(57)【要約】【課題】  光散乱粒子の分散性などを低下させることなくヘイズ値の高い光散乱樹脂層を形成することにより、画素を微細化しても、明るい表示を行うことのできる電気光学装置およびそれを備えた電子機器を提供すること。【解決手段】  電気光学装置１ａでは、バックライト装置９０からみて電気光学パネル１００が位置する表示面側には、接着剤層７１、７２、７３、カラーフィルタ１２４、絶縁膜１２９、感光性樹脂層１１３からなる６つの絶縁層が形成され、これらの絶縁層のうち、少なくとも２つの層については、光透過性樹脂マトリクス中に、アクリル系、アクリル−スチレン系、ポリエチレン系、ポリカーボネート系、シリコン等の光透過性粒子からなる光散乱粒子が分散した光散乱樹脂層によって構成する。【選択図】    図１
2006162730.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極が形成された第１の基板、前記第１の電極に対向する第２の電極が形成された第２の基板、前記第１の基板と前記第２の基板との間で前記第１の電極と前記第２の電極との間で駆動される電気光学物質層を備えた電気光学パネルと、該電気光学パネルに対して前記第２の基板側に重ねて配置された１枚ないし複数枚の板状またはシート状の第１の光学素子と、前記電気光学パネルに対して前記第２の基板側に重ねて配置された１枚ないし複数枚の板状またはシート状の第２の光学素子と、該第２の光学素子に重ねて配置された透過表示用のバックライト装置とを有する電気光学装置において、
前記バックライト装置からみて前記電気光学パネルが位置する表示面側には、光透過性樹脂マトリクス中に光散乱粒子が分散した光散乱樹脂層が少なくとも１層形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１において、前記バックライト装置からみて前記電気光学パネルが位置する表示面側には、前記光散乱樹脂層が２層以上形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項２において、前記光散乱樹脂層は、１層毎のヘイズ度が８０以下であり、前記光散乱樹脂層の各々のヘイズ度の和が９０以上であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記光散乱樹脂層には、前記光学素子を接着固定するための接着剤中に前記光散乱粒子が分散している光散乱接着剤層が少なくとも１層含まれていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記光散乱樹脂層には、前記第２の基板において前記第１の基板と対向する面側、または前記第１の基板において前記第２の基板と対向する面側に形成された樹脂層が少なくとも１層含まれていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、前記第２の基板には、前記バックライト装置から出射された光を透過させて透過モードでの画像表示を可能とする開口を備えた光反射層が形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項６において、前記第１の基板には前記光反射層の下層側に凹凸形成層が形成され、当該凹凸形成層によって形成された凹凸が前記光反射層の表面に光散乱用凹凸として反映されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項６または７において、前記光反射層からみて前記第１の光学素子が位置する表示面側には前記光散乱樹脂層が少なくとも１層形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項６または７において、前記光反射層からみて前記第１の光学素子が位置する表示面側には前記光散乱樹脂層が２層以上形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに規定する電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射モードでの画像表示が可能な電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの電気光学装置では、第１の電極が形成された第１の基板、第１の電極に対向する第２の電極が形成された第２の基板、第１の基板と第２の基板との間で第１の電極と第２の電極との間で駆動される電気光学物質層を備えた電気光学パネルを備えるとともに、電気光学パネルの表示面側には、偏光板、第１の位相差板、第２の位相差板などといった板状またはシート状の第１の光学素子が配置されている。