(57)【要約】      （修正有）【課題】ナノインプリントにおいて、スタンパに形成された凹凸パターンを被成形品に高精度に転写する。【解決手段】ナノインプリター１において、支持台１５に支持された被成形品１３と、微細な凹凸パターンを形成した型４１の転写面との平行度を維持するために、可動体１９と支持プレート４３との間に少なくとも３個以上の微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃを備え、さらにアクチュエータに対応した複数の距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃを備える。【選択図】図１
2006237395.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被成形品の表面に凹凸のパターンを転写するための転写装置であって、前記被成形品を支持した支持台に対して接近離反する方向へ相対的に移動可能な可動体と、この可動体に揺動可能に支持された型支持プレートと、この型支持プレートに装着され、前記被成形品へ転写するための凹凸のパターンを形成した転写面を備えた型と、前記被成形品の表面に対する前記型の転写面の平行度を微調整するために前記可動体と前記型支持プレートとの間に備えられた少なくとも３個以上の微調整用アクチュエータとを備えていることを特徴とする転写装置。
【請求項２】
請求項１に記載の転写装置において、前記被成形品と前記型との間の距離を測定すべく前記各微調整用アクチュエータに対応して備えられた複数の距離測定装置を備えていることを特徴とする転写装置。
【請求項３】
請求項２に記載の転写装置において、前記各微調整用アクチュエータに対応する各距離測長装置は、各微調整用アクチュエータと前記型支持プレートの揺動中心を結ぶ直線に対して直交しかつ前記揺動中心を通る直線を間にして、対応する各微調整用アクチュエータの反対側に配置してあることを特徴とする転写装置。
【請求項４】
請求項１，２又は３に記載の転写装置において、前記支持台に、前記被成形品を加熱するための加熱手段を備えていることを特徴とする転写装置。
【請求項５】
請求項１，２又は３に記載の転写装置において、前記型支持プレートに光源又は光源からの光を前記型へ導くための導光路を備えると共に、前記型を透明に構成してあることを特徴とする転写装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ技術を用いて型の表面に形成された微細な凹凸のパターンを被成形品の表面に転写する転写装置に係り、さらに詳細には、前記型の転写面と被成形品の表面との平行度を予め微調整することのできる転写装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子線描画法などで石英基板に超微細なパターンを形成して型（テンプレート，スタンパ）を作成し、被成形品として被転写基板表面に形成されたレジスト膜に前記型を所定の圧力で押圧して、型に形成されたパターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（非特許文献１参照）。
【非特許文献１】Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology      ２５（２００１）１９２−１９９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
テンプレート，スタンパ等の型にリソグラフィ技術を用いて形成された超微細な凹凸のパターンを被成形品に押圧し転写するとき、前記パターンが形成された型の転写面と被成形品の表面とが密接しかつ均一に接触し、型に形成された微細な凹凸のパターンが被成形品に精確に転写されるように、被成形品の表面に対して前記型の姿勢を高精度に微調整する必要がある。
【０００４】
型の上記微調整を行う構成として、前記非特許文献１においては、型を保持する保持部をフレキシブルな素材によって構成し、型の転写面を被成形品の表面へ押圧したときに、被成形品の表面に倣って型の保持部を従動的に被成形品の表面に追従させる構成である。このように、従動的に型の姿勢を微調整する構成の場合、型を被成形品の表面に押圧したとき、被成形品に損傷を与えないようにできるだけ小さな圧力で押圧する必要があり、型の保持部は姿勢制御用の小さな圧力をもとに構成されている。
【０００５】
したがって、被成形品の表面に対する型の姿勢の微調整を行った後に、型の転写面に形成されているパターンを被成形品の表面に転写するには大きな圧力を加える必要がある。ところが、前述したように型の保持部が姿勢制御用の小さな圧力に対応するように構成されている場合には、転写に必要な大きな圧力を印加することができないことがあるという問題がある。また、被成形品には用途に応じて色々な素材があり、型に形成したパターンを被成形品に転写する際にも転写圧を色々変更する必要がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、前述のごとき従来の問題に鑑みてなされたもので、被成形品の表面に凹凸のパターンを転写するための転写装置であって、前記被成形品を支持した支持台に対して接近離反する方向へ相対的に移動可能な可動体と、この可動体に揺動可能に支持された型支持プレートと、この型支持プレートに装着され、前記被成形品へ転写するための凹凸のパターンを形成した転写面を備えた型と、前記被成形品の表面に対する前記型の転写面の平行度を微調整するために前記可動体と前記型支持プレートとの間に備えられた少なくとも３個以上の微調整用アクチュエータとを備えていることを特徴とするものである。
