(57)【要約】【課題】  ８００−９８０nm付近に吸収極大を有し、耐熱性、耐湿熱性等に優れ、かつ溶媒に対する溶解性の高い近赤外線吸収色素、およびそれを用いた近赤外線吸収フィルターを提供する。【解決手段】  下記一般式（１）2006215395.tif 000060（式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して１価の有機基を示す。Ｘ1及びＸ2は、それぞれ独立して−Ｘ（−Ｒ）(n-1)（Ｘは酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子を示す。Rは一価の有機基を示し、複数あるＲは同じでも異なっていても良い。nはＸの価数を示す。）で表される置換基を示す。Ｒ1とＸ1及びＲ2とＸ1は、それぞれ独立して、連結基を介して環を形成していても良い。Ｍ1は金属原子を示す。）で表される化合物を含む近赤外線吸収フィルター。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2006215395.tif 000048
（式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して水素原子または１価の有機基を示す。Ｘ1及び
Ｘ2は、それぞれ独立して−Ｘ（−Ｒ）(n-1)（Ｘは酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子またはハロゲン原子を示す。Rは水素原子または一価の有機基を示し、複数あるＲは同じでも異なっていても良い。nはＸの価数を示す。）で表される置換基を示す。Ｒ1とＸ1及びＲ2とＸ1は、それぞれ独立して、連結基を介して環を形成していても良い。Ｍ1は金属原子を示す。）で表される化合物を含有することを特徴とする近赤外線吸収フィルター。
【請求項２】
下記一般式（２）、
【化２】
2006215395.tif 000049
（式中、Ａ及びＡ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良い複素環基を示し、Ｒ5及び
Ｒ6は、それぞれ独立して、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有し
ていても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基、または、水素原子を示す。）ここで、Ｒ5とＲ6は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。あるいは、式（２）にＸＲＲ’Ｒ’’Ｒ’’’ Ｒ’’’’が配位して塩型をとっても良い。
ここで、Ｘは、１５族を表し、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。Ｍ2は金属原子を示す。）で表される化合物、下記一般（３）
【化３】
2006215395.tif 000050
（式中、Ｂ及びＢ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基又は置換基を有していても良い複素環基を示し、Ｒ7及び
Ｒ8は、それぞれ独立して、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有し
ていても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基、または、水素原子を示す。）ここで、Ｒ7とＲ8は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。あるいは、式（３）にＸＲＲ’Ｒ’’Ｒ’’’ Ｒ’’’’が配位して塩型をとっても良い。
ここで、Ｘは、１５族を表し、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。Ｍ3は金属原子を示す。）で表される化合物、下記一般（４）
【化４】
2006215395.tif 000051
（式中、Ｃ及びＣ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良い複素環基を示し、Ｒ3及びＲ4及びＲ9及びＲ10は、それぞれ独立して、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基、または、水素原子を示す。）ここで、Ｒ3とＲ4及びＲ9とＲ10は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。あるいは、式（４）にＸＲＲ’Ｒ’’Ｒ’’’ Ｒ’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Ｘは、１５族を表し、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。Ｍ4は金属原子を示す。）で表される化合物、下記一般式（５）
【化５】
2006215395.tif 000052
（式中、Ｄ及びＤ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基を示す。）あるいは、式（５）にＸＲＲ’Ｒ’’Ｒ’’’ Ｒ’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Ｘは、１５族を表し、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。Ｍ5は金属原子を示す。）で表される化合物、下記一般式（６）
【化６】
2006215395.tif 000053
（式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基又は置換されていても良い複素環基を示す。ここで、Ｒ11〜Ｒ14は隣り合う２個の置換基が連結基を介してつながっていてもよい。あるいは、式（６）にＸＲＲ’Ｒ’’Ｒ’’’ Ｒ’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Ｘは、１５族を表し、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。Ｍ6は金属原子を示す）で表される化合物及び下記一般式（７）
【化７】
2006215395.tif 000054
（式中、Ｅ及びＥ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。）あるいは、式（７）にＸＲＲ’Ｒ’’Ｒ’’’ Ｒ’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Ｘは、１５族を表し、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。Ｍ7は金属原子を示す。）で表される化合物、下記一般式（８）
【化８】
2006215395.tif 000055
（式中、Ｆ及びＦ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。）あるいは、式（８）にＸＲＲ’Ｒ’’Ｒ’’’ Ｒ’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Ｘは、１５族を表し、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。Ｍ8は金属原子を示す。）で表される化合物、下記一般式（９）
【化９】
2006215395.tif 000056
（式中、Ｒ15〜Ｒ30は、それぞれ独立して、任意の置換基を示し、隣り合う２つの置換基が連結基を介して環を形成しても良い。Ｍ9は水素原子又は金属原子（ここで、該金属原子は、金属酸化物、金属ハロゲン化物又は金属カルボニル化合物となっていてもよく、若しくは、酸と塩を形成していても良い。）を示す。）で表される化合物、下記一般式（１０）
【化１０】
2006215395.tif 000057
（式中、Ｒ31〜Ｒ34は、それぞれ独立して、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基又は置換されていても良い複素環基を示し、ここで、Ｒ31〜Ｒ34が、必要に応じて連結基を介しながら、一体となって環を形成していても良い。Ｍ10は金属原子示す。あるいは、式（１０）にＸＲＲ’Ｒ’’Ｒ’’’ Ｒ’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Ｘは、１５族を表し、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。Ｍ6は金属原子を示す）で表される化合物、および、下記一般式（１１）
【化１１】
2006215395.tif 000058
（式中、Ｒ35〜Ｒ42は、各々独立して、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアリール基又は置換基を有しても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ35〜Ｒ42は、隣り合う２個の置換基が連結基を介してつながっていても良い。Ｙ-は、陰イオンを示す。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物のうち１種類以上を、更に含有することを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルター。
【請求項３】
さらに紫外線カット層を有することを特徴とする請求項１または２に記載の近赤外線吸収フィルター。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルターを用いた電子ディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
下記一般式（１）
【化１２】
2006215395.tif 000059
（式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して１価の有機基を示す。Ｘ1及びＸ2は、それぞれ独立して−Ｘ（−Ｒ）(n-1)（Ｘは酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子またはハロゲン原子を示す。Rは水素原子または一価の有機基を示し、複数あるＲは同じでも異なっていても良い。nはＸの価数を示す。）で表される置換基を示す。Ｒ1とＸ1及びＲ2とＸ1は、それぞれ独立して、連結基を介して環を形成していても良い。Ｍ1は金属原子を示す。）で表される化合物。
【請求項６】
請求項５に記載の化合物からなる近赤外線吸収色素。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は近赤外線吸収フィルター、特に可視光線領域の透過率が高く、近赤外線を有効に遮断する近赤外線吸収フィルターに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、近赤外線吸収色素を含有した樹脂からなるプラスチック性近赤外線吸収フィルターはよく知られており、その用途としては、サングラス、溶接用眼鏡、ビルや自動車、電車、飛行機の窓、あるいは情報読み取りのための光学読み取り装置等が挙げられる。
