(57)【要約】【課題】  逆積層構造の記録層から良好な反射信号及びプッシュ−プル信号振幅が得られる光記録媒体を提供すること。【解決手段】  所定の溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）のプリグルーブが形成された基板上に反射層と色素記録層とが積層された逆積層構造のディスク基板を有する光記録媒体において、色素記録層の膜厚を、レベリング係数ＣＬが、    【数１】2006338799.tif 000021で示される範囲内になるように調製することにより、色素記録層から所定の反射信号及びプッシュ−プル信号振幅が得られる光記録媒体。（但し、レベリング係数ＣＬは、下記式（１）で定義される。    【数２】2006338799.tif 000022式（１）中、ｄＬは、色素記録層におけるランドの部分の膜厚（ｎｍ）である。ｄＧは、色素記録層におけるグルーブの部分の膜厚（ｎｍ）である。）【選択図】  図１
2006338799.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）のプリグルーブが形成された基板と、
前記プリグルーブ上に順番に積層された反射層と色素を含む記録層と、を有し、
前記記録層におけるレベリング係数ＣＬの範囲が、
【数１】
2006338799.tif 000015
で示されることを特徴とする光記録媒体。
（但し、レベリング係数ＣＬは、下記式（１）で定義される。
【数２】
2006338799.tif 000016
式（１）中、ｄＬは、記録層におけるランドの部分の膜厚（ｎｍ）である。ｄＧは、記録層におけるグルーブの部分の膜厚（ｎｍ）である。）
【請求項２】
前記記録層上に直接又は他の層を介して設けられた透明接着層と、
前記透明接着層上に順番に積層された半透明反射層、色素を含む第２の記録層及び光透過性の第２の基板と、を有することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記プリグルーブの溝深さ（Ｄ）が、２０ｎｍ〜５５ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記プリグルーブのトラックピッチが３８０ｎｍ〜７４０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項５】
所定の溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）のプリグルーブが形成された基板上に反射層と色素記録層とが積層され、当該基板と反対側の面から記録再生光が照射される逆積層構造のディスク基板を有する光記録媒体であって、
前記色素記録層の膜厚を、レベリング係数ＣＬが、
【数３】
2006338799.tif 000017
で示される範囲内になるように調製することにより、当該色素記録層から所定の反射信号及びプッシュ−プル信号振幅を得ることを特徴とする光記録媒体。
（但し、レベリング係数ＣＬは、下記式（１）で定義される。
【数４】
2006338799.tif 000018
式（１）中、ｄＬは、色素記録層におけるランドの部分の膜厚（ｎｍ）である。ｄＧは、色素記録層におけるグルーブの部分の膜厚（ｎｍ）である。）
【請求項６】
前記色素記録層におけるグルーブの部分とランドの部分とで生じた段差（ｄ０）が、１３．５ｎｍ〜７１．５ｎｍであることを特徴とする請求項５記載の光記録媒体。
【請求項７】
前記色素記録層は、有機色素化合物を含むことを特徴とする請求項５記載の光記録媒体。
【請求項８】
前記色素記録層上に積層された第２のディスク基板を備え、
前記第２のディスク基板は、光透過性の第２の基板上に第２の色素記録層と半透明反射層とが順番に積層され、前記色素記録層と当該第２の色素記録層とが向かい合うように、前記逆積層構造のディスク基板と透明接着層により貼り合わせたことを特徴とする請求項５記載の光記録媒体。
【請求項９】
光透過性の第１の基板上に、第１の色素記録層及び半透明反射層とが順次積層された第１のディスク基板と、
第２の基板上に、反射層、第２の色素記録層及び界面層が積層された第２のディスク基板と、
前記第１のディスク基板及び前記第２のディスク基板を、前記半透明反射層と前記界面層とが対向するように接着する透明中間層と、を有し、
前記第１の色素記録層を透過した記録再生光が照射される前記第２の色素記録層におけるレベリング係数ＣＬと、前記第２の基板に形成されたプリグルーブの所定の溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）とが、
【数５】
2006338799.tif 000019
で示される関係を満たすことを特徴とする光記録媒体。
（但し、レベリング係数ＣＬは、下記式（１）で定義される。
【数６】
2006338799.tif 000020
