(57)【要約】【課題】  超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時に、超純水が所望の水質に至るまでの洗浄試運転時間を短縮でき、また、現場で作業するのに適した立ち上げ方法を可能とする超純水製造供給装置の洗浄方法を提供する。【解決手段】  一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部に対して、塩基性洗浄液により循環洗浄を行い、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを十分に行い、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行い、更に純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う。【選択図】    図２
2006297180.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部に対して、塩基性洗浄液による循環洗浄を行う工程、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行う工程、及び、純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程をこの順序で行うことを特徴とする超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項２】
純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程の少なくとも一部を、超純水製造供給装置の循環系内の水を循環させること無く実施することを特徴とする請求項１に記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項３】
純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程の少なくとも一部を、超純水製造供給装置の循環系内の水を循環させること無く実施することを特徴とする請求項１又は２に記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項４】
前記塩基性洗浄液が水酸化テトラアルキルアンモニウム、アミン類又はアンモニアを含む水溶液であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項５】
純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程中に、押し出し排水及びリンス排水の中の少なくともリンス排水の水質を確認し、超純水製造供給装置の循環系内において前記塩基性洗浄液の影響が実質的になくなるまで純水によるリンスを行いつつリンス排水を系外に排出することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項６】
純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程中に、押し出し排水及びリンス排水の中の少なくともリンス排水の水質確認をｐＨ、導電率又は抵抗率の測定で行うことを特徴とする請求項５に記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項７】
前記リンス排水のｐＨが７になるまでリンスを行いつつリンス排水を循環系外に排出することすることを特徴とする請求項６に記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項８】
塩基性洗浄液による循環洗浄を行う工程及び純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程において、超純水製造供給装置の濾過膜装置の濾過膜モジュールをバイパス又はダミーとすることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項９】
過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行う工程を実施する前に濾過膜モジュールを設置し、該濾過膜モジュールに過酸化水素洗浄液を通水濾過しながら、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行う工程及び純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程を行うことを特徴とする請求項８に記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【請求項１０】
純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程において循環系外に排出された排水を希釈及び／又は中和してｐＨ調整処理した後、放流することを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の超純水製造供給装置の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイス、液晶ディスプレイ、シリコンウエハ、プリント基板等の電子部品製造工場、原子力発電所あるいは医薬品製造工場などで広く利用される超純水を製造供給する超純水製造供給装置の洗浄方法に関し、特にその立上洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体デバイス、液晶ディスプレイ、シリコンウエハ、プリント基板等の電子部品製造工程、原子力発電所の発電工程あるいは医薬品の製造工程においては、イオン状物質、微粒子、有機物、溶存ガス及び生菌等の不純物含有量が極めて少ない超純水が使用されている。特に、半導体デバイスをはじめとする電子部品製造工程においては、多くの超純水が使用されており、半導体デバイスの集積度の向上にともなって、超純水の純度に対する要求は益々厳しくなってきている。例えば、最先端の半導体製造用超純水の仕様は、抵抗率１８．２ＭΩ・ｃｍ以上、０．０５μm以上の微粒子数１個／ｍＬ以下、ＴＯＣ１μｇ／Ｌ（リットル、以下同様）以下、メタル５ｎｇ／Ｌ以下と要求水質は厳しく、更に、例えば、メタル１ｎｇ／Ｌ以下と要求水質はより厳しくなる傾向にある。
