(57)【要約】【課題】より小型化された加速度計を形成すること。【解決手段】櫛形をなす容量型加速度計であって、基板（５）と、第１可動電極（２）と、第１固定電極（４Ａ，４Ｂ）と、を具備し、これにより、相互噛合した櫛からなる第１微小構造（２０）が形成され、さらに、第２可動電極（４０）と第２固定電極（４２）とから構成された、相互噛合した櫛からなる少なくとも１つの第２微小構造（２２）を具備し、第２微小構造（２２）が、第１微小構造（２０）に対して、重ね合わされた位置に配置され、このような加速度計において、第２可動電極（４０）および第２固定電極（４２）が、第１可動電極（２）および第１固定電極（４）と同じ基板に、エッチングによって形成されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
櫛形をなす容量型加速度計であって、
基板（５）と、
この基板（５）に対して移動自由とされるとともに、一組をなす複数の可動フィンガー（７）が設けられた、第１可動電極（２）と、
前記基板（５）に対して固定されているとともに、一組をなす複数の固定フィンガー（８Ａ，８Ｂ）が設けられた、第１固定電極（４Ａ，４Ｂ）と、
を具備し、
前記複数の可動フィンガー（７）の各々が、互いに隣接した２つの固定フィンガー（８Ａ，８Ｂ）の間に配置され、これにより、相互噛合した櫛からなる第１微小構造（２０）が形成され、
前記加速度計が、さらに、
少なくとも１つの第２可動電極（４０）と少なくとも１つの第２固定電極（４２）とから構成された、相互噛合した櫛からなる少なくとも１つの第２微小構造（２２）を具備し、
この少なくとも１つの第２微小構造（２２）が、前記第１微小構造（２０）に対して、重ね合わされた位置に配置され、
このような加速度計において、
前記第２可動電極（４０）および前記第２固定電極（４２）が、前記第１可動電極（２）および前記第１固定電極（４）と同じ基板に、エッチングによって形成されていることを特徴とする加速度計。
【請求項２】
請求項１記載の加速度計において、
前記第１可動電極（２）および前記第２可動電極（４０）の各々が、中央に位置した可動質量部分（６）と、この可動質量部分（６）から両側方に延出された複数の可動フィンガー（７）と、から構成され、
前記第１固定電極（４）および前記第２固定電極（４２）の各々が、前記可動質量部分（６）に関して対称に配置された２つの部分から構成され、
これら２つの部分の各々が、前記可動質量部分（６）に向けて延出された複数の固定フィンガー（８）を備え、
前記各可動フィンガー（７）が、互いに隣接した２つの前記固定フィンガー（８Ａ，８Ｂ）の間に配置されていることを特徴とする加速度計。
【請求項３】
請求項２記載の加速度計において、
前記第１および第２可動電極（２，４０）の前記可動フィンガー（７）と、前記第１および第２固定電極（４，４２）の前記固定フィンガー（８Ａ，８Ｂ）とが、互いに連結されていることを特徴とする加速度計。
【請求項４】
請求項２記載の加速度計において、
前記第１および第２可動電極（２，４０）の前記可動フィンガー（７）と、前記第１および第２固定電極（４，４２）の前記固定フィンガー（８Ａ，８Ｂ）とが、互いに分離されていることを特徴とする加速度計。
【請求項５】
請求項４記載の加速度計において、
前記第１および第２可動電極（２，４０）の前記可動フィンガー（７）どうしが、鉛直方向において互いに位置合わせされ、
前記第１および第２固定電極（４，４２）の前記固定フィンガー（８Ａ，８Ｂ）どうしが、鉛直方向において互いに位置合わせされていることを特徴とする加速度計。
【請求項６】
請求項４記載の加速度計において、
前記第１および第２可動電極（２，４０）の前記可動フィンガー（７）どうしが、鉛直方向において互いにオフセットされ、
前記第１および第２固定電極（４，４２）の前記固定フィンガー（８Ａ，８Ｂ）どうしが、鉛直方向において互いにオフセットされていることを特徴とする加速度計。
【請求項７】
請求項４記載の加速度計において、
相互噛合した櫛からなる前記第１微小構造（２０）をなす前記可動フィンガー（７）と前記固定フィンガー（８）と前記可動質量部分（６）とが、相互噛合した櫛からなる前記第２微小構造（２２）をなす前記可動フィンガー（７）と前記固定フィンガー（８）と前記可動質量部分（６）とに対して、９０°だけ回転した配置とされていることを特徴とする加速度計。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の加速度計において、