式（１）中、ｄＬは、第２の記録層におけるランドの部分の膜厚（ｎｍ）である。ｄＧは、第２の記録層におけるグルーブの部分の膜厚（ｎｍ）である。）
【請求項１０】
前記第２の色素記録層は、前記第１の色素記録層と略同程度のプッシュ−プル信号振幅が得られるように、当該第２の色素記録層におけるグルーブの部分とランドの部分とで生じた所定の段差（ｄ０）（ｎｍ）を有することを特徴とする請求項９記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関し、より詳しくは、追記型の光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体（光ディスク）の大容量化を図る手法の一つとして記録層の２層化が積極的に行われている。このような記録層の２層化は、光ディスクの寸法を変えることなく記録層の面積を容易に増やすことができる等のメリットがある。また、このような記録層を２層有する光ディスクに対して、光ディスクの片面からのみ照射されるレーザを用いて記録再生を行うことができれば、記録再生用レーザやそれに伴う機構を一つにして安価に記録再生装置を作製することができる。
このような、２層の記録層について片面からのみ照射される記録再生光を用いる光ディスクの製造方法としては、通常、２Ｐ法と逆積層法とが挙げられる。２Ｐ法は、光入射側の基板に形成した第１記録層と半透明反射層の上に、光硬化性の樹脂を塗布して光透過性スタンパを押し当て、これを光照射により硬化した後、光透過性スタンパを剥がすことにより溝パターンを転写し、その溝パターン上に第２記録層を形成する方法である（特許文献１参照）。
【０００３】
一方、逆積層法は、基板上に記録層と反射層とを順番に積層（以下、「通常積層」ということがある。）した第１基板と、第１基板とは逆の順番で、基板上に反射層と記録層とを積層（以下、「逆積層」ということがある。）した第２基板とを調製し、これらをそれぞれの記録層を内側に向けて、透明接着剤により貼り合せて製造する方法である（特許文献２参照）。
逆積層法は、２Ｐ法に比べて、生産工程の簡便さ、材料コスト等の面で利点を有している。そこで、このような２枚の基板を貼り合わせて調製された片面照射型２層光ディスクが有する２個の記録層に、それぞれ良好に記録再生を行う手法が報告されている（特許文献３参照）。例えば、特許文献３においては、第１基板及び第２基板の溝深さ、溝幅等の最適化を図ることによって、特に、片面から入射するレーザから遠い側の記録層の記録再生を良好に行うことが可能になる。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３３１４６３号公報
【特許文献２】特開２００３−３３１４７３号公報
【特許文献３】特開２００３−３０３４４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、２枚の基板を貼り合せて調製された光ディスクでは、基板上に記録層と反射層とを順番に積層（通常積層）した第１基板と、基板上に反射層と記録層とを積層（逆積層）した第２基板とでは、それぞれのグルーブ及びランドにおける色素を含む記録層の厚さが反対になる。
即ち、例えば、それぞれの記録層を、色素溶液を用いたスピンコート法により形成する場合、第１基板の記録層は、記録再生光が入射する面に近い側で、記録に使用するグルーブの記録層の厚さが厚く形成され、またランドの記録層の厚さが薄く形成される。一方、逆積層である第２基板の記録層は、記録再生光が入射する面に近い側で、記録に使用するグルーブの記録層の厚さが薄く形成され、またランドの記録層の厚さが厚く形成される。
このように、２枚の基板を貼り合せて調製された光ディスクでは、記録再生光が照射される面から見て、第１層目の記録層と第２層目の記録層とでは、グルーブとランドの記録層の厚さが反対になるため、記録再生光が照射される面から奥側にある第２層目の記録層に第１層目の記録層と同様に良好な記録再生を行うためには、トラッキング制御の極性はもとより、プッシュ−プル信号振幅も同程度にする必要がある。
【０００６】
本発明は、このような技術的課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、逆積層構造の記録層に良好な記録再生を行える光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決するために本発明者は鋭意検討した結果、第２層目の記録層から得られる反射信号及びプッシュ−プル信号振幅は、グルーブとランドとにそれぞれ塗布された色素膜の厚さが異なることによって生じた記録層の段差に影響されることを見出し、この知見に基づき本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、所定の溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）のプリグルーブが形成された基板と、プリグルーブ上に順番に積層された反射層と色素を含む記録層と、を有し、記録層におけるレベリング係数ＣＬの範囲が、