【０００３】
このような超純水と称される高純度な水は、必ずしも「超純水」の明確な定義があるものではないが、一般的には前処理装置、一次純水装置、二次純水装置（サブシステム）で構成される超純水製造供給システムで製造される。このようなシステムにより、工業用水、市水、井水等の原水を処理して超純水を製造して供給する。前処理装置は、凝集沈澱装置や砂濾過装置等を用いて原水を除濁するものである。一次純水装置は、活性炭濾過装置、逆浸透膜装置、２床３塔式イオン交換装置、真空脱気装置、混床式イオン交換装置、精密フィルター等の少なくとも幾つかを用いて、前処理水中の不純物を除去し、一次純水とするものである。二次純水装置（サブシステム）は狭義の超純水製造装置と称すべきものである。超純水製造供給装置は一次純水を一時的に貯留する（一次）純水貯槽から各種の単位装置からなるサブシステムを経て使用場所に到達する配管系と使用場所から通常は純水貯槽に戻るリターン配管系で循環系を成した構造を持っている。使用場所は、電子部品製造工場や医薬品製造工場などでは、ユースポイント（使用点）と称されるものである。かかる超純水製造供給装置においてサブシステムは、（一次）純水貯槽の後段の有機物分解の為の紫外線酸化装置、混床式イオン交換樹脂を用いたカートリッジポリッシャー（ＣＰ）、限外濾過膜装置等の膜処理装置などを有している。
【０００４】
超純水製造供給システムあるいは超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時には、系内に混入・発生する上記の様な不純物を除去して使用場所近辺における超純水が所望の水質に至るまで洗浄試運転を行う。従って、超純水製造供給装置の起動時から所望の超純水を使用場所で使用できるまでには洗浄試運転時間が必要であるが、近年、工場の稼働効率の向上を目的として、装置の立ち上げ期間（即ち、試運転・調整期間）の短縮、いわゆる装置の垂直立ち上げと称される短期立ち上げが強く求められている。洗浄方法としては、超純水によるフラッシング・ブロー、超純水の循環、温水洗浄、過酸化水素水洗浄、アルカリ洗浄（塩基性水溶液洗浄）などが実施され、また、機能水（オゾンや水素等を溶解した水）や界面活性剤を使った洗浄方法なども提案されている。各種の洗浄方法の中から洗浄対象や目的等に応じて適切な方法が実施される。また、十分な洗浄効果を得るためには各種洗浄方法の効果を考慮して、複数の洗浄方法が段階的に実施されることもある。
【０００５】
上記の種々の不純物の中でも特に微粒子の除去能力を高める方法として、アルカリ洗浄を含む洗浄方法が提案されている。
【特許文献１】特開２０００−３１７４１３号公報
【特許文献２】特開２００２−１９２１６２号公報
【特許文献３】特開２００４−２６７８６４号公報
【０００６】
特開２０００−３１７４１３号公報は、１０〜１００ｐｐｍ程度の水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液である塩基性洗浄液で超純水製造システムを洗浄する方法を開示している。塩基性洗浄液をシステム内に循環し、洗浄後は洗浄液を排出し、次いでシステム内に超純水を導入して残留した洗浄液の除去を行う。この際に生じた洗浄排水（洗浄液を含んだ排水）の処理は、例えば、弱酸性の陽イオン交換樹脂で吸着除去する。
【０００７】
特開２００２−１９２１６２号公報は、塩基性溶液による微粒子の洗浄除去工程を「微粒子洗浄」、過酸化水素による殺菌工程を「殺菌洗浄」、超純水による薬品置換を「押し出し洗浄」と定義し、微粒子洗浄→（押し出し洗浄）→殺菌洗浄→押し出し洗浄の順序で超純水製造システムを洗浄する方法において、微粒子洗浄後の押し出し洗浄を全く行わないか、或いは該押し出し洗浄の途中で殺菌工程に移行する（塩基性溶液に含まれていた塩基性化合物がシステム内に残留する状態で意図的に過酸化水素を注入する）方法を開示している。微粒子洗浄後の押し出し洗浄により系内の塩基性化合物が実質的に完全に排出された状態とは、系内のｐＨが中性になるときであるが、この方法ではそれを待たず、例えば、ｐＨが７を超え９以下の時、好ましくは７．５〜８．５程度に低下したときに過酸化水素の注入を行うものである。押し出し洗浄は、タンクに一次純水を供給し、システム内に適宜循環させてシステム内部に残った洗浄液を排出する。
【０００８】
特開２００４−２６７８６４号公報は、過酸化水素洗浄後に、過酸化水素が残った状態で塩基性水溶液でアルカリ洗浄を行う方法を開示している（特開２００２−１９２１６２号公報の方法と工程の順序が逆）。この方法では、「押し出し洗浄」とは「押し出し」＋「リンス」の両者を纏めて称するものと定義されている。塩基性化合物がアンモニア、アミン、水酸化テトラメチルアンモニウム等の水酸化テトラアルキルアンモニウムの場合は、窒素放流基準などの規制値を超えない様にする注意が必要であり、生物活性汚泥による分解無害化処理や、カチオン交換樹脂による吸着処理などが適宜行われる。
【０００９】
上記各公報の方法では、塩基性溶液（アルカリ洗浄液）による「微粒子の剥離と分散の工程（特開２００２−１９２１６２号公報で定義された微粒子洗浄）」後は、系内に（超）純水を導入して塩基性溶液を押し出し、排出させて、系内の塩基性溶液を除去する押し出し洗浄を行う。つまり、（超）純水を受け入れながら同時に押し出し・排出を行う。この場合、洗浄液や純水が排水となって、これと共に徐々に系内の微粒子が系外に排出されていく。また、洗浄液を含む系内の水のｐＨは徐々に低下して７（中性）に近づく。洗浄液を高濃度アルカリ（高ｐＨ）としても、押し出し洗浄の最中にｐＨは低下し、アルカリによる微粒子再付着防止の微粒子分散効果は低下する。このとき、系内の微粒子は系内の水と共に循環しながら通常は成り行きで排出されているので、系内には微粒子が長時間残っている可能性が高い。ｐＨが低下した状態で系内に存在する微粒子の分散能力は高くない。また、「押し出し洗浄」に重点は置かれておらず、適当にブロー・リンスしていたので、押し出し洗浄の終点が明確ではなく、的確な洗浄効果が得られ難かった。また、排水量が多くなるなどの問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時に、超純水が所望の水質に至るまでの洗浄試運転時間を短縮することを可能とする超純水製造供給装置の洗浄方法を提供することを目的とする。また、本発明は、現場で作業するのに適した立ち上げ方法を可能とする超純水製造供給装置の洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、塩基性洗浄液によるアルカリ洗浄の効果は、微粒子の「剥離と分散」であって微粒子の「除去」ではないことに想到し、微粒子を系外に除去するのは、塩基性洗浄液による循環洗浄を行う工程の後の押し出し洗浄（純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンス）であって、この工程の出来具合が最も重要であることに着眼して、本発明を完成するに至った。