【０００７】
また、前記転写装置において、前記被成形品と前記型との間の距離を測定すべく前記各微調整用アクチュエータに対応して備えられた複数の距離測定装置を備えていることを特徴とするものである。
【０００８】
また、前記転写装置において、前記各微調整用アクチュエータに対応する各距離測長装置は、各微調整用アクチュエータと前記型支持プレートの揺動中心を結ぶ直線に対して直交しかつ前記揺動中心を通る直線を間にして、対応する各微調整用アクチュエータの反対側に配置してあることを特徴とするものである。
【０００９】
また、前記転写装置において、前記支持台に、前記被成形品を加熱するための加熱手段を備えていることを特徴とするものである。
【００１０】
また、前記転写装置において、前記型支持プレートに光源又は光源からの光を前記型へ導くための導光路を備えると共に、前記型を透明に構成してあることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、少なくとも３個以上備えた微調整用アクチュエータを駆動，制御することにより、型を装着した型支持プレートの傾斜を微調整することができ、支持台上の被成形品の上面に対して前記型の転写面を平行に予め微調整することができると共に、この微調整状態を保持することができる。したがって、被成形品の材質等に左右されることなく、被成形品の表面と型の転写面との平行度を保持しながら、型の転写面に形成された微細なパターンを被成形品の表面に転写することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１を参照するに、本発明の実施形態にかかる転写装置１は、フレーム３を備えており、このフレーム３の上部に一体的に取付けた上部フレーム５と、前記フレーム３の下部に一体的に取付けた下部フレーム７は、タイロッドを兼ねた互いに平行な複数（４本）のガイドロッド９によって一体的に連結してある。そして、前記下部フレーム７上にはＸ，Ｙテーブル等のごとくＸ，Ｙ方向へ移動可能かつ微調整して位置決め可能な可動テーブル１１が設けてあり、この可動テーブル１１上には被成形品１３を支持する支持台１５が設けられている。
【００１３】
前記可動テーブル１１は、通常のＸ，Ｙテーブルと同様に、Ｘ軸サーボモータによってＸ軸方向に移動自在かつ微調整して位置決め自在なＸテーブルと、Ｙ軸サーボモータによってＹ軸方向に移動自在かつ微調整して位置決め自在なＹテーブルとを上下に重ねて備えた構成であって、公知の構成であるから、可動テーブル１１の構成についてのより詳細な説明は省略する。前記被成形品１３は、例えばシリコン，ガラス，セラミック等の適宜材料よりなる基板の上面に熱可塑性樹脂よりなるレジストを数１０ｎｍ〜数μｍの厚さに塗布した薄膜を備えた構成である。そして、前記支持台１５は、前記レジストを加熱し軟化するためのヒータ等のごとき加熱手段１７を備えている。
【００１４】
前記支持台１５に対向して、当該支持台１５に対して接近離反する方向へ相対的に移動可能な可動体１９が備えられている。より詳細には、上記可動体１９はプレス装置におけるラムに相当するものであって、ボールブッシュ等を介して前記各ガイドロッド９に上下動可能に案内されていると共に、前記ガイドロッド９と平行にかつ互いに平行に前記フレーム３に設けた一対のリニアガイド２１にスライダ２３を介して上下動可能に案内されている。
【００１５】
すなわち、前記フレーム３に設けた一対のリニアガイド２１は垂直に設けてあり、このリニアガイド２１に沿って垂直方向に移動自在な一対の前記スライダ２３を前記可動体１９に一体的に備えていることにより、前記可動体１９は垂直に移動するものである。この際、可動体１９は、ボールブッシュ等を介して複数のガイドロッド９によって垂直方向に案内されると共に、案内精度が高精度のリニアガイド２１，スライダ２３を介して垂直方向に案内されているものであるから、前記可動体１９は水平方向に微動することなく、かつ下面を常に水平に維持して垂直に上下動されるものである。
【００１６】
前記可動体１９を上下動するために、前記上部フレームには可動体作動用機構が備えられている。この可動体作動用機構としては、可動体１９を往復動可能かつ精確に位置決め可能であれば任意の構成とすることができるものであり、例えば流体圧シリンダ等のごとき流体圧機構やクランク機構又はリンク機構なども採用可能である。すなわち、前記可動体作動用機構として種々の構成を採用可能であるが、本実施形態においては、前記可動体作動用機構としてボールネジ機構を採用した場合について例示してある。
【００１７】
すなわち、上部フレーム５にはボールネジ機構２５が垂直にかつ回転自在に備えられており、このボールネジ機構２５において上下動する上下動部材２７の下端部が前記可動体１９に一体的に連結してある。上記ボールネジ機構２５において、ボールネジが回転する構成の場合にはボールナットが上下動部材２７を構成し、ボールナットが回転する構成の場合にはボールネジが上下動部材２７を構成するものである。なお、ボールネジ機構においてボールネジを回転するか、又はボールナットを回転するかは相対的なことであり、どちらを回転する構成としてもよいものである。
