(57)【要約】【課題】  植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。【解決手段】式（Ｉ）2006008545.tif 000033〔式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基等を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基等を表し、Ｒ4はハロゲン原子、１−Ｃ４アルキルチオ基、Ｃ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基等を表し、Ｒ5はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕で示されるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物は植物病害に対して優れた防除効力を有する。【選択図】  なし  【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2006008545.tif 000032
［式中、
Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基を表し、
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表すか、
或いはＲ1とＲ2とが一緒になってＣ３−Ｃ５ポリメチレン又はＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨを表し、
Ｒ4はハロゲン原子；Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基；Ｃ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基；モノ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基；ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基；（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基；ホルミル基；ヒドロキシイミノメチル基；Ｎ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基；又はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ5はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。］
で示されるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物。
【請求項２】
請求項１記載のα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。
【請求項３】
請求項１記載のα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、α−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物ならびにその植物病害防除用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、植物病害を防除するための薬剤の開発が広く進められ、多数の植物病害防除剤が実用に供されているが、その効力は必ずしも十分でない場合がある。
【０００３】
【非特許文献１】ジャーナル  オブ  ケミカル  アンド  エンジニアリング  デート、1965年、第10巻、第2号、188頁（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ａｎｄ  ＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＤａｔｅ，１０（２），ｐｐ．１８８（１９６５））
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物及び植物病害防除剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討をした結果、下記式（１）で示されるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式（１）
式（１）
2006008545.tif 000002
［式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基を表し、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表すか、或いはＲ1とＲ2とが一緒になってＣ３−Ｃ５ポリメチレン又はＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨを表し、Ｒ4はハロゲン原子；Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基；Ｃ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基；モノ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基；ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基；（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基；ホルミル基；ヒドロキシイミノメチル基；Ｎ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基；又はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ5はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。］で示されるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤ならびに本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法を提供する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明で示される式（１）等において用いられる各置換基について説明する。
Ｒ1で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基が挙げられる。
【０００８】
Ｒ2で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ，
Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
【０００９】
Ｒ1とＲ2とが一緒になったＣ３−Ｃ５ポリメチレンとしては、トリメチレン、テトラメチレン及びペンタメチレンが挙げられる。
【００１０】
Ｒ4で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基及びｔｅｒｔ−ブチルチオ基が挙げられ、
Ｃ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられ、
モノ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基及びプロピルアミノ基が挙げられ、
ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基としては、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びメチルエチルアミノ基が挙げられ、
（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基としては、例えばメトキシカルボニルメトキシ基及びエトキシカルボニルメトキシ基が挙げられ、
Ｎ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基としては、例えばＮ’，Ｎ’−ジメチルヒドラゾノメチル基及びＮ’，Ｎ’−ジエチルヒドラゾノメチル基が挙げられ、
ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルキルスルホニル基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基としては、例えばフルオロメチル基、クロロメチル基及びブロモメチル基等のＣ１−Ｃ４ハロアルキル基；メトキシメチル基、エトキシメチル基及び１−メトキシエチル基等の（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基；ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基及び１−ヒドロキシブチル基等のヒドロキシＣ１−Ｃ４アルキル基；メタンスルホニルオキシメチル基、エタンスルホニルオキシメチル基、１−メタンスルホニルオキシエチル基、２−メタンスルホニルオキシエチル基及び１−メタンスルホニルオキシプロピル基等の（Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基；並びにメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基のＣ１−Ｃ４アルキル基が挙げられる。
【００１１】
Ｒ5で示される
Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基及び３−ブチニル基が挙げられる。
【００１２】
本発明化合物としては、例えば以下の態様の化合物が挙げられる。
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ1が塩素原子であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
【００１３】
式（１）において、Ｒ2が水素原子であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ2がハロゲン原子であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ2が塩素原子であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ1とＲ2とが一緒になってＣ３−Ｃ５ポリメチレン又はＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨであるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
【００１４】
式（１）において、Ｒ4がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はホルミル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がハロゲン原子であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルキルチオ基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がモノ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4が（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がホルミル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がヒドロキシイミノメチル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＮ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
【００１５】
式（１）において、Ｒ4がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ４ハロアルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がヒドロキシＣ１−Ｃ４アルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4が（Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4が（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルキルアミノ基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
【００１６】
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ2が水素原子であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ2がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
【００１７】
