(57)【要約】【課題】  高感度で作業性に優れ、寸法精度に優れたＰＤＰの隔壁および誘電体層が好適に形成できる転写フィルムおよびそれを用いたＰＤＰの製造方法を提供すること。【解決手段】  支持フィルム上に、ガラス粉末および有機成分を含有する感放射線性の膜形成材料層を有し、当該膜形成材料層の波長４０５ｎｍにおける直線透過率（Ｔｐ）が０．０１〜１０％であり、拡散透過率（Ｔｄ）が１〜５０％である転写フィルムおよびそれを用いたＰＤＰの製造方法を提供する。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルム上に、ガラス粉末および有機成分を含有する感放射線性の膜形成材料層を有し、当該膜形成材料層の波長４０５ｎｍにおける直線透過率（Ｔｐ）が０．０１〜１０％であり、拡散透過率（Ｔｄ）が１〜５０％であることを特徴とする、転写フィルム。
【請求項２】
膜形成材料層におけるガラス粉末の含有割合が、５０〜９０質量％である、請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項３】
膜形成材料層の膜厚が２０〜２００μｍである、請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項４】
請求項１に記載の転写フィルムにおける膜形成材料層を基板上に転写し、当該膜形成材料層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該膜形成材料層を現像処理してパターンを形成し、当該パターンを焼成処理することにより、隔壁および誘電体層から選ばれる部材を形成する工程を含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造に好適に用いられる転写フィルムと、それを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう）の断面形状を示す模式図である。同図において、１および２は対抗配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で、当該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６を被覆するようガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにあっては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００３】
このようなＰＤＰの誘電体、隔壁、電極、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックストライプ（マトリクス）等の製造方法としては、感光性無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、パターンを形成する部分に対応する膜へ紫外線を照射した上で現像することにより基板上にパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法が好適に用いられている。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−６７４２５
【特許文献２】特開２０００−３０５２６２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、フォトリソグラフィー法を用いて隔壁等の厚膜パターンを形成する場合、露光処理時の感度が不十分になる等の理由で、寸法精度の高い部材が得られないという問題があった。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものである。
本発明の第１の目的は、高感度で作業性に優れ、寸法精度に優れたＰＤＰの隔壁および誘電体層が好適に形成できる転写フィルムを提供することにある。
本発明の第２の目的は、寸法精度に優れたＰＤＰの隔壁および誘電体層を好適に形成することができるＰＤＰの製造方法を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、下記説明で明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、ガラス粉末および有機成分を含有する感放射線性の膜形成材料層を有し、当該膜形成材料層の波長４０５ｎｍにおける直線透過率（Ｔｐ）が０．０１〜１０％であり、拡散透過率（Ｔｄ）が１〜５０％であることを特徴とする。
本発明のＰＤＰの製造方法は、本発明の転写フィルムにおける膜形成材料層を基板上に転写し、当該膜形成材料層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該膜形成材料層を現像処理してパターンを形成し、当該パターンを焼成処理することにより、隔壁および誘電体層から選ばれる部材を形成する工程を含むことを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明について詳細に説明する。
＜転写フィルム＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された感放射線性の膜形成材料層とを有してなる。当該膜形成材料層の表面には、保護フィルムが設けられていてもよい。
本発明の転写フィルムは、膜形成材料層の波長４０５ｎｍにおける直線透過率（Ｔｐ）が、０．０１〜１０％、好ましくは０．０５〜５％であり、また、膜形成材料層の波長４０５ｎｍにおける拡散透過率（Ｔｄ）が、１〜５０％、好ましくは５〜４５％であることを特徴とする。上記の直線透過率および拡散透過率を有する膜形成材料層を用いることにより、露光時の感度が向上し、寸法精度に優れたパターンを形成することができる。
このような光線透過率の高い膜形成材料層を得る方法としては、用いられるガラス粉末と有機成分との屈折率が近い組成にする方法が挙げられる。膜形成材料層を構成する各成分については、後述する。
【０００８】
（１）支持フィルム：
転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコーターによってペースト状組成物を塗布することができ、膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
なお、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、後述する転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【０００９】
（２）膜形成材料層：
転写フィルムを構成する膜形成材料層は、ガラス粉末および有機成分を必須成分として含有するペースト状の感放射線性ガラスペースト組成物を、前記支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。
【００１０】
（３）ガラスペースト組成物
転写フィルムを作製するために使用されるガラスペースト組成物は、ガラス粉末および有機成分を含むペースト状の組成物であり、当該有機成分としては、結着樹脂（アルカリ可溶性樹脂または水溶性樹脂）、感放射線性成分および溶剤を必須として含有する。
