(57)【要約】【課題】  中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制することができるホログラム装飾体を提供する。さらに、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制しつつ、ホログラム装飾体を製造することができるホログラム装飾体の製造方法を提供する。【解決手段】  ホログラム装飾体としての装飾プレート１１を構成する基材１２の意匠面１３には、複数の文字装飾部２１が突設されている。各文字装飾部２１の上面には複数の装飾凸部２２が形成されている。各装飾凸部２２の表面にはホログラムパターン２４が形成されている。装飾凸部２２はダイヤモンドカット等の方法により形成されている。一方、ホログラムパターン２４は、それに応じた形状をなす転写パターンが上面に形成された転写体の前記上面を各文字装飾部２１の上面に押圧することにより形成されている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の意匠面に装飾部を設けるとともに、同装飾部に凹凸群からなるホログラムパターンがプレス加工により転写されたホログラム装飾体であって、
前記装飾部は複数の装飾凸部又は複数の装飾凹部から構成されており、
これら装飾凸部の表面又はこれら装飾凹部の内面に前記ホログラムパターンが形成されていることを特徴とするホログラム装飾体。
【請求項２】
基材の意匠面に装飾部を設けるとともに、同装飾部に凹凸群からなるホログラムパターンが転写されたホログラム装飾体の製造方法であって、
前記基材の意匠面に複数の装飾凸部又は複数の装飾凹部を形成する第１の段階と、
これら装飾凸部の表面又はこれら装飾凹部の内面に前記ホログラムパターンを形成し、装飾部を設ける第２の段階とを備え、
前記ホログラムパターンに応じた形状をなす転写パターンが設けられたプレス加工用の転写体を用い、前記第１の段階及び前記第２の段階をそれぞれ異なる工程で行うことを特徴とするホログラム装飾体の製造方法。
【請求項３】
基材の意匠面に装飾部を設けるとともに、同装飾部に凹凸群からなるホログラムパターンが転写されたホログラム装飾体の製造方法であって、
前記基材の意匠面に複数の装飾凸部又は複数の装飾凹部を形成する第１の段階と、
これら装飾凸部の表面又はこれら装飾凹部の内面に前記ホログラムパターンを形成し、装飾部を設ける第２の段階とを備えており、
前記装飾凸部又は前記装飾凹部に応じた形状をなす第１転写パターンと前記ホログラムパターンに応じた形状をなす第２転写パターンとが設けられたプレス加工用の転写体を用い、前記第１の段階及び前記第２の段階を同一の工程で行うことを特徴とするホログラム装飾体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、装飾プレート等のホログラム装飾体及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のホログラム装飾体としては、例えば次の各特許文献に開示されているような構成のものが知られている。即ち、特許文献１のホログラム装飾体は、基材の意匠面に微細凸部が突設されているうえ、同意匠面の微細凸部以外の箇所にホログラムパターンが設けられている。このホログラムパターンは、前記意匠面に形成されたパターン凹凸部により構成されている。微細凸部及びパターン凹凸部は、それらに応じた形状をなす転写パターンが表面に形成されている転写体を用いたプレス加工により形成されている。即ち、微細凸部及びパターン凹凸部は、転写体の表面を基材の意匠面に押圧して転写パターンを意匠面に転写することにより形成されている。
【０００３】
また、特許文献２のホログラム装飾体は、基材の意匠面にホログラムパターンを構成するパターン凹凸部が形成されている。基材は、金属材料により塑性変形可能に形成されている。パターン凹凸部は、それに応じた形状をなす転写パターンが表面全体にわたって形成されている転写体を用いたプレス加工により形成されている。転写体の表面は、その周縁部から中心部に向かうに従い外方へ湾曲するように形成されている。
【特許文献１】特開２００４−３７８８２号公報
【特許文献２】特公平４−５４２３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、従来構成においては、次のような問題があった。
