(57)【要約】【課題】基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データにおいて、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上する。【解決手段】データ生成装置では、基礎パターンＣＡＤデータの記述形式がＸＭＬに変換されてパターン形成用データ９１が生成され、パターン形成用データ９１には、パターン形成条件および対象パターン要素を示すルール付加用インデックス９１２が付加され、さらに、ルール付加用インデックス９１２に基づいてデータベースから取得された補正ルールが補正ルール部９１３として付加される。パターン形成用データ９１は、基礎パターン部９１１と補正ルール部９１３とを備えるため、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上を容易に行うことができる。【選択図】図１２
2006162954.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント回路基板、半導体基板またはフラットパネル表示装置の製造において基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データであって、
基板上に配置される複数のパターン要素である基礎パターンを示す基礎パターン部と、
前記基礎パターンに含まれるパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類に応じてパターンの形成処理において求められる補正ルールを示す補正ルール部と、
を備えることを特徴とするパターン形成用データ。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成用データであって、
前記補正ルール部が、パターンの形成に使用される設備に固有の補正ルールを含むことを特徴とするパターン形成用データ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のパターン形成用データであって、
前記補正ルール部において補正ルールの種類、または、補正ルールが適用されるパターン要素の種類もしくはパターン要素の組合せの種類を示す識別子が各補正ルールに付与されていることを特徴とするパターン形成用データ。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン形成用データであって、
前記基礎パターン部および前記補正ルール部が、同一の記述言語により記述されることを特徴とするパターン形成用データ。
【請求項５】
請求項４に記載のパターン形成用データであって、
前記基礎パターン部および前記補正ルール部が、マークアップ言語またはページ記述言語により記述されることを特徴とするパターン形成用データ。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載のパターン形成用データであって、
前記基礎パターン部および前記補正ルール部が、分離したブロックとして記述されていることを特徴とするパターン形成用データ。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載のパターン形成用データであって、
前記補正ルール部が、パターン中の配線に対して前記配線の長さに合わせて前記配線の幅を補正する補正ルールを含むことを特徴とするパターン形成用データ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント回路基板、半導体基板またはフラットパネル表示装置等の製造において基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データに関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント回路基板や半導体基板、あるいは、プラズマ表示装置や液晶表示装置等のフラットパネル表示装置やフォトマスク用のガラス基板等（以下、「基板」という。）に形成された感光材料に光を照射することにより幾何学的パターンを描画する方法として、感光材料にマスクパターンを転写する手法や変調される光ビームを感光材料上で走査させながら照射してパターンを直接描画する方式が知られている。
【０００３】
