(57)【要約】【課題】  高アスペクト比で形状均一性に優れ、比較的低温条件（６００℃以下）で行われる焼成処理によって結着樹脂を完全に分解除去することができ、これに由来する有機物質を含有しないＰＤＰ用部材を形成することのできる無機粉体含有組成物およびＰＤＰ用部材の形成方法を提供すること。【解決手段】  （Ａ）無機粉体、（Ｂ）アクリル樹脂、（Ｃ）多官能性（メタ）アクリレートおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする無機粉体含有組成物、それから得られる転写フィルムおよびＰＤＰ用部材の形成方法を提供する。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）無機粉体、（Ｂ）下記式（１）で表される構成単位を有する重合体、（Ｃ）多官能性（メタ）アクリレートおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする、無機粉体含有組成物。
【化１】
2006008433.tif 000005
（式（１）中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基であり、Ｒ2 は１価の有機基である。）
【請求項２】
（Ｂ）重合体の含有量が、（Ａ）無機粉体１００重量部に対し５〜４０重量部である、請求項１記載の無機粉体含有組成物。
【請求項３】
（Ａ）無機粉体がガラスフリットである、請求項１記載の無機粉体含有組成物。
【請求項４】
請求項１記載の無機粉体含有組成物をノズルから基板上に吐出しながら、ノズルと基板とを相対的に移動してパターンを形成する工程と、
当該パターンに放射線を照射する工程と、
当該パターンを焼成する工程とを有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用部材の形成方法。
【請求項５】
得られる部材が隔壁である、請求項４記載のプラズマディスプレイパネル用部材の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は無機粉体含有組成物およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用部材の形成方法に関する。さらに詳しくは、プラズマディスプレイパネルの隔壁などを形成するために好適に使用することができる無機粉体含有組成物およびそれを用いた形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう）の断面形状を示す模式図である。同図において、１および２は対抗配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で、当該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６を被覆するようガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにあっては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００３】
これらのＰＤＰにおける各部材の形成方法としては、現在主に、以下の方法がある。
（１）無機粉末、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物を調製し、この組成物をスクリーン印刷によって基板上に塗布して乾燥することを、複数回繰り返すことにより部材形成材料のパターンを形成し、次いでこのパターンを焼成することにより有機物質を除去して無機粉末を焼結させる方法（スクリーン印刷法）。
（２）無機粉末および結着樹脂を含有する部材形成材料膜を基板上に形成し、その上にレジストパターンを形成した後、ブラスト装置によりレジストで被覆されていない部分をサンドブラストし、その後残存したレジスト層を剥離することにより部材形成材料パターンを形成し、次いでこのパターンを焼成することにより有機物質を除去して無機粉末を焼結させる方法（サンドブラスト法）。
（３）無機粉末および感光性樹脂を含有する感光性の部材形成材料膜を基板上に形成し、得られた膜を露光、現像して部材形成材料パターンを形成し、次いでこのパターンを焼成することにより有機物質を除去して無機粉末を焼結させる方法（フォトリソグラフィー法）。
（４）無機粉末および結着樹脂を含有する部材形成材料膜を基板上に形成し、当該膜を上から、形成するパターンの構造を有する型で加圧することによりパターンを形成し、次いでこのパターンを焼成することにより有機物質を除去して無機粉末を焼結させる方法（加圧成形法）。
【０００４】
例えば隔壁を形成する際、部材形成材料層（隔壁形成材料層）の厚さは、焼成工程における有機物質の除去に伴う膜厚の目減量を考慮して、形成すべき隔壁の高さの１．３〜２．０倍程度とすることが必要であり、例えば、隔壁の高さを１００〜１５０μｍとするためには、１３０〜３００μｍ程度の厚さの隔壁形成材料層を形成する必要がある。
前記スクリーン印刷法により隔壁を形成する場合、１回の塗布処理によって形成される塗膜の厚さは１５〜２５μｍ程度であるため、隔壁形成材料層を所定の厚さとするためには、ガラス基板の表面に対して、ペースト状の組成物を複数回（例えば１０〜２０回）にわたり繰り返して塗布（多重印刷）する必要があるため、隔壁の高さの均一化が困難になる。また工程も長大になる。
