(57)【要約】      （修正有）【課題】電子写真感光体表面の粗面化によって起こりうる感光体の剥がれに起因するクリーニング不良等が発生せず、良好な画像を継続して形成することのできる電子写真感光体、製造方法および電子写真装置を提供する。【解決手段】円筒状支持体、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を有する被処理体の表面に研磨粒子を衝突させることによって、被処理体の表面の粗面化処理を行う粗面化工程を含む電子写真感光体の製造方法であって、電荷輸送層用塗布液に含有される結着樹脂の少なくとも１種が、誘電率が２．５〜４．５の樹脂であり、電荷輸送層用塗布液中の電荷輸送物質の割合が、電荷輸送物質および結着樹脂の合計質量に対して０．１〜１００質量％であり、電荷輸送層の塗布時における上端からの距離が０．５ｍｍ未満である領域においては、円筒状支持体が露出しており、電荷輸送層の塗布時における上端に、導電層と電荷輸送層が直接接触する領域を設ける。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性粒子および結着樹脂を含有する導電層用塗布液を用いて、導電層を形成する導電層形成工程と、
電荷発生物質を含有する電荷発生層用塗布液を用いて、電荷発生層を形成する電荷発生層形成工程と、
電荷輸送物質および結着樹脂を含有する電荷輸送層用塗布液を用いて、電荷輸送層を浸漬塗布により形成する電荷輸送層形成工程と、
円筒状支持体、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を有する被処理体の表面に研磨粒子を衝突させることによって、該被処理体の表面の粗面化処理を行う粗面化工程と
を含む電子写真感光体の製造方法であって、
該電子写真感光体においては、円筒状支持体上に導電層、電荷発生層および電荷輸送層が該円筒状支持体側から順に積層され、
該電荷輸送層用塗布液に含有される結着樹脂の少なくとも１種が、誘電率が２．５〜４．５の樹脂であり、
該電荷輸送層用塗布液中の電荷輸送物質の割合が、該電荷輸送層用塗布液中の電荷輸送物質および結着樹脂の合計質量に対して０．１〜１００質量％であり、
該電子写真感光体の該電荷輸送層の塗布時における上端から下端側に向かっての距離が０．５ｍｍ未満である領域においては、該円筒状支持体が露出しており、
該電子写真感光体を形成する層の該電荷輸送層の塗布時における上端に、該導電層と該電荷輸送層が直接接触する領域を設ける
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
前記導電層用塗布液中の結着樹脂の少なくとも１種が、熱硬化性樹脂である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記熱硬化性樹脂の少なくとも１種が、誘電率が３．５〜８．５の熱硬化性樹脂である請求項２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記導電層用塗布液中の導電性粒子の少なくとも１種が、金属酸化物粒子である請求項１〜３のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記電荷発生層用塗布液が、さらに結着樹脂としてブチラール樹脂を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記電荷発生物質の少なくとも１種が、フタロシアニン顔料である請求項１〜５のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項７】
前記導電層形成工程と前記電荷発生層形成工程との間に、結着樹脂としてポリアミド樹脂を含有する中間層を形成する中間層形成工程を有する請求項１〜６のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項８】
前記研磨粒子の体積基準粒度分布における平均粒径が、１０〜６０μｍである請求項１〜７のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項９】
前記研磨粒子の平均円形度が、０．９００以上である請求項１〜８のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１０】
前記被処理体の表面のうち、前記導電層と前記電荷輸送層が直接接触している領域上の、電荷輸送層の塗布時における被処理体の上端側の一部に、粗面化工程による粗面化処理
が施されないことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１１】
円筒状支持体、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を有する電子写真感光体であって、請求項１〜１０のいずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１３】
前記クリーニング手段は、前記電子写真感光体に当接配置される弾性部材を有し、該弾性部材の少なくとも一端は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されている請求項１２に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項１４】
前記現像手段は、現像器および前記電子写真感光体と該現像器との間の距離を規制するための前記電子写真感光体に当接配置される距離規制部材を有し、該距離規制部材の少なくとも一端は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されている請求項１２または１３に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項１５】
請求項１１に記載の電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【請求項１６】
前記電子写真装置は、さらに前記電子写真感光体に当接配置される弾性部材を有するクリーニング手段を有し、該弾性部材の少なくとも一端は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されている請求項１５に記載の電子写真装置。
【請求項１７】
前記現像手段は、現像器および前記電子写真感光体と該現像器との間の距離を規制するための前記電子写真感光体に当接配置される距離規制部材を有し、該距離規制部材の少なくとも一端は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されている請求項１５または１６に記載の電子写真装置。
【請求項１８】
前記露光手段により前記電子写真感光体に照射される露光光は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面には照射されない請求項１５〜１７のいずれかに記載の電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真感光体、その製造方法およびその電子写真感光体を用いる電子写真装置に関する。詳しくは、電子写真感光体を形成する層の層構成、電子写真感光体を形成する層の粗面化方法および電子写真装置に備えられるクリーニング手段と現像手段、さらに詳しくは、電子写真感光体を形成する層の塗布幅、電子写真感光体を形成する層の粗面化方法、電子写真装置に用いられるクリーニング手段と電子写真感光体の当接条件および現像手段の距離規制部材と電子写真感光体の当接条件に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真感光体は、従来はＳｅ、ＡＳ２Ｓｅ３、α―Ｓｉのような無機感光体または有機感光体が用いられている。近年は、長寿命化、安全性の面から有機感光体が広く用いられるようになった。
【０００３】
電子写真装置内に搭載される電子写真感光体は通紙が行なわれることにより、その表面が電子写真装置内の帯電工程、前露光工程、転写工程等により劣化する、帯電、転写等の工程による生成物や現像、クリーニング等の工程による外添剤等の付着により、電子写真感光体の離形性が低下し、電子写真感光体を駆動するモーターのトルクが増加する、クリーニング工程のブレードとの摩擦が高くなり、ブレード鳴き、捲れ等を生じる、等の不具合が発生する場合がある。
【０００４】
上記のような不具合に関し、表面を粗面化した電子写真感光体を用いることにより、表面の劣化を防止させる、異物の付着を防止させる、およびクリーニング工程のブレードとの接触面積を低減させることが考案されている。
【０００５】
表面を粗面化した電子写真感光体を製造する手段としては、例えば、研磨シートを一定の圧力で圧接し、シートの砥粒で粗面化させ、スジ状の凹凸を形成させる方法、（特許文献１参照）旋盤に用いられるバイトのような切削冶具を押付け、スパイラル形状の凹凸を形成させる方法（特許文献２参照）、ブラシを用いて不連続なスジ状の形状を形成させる方法（特許文献３参照）、球状砥粒を噴出し、凹凸を形成させる方法（特許文献４参照）等が考えられる。
【０００６】
【特許文献１】特開平２−１３９５６６号公報
【特許文献２】特開２０００−３１４９７４号公報
【特許文献３】特開昭５７−９４７７２号公報
【特許文献４】特開平２−１５０８５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
表面を粗面化した電子写真感光体を製造する手段として、砥粒を表面に分散させた研磨シートおよびブラシを用いた場合、電子写真感光体を形成する層表面を破壊することにより凹凸を設けるため削れ粉および溝端部にささくれが発生する。所望の面粗さが大きい場合、削れ粉が大量に発生し、その除去対策が必要となる場合がある。また、電子写真装置に電子写真感光体を装着した際、電子写真感光体表面に残留したトナーをクリーニングするために、ゴムブレード等を圧接する手段が施されるが、その圧力が高くなるとささくれ部が削れ粉となり、ブレードエッジにかきとられ、表層に傷を発生させる場合がある。
【０００８】
また、バイトのような切削冶具でスパイラル状の凹凸を設ける場合は、表面を切削するため、凹凸のムラが大きくなりやすい。また、凹凸の作製上、粗面化処理をするための被処理体を回転させる必要があるが、電子写真感光体の基体が円筒状支持体の場合、真円度、真直度、振れまわり等の規格が少なくとも数十μｍオーダーであるのに対し、電子写真感光体を形成する層表面での必要な面粗さは１μｍ程度であり、支持体の規格のオーダーの方が一桁多いため、周および長手方向で凹凸の周ムラが大きく、制御が難しいと思われる。
【０００９】
このようなことから粗面化する手段として砥粒を噴出する方法が、他の手段と比較して表面を破壊せずに電子写真感光体を形成する層表面に凹凸を形成させることが可能で有効な手段と思われる。
【００１０】
しかし、乾式ブラストの圧縮空気の圧力条件を変えて電子写真感光体を形成する層表面の粗面化検討を行なってみると、端部のみに、圧力条件が低くても膜剥がれが発生する場合を生じた。
【００１１】
端部が剥がれた状態で電子写真装置に装着して画出しを行なうと、クリーニング工程に用いられるクリーニングブレード、トナー漏れを防ぐ端部のシール材、現像工程の現像器と電子写真感光体の距離を規制する部材等の接触による感光層の剥がれが画像域まで達し、剥がれた部分の画像濃度が濃くなる不具合が生じる。また、剥がれた部材が電子写真装置のクリーニング手段であるゴム材質のクリーニングブレードにかきとられた際、ブレードエッジに欠けが生じる問題等が発生する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
我々は、上記課題に関し、鋭意検討を行った。その結果、以下のような手段により課題を解決することが可能となった。
【００１３】
即ち、本発明は、
