(57)【要約】【課題】リソグラフィ投影装置のような装置であって、組立用ボルトに締結を確実にするためにばね座金を付けると、組立中にその座金を落したり、またはボルト周辺の空間に閉込めたガスが組立後に出て来て真空環境を汚染することがあるので、そのようなことのないボルトを提供すること。【解決手段】このボルト３は、軸部７のねじ山１０と頭６との間を切込んでらせん状のばね４にしてある。このばね部４がばね座金と同じ機能を果すと共に、この切込み９がこのボルトの軸心を貫通する孔５に通じているので、雌ねじ穴１２の底やこのボルトの周囲の空間１４が外部に連通し、ガスを閉込めることがない。このらせんばね４と雄ねじ１０の巻き方向を逆にしておけば、それが戻り止め機能を発揮する。組立中のばね部４の収縮は、軸方向孔５に部材２０を挿入して防ぐことができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを調整するための照明システム、
投影ビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を支持するための支持構造体、
基板を保持するための基板テーブル、
前記パターン化したビームを前記基板の目標部分上に投影するための投影システム、および
前記装置の第１部品を前記装置の第２部品に締結するための少なくとも一つのファスナーにして、少なくとも一つの一体のばねを含むファスナー、を含むリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記ばねが前記ファスナーのらせん状部である請求項１に記載された装置。
【請求項３】
前記ファスナーが更にねじ山を含み、および組立中に戻り止め機能を与えるために、前記らせん状部のピッチの方向が前記ねじ山のピッチの方向と反対である請求項２に記載された装置。
【請求項４】
前記ファスナーが更にねじ山を含み、および前記らせん状部のピッチの方向が前記ねじ山のピッチの方向と同じである請求項２に記載された装置。
【請求項５】
前記ファスナーが更にねじ山付き軸部および頭部を含み、前記ばねが前記ねじ山付き軸部と前記頭部の間に伸びる請求項２に記載された装置。
【請求項６】
前記ファスナーが軸方向孔を含む請求項１に記載された装置。
【請求項７】
前記ファスナーの締結中に、前記ファスナーの前記軸方向孔に挿入するように構成した締結要素を更に含む請求項６に記載された装置。
【請求項８】
一体のばねが前記軸方向孔から前記ファスナーの外面まで少なくとも半径方向に伸びる一つ以上の開口を含む請求項６に記載された装置。
【請求項９】
前記ファスナーの軸方向孔が組立後に前記装置の真空環境と流体連通している請求項６に記載された装置。
【請求項１０】
前記第１装置部品が前記装置の真空環境内に位置する請求項１に記載された装置。
【請求項１１】
前記第１装置部品が前記装置の光学素子、ミラー、レンズ、ウエハステージ部品、マスクステージ部品、検出器部品または取付けフレームである請求項１に記載された装置。
【請求項１２】
前記第２装置部品が前記装置のフレーム部品、壁部品またはベース部品である請求項１１に記載された装置。
【請求項１３】
前記一体のばねが前記ファスナーの外周と内部孔の間に伸びる多数の開口によってもたらされる請求項１に記載された装置。
【請求項１４】
前記一体のばねが前記ファスナーの軸部の外周と内部孔の間に伸びる複数の別々のスリットを含み、多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の軸方向に見たとき、離間している請求項１に記載された装置。
【請求項１５】
多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の円周方向に見たとき、離間している請求項１４に記載された装置。
【請求項１６】
各スリットが、前記ファスナー軸部の軸方向に見たとき、各軸方向に最近のスリットの少なくとも一つの円周端と重なり合う請求項１４に記載された装置。
【請求項１７】
全てのスリットが一緒に、前記ファスナー軸部の軸方向に見て、ファスナー軸部の全円周に亘って少なくとも一回互いに重なり合う請求項１４に記載された装置。
【請求項１８】
真空装置であって、前記装置の第１部品を前記装置の第２部品に締結するための少なくとも一つのファスナーにして、少なくとも一つの一体のばねを含むファスナーを含む装置。
【請求項１９】
前記ばねが前記ファスナーのらせん状部である請求項１８に記載された装置。
【請求項２０】
前記らせん状部のピッチの方向が、組立中に戻り止め機能を与えるために、前記ファスナーのねじ山のピッチの方向と反対である請求項１９に記載された装置。
【請求項２１】
前記らせん状部のピッチの方向が前記ファスナーのねじ山のピッチの方向と同じである請求項１９に記載された装置。
【請求項２２】
前記ファスナーが軸方向孔を含む請求項１８に記載された装置。
【請求項２３】
前記ファスナーを締結するために、前記ファスナーの前記軸方向孔に挿入できる締結要素を更に含む請求項２２に記載された装置。
【請求項２４】
前記一体のばねが前記軸方向孔から前記ファスナーの外面まで少なくとも半径方向に伸びる一つ以上の開口を含む請求項２２に記載された装置。
【請求項２５】
前記ファスナーの前記軸方向孔が組立後に前記装置の真空環境と流体連通している請求項２２に記載された装置。
【請求項２６】
前記ファスナーがねじ付き軸部と頭部を含み、前記ばねが前記ねじ付き軸部と前記頭部の間に伸びる請求項１８に記載された装置。
【請求項２７】
前記第１装置部品が前記装置の真空環境内に位置する請求項１８に記載された装置。
【請求項２８】
前記一体のばねが前記ファスナーの外周と内部孔の間に伸びる多数の開口によってもたらされる請求項１８に記載された装置。
【請求項２９】
前記一体のばねが前記ファスナーの軸部の外周と内部孔の間に伸びる複数の別々のスリットを含み、多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の軸方向に見たとき、離間している請求項１８に記載された装置。
【請求項３０】
多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の円周方向に見たとき、離間している請求項２９に記載された装置。
【請求項３１】
各スリットが、前記ファスナー軸部の軸方向に見たとき、各軸方向に最近のスリットの少なくとも一つの円周端と重なり合う請求項３０に記載された装置。
【請求項３２】
全てのスリットが一緒に、前記ファスナー軸部の軸方向に見て、ファスナー軸部の全円周に亘って少なくとも一回互いに重なり合う請求項３０に記載された装置。
【請求項３３】
リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを調整するための照明システム、
前記放射線ビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を支持するための支持構造体、
基板を保持するための基板テーブル、
前記パターン化したビームを前記基板の目標部分上に投影するための投影システム、および
前記装置の第１部品を前記装置の第２部品に締結するための少なくとも一つのファスナーにして、前記ファスナーの頭部と前記ファスナーの軸部のねじ山部の間に伸びる少なくとも一つの一体のらせん状ばねを含むファスナー、を含み、
少なくとも前記第１装置部品が前記装置の真空環境内に位置するリソグラフィ装置。