また、電気光学パネルに対して表示面側とは反対側には、第３の位相差板、第４の位相差板、偏光板などの板状またはシート状の第２の光学素子が配置され、第２の光学素子に重ねて透過表示用のバックライト装置が配置されている。
【０００３】
このような電気光学装置は全透過型であるが、全反射型、および薄い反射膜を用いた半透過反射型の電気光学装置に関して、位相差板同士を光透過性樹脂マトリクス中に光散乱粒子を分散させた光散乱樹脂層で接着した技術が提案されている（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開２００２−２７７８７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような電気光学装置では、画素を微細化して表示の高精彩化が進められているが、その場合でも、隣接する画素間には所定の隙間を確保する必要があるため、画素を微細化すると画素内において表示光を出射可能な面積の割合（１画素内で表示に実質寄与する領域の面積比率／画素開口率）が低下し、明るい表示を行えなくなる。また、携帯電話機などの表示装置については、外光を利用した反射モードでの画像を表示できるように、第２の基板に対して、透過モードでの画像表示を可能とする開口を備えた光反射層を形成した構成が採用されることが多いが、このように構成すると、１画素の面積内を透過用と反射用とに分割するため、透過モードにおいても反射モードにおいても画素開口率の低い画像しか表示できなくなる。
【０００５】
ここに本願出願人は、光散乱樹脂層で起こる光散乱粒子と光透過性樹脂マトリクスとの界面での反射を利用して表示光を散乱させて出射することにより、１画素内で表示に実質寄与する領域を見かけ上拡大し、明るい表示を行うことを提案するものである。
【０００６】
また、このような特性を利用するには、光散乱樹脂層のヘイズ値を高める必要があるが、光散乱粒子の配合量を高めてヘイズ値を高めようとすると、光透過性樹脂マトリクス中での光散乱粒子の分散性が低下し、ヘイズ値が低下してしまう。また、光散乱粒子の配合量を高めると、接着強度が低下し、光学シートの接着が行えないという問題点がある。
【０００７】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、光散乱粒子の分散性を利用することにより、画素を微細化しても、明るい透過表示を行うことのできる電気光学装置およびそれを備えた電子機器を提供することにある。
【０００８】
また、本発明の課題は、光散乱粒子の分散性などを低下させることなくヘイズ値の高い光散乱樹脂層を形成することにより、画素を微細化しても、明るい透過表示を行うことのできる電気光学装置およびそれを備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明では、第１の電極が形成された第１の基板、前記第１の電極に対向する第２の電極が形成された第２の基板、前記第１の基板と前記第２の基板との間で前記第１の電極と前記第２の電極との間で駆動される電気光学物質層を備えた電気光学パネルと、該電気光学パネルに対して前記第２の基板側に重ねて配置された１枚ないし複数枚の板状またはシート状の第１の光学素子と、前記電気光学パネルに対して前記第２の基板側に重ねて配置された１枚ないし複数枚の板状またはシート状の第２の光学素子と、該第２の光学素子に重ねて配置された透過表示用のバックライト装置とを有する電気光学装置において、前記バックライト装置からみて前記電気光学パネルが位置する表示面側には、光透過性樹脂マトリクス中に光散乱粒子が分散した光散乱樹脂層が少なくとも１層形成されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明では、光散乱樹脂層で起こる光散乱粒子と光透過性樹脂マトリクスとの界面での反射を利用して表示光を散乱させて出射させることができるので、１画素内で表示に実質寄与する領域を見かけ上拡大することができ、明るい透過表示を行うことができる。
