間にわたって安定化することが可能となって、得られる液晶パネルの歩留りの経時的な低下を改善できる。
【００１３】
上記液晶製造用露光装置においては、さらに、投影レンズ区画室内に浄化エアーを導入するための投影レンズ用エアー導入部を有していてもよい。
【００１４】
上記構成によれば、投影レンズ内にも、その外部と同様な浄化エアーを導入するので、投影レンズ内のレンズ表面上でのくもり発生を防止できると共に、投影レンズ内の気体と、投影レンズ外の気体とが相違する（屈折率が互いに異なる）ことに起因する回路パターンの形成精度の劣化を回避できる。
【００１５】
上記液晶製造用露光装置では、さらに、照明光学系を露光処理室内の他と区画するための光学系区画室と、浄化エアーを光学系区画室内に導入する光学系導入路と、光学系導入路に設けられた、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えた光学系フィルタ部とを有していてもよい。
【００１６】
上記構成によれば、照明光学系を露光処理室内の他と区画するための光学系区画室および光学系フィルタ部を設けたことで、高温となって揮発性の汚染物質を発生し易い、照明光学系を、例えば投影レンズを有する露光処理室と隔離して、投影レンズの汚染を回避でき、前述のレンズ表面へのくもり発生に起因する回路パターンの形成精度の劣化をより確実に防止できる。
【００１７】
上記液晶製造用露光装置においては、さらに、照明光学系は、光源と、光源からの光反射する第一ミラーと、第一ミラーからの光を投影レンズに向かって反射する第二ミラーとを備え、光学系区画室は、光源と第一ミラーを含む光学系第一区画室と、第二ミラーを含む光学系第二区画室とを備え、光学系第一区画室と、光学系第二区画室とを迂回させて浄化エアーを流すための光学系迂回路を有していてもよい。
【００１８】
上記構成によれば、迂回路を形成したことにより、光源からの伝熱を抑制できて、照明光学系から露光処理室への露光精度の悪化を回避できる。
【００１９】
上記液晶製造用露光装置では、外部から露光処理室へ導入される浄化エアーは、アニオンとして有機物（中性およびアルカリ性の各有機物）を除き１μｇ／ｍ3以下、カチオンとしてアンモニアが５μｇ／ｍ3以下、および総有機物量が２００μｇ／ｍ3以下までそれぞれ低減されたものであるであることが好ましい。
【００２０】
上記液晶製造用露光装置においては、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタは、それぞれ、アニオン、カチオンおよび中性有機物を除去するためのものであることが望ましい。
【００２１】
上記液晶製造用露光装置では、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタは、それぞれ、アニオン除去用、カチオン除去用および中性有機物除去用が、この順にて、浄化エアーの流れ方向に沿って配置されていることが好ましい。
【００２２】
上記液晶製造用露光装置においては、アニオン除去用、カチオン除去用および中性有機物除去用の各ケミカルフィルタは、互いに隣り合って配置されていることが望ましい。
【００２３】
上記液晶製造用露光装置では、カチオンは、アンモニアであってもよい。上記液晶製造用露光装置においては、アニオンは、ＳＯｘであってもよい。上記液晶製造用露光装置では、有機物は、沸点３００℃以下のものであってもよい。
【００２４】
上記構成によれば、露光処理室の環境での、アニオン、カチオンおよび中性有機物の各レベルを汚染物質として低く維持することで、露光処理室内の汚染物質レベルを低く維持できて、回路パターンの形成精度をより確実に保持できる。
【００２５】
上記液晶製造用露光装置においては、露光処理室からの回路パターン光の波長は、１５０ｎｍ〜４０６ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記構成によれば、露光に用いる光の波長が、光化学反応を生じ易い短波長側であるので、汚染物質のレベル低下の効果をより明確に発揮できる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係る液晶製造用露光装置は、以上のように、露光処理室と、照明光学系室と、投影レンズと、露光処理室内の他と区画するための投影レンズ区画室と、露光処理室内をケミカル浄化するためのケミカルエアー循環路と、ケミカルエアー循環路内に設けられた、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えたフィルタ部とを有する構成である。
【００２７】
