(57)【要約】【課題】  一画素内に３色以上の自発光素子を配備させることで色再現性の高い多色化が可能で、高精細度を有する発光表示装置を高い生産性で製造する。【解決手段】  異なる発光色の自発光素子１０を有する一画素ｐを複数形成することで多色表示を行う発光表示装置において、一画素ｐにおける第１発光色の自発光素子１０は、少なくとも２回の成膜工程で積層された前記第１発光色を呈する発光層２１Ｃ１ａ，２１Ｃ１ｂを有し、一画素ｐにおける第２発光色の自発光素子１０は、少なくとも２回の成膜工程で積層された第２発光色を呈する発光層２１Ｃ２ａ，２１Ｃ２ｂを有し、一画素ｐにおける第３発光色の自発光素子１０は、少なくとも２回の成膜工程で積層された第１発光色を呈する発光層２１Ｃ１ａと第２発光色を呈する発光層２１Ｃ１ｂとを備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる発光色の自発光素子を有する一画素を複数形成することで多色表示を行う発光表示装置において、
前記一画素における第１発光色の自発光素子は、少なくとも２回の成膜工程で積層された前記第１発光色を呈する発光層を有し、
前記一画素における第２発光色の自発光素子は、少なくとも２回の成膜工程で積層された前記第２発光色を呈する発光層を有し、
前記一画素における第３発光色の自発光素子は、少なくとも２回の成膜工程で積層された前記第１発光色を呈する発光層と前記第２発光色を呈する発光層とを備えることを特徴とする発光表示装置。
【請求項２】
前記自発光素子は、基板上に、下部電極と前記発光層を有する有機層と上部電極とを積層してなる有機ＥＬ素子によって構成されることを特徴とする請求項１に記載された発光表示装置。
【請求項３】
前記第３発光色が白色になるように、前記第１発光色と前記第２発光色が選択されることを特徴とする請求項１又は２に記載された発光表示装置。
【請求項４】
前記第１発光色と第２発光色との混色によって、ＣＩＥｘｙ色度図の白色領域或いは該色度図で純白色（ｘ，ｙ）＝（０．３１，０．３１６）を中心として半径０．１の円領域内の色を表現可能にしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載された発光表示装置。
【請求項５】
前記第１発光色と前記第２発光色は、赤（Ｒ），青（Ｂ），緑（Ｇ），シアン（Ｃ），マゼンダ（Ｍ），イエロー（Ｙ）のうちから選択された２色の組み合わせであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載された発光表示装置。
【請求項６】
異なる発光色の自発光素子を有する一画素を複数形成することで多色表示を行う発光表示装置の製造方法において、
前記一画素における第１発光色の自発光素子の発光領域に前記第１発光色を呈する発光層を成膜し、前記一画素における第２発光色の自発光素子の発光領域に前記第２発光色を呈する発光層を成膜し、前記一画素における第３発光色の自発光素子の発光領域に前記第１発光色又は第２発光色を呈する発光層を成膜する第１成膜工程と、
該第１成膜工程で成膜された各発光層の上に、前記第１発光色の自発光素子の発光領域に前記第１発光色を呈する発光層を成膜し、前記第２発光色の自発光素子の発光領域に前記第２発光色を呈する発光層を成膜し、前記第３発光色の自発光素子の発光領域に前記第１発光色又は第２発光色を呈する発光層を成膜する第２成膜工程を有し、
前記第３発光色を前記第１発光色と前記第２発光色の混色によって形成することを特徴とする発光表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記自発光素子は、基板上に、下部電極と前記発光層を有する有機層と上部電極とを積層してなる有機ＥＬ素子によって構成されることを特徴とする請求項６に記載された発光表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記第３発光色の自発光素子の発光領域において前記第１発光色を呈する発光層と前記第２発光色を呈する発光層とを積層して白色の自発光素子を形成することを特徴とする請求項６又は７に記載された発光表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１発光色と前記第２発光色との混色によって、ＣＩＥｘｙ色度図の白色領域或いは該色度図で純白色（ｘ，ｙ）＝（０．３１，０．３１６）を中心として半径０．