(57)【要約】【課題】  回路の破壊のおそれのなく、パネル面内の輝度差が小さい有機ＥＬディスプレイパネルを提供する【解決手段】  透明な支持基板と、複数の導電層からなるラインパターン状に互いに電気的に分離された複数の導電層からなる第１電極と、有機ＥＬ層と、該有機ＥＬ層を介して第１電極に対向配置されて設けられた第２電極と、第２電極の分離壁とを少なくとも備え、前記第２電極は複数の導電層からなる前記第１電極のラインパターンに直交するラインパターン状であり、前記第２電極の分離壁は、前記有機ＥＬディスプレイパネルの中央において前記第１電極の導電層に平行に延在する平行部位と、該平行部位から該平行部位に対して直角方向に両方に伸びる複数の直交部位とを有し、第２電極の複数の導電層は第２電極の分離壁の平行部位により長手方向に二つに分断されてなり、前記分離壁の平行部位および直交部位の幅方向の断面形状は逆テーパー形状である有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法。【選択図】  図２
2006049205.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な支持基板と、該支持基板上に形成された、ラインパターン状に互いに電気的に分離された複数の導電層からなる第１電極と、該第１電極の上に設けられた有機ＥＬ層と、該有機ＥＬ層を介して第１電極に対向配置されて設けられた第２電極と、第２電極の分離壁とを少なくとも備え、前記第２電極は前記第１電極のラインパターンに直交するラインパターン状の複数の導電層からなる有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記第２電極の分離壁は、前記有機ＥＬディスプレイパネルの中央において前記第１電極の導電層に平行に延在する平行部位と、該平行部位から該平行部位に対して直角方向に両方に伸びる複数の直交部位とを有し、第２電極の複数の導電層は第２電極の分離壁の直交部位により互いに電気的に分離され、さらに、第２電極の各導電層は第２電極の分離壁の平行部位により長手方向に二つに分断されてなり、前記分離壁の平行部位および直交部位の幅方向の断面形状は逆テーパー形状であることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
前記第２電極の分離壁は、第２電極の複数の導電層に直交する部位と、第２電極の複数の導電層に平行な部位の交差部が、半径３μｍ以上の円弧を形成していることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
前記第２電極の分離壁の膜厚をｄ、頂部の幅をＴ、底部の幅をＢとしたとき、
（Ｔ−Ｂ）／２ｄ＞０．２５
であることを特徴とする請求項１または２記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
透明基板上にラインパターン状に互いに電気的に分離された複数の導電層からなる第１電極を形成する第１電極形成工程と、第１電極形成工程で形成された第１電極の上に、前記有機ＥＬディスプレイパネルの中央において前記第１電極の導電層に平行に延在する平行部位と、該平行部位から該平行部位に対して直角方向に両方に伸びる複数の直交部位とを有し、その幅方向の断面形状が逆テーパー形状である分離壁を形成する分離壁形成工程と、少なくとも前記分離壁形成工程で形成された分離壁間に有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ層形成工程と、前記有機ＥＬ層形成工程で分離壁間に形成された有機ＥＬ層の上に、第２電極を形成する第２電極形成工程を少なくとも有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬという。）ディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機化合物のエレクトロルミネセンスを利用した有機ＥＬディスプレイパネルの１つに、パッシブマトリクス（単純マトリクス）型ディスプレイパネルがある。パッシブマトリクス型ディスプレイパネルは、ラインパターンを有する複数の導電層からなる第１電極と、第１電極に直交するラインパターンを有する複数の導電層からなる第２電極と、両電極に挟持される有機発光層から構成される。第１電極と第２電極との交差領域の発光部を単位として１画素を形成し、画素を複数個配列することにより表示部が形成される。
【０００３】
また、パッシブマトリクス型ディスプレイパネルでは、フルカラー表示を可能にするために、第１電極と透明基板との間に色変換フィルタが形成されている。
【０００４】
有機ＥＬディスプレイパネルでは、ディスプレイパネルの大型化を目的とした技術開発が行われている。
【０００５】
パッシブマトリクス型ディスプレイパネルで所定の精密度を有しながら大画面のものを得ようとすると、高画素数のディスプレイパネルを形成することになる。
【０００６】
高画素数のディスプレイパネルを形成するためには、第１電極（信号電極）と第２電極（走査電極）の導電層の数を増加させることが必要となる。パッシブマトリクス駆動では、一定フレーム周波数内で１本の走査電極に割り当てられる期間（デューティ）電圧が印加された状態で発光し、このデューティは走査電極数の逆数（１／走査電極数）で定義されるため、走査電極数が多くなるに従い小さくなる。
