(57)【要約】【課題】  充分な洗浄機能を確保しつつ、正確に基板を搬送することができ、しかも、基板洗浄機構の製作が容易な基板処理装置を提供する。【解決手段】  搬送ローラに支持された基板Ｂの主面に、ブラシ部２２１，２２２の毛束５０の先端５０Ｈを、当該毛束５０が延びる方向から基板Ｂの主面に沿わせて一方向に曲げた状態として、当該先端５０Ｈを基板Ｂの主面に摺接させるようにする。この姿勢で、先端５０Ｈが基板Ｂの面に当接しながら、当該ブラシ部２２１が基板搬送方向に直交する基板面と平行な方向に往復移動して、搬送中の基板面を洗浄する。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持する支持手段と、
基部と、当該基部から延びる多数の毛からなる毛束とを有するブラシと、
前記支持手段に支持された基板の主面に、前記ブラシの毛束の先端部を、当該毛束が延びる方向から前記基板の主面に沿わせて一方向に曲げた状態として、当該先端部を前記基板の主面に摺接させる摺接手段と
を備える基板処理装置。
【請求項２】
前記ブラシは、第１方向に延びる棒状とされ、
前記第１方向と交差する第２方向に、前記基板を前記ブラシに対して相対的に搬送する搬送手段をさらに備え、
前記搬送手段により前記第２方向に沿って前記ブラシに対して相対的に搬送される前記基板の主面に対して、前記摺接手段は、前記ブラシの毛束の先端部を前記基板の相対搬送方向の下流側に向けて曲げた状態として、前記ブラシを前記第１方向に沿って往復移動させつつ前記基板の主面に摺接させる請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記摺接手段は、前記ブラシの毛束の先端部が前記基板の相対搬送方向の下流側に向かうように、前記ブラシを傾斜させて支持しつつ、前記ブラシを前記基板の主面に摺接させる請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第２方向に沿って、複数の前記ブラシが並列に配置されている請求項２又は請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記支持手段に支持された前記基板の両方の主面側に、複数の前記ブラシがそれぞれ配置されている請求項３又は請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記支持手段に支持された前記基板の両方の主面側に複数の前記ブラシが互いに対向配置され、かつ、前記支持手段に前記基板が支持されていないときに、当該対向配置された前記各ブラシの先端部が互いに当接するように前記各ブラシが配置されるとともに、前記支持手段に前記基板が支持されていないときに、前記摺接手段によって対向配置された前記各ブラシの先端部を互いに摺接させる請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記ブラシの毛束の先端部が形成する平面が、毛束が曲げられるべき一方向に向かって前記支持手段に支持された前記基板の主面に近づく傾斜面とされている請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記基板の主面に摺接して曲がった状態となっている前記ブラシの毛束の先端部に向けて処理液を供給する処理液供給手段をさらに有する請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記ブラシの基部から延びる多数の毛からなる毛束の先端部を、前記基板の主面に沿うように一方向に曲げた状態で、前記先端部を前記基板の主面に摺接させて基板を処理する基板処理方法。
【請求項１０】
前記基板の主面に摺接して曲がった状態となっている前記ブラシの毛束の先端部に向けて処理液を供給する請求項９に記載の基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示デバイス（ＬＣＤ）、プラズマ表示デバイス（ＰＤＰ）、半導体デバイス等の製造プロセスにおいて、ＬＣＤ又はＰＤＰ用ガラス基板、半導体基板、プリント基板等に対して各種の処理、例えば洗浄処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板等の基板製造ラインにおいては、例えばエッチング処理等の薬液を用いた特定の処理装置の後に基板洗浄機構を設け、基板表面に残った薄膜やパーティクル等の異物を洗浄除去することが行われている。このような基板洗浄機構を有する基板処理装置としては、例えば、特許文献１に示されるように、ローラコンベア等の搬送手段により搬送される基板に純水等の処理液を供給しつつ、該基板表面に円筒状のロールブラシを当接させるものが提案されている。