サンドブラスト法においては、露光、現像、ブラストなどによる工程の長大化、ブラストによる廃棄物の発生が問題となる。
フォトリソグラフィー法においても、露光、現像工程が必要なことや、廃棄物の発生などが問題になる。
また加圧成型法においては、工程は一見、シンプルに見えるが、型の高度な精度管理が必要なこと、また基板の平坦性に隔壁形成材料層の形状が大きく影響されることなど信頼性がいまだ低い。
【０００５】
上記既存の方法によって隔壁を形成する場合における上記のような問題を解決する手段として、最近、感光性ペースト組成物を基板上に特殊な吐出ノズルにより連続的に押し出しながら、ＵＶ硬化して隔壁を形成する方法（以下「ノズル吐出法」ともいう）が提案されている（特許文献１、２参照）。
このようなノズル吐出法によれば、高アスペクト比を有する隔壁を、従来の方法とは比較にならないほど、極めてシンプルなプロセスで形成することができる。
【特許文献１】特開２００３−８６０８９号公報
【特許文献２】特開２００４−５１４４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来公知の感光性ペースト組成物をこのノズル吐出法に適用しようとすると、焼成時に形成したパターンの剥がれが生じたり、焼成後に部材内部に空洞が発生したりするなど、問題点が多く発生し、例えば隔壁に要求される、高アスペクト比で形状均一性に優れた部材を安定的に形成することは、困難である。
【０００７】
本発明は以上のような事情に基いてなされたものである。
本発明の第１の目的は、高アスペクト比のＰＤＰ用部材を形成することができる無機粉体含有組成物およびＰＤＰ用部材の形成方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、形状均一性に優れたＰＤＰ用部材を形成することができる無機粉体含有組成物およびＰＤＰ用部材の形成方法を提供することにある。
本発明の第３の目的は、比較的低温条件（６００℃以下）で行われる焼成処理によって結着樹脂を完全に分解除去することができ、これに由来する有機物質を含有しないＰＤＰ用部材を形成することのできる無機粉体含有組成物およびＰＤＰ用部材の形成方法を提供することにある。
本発明のその他の目的および効果は、以下の説明で明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の無機粉体含有組成物は、（Ａ）無機粉体、（Ｂ）下記式（１）で表される構成単位を有する重合体（以下、「重合体（Ｂ）」ともいう）、（Ｃ）多官能性（メタ）アクリレートおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする。
【０００９】
【化１】
2006008433.tif 000002
【００１０】
（式（１）中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基であり、Ｒ2 は１価の有機基である。）
【００１１】
本発明のＰＤＰ用部材の形成方法は、本発明の無機粉体含有組成物をノズルから基板上に吐出しながら、ノズルと基板とを相対的に移動してパターンを形成する工程と、
当該パターンに放射線を照射する工程と、
当該パターンを焼成する工程とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の組成物によれば下記のような効果が奏される。
（１）組成物の粘度を特定の範囲に制御することにより、高アスペクト比であり、形状均一性の優れたガラス焼結体（例えば、ＰＤＰの隔壁）を形成することができる。
（２）この組成物を使用することにより比較的低温条件（６００℃以下）で行われる焼成処理によって結着樹脂を完全に分解除去することができ、これに由来する有機物質を含有しないガラス焼結体を形成することができる。
（３）この組成物を使用することによりＰＤＰの隔壁として好適なガラス焼結体を形成することができる。
（４）この組成物をノズル吐出法に適用することにより、従来では得られない極めてシンプルなプロセスで、ガラス焼結体（例えば、ＰＤＰ用の隔壁）を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。
無機粉体含有組成物
本発明の無機粉体含有組成物は、無機粉体、重合体（Ｂ）、多官能性（メタ）アクリレートおよび光重合開始剤を含有することを特徴とする、ペースト状の組成物である。
以下、組成物の各構成成分について説明する。
【００１４】
＜無機粉体＞
本発明の無機粉体含有組成物に使用される無機粉体は、形成部材の種類によって異なる。
例えば、隔壁形成材料および誘電体層形成材料に使用される無機粉体としては、ガラス粉体、好ましくは軟化点が４００〜６００℃のガラス粉体が挙げられる。  ガラス粉末の軟化点が４００℃未満である場合には、当該組成物による部材形成材料層の焼成工程において、有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される部材中に有機物質の一部が残留するおそれがある。その結果、部材が隔壁の場合には、パネル内へアウトガスが拡散し、結果的に蛍光体の寿命低下を引き起こしたり、誘電体層の場合には、誘電特性が劣ったり表示特性に劣るものとなったりするおそれがある。一方、ガラス粉末の軟化点が６００℃を超える場合には、６００℃より高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
