(57)【要約】【課題】液体材料のゲル化を精度よく制御することが可能なゲル化制御方法、このゲル化制御方法を用いて、基板上に所望の形状の膜を精度よく安定して形成することが可能な膜形成方法、品質の向上が可能なデバイス製造方法、電気光学装置および電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の膜形成方法は、液体材料を液滴にして基板上に配置し、前記基板上に膜を形成する方法であり、前記液体材料の固形分濃度および前記液滴の乾燥速度のうちの少なくとも一方をパラメータとして、前記液体材料のゲル化を制御することにより、前記液滴の乾燥膜の形状を制御することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体材料の固形分濃度および液体材料の乾燥速度のうちの少なくとも一方をパラメータとして、前記液体材料のゲル化を制御することを特徴とするゲル化制御方法。
【請求項２】
液体材料を液滴にして基板上に配置し、前記基板上に膜を形成する方法であって、
前記液体材料の固形分濃度および前記液滴の乾燥速度のうちの少なくとも一方をパラメータとして、前記液体材料のゲル化を制御することにより、前記液滴の乾燥膜の形状を制御することを特徴とする膜形成方法。
【請求項３】
前記乾燥膜の形状は、前記液滴の乾燥膜の膜厚分布および前記液滴の乾燥膜の外径を含む請求項２に記載の膜形成方法。
【請求項４】
前記パラメータは、乾燥時における前記液滴内の液体の流れを決定するものである請求項２または３に記載の膜形成方法。
【請求項５】
前記液滴の縁部において、前記液滴の中央部より早く前記液体材料のゲル化が生じるように、前記パラメータを設定する請求項２ないし４のいずれかに記載の膜形成方法。
【請求項６】
前記液滴の中央部において、前記液滴の縁部より早く前記液体材料のゲル化が生じるように、前記パラメータを設定する請求項２ないし４のいずれかに記載の膜形成方法。
【請求項７】
前記液滴の全体において、ほぼ同時に前記液体材料のゲル化が生じるように、前記パラメータを設定する請求項２ないし４のいずれかに記載の膜形成方法。
【請求項８】
前記基板が搭載されるステージの移動速度、前記基板上に配置される液滴同士の間隔および前記液体材料に対する前記基板表面の接触角のうちの少なくとも１つを制御することにより、前記液滴の乾燥速度を変化させる請求項２ないし７のいずれかに記載の膜形成方法。
【請求項９】
基板に膜パターンが形成されてなるデバイスの製造方法であって、
請求項２ないし８のいずれかに記載の膜形成方法により、前記基板上に前記膜パターンを形成することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載のデバイス製造方法を用いて製造されたデバイスを備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゲル化制御方法、膜形成方法、デバイス製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイや表示光源等として用いられる電気光学装置や、半導体装置等の電子装置は、その製造過程において、基板上に材料を配置し、その基板上に膜を形成する工程を含む。材料の配置技術や膜形成技術は、品質や機能と密接に係わり、上記各装置の性能の向上を図る上で重要である。
基板上に材料を配置する技術としては、吐出ヘッドに設けられたノズルを介して液体材料を液滴として吐出する方法がある（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
この液滴吐出法は、スピンコート法等の技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基板上に配置する液体材料の量や位置の制御を行いやすいという利点がある。
液滴吐出法を用いて基板上に膜を形成する技術では、液体材料を基板上に配置する際の配置精度が求められる一方で、液膜の乾燥後における膜形状の精度向上や安定化が求められる。
ところが、膜形状を精度よく制御する方法が確立されていないというのが現状である。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２７４６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、液体材料のゲル化を精度よく制御することが可能なゲル化制御方法、このゲル化制御方法を用いて、基板上に所望の形状の膜を精度よく安定して形成することが可能な膜形成方法、品質の向上が可能なデバイス製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のゲル化制御方法は、液体材料の固形分濃度および液体材料の乾燥速度のうちの少なくとも一方をパラメータとして、前記液体材料のゲル化を制御することを特徴とする。
これにより、液体材料のゲル化を精度よく制御することができる。
【０００７】
本発明の膜形成方法は、液体材料を液滴にして基板上に配置し、前記基板上に膜を形成する方法であって、
前記液体材料の固形分濃度および前記液滴の乾燥速度のうちの少なくとも一方をパラメータとして、前記液体材料のゲル化を制御することにより、前記液滴の乾燥膜の形状を制御することを特徴とする。
これにより、液滴の乾燥膜を様々な形状に制御することができる。その結果、基板上の所望の膜を精度よく安定して形成することができる。
【０００８】
本発明の膜形成方法では、前記乾燥膜の形状は、前記液滴の乾燥膜の膜厚分布および前記液滴の乾燥膜の外径を含むことが好ましい。
これにより、液滴の乾燥膜において、膜厚および外径の制御を行うことができる。
本発明の膜形成方法では、前記パラメータは、乾燥時における前記液滴内の液体の流れを決定するものであることが好ましい。
これにより、液体材料のゲル化を制御して、乾燥膜の膜厚分布を目的とするものに制御することができる。
【０００９】
本発明の膜形成方法では、前記液滴の縁部において、前記液滴の中央部より早く前記液体材料のゲル化が生じるように、前記パラメータを設定することが好ましい。
これにより、縁部で膜厚が大きい乾燥膜を容易に得ることができる。
