(57)【要約】【課題】  基板の位置ずれを効率的に防止することができる電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】  対向配置される第１の基板及び第２の基板を含むセル構造と、当該セル構造の内部に保持された電気光学材料と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、第１の基板上におけるセル構造を構成するセル領域以外の領域に、第１の基板及び第２の基板を貼り合わせる際の位置ずれを防止するための突起部であって、第１の基板及び第２の基板間のセルギャップの高さよりも低い突起部を形成するとともに、第２の基板上におけるセル領域以外の領域であって、突起部に対応する位置に、当該突起部と係合するとともに、突起部と係合した状態で水平方向にマージンを有する係合部を形成し、突起部と係合部とを係合させた状態で、貼り合わせる。【選択図】  図１
2006017856.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置される第１の基板及び第２の基板を含むセル構造と、当該セル構造の内部に保持された電気光学材料と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、以下の工程（Ａ）〜（Ｅ）を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
（Ａ）前記第１の基板上におけるセル構造を構成するセル領域以外の領域に、前記第１の基板及び第２の基板を貼り合わせる際の位置ずれを防止するための突起部であって、前記第１の基板及び第２の基板間のセルギャップの高さよりも低い突起部を形成する工程
（Ｂ）前記第２の基板上におけるセル領域以外の領域であって、前記突起部に対応する位置に、当該突起部と係合するとともに、前記突起部と係合した状態で水平方向にマージンを有する係合部を形成する工程
（Ｃ）前記突起部と係合部とを垂直方向に位置合わせするとともに、当該突起部及び係合部を係合させた状態で、前記第１の基板と第２の基板とを仮圧着する工程
（Ｄ）仮圧着した前記第１の基板及び第２の基板を本圧着する工程
（Ｅ）少なくとも前記突起部及び係合部が形成されている、前記セル領域以外の領域を切除する工程
【請求項２】
前記工程（Ａ）〜（Ｅ）において、前記第１の基板及び第２の基板として、それぞれ複数の前記セル領域を有する第１の母基板及び第２の母基板を用いることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の基板及び第２の基板の周縁部に、それぞれ２〜１０個の前記突起部及び係合部を形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記マージンを１〜４μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記突起部の高さと前記係合部の高さとの合計を、前記セルギャップの値より大きくするとともに、当該高さの合計とセルギャップの値との差を１〜３μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記係合部の高さを１〜５μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記突起部の材料として紫外線硬化性樹脂を用いるとともに、前記工程（Ａ）を、前記第１の基板上に、表面保護膜、平坦化膜、層間絶縁膜、及びフォトスペーサのいずれかを形成する工程と同時に行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記係合部の材料として金属材料を用いるとともに、前記工程（Ｂ）を、前記第２の基板上に電気配線又はスイッチング素子のいずれかを形成する際に同時に行うことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記工程（Ｃ）において、前記係合部に紫外線硬化性接着剤を塗布した後、前記突起部及び係合部を係合させるとともに、前記第１の基板と第２の基板とを仮圧着した状態で紫外線を照射することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法に関する。特に、係合した状態で所定のマージンを有する突起部及び係合部をそれぞれの基板上に形成することにより、貼り合わせ工程中において、当該突起部及び係合部を迅速に係合させて、基板の位置ずれを所定範囲内に制限することができる電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気光学装置の一態様である液晶表示装置は、対向配置される一対の基板の双方に形成した複数の電極を平面的に重ねることによって、ドットマトリクス状に配列された複数の画素を形成している。そして、それぞれの画素に印加する電圧を選択的にオン、オフさせることによって、当該画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、画像や文字等の像を表示するものである。
