(57)【要約】【課題】  本発明は、回転テーブルの重量バランスを崩すことなく、また冗長な移載アームを付加せずにクランプピンと干渉することなく、ワークを回転テーブルより着脱でき、安定した光ディスク原盤の描画処理を効率良く行うことができる。【解決手段】  本発明のワーク回転駆動装置は、ワークを載置して回転する回転テーブルと、スピンドルハウジングに軸受を介して回転自在に支持され、回転テーブルに一端が固定されたスピンドルシャフトと、スピンドルシャフトを回転駆動するモータと、ワークを回転テーブルに位置決め保持するクランプ手段と、回転テーブル及びスピンドルシャフト並びにモータの回転軸心上に設けられ、回転テーブルに対して垂直方向に上下してワークを回転テーブルから着脱するワーク移載手段とを具備する。【選択図】        図２
2006286131.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを載置して回転する回転テーブルと、
スピンドルハウジングに軸受を介して回転自在に支持され、前記回転テーブルに一端が固定されたスピンドルシャフトと、
該スピンドルシャフトを回転駆動するモータと、
ワークを前記回転テーブルに位置決め保持するクランプ手段と、
前記回転テーブル及び前記スピンドルシャフト並びに前記モータの回転軸心上に設けられ、前記回転テーブルに対して垂直方向に上下してワークを前記回転テーブルから着脱するワーク移載手段と
を具備することを特徴とするワーク回転駆動装置。
【請求項２】
前記ワーク移載手段が、前記回転テーブルと前記スピンドルシャフトの回転軸心に形成された貫通穴内部の中空部に設置されている請求項１記載のワーク回転駆動装置。
【請求項３】
前記ワーク移載手段が、ワークを載置する移載台と、該移載台を上下動させる上下動シャフトと、該上下動シャフトの側面に設けられたラックと、該ラックに接触して前記ラックを介して前記上下動シャフトを上下動させるピニオンと、該ピニオンを回転させる上下動用モータとを有する請求項１又は２に記載のワーク回転駆動装置。
【請求項４】
前記移載台の位置を検出するセンサ手段を設ける請求項３記載のワーク回転駆動装置。
【請求項５】
前記ラックを支持する直動ガイドを設ける請求項３記載のワーク回転駆動装置。
【請求項６】
前記移載台上であってワークとの当接面に滑り止め部材を設ける請求項３記載のワーク回転駆動装置。
【請求項７】
前記滑り止め部材は、粘弾性部材で形成された層の積層構造を成す請求項６記載のワーク回転駆動装置。
【請求項８】
前記滑り止め部材が、前記回転テーブルの回転中心とした一つもしくは複数個の円環形状のパターンで、前記移載台に積層されている請求項７記載のワーク回転駆動装置。
【請求項９】
前記移載台であってワークとの当接面に、強誘電体でチャッキング電極を挟み込み、チャッキング電圧をチャッキング電極に印加して前記強誘電体に生じる静電力によりワークを保持する静電吸着手段を設ける請求項３記載のワーク回転駆動装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載のワーク回転駆動装置と、真空環境を提供する第１の真空チャンバと、該真空チャンバに開閉自在な隔壁を隔て真空環境を提供する第２の真空チャンバと、前記ワーク回転駆動装置を一軸方向に移動させる直動ステージと、電子ビームを射出する電子ビーム射出手段と、前記電子ビームの偏向制御を行う偏向制御手段と、前記電子ビームを収束せしめてワークに照射する電子ビーム収束手段とを具備することを特徴とする光ディスク原盤露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はワーク回転駆動装置及び光ディスク原盤露光装置に関し、詳細には真空環境内で用いられるワーク回転駆動装置におけるワークのローディング機構の構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