前記第１および第２微小構造（２０，２２）の前記可動質量部分（６）どうしが、互いに連結されていることを特徴とする加速度計。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の加速度計において、
前記第１および第２微小構造（２０，２２）の前記可動質量部分（６）どうしが、互いに分離されていることを特徴とする加速度計。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の加速度計において、
前記第１および第２微小構造（２０，２２）が、両端部のところにおいて、フレキシブルロッド（１２）を介して、前記基板に対して連結されていることを特徴とする加速度計。
【請求項１１】
請求項１０記載の加速度計において、
前記第１可動電極（２）の前記フレキシブルロッド（１２）が、前記第２可動電極（４０）の前記フレキシブルロッド（１２）に対して連結されていることを特徴とする加速度計。
【請求項１２】
請求項１０記載の加速度計において、
前記第１可動電極（２）の前記フレキシブルロッド（１２）と、前記第２可動電極（４０）の前記フレキシブルロッド（１２）とが、互いに分離されていることを特徴とする加速度計。
【請求項１３】
請求項１０記載の加速度計において、
前記フレキシブルロッド（１２）が、前記基板（５）を直接的にエッチングすることによって形成されていることを特徴とする加速度計。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載された櫛形をなす容量型加速度計を、埋設犠牲層（２４）を備えた第１基板（５）上に形成するための方法であって、
−前記第１基板（５）の両面上において、前記埋設犠牲層（２４）の両サイドのところに、相互噛合した櫛からなる第１微小構造（２０）と、この第１微小構造に対して重ね合わせられる相互噛合した櫛からなる第２微小構造（２２）と、を形成するためのマスクを形成し、
−前記第１基板（５）の一方の面上において、前記埋設犠牲層（２４）を停止層として使用することにより、固定フィンガー（８）と可動フィンガー（７）と可動質量部分（６）と復帰アーム（１２）とを備えてなる前記第１微小構造（２０）を、エッチングにより形成し、
−第２基板（２６）の一方の面上にキャビティを形成し、
−前記第２基板（２６）のうちの、前記キャビティが形成されている方の面上へと、前記第１基板（５）のうちの、前記第１微小構造（２０）を具備している方の面を、シールし、
−前記埋設犠牲層（２４）を停止層として使用することにより、固定フィンガー（８）と可動フィンガー（７）と可動質量部分（６）と復帰アーム（１２）とを備えてなる前記第２微小構造（２２）を、エッチングにより形成し、
−前記埋設犠牲層（２４）の少なくとも一部を除去する、
ことを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の方法において、
前記埋設犠牲層（２４）を、前記エッチングステップによって前記埋設犠牲層が露出されたところにおいて、除去することを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の方法において、
前記埋設犠牲層（２４）を、ドライエッチングによって除去することを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１４記載の方法において、
前記埋設犠牲層（２４）を、前記第１微小構造（２０）の前記フィンガーと前記第２微小構造（２２）の前記フィンガーとを連結しているところにおいて、除去することを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１７記載の方法において、
前記埋設犠牲層（２４）を、前記可動質量部分（６）のところにおいて、除去することを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１８記載の方法において、
前記埋設犠牲層（２４）を、液体状態または蒸気状態とされたフッ酸（ＨＦ）を使用したエッチングによって、除去することを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１４記載の方法において、
