(57)【要約】【課題】ガラス基板上に少なくともブラックマトリクスと着色フィルタ層とが形成されたカラーフィルタ基板のブラックマトリクスと着色フィルタ層との重なり部分を均一に、且つ短時間で安定的に研磨できるカラーフィルタ基板用研磨装置を提供することを目的とする。【解決手段】下定盤１１、上定盤２１、上定盤２１に固定された研磨布２２、研磨剤供給パイプ３１、研磨剤供給パイプ３１の下側に固定されたスプレーノズル４１、スライドバー５１、保持台５２、研磨剤タンク６１及び研磨剤供給チューブ６２とで構成されており、研磨剤は、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１の下側に固定されたスプレーノズル４１からカラーフィルタ基板８１の表面に供給される。【選択図】図１
2006334737.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板等からなる透明基板上に少なくともブラックマトリックスと着色フィルタ層とが形成されたカラーフィルタ基板表面を研磨する研磨装置であって、研磨布もしくは／及びカラーフィルタ基板表面にあらかじめ研磨剤を供給する研磨剤供給手段を有することを特徴とするカラーフィルタ基板用研磨装置。
【請求項２】
前記研磨剤供給手段が研磨剤供給パイプとスプレーノズルで構成されていることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板用研磨装置。
【請求項３】
前記研磨剤供給手段が研磨剤供給パイプとスリットノズルで構成されていることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板用研磨装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板用研磨装置が、オスカー型の研磨機であることを特徴とするカラーフィルタ基板用研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テレビ、パソコン、携帯端末などに使用される、液晶表示素子、ＥＬ素子などのフラットパネルディスプレイや電気泳動などを利用したフレキシブルディスプレイ、ペーパーライクディスプレイに用いられるカラーフィルタ基板の研磨装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図７は、カラー液晶表示装置等などに用いられるカラーフィルタ基板の一例を示す部分模式構成断面図である。
図７に示すように、液晶表示装置などフラットパネルに用いられるカラーフィルタはガラス基板１１１上にブラックマトリクス１２１、着色フィルタ層１３１Ｒ、１３１Ｇ、１３１Ｂ及び透明導電膜（特に、図示せず）などから構成される。
【０００３】
最近では、液晶表示装置用カラーフィルタ基板にはパネルのギャップを均一に保つために樹脂によるスペーサーを形成する場合がある。
また、ＶＡ液晶の場合はＲ、Ｇ、Ｂ着色フィルタ層上などに液晶配向性を制御する樹脂パターンを形成するＭＶＡやＡＳＶといった液晶パネルに用いるカラーフィルタ基板もある。
【０００４】
ブラックマトリクスは、遮光性を有する遮光層をマトリックス状にパターン化したものであり、遮光層としては、金属クロム膜と酸化クロム膜を積層したものや感光性樹脂に黒色顔料を分散したものなどがある。
着色フィルタ層は、上記ブラックマトリックス上に着色レジストを塗布し、フォトマスクを介して紫外線露光し、現像後所定のパターンを得る。この着色フィルタ層は一般的に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）で構成され、前記と同様の作業を３度繰り返し、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色フィルタ層を得る。
【０００５】
カラーフィルタ基板は、このブラックマトリクスと着色フィルタ層上に、透明導電膜を形成する工程からなる。
液晶表示素子用カラーフィルタ基板は、フォトスペーサーと呼ばれる突起を形成し、対向基板（ＴＦＴ基板）を貼り合わせる際、均一にギャップが確保できるようにしている。
透明導電膜の形成には、均一な膜厚で抵抗値や透過率などの特性が、比較的安定して得られることから、スパッタリング法が広く普及している。
【０００６】
近年、ブラックマトリクスにはクロムによる環境問題への配慮や、パネルの反射率低減による視認性の向上の目的から樹脂製のものが多く用いられるようになってきた。