【０００３】
また、特許文献２に示されるように、搬送される基板の上面側及び下面側に、棒状ブラシを所定間隔をおいて複数配設し、基板搬送方向に対して直交する方向に往復運動させることで基板上の埃等を除去する洗浄装置も提案されている。
【特許文献１】特開平９−３２６３７７号公報
【特許文献２】特開平１０−３４０９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に示される基板処理装置は、ロールブラシを用いて基板を洗浄するため、大型サイズの基板の洗浄に要求される精度を備えたロールブラシを製作することが困難である。すなわち、基板大型化に伴って、基板の搬送方向に直交する水平方向に延びるロールブラシの長さが長くなったため、ロールブラシ自身の重みで長さ方向中央部近傍に撓みが発生し、基板とロールブラシとの間隔を一定に保つことが困難となっており、基板とロールブラシとの間隔が一定とされた洗浄機構の製作は容易ではない。
【０００５】
上記特許文献２に示される洗浄装置の場合、ブラシ毛束の先端で形成される平面が均一でないと、ブラシを基板の主面に均一に摺接させることができないが、ブラシ毛束の先端の平面を均一にすることは加工上、困難である。また、このような基板表面に対して直交する姿勢からなる棒状ブラシによって、充分な洗浄性能を確保するには、基板表面に対する押圧力を大きくせざるを得ないため、基板搬送時において、当該押圧力によって基板搬送に支障が生じたり、基板が蛇行して搬送されてしまうおそれがある。さらに、上記ブラシ先端の平面と基板主面とを平行な状態としてブラシを押圧する必要があるが、基板大型化に伴って、基板の搬送方向に直交する水平方向に延びるブラシ長さが長くなり、ブラシ自身の重みで長さ方向中央部近傍に撓みが発生しやすくなったため、ブラシの長尺方向においてブラシを上下に傾斜させないようにして、基板とブラシとの間隔を一定に保った状態でブラシ本体を基板主面に押圧することは、高精度が要求され困難となっている。
【０００６】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、充分な洗浄機能を確保しつつ、正確に基板を搬送することができ、しかも、基板洗浄機構の製作が容易な基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の請求項１に記載の発明は、基板を支持する支持手段と、
基部と、当該基部から延びる多数の毛からなる毛束とを有するブラシと、
前記支持手段に支持された基板の主面に、前記ブラシの毛束の先端部を、当該毛束が延びる方向から前記基板の主面に沿わせて一方向に曲げた状態として、当該先端部を前記基板の主面に摺接させる摺接手段と
を備えるものである。
【０００８】
また、請求項９に記載の発明は、前記ブラシの基部から延びる多数の毛からなる毛束の先端部を、前記基板の主面に沿うように一方向に曲げた状態で、前記先端部を前記基板の主面に摺接させて基板を処理する基板処理方法である。
【０００９】
これらの構成では、ブラシの毛束の先端部が、基板の主面に沿うように曲がった状態で基板の主面に摺接するようになっている。そのため、このように曲がった状態のブラシ毛束の先端部には、真直ぐな状態に戻ろうとする応力が働くので、ブラシ毛束の先端部は基板の主面側に付勢される。この結果、例えブラシの毛束の先端部が形成する平面が不均一であったり、また、ブラシの長尺化によりブラシ自身の重みでブラシの長さ方向中央部近傍に撓みが発生して、ブラシの長尺方向においてブラシが上下に多少傾斜していても、ブラシの毛束の先端部を基板主面に対して均一に摺接させることができる。
【００１０】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記ブラシは、第１方向に延びる棒状とされ、
前記第１方向と交差する第２方向に、前記基板を前記ブラシに対して相対的に搬送する搬送手段をさらに備え、
前記搬送手段により前記第２方向に沿って前記ブラシに対して相対的に搬送される前記基板の主面に対して、前記摺接手段は、前記ブラシの毛束の先端部を前記基板の相対搬送方向の下流側に向けて曲げた状態として、前記ブラシを前記第１方向に沿って往復移動させつつ前記基板の主面に摺接させるものである。
【００１１】
