(57)【要約】【課題】隣り合う補正部材間のギャップにより引き起こされる光学的作用を補償し、スロット全体にわたり均一性を増加させ、クリティカルな寸法を向上させるようにした均一性補正装置を提供する。【解決手段】複数の補正部材と１つの光学的補償プレートが設けられており、隣り合う補正部材はギャップによって分離されている。光学的補償プレートには、複数のギャップ補償セグメントをもつパターンが含まれており、このパターンは光学的補償プレートにおける他の部分の減衰度とは異なる減衰度をもっている。光学的補償プレートにおける各補償セグメントの位置は、照射スロット内で隣り合う補正部材間の対応するギャップの位置に相応している。各ギャップ補償セグメントの幅は、補正装置に入射する光の角度に依存する。【選択図】図１
2006191067.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
均一性補正装置において、
複数の補正部材が設けられており、各補正部材は隣り合う補正部材とギャップによって分離されており、
該複数の補正部材に対し平行に光学的補償プレートが設けられており、
該光学的補償プレートは所定の減衰度をもつパターンを有しており、該パターンには複数のギャップ補償セグメントが含まれており、各ギャップ補償セグメントは隣り合う補正部材間のギャップの１つに対応しており、
前記光学的補償プレートにおける該ギャップ補償セグメントの位置は、照射スロット内の隣り合う補正部材間の相応のギャップの位置に対応していることを特徴とする、
均一性補正装置。
【請求項２】
請求項１記載の均一性補正装置において、
各ギャップ補償セグメントの幅は、該均一性補正装置に入射する光の角度に依存することを特徴とする均一性補正装置。
【請求項３】
請求項１記載の均一性補正装置において、
各ギャップ補償セグメントの幅は、前記ギャップ補償セグメントに対応するギャップの幅よりも大きいことを特徴とする均一性補正装置。
【請求項４】
請求項１記載の均一性補正装置において、
各ギャップ補償セグメントは、前記光学的補償プレートの第１の側から該光学的補償プレートの第２の側まで延在していることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項５】
請求項１記載の均一性補正装置において、
前記パターンの減衰度は前記光学的補償プレートの減衰度よりも大きいことを特徴とする均一性補正装置。
【請求項６】
請求項１記載の均一性補正装置において、
前記光学的補償プレートは第１の面と第２の面を有しており、前記パターンは第１の面に設けられていることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項７】
請求項１記載の均一性補正装置において、
前記光学的補償プレートは第１の面と第２の面を有しており、前記パターンは第２の面に設けられていることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項８】
請求項１記載の均一性補正装置において、
前記光学的補償プレートは前記複数の補正部材の下方に配置されていることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項９】
請求項１記載の均一性補正装置において、
前記光学的補償プレートは前記複数の補正部材の上方に配置されていることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項１０】
請求項１記載の均一性補正装置において、
第１の複数の補正部材は前記第１の面の第１の側に配置されており、第２の複数の補正部材は前記第１の面の第２の側に配置されており、
前記照射スロットは第１の方向軸と第２の方向軸により定義され、
前記第１の複数の補正部材は前記第１の方向軸に対し第１の角度で挿入されており、前記第２の複数の補正部材は前記第２の方向軸に対し第２の角度で挿入されていることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の均一性補正装置において、
前記光学的補償プレートは第３の方向軸と第４の方向軸を有しており、前記第３の方向軸は前記照射スロットの第１の方向軸と等しく、前記第４の方向軸は前記照射スロットの第２の方向軸と等しく、