【００１８】
前記ボールネジ機構２５において回転自在なボールネジ又はボールナットの上部には従動ホィール２９が一体的に取付けてあり、ブラケット３１を介して前記上部フレーム５に支持されたサーボモータ３３に備えた駆動ホィール３５と前記従動ホィール２９とはタイミングベルト３７が掛回してある。すなわち、前記ボールネジ機構２５とサーボモータ３３はタイミングベルト３７等を介して連動連結してあるものである。なお、サーボモータ３３とボールネジ機構２５を直結することも可能である。
【００１９】
したがって、転写装置１の適宜位置に備えた制御装置３９の制御の下に前記サーボモータ３３を正，逆回転駆動することにより、前記可動体１９を、ガイドロッド９，リニアガイド２１に沿って垂直に上下動することができる。前記可動体１９の上下動位置は、可動体位置検出手段（図示省略）によって検出することができる。上記可動体位置検出手段としては、例えば前記サーボモータ３３に備えたロータリーエンコーダ等の回転検出器或は前記リニアガイド２１と平行にフレーム３に備えたリニアスケール等を採用することができる。
【００２０】
前記可動体１９の下面には、型４１を装着した円板形状の型支持プレート４３が揺動可能に支持されている。すなわち、前記可動体１９の下面中央部には、前記ボールネジ機構２５の軸心と軸心が一致した球面軸受４５が取付けてあり、この球面軸受４５を介して前記型支持プレート４３が揺動可能に支持されている。上記球面軸受４５は、一般的な構成であるが、球面体の周囲に配置したリテーナに保持された複数の鋼球に予圧を掛けた転がり軸受け構造となっていて、摩擦抵抗が小さくかつ間隙零の高精度の構成である。
【００２１】
前記型４１は、例えばシリコン，ガラス，セラミック等よりなるものであって、その下面（転写面）には、前記被成形品１３に転写すべき微細なパターンが形成されている。この微細なパターンは、例えば電子線描画法などによって形成されたナノスケールの微細な凹凸を備えたパターンである。
【００２２】
前記型４１に形成された微細なパターンを前記被成形品１３に転写するに際し、前記型支持プレート４３の傾斜角を微調整して前記型４１の転写面と前記被成形品１３の表面との平行度を微調整するために３個以上の微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃが前記可動体１９と前記型支持プレート４３との間に備えられている。上記微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃは、例えば圧電素子（電歪素子）又は磁歪素子などの素子を複数枚積層した構成であって、例えば所望枚数の圧電素子に電圧を印加することにより、所望の微小変位を生じさせることができるものである。複数の前記微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃは、図２に示すように、前記球面軸受４５の中心を中心とする同一円上に等間隔に配置してある。
【００２３】
上記構成により、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに適宜に電圧を印加して各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに微小変位を生じさせることにより、型支持プレート４３は各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃによって微少量押圧変位され、球面軸受４５を中心として揺動される。したがって、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃの微小変位をそれぞれ適正に制御することにより、型支持プレート４３，型４１の下面（転写面）を、前記被成形品１３の表面（上面）に平行になるように微調整することができるものである。
【００２４】
前記型４１の下面が、前記成型品１３の上面に平行になるように微調整するために、前記各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに対応して距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃが備えられている。上記距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃは、例えば高分解能の反射式ＣＣＤ変位センサよりなるものであって、前記被成形品１３の表面に対向して配置されている。
【００２５】
上記ＣＣＤ変位センサとしては、ある特定の中心位置を中心Ｌ０（図３参照）として＋方向，−方向に数ｍｍの測定範囲の距離を測定するとき、図３に示すように、直線的に変化するアナログ信号を出力するもので、例えばオムロン製ＣＣＤ変位センサＺ３００−Ｓ１０が使用可能である。このＣＣＤ変位センサは１μｍの分解能で信号を出力するので、前記被成形品１３の表面とＣＣＤ変位センサとの間の距離寸法を、換言すれば被成形品１３の表面と前記型４１の下面（転写面）との間隔寸法を１μｍの精度で測定することができるものである。
【００２６】