前記シールステップと前記エッチングステップとの間において、前記基板（５）の露出面を薄肉化するというステップを行い、この薄肉化ステップに際しては、前記埋設犠牲層（２４）に到達する前に停止することを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項２０記載の方法において、
前記薄肉化ステップを、ＫＯＨによるエッチングステップとして行うことを特徴とする方法。
【請求項２２】
請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の方法において、
前記基板（５）を、埋設犠牲ＳｉＯ２ 製酸化物層（２４）を備えてなるＳＯＩタイプの基板とすることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコン製微小センサに関するものであり、より詳細には、微小機械加工された櫛に基づく容量型の加速度計に関するものであって、基板と、この基板に対して移動自由とされかつ一組をなす複数の可動検出フィンガーを有した電極と、基板に対して固定されかつ一組をなす複数の固定フィンガーを有した電極と、を具備し、可動フィンガーの各々が、一組をなす可変キャパシタを形成するようにして、互いに隣接した２つの固定フィンガーの間に配置されているような、加速度計に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１は、従来技術による相互噛合した櫛形の加速度計を概略的に示す斜視図であって、同一のシリコン基板５上においてエッチング形成された第１電極２および第２電極４を具備している。第１電極２は、可動質量部分６を備えており、この可動質量部分６には、側方へと延出された複数のフィンガー７が設けられている。第２電極４は、可動質量部分６の両サイドに配置された２つの部分４Ａ，４Ｂから構成されている。各部分４Ａ，４Ｂは、可動フィンガー７に対して平行に延在した複数の固定フィンガー８を備えている。各可動フィンガー７は、相互噛合した櫛形微小構造を形成するようにして、互いに隣接した２つの固定フィンガーの間に配置されている。可動質量部分６は、復帰スプリングを構成するフレキシブルロッド１２を介して、基板５に対して取り付けられている。
【０００３】
動作時には、可動質量部分６の長手方向軸線方向に沿った加速度の効果を受けて、可動質量部分６は、平面内において、基板５に対して移動し、これにより、固定フィンガー８に対しての、可動フィンガー７の相対変位を引き起こす。この相対変位は、可動フィンガー７と固定フィンガー８との間のキャパシタンスの変化を引き起こす。このキャパシタ変化を測定することによって、加速度が決定される。
【０００４】
一般に、このような微小加速度計は、犠牲酸化物層上に成膜された多結晶シリコン層上に、あるいは、犠牲層として作用する埋設酸化物層を備えてなるＳＯＩ（シリコンオンインシュレータ）タイプの基板上に、形成される。このような微小構造の一例は、特許文献１に開示されている。このタイプのデバイスの１つの問題点は、デバイスの感度を向上させたい場合には、振動質量の値を増大させなければならないことである。プレーナ技術においては、このことは、チップの表面積の増大化を引き起こす。したがって、センサのコストの増大化を引き起こす。
【０００５】
１つの解決策は、より厚いシリコンを使用することである。この場合、特に容量性櫛のところにおいておよび復帰スプリングのところにおいて、エッチングの精度が、失われる。この結果、センサの性能が低下し、製造の再現性に関しての制御性が悪くなる。
【０００６】
また、通常、２つのセンサが、２軸型の慣性センサを形成するようにして（Ｘ軸とＹ軸とに沿って）、互いに並置される。この場合には、多くのスペースを占有してしまうこととなる。
【特許文献１】仏国特許出願公開第２ ５５８ ２６３号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の目的は、上記従来技術における様々な欠点を克服することである。
【０００８】
