(57)【要約】【課題】    良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することができるＲＯＭ型光記録媒体を提供することを目的とする。【解決手段】    表面に複数の凹状ピット２ａが形成された基板２と、光透過層４と、基板２と光透過層４の間に形成された反射層３とを備え、光透過層４を介して、レーザビームが照射されることによりデータが再生されるように構成されたＲＯＭ型光記録媒体であって、基板２の表面の凹状ピット２ａが、記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも長い長さを有し、トラック方向に隣り合う凹状ピット２ａ間のスペース２ｂの長さが、基本長ＢＬよりも短い長さを有していることを特徴とするＲＯＭ型光記録媒体。【選択図】      図４
2006012346.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に複数の凹状ピットが形成された基板と、光透過層と、前記基板と前記光透過層の間に形成された反射層とを備え、前記光透過層を介して、レーザビームが照射されることによりデータが再生されるように構成されたＲＯＭ型光記録媒体であって、前記凹状ピットが、記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも長い長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凹状ピット間のスペースの長さが、前記基本長ＢＬよりも短い長さを有していることを特徴とするＲＯＭ型光記録媒体。
【請求項２】
前記反射層の表面から前記基板の表面までの距離をＤとしたときに、前記凹状ピットが、ＢＬ＋（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有し、前記スペースが、ＢＬ−（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有していることを特徴とする請求項１に記載のＲＯＭ型光記録媒体。
【請求項３】
表面に複数の凸状ピットが形成された基板と、光透過層と、前記基板と前記光透過層の間に形成された反射層とを備え、前記光透過層を介して、レーザビームが照射されることによりデータが再生されるように構成されたＲＯＭ型光記録媒体であって、前記凸状ピットが、記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも短い長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凸状ピット間のスペースの長さが、前記基本長ＢＬよりも長い長さを有していることを特徴とするＲＯＭ型光記録媒体。
【請求項４】
前記反射層の表面から前記基板の表面までの距離をＤとしたときに、前記凸状ピットが、ＢＬ−（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有し、前記スペースが、ＢＬ＋（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有していることを特徴とする請求項３に記載のＲＯＭ型光記録媒体。
【請求項５】
前記反射層が、ＡｇまたはＡｇを含む合金によって形成されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載のＲＯＭ型光記録媒体。
【請求項６】
ＲＯＭ型光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に、複数の凸状ピットが形成され、前記凸状ピットが、前記ＲＯＭ型光記録媒体に記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも長い長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凸状ピット間のスペースの長さが、前記基本長ＢＬよりも短い長さを有していることを特徴とするスタンパ。
【請求項７】
前記ＲＯＭ型光記録媒体が、基板と、光透過層と、前記基板と前記光透過層の間に形成された反射層とを備え、前記反射層の表面から前記基板の表面までの距離をＤとしたときに、前記凸状ピットが、ＢＬ＋（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凸状ピット間のスペースの長さが、ＢＬ−（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有していることを特徴とする請求項６に記載のスタンパ。
【請求項８】
ＲＯＭ型光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に、複数の凹状ピットが形成され、前記凹状ピットが、前記ＲＯＭ型光記録媒体に記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも短い長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凹状ピット間のスペースの長さが、前記基本長ＢＬよりも長い長さを有していることを特徴とするスタンパ。
【請求項９】
前記ＲＯＭ型光記録媒体が、基板と、光透過層と、前記基板と前記光透過層の間に形成された反射層とを備え、前記反射層の表面から前記基板の表面までの距離をＤとしたときに、前記凹状ピットが、ＢＬ−（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凹状ピット間のスペースの長さが、ＢＬ＋（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有していることを特徴とする請求項８に記載のスタンパ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＲＯＭ型光記録媒体に関するものであり、とくに、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することが可能なＲＯＭ型光記録媒体に関するものである。
