(57)【要約】【課題】液晶素子における基板の貼り合わせにおいて紫外線硬化型接着剤を用いる際の密着性を向上させ、外部からの水分等の混入を防止すること。【解決手段】本発明は、第１の基体であるガラス基板１０と第２の基体である駆動基板２０とを所定の間隔で貼り合わせ、その間に封入した液晶Ｌを駆動する液晶素子１の製造方法において、ガラス基板１０と駆動基板２０との貼り合わせを行うにあたり、ガラス基板１０もしくは駆動基板２０の少なくとも一方における対向面の周縁部に紫外線硬化型から成る接着剤３０を塗布する工程と、この接着剤３０に紫外線を照射して硬化させた後、接着剤３０のガラス転移点より高い温度で加熱する工程とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基体と第２の基体とを所定の間隔で貼り合わせ、その間に封入した液晶を駆動する液晶素子の製造方法において、
前記第１の基体と前記第２の基体との貼り合わせを行うにあたり、前記第１の基体もしくは前記第２の基体の少なくとも一方における対向面の周縁部に紫外線硬化型接着剤を塗布する工程と、
前記紫外線硬化型接着剤に紫外線を照射して硬化させた後、前記紫外線硬化型接着剤のガラス転移点より高い温度で加熱する工程と
を有することを特徴とする液晶素子の製造方法。
【請求項２】
前記紫外線硬化型接着剤を加熱する際の前記ガラス転移点との温度差をΔＴ（単位：℃）、前記紫外線硬化型接着剤を加熱する際の加熱時間をｔ（単位：時間）、前記紫外線硬化型接着剤の塗布幅をｄ（単位：ｍｍ）とした場合、
ΔＴ・ｔ・ｄ≧12
を満たしている
ことを特徴とする請求項１記載の液晶素子の製造方法。
【請求項３】
前記ΔＴは30℃以上である
ことを特徴とする請求項２記載の液晶素子の製造方法。
【請求項４】
第１の基体と第２の基体とを所定の間隔で貼り合わせ、その間に封入した液晶を駆動する液晶素子において、
前記第１の基体と前記第２の基体とを貼り合わせるため、前記第１の基体および前記第２の基体における対向面の周縁部に設けられる紫外線硬化型接着剤を有しており、
前記紫外線硬化型接着剤が、紫外線の照射によって硬化した後、前記紫外線硬化型接着剤のガラス転移点より高い温度で加熱されている
ことを特徴とする液晶素子。
【請求項５】
前記紫外線硬化型接着剤を加熱する際の前記ガラス転移点との温度差をΔＴ（単位：℃）、前記紫外線硬化型接着剤を加熱する際の加熱時間をｔ（単位：時間）、前記紫外線硬化型接着剤の塗布幅をｄ（単位：ｍｍ）とした場合、
ΔＴ・ｔ・ｄ≧12
を満たしている
ことを特徴とする請求項４記載の液晶素子。
【請求項６】
前記ΔＴは30℃以上である
ことを特徴とする請求項５記載の液晶素子。
【請求項７】
請求項４から６のうちいずれか１項に記載の液晶素子を画像形成素子として用いている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項４から６のうちいずれか１項に記載の液晶素子が光路中に配置されている
ことを特徴とするプロジェクション装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２枚の基体を所定の間隔で貼り合わせ、その間に封入した液晶を駆動する液晶素子の製造方法、液晶素子、液晶表示装置ならびにプロジェクション装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１に記載されるような液晶表示素子において、２枚の基板を貼り合わせるのに使用する接着剤は、紫外線により硬化する成分と加熱により硬化する成分との両方を有するタイプ（紫外線/熱併用タイプ）、紫外線だけで硬化する成分からなるタイプ（紫外線硬化タイプ）の２つに分類される。
【０００３】
