(57)【要約】【課題】  研磨工具をラスター走査する研磨方法において、安定した研磨を効率良く行うことができるようにする。【解決手段】  ＮＣ装置２０は、被研磨物１の研磨面に接触させて研磨を行う研磨工具２をラスター走査させる。制御装置３０は、被研磨物１の研磨面の研磨除去量がラスター走査の全区間において一定となるように、研磨工具２と当該研磨面との相対速度、及び研磨工具２の滞留時間をプレストンの経験則に基づいて制御する。【選択図】      図１
2006297578.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物の加工面に接触させて研磨を行う研磨工具をラスター走査させる研磨方法において、
前記加工面の研磨除去量が前記ラスター走査の全区間において一定となるように、前記研磨工具と当該加工面との相対速度、及び当該研磨工具の滞留時間をプレストンの経験則に基づいて制御する、
ことを特徴とする研磨方法。
【請求項２】
前記ラスター走査における折り返しの位置での走査速度を、当該折り返しにより前記研磨工具の跳ねが生じない速度にまで、他の位置での走査速度よりも低下させることを特徴とする請求項１に記載の研磨方法。
【請求項３】
前記研磨は、前記研磨工具を回転運動させて行うものであり、
前記制御は、前記ラスター走査の走査速度と前記研磨工具の回転数とを制御することによって行う、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の研磨方法。
【請求項４】
前記研磨は、前記研磨工具を振動運動させて行うものであり、
前記制御は、前記ラスター走査の走査速度と前記研磨工具の振動数とを制御することによって行う、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の研磨方法。
【請求項５】
被加工物の加工面に接触させて研磨を行う研磨工具をラスター走査させる走査手段と、
前記加工面の研磨除去量が前記ラスター走査の全区間において一定となるように、前記研磨工具と当該加工面との相対速度、及び当該研磨工具の滞留時間をプレストンの経験則に基づいて制御する制御手段と、
を有することを特徴とする研磨装置。
【請求項６】
前記走査手段は、前記ラスター走査における折り返しの位置での走査速度を、当該折り返しにより前記研磨工具の跳ねが生じない速度にまで、他の位置での走査速度よりも低下させることを特徴とする請求項５に記載の研磨装置。
【請求項７】
前記研磨は、前記研磨工具を回転運動させて行うものであり、
前記制御手段は、前記ラスター走査の走査速度と前記研磨工具の回転数とを制御する、
ことを特徴とする請求項５または６に記載の研磨装置。
【請求項８】
前記研磨は、前記研磨工具を振動運動させて行うものであり、
前記制御手段は、前記ラスター走査の走査速度と前記研磨工具の振動数とを制御する、
ことを特徴とする請求項５または６に記載の研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は研磨加工技術に関し、特に、非球面若しくは軸非対称曲面を持つ光学素子の光学機能面や、光学素子を成形する成形用型の光学機能面などの研磨加工に好適な曲面研磨加工の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
曲面の研磨加工の手法として、例えば特許文献１には、被研磨物の外周に研磨のためのヤトイ（案内部材）を取り付け、曲面に対して研磨工具をラスター状に走査して研磨を行う手法が開示されている。
【特許文献１】特開２００１−７９７４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上述した従来の手法には以下のような課題がある。
まず、曲率が大きく且つ小径である被研磨物を研磨加工する場合には、研磨工具も被研磨物の曲率に合わせて微小なものを使用して、相互に干渉をしないようにする必要がある。ところが、微小な研磨工具を使用すると、研磨点での接触面積が減るために面圧が高くなってしまう。そのため、表面硬度が低いプラスチック等の被研磨物を研磨する場合には、高い面圧が傷の原因となるため、研磨荷重を下げなければならない。
【０００４】