導電性粒子および結着樹脂を含有する導電層用塗布液を用いて、導電層を形成する導電層形成工程と、
電荷発生物質を含有する電荷発生層用塗布液を用いて、電荷発生層を形成する電荷発生層形成工程と、
電荷輸送物質および結着樹脂を含有する電荷輸送層用塗布液を用いて、電荷輸送層を浸漬塗布により形成する電荷輸送層形成工程と、
円筒状支持体、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を有する被処理体の表面に研磨粒子を衝突させることによって、該被処理体の表面の粗面化処理を行う粗面化工程と
を含む電子写真感光体の製造方法であって、
該電子写真感光体においては、円筒状支持体上に導電層、電荷発生層および電荷輸送層が該円筒状支持体側から順に積層され、
該電荷輸送層用塗布液に含有される結着樹脂の少なくとも１種が、誘電率が２．５〜４．５の樹脂であり、
該電荷輸送層用塗布液中の電荷輸送物質の割合が、該電荷輸送層用塗布液中の電荷輸送物質および結着樹脂の合計質量に対して０．１〜１００質量％であり、
該電子写真感光体の該電荷輸送層の塗布時における上端から下端側に向かっての距離が０．５ｍｍ未満である領域においては、該円筒状支持体が露出しており、
該電子写真感光体を形成する層の該電荷輸送層の塗布時における上端に、該導電層と該電荷輸送層が直接接触する領域を設ける
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
【００１４】
前記導電層用塗布液中の結着樹脂の少なくとも１種は、熱硬化性樹脂である事が好まし
い。
【００１５】
前記熱硬化性樹脂の少なくとも１種は、誘電率が３．５〜８．５の熱硬化性樹脂である事が好ましい。
【００１６】
前記導電層用塗布液中の導電性粒子の少なくとも１種は、金属酸化物粒子である事が好ましい。
【００１７】
前記電荷発生層用塗布液は、さらに結着樹脂としてブチラール樹脂を含有する事が好ましい
【００１８】
前記電荷発生物質の少なくとも１種は、フタロシアニン顔料である事が好ましい。
【００１９】
前記導電層形成工程と前記電荷発生層形成工程との間に、結着樹脂としてポリアミド樹脂を含有する中間層を形成する中間層形成工程を有する事が好ましい。
【００２０】
前記研磨粒子の体積基準粒度分布における平均粒径は、１０〜６０μｍである事が好ましい。
【００２１】
前記研磨粒子の平均円形度は、０．９００以上である事が好ましい。
【００２２】
前記被処理体の表面のうち、前記導電層と前記電荷輸送層が直接接触している領域上の、電荷輸送層の塗布時における被処理体の上端側の一部に、粗面化工程による粗面化処理が施されない事が好ましい。
【００２３】
前記電子写真感光体の製造方法は、前記電子写真感光体の最外層を形成する最外層形成工程と、該最外層の表面を乾式ブラスト処理または湿式ホーニング処理することによって該最外層の表面にディンプル形状の凹部を形成する凹部形成工程とを有する事が好ましい。
【００２４】
さらに、本発明は、円筒状支持体、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を有する電子写真感光体であって、前記製造方法により製造されたことを特徴とする電子写真感光体である。
【００２５】
上記電子写真感光体の表面層が硬化性樹脂を含有し、該硬化性樹脂がアクリル系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂およびウレタン系樹脂から選択される１種類である上記電子写真感光体が好ましい。
【００２６】
上記電子写真感光体の表面層の硬化性樹脂が電荷輸送機能を有する硬化性樹脂の硬化物である電子写真感光体が好ましく、さらに、該硬化物は、重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を加熱および／または放射線照射の手段により、重合および／または架橋することにより硬化して得られたものである電子写真感光体がより好ましい。
【００２７】
上記電子写真感光体の表面層が電荷輸送機能を有する硬化性樹脂を含有し、該硬化性樹脂が同一分子内に２つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物の硬化物である電子写真感光体であって、放射線を用いて硬化を行うものであり、該放射線が電子線である電子写真感光体が好ましい。
【００２８】
上記電子写真感光体の層構成が、支持体側から少なくとも電荷発生層、電荷輸送層をこの順に積層した構成であり、該電荷輸送層中に正孔輸送性化合物の硬化物を含有する電子
写真感光体が好ましく、さらに該電荷輸送層が非硬化型の第一層と硬化型の第二層の積層型であり、硬化型の第二層が最表面層である電子写真感光体がより好ましい。
【００２９】
さらに、本発明は、前記電子写真感光体と、
帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
【００３０】
前記クリーニング手段は、前記電子写真感光体に当接配置される弾性部材を有し、該弾性部材の少なくとも一端は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されている事が好ましい。
【００３１】
前記現像手段は、現像器および前記電子写真感光体と該現像器との間の距離を規制するための前記電子写真感光体に当接配置される距離規制部材を有し、該距離規制部材の少なくとも一端は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されている事が好ましい。
【００３２】
さらに、本発明は、前記電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置である。
【００３３】
前記電子写真装置は、さらに前記電子写真感光体に当接配置される弾性部材を有するクリーニング工程を有し、該弾性部材の少なくとも一端は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されている事が好ましい。
【００３４】
前記電子写真装置は、現像器および前記電子写真感光体と該現像器との間の距離を規制するための前記電子写真感光体に当接配置される距離規制部材を有し、該距離規制部材の少なくとも一端は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されている事が好ましい。
【００３５】
前記露光手段により前記電子写真感光体に照射される露光光は、前記電子写真感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面には照射されない事が好ましい。
【００３６】
前記電子写真装置は、前記電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段を有する事が好ましい。
【００３７】
本発明においては、電荷輸送層を製膜する方法が浸漬塗布法により塗布して製膜される場合において効果的であり、電荷輸送層を塗布、製膜後に、最表面層上から粗面化する。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、電子写真感光体を形成する層表面の粗面化によって起こりうる電子写真感光体の剥がれの問題が解消されるため、クリーニングブレードの当接圧が高圧の場合から低圧の場合の各種条件においても、クリーニングブレードのびびり、捲れ、トナーのすり抜け、クリーニング不良等が発生せず、クリーニングの設定の幅を広くすることができる。また、粗面化に由来するスジ状の画像不良等の発生もなく、良好な画像を継続して形成することのできる電子写真装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
（１）本発明の電子写真感光体
以下、本発明の電子写真感光体およびその製造方法について説明する。
【００４０】
本発明の電子写真感光体（以下、単に「感光体」ということがある）は、円筒状支持体、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を有する。なお、本明細書中においては、円筒状支持体、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を有し、粗面化処理を施されていないものを「被処理体」と言う。また、円筒状支持体、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を有し、粗面化処理を施されているものを「電子写真感光体」と言う。
【００４１】
（i）円筒状支持体
本発明の電子写真感光体の円筒状支持体（以下、単に「支持体」ということがある）としては、鉄、銅、金、銀、アルミニウム、亜鉛、チタン、鉛、ニッケル、スズ、アンチモン、インジウム等の金属や合金、あるいは前記金属の酸化物、カーボン、導電性高分子等が使用可能である。また、支持体に導電性材料を含有させてもよい。前記導電性材料は、そのまま成形加工される場合、塗料として用いられる場合、蒸着される場合や、エッチング、プラズマ処理により加工される場合もある。塗料として用いられる場合、支持体としては、前記金属、合金はもちろん、紙、プラスチック等も用いることが可能である。
【００４２】
（ii）導電層
本発明には導電性粒子および結着樹脂が分散された導電層を用いている。導電性粒子は極性の強い材料が多く、導電層表面に露出することにより、上に積層する層との密着性が増すと思われる。
【００４３】
導電性粒子としては、金属およびその酸化物、窒化物、塩、合金やカーボン等の導電性材料を含有してもよい。その様な金属種としては、鉄、銅、金、銀、鉛、亜鉛、ニッケル、スズ、アルミニウム、チタン、アンチモン、インジウム等が挙げられ、具体的には、ＩＴＯ、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３等が使用可能である。より好ましい材料としてはＴｉＯ２、ＳｎＯ２が挙げられる。その粒子径は好ましくは０．００１〜５μｍ、より好ましくは０．０１〜１μｍのものが用いられ、その導電層への添加量は、好ましくは１〜７０質量％、より好ましくは５〜５０質量％である。また、分散剤としてチタンカップリング剤、シランカップリング剤、各種界面活性等を用いてもよい。
【００４４】
導電層を形成する結着樹脂の具体例としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリイミド、フェノール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミド−イミド、ナイロン、ポリサルフォン、ポリアリルエーテル、ポリアセタール、ブチラール樹脂等が挙げられる。
【００４５】
導電層の膜厚は、好ましくは０．０５〜４０μｍであり、より好ましくは０．１〜２５μｍである。
【００４６】
導電層に熱硬化性樹脂を用いると３次元で硬化されるため、表面に微小な構造が形成され、より密着性が増加する。そのためより好ましい樹脂としては、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂である。より好ましくはフェノール樹脂、シリコーン樹脂、アルキッド樹脂等が挙げられる。その際の好ましい誘電率は３.５〜８.５である。８．５以上になると熱硬化性樹脂の極性が高いことと、導電性粒子を添加することから、膜硬化時に局所的に歪みを生じ、膜表面にひび割れを生じ、大きい物は画像に表れるため好ましくない。
【００４７】
（iii）中間層
支持体と導電層あるいは導電層と感光層との間に中間層を設けてもよい。中間層は、界
面での電荷注入制御や接着層として機能する。中間層は、主に結着樹脂から成るが、界面活性剤等を含んでもよい。中間層を形成する結着樹脂の具体例としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリイミド、フェノール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミド−イミド、ナイロン、ポリサルフォン、ポリアリルエーテル、ポリアセタール、ブチラール樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。