【０００８】
【数１】
2006338799.tif 000003
【０００９】
で示されることを特徴とする光記録媒体が提供される。
（但し、レベリング係数ＣＬは、下記式（１）で定義される。
【００１０】
【数２】
2006338799.tif 000004
【００１１】
式（１）中、ｄＬは、記録層におけるランドの部分の膜厚（ｎｍ）である。ｄＧは、記録層におけるグルーブの部分の膜厚（ｎｍ）である。）
本発明が適用される光記録媒体は、基板の表面に形成されたプリグルーブの溝深さ（Ｄ）とレベリング係数ＣＬとを所定の範囲に選択することにより、記録層の厚さは、反射信号及びプッシュ−プル信号振幅が両立するように最適化されている。
ここで、本発明が適用される光記録媒体において、基板上に設けられた記録層上に、直接又は他の層を介して透明接着層を設け、この透明接着層上にさらに順番に積層された半透明反射層、色素を含む第２の記録層及び光透過性の第２の基板とを設けた２層型の光記録媒体であることが好ましい。尚、第２の基板には、同様にプリグルーブが形成されている。
この場合、光透過性の第２の基板側から入射する記録再生光に対して奥側に配置される記録層の厚さが、反射信号及びプッシュ−プル信号振幅が両立するように最適化されている。
また、光記録媒体の基板の表面に形成されたプリグルーブの溝深さ（Ｄ）は、２０ｎｍ〜５５ｎｍであることが好ましい。
さらに、プリグルーブのトラックピッチが３８０ｎｍ〜７４０ｎｍであることが好ましい。
【００１２】
次に、本発明は、所定の溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）のプリグルーブが形成された基板上に反射層と色素記録層とが積層され、基板と反対側の面から記録再生光が照射される逆積層構造のディスク基板を有する光記録媒体であって、色素記録層の膜厚を、レベリング係数ＣＬが、
【００１３】
【数３】
2006338799.tif 000005
【００１４】
で示される範囲内になるように調製することにより、色素記録層から所定の反射信号及びプッシュ−プル信号振幅を得ることを特徴とする光記録媒体として捉えることができる。
（但し、レベリング係数ＣＬは、下記式（１）で定義される。
【００１５】
【数４】
2006338799.tif 000006
【００１６】
式（１）中、ｄＬは、色素記録層におけるランドの部分の膜厚（ｎｍ）である。ｄＧは、色素記録層におけるグルーブの部分の膜厚（ｎｍ）である。）
即ち、本発明が適用される光記録媒体は、逆積層構造のディスク基板を有し、基板とは反対側から入射する記録再生光により情報が記録される色素記録層の膜厚が、所定の反射信号及びプッシュ−プル信号振幅がバランス良く得られるように、最適化されている。
ここで、色素記録層は、例えば、スピンコート法等により反射層上に塗布されることによりグルーブの部分とランドの部分とで所定の段差（ｄ０）が生じる。本発明が適用される光記録媒体においては、このようなグルーブの部分とランドの部分とで生じた段差（ｄ０）が、１３．５ｎｍ〜７１．５ｎｍであることにより、逆積層構造の記録層から得られる反射信号及びプッシュ−プル信号振幅の最適化が図られる。
また、色素記録層は、有機色素化合物を含むことが好ましい。
さらに、本発明が適用される光記録媒体は、色素記録層上に積層された通常積層構造の第２のディスク基板を備え、第２のディスク基板は、光透過性の第２の基板上に第２の色素記録層と半透明反射層とが順番に積層され、色素記録層と第２の色素記録層とが向かい合うように、逆積層構造のディスク基板と透明接着層により貼り合わせたものであることが好ましい。
【００１７】
また、本発明は、２枚の記録層を有する基板を貼り合わせた構造を有する光記録媒体として捉えると、光透過性の第１の基板上に、第１の色素記録層及び半透明反射層とが順次積層された第１のディスク基板と、第２の基板上に、反射層、第２の色素記録層及び界面層が積層された第２のディスク基板と、第１のディスク基板及び第２のディスク基板を、半透明反射層と界面層とが対向するように接着する透明中間層と、を有し、第１の色素記録層を透過した記録再生光が照射される第２の色素記録層におけるレベリング係数ＣＬと、第２の基板に形成されたプリグルーブの所定の溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）とが、
【００１８】
【数５】
2006338799.tif 000007
【００１９】
で示される関係を満たすことを特徴とする光記録媒体として把握される。
（但し、レベリング係数ＣＬは、下記式（１）で定義される。
【００２０】
【数６】
2006338799.tif 000008
【００２１】
式（１）中、ｄＬは、第２の記録層におけるランドの部分の膜厚（ｎｍ）である。ｄＧは、第２の記録層におけるグルーブの部分の膜厚（ｎｍ）である。）
