(57)【要約】      （修正有）【課題】ガスを使用する複数の基板処理装置が同時に作動していても所望のガスについて重複使用を回避可能な基板処理システムを提供すること。【解決手段】基板処理工程中にガス使用工程を含む複数の基板処理装置１１と、これら各装置１１を制御する処理制御装置１２と、前記各装置１１と前記処理制御装置１２とを接続するネットワーク１３と、前記各装置１１と離れた場所に設置されたガス共通供給源１６から導出され、分岐を経て前記各装置１１の基板処理室に導入されるガス配管群１４とを有し、処理制御装置１２により、ネットワーク１３を介して各基板処理装置１１間の基板処理工程の実行開始タイミングを調節する基板処理システムとする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理工程中にガス使用工程を含む複数の基板処理装置と、これら各装置を制御する処理制御装置と、前記各装置と前記処理制御装置とを接続するネットワークと、前記各装置と離れた場所に設置されたガス共通供給源から導出され、分岐を経て前記各装置の基板処理室に導入されるガス配管群とを有する基板処理システムであって、
前記処理制御装置は、前記ガス使用工程のうち、任意の工程を重複して実行しないように前記各装置間の基板処理工程の実行開始タイミングを前記ネットワークを介して調節することを特徴とする基板処理システム。
【請求項２】
前記各装置は、前記基板処理工程を実行する時の処理条件が設定された条件設定テーブルと、前記ガス使用工程のうち、各装置間で重複して実行されるのが禁止される重複禁止工程が設定された重複禁止設定テーブルとを少なくとも備え、
前記処理制御装置は、前記条件設定テーブルおよび前記重複禁止設定テーブルに基づいて前記各装置間の基板処理工程の実行開始タイミングを調節することを特徴とする請求項１に記載の基板処理システム。
【請求項３】
基板処理工程中にガス使用工程を含む複数の基板処理装置と、これら各装置を制御する処理制御装置と、前記各装置と前記処理制御装置とを接続するネットワークと、前記各装置と離れた場所に設置されたガス共通供給源から導出され、分岐を経て前記各装置の基板処理室に導入されるガス配管群とを有する基板処理システムであって、
前記各装置は、
（ａ）前記基板処理工程を実行する時の処理条件が設定された条件設定テーブルと、
（ｂ）前記ガス使用工程のうち、各装置間で重複して実行されるのが禁止される重複禁止工程が設定された重複禁止設定テーブルと、
（ｃ）前記基板処理室への基板搬入完了後および前記重複禁止工程の終了後にそれぞれ完了信号および終了信号を前記ネットワークを介して前記処理制御装置に送信し、前記ネットワークを介して前記処理制御装置から処理開始信号を受信する装置側受送信手段と、
（ｄ）前記処理開始信号を受信した後、前記処理条件に基づいて前記基板処理工程が実行されるように前記基板処理室の制御を行う制御手段とを少なくとも備えたコントローラを備え、
前記処理制御装置は、
（ｅ）処理開始未準備ステータス、他装置の重複禁止工程終了待ちステータスおよび重複禁止工程実行中ステータスの順でステータスが高くなる処理順序ステータスに対応して各装置ステータスがセットされる処理順序管理テーブルと、
（ｆ）前記各装置から前記完了信号または終了信号を前記ネットワークを介して受信した後、前記各装置ステータスを変更するステータス変更手段と、
（ｇ）前記ステータス変更手段により前記重複禁止工程実行中ステータスにセットされた装置に対してのみ前記ネットワークを介して前記処理開始信号を送信し、前記ネットワークを介して前記各装置から前記完了信号または終了信号を受信する処理制御装置側受送信手段とを少なくとも備えていることを特徴とする基板処理システム。
【請求項４】
前記ステータス変更手段は、
前記処理順序ステータスのうち、重複禁止工程実行中ステータスが空いておれば、最初に基板搬入完了信号を受信した装置を重複禁止工程実行中ステータスにセットし、それ以降に基板搬入完了信号を受信した装置については、基板搬入完了信号を受信した順に他装置の重複禁止工程終了待ちステータスにセットする一方、
前記重複禁止工程の実行が終了した装置については、処理開始未準備ステータスにセットするとともに、他装置の重複禁止工程終了待ちステータスにセットされている各装置ステータスを上位に上げるように前記処理順序管理テーブルの設定を変更することを特徴とする請求項３に記載の基板処理システム。
【請求項５】
前記ガスは、液化ガスであることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の基板処理システム。
【請求項６】
前記基板処理装置は、ドライエッチング装置であることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の基板処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理システムに関し、さらに詳しくは、ガスを使用する基板処理装置を複数用いた基板処理システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラス基板やシリコンウエハなどの基板を処理する際にガスを使用する装置としては、ドライエッチング装置、ＣＶＤ装置などの各種の基板処理装置が知られている。
