(57)【要約】    【課題】  エチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルが熱負荷および湿熱負荷を受けても、白濁化を防止でき、且つ、熱負荷および湿熱負荷後の耐衝撃性が持続し、且つ、透明性が高い光学フィルタを提供し、該光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルを提供する。    【解決手段】  光学フィルタは、（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、（２）該光学フィルタは耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は、１５〜３５重量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが架橋されたことにより、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％１０００時間曝露後に、該耐衝撃層のヘーズ値が３．０以下を維持できる性質を有する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタは耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は、ビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが架橋されたことにより、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％、１０００時間曝露後に、該耐衝撃層のヘーズ値が３．０以下を維持できる性質を有することを特徴とする白濁化が抑制された光学フィルタ。
【請求項２】
（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタは耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は、１５〜３５質量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが架橋されたことにより、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％、１０００時間曝露後に、該耐衝撃層のヘーズ値が３．０以下を維持できる性質を有することを特徴とする白濁化が抑制された光学フィルタ。
【請求項３】
前記光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが、８０℃絶乾、１０００時間曝露による耐熱試験前および６０℃湿度９５％、１０００時間曝露による耐湿熱試験前において、０．６Ｊ以上であり、該耐熱試験後において０．６Ｊ以上であり、該耐湿熱試験後において０．６Ｊ以上であることを特徴とする請求項１又は２記載の光学フィルタ。
【請求項４】
前記架橋は、耐衝撃層を構成する樹脂に架橋剤が含有されたことによる架橋である請求項１−３の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項５】
前記架橋は、耐衝撃層を構成する樹脂に電子線が照射されたことによる架橋である請求項１乃至４の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項６】
近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有し、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下である請求項１乃至５の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項７】
ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下である請求項１乃至６の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項８】
可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上となる請求項１乃至７の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項９】
プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドする電磁波遮蔽層を有する請求項１乃至８の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層が設けられた請求項１乃至９の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか１項記載の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付されてなるプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタの製造方法であって、
該光学フィルタを構成する積層体の何れかの層として、１５〜３５質量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートを含み、架橋剤を０．４質量％以上含有させてなる樹脂により耐衝撃層を形成し、架橋処理を施すことにより、得られた光学フィルタが、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％、１０００時間曝露後に、該耐衝撃層のヘーズ値が３．０以下となる性質を有することを特徴とする白濁化が抑制された光学フィルタの製造方法。
【請求項１３】
前記架橋処理が電子線照射及び／又は加熱である請求項１２記載の白濁化が抑制された光学フィルタの製造方法。
【請求項１４】
プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタの製造方法であって、
該光学フィルタを構成する積層体の何れかの層として、１５〜３５質量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートを含む樹脂により耐衝撃層を形成し、照射線量が３０ｋＧｙ以上の電子線を照射して架橋処理を施すことにより、得られた光学フィルタが、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％、１０００時間曝露後に、該耐衝撃層のヘーズ値が３．０以下となる性質を有することを特徴とする白濁化が抑制された光学フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる光学フィルタ、該光学フィルタを貼付したプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイ装置の開発、製品化が行われている。このプラズマディスプレイ装置はその構造上、他の機器に誤動作を与えたり、リモートコントロールの操作に影響を与える近赤外線や、色調に影響を与えるネオン光がディスプレイ内部から放出されるため、これらを遮断する必要がある。また、プラズマディスプレイ装置から電磁波が発生するため、人体への影響を考慮して、電磁波の放出の強さを規格内に低減化することが要求されている。
【０００３】
これらの要求に鑑みて、既にプラズマディスプレイパネルに貼付するための各種フィルタが開発されており、例えば、特開２０００−５９０８３号公報（特許文献１）には電磁波遮蔽効果と近赤外線カット、色補正、反射防止の各層を蓄積した光学フィルタが開示されている。このような光学フィルタは、透明性に優れていることが基本的要件である。
【０００４】
一方、プラズマディスプレイ装置は、大型化が進む中、軽量化・薄肉化が求められ、光学フィルタを設けた状態でのプラズマディスプレイパネルの耐衝撃性の向上がますます必要となっている。
【０００５】
特開２００２−２６０５３９号公報（特許文献２）には、プラズマディスプレイ前面に反射防止膜を有する光学フィルタを粘着剤層を介して貼付したディスプレイパネルが示されている。特許文献２のディスプレイパネルに貼着されている光学フィルタは、粘着剤層に耐衝撃性の改善を与えているため、耐衝撃性と接着性が必要となっている。特許文献２の実施例１では、アクリル酸共重合体を溶融してシート状に成形した粘着シートを光学フィルタに貼りつけ、次にプラズマディスプレイに貼りつけている。また、特許文献２の実施例２では、プラズマディスプレイの前面にフィルタを貼り付けるため、ディスプレイとフィルタの間隔を１ｍｍに保って透明熱硬化性シリコーンを用いて、熱処理を行って貼り合わせている。
【０００６】
特開２００２−２３６４９号公報（特許文献３）には、衝撃緩和積層体を構成するために、飛散防止層と２種類の割れ防止層と、透明粘着層とからなる複雑な多層構造を必要としている。        
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−５９０８３号公報
【特許文献２】特開２００２−２６０５３９号公報
【特許文献３】特開２００２−２３６４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者らは、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を与えることを目的として、プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタを構成する積層体の一部にエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けると耐衝撃性に優れた効果を発揮することに着目している。
【０００９】
しかしながら、プラズマディスプレイ用フィルタ及びそれに用いる材料は性能確認において、８０℃絶乾、１０００時間の加熱試験や、６０℃、９５％湿度、１０００時間の加湿熱試験を行うことが当業界では一般的である。８０℃絶乾による加熱試験においては、プラズマディスプレイパネルの表面温度は、色（特に白色）によって、また電源を入れている時間によって、最高で１００℃に達することもある。また、耐衝撃層を積層成形する際に、例えば、樹脂を押出ラミネート成形する際に、樹脂が２５０℃位に溶融される。本発明者は、これらの加熱負荷及び湿熱負荷を受けたエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタは、白化し、透明性が低下するという問題点を見出した。また、本発明者は、これらの加熱負荷及び湿熱負荷を受けたエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタは、耐衝撃性が低下し、もはや耐衝撃層として使用が困難であるという問題点を見いだした。
【００１０】
そこで、本発明は、エチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルが熱負荷および湿熱負荷を受けても、白化を生ずることが防止でき、且つ、熱負荷および湿熱負荷後の耐衝撃性が持続し、且つ、透明性が高い光学フィルタを提供し、該光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【００１１】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、反射防止性を付与した光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１２】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、近赤外線吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１３】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、ネオン光吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、透明性の高い光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、静電気及び／又は電磁波ノイズが抑制された光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１６】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタが表示面に貼付されたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の光学フィルタは、（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、（２）該光学フィルタは耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は、１５〜３５質量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが架橋されたことにより、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％、１０００時間曝露後に、該耐衝撃層のヘーズ値が３．０以下を維持できる性質を有することを特徴とする白濁化が抑えられた光学フィルタである。
【００１８】
本発明の光学フィルタは、このように、光学フィルタの構成層である耐衝撃層が、１５〜３５質量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが架橋されて形成されたものであるので、下記に述べる理由により、加熱負荷後、或いは湿熱負荷後においても白濁化が抑制されたものとなる。
