(57)【要約】【課題】  チャンバ内に塵埃が発生しないビーム装置を提供することを課題とする。【解決手段】  一面が開放面７ａとされ、開放面７ａに向かってビームが照射される試料チャンバ（第１のチャンバ）７と、試料チャンバ７の開放面７ａを覆うように配置され、試料チャンバ７の開放面７ａより大きな形状で、開放面７ａと対向する面側に試料が載せられるステージ７０と、試料チャンバ７外に設けられ、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂと平行な平面上で、ステージ７０を移動させるステージ駆動手段２００と、ステージ７０を試料チャンバ７の開放面７ａ方向に付勢する排気手段（付勢手段）と、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂに設けられ、空気圧によりステージ７０と試料チャンバ７の端面７ｂとの間隔を一定に保持する静圧パッド（第１の静圧パッド）８とを有する。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージに載せられた試料にビームを照射して、前記試料を加工、観察のうち、少なくともいずれか一方を行うビーム装置において、
一面が開放面とされ、前記開放面に向かってビームが照射される第１のチャンバと、
該第１のチャンバの開放面を覆うように配置され、前記チャンバの開放面より大きな形状で、前記開放面と対向する面側に試料が載せられるステージと、
前記第１のチャンバ外に設けられ、前記第１のチャンバの開放面側の端面と平行な平面上で、前記ステージを移動させるステージ駆動手段と、
前記ステージを前記第１のチャンバの開放面方向に付勢する付勢手段と、
前記第１のチャンバの開放面側の端面に設けられ、空気圧により前記ステージと前記第１のチャンバの端面との間隔を一定に保持する第１の静圧パッドと、
を有することを特徴とするビーム装置。
【請求項２】
前記付勢手段は、前記第１のチャンバ内を真空とする第１の排気手段であることを特徴とする請求項１記載のビーム装置。
【請求項３】
一面が開放面とされ、該開放面が前記ステージを介して前記第１のチャンバの開放面と対向するように配置される第２のチャンバと、
前記第２のチャンバ内を真空とする第２の排気手段と、
前記第２のチャンバの開放面側の端面に設けられ、空気圧により前記ステージと前記第２のチャンバの端面との間隔を一定に保持する第２の静圧パッドと、
を設けたことを特徴とする請求項２記載のビーム装置。
【請求項４】
前記ステージ駆動手段は、
一方の端部が前記ステージに対して前記第１のチャンバの開放面側の端面に垂直な軸を中心に回転可能に取り付けられ、他方の端部が前記ステージ以外の固定部分に対して前記第１のチャンバの開放面側の端面に垂直な軸を中心に回転可能に取り付けられる第１、第２、第３の伸縮アクチュエータからなるパラレルリンク機構であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のビーム装置。
【請求項５】
前記ステージは、ハニカム構造であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のビーム装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハの走査電子顕微鏡像観察装置、電子ビームによる描画装置、Ｘ線分析装置等に関し、更に詳しくは、ステージに載せられた試料にビームを照射して、前記試料を加工、観察のうち、少なくともいずれか一方を行うビーム装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ステージに載せられた試料にビームを照射して、前記試料を加工、観察のうち、少なくともいずれか一方を行うビーム装置においては、ステージ及びステージを移動させるステージ駆動手段がチャンバ内に収納される構造のものがある。
【０００３】
一方、高真空下で試料にビームを照射するビーム装置では、観察あるいは加工する近傍のみを局所的に差動排気する構造も提案されている（例えば、特許文献１参照）。この構造の場合、ステージ、ステージ駆動手段を大気中に配置することができるので、これらを真空仕様にあつらえる必要がなく、又、ステージ駆動手段で発生する熱や、漏洩電磁波、変動磁場がビーム軌跡に与える影響の対策が前述のステージ及びステージを移動させるステージ駆動手段がチャンバ内に収納される構造より容易となる利点がある。
【特許文献１】特開昭５９−９３２４９号公報（第１図、第２図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ステージ及びステージを移動させるステージ駆動手段がチャンバ内に収納される構造のものは、可動部材がチャンバ内に存在するので、チャンバ内に塵埃が発生する問題点がある。
