(57)【要約】【課題】反射帯域の広帯域化を達成しつつ反射防止特性に優れ、かつ、経時的な反射防止特性の変化を抑制できる反射防止膜、この反射防止膜を備える光学部品を提供すること。【解決手段】光学基板上に、少なくとも２層以上の屈折率の異なる光学薄膜層を積層した反射防止膜であって、前記光学薄膜層は、フッ化マグネシウムを主成分とし、前記光学薄膜層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３０以上、１．４０以下とし、前記光学薄膜層のうち空気面から光が入射する最表層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上、１．４０以下とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基板上に、少なくとも２層以上の屈折率の異なる光学薄膜層を積層した反射防止膜であって、
前記光学薄膜層は、フッ化マグネシウムを主成分とし、
前記光学薄膜層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３０以上、１．４０以下とし、
前記光学薄膜層のうち空気面から光が入射する最表層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上、１．４０以下とする反射防止膜。
【請求項２】
請求項１に記載の反射防止膜において、
前記最表層の物理膜厚を５ｎｍ以上、３００ｎｍ以下とする反射防止膜。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の反射防止膜において、
前記光学薄膜層のうち、前記光学基板と接する最下層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上、１．４０ｎｍ以下とする反射防止膜。
【請求項４】
請求項１、２、又は３に記載の反射防止膜において、
前記最下層の物理膜厚を２ｎｍ以上、３００ｎｍ以下とする反射防止膜。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止膜において、
前記光学薄膜層は、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３０以上、１．３５未満の層と、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３５以上、１．４０以下の層とを備え、
前記屈折率が１．３０以上、１．３５未満の層は、前記屈折率が１．３５以上、１．４０以下の層に挟持されていることを特徴とする反射防止膜。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止膜において、
前記光学薄膜層として、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３５以上、１．４０以下の層を前記最表層と前記光学基板と接する最下層との間に備えていることを特徴とする反射防止膜。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止膜と、光学基板とを備える光学部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ、表示パネルなどの光学部品に好適に用いられる反射防止膜、及びこの反射防止膜を備える光学部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイのパネルやレンズなどの光学部品の素材として、ガラス素材のみならず、軽量化、及び低コスト化に優れるプラスチック素材が用いられるようになってきた。光学部品に使用されるプラスチック素材は、多様化が進んでいるが、その大部分は屈折率が１．４５〜１．７０の高い屈折率を示すものであり、ガラス素材の屈折率と同様の値を示している。従って、高い屈折率を有するこれらの素材をレンズなどに適用する場合、光の反射率が大きくなり、これに起因して透過光量の減少や、映り込みなどの問題が発生してしまう。
【０００３】
そこで、透過光量の減少や映り込みなどの問題を防止すべく、通常は、光学部品の表面にスパッタ法や真空蒸着法などにより誘電体膜を積層して反射防止膜を形成する。反射防止膜としては、例えば、光ピックアップレンズに使用されるものとして、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｋ）用の７８０ｎｍ近傍の波長と、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ）用の６６０ｎｍ近傍の波長において、反射防止の特性を示すものがある。
