(57)【要約】【課題】  磁気テープ信号をＭＲヘッドで再生した際に、記録再生信号に重畳するサーマルアスペリティノイズを低減させた、高密度記録特性が良好な磁気テープを提供すること。【解決手段】  支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を設けた磁気テープであって、５〜５０ｋＨｚの周波数帯域における、機器ノイズに対するサーマルアスペリティノイズの比が９ｄＢ以下であることを特徴とするＭＲヘッド再生用磁気テープ。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を設けた磁気テープであって、５〜５０ｋＨｚの周波数帯域における、機器ノイズに対するサーマルアスペリティノイズの比が９ｄＢ以下であることを特徴とするＭＲヘッド再生用磁気テープ。
【請求項２】
前記磁性層表面の１０ｇ荷重における触針式による引っ掻き深さが１００〜２５０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載のＭＲヘッド再生用磁気テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布型の高記録密度の磁気テープに関し、ＭＲヘッドによる再生に使用される磁気テープに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気記録媒体には酸化鉄粉末、Ｃｏ変性酸化鉄粉末、ＣｒＯ2粉末、強磁性金属粉末、六方晶系フェライト粉末などを結合剤中に分散してなる磁性層を非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。上記磁性粉末の中でも強磁性金属粉末と六方晶系フェライト粉末は高密度記録特性に優れていることが知られている。また、この磁気記録媒体の改善について種々の提案がなされている。
【０００３】
また、近年、ミニコンピュータ、パーソナルコンピュータなどのオフィスコンピュータの普及に伴って、外部記憶媒体としてコンピュータデータを記録するための磁気テープ（所謂、バックアップテープ）の研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テープの実用化に際しては、特にコンピュータの小型化、情報処理能力の増大と相俟って、記録の大容量化、小型化を達成するために記録容量の向上が強く要求される。また磁気テープの使用環境の広がりによる幅広い環境条件下（特に、変動の激しい温湿度条件下など）での使用、データ保存に対する信頼性、さらに高速での繰り返し使用による多数回走行におけるデータの安定した記録、読み出し等の性能に対する信頼性なども従来に増して要求される。
【０００４】
従来、電磁誘導を動作原理とする磁気ヘッド（誘導型磁気ヘッド）が用いられ普及している。だが更に高密度記録再生領域で使用するには限界が見え始めている。すなわち、大きな再生出力を得るためには再生ヘッドのコイル巻数を多くする必要があるがインダクタンスが増加し高周波での抵抗が増加し結果として再生出力が低下する問題があった。近年ＭＲ（磁気抵抗）を動作原理とする再生ヘッドが提案され、ハードデイスク、磁気テープ等で使用されている。ＭＲヘッドは誘導型磁気ヘッドに比較して数倍の再生出力が得られ、かつ誘導コイルを用いないため、インピーダンスノイズ等の機器ノイズが大幅に低下し、磁気記録媒体のノイズを下げることで大きなＳＮ比を得ることが可能になってきた。換言すれば従来機器ノイズに隠れていた磁気記録媒体ノイズを小さくすれば良好な記録再生が行え、高密度記録特性が飛躍的に向上できることになる。
そして、特許文献１では、支持体上に非磁性層と磁性層を備えた磁気記録媒体において、該磁気記録媒体を面記録密度が０．２〜５Ｇbit/inch2の信号を記録する磁気記録媒体となし、上記磁気記録層と反対側の面にグルーブ状もしくはピット状のくぼみを設け、くぼみ以外の表面粗さＲａ−Ｓを２〜２０ｎｍとなし、なおかつ１０ｇ荷重のとき上記磁性層の引っ掻き深さを６０ｎｍ未満とすることにより、電磁変換特性と高密度記録特性が良好でかつ優れた走行安定性を併せ持つ磁気記録媒体を提供するとしている。尚、実施例では、ＭＲヘッドを再生に用いた磁気テープを開示している。
【０００５】
また、特許文献２には、高密度記録特性が格段に改良され、かつヘッドとの摩擦力が低く、優れた耐久性を併せ持ち、特に高密度記録領域でのエラーレートが格段に改良された磁気記録媒体を得る方法として、熱硬化性樹脂を結合剤として含有する下層用塗布液及び磁性層塗布液を支持体上に塗布し、１００℃以上の乾燥ゾーンで乾燥し、乾燥直後のウェブを冷却ゾーンに通してウェブ温度を３５℃以下に冷却し、カレンダー処理に至るまでのウェブの温度を３５℃以下に保持し、しかる後カレンダー処理を行い、磁性層の表面粗さ（Ｒａ）を５ｎｍ以下、上記引っかき深さを９０ｎｍ以下とすることが開示されている。  なお、実施例では、磁気テープの記載がなく、ＭＲヘッドでも再生についても記載がない。
また、高転送データレート化に対応し得る、優れたヘッド当たりと出力とを有し、かつ高速摺動耐久性に優れた高密度記録に適した磁気記録媒体を提供するために、支持体上に非磁性粉末と結合剤を含む下層を設け、その上に強磁性粉末と結合剤を含む上層を設けた磁気記録媒体であって、前記上層表面が、荷重１５ｇにおける引っ掻き深さが３００ｎｍ未満、２００ｎｍ以上となる柔軟性を有し、かつ前記磁気記録媒体が、８００ｋｇ／ｍｍ2以上のテープ幅方向のヤング率を有する磁気記録媒体を提案している（特許文献３参照）。しかし、特許文献３も、再生ヘッドにＭＲヘッドを使用しない系で用いる磁気テープであった。
ＭＲヘッドは、テープ摺動時の摩擦熱によりサーマルアスペリティノイズ（摺動性ノイズ）が発生し易いという欠点があるが、特許文献１などに開示される従来の技術ではこの欠点を十分に克服することは困難であった。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１７５６１９号公報
【特許文献２】特開２００１−３５１２３０号公報
【特許文献３】特開２００１−１７６０５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、磁気テープ信号をＭＲヘッドで再生した際に、記録再生信号に重畳するサーマルアスペリティノイズを低減させた、高密度記録特性が良好な磁気テープを提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記課題は、以下によりに解消することができる。
１）支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を設けた磁気テープであって、５〜５０ｋＨｚの周波数帯域における、機器ノイズに対するサーマルアスペリティノイズの比が９ｄＢ以下であることを特徴とするＭＲヘッド再生用磁気テープ。
２）前記磁性層表面の１０ｇ荷重における触針式による引っ掻き深さが１００〜２５０ｎｍであることを特徴とする上記１）記載のＭＲヘッド再生用磁気テープ。
【発明の効果】
【０００９】
本発明は、機器ノイズに対するサーマルアスペリティノイズの比を特定した磁気テープであって、電磁変換特性を改善した、高記録密度が可能なＭＲヘッド再生用磁気テープを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のＭＲヘッド再生用磁気テープは、５〜５０ｋＨｚの周波数帯域における、機器ノイズに対するサーマルアスペリティノイズの比が９ｄＢ以下であることを特徴とする。
ここで、機器ノイズとは、５〜５０ｋＨｚの周波数帯域におけるＭＲヘッドが非再生時に出力するノイズの積分値を意味し、サーマルアスペリティノイズとは、５〜５０ｋＨｚの周波数帯域におけるＭＲヘッドが再生時に出力するノイズの積分値を意味する。
また、上記「非再生時」とは、磁気テープとＭＲヘッドが接触しないでかつ再生不能の状態で磁気テープを駆動することを意味する。
更に、本発明では、上記機器ノイズ及びサーマルアスペリティノイズは、信号が全く記録されていない磁気テープ（最終製品をＡＣ消磁したもの）を、ＭＲヘッドを搭載したテープ走行系にて走行させ、再生回路を通して増幅した機器ノイズまたはサーマルアスペリティノイズをデジタルオシロスコープに入力し、高速フーリエ変換（ＦＦＴ）処理を行うことにより、信号を周波数ごとに分解して求められるスペクトルデータ（通常０〜３００ｋＨｚ程度）の５〜５０ｋＨｚの周波数帯域を用いる。通常、５〜５０ｋＨｚの周波数帯域に各ノイズのピークの最大値が存在するため、比較に有利である。
【００１１】
本発明の磁気テープは、上記のようにして得られた、５〜５０ｋＨｚの周波数帯域における、機器ノイズ（「Ｎ1」とも記す）に対するサーマルアスペリティノイズ（「Ｎ2」とも記す）の比（「Ｎ2／Ｎ1」とも記す）が９ｄＢ｛ｄＢ＝１０×ｌｏｇ10（Ｎ2／Ｎ1）｝以下であるという特性を有する。
この特性は、磁気テープに固有のものであり、磁気テープの構成がそのまま反映される性質のものである。
サーマルアスペリティノイズの発生原因は、ＭＲ素子と磁気テープとの接触時の衝突エネルギーによるＭＲ素子の瞬間的な温度上昇や、ＭＲ素子付近の摺動部材（スライダー）の摩擦熱による温度上昇等により、ＭＲ素子の抵抗が瞬間的に変化し、出力波形上に現れるものである。なお、本発明において、ＭＲヘッドとは、ＭＲ素子及びスライダーを含む概念である。
Ｎ2／Ｎ1を本発明の範囲に制御するためには、主として磁性層の表面特性を制御する手段が例示されるが、これに制限されるものではない。磁性層の表面特性を制御する手段としては、以下が挙げられる。
１）磁性層の表面硬度の調整により、ＭＲヘッドとの接触圧力を制御すること。
２）ＭＲヘッドと接触する磁性層表面に存在する粗大突起数を制御すること。
３）磁性層や他の層（例えば、非磁性層等）への潤滑剤処方量を調整し、ＭＲヘッドとの摩擦係数を制御すること。
【００１２】
上記１）において、磁性層表面の固さとして、磁性層表面の１０ｇ荷重における触針式による引っ掻き深さが好ましくは１００〜２５０ｎｍ（更に好ましく１００〜１５０ｎｍ）となるように調整することが挙げられる。