【請求項３４】
前記ファスナーが更に軸方向孔を含む請求項３３に記載された装置。
【請求項３５】
前記ファスナーを組立中に締付けるために、前記ファスナーの前記軸方向孔に挿入するように構成した締結要素を更に含む請求項３４に記載された装置。
【請求項３６】
前記一体のらせん状ばねが前記孔から前記ファスナーの外面まで少なくとも半径方向に伸びる一つ以上の開口を含む請求項３４に記載された装置。
【請求項３７】
前記ファスナーの前記軸方向孔が組立後に前記装置の真空環境と流体連通している請求項３４に記載された装置。
【請求項３８】
前記ファスナーの少なくとも一つの軸方向端が組立後前記真空環境に接する請求項３３に記載された装置。
【請求項３９】
前記第１装置部品が前記装置の光学素子、ミラー、レンズ、ウエハステージ部品、マスクステージ部品、検出器部品または取付けフレームである請求項３３に記載された装置。
【請求項４０】
前記第２装置部品が前記装置のフレーム部品、ベース部品または壁部品である請求項３９に記載された装置。
【請求項４１】
リソグラフィ装置であって、該装置の第１部品を前記装置の第２部品に締結するための少なくとも一つのファスナーを含み、一体のばねが前記ファスナーの外周と内部孔の間に伸びる多数の開口によってもたらされるリソグラフィ装置。
【請求項４２】
前記一体のばねが前記ファスナーの軸部の外周と内部孔の間に伸びる複数の別々のスリットを含み、多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の軸方向に見たとき、離間している請求項４１に記載された装置。
【請求項４３】
多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の円周方向に見たとき、離間している請求項４２に記載された装置。
【請求項４４】
各スリットが、前記ファスナー軸部の軸方向に見たとき、各軸方向に最近のスリットの少なくとも一つの円周端と重なり合う請求項４２に記載された装置。
【請求項４５】
全てのスリットが一緒に、前記ファスナー軸部の軸方向に見て、ファスナー軸部の全円周に亘って少なくとも一回互いに重なり合う請求項４２に記載された装置。
【請求項４６】
リソグラフィ装置を利用するデバイス製造方法であって、
放射線のビームをパターン化する工程、および
前記パターン化した放射線のビームを基板の目標部分上に投影する工程を含み、
少なくとも一つのファスナーを使って前記装置の第１部品を前記装置の第２部品に締結し、前記ファスナーが前記ファスナーの外周と前記ファスナーの内部孔の間に伸びる多数の開口によってもたらされる、少なくとも一つの一体ばねを含む方法。
【請求項４７】
前記ファスナーと前記第１装置部品および／または第２装置部品の間から前記ファスナーを貫通する少なくとも一つの開口を介してガスを汲出す工程を更に含む請求項４６に記載された方法。
【請求項４８】
前記一体のばねが前記ファスナーのねじ付き軸部と前記ファスナーの頭部の間に伸び、ガスを前記一体のばねの外周側から前記ばねの少なくとも一つの開口を介して前記ファスナーの軸方向孔へ汲出す請求項４７に記載された方法。
【請求項４９】
前記ファスナーが左巻きまたは右巻のらせん状ばね部を含み、前記ファスナーは、前記装置の第１部品を前記装置の第２部品に締結するために、前記ファスナーが戻り止め状態になるように、前記らせん状部の巻きと反対方向に廻すようになっている請求項４７に記載された方法。
【請求項５０】
前記ファスナーが軸方向孔を含み、その取付け中前記ファスナーの半径方向収縮を防ぐために、締結要素を前記ファスナーの前記軸方向孔に挿入する請求項４７に記載された方法。
【請求項５１】
請求項４６に記載された方法によって製造したデバイス。
【請求項５２】
軸部および頭部を有するファスナーを製造するための方法であって、一体のばね部を設けるために前記軸部に少なくとも一つの切欠きを機械加工する工程を含む方法。
【請求項５３】
前記軸の一部が左巻きか右巻きのねじ山を備える請求項５２に記載された方法。
【請求項５４】
前記少なくとも一つの切欠きが前記頭部と前記ねじ山の間を伸びる請求項５３に記載された方法。
【請求項５５】
前記ねじ山を前記軸部に設けてから前記切欠きを作る請求項５３に記載された方法。
【請求項５６】
前記切欠きを前記軸部のねじ山のない部分に機械加工する請求項５２に記載された方法。
【請求項５７】
前記切欠きがらせん状切欠きである請求項５２に記載された方法。
【請求項５８】
前記らせん状部のピッチの方向が前記ファスナーの締結方向と反対であり、それによって組立中に戻り止め機能を与える請求項に５７に記載された方法。
【請求項５９】
前記らせん状部のピッチの方向が前記ファスナーの締結方向と同じである請求項に５７に記載された方法。
【請求項６０】
前記軸部に軸方向孔を明ける工程を更に含む請求項５２に記載された方法。
【請求項６１】
前記ファスナーの軸部は、スリットが前記ファスナーの軸部の外周と内部孔の間を伸びるように、前記内部孔は勿論複数の別々のスリットを備え、多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の軸方向に見たとき、離間している請求項５２に記載された方法。
【請求項６２】
多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の円周方向に見たとき、離間している請求項６１に記載された方法。
【請求項６３】
各スリットが、前記ファスナー軸部の軸方向に見たとき、各軸方向に最近のスリットの少なくとも一つの円周端と重なり合う請求項６１に記載された方法。
【請求項６４】
全てのスリットが一緒に、前記ファスナー軸部の軸方向に見て、ファスナー軸部の全円周に亘って少なくとも一回互いに重なり合う請求項６１に記載された方法。
【請求項６５】
軸部、該軸部に結合した頭部、および前記軸部と一体化した少なくとも一つのばねを含むファスナーであって、前記ファスナーがボルト、ねじまたはスタッドであるファスナー。
【請求項６６】
前記ばねが前記ファスナーのらせん状部である請求項６５に記載されたファスナー。
【請求項６７】
前記らせん状部のピッチの方向が、組立中に戻り止め機能を与えるために、前記ファスナーのねじ山のピッチの方向と反対である請求項６６に記載されたファスナー。
【請求項６８】
前記らせん状部のピッチの方向が前記ファスナーのねじ山のピッチの方向と同じである請求項６６に記載されたファスナー。
【請求項６９】
前記ファスナーが軸方向孔を含む請求項６５に記載されたファスナー。
【請求項７０】
前記ファスナーの締結中に、前記ファスナーの前記軸方向孔に挿入するように構成した取外し可能締結要素を含む請求項６９に記載されたファスナー。
【請求項７１】
前記一体のばねが前記軸方向孔から前記ファスナーの外面まで少なくとも半径方向に伸びる一つ以上の開口を含む請求項６９に記載されたファスナー。
【請求項７２】
前記ばねが前記ねじ付き軸部と前記頭部の間に伸びる請求項６５に記載されたファスナー。
【請求項７３】
前記一体のばねが前記ファスナーの軸部の外周と内部孔の間に伸びる複数の別々のスリットを含み、多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の軸方向に見たとき、離間している請求項６５に記載されたファスナー。
【請求項７４】
多数の前記スリットが、前記ファスナーの軸部の円周方向に見たとき、離間している請求項７３に記載されたファスナー。