【０００４】
ところで、光ピックアップレンズにおいては、記録密度を向上するべくピックアップ波長をより短波長化する技術が必要となってきており、今後、４００ｎｍ近傍の波長帯域を使用したものが多くなることが予想される。従って、互換化等の観点から、従来用いられていた波長帯域に加えて、従来用いられていた波長帯域より、さらに短波長帯域において低反射率特性を満足する反射防止膜が望まれている。すなわち、反射防止帯域の広帯域化を達成できる反射防止膜が望まれている。
【０００５】
反射防止帯域の広帯域化を実現する反射防止膜として、以下のようなものが提案されている。第１に、屈折率が１．８以上の薄膜と、屈折率が１．５以下の薄膜を交互に積層し、かつ、その積層数を多くする反射防止膜が提案されている。第２に、例えば、屈折率が１．４５〜１．７０のプラスチック素材の光学部品上に、屈折率１．５以下の単層を形成する反射防止膜が提案されている。第３に、反射防止膜全体を屈折率１．３〜１．４のＳｉＯ２膜で構成した反射防止膜が提案されている（特許文献１）。第４に、物理膜厚方向に屈折率を変化させたフッ素樹脂からなる層を数層積層する反射防止膜が提案されている（特許文献２）。
【特許文献１】特開平５−８０２０２号公報
【特許文献２】特開平１０−２２７９０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記反射防止膜においては以下のような問題点があった。上記第１の反射防止膜においては、反射防止帯域の広帯域化が未だ不十分であった。また、反射防止膜全体の物理膜厚が厚くなってしまうため、光学基板として耐熱性の低いプラスチック素材等を用いる場合には、基板の変形が生じてしまう場合があった。これは、反射防止膜全体の物理膜厚を厚く形成するために、蒸着やスパッタに要する時間が長くなり、これに起因して基板温度が上昇してしまうためである。
上記第２の反射防止膜においては、波長帯域の広帯域化には有利である（使用する膜の屈折率が低いほど波長帯域を広くすることができる）ものの、反射率が高くなってしまうという問題点があった。
【０００７】
上記第３の反射防止膜においては、外気からの水分を吸水して、反射防止特性の経時変化を引き起こしてしまうという問題がある。これは、反射防止膜が緻密ではなく、不均質な膜質により形成されていることに起因する。その原因は、ＳｉＯ２の通常の屈折率が１．４５〜１．４６であるところを、成膜時における蒸着材料の入射角を制御することにより屈折率を１．３〜１．４にしているためであると考えている。
上記第４の反射防止膜においては、製造時に連続的に屈折率を変化させる必要があり、製造条件が厳しく、安定した反射防止特性を有する反射防止膜を提供するのが難しいという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みて成されたものであり、その目的とするところは、反射帯域の広帯域化を達成しつつ反射防止特性に優れ、かつ、経時的な反射防止特性の変化を抑制できる反射防止膜、この反射防止膜を備える光学部品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、鋭意検討を重ね、反射防止膜の構成を複合的に設定することにより上記目的を達成し得ることを見出し、本件発明を完成するに至った。
【００１０】
本発明の第１の態様に係る反射防止膜は、光学基板上に、少なくとも２層以上の屈折率の異なる光学薄膜層を積層した反射防止膜であって、前記光学薄膜層は、フッ化マグネシウムを主成分とし、前記光学薄膜層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３０以上、１．４０以下とし、前記光学薄膜層のうち空気面から光が入射する最表層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上、１．４０以下とするものである。
なお、以降の説明において波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３５以上、１．４０以下の範囲の層を「高屈折率層」とも呼ぶ。
【００１１】