前者においては、接着剤を硬化させるために加熱処理が必須である。一方、後者においては、必ずしも加熱処理を行わなくてもよいが、行うことで硬化をより確実にすることができる。仮に接着剤に未硬化成分が残留すると、液晶材料中に混合する可能性があり、液晶配向状態の劣化、あるいは液晶材料自体の信頼性を損なうことになる。すなわち、液晶表示素子の基板貼り合わせ用接着剤において、加熱工程は未硬化成分を極力低減し、素子の信頼性を損なわないようにする工程である。したがって、接着剤を構成している化学成分に応じて硬化反応を進行させるための必要温度で処理することが望ましく、通常は100℃〜120℃である。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３３３９８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、大気中の水分が液晶封入口や、２枚の基板の隙間から浸透してくることが原因で、素子の長期的な信頼性を損なうおそれのあることが、全ての液晶表示素子にとっての課題である。この現象を時間加速して評価するため、素子を高温高湿下に放置すると、水分混入の影響により素子の液晶配向性に違いが生じていることがわかる。また、液晶中に不純物である水分が混合するため、表示ムラなどが現れてくる。
【０００６】
この対策として、接着剤として透湿度の低い接着材料を必要とするが、いまだに解決できてはいない。このことは、素子内へ水分の浸入が、接着材料自体を介しているだけではなく、ほかの経路からも考慮する必要があることを意味する。また、特に液晶封入口近傍での現象が顕著ということもなく、ほぼ全面が同様に悪化している様子が観察されている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明はこのような課題を解決するために成されたものである。すなわち、本発明は、第１の基体と第２の基体とを所定の間隔で貼り合わせ、その間に封入した液晶を駆動する液晶素子の製造方法において、第１の基体と第２の基体との貼り合わせを行うにあたり、第１の基体もしくは第２の基体の少なくとも一方における対向面の周縁部に紫外線硬化型接着剤を塗布する工程と、紫外線硬化型接着剤に紫外線を照射して硬化させた後、紫外線硬化型接着剤のガラス転移点より高い温度で加熱する工程とを有する。
【０００８】
このような本発明では、第１の基体と第２の基体とを貼り合わせるために用いる紫外線硬化型接着剤の硬化において、紫外線照射による硬化の後、紫外線硬化型接着剤のガラス転移点より高い温度で加熱するようにしているため、紫外線照射によって硬化した後の接着剤自体がガラス転移点より高い温度による加熱によって軟化し、両基体との界面での密着性が向上することになる。
【０００９】
また、本発明は、第１の基体と第２の基体とを所定の間隔で貼り合わせ、その間に封入した液晶を駆動する液晶素子において、第１の基体と第２の基体とを貼り合わせるため、第１の基体および第２の基体における対向面の周縁部に設けられる紫外線硬化型接着剤を有しており、この紫外線硬化型接着剤が、紫外線の照射によって硬化した後、紫外線硬化型接着剤のガラス転移点より高い温度で加熱されているものである。さらに、本発明は、この液晶素子を用いた液晶表示装置およびプロジェクション装置でもある。
【００１０】
このような本発明では、第１の基体と第２の基体とを貼り合わせるために用いる紫外線硬化型接着剤が、紫外線照射による硬化とともにガラス転移点より高い温度での加熱によって両基板との密着性を増す状態となり、液晶内部の密封性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１１】
したがって、本発明によれば、液晶素子を構成する第１の基体と第２の基体とを紫外線硬化型接着剤で貼り合わせるにあたり、この接着剤と基体との界面から内部に浸入する水分を大幅に低減でき、長期間に渡る表示品位の維持およびパネルコントラストに関する製品寿命を伸ばすことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態を図に基づき説明する。図１は、本実施形態に係る液晶素子の基本的な構造を説明する模式断面図である。この液晶素子１は、反射型液晶表示素子から成り、ガラス基板（第１の基体）１０と駆動基板（第２の基体）２０とを所定のギャップを設けて貼り合わせ、そのギャップ内に液晶Ｌを封入して駆動するものである。
【００１３】
液晶素子１の構成としては、画素構造を有する光反射電極２１を設けたシリコン等の単結晶半導体基板から成る駆動基板２０と、これと対向する透明電極１１付の透明基板であるガラス基板１０とを備え、これらの間に液晶Ｌを封入してなる。垂直配向等の液晶Ｌは、ガラス基板１０および駆動基板２０の各々の対向面に形成された配向膜１２、２２によって配向されている。
【００１４】