【００４８】
本発明における中間層を形成する結着樹脂としては、塗工性、分散性、導電層との密着性から特にポリアミド樹脂が好ましい。
【００４９】
中間層の膜厚は、好ましくは０．０５〜７μｍであり、より好ましくは０．１〜２μｍである。
【００５０】
（iv）電荷発生層
本発明の感光層は、電荷発生層および電荷輸送層が積層されたものである。
【００５１】
電荷発生層は、電荷発生物質を有してなる。本発明において電荷発生物質としては一般的な物質を用いることが可能である。電荷発生物質として一般に、セレン−テルル、ピリリウム、チアピリリウム系染料、また各種の中心金属および結晶系、具体的には例えばα、β、γ、εおよびＸ型等の結晶型を有するフタロシアニン化合物、アントアントロン顔料、ジベンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、トリスアゾ顔料、ジスアゾ顔料、モノアゾ顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料、非対称キノシアニン顔料、およびキノシアニンおよびＡ−Ｓｉ等が挙げられる。
【００５２】
本発明における電荷発生物質としては、塗工性、分散性、感度、環境安定性、導電層との密着性等から特にフタロシアニン化合物が好ましい。
【００５３】
また、電荷発生物質以外に、結着樹脂を用いることも可能である。結着樹脂の具体例として、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリイミド、フェノール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミド−イミド、ポリサルフォン、ポリアリルエーテル、ポリアセタール、ブチラール樹脂、ベンザール樹脂等が挙げられる。
【００５４】
本発明の電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、塗工性、分散性、導電層との密着性からブチラール樹脂が好ましい。
【００５５】
電荷発生層に結着樹脂を含有する場合、電荷発生物質と結着樹脂の比率は、結着樹脂＋電荷発生物質に対する電荷発生物質の質量比が０．１〜１００％が好ましく、より好ましくは１０〜８０％である。
【００５６】
電荷発生層の膜厚は、０．００１〜６μｍが好ましく、より好ましくは、０．０１〜２μｍである。電荷発生層全体に含有される電荷発生物質の質量比は、１０〜１００％が好ましく、より好ましくは５０〜１００％である。
【００５７】
（v）電荷輸送層
電荷輸送層は、結着樹脂および電荷輸送物質を有してなる。電荷輸送層には、電子写真特性に影響がないように、結着樹脂は極性の低いものが用いられるため、支持体として主に用いられるアルミニウム材質支持体等との密着性が悪い。そのため、本発明のような、
粒子の衝突により粗面化を実施した場合、電荷輸送層が剥がれ易い傾向がある。同様なことが電荷輸送物質にも当てはまり、電荷輸送層はより剥がれ易い傾向がある。
【００５８】
本発明においては、導電性粒子を分散した導電層を用いることにより、前記導電層の表面に極性の高い導電性粒子が一部露出されており、前記導電層と電荷輸送層が直接接触する領域を設けることにより、著しく密着性が改善されたと思われる。
【００５９】
本発明の電荷輸送層に用いられる結着樹脂の誘電率としては、２．５〜４．５が好ましい。２.５以下では本発明のような粗面化方法では剥がれを生じ、４.５以上では電子写真特性が悪化するためである。
【００６０】
用いられる結着樹脂の具体例として、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリイミド等が挙げられる。
【００６１】
電荷輸送物質の例としては、ピレン化合物、Ｎ−アルキルカルバゾール化合物、ヒドラゾン化合物、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン化合物、ジフェニルアミン化合物、トリフェニルアミン化合物、トリフェニルメタン化合物、ピラゾリン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物等が挙げられる。
【００６２】
電荷輸送層に結着樹脂を含有する場合、電荷輸送物質と結着樹脂の比率は質量比で、結着樹脂＋電荷輸送物質に対する電荷輸送物質の質量比が０．１〜１００％が好ましく、より好ましくは１０〜８０％である。
【００６３】
電荷輸送層の厚さは薄すぎると帯電能が保てず、厚すぎると残留電位が高くなりすぎるため適当な範囲にする必要がある。好ましくは５〜７０μｍ、より好ましくは１０〜３０μｍである。
【００６４】
電荷輸送層中に含まれる電荷輸送物質の量は、質量比で好ましくは２０〜１００％であり、より好ましくは３０〜９０％である。
【００６５】
（vi）表面層
また、上記の電荷輸送層の上部にさらに表面層を有しても良い。この表面層は硬化性樹脂を含有する感光体に対して適用したときに最も効果的である。最表面層に硬化性樹脂を含有した感光体は耐久使用した場合の表面の磨耗が小さく、表面の形状は初期と耐久使用時で変化がなく、初期に形成した最適な表面形状が長期間に渡って維持され、多数枚耐久した際にも初期のクリーニング特性を維持することができる。
【００６６】
感光体表面の硬化性の層とは、感光体を作製する際の塗料中に重合性官能基を有するモノマーまたはオリゴマー等を含有させ、製膜、乾燥後その膜を加熱および放射線照射等で重合を進行させる工程を設けることにより、３次元的に架橋、硬化することにより溶剤等に不溶、不融の強靭な製膜層を形成することにより達成される。
【００６７】
本発明において用いられる表面層は、電荷輸送機能を有していても、有していなくてもどちらでもよい。電荷輸送機能を有している場合は感光層の一部として扱い、電荷輸送機能を有していない場合は下記にも述べるとおり保護層（または表面保護層）と称して感光層とは区別している。
【００６８】
表面層が電荷輸送機能を有している場合、本発明の感光体の表面層として最良の構成は、同一分子内に重合性官能基を有する電荷輸送物質を含有する塗料を塗布し製膜後、硬化
させて、表面が硬化した感光層を得ることが好ましい。
【００６９】
重合性官能基の形態として、連鎖重合性官能基でも逐次重合性官能基でもどちらの形態を用いても良い。高耐久性の感光体を得る為には、表面層を、連鎖重合性官能基を有する化合物を硬化重合させることによって形成することが好ましく、特には連鎖重合性官能基を同一分子内に２つ以上有する正孔輸送性化合物を硬化重合させることによって形成することが有効である。また、逐次重合性官能基を有する化合物を用いる場合は、表面層を同一分子内に３つ以上の官能基（又は反応点）を有する正孔輸送性化合物を硬化重合させることによって形成することが有効である。
【００７０】
連鎖重合性官能基として、以下に応用範囲の広い不飽和重合性官能基および開環重合性官能基の例を示す。
【００７１】
不飽和重合とは、ラジカルやイオン等によって不飽和の基、例えば、Ｃ＝Ｃ、Ｃ≡Ｃ、Ｃ＝Ｏ、Ｃ＝Ｎ、Ｃ≡Ｎ等が重合する反応であり、その中でもＣ＝Ｃが主である。以下に、不飽和重合性官能基の具体例を示す。
【００７２】
【化１】
2006267856.tif 000002
【００７３】
上記式中、Ｒ１は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアラルキル基等を示す。ここで、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフ
チル基、アンスリル基等が挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
【００７４】
開環重合とは、炭素環やオクソ環や窒素ヘテロ環等のひずみを有する不安定な環状構造が、開環すると同時に重合を繰り返し、鎖状高分子を生成する反応であり、イオンが活性種として作用するものが大半である。以下に、開環重合性官能基の具体例を示す。
【００７５】
【化２】
2006267856.tif 000003
【００７６】
上記式中、Ｒ２は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアラルキル基等を示す。ここで、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
上に例示した連鎖重合性官能基の中でも、下記構造式（１）〜（３）で示される構造を有する連鎖重合性官能基が好ましい。
【００７７】
【化３】
2006267856.tif 000004
【００７８】
構造式（１）中、Ｅ１１は、水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯＯＲ１１、または、−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３を示す。Ｗ１１は、置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＯＯ−、−Ｓ−、または、−ＣＯＮＲ１４−を示す。Ｒ１１〜Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または、置換または無置換のアラルキル基を示す。下付文字のＸは、０または１を示す。ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基、チオフェニル基、フリル基等が挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、チエニル基等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ブチレン基等が挙げられる。アリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基等が挙げられる。
【００７９】
上記各基が有してもよい置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子や、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基や、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基等のアリール基や、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、チエニル基等のアラルキル基や、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基や、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基や、ニトロ基や、シアノ基や、水酸基等が挙げられる。
【００８０】
【化４】
2006267856.tif 000005
【００８１】
構造式（２）中、Ｒ２１、Ｒ２２は、それぞれ独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または、置換または無置換のアラルキル基を示す。下付文字のＹは、１〜１０の整数を示す。ここで、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
上記各基が有してもよい置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子や、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基や、
フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基等のアリール基や、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、チエニル基等のアラルキル基や、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基や、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基等が挙げられる。
【００８２】
【化５】
2006267856.tif 000006
【００８３】
構造式（３）中、Ｒ３１、Ｒ３２は、それぞれ独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または、置換または無置換のアラルキル基を示す。下付文字のＺは、０〜１０の整数を示す。ここで、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
上記各基が有してもよい置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子や、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基や、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基等のアリール基や、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、チエニル基等のアラルキル基や、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基や、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基等が挙げられる。
【００８４】
上記構造式（１）〜（３）で示される構造を有する連鎖重合性官能基の中でも、下記式（Ｐ−１）〜（Ｐ−１１）で示される構造を有する連鎖重合性官能基がより好ましい。
【００８５】
【化６】
2006267856.tif 000007
【００８６】
上記式（Ｐ−１）〜（Ｐ−１１）で示される構造を有する連鎖重合性官能基の中でも、上記式（Ｐ−１）で示される構造を有する連鎖重合性官能基すなわちアクリロイルオキシ基、上記式（Ｐ−２）で示される構造を有する連鎖重合性官能基すなわちメタクリロイルオキシ基がより一層好ましい。
【００８７】
本発明においては、上記の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物の中でも、連鎖重合性官能基を（同一分子内に）２つ以上有する正孔輸送性化合物が好ましい。以下に、連鎖重合性官能基を２つ以上有する正孔輸送性化合物の具体例を示す。
【００８８】
【化７】
2006267856.tif 000008
【００８９】
上記構造式（４）中、Ｐ４１、Ｐ４２は、それぞれ独立に、連鎖重合性官能基を示す。Ｒ４１は、２価の基を示す。Ａ４１は、正孔輸送性基を示す。下付文字のａ、ｂ、ｄは、
それぞれ独立に、０以上の整数を示す。ただし、ａ＋ｂ×ｄは２以上である。また、ａが２以上の場合は、ａ個のＰ４１は同一であっても異なっていてもよく、ｂが２以上の場合は、ｂ個の［Ｒ４１−（Ｐ４２）ｄ］は同一であっても異なっていてもよく、ｄが２以上の場合は、ｄ個のＰ４２は同一であっても異なっていてもよい。
【００９０】
上記構造式（４）中の（Ｐ４１）ａおよび［Ｒ４１−（Ｐ４２）ｄ］ｂをすべて水素原子に置き換えたものを例示すると、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体（トリフェニルアミン等）、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体、Ｎ−フェニルカルバゾール誘導体等が挙げられる。これら（上記構造式（４）中の（Ｐ４１）ａおよび［Ｒ４１−（Ｐ４２）ｄ］ｂをすべて水素原子に置き換えたもの）の中でも、下記構造式（５）で示される構造を有するものが好ましい。
【００９１】
【化８】
2006267856.tif 000009
【００９２】
上記構造式（５）中、Ｒ５１は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または、置換または無置換のアラルキル基を示す。Ａｒ５１、Ａｒ５２は、それぞれ独立に、置換または無置換のアリール基を示す。Ｒ５１、Ａｒ５１、Ａｒ５２は、Ｎ（窒素原子）と直接結合してもよいし、アルキレン基（メチル基、エチル基、プロピレン基等）、ヘテロ原子（酸素原子、硫黄原子等）または−ＣＨ＝ＣＨ−を介してＮ（窒素原子）と結合してもよい。ここで、アルキル基としては、炭素原子数が１〜１０のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基、チオフェニル基、フリル基、ピリジル基、キノリル基、ベンゾキノリル基、ガルバゾリル基、フェノチアジニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチオフェニル基、ジベンゾフリル基、ジベンゾチオフェニル基等が挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、チエニル基等が挙げられる。なお、上記構造式（５）中のＲ５１は、置換または無置換のアリール基であることが好ましい。
【００９３】
上記各基が有してもよい置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子や、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基や、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基等のアリール基や、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、チエニル基等のアラルキル基や、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基や、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基や、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ（ｐ−トリル）アミノ基等の置換アミノ基や、スチリル基、ナフチルビニル基等のアリールビニル基や、ニトロ基や、シアノ基や、水酸基等が挙げられる。
【００９４】
上記構造式（４）中のＲ４１の２価の基としては、置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、−ＣＲ４１１＝ＣＲ４１２−（Ｒ４１１、Ｒ４１２は、それぞれ独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、または、置換または無置
換のアリール基を示す。）、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、酸素原子、硫黄原子等、また、これらを組み合わせたものが挙げられる。これらの中でも、下記構造式（６）で示される構造を有する２価の基が好ましく、さらには下記構造式（７）で示される構造を有する２価の基がより好ましい。
【００９５】
【化９】
2006267856.tif 000010
【００９６】
上記構造式（６）中、Ｘ６１〜Ｘ６３は、それぞれ独立に、置換または無置換のアルキレン基、−（ＣＲ６１＝ＣＲ６２）ｎ６−（Ｒ６１、Ｒ６２は、それぞれ独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、または、置換または無置換のアリール基を示す。下付文字のｎ６は、１以上の整数を示す（好ましくは５以下。）。）、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、酸素原子、または、硫黄原子を示す。Ａｒ６１、Ａｒ６２は、それぞれ独立に、置換または無置換のアリーレン基を示す。下付文字のｐ６、ｑ６、ｒ６、ｓ６、ｔ６は、それぞれ独立に、０以上の整数を示す（好ましくは１０以下、より好ましくは５以下。）。ただし、ｐ６、ｑ６、ｒ６、ｓ６、ｔ６のすべてが０であることはない。ここで、アルキレン基としては、炭素原子数が１〜２０、特に１〜１０のものが好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が挙げられる。アリーレン基としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン、ピレン、ベンゾチオフェン、ピリジン、キノリン、ベンゾキノリン、カルバゾール、フェノチアジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン等から２個の水素原子を取った２価の基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、チオフェニル基等が挙げられる。
【００９７】
上記各基が有してもよい置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子や、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基や、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基等のアリール基や、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、チエニル基等のアラルキル基や、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基や、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基や、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ（ｐ−トリル）アミノ基等の置換アミノ基や、スチリル基、ナフチルビニル基等のアリールビニル基や、ニトロ基や、シアノ基や、水酸基等が挙げられる。
【００９８】
上記構造式（７）中、Ｘ７１、Ｘ７２は、それぞれ独立に、置換または無置換のアルキレン基、−（ＣＲ７１＝ＣＲ７２）ｎ７−（Ｒ７１、Ｒ７２は、それぞれ独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、または、置換または無置換のアリール基を示す。下付文字のｎ７は、１以上の整数を示す（好ましくは５以下。）。）、−ＣＯ−、または、酸素原子を示す。Ａｒ７１は、置換または無置換のアリーレン基を示す。下付文字のｐ７、ｑ７、ｒ７は、それぞれ独立に、０以上の整数を示す（好ましくは１０以下、より好ましくは５以下。）。ただし、ｐ７、ｑ７、ｒ７のすべてが０であることはない。ここで、アルキレン基としては、炭素原子数が１〜２０、特に１〜１０のものが好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が挙げられる。アリーレン基としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン、ピレン、ベンゾチオフェン、ピリジン、キノリン、ベンゾキノリン、カルバゾール、フェノチアジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン等から２個の水素原子を取った２価の基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。アリー
ル基としては、フェニル基、ナフチル基、チオフェニル基等が挙げられる。
【００９９】