この構成によれば、第２方向に沿ってブラシに対して相対的に搬送される基板の主面に対して、ブラシの毛束の先端部を基板の相対搬送方向の下流側に向けて曲げた状態として、当該ブラシを第１方向に沿って往復移動させつつ基板の主面に摺接させるので、ブラシの長尺化により、ブラシの長尺方向においてブラシが上下に多少傾斜していても、ブラシの毛束の先端部を基板主面に対して均一に摺接させた状態で、ブラシを上記第１方向に沿って往復移動させることができる。
【００１２】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置であって、前記摺接手段は、前記ブラシの毛束の先端部が前記基板の相対搬送方向の下流側に向かうように、前記ブラシを傾斜させて支持しつつ、前記ブラシを前記基板の主面に摺接させるものである。
【００１３】
この構成によれば、基板の相対搬送方向に抗わないようにブラシが配置されているので、ブラシを基板主面に摺接させた状態としていても、基板を円滑に搬送することができる。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、請求項２又は請求項３に記載の基板処理装置であって、前記第２方向に沿って、複数の前記ブラシが並列に配置されているものである。
【００１５】
この構成では、上記第２方向に沿った複数ブラシの並列配置によって、ブラシによる基板面からの汚れの掻き取りを連続的に行って、基板主面に対する洗浄力を高めている。
【００１６】
また、請求項５に記載の発明は、請求項３又は請求項４に記載の基板処理装置であって、前記支持手段に支持された前記基板の両方の主面側に、複数の前記ブラシがそれぞれ配置されているものである。
【００１７】
この構成では、上記基板の両方の主面側に複数ブラシを配置することによって、ブラシによる基板の両方の主面に対する洗浄力を高めている。
【００１８】
また、請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の基板処理装置であって、前記支持手段に支持された前記基板の両方の主面側に複数の前記ブラシが互いに対向配置され、かつ、前記支持手段に前記基板が支持されていないときに、当該対向配置された前記各ブラシの先端部が互いに当接するように前記各ブラシが配置されるとともに、前記支持手段に前記基板が支持されていないときに、前記摺接手段によって対向配置された前記各ブラシの先端部を互いに摺接させるものである。
【００１９】
この構成では、支持手段に基板が支持されていない状態においては、上記各ブラシの先端部を互いに当接させ、摺接手段が、対向配置された前記各ブラシの先端部を互いに摺接させて、両方のブラシ部の毛束先端部同士を擦り合わせ、これにより、各ブラシの両方の毛束先端を洗浄するようにしている。
【００２０】
また、請求項７に記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記ブラシの毛束の先端部が形成する平面が、毛束が曲げられるべき一方向に向かって前記支持手段に支持された前記基板の主面に近づく傾斜面とされているものである。
【００２１】
この構成では、ブラシの毛束が基板の主面に対して摺接して曲がった状態となるとき、ブラシの先端部が側面視で扇状に広がるので、基板の主面に作用する毛の本数が増え、洗浄処理効率が向上する。例えば、ブラシ毛束の先端が斜めカットされていないと、ブラシの毛束が基板の主面に対して摺接したときに毛が積層され、毛束の曲がった部分の上側に位置する毛は基板の主面に作用しないものもあるが、上記構成によれば、そのような事態が生じることを少なくすることができる。
【００２２】
また、請求項８に記載の発明は、請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記基板の主面に摺接して曲がった状態となっている前記ブラシの毛束の先端部に向けて処理液を供給する処理液供給手段をさらに有するものである。
【００２３】
また、請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の基板処理方法であって、前記基板の主面に摺接して曲がった状態となっている前記ブラシの毛束の先端部に向けて処理液を供給するものである。
【００２４】
これらの構成によれば、ブラシの毛束の先端部に向けた処理液の供給により、基板主面に対するブラシの摺接により発生する物(異物)をブラシ外に排出できるため、処理(洗浄)効率が向上する。
【発明の効果】
【００２５】
