(57)【要約】【課題】  本発明は、製造の際に、部材どうしの接触や製造装置との接触によって欠陥等が生じることのない、高品質なカラーフィルタ用多面付け基板、およびその製造方法を提供することを主目的としている。【解決手段】  上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材の複数の画素領域上にそれぞれ形成された着色層と、前記基材の各画素領域の外側の領域上に形成された柱部とを有することを特徴とするカラーフィルタ用多面付け基板を提供する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の複数の画素領域上にそれぞれ形成された着色層と、前記基材の各画素領域の外側の領域上に形成された柱部とを有することを特徴とするカラーフィルタ用多面付け基板。
【請求項２】
前記基材が可撓性を有し、かつウェブ状であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ用多面付け基板。
【請求項３】
前記基材の各画素領域に柱状スペーサを有し、前記柱状スペーサと前記柱部とが同一材料により形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ用多面付け基板。
【請求項４】
前記基材と前記柱部との間に台座が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ用多面付け基板。
【請求項５】
可撓性を有し、かつ複数の画素領域上に着色層が形成されているウェブ状の基材の、前記各画素領域の外側の領域上に、転写法により柱部を形成する柱部形成工程を有することを特徴とするカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造に用いられるカラーフィルタ用多面付け基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、カラーフィルタと液晶駆動側基板（対向基板）とを対向させ、両者の間に液晶化合物を封入して薄い液晶層を形成し、液晶駆動側基板により液晶層内の液晶配列を電気的に制御して表示側基板の透過光または反射光の量を選択的に変化させることによって表示を行う。
【０００３】
上記液晶表示装置の製造は、複数のカラーフィルタが所定の位置に配置された状態のカラーフィルタ用多面付け基板を形成し、このカラーフィルタ用多面付け基板と同じく多面付けされた対向基板とを貼りあわせた後、各液晶表示装置ごとに切断する方法が一般的である。上記カラーフィルタ用多面付け基板は、通常、基材とその基材の複数の画素領域に形成された着色層と、その着色層を覆うように形成された透明電極層と、透明電極層上に形成された柱部と、透明電極層上に形成された液晶配向膜等とから構成される。
【０００４】
ここで、上記カラーフィルタ用多面付け基板を製造する際、透明電極層や配向膜等の各部材の形成のために上記基材を支持したり、上記カラーフィルタ用多面付け基板を搬送するために、製造装置の一部と上記基材上に形成された着色層や透明電極層等とが接触する場合がある。そのため、製造装置と接触した着色層や透明電極層等に欠陥が生じる場合がある、という問題があった。
なお、本発明に関する先行技術は発見されていない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
製造の際に、部材どうしの接触や製造装置との接触によって欠陥等が生じることのない、高品質なカラーフィルタ用多面付け基板、およびその製造方法の提供が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、基材と、上記基材の複数の画素領域上にそれぞれ形成された着色層と、上記基材の各画素領域の外側の領域上の一部、または全面に分布・点在するように形成された柱部とを有することを特徴とするカラーフィルタ用多面付け基板を提供する。
【０００７】
本発明によれば、上記柱部を有することから、製造の際に、上記着色層等が製造装置と接触していないものとすることができ、製造の際に生じた欠陥の少ない、高品質なカラーフィルタ用多面付け基板とすることができるのである。また、本発明によれば、上記カラーフィルタ用多面付け基板を積み重ねた場合であっても、着色層等の部材が他の部材と接触しないものとすることができることから、カラーフィルタ用多面付け基板を重ねて保管することも可能となる、という利点も有する。
【０００８】
