(57)【要約】【課題】  基板の外観や品質を良好に保つことができる基板搬送装置、基板搬送方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。【解決手段】  基板搬送装置２０は、基板２３上に形成された被処理物のうち、除去すべき当該被処理物の除去を行う現像部（ウェット処理部）２１に対して基板２３の搬送方向下流側に位置し、現像部（ウェット処理部）２１から搬出された基板２３を搬送する搬送ローラー２７と、この搬送ローラー２７を洗浄する洗浄液２８を搬送ローラー２７に対して噴射する洗浄液噴射手段３０と、搬送ローラー２７上の基板２３の有無を検出する基板検出手段３２と、を有し、基板検出手段３２により搬送ローラー２７上の基板２３が存在しない状態であると検出した時に、洗浄液噴射手段３０により洗浄液２８を搬送ローラー２７に噴射する。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された被処理物のうち、除去すべき当該被処理物の除去を行うウェット処理部に対して前記基板の搬送方向下流側に位置し、前記ウェット処理部から搬出された前記基板を搬送する搬送手段を有する基板搬送装置において、
前記搬送手段を洗浄する洗浄液を前記搬送手段に対して噴射する洗浄液噴射手段と、前記搬送手段上の前記基板の有無を検出する基板検出手段と、を有し、
前記基板検出手段により前記搬送手段上の前記基板が存在しない状態であると検出した時に、前記洗浄液噴射手段により前記洗浄液を前記搬送手段に噴射することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記洗浄液は前記ウェット処理部で用いる前記被処理物除去用の液体であることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記洗浄液噴射手段は前記搬送手段の上側に位置し、前記洗浄液は前記洗浄液噴射手段から前記搬送手段へ向けて下側に噴射されることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記搬送手段は複数のローラーからなり、前記洗浄液噴射手段は前記複数のローラーのうち、少なくとも前記ウェット処理部に最も隣接した１の前記ローラーに対応して設けられたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記ウェット処理部は現像装置であり、前記被処理物除去用の液体は当該現像装置で用いるレジスト現像用の現像液であることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
基板上に形成された被処理物のうち、除去すべき当該被処理物をウェット処理部にて除去を行った後の当該基板を搬送手段により搬送する基板搬送方法において、基板検出手段により前記搬送手段上に前記基板が存在しない状態であると検出した時に、前記搬送手段を洗浄する洗浄液を前記搬送手段に対して噴射することを特徴とする基板搬送方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板搬送装置を用いて、プラズマディスプレイパネル用の基板を搬送することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置、基板搬送方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プラズマディスプレイパネルの製造工程において、基板上に、例えば電極や誘電体、隔壁等の何らかのパターンを形成する場合に、所謂フォトリソグラフィ法が採用される。
フォトリソグラフィ法の１例としては、まず、基板上にフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜に所望のパターンを露光し、現像を行うことにより基板上に所望のフォトレジストのパターンを形成するものである。
また、他のフォトリソグラフィ法の一例としては、基板上に所望のパターンを形成する被処理物を例えばスパッタリング法等によって一面に形成し、その被処理物上にフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜に所望のパターンを露光し、現像を行った後、エッチング処理により、塗布膜及び被処理物を所望のパターンに加工し、その後残った塗工膜を剥離することによって、所望の被処理物のパターンを形成するものもある。このフォトリソグラフィ法に用いる現像装置等のウェット処理装置及びその回りの搬送装置が、従来より提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
特許文献１に示す現像装置及びその回りの搬送装置は、図１に示すように、まず、ローダ１において、搬送ローラー２に処理基板３を、障壁（隔壁）形成面側を上にして載せ、処理基板３を現像部４に搬送する。現像部４において、処理基板３に現像液をスプレー５で吹きつけて、処理基板３を現像する。