【請求項７５】
各スリットが、前記ファスナー軸部の軸方向に見たとき、各軸方向に最近のスリットの少なくとも一つの円周端と重なり合う請求項７３に記載されたファスナー。
【請求項７６】
全てのスリットが一緒に、前記ファスナー軸部の軸方向に見て、ファスナー軸部の全円周に亘って少なくとも一回互いに重なり合う請求項７３に記載されたファスナー。
【請求項７７】
前記一体のばねが前記ファスナーの外周と内部孔の間に伸びる多数の開口によってもたらされる請求項６５に記載されたファスナー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置、真空装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイスに関する。更に具体的には、本発明は、その装置の第１部品をその装置の第２部品に締結するためのファスナーに関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板の目標部分上に所望のパターンを付ける機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使うことができる。その場合、マスクのような、パターニング装置を使ってこのＩＣの個々の層に対応する回路パターンを創成してもよく、このパターンを、放射線感応材料（レジスト）の層のある基板（例えば、シリコンウエハ）上の目標部分（例えば、一つまたは幾つかのダイの一部を含む）に結像することができる。一般的に、単一基板が隣接する目標部分のネットワークを含み、それらを順次露出する。既知のリソグラフィ装置には、全パターンをこの目標部分上に一度に露出することによって各目標部分を照射する、所謂ステッパと、そのパターンを投影ビームによって与えられた方向（“走査”方向）に走査することによって各目標部分を照射し、一方、基板をこの方向と平行または逆平行に同期して走査する、所謂スキャナがある。
【０００３】
リソグラフィ装置では、種々の部品がファスナーを使って互いに締結される。装置部品を互いに締結するために、例えば、ボルト、ねじまたはスタッドを使うことが知られている。例えば、光学要素品のような、第１装置部品を、一つ以上のファスナーを使って、ベースまたは支持フレームのような、第２装置部品上にクランプするかも知れない。
【０００４】
既知のファスナー、例えば、ボルト、ねじ、またはスタッドは、このファスナーをそれぞれの装置部品の適当な孔の中へ駆動するための駆動頭部は勿論、あるピッチのねじ山の付いた軸部を含む。組立後、そのファスナーは、その軸部のねじ山とねじ孔、および駆動頭部を協力して使用し、これらの装置部品を一緒にクランプする。
【０００５】
一般的に、これらの装置部品を互いに堅固且つ永続的に結合できるように比較的しっかりしたクランプをするのが望ましい。あるばね張力を使うことによってそのようなしっかりしたクランプをもたらすことが分っている。このばね張力は、互いにクランプすべき装置部品のある弾性によって得ることができる。しかし、多くの場合、これらの装置部品は、そのような弾性を提供または維持するのに適していないかも知れない。また、種々の場合、これらの装置部品の一つ以上の変形が、例えば、そのような変形が装置部品の整列不良を生じるかも知れないので、望ましくないかも知れない。
【０００６】
各ファスナーの材料はそれ自体、そのファスナーが取付けられた後に、確かなばね張力を生じ得るある弾性を有していてもよい。例えば、ねじの自由長さは、あるクランプ張力を与えるために伸びても良いかもしれない。しかし、多くの場合、ねじ（またはボルトまたはスタッド）のある達成できる自由長さ、ある所望クランプ力、ある許容トルク、ある弛緩余裕および／または所望の直径は、満足に設計または選択することができない。例えば、ある場合に、ファスナーの自由長さは、組立後に十分な張力を得るために、このファスナーを取付けるためにその装置に残されたスペースが十分でない程長くなければならない。
【０００７】
その上、組立後あるクランプ張力を確保するために、ファスナーの頭と装置部品との間に置く、別のばねまたはばね座金を使うことが知られている。しかし、そのような別の、通常比較的小さい、ばね部品または座金を付けることは、そのような部品または座金を組立中に落し且つ紛失し易いので、生産およびサービスのために望ましくない。小さいばね部品または座金は、取扱いが比較的困難であり、従って組立困難または遅延に繋がるかも知れない。
【０００８】
ファスナーを真空環境でまたはそれと接触して使うことになっているならば、残留ガスをある期間閉込め得る死空間を防ぐような方法でファスナーを取付けるのが望ましい。そのような死空間は、その装置のポンプダウンを妨害するかも知れない。また、そのような死空間から漏れるガスは、所望の真空を汚染するかも知れない。そのような死空間を防ぎまたは除去するために、装置部品に特別な孔を明けてもよい。しかし、装置部品の孔明けは、費用が掛り、かつこの装置部品の機能に悪影響を与えるかも知れない。ファスナーの下に軸方向にあるかも知れない、死空間を開くためにスタッド、ねじまたはボルト・ファスナーに軸孔を設けてもよい。しかし、そのような軸孔は、組立後ファスナーによって閉込められるかも知れない全ての死空間に達することはできない。
【０００９】
既知のファスナーおよび装置部品の締結方法の欠点は、装置性能全体を低下し、スループットを減少し、およびその装置の運転精度を低減するかも知れない。これは、リソグラフィ製造方法を使ってその装置で作ったデバイスの高コストおよび／または低性能に繋がる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の一面は、装置部品を結合するための改良したファスナーを含むリソグラフィ装置を提供することである。
本発明の一面は、一つ以上の比較的簡単のファスナーを使って装置部品を一緒にクランプできるリソグラフィ装置を提供することである。
ファスナーと装置部品の間に閉込めた死空間を防げるリソグラフィ装置を提供することも一面である。
リソグラフィ装置および／またはリソグラフィによる製造方法によって作った、比較的安価で、高性能のデバイスを提供することも一面である。
装置部品を結合するための改良したファスナーを含む真空装置を提供することも一面である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一面によれば、リソグラフィ装置が提供される。その装置は、放射線のビームを調整するための照明システムおよびパターニング装置を支持するための支持構造体を含む。このパターニング装置は、この投影ビームの断面にパターンを与えるのに役立つ。その装置は、基板を保持するための基板テーブル、このパターン化したビームを基板の目標部分上に投影するための投影システム、およびその装置の第１部品をその装置の第２部品に締結するための少なくとも一つのファスナーも含む。このファスナーは、少なくとも一つの一体のばねを含む。
【００１２】
この一体のばねは、その第１および第２部品を一緒にクランプするために、組立後あるクランプ力を確保および／または維持し得るものである。このばねは、一体のばねであるので、別のばねまたはばね座金を使用しなくてもよいかも知れない。それで、装置部品の締結を簡単且つ安全に達成され得るものである。これらの装置部品それ自体は、クランプばね力を与える必要はない。従って、これらの装置部品は、比較的堅くてもよい。また、このファスナー、例えば、ねじ、ボルトまたはスタッドは、一つ以上の一体のばねを含むので、依然として適当な予張力を確保および／または維持することができながら、軸方向に比較的短く作り得るものである。
