(57)【要約】【課題】反射防止膜の低屈折率層の特性を悪化させることなく、高速で均一な面状の低屈折率層を形成可能な塗布組成物の提供および該塗布組成物を用いた光学機能層、反射防止フィルム。【解決手段】熱または活性エネルギー栓照射により重合可能な化合物溶剤を含有し、硬化後の屈折率が１．５０以下であり、厚み１００ｎｍの膜を形成した時のヘイズが２％以下の透明膜を形成可能な塗布組成物であって、少なくとも２種の溶剤を含有し、かつ、少なくとも１種の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上かつ該溶剤の表面張力差が６ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする塗布組成物、および該塗布組成物から形成した光学機能層、反射防止フィルム。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱または活性エネルギー線照射により重合可能な化合物および溶剤を含有し、硬化後の屈折率が１．５０以下であり、かつ、厚み１００ｎｍの膜を形成した時のヘイズが２％以下である透明膜を形成可能な塗布組成物であって、少なくとも２種の溶剤を含有し、かつ、少なくとも１種の溶剤の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上であり、該粘度１ｍＰａ・ｓ以上の溶剤と他の溶剤との表面張力差がいずれも６ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする塗布組成物。
【請求項２】
粘度が１ｍＰａ・ｓ〜６．５ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１に記載の塗布組成物。
【請求項３】
該粘度１ｍＰａ・ｓ以上の溶剤と他の溶剤との沸点差がいずれも３０℃以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布組成物。
【請求項４】
熱または活性エネルギー線照射により重合可能な化合物が含フッ素化合物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布組成物。
【請求項５】
溶剤の少なくとも１種がケトン系の溶剤であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の塗布組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の塗布組成物を透明基材上に塗布し、乾燥により溶媒を除去し、熱または活性エネルギー線照射により硬化することにより得られる膜厚２００ｎｍ以下の光学機能層。
【請求項７】
屈折率が１．４５以下であることを特徴とする請求項６に記載の光学機能層。
【請求項８】
透明支持体上に樹脂ビーズを含有するハードコート層を有し、その上に請求項６又は７に記載の光学機能層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項９】
樹脂ビーズを含有するハードコート層が、少なくとも１種の平均粒子径０．５〜８μｍの透光性粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．３０であり、かつ該透光性粒子が光散乱層全固形分の３〜３０質量％含有されてなることを特徴とする請求項８に記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
２種以上の残留溶剤が検出でき、少なくとも１種の溶剤の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上であり、かつ該粘度１ｍＰａ・ｓ以上の溶剤と他の溶剤との表面張力差がいずれも６ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１１】
バックアップロールによって支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから塗布組成物を塗布したのちに、溶剤乾燥、必要に応じて電離放射線または熱で硬化することを特徴とする請求項６又は７に記載の光学機能層の製造方法。
【請求項１２】
スロットダイのウェブ進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とするスロットダイを使用し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブの隙間を、前記ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いて塗布されることを特徴とする請求項１１に記載の光学機能層の製造方法。
【請求項１３】
塗布時のウェブの搬送速度が２０ｍ／分以上であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の光学機能層の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学機能層用の塗布組成物、光学機能層、光学機能層の製造法、及び反射防止フィルム光学機能層に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学機能フィルムとしての反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。
【０００３】
このような反射防止フィルムは、一般的にはフィルムの最表層に１００ｎｍ程度の膜厚で、低屈折率層を形成することにより作製できる。低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムはディスプレイの最表面に用いられるため、最表層である低屈折率層は、高い耐擦傷性、防汚性、透明性など、屈折率以外にも皮膜自体の特性への要求が多く、その特性を満たす必要がある。
【０００４】
近年ディスプレイの薄型化、大型化の流れに伴い、反射防止フィルムもより広い面積で均一な面状を要求されるようになっている。低屈折率層を形成する方法としては、従来、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法、スパッタリング法により金属酸化物膜を形成することが行われてきた。
【０００５】
しかし、蒸着やスパッタリングによる金属酸化物の透明薄膜の形成方法は生産性が低く大量生産に適しておらず、生産性が高い湿式成膜法、特に塗布方式により形成する方法が提案されている。
【０００６】
塗布方式は一般には、被膜の形成物質を希釈溶剤からなる塗布組成物を、連続して搬送されるベース上に塗布した後、乾燥により溶剤を除去し、熱または活性エネルギー線照射により硬化させ、被膜を形成する方法である。
【０００７】
反射防止フィルムに関しては、コストダウンの観点より、生産性の向上が求められており、塗布高速化は必須の技術である。ただし、塗布速度の高速化は、同伴風や乾燥風による膜厚ムラを生じさせやすく、反射防止フィルムで要求される面状均一性を維持することが難しくなる。ここで言う面状均一性とは、反射防止性能に代表される光学性能のバラツキ、および耐擦傷性能などの膜物性のバラツキ、および目視による反射色味のバラツキがディスプレイにおける全表示部内で小さいことを言う。
【０００８】
特に低屈折率層は乾膜の膜厚が非常に薄いため、塗布組成物の固形分濃度が低く、一般に粘度の低い溶液を用いることになる。粘度が低いと前述の乾燥風の影響を受けやすく、塗布の高速化に伴い、風ムラが発生しやすいという問題がある。
【０００９】
また、粘度が低いと塗布の塗り付け時に装置振動などの外乱による塗膜の厚み変動も起きやすく、塗布方式により、低屈折率層を高速で面状を均一に形成するためには、塗布組成物の粘度を適切な粘度に増粘させる方法があると好ましい。
【００１０】
粘度を調整させる方法としては、粘度調節剤の添加、塗布組成物に含まれる樹脂分の種類、分子量などを用いることが可能である。しかし、粘度調節剤を添加すると乾膜中の粘度調整剤の含有量が大きくなり、前述した低屈折率層に求められる諸特性が大きく変化することがある。また樹脂分の種類、分子量などを変化させると、合成プロセス、被膜の特性、塗布組成物の経時安定性などが変化し、問題を起こす場合がある。したがって、粘度が高い溶剤を使用することで、塗布組成物の粘度を調節するのが好ましい。
【００１１】
従来、塗布組成物の溶剤については特許文献１のように、塗布時の乾燥速度を早くするため、沸点を規定して、塗布組成物の粘度について考慮されていない。また、安易に溶剤組成を変更すると樹脂分の溶解、無機微粒子の分散状態などが変化するため実用化するのが困難であった。
【００１２】
高速で低屈折率層を形成するためには塗布方式も非常に重要である。反射防止フィルムの塗布方式としてはこれまでディップコート法、マイクログラビア法、リバースロールコート法などが主に用いられてきた。
【００１３】
ところが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。また、リバースロールコート法、マイクログラビア法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。更に、マイクログラビア法では、グラビアロールの製作精度やブレードとグラビアロールの当たりによるロールやブレードの経時変化により、塗布量ムラを発生しやすい。
【００１４】
また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が比較的困難である。そのため、これらの塗布方式では、ある速度以上の塗布の高速化が困難であり、蒸着法などに比べれば生産性が高いものの塗布本来の生産性の高さが活かし切れていない。
【００１５】
一方、特許文献２のダイコート法は、前計量塗布方式であるため、膜厚の安定性が高い利点がある。ただし、通常一般的に用いられているダイの構成を用いて塗布を行うので、前記の各種塗布方式と同程度の高速性しか実現することができない。具体的には、反射防止層のような薄層塗布では、透明支持体の搬送方向と垂直及び平行な向きに発生する膜厚ムラが顕著に発生し、膜厚の安定性を保つことが難しい。
【００１６】
これに対し、既述した特許文献３及び４のダイコート法では、ダイの構成を工夫することによって精度よく薄層の塗布が行えるとされている。したがって、この方法を用いることで反射防止層のような薄層を精度よく塗布することが可能となる。ところが、液の種類によっては、高速での塗布が困難であり、時には塗布自体が不可能である事も見受けられていた。
【００１７】
特に前述の様に、塗布組成物を増粘させると、塗布時のベースの搬送速度を高速化していった時の塗膜の塗り付き限界速度が低下し、問題が生じる場合がある。
【特許文献１】特開２００３−１４８４０４号公報
【特許文献２】特開平７−１５１９０４号公報
【特許文献３】特開２００３−２０００９７号公報
【特許文献４】特開２００３−２１１０５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、生産性が蒸着法や他の塗布方式よりも優れ、膜厚均一性が高い反射防止フィルムを製造するための塗布組成物および製造方法を提供することを目的とする。また、該塗布組成物、製造方法で作成された光学機能層、反射防止膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、特定の特性を有する２種以上の溶剤を添加すること、および、特定の塗布方式を用いることで上記目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の上記目的は、下記塗布組成物、光学機能層、反射防止フィルム、製造方法によって達成される。
【００２０】
（１）熱または活性エネルギー線照射により重合可能な化合物および溶剤を含有し、硬化後の屈折率が１．５０以下であり、かつ、厚み１００ｎｍの膜を形成した時のヘイズが２％以下である透明膜を形成可能な塗布組成物であって、少なくとも２種の溶剤を含有し、かつ、少なくとも１種の溶剤の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上であり、該粘度１ｍＰａ・ｓ以上の溶剤と他の溶剤との表面張力差がいずれも６ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする塗布組成物。
（２）粘度が１ｍＰａ・ｓ〜６．５ｍＰａ・ｓであることを特徴とする上記（１）に記載の塗布組成物。
（３）該粘度１ｍＰａ・ｓ以上の溶剤と他の溶剤との沸点差がいずれも３０℃以下であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の塗布組成物。
（４）熱または活性エネルギー線照射により重合可能な化合物が含フッ素化合物であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の塗布組成物。
【００２１】
（５）溶剤の少なくとも１種がケトン系の溶剤であることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の塗布組成物。
（６）上記（１）〜（５）のいずれかに記載の塗布組成物を透明基材上に塗布し、乾燥により溶媒を除去し、熱または活性エネルギー線照射により硬化することにより得られる膜厚２００ｎｍ以下の光学機能層。
（７）屈折率が１．４５以下であることを特徴とする上記（６）に記載の光学機能層。
【００２２】
（８）透明支持体上に樹脂ビーズを含有するハードコート層を有し、その上に上記（６）又は（７）に記載の光学機能層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
（９）樹脂ビーズを含有するハードコート層が、少なくとも１種の平均粒子径０．５〜８μｍの透光性粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．３０であり、かつ該透光性粒子が光散乱層全固形分の３〜３０質量％含有されてなることを特徴とする上記（８）に記載の反射防止フィルム。
（１０）２種以上の残留溶剤が検出でき、少なくとも１種の溶剤の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上であり、かつ該粘度１ｍＰａ・ｓ以上の溶剤と他の溶剤との表面張力差がいずれも６ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【００２３】
（１１）バックアップロールによって支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから塗布組成物を塗布したのちに、溶剤乾燥、必要に応じて電離放射線または熱で硬化することを特徴とする上記（６）又は（７）に記載の光学機能層の製造方法。
（１２）スロットダイのウェブ進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とするスロットダイを使用し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブの隙間を、前記ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いて塗布されることを特徴とする上記（１１）に記載の光学機能層の製造方法。
（１３）塗布時のウェブの搬送速度が２０ｍ／分以上であることを特徴とする上記（１１）又は（１２）に記載の光学機能層の製造方法。
【発明の効果】
【００２４】
本発明は上記の通り、光学機能層を形成するための塗布組成物中に、特定の特性を有する２種以上の溶剤を含有することを大きな特徴とし、これにより、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等のない面状均一性を高速塗布にて確保することができる。この特定の特性を有する２種以上の溶媒は、特に、反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れ、好ましい。特に低屈折率層のように固形分濃度が低い塗布組成物において効果が顕著である。
