(57)【要約】【課題】  光学要素部品に位置・姿勢・形状誤差が発生して、光路が設計値から外れ性能が劣化する場合においても、少ない調整工程で性能を改善できる光走査装置及び画像形成装置を提供する。【解決手段】  本発明の光走査装置は、光偏向装置の倒れ量を調整可能にする光偏向装置調整機構と、光源及び偏向前光学装置が取付けられ、これらの光源及び偏向前光学装置の全体の位置及び又は姿勢を同時に調整可能にする偏向前光学装置調整機構と、結像レンズから射出される光線の副走査方向の位置及び又は角度を変更し得る偏向後光学装置調整機構とを備える。本発明の画像形成装置は、本発明の光走査装置を有する。【選択図】      図５
2006079052.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
光源からの光線に所定の特性を与える偏向前光学装置と、
上記偏向前光学装置により所定の特性を与えられた光線を反射によって主走査方向に偏向する光偏向装置と、
上記光偏向装置からの偏向されている光線を結像面に結像させる結像レンズを含む偏向後光学装置と、
上記光偏向装置の倒れ量を調整可能にする光偏向装置調整機構と
を備えることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
上記光源及び上記偏向前光学装置が取付けられ、これらの光源及び偏向前光学装置の全体の位置及び又は姿勢を同時に調整可能にし、上記光偏向装置への光線の副走査方向の入射位置及び又は角度を調整し得る偏向前光学装置調整機構を備えることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
上記偏向前光学装置を構成する所定の個別構成要素の位置及び又は姿勢を調整可能にし、上記光偏向装置への光線の副走査方向の入射位置及び又は角度を調整し得る偏向前個別要素調整機構をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
上記結像レンズが少なくとも取付けられ、上記結像レンズの位置及び又は姿勢を調整可能にし、上記結像レンズから射出される光線の副走査方向の位置及び又は角度を変更し得る偏向後光学装置調整機構を備えることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項５】
上記光源及び上記偏向前光学装置が取付けられ、これらの光源及び偏向前光学装置の全体の位置及び又は姿勢を同時に調整可能にし、上記光偏向装置への光線の副走査方向の入射位置及び又は角度を調整し得る偏向前光学装置調整機構を備えることを特徴とする請求項４に記載の光走査装置。
【請求項６】
請求項１に記載の光走査装置と、
上記光走査装置からの光線に基づいて潜像が形成される被走査面を備えた感光体とを備えた
ことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光走査装置及び画像形成装置に関し、例えば、複数ドラム方式のプリンタや複写機等に適用し得るものである。
【背景技術】
【０００２】
複数ドラム方式のカラー複写機やカラープリンタ等の画像形成装置に適用される光走査装置においては、例えば、特許文献１に記載されているように、各光源から出射された各色成分毎の複数のビームは、偏向前光学系での処理が施されると共に、１ビーム化されてポリゴンミラーに入射され、ポリゴンミラーで偏向されたビームは偏向後光学系を構成するｆθレンズを介した後、各色成分毎のビームに分離されて各色成分毎のドラムに照射されるようになされている。
【特許文献１】特開平１１−１９４２８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の光走査装置において、例えば、ポリゴンミラーに加工誤差もしくは取り付け誤差によって面の倒れが生じ、光学性能が劣化したとする。従来では、各レーザビーム毎に備わっているシリンドリカルレンズを光線進行方向の回りに回転調整させることにより、性能劣化を改善することができる。しかしながら、レーザビーム数（色成分数）分だけ調整する必要があり調整工程が多くなるという問題点がある。
【０００４】
上記では、ポリゴンミラーを例に説明したが、複数のレーザビームに共通するような他の光学要素部品の性能劣化を改善する際にも、レーザビーム数（色成分数）分だけ、ある光学要素部品を調整する必要があり調整工程が多くなるという問題点が生じることがある。
【０００５】
本発明は、光学要素部品に位置・姿勢・形状誤差が発生し、それにより光路が設計値から外れ性能が劣化する場合においても、少ない調整工程で性能を改善させることができる光走査装置や画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の光走査装置は、光源と、光源からの光線に所定の特性を与える偏向前光学装置と、上記偏向前光学装置により所定の特性を与えられた光線を反射によって主走査方向に偏向する光偏向装置と、上記光偏向装置からの偏向されている光線を結像面に結像させる結像レンズを含む偏向後光学装置と、上記光偏向装置の倒れ量を調整可能にする光偏向装置調整機構とを備えることを特徴とする。
【０００７】
本発明の画像形成装置は本発明の光走査装置を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光走査装置及び画像形成装置によれば、光学要素部品に位置・姿勢・形状誤差が発生し、それにより光路が設計値から外れ性能が劣化する場合においても、少ない調整工程で性能を改善させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
（Ａ）実施形態
