(57)【要約】【課題】簡単な構造で製造コストを抑えながら、被加熱物を均一にマイクロ波加熱する。【解決手段】電子レンジ１０を、被加熱物を収容する加熱室１２と、加熱室１２内にマイクロ波を放射可能に形成されたマイクロ波発生手段１４と、加熱室１２内の底面上に設けられ被加熱物を載置するマイクロ波透過性部材１とを備えてなり、加熱室１２内に載置された被加熱物をマイクロ波加熱するように構成する。マイクロ波透過性部材１を、マイクロ波透過性材料からなる基材３に、マイクロ波吸収膜層およびマイクロ波反射膜層を部分的に設けて構成する。【選択図】図１
2006286373.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波透過性材料を有してなる基材に、
マイクロ波吸収膜層、または／および、マイクロ波反射膜層を、
部分的に設けてなる、
ことを特徴とするマイクロ波透過性部材。
【請求項２】
マイクロ波吸収膜層、または／および、マイクロ波反射膜層を、
パターン模様状に設けてなる、
請求項１記載のマイクロ波透過性部材。
【請求項３】
マイクロ波吸収膜層を２００μｍ以下の膜厚さ、または／および、マイクロ波反射膜を５０μｍ以下の膜厚さで設けてなる、
請求項１または２に記載のマイクロ波透過性部材。
【請求項４】
マイクロ波吸収膜層、または／および、マイクロ波反射膜層を、
少なくとも単層で設けてなる、
請求項１乃至３のいずれかに記載のマイクロ波透過性部材。
【請求項５】
マイクロ波吸収膜層がその膜上の少なくとも２点において異なるマイクロ波吸収特性を備え、または／および、マイクロ波反射膜層がその膜上の少なくとも２点において異なるマイクロ波反射特性を備えてなる、
請求項１乃至４のいずれかに記載のマイクロ波透過性部材。
【請求項６】
加熱室内の被加熱物を、マイクロ波加熱するように構成された電子レンジであって、
請求項１乃至５のいずれかに記載のマイクロ波透過性部材を、
加熱室内面のうち少なくとも一つの面上に設けてなる、
ことを特徴とする電子レンジ。
【請求項７】
加熱室内面が、加熱室の底面である、
請求項６に記載の電子レンジ。
【請求項８】
加熱室内に出し入れ可能に設けたトレイ上の被加熱物を、マイクロ波加熱するように構成された電子レンジであって、
請求項１乃至５のいずれかに記載のマイクロ波透過性部材を、
トレイに設けてなる、
ことを特徴とする電子レンジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロ波透過性材料を有してなる基材に、マイクロ波吸収膜層、または／および、マイクロ波反射膜層を設けてなるマイクロ波透過性部材、およびそのマイクロ波透過性部材を設けてなる電子レンジに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子レンジは、現代の食生活における必需品であり、一般家庭あるいはコンビニエンスストアなどで大いに使用されている。従来、電子レンジに用いられている被調理物の載置台としては、ターンテーブル式が主流であった。ターンテーブル式電子レンジは、加熱室内において、載置台と共に被調理物を回転させマイクロ波加熱するように構成されている。このターンテーブル式電子レンジによれば、被調理物に対してマイクロ波を均一に照射可能となり、被調理物をほぼ均一に加熱できる利点がある。
【０００３】
しかしながら、ターンテーブル式電子レンジには、被調理物を載せることのできるスペースが回転軌跡内に制限される構造上、加熱室の底板面積に対して有効面積が小さいという大きな欠点があった。特にコンビニエンスストアなど営業用に用いる場合、短時間で調理数をより多くすることが重要であるが、ターンテーブル式電子レンジでは、例えば２つの弁当を配置できる底板面積があったとしても、１つの弁当分の有効面積しか確保できず、電子レンジを多数保有することが必要となり、その導入コスト、設置場所、保守管理、また使用電力の面などからも改善が求められていた。
【０００４】
