(57)【要約】【課題】  表示ムラを抑制できる液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】  第１基板２及び第２基板３によって挟持された液晶層２３を具備し、複数のドットからなる表示領域９ａにおいて表示を行う液晶装置１であって、液晶層膜厚を維持するギャップ部材２５と、着色膜及び遮光膜と、を具備し、着色膜は、複数のドットに重なる複数色の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと、表示領域９ａの外部の周辺領域９ｂに設けられた周辺着色膜１３ｈと、を有し、遮光膜は、表示領域においてドットの相互間に位置するドット遮光膜３３と、表示領域の外部の周辺領域９ａに設けられた周辺遮光膜３４と、を有し、表示領域９ａには、表示着色膜の一部と、ドット遮光膜３３と、が重なり合う表示積層部２０ａが設けられ、周辺領域９ｂには、周辺着色膜１３ｈと、周辺遮光膜３４と、が重なり合う周辺積層部５０ａが設けられていること、を特徴とする。【選択図】  図３
2006267334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板及び第２基板によって挟持された液晶層を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う液晶装置であって、
前記液晶層厚を維持するギャップ部材と、
着色膜及び遮光膜と、
を具備し、
前記着色膜は、
前記複数のドットに重なる複数色の表示着色膜と、
前記表示領域の外部の周辺領域に設けられた周辺着色膜と、
を有し、
前記遮光膜は、
前記表示領域において前記ドットの相互間に位置するドット遮光膜と、
前記表示領域の外部の周辺領域に設けられた周辺遮光膜と、
を有し、
前記表示領域には、前記表示着色膜の一部と、前記ドット遮光膜と、が重なり合う表示積層部が設けられ、
前記周辺領域には、前記周辺着色膜と、前記周辺遮光膜と、が重なり合う周辺積層部が設けられていること、
を特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記表示着色膜と前記周辺着色膜とからなる着色パターンと、
前記ドット遮光膜と前記周辺遮光膜とからなる遮光パターンと、
が重ね合わされて形成され、
前記周辺領域には、
前記周辺遮光膜からなる周辺単層部と、
前記周辺着色膜及び前記周辺遮光膜が積層されてなる前記周辺積層部と、
が形成されていること、
を特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記周辺単層部の幅は、前記表示着色膜の幅と同一であること、
を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記周辺着色膜の幅は、前記ドット遮光膜の幅に対して、０．３〜３倍の値となっていること、
を特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記周辺領域において、前記周辺積層部は複数設けられていること、
を特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記表示領域の近傍における前記周辺積層部の幅は、
前記第１基板又は前記第２基板の端部の近傍における前記周辺積層部の幅よりも大きいこと、
を特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記周辺積層部の幅は、
前記表示領域の近傍から、前記第１基板又は前記第２基板の端部に向けて、次第に小さくなること、
を特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記周辺積層部は、離散的に設けられていること、
を特徴とする請求項１から請求項７いずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項９】
前記表示積層部は、前記周辺積層部と厚さが合わされてなること、
を特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１０】
前記ギャップ部材は、
散布可能な粒体、又は、前記第１基板又は前記第２基板のうち一方の基板に設けられた突起体からなり、
前記粒体、又は、前記突起体は、第１基板及び第２基板の間の前記表示領域及び前記周辺領域において、前記表示積層部と前記周辺積層部との位置に重なって設けられ、
前記粒体が離散的に配置されていること、又は、前記突起体が規則的に配置されていること、
を特徴とする請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１１】
第１基板及び第２基板によって挟持された液晶層を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う液晶装置の製造方法であって、
着色膜及び遮光膜を形成し、
前記着色膜は、
前記複数のドットに重なる複数色の表示着色膜と、
前記表示領域の外部の周辺領域に設けられた周辺着色膜と、
を有し、
前記遮光膜は、
前記表示領域において前記ドットの相互間に位置するドット遮光膜と、
前記表示領域の外部の周辺領域に設けられた周辺遮光膜と、
を有し、
前記表示着色膜と前記周辺着色膜を同一工程で形成し、前記ドット遮光膜と前記周辺遮光膜を同一工程で形成すること、
を特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１２】
表示部を備える電子機器であって、
前記表示部は請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の液晶装置からなること、
を特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、携帯電話等に用いられる表示装置として、液晶装置が知られている。
当該液晶装置は、対向する電極間に挟持された液晶層への印加電圧を調整することにより、単位画素内の複数のドット毎に液晶層を透過する光量を制御し、画像表示を行っている（例えば、特許文献１参照。）。
このような液晶装置においては、実際の表示に利用する表示領域とその外部にあたる周辺領域とにおいて液晶層が注入されており、遮光膜を利用して表示領域の各ドットから光を透過させると共に周辺領域を遮光する構成となっている。
【特許文献１】特開２００４−２１２４２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、このような液晶装置においては、表示領域と周辺領域との境界近傍において、表示ムラが生じるという問題があった。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、表示ムラを抑制できる液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、表示領域と周辺領域との境界近傍においては、液晶層の複屈折と液晶層厚との積（リタデーション）Δｎｄが不均一になりやすく、これに起因して表示ムラが生じることを見出した。
そこで、本発明者は、上記に基づいて以下の手段を有する本発明を想到した。
【０００５】
即ち、本発明の液晶装置は、第１基板及び第２基板によって挟持された液晶層を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う液晶装置であって、前記液晶層厚を維持するギャップ部材と、着色膜及び遮光膜と、を具備し、前記着色膜は、前記複数のドットに重なる複数色の表示着色膜と、前記表示領域の外部の周辺領域に設けられた周辺着色膜と、を有し、前記遮光膜は、前記表示領域において前記ドットの相互間に位置するドット遮光膜と、前記表示領域の外部の周辺領域に設けられた周辺遮光膜と、を有し、前記表示領域には、前記表示着色膜の一部と、前記ドット遮光膜と、が重なり合う表示積層部が設けられ、前記周辺領域には、前記周辺着色膜と、前記周辺遮光膜と、が重なり合う周辺積層部が設けられていること、を特徴としている。
【０００６】
ここで、表示積層部及び周辺積層部の液晶層に向けた方向には、オーバーコート膜が設けられていることが好ましい。また、第１基板及び第２基板の液晶層に向けた方向には、液晶層と接触するように配向膜が設けられ、第１基板及び第２基板の各々に設けられた配向膜によってギャップ部材が挟持されていることが好ましい。
また、遮光膜及び着色膜は、同じ膜厚で形成されていることが好ましい。これによって、表示着色膜とドット遮光膜の膜厚が同じになり、周辺着色膜と周辺遮光膜の膜厚が同じになる。
また、表示積層部の構成としては、ドット遮光膜の上方に着色膜の一部が設けられていてもよいし、ドット遮光膜の下方に着色膜の一部が設けられていてもよい。
また、周辺積層部の構成としては、周辺遮光膜の上方に周辺着色膜が設けられていてもよいし、周辺遮光膜の下方に周辺着色膜が設けられていてもよい。
