(57)【要約】【課題】  使用により光量が減少する光源を用いた電子内視鏡システムにおいて被写体への照明光の光量を一定のレベルに保つ。【解決手段】  プロセッサ３０は絞り５０、光量センサ４０、絞り駆動回路３９、およびモータ３８を備える。絞り５０をキセノンランプ３２とライトガイド２２の間に設ける。絞り５０の開口率は変更可能である。光量センサ４０はキセノンランプ３２から供給される光の光量を測定する。絞り駆動回路３９は光量センサ４０により測定される光量に基づいて駆動信号をモータ３８に出力する。モータ３８は絞り駆動回路３９から出力される駆動信号に基づいて動作して絞り５０の開口率を変更する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から発光された光をライトガイドの入射端に導くための光路に設けられ開口率が変更自在である絞りと、
前記光路に対して所定の位置に配置され、前記絞りを通過した光の光量を検出する光量検出手段と、
前記光量検出手段により検出された前記光量に応じて前記絞りの開口率を大きくする絞り駆動手段と
を備えたことを特徴とする電子内視鏡の絞り制御装置。
【請求項２】
前記絞りと前記ライトガイドの間において前記光路を通過させる開口が設けられた光束規制部材を備え、前記光量検出手段が前記光束規制部材の前記絞り側の面の前記開口近傍の位置に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の絞り制御装置。
【請求項３】
前記光量検出手段が検出する光量が、所定の範囲の下限値を下回り、かつ前記絞りの開口率を大きくしても前記所定の範囲の上限値を下回る場合に、前記絞りの開口率を大きくすることを特徴とする請求項２に記載の絞り制御装置。
【請求項４】
前記光源と前記絞りの間において前記光源から見て前記絞りにおける前記光路に位置する前記開口の範囲外に設けられた保持部材を備え、前記光量検出手段が、前記保持部材の前記光源側の前記光路近傍の位置に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の絞り制御装置。
【請求項５】
前記絞り駆動手段が前記絞りの開口率を段階的に大きくすることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の絞り制御装置。
【請求項６】
前記絞りの中心から外周の間において前記中心を軸とした回転方向に沿って同一の開口面積である孔が複数設けられ、前記孔の各々にメッシュの異なる網部材が設けられ、前記絞りが前記中心を軸に回動して前記孔のいずれかが前記光路に位置するように制御されることを特徴とする請求項５に記載の絞り制御装置。
【請求項７】
前記絞りの中心から外周の間において前記中心を軸とした回転方向に沿って開口面積が変化する孔が複数設けられ、前記絞りが前記中心を軸に回動して前記孔のいずれかが前記光路に位置するように制御されることを特徴とする請求項５に記載の絞り制御装置。
【請求項８】
前記電子内視鏡が初期化入力手段を備え、前記初期化入力手段により初期化の入力が行われた時に前記絞り駆動手段が前記絞りの開口率を初期化することを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の絞り制御装置。
【請求項９】
前記光源がキセノンランプであることを特徴とする請求項１に記載の絞り制御装置。
【請求項１０】
前記電子内視鏡が、電子シャッタ機能を有する撮像手段と、前記電子シャッタ機能を制御して画像の明るさの自動調整を行う制御手段とを備えたことを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の絞り制御装置。
【請求項１１】
光源と、
前記光源から出力された光を被写体像に伝送するライトガイドと、
前記光源から出力された光を前記ライトガイドの入射端に導くための光路に設けられ開口率が変更自在である絞りと、
前記光路に対して所定の位置に配置され、前記絞りを通過した光の光量を検出する光量検出手段と、
前記光量検出手段により検出された前記光量に応じて前記絞りの開口率を大きくする絞り駆動手段と