また、最近では、大型薄型の壁掛けテレビとして注目されているプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）が、近赤外線を発生して、コードレスホン、近赤外線リモコンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用し誤動作を起こすことから、ＰＤＰ用フィルターとしても８００ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線を吸収する赤外線吸収色素を含有したフィルターの要求がある。
【０００３】
こうした近赤外線吸収フィルターに用いる近赤外線吸収色素として、８００−９８０nm付近に吸収極大を有するジチオール金属錯体化合物が知られている（特許文献１、特許文献２）。
【特許文献１】特開２００２−１３２１７６号公報
【特許文献２】特開昭６４−６９６８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、本発明者らが特許文献１に記載の近赤外線吸収色素を用いて近赤外線吸収フィルターを製造したところ、溶媒に対する溶解性が低いため、近赤外線吸収色素を含む塗工液の色素濃度を上げられないという問題があった。また、特許文献２に記載の近赤外線吸収色素は、耐熱性、耐湿熱性が悪いという問題があった。
そこで、本発明においては、目的とする８００−９８０nm付近に吸収極大を有し、耐熱性、耐湿熱性等に優れ、かつ、溶媒に対する溶解性の高い近赤外線吸収色素、およびそれを用いた近赤外線吸収フィルター、特には電子ディスプレイ用近赤外線吸収フィルターを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、ジチオレート金属錯体において、特定の部位にヘテロ原子を有する置換基を導入することで、吸収極大を８００−９８０nm付近に有し、溶媒に対する溶解度が高く、耐熱性および耐湿熱性が優れ、かつ可視領域の副吸収を抑えた近赤外線吸収色素を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の要旨は下記一般式（１）
【０００６】
【化１】
2006215395.tif 000002
【０００７】
（式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して１価の有機基を示す。Ｘ1及びＸ2は、それぞれ独立して−Ｘ（−Ｒ）(n-1)（Ｘは酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子またはハロゲン原子を示す。Rは水素原子または一価の有機基を示し、複数あるＲは同じでも異なっていても良い。nはＸの価数を示す。）で表される置換基を示す。Ｒ1とＸ1及びＲ2とＸ1は、それぞれ独立して、連結基を介して環を形成していても良い。Ｍ1は金属原子を示す。）で表される化合物を含有する近赤外線吸収フィルターに存する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、近赤外線吸収色素の溶解性が高く、耐光性、耐熱性等に優れ、かつ、可視領域の副吸収を抑えた近赤外線吸収フィルターが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらに限定されるものではない。
１．一般式（１）で表される化合物
前記一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して水素原子または１価の有機基である。一価の有機基は、ジチオール環に結合する原子がヘテロ原子ではなく、金属錯体の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良い複素環基が挙げられる。
【００１０】
上記脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基；２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２，４−ペンタジエニル基等のアルケニル基；エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下の分岐鎖１級又は２級又は３級アルキル基である。
【００１１】
上記アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、フェナンスレニル基、アズレニル基、メタロセン環基などが挙げられる。このうち好ましくは炭素数１２以下の単環又は縮合２環式アリール基である。
上記複素環基としては、チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドールイル基、キノキサリニル基、アクリジニル基、チアゾリル基、ピラジニル基などがあげられる。このうち好ましくは、炭素数１２以下の単環又は２環式５員環複素環基である。
【００１２】
該Ｒ1及びＲ2の脂肪族炭化水素基及びアリール基及び複素環基の置換基としては、金属錯体の安定性に悪影響を与えない基であれば、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などからなる群より選択された基が挙げられる。これらの置換基として具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数１〜６程度のアルキル基；エチニル基、プロピレニル基などの炭素数１〜６程度のアルケニル基；アセチレニル基など炭素数１〜６程度のアルキニル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜２０程度のアリール基；チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリール基；エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基；フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜２０程度のアリールオキシ基；ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数１〜６程度のアルキルチオ基；フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数６〜２０程度のアリールチオ基；ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールチオ基；ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数１〜２０程度の置換基を有していても良いアミノ基；アセチル基、ピバロイル基などの炭素数２〜２０程度のアシル基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数２〜２０程度のアシルアミノ基；３−メチルウレイド基などの炭素数２〜２０程度のウレイド基；メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数１〜２０程度のスルホンアミド基；ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数１〜２０程度のカルバモイル基；エチルスルファモイル基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイル基；ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数１〜２０程度のスルファモイルアミノ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数２〜６程度のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数７〜２０程度のアリールオキシカルボニル基；ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数６〜２０程度のヘテロアリールオキシカルボニル基；メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数１〜６程度のアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数６〜２０程度のアリールスルホニル基；チエニルスルホニル基などの炭素数３〜２０程度のヘテロアリールオキシスルホニル基；フタルイミドなどの炭素数４〜２０程度のイミド���；又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で３置換されているシリル基が挙げられる。
【００１３】
上記Ｒ1及びＲ2の中でも好ましくヘテロ環を含まない置換基を有していても良いアルキル基、又は、単環式アリール基、又は、単環式へテロアリール基であり、特に好ましくは分岐鎖のアルキル基、又は、単環式アリール基である。
上記Ｘ1及びＸ2は、それぞれ独立して、−Ｘ（−Ｒ）(n-1)（Ｘは酸素原子、窒素原子
、硫黄原子、ケイ素原子またはハロゲン原子を示す。Ｒは水素原子または一価の有機基を示し、複数あるＲは同じでも異なっていても良い。ｎはＸの価数を示す。）で表される置換基を示す。
【００１４】
Ｘとしては、硫黄原子およびケイ素原子が好ましく、硫黄原子がより好ましい。
Ｒの一価の有機基としては、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有していても良いアリール基、又は置換基を有していても良い複素環基である。
上記脂肪族炭化水素基及びアリール基及び複素環基としては、Ｒ1及びＲ2で述べたものと同様のものがあげられる。
【００１５】
該脂肪族炭化水素基及びアリール基及び複素環基の置換基としては、金属錯体の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、Ｒ1及びＲ2で述べたものと同様のものがあげられる。
また、上記Ｘ1及びＸ2が置換基を有していても良い窒素原子又は酸素原子又は硫黄原子の場合、Ｘ1とＲ1及びＸ2とＲ2は、一体となって−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ２−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｍｅ）−
ＣＨ2−等の置換されていても良いアルキレン基；−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ
−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−等の置換されていても良いアルケニレン基；−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−等の連結基を含有するアルキレン基等を形成していても良い。基本骨格の具体的構造としては、例えば、以下のものがあげられる。（ここでＲは、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基又は置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いスルホニル基を示し、好ましい例は、Ｒ1及びＲ2のところで述べたものと同様のものがあげられる。）
【００１６】
【化２】
2006215395.tif 000003
【００１７】
（ここでＲは、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基又は置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いスルホニル基を示し、好ましい例は、Ｒ1及
びＲ2のところで述べたものと同様のものがあげられる。）
−Ｘ（−Ｒ）(n-1)で表される置換基の中でも、Ｒが芳香族炭化水素基であって、Ｘが
硫黄の場合、耐熱性、耐湿熱性および耐光性、特に耐熱性および耐湿熱性がいずれも良好であるため好ましい。
【００１８】
また、上記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2、Ｘ1及びＸ2、はそれぞれ同一でも異なっていても良いが、同一である方がより好ましい。
Ｍ1は、４配位の形態をとりうる金属原子であれば特に限定されないが、好ましくはＮ
ｉ、Ｐｄ又はＰｔの１０族金属原子；Ｃｏ；Ｆｅ；Ｃｕ；Ａｇ；又はＺｎが挙げられ、より好ましくは１０族金属原子であり、特に好ましくはＮｉ又はＰｄである。
【００１９】
本発明の近赤外線吸収フィルターに用いられる化合物の好ましい具体例としては、例えば、以下に例示されるものが挙げられる。ただし、以下の化合物に限定されるものではない。
【００２０】
【化３】
2006215395.tif 000004
【００２１】
【化４】
2006215395.tif 000005
【００２２】
【化５】
2006215395.tif 000006
【００２３】
【化６】
2006215395.tif 000007
【００２４】
【化７】
2006215395.tif 000008
【００２５】
以上のような本発明の近赤外線吸収フィルターに用いられる上記一般式（１）で表される化合物は、リガンド部分の分子量が通常１０００以下が好ましく、さらに好ましくは６００以下の化合物である。
また、上記一般式（１）で表される化合物のモル吸光係数は、通常５０００以上、好ましくは８０００以上の化合物である。
【００２６】
加えて、上記一般式（１）で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する２５℃における溶解度としては、通常０．０１重量％以上、好ましくは０．０５重量％以上、より好ましくは０．１重量％以上、更に好ましくは０．２重量％以上である。
また、通常２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、更に好ましくは３重量％以下、特に好ましくは２重量％以下である。特にトルエンに対する２５℃における溶解度が通常０．８重量％以上、好ましくは０．９重量％以上、より好ましくは１．０重量％以上といった溶解度を達成することができる。
メチルエチルケトンに対する２５℃における溶解度が通常０．１５重量％以上、好ましくは０．２重量％以上、より好ましくは０．３重量％以上、特に好ましくは０．４重量％以上といった溶解度を達成することができる。
そして、近赤外線吸収フィルターの項で詳述する通り、フィルターに近赤外線吸収色素として含まれる場合に、良好な耐熱性及び耐湿熱体を有するものである。
このような一般式（１）で表される化合物は、例えば、Mol. Cryst. Liq. Crst.(Lett), 56巻、249頁（１９８０年）記載の公知の方法で [1,3]−ジチオール−２−オン誘導体を得た後、求核性の低い塩基；例えば、リチウムヘキサメチルジシラジドまたはリチウムジイソプロピルアミドなどと作用させた後、各種求電子試薬との反応により目的前駆体を得る。これを例えば、Ｊ．Ｍａｔ．Ｃｈｅｍ．，１８６１頁（１９９４年）などの公知の方法に従い含金属化し、目的金属錯体を得る。また、その吸収極大波長が８００〜９８０ｎｍのものであり、近赤外線吸収色素として好適に使用できる。
【００２７】
本発明の化合物を製造する具体例としては例えば［１，３］−ジチオール−２−オン誘導体と１．５〜２倍当量の下記式（ａ）〜（ｄ）で表される化合物
ＲＳ−ＳＲＲ・・・式（ａ）
Ｒ’Ｎ−ＮＲ’Ｒ・・・式（ｂ）
ＲＯ−ＯＲ・・・式（ｃ）
ＲＲ’Ｒ’’ＳｉＣｌ・・・式（ｄ）
（式（ａ）〜（ｄ）中、ＲＲ’およびＲ’’はそれぞれ独立に、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基を示す。好ましい具体例は、先のＲ１、Ｒ２のそれと同じである。）
あるいはハロゲン分子を混合した無水ＴＨＦ溶液を−７８℃に冷却する。
ここで、溶媒である無水ＴＨＦ溶液量は、［１，３］−ジチオール−２−オン誘導体１ｍｍｏｌに対し、1〜１０ｍｌ程度が好ましい。
【００２８】
この反応溶液に、［１，３］−ジチオール−２−オン誘導体に対し１．０５〜１．２倍当量の１Ｍのリチウムヘキサメチルジシラジドヘキサン溶液、または、２Ｍのリチウムジイソプロピルアミドヘプタン・ＴＨＦ溶液を、５〜１０分程度で滴下する。
この混合溶液を2時間かけて徐々に０℃まで昇温させ、氷―飽和塩化アンモニウム水溶
液に注ぎ、酢酸エチルなどのエステル系溶媒（あるいは、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、あるいは、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒）で抽出したのち、減圧で溶媒を除去し、目的中間体を得る。
【００２９】
通常、この反応は、副生成物を生成しないので、そのまま、続くニッケル含金属化を行うことができるが、必要に応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製してもよい。
２．一般式（２）〜（１１）で表される近赤外線吸収化合物
本発明の近赤外線吸収フィルターには、さらに下記一般式（２）〜（１１）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を少なくとも１種類以上含有することにより、７５０〜１０５０ｎｍの範囲の近赤外線領域を幅広く吸収できるため、特に電子ディスプレイ用フィルターに用いる場合には好ましい。
【００３０】
【化８】
2006215395.tif 000009
【００３１】
【化９】
2006215395.tif 000010
【００３２】
前記一般式（２）において、Ａ及びＡ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ5とＲ6は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。Ｍ2
は、Ｍ1で記載したのと同様のものを用いることができる。
【００３３】
上記Ａ及びＡ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００３４】
上記Ａ及びＡ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００３５】
また、Ａ及びＡ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ
−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ5とＲ6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下の１級又は２級アルキル基、特に好ましくは炭素数１０以下の１級アルキル基である。
上記Ｒ5とＲ6のアルキル基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、特に好ましくは，無置換、ハロゲン原子（特に好ましくはフッ素原子）、シアノ基、アルコキシ基及びアリール基である。
上記Ｒ5とＲ6のアリール基及びヘテロアリール基としてはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等の５員又は６員単環若しくはそれらの縮合環が挙げられる。このうち好ましくは、置換基を有していても良いアリール基、より好ましくは、置換基を有していても良いフェニル基である。
【００３６】
【化１０】
2006215395.tif 000011
【００３７】
さらに、置換基を有しても良いフェニル基のうち、特に好ましくは、上記Ｒ5及びＲ6が結合している窒素原子と結合する炭素原子に隣接する炭素原子が、置換基Ｒ43及びＲ44を有する場合である。Ｒ43及びＲ44は、１価の置換基を示す。上記Ｒ43及びＲ44としては、色素の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、より好ましくは、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基、置換基を有しても良いアリールオキシ基、置換基を有しても良い複素環基、置換基を有しても良い複素環オキシ基、置換されていても良いアルキルチオ基、置換されていても良いアリールチオ基及び置換されていても良い複素環チオ基からなる群より選ばれる置換基のように立体障害性の高い基であるか、または、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数sｍが０．００＜sｍ＜０．９０となるような電子吸引性基が挙げられる。
上記電子吸引性基としては、例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１６，１２０７（１９７３）やＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，２０，３０４（１９７７）に記載されているようなものが挙げられるが、より具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、ハロアリールスルホニル基等が挙げられる。
【００３８】
Ｒ5及びＲ6が芳香環の場合、芳香環上の置換基同士は、隣り合う２個の置換基が一体と
なって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形
成していても良い。
Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ'
、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置
換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ4の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
【００３９】