反射型液晶表示素子は、駆動基板２０として単結晶シリコン基板にＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）やｎチャンネルＭＯＳ（Metal Oxide Semiconductor）からなるトランジスタとキャパシタとからからなる駆動回路が形成され、この上にＡｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）などの金属膜で光反射電極２１を形成して画素構造を構成している。この光反射電極２１は、光の反射膜と液晶に印加する電圧の電極の両方を兼ねることになる。
【００１５】
なお、金属膜の上には、反射率を向上させるため、あるいは金属面の保護膜として、誘電体多層膜を形成していてもよい。
【００１６】
２枚の基板は、厚さを一定に保つためのスペーサＳを混入した接着剤３０で貼り合わせ固定されている。このスペーサＳは球状で、接着剤３０中に0.5〜5wt％程度の割合で混合したものである。実際の素子においては、スペーサＳは接着剤３０中に点在していることになる。すなわち、断面構造として考えたときには、ほとんどの領域において、素子内部と外部との境界は接着剤３０自体である。
【００１７】
ここで、素子内部への水分の浸入による液晶配向状態の変化は、液晶Ｌの無電界時の反射率の変化を測定することで判別することができる。液晶Ｌは、ノーマリブラックモード、すなわち、無電界状態の反射率が一番低い。水分が浸入することで配向性が低下すると、反射率が上昇するので、水分浸入について間接的な方法ではあるが定量的に調べることができる。
【００１８】
なお、無電界時の反射率に対して、電圧印加時の最大反射率の比を、パネルコントラストと呼ぶ。この無電界時の反射率が高くなることは、パネルの重要な性能の一つであるパネルコントラストが低下することにつながるので、無電界時の反射率の変化が少なければ少ないほど好ましい。具体的には、同じ量の無電界時の反射率変化を起こすのに、その所要時間が２倍違えば、パネルコントラストに関する製品の寿命が２倍長くなることにつながる。
【００１９】
外部から素子内部への水分の浸入としては、接着剤そのものを介しての透湿、あるいは液晶封入口から浸入しているということを否定するものではないが、透湿度の異なる接着剤を使用しても、無電界時の反射率変化に違いが現れないことがわかっている。これを、検証例Ａ、Ｂを用いて具体的に説明する。
【００２０】
（検証例Ａ）
垂直配向液晶素子を次のようにして作製した。すなわち、透明電極が製膜されたガラス基板とAl電極が形成されたSi駆動回路基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、液晶配向膜としてSiO2を、蒸着角度45〜60°の範囲で斜め蒸着して形成した。液晶配向膜の厚さは50nmとし、液晶のプレチルト角は約2.5°になるように制御した。
【００２１】
その後、液晶配向膜が形成された上記量基板間を、1.9umの間隔になるよう、ガラスビーズを混合した接着剤（スリーボンド社製紫外線硬化型接着剤：ガラス転移温度140℃、接着剤透湿度4.8g/m2・24h：JIS  Z0208）を用いて貼り合わせた。接着剤の幅は1mmとした。接着剤をUV硬化後、150℃1hの焼成を加えた。その後、メルク社製液晶（Δn=0.111、Δε=-7）を封入し、反射型液晶表示素子を作製した。
【００２２】
この反射型液晶表示素子を、60℃90％の高温高湿槽の中に一定時間放置し、無電界時の反射率を測定した。無電界時の反射率の300h時点での値の投入前の値に対する比は2.2、500hでは5.0であった。
【００２３】
（検証例Ｂ）
垂直配向液晶素子を次のようにして作製した。すなわち、透明電極が製膜されたガラス基板とAl電極が形成されたSi駆動回路基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、液晶配向膜としてSiO2を、蒸着角度45〜60°の範囲で斜め蒸着して形成した。液晶配向膜の厚さは50nmとし、液晶のプレチルト角は約2.5°になるように制御した。
【００２４】
その後、液晶配向膜が形成された上記量基板間を、1.9umの間隔になるよう、ガラスビーズを混合した接着剤（協立化学社製紫外線硬化型接着剤：ガラス転移温度130℃、接着剤透湿度25g/m2・24h：JIS  Z0208）を用いて貼り合わせた。この接着剤の幅は1mmとした。接着剤をUV硬化後、接着剤を完全に硬化させるため、140℃1hの焼成を加えた。その後、メルク社製液晶（Δn=0.111、Δε=-7）を封入し、反射型液晶表示素子を作製した。