そこで、現在では底板式の電子レンジ（以下、ノンターン式電子レンジ）が見直され、被調理物へのマイクロ波照射が不均一になりやすいという問題点を解決する技術が案出されている。例えば、このような技術として、特許文献１に記載された複合加熱装置や特許文献２に記載されたマルチ給電型電子レンジがある。これら両者はノンターン式電子レンジによる加熱機能を備えるものであり、従って、マイクロ波照射時に被調理物が回転移動することはない。さらに、前者においては、被加熱物に対向する面に上下動可能な反射材を含む加熱ユニットを配して構成され、被加熱物を含む領域内にマイクロ波を閉じ込め領域を形成することに効率よく被加熱物をマイクロ波加熱するものである。また後者においては、加熱室にマイクロ波反射撹拌羽を取り付けて、載置台に対し、マイクロ波を拡散させるように構成され、ターンテーブル式電子レンジに比べ、有効使用面積を格段に増加できると共に、均一なマイクロ波加熱が可能である。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−０３２６４６号公報
【特許文献２】特開平０８−１３８８６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１の電子レンジでは、加熱ユニットの上下動によって反射材によりマイクロ波の反射方向を変化させ、また、特許文献２の複合加熱装置では、マイクロ波反射撹拌羽の動作によって反射方向を変化させ、マイクロ波加熱の効率を向上させるものであり、共に構造が複雑になり、製造コストが多く掛かる点で問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、構造を簡単にして製造コストを抑えながら、マイクロ波の吸収特性や反射特性を変化させることができるマイクロ波透過性部材、および被加熱物を均一にマイクロ波加熱できる電子レンジの提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、請求項１の発明に係るマイクロ波透過性部材は、マイクロ波透過性材料を有してなる基材に、マイクロ波吸収膜層、または／および、マイクロ波反射膜層を、部分的に設けて構成される。
【０００９】
請求項２の発明に係るマイクロ波透過性部材は、マイクロ波吸収膜層、または／および、マイクロ波反射膜層を、パターン模様状に設けて構成される。
【００１０】
請求項３の発明に係るマイクロ波透過性部材は、マイクロ波吸収膜層を２００μｍ以下の膜厚さ、または／および、マイクロ波反射膜を５０μｍ以下の膜厚さで設けて構成される。
【００１１】
請求項４の発明に係るマイクロ波透過性部材は、マイクロ波吸収膜層、または／および、マイクロ波反射膜層を、少なくとも単層で設けて構成される。
【００１２】
請求項５の発明に係るマイクロ波透過性部材は、マイクロ波吸収膜層がその膜上の少なくとも２点において異なるマイクロ波吸収特性を備え、または／および、マイクロ波反射膜層がその膜上の少なくとも２点において異なるマイクロ波反射特性を備えて構成される。
【００１３】
請求項６の発明に係る電子レンジは、加熱室内の被加熱物を、マイクロ波加熱するように構成された電子レンジであって、請求項１乃至５のいずれかに記載のマイクロ波透過性部材を、加熱室内面のうち少なくとも一つの面上に設けて構成される。
【００１４】
請求項７の発明に係る電子レンジは、加熱室内面が、加熱室の底面であるように構成される。
【００１５】
請求項８の発明に係る電子レンジは、加熱室内に出し入れ可能に設けたトレイ上の被加熱物を、マイクロ波加熱するように構成された電子レンジであって、請求項１乃至５のいずれかに記載のマイクロ波透過性部材を、トレイに設けて構成される。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１の発明によれば、基材における特定部分について、マイクロ波の吸収特性や反射特性を変化させることができる。
【００１７】
請求項２の発明によれば、基材における特定部分について、設けるパターン模様の形状を調整でき、マイクロ波の吸収特性や反射特性を容易に変化させることができる。
【００１８】