式（１）において、Ｒ4がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はホルミル基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がハロゲン原子であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルキルチオ基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がモノ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4が（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がホルミル基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がヒドロキシイミノメチル基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＮ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、ヒドロキシル基若しくはＣ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物；
式（１）において、Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ5が２−プロピニル基であるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物。
【００１８】
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は例えば以下の（製造法Ａ）又は（製造法Ｂ）にしたがって製造することができる。
【００１９】
（製造法Ａ）
本発明化合物うちＲ4がハロゲン原子；Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基；Ｃ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基；（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基；ホルミル基；Ｎ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基；又はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、若しくはＣ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表す式（１−１）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2006008545.tif 000003
〔式中、Ｒ4-1はハロゲン原子；Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基；Ｃ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基；（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基；ホルミル基；Ｎ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基；又はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、若しくはＣ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（３）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（２）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２０】
（製造法Ｂ）
本発明化合物は、式（２）で示される化合物又は式（２）で示される化合物の塩酸塩と、式（４）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することもできる。
2006008545.tif 000004
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、式（２）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２１】
（製造法Ｃ）
本発明化合物のうちＲ4がヒドロキシイミノメチル基又はＮ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基である式（１−３）で示される化合物は、本発明化合物のうちＲ4がホルミル基である式（１−２）で示される化合物と式（５）で示される化合物又はその塩酸塩とを反応させることにより製造することもできる。
2006008545.tif 000005
〔式中、Ｒ6はヒドロキシル基又はジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基を表し、Ｒ4-2はヒドロキシイミノメチル基又はＮ’，Ｎ’−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ヒドラゾノメチル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１−２）で示される化合物１モルに対して、式（５）で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜１８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は塩基の存在下で行うこともできる。その場合に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルコキシド類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物及び炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩が挙げられ、用いられる塩基の量は、式（１−２）で示される化合物１モルに対して、通常０．０１〜５モルの割合である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２２】
（製造法Ｄ）
本発明化合物のうちＲ4がヒドロキシＣ１−Ｃ４アルキル基である式（１−４）で示される化合物は、式（６）で示される化合物と還元剤とを反応させることにより製造することもできる。
2006008545.tif 000006
〔式中、Ｒ7はＣ１−Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｒ4-3はヒドロキシＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムがあげられる。
反応に用いられる還元剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、通常０．２５〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２３】
（製造法Ｅ）
本発明化合物のうちＲ4が（Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基である式（１−５）で示される化合物は、式（７）で示される化合物と式（８）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することもできる。
2006008545.tif 000007
〔式中、Ｌ1はハロゲン原子を表し、Ｒ4-3はヒドロキシＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ4-4は（Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルオキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ8はＣ１−Ｃ４アルキルスルホニル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等の有機塩基があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（７）で示される化合物１モルに対して、式（８）で示される化合物が通常１〜５モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．２〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２４】
（製造法Ｆ）
本発明化合物のうちＲ4がＣ１−Ｃ４ハロアルキル基である式（１−６）で示される化合物は、式（１−５）で示される化合物を無機ハロゲン化物とを反応させることにより製造することもできる。
2006008545.tif 000008
〔式中、Ｒ4-5はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4-4及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる無機ハロゲン化物としては、例えば塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、塩化カリウム、臭化カリウム及びヨウ化カリウム等のアルカリ金属ハロゲン化物があげられる。
反応に用いられる無機ハロゲン化物の量は、式（１−５）で示される化合物１モルに対して、通常１モル〜大過剰の割合である。
該反応の反応温度は通常２０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜５０時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２５】
（製造法Ｇ）
本発明化合物のうちＲ4がＣ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基又は（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基である式（１−７）で示される化合物は、式（９）で示される化合物と式（１０）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることによって製造することもできる。
2006008545.tif 000009
〔式中、Ｌ2は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ4-6はＣ２−Ｃ５アルキルカルボニルオキシ基又は（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基を表し、Ｒ9はＣ２−Ｃ５アルキルカルボニル基又は（Ｃ２−Ｃ５アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等の有機塩基があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（９）で示される化合物１モルに対して、式（１０）で示される化合物が通常１〜５モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．２〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２６】
次に、本発明中間体の製造法について説明する。
【００２７】
式（３）で示される化合物のうちＲ4がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又は（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基である式（３−１）で示される化合物ならびに式（４）で示される化合物のうちＲ4がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又は（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基である式（４−１）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006008545.tif 000010
〔式中、Ｒ4-1はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基又は（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基メチル基を表し、Ｒ10はメチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｌ11は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｌ12は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ5は前記と同じ意味を表す。〕
【００２８】
工程（Ｉ−１）
式（５２）で示される化合物は、式（５０）で示される化合物と式（５１）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（５０）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（５１）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（５２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（５２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２９】
