(57)【要約】【課題】回動型処理装置における被処理物の処理槽への出し入れ操作を簡単にする。【解決手段】密閉容器１内に設けた遮蔽板２の下部に複数個の処理槽３を設置して密閉容器を形成し、その少なくとも一つの処理槽の密閉容器外壁に、被処理物を密閉容器内に出し入れするための開口部を設け、該開口部に、被処理物を出入りできる密閉用の内シャッター１１と外シャッター１２とを持った密閉槽１０を連結することによって、従来のように被処理物と吊下具との切り離しおよび再連結を行わなくても、この密閉槽１０を利用して被処理物６を処理槽３に出し入れする。【選択図】図１
2006297199.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
密閉容器内のガスを吸引したり、そのガスを再吐出するガスホルダーと、一端が密閉容器の外に貫通して密閉状態を維持しつつ、回転と上下運動をし得る駆動軸と、該駆動軸の密閉容器外に貫通した一端に接続された駆動装置と、密閉容器内の駆動軸から放射状に伸びた複数の被処理物の吊下棒と、該吊下棒の先端部にそれぞれ装着され、被処理物を収納できる収納枠とを備えており、前記駆動軸を引き上げた状態で吊下棒に吊るされた収納枠の下底より下の部分の密閉容器内に遮蔽板を設け、該遮蔽板に前記収納枠に対応して複数個の処理槽用開口部を設け、前記駆動軸を引き下げた状態で、前記吊下棒に吊持された前記収納枠を装入できる処理槽を前記処理槽用開口部にそれぞれ連結して設置し、少なくとも一つの処理槽の密閉容器外壁に、被処理物を密閉容器内に出し入れするための開口部を設け、該開口部に、被処理物を出入りできる密閉用のシャッターを持った密閉槽が連結されており、該密閉槽を通して被処理物を密閉容器内に出し入れすることを特徴とする密閉処理装置。
【請求項２】
密閉用のシャッターが内シャッターと外シャッターとからなり、内シャッターが密閉容器外壁に設けた開口部に設けられており、内シャッターが開、外シャッターが閉、の状態で被処理物を密閉槽から密閉容器に対し出し入れし、内シャッターが閉、外シャッターが開、の状態で被処理物を密閉槽から出し入れすることを特徴とする請求項１に記載の密閉処理装置。
【請求項３】
密閉槽が連結されていない少なくとも一つの処理槽の密閉容器外壁に、被処理物を密閉容器内に出し入れできる開口部を設け、該開口部にシャッターを介して密閉容器内の処理と異なる処理を行うための密閉処理槽が連結されていることを特徴とする請求項１または２に記載の密閉処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶剤等を用いた密閉処理装置、特に処理槽を円形状に配設した回動型処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
溶剤を用いた例えば洗浄処理装置（以下、処理装置とする）としては、作業の能率上、被処理物の出し入れのために解放状態の開口部を持った処理装置が一般的である。被処理物の形状が小さかったり複雑であったりするために、被処理物を篭等の中に纒めて入れ、この状態で処理操作をするのが通常であるが、被処理物を処理装置に出し入れする際に、処理装置からの溶剤の漏れや被処理物との同伴による溶剤の損失、更に作業環境の悪化等を避けることは困難である。
【０００３】
また、被処理物を段階的に洗浄する場合において、要求される洗浄レベルの上昇とともに洗浄段数が増し、このため処理装置の必要床面積が増大し、拡大するクリンルームの非効率化をもたらしている。
【０００４】
また、開放された処理装置は雰囲気や、被処理物の移送装置からの汚染が生ずるおそれがある。
【０００５】
溶剤を用いた処理装置おけるこのような問題を解決する方法として、本発明者は、先に特許文献１により溶剤処理密閉装置を提案した。この特許文献１には、密閉容器内のガスを吸引したり、そのガスを再吐出するガスホルダーを有する密閉容器に、密閉状態を維持しつつ、回転と上下運動をし得るように駆動軸を設け、密閉容器内の該軸から放射状に伸びる複数の吊下具の先端部にそれぞれ被処理物を吊し得るようにし、前記駆動軸を引き上げた状態で吊るされた被処理物の下底より下の部分の密閉容器内に遮蔽板を設け、該遮蔽板に複数個の開口部を設けると共に、遮蔽板の下方に該開口部に連結して処理槽を設け、少なくとも一つの処理槽の開口部に密閉可能なシャッターを設けると共に、該処理槽の密閉容器外壁に密閉可能な被処理物の出入り用のシャッターを設けた溶剤処理密閉装置が記載されている。