一般式（２）で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が上げられる。
【００４０】
【化１１】
2006215395.tif 000012
【００４１】
【化１２】
2006215395.tif 000013
【００４２】
【化１３】
2006215395.tif 000014
【００４３】
前記一般式（３）において、Ｂ及びＢ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ7及びＲ8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ7とＲ8は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。Ｍ3
は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００４４】
上記Ｂ及びＢ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００４５】
上記Ｂ及びＢ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００４６】
また、Ｂ及びＢ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ
−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ7及びＲ8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては、先のＲ5及
びＲ6のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげ
られる。上記Ｒ7及びＲ8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
Ｒ7及びＲ8は、直接、あるいは、連結基を介して互いに結ばれていても良いが、特に下図のような場合が好ましい。
【００４７】
【化１４】
2006215395.tif 000015
【００４８】
Ｒ45  〜Ｒ54として好ましい具体例としては、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などのアルキル基で置換されていても良い炭素数６〜１０のアリールオキシ基が挙げられる。Ｒ33  〜Ｒ41の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４
程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
【００４９】
このうち好ましくは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基等の電子吸引性基、もしくは、水素原子が挙げられ、Ｒ45  〜Ｒ54の中で、少なくともひとつは水素原子でないものである。さらにはＲ45  〜Ｒ54の少なくとも１つがフッ素原子、塩素原子またはシアノ基であり、残りは水素原子であるのが好ましい。
【００５０】
Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ'
、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置
換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
【００５１】
前記一般式（３）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００５２】
【化１５】
2006215395.tif 000016
【００５３】
【化１６】
2006215395.tif 000017
【００５４】
前記一般式（４）において、Ｃ及びＣ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いア
ルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、Ｒ3とＲ4、及び、Ｒ9とＲ10は、互いに直接的に又は連結基を
介して結ばれていても良い。Ｍ4は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００５５】
上記Ｃ及びＣ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
上記Ｃ及びＣ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００５６】
また、Ｃ及びＣ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ
−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては
、先のＲ1〜Ｒ2のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげられる。上記Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9及びＲ10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリ
ール基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
【００５７】
また、式（４）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００５８】
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
前記一般式（４）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００５９】
【化１７】
2006215395.tif 000018
【００６０】
前記一般式（５）において、Ｄ及びＤ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基を示す。
Ｍ5は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
上記Ｄ及びＤ’のアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基が挙げられる。より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００６１】
上記Ｄ及びＤ’のアリール基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
また、Ｄ及びＤ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−
等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
【００６２】
また、式（５）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００６３】
一般式（５）は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
一般式（５）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００６４】
【化１８】
2006215395.tif 000019
【００６５】
前記一般式（６）において、Ｒ11〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いアリール基、又は、置換されていてもよい複素環基であり、好ましくは、置換されていても良いアリール基又は置換されていてもよい脂肪族炭化水素基である。  Ｍ6は、上記Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
【００６６】
上記脂肪族炭化水素基、アリール基及び複素環基の置換基としては、上記Ｒ1〜Ｒ2で記載したのと同様の基が挙げられる。
また、上記Ｒ11〜Ｒ14のアリール基及びヘテロアリール基の置換基が、一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ
−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
【００６７】
また、式（６）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
一般式（６）は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
【００６８】
一般式（６）で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が挙げられる。
【００６９】
【化１９】
2006215395.tif 000020
【００７０】
前記一般式（７）において、Ｅ及びＥ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｍ7は、Ｍ1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
上記Ｅ及びＥ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
【００７１】
上記Ｅ及びＥ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００７２】
また、Ｅ及びＥ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ
−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
また、式（７）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００７３】
一般式（７）は、塩を形成しているものの方が塩を形成していないものより好ましい。
一般式（７）で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
【００７４】
【化２０】
2006215395.tif 000021
【００７５】
前記一般式（８）において、Ｆ及びＦ’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
Ｍ8は、Ｍ1で記載したのと同様のものを用いることができる。
上記Ｆ及びＦ’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは６員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基；又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