１の円領域内の色を表現可能にしたことを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載された発光表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１発光色と前記第２発光色は、赤（Ｒ），青（Ｂ），緑（Ｇ），シアン（Ｃ），マゼンダ（Ｍ），イエロー（Ｙ）のうちから選択された２色の組み合わせであることを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載された発光表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記発光層を複数の発光領域に跨る線状パターンに形成し、前記第１成膜工程における発光層と前記第２成膜工程における発光層が直交したパターンに形成されることを特徴とする請求項６〜１０のいずれかに記載された発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、電流の注入によって発光する有機化合物材料のエレクトロルミネッセンス（以下、単に有機ＥＬ（Electroluminescence）という）を利用した表示装置（有機ＥＬ表示装置）が知られている。この表示装置は、有機ＥＬ材料の薄膜からなり面光源を形成する有機ＥＬ素子を表示単位として、これを平面基板上に所定のパターンで配列したものである。
【０００３】
このような有機ＥＬ表示装置に代表される有機発光表示装置では、有機化合物材料の研究によって、色純度の高いＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）各発光色を呈する材料が開発されたことを受けて、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色を発光する自発光素子を画素毎に配設してフルカラー表示を行うカラー表示装置が開発されている。
【０００４】
図１は、このようなカラー表示を行う有機発光表示装置の従来例（特許文献１参照）を示す説明図である。この有機発光表示装置は、透明基板１上に互いに直交する位置に電気的に離間して配列された走査信号線２及びデータ信号線３と、この走査信号線２及びデータ信号線３に接続された非線形素子４と、この非線形素子４に接続されて、発光部（自発光素子）Ｒ，Ｇ，Ｂに対応する複数の独立パターンからなる第１表示電極５とを有する。そして、各第１表示電極５上には、色毎に異なる有機発光機能膜が層状に形成され、更にその上には共通の第２表示電極（図示省略）が形成されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２２７２７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような有機発光表示装置によると、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色の自発光素子を組み合わせて一つの表示単位（画素）が形成されており、各自発光素子を個別に駆動することによってフルカラーの画像表示を行うことができる。このようにフルカラー表示を行うためには、ＲＧＢ３色の自発光素子を一画素内に備えておく必要があるが、フルカラーに至らないまでもある程度多彩な色再現性が得られる多色表示を行うためには、３色以上の異なる色の自発光素子を一画素内に配備することが好ましい。
【０００７】
ところで、有機ＥＬ素子を採用して多色の発光表示装置を形成する方法として、ＲＧＢ３色をメタルマスク等の成膜マスクを介して各色の表示単位毎に塗り分ける方式がある。この塗り分け方式によると、表示装置に要求される高精細度が高まるに連れて、成膜用マスクの形成精度や位置合わせ技術に要求される難易度が高まることになり、また、３色の塗り分けを行うために成膜工程を色毎に３回行わなければならないので、高精細度を有する表示装置を形成するには高度な技術を要すると共に生産性の面で問題がある。
【０００８】
これに対して、成膜マスクを用いないでカラー表示を実現する手法も提案されている。例えば、カラーフィルタ法又は色変換法は、発光機能層の成膜自体は成膜マスクを用いない単色（白色又は青色）のべた塗りでよく、そこからの発光を色分けされたカラーフィルタ又は色変換層を介して出射することで、所望の多色を得ることができるものである。この手法によると、成膜マスクを用いないので高精細度への対応が容易である利点があるが、有機ＥＬ素子に近接してカラーフィルタや色変換層を形成する樹脂層が設けられるので、この樹脂層から放出されるアウトガスが有機ＥＬ素子を劣化させることが懸念される。また、その他のカラー化手法として、単色の発光機能層の発光エリアに電磁波を照射する等して複数発光を実現する方式（フォトブリーチング方式）があるが、多彩なカラー表示を行う上で効果的な発光色を呈する材料が未だ開発されていないのが現状である。
