(57)【要約】      （修正有）【課題】  リスベリドンの純粋な新結晶形態の提供とその製法。【解決手段】  形態Ａ、形態Ｂ及び形態Ｅと命名したリスペリドンの新規形態に関する。それらの調製の為の方法も又開示している。又リスペリドンを調製する為の方法にも関連する。リスペリドンの新たなる形態を含有する医薬組成物及びそれらを利用する方法も又開示している。【選択図】図１
2006028192.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの粉末Ｘ線回折のピークを特徴とするリスペリドン形態Ａであって、その１つのピークが１４．２±０．２度２θにおけるピークであり、そしてもう１つのピークは２１．３±０．２度２θにおけるピークであるリスペリドン形態Ａ。
【請求項２】
１０．６±０．２、１１．４±０．２、１６．４±０．２、１８．９±０．２、１９．９±０．２、２２．５±０．２、２３．３±０．２、２５．４±０．２、２７．６±０．２、２９．０±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを更に特徴とする、請求項１に記載のリスペリドン形態Ａ。
【請求項３】
図１に描かれた粉末Ｘ線回折パターンを特徴とする、リスペリドン多型相。
【請求項４】
２つの粉末Ｘ線回折のピークを特徴とするリスペリドン形態Ｂであって、その１つのピークが１３．８度２θ〜１４．２度２θ未満の範囲内に収まり、そして他のピークは、２１．５度２θ超〜最大で２１．９度２θの範囲内に収まる、リスペリドン形態Ｂ。
【請求項５】
１０．８±０．２、１１．９±０．２、１２．６±０．２、１４．０±０．２、１７．５±０．２、１８．３±０．２、１９．９±０．２、２１．０±０．２、２１．７±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを更に特徴とする、請求項４に記載のリスペリドン形態Ｂ。
【請求項６】
図２に描かれた粉末Ｘ線回折パターンを特徴とする、リスペリドン多型相。
【請求項７】
１６．５±０．２、２１．７±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを特徴とする、リスペリドン形態Ｅ。
【請求項８】
１６．５±０．２、１２．６±０．２、２１．７±０．２、１５．６±０．２、１７．０±０．２、１８．４±０．２、１９．１±０．２、２１．３±０．２、２４．０±０．２、２４．９±０．２、２７．０±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを特徴とする、請求項７に記載のリスペリドン形態Ｅ。
【請求項９】
図３に描かれた粉末Ｘ線回折パターンを特徴とする、リスペリドン多型相。
【請求項１０】
リスペリドン形態Ｂを調製する為の方法であって、
（a）リスペリドンを、１−４個の炭素原子を有する水溶性のアルコール中に、リスペリ     ドン：アルコールを約１：７．５−約１：９の比で溶かし；
（b）水を添加して沈殿を促し；そして
（c）リスペリドン形態Ｂを単離する
段階を含んで成る方法。
【請求項１１】
リスペリドン形態Ｂを調製する為の方法であって、
（a）リスペリドンを、クロロホルム中に溶かし；
（b）シクロヘキサン又はヘキサンを添加して沈殿を促し；そして
（c）リスペリドン形態Ｂを単離する
段階を含んで成る方法。
【請求項１２】
リスペリドン形態Ｂを調製する為の方法であって、
（a）リスペリドンを、ＨＣｌの水性の溶液中に溶かし；
（b）水性のＮａ2ＣＯ3を添加して沈殿を促し；そして
（c）リスペリドン形態Ｂを単離する
段階を含んで成る方法。
【請求項１３】
リスペリドン形態Ａを調製する為の方法であって、
（a）リスペリドンを、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトン、ベンゼ     ン、エチルメチルケトン、ｎ−ブタノール、メタノール、イソプロパノール、無水      エタノール、アセトニトリル、トルエン、ジメチルスルホキシド、イソブタノール     、及び酢酸エチルからなる群から選択した有機溶媒中に溶かし；
（b）前記溶媒を加熱して還流し；
（c）前記溶媒を冷却して沈殿を促し；そして
（d）リスペリドン形態Ａを単離する
段階を含んで成る方法。
【請求項１４】
リスペリドン形態Ａを調製する為の方法であって、
（a）リスペリドンを、ジクロロメタン中に溶かし；
（b）シクロヘキサン又はヘキサンを添加して沈殿を促し；そして
（c）リスペリドン形態Ａを単離する
段階を含んで成る方法。
【請求項１５】
リスペリドン形態Ｅを調製する為の方法であって、
（a）リスペリドンを、イソプロパノール中にリスペリドン：イソプロパノールを約１：     １２の比で溶かし；
（b）水を添加して沈殿を促し；そして
（c）リスペリドン形態Ｅを単離する
段階を含んで成る方法。
【請求項１６】
リスペリドン形態Ａを調製する為の方法であって、
（a）リスペリドン形態Ｂを、約２５℃−約８０℃の温度でリスペリドン形態Ａの形成を     誘導するのに十分な時間に渡り加熱し；そして
（b）リスペリドン形態Ａを単離する
段階を含んで成る方法。
【請求項１７】
