(57)【要約】【課題】  透過率の低いブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、透過率が低く、遮光性に優れたブラックマトリクスを形成するＰＤＰの製造方法を提供すること。【解決手段】  （Ａ）無機粉体として、（Ａ−１）比表面積９．０ｍ２／ｇ以上２０ｍ２／ｇ以下である四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）および（Ａ−２）ガラス粉体、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）光重合性モノマー、並びに（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物、当該組成物から得られる膜を有する転写フィルムおよびこれらを用いるＰＤＰの製造方法を提供する。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）無機粉体として、（Ａ−１）比表面積９．０ｍ２／ｇ以上２０ｍ２／ｇ以下である四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）および（Ａ−２）ガラス粉体、
（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマー、並びに
（Ｄ）光重合開始剤
を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項２】
（Ａ−２）ガラス粉体として、軟化点が４００〜６００℃の無鉛ガラス粉体を含有する、請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項３】
（Ａ）無機粉体中に（Ａ−２）ガラス粉体が占める割合が５０〜７０質量％である、請求項１記載の無機粉体含有性樹脂組成物。
【請求項４】
（Ｂ）結着樹脂が、（メタ）アクリル酸由来の構成単位を１０〜３０質量％、水酸基含有モノマー由来の構成単位を１０〜３０質量％含有する樹脂である、請求項１記載の無機粉体含有性樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｅ）シランカップリング剤をさらに含有する、請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項６】
支持フィルム上に、請求項１に記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする、転写フィルム。
【請求項７】
基板上に、請求項６に記載の転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程
を含む方法によりブラックマトリクスを形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルのブラックマトリクスを形成するために好適な無機粉体含有樹脂組成物、該組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、該転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう）の断面形状を示す模式図である。同図において、１および２は対向配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で、当該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６は被覆するようガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。
また、カラーＰＤＰにあっては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリクスなどを設けることがある。
【０００３】
このようなＰＤＰの誘電体、隔壁、電極、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックスマトリクスの製造方法としては、たとえば、
（１）非感光性の無機粉体含有ペーストを基板上にスクリーン印刷してパターンを形成し、これを焼成するスクリーン印刷法（たとえば特許文献１参照）や、
（２）感光性の無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、この膜にフォトマスクを介して紫外線を照射した上で現像することにより基板上にパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法（たとえば特許文献２および３参照）
などが知られているが、厚膜パターンの形成工程が簡便であることや、パターン形状に優れていること等から、特に上記（２）のフォトリソグラフィー法が好適に用いられる。
しかしながら、特に上記ブラックマトリクスにおいては、画像のコントラストを高める目的で、透過率が低い（好ましくは波長５５０ｎｍにおける（または全光線）透過率が１０％以下）という性能を発現させる必要があり、この性能が、現状では未だ不十分である。
【特許文献１】特開平６−３２１６１９号公報
【特許文献２】特開平９−１０２２７３号公報
【特許文献３】特開平１１−１６２３３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、透過率の低いブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、透過率が低く、遮光性に優れたブラックマトリクスを形成するＰＤＰの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、
（Ａ）無機粉体として、（Ａ−１）比表面積９．０ｍ２／ｇ以上２０ｍ２／ｇ以下である四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）および（Ａ−２）ガラス粉体、
（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマー、並びに
（Ｄ）光重合開始剤
を含有することを特徴とする。
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする。
本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に、前記転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程
を含む方法によりブラックマトリクスを形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物を用いることにより、透過率の低いブラックマトリクスを好適に形成することができるとともに、可撓性および転写性（基板に対する加熱接着性）に優れた無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムを製造することができる。
本発明の転写フィルムを用いれば、透過率が低く、かつ、表面平滑性に優れたブラックマトリクスを効率的に形成することができるとともに、無機粉体含有樹脂層の可撓性に優れることから、該樹脂層の表面に屈曲亀裂（ひび割れ）が生じにくく、柔軟性に優れ、ロール状に巻き取る操作を容易に行うことができる。また、前記無機粉体含有樹脂層が好適な粘着性を示すことから、取扱性（ハンドリング性）も良好であり、さらに該樹脂層の転写性（基板に対する加熱接着性）に優れている。
