(57)【要約】【課題】  ステージ上に高反射部が局在している場合でも、感光性樹脂を高い精度で露光可能な電気光学装置用基板の製造方法を提供すること。【解決手段】  電気光学装置用基板を製造するために、感光性樹脂１３２に対するハーフ露光工程では、画像表示領域１０１に隣接する帯状隣接領域１２７に樹脂を残す。そして、完全露光工程で電気光学装置用基板の最外周部を第２樹脂除去領域１２６とするための完全露光用のマスク２２０には、帯状隣接領域１２７に対応する領域にベタの遮光部２２１を形成し、その外周側に透光部２２３を形成する。従って、ステージ３００の載置面３１０に高反射部３２０が存在し、かつ、高反射部３２０と画像表示領域１０１の外周縁とは平面的に重なっている場合でも、画像表示領域１０１の外周縁では、高反射部３２０での反射光の影響を受けずに、感光性樹脂１３２に高い精度での露光を行うことができる。【選択図】    図６
2006047529.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージ上の他の領域よりも反射率が高い高反射部が存在するステージを備える露光機を用いて、画像表示領域を備えた透明基板上の感光性樹脂を露光する工程を備えた電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記透明基板上に光透過性の感光性樹脂を塗布する塗布工程と、
前記透明基板を前記ステージ上に載置する載置工程と、
遮光部を備えた露光用マスクを用いて前記感光性樹脂の少なくとも一部を露光する露光工程と、
前記感光性樹脂の露光された部分を現像する現像工程とを有し、
前記露光工程においては、前記高反射部を前記遮光部によって遮光した状態で露光を行うことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記塗布工程を行った以降、前記現像工程を行う前に、前記感光性樹脂層の一部を除去するためのハーフ露光工程を有し、
前記ハーフ露光工程で用いるハーフ露光用マスクは、前記現像工程後、前記画像表示領域に残された前記感光性樹脂表面に凹凸を形成可能な複数の凸部形成用遮光部をランダムに備え、
前記現像工程の後、前記感光性樹脂上に反射層を形成する反射層形成工程を行うことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２において、前記載置工程では、前記高反射部が前記画像表示領域に重ならないように載置することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記ステージは、前記透明基板を持ち上げるための複数のリフトピンを備えており、
当該複数のリフトピンのうちの少なくとも１つが、前記高反射部を備えていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項５】
ステージ上に基板を吸着するための複数の吸着口が開口しているステージを備える露光機を用いて、画像表示領域を備えた透明基板上の感光性樹脂を露光する工程を備えた電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記透明基板上に光透過性の感光性樹脂を塗布する塗布工程と、
前記透明基板を前記ステージ上に載置する載置工程と、
前記感光性樹脂の少なくとも一部を、遮光部を備えた露光用マスクを用いて露光する露光工程と、
前記感光性樹脂の露光された部分を現像する現像工程とを有し、
前記露光工程においては、前記吸着口を前記遮光部によって遮光した状態で露光を行うことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基板上に樹脂層を備えた電気光学装置用基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
反射モードで画像を表示可能な半透過反射型電気光学装置、あるいは全反射型電気光学装置では、外光を表示光として反射するための光反射部を有する電気光学装置用基板が使用されている。ここで、反射面が平坦面であると、画面に背景が写り込んでしまうため、反射層の下層側に、感光性樹脂によって凹凸を備えた下地層を形成しておき、その表面に反射層を形成することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
但し、電気光学装置用基板において画像表示領域の外側、例えば、実装領域などには下地層が存在しない方がよい場合があり、このような場合には、画像表示領域には下地層を形成するが、その外周側領域については、樹脂層を完全に除去した樹脂層除去領域とする。このような電気光学装置用基板を製造するには、まず、図１２（ａ）に示すように、透明基板１２０′の表面にポジタイプの感光性樹脂１３２′を塗布した後、図１２（ｂ）に示すように、透明基板１２０′をステージ３００上に載置した状態で、凸部形成用遮光部２１１′がランダムに配置された露光用マスク２１０′を介して感光性樹脂３１２′を露光し、次に、現像処理を行う。その際、画像表示領域１０１の外側部分１２６′（樹脂層除去領域）に塗布された感光性樹脂１３２′についても完全露光し、このような外側部分１２６′に形成された感光性樹脂１３２′については完全に除去する。次に、図１２（ｃ）に示すように、透明基板１２０′の表面に再び、ポジタイプの感光性樹脂１３２″を塗布した後、この透明基板１２０′をステージ３００上に載置した状態で、露光用マスク２２０′によって、画像表示領域１０１の外側部分１２６′に塗布された感光性樹脂１３２″を露光し、このような外側部分１２６′に形成された感光性樹脂１３２″についても、図１２（ｄ）に示すように、現像処理によって完全に除去する。このようにして、画像表示領域１０１に下地層１３０′を形成した後、下地層１３０′の表面に反射層１４０を形成する。