【００１２】
即ち、本発明は、一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部に対して、塩基性洗浄液による循環洗浄を行う工程（微粒子剥離・分散工程）、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程（第一の押し出し洗浄工程）、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行う工程（殺菌工程）、及び、純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程（第二の押し出し洗浄工程）をこの順序で行うことを特徴とする超純水製造供給装置の洗浄方法を提供するものである。
【００１３】
ここで、「押し出し」とは、系内の薬液（塩基性洗浄液又は過酸化水素洗浄液）を純水で追い出すこと、即ち純水による薬液置換で、同一系での押し出しなら使用薬液の薬品濃度に依存せず押し出し工程時間はほぼ同じとなり、理想的には系の容量の１倍量分の純水を用いる。また、「リンス」とは押し出し後に、配管表面に付着したり、配管溜りや、継ぎ手部分に残っている薬品を純水で綺麗に洗い流す（リンスする）ことで、同一系であっても使用薬液の薬品濃度に依存して洗浄時間は異なってくるもので、高濃度の場合ほど長時間が必要になる。「押し出し」では、例えば純水貯槽を純水に置換してから、ポンプを使いサブシステムに該純水を一気に流し込んでリターン配管の末端近辺からブローする等の操作を行う。本明細書では、「押し出し」と「リンス」の両者を纏めてを「押し出し洗浄」と言うこともある。従って、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程を「第一の押し出し洗浄工程」、純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程を「第二の押し出し洗浄工程」とも言うものとする。また、押し出し洗浄の際の「純水」は「超純水」の場合もあり、純水又は超純水を用いると考えればよい。
【００１４】
塩基性洗浄液による洗浄は、微粒子の表面電位を変化させてシステムの構成材料と電気的に反発させて、微粒子の剥離と分散を容易にするものである。即ち、微粒子はその表面電位により配管などに静電的に付着しているが、液のｐＨをアルカリ性側に変化させると、微粒子はマイナスに帯電し且つその電荷も増大するが、その一方で、装置システムや配管系等を構成するポリ塩化ビニール（ＰＶＣ）、ポリ弗化ビニリデン（ＰＶｄＦ）やポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）等の有機高分子材料類は表面電荷の変化を起こさず、液のｐＨに関係なくマイナス荷電を有しており、従って両者は電気的に反発するようになり、微粒子は剥離・分散し易くなる。このような化学的洗浄効果に加えて、塩基性洗浄液による洗浄においては、流れによる物理的な除去、剥離、拡散効果が重要となる。また、過酸化水素洗浄液による洗浄は、生菌数を要求水質のレベルとするための殺菌を目的とするものである。
【００１５】
上述した様に、塩基性洗浄液による循環洗浄を行う工程の後の第一の押し出し洗浄工程の出来具合が最も重要なので、この段階でリンスを充分に行う。リンス排水のｐＨが実質的に７の中性になるまでリンスを行いつつリンス排水を超純水製造供給装置の循環系外に排出するのが良い。ここで言う超純水製造供給装置の循環系とは、一次純水を貯留する純水貯槽から各種の単位装置からなるサブシステムを経て使用場所に到達する配管系と使用場所から通常は残余の超純水を純水貯槽に戻すリターン配管系で構成されるループ（超純水循環系）を言い、リターン配管の末端近辺から通常は押し出し排水やリンス排水のブロー（排出）を行う。純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程の少なくとも一部を、超純水製造供給装置の循環系内の水を循環させること無く一気に実施するのが好ましい。この工程により、塩基性洗浄液による洗浄工程によって「剥離・分散」された微粒子は再付着することなく系外へ押出され洗浄水と共に排出されるため、微粒子除去の効果がより確実に達成され、さらに、押し出し洗浄を短時間に終了できるので好ましい。過酸化水素洗浄液による洗浄後にも同様に、純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程の少なくとも一部を、超純水製造供給装置の循環系内の水を循環させること無く一気に実施するのが好ましい。なお、特開２００２−１９２１６２号公報の方法の様に、微粒子洗浄後の押し出し洗浄を全く行わないか、或いは押し出し洗浄の途中で殺菌工程に移行する方法では、押し出し洗浄工程の微粒子除去の出来具合が不十分であり、殺菌工程で用いられる過酸化水素洗浄液のｐＨが５〜６程度の酸性であるので、微粒子が残った状態で過酸化水素洗浄液を超純水製造供給装置に流すと微粒子が配管等に再付着する虞があり、その場合は洗浄試運転時間を短縮することは逆に実現できない。
【００１６】
塩基性洗浄液の調製に用いる塩基性化合物（アルカリ薬剤）としては、アンモニア、アミン類、水酸化テトラアルキルアンモニウム、炭酸テトラアルキルアンモニウム、重炭酸テトラアルキルアンモニウム等のアンモニウム化合物、アルカリ金属の水酸化物（ＮａＯＨやＫＯＨ）やアルカリ金属の酸化物、炭酸塩（例えば、Ｎａ２ＣＯ３）、重炭酸塩（例えば、ＮａＨＣＯ３）等を挙げることができ、単独でも組み合わせても用いることができる。アミン類としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエタノールアミンなどを挙げることができる。水酸化テトラアルキルアンモニウムは、分子構造中に金属元素を含まない強塩基性第４級アンモニウム化合物であり、代表的には、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、コリン等を挙げることができ、その他に水酸化２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルトリメチルアンモニウム（ＤＥＣＨ）や水酸化２−［２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ］エチルトリメチルアンモニウム（ＴＥＣＨ）も用いることができる。
