(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィ技術やダイヤモンド圧子の押圧技術を用いず、表面の凹凸分布が理想的で容易に量産し得る光拡散反射板の製造方法を提供する。【解決手段】この光拡散反射板の製造工程の場合、レジスト膜形成段階で基体２１上にレジスト膜２２を形成し、凹凸形成初期段階でＣＡＤデータを入力した直描装置２３によりレーザ光Ｌをレジスト膜２２上に順次照射し、凹凸形成後期段階でレジスト膜２２上に放物面を有する不規則な窪み２４を連続的に形成して光拡散反射板材を得た後、金属反射膜形成段階で光拡散反射板材のレジスト膜２２に形成された不規則な凹凸の表面に対してメッキ，蒸着，スパッタリング等により薄い金属反射膜２５を成膜形成して光拡散反射板を完成する。レーザ光Ｌの照射の場合、理想形状の放物面状の窪み２４を連続的に作成でき、その露光量を変化させれば窪み２４の深さや大きさを自在に変化させた凹凸を形成できる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹凸が形成された光拡散反射板の製造に際して、基体の表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成段階と、前記レジスト膜に対してフォトマスクを用いずにレーザ光を順次照射し、該レジスト膜の表面を一部除去して凹面状の窪みを設けることにより該レジスト膜の表面に不規則な凹凸を形成して光拡散反射板材を得る凹凸形成段階とを有することを特徴とする光拡散反射板の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の光拡散反射板の製造方法において、前記凹凸形成段階では、前記凹面状の窪みの形状を近似的に放物面とすることを特徴とする光拡散反射板の製造方法。
【請求項３】
表面に凹凸が形成された光拡散反射板の製造に際して、基体の表面に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いずにレーザ光を順次照射し、該レジスト膜の表面を一部除去して該表面に近似的に方物面を成す不規則な凹面状の窪みを設けて母型の基体を作成する母型作成段階と、前記母型の基体に基づいて雌型の押し型を作成する押し型作成段階と、基板の表面に形成されたレジスト膜に対して前記押し型を押圧することにより表面に不規則な凹面状のパターンを示す窪みが形成された構造の光拡散反射板材を得る押し型押圧段階とを有することを特徴とする光拡散反射板の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一つに記載の光拡散反射板の製造方法において、前記光拡散反射板材の前記レジスト膜に形成された前記不規則な凹凸の表面に対して金属反射膜を形成して光拡散反射板を得る金属反射膜形成段階を有することを特徴とする光拡散反射板の製造方法。
【請求項５】
請求項４記載の光拡散反射板の製造方法において、前記金属反射膜形成段階では、前記金属反射膜をメッキ，蒸着，或いはスパッタリング法の何れか一つにより成膜することを特徴とする光拡散反射板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主として液晶表示装置の液晶ディスプレイに用いられると共に、反射光の散乱を最適な状態に制御できる機能を有し、且つ表面に凹凸が形成された光拡散反射板を容易に量産し得る光拡散反射板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニクトを具備した透過型の製品が主流であったが、昨今では携帯用端末の普及等によって省電力化の要求が強まり、半透過型及び反射型の液晶ディスプレイの需要が増加しつつある。
【０００３】
このような半透過型及び反射型の液晶ディスプレイには、表示のカラー化が進む中で輝度の向上が求められており、これに伴って液晶ディスプレイの入射光の反射効率を向上させることが重要視されている。周知の半透過型及び反射型の液晶ディスプレイでは、液晶パネルの下部にアルミニウム板等から成る反射板を設置し、パネル上部からの入射光を反射させることにより輝度を得ていたが、この手法では反射板の表面が平坦であるため、入射光が反射される方向が揃ってしまい、そのために使用者が液晶ディスプレイを見る際の指向性を制御することができないという問題がある。
【０００４】
