(57)【要約】      （修正有）【課題】常に一定の品質基準を満たす放射線画像変換パネルを製造する。【解決手段】所定の基板上に輝尽性蛍光体膜を形成し（ステップＳ１）、前記輝尽性蛍光体膜に紫外線を照射して前記輝尽性蛍光体膜を瞬時発光させ、その瞬時発光された蛍光のスペクトル分布を測定し（ステップＳ２）、その測定結果に基づき、予め設定した条件とは異なる条件に変更してそれ以降の処理を実行可能にする（ステップＳ３〜Ｓ５）。【選択図】図４
2006162440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の基板上に輝尽性蛍光体膜を形成し、前記輝尽性蛍光体膜に紫外線を照射して前記輝尽性蛍光体膜を瞬時発光させ、その瞬時発光された蛍光のスペクトル分布を測定し、その測定結果に基づき、予め設定した条件とは異なる条件に変更してそれ以降の処理を実行可能であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
前記測定結果に基づき、予め設定した条件とは異なる条件に変更して前記基板の後続の基板上に輝尽性蛍光体膜を形成可能であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
前記測定結果に基づき、予め設定した条件とは異なる条件に変更して前記基板上の輝尽性蛍光体膜を活性化可能であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法により製造された放射線画像変換パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被写体の放射線画像を形成する際に用いられる放射線画像変換パネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、Ｘ線画像のような放射線画像は医療現場において病状の診断に広く用いられている。特に、増感紙−フィルム系による放射線画像は、長い歴史のなかで高感度化と高画質化が図られた結果、高い信頼性と優れたコストパフォーマンスを併せ持った撮像システムとして、いまなお、世界中の医療現場で用いられている。近年では、輝尽性蛍光体を放射線画像変換パネルの一要部として用いたコンピューテッドラジオグラフィー（ＣＲ（computed radiography））も商品化され、高感度化及び画質の改善が日夜続けられている。
【０００３】
上記「輝尽性蛍光体」というのは、被写体を透過した放射線を蓄積して、励起光の照射等により、蓄積した放射線をその線量に応じた強度で輝尽発光するものであり、放射線画像変換パネルにおいて所定の基板上に膜状に形成されるものである。そのような放射線画像変換パネルの製造方法の一例が特許文献１に開示されている。特許文献１に記載の製造方法では、公知の蒸着処理により所定の基板上に輝尽性蛍光体膜を形成してその輝尽性蛍光体膜を熱処理により活性化している（段落番号００３１〜００４６参照）。
【特許文献１】特開２００４−２４５６４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の製造方法では、放射線画像変換パネルを製造する上での蒸着条件や熱処理条件等が一定で厳しく統制され、製造当初から品質の高いものを製造することを前提（不良品を製造しないという前提）としている。そのため、製造工程のいずれかの工程においてその工程の処理が予定通りにおこなわれなかった場合には、一定の品質基準を満たさない不良品を量産することになる。
本発明の目的は、常に一定の品質基準を満たす放射線画像変換パネルを製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため請求項１に記載の発明の放射線画像変換パネルの製造方法は、
所定の基板上に輝尽性蛍光体膜を形成し、前記輝尽性蛍光体膜に紫外線を照射して前記輝尽性蛍光体膜を瞬時発光させ、その瞬時発光された蛍光のスペクトル分布を測定し、その測定結果に基づき、予め設定した条件とは異なる条件に変更してそれ以降の処理を実行可能であることを特徴としている。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、
請求項１に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
前記測定結果に基づき、予め設定した条件とは異なる条件に変更して前記基板の後続の基板上に輝尽性蛍光体膜を形成可能であることを特徴としている。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、
請求項１又は２に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
前記測定結果に基づき、予め設定した条件とは異なる条件に変更して前記基板上の輝尽性蛍光体膜を活性化可能であることを特徴としている。
【０００８】