【００１１】
本発明において、前記バックライト装置からみて前記電気光学パネルが位置する表示面側には、前記光散乱樹脂層が２層以上形成されていることが好ましい。このように構成すると、光散乱樹脂層の単独のヘイズ値を高めなくても、光散乱樹脂層の各々のヘイズ度を加算したヘイズ値を利用できる。それ故、各光散乱樹脂層では、光散乱粒子の配合量を過度に高めなくても、ヘイズ値の高い光散乱樹脂層を形成したのと同等の効果を得ることができる。それ故、画素を微細化しても、明るい表示を行うことができる。この場合、前記光散乱樹脂層は、１層毎のヘイズ度が８０以下であり、前記光散乱樹脂層の各々のヘイズ度の和が９０以上であることが好ましい。
【００１２】
本発明ににおいて、前記光散乱樹脂層には、前記光学素子を接着固定するための接着剤中に前記光散乱粒子が分散している光散乱接着剤層が少なくとも１層含まれていることが好ましい。光散乱接着剤層を光学素子を接着固定するための接着剤として利用した場合には、新たな部材や工程の追加が一切、必要ない。また、前記光散乱樹脂層を２層以上形成した場合には、光散乱粒子の配合量を過度に高めなくてもよいので、光散乱樹脂層を接着剤として利用できる。
【００１３】
本発明において、前記光散乱樹脂層には、前記第２の基板において前記第１の基板と対向する面側、または前記第１の基板において前記第２の基板と対向する面側に形成された樹脂層が少なくとも１層含まれていることが好ましい。すなわち、第２の基板において第１の基板と対向する面側に、カラーフィルタ、平坦化膜、オーバーコート層、層厚調整層などといった樹脂層が形成される場合には、これらの樹脂層の一部あるいは全部を光散乱樹脂層として構成することが好ましく、このように構成すると、新たな部材や工程の追加が一切、必要ないという利点がある。また、本発明では、光散乱粒子の配合量を過度に高めなくてもよいので、光散乱粒子を配合しても樹脂の粘度が増大しない。それ故、通常の樹脂と同様な方法で塗布することができる。
【００１４】
本発明は、前記第２の基板に、前記バックライト装置から出射された光を透過させて透過モードでの画像表示を可能とする開口を備えた光反射層が形成された半透過反射型の電気光学装置にも適用することができる。
【００１５】
この場合、前記第１の基板には前記光反射層の下層側に凹凸形成層が形成され、当該凹凸形成層によって形成された凹凸が前記光反射層の表面に光散乱用凹凸として反映されていることが好ましい。
【００１６】
本発明において、前記光反射層からみて前記第１の光学素子が位置する表示面側には前記光散乱樹脂層が少なくとも１層形成されていることが好ましい。このように構成すると、モワレを確実に解消できる。
【００１７】
本発明において、前記光反射層からみて前記第１の光学素子が位置する表示面側には前記光散乱樹脂層が２層以上形成されていることが好ましい。このように構成すると、モワレをさらに確実に解消できる。また、反射モードで画像を表示する際も、光散乱樹脂層で起こる光散乱粒子と光透過性樹脂マトリクスとの界面での反射を利用して表示光を散乱させて出射させることができるので、１画素内で表示に実質寄与する領域を見かけ上拡大することができ、明るい反射表示を行うことができる。
【００１８】
本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった電子機器に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。なお、参照する各図において、図面上で認識可能な大きさとするために縮尺が各層や各部材ごとに異なる場合がある。
【００２０】
［実施の形態１］
（全体構成）
図１は、本発明を適用した全透過型の電気光学装置の概略構成図である。
【００２１】