上記Ｆ及びＦ’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のＲ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１０のアリール基；ピリジル基、チエニル基等の炭素数４〜８のヘテロアリール基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
【００７６】
また、Ｆ及びＦ’上の隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ
−等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
また、式（８）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００７７】
一般式（８）は、塩を形成していないものの方が塩を形成しているものより好ましい。
【００７８】
【化２１】
2006215395.tif 000022
【００７９】
一般式（９）において、Ｒ15〜Ｒ30は、任意の置換基を表し、本発明の化合物の基本的性能を損なわない限り特に制限は無いが、例えば、Ｒ15〜Ｒ30の置換基としてあげたものと同様の基があげられる。
上記一般式（９）におけるＭ9は、フタロシアニン骨格と錯体を形成出来る元素であれ
ば、特に限定されないが、好ましくは銅原子、バナジウムオキシ基又は塩化スズ基が挙げられる。
【００８０】
上記一般式（９）で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平１０−７８５０９号公報、特開平１１−１１６８２６号公報、特開平１１−６５４６３号公報及び特開２０００−２６７４８号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、下記に記載したような含フッ素フタロシアニン系化合物が好ましい。
【００８１】
【化２２】
2006215395.tif 000023
【００８２】
【化２３】
2006215395.tif 000024
【００８３】
前記一般式（１０）において、Ｒ31とＲ32、及び、Ｒ33とＲ34は、それぞれ独立して、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基を示す。Ｍ10は、Ｍ1で記載したものと同様の金属を用いることができる。上記Ｒ31〜Ｒ34の脂肪族
炭化水素基、アリール基としては、Ｒ1〜Ｒ2であげたものと同様のものがあげられるが、より具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、２−エチルブチル基、イソプロピル基、２−ブチル基、シクロヘキシル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基；２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２，４−ペンタジエニル基等のアルケニル基；エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数１０以下の１級又は２級アルキル基である。上記アリール基としては、フェニル基又はナフチル基などが挙げられる。
【００８４】
該Ｒ31〜Ｒ34の脂肪族炭化水素基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ2であげたものと同様のものがあげられる。
また、上記Ｒ31とＲ32、及び、Ｒ33とＲ34が一体となって−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2
−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ２−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｍｅ）−ＣＨ2−等の置換されていても良いアルキレン基；−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−等の置換されていても良いアルケニレン基；−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−
ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−等の連結基を含有するアルキレン基等を形成していても良い
。
【００８５】
上記Ｒ31及びＲ32、Ｒ33及びＲ34として好ましくは無置換のアルキル基、または、置換基を有していても良いアルキル基、特に好ましくは無置換のアルキル基、ハロゲン原子（特に好ましくはフッ素原子）、シアノ基、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基を有していても良いアルキル基である。
また、式（１０）は、塩型を形成してもよく、Ｘは、１５族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、Ｒ1〜Ｒ2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ'、Ｒ'' 、Ｒ''' 、Ｒ''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基；トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基；フェニル基；ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
【００８６】
一般式（１０）は、塩を形成していないものの方が塩を形成しているものより好ましい。一般式（１０）で表される色素の好ましい具体例として、下記で表されるものがあげられる。
【００８７】
【化２４】
2006215395.tif 000025
【００８８】
【化２５】
2006215395.tif 000026
【００８９】
【化２６】
2006215395.tif 000027
【００９０】
【化２７】
2006215395.tif 000028
【００９１】
一般式（１１）において、Ｒ35〜Ｒ42は、それぞれ独立に置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアリール基又は置換基を有しても良いヘテロアリール基を示し、ここで、Ｒ35〜Ｒ42は隣り合う２つの置換基同士が連結基を介して結合で結ばれていても良い。Ｒ35〜Ｒ42の置換基として、具体的には、一般式（１）のＲ1及びＲ2の説明で述べたものと同様の基が選ばれる。
【００９２】
また、Ｒ35〜Ｒ42は隣り合う２個の置換基が一体となって、−（ＣＨ2）3−又は−（ＣＨ2）4−等の炭素数２〜５程度のアルキレン基、−ＯＣＨ2Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−
等の炭素数１〜４程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Ｘは陰イオンを示し、具体的には、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、過塩素酸アニオン、６フッ化アンチモン酸イオン、硝酸アニオン、ヘキサフルオロフォスフェイトアニオン、テトラフルオロボレートアニオンで表される１価の陰イオンを示す。
【００９３】
上記一般式（１１）で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平１０−１８０９２号公報、特開平１１−１７０７００号公報、特開２０００−８００７１号公報、特開２０００−８１５１１号公報及び特開２００１−１７４６２６号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、日本化薬社製「ｋａｙａｓｏｒｂ  ＩＲＧ０２２」及び「ｋａｙａｓｏｒｂ  ＩＲＧ０２３」として市販されているような色素、並びに、日本カーリット社製「ＣＩＲ１０８０」、「ＣＩＲ１０８１」、「ＣＩＲ１０８３」及び「ＣＩＲ１０８５」として市販されているような色素が好ましい。
【００９４】
ここで、上記一般式（２）〜（８）、（１０）で表される化合物は、リガンド部分の分子量が通常８００以下、好ましくは５００以下の物である。
また、上記一般式（２）〜（８）、（１０）で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常５０００以上、好ましくは８０００以上の物である。
一般式（９）に記載のフタロシアニン化合物としては、分子量９００〜３０００、好ましくは、１０００〜２５００のものである。
【００９５】
また、上記一般式（９）で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常５０００以上、好ましくは８０００以上の物である。
一般式（１１）に記載のジインモニウム化合物としては、分子量６００〜３０００、好ましくは、９００〜２１００のものである。
また、上記一般式（１１）で表される化合物のモル吸光係数は、通常７００００以上、好ましくは９００００以上の物である。
【００９６】
加えて、上記一般式（２）〜（１１）で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する溶解度としては、通常０．１％以上、好ましくは０．５％以上である。
尚、上記化合物（２）は、例えば、Russ. J. Gen. Chem., ６６巻、１８４２頁（１９
９６年）に記載の方法で合成でき、上記化合物（３）は、例えば、特開２００１−８９４９２号公報に記載の方法で合成でき、化合物（４）は  例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８８卷、５２０１頁（１９６６年）により合成でき、化合物（５）は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，  ８８卷、４３頁及び４８７０頁（１９６６年）に記載の方法で合成でき、化合物（６）は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８７卷、１４８３頁（１９６５年）に記載の方法で合成でき、化合物（７）及び化合物（８）は、例えば、特開２０００−２６７４８号公報に記載の方法でき、化合物（９）は、例えば、Ｔｈｅ  Ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ（２００３）に記載の方法で合成でき、化合物（１０）は、例えば、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，１８６１頁（１９９４）に記載の合成方法で合成でき、化合物（１１）は、例えば、特開昭６１−２４６３９１号公報に記載の方法で合成できる。
【００９７】
３．近赤外線吸収フィルター