【０００３】
例えば、ドライエッチング装置の場合、薄膜付基板にエッチングを施すエッチング処理時にエッチングガス（Ｃｌ2、ＢＣｌ3など）を使用する。また、エッチング処理後、処理室内壁に付着した反応生成物を除去するアフター処理時にクリーニング用のガス（ＣＦ4、Ｏ2など）を使用する。
【０００４】
一般に、基板を用いた製品を製造する工場では、生産性を向上させるなどのため、製造ライン上に複数の基板処理装置が設置されている。そしてこれら基板処理装置において使用される各種ガスの各ガス共通供給源は、安全管理上、ガス交換時の便宜などのため、各装置とは離れた別の場所に設けられたガス源スペースに集められて一元管理されているのが通常である。そのため、各基板処理装置への各種ガスの供給は、ガス共通供給源から導出されたガス配管を途中で何度か分岐させることにより行われていることが多い。
【０００５】
ところで、複数の装置を用いたシステムとしては、例えば、特許文献１には、複数の露光装置をネットワーク化し、各露光装置が備えるレーザ光源のガス交換を所定のタイミング情報に基づいて実施するようにした露光装置システムが開示されている。
【特許文献１】特開２００３−３４９０１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
最近、上記各基板処理装置へのガスの供給方法に起因して次のような問題が発生していた。
【０００７】
すなわち、複数の基板処理装置がランダムにガスを消費すると、同じタイミングで同一のガスを供給する必要が生じる。そうすると、１つの基板処理装置で必要なガス供給量×装置台数分のガス供給源をガス源スペースに予め配備しておく必要がある。
【０００８】
ところが、ガス源スペースには限りがあるし、また、安全管理面からも、安易にガス源スペースを拡張することはできないといった問題があった。
【０００９】
特に、基板処理装置で使用するガスが、例えば、Ｃｌ2、ＢＣｌ3などのような液化ガスである場合には、各装置で必要となるガス流量を十分確保するためには、多数のガス供給源を用意しておく必要がある。そのため、この場合には、上記問題は、より深刻なものとなる。
【００１０】
また、近年、基板の大型化が一層進んでいることから、１つの基板処理装置で消費するガス量も増加する傾向にある。したがって、上記問題は、今後一層深刻なものになってくると予想される。
【００１１】
ところで、この種の問題を解決するため、複数の基板処理装置間において、所望のガス使用工程が重複しないようにマニュアル操作などにより装置の作動タイミングをずらすといったことなども考えられる。
【００１２】
しかしながら、例えば、トラブルなどによって基板処理装置への基板搬入に一度遅れが生じれば、それ以降に同じタイミングで同一のガスを使用する場合がどうしても生じ得る。
【００１３】
そのため、この場合もやはり、ガス源スペースにある程度余裕を持ってガス供給源を配備しておく必要が生じる。
【００１４】
一方、上記特許文献１に記載の技術は、基板処理時にガスを使用する基板処理装置に関するものではないので、上記問題点を解決するのに適用することは困難である。
【００１５】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、本発明が解決しようとする課題は、ガスを使用する複数の基板処理装置が同時に作動していても所望のガスについて重複使用を回避可能な基板処理システムを提供することにある。
【００１６】
また、本発明が解決しようとする他の課題は、トラブルなどにより基板処理タイミングにずれが発生した場合であっても、所望のガスについて重複使用を回避可能な基板処理システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するため、本発明に係る基板処理システムは、基板処理工程中にガス使用工程を含む複数の基板処理装置と、これら各装置を制御する処理制御装置と、前記各装置と前記処理制御装置とを接続するネットワークと、前記各装置と離れた場所に設置されたガス共通供給源から導出され、分岐を経て前記各装置の基板処理室に導入されるガス配管群とを有するものであって、前記処理制御装置は、前記ガス使用工程のうち、任意の工程を重複して実行しないように前記各装置間の基板処理工程の実行開始タイミングを前記ネットワークを介して調節することを要旨とする。
【００１８】
また、前記各装置は、前記基板処理工程を実行する時の処理条件が設定された条件設定テーブルと、前記ガス使用工程のうち、各装置間で重複して実行されるのが禁止される重複禁止工程が設定された重複禁止設定テーブルとを少なくとも備え、前記処理制御装置は、前記条件設定テーブルおよび前記重複禁止設定テーブルに基づいて前記各装置間の基板処理工程の実行開始タイミングを調節することが好ましい。
【００１９】