かかる液晶表示装置は、対向する一対の基板をシール材で貼り合せることによりセル構造を形成した後、当該セル構造の内部に液晶材料を封入することにより製造されている。また、製造効率を向上させることを目的として、一対の母基板上に複数のセル領域に対応した電極をそれぞれ形成するとともに、当該一対の母基板を貼り合わせていわゆる大判パネルを形成した後、当該大判パネルを分断して、単品の液晶パネルを形成する方法が一般的に行われている。
【０００３】
ここで、一対の母基板を貼り合わせて大判パネルを形成するには、一方の母基板におけるそれぞれのセル領域の周縁部にシール材を塗布するとともに、他方の母基板を重ね合わせた後、仮圧着及び本圧着を行うことが一般的である。より具体的には、シール材が塗布された母基板に対し、他方の母基板を重ね合わせ、双方の母基板に形成された位置合わせマーク（アライメントマーク）を一致させて仮圧着した後、さらに本圧着することにより、シール材を加熱硬化させて、一対の母基板を貼り合わせている。
このとき、仮圧着後の段階ではシール材が完全に硬化していないために、一対の母基板を仮圧着工程から本圧着工程に移動させる間に、振動等によって一対の母基板の位置ずれが生じる場合があった。このような基板の位置ずれが生じた液晶パネルを組み込んで製造された液晶表示装置は、画像欠陥等の表示不良が生じやすいという問題が見られた。
【０００４】
そこで、このような基板の位置ずれ（貼り合わせずれ）を防止するために、それぞれの基板上に所定の凸部と凹部を設けた電気光学装置が開示されている。より具体的には、図１６に示すように、液晶を挟んでＴＦＴアレイ基板と対向基板が対向配置されており、当該基板の周縁部における、ＴＦＴアレイ基板側に凹部が設けられ、対向基板上に凸部が設けられている電気光学装置であって、凸部と凹部が嵌合することによって、ＴＦＴアレイ基板と対向基板の貼り合わせずれが防止されるとともにセルギャップが所定の値に保持されている電気光学装置である。（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−２２２２３４号公報  （特許請求の範囲、図８）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載された電気光学装置においては、凸部と凹部とを勘合させた状態でマージンのない構成であるために、当該凸部及び凹部を迅速に嵌合させることが困難である場合があった。すなわち、例えば、それぞれの母基板上において、凸部又は凹部を形成する際に、大きさにばらつきがある場合や、配置にずれが生じている場合等には、それぞれの母基板のアライメントマーク同士を合わせた上で重ね合わせた場合であっても、凸部と凹部とをスムーズに嵌合させることができないという問題が見られた。特に、凸部及び凹部の数が多いほど、全ての凸部及び凹部を迅速に、かつ精度良く嵌合させることは困難であった。
したがって、基板間のセルギャップにばらつきが生じたり、上下基板の電極の位置ずれによる表示不良が発生したりするという問題が見られた。
【０００６】
そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、係合した状態で水平方向にマージンを有する突起部及び係合部を形成した上で、貼り合わせ工程を実施することにより、このような問題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、電気光学装置の製造方法において、基板の貼り合わせ工程において、基板の位置ずれを防止するための突起部及び係合部を迅速に係合させて、基板の位置ずれを所定範囲内に制限することができる電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、対向配置される第１の基板及び第２の基板を含むセル構造と、当該セル構造の内部に保持された電気光学材料と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、以下の工程（Ａ）〜（Ｅ）を含む電気光学装置の製造方法が提供され、上述した問題を解決することができる。
（Ａ）第１の基板上におけるセル構造を構成するセル領域以外の領域に、第１の基板及び第２の基板を貼り合わせる際の位置ずれを防止するための突起部であって、第１の基板及び第２の基板間のセルギャップの高さよりも低い突起部を形成する工程
（Ｂ）第２の基板上におけるセル領域以外の領域であって、突起部に対応する位置に、当該突起部と係合するとともに、突起部と係合した状態で水平方向にマージンを有する係合部を形成する工程
（Ｃ）突起部と係合部とを垂直方向に位置合わせするとともに、当該突起部及び係合部を係合させた状態で、第１の基板と第２の基板とを仮圧着する工程
（Ｄ）仮圧着した第１の基板及び第２の基板を本圧着する工程
（Ｅ）少なくとも突起部及び係合部が形成されている、セル領域以外の領域を切除する工程