好適なガラス粉末の具体例としては、１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カルシウム（ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2−ＣａＯ 系）、２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系）、３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 系）、４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 ）、５．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化チタン（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2−ＴｉＯ2 系）などを例示することができる。またこれらガラス粉末に例えば、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガンなどの無機酸化物化合物粉末を混合して使用しても良い。
【００１５】
電極形成材料に使用される無機粉体としては、Ag、Au、Al、Ni、Ag-Pd合金、Cu、Crなどを挙げることができる。
抵抗体形成材料に使用される無機粉体としては、RuO2などを挙げることができる。
蛍光体形成材料に使用される無機粉体は、Y2O3:Eu3+ 、Y2SiO5:Eu3+、Y3Al5O12:Eu3+、YVO4:Eu3+、(Y,Gd)BO3:Eu3+、Zn3(PO4)2:Mnなどの赤色用蛍光体；Zn2SiO4:Mn、BaAl12O19:Mn、BaMgAl14O23:Mn、LaPO4:(Ce,Tb)、Y3(Al,Ga)5O12:Tbなどの緑色用蛍光体；Y2SiO5:Ce、BaMgAl10O17:Eu2+、BaMgAl14O23:Eu2+、(Ca,Sr,Ba)10(PO4)6Cl2:Eu2+、(Zn,Cd)S:Agなどの青色用蛍光体を挙げることができる。
カラーフィルター形成材料に使用される無機粉体は、Fe2O3、Pb3O4、CdS、CdSe、 PbCrO4、PbSO4、Fe(NO3)3などの赤色用顔料；Cr2O3、TiO2-CoO-NiO-ZnO、CoO-CrO-TiO2-Al2O3、Co3(PO4)2、CoO-ZnOなどの緑色用顔料；2(Al2Na2Si3O10）・Na2S4）、CoO-Al2O3などの青色用顔料の他、色補正用の無機顔料として、PbCrO4-PbSO4、PbCrO4、PbCrO4-PbO、CdS、TiO2-NiO-Sb2O3などの黄色顔料；Pb(Cr-Mo-S)O4などの橙色顔料；Co3(PO4)2などの紫色顔料を挙げることができる。
ブラックマトリックス形成材料に使用される無機粉体としては、Mn、Fe、Crなどを挙げることができる。
【００１６】
なお、隔壁形成材料および誘電体層形成材料以外の部材形成材料は、上述した無機粉体とともにガラス粉末を含有するものであってもよい。ガラス粉末の含有割合は、無機粉体全量に対して２０質量％以下、好ましくは１０％以下である。
【００１７】
＜重合体（Ｂ）＞
重合体（Ｂ）はアクリル樹脂であり、本発明の組成物の結着樹脂として含有される。重合体（Ｂ）が含有されていることにより、得られるＰＤＰ用部材が、基板に対する優れた接着性と形状均一性を有するものとなる。
かかる重合体としては、適度な粘着性を有して無機粉体を結着させることができ、組成物の焼成処理温度（例えば４００〜６００℃）によって完全に酸化除去される（共）重合体の中から選択され、上記式（１）で表される構成単位を有する。当該構成単位は、下記式（ｉ）で表される化合物（以下、「化合物（ｉ）」ともいう）を重合成分として用いることにより得られ、重合体（Ｂ）としては、化合物（ｉ）の単独重合体、２種以上の化合物（ｉ）の共重合体、および化合物（ｉ）と他の共重合性単量体との共重合体が含まれる。
【００１８】
【化２】
2006008433.tif 000003
【００１９】
（式（ｉ）中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基であり、Ｒ2 は１価の有機基である。）
【００２０】
上記式（ｉ）で表される（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｉ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ｉ−デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｉ−ステアリル（メタ）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート；