【０００５】
又、差動排気する構造のものは、試料の全面に対して観察・あるいは加工を行うことができず、差動排気機構が試料の端面からはみ出さない領域に観察、加工が限定されてしまう問題点がある。
【０００６】
更に、差動排気機構を用いると、試料に陽圧と負庄とがかかるために、試料に歪みを生じさせる。特に、半導体製造のパターン露光装置に用いられるマスクなどでは、マスク材料に用いられるガラス基板に歪が生じると、露光精度において問題が生じる。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、その第１の課題は、チャンバ内に塵埃が発生しないビーム装置を提供することにある。
第２の課題は、試料に歪が発生しないビーム装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に係る発明は、ステージに載せられた試料にビームを照射して、前記試料を加工、観察のうち、少なくともいずれか一方を行うビーム装置において、一面が開放面とされ、前記開放面に向かってビームが照射される第１のチャンバと、該第１のチャンバの開放面を覆うように配置され、前記チャンバの開放面より大きな形状で、前記開放面と対向する面側に試料が載せられるステージと、前記第１のチャンバ外に設けられ、前記第１のチャンバの開放面側の端面と平行な平面上で、前記ステージを移動させるステージ駆動手段と、前記ステージを前記第１のチャンバの開放面方向に付勢する付勢手段と、前記第１のチャンバの開放面側の端面に設けられ、空気圧により前記ステージと前記第１のチャンバの端面との間隔を一定に保持する第１の静圧パッドと、を有することを特徴とするビーム装置である。
【０００９】
ステージは付勢手段で第１のチャンバ方向に付勢されるが、第１の静圧パッドの空気圧により、前記ステージと前記第１のチャンバの端面との間隔が一定に保持される。
そして、ステージは、ステージ駆動手段により、第１のチャンバの開放面側の端面と平行な平面上で、移動され、試料の所望の箇所にビームが照射される。
【００１０】
請求項２に係る発明は、前記付勢手段は、前記第１のチャンバ内を真空とする第１の排気手段であることを特徴とする請求項１記載のビーム装置である。
第１の排気手段により、ステージは前記第１のチャンバの開放面方向に付勢される。
【００１１】
請求項３に係る発明は、一面が開放面とされ、該開放面が前記ステージを介して前記第１のチャンバの開放面と対向するように配置される第２のチャンバと、前記第２のチャンバ内を真空とする第２の排気手段と、前記第２のチャンバの開放面側の端面に設けられ、空気圧により前記ステージと前記第２のチャンバの端面との間隔を一定に保持する第２の静圧パッドと、を設けたことを特徴とする請求項２記載のビーム装置である。
【００１２】
ステージは第１の排気手段により第１のチャンバ方向に付勢されるが、第１の静圧パッドの空気圧により、前記ステージと前記第１のチャンバの端面との間隔が一定に保持される。
【００１３】
また、ステージは第２の排気手段により第２のチャンバ方向に付勢されるが、第２の静圧パッドの空気圧により、前記ステージと前記第１のチャンバの端面との間隔が一定に保持される。
【００１４】
請求項４に係る発明は、前記ステージ駆動手段は、一方の端部が前記ステージに対して前記第１のチャンバの開放面側の端面に垂直な軸を中心に回転可能に取り付けられ、他方の端部が前記ステージ以外の固定部分に対して前記第１のチャンバの開放面側の端面に垂直な軸を中心に回転可能に取り付けられる第１、第２、第３の伸縮アクチュエータからなるパラレルリンク機構であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のビーム装置である。
【００１５】
第１−第３の伸縮アクチュエータをそれぞれ独立して作動させることにより、ステージは、第１のチャンバの開放面側の端面と平行な平面上で移動したり、第１のチャンバの開放面側の端面と平行な平面上で回転したりする。
【００１６】
請求項５に係る発明は、前記ステージは、ハニカム構造であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のビーム装置である。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１から５に係る発明によれば、ステージ駆動手段は、第１のチャンバ外に設けられる。よって、チャンバ内に塵埃が発生しない。
請求項２に係る発明によれば、第１の排気手段によって第１のチャンバ内は真空となる。しかし、ステージ上に載せられた試料全部が、第１のチャンバ内に位置するので、試料には歪が発生しない。
【００１８】