すなわち、第１の基板及び第２の基板のそれぞれに、係合した状態でマージンを有する所定の突起部及び係合部を形成して基板の貼り合わせ工程を行うことにより、突起部及び係合部を迅速に、かつ精度良く係合させることができる。また、当該突起部及び係合部によって、貼り合わせ工程における一対の基板の位置ずれを所定範囲内に制限することができる。さらに、かかる突起部及び係合部を、セル領域以外の領域に形成することにより、製造される電気光学装置において、当該突起部等による透過率の低下等が生じることが少なくなる。したがって、表示不良の発生の少ない電気光学装置を効率的に製造することができる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、工程（Ａ）〜（Ｅ）において、第１の基板及び第２の基板として、それぞれ複数のセル領域を有する第１の母基板及び第２の母基板を用いることが好ましい。
このように実施することにより、複数のセル領域を含む大判パネルの形成時における一対の母基板の位置ずれを所定範囲内に制限して、基板の位置合わせ精度の高い電気光学装置を効率よく製造することができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、第１の基板及び第２の基板の周縁部に、それぞれ２〜１０個の突起部及び係合部を形成することが好ましい。
このように実施することにより、基板の貼り合わせ工程における基板の位置ずれを、より確実に防止することができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、マージンを１〜４μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、突起部及び係合部を係合させながら第１の基板及び第２の基板を貼り合わせることが容易になるとともに、基板の位置ずれを所定範囲内に制限することができ、電気光学装置における表示不良の発生を防止することができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、突起部の高さと係合部の高さとの合計を、セルギャップの値より大きくするとともに、当該高さの合計とセルギャップの値との差を１〜３μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、突起部又は係合部によって、突起部及び係合部を確実にかみ合わせることができるため、基板の位置ずれを防止することができるとともに、第１の基板及び第２の基板間のセルギャップに影響を及ぼすことがなくなる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、係合部の高さを１〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、基板上の別部材、例えば、金属配線の形成と同時に係合部を形成することができるとともに、係合部によって第１の基板及び第２の基板間のセルギャップに影響を及ぼすことがなくなる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、突起部の材料として紫外線硬化性樹脂を用いるとともに、工程（Ａ）を、第１の基板上に、表面保護膜、平坦化膜、層間絶縁膜、及びフォトスペーサのいずれかを形成する工程と同時に行うことが好ましい。
このよう実施することにより、第１の基板上に存在する別部材と同時に、所定の突起部を形成することができるため、工程数を増加させることなく、当該突起部を精度良く形成することができる。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、係合部の材料として金属材料を用いるとともに、工程（Ｂ）を、第２の基板上に電気配線又はスイッチング素子のいずれかを形成する際に同時に行うことが好ましい。
このように実施することにより、第２の基板上に存在する別部材と同時に、所定の係合部を形成することができるため、工程数を増加させることがないとともに、係合部の強度を上げて、係合部の歪み等による基板の位置ずれを防止することができる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、工程（Ｃ）において、係合部に紫外線硬化性接着剤を塗布した後、突起部及び係合部を係合させるとともに、第１の基板と第２の基板とを仮圧着した状態で紫外線を照射することが好ましい。
このように実施することにより、仮圧着工程から本圧着工程に移動させる際に振動を受けた場合であっても、発生する基板の位置ずれを、より確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置の製造方法に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００１７】
本実施形態は、図１にそのフローを示すように、対向配置される第１の基板及び第２の基板を含むセル構造と、当該セル構造の内部に保持された電気光学材料と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、以下の工程（Ａ）〜（Ｅ）を含む電気光学装置の製造方法である。