請求項１及び請求項９に記載の発明によれば、ブラシの毛束の先端部が、基板の主面に沿うように曲がった状態で基板の主面に摺接するようになっており、当該曲がった状態のブラシ毛束の先端部には真直ぐな状態に戻ろうとする応力が働き、ブラシ毛束の先端部が基板の主面側に付勢されるので、例えブラシの毛束の先端部が形成する平面が不均一であったり、また、ブラシの長尺化によりブラシ自身の重みでブラシの長さ方向中央部近傍に撓みが発生して、ブラシの長尺方向においてブラシが上下に多少傾斜していても、ブラシの毛束の先端部を基板主面に対して均一に摺接させることができる。
【００２６】
請求項２に記載の発明によれば、第２方向に沿ってブラシに対して相対的に搬送される基板の主面に対して、ブラシの毛束の先端部を基板の相対搬送方向の下流側に向けて曲げた状態として、当該ブラシを第１方向に沿って往復移動させつつ基板の主面に摺接させるので、ブラシの長尺化により、ブラシの長尺方向においてブラシが上下に多少傾斜していても、ブラシの毛束の先端部を基板主面に対して均一に摺接させた状態で、ブラシを上記第１方向に沿って往復移動させることができる。
【００２７】
請求項３に記載の発明によれば、基板の相対搬送方向に抗わないようにブラシが配置されているので、ブラシを基板主面に摺接させた状態としていても、基板を円滑に搬送することができる。
【００２８】
請求項４に記載の発明によれば、上記第２方向に沿った複数ブラシの並列配置によって、ブラシによる基板面からの汚れの掻き取りを連続的に行って、基板主面に対する洗浄力を高めることができる。
【００２９】
請求項５に記載の発明によれば、上記基板の両方の主面側に複数ブラシを配置することによって、ブラシによる基板の両方の主面に対する洗浄力を高めることができる。
【００３０】
請求項６に記載の発明によれば、支持手段に基板が支持されていない状態においては、上記各ブラシの先端部を互いに当接させ、摺接手段が、対向配置された前記各ブラシの先端部を互いに摺接させて、両方のブラシ部の毛束先端部同士を擦り合わせて、各ブラシの両方の毛束先端を洗浄することができる。
【００３１】
請求項７に記載の発明によれば、ブラシの毛束が基板の主面に対して摺接して曲がった状態となるとき、ブラシの先端部が側面視で扇状に広がるので、基板の主面に作用する毛の本数が増え、洗浄処理効率が向上する。
【００３２】
請求項８及び請求項１０に記載の発明によれば、ブラシの毛束の先端部に向けた処理液の供給により、基板主面に対するブラシの摺接により発生する物(異物)をブラシ外に排出できるため、処理(洗浄)効率が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の一実施形態に係る基板処理装置について図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態に係る基板処理装置に備えられる基板洗浄装置の概略を示す図である。基板処理装置１に備えられる基板洗浄装置１０は、処理対象となる基板Ｂに対し薬液処理を行うブラシ洗浄室２と、ブラシ洗浄室２を通過した基板Ｂに対して濯ぎを行うリンス室３と、エアナイフ室４とを有している。また、基板Ｂは、基板Ｂの搬送方向に直交する水平方向から傾斜させた姿勢で搬送されることが好ましい。基板Ｂをこの姿勢で搬送することによって、ブラシ洗浄室２及びリンス室３において基板Ｂに対して供給される各液を下方に落としやすくして、基板Ｂの面上からの液切れを良くしている。
【００３４】
ブラシ洗浄室２は、例えば、エッチング工程、剥離工程等の前工程での処理を終えた基板Ｂを受け入れて搬送する搬送ローラ２１と、搬送ローラ２１によって搬送される基板Ｂの上面に接触して洗浄するブラシ部２２１と、基板Ｂの下面に接触して洗浄するブラシ部２２２と、基板Ｂの上面に対して純水等の処理液（基板洗浄のために用いる各種の処理液の適用が可能。純水は一例）を供給する処理液供給ノズル（液供給部）２３１と、基板Ｂの下面に対して処理液を供給する処理液供給ノズル２３２とを有している。これらブラシ部２２１，２２２と、処理液供給ノズル２３１，２３２はそれぞれ複数設けられている。また、処理液供給ノズル２３１，２３２は、乾いた基板Ｂの表面をブラシ２２１，２２２が摺接することによる表面へのダメージを防止するために、ブラシ部２２１，２２２によよりも基板搬送方向上流側（ブラシ部２２１，２２２による基板Ｂの摺接前）の位置にも配設されており、その処理液吐出方向は基板搬送方向下流側に向けられている。なお、処理液供給ノズル２３１，２３２は図略の処理液供給源に接続されている。
【００３５】