樹脂製のブラックマトリクス上に着色フィルタ層を形成する場合、ブラックマトリクスと着色フィルタ層の端部で重なり部分が生じる。これは隙間が空いた場合には、光漏れを生じてしまうため通常１ミクロンから１．５ミクロンの重なり部分としている。
【０００７】
樹脂製のブラックマトリックスは遮光特性を得るために膜厚を１ミクロンから１．５ミクロンにする必要があり、この上に着色フィルタ層が重なると１ミクロン近い段差を生じてしまう。
この段差は、例えば液晶用に用いる場合、液晶の配向性を損ねることがあり、好ましくない。
【０００８】
これまでは、着色フィルタ層上にオーバーコートを形成して平坦化を行う場合もあったが、カラーフィルタの価格低減の要求が厳しくなる中で、オーバーコートレスによるカラ
ーフィルタが一般化しつつある。
このため、オーバーコートレスのカラーフィルタでは平坦化する必要がある。
最近では、ブラックマトリクスと着色フィルタ層との重なり部分を少なくして段差を０．６ミクロン以下にするなどの手法や、樹脂製ブラックマトリックス材料の改善を行い、膜厚を薄くして段差を低くする試みが行われている。
【０００９】
しかしながら、例えば液晶表示パネル用のカラーフィルタ基板では、ブラックマトリクスと着色フィルタ層との重なり部分の段差を少なくとも０．３ミクロン以下にするためには、上記プロセスおよび材料の改善だけでは困難な状況である。
そこで、着色フィルタ層を形成したのち、カラーフィルタ表面を研磨する手法が検討されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１０】
図８に従来の研磨装置の一例を示す。
研磨装置７００は、下側定盤１４１、研磨布１５２が貼られた上側定盤１５１及び研磨剤供給ノズル１６１から構成されており、下側定盤１４１と研磨布１５２が貼られた上側定盤１５１との間にカラーフィルタ基板を載置し、研磨剤供給ノズル１６１から研磨剤を供給しながら研磨作業を行っている。
【００１１】
カラーフィルタの研磨においては、その品質の問題と研磨の対象物が樹脂であることから、研磨剤は研磨スタート時に供給している。研磨剤は早く塗布すると、部分的に乾燥したり、凝集し、研磨のムラを生じたり、シミ汚れを生じたりする。
また、カラーフィルタは同一サイズ画素のパターンで構成されているため、回折によるムラが目立つ場合がある
また、研磨を実施する場合、生産性を考慮して研磨時間は極力短く設定される。
このとき研磨レートを早くするために、荷重、回転数、または研磨布、研磨剤の量などにより適正化が行われているけれども、キズの発生や汚れといった問題から限界がある。
【００１２】
研磨により、カラーフィルタの段差を小さくすると、着色フィルタ層まで研磨されるため、カラーフィルタ色特性が初期の設定からずれてくる場合がある、このため着色フィルタ層の膜厚をより厚くするなどの手法がとられるが、そうすると段差がますます高くなり、容易に平坦にすることが困難な状況になる。
【００１３】
また、高い段差を研磨するには、研磨時間がかかり、生産性が低下することがあった。研磨の生産性を上げる手法として、シリコンウエハーの研磨などでは、研磨布へ溝を掘り、研磨剤を基板中心まで行き渡らせる工夫が行われている。
特に、液晶表示パネル用のカラーフィルタ基板では、第６世代や７世代といった基板の大型化が進み、２ｍを超える基板となりつつある。
このように、カラーフィルタ基板が大型化してくると、カラーフィルタ基板の場合、研磨時間がシリコンウエハーに比べ短いため、従来の研磨剤の供給方法では研磨剤を効率よくカラーフィルタ基板と研磨布へ行き渡らせるのが困難となり、カラーフィルタ基板上での研磨剤のバラツキが発生し、結果としてカラーフィルタの研磨量のバラツキを発生させるという問題を有している。
また、カラーフィルタという樹脂を研磨することによって生じる研磨残渣が研磨布へ入り込み、目詰まりを生じてしまう問題もある。
【００１４】
この他に、前記カラーフィルタ基板において、段差の低減として樹脂製のブラックマトリクスと着色フィルタ層との重なり部分をさらに調整して、要求特性に近づけることがでるようになってきたが、作業マージンが狭く、生産性に劣る。
開口率の向上や携帯端末用途や高精細化など画素ドットの微細化が進み、ブラックマトリックスの線幅が狭くなり、着色フィルタ層の色重なりが発生する場合もでてきており、ま
すます段差が高くなることが懸念される状況となってきている。