【０００７】
例えばデューティが１／１００の場合、要求される面輝度を１００ｃｄ／ｍ２とすると、画素に必要な輝度は１００００ｃｄ／ｍ２となる。
【０００８】
このような高い輝度を得るためには、画素に流れる電流を大きくする必要がある。一般に、有機発光素子においては電流量を大きくすることにより輝度半減時間等で表される画像表示の信頼性が低下するという傾向がある。
【０００９】
パッシブマトリクス駆動方式の液晶表示装置においてデューティを大きくする手法としては、（１）信号電極をパネル上下で分割しパネル上下を独立に駆動する方法、（２）１本の走査電極に対し２本の信号電極を櫛歯状に配置して隣接する２個の画素を構成する方法、（３）同一基板内で下部信号線上に一部絶縁膜を設け、その上にさらに上部信号線に重畳して配列することにより信号電極を上部と下部とで個別駆動する方法、が知られており、さらに、これらの方法を組み合わせた方法も知られている（例えば、特許文献１参照。）。これらの方法により、同時に走査電圧を印加できる走査線数を多くして、デューティを大きくすることが可能となるという効果が得られる。
【００１０】
有機発光素子においても、上述の（１）および（２）の方法を組み合わせた方法が既に知られている（例えば、特許文献２〜５参照。）。これらの技術は、１本の走査電極に２本以上の信号電極を櫛歯状に配置するものであるが、配置される全画素の電極を絶縁する必要があり製造歩留まりが低まることが想定されることや、走査電極に流れる電流が画素の配置数に従って大きくなるために走査側の駆動ＩＣを通常のＩＣに流れる電流の数倍の大きさの電流を流せるように対応させる必要がある。
【００１１】
また、例えば特許文献６には、上述の（３）に類似した方法が開示されている。この技術は、第１電極をパネル面内で上下方向に複数に分割する点と配線を立体的に構成する点で特許文献１に記載される方法に類似している。信号電極は、第１バス電極と、これに電気的に接続される透光性物質である第１電極とにより構成される。また、この製造方法として、第１電極を形成後に第１バスラインを形成する方法が記述されている。
【００１２】
【特許文献１】特公平１−５７３５０号公報
【特許文献２】特開２０００−２５９１２４号公報
【特許文献３】特開２００１−１４２４１５号公報
【特許文献４】特開２００１−２１７０８１号公報
【特許文献５】特開２００１−３１３１８２号公報
【特許文献６】特開２０００−５６７０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかし、これらの特許文献に記載のような方法で走査電極を分割すると、分割数が増加するに従い走査電極に直交するバスライン数が分割数に比例して増加し、バスライン電極間のスペースが狭くなる。これは、パターンニング不良による隣接バスライン間で短絡不良を発生する確率が高くなり、製造時の歩留まりが低下するという問題がある。
【００１４】
さらに特許文献６に記載の方法に従って走査電極を分割して駆動すると、パネルの点灯時に分割された各領域の境界において輝度が急峻に変化し、目視で電極の境界が認識されてしまうという問題がある。
【００１５】
加えて、特許文献６に記載の方法では、高精細なパネルでは外部駆動回路と接続するための電極ピッチが１００μｍよりも小さくなる。基板間の接続に用いられるフレキシブルプリント基板では、導電部の細線化が難しいという問題もある。
【００１６】
パッシブマトリクス駆動では、デューティを大きくするという第１の課題と、パッシブマトリクス駆動の特徴である電極配列を簡便に形成するという第２の課題を同時に達成する必要がある。加えて、電極の形成では、表示部分の電極のみでなく、電極の引き出し部や接続部を含めた、電極部の簡便な形成が求められる。特に、高精細で長期にわたって安定した駆動のできる有機ＥＬ発光素子を得るためには上記課題を同時に達成する必要がある。さらに、電極を分割して形成する場合、電極を形成する際の位置合わせ等による問題、例えば領域ごとに発光面積が異なることなどにも対応する必要が生じる。しかし、上記特許文献１〜６に記載された方法はこれまでは、これらの技術的課題を全て達成するために有効な具体的方法は知られていない。
【００１７】
このような状況から、本発明の目的は、電極間の短絡不良（特に第２電極の電極間短絡不良）のおそれのなく、パネル面内の輝度差が小さい有機ＥＬディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は上記の目的を達成するためになされたものであり、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、透明な支持基板と、該支持基板上に形成された、ラインパターン状に互いに電気的に分離された複数の導電層からなる第１電極と、該第１電極の上に設けられた有機ＥＬ層と、該有機ＥＬ層を介して第１電極に対向配置されて設けられた第２電極と、第２電極の分離壁とを少なくとも備え、前記第２電極は前記第１電極のラインパターンに直交するラインパターン状の複数の導電層からなる有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記第２電極の分離壁は、前記有機ＥＬディスプレイパネルの中央において前記第１電極の導電層に平行に延在する平行部位と、該平行部位から該平行部位に対して直角方向に両方に伸びる複数の直交部位とを有し、第２電極の複数の導電層は第２電極の分離壁の直交部位により互いに電気的に分離され、さらに、第２電極の各導電層はそれぞれ第２電極の分離壁の平行部位により長手方向に二つに分断されてなり、前記分離壁の平行部位および直交部位の幅方向の断面形状は逆テーパー形状であることを特徴とする。