それゆえ、上記構成は、くもり発生に起因する回路パターンの形成精度の劣化を防止できるので、回路パターンの形成精度の維持を長期間にわたって安定化することが可能となって、得られる液晶パネルの歩留りの経時的な低下を改善できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明の一実施形態について図１に基づいて説明すると以下の通りである。すなわち、本発明に係る液晶製造用露光装置では、略直方体箱状の気密可能なクリーンルーム１が、その上部側の外部から浄化エアーを導入できるように設けられており、そのクリーンルーム１内にさらに作業室２が略直方体箱状に設けられている。また、作業室２は、その上面、その少なくとも一側面、その下面が、クリーンルーム１の内壁面に対して間隔つまり隙間を備えて形成されている。よって、作業室２の下面には、図示しないが、作業室２を支持する各脚部が必要に応じて設けられている。
【００２９】
さらに、作業室２には、その上面に防塵フィルタ２ａが、作業室２の下面に気体が自由に流通する網状床材（図示せず）が設けられている。防塵フィルタ２ａには、一般に、ＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air-filter）フィルタや、ＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air-filter）フィルタが使用される。これら防塵フィルタ２ａおよび網状床材により、作業室２内では、浄化エアーが上方から下方に向かって気流として常時流すことができて、作業室２内の防塵度（クリーン度）を維持できるようになっている。図１では、上記気流の流れ方向を、白抜き矢印にて示している。
【００３０】
作業室２内に、露光用の光を照射するための照明光学系３と、上記光を導き入れて、液晶パネル用の基板７のレジスト膜上に回路パターン光を投影するための露光処理室４とが設けられている。
【００３１】
照明光学系３は、３６５ｎｍの光を発光する。高圧水銀灯３ａと、その高圧水銀灯３ａからの光を上方に反射する楕円反射鏡３ｂと、高圧水銀灯３ａおよび楕円反射鏡３ｂからの光を水平方向にほぼ９０°の角度にて反射する第一ミラー３ｃと、第一ミラー３ｃからの光を絞るレチクルブラインド３ｄと、レチクルブラインド３ｄからの光を下方に向かってほぼ９０°の角度にて反射する第二ミラー３ｅとを備えている。
【００３２】
一方、露光処理室４内には、照明光学系３からの光と、上記基板７との間の光路上に、フォトマスクであるレチクル５と、レチクル５からの回路パターン光を縮小して基板７上に照射する投影レンズ６とが設けられている。本実施の形態では、レチクル５と投影レンズ６と基板７とにより投影レンズ系が構成されている。
【００３３】
上記構成によれば、ｉ線（３６５ｎｍ）の光を用いた露光処理室４により基板７のレジスト膜上に、配線幅が少なくとも１．５μｍの高精細な回路パターンを形成できて、上記基板７から液晶パネルといった液晶表示装置を製造できる。
【００３４】
そして、本発明の液晶製造用露光装置においては、露光処理室４の投影レンズ系５、６、７をクリーンルーム１内の他と区画（つまり、所定位置以外の場所での気体の相互間での流通を防止）するための露光処理区画室４ｃが設けられ、かつ、投影レンズ系５、６、７をケミカルパージ（浄化）するための露光処理室循環路（ケミカルエアー循環路）４ｄが露光処理区画室４ｃ内に設置されており、その上、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えた露光処理系内フィルタ部（フィルタ部）４ｂが露光処理室循環路４ｄ内に設けられている。
【００３５】
上記液晶製造用露光装置では、露光処理区画室４ｃ内の基板７は、その表面方向が水平方向に沿うようにに設置されることが好ましく、露光処理区画室４ｃの一側面をシャッタとし、そのシャッタが開放状態のときに水平方向に出し入れ自在となっていることが望ましい。このような出し入れのために、クリーンルーム１の外側壁には、露光処理区画室４ｃの下面と面一に（つまり水平方向に）延びるステージ２ｂが形成されており、そのステージ２ｂ上に対し浄化エアーを吹きつけるための防塵フィルタ２ｃが設置されている。
【００３６】
また、露光処理系内フィルタ部４ｂは、基板７の表面方向に沿い、かつ、投影レンズ系５、６、７の全体を覆う層状の気流を発生するように露光処理区画室４ｃの他の側面に設定されていることが望ましい。さらに、露光処理系内フィルタ部４ｂが設置された露光処理区画室４ｃの側面に対し、対向する露光処理区画室４ｃの他の側面は、上記気流を露光処理室循環路４ｄ内に取り入れるように気体流通可能に例えば網目状に形成されている。
【００３７】
上記構成よれば、投影レンズ系５、６、７をケミカルパージするための露光処理室循環路４ｄを露光処理区画室４ｃ内に設置し、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えた露光処理系内フィルタ部４ｂを上記露光処理室循環路４ｄ内に設けたから、基板７や基板７上のレジストから発生した汚染物質を上記露光処理系内フィルタ部４ｂにより低減できて、露光処理区画室４ｃ内の環境（エアー）汚染を露光処理区画室４ｃ内だけで浄化できる。