本発明は、櫛形をなす容量型加速度計であって、基板と、この基板に対して移動自由とされるとともに、一組をなす複数の可動フィンガーが設けられた、第１可動電極と、基板に対して固定されているとともに、一組をなす複数の固定フィンガーが設けられた、第１固定電極と、を具備し、複数の可動フィンガーの各々が、互いに隣接した２つの固定フィンガーの間に配置され、これにより、相互噛合した櫛からなる第１微小構造が形成され、加速度計が、さらに、少なくとも１つの第２可動電極と少なくとも１つの第２固定電極とから構成された、相互噛合した櫛からなる少なくとも１つの第２微小構造を具備し、この少なくとも１つの第２微小構造が、第１微小構造に対して、重ね合わされた位置に配置され、このような加速度計において、第２可動電極および第２固定電極が、第１可動電極および第１固定電極と同じ基板に、エッチングによって形成されているような加速度計を提供する。
【０００９】
好ましくは、第１可動電極および第２可動電極の各々は、中央に位置した可動質量部分と、この可動質量部分から両側方に延出された複数の可動フィンガーと、から構成され、第１固定電極および第２固定電極の各々は、可動質量部分に関して対称に配置された２つの部分から構成され、これら２つの部分の各々は、可動質量部分に向けて延出された複数の固定フィンガーを備え、各可動フィンガーは、互いに隣接した２つの固定フィンガーの間に配置されている。
【００１０】
有利には、第１および第２可動電極の可動フィンガーと、第１および第２固定電極の固定フィンガーとは、互いに連結されている。
【００１１】
有利には、第１および第２可動電極の可動フィンガーと、第１および第２固定電極の固定フィンガーとは、互いに分離されている。この場合、相互噛合した櫛からなる第１微小構造をなす各構成部材は、有利には、相互噛合した櫛からなる第２微小構造をなす各構成部材に対して、９０°だけ回転した配置とすることができる。
【００１２】
一変形例においては、第１および第２可動電極の可動フィンガーどうしが、鉛直方向において互いに位置合わせされ、第１および第２固定電極の固定フィンガーどうしが、鉛直方向において互いに位置合わせされる。
【００１３】
他の変形例においては、第１および第２可動電極の可動フィンガーどうしが、鉛直方向において互いに位置合わせされ、第１および第２固定電極の固定フィンガーどうしが、鉛直方向において互いにオフセットされる。
【００１４】
一変形例においては、第１および第２微小構造の可動質量部分どうしは、互いに連結される。
【００１５】
他の変形例においては、第１および第２微小構造の可動質量部分どうしは、互いに分離される。
【００１６】
結局のところ、互いに異なる複数の変形例を想定することができる。例えば、一変形例においては、第１および第２可動電極の可動質量部分どうしを、互いに連結することができ、第１および第２可動電極の可動フィンガーどうしを、互いに連結することができ、さらに、第１および第２固定電極の固定フィンガーどうしを、互いに連結することができる。
【００１７】
他の変形例においては、第１および第２可動電極の可動質量部分どうしを、互いに連結することができ、第１および第２可動電極の可動フィンガーどうしを、互いに分離することができ、さらに、第１および第２固定電極の固定フィンガーどうしを、互いに分離することができる。
【００１８】
この変形例においては、第１および第２可動電極の可動フィンガーどうしは、および、第１および第２固定電極の固定フィンガーどうしは、鉛直方向において互いに位置合わせすることも、また、互いにオフセットすることも、できる。
【００１９】
さらに他の変形例においては、第１および第２可動電極の可動質量部分どうしを、互いに分離することができ、第１および第２可動電極の可動フィンガーどうしを、および、第１および第２固定電極の固定フィンガーどうしを、互いに分離することができ、なおかつ、互いに９０°だけ回転した配置でもって配置することができる。これにより、一方を概略的にＸ軸に沿ったものとしてかつ他方を概略的にＹ軸に沿ったものとして、互いに独立な２つの加速度計を得ることができ、これら２つの加速度計は、同じ基板上において、互いに重ね合わせた状態で形成される。
【００２０】
好ましくは、第１および第２微小構造は、両端部のところにおいて、復帰アームとも称されるようなフレキシブルロッドを介して、基板に対して連結される。
【００２１】
一変形例においては、第１可動電極のフレキシブルロッドは、第２可動電極のフレキシブルロッドに対して連結される。
【００２２】
他の変形例においては、第１可動電極のフレキシブルロッドと、第２可動電極のフレキシブルロッドとは、互いに分離される。