【０００７】
また、ギャップ部材は、表示領域と周辺領域との各々に離散的或いは規則的に配置されたものである。これにより、ギャップ部材は、表示積層部の液晶層に向けた方向、及び周辺積層部の液晶層に向けた方向において配置され、当該ギャップ部材が第１基板と第２基板とによって挟持される。これによって、表示領域と周辺領域とにおいて、液晶層厚が維持される。
【０００８】
本発明によれば、基板面を基準とすると、表示積層部と周辺積層部との各々の高さが同一となっている。換言すると、表示積層部は、周辺積層部と厚さが合わされて形成されることとなる。具体的には、ドット遮光膜と着色膜の一部の合計膜厚と、周辺遮光膜と周辺着色膜の合計膜厚が同じになっている。
そして、ギャップ部材が、表示積層部と周辺積層部との上方において挟持されることで、表示領域と周辺領域とにおける液晶層厚が規定されるので、当該両領域における液晶層厚は同一となる。
従って、表示領域と周辺領域との境界近傍においては、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【０００９】
また、本発明の液晶装置においては、前記表示着色膜と前記周辺着色膜とからなる着色パターンと、前記ドット遮光膜と前記周辺遮光膜とからなる遮光パターンと、が重ね合わされて形成され、前記周辺領域には、前記周辺遮光膜からなる周辺単層部と、前記周辺着色膜及び前記周辺遮光膜が積層されてなる前記周辺積層部と、が形成されていること、を特徴としている。
本発明によれば、周辺単層部の膜厚は、周辺積層部の膜厚よりも薄くなる。また、周辺単層部と周辺積層部とを比較すると、周辺着色膜の膜厚分だけ、周辺単層部の膜厚が薄くなっている。
そして、ギャップ部材が表示領域に配置されることで、当該ギャップ部材は表示着色膜上や表示積層部上に配置される。
また、ギャップ部材が周辺領域に配置されることで、当該ギャップ部材は周辺単層部上や周辺積層部上に配置される。
ここで、表示積層部に配置されたギャップ部材には、第１基板と第２基板が挟持することにより圧力が付与される。一方、表示着色膜に配置されたギャップ部材は、表示積層部よりも凹んだ位置に配置されるので、圧力は付与されない。
また、周辺積層部に配置されたギャップ部材には、第１基板と第２基板が挟持することにより圧力が付与される。一方、周辺単層部に配置されたギャップ部材は、周辺積層部よりも凹んだ位置に配置されるので、圧力は付与されない。
【００１０】
ここで、表示領域においては、表示着色膜の幅及びドット遮光膜の幅は、開口率や表示特性の観点から所定に規定されたものとなっている。従って、表示領域においては、ギャップ部材に付与される圧力が所定に規定されたものとなる。
一方、周辺領域においては、表示には関与しない部分であるため、周辺着色膜の幅を自由に設定することが可能となっている。従って、周辺着色膜の幅を調整することにより、周辺積層部の面積を調整することができる。そして、周辺単層部に対して周辺積層部の面積が大きい程、ギャップ部材に付与される圧力を大きくすることができる。また、周辺単層部に対して周辺積層部の面積が小さい程、ギャップ部材に付与される圧力を小さくすることができる。
【００１１】
本発明によれば、周辺単層部及び周辺積層部が設けられることによって、周辺領域におけるギャップ部材に付与される圧力を調整することができる。そして、ギャップ部材に付与される圧力を表示領域及び周辺領域において同程度にすることで、確実に両領域における液晶層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００１２】
また、本発明の液晶装置においては、前記周辺単層部の幅は、前記表示着色膜の幅と同一であること、を特徴としている。
このようにすれば、周辺領域のギャップ部材に付与される圧力と、表示領域のギャップ部材に付与される圧力とが、調整されたものとなる。そして、両領域における液晶層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００１３】
また、本発明の液晶装置においては、前記周辺着色膜の幅は、前記ドット遮光膜の幅に対して、０．３〜３倍の値となっていること、を特徴としている。
このようにすれば、周辺領域のギャップ部材に付与される圧力と、表示領域のギャップ部材に付与される圧力とが、調整されたものとなる。そして、ドット遮光膜の幅と周辺着色膜の幅とが数値的に規定され、確実に両領域における液晶層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００１４】
また、上記の「０．３〜３倍の値」とは、周辺着色膜の幅をドット遮光膜の幅と同一に設定する場合、周辺着色膜の幅をドット遮光膜の幅よりも大きく設定する場合、及び周辺着色膜の幅をドット遮光膜の幅よりも小さく設定する場合によって実現される。
ここで、周辺着色膜の幅をドット遮光膜の幅と同一に設定する場合では、周辺領域におけるギャップ部材に付与される圧力と、表示領域におけるギャップ部材に付与される圧力とが、調整されたものとなる。そして、確実に両領域における液晶層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００１５】
また、周辺着色膜の幅をドット遮光膜の幅よりも大きく設定する場合では、周辺領域のギャップ部材に付与される圧力と、表示領域のギャップ部材に付与される圧力とが、調整されたものとなる。そして、両領域における液晶層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
また、上記のように周辺着色膜の幅が規定されることにより、周辺着色膜を形成する際の現像工程或いはエッチング工程に起因して、周辺着色膜の形状が変形するのを抑制することができる。換言すれば、形状の「だれ」を抑制することができる。
また、ギャップ部材が離散的（ランダム）に配置される場合においては、周辺積層部にギャップ部材が配置される確率を、表示積層部のそれよりも高くすることができる。これにより、周辺積層部においてギャップ部材に付与される圧力を、表示積層部のそれよりも高くすることができる。
【００１６】
また、周辺着色膜の幅をドット遮光膜の幅よりも小さく設定する場合では、周辺領域のギャップ部材に付与される圧力と、表示領域のギャップ部材に付与される圧力とが、調整されたものとなる。そして、両領域における液晶層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
また、上記のように周辺着色膜の幅が規定されることにより、周辺着色膜を形成する際の現像工程或いはエッチング工程に起因して、周辺着色膜の形状が変形するのを促進させることができる。換言すれば、形状の「だれ」を促進させることができる。
また、ギャップ部材が離散的（ランダム）に配置される場合においては、周辺積層部にギャップ部材が配置される確率を、表示積層部のそれよりも低くすることができる。これにより、周辺積層部においてギャップ部材に付与される圧力を、表示積層部のそれよりも低くすることができる。
【００１７】
また、本発明の液晶装置においては、前記周辺領域において、前記周辺積層部は複数設けられていること、を特徴としている。
このようにすれば、ギャップ部材が、複数の周辺積層部と表示積層部との上方において挟持され、表示領域と周辺領域とにおける液晶層厚が規定されるので、当該両領域における液晶層厚は同一となる。
従って、表示領域と周辺領域との境界近傍においては、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００１８】
また、本発明の液晶装置においては、前記表示領域の近傍における前記周辺積層部の幅は、前記第１基板又は前記第２基板の端部の近傍における前記周辺積層部の幅よりも大きいこと、を特徴としている。
また、本発明の液晶装置においては、前記周辺積層部の幅は、前記表示領域の近傍から、前記第１基板又は前記第２基板の端部に向けて、次第に小さくなること、が好ましい。
本発明者によれば、表示領域の近傍における周辺積層部の幅が表示ムラに影響を与え、基板端部の近傍における周辺積層部の幅が液晶注入時の流動性に影響を与えることを見出した。
【００１９】
そして、本発明のように、周辺領域において複数設けられている周辺積層部について、表示領域の近傍における周辺積層部の幅を、基板端部の近傍における周辺積層部の幅よりも大きくすることで、確実に両領域における液晶層厚を同一にすることができ、基板端部の近傍における液晶材料の流動性を向上させることができる。従って、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できるだけでなく、速やかに液晶注入工程を行うことができる。
【００２０】
また、本発明の液晶装置においては、前記周辺積層部は、離散的に設けられていること、を特徴としている。
