(57)【要約】【課題】  電気配線の配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を小さくして、表示ムラを少なくした電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及びそのような電気光学装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】  電気光学装置において、第１の基板上には、複数の電極を備え、第２の基板上には、複数の電気配線からなる、第１の配線群及び第２の配線群を含む少なくとも二つ以上の配線群を備え、第１の配線群と第２の配線群は、第２の基板における対向する辺側に形成されており、第１の配線群と電気的に接続される複数の電極と第２の配線群と電気的に接続される複数の電極との境界に位置するそれぞれの電極のうちの少なくとも一方と、当該電極と電気的に接続される電気配線と、の導通位置を、当該電極の表示領域内における延在方向の延長線上からずらす。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向配置された第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学材料と、を含むとともに、表示領域及び非表示領域を備えた電気光学装置において、
前記第１の基板上には、複数の電極を備え、
前記第２の基板上には、前記非表示領域に形成されるとともに、端部において前記第１の基板上の複数の電極とそれぞれ電気的に接続される複数の電気配線であって、前記表示領域内における前記電極の延在方向と交差する方向に形成された直線状部を有する複数の電気配線からなる、第１の配線群及び第２の配線群を含む少なくとも二つ以上の配線群を備え、
前記第１の配線群における前記複数の電気配線は、それぞれ前記第１の基板上に連続して配置された前記複数の電極と電気的に接続されるとともに、前記第２の配線群における前記複数の電気配線は、それぞれ前記第１の基板上に連続して配置された前記複数の電極であって、前記第１の配線群に接続された複数の電極と隣接する前記複数の電極と電気的に接続され、かつ、前記第１の配線群と第２の配線群は、前記第２の基板における対向する辺側に形成されており、
前記第１の配線群と電気的に接続される前記複数の電極と前記第２の配線群と電気的に接続される前記複数の電極との境界に位置するそれぞれの電極のうちの少なくとも一方と、当該電極と電気的に接続される電気配線と、の導通位置を、当該電極の表示領域内における延在方向の延長線上からずらすことにより、前記境界に位置するそれぞれの電極と電気的に接続される前記電気配線の配線抵抗値を近づけることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記導通位置をずらす際に、前記第１の配線群又は第２の配線群ごとに導通位置をずらすとともに、前記境界に位置するそれぞれの電極と電気的に接続される前記電気配線の配線抵抗値を一致させることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記導通位置を、前記直線状部の延在方向にずらすことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記電気配線又は電極が、前記導通位置の近傍において、前記直線状部に対して斜め方向に延在する傾斜部を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記電気配線又は電極が、前記導通位置において、前記直線状部に対して直交する方向に延在する導通部を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記電気光学装置が、前記第２の基板上に一つのドライバを搭載した、ワンチップＣＯＧ構造であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
互いに対向配置された第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学材料と、含むとともに、表示領域及び非表示領域を備えた電気光学装置の製造方法において、
前記第１の基板上に、複数の電極を形成する工程と、
前記第２の基板上における前記非表示領域に、端部において前記第１の基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の電気配線であって、前記表示領域内における前記電極の延在方向と交差する方向に延在する直線状部を有する複数の電気配線からなる第１の配線群及び第２の配線群を、前記第２の基板における対向する辺側に形成する工程と、
前記第１の配線群と電気的に接続される前記複数の電極と前記第２の配線群と電気的に接続される前記複数の電極との境界に位置するそれぞれの電極のうちの少なくとも一方と、当該電極と電気的に接続される電気配線と、を当該電極の表示領域内における延在方向の延長線上からずらした位置で電気的に導通させる工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載された電気光学装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器に関する。特に、接続される配線群が変わる境界部分に存在する二つの電極にそれぞれ接続される電気配線間の配線抵抗値の差を小さくして、表示ムラを少なくした電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及びそのような電気光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気光学装置の一態様として、それぞれ電極が形成された一対の基板を対向配置するとともに、それぞれの電極の交差領域である複数の画素に印加する電圧を選択的にオン、オフさせることによって、当該画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、画像や文字等の像を表示させる、液晶装置が多用されている。
かかる液晶装置において、液晶パネルの外形を小さくしたり、製造工程を少なくしたりすること等を目的として、一対の基板のうちの一方の基板上に、液晶駆動用のドライバＩＣを実装する、いわゆるワンチップＣＯＧ（Chip on Glass）構造の液晶装置がある。より具体的には、いずれか一方の基板上に、ドライバＩＣが実装されるとともに、当該ドライバＩＣと電気的に接続された複数の電気配線が形成されている。そして、当該電気配線の一部は、同じ基板上の電極と電気的に接続されている。また、それ以外の電気配線は、いわゆる引回し配線として、多端側が、対向する基板上の電極が存在する位置まで延設されるとともに、シール材等に含まれる導電性粒子を介して、対向基板上の電極と電気的に接続されている。このように構成することにより、一方の基板上にのみドライバＩＣを実装し、当該ドライバＩＣから駆動信号及び走査信号を出力して、液晶材料を駆動させることができる。
【０００３】
ここで、近年、画素設計が高精細化されており、画素の数が増加するに伴い、基板上に形成される引回し配線の数が増えてきている一方で、液晶装置の外形をできる限り小さくすることが望まれている。そのため、引回し配線のピッチ間隔が狭くなるとともに、それぞれの引回し配線の幅自体も狭くなってきている。特に、図２１に示すように、引回し配線６６６の一部であって、基板６６１の辺に沿って配設され、対向基板の電極６３３との導通位置６１５まで延設される直線状部６１３は、幅の狭い領域に大量の引回し配線６６６が存在するために、配線幅及びピッチ間隔がともに狭く、配線抵抗値が高くなる原因となっていた。したがって、一般的に、接続される対向基板の電極の位置が、ドライバＩＣから遠ざかるにしたがい、それに対応した引回し配線の配線抵抗値が徐々に大きくなるという問題がある。
【０００４】