【特許文献１】特開２００３−７５９８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
図１２（ｂ）に示すように、このような露光工程で用いるステージ３００の載置面３１０には、透明基板１２０′を吸着するための吸着口３３０が複数、開口しており、これらの吸着口３３０による吸引により、透明基板１２０′は、ステージ３００の載置面３１０上に吸着、保持される。ここで、吸着口３３０は、その内部に高反射性の部材が配置されて局部的に高反射性を示す高反射部３２０になっている場合があり、このような高反射部３２０は、露光精度を著しく低下させる。すなわち、ステージ３００の載置面３１０に存在する高反射部３２０が画像表示領域１０１の外周縁と平面的に重なっていると、露光の際、外側領域１２６′に対応する透過部２１５′を透過した強い光が、図１２（ｂ）に矢印Ｌ０で示すように高反射部３２０で反射して、そのまま画像表示領域１０１に塗布されている感光性樹脂１３２′にも届いてしまい、画像表示領域１０１の外周縁では、感光性樹脂１３２′が露光されてしまう。このような露光異常が発生すると、現像後、画像表示領域１０１の外周縁で高反射部３２０と平面的に重なる領域の感光性樹脂１３２′が除去されてしまい、画像を表示したときにこの部分がシミのように映し出されるという問題点がある。
【０００５】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、ステージ上に高反射部が局在している場合でも、感光性樹脂を高い精度で露光可能な電気光学装置用基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明では、ステージ上の他の領域よりも反射率が高い高反射部が存在するステージを備える露光機を用いて、画像表示領域を備えた透明基板上の感光性樹脂を露光する工程を備えた電気光学装置用基板の製造方法であって、前記透明基板上に光透過性の感光性樹脂を塗布する塗布工程と、前記透明基板を前記ステージ上に載置する載置工程と、遮光部を備えた露光用マスクを用いて前記感光性樹脂の少なくとも一部を露光する露光工程と、前記感光性樹脂の露光された部分を現像する現像工程とを有し、前記露光工程においては、前記高反射部を前記遮光部によって遮光した状態で露光を行うことを特徴とする。
【０００７】
本発明では、ステージ上の高反射部を露光用マスクの遮光部によって遮光した状態で露光を行うため、マスクの透過部を透過した強い光が高反射部で反射して遮光部で遮光されている部分の感光性樹脂を不必要に露光するということがない。従って、ステージ上に高反射部が存在する場合でも、露光用マスクの透光部および遮光部で規定される通りのパターンをもって感光性樹脂を露光することができる。
【０００８】
本発明において、前記塗布工程を行った以降、前記現像工程を行う前に、前記感光性樹脂層の一部を除去するためのハーフ露光工程を有し、前記ハーフ露光工程で用いるハーフ露光用マスクは、前記現像工程後、前記画像表示領域に残された前記感光性樹脂表面に凹凸を形成可能な複数の凸部形成用遮光部をランダムに備える場合がある。この場合、前記現像工程の後、前記感光性樹脂上に反射層を形成する反射層形成工程を行って、光散乱用の凹凸を備えた反射層を形成することがある。
【０００９】
本発明において、前記載置工程では、前記高反射部が前記画像表示領域に重ならないように載置することが好ましい。このように構成すると、露光用マスクに高反射部を覆うように遮光部を形成した場合でも、画像表示領域に形成される樹脂層の形状などに影響を及ぼすことがない。
【００１０】
本発明において、前記ステージは、前記透明基板を持ち上げるための複数のリフトピンを備えており、当該複数のリフトピンのうちの少なくとも１つが、前記高反射部を備えている場合がある。
【００１１】
本発明において、前記高反射部は、例えば、前記ステージの載置面で開口する吸着口である。この場合、前記透明基板上に光透過性の感光性樹脂を塗布する塗布工程と、前記透明基板を前記ステージ上に載置する載置工程と、前記感光性樹脂の少なくとも一部を、遮光部を備えた露光用マスクを用いて露光する露光工程と、前記感光性樹脂の露光された部分を現像する現像工程とを有し、前記露光工程においては、前記吸着口を前記遮光部によって遮光した状態で露光を行うことを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
【００１３】
［液晶装置の構成］
図１（ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した液晶装置（電気光学装置）の斜視図および断面図であり、図２は、同液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。なお、図１（ｂ）は、図２におけるＡ−Ａ′線から見た断面に相当する。
【００１４】