例えば、液晶表示装置用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）パネルの場合、パターンを構成する素子や配線等のパターン要素の位置および形状を示すパターン形成用データに基づいてマスクが製造され、マスクを介して基板上に塗布された感光材料に光を照射することによりパターンが描画される。
【０００４】
このようなマスクパターンの設計では、まず、所定の性能を発揮するために必要な基礎的なパターン形状の設計を行い、次に、製造設備の特性に合わせて基礎的なパターン形状の補正を行いつつ実際のマスクの製造に利用されるパターン形状の設計が行われる。例えば、特許文献１では、コの字状パターンの設計において、マスクの互いに近接する領域を通過した光同士の干渉により、基板上に描画されるパターン（露光像）が歪む現象（いわゆる、光近接効果）を抑制するために、基礎的なパターン形状に対して光近接効果を補償する補正を施す手法が開示されている。
【特許文献１】特開２００１−１２５２５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、このようなパターンの設計では、設計部門において基礎的なパターン形状の設計が行われ、製造部門において実際の製造に利用されるパターン形状の設計が行われることがあるが、両部門における設計上の役割分担が不明確となって重複作業が行われる等、設計効率の向上に限界がある。さらに、両部門において設計目的が異なるため、製造部門において最終的に設計されたパターン形状が両部門の設計上の制限事項を満足しているか否かの検査が困難である。
【０００６】
また、最終的に設計されたパターン形状を示すパターン形成用データは、素子や配線等のパターン要素の位置および形状を示す情報のみにより構成されており、基礎的なパターン形状がどのようなものであって、どのような理由、または、設計若しくは製造上の制限事項により補正されたのか等の情報を有していない。したがって、基礎的なパターン形状や補正のための制限事項等の情報を取得するためには、パターン形成用データの生成過程において利用された各種の図面や文書の参照等が必要となり、情報取得に要する時間が増大するだけでなく、設計および製造の各工程間における意思疎通も図りにくくなる。
【０００７】
また、パターンの新規設計や設計変更、あるいは、製造設備の特性に合わせた設計修正が行われる場合には、設計に係る情報の取得に長時間を要するのみならず、同じ試行錯誤を繰り返す可能性もあり、結果として設計時間が増大してしまう。さらには、設計変更等の自動化も困難となっている。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、プリント回路基板、半導体基板またはフラットパネル表示装置の製造において基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データであって、基板上に配置される複数のパターン要素である基礎パターンを示す基礎パターン部と、前記基礎パターンに含まれるパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類に応じてパターンの形成処理において求められる補正ルールを示す補正ルール部とを備える。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターン形成用データであって、前記補正ルール部が、パターンの形成に使用される設備に固有の補正ルールを含む。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のパターン形成用データであって、前記補正ルール部において補正ルールの種類、または、補正ルールが適用されるパターン要素の種類もしくはパターン要素の組合せの種類を示す識別子が各補正ルールに付与されている。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン形成用データであって、前記基礎パターン部および前記補正ルール部が、同一の記述言語により記述される。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載のパターン形成用データであって、前記基礎パターン部および前記補正ルール部が、マークアップ言語またはページ記述言語により記述される。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載のパターン形成用データであって、前記基礎パターン部および前記補正ルール部が、分離したブロックとして記述されている。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載のパターン形成用データであって、前記補正ルール部が、パターン中の配線に対して前記配線の長さに合わせて前記配線の幅を補正する補正ルールを含む。