第１の複数のギャップ補償セグメントは前記第３の方向軸に対し第１の角度を成しており、第２の複数のギャップ補償セグメントは前記第４の方向軸に対し第２の角度を成していることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項１２】
均一性補正装置において、
補正スロット内で可動である複数の補正部材が設けられており、各補正部材は隣り合う補正部材とギャップによって分離されており、各補正部材は第１の平面に第１の表面を有しており、
該第１の平面に平行に光学的補償プレートが設けられており、
該光学的補償プレートは所定の減衰度をもつパターンを有しており、該パターンには複数のギャップ補償セグメントが含まれており、各ギャップ補償セグメントは隣り合う補正部材間のギャップの１つに対応しており、
隣り合う補正部材間の各ギャップについて、ギャップの中心軸は第２の平面と前記第１の平面との交点により規定され、ギャップに対応するギャップ補償セグメントの中心軸は、前記第２の平面と前記光学的補償プレートとの交点により定義される線とほぼ一致していることを特徴とする、
均一性補正装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の均一性補正装置において、
各ギャップ補償セグメントの幅は、該均一性補正装置に入射する光の角度に依存することを特徴とする均一性補正装置。
【請求項１４】
請求項１２記載の均一性補正装置において、
各ギャップ補償セグメントの幅は、前記ギャップ補償セグメントに対応するギャップの幅よりも大きいことを特徴とする均一性補正装置。
【請求項１５】
請求項１２記載の均一性補正装置において、
各ギャップ補償セグメントは、前記光学的補償プレートの第１の側から該光学的補償プレートの第２の側まで延在していることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項１６】
請求項１２記載の均一性補正装置において、
前記パターンの減衰度は前記光学的補償プレートの減衰度よりも大きいことを特徴とする均一性補正装置。
【請求項１７】
均一性補正装置において、
照射スロット内で可動である複数の補正部材が設けられており、各補正部材は隣り合う補正部材とギャップによって分離されており、
光学的補償プレートが設けられており、
該光学的補償プレートは所定の減衰度をもつパターンを有しており、該パターンは複数のパターンセグメントを有しており、
前記光学的補償プレートにおける該パターンの配置は、各補正部材が前記照射スロットに最大深さまで挿入されたときの隣り合う補正部材間のギャップの配置に対応することを特徴とする、
均一性補正装置。
【請求項１８】
請求項１７記載の均一性補正装置において、
前記パターンの減衰度は前記光学的補償プレートの減衰度よりも大きいことを特徴とする均一性補正装置。
【請求項１９】
請求項１７記載の均一性補正装置において、
前記光学的補償プレートは前記複数の補正部材の下方に配置されていることを特徴とする均一性補正装置。
【請求項２０】
請求項１７記載の均一性補正装置において、
前記光学的補償プレートは前記複数の補正部材の上方に配置されていることを特徴とする均一性補正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概略的にいえばリソグラフィシステムにおける均一性補正に関する。
【背景技術】
【０００２】
慣用のリソグラフィシステムには殊に、受光レーザビームの均一の強度分布を生じさせる照射システムが含まれている。結果として生じる照射ができるかぎり均一であり、均一性エラーができるかぎり小さいことが望ましい。照射の均一性によって、露光フィールド全体にわたり均一な線幅を生成する照射システムの性能に影響が及ぼされる。照射均一性エラーは、リソグラフィシステムにより製造されるデバイスの品質に重大な影響が及ぼされる可能性がある。
【０００３】