現像完了後、擦り部６において、ロール７で障壁の頂部を擦り、頂部や側面の頂部に付いた蛍光体層を除去する。除去完了後、水切り部８において、エアーナイフ９によりエアーを処理基板３の両面から吹きつけて水切りを行う。
【０００４】
次に、第１、２リンス部１０，１１において、リンス液（水や純水）を処理基板３の両面からノズル１２，１３で吹きつけて処理基板３を洗浄する。洗浄完了後、第１、第２水切り部１４，１５において、処理基板３の両面からエアーナイフ１６，１７でエアーを吹きつけて、処理基板３の水切りを完全に行い、アンローダ部１８で処理基板３を処理部から搬出する。
【特許文献１】特開２０００−１８２５１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
現像部４で現像される処理基板３の裏面には微量の現像（除去）されたレジストの滓（図示せず）が付着する。この処理基板３の裏面に付着したレジスト滓が処理基板３の裏面から現像部４の下流側直後にある搬送ローラー２に転移される。
【０００６】
この転移したレジスト滓は搬送ローラー２の表面で堆積して滓の塊となり、この滓の塊が剥がれて後続の処理基板３の裏面にさらに転移する。
このように、後続の処理基板３に転移したレジスト滓は、その後の工程におけるベーキング処理等により硬化し、処理基板３上に固着してしまうと、処理基板３に外観不良が発生する。
特に、処理基板３がプラズマディスプレイパネルの前面板である場合は、表示面側にこのレジスト滓が固着することとなり、パネルに表示される映像が劣化するという表示品質劣化の問題が発生する。
また、現像装置以外のウェット処理装置であるエッチング装置においても、エッチング処理後、エッチング液によって除去された被処理物がエッチング滓となり、同様に処理基板の裏面に付着、転移する。また、エッチング処理後の残ったレジストを剥離するレジスト剥離装置においても、レジスト剥離後、レジスト剥離液によって除去されたレジストがレジスト滓となり、同様に処理基板の裏面に付着、転移する。
【０００７】
本発明が解決しようとする課題としては、ウェット処理工程における基板の外観不良の発生を防ぐこと、プラズマディスプレイの表示品質劣化を防ぐことなどがそれぞれ一例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の基板搬送装置は、基板上に形成された被処理物のうち、除去すべき当該被処理物の除去を行うウェット処理部に対して前記基板の搬送方向下流側に位置し、前記ウェット処理部から搬出された前記基板を搬送する搬送手段を有する基板搬送装置において、前記搬送手段を洗浄する洗浄液を前記搬送手段に対して噴射する洗浄液噴射手段と、前記搬送手段上の前記基板の有無を検出する基板検出手段と、を有し、前記基板検出手段により前記搬送手段上の前記基板が存在しない状態であると検出した時に、前記洗浄液噴射手段により前記洗浄液を前記搬送手段に噴射することを特徴とする。
【０００９】
請求項６に記載の基板搬送方法は、基板上に形成された被処理物のうち、除去すべき当該被処理物をウェット処理部にて除去を行った後の当該基板を搬送手段により搬送する基板搬送方法において、基板検出手段により前記搬送手段上に前記基板が存在しない状態であると検出した時に、前記搬送手段を洗浄する洗浄液を前記搬送手段に対して噴射することを特徴とする。
【００１０】
請求項７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板搬送装置を用いて、プラズマディスプレイパネル用の基板を搬送することを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について、ウェット処理装置の１つである現像装置とその回りの搬送装置を例に図面を参照して説明する。。
（第１の実施の形態）
図２は、本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を示す概略図であり、図３は、図２のＡ−Ａ線断面図である。
プラズマディスプレイパネルの製造工程においては、基板２３上に、電極や誘電体、隔壁等の所定のパターンを形成するため、基板２３上にフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜に何らかのパターンを露光し、現像を行うことにより基板上にパターンを形成する。図２において、基板２３は、現像工程の前工程の装置から搬送され、現像部２１でフォトリソグラフィ法による現像工程が実施される。
本実施の形態に係る基板搬送装置２０は、基板２３上に形成されたレジストの現像を行う現像部２１に対して基板２３の搬送方向下流側に位置し、現像部２１から搬出された基板２３を搬送するものである。
【００１２】
現像部２１は、搬送ローラー３４の上方の天井３５に複数のノズル３６を備える。