を備えたことを特徴とする電子内視鏡システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子内視鏡システムにおける光源の絞り制御に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来使用されている電子内視鏡システムでは、画像の明るさの自動調整は、絞りによる照明用光源の照射光量調整機能や撮像素子（例えばＣＣＤ）の電子シャッタ機能の一方あるいは両方の機能により行われていた（特許文献１参照）。絞りによる照射光量調整については電子シャッタ機能に比べて制御が難しく、構造が複雑となる。一方、電子シャッタ機能については構造を簡単にできるという優位性はあるが、被写体へ供給される照明光が不十分である場合、シャッタ速度を長くする必要があるため静止画像にブレが生じることがある。
【０００３】
ところで近年光源に採用されているキセノンランプの光量は従来使用されていたハロゲンランプに比べて大きい。したがって、キセノンランプを使用した電子内視鏡装置において電子シャッタのみにより画像の明るさの調整を行うものが一般的である。一方でキセノンランプは光量が大きいので、キセノンランプから出力される光を被写体にそのまま照射すると熱傷等の発生する恐れもある。それゆえ、現状では固定した絞りにより照射光量を制限して熱傷等の発生を防いでいる。
【０００４】
このような構造の電子内視鏡システムは調光の制御も簡易であり、高速シャッタを切れることで優れている。しかし、キセノンランプは使用により劣化して光量が減少する。したがって長く使用して光量が減少すると、画像の明るさの自動調整によりシャッタ速度が長くなる傾向となり、上述したように鮮明な静止画像を撮ることができなくなる。そのため、この光量減少を見計らって一定期間使用後にキセノンランプを交換する必要があった。
【特許文献１】特開平１０−０８５１７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、本発明ではキセノンランプを使用した場合において被写体に対して常に充分な光量を供給可能とする絞り制御装置を備えた電子内視鏡システムの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の電子内視鏡の絞り制御装置は、光源から発光された光をライトガイドの入射端に導くための光路に設けられ開口率が変更自在である絞りと、光路に対して所定の位置に配置され絞りを通過した光の光量を検出する光量検出手段と、光量検出手段により検出された光量に応じて絞りの開口率を大きくする絞り駆動手段とを備えることを特徴としている。
【０００７】
絞りとライトガイドの間において光路を通過させる開口が設けられた光束規制部材を備え、光量検出手段が光束規制部材の絞り側の面の開口近傍の位置に配置されることが好ましく、光量検出手段が検出する光量が所定の範囲の下限値を下回り、かつ絞りの開口率を大きくしても所定の範囲の上限値を下回る場合に、絞りの開口率を大きくすることが好ましい。
【０００８】
光源と絞りの間において光源から見て絞りにおける光路に位置する開口の範囲外に設けられた保持部材を備え、光量検出手段が保持部材の光源側の光路近傍の位置に配置されることが好ましい。また、絞り駆動手段が絞りの開口率を段階的に大きくすることが好ましい。
【０００９】
絞りの中心から外周の間において中心を軸とした回転方向に沿って同一の開口面積である孔が複数設けられ、孔の各々にメッシュの異なる網部材が設けられ、絞りが中心を軸に回動して孔のいずれかが光路に位置するように制御されること、あるいは絞りの中心から外周の間において中心を軸とした回転方向に沿って開口面積が変化する孔が複数設けられ、絞りが中心を軸に回動して孔のいずれかが光路に位置するように制御されることが好ましい。
【００１０】
電子内視鏡が初期化入力手段を備え、初期化入力手段により初期化の入力が行われた時に絞り駆動手段が絞りの開口率を初期化することが好ましい。また光源はキセノンランプであることが好ましい。電子内視鏡は、電子シャッタ機能を有する撮像手段と、電子シャッタ機能を制御して画像の明るさの自動調整を行う制御手段とを備えることが好ましい。
【００１１】
また、本発明の電子内視鏡システムは、光源と、光源から出力された光を被写体像に伝送するライトガイドと、光源から出力された光をライトガイドの入射端に導くための光路に設けられ開口率が変更自在である絞りと、光路に対して所定の位置に配置され絞りを通過した光の光量を検出する光量検出手段と、光量検出手段により検出された光量に応じて絞りの開口率を大きくする絞り駆動手段とを備えることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば被写体に供給する照明光の光量を熱傷などの発生を防ぐ為に制限しながら、常に一定のレベル以上に保持できる。したがって、キセノンランプの光量が減少したときにおいても高速シャッタを用いて鮮明な被写体像を撮像することが可能となる。よって、キセノンランプの交換時期を長期化することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００１４】