【００１９】
本発明の光学フィルタは、前記白濁化抑制の性質に加え、加熱時の変形にも耐える性質を有する。
【００２０】
本発明の光学フィルタは、前記白濁化抑制の性質及び前記加熱時の変形に耐える性質に加え、さらに、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときに、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％、１０００時間曝露後においても、耐衝撃性が維持することができるという性質も兼ね備えているという特徴を有する。即ち、耐衝撃性が維持できる性質とは、プラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが、８０℃絶乾、１０００時間曝露による耐熱試験前および６０℃湿度９５％、１０００時間曝露による耐湿熱試験前において、各０．６Ｊ以上であり、該耐熱試験後において０．６Ｊ以上であり、該耐湿熱試験後において０．６Ｊ以上であるという耐衝撃性を持続する性質である。
【００２１】
衝撃試験は、図２５に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定して行った。試験台８としてＳＵＳ製土台９と、厚さ１０ｍｍのガラス板１０を貼り合わせたものを用いた。該試験台８上に、プラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１として旭硝子社製の高歪点ガラス板（ＰＤ−２００：商品名、厚み２．８ｍｍ）を載置した。なお、ＰＤ−２００は、プラズマディスプレイメーカー各社が共通に使用しているプラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１である。試験台８上に前面ガラス板１１を直接載置した理由は、プラズマディスプレイの筐体によるクッション性を排除するためである。
【００２２】
本発明の光学フィルタの耐衝撃層における「架橋」とは、耐衝撃層を構成する樹脂に架橋剤が含有されたことによる架橋、及び／又は、耐衝撃層を構成する樹脂に電子線照射されたことによる架橋である。耐衝撃層に含ませる架橋剤の量は、０．４質量％以上、好ましくは０．５質量％以上とすることが、加熱時の耐衝撃層の熱変形の防止、及び熱負荷或いは湿熱負荷を受けたときの白濁化防止に効果がある。耐衝撃層を電子線照射により架橋するのに必要な照射線量は、３０ｋＧｙ以上、好ましくは４０ｋＧｙ以上、最も好ましくは５０ｋＧｙ以上とすることが、加熱時の耐衝撃層の熱変形の防止、及び熱負荷或いは湿熱負荷を受けたときの白濁化防止に効果がある。
【００２３】
本発明において耐衝撃層の硬度を規定するショワーＡ硬度はＪＩＳ−Ｋ７３１１−１９９５による方法に測定した。
【００２４】
本発明において内部ヘーズは、耐衝撃層のみのヘーズを意味し、ＪＩＳ−Ｋ７１０５による方法により測定した。
【００２５】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となるような、近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。
【００２６】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となることが好ましい。
【００２７】
本発明の光学フィルタは、可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上であることが好ましい。
【００２８】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドするための電磁波遮蔽層を有することが好ましい。
【００２９】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイパネルに貼着するための粘着剤層を設けることができる。
【００３０】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、前記した形態の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付して構成することができる。
【００３１】
本発明の光学フィルタの製造方法は、光学フィルタを構成する積層体の何れかの層として、１５〜３５質量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートを含み、架橋剤を０．４質量％以上含有させてなる樹脂により耐衝撃層を形成し、架橋処理を施すことにより、得られた光学フィルタが、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％、１０００時間曝露後に、該耐衝撃層のヘーズ値が３．０以下となる性質を有することを特徴とする。該架橋処理は、電子線照射及び／又は加熱である。
【００３２】
さらに好ましい本発明の光学フィルタの製造方法は、光学フィルタを構成する積層体の何れかの層として、１５〜３５質量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートを含む樹脂により耐衝撃層を形成し、照射線量が３０ｋＧｙ以上の電子線を照射して架橋処理を施すことにより、得られた光学フィルタが、８０℃絶乾、１０００時間曝露後及び／又は６０℃湿度９５％、１０００時間曝露後に、該耐衝撃層のヘーズ値が３．０以下となる性質を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００３３】
本発明のエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタは、熱負荷および湿熱負荷を受けても、白濁化が抑制されており、且つ透明性が高い。さらに本発明の光学フィルタは前記性質に加えて、熱負荷および湿熱負荷後においても十分な耐衝撃性を維持している。したがって、本発明の光学フィルタを組み込んだプラズマディスプレイパネルは熱負荷および湿熱負荷後においても耐衝撃性に優れると共に透明性にも優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
図１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタは、さらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００３５】
図２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタは、さらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００３６】
図３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する色素含有粘着剤層２は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００３７】
図４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。
【００３８】
図５は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図５の光学フィルタは、図１の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４であることが、図１と異なるだけであり、その外は図１と同じ層構成である。
【００３９】
図６は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図６の光学フィルタは、図２の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４であることが、図２と異なるだけであり、その外は図２と同じ層構成である。
【００４０】
図７は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図７の光学フィルタは、図３の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４であることが、図３と異なるだけであり、その外は図３と同じ層構成である。
【００４１】
図８は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図８の光学フィルタは、図４の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する色素含有粘着剤層２であることが、図４と異なるだけであり、その外は図４と同じ層構成である。
【００４２】
図９は本発明の耐衝撃層６を設けた実施態様９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様９の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。耐衝撃層５と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。
【００４３】
図１０は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１０の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、近赤外線吸収層３と耐衝撃層５の間に介在する粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。
【００４４】
図１１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１１の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、耐衝撃層５と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。
【００４５】
図１２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１２の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側に設けられた粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。
【００４６】
図１３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００４７】
図１４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも粘着剤層４が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１４の光学フィルタを構成している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００４８】
図１５は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも粘着剤層４が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１５の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００４９】
図１６は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には色素含有粘着剤層２が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも色素含有粘着剤層２が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１６の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。
【００５０】
図１７は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに電磁波遮蔽層６は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル側７には粘着剤層４が積層されている。これらの各層からなる積層体は、実施態様１７の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００５１】
図１８は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５の一側には粘着剤層４が積層されている。これらの各層からなる積層体は、実施態様１８の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００５２】
図１９は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、電磁波遮蔽層６は、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１９の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００５３】
図２０は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５の一側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２０の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。