上記各基が有してもよい置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子や、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基や、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基等のアリール基や、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、チエニル基等のアラルキル基や、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基や、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基や、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ（ｐ−トリル）アミノ基等の置換アミノ基や、スチリル基、ナフチルビニル基等のアリールビニル基や、ニトロ基や、シアノ基や、水酸基等が挙げられる。
以下に、連鎖重合性官能基を２つ以上有する正孔輸送性化合物の好適な例（化合物例）を挙げる。
【０１００】
【表１】
2006267856.tif 000011
【０１０１】
【表２】
2006267856.tif 000012
【０１０２】
【表３】
2006267856.tif 000013
【０１０３】
【表４】
2006267856.tif 000014
【０１０４】
【表５】
2006267856.tif 000015
【０１０５】
【表６】
2006267856.tif 000016
【０１０６】
【表７】
2006267856.tif 000017
【０１０７】
【表８】
2006267856.tif 000018
【０１０８】
【表９】
2006267856.tif 000019
【０１０９】
【表１０】
2006267856.tif 000020
【０１１０】
【表１１】
2006267856.tif 000021
【０１１１】
【表１２】
2006267856.tif 000022
【０１１２】
【表１３】
2006267856.tif 000023
【０１１３】
【表１４】
2006267856.tif 000024
【０１１４】
【表１５】
2006267856.tif 000025
【０１１５】
【表１６】
2006267856.tif 000026
【０１１６】
【表１７】
2006267856.tif 000027
【０１１７】
【表１８】
2006267856.tif 000028
【０１１８】
【表１９】
2006267856.tif 000029
【０１１９】
電荷輸送機能を有している表面層に含まれる電荷輸送物質の量は、電荷輸送層における好ましい範囲を参照できる。
【０１２０】
電荷輸送機能を有している表面層に結着樹脂を含有させてもよい。用いられる結着樹脂の種類、含有量等は、電荷輸送層における具体例、好ましい範囲を参照できる。
【０１２１】
表面層の膜厚は０．０１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜７μｍである。表面層には、放射線を利用して、硬化、重合する樹脂、あるいはモノマーを用いることが可能である。
【０１２２】
さらに、表面層中に金属およびその酸化物、窒化物、塩、合金やカーボン等の導電性物質を含有してもよい。その様な金属種としては、鉄、銅、金、銀、鉛、亜鉛、ニッケル、スズ、アルミニウム、チタン、アンチモン、インジウム等が挙げられ、具体的には、ＩＴＯ、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３等が使用可能である。導電性物質は微粒子状のものを表面層中に分散させるが、その粒子径は好ましくは０．００１〜５μｍ、より好ましくは０．０１〜１μｍのものが用いられ、その保護層への添加量は、好ましくは１〜７０質量％、より好ましくは５〜５０質量％である。また、分散剤としてチタンカップリング剤、シランカップリング剤、各種界面活性等を用いてもよい。
【０１２３】
感光層を構成する各層には、酸化防止剤や光劣化防止剤等各種添加剤を用いてもよい。また、表面層にはその滑性や撥水性を改善する目的で各種フッ素化合物やシラン化合物、金属酸化物等あるいはそれらの微粒子等を含有してもよい。これらの分散性を改善する目的で分散剤や界面活性剤を用いてもよい。表面層におけるこれら添加物の含有量は好ましくは１〜７０質量％、より好ましくは５〜５０質量％である。
【０１２４】
本発明の電子写真感光体の製造方法としては、蒸着、塗布等の方法が用いられるが、中でも塗布法が最も好ましい。塗布による方法は、薄膜から厚膜まで広い範囲で、しかもさまざまな組成の膜が形成可能である。具体的には、バーコーター、ナイフコーター、浸漬塗布、スプレー塗布、ビーム塗布、静電塗布、ロールコーター、アトライター、粉体塗布等で塗布される。なお、本発明の電子写真感光体において電荷輸送層は、浸漬塗布法により塗布して製膜される場合において効果的であるため、該方法により製造するのがよい。
【０１２５】
（vi）電子写真感光体を形成する層の塗布幅
本発明の電子写真感光体を機械的粗面化を施して形成する場合、電子写真感光体を形成
する層を最終的に使用する層まで製膜して被処理体を作製した後、被処理体の最表面層上から粗面化することが好ましい。しかしながら、その場合、粗面化工程において電子写真感光体の膜特性を要因とする膜剥がれという問題が発生する。
【０１２６】
この課題を解決するために、鋭意検討した結果、本発明者らは、円筒状支持体上に形成される有機電子写真感光体において、電荷輸送層の浸漬塗布時における電子写真感光体の上端より下端側に向かっての距離が０．５ｍｍ未満である領域において、円筒状支持体が露出しており、感光体を形成する層の電荷輸送層の浸漬塗布時における上端に、少なくとも、導電性粒子および結着樹脂が分散された導電層、誘電率が２．５以上４．５以下である結着樹脂および電荷輸送物質を０．１以上１００質量％以下含む電荷輸送層を、該支持体側から順に積層する領域を設けることが剥がれに対して絶大な効果があることを見出し、本発明が達成された。
【０１２７】
円筒状支持体が露出する領域を、電荷輸送層の浸漬塗布時における電子写真感光体の上端より下端側に向かっての距離が０．５ｍｍ未満である領域としているのは、浸漬塗布装置の問題から規定している。浸漬塗布装置について図１−１、１−２、図２−１、２−２に説明する。図１は円筒状支持体を上端部でチャッキングする場合で図１−１は塗布前、図１−２は塗布中を示している。図２は下端部で支持体をチャッキングする場合で図２−１は塗布前、図２−２は塗布中を示している。
【０１２８】
図１−１の浸漬塗布装置について説明する。図示しないポンプにより塗料が塗料液タンク（１−５）より押し出され、浸漬塗布装置（１−４）に投入され、浸漬塗布装置（１−４）より溢れた塗料は塗料液タンク（１−５）に戻され、塗料が循環する。ワーク（１−１）はチャッキング機構（１−２）により固定され、図示しない上下動手段により浸漬塗布装置内を下降および上昇することにより、ワーク（１−１）に薄膜が塗布される。図１−２はワーク（１−１）が下降端で停止した状態を示している。
【０１２９】
図２−１の浸漬塗布装置について説明する。図示しないポンプにより塗料が塗料液タンク（２−６）より押し出され、浸漬塗布装置（２−５）に投入され、浸漬塗布装置（２−５）より溢れた塗料は塗料液タンク（２−６）に戻され、塗料が循環する。ワーク（２−１）はチャッキング機構（２−２）により固定され、ワーク（２−１）の上端にはダミーワーク（２−４）がのせられている。図示しない上下動手段により浸漬塗布装置内を下降および上昇することにより、ワーク（２−１）に薄膜が塗布される。図２−２はワーク（２−１）が下降端で停止した状態を示している。
【０１３０】
何れの浸漬塗布装置共に下降位置精度、液面等のふれにより、被処理体の上端より下端側に向かって０．５ｍｍ以下の領域に塗布を行うことになると塗布装置のチャッキング部等に塗料が付着し、固着する場合がある。また、付着による汚れでワークの取りこぼし、固着した塗料が剥がれ塗料内に入り、ハーフトーン画像上、黒もしくは白色の点または、スジとなる不良画像を形成することがある。これは、剥がれた塗料が被処理体に付着し画像欠陥を生じる等の不具合を発生するためである。
【０１３１】
本発明の電子写真感光体を作製するにあたっては、感光体上に形成される層の電荷輸送層を塗布する際の上端に、導電層に電荷輸送層を直接積層する領域を設ける。具体的には、本発明の電子写真感光体は、例えば、次のようにして作製することができる。電子写真感光体を作製する際、円筒状支持体に導電層を形成させ、導電層上に必要に応じて中間層および電荷発生層をさらに積層するが、感光体を形成する層の電荷輸送層を塗布する際の上端において、導電層に電荷輸送層を直接積層するために、積層部の上端に導電層が露出する領域を残して中間層および電荷発生層を形成させる。さらに、電荷輸送層を導電層が露出する領域上まで積層させ、導電層に電荷輸送層を直接積層する領域を形成させる。
【０１３２】
導電層に電荷輸送層を直接積層する領域の幅は、該電荷輸送層の塗布時における電子写真感光体の上端から下端に向かっての距離として、通常０.０１ｍｍ〜５０ｍｍ、好まし
くは０.１ｍｍ〜２５ｍｍである。０.０１ｍｍ以下だと、導電層と電荷輸送層の十分な密着性が得られないため、好ましくない。上限は特にないが、露光手段の有効領域が狭められすぎないようにするためには５０ｍｍ以下であることが好ましい。
【０１３３】
なお、以下に記載するとおり、クリーニング手段における、感光体に当接配置される弾性部材に関し、該弾性部材の少なくとも一端は、感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されていることが好ましい。また、現像手段における、現像器および前記電子写真感光体と該現像器との間の距離を規制するための感光体に当接配置される距離規制部材に関し、該距離規制部材の少なくとも一端は、感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されていることが好ましい。したがって、本発明の感光体において導電層と電荷輸送層とが直接接触する領域の範囲については、これらの部材を当接する位置等も考慮して、決定することが出来る。
【０１３４】
（vii）被処理体の粗面化方法
本発明の電子写真感光体は、粒子の衝突により表面を粗面化させることにより得られる。
【０１３５】
粒子の衝突により表面を粗面化させる手段は、他の手段と比較して、表面を破壊せずに電子写真感光体を形成する層表面に凹凸を形成させることが可能で有効な手段と思われる。このような手段として、乾式のブラスト法と湿式のホーニング法が好ましい。さらに、乾式のブラスト法を用いることが、湿度条件に敏感な被処理体を水等の溶媒に接触させることなく粗面化できるためより好ましい。
【０１３６】
ブラスト加工の方法としては、圧縮空気を用いて噴射する方法、モーターを動力として噴射する方法等があるが、被処理体の粗面化を精密に制御が可能で、かつ設備の簡易性という点において、圧縮空気を用いる方法が好ましい。
【０１３７】
ブラストに用いる研磨粒子の材質としては、酸化アルミニウム、ジルコニア、炭化ケイ素、ガラス等のセラミック系、ステンレス、鉄、亜鉛等の金属系、ポリアミド、ポリカーボネート、エポキシ、ポリエステル等の樹脂系が挙げられる。特に粗面化効率およびコスト面から、ガラス、酸化アルミニウム、ジルコニアが好ましい。
【０１３８】
本発明において、使用する研磨粒子の体積基準粒度分布における平均粒径は、１０μｍ〜６０μｍであることが好ましい。そのような研磨粒子を用いて粗面化処理を施すことで、クリーニング性に優れた感光体が得られる。研磨粒子の平均粒径が１０μｍ未満の場合には、一般的なブラストに用いられる噴出圧力では衝突のエネルギーが小さいために、被処理体表面の粗面化を十分に行うことができず、クリーニング性を改善する効果を十分に得ることができない。また、平均粒径が６０μｍ超過の場合、表面の凹凸の周期が大きいために、感光体とクリーニングブレードの接触面積低減の効果が低く、やはりクリーニング性を改善する効果を十分に得ることができない。
【０１３９】
