(57)【要約】【課題】  ガラスフォトマスクの製造コストを低減できると共に、不良品のガラス基板を有効利用することができるガラスフォトマスク露光方法を提供する。【解決手段】  同一パターンを有する複数のガラスフォトマスク１０、２０を各々用いて複数回露光を行うようにしているので、ガラスフォトマスク１０、２０に光を遮光する欠陥部分１００、２００が存在していても、複数露光で解消できることとなり、製造コストを極力低減し且つ不良品となるガラス基板を有効利用できると共に、露光エラーの発生を防止できる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光リソグラフィに用いる同一パターンを有する複数のガラスフォトマスクを各々使用して複数回の露光を行うことを
特徴とするガラスフォトマスク露光方法。
【請求項２】
前記請求項１に記載のガラスフォトマスク露光方法において、
前記ガラスフォトマスクが、光を透過する開口部に前記パターン以外の光を遮光する部分を有することを
特徴とするガラスフォトマスク露光方法。
【請求項３】
前記請求項１または２に記載のガラスフォトマスク露光方法において、
前記複数のガラスフォトマスクが、パターン形状が同一又はパターン形状の誤差が許容できる範囲のものであることを
特徴とするガラスフォトマスク露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光リソグラフィによる露光装置で実行されるガラスフォトマスク露光方法に関し、特に複数のガラスフォトマスクを用いるガラスフォトマスク露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のガラスフォトマスク露光方法として図４及び図５に示すものがあり、この図４はネガレジストの場合のガラスフォトマスク露光方法説明図、図５はポジレジストの場合のガラスフォトマスク露光方法説明図である。
【０００３】
同図において従来のガラスフォトマスク露光方法は、一台の露光装置に一枚のガラスフォトマスク１０を用い、このガラスフォトマスク１０の開口部１３を介して照射される露光光により、ポジレジストの場合に光照射部分が現像液に対して可溶化し（図４（Ａ）〜（Ｄ）を参照）、またネガレジストの場合には光照射部分が現像液に対して不溶化（図５（Ａ）〜（Ｄ）を参照）するように露光する構成である。
【０００４】
前記ガラスフォトマスク１０の配設方式としては、このガラスフォトマスク１０と被処理基板３とを密着する密着露光方式と、このガラスフォトマスク１０を被処理基板３から数十μｍから数百μｍ離隔配設する近接露光方式と、ガラスフォトマスク１０のパターンを被処理基板３上に投影する投射方式とがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のガラスフォトマスク露光方法は以上のように構成されていたことから、ガラスフォトマスク１０の一部に欠陥１００がある場合には図４（Ｅ）及び図５（Ｅ）に各々示すような金属膜余剰欠陥部１５０、金属膜欠落欠陥部１６０を有する金属膜３１が形成され、これらの欠陥部１５０、１６０を未然に防止しようとするとガラスフォトマスク１０のコストを増大させるという課題を有する。このガラスフォトマスク１０の欠陥が生じる原因としては、欠陥１００で示すようなガラス基板１１自体に気泡、傷等がある場合、ガラス基板１１上にメタルで形成される遮光部１２に欠損がある場合、また製造プロセスの際に飛来する塵埃等が付着する場合が挙げられる。
【０００６】
特に、大画面化するプラズマディスプレイパネルの表示電極（透明電極、バス電極）やアドレス電極、隔壁を形成する際に用いられるガラスフォトマスク１０のガラス基板１１は、大きな面積中に１点の気泡等が存在しても不良品となり、ガラス基板１１自体のコスト上昇を招き、また、この不良品のガラス基板１１を有効に利用できないという課題を有していた。
【０００７】
本発明は、前記課題を解決するためになされたもので、ガラスフォトマスクの製造コストを低減できると共に、不良品のガラス基板を有効利用することができるガラスフォトマスク露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係るガラスフォトマスク露光方法は、光リソグラフィに用いる同一パターンを有する複数のガラスフォトマスクを各々使用して複数回の露光を行うものである。このように本発明によれば、同一パターンを有する複数のガラスフォトマスクを各々用いて複数回露光を行うようにしているので、ガラスフォトマスクに光を遮光する欠陥部分が存在していても、複数露光で解消できることとなり、製造コストを極力低減し且つ不良品となるガラス基板を有効利用できると共に、露光エラーの発生を防止できる。