また、図２１に示す電気光学装置は、複数の引回し配線６６６を、ドライバＩＣ６９１が実装されている辺から、左右の辺側に分けて引回した、いわゆる上下分割式の接続構造を備えている。すなわち、対向基板上の、ドライバＩＣ６９１に近い側の電極６３３ｂと接続される複数の引回し配線６６６からなる配線群６１１ｂと、遠い側の電極６３３ａと接続される複数の引回し配線６６６からなる配線群６１１ａと、を交互に対向する辺側に形成された電気光学装置である。かかる電気光学装置によれば、基板の額縁領域を小さくしつつ、引回し配線６６６の配線幅を確保して、配線抵抗値の差が過度に大きくならないという効果を得ることもできる（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−３６０４０号公報  （図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載された電気光学装置は、引回し配線の配線抵抗値を、接続される対向基板上の電極の配列順に測定した場合に、図２２に示すように、配線抵抗値の変化のプロフィールにおいて急激な段差が生じる場合があった。すなわち、接続される配線群が変わる境界部分に存在する二つの電極に対応する引回し配線の直線状部の長さが大きく異なるために、当該二つの引回し配線の配線抵抗値の差が、同じ配線群における隣接する引回し配線の配線抵抗値の差よりも大きくなる場合があった。したがって、表示される画像において、接続される配線群が変わる電極の境界部分で、表示ムラが視認されてしまうという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、複数の配線群を備えた電気光学装置において、少なくとも、接続される配線群が変わる境界部分に存在する電極と引回し配線との導通位置をずらして、その境界部分の電極に対応する引回し配線の配線抵抗値を近づけることにより、このような問題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、引回し配線の配線抵抗値を、接続される電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を緩和して、表示ムラを低減させた電気光学装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、そのような電気光学装置の製造方法、さらに、そのような電気光学装置を備えた電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、互いに対向配置された第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学材料と、を含むとともに、表示領域及び非表示領域を備えた電気光学装置であって、第１の基板上には、複数の電極を備え、第２の基板上には、非表示領域に形成されるとともに、端部において第１の基板上の複数の電極とそれぞれ電気的に接続される複数の電気配線であって、表示領域内における電極の延在方向と交差する方向に形成された直線状部を有する複数の電気配線からなる、第１の配線群及び第２の配線群を含む少なくとも二つ以上の配線群を備え、第１の配線群における複数の電気配線は、それぞれ第１の基板上に連続して配置された複数の電極と電気的に接続されるとともに、第２の配線群における複数の電気配線は、それぞれ第１の基板上に連続して配置された複数の電極であって、第１の配線群に接続された複数の電極と隣接する複数の電極と電気的に接続され、かつ、第１の配線群と第２の配線群は、第２の基板における対向する辺側に形成されており、第１の配線群と電気的に接続される複数の電極と第２の配線群と電気的に接続される複数の電極との境界に位置するそれぞれの電極のうちの少なくとも一方と、当該電極と電気的に接続される電気配線と、の導通位置を、当該電極の表示領域内における延在方向の延長線上からずらすことにより、境界に位置するそれぞれの電極と電気的に接続される電気配線の配線抵抗値を近づけた電気光学装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、第１の基板上の電極と第２の基板上の引回し配線との導通位置のうちの少なくとも一部を、第１の基板上の電極における表示領域内での延在方向の延長線上からずらすことにより、引回し配線における直線状部の長さを調整することができる。これにより、接続される配線群が変わる境界部分に存在する二つの電極に対応する引回し配線の配線抵抗値を近づけることができる。したがって、引回し配線の配線抵抗値を、接続される電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける配線群が変わる境界部分の段差を緩和することができる。よって、表示される画像における表示ムラを無くして、表示特性に優れた電気光学装置とすることができる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、導通位置をずらす際に、第１の配線群又は第２の配線群ごとに導通位置をずらすとともに、境界に位置するそれぞれの電極と電気的に接続される電気配線の配線抵抗値を一致させることが好ましい。
このように構成することにより、引回し配線の配線抵抗値を、第１の基板上の電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差をなくすことができ、表示特性をさらに向上させることができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、導通位置を、直線状部の延在方向にずらすことが好ましい。
このように構成することにより、直線状部の長さの調整が容易になり、引回し配線の配線抵抗値を、電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を効率的に緩和させることができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、電気配線又は電極が、導通位置の近傍において、直線状部に対して斜め方向に延在する傾斜部を含むことが好ましい。
このように構成することにより、第２の基板の辺に沿った直線状部を短くするとともに、傾斜部においては、引回し配線のピッチ間隔を広げたり、配線幅を広げたりできるために、引回し配線の配線抵抗値又は第１の基板上の電極の配線抵抗値を低下させることが容易になる。
なお、導通位置の近傍の電気配線又は電極とは、それぞれの電気配線等における、導通する側の端部から連続する部分の電気配線又は電極を意味する。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、電気配線又は電極が、導通位置において、直線状部に対して直交する方向に延在する導通部を含むことが好ましい。
このように構成することにより、電気配線と電極とが平面的に重なる面積を大きくすることができ、それらを確実に導通させることができる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、電気光学装置が、第２の基板上に一つのドライバを搭載した、ワンチップＣＯＧ構造であることが好ましい。
このように構成することにより、引回し配線の配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を緩和させつつ、外形の小型化及び製造効率の向上を図ることができる電気光学装置を提供することができる。
【００１３】
また、本発明の別の態様は、互いに対向配置された第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学材料と、含むとともに、表示領域及び非表示領域を備えた電気光学装置の製造方法であって、
第１の基板上に、複数の電極を形成する工程と、
第２の基板上における非表示領域に、端部において第１の基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の電気配線であって、表示領域内における電極の延在方向と交差する方向に延在する直線状部を有する複数の電気配線からなる第１の配線群及び第２の配線群を、第２の基板における対向する辺側に形成する工程と、
第１の配線群と電気的に接続される複数の電極と第２の配線群と電気的に接続される複数の電極との境界に位置するそれぞれの電極のうちの少なくとも一方と、当該電極と電気的に接続される電気配線と、を当該電極の表示領域内における延在方向の延長線上からずらした位置で電気的に導通させる工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