引っ掻き深さは、磁性層表面にダイアモンド針で引っ掻いて条痕をつけ、その深さを測定する。引っ掻き条件は、触針半径１００μｍ、触針荷重１０ｇ一定、引っ掻き速度１０ｃｍ／ｍｉｎ、引っ掻き長さ１０ｃｍ、環境２３℃５０％である。深さの測定は、引っ掻き傷中央付近で、測定面積２５０μｍ×２５０μｍを２５６×２５６画素のＣＣＤで測定し、８本の測定ラインのＰｅａｋ−Ｖａｌｌｅｙの平均値を引っ掻き深さとする。
【００１３】
引っ掻き深さを所定の範囲にするには、種々の方法をとり得る。引っ掻き深さを所定の範囲にコントロールする方法としては、例えば、以下の方法を挙げることができる。
１）カレンダー処理条件、例えば、ロール硬度（金属、樹脂等）、ロール温度、ロール圧力、処理速度の選定
２）磁気テープを構成する各層の塗布液組成、例えば、結合剤樹脂（硬化剤を含む）、粉体（例えば、強磁性粉末、研磨剤、カーボンブラック等）、潤滑剤、溶剤等の配合割合の選定
３）上記塗布液の混練分散条件の選定
上記１）〜３）は、各々を組み合わせて引っ掻き深さを所望の範囲とすることが、有効である。
カレンダー処理条件としては、特に対ロールの種類を金属−金属、金属−樹脂、樹脂−樹脂などを単独乃至組み合わせて用いて、線圧、ロール温度、処理速度などを調整することが挙げられる。金属ロールとしては、クロムモリブデン鋼にハードクモムメッキを施したものが、好ましく、樹脂ロールとしては、ポリアミノアミド樹脂等の樹脂、芳香族ジアミン等の硬化剤及び導電性カーボンを含む弾性材料からなるものが好ましい。ロールの表面は、最終的に、好ましくはＲａが０．０２μｍ以下、好ましくはＲｍａｘが０．２μｍ以下になるように、研磨されることが好ましい。このように研磨された上層の表面は、可能なかぎり、孔、クラック等の表面欠陥がないものであることが好ましい。なお、ロール対は、磁性層側とバック面側で表面性の異なるものを用いることができる。
２）において、磁性層の結合剤樹脂のガラス転移温度Ｔｇは、−１００〜１５０℃が好ましく、また、非磁性層である下層を設ける場合には、結合剤樹脂（種類、量）に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。上記Ｔｇと共にその添加量の選定、硬化剤の選定が挙げられる。粉体は、その素材において、サイズ、形状を特定することが好ましい。  強磁性粉末のサイズは、電磁変換特性への影響が大きいので、研磨剤やカーボンブラック等のサイズで調整することが有効である。潤滑剤は、可塑効果があり、多くなる程、引っ掻き深さは大きくなる傾向にある。
また、上記に加え、カレンダー処理の後の熱処理条件等も適宜併用することが挙げられる。
【００１４】
上記２）において、粗大突起数を制御する手段としては、強磁性粉末、研磨剤、カーボンブラック等の粉体のサイズ、形状、添加量を調整すること、支持体の表面性を調整すること、上記カレンダー処理条件を選定すること等が挙げられる。
上記３）において、摩擦係数を制御する手段としては、潤滑剤処方量調整の他、上記１）及び２）に記載の条件を選定すること等が挙げられる。
【００１５】
なお、サーマルアスペリティノイズは、ＭＲヘッドと磁気テープとの相対速度、ＭＲヘッドの形状、ＭＲヘッドの磁気抵抗効果素子に流すセンス電流の大きさ等により大きく変化するが、機器ノイズも同様に変化するので、Ｎ2／Ｎ1の変化は小さく、上記記録再生システムの条件に関係なく、本発明の範囲を満足する磁気テープを本発明の磁気テープとすればよい。
【００１６】
以下、本発明の磁気テープについて、更に詳細に説明する。
本発明の磁気テープは、支持体の一方の面に磁性層を有し、その反対面にバック層を有するものが好ましい。また、本発明の磁気テープには、磁性層やバック層以外の層を有するものも含まれる。例えば、下塗り層、非磁性粉末を含む非磁性層、軟磁性粉末を含む軟磁性層、第２の磁性層、クッション層、オーバーコート層、接着層、保護層を有していてもよい。これらの層は、その機能を有効に発揮することができるように適切な位置に設けることができるが、支持体と磁性層の間に非磁性層を設けたものが好ましい。層の厚さは、非磁性層は０．５〜３μｍにすることができる。非磁性層の厚さは、磁性層よりも厚いのが好ましい。
【００１７】
本発明磁気テープの磁性層について詳述する。
本発明の磁性層に使用する強磁性粉末としては、γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ含有（被着、変成、ド−プ）のγ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、Ｃｏ含有（被着、変成、ド−プ）のＦｅ3Ｏ4、γ−ＦｅＯX、Ｃｏ含有（被着、変成、ド−プ）のγ−ＦｅＯX（Ｘ＝１．３３〜１．５０）、ＣｒＯ2、及び強磁性金属粉末、六方晶系フェライト粉末等公知の強磁性粉末が使用でき、特に強磁性金属粉末あるいは六方晶フェライト粉末を主体としたものが好ましい。
本発明に用いる強磁性粉末が、針状等である場合には、平均粉体サイズは、平均長軸長で表され、通常、３０〜５００ｎｍであり、好ましくは３０〜６０ｎｍであり、平均針状比は、通常、２〜２５であり、３〜１２が好ましく、板状である場合には、平均粉体サイズは、平均板径で表され、通常、１〜１０００ｎｍであり、好ましくは２５〜３５ｎｍであり、平均板状比は、通常、２〜２０であり、２〜５が好ましい。
【００１８】
強磁性金属粉末はＳBET（ＢＥＴ比表面積）が通常、３５ｍ2／ｇ以上、好ましくは４５ｍ2／ｇである。結晶子サイズは通常、１５０〜３００ｎｍ、好ましくは１１〜２２ｎｍである。強磁性金属粉末のｐＨは７以上が好ましい。特に制限されるべきものではないが、特に鉄、コバルトあるいはニッケルを含む強磁性金属粉末（合金を含む）を用いるとその効果が顕著である。この強磁性金属粉末の詳細な例としては、強磁性金属粉末中の金属分が６０質量％以上であり、そして金属分の７０質量％以上が少なくとも１種類の強磁性金属あるいは合金（例、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ）であり、該金属分の４０質量％以下、より好ましくは２０質量％の範囲内で他の成分（例、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｂ、Ｐ）を含むことのある合金や、窒化鉄や炭化鉄等を挙げることができる。また、上記強磁性金属が少量の水、水酸化物または酸化物、アルカリ金属元素（Ｎａ、Ｋ、等）、アルカリ土類金属元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ）を含むものなどであってもよい。これらの強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり、本発明で用いる強磁性粉末の代表例である強磁性金属粉末についてもこれら公知の方法に従って製造することができる。
【００１９】
すなわち、強磁性金属粉末の製造方法の例としては、下記の方法を挙げることができる。
（ａ）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）を水素などの還元性気体で還元する方法、
（ｂ）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、
（ｃ）金属カルボニル化合物を熱分解する方法、
（ｄ）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、
（ｅ）水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解祈出させたのち水銀と分離する方法、
（ｆ）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法。
【００２０】
強磁性金属粉末を使用する場合に、その形状にとくに制限はないが通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状および板状のものなどが使用される。
【００２１】
これらの強磁性金属粉末の例示は特開昭５３−７０３９７号、特開昭５８−１１９６０９号、特開昭５８−１３０４３５号、特開昭５９−８０９０１号、特開昭５９−１６９０３号、特開昭５９−４１４５３号、特公昭６１−３７７６１号、米国特許４４４７２６４号、米国特許４７９１０２１号、米国特許４９３１１９８号の公報等に記載されている。
強磁性金属粉末の抗磁力Ｈｃは、通常、６３〜２３７ｋＡ／ｍであり、７９〜１５８ｋＡ／ｍが好ましい。また、その飽和磁化は、１００〜２００Ａ・ｍ2／ｋｇが好ましい。
【００２２】
六方晶系フェライト粉末としては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこれらの各種の各置換体、例えば、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｎーＺｎ−Ｃｏ、Ｓｎ−Ｃｏ−Ｔｉ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。六方晶系フェライト粉末は六角板状である。
バリウムフェライトの比重は４〜６ｇ／ｃｃである。これらバリウムフェライトは必要に応じて希土類元素を１０質量％以下の量で含み、その余のアルカリ金属、アルカリ土類金属を磁気特性向上のためあるいは不純物として含み得る。
【００２３】