前記加熱を減圧下又は大気圧下で行う請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記温度が約８０℃である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記時間が約１６−約２０時間である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
リスペリドン形態Ｂを医薬的に許容できる担体及び/又は医薬的に許容できる賦形剤と共に含んで成る医薬製剤。
【請求項２１】
前記リスペリドン形態Ｂが、１４．０±０．２及び２１．７±０．２度２θにおける粉末Ｘ線回折ピークを特徴とする、請求項２０に記載の医薬製剤。
【請求項２２】
前記リスペリドン形態Ｂが更に、１０．８±０．２、１１．９±０．２、１２．６±０．２、１２．６±０．２、１４．０±０．２、１７．５±０．２、１８．３±０．２、１９．９±０．２、２１．０±０．２、及び２１．７±０．２度２θにおける粉末Ｘ線回折ピークを特徴としている、請求項２１に記載の医薬製剤。
【請求項２３】
リスペリドン形態Ｂを医薬的に許容できる担体及び/又は医薬的に許容できる賦形剤と共に含んで成る医薬製剤であって、当該リスペリドン形態Ｂは、図２に描かれた粉末Ｘ線回折パターンを特徴としている医薬製剤。
【請求項２４】
前記医薬製剤が、経口投与又は静脈投与に適している投与形態である、請求項２０、２１、２２又は２３のいずれか１項に記載の医薬製剤。
【請求項２５】
前記投与形態が、錠剤、被覆したピル、糖衣錠、小袋、硬化カプセル、ゼラチンカプセル、舌下錠、シロップ及び懸濁からなる群から選択されている、請求項２４に記載の医薬製剤。
【請求項２６】
患者の精神病を治療するための方法であって、当該患者に対して、請求項２０、２１、２２又は２３のいずれか１項に記載の医薬製剤を投与することを含んで成る方法。
【請求項２７】
前記医薬製剤中リスペリドン形態Ｂを約４〜約１６mg/日で毎日投与している、請求項１６に記載の方法。
【請求項２８】
前記医薬製剤中リスペリドン形態Ｂを約４〜約８mg/日で毎日投与している、請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
本質的にリスペリドン形態Ｂからなる活性成分並びに医薬的に許容できる担体及び医薬的に許容できる賦形剤からなる群から選択された成分を１種類以上含んで成る医薬投与製剤。
【請求項３０】
前記投与製剤が、錠剤、被覆したピル、糖衣錠、小袋、硬化カプセル、ゼラチンカプセル、舌下錠、シロップ及び懸濁からなる群から選択されている形態である、請求項２９に記載の医薬投与製剤。
【請求項３１】
患者の精神病を治療するための方法であって、当該患者に対して、請求項２９又は３０に記載の医薬投与製剤を投与することを含んで成り、前記医薬製剤中リスペリドン形態Ｂを約４〜約１６mg/日の投与量で毎日投与している方法。
【請求項３２】
リスペリドン形態Ａを医薬的に許容できる担体及び/又は医薬的に許容できる賦形剤と共に含んで成る医薬組成物であって、当該リスペリドン形態Ａが、１４．０±０．２及び２１．３±０．２度２θにおける粉末Ｘ線回折ピークを特徴としている医薬製剤。
【請求項３３】
前記リスペリドン形態Ａが更に、１０．６±０．２、１１．４±０．２、１６．４±０．２、１８．９±０．２、１９．９±０．２、２２．５±０．２、２３．３±０．２、２５．４±０．２、２７．６±０．２及び２９．０±０．２度２θにおけるX線回折ピークを特徴としている、請求項３２に記載の医薬製剤。
【請求項３４】
リスペリドン形態Ａを医薬的に許容できる担体及び/又は医薬的に許容できる賦形剤と共に含んで成る医薬製剤であって、当該リスペリドン形態Ａは、図１に描かれた粉末X線回折パターンを特徴としている医薬製剤。
【請求項３５】
前記医薬製剤が、経口投与又は静脈投与に適している投与形態である、請求項３２、３３又は３４のいずれか１項に記載の医薬製剤。
【請求項３６】
前記投与形態が、錠剤、被覆したピル、糖衣錠、小袋、硬化カプセル、ゼラチンカプセル、舌下錠、シロップ及び懸濁からなる群から選択されている、請求項３５に記載の医薬製剤。
【請求項３７】
患者の精神病を治療するための方法であって、当該患者に対して、請求項３２、３３又は３４のいずれか１項に記載の医薬製剤を投与することを含んで成る方法。
【請求項３８】
前記医薬製剤中リスペリドン形態Ａを約４〜約１６mg/日で毎日投与している、請求項２７に記載の方法。
【請求項３９】
前記医薬製剤中リスペリドン形態Ａを約４〜約８mg/日で毎日投与している、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
本質的に１４．０±０．２及び２１．３±０．２度２θにおける粉末Ｘ線回折ピークを特徴とするリスペリドン形態Ａからなる活性成分並びに医薬的に許容できる担体及び医薬的に許容できる賦形剤からなる群から選択された成分を１種類以上含んで成る医薬投与製剤。
【請求項４１】
前記医薬投与製剤が、錠剤、被覆したピル、糖衣錠、小袋、硬化カプセル、ゼラチンカプセル、舌下錠、シロップ及び懸濁からなる群から選択されている形態である、請求項４０に記載の医薬投与製剤。
【請求項４２】
患者の精神病を治療するための方法であって、当該患者に対して、請求項４０に記載の医薬投与製剤を投与することを含んで成り、前記医薬製剤中リスペリドン形態Ａを約４〜約１６mg/日の投与量で毎日投与している方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