図１（ａ）、（ｂ）、および図２に示すように、本形態の液晶装置１００は、電気光学物質としての液晶１８０（図１（ａ）においては図示略）を第１透明基板１０と第２透明基板１２０との間に保持する液晶パネル１０２と、この液晶パネル１０２の第２透明基板１２０の側に配設されたバックライトユニット１０４とを有しており、液晶パネル１０２の略中央部領域に画像表示領域１０１を備えている。以下の説明においては、便宜上、図１（ｂ）に示したように液晶１８０に対して第１透明基板１０側を、液晶装置１００による表示画像を視認する観察者が位置する側という意味で「観察側」と表記し、液晶１８０からみて第２透明基板１２０側を「背面側」と表記する。
【００１５】
バックライトユニット１０４は、例えば、光透過性樹脂の成形品などからなる導光板１０６と、ＬＥＤや冷陰極管などの光源１０５とを備えており、この光源１０５は、板状部材である導光板１０６の側端面に対して光を照射する。導光板１０６のうち、液晶パネル１０２と対向する面には、導光板１０６からの光を液晶パネル１０２に対して一様に拡散させる拡散板（図示略）が配置されている。また、導光板１０６の反対側の面には、導光板１０６から背面側に出射しようとする光を液晶パネル１０２側に反射させる反射板（図示略）が配置されており、その側端面から入射した光を液晶パネル１０２の第２透明基板１２０に向けて一様に出射する。
【００１６】
液晶パネル１０２の第１透明基板１０は、ガラスなどの光透過性材料からなる板状部材である。第１透明基板１０の観察側の面には、コントラストを改善するための位相差板１１１（図１（ａ）、図２では図示略）と、入射光を偏光させるための偏光板１１２（図１（ａ）、図２では図示略）が、第１透明基板１０側からこの順で積層されている。第１透明基板１０の液晶１８０側（背面側）の面には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜などからなる光透過性の画素電極１１４がマトリックス状に配置されている。この各画素電極１１４の間隙には、一方向（図２に示すＹ方向）に延在する複数のデータ線１１６が形成されており、各画素電極１１４と各画素電極１４に隣接するデータ線１１６とは、非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）素子１１５を介して接続されている。また、図１（ｂ）に示すように、画素電極１１４、データ線１１６およびＴＦＤ素子１１５が形成された第１透明基板１０の表面は、配向膜１１８（図２では図示略）により覆われている。この配向膜１１８は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶１８０の配向状態を規定するためのラビング処理が施されている。
【００１７】
第２透明基板１２０は、ガラスなどの光透過性材料からなる板状部材であり、その背面側には、第１透明基板１０と同様に、位相差板１２１（図１（ａ）、図２では図示略）、および偏光板１２２（図１（ａ）、図２では図示略）が、第２の基板１２０からこの順に積層されている。一方、第２透明基板１２０の液晶１８０側（観察側）の面には、下地層１３０、反射層１４０、３色のカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂ、平坦化膜１５６、走査線１５２、および配向膜１５４（図２では図示略）が第２透明基板１２０からこの順に積層されている。これらの層のうち、配向膜１５４は、配向膜１１８と同様、ポリイミドなどの有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶１８０の配向状態を規定するためのラビング処理が施されている。
【００１８】
下地層１３０は、後述するように、ポジタイプの感光性樹脂を露光・現像することにより形成されたものである。下地層１３０は、ドット１６０の中央付近で樹脂が完全に除去された開口部１３５が形成され、観察側（表面）には、滑らかな凹凸を備えた凹凸面１３０ｂを有している。
【００１９】
反射層１４０は、例えば、アルミニウムまたは銀などの光反射性を有する材料を下地層１３０の上層側に略一定の膜厚にて薄膜形成されたものであり、反射層１４０の表面は、下地層１３０の凹凸状の表面形状が反映された散乱反射面になっている。ここで、反射層１４０は、下地層１３０の開口１３５に相当する部分が除去された光透過部１４５を備えている。従って、本形態において、反射層１４０は、半透過反射層として構成されている。
【００２０】
なお、説明の便宜上、以降の説明においては、第２透明基板１２０、下地層１３０、および反射層１４０を含む機能性基板を「電気光学装置用基板１２４」と称する。
【００２１】
カラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂは、各ドット１６０に対応して設けられた樹脂層である。各カラーフィルタは、顔料などにより赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）のいずれかにそれぞれ着色されており、その色に対応する波長の光を選択的に透過させる。なお、図２における「Ｒ」、「Ｇ」および「Ｂ」はドット１６０の各々が、いずれのカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂが配置されるドット１６０かを示している。
【００２２】
