(57)【要約】【課題】高輝度表示装置での使用における光学ムラを抑制する。【解決手段】支持体５３の上の流延膜５９に対して、給気ダクト６１から送風するとともに排気ダクト６２から排気する。さらに給気ダクト６１と排気ダクト６２との間には、送風が流延膜５９の走行方向に沿って流れるように風の向きを制御するためのガイド板６４を複数設ける。得られるフィルムについて長尺方向と交差する方向での厚みを複数測定してみると、その厚みのばらつきは平均厚みに対して±２μｍ以内であり、測定開始点から各測定点までの距離ｄＸｎに対する厚みｄＹｎの変化率から求められる分散値Ｖ＝Σ｛（ｄＹｎ）／（ｄＸｎ）｝2 ／ｎが３００×１０-5未満である。このフィルムを高輝度の液晶表示装置の偏光板保護フィルム等として用いると、縦横方向における光学ムラがなく、良好な表示性能を発現する。【選択図】        図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液製膜方法または溶融押出製膜方法により長尺状に製造され、
前記長尺方向と交差（ただし、９０°を除く）する方向に沿って連続的に測定される厚みの変動幅が平均厚みに対して±２μｍ以内であることを特徴とするポリマーフィルム。
【請求項２】
溶液製膜方法または溶融押出製膜方法により長尺状に製造され、
前記長尺方向と交差（ただし、９０°を除く）する方向に沿って連続的に測定された厚みデータから任意に抽出される測定値数Ｎをｎ個（ただし、ｎは５以上の自然数）とするとともに、前記測定の開始位置ＰＳと前記抽出された各測定値に対応する前記測定の位置Ｐｎとの間の各距離Ｘｎ（単位；ｍｍ）に対する前記各厚みＹｎ（単位；μｍ）の変化率を（ｄＹｎ）／（ｄＸｎ）とするときに、Ｖ＝Σ｛（ｄＹｎ）／（ｄＸｎ）｝2 ／ｎにより求められるＶが３００×１０-5未満であることを特徴とするポリマーフィルム。
【請求項３】
発光体と偏光板とを有する液晶表示装置の前記偏光板に備えられ、かつ、偏光膜の表面に保護膜を有する前記偏光板の前記保護膜として用いられ、
前記発光体の輝度が８０００カンデラ以上５００００カンデラ以下であることを特徴とする請求項１または２記載のポリマーフィルム。
【請求項４】
流延ダイから走行する支持体にポリマー溶液を流延して流延膜とし、前記流延膜を剥がして溶媒を含んだ状態のフィルムを形成する流延装置と、前記フィルムを乾燥する乾燥装置とを備える溶液製膜設備において、
前記流延膜に風を吹き付ける給気手段と、前記流延膜から蒸発した前記溶媒を含んだ前記風を前記給気手段の下流側で排気する排気手段とが、前記支持体の近傍に備えられるとともに、
前記流延膜の走行方向に沿って前記風を流すためのガイド板が前記給気手段と前記排気手段との間に複数の設けられることを特徴とする溶液製膜設備。
【請求項５】
走行する支持体にポリマー溶液を流延して流延膜とし、前記流延膜を剥がして溶媒を含んだ状態のフィルムを形成した後に、前記フィルムを乾燥させる溶液製膜方法において、
所定の硬さにまで固まった前記流延膜に対して給気手段により風を吹き付け、
前記風の流れ方向を制御するためのガイド手段により前記流延膜の走行方向に沿って前記風を流すとともに、
前記流延膜から蒸発した前記溶媒が含まれた風を排気手段により回収することを特徴とする溶液製膜方法。
【請求項６】
前記流延膜が前記所定硬さとなるまでは、前記流延膜近傍を無風とすることを特徴とする請求項５記載の溶液製膜方法。
【請求項７】
前記無風下の前記流延膜から蒸発した前記溶媒を凝縮手段により凝縮させることによって、前記流延膜の乾燥を促進させることを特徴とする請求項６記載の溶液製膜方法。
【請求項８】
前記支持体の反流延面側を加熱手段により加熱することによって、前記無風下の前記流延膜を前記所定硬さにまで乾燥することを特徴とする請求項６または７記載の溶液製膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマーフィルム及び溶液製膜方法、設備に関するものであり、特に、偏光板や液晶表示装置等に用いられるポリマーフィルム、及びその製造方法としての溶液製膜方法及び設備に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は偏光板と光学補償フィルムとを備えており、その偏光板は、多くの場合には偏光膜の両面に保護膜を有する構造とされている。近年では、光学補償フィルムを、偏光板の保護膜の一方に代えることがあり、例としては楕円偏光板がある。これにより、液晶表示装置の正面コントラストを向上させることができ、表示装置の薄型化が可能となってきている。
【０００３】
一方、液晶表示装置は需要が急速に拡大しており、特に液晶テレビの表示装置として需要が高まっている。液晶テレビでは、従来より使用されている液晶表示装置を有する各種測定機器やコンピュータに比べ、その表示装置に対する高輝度化、大画面化が要望されている。
【０００４】
ところで、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルムや保護膜等をはじめとした各種光学フィルムは、素材の種類に応じて溶液製膜方法または溶融製膜方法のいずれかにより製造されている。特に、溶液製膜方法で製造されるセルロースアシレートフィルムは、透明性や光学等方性、適度な透湿性等により、光学補償機能を備えた保護フィルムとして代表的なものである。
【０００５】
そして、ＴＮモードの液晶表示装置における光学補償フィルムや、その他の液晶表示装置に用いられる視野角拡大フィルム等に例示される光学用途に用いられるポリマーフィルムには、従来より、所定の光学機能を発現させるために、その厚みのばらつき（厚み変動）を抑制すべく多くの提案がされてきた。例えば、特許文献１に提案される方法では、発泡や支持体からの剥ぎ残りを抑制してフィルムの平面性を向上させるために、流延するポリマー溶液の固形分濃度を所定の値とするとともに、溶媒の成分比率と支持体温度とを所定の値としている。
【特許文献１】特公平５−１７８４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１をはじめとする従来の方法により製造されるポリマーフィルムは、従来の液晶表示装置に対しては満足する性能を示すものの、上記のように高輝度・大画面とされる液晶表示装置に用いられると、表示ムラ（光学ムラ）が多く確認されるという問題がある。そして、この表示ムラは、液晶表示装置の縦方向と横方向との両方向に線状に表れることが多い。
【０００７】
ここで、液晶表示用のフィルムの製造方法について説明する。図８は、溶液製膜方法により製造されたフィルムを、液晶表示装置用に用いる場合の切断方法の説明図である。溶液製膜方法では、ポリマー溶液を走行する支持体上に流延して剥ぎ取り、これを乾燥することにより連続的にポリマーフィルムが製造される。乾燥工程においては、ポリマー分子の配向を所定の状態とするために、通常、フィルムの両側端部を保持手段で保持しながら、幅方向に張力を加える。この配向の方向性を考慮して切断は実施される。図８において、Ｘ方向は長尺方向、Ｙ方向は幅方向を示しており、破線は切断線を表す。図８に示すように、長尺方向に対し４５°の角度で、複数枚のポリマーフィルムシートが得られるように切断がされる。なお、長尺方向に対して４５°とは、幅方向に対しても４５°であることを意味する。図８には、例として、５枚のシート（ａ）〜（ｅ）を、長尺方向に対して４５°の方向に沿って得る場合を示している。
【０００８】
これらのシートについて、光学ムラを調べてみると、（ａ）〜（ｅ）のすべてのシートに光学ムラが検出され、その光学ムラは、フィルム２０１の幅方向における中央から側縁に向かうに従い顕著に表れるという問題がある。なお、光学ムラの検査は、クロスニコル配置とした２枚の偏光板の間に、シートのサンプルを挟んで観察するという周知の方法による。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、本発明者らは、上記のシートについて、さらに光学ムラの原因について考察した。図８に示したフィルムのシートのうち、二点破線で囲まれたシート（ｃ）について、光学ムラとフィルム厚みとの関係を調べた。そして、シート（ｃ）において認められた光学ムラに対してマーキングをした。図８における拡大図には、そのマーキングの状態を示している。この拡大図によると、マーキングがＸ方向及びＹ方向に対して４５°の方向になされていることがわかる。そして、このマーキングに沿って、つまり前記４５°の方向で厚みを測定してみると、マーキングがない部分に比べて厚みムラが顕著に確認された。
【００１０】
上記のような光学用途のフィルムは、その平均厚みが２０〜１００μｍであることが好ましく、図９には、平均厚みが９０μｍであるフィルムについて、前記４５°の角度の方向に沿って測定された厚みデータを示している。（ａ）は、図８に示したフィルム２０１の厚みデータであり、（ｂ）は、別のフィルムの厚みデータである。（ａ），（ｂ）のデータを見ると、ともに、厚み変動は１μｍ程度であり、平均厚みに対する変動幅の割合は１２％程度であり、非常に小さいことがわかる。しかし、このようなフィルムであっても、高輝度、大画面の例えば液晶テレビに用いると前記のような光学ムラがあり、単に厚み変動を所定の範囲にするだけでは、所定の表示状態を発現させることができないことがわかった。
【００１１】
そこで、上記の検討結果を踏まえ、高輝度、大画面の液晶表示装置に使用しても光学ムラを発現しないポリマーフィルムを以下の通り提供するに至った。つまり、本発明のポリマーフィルムは、溶液製膜方法または溶融押出製膜方法により長尺状に製造され、前記長尺方向と交差（ただし、９０°を除く角度）する方向に沿って連続的に測定される厚みの変動幅が平均厚みに対して±２μｍ以内であることを特徴として構成されている。
【００１２】
また、本発明のポリマーフィルムは、溶液製膜方法または溶融押出製膜方法により長尺状に製造され、この長尺方向と交差（ただし、９０°を除く角度）する方向に沿って連続的に測定された厚みデータから任意に抽出される測定値数Ｎをｎ個（ただし、ｎは５以上の自然数）とするとともに、前記測定の開始位置ＰＳと前記抽出された各測定値に対応する測定の位置Ｐｎとの間の各距離Ｘｎ（単位；ｍｍ）に対する各厚みＹｎ（単位；μｍ）の変化率を（ｄＹｎ）／（ｄＸｎ）とするときに、Ｖ＝Σ｛（ｄＹｎ）／（ｄＸｎ）｝2 ／ｎにより求められるＶが３００×１０-5未満であることを特徴として構成されている。
【００１３】
発光体と偏光板とを有する液晶表示装置の前記偏光板に備えられ、かつ、偏光膜の表面に保護膜を有する前記偏光板の前記保護膜として用いられ、前記発光体の輝度が５０００カンデラ以上５００００カンデラ以下であることが好ましい。
【００１４】
また、本発明は、流延ダイから走行する支持体にポリマー溶液を流延して流延膜とし、前記流延膜を剥がして溶媒を含んだ状態のフィルムを形成する流延装置と、このフィルムを乾燥する乾燥装置とを備える溶液製膜設備において、前記流延膜に風を吹き付ける給気手段と、流延膜から蒸発した溶媒を含んだ前記風を給気手段の下流側で排気する排気手段とが、支持体の近傍に備えられるとともに、流延膜の走行方向に沿って前記風を流すためのガイド板が給気手段と排気手段との間に複数の設けられることを含んで構成されている。
【００１５】
さらにまた本発明は、走行する支持体にポリマー溶液を流延して流延膜とし、前記流延膜を剥がして溶媒を含んだ状態のフィルムを形成した後に、フィルムを乾燥させる溶液製膜方法において、所定の硬さにまで固まった流延膜に対して給気手段により風を吹き付け、風の流れ方向を制御するためのガイド手段により流延膜の走行方向に沿って風を流すとともに、流延膜から蒸発した溶媒が含まれた風を排気手段により回収することを特徴として構成されている。
【００１６】
前記流延膜が前記所定硬さとなるまでは、流延膜近傍を無風とすることが好ましく、蒸発した溶媒を凝縮して回収する凝縮手段により前記無風下の流延膜から蒸発した溶媒を凝縮し、この凝縮により前記流延膜の乾燥を促進させることがより好ましい。また、支持体の反流延面側を加熱手段により加熱することによって、無風下の流延膜を前記所定硬さにまで乾燥することが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明により、光学ムラを抑制することができる。そして、これを高輝度、大画面の液晶表示装置に適用することにより、表示ムラ、特に、横方向と縦方向とに現れる表示ムラを効果的に抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
［原料］
以下に、本発明の実施様態について詳細に説明する。ただし、本発明はここに挙げる実施様態に限定されるものではない。まず、本発明のフィルムについて説明し、その後、フィルムの製造方法について述べるものとする。
【００１９】
図１には、本発明のフィルムについて説明する平面図であり、図２はフィルムの所定方向に沿って測定された厚みデータの一部を示す。本発明のフィルムは、後述する溶液製膜方法により長尺状に得ることができ、図１においてＸ方向とＹ方向とは９０°で交差しており、Ｘ方向は長尺方向、Ｙ方向は幅方向である。また、フィルムには符号８１を付す。このフィルム８１について、Ｘ方向と交差し、かつＹ方向を除く方向に沿って連続的に厚み測定を実施する。図１においては、測定するラインを破線ＭＬにて示している。また、厚み測定開始点ＰＳと測定終点ＰＥとは、ともに、用途に応じてカッティングされて使用される範囲を含むように決定することが好ましいが、必ずしもこれに限定されず、例えばシートにカッティングされて使用されるフィルムの場合には、一枚のシートを含む範囲毎に決定されてもよい。
【００２０】
図１に示すように、測定ラインＭＬ上で、複数の点を任意に抽出する。抽出された点（以降、抽出点と称する。）の数Ｎをｎ（ただし、ｎは２以上の自然数）とし、各抽出点には測定開始点側から順に符号Ｐ１，Ｐ２，・・・，Ｐ（ｎ−１），Ｐｎを付す。そして、測定開始点ＰＳから各抽出点Ｐ１，Ｐ２，・・・，Ｐ（ｎ−１），Ｐｎまでの距離をＸ１，Ｘ２，・・・，Ｘ（ｎ−１），Ｘｎとする。
【００２１】