また、本発明に係る基板処理システムは、基板処理工程中にガス使用工程を含む複数の基板処理装置と、これら各装置を制御する処理制御装置と、前記各装置と前記処理制御装置とを接続するネットワークと、前記各装置と離れた場所に設置されたガス共通供給源から導出され、分岐を経て前記各装置の基板処理室に導入されるガス配管群とを有するものであって、前記各装置は、（ａ）前記基板処理工程を実行する時の処理条件が設定された条件設定テーブルと、（ｂ）前記ガス使用工程のうち、各装置間で重複して実行されるのが禁止される重複禁止工程が設定された重複禁止設定テーブルと、（ｃ）前記基板処理室への基板搬入完了後および前記重複禁止工程の終了後にそれぞれ完了信号および終了信号を前記ネットワークを介して前記処理制御装置に送信し、前記ネットワークを介して前記処理制御装置から処理開始信号を受信する装置側受送信手段と、（ｄ）前記処理開始信号を受信した後、前記処理条件に基づいて前記基板処理工程が実行されるように前記基板処理室の制御を行う制御手段とを少なくとも備えたコントローラを備え、前記処理制御装置は、（ｅ）処理開始未準備ステータス、他装置の重複禁止工程終了待ちステータスおよび重複禁止工程実行中ステータスの順でステータスが高くなる処理順序ステータスに対応して各装置ステータスがセットされる処理順序管理テーブルと、（ｆ）前記各装置から前記完了信号または終了信号を前記ネットワークを介して受信した後、前記各装置ステータスを変更するステータス変更手段と、（ｇ）前記ステータス変更手段により前記重複禁止工程実行中ステータスにセットされた装置に対してのみ前記ネットワークを介して前記処理開始信号を送信し、前記ネットワークを介して前記各装置から前記完了信号または終了信号を受信する処理制御装置側受送信手段とを少なくとも備えていることを要旨とする。
【００２０】
また、前記ステータス変更手段は、前記処理順序ステータスのうち、重複禁止工程実行中ステータスが空いておれば、最初に基板搬入完了信号を受信した装置を重複禁止工程実行中ステータスにセットし、それ以降に基板搬入完了信号を受信した装置については、基板搬入完了信号を受信した順に他装置の重複禁止工程終了待ちステータスにセットする一方、前記重複禁止工程の実行が終了した装置については、処理開始未準備ステータスにセットするとともに、他装置の重複禁止工程終了待ちステータスにセットされている各装置ステータスを上位に上げるように前記処理順序管理テーブルの設定を変更するものであることが好ましい。
【００２１】
また、前記ガスは、液化ガスであることが好ましく、前記基板処理装置は、ドライエッチング装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
上記基板処理システムによれば、ガス使用工程のうち、任意の工程を重複して実行しないように各基板処理装置間の基板処理工程の実行開始タイミングが、ネットワークを介して処理制御装置により調節される。したがって、各基板処理装置が同時に作動していても、重複使用を禁止したガスが同じタイミングで消費されるのを回避できる。これにより、ガス源スペースを有効に利用でき、安全管理面にも優れる。
【００２３】
また、トラブルなどにより基板処理タイミングにずれが発生した場合であっても、処理制御装置により、ガス使用工程のうち、任意の工程を重複して実行しないように各基板処理装置間の基板処理工程の実行開始タイミングがネットワークを介して調節され、各基板処理装置間において重複禁止工程が重複しないようにトラブルから復帰できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照しつつ、本発明の一実施形態について詳細に説明する。
＜１．基板処理システムの全体構成＞
図１に、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの全体構成を示す。基板処理システム１０は、複数の基板処理装置１１と、処理制御装置１２と、ネットワーク１３と、ガス配管群１４とを有している。
【００２５】
ここで、基板処理装置１１は、ガラス基板やシリコンウエハなどの基板を処理するための装置であり、その基板処理工程中には、ガス使用工程が少なくとも１回以上含まれる。具体的な基板処理装置としては、ドライエッチング装置、ＣＶＤ装置などが挙げられる。本発明では、基板処理装置１１を何台用いても良く、特に限定されるものではないが、その種類は同一である必要がある。
【００２６】
処理制御装置１２は、上記複数の基板処理装置１１の処理順序を管理、制御するためのものである。各基板処理装置１１と処理制御装置１２とは、ＬＡＮ、インターネットなどのネットワーク１３を介して接続されている。
【００２７】
ガス配管群１４は、基板処理時に必要なガス種毎に形成された１本または２本以上のガス配管１５からなっている。ガス配管群１５の上流側、すなわち、上記基板処理装置１１と離れた別の場所には、ガス源スペース（図示されない）が設けられている。各ガス配管１５は、このガス源スペースに配備された各ガス共通供給源１６にそれぞれ接続されている。
【００２８】
また、各ガス配管１５は、途中で何度か分岐されており、各ガス共通供給源１６から供給されたガスが各基板処理装置１１に配分されるようになっている。各ガス配管１５の下流側は、バルブ１７、ガス流量コントローラ１８を介して上記基板処理装置１１の基板処理室２１（後述する）に接続されている。
【００２９】