【発明の効果】
【００１６】
本発明では、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上することができる。請求項２の発明では、基礎パターンを変更することなく、各設備に適したパターン形成用データを生成することができる。請求項３の発明では、補正ルールを効率良く検索することができる。
【００１７】
請求項４および５の発明では、パターン形成用データの取り扱いが容易化される。請求項６の発明では、基礎パターン部と補正ルール部とを容易に区別することができるため、基礎パターンや補正ルールの変更に迅速に対応することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１は、本発明の一の実施の形態に係るパターン形成用データを生成するデータ生成装置１の構成を示す図であり、パターン形成用データは、プリント回路基板、半導体基板、または、プラズマ表示装置や液晶表示装置等のフラットパネル表示装置若しくはフォトマスク用のガラス基板（以下、「基板」という。）の製造において、これらの基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用される。
【００１９】
データ生成装置１は、通常のコンピュータと同様に、各種演算処理を行うＣＰＵ１１、実行されるプログラムを記憶したり演算処理の作業領域となるＲＡＭ１２、基本プログラムを記憶するＲＯＭ１３、各種情報を記憶する固定ディスク１４、作業者に各種情報を表示するディスプレイ１５、および、キーボードやマウス等の入力部１６等を接続した構成となっている。固定ディスク１４内には、データ生成装置１により実行されるプログラム１４１、および、データベース１４２が記憶される。
【００２０】
図２は、データ生成装置１のＣＰＵ１１（図１参照）等がプログラム１４１に従って演算処理を行うことにより実現される機能を他の構成と共に示すブロック図であり、図２中のデータ受付部１１１、データ出力部１１２、データ生成部１１３、データベース管理部１１４および表示制御部１１２１が、ＣＰＵ１１等により実現される機能に相当する。なお、これらの機能は複数台のコンピュータにより実現されてもよい。データ生成装置１では、これらの構成によりパターン形成用データが生成される。パターン形成用データは、基板上に配置される複数のパターン要素（すなわち、円や直線等の基本図形）である基礎的なパターン（基板が所定の用途に用いられるために最低限必要なパターンであり、以下、「基礎パターン」という。）、および、基礎パターンに含まれるパターン要素の種類またはパターン要素の組み合わせの種類に応じて実際のパターンの形成処理において求められる基礎パターンを補正するためのルール（以下、「補正ルール」という。）を含む。
【００２１】
パターン形成用データ等を生成するデータ生成部１１３は、ＣＰＵ１１等より実現される機能として、基礎パターン生成部１１３１、インデックス付加部１１３２、補正ルール付加部１１３３、補正済データ生成部１１３４、最終データ生成部１１３５および補正ルール変更部１１３６を有する。また、データベース管理部１１４は、ＣＰＵ１１等により実現される機能として、データ更新部１１４１およびデータ抽出部１１４２を有する。これらの機能の詳細については後述する。
【００２２】
図３は、固定ディスク１４に記憶されるデータベース１４２の構造を示す図である。データベース１４２は、図４に示すデータ要素１０の集合であり、データ要素１０は、データ要素を識別するためのデータ要素ＩＤ１０１、データ要素を検索するためのキー情報１０２、並びに、キー情報１０２に関連づけられた補正ルール１０３、および、補正ルール１０３の種類を示す識別子であるルール種別１０３０を含む。キー情報１０２は、パターン形成に係る様々な条件（典型的には、パターン形成設備の種類）を示すパターン形成条件１０２１、および、補正ルール１０３が適用されるパターンの素子や配線等のパターン要素の種類またはパターン要素の組み合わせの種類を示す識別子である対象パターン要素１０２２を含む。以下の説明では、パターン形成条件１０２１はパターン形成設備の種類を示す情報であるものとして説明する。
【００２３】