【００１３】
一体のばねを含むこのファスナーの適用は、その装置の装置性能全体の改善、高スループット、中断時間の短縮および／または運転精度の向上に繋がり得るものである。これは、更に、リソグラフィ製造方法を使うその装置によって作ったデバイスの低コストおよび／または高性能に繋がり得るものである。
【００１４】
この一体のばねは、種々の方法で製造することができる。このばねは、例えば、ファスナーに単純に機械加工されてもよい。この機械加工は、例えば、以下に説明するように、スタッド、ボルトまたはねじファスナーの軸部にばねを切出すことも含み得る。
【００１５】
本発明の一実施例によれば、このばねは、ファスナーのらせん状部である。そのようならせん状ばね部は、装置部品を一緒にクランプするために所望の、適当なばね力を提供することができる。このらせん状ばね部は、ある特定の用途に使うために設計してもよい。所望のクランプを達成するために、このばねの種々のパラメータを選択または調整してもよい。そのようなパラメータは、例えば、らせんのピッチ、巻き数、らせんの直径等を含んでもよい。そのようなパラメータに依って、このファスナーの軸方向に測定したときに、比較的短いらせん部が装置部品のクランプのために適当なクランプ力をもたらすかも知れない。
【００１６】
このファスナーのらせん状ばね部は、このファスナーと一つ以上の装置部品の間に閉込めるかも知れない死空間の存在を防げるかも知れない。このため、このファスナーは、更に軸方向孔、例えば、貫通孔を含むかも知れない。
【００１７】
使用中、この第１および第２装置部品をこのファスナーによって互いに結合することができる。このファスナーのらせん状部の外面と装置部品の何れかの対向面の間に捕えたどんなスペースにもこのファスナーを介して、即ち、このファスナーのらせん状部の開口を介しておよび軸方向孔を介して達することができる。そのような密閉したスペースは、このファスナーが真空環境と流体連通しているとき、このファスナーの開口を介して簡単にポンプダウンすることができる。これは、装置性能向上、中断時間の低下、デバイス製造のための清浄な真空環境および、従って、改良したおよび／または低価格のデバイスにも繋がるかも知れない。
【００１８】
本発明の一面によれば、このらせん状部は、組立中に戻り止め機能を与えるために適した捩れになっている。このため、らせん状部のピッチの方向は、このファスナーのねじ山のピッチの方向と反対である。
【００１９】
例えば、このファスナーが、ファスナー上端から軸方向に下に見たとき、通常の右巻きねじ山を含む場合、人は、取付中にこのファスナーに時計回りトルクを加えるだろう。すると、このファスナーは、装置部品を結合するために単純に時計回り方向に回転するだろう。これは、このらせん状部の直径およびピッチまたは長さを減少する傾向を生じ得るものである。その際、このらせんに蓄積した捩れまたは捩り力がファスナー下部を更に深く駆動しようとする。組立後、反対方向のどの様な回転もこのらせん状部の直径の膨張になり得る。従って、このファスナーは、組立後それぞれの装置部品を簡単に固着する。
【００２０】
本発明の一面によれば、真空装置が提供される。その装置は、その装置の第１部品をその装置の第２部品に締結するための少なくとも一つのファスナー、例えば、スタッド、ボルトまたはねじを含む。このファスナーは、少なくとも一つの一体のばねを含む。これは、この真空装置に上述の利点をもたらすかも知れない。特に、このファスナーは、装置部品を比較的しっかり締結し得るものである。このファスナーを使うことによって、特にこのファスナーがらせん状ばね部を含むとき、死空間の存在をより良く防ぐかも知れない。この真空装置は、どんな真空装置、例えば、半導体産業真空装置、リソグラフィ真空装置、蒸着装置、分析器、医療器具、顕微鏡、宇宙で使うべき装置、宇宙船またはその部品等々でもよい。
【００２１】
本発明の一面では、リソグラフィ装置が提供される。この装置は、放射線のビームを調整するための照明システム、およびパターニング装置を支持するための支持構造体を含む。このパターニング装置は、この投影ビームの断面にパターンを与えるのに役立つ。この装置は、基板を保持するための基板テーブル、およびこのパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システムも含む。少なくとも第１装置部品がその装置の真空環境内に位置する。この装置は、その装置の第１部品をその装置の第２部品に締結するための少なくとも一つのファスナー、例えば、スタッド、ボルトまたはねじも含む。このファスナーは、このファスナーの頭部とこのファスナーの軸部のねじ山部の間に伸びる一体のらせん状ばねを含む。
【００２２】
そのようなファスナーは、所望のクランプ力を与え得るものであり、そこで死空間の存在を比較的よく防げる。このファスナーは、比較的容易に、例えば、ファスナーの軸部かららせん状部を切出すことによって製造してもよい。
【００２３】
本発明の一面によれば、リソグラフィ装置を利用するデバイス製造方法が提供される。この方法は、基板を用意する工程、照明システムを使って放射線のビームを用意する工程、この放射線のビームの断面にパターンを与えるためにパターニング装置を使う工程、およびこのパターン化した放射線のビームをこの基板の目標部分上に投影する工程、を含む。少なくとも一つのボルト、ねじまたはスタッドを、その装置の第１部品をその装置の第２部品に締結するためのファスナーとして使う。このファスナーは、このファスナーの外周とその内部孔、例えば、軸方向孔の間に伸びる多数の開口によってもたらされる、少なくとも一つの一体ばね、例えば、らせん状ばね部および／または一体のばねを含む。
【００２４】
一実施例では、その装置の処理空間の汚染を防ぎまたは減少できるように、ガスを、その装置と第１および／または第２装置部品の間から、このファスナーを貫通する少なくとも一つの孔を介して汲出す。例えば、この一体のばねが、ガスをこの一体のばねの外周側からこのばねの少なくとも一つの孔を介してこのファスナーの軸方向孔へ汲出すように、このファスナーのねじ付き軸部とこのファスナーの頭部の間に伸び得る。
【００２５】
上述のように、このらせん状部は、組立中戻り止め機能を与えるのに適した巻き方をしていてもよく、そこで、このらせん状部のピッチの方向は、ファスナーのねじ山のピッチの方向と反対である。そこで、ファスナーが軸方向孔、例えば、貫通孔を含むとき、このファスナーの取付中その半径方向収縮を防ぎ且つファスナーに加える許容取付けトルクを増すために、ファスナーの軸方向孔に締結要素を挿入してもよい。
【００２６】
一実施例は、デバイスの製造に、上述の利点に繋がり得る、装置の使い方を提供する。
一実施例は、デバイスを比較的安価に、かつ動作中比較的高性能に提供するように、前述の装置によりおよび／または前述の方法によって製造したデバイスを提供する。
【００２７】
一実施例は、軸部および頭部を有するねじ、ボルトまたはスタッドファスナーを製造するための方法を提供する。一実施例によれば、この方法は、らせん状一体ばねを設けるために軸部に機械加工した少なくとも一つの切欠きに特徴がある。この方法は、例えば、前述の利点をもたらすためにリソグラフィおよび／または真空装置に都合よく使えるファスナーに繋がる。
【００２８】