均一性を補正するための技術には、照射スロットの反対側から挿入されたプレートのような複数の補正部材をもつ補正システムが含まれる。それらの補正部材は非ゼロ損失（たとえば９０％）である。しかしながら種々の制約に起因して、隣り合う補正部材間にギャップが存在する。隣り合う補正部材間のこのようなギャップによって、ギャップリプルや影のような不所望な光学的作用が引き起こされる。各ギャップは０％の損失（あるいは１００％の透過率）であり、補正部材は非ゼロ損失であるので、ギャップを通過した光によって基板上にいっそう高い強度の縞あるいは帯が発生する。著しく高い強度の帯によって、露光フィールドにおける線幅に影響が及ぼされる。しかも各補正部材は有限の厚さをもっている。したがって各補正部材は複数のエッジを有する。光が角度を伴って（すなわち著しく大きいシグマで）到来した場合、光の一部分はエッジで反射して、基板上に影が投げかけられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって本発明の課題は、隣り合う補正部材間のギャップにより引き起こされる光学的作用を補償し、スロット全体にわたり均一性を増加させ、クリティカルな寸法を向上させるようにした均一性補正装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明によればこの課題は、複数の補正部材が設けられており、各補正部材は隣り合う補正部材とギャップによって分離されており、該複数の補正部材に対し平行に光学的補償プレートが設けられており、該光学的補償プレートは所定の減衰度をもつパターンを有しており、該パターンには複数のギャップ補償セグメントが含まれており、各ギャップ補償セグメントは隣り合う補正部材間のギャップの１つに対応しており、前記光学的補償プレートにおける該ギャップ補償セグメントの位置は、照射スロット内の隣り合う補正部材間の相応のギャップの位置に対応していることにより解決される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明は、光の漏れおよび影の補償を含む均一性補正のための装置に関する。本発明の１つの観点によれば、均一性補正装置には複数の補正部材と１つの光学的補償プレートが含まれている。
【０００７】
１つの実施形態によれば、補正部材は照射スロット内で可動である。隣り合う補正部材はギャップによって分離されている。光学的補償プレートには、複数のギャップ補償セグメントをもつパターンが含まれている。このパターンは、光学的補償プレートにおける他の部分の減衰度とは異なる減衰度をもっている。
【０００８】
各ギャップ補償セグメントは、隣り合う補正部材間のギャップの１つに対応している。光学的補償プレートにおける各ギャップ補償セグメントの位置は、照射スロット内で隣り合う補正部材間の対応するギャップの位置に相応している。各ギャップ補償セグメントの幅は、補正装置に入射する光の角度に依存する。本発明の１つの観点によれば、各ギャップ補償セグメントの幅は対応するギャップの幅よりも大きい。１つのギャップ補償セグメントはどのような長さであってもよい。本発明の１つの観点によれば、各ギャップ補償セグメントは、光学的補償プレートの第１のエッジから光学的補償プレートの第２のエッジまで延在している。
【０００９】
本発明の１つの観点によれば、パターンは光学的補償プレートの最上面（または上面）に設けられている。本発明の択一的な観点によれば、パターンは光学的補償プレートの底面（または下面）に設けられている。パターンを所定の減衰度をもつどのような材料によって形成してもよい。
【００１０】
本発明の１つの観点によれば、光学的補償プレートは複数の補正部材の上方に配置されている。本発明の択一的な観点によれば、光学的補償プレートは複数の補正部材の下方に配置されている。
【００１１】
図面には本発明が示されており、それらの図面はその説明とともに本発明の基本原理を説明するのに役立つものであり、それによって当業者であれば本発明を実施し利用することができるようになる。
【００１２】
次に、図面を参照しながら本発明について説明する。図中、同一の要素または機能的に類似の要素には同じ参照番号を付すものとする。また、参照番号のうち一番左側の数字は、その参照番号が最初に現れた図面を表すものとする。
【実施例】
【００１３】
図１には、本発明の１つの実施形態によるリソグラフィシステム１００が例示されている。１つの実施形態によれば、リソグラフィシステム１００はレチクルまたはマスクを使用したシステムである。択一的な実施形態によれば、システム１００はマスクレスリソグラフィシステムである。
【００１４】
リソグラフィシステム１００は照射システム１１０、均一性補正システム１２０、コントラスト装置１３０、投影光学系１５０、基板ステージ１６０および補正モジュール１７０を有している。
【００１５】