【００１１】
ガラス粉末：
本発明に用いられるガラス粉末としては、軟化点が好ましくは３００〜７００℃の低融点ガラス粉末が挙げられる。
好ましいガラス粉末の組成としては、１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、２．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素（ZnO−P2O5−SiO2系）の混合物、３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−K2O系）の混合物、４．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム（P2O5−B2O3−Al2O3系）の混合物、５．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ZnO−P2O5−SiO2−Al2O3系）の混合物、６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン（ZnO−P2O5−TiO2系）の混合物、７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−SiO2系−K2O系）の混合物、８．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO系）の混合物、９．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、１０．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物、などを挙げることができる。
【００１２】
膜形成材料層中のガラス粉末の含有量は、５０〜９０質量％であることが好ましく、特に好ましくは６０〜８０質量％である。ガラス粉末が５０質量％以下であると焼成時の収縮が大きく、焼成後に所定の厚みを得るのが難しくなる。一方ガラス粉末が９０質量％以上の場合、得られる転写フィルムのガラス基板への転写性が不十分であったり、隔壁や誘電体の解像度が低下したりする場合がある。
また、本発明に用いるガラス粉末の平均粒子径としては、０．３〜１０μｍであることが好ましく、特に好ましくは０．５〜５μｍである。平均粒子径が０．３μｍより小さいと、ガラスペースト組成物の製造過程で粘度が急激に上昇して流動性のある均質な組成物を得ることが難しい場合があり、１０μｍより大きいと、平滑性を有する膜形成材料層を形成することが困難になり、焼成後得られる隔壁や誘電体層の面内均一性が劣る場合がある。
さらに、本発明に用いるガラス粉末の屈折率は、１．５〜１．７であることが好ましい。屈折率が上記範囲にあるガラス粉末を用いることにより、好ましい透過率を有する膜形成材料層を形成することができる。
【００１３】
結着樹脂：
本発明に用いられる結着樹脂は、ガラス粉末を均一に分散し、特定膜厚の膜形成材料層を得るためのバインダーの役割をし、さらに膜形成材料層に基板への密着性を付与する役割を有する。当該結着樹脂としては、後述するＰＤＰの製造方法における現像工程で現像液に溶解する性質を有するものであり、具体的には、アルカリ可溶性樹脂、水溶性樹脂などが用いられる。
【００１４】
アルカリ可溶性樹脂；
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂における「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。これらのうち、（メタ）アクリル系樹脂が特に好ましく用いられる。
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、下記のアルカリ可溶性官能基を有するモノマーと他の共重合性モノマーとの共重合体を挙げることができる。
【００１５】
アルカリ可溶性官能基を有するモノマーとしては、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどの水酸基含有モノマー類などが挙げられる。
【００１６】
他の共重合性モノマーとしては、例えば、
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルなどの（メタ）アクリル酸エステル類；
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル系モノマー類；
ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類；
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロルアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物類；
ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどのマクロモノマー類などが挙げられる。
これらは、単独で若しくは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００１７】
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂において、上記アルカリ可溶性官能基を有するモノマーの共重合割合は、好ましくは１〜６０質量％、特に好ましくは５〜５０質量％である。
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂として特に好ましい組成としては、メタクリル酸／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸ｎ−ブチル共重合体や、メタクリル酸／コハク酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸ｎ−ブチル共重合体が挙げられる。
【００１８】
水溶性樹脂；
本発明に用いられる水溶性樹脂における「水溶性」とは、水によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
かかる水溶性樹脂としては、例えば水溶性官能基を有する（メタ）アクリレートと他の共重合性モノマーとの共重合体である（メタ）アクリル系樹脂を挙げることができる。結着樹脂として水溶性樹脂を用いることにより、他の樹脂に比べて無機粉体との相互作用が強すぎないため、保存安定性に優れたガラスペースト組成物が得られる。
【００１９】
水溶性官能基を有するモノマーとしては、例えば、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、メトキシポリ（プロピレングリコール−ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレートなどの、アルコキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中では、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