図１は、本発明の第１の実施形態である絞り制御装置を備えた電子内視鏡システムの全体構成図である。電子内視鏡システム１０は、内視鏡２０、プロセッサ３０、モニタ６０により構成される。
【００１５】
内視鏡２０には、撮像素子２１とライトガイド２２とが備えられる。撮像素子２１は例えば画像の明るさの自動調整のための電子シャッタ機能を有するＣＣＤである。撮像素子２１は内視鏡２０の挿入部２３の先端に配置され、内視鏡２０がプロセッサ３０に接続されると、プロセッサ３０内に設けられた信号処理回路３１に電気的に接続される。
【００１６】
プロセッサ３０内に設けられた光源であるキセノンランプ３２からの照射光はライトガイド２２の入射端２２ａに入射され、ライトガイド２２の出射端２２ｂから照射される。
【００１７】
撮像素子２１は、キセノンランプ３２からライトガイド２２を介して伝送された光が照射された被写体（図示せず）の画像を撮像する。撮像素子２１において撮像された画像は画像信号として信号処理回路３１に送られ、画像信号に対して一定の処理が行われる。
【００１８】
信号処理回路３１はモニタ６０に接続されており、モニタ６０では被写体の画像が表示される。また、信号処理回路３１は、撮像素子２１から得られた画像信号に基づいて撮像素子２１の電子シャッタ機能を制御して、モニタ６０に表示される被写体の画像の明るさを調整する。
【００１９】
キセノンランプ３２から出力された光をライトガイド２２の入射端２２ａに導くための光路中に絞り５０、赤外カットフィルタ３３、集光レンズ３４およびアパーチャ３５が設けられる。キセノンランプ３２から照射された略平行な光束の光は絞り５０で光量が制限され、赤外カットフィルタ３３により光中の赤外光成分が除去され、集光レンズ３４で集光され、アパーチャ３５に設けられた開口部３６を通過して入射端２２ａに入射される。
【００２０】
図２に示すように、絞り５０は円板部材であり、絞り５０の中心が所定位置に軸支され、該中心から外周の間において回転方向に沿って順番に同一の開口面積である孔５１ａ〜５１ｄが設けられる。孔５１ａ〜５１ｄはキセノンランプ３２に設けられた反射鏡３７を正面から見た面積（符号Ｂ）、すなわち、キセノンランプ３２から照射された光束の断面積よりやや大きく形成される。
【００２１】
孔５１ａ〜５１ｄそれぞれの全体はメッシュの異なる網部材５２ａ〜５２ｄにより覆われる。なお、メッシュとは網の目の大きさを表すものであり、異なるメッシュの網目部材を用いることにより、孔５１ａ〜５１ｄの開口率を調節可能である。
【００２２】
網部材５２ａが設けられた孔５１ａの開口面積、すなわち、光が通過する領域の面積は孔５１ａそのものの開口面積に対し開口率が５０％となるように定められる。同様に網部材５２ｂを設けられた孔５１ｂ、網部材５２ｃを設けられた孔５１ｃ、および網部材５２ｄを設けられた孔５１ｄの各開口面積は孔５１ｂ、５１ｃ、５１ｄそのものの各開口面積に対し開口率がそれぞれ６０、６５、７０％となるように定められる。絞り５０を円の中心を軸に段階的に回動させて孔５１ａ〜５１ｄのいずれかが照射光路中に位置することにより、上記の値のように開口率が変更自在である。
【００２３】
図１に示すように、中心と外周の間において絞り５０が、キセノンランプ３２から照射される光束の光路と交わり、回動自在な構成となるように配置される。絞り５０はモータ３８により段階的に駆動され、絞り５０の開口率が調節される。モータ３８は絞り駆動回路３９に接続され、その動作が制御される。
【００２４】
図３に示すように、アパーチャ３５の開口部３６の形状は、集光レンズ３４からライトガイド２２の入射端２２ａに導かれるまでの光路の照明光を通過させるように定められる。絞り５０を通過した光の光量を検出する光量センサ４０を、アパーチャ３５の開口部３６の近傍であり絞り５０側の面に保持させる。したがって、光量センサ４０は光路に対して所定の位置に設けられる。なお、光量センサ４０は光路から漏れる光を検出する。
【００２５】
光量センサ４０は絞り駆動回路３９に接続される（図１参照）。絞り駆動回路３９は、光量センサ４０で検出される光量に応じて、絞り５０の開口率を大きくするようにモータ３８を動作させる。