リンス室３は、ブラシ洗浄室２での処理を終えた基板Ｂに対して濯ぎ処理を行うものである。リンス室３は、ブラシ洗浄室２から基板Ｂを受け入れて搬送する搬送ローラ３１と、リンス液として純水等を基板Ｂの上面に供給するリンス液供給ノズル３２と、基板Ｂの下面にリンス液を供給するリンス液供給ノズル３３とを有する。
【００３６】
エアナイフ室４は、リンス室３から搬送されてくる基板Ｂを受け入れて搬送する搬送ローラ４１と、搬送ローラ４１により搬送される基板Ｂの上面に対してエアを吹き付けて基板Ｂの上面乾燥させるエアナイフ４２１と、基板Ｂの下面に対してエアを吹き付けて乾燥させるエアナイフ４２２とを有する。
【００３７】
図２は基板洗浄装置１０のブラシ洗浄室２に備えられるブラシ部２２１及びその駆動機構を簡易的に示す構成図である。なお、ブラシ部２２２は当該ブラシ部２２１と同様の構成である。ブラシ洗浄室２のブラシ部２２１は、基板Ｂの面洗浄用のブラシ毛束５０と、このブラシ毛束５０が立設（植毛）される平板状のブラシ基部５１とを有する。これらブラシ毛束５０及びブラシ基部５１からなるブラシ部２２１は、基板Ｂの搬送方向に直交する方向又はそれに近い方向であって、基板Ｂの上面に平行な方向に長尺状に延びる形状とされている。また、ブラシ部２２１は、基板Ｂの面に対して直交する姿勢から予め定められた角度だけブラシ毛束５０の先端５０Ｈ側を基板Ｂの搬送方向下流側に向けて、傾けた姿勢とされている（詳細は後述）。
【００３８】
ブラシ基部５１の上面部１１１側には、ブラシ部２２１を吊止め支持する支持材６０が取り付けられ、この支持材６０によってブラシ部２２１が、剛直な部材からなるブラシ取り付けベース６１に取り付けられている。ブラシ取り付けベース６１には、揺動機構８が取り付けられており、この揺動機構８から与えられる水平横方向における駆動力によりブラシ取り付けベース６１が、基板Ｂの搬送方向に直交する基板Ｂ上面に平行な方向（例えば、図２の左右方向）に揺動されることで、ブラシ取り付けベース６１に取り付けられているブラシ部２２１のブラシ毛束５０の先端５０Ｈが、基板Ｂの上面と平行な方向に揺動される。揺動機構８の機構については後述する。なお、支持材６０は、図２に示す距離Ｇを可変させられるように、ブラシ取り付けベース６１に対して移動自在に設けられている。なお、支持材６０、ブラシ取り付けベース６１及び揺動機構８は、摺接手段の一例である（摺接手段の構成をこれに限定する趣旨ではない）。
【００３９】
このように構成された基板洗浄装置１０の動作を説明する。まず、ブラシ基部５１の高さ位置の設定がなされる。この高さ位置は、ブラシ毛束５０をなす各毛の径や材質等、基板Ｂの上面に対するブラシ毛束５０の角度（傾き）、並びに洗浄ターゲットとするパーティクルの粒径等を考慮し、洗浄すべき基板Ｂの上面に、どの程度の圧力で、またどの程度の接触面積でブラシ毛束５０の先端５０Ｈを接触させるかの観点から決定される。
【００４０】
基板Ｂ上面に対してブラシ毛束５０の先端５０Ｈの位置を微調整する作業は、ブラシ取り付けベース６１に対する支持材６０の位置を調整することでも可能とされている。例えば、ブラシ基部５１が、大型の基板に対応した長尺状のものとされている場合、ブラシ基部５１の長手方向略中央部は、下方向に撓みやすい。そのような場合には、当該撓んだ部分に近い支持材６０のブラシ取り付けベース６１に対する位置を調整し、撓んだ部分を上方向に持ち上げることで、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈの基板Ｂ上面に対する位置関係を、ブラシ部２２２の長手方向において均一にすることが可能となっている。
【００４１】
このように、基板Ｂの上面に対するブラシ毛束５０の先端５０Ｈの位置関係が調整された上で、基板Ｂの洗浄処理が行われる。この洗浄処理に際しては、処理液供給機構９の供給ポンプ９３を動作させ、処理液をブラシ基部５１に設けられた処理液吐出孔１３１から処理液を基板Ｂに向けて吐出させつつ、揺動機構８によりブラシ取り付けベース６１を揺動させる。これにより、搬送されてくる基板Ｂの表面にブラシ毛束５０の先端５０Ｈが、基板Ｂに対して上記のように傾いた姿勢となって、処理液の存在下で揺動接触することとなり、ブラシ毛束５０が基板Ｂに作用してパーティクル等が除去される。
【００４２】
続いて、揺動機構８の具体的態様につき説明する。図３は、ブラシ取り付けベース６１（ブラシ先端５０Ｈ）を、基板Ｂの進行方向（図中矢印ｂで表示）と直交する方向（図中矢印ｃの方向）に、直線的な往復運動をさせる揺動機構８の概略を示す平面図である。
【００４３】