また、図２の厚みデータにおいては、縦軸は厚み（単位；μｍ）を示し、横軸は測定ラインＭＬに沿った測定開始点ＰＳからの距離（単位；ｍｍ）を示す。そして、各抽出点Ｐ１，Ｐ２，・・・，Ｐ（ｎ−１），Ｐｎにおける厚みの変化率を求める。この厚みの変化率とは、図２においては、各抽出点Ｐ１，Ｐ２，・・・，Ｐ（ｎ−１），Ｐｎの測定開始点ＰＳからの距離Ｘ１，Ｘ２，・・・，Ｘ（ｎ−１），Ｘｎに対する変化率であり、図２のグラフ上の所定の点における傾きであって、ｄＹ1 ／ｄＸ1 ，ｄＹ2 ／ｄＸ2 ，・・・，ｄＹn-1 ／ｄＸn-1 ，ｄＹn ／ｄＸn で求められる値である。
【００２２】
そして、本発明のフィルムは、上記変化率の分散値Ｖを、Ｖ＝Σ｛（ｄＹｎ）／（ｄＸｎ）｝2 ／ｎで求めたときに３００×１０-5未満である。上記Ｖの値が３００×１０-5以上であると、所定の輝度以上の発光体を備える液晶表示装置の一部として用いた場合に、表示装置の横方向や縦方向に光学ムラが生じてしまう。Ｖの値は小さいほど好ましく、１５０×１０-5 未満であることがより好ましい。なお、このフィルム８１は、輝度が５０００カンデラ以上５００００カンデラ以下の発光体を備える液晶表示装置に偏光板の保護膜として用いると特に光学ムラが抑制されて優れた表示性能を発現する。また偏光板の保護膜以外にも、例えば光学補償フィルムとして好適に用いることができる。
【００２３】
なお、本実施形態においては、市販の厚み測定機（型式；電子マイクロメータ、アンリツ（株）社製）を用いて、斜め方向に連続して厚み測定を実施したが、上記のような抽出点Ｐ１，Ｐ２，・・・，Ｐ（ｎ−１），Ｐｎに対応するｎ箇所の測定点における厚みの変化率を求められる方法であれば必ずしも連続測定でなくともよい。この場合には、所定の測定ラインＭＬの一端から各測定点までの距離をＸｎとし、各測定点における厚みをＹｎとすると、所定位置からの距離Ｘｎに対する厚みＹｎの変化率（ｄＹｎ）／（ｄＸｎ）が求められ、これによりＶも求められることになる。
【００２４】
本発明のフィルムの厚みデータの一例を図３に示す。（ａ）は上記フィルム８１の厚みデータであり、（ｂ）は別のフィルムの厚みデータである。（ａ），（ｂ）ともに、縦軸は厚み変動（単位；μｍ）を示しており、また、横軸とは、図２と同じであるので説明を略す。縦軸については、平均厚みを、厚み変動がゼロとして示している。図３の（ａ），（ｂ）にともに示されるように、本発明のフィルムは、斜め方向に関し、その平均厚みに対する厚み変動幅Ｆが±２μｍ以内となっている。これにより斜め方向における光学ムラが抑制されている。したがって、これらのフィルムを高輝度・高画質の液晶表示装置に用いても縦横方向の表示ムラを発現することがない、という効果がある。
【００２５】
また、（ａ）と（ｂ）とを比較すると、両グラフの山と谷とはほぼ同じピッチで現れていることがわかる。そして、グラフ上のいずれの点における変化率の分散値Ｖもすべて３００×１０-5未満となっている。そして、これらのフィルムを、輝度が５０００カンデラ以上５００００カンデラ以下の発光体を備える液晶表示装置に偏光板の保護膜として用いて評価すると、いずれの場合にも光学ムラは確認されず、いずれも優れた表示性能を発現する。なお、５０００カンデラ未満の輝度の発光体を備える液晶表示装置では、フィルムの斜め方向における光学ムラはほとんど問題にならず、従来のフィルムでも用いることが可能である。また、５００００カンデラよりも大きい輝度の発光体に本発明のフィルムを用いる場合には、耐久性の面での問題がある。
【００２６】
次に上記フィルム８１の製造方法について説明する。ただし、以下に述べる製造方法ならびに製造装置は、本発明の一例であり、これに限定されるものではない。
【００２７】
［原料］
本実施形態においては、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いており、セルロースアシレートとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が特に好ましい。このＴＡＣとしては、リンター綿とパルプ綿とのいずれから得られたものでもよいが、好ましくはリンター綿から得られたものである。そして、セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（III)の全てを満足するものがより好ましい。なお、以下の式（Ｉ）〜（III)において、Ａ及びＢは、セルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０質量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。
（Ｉ）  ２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（II）  ０≦Ａ≦３．０
（III)  ０≦Ｂ≦２．９
【００２８】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位および６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
【００２９】
全アシル置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、Ｄ６Ｓ／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．３２以上が好ましく、より好ましくは０．３２２以上、特に好ましくは０．３２４〜０．３４０である。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位の水酸基のアシル基による置換度である（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）。
【００３０】
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。２種類以上のアシル基を用いるときは、そのひとつがアセチル基であることが好ましい。２位、３位及び６位の水酸基のアセチル基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位、３位及び６位の水酸基のアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、より好ましくは２．２〜２．８６であり、特に好ましくは２．４０〜２．８０である。また、ＤＳＢは１．５０以上であることが好ましく、特に好ましくは１．７以上である。さらにＤＳＢはその２８％以上が６位水酸基の置換基であるが、より好ましくは３０％以上が６位水酸基の置換基であり、３１％がさらに好ましく、特には３２％以上が６位水酸基の置換基であることも好ましい。また更に、セルロースアシレートの６位のＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．８０以上であり特に好ましくは０．８５以上であるセルロースアシレートを用いることである。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液（ドープ）が作製できる。特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。更に粘度が低く濾過性の良い溶液の作成が可能となる。
【００３１】
本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、プロピオニル基、ブタノイル基、ケプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル基、ブタノイル基である。
【００３２】
ただし、本発明は他のポリマーにおいても適用される。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタアクリレート、ポリカーボネイト、再生セルロースエステル、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ノルボルネン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルケトン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリアミド、又はポリ−４−メチル−１−ペンテンなどがあげられる。溶液製膜と溶融押出製膜とのどちらでフィルムを製造するかについては、ポリマーの種類に応じて適宜選ぶとよい。
【００３３】
また、ドープを調製するための溶媒としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが例示される。なお、ここで、ドープとはポリマーを溶媒に溶解または分散して得られるポリマー溶液または分散液である。
【００３４】
これらの中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。そして、ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度、フィルムの光学特性等の特性の観点から、炭素原子数１〜５のアルコールを一種ないし数種類を、ジクロロメタンに混合して用いることが好ましい。このとき、アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２質量％〜２５質量％であることが好ましく、５質量％〜２０質量％であることがより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノール等が挙げられるが、中でも、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物がより好ましく用いられる。
【００３５】
ところで、最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない場合の溶媒組成についても検討が進み、この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルが好ましく、これらを適宜混合して用いることがある。これらのエーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、溶媒として用いることができる。また、溶媒は、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を化学構造中に有するものであってもよい。
【００３６】
なお、セルロースアシレートの詳細については、特願２００４−２６４４６４号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されており、これらの記載は本発明にも適用することができる。また、溶媒及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤，光学異方性コントロール剤，染料，マット剤，剥離剤等の添加剤についても、同じく同じく特願２００４−２６４４６４号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【００３７】
本発明に好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。本発明のセルロースアシレートフィルムは、その高い寸法安定性から、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
【００３８】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としての具体例を下記に列記するが、本発明はこれらに限定されない。２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースアシレートに対して質量割合で１ｐｐｍ〜２．０％が好ましく、１０ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍが更に好ましい。
【００３９】
また、特開平６−１４８４３０号公報、特開平７−１１０５６号公報に記載の紫外線吸収剤も好ましく用いることができる。本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れており、特に不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。紫外線吸収剤の使用量は化合物の種類、使用条件などにより一様ではないが、通常はセルロースアシレートフィルム１ｍ2 当り、０．２ｇ〜５．０ｇが好ましく、０．４ｇ〜１．５ｇがさらに好ましく、０．６ｇ〜１．０ｇが特に好ましい。
【００４０】
また、その他にも旭電化  プラスチック用添加剤概要「アデカスタブ」のカタログにある光安定剤も使用できる。チバ・スペシャル・ケミカルズのチヌビン製品案内にある光安定剤、紫外線吸収剤も使用できる。ＳＨＩＰＲＯ  ＫＡＳＥＩ  ＫＡＩＳＹＡのカタログに記載されているＳＥＥＳＯＲＢ、ＳＥＥＮＯＸ、ＳＥＥＴＥＣなども使用できる。城北化学工業のＵＶ吸収剤、酸化防止剤も使用できる。共同薬品のＶＩＯＳＯＲＢ、吉富製薬の紫外線吸収剤も使用できる。
【００４１】
なお、紫外領域の分光透過率に関しては、特開２００３−０４３２５９号公報に、色再現性に優れ紫外線照射の耐久性にも優れた光学フィルム及び偏光板及び表示装置を得るために必要な、３９０ｎｍにおける分光透過率が５０％〜９５％であり、かつ３５０ｎｍにおける分光透過率が５％以下である光学フィルムについて記載されている。
【００４２】
また、更に、光学異方性コントロール剤（レターデーション制御剤）として使用される化合物に関して、詳細に説明する。
【００４３】
【化１】
2006028478.tif 000003
【００４４】
化１に示される一般式（２）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 及びＲ10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表し、置換基は後述の置換基Ｔが適用できる。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。好ましくはＲ1 、Ｒ3 又はＲ5 のうちの１つが電子供与性基であり、Ｒ3 が電子供与性基であることがより好ましい。