すなわち、第１の基板上の電極と第２の基板上の引回し配線との導通位置の少なくとも一部を、第１の基板上の電極における表示領域内での延在方向の延長線上からずらして、それらを電気的に接続することにより、配線抵抗値に影響を及ぼしやすい直線状部の長さを調整することができる。したがって、引回し配線の配線抵抗値を、接続される第１の基板上の電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける配線群が変わる境界部分の段差を緩和させることができる。よって、表示される画像における表示ムラを低減した電気光学装置を効率的に製造することができる。
【００１４】
また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を備えた電子機器である。
すなわち、引回し配線の配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を緩和した電気光学装置を備えるために、表示ムラが少ない電子機器を効率的に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の液晶装置、液晶装置の製造方法、及び液晶装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００１６】
［第１実施形態］
第１実施形態は、互いに対向配置された第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学材料と、を含むとともに、表示領域及び非表示領域を備えた電気光学装置である。
かかる電気光学装置は、第１の基板上には、複数の電極を備え、
第２の基板上には、非表示領域に形成されるとともに、端部において第１の基板上の複数の電極とそれぞれ電気的に接続される複数の電気配線であって、表示領域内における電極の延在方向と交差する方向に形成された直線状部を有する複数の電気配線からなる、第１の配線群及び第２の配線群を含む少なくとも二つ以上の配線群を備え、
第１の配線群における複数の電気配線は、それぞれ第１の基板上に連続して配置された複数の電極と電気的に接続されるとともに、第２の配線群における複数の電気配線は、それぞれ第１の基板上に連続して配置された複数の電極であって、第１の配線群に接続された複数の電極と隣接する複数の電極と電気的に接続され、かつ、第１の配線群と第２の配線群は、第２の基板における対向する辺側に形成されており、
第１の配線群と電気的に接続される複数の電極と第２の配線群と電気的に接続される複数の電極との境界に位置するそれぞれの電極のうちの少なくとも一方と、当該電極と電気的に接続される電気配線と、の導通位置を、当該電極の表示領域内における延在方向の延長線上からずらすことにより、境界に位置するそれぞれの電極と電気的に接続される電気配線の配線抵抗値を近づけてあることを特徴とする電気光学装置である。
以下、図１〜図１６を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の電気光学装置について、複数の電極を備えた第１の基板と、二つの配線群を備えるとともに、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えた第２の基板とを含む液晶装置を例に採って説明する。ただし、本発明の電気光学装置は、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置に制限されるものではなく、第１の基板の電極と第２の基板の引回し配線とを電気的に接続した接続構造を備える構成であれば、パッシブマトリクス型の液晶装置であっても構わない。
なお、それぞれの図において、同じ符号を付したものは同一の部材を示しており、適宜説明を省略する。
【００１７】
１．電気光学装置の基本構造
まず、図１及び図２に、本実施形態に係る液晶装置１０の概略斜視図、及び、図１中のＥＥ断面を矢印方向に見た概略断面図をそれぞれ示す。なお、図１及び図２中、下側の面が画像表示面であって、矢印Ｗの方向から画像を視認することができる。
かかる液晶装置１０は、スイッチング素子として、二端子型非線形素子であるＴＦＤ素子６９を用いたアクティブマトリクス型構造を有する第２の基板６０を備えた液晶装置１０であって、図示しないものの、バックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて適宜取付けられて使用される。
また、液晶装置１０は、ガラス基板等を基体３１とする第１の基板３０と、同様にガラス基板等を基体６１とする第２の基板６０と、が対向配置されるとともに接着剤等のシール材２３を介して貼り合わせられている。また、第１の基板３０と、第２の基板６０とが形成する空間であって、シール材２３の内側部分に対して、開口部２３ａを介して液晶材料２１を注入した後、封止材２５にて封止されてなるセル構造を備えている。すなわち、第１の基板３０と、第２の基板６０との間に液晶材料２１が充填されている。
【００１８】
また、第１の基板３０における基体３１の内面、すなわち、第２の基板６０に対向する表面上には、ストライプ状に配置された複数の走査電極３３が形成されている。一方、第２の基板６０における基体６１の内面、すなわち、第１の基板３０に対向する表面上に、マトリクス状に配置された複数の画素電極６３が形成されている。また、画素電極６３は、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子６９を介してデータ線６５に対して電気的に接続されるとともに、もう一方の走査電極３３は、導電性粒子を含むシール材２３を介して第２の基板６０上の引回し配線６６に対して電気的に接続されている。このように構成された走査電極３３と画素電極６３との交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素（以下、画素領域と称する場合がある。）を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として表示領域を構成することになる。
【００１９】
また、第２の基板６０は、第１の基板３０の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部６０Ｔを有し、この基板張出部６０Ｔ上には、データ線６５の一部、引回し配線６６の一部及び、独立して形成された複数の配線からなる外部接続用端子６７が形成されている。そして、データ線６５又は引回し配線６６の端部には、液晶駆動回路等を内蔵したドライバＩＣ（駆動用半導体素子）９１が実装されている。さらに、当該ドライバＩＣ９１は外部接続用端子６７の一方の端部とも電気的に接続されているとともに、外部接続用端子６７の他方の端部は、フレキシブル回路基板９３等と電気的に接続されている。
このように構成された液晶装置において、ドライバＩＣからの駆動用信号を、データ線６５及びＴＦＤ素子６９を介して画素電極３３に出力するとともに、走査信号を、引回し配線６６を介して走査電極３３に出力する。そして、電圧が印加された画素の液晶材料２１に電界が発生するため、当該画素における液晶材料２１中を、光を通過させ、又は通過させないようにでき、表示領域全体として文字、図形等の画像を表示させることができる。
【００２０】
２．第１の基板（カラーフィルタ基板）
また、かかる第１の基板３０は、図２に示すように、基本的に、ガラス基板等からなる基体３１上に、遮光膜３９と、着色層３７と、オーバーコート層４０と、走査電極３３と、が順次積層されて構成されている。また、走査電極３３上には、液晶材料の配向性を制御するための配向膜４５を備えるとともに、走査電極３３等が形成されている面とは反対側の面に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）４７及び偏光板４９が配置されている。
なお、第１の基板が、半透過反射型又は反射型の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板である場合には、例えば、第１の基板３０上の遮光膜３９の下層に、所定形状にパターニングされたアルミニウム膜等からなる光反射膜が形成されている。
【００２１】