一実施例では、この軸部の一部がねじ山を備える。そのようなねじ山は、例えば、左巻きでも右巻きでもよい。この切欠きがらせん状切欠きであり、らせん状部のピッチの方向がファスナーの締付け方向と反対である場合、戻り止め機能が簡単に得られる。
【００２９】
一実施例で、この切欠きは、その頭部とねじ山との間に伸びる。従って、このばね部は、組立後クランプ力を供給または確保するために、ファスナーの頭部をねじ山部に関して跳ね返らせ得るものである。この様にして、このらせんは、ファスナーのねじ部の外に伸びる。
この切欠きは、軸部にねじ山を設けてから作ってもよい。それで、既存のねじ、ボルトまたはスタッドをこの組立体によるファスナーに簡単に機械加工できる。
また、この切欠きをこの軸部のねじ山のない部分に機械加工してもよい。これは、ばね部がファスナー頭部とねじ山の間に伸びるファスナーに繋がる。
【００３０】
また、上述のように、軸方向孔をこの軸部に、例えば、孔開けによって設けてもよい。この軸方向孔は、切欠きと組合わされてばね部を完成してもよい。そのような軸方向孔は、このファスナーの使用中死空間を防ぐためおよび／または組立てるように工具を挿入するために使ってもよい。
【００３１】
本発明の一面で、このファスナーの軸部は、スリットがこのファスナーの軸部の外周とその内部孔、例えば、軸方向孔の間を伸びるように、この内部孔は勿論複数の別々のスリットを備える。多数のこれらのスリットが、このファスナーの軸部の軸方向に見たとき、離間している。例えば、多数の上記スリットが、このファスナーの軸部の円周方向に見たとき、離間していてもよい。更に、各スリットが、このファスナー軸部の軸方向に見たとき、例えば、各軸方向に最近のスリットの少なくとも一つの円周端と重なり合ってもよい。また、全てのスリットが一緒に、このファスナー軸部の軸方向に見て、ファスナー軸部の全円周に亘って少なくとも一回互いに重なり合ってもよい。
【００３２】
本発明の一面によれば、ファスナーが提供される。このファスナーは、軸部および頭部を有するねじ、ボルトまたはスタッドでもよい。このファスナーは、少なくとも一つの一体のばねを含む。このファスナーは、軸方向孔、例えば、貫通孔も含んでよい。このファスナーは、このファスナーの締結中に、このファスナーの軸方向孔に挿入するように構成した取外し可能締結要素を含んでもよい。この一体のばねは、この軸方向孔からこのファスナーの外面まで少なくとも半径方向に伸びる一つ以上の開口を含んでもよい。このらせん状部のピッチの方向は、例えば、組立中戻り止め機能を与えるため、このファスナーのねじ山のピッチの方向と反対であってもよい。また、このらせん状部のピッチの方向は、このファスナーのねじ山のピッチの方向と同じであってもよい。更に、このばねは、例えば、ねじ付き軸部と頭部との間に伸びてもよい。そのようなファスナーは、種々の部品、構成品、要素、物体等を互いに耐久性があり且つしっかりと締結するための種々の用途で使ってもよい。そのようなファスナーは、組立後の死空間の存在を防ぐために使ってもよい。また、この一体のばねは、多数の開口、例えば、このファスナーの外周とその内部孔、例えば、軸方向孔の間に伸びる一つ以上の開口によって設けてもよい。
【００３３】
この本文では、ＩＣの製造でリソグラフィ装置を使用することを具体的に参照し得るが、ここで説明するリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁区メモリ用誘導検出パターン、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造のような、他の用途があるかも知れないことを理解すべきである。当業者には、そのような代替用途の関係で、ここで使う“ウエハ”または“ダイ”という用語のどれも、それぞれ、より一般的な用語“基板”または“目標部分”と同義と考えてもよいことが分るだろう。ここで言及する基板は、露出の前または後に、例えば、トラック（典型的には基板にレジストの層を付け且つ露出したレジストを現像する器具）または計測若しくは検査器具で処理してもよい。該当すれば、この開示をそのようなおよびその他の基板処理器具に適用してもよい。更に、この基板を、例えば、多層ＩＣを創るために、二度以上処理してもよく、それでここで使う基板という用語は既に多重処理した層を含む基板も指すかも知れない。
【００３４】
ここで使用する“放射線”および“ビーム”という用語は、紫外（ＵＶ）放射線（例えば、波長３６５、２４８、１９３、１５７または１２６ｎｍの）および超紫外（ＥＵＶ）放射線（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びにイオンビームまたは電子ビームのような、粒子ビームを含むあらゆる種類の電磁放射線を包含する。
【００３５】
ここで使う“パターニング装置”という用語は、投影ビームの断面に、この基板の目標部分に創るようなパターンを与えるために使うことができる装置を指すと広く解釈すべきである。この投影ビームに与えたパターンは、基板の目標部分の所望のパターンと厳密には対応しなくてもよいことに注目すべきである。一般的に、投影ビームに与えたパターンは、集積回路のような、この目標部分に創るデバイスの特別の機能層に対応するだろう。
【００３６】
パターニング装置は、透過性でも反射性でもよい。パターニング装置の例には、マスク、プログラム可能ミラーアレイ、およびプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクは、リソグラフィでよく知られ、二値、交互位相シフト、および減衰位相シフトのようなマスク型、並びに種々のハイブリッドマスク型がある。プログラム可能ミラーアレイの一例は、小型ミラーのマトリックス配置を使用し、入射放射線ビームを異なる方向に反射するようにその各々を個々に傾斜することができ、この様にして反射ビームをパターン化する。パターニング装置の各例で、支持構造体は、フレームまたはテーブルでもよく、例えば、それらは必要に応じて固定または可動でもよく、パターニング装置が、例えば投影システムに関して、所望の位置にあることを保証してもよい。ここで使う“レチクル”または“マスク”という用語のどれも、より一般的な用語“パターニング装置”と同義と考えてもよい。
【００３７】
ここで使う“投影システム”という用語は、例えば使用する露出放射線に対して、または浸漬液の使用または真空の使用のような他の要因に対して適宜、屈折性光学システム、反射性光学システム、および反射屈折性光学システムを含む、種々の型式の投影システムを包含するように広く解釈すべきである。ここで使う“レンズ”という用語のどれも、より一般的な用語“投影システム”と同義と考えてもよい。
【００３８】
この照明システムも放射線の投影ビームを指向し、成形し、または制御するための屈折性、反射性、および反射屈折性光学要素を含む、種々の型式の光学要素も包含してよく、そのような要素も以下で集合的または単独に“レンズ”とも呼ぶかも知れない。
【００３９】
このリソグラフィ装置は、二つ（二段）以上の基板テーブル（および／または二つ以上のマスクテーブル）を有する型式でもよい。そのような“多段”機械では、追加のテーブルを並列に使ってもよく、または準備工程を一つ以上のテーブルで行い、一方他の一つ以上のテーブルを露出用に使ってもよい。
【００４０】