工程（Ｉ−２）
式（５４）で示される化合物は、式（５２）で示される化合物と式（５３）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（５２）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（５３）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（５４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（５４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３０】
工程（Ｉ−３）
式（５５）で示される化合物は、水素化触媒の存在下、式（５４）で示される化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒の量は、式（５４）で示される化合物１モルに対して通常０．００１〜０．５モルの割合である。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応は、さらに必要に応じて酸（塩酸等）を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（５５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（５５）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３１】
工程（Ｉ−４）
式（５７）で示される化合物は、式（５５）で示される化合物と式（５６）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（５５）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（５６）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（５７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（５７）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３２】
工程（Ｉ−５）
式（４−１）で示される化合物は式（５７）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（５７）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（４−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（４−１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００３３】
工程（Ｉ−６）
式（３−１）で示される化合物は、式（４−１）で示される化合物と塩素化剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル及びオキシ塩化リンが挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤の量は、式（４−１）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常３０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物をそのまま濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３−１）で示される化合物は、通常精製することなく次の工程の反応に用いられるが、必要に応じて蒸留等により精製することができる。
【００３４】
式（９）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006008545.tif 000011
〔式中、Ｒ20はメチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｌ21は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
【００３５】
工程（ＩＩ−１）
式（６２）で示される化合物は、式（６０）で示される化合物と塩化アセチルとを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６０）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、塩化アセチルが通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３６】
工程（ＩＩ−２）
式（６４）で示される化合物は、式（６２）で示される化合物と式（６３）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６２）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（６３）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３７】
工程（ＩＩ−３）
式（６５）で示される化合物は、水素化触媒の存在下、式（６４）で示される化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒の量は、式（６４）で示される化合物１モルに対して通常０．００１〜０．５モルの割合である。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応の反応温度は通常０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６５）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３８】
工程（ＩＩ−４）
式（６７）で示される化合物は、式（６５）で示される化合物と式（６６）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６５）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（６６）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６７）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３９】
工程（ＩＩ−５）
式（６８）で示される化合物は式（６７）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（６７）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００４０】
工程（ＩＩ−６）
式（９）で示される化合物は、式（６８）で示される化合物と、式（２）で示される化合物又は式（２）で示される化合物の塩酸塩とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することもできる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６８）で示される化合物１モルに対して、式（２）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、式（９）で示される化合物を単離することができる。単離された式（９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４１】
式（４）で示される化合物のうちＲ4がホルミル基である式（４−２）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006008545.tif 000012
〔式中、Ｒ30はメチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｌ31は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ4及びＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
【００４２】
工程（ＩＩＩ−１）
式（７２）で示される化合物は、式（７１）で示される化合物を臭素と反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下、触媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる触媒としては、塩化鉄等の金属類、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミン等の第２級アミンが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（７１）で示される化合物１モルに対して臭素が通常０．５〜２モルの割合であり、触媒が通常０．０００１〜０．３モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を必要に応じて濾過し、濾液を濃縮後に水を注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（７２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（７２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４３】
工程（ＩＩＩ−２）
式（７３）で示される化合物は、式（７２）で示される化合物をシアン化物と反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばアセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルイミダゾリノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるシアン化物としては、例えばシアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化銅が挙げられる。
反応に用いられるシアン化物の量は、式（７２）で示される化合物１モルに対して通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常１００〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（７３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（７３）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４４】
工程（ＩＩＩ−３）
式（７４）で示される化合物は、式（７３）で示される化合物を還元剤と反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば蟻酸、酢酸等の有機酸、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えばラネーニッケルが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（７３）で示される化合物１モルに対して還元剤が通常１モル〜大過剰の割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を濃縮後に水を注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（７４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（７４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４５】
工程（ＩＩＩ−４）
式（７６）で示される化合物は、式（７４）で示される化合物と式（７５）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（７４）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（７５）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（７６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（７６）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４６】
工程（ＩＩＩ−５）
式（４−２）で示される化合物は式（７６）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（７６）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（４−２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（４−２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００４７】