（Ａ）第１の基板上におけるセル構造を構成するセル領域以外の領域に、第１の基板及び第２の基板を貼り合わせる際の位置ずれを防止するための突起部であって、第１の基板及び第２の基板間のセルギャップの高さよりも低い突起部を形成する工程
（Ｂ）第２の基板上におけるセル領域以外の領域であって、突起部に対応する位置に、当該突起部と係合するとともに、突起部と係合した状態で水平方向にマージンを有する係合部を形成する工程
（Ｃ）突起部と係合部とを垂直方向に位置合わせするとともに、当該突起部及び係合部を係合させた状態で、第１の基板と第２の基板とを仮圧着する工程
（Ｄ）仮圧着した第１の基板及び第２の基板を本圧着する工程
（Ｅ）少なくとも突起部及び係合部が形成されている、セル領域以外の領域を切除する工程
【００１８】
以下、図１〜図８を適宜参照しながら、本発明の電気光学装置の製造方法について、第１の基板（カラーフィルタ基板と称する場合がある。）３０、及び第２の基板（素子基板と称する場合がある。）６０を備えた液晶表示装置を、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａから製造する製造方法を例に採って説明する。
なお、本実施形態で製造する液晶表示装置は、ＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置であるが、これ以外でもＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置や、あるいは、パッシブマトリクス構造の液晶表示装置であっても構わない。
【００１９】
１．工程（Ａ）
（１）第１の電極、アライメントマーク等の形成
所定の突起部を形成する工程（Ａ）は、第１の母基板３０Ａの製造工程において行われる。
ここで、第１の母基板３０Ａは、図２（ａ）〜（ｅ）に示すように、複数のセル領域Ｃを含むガラス基板３１における、それぞれのセル領域Ｃの画像表示領域Ａに相当する箇所に、反射層３５、着色層３７、遮光膜３９、平坦化膜４１、及び第１の電極３３等を順次形成することにより製造することができる。なお、本実施形態に係る電気光学装置は、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置であり、第１電極は走査電極を意味する。
このとき、第１の母基板３０Ａの周縁部Ｄのいずれかの箇所に、後の基板の貼り合わせ工程において、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａの位置合わせをするために用いるアライメントマーク９９ａを形成しておくことが好ましい。かかるアライメントマーク９９ａを形成する材料としては、位置合わせの際に使用する光源からの光を透過させることができる透光性の材料であれば、特に制限されることなく、適宜使用することができる。
これらの反射層３５や、アライメントマーク９９ａ等については、公知の方法により形成することができる。
【００２０】
（２）突起部の形成
かかる第１の母基板３０Ａの製造工程において、第１の母基板３０Ａ上におけるセル構造を構成するセル領域Ｃ以外の領域Ｄに、製造するセル構造における所望のセルギャップの高さより低い突起部９０を形成する。すなわち、後述する、第２の母基板６０Ａ上に形成される係合部９１と係合して、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａの貼り合わせ工程等における位置ずれを防止するためである。
このとき、例えば、平坦化膜４１を形成するのと同時に、所定の突起部９０を形成することが好ましい。この理由は、平坦化膜４１を構成する紫外線硬化性樹脂４１Ａを利用することにより、工程数を増やすことなく突起部９０を形成することができるとともに、突起部９０の配置や形状の精度を高くすることができるためである。
【００２１】
すなわち、まず、図２（ｂ）に示すように、第１の母基板３０Ａ上の全面に渡って、透光樹脂層４１Ｘを形成する。この透光樹脂層４１Ｘは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂等の、電気絶縁性樹脂から構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で第１の母基板３０Ａ上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの手段により、適宜硬化される。塗布方法としては、公知のスピンコート法や印刷法等を用いることができる。
次いで、図２（ｃ）〜（ｄ）に示すように、透光樹脂層４１Ｘに対して、所定のパターンマスク１２１を用いて、公知のフォトリソグラフィ法によりパターニングを施すことにより、セル領域Ｃの画像表示領域Ａに限定された平坦化膜４１を形成するとともに、セル領域Ｃ以外の領域Ｄに突起部９０を形成することができる。
