(57)【要約】【課題】          本発明の目的は、エッチング量のばらつきの少ない圧電体ウェハーのウェットエッチング装置を提供すること。【解決手段】          上記目的を達成する為に本発明は、圧電体ウェハーのウェットエッチング装置において、水平方向に設けられた公転軸を軸心として回転するバレルと、このバレル内に設けられた自転軸を軸心として自転する圧電体ウェハーを収容するウェハー収容部と、バレルを挟み先の公転軸端を左右で保持し、かつウェットエッチング槽内を分ける板部と、エッチャントを攪拌するスクリューファンと、ヒーターと、蓋部を有することを特徴とし、また、エッチャントを攪拌するスクリューファンが、板部で仕切られバレルが配置される部分を除いたウェットエッチング槽内にそれぞれ配置されることを特徴として課題を解決する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチャントを攪拌するスクリューファンと、該エッチャントを暖めるヒーターを有する圧電体ウェハーのウェットエッチング装置において、
水平方向に設けられた公転軸を軸心として回転するバレルと、
該バレル内に設けられた自転軸を軸心として自転する圧電体ウェハーを収容するウェハー収容部を有することを特徴とする圧電体ウェハーのウェットエッチング装置。
【請求項２】
該バレルを挟み該公転軸端を左右で保持し、かつウェットエッチング槽内を分ける板部を有することを特徴とする請求項１に記載の圧電体ウェハーのウェットエッチング装置。
【請求項３】
エッチャントを攪拌する該スクリューファンが、該板部で仕切られ該バレルが配置される部分を除いた該ウェットエッチング槽内にそれぞれ配置されることを特徴とする請求項１乃至２に記載の圧電体ウェハーのウェットエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング量のばらつきの少ない圧電体ウェハーのウェットエッチング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、圧電振動子は携帯電話などの通信端末を含めて、一般の電子機器に用いられるものが多いが、その一方で、基地局向けの水晶発振器などに使用される非常に高精度な製品仕様を必要とされる水晶振動子については、一枚の水晶からなるウェハー上に多数個の水晶振動子をつくり、一括的に加工し最終的な工程でそれぞれの水晶振動子に個割りした後に容器に収容する製造方法がとられる場合がある。
【０００３】
このことは、最近の傾向では通信分野の伝送系装置等を中核として、その搭載部品について、水晶振動子を含めて非常に急激な市場からの小型化や低背化、更に加えて軽量化や低価格化の要求があることを一因とする。
【０００４】
一括的な一枚の水晶からなるウェハー上の多数個の水晶振動子の加工にウェットエッチングを用いる場合、従来の上下揺動式ウェットエッチング装置では、エッチャントを暖めるためのヒーターがウェットエッチング槽の下側にあり、暖められたエッチャント上昇流のなかでウェハーを上下に揺動してエッチングを行っていた。
【特許文献１】特開２０００-２５２２５５号公報
【０００５】
なお、出願人は前記した先行技術文献情報で特定される先行技術文献以外には、本発明に関連する先行技術文献を本件出願時までに発見するに至らなかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の揺動式ウェットエッチング装置では、エッチャント（エッチング液）が液面に近づくにつれてその温度が僅かながらも低下してしまうことや、エッチャントの上昇流の速度が弱まるために複数のウェハーを縦方向ウェハーカートリッジに配置した場合、ウェハー面内の上下方向でエッチング量に差が生じるといった問題があった。
【０００７】
また、ひとつのスクリューファンによりエッチャントを攪拌し、エッチャントの上昇流を作っていたために、上昇流の速度が不均一となり、その結果、ウェハー面内の左右方向においてもエッチング量の差が生じるといった問題があった。
【０００８】
本発明は、以上のような技術的背景のもとでなされたものであり、従ってその目的は、圧電体ウェハーのウェットエッチング装置      を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するために、本発明はエッチャントを攪拌するスクリューファンと、エッチャントを暖めるヒーターを有する圧電体ウェハーのウェットエッチング装置において、水平方向に設けられた公転軸を軸心として回転するバレルと、このバレル内に設けられた自転軸を軸心として自転する圧電体ウェハーを収容するウェハー収容部を有することを特徴とする。
【００１０】
また、バレルを挟み先の公転軸端を左右で保持し、かつウェットエッチング槽内を分ける板部を有することを特徴とする。
【００１１】