【００１９】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、透明基板上にラインパターン状に互いに電気的に分離された複数の導電層からなる第１電極を形成する第１電極形成工程と、第１電極形成工程で形成された第１電極の上に、前記有機ＥＬディスプレイパネルの中央において前記第１電極の導電層に平行に延在する平行部位と、該平行部位から該平行部位に対して直角方向に両方に伸びる複数の直交部位とを有し、その幅方向の断面形状が逆テーパー形状である分離壁を形成する分離壁形成工程と、少なくとも前記分離壁形成工程で形成された分離壁間に有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ層形成工程と、前記有機ＥＬ層形成工程で分離壁間に形成された有機ＥＬ層の上に、第２電極を形成する第２電極形成工程を少なくとも有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、駆動電圧の上昇を抑え、長時間安定に駆動することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に図面を用いて本発明を説明する。
【００２２】
図1は本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの構造の一例を示す断面図である。
【００２３】
本発明において透明支持基板としては、有機ＥＬディスプレイパネルに用いられる透明基板であればどのようなものも用いることができ、特に限定されるものではない。透明基板の素材例としてはガラス、セラミックスあるいはポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリカーボネート等を例示できる。
【００２４】
本明細書において、図１に示すように透明支持基板はパターン化されて形成された色変換フィルタ層５と、平坦化層６と、パッシベーション層７とを表面に有していることが好ましい。この場合、支持基板上に第１電極が形成されたとは、支持基板上にこの順に形成された色変換フィルタ層５と、平坦化層６と、パッシベーション層7の上に第１電極が形成されていることを意味する。
【００２５】
色変換フィルタ層５は、カラーフィルタ層、色変換層、およびカラーフィルタ層と色変換層との積層体の総称である。
【００２６】
色変換層は、有機ＥＬ層にて発光される近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して、異なる波長の可視光へと波長分布変換を行う層である。  色変換層に使用される染料または顔料には有機蛍光色素がある。例えば、有機ＥＬ層から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素には、例えば以下のような有機蛍光色素がある。すなわち、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、べ一シックバイオレット１１、べーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などである。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も所望の蛍光を発することができれば使用することができる。有機ＥＬ層から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素には、例えば以下のような有機蛍光色素がある。すなわち、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、または、クマリン色素系染料であるべーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などである。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も所望の蛍光を発することができれば使用することができる。
【００２７】
また、上記有機蛍光色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。
【００２８】
カラーフィルタ層は、当該技術において知られている任意の色素をマトリクス樹脂に分散した材料（たとえば、液晶ディスプレイ用カラーフィルタ材料）を用いて形成することができる。
【００２９】
フルカラー表示を可能にするためには、少なくとも青色（Ｂ）変換フィルタ層、緑色（Ｇ）変換フィルタ層および赤色（Ｒ）変換フィルタ層を有することが望ましい。