【００２５】
この反射型液晶表示素子を、60℃90％の高温高湿槽の中に一定時間放置し、無電界時の反射率を測定した。無電界時の反射率の300h時点での値の投入前の値に対する比は2.4、500hでは5.5であった。
【００２６】
上記検証例Ａでは透湿度4.8g/m2・24h、検証例Ｂでは透湿度25g/m2・24hとなっているが、このように透湿度が異なる接着剤を使用しても、無電界時の反射率変化に顕著な違いは現れていない。したがって、透湿度の異なる接着剤を使用しても無電界時の反射率変化に違いが現れないことが分かる。
【００２７】
次に、上記検証例Ａと同じ接着剤を用い、同じ加熱温度、加熱時間で接着剤の塗布幅のみ異なる例を検証例Ｃとして示す。
【００２８】
（検証例Ｃ）
垂直配向液晶素子を次のようにして作製した。すなわち、透明電極が製膜されたガラス基板とAl電極が形成されたSi駆動回路基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、液晶配向膜としてSiO2を、蒸着角度45〜60°の範囲で斜め蒸着して形成した。液晶配向膜の厚さは50nmとし、液晶のプレチルト角は約2.5°になるように制御した。その後、液晶配向膜が形成された上記量基板間を、1.9umの間隔になるよう、ガラスビーズを混合した接着剤（スリーボンド社製紫外線硬化型接着剤：ガラス転移温度140℃）を用いて貼り合わせた。接着剤の幅は2mmとした。接着剤をUV硬化後、接着剤を完全に硬化させるため、150℃1hの焼成を加えた。その後、メルク社製液晶（Δn=0.111、Δε=-7）を封入し、反射型液晶表示素子を作製した。
【００２９】
この反射型液晶表示素子を、60℃90％の高温高湿槽の中に一定時間放置し、無電界時の反射率を測定した。無電界時の反射率の300h時点での値の投入前の値に対する比は1.2、500hでは1.8であった。
【００３０】
上記検証例ＡとＣより、接着剤の塗布幅を２倍にすることで、水分の浸入に対して格段の効果が生じる。また、検証例ＡとＢより、接着剤自体の透湿度はほとんど影響を及ぼさないことがわかっているので、接着剤自体の塗布幅が増えたことが直接の原因ではなく、接着剤と基板との接している界面の面積を増やしたことが効いているといえる。
【００３１】
ここで、紫外線硬化型の接着剤を用いたガラス基板の貼り合わせにおいて、上記検証例Ａと同じ接着剤を同じ幅で塗布し、紫外線照射のみ（加熱なし）で硬化させた場合の特性を比較例として以下に示す。
【００３２】
（比較例）
垂直配向液晶素子を次のようにして作製した。すなわち、透明電極が製膜されたガラス基板とAl電極が形成されたSi駆動回路基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、液晶配向膜としてSiO2を、蒸着角度45〜60°の範囲で斜め蒸着して形成した。液晶配向膜の厚さは50nmとし、液晶のプレチルト角は約2.5°になるように制御した。その後、液晶配向膜が形成された上記量基板間を、1.9umの間隔になるよう、ガラスビーズを混合した接着剤（スリーボンド社製紫外線硬化型接着剤：ガラス転移温度140℃）を用いて貼り合わせ、接着剤の幅は1mmとした。接着剤をUV（紫外線）硬化後、メルク社製液晶（Δn=0.111、Δε=-7）を封入し、反射型液晶表示素子を作製した。
【００３３】
この反射型液晶表示素子を、60℃90％の高温高湿槽の中に一定時間放置し、無電界時の反射率を測定した。無電界時の反射率の300h時点での値の投入前の値に対する比は7.4、500hでは28であった。
【００３４】
このような検証例および比較例に基づき本願発明者らは種々の検討を行ったところ、接着剤３０と両基板との界面の密着度が重要であることを見出した。すなわち、紫外線照射硬化型の接着剤３０を用いて紫外線照射による硬化を行った後、その接着剤３０のガラス転移点より高い温度で加熱することによって接着剤３０と両基板との界面の密着度を向上させる。これは、上記比較例（加熱なし）の無電界時反射率に比べ、検証例Ａ、Ｂ（加熱あり）の無電界時反射率の向上から分かる。図２は本発明の各実施例および上記検証例、比較例の特性を示す図である。
【００３５】
以下に示す実施例は、接着剤の幅を変えることなく、接着剤と基板との界面の密着性を向上させるために、接着剤自体が軟化する温度（ガラス転移温度）以上の温度で、一定時間保持する工程を加える例である。