本発明の膜形成方法では、前記液滴の中央部において、前記液滴の縁部より早く前記液体材料のゲル化が生じるように、前記パラメータを設定することが好ましい。
これにより、比較的平坦な乾燥膜を容易に得ることができる。
本発明の膜形成方法では、前記液滴の全体において、ほぼ同時に前記液体材料のゲル化が生じるように、前記パラメータを設定することが好ましい。
これにより、比較的平坦な乾燥膜を容易に得ることができる。
【００１０】
本発明の膜形成方法では、前記基板が搭載されるステージの移動速度、前記基板上に配置される液滴同士の間隔および前記液体材料に対する前記基板表面の接触角のうちの少なくとも１つを制御することにより、前記液滴の乾燥速度を変化させることが好ましい。
これにより、液体材料のゲル化を制御して、液滴の乾燥膜の形状を制御することから、基板上に所望の形状の膜パターンを精度よく安定して形成することができる。
【００１１】
本発明のデバイス製造方法は、基板に膜パターンが形成されてなるデバイスの製造方法であって、
本発明の膜形成方法により、前記基板上に前記膜パターンを形成することを特徴とする。
これにより、基板に所望の膜パターンが形成されてなる各種デバイスを製造することができる。
【００１２】
本発明の電気光学装置は、本発明のデバイス製造方法を用いて製造されたデバイスを備えることを特徴とする。
これにより、高い品質の電気光学装置を安定して得ることができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、高い品質の電子機器を安定して得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明のゲル化制御方法、膜形成方法、デバイス製造方法、電気光学装置および電子機器について、図示の好適実施形態に基づいて説明する。
本発明のゲル化制御方法は、液体材料の固形分濃度および液体材料の乾燥速度のうちの少なくとも一方をパラメータとして、このパラメータを定めることにより、液体材料のゲル化を制御するものである。
【００１４】
以下、本発明のゲル化制御方法を膜形成方法に適用した場合を一例に説明する。
図１は、本発明のゲル化制御方法を適用した膜形成方法における代表的な液滴の乾燥過程を模式的に示す図である。
本発明の膜形成方法においては、液体材料を液滴にして基板上に配置し、それを乾燥させて基板上に液滴の乾燥膜を形成する。
なお、ここでは、基板上に１つの液滴を配置した場合について説明するが、本発明はこれに限らず、例えば、基板上に複数の液滴を配置し、それらを乾燥する場合も含む。
また、後述するように、複数の液滴の乾燥膜を、連続的に並べることにより、基板上に線状の膜パターンを形成することも可能である。
【００１５】
本発明の膜形成方法では、乾燥過程において、液体材料の固形分濃度および液滴の乾燥速度のうちの少なくとも一方をパラメータとして、このパラメータを定めることにより、液滴の乾燥膜を様々な形状に制御する。
具体的には、例えば、液滴の乾燥膜を、図１（ａ）に示すように、中央部に比べて縁部の膜厚を厚くするといったような膜厚分布の制御を行うことができる。また、例えば、液滴の乾燥膜を、図１（ｂ）に示すように、着弾後の液滴に比べて縮径させるといったような外径の制御を行うことができる。
【００１６】
図１（ａ）に示す乾燥過程は、液滴の中央部に比べて縁部における固形分濃度が早く上昇し、ゲル化するように、上記パラメータ（液体材料の固形分濃度、液滴の乾燥速度）を定めたものである。
ここで、「ゲル化」とは、流動性を有する液体材料が、その流動性が消失または低減して粘弾性を示す状態のことを言い、「ゲル化点」とは、液体材料が粘弾性を示し、容易に溶液体中を固体成分が動けなくなく状態になる転移点と定義する。
また、「液体材料が粘弾性を示す状態」とは、基板上に配置した液体材料に対して、応力を与えると変形するが、その応力を取り除くとほぼ元の形状に復元する状態のことを言う。
【００１７】
なお、ゲル化点における液体材料中の固形分濃度は、固形分の種類、溶媒の種類等に依存して若干変化するため、特に限定されないが、４５ｗｔ％以上であるのが好ましく、５５ｗｔ％以上であるのがよい。これにより、ゲル化点に至るまで十分に液体材料が広がる時間が存在し、またゲル化に至った状態で液体材料中の液性成分（溶媒または分散媒）等の含有量が十分少なくなるので、得られた乾燥膜は、その密度が向上し、特性が高くかつ平坦性が得られやすいものとなる。
【００１８】
一般に、基板上に配置された液滴は縁部（エッジ）において乾燥の進行が速い。液滴の乾燥過程において、液滴の縁部における固形分濃度がゲル化点に達すると、その縁部において液体材料が局所的にゲル化する。
すると、そのゲル化した部分によって液滴の縁部がピン止めされたような状態となり、それ以降の乾燥に伴う液滴の収縮（外径の収縮）が抑制される。
以後、この現象、すなわち、縁部で液体材料のゲル化によって乾燥に伴う液滴の収縮が抑制される現象を「ピニング」と呼ぶ。
【００１９】
一方、図１（ｂ）に示す乾燥過程は、液滴の全体の固形分濃度ができるだけゲル化点に達しないように、上記パラメータ（液体材料の固形分濃度、液滴の乾燥速度）を定めたものである。
この場合、液滴の縁部での局所的な液体材料のゲル化が生じにくいことから、上述したピニングが起こらず、乾燥過程において、蒸発に伴って液滴が収縮する。すなわち、乾燥の進行とともに、液滴の外径が小さくなる。
以後、この現象、すなわち、乾燥時にピニングすることなく液滴が収縮する現象を「ディピニング」と呼ぶ。
なお、図１（ａ）および（ｂ）に矢印で示す液滴内の液体の流れは、一例であり、実際とは異なる場合がある。
【００２０】
ここで、上記パラメータのうち、液滴の乾燥速度は、基板が搭載されるステージの移動速度、基板上に配置される液滴同士の間隔（液滴間距離）、複数の液滴の配列や配置のタイミングおよび液体材料に対する基板表面の接触角等に応じて変化する。
例えば、ステージが移動すると、液滴近傍の気相の蒸気濃度が低下する等により、液滴の乾燥が促進される。ステージの移動速度が大きいほど、大気に対する液滴の相対的な移動速度が大きくなり、液滴の乾燥速度が大きくなる。
【００２１】
図２は、基板上に複数（ここでは２滴）の液滴を配置した例を示す図である。
図２に示すように、液滴の乾燥時、液相から気相に出て行く蒸気は、液滴を中心に３次元に拡散する。