本願の近赤外線吸収フィルターは、上記一般式（１）で表される化合物を用いることにより、８００〜９８０ｎｍ付近に極大吸収を有し、さらに、上記（２）〜（１１）で表される化合物と組み合わせて用いることにより、７５０〜１０５０ｎｍの波長域をカバーする近赤外線吸収フィルターを効率的に得ることができる。加えて、プラズマディスプレイパネルにおいては、８２０ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍ近辺の近赤外線発光が特に強いため、この部分の光線透過率が１５％以下とするのが好ましい。
【００９８】
また、可視光透過率が、特には４００〜４５０ｎｍにおける平均透過率が４５％以上であり、加えて、５５０〜６００ｎｍにおける透過率が６０％以上、好ましくは７０％以上であるため、車窓ガラスに用いた場合の景色の色再現性（明るさ）やディスプレイの画面の明るさ等を確保することもできるものである。
本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐熱性及び耐湿熱性も優れたものであり、８０℃の恒温槽での５００時間耐熱試験後、及び６０℃、湿度９０％の恒温槽での５００時間耐湿熱試験後に可視光領域に新たなピークが出ることもない。
【００９９】
本願フィルターとして好ましくは、上記耐熱試験及び耐湿熱試験での色素残存率が６０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは８５％以上、最も好ましくは９０％以上となるものである。ここで、色素残存率は、７５０〜１０５０ｎｍの領域における対象の色素の最大吸収波長（λmax）の、該試験前後の吸収
強度の減少度合から求める。
さらに、本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐光性富士フィルム（株）社製ＵＶカットフィルターを装着した状態でのキセノンランプによる２８０時間耐光性試験後の色素残存率も優れたものであり、色素残存率が通常７０％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上となるものである。
【０１００】
（フィルターの製造方法）
本発明の赤外線吸収フィルターの製造方法としては、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液をコーティングする方法、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂と溶融混錬してフィルム状に成形する方法などが挙られるが、近赤外線吸収色素に対する負荷を低減するため、塗工液をコーティングする方法の方が好ましい。
【０１０１】
以下に、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液を塗布して赤外線吸収フィルターを製造する方法について詳細に説明する。
（基板）
本発明の赤外線吸収フィルターを構成する透明基板としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない基材であればよく、特に制限はない。その具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が挙げられる。これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。
【０１０２】
これらの樹脂は、フェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を配合することができる。
透明基板は、これらの樹脂を、射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティングする方法などなどの成形方法を用い、フィルム状に成形したものが用いられる。フィルム状に成形された樹脂は延伸されていても未延伸でもよい。また、異なる材料からなるフィルムが積層されていても良い。
【０１０３】
透明基板の厚みは、目的に応じて通常１０μｍ〜５ｍｍの範囲から選択される。
更に、透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。
（近赤外線吸収色素層）
近赤外線吸収色素を含む塗工液は、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂とともに溶剤中に溶解又は分散させることにより、調製することができる。また、分散させる場合、近赤外線吸収色素を必要に応じて分散剤を用いて、粒径を通常０．１〜３μｍに微粒子化し、バインダーとともに、溶剤に分散させて調製することもできる。
【０１０４】
このとき溶剤に溶解又は分散される近赤外線吸収色素、分散剤、およびバインダー樹脂などの全固形分の濃度は、通常５〜５０重量％である。また、全固形分に対する金属錯体の濃度は、近赤吸収色素トータルとして通常０．１〜５０重量％、好ましくは０．２〜３０重量％である。また、一般式（１）で表される化合物の他に一般式（２）〜（１１）で表される化合物を併用する場合においては、同一層に併存させても良いし、別層として積層させても良いが、一般式（１）で表される化合物に対する一般式（２）〜（１１）で表される化合物の総量の比としては、１：０．１〜１：１０、好ましくは、１：０．２〜１：５である。
【０１０５】
尚、バインダー樹脂に対する近赤外線吸収剤の濃度としては、当然のことながら、近赤外線吸収フィルターの膜厚にも依存するため、溶融混練してフィルム状に成形するような場合には、上述の色濃度よりは低くなる。
分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、金属錯体化合物に対して、通常０〜１００重量％、好ましくは０〜７０重量％である。
【０１０６】
バインダーとしては、ポリメチルメタクレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。その使用量は、バインダーに対して金属錯体化合物が、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％である。
溶媒としては、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素等のアミド類、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という）、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類あるいはこれらの混合物を用いることができる。
【０１０７】
また、近赤外線吸収色素を含む塗工液には、必要に応じて、上記以外の近赤外線吸収剤を添加してもよい。他の近赤外線吸収剤としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、あるいは、無機物であるカーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期律表４Ａ、５Ａまたは６Ａ族に属する金属の酸化物、もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。
【０１０８】
金属錯体を含む塗工液の透明基材へのコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の公知の塗工方法で行われる。
金属錯体を含む層は、乾燥後の膜厚が、通常０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるように塗布される。
【０１０９】
（紫外線カット層）
本発明の赤外線吸収フィルターは、さらに紫外線カット層を設けることにより、金属錯体との相乗効果によって、赤外線吸収フィルターの耐光性を著しく向上させることができる。紫外線カット層としては、４００ｎｍ以下の波長の紫外線を効率よくカットできるものであり、３５０ｎｍの波長の光を７０％以上吸収できることが好ましい。紫外線カット層の種類については、特に制限されないが、好ましくは紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルム（紫外線カットフィルム）が好ましい。
【０１１０】
紫外線カット層に用いられる紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よくカットする化合物であれば、有機系、無機系のいずれも特に限定なく用いることができる。例えば有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、ケイ皮酸系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられ、無機系紫外線級剤としては酸化チタン系紫外線吸収剤、酸化亜鉛系紫外線吸収剤、微粒子酸化鉄系紫外線吸収剤等が挙げられるが、無機系紫外線吸収剤の場合は紫外線カット層中で微粒子状態で存在しているため、赤外線吸収フィルターの効率を損なう恐れがあることから、有機系紫外線吸収剤が好ましい。
【０１１１】
このような紫外線吸収剤としては、例えば、チバガイギー（株）のチヌビンＰ、チヌビン１２０、２１３、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、３８４、４００、５７１、住友化学（株）のスミソーブ２５０、３００、５７７、共同薬品（株）バイオソーブ５８２、５５０、５９１、城北化学（株）のＪＦー８６、７９、７８、８０、旭電化（株）のアデカスタブＬＡ−３２，ＬＡ−３６，ＬＡ−３４、シプロ化成（株）のシーソルブ１００、１０１、１０１Ｓ、１０２、１０３、５０１、２０１、２０２、６１２ＮＨ、大塚化学（株）のRUVA９３、３０Ｍ、３０Ｓ、ＢＡＳＦ（株）のユービナール３０３９等が挙げられる。
【０１１２】
これらの紫外線吸収剤は、単独で用いても良いが、数種類組み合わせても良い。また、紫外線を吸収して可視領域に波長変換するチバガイギー（株）のユービテックスＯＢ，ＯＢ−Ｐ等の蛍光増白剤も利用できる。
また、紫外線カットフィルムは、市販のＵＶカットフィルターを使用することもでき、例えば、富士フィルム（株）のＳＣ−３８、ＳＣ−３９、ＳＣ−４２、三菱レーヨン（株）のアクリプレン等が挙げられる。上記のＵＶカットフィルター、ＳＣ−３９、アクリプレンは、ともに３５０ｎｍの波長を９９％以上吸収する紫外線カットフィルムである。
【０１１３】
このように紫外線吸収槽を設けた本発明の近赤外線吸収フィルターは、Ｘｅランプを２００時間照射することによる耐光性試験後の色素残存率が８０％以上、好ましくは８５％以上、特に好ましくは９０％以上となり、可視光領域に新たな吸収ピークが出てくることもない。ここで、色素残存率は、８００〜１１００ｎｍ領域における試験前後の吸収強度の減少度合から求める。
【０１１４】
上記近赤外線吸収フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いてもよい。
また、本発明により得られる近赤外線吸収フィルターは、本発明のディスプレイパネル用フィルター以外にも、熱線遮断フィルム、サングラス、保護眼鏡、リモコン受光器など幅広い用途に使用することができる。
【０１１５】
４．電子ディスプレイ用フィルター