ここで、カラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂの境界領域には遮光層１５１が形成されており、遮光層１５１は、例えば、カーボンブラックが分散された黒色樹脂材料や、クロム（Ｃｒ）といった金属材料などにより形成されている。なお、遮光層１５１は、特定の材料によって形成されることに限定されず、例えば、着色層を構成するカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂの各着色層を二色または三色重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。
【００２３】
複数の走査線１５２の各々は、ＩＴＯなどの光透過性導電材料により形成された帯状の電極である。走査線１５２は、平坦化膜１５６の上層に形成されており、上述したデータ線１１６と交差する方向（図２中Ｘ方向）に延在し、第１透明基板１０上に列をなす複数の画素電極１１４と対向するように位置する。そして走査線１５２は、図１に示したように、電気光学装置用基板１２４の側端面においては、その側端面を跨いで位置し、第２透明基板１２０上においては、観察側の面上に位置する。
【００２４】
以上説明した構成の第１透明基板１０および第２透明基板１２０は、図１（ｂ）に示すように、シール材１７０を介して貼り合わされるとともに、両基板とシール材１７０とによって囲まれた領域に、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型などの液晶１８０が封止される。ここで、第１透明基板１０に形成された配線パターンと、第２透明基板１２０に形成された配線パターンとは、所定のパターン同士、シール材１７０に含まれる基板間導電粒子によって電気的に接続されている。かかる構成の下、第１透明基板１０と第２透明基板１２０とにより狭持された液晶１８０は、画素電極１１４とこれに対向する走査線１５２との間に電圧が印加されることにより、その配向方向が変化する。図２に示すように、この印加電圧に応じて液晶１８０の配向方向が変化する領域の最小単位１６０はマトリックス状に配列されており、その各々がサブ画素（ドット）として機能する。この液晶パネル１０２に観察側から外光が入射すると、外光は、液晶１８０を透過した後、電気光学装置用基板１２４により散乱反射されて、再び液晶１８０を透過した後、観察側に向けて出射され、反射モードでの画像を表示する。一方、液晶パネル１０２の背面側から入射したバックライトユニット１０４からの光は、開口部１３５および光透過部１４２を通過して液晶１８０の層に入射した後、観察側に出射され、透過モードで画像が表示される。
【００２５】
［電気光学装置用基板１２４の構成］
図３（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明を適用した電気光学装置用基板の外周縁部分の構成を示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′線断面を模式的に示す説明図である。
【００２６】
図３（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置用基板１２４において、その略中央の画像表示領域１０１には、第２透明基板１２０に形成された下地層１３０によって、反射層１４０の表面には光散乱用の凹凸が形成されている。また、電気光学装置用基板１２４の矩形枠状の最外周領域は、下地層１３０が完全に除去された樹脂層除去領域１２６になっており、基板導通用端子の形成領域などとして利用されている。
【００２７】
さらに、本形態の電気光学装置用基板１２４では、画像表示領域１０１と樹脂層除去領域１２６との間の矩形枠状領域、すなわち、画像表示領域１０１に対して外側で帯状に隣接する領域は、ドット１６０の寸法の約１／２の幅寸法をもって樹脂層が残された帯状隣接領域１２７になっている。ここで、帯状隣接領域１２７は、その内周側領域１２８では、画像表示領域１０１と同様、下地層１３０の表面に凹凸が形成され、かつ、その上層側には反射層１４０が形成されている。これに対して、帯状隣接領域１２７の外周側領域１２９では、画像表示領域１０１と違って、下地層１３０の表面は平坦であり、その上層側には反射層１４０が形成されていない。なお、帯状隣接領域１２７の内周側領域１２８には反射層１４０を形成しない構成であってもよい。
【００２８】
このような帯状隣接領域１２７は、以下に説明するように、電気光学装置用基板１２４の製造工程において、下地層１３０を形成するための露光工程で、第２透明基板１２０を載置したステージ３００の高反射部３２０の影響を回避するためにマスクを設計した結果、樹脂層が残った領域である。
【００２９】
［電気光学装置用基板１２４の製造方法の基本構成］
図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ、本発明に係る電気光学装置用基板を製造するのに用いた大型の透明基板、ハーフ露光用のマスク、完全露光用のマスクの説明図である。図５は、本発明を適用した液晶装置に用いた電気光学装置用基板の製造方法を示す工程図、図６および図７は、その工程断面図である。なお、図４（ｂ）、（ｃ）において、ハーフ露光用のマスクおよび完全露光用のマスクについては、電気光学装置用基板の２枚分の領域を露光可能なマスクとして拡大して示してある。また、図６および図７では、大型の透明基板において２枚分の電気光学装置用基板が切り出される領域の境界部分を拡大して示してあり、その切断予定線は矢印Ｃで示す位置である。