【０００２】
また、本発明は、ＲＯＭ型光記録媒体を製造するためのスタンパに関するものであり、とくに、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することが可能なＲＯＭ型光記録媒体を作製可能なスタンパに関するものである。
【背景技術】
【０００３】
従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く利用されている。これらの光記録媒体は、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのように、データの追記や書き換えができないＲＯＭ型光記録媒体と、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのように、データの追記はできるが、データの書き換えができない追記型光記録媒体と、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのように、データの書き換えが可能な書き換え型光記録媒体とに大別することができる。
【０００４】
これらのうち、ＲＯＭ型光記録媒体においては、基板の表面に、凹状ピットまたは凸状ピットが形成され、かかるピットおよび隣接するピット間のスペースによって、データが記録されている。これらピットおよびスペースには、それぞれ、デジタルデータの「０」または「１」が対応付けられ、また、その長さには、「０」または「１」のビット数が対応付けられている。したがって、ピットおよびスペースの長さを変調することによって、所望のデータを記録することができる。
【０００５】
一方、記録されたデータを再生する場合には、基板上に構成されるトラックに沿って、レーザビームを照射し、レーザビームの反射光量を光検出器によって検出して、基板の表面形状の違いを読み取ることにより、データを再生することができる。
【０００６】
こうしたＲＯＭ型光記録媒体を製造するにあたっては、まず、精密に研磨、洗浄されたガラス基板上に、フォトレジストがスピンコート法によって均一に塗布されて、ガラス基板上にフォトレジストの塗膜が形成される。次いで、フォトレジストの塗膜に、露光用レーザビームが照射されて、フォトレジストの塗膜が露光され、光記録媒体のピットに対応する凹凸パターンの潜像が形成される。さらに、このガラス基板を薬液に浸漬して、露光されたフォトレジストの塗膜を現像することにより、露光部分または未露光部分のいずれか一方が除去されて、ガラス基板上に、ピットに対応する凹凸パターンが形成され、フォトレジスト原盤が作製される。
【０００７】
次いで、凹凸パターンが形成されたフォトレジスト原盤の表面上に、無電解メッキ処理が施され、Ｎｉなどの薄膜が形成された後、電解メッキ処理によって、金属膜が形成される。さらに、Ｎｉなどの薄膜および金属膜がともに剥離されて、凹凸パターンが転写されたスタンパが作製される。最後に、スタンパが金型にセットされ、射出成形によって、その表面に、凹部および凸部が形成されたディスク状の基板が作製される。
【０００８】
一方、近年においては、より大容量で、かつ、高いデータ転送レートを有する次世代型のＲＯＭ型光記録媒体が提案されている。かかる次世代型のＲＯＭ型光記録媒体においては、レーザビームを集束するための対物レンズの開口数ＮＡを大きくするとともに、レーザビームの波長λを短くすることによって、記録密度の向上が図られている。
【０００９】
しかしながら、レーザビームを集束するための対物レンズの開口数ＮＡを高くすると、次式（１）で示されるように、光記録媒体に対するレーザビームの光軸の傾きに許される角度誤差、すなわち、チルトマージンＴが非常に狭くなるという問題が生じる。
【００１０】
【数１】
2006012346.tif 000003
【００１１】
式（１）において、ｄは、レーザビームが基板の表面に形成されたピットに達するまでに、レーザビームが透過する層の厚さである。式（１）から明らかなように、チルトマージンＴは、対物レンズのＮＡが高いほど、小さくなり、レーザビームが透過する層の厚さｄが薄いほど、大きくなる。
【００１２】
そこで、次世代型のＲＯＭ型光記録媒体においては、基板上に、約１００μｍの厚さを有する薄い光透過層を形成し、この光透過層側からレーザビームを照射して、データを再生するように構成することによって、チルトマージンの拡大が図られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ＲＯＭ型光記録媒体においては、Ｃ／Ｎ比の高い再生信号を得るために、基板上に反射層を形成し、レーザビームに対する反射率を向上させることが一般的である。
【００１４】
しかしながら、次世代型のＲＯＭ型光記録媒体においては、従来のＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭと異なり、光透過層側からレーザビームが照射されるように構成されているため、基板上に反射層を設けた場合には、光記録媒体に入射したレーザビームが、基板の表面に到達する前に、反射層によって反射される。このため、光検出器によって生成された再生信号は、基板の表面形状に対応するものではなく、主として反射層の表面形状に対応したものとなる。その結果、記録すべきデータに応じて、基板に、凹状ピットおよびスペース、あるいは凸状ピットおよびスペースを形成した場合には、再生信号のジッタ特性が悪化し、記録されたデータを、所望のように、再生するのが、きわめて困難になるという問題があった。
【００１５】
したがって、本発明は、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することができるＲＯＭ型光記録媒体を提供することを目的とするものである。
【００１６】