本発明者は、周辺領域において複数設けられている周辺積層部について、周辺積層部を周辺領域に離散的に設けても、上記と同様に周辺領域のギャップ部材に付与される圧力と、表示領域のギャップ部材に付与される圧力とを、調整できることを見出した。そして、確実に両領域における液晶層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
更に、離散的に周辺積層部が設けられていることにより、液晶材料の流動を妨げることが少なくなるため、液晶注入工程において周辺単層部を流動する液晶材料の流動性を向上させることができ、速やかに液晶注入工程を行うことができる。
【００２１】
また、本発明の液晶装置においては、前記ギャップ部材は、散布可能な粒体、又は、前記第１基板又は前記第２基板のうち一方の基板に設けられた突起体からなり、前記粒体、又は、前記突起体は、第１基板及び第２基板の間の前記表示領域及び前記周辺領域において、前記表示積層部と前記周辺積層部との位置に重なって設けられ、前記粒体が離散的に配置されていること、又は、前記突起体が規則的に配置されていること、を特徴としている。
【００２２】
ここで、粒体とは、樹脂体又はガラス体からなるものである。そして、本発明によれば、粒体を第１基板及び第２基板の間の前記表示領域及び前記周辺領域において離散的に配置させ、表示積層部と周辺積層部との位置に重なって設けることが可能となる。
更に、粒体を表示積層部と周辺積層部との位置に対応して設けたことで、表示積層部と周辺積層部とにおいて、粒体を介して液晶層厚を維持することができる。
また、粒体が樹脂体からなる場合において、樹脂体の硬さが、当該樹脂体を挟持する部材よりも柔らかい場合には、樹脂体は圧力によって変形するので、樹脂体の変形を利用して液晶層厚を維持することができる。
また、樹脂体の硬さが、当該樹脂体を挟持する部材よりも硬い場合には、樹脂体を挟持する部材（例えば、着色膜やオーバーコート膜）が圧力によって変形し、当該樹脂体を挟持する部材に樹脂体の一部が埋設する。従って、樹脂体を挟持する部材の変形を利用して液晶層厚を維持することができる。
また、粒体がガラス体からなる場合においては、当該ガラス体は、変形し難い特性を有しているため、ガラス体を挟持する部材に対してガラス体の一部を埋設させることができ、これによって液晶層厚を維持することができる。
【００２３】
また、突起体とは、離散的に設けられたものではなく、フォトリソグラフィ技術を利用して、規則的に形成されたものである。そして、本発明によれば、突起体を第１基板及び第２基板の間の前記表示領域及び前記周辺領域において規則的に配置させ、表示積層部と周辺積層部との位置に重なって設けることが可能となる。
更に、突起体を表示積層部と周辺積層部との位置に対応して設けたことで、表示積層部と周辺積層部とにおいて、突起体を介して液晶層厚を維持することができる。
また、突起体の硬さが、当該突起体を挟持する部材よりも柔らかい場合には、突起体は圧力によって変形するので、当該突起体の変形を利用して液晶層厚を維持することができる。
また、突起体の硬さが、当該突起体を挟持する部材よりも硬い場合には、突起体を挟持する部材が圧力によって変形し、当該突起体を挟持する部材に突起体の一部が埋設する。従って、突起体を挟持する部材の変形を利用して液晶層厚を維持することができる。
【００２４】
また、本発明の液晶装置においては、前記第１基板上に線状に延在して複数設けられた第１電極線と、前記第２基板上に線状に延在して複数設けられた第２電極線と、を具備し、前記第１電極線及び前記第２電極線が交差して前記ドットが形成されていること、を特徴としている。
このようにすれば、パッシブ型の液晶装置を実現することができる。
パッシブ型の液晶装置は、表示領域と周辺領域の境界近傍においてリタデーションが不均一になり易く、表示ムラに影響しやすい特性を有している。
従って、上記構成をパッシブ型の液晶装置に採用することにより、表示ムラが抑制された液晶装置を実現できる。
【００２５】
また、本発明の液晶装置の製造方法は、第１基板及び第２基板によって挟持された液晶層を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う液晶装置の製造方法であって、着色膜及び遮光膜を形成し、前記着色膜は、前記複数のドットに重なる複数色の表示着色膜と、前記表示領域の外部の周辺領域に設けられた周辺着色膜と、を有し、前記遮光膜は、前記表示領域において前記ドットの相互間に位置するドット遮光膜と、前記表示領域の外部の周辺領域に設けられた周辺遮光膜と、を有し、前記表示着色膜と前記周辺着色膜を同一工程で形成し、前記ドット遮光膜と前記周辺遮光膜を同一工程で形成すること、を特徴としている。
このようにすれば、上記の液晶装置を製造することができる。従って、リタデーションが不均一になることがなく、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
また、本発明によれば、着色膜を形成する工程において表示着色膜と周辺着色膜とを同一工程で形成し、また、遮光膜を形成する工程においてドット遮光膜と周辺遮光膜とを同一工程で形成するので、従来の工程を利用するだけで、上記効果を奏する液晶装置を製造することができる。従って、他の部材を設ける等の工程が不要であり、工程数が増加することなく、表示ムラが抑制された液晶装置を実現できる。
【００２６】
また、本発明の電子機器は、表示部を備える電子機器であって、前記表示部は先に記載の液晶装置からなること、を特徴としている。
ここで、電子機器としては、例えば、携帯電話機、移動体情報端末、時計、ワープロ、パソコンなどの情報処理装置などを例示することができる。
従って、本発明によれば、先に記載の液晶装置を用いた表示部を備えているので、表示ムラが抑制された表示部を備えた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
（液晶装置の第１実施形態）
以下、本発明における液晶装置の第１実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本実施形態の液晶装置の全体構成を示す平面図、図２は、液晶装置の表示領域を示す図であって、図１のＢ−Ｂ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）である。また、図３は、液晶装置の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す断面図であって、図１のＣ−Ｃ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）であり、図３（ａ）は本実施形態に係る液晶装置の断面図、図３（ｂ）は従来の液晶装置の断面図である。また、図４は、液晶装置の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す平面図であって、着色パターンと遮光パターンを説明するための図である。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００２８】
本実施形態における液晶装置は、パッシブマトリクス方式の透過型カラー液晶装置であって、液晶層への印加電圧がＯＦＦ（非印加）状態で、黒表示を示すノーマリーブラックモードの液晶装置である。
そして、図１に示すように、本実施形態の液晶装置１は、平面視矩形状の下基板部（第１基板）２Ａと上基板（第２基板）３Ａとがシール材４を介して対向配置されている。シール材４の一部は各基板部２Ａ，３Ａの一辺（図１における上辺）側で開口して液晶注入口５となっており、双方の基板部２Ａ，３Ａとシール材４とに囲まれた空間内に液晶が封入され、液晶注入口５が封止材６によって封止されている。本実施形態では、上基板部３Ａよりも下基板部２Ａの外形寸法の方が大きく、上基板部３Ａと下基板部２Ａの１辺（図１における上辺、右辺、左辺）では縁が揃っているが、上基板部３Ａの残りの１辺（図１における下辺）からは下基板部２Ａの周縁部がはみ出すように配置されている。そして、下基板部２Ａの下辺側の端部には、上基板部３Ａ及び下基板部２Ａの双方の電極を駆動するための駆動用半導体素子７が実装されている。
【００２９】
また、符号８は、表示領域９ａと周辺領域９ｂとの境界線である。
ここで、当該境界線８より内包される側（内側）は、画像表示を行うための表示領域９ａである。また、表示領域９ａは、複数のドットがマトリクス状に配列された領域であって、実際に表示に寄与する領域のことを言う。
また、境界線８の外側は、表示領域９ａの外部に位置する周辺領域９ｂであり、図１においては周辺領域９ｂを斜線で示している。また、周辺領域９ｂには、周辺見切りとして機能する周辺遮光膜（遮光膜、後述）が設けられている。
【００３０】
本実施形態の場合、図１に示すように、上基板部３Ａ上に、図中縦方向に線状に延在する複数のセグメント電極（第１電極線）１１がストライプ状に形成されている。一方、下基板部２Ａ上には、セグメント電極１１と直交するように図中横方向に線状に延在する複数のコモン電極（第２電極線）１０がストライプ状に形成されている。