【００５４】
図２１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００５５】
図２２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２２の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００５６】
図２３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた色素含有粘着剤層２は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。
【００５７】
図２４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２４の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。
【００５８】
図１〜図２４において、近赤外線吸収色素、および／又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着剤層２中に含有しているが、光学フィルタを構成するいかなる層にも含有させることが可能である。
【００５９】
以下、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに適用する場合の光学フィルタの層構成に用いられる各層を例示して説明する。
【００６０】
耐衝撃層：
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の形成に使用される樹脂には、ビニルアセテートが１５〜３５質量％のエチレンビニルアセテートを含有している樹脂が用いられる。
【００６１】
ビニルアセテートの含有量が１５質量％未満のエチレンビニルアセテートの場合、結晶化しやすく透明性が下がる。硬度も高く、耐衝撃性は発現しない。
【００６２】
ビニルアセテートの含有量が１５〜３５質量％の場合、耐衝撃層の透明性は良好なものとなり、硬度が低く耐衝撃性が発現するが、熱負荷あるいは、湿熱負荷を受けた場合において耐熱性、耐湿熱性が不十分であるため、白濁化が生ずる。しかしなから、本発明では、耐衝撃層に架橋処理が行われることにより、耐熱性、耐湿熱性が生ずるため、熱負荷あるいは、湿熱負荷を受けても白濁化が生じない。
【００６３】
ビニルアセテートの含有量が３５質量％を超えると、エチレンビニルアセテートの結晶化温度が低くなるため、樹脂の熔融押出時に冷却されるときにセグメントが集合する時間が長くなることで、結晶化が進むことになり、透明性が下がり好ましくない。この場合、硬度が低く、耐衝撃性は高い。しかしながら、ビニルアセテートの含有量が３５質量％を超えるエチレンビニルアセテートだと、樹脂粘度が高く（ＭＦＲが５０〜１０００程度）なり、押出し時のスクリュートルクが高くなり、押出せなかったり、膜厚がばらついたりする。膜厚のばらつきは、耐衝撃性のばらつきに直結するので好ましくない。また、該樹脂は、加熱時密着性があるので、加熱加圧して他の層と積層するのに適している。
【００６４】
架橋処理は耐衝撃層の形成時或いは形成後に、電子線照射及び／又は加熱を施すことにより行う。架橋処理のための電子線照射には照射線量３０ｋＧｙ以上であることが好ましく、さらに好ましくは４５ｋＧｙ以上である。架橋処理のための加熱には、１５０℃以上３０分以上の加熱が好ましい。
【００６５】
耐衝撃層の厚みは２００μｍ〜４０００μｍが好ましく、さらに好ましくは、５００μｍ〜２０００μｍである。
【００６６】
電磁波遮蔽層：
電磁波遮蔽層は、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものであり、透明基材、接着剤層又は粘着剤層（図示していない）、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。
【００６７】
（金属メッシュ層）
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層を構成する一部の層である。電磁波遮蔽層を構成する各層のうち、金属メッシュ層は、特に、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有する。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００６８】
ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面、或いは観察者側とは反対の面となるように配置される。図１〜図２４の電磁波遮蔽層６において、黒ベタに塗り潰されている箇所は黒化処理により形成された皮膜を示している。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。光の散乱を防止する観点からは、酸化処理面は、観察者側の面にある方が好ましい。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。
【００６９】
黒化処理の方法としては、ＣｒＯ2 水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行なわれるものであってもよい。
【００７０】
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ  ＣＯＮＴＲＯＬ  ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ  ＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ  Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
【００７１】
また、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
【００７２】
さらに、上記金属箔は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
【００７３】
ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。
【００７４】
本発明に用いられる上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が１０-6Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０-4Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターＧＰ、（株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ  Ｋ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。
【００７５】
このエッチング処理された後の金属メッシュ層は、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
【００７６】
（透明基材）
透明基材は電磁波遮蔽層を構成する一部の層であり、接着剤層（又は粘着剤層）を介して金属メッシュ層を積層するための基材となる層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層（又は粘着剤層）が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が８０％以上のフィルムが挙げられる。
【００７７】
これらのフィルムは本発明の目的を妨げない程度であれば着色していてもよく、さらに単層で使うこともできるが、２層以上組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。中でも透明性、耐熱性、コストや取扱い性の面等から、ＰＥＴが最も好ましい。可視領域の光線透過率はできる限り高いことが望ましいが、これは最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから最低２枚を積層する場合でも透明基材としては８０％を有すれば目的に適うからである。透過率が高ければ高いほど透明基材を複数枚積層できるため、光線透過率は好ましくは８５％以上、最も好ましくは９０％以上であり、このために厚さを薄化するのも有効な手段である。この透明基材の厚さは、透明性さえ満足すれば特に制限されるものではないが、加工性上からは１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。厚さ１２μｍ未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、導電層である金属メッシュ層の成膜や加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、そのため金属メッシュ層の亀裂や剥離が生じやすく適さない。３００μｍを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難で適さない。さらに複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るといった問題もある。
【００７８】
（接着剤層又は粘着剤層）
接着剤層（又は粘着剤層）は図１〜図２４の電磁波遮蔽層において図示していないが、透明基材と金属メッシュ層とを接着するのに用いられる層である。接着剤層（又は粘着剤層）は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層（又は粘着剤層）を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層（又は粘着剤層）も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層（又は粘着剤層）は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
【００７９】
また、接着剤層（又は粘着剤層）中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価および酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が樹脂中の反応基と反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００８０】
接着剤層（又は粘着剤層）を介してドライラミネーション法等により透明基材および金属メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層（又は粘着剤層）の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。これにより、透明基材および金属メッシュ層とを強固に接着することができ、また、金属メッシュ層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
【００８１】
色素含有粘着剤層：
図１〜図２４に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層は、色素含有粘着剤層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上を含有させたものが使用される。その場合、近赤外線領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価、および／または、酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸基により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００８２】
本発明では色素含有粘着剤層に用いる樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内、中でも４０℃〜１２０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面の凹凸を、透明基材のＴｇ以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより、透明性の高い平坦な高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の範囲内であることが好ましい。
【００８３】
上述したような性質を有する樹脂としては、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でも透明性の観点からアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜６００，０００の範囲内、中でも１万〜４０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。
【００８４】
本発明において、このような色素含有粘着剤層の膜厚は、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。この範囲にすることにより、特に、金属メッシュ層の凹凸に色素含有粘着剤層が形成される場合には、金属メッシュ層を平坦化することが可能となるからである。
【００８５】
反射防止層：
