(57)【要約】【課題】基板検査装置内で人間が作業を行った場合に、検査を長時間停止しなければならなくなることを防止することができる基板検査装置を提供する。【解決手段】基板検査装置１は、装置本体２内にフィルタファンユニット５からの清浄空気を通流させるようなミニエンバイロンメント方式を採用しており、清浄空気によって外部よりも清浄度の高い高清浄部３は、複数の仕切り板５１，５３，５４によって第一の領域６０と第二の領域６１とにさらに区分けされている。第一の領域６０には、顕微鏡４０の鏡筒などが配置され、第二の領域６１には基板Ｗが搬送されるようになっている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体内に清浄流体を通流させることで外部よりも清浄度を高め、前記装置本体内に設けられた検査部で基板の検査を実施する基板検査装置において、
基板表面の拡大像を取得する顕微鏡と、前記基板を保持して前記顕微鏡の対物レンズに対して移動自在な検査ステージとを有し、前記基板が移動する領域の清浄度を低下させないように前記装置本体内が仕切られていることを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記顕微鏡において手動で作業を行う部分と前記検査ステージとの間に仕切り板が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記装置本体内に清浄な空気を強制的に噴き出す流体供給手段が前記装置本体の上部又は側部に取り付けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記仕切り板には、前記顕微鏡を通す開口が形成されていることを特徴とする請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記検査ステージで前記基板を平行移動させる駆動部と前記基板との間にパーティクル上昇防止用のカバーが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記顕微鏡において手動で作業を行う部分と、前記検査ステージとの間に、前記手動で作業を行う部分から前記検査ステージに向かって清浄空気を噴き出す第２の流体供給手段が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項５に記載の基板検査装置。
【請求項７】
前記装置本体の上方に配置された流体供給手段から噴き出される清浄空気を取り込んで、前記検査ステージの近傍から清浄空気を噴き出すためのダクトが設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項５に記載の基板検査装置。
【請求項８】
前記ダクトは、前記検査ステージ上の基板と略平行な層流を形成する開口部を有することを特徴とする請求項７に記載の基板検査装置。
【請求項９】
装置本体内に清浄流体を通流させることで外部よりも清浄度を高め、前記装置本体内に設けられた検査部で基板の検査を実施する基板検査装置において、
前記装置本体に取り付けられた流体供給手段から装置本体内に気体を噴き出させ、外部に対して内圧が高い第一の領域と、前記第一の領域よりも相対的に内圧が高い第二の領域とを形成し、前記第一の領域に顕微鏡の少なくとも一部を配置し、前記第一の領域内の前記顕微鏡に対して作業者が手動で作業可能な開口を前記装置本体に設けたことを特徴とする基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハなどの基板の検査に用いられる基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハなどの基板上に回路を形成する製造工程や、ガラス基板上にパターンを形成して液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイを製造する工程は、塵埃の付着を防止するために、クリーンルーム内で実施されている。