ここで、「蒸気拡散層」とは、液滴から蒸発した分子が拡散による移動のために、液滴近傍の気相中に濃度勾配を形成している領域をいう。
【００２２】
ここでは、液滴表面近傍の気相中に形成され、他の液滴に影響を与える濃度を有する蒸気層のことを広義の蒸気拡散層として含むものとする。また、液滴間距離は隣り合う両液滴同士の中心間隔とする。
なお、蒸気拡散層の厚さは、液体材料の物性や固形分濃度、環境温度等に応じて変化する。
【００２３】
基板上に複数の液滴が配置されるとき、液滴が他の液滴の蒸気拡散層内に存在したり、あるいは隣り合う両液滴の蒸気拡散層が互いに一部重なると、液滴表面の蒸気濃度の変化等によって、液滴の蒸発速度が変化する。具体的には、液滴間距離が短く、蒸気拡散層の重なる距離が長いほど、液滴の蒸発速度（乾燥速度）が小さくなり、乾燥時間が長くなる。
【００２４】
一方、蒸気拡散層が重ならない場合は、液滴間距離が変化しても、液滴の蒸発速度および乾燥時間はほとんど変化しない。
したがって、蒸気拡散層の影響を受ける範囲内で、液滴間距離（液滴同士の間隔）を変化させることにより、液滴の乾燥速度を変化させることができる。
また、基板上に複数の液滴を配置する場合、上述した液滴間距離だけでなく、液滴を配置するタイミング、数および配列等によっても液滴の乾燥時間が変化する。
【００２５】
例えば、基板上に先に液滴が配置されてから次の液滴を配置するまでの期間に応じて、次の液滴の配置時における先の液滴の乾燥（蒸発）状態が変化する。そのため、その変化に応じて、それらの液滴間での蒸気拡散層の影響の大きさ、並びに液滴の乾燥速度が変化する。すなわち、上記期間が長いほど、複数の液滴間での蒸気拡散層の影響が小さくなり、液滴の乾燥速度が大きくなる。
【００２６】
また、図３（ａ）および（ｂ）に示すように、蒸気拡散層が重なる範囲内で、１つの液滴Ａに並べて配置される液滴Ｂの数が多いほど、蒸気拡散層の影響が大きく現れ、液滴Ａの乾燥速度が小さくなる。
また、蒸気拡散層が重なる範囲内で、図３（ａ）に示すように、１つの液滴Ａの一方の側に１つの液滴Ｂが配置される場合、液滴Ａでは、液滴Ｂが配置された側の乾燥速度が部分的に小さくなる。この場合、乾燥速度に部分的な偏りが生じるために、液滴Ａの乾燥膜の形状は異方的になる。
これに対して、図３（ｂ）に示すように、１つの液滴Ａの全周にわたって複数の液滴Ｂが配置される場合、上述した乾燥速度の部分的な偏りが生じにくく、液滴Ａの乾燥膜の形状は等方的となる。
【００２７】
図４（ａ）および（ｂ）は、液体材料に対する基板表面の接触角（静的接触角）が互いに異なる場合の液滴の様子を示している（接触角θａ＜θｂ）。
同量の液滴を基板上に配置するとき、接触角が小さいほど液滴の外径は大きい。液滴の外径が大きいと、乾燥速度が大きくなる傾向にあることから、液体材料に対する基板表面の接触角が小さいほど、乾燥速度が大きくなる。
なお、接触角は、例えば、基板表面に対して、液体材料に対する濡れ性を高める親液化処理を施すことにより小さくなり、基板表面に対して、液体材料に対する濡れ性を低くする撥液化処理を施すことにより大きくなる。
【００２８】
以上のことから、基板が搭載されるステージの移動速度、基板上に配置される液滴同士の間隔（液滴間距離）、複数の液滴の配列や配置のタイミングおよび液体材料に対する基板表面の接触角等を制御することにより、液滴の乾燥速度を変化させることができる。
なお、液滴の乾燥速度を変化させる方法としては、上記の他に、温度や、湿度、気圧等の環境因子を制御したり、加熱手段や送風手段を用いたりしてもよい。
また、これらの制御手法は、必要に応じて、任意の２つ以上を組み合わせて用いることができる。
【００２９】
図５は、一定の乾燥条件下での、液滴からの液体（溶媒、分散媒等の液性成分）の蒸発量の時間積分を示す図である。
図５に示すように、乾燥の初期段階には、時間あたりの蒸発量が多い（図５に示すＡ部）。これは、基板上に液滴が配置された直後の乾燥初期においては、液滴の周囲の蒸気濃度が低く、液滴の乾燥速度（蒸発速度）が大きいからである。
その後、液滴の周囲（液体分子の平均自由工程距離分）が飽和濃度に達すると、液滴の乾燥速度は、蒸気の拡散速度に律速された定常状態となり（図５に示すＢ部）、乾燥初期に比べて遅くなる。
【００３０】
前述したように、基板上に配置された液滴は縁部（エッジ）において乾燥の進行が速い。そのため、乾燥の初期段階（図５に示すＡ部）には、液滴の縁部で液体（液性成分）が急速に蒸発し、固形分濃度が上昇する傾向にある。このとき、液滴の縁部における固形分濃度がゲル化点に達すると、上述したピニングが生じる。
本発明では、このような現象を制御することにより、目的とする形状（膜厚分布および外径）の乾燥膜を形成する。
図６〜図８は、それぞれ、ピニングを経て形成された乾燥膜の形状、すなわち、液滴の縁部において、中央部より早く液体材料のゲル化を生じさせて形成された乾燥膜の形状を示す図であり、右が平面図、左が断面図である。
なお、図６〜図８に示す乾燥膜は、乾燥過程における上記パラメータが互いに異なる。
【００３１】
＜図６に示す乾燥膜を形成する場合＞
まず、図６（ａ）に示すように、液滴を基板上に配置し、次いで、図６（ｂ）に示すように、液滴が拡径（底面積が増大）した後、ディピニングを利用して、図６（ｃ）に示すように、目的とする外径（サイズ：寸法）に縮径（底面積が減少）するまで乾燥する。
この液滴の縮径（ディピニング）は、例えば、液滴の乾燥速度をできるだけ小さくして、時間あたりの蒸発量の多い初期段階の乾燥を防ぐこと等により調整することができる。
【００３２】
次に、液滴が目的とする外径に至ったとき、図６（ｄ）に示すように、液滴にピニングを生じさせる。
ここで、ピニングが生じると、先の図１（ａ）に示したように、液滴内で、液滴の縁部で蒸発により失った分の液体を中央部から補う流れ、すなわち中央部から縁部に向かう液体の流れが形成される。この液体の流れは、上記パラメータに応じて変化する。
【００３３】
図６に示す乾燥膜は、乾燥時における液滴内で中央部から縁部への液体の流れが強く形成されるように上記パラメータを定めることにより形成されたものである。
先の図１（ａ）に示すように、ピニングが生じた後、液滴内で、中央部から縁部に向かう液体の流れが強く形成されると、この液体の流れに伴い、液滴の縁部に固形分が多く運ばれる。