かかる特定の特性を有する２種以上の溶剤は、反射防止フィルムにおいても残存溶剤としてガスクロマトグラフ等で検出することができる。
【００２５】
従って、本発明の反射防止フィルムは、十分な反射防止性、耐擦傷性を有しながら、面状に優れ、ムラが少なく、塗布適性にも優れている。更に、安定に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明の実施の一形態として、本発明の光学機能フィルムの好適な一態様である反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。
【００２７】
図１に模式的に示される断面図は、本発明の反射防止フィルムの一例であり、反射防止フィルム１は、透明支持体２、二種類の機能層(防眩性ハードコート層３、低屈折率層４)、の順序の層構成を有する。防眩性ハードコート層３としては、透光性樹脂にマット粒子５が分散しており、防眩性ハードコート層３のマット粒子５以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層４の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。また、少なくとも１種のマット粒子の平均粒子径０．５〜８μｍであることが好ましく、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２であり、かつ該透光性粒子が光散乱層全固形分の３〜３０質量％含有されてなることが好ましい。
【００２８】
本発明における光学機能層は、このように防眩性を有するハードコート層でもよいし、防眩性を有しないハードコート層でもよく、また光拡散層でもよく、更に、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。防眩性を有するハードコート層がある場合は、他の層としてハードコート層を設けなくてもよい。光学機能層である低屈折率層は最外層に塗設される。
【００２９】
さらに、低屈折率層は下記数式（VII）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（VII）      （ｍλ/４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍλ/４）×１．３
（式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。）
なお、上記数式（VII）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（VII）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【００３０】
次いで、本発明の反射防止フィルムにおいて、光学機能層を形成する塗布組成物に用いる溶媒について以下に説明する。
【００３１】
塗布組成物において使用する２種以上の溶媒をそれぞれ溶剤Ａ，Ｂ，Ｃ，・・・とする。溶剤Ａは任意に選択することができる。例えば、沸点が１００℃以下の溶媒（カッコ内は沸点（℃）、表面張力（ｄｙｎ／ｃｍ）、粘度（ｍＰａ・ｓ）の順、以下「℃」「ｄｙｎ／ｃｍ」「ｍＰａ・ｓ」を省略する）としては、ヘキサン（６８．７、１８．４、０．３１３）、ヘプタン（９８．４、２０．３，０．４１８）、シクロヘキサン（８０．７、２５．３，０．９８０）、ベンゼン（８０．１、２８．９，０．６４９）などの炭化水素類、ジクロロメタン（４０．４、２８．１，０．４２５）、クロロホルム（６１．２、２７．１、０．５６３）、四塩化炭素（７６．７、２６．８，０．９６５）、１，２−ジクロロエタン（８３．５、３２．２，０．８４０）、トリクロロエチレン（８７．２、２９，０．５８）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６、１７．０６，０．２３３）、ジイソプロピルエーテル（６８．５、１７．３４，０．３２９）、テトラヒドロフラン（６６、１６．５、０．５２）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２、２４．３７，０．４１９）、酢酸メチル（５７．８、２４．７６，０．３６２）、酢酸エチル（７７．１、２３．９、０．４５）、酢酸イソプロピル（８９、２４．５，０．５６９）などのエステル類、アセトン（５６．１、２３．７，０．３３７）、２−タノン（＝メチルエチルケトン、７９．６、２４．６，０．４２３）などのケトン類、メタノール（６４．５、２２．５５、０．５９）、エタノール（７８．３、２２．１，１．２２）、２−プロパノール（８２．４、２０．８，２．４１）、１−プロパノール（９７．２、２３．８，２．２６）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６、２９．１，０．３７５）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２、３２．２５，０．３６３）などがある。
【００３２】
沸点が１００℃を越える溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．６、２１．７６，０．５４２）、トルエン（１１０．６、２８．５３，０．５８７）、キシレン（１３８、２８．３１，０．６４４）、テトラクロロエチレン（１２１．２、３２．３２，０．８８）、クロロベンゼン（１３１．５、３３．２８，０．８０３）、ジオキサン（１０１．３、３４．４５，１．４３９）、ジブチルエーテル（１４２．０、２３．４０，０．７４１）、酢酸イソブチル（１１８．３、２３．７，０．６９７）、シクロヘキサノン（１５５．７、３５．１，２．４５）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫに同じ、１１５．９、２５．４，０．５９０）、１−ペンタノール（１１７．７、２５．６０，３．３１）、Ｎ，Ｎ−メチルホルムアミド（１４９．６、３６．７６，０．９２４）、 ジメチルスルホキシド（１８９、４３，２．１４）などがある。
溶剤Ａの種類としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、エステル類、アルコール類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中ではメチルエチルケトンが特に好ましい。
【００３３】
溶剤Ｂは溶剤Ａとの表面張力差と、溶剤の粘度で決める必要がある。また、溶剤Ａとの沸点差が３０℃以下のものが特に好ましい。沸点差が３０℃以下の場合に、低沸点溶剤の蒸発と高沸点溶剤の乾燥という実質二段階の乾燥がおきにくいため、ベナードセルや、相分離をおこすことなく、均一な面状を得ることができ、好ましい。
【００３４】
好ましく用いられる溶剤Ｂの具体例を示すが、本発明の溶剤はこれらに限定されるものではない。
例えば、溶剤Ａとして、メチルエチルケトン（７９．６、２４．６，０．４２３）を選択した場合、溶剤Ｂは、表面張力が１８．６〜３０．６ｄｙｎ／ｃｍ、粘度が１ｍＰａ・ｓ  以上の溶媒を選択する必要がある。この条件に合う溶剤Ｂとして、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、２−メチル２−ブタノール（１０１．８，２２．８，３．７）、１−ブタノール（１１７．７，２３．８，２．９５）、２−ブタノール（９９．５，２２．８，６．６８）、１−ペンタノール（１３７．８，２５．６，３．３１）、ジアセトンアルコール（１６７．９、２９．８，３．２）などがある。更に好ましくは、溶剤Ａとの沸点差が３０℃以下である、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、２−メチル２−ブタノール、２−ブタノールである。
また、溶剤Ａとして、シクロヘキサノン（１５５．７、３５．１，２．４５）を選択した場合、溶剤Ｂとしては、表面張力が２９．１〜４１．１の溶媒を選択する必要がある。この条件に合う溶剤Ｂとして、シクロヘキサノール（１６１．１，３４．２，４９．８）、ジアセトンアルコール、プロピレングリコール（１８８．２，３６．５，５６）などがある。
【００３５】
溶剤を３種以上含有する場合の溶剤の決め方を、３種の溶剤を選択する場合を例として以下に記す。
溶剤Ａとして、メチルエチルケトン（７９．６、２４．６，０．４２３）を選択した場合、溶剤Ｂおよび溶剤Ｃは、表面張力が１８．６〜３０．６ｄｙｎ／ｃｍ、粘度が１ｍＰａ・ｓ  以上の溶媒を選択する必要がある。この条件に合う溶剤Ｂとして、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、２−メチル２−ブタノール（１０１．８，２２．８，３．７）、１−ブタノール（１１７．７，２３．８，２．９５）、２−ブタノール（９９．５，２２．８，６．６８）、１−ペンタノール（１３７．８，２５．６，３．３１）、ジアセトンアルコール（１６７．９、２９．８，３．２）などがある。更に好ましくは、溶剤Ａとの沸点差が３０℃以下である、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、２−メチル２−ブタノール、２−ブタノールである。
溶剤Ｂとして、エタノール（７８．３、２２．１，１．２２）を選択した場合、溶剤Ａおよび溶剤Ｃは、表面張力が１６．１〜２８．１ｄｙｎ／ｃｍの溶媒を選択する必要がある。この条件に合う溶剤Ａおよび溶剤Ｃとして、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、２−タノン（＝メチルエチルケトン）、メタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、などがある。更に好ましくは、溶剤Ａとの沸点差が３０℃以下である、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、２−タノン（＝メチルエチルケトン）、メタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、である。
【００３６】
また、本発明の塗布組成物に使用する溶剤の沸点は１１５℃以下であることが望ましい。沸点が高すぎると乾燥しにくいといったような問題を生じやすい。溶媒の組み合わせとして、メチルエチルケトンとエタノール、メチルエチルケトンと１−プロパノール、メチルエチルケトンと２−プロパノール、メチルエチルケトンと２−メチル２−ブタノール、メチルエチルケトンと２−ブタノールが特に好ましい。
【００３７】
本発明に用いる塗布組成物の粘度は、固形分濃度、塗布性の観点から、１〜６．５ｍＰａ・ｓが好ましく、１〜３．５ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
本発明に用いる塗布組成物の溶剤比率はいずれでもよく、前記粘度の範囲であるように設定することが好ましい。ケトン系溶媒の含有量が塗布組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは３０質量％以上である。
【００３８】
本発明に用いる塗布組成物の中の固形分濃度は１から２０質量％であることが好ましく、１〜１５質量％であることが更に好ましく、1〜１０質量％以下であることが更に好ましく、１〜７質量％以下であることが特に好ましい。固形分濃度が上記範囲内において、塗布時のｗｅｔ膜厚を良好な範囲に確保できるとともに、良好な塗布性を得ることができ、乾燥ムラも発生しにくく、好ましい。
【００３９】
次に、本発明の光学機能フィルム、特に反射防止フィルムにおける光学機能層について説明する。本発明における光学機能層としては、低屈折率層、防眩性ハードコート層などが挙げられる。
【００４０】
＜低屈折率層＞
本発明に用いられる低屈折率層は、含フッ素化合物を含有することが好ましい。特に、含フッ素化合物を主体とする低屈折率層を構築することが好ましい。含フッ素化合物を主体とする低屈折率層は、通常反射防止フィルムの最外層として位置し、防汚層としての機能も有する。ここで、「含フッ素化合物を主体とする」とは、低屈折率層の中に含まれる構成成分のうち、含フッ素化合物の質量比が最も大きいことを意味し、含フッ素化合物の含有率が低屈折率層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上含まれることがより好ましい。
【００４１】
低屈折率層の含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましく、該架橋又は重合性の官能基は電離放射線硬化性の官能基であることが好ましい。以下、低屈折率層に含まれる含フッ素化合物について記載する。
【００４２】
（含フッ素化合物）
低屈折率層に含まれる含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜１．４５である。
含フッ素化合物としては、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが挙げられる。
【００４３】
含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの架橋又は重合反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレフィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが含まれる。
【００４４】
含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し構造単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位からなる共重合体も用いることができる。
上記共重合体は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることができる。
フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーとしては、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等）、メタクリル酸エステル（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド（例、Ｎ−tert−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。
【００４５】
含フッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物などが挙げられる。
【００４６】
含フッ素界面活性剤は、疎水性部分を構成する炭化水素の水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換されているもので、その親水性部分はアニオン性、カチオン性、ノニオン性および両性のいずれであってもよい。
【００４７】
含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルとしては、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。
【００４８】
低屈折率層に含有され得る含フッ素化合物としては、架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーが特に好ましい。架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーは、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物を架橋又は重合させることにより得られる。
【００４９】