【特許文献１】特開２００５−５５５９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、ガラス基板上に少なくともブラックマトリクスと着色フィルタ層とが形成されたカラーフィルタ基板のブラックマトリクスと着色フィルタ層との重なり部分を均一に、且つ短時間で安定的に研磨できるカラーフィルタ基板用研磨装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、ガラス基板等からなる透明基板上に少なくともブラックマトリックスと着色フィルタ層とが形成されたカラーフィルタ基板表面を研磨する研磨装置であって、研磨布もしくは／及びカラーフィルタ基板表面にあらかじめ研磨剤を供給する研磨剤供給手段を有することを特徴とするカラーフィルタ基板用研磨装置としたものである。
【００１７】
また、請求項２においては、前記研磨剤供給手段がスプレーノズルで構成されていることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板用研磨装置としたものである。
【００１８】
また、請求項３においては、前記研磨剤供給手段がスリットノズルで構成されていることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板用研磨装置としたものである。
【００１９】
さらにまた、請求項４においては、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板用研磨装置が、オスカー型の研磨機であることを特徴とするカラーフィルタ基板用研磨装置としたものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置を用いてカラーフィルタ基板の平滑化処理を行うことにより、カラーフィルタ基板のブラックマトリクスと着色フィルタ層との重なり部分に生じる段差を、安定的に効率よく、また着色フィルタ層にダメージを与えることなく均一に、且つ短時間で研磨できる。
さらに、研磨処理されたカラーフィルタ基板を用いてパネル化した場合、表示品位に優れたカラー液晶パネルを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
図１〜図６は、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示す模式構成図である。
図１に示す本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置１００は、請求項１及び請求項２を満たすカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すもので、下定盤１１、上定盤２１、上定盤２１に固定された研磨布２２、研磨剤供給パイプ３１、研磨剤供給パイプ３１の下側に固定されたスプレーノズル４１、スライドバー５１、保持台５２、研磨剤タンク６１及び研磨剤供給チューブ６２とで構成されている。
研磨剤は、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１の下側に固定されたスプレーノズル４１からカラーフィルタ基板８１の表面に供給される。
研磨剤供給パイプ３１は保持台５２に固定され、保持台５２がスライドバー５１上を左右に移動することにより、カラーフィルタ基板８１全面に研磨剤が供給されるようになって
いる。
ここで、スプレーノズル４１は、研磨剤をできるだけ少量で均一に供給する方法として有効である。
【００２２】
図２（ａ）に示す本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置２００は、請求項１及び請求項２を満たすカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すもので、下定盤１１、上定盤２１、上定盤２１に固定された研磨布２２、研磨剤供給パイプ３１、研磨剤供給パイプ３１の上側に固定されたスプレーノズル４１、スライドバー５１、保持台５２、研磨剤タンク６１及び研磨剤供給チューブ６２とで構成されている。
研磨剤は、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１の上側に固定されたスプレーノズル４１から上定盤２１に固定された研磨布２２の表面に供給される。研磨剤供給パイプ３１は保持台５２に固定され、保持台５２がスライドバー５１上を左右に移動することにより、研磨布２２全面に研磨剤が供給されるようになっている。
ここで、スプレーノズル４１は、研磨剤をできるだけ少量で均一に供給する方法として有効である。
【００２３】
図２（ｂ）は、スプレーノズル４１が上側に固定された研磨剤供給パイプ３１の両側に目立て用ブラシ７１を取りつけた事例で、研磨布２２は研磨後に研磨したあとのカスなどが付着し、研磨量の低下が発生する。これを防止するため、研磨剤供給パイプ３１を左右に移動して研磨布２２へ研磨剤を供給する際に、目立てブラシ７１で研磨布２２表面を同時に目立てしようとするものである。