【００３４】
液滴の縁部では、液体材料のゲル化に伴って粘弾性化が進行すること等により、液体の流れが滞留しやすく、固形分の高濃度状態が維持される。すなわち、中央部から縁部に向かう液体の流れに比べて、縁部から中央部に向かう液体の流れが弱くなる。
その結果、液滴の縁部において固形分が中央部より多くなり、乾燥膜の縁部の膜厚が厚くなる。
この場合、上記パラメータのうち、液体材料の固形分濃度が低いほど、また、乾燥速度が大きいほど、中央部から縁部に向かう液体の流れが強くなる。
【００３５】
したがって、液体材料の固形分濃度を低下させたり、乾燥速度を大きくしたりすることにより、液体材料のゲル化を制御して、乾燥膜の中央部に対する縁部の膜厚比を大きくすることができる。つまり、図６（ｅ）に示すように、縁部の厚い乾燥膜、すなわち、膜厚分布が目的とするものに制御された乾燥膜が形成される。
また、固形分が微粒子の場合、その微粒子の粒径が小さいほど、液体の流れに乗せて固形分を縁部に運びやすいために、乾燥膜の中央部の膜厚が薄くなりやすい。乾燥膜の中央部に対する縁部の膜厚比が大きくなることで、例えば、図６（ｅ）に示すように、リング状の乾燥膜が形成される。
【００３６】
＜図７に示す乾燥膜を形成する場合＞
図７に示す乾燥膜は、図６に示す乾燥膜を得る場合より、液滴内での中央部から縁部への液体の流れが弱くなるように上記パラメータを定めることにより形成されたものである。
上記パラメータのうち、液体材料の固形分濃度が高いほど、また、乾燥速度が小さいほど、中央部から縁部に向かう液体の流れが弱くなり、液滴の縁部に固形分が運ばれにくくなる。
また、固形分が微粒子の場合、その微粒子の粒径が大きいほど、固形分を液滴の中央部から縁部まで運びにくくなることから、乾燥膜の中央部の膜厚が薄くなりにくい。
その結果、図７に示すように、中央部と縁部とが同程度の膜厚の、ほぼ平坦な断面形状を有する乾燥膜が形成される。
【００３７】
＜図８に示す乾燥膜を形成する場合＞
図８に示す乾燥膜は、図７に示す乾燥膜を得る場合より、液滴内での中央部から縁部への液体の流れが弱くなるように上記パラメータを定めることにより形成されたものである。
図８に示す乾燥膜は、例えば、図６および図７に示す乾燥膜に比べて、液体材料の固形分濃度が高く、乾燥速度が小さく、固形分である微粒子の粒径が大きい。この場合、液滴の中央部から縁部への固形分の運搬が行われにくく、図８に示すように、乾燥膜の縁部に比べて中央部の膜厚が厚くなる。
【００３８】
このように、ピニングが生じる条件下において、上記パラメータ（液体材料の固形分濃度、液滴の乾燥速度）、あるいは、微粒子の粒径を変化させ、液体材料のゲル化を制御することにより、液滴の乾燥膜を様々な形状に制御することができる。
また、縁部の膜厚が厚いリング状の乾燥膜について、上記パラメータおよび微粒子の粒径を変化させることにより、縁部の盛り上がり部分の幅等を制御することが可能である。
具体的には、高濃度で微粒子の粒径が大きいほど、中央部から縁部に向かう液体の流れの影響を受けにくくなることから、膜形状が平坦に近づくとともに、縁部の盛り上がり部分の幅が狭くなる傾向を示す。
【００３９】
図９は、ピニングを経て形成された乾燥膜に関し、特に、リング状の膜について、液体材料の固形分濃度および微粒子の粒径を変化させた場合の膜形状の変化の様子を示す図である。
ここで、微粒子の粒径：（ａ）＜（ｂ）、であり、液体材料の固形分濃度：（ａ）＜（ｂ）である。
【００４０】
（ａ）の乾燥膜の外径をＷ１、縁部の厚さをｈ１、縁部の盛り上がり部分の幅をＬ１とし、（ｂ）の乾燥膜の外径をＷ２、縁部の厚さをｈ２、縁部の盛り上がり部分の幅をＬ２とするとき、Ｗ１＜Ｗ２、ｈ１＜ｈ２、Ｌ１＞Ｌ２であった。
なお、ピニングによる乾燥中の液滴上に、別の液滴を重ねて配置してもよい。この場合、乾燥中の液滴の液体分が増すことで、中央部から縁部への液体の流れが維持され、固形分が縁部にさらに運ばれる。そのため、縁部への固形分の移動が促進され、縁部の膜厚がさらに厚くなりやすい。
【００４１】
また、液体材料に対する基板表面の親和性を制御し、親和性が変化する境界部分をピニングの誘因として作用させてもよい。
また、基板上に配置された液体材料を加熱することや、液体材料を調製する溶媒または分散媒として低沸点のものを用いることにより、上記パラメータによる膜形状の変化が顕著になる。
【００４２】
図１０は、液滴の中央部において、縁部より早く液体材料のゲル化を生じさせて形成された乾燥膜の形状を示す図であり、右が平面図、左が断面図である。
まず、図１０（ａ）に示すように、液滴を基板上に配置し、次いで、図１０（ｂ）に示すように、液滴が拡径（底面積が増大）した後、ディピニングを利用して、図１０（ｃ）に示すように、液滴を縮径（底面積を減少）させる。
【００４３】
次に、液滴が目的の外径に至ったとき、図１０（ｄ）に示すように、液滴の中央部において、縁部より先に液体材料にゲル化を生じさせる。これにより、液滴の中央部が前記ピニングと同様の状態となる。
この状態で、図７に示す乾燥膜を形成する場合と同様にして、液滴内での縁部から中央部への液体の流れが弱くなるように上記パラメータを定めることにより、図１０（ｅ）に示すように、ほぼ平坦な横断面形状を有する乾燥膜を形成することができる。
【００４４】
図１１は、液滴の全体において、ほぼ同時に液体材料のゲル化を生じさせて形成された乾燥膜の形状を示す図であり、右が平面図、左が断面図である。
まず、図１１（ａ）に示すように、液滴を基板上に配置し、次いで、図１１（ｂ）に示すように、液滴が拡径（底面積が増大）した後、ディピニングを利用して、図１１（ｃ）に示すように、液滴を縮径（底面積を減少）させる。
【００４５】
次に、液滴が目的の外径に至ったとき、図１１（ｄ）に示すように、液滴の全体において、ほぼ同時に液体材料にゲル化を生じさせる。
ここで、先の図１（ｂ）に示すように、ディピニングによる乾燥過程では、蒸発に伴って液滴が収縮する（例えば、収縮比：１／２以下）。
この液滴の収縮過程では、液滴内で、中央部から縁部に向かう液体の流れと縁部から中央部に向かう流れとを含む対流が持続的に形成され、液滴内における局所的な固形分濃度の上昇が抑制されるとともに、液滴内の固形分濃度の均一化が図られる。