ここで、セグメント電極１１とコモン電極１０とが互い交差することにより、平面的に見て重なり合った領域が形成され、当該領域が「ドット」を構成している。
また、表示領域９ａにおける複数のドットの各々においては、カラー表示を行うべく、カラーフィルタのＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の複数色からなる表示着色膜（着色膜）が設けられている。
そして、Ｒ、Ｇ、Ｂの３個の表示着色膜で画面上の１つの画素（単位画素）が構成されている。
【００３１】
図２を参照して、表示領域９ａの断面構造を見ると、液晶装置１は、下基板部２Ａと、上基板部３Ａとによって液晶層２３を挟持した構成を有している。また、液晶層２３内には、樹脂ボール（ギャップ部材、粒体）２５が含まれて、下基板部２Ａと上基板部３Ａの間に配置されている。
ここで、下基板部２Ａにおいては、下基板２から液晶層２３に向けて、カラーフィルタ１３（表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂ）、ドット遮光膜３３、オーバーコート膜２１、コモン電極１０、及び配向膜２０が形成されている。
また、上基板部３Ａにおいては、上基板３から液晶層２３に向けて、セグメント電極１１と配向膜２２とが形成されている。
【００３２】
次に、下基板部２Ａの構成について詳述する。
下基板２は、ガラス又はプラスチック等の透明性材料からなるものであり、バックライトユニット１５からの光を透過させるものである。
また、カラーフィルタ１３は、赤表示着色膜１３ｒと、緑表示着色膜１３ｇと、青表示着色膜１３ｂと、を下基板２上に備えてなるものである。また、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、樹脂材料からなり、その膜厚は１．０μｍとなっている。
なお、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの膜厚は、１．０μｍを限定するものではなく、約０．６〜２．０μｍの範囲であればよい。
【００３３】
また、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、各色毎にストライプ状に形成されたストライプ着色膜の一部を構成するものである。
具体的に説明すると、ＲＧＢのストライプ着色膜は、図２の紙面垂直方向（紙面を貫通する方向）に延在することにより、また、図４（後述）の表示領域９ａにおいて紙面縦方向に延在することにより、当該ＲＧＢのストライプ着色膜は、当該延在する方向において複数のドットに重なって設けられている。そして、ＲＧＢのストライプ着色膜は、図４の紙面左右方向に延在するドット遮光膜３３を跨いで形成されており、このため、当該ドット遮光膜３３を跨ぐＲＧＢのストライプ着色膜は表示に寄与しない部分となる。
従って、図４の紙面左右方向に延在するドット遮光膜３３は、ストライプ着色膜が延在する方向において、ドット毎に各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを区画するものとなる。また、図４の紙面縦方向に延在するドット遮光膜３３は、ストライプ着色膜の延在方向に直交する方向において、ドット毎に各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを区画するものとなる。このようにドット遮光膜３３が形成され、ストライプ着色膜を区画することにより、ドット毎に矩形の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが形成されたものとなる。
また、ＲＧＢのストライプ着色膜と、当該ＲＧＢのストライプ着色膜に重なるドット遮光膜３３との重なり部は、後述する重なり部１４ａと同様の厚みを有するものとなる。
また、ＲＧＢのストライプ着色膜は、後述する図６を参照するように、ＲＧＢの各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが並設する方向に対する垂直方向に延在している。
【００３４】
また、図２に戻り、ドット遮光膜３３について詳述する。
ドット遮光膜３３は、樹脂ブラック等の遮光性の樹脂材料からなるものである。また、ドット遮光膜３３は、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの相互間の間隔部１４に位置し、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを区画するように設けられている。また、ドット遮光膜３３は、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと同一の膜厚で形成され、その膜厚は１．０μｍとなっている。また、ドット遮光膜３３は、線幅が１３μｍとなるように形成されている。また、ドット遮光膜３３は、周辺領域９ｂの表面に形成される周辺遮光膜３４（後述）と同一工程において形成される。
なお、ドット遮光膜３３の膜厚は、１．０μｍを限定するものではなく、約０．６〜２．０μｍの範囲であればよい。
【００３５】
また、ドット遮光膜３３の上面には、着色膜の一部が乗り上げており、ドット遮光膜３３と表示着色膜との重なり部１４ａが形成されている。
また、下基板２を基準として、重なり部１４ａの頂部までの高さは、ドット遮光膜３３と表示着色膜の合計膜厚とほぼ等しくなっている。従って、ドット遮光膜３３（ｔ１）と表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの膜厚（ｔ２）が各々１．０μｍであることから、重なり部１４ａの頂部の高さ（ｔ３）は、２．０μｍに近くなっている（ｔ３＝ｔ１＋ｔ２）。従って、重なり部１４ａと表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとの段差（ｔ４）は、約１．０μｍとなっている（ｔ４＝ｔ３−ｔ１）。
【００３６】
また、オーバーコート膜２１は、カラーフィルタ１３上に設けられたものであり、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面を保護するようになっている。
また、コモン電極１０は、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide, 以下、ＩＴＯと略記する）からなるものであり、下基板２上において紙面左右方向にストライプ状に形成されている。
また、配向膜２０は、コモン電極１０上に形成されたポリイミド等の樹脂材料からなるものである。当該配向膜２０の表面側には、液晶分子のモードに応じたラビング処理や垂直配向処理が施されている。例えば、液晶分子が、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）である場合には配向膜２７にはラビング処理が施されており、また、誘電異方性が負の液晶分子を有するＶＡ（Vertical Alignment）モードである場合には、垂直配向処理が施されている。なお、配向膜２７が垂直配向膜である場合には、ポリイミド膜以外にも、無機膜を採用してもよい。
【００３７】
ここで、オーバーコート膜２１は、例えばスピンコート法等の湿式成膜法によって形成されるものであり、その下層の表面段差に対してかなりの平坦化を施している。
また、コモン電極１０は、スパッタ等の真空成膜法によって薄膜に形成されるため、オーバーコート膜２１の表面形状に倣って形成される。
また、有機膜からなる配向膜２０は、スピンコート法等の湿式成膜法によって形成されるため、その下層の表面段差に対して若干の平坦化を施している。また、無機膜からなる配向膜２０は、真空成膜法によって薄膜に形成されるため、コモン電極１０の表面形状に倣って形成される。
【００３８】
これにより、配向膜２０の表面（液晶層２３との界面）においては、重なり部１４ａの段差に対して若干の平坦化が施された凹凸形状が付与される。
そして、凸状に形成された部位は、ドット遮光膜３３、着色膜の一部、オーバーコート膜２１、及び配向膜２０が重なり合っている表示積層部２０ａとなる。また、凹状に形成された部位は、単層の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂ、コモン電極１０、オーバーコート膜２１、及び配向膜２０が重なり合っている表示単層部２０ｂとなる。
【００３９】
また、表示積層部２０ａと、表示単層部２０ｂとの段差は、重なり部１４ａに対してオーバーコート膜２１や配向膜２０により、かなりの平坦化が施されているので、１．０μｍよりも小さい値となり、約０．２μｍとなる。
なお、ドット遮光膜３３と表示単層部２０ｂの膜厚は、上記の範囲を有するものであるため、当該膜厚範囲に応じて段差は変動するが、ドット遮光膜３３及び表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが同一膜厚で、約０．６〜２．０μｍの範囲であれば、表示単層部２０ｂと表示積層部２０ａの段差は、約０．１〜０．４μｍとなる。