以下、図面を用いて、本発明の光走査装置及び画像形成装置の好適な実施形態について説明する。
【００１０】
図１は、本発明の好適な実施形態である光走査装置が組み込まれるカラー画像形成装置を示している。なお、この種のカラー画像形成装置では、通常、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）及びＢ（ブラック）の各色成分毎に色分解された４種類の画像データと、Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢのそれぞれに対応して各色成分毎に画像を形成するさまざまな装置が４組利用されることから、各参照符号に、Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢを付加することで色成分毎の画像データとそれぞれに対応する装置を識別することとする。
【００１１】
図１に示すように、画像形成装置１００は、色分解された色成分毎に画像を形成する第１〜第４の画像形成部５０Ｙ、５０Ｍ、５０Ｃ及び５０Ｂを有している。
【００１２】
それぞれの画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）は、図２及び図３を用いて詳述するマルチビーム光走査装置１の第１の折り返しミラー３３Ｂ及び第３の折り返しミラー３７Ｙ、３７Ｍ及び３７Ｃにより各色成分の画像情報を光走査するためのレーザビームＬ（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が出射される位置のそれぞれに対応する光走査装置１の下方に、画像形成部５０Ｙ、５０Ｍ、５０Ｃ及び５０Ｂの順で配置されている。
【００１３】
各画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の下方には、それぞれの画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を介して形成された画像を転写される転写材を搬送する搬送ベルト５２が配置されている。
【００１４】
搬送ベルト５２は、図示しないモータにより、矢印の方向に回転されるベルト駆動ローラ５６ならびにテンションローラ５４に掛け渡され、ベルト駆動ローラ５６が回転される方向に所定の速度で回転される。
【００１５】
各画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）は、矢印方向に回転可能な円筒状に形成され、光走査装置１により露光された画像に対応する静電潜像が形成される感光体ドラム５８Ｙ、５８Ｍ、５８Ｃ及び５８Ｂを有している。
【００１６】
各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の周囲には、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）表面に所定の電位を提供する帯電装置６０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の表面に形成された静電潜像に対応する色が与えられているトナーを供給することで現像する現像装置６２（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）との間に搬送ベルト５２を介在させた状態で搬送ベルト５２の背面から各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）に対向され、搬送ベルト５２により搬送される記録媒体すなわち記録用紙Ｐに、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）のトナー像を転写する転写装置６４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、各転写装置６４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）による用紙Ｐへのトナー像の転写の際に転写されなかった感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）上の残存トナーを除去するクリーナ６６（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）並びに各転写装置６４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）によるトナー像の転写後に感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）上に残った残存電位を除去する除電装置６８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が回転される方向に沿って、順に、配置されている。
【００１７】
搬送ベルト５２の下方には、各画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）により形成された画像が転写される記録用紙Ｐを収容している用紙カセット７０が配置されている。
【００１８】
用紙カセット７０の一端であって、テンションローラ５４に近接する側には、おおむね半月状に形成され、用紙カセット７０に収容されている用紙Ｐを最上部から１枚ずつ取り出す送り出しローラ７２が配置されている。
【００１９】
送り出しローラ７２とテンションローラ５４の間には、カセット７０から取り出された１枚の用紙Ｐの先端と画像形成部５０Ｂ（黒）の感光体ドラム５８Ｂに形成されたトナー像の先端を整合させるためのレジストローラ７４が配置されている。
【００２０】