請求項３に係る発明によれば、ステージは第１のチャンバ、第２のチャンバに挟まれる。そして、第１のチャンバ、第２のチャンバ内が真空とされることにより、ステージに大気圧による力がかからなくなり、ステージの強度を低くすることができる。
【００１９】
更に、ステージの強度を低くすることができるために、ステージの重量も軽くなり、ステージ駆動手段の負荷を小さくしたり、ステージの制御性を向上させたりすることができる。
【００２０】
請求項４に係る発明によれば、パラレルリンク機構を用いることにより、直交する２軸方向の直動ガイドや回転方向の回転ガイドが不要となる。
更に、３動作を同時に行うことができ、構造が極めて単純で、しかも軽量化を図ることができる。
【００２１】
請求項５に係る発明によれば、ステージをハニカム構造にしたことにより、ステージの軽量化を図ることができ、ステージ駆動手段の負荷を小さくしたり、ステージの制御性を向上させたりすることができる。
【００２２】
更に、ステージ内に、配線を通すこともできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
［１］第１の形態例
本発明をウエハ観察装置に適用した第１の形態例を図１−図３を用いて説明する。図１は第１の形態例のウエハ観察装置を正面から見た部分断面図、図２は図１の切断線Ａ−Ａでの断面図、図３は図１の左側面の部分断面図である。
【００２４】
これらの図において、一面が開放面７ａとされ、開放面７ａに向かってビームが照射される試料チャンバ（第１のチャンバ）７の開放面７ａを覆うようにステージ７０が配置される。
【００２５】
本形態例のステージ７０は、試料チャンバ７内に配置される静電チャック２、ステージトップ３と、試料チャンバ７の開放面７ａより大きな形状に設定された可動プレート４とで構成されている。なお、本形態例のステージトップ３と可動プレート４とは、アルミ等の軽金属でなるハニカム構造とした。
【００２６】
観察対象であるウエハ１は、静電チャック２によりステージトップ３上に固定されている。ステージトップ３上には、ウエハ１の水平面上位置（Ｘ，Ｙ）及びヨーイング角（θ）を検出する三軸のレーザー干渉計５のためのＬ型の反射鏡６が取り付けられている。ステージトップ３は、可動プレート４上に固定されている。
【００２７】
試料チャンバ７内は、差動排気機構（第１の排気手段）により内部が高真空に保持されている。試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂには、静圧パッド（第１の静圧パッド）８と差動排気機構の差動排気用溝９が全周にわたって設けられている。そして、内部が高真空に保持される試料チャンバ７に対して、静圧パッド８により数μｍ以下のクリアランスで保持されている。静圧パッド８には多孔質の素材が採用されており、図示しない圧力制御器により圧力（大気庄に対する相対圧力）を制御された空気が供給されている。真空の保持は、静圧パッド８より内側に差動排気用溝９を二重に設け、外側の溝９ａを低真空の粗引き、内側の溝９ｂを高真空になるように、図示しないそれぞれの真空ポンプによって排気することによって行われている。
【００２８】
可動プレート４の高さ方向位置は、試料チャンバ７内が真空であることによって、可動プレート４が大気圧で上方に押し付けられる力に対して、可動プレート４より上の部分の重量と、静圧パッド８に供給される空気圧による力とを加えた力をバランスさせることによって保持される。
【００２９】
この静圧パッド８のなす平面は、可動プレート４の高さ方向規制及び、可動プレート４の移動時のピッチング規制の役割をかねている。よって、可動プレート４の高さ及び移動時のピッチングを規制するためのガイドを、移動機構で別途設ける必要がない。静圧パッド８の可動プレート４と対向する面と、可動プレート４の上面の平面度とを、それぞれ高い精度で加工しておくことにより、可動プレート４の移動時のウエハ１の姿勢精度（高さ及び、ピッチングを高精度に規制することができる。
【００３０】
ところで、もし、大気圧が高くなった場合には、可動プレート４（ステージ７０）を上方に押し付ける力が大きくなるが、静圧パッド８に供給する圧力も、大気圧に対する相対圧力として制御されているため、静圧パッド８の発生する下向きの力も大きくなり、影響はほとんどの部分が相殺される。相殺されないのは、可動プレートより上のステージ重量に相当する分の力であるが、本形態例の構造においては、真空差庄による力が、ステージ重量に比較してかなり大きくなるため、影響は少なくなる。従って、大気圧変動による可動プレート４の高さ変動はほとんど生じないようになっている。
【００３１】
上記のように、可動プレート４の高さ制御は必ずしも行う必要はない。しかし、大気圧変動が生じた際に相殺しきれない分の力によって生じる可動プレート４の高さ変動が問題となる場合には、静圧パッド８と可動プレート４とのギャップを高さ検出器により測定し、静圧パッド８に供給する圧力を、コントローラにより制御することによって対策することも可能である。