また、遮光膜３９は、隣接する画素領域間において色材が混色することを防止して、コントラストに優れた画像表示を得るための膜である。このような遮光膜３９としては、例えば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を遮光膜３９として使用したり、あるいは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いたりすることができる。さらに、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を重ね合わせることにより、遮光膜を形成することもできる。
【００２２】
また、着色層３７は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色剤を分散させることにより濃度調整をして、所定の色調を呈するものとされている。着色層３７の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
かかる着色層３７の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００２３】
また、着色層３７上には、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの感光性樹脂材料からなるオーバーコート層４０が形成されているとともに、オーバーコート層４０の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる走査電極３３が形成されている。かかる走査電極は、一方向に配列された画素からなる画素列毎に、複数の透明電極が並列したストライプ状に構成されている。
ここで、本実施形態にかかる液晶装置に使用される第１の基板３０においては、図３（ａ）に例示するように、一部の走査電極３３Ａの端部は、対向する第２の基板６０上の引回し配線６６Ａとの導通位置を、表示領域Ａ内における当該走査電極３３Ａの延在方向の延長線上からずらして配置すべく、表示領域Ａ外において、所定方向にずらして形成されている。かかる走査電極の端部をずらす方向や、どの走査電極の端部位置をずらすか等については、第２の基板上における、それぞれ電気的に接続される引回し配線の端部と対応しているため、引回し配線を説明する際に併せて説明する。
また、走査電極３３の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜４５が全面的に形成されている。かかる配向膜は、ラビング処理をするなどして、液晶材料の配向性を制御するための部材である。
【００２４】
２．第２の基板（素子基板）
（１）基本構成
また、第２の基板６０は、図３（ｂ）に示すように、基本的に、ガラス基板等からなる基体６１と、画素電極６３と、データ線６５と、複数の引回し配線６６からなる配線群１１ａ、１１ｂと、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子６９と、から構成されている。また、画素電極６３上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜７５が形成されている。さらに、基体６１の外面には、位相差板（１／４波長板）７７及び偏光板７９が配置されている。そして、第２の基板６０における基板張出部６０Ｔ上には、データ線６５や引回し配線６６と電気的に接続されるようにドライバＩＣ９１が実装されている。
【００２５】
また、かかる第２の基板６０において、データ線６５は、ストライプ状に配列された複数の配線からなり、それぞれのデータ線６５には、複数のデータ線６５の間にマトリクス状に配置された画素電極６３が、後述するＴＦＤ素子６９を介して電気的に接続されている。そして、データ線６５は、一端側が基板張出部上に実装されたドライバＩＣ９１と電気的に接続されており、ドライバＩＣ９１からの駆動用信号を画素電極３３に対して出力できるように構成されている。
かかるデータ線６５は、製造工程の簡略化の観点から、後述する二端子型非線型素子の形成と同時に形成されるため、例えば、タンタル層、酸化タンタル層、及びクロム層が順次形成されて構成されている。また、画素電極６３は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電材料を用いて形成されている。
【００２６】
また、データ線６５と画素電極６３とを電気的に接続するＴＦＤ素子６９は、一般的に、タンタル（Ｔａ）合金からなる素子第１電極、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）からなる絶縁膜、及びクロム（Ｃｒ）からなる素子第２電極が順次積層されたサンドイッチ構造を有している。そして、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、素子第１電極及び素子第２電極の両端子間に印加されると導通状態となるアクティブ素子である。
また、二個のＴＦＤ素子は、データ線６５と、画素電極６３との間に介在するように形成され、反対のダイオード特性を有する第１のＴＦＤ素子及び第２のＴＦＤ素子から構成してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、正負対称なパルス波形を使用することができ、液晶装置等における液晶材料の劣化を防止することができるためである。すなわち、液晶材料の劣化を防止するために、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、二個のＴＦＤ素子を逆向きに直列接続することにより、正負対称なパルス波形を使用することができるためである。
【００２７】
（２）配線群（引回し配線）
また、ドライバＩＣ９１等の実装領域側の辺６１ｃに対して垂直方向に延びる辺６１ａ、６１ｂ側の非表示領域には、端部６６ｂにおいて、導電性粒子を含むシール材を介して第１の基板３０上の複数の走査電極３３と電気的に接続される複数の引回し配線６６であって、第１の基板３０上の走査電極３３の延在方向と交差する方向に形成された直線状部１３を含む引回し配線６６からなる第１の配線群１１ａ及び第２の配線群１１ｂを備えている。また、これらの第１の配線群１１ａ及び第２の配線群１１ｂは、それぞれ対向する辺６１ａ、６１ｂ側に配置されている。
かかる配線群１１を構成する引回し配線６６は、例えば、アルミニウムや銀等の金属材料や、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電材料を用いて形成することができる。ただし、第１実施形態の液晶装置は、第２の基板上にアルミニウムや銀からなる部材が存在しないために、製造工程の簡略化や製造コストの低減の観点から、画素電極６３の形成と同時に、ＩＴＯ等の透明導電材料を用いて形成されている。また、引回し配線６６における、走査電極３３と接続される端部６６ｂとは反対側の端部６６ａは、ドライバＩＣ９１と電気的に接続されており、ドライバＩＣ９１からの走査信号を走査電極３３に対して出力できるように構成されている。
【００２８】
また、本実施形態の液晶装置においては、図３（ｂ）に例示するように、第１の配線群１１ａと電気的に接続される複数の電極３３ａと第２の配線群１１ｂと電気的に接続される複数の電極３３ｂとの境界に位置するそれぞれの電極３３Ａ、３３Ｂのうちの少なくとも一方の電極３３Ａと、当該電極３３Ａと電気的に接続される電気配線６６Ａとの導通位置を、当該電極３３Ａの表示領域Ａ内における延在方向の延長線上からずらすことにより、境界に位置するそれぞれの電極３３Ａ、３３Ｂと電気的に接続される電気配線６６Ａ、６６Ｂの配線抵抗値を近づけてあることを特徴とする。すなわち、接続される配線群が変わる境界部分における少なくとも一方の走査電極と引回し配線との導通位置をずらすことにより、引回し配線における直線状部の長さを調整して、引回し配線の配線抵抗値を、接続される走査電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を緩和するためである。したがって、かかる段差による表示ムラが視認されないようにして、表示特性に優れた液晶装置とすることができる。
【００２９】
より具体的には、それぞれの引回し配線６６は、接続される走査電極３３の位置に対応して、当該走査電極３３との導通位置１５まで端部６６ｂを延ばしてあるために、ドライバＩＣ９１等の実装領域側の辺６１ｃに対して垂直方向に延びる辺６１ａ、６１ｂに沿った直線状部１３を含んでいる。かかる直線状部１３は、基板６１上の非表示領域を利用して形成されるが、外部の導電性部材によるショートや静電気の発生を防止したり、基板の外形の大型化を防止したりする観点から、シール材の内側部分に形成されている。
