(57)【要約】【課題】  入力不良による誤作動のない静電容量型のタッチパネルを提供する。【解決手段】  静電容量型タッチパネルにおいて、絶縁性を有する透明基板の表面に略全面的に形成された電極が透視を必要とする部分で網目構造をとる導電性薄膜からなり、各網目の輪郭が極細帯で構成され、この極細帯の帯幅が３０μｍ以下であるとともに、電極の全光線透過率が７０％以上であり、なおかつ電極の４端子法による表面抵抗値が１Ω／ｃｍ２以下である。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電容量型タッチパネルにおいて、絶縁性を有する透明基板の表面に略全面的に形成された電極が透視を必要とする部分で網目構造をとる導電性薄膜からなり、各網目の輪郭が極細帯で構成され、この極細帯の帯幅が３０μｍ以下であるとともに、電極の全光線透過率が７０％以上であり、なおかつ電極の４端子法による表面抵抗値が１Ω／ｃｍ２以下であることを特徴とする静電容量型タッチパネル。
【請求項２】
上記網目開口の形状が多角形で構成されている請求項１記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項３】
上記網目構造がスリットを有することにより分割されている請求項１または請求項２のいずれかに記載の静電容量型タッチスイッチ。
【請求項４】
上記スリット幅が２０μm〜網目の最大寸法の範囲である請求項３記載の静電容量型タッチスイッチ。
【請求項５】
上記電極の一部において、複数の網目内に対して線状に付加され、または複数の網目輪郭に対して帯状に付加され、それらの網目を通過する光量を減衰し得る減光部が形成されており、当該減光部を連続的または断続的に形成することにより文字、図柄が表現されている請求項１〜４のいずれかに記載の静電容量型タッチスイッチ。
【請求項６】
上記減光部が、上記網目の輪郭を太くした太帯で構成されている請求項１〜５のいずれかに記載の静電容量型タッチスイッチ。
【請求項７】
上記減光部が、上記網目構造の一部の網目パターンを１つの網目を超えない範囲でシフトさせることにより形成されている請求項１〜６のいずれかに記載の静電容量型タッチスイッチ。
【請求項８】
上記電極が、銅または銅合金からなる導電性薄膜で構成されている請求項１〜７のいずれかに記載の静電容量型タッチスイッチ。
【請求項９】
上記透明基板の電極を形成した面が三次元形状をしている請求項１〜８のいずれかに記載の静電容量型タッチスイッチ。
【請求項１０】
上記電極における光透過方向の両面に低反射処理が施されている請求項１〜９のいずれかに記載の静電容量型タッチスイッチ。
【請求項１１】
透明基板の電極と反対側の面に透明粘着層が設けられている請求項１〜１０のいずれかに記載の静電容量型タッチスイッチ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、座標入力手段などとして利用される静電容量型タッチパネルをに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ディスプレイ画面に表示された選択肢を選択するための入力手段などとして、種々の方式のタッチパネルが広く利用されている。例えばＡＴＭ（自動窓口装置）においては、屋外と同様の風塵環境下に設置されることが多いため、通常、耐久性に優れた静電容量型のタッチパネルが用いられる。
【０００３】
静電容量型のタッチパネルの一般的な構成は、特許文献１に示されるように、ガラス基板（透明基板２０）の全面に所定の面抵抗値をもつ透明導電膜２１が電極として設けられ、該透明導電膜２１の周縁部には一定のピッチで電極端子２２が設けられ、この電極端子２２を介して透明導電膜２１と図示しない外部のタッチ位置検知回路とが接続されている（図２４参照）。透明導電膜２１上の任意の点（座標）に指を触れる（タッチする）と、透明導電膜２１はタッチされた点で人体の静電容量を介して接地され、各電極端子２２と接地ラインとの間の抵抗値に変化が生じる。この変化がタッチ位置検知回路によって検知され、これによってディスプレイ画面上の座標が入力される。
【０００４】
また、上記静電容量型のタッチパネルは、指を透明導電膜２１に直接触れなくても透明導電膜２１上の任意の点（座標）に位置させるだけで入力可能であるので、例えば図示したように、透明導電膜２１上に、中間保護膜２３、グレア防止膜（防眩膜）２４、及び保護膜２５などを順に積層し、保護膜２５の表面をタッチ面ＳＴとすることができる。また、透明導電膜２１上に強化ガラスや透明樹脂板等のリジッドな透明部材を配置することでより堅牢なタッチパネルを得ることもできる。