【００４５】
電子供与性基とはＨａｍｍｅｔのσｐ値が０以下のものを表し、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９１，１６５（１９９１）に記載のＨａｍｍｅｔのσｐ値が０以下のものが好ましく適用でき、より好ましくは−０．８５〜０のものが用いられる。例えば、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基などが挙げられる。
【００４６】
電子供与性基として好ましくはアルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４である。）である。
【００４７】
Ｒ1 として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、最も好ましくはメトキシ基である。
【００４８】
Ｒ2 として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００４９】
Ｒ3 として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。最も好ましくはｎ−プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である。
【００５０】
Ｒ4 として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００５１】
Ｒ5 として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００５２】
Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ9 及びＲ10として好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子である。
【００５３】
Ｒ8 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【００５４】
Ｒ8 として好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアリールオキシ基であり、より好ましくは、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基である。
【００５５】
一般式（２）のうちより好ましくは下記一般式（２−Ａ）である。
【００５６】
【化２】
2006028478.tif 000004
【００５７】
一般式（２−Ａ）中のＲ11はアルキル基を表す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ9 及びＲ10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ8 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。一般式（２−Ａ）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 及びＲ10はそれぞれ一般式（２）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００５８】
一般式（２−Ａ）中でＲ11は炭素数１〜１２のアルキル基を表し、Ｒ11で表されるアルキル基は直鎖でも分岐があってもよく、また更に置換基を有してもよいが、好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、更に好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、特に好ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げられる）を表す。
【００５９】
一般式（２）のうちより好ましくは下記一般式（２−Ｂ）である。
【００６０】
【化３】
2006028478.tif 000005
【００６１】
一般式（２−Ｂ）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ9 及びＲ10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ11は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
【００６２】
一般式（２−Ｂ）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ9 及びＲ10は、一般式（２）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。一般式（２−Ｂ）中でＲ11は、一般式（２−Ａ）におけるＲ11と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００６３】
一般式（２−Ｂ）中で、Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
【００６４】
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 がすべて水素原子の場合には、Ｘとして好ましくはアルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、より好ましくは、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、メトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基である。
【００６５】
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 又はＲ5 のうち少なくとも１つが、置換基の場合には、Ｘとして好ましくはアルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２）、シアノ基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜１２）であり、更に好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、より好ましくはフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基である。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素２〜１２、より好ましくは炭素数２〜６、更に好ましくは炭素数２〜４、特に好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニルである。）、シアノ基であり、特に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。
【００６６】
一般式（２）のうち更に好ましくは下記一般式（２−Ｃ）である。
【００６７】
【化４】
2006028478.tif 000006
【００６８】
一般式（２−Ｃ）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ11及びＸは、一般式（２−Ｂ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００６９】
一般式（２）で表わされる化合物の中で好ましいのは下記一般式（２−Ｄ）で表わされ
る化合物である。
【００７０】
【化５】
2006028478.tif 000007
【００７１】
一般式（２−Ｄ）中で、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ6 は、一般式（２−Ｃ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。Ｒ21、Ｒ22はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基である。Ｘ1 は、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、又はシアノ基である。
【００７２】
Ｒ21は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1 〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基である。Ｒ22は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1 〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
【００７３】
Ｘ1 は、炭素数６〜１２のアリール基、炭素２〜１２のアルコキシカルボニル基又はシアノ基であり、好ましくは炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、シアノ基であり、更に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。
【００７４】
一般式（２）のうち最も好ましくは下記一般式（２−Ｅ）である。
【００７５】
【化６】
2006028478.tif 000008
【００７６】
一般式（２−Ｅ）中でＲ2 、Ｒ4 及びＲ5 は、一般式（２−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか１つは−ＯＲ13で表される基である（Ｒ13は炭素数１〜４のアルキル基である。）。Ｒ21、Ｒ22及びＸ1 は一般式（２−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００７７】
一般式（２−Ｅ）中でＲ2 、Ｒ4 及びＲ5 は、一般式（２−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか１つは−ＯＲ13で表される基であり（Ｒ13は炭素数１〜４のアルキル基である。）、好ましくはＲ4 、Ｒ5 が−ＯＲ13で表される基であり、より好ましくはＲ4 が−ＯＲ13で表される基である。Ｒ13は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
【００７８】
以下に前述の置換基Ｔについて説明する。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）などが挙げられる。
【００７９】
例えば、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００８０】
例えば、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００８１】
例えば、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００８２】
例えば、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００８３】
例えば、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００８４】
例えば、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。また具体的なヘテロ環基には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００８５】
以下に一般式（２）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００８６】
【化７】
2006028478.tif 000009
【００８７】
【化８】
2006028478.tif 000010
【００８８】
【化９】
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【００８９】
【化１０】
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【００９０】
【化１１】
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【００９１】
【化１２】
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【００９２】
【化１３】
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【００９３】
【化１４】
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【００９４】
【化１５】
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【００９５】
【化１６】
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【００９６】
【化１７】
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【００９７】
【化１８】
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【００９８】
【化１９】
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【００９９】
【化２０】
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【０１００】
【化２１】
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【０１０１】
【化２２】
