(57)【要約】 【課題】  大型で厚さが薄いガラス基板を、破損することなく水平から鉛直状態へ姿勢変更して鉛直状態での搬送を可能にする。【解決手段】  基板搬送装置１０は、平面形状が矩形の基板１１を略水平な状態で保持する基板保持手段１２と、基板１１の一辺１１ａを成す部分を把持する把持手段１３と、把持手段１３によって把持され基板保持手段１２によって略水平に保持される基板１１が、略水平な状態から略鉛直な状態になるように把持手段１３を移動させる基板引起し手段１４とを備える。この基板搬送装置１０は、基板１１を水平から鉛直へと姿勢を変更し、搬送手段１５によって鉛直状態で搬送する。【選択図】      図１
2006008311.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を略鉛直方向に立てた状態で搬送可能な基板搬送装置において、
平面形状が多角形である基板を略水平な状態で保持する基板保持手段と、
基板の多角形の一辺を成す部分を把持する把持手段と、
基板保持手段によって略水平に保持されるとともに把持手段によって把持される基板が略水平な状態から略鉛直な状態になるように把持手段を移動させる基板引起し手段とを備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
把持手段は、
基板の把持される一辺と平行方向に延びる軸線を有し、該軸線まわりに角変位可能であることを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】
基板引起し手段は、
把持される一辺に垂直な方向における基板の長さを半径とし、基板の把持される一辺に垂直な方向において該一辺に対向する端部を回転中心とし、基板の表裏面に対する正接方向に形成される円弧状の仮想軌道に沿って把持手段を移動させることを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。
【請求項４】
基板保持手段は、
把持手段によって把持されるべき基板の一辺に対して直交する方向に移動可能なように基板を保持することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
把持手段は、
対向して設けられる一対の拡縮自在の押圧手段と、押圧手段を拡縮させる拡縮駆動手段とを含み、
拡縮駆動手段で収縮させた状態にある一対の押圧手段の間に挿入される基板の一辺部分を、拡縮駆動手段で一対の押圧手段を拡張させることによって把持することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を略鉛直方向に立てた状態で搬送することができる基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶を用いる装置の製造分野、半導体デバイス製造分野などにおいては、ガラス基板が部品用素材として使用されている。特に、フラットパネルディスプレイと言われる液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）では、一辺が２ｍ近くの大型でかつ厚みが１ｍｍ以下の薄いガラス基板が用いられている。この大型で極薄なガラス基板は、破損し易くまたたわみ易いので取扱いが難しく、ＬＣＤ製造装置内および製造装置間の搬送において細心の注意が払われている。
【０００３】
また、ガラス基板に対して大きさがμｍオーダーの微粒子が付着すると、製品歩留が悪化することが知られている。したがって、ガラス基板を搬送する場合、ガラス基板搬送装置には、搬送装置自身から発生する微粒子粉塵によってガラス基板を汚染することがないような機能が望まれている。
【０００４】
