(57)【要約】      （修正有）【課題】  メンテナンス周期を長期化し、高品質の薄膜の成膜が可能となる蒸着装置における蒸発源用のシャッタ及びその蒸着装置を提供。【解決手段】  蒸発源１に充填した成膜材料２を加熱して蒸発させ、基板３上に付着させることでこの基板３上に薄膜を成膜する蒸着装置における前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２の前記基板３側への移動を阻止し得る蒸発源用のシャッタにおいて、前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路を閉塞する閉塞部４を、回動軸の回動方向に間隔をおいて複数並設し、この閉塞部４間を前記経路を開放する開放部７としたシャッタ部５を前記回動軸に設け、このシャッタ部５は、前記回動軸を回動して、前記シャッタ部５の一の閉塞部４により前記経路を閉塞して基板３への成膜材料２の付着を阻止する状態と、前記閉塞部４間の開放部７により前記経路を開放して基板３への成膜材料２の付着を許容する状態とに回動切り替え自在に設ける。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸発源に充填した成膜材料を加熱して蒸発させ、基板上に付着させることでこの基板上に薄膜を成膜する蒸着装置における前記蒸発源から蒸発する成膜材料の前記基板側への移動を阻止し得る蒸発源用のシャッタにおいて、前記成膜材料の蒸発源から基板への経路を閉塞する閉塞部を、回動軸の回動方向に間隔をおいて複数並設し、この閉塞部間を前記経路を開放する開放部としたシャッタ部を前記回動軸に設け、このシャッタ部は、前記回動軸を回動して、前記シャッタ部の一の閉塞部により前記経路を閉塞して基板への成膜材料の付着を阻止する状態と、前記閉塞部間の開放部により前記経路を開放して基板への成膜材料の付着を許容する状態とに回動切り替え自在に設けると共に、前記回動軸を更に回動し、前記一の閉塞部とは別の閉塞部により前記経路を閉塞し得るように構成したことを特徴とする蒸着装置における蒸発源用のシャッタ。
【請求項２】
前記シャッタ部は、前記閉塞部としての羽根部を、前記回動軸の回動方向に間隔をおいて複数並設してプロペラ状に形成し、この一の羽根部を前記成膜材料の蒸発源から基板への経路上に位置せしめてこの経路を閉塞するように構成し、この羽根部間を前記開放部に設定し、この回動軸の一の回動方向に並設される複数の前記羽根部と開放部とを順次前記経路上に位置せしめてこの経路を閉塞若しくは開放し得るように構成したことを特徴とする請求項１記載の蒸着装置における蒸発源用のシャッタ。
【請求項３】
前記シャッタ部に、このシャッタ部を冷却する冷却機構を設けたことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の蒸着装置における蒸発源用のシャッタ。
【請求項４】
前記冷却機構は、前記シャッタ部に設けられ、冷媒が流通してこのシャッタ部を冷却する冷却路と、前記軸内に設けられ、前記冷却路に冷媒を供給するための冷媒供給路とを有し、この冷却路と冷媒供給路とを可動部を介さずに連結したことを特徴とする請求項３記載の蒸着装置における蒸発源用のシャッタ。
【請求項５】
前記蒸発源として、成膜材料が充填される容器と、この容器の周囲に配設される誘導コイルとから成るものを採用したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の蒸着装置における蒸発源用のシャッタ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の蒸発源用のシャッタを一個以上真空槽内に配置したことを特徴とする蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着装置における蒸発源用のシャッタ及びその蒸着装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、一つのチャンバ（真空槽）に複数の蒸発源を設けて、基板に夫々異なる成膜材料を蒸着したり、順次異なる蒸発源から蒸着を行ったりする場合（所謂多元蒸着を行う場合）、基板に対して任意の蒸発源のみを露出させるために、蒸発源の略真上位置に開閉自在に蒸発源用のシャッタが設けられる。
【０００３】