即ち、特許文献１の構成では、転写体の意匠面に対する押圧力は転写体の周縁部で高く、転写体の中心部に向かうに従い低くなる。このため、意匠面において、転写体の周縁部に対応する部分ではパターン凹凸部が明確に形成される一方で、転写体の中心近傍に対応する部分ではパターン凹凸部が明確に形成され難くなる。よって、パターン凹凸部が明確に形成されなかった部分でホログラムが十分に表現されない現象（中抜け現象）が発生するおそれがある。その結果、意匠性が低下するという問題があった。一方、特許文献２の構成では、意匠面を均一に押圧することは可能である。しかし、意匠面を均一に押圧するためには転写体の表面を湾曲形状に形成する等の必要があり、ホログラム装飾体の製造が煩雑になるという問題があった。
【０００５】
本発明は、このような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制することができるホログラム装飾体を提供することにある。別の目的とするところは、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制しつつ、ホログラム装飾体を製造することができるホログラム装飾体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、基材の意匠面に装飾部を設けるとともに、同装飾部に凹凸群からなるホログラムパターンがプレス加工により転写されたホログラム装飾体であって、前記装飾部は複数の装飾凸部又は複数の装飾凹部から構成されており、これら装飾凸部の表面又はこれら装飾凹部の内面に前記ホログラムパターンが形成されていることを要旨とする。
【０００７】
上記構成によれば、装飾部を複数の装飾凸部で構成した場合、当該装飾部が設けられた箇所において、装飾凸部と、同装飾凸部以外の部分とが隣接して配置されていることから、複数の装飾凸部がそれぞれ離間している。また、装飾部を複数の装飾凹部で構成した場合、当該装飾部が設けられた箇所において、装飾凹部と、同装飾凹部以外の部分とが隣接して配置されていることから、複数の装飾凹部がそれぞれ離間している。そして、装飾凸部の表面又は装飾凹部の内面にホログラムパターンを転写した結果、同ホログラムパターンは、装飾凸部同士の間又は装飾凹部同士の間で不連続となり、断続的に設けられることとなる。従来のホログラム装飾体は、ホログラムパターンを広い範囲で連続的に設けるが故に、該ホログラムパターンが散漫に形成され、中抜け現象が発生し易くなる。これに対して本発明のホログラム装飾体は、ホログラムパターンを断続的に設けたが故に、同ホログラムパターンが狭い範囲に集中している。また、装飾部が設けられた範囲内において、ホログラムパターンが設けられた装飾凸部又は装飾凹部と、ホログラムパターンが設けられていない部分とが隣接して配置されることにより、同ホログラムパターンが強調される。従って、ホログラムパターンが明確に形成されることとなり、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下が抑制される。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、基材の意匠面に装飾部を設けるとともに、同装飾部に凹凸群からなるホログラムパターンが転写されたホログラム装飾体の製造方法であって、前記基材の意匠面に複数の装飾凸部又は複数の装飾凹部を形成する第１の段階と、これら装飾凸部の表面又はこれら装飾凹部の内面に前記ホログラムパターンを形成し、装飾部を設ける第２の段階とを備え、前記ホログラムパターンに応じた形状をなす転写パターンが設けられたプレス加工用の転写体を用い、前記第１の段階及び前記第２の段階をそれぞれ異なる工程で行うことを要旨とする。
【０００９】
上記構成によれば、第１の段階では装飾凸部又は装飾凹部がそれぞれ離間するように明確に形成される。そして、第１の段階及び第２の段階がそれぞれ異なる工程で行われることから、第２の段階では予め設けられた装飾凸部又は装飾凹部にホログラムパターンを集中して形成することにより、装飾凸部又は装飾凹部以外の部分へのホログラムパターンの転写を抑制することが可能となる。従って、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制しつつ、ホログラム装飾体が製造される。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、基材の意匠面に装飾部を設けるとともに、同装飾部に凹凸群からなるホログラムパターンが転写されたホログラム装飾体の製造方法であって、前記基材の意匠面に複数の装飾凸部又は複数の装飾凹部を形成する第１の段階と、これら装飾凸部の表面又はこれら装飾凹部の内面に前記ホログラムパターンを形成し、装飾部を設ける第２の段階とを備えており、前記装飾凸部又は前記装飾凹部に応じた形状をなす第１転写パターンと前記ホログラムパターンに応じた形状をなす第２転写パターンとが設けられたプレス加工用の転写体を用い、前記第１の段階及び前記第２の段階を同一の工程で行うことを要旨とする。
【００１１】