ここで、第２の色素記録層は、第１の色素記録層と略同程度のプッシュ−プル信号振幅が得られるように、第２の色素記録層におけるグルーブの部分とランドの部分とで生じた所定の段差（ｄ０）（ｎｍ）を有するものである。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の光記録媒体によれば、逆積層の構造を有する記録層から良好なプッシュ−プル信号振幅が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を実施するための最良の形態（実施の形態）について、図面に基づき説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。また、使用する図面は、本実施の形態を説明するために使用するものであり、実際の大きさを表すものではない。
（光記録媒体）
図１は、本実施の形態が適用される光記録媒体を説明するための図である。
図１に示す光記録媒体１００は、有機色素を含む記録層を設けた通常積層構造の基板（第１ディスク基板）と、同様に有機色素を含む記録層を設けた逆積層構造の基板（第２ディスク基板）とを、それぞれの記録層を設けた面側を互いに向かい合わせるようにして、透明接着層により貼り合わせた構造を有している。
尚、本実施の形態においては、便宜的に、光記録媒体に照射される記録再生光に近い側の基板を第１ディスク基板と表示し、記録再生光から奥側の基板を第２ディスク基板と表示する。
図１に示すように、第１ディスク基板は、所定のプリグルーブを有し、光透過性材料からなるディスク状の第１基板１０１と、第１基板１０１上に積層された色素を含む第１記録層１０２と、第１基板１０１側から入射したレーザ光１２０のパワーを振り分ける半透明反射層１０３とが順番に積層された構造（通常積層）を有している。
次に、第２ディスク基板は、トラッキング案内溝を有するディスク状の第２基板１０８と、第２基板１０８上に積層された反射層１０７と、色素を含む第２記録層１０６と、誘電体層１０５とが積層された構造（逆積層）を有している。
図１に示すように、光記録媒体１００は、第１基板１０１上に積層された半透明反射層１０３と第２基板１０８上に積層された誘電体層１０５とが対向するように、通常積層構造の第１ディスク基板と逆積層構造の第２ディスク基板とが、中間層１０４（透明接着層）を介して、貼り合わされた構造を有している。
本実施の形態が適用される光記録媒体１００には、第１基板１０１側の片面からレーザ光１２０が入射し、光入射側から見て手前側の第１記録層１０２と奥側の第２記録層１０６において記録マークが形成され、情報の記録再生が行われる。
【００２４】
（第１ディスク基板）
（第１基板）
第１基板１０１は、透明かつ複屈折率が小さい等の光学特性に優れ、さらに射出成形等の成形性に優れた材料から構成される。また、吸湿性が小さいことが好ましい。第１基板１０１を構成する材料として、特に限定されないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。
第１基板１０１は、一方の面に、所定のピッチ及び幅を有するプリグルーブが形成されている。プリグルーブは、サーボ用に一定周期でウォブルしたり、アドレス用にウォブル周期が変調していたりしてもよい。また、管理情報等を形成するために、ピットが設けられていても良い。第１基板１０１に形成されたプリグルーブのトラックピッチは、通常、３６０ｎｍ〜８００ｎｍ、好ましくは、３８０ｎｍ〜７４０ｎｍである。また、プリグルーブの溝深さは、通常、１５ｎｍ〜７０ｎｍ、好ましくは、２０ｎｍ〜５５ｎｍである。
第１基板１０１の厚さは約０．６ｍｍであることが好ましい。尚、第１基板１０１の厚さは他の層の厚さに合わせて調整しても良い。尚、第１基板１０１は、原盤及びスタンパを作製し、射出成型により作製することが好ましい。
【００２５】
（第１記録層）
第１記録層１０２には、記録再生光による情報の記録に適する有機色素が含有される。有機色素の具体例としては、例えば、シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等のポリメチン系色素；フタロシアニン色素、ポリフィリン色素等の大環状アザアヌレン系色素；アントラキノン系色素、トリアリールメタン色素、ピリリウム色素、アゾ色素、含金属アゾ色素、トリアリールアミン色素、ピロメテン系色素、ホルマザン金属錯体系色素、モノメチン−アゾ金属錯体系色素、アヌレン系色素等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上述したこれらの有機色素は、１種類を用いても良く、２種類以上の有機色素を混合して使用しても良い。また、２個の記録層には、クエンチャー、他の色素、添加剤、高分子（例えば、ニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー）、金属微粒子等を含んでいても良い。尚、第１基板１０１と第１記録層１０２との間には、必要に応じて、例えば、ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等からなるエンハンス層や耐溶剤層を設けてもよい。