そこで、反射型液晶ディスプレイにおけるこうした欠点を改良するため、光拡散反射板を用いる技術が提案されている。因みに、光拡散反射板とは、反射板の表面に細かい凹凸形状を付与することで反射光の反射の向きを拡散し、使用者の見る角度が変化しても一定範囲内ならば同じような輝度が得られるようにしたものである。反射板の表面に凹凸を形成する方法としては、サンドブラスト処理により反射板の表面に細かい凹凸を形成した後、その上に金属膜を成膜する手法が知られている。
【０００５】
ところが、この手法では、表面の凹凸形状を任意の形状に制御することが困難であるために拡散光の指向性を十分に制御できず、結果として使用者の見る角度による反射光の輝度の変化が生じていた。
【０００６】
ここでの問題を解消すべく、光拡散反射板表面の凹凸形状を制御して反射光の輝度変化を抑制するための技術としては、例えば半導体製造技術であるフォトリソグラフィ技術を応用することが提案されている（特許文献１参照）。
【０００７】
この特許文献１で提案されている方法は、２値マスクを使用するもので、露光装置の光学系で決定される分解能よりも小さなパターンを２値マスクに形成することにより、形状の制御されたグレースケールを出力するものである。具体的に言えば、マスクパターンとして、穴開きマスクパターンのフォトマスク４２を用いることにより、基体上に成膜されたレジスト膜上には階段状のエネルギー分布を示す露光量が照射されることになるため、ネガレシストを用いた場合には、結果として微細形状デザインのレジスト膜を形成することができる。この際、フォトマスクのパターン形状は任意に変更することができるので、レジスト膜の厚さ方向の形状も自在に制御することが可能である。従って、使用者の見る角度による反射光の輝度変化のばらつきが殆どない理想的な光拡散反射板を製造することができる。
【０００８】
又、フォトリソグラフィ技術を用いずに光拡散反射板表面の凹凸形状を制御する手法として、円錐体で先端部を理想的な曲面形状としたダイヤモンド圧子を用い、係るダイヤモンド圧子を平坦な金属板上に順次押圧して凹凸を形成する技術も提案されている（特許文献２参照）。この特許文献２では、ダイヤモンド圧子を押圧する深さ及び隣り合う凹凸の間隔を不規則に変化させるようにし、最終製品の反射型液晶ディスプレイにモアレ等が生じることを防止できる構成とした上、係る手法により表面に凹凸を作成した金属板を母型として先ず樹脂材料から成る転写型を作成し、次いでガラス基板上にレジスト膜を形成してその上面に転写型を押圧して凹凸を形成し、紫外線硬化した後に金属膜を設けて光拡散反射板を得るものである。
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−３１１５６５号公報（段落［００３４］乃至［００３８］、図４）
【特許文献２】特開２００４−４８９２号公報（段落［００１０］乃至［００１３］）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上述した光拡散反射板表面の凹凸形状を制御して反射光の輝度変化を抑制するための周知技術として、特許文献１に係るフォトリソグラフィ技術を用いる場合、光拡散反射板はそれが用いられる液晶画面とほぼ同等の面積が必要とされるが、そのような面積のパターンをフォトリソグラフィ技術で描画するには非常に時間を要し、その描画処理工程に長時間を要してしまうという問題があり、更に、この描画処理工程の時間を短縮させるためには露光量を増加させる措置が考えられるものの、こうした場合には高価なフォトマスクの寿命低下を招いてしまうという問題がある。
【００１１】
又、特許文献２に係るフォトリソグラフィ技術を用いずに光拡散反射板表面の凹凸形状を制御する手法の場合、先端部の形状が厳密に規定されたダイヤモンド圧子（押し型）を作成する工程を有しているが、一般に押圧技術により形成される凹部の差し渡し距離は数μｍ〜数十μｍ程度の範囲であり、この範囲において形状を厳密に制御した押し型を作成することには大変困難を伴う上、ダイヤモンドについては硬くて加工し難い，比較的欠け易い，薬品によるエッチングを行う場合には制御が困難である等、取り扱い難いという性質を有するため、結果として押し型を量産し得る規模で作成することが技術的に非常に困難であるという問題がある。
【００１２】