【特許文献１】特開平０５−３２４２０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、従来の静電容量型のタッチパネルの透明導電膜には次のような問題があった。すなわち、透明導電膜２１に用いられるＩＴＯは導電性が低いために、透明導電膜２１の表面に直接入力者の指が触れないような構成の場合はどうしても感度が悪くなる。そのため確実に入力できない場合があり、誤作動の原因となっていた。特に前面に強化ガラス等の厚みの大きい透明部材を配置する場合は、入力信号がより微弱になるので、さらに入力の確実性に乏しいものとなった。
【０００６】
したがって、本発明は、上記したような問題点を解消し、入力不良による誤作動のない静電容量型のタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、静電容量型タッチパネルにおいて、絶縁性を有する透明基板の表面に略全面的に形成された電極が透視を必要とする部分で網目構造をとる導電性薄膜からなり、各網目の輪郭が極細帯で構成され、この極細帯の帯幅が３０μｍ以下であるとともに、電極の全光線透過率が７０％以上であり、なおかつ電極の４端子法による表面抵抗値が１Ω／ｃｍ２以下であるように構成した。
【０００８】
また、上記構成において、上記網目開口の形状が多角形で構成されているように構成した。
【０００９】
また、上記構成において、上記網目構造がスリットを有することにより分割されているように構成した。
【００１０】
また、上記構成において、上記スリット幅が２０μm〜網目の最大寸法の範囲であるように構成した。
【００１１】
また、上記構成において、上記電極の一部において、複数の網目内に対して線状に付加され、または複数の網目輪郭に対して帯状に付加され、それらの網目を通過する光量を減衰し得る減光部が形成されており、当該減光部を連続的または断続的に形成することにより文字、図柄が表現されているように構成した。
【００１２】
上記減光部が、上記網目の輪郭を太くした太帯で構成されているように構成した。
【００１３】
上記減光部が、上記網目構造の一部の網目パターンを１つの網目を超えない範囲でシフトさせることにより形成されているように構成した。
【００１４】
また、上記構成において、上記電極が、銅または銅合金からなる導電性薄膜で構成されているように構成した。
【００１５】
また、上記構成において、上記透明基板の電極を形成した面が三次元形状をしているように構成した。
【００１６】
また、上記構成において、上記電極における光透過方向の両面に低反射処理が施されているように構成した。
【００１７】
また、上記構成において、透明基板の電極と反対側の面に透明粘着層が設けられているように構成した。
【発明の効果】
【００１８】
発明によれば、ＩＴＯなどの透明導電膜を用いずとも電極の透光性が確保され、且つ入力感度が向上する低抵抗を実現できるので、入力不良による誤作動等のない静電容量型タッチパネルが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について詳しく説明する。
【００２０】
図１は、本発明の静電容量型タッチパネル１の断面を示したものである。
【００２１】
同図において、静電容量型タッチパネル１は、電気絶縁性を有する透明基体１ａ上に、電極として金属細線からなる導電部１ｂが面状に形成されており、該導電部１ｂは透視を必要とする部分で網目構造をとっている。また、その導電部１ｂの表面に透明カバー層１ｅが形成され、反対面には透明粘着層１ｇ、剥離シート１ｈが形成されている。導電部１ｂの端にある透明カバー層１ｅで被覆されていない部分には、電極端子１ｃが設けられている。
【００２２】
上記透明基板１ａは、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース等の透明樹脂フィルム、或いは透明樹脂板を使用することができるが、透明ガラス板を使用することもできる。
【００２３】
また、上記導電部（電極）１ｂの材質としては、銀、銅、アルミニウム、金、ニッケル、ステンレス鋼等の金属膜、またはこれらの金属微粒子を含有する導電性ペースト材、カーボンペースト材等が用いられ、透明基体１ａ上に形成した金属薄膜のフォトエッチング、印刷レジストによるエッチング、または導電ペーストの印刷等により幾何学図形からなる多数の開口部Ｃを持つ導電パターンが形成される。導電性が高く、安価な点から銅或いは銅合金が好ましい。