さらに、基板にパターンを形成する製造装置や、基板への異物の付着やパターンの欠落などの欠陥を検査する基板検査装置においては、装置内に清浄空気を流し、処理中の基板に塵埃が付着することを防止するような、いわゆるミニエンバイロンメント方式が採用されているものがある。例えば、製造装置では、基板を搬送するロボットを高清浄空間に設け、基板を収納した基板キャリアから基板を加工チャンバに移送する際に塵埃が付着することを防止している（例えば、特許文献１参照）。なお、高清浄空間には、天井面にファンとフィルタからなるファンフィルタユニットが設置されており、上方から下方に向かって清浄空気の下降気流を形成するように構成されている。
【特許文献１】特開２００３−３３２４０２号公報
【特許文献２】特開２００２−２０３８８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、このようなミニエンバイロンメント方式を基板検査装置、特に基板表面の検査を行う顕微鏡を備える基板検査装置に採用した場合には、以下のような問題点があった。
基板検査装置の顕微鏡は、その本体が清浄空気の下降気流中に設置されるが、顕微鏡には、照明光源として用いられるランプの交換作業を行う必要があり、観察時にはカラーフィルタの交換作業を行う場合がある。ランプや、カラーフィルタは、顕微鏡の本体に設けられているので、このような作業を実施するためには、作業者が基板検査装置内に手を入れなければならない。この際に、清浄空気よりも相対的に清浄度が落ちる外気が装置内部に入り込んだり、人体から出るパーティクルが混入したりして、装置内部の清浄度が落ちるという問題があった。この状態で基板の検査を実施すると、基板に塵埃が付着し易くなるので、ランプ交換などの作業を実施した場合には、装置内部の清浄度が元の状態に戻るまでの間、検査を中止しなければならなかった。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、基板検査装置内で人間が作業を行った場合に、検査を長時間停止しなければならなくなることを防止することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の課題を解決する本発明は、装置本体内に清浄流体を通流させることで外部よりも清浄度を高め、前記装置本体内に設けられた検査部で基板の検査を実施する基板検査装置において、基板表面の拡大像を取得する顕微鏡と、前記基板を保持して前記顕微鏡の対物レンズに対して移動自在な検査ステージとを有し、前記基板が移動する領域の清浄度を低下させないように前記装置本体内が仕切られていることを特徴とする基板検査装置とした。
【０００５】
また、本発明は、装置本体内に清浄流体を通流させることで外部よりも清浄度を高め、前記装置本体内に設けられた検査部で基板の検査を実施する基板検査装置において、前記装置本体に取り付けられた流体供給手段から装置本体内に気体を噴き出させ、外部に対して内圧が高い第一の領域と、前記第一の領域よりも相対的に内圧が高い第二の領域とを形成し、前記第一の領域に顕微鏡の少なくとも一部を配置し、前記第一の領域内の前記顕微鏡に対して作業者が手動で作業可能な開口を前記装置本体に設けたことを特徴とする基板検査装置とした。
【０００６】
この基板検査装置では、装置本体内に清浄流体を通流させることで局所的に清浄度の高いミニエンバイロンメントを形成すると共に、装置本体内で基板が移動する領域の清浄度が低下しないように仕切った。例えば、装置本体内に手を入れて顕微鏡に対して作業を行った際に塵埃が発生しても、このような塵埃は基板が移動する領域に入り込まない。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ミニエンバイロンメント方式を用いた基板検査装置において、基板の検査を行う際に、基板が移動する領域の清浄度が低下しないように仕切って区分けしたので、手作業時に塵埃などが発生したとしても、基板が移動する領域の清浄度を高い状態を維持できる。したがって、基板に塵埃等が付着することを防止できる。さらに、手作業を行った後でも、速やかに検査を開始することができ、作業効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図面を参照しながら発明を実施するための最良の形態について説明する。なお、各実施の形態で同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、各実施の形態において重複する説明は省略する。
