(57)【要約】【課題】マスクブランクの遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料を提供する。【解決手段】２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料３０であって、測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体（透明部分３８）上に薄膜（多層膜３４）が形成されており、前記薄膜は、該薄膜が形成された前記透明体表面の面内において、前記透明体との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域をもつ。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料であって、
測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に薄膜が形成されており、前記薄膜は、該薄膜が形成された前記透明体表面の面内において、前記透明体との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域をもつことを特徴とする較正用標準試料。
【請求項２】
前記複数の異なる透過率を有する領域は、前記薄膜の膜厚で調整されていることを特徴とする請求項１記載の較正用標準試料。
【請求項３】
前記薄膜における少なくとも２箇所以上の複数の異なる透過率を有する領域は、１％〜２０％の透過率を有することを特徴とする請求項１又は２記載の較正用標準試料。
【請求項４】
２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料であって、
測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に、該透明体との比較により測定可能な透過率を有する単層膜を積層させた多層膜が形成されていることを特徴とする較正用標準試料。
【請求項５】
前記多層膜を構成する各単層膜は、それぞれ単独して、前記透明体上の前記多層膜が形成されていない領域にも形成されていることを特徴とする請求項４記載の較正用標準試料。
【請求項６】
前記多層膜を構成する各単層膜の透過率は、１％〜２０％であることを特徴とする請求項４又は５記載の較正用標準試料。
【請求項７】
２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料の製造方法であって、
測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に、該透明体との比較により測定可能な透過率を有する薄膜を積層させた多層膜と、前記多層膜が形成されていない領域に前記多層膜を構成する薄膜をそれぞれ単独で形成した複数の単層膜とを形成する成膜工程と、
前記複数の単層膜それぞれの透過率を、前記透明体との比較により測定する単層膜透過率測定工程と、
それぞれの前記単層膜について測定された透過率に基づき、前記多層膜の透過率を算出する多層膜透過率算出工程と、
を有することを特徴とする較正用標準試料の製造方法。
【請求項８】
前記複数の単層膜それぞれの透過率を、位相シフト量測定装置で測定することを特徴とする請求項７記載の較正用標準試料の製造方法。
【請求項９】
２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正用標準試料を用いて較正する分光光度計の較正方法であって、
請求項１乃至６の何れか一に記載の較正用標準試料を用いて分光光度計を較正することを特徴とする分光光度計の較正方法。
【請求項１０】
透光性基板の表面上に遮光膜が形成されたマスクブランクであって、
前記遮光膜が形成されていない表面上に、前記遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための、前記透光性基板との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域をもつように較正用薄膜が形成されていることを特徴とするマスクブランク。
【請求項１１】
透光性基板の表面上に遮光膜が形成されたマスクブランクであって、
前記遮光膜が形成されていない表面上に、前記遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための、前記透光性基板との比較により測定可能な透過率を有する単層膜を積層させた多層膜が形成されていることを特徴とするマスクブランク。
【請求項１２】
前記多層膜を構成する各単層膜は、それぞれ独立して、前記透光性基板上の前記多層膜が形成されていない前記表面上にも形成されていることを特徴とする請求項１１記載のマスクブランク。