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【０１０２】
【化２３】
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【０１０３】
【化２４】
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【０１０４】
【化２５】
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【０１０５】
【化２６】
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【０１０６】
【化２７】
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【０１０７】
【化２８】
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【０１０８】
【化２９】
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【０１０９】
【化３０】
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【０１１０】
【化３１】
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【０１１１】
【化３２】
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【０１１２】
【化３３】
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【０１１３】
【化３４】
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【０１１４】
【化３５】
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【０１１５】
【化３６】
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【０１１６】
【化３７】
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【０１１７】
【化３８】
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【０１１８】
【化３９】
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【０１１９】
【化４０】
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【０１２０】
【化４１】
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【０１２１】
【化４２】
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【０１２２】
【化４３】
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【０１２３】
【化４４】
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【０１２４】
【化４５】
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【０１２５】
【化４６】
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【０１２６】
【化４７】
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【０１２７】
【化４８】
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【０１２８】
【化４９】
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【０１２９】
【化５０】
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【０１３０】
【化５１】
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【０１３１】
【化５２】
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【０１３２】
【化５３】
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【０１３３】
【化５４】
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【０１３４】
【化５５】
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【０１３５】
【化５６】
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【０１３６】
一般式（２）で表される化合物は置換安息香酸とフェノール誘導体の一般的なエステル反応によって合成でき、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体を脱水縮合する方法などがあげられる。製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法が好ましい。
【０１３７】
反応溶媒として炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。
【０１３８】
反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。本反応には塩基を用いないのが好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、３級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。
【０１３９】
本発明のセルロースアシレートフィルムの光学特性は、
式（IV）：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
式（Ｖ）：Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ,
で表されるＲｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値がそれぞれ、以下の式（VI）及び（VII）を満たすことが好ましい。
式（VI）：４６ｎｍ≦Ｒｅ（６３０）≦２００ｎｍ
式（VII）：７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦３５０ｎｍ
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さである。］さらに好ましくは、下記式（VIII）及び（IX）を満たすことである。
式（VIII）：４６ｎｍ≦Ｒｅ（６３０）≦１００ｎｍ
式（IX）：１８０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦３５０ｎｍ
【０１４０】
湿度変化や高温経時による質量変化や寸法変化に伴いＲｅ及びＲｔｈの光学特性値が変化する。Ｒｅ及びＲｔｈの値が変化は少ないほど好ましい。湿度による光学特性変化を少なくするために６位アシル置換度の大きなセルロースアシレートを使用するほかに、疎水性の各種添加剤（可塑剤、レターデーション発現剤、紫外線吸収剤など）を用いることによって、フィルムの透湿度や平衡含水率を小さくする。好ましい透湿度は６０℃、９５％ＲＨ２４時間で１平方メートル当たり４００ｇから２３００ｇである。好ましい平衡含水率は２５℃、８０％ＲＨにおける測定値が３．４％以下である。２５℃における湿度を１０％ＲＨから８０％ＲＨに変化させた時の光学特性の変化量がＲｅ値で１２ｎｍ以下、Ｒｔｈ値で３２ｎｍ以下であることが好ましい。好ましい疎水性添加剤の量はセルロースアシレートに対して１０％から３０％であり、１２％から２５％がより好ましく、１４．５％から２０％が特に好ましい。添加剤に揮発性や分解性があってフィルムの質量変化や寸法変化が発生すると光学特性変化が起こる。従って８０℃、９０％ＲＨで４８時間経時した後のフィルムの質量変化量は５％以下であることが好ましい。同様に６０℃、９５％ＲＨで２４時間経時後の寸法変化量は５％以下であることが好ましい。また寸法変化や質量変化が少々あっても、フィルムの光弾性係数が小さいと光学特性の変化量は少なくなる。従ってフィルムの光弾性係数が５０×１０-13ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ以下であることが好ましい。
【０１４１】
本発明に用いられるドープの製造方法は、特に限定されるものではない。具体的な一例を説明する。ジクロロメタンを主溶媒として、アルコール類を添加した混合溶媒を用いる。その混合溶媒にＴＡＣ及び可塑剤（例えば、トリフェニルフォスフェート，ビフェニルジフェニルフォスフェートなど）を添加して攪拌溶解してドープ（以下、原料ドープと称する）を得る。なお、溶解する際には加温したり冷却したりすることで溶解性を向上できる。さらに、原料ドープと混合溶媒と紫外線吸収剤（例えば、ベンゾトリアゾール系化合物が好ましい）とを混合して溶解させて添加液（以下、添加剤液と称する）を調製する。また、原料ドープと混合溶媒とマット剤（例えば、シリカ粒子など）とを混合して分散させて添加液（以下、マット剤液と称する）を調製する。さらに、目的に応じて劣化防止剤、光学異方性コントロール剤（レターデーション制御剤）、染料、顔料及び剥離剤などを含む添加液を調製し用いても良い。
【０１４２】
［ドープ製造方法］
上記の原料を用いて、まずドープを製造する。図４にドープ製造設備１０を示す。ドープ製造設備１０には、溶媒を貯留するための溶媒タンク１１と、溶媒とＴＡＣ等とを混合するための溶解タンク１３と、ＴＡＣを供給するためのホッパ１４と、添加剤を貯留するための添加剤タンク１５とが備えられ、さらに、後述する膨潤液を加熱するための加熱装置２６と、加熱された膨潤液の温度を調整するための温調機２７と、濾過装置２８と，３５と、ドープ濃度を調整するためのフラッシュ装置３１とが配されている。そしてドープ製造設備１０には、さらに、溶媒を回収するための回収装置３２と、回収された溶媒を再生するための再生装置３３とが備えられている。そして、このドープ製造設備１０は、溶液製膜設備４０のストックタンク３０に接続されている。
【０１４３】
本実施形態においては、上記の製造ライン１０を用いて以下の方法でドープが製造される。まず始めに、バルブ１２を開き、溶媒が溶媒タンク１１から溶解タンク１３に送られる。次に、ホッパ１４に入れられているＴＡＣが、計量されながら溶解タンク１３に送り込まれる。また、添加剤溶液は、バルブ１６の開閉操作により必要量が添加剤タンク１５から溶解タンク１３に送り込まれる。
【０１４４】
添加剤は、溶液として送り込む方法の他に、例えば添加剤が常温で液体の場合には、その液体の状態で溶解タンク１３に送り込むことが可能である。また、添加剤が固体の場合には、ホッパ等を用いて溶解タンク１３に送り込む方法も可能である。添加剤を複数種類添加する場合には、添加剤タンク１５の中に複数種類の添加剤を溶解させた溶液を入れておくこともできる。または、多数の添加剤タンクを用いてそれぞれに添加剤が溶解している溶液を入れて、それぞれ独立した配管により溶解タンク１３に送り込むこともできる。
【０１４５】
前述した説明においては、溶解タンク１３に入れる順番が、溶媒（混合溶媒の場合も含めた意味で用いる）、ＴＡＣ、添加剤であったが、この順番に限定されるものではない。例えば、ＴＡＣを計量しながら溶解タンク１３に送り込んだ後に、好ましい量の溶媒を送液することもできる。また、添加剤は必ずしも溶解タンク１３に予め入れる必要はなく、後の工程でＴＡＣと溶媒との混合物（以下、これらの混合物もドープと称する場合がある）に混合させることもできる。
【０１４６】
溶解タンク１３には、図４に示すようにその外面を包み込むジャケット１７と、モータ１８により回転する第１攪拌機１９とが備えられている。さらに、図４に示すように、この溶解ダンク１３には、モータ２０により回転する第２攪拌機２１が取り付けられていることが好ましい。なお、第１攪拌機１９は、アンカー翼が備えられたものであることが好ましく、第２攪拌機２１は、ディゾルバータイプの偏芯型攪拌機であることが好ましい。そして、本実施形態で用いた溶解タンク１３は、ジャケット１７の内部に伝熱媒体を流すことにより温度調整されており、その好ましい温度範囲は−１０℃〜５５℃の範囲である。第１攪拌機１９，第２攪拌機２１のタイプを適宜選択して使用することにより、ＴＡＣが溶媒中で膨潤した膨潤液２２を得る。
【０１４７】
次に、膨潤液２２は、ポンプ２５により加熱装置２６に送られる。加熱装置２６は、ジャケット付き配管であることが好ましく、さらに、膨潤液２２を加圧することができる構成のものが好ましい。このような加熱装置２６を用いることにより、加熱条件下または加圧加熱条件下で膨潤液２２中の固形分を溶解させる。なお、膨潤、溶解における温度は、０℃〜９７℃であることが好ましい。また、加熱装置２６を用いずに、膨潤液２２を−１００℃〜−１０℃の温度に冷却する周知の冷却溶解法を行うこともできる。加熱溶解法及び冷却溶解法を適宜選択して行うことでＴＡＣを溶媒に十分溶解させることが可能となる。ドープを、温調機２７により略室温とした後に、濾過装置２８により濾過してドープ中に含まれる不純物を取り除く。濾過装置２８に使用される濾過フィルタは、その平均孔径が１００μｍ以下のものであることが好ましい。また、濾過流量は、５０リットル／ｈｒ．以上であることが好ましい。濾過後のドープは、バルブ２９を介して、溶液製膜設備４０中のストックタンク３０に送られここに貯留される。
【０１４８】