このように、微小径に合った研磨条件でラスター走査を行うという上述した手法で研磨を行うと、研磨荷重を微小とするため、研磨工具が折り返す際における研磨工具や被研磨面の急激な加減速に対して研磨工具が被研磨面を追従しきれず、研磨工具が跳ねる現象が生じ得る。
【０００５】
また、上述した従来の手法のように被研磨物の周辺に研磨のためのヤトイを設けても、研磨工具に対する荷重が微小であると、一旦跳ねてしまった研磨工具は数回バウンドするため、光学的有効範囲においてまでも不安定な荷重で走査されることとなり、その結果、被研磨物周辺の研磨が不均一となって形状が崩れるといった問題が生じ得る。ここで、この問題に対処するために研磨工具のバウンドを見越してヤトイを大きくすることが考えられるが、この対処策では、その大きくした分だけ曲面形状に合ったヤトイを作製する時間が余分に掛かることとなり、また、本来の研磨加工の対象である曲面以外の不必要な領域に対して研磨工具を走査させる時間が長くなるため加工の能率が低下してしまう。
【０００６】
また、研磨工具の折り返しで跳ねない程度の遅い走査速度で被研磨物を研磨すれば、安定した研磨を行うことは可能であるが、走査速度が遅くなればそれだけ研磨時間が長くなるため、加工の効率が低下してしまう。
【０００７】
本発明は上述した問題に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、研磨工具をラスター走査する研磨方法において、安定した研磨を効率良く行うことができるようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の態様のひとつである研磨方法は、被加工物の加工面に接触させて研磨を行う研磨工具をラスター走査させる研磨方法において、前記加工面の研磨除去量が前記ラスター走査の全区間において一定となるように、前記研磨工具と当該加工面との相対速度、及び当該研磨工具の滞留時間をプレストンの経験則に基づいて制御する、ことを特徴とするものであり、この特徴によって前述した課題を解決する。
【０００９】
なお、上述した本発明に係る研磨方法において、前記ラスター走査における折り返しの位置での走査速度を、当該折り返しにより前記研磨工具の跳ねが生じない速度にまで、他の位置での走査速度よりも低下させるようにしてもよい。
【００１０】
また、前述した本発明に係る研磨方法において、前記研磨は、前記研磨工具を回転運動させて行うものであり、前記制御は、前記ラスター走査の走査速度と前記研磨工具の回転数とを制御することによって行う、ようにしてもよい。
【００１１】
また、前述した本発明に係る研磨方法において、前記研磨は、前記研磨工具を振動運動させて行うものであり、前記制御は、前記ラスター走査の走査速度と前記研磨工具の振動数とを制御することによって行う、ようにしてよい。
【００１２】
また、本発明の別の態様のひとつである研磨装置は、被加工物の加工面に接触させて研磨を行う研磨工具をラスター走査させる走査手段と、前記加工面の研磨除去量が前記ラスター走査の全区間において一定となるように、前記研磨工具と当該加工面との相対速度、及び当該研磨工具の滞留時間をプレストンの経験則に基づいて制御する制御手段と、を有することを特徴とするものであり、この特徴によって前述した課題を解決する。
【００１３】
なお、上述した本発明に係る研磨装置において、前記走査手段は、前記ラスター走査における折り返しの位置での走査速度を、当該折り返しにより前記研磨工具の跳ねが生じない速度にまで、他の位置での走査速度よりも低下させるように構成してもよい。
【００１４】
また、前述した本発明に係る研磨装置において、前記研磨は、前記研磨工具を回転運動させて行うものであり、前記制御手段は、前記ラスター走査の走査速度と前記研磨工具の回転数とを制御する、ように構成してもよい。
【００１５】
また、前述した本発明に係る研磨装置において、前記研磨は、前記研磨工具を振動運動させて行うものであり、前記制御手段は、前記ラスター走査の走査速度と前記研磨工具の振動数とを制御する、ように構成してもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、以上のようにすることにより、研磨工具をラスター走査する研磨方法において、安定した研磨を効率良く行えるようになるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
まず、本発明を実施する研磨方法の原理について説明する。