【請求項１３】
前記遮光膜は前記単層膜を含む複数の層で構成されていることを特徴とする請求項１１又は１２記載のマスクブランク。
【請求項１４】
透光性基板の表面上に所定の透過率を有する遮光膜が形成されたマスクブランクを製造するマスクブランクの製造方法であって、
前記遮光膜を前記透光性基板上に形成した後、請求項１乃至６の何れかに記載の較正用標準試料を用いて較正された分光光度計により前記遮光膜の透過率を測定し、測定された透過率が、仕様に合うか否かを検査する検査工程を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料及びその製造方法、該較正用標準試料を用いて２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計の較正方法、並びにマスクブランク及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マスクブランクにおいては、遮光膜の透過率保証が望まれている。遮光膜の透過率は、光学濃度（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ：Ｏ．Ｄ．）で３〜４（例えば３．５）程度と極めて低いため、透過率保証のためには、非常に高精度の測定が必要になる。そのため、遮光膜の透過率は、国際基準の較正用標準試料を用いて較正された分光光度計（例えば、非特許文献１参照）等を用いて測定される。
【０００３】
また、半導体デバイスの微細化要求に伴い、露光プロセスで用いられる露光光は年々短波長化している。近年では、露光光の光源として、ＡｒＦエキシマレーザ（露光波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【非特許文献１】インターネット、ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｈｉｔａｃｈｉ−ｈｉｔｅｃ．ｃｏｍ／ｓｃｉｅｎｃｅ／ｕｖ／ｕ４１００．ｈｔｍｌ
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、露光波長１９３ｎｍの光について、分光光度計を較正するための国際基準の較正用標準試料は提供されていない。そのため、露光波長１９３ｎｍの光の透過率について、マスクブランクの遮光膜の透過率をどのように保証すべきかが問題となっていた。また、更に露光波長の短い光の透過率についても、同様の問題が生じるおそれがあった。
【０００５】
そこで、本発明は、上記の課題を解決できる、較正用標準試料及びその製造方法、該較正用標準試料を用いて分光光度計を較正する分光光度計の較正方法、並びにマスクブランク及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
（構成１）２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料であって、測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に薄膜が形成されており、前記薄膜は、該薄膜が形成された前記透明体表面の面内において、前記透明体との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域をもつ。
このように構成すれば、透明体上に形成された薄膜における複数の異なる透過率に基づき、分光光度計を較正できる。このように構成すれば、分光光度計を較正するための較正用標準試料を提供することができる。
【０００７】
（構成２）複数の異なる透過率を有する領域は、薄膜の膜厚で調整されている。
このように構成すれば、簡単に透明体表面の面内において、透明体との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域を形成することができる。複数の異なる透過率を有するには、薄膜の膜厚が整数倍となるように薄膜を形成しても良い。
【０００８】
（構成３）薄膜における少なくとも２箇所以上の複数の異なる透過率を有する領域は、１％〜２０％の透過率を有する。
このように構成すれば、位相シフト量測定装置で測定可能な透過率を有することになる。例えば、波長１９３ｎｍの光について、位相シフトマスクブランクの位相シフト膜の位相シフト量と透過率を測定することができ、事実上の業界標準として用いられている位相シフト量測定装置（レーザーテック社製ＭＰＭ１９３（登録商標））を用いることにより、較正用標準試料の複数の異なる透過率を、広く用いられている装置の測定値と対応づけることができるため、較正用標準試料としての適正をより高めることができる。