【０００９】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、一画素内に３色以上の自発光素子を配備させることで色再現性の高い多色化が可能な発光表示装置を提供すること、高精細度を有する発光表示装置を高い生産性で製造できること、これらの利点をカラーフィルタ法，色変換法，フォトブリーチング方式によらず塗り分け法を用いて、従来から使用されている材料によって実現できること、等が本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
このような目的を達成するために、本発明による発光表示装置及びその製造方法は、以下の各独立請求項に係る構成を少なくとも具備するものである。
【００１１】
［請求項１］異なる発光色の自発光素子を有する一画素を複数形成することで多色表示を行う発光表示装置において、前記一画素における第１発光色の自発光素子は、少なくとも２回の成膜工程で積層された前記第１発光色を呈する発光層を有し、前記一画素における第２発光色の自発光素子は、少なくとも２回の成膜工程で積層された前記第２発光色を呈する発光層を有し、前記一画素における第３発光色の自発光素子は、少なくとも２回の成膜工程で積層された前記第１発光色を呈する発光層と前記第２発光色を呈する発光層とを備えることを特徴とする発光表示装置。
【００１２】
［請求項６］異なる発光色の自発光素子を有する一画素を複数形成することで多色表示を行う発光表示装置の製造方法において、前記一画素における第１発光色の自発光素子の発光領域に前記第１発光色を呈する発光層を成膜し、前記一画素における第２発光色の自発光素子の発光領域に前記第２発光色を呈する発光層を成膜し、前記一画素における第３発光色の自発光素子の発光領域に前記第１発光色又は第２発光色を呈する発光層を成膜する第１成膜工程と、該第１成膜工程で成膜された各発光層の上に、前記第１発光色の自発光素子の発光領域に前記第１発光色を呈する発光層を成膜し、前記第２発光色の自発光素子の発光領域に前記第２発光色を呈する発光層を成膜し、前記第３発光色の自発光素子の発光領域に前記第１発光色又は第２発光色を呈する発光層を成膜する第２成膜工程を有し、前記第３発光色を前記第１発光色と前記第２発光色の混色によって形成することを特徴とする発光表示装置の製造方法。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図２及び図３は本発明の一実施形態に係る発光表示装置を示す説明図である。この発光表示装置は、少なくとも３色以上の異なる色（図示の例では、Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４）の自発光素子１０を有する一画素ｐを複数形成することで多色表示を行うものであり、これを色毎の塗り分け法によって形成する際に有効は構成を具備するものである。
【００１４】
図３は、各発光色の自発光素子１０の構造を示すものである。この自発光素子１０は、各色共通して、基板１１上に、下部電極１２と発光層２１を有する有機層２０と上部電極１３とを積層してなる有機ＥＬ素子によって構成されるものである。
【００１５】
そして、一画素ｐにおけるＣ１発光色（第１発光色）の自発光素子１０は、同図（ａ）に示すように、少なくとも２回の成膜工程で積層されたＣ１発光色を呈する発光層（２１Ｃ１ａ，２１Ｃ１ｂ）を有しており、一画素ｐにおけるＣ２発光色（第２発光色）の自発光素子１０は、同図（ｂ）に示すように、少なくとも２回の成膜工程で積層されたＣ２発光色を呈する発光層（２１Ｃ２ａ，２１Ｃ２ｂ）を有しており、一画素ｐにおけるＣ３発光色（第３発光色）の自発光素子１０は、同図（ｃ）に示すように、少なくとも２回の成膜工程で積層されたＣ２発光色を呈する発光層（２１Ｃ２ａ）とＣ１発光色を呈する発光層（２１Ｃ１ｂ）を備え、また、一画素ｐにおけるＣ４発光色（第４発光色）の自発光素子１０は、同図（ｄ）に示すように、少なくとも２回の成膜工程で積層されたＣ２発光色を呈する発光層（２１Ｃ２ｂ）とＣ１発光色を呈する発光層（２１Ｃ１ａ）を備える。
【００１６】
ここで、Ｃ３発光色とＣ４発光色は、Ｃ１発光色とＣ２発光色との混色で得られる発光色であり、Ｃ１発光色を呈する発光層（２１Ｃ１ａ又は２１Ｃ１ｂ）とＣ２発光色を呈する発光層（２１Ｃ２ａ又は２１Ｃ２ｂ）の積層厚さの割合によって異なる発光色に設定することができる。例えば、Ｃ１発光色とＣ２発光色とをＲ（赤）とＢ（青）とした場合には、Ｃ３発光色をＢの発光量を多くして藍色に設定し、Ｃ４発光色をＲの発光量を多くして朱（オレンジ）色に設定することができる。
【００１７】