レジストローラ７４と第１の画像形成部５０Ｙの間のテンションローラ５４の近傍であって、実質的に、テンションローラ５４と搬送ベルト５２が接する位置に対応する搬送ベルト５２の外周上に対向される位置には、レジストローラ７４により所定のタイミングで搬送される１枚の用紙Ｐに、所定の静電吸着力を提供する吸着ローラ７６が配置されている。
【００２１】
搬送ベルト５２の一端かつベルト駆動ローラ５６の近傍であって、実質的に、ベルト駆動ローラ５６と接した搬送ベルト５２の外周上には、搬送ベルト５２に形成された画像又は用紙Ｐに転写された画像の位置を検知するためのレジストレーションセンサ７８及び８０が、ベルト駆動ローラ５６の軸方向に所定の距離をおいて配置されている（図１は、正面断面図であるから、図１において紙面前方に位置されるセンサ７８は見えない）。
【００２２】
ベルト駆動ローラ５６と接した搬送ベルト５２の外周上であって、搬送ベルト５２により搬送される用紙Ｐと接することのない位置には、搬送ベルト５２上に付着したトナーあるいは用紙Ｐの紙かすなどを除去する搬送ベルトクリーナ８２が配置されている。
【００２３】
搬送ベルト５２を介して搬送された用紙Ｐがベルト駆動ローラ５６から離脱されてさらに搬送される方向には、用紙Ｐに転写されたトナー像を用紙Ｐに定着する定着装置８４が配置されている。
【００２４】
図２及び図３は、図１に示した画像形成装置に組み込まれるマルチビーム光走査装置を示している。
【００２５】
マルチビーム光走査装置１は、図１に示した第１〜第４の画像形成部５０Ｙ、５０Ｍ、５０Ｃ及び５０Ｂのそれぞれに向けて光ビームを出力する光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ及び３Ｂ、各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が放射した光ビーム（レーザビーム）を所定の位置に配置された像面すなわち図１に示した第１〜第４の画像形成部５０Ｙ、５０Ｍ、５０Ｃ及び５０Ｂの感光体ドラム５８Ｙ、５８Ｍ、５８Ｃ及び５８Ｂの外周面に向かって所定の線速度で偏向（走査）する偏向手段としてのただ１つの光偏向装置７を有している。光偏向装置７と各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）との間には、偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が、光偏向装置７と像面との間には、偏向後光学系９が、それぞれ、配置されている。
【００２６】
ここで、光偏向装置７により各レーザビームが偏向（走査）される方向は主走査方向と呼ばれ、主走査方向と、光偏向装置が走査（偏向）したレーザビームが主走査方向となるよう光偏向装置がレーザビームに与える偏向動作の基準となる軸線とのそれぞれに直交する方向は副走査方向と呼ばれている。
【００２７】
偏向前光学系５は、図３及び図４に示すように（図４では任意のレーザビームＬを代表として示している）、半導体レーザ素子でなる色成分毎の各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）と、各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を出射されたレーザビームに所定の集束性を与える有限焦点レンズ１３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、有限焦点レンズ１３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を通過したレーザビームＬに任意の断面ビーム形状を与える絞り１４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、絞り１４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を通過した副走査方向に関してさらに所定の集束性を与えるシリンダレンズ１７（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を含み、各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を出射されたレーザビームの断面ビーム形状を所定の形状に整えて、光偏向装置７の反射面に案内する。
【００２８】
シリンダレンズ１７Ｃから出射されたシアンのレーザビームＬＣは、折り曲げミラー１５Ｃによって光路が折り曲げられた後、光路合成用光学部品１９を透過して光偏向装置７の反射面に案内される。シリンダレンズ１７Ｂから出射されたブラックのレーザビームＬＢは、折り曲げミラー１５Ｂによって光路が折り曲げられた後、光路合成用光学部品１９によって反射されて光偏向装置７の反射面に案内される。シリンダレンズ１７Ｙから出射されたイエローのレーザビームＬＹは、折り曲げミラー１５Ｃの上方を通過した後、光路合成用光学部品１９を透過して光偏向装置７の反射面に案内される。シリンダレンズ１７Ｍから出射されたマゼンタのレーザビームＬＭは、折り曲げミラー１５Ｍによって光路が折り曲げられ、折り曲げミラー１５Ｂの上方を通過した後、光路合成用光学部品１９によって反射されて光偏向装置７の反射面に案内される。なお、図４では、折り曲げミラー１５Ｍ、１５Ｂ、１５Ｃや光路合成用光学部品１９の図示を省略している。
【００２９】