【００３０】
赤色変換フィルタ層は、赤色変換層と赤色カラーフィルタ層との積層体であることが好ましい。これは、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する有機ＥＬ層を用いる場合、有機ＥＬ層からの光を単なる赤色フィルタに通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまうからである。赤色変換層によって青色ないし青緑色領域の光を赤色光へと波長分布変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となる。
【００３１】
緑色変換フィルタ層は、緑色変換層と緑色カラーフィルタ層との積層体であることが好ましい。ただし、有機ＥＬ層が発する光が充分な強度の緑色成分を含有する場合、緑色カラーフィルタ層のみを用いてもよい。
【００３２】
青色変換フィルタ層は、有機ＥＬ層が発する近紫外光または青緑色光の波長分布変換を行って青色光を出力する青色変換層と、青色カラーフィルタ層とを含んでもよい。ただし、有機ＥＬ層が青色から青緑色の光を発する場合、青色カラーフィルタ層のみを用いることが好ましい。
【００３３】
有機ＥＬ層が白色発光する場合には、各色についてカラーフィルタ層のみを用いて所望の色を得ることができるが、各色変換層を用いることによりカラーフィルタ層のみの場合よりも高い効率で３原色の発光を得ることが可能となる。
【００３４】
この色変換フィルタ層５はパターン化されている。
ここで、色変換フィルタ層がパターン化されているとは、１つまたは複数の色変換フィルタ層が形成されており、該色変換フィルタ層のそれぞれが複数の部分に分割されていることを意味する。このようなパターンの一例としてラインパターンを挙げることができる。
【００３５】
本発明において、平坦化層６とは、透明支持基板上に設けられたパターン化された色変換フィルタ層のためにできた表面の凹凸を実質的に解消し平坦にするための層であり、当該技術に知られている任意の材料により形成することができる。好ましくは、ポリイミドまたはアクリル樹脂から形成される。
【００３６】
パッシベーション層７は、例えば、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘ等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用できる。また、イミド変性シリコーン樹脂や、無機金属化合物（ＴｉＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等）をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料などのポリマー材料も用いることができる。
【００３７】
図２は、ボトムエミッション型のパッシブマトリックス駆動方式の有機ＥＬディスプレイパネルの構造の一例を示す斜視図である。
【００３８】
本発明のパッシブマトリックス駆動方式の有機ＥＬディスプレイパネルは、図２に示されるように透明基板１上に形成されたパッシベーション層７の上には、ラインパターン状に互いに電気的に分離された複数の導電層からなる第１電極８が設けられている。ラインパターン状の導電層の長手方向を第１の方向とする。
【００３９】
これらの導電層は色変換層のそれぞれに対応する位置に設けられている。この第１電極はＩＴＯ（インジウム−酸化錫）、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物、ＡＴＯ等の透明電極を用いることができ、特に、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物を用いることとすれば、室温成膜により比較的低抵抗な膜が得られ、かつ、弱酸（例えば蓚酸）によるパターンニングが可能となるので好ましい。
【００４０】
第１電極８の上には第２電極の分離壁１０が形成されている。
分離壁１０は図３に示すように第１電極の上に設けた絶縁膜９を介して設けてもよい。
【００４１】
絶縁膜を設ける場合はその上に分離壁を形成するように、分離壁と同様のパターンとするのが好ましい。
【００４２】
分離壁の間の第１電極の上には有機ＥＬ層１５が設けられている。有機ＥＬ層１５は、有機発光層１３を少なくとも含み、必要に応じて正孔注入層１１、正孔輸送層１２、電子輸送層および／または電子注入層を含有する。
【００４３】
すなわち、有機ＥＬ層は（Ａ）有機発光層のみからなってもよく、第１電極側から、
（Ｂ）正孔注入層／有機発光層
（Ｃ）有機発光層／電子輸送層
（Ｄ）正孔注入層／有機発光層／電子輸送層
（Ｅ）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
（Ｆ）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層
の構成となっていてもよい。
【００４４】
図１は有機ＥＬ層が（Ｅ）の構成である例を示している。
【００４５】
本発明の特徴は後に詳述するように、第２電極の分離壁の形状に特徴を有する。従って有機ＥＬ層の材料などは従来公知のものをいずれも用いることができ、限定されるものではない。