照射システム１１０はコントラスト装置１３０を照射する。照射システム１１０は、リソグラフィシステムによって要求されるどのような照射形式であってもよい（たとえば４重極照明、輪帯照明等）。これに加えて照射システム１１０は、部分干渉またはフィルジオメトリ（fill geometry）のような様々な照射特性の変形をサポートすることができる。照射システムの詳細については当業者によく知られており、したがってここではこれ以上説明しない。
【００１６】
コントラスト装置１３０は、基板ステージ１６０により保持されている基板１６５（たとえばウェハまたはガラス板）の一部分にパターンを結像するために用いられる。第１の実施形態によれば、コントラスト装置１３５はレチクルなどのようなスタティックなマスクであり、基板１６５はウェハである。マスクレスとした第２の実施形態によれば、コントラスト装置１３５はプログラマブルアレイである。プログラマブルアレイには、空間光変調器（ＳＬＭ）または他の何らかの適切なマイクロミラーアレイを含めることができる。択一的に、ＳＬＭは反射性または透過性の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）またはグレーディングライトバルブ（grading light valve GLV）を有することができる。第２の実施形態の場合、基板１６５を１枚のガラス、フラットパネルディスプレイあるいはそれに類似したものとすることができる。
【００１７】
投影光学系１５０は、基板上の（コントラスト装置により規定された）パターンの像を投影するように構成されている。投影光学系１５０の詳細は、用いられるリソグラフィシステムの形式に依存する。投影光学系の特有の機能詳細については当業者によく知られており、したがってここではこれ以上説明しない。
【００１８】
基板ステージ１６０は結像面１８０のところに配置されている。基板ステージ１６０は基板１６５を支持している。１つの実施形態によれば、基板はレジストの被覆されたウェハである。択一的な実施形態によれば、基板１は１枚のガラス、フラットパネルディスプレイあるいはそれに類似したものである。
【００１９】
均一性補正システム１２０は、システム１００と対応づけられた照射フィールドの特定のセクション内で照射レベルをコントロールする装置である。１つの実施形態によれば、補正面はコントラスト装置ステージ（たとえばレチクルステージ）のすぐそばに配置されている。１つの択一的な実施形態によれば、補正面を照射光学系１１０とコントラスト装置ステージ１３０との間のいずれかの位置に配置することができる。
【００２０】
図２Ａ〜図２Ｄには、均一性補正システム２２０に関するハイレベルのブロック図が描かれている。図２Ａ〜図２Ｄに描かれているように均一性補正システムには、複数の補正部材２２０ａ〜ｎ、オプションとしての複数の補正部材２２２ａ〜ｎおよび光学的補償プレート２５０が含まれている。複数の補正部材２２０ａ〜ｎおよび２２２ａ〜ｎは、照射スロットに規定のコンフィギュレーションで挿入されている。複数の補正部材２２０，２２２は、均一性の作用を及ぼすいかなるメカニズムであってもよい。１つの実施形態によれば、複数の補正部材２２０ａ〜ｎは、透過性材料から成るプレートである（これをフィンガとも称する）。たとえば１つの実施形態によれば、各フィンガは１０％の減衰度（すなわち９０％の透過率）である。１つの択一的な実施形態によれば、フィンガは透明である（すなわち０％の透過率）。当業者であればわかるように、補正部材のために他の減衰度値を使用してもよい。また、補正部材に可変の減衰度をもたせてもよい。
【００２１】
図２Ａは補正システム２２０Ａを上から見た図である。この補正システム２２０Ａにおいて、複数の補正部材２２０ａ〜ｎおよび２２２ａ〜ｎは傾斜構造を有している。この構造において複数の補正部材２２０ａ〜ｎは、スキャン方向（あるいはＹ軸）に対し角度αで照射スロットの第１の側（たとえば左側）から挿入されている。複数の補正部材２２２ａ〜ｎは、スキャン方向（あるいはＹ軸）に対し角度αで照射スロットの反対側（たとえば右側）から挿入されている。１つの実施形態によれば、補正部材２２０ａ〜ｎおよび２２２ａ〜ｎの最大の挿入はニュートラルなポイントないしは中性点のところである。つまり各補正部材を、補正部材２２０の先端が補正部材２２２の先端に著しく近づくポイントに至る程度まで挿入することができる。この実施形態によれば、補正部材２２０ａ〜ｎは補正部材２２２ａ〜ｎとはオーバラップしない。
【００２２】