ところで、上記のように、一旦膨潤液２２を調製し、その後にこの膨潤液２２を溶液とする方法は、ＴＡＣの濃度を上昇させるほど要する時間が長くなり、製造コストの点で問題となる場合がある。その場合には、目的とする濃度よりも低濃度のドープを調製し、その後に目的の濃度とするための濃縮工程を行うことが好ましい。このような方法を用いる際には、濾過装置２８で濾過されたドープを、バルブ２９を介してフラッシュ装置３１に送り、このフラッシュ装置３１内でドープ中の溶媒の一部を蒸発させる。蒸発により発生した溶媒ガスは、凝縮器（図示せず）により凝縮されて液体となり回収装置３２により回収される。回収された溶媒は、再生装置３３によりドープ調製用の溶媒として再生されて再利用される。この再利用はコストの点で効果がある。
【０１４９】
また、濃縮されたドープ３６はポンプ３４によりフラッシュ装置３１から抜き出される。さらに、ドープ３６に発生した気泡を抜くための泡抜き処理が行われることが好ましい。この泡抜き方法としては、公知の種々の方法が適用され、例えば超音波照射法が挙げられる。ドープ３６は続いて濾過装置３５に送られて、異物が除去される。なお、濾過の際のドープ３６の温度は、０℃〜２００℃であることが好ましい。そして、ドープ３６はストックタンク３０に送られ、貯蔵される。そしてストックタンク３０のドープは、溶液製膜設備４０に送られる。
【０１５０】
原料ドープ１６とこの原料ドープ１６に添加される添加剤液（例えば、紫外線吸収剤液など）とを移送中に混合するインラインミキサ（例えば、スタティックミキサなど）を用いて混合させることが好ましい。また、混合方法の異なる複数のインラインミキサを直列に接続して混合を行うことがより好ましい。
【０１５１】
インラインミキサとして、スタティックミキサと、スルーザミキサとのうち、少なくとも１つを備えていることが好ましい。スタティックミキサを備えた場合、スタティックミキサのエレメント数が６以上９以下であることが好ましく、６以上６０以下であることがより好ましい。
【０１５２】
スタティックミキサと、スルーザミキサとの両方を備えている場合には、スルーザミキサをスタティックミキサの上流側に配置することが好ましい。さらに、スルーザミキサと添加剤液を添加する添加口との距離が５ｍｍ以上１５０ｍｍ以下であることが好ましく、さらには、スルーザミキサと添加剤液を添加する添加口との距離が５ｍｍ以上１５ｍｍ以下であることがより好ましい。また、スルーザミキサを構成するエレメントの上流側端部が、前記原料ドープの流される配管の内側壁近傍に位置することが好ましい。
【０１５３】
さらに、原料ドープを濾過する第１の濾過装置をインラインミキサの上流側に備え、第１の濾過装置による濾過後の原料ドープに添加剤を添加することが好ましく、さらには、インラインミキサの下流側に、ドープを濾過する第２の濾過装置を備え、インラインミキサにより混合されたドープを第２の濾過装置により濾過することがより好ましい。
【０１５４】
また、本発明は、以下を満たしていることが好ましい。
（１）  添加剤液の流速をＶ１、原料ドープの流速をＶ２としたときに、１≦Ｖ１／Ｖ２≦５である。
（２）  添加剤液の添加比率が、流量比で０．１％〜５０％である。
（３）  添加剤液の粘度をＮ１、前記原料ドープの粘度をＮ２としたときに、１０００≦Ｎ２／Ｎ１≦１０００００、を満たすとともに、２０℃の状態において、５０００ｃＰ≦Ｎ１≦５０００００ｃＰ、かつ、０．１ｃＰ≦Ｎ２≦１００ｃＰ、を満たしている。
（４）  原料ドープのせん断速度が、０．１（１／ｓ）〜３０（１／ｓ）である。
（５）  ポリマーがセルロースアシレートである。
（６）  添加剤液が、ポリマー溶液の主溶媒を含んだ溶液である。
（７）  添加剤液が、ポリマー溶液の主溶媒を含んだ溶液であり、かつ、原料ドープと異なる組成である。
（８）  添加剤液が、ポリマー溶液の主溶媒を含んだ溶液であり、かつ、少なくとも１種類の紫外線吸収剤を含んでいる。
（９）  添加剤液が、ポリマー溶液の主溶媒を含んだ溶液であり、かつ、少なくとも１種類の無機または有機の微粒子を分散してなる。
（１０）  添加剤液が、ポリマー溶液の主溶媒を含んだ溶液であり、かつ、少なくとも１種類の剥離促進剤を含んでいる。
（１１）  添加剤液が、ポリマー溶液の主溶媒を含んだ溶液であり、かつ、少なくとも１種類の貧溶媒を含んでいる。
【０１５５】
以上の方法により、ＴＡＣ濃度が５質量％〜４０質量％であるドープを製造することができる。なお、ＴＡＣフィルムを得る溶液製膜法における素材、原料、添加剤の溶解方法、濾過方法、脱泡、添加方法については、特願２００４−２６４４６４号の［０５１７］段落から［０６１６］段落が詳しく、これらの記載も本発明に適用することができる。
【０１５６】
［溶液製膜方法］
次に、上記で得られたドープ３６を用いてフィルムを製造する方法を説明する。図５は溶液製膜設備４０を示す概略図である。ただし、本発明は、図５に示すような溶液製膜設備に限定されるものではない。溶液製膜設備４０には、ストックタンク３０と、濾過装置４４と、流延ダイ５０と、回転ローラ５１，５２に掛け渡された流延バンド５３と、テンタ８０とが備えられており、さらに、耳切装置８２と、乾燥室８５と、冷却室８７と、巻取室９０とが配されている。
【０１５７】
ストックタンク３０には、モータ４１で回転する攪拌機４２が取り付けられている。そして、このストックタンク３０は、ポンプ４３，濾過装置４４を介して流延ダイ５０と接続している。
【０１５８】
流延ダイ５０の材質としては、２層ステンレス鋼、または、析出硬化型のステンレス鋼が好ましく、その熱膨張率が２×１０-5（℃-1）以下であることが好ましい。そして、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６と略同等の耐腐食性を有するものも、この流延ダイ５０の材質として用いることができ、さらに、ジクロロメタン、メタノール、水の混合液に３ヵ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有するものが用いられる。さらに、鋳造後１ヶ月以上経過したものを研削加工して流延ダイ５０を作製することが好ましい。これにより流延ダイ５０内を流れるドープの面状が一定に保たれる。流延ダイ５０と後に説明するフィードブロックとの接液面の仕上げ精度は、表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下であることが好ましい。流延ダイ５０のスリットのクリアランスは、自動調整により０．５ｍｍ〜３．５ｍｍの範囲で調整可能とされている。流延ダイ５０のリップ先端の接液部の角部分について、そのＲは全巾にわたり５０μｍ以下とされている。また、流延ダイ５０の内部における剪断速度が１（１／ｓｅｃ）〜５０００（１／ｓｅｃ）となるように調整されていることが好ましい。
【０１５９】
流延ダイ５０の幅は特に限定されるものではないが、最終製品となるフィルムの幅の１．０倍〜２．０倍程度であることが好ましい。また、製膜中の温度が所定温度に保持されるように、この流延ダイ５０に温調機を取り付けることが好ましい。また、流延ダイ５０にはコートハンガー型のものを用いることが好ましい。さらに、厚み調整ボルト（ヒートボルト）を流延ダイ５０の幅方向において所定の間隔で設け、ヒートボルトによる自動厚み調整機構が流延ダイ５０に備えられていることがより好ましい。ヒートボルトは予め設定されるプログラムによりポンプ（高精度ギアポンプが好ましい）４３の送液量に応じてプロファイルを設定し製膜を行うことが好ましい。また、フィルム製膜ライン４０中に図示しない厚み計（例えば、赤外線厚み計）のプロファイルに基づく調整プログラムによってフィードバック制御を行ってもよい。流延エッジ部を除いて任意の２点の厚み差は１μｍ以内に調整し、幅方向厚みの最小値で最も大きな差が３μｍ以下となるように調整することが好ましい。また、リップ間隔精度は±５０μｍ以下に調整されているものを用いることが好ましい。
【０１６０】
流延ダイ５０のリップ先端には硬化膜が形成されていることがより好ましい。硬化膜の形成方法は、特に限定されるものではないが、セラミックスコーティング、ハードクロムメッキ、窒化処理方法などが挙げられる。硬化膜としてセラミックスを用いる場合には、研削でき気孔率が低く脆くなく耐腐食性が良く、かつ流延ダイ５０と密着性がないものが好ましい。具体的には、タングステン・カーバイド（ＷＣ）、Ａｌ2 Ｏ3 、ＴｉＮ、Ｃｒ2 Ｏ3 などが挙げられるが、中でも特に好ましくはＷＣである。ＷＣコーティングは、溶射法で行うことができる。
【０１６１】
流延ダイ５０のスリット端に流出するドープが、局所的に乾燥固化することを防止するために溶媒供給装置（図示しない）をスリット端に取り付けることが好ましい。この場合には、ドープを可溶化する溶媒（例えば、ジクロロメタン８６．５質量部，アセトン１３質量部，ｎ−ブタノール０．５質量部の混合溶媒）が流延ビードの両端部に供給されることが好ましい。なお、この液を供給するポンプとしては、脈動率が５％以下のものを用いることが好ましい。
【０１６２】
流延ダイ５０の下方には、回転ローラ５１，５２に掛け渡された流延バンド５３が設けられている。回転ローラ５１，５２は、図示しない駆動装置により回転し、この回転に伴い流延バンド５３は無端で走行する。流延バンド５３は、その移動速度、すなわち流延速度が１０ｍ／分〜２００ｍ／分で移動できるものであることが好ましい。また、流延バンド５３の表面温度を所定の値にするために、回転ローラ５１，５２には伝熱媒体循環装置５４が取り付けられていることが好ましく、流延バンド５３は、その表面温度が−２０℃〜４０℃に調整可能なものであることが好ましい。本実施形態において用いた回転ローラ５１，５２には、伝熱媒体流路（図示せず）が形成されており、その流路中を、所定の温度に保持されている伝熱媒体が通過することにより、回転ローラ５１，５２の温度が所定の値に保持されるものとなっている。
【０１６３】
なお、回転ローラ５１，５２を直接支持体として用いることも可能である。この場合には、回転の速度ムラが０．２％以下となるように高精度で回転できるものであることが好ましい。この場合には、回転ローラ５１，５２の表面の平均粗さを０．０１μｍ以下とすることが好ましい。回転ローラ５１，５２の表面にはハードクロムメッキ処理などを行うことが好ましく、これにより、さらに、十分な硬度と耐久性を持たせることもできる。なお、支持体（流延バンド５３や回転ローラ５１，５２）の表面欠陥は最小限に抑制することが好ましい。具体的には、３０μｍ以上のピンホールが無く、１０μｍ以上３０μｍ未満のピンホールは１個／ｍ2 以下であり、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ2 以下であることが好ましい。
【０１６４】
流延ダイ５０、流延バンド５３等の流延機器は流延室５５に収められている。流延室５５には、その内部温度を所定の値に保つための温度コントローラ５６と、揮発している有機溶媒を凝縮回収するための第１の凝縮器（コンデンサ）５７とが設けられている。そして、凝縮液化した有機溶媒を回収するための回収装置５８が流延室５５の外部に設けられている。また、流延ダイ５０から流延バンド５３にかけて形成される流延ビードの背面部を圧力制御するための減圧チャンバ６０が配されていることが好ましく、本実施形態においてもこれを使用している。
【０１６５】
さらに、バンド５３の上方には、流延膜５９の溶媒を蒸発させるために風を吹き付ける給気ダクト６１と，流延膜５９からの蒸発溶媒を風とともに排気するための排気ダクト６２が設けられ、給気ダクト６１と排気ダクト６２との間には、ガイド板が備えられている。これらの給気ダクト６１、排気ダクト、ガイド板６４については、別の図面を用いて後で詳細に説明する。
【０１６６】
渡り部７０には、送風機７１が備えられ、また、テンタ８０の下流の耳切装置８２には、切り取られたフィルム８１の側端部屑を細かく切断処理するためのクラッシャー８３が備えられている。
【０１６７】
また、乾燥室８５には、多数のローラ８４が備えられており、また、蒸発して発生した溶媒ガスを吸着回収するための吸着回収装置８６が取り付けられている。そして、図２においては、乾燥室８５の下流に冷却室８７が設けられているが、乾燥室８５と冷却室８７との間に調湿室（図示しない）を設けてもよい。冷却室８７の下流には、フィルム８１の帯電圧を所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）となるように調整するための強制除電装置（除電バー）８８を設けられている。図２においては、強制除電装置８８は、冷却室８７の下流側とされている例を図示しているが、この設置位置に限定されるものではない。さらに、本実施形態においては、フィルム８１の両縁にエンボス加工でナーリングを付与するためのナーリング付与ローラ８９が強制除電装置８８の下流に適宜設けられる。また、巻き取り室９０の内部には、フィルム８１を巻き取るための巻取ローラ９１と、その巻き取り時のテンションを制御するためのプレスローラ９２とが備えられている。
【０１６８】
次に、以上のような溶液製膜設備４０を使用してフィルムを製造する方法の一例を以下に説明する。ドープ３６は、攪拌機４２の回転により常に均一化されている。ドープ３６には、この攪拌の際にも可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤を混合させることもできる。
【０１６９】
そして、ドープ３６は、ポンプ４３により濾過装置４４に送られてここで濾過された後に、流延ダイ５０から流延バンド５３に流延される。回転ローラ５１，５２の駆動は、流延バンド５３に生じるテンションが１．５×１０4 ｋｇ／ｍとなるように調整されることが好ましい。また、流延バンド５３と回転ローラ５１，５２との相対速度差は、０．０１ｍ／ｍｉｎ以下となるように調整する。流延バンド５３の速度変動を０．５％以下とし、流延バンド５３が一回転する際に生じる幅方向の蛇行が１．５ｍｍ以下とされることが好ましい。この蛇行を抑制するために、流延バンド５３の両端の位置を検出する検出器（図示しない）を設け、その測定値に基づき回転ローラの速度をフィードバック制御により制御することがより好ましい。さらに、流延ダイ５０直下における流延バンド５３について、回転ローラ５１の回転に伴う上下方向の位置変動が２００μｍ以下となるように調整することが好ましい。また、流延室５５の温度は、温度コントローラ５６により−１０℃〜５７℃とされることが好ましい。なお、流延室５５の内部で蒸発した溶媒は回収装置５８により回収された後、再生させてドープ調製用溶媒として再利用される。