ここでは、研磨工具の走査速度ｆの下でラスター状の被研磨面走査を行うものとする。ここで、折り返しのある区間で折り返しによる跳ねが生じない走査速度をｆ’とし、この走査速度の下で工具走査の方向転換を行うものとする。
【００１８】
一般に研磨による除去量をｈとすると、相対速度ｖ、圧力ｐ、滞留時間ｔの間には、
ｈ＝ａ×ｖ×ｐ×ｔ      （但し、ａは比例定数）
なるプレストンの経験式（法則）が成り立つことは広く知られている。
【００１９】
この経験式において被研磨面の形状を崩さず研磨を行うためには、除去量ｈを一定にするようパラメータｖ、ｐ、ｔを決定する必要がある。
被研磨面に傷が付かないように研磨を行うには研磨荷重をなるべく軽くすることが好ましい。従って、研磨荷重の最大荷重は、被研磨物の材質や研磨工具の接触面積によって設定される。一方、研磨荷重は大きい方が研磨工具の跳ねは生じなくなるので、ある走査速度においての研磨荷重の最小荷重は設定される。
【００２０】
以上より、研磨荷重は定数になり、その圧力ｐも定数となる。ここで、研磨工具の跳ねが生じないように折り返し区間での走査速度ｆをｆ→ｆ’とすると、滞留時間ｔは走査速度によって変化しｔ→ｔ’になる。そこで、研磨による除去量を一定にするために、研磨工具と被研磨面との相対速度ｖがｖ→ｖ’となるように研磨工具の回転数や振動する振動数を変えて折り返しを行うようにする。
【００２１】
なお、研磨工具の研磨荷重が被研磨面に垂直にかかるようにするために、研磨ヘッドは５軸制御可能なＮＣ（Numerical Control ：数値制御）装置に取り付ける。曲面の設計式に基づいて作成したＮＣプログラムにより、ＮＣ装置は被研磨面に対して研磨工具をラスター走査させる。このラスター走査において、研磨工具の折り返しの際には、研磨工具の跳ねが生じないように走査速度を減速させるが、この走査速度の減速に併せ、プレストンの経験式を満たすように研磨工具の回転数や振動数を落とし、研磨除去量を一定にする。
【００２２】
以上のように、加工面の研磨除去量がラスター走査の全区間において一定となるように、研磨工具と当該加工面との相対速度、及び当該研磨工具の滞留時間をプレストンの経験則に基づいて制御することにより、安定した研磨が効率良く行えるようになる。
【００２３】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【実施例１】
【００２４】
図１及び図２を用いて本実施例を説明する。
図１は被研磨物１に研磨工具２を接触させた状態の斜視図であり、本実施例に係る研磨方法を実施している状態を示している。
【００２５】
研磨工具２は、被研磨物１との接触部分が球形状である先端２ａと、軸２ｂとからなる。軸２ｂは接触点の面直方向に対して任意の角度で傾斜している。
研磨工具２には、先端２ａを回転運動させる回転手段としてのモータ１０が接続されている。そして、研磨工具２の軸２ｂは、研磨工具２の研磨荷重が被研磨面に垂直に加わるように、５軸制御可能なＮＣ装置２０に取り付けられている。ＮＣ装置２０は、曲面の形状式に基づいたＮＣプログラムを実行することにより、モータ１０が先端２ａを所定の回転数で回転させている研磨工具２を移動制御し、所定のピッチで折り返しながらラスター走査させる走査手段である。この走査によって、研磨工具２は被研磨面全体を研磨できるようになる。
【００２６】
制御装置３０は、例えばコンピュータであり、被研磨面上での研磨工具２の位置をＮＣ装置２０から取得し、この位置に基づいて、ＮＣ装置２０による研磨工具２のラスター走査の走査速度とモータ１０の回転数とを制御する制御手段である。
【００２７】
次に、本実施例の研磨加工について説明する。
図２は研磨工具２が同図に示すＸ方向に走査すると共に、当該Ｘ方向に垂直なＹ方向に所定のピッチで折り返すという、本実施例におけるラスター走査の軌跡を被研磨面の正面から見た図である。なお、同図の下方には、Ｘ座標と研磨工具２の回転数及び研磨工具２の走査速度との関係を表したグラフが描かれている。
【００２８】
図２において、研磨工具２の通常の走査速度をｆ１とし、ラスター走査における折り返し区間の走査速度（ラスター走査の折り返しに起因する研磨工具２の跳ねが生じない速度）をｆ２とする。また、被研磨面において、走査速度ｆ１で走査する領域をＡ１、走査速度ｆ２で走査する領域をＡ２とし、更に、走査速度をｆ１からｆ２へと減速若しくはｆ２からｆ１へと加速する領域をＡ３とする。なお、図４においては、Ｘ方向に走査してＹ方向に折り返すラスター走査を行うとする。