式（４）で示される化合物のうちＲ4がモノ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基である式（４−３）で示される化合物及びジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ基である式（４−４）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2006008545.tif 000013
〔式中、Ｒ40はメチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｒ41はメトキシメチル基を表し、Ｒ42は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ43はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ44はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｌ41は塩素原子を表し、Ｌ42はハロゲン原子を表し、Ｌ43はハロゲン原子を表し、Ｌ44ハロゲン原子を表し、Ｒ5は前記と同じ意味を表す。〕
【００４８】
工程（ＩＶ−１）
式（８２）で示される化合物は、式（８０）で示される化合物と式（８１）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（８０）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（８１）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（８２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（８２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４９】
工程（ＩＶ−２）
式（８４）で示される化合物は、式（８２）で示される化合物と式（８３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（８２）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（８３）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（８４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（８４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５０】
工程（ＩＶ−３）
式（８５）で示される化合物は、水素化触媒の存在下、式（８４）で示される化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒の量は、式（８４）で示される化合物１モルに対して通常０．００１〜０．５モルの割合である。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応は、さらに必要に応じて酸（塩酸等）を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（８５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（８５）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５１】
工程（ＩＶ−４）
式（８７）で示される化合物は、式（８５）で示される化合物と式（８６）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（８５）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（８６）で示される化合物が通常０．５〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物を濾過し、得られた濾液を濃縮、乾燥する等の後処理操作を行うことにより、式（８７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（８７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５２】
工程（ＩＶ−５）
式（８８）で示される化合物は、式（８７）で示される化合物を、酸の存在下で水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
該反応に用いられる酸の量は、式（８７）で示される化合物１モルに対して、通常触媒量〜１モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（８８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（８８）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５３】
工程（ＩＶ−６）
式（９０）で示される化合物は、式（８８）で示される化合物と式（８９）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（８８）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（８９）で示される化合物が通常０．５〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物を濾過し、得られた濾液を濃縮、乾燥する等の後処理操作を行うことにより、式（９０）で示される化合物を単離することができる。単離された式（９０）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５４】
工程（ＩＶ−７）
式（９２）で示される化合物は、式（９０）で示される化合物と式（９１）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（９０）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（９１）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物を濾過し、得られた濾液を濃縮、乾燥する等の後処理操作を行うことにより、式（９２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（９２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５５】
工程（ＩＶ−８）
式（９３）で示される化合物は、式（９２）で示され化合物を酸の存在下、水と反応させるより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
該反応に用いられる酸の量は、式（９２）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（９３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（９３）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５６】
工程（ＩＶ−９）
式（４−３）で示される化合物は、式（９３）で示される化合物を塩基の存在下で水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（９３）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（４−３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（４−３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００５７】
工程（ＩＶ−１０）
式（９５）で示される化合物は、式（９３）で示される化合物と式（９４）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（９３）で示される化合物１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合、式（９４）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物を濾過し、得られた濾液を濃縮、乾燥する等の後処理操作を行うことにより、式（９５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（９５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００５８】
工程（ＩＶ−１１）
式（４−４）で示される化合物は、式（９５）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（９５）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（４−４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（４−４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００５９】
式（２）で示される化合物は、例えば式（１００）で示される化合物をシアン化物、アンモニウム塩及びアンモニアと反応させることにより製造することができる。
2006008545.tif 000014
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるシアン化合物としては、例えばシアン化ナトリウム、シアン化カリウムが挙げられる。
反応に用いられるアンモニウム塩としては、例えば塩化アンモニウム、臭化アンモニウムが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１００）で示される化合物１モルに対して、シアン化物が通常１〜５モルの割合、アンモニウム塩が通常１〜５モルの割合、アンモニアが通常１モル〜大過剰の割合である。
該反応の反応温度は通常−１０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜５０時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えて抽出し、有機層を濃縮する等の操作を行うことにより、式（２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２）で示される化合物は、塩酸と混合することにより塩酸塩として単離することもできる。
【００６０】
本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害が挙げられ、具体的には例えば次の病害が挙げられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophthora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。
【００６１】
本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
【００６２】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げられ、液体担体としては、例えば、キシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル及び水が挙げられる。
【００６３】
界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられる。
【００６４】
その他の製剤用補助剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤が挙げられる。
【００６５】
本発明の植物病害防除剤は、例えば、植物体に茎葉処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
【００６６】
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ2あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
【００６７】
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常を水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。
【００６８】
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。種子消毒の方法としては、例えば、本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に粉剤に製剤化された本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
【００６９】
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／又は病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。
【００７０】
本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
【００７１】
本発明の植物病害防除剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／又は肥料と共に用いることもできる。