【００３６】
（実施例１）
垂直配向液晶素子を次のようにして作製した。すなわち、透明電極が製膜されたガラス基板とAl電極が形成されたSi駆動回路基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、液晶配向膜としてSiO2を、蒸着角度45〜60°の範囲で斜め蒸着して形成した。液晶配向膜の厚さは50nmとし、液晶のプレチルト角は約2.5°になるように制御した。その後、液晶配向膜が形成された上記量基板間を、1.9umの間隔になるよう、ガラスビーズを混合した接着剤（スリーボンド社製紫外線硬化型接着剤：ガラス転移温度140℃）を用いて貼り合わせ、接着剤の幅は1mmとした。接着剤をUV（紫外線）硬化後、150℃12hの焼成を加えた。接着剤のガラス転移温度は140℃であるので、硬化した接着剤が軟化し、基板に密着するようになる。
【００３７】
その後、メルク社製液晶（Δn=0.111、Δε=-7）を封入し、反射型液晶表示素子を作製した。この反射型液晶表示素子を、60℃90％の高温高湿槽の中に一定時間放置し、無電界時の反射率を測定した。無電界時の反射率の300h時点での値の投入前の値に対する比は1.3、500hでは2.3であった。
【００３８】
（実施例２）
垂直配向液晶素子を次のようにして作製した。すなわち、透明電極が製膜されたガラス基板とAl電極が形成されたSi駆動回路基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、液晶配向膜としてSiO2を、蒸着角度45〜60°の範囲で斜め蒸着して形成した。液晶配向膜の厚さは50nmとし、液晶のプレチルト角は約2.5°になるように制御した。その後、液晶配向膜が形成された上記量基板間を、1.9umの間隔になるよう、ガラスビーズを混合した接着剤（スリーボンド社製紫外線硬化型接着剤：ガラス転移温度140℃）を用いて貼り合わせ、接着剤の幅は1mmとした。接着剤をUV硬化後、接着剤を完全に硬化させ、かつ接着剤のガラス転移温度より30℃高い温度である170℃にして1hの焼成を加えた。その後、メルク社製液晶（Δn=0.111、Δε=-7）を封入し、反射型液晶表示素子を作製した。この反射型液晶表示素子を、60℃90％の高温高湿槽の中に一定時間放置し、無電界時の反射率を測定した。無電界時の反射率の300h時点での値の投入前の値に対する比は1.2、500hでは2.5であった。
【００３９】
（実施例３〜７）
垂直配向液晶素子を次のようにして作製した。すなわち、透明電極が製膜されたガラス基板とAl電極が形成されたSi駆動回路基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、液晶配向膜としてSiO2を、蒸着角度45〜60°の範囲で斜め蒸着して形成した。液晶配向膜の厚さは50nmとし、液晶のプレチルト角は約2.5°になるように制御した。その後、液晶配向膜が形成された上記量基板間を、1.9umの間隔になるよう、ガラスビーズを混合した接着剤（スリーボンド社製紫外線硬化型接着剤：ガラス転移温度140℃）を用いて貼り合わせ、接着剤の幅は1mmとした。接着剤をUV硬化後、接着剤を完全に硬化させ、かつ接着剤のガラス転移温度より高い温度である150〜200℃にして1〜3hの焼成を加えた。その後、メルク社製液晶（Δn=0.111、Δε=-7）を封入し、反射型液晶表示素子を作製した。この反射型液晶表示素子を、60℃90％の高温高湿槽の中に一定時間放置し、無電界時の反射率を測定した。無電界時の反射率の300h時点での値の投入前の値に対する比は1.1〜1.6、500hでは2.2〜3.4であった。
【００４０】
（実施例８）
垂直配向液晶素子を次のようにして作製した。すなわち、透明電極が製膜されたガラス基板とAl電極が形成されたSi駆動回路基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、液晶配向膜としてSiO2を、蒸着角度45〜60°の範囲で斜め蒸着して形成した。液晶配向膜の厚さは50nmとし、液晶のプレチルト角は約2.5°になるように制御した。その後、液晶配向膜が形成された上記量基板間を、1.9umの間隔になるよう、ガラスビーズを混合した接着剤（スリーボンド社製紫外線硬化型接着剤：ガラス転移温度140℃）を用いて貼り合わせた。接着剤の幅は1mmとした。接着剤をUV硬化後、接着剤を完全に硬化させるため、160℃1hの焼成を加えた。この150℃1hが、接着剤の硬化を完全にする温度および時間である。