架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有さない含フッ素化合物に、架橋又は重合性の官能基を側鎖として導入することにより得ることができる。架橋又は重合性の官能基としては、光（好ましくは紫外線照射）、電子ビーム（ＥＢ）照射あるいは加熱などにより反応して含フッ素ポリマーが架橋又は重合構造を有するようになる官能基であることが好ましい。架橋又は重合性の官能基としては、（メタ）アクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよび活性メチレン等の基が挙げられる。架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物として、市販品を用いてもよい。
【００５０】
低屈折率層に含有される含フッ素化合物は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位をからなる共重合体を主成分として含有することが好ましい。該共重合体由来の成分は最外層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。以下に、低屈折率層に用いられるのに好ましい上記共重合体について説明する。
【００５１】
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学工業（株）製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン工業（株）製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％であり、特に好ましくは３０〜５０質量％である。
【００５２】
上記共重合体は（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を有する。（メタ）アクリロイル基の導入法は特に限定されるものではないが、例えば、(i)水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、(ii)上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、（メタ）アクリル酸を作用させる方法、(iii)上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(iv)エポキシ基を有するポリマーを合成した後に（メタ）アクリル酸を作用させる方法、(v)カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(vi)３−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法などが挙げられる。これらの中で本発明では特に水酸基を含有するポリマーに対して(i)または(ii)の手法によって（メタ）アクリロイル基を導入することが好ましい。
【００５３】
側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位は、上記共重合体中に５〜９０質量％を占めることが好ましく、３０〜７０質量％を占めることがより好ましく、４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。
【００５４】
上記共重合体には、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合させることもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、より好ましくは０〜４０モル％、特に好ましくは０〜３０モル％である。
【００５５】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２-ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ,Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。
【００５６】
本発明に用いられる含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体の好ましい形態として、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
【００５７】
【化１】
2006219632.tif 000002
【００５８】
一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは炭素数２〜４の連結基であり、直鎖、分岐、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、*−(CH2)2−O−**、*−(CH2)2−NH−**、*−(CH2)4−O−**、*−(CH2)6−O−**、*−(CH2)2−O−(CH2)2−O−**、−CONH−(CH2)3−O−**、*−CH2CH(OH)CH2−O−**、*−CH2CH2OCONH(CH2)3−O−**（*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表す。
【００５９】
一般式（１）中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、好ましくは水素原子である。
一般式（１）中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【００６０】
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【００６１】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０である。
【００６２】
さらに上記共重合体の特に好ましい形態として下記一般式（２）で表されるものが挙げられる。
【００６３】
【化２】
2006219632.tif 000003
【００６４】
一般式（２）中、Ｘ、ｘ、ｙはそれぞれ一般式（１）と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（１）におけるＡの例として説明したものが挙げられる。
ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のモル％を表し、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。
一般式（２）で表される共重合体としては、４０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦６０、ｚ２＝０を満たすものが特に好ましい。
【００６５】
一般式（１）又は一般式（２）で表される共重合体の好ましい具体例として、特開２００４−４５４６２号公報の段落［００４３］〜［００４７］に記載されたものが挙げられる。また、一般式（１）又は一般式（２）で表される共重合体の合成法も該公報に詳しく記載されている。
【００６６】
本発明において、低屈折率層を作製するのに用いる組成物は、塗料の形態をとることが好ましく、含フッ素化合物を必須の構成成分とし、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが０．０１質量％〜６０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【００６７】
低屈折率層は、目的に応じて充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）、オルガノシラン化合物及びその誘導体、バインダー、界面活性剤等の添加剤を含有することができる。特に、充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）を添加することは好ましい。
以下に、低屈折率層に用いる好ましい充填剤、滑り剤等について記載する。
【００６８】
（低屈折率層の好ましい充填剤）
充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）を改良する点で、添加することが好ましい。低屈折率層に添加する充填剤としては無機微粒子が好ましく、中でも屈折率が低い二酸化珪素（シリカ）、中空のシリカ、細孔を有するシリカ、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）などが好ましい。特に好ましいのは二酸化珪素（シリカ）、中空シリカである。
【００６９】
充填剤の一次粒子の質量平均粒径は、１ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１ｎｍ〜８０ｎｍであることが最も好ましい。低屈折率層において充填剤は、より微細に分散されていることが好ましい。充填剤の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、不定形状であることが好ましく、また、粒子構造として中空、細孔または微細空隙を有する構造であることがさらに好ましい。特に好ましい形状は、球形状、不定形状である。充填剤は、結晶質、非晶質のいずれでも良い。
【００７０】
充填剤は、分散液中または塗料中で、分散安定化を図るために、あるいは低屈折率層の構成成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤による表面処理が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシ化合物（例、チタネートカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。特に、シランカップリング剤処理が有効である。
【００７１】
充填剤の表面処理は、低屈折率層の塗料の調製前にあらかじめ表面処理を実施しておくことが好ましいが、カップリング剤による表面処理の場合、塗料の調製時に塗料中にカップリング剤を添加して実施することも好ましい。
充填剤は、媒体（溶媒など）中に予め分散されていることが好ましい。
【００７２】
充填剤の添加量は、物理強度（耐擦傷性など）の改良効果及び低屈折率層に白濁を起こさないこと等の観点から、低屈折率層の全質量に対し５質量％〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは１０質量％〜５０質量％、特に好ましくは２０質量％〜４０質量％である。
【００７３】
充填剤の平均粒径は、低屈折率層の膜厚に対し２０％〜１００％が好ましく、より好ましくは３０％〜８０％、特に好ましくは３０％〜５０％である。
【００７４】
低屈折率層に添加する充填剤が二酸化珪素微粒子の場合、中空の二酸化珪素微粒子を用いることが特に好ましい。中空の二酸化珪素微粒子は、屈折率が１．１７〜１．４５であることが好ましく、より好ましくは１．１７〜１．４０、さらに好ましくは１．１７〜１．３７である。ここで、中空の二酸化珪素微粒子の屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の二酸化珪素微粒子を形成している外殻の二酸化珪素のみの屈折率を表すものではない。中空の二酸化珪素微粒子を用いることで低屈折率層の屈折率を下げることができる。
【００７５】
粒子内の空洞の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘは下記数式（１）で表される。
数式（１）  ｘ＝(４πａ3／３)／（４πｂ3／３）×１００
【００７６】
空隙率ｘは１０〜６０%が好ましく、２０〜６０%がさらに好ましく、３０〜６０%であることが最も好ましい。
【００７７】
充填剤は、２種類以上を併用して用いることも好ましい。また、平均粒子径が異なる粒子を併用して用いることもできる。
【００７８】
（低屈折率層の好ましい滑り剤）
滑り剤は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、防汚性を改良する点で添加することが好ましい。
滑り剤としては、含フッ素エーテル化合物（パーフルオロポリエーテル、及び、その誘導体など）、ポリシロキサン化合物（ジメチルポリシロキサン、及び、その誘導体など）などが挙げられる。ポリシロキサン化合物が好ましい。
【００７９】
ポリシロキサン化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物の末端及び側鎖の少なくともいずれかに置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物中にはジメチルシリルオキシ単位以外の構造単位（置換基）を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。
【００８０】
好ましい置換基の例としては（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
【００８１】
滑り剤の分子量は特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シロキサン化合物のＳｉ原子含有量は特に制限はないが５質量％以上であることが好ましく、１０〜６０質量％であることが特に好ましく、１５〜５０質量％であることが最も好ましい。
【００８２】
特に好ましい滑り剤は、下記一般式（Ａ）で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体（誘導体とは、例えば、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物の架橋又は重合体、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物とポリシロキサン化合物以外の架橋又は重合可能な官能基を有する化合物との反応生成物などである）である。
【００８３】
【化３】
2006219632.tif 000004
【００８４】
一般式（Ａ）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4のうち少なくとも一つの基が架橋又は重合性の官能基を表す。
ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、｛    ｝で囲われているポリシロキサン部分はランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。
【００８５】
本発明の低屈折率層は、一般式（Ａ）で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかと含フッ素化合物とを含む硬化物を含有することが好ましい。
【００８６】
ポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかの含有量は、含フッ素化合物に対し、０．１〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。
【００８７】
ポリシロキサン化合物及びその誘導体の好ましい架橋又は重合性の官能基は、最外層の他の構成成分（含フッ素化合物、バインダー、など）と架橋又は重合反応して結合を形成することができる官能基であればよく、例えば、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、カチオン重合可能な基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニル基、ビニルオキシ基等）、ラジカル種による架橋または重合が可能な不飽和二重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基等）、加水分解性シリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、酸無水物、イソシアネート基、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。
【００８８】
これらの架橋又は重合性官能基は低屈折率層の構成成分に合わせて適宜選択される。好ましくは、電離放射線硬化性の官能基である。
【００８９】
また、一般式（Ａ）の架橋又は重合性の官能基は、含フッ素化合物が有する架橋又は重合性の官能基と架橋又は重合反応することが好ましく、特に好ましい官能基はカチオン開環重合反応性基（特に、エポキシ基、オキセタニル基など）、ラジカル重合反応性基（特に、（メタ）アクリロイル基）である。