このリソグラフィ装置は、投影システムの最終素子と基板との間のスペースを埋めるように、この基板を比較的屈折率の高い液体、例えば水の中に浸漬する型式でもよい。浸漬液をこのリソグラフィ装置の他のスペース、例えば、マスクと投影システムの最初の素子との間にも加えてよい。浸漬法は、投影システムの開口数を増すために、この技術でよく知られている。
【００４１】
次に、本発明の実施例を、例としてだけ、添付の概略図を参照して説明し、それらの図面で対応する参照記号は対応する部品を指す。
【実施例】
【００４２】
図１は、本発明の特定の実施例による装置を概略的に図示する。この装置は、例えば、真空装置でもよい。本実施例では、その装置がリソグラフィ装置であり、放射線（例えば、ＵＶまたはＥＵＶ放射線）の投影ビームＰＢを供給するための照明システム（照明器）ＩＬ、パターニング装置（例えば、マスク）ＭＡを支持し、且つこのパターニング装置を部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第１位置決め装置ＰＭに結合された第１支持構造体（例えば、マスクテーブル）ＭＴ、基板（例えば、レジストを被覆したウエハ）Ｗを保持し、且つこの基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第２位置決め装置ＰＷに結合された基板テーブル（例えば、ウエハテーブル）ＷＴ、およびパターニング装置ＭＡによって投影ビームＰＢに与えたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、一つ以上のダイを含む）上に結像するための投影システム（例えば、反射性投影レンズ）ＰＬを含む。
【００４３】
その装置が真空装置である場合、この装置の一つ以上の部品が真空環境Ｖの中、または周りにあり得る。この環境を所望の低圧に維持するための一つ以上の真空ポンプがこの図には示してない。もし望むなら、その装置の中に所望の圧力を達成するためにそのような真空ポンプをどの様に利用したらよいかは分っている。
【００４４】
ここに図示するように、その装置は、反射型（例えば、反射性マスクまたは上に言及した型式のプログラム可能ミラーアレイを使用する）である。その代りに、その装置は、透過型（例えば、透過性のマスクを使用する）でもよい。
【００４５】
照明器ＩＬは、放射線源ＳＯから放射線のビームを受ける。この線源とリソグラフィ装置は、例えば、線源がプラズマ放電源であるとき、別々の存在であってもよい。そのような場合、この線源がリソグラフィ装置の一部を形成するとは考えられず、放射線ビームは、一般的に線源ＳＯから、例えば適当な収集ミラーおよび／またはスペクトル純度フィルタを含む放射線収集器を使って、照明器ＩＬへ送られる。他の場合、例えば、線源が水銀灯であるとき、線源がその装置の一部分であってもよい。この線源ＳＯと照明器ＩＬを放射線システムと呼んでもよい。
【００４６】
照明器ＩＬは、ビームの角強度分布を調整するための調整装置を含んでもよい。一般的に、この照明器の瞳面での強度分布の少なくとも外側および／または内側半径方向範囲（普通、それぞれ、σ外側およびσ内側と呼ぶ）を調整できる。この照明器は、その断面に所望の均一性および強度分布を有する、投影ビームＰＢと呼ぶ、状態調節した放射線ビームを提供する。
【００４７】
投影ビームＰＢは、マスクテーブルＭＴ上に保持したマスクＭＡに入射する。マスクＭＡによって反射されてから、この投影ビームＰＢは、レンズＰＬを通過し、それがこのビームを基板Ｗの目標部分Ｃ上に集束する。第２位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ２（例えば、干渉計式装置）を使って、基板テーブルＷＴを、例えば、異なる目標部分ＣをビームＰＢの経路に配置するように、正確に動かすことができる。同様に、例えば、マスクＭＡをマスクライブラリから機械的に検索してから、または走査中に、第１位置決め装置ＰＭおよび位置センサＩＦ２を使ってマスクＭＡをビームＰＢの経路に関して正確に配置することができる。一般的に、物体テーブルＭＴおよびＷＴの移動は、位置決め装置ＰＭおよびＰＷの一部を形成する、長ストロークモジュール（粗位置決め）および短ストロークモジュール（微細位置決め）を使って実現する。しかし、ステッパの場合は（スキャナと違って）、マスクテーブルＭＴを短ストロークアクチュエータに結合するだけでもよく、または固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスク整列マークＭ１、Ｍ２および基板整列マークＰ１、Ｐ２を使って整列してもよい。
【００４８】
図示する装置は、以下の好適モードで使うことができる。
１．  ステップモードでは、投影ビームに与えた全パターンを目標部分Ｃ上に一度に（即ち、単一静的露出で）投影する間、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを本質的に固定して保持する。次に基板テーブルＷＴをＸおよび／またはＹ方向に移動して異なる目標部分Ｃを露出できるようにする。ステップモードでは、露出領域の最大サイズが単一静的露出で結像する目標部分Ｃのサイズを制限する。
２．  走査モードでは、投影ビームに与えたパターンを目標部分Ｃ上に投影（即ち、単一動的露出で）しながら、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを同期して走査する。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＬの（縮）倍率および像反転特性によって決る。走査モードでは、露出領域の最大サイズが単一動的露出での目標部分の（非走査方向の）幅を制限し、一方走査運動の長さが目標部分の（走査方向の）高さを決める。
３．  もう一つのモードでは、プログラム可能パターニング装置を保持するマスクテーブルＭＴを本質的に固定し、投影ビームに与えたパターンを目標部分Ｃ上に投影しながら、基板テーブルＷＴを動かしまたは走査する。このモードでは、一般的にパルス化した放射線源を使用し、プログラム可能パターニング装置を基板テーブルＷＴの各運動後または走査中の連続する放射線パルスの間に必要に応じて更新する。この作動モードは、上に言及した型式のプログラム可能ミラーアレイのような、プログラム可能パターニング装置を利用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用できる。
上に説明した使用モードの組合せおよび／または変形または全く異なった使用モードを使ってもよい。
【００４９】
図１に示すように、この装置は、その装置の種々の部品を締結するためにファスナー３を含む。例えば、これらのファスナー３は、その装置の一つ以上の光学素子、ミラー、レンズ、ウエハステージ部品、マスクステージ部品、または検出器部品を締結するために使うかも知れない。そのような部品は、例えば、これらのファスナー３を使ってその装置の一つ以上のフレーム部品、壁部品またはベース部品に締結してもよい。また、この装置は、光学素子、ミラー、レンズ、ウエハステージ部品、マスクステージ部品、検出器部品等を取付けるために一つ以上の取付けフレーム、ホルダ等を含んでもよい。一つ以上のファスナーも使ってそのような取付けフレームを他の装置部品に締結するかも知れない。
【００５０】
図２および図３は、図１の装置の一部を概略的に示す。図２および図３は、第１装置部品１、第２装置部品２およびこれらの装置部品１、２を一緒にクランプするためのファスナー３の実施例を示す。この第１および第２装置部品１、２は、例えば、その装置の一つ以上の上記構成要素を含むかも知れない。