以下では、基板処理システム中の基板処理装置として、ドライエッチング装置を３台用い（以下、これらをそれぞれ、「第１ＥＱ」、「第２ＥＱ」、「第３ＥＱ」ということがある。）、これら第１ＥＱ〜第３ＥＱに供給するガスとしてＣｌ2、ＢＣｌ3、ＣＦ4、Ｏ2ガスを用いた場合を例にして説明する。
＜２．第１ＥＱの構成＞
図２に、第１ＥＱの構成を示す。なお、第２ＥＱ１１ｂおよび第３ＥＱ１１ｃと第１ＥＱ１１ａとは、同一の構成であるため、第２ＥＱ１１ｂおよび第３ＥＱ１１ｃについては説明を省略する。
【００３０】
第１ＥＱ１１ａは、カセット室１９、基板搬送室２０、基板処理室２１、第１ＥＱコントローラ２２を有している。
【００３１】
カセット室１９は、処理されるべき基板を収納した複数のカセットをストックしておく場所である。基板搬送室２０は、このカセット室１９にストックされたカセットから基板を抜き取り、基板処理室２１の所定の場所に基板を載置する機能を有するロボットアーム、支持ピンなどの搬送手段３４を有している。
【００３２】
基板処理室２１は、予め設定された条件設定テーブル２４（後述する）に従って、基板のエッチング処理を行うものである。図３に、基板処理室内で実行される基板処理工程の概略を示す。
【００３３】
第１工程Ｓ１は、第１圧力調整工程であり、次工程のエッチング処理の準備段階として、所定圧力および所定流量のエッチングガス（Ｃｌ2、ＢＣｌ3）がガス配管群１４より基板処理室２１内に導入される。第２工程Ｓ２は、エッチング処理工程であり、高周波電源３２（後述する）により高周波電圧が印加されてプラズマ化されたエッチングガスにより、基板表面にある被エッチング対象物のエッチングが行われる。
【００３４】
第３工程Ｓ３は、第１真空処理工程であり、エッチング処理工程終了後にガスが排気されるとともに基板処理室２１内が真空状態にされる。第４工程Ｓ４は、第２圧力調整工程であり、次工程のアフター処理の準備段階として、所定圧力および所定流量のクリーニングガス（ＣＦ4、Ｏ2）がガス配管群１４より基板処理室２１内に導入される。
【００３５】
第５工程Ｓ５は、アフター処理工程であり、エッチング処理に伴って生成された反応生成物を除去するためのクリーニングが行われる。第６工程Ｓ６は、第２真空処理工程であり、アフター処理工程終了後にガスが排気されるとともに基板処理室２１内が真空状態にされる。
【００３６】
第１ＥＱコントローラ２２は、カセット室１９、基板搬送室２０、基板処理室２１、バルブ１７、ガス流量コントローラ１８などを主に制御するためのもので、これらは通信手段２３を介して接続されている。また、第１ＥＱコントローラ２２は、ネットワーク１３を介して処理制御装置１２と接続されている。
【００３７】
図４に、第１ＥＱコントローラの構成を示す。第１ＥＱコントローラ２２は、条件設定テーブル２４、重複禁止設定テーブル２５、装置側受送信手段２６、総合制御手段２７を少なくとも備え、さらに、搬送制御手段２８、高周波制御手段２９、圧力制御手段３０、流量制御手段３１を備えている。
【００３８】
条件設定テーブル２４は、上記基板処理室２１における各基板処理工程を実行する時の基板処理条件を予め設定しておくためのものである。
【００３９】
図５に、条件設定テーブルの一例を示す。ここでは、それぞれの工程について、圧力、高周波電源パワー、ガス流量、実行時間が設定されている。なお、本発明において、条件設定テーブルの設定項目としては、少なくとも基板処理時に使用するガスに関する情報と、各工程の実行時間とが設定されている必要がある。その他の設定項目については、用いられる基板処理装置の種類などに応じて適宜変更可能なものである。また、これら設定項目の設定値は、任意に設定変更できるものであり、特に限定されるものではない。
【００４０】
重複禁止設定テーブル２５は、基板処理工程中に含まれるガス使用工程のうち、各基板処理装置１１間、ここでは、第１ＥＱ１１ａ〜第３ＥＱ１１ｃ間で重複して実行されるのが禁止される重複禁止工程を予め設定しておくためのものである。
【００４１】
図６に、重複禁止設定テーブルの一例を示す。図６では、ガス使用工程である第１工程Ｓ１、第２工程Ｓ２、第４工程Ｓ４、第５工程Ｓ５のうち、液化ガスであるＣｌ2、ＢＣｌ3を使用する第１工程Ｓ１および第２工程Ｓ２を重複禁止工程として設定してある。
【００４２】
なお、本発明において、重複禁止設定テーブルに設定される工程は、用いられる基板処理装置の種類、使用するガスの種類などを考慮して任意に選択可能なものである。また、設定される重複禁止工程は、１つまたは２つ以上であっても良く、特に限定されるものではない。
【００４３】
装置側受送信手段２６は、上記基板処理室２１への基板搬入完了後および重複禁止工程の実行終了後にそれぞれ基板搬入完了信号および終了信号をネットワーク１３を介して処理制御装置１２に送信したり、あるいは、ネットワーク１３を介して処理制御装置１２から処理開始信号（後述する）を受信したりするためのものである。
【００４４】
総合制御手段２７は、主に、処理開始信号（後述する）を受信した後、基板処理室２１において、上述した条件設定テーブル２４の内容に基づいて基板処理工程が実行されるように各種制御手段２８、２９、３０、３１を総合的に制御するためのものである。
【００４５】