なお、突起部９０を形成するために利用する透光樹脂層は、平坦化膜４１を形成するための樹脂層に限られるものではなく、形成する基板に応じて、表面保護膜、平坦化膜、層間絶縁膜、フォトスペーサ等を形成するための透光樹脂層であれば、いずれであっても好適に利用することができる。
【００２２】
また、かかる突起部９０は、上述のとおり、第１の母基板３０Ａにおける複数のセル領域Ｃ以外の領域Ｄに形成される。すなわち、かかる突起部９０をセル領域Ｃ内に形成した場合には、電気光学装置１０に組み込まれた後においても残存してしまい、特に、表示領域Ａ内に存在すると、光の透過率に影響を与えたりする場合があるためである。
具体的には、図３に示すように、第１の母基板３０Ａにおけるそれぞれのセル領域Ｃの間隙部分であって、最終的に各セル構造が形成される段階で、切除されて使用されなくなる部分Ｄであれば、特に制限されることなく形成することができる。ただし、基板の位置ずれをより確実に防止することができることから、第１の母基板３０Ａの周縁部Ｄ´に形成することが好ましい。
【００２３】
また、かかる突起部９０は、セル領域Ｃ以外の領域Ｄに、複数個形成することが好ましい。この理由は、突起部９０が１個のみでは、当該突起部９０を中心に回転して、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａの位置ずれが生じる場合があるためである。逆に、２個以上形成されていれば、それらの母基板の位置ずれが生じにくいためである。
ただし、突起部９０の数が多すぎると、全ての突起部９０を、後述する第２の母基板６０Ａにおける係合部９１と係合させることが困難となる場合がある。したがって、突起部９０を、２〜１０個の範囲内で形成することが好ましい。
【００２４】
また、かかる突起部９０の高さは、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａ間のセルギャップの高さよりも低くなるように形成される。すなわち、突起部９０の高さがセルギャップよりも大きい場合はもちろん、実質的に一致させようとした場合であっても、セルギャップに影響を及ぼし、セルギャップにばらつきを生じさせてしまう場合があるためである。したがって、例えば、かかる突起部９０の高さを、セルギャップの高さの０．９倍程度、具体的には、２〜８μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
かかる突起部９０の高さは、例えば、透光樹脂層４１Ｘに対して照射する紫外線の露光量や、露光時間等を調整したり、露光する際に使用するパターンマスク１２１としてハーフトーンマスクを使用したりすることにより、適宜変更することができる。
【００２５】
また、かかる突起部９０の形状は特に制限されるものではないが、例えば、図４（ａ）〜（ｄ）に示すように、円柱状の突起部９０ａや四角柱状の突起部９０ｂ、あるいは上面に平坦部を有する円錘状の突起部９０ｃや四角錘状の突起部９０ｄとすることができる。ただし、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａの貼り合わせ時において、第１の母基板３０Ａ上の突起部９０と第２の母基板６０Ａ上の係合部９１とをスムーズに係合させることができることから、円錐状の突起部９０ｃとすることが好ましい。
また、かかる突起部９０の大きさに関し、平面形状を円相当とした場合の径を５〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる突起部９０の径が５μｍ未満の値となると、突起部９０の強度が低下して破損してしまう場合があるためである。一方、かかる突起部９０の径が５０μｍを超えると、当該突起部９０の高さや形状との関係もあるが、いわゆる突起としての体をなさなくなり、基板の位置ずれを防ぐことができない場合があるためである。
【００２６】
２．工程（Ｂ）
（１）第２の電極等の形成
所定の係合部を形成する工程（Ｂ）は、第２の母基板６０Ａの製造工程において行われる。
ここで、第２の母基板６０Ａは、図５（ａ）〜（ｅ）に示すように、複数のセル領域Ｃを含むガラス基板６１における、それぞれのセル領域Ｃにおける画像表示領域Ａに、第２の電極（図示せず）、スイッチング素子（図示せず）、電気配線６５、表面保護膜８１等を形成することにより製造することができる。なお、本実施形態に係る電気光学装置は、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置であり、第２電極は画素電極を、スイッチング素子はＴＦＤ素子を、電気配線はデータ線を、それぞれ意味する。
また、第１の母基板３０Ａと同様に、後の基板の貼り合わせ工程において、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａの位置合わせをするためのアライメントマーク９９ｂを形成することが好ましい。さらに、図示しないが、必要に応じて、セルギャップを規定するための柱状スペーサを形成することもできる。これらの第２の電極６３や、アライメントマーク９９ｂ等についても、公知の方法により形成することができる。