また、この蒸発源用のシャッタは、上述のように主に個々の蒸発源から蒸発する成膜材料を別々に基板に付着させるために用いられるものであるが、高周波誘導加熱により成膜材料を蒸発させる場合には、遮熱も目的に加わる。
【０００４】
これは、高周波誘導加熱蒸発源が、他の蒸発源に比べ大きな輻射を発するため、蒸発源シャッタ自身や基板を遮蔽する基板シャッタ、周辺部品の温度上昇が非常に大きく、これらの温度上昇が間接的に基板・蒸着マスクの温度上昇を促すからである。
【０００５】
そこで、出願人の先願に係る特願２００３−１９７９３５号公報（特許文献１）には、この温度上昇を抑制するために各部に冷却機構を設ける点が開示されている。
【０００６】
特に有機ＥＬ素子を製造する場合には、有機ＥＬ素子がプロセス上の温度が光・電気的特性、信頼性及び生産性に大きく影響するデバイスであるため、製造の際の温度上昇は可及的に抑える必要があることから、蒸発源用のシャッタにも冷却機構を設ける必要がある。
【０００７】
【特許文献１】特願２００３−１９７９３５号公報
【特許文献２】特開２００３−１５５５５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述したような蒸発源用のシャッタは、真空槽にして蒸発源と基板との間にして蒸発源側寄りでこの蒸発源から蒸発する成膜材料を受けることから、この成膜材料の堆積量が基板側寄りに設けられる基板用のシャッタに比べて多く（蒸発源までの距離が短くなれば蒸着される膜厚は指数関数的に厚くなる）、シャッタに堆積した成膜材料が落下すると蒸着レートや真空度の変動等種々の問題を引き起こすおそれがあるため、堆積した成膜材料をシャッタから除去する作業を頻繁に行う必要があり、メンテナンス周期が短くなることから生産性の低下は避けられない。
【０００９】
そこで、特開２００３−１５５５５７号公報（特許文献２）に開示されているように、同一軸に複数のシャッタを設け、これらの複数のシャッタにより交替で前記蒸発源を開閉することで、これら複数のシャッタに前記成膜材料を分散して付着させる構成も提案されているが、この場合、構造が複雑化してコスト高となるし、このシャッタに夫々、例えば水冷式の冷却機構を設ける場合、冷却水のシール部に可動部が必要となり、装置の寿命の短期化や構造の複雑化等を招き極めて厄介である。
【００１０】
本発明は、上述のような問題点に着目し、これを解決するもので、成膜材料の蒸発源から基板への経路を閉塞する閉塞部を回動軸の回動方向に複数並設することで、複数の閉塞部に成膜材料を分散して付着させることができる構成を簡易且つコスト安に実現できると共に、回動操作により簡易に前記経路を開放する開放部及び別の閉塞部への切り替えを行うことができ、メンテナンス周期の長期化を実現して生産性の向上を図ることができ、また、シャッタ部に付着した成膜材料の落下が生じにくくなり高品質の薄膜の成膜が可能となり、しかも、例えば水冷式の冷却機構を設ける場合にも冷却水のシール部に可動部が必要なく、構造が簡易で済む等、極めて実用性に秀れた蒸着装置における蒸発源用のシャッタ及びその蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【００１２】
蒸発源１に充填した成膜材料２を加熱して蒸発させ、基板３上に付着させることでこの基板３上に薄膜を成膜する蒸着装置における前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２の前記基板３側への移動を阻止し得る蒸発源用のシャッタにおいて、前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路を閉塞する閉塞部４を、回動軸９の回動方向に間隔をおいて複数並設し、この閉塞部４間を前記経路を開放する開放部７としたシャッタ部５を前記回動軸９に設け、このシャッタ部５は、前記回動軸９を回動して、前記シャッタ部５の一の閉塞部４により前記経路を閉塞して基板３への成膜材料２の付着を阻止する状態と、前記閉塞部４間の開放部７により前記経路を開放して基板３への成膜材料２の付着を許容する状態とに回動切り替え自在に設けると共に、前記回動軸９を更に回動し、前記一の閉塞部４とは別の閉塞部４により前記経路を閉塞し得るように構成したことを特徴とする蒸着装置における蒸発源用のシャッタに係るものである。
【００１３】
