(57)【要約】【課題】  簡素な構成にしたがって、照度の低下や照明光のテレセントリシティの悪化などの副作用を伴うことなく、被照射面における傾斜照度むらを良好に補正することのできる照明光学装置。【解決手段】  光源（１）からの光束で被照射面（Ｍ）を照明する照明光学装置。照明瞳面またはその近傍に配置されて光束を制限するための開口絞り（９）を備えている。開口絞りは、たとえば光軸（ＡＸ）を含む面と平行な所定分割面により分割された第１分割部材と第２分割部材とを有し、第１分割部材と第２分割部材との光軸に沿った相対位置が可変に構成されている。【選択図】  図１
2006049564.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、
照明瞳面またはその近傍に配置されて光束を制限するための開口絞りを備え、
前記開口絞りは、所定分割面により分割された第１分割部材と第２分割部材とを有し、
前記第１分割部材と前記第２分割部材との光軸に沿った相対位置が可変に構成されていることを特徴とする照明光学装置。
【請求項２】
前記所定分割面は、前記光軸を含む面と平行であることを特徴とする請求項１に記載の照明光学装置。
【請求項３】
前記第１分割部材および前記第２分割部材は、前記光軸に沿ってそれぞれ独立に移動可能に構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学装置。
【請求項４】
前記第１分割部材および前記第２分割部材のうちの少なくとも一方の部材が前記光軸と直交する方向に移動可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項５】
前記第１分割部材の前記所定分割面側の端部と前記第２分割部材の前記所定分割面側の端部とを伸縮自在に連結するための遮光性の連結部材をさらに備えていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項６】
前記開口絞りは、前記所定分割面として、互いに平行な複数の分割面を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項７】
前記開口絞りは、前記所定分割面として、前記開口絞りの開口領域内で互いに交差する複数の分割面を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項８】
前記光源からの光束を波面分割して前記照明瞳面に所定の光強度分布を形成するためのオプティカルインテグレータをさらに備え、
前記開口絞りは、前記オプティカルインテグレータの射出面の近傍に配置されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項９】
マスクを照明するための請求項１乃至８のいずれか１項に記載の照明光学装置を備え、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成するための投影光学系をさらに備え、該投影光学系に対して前記マスクおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて前記マスクのパターンを前記感光性基板上に露光するように構成され、
前記所定分割面は、前記走査方向を含む平面と光学的にほぼ平行であることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の照明光学装置を用いてマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明光学装置、露光装置、および露光方法に関する。さらに詳細には、本発明は、半導体素子や液晶表示素子等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造するために使用される露光装置に好適な照明光学装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
たとえばマイクロデバイスとしての液晶表示素子は、ガラス基板（プレート）上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターニングし、ＴＦＴ等のスイッチング素子および電極配線を形成することにより製造される。このフォトリソグラフィの手法を用いた液晶表示素子の製造工程では、マスク上に形成された原画パターンを、投影光学系を介してフォトレジスト等の感光剤が塗布されたプレート上に投影露光する露光装置が用いられる。