【００４６】
したがって、この状態で、液滴の全体において、ほぼ同時に液体材料にゲル化を生じさせると、液滴は、その収縮過程における形状を維持して粘弾性化した後、固化に至る。
その結果、図１１（ｅ）に示すように、乾燥膜は、その中央部と縁部とがほぼ同程度の膜厚となるか、縁部に比べて中央部の膜厚が若干大きい程度となる。
なお、図６、図１０および図１１において、（ｄ）から（ｅ）に至る過程において、液滴の外径が若干減少してもよい。
また、このような方法による膜形成では、乾燥過程において液滴を収縮させることから、基板上に極めて微小な膜を形成することが可能である。
【００４７】
この他、乾燥過程の液滴の収縮を利用して、例えば、密な構造の膜（コロイド結晶等）を形成する等、様々な特徴を有する膜を形成することができる。
また、このような方法による膜形成では、所定量の液滴について、液体材料の固形分濃度が高いほど、乾燥膜の径が大きくなる。逆に、液体材料の固形分濃度を低く抑えることにより、極めて微小な薄膜を形成することが可能である。この場合、基板上に配置可能な液滴量に下限がある場合にも、液体材料の固形分濃度を調整して、液体材料のゲル化を制御することによって、乾燥過程における液滴の収縮比を高め、基板上に極めて微小な乾燥膜を形成することができる。
【００４８】
以上説明したように、本発明の膜形成方法によれば、液体材料の固形分濃度および液滴の乾燥速度のうちの少なくとも一方を変化させ、液滴中の液体材料のゲル化を制御することにより、液滴の乾燥膜を様々な形状に制御することができる。その結果、基板上に所望の形状の膜を精度よく安定して形成することが可能となる。
したがって、この膜形成方法を用いて電子デバイスを製造することにより、デバイス品質の向上を図ることができる。
【００４９】
また、図６に示すリング状の乾燥膜は、他の材料の容器（バンク）あるいは土台として好ましく利用可能である。すなわち、リング状薄膜の縁部の内側に別の材料を配置する場合、縁部の盛り上がりが壁となって、材料の配置精度の向上が図られる。
また、図１０および図１１に示す乾燥膜は、いずれも、微細化や膜物性の向上が図られるので、様々な分野に応用可能である。
かかる乾燥膜は、例えば、半導体素子、ＴＦＴ素子、ＥＬ素子等の各種電子デバイスの高精細化に好ましく利用可能である。
【００５０】
また、液滴吐出法を用いて基板上に液滴を配置する場合、吐出可能な液滴量には下限があるものの、本発明の膜形成方法によれば、従来と同じ装置を用いても、着弾直後の液滴に比べて微小な膜を容易に形成することができる。この場合、従来の装置を用いて、フェムトリットル（ｆＬ）の液滴を吐出可能な装置と同等、もしくはそれ以上の微小な膜を形成することが可能である。
【００５１】
また、本発明の膜形成方法を用いて形成されるコロイド結晶膜は、高い伝導度や純粋な特性等から、有機ＥＬにおける薄膜、有機ＴＦＴにおける電極等に好ましく利用可能である。また、膜の結晶化が図られることにより、構造解析が容易になることから、バイオや製薬の分野におけるタンパク質等の構造解析にも利用可能である。また、光学部材としての利用も可能である。
【００５２】
以上説明したように、本発明の膜形成方法では、液体材料として、溶液および分散液のいずれも使用可能である。
ここで、用いる液体材料が溶液である場合、その溶質としては、例えば、樹脂材料、酸化物の前駆体、合金触媒の前駆体、タンパク質、アミノ酸、核酸、ホルモン類、糖類等の生体物質（生物関連物質）等が挙げられる。
一方、本発明で用いる液体材料が分散液である場合、その分散質としては、例えば、樹脂粒子、Ａｕ粒子、Ａｇ粒子のような金属粒子等が挙げられる。
なお、液体材料の調製に用いる溶媒または分散媒（液性成分）は、溶媒または分散媒の種類に応じて、適宜選択するようにすればよい。
【００５３】
次に、本発明の膜形成方法に好適に用いられる膜形成装置について説明する。
図１２は、本発明の膜形成方法に好適に用いられる膜形成装置の構成例を示す図である。
図１２において、膜形成装置１０は、ベース１１２と、ベース１１２上に設けられ、基板２０を支持する基板ステージ２２と、ベース１１２と基板ステージ２２との間に介在し、基板ステージ２２を移動可能に支持する第１移動装置（移動装置）１１４と、基板ステージ２２に支持されている基板２０に対して処理液体を吐出可能な液体吐出ヘッド２１と、液体吐出ヘッド２１を移動可能に支持する第２移動装置１１６と、液体吐出ヘッド２１の液滴の吐出動作を制御する制御装置２３とを備えている。
さらに、膜形成装置１０は、ベース１１２上に設けられている重量測定装置としての電子天秤（図示せず）と、キャッピングユニット２５と、クリーニングユニット２４とを有している。
また、第１移動装置１１４および第２移動装置１１６を含む膜形成装置１０の動作は、制御装置２３によって制御される。
【００５４】
第１移動装置１１４はベース１１２の上に設置されており、Ｙ方向に沿って位置決めされている。
第２移動装置１１６は、支柱１６Ａ、１６Ａを用いてベース１１２に対して立てて取り付けられており、ベース１１２の後部１２Ａにおいて取り付けられている。
第２移動装置１１６のＸ方向（第２の方向）は、第１移動装置１１４のＹ方向（第１の方向）と直交する方向である。
ここで、Ｙ方向はベース１１２の前部１２Ｂと後部１２Ａ方向に沿った方向である。これに対してＸ方向はベース１１２の左右方向に沿った方向であり、各々水平である。また、Ｚ方向はＸ方向およびＹ方向に垂直な方向である。
【００５５】
第１移動装置１１４は、例えばリニアモータによって構成され、ガイドレール１４０、１４０と、このガイドレール１４０に沿って移動可能に設けられているスライダー１４２とを備えている。このリニアモータ形式の第１移動装置１１４のスライダー１４２は、ガイドレール１４０に沿ってＹ方向に移動して位置決め可能である。
また、スライダー１４２はＺ軸回り（θＺ）用のモータ１４４を備えている。このモータ１４４は、例えばダイレクトドライブモータであり、モータ１４４のロータは基板ステージ２２に固定されている。
これにより、モータ１４４に通電することでロータと基板ステージ２２とは、θＺ方向に沿って回転して基板ステージ２２をインデックス（回転割り出し）することができる。すなわち、第１移動装置１１４は、基板ステージ２２をＹ方向（第１の方向）およびθＺ方向に移動可能である。