【０００９】
（第一の実施の形態）
図１に基板検査装置を正面からみた一部破断部を示し、図２に図１のＡ−Ａ線に沿った断面図を示す。この基板検査装置１は、床面に設置される装置本体２を有し、装置本体２の上部が基板Ｗの検査を行うために清浄空気（清浄流体）を通流させる高清浄部３であり、装置本体２の下部には装置の制御を司る制御装置４や、基板Ｗを吸着保持するための吸引ポンプなどが設置されている。
【００１０】
高清浄部３は、この基板検査装置１が設置されている環境よりも清浄度が高い空間であり、装置本体２の天井部２Ａに設置された流体供給手段であるフィルタファンユニット５（清浄空気噴き出し装置）で製造された清浄空気が内部に通流し、図１において装置本体２の右側部に形成された排気用スリット６，７から外部に排出されるようになっている。なお、フィルタファンユニット５は、基板検査装置１の周囲に存在する外気を取り込んで天井部２Ａに形成された複数の孔８から高清浄部３内に噴き出すファンと、ファンと孔８との間に設けられ、外気中の塵埃を除去するフィルタとを有している。また、清浄空気は、排気用スリット６，７以外にも、高清浄部３の下面に形成された隙間などから外部に排出されるようにしても良い。
【００１１】
図２に示すように、高清浄部３は、検査者に臨む前面側（図２において下側）に、基板表面の拡大像を取得して検査（ミクロ検査）をするためのミクロ検査部１１と、ミクロ検査における拡大像よりも広い領域を目視で検査（マクロ検査）するためのマクロ検査部１２とが設けられている。さらに、高清浄部３の背面側には、ロボット１３を有するローダ部１４が設けられている。ロボット１３は、装置本体２の背面に着脱自在な基板キャリア１５Ａ，１５Ｂと、マクロ検査部１２との間で基板Ｗを搬送する多関節アームであり、先端部のアーム１３Ａには基板Ｗを吸着保持する吸着孔１６が複数設けられている。なお、基板キャリア１５Ａ，１５Ｂは、複数の基板Ｗを上下方向に間隔をおいて収納するもので、例えば、基板キャリア１５Ａには未検査の基板Ｗが収納され、基板キャリア１５Ｂには検査後の基板Ｗが収納される。
【００１２】
マクロ検査部１２は、搭載板２０に旋回アーム２１が回転自在に取り付けられている。旋回アーム２１は、回転軸２２を有し、回転軸２２からは３本のアーム２３，２４，２５が水平に延設されており、これらアーム２３，２４，２５は回転軸２２回りに等間隔に設けられている。各アーム２３，２４，２５の上部には、基板Ｗを吸着保持する吸着孔２６が複数設けられている。旋回アーム２１は、各アーム２３，２４，２５が、位置Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３のいずれかに配置されるように制御装置４によって回転制御される。位置Ｐ１は、ロボット１３との間で基板Ｗの受け渡しをする受け渡し位置であり、位置Ｐ２は、マクロ検査を行う検査位置である。位置Ｐ３は、ミクロ検査部１１に基板Ｗを受け渡す受け渡し位置である。なお、位置Ｐ２には、マクロ検査ユニット２７が設けられている。マクロ検査ユニット２７は、検査本体２８を有し、検査本体２８には回転軸２９が回転自在、かつ上下方向に移動自在に設けられている。回転軸２９の先端部には、基板Ｗを吸着保持する吸着孔が設けられている。さらに、回転軸２９の先端部は、首振り自在になっており、基板Ｗを水平姿勢から検査者に向けて起き上がらせることができる。なお、高清浄部３の上部には、不図示の照明装置が設けられており、位置Ｐ２にある基板Ｗを照明するようになっている。
【００１３】