また、本発明の別の目的は、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することができるＲＯＭ型光記録媒体を得ることができるスタンパを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者は、前記目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、記録すべきデータに応じて、基板に、凹状ピットおよびスペースを形成した場合においても、次世代型のＲＯＭ型光記録媒体に記録されたデータを再生したときに、再生信号のジッタ特性が悪化するのは、反射層の凹部の長さが、基板の表面に形成された凹状ピットよりも短くなるとともに、隣り合う凹部間の間隙の長さが、基板の表面に形成されたスペースよりも長くなり、これら反射層の凹部および凹部間の間隙の長さが、光検出器によって検出されるため、データ再生装置に認識される凹凸パターンの長さが、記録したデータに対応する長さと一致しなくなることに起因していることを見出した。
【００１８】
本発明は、かかる知見に基づくものであり、本発明の前記目的は、表面に複数の凹状ピットが形成された基板と、光透過層と、前記基板と前記光透過層の間に形成された反射層とを備え、前記光透過層を介して、レーザビームが照射されることによりデータが再生されるように構成されたＲＯＭ型光記録媒体であって、前記凹状ピットが、記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも長い長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凹状ピット間のスペースの長さが、前記基本長ＢＬよりも短い長さを有していることを特徴とするＲＯＭ型光記録媒体によって達成される。
【００１９】
本発明において、基本長ＢＬは、記録すべきデータの「０」または「１」のビット数に応じて決定される長さであり、たとえば、次世代型のＲＯＭ型光記録媒体に、１−７ＲＬＬ変調によって変調された２Ｔないし８Ｔのデータを２５ＧＢの記録容量で記録する場合には、２Ｔないし８Ｔに対応して、１４９ｎｍ、２２３．５ｎｍ、２９８ｎｍ、３７２．５ｎｍ、４４７ｎｍ、５２１．５ｎｍ、５９６ｎｍの７種類の長さを有している。
【００２０】
本発明によれば、反射層に形成される凹部および凹部間の間隙の長さを、記録すべきデータに応じた長さである基本長ＢＬとほぼ一致させることができるので、光記録媒体に記録されたデータを再生したときに、光検出器によって検出される凹凸パターンの長さが、それぞれ、記録したデータに対応する長さとほぼ一致し、したがって、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することが可能となる。
【００２１】
本発明においては、反射層の表面から基板の表面までの距離をＤとしたときに、凹状ピットが、ＢＬ＋（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有し、凹状ピット間のスペースが、ＢＬ−（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有していることが好ましく、凹状ピットが、ＢＬ＋（０．１５ないし０．２５）・Ｄの長さを有し、凹状ピット間のスペースが、ＢＬ−（０．１５ないし０．２５）・Ｄの長さを有していることが、さらに好ましい。
【００２２】
凹状ピットが、ＢＬ＋（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有し、凹状ピット間のスペースが、ＢＬ−（０．１ないし０．３）・Ｄの長さを有する場合には、反射層に形成される凹部および凹部間の間隙の長さを、基本長ＢＬとほぼ一致させることが可能となる。
【００２３】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、反射層が、ＡｇまたはＡｇを含む合金によって形成されている。反射層が、ＡｇまたはＡｇを含む合金によって形成されている場合には、表面性に優れた反射層を形成することができ、したがって、再生信号に含まれるノイズを低減することが可能になる。
【００２４】
また、本発明の前記目的は、表面に複数の凸状ピットが形成された基板と、光透過層と、前記基板と前記光透過層の間に形成された反射層とを備え、前記光透過層を介して、レーザビームが照射されることによりデータが再生されるように構成されたＲＯＭ型光記録媒体であって、前記凸状ピットが、記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも短い長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凸状ピット間のスペースの長さが、前記基本長ＢＬよりも長い長さを有していることを特徴とするＲＯＭ型光記録媒体によって達成される。
【００２５】
本発明によれば、反射層に形成される凸部および凸部間の間隙の長さを、記録すべきデータに応じた長さである基本長ＢＬとほぼ一致させることができるので、光記録媒体に記録されたデータを再生したときに、光検出器によって検出される凹凸パターンの長さが、それぞれ、記録したデータに対応する長さとほぼ一致し、したがって、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することが可能となる。
【００２６】
また、本発明の前記別の目的は、ＲＯＭ型光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に、複数の凸状ピットが形成され、前記凸状ピットが、前記ＲＯＭ型光記録媒体に記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも長い長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凸状ピット間のスペースの長さが、前記基本長ＢＬよりも短い長さを有していることを特徴とするスタンパによって達成される。
【００２７】