本発明は、このような問題点を解決すべくなされたもので、その技術的課題は、フォトリソグラフィ技術やダイヤモンド圧子の押圧技術を用いることなく、表面の凹凸分布が理想的で容易に量産し得る光拡散反射板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明によれば、表面に凹凸が形成された光拡散反射板の製造に際して、基体の表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成段階と、レジスト膜に対してフォトマスクを用いずにレーザ光を順次照射し、該レジスト膜の表面を一部除去して凹面状の窪みを設けることにより該レジスト膜の表面に不規則な凹凸を形成して光拡散反射板材を得る凹凸形成段階とを有する光拡散反射板の製造方法が得られる。
【００１４】
又、本発明によれば、上記光拡散反射板の製造方法において、凹凸形成段階では、凹面状の窪みの形状を近似的に放物面とする光拡散反射板の製造方法が得られる。
【００１５】
更に、本発明によれば、表面に凹凸が形成された光拡散反射板の製造に際して、基体の表面に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いずにレーザ光を順次照射し、該レジスト膜の表面を一部除去して該表面に近似的に方物面を成す不規則な凹面状の窪みを設けて母型の基体を作成する母型作成段階と、母型の基体に基づいて雌型の押し型を作成する押し型作成段階と、基板の表面に形成されたレジスト膜に対して押し型を押圧することにより表面に不規則な凹面状のパターンを示す窪みが形成された構造の光拡散反射板材を得る押し型押圧段階とを有する光拡散反射板の製造方法が得られる。
【００１６】
加えて、本発明によれば、上記何れか一つの光拡散反射板の製造方法において、光拡散反射板材のレジスト膜に形成された不規則な凹凸の表面に対して金属反射膜を形成して光拡散反射板を得る金属反射膜形成段階を有する光拡散反射板の製造方法が得られる。この光拡散反射板の製造方法において、金属反射膜形成段階では、金属反射膜をメッキ，蒸着，或いはスパッタリング法の何れか一つにより成膜することが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の光拡散反射板の製造方法の場合、基体の表面に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いずにレーザ光を順次照射し、レジスト膜に不規則な窪みを順次形成することを基本とし、更に、得られた光拡散反射板材の不規則な凹凸の表面に対して金属反射膜を形成して光拡散反射板を製造するか、或いは得られた母型の基体に基づいて作成した雌型の押し型を基板の表面に形成されたレジスト膜に対して押圧することで得られる光拡散反射板材の不規則な凹凸の表面に対して同様に金属反射膜を形成して光拡散反射板を製造するようにしているため、特許文献１の場合のようにフォトリソグラフィ技術に係るフォトマスクを用いて長時間レーザ光を照射したり、或いは特許文献２の場合のように製造が困難な高精度のダイヤモンド圧子を用いる必要なく、レーザ光の照射によって高精度に制御された窪み形状を連続的に作成可能となり、且つ窪みの形成時には各窪み毎の深さと幅とを独立して制御することも容易であることにより、従来よりも表面の凹凸分布が理想的な光拡散反射板を容易に量産し得るようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
最初に、本発明の光拡散反射板の製造方法に係る技術的概要を説明する。一般に、光拡散反射板の表面に形成される凹凸の分布は、光拡散反射板を含む液晶画面の正面に仮想的に設けた光源からの反射光の強度が使用者の見る角度に依らず一定となる場合が好適である。但し、液晶画面の表面に対して浅い角度から見る場合まで考慮すると、反射光の光量が不足するので、実際には正面から２０度〜３０度の角度範囲のみで明瞭に視認でき、それを越える角度では反射散乱光がゼロとなる場合が理想的である。
【００１９】
このような角度分布の視認性を実現する凹凸面形状の―つには、各凹凸が放物面の形状を成す場合が挙げられる。仮に光拡散反射板の表面に放物面を不規則に並べて形成できれば、表面が理想的な凹凸分布を示す光拡散反射板を実現することが可能である。因みに、放物面の並び方が規則的となる場合には液晶面面の表面に干渉縞を生じる可能性があるので不適当である。尚、ここでの放物面は計算上では上向き凸でも下向き凸でも構わないが、実際には隣り合う放物面同士の境界を成すエッジ部の効果が加わるため、下向き凸の窪みの場合のみを採用することが好ましい。
【００２０】
そこで、光拡散反射板の表面に放物面を不規則に並べて形成するためには、基体の表面に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いずにレーザ光を順次照射するスポクト照射を行うと、放物面に近い形状の不規則な窪みを形成することが可能となる。