【００３０】
図４（ａ）に示すように、本形態の電気光学装置用基板１２４を製造するにあたっては、それを多数取りできる大型の透明基板に対して、下地層１３０や反射層１４０などの形成を行い、しかる後に、単品サイズの電気光学装置用基板１２４を切り出す。なお、以下の説明では、大型の透明基板についても第２透明基板１２０として説明し、区別しない。
【００３１】
また、電気光学装置用基板１２４に下地層１３０を形成するには、大型の第２透明基板１２０に感光性樹脂を塗布した後、露光、現像するが、本形態では、大型の第２透明基板１２０をステージ３００の載置面３１０に載置した状態で露光を行う。ここで、ステージ３００の載置面３１０には、載置面３１０に第２透明基板１２０を吸着するための吸着口３３０が複数、開口しており、それらの一部は、内部に高反射部材が配置されて、局部的に反射率が高い高反射部３２０になっていることがある。このような高反射部３２０は、図１１を参照して説明したように、露光精度を低下させる原因となるため、本形態では、図４（ｂ）に示すハーフ露光用のマスク２１０と、図４（ｃ）に示す完全露光用のマスク２２０とを用いる。これらのマスク２１０、２２０の構成については、図５、図６および図７を参照して行う以下の製造工程の中で順次、説明する。なお、図４（ｂ）に示すマスク２１０において、凸部形成用遮光部が形成されている領域には右上がりの斜線を付し、ベタの遮光部には、右上がりの斜線と左上がりの斜線とを付してある。また、図４（ｃ）に示すマスク２２０において、透光部には斜線を一切、付さず、ベタの遮光部には右上がりの斜線と左上がりの斜線とを付してあるが、ベタの遮光部であっても、開口部１３５を形成用の透光部がランダムに形成されている。
【００３２】
本形態では、電気光学装置用基板１２４を製造するにあたって、まず、大型の第２透明基板１２０を洗浄した後、洗浄した基板を乾燥させる（図５：プロセスＰ１）。
【００３３】
次に、図６（ａ）に示すように、第２透明基板１２０のうち観察側となる面に、例えばスピンコート法などにより、感光性材料の一種であるポジタイプの感光性樹脂１３２を塗布する（図５：プロセスＰ２／塗布工程）。感光性樹脂１３２としては、アクリル樹脂などを用いることができる。その後、第２透明基板１２０に塗布した感光性樹脂１３２を減圧環境下において乾燥させ（図５：プロセスＰ３）、乾燥した感光性樹脂１３２を８５℃から１０５℃の範囲にて約２分間プリベークする（図５：プロセスＰ４）。
【００３４】
次に、図６（ｂ）に示すように、ステージ３００の載置面３１０に第２透明基板１２０を載置する（載置工程）。この状態で、ステージ３００と画像表示領域１０１は、わずかにずれているか、あるいはわずかに重なっている。
【００３５】
次に、感光性樹脂１３２をステッパにより、図４（ａ）に示すマスク２１０（ハーフ露光用のマスク）を用いて露光する（図５：プロセスＰ５／ハーフ露光工程）。
【００３６】
ここで、ハーフ露光用のマスク２１０は、ガラスなどの光透過性を有する基板にクロム層などが形成されたものであり、本形態では、マスク２１０には、画像表示領域１０１に対応する領域に、下地層１３０の凹凸面１３０ｂを形成するための微小な凸部形成用遮光部２１１がランダムに複数、形成されている。また、マスク２１０には、帯状隣接領域１２７の内周側領域１２８に対応する領域にも、微小な凸部形成用遮光部２１１がランダムに複数、形成されている。但し、マスク２１０において、帯状隣接領域１２７の外周側領域１２９に対応する領域、および樹脂層除去領域１２６に対応する領域はベタの遮光部２１４になっている。なお、感光性樹脂１３２はポジタイプであるため、マスク２１０の透光部２１３から光が照射されると、その部分は、後述の現像工程において現像液に溶解し除去される。
【００３７】
このようなマスク２１０にて、例えば、露光時間を１、６００ｍｓｅｃとして露光すると、マスク２１０の透光部２１３から透過した光は、感光性樹脂１３２をハーフ露光し、その露光量については、図６（ｂ）において、破線で示す深さとして模式的に表される。なお、図６（ｂ）には、感光性樹脂１３２の未露光部分に右下がりの斜線を付して、その露光量を模式的に示してある。
【００３８】
ステッパにより、以上のようなマスク２１０を順次ずらして、第２透明基板１２０の全体の露光処理を行った後、ステージ３００の載置面３１０に第２透明基板１２０を載置したまま、図６（ｃ）に示すように、マスク２２０（完全露光用のマスク）を用いて露光を行う（図５：プロセスＰ６／完全露光工程）。
【００３９】
ここで、完全露光用のマスク２２０も、マスク２１０と同様、ガラスなどの光透過性を有する基板にクロム層などが形成されたものであり、本形態では、マスク２２０には、画像表示領域１０１に対応する領域がベタの遮光部２２１になっているが、画像表示領域１０１のうち、各ドット１６０の開口部１３５に対応する領域には矩形の透光部２２４が形成されている。また、マスク２２０には、帯状隣接領域１２７に対応する領域全体がベタの遮光部２２１になっている。従って、マスク２２０の遮光部２２１は、高反射部３２０を覆った状態にある。但し、マスク２２０において、樹脂層除去領域１２６に対応する領域は完全な透光部２２３になっている。なお、感光性樹脂１３２はポジタイプであるため、マスク２２０の透光部２１３、２２４から光が照射されると、その部分は、後述の現像工程において現像液に溶解し除去される。