【０１７０】
流延ダイ５０から流延バンド５３にかけては流延ビードが形成され、流延バンド５３上には流延膜５９が形成される。流延時のドープ３６の温度は、−１０℃〜５７℃であることが好ましい。また、流延ビードを安定させるために、このビードの背面が減圧チャンバ６０により所定の圧力値に制御されることが好ましい。ビード背面は前面よりも−１０Ｐａ〜−１５００Ｐａ減圧することが好ましい。さらに、減圧チャンバ６０にはジャケット（図示しない）を取り付けて、内部温度が所定の温度を保つように温度制御されることが好ましい。また、流延ビードの形状を所望のものに保つために流延ダイ５０のエッジ部に吸引装置（図示せず）を取り付けることが好ましい。このエッジ吸引風量は、１Ｌ／ｍｉｎ．〜１００Ｌ／ｍｉｎ．の範囲であることが好ましい。
【０１７１】
流延膜５９は、自己支持性を有するものとなった後に、湿潤フィルム６６として剥取ローラ６５で支持されながら流延バンド５３から剥ぎ取られる。その後に多数のローラが設けられている渡り部７０を搬送させた後にテンタ８０に湿潤フィルム６６を送り込む。渡り部７０では、送風機７１から所望の温度の乾燥風を送風することで湿潤フィルム６６の乾燥を進行させる。このとき乾燥風の温度が、２０℃〜２５０℃であることが好ましい。
【０１７２】
テンタ８０に送られた湿潤フィルム６６は、その両端部がクリップで把持されて搬送されながら乾燥される。また、テンタ８０の内部を異なった温度ゾーンに区画分割して、その区画毎に乾燥条件を適宜調整することが好ましい。なお、テンタ８０では、湿潤フィルム６６を幅方向に延伸させることが可能とされている。このように、渡り部７０とテンタ８０との少なくともいずれかひとつにおいては、湿潤フィルム６６の流延方向と幅方向との少なくとも１方向を１００．５％〜３００％延伸することが好ましい。
【０１７３】
湿潤フィルム６６は、テンタ８０で所定の残留溶媒量まで乾燥された後、フィルム８１としてその下流側に送り出される。フィルム８１の両側端部は、耳切装置８２によりその両縁が切断され、切断された側端部は図示しないカッターブロワーによりクラッシャー８３に送られる。クラッシャー８３により、側端部は粉砕されてチップとなる。このチップはドープ調製用に再利用されるので、この方法はコストの点において有効である。なお、この両側端部の切断工程については省略することもできるが、前記流延工程から前記フィルムを巻き取る工程までのいずれかで行うことが好ましい。
【０１７４】
一方、本実施形態においては、両側端部を切断除去されたフィルム８１は、乾燥室８５に送られ、さらに乾燥される。乾燥室８５内の温度は、特に限定されるものではない。乾燥室８５においては、フィルム８１は、ローラ８４に巻き掛けられながら搬送されており、ここで蒸発して発生した溶媒ガスは、吸着回収装置８６により吸着回収される。溶媒成分が除去された空気は、乾燥室８５の内部に乾燥風として再度送風される。なお、乾燥室８５は、乾燥温度を変えるために複数の区画に分割されていることがより好ましい。また、耳切装置８２と乾燥室８５との間に予備乾燥室（図示しない）を設けてフィルム８１を予備乾燥すると、乾燥室８５においてフィルム温度が急激に上昇することが防止されるので、これにより、フィルム８１の形状変化を、より抑制することができる。
【０１７５】
フィルム８１は、冷却室８７では略室温にまで冷却される。なお、乾燥室８５と冷却室８７との間に調湿室（図示しない）を設けてもよく、この調湿室ではフィルム８１に対して、所望の湿度及び温度に調整された空気を吹き付けられることが好ましい。これにより、フィルム８１のカールの発生や巻き取る際の巻き取り不良の発生を抑制することができる。
【０１７６】
溶液製膜方法では、支持体から剥ぎ取られたフィルム（ポリマーフィルム）を巻き取るまでの間に、乾燥工程や側端部の切除除去工程などの様々な工程が行われている。これらの各工程内、あるいは各工程間では、フィルムは主にローラにより支持または搬送されている。これらのローラには、駆動ローラと非駆動ローラとがあり、非駆動ローラは、主に、フィルムの搬送路を決定するとともに搬送安定性を向上させるために使用される。
【０１７７】
一方、駆動ローラは、フィルムに駆動を伝達し、これを下流へと搬送するために使用されており、通常はサクションローラが使用されている。製膜におけるフィルム搬送では、流延工程や剥ぎ取り工程、乾燥工程、巻き取り工程などの各工程内あるいは各工程間で、搬送張力の分離が必要となる場合があり、その際には、サクションローラにより駆動力をフィルムに与えることで搬送張力の分離を図っている。このサクションローラは、それ自体にフィルムを吸着させて搬送するため、ローラ周面に多数の空気吸引孔を有している。
【０１７８】
サクションローラを使用した場合、非駆動のローラに比べて、フィルムには方向性が特定できない複雑な力が作用するため、フィルムは変形しやすい。また、フィルムに掛かる搬送前後の張力差によってもフィルムは変形する。さらに、サクションローラの周面上には多数の空気吸引孔が形成されており、この吸引孔の孔縁にフィルムが接触した状態でフィルムがスリップしたり、収縮や変形が発生すると、フィルムには微細なキズが発生する。
【０１７９】
搬送工程で使用する駆動ローラは、あらかじめその周面を窒化処理や硬化クロムめっき、あるいは焼入れ処理などで硬化処理したものを使用し、また、その周面の表面硬度は、ビッカース硬度で５００以上２０００以下であることが好ましく、より好ましくは８００以上１２００以下である。
【０１８０】
使用する駆動ローラはサクションローラであり、このサクションローラは周面に多数の空気吸引孔を有する。この時、サクションローラの周面の表面粗Ｒｙが、０．３μｍ以上１．０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ以上０．８μｍ以下である。この周面の表面粗さＲｙは、そのローラにおいて孔のない平滑部の表面粗さが前記周面粗さであるものとする。また、その孔径は１ｍｍ以上６ｍｍ以下であることが好ましいが、より好ましくは２ｍｍ以上４ｍｍ以下であり、その孔の面取り量は、孔径の２％以上２０％以下であることが好ましい。
【０１８１】
前記のサクションローラを使用する際には、その周面温度を制御することが好ましく、そのため、１基のサクションローラに対して少なくとも１つの温度調節設備を有していることが好ましく、また、サクションローラの周面温度を、サクションローラに接触する直前のフィルム温度よりも高くしながら製膜することが好ましい。
【０１８２】
また、強制除電装置（除電バー）８８により、フィルム８１が搬送されている間の帯電圧が所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）とされる。図では、冷却室８７の下流側に設けられている例を図示しているがその位置に限定されるものではない。さらに、ナーリング付与ローラ８９を設けて、フィルム８１の両縁にエンボス加工でナーリングを付与することが好ましい。なお、ナーリングされた箇所の凹凸が、１μｍ〜２００μｍであることが好ましい。
【０１８３】
最後に、フィルム８１を巻取室９０内の巻取ローラ９１で巻き取る。この際には、プレスローラ９２で所望のテンションを付与しつつ巻き取ることが好ましい。なお、テンションは巻取開始時から終了時まで徐々に変化させることがより好ましい。巻き取られるフィルム８１は、長手方向（流延方向）に少なくとも１００ｍ以上とすることが好ましい。また、フィルムの幅が６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であることがより好ましい。また、本発明は、１８００ｍｍより大きい場合にも効果がある。フィルムの厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下の薄いフィルムを製造する際にも本発明は適用される。
【０１８４】
本発明では、ドープを流延する際に、２種類以上のドープを同時積層共流延又は逐次積層共流延させる方法を用いてもよい。同時積層共流延を行う際には、フィードブロックを取り付けた流延ダイを用いても良いし、マルチマニホールド型流延ダイを用いても良い。共流延により多層からなるフィルムは、空気面側の層の厚さと支持体側の層の厚さとのいずれか一方が、フィルム全体の厚みの０．５％〜３０％であることが好ましい。さらに、同時積層共流延を行う場合には、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に、高粘度ドープが低粘度ドープにより包み込まれることが好ましい。また、同時積層共流延を行なう場合には、ダイスリットから支持体にかけて形成されるビードのうち、外界と接するドープが内部のドープよりもアルコールの組成比が大きいことが好ましい。
【０１８５】
流延ダイ、減圧チャンバ、支持体などの構造、共流延、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取り方法から、溶媒回収方法、フィルム回収方法まで、特願２００４−２６４４６４号の［０６１７］段落から［０８８９］段落に詳しく記述されている。これらの記載も本発明に適用することができる。
【０１８６】
次に、図６及び図７を参照しながら、流延工程について詳細に説明する。図６はバンド５９を流延ダイ５０側の上方からみた平面図であり、図７は図６のVII−VII線に沿った断面図である。ただし、流延ダイの上流側に設けられた減圧チャンバについては図示の煩雑性をさけるために図示を略す。
【０１８７】
以下の説明において、図６の破線及び図７の点で示される流延開始位置ＰＳから下流を流延膜５９と称することとする。流延膜５９の上方であって、流延膜５９の近傍には、前述の通り、給気ダクト６１と排気ダクト６２とが備えられ、両者の間にはガイド板６４が備えられている。ガイド板６４は、流延膜５９の幅方向に複数配されている。給気ダクト６１には、流延膜５９に対して風が吹き付けられるとともに上流側から下流側に向かうように、給気口６１ａが幅方向に沿って設けられている。また、排気ダクト６２には、流れてきた風を効果的に回収して排気するために、排気口６２ａが幅方向に沿って設けられている。
【０１８８】
給気ダクト６１に送風コントローラ１１１と送風機１１２とが備えられ、また排気ダクト６２には排気コントローラ１１４と排気処理部１１５とが備えられている。そして、送風機１１２からの風は、送風コントローラにより、温度及び風速を制御されて給気ダクト６１から流延膜５９へ送られる。また、排気ダクト６２による排気力は、排気コントローラ１１４により制御され、排気処理部１１５では送られてきた排気から溶媒を凝縮回収するとともに、蒸発溶媒を除かれた空気が送風機１１２へ送られる。
【０１８９】
ガイド板は、給気口６１ａと排気口６２ａとの間を幅方向に複数に区切るように給気口６１ａと排気口６２ａとに本実施形態では近接して備えられているが、給気口６１ａと排気口６２ａとに接していてもよい。このようにガイド板６４を設けることにより、給気口６１ａからの風が、流延膜の幅方向に流れることを抑制するとともに、給気ダクト６１の側端部から外部空気が流延膜５９上に同伴されることが抑制される。これにより、乾燥した後のフィルムに、長尺方向と交差する斜め方向の厚みムラが発生することを抑制することができる。特に、このガイド板６４のうち、最も外側に配される両側端部のものは、風がフィルムの側縁を幅方向に流れることを阻止するため、フィルムの側端に向かうに従い強くなる厚みムラをより効果的に抑制し、上記に示したような光学ムラのないフィルム８１（図１参照）を製造することができる。そして、微小の光学ムラも問題となるＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）方式の液晶表示装置、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式の液晶表示装置といった高輝度、高画質の用途であっても、好適に用いることができる。
【０１９０】
給気ダクト６１の位置は、流延開始点ＰＳの直後ではなく流延膜５９が所定の硬さになった位置としている。これにより、風による流延膜の吹き付け跡等を流延膜５９につけることを抑制することができる。
【０１９１】
そして、流延ダイ５０から給気ダクト６１までの間は無風状態とすることが厚みムラを抑制する上でさらに好ましく、この領域を図７の符号Ｒで示される無風領域範囲とするために、本実施形態では、遮風板１２１を設けている。この遮風弁は、流延膜５９の上方に設けられ、流延膜上方における風の流れを抑制しており、この抑制効果は、流延膜５９の進行方向に沿ったラビリンス構造を遮風板１２１に設けることにより、より向上させることができる。つまり、ラビリンス構造により、バンドの走行による空気の同伴流の抑制やその風量の抑制効果が高まる。あるいは、流延膜５９の裏面を乾燥させる方法や、冷却凝縮回収方式等を用いて無風状態とする方法を組み合わせることにより、本発明の効果は向上する。この無風領域Ｒは、流延膜５９が形成されてからその残留溶媒が概ね１５０％程度となる程度にまで乾燥するまでとすることが好ましい。なお、前記冷却凝縮回収方式とは、図６及び図７に示すように流延膜５９の上方に第２凝縮板１２２を設けて、流延膜から揮発した溶媒をこの第２凝縮板により冷却して凝縮させる方式をいう。また、上記のような流延膜５９の裏面乾燥方法としては、図７に示すようにバンド５３の反流延膜側に加熱板１２４を設ける等して、流延膜５９を乾燥する方法があり、本実施形態でも実施している。さらに、複層を形成させる共流延方式を用いて、フィルムの表面層となるドープを表面層を除く中間層よりも小さな濃度とすることにより、吹き付けられた風の風量制御精度等の問題により生じることがある厚み変動を緩衝することができるために、より高速で流延することも可能となる。
【０１９２】
［性能・測定法］
（カール度・厚み）