図２Ａに描かれているようにこのような構造において、各補正部材２２０ａ〜ｎは対応する補正部材２２２ａ〜ｎと対向している（たとえば補正部材２２０ａは補正部材２２２ａと対向しており、補正部材２２０ｂは補正部材２２２ｂと対向している、という具合である）。したがって各補正部材２２０ａ〜ｎおよびそれに対応する補正部材２２２ａ〜ｎを、同一の補正スロット内にあるものとみなすことができる。図２Ａでは各側に４つの補正部材しか描かれていないけれども、本発明によれば各側にいかなるフィンガ数を採用してもよい。
【００２３】
図２Ｂは補正システム２２０Ｂを上から見た図である。補正システム２２０Ｂにおいて、複数の補正部材２２０ａ〜ｎおよび２２２ａ〜ｎはシェブロン構造を有している。この構造において複数の補正部材２２０ａ〜ｎは、スキャン方向（あるいはＹ軸）に対し角度αで照射スロットの第１の側（たとえば左側）から挿入されている。複数の補正部材２２２ａ〜ｎは、スキャン方向（あるいはＹ軸）に対し同一の角度αで照射スロットの反対側（たとえば右側）から挿入されている。この構造の場合には補正部材２２０および２２２を、補正部材２２０が補正部材２２２とオーバラップするような深さまで挿入することができる。この実施形態によれば各補正部材を、最大挿入ポイントに至る程度まで挿入することができる。
【００２４】
図２Ｃは、補正システム２２０Ｃの部分側面に関するハイレベルのブロック図である。図２Ｃに示されているように、光学的補償プレート２５０は複数の補正部材２２０，２２２を含む平面に対し平行に配置されている。１つの実施形態によれば、補正部材の底面は光学的補償プレートの上面のすぐ近くに位置している。補正部材底面と光学的補償プレート上面との分離間隔は、０．１ｍｍよりも小さい。当業者であればわかるように、本発明によれば他の分離間隔を採用してもよい。
【００２５】
図２Ｄは、補正システム２２０Ｄの部分側面に関するハイレベルのブロック図である。この実施形態によれば、光学的補償プレート２５０の底面は複数の補正部材２２０，２２２の上面のすぐ近くに位置している。補正部材底面と光学的補償プレート上面との分離間隔は、０．１ｍｍよりも小さい。当業者であればわかるように、本発明によれば他の分離間隔を採用してもよい。
【００２６】
本発明の１つの実施形態によれば、光学的補償プレート２５０は０％の減衰度（すなわち１００％の透過率）である。当業者であればわかるように、本発明によれば他の減衰度値をもつ光学的補償プレートを採用してもよい。
【００２７】
図２Ａ〜図２Ｄに示されているように、隣り合う補正部材（たとえば２２０ａ〜ｎ，２２２ａ〜ｎ）はギャップ２２５ａ〜ｎによって分離されている。当業者であればわかるように、隣り合うフィンガは補償システムの制約による要求に従いどのようなサイズのギャップで分離してもよい。１つの実施形態によれば、各ギャップ２２５ａ〜ｎのサイズは等しい。
【００２８】
隣り合う補正部材間のギャップによって、ギャップリプル gap ripple や影のような不所望な光学的作用が引き起こされる。図３には、このような作用の一例が描かれている。図３には、隣り合う複数の補正部材３２０ａ〜Ｃを有する補正システム３３０の一部分が示されている。隣り合う補正部材３２０ａ〜Ｃはギャップ３２５ａ，ｂによって分離されている。各ギャップは０％の損失（あるいは１００％の透過率）であるので、ギャップを通過した光によって基板上にいっそう高い強度の縞あるいは帯が発生する。縞の強度は入射光の角度に依存する。たとえば、光ビームが図３の光３９０により示されているように実質的に平行であれば（つまり光が小さいシグマを有するのであれば）、最大量の光がギャップを通過して入射する。図３の光３９５で示されているように、光が様々な角度で広がっているならば（すなわち光が大きいシグマを有するのであれば）、光の一部分は反射し、それによって縞の強度が低減する。角度が増大すると（つまりシグマが大きくなると）、ギャップを通り抜ける光が僅かになり、縞の強度がさらに低減する入射光が最小のシグマを有する場合、領域３６０ａはギャップに起因して他よりも高い強度の高い領域となる。入射光が最大のシグマを有する場合、領域３６０ｂはギャップに起因して他よりも高い強度の領域となる。図示されているように、領域３６０ａは領域３６０ｂよりも狭い。ただし、領域３６０ａの光は領域３６０ｂの光よりも高い強度を有する。
【００２９】