特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘッド（ＭＲヘッド）で再生する場合、低ノイズにする必要があり、平均板径が小さすぎると熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。また、平均板径が大きすぎるとノイズが高く、いずれも高密度磁気記録には向かない。平均板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。  平均板状比が大きすぎると粉体間のスタッキングによりノイズが大きくなる。ＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）は通常、１〜２００ｍ2／ｇであり、５０〜１００ｍ2／ｇが好ましい。比表面積は概ね粉体板径と板厚からの算術計算値と符号する。板径・板厚の分布は狭いほど好ましい。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して粉体サイズに対する標準偏差で表すとσ／（平均板径または平均板厚）＝０．１〜０．５である。粉体サイズ分布をシャープにするには粉体生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粉体に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粉体を選別的に溶解する方法等も知られている。ガラス化結晶法では、熱処理を複数回行い、核生成と成長を分離することでより均一な粉体を得ている。磁性粉で測定された抗磁力Ｈｃは４０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できるが、１４４〜３００ｋＡ／ｍが好ましい。高Ｈｃの方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。Ｈｃは粉体サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粉体生成反応条件等により制御できる。
【００２４】
六方晶系フェライト粉末の飽和磁化σｓは通常、３０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇであり、３０〜７０Ａ・ｍ2／ｋｇが好ましい。σｓは、微粉体になるほど小さくなる傾向がある。製法では結晶化温度、または熱処理温度時間を小さくする方法、添加する化合物を増量する、表面処理量を多くする方法等がある。
またＷ型六方晶系フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粉体表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理剤は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。  量は磁性体に対して０．１〜１０質量％である。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．１〜２．０質量％が選ばれる。六方晶系フェライトの製法としては、（１）炭酸バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス化結晶法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱後、洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。
【００２５】
これらの強磁性粉末の表面には後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先立って溶剤中で含浸させて、吸着させてもよい。
【００２６】
本発明の磁性層で用いられる研磨剤は、磁気テープの耐久性やＶＴＲのヘッドクリーニング効果を向上させるために用いられ、一般的に研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で  α−アルミナ、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、トリポリ、ケイソウ土、ドロマイト等で、主としてモース硬度６以上の材料が１内至４種迄の組合わせで使用される。
また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粉体サイズは、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粉体サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜１．５ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜４０ｍ2／ｇが好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。これらの研磨剤は平均粒子径が通常、０．００５〜５μｍの大きさのものが使用され、好ましくは０．０１〜２μｍである。これらの研磨剤は磁性層の場合、強磁性粉末１００質量部に対して通常、０．０１〜２０質量部の範囲で添加される。また、この場合、後述する樹脂１００質量部に対して０．０１〜５質量部で用いることが望ましい。これらの具体例としては住友化学社製ＡＫＰ−１、ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＡＫＰ−８０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−５０Ｇ、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−８２、ＨＩＴ−１００、レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製ＵＢ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これらについては特公昭５２−２８６４２号、特公昭４９−３９４０２号、特開昭６３−９８８２８号、米国特許３６８７７２５号、米国特許３００７８０７号、米国特許３０４１１９６号、米国特許３２９３０６６号、米国特許３６３０９１０号、米国特許３８３３４１２号、米国特許４１１７１９０号、英国特許１１４５３４９号、西独特許８５３２１１号等に記載されている。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することもできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。非磁性層に添加する研磨剤の粉体サイズ、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【００２７】
本発明の磁気テープの磁性層、更には非磁性層、バック層等に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロ−ス誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メチルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等である。これらの樹脂の例示は特公昭３９−８１０３号、特公昭４０−９７７９号、特公昭４１−７１９２号、特公昭４１−８０１６号、特公昭４１−１４２７５号、特公昭４２−１８１７９号、特公昭４３−１２０８１号、特公昭４４−２８０２３号、特公昭４５−１４５０１号、特公昭４５−２４９０２号、特公昭４６−１３１０３号、特公昭４７−２２０６５号、特公昭４７−２２０６６号、特公昭４７−２２０６７号、特公昭４７−２２０７２号、特公昭４７−２２０７３号、特公昭４７−２８０４５号、特公昭４７−２８０４８号、特公昭４７−２８９２２号等の公報に記載されている。また、これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せたものがあげられる。
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。
【００２８】
ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホン酸（ＳＯ3Ｍ）、燐酸（ＯＰ＝Ｏ（ＯＭ）2）、ホスホン酸（Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2）、硫酸（ＯＳＯ3Ｍ）、及びこれらのエステル基等の酸性基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭化水素基）、両性類基（アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等）、アミノ基、イミノ基、アンモニウム基、イミド基、アミド基等また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィン基、好ましくは、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属）、ＯＨ、ＮＲ2、Ｎ+Ｒ3（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮの極性基、を通常１種以上６種以内含み、各々の官能基または極性基は樹脂１ｇあたり、通常、１×１０-8ｅｑ〜１×１０-1ｅｑ、１×１０-6ｅｑ〜１×１０-2ｅｑ含む事が好ましい。これら官能基は、共重合または付加反応で導入することができる
【００２９】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化学製、ＭＸ５００４、三洋化成製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。
【００３０】
本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁性粉末に対し、通常、５〜３００質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。本発明において、非磁性層を設ける場合は、結合剤は非磁性粉末に対し、通常、５〜５０質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。磁性層あるいは非磁性層ともに、塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組合せて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が通常、−５０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．４９〜９８ＭＰａ、降伏点は０．４９〜９８ＭＰａが好ましい。
【００３１】
通常、磁性層、非磁性層、バック層等には添加剤が加えられる。添加剤としては硬化剤、分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤等がくわえられる。