【００５１】
ファスナー３は、頭部６およびこの頭部６から垂直に伸びる、実質的に円筒形の軸部７を含む。この頭部６は、軸部７より広い。取付け後、このファスナー３の軸部７は、装置部品１、２の整列した孔１１、１２を伸びる。ファスナー軸部７の一部に、第２装置部品２の孔１２の内ねじ山１３と協同するための外ねじ山１０がある。
【００５２】
ファスナー３の頭部６には、適当なドライバと係合すべき孔８がある。頭部６が適当な駆動工具と協同するために多くの異なる形式、形状、孔等を有してもよいことは言うまでもない。
【００５３】
本実施例で、ファスナー３のねじ山１０は、組立中逆時計回り締め用に構成してある。その代りに、もし望むなら、時計回り締めを実行してもよい。
【００５４】
図２ないし図６に示すように、ファスナー３は、一つの一体のばね４を含む。その代りに、ファスナー３は、一つを超える一体のばね４を備えてもよい。図示のように、ばね４は、ファスナー３のねじ山１０と交差しない。ばね４は、ねじ山１０のあるねじ付き軸部とファスナ頭部６の間に伸びる。本実施例で、ばね４は、ファスナー３のらせん状部である。このらせん状部は、ファスナー３の中心軸周りを同心に伸び、または巻付く。特に、ファスナー３は、らせん状スリット９を含み、それは適当な切削工具を使ってファスナー３の軸部７を単純に切出してあってもよい。また、ファスナー３は、軸方向孔５を含んでもよく、それは、少なくともこのファスナーのらせん状スリット９を含む部分を伸びる。本実施例で、この孔５は、ファスナーの対向する軸端間を伸びる貫通孔である。らせん状スリット９は、軸方向孔５と合流する。このらせん状ばねは、このらせん状スリット９と軸方向孔５の組合せから生じる。らせん状スリット９は、少なくともこのファスナーの軸方向孔５から円筒形外面Ｓまで伸びる開口を提供する。
【００５５】
本実施例で、らせん状ばね部４のピッチの方向は、このファスナーの外ねじ山１０のピッチの方向と反対である。これが組立中戻り止め機能をもたらす。本実施例では、例えば、らせん状ばね部が、ファスナーの頭部から下方に見て、右  −または時計回り−巻きであり、ファスナー３の逆時計回り締付け方向と反対である。図８は、逆時計回り巻きのらせん状ばね部４’を有するファスナー３’の第２の、代替、実施例を示す。
【００５６】
この装置は、更に締結要素２０を含んでもよく、その実施例を図７に概略的に示す。締結要素２０は、頭部２１および円筒形ロッド２２を含む。この締結要素２０のロッド２２は、ファスナー３の孔５にしっかりと嵌るように構成してある。例えば、締結要素２０のロッド２２の直径は、ファスナー３の貫通孔５の直径と実質的に同じか僅かに小さくてもよい。使用中、締結要素２０のロッド２２は、組立中ファスナー３のばね部４の収縮を防ぐために、ファスナー３の軸方向孔５に挿入することができる。
【００５７】
ファスナー３の使用中、第１装置部品１および第２装置部品２は、最初にそれぞれの孔１１、１２を整列するために互いに重ねて置く。ファスナー３のねじ山１０が第２装置部品２の孔１２のねじ山１３に巻付くように、ファスナー３を適当な方向にねじ込む。ファスナー３をある距離に亘って第２装置部品２にねじ込んでから、ファスナー３の頭部は、第１装置部品１の表面と接触するようになるだろう。ファスナー３を第２装置部品２の中へ更に深くねじ込むと、ファスナー３の一体ばね部４は、弛緩状態からある緊張状態へ弾性的に変形し、図２および図３に示す組立てた形態になるだろう。この組立てた形態で、ファスナーの一体ばね部４は、第１装置部品１をファスナー３の頭部６と第２装置部品２との間にクランプするためのある張力をもたらす。
【００５８】
ばね部４の種々のパラメータが、とりわけ、その部分４のばね定数、ファスナー３によって達成すべき最大クランプ力、並びにファスナー３の軸方向および捩り剛性を決める。これらのパラメータには、ファスナーのばね部４の数、ばね部４の種々の寸法、ばね部４の外径および内径、そのらせんのピッチ、そのらせんの断面、そのらせんの巻き数、ばね部４に使う材料、そのらせんの回転方向、らせん状スリット９の幅、軸部７のねじ部の直径に関するばね部４の直径、並びにそのらせんの方向があるが、それに限定されない。
【００５９】
そのようなパラメータを調整することによって、ファスナー３は、それを使う用途に依って、最適性能をもたらすように設計することができる。例えば、ファスナー３は、ファスナー３の全体の軸方向長さが比較的小さくて、比較的大きな予張力を与えるように設計してもよい。ファスナー３のこれらのパラメータは、装置部品１、２と改善した接触をもたらすように調整してもよい。そのような改善した接触は、例えば、頭部を軽く押して、その取付け面を第１装置部品１と整列させてもよいので、ファスナー３に一体のらせん状ばね部４を介して比較的大きな弛緩余裕を与えることによって達成してもよい。例えば、ファスナー３のばね部４は、複数の巻付け回数および／または口を含んでもよい。また、このらせんの方向は、もし望むなら、ねじり変形の方向を制御するために、調整してもよい。
【００６０】
また、組立中、装置部品１、２のゆるみを防止するために、戻り止め機構を使ってもよい。その場合、締結要素２０を使うとき、ばね部４の半径方向収縮が妨げられ、それで軸方向収縮も同様に妨げられる。そのような締結要素２０は、この締結要素２０を使った後にファスナー３から除去してもよい。
【００６１】
組立後、この装置は、特にその装置が、例えば、図１に示すようなリソグラフィ装置である場合に、デバイス製造法に使うことができる。この方法は、基板Ｗを用意する工程、照明システムＩＬを使って放射線のビームを用意する工程、この放射線のビームの断面にパターンを与えるためにパターニング装置ＭＡを使う工程、およびこのパターン化した放射線のビームを基板Ｗの目標部分上に投影する工程含む。
【００６２】
この方法は、上に図１に関して説明した。或る実施例によれば、この方法は、その装置の第１部品１をその装置の第２部品２に締結するためにファスナー３として、少なくとも一つのボルト、スタッドまたはねじを使うことに特徴がある。このファスナー３は、一体のばね４、例えば、らせん状ばね部を含む。
【００６３】
ファスナー３は、真空装置、例えば、真空リソグラフィ装置または別の装置に使ってもよい。例えば、第１装置部品１がその装置の真空環境Ｖにあるかも知れない。図３で説明したように、ファスナー３の頭部６によって保持する、第１装置部品１の表面が、例えば、ある真空雰囲気Ｖに接するかも知れない。その場合、ファスナ頭部６も真空Ｖの中へ伸び、それでファスナーの軸方向孔５が真空環境Ｖと流体連通している。
【００６４】
図３に示すように、ファスナー３、第１装置部品１および第２装置部品２は、円筒形スペース１４を囲い込む。この囲まれたスペース１４は、装置部品１、２の環境がまだ所望の真空圧力にポンプダウンしてない場合、組立後一つ以上のガスを含むだろう。ファスナー３および第２装置部品２は、更に第２装置部品２の穴１２の底部を囲い込む。
【００６５】
組立後、ファスナー頭部６および第１装置部品１近くの環境を所望の真空圧力にポンプダウンする。減圧の影響を受けて、残留ガスがこの一体ばねの外周側かららせん状スリット９を経てファスナー３の軸方向孔５へ流れるかも知れない。このガスは、軸方向孔５からファスナー３の頭部６を経て隣接するスペースへ出る。この様にして、密閉した円筒形スペース１４が死空間になるのが防がれる。また、第２装置部品２の孔１２の底部は、ファスナー３の軸方向孔５を介してポンプダウンできる。それで、死空間の存在をファスナー３によってかなり減少でき、ポンプダウン時間の低下および装置汚染の減少に繋がる。