【００７２】
かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ボスカリド、フェンヘキサミド、キノキシフェン、プロキナジット、ジエトフェンカルブ、アシベンゾラールＳメチル、グアザチン及びペンチオピラドが挙げられる。
【００７３】
本発明化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
式（i）〜（LX）で示されるα−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物
2006008545.tif 000015
2006008545.tif 000016
2006008545.tif 000017
2006008545.tif 000018
式（i）〜（ＬＸ）においてＺは以下に示される群より選ばれるいずれかの基を表す。
フェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、４−ヨードフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ブチルフェニル基、４−（ｓｅｃ−ブチル）フェニル基、４−イソブチルフェニル基、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、４−（フルオロメチル）フェニル基、４−（ジフルオロメチル）フェニル基、４−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、４−クロロ−３−フルオロフェニル基、４−ブロモ−３−フルオロフェニル基、３−フルオロ−４−メチルフェニル基、３−フルオロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−フルオロ−４−メトキシフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、４−ブロモ−３−クロロフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、３−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−クロロ−４−メトキシフェニル基、４−フルオロ−３−メチルフェニル基、４−クロロ−３−メチルフェニル基、４−ブロモ−３−メチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３−メチル−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−メトキシ−３−メチルフェニル基、インダン−５−イル基、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２−イル基、６，７，８，９−テトラヒドロ−５Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イル基及び２−ナフチル基。
【実施例】
【００７４】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
【００７５】
製造例１
３−｛３−エチル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸０．５０ｇと２−アミノ−２−（４−クロルフェニル）アセトニトリル塩酸塩０．４８ｇ、ＷＳＣ０．４５ｇ、ピリジン１ｍｌ及びジメチルホルムアミド１０ｍｌを混合して室温にて６時間攪拌した。その後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で３回、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛１−（４−クロロフェニル）−１−シアノメチル｝−３−（３−エチル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル）プロピオンアミド（以下、本発明化合物１と記す。）０．５４ｇを得た。
本発明化合物１
2006008545.tif 000019
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.34 (2H, d, J=8.7 Hz), 7.19 (2H, d, J=8.7 Hz), 6.94-6.99 (2H, m), 6.86 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.08 (1H, d, J=8.7 Hz) , 5.82 (1H, br. d, J=8.7 Hz), 4.69 (2H, d, J=2.4 Hz), 2.93 (2H, t, J=7.1Hz), 2.46-2.63 (5H, m), 1.14 (3H, t, J=5.5Hz)
【００７６】
製造例２
３−｛３−メチルチオ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸０．２０ｇと２−アミノ−２−（４−クロルフェニル）アセトニトリル塩酸塩とを用いて、製造例１と同様の操作を行い、Ｎ−｛１−（４−クロロフェニル）−１−シアノメチル｝−３−（３−メチルチオ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル）プロピオンアミド（以下、本発明化合物２と記す。）０．１２ｇを得た。
本発明化合物２
2006008545.tif 000020
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.37 (2H, d, J=8.7 Hz), 7.22 (2H, d, J=8.7 Hz), 6.98 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.88-6.94 (2H, m), 6.09 (1H, d, J=8.7 Hz), 5.79 (1H, br. d, J=8.7 Hz), 4.75 (2H, d, J=2.4 Hz), 2.90-2.97 (2H, m), 2.46-2.69 (3H, m), 2.40 (3H, s)
【００７７】
製造例３
３−｛３−クロロ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物０．２０ｇ、２−アミノ−２−（４−クロルフェニル）アセトニトリル塩酸塩０．３７ｇ、トリエチルアミン０．４５ｍｌ及びテトラヒドロフラン５ｍｌを混合し、室温で１時間攪拌した。その後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛１−（４−クロロフェニル）−１−シアノメチル｝−３−（３−クロル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル）プロピオンアミド（以下、本発明化合物３と記す。）０．３７ｇを得た。
本発明化合物３
2006008545.tif 000021
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.37 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.24-7.26 (2H, m), 7.20 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.98-7.07 (2H, m), 6.10 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.85 (1H, br. d), 4.75 (2H, d, J=2.4 Hz), 2.88-2.96 (2H, m), 2.43-2.61 (3H, m)
【００７８】
製造例４
３−｛３−プロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸３６９ｍｇ、２−アミノ−２−（４−クロルフェニル）アセトニトリル塩酸塩３０５ｍｇ、ＷＳＣ３１６ｍｇ及びピリジン１０ｍｌを混合して室温にて４時間攪拌した。その後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で３回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付して、Ｎ−｛１−（４−クロロフェニル）−１−シアノメチル｝−３−（３−プロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル）プロピオンアミド（以下、本発明化合物４と記す。）２４０ｍｇを得た。
本発明化合物４
2006008545.tif 000022
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.34 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.18 (2H, d, J=9.1 Hz), 6.92-6.98 (2H, m), 6.86 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.08 (1H, d, J=8.3 Hz) , 5.75 (1H, br. d, J=8.7 Hz), 4.69 (2H, d, J=2.0 Hz), 2.92 (2H, t, J=7.3Hz), 2.45-2.64 (5H, m), 1.50-1.62 (2H, m), 0.91 (3H, t, J=7.3 Hz)
【００７９】
製造例５
３−｛３−イソプロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸３６９ｍｇ、２−アミノ−２−（４−クロルフェニル）アセトニトリル塩酸塩３６６ｍｇ、ＷＳＣ３７４ｍｇ及びピリジン１０ｍｌを混合して室温にて４時間攪拌した。その後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で３回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付して、Ｎ−｛１−（４−クロロフェニル）−１−シアノメチル｝−３−（３−イソプロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル）プロピオンアミド（以下、本発明化合物５と記す。）２７９ｍｇを得た。
本発明化合物５
2006008545.tif 000023
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.35 (2H, d, J=8.7 Hz), 7.20 (2H, d, J=8.7 Hz), 7.03 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.95 (1H, dd, J=8.3 Hz, 2.4 Hz), 6.86 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.09 (1H, d, J=8.7 Hz) , 5.74 (1H, br. d, J=8.3 Hz), 4.70 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.25-3.35 (1H, m), 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.45-2.66 (3H, m), 1.17 (6H, d, J=6.7 Hz)
【００８０】
製造例６
３−｛３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸１５０ｍｇ、２−アミノ−２−（４−クロルフェニル）アセトニトリル塩酸塩１４１ｍｇ、ＷＳＣ１４４ｍｇ及びピリジン１０ｍｌを混合して室温にて４時間攪拌した。その後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で３回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付して、３−｛３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−Ｎ−｛１−（４−クロロフェニル）−１−シアノメチル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物６と記す。）８０ｍｇを得た。
本発明化合物６
2006008545.tif 000024
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.35 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.20 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.10 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.97 (1H, dd, J=8.0 Hz, 2.4 Hz), 6.87 (1H, d, J=8.4 Hz), 6.09 (1H, d, J=8.4 Hz) , 5.84 (1H, br. d, J=7.6 Hz), 4.71 (2H, d, J=2.4 Hz), 2.93 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.47-2.68 (3H, m), 1.35 (9H, s)
【００８１】
次に中間体の製造につき参考例として記す。
参考例１
