(57)【要約】【課題】  複数の露光ヘッドを用いて、これと相対移動する露光対象基板を未露光領域が生じないように高速に直接露光処理を実行する露光装置および露光方法を実現する。【解決手段】  相対移動する露光対象基板１５１に対して直接露光する露光装置１は、複数の露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂおよび１１Ｃであって各露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂおよび１１Ｃによる露光後の露光対象基板１５１上の露光領域間に互いに重なり合う露光領域１５４ＡＢおよび１５４ＢＣが生じるように配置される露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂおよび１１Ｃと、重なり合う露光領域１５４ＡＢおよび１５４ＢＣを露光する隣接する２つの露光ヘッド１１の光の照射量を、同一パターンの下で単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射量と等しくなるように調整する光調整手段と、を備える。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対移動する露光対象物に対して直接露光処理を実行する露光装置において、
複数の露光ヘッドであって、各該露光ヘッドによる露光後の前記露光対象物上の露光領域間に、互いに重なり合う露光領域が生じるように配置される露光ヘッドと、
前記重なり合う露光領域を露光する隣接する２つの前記露光ヘッドの光の照射量を、同一パターンの下で単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射量と等しくなるよう、調整する光調整手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
相対移動する露光対象物に対して直接露光処理を実行する露光装置において、
複数の露光ヘッドであって、各該露光ヘッドによる露光後の前記露光対象物上の露光領域間に、互いに重なり合う露光領域が生じるように配置される露光ヘッドと、
前記重なり合う露光領域を露光する隣接する２つの前記露光ヘッドの光の照射を、単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射と同等の露光結果を有するように調整する光調整手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
前記光調整手段は、前記露光ヘッドと前記露光対象物との間に配置され、前記露光ヘッドから前記露光対象物への光の透過率を調整可能なフィルタで構成される請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光ヘッドがディジタルマイクロミラーデバイスで構成される請求項１または２に記載の露光装置であって、
前記光調整手段は、前記ディジタルマイクロミラーデバイスへ光を照射する光源の光出力を制御する露光装置。
【請求項５】
前記露光ヘッドがディジタルマイクロミラーデバイスで構成される請求項１または２に記載の露光装置であって、
前記光調整手段は、前記マイクロミラーデバイス中の微小ミラーにおける光の反射方向を制御する露光装置。
【請求項６】
前記光調整手段は、前記重なり合う露光領域を露光する光の照射量が所定の関数で増加もしくは減少するよう、当該露光ヘッドによる前記重なり合う露光領域への光の照射量を調整する請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項７】
相対移動する露光対象物に対して直接露光処理を実行する露光方法であって、
露光後の互いに隣接する露光領域間に重なり露光領域が生じるよう配置された各露光ヘッドを用いて、前記重なり露光領域を露光する隣接する２つの前記露光ヘッドの光の照射量については、単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射量と等しくなるように、前記露光対象物に光を照射することを特徴とする露光方法。
【請求項８】
相対移動する露光対象物に対して直接露光処理を実行する露光装置であって、
複数の露光ヘッドであって、隣接する２つの前記露光ヘッドによりそれぞれ露光される重なり露光領域が生じるよう配置される露光ヘッドと、
前記重なり露光領域を露光する前記２つの露光ヘッドの光の照射量を、同一パターンにおける単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射量と等しくなるように調整する光調整手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、相対移動する露光対象基板に対して、複数の露光ヘッドを用いて直接露光処理を実行する露光装置および露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