【００４０】
このようなマスク２２０にて、前記のハーフ露光工程と露光時間を異ならせ、例えば、露光時間を４、０００ｍｓｅｃとして完全露光を行う。その結果、マスク２１０を透過した光は、感光性樹脂１３２を完全露光し、その露光量については、図６（ｃ）において、破線で示す深さとして模式的に示し、感光性樹脂１３２の未露光部分に右下がりの斜線を付して示すように、透光部２２３、２２４に対応する領域では、感光性樹脂１３２の最下部にまで完全露光される。
【００４１】
ステッパにより、以上のようなマスク２２０を順次ずらして、第２透明基板１２０の全体の露光処理を行った後、感光性樹脂１３２に現像処理を施すと（図５：プロセスＰ７／現像工程）、図７（ａ）に示すように、露光工程において光が作用した深さの分、感光性樹脂１３２が除去される。その結果、画像表示領域１０１には、微小な凸部がランダムに配置された凹凸面１３０ｂを備えた下地層１３０が形成され、かつ、各ドット１６０の中央領域には開口部１３５が形成される。また、大型の第２透明基板１２０において、電気光学装置用基板１２４として切り出される領域の最外周領域には、感光性樹脂１３２が完全に除去された樹脂層除去領域１２６が矩形枠状に形成される。さらに、画像表示領域１０１と樹脂層除去領域１２６との間の帯状隣接領域１２７には感光性樹脂１３２が残され、そのうち、内周側領域１２８では、画像表示領域１０１と同様、下地層１３０の表面に凹凸が形成され、帯状隣接領域１２７の外周側領域１２９では、表面が平坦な下地層１３０が残される。
【００４２】
次に、感光性樹脂１３２に、必要に応じてｉ線などの紫外線（ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  ｒａｙｓ：以下、ＵＶと称する）を照射して、その色相を除去した後、感光性樹脂１３２を、例えば「２２０℃」にて５０分間焼成する（図５：プロセスＰ８）。
【００４３】
次に、図７（ｂ）に示すように、アルミニウムまたはアルミニウム合金などの反射性の金属層１４１を略一定の厚みにて、例えばスパッタリングなどにより、下地層１３０を覆うように形成した後、下地層１３０の凹凸面１３０ｂに対応する部分をレジストマスク１４２で覆う。そして、金属層１４１のうちレジストマスク１４２で覆われていない部分をエッチングした後、レジストマスク１４２を除去すると、図７（ｃ）に示すように開口部１３５と、凹凸状の反射層１４０とを有する散乱反射型の電気光学装置用基板１２４が製造される（図５：プロセスＰ９／反射層形成工程）。ここで、下地層１３０に形成された凹凸面の凹部が第２透明基板１２０にまで達していないため、凹凸面１３０ｂの凹部が平坦とならない。
【００４４】
このようにして、散乱反射型の電気光学装置用基板１２４が完成する。その後、図１に示すように、第２透明基板１２０の反射面側（観察側）に、例えばクロムからなる薄膜を、例えばスパッタリング法などにより形成した後、パターニングし、格子状の遮光層１５１を形成する。なお、遮光層１５１は、特定の材料によって形成されることに限られず、例えば、着色層を構成するカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂの各着色層を二色または三色重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。次に、第２透明基板１２０における反射層１４０上に赤色、緑色および青色のカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇおよび１５０Ｂの各々を、マトリックス状に形成する。これらのカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂの形成方法としては、例えば、顔料により着色された感光性樹脂により形成することができる。次に、カラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂおよび遮光層１５１を覆うように平坦化膜１５６を形成した後、平坦化膜１５６の上層にＩＴＯなどからなる薄膜を形成し、これをパターニングすることによって走査線１５２を形成する。しかる後には、配向膜１５４を形成し、配向膜１５４の表面にラビング処理を施す。このようにして形成した第２透明基板１２０と、画素電極１１４、データ線１１６、ＴＦＤ素子１１５および配向膜１１８が形成された第１透明基板１０とを、互いの配向膜１１８、と配向膜１５４を対向させた状態でシール材１７０を介して貼り合わせた後、基板間のシール材１７０とによって囲まれた空間に液晶１８０を注入し、その後、封止材（図示せず）により液晶１８０が注入された空間を封止する。その結果、液晶パネル１０２が完成する。
【００４５】
なお、マスク２１０、２２０は、大型基板全体を一括露光できる大型マスクとして構成される場合があるが、その場合でも、基本的な構成が同様であるため、その説明を省略する。また、図４（ａ）に示すように、ステージ３００の載置面３１０には、第２透明基板１２０を取り外す際のリフトピン３５０が配置され、このリフトピン３５０によって、高反射部３２０が形成される場合もある。さらに、図示を省略するが、ステージ３００の載置面３１０において、ネジ頭が高反射部を形成する場合もある。このような場合でも、上述した構成で対策可能あるため、その場合の作用などについては説明を省略する。