【００４０】
次に、上基板部３Ａの構成について詳述する。
上基板３は、ガラス又はプラスチック等の透明性材料からなるものであり、バックライトユニット１５からの光を透過させるものである。
また、セグメント電極１１は、ＩＴＯからなるものであり、上基板３において紙面垂直方向（紙面を貫通する方向）にストライプ状に形成されている。
また、配向膜２２は、セグメント電極１１上に形成されたポリイミド等の樹脂材料からなるものである。当該配向膜２２の表面側には、液晶分子のモードに応じたラビング処理や垂直配向処理が施されている。例えば、液晶分子が、ＴＮモード、ＳＴＮである場合には配向膜２７にはラビング処理が施されており、また、誘電異方性が負の液晶分子を有するＶＡモードである場合には、垂直配向処理が施されている。なお、配向膜２７が垂直配向膜である場合には、ポリイミド膜以外にも、無機膜を採用してもよい。
【００４１】
次に、液晶層２３と樹脂ボールの構成について詳述する。
下基板部２Ａと上基板部３Ａとの間には、配向膜２０，２２に接触するように液晶層２３と樹脂ボール２５が挟持されている。
液晶層２３としては、ＳＴＮ液晶を採用しているが、当該ＳＴＮ液晶に限定することなく、ＴＮモード、ＶＡモード等の液晶層を採用してもよい。当該液晶層２３は、配向膜２０，２２の間に注入されることで、配向膜２０，２２のラビング方向に順じて配向されている。
また、樹脂ボール２５は、配向膜２０，２２よりも柔らかい樹脂材料からなるものであるため、配向膜２０，２２によって挟持され、圧力が付与されることによって変形するものである。従って、樹脂ボール２５を変形させて液晶層２３の層厚（液晶層厚）を維持することが可能となる。当該樹脂ボール２５は、表示領域９ａにおいて離散的（ランダム）に配置されている。従って、樹脂ボール２５は、配向膜２０のうち凹凸形状が付与されている表示単層部２０ｂ上に配置されたり、表示積層部２０ａ上に配置されたりする。ここで、表示積層部２０ａ上に配置された樹脂ボール２５のみが変形して挟持され、表示領域９ａの液晶層２３の層厚が維持される。また、表示単層部２０ｂ内の樹脂ボール２５は、配向膜２２に接触しないために、液晶層２３の層厚に寄与することが少ない。
【００４２】
次に、下基板部２Ａ及び上基板部３Ａの外部の構成について説明する。
下基板部２Ａの外面側（液晶層２３を挟持する面とは異なる側）には位相差板１８及び偏光板１９が、上基板部３Ａの外面側にも位相差板１６及び偏光板１７が形成されており、基板内面側（液晶層２３側）に円偏光を入射可能に構成されており、これら位相差板１８及び偏光板１９が円偏光板を構成し、位相差板１６及び偏光板１７が楕円偏光板を構成している。偏光板１９は、所定方向の偏光軸を備えた直線偏光のみを透過させる構成とされ、位相差板１８としてはλ／４位相差板が採用されている。このような円偏光板としては、その他にも偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板を組み合わせた構成のもの（広帯域円偏光板）を用いることが可能で、この場合、黒表示をより無彩色にすることができるようになる。また、偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板、及びｃプレート（膜厚方向に光軸を有する位相差板）を組み合わせた構成のものを用いることも可能で、一層広視角化を図ることができるようになる。また、下基板部２Ａに形成された偏光板１９の外側には、光源と導光板とからなるバックライトユニット１５が設けられている。
【００４３】
次に、図３（ａ）を参照して、表示領域９ａと周辺領域９ｂの境界線８の近傍について、その断面構造について説明する。
なお、図３（ａ）においては、セグメント電極１１及びコモン電極１０が不図示となっているが、当該セグメント電極１１及びコモン電極１０は、表示領域９ａに形成されているものとする。
【００４４】
図３（ａ）に示すように、周辺領域９ｂの下基板部２Ａにおいては、下基板２から液晶層２３に向けて、周辺遮光膜（遮光膜）３４、周辺着色膜（着色膜）１３ｈ、オーバーコート膜２１、及び配向膜２０が形成されている。
また、周辺領域９ｂの上基板部３Ａにおいては、上基板３から液晶層２３に向けて、配向膜２２が形成されている。
【００４５】
そして、下基板部２Ａにおいては、周辺遮光膜３４と周辺着色膜１３ｈとが重なり合うと共に、オーバーコート膜２１及び配向膜２０が積層された周辺積層部５０ａが設けられている。また、周辺着色膜１３ｈが形成されていない部分では、周辺遮光膜３４、オーバーコート膜２１、及び配向膜２０が積層された周辺単層部５０ｂが設けられている。
ここで、下基板２には、オーバーコート膜２１が表示領域９ａから延びて延設され、下基板２及び上基板３には、配向膜２０，２２が表示領域９ａから延びて延設されている。
また、周辺領域９ｂには、樹脂ボール２５が離散的に配置されている。
【００４６】
次に、図４を参照して、平面図について詳述する。
図４においては、周辺積層部５０ａは斜線で示されており、周辺単層部５０ｂは斜線内側の矩形で示されている。
このような周辺積層部５０ａ及び周辺単層部５０ｂは、ドット遮光膜３３と周辺遮光膜３４となる遮光パターン３３Ｐと、赤表示着色膜１３ｒと周辺着色膜１３ｈとなる着色パターン１３Ｐとが、周辺領域９ｂにおいて重ね合わされて形成され、更に、オーバーコート膜２１及び配向膜２０が重ね合わされて形成されたものである。
これにより、周辺遮光膜３４は、ドット遮光膜３３と同一工程及び同一材料で形成されているため、ドット遮光膜３３と同一膜厚となる。また、周辺着色膜１３ｈは、赤表示着色膜１３ｒと同一工程及び同一材料で形成されているため、赤表示着色膜１３ｒとほぼ同一膜厚となる。
本実施形態においては、周辺着色膜１３ｈは、赤表示着色膜１３ｒと同一材料で形成されているが、これに限定されることなく、緑表示着色膜１３ｇや青表示着色膜１３ｂと同一材料で形成されていてもよい。また、複数の着色膜で形成してもよい。
【００４７】
また、周辺積層部５０ａはドット遮光膜３３が延在する方向に、即ち、図中縦方向及び図中横方向に延設されている。また、周辺単層部５０ｂは、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが配列する方向に、即ち、図中縦方向及び図中横方向に配列して設けられている。また、周辺単層部５０ｂは、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと同一ピッチで形成されている。
そして、本実施形態においては、周辺着色膜１３ｈの横幅ｗｘｈと、ドット遮光膜３３の横幅ｗｘ１４（間隔部１４の横幅）とが同一寸法で形成されている。また、周辺単層部５０ｂの横幅ｗｘ５０と、赤表示着色膜１３ｒの横幅ｗｘｒが同一寸法で形成されている。
また、周辺着色膜１３ｈの縦幅ｗｙｈと、ドット遮光膜３３の縦幅ｗｙ１４（間隔部１４の縦幅）とが同一寸法で形成されている。また、周辺単層部５０ｂの縦幅ｗｙ５０と、赤表示着色膜１３ｒの縦幅ｗｙｒが同一寸法で形成されている。
また、後述の実施例で説明するように、周辺着色膜１３ｈの横幅ｗｘｈは、ドット遮光膜３３の横幅ｗｘ１４に対して、０．３〜３倍の値となっている。
そして、周辺積層部５０ａと周辺単層部５０ｂとの段差は、周辺遮光膜３４と周辺着色膜１３ｈとの膜厚差によって決定され、表示積層部２０ａと表示単層部２０ｂとの段差と同様となり、約０．１〜０．４μｍとなる。
【００４８】
そして、樹脂ボール２５が周辺領域９ｂに配置されることにより、樹脂ボール２５は配向膜２０，２２によって挟持され、圧力が付与されて変形し、液晶層２３の層厚が維持される。当該樹脂ボール２５は、周辺領域９ｂにおいて離散的（ランダム）に配置されているので、凹状に形成された周辺単層部５０ｂに配置されたり、凸状に形成された周辺積層部５０ａ上に配置されたりする。ここで、周辺積層部５０ａ上に配置された樹脂ボール２５のみが変形して挟持され、周辺領域９ｂの液晶層２３の層厚が維持される。また、周辺単層部５０ｂ内の樹脂ボール２５は、配向膜２２に接触しないために、液晶層２３の層厚に寄与することが少ない。
【００４９】
このように構成された液晶装置１においては、ドット遮光膜３３と赤表示着色膜１３ｒ（或いは、緑表示着色膜１３ｇや青表示着色膜１３ｂ）との合計膜厚と、周辺遮光膜３４と周辺着色膜１３ｈとの合計膜厚はほぼ同じように合わされている。そして、樹脂ボール２５が配置されることで、表示領域９ａと周辺領域９ｂにおける液晶層２３は、ほぼ同一の膜厚で規定される。
【００５０】
ここで、図３（ａ）及び（ｂ）を参照し、本実施形態の液晶装置と、従来の液晶装置とを比較して説明する。
図３（ｂ）は、従来の液晶装置を示す断面図であって、図３（ａ）の本実施形態の液晶装置１の断面図と同一の位置関係で図示したものである。また、図３（ｂ）においては、図３（ａ）と同一構成には同一符号を付している。ここでは、同一構成の説明を省略している。
