(57)【要約】【課題】デシカントを配置しつつトップエミッションタイプとする。【解決手段】  ＥＬ基板１０上の画素を形成し、封止基板２０に画素毎のカラーフィルタ２４を形成する。そして、このカラーフィルタ２４の下方の空間に透明のＰＬＢデシカント層２６を形成する。このＰＢＬデシカント層は、透湿性のＰＢＬと、透明の乾燥剤を混合した層である。従って、乾燥剤を含んでいるにも拘わらず、画素からの光を遮ることがなく、画素をトップエミッションタイプにすることができる。【選択図】図１
2006338946.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示画素がマトリクス状に形成された表示領域とこの表示領域を取り囲む周辺領域を有する画素基板と、前記画素基板と所定間隔をおいて対向配置され、その周辺部が画素基板の周辺部に接合されて画素基板の上方空間を封止する封止基板を含む表示パネルであって、
前記画素基板と、前記封止基板との間の空間に吸湿性のデシカントを含む透明のデシカント含有層が配置されており、
前記表示画素から射出される光を、前記デシカント含有層および封止基板を介し放出することを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
請求項１に記載の表示パネルにおいて、
前記封止基板の画素基板側の面に、前記表示画素からの光を透過させる複数のカラーフィルタが設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項３】
請求項１または２に記載の表示パネルにおいて、
前記デシカント含有層は、透湿性の有機材料と、吸湿性のデシカントの両方を含むことを特徴とする表示パネル。
【請求項４】
請求項３に記載の表示パネルにおいて、
前記封止基板の画素基板側の面に、カラーフィルタ層と同一の基材からなり、前記デシカント含有層の側面を支持する支持材を設けることを特徴とする表示パネル。
【請求項５】
請求項２〜４のうちいずれか１項に記載の表示パネルにおいて、
前記複数のカラーフィルタは、前記デシカント含有層によってカバーされていることを特徴とする表示パネル。
【請求項６】
請求項２〜５のうちいずれか１項に記載の表示パネルにおいて、
前記複数のカラーフィルタは、表面を平坦化する平坦化層によってカバーされており、この平坦化層と前記画素基板の表面の間に前記デシカント含有層が充満されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項７】
請求項６に記載の表示パネルにおいて、
前記平坦化層と、前記デシカント含有層との間に、水分の透過をブロックする水分ブロック層が形成されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項８】
請求項１に記載の表示パネルにおいて、
前記画素基板は、その表示領域の全面をカバーする電極を有し、
前記電極上に、複数のカラーフィルタが形成されるとともに、前記デシカント含有層は、このカラーフィルタをカバーして前記封止基板との間に形成されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項９】
請求項８に記載の表示パネルにおいて、
前記デシカント含有層に積層された透湿性の有機材料層をさらに含むことを特徴とする表示パネル。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の表示パネルにおいて、
前記透湿性の有機材料層は、デシカント含有層の画素基板側に配置されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項１１】
請求項８〜１０のうちいずれか１項に記載の表示パネルにおいて、
前記透湿性の有機材料層は、デシカント含有層の封止基板側に配置されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項１２】
請求項１に記載の表示パネルにおいて、
前記画素基板は、その表示領域の全面をカバーする電極を有し、
この電極上に、前記デシカント含有層、複数のカラーフィルタ、透湿性の有機材料層がこの順で形成されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項１３】