図２に示すデータ受付部１１１は、キーボードやマウス等の入力部１６（図１参照）を含み、パターン形成用データの生成に使用される基礎パターンの形状を示すＣＡＤ（Computer Aided Design）データを代表とする設計データ等を受け付ける。また、データ生成部１１３は、データ受付部１１１により受け付けられたＣＡＤデータからパターン形成用データ、補正済データおよび最終データを生成する。データ生成部１１３により生成されたパターン形成用データはデータ出力部１１２により出力され、表示制御部１１２１により必要に応じてディスプレイ１５（図１参照）に表示される。
【００２４】
データベース管理部１１４は、データ生成部１１３におけるパターン形成用データの生成の際に利用される補正ルールを、固定ディスク１４に記憶されるデータベース１４２から抽出してデータ生成部１１３に出力する。また、データベース管理部１１４は、更新データ要素の入力に応じてデータベース１４２の更新も行う。
【００２５】
図５は、データ生成装置１によるパターン形成用データ、補正済データおよび最終データの生成動作の流れを示す図であり、以下、データ生成装置１の動作について具体例を用いて説明する。まず、第１の例では、３つの電極およびこれらの電極間を結ぶ配線を有する基礎パターンについて、エッチング処理による実際の基板上へのパターン形成の際に生じる配線のやせ（すなわち、エッチング処理を行う設備の特性等により、形成された配線の幅が、設備に入力された配線の設計幅より細くなってしまう現象）を考慮し、配線の幅補償がなされたパターン形成用データ、補正済データおよび最終データを生成する動作の流れを説明する。
【００２６】
図６は、データ生成装置１により生成されるパターン形成用データの基礎とされる基礎パターン８を示す図であり、図７は、基礎パターン８の形状を表すＣＡＤデータ（以下、「基礎パターンＣＡＤデータ」という。）９０を示す図である。図６に示すように、基礎パターン８は、電極を表す３つの円８１〜円８３、並びに、電極間を結ぶ配線を表す直線８４および直線８５をパターン要素として有し、直線８４および直線８５はそれぞれ、円８１および円８２、並びに、円８２および円８３を両端とする。また、図７に示す基礎パターンＣＡＤデータ９０中の一点鎖線８１０〜８５０に囲まれたブロックはそれぞれ、ベクトル図形形式にて表された円８１〜円８３並びに直線８４，８５を示す。
【００２７】
なお、図６では理解を容易とするために簡略な基礎パターン８を示しているが、基礎パターン８は、円や直線のみに限らず、点や多角形、折れ線、スプライン曲線やベジェ曲線等の基本図形をパターン要素として有してよい。また、図７に示す基礎パターンＣＡＤデータ９０では、これらパターン要素がベクトル図形形式にて表されていてもよく、あるいは、外部参照先である他の図形ファイルや画像データ等のアドレスを示すデータとして表されていてもよい。
【００２８】
基礎パターンＣＡＤデータ９０には、各パターン要素の細部の仕様（例えば、折れ線の屈曲部の形状処理、図形の線幅を漸次変更する場合の始点および終点の線幅、パターン要素の拡大／縮小や回転）を示すデータ、各パターン要素が描画されているレイヤ間の関係を示すデータ、パターン要素が描画されている座標空間における有効領域（すなわち、その内部に存在するパターン要素のみがパターンを構成する要素として用いられると定義されている領域）を示すデータ等（すなわち、パターン要素に付帯するデータであり、以下、「付帯データ」という。）が含まれてもよい。あるいは、これらの付帯データは、基礎パターンＣＡＤデータ９０と関連づけられた他のデータとして扱われてもよい。基礎パターンＣＡＤデータ９０は、図７に示す記述形式以外の形式（例えば、ガーバフォーマット、ＧＤＳII等）により記述されてもよい。
【００２９】
データ生成装置１によりパターン形成用データが生成される際には、まず、基礎パターンＣＡＤデータ９０が、データ受付部１１１により受け付けられてデータ生成部１１３に送られる（ステップＳ１１）。続いて、データ生成部１１３の基礎パターン生成部１１３１により、基礎パターンＣＡＤデータ９０の記述形式が拡張可能マークアップ言語（ＸＭＬ：Extensible Markup Language）に変換され、図８に示すように、基礎パターン８を示す基礎パターン部９１１を有するパターン形成用データ９１が生成される（ステップＳ１２）。なお、図８では、ＸＭＬのバージョン等の宣言部および文書型定義部については図示を省略している（以下、同様）。
【００３０】