【００２４】
図３（ａ）に示す本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置３００は、請求項１及び請求項２を満たすカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すもので、下定盤１１、上定盤２１、上定盤２１に固定された研磨布２２、研磨剤供給パイプ３１、研磨剤供給パイプ３１の上及び下側に固定されたスプレーノズル４１、スライドバー５１、保持台５２、研磨剤タンク６１及び研磨剤供給チューブ６２とで構成されている。
研磨剤は、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１の上及び下側に固定されたスプレーノズル４１からカラーフィルタ基板８１及び上定盤２１に固定された研磨布２２の表面に供給される。
研磨剤供給パイプ３１は保持台５２に固定され、保持台５２がスライドバー５１上を左右に移動することにより、カラーフィルタ基板８１及び研磨布２２全面に研磨剤が供給されるようになっている。
ここで、スプレーノズル４１は、研磨剤をできるだけ少量で均一に供給する方法として有効である。
【００２５】
図３（ｂ）は、スプレーノズル４１が上及び下側に固定された研磨剤供給パイプ３１の両側に目立て用ブラシ７１を取りつけた事例で、研磨布２２は研磨後に研磨したあとのカスなどが付着し、研磨量の低下が発生する。これを防止するため、研磨剤供給パイプ３１を左右に移動して研磨布２２へ研磨剤を供給する際に、目立てブラシ７１で研磨布２２表面を同時に目立てしようとするものである。
【００２６】
図４に示す本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置４００は、請求項１及び請求項３を満たすカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すもので、下定盤１１、上定盤２１、上定盤２１に固定された研磨布２２、研磨剤供給パイプ３１、研磨剤供給パイプ３１に接続された下向きのスリットノズル４２、スライドバー５１、保持台５２、研磨剤タンク６１及び研磨剤供給チューブ６２とで構成されている。
研磨剤は、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１に接続された下向きのスリットノズル４２からカラーフィルタ
基板８１の表面に供給される。
研磨剤供給パイプ３１は保持台５２に固定され、保持台５２がスライドバー５１上を左右に移動することにより、カラーフィルタ基板８１全面に研磨剤が供給されるようになっている。
ここで、スリットノズル４２は、研磨剤をできるだけ少量で均一に供給する方法として有効である。
【００２７】
図５（ａ）に示す本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置５００は、請求項１及び請求項３を満たすカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すもので、下定盤１１、上定盤２１、上定盤２１に固定された研磨布２２、研磨剤供給パイプ３１、研磨剤供給パイプ３１に接続された上向きのスリットノズル４２、スライドバー５１、保持台５２、研磨剤タンク６１及び研磨剤供給チューブ６２とで構成されている。
研磨剤は、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１に接続された上向きのスリットノズル４２から上定盤２１に固定された研磨布２２の表面に供給される。
研磨剤供給パイプ３１は保持台５２に固定され、保持台５２がスライドバー５１上を左右に移動することにより、研磨布２２全面に研磨剤が供給されるようになっている。
ここで、スリットノズル４２は、研磨剤をできるだけ少量で均一に供給する方法として有効である。
【００２８】
図５（ｂ）は、上向きスリットノズル４２の両側に目立て用ブラシ７１を取りつけた事例で、研磨布２２は研磨後に研磨したあとのカスなどが付着し、研磨量の低下が発生する。これを防止するため、研磨剤供給パイプ３１を左右に移動して研磨布２２へ研磨剤を供給する際に、目立てブラシ７１で研磨布２２表面を同時に目立てしようとするものである。
【００２９】