【００３８】
よって、上記構成では、露光処理室４の投影レンズ系５、６、７を、浄化された環境下つまり光化学反応する化学物質（例えば、アンモニアといったカチオンや硫黄酸化物といったアニオンや炭化水素（ハイドロカーボン）であるトルエンといった中性有機物）を露光処理系内フィルタ部４ｂにより低減した環境下にて使用できるので、投影レンズ系５、６、７を通る露光用光による光化学反応の発生が抑制されて、上記光化学反応により発生した汚染物質による投影レンズ６のレンズ表面上へのくもり発生を回避できる。
【００３９】
この結果、上記構成は、上記くもり発生に起因する回路パターンの形成精度の劣化を防止できるので、回路パターンの形成精度の維持を長期間にわたって安定化することが可能となって、得られる液晶パネルに基づく液晶表示装置の歩留りの経時的な低下を改善できる。
【００４０】
上記液晶製造用露光装置では、さらに、クリーンルーム１内の浄化エアーを露光処理室循環路４ｄ内に導入する露光処理系導入路４ｅを露光処理区画室４ｃの上部に設け、その露光処理系導入路４ｅに、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えた露光処理系外フィルタ部４ａが作業室２内の浄化エアーをさらに浄化（ケミカルパージ）して導入できるように設けられている。
【００４１】
上記構成によれば、露光処理系外フィルタ部４ａを露光処理系導入路４ｅに設けたことで、露光処理系内フィルタ部４ｂにより維持された、投影レンズ系５、６、７内の浄化された環境を維持しながら陽圧として、投影レンズ系５、６、７外すなわち露光処理区画室４ｃ外からの汚染物質の侵入を回避できて、前述のくもり発生に起因する回路パターンの形成精度の劣化をより確実に防止できる。
【００４２】
上記液晶製造用露光装置においては、さらに、投影レンズ系５、６、７における投影レンズ６内に、直接、浄化エアーを導入するための配管である、投影レンズ用エアー導入部６ａが、露光処理系内フィルタ部４ｂからの気流方向に対し向流する方向に上記浄化エアーを導入するように設けられている。また、投影レンズ６には、露光処理室４の他の構成と区画化するための投影レンズ区画室６ｂが設けられている。さらに、投影レンズ用エアー導入部６ａには、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えたフィルタ部６ｃが設置されている。
【００４３】
上記構成によれば、投影レンズ６内にも、その外部と同様な浄化エアーを導入するので、投影レンズ６内のレンズ表面上でのくもり発生を防止できると共に、投影レンズ６内を他の気体（例えば窒素ガス（Ｎ2））でのケミカルパージした場合と、投影レンズ６外の気体（上記浄化エアー）とが相違する（屈折率が互いに異なる）ことに起因する回路パターンの形成精度の劣化を回避できる。
【００４４】
上記液晶製造用露光装置では、さらに、露光処理室４での露光のための光を露光処理室４に対し照射する照明光学系３をクリーンルーム１内の他（例えば、作業室２や露光処理室４）と区画するための光学系区画室３ｆ、３ｇと、クリーンルーム１内の浄化エアーを光学系区画室３ｆ、３ｇ内に導入する光学系導入路３ｎと、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えた光学系フィルタ部３ｉとが設けられている。
【００４５】
上記構成によれば、照明光学系３をクリーンルーム１内の他と区画するための光学系区画室３ｆ、３ｇおよび光学系フィルタ部３ｉを設けたことで、高温となって揮発性の汚染物質を発生し易い、照明光学系３を、例えば投影レンズ系５、６、７と隔離して、投影レンズ系５、６、７に対する汚染を回避できて、前述のくもり発生に起因する回路パターンの形成精度の劣化をより確実に防止できる。
【００４６】
さらに、照明光学系３では、光学系区画室３ｆ、３ｇは、光源である高圧水銀灯３ａと第一ミラー３ｃを含む光学系第一区画室３ｆと、第二ミラー３ｅを含む光学系第二区画室３ｇとに区画化されており、光学系第一区画室３ｆと、光学系第二区画室３ｇとの間を迂回させて浄化エアーを流すための光学系迂回路３ｈが形成されている。
【００４７】
また、上記液晶製造用露光装置では、光学系第一区画室３ｆからの浄化エアーを熱排気し、温度調節してクリーンルーム１内に循環させる熱排気系空調機３ｋが、光学系第一区画室３ｆからの浄化エアーをクリーンルーム１の下方外部に取り出す配管３ｊを有して設けられている。
【００４８】
上記構成によれば、発光時に高温となる高圧水銀灯３ａを含む光学系第一区画室３ｆでの温度上昇を熱排気系空調機３ｋによる熱排気によって抑制できるので、照明光学系３や露光処理室４の温度上昇も低減できて、上記露光処理室４などの各部材の温度上昇に基づく熱膨張による変位を抑制できて、上記各部材の配置精度を維持できるので、回路パターンの形成精度をより確実に保持できる。
【００４９】