【００２７】
（２）係合部の形成
かかる第２の母基板６０Ａの製造工程において、図５（ｃ）に示すように、第２の母基板６０Ａ上におけるセル構造を構成するセル領域Ｃ以外の領域Ｄに、第１の母基板３０Ａ上の突起部９０と係合する所定の係合部９１を形成する。すなわち、上述した第１の母基板３０Ａ上の突起部９０と係合して、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを貼り合わせる際の位置ずれを防止するためである。
このとき、例えば、電気配線６５等の金属配線を形成するのと同時に、所定の係合部９１を形成することが好ましい。この理由は、電気配線６５等を形成する金属材料を利用することにより、工程数を増やすことなく係合部９１を形成することができるとともに、係合部９１の強度を高め、突起部９０と係合した係合部９１がゆがんだりすることを防いで、基板の位置ずれが生じることをより確実に防止することができるためである。
【００２８】
すなわち、まず、図５（ａ）に示すように、第２の母基板６０Ａ上の全面に導電性の金属材料６５Ｘを、スパッタリング法等により積層する。かかる金属材料としては、例えば、タンタルやクロム等を用いることができる。
次いで、その上からレジスト材料を全面的に塗布するとともに、所定のパターンマスクを介して、露光した後、現像して、図５（ｂ）に示すように、パターニングされたレジスト材料１２５を残す。このとき、セル領域Ｃ内に形成する電気配線（データ線）６５及びセル領域Ｃ以外の領域Ｄに形成する係合部９１の平面形状に合わせてパターン化されたレジスト材料１２５が残されることとなる。
次いで、エッチング法により、レジスト材料１２５に被覆されていない箇所の金属材料６５Ｘを除去した後、レジスト材料１２５を除去することにより、図５（ｃ）に示すように、セル領域Ｃ内に電気配線（データ線）６５を形成するとともに、セル領域Ｃ以外の領域Ｄの所定位置に係合部９１を形成することができる。かかる係合部９１は、第１の母基板３０Ａ上の突起部９０と係合するものであるため、言うまでもなく、セル領域Ｃ以外の領域Ｄであって、当該突起部９０に対応する位置に形成される。
なお、係合部９１を形成するために利用する金属膜は、データ線６５を形成するためのものに限られるものではなく、スイッチング素子等を形成するための金属膜であっても、好適に利用することができる。
【００２９】
また、かかる係合部９１は、図６に示すように、上述の第１の母基板３０Ａ上に形成された突起部９０と係合した状態において、水平方向にマージン（ｍ）を有することを特徴としている。すなわち、第１の母基板３０Ａと第２の母基板６０Ａとを位置合わせして重ね合わせる際に、突起部９０と係合部９１との係合をスムーズに行うことができるためである。逆に言うと、係合部９１にマージン（ｍ）を設けていない場合には、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａの位置や、形成された突起部９０及び係合部９１の位置が少しでもずれている場合に、また、突起部９０及び係合部９１の大きさにばらつきがある場合に、突起部９０及び係合部９１がうまく係合できずに、セルギャップにばらつきを生じさせてしまう場合があるためである。
ただし、マージン（ｍ）が大きすぎると、突起部９０及び係合部９１を係合させたとしても、基板同士が許容範囲を超えて位置ずれを起こし、表示不良の原因となる場合がある。したがって、基板の位置ずれを所定範囲内に制限するために、突起部９０と係合部９１とが係合した状態における、水平方向のマージン（ｍ）を１〜４μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００３０】
また、かかる係合部９１の形状をテーパ状とすることが好ましい。すなわち、係合部９１において、第１の母基板３０Ａ上の突起部９０が挿入される孔部９１ａの入口部分の断面積を、孔部９１ａの底部分の断面積よりも大きくすることが好ましい。
この理由は、係合部９１がこのような形状であれば、突起部９０を容易に挿入することができるとともに、係合部９１の水平断面における中心方向に向かって、突起部９０がセルフアライメント効果を発揮することになり、位置合わせ精度を向上させることができるためである。
【００３１】
また、図６に示す係合部９１の高さ（ｈ２）を１〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、係合部９１の高さ（ｈ２）が１μｍ未満の値となると、第１の母基板３０Ａ上の突起部９０とかみ合わせることが困難となり、係合させることができない場合があるためである。一方、係合部９１の高さ（ｈ２）が５μｍを超えると、上述のように、金属膜６５Ｘを利用して形成することが困難となったり、セルギャップに影響を及ぼしたりする場合があるためである。
