(57)【要約】【課題】  優れた走行性を有し、かつ、優れた耐久性を有する磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】  非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を少なくとも一層設けた磁気記録媒体であって、該磁性層に式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体、又は、非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を介して、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設けた磁気記録媒体であって、該非磁性層及び／又は該磁性層に式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。    【化１】2006338798.tif 000012
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を少なくとも一層設けた磁気記録媒体であって、
該磁性層に式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする
磁気記録媒体。
【化１】
2006338798.tif 000011
（式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立に−ＮＲ4Ｒ5、−ＳＲ6、−ＯＲ7、−ＣＯＮＲ8Ｒ9、−Ｒ10よりなる群から選ばれる基を表し、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、Ｒ4〜Ｒ10は水素原子又は−（Ｒ11−Ｌ）n−Ｒ12を表し、Ｒ11は二価の炭化水素基を表し、Ｒ12は一価の炭化水素基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、ｎは０〜２０の整数を表し、また、それぞれＲ11とＬは同一であっても異なっていてもよい。ただし、Ｒ1〜Ｒ3のうち少なくとも１つは炭素数６以上の炭化水素鎖を有する基である。）
【請求項２】
非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を介して、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設けた磁気記録媒体であって、
該非磁性層及び／又は該磁性層に前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする
磁気記録媒体。
【請求項３】
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される１０〜２０ｎｍの高さの磁性層表面微小突起が５〜１，０００個／１００（μｍ）2である請求項１又は２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
磁性層の結合剤が芳香族ジイソシアネートから誘導されたポリウレタン樹脂を含む請求項１〜３のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁性層に強磁性粉末を含む高密度記録用の磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度記録、高電磁変換特性の要求によって磁気記録媒体の表面粗さは小さいことが要求されてきている。これに従って磁気記録媒体とＶＴＲのヘッド、ガイドポールなどの部材との真の接触面積はどんどん大きくなり、摩擦係数は非常に高くなっている。摩擦係数が高くなるとテープテンションが大きくなり、テープ傷、削れや走行不良など重大なトラブルが多発する。摩擦係数を下げるために従来から磁性層に潤滑剤として、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドなどが用いられてきた。これらの中でもステアリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸アミドなどは摩擦係数を下げる効果が大きく磁気記録媒体において広く用いられてきた。
【０００３】
しかしながら、例えばＶＨＳ、Ｓ−ＶＨＳ、８ｍｍビデオ、Ｈｉ８ビデオから更に高密度のデジタルビデオ、高品位テレビ用の磁気記録媒体では磁性層表面が極めて平滑になってきており、上記の脂肪酸、脂肪酸アミドではこのような極めて平滑な磁性層の摩擦係数を十分に下げることができず、添加量を増加させると経時的にブルーミングが生じやすく、磁気記録媒体の表面に白粉として析出しヘッド汚れの原因となる。
【０００４】
上記問題を解決するため、特許文献１では、脂肪族カルボン酸で炭化水素鎖とカルボキシル基の間にアルキレンオキサイドセグメントを持つ化合物を潤滑剤として含む磁気記録媒体が記載されている。また、特許文献２では、磁性層に単環式の液晶分子を含む磁気記録媒体が記載されている。しかしながら、特許文献１及び２は共に潤滑性能が不十分であり、特にコンピューター用テープにおける耐久性が不十分であった。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−７１６４号公報
【特許文献２】特開平１１−３９６４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、優れた走行性を有し、かつ、優れた耐久性を有する磁気記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を達成するために、本発明では、次の＜１＞又は＜２＞の構成をとった。
＜１＞  非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を少なくとも一層設けた磁気記録媒体であって、該磁性層に式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体、
【０００８】
【化１】
2006338798.tif 000002
（式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立に−ＮＲ4Ｒ5、−ＳＲ6、−ＯＲ7、−ＣＯＮＲ8Ｒ9、−Ｒ10よりなる群から選ばれる基を表し、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、Ｒ4〜Ｒ10は水素原子又は−（Ｒ11−Ｌ）n−Ｒ12を表し、Ｒ11は二価の炭化水素基を表し、Ｒ12は一価の炭化水素基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、ｎは０〜２０の整数を表し、また、それぞれＲ11とＬは同一であっても異なっていてもよい。ただし、Ｒ1〜Ｒ3のうち少なくとも１つは炭素数６以上の炭化水素鎖を有する基である。）
＜２＞  非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を介して、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設けた磁気記録媒体であって、該非磁性層及び／又は該磁性層に前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、走行性が向上し、かつ、繰り返し走行における折り返し部の削れを抑制し耐久性が向上した磁気記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の一実施態様は、非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を少なくとも一層設けた磁気記録媒体であって、該磁性層に式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１１】
【化２】
2006338798.tif 000003
（式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立に−ＮＲ4Ｒ5、−ＳＲ6、−ＯＲ7、−ＣＯＮＲ8Ｒ9、−Ｒ10よりなる群から選ばれる基を表し、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、Ｒ4〜Ｒ10は水素原子又は−（Ｒ11−Ｌ）n−Ｒ12を表し、Ｒ11は二価の炭化水素基を表し、Ｒ12は一価の炭化水素基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、ｎは０〜２０の整数を表し、また、それぞれＲ11とＬは同一であっても異なっていてもよい。ただし、Ｒ1〜Ｒ3のうち少なくとも１つは炭素数６以上の炭化水素鎖を有する基である。）
【００１２】
また、本発明の他の一実施態様は、非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を介して、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設けた磁気記録媒体であって、該非磁性層及び／又は該磁性層に前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１３】
本発明の磁気記録媒体は、従来に比べ極めて高度な走行性と耐久性との両立を達成するものである。走行耐久性の中でも低速摺動時の摩擦を低減し磁性層表層の削れを低減することができる。具体的にはコンピューター用バックアップテープで繰り返し走行する際、走行スタート時や走行方向が逆転する時の記録再生ヘッドと磁性層の摩擦を低減し、スティックスリップ現象などがおきにくく安定したテープの走行と削れなどの現象を抑制することができる。
【００１４】
Ｉ．式（Ｉ）で表される化合物
本発明の磁気記録媒体は、磁性層及び／又は非磁性層に前記式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも１種含有する。本発明の磁気記録媒体が磁性層及び非磁性層の両方を設けている場合、前記式（Ｉ）で表される化合物は、磁性層又は非磁性層のいずれか一方のみに含まれていてもよいが、磁性層及び非磁性層の両方に含まれていることが好ましい。
本発明の前記式（Ｉ）で表される化合物は、トリアジン環に側鎖を有する構造をとり、磁気記録媒体の磁性層表面に極性の高く平板状の構造をとるトリアジン環が並び、その外側に側鎖が向くような構造をとると推察している。
このためヘッド部材などと低速且つ高圧で摺動するような場合、走行スタート時や走行方向が逆転する時に磁性層表面に安定して式（Ｉ）で表される化合物が存在し、表面エネルギーの小さい側鎖がヘッド部材との摩擦を低減するものと考えられる。
