(57)【要約】【課題】  装置のコンパクト化及び製造コストの低減を図りつつリニアモータ固定子の反力による振動を防止することが可能な露光装置を提供する。【解決手段】  マスクＭに形成されたパターンを感光性基板Ｐ上に露光する露光装置において、露光装置本体を収容するチャンバ２と、前記チャンバ内に収容され、前記マスクまたは前記感光性基板が載置されるステージＭＳＴ，ＰＳＴと、前記ステージを駆動するリニアモータと、前記リニアモータが備えるリニアモータ固定子１０ａ，３８ａと前記チャンバとを繋ぐ駆動反力受部材１２ａ，１２ｂ，４０ａ，４０ｂとを備え、前記チャンバは、前記リニアモータにより前記ステージが駆動される際に発生する前記リニアモータ固定子の反力を、前記駆動反力受部材を介して受け止める。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクに形成されたパターンを感光性基板上に露光する露光装置において、
露光装置本体を収容するチャンバと、
前記チャンバ内に収容され、前記マスクまたは前記感光性基板が載置されるステージと、
前記ステージを駆動するリニアモータと、
前記リニアモータが備えるリニアモータ固定子と前記チャンバとを繋ぐ駆動反力受部材とを備え、
前記チャンバは、前記リニアモータにより前記ステージが駆動される際に発生する前記リニアモータ固定子の反力を、前記駆動反力受部材を介して受け止めることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記駆動反力受部材は、振動減衰ダンパを備えていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記チャンバは、フレームを備え、
前記駆動反力受動部材は、前記フレームに接続されることを特徴とする請求項１または請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィ工程で製造するための露光装置及び該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
マイクロデバイスの一つである液晶表示素子は、通常、ガラス基板（プレート）上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターニングして、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子及び電極配線を形成して製造される。このフォトリソグラフィの手法を用いた製造工程では、マスクステージとプレートステージを走査方向に相対的に同期移動させて、マスク上に形成された原画となるパターンを、マスクに形成された投影光学系を介してフォトレジスト等の感光剤が塗布されたプレート上に投影露光する、所謂ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図５は従来の露光装置の概略構成を示す図である。図５に示すように、光源及び照明光学系を含む照明光学装置９０、投影光学系９２等を備える露光装置は、チャンバ１００内に収容されている。また、コラム１０２上には、ガイド１０６ａ，１０６ｂを介してマスク１０７を載置するマスクステージ１０４を駆動するためのリニアモータ固定子１０８が設置されている。同様に、防振パット１１２ａ，１１２ｂ上に載置される定盤１１２上には、ガイド１１４ａ，１１４ｂを介してプレート１１５を載置するプレートステージ１１０を駆動するためのリニアモータ固定子１１６が設置されている。
【０００４】
マスクステージ１０４及びプレートステージ１１０を駆動させる際にリニアモータ固定子１０８，１１６に生じる反力による露光装置本体の振動を防止するため、リニアモータ固定子１０８とリアクションフレーム１１８は、ダンパ１２２によりそれぞれ接続されている。即ち、リニアモータ固定子１０８の反力は、ダンパ１２２を介してリアクションフレーム１１８に伝わり、リアクションフレーム１１８から床に開放される。
【０００５】
同様に、リニアモータ固定子１１６とリアクションフレーム１１８は、ダンパ１２６によりそれぞれ接続されている。即ち、リニアモータ固定子１１６の反力は、ダンパ１２６を介してリアクションフレーム１１８に伝わり、リアクションフレーム１１８から床に開放される。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−１６２８２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年、プレートサイズの大型化に伴い、露光装置本体が大型化している。従って、露光装置上部に設置されるマスクステージを駆動する際に生じるリニアモータ固定子の反力を受け止めるためのリアクションフレームは、２ｍを超える高さとなり、リニアモータ固定子の反力を受け止める部材として機能させるために高い剛性を有する必要がある。そのため、リアクションフレームのサイズは大型化され、床へリアクションフレームを設置するための広いスペースが必要となる。
【０００８】