ミクロ検査部１１は、除振されたベース部３０に検査ステージ３１が固定されている。検査ステージ３１は、位置Ｐ３に向かってＸ方向に延びるＸ軸ステージ３２と、Ｘ方向に直交するＹ方向に移動自在なＹ軸ステージ３３とが上下に積層され、上側のＹ軸ステージ３３からは、昇降自在かつ回転自在な回転軸３４が鉛直方向に延びている。回転軸３４の先端部には、基板Ｗを載置する保持板３５が固定されている。保持板３５には、基板Ｗを吸着保持するための吸着孔（不図示）が形成されている。さらに、ミクロ検査部１１のベース部３０には、検査ステージ３１上の基板Ｗ表面を拡大観察するための顕微鏡４０が固定されている。顕微鏡４０は、検査ステージ３１よりも背面側から上方に向かって延びる顕微鏡本体４１を有し、顕微鏡本体４１からは、鏡筒４２が前面側に向かって延び、鏡筒４２の下部には、回転式のレボルバ４３に対物レンズ４４が取り替え可能に取り付けられている。また、鏡筒４２の前面には、接眼レンズ４５が取り付けられている。鏡筒４２の側部には、カラーフィルタを切り替えるツマミ４６が設けられており、鏡筒４２の背面には、照明光源として用いられるランプを収容するランプハウス４７が固定されている。
【００１４】
ここで、装置本体２には、顕微鏡４０の鏡筒４２と、検査ステージ３１とを上下方向で区分けするように、仕切り板５１が設けられている。仕切り板５１には、顕微鏡本体４１及び鏡筒４２が挿通可能な開口５２が形成されている。この開口５２は、顕微鏡４０が振動して除振されるときに、顕微鏡４０が仕切り板５１に接触しない程度で、かつ顕微鏡４０と開口５２の隙間がなるべく小さくなるように設定されている。さらに、仕切り板５１には、ミクロ検査部１１とマクロ検査部１２との境界をなすように設けられた仕切り板５３と、ミクロ検査部１１とロボット１３の可動領域とを仕切るように設けられた仕切り板５４とが固定されている。これら仕切り板５１，５３，５４と装置本体２とによって形成される空間は、高清浄部３内で相対的に清浄度を低くすることができる第一の領域６０（第一の領域）となる。なお、高清浄部３で第一の領域６０以外の領域からなる第二の領域６１は、主に基板Ｗが移動する領域となる。また、仕切り板５１の顕微鏡４０との隙間部分を塞ぐようにゴム板などの弾性部材を張り巡らせても良い。除振台が動いても大きく隙間が開くことを防ぐことができ、また大きく除振台が動いて仕切り板５１と接触しそうになっても緩衝部材として作用させることができる。
【００１５】
第一の領域６０を形成する装置本体２の側部には、開口６２が形成されており、ここから作業者が手を入れることができる。この開口６２は、外装扉６３によって閉塞することが可能である。また、開口６２よりも下側には、第一の領域６０と外部とを連通させる排気用スリット７が複数形成されている。また、排気用スリット７の下方には、第二の領域６１と外部とを連通させる排気用スリット６が複数形成されている。
【００１６】
なお、第一の領域６０の内圧は、外部よりは圧力が高いが、第二の領域６１の内圧よりも低くなるようになっている。このように差圧を形成する手段の他の形態としては、フィルタファンユニット５からの清浄空気を受け入れるために装置本体２の天井部２Ａに形成された孔８の数を、第一の領域６０の天井部よりも、第二の領域６１の天井部の方が多くなるように穿設したり、第二の領域６１側の孔８よりも第一の領域６０側の孔径を小さくしたりすることがあげられる。
【００１７】
次に、この実施の形態の作用について説明する。
まず、基板検査を実施するときには、検査対象となる基板Ｗを収納した基板キャリア１５Ａと、空の基板キャリア１５Ｂとを装置本体２に装着し、ロボット１３で基板キャリア１５Ａから基板Ｗを一枚取り出して、マクロ検査部１２の位置Ｐ１にあるアーム２３に受け渡す。アーム２３が基板Ｗを吸着保持したら、旋回アーム２１が回転して、基板Ｗを位置Ｐ２に搬送する。位置Ｐ２では、アーム２３による吸着を解除してから、マクロ検査ユニット２７で基板Ｗを吸着保持する。さらに、回転軸２９を上昇させて基板Ｗを持ち上げてから、回転軸２９を首振りさせて基板Ｗを傾斜させる。そして、この状態で照明光を上方から基板Ｗに照射する。
【００１８】