クランク機構部８０は、電動モータ（駆動源）８２により駆動されるものであって、駆動源８２の回転軸８２１に結合された回転円板８１１の外周部付近に軸支ピン８１２が突設され、この軸支ピン８１２に駆動シャフト８１３の一端側に設けられた連結孔が遊嵌されてなる。そして駆動シャフト８１３の他端側に設けられた連結孔と、ブラシ取り付けベース６１の側端縁に突設された軸支部６１１とが、連結ピン６１２により回動自在に連結されている。
【００４４】
一方、ブラシ取り付けベース６１はリニアガイド６１３により、図中矢印ｃの方向への直線的な往復動が可能なように支持されている。このリニアガイド６１３に代えて、リニアブッシュ等を用いるようにしても良い。
【００４５】
このような構成において、駆動源８２が駆動されると、駆動源８２の回転軸８２１に結合された回転円板８１１が回転され、該回転円板８１１に突設されている軸支ピン８１２に一端側が連結されている駆動シャフト８１３が、図面左右方向のクランク動作を行うことになる。このクランク動作により、連結ピン６１２により駆動シャフト８１３に連結されているブラシ取り付けベース６１は、前記リニアガイド６１３によりガイドされつつ、図中矢印ｃの方向へ往復運動するものである。すなわち、ブラシ部２２１は、基板Ｂに対して直交する姿勢から角度θ１だけ傾いた姿勢でブラシ毛束５０の先端５０Ｈが基板Ｂの上面に接触し、図中矢印ｃの方向へ往復運動することによって、基板Ｂの表面上の汚れを掻き取って洗浄する。なお、このようなクランク機構部８０と駆動源８２とを用いた直線往復動機構に代えて、エアシリンダ等を用いた直線往復動機構を採用するようにしても良い。
【００４６】
次に、ブラシ部２２１の構造について説明する。図４は、図２に示すブラシ部２２１の側断面図である。ブラシ部２２１は、上述したように、基板Ｂの面洗浄用のブラシ毛束５０と、このブラシ毛束５０が立設（植毛）される平板状のブラシ基部５１とを有する。ブラシ毛束５０は、多数本の毛が、その長さ方向における略中央部に軸５２が挟み込まれ、当該軸５２を挟み込んだブラシ毛束５０部分にその上方からブラシ基部５１が被せられている。ブラシ基部５１は、断面形状が側面視で略「コ」の字状とされ、下方開口部に向けて側面視で先細り形状とされている。かかる形状のブラシ基部５１により、当該軸５２を挟み込んだのブラシ毛束５０部分がブラシ基部５１の内部に収められ、ブラシ基部５１により、かしめられた状態とされている。
【００４７】
ブラシ毛束５０をなす各毛は、例えば、ナイロン系、テフロン（登録商標）系、塩化ビニール（ＰＶＣ：Poly Vinyl Chloride）系の材質からなり、径は0.05〜0.2(mm)とされる。ブラシ毛束５０は、ブラシ基部５１から露出した部分であって、最も脚の長い部分の長さＬが、10≦Ｌ≦40(mm)とされる。
【００４８】
また、ブラシ基部５１の基板搬送方向における幅寸法Ｗは、ブラシ毛束５０が立設（植毛）可能である限り小さい寸法であることが好ましく、具体的には、10mm以下であることが好ましい。ブラシ基部５１の長さ方向寸法は、処理対象となる基板の搬送方向に直交する方向における寸法に合わせて逐次設定される。
【００４９】
図５は、基板Ｂに対するブラシ部２２１，２２２及び処理液供給ノズル２３１，２３２の配置を示す側面図である。ブラシ部２２１，２２２は、それぞれ基板Ｂの上方又は下方に配設される。
【００５０】
ブラシ部２２１，２２２は、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈ側を基板Ｂの搬送方向下流側に向けて、基板Ｂの上面又は下面に対して直交する姿勢から予め定められた角度θ１だけ傾けた姿勢とされている。この角度θ１は、5〜20°（より好ましくは15°）である。ブラシ部２２１，２２２を、このように基板Ｂの各面に対して傾けた姿勢で配置することにより、ブラシ部２２１，２２２のブラシ毛束５０の先端５０Ｈと基板Ｂの各面とのギャップ調節に精度が要求されず、また、ブラシ部２２１，２２２の傾き角θ１の設定を高い精度で行わなくても、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈと基板Ｂの各面との間に隙間が生じたり、先端５０Ｈによって基板Ｂの各面が不必要に押圧されてしまう不具合を生じる可能性は極めて少ない。
【００５１】