図６（ａ）に示す本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置６００は、請求項１及び請求項３を満たすカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すもので、下定盤１１、上定盤２１、上定盤２１に固定された研磨布２２、研磨剤供給パイプ３１、研磨剤供給パイプ３１に接続固定された上及び下向きのスリットノズル４３、スライドバー５１、保持台５２、研磨剤タンク６１及び研磨剤供給チューブ６２とで構成されている。
研磨剤は、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１に接続されたスリットノズル４３からカラーフィルタ基板８１及び上定盤２１に固定された研磨布２２の表面に供給される。
研磨剤供給パイプ３１は保持台５２に固定され、保持台５２がスライドバー５１上を左右に移動することにより、カラーフィルタ基板８１及び研磨布２２全面に研磨剤が供給されるようになっている。
ここで、スリットノズル４３は、研磨剤をできるだけ少量で均一に供給する方法として有効である。
【００３０】
図６（ｂ）は、上及び下向きのスリットノズル４３の両側に目立て用ブラシ７１を取りつけた事例で、研磨布２２は研磨後には研磨したあとのカスなどが付着し、研磨量の低下が発生する。これを防止するため、研磨剤供給パイプ３１を左右に移動して研磨布２２へ研磨剤を供給する際に、目立てブラシ７１で研磨布２２表面を同時に目立てしようとするものである。
【００３１】
請求項３に係る本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置は、オスカー型の研磨機よりなっており、カラーフィルタ基板のような樹脂性の材料を、より均一に精度よく研磨するための微調整が可能な研磨装置とし有効である。
【００３２】
以下、上記本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置を用いたカラーフィルタ基板の研磨方法について説明する。
まず、樹脂ブラックマトリックス上にＲ，Ｇ，Ｂの着色フィルタ層を形成したカラーフィルタ基板を、純水にて濯いだ後に研磨装置の下定盤１１へセットする。
ここで、着色フィルタ層の形成方法は印刷法、フォトリソグラフィ法を用いた顔料分散レジストや染色材料およびその技術をもちいたもの、最近ではインクジェット法や転写法、レーザーを用いた熱転写法などさまざまな手法が適用され、あくまでも、ブラックマトリックスと着色フィルタ層との重なり部分である段差を研磨する方法である。
【００３３】
次に、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置１００では、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１の下側に固定されたスプレーノズル４１からカラーフィルタ基板８１の表面に研磨剤が供給される。本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置４００では、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１に接続されたされたスリットノズル４２からカラーフィルタ基板８１の表面に研磨剤が供給される。
ここで、研磨剤供給パイプ３１は保持台５２に固定され、保持台５２がスライドバー５１上を左右に移動することにより、カラーフィルタ基板８１全面に研磨剤が供給される。
研磨剤の供給量は、５〜５０ｍＬの範囲で供給される。
また、カラーフィルタ基板８１の表面をＵＶ処理やプラズマ処理といった表面処理を施すことにより、カラーフィルタ基板８１の表面濡れ性を向上させることができる。
【００３４】
また、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置２００では、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１の上側に固定されたスプレーノズル４１から上定盤２１に固定された研磨布２２の表面に供給される。
本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置５００では、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１に接続された上向きのスリットノズル４２から上定盤２１に固定された研磨布２２の表面に研磨剤が供給される。
ここで、研磨剤供給パイプ３１は保持台５２に固定され、保持台５２がスライドバー５１上を左右に移動することにより、研磨布２２全面に研磨剤が供給されるようになっている。
また、スプレーノズル４１が固定された研磨剤供給パイプ３１の両側及びスリットノズル４２の両側に、目立て用ブラシ７１を取りつけて、研磨布２２への研磨剤の供給と研磨布への目立てを同時に行うこともできる。