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどのフェノキシアルキル（メタ）アクリレート；
２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレートなどのシクロアルキル（メタ）アクリレート；
ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。グリシジル
【００２１】
これらのうち、上記式（ｉ）中、Ｒ2 で示される基が、アルキル基、アルコキシアルキル基またはヒドロキシアルキル基を含有する基であることが好ましく、特に好ましい（メタ）アクリレート化合物として、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ｉ−デシル（メタ）アクリレートおよび２−エトキシエチル（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【００２２】
化合物（ｉ）との共重合に供される他の共重合性単量体としては、化合物（ｉ）と共重合可能な化合物であれば特に制限はなく、例えば（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、ビニルフタル酸などの不飽和カルボン酸類；ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレンなどのビニル基含有ラジカル重合性化合物を挙げることができる。
【００２３】
重合体（Ｂ）は、上記式（１）で表される構成単位が、通常、７０質量％以上、好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは１００質量％のものである。
重合体（Ｂ）の分子量としては、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量として２，０００〜３００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは５，０００〜２００，０００とされる。
【００２４】
重合体（Ｂ）は、２５℃、１気圧の条件下でコーン回転式粘度計を用い、コーンの回転数０．５ｒｐｍ（ずり速度２sec-1）で測定した粘度が１,０００〜３０，０００ｃＰであることが好ましく、５，０００〜２０，０００ｃＰであることが特に好ましい。なお、２種以上の重合体を用いる場合には、用いる重合体の混合物の粘度が上記範囲にあることが好ましい。
【００２５】
本発明の組成物における重合体（Ｂ）の含有量は、無機粉体１００重量部に対し、好ましくは５〜４０重量部、特に好ましくは７〜２０重量部である。
重合体（Ｂ）の含有量が５重量部より少ないと、無機粉体の分散性に劣り、また放射線照射後のパターンの強度が不十分となって基板との密着性が悪くなるおそれがある。また４０重量部を超えると、基板とは密着しているものの、形成された部材の内部に重合体焼失に伴う空洞が多く存在して、部材の強度が不十分となったり、長期的に空洞内部からガスが放出されてＰＤＰの性能劣化につながったりするおそれがある。
【００２６】
＜多官能性（メタ）アクリレート＞
本発明に用いられる多官能性（メタ）アクリレートは、放射線の照射によって硬化し、焼成までの間および焼成時のパターン形状の変形を防止して、高アスペクト比で形状均一性に優れたパターンを形成する効果を有するものである。
当該多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレートなどのオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００２７】
上記多官能性（メタ）アクリレートは、２５℃、１気圧の条件下でコーン回転式粘度計を用い、コーンの回転数２．５ｒｐｍ（ずり速度１０sec-1）で測定した粘度が１００〜５，０００ｃＰであることが好ましく、５００〜２，０００ｃＰであることが特に好ましい。なお、２種以上の多官能性（メタ）アクリレートを用いる場合には、用いる多官能性（メタ）アクリレートの混合物の粘度が上記範囲にあることが好ましい。
【００２８】
上記多官能性（メタ）アクリレートの含有割合は、無機粉体１００重量部に対して、通常、５〜５０重量部、好ましくは、１０〜３０重量部である。５重量部未満では、感光性が不足してパターン形状の維持が困難になる傾向があり、５０重量部を越えると、組成物の粘度特性が悪くなりノズルでの吐出性に悪影響を及ぼす傾向がある。
【００２９】
＜光重合開始剤＞
本発明に用いられる光重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物またはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｒｅｔ−ブチルパーオキシド、ｔｒｅｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
上記光重合開始剤の含有割合は、多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、通常、５〜３０重量部、好ましくは、１０〜２０重量部である。５重量部未満では、感光性が不足して良好なパターン形状の発現が困難になる傾向があり、３０重量部を越えると、残存する光重合開始剤が焼成時に悪影響を及ぼす傾向がある。