基板ステージ２２は基板２０を保持し、所定の位置に位置決めするものである。
また、基板ステージ２２は図示しない吸着保持装置を有しており、吸着保持装置が作動することにより、基板ステージ２２の穴４６Ａを通して基板２０を基板ステージ２２の上に吸着して保持する。
【００５６】
第２移動装置１１６はリニアモータによって構成され、支柱１６Ａ、１６Ａに固定されたコラム１６Ｂと、このコラム１６Ｂに支持されているガイドレール６２Ａと、ガイドレール６２Ａに沿ってＸ方向に移動可能に支持されているスライダー１６０とを備えている。
スライダー１６０はガイドレール６２Ａに沿ってＸ方向に移動して位置決め可能であり、液体吐出ヘッド２１はスライダー１６０に取り付けられている。
【００５７】
液体吐出ヘッド２１は、揺動位置決め装置としてのモータ６２、６４、６７、６８を有している。
モータ６２を作動すれば、液体吐出ヘッド２１は、Ｚ軸に沿って上下動して位置決め可能である。このＺ軸はＸ軸とＹ軸に対して各々直交する方向（上下方向）である。
モータ６４を作動すると、液体吐出ヘッド２１は、Ｙ軸回りのβ方向に沿って揺動して位置決め可能である。
【００５８】
モータ６７を作動すると、液体吐出ヘッド２１は、Ｘ軸回りのγ方向に揺動して位置決め可能である。
モータ６８を作動すると、液体吐出ヘッド２１は、Ｚ軸回りのα方向に揺動して位置決め可能である。
すなわち、第２移動装置１１６は、液体吐出ヘッド２１をＸ方向（第１の方向）およびＺ方向に移動可能に支持するとともに、この液体吐出ヘッド２１をθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向に移動可能に支持する。
【００５９】
このように、図１２の液体吐出ヘッド２１は、スライダー１６０において、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置決め可能であり、液体吐出ヘッド２１の液滴吐出面１１Ｐは、基板ステージ２２側の基板２０に対して正確に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。
なお、液体吐出ヘッド２１の液滴吐出面１１Ｐには液滴を吐出する複数のノズルが設けられている。
【００６０】
液体吐出ヘッド２１は、いわゆる液体吐出方式（液滴吐出方式）により、液体材料（レジスト）をノズルから吐出するものである。
液体吐出方式としては、圧電体素子としてのピエゾ素子を用いてインクを吐出させるピエゾ方式、液体材料を加熱し発生した泡（バブル）により液体材料を吐出させる方式等、公知の種々の技術を適用できる。
このうち、ピエゾ方式は、液体材料に熱を加えないため、材料の組成等に影響を与えないという利点を有する。なお、本実施形態では、上記ピエゾ方式を用いる。
【００６１】
図１３は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。
図１３において、液体材料を収容する液室３１に隣接してピエゾ素子３２が設置されている。
液室３１には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系３４を介して液体材料が供給される。
【００６２】
ピエゾ素子３２は駆動回路３３に接続されており、この駆動回路３３を介してピエゾ素子３２に電圧が印加される。ピエゾ素子３２を変形させることにより、液室３１が変形し、ノズル３０から液体材料が吐出される。
このとき、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子３２の歪み量が制御され、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子３２の歪み速度が制御される。すなわち、液体吐出ヘッド２１では、ピエゾ素子３２への印加電圧の制御により、ノズル３０からの液体材料の吐出の制御が行われる。
【００６３】
図１２に戻り、電子天秤（図示せず）は、液体吐出ヘッド２１のノズルから吐出された液滴の一滴の重量を測定して管理するために、例えば、液体吐出ヘッド２１のノズルから、５０００滴分の液滴を受ける。
電子天秤は、この５０００滴の液滴の重量を５０００の数字で割ることにより、一滴の液滴の重量を正確に測定することができる。
この液滴の測定量に基づいて、液体吐出ヘッド２１から吐出する液滴の量を最適にコントロールすることができる。
【００６４】
クリーニングユニット２４は、液体吐出ヘッド２１のノズル等のクリーニングをデバイス製造工程中や待機時に定期的にあるいは随時に行うことができる。
キャッピングユニット２５は、液体吐出ヘッド２１の液滴吐出面１１Ｐが乾燥しないようにするために、デバイスを製造しない待機時にこの液滴吐出面１１Ｐにキャップをかぶせるものである。
【００６５】
液体吐出ヘッド２１が第２移動装置１１６によりＸ方向に移動することで、液体吐出ヘッド２１を電子天秤、クリーニングユニット２４あるいはキャッピングユニット２５の上部に選択的に位置決めさせることができる。
つまり、デバイス製造作業の途中であっても、液体吐出ヘッド２１をたとえば電子天秤側に移動すれば、液滴の重量を測定できる。
【００６６】
また、液体吐出ヘッド２１をクリーニングユニット２４上に移動すれば、液体吐出ヘッド２１のクリーニングを行うことができる。
また、液体吐出ヘッド２１をキャッピングユニット２５の上に移動すれば、液体吐出ヘッド２１の液滴吐出面１１Ｐにキャップを取り付けて乾燥を防止する。
つまり、これら電子天秤、クリーニングユニット２４およびキャッピングユニット２５は、ベース１１２上の後端側で、液体吐出ヘッド２１の移動経路直下に、基板ステージ２２と離間して配置されている。
基板ステージ２２に対する基板２０の給材作業および排材作業はベース１１２の前端側で行われるため、これら電子天秤、クリーニングユニット２４あるいはキャッピングユニット２５により作業に支障を来すことはない。
【００６７】
図１２に示すように、基板ステージ２２のうち、基板２０を支持する以外の部分には、液体吐出ヘッド２１が液滴を捨打ち、または試し打ち（予備吐出）するための予備吐出エリア（予備吐出領域）１５２が、クリーニングユニット２４と分離して設けられている。