反射防止層は、本発明の光学フィルタの最上層に配置され、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法、及び／又は、屈折率の高い層と低い層を組み合わせてなる表面の光の反射を防止する手法により形成された層である。
【００８６】
すなわち、前者の手法において光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。
【００８７】
また、後者の表面の光の反射を防止する方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチコート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、ＳｉＯ2 に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法等によって形成される。
【００８８】
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ2 （屈折率ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、Ｎａ3 ＡｌＦ6 （屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ2 （屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
【００８９】
さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ2 として０．５〜５０質量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
【００９０】
低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法で、高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。
【００９１】
高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
【００９２】
高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
【００９３】
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2 （屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）またはＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。
【００９４】
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。
【００９５】
また反射防止層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂が水酸基価および酸価が所定の値以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸価により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収能、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとなる。
【００９６】
近赤外線吸収層
近赤外線吸収層は、基本的には、透明バインダ樹脂中に、近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素を有するものである。
【００９７】
近赤外線吸収色素としては、光学フィルタが代表的な用途であるプラズマディスプレイパネルの前面に適用される場合、プラズマディスプレイパネル７はキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長域を吸収するもの、該帯域の近赤外線の透過率が２０％以下、好ましくは１５％以下であることが好ましい。同時に近赤外線吸収層は、可視光領域、即ち、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長域で、十分な光線透過率を有することが望ましい。
【００９８】
近赤外線吸収色素としては、具体的には、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類の有機系近赤外線吸収色素、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンモン、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化ランタン等の無機系近赤外線吸収色素、を１種、または２種以上を併用することができる。
【００９９】
種類や添加量は、近赤外線吸収色素の吸収波長や吸収係数や、色調及びディスプレイ用前面板に要求される透過率などによって適宜選択すればよい。例えば、近赤外線吸収剤の添加量は、層中に０．１〜１５質量％程度添加し、それらの近赤外線吸収剤を紫外線から保護するために、層中にベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤を含ませてもよく、紫外線吸収剤の添加量は、層中に０．１〜１０質量％程度である。
【０１００】
上記の近赤外線吸収剤は熱可塑性樹脂が好ましく、さらに好ましくは、極性の高い官能基を持たない合成樹脂や、また極性の高い官能基を持っている官能基数の少ない合成樹脂である。好ましい熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、アクリロニトリル系樹脂、ウレタン系樹脂、又はポリエステル樹脂である。該熱可塑性樹脂は色素の溶解性や安定維持性、及び着色剤の機能耐久性の点で良好である。
【０１０１】
近赤外線吸収層の製造方法は、ＰＥＴフィルム等の離型フィルム上に近赤外線吸収色素含有インクをグラビアリバース法等により塗工（例えば１０ｇ／ｍ2 ）することにより、離型フィルム／近赤外線吸収色素／離型フィルムからなる積層シートを得る。
【０１０２】
粘着剤層：
図１〜図２４に示す光学フィルタの粘着剤層は、光学フィルタにおける各層を接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ（例、ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）が使用できる。
【０１０３】
光学フィルタの製造
本発明の光学フィルタの製造方法の一例を次に示す。次の例は、図１に示す層構成の光学フィルタの製造例である。下記の製造例において、押出ラミネートは図２６の押出ラミネート機を用い、ラミネートは図２７のラミネート機を用いることができる。
【０１０４】
ｉ) 離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートの製造
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層５の形成は、押出ラミネート法、加熱プレス法、及び厚塗りコート法のどのような方法でもよいが、好ましくは、次に説明する押出ラミネート法が挙げられる。
【０１０５】
図２６は、本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層５を形成するための押出ラミネート機の１例を示す図である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層５を形成するには、第１フィルム供給部３５、及び第２フィルム供給部３９の両方に、離型フィルム［離型性のあるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（例えば、東洋紡株式会社製、Ｅ−７００２：商品名）］を配置しておく。この状態で、押出ラミネート機のダイス４２より、前記した特定組成からなるエチレンビニルアセテートを離型フィルム上に押し出して、離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートとし、排紙部４１に巻き取る。
【０１０６】
次いで、ラミネート機を用いて以下の工程ii）〜viii) により順次、他の層を形成する。図２７は、本発明の光学フィルタを構成する各層をラミネートするためのラミネート機の１例を示す図である。
【０１０７】
ii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２７のラミネート機の第１給紙部２１に反射防止層１を巻き取ったもの配置し、且つ第２給紙部２２に離型フィルム／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１を繰り出しながら、一方、第２給紙部２２から離型フィルム／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の第２離型フィルム巻取りロール２４に巻取り、反射防止層１と、色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなるシートを第１ラミネートニユット２５で約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを得る。このとき、第１離型フィルム巻取りロール２３は、巻き取る離型フィルムが存在しないので使用しない。
【０１０８】
iii)  反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ii）工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に前記工程ｉ）で得られた離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを得る。
【０１０９】
iv) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iii)工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。
【０１１０】
ｖ) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iv) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを得る。
【０１１１】
vi) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖ) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。
【０１１２】
vii)  反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートの製造
前記ｖi)工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層  ４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に電磁波遮蔽層６のシートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から電磁波遮蔽層６のシートを繰り出し、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを得る。
【０１１３】
viii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖii) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを繰り出す。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。
【０１１４】
図２〜図２４に示す光学フィルタは、前記図１の光学フィルタの製造方法において、形成する層の順番を変更することによって、製造することが可能である。
【０１１５】
上記工程で得られた光学フィルタの残りのもう一方の離型フィルムを剥がし、露出した粘着剤層４側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。
【０１１６】
下記の実施例１、２、比較例１、２は、架橋剤の添加効果を立証するためのものであり、実施例３、４、比較例３、４は、電子線照射の効果を立証するためのものである。
【実施例１】
【０１１７】
ｉ) 離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２６の押出ラミネート機を用いて、離型性のあるＰＥＴフィルムとして東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）の間に、ビニルアセテート（ＶＡ：略語）含有率が２０質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ６３３：商品名、東ソー（株）製）を耐衝撃層として挟み込んで積層して耐衝撃層の厚みを１．５ｍｍにして対照としての積層体を得た。これとは別に、前記組成のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ６３３：商品名、東ソー（株）製）に、架橋剤としてジクミルペルオキシド（９６％純度、三井化学株式会社製）を０．１質量％、０．５質量％、１．０質量％各々含有させた３種類の組成物を用いて、前記と同様にして、３種類の耐衝撃層を形成した。このようにして、架橋剤の添加量が異なる計４種類の積層体を得た。
【０１１８】