【００２６】
第１記録層１０２を形成する方法としては、従来公知の方法を採用することができ特に限定されないが、例えば、スピンコート法が挙げられる。スピンコート法の条件は、通常、上述した有機色素および必要に応じて添加される他の添加剤等を、公知の有機溶媒（例えば、テトラフルオロプロパノール、ケトンアルコール、アセチルアセトン、メチルセルロブ、トルエン等）に溶解または溶媒和して有機色素溶液を調製し、これをそれぞれの基板上に塗布して回転させる。回転数は、例えば、基板の内周から外周にかけて、３００ｒｐｍ〜５０００ｒｐｍの間で数条件組み合わせて行えばよい。第１記録層１０２の厚さは、スピンコート回転数、有機色素溶液の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度等を条件により適宜選択され、特に限定されないが、通常、グルーブで、厚さ８０ｎｍ〜１５０ｎｍ程度、ランドで、厚さ６０ｎｍ〜１２０ｎｍ程度になるように形成されることが好ましい。
【００２７】
（半透明反射層）
半透明反射層１０３は、第１基板１０１側から入射するレーザ光１２０の吸収が小さく、光透過率が３０％以上あり、かつ、通常、適度な光反射率を有することが望ましい。例えば、反射率の高い金属膜を薄くすることにより、適当な光透過率と光反射率とのバランスを保つことができる。また、半透明反射層１０３の厚さは極めて薄いため、耐食性のある材料が望ましい。さらに、中間層１０４に、第１記録層１０２に含有される有機色素の侵み出しを防ぐ程度の遮蔽性を持つことが好ましい。半透明反射層１０３の厚さは、通常、３ｎｍ〜５０ｎｍ程度であり、好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下である。
【００２８】
半透明反射層１０３は、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）またはこれらの金属を含む合金等により、スパッタ法等の手段を用いて形成される。なかでも、Ａｇを主成分とする場合は、低コスト、高反射率であることから特に好ましい。半透明反射層１０３を構成する金属の結晶粒が過度に大きいと、記録再生光のノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。また、純銀は結晶粒が大きい傾向があるため、Ａｇは合金として用いるのが好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＩｎ等が挙げられる。
尚、第１記録層１０２と半透明反射層１０３との間に、ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等からなるエンハンス層、耐酸化層等の他の層を設けてもよい。また、半透明反射層１０３上に保護層を形成してもよい。この場合、保護層としては、半透明反射層１０３を保護できる層であればよく、例えば、紫外線硬化樹脂、シリコーン系樹脂等によって形成される。
【００２９】
（第２ディスク基板）
（第２基板）
逆積層構造を有する第２ディスク基板における第２基板１０８は、機械的安定性が高く、剛性が大きく、さらに射出成形等の成形性に優れた材料により形成されることが好ましい。また、吸湿性が小さいことが好ましい。但し、第２基板１０８は、前述した第１基板１０１のように、光透過性や光学特性を必ずしも備える必要はない。第２基板１０８を形成するための材料としては、第１基板１０１と同様な材料が挙げられるほか、ＡＢＳ樹脂、フィラー含有エポキシ樹脂、Ａｌを主成分とした、例えば、Ａｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板等が挙げられる。
第２基板１０８は、第１基板１０１と同様に、一方の面にプリグルーブが形成されている。プリグルーブはサーボ用に溝が一定周期でウォブルしたり、アドレス用にウォブル周期が変調していたりしてもよい。
第２基板１０８に形成されたプリグルーブのトラックピッチは、第１基板１０１の場合と同程度である。また、プリグルーブの溝深さ（Ｄ）は、第１基板１０１の場合より浅くなる。
尚、プリグルーブには、管理情報等を形成するために、ピットが設けられていても良い。第２基板１０８は原盤及びスタンパを作製し、射出成型により作製することが好ましい。また、第２基板１０８の厚さは約０．６ｍｍであることが好ましく、他の層の厚さに合わせて調整しても良い。
【００３０】
（反射層）
反射層１０７は、反射率が高く、耐食性に優れることが望ましい。反射層１０７の厚さは、反射率を高めるために、通常、５０ｎｍ以上、好ましくは、８０ｎｍ以上である。但し、記録感度を上げるためにはある程度薄いことが好ましく、また、反射層１０７の厚さが過度に大きいと第２基板１０８が反るおそれがあるため、通常、３００ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下である。