【００５１】
従来の液晶装置においては、周辺領域９ｂの基板２上においては周辺遮光膜３４、オーバーコート膜２１、及び配向膜２０が形成されている。即ち、本実施形態１のように周辺着色膜１３ｈを備えたものではない。
このような構成においては、周辺着色膜１３ｈがないことから、表示積層部２０ａ上の樹脂ボール２５に付与される圧力よりも、周辺領域９ｂにおける樹脂ボール２５に付与される圧力が小さくなる。これにより、表示領域９ａと周辺領域９ｂとの境界線８の近傍において上基板３が変形し、液晶層２３の層厚を均一に維持できなくなり、液晶層２３の複屈折と液晶層厚との積（リタデーション）Δｎｄが不均一になる。これに起因して表示ムラが生じる。
【００５２】
これに対して、本実施形態の液晶装置は、従来の液晶装置とは異なり、周辺領域９ｂにおいて、周辺着色膜１３ｈを備えており、周辺積層部５０ａ及び周辺単層部５０ｂが形成されたものとなっている。これにより、表示領域９ａと周辺領域９ｂとの境界線８の近傍においては、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
また、このような液晶装置１は、着色パターン１３Ｐを形成する工程と、遮光パターン３３Ｐを形成する工程のみによって実現されるので、他の部材を設ける等の工程が不要であり、従来の工程を利用することで、表示ムラが抑制された液晶装置を実現できる。
【００５３】
また、本実施形態においては、横幅ｗｘｈと横幅ｗｘ１４とが同一寸法で形成され、横幅ｗｘ５０と横幅ｗｘｒとが同一寸法で形成され、縦幅ｗｙｈと縦幅ｗｙ１４とが同一寸法で形成され、縦幅ｗｙ５０と縦幅ｗｙｒが同一寸法で形成されている。これにより、周辺領域９ｂにおける樹脂ボール２５に付与される圧力と、表示領域９ａにおける樹脂ボール２５に付与される圧力とが、調整されたものとなる。そして、確実に両領域９ａ，９ｂにおける液晶層２３の層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００５４】
また、表示領域９ａにおいては、表示着色膜１３ｒ（１３ｇ，１３ｂ）の幅及びドット遮光膜３３の幅は、開口率や表示特性の観点から所定に規定されたものとなっている。従って、表示領域９ａにおいては、樹脂ボール２５に付与される圧力が所定に規定されたものとなる。
一方、周辺領域９ｂにおいては、表示には関与しない部分であるため、周辺着色膜１３ｈの幅を自由に設定することが可能となっている。従って、周辺着色膜１３ｈの縦幅や横幅を調整することにより、周辺積層部５０ａの面積を調整することができる。そして、周辺単層部５０ｂに対して周辺積層部５０ａの面積が大きい程、樹脂ボール２５に付与される圧力を大きくすることができる。また、周辺単層部５０ｂに対して周辺積層部５０ａの面積が小さい程、樹脂ボール２５に付与される圧力を小さくすることができる。
従って、周辺部９ｂにおける樹脂ボール２５に付与される圧力を調整することができ、表示領域９ａの樹脂ボール２５に付与される圧力と同程度にすることで、確実に両領域９ａ，９ｂにおける液晶層２３の層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制できる。
【００５５】
（液晶装置の第１実施形態の変形例１）
次に、液晶装置の第１実施形態の変形例１について説明する。
本変形例においては、周辺着色膜１３ｈの幅と、ドット遮光膜３３の幅との関係のみが異なっており、他の構成は上記の実施形態と同一である。
本変形例においては、横幅ｗｘｈが横幅ｗｘ１４よりも大きくなっている。
このようにすれば、周辺積層部５０ａと樹脂ボール２５の接触面積を大きくすることが可能となる。そして、周辺領域９ｂと表示領域９ａにおいて、樹脂ボール２５に付与される圧力を調整することが可能となる。そして、両領域９ａ，９ｂにおける液晶層２３の層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
また、上記のように周辺着色膜１３ｈの横幅が規定されることにより、周辺着色膜１３ｈを形成する際の現像工程或いはエッチング工程に起因して、周辺着色膜１３ｈの形状が変形するのを抑制することができる。換言すれば、形状の「だれ」を抑制することができる。
また、樹脂ボール２５が離散的（ランダム）に配置される場合においては、周辺積層部５０ａに樹脂ボール２５が配置される確率を、表示積層部２０ａのそれよりも高くすることができる。これにより、周辺積層部５０ａにおいて樹脂ボール２５に付与される圧力を、表示積層部２０ａのそれよりも高くすることができる。
また、縦幅ｗｙｈが縦幅ｗｙ１４よりも大きい構成においても、周辺積層部５０ａの面積が表示積層部２０ａよりも大きくなるので上記と同様の効果が得られる。
【００５６】
（液晶装置の第１実施形態の変形例２）
次に、液晶装置の第１実施形態の変形例２について説明する。
本変形例においては、周辺着色膜１３ｈの幅と、ドット遮光膜３３の幅との関係のみが異なっており、他の構成は上記の実施形態と同一である。
本変形例においては、横幅ｗｘｈが横幅ｗｘ１４よりも小さくなっている。
このようにすれば、周辺積層部５０ａと樹脂ボール２５の接触面積を小さくすることが可能となる。そして、周辺領域９ｂと表示領域９ａにおいて、樹脂ボール２５に付与される圧力を調整することが可能となる。そして、両領域９ａ，９ｂにおける液晶層２３の層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
また、上記のように周辺着色膜１３ｈの横幅が規定されることにより、周辺着色膜１３ｈを形成する際の現像工程或いはエッチング工程に起因して、周辺着色膜１３ｈの形状が変形するのを促進させることができる。換言すれば、形状の「だれ」を促進させることができる。
また、樹脂ボール２５が離散的（ランダム）に配置される場合においては、周辺積層部５０ａに樹脂ボール２５が配置される確率を、表示積層部２０ａのそれよりも低くすることができる。これにより、周辺積層部５０ａにおいて樹脂ボール２５に付与される圧力を、表示積層部２０ａのそれよりも低くすることができる。
また、縦幅ｗｙｈが縦幅ｗｙ１４よりも大きい構成においても、周辺積層部５０ａの面積が表示積層部２０ａよりも小さくなるので上記と同様の効果が得られる。
【００５７】
また、表示領域９ａにおいては、セグメント電極１１及びコモン電極１０が形成されており、周辺領域９ｂよりも液晶層２３の層厚が薄くなっている。そこで、上記のように、周辺着色膜１３ｈの幅を調整することにより、樹脂ボール２５に付与される圧力を両領域９ａ，９ｂにおいて同じにすることができる。従って、確実に表示ムラを抑制できる。
【００５８】
（液晶装置の第１実施形態の変形例３）
次に、液晶装置の第１実施形態の変形例３について説明する。
本変形例においては、周辺着色膜１３ｈの幅のみが異なっており、他の構成は上記の実施形態と同一である。
本変形例においては、表示領域９ａの近傍における周辺積層部５０ａの幅は、上基板３の端部の近傍における周辺積層部５０ａの幅よりも大きくなるように設定されている。
これにより、表示領域９ａの近傍において幅広の周辺積層部５０ａによって、樹脂ボール２５に付与される圧力を両領域９ａ，９ｂにおいて同じにすることができ、従って、確実に表示ムラを抑制できる。
また、上基板３の端部の近傍において周辺積層部５０ａの幅が狭いので、上基板３の端部の近傍における液晶材料の流動性を向上させることができる。従って、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できるだけでなく、速やかに液晶注入工程を行うことができる。
【００５９】
また、周辺積層部５０ａの幅が、表示領域９ａの近傍から、上基板３の端部に向けて、次第に小さくなるように設定されていることにより、上記の効果が得られると共に、液晶材料の流動性を連続的に異ならせることができる。
【００６０】
（液晶装置の第１実施形態の変形例４）
次に、液晶装置の第１実施形態の変形例４について説明する。
本変形例においては、ギャップ部材として機能する樹脂ボール２５の構成のみが異なっており、他の構成は上記の実施形態と同一である。
上述した第１実施形態においては、樹脂ボール２５が配向膜２０，２２よりも柔らかい樹脂材料からなるものであったが、本変形例の樹脂ボール２５は、配向膜２０，２２よりも硬い樹脂材料からなる。
このような樹脂ボールを配向膜２０，２２間に配置して、下基板部２Ａと上基板部３Ａとによって挟持することにより、配向膜２０，２２は圧力によって変形し、樹脂ボールの一部が配向膜２０，２２に埋設する。従って、配向膜２０，２２の変形を利用して液晶層２３の層厚を維持することが可能となる。
【００６１】
従って、表示領域９ａにおいて表示積層部２０ａ上に配置された樹脂ボールにより表示領域９ａの液晶層２３の層厚が維持される。また、表示単層部２０ｂ内の樹脂ボールは、配向膜２２に接触しないために、液晶層２３の層厚に寄与することが少ない。