搬送ローラー３４で基板２３を下流側に搬送させながら、ノズル３６から現像液３７をスプレー状に噴射し、噴射した現像液３７を基板２３に吹きつけて基板２３を現像する。
【００１３】
現像部２１の基板搬送方向の下流側には、現像工程の次工程（基板洗浄等）を行う次工程処理部２２との間に、現像処理と次工程の処理との干渉を避けるために、現像部２１の下流側隔壁２４と次工程処理部２２の上流側隔壁２５とで区画されたスペース部２６が設けられている。
このスペース部２６は、基板２３を次工程処理部２２へ搬送する１つの搬送ローラー（搬送手段）２７を有する。
【００１４】
本実施の形態に係る基板搬送装置２０は、このスペース部２６に、洗浄液噴射手段３０及び基板検出手段３２を有する。
洗浄液噴射手段３０は、洗浄液２８を搬送ローラー２７に対して噴射する。
基板検出手段３２は、搬送ローラー２７上の基板２３の有無を検出するものである。
そして、この洗浄液噴射手段３０は、基板検出手段３２により搬送ローラー２７上の基板２３が存在しない状態であると検出した時に、洗浄液２８を搬送ローラー２７に噴射するように動作する。
【００１５】
スペース部２６の搬送ローラー２７は、現像部２１から搬出された基板２３を次工程処理部２２へ搬送する。即ち、搬送ローラー２７は、現像部２１の搬送ローラー３４の搬送面に合わせて配置され、図３に示すように、左右端部３８，３９から支持軸３８ａ，３９ａがそれぞれ突出され、各支持軸３８ａ，３９ａが左右の壁部４０，４１にそれぞれ回転自在に設けられている。
この搬送ローラー２７は、駆動手段（図示せず）によって駆動される。
【００１６】
搬送ローラー２７を洗浄する洗浄液噴射手段３０は、スペース部２６の上部、即ち、搬送ローラー２７の上側の天井４２に設けられ、搬送ローラー２７に向けて洗浄液２８を下側に噴射する噴射ノズル３１を備える。
この噴射ノズル３１は、図２のＡ−Ａ線断面図である図３に示すように、搬送ローラー２７の左右端部３８，３９間に亘って所定間隔をおいて複数個設けられ、搬送ローラー２７全体に洗浄液２８が吹きつけられるようになっている。
【００１７】
よって、噴射ノズル３１から洗浄液２８を噴射した際に、搬送ローラー２７の左右端部３８，３９間の全域に亘って洗浄液２８を吹きつけて、搬送ローラー２７に付着したレジスト滓（図示せず）を除去することが可能になる。
【００１８】
洗浄液２８は、現像部２１で用いるレジスト現像用の現像液３７が用いられる。
この洗浄液２８は、レジスト滓を除去する様な液体であれば、例えば単なる水等でもよいが、現像部２１で用いた現像液３７と同じ液を用いれば、レジスト滓を除去する効果がさらに得られるので、好ましい。これは、搬送ローラー２７に転移するレジスト滓が現像部２１にて現像されるレジストであることに基づくものである。
【００１９】
なお、現像液３７としては、そのレジストの種類によって異なり、アルカリ性の溶液で現像されるレジストの場合にはアルカリ性の溶液となり、水で現像されるレジストの場合には水となる。
【００２０】
基板検出手段３２は、例えば、エリアセンサー等が用いられる。即ち、基板検出手段３２は、図３に示すように、左壁部４０のうち、搬送ローラー２７の上方に投光部４５を設け、右壁部４１のうち、搬送ローラー２７の上方に受光部４６を設け、投光部４５の投光面と受光部４６の受光面とを対向させたものである。
投光部４５から投光した光を受光部４６で受光し、受光した光量に基づいて搬送ローラー２７上における基板２３の有無を検知する。
【００２１】
次に、基板搬送装置２０を用いた基板２３の搬送方法（基板搬送方法）について説明する。
基板搬送装置２０の基板検出手段３２で、スペース部２６の搬送ローラー２７上に基板２３が搬送されていないと判断されると、洗浄液噴射手段３０の噴射ノズル３１から搬送ローラー２７に向けて洗浄液２８を噴射する。
洗浄液２８を搬送ローラー２７の全域に吹きつけて、搬送ローラー２７に転写したレジスト滓（図示せず）を洗浄液２８により除去する。
【００２２】
一方、基板搬送装置２０の基板検出手段３２で、スペース部２６の搬送ローラー２７上に基板２３が搬送されていると判断されると、噴射ノズル３１から搬送ローラー２７に向けて洗浄液２８を噴射することを停止する。
即ち、搬送ローラー２７上に基板２３が搬送されていないときのみ、噴射ノズル３１から搬送ローラー２７に向けて洗浄液２８を噴射するようにする。
【００２３】
ここで、搬送ローラー２７上に基板２３が搬送されていない時にのみ、噴射ノズル３１から搬送ローラー２７に向けて洗浄液２８を噴射するようにした理由について説明する。
即ち、仮に、搬送ローラー２７上に基板２３が搬送されている時にも洗浄液２８を搬送ローラー２７へ絶えず噴射したとすると、洗浄液２８の無駄もさることながら、噴射された洗浄液２８が基板２３に吹きつけられるので、例えば洗浄液２８が基板２３のパターンを構成する材料と化学反応を起したりする等の製品への悪影響が考えられる。
【００２４】