【００２３】
有利には、フレキシブルロッドは、基板を直接的にエッチングすることによって形成される。
【００２４】
本発明による加速度計は、埋設犠牲層を備えた第１基板内に、
−第１基板の両面上において、埋設犠牲層の両サイドのところに、相互噛合した櫛からなる第１微小構造と、この第１微小構造に対して重ね合わせられる相互噛合した櫛からなる第２微小構造と、を形成するためのマスクを形成し、
−第１基板の一方の面上において、埋設犠牲層を停止層として使用することにより、固定フィンガーと可動フィンガーと可動質量部分と復帰アームとを備えてなる第１微小構造を、エッチングにより形成し、
−第２基板の一方の面上にキャビティを形成し、
−第２基板のうちの、キャビティが形成されている方の面上へと、第１基板のうちの、第１微小構造を具備している方の面を、シールし、
−埋設犠牲層を停止層として使用することにより、固定フィンガーと可動フィンガーと可動質量部分と復帰アームとを備えてなる第２微小構造を、エッチングにより形成し、
−埋設犠牲層の少なくとも一部を除去する、
ことによって形成される。
【００２５】
有利には、使用される第２基板は、シリコンから形成される。
【００２６】
有利には、シールは、例えば分子接着によってあるいは共融シーリングによってあるいはポリマーシーリングによって、行うことができる。
【００２７】
一変形例においては、埋設犠牲層は、エッチングステップによって埋設犠牲層が露出されたところにおいて、除去される。これにより、一組をなす複数の可動フィンガーが、図３に示すように、各微小構造に関して、一組をなす複数の固定フィンガーから解放される。
【００２８】
有利には、埋設犠牲層は、例えばプラズマエッチングといったようなドライエッチングによって除去される。
【００２９】
他の変形例においては、埋設犠牲層は、また、第１微小構造のフィンガーと第２微小構造のフィンガーとを連結しているところにおいて、除去される。これにより、一組をなす複数の可動フィンガーを、一組をなす複数の固定フィンガーから分離することができ、後述するように、図４または図５に示すように、第１微小構造内の各フィンガーを、第２微小構造内の各フィンガーから分離することができる。
【００３０】
さらに他の変形例においては、埋設犠牲層は、可動質量部分のところにおいて、除去される。有利には、少なくとも１つの可動質量部分のところに、（例えばエッチングによって）穴を形成することができる。これにより、犠牲層に対するアクセスをもたらすことができ、図６に示すように、振動重量の直上位置と直下位置とにおいて振動重量どうしの間に位置した犠牲層を容易に除去することができる。
【００３１】
有利には、埋設犠牲層は、液体状態または蒸気状態とされたフッ酸（ＨＦ）を使用したエッチングによって、除去される。
【００３２】
好ましくは、形成方法においては、さらに、シールステップとエッチングステップとの間において、基板の露出面を薄肉化するというステップを行い、この薄肉化ステップに際しては、埋設犠牲層に到達する前に停止する。
【００３３】
有利には、薄肉化ステップは、ＫＯＨによるエッチングステップとして行われる。
【００３４】
好ましくは、基板は、埋設犠牲ＳｉＯ２ 製酸化物層を備えてなるＳＯＩタイプの基板とされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
本発明の他の特徴点や利点は、添付図面を参照しつつ、本発明を何ら限定するものではなく単なる例示としての好ましい実施形態に関する以下の詳細な説明を読むことにより、明瞭となるであろう。
【００３６】
以下の説明においては、従来技術によるデバイスと本発明によるデバイスとの間において共通の部材については、同じ符号を使用する。
【００３７】
図２は、微小機械加工された櫛を備えてなる容量型加速度計を概略的に示す斜視図であって、相互噛合した櫛を備えた第１微小構造２０と、相互噛合した櫛を備えた第２微小構造２２と、から構成され、第１微小構造２０と第２微小構造２２とは、互いに重ね合わせた状態で配置されている。２つの微小構造２０，２２は、ＳＯＩ（シリコンオンインシュレータ）タイプの基板５から形成されている。
【００３８】