【００４６】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、図６（ｃ）に示す完全露光工程では、画像表示領域１０１と、この画像表示領域１０１に所定の幅をもって隣接する帯状隣接領域１２７とを遮光可能な遮光部２２１を備えた完全露光用のマスク２２０を用いるため、第２透明基板１２０をステージ３００上に配置した状態で、画像表示領域１０１の外周縁とステージ３００の高反射部３２０とが重なった場合でも、このような部分は、遮光部２２１で遮光され、露光されない。従って、ステージ３００の載置面３１０に高反射部３２０が存在し、かつ、高反射部３２０と画像表示領域１０１の外周縁とは平面的に重なっている場合でも、画像表示領域１０１の外周縁では、高反射部３２０での反射光の影響を受けずに、感光性樹脂１３２に高い精度での露光を行うことができる。それ故、下地層１３０の表面に反射層１４０を形成した場合でも、画像表示領域１０１の外周縁の反射層１４０での反射特性に異常が発生しない。よって、本形態を適用した電気光学装置用基板１２４を用いた液晶装置１００によれば、画像表示領域１０１の外周縁にシミなどが発生せず、品位の高い画像を表示することができる。
【００４７】
特に本形態では、ハーフ露光工程で用いるマスク２１０には、下地層１３０の凹凸面１３０ｂを形成するための微小な凸部形成用遮光部２１１が形成されている。従って、画像表示領域１０１の外周縁とステージ３００の高反射部３２０とが重なった状態で帯状隣接領域１２７に樹脂層を残さずに完全露光工程を行うと、画像表示領域１０１の外周縁ではすでに感光性樹脂１３２がハーフ露光されているので、累積光量が増大し、露光異常が発生しやすい。しかるに本形態では、画像表示領域１０１と帯状隣接領域１２７とを遮光可能な遮光部２２１を備えたマスク２２０で完全露光工程を行うため、画像表示領域１０１の外周縁では、高反射部３２０での反射光の影響を受けずに、感光性樹脂１３２に高い精度での露光を行うことができる。
【００４８】
なお、図６（ｃ）に示す完全露光工程で用いるマスク２２０には、開口部１３５を形成するための透光部２２４が形成されているため、透光部２２４と高反射部３２０とが重なる場合がある。但し、透光部２２４は、樹脂除去領域１２６を形成するために透光部２２３と違って面積が狭いため、透光部２２４を透過して高反射部３２０で反射した光は、透光部２２３を透過して高反射部３２０で反射した光と違って、著しく光量が少ないので、露光異常を発生させることはない。
【００４９】
また、図６（ｂ）に示すハーフ露光工程で用いるマスク２１０には、凹凸を形成するための透光部２１３が形成されているため、透光部２１３と高反射部３２０とが重なっている。但し、ハーフ露光工程では、露光時の光量が低いため、露光異常を発生させることはない。
【００５０】
また、本形態は、ステージ３００の載置面３１０に第２透明基板１２０を載置する載置工程において、高反射部３２０が画像表示領域１０１に重なっている場合、重なっていない場合のいずれにも適用できるが、高反射部３２０が画像表示領域１０１に重ならないように第２の透明基盤１２０をステージ３００上に載置すれば、露光マスク２２０において、高反射部３２０を覆うように遮光部２２１の形成範囲を広げても、画像表示領域１０１に形成される下地膜１３０の形状などには一切、影響がないという利点がある。
【００５１】
［電気光学装置用基板１２４の別の製造方法］
上記形態では、ハーフ露光工程で用いるマスク２１０には、帯状隣接領域１２７の内周側領域１２８に対応する領域に微小な凸部形成用遮光部２１１がランダムに形成されていたが、図８（ａ）に示すように、帯状隣接領域１２７に対応する領域全体がベタの遮光部２１４になっているマスク２１０でハーフ露光工程を行ってもよい。この場合でも、図８（ｂ）に示すように、完全露光工程で用いるマスク２２０は、帯状隣接領域１２７に対応する領域がベタの遮光部２２１になっている。従って、現像後、図８（ｃ）に示すように、帯状隣接領域１２７には、表面に凹凸のない下地層１３０が残ることになる。
【００５２】
このような製造方法でも、ステージ３００の載置面３１０に高反射部３２０が存在し、かつ、高反射部３２０と画像表示領域１０１の外周縁とは平面的に重なっている場合でも、画像表示領域１０１の外周縁では、高反射部３２０での反射光の影響を受けないので、感光性樹脂１３２に高い精度での露光を行うことができる。
【００５３】
［電気光学装置用基板１２４のさらに別の製造方法］
また、図９（ａ）に示すように、帯状隣接領域１２７に対応する領域が透光部２１５になっているマスク２１０でハーフ露光工程を行ってもよい。この場合でも、図９（ｂ）に示すように、完全露光工程で用いるマスク２２０は、帯状隣接領域１２７に対応する領域がベタの遮光部２２１になっている。従って、現像後、図９（ｃ）に示すように、帯状隣接領域１２７には、表面に凹凸のない下地層１３０が薄く残ることになる。
【００５４】
このような製造方法でも、ステージ３００の載置面３１０に高反射部３２０が存在し、かつ、高反射部３２０と画像表示領域１０１の外周縁とは平面的に重なっている場合でも、画像表示領域１０１の外周縁では、高反射部３２０での反射光の影響を受けずに、感光性樹脂１３２に高い精度での露光を行うことができる。