本発明のＰＤＰの製造方法によれば、透過率の低いブラックマトリクスを高い位置精度で効率的に形成することができ、画像のコントラストの高いＰＤＰを効率的に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびＰＤＰの製造方法について詳細に説明する。
〔無機粉体含有樹脂組成物〕
本発明の無機粉体含有樹脂組成物（以下、単に「本発明の組成物」ともいう）は、
（Ａ）無機粉体として、（Ａ−１）比表面積９．０ｍ２／ｇ以上２０ｍ２／ｇ以下である四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）および（Ａ−２）ガラス粉体、
（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマー、並びに
（Ｄ）光重合開始剤
を含有する。本発明の組成物は、さらに（Ｅ）シランカップリング剤を含有してもよい。以下、本発明の組成物の各構成成分について具体的に説明する。
【０００８】
＜（Ａ）無機粉体＞
本発明の組成物に用いられる無機粉体（Ａ）としては、（Ａ−１）四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）および（Ａ−２）ガラス粉体を用いる。
（Ａ−１）四酸化三コバルトとしては、その比表面積が、９．０ｍ２／ｇ以上２０ｍ２／ｇ以下、好ましくは、１０ｍ２／ｇ以上２０ｍ２／ｇ以下である。四酸化三コバルトの比表面積が９．０ｍ２／ｇ未満であると、光透過率の低いブラックマトリクスが得られない。また、２０ｍ２／ｇを越えると、赤味がかった色のブラックマトリクスが形成されるなど、良好な黒色を有するブラックマトリックスを得られない恐れがあるため好ましくない。
なお、本発明で言う比表面積とは、無機粉体含有樹脂組成物に含有される四酸化三コバルトのＢＥＴ法により求められる比表面積の平均値を言う。
また、四酸化三コバルトの平均粒子径は、通常、０．０５〜５．０μｍ、好ましくは０．１〜０．５μｍである。
【０００９】
（Ａ−２）ガラス粉体としては、好ましくは軟化点が４００〜６００℃のガラス粉体が用いられる。ガラス粉体の軟化点が４００℃未満である場合には、無機粉体含有樹脂層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉体が溶融してしまうため、形成されるブラックマトリクス中に有機物質の一部が残留することがあり、得られるＰＤＰ内にアウトガスが拡散する結果、蛍光体の寿命を低下させるおそれがある。一方、ガラス粉体の軟化点が６００℃を超える場合には、無機粉体含有樹脂層を６００℃より高温で焼成する必要があるため、該樹脂層の被転写体であるガラス基板に歪みなどが発生することがある。
上記ガラス粉体の好適な具体例としては、
（１）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カルシウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＣａＯ 系）、
（２）酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（３）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
（４）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（５）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化チタン系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＴｉＯ2系）、
（６）酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（７）酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
（８）酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
（９）酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム系（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
（１０）酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン系（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）混合物などを挙げることができる。これらのうち、無鉛ガラス、すなわち、上記（６）〜（１０）等のガラス粉体が、混練後に得られる組成物の経時安定性の観点から好適に用いられる。
上記ガラス粉体の平均粒子径は０．１〜３．０μｍであることが好ましい。
【００１０】
（Ａ）無機粉体における、（Ａ−１）四酸化三コバルトと（Ａ−２）ガラス粉体との含有割合は、（Ａ）無機粉体全量に対して、（Ａ−１）四酸化三コバルトが、好ましくは３０〜５０質量％、（Ａ−２）ガラス粉体が好ましくは５０〜７０質量％である。（Ａ−１）四酸化三コバルトの割合が上記割合であることにより、当該四酸化三コバルトが焼成後も表面に析出することなくガラス粉体とともに膜内に埋包され、表面平滑性および遮光性に優れたブラックマトリクスが得られる。また、（Ａ−２）ガラス粉体の割合が上記割合であることにより、遮光性に優れたブラックマトリクスが得られ、焼成後の基板に対する密着性や膜強度が良好となる効果が得られる。
【００１１】
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、（Ａ−１）および（Ａ−２）以外の無機粉体が含まれていてもよい。具体的には、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏおよびこれらの酸化物および複合酸化物などの四酸化三コバルト以外の有色含量や、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化セリウムなどの無機酸化物などが挙げられる。その他の無機粉体の含有量は、好ましくは無機粉体全量の３０質量％以下である。
【００１２】
＜（Ｂ）結着樹脂＞
本発明の組成物を構成する結着樹脂（Ｂ）としては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂を２０〜１００質量％の割合で含有する樹脂を用いることが好ましい。ここに、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えばアクリル樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができるが、これらのうちアクリル樹脂が好ましい。特に、（メタ）アクリル酸由来の構成単位および（メタ）アクリレート由来の構成単位の合計割合が、全構成単位の７０質量％以上、好ましくは９０質量％以上であるアクリル樹脂が、好ましい樹脂として挙げられる。
本発明の組成物が、結着樹脂（Ｂ）としてアクリル樹脂を含有することにより、該組成物から形成される無機粉体含有樹脂層は、基板に対する優れた（加熱）接着性を発揮する。したがって、本発明の組成物を支持フィルム上に塗布して製造した転写フィルムは、無機粉体含有樹脂層の転写性（基板への加熱接着性）に優れたものとなる。