【０００６】
この密閉装置により、処理装置からの溶剤の漏れや被処理物との同伴による溶剤の損失、更に作業環境等の問題のほとんどは解決することができる。
【特許文献１】特開平１１−１９７５８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記密閉装置では、被処理物を出入りする処理槽を密閉にするためにシャッターを閉める必要から、吊下具は密閉可能な処理槽に降ろされた被処理物と切り離し、吊下具がシャッターの作動に邪魔にならないように引き上げる必要がある。さらに、上記処理槽に被処理物が搬入されたときには、シャッターが開けられ、吊下具を降ろして被処理物と再連結する必要がある。
【０００８】
この被処理物と吊下具との切り離しおよび再連結は、特別な用具と操作が必要であるため作業性の面で問題があり、更に装置の故障の原因となるおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、密閉容器内のガスを吸引したり、そのガスを再吐出するガスホルダーと、一端が密閉容器の外に貫通して密閉状態を維持しつつ、回転と上下運動をし得る駆動軸と、該駆動軸の密閉容器外に貫通した一端に接続された駆動装置と、密閉容器内の駆動軸から放射状に伸びた複数の被処理物の吊下棒と、該吊下棒の先端部にそれぞれ装着され、被処理物を収納できる収納枠とを備えており、前記駆動軸を引き上げた状態で吊下棒に吊るされた収納枠の下底より下の部分の密閉容器内に遮蔽板を設け、該遮蔽板に前記収納枠に対応して複数個の処理槽用開口部を設け、前記駆動軸を引き下げた状態で、前記吊下棒に吊持された前記収納枠を装入できる処理槽を前記処理槽用開口部にそれぞれ連結して設置し、少なくとも一つの処理槽の密閉容器外壁に、被処理物を密閉容器内に出し入れするための開口部を設け、該開口部に、被処理物を出入りできる密閉用のシャッターを持った密閉槽が連結されており、該密閉槽を通して被処理物を密閉容器内に出し入れすることを特徴とする密閉処理装置を提供する。
【００１０】
本発明の好ましい実施形態において、密閉用のシャッターは内シャッターと外シャッターとからなり、内シャッターが密閉容器外壁に設けた開口部に設けられており、内シャッターが開、外シャッターが閉、の状態で被処理物が密閉槽から密閉容器に対し出し入れされ、内シャッターが閉、外シャッターが開、の状態で被処理物が密閉槽に対し出し入れされる。
【００１１】
さらに、本発明の好ましい実施形態において、密閉槽が連結されていない少なくとも一つの処理槽の密閉容器外壁に、被処理物を密閉容器内に出し入れできる開口部を設け、該開口部にシャッターを介して密閉容器内の処理と異なる処理を行うための密閉処理槽が連結されている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、上記したように密閉容器内に複数個の処理槽を設置し、その少なくとも一つの処理槽の密閉容器外壁に、被処理物を密閉容器内に出し入れするための開口部を設け、該開口部に、被処理物を出入りできる密閉用のシャッターを持った密閉槽を連結することによって、従来のように被処理物と吊下具との切り離しおよび再連結を行わなくても、この密閉槽を利用して被処理物を処理槽に出し入れできる。さらに、故障が少なく作業性のよい密閉処理装置が得られる。
【００１３】
また、本発明による密閉処理装置を用いると、処理装置からの溶剤の漏れや被処理物との同伴による溶剤の損失を少なくできるので、オゾン層の保護、地球温暖化、環境汚染の防止、労働条件の改善等に貢献できる。
【００１４】
また、処理槽を円周状に配置した回動型処理装置であるので、処理槽を直列に配置して操作する方法に比べ必要床面積が少なくて済み、外部雰囲気による汚染を生じることなく処理ができることからクリンルームの必要面積を少なくできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明を図面に基づいて具体的に説明する。以下に示す図面は本発明の好ましい実施の態様である密閉洗浄処理装置を例示したものであり、本発明はこれに限定されない。
