(57)【要約】【課題】  エッジライト方式の面光源装置において、一次光源から到来し光入射端面に入射して導光体内へと導入される光が遮られることがなく、全体の輝度低下や本来導光すべき光の遮蔽による暗線の発生を引き起こしたりすることなく、長期にわたり光入射端面の近傍における輝線の発生を防止し局所的に急激な輝度変化の発生を防止する。【解決手段】  導光体３の裏面３４には、光入射端面３１と略直交する方向に延び且つ互いに平行に配列された複数のプリズム列３４ａが形成されている。裏面３４には、光入射端面３１に沿って延びた幅５０μｍ〜１０００μｍの光吸収帯３６が形成されており、光吸収帯３６の光入射端面３１に近い側縁は光入射端面からの距離が３００μｍ以下である。裏面３４には、光入射端面３１に沿って延びた略平坦面領域が形成されており、光吸収帯３６はこの略平坦面領域に位置している。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次光源から発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面及び該光出射面の反対側の裏面を有する導光体であって、
前記裏面に前記光入射端面に沿って延びた幅５０μｍ〜１０００μｍの光吸収帯が形成されており、該光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面からの距離が３００μｍ以下であることを特徴とする面光源装置用導光体。
【請求項２】
前記裏面と前記光入射端面との境界を形成するエッジ部分は前記裏面の他の領域に対して隆起した突出部として前記光入射端面に沿って形成されており、前記突出部の高さ半値全幅が１〜５０μｍであることを特徴とする、請求項１に記載の面光源装置用導光体。
【請求項３】
前記裏面には前記光入射端面と略直交する方向に延び且つ互いに平行に配列された複数のプリズム列を備えたプリズム列形成面領域が形成されており、前記裏面には前記光入射端面に沿って延びた略平坦面領域が形成されており、前記光吸収帯の少なくとも一部は前記略平坦面領域の少なくとも一部に位置していることを特徴とする、請求項１〜２のいずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項４】
前記光吸収帯は前記光入射端面に近い側縁より遠い側縁の方が可視光線透過率が高くなるように形成されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項５】
前記光吸収帯の幅は５０μｍ〜８００μｍであり、前記裏面には前記光吸収帯より前記光入射端面から遠い位置において前記光入射端面に沿って延びた第２光吸収帯が形成されており、該第２光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面から５００μｍ〜３０００μｍ離れて位置していることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項６】
前記第２光吸収帯の可視光線透過率は前記光吸収帯の可視光線透過率より高いことを特徴とする、請求項５に記載の面光源装置用導光体。
【請求項７】
一次光源から発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面及び該光出射面の反対側の裏面を有する導光体であって、
前記光出射面または裏面には前記光入射端面と略直交する方向に延び且つ互いに平行に配列された複数のプリズム列を備えたプリズム列形成面領域が形成されており、該プリズム列形成面領域が形成された前記光出射面または裏面には前記光入射端面に沿って延びた略平坦面領域が形成されており、該略平坦面領域の少なくとも一部に前記光入射端面に沿って延びた幅５０μｍ〜１０００μｍの光吸収帯が形成されていることを特徴とする面光源装置用導光体。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の面光源装置用導光体を製造する方法であって、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って前記光入射端面を形成し、しかる後に前記光吸収帯を形成することを特徴とする、面光源装置用導光体の製造方法。
【請求項９】
インクジェット法により多数のノズルからインクを吐出させることで、導光体の裏面の少なくとも光入射端面に近接する領域に互いに独立し又は部分的に連続したインクドットを形成し、次いで該インクドットをレベリングさせ隣接するもの同士を結合させることで、前記領域の全体にわたって連続したインク層となし、しかる後に該インク層を硬化させることにより前記光吸収帯を形成することを特徴とする、請求項８に記載の面光源装置用導光体の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれかに記載の面光源装置用導光体と、該導光体の前記光入射端面に隣接して配置された前記一次光源と、前記導光体の光出射面に隣接して配置された光偏向素子とを備えており、該光偏向素子は、前記導光体の光出射面に対向して位置する入光面とその反対側の出光面とを有しており、前記光偏向素子の入光面に、前記導光体の光入射端面と略平行の方向に延び且つ互いに平行な複数のプリズム列を備えていることを特徴とする面光源装置。
【請求項１１】
前記光偏向素子の出光面に隣接して光拡散素子が配置されており、該光拡散素子は前記導光体の光入射端面から少なくとも２ｍｍの位置から４ｍｍの位置までを含む幅の領域に光吸収ドットパターンを形成したドットパターン部を備えており、該ドットパターン部は直径３０μｍ〜７０μｍのドット状の光吸収性塗材を分散配置してなることを特徴とする、請求項１０に記載の面光源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッジライト方式の面光源装置及びそれに用いる導光体に関するものであり、特に、一次光源に対向する導光体光入射端面の近傍にて該光入射端面に沿って筋状の輝線及び／または暗線として観察される輝度分布の不均一の低減を企図した面光源装置及び特にそれに用いる導光体及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
本発明の面光源装置は、例えば液晶表示装置のバックライトに好適に適用される。
【背景技術】
【０００３】
近年、液晶表示装置は、携帯用ノートパソコン等のモニターとして、あるいは液晶テレビやビデオ一体型液晶テレビ等の表示部として、更にはその他の種々の分野で広く使用されてきている。液晶表示装置は、基本的にバックライト部と液晶表示素子部とから構成されている。バックライト部としては、液晶表示装置のコンパクト化の観点からエッジライト方式のものが多用されている。従来、エッジライト方式のバックライトとしては、矩形板状の導光体の少なくとも１つの端面を光入射端面として用いて、該光入射端面に沿って直管型蛍光ランプなどの線状または棒状の一次光源を配置し、該一次光源から発せられた光を導光体の光入射端面から導光体内部へと導入し、該導光体の２つの主面のうちの一方である光出射面から出射させるものが広く利用されている。
【０００４】
このようなバックライトでは、一次光源から発せられ導光体を経て出射する光の伝搬形態に起因して、発光面の輝度分布に不均一が生ずる（輝度均斉度が低下する）ことがある。この輝度均斉度低下の１つの形態として、一次光源に近接する領域の輝度がその他の領域より高くなることが挙げられる。
【０００５】
このような輝度均斉度低下を防止するための手法として、例えば実公昭４０−２６０８３号公報（特許文献１）、実開昭６０−６０７８８号公報（特許文献２）及び実開昭６２−１５４４２２号公報（特許文献３）には、導光体の光出射面の一次光源に近い位置に光吸収性を有する膜或いは光透過抑制のための光線調整膜を配置することが開示されている。この手法は、一次光源に近い領域において導光体光出射面から出射する光の強度が一次光源から遠い領域において出射する光の強度より大きいことへの対処として、単に一次光源との距離の小さい光出射面領域からの光出射を制限しようとするものである。
【０００６】
ところで、近年、導光体の薄型化（例えば２〜３ｍｍ程度）が進むにつれて、上記輝度均斉度の低下の特殊な形態として、導光体の光入射端面に近接した（例えば２〜４ｍｍ程度）光出射面位置に対応して光入射端面と平行に周囲より明るい筋状の明部（輝線）が観察されることがある。この輝線による局所的に急激な輝度変化（即ち、輝度分布における小さな位置変化に対応して大きな輝度変化があること）の防止に、上記特許文献１〜３のような手法を採用すると、形成される光吸収膜等の幅が広いため、輝線のみならずその周囲全体の輝度が低下したり、暗線が発生しやすくなるという問題が生ずる。
【０００７】
一方、このような輝線による局所的に急激な輝度変化を防止するための手法として、特開平９−１９７４０４号公報（特許文献４）には、導光体の光入射端面の光出射面及びその反対側の面との境界をなすエッジにインクなどの遮光部材を付することが提案されている。
【０００８】
また、以上のような輝線の発生による局所的に急激な輝度変化に伴って、隣接輝線間に、光入射端面と平行に周囲より暗い筋状の暗部（暗線）が観察されることがある。特開平８−２２７０７４号公報（特許文献５）には、このような暗線の発生を防止するたの手法として、光入射端面から遠ざかるにしたがって光吸収率が徐々に低下する光吸収パターンを有する光吸収層を形成することが開示されている。
【特許文献１】実公昭４０−２６０８３号公報
【特許文献２】実開昭６０−６０７８８号公報
【特許文献３】実開昭６２−１５４４２２号公報
【特許文献４】特開平９−１９７４０４号公報
【特許文献５】特開平８−２２７０７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記特許文献４の手法は、導光体光入射端面のエッジに遮光性部材を付するものであり、該遮光性部材の一部は光入射端面にもかかるので、該光入射端面から入射する光の一部が遮られることになり、その分だけ一次光源から導光体へ入射する光量が減少し、全体の輝度が低下し易いとともに、エッジ近傍から入射する光のうち遮光性部材がなければ導光する光も遮光されるため、表示エリアに暗線が発生し易くなるという問題点を有している。
【００１０】
また、この手法は、非常に幅の狭い遮光性部材を形成するため、輝線の発生を抑止する効果も十分とはいえないものであった。また、この手法は、エッジに遮光性部材を付与するという実際には非常に実現の困難なものであり、所望の位置に遮光性部材を形成することも困難であると共にエッジに付着した遮光性部材は脱落し易い等の問題がある。
【００１１】
さらに、上記特許文献５の手法では、光吸収パターンとしてドット状パターン等のパターンを採用しているが、この場合、部分的に光を吸収しない領域が存在し、この領域での遮光が不十分となるので、輝線が観察されてしまうなどの問題がある。
【００１２】
エッジライト方式のバックライトでは、一次光源から発せられた光を効率よく導光体内部へと導入するために、光源リフレクタが使用される。光源リフレクタは、一次光源の導光体光入射端面と対向する部分を除く部分に隣接して配置される反射部材であり、具体的にはシート状またはフィルム状のものが使用される。
【００１３】
光源リフレクタには、その反射特性において拡散反射傾向の強いものと正反射傾向の強いものとがある。拡散反射傾向の強い光源リフレクタは、正反射傾向の強いものに較べ、反射率が低く光源リフレクタ内部での多重反射が多く、導光体への光入射効率が若干低下する傾向にある。これに対し、正反射は、拡散性を有する光の反射成分が少なく、鏡面反射による指向性の高い反射成分を多く含む反射形態である。従って、正反射傾向の強い光源リフレクタは、拡散反射傾向の強いものに較べ、反射率が高く、導光体への光入射効率が高くなるため、バックライトの輝度を高める（数％〜１５％程度）ことが出来るという利点がある。正反射傾向の強い光源リフレクタとしては、例えば、ステンレス製リフレクタ、銀コーティングリフレクタ、アルミニウム製リフレクタ、増反射アルミニウム（多層膜）リフレクタなどがある。
【００１４】
ところで、正反射傾向の強い光源リフレクタを使用した場合には、拡散反射傾向の強い光源リフレクタを使用した場合より、上記の導光体光入射端面の近傍の輝線が特に強く現れることが分かった。従って、この場合には、バックライトの品位を損うことのないように、輝線を発生させる局所的に急激な輝度変化の防止を図ることが特に望ましい。
【００１５】
本発明の目的は、以上のような技術的課題を解決することにあり、一次光源から到来し光入射端面に入射して導光体内へと導入される光が遮られることがなく、全体の輝度を低下させたり本来導光すべき光を遮蔽することによる暗線の発生を引き起こしたりすることなしに、長期にわたって光入射端面の近傍における輝線の発生を防止し局所的に急激な輝度変化の発生を防止することにある。本発明は、とりわけ、エッジライト方式の面光源装置において一次光源と組み合わせて正反射傾向の強い光源リフレクタを用いた場合においても、上記目的を達成することに重きを置くものである。
【００１６】
また、本発明の他の目的は、以上のような技術的課題を解決し得る面光源装置用導光体の製造に有利な方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明によれば、上記の技術的課題を解決するものとして、
一次光源から発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面及び該光出射面の反対側の裏面を有する導光体であって、
前記裏面に前記光入射端面に沿って延びた幅５０μｍ〜１０００μｍの光吸収帯が形成されており、該光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面からの距離が３００μｍ以下であることを特徴とする面光源装置用導光体、
が提供される。
【００１８】
本発明の一態様においては、前記裏面と前記光入射端面との境界を形成するエッジ部分は前記裏面の他の領域に対して隆起した突出部として前記光入射端面に沿って形成されており、前記突出部の高さ半値全幅が１〜５０μｍである。本発明の一態様においては、前記裏面には前記光入射端面と略直交する方向に延び且つ互いに平行に配列された複数のプリズム列を備えたプリズム列形成面領域が形成されており、前記裏面には前記光入射端面に沿って延びた略平坦面領域が形成されており、前記光吸収帯の少なくとも一部は前記略平坦面領域の少なくとも一部に位置している。本発明の一態様においては、前記光吸収帯は前記光入射端面に近い側縁より遠い側縁の方が可視光線透過率が高くなるように形成されている。本発明の一態様においては、前記光吸収帯の幅は５０μｍ〜８００μｍであり、前記裏面には前記光吸収帯より前記光入射端面から遠い位置において前記光入射端面に沿って延びた第２光吸収帯が形成されており、該第２光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面から５００μｍ〜３０００μｍ離れて位置している。本発明の一態様においては、前記第２光吸収帯の可視光線透過率は前記光吸収帯の可視光線透過率より高い。
【００１９】
また、本発明によれば、上記の技術的課題を解決するものとして、
一次光源から発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面及び該光出射面の反対側の裏面を有する導光体であって、
前記光出射面または裏面には前記光入射端面と略直交する方向に延び且つ互いに平行に配列された複数のプリズム列を備えたプリズム列形成面領域が形成されており、該プリズム列形成面領域が形成された前記光出射面または裏面には前記光入射端面に沿って延びた略平坦面領域が形成されており、該略平坦面領域の少なくとも一部に前記光入射端面に沿って延びた幅５０μｍ〜１０００μｍの光吸収帯が形成されていることを特徴とする面光源装置用導光体、
が提供される。
【００２０】