【００１３】
上記アクリル樹脂としては、適度な粘着性を有して無機粉体を結着させることができ、無機粉体含有樹脂層の焼成処理（４００℃〜６００℃）によって完全に酸化除去される（共）重合体であることが望ましい。
このようなアクリル樹脂のうち、好ましいものとしては、下記のモノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体などのアクリル樹脂を挙げることができる。
【００１４】
モノマー（イ）：カルボキシル基含有モノマー類
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなど。
モノマー（ロ）：水酸基含有モノマー類
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類など。
【００１５】
モノマー（ハ）：その他の共重合可能なモノマー類
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート類；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどのフェノキシアルキル（メタ）アクリレート類；
２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート類；
ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレンなどのビニル基含有ラジカル重合性化合物など。
【００１６】
上記アクリル樹脂における各モノマー由来の構成単位の割合は、モノマー（イ）（カルボキシル基含有モノマー類）由来の構成単位が、通常、５〜４０質量％、好ましくは１０〜３０質量％であり、モノマー（ロ）（水酸基含有モノマー類）由来の構成単位が、通常、４０質量％以下、好ましくは１０〜３０質量％であり、モノマー（ハ）（その他の共重合可能なモノマー類）由来の構成単位が、通常、９５質量％以下、好ましくは４０〜８５質量％である。特に、モノマー（イ）としては、アクリル酸およびメタクリル酸が好ましく用いられる。また、モノマー（ロ）としては、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類が好ましく用いられる。さらに、モノマー（ハ）としては、アルキル（メタ）アクリレート類および脂環式（メタ）アクリレート類が好ましく用いられる。
特に、（メタ）アクリル酸由来の構成単位を１０〜３０部、水酸基含有モノマー由来の構成単位を１０〜３０部含有する樹脂が、現像中の基板との良好な密着性、現像後の良好なパターン形状が得られるという点で好ましく用いられる。
【００１７】
本発明に用いられる結着樹脂（Ｂ）の分子量としては、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量（以下、単に「重量平均分子量」または「Ｍｗ」ともいう）で、３，０００〜３００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００である。また、樹脂の分散度（重量平均分子量／数平均分子量）としては、１．０〜５．０、好ましくは１．０〜３．０である。
【００１８】
＜（Ｃ）光重合性モノマー＞
本発明の組成物は、光重合性モノマー（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）を含有する感光性組成物である。光重合性モノマーは、露光により重合し、露光部分をアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性にする性質を有するものであり、好ましいものとして多官能性（メタ）アクリレートが挙げられる。
多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、たとえば、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができる。これらは１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中では、アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類、トリメチロールプロパントリアクリレート及びそのポリアルキレングリコール付加物、ペンタエリストールトリアクリレート及びそのポリアルキレングリコール付加物などが特に好ましく用いられる。また、上記多官能性（メタ）アクリレートの分子量としては、１００〜２，０００であることが好ましい。
【００１９】
上記結着樹脂（Ｂ）及び光重合性モノマー（Ｃ）の総配合量は、無機粉体１００質量部に対して、通常３０〜９０質量部、好ましくは４０〜９０質量部の範囲の量で用いられる。また、光重合性モノマー（Ｃ）は、結着樹脂（Ｂ）１００質量部に対して、１０〜２００質量部、好ましくは１００〜１５０質量部の範囲の量で用いられる。結着樹脂の量が過小である場合には、無機粉体を確実に結着保持することができないことがあり、一方、過大である場合には、焼成工程に長い時間を要したり、形成される焼結体が十分な強度や膜厚を有しないことがある。
【００２０】
＜（Ｄ）光重合開始剤＞
本発明で用いる光重合開始剤（Ｄ）としては、たとえば、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタートなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；２−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などが挙げられる。これらは１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中では、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイドなどが特に好ましく用いられる。
【００２１】
上記光重合開始剤（Ｄ）は、上記光重合性モノマー（Ｃ）１００質量部に対して、通常０．１〜５０．０質量部、好ましくは１．０〜３０．０質量部の範囲の量で用いられる。
【００２２】
＜（Ｅ）シランカップリング剤＞
本発明の組成物は、上記無機粉体（Ａ）、特にガラス粉体の分散性の向上および形成する転写フィルムの可塑化の向上を目的として、シランカップリング剤を含有してもよい。このようなシランカップリング剤としては、下記一般式（１）で表される化合物および一般式（２）で表わされる化合物が挙げられる。
【００２３】
【化１】
2006219659.tif 000002
【００２４】
（式（１）中、ｐは３〜２０、好ましくは４〜１６の整数、ｍは１〜３の整数、ｎは１〜３の整数、ａは１〜３の整数である。）
【００２５】
【化２】
2006219659.tif 000003
【００２６】
（式（２）中、Ｒはメチレン基または炭素数２〜１００のアルキレン基を表し、Ｙはビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基またはアミノ基を表し、Ｘは加水分解性基を表し、ｒは０から３の整数である。）
【００２７】
