(57)【要約】【課題】ノズル位置と基材位置とのミスマッチを起こしにくく、且つ生産効率の高い塗布装置を提供することを課題とする。【解決手段】基材の投入ゾーン、ノズルによる基材への塗布液の塗布ゾーン、そして各ゾーン内及び各ゾーン間で基材を搬送ローラーで水平に搬送するための搬送機構を有し、前記投入ゾーン及び前記塗布ゾーンは基材の位置決めのための機構を有し、それぞれの位置決め機構は、搬送方向に対して直交方向に配列され、且つ基材の水平に対し垂直方向に上下動可能な棒材を有し、前記投入ゾーンは、基材の位置決め設定棒を着脱可能とした棒状の保持部材を有し、前記保持部材を搬送ローラーより下方に配置し、基材の進行方向に対して直交方向に移動可能な機構とすること。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板で矩形状の基材に塗布液を塗布するための塗布装置であり、前記塗布装置は、基材の投入ゾーン、ノズルによる基材への塗布液の塗布ゾーン、そして各ゾーン内及び各ゾーン間で基材を搬送ローラーで水平に搬送するための搬送機構を有し、前記投入ゾーン及び前記塗布ゾーンは基材の位置決めのための機構を有し、それぞれの位置決め機構は、搬送方向に対して直交方向に配列され、且つ基材の水平に対し垂直方向に上下動可能な棒材を有し、前記投入ゾーンは、基材の位置決め設定棒を着脱可能とした棒状の保持部材を有し、前記保持部材を搬送ローラーより下方に配置し、基材の進行方向に対して直交方向に移動可能な機構とすることを特徴とする塗布液の塗布装置。
【請求項２】
棒状の保持部材を複数個有し、位置決め設定棒を基材の進行方向に対して少なくとも２列具備することで複数枚の基材を同時に塗布することを可能としたことを特徴とする請求項１に記載の塗布液の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板で矩形状の基材に被膜を形成するために塗布液を基材にノズルを使用して塗布するための塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基材に対して塗布液を効率良く塗布するためにノズルで塗布液を吐出させながら基材に対して塗布液を塗布する方法が行われている。ノズルによる塗布液の塗布では、基材に対するノズルの位置が得られる物品の形状、特性に影響し、ノズル位置と基材位置とのミスマッチが物品の不良を導くことが多い。
【０００３】
前記を改善するため、例えば特許文献１では、ノズル位置と基材位置とのミスマッチを画像処理に基づいてノズルの位置ずれの補正を行う構成を有する塗布装置が開示されている。
【０００４】
基材の一面に対して塗布液を塗布し被膜を形成する場合、例えばガラス基材に防曇性被膜や特定の分光を遮蔽する被膜等の機能性被膜を形成する場合、特許文献１で対象とした電子材料程の塗布精度は要求されない。
【０００５】
しかしながら、これら被膜は１〜１００μｍ程度の比較的厚い膜厚が必要とされることが多いので、ノズル位置と基材位置とのミスマッチは、膜厚ムラを引き起こすことがある。この膜厚ムラは、被膜の光学歪み等の外観不良、被膜の不十分な機能性発現をもたらすので、物品を安定的に生産するためには、ノズル位置と基材位置とのミスマッチを無くすことが重要である。
【特許文献１】特開２００３−２８４９９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、ノズルを使用する塗布液の塗布装置において、ノズル位置と基材位置とのミスマッチを起こしにくく、且つ生産効率の高い塗布装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の塗布装置は、平板で矩形状の基材に塗布液を塗布するための塗布装置であり、前記塗布装置は、基材の投入ゾーン、ノズルによる基材への塗布液の塗布ゾーン、そして各ゾーン内及び各ゾーン間で基材を搬送ローラーで水平に搬送するための搬送機構を有し、前記投入ゾーン及び前記塗布ゾーンは基材の位置決めのための機構を有し、それぞれの位置決め機構は、搬送方向に対して直交方向に配列され、且つ基材の水平に対し垂直方向に上下動可能な棒材を有し、前記投入ゾーンは、基材の位置決め設定棒を着脱可能とした棒状の保持部材を有し、前記保持部材を搬送ローラーより下方に配置し、基材の進行方向に対して直交方向に移動可能な機構とすることを特徴とする。