また、前記シャッタ部５は、前記閉塞部４としての羽根部８を、前記回動軸９の回動方向に間隔をおいて複数並設してプロペラ状に形成し、この一の羽根部８を前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路上に位置せしめてこの経路を閉塞するように構成し、この羽根部８間を前記開放部７に設定し、この回動軸９の一の回動方向に並設される複数の前記羽根部８と開放部７とを順次前記経路上に位置せしめてこの経路を閉塞若しくは開放し得るように構成したことを特徴とする請求項１記載の蒸着装置における蒸発源用のシャッタに係るものである。
【００１４】
また、前記シャッタ部５に、このシャッタ部５を冷却する冷却機構を設けたことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の蒸着装置における蒸発源用のシャッタに係るものである。
【００１５】
また、前記冷却機構は、前記シャッタ部５に設けられ、冷媒が流通してこのシャッタ部５を冷却する冷却路10と、前記軸９内に設けられ、前記冷却路10に冷媒を供給するための冷媒供給路11とを有し、この冷却路10と冷媒供給路11とを可動部を介さずに連結したことを特徴とする請求項３記載の蒸着装置における蒸発源用のシャッタに係るものである。
【００１６】
また、前記蒸発源１として、成膜材料が充填される容器１ａと、この容器１ａの周囲に配設される誘導コイル１ｂとから成るものを採用したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の蒸着装置における蒸発源用のシャッタに係るものである。
【００１７】
また、請求項１〜５のいずれか１項に記載の蒸発源用のシャッタを一個以上真空槽内に配置したことを特徴とする蒸着装置に係るものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は上述のように構成したから、複数の閉塞部に成膜材料を分散して付着させることができる構成を簡易且つコスト安に実現できると共に、回動操作により簡易に前記経路を開放する開放部及び別の閉塞部への切り替えを行うことができ、メンテナンス周期の長期化を実現して生産性の向上を図ることができ、また、高品質の薄膜の成膜が可能となり、しかも、例えば水冷式の冷却機構を設ける場合にも冷却水のシール構造が簡易で済む等、極めて実用性に秀れた蒸着装置における蒸発源用のシャッタ及びその蒸着装置となる。
【００１９】
また、請求項２記載の発明においては、一層効率良く成膜を行うことができるより実用性に秀れたものとなる。
【００２０】
また、請求項３，４記載の発明においては、シャッタ部の高温化を阻止できるより実用性に秀れたものとなる。
【００２１】
また、請求項５記載の発明においては、本発明を一層容易に実現できるより一層実用性に秀れたものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
好適と考える本発明の実施形態（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。
【００２３】
蒸発源１から蒸発する成膜材料２の基板３上への付着を阻止する場合、回動軸９を回動させてシャッタ部５の一の閉塞部４により前記経路を閉塞して基板３への成膜材料２の付着を阻止する。
【００２４】
また、前記成膜材料２の基板３上への付着を許容する場合、回動軸９を回動させて前記経路上に位置してこの経路を閉塞する前記閉塞部４から開放部７に切り替えることで、前記閉塞部４間の開放部７により前記経路を開放して基板３への成膜材料２の付着を許容する。
【００２５】
この際、前記開放部７により開放した前記経路を再び閉塞するに際し、前記回動軸９を更に回動することで、前記一の閉塞部４とは別の閉塞部４により閉塞することができる。
【００２６】
即ち、前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路を、異なる閉塞部４を交替でこの経路上に位置せしめて閉塞することができ、複数の閉塞部４に前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２を分散して付着させることができるから、このシャッタ部５の個々の閉塞部４に付着する成膜材料２の量を減らすことができる。
【００２７】
従って、閉塞部４に付着する成膜材料２の堆積速度を遅くすることができ、それだけメンテナンス周期を長くして生産性の向上を図ることができる。