本出願は、仮出願整理番号第６０／２２５，３６１号（２０００年８月１４日提出）；及び仮出願整理番号第６０／２４３，２６３号（２０００年１０月２５日提出）の恩恵を請求する。これらの出願は共に本明細書に参考文献として組み込まれている。
【０００２】
発明の分野
本発明はリスペリドン（ｒｉｓｐｅｒｉｄｏｎｅ）の新規の多型相に関連する。本発明は又リスペリドンの多型相を作製する為の方法にも関連する。
【背景技術】
【０００３】
発明の背景
ＲＩＳＰＥＲＤＡＬ（登録商標）（リスペリドン）は新たな化学分類ベンゾイソオキサゾール誘導体に属する抗精神病剤である。化学的な名称は、３−［２−［４−（６−フルオロ−１，２−ベンゾイソキサゾール−３−イル）−１−ピペリジニル］エチル］−６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−４Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−４−オンである。
【０００４】
米国特許第４，８０４，６６３号（その内容は本明細書中に参照として組み込まれている）にはリスペリドンの合成が記載してある。リスペリドンは、ジメチルフルオロアミド（ＤＭＦ）中で以下の２つの中間体、６−フルオロ−３−（４−ピペリジニル）−１，２−ベンゾイソキサゾール（化合物Ｉ）及び３−（２−クロロエチル）−６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−４Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−４−オン（化合物II）を触媒量のヨウ化カリウム（ＫＩ）を伴う基礎条件（Ｎａ2 ＣＯ3 又はＫ2 ＣＯ3 ）においてジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中で濃縮によって調製されて良い。粗製のリスペリドン産物（III)は全収率４６％でＤＭＦ及びイソプロパノールの混合物より結晶化されている。
【化１】
2006028192.tif 000003
【０００５】
多型は単一の化合物の様々な結晶形態の存在であり且つある化合物及び錯体の特性である。従って多型相は、同じ分子式を共有する別個の固体であり、更に、各多型相は異なる物理的性質を持ちうる。故に、単一の化合物は、各形態が様々なそして異なる物理的特性、例えば様々な溶解特性、様々な融点温度及び／又は様々なＸ線回折のピークを持つ様々な多型相を生じうる。各多型相の溶解度は変わりうるので、医薬多型相の存在を同定することは、予測可能な溶解特性を有する医薬を提供するのに必要である。薬の全ての固体状態の形態、例えば全ての多型を調べること、並びに各多型の安定性、溶解及び流動特性を特定することが望ましい。化合物の多型は、Ｘ線回折分光法及び赤外分光法のような他の方法によって研究室において識別できうる。多型相及び多型相の医薬適用の概観について、その内容は本明細書に参照として組み込まれているG.M. Wall, Pharm Manuf. 3, 33 (1986); J.K. Haleblian and W. McCrone, J. Pharm. Sci., 58, 911 (1969); 及びJ.K. Haleblian, J. Pharm, Sci., 64, 1269 (1975)を参照のこと。
【発明の開示】
【０００６】
発明の概要
本発明の方法の目的は、純粋なリスペリドンを調製する為の一層有効且つ迅速な方法を供することである。我々は現在、化合物Ｉ及びIIからのリスペリドンの合成を、ＤＭＦを使用せずとも改善されそしてより高い約７５％の収率を得て、アセトニトリル及びイソプロパノール中でできうることを発見した。
【０００７】
本発明はアセトニトリル中で以下の２つの中間体、６−フルオロ−３−（４−ピペリジニル）−１，２−ベンゾイソキサゾール（化合物Ｉ）及び３−（２−クロロエチル）−６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−４Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−４−オン（化合物II）からのリスペリドンの調製の為の方法を供する。
【０００８】
粗製のリスペリドンは、アルコール、例えば、イソプロパノール、ブタノール、エタノール、もしくはメタノール；又はケトン、例えば、アセトンもしくはエチルメチルケトンから、ヒトに対して有害でありそして除去することが難しい溶媒であるＤＭＦを使わずとも、高収率において効率良く結晶化できうることも分かっている。
【０００９】
リスペリドンの多型相は、Summary Basis of Approval (SBA) of New Drug Application 20-2722 及び20-588において説明されているが、しかし、当該ＳＢＡは、Ｘ線回折のような結晶構造同定の認知されている方法によりそれらの同定をしていない。
【００１０】
本発明は又リスペリドン形態Ａ、形態Ｂ、及び形態Ｅと命名したリスペリドンの形態も提供する。
【００１１】
本発明は更に、アセトニトリル、イソプロパノール、メチルエチルケトン及びイソブタノールから成る群から選択した溶媒中で、化合物Ｉと化合物IIを反応させ粗製のリスペリドン（III)を形成することを含んで成るリスペリドンを調製する為の方法を供する。
【００１２】