この発明の課題は、装置のコンパクト化及び製造コストの低減を図りつつリニアモータ固定子の反力による振動を防止することが可能な露光装置及び該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１記載の露光装置は、マスクに形成されたパターンを感光性基板上に露光する露光装置において、露光装置本体を収容するチャンバと、前記チャンバ内に収容され、前記マスクまたは前記感光性基板が載置されるステージと、前記ステージを駆動するリニアモータと、前記リニアモータが備えるリニアモータ固定子と前記チャンバとを繋ぐ駆動反力受部材とを備え、前記チャンバは、前記リニアモータにより前記ステージが駆動される際に発生する前記リニアモータ固定子の反力を、前記駆動反力受部材を介して受け止めることを特徴とする。
【００１０】
この請求項１記載の露光装置によれば、露光装置本体を収容するチャンバがリニアモータによりステージが駆動される際に発生するリニアモータ固定子の反力を駆動反力受部材を介して受け止めるため、リニアモータ固定子の反力を駆動反力受部材を介して受け止めるための別部材を特別に設ける必要がなく、リニアモータ固定子の反力による露光装置本体の振動を防止した状態を維持したまま露光装置のコンパクト化及び露光装置の製造コストの低減を実現することができる。
【００１１】
また、請求項２記載の露光装置は、前記駆動反力受部材が振動減衰ダンパを備えていることを特徴とする。この請求項２記載の露光装置によれば、駆動反力受部材が振動減衰ダンパを備えているため、リニアモータ固定子とチャンバとを振動減衰ダンパを介して繋げることができ、チャンバによりリニアモータ固定子の反力を効果的に受け止めることができる。従って、リニアモータ固定子の反力を振動減衰ダンパを介して受け止めるための別部材を特別に設ける必要がなく、リニアモータ固定子の反力による露光装置本体の振動を防止した状態を維持したまま露光装置のコンパクト化及び露光装置の製造コストの低減を実現することができる。
【００１２】
また、請求項３記載の露光装置は、前記チャンバがフレームを備え、前記駆動反力受動部材が前記フレームに接続されることを特徴とする。この請求項３記載の露光装置によれば、フレームを備えることにより外力に対する剛性が強化されたチャンバにより駆動反力受部材を介してリニアモータ固定子の反力を確実に受け止めることができる。従って、リニアモータ固定子の反力を駆動反力受部材を介して受け止めるための別部材を特別に設ける必要がなく、露光装置のコンパクト化及び露光装置の製造コストに低減を実現することができる。
【００１３】
また、請求項４記載のマイクロデバイスの製造方法は、請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とする。
【００１４】
この請求項４記載のマイクロデバイスの製造方法によれば、請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の露光装置を用いてマイクロデバイスを製造しているため、高い精度でマスクのパターンと感光性基板に形成されたパターンとの重ね合わせ等を行うことができ、微細な回路パターンを有するマイクロデバイスを精度良く製造することができる。
【発明の効果】
【００１５】
この発明の露光装置によれば、露光装置本体を収容するチャンバがリニアモータによりステージが駆動される際に発生するリニアモータ固定子の反力を駆動反力受部材を介して受け止めるため、リニアモータ固定子の反力を駆動反力受部材を介して受け止めるための別部材を特別に設ける必要がなく、リニアモータ固定子の反力による露光装置本体の振動を防止した状態を維持したまま露光装置のコンパクト化及び露光装置の製造コストの低減を実現することができる。
【００１６】
また、この発明のマイクロデバイスの製造方法によれば、この発明の照明光学装置を備える露光装置により露光を行うため、高解像度でかつスループット良く、マイクロデバイスの製造を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態にかかる露光装置について説明する。図１は、この実施の形態にかかる露光装置の概略構成を示す図である。なお、以下の説明においては、図１中に示すＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がプレートＰに対して平行となるように設定され、Ｚ軸がプレートＰに対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。また、この実施の形態ではプレートＰを移動させる方向（走査方向）をＸ軸方向に設定している。
【００１８】
この露光装置は、図１に示すように、光源及び照明光学系を含む照明光学装置ＩＬを備えている。照明光学装置ＩＬから射出される光束は、所定のパターンが形成されたマスクＭを重畳的に照明する。マスクＭのパターンを透過した光束は、投影光学系ＰＬを介して、感光性基板であるプレートＰ上にマスクＭのパターン像を形成する。こうして、ＸＹ平面内においてマスクＭを載置するマスクステージＭＳＴとプレートＰを載置するプレートステージＰＳＴとを走査方向（Ｘ方向）に相対的に同期移動させ、かつプレートステージＰＳＴを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、プレートＰの各露光領域にはマスクＭのパターンが逐次露光される。