式（Ｉ）で表される化合物は磁性層に安定して存在させるために、磁性層内に添加しても、磁性層表面に塗布しても、或いは磁性層と接触する非磁性層が存在する場合はその非磁性層に添加し磁性層表面に拡散させることも可能である。
特に平滑な磁性層は摩擦係数が上昇し磁性層表面が削れ易くなるが本発明の磁気記録媒体は摩擦上昇も少なく、表面の削れがおきにくい。
また、本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、後述の磁性層の結合剤が芳香族ジイソシアネートから誘導されたポリウレタン樹脂を含む場合に走行耐久性の効果が更に良化するため好ましい。これは式（Ｉ）で表される化合物のトリアジン環とポリウレタンの芳香族ジイソシアネートセグメントとの親和性が良いことが理由として考えられる。
【００１５】
式（Ｉ）中のＲ1〜Ｒ3はそれぞれ独立に、−ＮＲ4Ｒ5、−ＳＲ6、−ＯＲ7、−ＣＯＮＲ8Ｒ9、−Ｒ10よりなる群から選ばれる基を表す。Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ同じであっても異なっていても良い。また、Ｒ1〜Ｒ3のうち、少なくとも１つは炭素数６以上の炭化水素鎖を有する基である。
炭化水素鎖としては、一価又は二価の炭化水素基であればよく、アルキル基又はアルキレン基であることが好ましい。また、炭化水素鎖は置換基を有していてもよい。炭化水素鎖の炭素数としては、主鎖の炭素数が６以上であればよく、６〜３０であることが好ましく、６〜２２であることがより好ましい。
【００１６】
Ｒ4〜Ｒ10は水素原子又は−（Ｒ11−Ｌ）n−Ｒ12を表す。
Ｒ11は置換基を有していてもよい二価の炭化水素基を表し、Ｒ12は置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、ｎは０〜２０の整数を表す。ｎが０の場合、−Ｒ12であることを示し、また、ｎが２以上の場合、複数あるＲ11とＬはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００１７】
二価の炭化水素基としては、炭素数１〜３０であるアルキレン基、炭素数２〜３０であるアルケニレン基、炭素数２〜３０であるアルキニレン基、炭素数６〜３０であるアリーレン基、又は、これらの組み合わせからなる基が挙げられる。
一価の炭化水素基としては、炭素数１〜３０であるアルキル基、炭素数２〜３０であるアルケニル基、炭素数２〜３０であるアルキニル基、炭素数６〜３０であるアリール基、又は、これらの組み合わせからなる基が挙げられる。
二価の連結基としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ケイ素原子、カルボニル基、又は、これらの組み合わせからなる連結基が挙げられ、例えば、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−ＳｉＲＲ’−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−Ｏ−ＳｉＲＲ’−Ｏ−等が挙げられる。Ｒ及びＲ’としては、それぞれ独立に後述の置換基を表す。二価の連結基としてはその中でも、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−であることがより好ましい。
ｎは０〜２０の整数を表し、０〜１０であることが好ましく、０〜３であることがより好ましい。
【００１８】
一価及び二価の炭化水素基等が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（直鎖、分岐、環構造のアルキル基を含む）、アルケニル基（直鎖、分岐、環構造のアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が挙げられる。これらの置換基は、上記置換基でさらに置換されていても良い。
【００１９】
上記置換基としてさらに詳しくは、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含する。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。〕、アルケニル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）〕、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
【００２０】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、
【００２１】
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【００２２】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、
【００２３】
メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、
【００２４】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、
【００２５】
アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、
【００２６】
アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表す。
【００２７】
Ｒ1〜Ｒ3の好ましい構造として具体的には、以下に示す基が挙げられる。
−ＮＲ4Ｒ5としては、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）4ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）8ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）12ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）18ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）20ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）5ＯＣ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4Ｏ（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）9ＣＯＯＣ2Ｈ4Ｏ（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）4ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）8ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）12ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）18ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）20ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3、
【００２８】
【化３】
2006338798.tif 000004
【００２９】
【化４】
2006338798.tif 000005
等が好ましく挙げられる。
【００３０】
−ＳＲ6としては、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）4ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）9ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）18ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）20ＣＨ3、
−ＳＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3等が好ましく挙げられる。
【００３１】
−ＯＲ7としては、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）4ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）9ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）18ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）20ＣＨ3、
−ＯＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3、
−ＯＣ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4Ｏ（ＣＨ2）5ＣＨ3等が好ましく挙げられる。
【００３２】
−ＣＯＮＲ8Ｒ9としては、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）4ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）9ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）18ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）20ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3等が好ましく挙げられる。
【００３３】
−Ｒ10としては、
−ＣＨ2（ＣＨ2）4ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）9ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）12ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）18ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）20ＣＨ3、
−ＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）3Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）5Ｓ（ＣＨ2）5ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）5Ｓｉ（ＣＨ3）3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）5ＯＳｉ（ＣＨ3）2ＯＳｉ（ＣＨ3）3等が好ましく挙げられる。