【０００３】
従来、この種の露光装置では、マスクとプレートとの相対的な位置合わせを行った後に、マスク上のパターンをプレート上の１つの露光領域（ショット領域）に一括して転写し、パターンの転写後にプレートをステップ移動させて他の露光領域への転写を順次行う方式、すなわちステップ・アンド・リピート方式が多用されていた。近年、液晶表示素子の大面積化が要求されており、これに伴ってフォトリソグラフィ工程において用いられる露光装置には露光領域の拡大が望まれている。露光装置において露光領域を拡大するには、たとえば投影光学系を大型化する方法があるが、残存収差が極力低減された大型の投影光学系を設計し且つ製造するにはコスト高を招いてしまう。
【０００４】
そこで、投影光学系の大型化を回避しつつ露光領域を拡大するために、ステップ・アンド・スキャン方式が提案されている。ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置では、投影光学系の物体側（マスク側）の有効径（直径）とほぼ同じ長さの長手方向寸法を有するスリット状の照明光をマスクに照射する。そして、マスクを介したスリット状の光が投影光学系を介してプレート上にマスクパターンの一部の像を形成している状態で、マスクとプレートとを投影光学系に対して相対的に移動させつつ、マスクパターンをプレート上の１つのショット領域に走査露光（スキャン露光）する。こうして、プレートをステップ移動させながら、各ショット領域への走査露光が順次繰り返される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の露光装置において、上述のような露光領域の拡大を図ろうとすると、露光領域の照度均一性を確保することが困難になり、いわゆる照度むらが発生し易い。ここで、たとえば露光領域の中心部よりも周辺部の照度が低いといった露光領域の中心に関してほぼ対称に発生する照度むら（以下、「中心対称照度むら」という）は、設計段階の周辺ＮＡのコントロールにより抑えることができる。
【０００６】
しかしながら、露光領域の中心に関して周辺部の照度が非対称に発生する照度むら、たとえば一方向に沿って照度が落ちてゆくような、いわゆる傾斜照度むらの補正は、中心対称照度むらに比して容易ではない。従来、傾斜照度むらの補正には、照度むらに応じた所要の透過率分布を有するフィルターを照明光学系中のフライアイインテグレータの入射面の近傍に配置する方法や、照明光学系中のメインコンデンサレンズを光軸に垂直な方向に偏芯（シフト）させたり光軸に対して傾斜（チルト）させたりする方法が用いられている。
【０００７】
ここで、所要の透過率分布を有するフィルターを用いる従来技術では、フィルターにおいて比較的大きな光量損失が発生し、ひいては露光領域（被照射面）における照度低下が発生するため、装置のスループットが低下する恐れがあるという不都合があった。また、メインコンデンサレンズの偏芯や傾斜を用いる従来技術では、露光領域（被照射面）における照度低下だけでなく、照明光のテレセントリシティが悪化するという不都合があった。
【０００８】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、簡素な構成にしたがって、照度の低下や照明光のテレセントリシティの悪化などの副作用を伴うことなく、被照射面における傾斜照度むらを良好に補正することのできる照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、傾斜照度むらを良好に補正することのできる照明光学装置を用いて、所望の照明条件のもとで高精度で且つ高スループットな露光を行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、
照明瞳面またはその近傍に配置されて光束を制限するための開口絞りを備え、
前記開口絞りは、所定分割面により分割された第１分割部材と第２分割部材とを有し、
前記第１分割部材と前記第２分割部材との光軸に沿った相対位置が可変に構成されていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
【００１０】