【００１９】
また、この露光装置は、図１に示すように、露光装置本体を収容するチャンバ２を備えている。チャンバ２は、外力に対して高い剛性を有する部材により構成されている。また、露光装置本体が設置されているベース４上に４つの防振パット４ａ，４ｂ，４ｃ（図２参照）及び図示しない防振パットを備えており、この４つの防振パット上に載置されている定盤６のほぼ四隅に配置されている。
【００２０】
図２は、この実施の形態にかかる露光装置のマスクステージＭＳＴからプレートステージＰＳＴまでの概略構成を示す斜視図である。図２に示すように、定盤６上には、−Ｙ方向側にガイド８ａ，８ｂを介してＸ方向に長手方向を有するリニアモータ固定子１０ａが設置されている。また、定盤６には、＋Ｙ方向側に図示しないガイドを介してＸ方向に長手方向を有するリニアモータ固定子１０ｂが設置されている。リニアモータ固定子１０ａの走査方向（Ｘ方向）の両端には振動減衰ダンパ（駆動反力受部材）１２ａ，１２ｂがそれぞれ接続されており、振動減衰ダンパ１２ａ，１２ｂはチャンバ２に接続されている。即ち、振動減衰ダンパ１２ａ，１２ｂは、リニアモータ固定子１０ａ及びチャンバ２を繋いでいる。チャンバ２は、プレートステージＰＳＴが駆動される際にリニアモータ固定子１０ａに生じる反力を、振動減衰ダンパ１２ａ，１２ｂを介して受け止める。
【００２１】
リニアモータ固定子１０ａと同様に、リニアモータ固定子１０ｂのＸ方向の両端にも図示しない振動減衰ダンパが接続されており、各振動減衰ダンパはチャンバ２に接続されている。チャンバ２は、プレートステージＰＳＴが駆動される際にリニアモータ固定子１０ｂに生じる反力を受け止める。なお、図中の振動減衰ダンパ１２ａ，１２ｂは、必ずしも２つ必要ではなく、１２ａまたは１２ｂだけでもよい。
【００２２】
また、定盤６上には、プレートステージＰＳＴの走査方向のガイドであるエアーガイド１４ａ，１４ｂを介して、プレートステージＰＳＴの走査方向と交差する方向（非走査方向）のガイドであるエアーガイド１６がリニアモータ固定子１０ａと１０ｂの間に配置されている。エアーガイド１６には、プレートステージＰＳＴの走査方向のアクチュエータであるリニアモータ１８ａがリニアーモータ固定子１０ａ側に接続されており、プレートステージＰＳＴの走査方向のアクチュエータであるリニアモータ１８ｂがリニアモータ固定子１０ｂ側に接続されている。従って、リニアモータ１８ａ，１８ｂを駆動することによりエアーガイド１６（ひいてはプレートステージＰＳＴ）が走査方向に沿って移動する。
【００２３】
エアーガイド１６上には、プレートステージＰＳＴが載置されており、プレートステージＰＳＴ上のプレートホルダ（図示せず）を介してプレートＰ（図２においては、図示せず）が吸着保持されている。また、プレートステージＰＳＴ上には−Ｘ方向側に移動鏡３０ａ，リニアモータ固定子１０ｂ側に移動鏡３０ｂが設けられており、移動鏡３０ａ，３０ｂには定盤６上に載置されているプレートステージレーザ干渉計３２ａ，３２ｂから射出されるレーザ光がそれぞれ入射し、入射したレーザ光は移動鏡３０ａ，３０ｂにより反射される。定盤６上の−Ｘ方向側に載置されているプレートステージレーザ干渉計３２ａは、移動鏡３０ａに入射し、移動鏡３０ａにより反射されたレーザ光の光の干渉に基づいてプレートステージＰＳＴのＸ方向における位置を計測及び制御する。また、定盤６上の＋Ｙ方向側に載置されているプレートステージレーザ干渉計３２ｂは、移動鏡３０ｂに入射し、移動鏡３０ｂにより反射されたレーザ光の干渉に基づいてプレートステージＰＳＴのＹ方向における位置を計測及び制御する。
【００２４】
また、定盤６上でプレートステージＰＳＴを囲むように４つの脚を有するコラム３４が設置されており、コラム３４の上板中央部に投影光学系ＰＬが固定されている。コラム３４上には、−Ｙ方向側にマスク用ガイド３６ａ，３６ｂを介してＸ方向に長手方向を有するマスク用リニアモータ固定子３８ａが設置されている。また、定盤６には、＋Ｙ方向側に図示しないガイドを介してＸ方向に長手方向を有するマスク用リニアモータ固定子３８ｂが設置されている。マスク用リニアモータ固定子３８ａの走査方向（Ｘ方向）の両端にはマスク用振動減衰ダンパ（駆動反力受部材）４０ａ，４０ｂがそれぞれ接続されており、マスク用振動減衰ダンパ４０ａ，４０ｂはチャンバ２に接続されている。即ち、マスク用振動減衰ダンパ４０ａ，４０ｂは、マスク用リニアモータ固定子３８ａ及びチャンバ２を繋いでいる。チャンバ２は、マスクステージＭＳＴが駆動される際にマスク用リニアモータ固定子１０ａに生じる反力を、マスク用振動減衰ダンパ４０ａ，４０ｂを介して受け止める。なお、図中のマスク用振動減衰ダンパ４０ａ，４０ｂは、必ずしも２つ必要ではなく、４０ａまたは４０ｂだけでもよい。
【００２５】