【００９０】
一般式（Ａ）のＲ2が表す置換基は、炭素数１〜２０の置換又は無置換の有機基であり、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等）、フッ素化アルキル基（トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）または炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）であり、より好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、フッ素化アルキル基またはフェニル基であり、特に好ましくはメチル基である。これらはさらにこれらの基で置換されていてもよい。
一般式（Ａ）のＲ1、Ｒ3、Ｒ4が架橋又は重合性の官能基でない場合、上記有機基であることができる。
【００９１】
ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは５０≦ｑ≦４００であり、特に好ましくは１００≦ｑ≦３００である。ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは０≦ｒ≦ｑであり、特に好ましくは０≦ｒ≦０．５ｑである。
【００９２】
一般式（Ａ）で表される化合物のポリシロキサン構造は、その繰り返し単位（−ＯＳｉ（Ｒ2）2−）が単一の置換基（Ｒ2）のみで構成された単独重合体であっても、異なる置換基を有する繰り返し単位の組み合わせによって構成されたランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であってもよい。
【００９３】
一般式（Ａ）で表される化合物の質量平均分子量は、１０3〜１０6であることが好ましく、より好ましくは５×１０3〜５×１０5であり、特に好ましくは１０4〜１０5である。
【００９４】
一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物は市販されているもの、例えば、KF-100T、X-22-169AS、KF-102、X-22-3701IE、X-22-164B、X-22-164C、X-22-5002、X-22-173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(信越化学工業（株）製)、AK-5、AK-30、AK-32（東亜合成化学（株）製）、サイラプレーンFM-0275、FM-0721、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(チッソ（株）製)等を用いることもできる。また、市販のポリシロキサン化合物が含有する水酸基、アミノ基、メルカプト基等に架橋、又は、重合性官能基を導入することで作製することもできる。
【００９５】
以下に、一般式（Ａ）で表される好ましいポリシロキサン化合物の好ましい具体例として特開２００３−３２９８０４号公報の［００４１］〜［００４５］に記載されたものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９６】
一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかの添加量は、最外層の全固形分に対し、０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０質量％、更に好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。
【００９７】
（低屈折率層の作製法）
低屈折率層は、上記含フッ素化合物、さらに必要に応じて、上記充填剤、上記ポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを溶媒に溶解、又は、分散した塗料を塗布することにより作製することが好ましい。
【００９８】
架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であれば、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、含フッ素化合物を架橋又は重合反応させ、低屈折率層を作製することが好ましい。
含フッ素化合物が、ラジカルで架橋又は重合する官能基を有していれば、ラジカル重合開始剤、特に光ラジカル重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。また、カチオンで架橋又は重合する官能基を有していれば、カチオン重合開始剤、特に光カチオン重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。
【００９９】
ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するものが好ましい。特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
【０１００】
熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【０１０１】
光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、例えば紫外線など用いる化合物に応じた光の照射によって硬化させ、低屈折率層を作製することができる。
光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、高薄一弘著「最新ＵＶ硬化技術」（（株）技術情報協会、１５９頁、１９９１年）に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
【０１０２】
光重合開始剤は、含フッ素化合物１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。さらには、これらの光重合開始剤と併用して光増感剤も好ましく用いることができ、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。市販の光増感剤も好ましく用いることができる。
【０１０３】
バインダーは、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、最外層と隣接する層との密着性を改良する点で、添加することが好ましい。
含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーは含フッ素化合物と架橋又は重合する官能基を有するバインダーであることが好ましい。
特に、含フッ素化合物が、光架橋又は光重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーとして光架橋又は光重合性の官能基を有する多官能モノマーであることが好ましい。光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、帯電防止層で記載したものが挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
本発明の低屈折率層に用いる含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であることが好ましい。該含フッ素化合物と組み合わせて用いることのできる化合物としては、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及びその誘導体、該架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダー等を挙げることができる。該含フッ素化合物とを組み合わせて用いる化合物は複数種を併用してもよい。
【０１０４】
低屈折率層は、含フッ素化合物、その他最外層の構成成分を溶解あるいは分散させた塗料を、塗布と同時又は塗布後に、光照射、電子線ビーム照射、加熱処理などを実施して、架橋又は重合反応させ、作製することが好ましい。
紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【０１０５】
低屈折率層の作製は、特に最外層を電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
低屈折率層を酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性、更には、最外層と最外層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で、電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。
酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１０６】
低屈折率層の膜厚は３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。低屈折率層を防汚層として用いる場合、膜厚は３〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましくは７〜２５ｎｍである。
【０１０７】
低屈折率層は反射防止フィルムの物理強度を改良するために、表面の動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
【０１０８】
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
また、低屈折率層の表面の水に対する接触角は後述する鹸化処理の前後で変わらないことが望ましく、鹸化処理の前後で変化量が１０°以内であることが好ましく、特に好ましくは５°以内である。
【０１０９】
低屈折率層を厚み１００ｎｍの膜を形成した時のヘイズは、低いほど好ましい。２％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．５％以下、特に好ましくは１％以下である。
【０１１０】
低屈折率層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１１１】
低屈折率層には、前記の成分（含フッ素化合物、重合開始剤、光増感剤、充填剤、滑り剤、バインダーなど）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
【０１１２】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．２５〜１．５０、更に好ましくは１．３０〜１．５０、特に好ましくは１．３５〜１．４９である。
低屈折率層には、後述の一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物、及び、その誘導体（加水分解物、および該加水分解物が縮合して生成した架橋ケイ素化合物など）からなる群から選ばれた化合物を含有することも好ましい。
【０１１３】
＜防眩性ハードコート層＞
防眩性ハードコート層は、主にモノマー類が電離放射線等で硬化して形成する透光性ポリマーからなる主バインダー、透光性粒子、および高屈折率化または低屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための微細無機フィラー、高分子化合物から形成される。
防眩性ハードコート層の厚さは、通常０．５μｍ〜３０μｍ程度で、好ましくは１μｍ〜１５μｍ、さらに１．２μｍ〜１０μｍがより好ましい。厚さが上記範囲であると、カール、ヘイズ値、高コスト等の欠点がなく、しかも防眩性と光拡散効果の調整も容易である。
【０１１４】
（主バインダー）
防眩性ハードコート層を形成する主バインダーとしては、電離放射線等硬化後に飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有する透光性ポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、硬化後の主バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
硬化後に飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマー（バインダー前駆体）の重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。
【０１１５】
防眩性ハードコート層を形成するための、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
さらに、二個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマーまたはプレポリマー等も挙げられる。これらのモノマー、は２種以上併用してもよく、また、二個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂はバインダー全量に対して１０〜７０％含有することが好ましい。
【０１１６】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【０１１７】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラー、その他の添加剤を含有する硬化組成物を調製し、該硬化組成物を透明支持体上に塗布後、電離放射線あるいは熱よる重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成する。電離放射線硬化と熱硬化を合わせて行うことも好ましい。
バインダーの屈折率は、好ましくは１．４０〜２．１０であり、より好ましくは１．４５〜２．００であり、更に好ましくは１．５０〜２．００である。なお、バインダーの屈折率は、光拡散層の成分から透光性粒子を除いて測定した値である。
防眩性ハードコート層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して２０〜９５質量％の範囲で添加することが好ましい。
【０１１８】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−アルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−エトキシアセトフェノン、ｐ−メチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−クロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（P．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光ラジカル重合開始剤も好ましく用いることができ、低屈折率層の項で記載した開始剤等が挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンが挙げられる。
【０１１９】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【０１２０】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性粒子および無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成することができる。
【０１２１】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
防眩性ハードコート層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して２０〜９５質量％添加することが好ましい。
【０１２２】
（透光性粒子）