そのため、直線状部が形成された領域における隣接する引回し配線とのピッチ間隔は狭く、例えば３０μｍ程度になっているとともに、引回し配線自体の幅も狭く、例えば２０μｍ程度になっている。したがって、かかる直線状部は、単位面積あたりの配線抵抗が５〜１５Ω／□と高く、引回し配線の配線抵抗値に影響を及ぼしやすくなっている。特に、上述のように、製造工程の簡略化及び製造コストの低減の観点から、引回し配線をＩＴＯ等の透明導電性材料を用いて形成した場合には、アルミニウム等の金属材料を用いて形成した場合と比較して、さらに配線抵抗値が高くなりやすい。
一方で、それぞれの引回し配線６６が接続される第１の基板３０上の走査電極３３は、ドライバＩＣ９１の実装領域が存在する辺３１ａと平行にストライプ状に配列されているために、それぞれの引回し配線６６における直線状部１３の長さが異なっている。したがって、それぞれの引回し配線６６によって、配線抵抗値に差が生じやすくなっている。
【００３０】
つまり、図４に示すように、同一の配線群１１ａに含まれる引回し配線６６のそれぞれの直線状部１３の長さＬ１〜Ｌ５は、接続される走査電極の配列順にしたがって、一定割合で徐々に変化している。そのため、図５に示すように、同一の配線群１１ａに含まれる引回し配線６６の抵抗値を、接続される走査電極の配列順に測定した場合には、走査電極の位置がドライバＩＣから遠ざかるにしたがって高くなっている。ただし、同じ配線群１１ａ内においては、配線抵抗値の変化のプロフィールに急激な段差が生じることはない。したがって、同一の配線群に含まれる引回し配線がそれぞれ接続された走査電極によって構成される複数の画素に相当する領域においては、表示される画像において、表示ムラが視認されることは少ない。
また、本実施形態の液晶装置１０においては、接続される配線群が変わる境界部分における少なくとも一方の走査電極３３Ａと引回し配線６６Ａとの導通位置１５をずらして、引回し配線６６Ａにおける直線状部１３の長さを調整してある。したがって、図６（ａ）中、実線Ａで示すように、全ての配線群１１ａ、１１ｂに含まれる引回し配線の配線抵抗値を、接続される走査電極の配列順に測定した場合における、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を緩和することができる。このようにして、引回し配線の配線抵抗値の差に起因する表示ムラが視認されることを有効に防止することができる。
なお、従来の液晶装置においては、引回し配線と走査電極との導通位置をずらしていないために、引回し配線の配線抵抗値を、走査電極の配列順に測定した配線抵抗値の変化のプロフィールにおいて、接続される配線群が変わる境界付近において、図６（ａ）中、破線Ｂで示すように、当該境界部分で１ｋΩ程度の配線抵抗値の急激な段差が生じている。
【００３１】
このように、走査電極の配列順に測定した、引回し配線の配線抵抗値のプロフィールの変化における段差を緩和させるためには、引回し配線６６と走査電極３３との導通位置１５を、図３、図７、及び図８に示すようにずらすことが有効である。なお、各図中、（ａ）は、第１の基板の走査電極を示す平面図であり、（ｂ）は、第２の基板のデータ線、引回し配線、画素電極等を示す平面図である。
例えば、図３は、ドライバＩＣ９１から遠い側の複数の走査電極３３ａと近い側の複数の走査電極３３ｂとの境界に位置する走査電極３３Ａ、３３Ｂのうちの一方の走査電極３３Ａの、対応する引回し配線６６Ａとの導通位置１５ａを、走査電極３３Ａにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３が短くなる方向（ドライバＩＣ９１に近づける方向）に向かってずらしてある。このように構成した場合には、かかる引回し配線６６Ａの配線抵抗値が小さくなるようにシフトし、その結果、図６（ａ）に示すように、接続される走査電極の配列順に測定した配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を緩和することができる。
また、図７は、ドライバＩＣ９１から遠い側の複数の走査電極３３ａと近い側の複数の走査電極３３ｂとの境界に位置する走査電極３３Ａ、３３Ｂのうちの一方の走査電極３３Ｂの、対応する引回し配線６６Ｂとの導通位置１５ｂを、走査電極３３Ｂにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３が長くなる方向（ドライバＩＣ９１から遠ざける方向）に向かってずらしてある。このように構成した場合には、かかる引回し配線６６Ｂの配線抵抗値が大きくなるようにシフトし、その結果、図６（ｂ）に示すように、接続される走査電極の配列順に測定した配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を緩和することができる。
【００３２】
さらに、図８は、ドライバＩＣ９１から遠い側の複数の走査電極３３ａと近い側の複数の走査電極３３ｂとの境界に位置する走査電極３３Ａ、３３Ｂのうちの一方の走査電極３３Ａの、対応する引回し配線６６Ａとの導通位置１５ａを、走査電極３３Ａにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３が短くなる方向（ドライバＩＣ９１に近づける方向）に向かってずらしてある。また、併せて、他方の走査電極３３Ｂの、対応する引回し配線６６Ｂとの導通位置１５ｂを、走査電極３３Ｂにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３が長くなる方向（ドライバＩＣ９１から遠ざける方向）に向かってずらしてある。このように構成した場合には、かかる引回し配線６６Ａの配線抵抗値が小さくなるようにシフトするとともに、引回し配線６６Ｂの配線抵抗値が大きくなるようにシフトし、その結果、図６（ｃ）に示すように、接続される走査電極の配列順に測定した配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差を緩和することができる。
【００３３】
また、接続される配線群が変わる境界部分に位置する走査電極３３Ａ、３３Ｂの少なくとも一方に対応する導通位置をずらす際に、第１の配線群又は第２の配線群ごとに導通位置をずらすとともに、走査電極３３Ａ、３３Ｂにそれぞれ電気的に接続される引回し配線６６Ａ、６６Ｂの配線抵抗値を一致させることが好ましい
この理由は、配線群単位で導通位置をずらして、当該配線群に含まれる引回し配線の配線抵抗値を全体的にシフトさせることにより、走査電極の配列順に、表示領域全体に渡って測定した、引回し配線の配線抵抗値のプロフィールの変化における段差を実質的になくすことができるためである。
したがって、配線抵抗値の差に起因する表示ムラの発生を確実に防止して、表示品位を著しく向上させることができる。
【００３４】
このように、配線群ごとに導通位置をずらすことにより、走査電極の配列順に、表示領域全体に渡って測定した、引回し配線の配線抵抗値のプロフィールの変化における段差をなくすためには、引回し配線６６と走査電極３３との導通位置１５を、図９〜図１２に示すようにずらすことが有効である。なお、各図中、（ａ）は、第１の基板の走査電極を示す平面図であり、（ｂ）は、第２の基板のデータ線、引回し配線、画素電極等を示す平面図である。
例えば、図９は、ドライバＩＣ９１から遠い側の複数の走査電極３３ａに接続される配線群１１ａに含まれる引回し配線６６と、走査電極３３ａとの導通位置１５ａを、それぞれの走査電極３３ａにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３が短くなる方向（ドライバＩＣ９１に近づける方向）に向かってずらしてある。このように構成した場合には、導通位置１５ａをずらした方の配線群１１ａに含まれる引回し配線６６の配線抵抗値が全体的に小さくなるようにシフトし、その結果、図１３（ａ）に示すように、接続される走査電極の配列順に測定した配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差をなくすることができる。