【００１７】
かかる塩基性化合物としては、ＴＭＡＨやコリン等の水酸化テトラアルキルアンモニウム、アミン類、又はアンモニアが好ましく、これらを塩基性化合物として含む水溶液を塩基性洗浄液として用いるのが好ましい。ＴＭＡＨやコリン等の水酸化テトラアルキルアンモニウムを用いるのが、強塩基なので少量で高いｐＨの水溶液を得ることができる点ではより好ましく、特にＴＭＡＨが好ましい。また、後述する様に、高ｐＨの塩基性洗浄液の調製は必要無いので、アンモニアを用いても少量で所望のｐＨの水溶液を得ることができ、低アンモニア濃度の洗浄液では臭いの問題は小さく、アンモニアはＴＯＣ源でなく処理のしやすさや環境に対する影響の点では、アンモニアも特に好ましいものである。上記したアルカリ金属の水酸化物やアルカリ金属の酸化物、炭酸塩、重炭酸塩は、半導体製造工場などの電子産業分野では、極微量の金属類が製品歩留まりに悪影響を及ぼすといわれていることから安全のために使用し難い。従って、電子産業分野では水酸化テトラアルキルアンモニウム、アミン類又はアンモニアを用いるのが好適である。また、塩基性化合物に好ましくは少量の界面活性剤を併用してもよい。また、塩基性洗浄液に、塩基性化合物と共に酸素ガス、水素ガス、窒素ガス等のガス類の微細気泡を共存させる様にして、微粒子のより一層の効果的剥離、除去を図るようにしてもよい。
【００１８】
塩基性洗浄液のｐＨは、７を超え且つ１０以下であるのが好ましく、８〜１０の範囲内であるのがより好ましい。微粒子の剥離と分散にはアルカリが効果を示し、高濃度アルカリ（高ｐＨ）の塩基性洗浄液で洗浄することが微粒子除去に好ましいとされてきたが、必ずしもそうでないことが分かった。さらに、アルカリ濃度を高くすると、洗浄薬液費用、洗浄液の取り扱い性（安全性）、洗浄排水の処分方法などで問題が生じ易いことを考えると、上記範囲が好ましい。重要なのは、塩基性洗浄液による微粒子剥離・分散工程で剥離し系内に分散させた微粒子を、次の第一の押し出し洗浄工程で確実に系外に排出すること（リンスすること）であり、アルカリ濃度を上げて微粒子の剥離と分散の効果を高めることではない。
【００１９】
垂直立ち上げの対象となる超純水製造供給システムは、殆どが新規のシステムである。そのため、システムの立ち上げ時点で、排水処理装置が完全に立ち上がっていないことがあり、特に、アンモニア、アミン類、ＴＭＡＨ等の塩基性化合物（アルカリ）を洗浄液に使用した場合、これらを含んだ洗浄排水を処理するための装置はまだ立ち上がっていないのが一般的である。即ち、超純水の立ち上げ後、生産装置の立ち上げを行うのが通常で、実際の各種薬液を含んだ排水が出てくるのは生産開始後からなので、主な排水処理装置はその頃に立ち上げられる。この場合、高濃度のアンモニア、アミン類、ＴＭＡＨ等を含む（高ｐＨ）塩基性洗浄液を使用した場合、その後の排水処理に対する問題が生じる。即ち、アンモニア、アミン類、ＴＭＡＨ等は窒素を含み、アミン類、ＴＭＡＨ等はＴＯＣ源でもある。従って、その濃度によっては排水処理をｐＨ中和以外に追加して行う必要が出てくる。但し、ＮａＯＨやＫＯＨ等の無機アルカリを使用した場合はその限りではない。そのため、上記各公報の方法では、ＴＭＡＨ含有排水の処理に弱酸性の陽イオン交換樹脂を用いて吸着除去することが示されている。しかし、現場では、システムの保有水量が多く、大量の塩基性洗浄液が調製され、押し出し洗浄工程によってその数倍から数十倍の排水が少なくとも生じるので、該排水の処理のために仮設で陽イオン交換樹脂による吸着除去装置を設置し、排水処理するのは容易ではなく、塩基性洗浄液のアルカリ濃度が高いほど処理が大変になる。即ち、塩基性洗浄液のアルカリ濃度が高いと、排水濃度が高いだけではなく、押し出し洗浄の特にリンスの段階で発生する排水量が増大する。一方、前処理装置、一次純水装置等の水処理装置の運転で生じる排水の処理装置（例えば、酸やアルカリの中和装置など）は、水処理装置の運転開始に合わせて早くから立ち上げられるのが一般的である。従って、この場合、アンモニア、アミン類又はＴＭＡＨ等を塩基性洗浄液に使用した場合、その濃度が十分に低ければ上記処理装置により中和処理等して放流することもできる。一方、濃度が高いと、中和だけでは放流できないし、希釈で放流基準を満足できたとしても、かなりの量の水で希釈しなければならず、大容量の排水を保有するためのタンク（水槽）が確保できないなどの問題が生じる。この様に、高濃度のアンモニア、アミン類、ＴＭＡＨ等を含む塩基性洗浄液の排水は実質的に中和などの簡易処理では処分できないが、本発明では塩基性洗浄液のアルカリ濃度を低くできるので、中和処理して放流するなど簡単に排水処理することが可能となる。従来法の様に循環しながら成り行きで押し出し洗浄する場合、リンスを完全にしようとするほど押し出し・リンス排水量が増えてしまうが、循環させずに排出したり、また、純水貯槽を純水置換してから系内の押し出し洗浄を一気にすることで、リンスを完全にしようとする場合でも排水量を大きく減らすことができる。なお、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行う工程を行った後の第二の押し出し洗浄工程の際に生じる過酸化水素を含む排水はカタラーゼなどで過酸化水素を分解処理したのち放流される。
【００２０】
過酸化水素洗浄液としては、水温にもよるが一般的には０．１〜５重量％といった高濃度の過酸化水素水を使用することができる。過酸化水素洗浄液の好ましい過酸化水素濃度は、１〜３重量％である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う第一の押し出し洗浄工程を充分に実質的に完全に行うことにより（塩基性洗浄中に分散した）微粒子を系外に確実に除去することで、超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時に、製造供給される超純水が所望の水質に至るまでの洗浄試運転時間を短縮することができ、また、現場で作業するのに適した立ち上げ方法を提供することが可能となる。