具体的には、総合制御手段２７からの命令により、高周波制御手段２９は、基板処理室２１に接続された高周波電源３２の高周波電圧を条件設定テーブル２４の設定値となるように調整する。また、総合制御手段２７からの命令により、圧力制御手段３０は、基板処理室２１のダンパー３３などを調整して、基板処理室２１内の圧力を条件設定テーブル２４の設定値となるように調整する。また、総合制御手段２７からの命令により、流量制御手段３１は、流量コントローラ１８、バルブ１７を調節して、基板処理室２１内に導入されるガス流量を条件設定テーブル２４の設定値となるように調整する。
【００４６】
また、総合制御手段２７からの命令により、搬送制御手段２８は、ロボットアーム、支持ピンなどの搬送手段３４に対して、基板処理室２１内に処理すべき基板の搬入を行うよう命令したり、基板の入替えを行うよう命令する。
＜３．処理制御装置の構成＞
図７に、処理制御装置の構成を示す。処理制御装置１２は、処理順序管理テーブル３５、ステータス変更手段３６、処理制御装置側受送信手段３７を少なくとも備えている。
【００４７】
図８に、処理順序管理テーブルの一例を示す。処理順序管理テーブル３５は、処理開始未準備ステータス３８、他装置の重複禁止工程終了待ちステータス３９および重複禁止工程実行中ステータス４０の順でそのステータスが高くなる処理順序ステータスを有している。
【００４８】
この処理順序ステータスは、各装置が現在どのようなステータスにあるかを示している。すなわち、処理開始未準備ステータス３８は、各装置において基板を搬入中または入替え中であったり、各装置が停止中であることを示している。したがって、この場合、すぐに基板処理工程を開始できないため、そのステータスは一番低くなっている。
【００４９】
また、重複禁止工程実行中ステータス４０は、そこにセットされた装置がこれから重複禁止工程を実行するか、または、現在重複禁止工程を実行していることを示している。したがって、この場合、そのステータスは一番高くなっている。
【００５０】
他装置の重複禁止工程終了待ちステータス３９は、現在重複禁止工程を実行している装置が重複禁止工程を終了するのを待っている待ち状態にあることを示している。このステータスは、処理順序管理テーブル３５において（基板処理装置１１の台数）−１個用意される。そのため、図８では、第１ＥＱ１１ａ〜第３ＥＱ１１ｃの３台−１＝２個用意されている。また、これら他装置の重複禁止工程終了待ちステータス３９は、下から上に向かってそのステータスが高くなっている。
【００５１】
処理順序管理テーブル３５では、上記各ステータスの何れかに各装置１１ａ〜１１ｃがセットされる。なお、上記各ステータスのうち、重複禁止工程実行中ステータス４０および他装置の重複禁止工程終了待ちステータス３９には、複数の装置をセットすることができないのに対し、処理開始未準備ステータス３８には、複数の装置をセットすることができるようになっている。図８では、第３ＥＱ１１ｃが最も処理順序ステータスが低く、第２ＥＱ１１ｂ、第１ＥＱ１１ａの順で処理順序ステータスが高くなるようにセットされている。
【００５２】
ステータス変更手段３６は、基板処理室２１への基板搬入完了後に各装置１１ａ〜１１ｃの装置側受送信手段２６からの発信される基板搬入完了信号、または、重複禁止工程の終了後に各装置１１ａ〜１１ｃの装置側受送信手段２６からの発信される終了信号をネットワーク１３を介して受信した後、処理順序管理テーブル３５中の各装置ステータスを変更するためのものである。
【００５３】
処理制御装置側受送信手段３７は、ステータス変更手段３６により重複禁止工程実行中ステータスにセットされた装置に対してのみネットワーク１３を介して処理開始信号を送信したり、ネットワーク１３を介して各装置１１ａ〜１１ｃから基板搬入完了信号または終了信号を受信したりするものである。
【００５４】
図９に、ステータス変更手段が処理順序管理テーブルを変更する際の代表的なフローチャートを示す。図９において、フローチャートの左側には各装置１１ａ〜１１ｃの動作を、フローチャートの右側には、処理制御装置１２の動作を示している。
【００５５】
図９に示すように、第１ＥＱ〜第３ＥＱのうちの何れかの装置の基板処理室２１に基板が搬入され、その搬入が完了する（Ｔ１）と、その装置は、装置側受送信手段２６により、ネットワーク１３を介して処理制御装置１２に基板搬入完了信号を送信する（Ｔ２）。次いで、この基板搬入完了信号を受信した処理制御装置１２は、処理順序管理テーブル３５中の装置ステータスの変更を実行する（Ｔ３）。
【００５６】
ここで、処理順序ステータスのうち、重複禁止工程実行中ステータス４０が空いておれば、ステータス変更手段３６は、その装置を重複禁止工程実行中ステータス４０にセットする。また、上記基板搬入信号を受信した後に、他の装置より基板搬入完了信号を受信した場合には、ステータス変更手段３６は、それら基板搬入完了信号を受信した順に他装置の重複禁止工程終了待ちステータス３９にセットしていく。
【００５７】
次いで、処理装置側受送信手段３７は、重複禁止工程実行中ステータス４０にセットされた装置に対してのみネットワーク１３を介して処理開始信号を送信する（Ｔ４）。
【００５８】