【００４６】
分離壁の間の有機ＥＬ層１５の上には第２電極１６の導電層が設けられている。
第２電極は分離壁１０により互いに分離され、電気的に絶縁されたラインパターン状の複数列の導電層からなる電極である。この複数列の導電層は第１電極の導電層と直交する方向に伸びている。すなわち、前記第１の方向とは直角方向（以下、第２の方向という）に伸びている。
【００４７】
なお、第１電極、第２電極、および第１電極８の導電層と第２電極１６の導電層との交差領域にある有機発光層を含む有機ＥＬ層１５で画素が構成される。この画素が複数個配列することにより形成される表示部分が示されている。第１電極および第２電極を表示部から基板周囲へ延長して形成した接続部分（図示せず）を介して、外部駆動回路と表示部とを接続することにより、表示装置が構成される。
【００４８】
以下に第２電極の分離壁につき説明する。
この分離壁は、図３に示すように有機ＥＬディスプレイパネルの中央部において前記第１の方向に伸びる平行部位と、該平行部位から該平行部位に対して直角方向（第２の方向という）に両方に伸びる複数の直交部位とを有している。この分離壁の複数の直交部位により第２電極の平行に並ぶ複数の導電層を互いに分離しているとともに、分離壁の平行部位により第２電極のそれぞれの導電層を長手方向に二つに分断している。
【００４９】
このような構成にすることにより、分断されたそれぞれの領域を独立に駆動させることができるとともに、導電層の長さが短くなることにより、導電層の抵抗に基づく電圧低下を小さくし、駆動電圧の上昇を抑えることができる。
【００５０】
また、図４に示すように、この分離壁の幅方向の断面形状は平行部位、直交部位とも底部（第１電極側の端部）より頂部（底部と反対側の端部）の幅のほうが広い逆テーパー形状になっている。分離壁の断面形状が逆テーパー状であると、第２電極の導電層の分離を確実に行いやすい。
【００５１】
すなわち、第２電極の形成は通常、蒸着で行われるが、分離壁の幅方向の断面形状が逆テーパー型でないと、分離壁の頂部および側壁部も蒸着されて分離壁を越えて隣の導電層と電気的に導通してしまうおそれがある。この断面形状を逆テーパー型にすることにより、分離壁の側部の蒸着の可能性を大幅に低減することができる。
【００５２】
また、蒸着時の蒸気流の入射方向が不統一になりやすく、このため、分離壁の幅方向の断面形状が逆テーパー型であってもテーパー形状が不十分であると第２電極の各導電層の分離が充分に行えないことがある。本発明者らはこの分離壁の幅方向断面形状と分離不良の発生の関係につき鋭意検討した結果、分離壁の膜厚、頂部の幅、底部の幅と分離不良の間に相関があることが見出された。
【００５３】
検討例を表１に示す。
【００５４】
【表１】
2006049205.tif 000003
【００５５】
すなわち、表１から明らかなように、この断面形状は、分離壁の膜厚をｄ、頂部の幅をＴ、底部の幅をＢとしたとき、
（Ｔ−Ｂ）／２ｄ＞０．２５  
であると、上記分離がより確実となるので好ましい。
【００５６】
なお、（Ｔ−Ｂ）／２ｄの上限値は特に限定されるものではないが、分離壁の安定性の観点からは１以下であることが好ましい。
【００５７】
分離壁の膜厚ｄは２〜１０μｍであることが好ましい。頂部の幅Ｔおよび底部の幅Ｂは作製するパネルの画素ピッチにより大きく異なるため、特に限定されるものではないが、特に挙げれば、頂部の幅Ｔは５〜５０μｍ、底部の幅Ｂは３〜４５μｍであることが好ましい。
【００５８】
分離壁の底部の幅は、光増幅型のネガ型フォトレジストを用いた場合、同じフォトマスク開口寸法のマスクを用いてもポストエクスポージャーベーク（Ｐ．Ｅ．Ｂ．）の温度と時間により大きく変動するので、フォトマスク寸法およびＰ．Ｅ．Ｂ．温度、時間の条件を適宜選択することにより、上記式を満足するような分離壁の断面形状にすることができる。すなわち、同じＰ．Ｅ．Ｂ．温度では頂部幅Ｔ、底部幅ＢともＰ．Ｅ．Ｂ．時間が増加するにつれて増大するが、増加の程度は底部幅のほうが大きくなる。すなわち（Ｔ−Ｂ）は減少する傾向にある。同じＰ．Ｅ．Ｂ．時間ではＰ．Ｅ．Ｂ．温度が高くなるにつれて頂部幅Ｔ、底部幅Ｂとも増大するがその割合は異なり、頂部幅の変動が小さい。あらかじめ、フォトマスク寸法、Ｐ．Ｅ．Ｂ．温度、時間と頂部幅Ｔ、底部幅Ｂの関係を調べておき、適宜フォトマスク寸法、Ｐ．Ｅ．Ｂ．温度、時間を選択することにより、所望の頂部幅Ｔ、底部幅Ｂとすることができる。
【００５９】
また、図４に示すように、分離壁の直交部位と平行部位の交差部が、半径３μｍ以上の円弧を形成していることが好ましい。この半径は分離壁の頂部で測った半径である。
【００６０】
分離壁がネガ型フォトレジストを用いて形成される場合、分離壁のパターン焼付けは露光により行われる。この際、前記交差部が円弧を形成しないで直角であったり、半径３μｍ未満の円弧であったりすると、分離壁の幅方向断面の逆テーパー形状が均一でなくなり、この形状が均一でなくなると分離壁の機能を充分に果たせなくなるおそれがある。
【００６１】
これは、フォトマスクコーナー部で露光時に光の回り込みが生じ、光の照射密度が高まるために発生すると推測される。
【００６２】