上記一般式（１）において、ｐの値が３未満のシランカップリング剤を用いる場合は、得られる無機粉体含有樹脂層において十分な可撓性が発現されない場合がある。一方、上記ｐの値が２０を超えるシランカップリング剤は分解温度が高いため、無機粉体含有樹脂層の焼成工程において、有機物質（前記シラン誘導体）が完全に分解除去されない段階でガラス粉体が溶融してしまい、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留することにより、誘電体層の光透過率が低下する場合がある。
【００２８】
上記一般式（１）で表されるシランカップリング剤として用いられるシラン類の具体例を以下に示す。
飽和アルキルジメチルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝１）として、たとえば、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルジエチルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝２）として、たとえば、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルジプロピルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝３）として、たとえば、ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシランなどが挙げられる。
【００２９】
飽和アルキルジメチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝１）として、たとえば、ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルジエチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝２）として、たとえば、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルエトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルジプロピルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝３）として、たとえば、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルジメチルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝１）として、たとえば、ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシランなどが挙げられる。
【００３０】
飽和アルキルジエチルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝２）として、たとえば、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルジプロピルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝３）として、たとえば、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルメチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝１）として、たとえば、ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルエチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝２）として、たとえば、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシランなどが挙げられている。
【００３１】
飽和アルキルプロピルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝３）として、たとえば、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルメチルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝１）として、たとえば、ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルエチルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝２）として、たとえば、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルプロピルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝３）として、たとえば、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルメチルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝１）として、たとえば、ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルエチルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝２）として、たとえば、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルプロピルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝３）として、たとえば、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシランなどが挙げられる。
【００３２】
飽和アルキルトリメトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝１）として、たとえば、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルトリエトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝２）として、たとえば、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシランなどが挙げられる。
飽和アルキルトリプロポキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝３）として、たとえば、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシランなどが挙げられる。
【００３３】
上記一般式（２）で表されるシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン等のビニル基含有シラン化合物；
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノ基含有シラン化合物；
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシ基含有シラン化合物；
３−グリシドキシプロピルトリメエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シラン化合物；
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のメルカプト基含有シラン化合物等が挙げられる。
【００３４】
上記シランカップリング剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記シラン類の中では、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが特に好ましい。
【００３５】
上記シランカップリング剤は、無機粉体全量１００質量部に対して、通常１０質量部以下、好ましくは０．００１〜５質量部の量で用いられる。シランカップリング剤の量が過大である場合には、無機粉体含有樹脂組成物を保存する際に粘度が経時的に上昇したり、シランカップリング剤同士で反応が起こり、形成するパネル部材の焼成後の光透過率を下げる原因になったりする場合がある。
【００３６】
＜その他の成分＞
本発明の組成物は、転写フィルムに良好な柔軟性を与えるために、上記結着樹脂（Ｂ）の補助剤として可塑性剤を含有していてもよい。可塑剤を含有する組成物から形成される無機粉体含有樹脂層は、十分な柔軟性を有するものとなることから、該樹脂層を有する転写フィルムは、折り曲げても該樹脂層の表面に微小な亀裂（ひび割れ）が発生することがなく、また、ロール状に容易に巻き取ることができる。
上記可塑性剤としては、たとえば、ポリプロピレングリコール、前述した（メタ）アクリレート化合物などの共重合性単量体、後述する溶剤などの他、ジブチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアゼレート、ジブチルセバケート、ジブチルジグリコールアジペート、プロピレングリコールモノラウレート、プロピレングリコールモノオレートなどが挙げられる。これらの中で沸点が１５０℃以上のものが好ましい。このような可塑剤は１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、本発明の組成物は、任意成分として、分散剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、レベリング剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、連鎖移動剤などの各種添加剤を含有してもよい。なお、上記分散剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等の有機脂肪酸が好ましく用いられる。
【００３７】
＜溶剤＞
本発明の組成物は、通常、溶剤を含有する。このような溶剤としては、無機粉体との親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、無機粉体含有樹脂組成物に適度な粘性を付与することができるとともに、乾燥処理することにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。
また、特に好ましい溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が６０〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエステル類（以下、これらを「特定溶剤」という。）を挙げることができる。
【００３８】
上記特定溶剤としては、たとえば、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；
ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；
酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；
乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを挙げることができる。これらの中では、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３９】
また、上記特定溶剤以外の使用可能な溶剤としては、たとえば、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。
上記溶剤は組成物の粘度を好適な範囲に維持する観点から、無機粉体（Ａ）１００質量部に対して５〜５０質量部、好ましくは１０〜４０質量部の範囲で用いられる。また、全溶剤に対する特定溶剤の割合は、５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上である。
【００４０】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、上記無機粉体（Ａ）、結着樹脂（Ｂ）、特定分散剤（Ｃ）、溶剤および必要に応じて用いられるその他の成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、サンドミルなどの混練・分散機を用いて混練することにより調製することができる。
なお、本発明の組成物の粘度は０．１〜１０Ｐａ・ｓであることが好ましい。
【００４１】
〔転写フィルム〕
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、本発明の組成物から得られる無機粉体含有樹脂層、すなわち、
（Ａ）無機粉体として、（Ａ−１）比表面積９．０ｍ２／ｇ以上２０ｍ２／ｇ以下である四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）および（Ａ−２）ガラス粉体、
（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマー、並びに
（Ｄ）光重合開始剤
を含有する無機粉体含有樹脂層を有し、必要に応じて該樹脂層の表面上にカバーフィルムを有していてもよい。
以下、転写フィルムの各構成要素について具体的に説明する。
【００４２】
＜支持フィルム＞
本発明の転写フィルムは、無機粉体含有樹脂層を支持する支持フィルムを有する。この支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコーター、ブレードコーターなどによって支持フィルムの表面に無機粉体含有樹脂組成物を塗布することができ、得られる転写フィルムをロール状に巻回した状態で保存または供給することができる。
支持フィルムを形成する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。
支持フィルムの厚みは、たとえば２０〜１００μｍである。また、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましく、これにより、ガラス基板への転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００４３】
＜カバーフィルム＞
本発明の転写フィルムにおいては、無機粉体含有樹脂層の表面を保護するために該樹脂層の表面上にカバーフィルムが設けられていてもよい。このカバーフィルムは、可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましく、これにより、得られる転写フィルムをロール状に巻回した状態で保存または供給することができる。
カバーフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
【００４４】
＜無機粉体含有樹脂層＞
無機粉体含有樹脂層は、本発明の組成物を支持フィルム上に塗布し、得られる塗布膜を乾燥して溶剤の全部または一部を除去することにより形成される。
本発明の組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性が高く、かつ膜厚が大きい（たとえば１０μｍ以上）塗膜を高い効率で形成することができる方法であることが好ましく、具体的には、ロールコーターによる塗布方法、ブレードコーターによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる塗布方法などが挙げられる。無機粉体含有樹脂層の膜厚は、通常、１〜２０μｍである。
塗膜の乾燥条件としては、たとえば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度であり、乾燥後における溶剤の残存割合（無機粉体含有樹脂層中の含有率）は、通常、２質量％以内である。
【００４５】
〔ＰＤＰの製造方法〕
本発明のＰＤＰの製造方法としては、
（１）基板上に、本発明の転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程、
（２）該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（３）該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程、および
（４）該パターンを焼成処理する工程
を含む方法によりブラックマトリクスを形成することを特徴とする。
以下、各工程について説明する。
【００４６】
（１）無機粉体含有樹脂層の転写工程
無機粉体含有樹脂層の転写工程の一例を示せば以下のとおりである。
転写フィルムのカバーフィルムを剥離した後、ガラス基板の表面に、無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着する。これにより、ガラス基板の表面に無機粉体含有樹脂層が転写されて密着した状態となる。転写条件としては、たとえば、加熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるローラ圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分である。また、ガラス基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては、たとえば４０〜１００℃とすることができる。
【００４７】
（２）無機粉体含有樹脂層の露光工程
この工程においては、無機粉体含有樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、レジストパターンの潜像を形成する。
露光の際に用いられる紫外線照射装置としては、特に限定されず、フォトリソグラフィー法で一般的に使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置などが挙げられる。
なお、無機粉体含有樹脂層上に被覆されている支持フィルムは剥離しない状態で露光工程を行い、露光後に剥離することが好ましい。
【００４８】
（３）無機粉体含有樹脂層の現像工程
この工程においては、露光された無機粉体含有樹脂層を現像処理することにより、レジストパターン（潜像）を顕在化させる。
現像処理条件としては、無機粉体含有樹脂層の構成成分の種類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（たとえば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択することができる。
この現像工程により、無機粉体含有樹脂パターン（露光用マスクに対応するパターン）が形成される。
【００４９】
（４）無機粉体含有樹脂パターンの焼成工程
この工程においては、無機粉体含有樹脂パターンを焼成処理してブラックマトリクスを形成する。これにより、樹脂層残留部中の有機物質が焼失してブラックマトリクスが形成される。
焼成処理の温度としては、有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常４００〜６００℃である。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間である。
【００５０】
また、本発明の製造方法により形成したブラックマトリクスの上に部分的に銀電極パターンを形成し、銀電極と積層した部分をバス電極の黒層として用いることも可能である。その際、例えば下記＜１＞〜＜４＞のいずれかの方法により、ブラックマトリクスと銀電極を有するパネル材料を形成することも可能である。
＜１＞  本発明の製造方法により形成したブラックマトリクスの上に、銀粉末および結着樹脂を含有する銀粉体含有樹脂層を形成し、該銀粉体含有樹脂層の上にレジスト層を形成し、該レジスト層を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、該レジスト層を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、該銀粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応する電極パターンを形成し、該電極パターンを焼成処理して電極を形成する方法。
＜２＞  上記＜１＞において、銀粉体含有樹脂層とレジスト層を、支持フィルム上にレジスト層と銀粉体含有樹脂層の積層を形成した転写フィルムを用いて一括転写により形成する方法。
＜３＞  本発明の製造方法により形成したブラックマトリクスの上に、銀粉末、結着樹脂、光重合性モノマーおよび光重合開始剤を含有する感光性銀粉体含有樹脂層を形成し、該感光性銀粉体含有樹脂層を露光処理して電極パターンの潜像を形成し、該感光性銀粉体含有樹脂層を現像処理して電極パターンを顕在化させ、該電極パターンを焼成処理して電極を形成する方法。
＜４＞  本発明の製造方法における（３）無機粉体含有樹脂層の現像工程の後、焼成工程を行う前に上記＜１＞乃至＜３＞の方法により電極パターンを形成し、ブラックマトリクスと電極の焼成工程を一括で行う方法。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」は「質量部」を示す。
＜実施例１＞
（１）無機粉体含有樹脂組成物の調製：
（Ａ）無機粉体として、（Ａ−１）比表面積９．０ｍ２／ｇ、平均粒径０．３μｍの四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）４０部、（Ａ−２）平均粒径１．５μｍのＢｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラスフリット（不定形、軟化点４７０℃）６０部、（Ｂ）結着樹脂としてベンジルメタクリレート／メタクリル酸／２−ヒドロキシプロピルメタクリレート＝６０／２０／２０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝５０，０００）２００部、（Ｃ）光重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート２００部、（Ｄ）光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン５部、（Ｅ）シランカップリング剤として３−メタクリロキシプロピルメトキシシラン１部、その他任意成分としてオレイン酸１部、および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル２００部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ、２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）を調整した。