また、第１の母基板３０Ａ上の突起部９０の高さ（ｈ１）と、第２の母基板６０Ａ上の係合部９１の高さ（ｈ２）との合計を、セルギャップの値（ｈ３）より大きくするとともに、当該高さの合計（ｈ１＋ｈ２）とセルギャップの値（ｈ３）との差を１〜３μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる高さの合計（ｈ１＋ｈ２）がセルギャップの値（ｈ３）より小さいと、突起部９０及び係合部９１を係合させることができないためである。また、かかる高さの合計（ｈ１＋ｈ２）を、セルギャップの値（ｈ３）より所定範囲大きくすることにより、すなわち、突起部９０と係合部９１とをかみ合わせる長さを１〜３μｍの範囲内の値とすることにより、セルギャップ（ｈ３）に影響を及ぼすことなく、突起部９０及び係合部９１を確実に係合させることができるためである。
【００３２】
３．工程（Ｃ）
（１）シール材の塗布
次いで、図７（ａ）〜（ｂ）に示すように、例えば、第２の母基板６０Ａ上において、エポキシ樹脂等を主成分とするシール材２３を、スクリーン印刷やディスペンサにより、それぞれのセル領域Ｃにおける画像表示領域Ａを囲むようにパターニングして塗布する。かかるシール材２３は、例えば、加熱硬化性の接着剤であることが好ましい。
かかるシール材２３は、次工程の仮圧着工程に移る前に、低温処理（プリベーク）して、シール材２３中の溶剤を蒸発させたり、脱気させておくことが好ましい。この理由は、シール材２３の流動やパンクを防止して、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａの接着不良を防止することができるためである。
【００３３】
また、基板を貼り合わせるためのシール材２３とは別に、第２の母基板６０Ａの周縁部Ｄ´に、アクリル樹脂等を主成分とする紫外線硬化性接着剤９５を塗布しておくことが好ましい。この理由は、紫外線硬化性接着剤９５により、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを確実に固定させておくことにより、本圧着工程への移動の際の衝撃や振動による基板の位置ずれを、さらに確実に防止することができるためである。すなわち、シール材２３により仮圧着した場合であっても、シール材２３が完全に硬化していないため、本圧着工程への移動の際の衝撃や振動によって、基板の位置ずれが生じる場合があるためである。
なお、かかる紫外線硬化性接着剤９５は、第１の母基板３０Ａ上の平坦化膜４１や、第２の母基板６０Ａ上の表面保護膜８１等の材料である紫外線硬化性樹脂と同一の材料を用いてもよく、あるいは、当該紫外線硬化性樹脂中に異なる材料が添加されているものであっても構わない。
【００３４】
また、かかる紫外線硬化性接着剤９５を塗布する際には、図７（ｂ）に示すように、第２の母基板６０Ａ上に形成された係合部９１に塗布することが好ましい。この理由は、基板の位置ずれを防止するための突起部９０及び係合部９１を係合させた状態で、容易に固定させることができるため、基板の位置合わせ精度を向上させることができるとともに、基板の位置ずれを、より確実に防止することができるためである。かかる紫外線硬化性接着剤９５は、ディスペンサ等を用いて所望の箇所に塗布することができる。
【００３５】
（２）位置合わせ及び仮圧着
次いで、図７（ｃ）に示すように、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを平面的に位置合わせするとともに、それぞれの母基板３０Ａ、６０Ａに形成された突起部９０及び係合部９１を垂直方向に位置合わせする。
かかる位置合わせは、例えば、第２の母基板６０Ａの下方に光源９７を配置するとともに、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを透過するように光を照射する。そして、第１の母基板３０Ａの上方に配置されたカメラ９８によって透過像を撮影し、それぞれの母基板３０Ａ、６０Ａに形成したアライメントマーク９９ａ、９９ｂが平面的に合致するようにいずれかの母基板を相対的に移動させることにより行うことができる。
【００３６】
次いで、図８（ａ）に示すように、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを位置合わせした状態で、それぞれの基板を重ね合わせる。このとき、第１の母基板３０Ａ上の突起部９０と、第２の母基板６０Ａ上の係合部９１とが係合することになるが、係合部９１がマージンを有するために、突起部９０及び係合部９１をスムーズに、かつ、確実に係合させることができる。
次いで、第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを、一例として、常温にて、０．００３ｋｇｆ／ｍｍ2の圧力で押圧して、仮圧着する。かかる仮圧着を行うことにより、次工程で本圧着する前段階で、位置を固定させることができる。
【００３７】