３−クロル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド１５ｇ、臭化ベンジル１７ｇ、炭酸カリウム１５ｇ及びジメチルホルムアミド３００ｍｌを混合し、室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加えて酢酸エチルで２回抽出した。有機層を５％塩酸で３回、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄して３−クロロ−４−ベンジルオキシベンズアルデヒド３６ｇを得た。
３−クロロ−４−ベンジルオキシベンズアルデヒド
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.85 (1H, s), 7.94 (1H, d, J=2.0Hz), 7.73.(1H, dd, J=8.5Hz, 2.0Hz), 7.33-7.47 (5H, m), 5.08 (1H, d, J=8.5 Hz), 5.26 (2H, s)
【００８２】
参考例２
テトラヒドロフラン６０ｍｌ、５５％水素化ナトリウム０．７５gを混合し、氷冷下ジエチルホスホノ酢酸エチルエステル４．２ｇを混合し氷冷下で１５分間混合した。得られた混合物に３−クロロ−４−ベンジルオキシベンズアルデヒド３．９ｇとテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合物を徐々に加え、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄して３−｛３−クロロ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル５８．６ｇを得た。
３−｛３−クロロ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.54-7.59 (2H, m), 7.31-7.46 (6H, m), 6.95 (1H, d, J=8.3Hz), 6.30 (1H, d, J=16Hz), 5.20 (2H, s), 4.25 (1H, q, J=7.1Hz) , 1.33 (1H, t, J=7.1Hz)
【００８３】
参考例３
３−｛３−クロロ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル５．８ｇ、５％白金炭素０．４５ｇ、３６％塩酸約１０滴及びエタノール１００ｍｌを混合し、水素雰囲気下で攪拌した。水素ガスの吸収が停止した後、濾過し、濾液を減圧下濃縮した。濃縮物に、酢酸エチルと水とを加え分液した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧下濃縮した。得られた残渣、４８％臭化水素酸４．６ｍｌ及び酢酸５０ｍｌを混合し、８０℃で２時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をヘキサンで洗浄して、３−（３−クロル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸２．３ｇを得た。
３−（３−クロル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.17 (1H, d, J=2.0Hz), 7.02 (1H, dd, J=8.3Hz, 2.0Hz), 6.94 (1H, d, J=8.3Hz), 5.40 (1H, br.s), 2.87 (2H, t, J=7.7Hz), 2.64 (2H, t, J=7.7Hz)
【００８４】
参考例４
３−（３−クロル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸２．３ｇ、臭化プロパルギル２．６ｍｌ、炭酸カリウム４．８ｇ及びアセトニトリル３５ｍｌを混合し、８０℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチルを加えて濾過し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣、水酸化リチウム１水和物０．９８ｇ、テトラヒドロフラン４０ｍｌ及び水２０ｍｌを混合し、還流下で２時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に水を加えてメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルで分液した。得られた水層を分離し、５％塩酸を加えｐＨを２以下とした後、クロロホルムで２回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮し、得られた残渣をヘキサンで洗浄して、３−｛３−クロル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２．３ｇを得た。
３−｛３−クロル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2006008545.tif 000025
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.24 (1H, d, J=2.0Hz), 7.07 (1H, dd, J=8.7Hz, 2.0Hz), 7.02 (1H, d, J=8.7Hz), 4.76 (2H, d, J=2.4Hz), 2.89 (2H, t, J=7.7Hz), 2.66 (2H, t, J=7.7Hz) , 2.53 (1H, t, J=2.4Hz)
【００８５】
参考例５
３−｛３−クロル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２．３ｇ、塩化チオニル１．０ｍｌ、トルエン３０ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド約０．０１ｇを混合し、８０℃で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから減圧下濃縮し、３−｛３−クロル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物２．６１ｇを得た。
３−｛３−クロル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物
2006008545.tif 000026
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.23 (1H, d, J=2.0Hz), 7.02-7.08 (2H, m), 4.76 (2H, d, J=2.4Hz), 3.18 (2H, t, J=7.5Hz), 2.94 (2H, t, J=7.5Hz) , 2.54 (1H, t, J=2.4Hz)
【００８６】
参考例６
４−ヒドロキシ−３−ブロモベンズアルデヒド１６ｇを用いて参考例１と同様の操作を行い、４−ベンジルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド２０ｇを得た。
４−ベンジルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.83(1H, s), 8.09 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.77 (1H, dd, J=8.3 Hz,2.0 Hz), 7.32-7.51(5H, m), 7.03 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.25 (2H, s) 
【００８７】
参考例７
４−ベンジルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド２０ｇ、４−ヒドロキシ−３−ブロモベンズアルデヒド１６ｇ、エチレングリコール２０ｍｌ、パラトルエンスルホン酸０．２ｇ及びトルエン１５０ｍｌを混合し、還流下で脱水しながら８時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮し、得られた残渣をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル及びヘキサンから再結晶して２−（４−ベンジルオキシ−３−ブロモフェニル）−１，３−ジオキソラン９．９ｇを得た。
２−（４−ベンジルオキシ−３−ブロモフェニル）−１，３−ジオキソラン
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.70 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.29-7.47(6H, m), 6.91 (1H, d, J=8.4 Hz), 5.73 (1H, s), 5.17 (2H, s), 4.07-4.15(2H, m), 3.97-4.05(2H, m)
【００８８】
参考例８
２−（４−ベンジルオキシ−３−ブロモフェニル）−１，３−ジオキソラン９．５ｇ、テトラヒドロフラン２００ｍｌを混合し−７０℃でブチルリチウム（１．６Ｍヘキサン溶液）２０ｍｌを徐々に混合し、−１０℃まで昇温した。該混合液を再度−７０℃まで冷却し、ジメチルジスルフィド３．１ｍｌを混合してから徐々に室温まで昇温し、１時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、減圧下濃縮し、該濃縮液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で２回及び飽和食塩水で洗浄してから硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラム精製に付し、２−（４−ベンジルオキシ−３−メチルチオフェニル）−１，３−ジオキソランの粗生成物４．６ｇを得た。
前記の操作で得られた２−（４−ベンジルオキシ−３−メチルチオフェニル）−１，３−ジオキソランの粗生成物４．４ｇ、約０．０２ｇのパラトルエンスルホン酸及びアセトン２００ｍｌを還流下で１時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、減圧下濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して４−ベンジルオキシ−３−メチルチオベンズアルデヒドの粗生成物３．８ｇを得た。
４−ベンジルオキシ−３−メチルチオベンズアルデヒド
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.87(1H, s), 7.68 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.60 (1H, dd, J=8.3 Hz,2.0 Hz), 7.32-7.48(5H, m), 6.97 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.26 (2H, s), 2.50 (3H, s) 
【００８９】
参考例９
４−ベンジルオキシ−３−メチルチオベンズアルデヒド３．８ｇを用いて参考例２と同様の操作を行い、３−｛３−メチルチオ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル３．７ｇを得た。
３−｛３−メチルチオ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.62 (1H, d, J=16 Hz), 7.30-7.47(6H, m), 7.26 (1H, dd, J=8.3 Hz,2.0 Hz), 6.86 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.32 (1H, d, J=16 Hz), 5.20 (2H, s), 4.26 (2H, q, J=7.1 Hz), 2.47 (3H, s), 1.34 (3H, t, J=7.5 Hz)
【００９０】
参考例１０
３−｛３−メチルチオ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル３．０ｇ、エタノール５０ｍｌ及び塩化ニッケル（II）０．１１ｇを混合し、氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム０．３５ｇを混合し、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、減圧下濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して得られた残渣を再度同じ反応に付して、３−（３−メチルチオ−４−ベンジルオキシフェニル）プロピオン酸エチルエステルの粗生成物３．０ｇを得た。前記の操作で得た３−（３−メチルチオ−４−ベンジルオキシフェニル）プロピオン酸エチルエステルの粗生成物２．９ｇ、酢酸５０ｍｌ及び４８％臭化水素酸２．２ｇを混合し、８０℃で２時間攪拌した。その後、減圧下濃縮し、該濃縮物に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮して３−（３−メチルチオ−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エチルエステルの粗生成物１．２ｇを得た。