ii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２７のラミネート機を用い、第１給紙部２１に、反射防止フィルムとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）を巻き出し可能に配置した。
【０１１９】
離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを次のようにして作製した。色素含有粘着剤層を形成するための色素含有粘着剤には、ｎ−ブチルアクリレート７８．４質量％、２エチルヘキシルアクリレート１９．６質量％、およびアクリル酸２．０質量％を共重合させて得たアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、染料（三井化学（株）製  商品名”ＰＳブルーＢＮ”０．０００１質量％、ネオン吸収化合剤（旭電化（株）製  商品名  ＴＹ−１０２）０．００１３質量％を加えたものを用いた。該色素含有粘着剤を、離型性のあるＰＥＴフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）上にダイコート法にて塗工した。この後、塗工面に離型性のあるフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）をラミネートすることにより、離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。
【０１２０】
図２７のラミネート機の第２給紙部２２に前記工程で得られた離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを巻きだし可能に配置した。
【０１２１】
次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１を繰り出しながら、一方、第２給紙部２２から離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルム巻取りロール２４に巻取り、反射防止層と、色素含有粘着剤層／離型フィルムからなるシートを第１ラミネートニユット２５で約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。
【０１２２】
iii)  反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ii）工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に前記工程ｉ）で得られた離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。次いで、第１給紙部から、反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを得た。
【０１２３】
iv) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iii)工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートには、ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）／粘着剤層（ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）／ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）からなる粘着シートを用いた。
【０１２４】
次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。
【０１２５】
ｖ) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iv) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートは、次のようにして作製した。近赤外線吸収層を形成するための組成物には、近赤外線吸収剤０．０１５質量％（日本触媒（株）製  商品名”イーエクスカラー”ＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ）をメチルエチルケトン：トルエンが１：１の混合溶液に溶解させ、この後、アクリル系バインダーであるＢＲ−８０（商品名、三菱レーヨン（株）製）を２０質量％となるように溶解させたものを用い、該近赤外線吸収層形成用組成物を離型性のあるＰＥＴフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）上にダイコート法にて塗工した。この後、塗工面に離型性のあるフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）をラミネートすることにより、離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを得た。
【０１２６】
次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを得た。
【０１２７】
vi) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖ) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。該離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートは、前記工程iv）で用いたものと同じものを用いた。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。
【０１２８】
vii)  反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記vi) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に電磁波遮蔽層のシートを巻き取ったものを配置した。
【０１２９】
片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔（古川サーキットフォイール製、ＥＸＰ−ＷＳ：商品名、厚さ９μｍ）と、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製  Ａ４３００  厚み１００μｍ）とを、ウレタン系接着剤（Ｔｇ２０℃、平均分子量３万、酸価１、水酸基価９）にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光、現像、エッチング、レジスト除去を行なうことにより３００μｍ□、線幅１０μｍの金属メッシュを形成することにより電磁波遮蔽フィルムを得た。なお、この際黒化処理面はプラズマディスプレイパネルが製造された場合、見る側（人間側）になるように設置するため、非貼り合わせ面側とした。
【０１３０】
次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から電磁波遮蔽層のシートを繰り出し、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートし、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを得た。
【０１３１】
viii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖii) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。該離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートは、前記工程iv）で用いたものと同じものを用いた。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを繰り出した。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／粘着剤層／離型フィルムからなる本実施例１の光学フィルタを得た。
【０１３２】
内部ヘーズの変化
前記光学フィルタの調製工程で得られた、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、２．１％（架橋剤を含まないもの）、２．１％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、２．２％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、２．１％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズは、３．０％（架橋剤を含まないもの）、３．１％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、２．６％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、２．８％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズは、３．０％（架橋剤を含まないもの）、３．０％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、２．８％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、２．２％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。その結果を下記の表１に示す。これらの結果から、耐衝撃層に架橋剤を０．５質量％以上含ませたものは、熱負荷、湿熱負荷を与えても、内部ヘーズを３．０以内にすることができ、白濁化を防止できることが分かる。
【０１３３】
加熱時の変形
加熱下での耐衝撃層の変形を試験するために、垂直に立てた１５０ｍｍ×１５０ｍｍの正方形のガラス板面に、厚み２５μｍの粘着剤層を介して、厚み８００μｍ、１２０ｍｍ×１２０ｍｍの正方形の粘着剤層をガラス板の中心に一致させて、即ち、ガラス板の上下左右に１５ｍｍ幅の未積層部分が残るように貼り付けた。得られた貼り付け体に８０℃絶乾、１０００時間の加熱を行った結果、ガラス板より耐衝撃層がズレたものは、架橋剤を含まないもの、及び架橋剤を０．１質量質量％含むものであった。また、耐衝撃層がズレなかったものは、架橋剤を各々０．５％含むもの、及び１．０％含むものであった。その結果を下記の表１に示す。表１において○はズレが生じなかったもの、×はズレが生じたものを示す。これらの結果から、耐衝撃層に架橋剤を０．５質量％以上含ませたものは、加熱時の変形を防止できることが分かる。
【０１３４】
ショワーＡ硬度の変化
前記光学フィルタの調製工程で得られた、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のショワーＡ硬度は、９１（架橋剤を含まないもの）、９２（架橋剤を０．１質量％含むもの）、９３（架橋剤を０．５質量％含むもの）、９３（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後のショワーＡ硬度は、９４（架橋剤を含まないもの）、９２（架橋剤を０．１質量％含むもの）、９３（架橋剤を０．５質量％含むもの）、９４（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後のショワーＡ硬度は、９３（架橋剤を含まないもの）、９３（架橋剤を０．１質量％含むもの）、９４（架橋剤を０．５質量％含むもの）、９４（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。
【０１３５】
プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた耐衝撃層付光学フィルタを貼付し、４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１３６】
プラズマディスプレイパネルの性状
本実施例１で得られた各耐衝撃層付光学フィルタの視感度平均反射率は、各々０．８％であった。また、本実施例１で得られた各プラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例１の各光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【０１３７】
衝撃試験
本実施例１で得られた各プラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験として図５に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定した。
【０１３８】
１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層の場合、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。架橋剤（ジクミルペルオキシド、９６％品、三井化学株式会社製）を用いた耐衝撃層であって、０．１％架橋剤、０．５％架橋剤、１．０％架橋剤の何れの耐衝撃層の場合でも、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１３９】