【００３０】
本発明の組成物には、任意成分として、他の結着樹脂、溶剤、分散剤、粘着性付与剤、表面張力調整剤、安定剤、可塑剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、蛍光体、顔料、染料などの各種添加剤が含有されていてもよい。
【００３１】
本発明の組成物に任意に含有される溶剤としては、無機粉体との親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、組成物に適度な粘性を付与することができると共に、乾燥、焼成されることにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。また、特に好ましい溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が１００〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエステル類（以下、これらを「特定溶剤」という。）を挙げることができる。
かかる特定溶剤の具体例としては、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを例示することができ、これらのうち、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
特定溶剤以外の溶剤の具体例としては、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、ｉ−プロピルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。
本発明の組成物における溶剤の含有割合としては、組成物の粘度を好適な範囲に維持する観点から、無機粉体１００重量部に対して、５０重量部以下であることが好ましく、さらに好ましくは１０重量部以下とされる。
また、全溶剤に対する特定溶剤の含有割合は、５０質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは７０質量％以上とされる。
【００３２】
本発明の組成物は、上記ガラス粉末、結着樹脂および光重合開始剤並びに任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、サンドミル、遊星攪拌式分散機などの混練・分散機を用いて混練することにより調製することができる。
上記のようにして調製される本発明の組成物は、塗布に適した流動性を有するペースト状の組成物である。
【００３３】
本発明の無機粉体含有組成物をノズル吐出法に用いる場合の粘度は、１００，０００〜３，０００，０００ｃＰであることが好ましい。組成物の粘度が１００，０００ｃＰ未満だとペーストがノズルにより吐出されてから露光されるまでの間に液だれ、平坦化等が生じてしまい高アスペクト比の構造物が形成できない可能性がある。またペースト粘度が３，０００，０００ｃＰを越えるとノズルでの吐出性が悪くなるなど、ハンドリング性が低下する可能性がある。
なお、本発明における粘度の測定は、２５℃、１気圧の条件下で、東機産業(株)製コーン回転式粘度計ＲＥ−８０Ｕを使用し、ローターＮＯ．７を用い、コーンの回転数を０．５ｒｐｍとして行う。さらに好ましくは、回転開始後１分間を経過した時の計測値を組成物の粘度と定義する。これは、ペースト状の組成物が非ニュートン性を示すことが多いためである。
【００３４】
本発明の組成物は、上記のように、主にノズル吐出法等によりＰＤＰ用部材を製造する際に特に好適に使用することができるが、これらの用途に限定されるものではなく、従来において公知のパターンや無機膜の形成にも好適に使用することができる。
【００３５】
ＰＤＰ用部材の形成方法
本発明のＰＤＰ用部材の形成方法は、１．本発明の無機粉体含有組成物をノズルから基板上に吐出しながら、ノズルと基板とを相対的に移動してパターンを形成する工程と、
２．当該パターンに放射線を照射する工程と、
３．当該パターンを焼成する工程と
を有することを特徴とする。
上記工程１における吐出の条件としては、例えば、形成するパターン形状とほぼ同等寸法のノズルを用い、吐出圧力０．１〜１ＭＰａ、吐出速度０．２〜２０ｍｍ／秒である。
上記工程２において用いられる放射線照射装置としては特に限定されるものではなく、例えば、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置などが用いられる。また、露光に用いられる放射線としては、例えば、紫外線などが好適に用いられる。
なお、上記工程３における焼成処理の温度としては、組成物中の有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常４００〜６００℃とされる。また、焼成時間は、通常１０〜６０分間とされる。
【００３６】
本発明の形成方法によって好適に形成される隔壁は、一般的に、パネルの表示セル（表示単位）の横方向を区画するものである。隔壁によって区画される表示セルの横方向ピッチの大きさは、例えば０．１０〜１．００ｍｍとされる。
隔壁の断面形状、幅、高さ、隔壁の離間距離等の寸法は、目的とするＰＤＰの特性に応じて適宜選定することができる。