上記発明においては、上記基材が可撓性を有し、かつウェブ状とすることができる。本発明によれば、上記基材がウェブ状であっても、上記柱部を有することから、製造の際に、製造装置と基材上に形成された部材とが接触しないものとすることができ、欠陥等の少ない高品質なカラーフィルタ用多面付け基板とすることができるからである。またこの場合、カラーフィルタ用多面付け基板をロール等に巻き取った状態で保管することも可能となる。
【０００９】
上記発明においては、また上記基材の各画素領域に柱状スペーサを有し、上記柱状スペーサと上記柱部とが同一材料により形成されていることが好ましい。この場合、上記柱状スペーサと柱部とが同時に形成されたものとすることができ、製造効率やコストの面からも好ましいカラーフィルタ用多面付け基板とすることができるからである。
【００１０】
また、上記発明においては、上記基材と上記柱部との間に台座が形成されていることが好ましい。この場合、上記台座によって、上記柱部の高さを調整することができる。例えば画素領域に柱状スペーサが形成されている場合、上記台座によって柱部の高さを柱状スペーサの高さと同等、またはそれより高くすること等ができ、柱部が製造装置等と接触すること等を防止することができるからである。
【００１１】
また、本発明は、可撓性を有し、かつ複数の画素領域上に着色層が形成されているウェブ状の基材の、上記各画素領域の外側の領域上に、転写法により柱部を形成する柱部形成工程を有することを特徴とするカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法を提供する。
【００１２】
本発明によれば、上記柱部を転写法により形成することから、上記基材が凹凸を有する場合等であっても、一定の高さの柱部を形成することができる。これにより、例えば着色層等の部材が例えばロール等の製造装置等と接触することのないものとすることができ、高品質なカラーフィルタ用多面付け基板を製造することができるのである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、製造の際に生じる欠陥の少ない、高品質なカラーフィルタ用多面付け基板とすることができ、またカラーフィルタ用多面付け基板を重ねた状態で保管することも可能となるという効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、液晶表示装置の製造に用いられるカラーフィルタ用多面付け基板、およびその製造方法に関するものである。
【００１５】
Ａ．カラーフィルタ用多面付け基板
まず、本発明のカラーフィルタ用多面付け基板について説明する。本発明のカラーフィルタ用多面付け基板は、基材と、上記基材の複数の画素領域上にそれぞれ形成された着色層と、上記基材の各画素領域の外側の領域上に形成された柱部とを有することを特徴とするものである。
【００１６】
本発明のカラーフィルタ用多面付け基板は、複数のカラーフィルタが所定の位置に配置されたものであり、例えば図１に示すように、基材１と、その基材１の各画素領域２上に形成された着色層３と、基材１の上記各画素領域２の外側の領域上に形成された柱部４とを有するものである。ここで、画素領域とは、カラーフィルタ用多面付け基板が用いられて液晶表示装置が製造された際、液晶表示領域として用いられることとなる部分をいうこととする。また、基材上における画素領域の位置は特に限定されるものではなく、製造装置や基材の形状等に応じて適宜選択されることとなる。また通常、上記カラーフィルタ用多面付け基板の上記基材の各画素領域上には柱状スペーサが設けられ、各着色層間には遮光部が形成されることとなる。
【００１７】
ここで、従来の一般的なカラーフィルタ用多面付け基板においては、上述したように、基材上に各部材を形成する際や、カラーフィルタ用多面付け基板の搬送の際等に製造装置と、基材上に形成された着色層等の部材とが接触したりすること等によって、欠陥が生じる場合があった。
【００１８】
一方、本発明においては、例えば図２に示すように、画素領域２の外側の領域に、柱部４が複数形成されていることから、例えばカラーフィルタ用多面付け基板搬送の際等に、製造装置１０と柱部４とが接触し、着色層３等と製造装置１０とが接触することを防ぐことができるのである。
【００１９】
したがって、製造の際に生じた欠陥等の少ない、高品質なカラーフィルタ用多面付け基板とすることができるのである。また、上記柱部を有することから、形成されたカラーフィルタ用多面付け基板を積み重ねて保管した場合であっても、着色層等の部材が基材等と接触することのないものとすることができる、という利点も有する。
以下、本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の各構成ごとに詳しく説明する。
【００２０】
１．柱部