図１において、本形態の電気光学装置１ａは、全透過の液晶表示装置であり、電気光学パネル１００は、第１の電極１１が形成された第１の基板１０と、第１の電極１１に対向する第２の電極２１が形成された第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間で第１の電極１１と第２の電極２１との間で駆動される電気光学物質層３０とを備えている。電気光学パネル１００の表示面側には、ヨウ素系などの偏光板４１などといった板状またはシート状の第１の光学素子が配置されている。これに対して、電気光学パネル１００の表示面側とは反対側にはヨウ素系などの偏光板６３や輝度改善フィルム６５などといった板状またはシート状の第２の光学素子が配置されている。さらに、第２の光学素子と重なるように、光源９１および導光板９２を備えたバックライト装置９０が配置されている。従って、バックライト装置９０から出射された光は、矢印ＬＴで示すように、第１の基板１０の側から電気光学物質層３０に入射し、電気光学物質層３０で光変調された後、第２の基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を表示する（透過モード）。
【００２２】
（電気光学パネルの構成例）
本発明を適用した電気光学装置１ａにおいて、電気光学パネル１００としては各種の液晶パネルを用いることができるが、その一例として、ＴＦＴを非線形素子として用いたアクティブマトリクス型の液晶パネルの構成を図２および図３を参照して説明する。
【００２３】
図２および図３はそれぞれ、全反射型の電気光学装置に用いた電気光学パネルの画素構成を示す平面図、および断面図である。なお、図３は、電気光学装置の画素の一部を図２のＣ−Ｃ′線で切断したときの断面図に相当する。
【００２４】
図２において、ＴＦＴを非線形素子として用いた全透過型の電気光学パネル１００では、第１の基板１０（ＴＦＴアレイ基板）と対向基板２０（対向基板／図３参照）とが対向配置した状態に用いられる。第１の基板１０には、複数の透明なＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜からなる第１の電極１１（画素電極）がマトリクス状に形成されており、これら各第１の電極１１に対して画素スイッチング用のＴＦＴ１３０がそれぞれ接続している。また、第１の電極１１の縦横の境界に沿って、データ線１０６ａ、走査線１０３ａ、および容量線１０３ｂが形成され、ＴＦＴ１３０は、データ線１０６ａおよび走査線１０３ａに対して接続している。すなわち、データ線１０６ａは、コンタクトホールを介してＴＦＴ１３０の高濃度ソース領域１０１ｄに電気的に接続し、走査線１０３ａは、その突出部分がＴＦＴ１３０のゲート電極を構成している。なお、蓄積容量１６０は、画素スイッチング用のＴＦＴ１３０を形成するための半導体膜１０１ａの延設部分１０１ｆを導電化したものを下電極とし、この下電極１４１に容量線１０３ｂが上電極として重なった構造になっている。
【００２５】
このように構成した画素領域のＣ−Ｃ′線における断面は、図３に示すように表され、第１の基板１０の基体たる透明な基板の表面にシリコン酸化膜（絶縁膜）からなる下地保護膜１１１が形成され、この下地保護膜１１１の表面には島状の半導体膜１０１ａが形成されている。半導体膜１０１ａの表面にはシリコン酸化膜からなるゲート絶縁膜１０２が形成され、このゲート絶縁膜１０２の表面に走査線１０３ａが形成されている。半導体膜１０１ａのうち、走査線１０３ａに対してゲート絶縁膜１０２を介して対峙する領域がチャネル領域１０１ａ′になっている。このチャネル領域１０１ａ′に対して一方側には、低濃度ソース領域１０１ｂおよび高濃度ソース領域１０１ｄを備えるソース領域が形成され、他方側には低濃度ドレイン領域１０１ｃおよび高濃度ドレイン領域１０１ｅを備えるドレイン領域が形成されている。
【００２６】
画素スイッチング用のＴＦＴ１３０の表面側には、シリコン酸化膜または／およびシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜１０４が形成されている。層間絶縁膜１０４の表面にはデータ線１０６ａが形成され、このデータ線１０６ａは、層間絶縁膜１０４に形成されたコンタクトホールを介して高濃度ソース領域１０１ｄに電気的に接続している。層間絶縁膜１０４の表面にはデータ線１０６ａと同時形成されたドレイン電極１０６ｂが形成され、このドレイン電極１０６ｂは、層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介して高濃度ドレイン領域１０１ｅに電気的に接続している。