【００２６】
本実施形態においては、キセノンランプ３２使用前の初期設定において、絞り５０の開口率が初期設定開口率である５０％に設定される。また入射端２２ａに入射される光の光量に対応した光量センサ４０で検出される光量Ｌとして適切な範囲（Ｄ1≦Ｌ≦Ｕ1）が定められ、絞り駆動回路３９に接続されたＲＯＭ（図示せず）に格納される。
【００２７】
光量センサ４０で検出する光量Ｌが下限値の設定光量Ｄ1を下回るときに開口率が第１の設定開口率である６０％に変更される。したがって、開口率変更後に光量センサ４０が検出する光量は一旦大きくなる。ここで検出光量が上限値の設定光量Ｕ1を超える場合は一旦絞り５０の開口率が５０％に戻される。
【００２８】
絞り駆動回路３９にはタイマ（図示せず）が内蔵されており開口率を戻して所定時間経過後に再び絞り５０の開口率を６０％に変更するようにモータ３８を駆動する。このとき光量が上限値の設定光量Ｕ1を超える場合、再度開口率は５０％に戻され、同様の制御が行われる。すなわち、光量センサ４０により検出される光量がＤ1を下回り、かつ絞り５０の開口率を大きくしたときの光量センサ４０により検出される光量がＵ1を下回る場合に、絞り５０の開口率を大きくなるように制御される。
【００２９】
絞り５０の開口率を第１の設定開口率である６０％に変更した後、時間の経過とともに光量は減少する。再び、光量が下限値の設定光量Ｄ1未満に減少したときに絞り５０の開口率が第２の設定開口率である６５％に変更される。
【００３０】
このように光量が下限値の設定光量未満になるたびに絞り５０は回転して、もともと光路に位置していた網目部材５２ａ〜５２ｄが被せられた孔５１ａ〜５１ｄの開口率が一段階大きくなるように制御される。したがって、センサ４０により検出される光量が上限値の設定光量Ｕ1を下回る範囲でできるだけ下限値の設定光量Ｄ1以上の光量を維持するように絞り５０の開口率が調節される。
【００３１】
絞り駆動回路３９に接続されたキーボード４１のリセットキー（図示せず）あるいはリセット釦４２の入力により絞り駆動回路３９はモータ３８を駆動して光路中に孔５１ａを配置させる。したがってキセノンランプ３２を交換したときにはキーボード４１のリセットキーあるいはリセット釦４２の入力により絞り５０の開口率を初期設定である５０％に戻すことが可能である。
【００３２】
図４のフローチャートを参照して、電子内視鏡システム１０における絞り制御の処理について説明する。ステップＳ１００においてキーボード４１のリセットキーあるいはリセット釦４２からの絞り５０の開口率を初期化するための手動リセット入力があるか否かチェックされる。手動リセット入力が確認された場合はステップＳ１０１に進み、絞り５０の開口率を初期化する。すなわち、開口率を初期設定開口率である５０％にする。
【００３３】
ステップＳ１００で初期化の入力が確認されなかった場合あるいはステップＳ１０１の処理後ステップＳ１０２に進む。ステップＳ１０２において光量センサ４０により検出された光量を絞り駆動回路３９が読込み、ステップＳ１０３に進む。ステップＳ１０３において検出光量が下限値の設定光量Ｄ1を下回るか否かを判断する。Ｄ1を下回らない場合はステップＳ１０２に戻る。すなわち光量がＤ1を下回るまで、ステップＳ１０２、ステップＳ１０３の処理が繰返される。
【００３４】
ステップＳ１０３において光量が下限値の設定光量Ｄ1を下回る場合はステップＳ１０４に進み、開口率を１段階大きな設定開口率に変更する信号をモータ３８に出力する。すなわち、絞り５０の開口率が５０％、６０％、６５％である場合にそれぞれ６０％、６５％、７０％に変更し、次にステップＳ１０５に進む。
【００３５】
ステップＳ１０５では、検出した光量を読込む。次にステップＳ１０６に進み、光量が上限値の設定光量Ｕ1を超えるか否か判断する。Ｕ1を超えてない場合は終了する。ステップＳ１０６において光量が上限値の設定光量Ｕ1を超えている場合はステップＳ１０７に進み、絞り５０の開口率を１段階小さな設定開口率に戻す信号をモータ３８に出力する。
【００３６】
次にステップＳ１０８に進み、絞り５０の開口率を１段階小さな設定開口率に戻してから所定時間経過後に再び開口率を１段階大きな設定開口率に変更し、ステップＳ１０９に進む。ここで検出した光量を読込んだ後、ステップＳ１１０に進み、読込んだ光量が上限値の設定光量Ｕ1を越えているか否か判断する。超えている場合はステップＳ１０７に戻る。すなわち、ステップＳ１０７〜ステップＳ１１０の処理は読込んだ光量が上限値の光量Ｕ1以下になるまで繰返される。