加えて、洗浄液２８に現像液３７を用いた場合、所定のパターンに対する現像部２１で定められた所望の現像条件に対して、現像液３７の過多という異なった条件で現像が行われることになり、所定のパターンが形成されない虞がある。
以上の観点から、基板２３に洗浄液２８が噴射されないように、基板２３が搬送されていないタイミングに合わせて、搬送ローラー２７に洗浄液２８を吹きつけることとする。
【００２５】
また、搬送ローラー２７の回転は、基板２３の搬送中だけではなく、基板２３を搬送しない場合、即ち、噴射ノズル３１から洗浄液２８を噴射する時にも継続させることが望ましい。
このように、回転している搬送ローラー２７に洗浄液２８を吹きつけることで、搬送ローラー２７の周面全域に洗浄液２８が吹きつけられることとなり、搬送ローラー２７の周面に付着したレジスト滓を残らず落とすようにすることができる。
【００２６】
本実施の形態に係る基板搬送装置２０は、スペース部２６に設けられた搬送ローラ２７の周面に付着したレジスト滓を除去できるので、基板２３がスペース部２６を通過する際に、搬送ローラ２７から再び基板２３にレジスト滓が転移することを防ぐことができる。よって、基板２３の外観や品質を良好な状態に保つことができる。
【００２７】
次に、第２の実施の形態の基板搬送装置を図４に基づいて説明する。なお、第２の実施の形態において第１の実施の形態と同一類似部材については同一符号を付して説明を省略する。
第２の実施の形態の基板搬送装置５０は、スペース部２６に複数の搬送ローラー（搬送手段）２７ａ，２７ｂ，・・・が設けられている。これらの搬送ローラー２７ａ，２７ｂ，・・・に対応させて洗浄液噴射手段３０ａ，３０ｂ，・・・及び基板検出手段３２ａ，３２ｂ，・・・をそれぞれ設けたものである。
【００２８】
なお、この複数の搬送ローラー２７ａ，２７ｂ，・・・のうち、現像部２１に隣接した１つ目の搬送ローラー２７ａに対してのみ洗浄液噴射手段３０ａ及び基板検出手段３２ａを設け、２つ目以降の搬送ローラー２７ｂ，・・・に対しては洗浄液噴射手段及び基板検出手段を設けない構成としてもよい。
この現像部２１に隣接した１つ目の搬送ローラー２７は、基板２３が現像部２１を抜けた後、最初に接する搬送ローラーであるので、現像部２１で基板２３に付着したレジスト滓が最も転移しやすく汚れやすい。
このため、１つ目の搬送ローラー２７ａに対応する洗浄液噴射手段３０ａ及び基板検出手段３２ａは必ず設ける必要がある。
【００２９】
以上、詳述したように、本実施の形態に係る基板搬送装置２０は、基板２３上に形成された被処理物のうち、除去すべき当該被処理物の除去を行う現像部（ウェット処理部）２１に対して基板２３の搬送方向下流側に位置し、現像部２１から搬出された基板２３を搬送する搬送ローラー（搬送手段）２７を有するものであり、この搬送ローラー２７を洗浄する洗浄液２８を搬送ローラー２７に対して噴射する洗浄液噴射手段３０と、搬送ローラー２７上の基板２３の有無を検出する基板検出手段３２とを有し、基板検出手段３２により搬送ローラー２７上の基板２３が存在しない状態であると検出した時に、洗浄液噴射手段３０により洗浄液２８を搬送ローラー２７に噴射する。
このように、搬送ローラー２７に洗浄液２８を吹きつけることで、搬送ローラー２７に付着したレジスト滓を除去することができる。よって、後続の基板２３を搬送する際に、汚れた搬送ローラー２７から基板２３にレジスト滓が再び転移することを防いで、基板２３の外観や品質を良好に保つことができる。
【００３０】
なお、前述の実施の形態においてはウェット処理装置の一例として、現像装置を挙げて説明したが、本発明は、ウェット処理装置がエッチング装置やレジスト剥離装置である場合に対しても前述の実施の形態における基板搬送装置２０，５０の構成を適用することができる。ウェット処理装置がエッジング装置の場合は、洗浄液２８として基板２３上の被処理物をエッチング処理するためのエッチング液を使用し、ウェット処理装置がレジスト剥離装置の場合には、エッチング処理後に残ったレジストを剥離するためのレジスト剥離液を使用すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】従来の基板の製造工程を説明する図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を示す概略図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係る基板搬送装置を示す概略図である。
【符号の説明】
【００３２】
２０，５０  基板搬送装置
２３  （プラズマディスプレイパネル用の）基板
２１  現像部（ウェット処理部）
２７  搬送ローラー（搬送手段）
２８  洗浄液
３０  洗浄液噴射手段
３２  基板検出手段
３７  現像液
【図１】
2006012934.tif 000003
【図２】
2006012934.tif 000004
【図３】
2006012934.tif 000005
【図４】
2006012934.tif 000006