図３に示されているように、各補正部材は有限の厚さを有している。したがって各補正部材は複数のエッジ３２２を有する。光が角度を伴って（すなわち比較的大きいシグマで）到来した場合、光の一部分はエッジ３２２で反射して、基板上に影が投げかけられる。２つの補正部材３２０ｂ，ｃが隣り合っており、光が一方の側から角度を伴って到来すると、第１のフィンガ３２０ｂのエッジ３２２により第１の影が投げかけられ、第２のフィンガ３２０ｃのエッジ３２２により第２の影が投げかけられる。影の影響は、使用される照射モードによってさらに悪化される可能性がある。たとえば、双極子照射が使用されると、第１の方向およびこの第１の方向とは反対側の第２の方向から補正部材に光が入射する。したがってギャップにより引き起こされる著しく高い強度の縞に加えて、隣り合うフィンガのエッジにより４つの影が基板上に投げかけられることになる。
【００３０】
さらに図４には、ギャップリプルの原因について描かれている。図４には照射スロットの一部分が描かれており、この部分には左側から挿入された隣り合う複数の補正部材４２０ａ〜ｃが含まれている。これら隣り合う補正部材４２０ａ〜Ｃはギャップ４２５ａ，ｂによって分離されている。図４にはさらに、この補正システムに関連するクロススロットの平均減衰度４８０も示されている。
【００３１】
図４に示されているように、スキャンライン４４２はギャップ領域４２５ａに入っておらず、あるいはそこを横断していない。その結果、クロススロット減衰度は通常どおりである（約８％の減衰度）。スキャンライン４４４はギャップ領域４２５ａと交差しており、ないしはそこを横断している。その結果、いっそう多くの光が通過し、それによって強度が高まり減衰度が低下する。スキャンライン４４６はギャップ領域４２５ｂに入っているが、ギャップ領域４２５ａまたは４２５ｂを横断していない。その結果、クロススロット減衰度は変化している。スキャンライン448もギャップ領域４２５ｂに入っているが、ギャップ領域４２５ａまたは４２５ｂを横断していない。その結果、クロススロット減衰度は変化している。したがってクロススロット平均減衰度のプロットからわかるように、減衰度のリプルが発生している。
【００３２】
図５Ａには、本発明の１つの実施形態によるシェブロン（chevron）構造をもつ補正システムとともに使用するための光学的補償プレート５５０が例示されている。光学的補償プレート５５０には、複数のギャップ補償セグメント５５４ａ〜ｊをもつパターン５５２が含まれている。ギャップ補償セグメント５５４ａ〜ｊは、光学的補償プレート５５０の他の領域とは異なる減衰度を有している。たとえばギャップ補償セグメント５５４を３％の減衰度（すなわち９７％の透過率）とすることができる一方、光学的補償プレート５５０の残りの領域は０％の減衰度（すなわち１００％の透過率）である。
【００３３】
光学的補償プレート５５０は第１の表面５０２と第２の表面５０４を有している。第１の実施形態の場合、パターン５５２は第１の表面５０２上にある。択一的な実施形態の場合、パターン５５２は第２の表面５０２上にある。さらに別の実施形態の場合、パターン５５２は光学的補償プレート内に含まれている。
【００３４】
パターン５５２を、非ゼロ減衰度のどのような材料から形成してもよい。たとえばパターン５５２を、一連のドットから成るコーティングとすることができる。当業者であればわかるように、パターン５５２を様々な方法により光学的補償プレート５５０に結合することができる。
【００３５】
各ギャップ補償セグメント５５４ａ〜ｊは、隣り合う補正部材間のギャップに対応している。図５Ｂには、補正部材のシェブロン構造 chevron configuration が例示されている。ギャップ補償セグメント５５４ａ〜ｊと補償プレートの底辺とが成す角度β（参照符号５５６）は、対応するギャップと照射スロットのＹ軸とが成す角度α（参照符号５２６）と等しい。図５Ｃに示されているように、光学的補償プレート５５０における各ギャップ補償セグメント５５４の位置は、照射スロットにおける対応するギャップの位置に相応している。
【００３６】
各ギャップ補償セグメント５５４の幅は入射光の角度に依存する。たとえば、入射光が小さいシグマを有するならば、ギャップ補償セグメント５５４は隣り合う補正部材間のギャップ幅と等しいあるいはそれよりもいくらか大きい幅をもつことができる。入射光が大きいシグマを有するならば、ギャップ補償セグメントはいっそう広い幅をもつことになる。一般に、各ギャップ補償セグメント５５４の幅は、隣り合う補正部材間のギャップ幅よりも大きい。
【００３７】