【０００９】
（構成４）２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料であって、測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に、該透明体との比較により測定可能な透過率を有する単層膜を積層させた多層膜が形成されている。
【００１０】
このように構成した場合、例えば、多層膜を構成する各単層膜を形成するのと同時に、各単層膜をそれぞれ別途形成しておけば、各単層膜単独での透過率を測定することができる。そして、測定された単層膜の透過率に基づき、多層膜の透過率を算出することができる。この場合、多層膜の透過率が既知になるので、この多層膜の透過率に基づき、分光光度計を較正できる。このように構成すれば、分光光度計を較正するための較正用標準試料を提供することができる。
【００１１】
多層膜を構成する各単層膜の透過率は、６％程度（例えば、１〜２０％、好ましくは２〜１５％、より好ましくは３〜１０％）である。この場合、多層膜を構成する各単層膜をそれぞれ独立して形成しておけば、これらの単層膜の透過率を、透明体との比較により高い精度で測定できる。また、上記の透過率の各単層膜を例えば２〜１０層、より好ましくは、３〜５層積層することにより、多層膜の透過率を適切に設定できる。
多層膜は、マスクブランクの遮光膜と同程度の透過率を有するのが好ましい。このように構成すれば、分光光度計を高い精度で較正できる。多層膜の透過率は、例えば、光学濃度（Ｏ．Ｄ．）で１．８〜５、より好ましくは２〜４、更に好ましくは、２〜３程度である。
多層膜は、例えば、単層膜の積層数がそれぞれ異なる複数の部分を有してよい。この場合、多層膜は、積層数に応じて、部分毎に異なる複数の透過率を有する。
【００１２】
（構成５）多層膜を構成する各単層膜は、それぞれ単独して、透明体上の多層膜が形成されていない領域にも形成されている。
このように構成すれば、単層膜の透過率を適切に測定できる。また、測定された単層膜の透過率に基づき、多層膜の透過率を適切に算出できる。
【００１３】
（構成６）多層膜を構成する各単層膜の透過率は、１％〜２０％とする。
このように構成すれば、多層膜を構成する各単層膜は、位相シフト量測定装置で測定可能な透過率をそれぞれ有することになる。
位相シフト量測定装置によれば、例えば、１〜２０％程度の透過率を有する透過率を、透明体との比較により適切に測定できる。そのため、多層膜を構成する単層膜をそれぞれ別途形成しておけば、これらの単層膜の透過率を適切に測定し、多層膜の透過率を算出できる。
また、位相シフト量測定装置については、例えば波長１９３ｎｍの光についてのレーザーテック社製ＭＰＭ１９３（登録商標）のような、事実上の業界標準として用いられている測定器がある。そのため、このような位相シフト量測定装置を用いることにより、較正用標準試料の多層膜の透過率を、広く用いられている装置の測定値と対応づけることができる。また、これにより、較正用標準試料としての適正をより高めることができる。
【００１４】
（構成７）２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料の製造方法であって、測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に、該透明体との比較により測定可能な透過率を有する薄膜を積層させた多層膜と、多層膜が形成されていない領域に多層膜を構成する薄膜をそれぞれ単独で形成した複数の単層膜とを形成する成膜工程と、複数の単層膜それぞれの透過率を、透明体との比較により測定する単層膜透過率測定工程と、それぞれの単層膜について測定された透過率に基づき、多層膜の透過率を算出する多層膜透過率算出工程と、を有する。このようにすれば、構成４と同様の効果を得ることができる。
尚、多層膜は、例えば、単層膜の積層数がそれぞれ異なる複数の部分を有してよい。この場合、多層膜は、積層数に応じて、部分毎に異なる複数の透過率を有する。
【００１５】
（構成８）複数の単層膜それぞれの透過率を、位相シフト量測定装置で測定する。このようにすれば、構成６と同様の効果を得ることができる。
【００１６】
（構成９）２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を、上記構成１乃至６の何れかの較正用標準試料を用いて較正する。
このように構成すれば、マスクブランクのような光リソグラフィーに利用される部材における２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を、分光光度計により適切に保証することができる。
【００１７】