また、本発明によれば、上記の技術的課題を解決するものとして、上記の面光源装置用導光体を製造する方法であって、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って前記光入射端面を形成し、しかる後に前記光吸収帯を形成することを特徴とする、面光源装置用導光体の製造方法、が提供される。
【００２１】
本発明の一態様においては、インクジェット法により多数のノズルからインクを吐出させることで、導光体の裏面の少なくとも光入射端面に近接する領域に互いに独立し又は部分的に連続したインクドットを形成し、次いで該インクドットをレベリングさせ隣接するもの同士を結合させることで、前記領域の全体にわたって連続したインク層となし、しかる後に該インク層を硬化させることにより前記光吸収帯を形成する。
【００２２】
また、本発明によれば、上記の技術的課題を解決するものとして、
上記の面光源装置用導光体と、該導光体の前記光入射端面に隣接して配置された前記一次光源と、前記導光体の光出射面に隣接して配置された光偏向素子とを備えており、該光偏向素子は、前記導光体の光出射面に対向して位置する入光面とその反対側の出光面とを有しており、前記光偏向素子の入光面に、前記導光体の光入射端面と略平行の方向に延び且つ互いに平行な複数のプリズム列を備えていることを特徴とする面光源装置、
が提供される。
【００２３】
本発明の一態様においては、前記光偏向素子の出光面に隣接して光拡散素子が配置されており、該光拡散素子は前記導光体の光入射端面から少なくとも２ｍｍの位置から４ｍｍの位置までを含む幅の領域に光吸収ドットパターンを形成したドットパターン部を備えており、該ドットパターン部は直径３０μｍ〜７０μｍのドット状の光吸収性塗材を分散配置してなる。
【発明の効果】
【００２４】
以上のような本発明によれば、導光体の裏面に、光入射端面に近接する位置にて該光入射端面に沿って延びた細い特定幅の光吸収帯を形成したことで、一次光源から到来し光入射端面から入射する光が遮られることはなく、一次光源から導光体へ入射する光量の減少がなく即ち全体の輝度を低下させたり本来導光すべき光を遮蔽することによる暗線の発生を引き起こしたりすることなしに、光入射端面の近傍における輝線の発生を防止することができる。
【００２５】
また、本発明によれば、光吸収帯を導光体の裏面に形成するので、その作製は容易であり、更に、形成された光吸収帯は容易には脱落せず長期にわたって良好に上記輝線発生防止及び局所的に急激な輝度変化の発生の防止の効果を発揮することが可能である。
【００２６】
また、本発明によれば、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って光入射端面を形成することで、裏面と光入射端面との境界を形成するエッジ部分を裏面の他の領域に対して隆起した突出部として光入射端面に沿って形成することができ、しかる後に光吸収帯を形成する際に光吸収帯の光入射端面に近い側縁の光入射端面からの距離を容易に０μｍとすることができる。
【００２７】
更に、本発明によれば、インクジェット法により導光体の光出射面にインクドットを形成し、次いでインクドットをレベリングさせ擬似的にインクドットの寸法を大きくして、インク未塗着部分をインクにより埋めて連続したインク層となし、しかる後にインク層を硬化させることにより光吸収帯を形成するので、インクの粘性の程度に応じて所要のレベリング時間を設定することによりインク層におけるインクドットの結合状態を制御して、容易に光吸収帯の表面状態を制御することができ、更に光吸収帯の光入射端面に近い側縁の光入射端面からの距離を容易に０μｍとすることができる。
【００２８】
更に、本発明によれば、導光体の裏面に、光吸収帯から所定距離離れた位置に第２光吸収帯を形成することで、一次光源と組み合わせて正反射傾向の強い光源リフレクタを用いた場合においても、良好に光入射端面の近傍における輝線の発生を防止することができ、局所的に急激な輝度変化の発生を効果的に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。
【００３０】
図１は、本発明による面光源装置の一つの実施形態を示す模式的斜視図であり、図１９及び図２０はその導光体の部分斜視図及び部分底面図である。
【００３１】
図１に示されているように、本実施形態の面光源装置は、少なくとも一つの側端面を光入射端面３１とし、これと略直交する一つの表面を光出射面３３とする導光体３と、この導光体３の光入射端面３１に対向して配置され光源リフレクタ２で覆われた線状の一次光源１と、導光体３の光出射面上に配置された光偏向素子４と、光偏向素子４の出光面４２上にこれと対向して配置された光拡散素子６と、導光体３の光出射面３３とは反対側の裏面３４に対向して配置された光反射素子５とから構成される。
【００３２】
導光体３は、ＸＹ面と平行に配置されており、全体として矩形板状をなしている。導光体３は４つの側端面を有しており、そのうちＹＺ面と平行な１対の側端面のうちの少なくとも一つの側端面を光入射端面３１とする。光入射端面３１は一次光源１と対向して配置されており、一次光源１から発せられた光は光入射端面３１から導光体３内へと入射する。本発明においては、例えば、光入射端面３１とは反対側の側端面３２等の他の側端面にも光源を対向配置してもよい。
【００３３】
導光体３の光入射端面３１に略直交した２つの主面は、それぞれＸＹ面と略平行に位置しており、いずれか一方の面（図では上面）が光出射面３３となる。この光出射面３３またはその裏面３４のうちの少なくとも一方の面に粗面からなる指向性光出射機構や、プリズム列、レンチキュラーレンズ列、Ｖ字状溝等の多数のレンズ列を光入射端面３１と略平行に並列形成したレンズ面からなる指向性光出射機構等を付与することによって、光入射端面３１から入射した光を導光体３中を導光させながら光出射面３３から光入射端面３１および光出射面３３に直交する面（ＸＺ面）内において指向性のある光を出射させる。このＸＺ面内分布における出射光光度分布のピークの方向（ピーク光）が光出射面３３となす角度をαとする。該角度αは例えば１０〜４０度であり、出射光光度分布の半値全幅は例えば１０〜４０度である。
【００３４】
導光体３の表面に形成する粗面やレンズ列は、ＩＳＯ４２８７／１−１９８４による平均傾斜角θａが０．５〜１５度の範囲のものとすることが、光出射面３３内での輝度の均斉度を図る点から好ましい。平均傾斜角θａは、さらに好ましくは１〜１２度の範囲であり、より好ましくは１．５〜１１度の範囲である。この平均傾斜角θａは、導光体３の厚さ（ｔ）と入射光が伝搬する方向の長さ（Ｌ）との比（Ｌ／ｔ）によって最適範囲が設定されることが好ましい。すなわち、導光体３としてＬ／ｔが２０〜２００程度のものを使用する場合は、平均傾斜角θａを０．５〜７．５度とすることが好ましく、さらに好ましくは１〜５度の範囲であり、より好ましくは１．５〜４度の範囲である。また、導光体３としてＬ／ｔが２０以下程度のものを使用する場合は、平均傾斜角θａを７〜１２度とすることが好ましく、さらに好ましくは８〜１１度の範囲である。
【００３５】
導光体３に形成される粗面の平均傾斜角θａは、ＩＳＯ４２８７／１−１９８４に従って、触針式表面粗さ計を用いて粗面形状を測定し、測定方向の座標をｘとして、得られた傾斜関数ｆ（ｘ）から次の式（１）および式（２）
Δａ＝（１／Ｌ）∫０Ｌ｜（ｄ／ｄｘ）ｆ（ｘ）｜ｄｘ  ・・・  （１）
θａ＝ｔａｎ−１（Δａ）  ・・・  （２）
を用いて求めることができる。ここで、Ｌは測定長さであり、Δａは平均傾斜角θａの正接である。
【００３６】
さらに、導光体３としては、その光出射率が０．５〜５％の範囲にあるものが好ましく、より好ましくは１〜３％の範囲である。これは、光出射率が０．５％より小さくなると導光体３から出射する光量が少なくなり十分な輝度が得られなくなる傾向にあり、光出射率が５％より大きくなると一次光源１の近傍で多量の光が出射して、光出射面３３内でのＸ方向における出射光の減衰が著しくなり、光出射面３３での輝度の均斉度が低下する傾向にあるためである。このように導光体３の光出射率を０．５〜５％とすることにより、光出射面から出射する光の出射光光度分布（ＸＺ面内）におけるピーク光の角度が光出射面の法線に対し５０〜８０度の範囲にあり、光入射端面と光出射面との双方に垂直なＸＺ面における出射光光度分布（ＸＺ面内）の半値全幅が１０〜４０度であるような指向性の高い出射特性の光を導光体３から出射させることができ、その出射方向を光偏向素子４で効率的に偏向させることができ、高い輝度を有する面光源装置を提供することができる。
【００３７】
本発明において、導光体３からの光出射率は次のように定義される。光出射面３３の光入射端面３１側の端縁での出射光の光強度（Ｉ０）と光入射端面３１側の端縁から距離Ｌの位置での出射光強度（Ｉ）との関係は、導光体３の厚さ（Ｚ方向寸法）をｔとすると、次の式（３）
Ｉ＝Ｉ０（α／１００）［１−（α／１００））］Ｌ／ｔ  ・・・  （３）
のような関係を満足する。ここで、定数αが光出射率であり、光出射面３３における光入射端面３１と直交するＸ方向での単位長さ（導光体厚さｔに相当する長さ）当たりの導光体３から光が出射する割合（百分率：％）である。この光出射率αは、縦軸に光出射面２３からの出射光の光強度の対数をとり、横軸に（Ｌ／ｔ）をとり、これらの関係をプロットすることで、その勾配から求めることができる。
【００３８】
また、指向性光出射機構が付与されていない他の主面には、導光体３からの出射光の一次光源１と平行な面（ＹＺ面）での指向性を制御するために、光入射端面３１に対して略垂直の方向（Ｘ方向）に延びる多数のレンズ列を配列したレンズ面を形成することが好ましい。図１に示した実施形態においては、光出射面３３に粗面を形成し、裏面３４に光入射端面３１に対して略垂直方向（Ｘ方向）に延びる多数のレンズ列の配列からなるレンズ面を形成している。本発明においては、図１に示した形態とは逆に、光出射面３３にレンズ面を形成し、裏面３４を粗面とするものであってもよい。
【００３９】
図１に示したように、導光体３の裏面３４あるいは光出射面３３にレンズ列を形成する場合、そのレンズ列としては略Ｘ方向に延びたプリズム列、レンチキュラーレンズ列、Ｖ字状溝等が挙げられるが、ＹＺ断面の形状が略三角形状のプリズム列とすることが好ましい。
【００４０】
本発明において、導光体３の裏面３４にレンズ列としてプリズム列を形成する場合には、その頂角を８５〜１１０度の範囲とすることが好ましい。これは、頂角をこの範囲とすることによって導光体３からの出射光を適度に集光させることができ、面光源装置としての輝度の向上を図ることができるためであり、より好ましくは９０〜１００度の範囲である。
【００４１】
本発明の導光体においては、所望のプリズム列形状を精確に作製し、安定した光学性能を得るとともに、組立作業時や光源装置としての使用時におけるプリズム頂部の摩耗や変形を抑止する目的で、プリズム列の頂部に平坦部あるいは曲面部を形成してもよい。
【００４２】
なお、本発明では、上記のような光出射面３３またはその裏面３４に光出射機構を形成する代わりにあるいはこれと併用して、導光体内部に光拡散性微粒子を混入分散することで指向性光出射機構を付与してもよい。
【００４３】
光入射端面３１は、ＸＹ面内及び／又はＸＺ面内での光の広がりを調節するために、粗面化することが好ましい。粗面の形成方法としては、フライス工具等で切削する方法、砥石、サンドペーパー、バフ等で研磨する方法、ブラスト加工、放電加工、電解研磨、化学研磨等による方法が挙げられる。ブラスト加工に使用されるブラスト粒子としては、ガラスビーズのような球形のもの、アルミナビーズのような多角形状のものが挙げられるが、多角形状のものを使用する方が光を広げる効果の大きな粗面を形成できることから好ましい。切削加工や研磨加工の加工方向を調整することにより、異方性の粗面を形成することもできる。ＸＹ面内での光の広がりの調節のためにはＺ方向の加工方向を採用してＺ方向の筋状凹凸形状を形成することができ、ＸＺ面内での光の広がりの調節のためにはＹ方向の加工方向を採用してＹ方向の筋状凹凸形状を形成することができる。この粗面加工は、導光体の光入射端面に直接施すこともできるが、金型の光入射端面に相当する部分を加工して、これを成形時に転写することもできる。
【００４４】
光入射端面３１の粗面化の程度は、導光体厚さ方向で、平均傾斜角θａが１〜５度、中心線平均粗さＲａが０．０５〜０．５μｍ、十点平均粗さＲｚが０．５〜３μｍであることが好ましい。これは、光入射端面３１の粗面化の度合いをこの範囲とすることによって、明帯あるいは暗帯の発生を抑止できるとともに、輝線・暗線をぼかし見え難くすることができるためである。平均傾斜角θａは、更に好ましくは２〜４．５度、特に好ましくは２．５〜３度の範囲である。中心線平均粗さＲａは、更に好ましくは０．０７〜０．３μｍ、特に好ましくは０．１〜０．２５μｍの範囲である。十点平均粗さＲｚは、更に好ましくは０．７〜２．５μｍ、特に好ましくは１〜２μｍの範囲である。また、光入射端面３１の粗面化の程度は、長手方向で、上記と同様の理由から、平均傾斜角θａが１〜３度、中心線平均粗さＲａが０．０２〜０．１μｍ、十点平均粗さＲｚが０．３〜２μｍであることが好ましい。平均傾斜角θａは、更に好ましくは１．３〜２．７度、特に好ましくは１．５〜２．５度の範囲である。中心線平均粗さＲａは、更に好ましくは０．０３〜０．０８μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．０７μｍの範囲である。十点平均粗さＲｚは、更に好ましくは０．４〜１．７μｍ、特に好ましくは０．５〜１．５μｍの範囲である。
【００４５】
導光体３の裏面３４には、光入射端面３１の近傍に、該光入射端面３１に沿って延びた幅ＷＰの略平坦面領域１３７が形成されている。この略平坦面領域１３７は、平滑面であってもよいし、粗面化されて（即ち、マット面とされて）いてもよい。略平坦面領域１３７には、裏面３４の大部分の領域にわたって形成されているプリズム列（図２０では、その稜線及び谷線が、それぞれ符号３４ａ，３４ｂで示されている）が形成されていない。略平坦面領域１３７は、プリズム列の谷線３４ｂとほぼ同一の高さ位置（Ｚ方向位置）にある。略平坦面領域１３７の幅ＷＰは、たとえば５０μｍ〜１０００μｍであり、光吸収帯３６の幅Ｗとほぼ同一或いはそれより少し大きな程度とされるのが好ましい。この略平坦面領域１３７に、光入射端面３１に沿って延びた光吸収帯３６が形成されている。該光吸収帯３６は、例えば黒色の塗材を塗布することで形成することができる。この塗材塗布における塗材の密着性あるいは定着性を高めるためには、略平坦面領域１３７が粗面化されているのが好ましい。
【００４６】
光吸収帯３６の塗布は、特に限定されるものではないが、インクジェット印刷やスクリーン印刷やタンポ印刷や熱転写印刷によることが特に好ましい。また、光吸収帯３６の材料としては、生産性の観点から速乾性の材料を用いることが好ましく、乾燥時間が６０秒以下のものが好ましく、より好ましくは４０秒以下、さらに好ましくは２０秒以下のものである。このような光吸収帯材料としては、例えば、エチルメチルケトン等の有機溶剤を用いた有機溶剤系塗料や蒸発乾燥型インクや熱硬化型インク、或いは紫外線硬化型塗料や紫外線硬化型インク等が挙げられる。この光吸収帯は、光入射端面３１から導光体３内に導入された光の一部を吸収することで、光入射端面３１の近傍での輝線の発生を防止するものであり、このため可視光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５Ｂ）が例えば０〜９０％であり、０〜６０％であることが好ましく、更に好ましくは２〜４５％であり、特に好ましくは４〜３０％である。また、光吸収帯３６は、その反射率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５Ｂ）が０〜２０％であることが好ましく、更に好ましくは０〜１５％である。なお、この輝線発生には、光入射端面を経ずに光源リフレクタ２による反射で裏面３４から導光体内へと入り込む光も寄与していると考えられるが、光吸収帯３６は、このような光をも一部吸収することで輝線発生を防止する。