上記化合物の市販品としては、日本油脂（株）製「ブレンマー」シリーズが挙げられ、特に「ブレンマーＰＭＥ−１００」、「同ＰＭＥ−２００」、「同ＰＭＥ−３５０」等が挙げられる。
【００２０】
他の共重合性モノマーとしては、例えば、上述した水酸基含有モノマー類；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアクリルアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ,Ｎ-ジエチルアクリルアミド、Ｎ-イソプロピルアクリルアミド、
アクリロイルモルホリンなどのアミド類；
ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルフェニルアセテートなどが挙げられる。
【００２１】
本発明で用いられる水溶性樹脂において、上記水溶性官能基を有するモノマーの共重合割合は、好ましくは５０〜１００モル％、より好ましくは７０〜１００モル％、特に好ましくは８０〜９５モル％である。
本発明に用いられる結着樹脂の重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」ともいう）は、好ましくは５，０００〜５，０００，０００、特に好ましくは１０，０００〜３００，０００である。Ｍｗが上記範囲にあることにより、転写フィルムとしたときのフィルム形成性がよく、パターニング性にも優れる。なお、上記Ｍｗは、ＧＰＣ測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
【００２２】
本発明に用いられる結着樹脂は、得られる膜形成材料層の透過率と燃焼性を両立させる観点から、結着樹脂に含まれる芳香環を有する繰り返し単位の含有割合が、５〜５０質量％であることが好ましい。この割合が５質量％未満では、膜形成材料層の透過率が十分なものとならない場合があり、５０質量％を越えると、膜形成材料層を焼結する際に、燃焼性が悪いものとなる場合がある。
膜形成材料層における結着樹脂の含有割合としては、ガラス粉末１００重量部に対して、通常、１〜２００質量部とされ、好ましくは、５〜１５０質量部、特に好ましくは、１０〜１２０質量部とされる。特に、水溶性樹脂を用いる場合の含有割合は、１〜５０質量部であることが好ましい。
【００２３】
感放射線性成分：
本発明に用いられる感放射線性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせ、（ロ）放射線照射により酸を形成する感放射線性酸発生剤などを好ましいものとして例示することができる。
【００２４】
上記多官能性モノマーとしては、多官能性（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。好ましい具体例としては、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの２官能以上の多官能アクリレート類、およびこれらのオリゴマー、エチレンオキサイド変性、プロピレンオキサイド変性が挙げられる。
これらの中で、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートが、レジストパターンの強度が高く、パターン形成部以外での地汚れまたは膜残りが発生しにくい点で特に好ましい。
上記多官能性（メタ）アクリレートの分子量としては、１００〜２，０００であることが好ましい。
多官能性モノマーの使用割合は、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、通常、５〜１００重量部、好ましくは１０〜７０重量部である。この割合が５重量部未満である場合には、パターン強度が不十分なものとなりやすい傾向がある。一方、この割合が１００重量部を超える場合には、アルカリ解像性が低下したり、パターン形成部以外の地汚れ、膜残りなどが発生したりする傾向がある。
【００２５】
上記放射線重合開始剤としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィド、メルカプトベンゾチアゾールなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明における放射線重合開始剤の使用割合は、多官能性モノマー１００重量部に対して、通常、０．５〜５０重量部、好ましくは１〜３０重量部、特に好ましくは１〜２０重量部である。０．５重量部未満では、放射線照射による硬化が不十分となり、パターンに欠落、欠損やアンダーカットを生じるおそれがあり、一方５０重量部を超えると、形成されたパターンが現像時に基板から脱落しやすくなる。また、焼成残渣が発生しやすくなるおそれがある。
【００２６】
感放射線性酸発生剤は、放射線の照射によって酸を生成する化合物である。たとえば、１,２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、１,２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、１,２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、１,２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどを挙げることができる。具体的には、Ｊ．Ｋｏｓａｒ著“Ｌｉｇｈｔ−Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ｓｙｓｔｅｍｓ”３３９〜３５２（１９６５）、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ社（Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ）や、Ｗ．Ｓ．Ｄｅ  Ｆｏｒｅｓｔ著“Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ”５０（１９７５）、ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ、Ｉｎｃ．（Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ）に記載されている１，２−キノンジアジド化合物などを挙げることができる。
【００２７】
これらの中で、放射線を照射した後の４００〜８００ｎｍの可視光線領域における透明性が良好な化合物、たとえば、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、３’−メトキシ−２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，５，５’−テトラメチル−２’，４，４’−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４’−［１−［４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）フェニル］エチリデン］ジフェノールおよび２，４，４−トリメチル−２’，４’，７−トリヒドロキシ−２−フェニルフラバン等の１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルおよび１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルを好ましいものとして挙げることができる。