請求項１に記載の表示パネルにおいて、
前記画素基板は、その表示領域の全面をカバーする電極を有し、
この電極上と前記封止基板との間に、複数のカラーフィルタ、前記デシカント含有層、透湿性の有機材料層がこの順で形成されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項１４】
表示画素がマトリクス状に形成された表示領域とこの表示領域を取り囲む周辺領域を有する画素基板と、前記画素基板と所定間隔をおいて対向配置され、その周辺部が画素基板の周辺部に接合されて画素基板の上方空間を封止する封止基板を含む表示パネルであって、
前記封止基板の画素基板側の面には、各画素に対応して形成されたカラーフィルタが複数配置され、
このカラーフィルタの間の封止基板表面には、デシカントを含むデシカント含有層が配置されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項１５】
請求項１４に記載の表示パネルにおいて、
前記デシカント含有層と、前記複数のカラーフィルタと前記画素基板との間には、透湿性の有機層が配置されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の表示パネルにおいて、
前記デシカント含有層は、不透明であり、ブラックマトリクスとして機能することを特徴とする表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示パネルなどの表示パネル、特にその防湿に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型のフラットディスプレイパネルとして、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などが普及しており、有機ＥＬパネルも実用化されるようになってきている。
【０００３】
この有機ＥＬパネルでは、各画素の発光材料などに有機物質を利用し、この有機材料が水分を含むとその寿命が短くなるため、各画素の存在する空間の水分をなるべく少なくする必要がある。そこで、ＥＬ素子を含む表示画素がマトリクス状に形成されたＥＬ基板（画素基板）に対応して、封止基板を所定間隔をおいて対向させ、これら基板の周辺部分を樹脂製のシール材によって気密に封止し、内部に水分が侵入しないようにすると共に、内部空間には、乾燥剤（デシカント）を収容し、水分を除去している。
【０００４】
このようなデシカントを配置したＥＬパネルについては、特許文献１などに記載がある。
【０００５】
一方、有機ＥＬパネルには、ＥＬ基板側から光を射出するボトムエミッションと、封止基板側から光を射出するトップエミッションがある。ＥＬ基板は、各画素の画素回路を形成した後、その上にＥＬ素子を形成する場合が多く、ボトムエミッションであると発光領域が画素回路の形成されていない領域に限定され、発光領域が狭くなるという問題があるが、トップエミッションではそのような問題が解消される。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１８６０４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、トップエミッションの場合には、射出光が封止基板を通るため、この部分にデシカントを配置できないという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、表示画素がマトリクス状に形成された表示領域とこの表示領域を取り囲む周辺領域を有する画素基板と、前記画素基板と所定間隔をおいて対向配置され、その周辺部が画素基板の周辺部に接合されて画素基板の上方空間を封止する封止基板を含む表示パネルであって、前記画素基板と、前記封止基板との間の空間に吸湿性のデシカントを含む透明のデシカント含有層が配置されており、前記表示画素から射出される光を、前記デシカント含有層および封止基板を介し放出することを特徴とする表示パネル。
【０００９】
また、前記封止基板の画素基板側の面に、前記表示画素からの光を透過させる複数のカラーフィルタが設けられていることが好適である。