図６は従来の光ディスク原盤露光装置の構成を示す概略断面図である。同図に示す従来の光ディスク原盤露光装置１００は、電子銃１１、コンデンサレンズ１２、電子ビーム変調部１３及びアパーチャ１４を含んで構成されている電子ビーム発生ユニット１０と、電子ビーム偏向部２１及びフォーカスレンズ２２，２３を含んで構成され、電子ビーム発生ユニット１０により発生した電子ビームを収束させる電子ビームレンズ系ユニット２０とを有する電子ビームユニット３０を光源としている。また、この電子ビームユニット３０は真空チャンバ４０内に設置されている。更に、従来の光ディスク原盤露光装置１００は、シリコンウェハなどのワーク２００に電子ビームを照射したときにワーク２００の表面から発生する二次電子を検出する二次電子検出器５０を備え、二次電子検出器５０からの信号をＳＥＭ画像とする制御部（図示せず）を含むＳＥＭ機能ユニットが併設されている。また、真空チャンバ４０内において、露光するワーク２００を回転させるための回転テーブル６１及びスピンドルモータ６２を含む回転駆動部６０と、横移動させるためのＸ軸スライドユニット７１、摩擦駆動ユニット７２及びそれを駆動するモータ７３を含むスライドユニット７０とが電子ビームユニット３０の直下に配置されており、ワーク２００に収束した電子ビームを照射して回転移動することで、スパイラル、同心円状の溝を形成することができるように構成されている。また、真空チャンバ４０には、ワーク２００の投入、排出を行うためのサブチャンバ４１が隣接され、ゲートバルブ４２を開閉することで、真空チャンバ４０とサブチャンバ４１の間の密閉もしくは開放を行うことができるようになっている。また、サブチャンバ４１には、真空チャンバ４０へのワーク２００の投入、排出を行うためのワーク移載スライドユニット８０が配置されている。また、各ユニットを含む真空チャンバ４０は、定盤９０に設置され、外部からの外乱振動の影響を防止している。
【０００３】
このように、半導体製造等に用いられる電子ビーム露光装置の多くは、真空中においてワークを装着したＸＹステージ等を駆動させてワークに所望の露光を行う。電子ビーム露光装置の一つである光ディスク原盤露光装置は、光ディスクの原盤に必要とされる露光パターンの性質上、回転テーブル上でワークとしての光ディスク原盤を５００〜３０００ｒｐｍ程度で回転させながら露光を行う。また、ワークに正確な露光を行うためには、ワークを回転テーブルの回転中心に対してセンタリングして保持し固定する必要がある。
【０００４】
このワークを固定し保持する方法として、通常、真空吸着方法や静電吸着方法又は機械的締結方法等が用いられる。この内、真空吸着方法は、ワークを真空吸着して大気圧との差圧分の吸着力により回転テーブルに保持する方法である。しかし、この真空吸着方法を真空環境下で回転テーブル上にワークを保持する光ディスク原盤露光装置に用いると、差圧が発生しないため吸着力が得られず、ワークを保持することはできなくなってしまう。また、静電吸着方法では、回転テーブルに配置された静電吸着板に高電圧を加えて発生する静電気力（クーロン力）によりワークを回転テーブルに保持する。この静電吸着方法によれば真空中でも吸着力が得られるため、ＸＹステージ等を用いる電子ビーム露光装置に広く用いられている。この静電吸着方法を、回転テーブルを用いる光ディスク原盤露光装置に使用する場合、回転テーブルに高電圧を供給するために、回転テーブルの回転軸に設けられた露出した接点と外部電源に繋がる接触子とを接触させている。しかし、回転テーブルに高電圧を供給するために、高電位の接点と回転軸を回転させるモータのコイル等を収納する接地電位を持つスピンドルハウジング等とが放電により短絡するトラブルが発生しやすい。この放電による短絡を防止するため、特許文献１では、回転軸及び露出した接点の周囲に絶縁性気体を循環させ、放電開始電圧を高くしている。しかし、絶縁性気体を循環させると真空チャンバの中にエアチェンバを構成することになり、装置が大型化すると共にエアリークにより真空度が低下する可能性が高くなる。
【０００５】
更に、メカチャック等の機械的締結方法では、真空中でもワークを回転テーブル上に保持及び固定でき、高電圧が不要であり短絡を防止する手段も不要である。この機械的締結方法を用いてワークを回転テーブル上に保持及び固定する装置の従来例としての特許文献２には、回転テーブルの回転中にチャッキング機構を設け、ワークの裏面中心部にセンタボスを装着し、回転テーブルのチャッキング機構によりワークに装着したセンタボスを把持する。また、センタボスとチャッキング機構の嵌合部にテーパ部を設け、回転テーブルの回転中心とワークの中心とのずれ（偏心）を除去している。しかし、ワークにセンタボスを装着してワークを特殊な形状にするとワーク自体がコスト高になる。