【００２２】
純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う第一の押し出し洗浄工程を、超純水製造供給装置の循環系内の水を循環させること無く一気に行うことで、微粒子を含んだ薬液を一気に排出することができ、また、押し出し洗浄に必要な純水量（＝発生する排水量）と作業時間を少なくすることができる。系内のｐＨ低下は急速であるが微粒子は高濃度の薬液と共に押し出されて除去されるので、ｐＨ低下により微粒子の再付着防止効果が低下しても、そこには微粒子が実質的に存在しなくなっているかその量が少なくなっているので問題はない。過酸化水素の押し出しとリンスとを行う第二の押し出し洗浄工程も、超純水製造供給装置の循環系内の水を循環させること無く一気に行うことにより、薬液及び汚染物、剥離・抽出物を一気に除去することができ、押し出し洗浄に必要な純水量（＝発生する排水量）と作業時間を少なくすることができる。排水処理をする上でも、排水量が少ないと、排水のタンク保有が十分にでき、ゆっくり排水処理が出来るので、メリットは大きい。
【００２３】
超純水システムの超純水製造供給装置における微粒子の剥離と分散には、低濃度アルカリの塩基性洗浄液でも十分効果がある。低濃度の場合、アルカリ薬品代が安上がりで、塩基性洗浄液の取り扱い性（安全性）も良く、その押し出し洗浄で生じる排水の処理が容易で、排水量を減らすことが出来る。特に、排水処理は中和放流できれば非常にメリットが大きい。この排水処理については、洗浄排水（リンス排水を含む）は短時間で系内保有量を一気にブローして押し出し排出される。一方、排水処理装置は、実際に各種装置から排出される排水量から能力・規模が決まっており、押し出し洗浄時の単位時間当たりの洗浄排水量が設計の排水処理量（処理能力）を超えてしまうことがある。従って、中和設備など既に排水処理のできる装置が立ち上がっていても、その能力は不十分であり、一時的に大量に発生する押し出し洗浄時の洗浄排水を緊急排水槽などの他の貯槽タンクに保有する必要がある。排水を一時的に受け入れることの出来る貯槽には制約があり、保有水量にも限界がある。このため、塩基性洗浄液の濃度を低くし、押し出し洗浄で発生する排水量を減らすことが出来るのは、排水処理設備が既に立ち上がっている場合でも重要な利点である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
次に、発明の実施の形態を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】
超純水製造供給装置は、一次純水を一時的に貯留する純水貯槽（タンク）から各種の単位装置を有するサブシステムを経て使用場所に到達する配管系と使用場所から通常は純水貯槽に戻るリターン配管系で循環系を成した構造を持っている。図１は、サブシステムの一例を示すフロー図である。図１においては、上記の各種の単位装置として、水温調整のための熱交換器１、有機物分解のための紫外線酸化装置２、脱塩のための非再生型混床式イオン交換樹脂塔であるカートリッジポリッシャー（ＣＰ）３、微粒子除去のための限外濾過（ＵＦ）膜装置４が用いられている。ＣＰ３をバイパスするバイパス配管５が設けられている。ＵＦ膜装置４の代わりに精密濾過膜装置等を濾過膜装置として用いることもある。上記の系のＣＰ３とＵＦ膜装置４の間に、例えば、膜脱気装置、ブースターポンプ、イオン吸着膜装置等を更に配置するような構成としてもよい。一般に、図示されていない弁を開いてバイパス配管５によりＣＰ３をバイパスして、塩基性洗浄液や過酸化水素洗浄液での薬液洗浄時、及び、その後の押し出し洗浄時には、超純水製造供給装置の循環系全体の洗浄を行い、リンスが十分にできてからＣＰ３の通水に切り替える。ＣＰ３をバイパスする代わりに、ＣＰ３にイオン交換樹脂を最初からは充填せずに、循環系全体の洗浄・リンスが十分にできてからＣＰ３にイオン交換樹脂を充填して純水で洗浄してもよい。塩基などのイオン成分はＣＰ３のイオン負荷となり、過酸化水素はＣＰ３のイオン交換樹脂を酸化劣化させるからである。また、薬液洗浄時の紫外線酸化装置２のランプは一般にＯＦＦとしておくが、過酸化水素洗浄液の押し出し洗浄時には紫外線酸化装置２のランプはＯＮにしてもよい。
【００２６】
図２は、図１の様なサブシステムを含む超純水製造供給装置の一例を示す配管系統図である。一次純水はラインＬ１を通って純水貯槽１１に送られる。純水貯槽１１とラインＬ２及びＬ３でタンク循環系（薬液調製循環系）を構成して均一な薬液を調製する際に用いられる。シャワーボール１２は純水貯槽１１の内壁にも液を散布する様になっている。通常運転中はラインＬ７にある弁Ｖ２は閉じた状態である。新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時には弁Ｖ２の先にラインＬ８を仮設し、弁Ｖ２を開き、ラインＬ８とラインＬ７を介してＴＭＡＨやアンモニア等のアルカリ薬剤の塩基性洗浄原液（濃厚薬液）又は過酸化水素原液（濃厚薬液）のそれぞれ所定量をラインＬ２に注入する。その際、ラインＬ２上にある弁Ｖ３の開度を調節することで上記濃厚薬液と循環液の流量を調節し、ポンプＰにより弁Ｖ５を開いたラインＬ３を経由して純水貯槽１１に貯留されている純水に上記濃厚薬液を導入して、タンク循環系を循環させることにより純水と混合し、均一な薬液として調製する。この際、弁Ｖ４は閉じておくのが好ましい。上記濃厚薬液の注入手順としては、例えば、洗浄した綺麗な容器に濃厚薬液を張り、チューブなどの仮説ラインＬ８を介して注入し、液が少なくなったら空気が入らない様に容器に純水を入れて残存薬液を注入する様な操作を繰り返すことによって、所定量の濃厚薬液を注入することができる。また、それぞれの濃厚薬液注入後はラインＬ８、ラインＬ７を純水で洗浄し、弁Ｖ２は閉じ、仮説ラインＬ８は撤去する。純水貯槽１１の内壁を純水で洗浄（リンス）する際は弁Ｖ１及びＶ６を閉じ、弁Ｖ７を開き、ラインＬ１から分岐したラインを通して一次純水をシャワーボール１２から散布するのが好ましい。調製された薬液を洗浄に用いる際は、弁Ｖ２及びＶ５を閉じ、弁Ｖ４を開いて、ポンプＰで薬液をサブシステム１３に送り込み、使用場所に超純水を送る配管系であるラインＬ４、ユースポイント配管系、残余の超純水を戻すリターン配管系であるラインＬ５を包含する超純水製造供給装置の循環系に薬液を行き渡らせる。ラインＬ６は、押し出し洗浄の初期の段階で一気にブローするのに用いるバイパスラインで、これを用いる際は弁Ｖ８を閉じ、弁Ｖ９を開く。弁Ｖ１０は圧力制御弁であり、循環洗浄の際や通常運転の際などの圧力や流量を制御する。排水ブローの際には弁Ｖ１１を開き、弁１２を閉じるが、循環系の通常運転の際には弁Ｖ１２を開き、弁１１を閉じる。計器１４は、ｐＨ、導電率、又は抵抗率等の水質を測定する測定計器である。図２では、測定計器１４は分岐したサンプリングラインＬ９上にあるが、例えばラインＬ５等のメインライン上にあってもよい。分岐の場合、各水質はオンライン測定でも、オフライン測定でもよい。また、測定計器１４は、常時設置ではなく、装置立ち上げ試運転用に仮設置してもよい。