【００２１】
図１は、本発明の光拡散反射板の製造方法に適用されるレーザ光の照射による基体上のレジスト膜に対する窪みの形成を説明するために示した模式図であり、同図（ａ）はビームの幅Ｗ及び照射エネルギーＥの関係で表わされるビームスポット内でのエネルギー分布に関するもの，同図（ｂ）はビームの幅Ｗ及びレジスト膜の厚さｄの関係で表わされるビームに対応して形成される窪み形状に関するものである。
【００２２】
一般に、レーザ光によるビームスポット内でのエネルギー分布は、図１（ａ）に示されるようにほぼガウス分布となることが知られており、レジスト材等の感光材料に照射を行った場合の深さ方向の感光領域もこのガウス分布に従う。そこで、先ず基体の表面にレジスト膜を塗布してレジスト膜を形成し、次いでレーザ光の照射を行ってレジスト膜の表面を感光させて除去することにより、レジスト膜の表面に図１（ｂ）に示されるようにガウス分布の形状、即ち、下向き凸の方物面Ｍを成す凹面状の窪み１１を形成することが可能である。
【００２３】
このようなレジスト膜表面の除去を可能にするために用いるレジスト材の種類は、使用するレーザ光の波長に応じて適切に選択し、レーザ光の照射時にレジスト膜の除去部位の軟化，溶融，並びに分解がスムーズに進むように考慮すれば良い。好適な例としては、エキシマレーザと単分散ポリヒドロキシスチレンのレジスト膜との組み合わせを用いる場合が挙げられる。
【００２４】
ところで、ガウス分布の場合、図１（ａ）に示されるエネルギー分布のグラフにおいて、中央値付近の点線で囲まれる半値幅△Ｗに対応する領域については、放物線（２次曲線）で近似することが可能である。これはガウス関数を級数展開した場合に２次の項までを採用した場合に相当し、半値幅△Ｗよりも内側の領域では良い近似を示すため、これによりレーザ光のスポット照射により形成される窪み１１の形状は、その中央部近傍では放物面Ｍに近い形状となる。
【００２５】
従って、レーザ光の照射が互いに重なり合うように行ってガウス分布形状の照射領域の周辺部分が極力残存しないようにすると共に、その際のレーザの露光量を変化させることで、放物面Ｍを有する窪み１１の深さや大きさを自在に変化させた形状の不規則な凹凸をレジスト膜の表面に形成することが可能となる。
【００２６】
又、レーザ光の照射によりレジスト膜の表面に形成される各凹凸の差し渡し距離は、１μｍ〜１００μｍの範囲、深さは０．１μｍ〜１０μｍの範囲とし、より好適には差し渡し距離を５μｍ〜５０μｍの範囲、深さを０．３μｍ〜３μｍの範囲とすることが望ましい。これは各凹凸の差し渡し距離は液晶ディスプレイに入射する波長より大きく、且つ液晶を構成するカラーフィルタにおける各セルの一辺の長さより小さくしなければならないためである。
【００２７】
更に、窪み１１の深さを大きく取るにはレジスト膜を厚くすると共に、レーザ光のスポット照射量を大きくする必要があるが、その場合には形成される窪み１１の形状の制御が困難になってしまう他、厚いレジスト膜は平坦な膜を形成することが難しいという問題があり、逆に窪み１１の深さを浅くし過ぎた場合には入射光の散乱の効果が低くなり、単なる平面反射板と特性が同じになってしまうという問題があるため、窪み１１の深さは上述した範囲に保つ必要がある。
【００２８】
以上の技術的概要に基づく本発明の最良の形態に係る光拡散反射板の製造方法の一つは、表面に凹凸が形成された光拡散反射板の製造に際して、基体の表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成段階と、レジスト膜に対してフォトマスクを用いずにレーザ光を順次照射し、レジスト膜の表面を一部除去して凹面状の窪みを設けることによりレジスト膜の表面に不規則な凹凸を形成して光拡散反射板材を得る凹凸形成段階とを有するもの（但し、凹凸形成段階では、凹面状の窪みの形状を近似的に放物面とすることが好ましい）であり、もう一つは、基体の表面に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いずにレーザ光を順次照射し、レジスト膜の表面を一部除去して表面に近似的に方物面を成す不規則な凹面状の窪みを設けて母型の基体を作成する母型作成段階と、母型の基体に基づいて雌型の押し型を作成する押し型作成段階と、基板の表面に形成されたレジスト膜に対して押し型を押圧することにより表面に不規則な凹面状のパターンを示す窪みが形成された光拡散反射板材を得る押し型押圧段階とを有するものであり、何れの場合にも、更に光拡散反射板材のレジスト膜に形成された不規則な凹凸の表面に対して金属反射膜を形成して光拡散反射板を得る金属反射膜形成段階を有するもの（但し、金属反射膜形成段階では、金属反射膜をメッキ，蒸着，或いはスパッタリング法の何れか一つにより成膜することが好ましい）である。