防眩性ハードコート層には、後記の微細無機フィラー粒子より粒径が大きく、平均粒径が０．５μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．５μｍ〜８μｍの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。これは、ディスプレイ表面で反射する外光を散らして弱めたり、液晶表示装置の視野角（特に下方向視野角）を拡大し、観察方向の視角が変化してもコントラスト低下、黒白反転または色相変化を起こりにくくする目的で用いられる。平均粒径が上記範囲において、防眩効果が発現し、しかもザラツキ感が起こらず、好ましい。
透光性粒子と透光性樹脂との間の屈折率差は、フィルムの白濁が生じないこと及び十分な光拡散効果を得る観点から、０．０２〜０．３０であることが好ましく、０．０２〜０．２０であることが特に好ましい。
【０１２３】
透光性粒子の透光性樹脂に対する添加量も、同様な観点から、好ましい範囲が決められる。透光性粒子の好ましい層内含有率は、防眩性ハードコート層全固形分中３質量％〜４０質量％であり、５質量％〜２５質量％％であることが特に好ましい。
透光性粒子の塗布量は、形成された防眩性ハードコート層中の粒子量において好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜１００００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは５０ｍｇ／ｍ2〜４０００ｍｇ／ｍ2、最も好ましくは１００ｍｇ／ｍ2〜１５００ｍｇ／ｍ2となるように拡散層に含有される。
透光性粒子の粒径と含有する層の膜厚との関係は、透光性粒子の平均粒径が含有する層の膜厚の２０％〜１００％であることが好ましく、３０％〜８０％がより好ましく、３５％〜７０％が最も好ましい。平均粒径がこの範囲であると画面の黒しまりに優れ、かつ防眩性にも優れる。
粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。平均粒径は得られた粒子分布から算出する。
【０１２４】
透光性粒子は、異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。２種類以上の透光性粒子を用いる場合には、複数種類の粒子の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために、最も屈折率の高い透光性粒子と最も屈折率の低い透光性粒子との間の屈折率の差が０．０２以上、０．１０以下であることが好ましく、０．０３以上、０．０７以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することも可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性粒子より小さな粒子径で、透光性樹脂の屈折率と異なる透光性粒子を併用することにより大きく改善することができる。
【０１２５】
上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、中空シリカ粒子、アルミナ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、ポリカーボネート粒子、ポリ塩化ビニル粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、シリカ粒子が好ましい。
【０１２６】
透光性粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できるが、ヘイズ値と拡散性の制御性、塗布面状の均質性から単分散粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つ粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布の粒子を得ることができる。
【０１２７】
防眩性ハードコート層には、層の屈折率を高めるため、上記の透光性粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、及びアンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、一次粒子の平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である微細な無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、高屈折率の透光性粒子を用いた防眩性ハードコート層では、透光性粒子との屈折率差を大きくするためにバインダーの屈折率を低くしなければならない。このためにシリカ微粒子、中空シリカ微粒子を用いることも好ましい。好ましい粒径は前記の高屈折率化微細無機フィラーと同じである。
【０１２８】
防眩性ハードコート層に用いられる微細無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2およびＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの微細無機フィラーの添加量は、防眩性ハードコート層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、微細無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分短いために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質の性質を有する。
【０１２９】
本発明の防眩性ハードコート層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【０１３０】
ハードコート層には樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
【０１３１】
＜その他の構成要素＞
（帯電防止層）
本発明の防眩性反射防止フィルムは表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止するために帯電防止層を用いることも好ましい。防塵性は、表面の表面抵抗値を下げることで発現される。表面抵抗値は、１×１０13Ω／□以下であることが好ましく、１×１０12Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０10Ω／□以下であることが更に好ましい。
帯電防止層は、防眩性ハードコート層と低屈折率層の間、または透明支持体と防眩性ハードコート層の間に設けることが好ましい。
【０１３２】
帯電防止層を塗布で形成する場合、導電材（電子伝導型の導電性粒子、イオン伝導型の有機化合物など）を結着剤（バインダーなど）に含有させて、帯電防止層を形成することが好ましい。特に、電子伝導型の導電材が、環境の変化を受け難く導電性能が安定するので低湿環境下でも良好な導電性能を発現する点で好ましい。
【０１３３】
帯電防止層に用いられる好ましい導電材としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、などが挙げられる。
導電材の一次粒子の質量平均粒径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１００ｎｍである。導電材の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましい。
【０１３４】
導電材の分散においては、分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。分散は、例えばカルボキシル基、スルホン酸基（スルホ基）、リン酸基（ホスホノ基）、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有するアニオン性基を有する分散剤を用いることができる。アニオン性の極性基を有する分散剤としては、ホスファノール（PE−510、PE−610、LB−400、EC−6103、RE−410など；東邦化学工業（株）製）、Disperbyk（−110、−111、−116、−140、−161、−162、−163、−164、−164、−170、−171など；ビックケミー・ジャパン社製）などが挙げられる。分散剤は、さらに架橋又は重合性の官能基を含有することが好ましい。
【０１３５】
分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。
中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノール、プロパノ−ル、セロソルブ類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）が好ましく、特に好ましくは、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
【０１３６】
導電材は、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、アイガーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミル、ペイントシェーカーなどのメディア型分散機を用いて分散することが好ましい。
導電材は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均粒径は１〜２００ｎｍが好ましい。
【０１３７】
帯電防止層のバインダー前駆体としては、前記光拡散層等に記載の（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなどが好ましい。
帯電防止層の形成は、４体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましい。
【０１３８】
帯電防止層の膜厚は用途により適切に設計することができ、透明性を優先して帯電防止層を形成する場合、膜厚は１μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。
また、帯電防止層がハードコート処理されハードコート層を兼ねる場合、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。
【０１３９】
帯電防止層には、前記の成分（導電材、重合開始剤、光増感剤、バインダーなど）以外に、樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
【０１４０】
(透明支持体)
透明支持体としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
【０１４１】
透明支持体がトリアセチルセルロースフィルムの場合、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延の何れかの流延方法により作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
【０１４２】
特に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを用いて作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
本発明に好ましく用いられるトリアセチルセルロースフィルムについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）に例示されている。
【０１４３】
上記の透明支持体の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍ、最も好ましくは４０〜１００μｍである。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは低い方が好ましい。２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。
【０１４４】
透明支持体には、赤外線吸収剤または紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
また、透明支持体には、滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＢａＳＯ4、ＣａＣＯ3、タルクおよびカオリンが含まれる。
【０１４５】
透明支持体に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理とコロナ放電処理が特に好ましい。
【０１４６】
（オルガノシラン化合物）
本発明に係る防眩性反射防止フィルムの各層に特に好ましく用いることができるオルガノシラン化合物について記載する。
皮膜の物理強度（耐擦傷性など）、皮膜と皮膜に隣接する層の密着性を改良する点でオルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物を透明支持体上のいずれかの層に添加することが好ましい。
【０１４７】
オルガノシラン化合物及びその誘導体としては、下記一般式（ａ）で表される化合物及びその誘導体を用いることができる。好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するオルガノシラン化合物であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイルなど）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノなど）を含有するオルガノシラン化合物である。
【０１４８】
一般式（ａ）：（Ｒ10）S−Ｓｉ（Ｚ）4-S
【０１４９】
一般式（ａ）中、Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、sec−ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６である。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｚは、水酸基または加水分解可能な基を表す。例えばアルコキシ基（炭素数1〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ12ＣＯＯ（Ｒ12は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｓは１〜３の整数を表す。好ましくは１または２であり、特に好ましくは１である。
Ｒ10あるいはＺが複数存在するとき、複数のＲ10あるいはＺはそれぞれ異なっていてもよい。
【０１５０】
Ｒ10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更にこれらの置換基で置換されていてもよい。
【０１５１】
これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基である。特に、架橋又は重合性の官能基が好ましく、エポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイル）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）が好ましい。またこれら置換基は更に上記の置換基で置換されていてもよい。
【０１５２】
Ｒ10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の中でも、下記一般式（ｂ）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物及びその誘導体から選択される少なくとも１種の化合物が好ましい。
【０１５３】
【化４】
2006219632.tif 000005
【０１５４】
一般式（ｂ）において、Ｒ11は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−**、*−Ｏ−**、又は*−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−**を表し、単結合、*−ＣＯＯ−**、*−ＣＯＮＨ−**が好ましく、単結合、*−ＣＯＯ−**が更に好ましく、*−ＣＯＯ−**が特に好ましい。ここで、*は＝Ｃ（Ｒ11）−に結合する位置を、**はＬ1に結合する位置を表す。