【００２８】
感放射線性酸発生剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂１００質量部に対して、好ましくは１〜１００質量部、特に好ましくは５〜５０質量部である。この含有量が１質量部未満であると、放射線を吸収して生成する酸の量が少なくなるので、放射線照射前後のアルカリ水溶液に対する溶解度に差をつけることができず、パターニングが困難となり、得られるパターンの耐熱性に不具合が生じる恐れがある。また、含有量が１００質量部を超えると、短時間の放射線の照射では、添加した感放射線性酸発生剤の大半が未だそのままの形で残存するため、アルカリ水溶液への不溶化効果が高過ぎて現像することが困難となる場合がある。
【００２９】
紫外線吸収剤：
本発明に用いられるガラスペースト組成物には、さらに、紫外線吸収剤が含有されていることが好ましい。当該紫外線吸収剤としては、焼成後の部材中に残存せず部材特性を低下させないことから、有機系染料からなるものが好ましく、中でも３００〜５００ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料が好ましく用いられる。
具体的には、アゾ化合物、トリアジン化合物、アミノケトン化合物、キサンテン化合物、キノリン化合物、キノン化合物、ベンゾフェノン化合物、安息香酸化合物、シアノアクリレート化合物、スピロ化合物、フルオレノン化合物、フルギド化合物、イミダゾール化合物、ペリレン化合物、フェナジン化合物、フェノチアジン化合物、ポリエン化合物、ジフェニルメタン化合物、トリフェニルメタン化合物、ポリメチン化合物、アクリジン化合物、アクリジンノン化合物、カルボオスチリル化合物、クマリン化合物、ジフェニルアミン化合物、キナクリドン化合物、キノフタロン化合物、フェノキサジン化合物、フタロペリノン化合物、フタロシアニン化合物などを使用できる。中でも、１−フェニルアゾ−２−ナフトール、１−フェニル−３−メチル−４−（４−メチルフェニルアゾ）−５−オキシピラゾール等に代表されるアゾ化合物、１，４−ジアミルアミノアントラキノンに代表されるキノン化合物、クルクミンに代表されるフェノール化合物が特に好ましい。
有機系染料を使用する場合、その添加量は、溶剤を除いた有機成分中の合計含有量に対して、０．００５〜０．１質量％、好ましくは０．０１〜０．０５質量％程度である。添加量が上記範囲よりも少ないと、紫外線吸収剤の添加効果があまりなく、上記範囲を越えると、得られるＰＤＰ用部材の特性を低下させる場合がある。
【００３０】
溶剤；
膜形成材料層を形成するガラスペースト組成物は、通常、溶剤を含有する。ここで用いられる溶剤は、ガラス粉末との親和性およびアルカリ可溶性樹脂の溶解性が良好で、得られる組成物に適度な粘性を付与することができ、さらには乾燥によって容易に蒸発除去させる溶剤が好ましい。
このような溶剤として、具体的には、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを挙げることができる。これらの溶剤は、１種単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明において、溶剤は、ガラスペースト組成物の粘度を好適な範囲に調整できるという観点から、ガラス粉末１００重量部に対して、好ましく４０重量部以下、さらに好ましくは５〜３０重量部の範囲で含まれることが望ましい。
【００３１】
本発明に用いられる組成物には、さらに、必要に応じて、分散剤、可塑剤、シランカップリング剤、粘着性付与剤、表面張力調整剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤を添加してもよい。
【００３２】
組成物の調製：
膜形成材料層を形成するための組成物は、上記各成分を混合することにより調製することができる。具体的には、上記各成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサーなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
また、ガラスペースト組成物の粘度は、通常１，０００〜３０，０００ｃｐ、好ましくは３，０００〜１０，０００ｃｐである。
【００３３】
転写フィルムの製造方法：
本発明の転写フィルムは、たとえば、支持フィルム上に、上述した組成物を塗布し、塗膜を乾燥して膜形成材料層を形成した後、必要に応じて膜形成材料層上に保護フィルム層を貼付（圧着、特に熱圧着が好ましい。）することにより製造することができる。また、膜形成材料層が積層である場合には、例えば、支持フィルム上に第一層を形成し、この第一層上にさらに組成物を塗布して第二層を形成することもできる。さらには、支持フィルム上に第一層を形成し、保護フィルム上に第二層を形成し、両者の第一層面および第二層面を圧着させて、積層構造としてもよい。積層構造の例としては、例えば、現像液に対する溶解性が異なる複数の層を有する膜形成材料層が挙げられる。現像液に対する溶解性が異なる積層構造とすることにより、より形状に優れ、寸法精度に優れたパターンを得ることができる。
【００３４】
支持フィルム上に組成物を塗布する好ましい方法としては、膜厚が大きく、膜厚の均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる観点から、ロールコーター、ドクターブレードなどのブレードコーター、カーテンコーターまたはワイヤーコーターによる塗布方法などを挙げることができる。上記塗膜は、乾燥により溶剤の一部または全部が除去されて膜形成材料層を形成する。この乾燥条件は、たとえば４０〜１５０℃で０．１〜３０分間程度が好ましい。乾燥後における膜形成材料層中の溶剤残存率（膜形成材料層中の溶剤含有率）は、通常１０質量％以下であり、基板に対する粘着性および適度な形状保持性を膜形成材料層に発現させるためには、０．５〜３質量％が好ましい。
本発明の転写フィルムにおける膜形成材料層の膜厚は、形成する部材の種類やサイズによっても異なるが、通常、２０〜２００μｍである。特に、隔壁を形成する場合には、膜形成材料層の膜厚は７０〜２００μｍであることが好ましく、誘電体層を形成する場合には、２０〜７０μｍであることが好ましい。
【００３５】
なお、膜形成材料層の表面に設けられることのある保護フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。また、保護フィルムを設ける場合、支持フィルムと保護フィルムとでは、保護フィルムの方が剥離しやすいものであることが好ましい。
【００３６】
＜ＰＤＰの製造方法＞