上記構成によれば、転写体には装飾凸部又は装飾凹部に応じた形状をなす第１転写パターンと、ホログラムパターンに応じた形状をなす第２転写パターンが設けられている。その結果、装飾凸部又は装飾凹部以外の部分へのホログラムパターンの転写を抑制しつつ、第１の段階及び第２の段階を同一の工程で行うことが可能となる。従って、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制しつつ、ホログラム装飾体が簡易に製造される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、次のような効果を奏する。
請求項１に記載の発明のホログラム装飾体によれば、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制することができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明のホログラム装飾体の製造方法によれば、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制しつつ、ホログラム装飾体を製造することができる。
【００１４】
請求項３に記載の発明のホログラム装飾体の製造方法によれば、中抜け現象の発生によるホログラムパターンの意匠性の低下を抑制しつつ、ホログラム装飾体を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（第１実施形態）
以下、本発明をＤＶＤデッキの装飾プレートに具体化した第１実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、以下の説明における上下左右は図１（ｂ）における上下左右を基準にする。
【００１６】
図１（ａ）に示すように、ホログラム装飾体としての装飾プレート１１を構成する基材１２は、金属材料により薄長四角板状に形成されている。金属材料としてはアルミニウム、チタン、銅、真鍮等が挙げられる。基材１２は、金属材料に基づく金属光沢により装飾プレート１１の意匠性を高めている。この基材１２は上面が意匠面１３とされ、装飾プレート１１を図示しないＤＶＤデッキに取付けたとき、同意匠面１３を露出させＤＶＤデッキの意匠性を高める。
【００１７】
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、意匠面１３には、装飾部として「ＤＶＤ」の各文字を構成する文字装飾部２１が側断面長方形状をなすように複数突設されている。文字装飾部２１の上面全体には、複数の装飾凸部２２が形成されている。これら装飾凸部２２は、文字装飾部２１の上面で一方向に延びる凸条からそれぞれ構成されている。加えて、装飾凸部２２は、側断面逆Ｖ字状に形成されているうえ、頂部がその中心部に向かうに従い外方へ湾曲する側断面円弧状に形成されている。一方、各装飾凸部２２の間には、非装飾凹条２３が側断面Ｖ字状に形成されている。尚、基材１２の厚みは１ｍｍ程度であり、装飾凸部２２の高さＨ１は０．１ｍｍ程度である。
【００１８】
装飾凸部２２の表面には、凹凸群からなるホログラムパターン２４が形成されている。尚、このホログラムパターン２４は、図１（ｂ）に示すように装飾凸部２２の頂部及び左右両側部の表面に形成されてもよいし、装飾凸部２２の頂部の表面のみに形成されてもよい。そして、ホログラムパターン２４は、前記各装飾凸部２２同士の間でそれぞれ離間しており、文字装飾部２１の上面で断続的に形成されている。各装飾凸部２２の表面でホログラムパターン２４の幅Ｗは２ｍｍ以下が好ましく、この実施形態では１〜１．５ｍｍ程度とされている。幅Ｗが２ｍｍを超えると、各装飾凸部２２の表面において、ホログラムパターン２４の中心部と周縁部とで凹凸の高低差が過剰に大きくなるおそれがある。
【００１９】
次に、前記装飾プレート１１の製造方法について説明する。
当該装飾プレート１１は、前記装飾凸部２２を形成する第１の段階と、前記ホログラムパターン２４を形成する第２の段階とを経て製造される。前記第１の段階は第１の工程にて行われる。また、前記第２の段階は第２の工程にて行われる。この第２の工程では、転写体が用いられる。
【００２０】
図２に示すように、転写体３１は、基材を形成する金属材料よりも硬度の高い金属材料により四角板状に形成されている。この転写体３１の上面は、平面状に形成されている。転写体３１の上面において文字装飾部２１に対応する箇所には、その全体にわたって転写パターン３２が形成されている。この転写パターン３２は、前記ホログラムパターンに応じた形状、即ちホログラムパターンの凹凸群を逆転させた形状をなしている。
【００２１】