一方、周辺領域９ｂにおいては、周辺積層部５０ａ上に配置された樹脂ボールにより周辺領域９ｂの液晶層２３の層厚が維持される。また、周辺単層部５０ｂ内の樹脂ボールは、配向膜２２に接触しないために、液晶層２３の層厚に寄与することが少ない。
従って、上記のように表示領域９ａと周辺領域９ｂとの液晶層２３の層厚を同じにすることができ、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００６２】
（液晶装置の第１実施形態の変形例５）
次に、液晶装置の第１実施形態の変形例５について説明する。
本変形例においては、ギャップ部材として機能する樹脂ボール２５の構成のみが異なっており、他の構成は上記の実施形態と同一である。
本変形例５においては、樹脂ボール２５に代えて、ギャップ部材としてガラスビーズ（ギャップ部材、粒体）を採用している。
そして、ガラスビーズを配向膜２０，２２間に配置して、下基板部２Ａと上基板部３Ａとによって挟持することにより、配向膜２０，２２は圧力によって変形し、ガラスビーズの一部が配向膜２０，２２に埋設する。従って、配向膜２０，２２の変形を利用して液晶層２３の層厚を維持することが可能となる。
【００６３】
従って、表示領域９ａにおいて表示積層部２０ａ上に配置されたガラスビーズにより表示領域９ａの液晶層２３の層厚が維持される。また、表示単層部２０ｂ内のガラスビーズは、配向膜２２に接触しないために、液晶層２３の層厚に寄与することが少ない。
一方、周辺領域９ｂにおいては、周辺積層部５０ａ上に配置されたガラスビーズにより周辺領域９ｂの液晶層２３の層厚が維持される。また、周辺単層部５０ｂ内のガラスビーズは、配向膜２２に接触しないために、液晶層２３の層厚に寄与することが少ない。
従って、上記のように表示領域９ａと周辺領域９ｂとの液晶層２３の層厚を同じにすることができ、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００６４】
（液晶装置の第２実施形態）
次に、本発明における液晶装置の第２実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図５は、本実施形態の液晶装置における表示領域と周辺領域の境界近傍を示す平面図であって、着色パターンと遮光パターンを説明するための図である。
本実施形態においては、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して詳細な説明を省略する。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００６５】
本実施形態における液晶装置１は、周辺領域９ｂを構成する周辺単層部５０ｂが、境界単層部５１ｂと、基板端単層部５２ｂとを備えた構成となっている。ここで、境界単層部５１ｂとは、表示領域９ａに近接する側における周辺単層部５０ｂを意味する。また、基板端単層部５２ｂは、上基板３の端部に近接する側における周辺単層部５０ｂを意味する。
そして、本実施形態においては、境界単層部５１ｂの幅が基板端単層部５２ｂの幅よりも小さくなっている。
具体的には、図５に示すように、境界単層部５１ｂの横幅ｗｘ５１が基板端単層部５２ｂの横幅ｗｘ５２よりも小さくなっており、また、境界単層部５１ｂの縦幅ｗｙ５１が基板端単層部５２ｂの縦幅ｗｙ５２よりも小さくなっている。即ち、ｗｘ５１＜ｗｘ５２と、ｗｙ５１＜ｗｙ５２の関係が成立している。
なお、本実施形態においては、境界単層部５１ｂとは、表示領域９ａの周辺の１０ドット程度としており、その他を基板端単層部５２ｂとしている。
【００６６】
ここで、周辺領域９ｂにおける単位面積辺りの周辺積層部５０ａの密度について説明する。幅広な基板端単層部５２ｂの部分では、周辺積層部５０ａの密度が小さくなり、幅が狭い境界単層部５１ｂの部分では、周辺積層部５０ａの密度が大きくなっている。
従って、表示領域９ａに近接する側の周辺領域９ｂにおいて、その単位面積あたりに占める周辺積層部５０ａの面積割合が多くなる。また、上基板３の端部に近接する側の周辺領域９ｂにおいて、その単位面積あたりに占める周辺積層部５０ａの面積割合が小さくなる。
【００６７】
上述したように、本実施形態の液晶装置においては、表示領域９ａに近接する側の周辺領域９ｂにおける、周辺積層部５０ａと樹脂ボール２５の接触面積を大きくすることが可能となる。そして、周辺領域９ｂと表示領域９ａにおいて、樹脂ボール２５に付与される圧力を調整することが可能となる。そして、両領域９ａ，９ｂにおける液晶層２３の層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００６８】
更に、上基板３の端部に近接する側の周辺領域９ｂにおいては、周辺積層部５０ａの面積割合が小さいために、配向膜２０，２２の間の空間が大きくなり、液晶注入の際に基板端部の近傍における液晶材料の流動性を向上させることができる。従って、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できるだけでなく、速やかに液晶注入工程を行うことができる。
【００６９】
（液晶装置の第２実施形態の変形例１）
次に、液晶装置の第２実施形態の変形例１について説明する。
本変形例においては、表示領域９ａの近傍から上基板３の端部に向けて、周辺単層部５０ｂの幅が次第に小さくなっており、他の構成は上記の実施形態と同一である。
【００７０】
ここで、周辺領域９ｂにおける単位面積辺りの周辺積層部５０ａの密度について説明すると、表示領域９ａの近傍から上基板３の端部に向けて、周辺単層部５０ｂの幅が次第に大きくなっているので、表示領域９ａの近傍から上基板３の端部に向けて、周辺積層部５０ａの密度が次第に小さくなる。
従って、表示領域９ａに近接する側の周辺領域９ｂにおいて、その単位面積あたりに占める周辺積層部５０ａの面積割合が多くなる。また、上基板３の端部に近接する側の周辺領域９ｂにおいて、その単位面積あたりに占める周辺積層部５０ａの面積割合が小さくなる。また、その面積割合は、表示領域９ａから上基板３の端部に向けて次第に小さくなっている。
【００７１】
上述したように、本変形例１においても、既述の第２実施形態と同様に、表示領域９ａに近接する側の周辺領域９ｂにおける、周辺積層部５０ａと樹脂ボール２５の接触面積を大きくすることが可能となる。そして、周辺領域９ｂと表示領域９ａにおいて、樹脂ボール２５に付与される圧力を調整することが可能となる。そして、両領域９ａ，９ｂにおける液晶層２３の層厚を同一にすることができ、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できる。
【００７２】
更に、上基板３の端部に近接する側の周辺領域９ｂにおいては、周辺積層部５０ａの面積割合が小さいために、配向膜２０，２２の間の空間が大きくなり、液晶注入の際に基板端部の近傍における液晶材料の流動性を向上させることができる。従って、表示ムラを抑制された液晶装置を実現できるだけでなく、速やかに液晶注入工程を行うことができる。また、その流動性を連続的に異ならせることができる。
【００７３】
（液晶装置の第２実施形態の変形例２）
次に、液晶装置の第２実施形態の変形例２について説明する。
本変形例においては、周辺積層部５０ａが周辺領域９ｂにおいて離散的に設けられており、他の構成は上記の実施形態と同一である。
このような変形例２においても、既述の第１実施形態と同様に、表示領域９ａ及び周辺領域９ｂにおける液晶層２３の層厚を同一にすることができる。更に、離散的に周辺積層部５０ａが設けられていることにより、液晶材料の流動を妨げることが少なくなるため、液晶注入工程において周辺単層部５０ｂを流動する液晶材料の流動性を向上させることができ、速やかに液晶注入工程を行うことができる。
【００７４】
（液晶装置の第３実施形態）
次に、本発明における液晶装置の第３実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図６は、本実施形態の液晶装置における表示領域と周辺領域の境界近傍を示す平面図であって、着色パターンと遮光パターンを説明するための図である。
本実施形態においては、第１及び第２実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して詳細な説明を省略する。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００７５】
本実施形態における液晶装置１は、カラーフィルタ１３の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが各セグメント電極１１の方向に対応して配置された構成となっている。換言すれば、縦ストライプのＲＧＢの各々がストライプ状に縦に同色で配置されたものとなっている。このような構成においても、既述した第１及び第２実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００７６】