また、体積基準粒度分布における最頻径は、１０μｍ超過６０μｍ未満が好ましい。最頻径がこの範囲から外れた場合、クリーニング性、画像流れを改善する効果は得られるものの、所望の表面を形成するために多量の研磨粒子と処理時間を必要とし、コストや生産性の面で不利である。
【０１４０】
該研磨粒子のうち、１０μｍ以上の粒子の平均円形度は、０．９００以上が好ましく、
さらに０．９５０以上がより好ましい。１０μｍ以上の粒子は、一般的なブラストに用いられる噴出圧力で、被処理体表面に凹凸を形成しうる衝突エネルギーをもつ。一方、研磨粒子の平均円形度が０．９００を下回った場合、球形ではなく凹凸の激しい粒子、いわゆる異型粒子の数が増す。１０μｍ以上の異型粒子は、被処理体表面に突き刺さる、あるいは割れを発生させる可能性があり、電流のリーク、画像上の欠陥、耐久使用された際の傷の発生を招きやすい。なお、平均円形度が０．９５０以上の場合には、異型粒子の数はごく少量であり、そのような問題の発生はほとんど見られない。
【０１４１】
本発明における研磨粒子の平均粒径、最頻径、粒度分布、平均円形度は、体積基準粒度分布に基づくものである。これらは種々の方法によって測定できるが、本発明においてはシスメックス社製フロー式粒子像分析装置ＦＰＩＡ−２１００を用いて測定を行った。
【０１４２】
具体的な測定方法としては、予め容器中の不純物を除去した水１００〜１５０ｍｌ中に分散剤として界面活性剤、好ましくはアルキルベンゼンスルフォン酸塩を０．１〜０．５ｍｌ加え、さらに測定試料を０．１〜０．５ｇ程度加える。試料を分散した懸濁液は超音波（５０ｋＨｚ，１２０Ｗ）を１〜３分間照射し、分散液濃度を１．２〜２．０万個／μｌとして、上記フロー式粒子像測定装置を用い、０．６μm以上４００μm以下（平均円形度においては１０.０５μｍ以上１００．４８μｍ未満）の円相当径を有する粒子の平均
粒径、最頻径、粒度分布、平均円形度を測定する。
【０１４３】
特に、本発明における円形度は、下式（１）により求め、さらに下式（２）で示すように測定された全粒子の円形度の総和を全粒子数で除した値を平均円形度と定義する。
【０１４４】
【数１】
2006267856.tif 000030
【０１４５】
なお、「５１２×５１２の画像処理解像度（０．３μｍ×０．３μｍの画素）」ということは、０．３μｍ四方の画素を縦横５１２個並べたものを測定の視野として用いたということである。
【０１４６】
【数２】
2006267856.tif 000031
【０１４７】
本発明に用いている円形度は研磨粒子の凹凸度合いの指標であり、研磨粒子が完全な球形の場合１．０００を示し、表面形状が複雑になるほど円形度は小さな値となる。
【０１４８】
なお、本発明で用いている測定装置である「ＦＰＩＡ−２１００」は、各粒子の円形度を算出後、平均円形度および円形度標準偏差の算出に当たって、得られた円形度によって、円形度０．４〜１．０の粒子を０．０２０刻みで２２６分割したクラスに分け、分割点の中心値と頻度を用いて平均円形度および円形度標準偏差の算出を行う算出法を用いている。この算出法で算出される平均円形度および円形度標準偏差の各値と、上述した各粒子
の円形度を直接用いる算出式によって算出される平均円形度および円形度標準偏差の誤差は、非常に少なく、実質的には無視できる程度である。本発明においては、算出時間の短縮化や算出演算式の簡略化の如きデータの取り扱い上の理由で、上述した各粒子の円形度を直接用いる算出式の概念を利用し、一部変更したこのような算出法を用いても良い。
【０１４９】
本発明において用いるブラスト加工装置の例を図３に示す。容器（不図示）に貯留されている研磨粒子は３−４の経路よりノズルに導かれ、３−３の経路より導入された圧縮空気を用いて噴射ノズル（３−１）より噴射され、ワーク支持体（３−６）により支持され自転している被処理体（３−７）に衝突する。３−５は研磨粒子（ブラスト砥粒）である。
【０１５０】
このときノズルとワークの距離はノズル固定冶具（３−２）、アーム（３−９）により調整されて決められる。ノズルは通常ワークの回転軸方向に対して移動しながら粗面化処理を行い、ノズル支持体（３−８）がワークの回転軸方向に移動することによりワークに対してムラ無く粗面化処理を施すことができる。
【０１５１】
この時、ノズルと被処理体表面の最短距離は適当な間隔に調整する必要がある。距離が過剰に近い、若しくは遠いと加工効率が落ちる、若しくは所望の粗面化を行うことができない場合がある。噴射の動力に用いる圧縮空気の圧力も適度な圧力に調整する必要がある。このように、被処理体を製膜完成後に粗面化することで生産性の良い製造法が確立できる。
【０１５２】
本発明の表面形状、または粗面化は、感光体下地の支持体の面形状とは無関係である。特に、有機感光層の製膜法が浸漬塗布法の場合、しばしば製膜された面は非常に平滑で、仮に下地を粗面化したとしてもその面形状を反映することはない。
【０１５３】
本発明の電子写真感光体としては、感光体の表面全体において粗面化処理が施されてよいが、膜剥がれをより低減するためには、感光体の表面において、前記導電層と前記電荷輸送層が直接接触している領域上の、電荷輸送層の塗布時における電子写真感光体の上端側の一部には粗面化処理が施されないことが好ましい。一方、以下に記載するとおり、クリーニング手段における、感光体に当接配置される弾性部材に関し、該弾性部材の少なくとも一端は、感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されていることが好ましい。また、現像手段における、現像器および前記電子写真感光体と該現像器との間の距離を規制するための感光体に当接配置される距離規制部材に関し、該距離規制部材の少なくとも一端は、感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されていることが好ましい。クリーニング手段における該弾性部材および現像手段における該距離規制部材を当接する領域において粗面化している領域と粗面化していない領域があると、両領域間ですべり性に違いが生じる等して好ましくない。したがって、本発明の感光体において粗面化処理を施す範囲については、これらの部材を当接する位置等も考慮して、適宜決定することが出来る。
【０１５４】
（２）本発明のプロセスカートリッジ
本発明のプロセスカートリッジは、前述した本発明の電子写真感光体と、この電子写真感光体を帯電させる帯電手段、帯電した電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーで現像する現像手段、電子写真感光体に形成されたトナー像を転写材に転写する転写手段、電子写真感光体に形成されたトナー像の転写後に電子写真感光体上に残るトナーを除去するクリーニング手段等の構成要素のうちの一又は二以上のものとを一体に支持し、複写機やレーザービームプリンター等の電子写真装置本体に着脱自在に構成される。本発明のプロセスカートリッジは、電子写真感光体および前述した構成要素の他にも、他の手段を適宜有していても良い。
【０１５５】
（３）本発明の電子写真装置
本発明の電子写真感光体を用いる電子写真装置であるが、少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有し、好ましくはさらにクリーニング手段を有する。図４に電子写真感光体および電子写真装置の各手段の有効領域を示している。電子写真装置の各手段の有効領域は以下の通りである。
【０１５６】
【数３】
2006267856.tif 000032
【０１５７】
本発明の感光体においては、電子写真感光体を形成する層の電荷輸送層の塗布時における上端に、少なくとも導電性粒子および結着樹脂が分散された導電層、少なくとも誘電率が２．５以上４．５以下である結着樹脂、および前記結着樹脂＋電荷輸送物質に対する電荷輸送物質の質量比として０．１〜１００％の電荷輸送物質を含む電荷輸送層が該支持体側から順に積層された領域が存在する。この領域上において感光体は電荷発生機能を有していないため、露光手段が照射しても潜像を書くことは不可能である。したがって、この領域上より内側で露光手段の照射を行なうことが好ましい。また、この領域上より内側であっても、電荷発生層が形成されていない領域がある場合には、露光手段が照射しても潜像を書くことは不可能である。また、この領域上より内側であっても、電荷注入制御機能等を有する中間層が形成されていない領域がある場合には、同領域と、中間層が形成されている領域との画像の間にムラを生じてしまうことがある。したがって、本発明の感光体においては、電荷発生層、電荷輸送層および中間層（電荷注入制御機能等を有する中間層を有する場合）が全て積層されている領域において露光手段の照射を行なうことが好ましい。
【０１５８】
また、帯電手段、転写手段がある場合は、印加された電圧を維持するだけであり、画像形成されないことから実害は少ないと思われるが、導電層と電荷輸送層が直接接触している領域上に現像手段、クリーニング手段からの飛散トナー、転写残トナー等が吸着し融着を引き起こす場合があるので、やはり、この領域上での帯電は避けるべきである。
【０１５９】
上記のことから、この領域は、少なくとも電子写真装置内では帯電手段の有効領域の外側に形成することが必要となる。
【０１６０】
また、クリーニング部材の途中で粗面されていない領域があると、滑り性の違いを生じ、ブレード捲れ等を生じる可能性があるので、少なくともブレード部材がある領域は粗面化することが必要である。
【０１６１】
なお、前記導電層と前記電荷輸送層が直接接触している領域上において、上述の通り、密着性が向上されている。したがって、クリーニング手段における、感光体に当接配置される弾性部材に関し、該弾性部材の少なくとも一端は、感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されていることが、感光体の剥がれを防止するため好ましい。また、同様の理由で、現像手段における、現像器および前記電子写真感光体と該現像器との間の距離を規制するための感光体に当接配置される距離規制部材に関し、該距離規制部材の少なくとも一端は、感光体の前記導電層と前記電荷輸送層とが直接接触する領域上の表面に当接されていることが好ましい。
【実施例】
【０１６２】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。
【０１６３】
（実施例１）
（i）支持体の作製
実施例１に用いる電子写真感光体を以下の通りに作製した。まず、長さ３７０ｍｍ、外径８４ｍｍ、肉厚３ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ  Ａ３００３アルミニウムの合金）を切削加工により作製した。このシリンダーを洗剤（商品名：ケミコールＣＴ、常盤化学（株）製）を含む純水中で超音波洗浄を行い、続いて洗剤を洗い流した後、さらに純水中で超音波洗浄を行って脱脂処理した。
【０１６４】
（ii）導電層の作製
アンチモンをドープした酸化スズの被覆膜を有する酸化チタン粉体（商品名：クロノスＥＣＴ−６２、チタン工業（株）製）６０質量部、酸化チタン粉体（商品名：ｔｉｔｏｎｅ  ＳＲ−１Ｔ、堺化学（株）製）６０質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：フェノライト  Ｊ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、固形分７０％）７０質量部、２−メトキシ−１−プロパノール５０質量部、メタノール５０質量部とからなる溶液を約２０時間ボールミルで分散させた。この分散液に含有するフィラーの平均粒径は、０．２５μｍであった。
【０１６５】
レゾール型フェノール樹脂（商品名：フェノライト  Ｊ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、固形分７０％）の誘電率は５．５であった。
【０１６６】