硬化剤としては、ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏートルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した２〜１０量体のポリイソシアネート、又ポリイソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用することができる。これらポリイソシアネート類の平均分子量は１００〜２００００のものが好適である。これらポリイソシアネートの市販されている商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（日本ポリウレタン株製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タケネート３００Ｓ、タケネート５００（武田薬品株製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、スミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デスモジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲＦ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３（住友バイエル社製）等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用することができる。又、硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１０００〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等）を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセトネート等の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能である事が望ましい。これらポリイソシアネートは結合剤樹脂とポリイソシアネートの総量１００質量部あたり２〜７０質量部で使用することが好ましく、より好ましくは５〜５０質量部である。これらの例示は特開昭６０−１３１６２２号、特開昭６１−７４１３８号等の公報において示されている。
【００３２】
本発明に使用される粉末状潤滑剤としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の無機粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフイン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッカエチレン系樹脂粉末等の樹脂粉末等がある。
【００３３】
また有機化合物系潤滑剤としてはシリコンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポリシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアルキルポリシロキサン（信越化学製ＫＦ９６、ＫＦ６９等））、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコール、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポリエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチレンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコール、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エステル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルスルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等の有機酸および有機酸エステル化合物、トリアザインドリジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベンゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素・硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４０の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコールもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしくは２つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素数１０個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が１１〜７０個と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アルコール類も使用できる。
【００３４】
これら化合物の具体的な例としては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチ酸オクチル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パルミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステアリン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレート、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス、等が有り単独若しくはくみあわせ使用出来る。
【００３５】
また本発明に使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独若しくはくみあわせで使用出来、防錆剤としてしられている酸化防止剤（アルキルフェノール、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフテン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォスフェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等がある。これらの潤滑剤は結合剤１００質量部に対して通常、０．０１〜３０質量部の範囲で添加される。これらについては、特公昭４３−２３８８９号、特公昭４８−２４０４１号、特公昭４８−１８４８２号、特公昭４４−１８２２１、特公昭４７−２８０４３号、特公昭５７−５６１３２、特開昭５９−８１３６号、特開昭５９−８１３９号、特開昭６１−８５６２１号、米国特許３４２３２３３号、米国特許３４７００２１号、米国特許３４９２２３５号、米国特許３４９７４１１号、米国特許３５２３０８６号、米国特許３６２５７６０号、米国特許３６３０７７２号、米国特許３６３４２５３号、米国特許３６４２５３９号、米国特許３６８７７２５号、米国特許４１３５０３１号、米国特許４４９７８６４号、米国特許４５５２７９４号、アイビ−エムテクニカル  デイ スクロジャ−ブリテン（ＩＢＭ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）Ｖｏｌ．９，Ｎｏ７，ｐ７７９（１９６６年１２月）、エレクトロニク（ＥＬＥＫＴＲＯＮＩＫ）１９６１年Ｎｏ１２，ｐ３８０、化学便覧、応用編、ｐ９５４−９６７，１９８０年丸善株発行等に記載されている。
【００３６】
本発明に使用する分散剤、分散助剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２〜４０個の脂肪酸（Ｒ1ＣＯＯＨ、Ｒ1は炭素数１〜３９個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ4+等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、Ｃｕ、Ｐｂ等から成る金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この他に炭素数４〜４０の高級アルコール、（ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一種類の分散剤は結合剤１００質量部に対して通常、０．００５〜２０質量部の範囲で添加される。これら分散剤の使用方法は、強磁性粉末や非磁性粉末の表面に予め被着させても良く、また分散途中で添加してもよい。このようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号、特公昭４４−１７９４５号、特公昭４４−１８２２１号、特公昭４８−７４４１号、特公昭４８−１５００１号、特公昭４８−１５００２号、特公昭４８−１６３６３号、特公昭４９−３９４０２号、米国特許３３８７９９３号、同３４７００２１号等に於いて示されている。
【００３７】
本発明に用いる防黴剤としては２−（４−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０，１０’−オキシビスフェノキサルシン、２，４，５，６テトラクロロイソフタロニトリル、ｐートリルジヨードメチルスルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル錫）、サルチルアニライド等がある。このようなものは、例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図書、「化学と工業」３２、９０４（１９７９）等に於いて示されている。
【００３８】