【００４７】
本実施形態では、導光体裏面３４においてプリズム列が実質上完全な形で形成されている領域（即ちプリズム列形成面領域）１３９と、略平坦面領域１３７との間には、幅ＷＴの遷移領域１３８が形成されている。この遷移領域１３８では、プリズム列形成面領域１３９に近い側から略平坦面領域１３７に近い側へと、プリズム列形成面から略平坦面への移行が徐々になされている。この遷移領域１３８の幅ＷＴは、たとえば５０μｍ〜２０００μｍである。
【００４８】
本実施形態においては、プリズム列の形成されていない略平坦面領域１３７に光吸収帯３６が形成されるので、光吸収帯３６を印刷または塗布などにより付与するに際して、塗材が隣接プリズム列間の溝を伝ってプリズム列形成面領域１３９内に滲み出る（浸出する）ようなことが殆どなく、所定幅の光吸収帯３６を確実に形成することができ、光学性能の良好な面光源装置を安定して得ることができる。
【００４９】
図２は導光体３を一次光源１と共に示す模式的底面図である。図２に示されているように、光吸収帯３６は、光入射端面３１から入射する光を遮光せず、入射する光量の減少による輝度の低下や導光すべき光を遮光することによる暗線の発生を抑止するために、導光体３の裏面３４にのみ形成され、光入射端面３１には形成しないことが必要である。また、光吸収帯３６は、幅（Ｘ方向寸法）がＷであり、その幅を画定する２つの側縁のうちの光入射端面３１に近い方の側縁と該光入射端面３１との距離はＤである。幅Ｗは、５０〜１０００μｍであり、好ましくは５０〜８００μｍであり、より好ましくは１００〜７００μｍであり、特に好ましくは２００〜４００μｍである。幅Ｗが５０μｍ未満であると所要の輝線発生防止効果が低下する傾向にあり、幅Ｗが１０００μｍを越えると暗線が発生したり全体の輝度低下が発生する傾向にある。幅Ｗは、導光体３の光入射端面位置での厚さの０．４倍以下であるのが好ましく、更に好ましくは０．３倍以下であり、特に好ましくは０．２倍以下である。また、距離Ｄは、３００μｍ以下であれば上記の輝線発生防止効果は得られ、好ましくは２００μｍ以下であり、特に好ましくは１００μｍ以下である。
【００５０】
光吸収帯３６を導光体３の裏面３４に形成するにあたって、裏面３４の光吸収帯形成部位の少なくとも一部に凹部を形成し、該凹部に塗料等を塗布して光吸収帯を形成してもよい。即ち、図８及び図９に示されているように、裏面３４に例えば断面三角形またはレンチキュラー状の凹部７０を、例えば深さ１５０μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、更に好ましくは５０μｍ以下の深さに形成し、該凹部の内部を含むように光吸収帯３６を形成する。この凹部７０の深さが大きすぎると導光体内の導波モードが欠損して暗線が出現しやすくなる。
【００５１】
導光体３としては、図１に示したような形状に限定されるものではなく、光入射端面の方が厚いくさび状等の種々の形状のものが使用できる。
【００５２】
図３及び図４を用いて、以上のような導光体の製造方法の一例を説明する。
【００５３】
図３は、樹脂成形加工により成形され光吸収帯となる塗材が塗布されて得られた導光体素材３’を示す模式的底面図である。この導光体素材３’は、最終的に得られる導光体３の各部に対応する部分を対応部として示すと、光入射端面対応部３１’、裏面対応部３４’及び光吸収帯対応部３６’を有する。裏面対応部３４’には所要のプリズム列が形成されている。その反対側の光出射面対応部には所要の光出射機構を構成する粗面としてのマット面が形成されている。裏面対応部３４’の光入射端面対応部３１’に近接する略平坦な領域に、光吸収帯対応部３６’が形成されている。
【００５４】
図４に示されるように、光入射端面対応部３１’に対する切削加工を行って不要部分を切除することで、切削加工面として光入射端面３１が形成され、同時に光吸収帯３６が形成される。これにより、容易に、光入射端面３１を光出射面３３との境界に至るまで一次光源１から発せられる光が入射するように構成することができる。また、図３及び図４に示されるように、切削により切除される不要部分にまで光吸収帯対応部３１’を形成しておき、切削加工において光吸収帯対応部３１’の光入射端面対応部３１’に近い側縁部をも同時に切削除去することにより、容易に、上記の距離Ｄを０μｍとし且つ光入射端面３１を光出射面３３との境界に至るまで一次光源１から発せられる光が入射するように構成することができる。
【００５５】
光偏向素子４は、導光体３の光出射面３３上に配置されている。光偏向素子４の２つの主面４１，４２は全体として互いに平行に配列されており、それぞれ全体としてＸＹ面と平行に位置する。主面４１，４２のうちの一方（導光体３の光出射面３３側に位置する主面）は入光面４１とされており、他方が出光面４２とされている。出光面４２は、導光体３の光出射面３３と平行な平坦面とされている。入光面４１は、多数のＹ方向に延びるプリズム列が互いに平行に配列されたプリズム列形成面とされている。プリズム列形成面は、隣接するプリズム列の間に比較的幅の狭い平坦部（例えば、プリズム列のＸ方向寸法と同程度あるいはそれより小さい幅の平坦部）を設けてもよいが、光の利用効率を高める点からは平坦部を設けることなくプリズム列をＸ方向に連続して配列することが好ましい。
【００５６】
図５に、光偏向素子４による光偏向の様子を示す。この図は、ＸＺ面内での導光体３からのピーク光（出射光分布のピークに対応する光）の進行方向を示すものである。導光体３の光出射面３３から角度αで斜めに出射されるピーク光は、プリズム列の第１面へ入射し第２面により全反射されてほぼ出光面４２の法線の方向に出射する。また、ＹＺ面内では、上記のような導光体裏面３４のプリズム列の作用により広範囲の領域において出光面４２の法線の方向の輝度の十分な向上を図ることができる。
【００５７】
光偏向素子４のプリズム列のプリズム面の形状は、単一平面に限られず、例えば断面凸多角形状または凸曲面形状とすることができ、これにより、高輝度化、狭視野化を図ることができる。
【００５８】
本発明の光偏向素子においては、所望のプリズム形状を精確に作製し、安定した光学性能を得るとともに、組立作業時や光源装置としての使用時におけるプリズム頂部の摩耗や変形を抑止する目的で、プリズム列の頂部に平坦部あるいは曲面部を形成してもよい。この場合、プリズム列頂部に形成する平坦部あるいは曲面部の幅は、３μｍ以下とすることが、光源装置としての輝度の低下やスティキング現象による輝度の不均一パターンの発生を抑止する観点から好ましく、より好ましくは２μｍ以下であり、さらに好ましくは１μｍ以下である。
【００５９】
本発明においては、輝度の低下をできる限り招くことなく、視野範囲を目的に応じて適度に制御するために、光偏向素子４の出光面上に光拡散素子６を隣接配置することができる。また、本発明においては、このように光拡散素子６を配置することによって、品位低下の原因となるぎらつきや輝度斑等を抑止し品位向上を図ることもできる。
【００６０】
光拡散素子６の光偏向素子４に対向する入射面６１には、光偏向素子４とのスティッキングを防止するため、凹凸構造を付与することが好ましい。同様に、光拡散素子６の出射面６２においても、その上に配置される液晶表示素子との間でのスティッキングの防止を考慮して、光拡散素子６の出射側の面にも凹凸構造を付与することが好ましい。この凹凸構造は、スティッキング防止の目的のみで付与する場合には、平均傾斜角が０．７度以上となるような構造とすることが好ましく、さらに好ましくは１度以上であり、より好ましくは１．５度以上である。
【００６１】
光拡散素子６の光拡散性は、光拡散素子６中に光拡散剤例えば、シリコーンビーズ、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレ−ト、フッ素化メタクリレ−ト等の単独重合体あるいは共重合体等を混入したり、光拡散素子６の少なくとも一方の表面に凹凸構造を付与することによって付与することができる。表面に形成する凹凸構造は、光拡散素子６の一方の表面に形成する場合と両方の表面に形成する場合とでは、その程度が異なる。光拡散素子６の一方の表面に凹凸構造を形成する場合には、その平均傾斜角を０．８〜１２度の範囲とすることが好ましく、さらに好ましくは３．５〜７度であり、より好ましくは４〜６．５度である。光拡散素子６の両方の表面に凹凸構造を形成する場合には、一方の表面に形成する凹凸構造の平均傾斜角を０．８〜６度の範囲とすることが好ましく、さらに好ましくは２〜４度であり、より好ましくは２．５〜４度である。この場合、光拡散素子６の全光線透過率の低下を抑止するためには、光拡散素子６の入射面側の平均傾斜角を出射面側の平均傾斜角よりも大きくすることが好ましい。
【００６２】
また、光拡散素子６のヘイズ値としては８〜８２％の範囲とすることが、輝度特性向上と視認性改良の観点から好ましく、さらに好ましくは３０〜７０％の範囲であり、より好ましくは４０〜６５％の範囲である。
【００６３】
図６は光拡散素子６を一次光源１と共に示す模式的平面図である。図１及び図６に示されているように、光拡散素子６には、ドットパターン部６４が形成されている。該ドットパターン部は、出射面６２に直径３０μｍ〜７０μｍのドット状の光吸収性塗材を分散配置してなるものであり、導光体の光入射端面から距離ｄ１の位置から距離ｄ２の位置までを含む幅（ｄ２−ｄ１）の領域に存在する。距離ｄ１が２ｍｍ以下であり距離ｄ２が４ｍｍ以上であるのが好ましい。これにより、一次光源位置の近傍での全体的な明るさを適度に抑制して、発光面につき違和感の少ない輝度分布を得ることが可能になる。このような効果を効率的に得るためには、ドットパターン部６４は可視光線透過率が６０％〜９５％であるのが好ましい。また、一層違和感の少ない輝度分布を得るために、ドット状光吸収性塗材の分散配置の密度を、光入射端面から距離ｄ２の位置に近い少なくとも一部の幅領域において、一次光源から遠ざかるに従い次第に小さくすることが好ましい。
【００６４】
一次光源１はＹ方向に延在する線状の光源であり、該一次光源１としては例えば蛍光ランプや冷陰極管を用いることができる。この場合、一次光源１は、図１に示したように、導光体３の一方の側端面に対向して設置する場合だけでなく、必要に応じて反対側の側端面にもさらに設置することもできる。なお、本発明においては、一次光源１としては線状光源に限定されるものではなく、ＬＥＤ光源、ハロゲンランプ、メタハロランプ等のような点光源を使用することもできる。特に、携帯電話機や携帯情報端末等の比較的小さな画面寸法の表示装置に使用する場合には、ＬＥＤ等の小さな点光源を使用することが好ましい。このように一次光源１として点光源を使用する場合には、一次光源１の配置は導光体３のコーナー部等に配置することもできる。この場合、導光体３に入射した光は、光出射面と同一の平面内において一次光源１を略中心とした放射状に導光体中を伝搬するため、導光体３の光出射面に点光源を取り囲むようにして多数のレンズ列を略弧状に並列して形成した光出射機構を形成することが、輝度の均一性の点から好ましい。また、導光体３の光出射面から出射する出射光も同様に一次光源１を中心とした放射状に出射するため、このような放射状に出射する出射光を、その出射方向に関わらず効率よく所望の方向に偏向させるためには、光偏向素子４に形成するプリズム列を一次光源１を取り囲むように略弧状に並列して配置することが、輝度の均一性の点から好ましい。
【００６５】
光源リフレクタ２は一次光源１の光をロスを少なく導光体３へ導くものである。その材質としては、例えば表面に金属蒸着反射層を有するプラスチックフィルムを用いることができる。図示されているように、光源リフレクタ２は、光拡散素子６及び光偏向素子４を避けて、光反射素子５の端縁部外面から一次光源１の外面を経て導光体３の光出射面端縁部へと巻きつけられている。他方、光源リフレクタ２は、光拡散素子６のみを避けて、光反射素子５の端縁部外面から一次光源１の外面を経て光偏向素子４の出光面端縁部へと巻きつけることも可能であり、或いは、光反射素子５の端縁部外面から一次光源１の外面を経て光拡散素子６の出射面端縁部へと巻きつけることも可能であり、或いは、光反射素子５を避けて導光体裏面３４から巻きつけることも可能である。
【００６６】
このような光源リフレクタ２と同様な反射部材を、導光体３の側端面３１以外の側端面に付することも可能である。
【００６７】
光反射素子５としては、例えば表面に金属蒸着反射層を有するプラスチックシートを用いることができる。本発明においては、光反射素子５として、反射シートに代えて、導光体３の裏面３４に金属蒸着等により形成された光反射層等を用いることも可能である。
【００６８】
本発明の導光体３、光偏向素子４および光拡散素子６は、光透過率の高い合成樹脂から構成することができる。このような合成樹脂としては、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂が例示できる。特に、メタクリル樹脂が、光透過率の高さ、耐熱性、力学的特性、成形加工性に優れており、最適である。このようなメタクリル樹脂としては、メタクリル酸メチルを主成分とする樹脂であり、メタクリル酸メチルが８０重量％以上であるものが好ましい。導光体３、光偏向素子４および光拡散素子６の粗面又はヘアライン等の表面構造やプリズム列又はレンチキュラーレンズ列等の表面構造を形成するに際しては、透明合成樹脂板を所望の表面構造を有する型部材を用いて熱プレスすることで形成してもよいし、スクリーン印刷、押出成形や射出成形等によって成形と同時に形状付与してもよい。また、熱あるいは光硬化性樹脂等を用いて構造面を形成することもできる。更に、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリメタクリルイミド系樹脂等からなる透明フィルムあるいはシート等の透明基材の表面に、活性エネルギー線硬化型樹脂からなる粗面構造またレンズ列配列構造を形成してもよいし、このようなシートを接着、融着等の方法によって別個の透明基材上に接合一体化させてもよい。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、多官能（メタ）アクリル化合物、ビニル化合物、（メタ）アクリル酸エステル類、アリル化合物、（メタ）アクリル酸の金属塩等を使用することができる。
【００６９】
以上のような一次光源１、光源リフレクタ２、導光体３、光偏向素子４、光拡散素子６および光反射素子５からなる面光源装置の発光面（光拡散素子６の出射面６２）上に、図７に示すように液晶表示素子ＬＣを配置することにより、本発明の面光源装置をバックライトとした液晶表示装置が構成される。図７では光拡散素子６のドットパターン部を構成する分散配置のドット状光吸収性塗材が符号６４’で示されている。液晶表示装置は、図７における上方から液晶表示素子ＬＣを通して観察者により観察される。液晶表示装置の表示エリアは、液晶表示素子ＬＣの表示領域あるいは該液晶表示素子を保持するフレームの開口領域等により決まる。面光源装置の有効発光領域は、液晶表示装置の表示エリアより大きく、該表示エリアの全てをカバーするように存在している。光吸収帯３６は、表示エリア外であって有効発光領域外に位置するように配置される。
【００７０】
図７には、導光体３において上記距離Ｄが０μｍの場合が示されている。図示されているように、光吸収帯３６は光入射端面３１との境界まで延びているけれども、光入射端面３１上にまでは延びていない。即ち、光入射端面３１は裏面３４との境界に至るまで一次光源１から発せられる光が入射するように構成されている。
【００７１】
また、光源リフレクタ２は、その端縁部が光吸収帯３６を覆うように、配置されている。面光源装置の発光面外周部の幅２〜４ｍｍ程度の領域は枠体により覆われ、この領域（額縁状領域）からは外部への光の出射はない。光源リフレクタ２の端縁部は、額縁状領域内に位置しており、従って、光吸収帯３６は、額縁状領域内即ち面光源装置の有効発光領域外に位置している。
【００７２】