【００２７】
サブシステム１３の出口からのユースポイント送りラインＬ４からユースポイントリターンラインＬ５の末端までの配管長（即ちラインＬ４及びＬ５の総配管距離）はかなり長く、配管の内容量も大きい。バイパスラインＬ６を介した循環系の場合はサブシステム１３の出口から純水貯槽１１に戻るまでのラインの配管長を大幅に短くすることができる。押し出し洗浄の始めにはバイパスラインＬ６に純水を通して循環しないで洗浄ブローすることで、短時間でサブシステム１３内の洗浄（リンス）の確認ができる。ユースポイント配管は長距離且つ経路が複雑なので、ユースポイント配管の洗浄完了には比較的時間がかかる。過酸化水素水による殺菌は薬液浸漬でも効果があるが、サブシステム１３の構成材は多種多様なので、サブシステム１３内での長時間の過酸化水素薬液浸漬は避けたい。そこで、バイパスラインＬ６を用いて過酸化水素洗浄液の押し出し洗浄を短時間で完了させ、例えば弁８と弁１３を閉じてユースポイント配管には過酸化水素水の封入を行い、浸漬処理を長時間して確実に殺菌するのが望ましい。ユースポイント配管で過酸化水素水の封入・浸漬処理している時間を利用して、バイパスラインＬ６経由でサブシステム１３内の洗浄（リンス）を完了し、ＣＰ３へのイオン交換樹脂の充填、ＣＰ３の洗浄ブロー、ＵＦ膜装置４の洗浄ブローなどの単位装置の立ち上げを先にすることもできる。
【００２８】
一般的に言って、洗浄薬液の調製は、純水貯槽又は循環系の任意の箇所から系内へＴＭＡＨやアンモニア水などの塩基性化合物、また、過酸化水素を添加することによって行う。アンモニアのようにガス成分として供給できる物質であれば、そのままガス状で添加してもよい。純水貯槽及び系内の純水と混合して所定の薬液濃度に調整し、通常の（超）純水の循環フローに従って、系内に循環させて超純水製造供給装置全体を洗浄する。純水貯槽以外の薬液槽を準備し、そこで洗浄薬液を調製して、超純水循環系内に洗浄薬液を循環させてもよい。図２では、純水貯槽１１からのラインＬ２から分岐したラインＬ７に接続された仮説の薬剤注入ラインＬ８から薬剤（ＴＭＡＨやアンモニア等のアルカリ薬剤又はＨ２Ｏ２）が注入され、タンク循環系（薬液調製循環系）を循環する過程で純水と薬剤の混合が行われ、均一な洗浄薬液が調製される。
【００２９】
塩基性水溶液である塩基性洗浄液による微粒子洗浄は、０．５〜８時間程度の循環を行うことによって行う。塩基性水溶液洗浄の第一の目的は微粒子の除去である。従って、塩基性洗浄液による化学的洗浄効果に加えて、流れによる物理的な除去、剥離、拡散効果が重要となる。その後、純水による押し出し洗浄を例えばｐＨ７の中性になるまで行う。
【００３０】
過酸化水素水である過酸化水素洗浄液による洗浄の際は、０．５〜８時間程度の循環を行う。過酸化水素水洗浄の主たる目的は殺菌（化学的効果）であるため、過酸化水素薬液が系内に存在して被洗浄体である生菌やバイオフィルム（配管やユースポイント内の附帯設備などの超純水と接触する面に生じる、生菌と死菌の両方を含めた菌体や菌の生産物質から成る付着物）に接触することが重要である。従って、薬液循環する方が物理的効果を伴うので好ましいが、過酸化水素を系内に行き渡らせた後は、或る時間だけポンプを停止して、過酸化水素水で系内を浸漬して浸漬殺菌を行っても高い殺菌効果が期待できる。十分な殺菌を行う必要があり、ユースポイントへの超純水供給までに時間的な余裕がある場合などは、０．５〜８時間程度の循環の後、更に薬液で系内を数時間以上、例えば、半日（一晩）〜１日浸漬してもよい。その後、純水による押し出し洗浄を行う。
【００３１】
塩基性洗浄液と過酸化水素洗浄液の各洗浄薬液の循環系内の循環流速は、高速の方が流れによる物理的な力が強く、高い洗浄効果が期待できるが、高流速で流すためにはポンプ容量が大きくなってしまうので、実際には、水溶液系の液体を移送する一般的な線速度の範囲、例えば、好ましくは０．１〜３．０ｍ／秒、より好ましくは０．５〜２．０ｍ／秒で流すのがよい。なお、本発明の洗浄方法においては、循環や浸漬以外にも、例えば、超純水製造供給装置の洗浄箇所に薬液を満たした状態で、超音波などにより薬液に微小振動を与えて洗浄効果を高める方法を採ってもよい。
【００３２】
洗浄時の薬液温度は、特に限定されないが、超純水製造供給装置を構成する配管、機器等の耐熱温度を越えない範囲で、高い温度にした方が洗浄力の点からは好ましい。例えば、塩基性洗浄液については、１０〜１００℃の範囲とすることもでき、耐熱温度が約４５℃であるポリ塩化ビニール（ＰＶＣ）を構成材料とする場合は薬液温度約４０℃程度まで、耐熱温度が約８０℃であるポリ弗化ビニリデン（ＰＶｄＦ）を構成材料とする場合は薬液温度約７５〜８０℃まで、ステンレス鋼を構成材料とする場合は薬液温度１００℃近くまで上昇させることが可能であり、過酸化水素洗浄液についても、加温してもよく、構成材料によるが２０〜６０℃の液温で洗浄に用いるのが好適である。但し、薬液温度は水温の成り行きとすることも多く、常温成り行きとすることもある。
【００３３】
このような超純水製造供給装置において、第一の押し出し洗浄工程中に、塩基性洗浄液の押し出し排水及びリンス排水の中の少なくともリンス排水の水質を確認し、超純水製造供給装置の循環系内において塩基性洗浄液の影響がなくなるまで純水によるリンスを行いつつリンス排水を系外に排出するのが好ましい。塩基性洗浄液の押し出し排水及びリンス排水の中の少なくともリンス排水の水質確認は、超純水循環系の末端、即ち、リターン配管の末端近辺、または、ブローラインで行うのが循環系から微粒子を充分除去するのには好ましく、また、ｐＨ、導電率又は抵抗率の測定で行うのが簡易で好ましく、このような水質確認によって満足の行くまでリンスは充分に行う。押し出し・リンス排水の水質（ｐＨ等）を確認することで、塩基性洗浄液中に分散した微粒子の排出・除去を確実に行うことが出来る。リンス排水のｐＨが実質的に７の中性になるまでリンスを行いつつリンス排水を循環系外に排出するのが良い。図２では、計器１４によってｐＨ、導電率又は抵抗率等の測定を行う。