このような実施形態に係る発光表示装置では、一画素内に４色の自発光素子を備えるので、各自発光素子の発光量を独立して調整することで、多彩な色再現性を実現することができる。そして、基本的には２つの発光色を呈する発光層の塗り分けで一画素を形成できるので、塗り分けのためのマスクパターンをＲＧＢ３色塗り分けの場合より精細にすることなく、発光表示装置の高精細度を上げることが可能になる。
【００１８】
図４及び図５は、本発明の実施形態に係る発光表示装置を示す説明図であって、前述の実施形態をより具体化した例を示すものである。この発光表示装置は、図４に示すように、３色の異なる発光色（Ｒ（赤），Ｂ（青），Ｗ（白））の自発光素子１０を有する一画素ｐを複数形成することで多色表示を行うものである。
【００１９】
そして、一画素ｐにおけるＲ発光色（第１発光色）の自発光素子１０は、図５（ａ）に示すように、基板１１上に、下部電極１２，有機層２０，上部電極１３を積層してなる有機ＥＬ素子において、少なくとも２回の成膜工程で積層されたＲ発光色を呈する発光層（２１Ｒａ，２１Ｒｂ）を有している。また、一画素ｐにおけるＢ発光色（第２発光色）の自発光素子１０は、同図（ｂ）に示すように、同様の有機ＥＬ素子において、少なくとも２回の成膜工程で積層されたＢ発光色を呈する発光層（２１Ｂａ，２１Ｂｂ）を有している。更には、一画素ｐにおけるＷ発光色（第３発光色）の自発光素子１０は、同図（ｃ）に示すように、少なくとも２回の成膜工程で積層されたＲ発光色を呈する発光層（２１Ｒａ又は２１Ｒｂ）とＢ発光色を呈する発光層（２１Ｂｂ又は２１Ｂａ）を備えている。
【００２０】
この実施形態ではＷ発光色の自発光素子１０を得るために、Ｒ発光色を呈する発光層２１ＲａとＢ発光色を呈する発光層２１Ｂｂの積層或いはＢ発光色を呈する発光層２１ＢａとＲ発光色を呈する発光層２１Ｒｂの積層の発光量の設定を行っている。
【００２１】
この実施形態に係る発光表示装置においても、一画素内に３発光色の自発光素子を備えるので、各自発光素子の発光量を独立して調整することで、多彩な色再現性を実現することができる。そして、基本的には２つの発光色を呈する発光層の塗り分けで一画素を形成できるので、塗り分けのためのマスクパターンをＲＧＢ３色塗り分けの場合より精細にすることなく、発光表示装置の高精細度を上げることが可能になる。
【００２２】
図６〜８は、本発明の実施形態（図４に示す形態）に係る発光表示装置の更に具体的な構造及び製造方法を説明する説明図である。ここでは、基板上の下部電極と上部電極とが直交したストライプ状に形成されるパッシブ駆動方式のパネルを例にして説明するが、本発明の実施形態としては、特にこれに限定されるものではない。
【００２３】
まず、透明ガラス等の基板１１上に、下部電極１２の電極材料が成膜され、Ｘ方向のストライプ状にパターン形成されて下部電極１２が形成される。下部電極１２としてはＩＴＯ等の透明電極によって形成することができる。このストライプ状の下部電極１２上に絶縁膜１４が成膜され、電極上に発光領域ＳＲ，ＳＢ，ＳＷを区画する開口が形成されるようにパターン形成がなされる。そして、この絶縁膜１４上に下部電極１２と直交する方向（Ｙ方向）に沿って形成された発光領域を一列毎に区画するように隔壁３０が形成される。
【００２４】
次に、発光層２１を含む有機層２０が成膜されるが、まず、必要に応じて各色共通の層（例えば、ＣｕＰｃ等からなるホール注入層２２やα−ＮＰＤ等からなるホール輸送層２３）が成膜され、その後、マスクを介した発光層２１の塗り分けが行われる。
【００２５】
この発光層２１の塗り分けを図６によって説明すると、第１の成膜工程として、Ｙ方向に沿って形成された隔壁３０の間に、複数の発光領域に跨るＲ発光色を呈する発光層２１Ｒａの線状パターンを発光領域一列分空けて複数列成膜し、その線状パターンの間に、複数の発光領域に跨るＢ発光色を呈する発光層２１Ｂａの線状パターンを複数列成膜する。これによって、第１の成膜工程では、一画素ｐにおいて、Ｒ発光色（第１発光色）の自発光素子の発光領域ＳＲにＲ発光色を呈する発光層２１Ｒａを成膜し、Ｂ発光色（第２発光色）の自発光素子の発光領域ＳＢにＢ発光色を呈する発光層２１Ｂａを成膜し、Ｗ発光色（第３発光色）の自発光素子の発光領域ＳＷにＲ発光色を呈する発光層２１Ｒａ又はＢ発光色を呈する発光層２１Ｂａを成膜することになる。
【００２６】