偏向後光学系９は、ポリゴンミラー７ａによって偏向されたレーザビームを各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）上に結像させるための結像レンズ（ｆθレンズ）群２１と、この結像レンズ群２１を通過した合成レーザビームを各色成分毎のレーザビームに分離すると共に、対応する感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）上に導く、第１の折り曲げミラー３３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、第２の折り曲げミラー３５（Ｙ、Ｍ及びＣ）及び第３の折り曲げミラー３７（Ｙ、Ｍ及びＣ）を有する。結像レンズ（ｆθレンズ）群２１は、この第１の実施形態の場合、２枚のレンズ２１ａ及び２１ｂからなっている。
【００３０】
上述した図１〜図４は、各構成要素の位置関係の説明のために用いた図面である。この第１の実施形態の場合、所定の構成要素を、姿勢などを調整可能に取り付けることに特徴を有し、上述した図１〜図４は、この特徴との関係では必ずしも正確に記載されていない。以下では、図５〜図９を用いて、所定の構成要素（光学要素部品）の特徴をなす取り付け方法を説明する。
【００３１】
光偏向装置７は、ポリゴンミラー７ａ及びポリゴンモータ７ｂでなっているが、図５及び図６に示すように取り付けられている。ここで、図５は平面図（図１及び図２の場合であれば底面図と見てもよい）であり、図６は、図５のＶＩ−ＶＩ線断面図である。
【００３２】
光偏向装置７は、ポリゴンモータ７ｂが平板状のモータ基板１５０に固定されることで固定されている。モータ基板１５０は、ハウジングなどの被取付部材１５１に対して、複数（図示のものは２個）の固定ネジ１５２、１５３によって取り付けられている。モータ基板１５０及び被取付部材１５１間は、被取付部材１５１の上面に設けられた直線状の突条１５４と、被取付部材１５１に設けられている雌ネジ部に螺合するセットスクリュー１５５とによって、所定量の隙間が開くようになされている。固定ネジ１５２及び１５３を結ぶ直線は、図５から明らかなように、投影面から見て、突条１５４が延びている方向と直交しており、この直線上にセットスクリュー１５５が位置している。突条１５４の方向は、ポリゴンミラー７ａがある所定角となったときに平行になるように設定されている。この所定角は、像面における光学性能の劣化が一番大きいポイントの角度である。
【００３３】
ここで、固定ネジ１５２及び１５３を緩めてセットスクリュー１５５を進退動させることで、モータ基板１５０が突条１５４を支点として回動し、その後、固定ネジ１５２及び１５３を締めることにより、ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ（傾き）を調整し得る。この調整後は、図６に示すように、ポリゴンミラー７ａが所定角での反射面と突条１５４とは一直線上になっている。
【００３４】
各色成分の偏向前光学系は、図７及び図８に示すように取り付けられている。図７は平面図である。図８は、図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線断面図であり、後述する偏向前光学系基板の上部については、その矢視線上の部材以外の図示を省略している。
【００３５】
すなわち、光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、有限焦点レンズ１３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、絞り１４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、シリンダレンズ１７（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、折り曲げミラー１５（Ｍ、Ｃ及びＢ）及び光路合成用光学部品１９は、平板状の同一の偏向前光学系基板２００に固定されている。偏向前光学系基板２００は、ハウジングなどの被取付部材２０１に対して、複数（例えば２個）の固定ネジ（図示せず）によって取り付けられている。偏向前光学系基板２００及び被取付部材２０１間は、被取付部材２０１の上面に設けられた直線状の突条２０４と、被取付部材２０１に設けられている雌ネジ部に螺合するセットスクリュー２０５とによって、所定量の隙間が開くようになされている。突条２０４の直線方向は、投影面で見て、各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）からの全てのレーザビームの光路がまとめられ、ポリゴンミラー７ａに向かう方向に直交している。セットスクリュー２０５は、突条２０４の直交方向に十分に離れて設けられている。
【００３６】
ここで、図示しない全ての固定ネジを緩めてセットスクリュー２０５を進退動させることで、偏向前光学系基板２００が突条２０４を支点として回動し、その後、全ての固定ネジを締めることにより、ポリゴンミラー７ａの反射面へのレーザビームの副走査方向の入射位置や入射角を調整し得る。
【００３７】
偏向後光学系９の主要な構成要素である２枚のｆθレンズ２１ａ及び２１ｂは、図９の平面図に示すように取り付けられている。なお、断面図は省略するが、後述するｆθレンズ基板の下側の構成要素の配置は、上述した図４と同様である。
【００３８】
２枚のｆθレンズ２１ａ及び２１ｂは、平板状の同一のｆθレンズ基板２５０に固定されている。ｆθレンズ基板２５０は、ハウジングなどの被取付部材（図示せず）に対して、複数（図示のものは２個）の固定ネジ２５２、２５３によって取り付けられている。ｆθレンズ基板２５０及び被取付部材間は、被取付部材の上面に設けられた直線状の突条２５４と、被取付部材に設けられている雌ネジ部に螺合するセットスクリュー２５５とによって、所定量の隙間が開くようになされている。固定ネジ２５２及び２５３を結ぶ直線は、図９から明らかなように、投影面で見て、突条２５４が延びている方向と直交しており、この直線上にセットスクリュー２５５が位置している。突条２５４は、性能劣化ポイントに結像する光線がｆθレンズ群を通過する光軸と、平面図で直交するように設定されている。