【００２４】
導電部（電極）１ｂは、開口部Ｃを形成した状態で４端子法による表面抵抗値が１Ω／ｃｍ２以下となるように、使用する材質、厚みが決定される。１Ω／ｃｍ２以下であれば、電極の前面に厚みの大きい板を配置しても、また電極の前面に隙間をあけて前面板を配置しても感度が良く、誤作動のないタッチスイッチが作成可能である。
【００２５】
上記網目開口の形状は、多角形で構成するのが好ましい。多角形でないもの、例えば円形や楕円形の開口を設けたものでは、開口を最大限密に並べて配置しても開口同士の間に太帯部分ができてしまうことから、その太帯部分が目立つとともに光線透過率を低下させる要因となるからである。また、三角形、四角形、六角形等の図形のうち、一種類あるいはそれらの複数種類の組み合わせで構成することができるが、一種類の図形からなる網目を規則正しく配列されたものの方が目立ちにくいという利点がある。
【００２６】
図４〜図６は上記網目構造の一部を拡大して示したものである。
【００２７】
図４に示す電極の網目パターンは、Ｘ方向およびＹ方向に伸びる直線状の導電部１ｂが格子状に形成されており、静電容量型タッチパネル１における光線透過率が７０％以上確保できるようになっている。
【００２８】
透明性の尺度である上記光線透過率とは、特定の色温度をもった光源から出たあらゆる波長の光が試料面を通過した全光量を対象とする全光線透過率を意味する。また、光線透過率が７０％を下回ると、静電容量型タッチパネル１の導電部（電極）１ｂが暗く見えてしまう。そのため、その存在が目障りになる。
【００２９】
上記光線透過率は日本電色工業社製の分光測定器（型番ＮＤＨ２０００）を用いて測定したものである。ただし、空気層における光線透率１００％を基準としている。
【００３０】
また、光線透過率は導電部（電極）１ｂ上に透明カバー層１ｅが形成されている場合は、その透明カバー層１ｅを含めた状態で測定され、透明粘着層１ｇが設けられている場合は、その透明粘着層１ｇを含めた状態で測定される。
【００３１】
また、方形の輪郭を形取るＸ方向の極細金属線（極細帯）１ｉおよびＹ方向の極細金属線（極細帯）１ｊの線幅ｗはそれぞれ３０μｍ以下の等幅に形成されている。線幅ｗが３０μｍを上回ると、電極の網目が目立ってしまい、且つデザイン性も悪くなる。線幅ｗが３０μｍ以下であると、電極の存在が認識されにくい。なお、極細金属線の膜厚は、線幅ｗ／膜厚ｔのアスペクト比が０．５以上になるようにすると、精度の良い電極のパターンを作りやすくなる。
【００３２】
本実施形態において、静電容量型タッチパネル１の光線透過率は、上記極細金属線１ｉおよび１ｊの線幅とそれら極細金属線１ｉおよび１ｊで囲まれることによって形成される開口部Ｃのサイズとの組み合わせを選択することによって７０％以上の光線透過率を確保できるようにしている。
【００３３】
図５に示す電極の網目パターンは、六角形を核としＸ方向およびＹａ方向、ｂ方向に連続させたものである。
【００３４】
六角形の輪郭となる極細金属線１ｋの線幅ｗは３０μｍ以下である。
【００３５】
図６に示す電極の網目パターンは、梯子形を核としＸ方向およびＹ方向に連続させたものである。梯子形の輪郭となる極細金属線１ｌおよび１ｍの線幅ｗはそれぞれ３０μｍ以下である。
【００３６】
このように電極の網目パターンは、矩形が核となって連続するもの、多角形が核となって連続するもの、梯子形が核となって連続するものが示される。
【００３７】
このなかでも特に正方形が核となって連続するものは、他の多角形状に比べて電極の網目パターンが筋状に認識され難いので好ましい。
【００３８】
つまり、或る形状が核となって規則的に連続するパターンを見たとき、その核（開口）
の連続する方向に沿って輪郭が連続する筋状に見える傾向がある。例えば六角形が核となったものの場合では、その連続方向に沿った上記極細帯の線がジグザグとなる為に、このジグザグの振幅の分だけ太く見えてしまい、結果として極細帯が膨張した状態に見えてしまう。この点において上記正方形が核となって連続するものの場合は、連続方向に沿った極細帯の線が真っ直ぐとなるから、本来の幅よりも太く見える懸念がなく、前述の様に極細帯は３０μｍ以下と非常に細いので、その存在が認識され難く、網目パターンが目立たない。
【００３９】
また長方形が核となって連続するものの場合では、この長方形の長辺方向と短辺方向のピッチが違うので、全体を見たときに、長辺方向に比べてピッチの短い短辺方向が濃く現れ、これが筋状となってちらついて見える傾向にあるが、上記正方形が核となって連続するものでは、この様な筋状は現れず、目立たない。尚上記正方形には、完全に角張った正方形に限らず、面取りされた正方形も含まれる。