他の実施態様において、粗製のリスペリドンは、アルコール；アルコールの混合物；アルコールと水の混合物から；又はケトン、例えばアセトンから再結晶化されている。他の実施態様において、アルコールは、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール及びｔ−ブタノールから成る群から選択されている。他の実施態様において、アルコールはイソプロパノールである。他の実施態様において、アルコールはアセトニトリルである。他の実施態様においてアルコール、イソプロパノールである。他の実施態様においてアルコールはイソブタノールである。他の実施態様において、ケトンはアセトンである。他の実施態様において、アセトンはメチルエチルケトンである。
【００１３】
本発明は又１４．２±０．２、２１．３±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを特徴とする、リスペリドン形態Ａも提供する。本発明は又１０．６±０．２、１１．４±０．２、１６．４±０．２、１８．９±０．２、１９．９±０．２、２２．５±０．２、２３．３±０．２、２５．４±０．２、２７．６±０．２、２９．０±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折を更に特徴とするリスペリドン形態Ａも提供する。
【００１４】
本発明は又、実質的に図１中に描かれたような粉末Ｘ線回折パターンを特徴とする、リスペリドン多型相も提供する。
【００１５】
本発明は又、１４．０±０．２及び２１．７±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを特徴とする、リスペリドン形態Ｂも提供する。
【００１６】
本発明は又、実質的に図２中に描かれたような粉末Ｘ線回折パターンを特徴とする、リスペリドン多型相も提供する。
【００１７】
本発明は又、１０．８±０．２、１１．９±０．２、１２．６±０．２、１４．０±０．２、１７．５±０．２、１８．３±０．２、１９．９±０．２、２１．０±０．２、２１．７±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを更に特徴とする、リスペリドン形態Ｂも提供する。
【００１８】
本発明は又、１６．５±０．２、２１．７±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを特徴とする、リスペリドン形態Ｅも提供する。
【００１９】
本発明は又、１６．５±０．２、１２．６±０．２、２１．７±０．２、１５．６±０．２、１７．０±０．２、１８．４±０．２、１９．１±０．２、２１．３±０．２、２４．０±０．２、２４．９±０．２、２７．０±０．２度２θでの粉末Ｘ線回折のピークを更に特徴とする、リスペリドン形態Ｅも提供する。
【００２０】
本発明は又、実質的に図３中に描かれた粉末Ｘ線回折パターンを特徴とする、リスペリドン多型相も提供する。
【００２１】
本発明は又、リスペリドン形態Ｂを調製する為の方法も供する。（この方法は）リスペリドンを１〜４個の炭素原子を有する実質的に水溶性のアルコールに溶かし（この場合リスペリドン：アルコールの比は約１：７．５〜約１：９である）；水を添加して沈澱を促し；そしてリスペリドン形態Ｂを単離する段階、を含んで成る。
【００２２】
本発明は又、リスペリドン形態Ｂを調製する為の方法も供する。（その方法は）リスペリドンをクロロホルム中に溶かし；シクロヘキサン又はヘキサンを添加して沈澱を促し；そしてリスペリドン形態Ｂを単離する段階、を含んで成る。
【００２３】
本発明は又、リスペリドン形態Ｂを調製する為の方法も供する。（その方法は）リスペリドンをＨＣｌの水性溶液中に溶かし；Ｎａ2 ＣＯ3 の水性溶液を添加し；そしてリスペリドン形態Ｂを単離する段階、を含んで成る。
【００２４】
本発明は又、リスペリドン形態Ａを調製する為の方法も供する。（その方法は）リスペリドンを、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトン、ベンゼン、エチルメチルケトン、ｎ−ブタノール、メタノール、イソプロパノール、無水エタノール、アセトニトリル、トルエン、ジメチルスルホキシド、イソブタノール、及び酢酸エチル又はその混合物からなる群から選択した有機溶媒中に溶かし；当該溶媒を熱し還流し；溶媒を冷却して沈澱を促し；そしてリスペリドン形態Ａを単離する段階、を含んで成る。
【００２５】
本発明は又、リスペリドン形態Ａを調製する為の方法も供する。（その方法は）リスペリドンをジクロロメタン中に溶かし；シクロヘキサン又はヘキサンを添加して沈澱を促し；そしてリスペリドン形態Ａを単離する段階、を含んで成る。
【００２６】
本発明は又、リスペリドン形態Ａを調製する為の方法も供する。（その方法は）リスペリドン形態Ｂを約２５℃−約８０℃の温度で、リスペリドン形態Ａの形成を誘導する十分な時間に渡り加熱し；そしてリスペリドン形態Ａを単離する段階を含んで成る。他の実施態様において、加熱は減圧下又は大気圧下で行う。他の実施態様において、温度は約８０℃である。他の実施態様において、加熱の為の時間は約１６−約２０時間である。
【００２７】
本発明は又、リスペリドン形態Ｅを調製する為の方法も供する。（その方法は）リスペリドンをイソプロパノールに溶かし（リスペリドン：イソプロパノールの比は約１：１２である）；水を添加して沈澱を促し；そしてリスペリドン形態Ｅを単離する段階、を含んで成る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