【００６６】
説明した実施例では、ファスナー３の軸方向端の一つが組立後真空環境Ｖに接する。その代りに、例えば、第２装置部品２の孔１２が真空と流体連通している場合、密閉した真空に達するためにファスナー３の両軸端が真空環境と流体連通していてもよい。また、代替実施例では、ファスナーの軸方向孔５がその頭部６を貫通せず、第２装置部品２の孔１２を経て真空環境と流体連通するために、反対のファスナー端を通るだけでもよい。
【００６７】
ファスナー３を真空システムに適用する場合、それは二つの主な利点を兼ね備えるかも知れない。第１に、ファスナー３は、装置部品のよく制御された締結を提供し、これらの部品１、２の耐久性のある締結に繋がるかも知れない。第２に、ファスナー３は、死空間をかなり避けるかも知れない。両利点がより良いシステム性能、コスト低減、中断時間の減少等をもたらすかも知れない。
【００６８】
図８は、本発明によるファスナー３’の第２実施例を示す。この第２実施例は、らせん状ばね部４’が、このファスナー３’の頭部６’から下方に見て、左  −または逆時計回り−  巻きである点で、図２ないし図６の第１実施例と異なる。また、このらせん状部４’の巻き方は、組立中戻り止め機能を与えるために、ファスナー３’の締付け方向と反対であるのが好ましい。その場合、ファスナー３’の外ねじ山（図８には示さず）のピッチの方向は、時計回り巻きである。この第２実施例によるファスナー３’は、組立中通常の時計回りに回転できる。
【００６９】
図９は、本発明によるファスナー３の第３実施例の透視図である。図１０は、図９に類似する図であり、この第３実施例が約９０°回転してある。この第３実施例の平面図を図１１に示す。この第３実施例３”は、一体のばね４”がらせん状ばねでない点で、第１および第２実施例と異なる。この第３実施例は、ファスナー３”を含み、一体のばね４”は、ファスナー３”の軸部７”の外周とその内部孔、本実施例では軸方向貫通孔５”の間を伸びる複数の別々のスリット９”を含む。多数のスリット９”が、ファスナー３”の軸部７”の軸方向に見て離間している。特に、多数のスリット９”が、ファスナー３”の円周方向に見て離間している。また、各スリット９”は、ファスナー軸部７”の軸方向に見て各軸方向に最近のスリット９”の少なくとも一つの円周端と重なり合う。本実施例で、これらの円周端は、各々半径方向にファスナー３”の中へ伸びる実質的に円形の穴を含む。全てのスリット９”は一緒に、ファスナー軸部７”の軸方向に見て、ファスナー軸部７”の全円周に亘って少なくとも一回互いに重なり合う。従って、明らかに、一体のばね４”が、ファスナー３”の外周とその軸方向貫通孔５”の間に伸びる、多数のそのようなスリット形の開口９”によってもたらされる。本実施例で、各スリット９”は、ファスナー３”の中心軸に実質的に垂直に伸びる。スリット９”は、種々の形状を有してもよく、このファスナーにある所望の弾性を与えるために、異なる方向に伸びてもよい。
【００７０】
各ファスナー３、３’、３”それ自体は、種々の方法で製造することができる。或る実施例によれば、この製造は、軸部７、７’、７”および頭部６、６’、６”を有するねじ、ボルトまたはスタッドを製造するための方法を伴い、それは一体ばね部４、４’、４”を作るために少なくとも一つの切欠きをこの軸部に機械加工する。図２ないし図８の、この第１または第２実施例を作るためには、例えば、この切欠きは、らせん状切欠き９、９’であり、ばね部４、４’は、らせん状ばね部である。この第３実施例を作るためには、多数のスリット９”をこのファスナーの軸部７”から切出す。
【００７１】
軸７の一部は、ねじ山１０を備える。また、切欠き９、９’、９”の各々は、頭部６、６’、６”とねじ山１０の間を伸びるのが好ましい。例えば、各切欠きは、軸部にねじ山を設けてから、および／または切欠きの機械加工中に作ってもよい。また、各切欠きは、軸部のねじ山１０がない部分、例えば、このファスナーの自由長を形成する部分に機械加工してもよい。このらせん状部のピッチの方向は、このファスナーがそのようならせん状部を備えている場合、このファスナーの締付け方向と反対にしてもよい。軸方向孔５、５’、５”は、ファスナー３、３’、３”の軸部に孔明けしてもよい。
【００７２】
一つ以上のファスナー３、３’、３”を装置、例えば、リソグラフィ装置および／またはの一つ以上の部品に使ってもよい。また、一つ以上のファスナー３、３’、３”を、リソグラフィによるデバイス製造方法に使う装置の一つ以上の部品を締結するために使ってもよい。
各ファスナーは、一つ以上の一体ばね、例えば、少なくとも一つまたは二つのらせん状部を含んでもよい。
【００７３】
更に、一つ以上の一体ばねを種々の方法、例えば、らせん状切欠きを含むらせん状部として、または他の方法で構成し且つ形成してもよい。一つ以上の一体ばねも、例えば、ファスナーの外周とその軸方向孔との間に伸びる多数のスリットまたは孔によって、および／または異なる形状・配置で設けてもよい。
【００７４】
本発明の特定の実施例を上に説明したが、本発明を説明した以外の方法で実施してもよいことが分るだろう。この説明は、本発明を限定することを意図とするものではない。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の実施例によるリソグラフィ装置を図示する。
【図２】図１の装置の第１装置部品、第２装置部品およびファスナーの組立体の透視図である。
【図３】図２の組立体の断面図である。
【図４】図２の組立体のファスナーの透視図である。
【図５】図４のファスナーの縦断面、透視図である。
【図６】図４のファスナーの縦断面、側面図である。
【図７】図２の組立体の締結要素の側面図である。
【図８】或る実施例によるファスナーの透視図である。
【図９】或る実施例によるファスナーの透視図である。
【図１０】ファスナーが９０°に亘って回転されている図９に類似する図である。
【図１１】図９のファスナーの平面図である。
【符号の説明】
【００７６】
１  第１部品
２  第２部品
３  ファスナー
３’  ファスナー
３”  ファスナー
４  ばね
４’  ばね
４”  ばね
５  軸方向孔
５’  軸方向孔
５”  軸方向孔
６  頭部
６’  頭部
６”  頭部
７  軸部
７’  軸部
７”  軸部
９  開口、切欠き
９’  開口、切欠き
９”  スリット、開口、切欠き
１０  ねじ山
２０  締結要素
Ｃ  目標部分
ＩＬ  照明システム
ＭＡ  パターニング装置
ＭＴ  支持構造体
ＰＢ  投影ビーム、放射線ビーム
ＰＬ  投影システム
Ｓ  外面
Ｖ  真空環境
Ｗ  基板
ＷＴ  基板テーブル
【図１】
2006049856.tif 000003
【図２】
2006049856.tif 000004
【図３】
2006049856.tif 000005
【図６】
2006049856.tif 000006
【図７】
2006049856.tif 000007
【図８】
2006049856.tif 000008
【図４】
2006049856.tif 000009
【図５】
2006049856.tif 000010
【図９】
2006049856.tif 000011
【図１０】
2006049856.tif 000012
【図１１】
2006049856.tif 000013
【外国語明細書】
2006049856000001.pdf