処理液供給ノズル２３１，２３２は、例えば、(1)主に純水を高圧で吐出する高圧ノズル、(2)霧吹き状に液的を基体を圧力によって基板に供給することによって、液流体と気流体の二流体を噴射する二流体ノズル、(3)超音波振動が付与された純水を吐出する超音波ノズルなどである。処理液供給ノズル２３１，２３２は、ブラシ部２２１，２２２よりも基板搬送方向下流側における基板Ｂの上方又は下方に配設される。この処理液供給ノズル２３１，２３２は、処理液供給ノズル２３１，２３２からの処理液が、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈと、基板Ｂの上面又は下面と、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈと基板Ｂの上面又は下面の接触部分とに噴射（供給）されるように、配設位置及び配設角度が設定される。これにより、基板Ｂの各面の洗浄と、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈの洗浄との両方を行うことができる。
【００５２】
図６は、基板Ｂに対するブラシ部２２１，２２２及び処理液供給ノズル２３１，２３２の配置を示す側面図であって、基板Ｂが無い状態を示すものである。図６に示すように、ブラシ部２２１とブラシ部２２２とは、互いのブラシ毛束５０の先端５０Ｈが、これらの間に基板Ｂが存在しない場合において当接する位置に配設されていることが好ましい。ブラシ部２２１及びブラシ部２２２をこのように配置して、ブラシ部２２１及びブラシ部２２２間の基板搬送路に基板Ｂが存在しない状態で、揺動機構８を駆動してブラシ部２２１及びブラシ部２２２を上記図３のｃ方向に往復運動（振動）させれば、ブラシ部２２１及びブラシ部２２２のブラシ毛束５０の先端５０Ｈ同士を擦り合わせることができ、ブラシ部２２１及びブラシ部２２２のブラシ毛束５０の先端５０Ｈを洗浄することが可能になる。
【００５３】
図７は、ブラシ部２２１，２２２及び処理液供給ノズル２３１，２３２がそれぞれ複数配設された状態を示す側面図である。ブラシ部２２１，２２２及び処理液供給ノズル２３１，２３２は、ブラシ洗浄室２にそれぞれ複数設けられ、ブラシ部２２１と処理液供給ノズル２３１とが基板Ｂの搬送方向において交互に配置され、同様に、ブラシ部２２２と処理液供給ノズル２３２も基板Ｂの搬送方向において交互に配置される。このように構成すれば、ブラシ部２２１，２２２による基板Ｂ各面からの汚れの掻き取りと、処理液供給ノズル２３１，２３２から供給される線上液による汚れ除去とを比較的時間差を設けずに行うことになるため、基板Ｂの各面に対する洗浄力を高めることができる。
【００５４】
本発明の他の実施形態を説明する。例えば、上記実施形態では、ブラシ部２２２の構造は、図４に示したように、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈの下面部が水平面に平行な形状とされているが、この下面部を、図８に示すように、水平面に対して5〜20°（より好ましくは、15°）の傾斜角θ２を有する形状としてもよい。これにより、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈの下面部を基板Ｂの上面又は下面に沿わせるようにする。この場合、ブラシ毛束５０は、ブラシ基部５１から露出した部分であって、最も脚の長い部分の長さＬが、10≦Ｌ≦40(mm)とされる。
【００５５】
図９は、上記傾斜角θ２を有するブラシ毛束５０からなるブラシ部２２１，２２２及び処理液供給ノズル２３１，２３２の配置を示す側面図である。上記傾斜角θ２を有するブラシ毛束５０からなるブラシ部２２１，２２２を配設する場合も、ブラシ部２２１，２２２は、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈ側を基板Ｂの搬送方向下流側に向けて、基板Ｂの上面又は下面に対して直交する姿勢から予め定められた角度θ３だけ傾けた姿勢とされるが、この角度θ２とθ３との関係は、θ２＜θ３（例えば、15°＜20°）となるようにする。ブラシ部２２１，２２２を、このように基板Ｂの各面に対して傾けた姿勢で配置することにより、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈが基板Ｂの上面又は下面に対向する面のほぼ全域を、基板Ｂの上面又は下面に当接させることができる。
【００５６】
さらには、ブラシ部２２１，２２２の毛束５０の先端５０Ｈの曲がった部分に向けて処理液を供給するとき、傾斜角θ２を有する傾斜面が形成されていない毛束先端部と比べて、当該傾斜面を有している毛束５０は、基板Ｂの主面に対して当接したときに扇状に広がっていることにより先端５０Ｈの厚みが薄くなるため(毛の呈が疎らになるため)、処理液が毛束５０と基板Ｂの主面との間に浸透しやすくなり、処理液による処理効率が向上する。