前記各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに対応する各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃは、図２に示すように、平面視したとき、前記各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃと前記球面軸受４５の中心を結ぶ直線上であって、前記球面軸受４５の中心位置を間にして各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃの反対側に配置してある。なお、前記各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃは、前述したように、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃと球面軸受４５の中心とを結ぶ直線上に配置することが望ましいが、必ずしも直線上に限るものではなく、多少位置がずれていてもよいものである。
【００２７】
すなわち、前記各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに対応する各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃは、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃと前記型支持プレート４３の揺動中心、すなわち前記球面軸受４５の中心とを結ぶ直線に対して直交し、かつ前記揺動中心を通る直線を間にして、対応する微調整用アクチュエータの配置領域の反対側の配置領域に配置してある。
【００２８】
前記構成により、各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃによって被成形品１３の表面までの距離が測定されると、各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃに対応した各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに微調整用の変位指令電圧がそれぞれ印加され、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃの伸縮が微調整される。すなわち、前記被成形品１３の表面に対する型４１における転写面（下面）の傾斜が微調整されて、被成形品１３の表面と型４１の転写面とが平行に保持されるものである。
【００２９】
ところで、各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃにより被成形品１３の表面までの距離を測定するときは、前記測定中心距離Ｌ０の点で測定する。したがって、前記各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃによる、被成形品１３の表面までの距離の測定値がＬ１，Ｌ２，Ｌ３（図４参照）であるとき、各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃの測定中心距離Ｌ０との差分（Ｌ１−Ｌ０），（Ｌ２−Ｌ０），（Ｌ３−Ｌ０）が各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃの装着位置で補正すべき補正量となる。
【００３０】
ところが、実際に補正動作を行うのは、各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃに対応した各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃであるから、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃの位置での補正量に換算する必要がある。そして、前述したように、各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃと各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃは、前記球面軸受４５を中心として反対側に配置してあるので、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃを伸長動作して、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃ側の型４１の下面と被成形品１３の表面（上面）との間隔距離を縮小すると、前記各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃ側の型４１の下面と被成形品１３の上面との間隔距離が大きくなるように変位する。ここで、各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃの前記差分補正量（Ｌ１−Ｌ０），（Ｌ２−Ｌ０），（Ｌ３−Ｌ０）を与えるための各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃでの補正量ｌ1 ，ｌ2 ，ｌ3 は、図５に概念的に示す関係から換算することができる。
【００３１】
