(57)【要約】【課題】全画面に亘って色ムラの発生が抑制されたプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】前面基板１と背面基板２とを、間に放電空間を形成するように対向配置し周囲を封着して構成したプラズマディスプレイパネルにおいて、前面基板１上に形成した複数の電極（走査電極３および維持電極４）と、この複数の電極を覆うように形成した誘電体層６と、この誘電体層６上に形成した光干渉補正層１２と、この光干渉補正層１２上に形成した保護層７とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面基板と背面基板とを、間に放電空間を形成するように対向配置し周囲を封着して構成したプラズマディスプレイパネルにおいて、前記前面基板上に形成した複数の電極と、この複数の電極を覆うように形成した誘電体層と、この誘電体層上に形成した光干渉補正層と、この光干渉補正層上に形成した保護層とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大画面で、薄型、軽量のディスプレイ装置として用いられているプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイ装置は、視認性に優れた薄型表示デバイスとして注目されており、高精細化および大画面化が進められ、現状では、ＡＣ型で面放電型のＰＤＰを用いたプラズマディスプレイ装置が主流を占めている。図７に示すように、ＡＣ型で面放電型のＰＤＰは、前面基板１と背面基板２とを対向配置して周囲を封着し、内部に放電ガスを封入して構成されている。前面基板１上には、走査電極３と維持電極４とからなる表示電極５が複数形成され、それら表示電極５を覆うように誘電体層６が形成され、この誘電体層６上に保護層７が形成されている。また背面基板２上には、前面基板１上に形成された表示電極５と直交する方向に複数のデータ電極８が形成され、データ電極８を覆うように誘電体層９が形成され、この誘電体層９上にデータ電極８と平行な複数の隔壁１０が形成されている。さらに、隣り合う隔壁１０間の誘電体層９上には赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）にそれぞれ発光する蛍光体層１１が形成されている。そして、表示電極５とデータ電極８との立体交差部には放電セルが形成される。このような構成のＰＤＰでは、各放電セル内でガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線で蛍光体層１１を励起発光させ、蛍光体層１１から発生した光は、保護層７を通過し、さらに誘電体層６と前面基板１を通過してＰＤＰの外部に放射されることによりカラー表示を行っている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−２８３５１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、このようなＰＤＰにおいて全ての放電セルを放電させて全画面を白表示したときに、画面全体が均一な白色にならず色ムラが生じるという課題があった。
【０００４】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、全画面に亘って色ムラの発生が抑制されたＰＤＰを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために本発明のＰＤＰは、前面基板と背面基板とを、間に放電空間を形成するように対向配置し周囲を封着して構成したＰＤＰにおいて、前記前面基板上に形成した複数の電極と、この複数の電極を覆うように形成した誘電体層と、この誘電体層上に形成した光干渉補正層と、この光干渉補正層上に形成した保護層とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、全画面にわたって色ムラの発生が抑制されたＰＤＰを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
発明者等が鋭意検討した結果、保護層７の厚みが場所によって異なる場合、ＰＤＰにおいて色ムラが発生することを見出した。すなわち、蛍光体層１１から放射された光は保護層７を通り、誘電体層６を通り、さらに前面基板１を透過してＰＤＰの外部に放出されるが、光の性質から屈折率の異なる媒質を通過するとき、光は界面で一部反射され、光干渉を起こす。この現象は媒質の厚さが光の波長に近いほど顕著になるが、ＰＤＰに使用される保護層７の厚みは５００ｎｍ程度であって、これは可視領域内の波長に相当する大きさであり光干渉を生じやすい構成となっている。ここで、保護層７は酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる。
【０００８】