この予備吐出エリア１５２は、図１２に示すように、基板ステージ２２の後端部側においてＸ方向に沿って設けられている。
この予備吐出エリア１５２は、基板ステージ２２に固着され、上方に開口する断面凹字状の受け部材と、受け部材の凹部に交換自在に設置されて、吐出された液滴を吸収する吸収材とから構成されている。
【００６８】
基板２０としては、ガラス基板、シリコン基板、石英基板、セラミックス基板、金属基板、プラスチック基板、プラスチックフィルム基板等の各種のものを用いることができる。また、これら各種の素材基板の表面に半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜等が下地層として形成されたものも含まれる。また、上記プラスチックとしては、例えば、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン等が用いられる。
なお、上記膜形成装置では、液体吐出ヘッドから吐出された液滴が基板上に配置されると、基板ステージの移動等によって液滴の乾燥速度を制御する。液滴の乾燥方法はこれに限定されず、例えば、ランプアニール等の乾燥手段を用いて液滴の乾燥を行ってもよい。
【００６９】
図１４は、本発明の膜形成方法を適用した膜パターン形成方法を示す図である。
図１４（ａ）〜（ｃ）には、膜パターン形成方法の一例として、上述した膜形成装置１０を用いて、基板上に線状の膜パターンを形成する方法の手順の一例を示している。
この膜パターン形成方法では、吐出ヘッド２１から液体材料を液滴にして吐出し、その液滴を一定の距離（ピッチ）ごとに基板２０上に配置する。そして、この液滴の配置動作を繰り返すことにより、基板２０上に線状の膜パターンを形成する。
具体的には、まず、図１４（ａ）に示すように、吐出ヘッド２１から吐出した液滴Ｌ１を、一定の間隔をあけて基板２０上に順次配置する。
【００７０】
基板２０上に液滴Ｌ１を配置した後、液体（溶媒、分散媒等の液性成分）の除去を行うために、乾燥処理を行う。
乾燥処理は、例えばホットプレート、電気炉、熱風発生機、ランプアニール等の加熱手段を用いた一般的な加熱処理の他に、基板２０を搭載したステージを移動させることにより行ってもよい。
また、本実施形態では、上述したように、液体材料の固形分濃度および液滴の乾燥速度のうちの少なくとも一方をパラメータとして、液体材料のゲル化を制御することにより、液滴の乾燥膜の形状を制御する。
【００７１】
次に、図１４（ｂ）に示すように、上述した液滴の配置動作を繰り返す。
すなわち、図１４（ａ）に示した前回と同様に、吐出ヘッド２１から液体材料を液滴Ｌ２にして吐出し、その液滴Ｌ２を一定距離ごとに基板２０に配置する。
このとき、液滴Ｌ２の量（１滴あたりの液体材料の量）およびその配置ピッチＰ２は前回の液滴Ｌ１と同じである。
【００７２】
また、液滴Ｌ２の配置位置を前回の液滴Ｌ１から所定距離Ｓ１だけシフトさせる。すなわち、基板２０上に配置された前回の液滴Ｌ１の中心位置と、今回の液滴Ｌ２の中心位置とは上記距離Ｓ１だけ離れた位置関係となる。
このシフト量Ｓ１は、本実施形態では、上記ピッチＰ１、Ｐ２よりも狭く（Ｓ１＜Ｐ１＝Ｐ２）、かつ先に基板２０に配置された液滴Ｌ１に次の液滴Ｌ２が一部重なるように定められている。
また、このとき、今回の液滴Ｌ２と前回の液滴Ｌ１とが接するが、前回の液滴Ｌ１はすでに液体分が完全にまたはある程度除去されているので、両者が合体して基板２０上で広がるのを抑制することができる。
【００７３】
液滴Ｌ２を基板２０上に配置した後、液体分の除去を行うために、前回と同様に、乾燥処理を行う。
この後、図１４（ｃ）に示すように、上述した液滴の配置動作を複数回繰り返す。
各回において、配置する液滴Ｌｎ同士の距離間隔（ピッチＰｎ）は、最初の回の距離と同じ（ピッチＰｎ＝Ｐ１）で、常に一定である。
また、液滴の配置動作を複数回繰り返す際、各回ごとに、液滴Ｌｎの配置を開始する位置を、前回の液滴が配置された位置から所定距離だけずらす。
この液滴の配置動作の繰り返しにより、基板２０上に配置された液滴同士の隙間が埋まり、線状の連続したパターンが形成される。
【００７４】
また、基板上に形成される膜パターンは、常に同じピッチによる液滴配置によって形成され、全体がほぼ等しい形成過程を経ているため、構造が均質なものとなる。
このような膜パターン形成方法では、液体材料のゲル化を制御して、液滴の乾燥膜の形状を制御することから、基板上に所望の形状の膜パターンを精度よく安定して形成することができる。
なお、線状の膜パターン形成方法は、図１４（ａ）〜（ｃ）に示したものに限定されない。例えば、液滴の配置ピッチや、繰り返しの際のシフト量等は任意に設定可能である。
このような膜パターン形成方法によれば、基板に所望の膜パターンが形成されてなる各種デバイスを製造することができる。
【００７５】
図１５は、本発明のデバイス製造方法を用いて製造されたカラーフィルタを搭載した液晶表示装置（電気光学装置）の構成を例示する斜視図である。
本実施形態に係る液晶表示装置４００は、液晶駆動用ＩＣ（図示せず）、配線類（図示せず）、光源４７０、支持体（図示せず）等の付帯要素が装着されている。
液晶表示装置４００の構成を簡単に説明する。
【００７６】
液晶表示装置４００は、電気光学装置の一種であり、互いに対向するように配置された、カラーフィルタ４６０およびガラス基板４１４と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ４６０の上面側（観察者側）に付設された偏光板４１６と、ガラス基板４１４の下面側に付設された図示略の偏光板とを主体として構成されている。
カラーフィルタ４６０は透明なガラスを主材料として構成される基板４６１を具備し、観察者側に設けられた基板であり、ガラス基板４１４はその反対側に設けられる透明な基板である。
【００７７】
基板４６１の下側には、黒色感光性樹脂膜で構成される隔壁４６２と、着色部４６３およびオーバーコート層４６４が順次形成され、さらにオーバーコート層４６４の下側に駆動用の電極４１８が形成されている。
なお、実際の液晶装置においては、電極４１８を覆って液晶層側と、ガラス基板４１４側の後述する電極４３２上に、配向膜が設けられるが、ここではその図示および説明を省略する。
【００７８】