まず、本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の柱部について説明する。本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の柱部は、後述する基材の各画素領域の外側の領域上に形成されたものであり、カラーフィルタ用多面付け基板が製造される際、製造装置等と接触することを防ぐことが可能なものであれば、特に限定されるものではない。
【００２１】
このような柱部の形状としては、各画素領域の形状や、後述する基材の種類等により適宜選択され、例えば円柱状や角柱状、また錐台状、壁状等とすることができる。また、柱部が形成される位置としては、上記画素領域の外側であって、着色層等が製造装置等と接触することを防止することが可能な位置であれば特に限定されるものではない。例えば、画素領域の外側に規則的に配置されるものであってもよく、またランダムに形成されるものであってもよい。
【００２２】
ここで本発明においては、上記画素領域内に柱状スペーサが形成されている場合、単位当たりに形成されている柱状スペーサの上底面の面積より、単位当たりに形成されている柱部の上底面の面積が同じか、もしくは広くなるように柱部が形成されていることが好ましい。具体的には、単位当たりの上記柱部の上底面の面積を１とした場合に、単位当たりの上記柱状スペーサの上底面の面積が、０．３〜１の範囲内、中でも０．５〜０．９の範囲内、特に０．６〜０．８の範囲内とされることが好ましい。これにより、上記柱部によって、柱状スペーサが製造装置等と接触することや、柱状スペーサに圧力がかかること等を防止することができるからである。なお、上記上底面とは、上記柱状スペーサおよび柱部の、基材と接する面と反対側の面をいうこととする。
【００２３】
また、本発明に用いられる柱部は、一般的なカラーフィルタ用多面付け基板における柱状スペーサと同様の方法により形成されたものすることができ、例えばフォトリソグラフィー法や転写法等を用いて形成されたものとすることができる。本発明においては、特に転写法により形成されたものであることが好ましい。転写法を用いて形成されたものである場合には、後述する基材に凹凸がある場合等であっても、柱部の高さを一定のものとすることが可能となるからである。なお、上記転写法による柱部の形成については、後述する「Ｂ．カラーフィルタ用多面付け基板の製造方法」で説明するので、ここでの説明は省略する。
【００２４】
また、上記柱部を形成する材料としては、例えば感光性樹脂と、光重合開始剤と、必要に応じて染料または顔料等とを含有する感光性樹脂組成物等とすることができる。これらは、一般的なカラーフィルタ用多面付け基板における柱状スペーサの形成に用いられる材料と同様とすることができ、例えば特開平１１−１７４４６４号公報に記載されているような材料を用いることができる。なお、これらの多くは、顔料分散型着色感材と呼ばれるものである。また、上記柱部は、上記柱状スペーサと同時に形成されたものであってもよく、また別々に形成されたものであってもよい。本発明においては、特に上記柱部が、上記柱状スペーサと同一の材料を用いて同時に形成されたものであることが好ましい。これにより、柱部を形成する工程を別途行う必要がなく、製造効率等の面から好ましいものとすることができるからである。
【００２５】
また本発明においては、上記柱部と基材との間に台座が形成されていることが好ましい。上述したように、上記柱状スペーサと上記柱部とが同時に形成されることが好ましいが、上記柱状スペーサは、通常、後述する着色層間に形成される遮光部上に形成されることとなる。そのため、基材上に柱部が直接形成された場合、上記柱状スペーサの高さより柱部の高さが低くなり、柱部によって柱状スペーサが製造装置等と接触することを防ぐことが困難となってしまう場合があるからである。このような台座としては、上記柱部の高さを調整可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば柱部が形成される領域のみに形成されたものであってもよく、また上記画素領域の外側の領域にパターン状に形成されたものであってもよい。また、上記台座としては、例えば後述する着色層間に形成される遮光部と同一の材料を用いて、遮光部と同時に形成されたものであってもよく、また後述する着色層と同一の材料を用いて着色層と同時に形成されたもの等であってもよい。なお、上記遮光部がクロム等の金属からなる場合には、一般的に膜厚が薄いため、上記台座として着色層と同一の材料を用いて着色層と同時に形成されたものであることが好ましい。また、基材表面から柱部の上底面までの高さを、上記柱状スペーサより高くする場合等には、これらの層が複数積み重ねられたものであることが好ましい。このような台座は、上記着色層や遮光部の形成方法と同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００２６】