反射層１０７を形成するための材料としては、再生光の波長において反射率の十分高いもの（例えば、６０％以上）が用いられる。例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ等の金属またはこれらの合金が挙げられる。この中でも、Ａｌ、Ａｇまたはこれらの合金が好ましい。合金を形成する成分としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属等の金属及び半金属を挙げることができる。
上述した金属等の中でも、Ａｇ合金は低コスト、高反射率、耐食性に優れるので好ましい。Ａｇ合金としてはＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々の金属濃度が０．１原子％〜５原子％であり、好ましくは、それらの合計が０．１原子％〜５原子％である。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＩｎ等である。
反射層１０７を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられるが、スパッタ法が生産性の上で好ましい。
【００３１】
（第２記録層）
逆積層構造を有する第２ディスク基板における第２記録層１０６には第１記録層１０２と同様な有機色素が含まれる。尚、第２記録層１０６には、第１記録層１０２に含まれる有機色素よりも、記録再生光に対して高感度な有機色素が含まれることが好ましい。
また、第２記録層１０６を形成する方法としては、第１記録層１０２と同様に、従来公知の方法を採用することができ、特に限定されないが、例えば、スピンコート法が挙げられる。
第２記録層１０６の厚さは、スピンコート回転数、有機色素溶液の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度等を条件により適宜選択され、特に限定されないが、通常、グルーブの部分で、厚さ８０ｎｍ〜１５０ｎｍ程度、ランドの部分で、厚さ１００ｎｍ〜１８０ｎｍ程度になるように形成されることが好ましい。
さらに、第２記録層１０６において、グルーブの部分とランドの部分とで生じた段差ｄ０（ｎｍ）は、第２基板１０８の表面に形成されたプリグルーブの所定の溝深さ（Ｄ）に応じて適宜変動し特に限定されないが、第２基板１０８のプリグルーブの溝深さ（Ｄ）２０ｎｍ〜５５ｎｍにおいて、通常、１３．５ｎｍ〜７１．５ｎｍである。
【００３２】
本実施の形態が適用される光記録媒体１００において、逆積層構造の第２ディスク基板における第２記録層１０６の厚さは、第２基板１０８の表面に形成されたプリグルーブの所定の溝深さ（Ｄ）において、反射信号及びプッシュ−プル信号振幅が両立するように最適化されている。
図２は、第２ディスク基板の拡大図である。図２において、Ｄは、プリグルーブの溝深さ（ｎｍ）である。ｄ０は、反射層１０７上に塗布されて形成された第２記録層１０６においてグルーブの部分とランドの部分とで生じた段差（ｎｍ）である。ｄＬは、反射層１０７上に塗布されて形成された第２記録層１０６におけるランドの部分の膜厚（ｎｍ）である。ｄＧは、反射層１０７上に塗布されて形成された第２記録層１０６におけるグルーブの部分の膜厚（ｎｍ）である。
ここで、逆積層構造の第２ディスク基板における第２記録層１０６の厚さを最適化するために、第２基板１０８の表面に形成されたプリグルーブの溝深さ（Ｄ）と、第２記録層１０６においてグルーブの部分とランドの部分とで生じた段差ｄ０（ｎｍ）とを用いて、下記式（１）で示されるレベリング係数ＣＬが定義される。
【００３３】
【数７】
2006338799.tif 000009
【００３４】
即ち、第２記録層１０６の厚さは、プリグルーブの所定の溝深さＤ（ｎｍ）で、第２記録層１０６においてグルーブの部分とランドの部分とで生じた段差ｄ０（ｎｍ）の関数として式（１）で定義されるレベリング係数ＣＬが、式（２）の関係を満足するように調製されることにより、第２記録層１０６から良好な反射信号を得ることができる。
【００３５】
【数８】
2006338799.tif 000010
【００３６】
さらに、第２記録層１０６の厚さは、プリグルーブの所定の溝深さＤ（ｎｍ）で、式（１）で定義されるレベリング係数ＣＬが、式（３）の関係を満足するように調製されることにより、第２記録層１０６から良好なプッシュ−プル信号振幅を得ることができる。
【００３７】
【数９】
2006338799.tif 000011
【００３８】
上述した式（２）及び式（３）の関係から、第２記録層１０６の膜厚を、プリグルーブの所定の溝深さＤ（ｎｍ）において、レベリング係数ＣＬが、下記式（４）の関係を満足するように調製されている。このように調製することにより、逆積層構造の第２ディスク基板における第２記録層１０６から良好な反射信号及びプッシュ−プル信号振幅を得ることができる。