【００３９】
ここで、固定ネジ２５２及び２５３を緩めてセットスクリュー２５５を進退動させることで、ｆθレンズ基板２５０が突条２５４を支点として回動し、その後、固定ネジ２５２及び２５３を締めることにより、ポリゴンミラー７ａからの合成レーザビームの副走査方向の進行方向を調整し得る。
【００４０】
次に、ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ量の絶対値を０にするような調整方法を説明する。
【００４１】
（１）最初に、光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）を固定したモータ基板１５０を被取付面１５１に設置する。この際には、偏向前光学系基板２００の被取付部材２０１への設置や、ｆθレンズ基板２５０の被取付部材への設置はなされない（偏向後光学系の全体を設置しないようにしてもよい）。（２）次に、ポリゴンミラー７ａのある走査角での面倒れ量が０となるように調整する(被取付面（ハウジング）１５１が基準となっている)。（３）偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を搭載した偏向前光学系基板２００を被取付部材２０１に取り付けると共に、ｆθレンズ基板２５０の被取付部材への設置を含め、偏向後光学系９の全体を設置する。（４）偏向前光学系基板２０に搭載された偏向前光学系（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）からのレーザビームのポリゴンミラー７ａに至る前の所定ポイントでの通過位置が設計値に近づくように偏向前光学系基板２００を調整する。このことは、偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の位置や姿勢を調整していることになる。なお、偏向前光学系基板２００の調整後、各偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の個別要素を所定ポイントでの通過位置が設計値に近付くように調整するようにしても良い。（５）ポリゴンミラー７ａで偏向されたある走査角度でのレーザビームの、ｆθレンズ基板２５０に取り付けられた２枚のｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを通過した後の所定ポイントで通過位置が設計値に近付くようにｆθレンズ基板２５０を調整する。このことは、偏向後光学系、特に、ｆθレンズ２１ａ及び２１ｂの位置や姿勢を調整していることになる。
【００４２】
第１の実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
【００４３】
ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れに基づく性能劣化を、反射面そのものを調整して抑えるようにしている。各シリンダレンズ１７（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を調整する従来方法に比較すると、ポリゴンミラー１箇所のみを調整すれば良いので、調整作業が容易である。
【００４４】
この場合において、各偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の位置や姿勢をまとめて調整するようにしているので、また、ｆθレンズ２１ａ及び２１ｂ性の位置や姿勢をまとめて調整するようにしているので、性能をさらに向上させることができる。
【００４５】
（Ｂ）調整方法の変形例
上記実施形態の調整構成に対する調整方法は、上述したものに限定されず、以下の（Ｂ−１）〜（Ｂ−７）に示すような調整方法を適用することも可能である。
【００４６】
（Ｂ−１）この調整方法も、上記実施形態で説明した調整方法と同様に、ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ量の絶対値を０にする方法である。
【００４７】
この調整方法は、上記実施形態で説明した調整方法から、（４）の工程、すなわち、偏向前光学系基板２０に搭載された偏向前光学系（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）からのレーザビームのポリゴンミラー７ａに至る前の所定ポイントでの通過位置が設計値に近づくように偏向前光学系基板２００を調整する工程を省略したものである。この調整方法の適用が固定的に定まっている場合であれば、偏向前光学系基板２００などの偏向前光学系に対する調整構成を省略することができる。
【００４８】
（Ｂ−２）この調整方法も、上記実施形態で説明した調整方法と同様に、ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ量の絶対値を０にする方法である。
【００４９】
この調整方法は、上記実施形態で説明した調整方法から、（５）の工程、すなわち、ポリゴンミラー７ａで偏向されたある走査角度でのレーザビームの、ｆθレンズ基板２５０に取り付けられた２枚のｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを通過した後の所定ポイントで通過位置が設計値に近付くようにｆθレンズ基板２５０を調整する工程を省略したものである。この調整方法の適用が固定的に定まっている場合であれば、ｆθレンズ基板２５０などのｆθレンズ２１ａ及び２１ｂに対する調整構成を省略することができる。