なお、本発明においては、基材表面から柱部の上底面までの高さが、上記柱状スペーサと同等、または柱状スペーサより高くなるように形成されることが好ましく、上記基材表面から柱部の上底面までの高さとして具体的には、１μｍ〜１０μｍ程度、中でも４μｍ〜８μｍ程度とされることが好ましい。
【００２７】
２．基材
次に、本発明に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材は、上記柱部と後述する着色層を形成可能なものであれば特に限定されるものではない。このような基材としては、一般的なカラーフィルタ用多面付け基板に用いられるガラス等からなる基材であってもよいが、本発明においては、特に可撓性を有するウェブ状の基材であることが好ましい。このような基材を用いた場合には特に、基材を支持する際や基材を搬送する際等に、カラーフィルタ用多面付け基板の表面と製造装置とが接触する可能性があり、また製造されたカラーフィルタ用多面付け基板がロールに巻き取られて保管されることとなるからである。本発明においては、このような場合であっても、上記柱部が形成されていることから、基材上に形成された着色層等の部材と製造装置とが直接接触することを防止することができ、またカラーフィルタ用多面付け基板が保管される際、各部材と基材等とが接触することを防止することができる。したがって、本発明の利点をより活かすことが可能となるからである。
【００２８】
このような基材としては、樹脂のみからなるものであってもよく、また樹脂とガラス繊維等を組み合わせたもの等であってもよい。上記樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリエーテルスルホン、ポリアミドイミド、ポリアミド、もしくは芳香族ポリアミド等の合成樹脂を挙げることができ、中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、もしくはポリエーテルスルホンが好適に用いられる。また、例えば金属箔やごく薄いシート状のガラスからなる基材等であってもよい。上記基材の膜厚としては、用途により適宜選択されるが、通常、５μｍ〜４００μｍとされることが好ましく、中でも、１０μｍ〜２００μｍ程度とされることがより好ましい。
【００２９】
ここで、本発明においては、上記基材として可撓性を有するウェブ状の基材を用いた場合には、上記画素領域は、例えば図３に示すように、基材１の側辺ａと画素領域２を構成する各辺の延長線ｂとがなす角θが４５°±０．５°となるように形成されていることが好ましい。なおこの場合、上記ウェブ状の基材１の側辺ａは、精度よく直線状に形成されていることが好ましい。カラーフィルタ用多面付け基板を用いて液晶表示装置を作製する場合、基材の着色層等が形成された面と反対側の面には、偏光板が貼り合わせられる。この際、偏光板の偏光方向と画素領域の各辺とがなす角は、約４５°となるように調整される。そこで、上記画素領域の形状を、上述したものとすることにより、側辺と平行または垂直に偏光方向を有するウェブ状の偏光板を連続的に貼付することによって、容易に偏光板の偏光方向と画素領域の各辺とのなす角を上述したものとすることができる。したがって、本発明のカラーフィルタ用多面付け基板を用いて効率よく液晶表示装置を製造することが可能となるからである。
【００３０】
３．着色層
次に、本発明に用いられる着色層について説明する。本発明に用いられる着色層は、上記基材の各画素領域にそれぞれ形成されるものである。このような着色層としては、一般的なカラーフィルタ用多面付け基板に形成される着色層と同様とすることができる。
【００３１】
このような着色層としては、通常、１画素中に、例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の三色の画素が形成されたもの等とされ、それらは、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列に形成されたもの等とすることができる。また、四色以上の画素が形成されたものであってもよい。またさらに、１画素の面積は求められる解像度によって任意に設定される。
【００３２】
このような着色層の形成方法や形成材料、形成面積、形成方法等としては、一般的なカラーフィルタ用多面付け基板の着色層に用いられるものと同様とすることができる。