研磨剤の供給量は、５〜５０ｍＬの範囲で供給される。
【００３５】
また、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置３００では、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１の上及び下側に固定されたスプレーノズル４１からカラーフィルタ基板８１及び上定盤２１に固定された研磨布２２の表面に研磨剤が供給される。
本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置６００では、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１に接続されたスリットノズル４３からカラーフィルタ基板８１及び上定盤２１に固定された研磨布２２の表面に供給される。
また、スプレーノズル４１が固定された研磨剤供給パイプ３１の両側及びスリットノズル４３の両側に、目立て用ブラシ７１を取りつけて、研磨布２２への研磨剤の供給と研磨布への目立てを同時に行うこともできる。
研磨剤の供給量は、５〜５０ｍＬの範囲で供給される。
本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置３００および６００を使用した場合、カラーフィ
ルタ基板８１と研磨布２２への研磨剤の供給と研磨布２２の目立てを同時に行うことができ、連続処理を実施すると時間短縮ができ、生産性を向上させることができる。
【００３６】
次に、研磨剤をカラーフィルタ基板か研磨布のいずれかに供給し終わったら、すぐさまに研磨布２２を固定した上定盤２１と下定盤１１にてカラーフィルタ基板８１を挟み込み研磨を開始する。
研磨中はさらに研磨剤を供給してもよいし、供給しなくてもよい、研磨剤の量と研磨量などとの関係により適宜条件を決定する。
最後に、研磨が終了したら上定盤２１を離してカラーフィルタ基板を取り出す。研磨装置内にて基板のすすぎ洗浄を実施してもよい、
上記研磨装置を用いた研磨方法において、研磨布２２を固定した上定盤２１を２つ以上準備して前段取りが可能なようにすれば、生産性はより向上する。
研磨剤の供給においては、カラーフィルタ基板の投入払出し作業の間接時間中に処理ができるような構造とすれば、稼働率が向上する。
【００３７】
カラーフィルタ基板はブラックマトリックス上に着色フィルタ層を形成した構造であるため、微視的には、デコボコした形状をとる。また軟らかいために研磨量も変化しやすい傾向にある。
研磨剤やゴミなどにより着色フィルタ層の表面に細かいキズを発生させる場合があり、研磨剤は、粒径が大きいと研磨レートも高くなるが、キズがつき易く望ましくはない。０．５ミクロン以下がが望ましい。
【００３８】
上記したように、研磨直前に研磨剤をカラーフィルタ基板あるいは研磨布へ全面塗布する機構を具備することで基板の乾燥をさせることなくカラーフィルタ基板の研磨を実施することが可能となる。
このようなことから、研磨剤が研磨初期の状態から基板全面にいきわたらせて、行うことで研磨レートが飛躍的に高くなり、また研磨量の面内分布を均一にできる。
【実施例１】
【００３９】
まず、ガラス基板上にフォトリソグラフィーの手法を用いて樹脂製ブラックマトリックスと、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色フィルタ層を形成したカラーフィルタ基板を作製した。
ブラックマトリックスと着色フィルタ層とのオーバーラップ量が３μｍで、このときの平均段差は０．８μｍであった。
次に、このカラーフィルタ基板を純水洗浄した後、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置１００の下定盤１１上にセットした。
【００４０】
次に、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１に下側に固定されたスプレイノズル４１からカラーフィルタ基板８１表面に３０ｍＬの研磨剤を供給した。研磨剤供給パイプ３１が固定された保持台５２をスライドバー５１上を左右に移動することにより、カラーフィルタ基板８１全面に研磨剤を供給した。
研磨剤には材質がＡｌ2Ｏ3で、平均粒径が０．２μｍであった。
【００４１】
最後に、上定盤２１を０．０２Ｋｇ／ｃｍ2の圧力で押さて３０ｒｐｍの回転数で６０秒間研磨を実施した。このとき研磨中にも研磨剤を供給しながら研磨を実施した。
研磨終了後に上定盤２１を移動させて基板を取り除き、洗浄機へ投入して基板洗浄して乾燥を行った。