【０００８】
又、本発明の塗布液の塗布装置は、前記棒状の保持部材を複数個有し、位置決め設定棒を基材の進行方向に対して少なくとも２列具備することで複数枚の基材を同時に塗布することを可能とすることが好ましい。
【０００９】
基材をローラーで水平に搬送して、基材の洗浄、塗布液の塗布等を連続的に行う塗布装置では、基材は蛇行して進むのが常である。従って、基材が塗布液の塗布ゾーンに到達したときには、基材の進行方向に対して垂直方向の位置は、投入時とは異なった位置となる。
【００１０】
塗布液の粘性が低い場合、塗布液のノズル位置と基材位置のミスマッチによる膜厚ムラ等の影響は発生しにくい。しかしながら、塗布液の粘度が、例えば、２．５〜４．５ＣＰ（２．５×１０−３〜４．５×１０−３Ｐａ・Ｓ）等の高いものである場合、前記ミスマッチの発生は、膜厚ムラの発生原因となりやすく回避されなければならない。そしてこれらの粘度を有する塗布液としては、防曇性被膜や特定の分光を遮蔽する被膜等の機能性被膜を得るための塗布液が挙げられる。
【００１１】
基材の蛇行度は、毎回一定であるため、この蛇行を予測して予めノズル位置を調整することは改善策の一つではあるが、ノズルと電磁弁にはチューブがつながっており、効率的な塗布のため、ノズルは、２５〜５０ｍｍピッチで並べられるので、個々のノズルによる位置調整は非常に煩雑なものとなる。結果として、ノズルによって位置調整を行う手法は、生産効率を向上させることが難しいものとなっていた。
【００１２】
本発明は、これを克服するためには塗布時の基材の位置調整は、基材の塗布装置への基材の投入位置を工夫し、この投入位置の操作を行いやすい機構とすることで前記問題の克服を図ったものである。
【００１３】
本発明の塗布装置での前記投入ゾーン及び前記塗布ゾーンは、位置決めのための機構を有し、それぞれの位置決め機構は、搬送機構に対して垂直方向に配列され、且つ水平に対し垂直方向に上下動可能な棒材を有している。
【００１４】
搬送されてきた基材は、前記棒材にて強制的に進行方向に対して、基材の進行方向側辺、すなわち下流側辺が垂直となるように設定される。そして、前記投入ゾーンは、基材の位置決め設定棒を着脱可能とした棒状の保持部材を複数有し、前記保持部材をローラーより下方に配置し、基材の進行方向に対して垂直方向に移動可能な機構とすることで、基材の投入位置を容易に設定することが可能となる。
【００１５】
前記棒材と上記機構とによって、前記ミスマッチを克服でき、そして、複数枚の基材の同時に投入可能とするので、結果、複数枚の基材へ同時に塗布液の塗布を達成でき、基材への塗布液の塗布効率の向上がもたらされる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の塗布装置は、高粘性の塗布液を塗布ムラが生じにくいので、形成される被膜の膜厚ムラが発生しにくく、被膜が形成された基材を効率良く安定的に生産することに奏功する。又、複数枚の基材に対しても同時に塗布が可能なので、生産効率の向上に奏功する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の塗布装置について、図面を用いて説明する。図１に本発明の塗布装置１の上方からの観察時に見られる動作の概念を示す。基材２は、基材の投入ゾーン３から投入され、例えば基材の進行経路５１のように基材は進行する。ここで、進行方向に対して投入ゾーン３側を上流側、塗布ゾーン４側を下流側とする。塗布ゾーン３にて、基材２は、基材蛇行幅５２を考慮して、基材の位置決め設定棒７、及び基材の位置決めを行うための棒材６Ａ、及び６Ｂにて、基材２の位置決めが行われる。
【００１８】
棒材６Ａ及びＢは、基材の進行方向に対して垂直で、搬送ローラー５の水平方向に対して垂直方向に上下動可能な機構を有することでシャッターの機能を果たす。基材２は、該棒材で静止している状態のときに、該棒材を下方に移動させることで、基材２は下流側へ進行する。前記上下動可能な機構には、シリンダー、モーター等の公知の手段が用いられる。
【００１９】