３−（３−メチルチオ−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.91 (1H, br.s), 7.33 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.08 (1H, dd, J=8.3 Hz,2.0 Hz), 6.85 (1H, d, J=8.3 Hz), 4.08-4.15(2H, m), 2.88 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.65 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.32(3H, s), 1.35 (3H, t, J=6.9 Hz)
【００９１】
参考例１１
３−（３−メチルチオ−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エチルエステル１．２ｇ、臭化プロパルギル０．５４ｍｌ、炭酸カリウム０．９７ｇ及びアセトニトリル３０ｍｌを混合し、８０℃で４時間攪拌した。反応混合物を室温までしてから濾過し、得られた濾液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して３−｛３−メチルチオ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステルの粗生成物を得た。得られた３−｛３−メチルチオ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステルの粗生成物、水酸化リチウム１水和物０．３６ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍｌ及び水１５ｍｌを混合し、還流下で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷後、水を加えてｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄し、水層を分液した。水層を５％塩酸でｐＨを２以下として酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラム精製に付して、３−｛３−メチルチオ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸０．８０ｇを得た。
３−｛３−メチルチオ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2006008545.tif 000027
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.99-7.02(1H, m), 6.97 (1H, d, J=1.6 Hz), 6.92 (1H, d, J=8.3 Hz), 4.75 (1H, d, J=2.4 Hz), 2.92 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.67 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.50-2.51(1H, m), 2.43 (3H, s)
【００９２】
参考例１２
２−エチルフェノール８．２ｇ、ビス（１，３−ジフェニルイミダゾリジニリデン−２）１５ｇ（ＯＲＧＡＮＩＣ  ＳＹＮＴＨＥＳＹＳ，Ｖ，ｐ.１５５（１９７３年）記載の方法で製造）及びモノクロロベンゼン１００ｍｌの混合物を１００℃で６時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、該濃縮物に水１００ｍｌ、ジエチルエーテル２０ｍｌ及び３６％塩酸５０ｍｌを加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で数回、水で２回及び飽和食塩水で順次洗浄後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラム精製に付し３−エチル−４−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド６．８ｇを得た。
３−エチル−４−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.86 (1H, s), 7.72 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.65 (1H, dd, J=8.3 Hz,2.0 Hz), 6.85 (1H, d, J=8.3 Hz) , 5.55 (1H, br.s), 2.70 (2H, q, J=7.5 Hz), 1.28 (3H, t, J=7.5 Hz)
【００９３】
参考例１３
３−エチル−４−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド６．６８ｇを用いて参考例１及び参考例２と同様の操作を順次行い、３−｛３−エチル−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル１０ｇを得た。
３−｛３−エチル−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.63 (1H, d, J=15 Hz), 7.31-7.35(7H, m), 6.88 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.31 (1H, d, J=16 Hz), 5.12 (2H, s), 4.25 (2H, q, J=7.5 Hz), 2.71 (2H, q, J=7.5 Hz), 1.33 (3H, t, J=7.5 Hz), 1.23 (3H, t, J=7.5 Hz)
【００９４】
参考例１４
３−｛３−エチル−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル１１ｇ、５％パラジウム炭素０．５ｇ、３６％塩酸約５滴及びエタノール１００ｍｌを混合し、水素雰囲気下で攪拌した。水素ガスの吸収が停止した後、反応混合液を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、３−（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エチルエステル１１ｇを得た。
３−（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.96 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.90 (1H, dd, J=7.9 Hz,2.0 Hz), 6.68 (1H, d, J=7.9 Hz), 4.64 (1H, br.s), 4.13 (2H, q, J=7.1 Hz), 2.86 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.56-2.63(4H, m), 1.19-1.26(6H, m)
【００９５】
参考例１５
３−（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エチルエステル９．８ｇ、臭化プロパルギル４．７ｍｌ、炭酸カリウム９．１ｇ及びアセトニトリル１２０ｍｌを混合し、８０℃で４時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから濾過し、得られた濾液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、３−｛３−エチル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステルの粗生成物を得た。得られた３−｛３−エチル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステルの粗生成物、水酸化リチウム１水和物４．１ｇ、テトラヒドロフラン２００ｍｌ及び水１００ｍｌを混合し、還流下で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷後、減圧下濃縮した。濃縮物に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄し水層を分液した。水層を５％塩酸でｐＨを２以下としてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をへキサンで洗浄して３−｛３−エチル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸９．０ｇを得た。
３−｛３−エチル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2006008545.tif 000028
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.98-7.01(2H, m), 6.87 (1H, d, J=8.7 Hz), 4.68 (2H, d, J=2.4 Hz), 2.89 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.60-2.67(4H, m), 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.18 (3H, t, J=7.5 Hz) 
【００９６】
参考例１６
参考例１２と同様の操作を行い、２−プロピルフェノール３．５４ｇ及びビス（１，３−フェニルイミダゾリジニリデン−２）５．７８gから３−プロピル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド２．５ｇを得た。
３−プロピル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.85 (1H, s), 7.69 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.64 (1H, dd, J=8.1 Hz, 1.8 Hz), 6.88 (1H, d, J=8.3 Hz) , 5.66 (1H, br.s), 2.64 (2H, t, J=7.7 Hz), 1.60-1.75 (2H, m), 0.98 (3H, t, J=7.3 Hz)
【００９７】
参考例１７
３−プロピル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド４．０ｇを用いて参考例１及び参考例２と同様の操作を順次行い、３−（４−ベンジルオキシ−３−プロピルフェニル）アクリル酸エチルエステル５．４２ｇを得た。
３−（４−ベンジルオキシ−３−プロピルフェニル）アクリル酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.62 (1H, d, J=15.8 Hz), 7.29-7.44 (7H, m), 6.87 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.30 (1H, d, J=16.2 Hz), 5.11 (2H, s), 4.25 (2H, q, J=7.1 Hz), 2.65 (2H, t, J=7.5 Hz), 1.60-1.70 (2H, m), 1.32 (3H, t, J=7.1 Hz), 0.95 (3H, t, J=7.3 Hz)
【００９８】
参考例１８
３−（４−ベンジルオキシ−３−プロピルフェニル）アクリル酸エチルエステル５．４２ｇ、１０％パラジウム炭素０．２５ｇ、３６％塩酸約２滴及びエタノール５５ｍｌを混合し、水素雰囲気下で攪拌した。水素ガスの吸収が停止した後、反応混合液を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付して、３−（４−ヒドロキシ−３−プロピルフェニル）プロピオン酸エチルエステル３．４２ｇを得た。
３−（４−ヒドロキシ−３−プロピルフェニル）プロピオン酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.87-6.96 (2H, m), 6.67 (1H, d, J=8.3 Hz), 4.76 (1H, s), 4.12 (2H, q, J=7.2 Hz), 2.85 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.51-2.61(4H, m), 1.57-1.67 (2H, m), 1.23 (3H, t, J=7.1 Hz), 0.96 (3H, t, J=7.5 Hz) 
【００９９】
参考例１９
３−（４−ヒドロキシ−３−プロピルフェニル）プロピオン酸エチルエステル３．４２ｇ、臭化プロパルギル１．７２ｇ、炭酸カリウム２．２０ｇ及びアセトニトリル５０ｍｌを混合し、８０℃で４時間攪拌した。室温まで放冷した反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、３−｛３−プロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステルの粗生成物を得た。
前記の操作で得られた３−｛３−エチル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステルの粗生成物と２５％苛性ソーダ水３．９８ｇとを混合し、該混合液にエタノールを均一になるまで加え、還流下で１時間攪拌した。その後、室温まで放冷した反応混合物に、ｐＨが２以下になるように５％塩酸を加えクロロホルムで抽出した。有機層を５％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をへキサンで洗浄して、３−｛３−プロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２．３０ｇを得た。