請求項４に記載の発明の放射線画像変換パネルは、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法により製造されたものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、輝尽性蛍光体膜の瞬時発光時の蛍光のスペクトル分布を測定するため、そのスペクトル分布から、製造工程中の輝尽性蛍光体膜の品質を認識することができ、仮にその品質が劣るものであっても、予め設定した条件とは異なる条件に変更してそれ以降の処理を実行可能であるから、輝尽性蛍光体膜の性能を向上可能な条件でそれ以降の処理を実行することができる。そのため、常に一定の品質基準を満たす放射線画像変換パネルを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲は以下の実施形態及び図示例に限定されるものではない。
【００１１】
図１は本発明に係る放射線画像変換パネル１の概略構成を示す断面図である。
図１に示す通り、放射線画像変換パネル１は所定の基板２を有しており、当該基板２上に輝尽性蛍光体膜３が形成されている。
【００１２】
基板２は、高分子材料，ガラス，金属等で構成されており、特に、セルロースアセテートフィルム，ポリエステルフィルム，ポリエチレンテレフタレート，ポリアミドフィルム，ポリイミドフィルム，トリアセテートフィルム，ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、石英，ホウ珪酸ガラス，化学的強化ガラス等の板ガラス、又はアルミニウム，鉄，銅，クロム等の金属シート若しくはそれら金属酸化物の被覆層を有する金属シートで構成されているのがよい。
【００１３】
輝尽性蛍光体膜３は、ＣｓＢｒ：Ｅｕ等のユーロピウム付活ハロゲン化セシウム系の輝尽性蛍光体から構成されており、公知の蒸着処理で形成されている。
【００１４】
放射線画像変換パネル１は、基板２及び輝尽性蛍光体膜３が２枚の防湿性の保護フィルム４，４間に封止されている。詳しくは、各保護フィルム４，４の周縁部同士が基板２及び輝尽性蛍光体膜３の全周にわたって融着されており、基板２及び輝尽性蛍光体膜３が当該保護フィルム４，４で完全に封止され、輝尽性蛍光体膜３への水分の浸入が確実に防止されている。
【００１５】
図２は、放射線画像変換パネル１を製造するための製造システム５の概略構成を示すブロック図である。
図２に示す通り、製造システム５では、基板２に輝尽性蛍光体を蒸着して当該基板２に輝尽性蛍光体膜３を形成する蒸着装置１０と、輝尽性蛍光体膜３を化学的に活性化する活性化装置２０と、輝尽性蛍光体膜３が形成された基板２を樹脂フィルムで封止する封止装置３０とが、設けられている。
【００１６】
蒸着装置１０には、輝尽性蛍光体膜３に紫外線を照射して当該輝尽性蛍光体膜３から発される瞬時発光のスペクトル分布を測定する分布測定装置４０が配されている。放射線画像変換パネルの製造システム５では、分布測定装置４０の測定結果から、蒸着装置１０による蒸着処理の条件と、活性化装置２０による活性化処理の条件とを、適宜変更することができるようになっている。
【００１７】
図３は蒸着装置１０及び分布測定装置４０の概略構成を示す図面である。
図３に示す通り、蒸着装置１０は蒸着炉１１を有している。蒸着炉１１の内部には坩堝１２が配されており、蒸着炉１１の側部には光透過性の透過窓１３が配されている。
【００１８】
分布測定装置４０は紫外線を発する紫外線光源４１を有している。紫外線光源４１は輝尽性蛍光体膜３を励起させるための励起光を発するものであり、具体的には波長２５５ｎｍ前後の光又は波長３６５ｎｍ前後の光を発するようになっている。紫外線光源４１は蒸着炉１１の外部であって透過窓１３と対向する位置に配されており、紫外線光源４１から発された紫外線は透過窓１３を透過して蒸着炉１１の内部に伝播するようになっている。
【００１９】
蒸着炉１１の内部にはポリゴンミラ４２が配されている。ポリゴンミラ４２は紫外線光源４１の紫外線を受光可能な位置に配されており、紫外線光源４１の紫外線を自ら回転しながら輝尽性蛍光体膜３に照射するようになっている（図３中実線参照）。ポリゴンミラ４２は、輝尽性蛍光体膜３が紫外線を受けて瞬時発光すると、その光（蛍光）を受光して蒸着炉１１の内部から外部に透過窓１３を介して伝播させるようになっている（図３中点線参照）。
【００２０】
紫外線光源４１の近傍であって透過窓１３と対向する位置には光学センサ４３が配されている。光学センサ４３は透過窓１３を透過してきた蛍光を検出するセンサであり、輝尽性蛍光体膜３が瞬時発光した蛍光の光量を検出するようになっている。光学センサ４３にはコンピュータ４４が接続されており、コンピュータ４４が光学センサ４３の検出結果に基づき輝尽性蛍光体膜３の瞬時発光のスペクトルを測定・算出するようになっている。
【００２１】
分布測定装置４０は上記した紫外線光源４１、ポリゴンミラ４２、光学センサ４３及びコンピュータ４４を含むものであり、主にはこれらの部材から構成されている。
【００２２】
続いて、本発明に係る放射線画像変換パネルの製造方法について図４を参照しながら説明する。
【００２３】
図４は放射線画像変換パネルの製造方法の概略を示すフローチャートである。
本発明に係る放射線画像変換パネルの製造方法は、上記で説明した放射線画像変換パネル１の製造システム５を援用するもので、始めに、蒸着装置１０を用いて予め設定した蒸着条件で基板２上に輝尽性蛍光体膜３を形成する（ステップＳ１）。