本発明の第１の態様に係る反射防止膜によれば、光学薄膜層をフッ化マグネシウムを主成分とし、かつ、屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３０ｎｍ以上、１．４０ｎｍ以下とすることにより、反射防止帯域の広帯域化を達成しつつ、反射防止特性の優れた反射防止膜を提供することができる。また、最表層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上とすることにより、膜内部が多孔質構造となることを抑制し、外部からの水分を吸水するのを防止できる。その結果、反射防止特性の経時的変化を効果的に抑制することができる。一方、最表層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．４０以下とすることにより、光の吸収率が大きくなるのを抑制し、透過光量が低下するのを効果的に防止することができる。より好ましい屈折率の範囲は、波長６００ｎｍに対して１．３７以上、１，３９以下である。
【００１２】
本発明の第２の態様に係る反射防止膜は、前記最表層の物理膜厚を５ｎｍ以上、３００ｎｍ以下とするものである。最表層の層の物理膜厚を、５ｎｍ以上とすることにより、外気中の水分が第１の層を通過して第２の層で吸水され、膜の屈折率が変化することに起因して光学特性の経時的変化が起こるのを効果的に抑制できる。また、３００ｎｍ以下とすることで、より効果的に反射防止帯域の広帯域化を図ることができる。より好ましい物理膜厚は、７ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下である。
【００１３】
本発明の第３の態様に係る反射防止膜は、前記光学薄膜層のうち、前記光学基板と接する最下層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上、１．４０ｎｍ以下とするものである。
なお、以降の説明において波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３０以上、１．３５未満範囲の層を「低屈折率層」とも呼ぶ。
【００１４】
本発明の第３の態様に係る反射防止膜によれば、光学薄膜層の最下層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上とすることにより、膜内部が多孔質構造となることを防止し、光学基板内部の水分が光学薄膜層に侵入するのを抑制することができる。また、最下層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．４０以下とすることにより、光の吸収率が大きくなるのを抑制し、透過光量が低下するのを効果的に防止することができる。また、光学基板と反射防止膜との密着力を高めるという効果も有する。より好ましい屈折率の範囲は、波長６００ｎｍに対して１．３７以上、１，３９以下である。
【００１５】
本発明の第４の態様に係る反射防止膜は、前記最下層の物理膜厚を２ｎｍ以上、３００ｎｍ以下とするものである。最下層の物理膜厚を２ｎｍ以上とすることにより、光学基板内部にある水分が最下層を通過して、最下層上に積層されている光学薄膜層（特に、低屈折率層）に吸水されるのを効果的に抑制することができる。その結果、光学特性の経時的変化を防止することができる。一方、最下層の物理膜厚を３００ｎｍ以下とすることにより、反射防止帯域の広帯域化を効果的に達成することができる。より好ましい物理膜厚は、５ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下である。
【００１６】
本発明の第５の態様に係る反射防止膜は、前記光学薄膜層として、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３０以上、１．３５未満の層と、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３５以上、１．４０以下の層とを備え、前記屈折率が１．３０以上、１．３５未満の層は、前記屈折率が１．３５以上、１．４０以下の層に挟持されていることを特徴とするものである。かかる構成によれば、低屈折率層を反射防止膜内部に設けているのでより効果的に反射防止帯域の広帯域化を達成できる。また、低屈折率層を高屈折率層に挟持させているので、水分を吸水しやすい低屈折率層を高屈折率層により保護することができる。その結果、剥離の発生や、クラックの発生などを効果的に抑制し、機械的強度を向上させることができる。
【００１７】
本発明の第６の態様に係る反射防止膜は、前記光学薄膜層として、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３５以上、１．４０以下の層を前記最表層と前記光学基板と接する最下層との間に備えていることを特徴とするものである。かかる構成によれば、反射防止膜の内部層に高屈折率層を備えているので、膜強度の強い反射防止膜を提供することができる。
【００１８】