（構成１０）透光性基板の表面上に遮光膜が形成されたマスクブランクであって、遮光膜が形成されていない表面上に、遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための、透光性基板との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域をもつように較正用薄膜が形成が形成されている。このように構成すれば、マスクブランクの製造者や、マスクブランクの使用者は、分光光度計の較正用標準試料を別途用意することなく、遮光膜の透過率を確認することができる。
【００１８】
（構成１１）透光性基板の表面上に遮光膜が形成されたマスクブランクであって、遮光膜が形成されていない表面上に、遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための、透光性基板との比較により測定可能な透過率を有する単層膜を積層させた多層膜が形成されている。このように構成すれば、マスクブランクの製造者や、マスクブランクの使用者は、分光光度計の較正用標準試料を別途用意することなく、遮光膜の透過率を確認することができる。
尚、多層膜は、例えば、単層膜の積層数がそれぞれ異なる複数の部分を有してよい。この場合、多層膜は、積層数に応じて、部分毎に異なる複数の透過率を有する。
【００１９】
（構成１２）多層膜を構成する各単層膜は、それぞれ独立して、透光性基板上の多層膜が形成されていない表面上にも形成されている。このように構成すれば、単層膜の透過率を適切に測定できる。また、測定された単層膜の透過率に基づき、多層膜の透過率を適切に算出できる。
【００２０】
（構成１３）遮光膜は単層膜を含む複数の層で構成されている。このように構成すれば、別途多層膜を形成するための材料を用意する必要がない。また、遮光膜を形成する過程で、多層膜を形成することができる。
【００２１】
（構成１４）透光性基板の表面上に所定の透過率を有する遮光膜が形成されたマスクブランクを製造するマスクブランクの製造方法であって、遮光膜を透光性基板上に形成した後、構成１乃至６の何れかに記載の較正用標準試料を用いて較正された分光光度計により遮光膜の透過率を測定し、測定された透過率が、仕様に合うか否かを検査する検査工程を有する。このように構成すれば、透過率が適切に保証されたマスクブランクを提供することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、例えば、マスクブランクの遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための適切な較正用標準試料を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る較正用標準試料３０を用いた分光光度計１０の構成の一例を示す。較正用標準試料３０は、透過率が既知の多層膜３４を透光性基板３２上に有する基準プレートであり、分光光度計１０の装置較正に用いられる。較正用標準試料３０は、例えば、透過率の基準を定めるための対照試料として用いられる。
【００２４】
本例において、較正用標準試料３０は、ＡｒＦエキシマレーザ露光波長（波長１９３ｎｍ）の光の透過率について分光光度計の較正に用いられる。較正用標準試料３０の多層膜３４は、マスクブランク２０の遮光膜２４と同程度の透過率を有しており、遮光膜２４の透過率を測定するための測定条件の較正に用いられる。尚、マスクブランク２０は、バイナリマスク用のマスクブランクであり、透光性基板２２上に遮光膜２４を有している。遮光膜２４は、例えば、クロム（Ｃｒ）膜やクロムの窒化膜、クロムの炭化膜、クロムの酸化膜、それらの複合膜からなる積層膜等である。
【００２５】
分光光度計１０は、光源４０及び光検出器５０を有する。本例において、光源４０は、重水素（Ｄ２）ランプからの光を分光して得られた中心波長が１９３ｎｍの光を発生する。また、光検出器５０は、較正用標準試料３０及びマスクブランク２０の透過光の強度を検出する検出器である。較正時において、光検出器５０は、較正用標準試料３０の多層膜３４の透過光強度を検出する。また、測定時において、光検出器５０は、マスクブランク２０の遮光膜２４の透過光強度を検出する。このように構成すれば、多層膜３４の透過率の測定値に基づき、分光光度計１０を適切に較正できる。また、較正された測定条件によ
り、マスクブランク２０の遮光膜２４の透過率を適切に測定できる。
【００２６】
また、この測定により、マスクブランク２０の遮光膜２４について、例えば、分光光度計１０により測定した場合の透過率を保証できる。このようにすれば、マスクブランクの品質を適切に保証できる。また、透過率が保証されたマスクブランク２０を提供できる。