図８に保護層７の厚みを５８０ｎｍとしたときの保護層７による光透過率のスペクトルを示す。図８のように光透過率は波長に対して振動しており、波長が長くなるほどその周期が長くなる傾向を示す。このことは蛍光体層１１から放射された光は保護層７を通過することで、本来の発光色からずれた色になって見えることを意味する。すなわち、保護層７が一種の色フィルターになって働いていることが分かる。
【０００９】
また、図９に保護層７の厚みが５８０ｎｍから±１０％変動したときのスペクトル変化を示す。すなわち、保護層７の厚みを５２２ｎｍ、５８０ｎｍ、６３８ｎｍとしたときの光透過率のスペクトルをそれぞれ破線ａ、実線ｂ、一点鎖線ｃで表している。保護層７の厚みが変動することにより、振幅が同じで波形が全体的に位相シフトしたような振る舞いを示す。このことは保護層７の厚みが場所により変化していた場合、場所によって違った色に見えることを意味する。すなわち、ＰＤＰにおいて色ムラが発生することになる。
【００１０】
本発明は以上のような検討の結果なされたものであり、本発明のＰＤＰは、前面基板と背面基板とを、間に放電空間を形成するように対向配置し周囲を封着して構成したＰＤＰにおいて、前記前面基板上に形成した複数の電極と、この複数の電極を覆うように形成した誘電体層と、この誘電体層上に形成した光干渉補正層と、この光干渉補正層上に形成した保護層とを有することを特徴とする。
【００１１】
以下、本発明の一実施の形態によるＰＤＰについて、図面を用いて説明する。なお、図７と同一部分には同一符号を付している。
【００１２】
図１は本発明の一実施の形態によるＰＤＰの一部を示す斜視図であり、図２はその断面図を示している。
【００１３】
これらの図に示すように、ガラス製の前面基板１上には、ストライプ状の走査電極３とストライプ状の維持電極４とからなる表示電極５が複数形成され、この複数の表示電極５を覆うように誘電体層６が形成されている。そして、この誘電体層６上には光干渉補正層１２が形成されており、この光干渉補正層１２上に保護層７が形成されている。走査電極３は、透明電極３ａおよびこの透明電極３ａに電気的に接続された金属電極３ｂから構成されており、維持電極４は、透明電極４ａおよびこの透明電極４ａに電気的に接続された金属電極４ｂから構成されている。また、保護層７は、耐スパッタ性に優れ且つ２次電子放出係数の大きい酸化マグネシウム（ＭｇＯ）により形成され、光干渉補正層１２は例えば二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）により形成されており、保護層７および光干渉補正層１２は共に電子ビーム蒸着法により形成することができる。保護層７の厚みは５００ｎｍ〜７００ｎｍ程度であり、光干渉補正層１２の厚みは５０ｎｍ〜１００ｎｍ程度である。
【００１４】
また、ガラス製の背面基板２上には、前面基板１上に形成された表示電極５と直交する方向にストライプ状のデータ電極８が複数形成され、データ電極８を覆うように誘電体層９が形成され、この誘電体層９上にデータ電極８と平行なストライプ状の隔壁１０が複数形成されている。隔壁１０の間にデータ電極８が位置するように構成されており、隣り合う隔壁１０間の誘電体層９上にはＲ、Ｇ、Ｂの各色に発光する蛍光体層１１が形成されている。
【００１５】
前面基板１と背面基板２とは、走査電極３および維持電極４とデータ電極８とが直交するように、微小な放電空間を挟んで対向配置されて周囲がフリットガラスで封着され、放電空間には、例えばネオン（Ｎｅ）とキセノン（Ｘｅ）の混合ガスが放電ガスとして封入されている。そして、表示電極５とデータ電極８との立体交差部には単位発光領域である放電セルが形成される。
【００１６】
このような構成のＰＤＰでは、各放電セル内でガス放電を起こして紫外線を発生させ、この紫外線で蛍光体層１１を励起発光させる。そして、蛍光体層１１が放射した光は、保護層７を通過し、さらに光干渉補正層１２、誘電体層６、前面基板１を通過してＰＤＰ外部に放射されることによりカラー表示が行われる。
【００１７】
次に、発光スペクトルと表示色について説明する。色を定量的に表すには国際照明委員会ＣＩＥが定めたＸＹＺ表色系のｘｙ色度値が一般的に用いられる。この方法は、物体から放射された光を３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で分光し、このスペクトルにあらかじめ三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚに対応して定められた等色関数ｆｘ、ｆｙ、ｆｚを乗じて可視領域で積分することにより三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求める。そして、この三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを用いてｘ、ｙ、ｚで表現する。すなわち、
ｘ＝Ｘ／（Ｘ＋Ｙ＋Ｘ）
ｙ＝Ｙ／（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）