しかし、本実施形態においては、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃでもって型支持プレート４３を押圧し、球面軸受４５を中心として揺動する構成であり、前記球面軸受４５の中心は型保持プレート４３から一定の距離にあるので、実際的には、幾何学的な制約条件から、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに対して前記補正量ｌ1 ，ｌ2 ，ｌ3 に対応した変位指令をそのまま与えることはできない。
【００３２】
すなわち、被成形品１３の上面に対して型４１の下面を平行になるように微調整するには、一部の微調整用アクチュエータに対しては正の電圧を印加して伸長動作させ、他の一部の微調整用アクチュエータには負の電圧を印加して縮小動作させて、最終的には前記被成形品１３の上面と型４１の下面とを平行に調整する必要がある。
【００３３】
そこで、前記各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに電圧が印加されていない初期状態においては、前記球面軸受４５の回転中心と前記型支持プレート４３の上面は同一平面にあり、かつ球面軸受４５の回転中心を原点として、図６に示すように空間座標系Ｘ−Ｙ−Ｚをとるものとする。なお、図６に示す点Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３は、前記各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃと前記型支持プレート４３との接触点を表わし、各点Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３のピッチサークルの半径はＲとする。
【００３４】
今、初期状態から３つの微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに電圧を印加して、それぞれの先端部に対してΔ１，Δ２，Δ３の変位を生じさせたものとする。このとき各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃの先端部の各点のＸ−Ｙ−Ｚ座標値は次のようになる。
【００３５】
Ｐ１＝（-R,0,Δ1）、Ｐ２＝（R/2,√3/2R,Δ2）、Ｐ３＝（R/2,-√3/2R,Δ3）
原点Ｏを中心とした平面は、一般に次の式で表される。
【００３６】
ａｘ＋ｂｙ＋ｃｚ＝０
上の各点Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３がこの平面上にあることから、
−ａＲ＋ｃΔ１＝０          （２）
ａＲ／２＋ｂ√３／２×Ｒ＋ｃΔ２＝０        （３）
ａＲ／２−ｂ√３／２×Ｒ＋ｃΔ３＝０        （４）
（２）からａＲ＝ｃΔ１を（３）、（４）へ代入すると、
ｃΔ１／２＋ｂ√３／２×Ｒ＋ｃΔ２＝０      （５）
ｃΔ１／２−ｂ√３／２×Ｒ＋ｃΔ３＝０      （６）
（５）＋（６）より
ｃ（Δ１＋Δ２＋Δ３）＝０                  （７）
これからΔ１、Δ２、Δ３は次の条件を満たさなければならない。
【００３７】
Δ１＋Δ２＋Δ３＝０        （８）
各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃの条件から与えられる必要な変位量ｌ1 ，ｌ2 ，ｌ3 にオフセットΔを加えた値がΔ１、Δ２、Δ３に等しいとして
【数１】
2006237395.tif 000003
【００３８】
（８）式に代入して
ｌ1＋ｌ2 ＋ｌ3 ＋３Δ＝０  より
【数２】
2006237395.tif 000004
【００３９】
したがって
【数３】
2006237395.tif 000005
【００４０】
が各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに与えるべき変位量となる。この値に比例した電圧Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３を各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに加えることにより型に対して必要な微小回転（微小揺動）を与えることができる。
【００４１】
前記演算は、前記制御装置３９において行われるものである。
【００４２】
以上のごとき構成において、制御装置３９の制御の下にサーボモータ３３を駆動して可動体１９を下降し、前記各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃにおける前記測定中心距離Ｌ０が被成形品１３の上面にほぼ一致するように位置決めする。その後、各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃによって被成形品１３の上面までの距離を測定し、このときの測定値Ｌ１，Ｌ２．Ｌ３を制御装置３９に入力する。そして、前述したように、各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに印加する電圧Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３を演算し、この演算した電圧Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３を各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに印加することにより、型支持プレート４３が微小揺動されて、型４１の下面(転写面)が被成形品１３の上面（表面）と平行になるように微調整される。