【０１５５】
Ｌ1は２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０１５６】
ｔは０または１を表す。ｔとして好ましくは０である。
Ｒ10は一般式（ａ）のＲ10と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｚは一般式（ａ）と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。Ｚが複数存在するとき、複数のＺはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【０１５７】
一般式（ａ）、一般式（ｂ）の化合物、及びその誘導体は、２種類以上を併用してもよい。
以下に、一般式（ａ）、一般式（ｂ）で表されるオルガノシラン化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５８】
【化５】
2006219632.tif 000006
【０１５９】
【化６】
2006219632.tif 000007
【０１６０】
これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、および（Ｍ−５）が特に好ましい。
【０１６１】
本発明において、一般式（ａ）、一般式（ｂ）で表されるオルガノシラン化合物の誘導体とは、一般式（ａ）、一般式（ｂ）で表されるオルガノシラン化合物の加水分解物、部分縮合物などを意味する。以下、本発明で用いるオルガノシラン化合物の好ましい誘導体（加水分解物及び部分縮合物）について説明する。
オルガノシラン化合物の加水分解反応及び縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐＫa値（２５℃）)が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
【０１６２】
オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒を塗料あるいは塗料の一部として用いることが好ましく、その他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
【０１６３】
このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。
これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。
【０１６４】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１％〜９０％の範囲であり、好ましくは２０％〜７０％の範囲である。
【０１６５】
オルガノシラン化合物の加水分解性基１モルに対して０．３〜２モル、好ましくは０．５〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
本発明では、一般式Ｒ13ＯＨ（式中、Ｒ13は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式Ｒ14ＣＯＣＨ2ＣＯＲ15（式中、Ｒ14は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ15は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ及びＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物の存在下で、２５〜１００℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。
【０１６６】
金属キレート化合物は、一般式Ｒ13ＯＨ（式中、Ｒ13は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式Ｒ14ＣＯＣＨ2ＣＯＲ15（式中、Ｒ14は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ15は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ13）p1（Ｒ14ＣＯＣＨＣＯＲ15）p2、Ｔｉ（ＯＲ13）q1（Ｒ14ＣＯＣＨＣＯＲ15）q2、およびＡｌ（ＯＲ13）r1（Ｒ14ＣＯＣＨＣＯＲ15）r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
【０１６７】
金属キレート化合物中のＲ13およびＲ14は、同一または異なってもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ15は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１およびｒ２は、それぞれ、ｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【０１６８】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０１６９】
金属キレート化合物は、前記オルガノシラン化合物に対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％の割合で用いられる。金属キレート化合物が上記範囲であれば、オルガノシラン化合物の縮合反応が速く、塗膜の耐久性に優れ、しかもオルガノシラン化合物の加水分解物及び部分縮合物の少なくともいずれかと金属キレート化合物を含有してなる組成物の保存安定性にも優れ、好ましい。
【０１７０】
上記オルガノシラン化合物及びその誘導体（加水分解物、部分縮合物）から選ばれる少なくとも１種の化合物、さらに必要に応じて添加される金属キレート化合物などを含む組成物に、β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかを添加することが好ましい。
【０１７１】
本発明では、一般式Ｒ14ＣＯＣＨ2ＣＯＲ15で表されるβ−ジケトン化合物及びβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかが好ましく用いられ、組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウム及びアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の誘導体（加水分解物、部分縮合物等）などの縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物及びβ−ケトエステル化合物を構成するＲ14及びＲ15は、前記金属キレート化合物を構成するＲ14及びＲ15と同様である。
【０１７２】
このβ−ジケトン化合物及びβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及びβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明において、β−ジケトン化合物及びβ−ケトエステル化合物から選ばれる化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられ、得られる組成物の保存安定性が向上する。
【０１７３】
上記オルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物の添加量は、添加する層により適宜調整される。添加量は層の全固形分に対し、０．１〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％、さらに好ましくは３〜２５質量％、特に好ましくは５〜２０質量％である。
【０１７４】
オルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物は、これらを含有する層の他の成分と架橋又は重合反応することが、皮膜の物理強度（耐擦傷性など）を極めて向上させることが可能となるので、好ましい。このため、オルガノシラン化合物が架橋又は重合する官能基を有したり、無機微粒子やバインダーなどにオルガノシラン化合物と架橋又は重合する官能基を有する化合物用いたりすることが好ましい。
例えば、電離放射線硬化性の架橋又は重合性の官能基を有するオルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物は、さらに、皮膜中の電離放射線硬化性の架橋又は重合性の官能基を有する他の化合物と架橋又は重合反応して硬化物を生成する。
【０１７５】
オルガノシラン化合物を添加するのに好ましい層は、帯電防止層、ハードコート層、防眩性ハードコート層、光拡散層、高屈折率層、低屈折率層、及び最外層であり、より好ましくはハードコート層、防眩性ハードコート層、光拡散層、低屈折率層、及び最外層であり、特に好ましくは最外層及び該最外層の隣接層である。
【０１７６】
反射防止フィルムの各層を塗布法で作製する上で、層を作製するのに用いる塗料には、面状改良剤を添加することが好ましい。以下に、面状改良剤について説明する。
【０１７７】
（面状改良剤）
透明支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗料には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。
【０１７８】
面状改良剤は、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗料の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗料の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗料の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。
好ましくは、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤、特に好ましくは３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤である。
【０１７９】
フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物（「フッ素系面状改良剤」と略記する）が挙げられる。特に、下記一般式（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位、及び、下記一般式（ii）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような単量体としては、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２，Ｐａｇｅ １〜４８３記載のものを用いることが好ましい。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【０１８０】
【化７】
2006219632.tif 000008
【０１８１】
一般式（ｉ）において、Ｒ21は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ2は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ22）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ22）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ22は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。ａは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが特に好ましい。ｂは１〜１８の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が特に好ましい。
フッ素系面状改良剤中に一般式（ｉ）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていてもよい。
【０１８２】
【化８】
2006219632.tif 000009
【０１８３】
一般式（ii）において、Ｒ23は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ2は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ25）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ25）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ25は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ24は水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、又は置換もしくは無置換の芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基が更に好ましい。以下でポリ（アルキレンオキシ）基について説明する。
【０１８４】
ポリ（アルキレンオキシ）基は、−（ＯＲ）−を繰り返し単位とした基であり、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−が挙げられる。
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位（前記−ＯＲ−）は、ポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであってもよく、直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレンもしくはオキシエチレン単位であっても、または直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレン単位のブロックもしくはオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであってもよい。
【０１８５】
このポリ（オキシアルキレン）鎖は１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Pluronic（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”［Carbowax（グリコ・プロダクス）］、“トリトン”［Toriton（ローム・アンド・ハース（Rohm and Haas製））およびP.E.G（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【０１８６】
本発明で用いられるフッ素系面状改良剤において、フッ素系面状改良剤の形成に用いられる全モノマー量に対する一般式（i）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量が５０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは７０〜１００モル％であり、特に好ましくは８０〜１００モル％の範囲である。
【０１８７】
本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００であり、６，０００〜８０，０００がより好ましく、８，０００〜６０，０００が更に好ましい。
ここで、質量平均分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
【０１８８】