光入射端面３１から導光体３内に導入された光のうちで光吸収帯３６に到達する光Ｌ１は、該光吸収帯によりその大半が吸収される。その残りが裏面３４で反射されて導光体内を進行する光Ｌ２となる。この光Ｌ２は光出射面３３から出射する。本発明では、光Ｌ２は光吸収帯３６での光吸収により光Ｌ１より十分に弱められており、このため、輝線発生の原因となることは殆どない。仮に、光吸収帯３６が存在しないとすると、この光Ｌ２の強度はかなり強いものとなる。この光Ｌ２即ち本発明で光吸収帯３６を付した部分での反射光が輝線発生の最も大きな原因であり、光吸収帯３６が存在しない場合には、目立つ輝線が発生する。
【００７３】
また、一次光源１から発せられた光のうちの一部は、光源リフレクタ２により反射され、光入射端面３１に至ることなく光吸収帯３６に到達し、ここでその大半が吸収される。仮に、光吸収帯３６が存在しないとすると、本発明で光吸収帯３６を付した部分の裏面３４から導光体内へと光が入り込む。この光も上記輝線の発生の原因であり、この点でも光吸収帯３６が存在しない場合には、輝線が発生する。
【００７４】
本発明においては、十分にコリメートされた狭い輝度分布（ＸＺ面内）の光を光源装置から液晶表示素子ＬＣに入射させることができるため、液晶表示素子での階調反転等がなく明るさ、色相の均一性の良好な画像表示が得られるとともに、所望の方向に集中した光照射が得られ、この方向の照明に対する一次光源１の発光光量の利用効率を高めることができる。
【００７５】
以上の実施形態の説明では光吸収帯３６が幅方向にほぼ均一な光吸収特性を有するものとして説明したが、本発明では光吸収帯はその光吸収特性が幅方向に変化していてもよい。このような光吸収特性の好ましい形態としては、光吸収帯３６の光入射端面に近い側縁より遠い側縁の方が可視光線透過率が高くなるように形成されているものが挙げられる。このようにすることで、光吸収帯３６とそれが形成されていない導光体裏面３４の領域との境界における光吸収性の急激な変化を防止して、輝度不均一の発生を一層低減することができる。
【００７６】
例えば、図１０に示されるように、光吸収帯３６を幅方向（Ｘ方向）に関して光入射端面に近い第１領域３６−１と遠い第２領域３６−２との２つからなるものとし、第１領域３６−１の厚さを第２領域３６−２の厚さの約２倍とすることで、第２領域３６−２の可視光線透過率Ｔ２を第１領域３６−１の可視光線透過率Ｔ１より高くすることができる。このような可視光線透過率が２段階に変化する光吸収帯３６は、先ず第１領域３６−１及び第２領域３６−２の双方に対して均等厚さに塗材の塗布を行い、しかる後に第１領域３６−１においてのみ追加の塗材塗布を行うことで得ることができる。同様にして３段階以上に可視光線透過率が変化する光吸収帯を形成することができる。
【００７７】
また、図１１に示されるように、光吸収帯３６の厚さを光吸収帯３６の幅方向（Ｘ方向）に関して光入射端面３１に近い側縁から遠い側縁にかけて次第に小さくすることで、光吸収帯３６の可視光線透過率を光吸収帯３６の幅方向に連続的に変化するものとしてもよい。このような形態の光吸収帯３６は、マスク部材をＸ方向に光入射端面３１に近い側から遠い側へと移動させながら塗材塗布を行うことで得ることができる。光吸収帯３６における可視光線透過率の連続的変化は、幅方向の全体にわたる必要はなく幅方向の一部であってもよい。
【００７８】
また、光吸収帯３６における可視光線透過率の変化は、図１０に関し説明した段階的変化と図１１に関し説明した連続的変化とを組み合わせたものであってもよい。
【００７９】
光吸収帯３６の可視光線透過率は、最も低い値が０％〜６０％の範囲内にあり且つ最も高い値が４０％〜９０％の範囲内にあるのが好ましい。この範囲内にあることで、輝線発生の防止効果を維持しつつ暗線の発生を十分に防止でき、輝度不均一の発生を一層低減することができる。
【００８０】
図１２及び図１３を用いて、以上のような導光体の製造方法の更に別の例を説明する。図１２（ａ）及び図１３（ａ）は部分底面図であり、図１２（ｂ）及び図１３（ｂ）はそのＸＺ部分断面図である。
【００８１】
先ず、図１２に示されているように、導光体３の裏面３４の上記略平坦面領域１３７内の領域であって光入射端面３１に近接し該光入射端面から距離Ｄ’を隔てた幅Ｗ’の領域に、インクジェット法により互いに独立し又は部分的に連続したインクドット３６Ａを形成する。インクジェット法の実施に使用される装置としては、コンティニュアス（連続噴射）方式やピエゾノズルを用いたＤＯＤ（ドロップオンデマンド）方式のプリンタが例示される。これらの装置により、多数のノズルからインクを吐出させ、必要に応じて該ノズルに対して導光体３を光出射面３３と平行な所要の方向に走査することで、光出射面の所定の領域に図示されるような互いに独立した多数のインクドット３６Ａが形成される。これらインクドットの隣接するもの同士は図示されているように全てが完全に独立していてもよいが、それらのうちの一部が部分的に重複して連続していてもよい。
【００８２】
次に、インクドットの隣接するもの同士を結合させ連続したインク層とする（以下、「レベリング」という）。このレベリングは、所要のレベリング量（程度）を得るために必要な時間、実施される。これにより、図１３に示されているように、インクドットの隣接するもの同士を結合させ、光入射端面３１から距離Ｄを隔てた幅Ｗの領域の全体にわたって連続したインク層３６Ｂとなす。この幅Ｗの領域は、上記幅Ｗ’の領域の全てを包含しており、レベリングにより幅ＷはＷ’より少し大きくなっている。
【００８３】
次に、インク層３６Ｂを硬化させることにより、光吸収帯３６を形成する。
【００８４】
インクとしては、例えば紫外線硬化型インクが用いられる。紫外線硬化型インクは、紫外線照射のタイミングの制御により容易に所要のレベリング量（程度）を実現することができることから、好ましく用いられる。また、所要のレベリング量を得るための時間の制御を容易にするために、インク吐出ノズルの温度即ちインクの温度を一定に維持することが好ましい。また、導光体３を加温することによっても、インクドロップ等のインク吐出の後のインクドット３６Ａの粘度を低下させることができ、これによって所要のレベリング量を得るための時間を短くして、印刷に要する時間を短縮することが可能となる。
【００８５】
以上のようにして、レベリング時間によりインク層３６Ｂにおけるインクドットの結合状態を所望のものに制御することで、光吸収帯３６の表面状態即ち凹凸の程度を制御することができる。この光吸収帯３６の表面に適度な凹凸を形成しておくことで、不要光を一層目立たなくすることができる。即ち、上記のように、一次光源１から発せられた光のうちの一部が光源リフレクタ２２より反射され、光入射端面３１に至ることなく光吸収帯３６に到達した時に、ここで大半が吸収される。この時、残りの光は導光体裏面３４の方へと反射されるが、この反射光を光吸収帯３６の表面の凹凸により拡散反射させることで、目立たなくすることができる。
【００８６】
プリンタの解像度が高い方が、インクドットをより近接して形成でき、インクドットの結合のためのレベリングに要する時間を短縮することが出来るので、望ましい。
【００８７】
以上のような光吸収帯３６の形成を良好に行うためには、略平坦面領域１３７の存在が重要である。即ち、幅ＷＰが５０μｍ以上の略平坦面領域１３７が存在することで、この領域に塗材を塗布しレベリングさせ硬化させて、光入射端面３１に沿って延びる所要幅の光吸収帯３６を形成することが容易になる。ここで、塗布及びレベリングに際して塗材がプリズム列谷部へと滲み出したとしても、その滲み出しが過度にならないようにすることができる。光吸収帯３６の幅は、使用される塗材の粘度や塗布量などを調整することによって、制御することができ、これにより光学性能の良好な面光源装置用導光体を安定して得ることができる。略平坦面領域１３７の幅ＷＰが５０μｍより小さいか又は略平坦面領域１３７が存在しない場合には、塗材が直接プリズム列の斜面に不均一に付着し、塗材の塗着しない部分が現れて、均一なレベリングが困難になりやすい。これにより、所要幅の光吸収帯の形成が困難になり、光吸収が不十分となって、光入射端面３１の近傍における輝線発生防止の効果が得にくくなる傾向にある。
【００８８】
図１４を用いて、以上のような導光体の製造方法の更に別の例を説明する。
【００８９】
この例では、先ず、図１４（ａ）に示されるような導光体素材３’を用意する。次に、図１４（ｂ）に示されるように、光入射端面対応部３１’に対する切削加工を行って光入射端面３１を形成する。この切削加工により、光入射端面３１と裏面３４との境界には裏面３４の方へと突出した（即ち裏面３４の略平坦面領域の他の領域に対して隆起して突出した）突出部３９が形成される。この突出部３９は、光入射端面３１と裏面３４との境界線に沿って即ち光入射端面３１に沿って延びている。この突出部３９は、上記のように切削加工により形成することもできるが、射出成形時に成形により形成してもよい。
【００９０】
次に、図１４（ｃ）に示されるように、裏面３４の所要の領域（上記略平坦面領域１３７内の領域）にインクドット３６Ａを形成する。このインクドットの形成は、上記図１２に関し説明したようにしてなされる。次に、インクドットのレベリングを行い、図１４（ｄ）に示されるように、裏面３４の所要の領域にインク層３６Ｂを形成する。このインク層の形成は、上記図１３に関し説明したようにしてなされるが、ここでは、レベリングにより形成されるインク層３６Ｂの光入射端面３１に近い側縁が突出部３９に到達するように、インクドット形成領域の位置が設定されている。即ち、図１４（ｃ）に示されるインクドット３６Ａの形成される領域は、光入射端面３１から僅かしか離れていない。これにより、インクドットのレベリングの際に流動するインクは突出部３９により光入射端面３１へと移動するのを阻止される。
【００９１】
最後に、インク層３６Ｂを硬化させることにより、光吸収帯３６を形成する。
【００９２】
以上の方法によれば、光吸収帯３６を、光入射端面３１にかかることなく且つ該光入射端面３１の極く近くに形成することが容易である。この光吸収帯３６によれば、光入射端面３１から導光体３へ入射する光量の減少を抑制することができる。
【００９３】
このような突出部３９によるインクの光入射端面３１への移動の適正な位置での阻止の作用を良好なものにし且つ突出部３９の形成を容易にするためには、突出部３９の寸法を次のような適切な範囲内のものとすることが好ましい。即ち、図１８に示されているように、突出部３９の高さ（裏面３４の略平坦面領域の他の領域からの高さ）をＨとし、突出部３９のＸＺ断面形状における高さの半値全幅をＷとして、好ましくは、Ｈは１〜５０μｍ、より好ましくは２〜３０μｍ、更に好ましくは５〜２０μｍであり、Ｗは１〜５０μｍ、より好ましくは２〜３０μｍ、更に好ましくは５〜２０μｍである。突出部高さＨが小さすぎるとインク移動阻止の作用が不十分となる傾向にあり、突出部高さＨが大きすぎるものは面光源装置の組立が困難になったり、突出部の欠けが発生しやすくなったり、更にインクを突出部の頂上付近まで移動させにくくなる傾向にある。また、高さ半値全幅Ｗが小さすぎるものは突出部の形成が困難になり更に機械的強度が低くインク移動阻止の作用が不確実となる傾向にあり、高さ半値全幅Ｗが大きすぎるものは面光源装置の組立が困難になり更にインクを突出部の頂上付近まで移動させにくくなる傾向にある。
【００９４】
以上説明したいずれの方法においても、光吸収帯３６を形成するための塗材である紫外線硬化型インクとしては、（メタ）アクリレートモノマー及び／または有機溶媒を含有する紫外線硬化型インクを用いるのが好ましい。これは、インク層が硬化して形成される光吸収帯３６の導光体３の表面に対する接合力の向上に有利であるからである。インク中に有機溶媒が存在することで、導光体３の表面を溶融し荒らすことによるアンカー効果の向上が得られる。また、特に、導光体３として（メタ）アクリル系樹脂を使用した場合には、インク中に（メタ）アクリレートモノマーが存在することで、インクにおける重合の際に該インクと導光体との間に架橋反応が生じやすくなり、これによるアンカー効果の向上が得られる。
【００９５】
上記（メタ）アクリレートモノマーや有機溶媒は、インク濃度が大きく変化しないように、数平均分子量１００以上、好ましくは１５０以上、更に好ましくは２００以上のものであることが好ましい。（メタ）アクリレートモノマーは、たとえばメチルメタクリレートであり、インク中にたとえば０．５〜１０重量％含有されているのが好ましい。有機溶媒は、インク濃度が大きく変化しないように、沸点６０℃以上、好ましくは８０℃以上、更に好ましく１００℃以上のものであるのが好ましく、たとえばメチルエチルケトン、酢酸エチル、クロロホルム、酢酸セロソルブ及びメタクリル酸のうちの少なくとも１つを含んでなるものが例示される。
【００９６】
このような紫外線硬化型インクとしては、たとえば、以下に示されるような組成のものが挙げられる。
【００９７】
インク１：
アクリル酸オリゴマー：３０〜５０重量％
アクリル酸イソボルニル：１０〜２０重量％
１，６−ヘキサンジオールアクリレート：１〜２０重量％
テトラヒドロフルフリルアクリレート：１０〜２０重量％
ベンゾフェノン：１〜５重量％
カーボンブラック：１〜５重量％
インク２：
アクリル酸イソボルニル：１０〜２０重量％
１，６−ヘキサンジオールアクリレート：１〜２０重量％
アクリル酸アミン／アクリル酸エステル混合物：３０〜５０重量％
ベンゾフェノン：１〜５重量％
カーボンブラック：１〜５重量％
本発明においては、光吸収帯をインクジェット法等で形成する場合には、このような紫外線硬化型インクとして、インク吐出時のヘッド温度においてインク粘度が１〜１００ｃｐで表面張力が２０〜５５ｍＮ／ｍのものを用いるのが好ましく、更に好ましくはインク粘度が１〜５０ｃｐで表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍのものであり、より好ましくはインク粘度が１〜２０ｃｐで表面張力が２５〜３５ｍＮ／ｍのものである。尚、ヘッド温度は、インクドットのレベリング性や導光体との密着性や吐出インクの正確な塗着位置安定性等の観点から１０〜１００℃とすることが好ましく、更に好ましくは３５〜８５℃であり、より好ましくは４０〜６０℃の範囲である。
【００９８】
また、光吸収帯をインクジェット法等で形成する場合には、ヘッド速度はタクト時間の短縮、インクドットのレベリング性や導光体との密着性等との観点から、ヘッド速度を１０〜１０００ｍｍ／秒とすることが好ましく、更に好ましくは２００〜８００ｍｍ／秒であり、より好ましくは２５０〜５００ｍｍ／秒の範囲である。
【００９９】
本発明においては、光吸収帯３６として光拡散性または光吸収性の微粒子を含有するものを使用することができる。この微粒子の粒径は、２０μｍ以下が好ましく、更に好ましくは１４μｍ以下であり、特に好ましくは８μｍ以下である。このような微粒子は、該微粒子を除く塗材固形分１００重量部に対して１０〜１２５重量％含有させることができる。光吸収性の微粒子としては、カーボンブラック等を含有したアクリル樹脂、スチレン樹脂、（メタ）アクリル／スチレン共重合樹脂やベンゾグアナミン樹脂などの黒色ポリマー系微粒子等からなるものが例示できる。また、光拡散性の微粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、（メタ）アクリル／スチレン共重合樹脂やシリコーン樹脂等のポリマー系微粒子やシリカ、アルミナや炭酸カルシウム等の無機系微粒子等からなるものが例示できる。光拡散性の微粒子は、表面反射による光拡散を利用するものであってもよいし、透光性を有し内部透過光の屈折による光拡散を利用するものであってもよい。光吸収性の微粒子は光吸収帯３６の光吸収性の向上に寄与し、光拡散性の微粒子は光吸収帯３６内において光拡散を行うことで間接的に光吸収性を向上させ、更に吸収されずに出射する光の拡散による平均化に寄与する。
【０１００】