３−｛３−プロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2006008545.tif 000029
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 6.95-7.03 (2H, m), 6.88 (1H, d, J=8.3 Hz), 4.68 (2H, d, J=2.4 Hz), 2.88 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.64 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.57 (2H, t, J=7.5 Hz),  2.47 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.53-1.66 (2H, m), 0.93 (3H, t, J=7.3 Hz) 
【０１００】
参考例２０
参考例１２と同様の操作を行い、２−イソプロピルフェノール３．５４ｇ及びビス（１，３−フェニルイミダゾリジニリデン−２）５．７８gから、３−イソプロピル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド３．０ｇを得た。
３−イソプロピル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.85 (1H, s), 7.78 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.63 (1H, dd, J=8.1 Hz, 2.2 Hz), 6.88 (1H, d, J=8.3 Hz) , 5.96 (1H, br.s), 3.20-3.33 (1H, m), 1.29 (6H, d, J=6.7 Hz)
【０１０１】
参考例２１
３−イソプロピル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド３．０ｇを用いて参考例１及び参考例２と同様の操作を順次行い、３−（４−ベンジルオキシ−３−イソプロピルフェニル）アクリル酸エチルエステル３．４２ｇを得た。
３−（４−ベンジルオキシ−３−イソプロピルフェニル）アクリル酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.65 (1H, d, J=16.0 Hz), 7.30-7.46 (7H, m), 6.89 (1H, d, J=8.8 Hz), 6.32 (1H, d, J=15.6 Hz), 5.12 (2H, s), 4.25 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.34-3.45 (1H, m), 1.33 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.25 (6H, d, J=6.7 Hz)
【０１０２】
参考例２２
参考例１８と同様の操作を行い、３−（４−ベンジルオキシ−３−イソプロピルフェニル）アクリル酸エチルエステル３．４２ｇから、３−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロピオン酸エチルエステル２．０１ｇを得た。
３−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロピオン酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.01 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.88 (1H, dd, J=8.1 Hz, 2.0 Hz), 6.66 (1H, d, J=7.9 Hz), 4.77 (1H, s), 4.13 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.13-3.24 (1H, m), 2.87 (2H, t, J=7.9 Hz), 2.58 (2H, t, J=7.7 Hz), 1.24 (3H, t, J=7.1 Hz), 1.24 (6H, d, J=6.7 Hz)
【０１０３】
参考例２３
参考例１９と同様の操作を行い、３−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロピオン酸エチルエステル２．０１ｇから、３−｛３−イソプロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸１．８８ｇを得た。
３−｛３−イソプロピル−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2006008545.tif 000030
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.06 (1H, d, J=2.4 Hz), 6.99 (1H, dd, J=8.3 Hz, 2.4 Hz), 6.88 (1H, d, J=7.9 Hz), 4.69 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.25-3.36 (1H, m), 2.91 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.65 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.20 (6H, d, J=7.1 Hz)
【０１０４】
参考例２４
参考例１２と同様の操作を行い、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール４．５１ｇ、ビス（１，３−フェニルイミダゾリジニリデン−２）１３．３gから３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−ヒドロキシベンズアルデヒド１．７５ｇを得た。
３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−ヒドロキシベンズアルデヒド
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 9.86 (1H, s), 7.83 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.63 (1H, dd, J=8.1 Hz, 1.8 Hz), 6.78 (1H, d, J=8.3 Hz) , 5.50 (1H, s), 1.44 (9H, s)
【０１０５】
参考例２５
３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−ヒドロキシベンズアルデヒド１．７５ｇを用いて参考例１及び参考例２と同様の操作を順次行い、３−｛４−ベンジルオキシ−３−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル｝アクリル酸エチルエステル１．０５ｇを得た。
３−｛４−ベンジルオキシ−３−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル｝アクリル酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.65 (1H, d, J=15.8 Hz), 7.31-7.51 (7H, m), 6.92 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.30 (1H, d, J=15.8 Hz), 5.14 (2H, s), 4.25 (2H, q, J=7.0 Hz), 1.40 (9H, s), 1.33 (3H, t, J=7.1 Hz)
【０１０６】
参考例２６
参考例１８と同様の操作を行い、３−｛４−ベンジルオキシ−３−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル｝アクリル酸エチルエステル１．０５ｇから、３−｛４−ベンジルオキシ−３−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル｝アクリル酸エチルエステル０．４３ｇを得た。
３−｛４−ベンジルオキシ−３−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル｝アクリル酸エチルエステル
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.08 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.89 (1H, dd, J=7.9 Hz, 2.4 Hz), 6.58 (1H, d, J=7.9 Hz), 4.69 (1H, s), 4.13 (2H, q, J=7.1 Hz), 2.87 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.57 (2H, t ,J=7.9 Hz), 1.39 (9H, s), 1.24 (3H, t, J=7.1 Hz)
【０１０７】
参考例２７
参考例１９と同様の操作を行い、３−｛４−ベンジルオキシ−３−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル｝アクリル酸エチルエステル０．４３ｇ、３−｛３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸０．３５ｇを得た。
３−｛３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2006008545.tif 000031
1H-NMR (CDCl3, TMS) δ (ppm): 7.12 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.02 (1H, dd, J=8.1 Hz, 2.2 Hz), 6.89 (1H, d, J=8.3 Hz), 4.70 (2H, d, J=2.4 Hz), 2.91 (2H, t, J=7.9 Hz), 2.66 (2H, t, J=7.9 Hz), 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.37 (9H, s)
【０１０８】
次に製剤例を示す。部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物１〜６の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
【０１０９】
製剤例２
本発明化合物１〜６の各々２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコ−ル２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル１０部を加えて攪拌混合し各々のフロアブル製剤を得る。
【０１１０】
製剤例３
本発明化合物１〜６の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。
【０１１１】
製剤例４
本発明化合物１〜６の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。
【０１１２】
製剤例５
本発明化合物１〜６の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレ−６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。
【０１１３】
製剤例６
本発明化合物１〜６の各々１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。
【０１１４】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。
【０１１５】
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物１を製剤例６に準じて製剤とした後、水で所定濃度（５００ｐｐｍ）に希釈し、希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室で４日間栽培した。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物１を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１１６】
試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種：ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物１及び２を各々製剤例６に準じて製剤とした後、水で所定濃度（２００ｐｐｍ）に希釈し、希釈液をブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物１及び２を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。