巻き取られたセルロースアシレートフィルムの性能及びそれらの測定法は、特願２００
４−２６４４６４号の［０１１２］段落から［０１３９］段落に記載されている。これらも本発明にも適用することができる。
【０１９３】
［表面処理］
前記セルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面が表面処理されていることが好ましい。前記表面処理が真空グロー放電処理、大気圧プラズマ放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、火炎処理、酸処理またはアルカリ処理の少なくとも一種であることが好ましい。
【０１９４】
［機能層］
（帯電防止・硬化層・反射防止・易接着・防眩）
前記セルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面が下塗りされていても良い。
【０１９５】
さらに前記セルロースアシレートフィルムは、これをベースフィルムとし、このベースフィルムに他の機能性層を付与した機能性材料に好ましく用いることできる。前記機能性層が帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止層、易接着層、防眩層及び光学補償層から選択される少なくとも１層であることが好ましい。なお、特願２００４−２６４４６４号の［０８９０］段落から［１０８７］段落には、機能性層の付与方法が、詳細な条件、方法も含めて記載されている。これらも本発明に適用できる。
【０１９６】
（用途）
前記セルロースアシレートフィルムは、特に偏光板保護フィルムとしても機能する光学補償フィルムとして有用である。セルロースアシレートフィルムを偏光子に貼り合わせた偏光板を、液晶層に通常は２枚貼って液晶表示装置を作製する。ただし、液晶層と偏光板との配置は限定されるものではなく、周知の各種配置とすることができる。特願２００４−２６４４６４号には、液晶表示装置として、ＴＮ型，ＳＴＮ型，ＶＡ型，ＯＣＢ型，反射型、その他の例が詳しく記載されている。この方法は、本発明にも適用することができる。また、同出願には光学的異方性層を付与したセルロースアシレートフィルムや、反射防止、防眩機能を付与したセルロースアシレートフィルムについての記載もある。更には、適度な光学性能を付与した二軸性セルロースアシレートフィルムとして光学補償フィルムとしての用途も記載されている。これは、偏光板保護フィルムと兼用して使用することもできる。これらの記載内容は、本発明にも適用することができる。特願２００４−２６４４６４号の［１０８８］段落から［１２６５］段落に詳細が記載されている。
【０１９７】
得られるフィルムは、偏光板保護フィルムや写真感光材料のベースフィルムとして用いることができる。さらにテレビ用途などの液晶表示装置の視野角依存性を改良するための光学補償フィルムとしても使用可能である。特に偏光板の保護膜を兼ねる用途に効果的である。そのため、従来のＴＮモードだけでなくＩＰＳモード、ＯＣＢモード、ＶＡモードなどにも用いられる。また、前記偏光板保護膜用フィルムを用いて偏光板を構成しても良い。
【０１９８】
また、本発明では、上述のように、ポリマーの種類に応じて、溶液製膜に代えて溶融製膜によりフィルムを製造することもある。この場合には、流延工程に代えて溶融押出工程とし、市販の各種溶融押出ダイによりポリマーを溶融してフィルム形状に押出し、押し出されたフィルムを所定の条件により冷却してフィルムを製造するとよい。長尺状に押し出されたフィルムについては、必要に応じて所定の方向に延伸してもよい。なお、押し出されたフィルムの前記冷却方法としては、自然冷却でもよいし、所定の冷却装置による冷却でもよい。
【実施例１】
【０１９９】
次に、本発明の実施例を説明する。なお、製造条件を表１に示すように変えてそれぞれの条件のもとでの実験名を実験１〜実験１４及び比較実験１〜比較実験３とした。まず、フィルム製造に使用したポリマー溶液（ドープ）の調製に際しての配合を下記に示す。
［組成］
セルローストリアセテート（置換度２．８４、粘度平均重合度３０６、含水率０．２質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度  ３１５ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．５ｍｍであって標準偏差０．５ｍｍである粉体）                              １００質量部
ジクロロメタン（第１溶媒）                                        ３２０質量部
メタノール（第２溶媒）                                              ８３質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                                            ３質量部
可塑剤Ａ（トリフェニルフォスフェート）                            ７．６質量部
可塑剤Ｂ（ジフェニルフォスフェート）                              ３．８質量部
ＵＶ剤ａ：２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール                                                      ０．７質量部
ＵＶ剤ｂ：２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール                                          ０．３質量部
クエン酸エステル混合物（クエン酸、クエン酸モノエチルエステル、クエン酸ジエチルエステル、クエン酸トリエチルエステル混合物）                    ０．００６質量部
微粒子（二酸化ケイ素（粒径１５ｎｍ）、モース硬度  約７）        ０．０５質量部
【０２００】
さらに、光学特性を制御するために、以下の化５７で示される化合物を、添加量を変えて添加した。なお、それぞれの添加量は、表１の化５７添加率（単位；重量％）の欄に示すとおりであり、この添加率は上記セルローストリアセテートに対する重量比率である。
【０２０１】
【化５７】
2006028478.tif 000059
【０２０２】
［セルローストリアセテート］
なお、ここで使用したセルローストリアセテートは、残存酢酸量が０．１質量％以下であり、Ｃａ含有量が５８ｐｐｍ、Ｍｇ含有量が４２ｐｐｍ、Ｆｅ含有量が０．５ｐｐｍであり、遊離酢酸４０ｐｐｍ、さらに硫酸イオンが１５ｐｐｍ含むものであった。また６位アセチル基の置換度は０．９１であり全アセチル中の３２．５％であった。また、このＴＡＣをアセトンで抽出したアセトン抽出分は８質量％であり、その重量平均分子量／数平均分子量比は２．５であった。また、得られたＴＡＣのイエローインデックスは１．７であり、ヘイズは０．０８、透明度は９３．５％であり、Ｔｇ（ガラス転移点；ＤＳＣにより測定）は１６０℃、結晶化発熱量は６．４Ｊ／ｇであった。このＴＡＣは、綿から採取したセルロースを原料として合成されたものである。以下の説明において、これを綿原料ＴＡＣと称する。
【０２０３】
（１−１）ドープ仕込み
図５に示すドープ製造設備１０を用いてドープ３６を調製した。攪拌羽根を有する４０００Ｌのステンレス製溶解タンクで、前記複数の溶媒を混合してよく攪拌し、混合溶媒とした。なお、溶媒は、すべてその含水率が０．５質量％以下のものを使用した。次に、ＴＡＣのフレーク状粉体を溶解タンクのホッパから徐々に添加した。ＴＡＣ粉末は、溶解タンクに投入されて、回転軸にアンカー翼１９を備えたディゾルバータイプの偏芯攪拌機２１により、所定の攪拌条件で３０分間分散された。分散開始時の温度は２５℃であり、最終到達温度は４８℃となった。さらに、予め調製された添加剤溶液を添加剤タンクからバルブで送液量を調整して溶解タンクに送液し、全体が２０００ｋｇとなるようした。添加剤溶液の分散を終了した後、高速攪拌を停止した後、アンカー翼１９の周速を所定の値に設定してさらに１００分間攪拌し、ＴＡＣフレークを膨潤させて膨潤液を得た。膨潤終了までは窒素ガスによりタンク内を０．１２ＭＰａになるように加圧した。この際の溶解タンクの内部は、酸素濃度が２ｖｏｌ％未満であり防爆上で問題のない状態を保った。また膨潤液中の水分量は０．３質量％であった。
【０２０４】
（１−２）溶解・濾過
膨潤液を溶解タンクからポンプを用いてジャケット付配管に送液した。ジャケット付き配管で膨潤液を５０℃まで加熱して、更に２ＭＰａの加圧下で９０℃まで加熱し、完全溶解した。このときの加熱時間は１５分であった。次に、溶解された液を、温調機で３６℃まで温度を下げ、公称孔径８μｍの濾材を備えた濾過装置を通過させてドープ（以下、濃縮前ドープと称する）を得た。この際、濾過装置における１次側圧力を１．５ＭＰａ、２次側圧力を１．２ＭＰａとした。高温にさらされるフィルタ、ハウジング、及び配管としては、ハステロイ合金製で耐食性の優れたものを利用し保温加熱用の伝熱媒体を流通させるジャケットを備えたものを使用した。
【０２０５】
（１−３）濃縮・濾過・脱泡・添加剤
このようにして得られた濃縮前ドープを８０℃で常圧とされたフラッシュ装置内でフラッシュ蒸発させて、蒸発した溶媒を凝縮器で凝縮して回収した。このようにして、ドープ濃度を表１に記すように調整した。なお、凝縮された溶媒はドープ調製用溶媒として再利用すべく回収装置で回収された後に再生装置で再生した後に溶媒タンクに送液した。回収装置，再生装置では、蒸留や脱水などが行われる。フラッシュ装置のフラッシュタンクには攪拌軸にアンカー翼を備えた攪拌機を設け、この攪拌機により、フラッシュされたドープを攪拌して脱泡を行った。このフラッシュタンク内のドープの温度は２５℃であり、タンク内におけるドープの平均滞留時間は５０分であった。このドープを採取して２５℃で測定した剪断粘度は、剪断速度１０（ｓｅｃ-1）で４５０Ｐａ・ｓであった。
【０２０６】
つぎに、このドープに弱い超音波を照射することにより泡抜きを実施した。その後、ポンプを用いて１．５ＭＰａに加圧した状態で、濾過装置を通過させた。濾過装置では、最初公称孔径１０μｍの焼結繊維金属フィルタを通過させ、ついで同じく１０μｍの焼結繊維フィルタを通過させた。それぞれの１次側圧力は１．５ＭＰａ、１．２ＭＰａであり、２次側圧力は１．０ＭＰａ、０．８ＭＰａであった。濾過後のドープ温度を３６℃に調整して２０００Ｌのステンレス製ストックタンク内にドープ３６を送液してここに貯蔵した。ストックタンクは中心軸にアンカー翼を備えた攪拌機を有しており、この攪拌機により内部が常時攪拌される。なお、濃縮前ドープからドープ３６を調製するまでの間のドープ接液部には、腐食などの問題は全く生じなかった。
【０２０７】
また、ジクロロメタンが８６．５質量部、アセトンが１３質量部、１−ブタノール０．５質量部の混合溶媒Ａを作製した。
【０２０８】
（１−４）吐出・直前添加・流延・ビード減圧
図５に示す溶液製膜設備１０を用いてフィルム８１を製造した。リザーブタンク１２内のドープ３６を高精度ギアポンプ１５で濾過装置へ送った。このポンプ１５は、ポンプ１５の１次側を増圧する機能を有しており、１次側の圧力が０．８ＭＰａになるようにインバーターモーターによりポンプ１５の上流側に対するフィードバック制御を行い送液した。ポンプ１５は容積効率９９．２％、吐出量の変動率０．５％以下の性能である。また、その吐出圧力は１．５ＭＰａであった。そして、濾過装置を通ったドープ３６を流延ダイ５０に送液した。
【０２０９】
流延ダイ５０は、幅が１．８ｍであり乾燥された後のフィルム８１の膜厚が８０μｍとなるように、ダイ５０の吐出口のドープ３６の流量を調整して流延を行った。またダイ５０の吐出口からのドープ３６の流延幅を１７００ｍｍとした。ドープ３６の温度を３６℃に調整するために、流延ダイ５０にジャケット（図示しない）を設けてジャケット内に供給する伝熱媒体の入口温度を３６℃とした。
【０２１０】
流延ダイ５０と配管とはすべて、稼働中には３６℃に保温した。流延ダイ５０は、コートハンガータイプのダイである。そしてこのダイ５０としては、厚み調整ボルトが２０ｍｍピッチに設けられており、ヒートボルトによる自動厚み調整機構を具備しているものを使用した。このヒートボルトは予め設定したプログラムによりポンプの送液量に応じたプロファイルを設定することもでき、溶液製膜設備４０に設置した赤外線厚み計（図示しない）のプロファイルに基づいた調整プログラムによってフィードバック制御も可能な性能を有するものを用いた。流延側端部２０ｍｍを除いたフィルム８１においては、５０ｍｍ離れた任意の２点の厚みの差は１μｍ以内であり、幅方向における厚みのばらつきが３μｍ／ｍ以下となるように調整した。また、全体厚みは±１．５％以下に調整した。
【０２１１】
また、流延ダイ５０の１次側には、この部分を減圧するための減圧チャンバ６０を設置した。この減圧チャンバ６０の減圧度は、流延ダイ５０から流出されて流延開始位置ＰＳに達するまでの流延ビードの前後で１Ｐａ〜５０００Ｐａの圧力差が生じるように調整され、この調整は流延速度に応じてなされる。その際に、ビードの長さが所定の値となるようにビード両面側の圧力差を設定した。また、減圧チャンバは、流延部周囲のガスの凝縮温度よりも高い温度に設定できる機構を具備したものであった。ダイ吐出口におけるビードの前面部、背面部にはラビリンスパッキン（図示しない）を設け、また、ダイ吐出口の両端には開口部を設けた。さらに、ダイ５０には、流延ビードの両縁の乱れを調整するためのエッジ吸引装置（図示しない）が取り付けられている。
【０２１２】
（１−５）流延ダイ