本発明の製造方法においては、〔１〕転写工程、〔２〕露光工程、〔３〕現像工程、〔４〕焼成工程により、ＰＤＰの隔壁または誘電体層を形成する。
〔１〕転写工程
本発明の製造方法において、膜形成材料層は、本発明の転写フィルムを使用し、当該転写フィルムを構成する膜形成材料層を基板の表面に転写する方法により形成される。
転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて使用される転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に、膜形成材料層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着する。これにより、基板の表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態となる。ここで、転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるロール線圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分を示すことができる。また、ガラス基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１００℃とすることができる。なお、支持フィルムは転写工程の直後に剥離しても、後述する露光工程の後に剥離しても良いが、酸素阻害を防止する観点から、露光工程の後に剥離することが好ましい。
【００３７】
〔２〕露光工程
この工程においては、膜形成材料層の表面に、露光マスクを介して紫外線等の放射線を照射する方法、レーザー光を走査する方法などで、パターンの潜像を形成する。露光量は、通常、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２である。放射線照射装置は特に限定されず、たとえば、フォトリソグラフィー法で使用される従来公知の紫外線照射装置、半導体装置や液晶表示装置を製造する際に使用される従来公知の露光装置などが挙げられる。また、レーザー光を用いる場合、使用するレーザーは、固体レーザー、気体レーザー、半導体レーザー、液体レーザーなどが用いられ、その波長は、紫外領域光である３５０ｎｍから可視光領域である６００ｎｍ程度までのものが使用できる。この領域で一般に使用される波長は４０５ｎｍ、４４２ｎｍ、４８８ｎｍ、５３２ｎｍなどである。通常、当該露光処理の後、膜形成材料層上に存在する支持フィルムを剥離除去する。
【００３８】
〔３〕現像工程
この工程においては、露光された膜形成材料層を現像処理することにより、パターン（潜像）を顕在化させる。
ここに、現像処理条件としては、膜形成材料層を構成するアルカリ可溶性樹脂の種類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択することができる。
この現像工程により、膜形成材料層残留部と膜形成材料層除去部とから構成されるパターンが形成される。
【００３９】
〔４〕焼成工程
この工程においては、パターンを焼成処理して隔壁または誘電体層を形成する。この工程により、膜形成材料層残留部中の有機物質が焼失して、ガラス焼結体が形成され、基板の表面に隔壁または誘電体層のパターンが形成されてなるパネル材料を得ることができる。
ここに、焼成処理の温度としては、膜形成材料層残留部中の有機物質が焼失され、ガラス粉末が融着する温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃とされる。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間とされる。
【００４０】
以下に、前記の各工程に用いられる材料、各種条件などについて説明する。
＜基板＞
基板材料としては、例えばガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材である。この板状部材の表面に対しては、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理のような適宜の前処理を施されていてもよい。
【００４１】
＜現像液＞
本発明において、現像工程には、一般にアルカリ現像液または水が使用される。現像液の種類は、結着樹脂の種類に応じて選択され、アルカリ可溶性樹脂を用いる場合にはアルカリ現像液が、水溶性樹脂を用いる場合には水が、通常用いられる。また、水溶性樹脂に対して、現像液としてアルカリ現像液を用いる場合もある。
アルカリ現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙げることができる。
現像工程に使用されるアルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または２種以上を水などに溶解させることにより調整することができる。ここに、アルカリ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常０．００１〜１０質量％とされ、好ましくは０．０１〜５質量％とされる。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理または貧溶媒によるリンス処理が施される。
また、水を現像液として用いる場合には、通常、超純水が用いられる。
【実施例】
【００４２】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において「部」は「質量部」を示す。
また、Ｍｗは、東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名：ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。ＧＰＣ測定条件は以下の通りである。
ＧＰＣカラム：（東ソー製  ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ）
溶媒：ＴＨＦ
測定温度：４０℃
【００４３】
〔合成例１〕
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ラウリルメタクリレート３０部、メチルメタクリレート４３部、メタクリル酸７部、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート２０部およびアゾビスイソブチロニトリル１部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下、「ポリマー（１）」という）のＭｗは、４０，０００であった。
【００４４】
［合成例２］
プロピレングリコールモノメチルエーテル１２０部、メタクリル酸メチル６０部、ラウリルメタクリレート２０部、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコール１５部、メタクリル酸５部、およびアゾビスイソブチロニトリル１部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９９％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下、「ポリマー（２）」という）のＭｗは、３０，０００であった。