マスク用リニアモータ固定子３８ａと同様に、マスク用リニアモータ固定子３８ｂのＸ方向の両端にも振動減衰ダンパ４０ｃ及び図示しない振動減衰ダンパが接続されており、各振動減衰ダンパはチャンバ２に接続されている。チャンバ２は、マスクステージＭＳＴが駆動される際にマスク用リニアモータ固定子３８ｂに生じる反力を受け止める。
【００２６】
また、コラム３４上には、マスクステージＭＳＴの走査方向のガイドであるエアーガイド５０ａ，５０ｂを介して図示しないマスクサブステージがリニアモータ固定子３８ａと３８ｂの間に載置されている。マスクサブステージには、マスクステージＭＳＴの走査方向と交差する方向（Ｙ方向、非走査方向）のアクチュエータである非走査方向リニアモータ５４が接続されている。また、非走査方向リニアモータ５４にはマスクステージＭＳＴの走査方向のアクチュエータであるマスクサブ用リニアモータ５６がマスク用リニアモータ固定子３８ａ側に接続されている。従って、マスクサブ用リニアモータ５６（及び後述するマスク用リニアモータ５２ａ，５２ｂ）を駆動することにより、マスクサブステージ及び非走査方向リニアモータ５４は、マスクステージＭＳＴと共にマスクステージＭＳＴの走査方向（Ｘ方向）に沿って移動する。
【００２７】
また、図示しないマスクサブステージ上には、マスクステージＭＳＴが載置されている。マスクステージＭＳＴには、マスクステージＭＳＴの走査方向のアクチュエータであるマスク用リニアモータ５２ａ，５２ｂがマスク用リニアーモータ固定子３８ａ側に接続されており、マスクステージＭＳＴの走査方向のアクチュエータである図示しないマスク用リニアモータがマスク用リニアモータ固定子３８ｂ側に接続されている。従って、マスク用リニアモータ３８ａ，３８ｂ、図示しないマスク用リニアモータ及びマスクサブ用リニアモータ５６を駆動することによりマスクサブステージ、非走査方向リニアモータ５４及びマスクステージＭＳＴがマスクステージＭＳＴの走査方向（Ｘ方向）に沿って移動する。
【００２８】
また、マスクステージＭＳＴ上には、マスクホルダ（図示せず）を介してマスクＭ（図２においては、図示せず）が吸着保持されている。また、マスクステージＭＳＴの−Ｘ方向側の側面には移動鏡４２ａ，４２ｂが設けられており、移動鏡４２ａ，４２ｂにはマスクステージレーザ干渉計４４ａから射出されるレーザ光がそれぞれ入射し、入射したレーザ光は移動鏡４２ａ，４２ｂにより反射される。マスクステージレーザ干渉計４４ａは、移動鏡４２ａ，４２ｂに入射し、移動鏡４２ａ，４２ｂにより反射されたレーザ光の干渉に基づいてマスクステージＭＳＴのＸ方向における位置を計測及び制御する。
【００２９】
また、マスクステージＭＳＴ上には、マスクステージレーザ干渉計４４ｂがリニアモータ固定子３８ｂ側に設けられている。また、マスク用リニアモータ固定子３８ｂを挟んでマスクステージＭＳＴに対向する位置にマスク用リニアモータ固定子３８ｂの長手方向（Ｘ方向）に沿って設置されている固定鏡４６にはマスクステージレーザ干渉計４４ｂから射出されるレーザ光が入射し、入射したレーザ光は固定鏡４６により反射される。マスクステージレーザ干渉計４４ｂは、固定鏡４６に入射し、固定鏡４６により反射されたレーザ光の干渉に基づいてマスクステージＭＳＴのＹ方向における位置を計測及び制御する。
【００３０】
この実施の形態にかかる露光装置によれば、露光装置本体を収容するチャンバがマスクステージまたはプレートステージを駆動する際に発生するリニアモータ固定子の反力を振動減衰ダンパを介して受け止めるため、リニアモータ固定子の反力を振動減衰ダンパを介して受け止めるためのリアクションフレーム等の別部材を特別に設ける必要がなく、リニアモータ固定子の反力による露光装置本体の振動を防止した状態を維持したまま露光装置のコンパクト化及び露光装置の製造コストの低減を実現することができる。
【００３１】
この実施の形態にかかる露光装置においては、外力に対する剛性を有するチャンバによりリニアモータ固定子に発生する反力を受けているが、チャンバが備えるフレームによりリニアモータ固定子に発生する反力を受けるようにしてよい。即ち、リニアモータ固定子とフレームを振動減衰ダンパにより接続し、接続されたフレームがリニアモータ固定子に発生する反力を受けるようにしてもよい。また、チャンバにフレームを設け、設けられたフレームによりにリアモータ固定子に発生する反力を受けるようにしてもよい。即ち、リニアモータ固定子と設けられたフレームを振動減衰ダンパにより接続し、接続されたフレームがリニアモータ固定子に発生する反力を受けるようにしてもよい。この場合には、外力に対する剛性を有しないチャンバであってもフレームを設けることにより外力に対する剛性を強化することができ、確実にリニアモータ固定子に発生する反力を受け止めることができる。
【００３２】
また、この実施の形態にかかる露光装置においては、マスクステージ及びプレートステージの双方のリニアモータ固定子とチャンバを繋ぐ振動減衰ダンパをそれぞれ備えているが、マスクステージ及びプレートステージの少なくとも一方に振動減衰ダンパを備えるようにしても良い。
【００３３】