【００１６】
図１は本発明に係る密閉洗浄処理装置の、図２のＢ−Ｂ部おける平面矢視図であり、図２は図１のＡ−Ａ部における断面説明図である。図示するように、本例の密閉容器１は円筒状の密閉容器で、その円筒状の内部もしくは底部に円板状の遮蔽板２を有している。この遮蔽板２には被処理物６が入った収納枠５が入り得る４個の処理槽用開口部１５が形成されており、該処理槽用開口部１５に連結して例えば角筒状容器からなる処理槽３（３-１〜３-４）が円周上に等間隔で遮蔽板２の下部に取り付けられ、一体となって密閉容器１を形成している。
【００１７】
かかる密閉容器１において、処理槽用開口部１５と処理槽３の設置数は駆動軸７に配置される吊下棒９の個数に対応している。つまり、これらの設置数は密閉洗浄処理装置において段階的に処理する洗浄の処理段数によって決められる。本例は洗浄を４段処理で行う場合であり、処理槽用開口部１５と処理槽３の設置数は４個になっている。しかし、更に多段で洗浄処理するときはこれらの設置数は増加し、逆に処理段数が少ないと減少する。
【００１８】
４個の処理槽のうちの少なくとも１個の処理槽（図１の処理槽３-１）には、被処理物もしくは被処理物を入れたバスケットや枠体等（以下、これらをまとめて被処理物ということもある）を密閉容器１内に出入りするための開口部が、該処理槽の密閉容器１の外壁すなわち該処理槽の外壁に設けられており、該開口部に、密閉用のシャッターを備えた密閉槽１０が連結されている。該密閉槽１０は、被処理物を収容できる大きさを有しているが、真空操作のためにはその容積はできるだけ小さいほうが望ましい。通常は処理槽３とほぼ同じ形体のものが好ましく使用できる。また、密閉槽１０の例えば底部には被処理物を移動しやすくする例えばコロやロール等の工夫を必要に応じ施すことができる。
【００１９】
密閉槽１０処理槽３−１が備える密閉用の上記シャッターは、処理槽３−１の密閉容器１の外壁に設けた前記開口部に取り付けられる内シャッター１１と、例えば内シャッター１１の対向面に設けられる外シャッター１２とからなっており、これらのシャッター１１、１２は、被処理物の出し入れに際して密閉系内のガスの漏れ出しや、系内への空気の持込が無いように操作するために用いられる。これについては後述する。なお、密閉用の内シャッター１１および外シャッター１２をそれぞれ処理槽３-１および密閉槽１０の底面に設け、被処理物を槽底部から出し入れするようにすることもできる。
【００２０】
さらに、密閉容器１には、図２に示すようにガスホルダー４が連結されている。このガスホルダー４は、その保有ガス量に応じて実質的に圧力変化が生じないように膨縮して容量を変化させ、密閉容器１からガスを外部に放出したり、外部から空気が密閉容器１内に入らないように作用する。このガスホルダー４として、従来から知られているガスホルダーが使用できる。
【００２１】
密閉容器１の円筒状天井の中心部には、シール部１４を介して駆動軸７が貫通して設けられている。この駆動軸７は、密閉容器１の外部に貫通した一端に駆動装置１３が連結されており、該駆動装置１３によって気密状態を維持しつつ回転及び上下に動くようになっている。さらに、密閉容器１内の駆動軸７から４本の吊下用アーム８が放射状に延在し、該吊下用アーム８の先端に吊下棒９を取り付けし、該吊下棒９の下端にそれぞれ被処理物を収納できる収納枠５を吊す。吊下棒９に吊るされた収納枠５は、駆動軸７が上げられた状態では底面が遮蔽板２より上方に位置しており、駆動軸７を下げることによって４個の処理槽３の内部に降下し、被処理物６を洗浄処理できるようになっている。
【００２２】
本例の密閉系洗浄装置において、被処理物の吊下用アーム８は棒状であるが、吊下棒９を駆動軸７の周囲に放射状に配置できるものであればよく、例えば円板状でもよい。また、密閉容器１は必ずしも円筒状である必要はなく、角筒状でも多角筒状でも差し支えない。また、開口部１５と処理槽３（角筒状容器）は、収納枠５の形状に合わせて便宜的に矩形状にしているが、被処理物を入れる収納枠５の形状は適宜の形状でよく、開口部１５と処理槽３の形状もこの収納枠５が入れば適宜な形状でよい。
【００２３】