【００４５】
〔合成例３〕
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート６０部、アクロイルモルフォリン２０部、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート２０部およびアゾビスイソブチロニトリル０．５部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下、「ポリマー（３）」という）のＭｗは、２００，０００であった。
【００４６】
〔調製例１〕
ガラス粉末としてＢ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系ガラス粉末１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）２５部、多官能性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート５部、放射線重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン０．２部および２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド０．５部、密着剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、染料として１−フェニル−３−メチル−４−（４−メチルフェニルアゾ）−５−オキシピラゾール０．０１部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル３０部を混練りすることにより、組成物ａ１（以下、「組成物（ａ−１）」という）を調製した。
【００４７】
〔調製例２〕
ガラス粉末としてＢ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系ガラス粉末１００部、アルカリ可溶性樹脂として合成例２で得られたポリマー（２）２０部、感放射線性酸発生剤として１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル５部、可塑剤としてプロピレングリコールモノオレート５部、密着剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、染料として１−フェニル−３−メチル−４−（４−メチルフェニルアゾ）−５−オキシピラゾール０．０１部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル３０部を混練りすることにより、組成物ａ２（以下、「組成物（ａ−２）」という）を調製した。
【００４８】
〔調製例３〕
ガラス粉末としてＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系ガラス粉末１００部、水溶性樹脂としてポリマー（３）２５部、多官能性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート５部、放射線重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン０．２部および２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド０．５部、密着剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、染料として１−フェニル−３−メチル−４−（４−メチルフェニルアゾ）−５−オキシピラゾール０．０１部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル３０部を混練りすることにより、組成物ａ３（以下、「組成物（ａ−３）」という）を調製した。
〔調製例４〕
ガラス粉末としてＢｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系ガラス粉末１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）２５部、多官能性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート５部、放射線重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン０．２部および２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド０．５部、密着剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、染料として１−フェニル−３−メチル−４−（４−メチルフェニルアゾ）−５−オキシピラゾール０．０１部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル３０部を混練りすることにより、組成物ａ４（以下、「組成物（ａ−４）」という）を調製した。
【００４９】
実施例１
（転写フィルムの作製）
得られた組成物（ａ−１）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）上にロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１００℃で１０分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１６０μｍの膜形成材料層（ａ−１）を形成した。更にこの膜形成材料層（ａ−１）上に予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる保護フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）を積層し、厚さ１６０μｍの膜形成材料層を有する転写フィルム（以下、「転写フィルム（１）」という）を作製した。この転写フィルム（１）の膜形成材料層をガラス基板上に転写し、分光光度計（ＵＶ−２４５０：（株）島津製作所製）により波長４０５ｎｍにおける直線透過率（Ｔｐ）を測定したところ、その値は０．５％であり、拡散透過率（Ｔｄ）を測定したところ、その値は１５％であった。
【００５０】
（ＰＤＰ用隔壁の製造）
〔転写工程〕
６インチパネル用の誘電体層付きガラス基板の表面に、保護フィルムを剥離しながら膜形成材料層（ａ−１）を重ね合わせ、加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、誘電体層付きガラス基板の表面に膜形成材料層（ａ−１）が転写されて密着した状態となった。この膜形成材料層（ａ−１）の厚みを測定したところ、１６０μｍ±３μｍの範囲にあった。
【００５１】
〔露光工程〕
膜形成材料層（ａ−１）に対して、露光用マスク（線幅７０μｍ、ピッチ２００μｍのネガ型ストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。照射量は１０００ｍＪ／ｃｍ2とした。露光後、膜形成材料層（ａ−１）より支持フィルムを剥離除去した。