大型で極薄のガラス基板を搬送する装置に関する典型的な従来技術は、ローラを利用して搬送するものである（たとえば、特許文献１参照）。特許文献１では、一本の軸に複数個のローラを軸方向に配置した搬送ローラをガラス基板搬送方向に対して複数本並べ、全搬送ローラの軸を同方向に回転することによってガラス基板を搬送する。さらに特許文献１では、ローラを支持するローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間でガラス基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段を備えることによって、ガラス基板を水平姿勢で搬送するだけではなく、ガラス基板を傾斜姿勢のまま搬送できることが開示される。
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示されるローラ搬送装置では、ガラス基板とローラとの接触に起因してガラス基板に対する特異的な応力集中がかかるので、搬送中におけるガラス基板破損のおそれがあり、またローラ駆動部の摺動部から発生する微粒子粉塵に起因したガラス基板の微粒子汚染、およびローラとガラス基板との摺接によるガラス基板の微粒子汚染の問題がある。
【０００６】
このようなローラ型の搬送装置における問題を解決するために、ガラス基板の下端面をコンベア上に載置し、一方の表面側に気体もしくは液体の流体流れで発生する圧力を作用させることによって、前記一方の表面を非接触状態で搬送するガラス基板搬送装置が提案されている（特許文献２参照）。
【０００７】
特許文献２に開示の技術によれば、ガラス基板を非接触で搬送するので、ローラ搬送時に発生するガラス基板表面に対する微粒子汚染を回避することができるけれども、気体もしくは液体の流体流れで発生する圧力を作用させている面に対するプロセス処理が不可能であるという問題がある。たとえば、ガラス基板の洗浄工程では、ガラス基板の気体もしくは液体の流体流れで発生する圧力を作用させている面の微粒子を洗浄除去することが不可能である。
【０００８】
このような問題を解決する従来技術として、ガラス基板をハンガーにクリップで吊るした状態で保持することによって、ガラス基板の表裏面を同時にプロセス処理可能にする乾燥装置が提案されている（特許文献３参照）。
【０００９】
図５は、従来のガラス基板搬送方法の概要を示す図である。図５を用いて特許文献３に開示される従来のガラス基板の搬送方法について説明する。平面形状が矩形のガラス基板１は、ハンガー２に備えられるクリップ３を用いて、矩形の３ないし４の各辺をそれぞれ複数個所（図５の例では２個所／辺）で挟んで保持しながら、ハンガー２ごと搬送される。このような搬送方法によれば、ガラス基板の表裏面を非接触で搬送することができるので微粒子汚染が少なく、かつガラス基板の表裏面を同時にプロセス処理することが可能である。
【００１０】
しかしながら、この特許文献３に開示される技術にも以下のような問題がある。極薄なガラス基板では、取扱い時におけるたわみの発生を抑止する必要があるけれども、特許文献３では、ハンガー２でガラス基板１を保持する前に、ガラス基板１のたわみを矯正する装置にて付勢し、付勢したままクリップ３で保持することによってたわみを抑止している。したがって、たわみを矯正する装置が必要となり、装置が大掛かりかつ高価格になるという問題がある。
【００１１】
またＬＣＤなどの製造工程中の大半の工程において、ガラス基板は、水平状態で保管、搬送、処理されているので、前述のように吊るした状態である鉛直状態にして搬送するためには、水平と鉛直との間でガラス基板の姿勢を変更しなければならない。しかしながら、厚さ１ｍｍ以下で、対角線長さが２ｍを超えるような大型のガラス基板をクリップで保持する場合、静置状態で水平または鉛直に保持することはできるけれども、水平から鉛直、鉛直から水平へとガラス基板の姿勢を変える場合、ガラス基板に作用する重力によるたわみが大きく変化し、クリップしている部分に応力が集中してガラス基板が破損してしまうという問題がある。特にガラス基板の複数の辺をクリップで保持すると、基板のたわみが一層複雑になり、保持するクリップ同志の位置が少しずれるだけで応力集中が発生し易くなり、ガラス基板に割れが発生する。