【００４３】
上述のように、被成形品１３の上面に対して型４１の下面を平行に微調整した後、型４１の姿勢をそのままに保持し、加熱手段１７によって予め加熱され軟化した状態の被成形品１３の上面のレジストに押圧する。その後、前記レジストが固化するように被成形品１３を冷却した後に型４１を被成形品１３から離すことにより、前記型４１の下面に形成した微小な凹凸のパターンが被成形品１３の表面に転写される。
【００４４】
前述のように型４１の姿勢を制御する際の、前記各距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃの前記測定値Ｌ１，Ｌ２．Ｌ３及び補正電圧Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３を、制御装置３９に備えた記憶手段に記憶し、制御装置３９の電源をオン，オフしたとき、前記記憶手段に記憶したデータをもとに各微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃに電圧Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３を印加して補正された元の姿勢を再現できるようにしてある。したがって、型４１の交換が行われるまでは同一条件での転写が可能であり、安定した転写が行われる。
【００４５】
ところで、前記説明においては、支持台１５に備えた加熱手段１７によって被成形品１３を加熱し、被成形品１３の上面のレジストを加熱によって溶融し、冷却することにより固化する場合において例示し説明した。しかし、前記被成形品１３の上面に、紫外線硬化型のレジストを塗布した構成の場合には、型４１を透明に構成すると共に、図７に示すように、型支持プレート４３に光源５１を備えることが望ましい。なお、型支持プレート４３に光源５１を備える構成に代えて、外部に備えた光源からの光を前記型４１へ導くための導光路を前記型支持プレート４３に備えた構成とすることも可能である。
【００４６】
なお、前記距離測定装置４７Ａ，４７Ｂ，４７ＣとしてＣＣＤ変位センサを例にとって説明したが、例えばレーザ変圧センサー，ＬＥＤ変位センサー，超音波センサー，接触式変位センサーなども使用可能である。また、立型の転写装置として例示し説明したが横型の転写装置とすることも可能である。
【００４７】
以上のごとき説明より理解されるように、本実施形態によれば、型４１を取り付けた型支持プレート４３に備えた複数の距離測定装置４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃによって被成形品１３の表面との距離を測定し、この測定値をもとに型４１の転写面が被成形品１３の表面と平行になるように型４１の姿勢を微調整し、この姿勢を保持して被成形品１３の表面に型４１の転写面を密着させるので、型４１の転写面を被成形品１３の表面に均一に密着して転写を行うことができるものである。
【００４８】
前記型４１の前記姿勢は複数の微調整用アクチュエータ４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃによって微調整されて一定姿勢に保持されるので、被成形品１３に対する型４１の加圧力を大きくすることが可能である。したがって、型の転写面と被成形品の表面との平行度を高精度に保持して転写を行うことができ、被成形品の材質や硬軟に拘わりなく精度のよい転写を行うことができるものである。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の実施形態に係る転写装置を概念的，概略的に示した説明図である。
【図２】微調整用アクチュエータと距離測定装置との配置関係を示す説明図である。
【図３】距離測定装置の特性を示す説明図である。
【図４】距離測定装置による測定値の説明図である。
【図５】距離測定装置による測定値と補正値との関係を示す説明図である。
【図６】複数の微調整用アクチュエータの配置説明図である。
【図７】第２の実施形態の説明図である。
【符号の説明】
【００５０】
１    転写装置
１１    可動テーブル
１３    被成形品
１５    支持台
１７    加熱手段
１９    可動体
２５    ボールネジ機構
３３    サーボモータ
３９    制御装置
４１    型
４３    型支持プレート
４５    球面軸受
４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃ    微調整用アクチュエータ
４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃ    距離測定装置
５１    光源
【図１】
2006237395.tif 000006
【図２】
2006237395.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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