【００１０】
また、前記デシカント含有層は、透湿性の有機材料と、吸湿性のデシカントの両方を含むことが好適である。
【００１１】
また、前記封止基板の画素基板側の面に、カラーフィルタ層と同一の基材からなり、前記デシカント含有層の側面を支持する支持材を設けることが好適である。
【００１２】
また、前記複数のカラーフィルタは、前記デシカント含有層によってカバーされていることが好適である。
【００１３】
また、前記複数のカラーフィルタは、表面を平坦化する平坦化層によってカバーされており、この平坦化層と前記画素基板の表面の間に前記デシカント含有層が充満されていることが好適である。
【００１４】
また、前記平坦化層と、前記デシカント含有層との間に、水分の透過をブロックする水分ブロック層が形成されていることが好適である。
【００１５】
また、前記画素基板は、その表示領域の全面をカバーする電極を有し、前記電極上に、複数のカラーフィルタが形成されるとともに、前記デシカント含有層は、このカラーフィルタをカバーして前記封止基板との間に形成されていることが好適である。
【００１６】
また、前記デシカント含有層に積層された透湿性の有機材料層をさらに含むことが好適である。
【００１７】
また、前記透湿性の有機材料層は、デシカント含有層の画素基板側に配置されていることが好適である。
【００１８】
また、前記透湿性の有機材料層は、デシカント含有層の封止基板側に配置されていることが好適である。
【００１９】
また、前記画素基板は、その表示領域の全面をカバーする電極を有し、この電極上に、前記デシカント含有層、複数のカラーフィルタ、透湿性の有機材料層がこの順で形成されていることが好適である。
【００２０】
また、前記画素基板は、その表示領域の全面をカバーする電極を有し、この電極上と前記封止基板との間に、複数のカラーフィルタ、前記デシカント含有層、透湿性の有機材料層がこの順で形成されていることが好適である。
【００２１】
また、本発明は、表示画素がマトリクス状に形成された表示領域とこの表示領域を取り囲む周辺領域を有する画素基板と、前記画素基板と所定間隔をおいて対向配置され、その周辺部が画素基板の周辺部に接合されて画素基板の上方空間を封止する封止基板を含む表示パネルであって、前記封止基板の画素基板側の面には、各画素に対応して形成されたカラーフィルタが複数配置され、このカラーフィルタの間の封止基板表面には、デシカントを含むデシカント含有層が配置されていることが好適である。
【００２２】
また、前記デシカント含有層と、前記複数のカラーフィルタと前記画素基板との間には、透湿性の有機層が配置されていることが好適である。
【００２３】
また、前記デシカント含有層は、不透明であり、ブラックマトリクスとして機能することが好適である。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように、本発明の一形態によれば、透明のデシカント含有層を利用する。従って、デシカント含有層を光の透過経路に配置することができ、トップエミッションタイプにおける画素基板と封止基板の間の空間にデシカント含有層を配置することができる。また、透湿性の有機層を配置することで、電極への衝撃を緩和することができる。
【００２５】
さらに、デシカント含有層をカラーフィルタ間に配置することによって、デシカント含有層を不透明としてもトップエミッションタイプとすることができる。さらに、不透明なデシカント含有層は、ブラックマトリクスとして機能させることも可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態について、図面に基づいて説明する。
【００２７】
「第１実施形態」
図１には、第１実施形態に係る表示パネルの構成が示されている。ＥＬ基板（画素基板）１０の表面上には、複数のＴＦＴ、配線などを収容するＴＦＴ層１２が形成され、その上に陽極１４、発光層を含む有機層１６、陰極１８を含む有機ＥＬ素子が形成されている。
【００２８】
一方、このＥＬ基板１０上には、所定間隔をあけて封止基板２０が配置され、このＥＬ基板１０と封止基板２０は、両者の周辺部において、シール材２２によって気密に接合されている。すなわち、ＥＬ基板１０および封止基板２０は、ほぼ同一の形状（この例では四角形状）を有しており、両者の周囲が接合され、ＥＬ基板１０上方の内部空間が密封される。