具体的には、隔壁の断面形状における底面の幅が１０〜３００μｍ、高さが１０〜５００μｍ、隔壁の離間距離が５０〜１０００μｍとされ、当該隔壁間に配置される電極の幅が５０〜５００μｍとされる。特に典型的な一例においては、隔壁の断面形状における底面の幅が５０μｍ、高さが１５０μｍ、隔壁の離間距離が３００μｍとされ、当該隔壁間に配置される電極の幅が１００μｍとされる。
【実施例】
【００３７】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において「部」は「重量部」を示す。
また、実施例における評価方法は下記のとおりである。
【００３８】
〔組成物の分散性〕
グラインドゲージにより２０本以上のラインが筋引きする粒径目盛りを測定し、測定の値が７．５未満である場合を分散性良好と判断した。
〔隔壁形状〕
隔壁表面のひび割れ、基板からの剥離がないかどうか、まず目視で観察した。その後、非接触三次元形状測定装置「ＮＨ−３」（菱光社製）を用い、作成した隔壁の幅と高さを求めた。また走査型電子顕微鏡を用いて、隔壁破断面の観察を行った。隔壁破断面の観察から隔壁内部の空洞の有無とその数および大きさを観察した。
〔放出ガス分析〕
焼成後の隔壁からの微量放出ガス分析を、「流路切り換え法」による分析によりＣＯ、ＣＯ２の検出有無を確認した。
【００３９】
＜実施例１＞
（１）無機粉体含有組成物の調製：
ガラス粉末として、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2−Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2系（ＤＴＡ軟化転移点４６０℃、旭硝子（株）製）、平均粒子径１．０μｍのガラス粉末１００部、結着樹脂として、ｎ−ブチルメタクリレートとラウリルメタクリレートとヒドロキシプロピルメタクリレートを、重量比で５０／３０／２０となる割合で共重合させて得られた重合体２０部、多官能性（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０部、光重合開始剤として、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１０部、を分散機を用いて混練することにより、本発明の組成物を調製した。
得られた組成物について分散度を調べたところ、５μｍであり、分散性に優れた組成物であることが確認された。
【００４０】
（２）隔壁成形材料層の形成：
上記の組成物を使用し、ノズル吐出法によってガラス基板上に隔壁成形材料層を作成した。すなわち連続的に組成物を特殊ノズルより吐出し、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射し、硬化させた。ここに、照射量は５００ｍＪ／ｃｍ2 とした。
【００４１】
（３）隔壁成形材料層の焼成処理および隔壁の評価：
上記（２）により作成した隔壁成形材料層を形成したガラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を、常温から１０℃／分の昇温速度で５６０℃まで昇温し、５６０℃の温度雰囲気下１０分間にわたって焼成処理することにより、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる隔壁を形成した。
この隔壁の性状を目視で観察したところ、ひび割れ、基板からの剥離などは認められなかった。また放出ガスの分析でもＣＯ、ＣＯ２は検出されなかった。
この隔壁の形状を測定したところ幅４０μｍ、高さ１３０μｍのアスペクト比の高い理想的な構造物ができていることがわかった。また走査型電子顕微鏡による断面観察の結果、緻密な焼結体ができていることが確認できた。
【００４２】
＜実施例２、３および比較例＞
表１に示す処方に従って、ガラス粉末、結着樹脂、多官能性（メタ）アクリレートおよび光重合開始剤の組成比を変えたこと以外は実施例１と同様にして本発明の無機粉体含有組成物および比較用の組成物を調製した。
次いで、得られた組成物の各々を使用したこと以外は実施例１と同様にして隔壁成形材料層を作成した。
その後、得られた隔壁成形材料層の各々を使用したこと以外は実施例１と同様にして、隔壁成形材料層の焼成処理を行って、２０インチパネル用のガラス基板の表面に隔壁を作成した。
【００４３】
実施例２、３および比較例に係る組成物の各々について、形成された隔壁の性状を観察した。
以上の結果を表１に示す。
【００４４】
【表１】
2006008433.tif 000004
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  ガラス基板                        ２  ガラス基板
３  隔壁                              ４  透明電極
５  バス電極                          ６  アドレス電極
７  蛍光物質                          ８  誘電体
９  誘電体                          １０  保護層
【図１】
2006008433.tif 000006