【００３４】
上記構造の中でも、さらに好ましい構造として、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）12ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＮＨＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）12ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＳＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−ＳＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＯＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
−ＣＯＮＨＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）10ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）12ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）14ＣＨ3、
−ＣＨ2（ＣＨ2）16ＣＨ3、
【００３５】
【化５】
2006338798.tif 000006
等が挙げられる。
【００３６】
式（Ｉ）中のＲ1〜Ｒ3のうち、少なくとも２つは同じ構造であることが好ましく、Ｒ1〜Ｒ3が全て同じ構造であることがより好ましい。
【００３７】
式（Ｉ）で表される化合物は磁性層用塗布液に添加して塗布しても良いし、非磁性層を介して磁性層を塗布する場合は非磁性層用塗布液に添加して塗布しても、層間の拡散、移動によって磁性層表面に存在させることができる。また、磁性層塗布後にその表面に式（Ｉ）で表される化合物を適当な溶剤に溶解した塗布液を塗布してもかまわない。
好ましいのは磁性層塗布液及び／又は非磁性層塗布液に添加する方法である。
【００３８】
本発明の磁性層における式（Ｉ）で表される化合物の好ましい添加量は、強磁性粉末１００重量部に対し０．０１〜１５重量部であることが好ましく、更に好ましくは０．１〜５重量部である。
また、本発明の非磁性層における式（Ｉ）で表される化合物の好ましい添加量は、非磁性粉末１００重量部に対して０．０１〜１５重量部であることが好ましく、更に好ましくは０．１〜５重量部である。
【００３９】
II．磁性層
本発明における磁性層は、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層であり、また、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に磁性層を少なくとも一層設けたものである。
【００４０】
＜結合剤＞
磁性層に用いる結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独あるいは複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中でも、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂であることが好ましく、式（Ｉ）で表される化合物と親和性が高いためポリウレタン樹脂がより好ましく、芳香族ジイソシアネート化合物から誘導されたポリウレタン樹脂を用いると走行耐久性が特に優れるためさらに好ましい。
【００４１】
結合剤には磁性体、非磁性粉体の分散性を向上させるため、これらの粉体表面に吸着する官能基（極性基）を持つことが好ましい。好ましい官能基としては−ＳＯ3Ｍ、−ＳＯ4Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）2、−ＯＰＯ（ＯＭ）2、−ＣＯＯＭ、Ｒ1Ｒ2ＮＳＯ3Ｍ、Ｒ1Ｒ2ＮＲＳＯ3Ｍ、−ＮＲ1Ｒ2、−Ｎ+Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｘなどが挙げられる。ここでＭは水素原子又はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属、Ｒはアルキレン基、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はアルキル基又はヒドロキシアルキル基又は水素原子を表し、Ｒ1とＲ2は結合して環を形成してもよい。ＸはＣｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子である。結合剤中の官能基の量は１０μｅｑ／ｇ〜２００μｅｑ／ｇであることが好ましく、更には３０μｅｑ／ｇ〜１２０μｅｑ／ｇであることが好ましい。この範囲内であれば、分散性が良好である。
【００４２】
結合剤には、吸着官能基のほかにイソシアネート硬化剤と反応して架橋構造を形成し、塗膜強度を向上させるために−ＯＨ基などの活性水素を持つ官能基を付与することが好ましく、また、エポキシ基が導入されているものも好ましい。−ＯＨ基やエポキシ基等の官能基が導入されると、式（Ｉ）で表される化合物と−ＯＨ基の親和性が高いこと、又は、結合する可能性もあることから好ましい。好ましい量は０．１ｍｅｑ／ｇ〜２ｍｅｑ／ｇである。結合剤の分子量は重量平均分子量で１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、更に好ましくは２０，０００〜１００，０００である。重量平均分子量が１０，０００以上であれば、塗膜強度が高く耐久性が良好である。また、２００，０００以下であれば、分散性が良好である。
【００４３】
好ましい結合剤であるポリウレタン樹脂は、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリカーボネートウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、アクリル系ポリウレタン等を用いることができる。本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂は、例えば「ポリウレタン樹脂ハンドブック」（岩田敬治  編、１９８６年  日刊工業新聞社）に詳しく記載されており、通常、長鎖ジオール、短鎖ジオール（鎖延長剤と呼ばれることもある）とジイソシアネート化合物との付加重合によって得ることができる。長鎖ジオールとしては、分子量５００〜５，０００のポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリオレフィンジオールなどを用いることができる。この長鎖ポリオールの種類によりポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、ポリカーボネートウレタン等と呼ばれる。
【００４４】
ポリエステルジオールは、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸等の脂肪族二塩基酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族二塩基酸とグリコールとの縮重合によって得ることができる。グリコール成分としてはエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールＡなどを用いることができる。またポリエステルジオールには、このほかε−カプロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラクトンを開環重合したポリカプロラクトンジオール、ポリバレロラクトンジオールなども用いることができる。ポリエステルジオールは耐加水分解性の観点で分岐側鎖をもつもの、芳香族、脂環族の原料から得られるものであることが好ましい。
【００４５】
ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、やビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＰ、水素化ビスフェノールＡなどの芳香族グリコールや脂環族ジオールにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドを付加重合したものなどを用いることができる。
【００４６】
これらの長鎖ジオールは、複数の種類のものを併用、混合して用いることもできる。短鎖ジオールとしては、上記ポリエステルジオールのグリコール成分に例示したものと同じ化合物群の中から選ぶことができる。また３官能以上の多価アルコール、例えばトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどを少量併用すると分岐構造のポリウレタン樹脂が得られ、溶液粘度を低下させたり、ポリウレタンの末端のＯＨ基を増やすことでイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めることができる。
【００４７】
ジイソシアネート化合物としては、ＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）、２，４−ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）、２，６−ＴＤＩ、１，５−ＮＤＩ（ナフタレンジイソシアネート）、ＴＯＤＩ（トリジンジイソシアネート）、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｏ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）などの芳香族ジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）、Ｈ6ＸＤＩ（水素添加キシリレンジイソシアネート）、Ｈ12ＭＤＩ（水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート）などの脂肪族、脂環族ジイソシアネートなどを用いることができる。その中でも、芳香族ジイソシアネートが好ましく用いられ、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）、ＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｏ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）などであることがより好ましい。
【００４８】