【００３３】
４．カラーフィルタ用多面付け基板
次に、本発明のカラーフィルタ用多面付け基板について説明する。本発明のカラーフィルタ用多面付け基板は、上記基材、柱部、および着色層を有するものであればその構成等は特に限定されるものではなく、上述したように柱状スペーサや遮光部等が形成されているものであってもよい。通常、本発明におけるカラーフィルタ用多面付け基板においては、上記着色層上に透明電極層や保護層が形成され、その透明電極層や保護層上に配向膜が形成されたものとされる。この際、上記透明電極層や保護層等は、上記柱部が形成された後に形成されたものであることが好ましい。これにより、柱部によって、上記透明電極層等が製造装置等と接触して欠陥が生じることを防ぐことができ、高品質なカラーフィルタ用多面付け基板とすることができるからである。なお、柱部上や柱状スペーサ上に透明電極層が形成されている場合には、カラーフィルタ用多面付け基板を対向基板と貼り合せて液晶表示装置とする際、柱部上や柱状スペーサ上が絶縁されるように対向基板の構成等を調整することが好ましい。
【００３４】
ここで、本発明に用いられる上記柱状スペーサや遮光部、透明電極層、保護層、配向膜等については、、一般的なカラーフィルタ用多面付け基板に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００３５】
Ｂ．カラーフィルタ用多面付け基板の製造方法
次に、本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法について説明する。本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法は、可撓性を有し、かつ複数の画素領域上に着色層が形成されているウェブ状の基材の、上記各画素領域の外側の領域上に、転写法により柱部を形成する柱部形成工程を有することを特徴とするものである。
【００３６】
本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法は、例えば図４に示すように、各画素領域２上に着色層３が形成されたウェブ状の基材１上（図４（ａ））に、柱部を形成する柱部形成用感光性フィルム１１を密着させて、柱部を形成する形状にフォトマスク１２を用いてエネルギー１３を照射し（図４（ｂ））、上記柱部形成用感光性フィルム１１を現像することにより、基材１の画素領域２の外側の領域に柱部４を形成する（図４（ｃ））柱部形成工程を有することを特徴とするものである。ここで、上記画素領域とは、カラーフィルタ用多面付け基板が用いられて液晶表示装置が製造された際、液晶表示領域として用いられることとなる部分をいうこととする。
【００３７】
本発明によれば転写法により上記柱部を形成することから、基材が凹凸を有していても、柱部を形成する柱部形成用感光性フィルムを追従させて柱部を形成することができ、一定の高さを有する柱部を有するカラーフィルタ用多面付け基板とすることができる。これにより、上記着色層上に透明電極層を形成する際や、配向膜等を形成する際、上記着色層や透明電極層等が製造装置と接触して欠陥が生じることを防止することができる。また、形成されたカラーフィルタ用多面付け基板基板をロールに巻き取った場合であっても、上記柱部によって、上記着色層等の各部材が、基材等と接触することを防止することができ、カラーフィルタ用多面付け基板をロール状で保管することが可能となるのである。以下、本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法について詳しく説明する。
【００３８】
１．柱部形成工程
まず、本発明における柱部形成工程について説明する。本発明の柱部形成工程は、可撓性を有し、かつ複数の画素領域上に着色層が形成されているウェブ状の基材の、上記各画素領域の外側の領域上に、転写法により柱部を形成する工程である。
【００３９】
上記転写法による柱部の形成は、例えば以下の方法により行うことができる。まず、樹脂製のフィルム上に感光性樹脂を含有する感光性樹脂層が形成された柱部形成用感光性フィルムを準備し、上記感光性樹脂層を上記着色層が形成された基材と貼り合せる。上記柱部形成用感光性フィルムの貼り合わせは、通常、一般にホットロールと呼ばれる加熱可能なロール又はヒートシューと呼ばれる加熱用ジャケットとラミネートロールと呼ばれるロールにより、感光性樹脂層を加熱し軟化しながら行う。この際、上記基材を必要に応じて加熱してもよい。
【００４０】