本発明に用いるカーボンブラック以外の帯電防止剤としてはグラファイト、変成グラファイト、カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。これら帯電防止剤として使用し得る界面活性剤化合物例の一部は特開昭６０−２８０２５号、米国特許２２７１６２３号、同２２４０４７２号、同２２８８２２６号、同２６７６１２２号、同２６７６９２４号、同２６７６９７５号、同２６９１５６６号、同２７２７８６０号、同２７３０４９８号、同２７４２３７９号、同２７３９８９１号、同３０６８１０１号、同３１５８４８４号、同３２０１２５３号、同３２１０１９１号、同３２９４５４０号、同３４１５６４９号、同３４４１４１３号、同３４４２６５４号、同３４７５１７４号、同３５４５９７４号、西独特許公開（ＯＬＳ）１９４２６６５号、英国特許１０７７３１７号、同１１９８４５０号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成とその応用』（槙書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ著『サ−フエス  アクテイブ  エ−ジエンツ』（インタ−サイエンス  パブリケ−ション  コ−ポレイテッド１９８５年版）；Ｔ．Ｐ．シスリ−著『エンサイクロペディア  オブ  サ−フエスアクティブ  エ−ジェンツ、第２巻』（ケミカルパブリシュカンパニ−１９６４年版）；『界面活性剤便覧』第六刷（産業図書（株）、昭和４１年１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』幸書房（１９６８）等の成書に記載されている。これらの界面活性剤は単独または混合して添加しても良い。磁気テープにおける、これらの界面活性剤の使用量は、強磁性粉末１００質量部当たり通常、０．０１〜１０質量部である。これらは帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそのほかの目的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用される場合もある。
【００３９】
本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエ−テル等のエステル系；ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、グリコールジメチルエ−テル、グリコールモノエチルエ−テル、ジオキサンなどのエ−テル系；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン等のものが使用できる。またこれら溶媒は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１質量％以下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成分等）を含んでもよい。
【００４０】
これらの溶剤は磁性液、下塗液の合計固形分１００質量部に対して通常、１００〜２００００質量部で用いられる。好ましい磁性液の固形分率は通常、１０〜４０質量％である。有機溶媒の代わりに水系溶媒（水、アルコール、アセトン等）を使用することもできる。
磁性層の形成は上記の組成などを任意に組合せて有機溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥・配向する。支持体の厚みは通常、２．５〜１００μｍ程度、好ましくは３〜７０μｍ程度が良い。素材としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等ポリオレフイン類、セルロ−ストリアセテート、セルロ−スダイアセテート等のセルロ−ス誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリベンズオキサゾール等のプラスチックのほかにアルミニウム、銅等の金属、ガラス等のセラミックス等も使用出来る。これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属烝着処理、アルカリ処理をおこなってもよい。これら支持体に関しては、例えば、西独特許３３３８８５４Ａ、特開昭５９−１１６９２６号、特開昭６１−１２９７３１号、米国特許４３８８３６８号；三石幸夫著、『繊維と工業』３１巻  ｐ５０〜５５、１９７５年などに記載されている。ビデオテープ等の場合これら支持体の中心面平均表面粗さは通常、０．０００１〜０．５μｍ、好ましくは０．１〜２０ｎｍ、更に好ましくは１〜１０ｎｍ（カットオフ値０．２５ｍｍ）の範囲にあって、表面が優れた平滑性を有しているのが好ましい。また、これらの支持体は中心線平均表面粗さが小さいだけでなく１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。支持体の厚さは磁気テープの場合、４〜１５μｍ、好ましくは４〜９μｍである。薄い場合は、バック層の凹凸がハンドリングテンションで写りやすくなるため、上述のポリウレタン樹脂を最上層に使用することによってこれを効果的に抑制することができる。厚が７μｍ以下の場合は、ＰＥＮもしくはアラミド等の芳香族ポリアミドを使用するのが好ましい。最も好ましいのはアラミドである。またこれら支持体のヤング率（Ｆ５値）は目的に応じて、巾方向、長手方向とも２〜３０Ｋｇ／ｍｍ2（１９．６〜２９４ＭＰａ）を選択することが出来る。
【００４１】
分散、混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０℃）などは適宜設定することができる。磁性塗料および各種塗料の調製には通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラインダー、ツェグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、アトライター、高速インペラー、分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機などを用いることができる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー．シー．パットン）“Ｐａｉｎｔ  Ｆｌｏｗ  ａｎｄ  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイント  フロー  アンド  ピグメント  デイ スパージョン）１９６４年Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ社発行（ジョン  ウイリー  アンド  サンズ））や田中信一著『工業材料』２５巻３７（１９７７）などや当該書籍の引用文献に記載されている。これら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの径のスチールボール、スチールビーズ、セラミツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いることが出来る。またこれら材料は球形に限らない。また、米国特許第２５８１４１４号及び同第２８５５１５６号などの明細書にも記載がある。本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料および、塗料を調製することができる。
【００４２】
支持体上へ前記の磁気記録層用塗布液を塗布する方法としては塗布液の粘度を通常、１〜２００００センチストークス（２５°Ｃ）に調整し、エアードクターコーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズコーター、含浸コーター、リバースロールコーター、トランスファーロールコーター、グラビアコーター、キスコーター、キヤストコーター、スプレイコーター、ロッドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコーター、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利用出来、その他の方法も可能であり、これらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーテイング工学』２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２０．発行）等に詳細に記載されている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択でき、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支持体との密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良い。
【００４３】
また磁性層を多層で構成したり、磁性層と支持体の間に実質的に非磁性な下層を形成したいときは、同時多層塗布、例えば、下層が湿潤状態の間にその下層上に磁性層を塗布する方法（即ち、ウェット・オン・ウェット法）等や逐次多層塗布、例えば、下層が乾燥後にその上に磁性層を塗布する方法（即ち、ウェット・オン・ドライ）等を行ってもよい。  これらは、例えば、特開昭５７−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公報、特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９−１６５２３９号公報の明細書等に示されている。
【００４４】
次に実質的に非磁性な下層に関する詳細な内容について説明する。このような下層は、実質的に非磁性であれば、その構成は特に制限されるべきものではないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、非磁性粉末、例えば、無機粉末あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。