更に、本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい添加量は、添加する層の塗料に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。
【０１８９】
以下、本発明によるフッ素系面状改良剤の具体的な構造の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０１９０】
【化９】
2006219632.tif 000010
【０１９１】
【化１０】
2006219632.tif 000011
【０１９２】
【化１１】
2006219632.tif 000012
【０１９３】
【化１２】
2006219632.tif 000013
【０１９４】
【化１３】
2006219632.tif 000014
【０１９５】
【化１４】
2006219632.tif 000015
【０１９６】
【化１５】
2006219632.tif 000016
【０１９７】
面状改良剤は、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン等）を含有する塗料に用いることが好ましく、特に、ケトン系溶媒が好ましい。ケトン系溶媒の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。
【０１９８】
面状改良剤は、層と層の界面の密着性を悪化させることがある。従って、層の表面に存在する面状改良剤を、該層の隣接層を形成する塗料中に溶出させて、層と層の界面近傍に面状改良剤が残らないようにすることが好ましい。そのため、隣接層の塗料中に面状改良剤を溶解する溶媒を含有させることが好ましい。そのような溶媒としては、上記ケトン系溶媒が好ましい。
【０１９９】
透明支持体上に形成する層の塗料において、面状改良剤を添加するのが特に好ましいのは、ハードコート層、防眩性ハードコート層、帯電防止層、高屈折率層、低屈折率層を形成するための塗料であり、特に好ましいのはハードコート層、防眩性ハードコート層、を形成するための塗料である。
【０２００】
＜光学機能層の形成＞
光学機能層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）により、塗布により形成することができるが、ダイコート法で塗布することが好ましく、更には後述する新規ダイコーターを用いて塗布を行うことがより好ましい。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０２０１】
本発明の光学機能フィルムにおいては、輝点欠陥が少ないことも望まれる。本発明における輝点欠陥とは、目視により、塗膜上の反射で見える欠陥のことで、塗布後の光学機能フィルムの裏面を黒塗りする等の操作により目視で検出できる。目視により見える輝点欠陥は、一般的に５０μｍ以上である。輝点欠陥が多いと製造時の得率が低下し、大面積の反射防止フィルムを製造することができない。
本発明の光学機能フィルムは、輝点欠陥の数が１平方メートル当たり２０個以下、好ましくは１０個以下、さらに好ましくは５個以下、特に好ましくは１個以下とする。
【０２０２】
本発明の光学機能フィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室から放射線硬化室へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、放射線により硬化した層を有するフィルム支持体は熱硬化部へ送られ、加熱されて硬化を完結させることもできる。硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
【０２０３】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能であるが、生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。各層の塗布を連続的に行う装置の構成例を図２に示す。該装置はロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程1と、ロール状の支持体フィルムを巻き取る工程2の間に製膜ユニット100，200，300，400を適宜必要な数だけ設置したものである。図２で示される装置は4層を巻き取ることなく連続的に塗布する際の構成の一例だが、層構成に合わせて製膜ユニット数を変化させることはもちろん可能である。製膜ユニット100は塗布液を塗布する工程101、塗膜を乾燥する工程102、塗膜を硬化する工程103から構成されている。製膜ユニット200，300，400についても同様に構成されている。
【０２０４】
例えば、屈折率の異なる３層薄膜干渉型反射防止膜の場合は、製膜ユニットが3つ設置された装置を用いて、前記ハードコート層を塗設したロール状の支持体フィルムを連続的に送り出し、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を各製膜ユニットで順次塗設した後に巻き取る事がより好ましく、製膜ユニットが4つ順次塗布可能に設置された、図２に示す装置を用いて、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出し、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を各製膜ユニットで順次塗設した後に巻き取る事が更に好ましい。
【０２０５】
本発明における、輝点欠陥の少ない反射防止フィルムを作成するためには、層内に分散する粒子や微粒子の分散性を向上すること、および塗布液の精密濾過操作が挙げられる。と同時に、反射防止層を形成する各層は上記の塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１００（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、より好ましくはクラス１０以上、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【０２０６】
塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）等の乾式除塵法が挙げられる。
【０２０７】
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行う方法、特開２００１−３８３０６号公報に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
【０２０８】
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。
【０２０９】
[濾過]
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。ろ過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。ろ過には絶対濾過精度が０．１〜１０μｍのフィルターが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜５μｍであるフィルターを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、ろ過圧力は１５ｋｇ／ｃｍ２以下、より好ましくは１０ｋｇ／ｃｍ２以下、更には２ｋｇ／ｃｍ２以下で濾過することが好ましい。
ろ過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。
また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【０２１０】
本発明において、反射防止フィルム各層の硬化方法については、塗布組成物を塗布と同時、または塗布後に光照射、電子線ビーム照射や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましい。
反射防止フィルムの各層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が５体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．５体積％以下、最も好ましくは０．１体積％以下である。
【０２１１】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０２１２】
光照射の光源は、紫外線光域或いは近赤外線光のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長３５０〜４２０ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長７５０〜１４００ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。
近赤外光光源を用いる場合、紫外線光源と組み合わせて用いても良いし、或は塗布面側と反対の基材面側より光照射しても良い。塗膜層内の深さ方向での膜硬化が表面近傍と遅滞無く進行し均一な硬化状態の硬化膜が得られる。
【０２１３】
照射する紫外線の照射強度は、０．１〜１０００ｍＷ／ｃｍ２程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±３℃以内が好ましく、更には±１．５℃以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内および層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。
【０２１４】
［ダイコーターの構成］
図３は本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター１０はバックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷＷ上に塗膜１４ｂを形成する。
【０２１５】
スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図３に示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【０２１６】
スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【０２１７】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの進行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。
【０２１８】
図４は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明に用いるスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブＷとの距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩＬＯが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良く行うことができる。
【０２１９】
上流側リップランド１８ａのランド長さＩＵＰは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩＬＯは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩＬＯが３０μｍよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さＩＬＯが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。
【０２２０】
さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブＷに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブＷの隙間ＧL とは、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間を示す。
【０２２１】
図５は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブＷの進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間にはそれぞれ隙間ＧB、ＧSが存在する。図６及び図７は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは図６のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図７のように適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間ＧB、ＧSと定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBとは、減圧チャンバー４０を図５のようにウェブＷ及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブＷまでの隙間を示す。
【０２２２】
バックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧB をスロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間ＧL よりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷ２との隙間ＧLが３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間ＧBは１００μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。
【０２２３】
[材質、精度]
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が２０μｍ以内とすることが好ましい。
【０２２４】
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを３０μｍ〜１００μｍの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣと称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。ＷＣ結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下がさらに好ましい。
【０２２５】
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μm以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出すのがよい。
【０２２６】
[塗布速度]
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、本発明の塗布方式は高速塗布時における膜厚の安定性が高い。さらに、本発明の塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。本発明の反射防止フィルムの様な低塗布量の塗布液に対して、本発明の塗布方式は高速で膜厚安定性良く塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法、マイクログラビア法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、マイクログラビア法ではグラビアロールの製作精度や、ブレードとグラビアロールの当たりによるロールやブレードの経時変化により塗布量ムラを発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。本発明の製造方法を用いることで２５ｍ／ｍｉｎ以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
【０２２７】