【００２９】
封止基板２０の下側表面（ＥＬ基板１０側の表面）には、各画素に対応してカラーフィルタ２４が配置されている。なお、同じ色の画素については、カラーフィルタ２４を分離する必要はない。
【００３０】
ここで、陰極１８は、透明であり、また陽極１４の下側には反射膜が設けられている。従って、有機層１６において生じた光は、上方に射出される。このため、封止基板２０も透明である。さらに、カラーフィルタ２４は、各画素の表示色（ＲＧＢ）に応じて決定されている。また、有機層１６は、正孔輸送層、青色発光層、オレンジ色発光層、電子輸送層などからなり、白色の光を放出する。そして、この白色光がカラーフィルタ２４によって、画素毎に所定の色の光として射出される。
【００３１】
そして、封止基板２０およびカラーフィルタ２４と、陰極１８の間には、ＰＢＬデシカント層２６が充満するように配置されている。このＰＢＬデシカント層２６は、酸化カルシウムなどの粒状のデシカントを透湿性の有機材料（ＰＢＬ：ポリマーバッファ層）と混合した層である。
【００３２】
さらに、封止基板２０のシール材２２の内側には、ＰＢＬデシカント層２６を側面から支持する支持部材２８が突出形成され、ＰＢＬデシカント層２６の周囲側面を支持している。なお、この支持部材２８は、カラーフィルタ２４と、同じ材質で同時に形成される。
【００３３】
ここで、このような表示パネルの作製について簡単に説明する。まず、ＥＬ基板１０を構成するガラス基板上に、ＴＦＴ層１２を形成する。このＴＦＴ層１２は、各画素に設けられる選択ＴＦＴ、駆動ＴＦＴなどの他、周辺の水平、垂直ドライバ回路なども含む。なお、このＴＦＴ層１２の形成は、通常のＴＦＴ基板の作製方法で行われる。
【００３４】
次に、このＴＦＴ層１２の上に画素毎に区切られた陽極（画素電極）１４を形成する。この陽極１４は、例えばＩＴＯで形成し、その下面には、銀などで形成された反射膜を配置する。次に、正孔輸送層、発光層（青色発光層、オレンジ色発光層の２層）、電子輸送層からなる有機層１６を形成し、その上にＩＴＯなどの透明電極からなる陰極を形成する。これらの層は全面に形成する。これらは、真空蒸着によって形成する。
【００３５】
一方、封止基板２０を構成するガラス基板上には、画素毎のカラーフィルタ２４を形成する。この際ガラス基板の周辺部に支持部材２８を一緒に形成する。カラーフィルタ２４の厚みは２μｍ程度であり、支持部材２８はその２〜３倍程度の厚みとする。このようなカラーフィルタ２４および支持部材２８の形成は、シート材からのレーザ熱転写によることが好適であり、支持部材２８はカラーフィルタの積層で形成される。なお、印刷や、レジストに所定のパターニングをして、凹部を形成し、そこにカラーフィルタの材料を塗布することによって行うこともできる。
【００３６】
そして、カラーフィルタ２４を覆って、ＰＢＬデシカント層２６を形成する。これは、両材料を混合し、適当な溶剤に溶かしたものを支持部材２８の内側空間に充填することによって行う。この充填は、ディスペンサーや、インクジェットなどによって行える。そして、８０℃程度に加熱することで硬化する。但し、ＰＢＬデシカント層２６は、硬化した後も、柔らかく弾力がある。なお、このＰＢＬデシカント層２６の硬化は、次のシール材２２による封止を行った後に行ってもよい。
【００３７】
次に、窒素雰囲気のチャンバ内で、封止基板２０に対し、ＥＬ基板１０を所定間隔まで近づけ、周囲をシール材２２によって、両者の内部を密封封止する。このようにして、表示パネルが構成される。なお、シール材２２としては、ＵＶ硬化性のエポキシ系接着剤などが利用される。
【００３８】
この際、ＰＢＬデシカント層２６は、陰極１８に接触するが、ＰＢＬが柔らかく、弾力があるため、ここがバッファとなり衝撃を和らげ、陰極１８に大きな力がかかることはない。
【００３９】
上述のようにデシカントは、酸化カルシウム（ＣａＯ）などの粒子が利用され、ＰＢＬは、シリコン系、アクリル系、ウレタン系、あるいはエポキシ系の樹脂で、透湿度が１００ｇ／ｍ2・日以上と大きく、かつ吸湿性のないものが採用される。
【００４０】