【００３９】
【数１０】
2006338799.tif 000012
【００４０】
（誘電体層）
誘電体層１０５は、有機色素を含有する第２記録層１０６と中間層１０４とを遮蔽し、両層の混和を防止するために、第２記録層１０６上に形成される。即ち、後述するように、中間層１０４として用いられる液状の紫外線硬化樹脂と第２記録層１０６とが相溶することを防ぐために両層のあいだに誘電体層１０５が設けられる。
誘電体層１０５を形成するための材料は、第２記録層１０６と中間層１０４と混和しない材料であれば特に限定されるものではない。他の機能を兼ねていても良いし、必要に応じてさらに他の層を挟んでも良い。
誘電体層１０５を形成する材料としては無機物が好ましく、例えば、金属または半導体、金属または半導体の酸化物、窒化物、硫化物、誘電体等の透明な無機物が挙げられる。具体的には、二酸化珪素等の酸化珪素；酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウム等の硫化物；窒化珪素等の窒化物；炭化珪素；酸化物とイオウとの混合物；および後述する合金等が好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との３０：７０〜９０：１０程度（重量比）の混合物も好適である。また、イオウ及び二酸化イットリウム混合物と酸化亜鉛との混合物（Ｙ２Ｏ２Ｓ−ＺｎＯ）も好適である。
誘電体層１０５の厚さは、通常、３ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上である。但し、１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下である。誘電体層１０５の厚さが過度に小さいと、遮蔽防止が不十分となる傾向がある。誘電体層１０５の厚さが過度に大きいと、光透過率が低下するおそれがある。また、誘電体層１０５が無機物からなる層の場合には、成膜に時間を要し、生産性の低下、膜応力が増大する傾向がある。誘電体層１０５を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられるが、スパッタ法が生産性の上で好ましい。
【００４１】
（中間層）
中間層１０４は、記録再生光において透明であり、高接着力、硬化接着時の収縮率が小さく、環境保存安定性が高い材料が好ましい。
中間層１０４を形成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）、感圧式両面テープ等を挙げることができる。これらの中でも、無溶剤タイプの紫外線硬化性樹脂は環境性に優しく、生産性に優れるために好ましい。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、透明であればいずれも用いることができる。
紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂とが挙げられ、いずれも使用可能である。ラジカル系紫外線硬化性樹脂としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能アクリレート、単官能メタアクリレート、多官能アクリレート、多官能メタアクリレートを重合性モノマー成分として、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。
【００４２】
本実施の形態が適用される光記録媒体１００は、２個の記録層（第１記録層１０２、第２記録層１０６）に別々にフォーカスサーボをかけるため、中間層１０４の厚さは正確に調製することが好ましい。中間層１０４の厚さは、好ましくは１０μｍ以上が必要である。記録再生に用いられる対物レンズの開口数が高いほど、中間層１０４の厚さは小さくてよい傾向がある。
中間層１０４は、半透明反射層１０３にダメージを与えない材料からなることが望ましい。また、両層間に公知の無機系または有機系の保護層を形成してもよい。
中間層１０４は、紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。塗布方法としては、スピンコート法、スクリーン印刷、キャスト法等が挙げられ、中でもスピンコート法が好ましい。紫外線硬化性樹脂として、１０℃〜４０℃において、粘度が２０ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓであるものを用いると溶媒を用いることなく塗布できるために好ましい。尚、半透明反射層１０３と誘電体層１０５との間に感圧式両面接着シートを挟み、第１ディスク基板及び第２ディスク基板を加圧することによって中間層１０４を形成することも可能である。
【実施例】
【００４３】