本発明の第２形態では、マスクを照明するための第１形態の照明光学装置を備え、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
【００１１】
本発明の第３形態では、第１形態の照明光学装置を用いてマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の照明光学装置では、照明瞳面に配置されて光束を制限するための開口絞りが、所定分割面により第１分割部材と第２分割部材とに分割され、第１分割部材と第２分割部材との光軸に沿った相対位置が可変に構成されている。したがって、たとえば一方の分割部材の移動距離に応じて、被照射面の一方の周辺部における照度が増大し且つ他方の周辺部における照度が低下するような所定方向に沿った傾斜照度むらが発生する。
【００１３】
すなわち、本発明では、たとえば第１分割部材または第２分割部材を所定距離だけ移動させるという簡素な構成にしたがって、照度の低下や照明光のテレセントリシティの悪化などの副作用を実質的に伴うことなく、被照射面における傾斜照度むらを良好に補正することができる。また、本発明の露光装置および露光方法では、傾斜照度むらを良好に補正することのできる照明光学装置を用いているので、所望の照明条件のもとで高精度で且つ高スループットな露光を行うことのでき、ひいては液晶表示素子のようなデバイスを高スループットで良好に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図１において、感光性基板であるプレート（レジストの塗布されたガラス基板）Ｐの法線方向に沿ってＺ軸を、プレートＰの面内において図１の紙面に平行な方向にＹ軸を、プレートＰの面内において図１の紙面に垂直な方向にＸ軸をそれぞれ設定している。
【００１５】
図１に示す露光装置は、たとえば超高圧水銀ランプからなる光源１を備えている。光源１は、回転楕円面からなる反射面を有する楕円鏡２の第１焦点位置に位置決めされている。したがって、光源１から射出された照明光束は、楕円鏡２の反射面で反射され、折り曲げミラー３を介して、楕円鏡２の第２焦点位置に光源像を形成する。この第２焦点位置には、シャッター４が配置されている。楕円鏡２の第２焦点位置に形成された光源像からの発散光束は、リレーレンズ系５を介して再び結像する。
【００１６】
リレーレンズ系５の瞳面の近傍には、所望の波長域の光束のみを透過させる波長選択フィルター６が配置されている。波長選択フィルター６では、ｇ線（４３６ｎｍ）の光とｈ線（４０５ｎｍ）とｉ線（３６５ｎｍ）の光とが露光光として同時に選択される。なお、波長選択フィルター６では、たとえばｇ線の光とｈ線の光とを同時に選択することもできるし、ｈ線の光とｉ線の光とを同時に選択することもできるし、さらにｉ線の光だけを選択することもできる。
【００１７】
波長選択フィルター６を介して選択された露光波長λの光は、コリメートレンズ７によりほぼ平行な光束に変換された後、オプティカルインテグレータとしてのフライアイインテグレータ（フライアイレンズ）８に入射する。フライアイインテグレータ８は、たとえば正の屈折力を有する多数のレンズエレメントをその光軸が光軸ＡＸと平行になるように縦横に且つ稠密に配列することによって構成されている。フライアイインテグレータ８を構成する各レンズエレメントは、マスクＭ上において形成すべき照野の形状（ひいてはプレートＰ上において形成すべき露光領域の形状）と相似な矩形状の断面を有する。
【００１８】
したがって、フライアイインテグレータ８に入射した光束は多数のレンズエレメントにより波面分割され、各レンズエレメントの後側焦点面には１つの光源像がそれぞれ形成される。すなわち、フライアイインテグレータ８の後側焦点面（照明瞳面）には、多数の光源像からなる実質的な面光源（すなわち所定の光強度を有する二次光源）が形成される。フライアイインテグレータ８の後側焦点面に形成された二次光源からの光束は、その近傍に配置された開口絞り９に入射する。
【００１９】
開口絞り９は、投影光学系ＰＬの入射瞳面と光学的にほぼ共役な位置に配置され、二次光源の照明に寄与する範囲を規定するための可変開口部を有する。そして、開口絞り９は、可変開口部の開口径を変化させることにより、照明条件を決定する照明σ値（投影光学系の瞳面の開口径に対するその瞳面上での二次光源像の口径の比）を所望の値に設定する。なお、開口絞り９の詳細な構成および作用については後述する。