さらに、本発明の前記別の目的は、ＲＯＭ型光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に、複数の凹状ピットが形成され、前記凹状ピットが、前記ＲＯＭ型光記録媒体に記録すべきデータに応じて決定される基本長ＢＬよりも短い長さを有し、トラック方向に隣り合う前記凹状ピット間のスペースの長さが、前記基本長ＢＬよりも長い長さを有していることを特徴とするスタンパによって達成される。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することができるＲＯＭ型光記録媒体を提供することが可能になる。
【００２９】
また、本発明によれば、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することができるＲＯＭ型光記録媒体を作製可能なスタンパを提供することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００３１】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかるＲＯＭ型光記録媒体の略斜視図であり、図２は、図１のＡで示される部分の略拡大断面図である。
【００３２】
図１に示されるように、光記録媒体１は、ディスク形状をなし、その中央部には、光記録媒体１を、データ再生装置にセットするためのセンターホール５が形成されている。
【００３３】
図１および図２に示された光記録媒体１は、図２において、矢印で示される方向から、３８０ｎｍないし４５０ｎｍの波長を有するレーザビームが、対物レンズ（図示せず）を介して、照射されて、データが再生されるように構成されている。
【００３４】
図２に示されるように、本実施形態にかかる光記録媒体１は、基板２と、基板２上に形成された反射層３と、反射層３上に形成された光透過層４を備えている。
【００３５】
基板２は、光記録媒体１の機械的な支持体として、機能するものである。
【００３６】
基板２を形成するための材料は、光記録媒体１の支持体として機能することができれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂などを用いることができる。基板２の厚さは、とくに限定されるものではないが、約１．１ｍｍであることが好ましい。
【００３７】
図３は、基板２の表面の略斜視図である。図３において、矢印Ｌは、レーザビームの走査方向を示している。
【００３８】
図３に示されるように、基板２の表面には、略楕円形状を有する複数の凹状ピット２ａが形成されている。これら複数の凹状ピット２ａは、光記録媒体１の内周側から外周側、あるいは外周側から内周側に向かって、螺旋状に形成され、トラックを構成している。また、複数の凹状ピット２ａ以外の領域は、平坦に形成され、トラック方向に隣り合う凹状ピット２ａ間に、スペース２ｂを構成している。これらの凹状ピット２ａおよびスペース２ｂには、それぞれ、デジタルデータの「０」または「１」が対応付けられており、凹状ピット２ａおよびスペース２ｂとによって、データが記録されている。
【００３９】
図２に示されるように、基板２上には、反射層３が形成されている。
【００４０】
反射層３は、光透過層４を介して、入射したレーザビームを反射し、再び、光透過層４側から出射させる機能を有している。
【００４１】
本実施態様において、反射層３を形成するための材料は、レーザビームを反射することができれば、とくに限定されるものではなく、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｎｄ、Ｉｎ、Ｓｎよりなる群から選ばれる少なく一種の金属またはこれらの合金によって、反射層３を形成することができる。これらのなかでも、反射層３が、ＡｇまたはＡｇを含む合金によって形成されている場合には、高い反射率を有し、表面の平坦性に優れた反射層３を形成することができ、好ましい。
【００４２】
反射層３の厚さは、とくに限定されるものではないが、５ｎｍないし１００ｎｍであることが好ましく、１５ｎｍないし６０ｎｍであることが、さらに好ましい。
【００４３】
反射層３は、スパッタリングなどの気相成長法によって、基板２上に形成される。スパッタリングなどの気相成長法は、電界中で加速されたイオンをターゲットに衝突させることにより、ターゲットから原子をはじき出し、そのはじき出された原子を、堆積させることによって、薄膜を形成するものであるため、形成された薄膜には、下地となる基体の表面形状が転写されることになる。したがって、反射層３には、基板２の表面形状が転写され、反射層３には、基板２の表面の凹状ピット２ａに対応した凹部３ａが形成されている。
【００４４】
図２に示されるように、反射層３上には、光透過層４が形成されている。
【００４５】
光透過層４は、レーザビームが透過する層であり、同時に、反射層３の表面を保護する保護層としての役割を果たしている。
【００４６】
光透過層４は、光学的に透明で、使用されるレーザビームの波長領域である３８０ｎｍないし４５０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことが要求され、たとえば、紫外線硬化性樹脂によって形成される。
【００４７】
光透過層４を形成するために用いられる紫外線硬化性樹脂は、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光開始剤および所望によりその他の添加剤を含んでいる。光重合性モノマーとしては、分子量２０００未満のモノマーが好適であり、たとえば、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。また、光重合性オリゴマーとしては、アクリル系二重結合、アリル系二重結合、不飽和二重結合などの紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したオリゴマーなどを挙げることができる。また、光開始剤としては、公知のいずれのものを用いてもよく、たとえば、分子開裂型光重合開始剤を用いることができる。
【００４８】