【０００９】
また、本発明に係るガラスフォトマスク露光方法は必要に応じて、前記ガラスフォトマスクが、光を透過する開口部に前記パターン以外の光を遮光する部分を有するものである。このように本発明によれば、ガラスフォトマスクの開口部に光を遮光する欠陥部分がある場合に、この欠陥部分を複数回の露光で解消できることとなり、ガラスフォトマスクに光を遮光する欠陥部分が存在していても、複数露光で解消できることとなり、製造コストを極力低減し且つ不良品となるガラス基板を有効利用できると共に、露光エラーの発生を防止できる。
【００１０】
また、本発明に係るガラスフォトマスク露光方法は必要に応じて、前記複数のガラスフォトマスクが、パターン形状が同一又はパターン形状の誤差が許容できる範囲のものである。このように本発明によれば、同一又は誤差が許容できる範囲のパターン形状を有する複数のガラスフォトマスクで構成したので、いずれか一方のガラスフォトマスク又は複数のガラスフォトマスクの異なる部位と光を遮光する欠陥部分が存在していても複数露光で欠陥を解消できることとなり、製造コストの低減・不良ガラス基板の有効利用及び露光エラーの防止が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（本発明の第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法を実行する露光システムについて図１及び図２に基づき説明する。図１は本実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法のネガレジスト形成動作説明図、図２は本実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法のポジレジスト形成動作説明図である。
【００１２】
前記図１において本実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法は、第１の露光装置１と第２の露光装置２とを被処理基板の搬送方向に沿って直列に配設し、この露光装置１、２に各々同一パターンに形成されたガラスフォトマスク１０、２０が各々装着される露光システムにおいて、第１の露光装置１で露光した後に第２の露光装置２で２度目の露光を行う構成である。なお、これらのガラスフォトマスク１０、２０にはガラス基板１１、２１に気泡等による欠陥１００、２００が存在していると仮定する。
【００１３】
前記ガラスフォトマスク１０の露光処理においては、装着されたガラスフォトマスク１０の開口部１３を介して露光光が被処理ガラス基板３上のレジスト膜４へ照射され、対応する部分と現像液に対して不溶化（図１中のハッチング部分）する。この不溶化部分中には、ガラスフォトマスク１０の開口部１３中に存在する欠陥１００が存在するため、このフォトマスクガラス基板１１中の欠陥１００となる気泡により露光光が遮蔽されてレジスト膜４の一部を感光させることができず、未露光部１１０が形成されることとなる。
【００１４】
この未露光部１１０を有するレジスト膜４を第２の露光装置２に移動（矢印Ａ方向）させ、この第２の露光装置２で再度露光すると、この露光装置２に装着されたガラスフォトマスク２０の開口部２３を介して露光光をレジスト膜４に照射する。このガラスフォトマスク２０の開口部２３にも前記ガラスフォトマスク１０の開口部１３と同様にガラス基板２１中に気泡による欠陥２００が存在するものであるが、それぞれの欠陥位置が開口部中の同じ位置となる事態は確率的にほとんどなく、従って前記開口部２３と開口部１３における欠陥位置が異なることから、前記ガラスフォトマスク２０による再露光の際には前記未露光部１１０を開口部２３からの露光光により感光させてレジスト膜４を露光部１２０として不溶化させることができる。
【００１５】
このように本実施形態に用いられる気泡等の欠陥１００、２００を共に有するガラス基板１１、２１で形成されたガラスフォトマスク１０、２０であっても、ガラスフォトマスク１０、２０が互いに補完し合うように二回目の露光処理を行うことにより、ネガレジストの完全なパターンを正確に作成できることとなる。