配線基板の配線パターンは、一般的には、配線パターンに関する設計データに基づいて基板を露光し、現像することで所望のパターンを基板上に焼き付け、そしてエッチングを施すことで形成される。この露光処理には、通常、フォトマスクが用いられる。より具体的には、絶縁体の上に導体層として金属箔を張り合わせた基板に感光性樹脂を貼り付け、所望の配線パターンを描画したフォトマスクを重ねる。そしてこれを露光することで、フォトマスクの配線パターンが基板上の感光性樹脂に写し取られる。その後、現像、エッチング、メッキといった工程を経て、基板上の金属箔が所望の配線パターンの形状に形成される。
【０００３】
フォトマスクを用いた露光方法では、露光前に基板とフォトマスクとを密着させるが、このときフォトマスク上に異物や汚れなどが付着すると、異物や汚れの形も基板上に写し取られてしまう。フォトマスク上に描かれた配線パターンが微細になるほど、異物や汚れの影響を受けやすいので、フォトマスクを特に厳重に管理する必要がある。また、配線パターンの変更や破損があった場合には、新たなフォトマスクを作成しなければならない。また、基板に生じる伸縮、歪み、ずれ等を考慮した補正を行い、何回かフォトマスクを試作しなければならない。これに伴う作成コストおよび時間の増加は、配線基板の製造プロセスの大きな負担となっている。
【０００４】
これに対し、近年、フォトマスクを使用しない直接露光によるパターニング方法が提案されている。この方法によれば、上述した基板の伸縮、歪み、ずれなどに対処するための補正を、露光データの生成の段階で予め行うことができ、あるいはリアルタイムで行うことができるので、製造精度の向上、歩留まりの向上、納期の短縮、製造コストの低減などの点において著しい改善がもたらされる。
【０００５】
直接露光によるパターニング方法として、例えばディジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）もしくは電子ビーム露光機などを用いて露光パターンを直接露光処理により形成する方法などがある。このうち、ＤＭＤを用いた直接露光によるパターニング方法の一従来技例を挙げると次のとおりである。すなわち、露光対象基板上に形成したレジストを直接露光するにあたり、露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、このパターンデータをディジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）に入力し、ＤＭＤ中のその複数の各微小ミラー（マイクロミラー）をパターンデータに応じて傾動させることにより、ＤＭＤに光を投射して得られる各微小ミラーからの反射光の向きを適宜変えて、露光対象基板上のレジストに照射してパターンデータに対応した露光パターンを形成する（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
図８は、従来例の露光装置による露光領域を例示する図である。図中、ＤＭＤで構成される露光ヘッド１００のＤＭＤの微小ミラーを丸印（参照符号Ｑ）で示す。なお、その他の図についてもいえることであるが、露光ヘッドおよびそれに備えられる微小ミラーの数および相対的な大きさはあくまでも例示的に示したものである。通常、１つの露光ヘッド１００で露光対象基板１５１全体の領域を露光することができないので、複数の露光ヘッド１００を露光対象基板１５１の相対移動方向に直行する方向に並べ、これを露光処理に用いている。図中、斜線部分は、露光ヘッド１００による露光後の領域（「露光領域」と称する。）（参照番号１５２）を示している。各露光ヘッド１００中の微小ミラーＱによる照射可能範囲は有限であり、なおかつ各露光ヘッド１００の間にはその構造に起因する空間的な隙間が存在しているが、この露光ヘッド１００間の間隔が大きいと、図８に示すように、露光対象基板１５１上には露光されない領域（「未露光領域」と称する。）（参照番号１５３）が生じてしまう。その一方で、露光ヘッド１００間の間隔が狭すぎると、露光対象基板上に、隣接する２つの露光ヘッドからの光の照射を受ける領域（図示せず）が生じ、該領域は他の領域に比べて必要以上に光の照射を受けてしまうことになる。
【０００７】
これに対し、１つの露光ヘッドを、隣接する露光領域が重なるように往復させながら露光動作させることにより、露光面上における光の照射量を均一にする技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１１２５７９号公報
【特許文献２】特開２００４−１４６７８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