次いで、この処理開始信号を受信した装置は、上述した各種制御手段２９、３０、３１を用いて基板処理工程の実行を開始する（Ｔ５）。次いで、この装置において、重複禁止工程の実行が終了すると（Ｔ６）、その装置の装置側受送信手段２６は、ネットワーク１３を介して処理制御装置１２に終了信号を送信する（Ｔ７）。
【００５９】
次いで、この終了信号を受信した処理制御装置１２は、処理順序管理テーブル３５中の装置ステータスの変更を実行する。
【００６０】
ここで、ステータス変更手段３６は、終了信号を送信してきた装置については、処理開始未準備ステータス３８にセットするとともに、他装置の重複禁止工程終了待ちステータス３９に各装置がセットされておれば、それら各装置のステータスを上位に上げるように処理順序管理テーブル３５の設定を変更する（Ｔ８）。
【００６１】
次いで、他装置の重複禁止工程終了待ちステータス３９から重複禁止工程実行中ステータス４０にセットされた装置に対してのみ、処理装置側受送信手段３７はネットワーク１３を介して処理開始信号を送信する（Ｔ９）。基本的には、以下同様にして、上記処理フローが繰り返される。
【００６２】
以上、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの主要な構成について説明した。以下では、上記構成を備えた基板処理システムの正常時の動作状況、トラブル時の動作状況について詳細に説明する。
＜４．正常時の動作状況＞
図１０に、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの正常時の一動作状況を時間の経過とともに示す。なお、この図１０は、図５に示す条件設定テーブルに基づいて基板処理システムの動作を説明するものである。また、図１１に、図１０の各ポイントＡ〜Ｉにおける処理順序管理テーブルの内容を示す。なお、図１０は、第１ＥＱ〜第３ＥＱがほぼ同時に基板搬入を開始した場合を示している。以下、ステータス変更手段がどのように処理順序管理テーブルを変更するかにつき、各ポイントＡ〜Ｉまで順番に説明する。
＜ポイントＡ＞
第１ＥＱ〜第３ＥＱは全て基板搬入中である。そのため、処理順序管理テーブルは初期設定のまま、すなわち、各装置ステータスは、処理開始未準備ステータス（以下、「未準備ステータス」という。）にセットされたままとなっている。
【００６３】
なお、以下では、第１ＥＱ〜第３ＥＱの基板搬入が、第１ＥＱ、第２ＥＱ、第３ＥＱの順で完了したとする。
＜ポイントＢ＞
最初に基板搬入が完了した第１ＥＱは、ネットワークを介して処理制御装置に基板搬入完了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、重複禁止工程実行中ステータス（以下、「重複禁止ステータス」という。）に第１ＥＱをセットし、第１ＥＱに対してネットワークを介して処理開始信号を送信する。これを受信した第１ＥＱは、第１回目の基板処理工程の実行を開始する。なお、第２ＥＱ、第３ＥＱについては、未だ基板搬入中であるため、未準備ステータスにセットされたままである。
＜ポイントＣ＞
２番目に基板搬入が完了した第２ＥＱは、ネットワークを介して処理制御装置に基板搬入完了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、他装置の重複禁止工程終了待ちステータス（以下、「待ちステータス」という。）に第２ＥＱをセットする。重複禁止ステータスには、既に第１ＥＱがセットされているからである。これにより、第２ＥＱは、第１ＥＱが重複禁止工程（第１工程および第２工程）の実行を終了するまでの間、待ち状態に入る。なお、第３ＥＱについては、未だ基板搬入中であるため、未準備ステータスにセットされたままである。
＜ポイントＤ＞
３番目に基板搬入が完了した第３ＥＱは、ネットワークを介して処理制御装置に基板搬入完了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、先の第２ＥＱよりもステータスの低い待ちステータスに第３ＥＱをセットする。重複禁止ステータスおよび上位の待ちステータスには、既に第１ＥＱおよび第２ＥＱがそれぞれセットされているからである。これにより、第３ＥＱは、第２ＥＱが重複禁止工程の実行を終了するまでの間、待ち状態に入る。
＜ポイントＥ＞
第１ＥＱは、重複禁止工程の実行を終了すると、ネットワークを介して処理制御装置に終了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、第１ＥＱを未準備ステータスにセットするとともに、待ちステータスにある第２ＥＱ、第３ＥＱの装置ステータスを上位に上げる。これにより、第２ＥＱは、重複禁止ステータスにセットされるとともに、第３ＥＱは、より上位の待ちステータスにセットされる。また、処理制御装置は、重複禁止ステータスにセットされた第２ＥＱに対してネットワークを介して処理開始信号を送信する。これを受信した第２ＥＱは、第１回目の基板処理工程の実行を開始する。
＜ポイントＦ＞
第２ＥＱは、重複禁止工程の実行を終了すると、ネットワークを介して処理制御装置に終了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、第２ＥＱを未準備ステータスにセットするとともに、待ちステータスにある第３ＥＱの装置ステータスを上位に上げる。これにより、第３ＥＱは、重複禁止ステータスにセットされる。なお、第１ＥＱは、未準備ステータスにセットされたままである。