【０００６】
また、特許文献３には、Ｖ字型のアームの一端側にＵ字型をしたワークを保持するクランプ部を有し、他端側に回転の支点を有し、Ｖ字型の底部に重りを取り付けたクランパを回転テーブルの外周に沿って配置し、１対のクランパのクランパ部側のアームを引張バネで連結した保持装置が記載されている。そして、この保持装置では、回転テーブルの回転時に、クランパの中間部に設けた重りに作用する遠心力によりクランパ部をワークに近づけるようにクランパを回動し、クランパ部でワークの外周端を回転テーブルの軸方向に押さえて保持している。更に、回転テーブルの回転を停止すると、重りに遠心力が作用しなくなり、引張バネの弾性力で１対のクランパを回転テーブルの外周側に回動してクランパをワークから離してワークのクランパを解除する。
【０００７】
ここで、電子ビームによる光ディスク原盤露光装置はＣＬＶ（線速一定）駆動による露光が主体であり、概算では直径４０ｍｍの最内周部を回転速度１２００ｒｐｍで露光する場合、直径１２０ｍｍの外周部を回転速度約６００ｒｐｍで露光する。すなわち、露光がワークの内径側から外径側に進行するに従い、回転速度は徐々に減少する。そこで、特許文献４では、クランパがワークの外周端で上下方向に回動する構造であるため、露光時の回転数の変化に伴ってワークの位置が上下方向に変動し、電子ビームの照射位置の高さが変動して焦点がずれて正確な露光ができない。
【０００８】
また、特許文献５には、回転テーブルの外周付近裏側に回転可能な３つのリンクを等間隔で配置し、リンクの各一端に固定用ローラと、リンクの各他端に長手方向に延びるガイドとを設け、更に回転テーブルの裏面に回転テーブルと同心に３つのピンを持つ回転リングを設け、この回転リングのピンをリンクのガイドにはめ込み、回転リングの回転により各リンクを回転させて固定用ローラをワークとしてのレジスト板に接触させる光ディスク原盤露光装置が記載されている。この光ディスク原盤露光装置は、ワークの形状を特殊にせずに回転軸方向の振動を防止しながら偏芯を除去できるが、回転リングの動作に何らかの動力を必要とするため、静電吸着方法においては回転テーブルに電力等を供給することが困難であるのと同様の問題を有する。更に、電子ビームによる露光は、電子線レジスト膜を形成したシリコンウェハをワークとして行われる。電子線レジスト膜をシリコンウェハに形成するレジスト成膜工程は、レジスト剤をシリコンウェハに滴下し、従来より多用されているスピンコーティングでシリコンウェハの表面にレジスト剤を均一に展延させて所望の膜厚にし、レジスト剤に含まれる揮発成分を高温乾燥（ベイクまたはベークと通称される）させる。この高温乾燥によりシリコンウェハがお椀型に反る等のチルト変形が発生し、例えば変形したシリコンウェハの斜視図である図７の（ａ）及び図７の（ａ）のＡ−Ａ’線断面図である図７の（ｂ）に示すように、Ｒ１００のシリコンウェハ９１において内周部と外周部で最大約８０μｍ〜１００μｍの変形量でチルト変形する。チルト変形による変形量は、母材のシリコンウェハが高温乾燥前に有していた微量のチルト変形、シリコンの結晶方位、サンプル等に依存して異なる。例えば、特許文献５の光ディスク原盤露光装置で、図７に示すようなお椀状のチルト変形を持つワーク周辺を回転テーブルにクランプした場合、この場合のシリコンウェハの斜視図である図８の（ａ）及び図８の（ａ）のＢ−Ｂ’線断面図である図８の（ｂ）に示すように、固定用ローラで押される部位と開放されている部位とで、ワークの平坦度に差異が生じる。
【０００９】
一方、ワークの垂直方向の変位に追従して電子ビームの露光焦点を移動させるフォーカスサーボ機構を付随した電子銃露光装置又は電子銃描画装置を用いると、図９の（ａ）に示すようにコイル１１１に電流を流して電界を発生させて電界強度を変化させて電子ビーム１１２の拡がり角を変動させて焦点を合わすことができる静電レンズ１１３を用いることにより、ワークにある程度の垂直変位が存在する場合でも露光することができる。しかし、フォーカスサーボ機構は、ワークの垂直変位が大きくフォーカス変動距離が長いと、光学系における焦点の偏芯ずれのように、図９の（ｂ）及び図９の（ｃ）に示すような例えば焦点１１４から焦点１１５へのＸＹ方向の焦点ずれを発生させる。そのため、電子ビームを用いてスパイラル描画する場合、垂直変位の大きい部位と小さい部位とで描画させた線幅間（トラックピッチ）が異なる。