【００３４】
微粒子剥離・分散工程及び第一の押し出し洗浄工程において、超純水製造供給装置の濾過膜装置の濾過膜モジュールをダミー又はバイパスとするのが好ましい。前記の各公報では、超純水製造システムの限外濾過膜装置の取り扱いについては明言されておらず、限外濾過膜（ＵＦ膜）モジュールは原則設置された状態でシステムの他の構成要素と一緒に洗浄される（但し、特開２００４−２６７８６４号公報には、薬液洗浄中はダミーモジュールを設置してもよい旨の記載あり）。ＵＦ膜等の濾過膜は膜面積（接触面積）が大きいので、洗浄液が膜面に接触すると逆に汚染してしまう可能性あり、その後の濾過膜装置の立ち上がりに影響が出やすい。特に塩基性洗浄液は導電性のため、アルカリが濾過膜表面又は内部に吸着して、立ち上げ時の濾過膜装置出口の抵抗率の上昇が遅くなる傾向になる。従って、塩基性洗浄液による洗浄時に濾過膜モジュールを設置する場合は、その後の抵抗率の立ち上がりを考えると塩基性洗浄液のアルカリ濃度は低い方が良い。また、濾過膜モジュールとしてダミーモジュール（形はモジュールでも膜が入っていない）を用いても良い。
【００３５】
一方、過酸化水素洗浄液による殺菌工程についても濃度が低ければ同様の利点もあるが、過酸化水素濃度を下げると殺菌力が低下するためあまり低濃度にはできない。しかし、過酸化水素はアルカリ薬剤に比べて抵抗率への影響が少ないこと及び超純水のスペック（規格）に含まれていないことから高濃度の過酸化水素洗浄液を洗浄に用いても良い。そのため、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行う殺菌工程を実施する前にＵＦ膜モジュール等の濾過膜モジュールを設置し、濾過膜に過酸化水素洗浄液を通水濾過しながら殺菌工程を行うのも好ましい。塩基性洗浄液による洗浄の実施前に濾過膜モジュールを設置すると、前述の様に逆に濾過膜を汚染してしまう可能性あるので、塩基性洗浄液による微粒子剥離・分散工程と第一の押し出し洗浄工程中は濾過膜モジュールをダミーモジュールにして、過酸化水素洗浄液による殺菌工程の実施前に濾過膜モジュールを設置する場合、アルカリ洗浄＋押し出し洗浄で微粒子を系外に確実に除去したあと、特に過酸化水素水循環中に発生する（特にポンプから）微粒子をＵＦ膜等の濾過膜でカットして排除し、ユースポイント側の配管へ移動させないことができ、また、ＵＦ膜等の濾過膜自身の殺菌を同時に行うことが出来る。
【００３６】
上述の様に超純水製造供給装置全体を洗浄する方法のほか、濾過膜装置や紫外線酸化装置といった個別の機器や配管の一部、配管継ぎ手部分などの超純水製造供給装置の一部を個別に洗浄してもよい。被洗浄部の直前に薬液を注入すると共にその直後から排出させたり、薬液を満たした状態で超音波などによる振動を与えるようにして洗浄してもよい。例えば、過酸化水素水洗浄をこのような個別の洗浄とし、塩基性水溶液での洗浄を超純水製造供給装置全体に対して行う様にしてもよいし、その逆にしてもよい。また、新規施工組み立ての直前に濾過膜装置やプレハブ配管などの洗浄にも利用でき、効果的に新規立上洗浄時間の短縮を図ることもできる。
【００３７】
次に、本発明の方法の具体的な実施形態の一例を説明する。下記において「タンク循環」とは純水貯槽１１とラインＬ２及びＬ３からなるタンク循環系における混合のための循環を言い、「システム循環」とはサブシステム１３、ラインＬ４、ユースポイント配管系、ラインＬ５を含む超純水製造供給装置（システム）全体の循環系における循環を言うものとする。ＵＦ膜装置からのリターンラインを適宜設置しておくと都合が良い。過酸化水素濃度は、例えば、過酸化水素濃度試験紙（菱江化学株式会社販売）を用いて確認することができる。他の水質確認は、例えば、ｐＨ計やｐＨ試験紙、ＴＯＣ計、抵抗率計、微粒子計などで行うことができる。
【００３８】
＜１＞機器の据え付け、配管工事が終了したら、純水貯槽１１に一次純水の受け入れを準備し、完了する。
＜２＞システム全体に対して、純水貯槽１１からの一次純水の水張りを行い、機器・配管のエアー抜きを行い、フラッシングにより大きなゴミや不純物の排出を行う。
＜３＞アルカリ薬品（塩基性化合物）を添加し、タンク循環で混合し均一薬液を調製した後、得られた塩基性洗浄液をシステム循環する。微粒子の剥離効果を上げるために循環速度は高流速の方が好ましい。この際、ＣＰ３はバイパスするか又はイオン交換樹脂を未充填とし、ＵＦ膜装置４にはダミーモジュールを用いるのが望ましい。
＜４＞タンク循環系から薬液を図示していない配管ラインやタンクブローラインを通じて排出し、純水で置換する。タンク循環系での薬液残留はｐＨ等の水質で確認する（例えば、ｐＨ＜８、好ましくは７）。一方、排水は処理（中和及び／又は適度な希釈）して放流する。
＜５＞純水貯槽１１内に溜め込んだ純水で系内の洗浄液を一気に押し出し、リンスして、洗浄液に分散していた微粒子や不純物を一気に排出させる。この際、水（液）は循環とせず、系外にブローするのが好ましい。排水は排水処理（中和）して放流する。
＜６＞系内水又は排水の薬液残留をｐＨ等の水質を測定することにより、リンスが十分か確認する（例えば、ｐＨ＜８、好ましくは７）。水質測定の位置は、計器１４の様に、リターン配管系のラインＬ５の末端、即ち純水貯槽１１に戻る手前から分岐したサンプリングラインＬ９上が好ましい。
＜７＞ＵＦ膜モジュールを設置する。
＜８＞過酸化水素水を添加し、タンク循環で混合し均一薬液を調製した後、得られた過酸化水素洗浄液をシステム循環する。場合によっては、過酸化水素洗浄液に浸漬する（例えば、弁Ｖ８及びＶ１３を閉じ、ラインＬ４、ユースポイント配管系、ラインＬ５の一部のみの浸漬の場合あり）。
＜９＞タンク循環系から薬液を図示していない配管ラインやタンクブローラインを通じて排出し、純水で置換する。タンク循環系でのＨ２Ｏ２濃度は過酸化水素濃度試験紙等で確認する。排水は排水処理（カタラーゼなどによる分解処理）して、Ｈ２Ｏ２濃度の確認をして、処理が充分であれば放流する。
＜１０＞純水貯槽１１内に溜め込んだ純水で系内の洗浄液を一気に押し出し、リンスして、Ｈ２Ｏ２濃度を確認する。この際、水（液）は循環とせず、系外にブローするのが好ましい。排水は排水処理（カタラーゼなどによる分解処理）して、Ｈ２Ｏ２濃度の確認をして、処理が充分であれば放流する。