２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層の場合、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。架橋剤（ジクミルペルオキシド、９６％品、三井化学株式会社製）を用いた耐衝撃層であって、０．１％架橋剤、０．５％架橋剤、１．０％架橋剤の何れの耐衝撃層の場合でも、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１４０】
３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層の場合、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。架橋剤（ジクミルペルオキシド、９６％品、三井化学株式会社製）を用いた耐衝撃層であって、０．１％架橋剤、０．５％架橋剤、１．０％架橋剤の何れの耐衝撃層の場合でも、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【実施例２】
【０１４１】
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が２８質量％の、エチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７１０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、４種類の積層体、及び該積層体から製造した４種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１４２】
内部ヘーズの変化
得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、３．０％（架橋剤を含まないもの）、２．９％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、２．９％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、３．０％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズは、１０．１％（架橋剤を含まないもの）、９．１％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、２．９％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、２．９％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後の内部ヘーズは、８．１％（架橋剤を含まないもの）、７．３％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、２．９％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、２．９％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。その結果を下記の表１に示す。これらの結果から、耐衝撃層に架橋剤を０．５質量％以上含ませたものは、熱負荷、湿熱負荷を与えても、内部ヘーズが３．０以内となり白濁化を防止できることが分かる。
【０１４３】
加熱時の変形
加熱下での耐衝撃層の変形試験を前記実施例１と同様にして行った。その結果、８０℃絶乾、１０００時間の加熱を行った場合、ガラス板より耐衝撃層がズレたものは、架橋剤を含まないもの、及び架橋剤を０．１質量質量％含むものであった。また、耐衝撃層がズレなかったものは、架橋剤を各々０．５％含むもの、及び１．０％含むものであった。これらの結果から、耐衝撃層に架橋剤を０．５質量％以上含ませたものは、加熱時の変形を防止できることが分かる。
【０１４４】
ショワーＡ硬度の変化
熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のショワーＡ硬度は、８０（架橋剤を含まないもの）、８１（架橋剤を０．１質量％含むもの）、８１（架橋剤を０．５質量％含むもの）、８３（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後のショワーＡ硬度は、８２（架橋剤を含まないもの）、８４（架橋剤を０．１質量％含むもの）、８２（架橋剤を０．５質量％含むもの）、８４（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後のショワーＡ硬度は、８４（架橋剤を含まないもの）、８２（架橋剤を０．１質量％含むもの）、８２（架橋剤を０．５質量％含むもの）、８３（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。
【０１４５】
プラズマディスプレイパネルの性状
本実施例２で得られた各耐衝撃層付光学フィルタの視感度平均反射率は、各々０．８％であった。また、本実施例２で得られた各プラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例２の各光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【０１４６】
衝撃試験
前記実施例１と同様にして衝撃試験を行った。
【０１４７】
１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層の場合、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。架橋剤（ジクミルペルオキシド、９６％品、三井化学株式会社製）を用いた耐衝撃層であって、０．１％架橋剤、０．５％架橋剤の何れの耐衝撃層の場合でも、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。また１．０％架橋剤の耐衝撃層の場合では、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１４８】
２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層の場合、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。架橋剤（ジクミルペルオキシド、９６％品、三井化学株式会社製）を用いた耐衝撃層であって、０．１％架橋剤の耐衝撃層の場合では、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。また、０．５％架橋剤、１．０％架橋剤の何れの耐衝撃層の場合でも、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１４９】
３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層、架橋剤を０．１％、０．５％、１．０％含む耐衝撃層の何れの場合であっても、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１５０】
［比較例１］
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が１０質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ５４１：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、４種類の積層体、及び該積層体から製造した４種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１５１】
内部ヘーズの変化
得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、７．２％（架橋剤を含まないもの）、７．２％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、７．２％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、７．２％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズは、８．９％（架橋剤を含まないもの）、９．２％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、９．１％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、８．９％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後の内部ヘーズは、８．４％（架橋剤を含まないもの）、８．１％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、８．３％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、７．９％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。その結果を下記の表１に示す。これらの結果から、比較例１の耐衝撃層の内部ヘーズは、いずれの場合も３．０を大きく超え、白濁化していた。
【０１５２】
加熱時の変形
加熱下での耐衝撃層の変形試験を前記実施例１と同様にして行った。その結果、８０℃絶乾、１０００時間の加熱を行った場合、ガラス板より耐衝撃層がズレたものは、４種類の耐衝撃層付の光学フィルタにおいて皆無であった。その結果を下記の表１に示す。
【０１５３】
ショワーＡ硬度の変化
熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のショワーＡ硬度は、９６（架橋剤を含まないもの）、９７（架橋剤を０．１質量％含むもの）、９８（架橋剤を０．５質量％含むもの）、９８（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後のショワーＡ硬度は、９７（架橋剤を含まないもの）、９８（架橋剤を０．１質量％含むもの）、９８（架橋剤を０．５質量％含むもの）、９８（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後のショワーＡ硬度は、９７（架橋剤を含まないもの）、９８（架橋剤を０．１質量％含むもの）、９８（架橋剤を０．５質量％含むもの）、９８（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。
【０１５４】
衝撃試験
前記実施例１と同様にして衝撃試験を行った。
【０１５５】
１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層、架橋剤を０．１％、０．５％、１．０％含む衝撃層の何れの場合であっても、衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１５６】
２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層、架橋剤を０．１％、０．５％、１．０％含む耐衝撃層の何れの場合であっても、０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１５７】
３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層、架橋剤を０．１％、０．５％、１．０％含む耐衝撃層の何れの場合であっても、衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１５８】
［比較例２］
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が４２質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７６０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、４種類の積層体、及び該積層体から製造した４種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１５９】
内部ヘーズの変化
得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、８．９％（架橋剤を含まないもの）、８．５％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、９．６％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、９．２％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズは、１４．８％（架橋剤を含まないもの）、１５．３％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、１４．６％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、１２．４％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後の内部ヘーズは、１２．２％（架橋剤を含まないもの）、１７．２％（架橋剤を０．１質量％含むもの）、１５．１％（架橋剤を０．５質量％含むもの）、１３．１％（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。その結果を下記の表１に示す。これらの結果から、比較例２の耐衝撃層の内部ヘーズは、いずれの場合も３．０を大きく超え、白濁化していた。
【０１６０】