無機粉末としては、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属窒化物、金属炭化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、弁柄等のα−酸化鉄、ゲータイト、窒化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、などが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α−酸化鉄である。α−酸化鉄は、粒子サイズがそろった磁性酸化鉄やメタル用原料を加熱脱水し、さらにアニール処理により空孔を少なくし、必要によりＡｌ、Ｓｉ化合物で表面処理をしたものが好ましい。通常、二酸化チタンは光触媒性を持っているので、光があたるとラジカルが発生しバインダー、潤滑剤と反応する懸念がある。  このため、本発明に使用する二酸化チタンは、Ａｌ、Ｆｅ等を１〜１０％固溶させ光触媒特性を低下させることが好ましい。さらに表面をＡｌ、Ｓｉ化合物で処理し、触媒作用を低下させることが好ましい。これら非磁性粉末の粒子サイズは通常、０．００５〜１μmであるが、必要に応じて粒子サイズ の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μm 〜０．５μmが好ましい。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平 均粒子径０．０８μm以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、平均長軸 長が０．３μm以下が好ましく、０．２μm以下がさらに好ましい。タップ密度は通常、０．３〜１．５g/ml、好ましくは０．４〜１．３g/mlである。非磁性粉末の含水率は通常、０．２〜５質量％、好ましくは０．３〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、２〜１２であるが、ｐＨは５．５〜１１の間が特に好ましい。非磁性粉末のＳBETは通常、１〜１００ｍ2／ｇ、好ましくは５〜８０ｍ2／ｇ、更に好ましくは１０〜８０ｍ2／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは４０〜１０００Åが好ましく、４０〜８００Åが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は通常、５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。比重は通常、１．５〜７、好ましくは３〜６である。形状は針 状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は通常、１〜２０μmol／m2、好ましくは２〜１５μmol/m2、さらに好ましくは３〜８μmol/m2である。ＳＡ吸着量が多い非磁性粉末を使用する時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気テープを作成することが摩擦係数を低下させることができるので好ましい。これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｙ等の化合物で表面処理することが好ましい。非磁性粉末の表面に存在させて、特に分散性に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＭｇＯおよびこれらの含水酸化物であるが、更 に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、Ｚ���Ｏ2およびこれらの含水酸化物である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナを施した後にその表層にシリカを施す方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００４５】
本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＨＩＴ−８２、戸田工業製α−酸化鉄ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、ＤＢＮ−６５０ＲＸ、ＤＡＮ−８５０ＲＸ、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、α−酸化鉄α−４０、テイカ製酸化チタンＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ2 Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。
【００４６】
下層にカーボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗（Ｒｓ）を下げること、光透過率を小さくすること、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。下層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【００４７】
下層のカーボンブラックのＳBETは通常、５０〜５００ｍ2／ｇ、好ましくは７０〜４００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００ml/100g、好ましく は３０〜４００ml/100gである。カーボンブラックの平均粒子径は通常、５〜８ ０nm、好ましく１０〜５０nm、さらに好ましくは１０〜４０nmである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット製  ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化学製  ＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コロンビアンカーボン製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。  これらのカーボンブラックは上記無機粉末に対して５０質量％を越えない範囲、下層総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００４８】
また下層には有機粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記されているようなものが使用できる。
【００４９】
下層の結合剤樹脂（種類と量）、潤滑剤・分散剤・添加剤の量、種類、溶剤、分散方法に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
また下層には、補強剤を兼ねて研磨剤を添加することもできる。研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜１μｍが好ましく、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜１．５g/cc、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１１、ＳBETは１〜４０ｍ2／ｇが好ましい。研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−６０Ｇ、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−８２、ＨＩＴ−１００、スミコランダムＡＡ−０３、ＡＡ−０４、ＡＡ−０６、レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製ＵＢ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。下層に添加することで磁性層表面形状を制御したり、磁性層表面の無機粒子の突出状態を制御したりすることができる。これら下層に添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【００５０】
次にバック層について説明する。
一般に、バック層は、磁性層が設けられる側と反対側の支持体上に設けられるものであれば、特に制限されるべきものではなく、公知のものが用いられるが、高い走行耐久性を維持させるためには、バック層は、結合剤とカーボンブラック、無機粉末等から構成されることが好ましい。
【００５１】
カーボンブラックは、平均粒子径の異なる二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。この場合、平均粒子径が１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。
【００５２】
一方、平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。しかし粗粒子状カーボンブラックは、単独で用いると過酷な走行系では、テープ摺動により、バック層からの脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を有している。
【００５３】
微粒子状カーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙げることができる。
ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（平均粒子径１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（平均粒子径１７ｎｍ）（以上、コロンビアンカーボン社製）、ＢＰ８００（平均粒子径１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（平均粒子径１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（平均粒子径１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（平均粒子径１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（平均粒子径１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（平均粒子径１６ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）。
【００５４】