【００３７】
ステップＳ１１０において、読込んだ光量が上側の設定光量Ｕ1以下である場合に絞り制御の処理は終了する。したがって、下側の設定光量Ｄ1を下回り、絞り５０の開口率を大きくした場合でも上側の設定光量Ｕ1を下回る場合に、絞り５０の開口率を大きくしたままとする。
【００３８】
以上のように本実施形態の絞り制御装置によればキセノンランプ３２が使用により経時変化しその発光光量が減少するのに対し、絞り５０の開口率を段階的に大きくさせることにより入射端２２ａに入射される光の光量を所定のレベル以上に保持することが出来る。
【００３９】
したがって、電子シャッタ機能を高速シャッタで動作させることにより鮮明な静止画像を撮れる期間を長くでき、結果としてキセノンランプ３２の交換期間を長くすることが可能となる。また、光量を所定の光量以下に抑えることにより被写体に熱傷を防ぐことが可能である。
【００４０】
一方で、開口率の調節が段階的であり、複雑な制御は必要としない。また、円板状の絞りを回転させる絞り調整を用いることにより構造を単純にすることが可能である。また、絞り５０により光量を調節した光の光量を光量センサ４０により直接検出して制御するので、適正な範囲内の光量である光を供給可能である。
【００４１】
図５は、本発明の第２の実施形態である絞り制御装置を備えた電子内視鏡システムの全体構成図である。プロセッサ３０’において、センサ保持部材４３がキセノンランプ３２と絞り５０の間に設けられる。
【００４２】
センサ保持部材４３はキセノンランプ３２側から見て絞り５０の光路中に位置するいずれかの孔５１ａ〜５１ｄに重ならない位置、すなわち光路中に位置するいずれかの孔５１ａ〜５１ｄの範囲外に配置される。光量センサ４０はセンサ保持部材４３のキセノンランプ３２側であって光路近傍の位置に設けられる。他の構成要素は第１の実施形態と同様である。
【００４３】
本実施形態においては、キセノンランプ３２使用前の初期設定において、絞り５０の開口率が初期設定開口率である５０％に設定され、光量が第１の設定光量Ｐ1未満となるときに開口率が第１の設定開口率である６０％に変更される。同様に光量が第２、第３の設定光量Ｐ2、Ｐ3未満となるときに開口率が第２、第３の設定開口率である６５％、７０％に変更される。
【００４４】
図６のフローチャートを参照して、電子内視鏡システム１０における絞り制御の処理について説明する。ステップＳ２００においてキーボード４１のリセットキーあるいはリセット釦４２からの絞り５０の開口率を初期化するための手動のリセット入力があるか否かチェックされる。リセット入力が確認された場合はステップＳ２０１に進み、絞り５０の開口率を初期化する。すなわち、開口率を初期設定開口率である５０％にする。
【００４５】
ステップＳ２００で初期化のリセット入力が確認されなかった場合あるいはステップＳ２０１の処理後ステップＳ２０２に進む。ステップＳ２０２において光量センサ４０により検出された光量を絞り駆動回路３９が読込み、ステップＳ２０３に進む。ステップＳ２０３において光量が第１の設定光量Ｐ1を下回るか否かを判断する。Ｐ1を下回らない場合はステップＳ２０２に戻る。すなわち光量がＰ1を下回るまで、ステップＳ２０２、ステップＳ２０３の処理が繰返される。
【００４６】
ステップＳ２０３において光量が第１の設定光量Ｐ1を下回る場合はステップＳ２０４に進み、開口率を第１の設定開口率である６５％に変更する信号をモータ３８に出力する。すなわちステップＳ２０２〜ステップＳ２０４は、光量が第１の設定光量Ｐ1値を下回るまで絞り５０の開口率を初期設定開口率である５０％に保ち、下回ったときに第１の設定開口率に変更する処理を行う。
【００４７】
次にステップＳ２０５〜ステップＳ２０７およびステップＳ２０８〜ステップＳ２１０においては、ステップＳ２０２〜ステップＳ２０４同様に第２、第３の設定光量Ｐ2、Ｐ3を下回るか否かの判断をして第２、第３の設定開口率に変更する処理を行う。したがって光量が第２、第３の設定光量Ｐ2、Ｐ3を下回るときに、第２、第３の設定開口率である６５％、７０％に変更する処理が行われる。ステップＳ２１０の終了後に絞り制御の処理は終了する。本実施形態によれば、第１の実施形態に比べて、絞り制御の処理は簡易的となる。
【００４８】
第１および第２の実施形態において、円中心から外周の間において回転方向に沿って設けられた同一の開口面積を有する複数の孔５１ａ〜５１ｄをメッシュの異なる網部材で覆った絞り５０を用いたが、絞りの変形例として、図７に示すように、円板状の絞り１５０の円中心から外周の間において回転方向に沿って開口面積そのものが変化する円形孔１５１ａ〜１５１ｄを設ける構造にしてもよい。