発明の詳細な説明
リスペリドンの合成
本発明は以下の２つの中間体、６−フルオロ−３−（４−ピペリジニル）−１，２−ベンゾイソキサゾール（Ｉ）及び３−（２−クロロエチル）−６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−４Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−４−オン（II）から、アセトニトリル、イソプロパノール、イソブタノール又はメチルエチルケトンを溶媒として用いて、リスペリドンを調製する為の新たなる方法を供する。その方法は、溶媒としてのＤＭＦを利用する必要性を省いている。本発明の方法によって、リスペリドンは、３−（２−クロロエチル）−６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−４Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−４−オン（化合物II又は「塩素誘導体」）；６−フルオロ−３−（４−ピペリジニル）−１，２−ベンゾイソキサゾール（化合物Ｉ又は「ピペリジン誘導体」）；炭酸ナトリウム；及びヨウ化カリウム（６６mg）を、溶媒のイソプロパノール、アセトニトリル、メチルエチルケトン又はイソブタノールを含むフラスコ中へ添加することによって調製されている。化合物Ｉ及び化合物IIは約１：１の比で存在しているのが好ましい。次いで反応混合物を当業界で公知の方法によって、例えば、約６０℃−約８５℃に熱されている油浴に置き、そして反応を約９時間−一晩、リスペリドンの形成を完了する十分な時間に渡る還流をするように行う。反応混合物を約６０℃−約６７℃に加熱するのが好ましい。反応を、溶媒がイソプロパノールである時には、約９時間に渡り加熱するのが好ましい。反応混合物を、溶媒がメチルエチルケトン又はイソブタノールである時には、一晩加熱するのが好ましい。反応を、溶媒がアセトニトリルである時には、約１７時間に渡り加熱している。反応の終了により、混合物を、当業界で公知の方法により冷却しリスペリドンの沈澱を誘導する。
【００２９】
生じる沈澱したリスペリドンをろ過し、そしてフィルターケーキ（ｆｉｌｔｅｒ  ｃａｋｅ）を、少量のイソプロパノール、アセトン又はアセトンと水の混合物でフィルターにおいて洗浄する。次いでフィルターケーキを汎用の方法によって、スラリー状にし、ろ過しそして軽く乾かし粗製のリスペリドンを約６３−７４％の収率において得る。本発明の方法は粗製のリスペリドンからＤＭＦを除去する困難な段階を省いている。
【００３０】
本発明は又、粗製のリスペリドンを、アルコール、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール及びｔ−ブタノール；メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール及びｔ−ブタノールの任意の組み合わせを含有するアルコールの混合物；又はアルコール及び水の混合物（ここでアルコールは１又は複数の以下のアルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール及びｔ−ブタノールである）、から粗製のリスペリドンを再結晶化する為の新たなる方法にも関連する。本再結晶化は、除去するのが困難であり且つ潜在的に有害な溶媒ＤＭＦの利用を省いている。溶媒は、イソプロパノールであるのが好ましい。本発明の方法によって、粗製のリスペリドンは、粗製のリスペリドンを熱されている溶媒中に溶かすことによって再結晶化されている。好ましくは、溶媒を加熱し還流する。好ましくは、粗製のリスペリドン及び溶媒は約１０：約１５の比において、一層好ましくは約１１：１３の比であり、最も好ましくは、約１１．５：約１２．５の比で存在している。溶媒はイソプロパノールであるのが好ましい。次いで熱された混合物を熱いままろ過し、そして精製されたリスペリドンが沈澱するように冷ましておく。混合物を、汎用の方法によってろ過し、純度約９９．７−約９９．８％を有する高純度のリスペリドンを得る。リスペリドンの合成及び再結晶化の本法による全収率は約６０−約６３％である。
【００３１】
本発明は又、粗製のリスペリドンを、ケトン、例えばアセトンである溶媒から再結晶化する為の新たなる方法も供する。本再結晶化は、除去するのが困難であり且つ潜在的に有害な溶媒ＤＭＦの利用を省いている。溶媒はアセトンであるのが好ましい。本発明の方法によって、粗製のリスペリドンは、粗製のリスペリドンを熱いケトン中で溶かすことによって再結晶化されている。ケトンを熱し、還流することが好ましい。好適に粗製のリスペリドン及び溶媒は約２５：約４０、一層好ましくは約２８：約３２の比で存在する。溶媒はアセトンであるのが好ましい。次いで、熱された混合物を熱いままろ過し、そして精製されたリスペリドンが沈澱するように冷ましておく。混合物を、汎用の方法によってろ過し純度約９９．７−約９９．８％の高純度のリスペリドンを得る。リスペリドンの合成及び再結晶化の本法による全収率は約６０−約６３％である。
【００３２】
リスペリドン形態Ａ