加熱時の変形
加熱下での耐衝撃層の変形試験を前記実施例１と同様にして行った。その結果、８０℃絶乾、１０００時間の加熱を行った場合、ガラス板より耐衝撃層がズレたものは、架橋剤を含まないもの、架橋剤を０．１質量％含むもの、架橋剤を０．５質量％含むものにおいてズレが生じていた。架橋剤を１．０質量％含むものはズレが生じていなかった。
その結果を下記の表１に示す。
【０１６１】
ショワーＡ硬度の変化
熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のショワーＡ硬度は、５５（架橋剤を含まないもの）、５７（架橋剤を０．１質量％含むもの）、５７（架橋剤を０．５質量％含むもの）、５９（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後のショワーＡ硬度は、５８（架橋剤を含まないもの）、５８（架橋剤を０．１質量％含むもの）、５７（架橋剤を０．５質量％含むもの）、５８（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後のショワーＡ硬度は、５６（架橋剤を含まないもの）、５６（架橋剤を０．１質量％含むもの）、５６（架橋剤を０．５質量％含むもの）、５８（架橋剤を１．０質量％含むもの）であった。
【０１６２】
衝撃試験
前記実施例１と同様にして衝撃試験を行った。
【０１６３】
１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層、架橋剤を０．１％、０．５％、１．０％含む耐衝撃層の何れの場合であっても、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１６４】
２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層及び架橋剤を０．５％含む耐衝撃層では、衝撃試験による破壊エネルギーがいずれの場合であっても、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。架橋剤を０．１％、１．０％含む耐衝撃層の何れの場合であっても、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１６５】
３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、架橋剤を用いない耐衝撃層、架橋剤を０．１％、０．５％、１．０％含む耐衝撃層の何れの場合であっても、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。
【０１６６】
【表１】
2006047687.tif 000002
【０１６７】
表１において、○○は２回の衝撃試験において２回ともプラズマディスプレイパネルが割れなかったことを示し、●●は、２回の衝撃試験において２回ともプラズマディスプレイパネルが割れたことを示す。
【実施例３】
【０１６８】
反射防止フィルムの調製、及び電磁波遮蔽フィルムの調製については、前記実施例１と同様にして行い、前記実施例１と同じ反射防止フィルム及び電磁波遮蔽フィルムを得た。
【０１６９】
耐衝撃層付光学フィルタの調製
図６の押出ラミネート機において、第１フィルム供給部３５から反射防止フィルムを巻き出した。一方、第２フィルム供給部３９から電磁波遮蔽フィルムを巻き出しながら、粘着剤コート部４０において、色素含有粘着剤を塗布した。色素含有粘着剤には、ｎ−ブチルアクリレート７８．４質量％、２エチルヘキシルアクリレート１９．６質量％、およびアクリル酸２．０質量％を共重合させて得たアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、近赤外線吸収剤０．０３質量％（日本触媒（株）製  商品名”イーエクスカラー”ＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ）０．０１５質量％、染料（三井化学（株）製  商品名”ＰＳブルーＢＮ”０．０００１質量％、ネオン吸収化合剤（旭電化（株）製  商品名  ＴＹ−１０２）０．００１３質量％を加えたものを用いた。
【０１７０】
次いで、両フィルムの間に押出ラミネート機のダイス４２より吐出されたビニルアセテート（ＶＡ：略語）含有率が２０質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ６３３：商品名、東ソー（株）製）を耐衝撃層として挟み込んで積層して耐衝撃層の厚みを１．５ｍｍにして積層体を得た。得られた積層体に対して、電子線照射をしなかったものを対照とし、３００ｋＶの加速電圧で、照射線量１０ｋＧｙ、５０ｋＧｙ、１００ｋＧｙで各々電子線照射したものとしたものを調製し、４種類の積層体を得た。
【０１７１】
次いで、ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）／粘着剤層（ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）／ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）からなる粘着シートを用意し、該粘着シートの片側のセパレータを剥がした粘着シートの粘着剤層側を、前記工程で得られた４種類の積層体の各電磁波遮蔽層の透明基材側に貼りつけて、４種類の図１に示す光学フィルタを得た。
【０１７２】
内部ヘーズの変化
前記光学フィルタの調製工程で得られた、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、２．１％（電子線照射無し）、２．１％（１０ｋＧｙの電子線照射）、２．２％（５０ｋＧｙの電子線照射）、２．１％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズは、３．０％（電子線照射無し）、３．１％（１０ｋＧｙの電子線照射）、２．９％（５０ｋＧｙの電子線照射）、３．０％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズは、３．０％（電子線照射無し）、３．０％（１０ｋＧｙの電子線照射）、２．８％（５０ｋＧｙの電子線照射）、３．０％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。その結果を下記の表２に示す。これらの結果から、耐衝撃層に電子線照射を行ったものは、好ましくは、照射線量４０ｋＧｙ以上（加速電圧３００ｋＶの時）の電子線照射を行ったものは、熱負荷、湿熱負荷を与えても内部ヘーズを３．０以内にすることができ、白濁化を防止できることが分かる。
【０１７３】
ゲル分率
熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のゲル分率は、０％（電子線照射無し）、１２％（１０ｋＧｙの電子線照射）、８３％（５０ｋＧｙの電子線照射）、９３％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。
【０１７４】
加熱時の変形
加熱下での耐衝撃層の変形試験を前記実施例１と同様にして行った。その結果、８０℃絶乾、１０００時間の加熱を行った場合、ガラス板より耐衝撃層がズレたものは、電子線照射を行なわなかったもの、照射線量１０ｋＧｙのものにおいてズレが生じていた。照射線量が５０ｋＧｙのもの、及び１００ｋＧｙのものはズレが生じていなかった。その結果を下記の表２に示す。
【０１７５】
ショワーＡ硬度の変化
前記光学フィルタの調製工程で得られた、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のショワーＡ硬度は、９１（電子線照射無し）、９１（１０ｋＧｙの電子線照射）、９１（５０ｋＧｙの電子線照射）、９２（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後のショワーＡ硬度は、９４（電子線照射無し）、９３（１０ｋＧｙの電子線照射）、９４（５０ｋＧｙの電子線照射）、９４（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後のショワーＡ硬度は、９３（電子線照射無し）、９３（１０ｋＧｙの電子線照射）、９３（５０ｋＧｙの電子線照射）、９３（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。
【０１７６】
プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた耐衝撃層付光学フィルタを貼付し、４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１７７】
プラズマディスプレイパネルの性状
本実施例３で得られた各耐衝撃層付光学フィルタの視感度平均反射率は、各々０．８％であった。また、本実施例３で得られた各プラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例３の各光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【０１７８】
衝撃試験
本実施例３で得られた各プラズマディスプレイパネルについて、前記実施例１と同様にして破壊エネルギーを測定した。
【０１７９】
１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０１８０】
２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０１８１】
３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【実施例４】
【０１８２】
前記実施例３の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が２８質量％の、エチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７１０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例３と同様にして、４種類の積層体、及び該積層体から製造した４種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１８３】
内部ヘーズの変化
前記光学フィルタの調製工程で得られた、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、３．０％（電子線照射無し）、２．９％（１０ｋＧｙの電子線照射）、２．９％（５０ｋＧｙの電子線照射）、３．０％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズは、１０．１％（電子線照射無し）、９．５％（１０ｋＧｙの電子線照射）、３．０％（５０ｋＧｙの電子線照射）、２．９％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズは、８．１％（電子線照射無し）、７．８％（１０ｋＧｙの電子線照射）、２．９％（５０ｋＧｙの電子線照射）、３．０％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。その結果を下記の表２に示す。これらの結果から、耐衝撃層に電子線照射を行ったものは、好ましくは、照射線量４０ｋＧｙ以上（加速電圧３００ｋＶの時）の電子線照射を行ったものは、熱負荷、湿熱負荷を与えても内部ヘーズを３．０以内にすることができ、白濁化を防止できることが分かる。
【０１８４】
ゲル分率
熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のゲル分率は、０％（電子線照射無し）、１５％（１０ｋＧｙの電子線照射）、８７％（５０ｋＧｙの電子線照射）、９３％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。
【０１８５】
加熱時の変形
加熱下での耐衝撃層の変形試験を前記実施例１と同様にして行った。その結果、８０℃絶乾、１０００時間の加熱を行った場合、ガラス板より耐衝撃層がズレたものは、電子線照射を行なわなかったもの、照射線量１０ｋＧｙのものにおいてズレが生じていた。照射線量が５０ｋＧｙのもの、及び１００ｋＧｙのものはズレが生じていなかった。その結果を下記の表２に示す。
【０１８６】
ショワーＡ硬度の変化
前記光学フィルタの調製工程で得られた、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のショワーＡ硬度は、８０（電子線照射無し）、８２（１０ｋＧｙの電子線照射）、８３（５０ｋＧｙの電子線照射）、８４（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後のショワーＡ硬度は、８２（電子線照射無し）、８３（１０ｋＧｙの電子線照射）、８５（５０ｋＧｙの電子線照射）、８６（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後のショワーＡ硬度は、８４（電子線照射無し）、８２（１０ｋＧｙの電子線照射）、８５（５０ｋＧｙの電子線照射）、８５（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。
【０１８７】
プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた耐衝撃層付光学フィルタを貼付し、４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１８８】