【００５２】
（２）転写フィルムの作製：
上記（１）で調製した無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）を、予め離型処理した膜厚３８μｍのＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム上にブレードコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で３分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ７μｍの無機粉体含有樹脂層を支持フィルム上に形成した、本発明の転写フィルムを作製した。
（３）転写フィルムの転写工程：
上記（２）で作製した転写フィルムを用い、ガラス基板の表面に、無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるよう当該転写フィルムを重ね合わせ加熱ローラで熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１００℃、ロール圧を２．５ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に転写フィルムが転写されて密着した状態となった。
【００５３】
（４）無機粉体含有樹脂層の露光工程・現像工程：
ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層に対して、露光用マスク（５ｃｍ×５ｃｍ）を介して、支持フィルム上より超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射し、無機粉体含有樹脂層にパターンの潜像を形成した。ここに、照射量は２００ｍＪ／ｃｍ２とした。露光後、支持フィルムを剥離除去し、次いで、液温３０℃の０．３質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法により現像処理を３０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。
これにより、紫外線が照射されていない部分の無機粉体含有樹脂を除去し、無機粉体含有樹脂パターンを形成した。
（５）焼成工程：
無機粉体含有樹脂パターンが形成されたガラス基板を５８０℃の温度雰囲気下で３０分間焼成処理した。これにより、ガラス基板の表面に厚み０．７μｍのブラックマトリクスが形成された。
【００５４】
（６）ブラックマトリクスの透過率評価：
得られた５ｃｍ×５ｃｍ形状のブラックマトリクスを用いて、分光光度計（（株）島津製作所製ＵＶ−２４５０ＰＣ、（株）島津製作所製マルチパーパス大形試料室ユニットＭＰＣ−２２００付属、以下同じ）を用いて、波長５５０ｎｍでの透過率を測定したところ、９．９％であり、優れた遮光性を示した。
（７）ブラックマトリクスの反射率評価：
得られた５ｃｍ×５ｃｍ形状のブラックマトリクスを用いて、分光光度計を用いて、波長５５０ｎｍでの反射率を測定したところ、２．９％であり、優れた低反射性を示した。
（８）ブラックマトリクスの色調評価：
得られた５ｃｍ×５ｃｍ形状のブラックマトリクスを色彩色差計（ミノルタ（株）製ＣＲ−４００）を用いて、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に従い測定し、ａ＊値およびｂ＊値より色調評価を行った。純粋な黒におけるａ＊値およびｂ＊値はいずれも０であり、ａ＊値およびｂ＊値が０に近いほど、理想的な黒色に近いことを示す。なお、目視による色調の観察も併せて行った。
【００５５】
＜実施例２〜４＞
実施例１中、（Ａ−１）四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）として表１に示す比表面積の四酸化三コバルトを用いた以外は実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製、ブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表１に併せて示す。
＜実施例５＞
実施例１中、（Ａ−１）四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）として表１に示す比表面積の四酸化三コバルトを用い、（Ｂ）結着樹脂としてブチルメタクリレート／メタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート＝６５／１５／２０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝３０，０００）２００部を用いた以外は実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製、ブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表１に併せて示す。
＜実施例６＞
実施例１中、（Ａ−１）四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）として表１に示す比表面積の四酸化三コバルトを用い、（Ｂ）結着樹脂としてエチルヘキシルメタクリレート／メタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート＝５５／２０／２５（質量％）共重合体（Ｍｗ＝４０，０００）２００部を用いた以外は実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製、ブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表１に併せて示す。
＜比較例１〜２＞
実施例１中、（Ａ−１）四酸化三コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）として表１に示す比表面積の四酸化三コバルトを用いた以外は実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製、ブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2006219659.tif 000004
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
【００５８】
１  ガラス基板
２  ガラス基板
３  隔壁
４  透明電極
５  バス電極
６  アドレス電極
７  蛍光物質
８  誘電体層
９  誘電体層
１０  保護層
１１  隔壁
【図１】
2006219659.tif 000005