光透過層４は、反射層３の表面に、スピンコーティング法などによって、紫外線硬化性樹脂を塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、形成される。あるいは、光透過性樹脂によって形成されたシートを、接着剤を用いて、反射層３の表面に、接着することによって、光透過層４を形成することもできる。
【００４９】
光透過層４の厚さは、３０μｍないし２００μｍであることが好ましい。
【００５０】
図４は、図３のＸ−Ｘ軸断面の断面図であり、基板２の表面と反射層３の表面との断面形状を示す略拡大断面図である。図４において、矢印Ｌは、レーザビームの走査方向を示している。
【００５１】
図４に示されるように、基板２の表面には、凹状ピット２ａが形成されており、また、反射層３には、基板２の表面に形成された凹状ピット２ａに対応して、凹部３ａが形成されている。
【００５２】
本発明者の研究によれば、記録すべきデータに応じて、基板２に、凹状ピット２ａおよびスペース２ｂを形成した場合においても、次世代型のＲＯＭ型光記録媒体に記録したデータを再生したときに、再生信号のジッタ特性が悪化するのは、反射層３の凹部３ａの長さが、基板２の表面に形成された凹状ピット２ａよりも短くなるとともに、隣り合う凹部３ａ間の間隙３ｂの長さが、基板２の表面に形成されたスペース２ｂよりも長さが長くなり、これら反射層３の凹部３ａおよび隣り合う凹部３ａ間の間隙３ｂの長さが、光検出器によって検出されるため、データ再生装置に認識される凹凸パターンの長さが、記録したデータに対応する長さと一致しなくなることに起因していることが見出されている。
【００５３】
そこで、本発明者は、かかる知見に基づいて、さらに研究を重ねた結果、基板２の表面の凹状ピット２ａを、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ長くなるように形成し、トラック方向に隣り合う凹状ピット２ａ間のスペース２ｂを、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ短くなるように形成した場合には、反射層３に形成される凹部３ａおよび凹部３ａ間の間隙３ｂの長さを、記録すべきデータに対応する長さである基本長ＢＬと、ほぼ同一の長さにすることが可能になることを見出した。
【００５４】
したがって、本実施態様においては、基板２の表面に形成される凹状ピット２ａが、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ長くなるように形成されるとともに、トラック方向に隣り合う凹状ピット２ａ間のスペース２ｂが、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ短くなるように形成されている。
【００５５】
ここに、Ｄは、反射層３の表面から基板２の表面までの距離であり、本実施態様においては、反射層３の厚さである。また、基本長ＢＬは、記録すべきデータの「０」または「１」のビット数に応じて決定される長さであり、たとえば、光記録媒体１に、１−７ＲＬＬ変調によって変調された２Ｔないし８Ｔのデータを、２５ＧＢの記録容量で記録する場合には、２Ｔないし８Ｔに対応して、１４９ｎｍ、２２３．５ｎｍ、２９８ｎｍ、３７２．５ｎｍ、４４７ｎｍ、５２１．５ｎｍ、５９６ｎｍの７種類の長さを有している。
【００５６】
したがって、本実施態様において、光記録媒体１に、１−７ＲＬＬ変調によって変調された２Ｔないし８Ｔのデータを記録する場合には、最短で１４９＋（０．１ないし０．３）・Ｄｎｍの長さに有し、最長で５９６＋（０．１ないし０．３）・Ｄｎｍの長さを有する７種類の長さの凹状ピット２ａと、最短で１４９−（０．１ないし０．３）・Ｄｎｍの長さを有し、最長で５９６−（０．１ないし０．３）・Ｄｎｍの長さに有する７種類の長さのスペース２ｂとが、基板２の表面上に、所定の組み合わせで、組み合わされて形成される。
【００５７】
本実施態様においては、反射層３の凹部３ａおよび凹部３ａ間の間隙３ｂが、いずれも、記録したデータに対応する長さである基本長ＢＬとほぼ同一の長さを有しているので、光記録媒体１に記録されたデータを再生したときに、光検出器によって検出される凹凸パターンの長さは、記録したデータに対応する長さとほぼ一致した長さとなる。したがって、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することが可能となる。
【００５８】
以上のような構成を有する光記録媒体１は、以下のようにして、製造される。
【００５９】
光記録媒体１を製造するにあたっては、まず、基板２を形成するためのフォトレジスト原盤が製造され、この後、フォトレジスト原盤を用いたマスタリング工程によって、スタンパが形成される。
【００６０】
図５（ａ）ないし（ｄ）は、基板２を形成するためのフォトレジスト原盤の製造工程を示す工程図である。
【００６１】
図５（ａ）に示されるように、まず、精密に研磨され、洗浄されたガラス基板２０がスピンコーティング装置にセットされ、ガラス基板２０の表面上に、ヘキサメチルジシラザンなどのカップリング剤が塗布される。
【００６２】
次いで、カップリング剤が塗布されたガラス基板２０が、スピンコーティング装置にセットされ、ガラス基板２０上に、ノボラック系樹脂やポリスチレン樹脂などを骨格樹脂とするフォトレジストが含有された塗布液が、スピンコーティング法によって、均一に塗布されて、塗膜が形成される。
【００６３】
その後、塗膜がベーキングされ、図５（ｂ）に示されるように、ガラス基板２０上にフォトレジスト層２１が形成される。フォトレジスト層２１は、基板２の表面に形成すべき凹状ピット２ａの深さに対応した厚さに形成される。
【００６４】
次いで、ガラス基板２０が、露光装置内のターンテーブルにセットされ、ガラス基板２０が回転されるとともに、図５（ｃ）に示されるにように、フォトレジスト層２１に、露光用レーザビーム２２が照射される。
【００６５】
露光用レーザビーム２２は、ガラス基板２０が回転される間、ガラス基板２０の中心部から外縁部に向かい、ガラス基板２０の径方向に沿って、移動されながら照射され、また、記録すべきデータに応じて、オン／オフが切り換えられることにより、照射時間および照射間隔が制御される。