請求項３の発明によれば、マイクロ波の吸収特性および反射特性の劣化を防止可能となる。
【００１９】
請求項４の発明によれば、基材における特定部分について、設ける層数を調整でき、マイクロ波の吸収特性や反射特性を容易に変化させることができる。
【００２０】
請求項５の発明によれば、基材における特定部分について、少なくとも２点におけるマイクロ波の吸収特性や反射特性を変化させることができる。
【００２１】
請求項６〜８の発明によれば、加熱室内の被加熱物に対して、マイクロ波が不均一に照射される場合であっても、基材における特定部分について、マイクロ波の吸収特性や反射特性を変化させることができ、被加熱物を均一にマイクロ波加熱できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２３】
図１、２に示す電子レンジ１０は、被加熱物を収容する加熱室１２と、加熱室１２内にマイクロ波を放射可能に形成されたマイクロ波発生手段１４と、加熱室１２内の底面上に設けられ被加熱物を載置するマイクロ波透過性部材１とを備えてなり、加熱室１２内に載置された被加熱物をマイクロ波加熱するように構成されている。
【００２４】
加熱室１２は、室内空間がほぼ立方体形状に形成され、空間内に放射されたマイクロ波を各内面側で反射するとともに室外への漏洩を防止可能に金属材料等で形成されている。またマイクロ波発生手段１４としては、いわゆるマグネトロンが使用されている。
【００２５】
図３に示すように、マイクロ波透過性部材１は、マイクロ波透過性材料を有してなる基材３に、マイクロ波吸収膜層５およびマイクロ波反射膜層７を、部分的に設けて構成されている。
【００２６】
基材３は、加熱室１２の底面にほぼ一致する縦横寸法の平板状に形成され、直接マイクロ波の照射を受けるように底面上に配設されている。また、基材３は、マイクロ波透過性を備えると共に、低い熱膨張係数を有する材料を用いて高い耐熱性を備えるように、いわゆるガラスやセラミックス等から形成されている。ガラスとしては、例えば石英ガラス、バイコールガラス等から選択して使用でき、セラミックスとしては、例えばβ−スポジュメン、コージェライト等から選択して使用できる。
【００２７】
マイクロ波吸収膜層５およびマイクロ波反射膜層７は、基材３の裏面側、すなわち加熱室１２の底面に対する配設面側に、それぞれがパターン模様状に部分的に設けられている。パターン模様の形状は、例えば図３（ａ）〜（ｃ）のように、四角形、丸形、Ｔ字形、コの字形、十字形等から選択して使用できる。さらに、図３（ｄ）、（ｅ）のように、これらのパターン模様は、ベタ塗りによって、形状、サイズ、間隔、数を変えて複数設けても良く、またベタ塗り膜に、前述のパターン模様の穴を同様に設けて形成可能である。
【００２８】
マイクロ波吸収膜層５は、フェライト、ＳｉＣ、酸化スズ、チタン酸バリウムなど公知のマイクロ波吸収材を材料として構成されている。マイクロ波吸収膜層５は、単独種類の材料を用いて膜状に形成しても良いし、その他、熔化材料を含んだ合成材料を用いて膜状に形成しても良い。
【００２９】
また、マイクロ波透過性部材１にマイクロ波吸収膜層５を設ける方法としては、溶射、印刷焼き付け、接着、蒸着など公知の方法が使用される。
【００３０】
また、図３（ｆ）のように、マイクロ波吸収膜層５を場所により単膜あるいは複数段層にすることで、吸収特性を場所によって変化させることもできる。また、例えば、異種類のマイクロ波吸収材料からなる膜層を用いた膜層パターンとしたり、熔化材料との混合比を変えることによっても実現可能である。
【００３１】
また、マイクロ波吸収膜層５の膜層厚さは、２００μｍ以下が有効である。それは膜層厚さが２００μｍ以上の場合、基材３との熱膨張係数の違いが問題となるからである。例えば基材３として、代表的な低熱膨張性セラミックスであるβ−スポジュメンを使用した時、その熱膨張係数は５×１０−６／℃である。これに対し、マイクロ波吸収膜層５として、例えばフェライトを使用した時、その熱膨張係数は約１００×１０−６／℃という非常に高い値を持つ。このように膨張特性が大きく異なる２種類の材料が接する状態で加熱されると、特にマイクロ波吸収膜層５は、熱膨張の差による熱歪みを受けることで、亀裂が入り易く、また剥離し易くなる。ここで、マイクロ波吸収膜層５の膜層厚さを２００μｍ以下とした場合には、熱歪みの影響が緩和され、亀裂・剥離現象は起き難くなる。また経済的にも有効である。