複数の露光ヘッドが並べられた露光装置において、各露光ヘッドの設置間隔に起因する上述の未露光領域の存在やアンバランスな光の照射量は、完成品の配線基板の品質に大きな影響を与えるので好ましくない。
【００１０】
また、露光面上における光の照射量を均一にすることを目的とする上記特許文献２（特開２００４−１４６７８９号公報）に記載された技術は、露光対象基板に対する露光ヘッドの相対移動は、一方向ではなく往復２方向であり、しかもこの往復運動を複数回繰り返すため、１枚の露光対象基板を露光するのに時間がかかり、この往復運動のための機構により装置が複雑になるといった欠点がある。
【００１１】
したがって本発明の目的は、上記問題に鑑み、複数の露光ヘッドを用いて直接露光するにあたり、この露光ヘッドと相対移動する露光対象基板を未露光領域が生じないように高速に直接露光処理を実行する露光装置および露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を実現するために、本発明においては、相対移動する露光対象基板に対する直接露光処理に、露光後に互いに隣接することになる露光領域間に重なり露光領域（本明細書では「重なり合う露光領域」とも称する。）が生じるよう配置された各露光ヘッドを用いる。そして特に、上記重なり露光領域の露光に寄与する隣接する２つの露光ヘッドの光の照射量については、同一パターンの下で単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射量と等しくなるよう、露光対象基板への光の照射量を調整する。
【００１３】
図１は、本発明による露光装置の原理図である。図１（ａ）においては、露光対象基板１５１に対抗する側の露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂおよび１１Ｃを模式的に示している。図中、露光素子Ｑ（図中、丸印で示す。）の数、および露光ヘッドの数は例示的なものであり、その他の図においても同様とする。
【００１４】
図１（ａ）に示すように、本発明によれば、相対移動する露光対象基板１５１に対して直接露光処理を実行する露光装置１は、複数の露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂおよび１１Ｃであって、各露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂおよび１１Ｃによる露光後の露光対象基板１５１上の露光領域間に、互いに重なり合う露光領域１５４ＡＢおよび１５４ＢＣが生じるように配置される露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂおよび１１Ｃと、重なり合う露光領域１５４ＡＢおよび１５４ＢＣを露光する隣接する２つの露光ヘッド１１の光の照射量を、同一パターンの下で単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射量と等しくなるように調整する光調整手段（図示せず）と、を備える。このように、本発明では、各露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂおよび１１Ｃは、隣接する２つの露光ヘッドによりそれぞれ露光される重なり露光領域１５４ＡＢおよび１５４ＢＣが生じることになるように、すなわち露光対象基板の相対移動方向に垂直な方向に重なりを持つように配置される。
【００１５】
図１（ｂ）〜（ｅ）は、露光ヘッド１１Ａによる光の照射量、露光ヘッド１１Ｂによる光の照射量、露光ヘッド１１Ｃによる光の照射量、およびこれら各光の照射量の合計値をそれぞれ例示する。
【００１６】
一般に直接露光装置においては、露光対象基板の相対移動方向に並ぶ露光ヘッド中の露光素子の列が、露光対象基板上の所定の位置における直接露光に寄与する。本発明では、相対移動方向の同じライン上に並ぶ露光素子であって上記重なり合う露光領域への光の照射を担う露光素子による光の照射量と、同じライン上に並ぶ露光素子であって上記重なり合う露光領域以外の露光領域への光の照射を担う露光素子による光の照射量とについて、各ライン上に並ぶ露光素子の個数に起因する光の照射量の差が生じないよう、光調整手段が各露光ヘッド中の露光素子の光の照射量を制御する。つまり、上記重なり合う露光領域への光の照射に寄与するライン上の露光素子の個数の方が、上記重なり合う露光領域以外の露光領域への光の照射に寄与するライン上の露光素子の個数より多いが、本発明では、光調節手段によって、同一露光データ（すなわち同一パターン）に従って露光するとしたときにはどのライン上に並ぶ露光素子の列であっても露光に必要な光の照射累積量が等しくなるように、各光の照射量を制御する。
【００１７】