さて、第１の工程では、まず基材１２の意匠面１３に、プレス加工やエッチング等の方法で各文字装飾部２１がそれぞれ形成される。このとき、各文字装飾部２１の上面はそれぞれ平面状をなしている。次いで、前記第１の段階として、図３（ａ）に示すように、各文字装飾部２１の上面全体にわたって、ダイヤモンドカット等の方法により装飾凸部２２が形成される。このとき、装飾凸部２２の間には非装飾凹条２３が形成される。
【００２２】
次に、第２の工程として、各装飾凸部２２の表面にホログラムパターン２４がプレス加工により形成される。即ち、前記転写体３１はプレス加工機の上側圧子に取付けられ、基材１２は下側圧子に取付けられる。このとき、転写体３１及び基材１２は、転写パターン３２と意匠面１３とが対向するようにそれぞれ取付けられる。そして、所定の圧力で各文字装飾部２１の上面に転写体３１の上面が押圧される。
【００２３】
このとき、図３（ｂ）に示すように、各装飾凸部２２は、転写体３１によって下方へ押圧されて圧潰される。また、各装飾凸部２２は１〜１．５ｍｍと幅狭であり、押圧力が集中して好適に加わる。そして、各装飾凸部２２の頂部及び両側部の表面には、転写体３１から転写パターン３２が転写されることにより、ホログラムパターン２４が形成される。尚、各非装飾凹条２３の内面は転写体３１の上面から離間しており、ホログラムパターン２４の形成を抑制される。その後、転写体３１の上面と各文字装飾部２１の上面とを離間させる。このとき、図１（ｂ）に示すように、各装飾凸部２２は、基材１２が金属材料により形成されていることから、該金属材料の弾性力により形状が復元するうえ、頂部が側断面円弧状をなす。
【００２４】
前記の実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・  第１実施形態のホログラムパターン２４はそれぞれ離間しており、文字装飾部２１の表面に断続的に形成されている。ここで、従来のホログラムパターンは、それが装飾部の表面で連続的に形成されることにより、一つの大きな凹凸群として構成されている。このため、従来のパターン凹凸部は幅Ｗが広く、中抜け現象が頻繁に発生する。これに対し、第１実施形態のホログラムパターン２４は狭い幅Ｗに集中して形成されており、中抜け現象の発生を抑制することができる。また、ホログラムパターン２４は文字装飾部２１の表面で断続的に形成されており、強調される。
【００２５】
・  各ホログラムパターン２４は、各文字装飾部２１の上面に装飾凸部２２を形成した後、該装飾凸部２２の頂部及び両側部の表面に転写パターン３２を転写することにより形成される。このため、各ホログラムパターン２４は、装飾凸部２２の表面にそれぞれ形成されることから、非装飾凹条２３を介してそれぞれ離間した状態で形成される。よって、前記幅Ｗを容易に狭くすることができ、中抜け現象の発生によるホログラムパターン２４の意匠性の低下の抑制が容易な装飾プレート１１を簡易に製造することができる。また、非装飾凹条２３へのホログラムパターン２４の形成が抑制されることにより、ホログラムパターン２４は浮き上がるように形成される。
（第２実施形態）
以下、本発明の第２実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、この第２実施形態については、第１実施形態と異なる点を中心に説明する。
【００２６】
図４に示すように、文字装飾部２１の上面全体には、複数の装飾凹部２５が側断面横コ字状に形成されている。これら装飾凹部２５は、文字装飾部２１の上面の一方向に延びる凹条からそれぞれ構成されている。一方、各装飾凹部２５の間には、非装飾凸条２６が側断面長方形状に形成されている。各装飾凹部２５の内底面には、凹凸群からなるホログラムパターン２４がそれぞれ形成されている。ホログラムパターン２４は、前記各装飾凹部２５同士の間でそれぞれ離間しており、文字装飾部２１の上面で断続的に形成されている。
【００２７】
次に、装飾プレート１１の製造方法について説明する。
当該装飾プレート１１は、前記装飾凹部２５を形成する第１の段階と、前記ホログラムパターン２４を形成する第２の段階とを経て製造される。前記第１及び第２の段階は、同一の工程にて行われる。また、前記第２の段階では、転写体３３が用いられる。
【００２８】
図５に示すように、転写体３３は、その上面に転写パターン３４が形成されている。この転写パターン３４は、装飾凹部に応じた形状をなす第１転写パターン３４ａと、ホログラムパターンに応じた形状をなす第２転写パターン３４ｂとから構成されている。前記第１転写パターンは凸形状をなし、転写体３３の上面で文字装飾部に対応する箇所にそれぞれ形成されている。さらに、第１転写パターン３４ａの高さＨ２は、前記装飾凹部２５の深さよりも大きく設定されている。そして、第２転写パターン３４ｂは、前記第１転写パターン３４ａの上面に形成されている。
【００２９】