本発明の第７の態様に係る光学部品は、上記いずれかの態様の反射防止膜と、光学基板とを備えるものである。かかる態様によれば、反射防止帯域の広帯域化を達成しつつ反射防止特性に優れ、経時的な反射防止特性の変化を抑制できる光学部品を提供することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、反射防止帯域の広帯域化を達成しつつ反射防止特性に優れ、かつ、経時的な反射防止特性の変化を抑制できる反射防止膜、及びこの反射防止膜を備える光学部品を提供することができるという優れた効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。
【００２１】
図１は、本実施形態に係る光学部品の構成を示す概略断面図である。本実施形態に係る光学部品１０は、光学基板１、反射防止膜２を備える。反射防止膜２は、フッ化マグネシウム（以下、「ＭｇＦ２」と略記する。）を主成分とする、少なくとも２層以上の屈折率の異なる光学薄膜層を積層して形成される。数層の薄膜を積層して所望の光学特性条件を満足するように各層の屈折率、物理膜厚を調整する。光学薄膜層の波長６００ｎｍに対する屈折率は、１．３０以上、１．４０以下となるようにする。このようにすることにより、反射防止帯域の広帯域化を達成しつつ、反射防止特性に優れた反射防止膜を提供することができる。
【００２２】
本実施形態に係る反射防止膜２は、５層の光学薄膜層を備える。具体的には、光学薄膜層として第１の層３（最下層）、第２の層４、第３の層５、第４の層６、第５の層７（最表層）を備える。なお、図１は、本実施形態を説明するための模式図であり、物理膜厚等のサイズは実際とは異なったものとなっている。
【００２３】
光学基板１としては、非晶質ガラス、結晶化ガラス、プラスチック素材、若しくは他の公知の素材からなるものを用いることができる。
ガラス素材としては、例えば、ＬｉＮｂＯ３、ＬｉＴａＯ３，ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３，Ａｌ２Ｏ３，ＭｇＯなどの酸化物単結晶や酸化物多結晶からなる基板を用いることができる。また、ＣａＦ２，ＭｇＦ２ＢａＦ２、ＬｉＦなどのフッ化物からなる単結晶又は多結晶基板を用いてもよい。さらに、ＮａＣｌ、ＫＢｒ，ＫＣｌなどの塩化物、臭化物からなる単結晶、多結晶基板等を用いてもよい。
プラスチック素材としては、ポリメタクリルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、環状オレフィン系樹脂等を用いることができる。
【００２４】
以下、本実施形態に係る光学薄膜層について詳述する。
第１の層３（最下層）は、光学基板１と接する層であり、屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上、１．４０以下（以下、波長６００ｎｍに対する屈折率１．３５〜１．４０の範囲の層を「高屈折率層」とも呼ぶ）とする。光学薄膜層の最下層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上とすることにより、膜内部が多孔質構造となることを抑制し、光学基板内部の水分が光学薄膜層に侵入するのを抑制することができる。また、最下層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．４０以下とすることにより、光の吸収率が大きくなるのを抑制し、透過光量が低下するのを効果的に防止することができる。また、光学基板と反射防止膜との密着力を高めるという効果も有する。より好ましい屈折率の範囲は、波長６００ｎｍに対して１．３７以上、１，３９以下である。
なお、物理膜厚の測定は、分光エリプソメータを用いて波長４００〜８００ｎｍの範囲で測定した。また、屈折率は、分光エリプソメータを用いて測定した。
【００２５】
第１の層３（最下層）の物理膜厚は２ｎｍ以上、３００ｎｍ以下とすることが好ましい。最下層の物理膜厚を２ｎｍ以上とすることにより、光学基板内部にある水分が最下層を通過して、最下層上に積層されている光学薄膜層（特に、低屈折率層）に吸水されるのを効果的に抑制することができる。その結果、光学特性の経時的変化を防止することができる。一方、最下層の物理膜厚を３００ｎｍ以下とすることにより、反射防止帯域の広帯域化を効果的に達成することができる。より好ましい物理膜厚は、５ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下である。とりわけ、光学基板１として、水分を吸収しやすいプラスチック素材を適用する場合には、効果が大きい。なお、水分を吸水しにくいガラス基板などを光学基板１として用いる場合には、高屈折率層を設けなくてもよい。