各ギャップ補償セグメント５５４の長さは、補正部材の構造および各部材の最大挿入深さを含む種々のファクタに依存する。図５Ａおよび図５Ｃに示されているように、ギャップ補償セグメントは光学的補償プレート５５０を横断して延在している。当業者であればわかるように、リソグラフィシステムの要求に従いギャップ補償セグメントに対してどのような長さを採用してもよい。
【００３８】
図６には、本発明の１つの実施形態による補正部材６２０の傾斜構造と光学的補償プレート６５０をもつ均一性補正システムが例示されている。この場合、光学的補償プレート６５０にはパターン６５２が含まれている。この実施形態によれば補正部材は対向しているので、パターン６５２には複数の平行なギャップ補償セグメント６５４が含まれており、これらは光学的補償プレート６５０を横断して延在している。
【００３９】
図７には、本発明の１つの実施形態による光学的補償プレート７５０が例示されている。光学的補償プレート７５０には、複数のギャップ補償セグメント７５４をもつパターン７５４が含まれている。この実施形態によれば、ギャップ補償セグメント７５４は光学的補償プレートを横断して延在してはおらず、それどころか光学的補償セグメントの中央までも延びていない。したがってこの実施形態の場合、ギャップ補償セグメントの長さは光学的補償プレートの幅よりも短く、かつ補正部材の最大深さよりも短い。
【００４０】
図５〜図７を参照しながら、補正部材の傾斜構造とシェブロン構造に基づき光学的補償プレート状のパターンについて説明してきたが、隣り合う補正部材間にギャップをもつどのような構造の補正部材であっても本発明を使用することができる。一般に、光学的補償プレートにおけるパターンは、隣り合う補正部材間のギャップに対応する。プレートにおけるギャップ補償セグメントの位置を、ギャップの位置と対応づけることができる。たとえば各ギャップの中心軸を、ギャップの中心と一致する第１の平面と、ギャップを規定する隣り合う補正部材を含む第２の平面との交点によって定義することができる。第１の平面は第２の平面に対し垂直である。したがって各ギャップ補償セグメントの中心軸は、第１の平面と光学的補償プレートとの交点により規定された線とほぼ一致している。
【００４１】
結論
これまで本発明の様々な実施形態について説明してきたが、それらは例示にすぎず、限定を意味するものではないと解釈すべきである。形態や詳細について本発明の範囲を逸脱することなく種々の変更を行えることは、当業者にとって自明である。したがって本発明の範囲は上述の実施形態によって制限されるものではなく、以下の特許請求の範囲によってのみ規定される。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の１つの実施形態によるリ均一性補正を含むリソグラフィシステムを例示した図
【図２Ａ】本発明の実施形態による均一性補正システムを例示したハイレベルのブロック図
【図２Ｂ】本発明の実施形態による均一性補正システムを例示したハイレベルのブロック図
【図２Ｃ】本発明の実施形態による均一性補正システムを例示したハイレベルのブロック図
【図２Ｄ】本発明の実施形態による均一性補正システムを例示したハイレベルのブロック図
【図３】隣り合う補正部材間のギャップにより引き起こされる光学的作用を示す図
【図４】ギャップリプルの原因を示す図
【図５】本発明の１つの実施形態によるシェブロン（chevron）構造と光学的補償プレートをもつ補正システムを示す図
【図６】本発明の１つの実施形態による補正部材６２０の傾斜構造と光学的補償プレート６５０をもつ均一性補正システムを例示した図
【図７】本発明の１つの実施形態による光学的補償プレートを例示した図
【符号の説明】
【００４３】
１１０  照射光学系
１２０  均一性補正装置
１３０  コントラスト装置
１５０  投影光学系
１６０  基板ステージ
１６５  基板
１８０  結像面
２２０，２２２  補正部材
２５０  光学的補償プレート
【図１】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図６】
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【図７】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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