【００２９】
以下は、本発明の光拡散反射板の製造方法について、幾つかの実施例を挙げて具体的に説明する。
【実施例１】
【００３０】
図２は、本発明の実施例１に係る光拡散反射板の製造方法により作成される光拡散反射板の製造工程を段階別に示した側面断面図であり、同図（ａ）は基体準備段階に関するもの，同図（ｂ）はレジスト膜形成段階に関するもの，同図（ｃ）は凹凸形成初期段階に関するもの，同図（ｄ）は凹凸形成後期段階に関するもの，同図（ｅ）は金属反射膜形成段階に関するものである。
【００３１】
実施例１に係る光拡散反射板の製造工程では、先ず図２（ａ）に示す基体準備段階において、所定の厚さの薄板状の基体２１を準備し、次に図２（ｂ）に示すレジスト膜形成段階において、基体２１の表面にレジスト膜２２を形成する。このレジスト膜２２の形成には、スピンコート等を利用でき、膜厚を１μｍ〜５μｍの範囲にして形成する。
【００３２】
更に、図２（ｃ）に示す凹凸形成初期段階において、作成済みのＣＡＤデータを入力した直描装置２３によりレーザ光Ｌをレジスト膜２２上に順次照射し、これにより図２（ｄ）に示す凹凸形成後期段階として、レジスト膜２２上に放物面を有する不規則な窪み２４を連続的に形成して光拡散反射板材を得る。尚、凹凸形成初期段階で直描装置２３に入力されるＣＡＤデータは、予め不規則な窪み２４を形成するためのレーザ光Ｌのスポット照射によるパターンを示すプログラムとして外部装置に記憶されているもので、直描装置２３がそのＣＡＤデータに従ってレーザ光Ｌの位置，焦点，深さ，照射エネルギーをそれぞれ独立的に制御することにより、結果として凹凸形成後期段階で連続的に不規則な窪み２４による凹凸をレジスト膜２２上に形成できるようになっている。
【００３３】
尚、レジスト膜２２へのレーザ光Ｌのスポット照射によるレジスト膜２２の表面に対する凹凸形成により光拡散反射板材を得た後、この光拡散反射板材におけるレジスト膜２２の領域を加熱して硬化させるようにすれば、レジスト膜２２の基体２１への密着性を強化することができる。ここまでの段階で得られた光拡散反射板材の凹凸を有する表面は、入射光を散乱させつつ、全て反射させる機能を持つことになる。
【００３４】
この後、図２（ｄ）に示す金属反射膜形成段階として、光拡散反射板材のレジスト膜２２に形成された不規則な凹凸の表面に対してメッキ，蒸着，スパッタリング等の手法により薄い金属反射膜２５を成膜形成し、これにより光拡散反射板を完成する。ここで得られた光拡散反射板には、入射光を反射する機能が付加される。
【００３５】
図３は、このようにして作成された光拡散反射板の表面に設けられた凹凸を示した外観斜視図である。ここでは、レジスト膜２２の表面に対してレーザ光Ｌのスポット照射のパターンとして、不規則な繰り返しパターンを導入することにより不規則な窪み２４を形成した後、その上に金属反射膜２５を形成した結果、金属反射膜２５の表面に形成された不規則な窪み２４を持つ凹凸を有する光拡散反射板が得られた様子を示している。
【実施例２】
【００３６】
図４は、本発明の実施例２に係る光拡散反射板の製造方法により作成される光拡散反射板の製造工程を段階別に示した側面断面図であり、同図（ａ）は押し型作成段階に関するもの，同図（ｂ）は押し型押圧段階に関するものである。
【００３７】
実施例２に係る光拡散反射板の製造工程では、先ず実施例１に係る製造工程のうちの図２（ａ）に示す基体準備段階，図２（ｂ）に示すレジスト膜形成段階，図２（ｃ）に示す凹凸形成初期段階，及び図２（ｄ）に示す凹凸形成後期段階を一連の工程とすること、即ち、基体２１の表面に形成されたレジスト膜２２に対してフォトマスクを用いずにレーザ光Ｌを順次照射し、レジスト膜２２の表面を一部除去して表面に近似的に方物面を成す不規則な凹面状の窪み２４を設けることにより、これらの処理を経た基体を加熱することで硬化して母型を作成する母型作成段階を実行する。ここで得られる母型は、図２（ｄ）に示した凹凸形成後期段階を経て形成されたものと同様な構造となっている。
【００３８】
次に、図４（ａ）に示す押し型作成段階として、この表面に凹凸の不規則な窪み２４を有する母型の基体に対し、窪み２４を覆うように樹脂材料を流し込んで一定時間放置して硬化させることにより雌型の押し型２６を作成する。樹脂材料としてはシリコーン等が好適である。ここで得られる雌型の押し型２６は、母型から取り出した状態で示されるものである。