図８に示すように、図６中の円８１〜円８３は、要素名が「ｃｉｒｃｌｅ」である要素として定義され、パターン要素を識別する「ｆｉｇｕｒｅＩｄ」、中心のＸ座標値およびＹ座標値である「ｃｘ」および「ｃｙ」、並びに、直径である「ｄｉａｍｅｔｅｒ」を属性として有する。また、直線８４，８５は、要素名が「ｌｉｎｅ」である要素として定義され、パターン要素を識別する「ｆｉｇｕｒｅＩｄ」、始点のＸ座標値およびＹ座標値である「ｓｘ」および「ｓｙ」、終点のＸ座標値およびＹ座標値である「ｅｘ」および「ｅｙ」、並びに、線幅である「ｗｉｄｔｈ」を属性として有する。
【００３１】
パターン形成用データ９１が生成されると、パターン形成設備の種類を示すパターン形成条件、および、補正ルールが適用されるべきパターン要素またはパターン要素の組み合わせの種類を示す対象パターン要素が、データ受付部１１１により受け付けられてデータ生成部１１３に送られる。これらのデータは、基礎パターン部９１１への補正ルールの付加に利用されるデータであり、以下、「ルール付加用インデックス」という。
【００３２】
続いて、図９に示すように、インデックス付加部１１３２によりルール付加用インデックス９１２がパターン形成用データ９１に付加される（ステップＳ１３）。ＸＭＬにて記述されるルール付加用インデックス９１２では、パターン形成条件として「ｐｌａｎｔＩｄ」が「Ａ１」であるパターン形成設備が特定され、また、対象パターン要素として「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が「ｌｉｎｅ」であるパターン要素が指定される。データ生成装置１では、付加されたルール付加用インデックス９１２に基づいて、補正ルール付加部１１３３によるデータベース１４２からの補正ルールの取得が行われる（ステップＳ１４）。
【００３３】
図１０は、ステップＳ１４にて行われるデータ生成装置１による補正ルールの取得動作の流れを示す図である。図１１は、補正ルールの取得に用いられる検索キー２０を示す図である。補正ルールの取得が行われる際には、まず、データ生成部１１３の補正ルール付加部１１３３（図２参照）により、パターン形成条件２０１（ｐｌａｎｔＩｄ＝Ａ１）および対象パターン要素２０２（ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ＝ｌｉｎｅ）がルール付加用インデックス９１２（図９参照）から抽出され、これらのデータが図１１に示す検索キー２０とされる（ステップＳ１４１）。
【００３４】
補正ルール付加部１１３３により抽出された検索キー２０は、図２に示すデータベース管理部１１４により受け付けられてデータ抽出部１１４２に送られる（ステップＳ１４２）。続いて、検索キー２０に基づいてデータベース１４２が検索され、検索キー２０を含むキー情報１０２（図４参照）に関連づけられた補正ルール１０３およびルール種別１０３０が、データ抽出部１１４２によりデータベース１４２から抽出される（ステップＳ１４３）。抽出された補正ルール１０３およびルール種別１０３０は、データベース管理部１１４によりデータ生成部１１３の補正ルール付加部１１３３に出力されて補正ルール１０３の取得が完了する（ステップＳ１４４）。このようにして取得された補正ルール１０３は、パターンの形成に使用される各パターン形成設備に固有の補正ルール１０３となっている。
【００３５】
図４に示す補正ルール１０３の取得が完了すると、取得された補正ルール１０３が、対応するルール種別１０３０および対象パターン要素１０２２と共に、図１２に示すように、補正ルール部９１３としてパターン形成用データ９１に付加される（図５：ステップＳ１５）。パターン形成用データ９１では、ルール種別１０３０および対象パターン要素１０２２を属性（すなわち、「ｒｕｌｅＩｄ」および「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」）として有する補正ルール部９１３が、基礎パターン部９１１およびルール付加用インデックス９１２から分離して（すなわち、補正ルール部９１３と基礎パターン部９１１およびルール付加用インデックス９１２とが互いに包含関係を有さない状態にて）記述されたブロックとして付加される。パターン形成用データ９１では、補正ルール部９１３が基礎パターン部９１１およびルール付加用インデックス９１２と同様にＸＭＬにより記述される。なお、パターン形成用データ９１が、基礎パターン部９１１、ルール付加用インデックス９１２および補正ルール部９１３をそれぞれ複数ブロック含む場合には、各部のブロックは交互に記述されてもよい。
【００３６】