また粗粒子カーボンブラックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック（平均粒子径２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ  ＭＴＰ（平均粒子径２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。
【００５５】
バック層において、平均粒子径の異なる二種類のものを使用する場合、微粒子状カーボンブラックと粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。
【００５６】
バック層中のカーボンブラック（二種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合剤１００質量部に対して、通常、３０〜８０質量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。
【００５７】
バック層は上記２種のカーボンブラックに加えて無機粉末を含ませることもできる。この場合、無機粉末は、少なくともモース硬度５〜９の硬質無機粉末を含むことが好ましい。また、無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを併用することもできる。この場合、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好ましい。
【００５８】
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもない。またこの無機粉末の平均粒子径は、３０〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００５９】
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。
【００６０】
バック層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して１０〜１４０質量部の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは３５〜１００質量部である。
【００６１】
モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対しても劣化が少なく、強いバック層となる。またこの無機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対しての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も図ることができる。
【００６２】
硬質無機粉末は、その平均粒子径が８０〜２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎｍ）の範囲にあることが好ましい。
【００６３】
モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）を挙げることができる。これらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用しても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して好ましくは、３〜３０質量部である。
【００６４】
バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末とを選択して使用することが好ましい。
【００６５】
バック層には、前記それぞれ特定の平均粒子径を有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子径の異なる二種類のカーボンブラックとが含有されていることが好ましい。
【００６６】
バック層には、潤滑剤を含有させることができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選択して使用できる。潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドなどが例示される。特に、脂肪酸を含有させることは、強度を維持したまま、繰り返し走行時の摩擦係数上昇を抑制するために必須となる。また、脂肪酸エステルやモース硬度８以上の研磨剤を含有させることによっても、繰り返し走行時の摩擦係数上昇を抑制し、摺動耐久性を向上させることができる。さらに、芳香族有機酸化合物やチタンカップリング剤を含有させて分散性を向上させ強度を上げることによって、摩擦係数上昇を抑制することもできる。また、有機質粉末を含有させて摩擦係数上昇を抑制し、写りを低減することもできる。添加することができる脂肪酸の例として、炭素数８〜２４の一塩基性脂肪酸を挙げることができる。中でも炭素数８〜１８の一塩基性脂肪酸が好ましい。これらの具体例としてはラウリン酸、カプリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸等が挙げられる。また、これら脂肪酸のアミドも用いられる。
【００６７】
脂肪酸エステルの例として、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステルなどを挙げることができる。これらの具体例としてはステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレートが挙げられる。
潤滑剤の添加量は、無機酸化物粉体とカーボンブラックの総量を１００質量部としたとき、好ましくは、０．１〜５質量部、更に好ましくは０．１〜３質量部である。
【００６８】
モース硬度８以上の研磨剤としては、α−アルミナ、酸化クロム、人工ダイヤモンド、カーボン変性窒化硼素（ＣＢＮ）等を挙げることができる。中でも、平均粒子径が０．２μｍ以下であり、粒子径がバック層の厚み以下であるものを使用するのが好ましい。本発明では、バック層を薄くすることができるため、少量の研磨剤を添加するだけで十分な摺動耐久性を確保することができる。芳香族有機酸化合物としては、フェニルホスホン酸が好ましい。その使用量は、無機酸化物粉体とカーボンブラックの総量を１００質量部としたとき、通常、０．０３〜１０質量部、好ましくは０．５〜５質量部である。
【００６９】
有機質粉末としては、アクリル−スチレン共重合体系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料等を挙げることができる。
【００７０】
バック層のガラス転移温度は６０〜１２０℃であるのが好ましく、乾燥厚みは通常、０．０５〜１．０μｍ程度にする。
【００７１】
本発明の磁気テープは、高テンションで巻き取って保存してもバック層が磁性層に写りにくいため、テープの厚さを４〜９μｍにすることが可能である。
【００７２】
バック層は、研磨剤、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤を有機溶剤に分散したバック層形成用塗料を、磁性層とは反対の面に塗布することによって調製することができる。塗布した磁性層は、磁性層中に含まれる強磁性粉末を磁場配向処理した後に乾燥する。磁場配向処理は、当業者に周知の方法によって適宜行うことができる。磁性層は、乾燥後にスーパーカレンダーロールなどを用いて表面平滑化処理する。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上する。このため、電磁変換特性の高い磁気テープを得ることができる。カレンダー処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで処理することもできる。
【００７３】
本発明の磁気テープは、特定の引っ掻き深さと共に平滑性が良好な表面を有しているのが好ましい。このような表面とするためには、例えば上述したように特定の結合剤を選んで形成した磁性層に上記カレンダー処理を施すのが有効である。カレンダー処理は、カレンダーロールの温度を６０〜１００℃、好ましくは７０〜９０℃、特に好ましくは７０〜８０℃にし、圧力を通常、１００〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８〜４９０ｋＮ／ｍ）、好ましくは２００〜４００ｋｇ／ｃｍ（１９６〜３９２ｋＮ／ｍ）、特に好ましくは２５０〜３５０ｋｇ／ｃｍ（２４５〜３４３ｋＮ／ｍ）にして行う。得られた磁気テープは、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。カレンダー処理を経た磁気テープは、熱処理するのが一般的である。最近では、高密度磁気テープの直線性（オフトラックマージン確保）のために、熱収縮率を下げることが重視されている。特に、狭トラック化に伴い、使用環境下でのＭＤ方向（長手方向）の収縮率を０．０７％以下に抑えることが求められている。熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウェッブ状で熱処理する方法と、バルク又はカセットに組み込んだ場合のようにテープが積層した形態で熱処理する方法（サーモ処理）がある。前者を用いた場合は、バック面の凹凸が写る危険性は少ないが、熱収縮率を大きく下げることはできない。アニール温度、滞在時間及びテープ厚、ハンドリングテンションによって多少変わるが、７０℃、４８時間後の熱収縮率で０．１〜０．１２％が限界である。後者のサーモ処理は熱収縮率を大幅に改善できるが、バック面の凹凸がかなり写ってしまうため、磁性層が面粗れして出力低下とノイズ増加を引き起こす場合がある。
【００７４】
本発明の磁気テープの構成を採用すれば、塑性変形の残りにくい層形成を行うことができるため、特に、サーモ処理を伴う磁気テープで、高出力、低ノイズの磁気テープを供給することができる。特に、本発明において、バック層を有した磁気テープは、バック層の表面を平滑にすることができるため、バック層の摩擦係数を程よい大きさに設定することができる。これによってバック層と磁性層との間の層間摩擦係数が高くなるので、磁気テープ作製時に高速ハンドリングしてもロール、スリットパンケーキ、組込リールに巻き上げられたテープの巻姿が良好である。同様にして、ビデオカセットレコーダーを高速で早送りしたり、巻戻したりした後のリール上のテープの巻姿も良好である。