【００２６】
第２の層４は、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３０以上、１．３５未満（以降、屈折率がこの範囲にある層を「低屈折率層」ともいう）のＭｇＦ２からなる薄膜である。低屈折率層を設けることにより、反射防止帯域を拡大することができる。低屈折率層の物理膜厚は、特に限定されないが、前述したように物理膜厚が厚くなると蒸着やスパッタに要する時間が長くなり、基板温度が上昇して基板等の変形等が生じる場合等があるので、用いる基板、求められる反射防止帯域等を考慮して決定する。紫外、可視、赤外帯域で使用する場合には、反射防止特性の観点から３００ｎｍ以下とすることがより好ましい。
【００２７】
第３の層５は、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３５以上、１．４０以下の高屈折率層からなるＭｇＦ２からなる薄膜である。通常、ＭｇＦ２膜は、波長６００ｎｍに対する屈折率が高いほど緻密な構造を有し、波長６００ｎｍに対する屈折率が低いほど多孔質の構造を有する。従って、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３５以上、１．４０以下の高屈折率層を中間層に用いることにより、中間層に緻密な構造を形成せしめ、膜の機械的強度を強くすることができる。なお、反射防止帯域の広帯域化を効果的に達成するために、この第３の層５は、反射防止効果に影響を与えない範囲の物理膜厚とすることが好ましい。
【００２８】
第４の層６は、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３０以上、１．３５未満の低屈折率層からなるＭｇＦ２からなる光学薄膜層である。低屈折率層を設けることにより、より効果的に反射防止帯域の広帯域化を図ることができる。第４の層６の物理膜厚は、特に限定されないが、前述したように物理膜厚が厚くなると蒸着やスパッタに要する時間が長くなり、基板温度が上昇して基板等の変形等が生じる場合等があるので、用いる基板、求められる反射防止帯域等を考慮して決定する。紫外、可視、赤外帯域で使用する場合には、反射防止特性の観点から３００ｎｍ以下とすることがより好ましい。
【００２９】
第５の層７（最表層）は、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３５以上、１．４０以下の高屈折率層からなるＭｇＦ２からなる光学薄膜層である。最表層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．３５以上とすることにより、膜内部が多孔質構造となることを抑制し、外部から水分を吸水するのを防止できる。その結果、反射防止特性の経時的変化を効果的に抑制することができる。一方、最表層の屈折率を波長６００ｎｍに対して１．４０以下とすることにより、光の吸収率が大きくなるのを抑制し、透過光量が低下するのを効Ｐ果的に防止することができる。より好ましい屈折率の範囲は、波長６００ｎｍに対する１．３７以上、１，３９以下である。
【００３０】
第５の層７（最表層）の物理膜厚は、５ｎｍ以上、３００ｎｍ以下とすることが好ましい。最表層の層の物理膜厚を、５ｎｍ以上とすることにより、外気中の水分が第１の層を通過して第２の層で吸水され、膜の屈折率が変化することに起因して光学特性の経時的変化が起こるのを効果的に抑制できる。また、３００ｎｍ以下とすることで、より効果的に反射防止帯域の広帯域化を図ることができる。より好ましい物理膜厚は、７ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下である。
【００３１】
本実施形態においては、膜強度の強い高屈折率層により低屈折率層を挟持する構成としている。このようにすることにより、水分を吸水しやすい低屈折率層を高屈折率層により保護することができる。その結果、剥離の発生や、クラックの発生などを効果的に抑制し、機械的強度を向上させることができる。また、高温環境下で膜内部の空気や水分が膨張することによって発生するマイクロクラックの増加を抑制できる。
【００３２】
なお、膜強度を必要としない場合や、マイクロクラックが発生しない環境下で使用する場合、マイクロクラックが問題とならない用途に用いる場合には、上記高屈折率層である第３の層５を設けなくてもよい。
【００３３】
次に、反射防止膜２の製造方法について説明する。反射防止膜２は、真空成膜法により行うことができる。真空成膜法には、真空蒸着法、スパッタ法、化学気相成長法、レーザーブレイション法などの各種成膜法を用いることができる。