【００５０】
（Ｂ−３）この調整方法は、ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ量の相対誤差を０にする方法である。ここで、相対誤差が０とは、ハウジングなどの基準面から見た角度を問題とするものでなく、偏向前光学系、光偏向装置及び偏向後光学系の相対的な関係から見て、倒れ量が適切であることを表している。
【００５１】
（１）光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）を固定したモータ基板１５０と、偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を搭載した偏向前光学系基板２００と、ｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを搭載したｆθレンズ基板２５０とを設置する。（２）偏向前光学系基板２０に搭載された偏向前光学系（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）からのレーザビームのポリゴンミラー７ａに至る前の所定ポイントでの通過位置が設計値に近づくように偏向前光学系基板２００を調整する。このことは、偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の位置や姿勢を調整していることになる。なお、偏向前光学系基板２００の調整後、各偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の個別要素を所定ポイントでの通過位置が設計値に近付くように調整するようにしても良い。（３）偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）群からのレーザビームが、ポリゴンミラー７ａである走査角度に向けて反射された後の光線通過位置が設計値に近付くようにポリゴンミラーの反射面の角度（倒れ量）を調整する。ここでの測定位置は、近い方のｆθレンズ２１ａに至る前の位置である。（４）ポリゴンミラー７ａで偏向されたある走査角度でのレーザビームの、ｆθレンズ基板２５０に取り付けられた２枚のｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを通過した後の所定ポイントで通過位置が設計値に近付くようにｆθレンズ基板２５０を調整する。このことは、偏向後光学系、特に、ｆθレンズ２１ａ及び２１ｂの位置や姿勢を調整していることになる。
【００５２】
（Ｂ−４）この調整方法も、ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ量の相対誤差を０にする方法である。この調整方法では、モータ基板１５０に対する調整は実行されない。この調整方法が固定的に採用される装置であれば、モータ基板１５０などのポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ量の調整構成を省略することができる。
【００５３】
（１）光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）を固定したモータ基板１５０と、偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を搭載した偏向前光学系基板２００と、ｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを搭載したｆθレンズ基板２５０とを設置する。（２）偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）群からのレーザビームが、ポリゴンミラー７ａである走査角度に向けて反射された後の光線通過位置が設計値に近付くように、偏向前光学系基板２０に搭載された偏向前光学系（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を調整する。ここでの測定位置は、近い方のｆθレンズ２１ａに至る前の位置である。なお、偏向前光学系基板２００の調整後、各偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の個別要素を所定ポイントでの通過位置が設計値に近付くように調整するようにしても良い。（３）ポリゴンミラー７ａで偏向されたある走査角度でのレーザビームの、ｆθレンズ基板２５０に取り付けられた２枚のｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを通過した後の所定ポイントで通過位置が設計値に近付くようにｆθレンズ基板２５０を調整する。
【００５４】
（Ｂ−５）この調整方法も、ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ量の相対誤差を０にする方法である。この調整方法では、偏向前光学系基板２００に対する調整は実行されない。この調整方法が固定的に採用される装置であれば、偏向前光学系基板２００などの偏向前光学系に対する調整構成を省略することができる。
【００５５】