例えば、露光に必要な露光ヘッド１１Ａによる光の照射量は、図１（ｂ）に示すように、露光ヘッド１１Ａが担う上記重なり合う露光領域１５４ＡＢにおいて、露光ヘッド１１Ｂに隣接する側の周縁部に近くなるほど、減少するように設定する。また、露光に必要な露光ヘッド１１Ｂによる光の照射量は、図１（ｃ）に示すように、露光ヘッド１１Ｂが担う上記重なり合う露光領域１５４ＡＢにおいて、露光ヘッド１１Ａに隣接する側の周縁部に近くなるほど、減少するように設定し、上記重なり合う露光領域１５４ＢＣにおいて、露光ヘッド１１Ｃに隣接する側の周縁部に近くなるほど、減少するように設定する。また、露光に必要な露光ヘッド１１Ｃによる光の照射量は、図１（ｄ）に示すように、露光ヘッド１１Ｃが担う上記重なり合う露光領域１５４ＢＣにおいて、露光ヘッド１１Ｂに隣接する側の周縁部に近くなるほど、減少するように設定する。
【００１８】
光調節手段は、各重なり合う領域１５４ＡＢおよび１５４ＢＣにおいては、図１（ｂ）〜（ｄ）に示した光の照射量の合計値が、図１（ｅ）に示すように、単独の露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂもしくは１１Ｃのみにより露光される露光領域１５２Ａ、１５２Ｂもしくは１５２Ｃへの該単独の露光ヘッド１１Ａ、１１Ｂもしくは１１Ｃによる光の照射量と等しくなるように調整する。なお、図１（ｂ）〜（ｄ）に示す例では、光の照射量をなだらかに曲線を描くような増加もしくは減少関数として示したが、これ以外の関数であってもよく、例えば１次関数であってもよい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、複数の露光ヘッドを用いて、一方向に相対移動する露光対象基板に対して、未露光領域が生じないように高速に直接露光処理を実行することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の実施例では、露光装置の露光ヘッドはＤＭＤを用いたものであるとする。この場合、ＤＭＤの各微小ミラーが、２次元的に配列された上述の各露光素子Ｑに相当することになる。ＤＭＤの微小ミラーの数すなわち、露光素子数（画素数）は、例えばＳＶＧＡタイプのＤＭＤの場合は８４８×１０２４画素、ＸＧＡタイプのＤＭＤの場合は１０２４×１０２４画素、ＳＸＧＡタイプのＤＭＤの場合は１２８０×１０２４画素である。
【００２１】
図２は、本発明の第１の実施例による露光装置の動作原理を説明する図であり、（ａ）は露光ヘッドおよびフィルタを、露光対象基板（図示せず）に対抗する側から例示した正面図であり、（ｂ）および（ｃ）は各露光ヘッドによる光の照射量を示す図であり、（ｄ）は各露光ヘッドの光の照射量の合計値を示す図である。
【００２２】
実施例は、図１を参照して説明した光調節手段を、露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂと露光対象基板（図示せず）との間に配置され、露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂから露光対象基板への光の透過率を調整可能なフィルタ１２Ａおよび１２Ｂで実現したものである。
【００２３】
露光ヘッド１１Ａと露光ヘッド１１Ｂとは、各露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂによる露光後の露光領域間に、互いに重なり合う露光領域が生じるように、配置される。
【００２４】
光調節手段であるフィルタ１２Ａおよび１２Ｂは、上記重なり合う露光領域における露光ヘッド１１Ａによる光の照射量（図２（ｂ））と露光ヘッド１１Ｂによる光の照射量（図２（ｃ））との合計値が、同一パターンの下で単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射量と等しくなるように、各露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂから露光対象基板へ照射される露光に必要な光の照射量を、調整する。すなわち本実施例では、各フィルタ１２Ａおよび１２Ｂは、対応する各露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂについて隣接する露光ヘッドに近い側ほど光の透過率が低くなるよう、構成される。このようなフィルタの具体例をいくつか挙げると、例えば、段階的に濃淡色を帯びるようなフィルム状のフィルタや液晶ディスプレイによるものがある。特に、液晶ディスプレイで本フィルタを構成すれば、光の透過率を可変とすることができるので、その他の機能の拡張にも適している。
【００２５】
図３は、本発明の第２の実施例による露光装置の動作原理を説明する図である。
【００２６】