【００２８】
即ち、蒸着装置（の真空槽）は一度メンテナンス等のために大気に開放すると、清掃や真空排気等に時間がかかるため、メンテナンス周期が短いと生産が著しく阻害されてしまうところ、本発明によれば、極めて簡易な構成でメンテナンス周期を長くでき、従って、生産性の向上を図れることになる。
【００２９】
また、個々の閉塞部４に堆積する成膜材料２の量が減少することから、当然ながら、この閉塞部４に堆積した成膜材料の落下のおそれも少なくなり、それだけ蒸着レートや真空度が安定した状態で成膜を行うことができ、高品質の薄膜の成膜が可能となる。
【００３０】
しかも、シャッタ部５は回動軸９を単に回動操作することで、上述のような閉塞部４と開放部７との切り替えを簡易に行うことができ、複雑な駆動機構を必要としないため故障も生じにくく耐久性にも秀れたものとなる。
【００３１】
また、例えば、シャッタ部５を冷却したい場合には、このシャッタ部５の温度上昇を防止するための冷却機構として、シャッタ部５に設けられ、冷媒が流通してこのシャッタ部５を冷却する冷却路10と、回動軸９内に設けられ、前記冷却路10に冷媒を供給するための冷媒供給部11とを有し、この冷却路10と冷媒供給路11とを可動部を介さずに連結したものを採用することができ、この冷媒（例えば水道水）の漏出を阻止するためのシール部に可動部が必要なく、それだけ簡易且つメンテナンス性に秀れた構造で冷却を行えることになる。
【００３２】
また、蒸発源１として、成膜材料２が充填される容器１ａと、この容器１ａの周囲に配設される誘導コイル１ｂとから成るものを採用して高周波誘導加熱方式を用いて蒸着を行う場合、この蒸発源１の立ち上げに時間がかかるため、成膜を行うに際し、高周波誘導加熱蒸発源を基板に対して閉塞している場合でも加熱を止めず成膜材料を常に蒸発させているため、シャッタへの成膜材料の付着量が多くメンテナンス周期の短期化を招くという問題があったが、本発明によれば複数の閉塞部４に分散して成膜材料２を付着させることができるため、メンテナンス周期の長期化（即ち、運転時間の長時間化）を実現でき、また、上述のように冷却機構も容易に設けることができ、遮熱効果を高める構成を容易に実現できることになる。
【００３３】
従って、本発明は、複数の閉塞部に成膜材料を分散して付着させることができる構成を簡易且つコスト安に実現できると共に、回動操作により簡易に前記経路を開放する開放部及び別の閉塞部への切り替えを行うことができ、メンテナンス周期の長期化を実現して生産性の向上を図ることができ、また、高品質の薄膜の成膜が可能となり、しかも、例えば水冷式の冷却機構を設ける場合にも冷却水のシール構造が簡易で済む等、極めて実用性に秀れた蒸着装置における蒸発源用のシャッタ及びその蒸着装置となる。
【実施例】
【００３４】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００３５】
本実施例は、蒸発源１に充填した成膜材料２を加熱して蒸発させ、基板３上に付着させることでこの基板３上に薄膜を成膜する蒸着装置における前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２の前記基板３側への移動を阻止し得る蒸発源用のシャッタにおいて、前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路を閉塞する閉塞部４を、回動軸９の回動方向に間隔をおいて複数並設し、この閉塞部４間を前記経路を開放する開放部７としたシャッタ部５を前記回動軸９に設け、このシャッタ部５は、前記回動軸９を回動して、前記シャッタ部５の一の閉塞部４により前記経路を閉塞して基板３への成膜材料２の付着を阻止する状態と、前記閉塞部４間の開放部７により前記経路を開放して基板３への成膜材料２の付着を許容する状態とに回動切り替え自在に設けると共に、前記回動軸９を更に回動し、前記一の閉塞部４とは別の閉塞部４により前記経路を閉塞し得るように構成したものを、一つ真空槽内に配置した蒸着装置である。
【００３６】
本実施例は、蒸発源１として、成膜材料２としての金属材料（本実施例においてはＡｌ）が充填される容器１ａと、この容器１ａの周囲に配設される誘導コイル１ｂとから成るものを採用している。
【００３７】
尚、本実施例は、上述のように蒸発源を一つ設けた構成であるが、蒸発源を複数設けた構成としても良い。また、ＥＢ蒸着や抵抗加熱蒸着等、どのような蒸着手段を採用しても良い。