【００３２】
高真空に保持された試料チャンバ７には、電子源１１より電子ビーム１２を発生、収束させ、偏向器１３によりウエハ１上を走査させる電子ビーム鏡筒１４が取り付けられている。電子ビーム１２の照射により、ウエハ１から発生した２次電子を図示しない２次電子検出器により検出し、走査電子顕微鏡像を取得できるようになっている。走査型電子頭微鏡の詳しい原理説明に関しては省略する。
【００３３】
試料チャンバ７を支持するベース部１５は大気中に設けられており、ベース部１５の下面はベース部１５の四隅に設けられた防振器１６を介して架台１７に接続されている。そして、架台１７は床面１８に設置されている。防振器１６は床面１８の振動を絶縁し、走査電子顕微鏡像取得時に振動の影響を少なくする目的で設けられているものである。
【００３４】
次に、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂと平行な平面上で、ステージ７０を移動させるステージ駆動手段２００の説明を行う。本形態例のステージ駆動手段２００は、試料チャンバ７の外側、更に詳しくは、ステージ７０の下側に設けられる。ステージ駆動手段２００は、第１−第３の伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃを用いたパラレルリンク機構である。
【００３５】
本形態例では、第１−第３の伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃは、構造が同じで、取り付け構造も同じであるので、第３の伸縮アクチュエータ１９ｃで説明を行い、第１、第２の伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂの説明は省略する。
【００３６】
第３の伸縮アクチュエータ１９ｃの一方の端部は、可動プレート４の下面に設けられ、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂに垂直な軸５１を中心に回転可能に取り付けられている。また、第３の伸縮アクチュエータ１９ｃの他方の端部は、ステージ７０以外の固定部分であるベース部１５に設けられ、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂに垂直な軸５２を中心に回転可能に取り付けられている。
【００３７】
第３の伸縮アクチュエータ１９ｃとしては、たとえば、図４に示すような、シャフト型の電磁リニアモータ２１のコイル部２２の両端に空気静圧軸受け２３を設けた機構がある。空気静圧軸受け部２３には、図示しない圧力源より、適切な圧力の空気が供給されている。静圧軸受けを設けたシャフト型のリニアモータに関しては、特開２００４−２５４４１４号公報に提案されている。本発明においては、特開２００４−２５４４１４号公報に提案されているものと異なり、リニアモータのコイル部２２、静圧軸受け２３、スリーブ部２６を一体化したコイル側と、磁石２４が内蔵されているシャフト２５側との両方とも可動としている。そして、端部に前述した軸５１，５２が回転可能に嵌合する回転軸受け部２０を設けている。回転軸受け部２０には、通常転がり軸受けを用いれば十分であるが、転がり摩擦による位置決め精度悪化が懸念される場合には、静圧軸受けを利用する方法が有効である。
【００３８】
なお、伸縮アクチュエータとしては、本形態例のリニアモータに限らず、流量制御された空庄や油圧シリンダ、ボールねじと回転モータの組み合わせによる直動機構、直動型超音波リニアモータなどがあり、限定するものではない。
【００３９】
また、ステージ駆動手段２００として、３つの伸縮アクチュエータによるパラレルリンク機情に限らず、平面モータ用として用いられている電磁リニアモータによるＸＹ駆動用のアクチュエータ等を用いても構わない。
【００４０】
ステージ７０の位置は、ＸＹ方向に設けられたレーザー干渉計５によって行われ、Ｘ，Ｙ座標及びステージ回転角（θ）の３自由度を測定できるようになっている。ステージ位置（Ｘ，Ｙ，θ）の３自由度に対して、３つの伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃの伸縮量はそれぞれ一意的に決定することができるため、ステージ位置決め指令に応じて各伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃの伸縮量を決定し、伸縮量の制御を行うことによって、ステージ７０の所望の位置、速度を制御することができる。
【００４１】