（１）光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）を固定したモータ基板１５０と、偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を搭載した偏向前光学系基板２００と、ｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを搭載したｆθレンズ基板２５とを設置する。（２）偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）群からのレーザビームが、ポリゴンミラー７ａである走査角度に向けて反射された後の光線通過位置が設計値に近付くようにポリゴンミラーの反射面の角度（倒れ量）を調整する。ここでの測定位置は、近い方のｆθレンズ２１ａに至る前の位置である。（３）ポリゴンミラー７ａで偏向されたある走査角度でのレーザビームの、ｆθレンズ基板２５０に取り付けられた２枚のｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを通過した後の所定ポイントで通過位置が設計値に近付くようにｆθレンズ基板２５０を調整する。
【００５６】
（Ｂ−６）この調整方法も、ポリゴンミラー７ａの反射面の倒れ量の相対誤差を０にする方法である。この調整方法では、ｆθレンズ基板２５０に対する調整は実行されない。この調整方法が固定的に採用される装置であれば、ｆθレンズ基板２５０などの偏向後光学系に対する調整構成を省略することができる。
【００５７】
（１）光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）を固定したモータ基板１５０と、偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を搭載した偏向前光学系基板２００と、ｆθレンズ２１ａ及び２１ｂを搭載したｆθレンズ基板２５０とを設置する。（２）偏向前光学系基板２０に搭載された偏向前光学系（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）からのレーザビームのポリゴンミラー７ａに至る前の所定ポイントでの通過位置が設計値に近づくように偏向前光学系基板２００を調整する。なお、偏向前光学系基板２００の調整後、各偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の個別要素を所定ポイントでの通過位置が設計値に近付くように調整するようにしても良い。（３）偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）群からのレーザビームが、ポリゴンミラー７ａで、ある走査角度に向けて反射された後の光線通過位置が設計値に近付くようにポリゴンミラーの反射面の角度（倒れ量）を調整する。ここでの測定位置は、近い方のｆθレンズ２１ａに至る前の位置である。
【００５８】
（Ｂ−７）上記実施形態での調整方法や、上記（Ｂ−１）〜（Ｂ−６）の各調整方法は、調整可能な３群の構成要素群のうち、３群又は２群を調整するものであった。
【００５９】
しかし、本発明は、いずれか一群の構成要素群だけを調整するようなものであっても良い。
【００６０】
（Ｃ）他の実施形態
上記実施形態の説明においても、種々変形実施形態に言及したが、以下に例示するような変形実施形態を挙げることができる。
【００６１】
モータ基板１５０、偏向前光学系基板２００、ｆθレンズ基板２５０などを微少量だけ回動可能にする構成は、上記実施形態のものに限定されない。例えば、突条の部分を、突条の伸長方向に沿って離れている２個の突起に置き換えることができる。ここで、このような２個の突起は、セットスクリューの位置を頂点とした二等辺三角形の残りの点の位置に設けることが好ましい。
【００６２】
上記各実施形態では、ポリゴンミラーの同一面に４ビームを入射させるマルチビーム光走査装置を示したが、ポリゴンミラーの同一面に２ビームや７ビームや８ビームなどの他のビーム数のビームを入射させるマルチビーム光走査装置に対しても本発明を適用することができる。また、カラー用に限定されず、モノクロ用であっても、複数ビームの光路を合成する光路合成用光学部品（ビームスプリッタ又はハーフミラー）を１以上有するマルチビーム光走査装置に対し、本発明を適用することができる。さらに、ポリゴンミラーの一面に１ビームだけを入射させる光走査装置に対しても、本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】実施形態に係るカラー画像形成装置を示す概略断面図である。
【図２】実施形態の光走査装置の偏向後光学系の構成要素を示す概略断面図である。
【図３】実施形態の光走査装置の構成要素を示す概略平面図である。
【図４】実施形態の光走査装置の偏向前光学系の構成要素の配置を、光路を直線光路としてみなして示す説明図である。
【図５】実施形態の光走査装置の光偏向装置の取り付け方法を説明するための平面図である。
【図６】図５のＶＩ−ＶＩ線断面図である。
【図７】実施形態の光走査装置の偏向前光学系の取り付け方法を説明するための平面図である。
【図８】図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線断面図である。
【図９】実施形態の光走査装置の結像レンズ（ｆθレンズ）の取り付け方法を説明するための平面図である。
【符号の説明】
【００６４】
１…光走査装置、５…偏向前光学系、７…光偏向装置、９…偏向後光学系、１００…画像形成装置、１５０…モータ基板、１５１…被取付部材、１５２、１５３…固定ネジ、１５４…突条、１５５…セットスクリュー、２００…偏向前光学系基板、２０１…被取付部材、２０４…突条、２０５…セットスクリュー、２５０…ｆθレンズ基板、２５２、２５３…固定ネジ、２５４…突条、２５５…セットスクリュー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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