本実施形態においては、ＭｇＦ２からなる光学薄膜層の屈折率を変化させる膜を形成する必要がある。通常、上記製膜方法における成膜条件を制御することで膜質を制御することができる。また、真空蒸着法を用いる場合、蒸気流の一部をイオン化すると同時に基板側にバイアスを印加するイオンプレーティング法、クラスタイオンビーム法、若しくはイオン銃を用いて基板にイオンを照射するイオンアシスト蒸着法を用いると膜質の制御に有効である。
スパッタ法としては、ＤＣ反応性スパッタ法、ＲＦスパッタ法、イオンビームスパッタ法などを用いることができる。また、化学的気相法としては、プラズマ重合法、光アシスト気相法、熱分解法、有機金属化学気相法などを用いることができる。
【００３４】
本実施形態に係る反射防止膜２によれば、ＭｇＦ２を主成分とする単一の材料により構成されているので、材料、設備、タクト面ともに優れる。従って、低コスト化を達成できる。また、反射防止膜として、ＭｇＦ２を主成分とし、かつ、屈折率が波長６００ｎｍに対して１．３０〜１．４０の範囲のものを用いることにより、反射防止帯域の広帯域化を図ることができる。また、本実施形態によれば、従来例として前述した第１の反射防止膜のように厚膜にならずに、薄膜化を達成できるので、特にプラスチック素材を光学基板として用いる場合の基板の変形等の問題を回避することができる。
本実施形態に係る反射防止膜２は、例えば、ＣＤ、ＤＶＤ用のピックアップレンズや、携帯、デジタルカメラ等に搭載されるレンズ等に好適に用いることができるが、これらに限定されず、反射防止特性が要求される部品全般に対して適用可能である。
【実施例】
【００３５】
次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、下記の実施例に何ら限定されるものではない。
なお、物理膜厚及び屈折率は、分光エリプソメーター（ＳＯＰＲＡ社製）を用い、４００〜８００ｎｍの範囲を測定した。反射率測定は、分光光度計（（株）島津製作所製）を用い、波長３５０〜８００ｎｍの範囲で測定した。
【００３６】
（実施例１）  実施例１に係る反射防止膜として、上記実施形態に係る反射防止膜２の構成を用いた（図１参照）。光学基板１としては、環状オレフィン系樹脂基板を用いた具体的な光学薄膜層の構成は、以下のとおりである。すなわち、第１の層３（最下層）として、物理膜厚が３ｎｍ、屈折率が波長６００ｎｍに対して１．３８のＭｇＦ２膜を積層した。第２の層４として、物理膜厚が４３．７ｎｍで屈折率が波長６００ｎｍに対して１．３０のＭｇＦ２層、第３の層５として、物理膜厚が３ｎｍで屈折率が波長６００ｎｍに対して１．３８のＭｇＦ２層、第４の層６として、物理膜厚が３３．８ｎｍで屈折率が波長６００ｎｍに対して１．３４のＭｇＦ２層を積層した。また、第５の層７（最表層）は、物理膜厚が１０ｎｍで屈折率が波長６００ｎｍに対して１．３８のＭｇＦ２層により形成した。
【００３７】
第１の層３、第３の層５、及び第５の層７の高屈折率層は、真空蒸着装置を用いて以下のように成膜した。すなわち、蒸着材料としてＭｇＦ２の顆粒を用い、真空度１．０×１０−３Ｐａとし、導入ガスは用いずに、成膜開始時の基板温度が２５℃の条件下、蒸着レートを１ｎｍ／ｓｅｃ（すなわち、１０Å／ｓｅｃ）として成膜を行った。また、第２の層４及び第４の層６の低屈折率層は、蒸着材料としてＭｇＦ２の顆粒を用い、真空度１．５×１０−２Ｐａとし、導入ガスをＡｒガスとした。また、ガスの導入量は５０ｓｃｃｍ、成膜開始時の基板温度が２５℃の条件下、蒸着レートを０．２ｎｍ／ｓｅｃ（すなわち、２Å／ｓｅｃ）として成膜を行った。
【００３８】
（比較例１）  図２（ａ）は、比較例１に係る光学部品１１０の構成を示す概略断面図である。光学基板１０１上に、反射防止膜１０２を備える。反射防止膜１０２は、第１の層１０３と第２の層１０４からなる２層構造により構成されている。光学基板１０１は、上記実施例１と同様に環状オレフィン系樹脂基板からなり、第１の層１０３は、物理膜厚が９４．９ｎｍで、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３０のＭｇＦ２膜からなり、第２の層１０４は、物理膜厚１ｎｍで、波長６００ｎｍに対する屈折率が１．３８のＭｇＦ２膜からなる。光学基板１０１上に、上記実施例１と同様の方法及び条件により、第１の層１０３及び第２の層１０４を順次積層することにより光学部品１１０を得る。
【００３９】