【００１２】
【特許文献１】特許第３３８４６６号公報
【特許文献２】特開２００１−２１３５１７号公報
【特許文献３】特開２００１−２８９５６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、大型で厚さが薄いガラス基板を、破損することなく水平から鉛直状態へ姿勢変更して鉛直状態での搬送を可能にするとともに、ガラス基板両面を非接触で搬送、処理することが可能な基板搬送装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、基板を略鉛直方向に立てた状態で搬送可能な搬送装置において、
平面形状が多角形である基板を略水平な状態で保持する基板保持手段と、
基板の多角形の一辺を成す部分を把持する把持手段と、
基板保持手段によって略水平に保持されるとともに把持手段によって把持される基板が略水平な状態から略鉛直な状態になるように把持手段を移動させる基板引起し手段とを備えることを特徴とする基板搬送装置である。
【００１５】
また本発明は、把持手段は、基板の把持される一辺と平行方向に延びる軸線を有し、該軸線まわりに角変位可能であることを特徴とする。
【００１６】
また本発明は、基板引起し手段は、
把持される一辺に垂直な方向における基板の長さを半径とし、基板の把持される一辺に垂直な方向において該一辺に対向する端部を回転中心とし、基板の表裏面に対する正接方向に形成される円弧状の仮想軌道に沿って把持手段を移動させることを特徴とする。
【００１７】
また本発明は、基板保持手段は、把持手段によって把持されるべき基板の一辺に対して直交する方向に移動可能なように基板を保持することを特徴とする。
【００１８】
また本発明は、把持手段は、
対向して設けられる一対の拡縮自在の押圧手段と、押圧手段を拡縮させる拡縮駆動手段とを含み、
拡縮駆動手段で収縮させた状態にある一対の押圧手段の間に挿入される基板の一辺部分を、拡縮駆動手段で一対の押圧手段を拡張させることによって把持することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板の一辺を把持手段で把持し、基板引起し手段で把持手段を移動させることによって、基板の姿勢を水平から垂直に変えることができる。基板の姿勢を変更するとき、基板は大きくたわむけれども、基板を一辺のほぼ全域で把持するので、基板のたわみが把持される一辺の延びる方向には一様となる。したがって、基板に生じるたわみが単純な湾曲形状となり、基板には応力集中が発生しないので、割れなどの破損の発生が防止される。また鉛直状態では、基板は一辺を把持された状態で吊下げられ、基板に作用する重力によって、たわみおよび反りのない状態で把持されるので、基板の表裏面を均一にプロセス処理することが可能になる。
【００２０】
また本発明によれば、把持手段が、基板の把持される一辺と平行方向に延びる軸線を有し、該軸線まわりに角変位可能に構成されるので、把持手段を移動させて基板の姿勢を変えるとき、基板のたわみに応じてその角度を変えることができる。このことによって、ガラス基板の把持されている部分に対する応力集中が防止されるので、ガラス基板に割れなどの破損が生じることを防止できる。
【００２１】
また本発明によれば、基板引起し手段は、把持される一辺に垂直な方向における基板の長さを回転半径とし、基板の前記一辺に対向する端部を回転中心とした円弧状の仮想軌道に沿って把持手段を移動させるので、ガラス基板の姿勢変更過程において、ガラス基板は略水平状態を起点として把持された一辺側から徐々にめくり上げられる。このように姿勢変更されるガラス基板は、略水平状態の面内での引きずりがないので、ガラス基板を保持する基板保持手段との間で微粒子粉塵を発生することがなく、汚染が防止される。
【００２２】