このようにして調合した分散液を、前記アルミニウムシリンダー上に浸漬法によってシリンダー上端より1ｍｍの位置から塗布し、１５０℃に調整された熱風乾燥機中で４８分
間加熱乾燥、硬化することにより膜厚１５μｍの導電層を形成した。
【０１６７】
（iii）中間層の作製
次に、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）１０質量部およびメトキシメチル化ナイロン樹脂（商品名：トレジンＥＦ３０Ｔ、帝国化学産業（株）製）３０質量部をメタノール５００質量部およびブタノール２５０質量部の混合液に溶解した溶液を、前記導電層の上に浸漬法によってシリンダー上端部より１６ｍｍの位置から塗布し、１００℃に調整された熱風乾燥機中に２２分間投入し加熱乾燥して、膜厚み０．４５μｍの中間層を形成した。
【０１６８】
共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）およびメトキシメチル化ナイロン樹脂（商品名：トレジンＥＦ３０Ｔ、帝国化学産業（株）製）の誘電率はそれぞれ４．１、３．３であった。
【０１６９】
（iv）電荷発生層の作製
次に、ＣｕＫa線回折スペクトルにおけるブラッグ角２θ±０．２°の７．４°および
２８．２°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料４質量部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）２質量部、シクロヘキサノン９０質量部からなる混合溶液を、直径１ｍｍガラスビーズを用いてサンドミルで１０時間分散させた後、酢酸エチル１１０質量部を加えて電荷発生層用塗工液を調製した。この塗工液を上記の導電層上に浸漬法によってシリンダー上端部より１５ｍｍの位置から塗布し、８０℃に調整された熱風乾燥機中に２２分間投入し加熱乾燥して、膜厚０．１７μｍの電荷発生層を形成した。
【０１７０】
（v）電荷輸送層の作製
次に、下記構造式（８）で示されるトリアリールアミン系化合物３５質量部
【０１７１】
【化１０】
2006267856.tif 000033
【０１７２】
およびビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスティックス（株）製）５０質量部を、モノクロロベンゼン３２０質量部およびジメトキシメタン５０質量部に溶解して調製した電荷輸送層用塗工液を、上記電荷発生層上に浸漬法によってシリンダー上端部より２ｍｍの位置から塗布し、１００℃に調整された熱風乾燥機中に４０分間投入し加熱乾燥して、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１７３】
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスティックス（株）製）の誘電率は３.０であった。
【０１７４】
（vi）表面層の作製
次いで、下記構造式（９）で示される重合性官能基を有する正孔輸送性化合物３０質量部
【０１７５】
【化１１】
2006267856.tif 000034
【０１７６】
を１−プロパノール３５質量部と１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）製）３５質量部に溶解した後にＰＴＦＥ製の０．５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過を行い、硬化型表面層としての表面層用塗工液を調製した。この塗工液を用いて前記電荷輸送層上に硬化型表面層を浸漬塗布法によってシリンダー上端部より１．５ｍｍの位置から塗工した。その後、窒素中において加速電圧１５０ｋＶ、線量１５ｋＧｙの条件で電子線を照射した。引き続いて被処理体の温度が１２０℃になる条件で９０秒間加熱処理を行った。このときの酸素濃度は１０ｐｐｍであった。さらに、被処理体を大気中で１００℃に調整された熱風乾燥機中で２０分間加熱処理を行って、膜厚５μｍの硬化型表面層を形成した。表面層の誘電率は３．８であった。
【０１７７】
（vii）粗面化処理
得られた被処理体は以下のようにして最表面層の粗面化処理を行った。図３に示す乾式ブラスト装置（不二精機製造所製）を用いて、下記条件にてブラスト処理を行った。
【０１７８】
研磨粒子として、球状ガラスビーズ（商品名：ＵＢ−０１Ｌ  （株）ユニオン製）を使用した。ブラスト処理における圧縮空気の圧力は、０・３４ MPa、噴射ノズルの回転軸方向への移動速度は４３０ｍｍ／ｍｉｎ、ワーク（被処理体）の回転速度は６０ｒｐｍ、ノズルとワーク（被処理体）の距離は１００ｍｍ、研磨粒子（砥粒）吐出角度は９０°、研磨粒子（砥粒）供給量：２００ｇ／ｍｉｎ、ブラスト回数：片道×２回、ブラスト処理位置：塗工上端部２．５ｍｍ以下全て。
【０１７９】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。
【０１８０】
（viii）感光評価
このようにして得られた電子写真感光体を図５に示すような感光評価装置に装着し評価した。図５の装置について簡単に説明する。感光体（５−１）は、図示しない回転モーターにより矢印方向に回転される。また、アースに接地されている。前露光手段（５−２）は６６０ｎｍの波長で発光する赤色ＬＥＤを用いている。一次帯電器（５−３）はスコロトロンを用いており、帯電シャーシおよびグリッドは同電位としている。現像器（５−４）内には現像材が投入されており、現像スリーブにはバイアス電位がかけられた交流電圧が印加されるようになっている。転写ローラ（５−６）には、一次帯電器とは逆極性の電位が印加されるように設定される。クリーニングキット（５−５）にはポリウレタン製のブレードが感光体（５−１）に対して図示されていないバネで加圧されるように設定される。評価にあたり、以下の様にプロセス条件を設定した。
【０１８１】
帯電、現像、転写：動作ＯＦＦ。現像器および転写ローラは離間させた。
感光体回転数  ６０ｒｐｍ（周速：２６４ｍｍ／ｓｅｃ）
前露光  ドラム−ＬＥＤ距離：８０ｍｍ、露光幅：５ｍｍ、露光強度：２０μＷ
クリーニング  硬度：７７°（２３℃、５５％ＲＨ）、厚さ：３ｍｍ、荷重：４０ｇ／ｃｍ、設定角：２４°、ブレード長さ：３５０ｍｍ
【０１８２】
感光体のブラストされた領域にクリーニングブレードが圧接されている。作製された感光体を図５の評価装置に装着し、３００時間連続回転を行なった。周速から１回転はほぼＡ４通紙１枚分と見積もれるので、３００時間≒Ａ４連続通紙１００Ｋ（１００，０００）枚となる。
【０１８３】
感光体の剥がれは無かった。
【０１８４】
次に、感光体を取り出し、塗工上端部より７〜１５ｍｍの間にカッターを用い、１０ｍｍ四方内で１ｍｍ幅でクロスカットをおこなった。その後、感光体を評価装置に装着し、１５０時間連続回転を行なった。Ａ４連続通紙５０Ｋ（５０，０００）枚相当でも剥がれは発生しなかった。
【０１８５】
（実施例２）
実施例１において、ブラスト処理位置を感光体の上下端９ｍｍ以内とした。ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０１８６】
（実施例３）
前記実施例１の感光体の作製において、電荷輸送層までを実施例１と同様に作製した。
【０１８７】
次に、分散剤としてフッ素原子含有樹脂（商品名：サーフロンＳ−３８１、セイミケミカル（株）製）０．３４質量部をメタノール３５質量部とエタノール３５質量部に溶解した後、潤滑剤として四フッ化エチレン樹脂粉体（ルブロンＬ−２）３質量部を加え、高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）で６００ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力で３回の処理を施し、均一に分散させた。これを１０μｍのＰＴＦＥメンブレンフィルターで加圧ろ過を行い、潤滑剤分散液を調整した。この液に対して、レゾール型フェノール樹脂ワニス（商品名：ＰＬ−４８５２、群栄化学工業（株）製、不揮発成分：７５％）２１．２質量部、および下記構造式（３）で示される構造を有する電荷輸送物質１１．１質量部を
【０１８８】
【化１２】
2006267856.tif 000035
【０１８９】
混合、攪拌して溶解させた。この液をＰＴＦＥ製の５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過を行い、硬化性表面層用塗工液を調整した。
【０１９０】
この最表面層用の塗工液を電荷輸送層上に浸漬塗布し、１４５℃に調整された熱風乾燥機中で１時間加熱硬化処理し、膜厚が５μｍの最表面層を形成した。最表面層の粗面化処理を、実施例１と同様の乾式ブラスト処理で行った。
【０１９１】
実施例３に用いられたレゾール型フェノール樹脂ワニス（商品名：ＰＬ−４８５２、群栄化学工業（株）製、不揮発成分：７５％）の誘電率は５．０であった。
【０１９２】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０１９３】
（実施例４）
前記実施例１の感光体の作製において、電荷輸送層までを実施例１と同様に作製した。
【０１９４】
次に、アンチモンドープ酸化スズ粒子（商品名：Ｔ−１、三菱マテリアル（株）製、平均粒径：０．０２μｍ）１００質量部を、下記構造式（１１）で示される構造を有するフッ素原子含有化合物（商品名：ＬＳ−１０９０、信越化学工業（株）製）７質量部で表面処理した（以下、処理量：７％と記す）。
【０１９５】
【化１３】
2006267856.tif 000036
【０１９６】
この表面処理済みアンチモンドープ酸化スズ粒子５０質量部、および、エタノール１５０質量部を、サンドミル装置で６０時間分散し、さらに四フッ化エチレン樹脂粒子（ルブロンＬ−２）２０質量部を加えて、さらにサンドミル装置で８時間分散した。
【０１９７】
その後、レゾール型フェノール樹脂ワニス（商品名：ＰＬ−４８０４、群栄化学工業（株）製）の３０質量部を溶解して、表面層用の塗布液を調製した。塗布液の分散状態は良好であった。レゾール型フェノール樹脂ワニス（商品名：ＰＬ−４８０４、群栄化学工業（株）製）の誘電率は５．３であった。
【０１９８】
この最表面層用の塗工液を電荷輸送層上に浸漬塗布し、１４５℃に調整された熱風乾燥機中で１時間加熱硬化処理し、膜厚が５μｍの最表面層を形成した。最表面層の粗面化処理を実施例１と同様の乾式ブラスト処理を行った。
【０１９９】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０２００】
（実施例５）
前記実施例１の感光体の作製において、電荷輸送層までを実施例１と同様に作製した。
【０２０１】
実施例１５で用いた表面処理済みアンチモンドープ酸化スズ粒子４５質量部、下記構造式（１２）で示される構造を有するアクリル樹脂モノマー１８質量部、
【０２０２】
【化１４】
2006267856.tif 000037
【０２０３】
２−メチルチオキサントン（光開始剤）６．８質量部、四フッ化エチレン樹脂粒子（ルブロンＬ−２）１４質量部、および、エタノール１５０質量部を、サンドミル装置で９０時間分散して、表面層用の塗布液を調製した。アクリル樹脂の誘電率は３．２であった。
【０２０４】
この表面層用の塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布し、乾燥後高圧水銀灯にての光強度２５０Ｗ／ｃｍ２の紫外線を６０秒間照射して硬化させた。その後、１２０℃で２時間熱風乾燥して膜厚が５μｍの層を形成した。最表面層の粗面化処理を実施例１と同様の乾式ブラスト処理を行った。
【０２０５】
実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０２０６】
（実施例６）
前記実施例１の感光体の作製において、電荷輸送層までを実施例１と同様に作製した。
【０２０７】
実施例１５で用いた表面処理済みアンチモンドープ酸化スズ粒子５０質量部、および、エタノール１７０質量部、２−プロパノール１００質量部の混合溶剤を、サンドミル装置で６６時間分散して、酸化スズ粒子分散液を調製した。