【００７５】
次に磁気テープの具体的製法について説明する。
上記磁性層組成成分、更には下層組成成分から調製された塗布液は、上記塗布法により、支持体上又は下層上に通常、１００μｍ以下ほどで塗布された磁性塗布液は必要により層中の磁性粉末を直ちに２０〜１３０℃で多段階で乾燥しながら５００００〜５０００００μＴ（テスラ）程の磁束密度で所望の方向（垂直、長手、幅、ランダム、斜め等）へ配向させる処理を施したのち、形成した磁性層および／または下層（通常、下層厚味は上層厚味より大きい）を０．０５〜２μｍ厚みに乾燥させる。
このときの支持体の搬送速度は通常、１０ｍ／分〜９００ｍ／分で行われ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を通常、２０℃〜１３０℃で制御し塗布膜の残留溶剤量を０．１〜４０ｍｇ／ｍ2とする。
その後、上記のバック層用塗布液を乾燥後の厚さが所定となるように塗布し、カレンダー処理を行う。次いで、熱処理を施し、その後、所定の幅にスリットしてテ−プを作成することができる。
【００７６】
なお、本願明細書において、平均粉体サイズとは、以下の粉体サイズから求められるものである。
本明細書において、研磨剤、強磁性粉末、カーボンブラックのように種々の粉体のサイズ（以下、「粉体サイズ」と言う）は、高分解能透過型電子顕微鏡写真及び画像解析装置より求められる。高分解能透過型電子顕微鏡写真（倍率２００００倍）の粉体の輪郭を画像解析装置でなぞり、粉体のサイズを求めることができる。即ち、粉体サイズは、（１）粉体の形状が針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粉体を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、（２）六方晶系フェライト磁性粉のように粉体の形状が板状乃至柱状（ただし、厚さ乃至高さが板面乃至底面の最大長径より小さい）場合は、その板面乃至底面の最大長径、即ち板径で表され、（３）粉体の形状が球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
【００７７】
また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉体サイズの算術平均であり、１００個の一次粒子について上記の如く測定を実施して求めたものである。一次粒子とは、凝集のない独立した粉体をいう。
そして、粉体の形状が特定の場合、例えば、上記粉体サイズの定義（１）の場合は、平均粉体サイズを平均長軸長と言い、（長軸長／短軸長）の値の算術平均を平均針状比という。尚、短軸長とは長軸に直行する軸で最大のものをいう。同定義（２）の場合は平均粉体サイズを平均板径と言い、（板径／板厚）の算術平均を平均板状比という。ここで、板厚とは厚さ乃至高さである。同定義（３）の場合は平均粉体サイズを平均粒子径という。
【実施例】
【００７８】
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお実施例中の「部」の表示は特に断らない限り「質量部」を示す。
実施例１、比較例１〜２
＜磁性層用塗料＞
強磁性針状金属粉末                                        １００部
（平均長軸長：９０ｎｍ、Ｈｃ：１８５０Ｏｅ（１４７ｋＡ／ｍ）、ＳBET：５８ｍ2／ｇ）
塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン社製ＭＲ−１１０）          １２部
α−Ａｌ2Ｏ3、（平均粒子径：０．２μｍ）                      ５部
カーボンブラック（平均粒子径：０．１０μｍ）              ０．５部
ブチルステアレート                                            １部
ステアリン酸                                                  ２部
メチルエチルケトン                                        １５０部
シクロヘキサン                                              ５０部
【００７９】
＜非磁性層用塗料＞
無機粉末：ＴｉＯ2                                           ９０部
（平均粒子径：３５ｎｍ、ＳBET：４０ｍ2／ｇ）
カーボンブラック（平均粒子径：１６ｎｍ）                    １０部
塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン社製ＭＲ−１１０）          １２部
ポリエステルポリウレタン樹脂                                  ６部
ブチルステアレート                                            １部
ステアリン酸                                                  ２部
メチルエチルケトン                                        １５０部
シクロヘキサン                                              ５０部
【００８０】
上記磁性層又は非磁性層を形成する各成分をそれぞれ連続ニーダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ）を共に３部ずつ加え、更にそれぞれの分散液に酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層形成用塗布液および非磁性層形成用塗布液をそれぞれ調製した。
【００８１】
＜バック層用塗料＞
α−Ａｌ2０3（平均粒子径：０．２μｍ）                  ０．０２部
カーボンブラック（平均粒子径：１７ｎｍ）                  １００部
カーボンブラック（平均粒子径：２７０ｎｍ）                  １０部
ニトロセルロース樹脂                                      １００部
ポリエステルポリウレタン樹脂                                ３０部
分散剤
オレイン酸銅                                                １０部
銅フタロシアニン                                            １０部
硫酸バリウム（沈降性）                                        ５部
メチルエチルケトン                                        ５００部
トルエン                                                  ５００部
【００８２】
上記各成分を連続ニーダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、バック層形成塗布液を調製した。
【００８３】
＜磁気テープの作製、及び製造方法＞
得られた磁性層用塗料と非磁性層用塗料を乾燥後の非磁性層の厚さが２．１μｍになるように、またこの上に乾燥後の磁性層の厚さが０．２μｍとなるようにポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製支持体（厚み：６μｍ）上に同時重層塗布を行った。次いで両層がまだ湿潤状態にあるうちに、５００００〜５０００００μＴ（テスラ）程の磁束密度で所望の方向（垂直、長手、幅、ランダム、斜め等）へ配向処理を行った。その後乾燥させることにより、磁性層及び非磁性層を形成した。その後、上記のバック層用塗料を乾燥後の厚さが０．５μｍとなるように塗布し、乾燥してバック層を設けて、支持体の一方の面に磁性層と非磁性層とが、そして他方の面にバック層がそれぞれ設けられた磁気記録積層体ロールを得た。
【００８４】
得られた磁気記録積層体ロールを、金属ロール−ロールＡ−金属ロール−ロールＢ−金属ロール−ロールＣ−金属ロールから構成される７段のカレンダーロール（ロールＡ、Ｂ、Ｃの材質を表１に記載のように変更した。また、前記ハイフン間でカレンダー処理が施される）で１８０ｍ／ｍｉｎ、線圧３３０ｋｇ／ｃｍ（３２３ｋＮ／ｍ）、表１記載の温度でカレンダー処理を行った。次いで、熱処理を施し、その後、０．５インチ幅にスリットしてテープ試料を作製した。
【００８５】
得られた試料を以下により評価し、結果を表１に示した。
〔測定方法〕
１）サーマルアスペリティノイズ／機器ノイズ（Ｎ2／Ｎ1）
前記方法によった。
２）引っ掻き深さ
新東科学製表面性測定機ＴＹＰＥ−ＨＥＩＤＯＮ−１４を用い、磁性層表面にダイアモンド針で引っ掻いて条痕をつけ、その深さを米ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄにて測定した。ＨＥＩＤＯＮでの引っ掻き条件は、触針半径１００μｍ、触針荷重１０ｇ一定、引っ掻き速度１０ｃｍ／ｍｉｎ、引っ掻き長さ１０ｃｍ、環境２３℃５０％である。深さの測定はＴＯＰＯ−３Ｄに４０倍レンズを装着し、引っ掻き傷中央付近で、測定面積２５０μｍ×２５０μｍを２５６×２５６画素のＣＣＤで測定し、８本の測定ラインのＰｅａｋ−Ｖａｌｌｅｙの平均値を深さを引っ掻き深さとした。
３）電磁変換特性
各テープのサーマルアスペリティノイズの差は、周波数帯域２００ｋＨｚ付近まで見られることから、キャリア信号に対する変調ノイズの影響について調査した。測定はリニア走行系テープドライブを用いて行い、０．５μｍの信号を書き込み、ＭＲヘッドで再生しスペクトラムアナライザで得られたキャリア出力から±０．１ＭＨｚ離れた位置でのノイズレベルを比較した。テープとヘッドの相対速度は３．０ｍ／ｓである。
【００８６】
【表１】
2006079722.tif 000002
【００８７】
上表より、本発明の実施例は、Ｎ2／Ｎ1が９ｄＢ以下とサーマルアスペリティノイズが比較例１及び２よりも低く、かつ電磁変換特性も優れることが分かる。