次いで、図８（ｂ）に示すように、係合部９１に塗布された紫外線硬化性接着剤９５に対して紫外線を照射することにより硬化させて、位置合わせされた第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを完全に固定させることが好ましい。このようにして確実に固定された第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａであれば、本圧着工程への移動の際の衝撃や振動による基板の位置ずれを、確実に防止することができる。
【００３８】
４．工程（Ｄ）
次いで、図８（ｃ）に示すように、突起部９０及び係合部９１により、位置ずれを所定範囲内に制限されつつ、紫外線硬化性接着剤９５及びシール材２３によって仮圧着された第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを本圧着する。このとき、一例として、１２０℃、０．０１ｋｇｆ／ｍｍ2の圧力条件で本圧着することができる。
なお、かかる本圧着工程は、一段階で圧着させてしまうことも可能であるが、他の工程とのタクトタイムを考慮して、複数段階に分けて実施することが好ましい。
【００３９】
５．工程（Ｅ）
次いで、図９（ａ）〜（ｃ）に示すように、貼り合わせられた第１の母基板３０Ａ及び第２の母基板６０Ａを、それぞれのセル領域Ｃ毎に分割するとともに、セル領域Ｃ以外の領域Ｄを切除することにより、単品としてのセル構造１３１を形成する。この段階で、セル領域Ｃ以外の領域Ｄに存在した突起部９０及び係合部９１、あるいは紫外線硬化性接着剤９５が、パネル上から除去されることとなる。
かかるセル構造１３１は、第１の基板３０及び第２の基板６０がシール材２３によって貼り合わせられて構成されることとなる。
【００４０】
６．後工程
次いで、図示しないが、第１の基板及び第２の基板が形成する空間であって、シール材の内側部分に対して、液晶材料を注入した後、封止材等にて封止する。なお、かかる液晶材料の注入は、大判パネル１３３から単品のセル構造１３１へ分割する途中工程において、すなわち、図８（ｂ）に示す中判パネル１３２の段階で、複数のセル領域Ｃに対して同時に実施することもできる。
その後、第１の基板および第２の基板のそれぞれの外面に、所定の偏光板を配置するとともに、バックライト等とともに筐体に組み込むことにより、電気光学装置を製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明によれば、一対の基板に、それぞれ所定の突起部及び係合部を形成して、基板の貼り合わせ工程を実施することにより、当該突起部及び係合部を迅速に、かつ精度良く係合させて、基板の位置ずれを効率よく防止することができる。したがって、表示不良の少ない電気光学装置を提供することができるために、液晶表示装置等の電気光学装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を備えた装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）などに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法のフローを示す図である。
【図２】第１の母基板の製造方法を説明するために供する図である。
【図３】突起部を形成する位置を説明するために供する図である。
【図４】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ突起部の形状を示す図である。
【図５】第２の母基板の製造方法を説明するために供する図である。
【図６】突起部及び係合部の高さと、セルギャップの高さとの関係を説明するために供する図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、基板の貼り合わせ工程を説明するために供する図である（その１）。
【図８】（ａ）〜（ｃ）は、基板の貼り合わせ工程を説明するために供する図である（その２）。
【図９】（ａ）〜（ｃ）は、大判パネルから単品のセル構造へ分断する工程を説明するために供する図である。
【図１０】従来の電気光学装置の製造方法を説明するために供する図である。
【符号の説明】
【００４３】
２３：シール材、３０：第１の基板、３０Ａ：第１の母基板、６０：第２の基板、６０Ａ：第２の母基板、４１：平坦化膜、４１Ｘ：透光保護層、６５：電気配線、６５Ｘ：金属膜、８１：表面保護膜、９０：突起部、９１：係合部、９５：紫外線硬化性接着剤、９７：光源、９８：アライメントカメラ、９９ａ・９９ｂ：アライメントマーク、１２５：レジスト材料、１３１：セル構造、１３２：中判パネル、１３３：大判パネル
【図１】
2006017856.tif 000003
【図２】
2006017856.tif 000004
【図３】
2006017856.tif 000005
【図４】
2006017856.tif 000006
【図５】
2006017856.tif 000007
【図６】
2006017856.tif 000008
【図７】
2006017856.tif 000009
【図８】
2006017856.tif 000010
【図９】
2006017856.tif 000011
【図１０】
2006017856.tif 000012