【００３２】
次に、マイクロ波反射膜層７は、鉄、ステンレス、アルミニウムなどの金属材料など公知のマイクロ波反射材料から構成されている。マイクロ波反射膜層７は、単独種類の材料を用いて膜状に形成しても良いし、その他、熔化材料を含んだ合成材料を用いて膜状に形成しても良い。
【００３３】
また、基材３にマイクロ波反射膜層７を設ける方法としては、スパッタ法、溶射法、メタライズ法、金属箔貼り付けなど公知の方法が使用できる。
また、マイクロ波反射膜層７は、基材３にパターン模様状に設けることができる。図３のように、パターン模様の形状は、マイクロ波吸収膜層５と同様に形成できる。また、マイクロ波反射膜層７についても、膜層厚さをあまり厚くすると、マイクロ波反射膜層５と同様に、熱歪みによる亀裂・剥離が発生する恐れがあるので、５０μｍ以下であるのが経済的にも有効である。
【００３４】
なお、マイクロ波透過性部材１は、電子レンジの加熱室１２において、底面に限らず、、他の左右側壁面、天井面、背壁面のうち少なくとも一つの面に設けることができる。その場合、各面においてその全面を覆うように全面的に設けても良いし、部分的に設けても良い。
【００３５】
図９、１０の電子レンジ１１は、電子レンジ１０と同様の形状、材料および機能となるように構成された加熱室１３と、マイクロ波発生手段１４とを備え、さらに左右側壁面に一対のガイド溝を設けると共に、その一対のガイド溝に沿って加熱室１３内に出し入れ可能に設けたトレイ２０に、マイクロ波透過性部材２を設けて構成されている。すなわちトレイ２０は、マイクロ波透過性部材２の基材４を被加熱物を載置可能なトレイ形状に形成することで構成されている。そしてトレイ２０の裏面には、マイクロ波吸収膜層５、マイクロ波反射膜層７が部分的に設けられている。この場合も、電子レンジ１０と同様の作用効果を得ることができる。
【００３６】
なお、マイクロ波透過性部材１、２は、電子レンジ１０，１１と同様のマイクロ波加熱機能を備えるものであれば、オーブン機能等の他の加熱機能を付与されてなる複合加熱装置にも適用可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
【００３７】
さらに、マイクロ波吸収膜層５とマイクロ波反射膜層７との共存させれば、マイクロ波照射不均一性がある場合であっても、吸収・反射の両方の特性を利用したこれらの膜層を用いることで、被加熱物のマイクロ波加熱をより効果的に均一に行うことが可能となる。
【００３８】
＜実施例＞
次に、図４の比較例１および図５〜８の実施例１〜４の加熱特性を調べるため、以下の実験１を行った。
【００３９】
実験１の環境は、次の通りである。
図１のノンターン式電子レンジ１０を使用する。この加熱室１２の内寸法（幅×奥行×高さ）は３５０×３５０×２３０（ｍｍ）である。また、定格出力は１２００（Ｗ）である。被加熱物としては、冷やご飯２６を使用する。この冷やご飯２６は、容器寸法（縦×横×深さ）が３３５×３３５×３１（ｍｍ）の合成樹脂製タッパ２５に、ご飯２６をほぼ満杯まで詰め、ラップをして一昼夜冷蔵庫に入れて作成されるものである。ご飯２６を詰めたタッパ２５は、比較例１、実施例１〜４に個別に使用可能となるように十分な個数を用意する。
【００４０】
実験１の手順は以下の通りである。
図２（ａ）に示すように、電子レンジ１０の加熱室１２の底面に、先ず比較例１の基材３、次に実施例１〜４のマイクロ波透過性部材１０１〜１０４を、順番に配置して行う。例えば比較例１の基材３を配置した状態で、タッパ２５を冷蔵庫（庫内温度約１０℃とする）から取り出し、配置した基材３上の中央位置に設置する。タッパ２５内のご飯２６の左前（ＬＦ）、左中（ＬＭ）、左奥（ＬＢ）、中前（ＭＦ）、中中（ＭＭ）、中奥（ＭＢ）、右前（ＲＦ）、右中（ＲＭ）、右奥（ＲＢ）の合計９箇所に接触式熱電対３９を入れ、電子レンジ１０を動作させ、マイクロ波加熱し経時温度測定を行う。加熱結果を記録する。