２つの棒材６Ａ及びＢの間には、基材の洗浄機構、乾燥機構等が配置される。そして、塗布装置１は、塗布ゾーン４側の棒材６Ｂにより、塗布ゾーンに基材が投入される前に再び基材２を静止させることが可能な機構となっている。該機構により基材２は、塗布ゾーン４に投入される前に、基材２が進行方向に対して垂直に配置されるようになる。図２に、その動作発現時の模式図を示す。搬送ローラー５により蛇行された基材２が点線２１で示すように基材２の最下流部が、棒材６Ｂと接触後にその部分が進行できない状態となるので、例えば、基材２は該最下流部を支点とし５３の方向に回転され、結果、基材２は実線２２で示すように正常な状態に配列される。
【００２０】
図３に基材２の投入ゾーン３の平面図、図４に投入ゾーン３側面の要部を示す図をそれぞれ示す。基材の位置決め設定棒７は、保持部材７１とは着脱可能とすることで、種々のサイズの基材に対応することが可能となる。そして、基材２の投入位置は、保持部材７１を基材２の進行方向に対し直交方向に移動させることで適宜設定することが可能である。投入ゾーン３で投入された基材２は、シャッターとなっている棒材６Ａを経て進行方向に進行されるようになる。
【００２１】
基材２の投入前に、基材２の大きさ、同時に投入する枚数に応じて予め保持部材７１の位置、及び設定棒７の使用量を決定する。そして基材２を投入するにあたっては、基材２の少なくとも一辺を保持部材７１に添って設置された設定棒７の少なくとも２個と接触させるとともに、搬送ローラー５にて基材２を進行させることで、塗布装置１に基材２が投入される。
【００２２】
投入ゾーン３で投入された基材２は、例えば、研磨工程、洗浄工程、乾燥工程等を経て、塗布ゾーン４前の棒材６Ｂにて位置が調整され、塗布ゾーン４へと導入される。  本発明の塗布液の塗布装置に使用される基材には、代表的なものとしてはガラスが用いられる。そのガラスは自動車用、建築用、建装用等に通常用いられている板ガラスであり、その形状は平板で矩形状のものである。そして、それらはフロート法、デュープレックス法、ロールアウト法等による板ガラスであって、製法は特に問わない。
【００２３】
ガラス種としては、クリアをはじめグリーン、ブロンズ等の各種着色ガラスやＵＶ、ＩＲカットガラス、電磁遮蔽ガラス等の各種機能性ガラス、網入りガラス、低膨張ガラス、ゼロ膨張ガラス等防火ガラスに供し得るガラス、強化ガラスやそれに類するガラス、合わせガラスのほか複層ガラス、銀引き法、あるいは真空成膜法により作製された鏡、さらには平板、曲げ板等各種ガラス製品を使用できる。  
【００２４】
基材の板厚は特に制限されないが、０．４ｍｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、車両用としては１．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下が好ましい。
【００２５】
又、基材は、ガラスに限定されるものではなく、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルム、ポリカーボネート等の樹脂、金属、特には金属鏡、セラミックス等も使用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００２６】
本発明の塗布液の塗布装置は、防曇性被膜や特定の分光を遮蔽する被膜等の機能性被膜を得るための粘度が比較的大きな塗布液をガラス、鏡等の基材に塗布して、機能性が付与されたガラス、鏡等を製造する産業に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の塗布装置の動作概念を示す図である。図中の「・・」は搬送ローラー５の表記を省略した旨を示している。
【図２】棒材６の機能発現時の動作模式図を示す図である。
【図３】基材の投入ゾーンの平面図を示す図である。
【図４】投入ゾーンの側面の要部を示す図を示す図である。
【符号の説明】
【００２８】
１    塗布装置
２    基材
３    基材の投入ゾーン
４    塗布液の塗布ゾーン
５    搬送ローラー
５１  基材２の進行経路
５２  基材２の蛇行幅
５３  棒材６にて基材２の配列が調整される際の基材の動作方向
６Ａ  基材の位置決定を行うための棒材
６Ｂ  基材の位置決定を行うための棒材
７    基材の位置決め設定棒
７１  設定棒７を保持するための棒状の保持部材
【図１】
2006314927.tif 000003
【図２】
2006314927.tif 000004
【図３】
2006314927.tif 000005
【図４】
2006314927.tif 000006