【００３９】
更に、図４（ｂ）に示す押し型押圧段階として、基板２７の表面に形成されたレジスト膜としての感光性樹脂層２８に対して押し型２６を一定時間押圧することにより、表面に放物面状の窪みが形成された不規則な凹凸パターンを示す光拡散反射板材を得る。ここでの押圧時の圧力及び時間は、感光性樹脂層２８の種類や厚さにより決められるが、一般に圧力を１０ｋｇ／ｃｍ２〜１００ｋｇ／ｃｍ２の範囲、時間を数秒〜１０分程度の範囲とする条件が適当である。基板２７の材料には金属又はガラス板を使用することが好適であり、感光性樹脂層２８は基板２７の表面にアクリル系レジスト等に代表される感光性樹脂をスピンコート等の手法により塗布した後、プリベークを行うことで形成されるものである。
【００４０】
尚、ここでも押し型押圧段階を経た後、押し型２６を除去して紫外線等の光照射で硬化させ、更にポストベークを行って感光性樹脂層２８を焼成するようにし、感光性樹脂層２８の基板２７への密着性を強化させることが好ましい。
【００４１】
最後に、図２（ｄ）に示した金属反射膜形成段階を実行し、光拡散反射板材の感光性樹脂層２８に形成された不規則な凹凸の表面に対してメッキ，蒸着，スパッタリング等の手法により薄い金属反射膜２５を成膜形成し、これにより光拡散反射板を完成する。
【００４２】
以上の雌型の押し型２６を作成して感光性樹脂層２８に押圧する実施例２に係る手法では、１つの雌型の押し型２６により多数の光拡散反射板を作成することが可能であり、しかも押圧によって凹凸を形成するために製造に要する時間も短縮することができる。このように雌型の押し型２６を用いて光拡散反射板を作成する手法は実施例１で説明した各光拡散反射板に個別にレーザ光で凹凸を描画する場合に比べてより量産に適しており、実際の製造においては実施例２の手法の方が主流になるものと考えられる。
【００４３】
尚、各実施例で説明した基体２１や基板２７の材質、雌型の押し型２６を作成するための樹脂や感光性樹脂層２８の材料である感光性樹脂の種別、それらの硬化方法については開示した内容に限定されるものではなく、各実施例で共通する基本技術であるフォトマスクを用いずにレーザ光をレジスト膜２２の表面に照射することにより近似的に方物面を成す不規則な凹面状の窪み２４を形成できるものであれば、任意の場合において適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明の光拡散反射板の製造方法により得られる光拡散反射板は、従来よりも表面の凹凸分布が理想的となって反射光の散乱を最適な状態に制御できるため、単に液晶ディスプレイの視野角の改善に用いられるのみならず、例えばプロジェクタ（映写機）と共に使用される投影スクリーンの表面に応用することにより、スクリーンの視野角の改善にも効果を発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の光拡散反射板の製造方法に適用されるレーザ光の照射による基体上のレジスト膜に対する窪みの形成を説明するために示した模式図であり、（ａ）はビームの幅及び照射エネルギーの関係で表わされるビームスポット内でのエネルギー分布に関するもの，（ｂ）はビームの幅及びレジスト膜の厚さの関係で表わされるビームに対応して形成される窪み形状に関するものである。
【図２】本発明の実施例１に係る光拡散反射板の製造方法により作成される光拡散反射板の製造工程を段階別に示した側面断面図であり、（ａ）は基体準備段階に関するもの，（ｂ）はレジスト膜形成段階に関するもの，（ｃ）は凹凸形成初期段階に関するもの，（ｄ）は凹凸形成後期段階に関するもの，（ｅ）は金属反射膜形成段階に関するものである。
【図３】図２（ａ）〜（ｅ）で説明した製造工程を経て作成された光拡散反射板の表面に設けられた凹凸を示した外観斜視図である。
【図４】本発明の実施例２に係る光拡散反射板の製造方法により作成される光拡散反射板の製造工程を段階別に示した側面断面図であり、（ａ）は押し型作成段階に関するもの，（ｂ）は押し型押圧段階に関するものである。
【符号の説明】
【００４６】
１１，２４  窪み
２１  基体
２２  レジスト膜
２３  直描装置
２５  金属反射膜
２６  押し型
２７  基板
２８  感光性樹脂層
【図１】
2006215115.tif 000003
【図２】
2006215115.tif 000004
【図３】
2006215115.tif 000005
【図４】
2006215115.tif 000006