【００１０】
以上説明したように、真空環境中における回転テーブルへのワークの位置決めや固定方法において上述したような多種多用の問題点があり、このような従来の問題点を解決する方法として、レジスト板であるワークの外周端を基準として遠心力を利用して位置決めし、固定する方法が提案されている。この方法を具現化したクランプ装置を図１０に示す。同図に示すクランプ装置１２０は、回転テーブル１２１の上面の外周に沿って回転中心に対して対称に等間隔で配列された３ユニットのクランプ機構１２２を有し、レジスト板であるワーク２００を回転テーブル１２１にセンタリングしながら固定する装置である。詳細に説明すると、各クランプ機構１２２はクランパ１２３とリンク１２４とウェイト１２５とスプリング１２６とを有する。リンク１２４は、細長い板で形成され中間部のリンクピン１２７により回転テーブル１２１に対して平行に回転するように設置されている。クランパ１２３は、円筒形状をなしリンク１２４の一端に設けられてレジスト板が設置される領域の外周付近に配置されている。ウェイト１２５は、リンク１２４の他端に設けられた重りである。リンク１２４において、回転テーブル１２１の回転時に発生する遠心力によるウェイト１２５側の力モーメントは、クランパ１２３側における力モーメントより大きい。スプリング１２６は、一端が回転テーブル１２１に設置されたストッパ１２８により固定され、他端がリンク１２４のウェイト１２５とリンクピン１２７との間に接続されてウェイト１２５に対して回転テーブル１２１の中心方向に押す圧力を加える。なお、クランプ機構１２２の数は３つ以上であってもよい。偏芯を避けるため、各構成要素を組み付ける際は重心の偏り量を少なくする。
【００１１】
次に、図１０のクランプ装置の動作について説明する。回転前の回転テーブル１２１にワーク２００がセットされた状態では、図１１の（ａ）に示すようにリンク１２４がスプリング１２６に押されてクランパ１２３はワーク２００から離れる。この状態で、回転テーブル１２１が回転すると、図１１の（ｂ）に示すように、ウェイト１２５に遠心力が加わり、ウェイト１２５がスプリング１２６を圧縮しながら回転テーブル１２１の外側方向へ移動してリンク１２４を回転テーブル１２１と平行に回転させ、クランパ１２３が回転の中心に向かう方向に移動してワーク２００に対して回転軸に直交する方向（ラジアン方向）への力を加える。
【００１２】
このように、各クランパ機構１２２において、リンク１２４の回転は回転テーブル１２１と平行であり、ワーク２００に加えられる力の向きはラジアル方向であるため、回転テーブル１２１の回転数が変化してもワーク２００の上下方向の位置が安定する。３つのクランプ機構１２２は同質量のウェイト１２５を持ち回転中心に対して対称に等間隔で配列しているため、ウェイト１２５に作用する遠心力は同等であり、クランパ１２３がワーク２００に加える力も同等となる。そのため、ワーク２００の中心は回転テーブル１２１の回転の中心に自動的に一致（センタリング）する。また、ウェイト１２５に作用する遠心力は回転テーブル１２１の回転速度の増加分に比例して大きくなるため、回転速度が大きいほどクランパ１２３がワーク２００に加える力が大きくなる。そのため、回転速度が大きい場合でも偏芯が発生せずにセンタリングが維持できる。そして、回転テーブル１２１の回転を停止させるとウェイト１２５に遠心力が作用せず、復元力によりスプリング１２６の圧縮が緩み、リンク１２４がスプリング１２６に押され、図１１の（ａ）に示すように、クランパ１２３がワーク２００から離れる。これによりクランパ１２３に引っ掛けることなくワーク２００を回転テーブル１２１に搬入及び搬出できる。
【００１３】
しかし、このようなクランプ機構によれば、ワークを位置決め、固定するクランプピンが回転テーブルに設置したワークの高さよりも同等もしくは高くなっているため、ワークを回転テーブルから移載する際に、ワークを一度クランプピンに干渉しない高さまで持ち上げる必要性がある。
【００１４】