本発明は又、リスペリドン形態Ａと命名したリスペリドンの新規結晶形態及びリスペリドン形態Ａを調製する為の方法にも関連する。リスペリドン形態Ａは、１４．２±０．２、及び２１．３±０．２度２θでの特有の強い粉末Ｘ線回折のピーク並びに１０．６±０．２、１１．４±０．２、１６．４±０．２、１８．９±０．２、１９．９±０．２、２２．５±０．２、２３．３±０．２、２７．６±０．２、２５．４±０．２及び２９．０±０．２度２θでの中強度のピークに特徴がある。
【００３３】
本発明の他の局面はリスペリドン形態Ａを調製する為の方法である。リスペリドン形態Ａを調製する方法において、リスペリドン形態Ａは、有機溶媒の還流温度でリスペリドンより再結晶化されている。有機溶媒は例えば、ＤＭＦ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アセトン、ベンゼン、エチルメチルケトン、ｎ−ブタノール、メタノール、イソプロパノール、無水エタノール、アセトニトリル、トルエン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、イソブタノール又は酢酸エチルである。本発明の方法により、リスペリドンを、混合物を加熱することによって最少量の有機溶媒に添加しリスペリドンの溶解を促す。リスペリドンの溶解が完了することにより、溶液を室温へと冷ましリスペリドン形態Ａの沈澱を誘導する。溶液が室温に達した後、氷浴中でそれを更に冷却しそしてろ過しリスペリドン形態Ａを単離する。本法の為に必要とされた適切な溶媒の体積を以下の実施１１及び表１中に列挙した。
【００３４】
本発明の他の局面は、リスペリドン形態Ａ；又はリスペリドン形態Ａ及び他のリスペリドンの形態、例えばリスペリドン形態Ｂの混合物を、リスペリドンをジクロロメタン中で溶かし、そしてシクロヘキサンもしくはヘキサンを添加して沈澱を誘導するによって調製する方法である。本発明の方法によって、リスペリドンはジクロロメタン中に約１：約９の比で溶けている。次いでヘキサン又はシクロヘキサンを濁った分散が形成される迄添加する。次いでリスペリドン形態Ａをろ過により単離する。
【００３５】
本発明の他の局面は、リスペリドン形態Ａをリスペリドン形態Ｂを加熱することにより調製する方法である。本発明の方法により、リスペリドン形態Ａは、室温より高い温度、好適には８０℃で、減圧下もしくは大気圧下で、数分〜数時間、好適には１６−２０時間に渡り、リスペリドン形態Ｂもしくはリスペリドン形態Ａ及びＢの混合物を加熱することによって調製されている。リスペリドン形態Ａを調製する為の本法のある実施態様は、リスペリドン形態Ｂもしくはリスペリドン形態Ｂ及びリスペリドン形態Ａの混合物を、８０℃で一晩、減圧下もしくは大気圧下で加熱し、そして生じるリスペリドン形態Ａの結晶を単離することである。リスペリドン形態Ａを、リスペリドン形態Ｂを加熱することによって調製する他の方法は、例えば、リスペリドン形態Ｂを示差走査熱量計中で５〜２０度／分の速度で加熱し、リスペリドン形態Ａを生産する、ことによって調製する方法を含む。
【００３６】
リスペリドン形態Ｂ
本発明は又、リスペリドン形態Ｂと命名したリスペリドンの新規結晶形態に関連する。リスペリドン形態Ｂは、１４．２±０．２、及び２１．７±０．２度２θでの特有の強い粉末Ｘ線回折のピーク並びに１０．８±０．２、１１．９±０．２、１２．６±０．２、１７．５±０．２、１８．３±０．２、１９．９±０．２、２１．０±０．２、２１．３±０．２度２θでの中強度のピークに特徴があり、そしてリスペリドン形態Ａとは十分に異なっている。リスペリドン形態Ｂのリスペリドン形態Ａとの混合物中での存在は、主に２１．７±０．２、１７．５±０．２、１８．４±０．２での最も強いピークの出現によって、そして１１．９±０．２、１２．６±０．２度２θで現れる他のピークによっても検出されている。
【００３７】
リスペリドン形態ＢのＤＳＣサーモグラムは、１６４℃でのわずかな吸熱、しかる後のわずかな発熱及び１７１℃でのリスペリドン形態Ａの融解吸熱において検出されるリスペリドン形態Ａの固体間遷移に特徴がある。
【００３８】
本発明の他の局面は、リスペリドンを１−４個の炭素原子を有するアルコール中に溶かし、しかる後に、水を添加し、リスペリドン形態Ｂの沈澱を促すことによってリスペリドン形態Ｂを調製する方法である。好ましくは、リスペリドン：アルコールの比は、約１：７．５−約１：９である。アルコールはエタノール又はメタノールであるのが好ましい。
【００３９】
本発明の他の局面は、リスペリドン形態Ｂを純粋に又は他の形態のリスペリドン、例えば、リスペリドンＡとの混合物において調製する方法である。その方法は、リスペリドンを熱したＨＣｌの水性溶液中に溶かし、しかる後に水性のＮａ2 ＣＯ3 を添加し、リスペリドン形態Ｂの沈澱を誘導することを含む。本発明の方法によって、リスペリドンを０．５ＮのＨＣｌに対して約１：６の比において添加している。水を用いたＨＣｌの体積の約２／３に等しい量において加えた。溶液を加熱し、リスペリドンの溶解を誘導した。次いで、沈澱を促す為に炭酸ナトリウムをpHが約８に至る迄添加した。溶液を冷まし、そしてリスペリドン形態Ｂをろ過により単離する。
【００４０】
本発明の他の局面は、リスペリドン形態Ｂを純粋に又は他の形態リスペリドン、例えば、リスペリドンＡとの混合物において調製する方法である。ここにおいて、リスペリドンをクロロホルム中に溶かし、しかる後にシクロヘキサン又はヘキサンを添加して沈澱を促す。本発明の方法によって、リスペリドンをクロロホルム中に約１：６の比で溶かし、しかる後に濁った分散を生じる十分な量においてヘキサン又はシクロヘキサンの添加をする。次いでリスペリドン形態Ｂをろ過により単離している。