さらに、カラーフィルタ２４は、水分を含んでいる場合が多い。そこで、ＰＢＬデシカント層２６に直接接しない方がよい。そこで、カラーフィルタの表面を覆って、アクリル系の保護膜を形成することも好ましい。なお、この保護膜は、封止基板２０の表面も覆って形成した方が、形成が容易となる。さらに、カラーフィルタ２４の表面に、フッ素系樹脂をコーティングすることも好適である。このフッ素系樹脂は、ドライプロセスで容易にコーティングすることができる。
【００４１】
このような表示パネルにおいて、ＴＦＴ層１２の各画素毎の画素回路には、その画素の輝度データが供給され、それに応じた電流がその画素のＥＬ素子に流れ、有機層１６中において発光する。その光は、陰極１８、カラーフィルタ２４、封止基板２０を介し、所定色の所定強度の光として画素毎に上方に射出される。
【００４２】
特に、ＰＢＬデシカント層２６は、吸湿作用があるため、パネルの内部の水分を十分低いものに維持してＥＬ素子の寿命への悪影響を防止できる。そして、デシカントが透明であり、トップエミッションでも問題がない。さらに、ＰＢＬデシカント層２６を陰極１８とカラーフィルタ２４の表面の間に充満しているため、この部分の間隙の変動を防止でき、間隙変動に基づく干渉ムラの発生などを防止することができる。
【００４３】
なお、カラーフィルタは画素の発光色に応じて画素毎に形成される。特に、本実施形態のパネルは、トップエミッション型であるため、各画素の発光領域を大きくとれる。そこで、となりの画素との区分を明確にするため、各画素のカラーフィルタ２４をブラックマトリクスによって区分することを好適である。
【００４４】
「第２実施形態」
図２は、第２実施形態の表示パネルの構成を示す。基本的な構成は、第１実施形態と同一であり、ＥＬ基板１０の表面上には、ＴＦＴ層１２が形成され、その上に陽極１４、有機層１６、陰極１８を含む有機ＥＬ素子が形成されている。ＥＬ基板１０上には、所定間隔をあけて封止基板２０が配置され、このＥＬ基板１０と封止基板２０は、両者の周辺部において、シール材２２によって気密に接合されている。封止基板２０の下側表面には、各画素に対応してカラーフィルタ２４が配置されている。また、陰極１８は、透明であり、陽極１４の下側には反射膜が設けられており、有機層１６において生じた光は、カラーフィルタ２４によって、画素毎に所定の色の光として射出される。
【００４５】
そして、封止基板２０の下表面のカラーフィルタ２４の配置されていない部分には、デシカント層３０が配置されている。このデシカント層３０は、透明でも不透明でもよいが、不透明とすることによって、このデシカント層３０が画素間を区切るブラックマトリクスとして機能する。
【００４６】
また、デシカント層およびカラーフィルタ２４の下方と、陰極１８の間には、ＰＢＬ層３２が充満するように配置されている。このＰＢＬ層３２は、透湿性の有機材料（ＰＢＬ：ポリマーバッファ層）からなる層である。また、カラーフィルタ２４の表面には、フッ素系樹脂のコーティングがなされている。ＰＢＬ層３２は、透湿性にすぐれており、カラーフィルタ２４中の水分が有機ＥＬ素子に向けて拡散しやすいが、コーティングによってこの水分の移動を防止することができる。
【００４７】
ここで、この表示パネルの封止基板２０を構成するガラス基板上には、まず画素毎のカラーフィルタ２４を形成し、このカラーフィルタ２４の表面にフッ素系樹脂をコーティングする。これは、プラズマ重合法などのドライプロセスが利用される。ここで、このフッ素系樹脂のコーティングは、少なくともＰＢＬ層３２と接するカラーフィルタ２４の表面に形成することが必要であるが、封止基板２０の表面を含め全面に形成してもよい。次に、デシカント層３０をディスペンサーなどによって形成する。
【００４８】
そして、封止基板２０とＥＬ基板１０の間にＰＢＬ層３２を介在させて両者を封止する。この工程は、上述の第１実施形態と基本的に同じである。
【００４９】
このように、本実施形態では、弾力があり、透湿性の高いＰＢＬ層３２を介し水分がデシカント層３０に移動して、有機ＥＬ素子に水分が侵入することを防止することができる。また、ＰＢＬ層３２が柔らかく、弾力があるため、ここがバッファとなり、陰極１８に大きな力がかかることを防止できる。
【００５０】
「第３実施形態」