【００２７】
尚、同様の方法により、透光性基板２２と遮光膜２４の間にハーフトーン膜を更に有するハーフトーンマスク用のマスクブランクの透過率を保証してもよい。この場合、例えば遮光膜単独での透過率を保証してもよく、遮光膜及びハーフトーン膜の両方を合わせた透過率を保証してもよい。
【００２８】
図２は、較正用標準試料３０の構成の第１の例を詳細に示す。本例において、較正用標準試料３０は、透光性基板３２、多層膜３４、及び複数の単層膜３６を有する。図示された複数の単層膜３６は、透光性基板３２の表面に個々に分散して配置されている。透光性基板３２は、分光光度計１０（図１参照）の測定対象の波長である１９３ｎｍの光に対して透明な基板である。多層膜３４は、複数の層（単層膜）１０２、１０４、１０６、１０８が積層された膜であり、透光性基板３２の主表面の一部に形成されている。ここで、単層膜３６は、基準透過率膜としての機能を持ち、他方、多層膜３４は、測定対象膜としての機能を有している。
【００２９】
本例において、多層膜３４の各層１０２、１０４、１０６、１０８は、窒化されたモリブデン及びシリコンからなる膜（ＭｏＳｉＮ膜）である。このＭｏＳｉＮ膜は、波長１９３ｎｍ向けハーフトーン型位相シフトマスク用マスクブランクに用いられるハーフトーン膜と同一又は同様の膜である。また、多層膜３４は、１層１０２のみから成る部分、２層１０２、１０４のみから成る部分、３層１０２、１０４、１０６のみから成る部分をそれぞれ有している。尚、各層１０２、１０４、１０６、１０８は、それぞれ異なる材質の膜であってもよい。これらの層の一部又は全部は、上述の材料に限定されない。例えば、酸化された金属及びシリコンからなる膜、酸化窒化された金属及びシリコンからなる膜、酸化窒化炭化された金属及びシリコンからなる膜であってもよい。この場合における上記金属は、モリブデン、タングステン、タンタル、チタン、クロムを用いることができる。また、クロムやクロムの酸化物、窒化物、炭化物や、それらを含むクロム化合物の膜であってもよい。
【００３０】
複数の単層膜３６は、多層膜３４の各層をそれぞれ単独で形成した膜であり、透光性基板３２の主表面における多層膜３４が形成されていない領域に形成されている。本例において、較正用標準試料３０には、４つの単層膜３６が形成されている。４つの単層膜３６のそれぞれは、多層膜３４の各層と同じ層１０２、１０４、１０６、１０８によりそれぞれ形成されている。そのため、単層膜３６は、波長１９３ｎｍ向けのハーフトーン膜と同一又は同様の膜であり、６％程度（例えば１〜２０、好ましくは２〜１５％）の透過率を有している。
【００３１】
尚、６％程度の透過率は、透明体との比較により、例えば位相シフト量測定装置を用いて測定可能である。透明体とは、例えば、単層膜３６と比べて十分に大きな透過率を有する物体である。本例においては、例えば、透光性基板３２において多層膜３４及び単層膜３６のいずれも形成されていない透明部分３８を透明体として用いることができる。
【００３２】
以下、較正用標準試料３０の製造方法について説明する。本例において、較正用標準試料３０の製造方法は、成膜工程、単層膜透過率測定工程、及び多層膜透過率算出工程を備える。
【００３３】
成膜工程は、複数の層１０２、１０４、１０６、１０８を順次形成する工程であり、フォトリソグラフィー技術等により各層を適宜パターニングする方法や、形成したくない領域を遮蔽すること等により、多層膜３４と、複数の単層膜３６とを形成する。このパターニングすることにより多層膜３４、複数の単層膜３６を形成する場合は、各層１０２、１０４、１０６、１０８の透過率に影響を与えないよう、層表面にダメージを与えないように行うのが好ましい。
【００３４】
単層膜透過率測定工程は、複数の単層膜３６のそれぞれの透過率を測定する工程である。単層膜透過率測定工程は、例えば、透過率の比較対象の透明体として透光性基板３２の主表面における透明部分３８を用い、例えば位相シフト量測定装置により、この測定を行う。このようにすれば、各単層膜３６の透過率を、適切に測定できる。
【００３５】
多層膜透過率算出工程は、それぞれの単層膜３６について測定された透過率に基づき、多層膜３４の透過率を算出する工程である。本例において、多層膜透過率算出工程は、多層膜３４における各層１０２、１０４、１０６、１０８のそれぞれに対応する単層膜３６の透過率を乗じることにより、多層膜３４の透過率を算出する。これにより、多層膜３４の透過率が既知となるため、較正用標準試料３０により分光光度計１０を較正できることとなる。
【００３６】