微小構造２０は、可動電極２と、固定電極４と、を備えている。微小構造２２は、可動電極４０と、固定電極４２と、を備えている。可動電極２（および４０）は、可動質量部分６を備えて構成されている。可動質量部分６は、矩形形状のものとして基板５内にエッチング形成されているとともに、同様に基板５内にエッチング形成されかつ相互噛合した一組をなす複数のフィンガー７を備えている。
【００３９】
固定電極４（および４２）は、可動質量部分６に対して互いに対称に配置された第１部分４Ａおよび第２部分４Ｂを備えている。
【００４０】
第１部分４Ａは、可動フィンガー７に対して平行に延在しかつ可動質量部分６に向けて横向きに突出した複数の固定フィンガー８Ａを備えている。また、第２部分４Ｂは、可動フィンガー７に対して平行に延在しかつ可動質量部分６に向けて横向きに突出した複数の固定フィンガー８Ｂを備えている。これにより、各可動フィンガー７は、互いに隣接した２つの固定フィンガー８Ａ，８Ｂの間に配置されている。
【００４１】
可動質量部分６は、基板内にエッチング形成されたフレキシブルロッド１２を介して、固定電極４Ａ，４Ｂに対して連結されている。
【００４２】
図３は、第１変形例を示しており、この第１変形例においては、相互噛合した櫛を備えてなる第１および第２微小構造２０，２２の可動質量部分６および可動フィンガー７は、埋設犠牲層２４を介して連結されている。同様に、この第１変形例においては、第１および第２微小構造２０，２２の固定フィンガー８Ａ，８Ｂは、埋設犠牲層２４を介して連結されている。
【００４３】
図４は、第２変形例を示しており、この第２変形例においては、第１および第２微小構造２０，２２の可動質量部分６が固定されており、各微小構造２０，２２の可動フィンガー７と固定フィンガー８とが、分離されている。
【００４４】
この第２変形例においては、可動フィンガー７と固定フィンガー８とは、図４に概略的に示すように、鉛直方向において互いに位置合わせすることができる。あるいは、可動フィンガー７と固定フィンガー８とは、図５に概略的に示すように、鉛直方向において互いにオフセットしたものとすることができる。
【００４５】
図６は、第３変形例を示しており、この第３変形例においては、第１および第２微小構造２０，２２は、互いに異なるサイズのものとし得る複数の可動質量部分と、第１グループをなす可動フィンガー７Ａ（鉛直方向において位置合わせされている）と、第２グループをなす可動フィンガー７Ｂ（鉛直方向において互いにオフセットされている）と、第１グループをなす固定フィンガー８Ａ（鉛直方向において位置合わせされている）と、第２グループをなす固定フィンガー８Ｂ（鉛直方向において互いにオフセットされている）と、を備えている。この場合、複数の可動質量部分は、可動質量部分を厚さ方向にエッチングして穴１１を形成することによって、互いに分離されている。これにより、犠牲層に対するアクセスが容易なものとされている。また、第１グループをなす可動フィンガー７Ａは、第２グループをなす可動フィンガー７Ｂに対して、９０°だけ回転することができ、第１グループをなす固定フィンガー８Ａも、第２グループをなす固定フィンガー８Ｂに対して、９０°だけ回転することができる。この結果、例えばＸ軸方向とＹ軸方向とに感度を有したといったような、互いに異なる検出軸を有した２つの加速度計を得ることができる。
【００４６】
２つの構造が互いに独立であるような変形例においては、以下の２つの選択肢が存在する。
−互いに同じ軸に沿って感度を有した２つの加速度計ではあるものの、復帰アームの質量または硬さを相違させることによって、互いに異なる検出感度（例えば、一方が１０ｇであり、他方が５０ｇである）を有した２つの加速度計を形成すること。
−互いに同じ検出感度（例えば、双方が５０ｇ）を有しかつ互いに直交した２つの検出軸を有した２つの加速度計を形成すること。
【００４７】
次に、本発明による加速度計の製造方法について、図７〜図１４を暗唱して説明する。
【００４８】
図７に示すステップにおいては、ＳＯＩタイプの基板５上に、マスクを形成する。ここで、基板５は、埋設犠牲ＳｉＯ２ 酸化物層２４を備えているとともに、この表面層２４の両サイドに、互いに重ね合わされる、相互噛合した櫛からなる第１微小構造と、相互噛合した櫛からなる第２微小構造と、が形成されることとなるものである。
【００４９】
図８に示すステップにおいては、埋設酸化物層２４を停止層として使用することによって、例えば、第１微小構造２０のフィンガー７，８と可動質量部分６と復帰アーム１２とを、基板５内において６０μｍという深さでもって、エッチングにより形成する。