図１２に示すように、補正ルール部９１３には、ルール種類を示す「ｒｕｌｅＩｄ」が「ｂ１」であり、対象パターン要素の種類を示す「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が「ｌｉｎｅ」である補正ルール（以下、ｒｕｌｅＩｄの値を用いて、「補正ルールｂ１」という。）が含まれる。補正ルールｂ１は、直線にて表されるパターン中の配線の長さに合わせて配線の幅を補正するルールである。
【００３７】
補正ルール部９１３が付加されると、基礎パターン部９１１を補正してパターン形成用の補正済パターンのデータ（以下、「補正済データ」という。）を生成する補正済データ生成部１１３４（図２参照）により、必要に応じて、補正に用いられる補正値の取得が行われる（ステップＳ１６）。図１３は、補正値（すなわち、配線の補正幅）の取得動作の流れを示す図である。まず、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１が示すパターン要素またはパターン要素の組み合わせのうち、補正ルール部９１３が示す補正ルールｂ１に対応するもの、すなわち、補正ルールｂ１の属性「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が示すパターン要素である直線８４および直線８５（図６参照）が補正対象として特定される（ステップＳ１６１）。続いて、補正ルールｂ１の処理アルゴリズムが適用され、直線８４，８５の始点および終点の座標値からそれぞれの長さが取得される（ステップＳ１６２）。
【００３８】
図１４は、補正ルールｂ１および／またはパターン形成条件（すなわち、パターン形成設備Ａ１）に関連づけられる関連データベースｆｏｏ１のテーブルｂａｒ１を示す図である。補正済データ生成部１１３４では、ステップＳ１６２で求められた各直線の長さ（ｌｅｎｇｔｈ）、および、図１４に示すテーブルｂａｒ１に基づいて、配線の補正幅（ｖａｌｕｅ）が補正ルール部９１３の「ｄｂＶａｌｕｅ」（図１２参照）として取得される（ステップＳ１６３）。なお、補正値が予め補正ルール内に記述されている場合には、ステップＳ１６の動作は省略される。
【００３９】
補正幅が取得されると、補正済データ生成部１１３４により、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１における直線８４，８５を示す部分が補正ルールｂ１に従って補正され、図１５に示す表示用の補正済パターンのデータ（以下、「表示用データ」という。）９２が生成される（ステップＳ１７）。図１５に示すように、表示用データ９２では、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１の直線８４，８５を示す部分のそれぞれに対して、補正ルールｂ１により取得された補正幅（図１５中において「ｄｅｌｔａｗｉｄｔｈ」として示される値。）が、直線８４，８５の元の幅（図１５中において「ｗｉｄｔｈ」として示される値。）と区別可能なように付加される。表示用データ９２は、パターン形成用データ９１と同様、ＸＭＬにて記述される。なお、補正ルールによる基礎パターン部９１１の補正アルゴリズムの実体部分については、図示を省略している。
【００４０】
データ生成装置１では、図２に示す補正済データ生成部１１３４により生成された表示用データ９２がデータ生成部１１３からデータ出力部１１２に送られ、データ出力部１１２によりディスプレイ１５（図１参照）にパターン形状が表示される（ステップＳ１８）。図１６は、ディスプレイ１５に表示されるパターンの一部を拡大して示す図である。データ生成装置１では、データ出力部１１２による出力が表示制御部１１２１により制御されることにより、図１６に示すように、基礎パターン８（図１６中では、円８２、直線８４および直線８５）および補正済パターン８ａ（図１６中では、円８２、直線８４ａおよび直線８５ａ）、並びに、基礎パターン８と補正済パターン８ａとの相違（図１６中にて平行斜線を付して示す部分であり、以下、「補正量」という。）８ｂがディスプレイ１５に表示される。なお、基礎パターン８および補正済パターン８ａについては、いずれか一方が選択的に表示されてもよい。
【００４１】