図１５に、光拡散性または光吸収性の微粒子を含有する光吸収帯３６の実施形態を示す。この実施形態では、光吸収帯３６の表面に微細な凹凸が形成されている。この凹凸の凸部３７は、光吸収帯３６に含有された光拡散性または光吸収性の微粒子３８により形成されている。この凹凸は、光吸収帯３６を構成する塗材に光拡散性または光吸収性の微粒子３８を含有させておくことで、塗膜形成に伴って形成することができる。このように光吸収帯３６の表面に微細な凹凸を形成しておくことで、不要光を一層目立たなくすることができる。即ち、上記のように、一次光源１から発せられた光のうちの一部が光源リフレクタ２２より反射され、光入射端面３１に至ることなく光吸収帯３６に到達した時に、ここで大半が吸収される。この時、残りの光は導光体裏面３４の方へと反射されるが、この反射光を光吸収帯３６の表面の凹凸により拡散反射させることで、目立たなくすることができる。
【０１０１】
図１６に、導光体３の裏面３４と光入射端面３１との境界部の拡大図を示す。裏面３４と光入射端面３１との境界を形成するエッジ部分（光出射面３３と光入射端面３１との境界を形成するエッジ部分についても同様）は、理想的にはほぼ直角をなすのであるが、現実的には加工に伴い微小な曲率半径の曲面とされることが多い。特に、上記のように切削加工により光入射端面３１を形成する場合には、加工により導光体材料の合成樹脂が部分的に溶融して裏面３４と光入射端面３１との境界のエッジ部分が表面張力に基づき曲面となることがある。輝線発生防止等の輝度均一性低下の防止の観点からは、このエッジ部分の曲率半径Ｒが５０μｍ以下であるのが好ましい。これは、このエッジ部の曲率半径Ｒが大きすぎると、エッジ部からの光入射が顕著になり、この部分が凸レンズのように作用して、導光体３から異常光が出射したり、光吸収帯３６による輝線発生防止効果を低減したりするおそれがあるからである。エッジ部分の曲率半径Ｒは、更に好ましくは１０μｍ以下であり、特に好ましくは５μｍ以下である。
【０１０２】
図１７に、光入射端面３１と光吸収帯３６の光入射端面に近い側縁とが切削加工により同時に形成された時の裏面３４と光入射端面３１との境界部の拡大図を示す。表面張力により裏面３４と光入射端面３１との境界のエッジ部分に曲率半径Ｒの曲面（上記の突出部３９に相当）が形成され、光吸収帯３６の端縁が導光体エッジ部分の一部を露出させるように位置している。この導光体エッジ部分の露出部は光入射端面３１を構成する。
【０１０３】
図３１は、本発明による面光源装置用導光体の一つの実施形態を示す模式的部分底面図である。この図において、上記図１〜図２０におけると同様の機能を有する部材または部分には同一の符号が付されている。図３１は、図２０に対応する図である。
【０１０４】
本実施形態においては、光吸収帯３６が、導光体裏面の幅ＷＰの上記略平坦面領域１３７の全体を覆い更に遷移領域１３８の一部をも覆うように形成されている。光吸収帯３６を形成する際に塗布される塗材がプリズム列の谷部を伝って流動し該谷部以外の部分におけるよりも遠方へと進出するので、光吸収帯３６の光入射端面３１から遠い方の端縁はジグザグ形状になる。これにより、光吸収帯３６の光吸収性におけるグラデーション効果が発揮され、輝度不均一の発生を一層低減することができる。但し、光吸収帯３６の光入射端面３１から遠い方の端縁のジグザグ形状の幅は、大きくなりすぎると暗帯の写り込みが発生することがあるので、３００μｍ以下となるようにするのが好ましい。
【０１０５】
次に、一次光源と組み合わせて正反射傾向の強い光源リフレクタを用いた場合においても、光入射端面の近傍における輝線の発生を防止し局所的に急激な輝度変化の発生を防止することが容易な面光源装置の実施形態を示す。正反射傾向の強い光源リフレクタの材質としては、例えば表面に金属蒸着反射層を有するプラスチックフィルムを用いることができる。
【０１０６】
図２１は、本発明による面光源装置の一つの実施形態を示す模式的斜視図である。この図において、上記図１〜図２０におけると同様の機能を有する部材または部分には同一の符号が付されている。
【０１０７】
本実施形態においては、光吸収帯が２つ設けられている。即ち、導光体裏面３４には、上記図１〜図２０の実施形態のものと類似の光吸収帯（「第１光吸収帯」ということもある）３６の他に、光吸収帯３６より光入射端面３１から遠い位置において光入射端面３１に沿って延びた第２光吸収帯１３６が形成されている。即ち、導光体の裏面３４には、光入射端面３１に沿って延びた第１光吸収帯３６及び第２光吸収帯１３６が、光入射端面３１に近い側からこの順に配列されている。これら第１及び第２の光吸収帯３６，１３６は、上記図１〜図２０の実施形態の光吸収帯３６と同様に、例えば黒色の塗材を塗布することで形成することができる。
【０１０８】
第２光吸収帯１３６は、光入射端面３１から導光体３内に導入された光または光源リフレクタ２による反射で光出射面３３から導光体３内へ取り込まれる光の一部を吸収することで、上記第１光吸収帯３６により輝線発生を防止され輝度低下がなされた領域の近傍の領域における輝度を低下させる。これにより、第１光吸収帯３６により輝線発生を防止され輝度低下がなされた領域及びその近傍の領域における局所的に急激な輝度変化の発生が防止される。このような第２光吸収帯１３６の輝度調整作用を良好に実現するためには、第２光吸収帯１３６の可視光線透過率は第１光吸収帯３６の可視光線透過率より高いことが好ましい。その理由は次の通りである。第２光吸収帯１３６に関与する輝線の発生要因は、一般に光入射端面３１から導光体３内に導入された光、または、光源リフレクタ２による反射で光出射面３３から導光体３内へ取り込まれた光の一部が、裏面３４で全反射して、面光源装置の有効発光領域内更には液晶表示装置の表示エリア内にて、導光体光出射面３３に写りこんだものである。これらの輝線は一般に第１光吸収帯３６が関与する輝線より大きな広がりを有する弱い光の帯であり、また、これらの輝度の急激な変化を改善して滑らかな出射光分布にするには、第１光吸収帯３６の透過率より高い透過率を持つ（即ち吸収率が低い）光吸収帯を用いるのが適している。また、第２光吸収帯１３６は、第１光吸収帯３６より導光体光入射端面３１から離れた位置にあるため、導光体内部を導光する光のモ−ドを著しく欠損させ有効発光領域内更には表示エリア内に暗線や暗帯の輝度斑を誘発する危険性が高い。こうした観点からも、第２光吸収帯１３６として可視光線透過率の高いもの（可視光線吸収率が低いもの）を用いるのが好ましい。第２光吸収帯１３６の可視光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５Ｂ）は、例えば４０〜９５％であり、６０〜９０％であることが好ましく、更に好ましくは７０〜９０％である。また、光源リフレクタが配置された状態において、第２光吸収帯３６の反射率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５Ｂ）は４０〜９５％であることが好ましく、６０〜９０％であることが好ましく、更に好ましくは７０〜９０％である。
【０１０９】
導光体３の厚さは、光入射端面３１の近傍において、例えば１．５〜４ｍｍ程度、好ましくは２〜３ｍｍである。
【０１１０】
図２２は導光体３を一次光源１と共に示す模式的底面図である。図２２に示されているように、第１光吸収帯３６は、光入射端面３１から入射する光を遮光せず、入射する光量の減少による輝度の低下や導光すべき光を遮光することによる暗線の発生を抑止するために、導光体３の裏面３４にのみ形成され、光入射端面３１には形成しないことが必要である。また、第１光吸収帯３６は、幅（Ｘ方向寸法）がＷ１であり、その幅を画定する２つの側縁のうちの光入射端面３１に近い方の側縁と該光入射端面３１との距離はＤ１である。幅Ｗ１は、５０〜８００μｍであり、好ましくは１００〜５００μｍであり、特に好ましくは１５０〜４００μｍである。幅Ｗ１が５０μｍ未満であると所要の輝線発生防止効果が低下する傾向にあり、幅Ｗ１が８００μｍを越えると暗線が発生したり全体の輝度低下が発生する傾向にある。幅Ｗ１は、導光体３の光入射端面位置での厚さの０．４倍以下であるのが好ましく、更に好ましくは０．３倍以下であり、特に好ましくは０．２倍以下である。また、距離Ｄ１は、３００μｍ以下であれば上記の輝線発生防止効果は得られ、好ましくは２００μｍ以下であり、特に好ましくは１００μｍ以下である。
【０１１１】
一方、第２光吸収帯１３６は、幅（Ｘ方向寸法）がＷ２であり、その幅を画定する２つの側縁のうちの光入射端面３１に近い方の側縁と該光入射端面３１との距離はＤ２である。幅Ｗ２は、好ましくは５０〜８００μｍであり、より好ましくは１００〜７００μｍであり、特に好ましくは１５０〜６００μｍである。幅Ｗ２が５０μｍ未満であると所要の輝度調整効果が低下する傾向にあり、幅Ｗ２が８００μｍを越えると全体の輝度低下と暗帯の写り込みが発生する傾向にある。また、距離Ｄ２は、５００〜３０００μｍの範囲内であれば上記の輝度調整効果は得られ、好ましくは７００〜２０００μｍの範囲内であり、特に好ましくは９００〜１５００μｍの範囲内である。
【０１１２】
上記図１〜図２０の実施形態に関して、第１光吸収帯３６について図８及び図９を参照して説明したのと同様に、第２光吸収帯１３６についても、裏面３４の第２光吸収帯形成部位の少なくとも一部に凹部を形成し、該凹部に塗料等を塗布して第２光吸収帯を形成してもよい。
【０１１３】
図２３及び図２４を用いて、以上のような導光体の製造方法の一例を説明する。これらの図は、上記図３及び図４に対応するものであり、図３及び図４におけると同様の機能を持つ部材または部分には同一の符号が付されている。図２３において、裏面対応部３４’には所要のプリズム列が形成されている。その反対側の光出射面対応部には所要の光出射機構を構成する粗面としてのマット面が形成されている。裏面対応部３４’の光入射端面対応部３１’に近接する略平坦な領域において、第１光吸収帯対応部３６’と該第１光吸収帯対応部３６’から離れた第２光吸収帯対応部１３６’とが形成されている。図２４に示されるように、光入射端面対応部３１’に対する切削加工を行って不要部分を切除することで、切削加工面として光入射端面３１が形成され、同時に第１光吸収帯３６が形成される。尚、第２光吸収帯対応部１３６’は、そのまま第２光吸収帯１３６として利用することができる。
【０１１４】
以上のような一次光源１、光源リフレクタ２、導光体３、光偏向素子４、光拡散素子６および光反射素子５からなる面光源装置の発光面（光拡散素子６の出射面６２）上に、図２５に示すように液晶表示素子ＬＣを配置することにより、本発明の面光源装置をバックライトとした液晶表示装置が構成される。この図は、上記図７に対応するものであり、図７におけると同様の機能を持つ部材または部分には同一の符号が付されている。
【０１１５】
図２５には、導光体３において上記距離Ｄ１が０μｍの場合が示されている。図示されているように、第１光吸収帯３６は光入射端面３１との境界まで延びているけれども、光入射端面３１上にまでは延びていない。即ち、光入射端面３１は裏面３４との境界に至るまで一次光源１から発せられる光が入射するように構成されている。
【０１１６】
また、光源リフレクタ２は、その端縁部が光反射素子５を介して第１及び第２の光吸収帯３６，１３６を覆うように、配置されている。但し、光源リフレクタ２の端縁部は、光反射素子５の内側に配置されて、直接第１及び第２の光吸収帯３６，１３６を覆うようにしてもよい。また、光源リフレクタ２は第２光吸収帯１３６を覆わなくともよい。面光源装置の発光面外周部の幅２〜４ｍｍ程度の領域は枠体により覆われ、この領域（額縁状領域）からは外部への光の出射はない。光源リフレクタ２の端縁部は、額縁状領域内に位置しており、従って、第１及び第２の光吸収帯３６，１３６は、額縁状領域内即ち面光源装置の有効発光領域外に位置している。但し、第２光吸収帯１３６は額縁状領域外即ち面光源装置の有効発光領域内に位置していてもよい。
【０１１７】
光入射端面３１から導光体３内に導入された光のうちで第１光吸収帯３６に到達する光Ｌ１は、該第１光吸収帯によりその大半が吸収される。その残りが裏面３４で反射されて導光体内を進行する光Ｌ２となる。この光Ｌ２は光出射面３３から出射する。本発明では、光Ｌ２は第１光吸収帯３６での光吸収により光Ｌ１より十分に弱められており、このため、輝線発生の原因となることは殆どない。仮に、第１光吸収帯３６が存在しないとすると、この光Ｌ２の強度はかなり強いものとなる。この光Ｌ２即ち本発明で第１光吸収帯３６を付した部分での反射光が輝線発生の最も大きな原因であり、第１光吸収帯３６が存在しない場合には、目立つ輝線が発生する。
【０１１８】
特に、光源リフレクタ２または光反射素子５として、正反射傾向の強いものを使用した場合において、第１光吸収帯３６が存在しない場合には、導光体３内の光の一部が裏面３４を透過して光源リフレクタ２または光反射素子５により正反射され（図２５では光反射素子５が光源リフレクタ２の端縁部より内側に配置されているので光反射素子５により正反射されるが、光源リフレクタ２の端縁部が光反射素子５より内側に配置されている場合には光源リフレクタ２により正反射される）、再び裏面３４を透過して導光体３内に導入されるので、これに基づき非常に目立つ輝線が発生する。このような非常に目立つ輝線の発生を防止するためには、第１光吸収帯３６として可視光線透過率が十分に低いものを使用することが望ましい。しかし、そのようにして第１光吸収帯３６により目立つ輝線の発生を防止した場合には、輝線低減がなされた領域の輝度がその近傍の領域の輝度に比べて低下しすぎて、これら領域での輝度のコントラストが大きくなり（即ち、局所的に急激な輝度変化が発生し）、輝線除去領域が暗線として視認されたり、或いは輝線低減領域の近傍の領域が弱いながらも輝線として視認されたりすることがある。即ち、目立つ輝線は除去されても、局所的に急激な輝度変化が発生して、表示装置のバックライトとして使用した場合の表示画像の品位を低下させることがある。
【０１１９】
しかるに、本発明においては、第２光吸収帯１３６を配置することで、輝線低減領域の近傍の領域の輝度を輝線低減領域の輝度との差が小さくなるように輝度調整して、これら領域での局所的に急激な輝度変化の発生がないようにし、即ちこれら領域での輝度コントラストが大きくならないようにしている。従って、輝線低減領域が暗線として視認されたり、或いはその近傍の領域が輝線として視認されたりすることがない。
【０１２０】
即ち、光入射端面３１から導光体３内に導入された光のうちで、第２光吸収帯１３６に到達する光Ｌ３は、該第２光吸収帯によりその大半が吸収される。その残りが裏面３４で反射されて導光体内を進行する光Ｌ４となる。この光Ｌ４は光出射面３３から出射する。本発明では、光Ｌ４は第２光吸収帯１３６での光吸収により光Ｌ３より十分に弱められており、このため、上記光Ｌ２との強度差が低減されており、従って、光Ｌ２が光出射面から最初に出射する領域及びその近傍の光Ｌ４が光出射面から最初に出射する領域での輝度には大きな差異がなくなる（即ち、輝度コントラストは大きくはない）。
【０１２１】
特に、導光体光出射面３３と光入射端面３１との境界を形成するエッジ部分から導光体３内に導入され第２光吸収帯１３６に到達する光Ｌ５は、該第２光吸収帯によりその一部が吸収される。その残りが裏面３４で反射されて導光体内を進行する光Ｌ６となる。この光Ｌ６は光出射面３３から出射する。本発明では、光Ｌ６は第２光吸収帯１３６での光吸収により光Ｌ５より弱められており、このため、上記光Ｌ２との強度差が低減されており、従って、光Ｌ２が光出射面から最初に出射する領域及びその近傍の光Ｌ６が光出射面から最初に出射する領域での輝度には大きな差異がなくなる（即ち、輝度コントラストは大きくはない）。
【０１２２】
また、一次光源１から発せられた光のうちの一部は、光源リフレクタ２により反射され、光入射端面３１に至ることなく第１及び第２の光吸収帯３６，１３６に到達し、ここでその大半が吸収される。仮に、光吸収帯３６，１３６が存在しないとすると、本発明で光吸収帯３６，１３６を付した部分の裏面３３から導光体内へと光が入り込む。この光も上記輝線の発生の原因であり、この点でも光吸収帯３６，１３６が存在しない場合には、輝線が発生する。
【０１２３】