【００４０】
更にＬＣＤ等の画素を有するディスプレイの前面に静電容量型タッチパネル１を配置する場合は、ディスプレイの画素との干渉によってモアレ模様が出ないように網目パターンのバイアス角を調整して設計される。
【００４１】
上記網目パターンの形成方法としては、例えば金属薄膜のフォトリソグラフィを用いたエッチングによって、または印刷レジストによるエッチングによって、さらにまた、導電樹脂ペースト材の印刷等の方法によってそれぞれ形成することができる。上記エッチングする金属薄膜は、真空蒸着法、スパッターリング法、イオンプレーティング法、鍍金法や金属箔の貼り合わせなどで形成する。
【００４２】
上記網目パターンをフォトエッチングにより形成する場合、金属膜上にフォトレジスト膜を形成しフォトマスクを用いて露光し、現像液で現像することによりレジスト膜の網目パターンを形成する。これをエッチング液によりエッチングし、レジスト膜を剥離除去することにより極細金属線からなる網目パターンを形成する。
【００４３】
また、印刷レジストにより形成する場合は、金属膜上にスクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット等の方法でレジスト膜の網目パターンを印刷し、エッチング液により金属膜におけるレジスト被覆部以外をエッチングし、レジスト膜を剥離することにより金属膜の網目パターンを形成する。
【００４４】
また、導電ペースト印刷により形成する場合は、金属微粒子を含む導電性ペースト、カーボンペースト等で透明基材上に網目パターンを印刷し、導電性の網目パターンを形成する。
【００４５】
前記透明カバー層１ｅを形成する方法としては、例えば、透明接着剤または粘着剤を用いて網目パターン５上に透明フィルムや透明板を貼り合わせることによって形成することができ、また、網目パターン５上に透明樹脂を所定厚さ塗布することにより形成することもできる。また、導電部（電極）１ｂの形成された透明フィルムを射出成形用金型内に挿入し、成形樹脂をキャビティ内に射出すること（所謂、インサート成形）により、透光性電極が形成されたフィルムの電極面側に成形板を一体化し、透明カバー層１ｅとすることもでき、その場合にはタッチ入力面ＳＴや上記透明フィルムの導電部（電極）１ｂを形成した面を三次元曲面とできる。なお、インサート成形により上記透明フィルムの導電部（電極）１ｂを形成した面を三次元曲面とする場合（図２参照）、従来のＩＴＯからなる電極であれば成形時の変形によりにクラックなどを生ずるおそれがあるが、本願発明の場合、電極材料の選択幅が広いため変形に強い材料を選択可能である。また、上記インサート成形により得られた一体成形物は、上記透明フィルム側をタッチ入力面ＳＴとして用いてもよい。
【００４６】
また、静電容量型タッチパネル１は、図１に示すように透明基板1ａの導電部（電極）１ｂ面と反対側の面に透明粘着層１ｇを設けてディスプレイ画面に貼り付けることができるが、ディスプレイ画面上に配置するだけでもよい。また、透明粘着層１ｇは透明性のある粘着剤を全面に形成しても良いし、透明性のない粘着剤を、透明性の必要な部分を開口部として形成しても良い。なお、透明粘着層１ｇを設ける場合、ディスプレイ画面に静電容量型タッチパネル１を貼り付けるまでは、剥離シート１ｈで被覆されているようにする。
【００４７】
また、静電容量型タッチパネル１における電極端子１ｃの取り方についてはいろいろな方式が存在するが、公知のものは全て本願発明に適用可能である。また、導電部（電極）１ｂの露出面を電極端子１ｃとすることもできる。
【００４８】
また、上記透光性電極については、スリットによって開口部外周を形成する導電部を区切ることにより、特定入力領域および該領域から電極端子までの回路パターンを構成することができる。
【００４９】
図７は導電部３をスリット６が通過する部分を拡大して示したものであり、Ｓはスリット幅を示し、Ｓａは網目寸法を示している。この場合の網目寸法とは、網目における対角線長さを示している。
【００５０】
上記スリット幅Ｓは、２０μｍ〜網目の最大寸法の範囲に設定することが好ましく、スリット幅Ｓが２０μｍに満たないと製造が困難になり、スリット幅Ｓが網目の最大寸法を超えるとスリットが目立って、デザイン性が損なわれる。
【００５１】
ただし、スリット６の配置については網目の交点を通過しないようにすることが必要である。
【００５２】