また本発明によれば、基板保持手段は、把持手段によって把持されるべき基板の一辺に対して直交する方向に移動可能なように基板を保持する。このことによって、ガラス基板の姿勢変更過程において、ガラス基板が略水平状態を起点として把持された一辺側から徐々にめくり上げられるとき、未だ略水平状態のままである部分が、把持手段によって把持される一辺と直交する方向への移動に追従することができるので、ガラス基板の内部に余分な応力が発生することが防止され、割れなどの破損が生じにくくなる。
【００２３】
また本発明によれば、拡縮駆動手段で収縮させた状態にある一対の押圧手段の間に挿入される基板の一辺部分を、拡縮駆動手段で一対の押圧手段を拡張させて把持することによって、基板の一辺全域をほぼ均一な力で把持することができるので、基板に対する応力集中を避けて割れ等の破損が生じることを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図１は、本発明の実施の一形態である基板搬送装置１０の構成を簡略化して示す斜視図である。基板搬送装置１０は、平面形状が多角形である基板１１を略水平な状態で保持する基板保持手段１２と、基板１１の多角形の一辺を成す部分を把持する把持手段１３と、基板保持手段１２によって略水平に保持されるとともに把持手段１３によって把持される基板１１が略水平な状態から略鉛直な状態になるように把持手段１３を移動させる基板引起し手段１４と、把持手段１３に把持されて基板引起し手段１４によって略鉛直方向に立てられた状態の基板１１を搬送する搬送手段１５とを備える。本実施の形態では、基板１１は、平面形状が長方形のたとえばＬＣＤの製造等に用いられる大型かつ薄肉のガラス基板である。
【００２５】
ここで、略鉛直方向とは、鉛直方向と鉛直方向に対して若干傾斜角度を有する方向とを含める意味であり、また略水平方向とは、水平方向と水平方向に対して若干傾斜角度を有する方向とを含める意味である。
【００２６】
基板保持手段１２は、基板保持テーブル２１と、基板保持テーブル２１に一方の端部が接続される空気配管２２と、空気配管２２に設けられる空気流量調整弁２３と、空気配管２２の他方の端部が接続される空気供給源２４とを含んで構成される。
【００２７】
基板保持テーブル２１は、やや厚みを厚くした平板状の中空箱型部材である。基板保持テーブル２１は、天板部２１ａが多孔質部材、たとえば焼結金属、多孔質セラミックなどからなり、天板部２１ａを除く残余の壁面部材はたとえば金属などの気密部材からなる。したがって、基板保持テーブル２１は、天板部２１ａからその厚み方向に、内部空間の空気を外部空間へ通過させることができる。
【００２８】
基板保持テーブル２１の内部空間と空気供給源２４とを接続する空気配管２２は、たとえば耐圧チューブなどからなり、空気流過路を構成する。空気供給源２４は、たとえばエアーコンプレッサなどであり、加圧した空気を不図示のフィルタを通すことによってパーティクルを除去した清浄な空気として、基板保持テーブル２１へ送る。空気配管２２途中に設けられる空気流量調整弁２３は、空気供給源２４から基板保持テーブル２１へ送られる空気の流量を調整する。空気供給源２４から基板保持テーブル２１へ送られる空気は、基板保持テーブル２１の内部空間から多孔質の天板部２１ａを通過して外方、図１の紙面では上方へ向って噴出する。
【００２９】
基板１１は、不図示の搬送ロボットなどによって、矢符２５の方向に基板テーブル２１上に装入されて載置される。このとき基板保持テーブル２１が、空気供給源２４から供給される空気を一定の圧力で天板部２１ａから噴出しているので、空気の噴出圧力によって、基板１１は、天板部２１ａの外表面から浮上した状態で保持される。
【００３０】
基板１１は、天板部２１ａの外表面から浮上した状態で保持されるので、水平面に平行方向に移動自在であるけれども、本実施の形態では、基板保持テーブル２１に不図示のサイドガイドローラを設けてあるので、後述の把持手段１３によって把持される基板１１の一辺に対して直交する方向である矢符２５に平行な方向に移動可能に保持される。