また、図１０は、ドライバＩＣ９１から近い側の複数の走査電極３３ｂに接続される配線群１１ｂに含まれる引回し配線６６と、走査電極３３ｂとの導通位置１５ｂを、それぞれの走査電極３３ｂにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３を長くする方向（ドライバＩＣ９１から遠ざける方向）に向かってずらしてある。このように構成した場合には、導通位置１５ｂをずらした方の配線群１１ｂに含まれる引回し配線６６の配線抵抗値が全体的に大きくなるようにシフトし、その結果、図１３（ｂ）に示すように、接続される走査電極の配列順に測定した配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差をなくすることができる。
【００３５】
また、図１１は、二つの配線群１１ａ、１１ｂに含まれる引回し配線６６すべてにおいて、走査電極３３ａ、３３ｂとの導通位置１５ａ、１５ｂを、それぞれの走査電極３３ａ、３３ｂにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３を短くする方向に向かってずらしてある。このように構成した場合には、図１４（ａ）に示すように、接続される走査電極の配列順に測定した配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差をなくすることができるとともに、全ての引回し配線の配線抵抗値が全体的に小さくなるようにシフトさせることができる。
さらに、図１２は、ドライバＩＣ９１から遠い側の複数の走査電極３３ａに接続される配線群１１ａに含まれる引回し配線６６と、走査電極３３ａとの導通位置１５ａを、それぞれの走査電極３３ａにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３が短くなる方向（ドライバＩＣ９１に近づける方向）に向かってずらしてある。一方で、ドライバＩＣ９１から近い側の複数の走査電極３３ｂに接続される配線群１１ｂに含まれる引回し配線６６と、走査電極３３ｂとの導通位置１５ｂを、それぞれの走査電極３３ｂにおける表示領域Ａ内での延在方向の延長線上から、直線状部１３を長くする方向（ドライバＩＣ９１から遠ざける方向）に向かってずらしてある。このように構成した場合には、図１４（ｂ）に示すように、一方の配線群１１ａに含まれる引回し配線６６の配線抵抗が全体的に小さくなるようにシフトするとともに、他方の配線群１１ｂに含まれる引回し配線６６の配線抵抗が全体的に大きくなるようにシフトし、接続される走査電極の配列順に測定した配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差をなくすることができる。
【００３６】
すなわち、図３、及び図７〜図１２それぞれの例において、第１の基板３０上の隣接する二つの走査電極３３ａ、３３ｂであって、それぞれ異なる配線群１１ａ、１１ｂに含まれる引回し配線６６に接続される二つの走査電極３３Ａ、３３Ｂに対応する引回し配線６６Ａ、６６Ｂの配線抵抗値を近づけるように、二つの走査電極３３Ａ、３３Ｂに対応する導通位置の少なくとも一方をずらしてある。別の言い方をすれば、ドライバＩＣ９１から遠い側の複数の走査電極３３ａに接続される配線群１１ａに含まれる引回し配線６６における、ドライバＩＣ９１に最も近い側の走査電極３３Ａに接続される引回し配線６６Ａの配線抵抗値と、ドライバＩＣ９１から近い側の複数の走査電極３３ｂに接続される配線群１１ｂに含まれる引回し配線６６における、ドライバＩＣ９１から最も遠い側の走査電極３３Ｂに接続される引回し配線６６Ｂの配線抵抗値とを近づけるように、少なくとも一方の導通位置１５ａ、１５ｂをずらしてある。ただし、言うまでもなく、信号伝達速度や画像の明度の観点から、引回し配線の配線抵抗はできる限り小さくすることが好ましいことから、図９又は図１１に示すように、導通位置１５ａ、１５ｂを配線群ごとに、引回し配線６６における直線状部１３を短くする方向（ドライバＩＣ９１に近づける方向）にずらしてあることが好ましい。
【００３７】
また、引回し配線と走査電極との導通位置をずらした場合には、図１５に示すように、当該導通位置１５ａの近傍において、引回し配線６６又は走査電極３３ａが、引回し配線６６の直線状部１３に対して斜め方向に延在する傾斜部６６ｃ、３３ｃを含むことが好ましい。
この理由は、引回し配線又は走査電極の配線抵抗を低下させることがさらに容易になるためである。
より具体的には、一般的には、導通位置のピッチ間隔は、走査電極３３ａのピッチ間隔と一致し、約２２５μｍ程度である。かかるピッチ間隔は、引回し配線６６の直線状部１３が形成された領域における引回し配線６６のピッチ間隔（例えば３０μｍ）よりも大きい。そのため、引回し配線６６に傾斜部６６ｃを設けることにより、当該傾斜部６６ｃにおいてはピッチ間隔を広げ、例えば１８０μｍとしつつ、引回し配線６６自体の配線幅も広げ、例えば１６０μｍとすることができる。したがって、配線抵抗を容易に低下させることができる。同様に、走査電極３３ａにおいてもかかる傾斜部３３ｃを設けることにより、ピッチ間隔及び電極自体の幅を確保するとともに、ずらされた導通位置から、表示領域内における走査電極３３ａの配置位置までの間を、直線距離で配置できることになり、配線抵抗が高くなることを防止することができる。
【００３８】
また、引回し配線６６と走査電極３３との導通位置をずらした場合であっても、図１５に示すように、当該導通位置１５ａにおいて、直線状部１３に対して直交する方向に延在する導通部６６ｄ、３３ｄを含むことが好ましい。
この理由は、引回し配線６６と走査電極３３とが重なる面積を大きく確保することができるために、それらの間の電気的導通を確実に取ることができるためである。
【００３９】
なお、本実施形態においては、配線群を二つ備えた第２の基板を例に採って説明してあるが、これに制限されるものではなく、例えば、図１６（ａ）〜（ｂ）に示すように、それぞれ三つの配線群１１ａ〜１１ｃ又は四つの配線群１１ａ〜１１ｄを備えた第２の基板であっても、本発明を適用することができる。すなわち、それぞれの配線構造の基板において、接続される配線群が変わる境界に位置する走査電極の少なくとも一方と、それに接続される引回し配線との導通位置を、当該引回し配線の配線抵抗値を近づけるようにずらすことにより、配線抵抗値の段差に起因する表示ムラの発生を抑えることができる。
また、例えば、半透過反射型の液晶装置等、引回し配線をアルミニウム等の金属材料を用いて形成する場合であっても、走査電極の配列順に測定した引回し配線の配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差をより低減させることができるために、本発明を好適に使用することができる。
【００４０】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態は、第１実施形態の電気光学装置の製造方法であって、
第１の基板上に、複数の電極を形成する工程と、
第２の基板上における非表示領域に、端部において第１の基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の電気配線であって、表示領域内における電極の延在方向と交差する方向に延在する直線状部を有する複数の電気配線からなる第１の配線群及び第２の配線群を、第２の基板における対向する辺側に形成する工程と、
第１の配線群と電気的に接続される複数の電極と第２の配線群と電気的に接続される複数の電極との境界に位置するそれぞれの電極のうちの少なくとも一方と、当該電極と電気的に接続される電気配線と、を当該電極の表示領域内における延在方向の延長線上からずらした位置で電気的に導通させる工程と、
を含むことを特徴とする。
以下、第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法の一例としての、第１実施形態で説明したＴＦＤ素子を備えた液晶装置を製造する方法を、図１７〜図１９を適宜参照しながら説明する。
なお、本実施形態に係る液晶装置の製造方法は、第２の基板上に二つの配線群を備えた液晶装置の製造方法であるが、言うまでもなく、三つ以上の配線群を備えた液晶装置を製造する場合にも適用することができる。
【００４１】
１．第１の基板の製造工程