さて、装飾プレート１１を製造する工程は、まず基材１２を四角板状に形成した後、意匠面１３に各文字装飾部２１をそれぞれ形成する。このとき、各文字装飾部２１の上面はそれぞれ平面状をなしている。次いで、転写体３３がプレス加工機の上側圧子に取付けられ、基材１２を下側圧子に取付けられる。続いて、前記第１及び第２の段階として、図６に示すように、所定の圧力で各文字装飾部２１の上面に転写体３３の上面が押圧される。このとき、転写体３３の上面において第１転写パターン３４ａが形成された以外の箇所と、各文字装飾部２１（非装飾凸条２６）の上面との間には間隙が形成される。このため、転写体３３は、第１転写パターン３４ａの上面のみで文字装飾部２１の上面を押圧する。そして、各文字装飾部２１の上面には転写体３３から第１及び第２転写パターン３４ａ、３４ｂが転写され、装飾凹部２５及びホログラムパターン２４がそれぞれ形成される。
【００３０】
従って、第２実施形態のホログラムパターン２４はそれぞれ離間しており、文字装飾部２１の表面に断続的に形成されている。よって、第２実施形態のホログラムパターン２４は、第１実施形態と同様に狭い幅Ｗに集中して形成されており、中抜け現象の発生を抑制することができる。さらにホログラムパターン２４は、各文字装飾部２１の上面に第２転写パターン３４ｂを転写することにより形成されている。このため、各ホログラムパターン２４は、装飾凹部２５の内底面にそれぞれ形成されることから、非装飾凸条２６を介してそれぞれ離間した状態で形成される。よって、前記幅Ｗを容易に狭くすることができ、中抜け現象の発生によるホログラムパターン２４の意匠性の低下の抑制が容易な装飾プレート１１を簡易に製造することができる。
【００３１】
なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
・  前記各実施形態において、ホログラム装飾体を、自動車等の車両に取付けられる装飾プレート等として構成してもよい。
【００３２】
・  前記各実施形態において、意匠面１３に、酸化処理等によって金属材料の酸化被膜を被覆してもよい。酸化被膜の厚さは１０μｍ以下が好ましい。酸化被膜の厚さが１０μｍを超えると、該酸化被膜により意匠面１３における金属光沢が弱まり、装飾プレート１１の意匠性が低下するおそれがある。
【００３３】
ここで、基材１２の意匠面１３全体にわたって酸化被膜を被覆してもよいし、各文字装飾部２１の上面のみに酸化被膜を被覆してもよい。さらに、ホログラムパターンの凹凸群の表面のみに酸化被膜を被覆してもよい。加えて、基材１２の意匠面１３全体にわたって酸化被膜を被覆するうえ、各文字装飾部２１の上面の酸化被膜を、他の箇所を被覆する酸化被膜に比べて薄くしてもよい。このとき、各文字装飾部２１の上面を被覆する酸化被膜の厚さは例えば３μｍであり、各文字装飾部２１以外の箇所を被覆する酸化被膜の厚みは例えば１０μｍである。
【００３４】
基材１２の意匠面１３に酸化被膜を被覆する工程は、意匠面１３に各文字装飾部２１を形成する前に行ってもよいし、各ホログラムパターン２４を形成した後に行ってもよい。さらに、第１実施形態において、意匠面１３に各文字装飾部２１を形成した後に酸化被膜を被覆し、さらに各ホログラムパターン２４を形成した後に酸化被膜を再度被覆してもよい。また、意匠面１３に、透光性を有する合成樹脂製の保護膜を被覆してもよい。このように構成した場合には、意匠面１３やホログラムパターン２４の耐摩耗性を高めることができる。
【００３５】
・  前記各実施形態において、基材１２を合成樹脂等により形成してもよい。
・  前記各実施形態において、各文字装飾部２１を凹設してもよい。また、各文字装飾部２１を省略し、ホログラムパターン２４により「ＤＶＤ」の文字を表示させてもよい。
【００３６】
・  前記各実施形態において、装飾凸部２２又は装飾凹部２５を意匠面１３全体にわたって形成してもよい。このように構成した場合には、装飾凸部２２又は装飾凹部２５により装飾プレート１１の意匠性を高めることができる。
【００３７】
・  前記第１実施形態において、各文字装飾部２１の上面を転写体３１の上面が押圧するときに、各非装飾凹条２３の内面が転写体３１の上面に接触してもよい。このように構成した場合には、転写体３１の上面の各非装飾凹条２３の内面への押圧力は、同上面の各装飾凸部２２の表面への押圧力に比べて小さいことから、各非装飾凹条２３の内面に転写パターン３２が転写されるのを抑制することができる。
【００３８】
・  前記第１実施形態において、各非装飾凹条２３を装飾凹部として構成してもよい。このとき、ホログラムパターン２４は非装飾凹条２３の内面に形成される。さらに、転写体３１の上面には、各非装飾凹条２３に対応する箇所に転写パターン３２が形成される。
【００３９】