ｚ＝Ｚ／（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）＝１−ｘ−ｙ
である。このようにｚはｘ、ｙで表され、色度は通常ｘ、ｙの２つの値で表される。
【００１８】
図３にＰＤＰから放射された発光スペクトルの一例を示す。また、図４にはＸ、Ｙ、Ｚに対応して定められた等色関数ｆｘ、ｆｙ、ｆｚをそれぞれ実線、破線、一点鎖線で示す。ＰＤＰの表示の色度を求めるには、図３に示す発光スペクトルに図４に示す等色関数を乗じて波長に関して積分することによりＸ、Ｙ、Ｚを求め、上記の式を用いてｘ、ｙを計算する。これによりＰＤＰの表示のｘｙ色度値を求めることができる。
【００１９】
次に光干渉補正層１２の作用効果について説明する。
【００２０】
図５は、本実施の形態におけるＰＤＰの保護層７と光干渉補正層１２の光透過率のスペクトルを表したものであり、保護層７の厚みが５８０ｎｍから±１０％変動したときのスペクトル変化を示している。すなわち、保護層７の厚みを５２２ｎｍ、５８０ｎｍ、６３８ｎｍとしたときの光透過率のスペクトルをそれぞれ破線ａ、実線ｂ、一点鎖線ｃで表している。なお、光干渉補正層１２の屈折率を１．５９、厚みを８６ｎｍとし、保護層７の屈折率を１．６５としている。光干渉補正層１２を設けてない場合の保護層７の膜厚変動による光透過率のスペクトルの変化（前述の図９）と比べるとわかるように、図５の方が図９に比べてスペクトルの振幅変動が減少している。したがって、光干渉補正層１２を設けることにより保護層７の膜厚変動の影響を受けにくくなっており、保護層７の厚みが場所によって変化していた場合、光干渉補正層１２を設けないときに比べて場所によって違った色に見えることを抑制することができる。
【００２１】
また、保護層７の厚みおよび光干渉補正層１２の厚みがそれぞれ±１０％変動した場合のｘｙ色度値を図６に示す。図６において、破線ａ、実線ｂ、一点鎖線ｃはそれぞれ光干渉補正層１２の厚みが７７．４ｎｍ、８６ｎｍ、９４．６ｎｍの場合を示しており、長破線ｄは光干渉補正層１２を設けていない場合を示している。また、破線ａ、実線ｂ、一点鎖線ｃおよび長破線ｄの各線におけるマークのうち、「０」が付されているマークは保護層７の厚みが５８０ｎｍの場合のｘｙ色度値を表し、「１０％」が付されているマークは保護層７の厚みが６３８ｎｍの場合のｘｙ色度値を表し、「−１０％」が付されているマークは保護層７の厚みが５２２ｎｍの場合のｘｙ色度値を表している。
【００２２】
図６の長破線ｄが示すように、光干渉補正層１２を設けていない場合には、保護層７の膜厚が１０％変化すると、色度値はｘの変化量として約０．００２、ｙの変化量として約０．００３変化する。これに対し、光干渉補正層１２を設けた場合のｘｙ色度値の変化量は、光干渉補正層１２を設けていない場合に比べて半分以下に減少しており、光干渉補正層１２を設けることにより保護層７の厚み変動によるｘｙ色度値の変化量が小さくなる。また、光干渉補正層１２の厚みが±１０％変動した場合でもｘｙ色度値の変化量が小さいことがわかる。
【００２３】
以上のように、誘電体層６と保護層７との間に光干渉補正層１２を設けることにより、保護層７による光干渉を補正できるものであり、保護層７の厚み変動による色ムラの発生を抑制することができる。
【００２４】
なお、上記実施の形態では光干渉補正層１２としてＳｉＯ2を用いた場合について説明したが、光干渉補正層１２としては可視領域で透明な材料であればよく、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化チタン（ＴｉＯ2）等を用いることができる。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
以上の説明から明らかなように、本発明は、ＰＤＰにおいてパネル面内で色ムラの発生を抑制する際に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの一部を示す斜視図
【図２】同プラズマディスプレイパネルの一部を示す断面図
【図３】同プラズマディスプレイパネルから放射された発光スペクトルを示す図
【図４】等色関数を示す図
【図５】保護層の厚み変動による保護層と光干渉補正層の光透過率のスペクトル変動を示す図
【図６】保護層および光干渉補正層の厚み変動によるｘｙ色度値の変化を示す図
【図７】従来のプラズマディスプレイパネルの一部を示す斜視図
【図８】保護層による光透過率のスペクトルを示す図
【図９】保護層の厚み変動による保護層の光透過率のスペクトル変動を示す図
【符号の説明】
【００２７】
１  前面基板
２  背面基板
３  走査電極
４  維持電極
５  表示電極
６、９  誘電体層
７  保護層
８  データ電極
１２  光干渉補正層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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