【００４１】
先ず、比較例１として、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、基材３を、熱膨張係数０．９×１０−６／℃（５０〜５００℃）を有するβ−スポジュメン系低熱膨張性セラミックスを主成分とする平板から構成し、外形寸法を３５０×３５０×４（縦×横×厚さ）に形成して加熱室１２の底面に配置する。経時温度測定し、その加熱結果を図４（ｃ）に示す。
【００４２】
図４（ｃ）の加熱結果から、前部左右部（ＬＦ、ＲＦ）の昇温が遅いことがわかる。また、ご飯を温め直した場合、一般的に美味しいといわれている温度は、７０〜８０℃くらいであるが、前部左右部では下限の７０℃よりも低く、中央部（ＭＭ）では上限の８０℃よりも高くなっており、温度差が著しく、均一に加熱されていないことがわかる。部分的に冷たいのはもちろんだが、熱すぎても水分が失われて硬くなり美味しくない。また電子レンジ加熱の場合、水分の蒸発を防ぐためラップなどをするが、結果のような温度差が出ると蒸気ムラが発生して、好ましい加熱状態を作るのは難しい。
【００４３】
次に、実施例１として、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、基材３を、比較例１と同様の平板から構成する。
基材３上のＬＦ、ＲＦにマイクロ波吸収膜層５１を設けてマイクロ波透過性部材１０１を構成する。
マイクロ波吸収膜層５１は、ＢａＯ・６ＦｅＯ３（バリウムフェライト）を用いて構成した。
バリウムフェライトは熔化材料と混合し、基材３の裏面に、図５（ａ）、（ｂ）のパターン模様でスクリーン印刷し焼き付けた。マイクロ波吸収膜層５１の厚さは４５μｍである。
【００４４】
実施例１のマイクロ波透過性部材１０１は、比較例１の加熱結果を受け、昇温の遅い部分ＬＦ、ＲＦにマイクロ波吸収膜層５１を設けたものである。パターン模様には、ベタ塗り上に４φの穴を等間隔で所定個数設けた。この穴を設けることで、マイクロ波吸収膜層５１が過剰にマイクロ波を吸収し、被加熱物が過熱しすぎないようにする。
このマイクロ波透過性部材１０１を加熱室１２の底面に配置する。経時温度測定し、その加熱結果を図５（ｃ）に示す。
【００４５】
図５（ｃ）の加熱結果から、標準偏差（ばらつき）が小さくなることがわかった。
【００４６】
次に、実施例２として、図６（ａ）、（ｂ）に示すように、実施例１のマイクロ波透過性部材１０１のマイクロ波吸収膜層５１に加え、さらにＬＦ、ＲＦにバリウムフェライトからなる第２のマイクロ波吸収膜層５２を一部分だけ２重層にして、マイクロ波透過性部材１０２を構成する。２重層の部分の厚さは９０μｍである。このマイクロ波透過性部材１０２を加熱室１２の底面に配置する。経時温度測定し、その加熱結果を図６（ｃ）に示す。
【００４７】
図６（ｃ）の加熱結果から、さらに標準偏差の改善がみられた。また、平均温度の上昇がみられた。この理由として、基材３上のＬＦ、ＲＦに設けたマイクロ波吸収膜層５１、５２に、適度にマイクロ波が吸収されることにより、出力ロスが少なくなったものと思われる。
【００４８】
次に、実施例３として、図７（ａ）、（ｂ）に示すように、基材３を、比較例１と同様の平板から構成する。
基材３上のＬＦ、ＲＦに、第１のマイクロ波吸収膜層５４と、その両側に第２のマイクロ波吸収膜層５３とを設けて、マイクロ波透過性部材１０３を構成する。第１のマイクロ波吸収膜層５４は、熔化材料にバリウムフェライトを７５重量％混合して構成されている。また第２のマイクロ波吸収膜層５３は、熔化材料にバリウムフェライトを６０重量％混合して構成されている。層厚さは４５μｍである。このマイクロ波透過性部材１０３を加熱室１２の底面に配置する。経時温度測定し、その加熱結果を図７（ｃ）に示す。
【００４９】
実施例２と同様の改善がみられた。
【００５０】
次に、実施例４として、図８（ａ）、（ｂ）に示すように、基材３を、比較例１と同様の平板から構成する。