その後、感光性樹脂層を目的とする柱部のパターン状に露光し、上記樹脂製フィルムを剥離して、現像液で現像する。なお、上記露光は、上記樹脂製のフィルムを剥離した状態で行ってもよい。また、必要に応じて上記現像後、加熱するポストベーク工程等を行ってもよい。上記露光方法や現像方法としては、一般的な感光性樹脂の露光方法や現像方法と同様とすることができる。
【００４１】
また、上記感光性樹脂層としては、例えば感光性樹脂と、光重合開始剤と、必要に応じて染料または顔料等を含有する層とすることができる。このような材料としては、一般的なカラーフィルタ用多面付け基板における柱状スペーサの形成に用いられる材料と同様とすることができ、上述した「Ａ．カラーフィルタ用多面付け基板」で説明したものと同様とすることができる。
【００４２】
ここで、本発明においては、上記柱部の形成と同時に、上記画素領域内に柱状スペーサを形成することが好ましい。これにより、上記柱状スペーサを形成する工程を別途行う必要がなく、製造効率よくカラーフィルタ用多面付け基板を製造することが可能となるからである。
【００４３】
なお、本工程に用いられるウェブ状の基材や、着色層等については、上述した「Ａ．カラーフィルタ用多面付け基板」で説明したものと同様とすることができる。また、本工程により形成される柱部の形状や、形成位置等についても、上述した「Ａ．カラーフィルタ用多面付け基板」で説明したものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００４４】
２．その他
本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法においては、上記柱部形成工程以外に、例えば基材上に着色層を形成する着色層形成工程や、上記着色層上に透明電極層を形成する透明電極層形成工程、配向膜を形成する配向膜形成工程等を有していてもよい。このような各工程は、一般的なカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法における各工程と同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００４５】
なお、本発明においては、上記透明電極層形成工程や、配向膜形成工程は、上記柱部形成工程後に行われることが好ましい。これにより、上記柱部によって、形成される透明電極層や配向膜等が製造装置と接触すること等を防止することができ、欠陥のない、高品質なカラーフィルタ用多面付け基板を製造することが可能となるからである。
【００４６】
また、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するもの、またはこれらの均等物は、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００４７】
以下、本発明について、実施例を通じてさらに詳述する。
【００４８】
≪実施例≫
［基材・ベースフィルム］
基材となるベースフィルムとして、東洋紡製ポリエステル（ＰＥＴ）フィルム、厚さ１２０μｍ、幅３００ｍｍを準備した。表面処理その他は事前には行わなかった。
【００４９】
［フォトマスク］
以下のフォトマスクを準備した。
フォトマスクは３３０ｍｍ×４５０ｍｍ、厚さ５ｍｍの平滑な石英ガラス基板にクロム金属を片面スパッタ処理したものとし、上記フォトマスクの各面に、対角４インチ、解像度２００ｐｐｉになるようにしたカラーフィルタパターンを２面付けしたものとした。またこの際、上記各カラーフィルタパターンは、ＭＤ方向に等間隔となるように、それぞれフォトマスクのＴＤ方向の中央に配置した。
この配置を基本に、遮光部用１枚、ＲＧＢ（着色層用）各色１枚、および柱状スペーサー用１枚、それぞれ所定のパターンを有するフォトマスクを作成した。
ここで、遮光部用のフォトマスクには遮光部のパターン以外に、露光装置の露光エリアとなる２００ｍｍ×２００ｍｍの内側であって、画素領域の外周となる領域に台座用のパターンを形成した。この台座用パターンにより形成される台座は、柱状スペーサ用フォトマスクを用いて形成される柱部の台座とされるものである。
また、柱状スペーサー用フォトマスクにも、上記遮光部用フォトマスクに形成した台座用のパターンと同様の位置に、柱部用のパターンを形成した。なお、上記遮光部用のフォトマスクに形成した台座用のパターンは直径１０μｍ、柱状スペーサー用のフォトマスクに形成した柱部用のパターンは直径８μｍとした。
【００５０】
＜遮光部の形成＞
（遮光部形成用組成物の塗布）
上述した基材となるＰＥＴフィルム上に、下記の組成の遮光部形成用組成物を、ウェット状態で厚み；１０μｍになるようダイコーターを用いて塗布し、乾燥後、温度；９０℃の条件で２分間プリベークして２μｍの厚みの遮光部形成用組成物の塗膜付き原反を得た。当該コーターにはフィルム巻き出し部にプラズマ処理装置を備え、塗布直前に通常のプラズマ表面処理を行った。