なぜなら、例えば図８、図９に示すように、網目パターン５における導電部３の交点５ｃ上をスリット６が通過すると、交点５ｃが連続して欠けることによりスリット６の存在が目立つようになるからである。
【００５３】
一方、図１０は導電部３の交点５ｃを避けてスリット６を形成したものである。図９と比較してみれば明らかなようにスリット６の存在は目立たない。
【００５４】
図１１は、縦金属細線５ｂおよび横金属細線５ｂ′が等間隔に配置され正方形の網目５ａが形成された網目パターン５を示したものであり、この網目パターンの一部に、網目５ａの配列方向に沿って（図では縦方向）スリット６を形成したものである。スリット幅Ｓは網目５ａの寸法Ｓａの略１／４に設定されており、導電部の交点５ｃを通過していないため、スリット６の存在はほとんど目立たない。
【００５５】
なお、ここまでスリット６が正方形の網目５ａの網目パターン５に形成された図を参照して説明してきたが、本願発明はこれに限定されるものではない。例えば、図１２〜図１４は、正六角形、正三角形、長方形の網目５ａがそれぞれ形成された網目パターン５を示したものであり、この網目パターンの一部に、網目５ａの配列方向に沿ってスリット６を形成したものである。
【００５６】
また、タッチパネルの構成上透明性の必要ない部分は、導電部に透光性を得るための開口部を形成する必要はない。例えばベタで形成しても良いし（図２３参照）、網目パターンの線幅、ピッチ、形状を変えてもよい。
【００５７】
更に、入力者の目に触れる部分でも、複数の網目内に対して線状に付加され、または複数の網目輪郭に対して帯状に付加され、それらの網目を通過する光量を減衰し得る減光部を形成し、当該減光部を連続的または断続的に形成することにより文字、図柄を表現してもよい。このような文字、図柄の形成法は、印刷にはないような視覚効果が期待できる。
【００５８】
例えば、図１５は文字部及び文字影部の形成された部分を拡大したものである。ロゴ１ｄは導電部１ｂで構成されたメッシュ部１０ａ上に形成されており、文字部１０ｂとその文字部１０ｂの影を表す文字影部１０ｃとの組み合わせによって構成されている。
【００５９】
文字部１０ｂは、それをさらに拡大した図１６に示すように、メッシュ部１０ａの導電線よりも太幅の導電線からなる導電部（太帯）１０ｄで構成されており、メッシュ部１０ａにおける開口部１０ｆの開口面積よりも文字部１０ｂにおける開口部１０ｅの開口面積を小さく設定することにより光線透過率を変化させ、それにより、メッシュ部１０ａと文字部１０ｂとの境界を強調させるとともに、文字部１０ｂが浮き立つようにしている。
【００６０】
一方、図１５に示した文字影部１０ｃは、それをさらに拡大した図１７に示すように、文字部１０ｂの導電線と同幅であるが、文字部１０ｂよりもさらに密な網目パターンからなる導電部１０ｇで構成されており、文字部１０ｃにおける開口部１０ｅの開口面積よりも文字影部１０ｃにおける開口部１０ｈの開口面積を小さく設定することにより、文字影部１０ｃが強調されるようになっている。なお、文字影部１０ｃにおける開口部１０ｈの開口面積は文字部１０ｂの開口面積の略３／４〜１／４に設定されている。
【００６１】
上記文字部１０ｂおよび文字影部１０ｃは網目を通過する光量を一定量減衰させる減光部として機能する。
【００６２】
それにより、図１５に示したように、薄色のメッシュ部１０ａ上に文字部１０ｂが濃いメッシュパターンで表現され、文字部１０ｂの右側に密なメッシュパターンからなる文字影部１０ｃが形成される。
【００６３】
その結果、デザインされたロゴ１ｄが、メッシュ部１０ａ上に明瞭に浮き立って見えるようになる。
【００６４】
しかも、このようにして形成されたロゴ１ｄは、太さや密度の違いがあるだけで開口部を有するメッシュパターンを維持しているため、透光性を失うことがない。
【００６５】
図１８〜図２０はロゴをデザインする各種方法を示したものである。
【００６６】
図１８(ａ)はメッシュ部１０ａの網目を単位としてメッシュ部１０ａの導電線よりも太幅の導電線を用いて導電部１０ｄを形成し、ロゴを強調させたものである。
【００６７】
同図(ｂ)は複数の網目（図では４つの網目）単位でメッシュ部１０ａの導電線よりも太幅の導電線を用いて導電部１０ｄ′を形成し、ロゴを強調させたものである。
【００６８】
同図(ｃ)は一つの網目をさらに複数の網目に分割（図では４分割）し、網目内に十字状の導電部１０ｄ′′を形成し、ロゴを強調させたものである。
【００６９】
図１９は開口部１０ｆが正方形で構成されたメッシュ部１０ａの一部に文字パターン１０ｉをシフトさせた状態で表現したものであり、その文字パターン１０ｉを構成している正方形図形は、メッシュ部１０ａを構成している正方形図形と同じサイズで構成され、メッシュ部１０ａにおける開口部１０ｆの対角線方向に平行移動させたものである。