【００３１】
基板引起し手段１４は、基板保持テーブル２１を挟み一対が対向して設けられる回動部材２６ａ，２６ｂと、一対の回動部材２６ａ，２６ｂに一方の端部がそれぞれ装着される一対の支持棒部材２７ａ，２７ｂと、一対の回動部材２６ａ，２６ｂの軸線を貫くようにして設けられる軸継手２８と、軸継手２８の一方の端部に出力軸が接続される電動機２９とを含んで構成される。なお、電動機２９には、不図示の減速歯車列が備えられる。
【００３２】
回動部材２６ａ，２６ｂは、車輪状の略円筒形を有する部材であり、不動の外輪部と、軸受を介して外輪部に対して相対的に回転自在な内輪部とを有する構成である。前記支持棒部材２７ａ，２７ｂは、回動部材２６ａ，２６ｂの内輪部にそれぞれ装着され、回動部材２６ａ，２６ｂの軸線まわりに回転動作をすることができる。軸継手２８は、回転自在な内輪部の軸線を貫くように設けられるので、軸継手２８をその軸線まわりに回転させることによって、内輪部および内輪部に装着される支持棒部材２７ａ，２７ｂを回転動作させることができる。すなわち、軸継手２８に接続される電動機２９を回転駆動させることによって、電動機２９の出力が軸継手２８および回動部２６ａ，２６ｂの内輪部へ伝達され、支持棒部材２７ａ，２７ｂを回動部材２６ａ，２６ｂの軸線まわりに回転（厳密には角変位）動作させることができる。
【００３３】
基板１１を把持する把持手段１３は、把持部本体３１と、拡縮駆動手段３２とを含んで構成される。把持手段１３は、長方形の基板１１における１つの短辺１１ａを成す部分を把持する。図２は、把持手段１３の構成を簡略化して示す部分断面図である。図２では、把持部本体３１については、把持される基板１１の１つの短辺１１ａに対して直交する方向の断面にて構成を示す。
【００３４】
把持部本体３１は、断面形状がＣ字状の把持枠部材３３と、把持枠部材３３の内方に収容され、かつ対向して設けられる一対の拡縮自在の押圧手段３４ａ，３４ｂとを含む。一対の押圧手段３４ａ，３４ｂは、たとえばゴム等の弾性体で形成される細長い風船状の耐圧嚢である。この耐圧嚢３４ａ，３４ｂは、その内部空間に圧縮空気などの高圧ガスが導入され、また排出されることによって、拡縮自在である。
【００３５】
拡縮駆動手段３２は、高圧ガス配管３５と、高圧ガスユニット３６とを含む。高圧ガス配管３５は、たとえば可撓性素材から成る高圧ガス流過路であり、高圧ガスユニット３６と耐圧嚢３４ａ，３４ｂとを接続する。高圧ガスユニット３６は、たとえば圧縮空気などの高圧ガスを耐圧嚢３４ａ，３４ｂへ導入して拡張させるとともに、耐圧嚢３４ａ，３４ｂに充満する高圧ガスを排出させて収縮させることができる。
【００３６】
把持手段１３は、拡縮駆動手段３２で収縮させた状態にある一対の耐圧嚢３４ａ，３４ｂの間に、把持枠部材３３のスリット状開口部３７を通して挿入される基板１１の一辺１１ａ部分を、拡縮駆動手段３２で一対の耐圧嚢３４ａ，３４ｂを拡張させることによって把持する。
【００３７】
耐圧嚢３４ａ，３４ｂは、基板１１の一辺１１ａの長さよりも長くなるように形成されるので、基板１１の一辺１１ａの全長をほぼ均一な力で把持することができる。このことによって、基板１１を把持する際に、応力集中を起こすことがなくなるので、基板１１の割れ等の破損を防止することができる。
【００３８】
なお、把持する際に耐圧嚢３４ａ，３４ｂが基板１１の表裏面に接触する範囲を、基板１１上でパターンなどを形成する有効領域外に設定することによって、搬送後のプロセス処理においても影響を及ぼすことが無い。
【００３９】
把持手段１３を構成する把持部本体３１は、基板１１の把持される一辺１１ａと平行方向に延びる軸線を有し、該軸線まわりに角変位可能に構成される。詳細には、把持部本体３１の把持枠部材３３の両端部から前記一辺１１ａの延びる方向に突出して不図示の支持軸が形成され、支持軸を介して把持部本体３１が、角変位自在なように、基板引起し手段１２の支持棒部材２７ａ，２７ｂに支持される。