［遮光部形成用組成物の組成］
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝７３／２７）    １３５部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                                ７２部
・カーボンブラック分散液                                                １３５部
・光重合開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１）                                                        ２．３部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                      ５４０部
※部数はいずれも質量基準
【００５１】
（露光処理工程）
上流側に巻き出し装置、下流側に巻き取り装置を備えた露光装置に、上記で得られた塗膜付き原反を通し、露光装置の入口側および出口側に設置されたニップローラ対を駆動して、連続状の原反を搬送した。この搬送状態において、原反にかかるテンションは、２ｋｇ／３００ｍｍ幅であった。
露光装置の本体の温度は２１℃±０．１℃になるよう、また、相対湿度は６０％±１％になるよう、それぞれ調整した。
塗膜付き原反を露光台上に吸着固定した後、原反の塗膜表面と上記遮光部用のフォトマスクとの間隔（ギャップ）を９５μｍになるよう自動調整した。また原反の露光位置は、露光装置が原反の端面からの距離を自動検出し、フォトマスクのパターンの位置を自動調整するものとした。光源としては、高圧水銀ランプを用いて、露光エリアを２００ｍｍ×２００ｍｍとして、Ｉ線（波長；３６５ｎｍ）を用い、１５ｍｗ／ｃｍ２の照度で２０秒間露光し、３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量とした。なお、フィルムの送りピッチは３００ｍｍとした。
【００５２】
（現像処理・ポストベーク処理工程）
現像処理は、露光機の下流側に現像装置を設置して行った。露光処理後の原反を４００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度で搬送して現像し、上記ＰＥＴフィルム上に所定のパターンの遮光部および台座が形成されたフィルムを得た。
その後、ベーク炉にて１５０℃、３０分のポストベークを行い遮光部および台座を熱キュアした。
【００５３】
＜着色層の形成＞
（着色層形成用転写ドライフィルムの形成）
東洋紡製４０μｍ厚の３００ｍｍ幅ポリエステルフィルム（基体フィルム）の上に、事前に準備した下記の組成の着色層形成用組成物を、ウェット状態で厚み；１０μｍになるようダイコーターを用いて塗布し、乾燥後、温度；９０℃の条件で２分間プリベークして２μｍの厚みの着色層形成用転写ドライフィルムを得た。
【００５４】
［（赤色）着色形成用組成物の組成］
・感光性ポリマー
メタクリル酸メチル、アクリロニトリル、アクリル化グリシジルアクリル酸エステルが６５：１０：２５のモル比からなる共重合体              １１９６部
・ベースポリマー
メタクリル酸メチル、β−ヒドロキシエチルメタクリル酸エステルが９０：１０のモル比からなる共重合体                                        ５５７部
・可塑剤
トリエチレングリコールジ酢酸エステル                    ２６２部
・開始剤
第三級ブチルアントラキノン                              １４２部
・熱重合防止剤
２，２´-メチレン−ビス−（４−エチル−６−第三級ブチルフェノール）
３４．５部
・顔料
バルカンファストレッドＢ（ヘキスト社製）                ３００部
・メチルエチルケトン                                    １０００部
※部数はいずれも質量基準
【００５５】
（露光処理工程）
上述した遮光部および台座が形成されたＰＥＴフィルムと、上記の仕様で作成された着色層形成用転写ドライフィルムとを、上記遮光部面および上記着色層形成用組成物面が内側となるように重ね、積層原反とした。この積層原反を、上流側に巻き出し装置、下流側に巻き取り装置を備えた露光装置に通し、露光装置の入口側および出口側に設置されたニップローラ対を駆動して、連続状の積層原反を搬送した。この搬送状態において、積層原反にかかるテンションは、２ｋｇ／３００ｍｍ幅であった。