その後、メルク社製液晶（Δn=0.111、Δε=-7）を封入し、反射型液晶表示素子を作製した。
【００４１】
この反射型液晶表示素子を、60℃90％の高温高湿槽の中に一定時間放置し、無電界時の反射率を測定した。無電界時の反射率の300h時点での値の投入前の値に対する比は1.7、500hでは3.5であった。
【００４２】
（塗布幅の異なる実施例）
上記実施例１〜８では、いずれも接着剤の幅が１mmであるが、図３に示す例では、紫外線硬化型接着剤のUV硬化後の加熱温度を150℃、加熱時間を１時間と同じにして、接着剤の塗布幅を変えた際の無電界時の反射率を示している。
【００４３】
すなわち、ここでは接着剤の塗布幅を0.7mm、0.9mm、1.0mm、1.2mm、1.5mm、2.0mmを例として無電界時の反射率の300h時点および500h時点の値を各々求めている。図３（ａ）は各塗布幅での値を表で示したもの、図３（ｂ）は各塗布幅での値をグラフで表示したものである。
【００４４】
なお、図３（ｂ）のグラフでは、紫外線硬化型接着剤を加熱する際のガラス転移点との温度差をΔＴ（単位：℃）、紫外線硬化型接着剤を加熱する際の加熱時間をｔ（単位：時間）、紫外線硬化型接着剤の塗布幅をｄ（単位：ｍｍ）とした場合のΔＴ・ｔ・ｄの値を横軸にとり、無電界時の反射率を縦軸にとっている。
【００４５】
ここで、一般的に表示素子１の品質として無電界時の反射率の300hで2以下（コントラストの低減が初期の半分以下）であることが望ましいことから、上記実施例1〜8はこの条件を満たしていることが分かる。また、図３に示す接着剤の塗布幅を変えた例では、ΔＴ・ｔ・ｄの値が12以上であればこの条件を満たしていることが分かる。なお、上記実施例1〜8においてもΔＴ・ｔ・ｄの値は20以上であり、いずれも12以上に当てはまることになる。
【００４６】
したがって、液晶素子１における紫外線硬化型接着剤を用いた基板の貼り合わせでは、UV硬化後に紫外線硬化型接着剤のガラス転移点より高い温度での加熱を行い、上記ΔＴ・ｔ・ｄの値が12以上になるようにすることが望ましい。
【００４７】
また、さらに好ましい条件としては、無電界時の反射率の500hで2.5以下であることが望まれることから、上記ΔＴ・ｔ・ｄの値が20以上でΔＴが30℃以上であること、またΔＴが30℃未満であってもΔＴ・ｔ・ｄの値が20以上でｄが2mm以上であることが良い。
【００４８】
上記説明した各実施例を適用する液晶素子１では、配向膜１２、２２として一般的なポリイミドを用いてもよいが、少なくとも一方に無機膜（例えばSiO2）を用いるようにしてもよい。無機膜から成る配向膜では水分の吸収が多いことから液晶への悪影響が発生しやすい。そこで、上記実施例を適用することで無機膜から成る配向膜を用いても液晶への水分混入を効果的に抑制でき、無機膜から成る配向膜を用いても液晶への悪影響を回避できるようになる。
【００４９】
また、本発明の液晶素子１は、上記実施例のような反射型以外の透過型であっても適用可能である。また、本発明の液晶素子１を画像形成素子として用いる液晶表示装置や、液晶素子１を拡大光学系の光路上に配置したプロジェクション装置に適用することも可能である。特にプロジェクション装置では液晶素子１の表示ムラが拡大されるため、表示ムラを抑制できる本発明の液晶素子１を用いることで表示画質の向上を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本実施形態に係る液晶素子の構造を説明する模式断面図である。
【図２】本発明の各実施例と比較例との特性を示す図である。
【図３】接着剤の幅を変えた際の無電界時の反射率を示す図である。
【符号の説明】
【００５１】
１…液晶素子、１０…ガラス基板（第１の基体）、１１…透明電極、１２…配向膜、２０…駆動基板（第２の基体）、２１…光反射電極、２２…配向膜、３０…接着剤、Ｌ…液晶、Ｓ…スペーサ
【図１】
2006215235.tif 000003
【図２】
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【図３】
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