そこで、この問題点を解決するための基板移載装置が特許文献６などに提案されている。図１２に示す特許文献６の基板搬送装置は、図示していない多軸アームとフォーク状の移載ハンド１３１を用いて、回転テーブル１３２上に形成されたハンド挿入溝１３３をハンド進入方向に正対するように、回転テーブル１３２を位置決めする。そして、図１２の（ａ），（ｂ）に示すように、移載ハンド１３１及び移載中のワーク２００をクランプピン１３４と干渉しない高さを保ったまま、回転テーブル１３２の近傍又は直上まで多軸機能を使いながら移動させる。垂直方向に移載ハンド１３１を下降させ、ワーク２００を回転テーブル１３２に載置し、ハンド挿入溝１３３に沿って、移載ハンド１３１を引き抜く。このように、特許文献６の基板搬送装置は、回転テーブルの位置制御と一連のゲートモーションによりワークである基板の受け渡しを行うものである。
【特許文献１】特開２００２−２３０８４５号公報
【特許文献２】特開２００２−３１９１９０号公報
【特許文献３】米国特許出願公開第２００２−００６６４７５号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２００３−０１１６０８９号明細書
【特許文献５】特開２００２−３４２９８８号公報
【特許文献６】特開平１１−２５１４０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、回転テーブル上のハンド挿入溝は、同心円パターンとして形成することはできないため、回転テーブルの重量バランスは崩れ易く、回転テーブル回転時のダイナミックバランスが悪化し、偏芯振れ量が増大し、さらには回転ジッターが悪化（回転むらが多い）する。また、多軸駆動の移載アームにおいては、真空環境を維持し、かつ、スループット向上のため、真空チャンバに基板投排出用のサブチャンバを併設させたが、多軸駆動を形成するためにアクチュエータが増えたことによる搬送アーム自体の専用スペースが増大し、搬送アームを収納するサブチャンバの容量が肥大化したため、高真空度到達に時間がかかり、スループットの短縮に弊害が出る。
【００１６】
本発明はこれらの問題点を解決するためのものであり、回転テーブルの重量バランスを崩すことなく、また冗長な移載アームを付加せずにクランプピンと干渉することなく、ワークを回転テーブルより着脱でき、安定した光ディスク原盤の描画処理を効率良く行うことができる、ワーク回転駆動装置及び光ディスク原盤露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
前記問題点を解決するために、本発明のワーク回転駆動装置は、ワークを載置して回転する回転テーブルと、スピンドルハウジングに軸受を介して回転自在に支持され、回転テーブルに一端が固定されたスピンドルシャフトと、スピンドルシャフトを回転駆動するモータと、ワークを回転テーブルに位置決め保持するクランプ手段と、回転テーブル及びスピンドルシャフト並びにモータの回転軸心上に設けられ、回転テーブルに対して垂直方向に上下してワークを回転テーブルから着脱するワーク移載手段とを具備することに特徴がある。よって、従来のような、回転テーブルの重量バランスを崩すワーク着脱用のハンド挿入溝を形成することなく、かつ外周クランプするためのクランプピンに干渉することなく、ワークを回転テーブルから着脱することができる。
【００１８】
また、ワーク移載手段が、回転テーブルとスピンドルシャフトの回転軸心に形成された貫通穴内部の中空部に設置されている。更には、このワーク移載手段が、ワークを載置する移載台と、移載台を上下動させる上下動シャフトと、上下動シャフトの側面に設けられたラックと、ラックに接触してラックを介して上下動シャフトを上下動させるピニオンと、ピニオンを回転させる上下動用モータとを有している。よって、外周クランプするためのクランプピンに干渉することなく、ワークを回転テーブルから着脱することができる。
【００１９】
更に、移載台の位置を検出するセンサ手段を設けることにより、ワークを確実にクランプピンに干渉させずにワークを回転テーブルから着脱することができる。
【００２０】
また、ラックを支持する直動ガイドを設けることにより、上下動シャフトのぶれを防ぎ、上下動シャフトを常に回転テーブルの中心軸上に位置することができる。
【００２１】