【００２９】
図２に示す被研磨面におけるＸ＋側端において、通常の走査速度ｆ１から折り返しの走査速度ｆ２への減速の際における減速の開始点のＸ座標をＰ１、当該減速の終了点のＸ座標をＰ２とする。そして、このとき、折り返しの走査速度ｆ２から通常の走査速度ｆ１への加速の際における加速の開始点のＸ座標はＰ２とし、当該加速の終了点のＸ座標はＰ１とする。
【００３０】
一方、図２に示す被研磨面におけるＸ−側端において、通常の走査速度ｆ１から折り返しの走査速度ｆ２への減速の際における減速の開始点のＸ座標をＰ３、当該減速の終了点のＸ座標をＰ４とする。そして、このとき、折り返しの走査速度ｆ２から通常の走査速度ｆ１への加速の際における加速の開始点のＸ座標はＰ４とし、当該加速の終了点のＸ座標はＰ３とする。
【００３１】
前述したように、研磨による形状崩れが生じないようにするには、除去量を一定にすることが必要である。従って、形状崩れを生じさせることなく、状況に応じて速度を変更する場合には、前掲したプレストンの経験式
ｈ＝ａ×ｖ×ｐ×ｔ
（但し、ｈ：除去量、ａ：比例定数、ｖ：相対速度、ｐ：圧力、ｔ：滞留時間）
において除去量を常に一定に保つように各パラメータを変更すればよいことになる。
【００３２】
ここで、圧力ｐは、効率の良い研磨除去を可能とすると共に、研磨による傷が発生しない最適な研磨荷重とし、一定とする。
また、滞留時間ｔと走査速度ｆとの間には、
ｔ＝ｂ／ｆ（ｂ：比例定数）
が成り立つ。
【００３３】
また相対速度ｖと工具の回転数ｎの間には、
ｖ＝ｃ×ｎ（ｃ：比例定数）
が成り立つ。
【００３４】
以上の関係を、前掲したプレストンの経験式におけるｔとｖとに代入すると、次式が得られる。
ｈ＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ×ｃ×ｎ
ここで、研磨工具２の通常の回転数をｎ１とし、折り返し区間Ａ２での回転数をｎ２とすると、
ｈ＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ１×ｃ×ｎ１＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ２×ｃ×ｎ２
が成立するので、結局、
ｆ１×ｎ２＝ｆ２×ｎ１
が成り立つように回転数ｎ２を設定して折り返し区間Ａ２の研磨を行えばよいこととなる。
【００３５】
同様に、加減速の区間Ａ３の工具回転数ｎ３についても、
ｆ１×ｎ３＝ｆ３×ｎ１
が成り立つように、走査速度ｆ３及び回転数ｎ３を設定すれば、形状崩れの生じない研磨を行うことができる。
【００３６】
具体的な研磨加工は、曲面の設計式に基づいて作成したＮＣプログラムをＮＣ装置２０に実行させることにより、研磨工具２を被研磨面に対してラスター走査させることで行われる。
【００３７】
なお、ラスター走査においては、一定速度ｆ１で走査する区間Ａ１と、折り返す際に研磨工具の跳ねが生じないような速度ｆ２で走査する区間Ａ２と、走査速度をｆ１からｆ２へと減速若しくはｆ２からｆ１へと加速する区間Ａ３とに分けて被研磨面に研磨工具２を接触させて走査させる。
【００３８】
ここで、被研磨面の全面を均一に研磨するために、区間Ａ１、Ａ２、Ａ３の研磨除去量を同じにする必要があるので、研磨除去量ｈを、プレストンの経験式に基づき、
ｈ＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ１×ｃ×ｎ１
＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ２×ｃ×ｎ２
＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ３×ｃ×ｎ３
が成立するように、区間Ａ２及びＡ３における走査速度ｆ２、ｆ３及び研磨工具２の回転数ｎ２及びｎ３を制御する。ＮＣ装置２０によるラスター走査における走査速度とモータ１０の回転数とを制御装置３０がこのように制御することにより、研磨除去量が一定に保たれる。
【００３９】
