(57)【要約】      （修正有）【課題】巻き線インダクタのコイルの包囲層に樹脂（外装樹脂）を用いることなく、優れた磁気特性を有する巻き線インダクタ及び該巻き線インダクタの製造方法を提供する。【解決手段】コアと、該コアを巻回するコイルと、該コイルを包囲する包囲層とを具備してなる巻き線インダクタにおいて、前記包囲層がエアロゾルデポジション法により形成されたフェライト膜であることを特徴とする。また、コアにコイルを巻回し、該コイルを包囲する工程を含む巻き線インダクタの製造方法において、前記包囲層をフェライト粉末のエアロゾルデポジション法で製造することを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コアと、該コアを巻回するコイルと、該コイルを包囲する包囲層とを具備してなる巻き線インダクタにおいて、前記包囲層がエアロゾルデポジション法により形成されたフェライト膜であることを特徴とする巻き線インダクタ。
【請求項２】
コアにコイルを巻回し、該コイルを包囲する工程を含む巻き線インダクタの製造方法において、前記包囲層をフェライト粉末のエアロゾルデポジション法で製造することを特徴とする巻き線インダクタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フェライト膜作製技術を用いて製造された巻き線インダクタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、コアと、該コアを巻回するコイルと、該コイルを包囲する包囲層とを具備してなる巻き線インダクタにおいて、包囲層に、フェライト粉が混合された樹脂（外装樹脂）を用いる巻き線インダクタは公知である（特許文献１及び２参照）。
【０００３】
【特許文献１】特許公開２００３−１００５４０号公報
【特許文献２】特許公開２００３−２７２９２７号公報
【０００４】
特許文献１及び２に記載された発明によれば、外装樹脂のフェライト粉の比率を高くすることにより、磁気特性の向上することが示されている（特許文献１の段落［００２７］、［００４０］、特許文献２の段落［０００８］、［００１６］参照）。
【０００５】
一方、エアロゾルデポジション法でフェライト膜を作製する技術は、周知である（例えば、特許文献３〜４参照）が、このような方法を巻き線インダクタに適用することは示されていない。
【特許文献３】特許公開２００３−２９７６２８号公報
【特許文献４】特許公開２００３−２９７６２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように、現在巻き線インダクタにはフェライト粉が混合された樹脂が塗布されているが、フェライト粉との複合材料であるために、磁気特性（透磁率）の向上は十分ではなく、閉磁路構造が達成されていない。閉磁路構造でないことから、インダクタとしてのデバイス特性自体が十分には得られていない。また、樹脂がフェライトコアに応力を印加して、フェライトの磁気特性を低下させてしまうという問題も生じている。
本発明は、このような問題を解決しようとするものであり、巻き線インダクタのコイルの包囲層に樹脂（外装樹脂）を用いることなく、優れた磁気特性を有する巻き線インダクタ及び該巻き線インダクタの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下のように、現在、外装樹脂が用いられている部分の磁気特性（透磁率）の向上と、応力の除去を同時に達成するために、外装樹脂を用いずに、その部分も特定の方法で形成されたフェライト材を用いることを特徴とするものである。
（１）コアと、該コアを巻回するコイルと、該コイルを包囲する包囲層とを具備してなる巻き線インダクタにおいて、前記包囲層がエアロゾルデポジション法により形成されたフェライト膜であることを特徴とする巻き線インダクタである。
（２）コアにコイルを巻回し、該コイルを包囲する工程を含む巻き線インダクタの製造方法において、前記包囲層をフェライト粉末のエアロゾルデポジション法で製造することを特徴とする巻き線インダクタの製造方法である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明では、巻き線インダクタの外装樹脂をエアロゾルデポジション法により形成されたフェライト材料で置換したことにより、まず、外装部分の透磁率が飛躍的に向上することから、閉磁路構造が形成され、デバイス特性が向上する。また、コアと同じ材料を用いることからコア部と外装部の力学的特性に差異が生じず、デバイス中の応力も低減することから、無応力かつ閉磁路構造型の巻き線インダクタが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図1に、現在製造されている巻き線インダクタの断面写真を示す。
本願発明は、図１（写真）中の樹脂（Ｒｅｓｉｎ）部分をエアロゾルデポジション法により形成されたフェライト材料で置換したインダクタである。
【００１０】
樹脂が塗布されている部分に、エアロゾルデポジション（ＡＤ）法の膜作成技術を応用して、フェライトコアや銅線上に、樹脂ではなく直接フェライト磁性材料を堆積させ、樹脂を用いないフェライト一体型の巻き線インダクタを得る。
【００１１】
本発明において、ＡＤ法を用いて、巻き線インダクタを製造するプロセスについて説明する。
従来と同様に、鼓型フェライトコアを成形し、焼結し、両端鍔部へ直付け電極（外部電極）を形成した後、コイルを巻芯部に巻回して両端を外部電極に半田付けしてインダクタ素子とする。
従来法においては、この後、フェライト粉の混合された樹脂塗料をコイルの周りに被覆する工程を採用するが、本発明においては、上記樹脂塗料を被覆する代わりに、ＡＤ法によりフェライト膜を形成する。
【００１２】
製造プロセスの一例としては、以下に示す順序で、図２に示すように、ベルトコンベア上に乗せた巻き線インダクタに、別の場所に設置してある２つのノズルを用いて２回に分けてフェライト膜を蒸着させることによってインダクタを製造する。
（１）フェライトコアに巻き線のみをしたインダクタをベルトコンベア上に乗せる。この際、フェライト被覆が必要ない部分には事前にマスク等を施しておく。
（２）ノズル１において、巻き線部分のうち上側および左右両側の３面をフェライト膜によって被覆する。
（３）ノズル１での被覆後、更にベルトコンベア上を移動し、ベルトコンベアの切れ目にもう一つ設置していあるノズル２において、底面をフェライト膜で被覆する。
（４）２回目のフェライト膜被覆後、マスク等を除去し、外装部分が完全にフェライト膜で被覆された巻き線インダクタを得る。また、インダクタが各ノズルを通過するタイミングを制御することによって、マスク等を用いないで作製することも可能である。
（５）２回のフェライト膜の被覆によって、外装部分が完全にフェライト膜で被覆された巻き線インダクタを得る。なお、全ての工程はベルトコンベアの移動中で行われる。
【実施例】
【００１３】
フェライト膜の組成が、Ｎｉ0.5Ｚｎ0.5Ｆｅ2Ｏ4となるように、フェライト原料粉末を配合し、ミキサで混合した後、ノズルに供給し、チャンバ内の圧力を７Ｐａに調整して、ノズルの先端からエアロゾル化されたフェライト原料粉末を、上記のプロセスに従ってフェライトコアに５リットル／ｍｉｎの流量で噴射することにより、外装部分が完全にフェライト膜で被覆された巻き線インダクタを作製した。
この巻き線インダクタの特性を測定した結果を表１に示す。
【００１４】
【表１】
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【００１５】
ＡＤ法によるフェライト膜で被覆された巻き線インダクタは、フェライト膜で被覆されていない巻き線インダクタと比較してＬ値（インダクタンス値）が高く、優れたデバイス特性を有するものであることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００１６】
上述したインダクタが開発できれば、現在樹脂が用いられている部分の磁気特性が飛躍的に向上し、また樹脂に起因した応力の影響も取り除かれる可能性があることから、今後のデバイスの小型化や磁気特性の向上に大きく貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】従来の巻き線インダクタの断面写真である。
【図２】ＡＤ法を用いた巻き線インダクタを製造プロセスを示す概略図である。
【図１】
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【図２】
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