【００７０】
図２０は図１８に説明した強調方法と図１９で説明したシフトによる強調方法とを組み合わせたものである。このように各種の強調方法を用いれば、文字に限らず、図柄を表現することもできる。
【００７１】
上記実施形態では網目パターン上に文字パターンを連続した状態で形成したが、この文字パターンは文字として認識できれば例えば１つの網目を飛ばして断続的に形成したものであてもよい。
【００７２】
なお、導電部の入力者側の表面を低反射処理しておくと、金属の反射色が抑制され透光性電極の存在が目立たなくなる。更に入力者側と反対の面も低反射処理をしておくと、反対面からの反射色がディスプレイ画面に映り込んだりせず、視認性が向上するので特に好ましい。
【００７３】
上記低反射処理の具体例としては、化成処理やめっき処理等の表面処理が挙げられる。
化成処理は、酸化処理、硫化処理することによって金属表面に低反射層を形成するものであり、例えば極細金属線の素材に銅を使用し、その表面に酸化処理によって酸化皮膜を形成すれば、極細金属線の断面寸法を減じることなくその極細金属線の表面を光反射防止性を備えた黒色に処理することができる。
【００７４】
また、めっき処理として極細金属線に対して例えば黒色クロムめっきを施せば、極細金属線の表面を、光反射防止性を備えた黒色に処理することができる。また、高電流密度の銅めっきを施せば、茶褐色に処理することができる。
【００７５】
また、上記低反射処理として電着塗料処理を用いることができる。
【００７６】
静電容量型タッチパネルは層構成中に加飾層を有していてもよい。加飾層は、例えば着色インキ層として形成する。印刷層の材質としては、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用いるとよい。着色インキ層の形成方法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通常の印刷法などを用いるとよい。ただし、導電部（電極）１ｂの上方に不透明な加飾層を設ける場合は、当該不透明な加飾層は一部のみに形成する。
【００７７】
また、加飾層は金属薄膜層からなるものでもよい。金属薄膜層は、単独であるいは導電部（電極）１ｂや着色インキとの組合わせで金属色調、ハーフミラー調、玉虫色等の金属光沢を表現するためのものであり、真空蒸着法、スパッターリング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成する。この場合、表現したい金属光沢に応じて、アルミニウム、ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、スズ、インジウム、銀、チタニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合金又は化合物を使用する。なお、本発明のタッチパネルは静電容量型なので、導電性を有する金属薄膜層１ｆからなる加飾層を導電部（電極）１ｂの上方に設けると入力機能の停止を招くため、金属薄膜層１ｆは導電部（電極）１ｂの下方に絶縁層１ｎを介して形成する必要がある（図３参照）。絶縁層１ｎとしてはアクリル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、塩化ビニル等の透明樹脂、あるいは透明性のあるものであれば無機酸化物等でもよい。
【実施例】
【００７８】
＜実施例１＞
厚さ１８８μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルム上に、めっき触媒を分散させた透明アンカー層を形成した後、無電解銅ニッケルめっき、電気銅めっきの順にめっきを行うことにより厚さ８μｍの金属導電層を形成し、表面を化成処理により低反射処理した。
【００７９】
この金属導電層にフォトリソグラフィによってスリット６の入った網目パターン５からなるレジスト層を形成し、化学エッチングを行うことで図２１（図中、網目は省略）のような透光性電極を作製した。
【００８０】
この透光性電極は、網目５ａの開口が長方形となるように主として導電部の線幅が１５μｍ，一つの網目５ａにおける短辺Ｓｃの長さが３８０μｍ、長辺Ｓｄの長さが４００μｍ、バイアス角が３５度にそれぞれ設定されており、周縁部の一部には電極端子のための非開口部２が複数形成されている。このような網目パターン上に特定入力領域および該領域から電極端子までの回路パターンを構成するようにスリット幅Ｓが４０μｍからなるスリット６を形成した。また、透光性電極中、画面下端を覆う部分には一つの長方形格子を４分割して開口率を変化させた長方形格子（短辺Ｓｃの長さが１９０μｍ、長辺Ｓｄの長さが２００μｍ）を「銀行のロゴ」の形に沿って形成している。