（防眩性反射防止フィルムの物理性能）
本発明に係る反射防止フィルムは、物理強度（耐擦傷性など）を改良するために、塗布した最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
さらに反射防止フィルムは、防汚性能を改良するために、最外層を有する側の表面の水に対する接触角が８０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９０゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
さらに、本発明に係る反射防止フィルムのヘイズは、０．５〜６０％であることが好ましく、１〜５０％であることがさらに好ましく、１〜４０％であることが最も好ましい。
さらに、本発明に係る反射防止フィルムの反射率は、低いほど好ましく、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下、更に好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下である。
【実施例】
【０２２８】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０２２９】
（ゾル液ａの調製）
攪拌機と還流冷却器とを備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０２３０】
（ゾル液ｂの調製）
反応後室温まで冷却した後、アセチルアセトン６部を添加したこと以外は上記ゾル組成物ａと同様にしてゾル液ｂを得た。
本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２３１】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ａの調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＰＥＴ−３０、日本化薬（株）製）５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。 この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍのポリスチレン粒子（屈折率１．６１、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇおよび平均粒径３．５μｍのアクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇ加えて完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液Ａを調製した。
【０２３２】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ（株）製、固形分濃度約６１％、ＺｒＯ２の平均粒径２０ｎｍ、固形分中ＺｒＯ２含率約７０％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２８５ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８５ｇを混合し、更に、メチルイソブチルケトン６０ｇ、メチルエチルケトン１７ｇで希釈した。更に、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学（株）製）２８ｇを混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
【０２３３】
さらにこの溶液に平均粒径３．０μｍの分級強化架橋ＰＭＭＡ粒子（屈折率１．４９、ＭＸＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した分散液を３５ｇ加え、次いで、平均粒径１．５μｍのシリカ粒子（屈折率１．４６、シーホスタＫＥ-Ｐ１５０、日本触媒（株）製）の３０％メチルエチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分間分散した分散液を９０ｇ加えて完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層の塗布液Ｂを調製した。
【０２３４】
（低屈折率層用塗布液Ａの調整）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、コロイダルシリカ分散物ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（シリカ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．２ｇ、ゾル液a ０．６ｇを添加した後、メチルエチルケトンとシクロヘキサノ０．６ｇを添加し、固形分濃度を２．３質量％に調整した。塗布液中のメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの比は９４対６となるようにした。攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【０２３５】
（中空シリカ分散液の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（粒子サイズ約４０〜５０ｎｍ、シエル厚６〜８ｎｍ、屈折率１．３１、固形分濃度２０％、主溶媒イソプロピルアルコール、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じて粒子サイズを変更して作製）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０２３６】
（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）
上記低屈折率層用塗布液Ａの調製において、コロイダルシリカ分散物の代わりに上記中空シリカ分散物を１．９５ｇ用いた以外は添加量も含め上記塗布液Ａと同様にして、低屈折率層用塗布液Ｂを作製した。
【０２３７】
（粘度調整剤入り低屈折率層用塗布液の調製）
低屈折率塗布液Ａ、Ｂの溶媒を、表１に示す溶媒種、比率で作製した。
【０２３８】
［実施例１：反射防止フィルムの、本発明試料１〜１３、比較試料１〜５の作成と評価］（１）機能層の塗設
防眩性ハードコート層の塗設
【０２３９】
（ダイコーターの構成）
【０２４０】
スロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩＵＰが0.5mm、下流側リップランド長ＩＬＯが５０μｍで，スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブＷＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷＷの隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブＷＷとの隙間ＧLを６０μｍに設定した。また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブＷＷとの隙間ＧS、及びバックプレート４０ａとウェブＷＷとの隙間ＧBはともに２００μｍとした。
【０２４１】
（膜作製法）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ：商品名、富士写真フィルム（株）製）をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液を、表１に示す乾燥膜厚になるように前記ダイコーターを用いて２５ｍ／ｍｉｎの塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。１１０℃で１０秒間、５０℃で２０秒間、溶剤乾燥の後、さらに窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、積算光量が５５ｍＪになるようにＵＶ照射（ハーフキュア）して、光硬化させ、防眩層を形成し、巻き取った。
【０２４２】
（低屈折率層の塗設法Ａ）
防眩性ハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液を前記ダイコーターを用いて２５ｍ／ｍｉｎの塗布速度で塗布した。下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧL を５０μｍに変更し、減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。１２０℃で７０秒乾燥の後、更に１１０℃で１０分乾燥し、熱硬化させてから、窒素パージ下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）で、積算光量が１２０ｍＪになるようにＵＶ照射（フルキュア）して、光硬化させ、低屈折率層が塗設された反射防止フィルムを形成し、巻き取った。
上記において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶまたは熱）硬化−巻取りの各工程で行った。
【０２４３】
（低屈折率層の塗設法Ｂ）
オーバーバイト長さを０μｍにした以外は低屈折率層の塗設法Ａと同じ方法で防眩層を形成した。
【０２４４】
（低屈折率層の塗設法Ｃ）
バー塗布により塗布した以外は低屈折率層の塗設法Ａと同じ方法で防眩層を作成した。
【０２４５】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
反射防止フィルムについて、以下の処理を行った。
１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。 作製した反射防止フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルム（本発明試料１〜１３、比較試料１〜５）を作製した。
【０２４６】
（反射防止フィルムの評価）
得られたこれらの反射防止フィルム試料について、以下の項目の評価を行った。結果を表１に示した。
【０２４７】
（１）平均反射率
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの波長領域の積分球平均反射率を用いた。
【０２４８】
（２）スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行った。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ。
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードNo.００００）を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ２、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
【０２４９】
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
○：全く傷が見えない、または、非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
○△：弱い傷が見える。
△：中程度の傷が見える。
×：一目見ただけで分かる傷がある。
【０２５０】
（３）粘度
振動式粘度計（（株）エー・アンド・デイ製  ＣＪＶ−５０００）にて液温２５℃±１度で粘度を測定した。
（４）面状均一性（目視）
塗布面の反対面を黒塗りし、表面側から蛍光灯を照射して、反射目視面検にて塗布ムラ、乾燥ムラ等の面状ムラを評価した。
×：強いムラが見える
△：ムラが見える
○：よく見るとムラが見える
◎：ムラ無し
【０２５１】
（５）面状（ブツ、白濁）
塗布面の反対面を黒塗りし、表面側から蛍光灯を照射して、反射目視面検にて異物の発生状況を評価した。
×：ブツ、白濁が目立つ
△：よく見るとブツ、白濁がある
○：ブツ、白濁が目立たない
（６）面状（光学顕微鏡）
光学顕微鏡にて、×４００の倍率で面状を観察し、粘度調整剤添加の前後での面状の変化を評価した。
×：著しく変化（相分離）
△：多少変化しているが膜は均一に形成されている。
○：変化なし
【０２５２】
【表１】
2006219632.tif 000017
【０２５３】
本発明により優れた面状均一性を高い反射防止膜が生産性高く得られる。
尚、本発明の低屈折率用塗布液を１００ｎｍの厚さに単層塗布した試料のヘイズ値は、いずれも１％以下であった。
【０２５４】
本発明試料１〜１２において、防眩性ハードコート層塗布液Ａで用いる希釈溶剤をトルエンの代わりにトルエン／シクロヘキサノン=８５／１５、トルエン／シクロヘキサノン=７０／３０という溶剤組成にすると、シクロヘキサノンの比率が高くなるにつれて支持体／防眩性ハードコート層の界面密着力が強化され、耐擦傷性能が向上した。
また本発明試料１〜１２において、低屈折率層塗布液に使用しているオルガノシランのゾル液ａの代わりにゾル液ｂを使用したところ、塗布液の経時安定性が良くなり、連続塗布に対する適性が高くなった。
また本発明試料１〜１２において、低屈折率層塗布液に使用している熱架橋性含フッ素ポリマーの代わりに、屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ１１３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）を使用したところ、耐擦傷性が著しく向上した。
また、ＴＤ８０Ｕの代わりに２−（２’ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール  ０．２３質量％を練り込んだ８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルムを使用して同様のフィルムを作成し、同様の結果を得た。
【図面の簡単な説明】
【０２５５】
【図１】防眩性反射防止フィルムの層構成を示す断面模式図である。
【図２】光学機能性フィルムの各構成層の塗布を連続的に行う装置の構成例である。
【図３】スロットダイを用いたコーターを示す概略断面図である。
【図４】（Ａ）は本発明のスロットダイを示す概略断面図である。（Ｂ）は従来のスロットダイを示す概略断面図である。
【図５】塗布工程のスロットダイ及びその周辺部を示す斜視図である。
【図６】近接している減圧チャンバーとウェブを示す概略断面図である。
【図７】近接している減圧チャンバーとウェブを示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０２５６】
１  反射防止フィルム
２  透明支持体
３  防眩性ハードコート層
４  低屈折率層
５  微粒子
１０  コーター
１１  バックアップロール
１３  スロットダイ
１４ａ  ビード
１４ｂ  塗膜
１５  ポケット
１６  スロット
１６ａ  開口部
１７  先端リップ
１８  平坦部（ランド）
１８ａ  上流側リップランド
１８ｂ  下流側リップランド
３０  従来のスロットダイ
３１ａ  上流側リップランド
３１ｂ  下流側リップランド
３２  ポケット
３３  スロット
４０  減圧チャンバー
４０ａ  バックプレート
４０ｂ  サイドプレート
４０ｃ  ネジ
100，200，300，400  製膜ユニット
101，201，301，401  塗布液を塗布する工程102，202，302，402  塗布液を乾燥する工程103，203，303，403  塗布液を硬化する工程
１１０  ロール状支持体の連続送出工程
１２０  支持体の連続巻取り工程
Ｗ  ウェブ
ＩＵＰ  上流側リップランド長さ
ＩＬＯ  下流側リップランド長さ
ＧL  下流側リップランドとウェブとの隙間
ＧS  サイドプレートとウェブとの隙間
ＧB  バックプレートとウェブとの隙間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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