以上の実施形態の説明では第１及び第２の光吸収帯３６，１３６がいずれも幅方向にほぼ均一な光吸収特性を有するものとして説明したが、本発明では第１及び第２の光吸収帯はその光吸収特性が幅方向に変化していてもよい。このような光吸収特性の好ましい形態としては、第１光吸収帯３６の光入射端面に近い側縁より遠い側縁の方が可視光線透過率が高くなるように形成されているものが挙げられる。このようにすることで、第１光吸収帯３６とそれが形成されていない導光体裏面３４の領域との境界における光吸収性の急激な変化を防止して、局所的に急激な輝度変化の発生を一層低減することができる。第２光吸収帯１３６についても同様に、中央より両側縁の方が可視光線透過率が高くなるように形成されているものが挙げられる。このようにすることで、第２光吸収帯１３６とそれが形成されていない導光体裏面３４の領域との境界における光吸収性の急激な変化を防止して、局所的に急激な輝度変化の発生を一層低減することができる。
【０１２４】
例えば、図２６に示されるように、第１光吸収帯３６を幅方向（Ｘ方向）に関して光入射端面に近い第１領域３６−１と遠い第２領域３６−２との２つからなるものとし、第１領域３６−１の厚さを第２領域３６−２の厚さの約２倍とすることで、第２領域３６−２の可視光線透過率Ｔ２を第１領域３６−１の可視光線透過率Ｔ１より高くすることができる。このような可視光線透過率が２段階に変化する第１光吸収帯３６は、先ず第１領域３６−１及び第２領域３６−２の双方に対して均等厚さに塗材の塗布を行い、しかる後に第１領域３６−１においてのみ追加の塗材塗布を行うとで得ることができる。同様にして３段階以上に可視光線透過率が変化する第１光吸収帯を形成することができる。
【０１２５】
第２光吸収帯１３６についても同様に、幅方向（Ｘ方向）に関して光入射端面に近い順に第１領域１３６−１と第２領域１３６−２と第３領域１３６−３の３つからなるものとし、第２領域１３６−２の厚さを第１及び第３の領域１３６−１，１３６−３の厚さの約３倍とすることで、第１及び第３の領域１３６−１，１３６−３の可視光線透過率Ｔ２を第２領域１３６−２の可視光線透過率Ｔ３より高くすることができる。このような可視光線透過率が２段階に変化する第２光吸収帯１３６は、先ず第１〜第３の領域１３６−１〜１３６−３の全てに対して均等厚さに塗材の塗布を行い、しかる後に第２領域１３６−２においてのみ追加の塗材塗布を行うことで得ることができる。同様にして３段階以上に可視光線透過率が変化する第２光吸収帯を形成することができる。
【０１２６】
また、図２７に示されるように、第１光吸収帯３６の厚さを第１光吸収帯３６の幅方向（Ｘ方向）に関して光入射端面３１に近い側縁から遠い側縁にかけて次第に小さくすることで、第１光吸収帯３６の可視光線透過率を第１光吸収帯３６の幅方向に連続的に変化するものとしてもよい。同様に、第２光吸収帯１３６の厚さを第２光吸収帯１３６の幅方向（Ｘ方向）に関して中央から両側縁にかけて次第に小さくすることで、第２光吸収帯１３６の可視光線透過率を第２光吸収帯３６の幅方向に連続的に変化するものとしてもよい。このような形態の第１及び第２の光吸収帯３６，１３６は、マスク部材をＸ方向に光入射端面３１に近い側から遠い側へと移動させながら塗材塗布を行うことで得ることができる。第１及び第２の光吸収帯３６，１３６における可視光線透過率の連続的変化は、幅方向の全体にわたる必要はなく幅方向の一部であってもよい。
【０１２７】
また、第１及び第２の光吸収帯３６，１３６における可視光線透過率の変化は、図２６に関し説明した段階的変化と図２７に関し説明した連続的変化とを組み合わせたものであってもよい。
【０１２８】
第１光吸収帯３６の可視光線透過率は、最も低い値が０％〜６０％の範囲内にあり且つ最も高い値が４０％〜９０％の範囲内にあるのが好ましい。また、第２光吸収帯１３６の可視光線透過率は、最も低い値が４０％〜９０％の範囲内にあり且つ最も高い値が６０％〜９５％の範囲内にあるのが好ましい。これらの範囲内にあることで、輝線発生の防止効果を維持しつつ暗線の発生を防止でき、局所的に急激な輝度変化の発生を一層低減することができる。
【０１２９】
図２８及び図２９を用いて、以上のような導光体の製造方法の更に別の例を説明する。これらの図は、上記図１２及び図１３に対応するものであり、図１２及び図１３におけると同様の機能を持つ部材または部分には同一の符号が付されている。
【０１３０】
先ず、図２８に示されているように、導光体３の裏面３４の上記略平坦面領域１３７内の領域であって光入射端面３１に近接し該光入射端面から距離Ｄ１’を隔てた幅Ｗ１’の領域に、上記図１２及び図１３に関し説明したと同様にして、インクジェット法により互いに独立し又は部分的に連続したインクドット３６Ａを形成する。
【０１３１】
次に、上記図１２及び図１３に関し説明したと同様にしてインクドットのレベリングを行う。これにより、図２９に示されているように、インクドットの隣接するもの同士を結合させ、光入射端面３１から距離Ｄ１を隔てた幅Ｗ１の領域の全体にわたって連続したインク層３６Ｂとなす。この幅Ｗ１の領域は、上記幅Ｗ１’の領域の全てを包含しており、レベリングにより幅Ｗ１’より少し大きくなっている。
【０１３２】
次に、インク層３６Ｂを硬化させることにより、第１光吸収帯３６を形成する。
【０１３３】
以上、第１光吸収帯３６について述べたことが、第２光吸収帯１３６についてもあてはまる。即ち、図２８に示されているように、導光体３の裏面３４の上記略平坦面領域１３７内の領域であって幅Ｗ１’の領域から離れた領域に、同様にしてインクジェット法により互いに独立し又は部分的に連続したインクドット１３６Ａを形成する。これらインクドットの隣接するもの同士は図示されているように全てが完全に独立していてもよいが、それらのうちの一部が部分的に重複して連続していてもよい。次に、同様にしてインクドットをレベリングさせる。これにより、図２９に示されているように、インクドットの隣接するもの同士を結合させ、幅Ｗ１の領域から離れた領域の全体にわたって連続したインク層１３６Ｂとなす。次に、インク層１３６Ｂを硬化させることにより、第２光吸収帯１３６を形成する。以上のようにして、レベリング時間によりインク層１３６Ｂにおけるインクドットの結合状態を所望のものに制御することで、第２光吸収帯１３６の表面状態即ち凹凸の程度を制御することができる。この第２光吸収帯１３６の表面に適度な凹凸を形成しておくことで、不要光を一層目立たなくすることができる。即ち、上記のように、一次光源１から発せられた光のうちの一部が光源リフレクタ２２より反射され、光入射端面３１に至ることなく第２光吸収帯１３６に到達した時に、ここで大半が吸収される。この時、残りの光は導光体裏面３４の方へと反射されるが、この反射光を第２光吸収帯１３６の表面の凹凸により拡散反射させることで、目立たなくすることができる。
【０１３４】
尚、以上のような第１及び第２の光吸収帯３６，１３６の形成を並行して行うことで、形成のための時間が短縮される。
【０１３５】
図３０を用いて、以上のような導光体の製造方法の更に別の例を説明する。この図は、上記図１４に対応するものであり、図１４におけると同様の機能を持つ部材または部分には同一の符号が付されている。
【０１３６】
この例では、先ず、図３０（ａ）に示されるような導光体素材３’を用意する。次に、図３０（ｂ）に示されるように、光入射端面対応部３１’に対する切削加工を行って光入射端面３１を形成する。この切削加工により、光入射端面３１と裏面３４との境界には裏面３４の方へと突出した突出部３９が形成される。この突出部３９は、光入射端面３１と裏面３４との境界線に沿って即ち光入射端面３１に沿って延びている。この突出部３９は、上記のように切削加工により形成することもできるが、射出成形時に成形により形成してもよい。
【０１３７】
次に、図３０（ｃ）に示されるように、裏面３４の所要の領域にインクドット３６Ａ，１３６Ａを形成する。このインクドットの形成は、上記図２８に関し説明したようにしてなされる。次に、インクドットのレベリングを行い、図３０（ｄ）に示されるように、光出射面３３の所要の領域にインク層３６Ｂ，１３６Ｂを形成する。これらのインク層の形成は、上記図２９に関し説明したようにしてなされるが、ここでは、レベリングにより形成されるインク層３６Ｂの光入射端面３１に近い側縁が突出部３９に到達するように、インクドット形成領域の位置が設定されている。即ち、図３０（ｃ）に示されるインクドット３６Ａの形成される領域は、光入射端面３１から僅かしか離れていない。これにより、インクドットのレベリングの際に流動するインクは突出部３９により光入射端面３１へと移動するのを阻止される。
【０１３８】
最後に、インク層３６Ｂ，１３６Ｂを硬化させることにより、第１及び第２の光吸収帯３６，１３６を形成する。
【０１３９】
以上の方法によれば、上記図１４に関し説明したように、第１光吸収帯３６を、光入射端面３１にかかることなく且つ該光入射端面３１の極く近くに形成することが容易である。この第１光吸収帯３６によれば、光入射端面３１から導光体３へ入射する光量の減少を抑制することができる。この方法においても、上記図１８に関し説明したことがあてはまる。
【０１４０】
本発明においては、上記図１５を参照して説明したと同様に、第１及び第２の光吸収帯３６，１３６として光拡散性または光吸収性の微粒子を含有するものを使用することができる。
【０１４１】
図３２は、本発明による面光源装置用導光体の一つの実施形態を示す模式的部分斜視図である。この図において、上記図１〜図３１におけると同様の機能を有する部材または部分には同一の符号が付されている。
【０１４２】
本実施形態においては、導光体３の裏面３４には、光入射端面３１の近傍に、該光入射端面３１に沿って延びた所定幅の略平坦面領域１３７ａが形成されている。該略平坦面領域１３７ａ以外の裏面３４の領域は、プリズム列形成面領域１３９とされている。略平坦面領域１３７ａは、上記略平坦面領域１３７と同様に、平滑面であってもよいし粗面化されていてもよい。但し、略平坦面領域１３７ａは、上記略平坦面領域１３７とは異なり、プリズム列の稜線とほぼ同一の高さ位置（Ｚ方向位置）にある。略平坦面領域１３７ａの幅は、上記略平坦面領域１３７と同程度である。この略平坦面領域１３７ａに、光入射端面３１に沿って延びた光吸収帯３６が形成されている。略平坦面領域１３７ａとプリズム列形成面領域１３９との間に上記実施形態において説明したと同様な機能を有する遷移領域を設けてもよい。
【０１４３】
本実施形態においては、略平坦面領域１３７ａがプリズム列の稜線とほぼ同一のＺ方向位置にあるので、導光体製造用の金型の作製が容易になるという利点がある。このような略平坦面領域１３７ａを、上記全ての実施形態において略平坦面領域１３７に代えて使用することができる。
【０１４４】
更に、本実施形態では、指向性光出射機構を構成するマット面とされた光出射面３３においても、光入射端面３１に沿って延びた光吸収帯２３６が形成されている。この光吸収帯２３６は、幅（Ｘ方向寸法）及び光入射端面３１に対する位置関係などが上記光吸収帯３６に関し説明したものと同等になるように構成されており、光吸収帯３６と同様な機能を有する。
【０１４５】
本実施形態によれば、光吸収帯３６に加えて、更に光吸収帯２３６を有するので、光入射端面の近傍における輝線の発生をより効果的に防止することができる。但し、この場合、光吸収帯２３６の可視光線透過率は、光吸収帯３６の可視光線透過率より低くすることが好ましい。
【０１４６】
同様にして、上記図２１〜図３０の実施形態において、光出射面３３に、光入射端面３１に沿って延びた光吸収帯２３６を形成することができる。更に、図３３に示されるように、上記図２１〜図３０の実施形態において、光出射面３３に、光吸収帯２３６に加えて、幅（Ｘ方向寸法）及び光入射端面３１に対する位置関係などが上記第２光吸収帯１３６に関し説明したものと同等になるように構成された第２光吸収帯３３６を形成してもよい。ここで、光吸収帯２３６及び第２光吸収帯３３６の作用について説明する（尚、光吸収帯３６及び第２光吸収帯１３６の作用については、上記の通りである）。
【０１４７】
光入射端面３１から導光体３内に導入された光のうちで光吸収帯２３６に到達する光Ｌ１’は、該光吸収帯によりその大半が吸収される。その残りが光出射面３３で反射されて導光体内を進行する光Ｌ２’となる。この光Ｌ２’は裏面３４から出射して光反射素子５により反射されて導光体内へと再入射し、光出射面３３から出射する。本発明では、光Ｌ２’は第１光吸収帯３６での光吸収により光Ｌ１’より十分に弱められており、このため、輝線発生は一層抑制される。
【０１４８】
また、光入射端面３１から導光体３内に導入された光のうちで、第２光吸収帯３３６に到達する光Ｌ３’は、該第２光吸収帯によりその一部が吸収される。その残りが光出射面３３で反射されて導光体内を進行する光Ｌ４’となる。この光Ｌ４’は裏面３４から出射して光反射素子５により反射されて導光体内へと再入射し、光出射面３３から出射する。本発明では、光Ｌ４’は第２光吸収帯３３６での光吸収により光Ｌ３’より弱められており、このため、上記光Ｌ２’との強度差が低減されており、従って、光Ｌ２’が光出射面から最初に出射する領域及びその近傍の光Ｌ４’が光出射面から最初に出射する領域での輝度には大きな差異がなくなる（即ち、輝度コントラストの低減に寄与する）。
【０１４９】
特に、導光体裏面３４と光入射端面３１との境界を形成するエッジ部分から導光体３内に導入され第２光吸収帯３３６に到達する光Ｌ５’は、該第２光吸収帯によりその一部が吸収される。その残りが光出射面３３で反射されて導光体内を進行する光Ｌ６’となる。この光Ｌ６’は裏面３４から出射して光反射素子５により反射されて導光体内へと再入射し、光出射面３３から出射する。本発明では、光Ｌ６’は第２光吸収帯３３６での光吸収により光Ｌ５’より弱められており、このため、上記光Ｌ２’との強度差が低減されており、従って、光Ｌ２’が光出射面から最初に出射する領域及びその近傍の光Ｌ６’が光出射面から最初に出射する領域での輝度には大きな差異がなくなる（即ち、輝度コントラストの低減に寄与する）。
【０１５０】
また、一次光源１から発せられた光のうちの一部は、光源リフレクタ２により反射され、光入射端面３１に至ることなく光吸収帯２３６及び第２光吸収帯３３６に到達し、ここでその大半が吸収される。このため、輝線発生は一層抑制される。
【０１５１】
このような光出射面３３での光吸収帯２３６及び第２光吸収帯３３６の形成は、上記図１〜図２０の実施形態において追加採用してもよい。
【０１５２】
以上の実施形態では、導光体３の裏面３４にプリズム列形成面を設け、光出射面３３に光出射機構を設けているが、逆に、導光体３の裏面３４に光出射機構たとえば粗面を設け、光出射面３３にプリズム列形成面を設けてもよい。即ち、上記図１〜図２０の実施形態あるいは上記図２１〜図３０の実施形態あるいは上記図３２の実施形態その他の上記実施形態において、光吸収帯３６，２３６及び第２光吸収帯１３６，３３６ともども導光体３の配置を上下逆転させて或いは光吸収帯３６，２３６及び第２光吸収帯１３６，３３６の配置は維持したままで導光体３の配置を上下逆転させて、プリズム列形成面を光出射面となし且つ粗面を裏面側に配置してもよい。そのような配置であっても、光吸収帯更には第２光吸収帯の作用に基づき上記実施形態で説明したと同様な作用効果が得られる。
【０１５３】
尚、その場合において、プリズム列の形成された光出射面または裏面に上記光吸収帯３６及び第２光吸収帯１３６を形成しないケースであっても、上記略平坦面領域１３７，１３７ａを形成しておくことにより、輝線発生は更に抑制される。これは、略平坦面領域１３７，１３７ａを形成していない場合には、光源リフレクタ２の端縁と導光体のプリズム列形成面との間に隙間ができやすく、この隙間を介して一次光源１からプリズム列形成面への光入射があり、これが輝線発生の要因となる場合があるが、略平坦面領域１３７，１３７ａを形成している場合には、光源リフレクタ２の端縁と導光体のプリズム列形成面との間に隙間ができにくく、従って一次光源１からプリズム列形成面への光入射が生じにくく、このため輝線発生の要因が１つ減少するからであると考えられる。
【実施例】
【０１５４】
以下、実施例によって本発明を説明する。