次に、上記密閉系洗浄装置を用いて洗浄処理する操作について図１と図２を用いて説明する。密閉容器１内には上記したように４個の処理槽３が円周上に等間隔で配置されており、被処理物６が収納枠５に収納された状態で各処理槽にて洗浄処理される。処理槽３-２、３-３、３-４には、例えば塩素化弗化炭化水素や塩素化炭化水素のような溶剤が入れられるが、処理槽３-１には、溶剤は入れられておらず、前記開口部から被処理物６を密閉槽１０に出し入れできるようになっている。
【００２４】
円周上に配置された処理槽３には、駆動軸７の下げによって被処理物６を収納した収納枠５が、吊下棒９で吊るされて装入され、これにより被処理物６が溶剤に浸漬される。そして、各処理槽で洗浄処理が行われた後、被処理物６は駆動軸７にて処理槽３から引き上げられ、この状態で1区画分（本例では９０度）水平移動される。次いで駆動軸７が下げられ、被処理物６はそれぞれ次の処理槽３に降ろされて各処理槽で前の洗浄よりクリーン度が高い洗浄処理が行われる。このような洗浄操作は、従来の方法と実質的に同一である。
【００２５】
次に、洗浄処理された被処理物の取り出しについて説明する。処理槽３−１では、洗浄処理が終了した被処理物６が搬送枠５に入った状態で置かれている。この被処理物６を溶剤ガスの同伴無しに取り出すための操作を行う。
【００２６】
すなわち、密閉槽１０の内シャッター１１は開いた状態にて処理槽３-１内の被処理物６を密閉槽１０内に移動する。収納枠５を移動する方法は、図示はしないが例えば収納枠５が処理槽３-１内に下ろされると、被処理物６が処理槽３-１の底部に設けたロールに乗載されるようにし、この状態で被処理物６を処理槽３-１に密封連結された例えばパワーシリンダー（不図示）で押し収納枠５から離脱させて密閉槽１０に移動させる。被処理物６を処理槽３-１から処理槽１０に移動させる方法は、密封状態で操作できれば他の方法でもよい。
【００２７】
密閉槽１０に被処理物６が移動されると内シャッター１１を閉め、密閉槽内を真空ポンプ１８で吸引して付着している溶剤をガス化し、同時に密閉槽内のガスを密閉系内に回収する。つまり、真空ポンプ１８にて吸引したガスは密閉容器１に導入し、導入されたガスは、密閉系内で一部凝縮後、ガスホルダー４に預けられる。このガスは後述の被処理物を密閉容器１に装入する際に密閉槽１０に戻される。吸引回収後、密閉槽１０に空気か場合によっては不活性ガスを導入して大気圧にした後、外シャッター１２を開けて被処理物６を取り出す。その際、導入するガス（空気を含む）をクリーンなガスを用いることで密閉系内をクリーンな状態に維持することができる。
【００２８】
次いで、密閉系洗浄装置に新しい被処理物６を密閉槽１０を利用して装入する。この際に、同伴して空気が入らないように以下の操作で装入する。
すなわち、内シャッター１１が閉じられている密閉槽１０に未処理の被処理物６を装入した後、外シャッター1２を閉め、次いで密閉槽１０内の空気を真空ポンプ（図示せず）を用いて吸引して外部に排出した後、密閉容器１のガスホルダー４に預けられているガス（前述の密閉槽１０から被処理物を取り出す際に預けられたガス）を管１６にて密閉槽１０に導入して密閉容器１の内圧と均圧にする。次いで、内シャター１１を開けて被処理物６を取り出し時の逆操作で処理槽３-１に導入し、該処理槽３-１内の収納枠５に収納する。新しい被処理物が収納枠５に収納された後、各処理槽内の被処理物を駆動軸７の引き上げによって同時に持ち上げ、この状態で駆動軸７を処理槽３の一区画分回転移動し、被処理物をそれぞれ次の処理槽に下ろし洗浄処理する。
【００２９】
この結果、新しく装入した処理槽３-１の被処理物は処理槽３-２へ、同様にして処理槽３-２の被処理物は処理槽３-３へ、処理槽３-３の被処理物は処理槽３-４へ、処理槽３-４からは処理済みの被処理物が処理槽３−１にそれぞれ移動される。処理槽３-２〜３-４に移動された被処理物は、それぞれの処理槽で洗浄処理される。このように密閉槽１０の内シャッター１１を一度開ける度に、密閉容器１から処理完了の被処理物が密閉槽１０に取り出されると共に、新しい被処理物が密閉容器内に装入される。そして、上記操作を繰り返すことによって、被処理物を密閉系内からのガスの漏れや系内への空気の侵入を防止しながら間欠的に連続して洗浄処理できる。