そして、本発明の実施形態においては、発光層２１の塗り分けに際して、前述した第１の成膜工程の後に第２の成膜工程として、Ｘ方向に沿って、複数の発光領域に跨るＲ発光色を呈する発光層２１Ｒｂの線状パターンを発光領域一列分空けて複数列成膜し、その線状パターンの間に、複数の発光領域に跨るＢ発光色を呈する発光層２１Ｂｂの線状パターンを複数列成膜する。これによって、第２の成膜工程では、一画素ｐにおいて、Ｒ発光色（第１発光色）の自発光素子の発光領域ＳＲにＲ発光色を呈する発光層２１Ｒｂを成膜し、Ｂ発光色（第２発光色）の自発光素子の発光領域ＳＢにＢ発光色を呈する発光層２１Ｂｂを成膜し、Ｗ発光色の自発光素子の発光領域ＳＷにＲ発光色を呈する発光層２１Ｒｂ又はＢ発光色を呈する発光層２１Ｂｂを成膜することになる。ここで説明した方法だけでなく、第１の成膜工程をＸ方向に沿って成膜し、第２の成膜工程をＹ方向に沿って成膜しても良く、Ｒ発光色とＢ発光色の成膜順序はどちらを先に成膜しても構わない。更に、発光層２１は第１の成膜工程と第２の成膜工程だけでなく、第３，第４の成膜を行っても構わない。さらに、第１の成膜工程と第２の成膜工程の間に他の有機層の成膜を行っても構わない。
【００２７】
その後は、必要に応じて各色共通の有機層（例えば、Ａｌｑ３等からなる電子輸送層２４やＭｇＯ等の金属酸化物等からなる電子注入層２５）を積層した後、例えばＡｌ等の金属材料からなる上部電極１３を積層する。これによって、異なる色の発光を呈する有機ＥＬ素子を有する一画素ｐを複数形成することで多色表示を行う発光表示装置１００を得ることができる。
【００２８】
このような発光層の材料は、高分子材料，低分子材料を問わず適宜選択可能であり、一重項励起状態から基底状態に戻る際の発光（蛍光）と三重項励起状態から基底状態に戻る際の発光（りん光）といずれでも良い。発光色の選択は、ゲスト材料に含まれるドーパントを組み合わせて色度を設定することができる。前述のＲ色発光層としてはＤＣＭ１等のスチリル色素等、Ｂ色発光層としてはジスチリル誘導体，トリゾール誘導体等を選択することができる。また、発光層等の成膜方法は、真空蒸着法の他、電子ビーム蒸着法，スピンコーティング法，インクジェット法等を採用することができる。
【００２９】
このような発光表示装置１００による多色表示について説明する。一画素ｐ内では、発光領域ＳＲ上には、少なくとも２回の成膜工程でＲ色を呈する発光層２１Ｒａ，２１Ｒｂが積層されているので、これを点灯することでＲ色の発光が得られる。また、発光領域ＳＢ上には、少なくとも２回の成膜工程でＢ色を呈する発光層２１Ｂａ，２１Ｂｂが積層されているので、これを点灯することでＢ色の発光が得られる。これに対して、発光領域ＳＷ上には、少なくとも２回の成膜工程でＲ色を呈する発光層２１Ｒａ及びＢ色を呈する発光層２１Ｂｂ或いはＢ色を呈する発光層２１Ｂａ及びＲ色を呈する発光層２１Ｒｂが積層されているので、これを点灯することでＲとＢの混色の白色が点灯することになる。そして、これらの自発光素子１０を独立に階調制御することで、白を含む多色表示が可能になり、色再現性の高い多色表示を行うことができる。
【００３０】
ここで、選択される２色の色度設定について、図９及び図１０に基づいて説明する。この色度設定には、図９又は図１０に示したようなＣＩＥｘｙ色度図を用いることによって効果的な設定が可能になる。図９は、ＪＩＳＺ８１１０のＣＩＥｘｙ色度図を示したものである。一般に、一画素にＲＧＢ３色の自発光素子を備えてフルカラーの多色表示を行う場合には、図１０に示した設定色度（ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ）で囲む面積ができるだけ広くなるようにＲＧＢ３色の色度設定をすることで、色再現性の高いカラー表示が可能になる。しかしながら、本願の実施形態のように、一画素に２色とその混色からなる自発光素子を備えることで多色表示を行う場合には、２色の選択として前述のように設定した（ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ）から２色を選択したものでは、高い色再現性が得られる選択にならない。
【００３１】
一画素に２色とその混色からなる自発光素子を備える本発明の実施形態で高い色再現性を得るためには、２色の混色によって白色を得ることが可能なように色度設定を行う必要がある。この設定をＣＩＥｘｙ色度図によって行うには、選択された２色の色度図上の点を結んだ直線が白領域ＬＷ（図９参照）を通過するように２色の色度を設定する。この白領域ＬＷを更に具体的な数値範囲で示すならば、ＣＩＥｘｙ色度図で純白色（ｘ，ｙ）＝（０．３１，０．３１６）を中心として半径０．１の円領域ＬＯ（図１０参照）内が基準の領域になる。したがって、選択された２色の色度図上の点を結んだ直線がこの円領域ＬＯ内を通過するように２色の色度を設定する必要がある。
【００３２】