＜ポイントＧ＞
第３ＥＱは、重複禁止工程の実行を終了すると、ネットワークを介して処理制御装置に終了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、第３ＥＱを未準備ステータスにセットする。なお、第１ＥＱおよび第２ＥＱは、未準備ステータスにセットされたままである。したがって、このポイントＧでは、処理順序管理テーブルは、初期状態に戻っている。また、第１ＥＱについては、既に第１回目の基板処理工程を終了しており、第２回目の基板処理工程に向けて基板の入替えを行っている状態にある。
＜ポイントＨ＞
第１ＥＱの基板入替えが終了すると、第１ＥＱは、ネットワークを介して処理制御装置に基板搬入完了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、重複禁止ステータスに第１ＥＱをセットし、第１ＥＱに対してネットワークを介して処理開始信号を送信する。これを受信した第１ＥＱは、第２回目の基板処理工程の実行を開始する。なお、第２ＥＱ、第３ＥＱについては、ともに第１回目の重複禁止工程の実行を終了しているが、未だ第１回目の他の基板処理工程を実行中であるため、未準備ステータスにセットされたままである。
＜ポイントＩ＞
第１ＥＱは、重複禁止工程の実行を終了すると、ネットワークを介して処理制御装置に終了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、第１ＥＱを未準備ステータスにセットするとともに、未準備ステータスにある第２ＥＱを重複禁止ステータスにセットする。また、処理制御装置は、重複禁止ステータスにセットされた第２ＥＱに対してネットワークを介して処理開始信号を送信する。これを受信した第２ＥＱは、第２回目の基板処理工程の実行を開始する。なお、ポイントＩ以降は、基本的には上記の動作が繰り返される。
【００６４】
以上説明した本実施形態に係る基板処理システムによれば、任意に選択したガス使用工程（第１工程および第２工程）を重複して実行しないように第１ＥＱ〜第３ＥＱ間の基板処理工程の実行開始タイミングが、ネットワークを介して処理制御装置により調節される。したがって、第１ＥＱ〜第３ＥＱが同時に作動していても、重複使用を禁止したガスが同じタイミングで消費されるのを回避できる。
【００６５】
上記により例えば、図１０に示すように、１つの装置で必要なＣｌ2使用量４．０リットル／ｍｉｎ×３台＝１２リットル／ｍｉｎのガス共通供給源をガス源スペースに予め配備しておく必要がなくなり、１つの装置で必要なＣｌ2使用量４．０リットル／ｍｉｎに対応したガス共通供給源を少なくともガス源スペースに配備しておけば済む。したがって、ガス源スペースを有効に利用でき、安全管理面にも優れるなどの利点がある。
＜５．トラブル時の動作状況＞
図１２に、本発明の一実施形態に係る基板処理システムのトラブル時の一動作状況を時間の経過とともに示す。また、図１３に、図１２の各ポイントＩ’〜Ｍ’における処理順序管理テーブルの内容を示す。
【００６６】
図１２に示すように、ポイントＨとポイントＩ’の間では、第１回目の基板処理工程を終了した第２ＥＱにトラブルなどが発生し、基板搬入タイミングにずれが発生している。すなわち、一度揃っていた第１ＥＱ〜第３ＥＱ間の基板処理工程の実行開始タイミングにずれが発生している。以下、この状況からステータス変更手段がどのように処理順序管理テーブルを変更し、第１ＥＱ〜第３ＥＱ間において重複禁止工程が重複しないようにトラブルから復帰するかについて、各ポイントＩ’〜Ｍ’まで順番に説明する。
＜ポイントＩ’＞
トラブルなどにより基板搬入タイミングに遅れを来たしながらも、基板搬入が完了した第２ＥＱは、ネットワークを介して処理制御装置に基板搬入完了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、重複禁止ステータスに第２ＥＱをセットし、第２ＥＱに対してネットワークを介して処理開始信号を送信する。これを受信した第２ＥＱは、第２回目の基板処理工程の実行を開始する。なお、第１ＥＱについては、すでに第２回目の重複禁止工程の実行を終了しているため、未準備ステータスにセットされている。また、第３ＥＱについては、基板入替え中であるため、未準備ステータスにセットされている。
＜ポイントＪ’＞
通常通り第３ＥＱの基板搬入が完了すると、第３ＥＱは、ネットワークを介して処理制御装置に基板搬入完了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、待ちステータスに第３ＥＱをセットする。重複禁止ステータスには、既に第２ＥＱがセットされているからである。これにより、第３ＥＱは、第２ＥＱが重複禁止工程の実行を終了するまでの間、待ち状態に入る。
＜ポイントＫ’＞