ポリウレタン樹脂中の長鎖ジオール／短鎖ジオール／ジイソシアネートの好ましい組成は、（８０〜１５重量％）／（５〜４０重量％）／（１５〜５０重量％）である。ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は１〜５ｍｅｑ／ｇであることが好ましい。更には１．５〜４．５ｍｅｑ／ｇであることが好ましい。ウレタン基濃度が１ｍｅｑ／ｇ以上であれば、力学強度が高く、５ｍｅｑ／ｇ以下であれば、溶液粘度が低く分散性が良好である。ポリウレタン樹脂のガラス転移温度は−５０〜２００℃であることが好ましく、更には３０〜１５０℃であることが好ましい。−５０℃以上であれば耐久性が高く、２００℃以下であればカレンダー成形性が良好で、平滑性及び電磁変換特性が向上する。
ポリウレタン樹脂に前述した吸着官能基（極性基）を導入する方法としては、官能基を長鎖ジオールのモノマーの一部に用いる方法、短鎖ジオールの一部に用いる方法やポリウレタンを重合した後、高分子反応で極性基を導入する方法などがある。
【００４９】
塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニルモノマーに種々のモノマーと共重合したものを用いることができる。共重合モノマーとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどの脂肪酸ビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどのアクリレート、メタクリレート類、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテルなどのアルキルアリルエーテル類、その他スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、エチレン、ブタジエン、アクリルアミドなどを用いることができる。
更に塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニルモノマーにヒドロキシル基、エポキシ基などの官能基、前記極性基をもつモノマーを共重合したものでもよく、官能基又は極性基をもつ共重合モノマーとしては、ビニルアルコール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、２−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、３−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、ｐ−ビニルフェノール、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、ホスホエチル（メタ）アクリレート、スルホエチル（メタ）アクリレート、ｐ−スチレンスルホン酸、及び、これらのＮａ塩、Ｋ塩などを用いることができる。
なお、（メタ）アクリレートは、アクリレートおよびメタクリレートの少なくともいずれか一方を含有するものを意味する。
【００５０】
塩化ビニル系樹脂中の塩化ビニルモノマーの組成は６０〜９５重量％であることが好ましい。６０重量％以上であれば力学強度が高く、９５重量％以下であれば溶剤溶解性が高く、溶液粘度が低く分散性が良好である。吸着官能基（極性基）、ポリイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めるための官能基の好ましい量は前述したとおりである。これらの官能基の導入方法は上記の官能基含有モノマーを共重合しても良いし、塩化ビニル系樹脂を共重合した後、高分子反応で官能基を導入しても良い。好ましい重合度は２００〜６００、更に好ましくは２４０〜４５０である。重合度が２００以上であれば力学強度が高く、６００以下であれば溶液粘度が低く分散性が良好である。
【００５１】
本発明において、結合剤を架橋、硬化させ塗膜の力学強度や耐熱性高めるために硬化剤を用いることができる。硬化剤としては、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物が含まれることが好ましく、ポリイソシアネート化合物がより好ましい。
ポリイソシアネート化合物としては、公知のものを用いることができ、この中でも、３官能以上のポリイソシアネートが好ましい。具体的にはトリメチロールプロパン（ＴＭＰ）にＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物などアダクト型ポリイソシアネート化合物、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート型３量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート５量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート７量体、及び、これらの混合物、ＨＤＩのイソシアヌレート型縮合物、ＩＰＤＩのイソシアヌレート型縮合物、さらにクルードＭＤＩなどが挙げられる。これらの中で好ましいものは、ＴＭＰにＴＤＩを３モル付加した化合物、ＴＤＩのイソシアヌレート型３量体などである。
【００５２】
イソシアネート系硬化剤以外に電子線又は紫外線などの放射線硬化型の硬化剤を用いても良い。この場合、放射線硬化官能基としてアクリロイル基またはメタクリロイル基を分子内に２個以上、好ましくは３個以上有する硬化剤を用いることができる。例えばＴＭＰ（トリメチロールプロパン）のトリアクリレート、ペンタエリスリトールのテトラアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマーなどが挙げられる。この場合、硬化剤のほかに結合剤にも（メタ）アクリロイル基を導入することが好ましい。紫外線硬化の場合は、このほかに光増感剤が併用される。硬化剤は結合剤１００重量部に対して０〜８０重量部添加するのが好ましい。上記範囲であると、分散性が良好であり好ましい。
【００５３】
磁性層に用いる結合剤の使用量は、硬化剤を含めて強磁性粉末１００重量部に対し５〜２５重量部であることが好ましい。
【００５４】
＜強磁性粉末＞
本発明における磁性層に含まれる強磁性粉末は、以下に示す針状及び平板状の強磁性粉末のいずれも用いることができる。針状強磁性粉末としては、強磁性金属粉末を用いることが好ましく、平板状強磁性粉末としては、強磁性六方晶フェライト粉末を用いることが好ましい。
【００５５】
本発明の磁気記録媒体に用いることができる強磁性金属粉末は、針状でありコバルト含有強磁性酸化鉄又は強磁性合金粉末でＳBET比表面積が好ましくは４０〜８０ｍ2／ｇ、更に好ましくは５０〜７０ｍ2／ｇである。結晶子サイズは５〜２５ｎｍ、好ましくは８〜２０ｎｍであり、特に好ましくは１０〜１５ｎｍである。長軸長は２０〜２００ｎｍであり、好ましくは２５〜６０ｎｍである。
強磁性金属粉末としては、イットリウムを含むＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅが挙げられ、強磁性金属粉末中のイットリウム含有量は、鉄原子に対してイットリウム原子の比、Ｙ／Ｆｅが０．５原子％〜２０原子％が好ましく、更に好ましくは、５〜１０原子％である。上記範囲内にあると、強磁性金属粉末が高σｓ化され、良好な磁気特性と電磁変換特性が得られるので好ましい。また、鉄の含有量が適当であるので、良好な磁気特性及び、電磁変換特性が得られるので好ましい。
【００５６】
さらに、鉄１００原子％に対して２０原子％以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、銅、亜鉛、モリブデン、ロジウム、パラジウム、錫、アンチモン、ホウ素、バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、金、鉛、リン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、テルル、ビスマス等を含むことができる。また、強磁性金属粉末が少量の水、水酸化物または酸化物を含むものなどであってもよい。
【００５７】
強磁性金属粉末のｐＨは、用いる結合剤との組み合わせにより最適化することが好ましい。その範囲はｐＨ４〜１２が好ましく、ｐＨ７〜１０がより好ましい。強磁性粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり、表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2以下になり好ましい。
上記強磁性金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。また、本発明における磁性層で用いられる強磁性金属粉末は、空孔が少ない方が好ましく、その値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については、先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば、針状、粒状、米粒状、あるいは板状いずれであっても構わないが、特に針状の強磁性粉末を使用することが好ましい。針状強磁性金属粉末の場合、針状比は４〜１２であることが好ましく、さらには５〜１２であることが好ましい。
【００５８】
強磁性金属粉末の抗磁力Ｈｃは、１５９〜２３９ｋＡ／ｍ（２，０００〜３，０００ Ｏｅ）であることが好ましく、１６７〜２３１ｋＡ／ｍ（２，１００〜２，９００ Ｏｅ）であることがさらに好ましい。飽和磁束密度は１５０〜３００ｍＴ（１，５００〜３，０００Ｇ）であることが好ましく、１６０〜２９０ｍＴ（１，６００〜２，９００Ｇ）であることがさらに好ましい。飽和磁化σｓは、１００〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）であることが好ましく、１００〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）がより好ましい。
磁性体自体のＳＦＤ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ  ｆｉｅｌｄ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は小さい方が好ましく、０．８以下であることが好ましい。ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また磁化反転がシャープでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布を良くする、単分散α−Ｆｅ2Ｏ3を使用する、粒子間の焼結を防止する等の方法がある。
【００５９】
本発明に用いることができるコバルト、イットリウムを導入した強磁性金属粉末の製造方法の一例を示す。
第一鉄塩とアルカリを混合した水性懸濁液に、酸化性気体を吹き込むことによって得られるオキシ水酸化鉄を出発原料とする例を挙げることができる。