研磨後にカラーフィルタ表面形状を測定した結果、研磨前に０．８μｍあった平均段差が０．３μｍとなり良好な結果となった。また、面内のばらつきもなく均一に研磨できた。色度の変化量も最小限におさえることができ規格を満足することができた。
【実施例２】
【００４２】
実施例１と同様にして、ガラス基板上にフォトリソグラフィーの手法を用いて樹脂製ブラックマトリックスと、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色フィルタ層を形成したカラーフィルタ基板を作製した。
ブラックマトリックスと着色フィルタ層とのオーバーラップ量が３μｍで、このときの平均段差は０．８μｍであった。
次に、このカラーフィルタ基板を純水洗浄した後、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置６００の下定盤１１上にセットした。
【００４３】
次に、研磨剤タンク６１、研磨剤供給チューブ６２、研磨剤供給パイプ３１を経由して、研磨剤供給パイプ３１に接続されたスリットノズル４３からカラーフィルタ基板８１表面及び上定盤に固定された研磨布２２に５０ｍＬの研磨剤を供給した。研磨剤供給パイプ３１が固定された保持台５２をスライドバー５１上で左右に移動することにより、カラーフィルタ基板８１全面及び上定盤に固定された研磨布２２に研磨剤を供給すると同時に、研磨布２２の目立てを行った。
研磨剤には材質がＡｌ2Ｏ3で、平均粒径が０．０５μｍであった。
【００４４】
最後に、上定盤２１を０．０２Ｋｇ／ｃｍ2の圧力で押さて３０ｒｐｍの回転数で６０秒間研磨を実施した。このとき研磨中にも研磨剤を供給しながら研磨を実施した。
研磨終了後に上定盤２１を移動させて基板を取り除き、洗浄機へ投入して基板洗浄して乾燥を行った。
研磨後にカラーフィルタ表面形状を測定した結果、研磨前に０．８μｍあった平均段差が０．４μｍとなり良好な結果となった。また、面内のばらつきもなく均一に研磨できた。色度の変化量も最小限におさえることができ規格を満足することができた。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すカラーフィルタ基板用研磨装置１００の模式構成図である。
【図２】（ａ）は、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すカラーフィルタ基板用研磨装置２００模式構成図である。（ｂ）は、スプレーノズルに目立て用ブラシを取りつけた事例を示す説明図である。
【図３】（ａ）は、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すカラーフィルタ基板用研磨装置３００模式構成図である。（ｂ）は、スプレーノズルに目立て用ブラシを取りつけた事例を示す説明図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すカラーフィルタ基板用研磨装置４００の模式構成図である。
【図５】（ａ）は、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すカラーフィルタ基板用研磨装置５００模式構成図である。（ｂ）は、スリットノズルに目立て用ブラシを取りつけた事例を示す説明図である。
【図６】（ａ）は、本発明のカラーフィルタ基板用研磨装置の一実施例を示すカラーフィルタ基板用研磨装置５００模式構成図である。（ｂ）は、スリットノズルに目立て用ブラシを取りつけた事例を示す説明図である。
【図７】カラーフィルター基板の一例を示す部分模式構成断面図である。
【図８】従来の研磨装置の一例を示す模式構成図である。
【符号の説明】
【００４６】
１１……下定盤
２１……上定盤
２２……研磨布
３１……研磨剤供給パイプ
４１……スプレーノズル
４２、４３……スリットノズル
５１……スライドバー
５２……保持台
６１……研磨剤タンク
６２……研磨材供給チューブ
７１……目立てブラシ
８１……カラーフィルタ基板
１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００……カラーフィルタ基板用研磨装置
１１１……ガラス基板
１２１……ブラックマトリクス
１３１Ｒ、１３１Ｇ、１３１Ｂ……着色フィルタ層
１４１……下側定盤
１５１……上側定盤
１５２……研磨布
１６１……研磨剤供給ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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