【００８１】
次いで、この透光性電極が形成されたフィルムの電極面側に、アクリル系透明粘着剤の塗布された厚さ１００μｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルムを電極端子が露出するようにカットして透明カバー層として貼り合わせた。
【００８２】
また、反対側の面には、セパレーターつきの透明アクリル系両面粘着フィルムを貼り付けた。
【００８３】
電極端子上には、カーボンペーストを印刷、乾燥してカーボン膜を形成し、静電容量型タッチパネルを得た。
【００８４】
このようにして作製した静電容量型タッチパネルは、透明カバー層形成前に測定した透光性電極の４端子法による表面抵抗値が０．５Ω／ｃｍ２であった。
【００８５】
剥離シートを剥がし、この静電容量型タッチパネルをＡＴＭ（自動窓口装置）のディスプレイ画面に貼り付け、さらに前面に防汚処理の施された厚さ２．５ｍｍのセミ強化ガラス板を配置した。なお、上記セミ強化ガラス板を含む静電容量型タッチパネルの光線透過率は７８％であった。
【００８６】
貼り付けられた静電容量型タッチパネルは、入力者側から見ても電極の存在をほとんど認識することはできず、ディスプレイ画面の視認を阻害することはなかった。また、電極に形成されたスリットは視認されず、スリットによりデザイン性を損うことがなかった。一方で開口率が異なる長方形格子が「銀行のロゴ」となって現われ、透明性且つデザイン性に優れていることが確認された。
【００８７】
次に、この静電容量型タッチパネルと外部のタッチ位置検知回路（ドライバー）とを接続し、画面に表示された指示に従って特定入力領域に指で触れたところ、誤作動なく入力できた。
【００８８】
＜実施例２＞
厚さ１３０μｍの透明なポリカーボネートフィルム上に、両面に化成処理を施すことで低反射処された厚さ１２μｍの銅箔を透明接着剤で接着し、フォトリソグラフィによってスリット６の入った網目パターン５からなるレジスト層を形成し、化学エッチングを行うことで図２２（図中、網目は省略）のような透光性電極を作製した。
【００８９】
この透光性電極は、網目５ａの開口が正六角形となるように主として導電部の線幅が２５μｍ、一つの網目５ａにおける一辺の長さＳｂが５００μｍに設定されており、周縁部の一部には電極端子のための非開口部２が複数形成されている。このような網目パターン上に特定入力領域および該領域から電極端子までの回路パターンを構成するようにスリット幅Ｓが６０μｍからなるスリット６を形成した。また、上記特定入力領域においては、線幅を１００μｍとすることにより他の部分とは開口率を変化させた正六角形格子を記号等の形に沿って形成し、「入力ボタン柄」を設けている。
【００９０】
次いで、この透光性電極が形成されたフィルムを射出成形用金型内に挿入し、ポリカーボネート樹脂をキャビティ内に射出することにより、透光性電極が形成されたフィルムの電極面側に厚さ１ｍｍの断面太鼓型の成形板を電極端子が露出するように一体化した。
【００９１】
次に、ポリカーボネートフィルムの成形板と一体化した面とは反対側の面には、セパレーターつきの透明アクリル系両面粘着フィルムを貼り付けた。
【００９２】
端子部上には、カーボンペーストを印刷、乾燥してカーボン膜を形成し、静電容量型タッチパネルを得た。
【００９３】
このようにして作製した静電容量型タッチパネルの光線透過率は７８％であった。また、成形板との一体化前に測定した透光性電極の４端子法による表面抵抗値が０．６Ω／ｃｍ２であった。
【００９４】
剥離シートを剥がし、この静電容量型タッチパネルをＤＶＤプレイヤーの有機ＥＬ面発光パネルに貼り付けた。
【００９５】
貼り付けられた静電容量型タッチパネルは、入力者側から見ても電極の存在をほとんど認識することはできず、ディスプレイ画面の視認を阻害することはなかった。また、電極に形成されたスリットは視認されず、スリットによりデザイン性を損うことがなかった。一方で開口率が異なる正六角形が「入力ボタン柄」となって現われ、透明性且つデザイン性に優れていることが確認された。
【００９６】
次に、この静電容量型タッチパネルと外部のタッチ位置検知回路（ドライバー）とを接続し、画面に表示された指示に従って指で触れたところ、誤作動なく入力できた。