流延ダイ５０の材質は、熱膨張率が２×１０-5（℃-1）以下の２層ステンレス鋼である。そしてこれは、電解質水溶液での強制腐食試験においてＳＵＳ３１６製と略同等の耐腐食性を有する素材であり、また、ジクロロメタン，メタノール，水の混合液に３ヶ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有する。流延ダイ５０の接液面の仕上げ精度は表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下であり、スリットのクリアランスは１．５ｍｍに調整した。ダイ５０のリップ先端の接液部の角部分については、Ｒがスリット全巾に亘り５０μｍ以下になるように加工されている。ダイ内部での剪断速度は１（１／ｓｅｃ）〜５０００（１／ｓｅｃ）の範囲であった。また、流延ダイ５０のリップ先端には、溶射法によりＷＣ（タングステンカーバイド）コーティングをおこない硬化膜を設けた。
【０２１３】
さらに流延ダイ５０の吐出口には、流出するドープ３６が局所的に乾燥固化することを防止するために、ドープ３６を可溶化するための前記混合溶媒Ａを流延ビードの両側端部と吐出口との界面部に対し、それぞれ０．５ｍｌ／ｍｉｎ．ずつで供給した。この混合溶媒Ａを供給するポンプの脈動率は５％以下であった。また、減圧チャンバ６０によりビード背面側の圧力を前面部よりも１５０Ｐａ低くした。また、減圧チャンバ６０の内部温度を所定の温度で一定にするためにジャケット（図示しない）を取り付けた。そのジャケット内には３５℃に調整された伝熱媒体を供給した。前記エッジ吸引装置は、１Ｌ／ｍｉｎ．〜１００Ｌ／ｍｉｎ．の範囲となるようにエッジ吸引風量を調整することができるものであり、本実施例ではこれを３０Ｌ／ｍｉｎ．〜４０Ｌ／ｍｉｎ．の範囲となるように適宜調整した。
【０２１４】
（１−６）金属支持体
支持体として、幅２．１ｍで長さ７０ｍのステンレス製のエンドレスバンド５３を用いた。流延バンド５３は、厚みが１．５ｍｍ、表面粗さが０．０５μｍ以下になるように研磨した。その材質はＳＵＳ３１６製であり、十分な耐腐食性と強度を有するものとした。流延バンド５３の全体の厚みムラは０．５％以下であった。流延バンド５３は、２個のバックアップローラ５１，５２により搬送させた。その際の流延バンド５３の搬送方向における張力は１．５×１０5 Ｎ／ｍ2 となるように、流延バンド５３とバックアップローラ５１，５２との相対速度差が０．０１ｍ／ｍｉｎ以下になるように調整した。また、流延バンド５３の速度変動は０．５％以下であった。また１回転の幅方向の蛇行が１．５ｍｍ以下に制限されるように流延バンド５３の両端位置を検出して制御した。また、流延ダイ５０の直下におけるダイ５０のリップ先端と流延バンド５３との上下方向における位置変動は２００μｍ以下にした。なお、流延バンド５３は、風圧変動抑制手段（図示しない）を有した流延室（図示なし）内に設置されている。この流延バンド５３上に流延ダイ５０からドープ３６を流延した。
【０２１５】
バックアップローラ５１，５２としては、流延バンド５３の温度調整を行うことができるように、内部に伝熱媒体を送液できるものを用いた。流延ダイ５０側のバックアップローラ３２には５℃の伝熱媒体を流し、他方のバックアップローラ３６には乾燥のために４０℃の伝熱媒体を流した。流延直前の流延バンド５３の中央部の表面温度は１５℃であり、その両側端の温度差は６℃以下であった。なお、流延バンド５３としては、表面欠陥がないものが好ましく、３０μｍ以上のピンホールが皆無であり、１０μｍ〜３０μｍのピンホールが１個／ｍ2 以下、１０μｍ未満のピンホールが２個／ｍ2 以下であるものを用いた。
【０２１６】
（１−７）流延乾燥
流延室５５の温度は、温度コントローラ５６により３５℃に保った。流延バンド５３上に流延されたドープ３６から形成された流延膜５９には、給気ダクト６１から風を送った。なお、排気ダクト６２により、排気を実施するとともに、ガイド板６４により風の流れを制御した。給気ダクト６１からの風量ＶＳ（ｍ3 ／分）及び風の温度ＴＳ（℃）を表１に示すように変化させた。また、流延バンド５３下部は、６５℃となるように送風機（図示なし）から送風した。それぞれの乾燥風の飽和温度はいずれも−８℃付近であった。流延バンド５３上での乾燥雰囲気における酸素濃度は５ｖｏｌ％に保持した。なお、この酸素濃度を５ｖｏｌ％に保持するために空気を窒素ガスで置換した。また、流延室内の溶媒を凝縮回収するために、凝縮器（コンデンサ）を設け、その出口温度を−１０℃に設定した。
【０２１７】
なお、流延開始点ＰＳから５秒間の流延時間では空気の流れが直接ドープ３６及び流延膜５９に当たらないようにするために遮風板（図示なし）を設け、流延ダイ５０直近の静圧変動を±１Ｐａ以下に抑制した。流延膜５９中の溶媒比率が乾量基準で５０質量％になった時点で流延バンド５３から剥取ローラ６５で支持しながらフィルム８１として剥ぎ取った。なお、この乾量基準による溶媒含有率は、サンプリング時におけるフィルム重量をｘ、そのサンプリングフィルムを乾燥した後の重量をｙとするとき｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００で求める値である。このときの剥取テンションは１×１０2 Ｎ／ｍ2 であり、剥取不良を抑制するために流延バンド５３の速度に対する剥取速度（剥取ローラドロー）を１００．１％〜１１０％の範囲で適切に調整した。剥ぎ取ったフィルムの表面温度は１５℃であった。流延バンド５３上での乾燥速度は、平均６０質量％乾量基準溶媒／ｍｉｎ．であった。乾燥により発生した溶媒ガスは−１０℃の凝縮器で凝縮液化して回収装置（図示せず）で回収した。回収された溶媒は、水分量が０．５％以下となるように調整した。溶媒が除去された乾燥風は再度加熱され乾燥風として再利用される。フィルム８１を、ローラを介して搬送し、テンタ８０に送った。この搬送時には、フィルム８１に対して送風機（図示なし）から４０℃の乾燥風を送った。なお、渡り部のローラで搬送している際に、湿潤フィルム６６には所定値のテンションが付与されている。
【０２１８】
（１−８）テンタ搬送・乾燥・耳切
テンタ８０に送られたフィルム８１は、クリップでその両端を固定されながらテンタ８０の乾燥ゾーン内を搬送され、この間、乾燥風により乾燥される。クリップは、２０℃の伝熱媒体の供給により冷却した。テンタ８０におけるクリップの搬送はチェーンで行い、そのスプロケットの速度変動は０．５％以下であった。乾燥風のガス組成は−１０℃における飽和ガス濃度とした。テンタ８０内での平均乾燥速度は１２０質量％（乾量基準溶媒）／ｍｉｎであった。テンタ８０の出口におけるフィルム８１の残留溶媒量が７質量％となるように、乾燥ゾーンの条件を調整した。テンタ８０内ではフィルム８１を搬送しつつ幅方向における延伸も行った。なお、この延伸前のフィルム８１の幅を１００％としたとき、延伸後の幅が１０３％となるように延伸した。剥取用のローラからテンタ８０の入口に至るまでの延伸率（テンタ駆動ドロー）は１０２％とした。また、テンタ入口から出口までの長さに対する、クリップ狭持開始位置から狭持解除位置までの長さの割合は９０％とした。テンタ８０内で蒸発した溶媒は−１０℃の温度で凝縮させ液化して回収した。凝縮回収用に凝縮器（コンデンサ）を設け、その出口温度は−８℃に設定した。そして凝縮溶媒は、含まれる水分量が０．５質量％以下に調整されて再使用された。
【０２１９】
そして、テンタ８０の出口から３０秒以内にフィルム８１の耳切りを耳切装置８２により実施した。
【０２２０】
（１−９）後乾燥・除電
フィルム８１をローラ乾燥装置２３で高温乾燥した。ローラ乾燥装置２３を４区画に分割して、上流側から１２０℃，１３０℃，１３０℃，１３０℃の乾燥風を送風機（図示しない）から給気した。フィルム８１のローラ２３ａによる搬送テンションは所定の値に制御され、最終的に残留溶媒量が０．３質量％になるまでの約１０分間乾燥した。前記ローラ２３ａにおけるラップ角（フィルムの巻きかけ中心角）は、９０°および１８０°とした。ローラ２３ａの材質はアルミ製もしくは炭素鋼製であり、表面にはハードクロム鍍金を施した。ローラ２３ａの表面形状はフラットなものとブラストによりマット化加工したものとを用いた。ローラ２３ａの回転によるフィルム位置の振れは全て５０μｍ以下であった。また、所定の値のテンション条件下でのローラ撓みは０．５ｍｍ以下となるように選定した。
【０２２１】
乾燥風に含まれる溶媒ガスは、吸着回収装置（図示せず）を用いて吸着回収除去した。ここに使用した吸着剤は活性炭であり、脱着は乾燥窒素を用いて行った。回収した溶媒は水分量０．３質量％以下に調整してドープ調製用溶媒として再利用した。乾燥風には溶媒ガスの他、可塑剤，ＵＶ吸収剤，その他の高沸点物が含まれるので、これを冷却除去する冷却器およびプレアドソーバーでこれらを除去して再生循環使用した。そして、最終的に屋外排出ガス中のＶＯＣ（揮発性有機化合物）が１０ｐｐｍ以下となるよう、吸脱着条件を設定した。また、全蒸発溶媒の内、凝縮法で回収する溶媒量は９０質量％であり、残りのものの大部分は吸着回収により回収した。
【０２２２】
乾燥されたフィルム８１を第１調湿室（図示しない）に搬送した。ローラ乾燥装置と第１調湿室との間の渡り部には、１１０℃の乾燥風を給気した。第１調湿室には、温度５０℃、露点が２０℃の空気を給気した。さらに、フィルム８１のカールの発生を抑制するための第２調湿室（図示しない）にフィルム８１を搬送した。第２調湿室では、フィルム８１に直接９０℃，湿度７０％の空気をあてた。
【０２２３】
（１−１０）ナーリング、巻取条件
調湿後のフィルム８１は、冷却室で３０℃以下に冷却した後に、第２耳切装置２２により耳切りを行った。搬送中のフィルム８１の帯電圧は、常時−３ｋＶ〜＋３ｋＶの範囲となるように強制除電装置（除電バー）を設置した。さらにフィルム８１の両端にナーリング付与ローラでナーリングの付与を実施した。ナーリングはフィルム８１の片面側からエンボス加工を行うことで付与し、ナーリングを付与する幅は１０ｍｍであり、凹凸の高さがフィルム８１の平均厚みよりも平均１２μｍ高くなるようにナーリング付与ローラによる押し圧を設定した。
【０２２４】
そして、フィルム８１を巻取室９０に搬送した。巻取室９０は、装置内温度２８℃，湿度７０％に保持されている。さらに、巻取室９０の内部にはフィルム８１の帯電圧が−１．５ｋＶ〜＋１．５ｋＶになるようにイオン風除電装置（図示しない）も設置した。このようにして得られたフィルム８１の製品幅は、１４７５ｍｍである。巻取室９０の巻き取りローラの径は１６９ｍｍである。巻き始めと巻き終わりとの各テンションが所定の値となるように制御した。巻き取ったフィルム８１の全長は３９４０ｍであった。巻き取りの際の巻きズレの変動幅（オシレート幅と称することもある。）を±５ｍｍとし、その巻き軸に対する巻きズレ周期を４００ｍとした。また、巻取軸に対するプレスローラを押し圧については所定の値となるように設定された。巻き取り時のフィルム８１の温度は２５℃、含水量は１．４質量％、残留溶媒量は０．３質量％であった。全工程を通しても平均乾燥速度は２０質量％（乾量基準溶媒）／ｍｉｎであった。また巻き緩み、シワもなく、１０Ｇでの衝撃テストにおいても巻きずれが生じなかった。また、フィルムロールの外観も良好であった。なお、得られたフィルムの平均厚み（単位；μｍ）については表１に示す。
【０２２５】
フィルムロールを２５℃、相対湿度５５％（以降、５５％ＲＨと記す）の貯蔵ラックに１ヶ月保管して、さらに上記と同様に検査した結果、いずれも変化は認められなかった。さらにフィルムロール内においてもフィルムの接着は認められなかった。また、フィルム８１を製膜した後に、流延バンド５３上にはドープ３６から形成された流延膜の剥げ残りは全く見られなかった。
【０２２６】
（１−１１）評価と結果
上記実験１〜１４及び比較実験１〜３により得られたフィルムについて、面内リタデーション値Ｒｅと、分散値Ｖと光学ムラについて評価し、その結果を表１に示す。なお、分散値Ｖは、流延方向に対して４５°の方向に沿って測定された厚みデータに基づき求められた値である。また、光学ムラについては、得られたフィルムをガラス板に貼り、クロスニコル状態の偏光板の間に配してバックライドをあて、視認官能評価を実施した。表１においては、◎は光学ムラが全く確認されないことを示し、○はごくわずかに確認されるが問題ないことを示し、△はわずかに見える程度であるが問題ないことを示し、×ははっきりと確認されることを示す。
【０２２７】
【表１】
2006028478.tif 000060
【０２２８】
以上の実施例の結果より、厚み変動が大きく、測定位置に対する厚みの変化率の分散値Ｖが大きい箇所に光学ムラが確認されることがわかる。このように、本発明により、フィルムの光学ムラを抑制することができるので、これを高輝度、大画面の液晶表示装置に適用することにより、表示ムラ、特に、横方向と縦方向とに現れる表示ムラを効果的に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２２９】
【図１】本発明のフィルムについて説明する平面図である。
【図２】フィルムの所定方向に沿って測定された厚みデータの一部の説明図である。
【図３】（ａ）は実施形態であるフィルムの厚みデータであり、（ｂ）は別の実施形態としてのフィルムの厚みデータである。
【図４】ドープ製造設備の概略図である。
【図５】溶液製膜設備の概略図である。
【図６】流延膜近傍の平面図である。
【図７】図６のVII−VII線に沿った断面図である。
【図８】従来のフィルムに発生する光学ムラの説明図である。
【図９】（ａ）（ｂ）は互いに異なるフィルム従来品の厚みデータである。
【符号の説明】
【０２３０】
１０    溶液製膜設備
３６    ドープ
５０    流延ダイ
５９    流延膜
６１    給気ダクト
６２    排気ダクト
６４    ガイド板
８１    フィルム
ＭＬ    厚み測定ライン
ＰＳ    測定開始点
【図１】
2006028478.tif 000061
【図２】
2006028478.tif 000062
【図３】
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【図４】
2006028478.tif 000064
【図５】
2006028478.tif 000065
【図６】
2006028478.tif 000066
【図７】
2006028478.tif 000067
【図８】
2006028478.tif 000068
【図９】
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