図１０に基づいて更に具体的に説明すると、ＲＧＢ各色自発光素子の発光色を色純度の高い色度（ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ）に設定すると、３色構造のフルカラー表示を行う場合には色度域が広くなり、表現力の高いフルカラー表示が可能になるが、ＲＧＢから２色を選択した２色構造で多色表示を行う場合には、（ＬＲ，ＬＧ），（ＬＧ，ＬＢ），（ＬＲ，ＬＢ）のいずれを選択してもそれらの混色は純白色Ｏ（０.３１，０.３１６）から離れた色となり、表現力の乏しい多色表示にならざるを得ない。
【００３３】
これに対して、有機ＥＬ素子は、ＲＧＢの各自発光素子から発光される光の色度ＥＲ，ＥＧ，ＥＢが前述の色度（ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ）程色純度が高くないだけでなく、それぞれの色度ＥＲ，ＥＧ，ＥＢは、設定によって、ＥＲはＧ側又はＢ側に、ＲＧはＲ側又はＢ側に、ＥＢはＧ側又はＲ側に、それぞれ設定変更が可能である。したがって、例えば、（ＥＲ１，ＥＢ１）のような２色を選択すると、選択された２色の色度図上の点を結んだ直線が円領域ＬＯ内を通過して純白色Ｏに近い混色が可能になり、これによって表現力の高い多色表示が可能になる。
【００３４】
ここで、設定されるべき２色は、赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ），シアン（Ｃ），マゼンタ（Ｍ），イエロー（Ｙ）のうちから選択された２色の組み合わせであればよく、例えば、前述した色度（ＥＲ，ＥＧ），（ＥＧ，ＥＢ），（ＥＲ，ＥＢ）の組み合わせは（Ｒ，Ｇ）、（Ｇ，Ｂ）、（Ｒ，Ｂ）の組み合わせであり、また、ＥＲをＧ側にシフトするとイエロー（Ｙ）になるので（Ｙ，Ｂ）の組み合わせにもなる。これによって、これらの組み合わせによる混色が白色に近い色になるように設定することで、表現力の高い多色表示が可能になる。これらの色度設定は、有機発光材料の含有比率又は異種材料の組み合わせによって行うことができる。
【００３５】
このような実施形態によると、一画素内に３色以上の自発光素子を配備させることで色再現性の高い多色化が可能な発光表示装置を得ることができ、高精細度を有する発光表示装置を高い生産性で製造できる。また、カラーフィルタ法，色変換法，フォトブリーチング方式によらず塗り分け法を用いて、従来から使用されている材料によって、高精細度有し高い生産性を有すると共に、比較的色再現性の高い多色表示が可能な発光表示装置を実現できることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】従来技術の説明図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る発光表示装置を示す説明図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る発光表示装置を示す説明図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係る発光表示装置を示す説明図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係る発光表示装置を示す説明図である。
【図６】本発明の実施形態（図４に示す形態）に係る発光表示装置の更に具体的な構造及び製造方法を説明する説明図である。
【図７】本発明の実施形態（図４に示す形態）に係る発光表示装置の更に具体的な構造及び製造方法を説明する説明図である。
【図８】本発明の実施形態（図４に示す形態）に係る発光表示装置の更に具体的な構造及び製造方法を説明する説明図である。
【図９】本発明の実施形態における色度設定を説明する説明図（ＪＩＳＺ８１１０のＣＩＥｘｙ色度図）である。
【図１０】本発明の実施形態における色度設定を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００３７】
１０    自発光素子
１１    基板
１２    下部電極
１３    上部電極
１４    絶縁膜
２０    有機層
２１，２１Ｒａ，２１Ｒｂ，２１Ｂａ，２１Ｂｂ，２１Ｃ１ａ〜２１Ｃ４ｂ  発光層
ｐ  画素
【図１】
2006004758.tif 000003
【図２】
2006004758.tif 000004
【図３】
2006004758.tif 000005
【図４】
2006004758.tif 000006
【図５】
2006004758.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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