【００３８】
また、本実施例の容器１ａは、高周波誘導加熱される金属製でなく、セラミック製等、磁束が透過しても渦電流が生じないものを採用している。この場合、容器１ａが高周波誘導加熱されずに、この容器１ａに充填された金属材料のみを高周波誘導加熱することができるから、高融点で且つ濡れ性を有するＡｌ等の高融点金属材料であっても良好に蒸着を行うことができる。
【００３９】
また、シャッタ部５は、基板３と蒸発源１との間にして、この蒸発源１側寄りに設けているから、当然ながら基板３の前方に設けられる基板用のシャッタ13に比して成膜材料の付着量は多くなり、それだけこのシャッタ部５に堆積した成膜材料に落下のおそれが生じ、メンテナンスを頻繁に行う必要があるが、本実施例によれば、前記成膜材料を複数の閉塞部４に分散して付着させることができるから、個々の閉塞部４に付着する成膜材料の量は少なくなり、それだけ堆積速度を低下せしめることができ、メンテナンス周期の長期化を図ることができ、生産性の向上を図ることができる。
【００４０】
尚、図中符号Ａは、シャッタ部５の閉塞部４により閉塞することで前記基板３への成膜材料２の付着を阻止する前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２の基板３への経路上の領域である。この閉塞部４により閉塞する領域Ａの位置は、本実施例においては蒸発源１の直上位置となるが、蒸発源１と基板３との位置関係により変化する。
【００４１】
各部を具体的に説明する。本実施例のシャッタ部５は、平面視プロペラ状でその中央部が回動軸９の上部と連結されている。具体的には、シャッタ部５は、回動軸９に止めネジ等の止着部材によって連結され、この回動軸９の回動と同期して一体に回動するように構成している。
【００４２】
更に具体的に説明すると、このシャッタ部５は、閉塞部４としての羽根部８を同一平面上に所定間隔で４枚並設して、この羽根部８間を前記開放部７に設定した構成で、この４枚の羽根部８により交替で前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路を閉塞することで、前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２を各羽根部８の下面に分散して付着させ、前記成膜材料２の基板３側への移動を阻止するように構成している。
【００４３】
従って、従来の同一軸に複数のシャッタを設けた構成と異なり、上下方向に複数のシャッタが存する構成ではないから（水平方向に複数の閉塞部４を有する構成であるから）、作業時に手を挟んだりすることがなく、安全性に秀れたものとなる。
【００４４】
尚、シャッタ部５に、少なくともこのシャッタ部５（羽根部８）の下面全面を覆うカバー体を着脱自在に設けた構成としても良い。この場合、単にこのカバーを交換することで付着した成膜材料２の除去を容易に行えることになる。
【００４５】
また、羽根部８は３枚以下若しくは５枚以上設けた構成としても良い。特に本実施例はその簡易な構造故に前記羽根部８の枚数を任意に設定でき、適正数の閉塞部４を有する蒸発源用のシャッタを極めて容易に得ることができる。
【００４６】
また、本実施例においては、回動軸９は、適宜なアクチュエータ例えばモータ15の駆動軸と、ゼネバ歯車を有する公知の駆動機構16を介して連結され、このモータ15の駆動により回動するように構成しているが、他の駆動機構16や、回転シリンダ等の他のアクチュエータを採用しても良い。この際、必要なアクチュエータは単数であり、それだけ簡易且つコスト安な構成となる。また、このアクチュエータ及び駆動機構16は真空槽12の内部に設けても良いし外部に設けても良い。
【００４７】
本実施例においては、回動軸９は３６０度の範囲内で回動させ、前記羽根部８及び開放部７を順次前記経路上に位置せしめるようにしている。尚、３６０度を超えて回動させる構成としても良い。
【００４８】
本実施例に係るシャッタ部５によれば、前記一の羽根部８を前記経路上に位置せしめることによって蒸発源１から蒸発する成膜材料２の基板３上への付着を阻止する状態として、この蒸発源１の立ち上げ（成膜材料２の蒸発レートが安定するまでの予備加熱）を行い、成膜を行うために前記回動軸９を回動せしめ、前記一の羽根部８に隣接する前記回動軸９の回動方向側の開放部７を前記経路上に位置せしめて成膜を行った後、再度前記経路を閉塞する際、前記一の羽根部８により閉塞するのではなく、前記開放部７に隣設する前記回動軸９の回動方向側の他の羽根部８により閉塞することができ、従って、複数の前記閉塞部４に順次分散して前記成膜材料２を付着させることが可能となる。