【００４０】
図３は、基板引起し手段１４の動作を説明する概要図である。以下図３を参照して、把持手段１３で把持される基板１１の基板引起し手段１４による引起し動作を説明する。
【００４１】
まず搬送ロボットなどによって基板１１が、基板保持テーブル２１上に水平状態で装入される。装入された基板１１は、基板保持テーブル２１の天板部２１ａから噴出されるガスによって浮上状態で保持される。このとき、基板引起し手段１４は、電動機２９の駆動によって回動部材２６ａ，２６ｂが動作されて把持部本体３１を支持する支持棒部材２７ａ，２７ｂが、水平位置に予め回動されている状態である。
【００４２】
浮上状態で水平方向に移動可能に保持される基板１１が不図示の押送手段で矢符２５の逆方向に押送されて、把持されるべき一辺１１ａ部分が、把持枠部材３３の内部で収縮状態にある一対の押圧手段である耐圧嚢３４ａ，３４ｂが形成する隙間に挿入される。基板１１の一辺１１ａ部分が耐圧嚢３４ａ，３４ｂが形成する隙間に挿入されたとき、拡縮駆動手段３２が、高圧ガスを耐圧嚢３４ａ，３４ｂ内へ導入し、耐圧嚢３４ａ，３４ｂを拡張させて基板１１の一辺１１ａ部分を押圧把持する。
【００４３】
把持手段１３の耐圧嚢３４ａ，３４ｂが基板１１の一辺１１ａ部分を把持した状態で、基板引起し手段１４の電動機２９が回転駆動し、その駆動力が軸継手２８を介して回動部材２６ａ，２６ｂへ伝達され、回動部材２６ａ，２６ｂを回動させる。回動部材２６ａ，２６ｂが回動することによって、回動部材２６ａ，２６ｂに装着される支持棒部材２７ａ，２７ｂが、基板１１を把持する把持手段１３、厳密には把持部本体３１を移動させる。
【００４４】
すなわち、基板引起し手段１４は、把持される一辺１１ａに垂直な方向における基板の長さを半径ｒとし、基板１１の把持される一辺１１ａに垂直な方向において該一辺１１ａに対向する端部４１を回転中心とし、基板１１の表裏面に対する正接方向に形成される円弧状の仮想軌道４２に沿って把持部本体３１を移動させる。
【００４５】
図３中に示す（ａ）〜（ｅ）の各位置における状態は、把持部本体３１に把持される基板１１が、基板引起し手段１４によって引起し移動される各段階で姿勢を変えていく状態を示す。把持部本体３１が円弧状の仮想軌道４２に沿って移動するのに伴い、基板１１にたわみが生じる。しかしながら、把持部本体３１が基板１１の一辺１１ａ部分の全域を把持するので、位置（ｂ）〜位置（ｄ）で示すように、基板１１のたわみが、基板１１の厚み方向に曲率を有する一方向のたわみとなるので、局所的に応力が集中することを防止できる。
【００４６】
また基板１１の把持される一辺１１ａの近傍部分の傾きが、水平から鉛直へと徐々に変化するけれども、把持部本体３１が前記一辺１１ａと平行な軸線まわりに角変位可能に設けられるので、基板１１の傾きに応じて把持部本体３１が角変位し、基板１１の把持される一辺１１ａの近傍部分に応力が集中することを防止できる。
【００４７】
また、図３に示す位置（ｂ）〜位置（ｄ）のように、基板１１の引起し移動の途中では、基板１１のたわみによって、基板１１の未だ引起されていない部分に、矢符４３方向に応力が生じるけれども、基板１１が矢印４３方向には移動可能な浮上状態で水平保持されているので、応力集中を防止することができる。
【００４８】
このような把持手段１３の構成および基板引起し手段１４の動作によって、基板１１の姿勢を水平から鉛直に変える際、基板１１に局所的な応力集中が発生することを防止し、割れ等の破損が生じることを防止できる。
【００４９】