このオキシ水酸化鉄の種類としては、α−ＦｅＯＯＨが好ましく、その製法としては、第一鉄塩を水酸化アルカリで中和してＦｅ（ＯＨ）2の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性ガスを吹き込んで針状のα−ＦｅＯＯＨとする第一の製法がある。一方、第一鉄塩を炭酸アルカリで中和してＦｅＣＯ3の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性気体を吹き込んで紡錘状のα−ＦｅＯＯＨとする第二の製法がある。このようなオキシ水酸化鉄は第一鉄塩水溶液とアルカリ水溶液とを反応させて水酸化第一鉄を含有する水溶液を得て、これを空気酸化等により酸化して得られたものであることが好ましい。この際、第一鉄塩水溶液にＮｉ塩や、Ｃａ塩、Ｂａ塩、Ｓｒ塩等のアルカリ土類元素の塩、Ｃｒ塩、Ｚｎ塩などを共存させても良く、このような塩を適宜選択して用いることによって粒子形状（軸比）などを調製することができる。
【００６０】
第一鉄塩としては、塩化第一鉄、硫酸第一鉄等が好ましい。またアルカリとしては水酸化ナトリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、炭酸ナトリウム等が好ましい。また、共存させることができる塩としては、塩化ニッケル、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ストロンチウム、塩化クロム、塩化亜鉛等の塩化物が好ましい。
【００６１】
次いで、鉄にコバルトを導入する場合は、イットリウムを導入する前に、硫酸コバルト、塩化コバルト等のコバルト化合物の水溶液を前記のオキシ水酸化鉄のスラリーに撹拌混合する。コバルトを含有するオキシ水酸化鉄のスラリーを調製した後、このスラリーにイットリウムの化合物を含有する水溶液を添加し、撹拌混合することによって導入することができる。
本発明の強磁性金属粉末には、イットリウム以外にもネオジム、サマリウム、プラセオジウム、ランタン、ガドリニウム等を導入することができる。これらは、塩化イットリウム、塩化ネオジム、塩化サマリウム、塩化プラセオジウム、塩化ランタン等の塩化物、硝酸ネオジム、硝酸ガドリニウム等の硝酸塩などを用いて導入することができ、これらは、二種以上を併用しても良い。
【００６２】
（強磁性六方晶フェライト粉末）
本発明に用いることのできる平板状強磁性粉末としては、強磁性六方晶フェライト粉末を用いることが好ましい。
強磁性六方晶フェライト粉末として、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒなどの原子を含んでいてもかまわない。一般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【００６３】
平板状強磁性粉末の板径は１０〜５０ｎｍであることが好ましく、２０〜４０ｎｍがより好ましい。また、粒子サイズは六角板径で１０〜５０ｎｍであることが好ましく、２０〜４０ｎｍがより好ましい。
磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は４０ｎｍ以下が好ましい。上記範囲内にあると、熱揺らぎの影響を受けず安定な磁化が望めるとともに、ノイズが低いため、高密度磁気記録に好適であり好ましい。
板状比（板径／板厚）は１〜１５が望ましい。好ましくは２〜７である。板状比が上記範囲内にあると、磁性層中の充填性が高く、また、十分な配向性が得られるので好ましい。さらに、粒子間のスタッキングによるノイズが小さくなるので好ましい。
この粒子サイズ範囲のＳBET（ＢＥＴ法による比表面積）は１０〜２００ｍ2／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。結晶子サイズは５〜４５ｎｍ、好ましくは１０〜３５ｎｍである。
粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００６４】
強磁性六方晶フェライト粉末で測定される抗磁力Ｈｃは３９．８〜３９８ｋＡ／ｍ（５００〜５，０００ Ｏｅ）程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。通常６３．７〜３１８ｋＡ／ｍ（８００〜４，０００ Ｏｅ）程度であるが、好ましくは１１９〜２７９ｋＡ／ｍ（１，５００〜３，５００ Ｏｅ）である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラーを越える場合は、１５９ｋＡ／ｍ（２，０００ Ｏｅ）以上にすることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）であることが好ましい。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。
【００６５】
強磁性六方晶フェライト粉末を分散する際に強磁性六方晶フェライト粉末粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。使用量は強磁性六方晶フェライト粉末に対して０．１〜１０％である。強磁性六方晶フェライト粉末のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１０程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％であることが好ましい。
【００６６】
強磁性六方晶フェライト粉末の製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１，１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法、等があるが、本発明は製法を選ばない。
【００６７】
本発明における磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボンブラックなどを挙げることができる。また、前記式（Ｉ）で表される化合物と併用して、他の潤滑剤を用いてもよい。
これら添加剤としては、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸基、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、１−メチル−１−フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、オクチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベンジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸１−メチル−１−フェネチル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデシル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸およびこれらの金属塩、またはステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と炭素数２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい１〜６価アルコール、炭素数１２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコールまたはアルキレンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エ���テルまたは多価脂肪酸エステル、炭素数２〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基およびＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ3、ＣＣｌ3、ＣＢｒ3等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。
【００６８】
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。
【００６９】
上記分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。
これらの添加物の具体例としては、例えば、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーンＬ−２０１、ノニオンＥ−２０８、アノンＢＦ、アノンＬＧ、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジェルブＯＬ、信越化学社製：ＴＡ−３、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ、ライオン社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００等が挙げられる。
【００７０】
本発明において、磁性層で用いられる有機溶剤は、公知のものが使用できる。有機溶剤は、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾールなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン、テトラヒドロフラン等を使用することができる。
【００７１】
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【００７２】
本発明において磁性層で用いられるこれらの分散剤、潤滑剤、界面活性剤は磁性層および後述する非磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、無論ここに示した例のみに限られるものではないが、分散剤は極性基で吸着もしくは結合する性質を有しており、磁性層においては主に強磁性粉末の表面に、また後述する非磁性層においては主に非磁性粉末の表面に前記の極性基で吸着もしくは結合し、一度吸着した有機リン化合物は金属あるいは金属化合物等の表面から脱着しがたいと推察される。したがって、本発明の強磁性粉末表面あるいは後述する非磁性粉末表面は、アルキル基、芳香族基等で被覆されたような状態になるので、強磁性粉末あるいは非磁性粉末の結合剤樹脂成分に対する親和性が向上し、さらに強磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散安定性も改善される。また、潤滑剤としては、遊離の状態で存在するため非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなどが考えられる。また本発明で用いられる添加剤の全て又はその一部は、磁性層あるいは非磁性層用塗布液の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