まず、図１７（ａ）に示すように、第１の基板の基材としてのガラス基板３１上に、それぞれの画素間領域に対応させて、遮光膜３９を形成する。かかる遮光膜としては、例えば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を遮光膜として使用したり、あるいは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いたりすることができる。例えば、金属膜を用いて遮光膜を形成する場合には、クロム（Ｃｒ）等の金属材料を蒸着法等によりガラス基板上に積層した後、所定のパターンに合わせてエッチング処理することにより形成することができる。
【００４２】
次いで、図１７（ｂ）に示すように、それぞれの画素に、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの少なくとも一色の着色層３７を形成する。
具体的には、まず、感光性樹脂材料中に顔料を混合させた着色材料を、例えば、スピンコーター等の塗布装置を用いて基板上に均一に塗布して、着色材料を含有する樹脂層を形成する。このとき、例えば、スピンコーターを用いた場合、６００〜２，０００ｒｐｍの回転数で、５〜２０秒の塗布時間として、厚さ１〜１０μｍの樹脂層を形成することができる。ここで、着色材料を含有する樹脂層を構成する感光性樹脂材料の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
次いで、所定形状のパターンを有するフォトマスクを介して露光した後、現像剤を用いて現像することにより、所定の画素に対応させてパターニングされた着色層を形成する。
かかる露光及び現像処理を、色ごとに繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれの色調を呈する着色層を形成することができる。
【００４３】
次いで、基板上に透明性の感光性樹脂材料を塗布した後、露光、現像することにより、図１７（ｃ）に示すように、オーバーコート層４１を形成する。かかるオーバーコート層の形成に用いる樹脂材料についても、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の公知のものを使用することができる。
次いで、オーバーコート層上に、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電材料からなる透明導電層を、例えば、スパッタリング法により形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを施し、図１７（ｄ）に示すように、所定のパターン形状の電極３３を形成する。例えば、製造する第１の基板が、本実施形態の液晶装置のようなＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置や、パッシブマトリクス型の液晶装置に使用される第１の基板である場合には、複数の透明電極が並列したストライプ状にパターニングされる。また、接続される配線群が変わる境界部分に位置する走査電極の少なくとも一方の端部であって、引回し配線と導通される側の端部は、当該走査電極３３における表示領域内での延在方向の延長線上からずらした位置で、当該引回し配線と導通できるように、一部、傾斜された状態で形成される。
次いで、図１７（ｅ）に示すように、透明電極３３が形成された基板上において、それぞれのセル領域毎に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜４５を形成することにより、第１の基板３０を製造することができる。
【００４４】
２．第２の基板の製造工程
（１）ＴＦＤ素子、及びデータ線の形成
第２の基板６０は、まず、図１８（ａ）に示すように、ガラス基板からなる基体６１上に、素子第１電極７１を形成する。この素子第１電極７１は、例えば、タンタル合金から構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。このとき、素子第１電極７１の形成前に、第２のガラス基板６１に対する素子第１電極７１の密着力を著しく向上させることができるとともに、第２のガラス基板６１から素子第１電極７１への不純物の拡散を効率的に抑制することができることから、基体６１上に酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
【００４５】
次いで、図１８（ｂ）に示すように、素子第１電極７１の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜７２を形成する。より具体的には、素子第１電極７１が形成された基板を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、素子第１電極７１との間に所定電圧を印加して、素子第１電極７１の表面を酸化させることができる。
次いで、再び、スパッタリング法等により、素子第１電極７１を含む基板上に、全面的にクロム等の金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ法によって、パターニングすることにより、図１８（ｃ）に示すように、素子第２電極７３、７４及びデータ線６５を形成する。このようにして、ＴＦＤ素子６９及びデータ線６５を形成することができる。
【００４６】
（２）引回し配線の形成
次いで、図１９（ａ）に示すように、基板上の非表示領域に、端部において第１の基板上のそれぞれの走査電極と電気的に接続される複数の引回し配線６６であって、表示領域内における走査電極の延在方向と交差する方向に延在する直線状部を有する複数の引回し配線６６を、パターニングして形成する。かかる引回し配線６６は、第１の配線群及び第２の配線群を構成し、第２の基板上の対向する辺側に形成される。
また、この時点で、第１の基板上における、接続される配線群が変わる境界部分の走査電極の少なくとも一方の導通位置となる端部６６ｂは、走査電極における表示領域内での延在方向の延長線上からずらした位置に配置されることとなる。また、当該導通位置となる端部６６ｂ付近においては、直線状部１３に対して斜め方向に延在する傾斜部６６ｃを形成することが好ましい。さらに、当該導通位置となる端部６６ｂは、走査電極との導通を確保するために、直線状部１３に対して直交する方向に延在する導通部６６ｄを形成することが好ましい。
【００４７】
このように、導通位置をずらしたり、所定の傾斜部を形成したりすることにより、配線抵抗に影響を与えやすい直線状部の長さを調整することができるため、引回し配線の配線抵抗値を、接続される走査電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける急激な段差が生じることを防止することができる。
かかる引回し配線は、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）等の金属材料や、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電材料を用いて、パターニングして形成することができる。
なお、かかる引回し配線の形成工程は、独立した工程として説明したが、製造工程の簡略化のため、後工程において、画素電極を、ＩＴＯを用いて形成する際に、同時に形成することが好ましい。
【００４８】
（３）画素電極の形成
次いで、スパッタリング法等により、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物等）等の透明導電材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより、図１９（ｂ）に示すように、ＴＦＤ素子６９と電気的に接続された複数の画素電極６３を形成する。
【００４９】
（４）配向膜の形成
次いで、図１９（ｃ）に示すように、画素電極６３等が形成された第２の基板６０上に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜７５を形成することにより、第２の基板６０を製造することができる。
【００５０】
３．貼り合わせ工程
次いで、図示しないものの、第１の基板又は第２の基板のいずれか一方において、表示領域を囲むようにしてシール材を積層した後、他方の基板を重ね合わせて、加熱圧着することにより、第１の基板及び第２の基板を貼り合わせて、セル構造を形成する。
そして、本実施形態の液晶装置の製造方法においては、第１の基板の所定の走査電極と、第２の基板の所定の引回し配線とが、走査電極における表示領域内での延在方向の延長線上からずらされた位置で導通がとられ、電気的に接続される。