【００２７】
層間絶縁膜１０４の上層には、層間絶縁膜としての感光性樹脂層１１３が形成され、この感光性樹脂層１１３の表面にはＩＴＯ膜からなる第１の電極１１が形成されている。第１の電極１１は、感光性樹脂層１１３および層間絶縁膜１０４に形成されたコンタクトホールを介してドレイン電極１０６ｂに電気的に接続している。第１の電極１１の表面側にはポリイミド膜からなる配向膜１１２が形成されている。この配向膜１１２は、ポリイミド膜に対してラビング処理が施された膜である。
【００２８】
また、高濃度ドレイン領域１０１ｅからの延設部分１０１ｆ（下電極）に対しては、ゲート絶縁膜１０２と同時形成された絶縁膜（誘電体膜）を介して容量線１０３ｂが上電極として対向することにより、蓄積容量１６０が構成されている。
【００２９】
さらに、本形態では、容量線１０３ｂの上層側には、透明なポリイミド樹脂などからなる、高さ２μｍ〜３μｍの柱状突起１４０が各画素毎に複数、形成され、これらの柱状突起１４０によって、第１の基板１０と第２の基板２０との間隔が規定されている。
【００３０】
第２の基板２０では、第１の基板１０に形成されている第１の電極１１の縦横の境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜１２３が形成され、その上層側には、ＩＴＯ膜からなる第２の電極２１（対向電極）が形成されている。第２の電極２１の上層側には、ポリイミド膜からなる配向膜１２２が形成され、この配向膜１２２は、ポリイミド膜に対してラビング処理が施された膜である。第２の基板２０において第２の電極２１の下層側には、フォトリソグラフィ技術、フレキソ印刷法、あるいはインクジェット法を利用してＲＧＢのカラーフィルタ１２４が１μｍ〜数μｍの厚さに形成されている。なお、第２の電極２１の下層側には、必要に応じて、カラーフィルタ１２４および遮光膜１２３の上層側に平坦化膜あるいはオーバーコート膜としての絶縁膜１２９が形成される。
【００３１】
（光散乱樹脂層の構成）
再び図１において、本形態の電気光学装置１ａでは、バックライト装置９０からみて電気光学パネル１００が位置する表示面側には、以下の樹脂層が存在する。まず、偏光板４１は電気光学パネル１００と接着剤層７１で固着されている。また、偏光板６３は、電気光学パネル１００と接着剤層７２で固着され、輝度改善フィルム６５は、偏光板６３と接着剤層７３で固着されている。さらに、第２の基板２０において第１の基板１０と対向する側の面には、カラーフィルタ１２４と、平坦化膜あるいはオーバーコート膜としての絶縁膜１２９とが形成されている。さらにまた、第１の基板１０において、第２の基板２０と対向する側の面には、感光性樹脂層１１３が形成されている。
【００３２】
そこで、本形態では、接着剤層７１、カラーフィルタ１２４、絶縁膜１２９からなる５つの絶縁層のうち、少なくとも１つの層については、光透過性樹脂マトリクス中に、アクリル系、アクリル−スチレン系、ポリエチレン系、ポリカーボネート系、シリコン等の光透過性粒子からなる光散乱粒子が分散した光散乱樹脂層によって構成する。本形態では、接着剤層７１、カラーフィルタ１２４、絶縁膜１２９からなる５つの絶縁層のうち、少なくとも２つの層について、光透過性樹脂マトリクス中に、アクリル系、アクリル−スチレン系、ポリエチレン系ポリカーボネート系、シリコン等の光透過性粒子からなる光散乱粒子が分散した光散乱樹脂層によって構成する。例えば、接着剤層７１、７２、７３のうち、２つの層を光散乱樹脂層によって構成する。また、対向基板２０に形成されたカラーフィルタ１２４および絶縁膜１２９を光散乱樹脂層によって構成する。あるいは、第１の基板１０に形成された感光性樹脂層１１３と、その他の樹脂層（接着剤層７１、７２、７３、カラーフィルタ１２４、絶縁膜１２９）を光散乱樹脂層によって構成する。
【００３３】
これらいずれの構成を採用した場合も、光散乱樹脂層のヘイズ度は、光散乱粒子の濃度が高くなると、ヘイズ度が大きくなる傾向にあるが、このヘイズ度は、光透過性樹脂マトリクスの屈折率と光散乱粒子の屈折率、それらの差、光散乱粒子の粒子径、光散乱樹脂層の厚みなどによって設定でき、本形態では、例えば、１層毎のヘイズ度が８０以下であるが、光散乱樹脂層の各々のヘイズ度の和が９０以上である。なお、光散乱粒子の平均粒径は、例えば、０．１〜５μｍである。光散乱粒子の屈折率は、例えば１．５〜２．５であり、光透過性樹脂マトリクスの屈折率は、例えば１．４〜１．７である。光散乱粒子の屈折率は、光透過性樹脂マトリクスの屈折率に比して大きいことが好ましく、これにより光散乱性が向上する。