【００４１】
リスペリドン形態Ｅ
本発明は又、リスペリドン形態Ｅと命名したリスペリドンの新規結晶形態にも関連する。リスペリドン形態Ｅは、１６．５±０．２、２１．７±０．２度２θでの典型的な強いＸ線のピーク及び、１２．６±０．２、１５．６±０．２、１７．０±０．２、１８．４±０．２、１９．１±０．２、２１．３±０．２、２４．０±０．２、２４．９±０．２、２７．０±０．２度２θでの中程度のＸ線のピークに特徴がある。
【００４２】
本発明の他の局面は、リスペリドン形態Ｅを調製する方法である。本発明の方法によって、リスペリドンをイソプロパノール中に約１：１２の比で溶かしている。次いで水を、リスペリドン形態Ｅの濁った懸濁が形成され、それによって沈澱が促される迄添加する。リスペリドン形態Ｅを分散のろ過により単離している。
【００４３】
本発明に係り、リスペリドンのこれら新たなる形態は、精神異常の症状の管理の為に特に有用である医薬組成物として調製されて良い。係る組成物は、当業界で公知の医薬的に許容できる担体及び／又は賦型剤を有する新たなるリスペリドン形態の１つを含んで成る。
【００４４】
好ましくは、これらの組成物は、経口的に又は静脈内に投与される薬剤として調製されている。経口投与の為の適切な形態は、例えば錠剤、圧縮もしくは被覆したピル、糖衣錠、小袋、硬化もしくはゼラチンカプセル、舌下錠、シロップ及び懸濁が挙げられる。当業者は通常、投与量が指示、患者の年齢等により変わるだろうことを理解する一方、概して本発明のリスペリドンの多型相は、毎日約４−約１６mg／日、そして好ましくは約４−約８mg／日の投与量で投与されるだろう。
【００４５】
実施例
本発明は更に以下の例において説明されるだろう。しかし、本発明はそれによる限定として解されるべきではない。
【００４６】
方法
粉末Ｘ線回折（ＰＸＲＤ）パターンを得る為の条件：粉末Ｘ線回折パターンを、Ｐｈｉｌｉｐｓ  粉末Ｘ線回折装置、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ発電器ＴＷ１８３０；角度計ＰＷ３０２０；ＭＰＤコントロールＰＷ３７１０；対陽極を有するＸ線管；単色計比例係数管；発散スリット１度、受入スリット０．２mm、散乱スリット１度；４０KV、３０mA；及び走査速度段階０．０５度−２度／分を用いての当業界で周知の方法により得た。
【００４７】
様々な走査型熱量計によるサーモグラムを、ＤＳＣ  Ｍｅｔｔｌｅｒ  ８２１ｓｔａｒe を用いての当業界で公知の方法により得た。試料の重量は約３−５mgであった。走査の温度範囲は１０℃／分の速度で３０°−２５０℃であった。試料をＮ2 ガスで４０mL／分の割合でパージングした。フタに３つの小さな穴がある標準の４０μｌのアルミるつぼ（ｃｒｕｃｉｂｌｅ）を用いた。
【実施例】
【００４８】
実施例１
リスペリドンの合成
イソプロパノール（２０mL）、３−（２−クロロエチル）−６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−４Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−４−オン（化合物II）（「塩素誘導体」）（２．６３ｇ、１０mmol、１当量）、６−フルオロ−３−（４−ピペリジニル）−１，２−ベンゾイソキサゾール（化合物Ｉ）（「ピペリジン誘導体」）（２．１７ｇ、１０mmol、１当量）、炭酸ナトリウム（３．１８ｇ、３０mmol、３当量）、及びヨウ化カリウム（６６mg）を１００mLの丸底フラスコに加え、そして電磁撹拌棒で撹拌した。フラスコを８０℃にある油浴に置きそして９時間に渡り還流した。次いでフラスコを氷浴中で冷却しそして内容物をろ過した。フィルターケーキを少量のイソプロパノールで膜において洗浄した。次いでフィルターケーキを２０mlの水中で３回スラリー状にしそしてろ過した。生じたスラリーを乾燥し、３ｇの物質を７３％の収率において得た。スラリーを、３７mlの沸騰したイソプロパノール中に溶かして再結晶化、熱いままろ過しそして冷まし、そしてろ過し９９．７％の純度の及び全収率６０％を有する物質を得た。
【００４９】
実施例２
リスペリドンの合成
２０mLのイソプロパノールの代わりにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を用いた以外は、実施例１と同じ材料と方法であった。フラスコを７９−８３℃で一晩油浴に置き、冷却し、ろ過しそしてアセトン及び水で洗浄し、そして２．１９ｇ、５３％の収率を得た。
【００５０】
実施例３
リスペリドンの合成
２０mLのイソプロパノールの代わりに２０mLのアセトニトリルを用いた以外は実施例１と同じ材料と方法であった。フラスコを７９−８３℃で一晩油浴に入れ、次いでフリーザー中に２時間に渡り置き、ろ過し、そしてフィルターケーキを、ろ過物が無色になる迄アセトンで洗浄した。次いでフィルターケーキを２５mlの水中で３回スラリー状にし、そしてろ過して粗製のリスペリドンを３．０３ｇ、７４％の収率で得た。粗製のリスペリドンを、３５mlのイソプロパノールから再結晶化し、ろ過し、加熱し、冷却しそして乾燥し、リスペリドンを２．４７ｇ、全収率６０％、ＨＰＬＣによる純度９９．８％で得た。
【００５１】
実施例４
リスペリドンの合成