図５に、本形態例の制御ブロック図を示す。３１はステージ７０の位置、角度の目標値（Ｘ，Ｙ，θ）を生成するするコマンドジェネレータ、３０は目標値（Ｘ，Ｙ，θ）とレーザー干渉計５によるステージ７０の位置、角度計測値（Ｘ’，Ｙ’，θ’）との比較を行う比較部、３２は比較部３０で求められた偏差に応じて第１−第３の伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃの伸縮量を計算する計算部、３３ａ，３３ｂ，３３ｃは伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃを駆動するドライバである。
【００４２】
次に、上記構成の作動を説明する。
計算部３２は、比較部３０で行われたコマンドジェネレータ３１から与えられたステージ７０の位置、角度目標値（Ｘ，Ｙ，θ）と、レーザー干渉計５によるステージ７０の位置、角度計測値（Ｘ’，Ｙ’，θ’）との偏差に応じて、第１−第３の伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃの伸縮量を計算し、ドライバ３３ａ，３３ｂ，３３ｃを介して第１−第３の伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃを駆動する。
【００４３】
第１−第３の伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃが伸縮することにより、ステージ７０は、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂと平行な平面上で移動したり、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂと平行な平面上で回転したりする。
【００４４】
このような構成によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）ステージ駆動手段２００は、試料チャンバ７外に設けられる。よって、試料チャンバ７内に塵埃が発生しない。
（２）差動排気機構によって試料チャンバ７内は真空となる。しかし、ステージ７０上に載せられたウエハ１全部が、試料チャンバ７内に位置するので、ウエハ１には歪が発生しない。
（３）ステージ駆動手段２００として、パラレルリンク機構を用いることにより、直交する２軸方向の直動ガイドや回転方向の回転ガイドが不要となる。
【００４５】
更に、３動作を同時に行うことができ、構造が極めて単純で、しかも軽量化を図ることができる。
（４）ステージ７０のステージトップ３と可動プレート４とは、アルミ等の軽金属でなるハニカム構造としたことにより、ステージ７０の軽量化を図ることができ、ステージ駆動手段２００の負荷を小さくしたり、ステージ７０の制御性を向上させたりすることができる。
【００４６】
更に、ハニカム構造なので、ステージ７０内に静電チャック２用の配線を容易に通すこともできる。
これにより、ステージ７０に対して配線を固定できるため、例えば、試料チャンバ７からステージトップ３まで配線した場合に生じるステージ駆動の伴う配線の屈曲、接触を防ぐことができ、塵埃を生じない。
（５）ステージ７０の可動プレート４は、差動排気機構と静圧パッド８により非接触に保持されているため、摺動抵抗による位置決め精度の悪化がなく、精密に位置決めを行うことができる。
【００４７】
又、接触式のガイドを用いた場合と異なり、塵埃が発生しない。
（６）静圧パッド８の可動プレート４と対向する面が、可動プレート４に対する平面状のガイドをかねているため、ステージ駆動手段２００側に別途ガイドを設ける必要がなく、ウエハ１を高い姿勢精度に保った状態で移動させることができる。
［２］第２の形態例
図６を用いて説明する。図６は第２の形態例のウエハ観察装置を正面から見た部分断面図である。本形態例と第１の形態例との相違点は、電子ビーム鏡筒、試料チャンバ、ステージ、ステージ駆動手段の上下方向の配置である。第１の形態例では、上から電子ビーム鏡筒、試料チャンバ、ステージ、ステージ駆動手段の順で配置したが、本形態例では、上からステージ駆動手段、ステージ、試料チャンバ、鏡筒の順に配置した。従って、第２の形態例を説明する図６において、第１の形態例を説明する図１−図５と同一部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００４８】
ステージ駆動手段２００において、伸縮アクチュエータ１９のベース部１５側の取り付けのためにアクチュエータ支持部４１を設けている。
このような構成によれば、第１の形態例の効果に加えて以下のような効果を得ることができる。
（１）第１の形態例では、ベース部１５は、ステージ７０と干渉しないように、水平方向に張り出した形状となる。従って、架台１７も水平方向に張り出した形状となり、装置の設置面積が広くなる。
【００４９】