検査者は、装置本体２の前面側から基板Ｗ表面を目視で観察し、巨視的な欠陥の有無を検査する。このようにしてマクロ検査を行ったら、基板Ｗをアーム２３に再び吸着保持させてから旋回アーム２１を回転させて、基板Ｗを位置Ｐ３まで移動させる。位置Ｐ３には、検査ステージ３１の保持板３５が待機しているので、アーム２３から保持板３５に基板Ｗを移載させる。なお、他のアーム２４，２５は、旋回アーム２１の回動によって位置Ｐ１に順次移動し、ロボット１３によって新しい基板Ｗが載置される。そして、他のアーム２４，２５に載置された基板Ｗを位置Ｐ２の検査位置に順次搬送され、これによってマクロ検査が連続して行われる。
【００１９】
ミクロ検査部１１では、検査ステージ３１を駆動させて顕微鏡４０の対物レンズ４４の視野内に基板Ｗを移動させ、基板Ｗ表面の拡大像を取得する。検査者は、接眼レンズ４５で拡大像を確認して基板Ｗ表面の微視的な欠陥の有無を調べる。このようにしてミクロ検査を実施したら、基板Ｗを位置Ｐ３に戻して、アーム２３に基板Ｗを受け渡す。この基板Ｗは、旋回アーム２１の回転によって、位置Ｐ１に移動し、ロボット１３で搬出され、基板キャリア１５Ｂに収納される。
【００２０】
検査を行う間は、上部のフィルタファンユニット５から清浄空気が強制的に噴き出されるので、高清浄部３内は、外部に対して陽圧となっている。マクロ検査部１２及びロボット１３の周囲に向かって噴き出された清浄空気は、主に図１に矢印Ｃで示すように、検査ステージ３１の周囲を流れ、第二の領域６１の側方下部に設けられた排気用スリット６から外部に排出される。なお、一部の清浄空気は、仕切り板５１の開口５２から第一の領域６０に噴き出す。第一の領域６０では、フィルタファンユニット５から清浄空気が強制的に噴き出され、開口５２からは第二の領域６１から清浄空気が噴き込む。そして、第一の領域６０内の清浄空気は、装置本体２の側部に形成された排気用スリット７から外部に排出される。このようにして高清浄部３を陽圧にすることで、外部からの塵埃の混入を防止し、かつ清浄空気の流れによって基板Ｗ表面に塵埃が付着することを防止している。
【００２１】
ここで、第一の領域６０内で作業を行う場合について、顕微鏡４０の照明光源のランプを交換する場合を例にして説明する。
ランプを交換するときには、外装扉６３を開けて、開口６２から手を入れる。ランプハウス４７の蓋を外して、古いランプを取り出して、新しいランプを装着し、蓋をする。このようにして古いランプを第一の領域６０から取り出したら、外装扉６３で開口６２を閉じる。外装扉６３を開けて第一の領域６０内で手作業を行うことで、第一の領域６０の清浄度が一時的に下がるが、ロボット１３、マクロ検査部１２、検査ステージ３１は、仕切り板５１，５３，５４で仕切られているので、清浄度が下がることはない。なお、仕切り板５１には開口５２が形成されているが、第一の領域６０の内圧は相対的に第二の領域６１、つまり検査ステージ３１側よりも低いので、清浄空気は、検査ステージ３１側から噴き上げるようにして第一の領域６０に流れるので、第一の領域６０内の塵埃が検査ステージ３１側に落ちることはない。
【００２２】
この実施の形態によれば、ミニエンバイロンメント方式を採用した基板検査装置１において、顕微鏡４０のように作業者が手動で作業を行う部分を仕切り板５１，５３，５４で仕切ったので、作業を行うことで一時的に清浄度が下がった場合でも、基板Ｗが搬送される領域、例えば、ロボット１３や、マクロ検査部１２、検査ステージ３１の周囲の清浄度は高く保つことができる。したがって、第一の領域６０内で作業を行った場合でも、速やかに検査を再開することが可能になる。
また、第一の領域６０を第二の領域６１に対して相対的に低圧にしたので、第一の領域６０から検査ステージ３１などに向かう気流が形成されることがないので、第一の領域６０の塵埃が基板Ｗに付着することはない。このような差圧を形成する手法として、清浄空気の噴き出し量に差を設けるようにしたので、簡単な構成で差圧を形成することができる。
【００２３】
なお、本発明の変形例を図４及び図５を参照して説明する。