【０１５５】
［実施例１〜９、比較例１〜３］
アクリル樹脂（三菱レイヨン（株）製アクリペット［商品名］）を用い射出成形することによって、一方の面がマット面で、他方の面がプリズム頂角１００度、頂部先端曲率半径１５μｍ、ピッチ５０μｍのプリズム列が短辺と平行になるように連設配列されたプリズムパターンを備えたプリズム列形成面である矩形状で且つくさび状の導光体素材を作製した。但し、この導光体素材は、プリズム列の形成された前記他方の面の全体にプリズム列を形成したものではなく、肉厚の大きい方の長辺から種々の幅（実施例１〜９及び比較例１〜３）にプリズム列の谷線とほぼ同一の高さ位置にある略平坦面からなる領域を持ち、更に、平坦面からプリズム列形成面へと徐々に移行する幅５００μｍの遷移領域をもつものとされた。
【０１５６】
この導光体素材のプリズム列形成面の略平坦面領域に、肉厚の大きい方の長辺から種々の幅（実施例１〜１１及び比較例１〜５）にスクリーン印刷により下記の黒色インクを塗布して光吸収帯対応部を形成した。遷移領域及びプリズム列形成面領域へのインクの滲み移行の発生は実質上なかった。なお、同様な方法で、黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は３０％であった。
【０１５７】
黒色インク：
アクリル酸オリゴマー：４５重量％
アクリル酸イソボルニル：１７重量％
１，６−ヘキサンジオールアクリレート：１５重量％
テトラヒドロフルフリルアクリレート：１５重量％
ベンゾフェノン：３重量％
カーボンブラック：５重量％
次に、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って光吸収帯対応部の一部を含む不要部分を切除することで、切削加工面として形成された光入射端面及び光吸収帯を有する導光体を得た。導光体は、２３０ｍｍ×２９０ｍｍ、厚さ２．６ｍｍ−０．７ｍｍのクサビ板状をなしており、エッジ部分の曲率半径Ｒは４０μｍであり、光入射面との距離が０μｍの光吸収帯の幅は、次のとおりであった。尚、導光体素材は、得られる導光体の略平坦面領域の幅が光吸収帯の幅より約５０μｍ大きい寸法となるように、作製された：
実施例１―――８００μｍ
実施例２―――７００μｍ
実施例３―――６００μｍ
実施例４―――５００μｍ
実施例５―――４００μｍ
実施例６―――３００μｍ
実施例７―――２００μｍ
実施例８―――１５０μｍ
実施例９――――７５μｍ
比較例１――――２０μｍ
比較例２――１５００μｍ
比較例３――――２０μｍ（光入射端面側にも２０μｍ幅の光吸収帯を連続して形成）。
【０１５８】
導光体の長さ２９０ｍｍの辺（長辺）に対応する一方の側端面（厚さ２．６ｍｍの側の端面）に対向するようにして、長辺に沿って冷陰極管を光源リフレクタ（麗光社製銀反射フィルム）で覆い配置した。さらに、その他の側端面に光拡散反射フィルム（東レ社製Ｅ６０［商品名］）を貼付し、プリズム列配列の面（裏面）に対向するように反射シートを配置した。以上の構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０１５９】
ここで、光源リフレクタは導光体裏面の端縁部外面から一次光源の外面を経て導光体光出射面の端縁部へと巻きつけられ、光吸収帯が光源リフレクタの端縁部により覆われる（但し、比較例２は光吸収帯の一部が光源リフレクタの端縁部により覆われる）ように、光源リフレクタの端縁を導光体光入射端面から１．３ｍｍだけ裏面の上方へと突出させた。また、枠体は、導光体光出射面外周部の幅２．５ｍｍの領域を遮蔽するように（即ち、額縁状領域の幅が２．５ｍｍとなるように）した。即ち、光源リフレクタの端縁部は、額縁状領域内に位置しており、光吸収帯は、額縁状領域内即ち面光源装置の有効発光領域外に位置していた。
【０１６０】
一方、屈折率１．５０６４のアクリル系紫外線硬化性樹脂を用いて、片方のプリズム面の曲率半径が４００μｍである凸曲面形状で、他方のプリズム面が平面形状で、ピッチ５０μｍの多数のプリズム列が並列に連設されたプリズム列を厚さ１２５μｍのポリエステルフィルムの一方の表面に形成したプリズムシートを作製した。
【０１６１】
得られたプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０１６２】
以上のようにして得られた実施例１〜９及び比較例１〜３の面光源装置について、同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、実施例１〜９のものでは導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線は実使用に差し支えのない程度に目立たないものであり且つ全体の輝度の低下は実使用には差し支えない程度のものであったが、比較例１のものでは導光体光入射端面の近傍での明確な輝線が認められ、また比較例２のものでは実施例１〜９のものに比べて導光体光入射端面の近傍での明るさの低下が認められ、比較例３のものでは実施例１〜９のものに比べて輝度の低下および表示エリア内での暗線が認められた。
【０１６３】
［実施例１０］
実施例１と同様にして、導光体素材を作製した。その後、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。導光体は、２３０ｍｍ×２９０ｍｍ、厚さ２．６ｍｍ−０．７ｍｍのクサビ板状をなしていた。このプリズムパターンを形成した導光体素材のプリズム列形成面（裏面）の幅約４００μｍの略平坦面領域に、インクジェット法により下記の紫外線硬化型黒色インクを多数ドロップして、図１２に示すような幅Ｗ’が約２１０μｍで距離Ｄ’が約６０μｍの領域に直径約７０μｍの多数の互いに独立したインクドットを形成した。その状態にて５秒間インクドットをレベリングさせることで、図１３に示すような幅Ｗが約３００μｍで距離Ｄが約１０μｍの領域に全体にわたって連続したインク層を形成した。その時点で、紫外線を照射してインク層を硬化させ、略直線状の光吸収帯を形成した。
【０１６４】
インクジェット法：
ヘッド速度：４００ｍｍ／秒
ヘッド温度：５５℃
ピエゾ素子による圧送方式
紫外線硬化型黒色インク（インク９５重量％＋メチルメタクリレート５重量％）：
インク組成：
アクリル酸オリゴマー：４２重量％
アクリル酸イソボルニル：１５重量％
１，６−ヘキサンジオールアクリレート：２０重量％
アクリル酸アミン／アクリル酸エステル混合物：１５重量％
ベンゾフェノン：３重量％
カーボンブラック：５重量％
インク粘度（５５℃）：１０ｃｐ
インク表面張力（５５℃）：３０ｍＮ／ｍ
なお、同様な方法で、紫外線硬化型黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は２０％であった。
【０１６５】
得られた導光体を、実施例１と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０１６６】
実施例１と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０１６７】
以上のようにして得られた面光源装置について、一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線はほとんど目立たなかった。
【０１６８】
［比較例４］
実施例１と同様の導光体素材を作製し、その後、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。本比較例では光吸収帯を形成しなかった。
【０１６９】
得られた導光体を、実施例１と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０１７０】
実施例１と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０１７１】
以上のようにして得られた面光源装置について、実施例１０と同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、導光体光入射端面の近傍での明確な輝線が認められた。
【０１７２】
［実施例１１］
実施例１と同様にして、導光体素材を作製した。その後、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。導光体は、２３０ｍｍ×２９０ｍｍ、厚さ２．６ｍｍ−０．７ｍｍのクサビ板状をなしていた。このプリズムパターンを形成した導光体素材のプリズム列形成面（裏面）の幅約４００μｍの略平坦面領域に、実施例１０と同様にしてインクジェット法により紫外線硬化型黒色インクを多数ドロップして、図１２に示すような幅Ｗ’が約２１０μｍで距離Ｄ’が約６０μｍの領域に直径約７０μｍの多数のインクドットを形成した。その直後に、インクドットをレベリングさせないように、紫外線を照射してインクドットを硬化させ、略直線状の光吸収帯を形成した。この光吸収帯は、各インクドットが互いに独立に位置しており、幅が約２１０μｍで、光入射端面からの距離が約６０μｍであった。
【０１７３】
なお、同様な方法で、紫外線硬化型黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は２０％であった。
【０１７４】
得られた導光体を、実施例１と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０１７５】
実施例１と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０１７６】
以上のようにして得られた面光源装置について、実施例１０と同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、実施例１０のものに比べてやや輝度の低下が認められ、更に導光体光入射端面の近傍で若干の輝線が認められた。
【０１７７】
［実施例１２〜２０、比較例５〜７］
実施例１と同様にして、一方の面がマット面で、他方の面がプリズム頂角１００度、頂部先端曲率半径１５μｍ、ピッチ５０μｍのプリズム列が短辺と平行になるように連設配列されたプリズムパターンを備えたプリズム列形成面である矩形状で且つくさび状の導光体素材を作製した。但し、この導光体素材は、プリズム列の形成された前記他方の面の全体にプリズム列を形成したものではなく、肉厚の大きい方の長辺から種々の幅（実施例１２〜２０及び比較例５〜７）にプリズム列の稜線とほぼ同一の高さ位置にある略平坦面からなる領域を持ち、更に、平坦面からプリズム列形成面へと徐々に移行する幅５０μｍの遷移領域をもつものとされた。この導光体素材のプリズム列形成面の略平坦面領域に、実施例１と同様にして、但し肉厚の大きい方の長辺から種々の幅（実施例１２〜２０及び比較例５〜７）に、スクリーン印刷により黒色インクを塗布して光吸収帯対応部を形成した。遷移領域及びプリズム列形成面領域へのインクの滲み移行の発生はなかった。なお、同様な方法で、黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は４０％であった。更に、導光体素材のマット面に、実施例６と同様なスクリーン印刷により黒色インクを塗布して光吸収帯対応部を形成した。
【０１７８】
次に、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って導光体素材の両面の光吸収帯対応部の一部を含む不要部分を切除することで、切削加工面として形成された光入射端面及び両面の光吸収帯を有する導光体を得た。導光体は、２３０ｍｍ×２９０ｍｍ、厚さ２．６ｍｍ−０．７ｍｍのクサビ板状をなしており、エッジ部分の曲率半径Ｒは４０μｍであり、光入射面との距離が０μｍの裏面側の光吸収帯の幅は、次のとおりであった。尚、導光体素材は、得られる導光体の略平坦面領域の幅が光吸収帯の幅より約１００μｍ大きい寸法となるように、作製された：
実施例１２―――８００μｍ
実施例１３―――７００μｍ
実施例１４―――６００μｍ
実施例１５―――５００μｍ
実施例１６―――４００μｍ
実施例１７―――３００μｍ
実施例１８―――２００μｍ
実施例１９―――１５０μｍ
実施例２０――――７５μｍ
比較例５――――２０μｍ
比較例６――１５００μｍ
比較例７――――２０μｍ（光入射端面側にも２０μｍ幅の光吸収帯を連続して形成）。
【０１７９】
得られた導光体を、実施例１と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０１８０】
ここで、光源リフレクタは導光体裏面の端縁部外面から一次光源の外面を経て導光体光出射面の端縁部へと巻きつけられ、光吸収帯が光源リフレクタの端縁部により覆われる（但し、比較例６は光吸収帯の一部が光源リフレクタの端縁部により覆われる）ように、光源リフレクタの端縁を導光体光入射端面から１．３ｍｍだけ裏面の上方及び光出射面の上方へと突出させた。また、枠体は、導光体光出射面外周部の幅２．５ｍｍの領域を遮蔽するように（即ち、額縁状領域の幅が２．５ｍｍとなるように）した。即ち、光源リフレクタの端縁部は、額縁状領域内に位置しており、光吸収帯は、額縁状領域内即ち面光源装置の有効発光領域外に位置していた。
【０１８１】
実施例１と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０１８２】
以上のようにして得られた実施例１２〜２０及び比較例５〜７の面光源装置について、同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、実施例１２〜２０のものでは導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線はほとんど目立たなかったが、比較例５のものでは導光体光入射端面の近傍での明確な輝線が認められ、また比較例６のものでは実施例１２〜２０のものに比べて導光体光入射端面の近傍での明るさの低下が認められ、比較例７のものでは実施例１２〜２０のものに比べて輝度の低下および表示エリア内での暗線が認められた。
【０１８３】
［実施例２１］
実施例１２と同様にして、導光体素材を作製した。その後、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。導光体は、２３０ｍｍ×２９０ｍｍ、厚さ２．６ｍｍ−０．７ｍｍのクサビ板状をなしていた。この導光体のプリズム列形成面（裏面）の幅約２５０μｍの略平坦面領域に、実施例１０と同様にしてインクジェット法により多数の互いに独立したインクドットを形成し、該インクドットをレベリングさせることで、図１３に示すような幅Ｗが約１５０μｍで距離Ｄが約１０μｍの領域に全体にわたって連続したインク層を形成した。その時点で、紫外線を照射してインク層を硬化させ、略直線状の光吸収帯を形成した。なお、同様な方法で、紫外線硬化型黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は４０％であった。
【０１８４】
更に、導光体の光出射面に、実施例１０と同様なインクジェット法により多数の互いに独立したインクドットを形成し、該インクドットをレベリングさせることで、幅が約２５０μｍで光入射端面からの距離が約１０μｍの領域に全体にわたって連続したインク層を形成した。その時点で、紫外線を照射してインク層を硬化させ、略直線状の光吸収帯を形成した。なお、同様な方法で、紫外線硬化型黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は２０％であった。
【０１８５】
得られた導光体を、実施例１と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０１８６】
実施例１と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０１８７】
以上のようにして得られた面光源装置について、一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線はほとんど目立たなかった。