第２ＥＱは、重複禁止工程の実行を終了すると、ネットワークを介して処理制御装置に終了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、第２ＥＱを未準備ステータスにセットするとともに、待ちステータスにある第３ＥＱを重複禁止ステータスにセットする。また、処理制御装置は、重複禁止ステータスにセットされた第３ＥＱに対してネットワークを介して処理開始信号を送信する。これを受信した第３ＥＱは、第２回目の基板処理工程の実行を開始する。
＜ポイントＬ’＞
通常通り第１ＥＱの基板搬入が完了すると、第１ＥＱは、ネットワークを介して処理制御装置に基板搬入完了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、待ちステータスに第１ＥＱをセットする。重複禁止ステータスには、既に第３ＥＱがセットされているからである。これにより、第１ＥＱは、第３ＥＱが重複禁止工程の実行を終了するまでの間、待ち状態に入る。
＜ポイントＭ’＞
第３ＥＱは、重複禁止工程の実行を終了すると、ネットワークを介して処理制御装置に終了信号を送信する。処理制御装置はこれを受信し、ステータス変更手段は、第３ＥＱを未準備ステータスにセットするとともに、待ちステータスにある第１ＥＱを重複禁止ステータスにセットする。また、処理制御装置は、重複禁止ステータスにセットされた第１ＥＱに対してネットワークを介して処理開始信号を送信する。これを受信した第１ＥＱは、第３回目の基板処理工程の実行を開始する。なお、ポイントＭ’以降は、基本的には以上の動作が繰り返される。
【００６７】
以上説明した本実施形態に係る基板処理システムによれば、トラブルなどにより基板処理タイミングにずれが発生した場合であっても、処理制御装置により、ネットワークを介して第１ＥＱ〜第３ＥＱ間の基板処理工程の実行開始タイミングが調節され、第１ＥＱ〜第３ＥＱ間において重複禁止工程が重複しないようにトラブルから復帰できるという利点がある。
【００６８】
以上、本発明の一実施形態に係る基板処理システムについて説明したが、本発明は、上記実施形態により限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能なものである。
【００６９】
例えば、上記実施形態では、基板処理装置として、ドライエッチング装置を用いたが、他にも、ＣＶＤ装置など、基板処理工程中にガス使用工程を含む基板処理装置を用いることができるものである。また、上記実施形態では、３台の基板処理装置を用いた場合について説明したが、２台、あるいは、４台以上の基板処理装置を用いても良く、特に限定されるものではない。
【００７０】
また、上記実施形態では、全ての基板処理装置間について、ガス使用工程のうち、任意の工程を重複して実行しないように各装置間の基板処理工程の実行開始タイミングをネットワークを介して調節するようにしたが、それ以外にも、複数の基板処理装置をいくつかのグループに分け、これら各グループ内において、ガス使用工程のうち、任意の工程を重複して実行しないように各装置間の基板処理工程の実行開始タイミングをネットワークを介して調節するようにしても良い。このようにした場合には、生産性が向上する利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理システムの全体構成を示した図である。
【図２】基板処理装置としての第１ＥＱの構成を示した図である。
【図３】第１ＥＱの基板処理室内で実行される基板処理工程の概略を示した図である。
【図４】第１ＥＱコントローラの構成を示した図である。
【図５】条件設定テーブルの一例を示した図である。
【図６】重複禁止設定テーブルの一例を示した図である。
【図７】処理制御装置の構成を示した図である。
【図８】処理順序管理テーブルの一例を示した図である。
【図９】ステータス変更手段が処理順序管理テーブルを変更する際の代表的なフローチャートである。
【図１０】本発明の一実施形態に係る基板処理システムの正常時の一動作状況を時間の経過とともに示した図である。
【図１１】図１０の各ポイントＡ〜Ｉにおける処理順序管理テーブルの内容を示した図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る基板処理システムにおいて、トラブルが発生した場合の一動作状況を時間の経過とともに示した図である。
【図１３】図１２の各ポイントＩ’〜Ｍ’における処理順序管理テーブルの内容を示した図である。
【符号の説明】
【００７２】
１０    基板処理システム
１１    基板処理装置
１１ａ  第１ＥＱ
１１ｂ  第２ＥＱ
１１ｃ  第３ＥＱ
１３    ネットワーク
１４    ガス配管群
１６    ガス共通供給源
２１    基板処理室
２２    第１ＥＱコントローラ
２４    条件設定テーブル
２５    重複禁止設定テーブル
２６    装置側受送信手段
２７    総合制御装置
３５    処理順序管理テーブル
３６    ステータス変更手段
３７    処理制御装置側受送信手段
３８    処理開始未準備ステータス
３９    他装置の重複禁止工程終了待ちステータス
４０    重複禁止工程実行中ステータス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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