図４に示す基板検査装置７０は、仕切り板５１，５３，５４によって高清浄部３の一部を相対的に清浄度が低く、かつ内圧が低い第一の領域６０としている点は同じであるが、フィルタファンユニット５が装置本体２の第二の領域６１側の側部に取り付けられている点が異なる。このフィルタファンユニット５からの清浄空気は、装置本体２の側部に形成された孔８から横向きの気流を形成し、検査ステージ３１の周囲を通って排気用スリットから外部に排出される。前記のように下降気流が形成される場合に比べて、清浄空気の流れが乱れ難くなり、塵埃の噴き溜りが生じ難くなる。その他の作用及び効果は、前記の基板検査装置１と同様である。
【００２４】
図５に示す基板検査装置８０は、顕微鏡４０の上部に仕切り板８１が設けられ、４つの仕切り板５１，５３，５４，８１と、装置本体２の側部とで第一の領域８２が形成されている。第一の領域８２に噴き込む清浄空気は、開口５２からのみとなる。第一の領域８２の作用及び効果は、前記第一の領域６０と同じである。さらに、この基板検査装置８０では、第一の領域８２の空間を小さくすることができる。また、フィルタファンユニット５からの清浄空気を噴き出す孔８の数や、径を変えることなく、清浄度及び内圧に差を設けることが可能になる。なお、フィルタファンユニット５は、図４に示すように側部に取り付けても良い。また、仕切り板８１に孔を設け清浄空気を噴き込ませても良い。
【００２５】
また、第一の領域６０，８２の開口６２を閉じる外装扉６３は、開いたままで検査を実施しても良い。この場合であっても、第一の領域６０，８２と、検査ステージ３１側、つまり第二の領域６１の間に差圧が生じて塵埃が検査ステージ３１に落下することが防止される。なお、第一の領域６０，８２が外部よりも陽圧になるように、開口６２を小さく設けることが好ましい。
顕微鏡４０は、接眼レンズ４５の代わりに、ＣＣＤ（Charged Coupled Device）を設け、図２に示すように装置前面に設けられたモニタ６５に基板Ｗ表面の拡大画像を出力するようにしても良い。第一の領域６０，８２と外部を連通する開口面積を少なくすることが可能になる。
基板検査装置１，７０，８０は、マクロ検査部１２を設けずに、ミクロ検査部１１のみを有する装置構成であっても良い。
また、変形例の図４、図５ともに第２の領域６１が第一の領域６０又は第一の領域８０に対して内圧が高い範囲において、仕切り板５３又は仕切り板８１に開口部を設けても良い。第一の領域６０，８０内に空気の流れができ、ランプハウス４７の冷却性を向上させることができる。
【００２６】
（第二の実施の形態）
図６に示すように、基板検査装置９０は、天井部に設けられた第１のフィルタファンユニット（清浄空気噴き出し装置）５によって高清浄部３が形成されており、高清浄部３内には清浄度が相対的に低い第一の領域６０と、清浄度が相対的に高い第二の領域６１とに仕切られている。第一の領域６０の底部を形成する仕切りには、第２のフィルタファンユニット９１（清浄空気噴き出し装置）が使用されている。図６から図８に示すように、第２のフィルタファンユニット９１は、複数配設されたファン部９１Ａの下部に中空のチャンバ部９１Ｂを形成した後にフィルタ９３Ｃが取り付けられており、第一の領域６０から第二の領域６１に向けて略下向きに清浄空気を送り出すようになっている。フィルタ９１Ｃの下端の吹き出し部には、多数の孔がメッシュ状に穿設された板９４が取り付けられており、清浄空気の風速や風量が場所に依らずに略一定になるようにしてある。チャンバ部９１Ｂ及びフィルタ９１Ｃ、並びに板９４は、前面側から顕微鏡４０を避けるように切り込みが入った略コ字形状を有する。なお、チャンバ部９１Ｂ及びフィルタ９１Ｃ、並びに板９４は、前面側を閉鎖して顕微鏡４０の支柱と観察部を囲むように形状にしても良い。また、ファン部９１Ａの数や配置は、図７に示すものに限定されない。
【００２７】
さらに、高さ方向で保持板３５と検査ステージ３１のＹ軸ステージ３３の間には、パーティクル上昇防止カバー９５が配置されている。パーティクル上昇防止カバー９５は、高清浄部３の底部から延びるフレーム９６に固定された板状の部材であり、ＸＹ方向に検査ステージ３１のベース部３０を覆う大きさを有する。パーティクル上昇防止カバー９５の略中央には、検査ステージ３１の回転軸３４を通すための開口９７が形成されている。図９に示すように、開口９７は、ＸＹ方向に基板Ｗを平行移動させたときに回転軸３４が干渉しない形状になっている。