更に、移載台上であってワークとの当接面に滑り止め部材を設けることにより、ワーク接触面の摩擦係数が高まり、ワーク着脱時のアクチュエータの振動や衝撃に対しても移載中のワークがずれないようにする。更には、もし位置ずれなどによるクランプ不良や基板の落下が起きると、その破片の除去及び清掃するために、チャンバを大気暴露することとなり、甚大なスループット低下を招くことを防止することができる。
【００２２】
また、滑り止め部材は粘弾性部材で形成された層の積層構造を成し、また滑り止め部材が回転テーブルの回転中心とした一つもしくは複数個の円環形状のパターンで移載台に積層されている。よって、粘弾性部材の表面積を極力小さくでき、また高真空中で粘弾性部材から放出するガス量を減らすことができる。
【００２３】
更に、移載台であってワークとの当接面に、強誘電体でチャッキング電極を挟み込み、チャッキング電圧をチャッキング電極に印加して強誘電体に生じる静電力によりワークを保持する静電吸着手段を設けることにより、ワーク着脱時のアクチュエータの振動や衝撃に対しても移載中のワークがずれないようにする。
【００２４】
更に、別の発明としての光ディスク原盤露光装置は、上記のワーク回転駆動装置と、真空環境を提供する第１の真空チャンバと、真空チャンバに開閉自在な隔壁を隔て真空環境を提供する第２の真空チャンバと、ワーク回転駆動装置を一軸方向に移動させる直動ステージと、電子ビームを射出する電子ビーム射出手段と、電子ビームの偏向制御を行う偏向制御手段と、電子ビームを収束せしめてワークに照射する電子ビーム収束手段とを具備することに特徴がある。よって、ワークの投入及び排出操作においても安定し、光ディスク原盤の露光処理を効率良く行う光ディスク原盤露光装置を提供することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明ワーク回転駆動装置は、回転テーブル及びスピンドルシャフト並びにモータの回転軸心上に設けられ、回転テーブルに対して垂直方向に上下してワークを回転テーブルから着脱するワーク移載手段を具備している。よって、回転テーブルの重量バランスを崩すことなく、また冗長な移載アームを付加せずにクランプピンと干渉することなく、ワークを回転テーブルより着脱できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１は本発明の一実施の形態例に係る光ディスク原盤露光装置の構成を示す概略断面図である。図２はワーク移載機構部の拡大部分断面図である。両図において、図６と同じ参照符号は同じ構成要素を示す。本実施の形態例の光ディスク原盤露光装置１は、図２のスピンドルシャフト２０１と回転テーブル６１の中心軸部に貫通穴２０２を設け、その中空部に移載台２０３を先端部に配した上下動シャフト２０４を配置している。スピンドルシャフト２０１と上下動シャフト２０４には間隙を設けて、スピンドルシャフト２０１の回転運動が上下動シャフト２０４には伝達しないようにしている。上下動シャフト２０４は、スピンドルシャフト２０１の下端よりも突出させ、その突出した部分に上下動シャフト２０４の側面にラック形状を形成されており、ピニオン２０５を接触させ、そのピニオン２０５を上下動用モータ２０６にて回転させることで、上下動シャフト２０４を上下動させている。また、上下動シャフト２０４は直動ガイド２０７でガイドされている。更に、上下動シャフト２０４の駆動部は、スピンドルモータ６２の外輪部（固定部）を介して、Ｘスライドステージ２０８と締結されているため、Ｘスライドステージ２０８がどの位置へ移動しても、上下動シャフト２０４は常に回転テーブル６１の中心軸上に位置していることになる。上下動シャフト２０４の先端部の移載台２０３には、図３に示すように、基板と接触する面に、円環状にシリコン系の滑り止め部材としてのＯリング２０９を配している。本実施の形態例においてはＯリング２０９を内周側・外周側それぞれ１パターンずつ配したが、これはどのラジアル方向からの振動や衝撃に対しても移載中の基板がズレないようにしたため円パターンとしたが、これに限定する必要はない。また、Ｏリング２０９は粘弾性部材で形成された層の積層構造を成す。よって、ワークとの摩擦係数を上げることで、高い摩擦力を得られる。ただし、粘弾性部材は、真空環境中で微量ながらも脱ガスがあるため、可能な限り少ない面積にするほうがよい。他の例としては、例えばディンプルパターンなどでもよいと考えられる。また、移載台２０３にワーク２００を保持する手段に静電吸着機構を用いてもよい。回転テーブル６１とは運動的に絶縁されている上下動シャフト内部に静電吸着機構を駆動させる配線を内包させることによって、ロータリカップリングなどの手段を用いることなく、容易に静電吸着機構を搭載できる。