【０１８８】
［実施例２２〜３２、比較例８〜１２］
実施例１と同様にして、一方の面がマット面で、他方の面がプリズム頂角１００度、頂部先端曲率半径１５μｍ、ピッチ５０μｍのプリズム列が短辺と平行になるように連設配列されたプリズムパターンを備えたプリズム列形成面である矩形状で且つくさび状の導光体素材を作製した。但し、この導光体素材は、プリズム列の形成された前記他方の面の全体にプリズム列を形成したものではなく、肉厚の大きい方の長辺から種々の幅（実施例２２〜３２及び比較例８〜１２）にプリズム列の稜線とほぼ同一の高さ位置にある略平坦面からなる領域を持ち、更に、平坦面からプリズム列形成面へと徐々に移行する幅５０μｍの遷移領域をもつものとされた。この導光体素材のプリズム列形成面の略平坦面領域に、肉厚の大きい方の長辺から種々の幅（実施例２２〜３２及び比較例８〜１２）に実施例１と同様なスクリーン印刷により黒色インクを塗布して第１光吸収帯対応部を形成した。それと同様な方法で、黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は３０％であった。同時に、スクリーン印刷により黒色インクを塗布して第１光吸収帯対応部から離れた領域に第２光吸収帯を形成した。それと同様な方法で、黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は８０％であった。
【０１８９】
次に、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って第１光吸収帯対応部の一部を含む不要部分を切除することで、切削加工面として形成された光入射端面及び第１光吸収帯、更には第２光吸収帯を有する導光体を得た。導光体は、２３０ｍｍ×２９０ｍｍ、厚さ２．６ｍｍ−０．７ｍｍのクサビ板状をなしており、エッジ部分の曲率半径Ｒは４０μｍであり、光入射端面との距離Ｄ１が０μｍの第１光吸収帯の幅Ｗ１、光入射端面と第２光吸収帯との間の距離Ｄ２及び第２光吸収帯の幅Ｗ２は、次のとおりであった。尚、導光体素材は、得られる導光体の略平坦面領域が、第２光吸収帯の光入射端面から遠い側縁より約１００μｍだけ光入射端面から遠い位置まで存在することになるように、作製された：
実施例２２―――Ｗ１＝５００μｍ，Ｄ２＝１０００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
実施例２３―――Ｗ１＝４００μｍ，Ｄ２＝１０００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
実施例２４―――Ｗ１＝３００μｍ，Ｄ２＝１０００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
実施例２５―――Ｗ１＝２００μｍ，Ｄ２＝１０００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
実施例２６―――Ｗ１＝１５０μｍ，Ｄ２＝１０００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
実施例２７―――Ｗ１＝７５μｍ，Ｄ２＝１０００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
実施例２８―――Ｗ１＝３００μｍ，Ｄ２＝１１００μｍ，Ｗ２＝７００μｍ
実施例２９―――Ｗ１＝３００μｍ，Ｄ２＝９００μｍ，Ｗ２＝３００μｍ
実施例３０―――Ｗ１＝３００μｍ，Ｄ２＝９００μｍ，Ｗ２＝１５０μｍ
実施例３１―――Ｗ１＝３００μｍ，Ｄ２＝９００μｍ，Ｗ２＝７５μｍ
実施例３２―――Ｗ１＝３００μｍ，Ｄ２＝１１００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
比較例８―――Ｗ１＝２０μｍ，Ｄ２＝９００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
比較例９―――Ｗ１＝８００μｍ，Ｄ２＝９００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
比較例１０―――Ｗ１＝３００μｍ，Ｄ２＝２７００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ
比較例１１―――Ｗ１＝３００μｍ，Ｄ２＝４００μｍ，Ｗ２＝１０００μｍ
比較例１２―――Ｗ１＝２０μｍ，Ｄ２＝９００μｍ，Ｗ２＝２００μｍ（光入射端面側にも２０μｍ幅の光吸収帯を連続して形成）。
【０１９０】
導光体の長さ２９０ｍｍの辺（長辺）に対応する一方の側端面（厚さ２．６ｍｍの側の端面）に対向するようにして、長辺に沿って冷陰極管を正反射傾向の強い光源リフレクタ（麗光社製銀反射フィルム）で覆い配置した。さらに、その他の側端面に光拡散反射フィルム（東レ社製Ｅ６０［商品名］）を貼付し、プリズム列配列の面（裏面）に対向するように反射シートを配置した。以上の構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０１９１】
ここで、光源リフレクタは導光体裏面の端縁部外面から一次光源の外面を経て導光体光出射面の端縁部へと巻きつけられ、第１光吸収帯及び第２光吸収帯が光源リフレクタの端縁部により覆われる（但し、実施例２８及び比較例１０は第２光吸収帯の一部が光源リフレクタの端縁部により覆われる）ように、光源リフレクタの端縁を導光体光入射端面から１．３ｍｍだけ裏面の上方へと突出させた。また、枠体は、導光体光出射面外周部の幅２．５ｍｍの領域を遮蔽するように（即ち、額縁状領域の幅が２．５ｍｍとなるように）した。即ち、光源リフレクタの端縁部は、額縁状領域内に位置しており、第１及び第２の光吸収帯は、額縁状領域内即ち面光源装置の有効発光領域外に位置していた（但し、比較例１０は、第２の光吸収帯が額縁状領域外即ち面光源装置の有効発光領域内に位置していた）。
【０１９２】
実施例１と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０１９３】
以上のようにして得られた実施例２２〜３２及び比較例８〜１２の面光源装置について、同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、実施例２２〜３２のものでは導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線は実使用に差し支えのない程度に目立たないものであり且つ全体の輝度の低下は実使用には差し支えない程度のものであった。中でも、実施例４及び７のものが最も良好であった。尚、実施例２２〜２６、２８〜３０及び３２のものでは導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線は殆ど認められなかった。実施例２３〜２７及び２９〜３２のものでは全体の輝度の低下は殆ど認められなかった。これに対して、比較例８のものでは導光体光入射端面の近傍での明確な輝線が認められ、比較例９のものでは実施例２２〜３２のものに比べて導光体光入射端面の近傍での明るさの低下が認められ、比較例１０及び１１のものでは実施例２２〜３２のものに比べて導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線が認められ、比較例１２のものでは実施例２２〜３２のものに比べて全体の輝度の低下および有効発光領域内での暗線が認められた。
【０１９４】
［実施例３３］
実施例２２と同様にして、導光体素材を作製した。その後、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。導光体は、２３０ｍｍ×２９０ｍｍ、厚さ２．６ｍｍ−０．７ｍｍのクサビ板状をなしていた。この導光体のプリズム列形成面（裏面）の幅約１１００μｍの略平坦面領域に、実施例１０と同様にしてインクジェット法により紫外線硬化型黒色インクを多数ドロップして、図２２に示すような幅Ｗ１’が約３００μｍで距離Ｄ１’が約６０μｍの領域に直径約７０μｍの多数の互いに独立した第１光吸収帯用のインクドットを形成した。同時に、インクジェット法により直径約７０μｍの多数の互いに独立した第２光吸収帯用のインクドットを形成した。その状態にて５秒間インクドットをレベリングさせることで、図２３に示すような幅Ｗ１が約４００μｍで距離Ｄ１が約１０μｍの領域に全体にわたって連続した第１光吸収帯用のインク層を形成した。同時に、同様なレベリングにより第２光吸収帯用のインク層を形成した。その時点で、紫外線を照射してインク層を硬化させ、略直線状の第１及び第２の光吸収帯を形成した。
【０１９５】
なお、同様な方法で、紫外線硬化型黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は、第１光吸収帯のものが２０％で、第２光吸収帯のものが８０％であった。
【０１９６】
得られた導光体を、実施例１と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０１９７】
実施例１と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０１９８】
以上のようにして得られた面光源装置について、一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線はほとんど目立たなかった。
【０１９９】
［実施例３４］
実施例３３と同様にして得た導光体のプリズム列形成面（裏面）の略平坦面領域に、実施例３３と同様にしてインクジェット法により紫外線硬化型黒色インクを多数ドロップして、図２２に示すような幅Ｗ１’が約３００μｍで距離Ｄ１’が約６０μｍの領域に直径約７０μｍの多数の互いに独立した第１光吸収帯用のインクドットを形成した。同時に、インクジェット法により直径約７０μｍの多数の互いに独立した第２光吸収帯用のインクドットを形成した。その直後に、インクドットをレベリングさせないように、紫外線を照射してインクドットを硬化させ、略直線状の第１及び第２の光吸収帯を形成した。
【０２００】
なお、同様な方法で、紫外線硬化型黒色インクを厚さ２ｍｍの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は、第１光吸収帯のものが２０％で、第２光吸収帯のものが８０％であった。
【０２０１】
得られた導光体を、実施例１と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布（ＸＺ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して７０度、半値全幅が２２．５度であった。
【０２０２】
実施例１と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面（マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。
【０２０３】
以上のようにして得られた面光源装置について、実施例３３と同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、実施例３３のものに比べてやや輝度の低下が認められ、更に導光体光入射端面の近傍で若干の輝線が認められた。
【０２０４】
［実施例３５］
実施例３３と同様にして導光体を得た。切削加工により光入射端面と裏面の略平坦面領域との境界に略平坦面領域の他の領域に対して隆起して突出した突出部が形成された。この突出部は、高さが１０μｍで高さの半値全幅が１０μｍであった。実施例３３と同様にして、インクドットを形成しレベリングさせることで、インク層を形成した。但し、第１光吸収帯に関する上記インクドットの形成領域の位置は、レベリングによりインク層が突出部に到達するように設定した。
【０２０５】
得られた導光体を用いて実施例３３と同様にして得た面光源装置について、一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、導光体光入射端面の近傍での輝線および暗線はほとんど目立たなかった。
【図面の簡単な説明】
【０２０６】
【図１】本発明による面光源装置の一つの実施形態を示す模式的斜視図である。
【図２】導光体を一次光源と共に示す模式的平面図である。
【図３】本発明による導光体の製造方法の一例を説明するための図である。
【図４】本発明による導光体の製造方法の一例を説明するための図である。
【図５】光偏向素子による光偏向の様子を示す図である。
【図６】光拡散素子を一次光源と共に示す模式的平面図である。
【図７】本発明による面光源装置をバックライトとした液晶表示装置の模式的部分断面図である。
【図８】導光体の模式的部分断面図である。
【図９】導光体の模式的部分断面図である。
【図１０】導光体と光吸収帯の可視光線透過率とを示す図である。
【図１１】導光体と光吸収帯の可視光線透過率とを示す図である。
【図１２】導光体の製造方法の例を示す説明図である。
【図１３】導光体の製造方法の例を示す説明図である。
【図１４】導光体の製造方法の例を示す説明図である。
【図１５】導光体の部分断面図である。
【図１６】導光体のエッジ部分の拡大図である。
【図１７】導光体のエッジ部分の拡大図である。
【図１８】本発明による面光源装置の一つの実施形態を示す模式的斜視図である。
【図１９】導光体を一次光源と共に示す模式的部分斜視図である。
【図２０】導光体を示す模式的部分底面図である。
【図２１】本発明による面光源装置の一つの実施形態を示す模式的斜視図である。
【図２２】導光体を一次光源と共に示す模式的平面図である。
【図２３】本発明による導光体の製造方法の一例を説明するための図である。
【図２４】本発明による導光体の製造方法の一例を説明するための図である。
【図２５】本発明による面光源装置をバックライトとした液晶表示装置の模式的部分断面図である。
【図２６】導光体と光吸収帯の可視光線透過率とを示す図である。
【図２７】導光体と光吸収帯の可視光線透過率とを示す図である。
【図２８】導光体の製造方法の例を示す説明図である。
【図２９】導光体の製造方法の例を示す説明図である。
【図３０】導光体の製造方法の例を示す説明図である。
【図３１】導光体を示す模式的部分底面図である。
【図３２】導光体を示す模式的部分斜視図である。
【図３３】本発明による面光源装置をバックライトとした液晶表示装置の模式的部分断面図である。
【符号の説明】
【０２０７】
１  一次光源
２  光源リフレクタ
３  導光体
３’  導光体素材
３１  光入射端面
３１’  光入射端面対応部
３２  側端面
３３  光出射面
３４  裏面
３４’  裏面対応部
３６，２３６  光吸収帯（第１光吸収帯）
３６−１  光吸収帯第１領域
３６−２  光吸収帯第２領域
３６Ａ  インクドット
３６Ｂ  インク層
３６’  光吸収帯対応部
１３６，３３６  第２光吸収帯
１３６−１  第２光吸収帯第１領域
１３６−２  第２光吸収帯第２領域
１３６−３  第２光吸収帯第３領域
１３６Ａ  第２光吸収帯用のインクドット
１３６Ｂ  第２光吸収帯用のインク層
１３６’  第２光吸収帯対応部
１３７  略平坦面領域
１３８  遷移領域
１３９  プリズム列形成面領域
３７  凹凸の凸部
３８  光拡散性微粒子
３９  突出部
４  光偏向素子
４１  入光面
４２  出光面
５  光反射素子
６  光拡散素子
６１  入射面
６２  出射面
６４  ドットパターン部
６４’  ドット状光吸収性塗材
７０  凹部
【図１】
2006244959.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006244959.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2006244959.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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