【００２０】
開口絞り９を介した二次光源からの光は、コンデンサー光学系（メインコンデンサレンズ）１０の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクＭを重畳的に照明する。こうして、マスクＭ上には、フライアイインテグレータ８の各レンズエレメントの断面形状と相似な矩形状の照明領域が形成される。なお、マスクＭ上に形成される照明領域の形状を規定するための視野絞りとしてのマスクブラインドおよびブラインド結像光学系をコンデンサー光学系１０とマスクＭとの間の光路中に配置することもできる。
【００２１】
マスクＭは、マスクホルダ（不図示）を介して、マスクステージＭＳ上においてＸＹ平面（すなわち水平面）に平行に保持されている。マスクステージＭＳは、マスクステージ駆動系（不図示）の作用により、マスク面（すなわちＸＹ平面）に沿って二次元的に移動可能であり、その位置座標はマスク干渉計（不図示）によって計測され且つ位置制御されるように構成されている。
【００２２】
マスクＭのパターンを透過した光束は、投影光学系ＰＬを介して、プレートＰ上に矩形状のマスクパターン像を形成する。プレートＰは、プレートホルダ（不図示）を介して、プレートステージＰＳ上においてＸＹ平面に平行に保持されている。プレートステージＰＳは、プレートステージ駆動系（不図示）の作用によりプレート面（すなわちＸＹ平面）に沿って二次元的に移動可能であり、その位置座標はプレート干渉計（不図示）によって計測され且つ位置制御されるように構成されている。
【００２３】
こうして、投影光学系ＰＬに対してマスクＭおよびプレートＰをそれぞれ位置合わせした静止状態で投影露光を行うことにより、プレートＰのショット領域（露光領域）にはマスクＭのパターンが一括露光される。この場合、ステップ・アンド・リピート方式にしたがって、プレートＰをＸＹ平面に沿ってステップ移動させつつ、プレートＰの各ショット領域への一括露光が順次行われる。
【００２４】
あるいは、投影光学系ＰＬに対してマスクＭおよびプレートＰを走査方向（たとえばＸ方向）に沿って移動させながら投影露光を行うことにより、プレートＰのショット領域にはマスクＭのパターンが走査露光される。走査露光では、プレートＰ上の１つのショット領域に、静止状態において形成される矩形状のマスクパターン像の走査直交方向（走査方向と直交する方向：たとえばＹ方向）に沿った寸法と、プレートＰの走査方向に沿った移動距離に対応する寸法とで規定される矩形状のパターンが形成される。この場合、ステップ・アンド・スキャン方式にしたがって、プレートＰをＸＹ平面に沿ってステップ移動させつつ、プレートＰの各ショット領域への走査露光が順次行われる。
【００２５】
図２は、本実施形態における開口絞りの構成を概略的に示す図である。図２（ａ）に示すように、本実施形態の開口絞り９は、光軸ＡＸを含むＸＺ平面により分割された第１分割部材９ａと第２分割部材９ｂとにより構成されている。そして、図２（ｂ）に示すように、第１分割部材９ａおよび第２分割部材９ｂは、光軸ＡＸに沿ってそれぞれ独立に移動可能に構成されている。換言すると、開口絞り９では、第１分割部材９ａと第２分割部材９ｂとの光軸ＡＸに沿った相対位置が可変に構成されている。
【００２６】
図３（ａ）を参照すると、開口絞り９を構成する第１分割部材９ａおよび第２分割部材９ｂが通常位置、すなわちフライアイインテグレータ８の射出面の近傍であって二次光源が形成される照明瞳面の位置に配置されている。この場合、マスクＭ上において光軸ＡＸと交わる中心点Ｐ１、並びに中心点Ｐ１に関してＹ方向に対称な点Ｐ２およびＰ３を考えると、点Ｐ２への入射光束の開口数ＮＡ２と点Ｐ３への入射光束の開口数ＮＡ３とが互いに等しく、且つ中心点Ｐ１への入射光束の開口数ＮＡ１が開口数ＮＡ２およびＮＡ３よりもわずかに小さくなるように設計されることが多い。
【００２７】
すなわち、マスクＭ上の照明領域の中心部よりも周辺部の照度がわずかに高くなり、ひいてはプレートＰ上の露光領域の中心部よりも周辺部の照度がわずかに高くなるように設計されることが多い。ここで、図３（ｂ）に示すように、図３（ａ）に示す通常状態から第２分割部材９ｂだけをマスクＭ側へ移動させると、中心点Ｐ１への入射光束の開口数ＮＡ１は不変であるが、点Ｐ２への入射光束の開口数ＮＡ２’は通常状態における点Ｐ２への入射光束の開口数ＮＡ２よりも大きくなり、点Ｐ３への入射光束の開口数ＮＡ３’は通常状態における点Ｐ３への入射光束の開口数ＮＡ３よりも小さくなる。