【００２７】
次に、本実施の形態例の光ディスク原盤露光装置におけるワークの投入工程について図１、図２、図４及び図５を用いて説明する。
先ず、作業者によって、ワーク２００は図４のサブチャンバ蓋４３のワークホルダ部４４に装着される。ワークホルダ部４４は９０度の揺動可能であり、ホルダ軸４５を回転させ、ワーク２００を４本の爪４６でホールドする。次に、サブチャンバ蓋４３をスライドさせ、ワーク２００をサブチャンバ４１内に投入し、図示していない真空装置によりサブチャンバ４１内を真空環境にする。その間に、チャンバ４０内の回転ステージのＸスライドステージ２０８を駆動させ、サブチャンバ４１の直下の受け渡し位置に移動させる。サブチャンバ４１内が必要十分の真空度に到達したときに、ゲートバルブ４２を開く。図２に示すように、上下動用モータ２０６を駆動させ、移載台２０３及び上下動シャフト２０４をサブチャンバ４１内のワーク２００に接触するまで上昇させる。その後、ワーク２００に移載台２０３が接触したら、ワークホルダ部４４のホルダ軸４５を回転させ、回転するホルダ軸４５に連動して４つの爪４６も回動することによりワーク２００はホールドから解除される。そして、ワーク２００は移載台２０３に移載される。次に、図５に示すように、上下動シャフト２０４を下降させ、ワーク２００を回転テーブル６１に接触するまで下降させ、ゲートバルブ４２を閉める。なお、回転テーブル６１及びワークホルダ部４４上のワーク２００との接触位置は常に決まった位置であるため、その位置に対応するセンサ（図示せず）を設置して、その位置を検出している。また、ワーク排出工程は上記投入工程と逆の手順で行うものとする。
【００２８】
なお、本発明は上記実施の形態例に限定されるものではなく、特許請求の範囲内の記載であれば多種の変形や置換可能であることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の一実施の形態例に係る光ディスク原盤露光装置の構成を示す概略断面図である。
【図２】本実施の形態例の光ディスク原盤露光装置におけるワーク移載機構部の拡大部分断面図である。
【図３】図２の移載台の構造を示す図である。
【図４】ワークホルダ部の構造を示す平面図である。
【図５】ワークを回転テーブルに移載した際のワーク移載機構部の拡大部分断面図である。
【図６】従来の光ディスク原盤露光装置の構成を示す概略断面図である。
【図７】チルト変形したワークを示す図である。
【図８】クランプされたチルト変形したワークを示す図である。
【図９】フォーカス機構の構成及び焦点ずれの様子を示す図である。
【図１０】従来のクランプ装置の構成を示す平面図である。
【図１１】クランプ機構の動作を示す部分平面図である。
【図１２】従来の基板移載装置の構造を示す図である。
【符号の説明】
【００３０】
１；光ディスク原盤露光装置、２００；ワーク、
２０１；スピンドルシャフト、２０２；貫通穴、
２０３；移載台、２０４；上下動シャフト、
２０５；ピニオン、２０６；上下動用モータ、
２０７；直動ガイド、２０８；Ｘスライドステージ、
２０９；Ｏリング２０９。
【図１】
2006286131.tif 000003
【図２】
2006286131.tif 000004
【図３】
2006286131.tif 000005
【図４】
2006286131.tif 000006
【図５】
2006286131.tif 000007
【図６】
2006286131.tif 000008
【図７】
2006286131.tif 000009
【図８】
2006286131.tif 000010
【図９】
2006286131.tif 000011
【図１０】
2006286131.tif 000012
【図１１】
2006286131.tif 000013
【図１２】
2006286131.tif 000014