２０mLのイソプロパノールの代わりに２０mLのアセトニトリルを用いた以外は実施例１と同じ材料と方法であった。フラスコを７９−８３℃で一晩油浴に入れ、次いでフリーザー中に２時間に渡り置き、ろ過し、そしてフィルターケーキを、ろ過物が無色になる迄アセトンで洗浄した。次いでフィルターケーキを２５mlの水中で３回スラリー状にし、そしてろ過して粗製のリスペリドンを３．０３ｇ、７４％の収率で得た。粗製のリスペリドンを７５mlのアセトンから再結晶化し、ろ過し、加熱し、冷却しそして乾燥し、リスペリドンを２．２５ｇ、全収率６０％、ＨＰＬＣによる純度９９．８％で得た。
【００５２】
実施例５
リスペリドンの合成
２０mlのイソブタノールを２０mlのイソプロパノールの代わりに用い、しかる後に油浴中７８℃で一晩撹拌した以外は実施例１におけるのと同じ物質と方法であった。リスペリドンを６３％の収率において単離した。
【００５３】
実施例６
リスペリドン形態Ｂの調製
リスペリドン（５．３ｇ）をクロロホルム（３０mL）中に溶かした。シクロヘキサン（２８０mL）を溶液にゆっくりと、濁った分散が形成される迄添加した。懸濁をろ過した。ＰＸＲＤで分析したろ過物はリスペリドン形態Ｂを含んでいた。更に、ＰＸＲＤ分析により確められた、リスペリドン形態Ａが生産される減圧下８０℃で一晩加熱した。
【００５４】
実施例７
リスペリドン形態Ｂの調製
リスペリドン（５．０ｇ）を３０mLのクロロホルム中に溶かした。ヘキサン（２５０mL）を溶液に濁った分散が形成される迄添加した。懸濁をろ過した。ＰＸＲＤで分析した単離したろ過物はリスペリドン形態Ｂを含んでいた。更に、ＰＸＲＤ分析により確められた、リスペリドン形態Ａが生産される減圧下８０℃で一晩加熱した。
【００５５】
実施例８
リスペリドン形態Ｂの調製
リスペリドン（５．３ｇ）を４０mlのエタノール中に溶かした。水（１００mL）を溶液に濁った分散が形成される迄添加した。生じた懸濁をろ過した。ろ過物をＰＸＲＤで分析した。リスペリドン形態Ｂを含んでいた。更に、ＰＸＲＤ分析により確められた、リスペリドン形態Ａが生産される減圧下、８０℃で一晩加熱した。
【００５６】
実施例９
リスペリドン形態Ｂの調製
リスペリドン（５．０ｇ）をメタノール（４５ml）中に溶かした。水（７０mL）を溶液に濁った分散が形成される迄添加した。懸濁をろ過した。ＰＸＲＤで分析したろ過物はリスペリドン形態Ｂを含んだ。更に、ＰＸＲＤ分析により確められた、リスペリドン形態Ａが生産される減圧下、８０℃で一晩加熱した。
【００５７】
実施例１０
水中でのリスペリドン形態Ｂの調製
リスペリドン（６ｇ）を室温で６０mLの０．５ＮのＨＣｌ中に溶かしそして水（４０mL）を添加した。溶液を沸騰水浴中で加熱し、そして電磁撹拌棒で撹拌した。濃縮した水性の炭酸ナトリウムを、沈澱を促す為に少量ずつpH約８に達する迄添加した。沈澱が形成された。室温迄冷ました後、混合物を氷浴中で冷却し、そしてろ過し、８２％の収率でリスペリドン形態Ａ及びリスペリドン形態Ｂの混合物を得た。
【００５８】
実施例１１
有機溶媒中での再結晶化によるリスペリドン形態Ａの調製
リスペリドン（６ｇ）を、沸騰水浴（約９５℃）中で加熱することによって少量ずつ添加し、そして最少量の溶媒中に溶かした。適切な溶媒及び対応する適切な体積を下記の表１中に列挙した。９５℃より低い沸点を持つ溶媒をそれらの沸点まで加熱した。溶液を、室温まで冷ましリスペリドン形態Ａの沈澱を促した。次いで混合物を氷浴中で更に冷却し、そしてその後ろ過した。沈澱物をＰＸＲＤによって分析した。そしてリスペリドン形態Ａであることが分かった。
【表１】
2006028192.tif 000004
【００５９】
実施例１２
リスペリドン形態Ａの調製
リスペリドン（５．６ｇ）を５０mLのジクロロメタン中に溶かした。シクロヘキサン（１７０mL）を溶液に濁った分散が形成される迄添加した。生じた懸濁をろ過した。ＰＸＲＤで分析した単離したろ過物は、リスペリドン形態Ａ及び少量のリスペリドン形態Ｂを含んでいた。
【００６０】
実施例１３
リスペリドン形態Ａの調製
リスペリドン（５．１ｇ）を３０mLのジクロロメタン中に溶かした。ｎ−ヘキサン（１５０mL）を溶液に沈澱を促す為に濁った分散が形成される迄添加した。生じた懸濁をろ過した。ＰＸＲＤで分析したろ過物は、リスペリドン形態Ａ及び少量のリスペリドン形態Ｂを含んでいた。
【００６１】
実施例１４
リスペリドン形態Ｅの調製
リスペリドン（５ｇ）を６０mLのイソプロパノール中に溶かした。水（９５０mL）を溶液に沈澱を促す為に濁った分散が形成される迄添加した。懸濁をろ過した。ＰＸＲＤで分析したろ過物は、リスペリドン形態Ｅを含んでいた。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】リスペリドン形態Ａの特有の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図２】リスペリドン形態Ｂの特有の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図３】リスペリドン形態Ｅの特有の粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図１】
2006028192.tif 000005
【図２】
2006028192.tif 000006
【図３】
2006028192.tif 000007