【００４９】
尚、本実施例においては、蒸発源１を一つ設けた構成であるが、複数の蒸発源を設け、これらの蒸発源により順次基板上に成膜を行うように構成しても良い。
【００５０】
また、シャッタ部５には冷却機構が設けられている。この冷却機構により、シャッタ部５の温度上昇が阻止されて、高温化する高周波誘導加熱方式の蒸発源１の略真上位置で前記経路を閉塞する場合でも、このシャッタ部５が加熱され、輻射熱により基板３やこの基板３上に成膜された薄膜（例えば有機ＥＬ素子を形成する場合、陰極としてのＡｌ層を成膜する前に、基板３上には、陽極としてのＩＴＯ層及び有機材料から成る有機発光層が成膜されている）を加熱してしまうことが可及的に阻止され、この薄膜（特に有機薄膜）の劣化等を阻止できる。
【００５１】
従って、高周波誘導加熱方式の蒸発源１を用いても例えば高品質の有機ＥＬ素子の製造が可能となる。
【００５２】
具体的には、この冷却機構は、前記シャッタ部５に設けられ、冷媒が流通してこのシャッタ部５を冷却する冷却路10と、前記回転軸９内に設けられ、前記冷却路10に冷媒を供給するための冷媒供給路11とを有し、この冷却路10と冷媒供給路11とを可動部を介さずに連結した構成である。
【００５３】
更に具体的に説明すると、前記冷媒供給路11は、冷媒をシャッタ部５に送る送り部11ａと、シャッタ部５から冷媒が戻る戻り部11ｂとから成り、この送り部11ａと戻り部11ｂの端部は夫々ホース21を介して冷媒供給源（図示省略）に接続され、この冷媒供給源は、戻り部11ｂからの（温められた）冷媒を冷却して送り部11ａに循環するように構成されている。
【００５４】
また、冷却路10は、シャッタ部５の内部に設けられ、シャッタ部５の略全域をカバーし得るように蛇行状態で設けられている。本実施例においては冷媒として安価に入手できる水道水を採用しているが、他の流体を採用しても良い。また、冷却路10をシャッタ部５の外部に設けた構成としても良い。
【００５５】
また、前記シャッタ部５は回転軸９に連結されて一体に回動するから、このシャッタ部５の冷却路10と回転軸９の冷媒供給路11との間には可動部が存在しない。従って、この冷却路10と冷媒供給路11との連結部に必要な冷却水のシール構造は簡易で且つ水漏れ等の危険も可及的に少なくなり、装置の長寿命化及び安全性の向上を図れることになる。
【００５６】
尚、前記送り部11ａ及び戻り部11ｂとホース21とはロータリージョイント（回転式流体継手）を介して接続しても良く、この場合には、前記回動軸９を３６０度以上回動させても前記ホース21が絡まったりせずに、この回動軸９を良好に回動させることができることになる。
【００５７】
従って、本実施例においては、前記冷媒供給路11が回動軸９の内部に設けられているから、回動軸９の外部に（ホース等により）設けた場合と異なり、この回動軸９の回動によっても絡まったりせず、また、冷却水のシール構造も簡易となり、構造が簡易でメンテナンス性に秀れたものとなる。
【００５８】
また、本実施例においては、前記シャッタ部５だけでなく、他の部材にも冷却機構（冷却水が流通する冷却管17）を設けることで、蒸発源１からの放熱により他の部材が加熱されたり、これらの他の部材からの輻射熱により基板３及びこの基板３上に成膜された薄膜が加熱されることを阻止している。尚、図中符号18は基板用のシャッタ13と真空槽12の内壁との間を閉塞する防着板，19は基板３を固定する固定部，20は蒸発源１の周囲を囲繞して放熱を阻止する防熱壁，14は蒸発源１の上部を成膜材料２が通過する部分を残して閉塞して放熱を阻止する防熱板，22は冷却機構が設けられる冷却用板である。
【００５９】
本実施例は上述のように構成したから、蒸発源１から蒸発する成膜材料２の基板３上への付着を阻止する場合、回動軸９を回動させてシャッタ部５の一の閉塞部４により前記経路を閉塞して基板３への成膜材料２の付着を阻止する。
【００６０】
ここで、前記成膜材料２の基板３上への付着を許容する場合、回動軸９を回動させて前記経路上に位置してこの経路を閉塞する前記閉塞部４から開放部７に切り替えることで、前記閉塞部４間の開放部７により前記経路を開放して基板３への成膜材料２の付着を許容する。