前記交差部の円弧形状はフォトマスクの交差部に同様の円弧形状を有するマスクパターンを用いることで形成できる。形成される分離壁交差部の円弧の半径は用いたフォトマスクの円弧の半径とほぼ同じまたは若干小さくなる程度であるので、前述のフォトマスク寸法、Ｐ．Ｅ．Ｂ．温度、時間と頂部幅Ｔ、底部幅Ｂの関係から、所望の円弧半径となるようにフォトマスクのコーナー部の半径を適宜選択すればよい。
【００６３】
以下に本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法につき説明する。
ここでは、透明支持基板上に色変換フィルタ層、平坦化層、パッシベーション層を設けた場合の例について述べる。
【００６４】
（色変換フィルタ層形成工程）
この工程では、透明な支持基板上に、例えばブラックマトリックスをパターン形成し、色変換フィルタをまず形成する。
【００６５】
ブラックマトリックスの形成方法としては、例えば黒色の無機層、黒色顔料または黒色染料を樹脂に分散した層等を、透明基板上に、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着等のドライプロセス、スピンコート法のようなウエットプロセスにより形成することができ、フォトリソグラフィ法等によりパターンニングしてブラックマトリックスを形成することができる。
【００６６】
次に、染料または顔料を含有したマトリックス樹脂を、ブラックマトリックスを設けた透明基板上にスピンコート法などを用いて塗布し、フォトリソグラフィ法などによりパターンニングを行うことにより色変換層を形成する。
【００６７】
マトリックス樹脂は、光硬化性樹脂または光熱併用型の硬化性樹脂からなることが好ましい。これを、光および／または熱処理して、ラジカル種やイオン種を発生させて重合または架橋させ、樹脂を不溶不融化させて、色変換層を形成する。
【００６８】
（平坦化層形成工程）
色変換層形成工程で形成された色変換層の上に、平坦化層用として当該技術に知られている任意の材料を用いて公知の方法で形成する。この材料としては好ましくは、ポリイミドまたはアクリル樹脂から形成される。これらの材料を例えばスピンコート法等で塗布し、オーブンのような加熱手段でベーキングする方法も含まれる。
【００６９】
（パッシベーション層形成工程）
パッシベーション層形成に用いる材料を用いて、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法等の慣用の手法により成膜することができる。平坦化層およびパッシベーション層の材料、膜厚、成膜などの諸条件は従来の通りである。
【００７０】
（第１電極形成工程）
ＩＴＯ、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物、ＡＴＯ等をスパッタ法等の方法で成膜し、フォトリソグラフ法によりレジストをパターンニングした後にエッチングを行うことによりラインパターン状の導電層を形成できる。
【００７１】
（分離壁形成工程）
第１電極形成工程で形成された第１電極の上に、前記有機ＥＬディスプレイパネルの中央において前記第１電極の導電層に平行（第１の方向）に延在する平行部位と、該平行部位から該平行部位に対して直角方向（第２の方向）に両方に伸びる複数の直交部位とを有し、その幅方向の断面形状が逆テーパー形状である分離壁を形成する。
【００７２】
分離壁形成にあたっては、所定のパターンを形成できる方法であればどのような方法も採用できるが、パターニングの容易さ、幅方向の断面形状を逆テーパー型にしやすいことからネガ型のフォトレジストを用いたフォトリソグラフ法を用いることが好ましい。
【００７３】
分離壁の形成にあたっては、前述のように（Ｔ−Ｂ）／２ｄ＞０．２５となるようにポストエクスポージャーベーク（Ｐ．Ｅ．Ｂ．）の温度と時間を適宜選択することが好ましい。また、分離壁の平行部位と直交部位の交差部は頂部で半径３μｍ以上の円弧を形成することが好ましい。この円弧はパターンマスクとして、Ｐ．Ｅ．Ｂ．の温度、時間を勘案して、上記交差部において分離壁が所望の半径の円弧を形成するような半径の円弧を有するものを用いることにより形成できる。
【００７４】
分離壁は第１電極の上に直接形成してもよいが、第１電極の上に設けた絶縁膜を介して設けてもよい。絶縁膜を設ける場合はその上に分離壁を形成するように、分離壁と同様のパターンとするのが好ましい。
【００７５】
この絶縁膜には、アクリレート等のネガ型のフォトレジストやポリイミド材料、ノボラック樹脂等を用いることができる。
【００７６】
（有機ＥＬ層形成工程）
有機ＥＬ層は前述の種々の形態のうち採用した構成に応じて、抵抗加熱蒸着装置などを用いて、真空を破らずに各層を順次成膜すればよい。
【００７７】
有機ＥＬ層の各層の材料は、公知のものが使用できる。青色から青緑色の発光を得るためには、有機発光層中に、例えばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。電子注入層としては、例えば、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物などの材料を用いることができる。また、電子輸送層としては、アルミキノリン錯体などの金属錯体とオキサジアゾール、トリアゾール系化合物等を用いることができる。また、正孔注入層としては、芳香族アミン化合物、スターバースト型アミンや、ベンジジン型アミンの多量体および銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）などを用いることができる。正孔輸送層としては、スターバースト型アミン、芳香族ジアミンなどを用いることができる。その他、第１電極、有機発光層および第２電極の膜厚などの諸条件は従来の通りである。