基材３上のＬＢ、ＭＢ、ＲＢ、ＭＭ、ＭＦに、溶射法によってアルミニウムからなるマイクロ波反射膜層７１を設けてマイクロ波透過性部材１０４を構成する。マイクロ波透過性部材１０４は、基材３の裏面に、Ｔ字状べた塗りのパターン模様で設けられる。マイクロ波反射膜層７１の厚さは１０μｍである。
【００５１】
実施例４のマイクロ波透過性部材１０４は、比較例１の加熱結果を受け、昇温の早い部分にマイクロ波反射膜層７を設けたものである。このマイクロ波透過性部材１０４を加熱室１２の底面に配置する。経時温度測定し、その加熱結果を図８（ｃ）に示す。
【００５２】
上記実施例３、４と同様の改善がみられた。
【００５３】
次に、図１１の比較例２および図１２〜１３に示す実施例５〜６の加熱特性を調べるため、以下の実験２を行った。
【００５４】
実験２の環境は、次の通りである。
図９のノンターン式電子レンジ１１を使用する。この加熱室１３の内寸法（幅×奥行×高さ）は４１０×３２０×２５０（ｍｍ）である。また、定格出力は１６００（Ｗ）である。被加熱物としては、実験１と同様に、合成樹脂製タッパ２７にほぼ満杯まで詰め込んだ冷やご飯２８を使用する。タッパ２７は、容器寸法（縦×横×深さ）が３４５×２７０×３０（ｍｍ）で形成されている。ご飯２８を詰めたタッパ２７は、比較例２、実施例５〜６に個別に使用可能となるように十分な個数を用意する。
【００５５】
実験２の手順は以下の通りである。
図１０（ａ）に示すように、電子レンジ１１は、電子レンジ１０の構成に加えて、加熱室１３の左右側壁面に一対のガイド溝が設けられ、このガイド溝に沿って出し入れ可能な角トレイ２０が設けられている。ここで比較例２、実施例５〜６の各基材４は、トレイ２０と同一形状となるように形成されている。先ず比較例２の基材４、次に実施例５〜６のマイクロ波透過性部材１０５〜１０６を順番にトレイ２０としてガイド溝に配置して行う。例えば比較例２の基材４を配置した状態で、タッパ２７を冷蔵庫（庫内温度約１０℃とする）から取り出し、配置した基材４上の中央位置に設置する。タッパ２７内のご飯２８の左前（ＬＦ）、左中（ＬＭ）、左奥（ＬＢ）、中前（ＭＦ）、中中（ＭＭ）、中奥（ＭＢ）、右前（ＲＦ）、右中（ＲＭ）、右奥（ＲＢ）の合計９箇所に接触式熱電対３０を入れ、電子レンジ１１を動作させ、マイクロ波加熱し経時温度測定を行う。加熱結果として記録する。
【００５６】
先ず、比較例２として、図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、基材４は、熱膨張係数０．９×１０−６／℃（５０〜５００℃）を有するβ−スポジュメン系低熱膨張性セラミックスを主成分とし、一対のガイド溝に沿って加熱室１３内に出し入れ可能なトレイ形状にガイド溝にするトレイ形状に形成されている。外形寸法は、４１０×３２０×４（縦×横×厚さ）に形成され加熱室１３のガイド溝に設置する。経時温度測定し、その加熱結果を図１１（ｃ）に示す。
【００５７】
図１１（ｃ）の加熱結果から、比較例１同様に、部分的に温度差が激しいことがわかる。
【００５８】
次に、実施例５として、図１２（ａ）、（ｂ）に示すように、基材４を、比較例２と同様のトレイ形状に形成する。基材４上のＬＭ、ＬＦ、ＭＦに亘ってＬ字状にマイクロ波吸収膜層５５を設けてマイクロ波透過性部材１０５を構成する。
マイクロ波吸収膜層５５は、バリウムフェライトを用いて構成した。バリウムフェライトは熔化材料と混合し、トレイ２０の裏面に、図１２（ａ）、（ｂ）のパターン模様でスクリーン印刷し焼き付けた。吸収膜層の厚さは４５μｍである。
【００５９】
実施例５のマイクロ波透過性部材１０５は、比較例２の結果を受け、昇温の遅い部分にマイクロ波吸収膜層５５を設けたものである。パターン模様には、ベタ塗り上に４φの穴を等間隔で所定個数設けた。この穴を設けることで、マイクロ波吸収膜層５５が過剰にマイクロ波を吸収し、被加熱物が過熱しすぎないようにする。このマイクロ波透過性部材１０５をガイド溝に配置する。経時温度測定し、その加熱結果を図１２（ｃ）に示す。
【００６０】
図１２（ｃ）の加熱結果から、標準偏差（ばらつき）が小さくなることがわかった。
【００６１】