【００６１】
また、この開放した前記経路を再び閉塞するに際し、前記回動軸９を更に回動することで、前記一の閉塞部４とは別の閉塞部４により閉塞することができる。
【００６２】
即ち、前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路を、異なる閉塞部４を交替でこの経路上に位置せしめて閉塞することができ、複数の閉塞部４に前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２を分散して付着させることができるから、このシャッタ部５の個々の閉塞部４に付着する成膜材料２の量を減らすことができる。
【００６３】
従って、閉塞部４に付着する成膜材料２の堆積速度を遅くすることができ、それだけメンテナンス周期を長くして生産性の向上を図ることができる。
【００６４】
即ち、蒸着装置（の真空槽）は一度メンテナンス等のために大気に開放すると、清掃や真空排気、加熱手段の立ち上げ等に時間がかかるため、メンテナンス周期が短いと生産が著しく阻害されてしまうところ、本実施例によれば、極めて簡易な構成でメンテナンス周期を長くでき、従って、生産性の向上を図れることになる。
【００６５】
また、個々の閉塞部４に堆積する成膜材料２の量が減少することから、当然ながら、この閉塞部４に堆積した成膜材料の落下のおそれも少なくなり、それだけ蒸着レートや真空度が安定した状態で成膜を行うことができ、高品質の薄膜の成膜が可能となる。
【００６６】
しかも、シャッタ部５は回動軸９を単に回動操作することで、上述のような閉塞部４と開放部７との切り替えを簡易に行うことができ、故障等も生じにくく耐久性に秀れたものとなる。
【００６７】
また、シャッタ部５にこのシャッタ部５の過熱を防止するために冷却機構として、シャッタ部５に設けられ、冷媒が流通してこのシャッタ部５を冷却する冷却路10と、回動軸９内に設けられ、前記冷却路10に冷媒を供給するための冷媒供給部11とを有し、この冷却路10と冷媒供給路11とを可動部を介さずに連結したものを採用したから、この冷媒（水道水）の漏出を阻止するためのシール部に可動部が必要なく、それだけ簡易且つメンテナンス性に秀れた構造で冷却を行えることになる。
【００６８】
また、蒸発源１として、成膜材料２が充填される容器１ａと、この容器１ａの周囲に配設される誘導コイル１ｂとから成るものを採用して高周波誘導加熱方式を用いて蒸着を行う場合、この蒸発源１の立ち上げに時間がかかるため、複数の蒸発源１を用いて成膜を行うに際し、高周波誘導加熱蒸発源を基板に対して閉塞している場合でも加熱を止めず成膜材料を常に蒸発させているため、シャッタへの成膜材料の付着量が多くメンテナンス周期の短期化を招くという問題があったが、本実施例によれば複数の閉塞部４に分散して成膜材料２を付着させることができるため、メンテナンス周期の長期化（即ち、運転時間の長時間化）を実現でき、また、上述のように冷却機構も容易に設けることが可能となるため、高温化する高周波誘導加熱蒸発源によりシャッタ部５が熱源化してしまうことを良好に阻止でき、遮熱効果を高めた構成を容易に実現できることになる。
【００６９】
従って、本実施例は、複数の閉塞部に成膜材料を分散して付着させることができる構成を簡易且つコスト安に実現できると共に、回動操作により簡易に前記経路を開放する開放部及び別の閉塞部への切り替えを行うことができ、メンテナンス周期の長期化を実現して生産性の向上を図ることができ、また、高品質の薄膜の成膜が可能となり、しかも、水冷式の冷却機構を設ける場合にも冷却水のシール構造が簡易で済む等、極めて実用性に秀れたものとなる。
【００７０】
本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本実施例の概略説明断面図である。
【図２】本実施例の要部の概略説明平面図である。
【図３】本実施例の要部の概略説明断面図である。
【符号の説明】
【００７２】
１  蒸発源
１ａ  容器
１ｂ  誘導コイル
２  成膜材料
３  基板
４  閉塞部
５  シャッタ部
７  開放部
８  羽根部
９  回動軸
10  冷却路
11  冷媒供給路
【図１】
2006083423.tif 000003
【図２】
2006083423.tif 000004
【図３】
2006083423.tif 000005