【００３４】
以上説明したように、本形態では、光散乱樹脂層で起こる光散乱粒子と光透過性樹脂マトリクスとの界面での反射を利用して表示光を散乱させて出射させることができるので、１画素内で表示に実質寄与する領域を見かけ上拡大することができ、明るい透過表示を行うことができる。
【００３５】
また、本形態では、光散乱樹脂層が２層以上形成されているため、光散乱樹脂層の各々のヘイズ度を加算したヘイズ値を利用できる。それ故、各光散乱樹脂層では、光散乱粒子の配合量を過度に高めなくても、ヘイズ値の高い光散乱樹脂層を形成したのと同等の効果を得ることができる。それ故、画素を微細化しても、明るい表示を行うことができる。
【００３６】
さらに、本形態では、光散乱樹脂層を接着剤層７１、７２、７３として利用しているが、光散乱粒子の配合量を過度に高めなくてもよいので、十分な接着強度を得ることができる。また、光散乱接着剤層を第１の光学素子を接着固定するための接着剤として利用した場合には、新たな部材や工程の追加が一切、必要ない。
【００３７】
さらに、第２の基板２０において第１の基板１０と対向する面側、または第１の基板１０において第２の基板２０と対向する面側に形成された樹脂層を２層以上の光散乱樹脂層とした場合にも、新たな部材や工程の追加が一切、必要ないという利点がある。また、光散乱粒子の配合量を過度に高めなくてもよいので、光散乱粒子を配合しても樹脂の粘度が増大しないため、スピンコートや印刷などといった通常の樹脂と同様な方法で塗布することができる。
【００３８】
［実施の形態２］
上記実施の形態１は、本発明を全透過射型の電気光学装置に適用した例であるが、以下に説明する半透過反射型の電気光学装置に本発明を適用してもよい。
【００３９】
（全体構成）
図４は、本発明を適用した半透過反射型の電気光学装置の概略構成図である。図５および図６はそれぞれ、半透過反射型の電気光学装置に用いた電気光学パネルの画素構成を示す平面図、および断面図である。なお、図６は、電気光学装置の画素の一部を図５のＣ−Ｃ′線で切断したときの断面図に相当する。また、本形態の電気光学装置は、基本的な構成が実施の形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
【００４０】
図４において、本形態の電気光学装置１ｂは、半透過反射型の液晶表示装置であり、電気光学パネル１００は、第１の電極１１が形成された第１の基板１０と、第１の電極１１に対向する第２の電極２１が形成された第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間で第１の電極１１と第２の電極２１との間で駆動される電気光学物質層３０とを備えている。また、電気光学パネル１００の表示面側には、偏光板４１、第１の位相差板４２、第２の位相差板４３などといった板状またはシート状の第１の光学素子が配置されている。第１の基板１０には光反射層１５が形成されており、この光反射層１５によって、第２の基板２０側から入射した光を反射して反射モードでの画像表示が行われる。すなわち、第２の基板２０の側から入射した外光は、矢印ＬＲで示すように、電気光学物質層３０を通って光反射層１５に届き、この光反射層１５で反射されて再び、電気光学物質層３０を通って第２の基板２０の側から反射表示光として出射されて画像を表示する。
【００４１】
また、本形態では、電気光学パネル１００からみて第１の光学素子が位置する表示面側とは反対側には、第３の位相差板６１、第４の位相差板６２、偏光板６４などといった板状またはシート状の第２の光学素子と、光源９１および導光板９１を備えたバックライト装置９０とが配置され、光反射層１５には、バックライト装置９０から出射された光を透過させて透過モードでの画像表示を可能とする開口１５０が形成されている。従って、バックライト装置９０から出射された光のうち、開口１５０に入射した光は、矢印ＬＴで示すように、第１の基板１０の側から電気光学物質層３０に入射し、電気光学物質層３０で光変調された後、第２の基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を表示する（透過モード）。