【００２４】
具体的には、図３に示す通り、蒸着装置１０の蒸着炉１１の内部に基板２を設置し、蒸着炉１１の内部を排気してハロゲン化水素雰囲気下の真空状態とする。その後、抵抗加熱法，エレクトロンビーム法等の方法により、輝尽性蛍光体を蒸着源として坩堝１２から当該輝尽性蛍光体を蒸発させ、輝尽性蛍光体膜３を基板２上に形成する。
【００２５】
ステップＳ１の処理を終えたら、分布測定装置４０を用いて輝尽性蛍光体膜３が瞬時発光した蛍光のスペクトル分布を測定する（ステップＳ２）。
【００２６】
具体的には、図３に示す通り、紫外線光源４１から紫外線を発させた状態で、ポリゴンミラ４２を回転させて当該紫外線を輝尽性蛍光体膜３に照射する。このとき、輝尽性蛍光体膜３が紫外線を受けて瞬時発光するため、その蛍光を光学センサ４３で検出する。そして光学センサ４３の検出結果を受けて、コンピュータ４４により、輝尽性蛍光体膜３が瞬時発光した蛍光のスペクトル分布を測定・算出する。
【００２７】
ステップＳ２の処理を終えたら、ステップＳ２の処理で測定・算出したスペクトル分布が一定基準を満たす良好なものか否かを判断する（ステップＳ３）。
【００２８】
ステップＳ３の処理において、スペクトル分布が良好なものであると判断したら、活性化装置３０を用いて、輝尽性蛍光体膜３に対し予め設定した活性化条件で周知の加熱処理，プラズマ処理等の処理を施して輝尽性蛍光体膜３を活性化する（ステップＳ４）。
【００２９】
ステップＳ３の処理において、スペクトル分布が良好なものでないと判断したら、ステップＳ１の処理で輝尽性蛍光体膜３を形成した基板２の後続の基板２に対し、ステップＳ１の処理とは異なる蒸着条件で、ステップＳ１の処理と同様の蒸着処理を実行する（ステップＳ５）。すなわち、ステップＳ１の処理で製造順がｎ番目の基板２に輝尽性蛍光体膜３を形成したとしたら、ステップＳ１の処理の蒸着条件を変更し、その変更した蒸着条件で、（ｎ＋１）番目の基板２に対しステップＳ１の処理と同様の蒸着処理を実行する（ステップＳ１の処理をステップＳ５の処理に置き換える）。
【００３０】
「蒸着条件」とは、蒸着炉１１の内部の真空度，ハロゲン化水素の分圧，坩堝１２の温度，蒸着炉１１の内部の温度，基板２の温度等のことであり、ステップＳ５の処理では、これら複数の条件のうち少なくとも１つの条件を変更した状態で蒸着処理を実行する。
【００３１】
更にステップＳ３の処理において、スペクトル分布が良好なものでないと判断したら、活性化装置３０を用いて、輝尽性蛍光体膜３に対し予め設定していた活性化条件（ステップＳ４の処理の活性化条件）とは異なる活性化条件で周知の加熱処理，プラズマ処理等の処理を施して輝尽性蛍光体膜３を活性化する（ステップＳ６）。すなわち、予め設定していた活性化条件を変更し、その変更した活性化条件で活性化処理を実行する。
【００３２】
「活性化条件」とは、加熱処理における加熱時間，加熱温度やプラズマ処理におけるプラズマ照射時間，プラズマ照射強度等のことであり、ステップＳ６の処理では、これら複数の条件のうち少なくとも１つの条件を当初の条件から変更した状態で活性化処理を実行する。
【００３３】
ステップＳ４，Ｓ６の処理を終えたら、封止装置３０を用いて基板２及び輝尽性蛍光体膜３を２枚の保護フィルム４，４間に封止する（ステップＳ７）。このように、ステップＳ１からステップＳ７までの各処理を実行することで、放射線画像変換パネル１を製造することができる。
【００３４】
以上の本実施形態では、ステップＳ２の処理において、輝尽性蛍光体膜３の瞬時発光時の蛍光のスペクトル分布を測定・算出するため、そのスペクトル分布から、製造工程中の輝尽性蛍光体膜３の品質を認識することができる。そしてステップＳ３の処理において、スペクトル分布が良好か否かを判断して輝尽性蛍光体膜３の品質が劣るものであった場合には、予め設定した条件とは異なる条件に変更してステップＳ５，Ｓ６の処理を実行するから、輝尽性蛍光体膜３の性能を製造工程中において向上させることができる。そのため、基板２や輝尽性蛍光体膜３等として安価な材料を使用したり、蒸着装置１０や活性化装置２０等の使用条件の範囲を広げたりすることが可能であり、ひいては常に一定の品質基準を満たす放射線画像変換パネル１を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】放射線画像変換パネル１の概略構成を示す断面図である。
【図２】放射線画像変換パネル１の製造システム５の概略構成を示すブロック図である。
【図３】蒸着装置１０及び分布測定装置４０の概略構成を示す図面である。
【図４】放射線画像変換パネル１の製造方法の概略を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００３６】
１  放射線画像変換パネル
２  基板
３  輝尽性蛍光体膜
４  保護フィルム
５  製造システム
１０  蒸着装置
２０  活性化装置
３０  封止装置
４０  分布測定装置
【図１】
2006162440.tif 000003
【図２】
2006162440.tif 000004
【図３】
2006162440.tif 000005
【図４】
2006162440.tif 000006