【００３０】
図３は、本発明の他の実施形態を示す図１と同様の平面図である。本例は、図３に示すように処理槽３-１以外の他の処理槽の１または２以上にも必要に応じて密閉処理槽１０’を設置することを特徴とする。具体的には、密閉容器１の例えば処理槽３-４の外壁に開口部を設け、該開口部に内シャッター１８を介して密閉処理槽１０’を密封連結し、密閉容器１内の処理の途中において処理槽３-４内の被処理物を該密閉処理槽１０’に取り出し、該密閉処理槽１０’において密閉容器内の処理と異なる処理を行う。
【００３１】
この密閉処理槽１０’において実施する処理は、密閉容器内で通常に処理することが問題のあるような処理が対象で、例えば、処理過程で発塵が発生したり、処理装置が密閉容器内雰囲気に適しないような場合などを挙げることができる。本例では、例えば付着液をできるだけ少なくした後に真空乾燥操作することによって付着液中の不純物がワークに残らないようにする操作として、被処理物に機械的に遠心力を与える操作を、周動処理槽から一時的に外して行う場合にこの密閉処理槽１０’を用いることができる。すなわち、密閉容器１内の処理槽３-２，３-３において溶剤液にて洗浄操作を行い、処理槽３-４には溶剤液を入れずに空の状態としておき、被処理物が３-４に移送されたならば密閉処理槽１０’に移動して機械的遠心力にて付着液を除去する所謂スピン処理を行った後、再び処理槽３-４に戻す。なお、処理槽３-４内と密閉処理槽１０’における被処理物６の出し入れは、前記した密閉槽１０と実質的に同じ操作でできる。
【００３２】
新規被処理物の密閉容器１への装入と処理済みの被処理物の取り出しは、図１と同様に密閉処理槽１０を利用して実施する。なお、密閉処理槽１０’の大きさや形体は密閉処理槽１０’における処理に応じて適宜決めることができ、また外シャッターは必要に応じて設ければよい。
【００３３】
本発明の密閉処理装置は、溶剤洗浄処理に最も好ましく使用でき、密閉系洗浄装置に被処理物を出し入れする処理槽に密閉槽１０を設けることにより、該被処理物の出し入れに際して、密閉系内に被処理物と共に空気が同伴されたり、あるいは系内のガスが系外に持ち出されることを極力抑制することができる。しかし、本発明の密閉処理装置は洗浄処理以外にも有効である。
【００３４】
更に、未処理および処理済みの被処理物を処理槽に出し入れするための密閉槽１０と別に密閉容器内の他の処理槽に必要に応じて密閉処理槽１０’を設置することにより、該密閉処理槽１０’に被処理物を移動して処理することが可能となるので、密閉容器内の処理槽で処理することができないもしくは困難な処理条件を有する処理など密閉容器内の処理と異なる特別処理を、密閉容器内の他の処理槽における処理と併行して行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明は、溶剤洗浄処理のように溶剤が密閉容器から外部に漏れないようにする密閉処理に有効に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の好ましい実施形態である密閉処理装置の平面図であり、図２のＢ−Ｂ部の矢視平面図を示す。
【図２】図１のＡ−Ａ部の断面説明図をある。
【図３】本発明の他の実施形態である密閉処理装置の平面図である。
【符号の説明】
【００３７】
１：密閉容器、                    ２：遮蔽板、
３：処理槽、                      ４：ガスホルダー、
５：収納枠、                      ６：被処理物、
７：駆動軸、                      ８：吊下用アーム、
９：吊下棒、                    １０：密閉槽、
１０’：密閉処理槽、            １１：内シャッター、
１２：外シャッター、            １３：駆動装置、
１４：軸シール、                １５：処理槽用開口部、
１６：管、                      １７：シャッター、
１８：真空ポンプ、
【図１】
2006297199.tif 000003
【図２】
2006297199.tif 000004
【図３】
2006297199.tif 000005