【００５１】
４．組立工程等
次いで、セル内に、シール材の一部に設けられた注入口から液晶材料を注入した後、封止材等により封止する。
さらに、第１の基板及び第２の基板それぞれの外面に、位相差板（１／４λ板）及び偏光板を配置したり、ドライバを実装したりするとともに、バックライト等とともに筐体に組み込むことにより、液晶装置を製造することができる。
【００５２】
［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態として、第１実施形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
【００５３】
図１９は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶装置に備えられた液晶パネル２０と、これを制御するための制御手段２００とを有している。また、図１９中では、液晶パネル２０を、パネル構造体２０ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２０ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段２００は、表示情報出力源２０１と、表示処理回路２０２と、電源回路２０３と、タイミングジェネレータ２０４とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源２０１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２０４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路２０２に供給するように構成されていることが好ましい。
【００５４】
また、表示処理回路２０２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２０ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２０ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路２０３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、電極と引回し配線との導通位置をずらすことにより、引回し配線の配線抵抗値を、接続される走査電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差をなくした液晶装置を備えるために、表示ムラが視認されにくく、表示特性に優れた電子機器とすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明によれば、電極と引回し配線との導通位置をずらすことにより、引回し配線の配線抵抗値を、接続される走査電極の配列順に測定した場合の、配線抵抗値の変化のプロフィールにおける段差をなくして、表示ムラが視認されにくく、表示特性に優れた電気光学装置とすることができる。したがって、ＴＦＤ素子を備えた液晶装置等の電気光学装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を備えた装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）などに幅広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】第１実施形態の液晶装置の概略斜視図である。
【図２】第１実施形態の液晶装置の概略断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ第１実施形態の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板及び素子基板の概略平面図である。
【図４】引回し配線における直線状部の長さを説明するために供する図である。
【図５】同じ配線群に含まれる引回し配線の配線抵抗値の変化のプロフィールを示す図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ配線群の境界部分の引回し配線の配線抵抗値の変化のプロフィールを示す図である。
【図７】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ変形例としての液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板及び素子基板の概略平面図である（その１）。
【図８】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ変形例としての液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板及び素子基板の概略平面図である（その２）。
【図９】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ変形例としての液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板及び素子基板の概略平面図である（その３）。
【図１０】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ変形例としての液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板及び素子基板の概略平面図である（その４）。
【図１１】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ変形例としての液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板及び素子基板の概略平面図である（その５）。
【図１２】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ変形例としての液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板及び素子基板の概略平面図である（その６）。
【図１３】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ導通位置をずらした場合の配線抵抗値の変化を説明するために供する図である（その２）。
【図１４】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ導通位置をずらした場合の配線抵抗値の変化を説明するために供する図である（その３）。
【図１５】導通位置近傍における、引回し配線及び走査電極の形状を説明するために供する図である。
【図１６】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ三つ又は四つの配線群を備えた素子基板を示す図である。
【図１７】（ａ）〜（ｅ）は、第１の基板の製造方法を説明するために供する図である。
【図１８】（ａ）〜（ｃ）は、第２の基板の製造方法を説明するために供する図である（その１）。
【図１９】（ａ）〜（ｃ）は、第２の基板の製造方法を説明するために供する図である（その２）。
【図２０】第３実施形態の電子機器の概略構成を示すブロック図である。
【図２１】従来の引回し配線の構成を説明する図である。
【図２２】従来の引回し配線の構成における配線抵抗値の変化のプロフィールを示す図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０：液晶装置、１１・１１ａ・１１ｂ：配線群、１３：直線状部、１５・１５ａ・１５ｂ：導通位置、２３：シール材、３０：第１の基板、３１：ガラス基板、３３・３３ａ・３３ｂ・３３Ａ・３３Ｂ：走査電極、３３ｃ：傾斜部、３３ｄ：導通部、３７：着色層、４１：オーバーコート層、４５：配向膜、６０：第２の基板、６１：ガラス基板、６３：画素電極、６５：データ線、６６・６６Ａ・６６Ｂ：引回し配線、６６ａ・６６ｂ：端部、６６ｃ：傾斜部、６６ｄ：導通部、６９：ＴＦＤ素子、７５：配向膜、９１：ドライバＩＣ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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