〔現像工程〕
露光処理された膜形成材料層に対して、０．３質量％の炭酸ナトリウム水溶液（３０℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の感放射線性層（ａ−１）の部分を除去し、現像を行った。次いで超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。これにより、隔壁パターンを形成した。
〔焼成工程〕
隔壁パターンが形成されたガラス基板を、焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理した。これにより、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料が得られた。
【００５２】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が７０μｍ±３μｍ、高さが１２０μｍ±２μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できたことがわかった。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。
【００５３】
実施例２
得られた組成物（ａ−２）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）上にロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１００℃で１０分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１６０μｍの膜形成材料層（ａ−２）を形成した。更にこの膜形成材料層（ａ−２）上に予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる保護フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）を積層し、厚さ１６０μｍの膜形成材料層を有する転写フィルム（以下、「転写フィルム（２）」という）を作製した。この転写フィルム（２）を用い、実施例１と同様に測定した直線透過率（Ｔｐ）は１％であり、拡散透過率（Ｔｄ）は２５％であった。
転写フィルム（１）のかわりに転写フィルム（２）を用いて、露光用マスク（線幅７０μｍ、ピッチ２００μｍのポジ型ストライプパターン）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。
【００５４】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が７０μｍ±３μｍ、高さが１２０μｍ±２μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できたことがわかった。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。
【００５５】
実施例３
得られた組成物（ａ−３）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）上にロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１００℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ４０μｍの膜形成材料層（ａ−３）を形成した。更にこの膜形成材料層（ａ−３）上に予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる保護フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）を積層し、厚さ４０μｍの膜形成材料層を有する転写フィルム（以下、「転写フィルム（３）」という）を作製した。この転写フィルム（３）を用い、実施例１と同様に測定した直線透過率（Ｔｐ）は２％であり、拡散透過率（Ｔｄ）は３５％であった。
転写フィルム（１）のかわりに転写フィルム（３）を用いて、現像液として超純水（３０℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。
【００５６】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が７０μｍ±３μｍ、高さが２０μｍ±２μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できたことがわかった。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。
【００５７】
比較例
得られた組成物（ａ−４）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）上にロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１００℃で１０分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１６０μｍの膜形成材料層（ａ−４）を形成した。更にこの膜形成材料層（ａ−４）上に予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる保護フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）を積層し、厚さ４０μｍの膜形成材料層を有する転写フィルム（以下、「転写フィルム（４）」という）を作製した。この転写フィルム（４）を用い、実施例１と同様に測定した直線透過率（Ｔｐ）は０％であり、拡散透過率（Ｔｄ）は０．５％であった。
転写フィルム（１）のかわりに転写フィルム（４）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製した。
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が１００μｍ±５μｍ、高さが１２０μｍ±５μｍであり、寸法精度が低く、かつ隔壁の中央部でエグレが生じたパターンしか得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】交流型プラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
【００５９】
１  ガラス基板                        ２  ガラス基板
３  隔壁                              ４  透明電極
５  バス電極                          ６  アドレス電極
７  蛍光物質                          ８  誘電体層
９  誘電体層                        １０  保護層
【図１】
2006286429.tif 000002