【００２８】
この実施の形態の作用について説明する。
検査を行う間は、上部の第１のフィルタファンユニット５から清浄空気が強制的に噴き出されるので、高清浄部３内は、外部に対して陽圧になっている。マクロ検査部１２及びロボット１３の周囲に向かって噴き出された清浄空気は、検査ステージ３１の周囲を流れ、第二の領域６１の側方下部に設けられた排気用スリット６から外部に排出される。第１のフィルタファンユニット５からは、第一の領域６０にも清浄空気が噴き出す。この清浄空気は、第２のフィルタファンユニット９１から第二の領域６１に送り込まれる。この清浄空気は、検査ステージ３１が配置された領域内でパーティクルが舞い上がることを防止する。
【００２９】
例えば、検査ステージ３１の駆動機構部分でパーティクルが発生した場合、検査ステージ３１の動きによってパーティクルが噴き上げられたとしても、上方向にはパーティクル上昇防止カバー９５で進路が遮られており、パーティクルが基板Ｗに到達しなくなる。また、パーティクル上昇防止カバー９５の開口９７を通って上昇しようとするパーティクルは第２のフィルタファンユニット９１からのダウンフローによってパーティクルが下方に押し戻される。
【００３０】
この実施の形態によれば、高清浄部３の清浄状態を著しく低下させることなく顕微鏡４０の光源ランプの交換などを容易に実施できる構成において、パーティクル上昇防止カバー９５で機構部分などでパーティクルが発生した場合でも、その上昇を抑えて第２のフィルタファンユニット９１が形成するダウンフローでパーティクルを下方に押し戻すようにしたので、基板Ｗに塵埃等が付着することを防止できる。
【００３１】
（第三の実施の形態）
図１０及び図１１に示すように、基板検査装置１００は、高清浄部３の第一の領域６０の天井面を略覆うようにダクト１０１が設けられている。ダクト１０１は、板金加工等によって形成されており、第一の領域６０と第二の領域６１の間の仕切り板５３に沿って下方に延びている。その下端部は、仕切り板５１との角部に沿うように曲がり、排気用スリット６が設けられた側壁に向けて開口部１０２を形成している。
開口部１０２の近傍は、ダクト１０１の流路断面積が徐々に減少しており、清浄空気が流速が高められて噴き出すようにしてある。さらに、開口部１０２には、多数の孔をメッシュ状に穿設した板１０３が取り付けられている。開口部１０２の高さは、検査ステージ３１で搬送される基板Ｗの高さよりも僅かに上方に設定してあり、ダクト１０１からの空気は矢印に示すように基板Ｗの上方と下方のそれぞれに、基板Ｗと略平行な層流を形成することができる。なお、ダクト１０１の上部には、ダクト１０１内の清浄空気の一部を第一の領域に６０噴き出すための噴き出し孔１１０が１つ以上設けられている。さらに、ダクト１０１の側部には、第二の領域６１に清浄空気の一部を噴き出すための噴き出し孔１１１が１つ以上設けられている。なお、噴き出し孔１１１はこの実施の形態に必須の構成要素ではない。また、開口部１０２の高さは、基板Ｗの高さより僅か上方に限定されるものではなく、パーティクルの舞い上がりが防止でき、検査部１１，１２間で基板Ｗの受け渡しが可能な位置であれば、基板Ｗの高さより下の部分を含む位置でも良い。この場合は、基板Ｗの移動経路を避ける形状に開口部１０２が形成される。
【００３２】
さらに、検査ステージ３１の配置領域には、パーティクル上昇防止カバー９５が配置されている。パーティクル上昇防止カバー９５の配置及び形状は、第二の実施の形態と同じである。
【００３３】
この実施の形態の作用について説明する。