【００７３】
また、本発明における磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することができる。
カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。放射線硬化層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【００７４】
カーボンブラックの比表面積は好ましくは１００〜５００ｍ2／ｇ、さらに好ましくは１５０〜４００ｍ2／ｇ、好ましくはＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、さらに好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は好ましくは５〜８０ｎｍ、より好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。
【００７５】
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製  ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化成工業社製  ＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアカーボン社製  ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。
【００７６】
カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００７７】
これらのカーボンブラックは単独または組み合わせで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合、強磁性粉末の重量に対して０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって本発明で使用されるこれらのカーボンブラックは、磁性層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。
【００７８】
III．非磁性層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を有していてもよい。本発明における非磁性層は、前記式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも１種含むことが好ましいが、磁性層中に前記式（Ｉ）で表される化合物が含まれない場合には、必ず非磁性層中に前記式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも１種含むものとする。また、非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。
非磁性層に用いることのできる結合剤は、前記磁性層で挙げたものを好ましく用いることができる。非磁性層に用いる結合剤の使用量は、非磁性粉末１００重量部に対し１０〜３０重量部が好ましい。
【００７９】
（非磁性粉末）
非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。
【００８０】
具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ3、ＣａＣＯ3、ＢａＣＯ3、ＳｒＣＯ3、ＢａＳＯ4、炭化珪素、炭化チタンなどが単独又は２種類以上を組み合わせて使用される。これらの中でも二酸化チタン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、硫酸バリウムであることが好ましく、α−酸化鉄、二酸化チタンがより好ましい。
【００８１】
非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでもあってもよい。
非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ〜１μｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。結晶子サイズが４ｎｍ〜１μｍの範囲であれば、分散が困難になることもなく、また好適な表面粗さを有するため好ましい。
これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜２μｍが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０〜２００ｎｍである。５ｎｍ〜２μｍの範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好ましい。
【００８２】
非磁性粉末の比表面積は、好ましくは１〜１００ｍ2／ｇであり、より好ましくは５〜７０ｍ2／ｇであり、さらに好ましくは１０〜６５ｍ2／ｇである。比表面積が１〜１００ｍ2／ｇの範囲内にあれば、好適な表面粗さを有し、かつ、所望の結合剤量で分散できるため好ましい。
ジブチルフタレート（ＤＢＰ）を用いた吸油量は、好ましくは５〜１００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、さらに好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。
比重は好ましくは１〜１２、より好ましくは３〜６である。タップ密度は好ましくは０．０５〜２ｇ／ｍｌ、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。タップ密度が０．０５〜２ｇ／ｍｌの範囲であれば、飛散する粒子が少なく操作が容易であり、また装置にも固着しにくくなる傾向がある。
【００８３】
非磁性粉末のｐＨは２〜１１であることが好ましいが、ｐＨは６〜９の間が特に好ましい。ｐＨが２〜１１の範囲にあれば、高温、高湿下又は脂肪酸の遊離により摩擦係数が大きくなることはない。
非磁性粉末の含水率は、好ましくは０．１〜５重量％、より好ましくは０．２〜３重量％、さらに好ましくは０．３〜１．５重量％である。含水量が０．１〜５重量％の範囲であれば、分散も良好で、分散後の塗料粘度も安定するため好ましい。
強熱減量は、２０重量％以下であることが好ましく、強熱減量が小さいものが好ましい。
【００８４】
また、非磁性粉末が無機粉末である場合には、モース硬度は４〜１０のものが好ましい。モース硬度が４〜１０の範囲であれば耐久性を確保することができる。非磁性粉末のステアリン酸吸着量は、１〜２０μｍｏｌ／ｍ2であり、さらに好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ2である。
非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は、２０〜６０μＪ／ｃｍ2（２００〜６００ｅｒｇ／ｃｍ2）の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。
１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Åが適当である。水中での等電点のｐＨは、３〜９の間にあることが好ましい。
【００８５】
これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯで表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2であるが、さらに好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００８６】
本発明において非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、例えば、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＢ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ  石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、ＭＪ−７、α−酸化鉄Ｅ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、Ｔ−６００Ｂ、Ｔ−１００Ｆ、Ｔ−５００ＨＤなどが挙げられる。堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成したものが挙げられる。
【００８７】
非磁性層には非磁性粉末と共に、カーボンブラックを混合し表面電気抵抗を下げ、光透過率を小さくすると共に、所望のμビッカース硬度を得ることができる。非磁性層のμビッカース硬度は、好ましくは２５〜６０ｋｇ／ｍｍ2、より好ましくはヘッド当りを調整するために、３０〜５０ｋｇ／ｍｍ2であり、薄膜硬度計（日本電気製  ＨＭＡ−４００）を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定することができる。光透過率は一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、たとえばＶＨＳ用磁気テープでは０．８％以下であることが規格化されている。このためにはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。非磁性層に用いることができるカーボンブラックとしては、前記磁性層で挙げたものを好ましく用いることができる。
【００８８】
これらのカーボンブラックは前記非磁性粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用することが好ましい。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせで使用することができる。
【００８９】
また、非磁性層には目的に応じて有機質粉末を添加することもできる。このような有機質粉末としては、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。
【００９０】
また、本発明における非磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、前記磁性層で挙げた研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボンブラックなどを挙げることができる。また、前記式（Ｉ）で表される化合物と併用して、他の潤滑剤を用いてもよい。
【００９１】
IV．非磁性支持体
本発明に用いることのできる非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。
これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。また、本発明に用いることのできる非磁性支持体の表面粗さはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて中心平均粗さＲａ３〜１０ｎｍが好ましい。
【００９２】
Ｖ．バックコート層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して繰り返し走行性が強く要求される。このような高い保存安定性を維持させるために、非磁性支持体の磁性層が設けられた面とは反対の面にバックコート層を設けることもできる。バックコート層用塗料は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成分と結合剤とを有機溶媒に分散させる。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができる。また、結合剤としては、例えば、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用することができる。
【００９３】
VI．下塗り層
本発明の磁気記録媒体には、下塗り層を設けても良い。下塗り層を設けることによって非磁性支持体と磁性層又は非磁性層との接着力を向上させることができる。下塗り層としては、溶剤へ可溶性のポリエステル樹脂が使用される。下塗り層は厚さとして０．５μｍ以下のものが用いられる。
【００９４】
VII．平滑化層
本発明の磁気記録媒体には、平滑化層を設けてもよい。平滑化層とは、非磁性支持体表面の突起を埋めるための層であり、非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体の場合は非磁性支持体と磁性層の間、非磁性支持体上に非磁性層及び磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体の場合には非磁性支持体と非磁性層の間に設けられる。
平滑化層は、放射線硬化化合物を放射線照射により硬化させて形成することができる。放射線硬化化合物とは、紫外線又は電子線などの放射線を照射すると重合又は架橋を開始し、高分子化して硬化する性質を有する化合物をいう。
【００９５】
VIII．層構成
本発明で用いられる磁気記録媒体の構成において、非磁性支持体の好ましい厚さは、３〜８０μｍである。非磁性支持体の磁性層が設けられた面とは反対側の面に設けられたバックコート層の厚さは、好ましくは０．１〜１．０μｍ、より好ましくは０．２〜０．８μｍである。下塗り層の厚さは、０．１〜１．０μｍであることが好ましく、０．５〜０．７μｍがより好ましい。また、放射線硬化層の厚さは、０．１〜１．０μｍであることが好ましく、０．３〜０．７μｍがより好ましい。
【００９６】
磁性層の厚さは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、好ましくは０．０１〜０．１２μｍであり、更に好ましくは０．０２〜０．１０μｍである。また、磁性層の厚さ変動率は±５０％以内が好ましく、さらに好ましくは±４０％以内である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００９７】
本発明において非磁性層の厚さは、好ましくは０．２〜３．０μｍであり、０．３〜２．５μｍであることがより好ましく、０．４〜２．０μｍであることがさらに好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体の非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すものであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が１０ｍＴ（１００Ｇ）以下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００ Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことを意味する。
【００９８】
IX．製造方法
本発明で用いられる磁気記録媒体の磁性層塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる強磁性六方晶フェライト粉末または強磁性金属粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末または非磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（但し、全結合剤の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００重量部に対し１５〜５００重量部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層用液および非磁性層用液を分散させるには、ガラスビーズを用いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。
【００９９】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にある支持体上に磁性層塗布液を磁性層の乾燥後の層厚が所定の膜厚となるように塗布する。ここで複数の磁性層塗布液を逐次又は同時に重層塗布してもよく、非磁性層塗布液と磁性層塗布液とを逐次又は同時に重層塗布してもよい。上記磁性塗布液又は非磁性層塗布液を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。
これらについては例えば株式会社総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にすることができる。
【０１００】
非磁性層や磁性層を有する構成の磁気記録媒体に適用する場合、塗布する装置、方法の例として以下のものを提案できる。
（１）磁性層塗布液の塗布で一般的に適用されるグラビア、ロール、ブレード、エクストルージョン等の塗布装置により、まず下層を塗布し、下層が未乾燥の状態のうちに特公平１−４６１８６号公報、特開昭６０−２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報等に開示されているような支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により、上層を塗布する。
（２）特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されているような塗布液通液スリットを２個有する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。
（３）特開平２−１７４９６５号公報に開示されているようなバックアップロール付きのエクストルージョン塗布装置により、上下層をほぼ同時に塗布する。
【０１０１】
本発明で用いる非磁性支持体の磁性層塗布液が塗布されていない面にバックコート層が設けられていてもよい。バックコート層は、非磁性支持体の磁性層塗布液が塗布されていない面に、研磨剤、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤とを有機溶剤に分散したバックコート層形成塗料を塗布して設けられた層である。なお、非磁性支持体上のバックコート層形成塗料の塗布面に公知の下塗り層が設けられていてもよい。
【０１０２】
磁性層塗布液の塗布層は、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強磁性粉末に磁場配向処理を施した後に乾燥される。このようにして乾燥された後、塗布層に表面平滑化処理を施すことができる。表面平滑化処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどを利用することができる。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。カレンダー処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用することができる。また金属ロールで処理することもできる。
【０１０３】
本発明の磁気記録媒体における磁性層の表面性は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される１０〜２０ｎｍの高さの微小突起が５〜１，０００個／１００（μｍ）2であることが好ましく、５〜３００個／１００（μｍ）2がより好ましい。上記範囲であると、極めて走行性に優れるだけでなく、繰り返し走行させても磁性層の強度が高く表面削れによる突起の減少も少なく走行耐久性に優れるため好ましい。
本発明の磁気記録媒体は、その表面の中心線平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて０．１〜５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜４ｎｍの範囲という極めて優れた平滑性を有する表面であることが高密度記録用の磁気記録媒体として好ましい。その方法として、例えば上述したように特定の強磁性粉末と結合剤を選んで形成した磁性層に、上記カレンダー処理を施すことにより行われる。
カレンダー処理条件としては、カレンダーロールの温度が６０〜１００℃の範囲、好ましくは７０〜１００℃の範囲、特に好ましくは８０〜１００℃の範囲、圧力が１００〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８〜４９０ｋＮ／ｍ）の範囲、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ（１９６〜４４１ｋＮ／ｍ）の範囲、特に好ましくは３００〜４００ｋｇ／ｃｍ（２９４〜３９２ｋＮ／ｍ）の範囲の条件で作動させることによって行われることが好ましい。得られた磁気記録媒体は、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。
【実施例】
【０１０４】
以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
なお、実施例中の「部」の表示は「重量部」を示す。
【０１０５】
（実施例１）
＜磁性層用塗料の調整＞
強磁性合金粉末                                                      １００部