上記液晶製造用露光装置においては、さらに、クリーンルーム１内に、浄化エアーを循環させるクリーンルーム循環路１ａと、クリーンルーム循環路１ａ内に設けられた、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタを備えたクリーンルーム内フィルタ部１ｂとが、作業室２の外壁とクリーンルーム１の内壁との間に、クリーンルーム１の内壁に沿って設けられている。
【００５０】
上記構成によれば、クリーンルーム循環路１ａとクリーンルーム内フィルタ部１ｂとを設けたことで、露光処理室４の外部における浄化エアーの汚染物質レベルをさらに低くできるから、露光処理室４内の汚染物質レベルもより低く維持できて、回路パターンの形成精度をより確実に保持できる。
【００５１】
外部から露光処理室４へ導入される浄化エアーは、汚染物質としての、アニオンとして有機物（中性有機物）を除き１μｇ／ｍ3以下、カチオンとしてアンモニアが５μｇ／ｍ3以下、および総有機物量が２００μｇ／ｍ3以下までそれぞれ、後述する各ケミカルフィルタによって低減されている。
【００５２】
上記液晶製造用露光装置においては、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタは、それぞれ、アニオン、カチオンおよび有機物を除去するためのものであることが望ましく、また、複数の互いに吸着特性が異なる各ケミカルフィルタは、それぞれ、アニオン除去用、カチオン除去用および有機物除去用が、この順にて、浄化エアーの流れ方向に沿って配置されていることが好ましく、その上、アニオン除去用、カチオン除去用および有機物除去用の各ケミカルフィルタは、互いに隣り合ってそれぞれ配置されていることが望ましい。
【００５３】
アニオン除去用、カチオン除去用の各ケミカルフィルタでは、イオン交換樹脂からなる繊維（０．０１〜０．０５ｍｍφ）のモノフィラメント繊維、またはアニオン吸着成分およびカチオン吸着成分の一方を活性炭やセラミック等の多孔質部材に添着させた不織布を、表面積を大きくするためにプリーツ状に折り込んだものが挙げられる。アニオン除去用のアニオンイオン交換樹脂の交換基としては、−ＳＯ3Ｈ（Ｎａ型）や、−ＣＯＯＨ（Ｈ型）が挙げられ、カチオン除去用のカチオンイオン交換樹脂の交換基としては、４級Ｉ型、４級アンモニウム型、４級Ｈ型、３級アミンなどが挙げられる。
【００５４】
有機物除去用のケミカルフィルタにおいては、活性炭素繊維、またはアルミナやゼオライト等の多孔質セラミック粒子を織り込んだ不織布を、表面積を大きくするためにプリーツ状やハニカム状に折り込んだものが挙げられる。
【００５５】
また、上記ケミカルフィルタにおけるフィルタ媒体における浄化エアーの通過方向の幅と、その充填率については、何れも、除去対象の化学物質としての汚染物質の種類、濃度、およびフィルタへの供給流量などを総合的に勘案して決定すればよい。
【００５６】
上記カチオンとしては、ＮＨ3（アンモニア）やＮＨ4ＯＨが挙げられるが、主としてアンモニアが対象である。上記アニオンとしては、硫黄酸化物（ＳＯｘ）やＨＦやＨＣｌが挙げられるが、主としてＳＯｘが対象である。上記有機物（中性有機物）としては、トルエンやＤＥＰ（ジエチルフタレート）等のハイドロカーボン（炭化水素）や、有機シロキサンが挙げられるが、沸点３００℃以下、より主たるものとして沸点１５０℃以下のものが主たる対象である。
【００５７】
上記構成によれば、露光処理室４の環境下での、アニオン、カチオンおよび有機物の各レベルを汚染物質として低く維持することで、露光処理室４内の汚染物質レベルを低く維持できて、回路パターンの形成精度をより確実に保持できる。
【００５８】
なお、上記実施の形態では、光源としての高圧水銀灯３ａの波長を、３６５ｎｍとした例を挙げたが、さらに短波長側では光化学反応性が強くなることから、上記波長としては、１５０ｎｍ〜４０６ｎｍの範囲内であれば、本発明の効果を発揮できる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明の液晶製造用露光装置は、投影レンズのレンズ表面でのくもり発生を抑制できるから、上記くもり発生に起因する回路パターンの形成精度の劣化を回避できて、上記回路パターンの経年的な劣化を防止できるので、上記回路パターンによる液晶パネルの歩止まりの低下を軽減できることによって、液晶表示装置の製造の分野に好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の液晶製造用露光装置の概略断面図である。
【符号の説明】
【００６１】
１    クリーンルーム
３    照明光学系
４    露光処理室
４ｂ  露光処理系内フィルタ部（フィルタ部）
４ｃ  露光処理区画室
４ｄ  露光処理室循環路（ケミカルエアー循環路）
６    投影レンズ
６ｂ  投影レンズ区画室
６ｃ  フィルタ部
【図１】
2006047427.tif 000003