＜１１＞ＣＰ３は、イオン交換樹脂が未充填の場合は充填し、バイパスの場合はバイパス配管を閉じ、純水を通水する。
＜１２＞ＣＰ３の出口でブローし、ブロー水の水質確認を行い、水質が規定値に達したらブロー配管を閉じ、後段へ送る（適当な計器で水質確認）。
＜１３＞ＵＦ膜装置の出口でブローし、ブロー水の水質確認を行い、水質が規定値に達したらブロー配管を閉じ、後段へ送る（適当な計器で水質確認）。
＜１４＞リターン水質（抵抗率、ＴＯＣ、微粒子など）を測定し、循環系（通常運転）に戻せる水質であることが確認できたら、弁Ｖ１１を閉じ、弁Ｖ１２を開けて、循環ラインに切り替えて通常運転とする。
【実施例１】
【００３９】
次に、本発明の実施例１を説明する。下記の一連の操作（工程）手順に従って、超純水製造供給装置の立ち上げ洗浄を行った。なお、熱交換器による温度コントロールは行わずに水（液）温は常温成り行きとした。
＜１＞超純水製造供給装置（システム）への純水張り込み、フラッシング、エアー抜きをした。
＜２＞純水貯槽内にｐＨ１０未満のＴＭＡＨ塩基性洗浄液を調製した。
＜３＞システム全体をＴＭＡＨ塩基性洗浄液で循環洗浄した。メインライン送水流速は０．５ｍ／秒で、循環時間は３時間で、戻りｐＨは９．７であった。この際、ＣＰはバイパスとし、ＵＦ膜装置にはダミーモジュールを用いた。
＜４＞純水貯槽内を２．５時間で純水に置換し、その最終的なｐＨは６．９であった。その際に生じる排水は規制値以下となるように中和処理して放流した。
＜５＞純水貯槽内の純水で一気にシステム内のＴＭＡＨを０．２５時間押し出した。メインライン送水流速は０．５ｍ／秒であった。この際、水（液）は循環とせず、系外にブローした。ブローされた排水は規制値以下となるように中和処理して放流した。
＜６＞循環系内又はブローライン上の押し出し排水及びリンス排水の水質を確認しながら、ｐＨ７となるまでリンスし、３時間押し出し洗浄を十分に行った。メインライン送水流速は０．５ｍ／秒であった。
＜７＞ＵＦ膜装置にＵＦ膜モジュールを設置した。
＜８＞純水貯槽内に１重量％過酸化水素洗浄液を調製した。
＜９＞システム全体を過酸化水素洗浄液で２時間循環洗浄した。メインライン送水流速は０．５ｍ／秒であった。この際、ＣＰはバイパスとし、ＵＦ膜装置ではＵＦ膜モジュールに通水した。過酸化水素濃度試験紙でユースポイント配管の一番遠い所の採取水を測定して、Ｈ２Ｏ２が系内に行き渡ったことを確認した。
＜１０＞ユースポイント配管系を閉じて、９．５時間浸漬洗浄し、その間＜１１＞〜＜１２＞の工程を行った。
＜１１＞純水貯槽内を純水に置換した。充分に純水置換されたかを過酸化水素濃度試験紙で測定して最終的なＨ２Ｏ２濃度が０ｐｐｍであることを確認した。排水はオルガノ社製の過酸化水素分解処理剤であるオルソーブ（登録商標）で分解処理した後に放流した。
＜１２＞ユースポイント配管をバイパスして、純水貯槽内の純水で一気にサブシステムを含むシステム内の過酸化水素を押し出し、リンスした。メインライン送水流速は０．５ｍ／秒であった。この際、水（液）は循環とせず、系外にブローした。排水のＨ２Ｏ２濃度を過酸化水素濃度試験紙で測定して０ｐｐｍであることを確認した。排水はオルソーブで分解処理した後に放流した。
＜１３＞ユースポイント配管系を開いて、４時間押し出し洗浄を行った。メインライン送水流速は０．５ｍ／秒であった。この際、水（液）は循環とせず、系外にブローした。排水のＨ２Ｏ２濃度を過酸化水素濃度試験紙で測定して０ｐｐｍであることを確認した。排水はオルソーブで分解処理した後に放流した。
＜１４＞ＣＰは、バイパス配管を閉じ、一次純水を通水した。
＜１５＞ＣＰの出口でブローし、ブロー水の水質確認を行い、水質が規定値に達したらブロー配管を閉じ、後段へ送った（計器で水質確認）。
＜１６＞ＵＦ膜装置のＵＦ膜モジュール出口でブローし、ブロー水の水質確認を行い、水質が規定値に達したらブロー配管を閉じ、後段へ送った（計器で水質確認）。
＜１７＞リターン水質（抵抗率、ＴＯＣ、微粒子など）を測定し、通常運転の循環系に戻せる水質であることが確認できてから、循環ラインに切り替えて通常運転とした。
【００４０】
洗浄が終了した後、通常循環運転開始から１日以内に、抵抗率＝１８．２ＭΩ・ｃｍ以上、ＴＯＣ＝１ｐｐｂ未満、粒径０．０５μｍ以上の微粒子数＝１個／ｍＬ未満の基準値を達成した。なお、微粒子数はモニター計器としてＰＭＳ社製の微粒子計ＤＩ−５０を用いて測定した。また、通常循環運転開始から２日後に初めてサンプリングした時点での生菌数は１個／Ｌ未満の基準値を達成していた。試料水のサンプリングポイントはＵＦ膜装置の出口であった。
【００４１】
この様に、実施例１では、純水で循環とせずに一気にシステム内のＴＭＡＨを押し出し洗浄し、過酸化水素も同様に押出し洗浄することにより、短時間に良好な水質にすることができた。
【実施例２】
【００４２】
実施例１で用いたＴＭＡＨ塩基性洗浄液の代わりにｐＨ１０未満のアンモニア塩基性洗浄液を用いた以外は、実施例１と同様の一連の操作手順に従って、超純水製造供給装置の立ち上げ洗浄を行った。実施例１と実質的に同様の結果が得られた。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明によれば、超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時に、超純水が所望の水質に至るまでの洗浄試運転時間を短縮でき、また、現場で作業するのに適した立ち上げ方法を可能とする。従って、本発明は、半導体デバイス、液晶ディスプレイ、シリコンウエハ、プリント基板等の電子部品製造工場、原子力発電所あるいは医薬品製造工場などで広く利用される超純水製造供給装置の立ち上げ時の洗浄方法として適用することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】図１は、サブシステムの一例を示すフロー図である。
【図２】図２は、図１の様なサブシステムを含む超純水製造供給装置の一例を示す配管系統図である。
【符号の説明】
【００４５】
１    熱交換器
２    紫外線酸化装置
３    カートリッジポリッシャー
４    限外濾過膜装置
１１  純水貯槽
１２  シャワーボール
１３  サブシステム
【図１】
2006297180.tif 000003
【図２】
2006297180.tif 000004