以下に実施例に基づき本実施の形態をより具体的に説明する。尚、本実施の形態は実施例に限定されない。
（実施例１〜実施例４、比較例１〜比較例７）
（１）試験片の調製
図３は、逆積層構造を有する第２ディスク基板に相当する試験片を説明するための図である。尚、実験を簡略化するために、第１ディスク基板を省略し、第２ディスク基板に相当する試験片を調製してこれを使用した。
図３に示すように、第２ディスク基板に相当する試験片２００は、第２基板に相当する厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板２０８に、トラックピッチ７４０ｎｍで、後述する表１に示すように、所定の溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）を有するプリグルーブが形成されている。尚、プリグルーブの溝深さ（Ｄ）は、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：原子間力顕微鏡）により測定した。
ポリカーボネート基板２０８に形成されたプリグルーブ上には、ＡｇＣａＩｎをスパッタし、厚さ１４０ｎｍの反射層２０７が形成されている。
さらに、反射層２０７上に、表１に示すように、第２記録層に相当する色素膜２０６が、所定の平均膜厚（ｎｍ）になるようにスピンコート法により形成されている。
次に、色素膜２０６上に、厚さ１０ｎｍの誘電体層２０５がスパッタにより形成され、続いて、プリグルーブが形成されていないポリカーボネート基板２０１が、中間層に相当する接着層２０４により接着されている。
【００４４】
表１に、ＡＦＭにより測定した第２ディスク基板に相当する試験片２００のプリグルーブの溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）、色素膜２０６の平均膜厚ｄＭ（ｎｍ）、色素膜２０６のグルーブの部分とランドの部分とで生じたｄ０段差（ｎｍ）を示した。また、これらの測定値に基づき、グルーブの部分の膜厚ｄＧ（ｎｍ）及びランドの部分の膜厚ｄＬ（ｎｍ）を計算により求めた。さらに、上述した式（１）で定義したレベリング係数ＣＬを示した。
【００４５】
【表１】
2006338799.tif 000013
【００４６】
（２）試験片の特性評価
前述した第２ディスク基板に相当する試験片２００について、所定の光ディスク評価装置にて特性評価を行い、色素膜２０６の未記録時の反射信号及びプッシュ−プル信号振幅を測定した。光ディスク評価装置による特性評価の条件は、レーザ光の波長が６５０ｎｍであり、対物レンズのＮＡは０．６である。
表２に、光ディスク評価装置にて測定した色素膜２０６から得られた未記録時の反射信号とプッシュ−プル信号振幅とを示した。
【００４７】
【表２】
2006338799.tif 000014
【００４８】
表２に示す結果から、所定のプリグルーブの溝深さ（Ｄ）（ｎｍ）において、上述した式（１）で定義したレベリング係数ＣＬが、上述した式（４）の関係を満足するように、第２記録層に相当する色素膜２０６を調製した試験片２００（実施例１〜実施例４）は、記録再生光を照射した色素膜２０６から、良好な反射信号及びプッシュ−プル信号振幅を得ることができる。
尚、ここで、反射信号の良好な範囲は、０．５５以上であり、プッシュ−プル信号振幅の良好な範囲は、０．２２〜０．４４である。
これに対して、レベリング係数ＣＬが、式（４）の関係を満足しない試験片２００（比較例１〜比較例７）は、反射信号及びプッシュ−プル信号振幅のバランスを良好にすることが困難であることが分かる。
【００４９】
このように、本発明によれば、色素を含む記録層を有する２枚の基板を貼り合せて調製された光ディスクにおいて、逆積層構造を有する第２層目の記録層は、プリグルーブの溝深さ（Ｄ）に応じて、グルーブの部分に塗布された色素膜の厚さと、ランドの部分に塗布された色素膜の厚さとを調整し、グルーブの部分とランドの部分とで生じた段差ｄ０（ｎｍ）の最適化を図ることにより、所望の反射信号プッシュ−プル信号振幅を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本実施の形態が適用される光記録媒体を説明するための図である。
【図２】第２ディスク基板の拡大図である。
【図３】逆積層構造を有する第２ディスク基板に相当する試験片を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５１】
１００…光記録媒体、１０１…第１基板、１０２…第１記録層、１０３…半透明反射層、１０４…中間層、１０５,２０５…誘電体層、１０６…第２記録層、１０７，２０７…反射層、１０８…第２基板、１２０，２１０…レーザ光、２００…試験片、２０１，２０８…ポリカーボネート基板、２０４…接着層、２０６…色素膜
【図１】
2006338799.tif 000023
【図２】
2006338799.tif 000024
【図３】
2006338799.tif 000025