【００７８】
（第２電極形成工程）
第２電極は、例えば、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物などの材料を用い、有機ＥＬ層形成に続き、そのまま真空を破らずに加熱蒸着装置を用いて蒸着することにより得られる。
【００７９】
蒸着を行っても、分離壁が上述の形状であれば、分離壁の側面に金属が蒸着されることなく、導電層同士の分離が不良になることはない。
【００８０】
得られた色変換層を含む有機ＥＬ層は、封止工程に供され、封止された有機ＥＬ発光素子となる。封止工程では第２電極を形成した後に、酸化シリコンや、酸化窒化シリコンなどの無機膜を連続的に形成する方法や、ガラス板、ＳＵＳ板、ポリカーボネートなどのフィルムを、ＵＶ硬化樹脂や熱硬化樹脂などを用いて基板と接着させる方法を用いることができる。封止の条件は従来の通りである。
【実施例】
【００８１】
以下に実施例を用いて本発明をさらに説明する。
【００８２】
有機ＥＬディスプレイパネルは画素数１６０×１２０×ＲＧＢ、画素ピッチ０．３３ｍｍで形成した。
【００８３】
（実施例１）
［青色フィルターの作製］
青色フィルター材料（富士ハントエレクトロニクステクノロジー製：カラーモザイクＣＢ−７００１）を透明支持基板としてのコーニングガラス（５０×５０×１．１ｍｍ）上に、スピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、青色フィルター２の線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍのラインパターンを得た。
【００８４】
［緑色変換層の作製］
蛍光色素としてクマリン６（０．７質量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０質量部に溶解した。得られた溶液に光重合性樹脂である「Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５」（商品名、新日鐵化成工業株式会社製）１００質量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、先に青色フィルタのパターンを形成した透明基板の上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、緑色変換層３の線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍのラインパターンを得た。
【００８５】
［赤色変換層の作成］
蛍光色素としてクマリン６（０．６質量部）、ローダミン６Ｇ（０．３質量部）、ベーシックバイオレット１１（０．３質量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０質量部に溶解した。得られた溶液に光重合性樹脂である「Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５」（商品名、新日鐵化成工業株式会社製）１００質量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、先に青色フィルタおよび緑色変換層のパターンを形成した透明基板の上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、赤色変換層４の線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍのラインパターンを得た。
【００８６】
［平坦化層の作製］
この色変換層の上に、平坦化層としてＵＶ硬化型樹脂（エポキシ変成アクリレート；ＪＳＲ社製、ＮＮ８１０）をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀灯で照射して、塗布したＵＶ硬化型樹脂を硬化させた。得られた平坦化層の膜厚は８μｍであり、変換層のパターンの変形はなく、平坦化層の上面は平坦であった。
【００８７】
［パッシベーション層の作製］
パッシベーション層６として、デュアルカソードを用いた交流スパッタ法により、室温で酸化ケイ素膜を平坦化層の上に厚み３００ｎｍで形成した。スパッタターゲットにはホウ素を添加した抵抗０．１ΩｃｍのＳｉを用い、スパッタガスとしてＡｒ１００ｓｃｃｍ、酸素４５ｓｃｃｍの混合ガスを用い、ターゲットと基板間の距離１２０ｍｍ、成膜圧力０．６Ｐａ、電力密度４Ｗ/ｃｍ２、搬送速度５０ｍｍ／分で形成した。
【００８８】
［第１電極の形成］