以上のように、本実施例によれば、研磨工具２に加える荷重が微小であってもラスター走査の折り返しに研磨工具２の跳ねが生じることがなくなり、安定して均一な研磨をすることができるようになる。また、本実施例によれば、走査速度を落とすのは一部の区間に留めた上で研磨を行うことができるので、効率良く研磨を行うことができる。
【００４０】
なお、本実施例では、Ｘ方向に走査し、Ｙ方向に折り返すラスター走査を例に挙げたが、その代わりに、Ｙ方向に走査し、Ｘ方向に折り返すラスター走査を行う場合においても同様の手法により同様の効果を得ることができる。
【実施例２】
【００４１】
図３及び図４を用いて本実施例を説明する。
図３は被研磨物１に研磨工具２を接触させた状態の斜視図であり、本実施例に係る研磨方法を実施している状態を示している。
【００４２】
研磨工具２は、被研磨物１との接触部分が球形状である先端２ａと、軸２ｂとからなる。
研磨工具２には、先端２ａを振動運動させる振動手段としての振動子４０が接続されている。そして、研磨工具２の軸２ｂは、研磨工具２の研磨荷重が被研磨面に垂直に加わるように、５軸制御可能なＮＣ装置２０に取り付けられている。ＮＣ装置２０は、曲面の形状式に基づいたＮＣプログラムを実行することにより、振動子４０が先端２ａを所定の振動数で振動させている研磨工具２を移動制御し、所定のピッチで折り返しながらラスター走査させる走査手段である。この走査によって、研磨工具２は被研磨面全体を研磨できるようになる。
【００４３】
制御装置３０は、例えばコンピュータであり、被研磨面上での研磨工具２の位置をＮＣ装置２０から取得し、この位置に基づいて、ＮＣ装置２０による研磨工具２のラスター走査の走査速度と振動子４０の振動数とを制御する制御手段である。
【００４４】
次に、本実施例の研磨加工について説明する。
図４は研磨工具２が同図に示すＸ方向に走査すると共に、当該Ｘ方向に垂直なＹ方向に所定のピッチで折り返すという、本実施例におけるラスター走査の軌跡を被研磨面の正面から見た図である。なお、同図の下方には、Ｘ座標と工具回転数及び工具走査速度との関係を表したグラフが描かれている。
【００４５】
図４において、研磨工具２の通常の走査速度をｆ１とし、ラスター走査における折り返し区間の走査速度（ラスター走査の折り返しに起因する研磨工具２の跳ねが生じない速度）をｆ２とする。また、被研磨面において、走査速度ｆ１で走査する領域をＡ１、走査速度ｆ２で走査する領域をＡ２とし、更に、走査速度をｆ１からｆ２へと減速若しくはｆ２からｆ１へと加速する領域をＡ３とする。なお、図４においては、Ｘ方向に走査してＹ方向に折り返すラスター走査を行うとする。
【００４６】
図４に示す被研磨面におけるＸ＋側端において、通常の走査速度ｆ１から折り返しの走査速度ｆ２への減速の際における減速の開始点のＸ座標をＰ１、当該減速の終了点のＸ座標をＰ２とする。そして、このとき、折り返しの走査速度ｆ２から通常の走査速度ｆ１への加速の際における加速の開始点のＸ座標はＰ２とし、当該加速の終了点のＸ座標はＰ１とする。
【００４７】
一方、図４に示す被研磨面におけるＸ−側端において、通常の走査速度ｆ１から折り返しの走査速度ｆ２への減速の際における減速の開始点のＸ座標をＰ３、当該減速の終了点のＸ座標をＰ４とする。そして、このとき、折り返しの走査速度ｆ２から通常の走査速度ｆ１への加速の際における加速の開始点のＸ座標はＰ４とし、当該加速の終了点のＸ座標はＰ３とする。
【００４８】
前述したように、研磨による形状崩れが生じないようにするには、除去量を一定にすることが必要である。従って、形状崩れを生じさせることなく、状況に応じて速度を変更する場合には、前掲したプレストンの経験式
ｈ＝ａ×ｖ×ｐ×ｔ
（但し、ｈ：除去量、ａ：比例定数、ｖ：相対速度、ｐ：圧力、ｔ：滞留時間）
において除去量を常に一定に保つように各パラメータを変更すればよいことになる。
【００４９】
ここで、圧力ｐは、効率の良い研磨除去を可能とすると共に、研磨による傷が発生しない最適な研磨荷重とし、一定とする。
また、滞留時間ｔと走査速度ｆとの間には、
ｔ＝ｂ／ｆ（ｂ：比例定数）
が成り立つ。
【００５０】
また、相対速度ｖと工具の振動数ｅの間には
ｖ＝ｄ×ｅ（ｄ：比例定数）
が成り立つ。
【００５１】
以上の関係を、前掲したプレストンの経験式におけるｔとｖとに代入すると、次式が得られる。
ｈ＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ×ｄ×ｅ