【００２８】
その結果、図３（ｂ）に示す状態では、第２分割部材９ｂのマスクＭ側への移動距離に応じて、点Ｐ２における照度が増大し且つ点Ｐ３における照度が低下するようなＹ方向に沿った傾斜照度むらが発生する。また、図示を省略したが、図３（ａ）に示す通常状態から第１分割部材９ａだけをマスクＭ側へ移動させると、中心点Ｐ１への入射光束の開口数ＮＡ１は不変であるが、点Ｐ２への入射光束の開口数ＮＡ２’は通常状態における点Ｐ２への入射光束の開口数ＮＡ２よりも小さくなり、点Ｐ３への入射光束の開口数ＮＡ３’は通常状態における点Ｐ３への入射光束の開口数ＮＡ３よりも大きくなる。
【００２９】
その結果、第１分割部材９ａのマスクＭ側への移動距離に応じて、点Ｐ２における照度が低下し且つ点Ｐ３における照度が増大するようなＹ方向に沿った傾斜照度むらが発生する。換言すれば、本実施形態では、第１分割部材９ａまたは第２分割部材９ｂをマスクＭ側へ所定距離だけ移動させるという簡素な構成にしたがって、照度の低下や照明光のテレセントリシティの悪化などの副作用を実質的に伴うことなく、マスクＭ上の照明領域におけるＹ方向に沿った傾斜照度むらを、ひいてはプレートＰ上の露光領域におけるＹ方向に沿った傾斜照度むらを良好に補正することができる。
【００３０】
さらに、一般的には、第１分割部材９ａおよび第２分割部材９ｂのうちの少なくとも一方を所定距離だけ移動させることにより、被照射面（マスクＭおよびプレートＰ）上の露光領域におけるＹ方向に沿った傾斜照度むらを良好に補正することができる。こうして、本実施形態の露光装置では、傾斜照度むらを良好に補正することのできる照明光学装置（１〜１０）を用いているので、所望の照明条件のもとで高精度で且つ高スループットな露光を行うことができる。
【００３１】
なお、上述の説明では、開口絞り９が光軸ＡＸを含むＸＺ平面により分割された第１分割部材９ａと第２分割部材９ｂとにより構成されているが、光軸ＡＸを含むＹＺ平面により分割された第１分割部材９ｃ（不図示）と第２分割部材９ｄ（不図示）とにより開口絞り９を構成することもできる。この場合、第１分割部材９ｃおよび第２分割部材９ｄのうちの少なくとも一方を所定距離だけ移動させることにより、被照射面（マスクＭおよびプレートＰ）上の露光領域におけるＸ方向に沿った傾斜照度むらを良好に補正することができる。さらに一般的には、所定平面により分割された第１分割部材と第２分割部材とにより開口絞り９を構成することにより、被照射面（マスクＭおよびプレートＰ）上の露光領域における所望方向に沿った傾斜照度むらを良好に補正することができる。
【００３２】
なお、上述の実施形態では、光軸ＡＸを含む１つの分割平面により開口絞り９を２分割しているが、開口絞り９の分割数や分割面の設定などについては様々な変形例が可能である。具体的に、図４に示す第１変形例では、光軸ＡＸを含むＸＺ平面とこれに平行な４つの分割平面とにより（一般的には互いに平行な複数の分割面により）、開口絞り９を１０分割している。すなわち、第１変形例にかかる開口絞り９は、図４（ａ）に示すように、１０個の分割部材９ｅ，９ｆ，９ｇ，９ｈ，９ｉ，９ｊ，９ｋ，９ｍ，９ｎ，９ｐにより構成されている。そして、各分割部材（９ｅ〜９ｐ）は、図４（ｂ）に示すように、光軸ＡＸに沿ってそれぞれ独立に移動可能に構成されている。
【００３３】
この場合、各分割部材の所定の分割面側の端部と、隣り合う分割部材の当該分割面側の端部とを、たとえば遮光性の連結部材９ｑにより伸縮自在に連結することが好ましい。すなわち、分割部材９ｅを例にとれば、分割部材９ｅの分割面側の端部（図中下側の端部）と、分割部材９ｆおよび９ｇの同じ分割面側の端部（図中上側の端部）とを連結部材９ｑにより連結することが好ましい。このように、隣り合う分割部材の端部同士を遮光性の連結部材９ｑにより伸縮自在に連結することにより、たとえば各分割部材を光軸ＡＸに沿って大きく移動させても、画角の大きい光を確実に遮って各分割部材間の光漏れを防止することができる。
【００３４】
また、上述の実施形態では、開口絞り９を構成する第１分割部材９ａおよび第２分割部材９ｂが光軸ＡＸに沿ってそれぞれ独立に移動可能に構成されている。しかしながら、光軸ＡＸに沿った移動に加えて、第１分割部材９ａおよび第２分割部材９ｂが光軸ＡＸと直交するＹ方向に移動可能に構成することもできる。具体的に、図５に示す第２変形例では、第１分割部材９ａと第２分割部材９ｂとを一体的に＋Ｙ方向へ移動させている。