次に、次に、実施例６として、図１３（ａ）、（ｂ）に示すように、実施例５のマイクロ波透過性部材１０５のマイクロ波吸収膜層５５に加え、さらにＬＢ、ＲＢに、溶射法により、アルミニウム反射膜層７２を設けてマイクロ波透過性部材１０６を構成する。マイクロ波反射膜層７２の厚さは１０μｍである。
【００６２】
図１３（ｃ）の加熱結果から、さらに標準偏差の改善がみられた。また、平均温度の上昇がみられた。
【００６３】
上記構成のマイクロ波透過性部材によれば、構造を簡単にして製造コストを抑えながら、基材における特定部分について、マイクロ波の吸収特性や反射特性を変化させることができる。また、基材における特定部分について、設けるパターン模様の形状を調整でき、マイクロ波の吸収特性や反射特性を容易に変化させることができる。さらに、マイクロ波の吸収特性および反射特性の劣化を防止可能となる。また、基材における特定部分について、設ける層数を調整でき、マイクロ波の吸収特性や反射特性を容易に変化させることができる。さらに、基材における特定部分について、少なくとも２点におけるマイクロ波の吸収特性や反射特性を変化させることができる。
【００６４】
また、上記構成の電子レンジによれば、加熱室内の被加熱物に対して、マイクロ波が不均一に照射される場合であっても、基材における特定部分について、マイクロ波の吸収特性や反射特性を変化させることができ、構造を簡単にして製造コストを抑えながら、被加熱物を均一にマイクロ波加熱できる。
【００６５】
尚、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、以下列挙するように、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各部の形状並びに構成を適宜に変更して実施することも可能である。
（１）マイクロ波透過性部材１のマイクロ波吸収膜層５およびマイクロ波反射膜層７を含む面上には、さらにセラミック保護膜等を設けて各層を保護しても良い。
（２）マイクロ波吸収膜層５およびマイクロ波反射膜層７は基材の上面側に設けても良い。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明に係る電子レンジの一実施形態を示す要部説明図である。
【図２】（ａ）は図１のＡ−Ａ線断面図、（ｂ）は温度測定箇所の名称対照図である。
【図３】マイクロ波透過性部材の変更例を示す説明図である。
【図４】実験１の比較例１を示し、（ａ）は基材の平面図、（ｂ）は基材の正面図、（ｃ）は加熱結果を示す表である。
【図５】実験１の実施例１を示し、（ａ）は基材の平面図、（ｂ）は基材の正面図、（ｃ）は加熱結果を示す表である。
【図６】実験１の実施例２を示し、（ａ）は基材の平面図、（ｂ）は基材の正面図、（ｃ）は加熱結果を示す表である。
【図７】実験１の実施例３を示し、（ａ）は基材の平面図、（ｂ）は基材の正面図、（ｃ）は加熱結果を示す表である。
【図８】実験１の実施例４を示し、（ａ）は基材の平面図、（ｂ）は基材の正面図、（ｃ）は加熱結果を示す表である。
【図９】本発明に係る電子レンジの他の実施形態を示す要部説明図である。
【図１０】（ａ）は図９のＢ−Ｂ線断面図、（ｂ）は温度測定箇所の名称対照図である。
【図１１】実験２の比較例２を示し、（ａ）は基材の平面図、（ｂ）は基材の正面図、（ｃ）は加熱結果を示す表である。
【図１２】実験２の実施例５を示し、（ａ）は基材の平面図、（ｂ）は基材の正面図、（ｃ）は加熱結果を示す表である。
【図１３】実験１の実施例６を示し、（ａ）は基材の平面図、（ｂ）は基材の正面図、（ｃ）は加熱結果を示す表である。
【符号の説明】
【００６７】
１，２・・マイクロ波透過性部材、３，４・・基材、５・・マイクロ波吸収膜層、７・・マイクロ波反射膜層、１０，１１・・電子レンジ、１２，１３・・加熱室、１４・・マイクロ波発生手段、２０・・トレイ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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