【００４２】
（電気光学パネルの構成例）
本発明を適用した電気光学装置１ａにおいて、電気光学パネル１００としては各種の液晶パネルを用いることができるが、その一例として、ＴＦＴを非線形素子として用いたアクティブマトリクス型の液晶パネルの構成を図５および図６を参照して説明する。
【００４３】
図５および図６はそれぞれ、半透過反射型の電気光学装置に用いた電気光学パネルの画素構成を示す平面図、および断面である。なお、図６は、電気光学装置の画素の一部を図５のＣ−Ｃ′線で切断したときの断面図に相当する。また、本形態の電気光学装置は、基本的な構成が実施の形態１と共通しているので、共通している部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。
【００４４】
図５および図６において、ＴＦＴを非線形素子として用いた半透過反射型の電気光学パネル１００でも、実施の形態１と同様、第１の基板１０（ＴＦＴアレイ基板）と対向基板２０（対向基板／図６参照）とが対向配置した状態に用いられる。第１の基板１０には、複数の透明なＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜からなる第１の電極１１（画素電極）がマトリクス状に形成され、第２の基板２０には透明なＩＴＯ膜からなる第２の電極２１（対向素電極）が形成されている。
【００４５】
本形態において、感光性樹脂層１１３は凹凸形成層として形成されており、この感光性樹脂層１１３の表面にはアルミニウム膜などからなる光反射膜１５が形成されている。従って、光反射膜１５の表面には、感光性樹脂層１１３の凹凸が反映されている。
【００４６】
また、光反射層１５には、バックライト装置９０から出射された光を透過させて透過モードでの画像表示を可能とする開口１５０が形成されている。
【００４７】
第２の基板２０には、第２の電極２１とカラーフィルタ１２４との層間には、光反射層１５が形成されている反射領域における基板間隔を、開口１５０に相当する透過領域における基板間隔よりも薄くする層厚調整層１２５が形成されている。本形態において、層厚調整層１２５は、フォトリソグラフィ技術、フレキソ印刷法、あるいはインクジェット法を利用して形成された厚さが２μｍ〜３μｍのアクリル樹脂やポリイミド樹脂などである。このように構成すると、透過表示光は、電気光学物質層３０を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は、電気光学物質層３０を２度、通過することになるが、本形態では、第２の基板２０に形成された層厚調整層１２５によって、反射領域における電気光学物質層３０の層厚は、透過領域における電気光学物質層３０の層厚よりもかなり薄い。このため、透過表示光および反射表示光の双方において、リタデーションを最適化することができるので、品位の高い表示を行うことができる。なお、開口１５０に相当する透過領域では、層厚調整層１２５を形成しない場合もある。その他の構成は実施の形態１と同様であるため、説明を省略する。
【００４８】
（光散乱樹脂層の構成）
再び図４において、本形態の電気光学装置１ｂでは、バックライト装置９０からみて電気光学パネル１００が位置する表示面側には、以下の樹脂層が存在する。まず、第２の位相差板４３は電気光学パネル１００と接着剤層５３で固着され、第１の位相差板４２は第１の位相差板４３と接着剤層５２で固着され、偏光板４１は第２の位相差板４２と接着剤層５１で固着されている。また、第２の基板２０において第１の基板１０と対向する側の面には、カラーフィルタ１２４と、層厚調整層１２５、平坦化膜あるいはオーバーコート膜としての絶縁膜１２９とが形成されている。さらに、透過表示用の開口１５０と重なる領域には感光性樹脂層１１３が存在している。
【００４９】