【００３５】
その結果、第１分割部材９ａおよび第２分割部材９ｂの一体的な移動距離に応じて、マスクＭ上の各点Ｐ１〜Ｐ３に入射する主光線の入射角度が変化する。換言すれば、第２変形例では、第１分割部材９ａまたは第２分割部材９ｂの光軸ＡＸに沿った移動により照明光のテレセントリシティが悪化しても、第１分割部材９ａと第２分割部材９ｂとを一体的に所定方向へ移動させることにより、照明光のテレセントリシティの調整を行うことができる。
【００３６】
さらに一般的には、第１分割部材９ａおよび第２分割部材９ｂのうちの少なくとも一方の部材を光軸ＡＸと直交する方向に移動させることにより、照明光のテレセントリシティの調整を行うとともに、照明σ値を変化させることができる。すなわち、光軸ＡＸと直交する方向に沿って第１分割部材９ａと第２分割部材９ｂとが近づくことにより照明σ値が小さくなり、第１分割部材９ａと第２分割部材９ｂとが遠ざかることにより照明σ値が大きくなる。
【００３７】
ところで、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置では、走査露光の平均化効果により、プレートＰ上の露光領域において走査方向に照度傾斜むらがある程度残っていても大きな問題にはならない。プレートＰ上の露光領域において補正すべき照度傾斜むらは、走査直交方向の照度傾斜むらである。そこで、走査型の露光装置では、走査方向を含む平面と平行な分割面により開口絞り９を分割することが好ましい。
【００３８】
具体的に、図１の露光装置において、投影光学系ＰＬに対してマスクＭおよびプレートＰをＸ方向に沿って移動させながら走査露光を行うものとする。この場合、走査方向であるＸ方向を含む平面と平行な分割面、すなわちＸＺ平面により開口絞り９を分割すれば、図３（ｂ）に示すように走査直交方向であるＹ方向に照度傾斜むらの補正を行うことができることがわかる。なお、たとえば開口絞り９とマスクＭとの間に反射面が介在すると、開口絞り９とマスクＭとの間で幾何学的位置関係と光学的位置関係とが異なる場合がある。したがって、走査型の露光装置では、走査方向を含む平面と幾何学的に平行な分割面ではなく、走査方向を含む平面と光学的に対応する面に平行な分割面により開口絞り９を分割することが重要である。
【００３９】
また、上述の実施形態では、光軸ＡＸを含む１つの分割平面により開口絞り９を２分割している。しかしながら、これに限定されることなく、図６に示す第３変形例のように、光軸ＡＸを含むＸＺ平面と光軸ＡＸを含むＹＺ平面とにより（一般的には開口絞り９の開口領域内で互いに交差する複数の分割面により）、開口絞り９を４分割することもできる。すなわち、第３変形例にかかる開口絞り９は、４個の分割部材９ｒ，９ｓ，９ｔ，９ｕにより構成されている。そして、各分割部材（９ｒ〜９ｕ）は、光軸ＡＸに沿ってそれぞれ独立に移動可能に構成されている。
【００４０】
第３変形例では、たとえば分割部材９ｒと分割部材９ｓとを一体的に所定距離だけ移動させたり、分割部材９ｔと分割部材９ｕとを一体的に所定距離だけ移動させたりすることにより、マスクＭ上の照明領域（ひいてはプレートＰ上の露光領域）におけるＹ方向に沿った傾斜照度むらを補正することができる。また、たとえば分割部材９ｒと分割部材９ｕとを一体的に所定距離だけ移動させたり、分割部材９ｓと分割部材９ｔとを一体的に所定距離だけ移動させたりすることにより、マスクＭ上の照明領域（ひいてはプレートＰ上の露光領域）におけるＸ方向に沿った傾斜照度むらを補正することができる。
【００４１】
すなわち、走査型の露光装置では、走査方向の照度傾斜むらおよび走査直交方向の照度傾斜むらの双方を補正することができる。さらに一般的には、開口絞り９の開口領域内で互いに交差する複数の分割面により開口絞り９を複数に分割することにより、任意の複数の方向の照度傾斜むらを補正することができる。
【００４２】
なお、図１に示す実施形態における各光学部材および各ステージ等を前述したような機能を達成するように、電気的、機械的または光学的に連結することにより、本実施形態にかかる露光装置を組み上げることができる。次に、図１に示す露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることができる。以下、図７のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。