【００６６】
こうして、露光用レーザビーム２２が、フォトレジスト層２１の表面に、断続的に照射され、その結果、フォトレジスト層２１に、基板２の表面の凹状ピット２ａに対応する露光領域２１ａおよび基板２の表面のスペース２ｂに対応する未露光領域２１ｂが、交互に、形成される。
【００６７】
次いで、フォトレジスト層２１が形成されたガラス基板２０が、アルカリ溶液中に浸漬され、フォトレジスト層２１が現像されることにより、露光領域２１ａが除去される。本実施態様においては、フォトレジスト層２１が形成されたガラス基板２０が、通常よりも、長い時間にわたって、アルカリ溶液中に浸漬され、現像処理によって除去される除去領域の大きさが拡大される。
【００６８】
露光用レーザビーム２２は、ガウシアンビームであるため、露光用レーザビーム２２の強度は、ビームスポットの中央部において、最も強くなり、周縁部に向かって弱くなる。したがって、フォトレジスト層２１の露光領域２１ａには、その両端部に、露光用レーザビーム２２の強度が弱い部分によって露光された露光領域が形成され、それ以外の領域に、露光用レーザビーム２２の強度が強い部分によって露光された露光領域が形成されている。
【００６９】
本実施態様においては、上述のように、フォトレジスト層２１が形成されたガラス基板２０が、通常よりも、長い時間にわたって、アルカリ溶液中に浸漬されるので、現像処理の過程で、露光用レーザビーム２２の強度が弱い部分によって露光された露光領域も除去される。その結果、フォトレジスト原盤３０の表面に形成される凹部の長さが拡大されるのと同時に、隣り合う凹部間の間隙の長さが縮小され、図５（ｄ）に示されるように、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ長い長さを有する凹状ピット２３ａと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ短い長さを有するスペース２３ｂとが、フォトレジスト原盤３０の表面に形成される。
【００７０】
フォトレジスト原盤３０が作製されると、次いで、その表面に、フォトレジスト原盤３０の表面に形成された凹凸パターンが転写されたスタンパが作製され、このスタンパを用いて、光記録媒体１の基板２が作製される。
【００７１】
図６（ａ）ないし（ｃ）は、スタンパの製造工程を示す工程図である。
【００７２】
スタンパの作製にあたっては、まず、フォトレジスト原盤３０の表面に形成された凹状ピット２３ａおよびスペース２３ｂの全体を覆うように、塩化Ｐｄおよび塩化Ｓｎを含有する薬液が塗布される。
【００７３】
その後、フォトレジスト原盤３０が、ホウフッ化水素酸溶液中に浸漬され、フォトレジスト原盤３０に付着したＳｎが除去され、さらに、純水によって、フォトレジスト原盤３０の表面が洗浄され、フォトレジスト原盤３０上に、Ｐｄの下地が形成される。
【００７４】
次いで、Ｐｄの下地が形成されたフォトレジスト原盤３０が、Ｎｉイオンを含有する溶液中に浸漬され、図６（ａ）に示されるように、無電解メッキ処理法によって、フォトレジスト原盤３０上に、無電解ニッケル層４２が形成され、その後に、無電解ニッケル層４２を電極として使用した電解メッキ処理によって、無電解ニッケル層４２上に、電解ニッケル層４３が形成される。
【００７５】
こうして、電解ニッケル層４３が形成されると、図６（ｂ）に示されるように、フォトレジスト、無電解ニッケル層４２および電解ニッケル層４３からなる積層体５０が、一体的に、ガラス基板２０から剥離される。その後、積層体５０が、アルカリ溶液中に浸漬され、フォトレジストが溶解されて、除去される。
【００７６】
さらに、フォトレジストが除去された積層体５０が乾燥され、図６（ｃ）に示されるように、凸状ピット５１ａおよびスペース５１ｂを有するスタンパ５１が作製される。
【００７７】
本実施態様においては、上述したように、フォトレジスト原盤３０の表面には、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ長い長さを有する凹状ピット２３ａと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ短い長さを有するスペース２３ｂとが、形成されているので、スタンパ５１の表面には、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ長い長さを有する凸状ピット５１ａと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ短い長さを有するスペース５１ｂとが形成される。
【００７８】
スタンパ５１が形成されると、このスタンパ５１を用いて、光記録媒体１の基板２が作製される。
【００７９】
図７は、光記録媒体１の製造工程を示す工程図である。
【００８０】
まず、図７（ａ）に示されるように、スタンパ５１が金型６０内にセットされる。この後、金型６０が射出成形機にセットされ、溶融されたポリカーボネート樹脂が、金型６０内に高圧で射出される。
【００８１】
その後、所定の冷却期間を経て、ポリカーボネート樹脂が硬化される。
【００８２】
こうして、図７（ｂ）に示されるように、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ長さを有する凹状ピット２ａと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ短い長さを有するスペース２ｂとが形成された基板２が作製される。
【００８３】
次いで、基板２がスパッタリング装置にセットされ、図７（ｂ）に示されるように、基板２の表面上に、スパッタリング法によって、反射層３が形成される。
【００８４】
最後に、反射層３が形成された基板２が、スピンコーティング装置にセットされ、図７（ｃ）に示されるように、スピンコーティング法によって、反射層３の表面上に、光透過層４が形成され、光記録媒体１が完成する。
【００８５】