【０２０８】
この酸化スズ粒子分散液に、下記構造式（１３）で示される構造を有する熱硬化性エポキシ樹脂モノマー３０質量部、
【０２０９】
【化１５】
2006267856.tif 000038
【０２１０】
および、下記構造式（１４）で示される酸無水物（硬化触媒）７質量部
【０２１１】
【化１６】
2006267856.tif 000039
【０２１２】
を添加して、表面層用の塗布液を調製した。
【０２１３】
この表面層用の塗布液を、電荷輸送層上に浸漬塗布し、８０℃で３０分間、次いで１３０℃で２時間熱処理により硬化させて、膜厚が５μｍの層を形成した。
【０２１４】
上記構造式（１３）で示される構造を有する熱硬化性エポキシ樹脂モノマー３０質量部、および、上記構造式（１４）で示される酸無水物（硬化触媒）７質量部をエタノール１７０質量部、２−プロパノール１００質量部の混合溶剤に入れ塗料を得た。この塗布液を塗布し、８０℃で３０分間、次いで１３０℃で２時間熱処理により硬化させて、膜厚が５μｍの層を形成し、誘電率を測定したところ４．４であった。最表面層の粗面化処理を実施例１と同様の乾式ブラスト処理を行った。
【０２１５】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０２１６】
（実施例７）
前記実施例１の感光体の作製において、電荷輸送層までを実施例１と同様に作製した。
【０２１７】
次に、実施例３で用いた構造式（３）で示される電荷輸送物質１０質量部、およびトリアルコキシシランとテトラアルコキシシランの加水分解縮合物を主成分とする熱硬化性シリコーン樹脂（東芝シリコーン（株）製トスガード５１０）の結着樹脂の不揮発分が１３質量部になるように添加し、２−プロパノールを添加して塗布液全体の固形分が３０質量％になるように調整した。
【０２１８】
トリアルコキシシランとテトラアルコキシシランの加水分解縮合物を主成分とする熱硬化性シリコーン樹脂（東芝シリコーン（株）製トスガード５１０）の結着樹脂の誘電率は４．１であった。
【０２１９】
この表面層用の塗布液を、上記電荷輸送層上に浸漬塗布し、１３０℃で６０分間熱処理させることにより硬化させて、膜厚が５μｍの表面層を形成した。最表面層の粗面化処理を実施例１と同様の乾式ブラスト処理を行った。
【０２２０】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０２２１】
（実施例８）
前記実施例１の感光体の作製において、電荷発生層までを実施例１と同様に作製した。次に、電荷輸送層として前記実施例１で用いた構造式（１）で示されるトリアリールアミン系化合物３６質量部および下記構造式（１５）で示されるトリアリールアミン系化合物４質量部と
【０２２２】
【化１７】
2006267856.tif 000040
【０２２３】
下記構造式（１６）で示される共重合型ポリアリーレート樹脂（共重合比  ｍ：ｎ＝７：３、重量平均分子量：１３００００）５０質量部を、モノクロロベンゼン３５０質量部およびジメトキシメタン５０質量部に溶解して調製し電荷輸送層用塗工液とした。これを上記電荷発生層上に浸漬塗布し、１１０℃に調整された熱風乾燥機中に６０分間投入し加熱乾燥して膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。電荷輸送層に用いられた結着樹脂の誘電率は３．１であった。
【０２２４】
【化１８】
2006267856.tif 000041
【０２２５】
この面を最表面層として、乾式ブラスト処理を施した。ブラスト処理条件は、実施例１の粗面化処理において、エア吹き付け圧力条件を１．０ｋｇｆ／ｃｍ２に変更した以外は実施例１と同様に粗面化処理を行った。
【０２２６】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０２２７】
（実施例９）
前記実施例１の感光体の作製において、電荷輸送層までを実施例１と同様に作製した。電荷輸送層に用いられた結着樹脂の誘電率は３．０であった。
【０２２８】
この感光体の最表面層を実施例８と同様に、エア吹き付け圧力条件を０．８ｋｇｆ／ｃｍ２にして乾式ブラスト処理を施した。
【０２２９】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０２３０】
（実施例１０）
メチルアルコール５３．３重量部とブタノール２８．７重量部の混合溶媒にメトキシメチル化ナイロン樹脂（帝国化学：トレジンＥＦ−３０Ｔ）０．９重量部と酸化チタン（石原産業：ＴＴＯ−５５D）１７．１重量部とを混合したものを高圧分散機（商品名：マイ
クロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）で６００ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力で３回の処理を施し均一に分散させた。これを１０μｍのＰＴＦＥメンブレンフィルターで加圧ろ過を行い潤滑剤分散液を調整した。このようにして作製した塗布液を実施例１と同様にアルミニウムシリンダー上に塗布し、１００℃に調整された熱風乾燥機中に３５分間投入し加熱乾燥して、膜厚２．０μｍの導電層を形成した。
【０２３１】
メトキシメチル化ナイロン樹脂（帝国化学：トレジンＥＦ−３０Ｔ）の誘電率は３．３であった。それ以降は実施例１と同様な電荷発生層、電荷輸送層、表面層を形成した。最表面層の粗面化処理を実施例１と同様の乾式ブラスト処理を行った。
【０２３２】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったところ、升目の中で３枚剥がれを生じた。
【０２３３】
（実施例１１）
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ、石原産業（株）製）の微粉４１４ｇｒと固形分濃度５０重量
％のオイルフリーアルキッド樹脂（ベッコライトＭ６４０１−５０、大日本インキ化学（株）製）を８３ｇｒと固形分濃度６０重量％のブチル化メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ８２１−６０、大日本インキ化学（株）製）を４８ｇｒおよびメチルエチルケトン３４５ｇｒとを入れて混合したものを高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）で６００ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力で３回の処理を施し均一に分散させ中間層塗布液とした。なお、中間層に用いた樹脂の比重は１．４、また酸化チタンの比重は４．２であるから、中間層の酸化チタン／樹脂は容量比で２／１となる。このようにして作製した塗布液を実施例１と同様にアルミニウムシリンダー上に塗布し、１３０℃、４５分間乾燥硬化して厚さ２μｍの中間層を形成した。
【０２３４】
オイルフリーアルキッド樹脂（ベッコライトＭ６４０１−５０、大日本インキ化学（株）製）およびブチル化メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ８２１−６０、大日本インキ化学（株）製）の誘電率はそれぞれ５．２、５．６であった。
【０２３５】
それ以降は実施例１と同様な導電層、電荷発生層、電荷輸送層、表面層を形成した。最表面層の粗面化処理を実施例１と同様の乾式ブラスト処理を行った。
【０２３６】
ブラスト処理による剥がれは発生しなかった。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０２３７】
（実施例１２）
実施例１において導電層の熱硬化性樹脂を誘電率が８であるフェノール樹脂とした。導電層の塗布直後表面を確認すると細かいひび割れを生じた。その後、実施例１と同様に各層を塗工した。
【０２３８】
実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。実施例１と同様にクロスカットを行い、連続回転を行なったが剥がれは発生しなかった。
【０２３９】
帯電、現像、転写：動作ＯＮ。現像器および転写ローラは正規位置に装着した。画像濃度２.０、１.０、０.５、０.１のハーフトーン画像を画出ししたが、導電層のひび割れは画像に現われなかった。
【０２４０】
（比較例１）
実施例１において、中間層の塗布開始位置を２ｍｍとした。実施例１と同様にブラスト処理を行なったところ、浸漬塗布上端部の導電層、中間層、電荷輸送層、表面層の順に塗布されている領域に剥がれが発生した。
【０２４１】
（参考例１）
実施例１において中間層および電荷発生層の塗布開始位置をそれぞれ２５ｍｍ、２４ｍｍとした。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。
【０２４２】
このようにして得られた電子写真感光体を、電子写真複写機（商品名：ｉＲ  Ｃ６８００、キヤノン（株）製）を本実施例の負帯電有機感光体が装着できるように改造した装置でハーフトーン画像を出した。なお、露光領域は感光体の両端より１５ｍｍ内側の領域とした。すると画像域内に電荷発生層が塗布されていない領域が存在するためハーフトーン画像が形成されない領域が発生した。
【０２４３】
（参考例２）
実施例１において中間層の塗布開始位置を２５ｍｍとした。実施例１と同様に評価装置において連続回転を行なったが、剥がれは発生しなかった。
【０２４４】
このようにして得られた電子写真感光体を、電子写真複写機（商品名：ｉＲ  Ｃ６８００、キヤノン（株）製）を本実施例の負帯電有機感光体が装着できるように改造した装置で３０℃８０％ＲＨの高温高湿下でハーフトーン画像を出した。なお、露光領域は感光体の両端より１５ｍｍ内側の領域とした。すると画像域内に中間層が塗布されていない領域が存在するため感光体表面を帯電した電荷が保持できず、中間層が存在しない領域で、本来ハーフトーン画像であるべき領域でより画像濃度が濃い領域が発生した。
【図面の簡単な説明】
【０２４５】
【図１−１】図１は、円筒状支持体を上端部でチャッキングする形式の浸漬塗布装置を示す図である。図１−１は塗布前の状態を示している。
【図１−２】図１は、円筒状支持体を上端部でチャッキングする形式の浸漬塗布装置を示す図である。図１−２は塗布中の状態を示している。
【図２−１】図２は、円筒状支持体を下端部でチャッキングする形式の浸漬塗布装置を示す図である。図２−１は塗布前の状態を示している。
【図２−２】図２は、円筒状支持体を下端部でチャッキングする形式の浸漬塗布装置を示す図である。図２−２は塗布中の状態を示している。
【図３】図３は、ブラスト加工装置を示す図である。
【図４】図４は、電子写真感光体および電子写真装置の各手段の有効領域を示す図である。
【図５】図５は、電子写真感光体の感光評価装置を示す図である。
【符号の説明】
【０２４６】
１−１  ワーク
１−２  チャッキング機構
１−３  軸
１−４  浸漬塗布装置
１−５  塗料液タンク
２−１  ワーク
２−２  チャッキング機構
２−３  軸
２−４  ダミーワーク
２−５  浸漬塗布装置
３−１  噴射ノズル
３−２  ノズル固定冶具
３−３  経路
３−４  経路
３−５  研磨粒子（ブラスト砥粒）
３−６  ワーク支持体
３−７  被処理体
３−８  ノズル支持体
３−９  アーム
５−１  感光体
５−２  前露光手段
５−３  一次帯電器
５−４  現像器
５−５  クリーニングキット
５−６  転写ローラ
【図１−１】
2006267856.tif 000042
【図１−２】
2006267856.tif 000043
【図２−１】
2006267856.tif 000044
【図２−２】
2006267856.tif 000045
【図３】
2006267856.tif 000046
【図４】
2006267856.tif 000047
【図５】
2006267856.tif 000048