・  前記第１実施形態において、装飾凸部２２をプレス加工により形成してもよい。このとき、装飾凸部２２とホログラムパターン２４とを同時に形成してもよいし、別々に形成してもよい。
【００４０】
・  前記第１実施形態において、装飾凸部２２を四角柱状や円柱状等に形成してもよい。また、第２実施形態において、装飾凹部２５を平面四角形状や平面円形状等に形成してもよい。
【００４１】
・  前記第１実施形態において、転写パターン３２を、転写体３１の上面において各装飾凸部２２に対応する箇所のみに形成してもよい。
・  前記第２実施形態において、第１転写パターン３４ａの高さＨ２を、装飾凹部２５の深さと同じ長さにしてもよい。
【００４２】
・  前記第２実施形態において、ホログラムパターン２４を装飾凹部２５の内側面に形成してもよい。
・  前記第２実施形態において、図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、転写体を、金属材料により四角板状に形成された第１転写体３５と、金属材料により帯状に形成された第２転写体３６とから構成してもよい。第１転写体３５の上面は平面状をなし、文字装飾部に対応する箇所には複数の第１転写パターン３４ａが形成されている。この第１転写パターン３４ａの高さＨ２は、前記装飾凹部２５の深さよりも大きく設定されている。さらに第１転写パターン３４ａの左右両側面間の距離Ｒは、前記装飾凹部２５の幅Ｗよりも小さく設定されている。
【００４３】
一方、第２転写体３６の上面において文字装飾部２１に対応する箇所には、第２転写パターン３４ｂが形成されている。第１転写体３５は、プレス加工機の上側圧子に、第１転写パターン３４ａが前記意匠面１３に対向するように取付けられる。一方、第２転写体３６は、第１転写体３５と基材１２との間に介装される。このとき、第２転写体３６は、第２転写パターン３４ｂが前記意匠面１３に対向するように介装される。
【００４４】
そして、図７（ｃ）に示すように、第１転写体３５は、その上面が第２転写体３６を介して各文字装飾部２１の上面に押圧される。このとき、第２転写体３６は、第１転写体３５の第１転写パターン３４ａの形状に沿って容易に変形する。さらに、第１転写体３５の上面において第１転写パターン３４ａが形成された箇所以外と、各文字装飾部２１の上面との間には間隙が形成される。このため、第１転写体３５は、各第１転写パターン３４ａの上面のみが、第２転写体３６を介して各文字装飾部２１の上面を押圧する。よって、第２転写体３６の第２転写パターン３４ｂは、第１転写体３５の第１転写パターン３４ａの上面に対応する箇所のみが各文字装飾部２１の上面に転写される。さらに、第１転写体３５の上面を文字装飾部２１の上面から離間したときには、第２転写体３６は元の形状に戻る。
【００４５】
このように構成した場合には、第１転写体３５を変更することにより、装飾凹部２５の形状を容易に変更することができる。また、装飾プレート１１の製造に伴い各転写体３５，３６の上面が摩耗されたときには、摩耗された転写体のみを迅速に交換することができる。このため、装飾プレート１１の製造がより簡易である。
【００４６】
さらに、前記実施形態より把握できる技術的思想について以下に記載する。
・  前記凹凸群の高さは、前記装飾凸部の高さ又は前記装飾凹部の深さよりも低い請求項１に記載のホログラム装飾体。
【００４７】
・  前記基材が金属材料により形成され、ホログラムパターンの凹凸群の表面に前記金属材料の酸化被膜が設けられている請求項１に記載のホログラム装飾体。この構成によれば、ホログラムパターンの耐摩耗性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】（ａ）は第１実施形態の装飾プレートを示す斜視図、（ｂ）は、図１（ａ）の１ｂ−１ｂ線における断面図。
【図２】転写体を示す断面図。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は装飾プレートの製造工程を示す要部拡大断面図。
【図４】第２実施形態の装飾プレートを示す要部拡大断面図。
【図５】転写体を示す断面図。
【図６】装飾プレートの製造工程を示す要部拡大断面図。
【図７】（ａ）及び（ｂ）は転写体の別例を示す断面図、（ｃ）は装飾プレートの製造工程を示す要部拡大断面図。
【符号の説明】
【００４９】
１１…ホログラム装飾体としての装飾プレート、１２…基材、１３…意匠面、２１…装飾部としての文字装飾部、２２…装飾凸部、２４…ホログラムパターン、２５…装飾凹部、３１，３３…転写体、３２，３４…転写パターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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