カラーフィルタ４６０の液晶層側に形成された液晶駆動用の電極４１８は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料を、オーバーコート層４６４の全面に形成させたものである。
ガラス基板４１４上には、絶縁層４２５が形成され、この絶縁層４２５の上には、スイッチング素子としてのＴＦＴ（Thin Film Transistor）と、画素電極４３２とが形成されている。
【００７９】
ガラス基板４１４上に形成された絶縁層４２５上には、マトリクス状に走査線４５１と、信号線４５２とが形成され、走査線４５１と信号線４５２とに囲まれた領域毎に画素電極４３２が設けられている。
各画素電極４３２のコーナー部分と走査線４５１と信号線４５２との間部分にはＴＦＴが組み込まれており、走査線４５１と信号線４５２に対する信号の印加によってＴＦＴはオンまたはオフの状態となって画素電極４３２への通電が制御される。
【００８０】
図１６は、上記液晶表示装置（電気光学装置）を用いた電子機器の一例である携帯電話機の構成を例示する斜視図である。
図１６において、携帯電話機９２は、複数の操作ボタン９２１のほか、受話口９２２、送話口９２３とともに、上述した液晶表示装置（電気光学装置）４００を備えるものである。
【００８１】
なお、本発明のデバイス製造方法は、電気光学装置に用いられるカラーフィルタのパターニングに限定されず、次のような様々な膜パターンの形成に用いることができる。例えば、有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）表示パネルに含まれる有機ＥＬ層や、正孔注入層等の薄膜形成に用いることができる。
有機ＥＬ層を形成する場合には、例えばポリチオフェン系の導電性高分子等の有機ＥＬ材料を含む液滴を、基板上に形成された隔壁により仕切られる領域に向けて吐出し、液滴をその領域に配置する。このように配置された液体材料が乾燥することにより、有機ＥＬ層が形成される。
【００８２】
また、その他の本発明のデバイス製造方法の適用例としては、プラズマディスプレイに含まれる透明電極の補助配線や、ＩＣ（integrated circuit）カード等に含まれるアンテナ等のデバイスの形成等がある。具体的には、テトラデカン等の有機溶液に、銀微粒子等の導電性微粒子を混合した溶液を液滴吐出装置を用いてパターニングした後、有機溶液が乾燥すると、金属薄膜層が形成される。
【００８３】
上記以外にも、本発明のデバイス製造方法は、例えば、立体造形に用いられる熱硬化樹脂や、紫外線硬化樹脂等の他、マイクロレンズアレイ材料、また、ＤＮＡ（deoxyribonucleic acid）やタンパク質といった生体物質等の様々な材料の配置にも用いることが可能である。
また、電子機器としては、携帯電話機の他にも、コンピュータや、プロジェクタ、デジタルカメラ、ムービーカメラ、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、車載機器、複写機、オーディオ機器等が挙げられる。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明のゲル化制御方法を適用した膜形成方法における代表的な液滴の乾燥過程を模式的に示す図である。
【図２】基板上に複数の液滴を配置した例を示す図である。
【図３】複数の液滴の配列例を示す図である。
【図４】液体材料に対する基板表面の接触角（静的接触角）が互いに異なる場合の液滴の様子を示す図である。
【図５】一定の乾燥条件下での、液滴からの液体の蒸発量の時間積分を示す図である。
【図６】ピニングを経て形成された乾燥膜の形状を示す図である。
【図７】ピニングを経て形成された乾燥膜の形状を示す図である。
【図８】ピニングを経て形成された乾燥膜の形状を示す図である。
【図９】ピニングを経て形成された乾燥膜に関し、特に、リング状の膜について、液体材料の固形分濃度および液滴径を変化させた場合の膜形状の変化の様子を示す図である。
【図１０】液滴の中央部において、縁部より早く液体材料のゲル化を生じさせて形成された乾燥膜の形状を示す図である。
【図１１】液滴の全体において、ほぼ同時に液体材料のゲル化を生じさせて形成された乾燥膜の形状を示す図である。
【図１２】本発明の膜形成方法に好適に用いられる膜形成装置の構成例を示す図である。
【図１３】ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。
【図１４】本発明の膜形成方法を適用した膜パターン形成方法を示す図である。
【図１５】本発明のデバイス製造方法を用いて製造されたカラーフィルタを搭載した液晶表示装置（電気光学装置）の構成を例示する斜視図である。
【図１６】液晶表示装置（電気光学装置）を用いた電子機器の一例である携帯電話機の構成を例示する斜視図である。
【符号の説明】
【００８５】
１０……膜形成装置  １１Ｐ……液滴吐出面  １１２……ベース  １１４……第１移動装置  １１６……第２移動装置  １２Ａ……後部  １２Ｂ……前部  １６Ａ……支柱  １６Ｂ……コラム  １４０……ガイドレール  １４２……スライダー  １４４……モータ  １５２……予備吐出エリア  １６０……スライダー  ２０…基板  ２１…液体吐出ヘッド  ２２…基板ステージ  ２３……制御装置  ２４……クリーニングユニット  ２５……キャッピングユニット  ３０……ノズル  ３１……液室  ３２……ピエゾ素子  ３３……駆動回路  ３４……液体材料供給系  ４６Ａ……穴  ６２Ａ……ガイドレール  ６２、６４、６７、６８……モータ  ４００……液晶表示装置  ４１４……ガラス基板  ４１６……偏光板  ４１８……電極  ４２５……絶縁層  ４３２……電極（画素電極）  ４５１……走査線  ４５２……信号線  ４６０……カラーフィルタ  ４６１……基板  ４６２……隔壁  ４６３……着色部  ４６４……オーバーコート層  ４７０……光源  ９２……携帯電話機  ９２１……操作ボタン  ９２２……受話口  ９２３……送話口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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