＜実施例３＞
厚さ２．５ｍｍの透明な化学強化ガラス板上に、両面に化成処理を施すことで低反射処された厚さ１２μｍの銅箔を透明接着剤で接着し、網目パターン５からなる印刷レジスト層を形成し、化学エッチングを行うことで図２３（図中、網目は省略）のような透光性電極を作製した。
【００９７】
この透光性電極は、網目５ａの開口が正方形となるように主として導電部の線幅が１５μｍ，一つの網目５ａにおける一辺の長さが３００μｍ、バイアス角が３５度に設定され、周縁部全体には電極端子のための非開口部２が形成されている。
【００９８】
次いで、この透光性電極が形成されたガラス板の電極面側に、アクリル系透明粘着剤の塗布された厚さ１００μｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルムを周縁部が露出するようにカットして透明カバー層として貼り合わせた。
【００９９】
フィルムから露出した部分には、カーボンペーストを印刷、乾燥してカーボン膜を形成し、静電容量型タッチパネルを得た。
【０１００】
このようにして作製した静電容量型タッチパネルの光線透過率は７５％であった。また、透明カバー層形成前に測定した透光性電極の４端子法による表面抵抗値が０．２Ω／ｃｍ２であった。
【０１０１】
この静電容量型タッチパネルをＡＴＭ（自動窓口装置）のディスプレイ画面に配置したところ、入力者側から見ても電極の存在をほとんど認識することはできず、ディスプレイ画面の視認を阻害することはなかった。
【０１０２】
次に、この静電容量型タッチパネルと外部のタッチ位置検知回路（ドライバー）とを接続し、画面に表示された指示に従って指で触れたところ、誤作動なく入力できた。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明に係る静電容量型タッチパネルの構成を示す要部断面図である。
【図２】電極を形成した面が三次元曲面の例を説明する説明図である。
【図３】本発明に係る静電容量型タッチパネルの構成を示す要部断面図である。
【図４】網目構造の基本パターンを示す要部拡大図である。
【図５】網目構造の変形パターンを示す要部拡大図である。
【図６】網目構造の別の変形パターンを示す要部拡大図である。
【図７】導電部をスリットが通過する部分の要部拡大図である。
【図８】スリット幅を説明する説明図である。
【図９】スリットの配置を説明する説明図である。
【図１０】スリットの配置を説明する説明図である。
【図１１】網目形状とスリットの配置を示す説明図である。
【図１２】網目形状とスリットの配置を示す説明図である。
【図１３】網目形状とスリットの配置を示す説明図である。
【図１４】網目形状とスリットの配置を示す説明図である。
【図１５】文字部及び文字影部の形成された部分の拡大図である。
【図１６】図１５の文字部の拡大図である。
【図１７】図１５の文字影部の拡大図である。
【図１８】(ａ)〜(ｃ)は強調による文字デザイン方法を示す説明図である。
【図１９】図形のシフトによる文字デザイン方法を示す説明図である。
【図２０】強調と図形シフトを併用した文字デザイン方法を示す説明図である。
【図２１】実施例１の透光性電極を示す説明図である。
【図２２】実施例２の透光性電極を示す説明図である。
【図２３】実施例３の透光性電極を示す説明図である。
【図２４】従来の静電容量型タッチパネルの構成を示す要部断面図である
【符号の説明】
【０１０４】
１  静電容量型タッチパネル
１ａ  透明基板
１ｂ  導電部（電極）
１ｃ  電極端子
１ｄ  ロゴ
１ｅ  透明カバー層
１ｆ  金属薄膜層
１ｇ  透明粘着層
１ｈ  剥離シート
１ｉ，１ｊ，１ｋ，１ｌ，１ｍ  極細金属線
１ｎ  絶縁層
２  非開口部
３  導電部
４  透明保護層
５  網目パターン
５ａ  網目
５ｂ  縦極細金属線
５ｂ´  横極細金属線
５ｃ  交点
６  スリット
Ｓ  スリット幅
Ｓａ  網目サイズ
Ｓｂ  一辺の長さ
Ｓｃ  短辺
Ｓｄ  長辺
１０ｂ  文字部（減光部）
１０ｃ  文字影部（減光部）
１０ｄ  導電部
１０ｅ  開口部
１０ｆ  開口部
１０ｇ  導電部
１０ｈ  開口部
２０  透明基板
２１  透明導電膜（電極）
２２  電極端子
２３  中間保護膜
２４  グレア防止膜（防眩膜）
２５  保護膜
ＳＴ  タッチ面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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