プラズマディスプレイパネルの性状
本実施例４で得られた各耐衝撃層付光学フィルタの視感度平均反射率は、各々０．８％であった。また、本実施例４で得られた各プラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例４の各光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【０１８９】
衝撃試験
本実施例４で得られた各プラズマディスプレイパネルについて、前記実施例１と同様にして破壊エネルギーを測定した。
【０１９０】
１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。照射線量が１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層の場合は、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０１９１】
２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０１９２】
３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０１９３】
［比較例３］
前記実施例３の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が１０質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ５４１：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例３と同様にして、４種類の積層体、及び該積層体から製造した４種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１９４】
内部ヘーズの変化
得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、電子線照射無し、１０ｋＧｙの電子線照射、５０ｋＧｙの電子線照射、１００ｋＧｙの電子線照射の何れの場合も、全て７．２％であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後の内部ヘーズは、８．９％（電子線照射無し）、９．２％（１０ｋＧｙの電子線照射）、９．１％（５０ｋＧｙの電子線照射）、８．９％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズは、８．４％（電子線照射無し）、８．１％（１０ｋＧｙの電子線照射）、８．３％（５０ｋＧｙの電子線照射）、７．９％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。その結果を下記の表２に示す。これらの結果から、比較例３の耐衝撃層の内部ヘーズは、いずれの場合も３．０を大きく超え、白濁化していた。
【０１９５】
加熱時の変形
加熱下での耐衝撃層の変形試験を前記実施例１と同様にして行った。その結果、８０℃絶乾、１０００時間の加熱を行った場合、ガラス板より耐衝撃層がズレたものは、４種類の耐衝撃層付の光学フィルタにおいて皆無であった。その結果を下記の表２に示す。
【０１９６】
ショワーＡ硬度の変化
熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のショワーＡ硬度は、９６（電子線照射無し）、９６（１０ｋＧｙの電子線照射）、９６（５０ｋＧｙの電子線照射）、９７（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後のショワーＡ硬度は、９７（電子線照射無し）、９７（１０ｋＧｙの電子線照射）、９７（５０ｋＧｙの電子線照射）、９８（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後のショワーＡ硬度は、９７（電子線照射無し）、９６（１０ｋＧｙの電子線照射）、９７（５０ｋＧｙの電子線照射）、９７（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。
【０１９７】
衝撃試験
比較例３で得られた各プラズマディスプレイパネルについて、前記実施例１と同様にして破壊エネルギーを測定した。
【０１９８】
１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０１９９】
２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０２００】
３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０２０１】
［比較例４］
前記実施例３の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が４２質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７６０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例３と同様にして、４種類の積層体、及び該積層体から製造した４種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた４種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０２０２】
内部ヘーズの変化
得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、８．９％（電子線照射無し）、９．０％（１０ｋＧｙの電子線照射）、８．８％（５０ｋＧｙの電子線照射）、８．９％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後の内部ヘーズは、１４．８％（電子線照射無し）、１４．３％（１０ｋＧｙの電子線照射）、９．１％（５０ｋＧｙの電子線照射）、９．２％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズは、１２．２％（電子線照射無し）、１２．４％（１０ｋＧｙの電子線照射）、８．９％（５０ｋＧｙの電子線照射）、９．０％（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。その結果を下記の表２に示す。これらの結果から、比較例４の耐衝撃層の内部ヘーズは、いずれの場合も３．０を大きく超え、白濁化していた。
【０２０３】
加熱時の変形
加熱下での耐衝撃層の変形試験を前記実施例１と同様にして行った。その結果、８０℃絶乾、１０００時間の加熱を行った場合、ガラス板より耐衝撃層がズレたものは、電子線照射無し、照射線量が１０ｋＧｙの電子線照射、５０ｋＧｙの電子線照射の何れの耐衝撃層もズレを生じたが、照射線量が１００ｋＧｙの電子線照射の耐衝撃層はズレなかった。その結果を下記の表２に示す。
【０２０４】
ショワーＡ硬度の変化
熱負荷或いは湿熱負荷を受けていない４種類の耐衝撃層付の光学フィルタの耐衝撃層のショワーＡ硬度は、５５（電子線照射無し）、５７（１０ｋＧｙの電子線照射）、５９（５０ｋＧｙの電子線照射）、６０（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後のショワーＡ硬度は、５８（電子線照射無し）、５９（１０ｋＧｙの電子線照射）、６０（５０ｋＧｙの電子線照射）、６１（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。また、６０℃、湿度９５質量％、１０００時間後のショワーＡ硬度は、５６（電子線照射無し）、５８（１０ｋＧｙの電子線照射）、５９（５０ｋＧｙの電子線照射）、６０（１００ｋＧｙの電子線照射）であった。
【０２０５】
衝撃試験
比較例４で得られた各プラズマディスプレイパネルについて、前記実施例１と同様にして破壊エネルギーを測定した。
【０２０６】
１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０２０７】
２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０２０８】
３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、電子線照射をしない耐衝撃層、照射線量が１０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、５０ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層、１００ｋＧｙで電子線照射した耐衝撃層のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表２に示す。
【０２０９】
【表２】
2006047687.tif 000003
【０２１０】
表２において、○○は２回の衝撃試験において２回ともプラズマディスプレイパネルが割れなかったことを示し、●●は、２回の衝撃試験において２回ともプラズマディスプレイパネルが割れたことを示す。
【産業上の利用可能性】
【０２１１】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合に、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２１２】
【図１】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図３】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図４】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図５】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図６】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図７】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図８】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図９】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１０】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１１】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１２】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１３】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１４】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１５】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１６】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１７】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１８】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図１９】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２０】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２１】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２２】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２３】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２４】本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２５】衝撃試験装置を示す図である。
【図２６】本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、押出ラミネート機の１例を示す概略図である。
【図２７】本発明の光学フィルタを構成する各層をラミネートするためのラミネート機の１例を示す図である。
【符号の説明】
【０２１３】
１    反射防止層
２    色素含有粘着剤層
３    近赤外線吸収層
４    粘着剤層
５    耐衝撃層
６    電磁波遮蔽層
７    プラズマディスプレイパネル
８    試験台
９    土台
１０  ガラス板
１１  前面ガラス板
１２  鋼球
２１  第１給紙部
２２  第２給紙部
２３  第１離型フィルム巻取りロール
２４  第２離型フィルム巻取りロール
２５  第１ラミネートニユット
２６  第２ラミネートニユット
２７  巻取りロール
３５  第１フィルム供給部
３７  冷却ロール
３８  ニップロール
３９  第２フィルム供給部
４１  排紙部
４２  ダイス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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