本実施態様によれば、基板２の表面に形成される凹状ピット２ａが、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ長くなるように形成され、トラック方向に隣り合う凹状ピット２ａ間のスペース２ｂが、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ短くなるように形成されているので、反射層３に形成される凹部３ａおよび凹部３ａ間の間隙３ｂの長さを、基本長ＢＬとほぼ一致させることが可能になる。したがって、光記録媒体１に記録されたデータを再生したときに、光検出器によって検出される凹凸パターンの長さが、それぞれ、記録したデータに対応する長さとほぼ一致するので、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することが可能となる。
【００８６】
図８は、本発明の他の好ましい実施態様にかかるＲＯＭ型光記録媒体の略拡大断面図である。
【００８７】
図８に示されるように、本実施形態にかかる光記録媒体７０は、基板７２と、基板７２上に形成された反射層７３と、反射層７３上に形成された光透過層７４を備え、基板７２の表面に、凸状ピット７２ａが形成されて、データが記録されている点を除き、図２に示された光記録媒体１と同様の構成を有している。
【００８８】
図９は、基板７２の表面の略斜視図であり、図１０は、図９のＹ−Ｙ軸断面の断面図である。図９および図１０において、矢印Ｌは、いずれも、レーザビームの走査方向を示している。
【００８９】
図９に示されるように、基板７２の表面には、略楕円形状を有する複数の凸状ピット７２ａが形成されている。これら複数の凸状ピット７２ａは、光記録媒体７０の内周側から外周側、あるいは外周側から内周側に向かって、螺旋状に形成され、トラックを構成している。また、複数の凸状ピット７２ａ以外の領域は、平坦に形成され、トラック方向に隣り合う凸状ピット７２ａ間に、スペース７２ｂを構成している。これらの凸状ピット７２ａおよびスペース７２ｂには、それぞれ、デジタルデータの「０」または「１」が対応付けられており、凸状ピット７２ａおよびスペース７２ｂとによって、データが記録されている。
【００９０】
本実施態様においては、図１０に示されるように、基板２の表面の凸状ピット７２ａは、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ短くなるように形成され、一方、トラック方向に隣り合う凸状ピット７２ａ間のスペース７２ｂは、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ長くなるように形成されている。
【００９１】
本実施態様においても、Ｄは、反射層７３の表面から基板７２の表面までの距離であり、基本長ＢＬは、記録すべきデータの「０」または「１」のビット数に応じて決定される長さである。
【００９２】
基板７２の表面の凸状ピット７２ａおよびスペース７２ｂが、かかる長さを有する場合には、反射層７３に形成される凸部７３ａおよび凸部７３ａ間の間隙７３ｂの長さを、記録すべきデータに応じた長さである基本長ＢＬとほぼ一致させることができ、光記録媒体７０に記録されたデータを再生したときに、光検出器によって検出される凹凸パターンの長さを、それぞれ、記録したデータに対応する長さとほぼ一致させることができる。したがって、良好なジッタ特性を有する再生信号を得ることができ、所望のように、データを再生することが可能となる。
【００９３】
以上のような構成を有する光記録媒体７０は、以下のようにして、製造される。
【００９４】
光記録媒体７０を製造するにあたっては、まず、フォトレジスト原盤が作製される。
【００９５】
本実施態様において、フォトレジスト原盤を作製するにあたっては、フォトレジスト層が形成されたガラス基板が、通常よりも、短い時間にわたって、アルカリ溶液中に浸漬される。この結果、フォトレジスト原盤の表面には、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ短い長さを有する凹状ピットと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ長い長さを有するスペースとが形成される。
【００９６】
フォトレジスト原盤が作製されると、次いで、マスタリング工程により、マスタースタンパが作製される。
【００９７】
本実施態様においては、上述したように、フォトレジスト原盤の表面には、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ短い長さを有する凹状ピットと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ長い長さを有するスペースとが、形成されているので、マスタースタンパの表面には、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ短い長さを有する凸状ピットと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ長い長さを有するスペースとが形成される。
【００９８】
こうして、マスタースタンパが作製されると、このマスタースタンパをもとにして、マスタリング工程により、マザースタンパが作製される。
【００９９】
図１１は、本発明の好ましい実施態様にかかるマザースタンパの製造工程を示す工程図である。
【０１００】
まず、マスタースタンパ８０が過マンガン酸カリウム溶液に浸漬されて、マスタースタンパ８０の表面に酸化処理が施される。次いで、酸化処理されたマスタースタンパ８０が、電解ニッケル溶液に浸漬されて、電解メッキ処理により、金属膜が形成され、図１１（ａ）に示されるように、マスタースタンパ８０の表面上に電解ニッケル層９１が形成される。
【０１０１】
次いで、図１１（ｂ）に示されるように、電解ニッケル層９１が、マスタースタンパ８０から剥離され、この後に、剥離された電解ニッケル層９１の中心穴および外周が打ち抜かれて、マザースタンパ９０が作製される。
【０１０２】