【００５７】
また、ブラシ部２２１，２２２の傾き角θ３の設定や、上記角度θ３と角度θ２とを略等しくする調整が高い精度で行われなかったとしても、ブラシ部２２１，２２２を傾けて基板Ｂの各面に接触させているので、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈと基板Ｂの各面との間に隙間が生じたり、先端５０Ｈによって基板Ｂの各面が不必要に押圧されてしまうといった不具合を生じる可能性は極めて少ない。
【００５８】
なお、本発明は上記実施の形態の構成に限られず種々の変形が可能である。例えば。上記実施形態では、ブラシ部２２１，２２２が基板Ｂの両方の主面に対向する位置に設けられているが、いずれか一方の主面側に設けられていてもよい。また、ブラシ部２２１，２２２は、基板Ｂの主面に対して、その先端５０Ｈが基板Ｂの搬送方向側に向けて傾けた姿勢で配設されているが、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈが、基板Ｂの主面に沿うように曲がった状態で基板Ｂの主面に当接していれば、ブラシ部２２１，２２２を基板Ｂの主面に対して略垂直な姿勢や、逆向きに傾けた傾斜姿勢等、上記の傾斜姿勢以外の姿勢で配設することも可能である。
【００５９】
また、上記実施形態では、ブラシ部２２１，２２２がブラシ洗浄室２に適用される場合を例にして説明したが、このブラシ部２２１，２２２の適用はブラシ洗浄室２に限定されるものではなく、剥離処理や現像処理等の他の処理を行う処理室において、ブラシによる処理を行う場合にも適用可能である。
【００６０】
また、上記実施形態では、ブラシ洗浄室２において、ブラシ部２２１，２２２に対して処理液を、処理液供給ノズル２３１，２３２によって供給する構成を示したが、処理液をブラシ基部５１の内部を通してブラシ部２２１，２２２の根元から基板Ｂに向けて供給する機構を設けてもよい。
【００６１】
また、上記実施形態では、ブラシ洗浄室２は、前工程用の処理室と連接させる構成として説明したが、ブラシ部２２１，２２２が適用されるブラシ洗浄室２は、このようにものに限定されることなく、広く適用が可能である。例えば、洗浄装置単体として配置され、他の前工程用単体装置(エッチング装置等)で処理された基板を洗浄するような基板洗浄機構等に適用されるものであってもよい。
【００６２】
また、上記実施形態では、揺動機構８により、ブラシ部２２１，２２２を所定方向に揺動させるようにしているが、この揺動機構８を設けずに本発明を構成することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置に備えられる基板洗浄装置の概略を示す図である。
【図２】基板洗浄装置の薬液処理室に備えられるブラシ部及びその駆動機構を簡易的に示す構成図である。
【図３】ブラシ取り付けベースを往復運動させる揺動機構の概略を示す平面図である。
【図４】ブラシ部の側断面図である。
【図５】基板に対するブラシ部及び処理液供給ノズルの配置を示す側面図である。
【図６】基板に対するブラシ部及び処理液供給ノズルの配置を示す側面図であって、基板が無い状態を示すものである。
【図７】ブラシ部及び処理液供給ノズルがそれぞれ複数配設された状態を示す側面図である。
【図８】ブラシ部の他の実施形態を示す側断面図である。
【図９】他の実施形態に係るブラシ部及び処理液供給ノズルの配置を示す側面図である。
【符号の説明】
【００６４】
１              基板処理装置
２              薬液処理室
３              リンス室
４              エアナイフ室
８              揺動機構
９              処理液供給部
１０            基板洗浄装置
２１，３１      搬送ローラ
３２，３３      リンス液供給ノズル
５０            ブラシ毛束
５０Ｈ          先端
５１            ブラシ基部
５２            巻付軸
２２１，２２２  ブラシ部
２３１，２３２  処理液供給ノズル
Ｂ              基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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