このように、本例によれば、例えば光学濃度で１．８〜５と極めて低い透過率を測定する場合に用いる較正用標準試料３０を提供できる。本例の較正用標準試料３０を用いた較正を行えば、分光光度計１０の測定範囲は、マスクブランクの遮光膜の製品保証に必要な透過率範囲を十分にカバーできる。そのため、国際基準の較正用標準試料がない１９３ｎｍにおいても、マスクブランクの遮光膜について、適切な透過率保証を行うことができる。
【００３７】
尚、単層膜３６は、例えば多層膜３４とは別の透光性基板上に形成されていてもよい。この場合も、多層膜３４の各層と、対応する単層膜３６とを同時に成膜すれば、単層膜３６の透過率を測定することにより多層膜３４の透過率を算出できる。そのため、このように構成した場合も、極めて低い透過率を測定する場合に用いる較正用標準試料３０を提供できる。
【００３８】
図３は、較正用標準試料３０の実施例１〜３における多層膜３４の透過率を示す。本実施例において、多層膜３４の各層１０２、１０４、１０６、１０８、及び単層膜３６は、波長１９３ｎｍ向けのハーフトーン膜と同一のＭｏＳｉＮ膜である。また、単層膜３６の透過率測定は、ハーフトーン膜の透過率測定等に広く用いられているレーザーテック社製ＭＰＭ１９３（登録商標）により行った。
【００３９】
図３（ａ）は、位相シフト量測定装置にて測定して得られた透過率から算出した光学濃度の計算値、及び分光光度計により測定した光学濃度の測定値を示す。この計算値は、多層膜３４における積層数１〜４の各部の透過率を位相シフト量測定装置（レーザーテック社製ＭＰＭ１９３）によって測定し、測定された各単層膜３６の透過率を乗じて算出した光学濃度の値である。尚、多層膜３４における積層数１の部分とは、１層１０２のみから成る部分である。また、積層数２、３の部分とは、２層１０２、１０４のみから成る部分、及び３層１０２、１０４、１０６のみからなる部分である。積層数４の部分とは、すべての層１０２、１０４、１０６、１０８が重なっている部分である。また、光学濃度の測定値は、実施例１〜３と同様に製造された較正用標準試料３０を用いて分光光度計１０（日立ハイテクノロジーズ社製：Ｕ４１００）により測定した積層数１〜４の各部の透過率である。
【００４０】
図３（ｂ）は、位相シフト量測定装置にて測定して得られた透過率から算出した光学濃度の計算値、及び分光光度計により測定した光学濃度の測定値を示すグラフである。最小二乗近似直線は、ｙ＝０．８５０３ｘ＋０．１５６４、Ｒ２＝０．９８７６となり、積層数１〜４いずれの部分についても、計算値と測定値とがよく一致していることがわかる。これにより、単層膜３６の透過率の測定値に基づいて多層膜３４の透過率を高い精度で算出できることが確認できた。尚、積層数１〜３までの計算値及び測定値についての最小二乗近似直線（図示せず）は、ｙ＝０．８７０９ｘ＋０．１１４３、Ｒ２＝０．９９９８となり、多層膜３４の透過率が更に高い精度で算出されていることが確認できる。
【００４１】
図４は、較正用標準試料３０の構成の第２の例を示す上面図である。尚、以下に説明する点を除き、図１〜３における構成と同じ符号を付した構成は、図１〜３における構成と同一又は同様である。本例において、多層膜３４及び単層膜３６は、透光性基板３２の主表面中央部の略正方形領域に並べて配置される。
【００４２】
この略正方形領域は縦横に９分割されており、四隅の４領域に、層１０２、１０４、１０６、１０８の単層膜３６がそれぞれ形成されている。また、２個の単層膜３６に挟まれた領域には、層１０２の単層膜と、積層数２〜４の多層膜が形成されている。積層数２の多層膜は、２層１０２、１０４のみから成る多層膜である。積層数３の多層膜は、３層１０２、１０４、１０６のみから成る多層膜である。また、積層数４の多層膜は、４層１０２、１０４、１０６、１０８から成る多層膜３４である。
【００４３】
また、略正方形領域の中央には、透光性基板３２の主表面が露出した透明部分３８が残される。この透明部分３８は、単層膜３６の透過率を測定する場合に透過率の基準として用いられる。このように構成した場合も、較正用標準試料３０を適切に形成することができる。
【００４４】
尚、上述の例では、較正用標準試料３０として、透光性基板３２、多層膜３４、及び複数の単層膜３６を有する構成を挙げて説明したがこれに限られない。多層膜３４の代わりに、成膜時間を異ならせることによって複数箇所で膜厚が違うことによる複数の異なる透過率を有する領域をもつようにしてもかまわない。その場合、複数箇所で膜厚が異なる領域における最小単位膜厚の透過率を測定し、その透過率測定結果に基づいて、最小単位膜厚の成膜時間と、その他の膜厚が異なる領域における成膜時間から、透過率が異なる複数箇所の透過率を算出しても良い。具体的には、最小単位膜厚を基準としたときに、複数箇所の領域における膜厚は、基準膜厚、基準膜厚の２倍、３倍、…となるように設定すると良い。
【００４５】