【００４９】
絞り１５０では、キセノンランプ３２から照射された光束の断面積（符号Ｂ）に対し孔１５１ａの開口率が初期設定開口率である５０％となるように形成される。同様に孔１５１ｂ、１５１ｃ、１５１ｄの開口率がそれぞれ６０、６５、７０％（第１、第２、第３の設定開口率）となるように形成される。
【００５０】
なお、孔１５１ａ〜１５１ｄはその中心を、絞り１５０をその中心を軸に回動した時に絞り１５０と交錯するキセノンランプ３２から照射された光束の中心が描く軌跡が重なる絞り１５０の同心円の円周上（符号Ｃ）に設け、絞り５０を段階的に回動させた時にキセノンランプ３２からの照射光束の中心が孔１５１ａ〜１５１ｄの中心と重なるように構成される。孔１５１ａ〜１５１ｄのいずれかが光路に位置するように絞り５０は駆動される。
【００５１】
なお、第１および第２の実施形態において、円中心から外周の間において回転方向に沿って設けられた同一の開口面積を有する複数の孔をメッシュの異なる網部材で覆った円板状の絞りを用いたが、絞りの別の変形例として、図８に示すように、円板状の絞り２５０において、絞り２５０をその中心を軸に回動した時に絞り２５０とキセノンランプ３２から照射された光束と交錯する領域を含む円弧部分に、回転方向に沿って連続的に略リニアに開口面積（開口率）が変化するよう複数の小孔２５１を設ける構造にしてもよい。
【００５２】
第１の実施形態に絞り２５０を適用した場合、光量センサ４０で検出される光量Ｌについて定められる範囲（Ｄ1≦Ｌ≦Ｕ1）は比較的狭く設定されることが望ましい。また、第２の実施形態に絞り２５０を適用した場合、第１、第２、第３の設定光量Ｐ1、Ｐ2、Ｐ3の間隔は比較的短く設定されることが望ましい。
【００５３】
これにより、前述の各実施形態と同様の効果を得られるだけでなく、キセノンランプ３２の出射光量の細かい変化に対しても絞りの開口率の変更を追従させることが出来る。更に、従来公知の他の形態の開口率調節可能な絞りを用いても本発明の絞り制御を行うことも可能である。
【００５４】
さらに、第１および第２の実施形態において初期設定の開口率を５０％とし、開口率を変化させるための設定光量をＤ1、Ｐ1、Ｐ2、およびＰ3とし、変化させるときの設定開口率を６０，６５，７０％としているが、使用するキセノンランプや絞り５０などによりこれらの設定は定められる。また絞りの開口率を４段階で変化させているが、何段階であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の第１の実施形態である絞り制御装置を適用した電子内視鏡システムの構成を示すブロック図である。
【図２】絞りの平面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態である制御装置における光量センサの取り付け位置を示す図である。
【図４】本発明の第１の実施形態を適用した絞り制御装置の処理手順を示すフローチャートである。
【図５】本発明の第２の実施形態である絞り制御装置を適用した電子内視鏡システムの構成を示すブロック図である。
【図６】本発明の第２の実施形態を適用した絞り制御装置の処理手順を示すフローチャートである。
【図７】絞りの変形例を示す図である。
【図８】絞りの別の変形例を示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０  電子内視鏡システム
２０  内視鏡
２２  ライトガイド
２２ａ  入射端
３０、３０’  プロセッサ
３２  キセノンランプ
３５  アパーチャ
３８  モータ
３９  絞り駆動回路
４０  光量センサ
４３  センサ保持部材
【図１】
2006006803.tif 000003
【図２】
2006006803.tif 000004
【図３】
2006006803.tif 000005
【図４】
2006006803.tif 000006
【図５】
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【図６】
2006006803.tif 000008
【図７】
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【図８】
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