（液晶装置の第４実施形態）
次に、本発明における液晶装置の第４実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図７は、液晶装置の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す断面図であって、図１のＣ−Ｃ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）である。本実施形態においては、第１及び第２実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して詳細な説明を省略する。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００７７】
図７を参照して、表示領域９ａと表示領域９ｂの境界線８の近傍にける断面構造を見ると、液晶装置１の液晶層２３内には、フォトスペーサ（ギャップ部材、突起体）２４が配置しており、下基板部２Ａと上基板部３Ａの間に配置されている。
そして、上基板部３Ａにおいては、上基板３から液晶層２３に向けて、セグメント電極１１、フォトスペーサ２４、及び配向膜２２が形成されている。
【００７８】
このようなフォトスペーサ２４の形成方法としては、上記のオーバーコート膜２１を形成する方法と同様の方法が採用され、当該方法を上基板３に対して行われる。従って、簡素な工程によってフォトスペーサ２４を容易かつ規則的に形成することができる。
なお、上記のフォトスペーサ２４の形成方法においては、感光性樹脂膜としてネガ型やポジ型が利用される。
【００７９】
そして、フォトスペーサ２４は、表示領域９ａの表示積層部２０ａに対応して設けられ、また、周辺領域９ｂの周辺積層部５０ａに対応して設けられている。これにより、フォトスペーサ２４の表面に設けられた配向膜２２は、下基板２の配向膜２０と接触し、表示積層部２０ａ及び周辺積層部５０ａにおいて、液晶層２３の層厚が規定される。
【００８０】
本実施形態においては、表示領域９ａ及び周辺領域９ｂに対してフォトスペーサ２４を規定的に配置することができる。更に、フォトスペーサ２４を表示積層部２０ａと周辺積層部５０ａとの位置に対応して設けたことで、表示積層部２０ａと周辺積層部５０ａとにおいて、フォトスペーサ２４を介して液晶層２３の層厚を維持することができる。
【００８１】
なお、本発明の技術範囲は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、反射型や半透過反射型の液晶装置においても、本発明を適用することができる。
【００８２】
なお、本実施形態においては、ノーマリーブラックモードの液晶装置について説明したが、本発明は当該モードを限定するものではなく、ノーマリーホワイトモードの液晶装置においても適用可能である。
また、上記の実施形態においては、周辺領域９ｂにおいて、周辺遮光膜３４上に周辺着色膜１３ｈを設けた構成を採用したが、当該構成に限定されることなく、周辺着色膜１３ｈ上に周辺遮光膜３４を設けた構成を採用してもよい。
【００８３】
（電子機器）
次に、本発明の上記実施形態の液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図８は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記液晶装置を用いた表示部を示している。このような携帯電話等の電子機器の表示部に、上記実施形態の液晶装置を用いた場合、表示ムラが抑制された液晶表示部を備えた電子機器となる。
【実施例】
【００８４】
次に、本発明の実施例について説明する。
図９は、本発明の実施例を説明するための表であり、実験結果を示している。
図９は、ドット遮光膜３３の幅ｗ１４を１３μｍ一定とし、周辺着色膜１３ｈの幅ｗｈを０〜４０μｍまで変化させた場合において、表示ムラが目立つが否かを調べた結果である。
図９において、「表示ムラ」の「有」とは、表示ムラが目立ち不良の液晶装置であることを意味し、「無」とは表示ムラが目立たず良好なの液晶装置であることを意味する。
また、「ドット遮光膜３３に対し、周辺着色膜１３ｈが占める割合」とは、周辺着色膜１３ｈの幅ｗｈの寸法を、ドット遮光膜３３の幅ｗ１４の寸法で割った値（ｗｈ／ｗ１４）である。
また、「周辺領域から１ドット目の表示領域のセル厚」とは、境界線８の近傍（１ドット目）の表示領域９ａにおける液晶層２３の層厚（ｄ１）を意味している。
また、「周辺領域から３０ドット目の表示領域のセル厚」とは、境界線８の近傍から３０ドット目の表示領域９ａにおける液晶層２３の層厚（ｄ３０）を意味している。
また、「周辺領域から６０ドット目の表示領域のセル厚」とは、境界線８の近傍から６０ドット目の表示領域９ａにおける液晶層２３の層厚（ｄ６０）を意味している。
また、「ｄ１とｄ６０との差」とは、表示領域９ａにおける１ドット目と６０ドット目との液晶層２３の層厚差（ｄ６０−ｄ１）を意味している。
なお、従来例において幅ｗｈが０となっているのは、周辺着色膜１３ｈが設けられていない構成、即ち、従来の液晶装置の実験結果を意味している。
【００８５】
図９に示すように、表示ムラが目立つことが確認されたのは、「従来例」、「比較例１」、「比較例２」であった。一方、実施例１〜７においては、表示ムラが目立たないことが確認された。
そして、良好な結果が得られた実施例１〜７において、ドット遮光膜３３の幅ｗ１４と、周辺着色膜１３ｈの幅ｗｈとの関係を導くと、幅ｗ１４に対して幅ｗｈの幅が、０．３〜３倍の値となることが明らかになった。
従って、周辺着色膜１３ｈの幅ｗｈが、ドット遮光膜３３の幅ｗ１４に対して、０．３〜３倍の値となっていることで、表示ムラが目立たない液晶装置を実現できることが明らかになった。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の平面図。
【図２】図１のＢ−Ｂ’線に沿う断面構成図。
【図３】図１のＣ−Ｃ’線に沿う断面構成図であり第１実施形態と従来例との比較図。
【図４】図１の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す平面図。
【図５】本発明の第２実施形態に係る表示領域と周辺領域の境界近傍を示す平面図。
【図６】本発明の第３実施形態に係る表示領域と周辺領域の境界近傍を示す平面図。
【図７】本発明の第４実施形態に係る液晶装置のＣ−Ｃ’線に沿う断面構成図。
【図８】本発明の電子機器を示す斜視図。
【図９】本発明の実施例を説明するための図。
【符号の説明】
【００８７】
１  液晶装置、  ２  下基板（第１基板）、  ２Ａ  下基板部（第１基板）、  ３  上基板（第２基板）、  ３Ａ  上基板部（第２基板）、  ９ａ  表示領域、  ９ｂ  周辺領域、  １０  セグメント電極（第１電極線）、  １１  コモン電極（第２電極線）、  １３  カラーフィルタ１３（表示着色膜、着色膜）、  １３ｒ，１３ｇ，１３ｂ  表示着色膜（着色膜）、  １３ｈ  周辺着色膜（着色膜）、  １３ｈ  着色パターン、  ２０ａ  表示積層部、  ２３  液晶層、  ２４  フォトスペーサ（ギャップ部材、突起体）、  ２５  樹脂ボール（ギャップ部材、粒体）、  ３３  ドット遮光膜（遮光膜）、  ３３Ｐ  遮光パターン、  ３４  周辺遮光膜（遮光膜）、  ５０ａ  周辺積層部、  ５０ｂ  周辺単層部、  ５１ｂ  境界単層部（表示領域の近傍における周辺単層部）、  ５２ｂ  基板端単層部（第１基板又は第２基板の端部の近傍における周辺単層部）、  １００１  液晶装置（表示部）、  １０００  携帯電話（電子機器）、  ｗｘｈ  横幅（周辺着色膜の幅）、  ｗｙｈ  縦幅（周辺着色膜の幅）、  ｗｘ１４  横幅（ドット遮光膜の横幅）、  ｗｙ１４  縦幅（ドット遮光膜の横幅）、  ｗｘｒ  横幅（表示着色膜の幅）、  ｗｙｒ  縦幅（表示着色膜の幅）、  ｗｘ５０  横幅（周辺単層部の幅）、  ｗｙ５０  縦幅（周辺単層部の幅）、  ｗｘ５１  横幅（表示領域の近傍における周辺単層部の幅）、  ｗｙ５１  縦幅（表示領域の近傍における周辺単層部の幅）、  ｗｘ５２  横幅（第１基板又は第２基板の端部の近傍における周辺単層部の幅）、  ｗｙ５２  縦幅（第１基板又は第２基板の端部の近傍における周辺単層部の幅）
【図１】
2006267334.tif 000003
【図２】
2006267334.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006267334.tif 000009
【図８】
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【図９】
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