さらに、本発明の赤外線吸収フィルターは、必要に応じて、電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止層（ノングレア層）、色調補正層を設け、電子ディスプレイ用、より好ましくはプラズマディスプレイパネル用フィルターとして使用することができる。
【０１１６】
本発明の電子ディスプレイ用フィルターは、上記近赤外線吸収フィルターを用いている他は、通常、用いられる構成や製造方法等を任意にとることができ、特に限定されるものではないが、以下にプラズマディスプレイパネル用フィルターとして用いる場合を代表例として説明する。
（電磁波カット層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる電磁波カット層としては、金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が一般的であるが、誘導体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層より３層、５層、７層あるいは１１層程度積層する。基材としては、本発明の赤外線吸収フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリングして電磁波カット層を設けた後に、本発明の赤外線吸収フィルターと貼り合わせても良い。
【０１１７】
（反射防止層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる反射防止層としては、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【０１１８】
（色調補正層）
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる色調補正層としては、プラズマディスプレイから発せられる５９０〜６００ｎｍの波長域のネオンオレンジ光をカットできれば特に限定されず、公知のスクアリリウム系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、シアニン系化合物、メチン系化合物、ピロメテン系化合物、ジピロメテン系化合物等の化合物を含有させる。また、消光時のディスプレイの色がニュートラルグレーになるようにその他の色素を添加することもある。
【０１１９】
（ノングレア層）
また、上述の各層の他にぎらつき防止層（ノングレア層）も設けてもよい。ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であれば、ハードコート層を設けることもできる。
【実施例】
【０１２０】
以下に、実施例により本発明の実施態様を説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらに限定されるものではない。
実施例１（例示化合物１の製造）
【０１２１】
【化２８】
2006215395.tif 000029
【０１２２】
４−フェニル−［１，３］ジチオール−２−オン３ｇ（１５．５mmol）とジフェニルジスルフィド５．０６ｇ（２３．２mmol）を無水ＴＨＦ（３０mL）に溶解させ、−78℃に冷却した。この反応溶液にLiN(TMS)2ヘキサン溶液（１M、１７．２mL）を5分間で加えた。
この反応溶液を2時間かけて0℃まで昇温し、氷−飽和塩化アンモニウム水溶液に注いだ。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；３％酢酸エチル／ヘキサン）により精製し、４−フェニル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを定量的に得た。
EI MS；３０２
【０１２３】
【化２９】
2006215395.tif 000030
【０１２４】
４−フェニル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オン２．４ｇ（１３．２mmol）をTHF２５ｍＬに溶かした溶液に１Ｍナトリウムメトキシド−メタノール溶液（１７ｍＬ）を加え、２５℃で３０分撹拌した。この反応溶液にメタノール３ｍＬに溶かした０．５当量の塩化ニッケル六水和物を加え、さらに２５℃で３０分撹拌した。この混合溶液を、トルエン６０ｍＬ及び酢酸８．５ｍＬの混合溶媒中に注ぎ、空気をバブリングしながら、８時間撹拌した。溶媒を濃縮した後、得られた粗生成物をメタノール懸洗し、ろ過した。沈殿物を再度酢酸エチルで懸洗、ろ過し、例示化合物１を１．７８ｇ（７４％収率）で得た（λｍａｘ（ｉｎ  ＴＨＦ）９１１ｎｍ）。
EI MS：６０６
実施例２（例示化合物２の製造）
【０１２５】
【化３０】
2006215395.tif 000031
【０１２６】
４−フェニル−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−（２、５−ジメチルフェニル）−［１，３］ジチオール−２−オンを用いた他は実施例１と同様の方法により、４−（２、５−ジメチルフェニル）−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを８９％収率で得た。
EI MS：３３０
【０１２７】
【化３１】
2006215395.tif 000032
【０１２８】
４−フェニル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−（２、５−ジメチルフェニル）−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを用いた他は実施例１と同様の方法により、例示化合物２を６９％収率で得た（λｍａｘ（ｉｎ  ＴＨＦ）８９８ｎｍ）。
EI MS：６６２
実施例３（例示化合物３の製造）
【０１２９】
【化３２】
2006215395.tif 000033
【０１３０】
ジフェニルジスルフィドの代わりにジブチルジスルフィドを用いた他は実施例１と同様の方法により、４−フェニル−５−n−ブチルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを
６９％収率で得た。
EI MS：２８２
【０１３１】
【化３３】
2006215395.tif 000034
【０１３２】
４−フェニル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−フェニル−５−n−ブチルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを用いた他は実施例１と同様の方法により、例示化合物３を６１％収率で得た（λｍａｘ（ｉｎ  ＴＨＦ）９５２ｎｍ）。
EI MS：６５６
実施例４（例示化合物４の製造）
【０１３３】
【化３４】
2006215395.tif 000035
【０１３４】
４−フェニル−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−メチル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを用いた他は実施例１と同様の方法により、４−メチル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを９６％収率で得た。
EI MS：２４０
【０１３５】
【化３５】
2006215395.tif 000036
【０１３６】
４−フェニル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−メチル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを用いた他は実施例１と同様の方法により、例示化合物４を７２％収率で得た（λｍａｘ（ｉｎ  ＴＨＦ）８５２ｎｍ）。
EI MS：４８２
実施例５（例示化合物５の製造）
【０１３７】
【化３６】
2006215395.tif 000037
【０１３８】
４−フェニル−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−ｔ−ブチル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを用いた他は実施例１と同様の方法により、４−ｔ−ブチル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを８６％収率で得た。
EI MS：２８２
【０１３９】
【化３７】
2006215395.tif 000038
【０１４０】
４−フェニル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−ｔ−ブチル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンを用いた他は実施例１と同様の方法により、例示化合物５を７２％収率で得た（λｍａｘ（ｉｎ  ＴＨＦ）８４８ｎｍ）。
EI MS：５６６
実施例６（例示化合物６の製造）
【０１４１】
【化３８】
2006215395.tif 000039
【０１４２】
４−フェニル−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−ｔ−ブチル−［１，３］ジチオール−２−オンを用い、ジフェニルジスルフィドの代わりにジ（４−ｔ−ブチルー2−メチルフェニル）ジスルフィドを用いた他は実施例１と同様の方法により、４−ｔ−ブチル−５−（４−t−ブチル−２−メチルフェニル）チオ−［１，３］ジチオール−２−オンを８３％収率で得た。
EI MS：３５２
【０１４３】
【化３９】
2006215395.tif 000040
【０１４４】
４−フェニル−５−フェニルチオ−［１，３］ジチオール−２−オンの代わりに４−ｔ−ブチル−５−（４−t−ブチル−２−メチルフェニル）チオ−［１，３］ジチオール−
２−オンを用いた他は実施例１と同様の方法により、例示化合物６を７７％収率で得た（λｍａｘ（ｉｎ  ＴＨＦ）８７６ｎｍ）。
EI MS：７０６
実施例７（例示化合物２４の製造）
【０１４５】
【化４０】
2006215395.tif 000041
【０１４６】
４−フェニル−［１，３］ジチオール−２−オン３．２ｇ（１６．５mmol）とトリメチルシリルクロリド３．３ｍL（２４．８mmol）を無水ＴＨＦ（２０mL）に溶解させ、−78
℃に冷却した。この反応溶液にLiN(TMS)2ヘキサン溶液（１M、１７．２mL）を5分間で加
えた。この反応溶液を2時間かけて0℃まで昇温し、氷−飽和塩化アンモニウム水溶液に注いだ。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；５％酢酸エチル／ヘキサン）により精製し、４−フェニル−５−トリメチルシリル−［１，３］ジチオール−２−オンを９５％収率で得た。
EI MS；２６６
【０１４７】
【化４１】
2006215395.tif 000042
【０１４８】