【００４３】
図７において、パターン形成工程４０１では、本実施形態の露光装置を用いてマスク（レチクル）のパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程４０２へ移行する。
【００４４】
次に、カラーフィルター形成工程４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。
【００４５】
セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００４６】
その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
【００４７】
また、図１に示す実施形態にかかる露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得ることもできる。以下、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図８のフローチャートを参照して説明する。
【００４８】
先ず、図８のステップ３０１において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ３０２において、その１ロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ３０３において、図１に示す露光装置を用いて、マスク（レチクル）上のパターンの像がその投影光学系ＰＬを介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。
【００４９】
その後、ステップ３０４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ３０５において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。
【００５０】
なお、上述の実施形態では、露光光としてｇ線の光とｈ線の光とｉ線の光とを用いた例を示したが、例えば光源として超高圧水銀ランプを用い、ｇ線のみ、ｈ線のみ、ｇ線とｈ線、ｈ線とｉ線を露光光として用いることもできる。また、光源として２４８ｎｍの光を供給するＫｒＦエキシマレーザ、１９３ｎｍの光を供給するＡｒＦエキシマレーザ、１５７ｎｍの光を供給するＦ2レーザなどを光源として用いても良い。
【００５１】
また、上述の実施形態では、露光装置の照明光学装置に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、マスク以外の被照射面を照明する一般の照明光学装置に対しても同様に本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】本実施形態における開口絞りの構成を概略的に示す図である。
【図３】本実施形態における開口絞りの作用を概略的に説明する図である。
【図４】本実施形態の第１変形例にかかる開口絞りの構成を概略的に示す図である。
【図５】本実施形態の第２変形例にかかる開口絞りの作用を概略的に説明する図である。
【図６】本実施形態の第３変形例にかかる開口絞りの構成を概略的に示す図である。
【図７】マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得る際の手法の一例について、そのフローチャートを示す図である。
【図８】マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例について、そのフローチャートを示す図である。
【符号の説明】
【００５３】
１  光源
２  楕円鏡
４  シャッター
５  リレーレンズ系
６  波長選択フィルター
７  コリメートレンズ
８  フライアイインテグレータ
９  開口絞り
１０  コンデンサー光学系
Ｍ  マスク
ＭＳ  マスクステージ
ＰＬ  投影光学系
Ｐ  プレート
ＰＳ  プレートステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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