第１電極７として、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物からなるラインパターンの導電層をパッシベーション層の上にＤＣスパッタ法により室温で膜厚２００ｎｍで形成した。第１電極は外部駆動回路との接続部位から表示パネル中央まで配線される。スパッタターゲットにはＩｎ−Ｚｎ酸化物ターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒおよび酸素を用いた。フォトリソグラフによりレジストをパターンニングした後にシュウ酸をエッチング液として用いてパターンニングすることにより配線幅１００μｍのパターンを形成した。
【００８９】
［絶縁膜の形成］
絶縁膜として、レジストパターンを第１電極の上にフォトリソグラフ法により形成した。レジスト（ＪＥＭ７００Ｒ２；ＪＳＲ製）をスピンコート法にて塗布し、プリベークを行った後に所定のフォトマスクを用いて露光を行った。この後、現像（現像液：ＮＭＤ−３、東京応化工業製）を行ってレジストを除去し、１８０℃で１時間ポストベークを行って、膜厚１μｍの絶縁膜を形成した。
【００９０】
［分離壁の形成］
分離壁として、レジストパターンを絶縁膜の上にフォトリソグラフ法により形成した。レジスト（ＺＰＮ１１６８；日本ゼオン製）をスピンコート法にて塗布し、プリベークを行った後に所定のフォトマスクを用いて露光を行った。この後、ホットプレートを用いて１１０℃でＰ．Ｅ．Ｂ．を６０秒間行い、現像（現像液：ＮＭＤ−３、東京応化工業製）を行ってレジストを除去し、１８０℃で１時間ポストベークを行って、有機ＥＬディスプレイパネルの中央において第１電極の導電層に平行に延在する平行部位と、該平行部位から該平行部位に対して直角方向に両方に伸びる複数の直交部位とを有する膜厚３μｍの分離壁を形成した。分離壁の頂部の幅は１５μｍであり、底部の幅は１２μｍであった。また、平行部位と直交部位の交差部における円弧の半径は３μｍであった。
【００９１】
［有機ＥＬ層の形成］
次いで、分離壁をその上に形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層１１、正孔輸送層１２、有機発光層１３、電子注入層１４を真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は１×１０−４Ｐａまで減圧した。正孔注入層は銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を１００ｎｍ積層した。正孔輸送層は４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を２０ｎｍ積層した。発光層は４，４′−ビス［２，２′−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を３０ｎｍ積層した。電子注入層はアルミキレート（Ａｌｑ）を２０ｎｍ積層した。
【００９２】
［第２電極の作製］
有機ＥＬ層の作製に引き続き、そのまま真空を破らずに第２電極を作製した。第１電極のラインと垂直に幅０．１６５ｍｍ、空隙０．０３ｍｍギャップのストライプパターンが得られるマスクを用いて、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（１０：１の重量比率）層からなる第２電極を、真空を破らずに形成した。こうして得られた有機ＥＬディスプレイパネルをグローブボックス内乾燥窒素雰囲気（酸素および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）下において、封止ガラスとＵＶ硬化接着剤を用いて封止した。
【００９３】
（比較例１）
実施例１と同様の構成で、分離壁の形成条件を変更した素子を形成した。
【００９４】
分離壁の形成条件は、Ｐ．Ｅ．Ｂ．を１１０℃で１８０秒間行った以外は同一の条件とした。分離壁の頂部の幅は１７μｍであり、底部の幅は１６μｍであり、膜厚は３μｍであった。
【００９５】
（比較例２）
分離壁が平行部を有さず、従って第２電極の導電層がディスプレイパネル中央部で長手方向に２つに分断されていない以外は実施例１と同様の構成とした素子を形成した。
【００９６】
これらのパネルを駆動回路に接続し、駆動試験を行った。この結果、比較例１のパネルのみ、第２電極の短絡が観察された。
【００９７】
また、比較例２のパネルは実施例１に比べて平均輝度において劣るものであった。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】パッシブマトリクス型有機ＥＬディスプレイパネルの構造の一例を示す断面図である。
【図２】パッシブマトリクス型有機ＥＬディスプレイパネルの構造の一例を示す部分破断斜視図である。
【図３】パッシブマトリクス型有機ＥＬディスプレイパネルの構造の一例を示す平面図である。
【図４】分離壁と絶縁膜の形状例を示す図である。
【符号の説明】
【００９９】
１：透明支持基板
２：青色フィルター
３：緑色変換層
４：赤色変換層
５：色変換層 
６：平坦化層
７：パッシベーション層
８：第１電極
９：絶縁膜
１０：分離壁
１１：正孔注入層
１２：正孔輸送層
１３：有機発光層
１４：電子輸送層
１５：有機ＥＬ層
１６：第２電極
【図１】
2006049205.tif 000004
【図２】
2006049205.tif 000005
【図３】
2006049205.tif 000006
【図４】
2006049205.tif 000007