図３は、第３実施形態の表示パネルの構成を示す。基本的な構成は、第１、２実施形態と同一であるが、封止基板２０の下側表面には、カラーフィルタ２４を覆ってアクリル樹脂などから構成される平坦化層３６が形成されている。そして、この平坦化層３６の下表面にＳｉＮなどからなる水分ブロック層３８が形成され、その下方の陰極１８との間に、ＰＢＬデシカント層２６が充満するように形成されている。すなわち、第１実施形態に対し、平坦化層３６と、水分ブロック層３８が追加された構成になっている。
【００５１】
この構成においては、画素毎に形成されたカラーフィルタ２４を平坦化層３６によって覆っているので、カラーフィルタ２４の段差が解消され、ＰＢＬデシカント層２６の厚みがほぼ一定となって、より適切な衝撃バッファおよび水分除去が行える。また、水分ブロック層３８を有しているため、カラーフィルタ２４からの水分の拡散を防止することができる。
【００５２】
「第４実施形態」
図４は、第４実施形態の表示パネルの構成を示す。基本的な構成は、第１〜３実施形態と同一であるが、ＥＬ基板１０の陰極１８上には、ＳｉＮなどからなる応力緩和層４０を介し画素毎のカラーフィルタ２４が配置される。そして、カラーフィルタ２４を覆って、ＰＢＬ層３２が配置され、その上にデシカント層３０が形成されている。この構成によっても同様の作用効果が得られる。
【００５３】
「第５実施形態」
図５は、第５実施形態の表示パネルの構成を示す。この第５実施形態では、第４実施形態に比べ、ＰＢＬ層３２とデシカント層３０の位置が反対になっている。すなわち、カラーフィルタを覆ってデシカント層３０が配置され、その上にＰＢＬ層３２が配置されている。
【００５４】
「第６実施形態」
図６は、第６実施形態の表示パネルの構成を示す。この第６実施形態では、ＥＬ基板１０の陰極１８上の応力緩和層４０の上にデシカント層３０が形成され、その上に画素毎のカラーフィルタ２４が配置される。そして、カラーフィルタ２４を覆って、ＰＢＬ層３２が形成されている。
【００５５】
「第７実施形態」
図７は、第７実施形態の表示パネルの構成を示す。この第７実施形態では、第６実施形態に比べ、ＰＢＬ層３２とデシカント層３０の位置が反対になっている。すなわち、ＥＬ基板１０の陰極１８上の応力緩和層４０の上にＰＢＬ３２が形成され、その上に画素毎のカラーフィルタ２４が配置される。そして、カラーフィルタ２４を覆って、デシカント層３０が形成されている。
【００５６】
「画素の構成」
図８は、１画素の発光領域と駆動ＴＦＴの部分の構成を示す断面図である。なお、各画素には、複数のＴＦＴがそれぞれ設けられ、駆動ＴＦＴは、電源ラインから有機ＥＬ素子へ供給する電流を制御するＴＦＴである。ガラス基板１３０上には、ＳｉＮとＳｉＯ2の積層からなるバッファ層１１１が全面に形成され、その上に所定のエリア（ＴＦＴを形成するエリア）にポリシリコンの能動層１２２が形成される。
【００５７】
能動層１２２およびバッファ層１１１を覆って全面にゲート絶縁膜１１３が形成される。このゲート絶縁膜１１３は、例えばＳｉＯ2およびＳｉＮを積層して形成される。このゲート絶縁膜１１３上方であって、チャネル領域１２２ｃの上に例えばＣｒのゲート電極１２４が形成される。そして、ゲート電極１２４をマスクとして、能動層１２２へ不純物をドープすることで、この能動層１２２には、中央部分のゲート電極の下方に不純物がドープされていないチャネル領域１２２ｃ、その両側に不純物のドープされたソース領域１２２ｓおよびドレイン領域１２２ｄが形成される。
【００５８】
そして、ゲート絶縁膜１１３およびゲート電極１２４を覆って全面に層間絶縁膜１１５が形成され、この層間絶縁膜１１５内部のソース領域１２２ｓ、ドレイン領域１２２ｄの上部にコンタクトホールが形成され、このコンタクトホールを介し、層間絶縁膜１１５の上面に配置されるソース電極１５３、およびドレイン電極１２６が形成される。なお、ソース電極１５３には、電源ライン（図示せず）が接続される。ここで、このようにして形成された駆動ＴＦＴは、この例ではｐチャネルＴＦＴであるが、ｎチャネルとすることもできる。
【００５９】