また、エッチャントを攪拌するスクリューファンが、板部で仕切られバレルが配置される部分を除いたウェットエッチング槽内にそれぞれ配置されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の圧電体ウェーハのウェットエッチング装置により、加工対象のウェハーのエッチング量のウェハー面内ばらつきを著しく少ないものとすることが出来、その結果、一枚の水晶ウェハー上に形成された個々の水晶振動子のウェットエッチング加工面に更に後工程で個々の水晶振動子のエッチング加工を行う場合、そのエッチング加工工程の負荷を著しく軽減することが出来、従来に比べて著しく生産効率良く水晶振動子を製造することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に図面を参照しながら本発明の実施の一形態について説明する。なお、各図においての同一の符号は同じ対象を示すものとする。
【実施例１】
【００１４】
図１は本発明の、水晶から成る圧電体ウェハー１のウェットエッチング装置２を正面方向からみた概略の模式図である。即ち、水平方向に設けられた公転軸３を軸心として回転するバレル４をエッチング槽内の中央に有し、このバレル４内に設けられた自転軸５を軸心として自転する多数枚数の圧電体ウェハー１を収容するウェハー収容部６があり、先述のバレル４を挟んで公転軸端７を左右で保持し、かつウェットエッチング槽内を分ける板部８が垂直方向に配置され、エッチャント９を攪拌する複数のスクリューファン１０を持ち、槽内底部のヒーター１１と、内部の状態を観察出来る、アクリルといった透明な材料などからなる蓋部１２を装置２の上部に有する構成となっている。バレル４を中心として板部８、スクリューファン１０、及びヒーター１１が左右方向に対称となるように配置されているために、スクリューファン１０とヒーター１１により作られる槽内のエッチャント９の流れと、バレル４自体が公転軸３を軸心として回転し、また同時にバレル４内に設けられたウェハー収容部６が自転軸５の軸心として回転するために、上下及び左右方向のウェハー１にあたるエッチャント９の流量のばらつきが抑制されて、均一なウェハー１のエッチングが行われる効果を奏する。回転するバレル４だけではバレル４内に収容されたウェハー１の外周部の方だけがエッチングされ易いが、本発明のウェットエッチング装置２では、バレル４内のウェハー収容部６も自転するために、ここでも均一なウェハー１のエッチングが行われる効果を奏する。
【００１５】
図２は本発明の、圧電体ウェハー１のウェットエッチング装置２に用いられるバレル４の動作機構を示す公転軸３及び自転軸５の軸心方向からみた概略の概念模式図である。なお、本図においては自転軸５がふたつで夫々の自転軸５に同じく二つのウェハー収容部６が配置されているが、この場合に限らず、例えば４つの自転軸５を持ち、更に多くのウェハー収容部６を有しても全く構わず、これらの場合においても本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでもない。自転と公転の比はおおよそ１１（自転）：３０（公転）となるようにした場合、エッチング量差の少ない良好な結果が得られた。
【００１６】
図３は、従来の揺動式ウェットエッチング装置を正面方向からみた概略の模式図である。この従来の揺動式ウェットエッチング装置では、エッチャント９（エッチング液）が液面に近づくにつれてその温度が僅かながらも低下してしまうことや、エッチャント９の流速が弱まるために複数の水晶から成る圧電体ウェハー１を縦方向ウェハーカートリッジ（収容器）に配置した場合、圧電体ウェハー１面内の上下方向でエッチング量に差が生じるといった問題があり、また、ひとつのスクリューファン１０によりエッチャント９を攪拌し、エッチャント９の上昇流を作っていたために、上昇流の速度が不均一となり、その結果、圧電体ウェハー１面内の左右方向においてもエッチング量の差が生じるといった問題があった。例えば６８μｍのエッチングを目指して加工を行った場合、最大で１μｍのエッチング量の差が生じていた。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の圧電体ウェハーのウェットエッチング装置を正面方向からみた概略の模式図である。
【図２】本発明の圧電体ウェハーのウェットエッチング装置に用いられるバレルの動作機構を示す公転軸及び自転軸の軸心方向からみた概略の概念模式図である。
【図３】従来の揺動式ウェットエッチング装置を正面方向からみた概略の模式図である。
【符号の説明】
【００１８】
１    圧電体ウェハー
２    ウェットエッチング装置
３    公転軸
４    バレル
５    自転軸
６    ウェハー収容部
７    公転軸端
８    板部
９    エッチャント
１０  スクリューファン
１１  ヒーター
１２  蓋部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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