【００１６】
また、図２においてポジレジストを作成する場合は、前記図１に示すネガレジスト作成の場合とは逆に、まず第１の露光装置１において現像液に対して可溶化するようにガラスフォトマスク１０の開口部１３から露光光をレジスト膜４に照射する。この開口部１３を介した露光光の照射は、開口部１３中に気泡の欠陥１００が存在するため、この欠陥１００の気泡により露光光が遮蔽される。この露光光の遮蔽によりレジスト膜４の一部が可溶化されず未露光部１３０として存在することになる（図２を参照）。
【００１７】
この未露光部１３０を有するレジスト膜４が第２の露光装置２に搬入され（図中矢印Ｂ方向に移動）、この露光装置２はこの未露光部１３０を含むレジスト膜４に対して開口部２３を介して露光光を照射し、確実に感光させて開口部２３に対応するレジスト膜４の全ての領域を現像液に対して可溶化させることができる。
【００１８】
このように本実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法は、ポジレジストのパターン形成においても、ネガレジストの作成と同様に気泡等の欠陥を有するガラスフォトマスク１０、２０であっても、ガラスフォトマスク１０、２０が互いに補完し合うように二回目の露光処理を行うことにより、ポジレジストの完全なパターンを正確に作成できることとなる。
【００１９】
（本発明の他の実施形態）
前記第１の実施形態においては、第１及び第２の露光装置１、２の２つの装置を用いて各々独立して露光処理を行う構成としたが、３（Ａ）に記載の他の実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法は、単一の露光装置１ａにおいて二つのガラスフォトマスク１０、２０に対して露光光を照射する照射部（図示を省略）を設け、この二つの照射部からガラスフォトマスク１０、２０を介して照射される露光光を順次受光するようにレジスト膜４が塗布された基板２を露光装置１ａ内で移送（図３中の矢印Ｂ）することにより、前記実施形態と同様にガラスフォトマスク１０、２０が互いに補完し合うように二回目の露光処理を行うこととなりネガレジストの完全なパターンを正確に作成できることとなる。
【００２０】
また、図１、図２及び図３（Ａ）の各実施形態においては、レジスト膜４が塗布された第２の露光装置２をガラスフォトマスク１０、２０に対して移動する構成としたが、図３（Ｂ）に記載する実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法は、単一の露光装置１ｂ内にレジスト膜４が塗布された基板２を固定し、ガラスフォトマスク１０、２０を各々移動（図中矢印Ｃ方向及び矢印Ｄ方向移動）させて露光処理を行う構成である。
【００２１】
この実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法も、前記各実施形態と同様に、いずれか一方又は双方に欠陥を有するガラスフォトマスク１０、２０が互いに補完し合うように二回目の露光処理を行うことにより、ネガレジストの完全なパターンを正確に作成できることとなる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法のネガレジスト形成動作説明図ある。
【図２】本発明の第１の実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法のポジレジスト形成動作説明図である。
【図３】本発明の他の実施形態に係るガラスフォトマスク露光方法のネガレジスト形成動作説明図ある。
【図４】従来のネガレジストの場合のガラスフォトマスク露光方法説明図である。
【図５】従来のポジレジストの場合のガラスフォトマスク露光方法説明図である。
【符号の説明】
【００２３】
１、１ａ、１ｂ、２  露光装置
３  被処理ガラス基板
４  レジスト膜
１０、２０  ガラスフォトマスク
１１、２１  フォトマスクガラス基板
１２、２２  遮光部
１３、２３  開口部
３１  金属膜
１００、２００  欠陥
１１０、１３０  未露光部
１２０  露光部
１５０  金属膜余剰欠陥部
１６０  金属膜欠落欠陥部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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