フィルタファンユニット５から第二の領域６１に噴き出す清浄空気は、ダウンフローを形成して第二の領域６１の底部から排出されるか、検査ステージ３１の周囲を通って排気用スリット６から排出される。一方、フィルタファンユニット５から第一の領域６０に向けて噴き出す清浄空気は、その略全てがダクト１０１に流入する。一部の清浄空気はダクト１０１の上部の噴き出し孔１１０からは、第一の領域６０に噴き出して第一の領域６０内でダウンフローを形成する。この清浄空気は、排気用スリット７から排出される。また、一部の清浄空気は、ダクト１０１側部の噴き出し孔１１１から噴き出し、第二の領域６１内のダウンフローに合流する。残りの清浄空気は、ダクト１０１の下端の開口部１０２から噴き出される。
ダクト１０１の下端の開口部１０２から噴き出された清浄空気は、開口部１０２直前で流速が高められると共に、板１０３の多数の孔を通ることで場所に依らずに略均一な流量、流速になって噴き出される。その一部は、基板Ｗの上方を略平行に流れる層流になって排気用スリット６から排出される。また、他の清浄空気は、基板Ｗとパーティクル上昇防止カバー９５との間を流れる層流になって排気用スリット６から排出される。
【００３４】
この実施の形態によれば、検査ステージ３１の近傍までダクト１０１で導いた清浄空気を排気用スリット６に向けて流すようにしたので、この領域の空気が滞溜し難くなり、清浄度をより確実に維持することができる。パーティクル上昇防止カバー９５によるパーティクルの上昇防止と、ダクト１０１からの層流によって、基板Ｗに塵埃等が付着することをさらに確実に防止することができる。清浄空気は、基板Ｗの表面側及び裏面側のそれぞれに流れるようにしたので、基板Ｗの表面及び裏面のそれぞれに対して塵埃等の付着を防止できる。
【００３５】
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、装置本体２の側壁部の排気用スリット６，７の代わりに、パンチングメタルなどの多数の孔をメッシュ状に穿設した板を使用しても良い。
また、第２のフィルタファンユニット９１やダクト１０１から噴き出す清浄空気を層流にするために、フィルタファンユニット５、第２のフィルタファンユニット９１に風量調整機能を設け、ツマミ等で風量を調整できるようにしても良い。第２のフィルタファンユニット９１やダクトから噴き出す清浄空気の流れは、基板Ｗへの塵埃等の付着が防止できれば良いので、層流にしなくても良い。
第二、第三の実施の形態において清浄空気の流れによって基板Ｗへの塵埃等の付着が防止できればパーティクル上昇防止カバー９５を有しない構成でも良い。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板検査装置を正面から見た図であって、一部を破断した図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図４】フィルタファンユニットを側部に設けた場合を示す図である。
【図５】第一の領域を小さく形成した場合を示す図である。
【図６】第２の実施の形態の構成を示す一部破断した断面図である。
【図７】図６のＤ矢視図であって、第２のフィルタファンユニットの配置を説明する図である。
【図８】図７のＦ−Ｆ線に沿った断面図である。
【図９】図６のＥ矢視面図である。
【図１０】第３の実施の形態の構成を示す一部破断した断面図である。
【図１１】図１０のＧ−Ｇに沿った断面図である。
【符号の説明】
【００３７】
１，７０，８０，９０，１００    基板検査装置
２      装置本体
５      フィルタファンユニット（流体供給手段、清浄空気噴き出し装置）
１１    ミクロ検査部（検査部）
１２    マクロ検査部（検査部）
３１    検査ステージ
４０    顕微鏡
４４    対物レンズ
５１，５３，５４，８１    仕切り板
５２    開口
６０，８２    第一の領域
６１    第二の領域
９１      第２のフィルタファンユニット（第２の流体供給手段）
９５      パーティクル上昇防止カバー
９７      開口
１０１      ダクト
１０２      開口部
１０３      板
Ｗ      基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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