そこで、接着剤層５１、５２、５３、カラーフィルタ１２４、層厚調整層１２５、絶縁膜１２９からなる６つの絶縁層のうち、少なくとも１つの層については、光透過性樹脂マトリクス中に、アクリル系、アクリル−スチレン系、ポリエチレン系、ポリカーボネート系、シリコン等の光透過性粒子からなる光散乱粒子が分散した光散乱樹脂層によって構成する。本形態では、接着剤層５１、５２、５３、カラーフィルタ１２４、層厚調整層１２５、絶縁膜１２９からなる６つの絶縁層のうち、少なくとも２つの層を光散乱樹脂層によって構成する。例えば、接着剤層５１、５２、５３のうち、２つの層を光散乱樹脂層によって構成する。また、対向基板２０に形成されたカラーフィルタ１２４、層厚調整層１２５および絶縁膜１２９のうち、２つの層を光散乱樹脂層によって構成する。あるいは、接着剤層５１、５２、５３のうちの１つの層を光散乱樹脂層によって構成し、対向基板２０に形成されたカラーフィルタ１２４、層厚調整層１２５および絶縁膜１２９のうちの１つを光散乱樹脂層によって構成してもよい。なお、透過表示用の開口１５０と重なる領域には感光性樹脂層１１３が形成されており、この感光性樹脂層１１３を光散乱樹脂層とした場合には透過表示光に対してのみ散乱性を発揮し、反射表示光に対してのみ散乱性を発揮しないことになる。
【００５０】
これらいずれの構成を採用した場合も、光反射層１５からみて第２の基板２０が位置する表示面側には、光透過性樹脂マトリクス中に光散乱粒子が分散した光散乱樹脂層が２層以上形成されているため、モワレを確実に解消できる。また、光散乱樹脂層が２層以上形成されているため、光散乱樹脂層の各々のヘイズ度を加算した値のヘイズ値を達成できる。それ故、各光散乱樹脂層では、光散乱粒子の配合量を過度に高めなくても、ヘイズ値の高い光散乱樹脂層を形成したのと同等の効果を得ることができるなど、上記実施の形態と同様な効果を奏する。
【００５１】
また、本形態では、反射表示光および透過表示光はいずれも、光散乱樹脂層によって散乱される。従って、透過表示を行った際も１画素内での透過表示領域を見かけ上拡大することができるので、明るい透過表示を行うことができる。また、反射表示を行った際も、１画素内での反射表示領域を見かけ上拡大することができるので、明るい反射表示を行うことができる。それ故、第２の基板２０に対して、透過モードでの画像表示を可能とする開口１５０を備えた光反射層１５を形成して１画素内を透過用と反射用とに分割した場合でも、透過モードにおいても反射モードにおいても画素開口率の高い条件で画像を表示したのと同様な効果を奏する。
【００５２】
［その他の実施の形態］
なお、上記形態は、ＴＦＴを非線形素子として用いたアクティブマトリクス型液晶装置に本発明を適用した例であるが、ＴＦＤを非線形素子として用いたアクティブマトリクス型液晶装置や非線形素子を用いないパッシブマトリクス型液晶装置に本発明を適用してもよい。
【００５３】
［電子機器への適用例］
本発明を適用した電気光学装置は、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった各種の電子機器において表示部として用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る全透過型の電気光学装置の概略構成図である。
【図２】図１に示す電気光学パネルの画素構成を示す平面図である。
【図３】図１に示す電気光学装置に用いた電気光学パネルの断面図である。
【図４】本発明の実施の形態２に係る半透過反射型の電気光学装置の概略構成図である。
【図５】図４に示す電気光学パネルの画素構成を示す平面図である。
【図６】図４に示す電気光学パネルの断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１ａ、１ｂ  電気光学装置、１０  第１の基板、１１  第１の電極、１５  光反射層、２０  第２の基板、２１  第２の電極、３０  電気光学物質層、４１、６３  偏光板、４２、４３、６１、６２  位相差板、７３  輝度改善フィルム、９０  バックライト装置、１００  電気光学パネル、１２４  カラーフィルタ、１２５  層厚調整層、１２９  絶縁膜、１３３  感光性樹脂層、１５０  光反射層の開口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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