露光装置の本体の温度は２１℃±０．１℃になるよう、また、相対湿度は６０％±１％になるよう、それぞれ調整した。
積層原反を露光台上に吸着固定した後、着色層形成用転写ドライフィルムの基体フィルム表面と着色層（ＲＥＤ）用フォトマスクとの間隔（ギャップ）を９５μｍになるよう自動調整した。また積層原反の露光位置は、露光装置が積層原反の端面からの距離を自動検出し、フォトマスクのパターンの位置を自動調整するものとした。またこの際、上記遮光部形成時に同時に形成したアライメントマークを用いてフォトマスクとアライメントをとり、露光を行った。光源としては、高圧水銀ランプを用いて、露光エリアを２００ｍｍ×２００ｍｍとして、Ｉ線（波長；３６５ｎｍ）を用い、１５ｍｗ／ｃｍ２の照度で２０秒間露光し、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量とした。
【００５６】
（現像処理・ポストベーク処理工程）
現像は、露光機の下流側に現像装置を設置して行った。露光処理後の積層原反を４００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度で搬送し、現像装置の直前で着色層形成用転写ドライフィルムの基体フィルムのみを剥がし、現像を行った。これにより、上記遮光部の開口部の所定位置に赤色着色層が形成されたフィルムを得た。その後、ベーク炉にて１５０℃、３０分のポストベークを行い、赤色着色層を熱キュアした。
上記赤色着色層の形成と同様の方法で緑色着色層および青色着色層の形成を行い、上記ＰＥＴフィルム上に遮光部およびＲＧＢ着色層が形成されたフィルム原反が得られた。なお、上記緑色着色層形成の際には顔料として、ヘリオゲングリーン（ヘキスト社製）３５０部を用い、青色着色層形成の際には、顔料としてインダースレンブルーＢＣ（ＢＡＳＦ社製）２００部を用いて、前記着色層形成用組成物を調製した。
【００５７】
＜柱状スペーサおよび柱部の形成＞
さらに、柱状スペーサーおよび柱部を形成するために、上記着色層形成用組成物の顔料成分を除去した透明な柱状スペーサ形成用組成物を準備し、上記着色層形成用転写ドライフィルムの形成と同様の条件で柱状スペーサ形成用転写ドライフィルムを作製した。その後、柱状スペーサ用のフォトマスクを用い、上記着色層の形成と同様の条件で、柱状スペーサーおよび柱部を形成した。なお、柱状スペーサーは画素領域における遮光部の交点全てに設けた。また、画素領域の外周には、柱部を柱状スペーサと同様のピッチで形成した。
得られた柱状スペーサー付カラーフィルタを寸法測定機（ニコン製ＮＥＸIVＶＭＲ−６５５５）にて温度；２３℃±０．１℃、相対湿度；６０％±１％の条件下で測定したところ、直径１０μｍの遮光部と同様の台座の上に、±０．５μの精度で、透明な柱部が形成されていることが確認できた。
最後に、当該柱状スペーサー付カラーフィルタを１４０℃、２４時間オーブンにてキュアリングを行った。
【００５８】
＜評価＞
上記柱状スペーサー付カラーフィルタを用いて、連続スパッタ装置によりＩＴＯの製膜実験を行ったところ、通常の条件にてＩＴＯ膜が製膜ができた。また、上記実験装置には少なくとも８本のロールがあり、柱状スペーサ付カラーフィルタの表面、すなわち着色層等が形成された面が全ての搬送ロールと接触する構造となっていた。
上記ＩＴＯ膜を形成した柱状スペーサー付カラーフィルタを顕微鏡に詳細に観察した結果、３００ｍｍ送りで、２面付されたカラーフィルタ面上には、傷、欠陥が見出されなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の一例を示す平面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタ用多面付け基板を説明する説明図である。
【図３】本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の他の例を示す平面図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ用多面付け基板の製造方法の一例を示す工程図である。
【符号の説明】
【００６０】
１  …基材
２  …画素領域
３  …着色層
４  …柱部
【図１】
2006162875.tif 000003
【図２】
2006162875.tif 000004
【図３】
2006162875.tif 000005
【図４】
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