一方、本形態例では、ベース部１５とステージ７０との干渉はないので、ベース部１５、架台１７の水平方向の張り出しは最小限とすることができ、装置の設置面積も狭くてすむ。
［３］第３の形態例
本発明をウエハ観察装置に適用した第３の形態例を図７−図９を用いて説明する。図７は第３の形態例のウエハ観察装置を正面から見た部分断面図、図８は図７の切断線Ｂ−Ｂでの断面図、図９は図７の左側面の部分断面図である。
【００５０】
本形態例と第１の形態例との大きな相違点は、ボトムチャンバの有無である。従って、第３の形態例を説明する図７−図９において、第１の形態例を説明する図１−図５と同一部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する
一面が開放面１０１ａとされ、開放面１０１ａがステージ７０を介して試料チャンバ（第１のチャンバ）７の開放面７ａと対向するようにボトムチャンバ（第２のチャンバ）１０１が配置される。このボトムチャンバ１０１内は、排気機構（第２の排気手段）により内部が高真空に保持されている。尚、本形態例ではボトムチャンバ１０１内の真空度は、試料チャンバ７内の真空度より低くなるように設定した。ボトムチャンバ１０１の開放面１０１ａ側の端面１０１ｂには、静圧パッド（第２の静圧パッド）１０５が全周にわたって設けられている。そして、内部が高真空に保持されるボトムチャンバ１０１に対して、静圧パッド８により数μｍ以下のクリアランスで保持されている。静圧パッド８には多孔質の素材が採用されており、図示しない圧力制御器により圧力（大気庄に対する相対圧力）を制御された空気が供給されている。
【００５１】
ボトムチャンバ５１は、その下に設けられたボトムプレート１０２に、高さが調整可能な固定機構を介して設けられ、ボトムプレート１０２は防振器１６を介して架台１７に設けられている。
【００５２】
試料チャンバ７を保持するベース部１５は、ボトムプレート１０３上の四隅に配置される４つのスペーサ１０３を介してボトムプレート１０２上に設けられている。
ステージ７０を駆動するステージ駆動手段２００の伸縮アクチュエータ１９（第１−第３の伸縮アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃ）の一方の端部は、ベース部１５に設けられたアクチュエータ支持部９１に回転可能に取り付けられている。
【００５３】
このような構成によれば、第１の形態例の効果に加えて以下のような効果を得ることができる。
（１）ステージ７０は試料チャンバ７、ボトムチャンバ１０１に挟まれる。そして、試料チャンバ７、ボトムチャンバ１０１内が真空とされることにより、ステージ７０に大気圧による力がかからなくなり、ステージ７０の強度を低くすることができる。
（２）ステージ７０の強度を低くすることができるために、ステージ７０の重量も軽くなり、ステージ駆動手段２００の負荷を小さくしたり、ステージ７０の制御性を向上させたりすることができる。
（３）試料チャンバ７側の静圧パッド８、ボトムチャンバ１０１側の静圧パッド１０５にかける圧力は、大気圧とのバランスをとる必要がないために、第１の形態例より高い圧力をかけることが可能となり、ガイドとしての剛性をより高くすることも可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】第１の形態例のウエハ観察装置を正面から見た部分断面図である。
【図２】図１の切断線Ａ−Ａでの断面図である。
【図３】図１の左側面の部分断面図である
【図４】図１の伸縮アクチュエータの断面図である。
【図５】第１の形態例のウエハ観察装置の制御ブロック図である。
【図６】第２の形態例のウエハ観察装置を正面から見た部分断面図である。
【図７】第３の形態例のウエハ観察装置を正面から見た部分断面図である。
【図８】図７の切断線Ｂ−Ｂでの断面図である。
【図９】図７の左側面の部分断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
７  試料チャンバ（第１のチャンバ）
７ａ  開放面
７ｂ  端面
８  静圧パッド（第１の静圧パッド）
７０  ステージ
２００  ステージ駆動手段
【図１】
2006244720.tif 000003
【図２】
2006244720.tif 000004
【図３】
2006244720.tif 000005
【図４】
2006244720.tif 000006
【図５】
2006244720.tif 000007
【図６】
2006244720.tif 000008
【図７】
2006244720.tif 000009
【図８】
2006244720.tif 000010
【図９】
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