層間絶縁膜１１５およびソース電極１５３、ドレイン電極１２６を覆って、全面に平坦化膜１１７が形成され、この平坦化膜１１７の上面の発光領域の位置には、Ａｇなどからなる反射膜１６９が形成され、その上に陽極として機能する透明電極１６１が設けられる。また、ドレイン電極１２６の上方の平坦化膜１１７には、これらを貫通するコンタクトホールが形成され、このコンタクトホールを介し、ドレイン電極１２６と透明電極１６１が接続される。
【００６０】
なお、層間絶縁膜１１５および平坦化膜１１７には、通常アクリル樹脂などの有機膜が利用されるが、ＴＥＯＳなどの無機膜を利用することも可能である。また、ソース電極１５３、ドレイン電極１２６は、アルミなどの金属が利用され、透明電極１６１には通常ＩＴＯが利用される。
【００６１】
この透明電極１６１は、通常各画素の大部分の領域に形成され、全体としてほぼ四角形状で、ドレイン電極１２６との接続用のコンタクト部分が突出部として形成されており、コンタクトホール内にものびている。反射膜１６９は、透明電極１６１より若干小さく形成されている。
【００６２】
この透明電極１６１の上には、全面に形成されたホール輸送層１６２、２層の有機発光層１６３ａ，１６３ｂ、電子輸送層１６４からなる有機層１６５と、透明（例えば、ＩＴＯ）の対向電極１６６が陰極として形成されている。
【００６３】
透明電極１６１の周辺部分上のホール輸送層１６２の下方には、平坦化膜１６７が形成されており、この平坦化膜１６７によって、各画素の発光領域が透明電極１６１上であって、ホール輸送層１６２が透明電極１６１が直接接している部分が限定され、ここが発光領域となる。なお、平坦化膜１６７にも、通常アクリル樹脂などの有機膜が利用されるがＴＥＯＳなどの無機膜を利用することも可能である。
【００６４】
なお、ホール輸送層１６２、有機発光層１６３ａ，１６３ｂ、電子輸送層１６４には、有機ＥＬ素子に通常利用される材料が使用される。有機発光層１６３ａ，１６３ｂはその材料（通常はドーパント）によって、発光色が決定され、例えば有機発光層１６３がオレンジ色に発光し、有機発光層１６３ｂが青色に発光することで、全体として白色発光となる。なお、ホール輸送層１６２にはＮＰＢ、オレンジ色の有機発光層１６３ａにはｔＢＡＤＮ＋ＤＢｚＲ、青色の有機発光層１６３にはＴＢＡＤＮ＋ＴＢＰ、電子輸送層１６４にはＡｌｑ3等が用いられる。
【００６５】
このような構成において、ゲート電極１２４の設定電圧に応じて、駆動ＴＦＴがオンすると、電源ラインからの電流が、透明電極１６１から対向電極１６６に流れ、この電流によって有機発光層１６３において、発光が起こり、この光が、対向電極１６６を通過し、また反射膜１６９で反射され、図における上方に射出される。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】第１実施形態の構成を示す図である。
【図２】第２実施形態の構成を示す図である。
【図３】第３実施形態の構成を示す図である。
【図４】第４実施形態の構成を示す図である。
【図５】第５実施形態の構成を示す図である。
【図６】第６実施形態の構成を示す図である。
【図７】第７実施形態の構成を示す図である。
【図８】一画素分の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０  基板、１２  ＴＦＴ層、１４  不透明領域、１４  陽極、１６，１６５  有機層、１８  陰極、２０  封止基板、２２  シール材、２４  カラーフィルタ、２６，３０  デシカント層、２８  支持部材、３２  ＰＢＬ層、３６  平坦化層、３８  水分ブロック層、４０  応力緩和層、１１１  バッファ層、１１３  ゲート絶縁膜、１１５  層間絶縁膜、１１７，１６７  平坦化膜、１２２  能動層、１２２ｃ  チャネル領域、１２２ｄ  ドレイン領域、１２２ｓ  ソース領域、１２４  ゲート電極、１２６  ドレイン電極、１３０  ガラス基板、１５３  ソース電極、１６１  透明電極、１６２  ホール輸送層、１６３  有機発光層、１６３ａ，１６３ｂ  有機発光層、１６４  電子輸送層、１６６  対向電極、１６９  反射膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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