本実施例における光調節手段は、露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂ中の各露光素子Ｑの点灯および消灯時間を制御することによって、露光対象基板（図示せず）への光の照射量を制御する。一般に直接露光装置においては、露光対象基板の相対移動方向に並ぶ露光ヘッド中の露光素子の列が、露光対象基板上の所定の位置における直接露光に寄与する。本実施例では、図３に示すように、ラインα上に並ぶ露光素子Ｑによる光の照射量とラインβ上に並ぶ露光素子Ｑによる光の照射量とについて、各ライン上に並ぶ露光素子の個数に起因する光の照射量の差が生じないよう、各露光素子Ｑの点灯および消灯時間を制御する。すなわち、ラインβ上に並ぶ露光素子Ｑの個数の方が、ラインα上に並ぶ露光素子Ｑの個数より多いが、本実施例では、同一露光データ（同一パターン）に従って露光するとしたときにはラインα上に並ぶ露光素子Ｑによる光の照射量とラインβ上に並ぶ露光素子Ｑによる光の照射量とが等しくなるように、露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂ中の各露光素子Ｑの点灯および消灯時間を制御する。
【００２７】
具体例を挙げると、例えば露光ヘッドがディジタルマイクロミラーデバイスで構成される場合には、光調整手段は、ディジタルマイクロミラーデバイスへ光を照射する光源の光出力を制御して露光対象基板への光の照射量を制御するものでよく、またあるいは、マイクロミラーデバイス中の微小ミラーを傾動させて光の反射方向を制御し、それによって露光対象基板への光の照射量を制御するものでもよい。またさらに、露光ヘッド自体が光源で構成される場合は、光調整手段は該光源の光出力を制御するものでもよい。
【００２８】
次に本発明の第３および第４の実施例について説明する。
【００２９】
従来より、露光素子の間隔よりも小さい分解能を有する直接露光処理を可能とするために、露光対象基板を所定の角度だけ、複数配列された露光素子列を有する露光ヘッドに対して傾けて相対移動させている。第３および第４の実施例は、本発明をこのような場合に適用したものである。
【００３０】
図４は、一従来例による露光装置の動作原理を説明する図であり、（ａ）は露光ヘッドを、露光対象基板（図示せず）に対抗する側から例示した正面図であり、（ｂ）および（ｃ）は各露光ヘッドによる光の照射量を示す図であり、（ｄ）は各露光ヘッドの光の照射量の合計値を示す図である。また、図５は、本発明の第３の実施例による露光装置の動作原理を説明する図であり、（ａ）は露光ヘッドおよびフィルタを、露光対象基板（図示せず）に対抗する側から例示した正面図であり、（ｂ）および（ｃ）は各露光ヘッドによる光の照射量を示す図であり、（ｄ）は各露光ヘッドの光の照射量の合計値を示す図である。図４（ｂ）〜（ｄ）および図５（ｂ）〜（ｄ）は、露光ヘッドに対して所定の角度だけ傾いて相対移動する露光対象基板上における、光の照射量を示している。
【００３１】
図４（ｂ）および（ｃ）に示すように、従来例による各露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂの、上記重なり合う露光領域に対する露光に必要な光の照射量が一次関数的に増加もしくは減少するものであるとすると、上記重なり合う領域における光の照射量の合計値は、図４（ｄ）に示すように、同一パターンの下で単独の露光ヘッドのみにより露光される露光領域への該単独の露光ヘッドによる光の照射量よりも多いものになってしまう。そこで、本実施例では、図５（ａ）に示すように、第１の実施例で説明したフィルタ１２Ａおよび１２Ｂを設け、各露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂによる光の照射量が図５（ｂ）および（ｃ）に示すように適宜増加もしくは減少させ、これらの光の照射量の合計値が図５（ｄ）に示すようになるように制御する。
【００３２】
図６は、本発明の第４の実施例による露光装置の動作原理を説明する図である。本実施例では、図３を参照して説明した第３の実施例と同様に、ラインα上に並ぶ露光素子Ｑによる光の照射量とラインβ上に並ぶ露光素子Ｑによる光の照射量とについて、各ライン上に並ぶ露光素子の個数に起因する光の照射量の差が生じないよう、各露光素子Ｑの点灯および消灯時間を制御する。
【００３３】
以上説明したように、本発明の第１〜第４の実施例によれば、複数の露光ヘッドを用いて、一方向に相対移動する露光対象基板に対して、未露光領域が生じないよう、かつ、露光量が均一になるように高速に直接露光処理を実行することができる。
【００３４】
なお、上述のように露光ヘッドを配置し、光調整手段を用いて未露光領域が生じないように直接露光処理が実現できるように装置を構成したにもかかわらず、装置を使用するにつれ、何らかの原因で露光ヘッドの設定位置が徐々にずれてくるような場合も考えられる。図７は、図２に示す本発明の第１の実施例による露光装置において、露光ヘッドが設定位置よりずれた場合を説明する図であり、（ａ）は露光ヘッドおよびフィルタを、露光対象基板（図示せず）に対抗する側から例示した正面図であり、（ｂ）および（ｃ）は各露光ヘッドによる光の照射量を示す図であり、（ｄ）は各露光ヘッドの光の照射量の合計値を示す図である。