（組成：Ｆｅ １００ａｔｍ％に対してＣｏ ２０ａｔｍ％，Ａｌ ９ａｔｍ％，Ｙ ６ａｔｍ％、Ｈｃ：１７５ｋＡ／ｍ（２，２００ Ｏｅ）、結晶子サイズ：１１ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：７０ｍ2／ｇ、長軸径：４５ｎｍ、σｓ：１１１Ａ・ｍ2／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ））
をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで
日本ゼオン（株）製塩化ビニル系樹脂ＭＲ１１０のシクロヘキサノン３０％溶液
３０部
ポリウレタン樹脂Ａ                                                    ３０部
（ポリエステルポリウレタン、ジイソシアネート成分：ジフェニルメタンジイソシアネート、Ｔｇ＝７０℃、重量平均分子量：６５，０００、ＳＯ3Ｎａ基＝１０×１０-5ｅｑ／ｇ含有、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）／トルエン３０％溶液）
を加えて６０分間混練した。次いで
研磨剤（Ａｌ2Ｏ3、粒子サイズ０．１μｍ）                              ２部
カーボンブラック（粒子サイズ４０μｍ）                                  ２部
ＭＥＫ                                                              １００部
トルエン                                                            １００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに
ポリイソシアネート                                                    １５部
（日本ポリウレタン製コロネート３０４１、ＭＥＫの３０％溶液）
化合物（ａ）（表２参照）                                                ２部
２−エチルヘキシルステアレート                                          １部
イソヘキサデシルステアレート                                            １部
ステアリン酸                                                            １部
ミリスチン酸                                                            １部
ＭＥＫ                                                                ５０部
を加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層用塗料を調製した。
【０１０６】
＜非磁性層用塗料の調製＞
針状α−酸化鉄                                                        ８０部
（長軸長：１００ｎｍ、表面処理層：アルミナ、ＢＥＴ比表面積：５２ｍ2／ｇ、ｐＨ：９．４）
カーボンブラック“ケッチェンブラックＥＣ”（ケッチェン・ブラック・インターナショナル製）                                                              ２０部
をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで
日本ゼオン（株）製塩化ビニル系樹脂ＭＲ１１０のシクロヘキサノン３０％溶液
３０部
ポリウレタン樹脂Ｂ                                                    ３０部
（ポリエステルポリウレタン、ジイソシアネート成分：ジフェニルメタンジイソシアネート、Ｔｇ＝３０℃、重量平均分子量：８２，０００、ＳＯ3Ｎａ基＝５×１０-5ｅｑ／ｇ含有、ＭＥＫ／トルエン３０％溶液）
ＭＥＫ                                                                ３０部
を加えて６０分間混練した。次いで
ＭＥＫ                                                              ２００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート３０４１、ＭＥＫの３０％溶液）                                                                      １００部
化合物（ａ）（表２参照）                                                ２部
２−エチルヘキシルステアレート                                          １部
イソヘキサデシルステアレート                                            １部
ステアリン酸                                                            １部
ミリスチン酸                                                            １部
ＭＥＫ                                                              １００部
トルエン                                                            １００部
を加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層用塗料を調製した。
【０１０７】
得られた非磁性層用塗料を乾燥後の厚さが１．２μｍに、さらにその直後に磁性層用塗料を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、厚さ６．０μｍのポリエチレンナフタレ−ト支持体の表面に同時重層塗布した。磁性層用塗料が未乾燥の状態で５，０００ガウスのＣｏ磁石と４，０００ガウスのソレノイド磁石で磁場配向を行い、塗布したものを金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組み合せによるカレンダー処理を（速度１００ｍ／ｍｉｎ、線厚３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃）で行なった後、５０℃７日間熱処理し１／２インチ幅にスリットした。
【０１０８】
（実施例２〜１０）
化合物（ａ）を表１及び２に示す化合物に代えた以外は、実施例１と同様にサンプルを作製した。
【０１０９】
（実施例１１）
磁性層のポリウレタン樹脂Ａをポリウレタン樹脂Ｃ（ポリエステルポリウレタン、ジイソシアネート成分：水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、Ｔｇ＝６５℃、重量平均分子量：７３，０００、ＳＯ3Ｎａ基＝１０×１０-5ｅｑ／ｇ含有、ＭＥＫ／トルエン３０％溶液）に代えた以外は、実施例１と同様にサンプルを作製した。
【０１１０】
（実施例１２）
非磁性層用塗料に化合物（ａ）を添加しない以外は、実施例１と同様にサンプルを作製した。
【０１１１】
（実施例１３）
磁性層用塗料に化合物（ａ）を添加しない以外は、実施例１と同様にサンプルを作製した。
【０１１２】
（実施例１４）
磁性層用塗料の強磁性粉末を強磁性六方晶バリウムフェライト粉末（組成：Ｂａ／Ｆｅ／Ｃｏ／Ｚｎ／Ａｌ＝１／９．１／０．２／０．８／０．８、平均板径：３０ｎｍ、平均板厚：８ｎｍ、Ｈｃ：２１６ｋＡ／ｍ（２，７００ Ｏｅ）、ＢＥＴ比表面積：７２ｍ2／ｇ、σｓ：５４Ａ・ｍ2／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ））に代えた以外は、実施例１と同様にサンプルを作製した。
【０１１３】
（比較例１）
化合物（ａ）を添加しない以外は、実施例１と同様にサンプルを作製した。
【０１１４】
（比較例２）
磁性層用塗料及び非磁性層用塗料の化合物（ａ）を下記化合物（ｋ）に代えた以外は、実施例１と同様にサンプルを作製した。
【０１１５】
【化６】
2006338798.tif 000007
【０１１６】
（比較例３）
磁性層用塗料及び非磁性層用塗料の化合物（ａ）を下記化合物（Ｌ）に代えた以外は、実施例１と同様にサンプルを作製した。
【０１１７】
【化７】
2006338798.tif 000008
【０１１８】
〔測定方法〕
（１）磁性層表面粗さＲａ
デジタルオプティカルプロフィメーター（ＷＹＫＯ製）を用い光干渉法により、カットオフ値０．２５ｍｍの条件で中心線平均粗さＲａを測定した。
（２）磁性層表面突起
Digital Instrument社製NanoscopeIII（ＡＦＭ原子間力顕微鏡）を用い、稜角７０°の四角錐のＳｉＮ短針を使って１０μｍ平方（１００（μｍ）2）中の微小突起高さ１０〜２０ｎｍの突起数を測定した。
（３）電磁変換特性（Ｓ／Ｎ比）
［磁気記録再生システムの組み立て］
１）薄膜磁気ヘッド
記録ヘッド構造：２ターン薄膜コイルをＣｏ系アモルファス磁性薄膜ヨークで挟持したインダクティブヘッドである。
トラック幅：２４μｍ、ギャップ長：１．４μｍ
再生ヘッド構造：両シールド型シャントバイアスＭＲ（磁気抵抗型）ヘッドである。ＭＲ素子はＦｅ／Ｎｉ（パーマロイ）合金薄膜である。
トラック幅：１０μｍ、シールド間隔：１．４μｍ
２）磁気記録再生システムの組み立て
記録再生ヘッドを富士通（株）製Ｆ６１３Ａドライブ（３４８０型１／２インチカートリッジ磁気テープ記録再生装置）に装着し、テープスピード１００インチ／秒の磁気記録再生システムを作製した。
２１℃５０％ＲＨでサーボ制御を行い、１トラック（幅２０μｍ）を９０ｍ長のテープで再生を行いＳ／Ｎ比を測定した。
（４）耐久性
４０℃８０％環境下で上記（３）の記録再生システムで９０ｍ長のテープをテープテンション２０ｇｆ、スピード１００インチ／秒で繰り返し１万回往復走行させた。
テープ走行スタート部のテープ表面のダメージを以下のランクで評価した。
優秀：キズ、付着物ともに全く観察されない。
良好：ややキズが見られるが、付着物は全くない。
不良：磁性層表面に付着物、テープ傷ともに見られる。
【０１１９】
実施例１〜１４及び比較例１〜３で使用した化合物、及び、評価結果を表１に示す。また、表２に式（Ｉ）で表される化合物（ａ）〜（ｊ）の詳細を示す。
【０１２０】
【表１】
2006338798.tif 000009
【０１２１】
【表２】
2006338798.tif 000010