（比較例２）  図２（ｂ）は、比較例２に係る光学部品２１０の構成を示す概略断面図である。光学基板２０１上に、反射防止膜２０２を備える。反射防止膜２０２は、第１の層２０３と第２の層２０４からなる２層構造により構成されている。光学基板２０１は、上記実施例１と同様に環状オレフィン系樹脂基板からなり、第１の層２０３は、物理膜厚が８４．６ｎｍで、屈折率が波長６００ｎｍに対して１．３０のＭｇＦ２膜からなり、第２の層２０４は、物理膜厚１０．０ｎｍで屈折率が波長６００ｎｍに対して１．３０のＭｇＦ２膜からなる。光学基板２０１上に、順次第１の層２０３、第２の層２０４を積層することにより光学部品２１０を得る。なお、第１の層２０３は、上記実施例１に係る第２の層４と同様の方法により形成した。また、第２の層２０４は、真空蒸着法により、ＭｇＦ２顆粒を蒸着材料とし、真空度を１．１×１０−２Ｐａとし、導入ガスとしてＡｒを用い、ガス流量を３０ｓｃｃｍ、成膜開始時の基板温度を２５℃、蒸着レートを０．３ｎｍ／ｓｅｃ（すなわち、３Å／ｓｅｃ）として成膜を行った。
【００４０】
［特性評価］
上記実施例１、比較例１及び比較例２に係る光学部品について、経時的な反射防止特性評価、機械特性評価を行った。具体的には、耐環境加速試験を８５℃、８５％ＲＨの条件下で５００時間行った。そして、このサンプルの膜表面の目視観察及びテープ引き剥がし試験を行った。また、耐環境加速試験前後における反射率の測定を行った。
【００４１】
図３に、実施例１に係る光学部品の波長３５０〜８００ｎｍにおける耐環境加速試験前後の反射率のプロファイルを示す。また、図４（ａ）に、比較例１に係る光学部品の波長３５０〜８００ｎｍにおける耐環境加速試験前後の反射率プロファイル、図４（ｂ）に、比較例２に係る光学部品の波長３５０〜８００ｎｍにおける耐環境加速試験前後の反射率プロファイルを示す。また、表１に、耐環境加速試験後の膜表面観察、テープ引き剥がし試験の結果、及び５００ｎｍにおける反射率変化量の値を示す。
【表１】
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【００４２】
実施例１、比較例１及び比較例２に係る光学部品の耐環境加速試験前の反射率は、図３及び図４に示すように、ほぼ同様のプロファイルを示している。これは、実施例１に係る低屈折率層と高屈折率層とから構成された反射防止膜２の反射率が、比較例１及び比較例２に係る低屈折率層のみで構成された反射防止膜の反射率と比べて遜色がないことを示している。
【００４３】
実施例１に係る光学部品の耐環境加速試験後の反射率は、図３に示すように、耐環境試験前のプロファイルと略一致したプロファイルを示し、経時的な反射率の変化が観察されなかった。５００ｎｍにおける反射率の変化量を計算したところ、０．０１％であった。一方、比較例１及び比較例２に係る光学部品の耐環境加速試験後の反射率は、図４に示すように、経時的な反射率の変化が３５０〜８００ｎｍの波長全域に亘って確認された。比較例１に係る反射防止膜１０２と、比較例２に係る反射防止膜２０２の波長５００ｎｍにおける反射率の変化量を計算したところ、それぞれ０．４０％、１．００％であった。実施例１に係る光学部品によれば、低屈折率層のみから構成される反射防止膜と遜色ない反射率を実現し、かつ、経時的な反射防止特性の変化を抑制できることがわかる。
【００４４】
耐環境加速試験後にテープ引き剥がし試験を行ったところ、表１に示すとおり、本発明に係る実施例１の反射防止膜２は、剥離が発生しなかった。一方、比較例１に係る反射防止膜１０２においては、一部剥離が、比較例２に係る反射防止膜２０２においては、全面剥離が発生した。
【００４５】
耐環境加速試験後に膜表面観察を行ったところ、表１に示すとおり、本発明に係る実施例１の反射防止膜２は、異常が観察されなかったのに対し、比較例１に係る反射防止膜１０２はマイクロクラックが、比較例２に係る反射防止膜２０２にはクラックが発生した。
【符号の説明】
【００４６】
１    光学基板
２    反射防止膜
３    第１の層
４    第２の層
５    第３の層
６    第４の層
７    第５の層
１０  光学部品
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】実施形態に係る光学部品の構成を示す概略断面図。
【図２】（ａ）比較例１に係る光学部品の構成を示す概略断面図、（ｂ）比較例２に係る光学部品の構成を示す概略断面図。
【図３】実施例１に係る光学部品の波長に対する反射率プロファイル。
【図４】（ａ）比較例１に係る反射防止膜の反射率プロファイル、（ｂ）比較例２に係る反射防止膜の反射率プロファイル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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