また、上記単層膜の透過率や、上記最小単位膜厚の透過率は、位相シフト量測定装置や、分光光度計の測定精度に応じて設定すると良い。単層膜や最小単位膜厚の透過率の下限値は、位相シフト量測定装置の測定精度以上の透過率であって、且つ、上記単層膜を２層以上積層した多層膜や、上記最小単位膜厚を数倍（１より大）以上膜厚が厚い領域における透過率が、分光光度計の測定精度が維持できるように設定するのが良い。具体的には、位相シフト量測定装置における透過率の測定が１％まで精度良く測定でき、また、分光光度計における光学濃度の測定が４まで精度良く測定できる場合、上記単層膜の透過率や、最小単位膜厚の透過率は１％以上とすることが望ましい。
【００４６】
図５は、マスクブランク２０の構成の一例を示す図である。尚、以下に説明する点を除き、図１〜３又は図４における構成と同じ符号を付した構成は、図１〜３又は図４における構成と同一又は同様である。
【００４７】
本例において、マスクブランク２０は、透光性基板２２、遮光膜２４、及び多層膜３４を有する。マスクブランク２０は、多層膜３４の各層に対応する単層膜を更に有してもよい。遮光膜２４は、透光性基板２２の主表面において、周縁部を除いた領域に形成される。また、多層膜３４は、透光性基板２２の主表面において、遮光膜２４が形成されていない周縁部の領域に形成される。このように構成すれば、マスクブランク２０の透過率を測定する分光光度計を較正する較正用標準試料を別途用意する必要がない。
【００４８】
（実施例）
精密研磨された主表面を有する透光性基板上に、クロムの窒化膜、クロムの炭化膜、クロムの酸化窒化膜をこの順に、スパッタリング法により積層して遮光膜を形成し、ＡｒＦエキシマレーザー露光用のフォトマスクブランクを作製した。
得られたフォトマスクブランクにおける遮光膜を、上記図２の第１の例に示した較正用標準試料を用いて較正した分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製：Ｕ４１００）を用いて、上記遮光膜の透過率を測定したところ、光学濃度で３．３であった。この値は、波長１９３ｎｍにおける光学特性（透過率や位相シフト量）の測定として、マスクブランク業界標準で用いられている位相シフト量測定装置（レーザーテック社製：ＭＰＭ１９３）と対応づけられた値であり、このマスクブランクを用いて作製されたマスクの遮光膜における透過率を適切に保証することができた。
【００４９】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記の実施形態では、一枚の透光性基板上に、透光性基板との比較により測定可能な透過率を有する単層膜を積層させた多層膜や、膜厚が異なる複数の透過率を有する領域を形成した較正用標準試料を挙げて本発明を説明したが、複数の透光性基板に対して各々透過率が異なる薄膜（単層膜、該単層膜を積層した積層膜や、最小単位膜厚、該最小単位膜厚に対して数倍（１より大）以上膜厚が厚い薄膜）を形成したものを較正用標準試料とし、分光光度計を較正しても良い。
上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明は、例えば、分光光度計を較正するための較正用標準試料に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施形態に係る較正用標準試料３０を用いた分光光度計１０の構成の一例を示す図である。
【図２】較正用標準試料３０の詳細な構成の第１の例を示す図である。
【図３】較正用標準試料３０の実施例１〜３における多層膜３４の透過率を示す図である。  図３（ａ）は、位相シフト量測定装置にて測定して得られた透過率から算出した光学濃度の計算値、及び分光光度計により測定した光学濃度の測定値を示す。  図３（ｂ）は、位相シフト量測定装置にて測定して得られた透過率から算出した光学濃度の計算値、及び分光光度計により測定した光学濃度の測定値を示すグラフである。
【図４】較正用標準試料３０の構成の第２の例を示す図である。
【図５】マスクブランク２０の構成の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０・・・分光光度計、２０・・・マスクブランク、２２・・・透光性基板、２４・・・遮光膜、３０・・・較正用標準試料、３２・・・透光性基板、３４・・・多層膜、３６・・・単層膜、３８・・・透明部分、４０・・・光源、５０・・・光検出器、１０２・・・層、１０４・・・層、１０６・・・層、１０８・・・層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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