本実施態様においては、上述したように、マスタースタンパ８０の表面には、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ短い長さを有する凸状ピット８０ａと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄの長さだけ長い長さを有するスペース８０ｂとが、形成されているので、マザースタンパ９０の表面には、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ短い長さを有する凹状ピット９０ａと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ長い長さを有するスペース９０ｂとが形成される。
【０１０３】
マザースタンパ９０が作製されると、このマザースタンパ９０が、金型内にセットされた後に、射出成形によって、基板７２が形成される。こうして、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ短い長さを有する凸状ピット７２ａと、基本長ＢＬに対して、（０．１ないし０．３）・Ｄだけ長い長さを有するスペース７２ｂとを有する基板７２が作製される。
【０１０４】
その後、基板７２の表面上に、反射層７３および光透過層７４が、順次、形成され、光記録媒体７０が完成する。
【０１０５】
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【０１０６】
たとえば、図２および図８に示された光記録媒体１、７０においては、基板２、７２の表面上に、反射層３、７３が形成されているが、基板２、７２の表面上に、反射層３、７３を形成することは必ずしも必要ではなく、基板２、７２と反射層３、７３との間に、一または二以上の他の層が介在してもよい。この場合には、基板２、７２と反射層３、７３の間に介在する層の厚さと、反射層３、７３の厚さとの総和が、反射層３、７３の表面から基板２、７２の表面までの距離Ｄとなる。
【０１０７】
また、図２および図８に示された光記録媒体１、７０においては、反射層３、７３の表面上に、光透過層４、７４が形成されているが、反射層３、７３の表面上に、光透過層４、７４を形成することは必ずしも必要ではなく、反射層３、７３と光透過層４、７４との間に、一または二以上の他の層が介在してもよい。
【０１０８】
さらに、図５ないし図７に示された実施態様においては、フォトレジスト原盤３０の表面形状が転写されたスタンパ５１を金型にセットして、光記録媒体１の基板２を作製するようにしているが、フォトレジスト原盤３０の表面形状が転写されたスタンパ５１を金型にセットして、光記録媒体１の基板２を作製することは必ずしも必要でなく、スタンパ５１をマスタースタンパとして、スタンパ５１からマザースタンパおよびチャイルドスタンパを作製し、これらのうちのチャイルドスタンパを金型にセットして、光記録媒体１の基板２を作製するようにしてもよい。
【０１０９】
また、前記実施態様においては、フォトレジスト層が形成されたガラス基板を、アルカリ溶液中に浸漬させる時間を制御することにより、凹状ピットおよびスペース、あるいは凸状ピットおよびスペースの長さを調整するようにしているが、フォトレジスト層が形成されたガラス基板を、アルカリ溶液中に浸漬させる時間を制御する代わりに、たとえば、露光用レーザビームの照射時間を制御して、露光領域の長さを調整することにより、凹状ピットおよびスペース、あるいは凸状ピットおよびスペースの長さを調整するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略斜視図である。
【図２】図２は、図１のＡで示された部分の略拡大断面図である。
【図３】図３は、基板の表面の略斜視である。
【図４】図４は、図３のＸ−Ｘ軸断面の断面図であり、基板の表面と反射層の表面との断面形状を示す略拡大断面図である。
【図５】図５は、フォトレジスト原盤の製造工程を示す工程図である。
【図６】図６は、スタンパの製造工程を示す工程図である。
【図７】図７は、光記録媒体の製造工程を示す工程図である。
【図８】図８は、本発明の他の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略拡大断面図である。
【図９】図９は、基板の表面の略斜視である。
【図１０】図１０は、図９のＹ−Ｙ軸断面の断面図であり、基板の表面と反射層の表面との断面形状を示す略拡大断面図である。
【図１１】図１１は、マザースタンパの製造工程を示す工程図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１…光記録媒体、２…基板、２ａ…凹状ピット、２ｂ…スペース、３…反射層、３ａ…凹部、３ｂ…凹部間の間隙、４…光透過層、５…センターホール、２０…ガラス基板、２１…フォトレジスト層、２１ａ…露光領域、２１ｂ…未露光領域、２２…露光用レーザビーム、２３ａ…凹状ピット、２３ｂ…スペース、３０…フォトレジスト原盤、４２…無電解ニッケル層、４３…電解ニッケル層、５１…スタンパ、５１ａ…凸状ピット、５１ｂ…スペース、６０…金型、７０…光記録媒体、７２…基板、７２ａ…凸状ピット、７２ｂ…スペース、７３…反射層、７３ａ…凸部、７３ｂ…凸部間の間隙、７４…光透過層、８０…マスタースタンパ、９０…マザースタンパ、９０ａ…凹状ピット、９０ｂ…スペース、９１…電解ニッケル層
【図１】
2006012346.tif 000004
【図２】
2006012346.tif 000005
【図３】
2006012346.tif 000006
【図４】
2006012346.tif 000007
【図５】
2006012346.tif 000008
【図６】
2006012346.tif 000009
【図７】
2006012346.tif 000010
【図８】
2006012346.tif 000011
【図９】
2006012346.tif 000012
【図１０】
2006012346.tif 000013
【図１１】
2006012346.tif 000014