【００３５】
図７（ａ）に示すように各露光ヘッド１１Ａおよび１１Ｂがずれると、それに従い図７（ｂ）および７（ｃ）に示すように光の照射量がずれ、その結果、各光の照射量の合計値は図７（ｄ）に示すように、本来の光の照射量の合計値（すなわち図２（ｄ）に示す合計値）よりも減ってしまう。しかし、従来のように光が全く照射されない領域すなわち未露光領域が出現することは無く、ある程度の光の照明量の変化はあるものの、最終的な露光結果には重大な影響を及す可能性は少ない。直接露光装置においては、露光対象基板の相対移動方向に並ぶ露光ヘッド中の露光素子の列が、露光対象基板上の所定の位置における直接露光に寄与し、すなわち露光対象基板上のある位置における直接露光には複数の露光素子が寄与し、これら各露光素子による複数回の光の照射により積算された光エネルギーが露光対象基板上に塗布されたフォトレジストを感光させるための閾値を超えるか否かにより、所望の露光プロセスが完了するか否かが決定されるからである。したがって、相対移動方向に沿うライン上に並ぶ露光素子個数の値が十分に大きければ、最終的な露光結果には重大な影響を及す可能性はさらに少なくなる。このような露光素子の個数の冗長性が、直接露光装置の信頼性の根拠となっている。
【００３６】
以上説明した実施例では、露光装置の露光ヘッドはＤＭＤを利用したものであるとしたが、ＤＭＤを利用すること自体は本発明を限定するものではない。一代替例として、ＤＭＤの機能と等価な機能を有する液晶素子を利用して実現してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
以上説明したように、本発明によれば、複数の露光ヘッドを用いて、一方向に相対移動する露光対象基板に対して、未露光領域が生じないように高速に直接露光処理を実行することができる。直接露光処理によれば、高精度な配線形成を容易かつ高速に行うことができ、また、配線の形成密度が上がる。したがって、特に高精度が要求される複雑な配線パターンを直接露光により形成する際に最適であり、また、将来の超微細配線およびそれに伴う露光データの大容量化にも十分に対応可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明による露光装置の原理図である。
【図２】本発明の第１の実施例による露光装置の動作原理を説明する図であり、（ａ）は露光ヘッドおよびフィルタを、露光対象基板に対抗する側から例示した正面図であり、（ｂ）および（ｃ）は各露光ヘッドによる光の照射量を示す図であり、（ｄ）は各露光ヘッドの光の照射量の合計値を示す図である。
【図３】本発明の第２の実施例による露光装置の動作原理を説明する図である。
【図４】一従来例による露光装置の動作原理を説明する図であり、（ａ）は露光ヘッドを、露光対象基板（図示せず）に対抗する側から例示した正面図であり、（ｂ）および（ｃ）は各露光ヘッドによる光の照射量を示す図であり、（ｄ）は各露光ヘッドの光の照射量の合計値を示す図である。
【図５】発明の第３の実施例による露光装置の動作原理を説明する図であり、（ａ）は露光ヘッドおよびフィルタを、露光対象基板に対抗する側から例示した正面図であり、（ｂ）および（ｃ）は各露光ヘッドによる光の照射量を示す図であり、（ｄ）は各露光ヘッドの光の照射量の合計値を示す図である。
【図６】本発明の第４の実施例による露光装置の動作原理を説明する図である。
【図７】図２に示す本発明の第１の実施例による露光装置において、露光ヘッドが設定位置よりずれた場合を説明する図であり、（ａ）は露光ヘッドおよびフィルタを、露光対象基板（図示せず）に対抗する側から例示した正面図であり、（ｂ）および（ｃ）は各露光ヘッドによる光の照射量を示す図であり、（ｄ）は各露光ヘッドの光の照射量の合計値を示す図である。
【図８】従来例の露光装置による露光領域を例示する図である。
【符号の説明】
【００３９】
１    露光装置
１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ    露光ヘッド
１２Ａ、１２Ｂ    フィルタ
１５１    露光対象基板
１５２Ａ、１５２Ｂ、１５２Ｃ    露光領域
１５４ＡＢ、１５４ＢＣ    重なり合う露光領域
Ｑ    露光素子
【図１】
2006147760.tif 000003
【図２】
2006147760.tif 000004
【図３】
2006147760.tif 000005
【図４】
2006147760.tif 000006
【図５】
2006147760.tif 000007
【図６】
2006147760.tif 000008
【図７】
2006147760.tif 000009
【図８】
2006147760.tif 000010