４−フェニル−５−トリメチルシリル−［１，３］ジチオール−２−オン２．１ｇ（７．８９mmol）をTHF２５ｍＬに溶かした溶液に１Ｍナトリウムメトキシド−メタノール溶液（１７ｍＬ）を加え、２５℃で３０分撹拌した。この反応溶液にメタノール３ｍＬに溶かした０．５当量の塩化ニッケル六水和物を加え、さらに２５℃で３０分撹拌した。この混合溶液を、トルエン６０ｍＬ及び酢酸８．５ｍＬの混合溶媒中に注ぎ、空気をバブリングしながら、８時間撹拌した。溶媒を濃縮した後、得られた粗生成物をメタノール懸洗し、ろ過した。沈殿物をクロロホルムに溶かし、有機層を飽和食塩水で洗った後、濃縮し、得られた固体を再度メタノール懸洗、ろ過し、例示化合物２４を１．７１ｇ（８１％収率）で得た（λｍａｘ（ｉｎ  ＴＨＦ）８１８ｎｍ）。
EI MS：５３４
実施例８（本発明の化合物の溶解度）
実施例５で製造した例示化合物５の、トルエンとメチルエチルケトンに対する溶解度を測定した。溶解度の測定は２５℃で行った。結果を表１に示す。
【０１４９】
比較例１（公知のジチオール金属錯体の溶解度）
特開２００２−１３２１７６の実施例１で用いられている、下記式（Ａ）で表される公知のジチオール金属錯体の、トルエンとメチルエチルケトンに対する溶解度を測定した。結果を表１に示す。
【０１５０】
【化４２】
2006215395.tif 000043
【０１５１】
比較例２（公知のジチオール金属錯体の溶解度）
特開昭６４−６６９６８６号公報の実施例２で用いられている、下記式（Ｂ）で表される公知のジチオール金属錯体の、トルエンとメチルエチルケトンに対する溶解度を測定した。結果を表１に示す。
【０１５２】
【化４３】
2006215395.tif 000044
【０１５３】
【表１】
2006215395.tif 000045
【０１５４】
以上の結果より、本発明の化合物を近赤外線吸収色素として用いて近赤外線吸収フィルターを製造すると、溶解度が高いことがわかる。したがって、本発明によれば、少量の樹脂に対して多くの色素を含有させることができ、その結果、近赤外線吸収フィルターを薄膜化できることがわかる。
実施例９（例示化合物１を含む近赤外線吸収フィルター）
例示化合物１（３４．３ｍｇ）をトルエン０．８０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２５重量％）３．２ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１５５】
このフィルターのλｍａｘは９１１ｎｍであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験（９１１ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率（試験後の強度÷試験前の強度×１００）はそれぞれ、９５．１％及び９９．３％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１５６】
実施例１０（例示化合物２を含む近赤外線吸収フィルター）
例示化合物２を用いた以外は実施例９と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλｍａｘは８９７ｎｍであった。
実施例９と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験（８９７ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、９５．５％及び９９．７％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１５７】
実施例１１（例示化合物３を含む近赤外線吸収フィルター）
例示化合物３を用いた以外は実施例９と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１５８】
このフィルターのλｍａｘは９４６ｎｍであった。
実施例９と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験（９４６ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、９４．５％及び１００．０％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１５９】
実施例１２（例示化合物４を含む近赤外線吸収フィルター）
例示化合物４（３４．３ｍｇ）を用いた以外は実施例９と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλｍａｘは８５５ｎｍであった。
実施例９と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験（８５５ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、９０．７％及び９３．１％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１６０】
実施例１３（例示化合物５を含む近赤外線吸収フィルター）
例示化合物５（３４．３ｍｇ）を用いた以外は実施例９と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１６１】
このフィルターのλｍａｘは８４４ｎｍであった。
実施例９と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験（８４４ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、９６．２％及び１００％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１６２】
実施例１４（例示化合物６を含む近赤外線吸収フィルター）
例示化合物６（３４．３ｍｇ）を用いた以外は実施例９と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλｍａｘは８７５ｎｍであった。
実施例９と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験（８７５ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、９４．８％及び９９．７％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１６３】
実施例１５（例示化合物２４を含む近赤外線吸収フィルター）
例示化合物２４（３４．３ｍｇ）（３４．３ｍｇ）を用いた以外は実施例９と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１６４】
このフィルターのλｍａｘは８２２ｎｍであった。
実施例９と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験（８２２ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、９４．１％及び９７．７％と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
【０１６５】
比較例３（式（Ａ）の化合物を含む近赤外線吸収フィルター）
比較例１で用いた式（Ａ）で表される化合物（３４．３ｍｇ）を用いた以外は実施例９と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλｍａｘは８５６ｎｍであった。
実施例９と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験（８５６ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、９６．５％及び９８．７％であった。
【０１６６】
比較例４（式（Ｂ）の化合物を含む近赤外線吸収フィルター）
比較例２で用いた式（Ｂ）で表される化合物（３４．３ｍｇ）を用いた以外は実施例９と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλｍａｘは１００７ｎｍであった。
実施例９と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験（１００７ｎｍにおける試験前後の吸収強度の測定）を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、８５．３％及び８８．９％であった。
【０１６７】
以上の近赤外線吸収フィルターの耐熱性および耐湿熱性試験の結果を纏めると以下の表２の通りである。
【０１６８】
【表２】
2006215395.tif 000046
【０１６９】
以上の結果より、本発明の化合物を近赤外線吸収色素として用いた近赤外線吸収フィルターは、式（Ｂ）の化合物に対して、耐熱性、耐湿熱性に優れることが明らかである。
実施例１６（例示化合物４および一般式（６）で表される化合物を含む近赤外線吸収フィルター）
例示化合物４（６８．２ｍｇ）及び一般式（６）で表される、下式に示す化合物（９９．０ｍｇ）を
【０１７０】
【化４４】
2006215395.tif 000047
【０１７１】
テトラヒドロフラン３．０ｇに添加し、これらの中にアクリル系樹脂（オプトレッソＯＺ１１００）のテトラヒドロフラン溶液（樹脂濃度３０重量％）８．０ｇを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ（Ｎｏ．１８；江藤器械（株）製）でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１７２】
このフィルターは、８００−１１００ｎｍの平均透過率は、１３．４％であり、ＰＤＰ用近赤外線吸収フィルターとして８００−１１００ｎｍの領域を有効に遮蔽していた。（図１）
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、８０℃の恒温槽および、６０℃、湿度９０％の恒温層に５００時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を行ったところ、試験後も８００−１１００ｎｍの領域を有効に遮蔽しており、フィルターの色変化もなかった。（図２，図３）
このフィルターに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−４２）  を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、試験後測定したところ、８００−１１００ｎｍの領域を有効に遮蔽しており、フィルター色変化はなかった。（図４）
【図面の簡単な説明】
【０１７３】
【図１】実施例１６の近赤外線吸収フィルターの透過スペクトルである。
【図２】実施例１６の近赤外線吸収フィルターの耐熱性試験後の透過スペクトルである。
【図３】実施例１６の近赤外線吸収フィルターの耐湿熱性試験後の透過スペクトルである。
【図４】実施例１６の近赤外線吸収フィルターの耐光性試験後の透過スペクトルである。
【図１】
2006215395.tif 000061
【図２】
2006215395.tif 000062
【図３】
2006215395.tif 000063
【図４】
2006215395.tif 000064