なお、基板引起し手段の動作は、本実施の形態の図３に示す動作に限定されるものではない。図４は、基板引起し手段の動作の変形例を示す図である。図４に示す基板引起し手段の動作は、基板１１がある程度立ち上がった状態で、円弧状の仮想軌道４４から逸れて、仮想軌道が逆曲率の円弧４５を描くように基板１１を矢符４６方向である上方に引上げるものである。基板１１がある程度立ち上がった状態で上方へ引上げることによって、一層効果的に基板１１に対する応力集中を防止することが可能になる。このような基板１１を上方へ引上げる動作は、たとえば支持棒部材２７ａ，２７ｂに伸縮機構を設けることによって実現することができる。
【００５０】
上記のようにして、水平から鉛直へと引起された基板１１は、搬送手段１５によって鉛直状態で搬送される。
【００５１】
搬送手段１１は、把持部本体３１をチャッキングするアーム部５１と、アーム部５１を支持してアーム部５１でチャッキングされる把持部本体３１に鉛直状態で把持される基板１１を移送する移送部５２とを含む。
【００５２】
アーム部５１は、不図示の駆動機構によって、把持部本体３１に近接離反する方向である矢符５３にて示す方向に角変位移動可能である。またアーム部５１は、把持部本体３１を着脱自在にチャッキングすることが可能に構成され、支持棒部材２７ａ，２７ｂに支持される把持部本体３１が、基板１１を把持するべく水平位置にあるときおよび水平位置へ向って移動するときには、チャッキングを解除して把持部本体３１を離脱させ、把持部本体３１に把持される基板１１を鉛直状態になる位置まで引起したとき、把持部本体３１をチャッキングする。
【００５３】
移送部５２は、アーム部５１を支持した状態で、矢符５４で示す方向に移動可能である。このような移送部５２は、たとえば搬送ロボットであってもよく、またアーム部５１が装着されるベルト駆動機構などによっても実現される。
【００５４】
この搬送手段１５が、把持手段１３によって把持され、基板引起し手段１４によって鉛直状態に引起された基板１１を、鉛直状態のまま矢符５４方向へ搬送する。搬送手段１５による基板１１の搬送は、基板１１を把持する把持部本体３１を支持棒部材２７ａ，２７ｂから離脱させて行われるようにしてもよく、また支持棒部材２７ａ，２７ｂを回動部材２６ａ，２６ｂから離脱させ、基板１１を把持する把持部本体３１を支持棒部材２７ａ，２７ｂごと移動させるようにしてもよい。
【００５５】
なお、基板引起し手段１４の電動機２９および搬送手段１５の移送部５２のような摺動部を含む構成部分は、基板１１がおかれる空間とは隔てて設置されることが好ましい。このことによって、摺動部を含む構成部分に起因する発塵による基板１１の汚染を防止することができる。
【００５６】
本発明のように構成される基板搬送装置１０によれば、基板１１に割れ等の破損を生じることなく、また発塵により基板１１を汚染することなく、鉛直状態で搬送することができる。また基板１１は、把持手段１３によって一辺１１ａを把持されて鉛直に吊下げられているので、たわみの無い平坦な状態で表裏面ともに面内を均一に洗浄などの処理を施すことができる。
【００５７】
以上に述べたように、本実施の形態では、基板は、ガラス基板であるけれども、これに限定されることなく、シリコン基板などであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の実施の一形態である基板搬送装置１０の構成を簡略化して示す斜視図である。
【図２】把持手段１３の構成を簡略化して示す部分断面図である。
【図３】基板引起し手段１４の動作を説明する概要図である。
【図４】基板引起し手段の動作の変形例を示す図である。
【図５】従来のガラス基板搬送方法の概要を示す図である。
【符号の説明】
【００５９】
１０  基板搬送装置
１１  基板
１２  基板保持手段
１３  把持手段
１４  基板引起し手段
１５  搬送手段
３１  把持部本体
３２  拡縮駆動手段
３３  把持部枠部材
３４  押圧手段
【図１】
2006008311.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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