ここで、研磨工具２の通常の振動数をｅ１とし、折り返し区間Ａ２での振動数をｅ２とすると、
ｈ＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ１×ｄ×ｅ１＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ２×ｄ×ｅ２
が成立するので、結局、
ｆ１×ｅ２＝ｆ２×ｅ１
が成り立つように振動数ｅ２を設定して折り返し区間Ａ２の研磨を行えばよいこととなる。
【００５２】
同様に、加減速の区間Ａ３の工具振動数ｅ３についても、
ｆ１×ｅ３＝ｆ３×ｅ１
が成り立つように、走査速度ｆ３及び回転数ｅ３を設定すれば、形状崩れの生じない研磨を行うことができる。
【００５３】
具体的な研磨加工は、実施例１と同様、曲面の設計式に基づいて作成したＮＣプログラムをＮＣ装置２０に実行させることにより、研磨工具２を被研磨面に対してラスター走査させることで行われる。
【００５４】
なお、ラスター走査においては、一定速度ｆ１で走査する区間Ａ１と、折り返す際に研磨工具の跳ねが生じないような速度ｆ２で走査する区間Ａ２と、走査速度をｆ１からｆ２へと減速若しくはｆ２からｆ１へと加速する区間Ａ３とに分けて被研磨面に研磨工具２を接触させて走査させる。
【００５５】
ここで、被研磨面の全面を均一に研磨するために、区間Ａ１、Ａ２、Ａ３の研磨除去量を同じにする必要があるので、研磨除去量ｈを、プレストンの経験式に基づき、
ｈ＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ１×ｄ×ｅ１
＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ２×ｄ×ｅ２
＝ａ×ｐ×ｂ／ｆ３×ｄ×ｅ３
が成立するように、区間Ａ２及びＡ３における走査速度ｆ２、ｆ３対しての研磨工具２の振動数ｅ２及びｅ３を設定する。ＮＣ装置２０によるラスター走査における走査速度と振動子４０の振動数とを制御装置３０がこのように制御することにより、研磨除去量が一定に保たれる。
【００５６】
前述した実施例１においては、傾斜させた研磨工具を回転させることにより研磨を行ったが、実施例１の研磨方法では、軸が被研磨面の外周や研磨ヤトイに干渉することによって傾斜角が設けられずに研磨工具の周速が殆ど得られないような場合には、本実施例のように、研磨工具を振動させて行うようにすることにより、実施例１と同様に安定して効率の良い研磨を行うことができるようになる。
【００５７】
以上のように、上述したいずれの実施例においても、研磨工具をラスター走査する研磨における折り返しのときに、微小な研磨荷重で研磨工具の跳ねが生じることなく研磨できるので、安定した研磨が行える。また、折り返しで跳ねが生じないようにするための走査速度の減速も、その折り返しの前後でしか行わないので、効率の良い研磨が行える。更に、走査速度の加減速を研磨対象である有効光学範囲内で行うので、その加減速のための領域を研磨ヤトイにより余分に設ける必要がなくなる結果、研磨ヤトイを大きくしないで済むようになる。
【００５８】
その他、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良・変更が可能である。
例えば、上述した実施形態においては、制御装置３０がモータ１０の回転数若しくは振動子２０の振動数を制御するようにしていたが、その代わりに、これらをＮＣ装置２０が制御する構成とすることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】実施例１に係る研磨方法の説明図である。
【図２】実施例１に係る研磨方法におけるラスター走査の軌跡と、走査速度及び工具回転数の変化の様子とを示す図である。
【図３】実施例２に係る研磨方法の説明図である。
【図４】実施例２に係る研磨方法におけるラスター走査の軌跡と、走査速度及び工具振動数の変化の様子とを示す図である。
【符号の説明】
【００６０】
１  被研磨物
２  研磨工具
２ａ  研磨工具の先端
２ｂ  研磨工具の軸
１０  モータ
２０  ＮＣ装置
３０  制御装置
４０  振動子
【図１】
2006297578.tif 000003
【図２】
2006297578.tif 000004
【図３】
2006297578.tif 000005
【図４】
2006297578.tif 000006