【００５５】
なお、図９（ａ）に示すハーフ露光工程においては、帯状隣接領域１２７に対応する領域が透光部２１５になっているマスク２１０を用いるので、矢印Ｌ０で示すように、透光部２１５を透過した光が高反射部３２０で反射して、画像表示領域１０１に向かうが、ここで行う露光は、あくまでハーフ露光であるため、露光精度が低下することはない。
【００５６】
［その他の実施の形態］
上記のいずれの形態でも下地層１３０の形成にポイタイプの感光性樹脂を用いたが、ネガタイプの感光性樹脂を用いて下地層１３０を形成することができる。この場合でも、図１０（ａ）に示すように、ステージ３００の載置面３１０に高反射部３２０が存在すると、凹凸を形成するためのハーフ露光工程後の完全露光工程で、露光用マスク２４０′の遮光部２４１′で覆われているはずのネガタイプの感光性樹脂１３３も、一部が強い光（矢印Ｌ０で示す）で露光されてしまい、図１０（ｂ）に示すように、現像により下地層１３０を形成した状態で、樹脂層除去領域１２６の一部に感光性樹脂１３０′が残ってしまうことがある。このような場合にも、図１０（ｃ）に示すように、完全露光工程で用いる露光用マスク２４０において、高反射部３２０と対向する領域にベタの遮光部２４１を形成しておけば、高反射部３２０で反射した光が、樹脂層除去領域１２６に形成されているネガタイプの感光性樹脂１３３を露光することを防止でき、図１０（ｄ）に示すように、樹脂層除去領域１２６に感光性樹脂１３３が残ることがない。
【００５７】
上記形態では、半透過反射型の液晶装置１００に用いる電気光学装置用基板１２４を説明したが、全反射型の液晶装置１００に用いる電気光学装置用基板１２４の場合には、開口部１３５や透光部１４２を形成する必要がない。このような場合にも本発明を適用してもよい。また、上記の実施の形態はいずれも、アクティブ素子としてＴＦＤ素子を用いた液晶パネルを備えた電気光学装置を例に説明したが、アクティブ素子としてＴＦＴを用いた液晶パネルを備えた電気光学装置などに本発明を適用してもよい。
【００５８】
［電子機器への搭載例］
本発明を適用した液晶装置１００は、図１１に示す携帯電話機１３００の表示部として用いることができる。ここで、携帯電話機１３００は、複数の操作ボタン１３１０の他、受話口１３２０、送話口１３３０を備えている。なお、液晶装置１００は、携帯電話機１３００の他、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、ムービーカメラ、車載機器、オーディオ機器、プロジェクタなどの電子機器に搭載される。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】（ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した液晶装置（電気光学装置）の斜視図および断面図である。
【図２】図１に示す液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明を適用した電気光学装置用基板の外周縁部分の構成を示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′線断面を模式的に示す説明図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ、本発明に係る電気光学装置用基板を製造するのに用いた大型の透明基板、ハーフ露光用のマスク、完全露光用のマスクの説明図である。
【図５】本発明に係る電気光学装置用基板の製造方法を示す工程図である。
【図６】本発明に係る電気光学装置用基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図７】本発明に係る電気光学装置用基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図８】本発明に係る電気光学装置用基板の別の製造方法を示す工程断面図である。
【図９】本発明に係る電気光学装置用基板のさらに別の製造方法を示す工程断面図である。
【図１０】ネガタイプの感光性樹脂を用いて、本発明に係る電気光学装置用基板に下地層を製造する場合の説明図である。
【図１１】本発明を適用した液晶装置を備えた電子機器の説明図である。
【図１２】従来の電気光学装置用基板の製造方法を示す工程断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１００  液晶装置（電気光学装置）、１０１  画像表示領域、１１０  第１透明基板、１２０  第２透明基板、１２４  電気光学装置用基板、１３０  下地層、１３２  ポジタイプの感光性樹脂、１３５  開口部、１４０  反射層、１４２  透光部、１８０  液晶（電気光学物質）、２１０、２２０、２４０  露光用マスク、２１１  露光用マスクの凸部形成用遮光部、２１３、２２３、２２４  露光用マスクの透光部、２１４、２４１  露光用マスクの遮光部、３００  ステージ、３１０  ステージの載置面、３２０  ステージの高反射部、３３０  ステージの吸着口、３５０  リフトピン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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