【００５０】
図９に示すステップにおいては、第２シリコン基板２６上において、３０μｍという深さのキャビティを、エッチングにより形成する。
【００５１】
図１０に示すステップにおいては、例えば分子接着によってあるいは共融シーリングによってあるいはポリマーシーリングによって、第２基板２６上に第１基板５をシールする。
【００５２】
図１１に示すステップにおいては、埋設酸化物層２４から測って厚さが約６０μｍとなるようにして、ＫＯＨによるエッチングにより、ＳＯＩ基板５を薄肉化する。
【００５３】
図１２に示すステップにおいては、埋設酸化物層２４を停止層として使用することによって、第２微小構造２２のフィンガー７，８と可動質量部分６と復帰アーム１２とを、基板５内において６０μｍという深さでもって、エッチングにより形成する。
【００５４】
図１３に示すステップにおいては、有利にはドライエッチングによって、犠牲層２４の厚さ全体にわたって（初期ＳＯＩ基板に依存するものの、典型的には、０．４〜１μｍ）、犠牲層２４をエッチングする。これにより、図３のデバイスに対応した微小構造２０，２２を解放する。
【００５５】
他の変形例においては、図１４に示すようにして、犠牲層を除去することができる。図１４に示すステップにおいては、ウェットエッチングによってあるいはフッ酸（ＨＦ）蒸気によって、犠牲層２４を除去する。これにより、図４，５，６のデバイスに対応して、すべての可動フィンガー７を固定フィンガー８から分離するとともに、微小構造２０のフィンガーを微小構造２２のフィンガーから分離する。
【００５６】
このプロセスは、相互噛合した櫛を備えてなる２つの構造を同一基板上に互いに重ね合わせて形成することにより、加速度計の寸法を低減させる。この技術を使用することにより、コンパクトな２軸型加速度計を形成することができる。
【００５７】
本発明の範囲を逸脱することなく、３つ以上の微小構造を互いに重ね合わせ得ることに、注意されたい。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】従来技術による加速度計を概略的に示す斜視図である。
【図２】本発明の好ましい実施形態による加速度計を、一部を破断しつつ、概略的に示す斜視図である。
【図３】本発明の第１変形例による加速度計をＸＸ軸に沿って示す概略的な縦断面図である。
【図４】本発明の第２変形例による加速度計をＸＸ軸に沿って示す概略的な縦断面図である。
【図５】本発明の第２変形例の他の態様による加速度計をＸＸ軸に沿って示す概略的な縦断面図である。
【図６】本発明の第３変形例による加速度計をＸＸ軸に沿って示す概略的な縦断面図である。
【図７】本発明による加速度計の製造方法における様々なステップを概略的に示す縦断面図である。
【図８】本発明による加速度計の製造方法における様々なステップを概略的に示す縦断面図である。
【図９】本発明による加速度計の製造方法における様々なステップを概略的に示す縦断面図である。
【図１０】本発明による加速度計の製造方法における様々なステップを概略的に示す縦断面図である。
【図１１】本発明による加速度計の製造方法における様々なステップを概略的に示す縦断面図である。
【図１２】本発明による加速度計の製造方法における様々なステップを概略的に示す縦断面図である。
【図１３】本発明による加速度計の製造方法における様々なステップを概略的に示す縦断面図である。
【図１４】本発明による加速度計の製造方法における様々なステップを概略的に示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００５９】
２    第１可動電極
４    第１固定電極
４Ａ  第１固定電極
４Ｂ  第１固定電極
５    第１基板
６    可動質量部分
７    可動フィンガー
８    固定フィンガー
８Ａ  固定フィンガー
８Ｂ  固定フィンガー
１２    フレキシブルロッド、復帰アーム
２０    第１微小構造
２２    第２微小構造
２４    埋設犠牲層
２６    第２基板
４０    第２可動電極
４２    第２固定電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【外国語明細書】
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