上述の実施の形態にかかる露光装置では、照明光学系によってレチクル（マスク）を照明し、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板（ウエハ）に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて感光性基板としてのウエハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図３のフローチャートを参照して説明する。
【００３４】
先ず、図３のステップＳ３０１において、１ロットのウエハ上に金属膜が蒸着される。次のステップＳ３０２において、その１ロットのウエハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップＳ３０３において、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのウエハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップＳ３０４において、その１ロットのウエハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップＳ３０５において、その１ロットのウエハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウエハ上の各ショット領域に形成される。
【００３５】
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述のマイクロデバイス製造方法によれば、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて露光を行うため、極めて微細な回路パターンを有するマイクロデバイスを精度良く得ることができる。なお、ステップＳ３０１〜ステップＳ３０５では、ウエハ上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、ウエハ上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。
【００３６】
また、上述の実施の形態にかかる露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図４のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図４において、パターン形成工程Ｓ４０１では、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２へ移行する。
【００３７】
次に、カラーフィルタ形成工程Ｓ４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程Ｓ４０２の後に、セル組み立て工程Ｓ４０３が実行される。セル組み立て工程Ｓ４０３では、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程Ｓ４０３では、例えば、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００３８】
その後、モジュール組み立て工程Ｓ４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて露光を行うため、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスを精度良く得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】この発明の実施の形態にかかる露光装置の概略構成を示す正面図である。
【図２】この発明の実施の形態にかかるマスクステージからプレートステージまでの構成を示す斜視図である。
【図３】実施の形態にかかるマイクロデバイスとしての半導体デバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図４】実施の形態にかかるマイクロデバイスとしての液晶表示素子の製造方法を示すフローチャートである。
【図５】従来の露光装置の概略構成を示す正面図である。
【符号の説明】
【００４０】
２…チャンバ、４…ベース、４ａ〜４ｃ…防振パット、６…定盤、８ａ，８ｂ…ガイド、１０ａ，１０ｂ…リニアモータ固定子、１２ａ，１２ｂ…振動減衰ダンパ、１４ａ，１４ｂ，１６，５０ａ，５０ｂ…エアーガイド、１８ａ，１８ｂ…リニアモータ、３０ａ，３０ｂ，４２ａ，４２ｂ…移動鏡、３２ａ，３２ｂ…プレートステージレーザ干渉計、３４…コラム、３６ａ，３６ｂ…マスク用ガイド、３８ａ，３８ｂ…マスク用リニアモータ固定子、４０ａ〜４０ｃ…マスク用振動減衰ダンパ、４４ａ，４４ｂ…マスクステージレーザ干渉計、４６…固定鏡、５２ａ，５２ｂ…マスク用リニアモータ、５４…非走査方向リニアモータ、５６…マスクサブ用リニアモータ、ＩＬ…照明光学装置、ＰＬ…投影光学系、ＭＳＴ…マスクステージ、Ｍ…マスク、ＰＳＴ…プレートステージ、Ｐ…プレート。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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