ディスプレイ１５にパターンが表示されると、作業者により基礎パターン８、補正済パターン８ａおよび補正量８ｂの外観が確認される（ステップＳ１９）。補正済パターン８ａが所望の形状になっていない場合には、補正量を変更するためのデータ（以下、「変更用データ」という。）が、図２に示すデータ受付部１１１により受け付けられてデータ生成部１１３に送られる。データ生成部１１３では、補正ルール変更部１１３６により、図１２に示すパターン形成用データ９１の補正ルール部９１３が、変更用データに基づいて基礎パターン部９１１から独立して変更される（ステップＳ１９１）。具体的には、ステップＳ１６にて取得された補正幅が変更用データが示す新たな補正幅に変更される。補正ルール部９１３が示す補正ルールが変更されると、ステップＳ１７に戻って表示用データ９２が再び生成されてディスプレイ１５に基礎パターン８、補正済パターン８ａおよび補正量８ｂが表示される（ステップＳ１７，Ｓ１８）。なお、変更用データの内容によっては、ステップＳ１９１において、新たな補正ルールがデータベース１４２から取得され、補正ルール部９１３の補正ルールと置き換えられる等の変更が行われてもよい。
【００４２】
補正済パターン８ａが所望の形状になると（ステップＳ１９）、補正対象として特定されたパターン要素である直線８４，８５を示す基礎パターン部９１１の部分が補正ルール部９１３の補正ルールに従って一括して補正され、図１７に示す補正済データ９３が生成される（ステップＳ２０）。図１７に示すように、補正済データ９３は、基礎パターン部９１１の直線８４，８５を示すデータに対して、補正ルールｂ１による補正を行った結果を示すデータとして生成される。すなわち、補正済データ９３においては、各パターン要素の形状は、基礎的な形状（すなわち、基礎パターン８として示される形状）と補正ルールによる補正分とが区別されない状態で記述される。また、補正済データ９３はＸＭＬにて記述される。
【００４３】
データ生成装置１では、最終データ生成部１１３５（図２参照）により、最終データが補正済データ９３から生成される（ステップＳ２１）。その後、最終データはパターン形成設備Ａ１に送られ、後工程において基板上に実際のパターンが形成される。パターンの形成は、基礎パターン８に対して配線の幅を補償する補正が行われて生成された最終データに基づいて行われる。その結果、設備特性等による配線のやせが防止されて（または、パターン形状の歪みが抑制されて）適切なパターンが形成される。
【００４４】
なお、データ生成装置１では、図５中のステップＳ１３にてパターン形成用データ９１に付加されるルール付加用インデックス９１２において、複数種類のパターン要素がそれぞれ対象パターン要素として指定されてよく、また、複数のパターン要素の組み合わせが対象パターン要素として指定されてもよい。ステップＳ１４，Ｓ１５においては、複数種類の補正ルールがデータベース１４２から取得され、補正ルール部９１３としてパターン形成用データ９１に付加されてよい。基礎パターン部９１１の補正は、必ずしもステップＳ２０に示す補正済データ９３の生成において一括して行われる必要はなく、ステップＳ２１に示す最終データの生成において行われた方が効率的な補正は、最終データ生成時に行われてもよい。この場合、補正済データ９３は、最終データ生成時に行われる一部の補正に係る補正ルールを補正ルール部９１３として有する。
【００４５】
また、データ生成装置１では、新規設備においてパターン形成が行われる予定の基板のパターン設計を行う場合等、必要に応じてデータベース１４２の更新が行われる。データベース１４２の更新の際には、試作等が行われた後に更新データが入力部１６（図１参照）から入力されて図２に示すデータベース管理部１１４のデータ更新部１１４１に送られる。続いて、データ更新部１１４１により、更新データに基づくデータベース１４２の検索が行われ、更新データが新規データ要素として追加され、あるいは、既存のデータ要素が更新データに基づいて更新される。
【００４６】
以上に説明したように、データ生成装置１では、基礎パターン部９１１に補正ルール部９１３を付加してパターン形成用データ９１を自動生成することができる。また、生成されたパターン形成用データ９１が基礎パターン部９１１と補正ルール部９１３とを備えることにより、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化することができる。その結果、基礎パターン部９１１の各パターン要素を示すデータを作業者が１つずつ補正する場合に比べて、パターンの設計効率を向上することができる。また、パターンの基礎となる構造（すなわち、基礎パターン８）の変更やパターン形成処理に合わせたパターンの微細な変更を容易に行うことができる。
【００４７】
パターン形成用データ９１では、補正ルール部９１３が基礎パターン部９１１から分離して記述されたブロックとして付加されるため、基礎パターン部９１１と補正ルール部９１３とを容易に区別することができ、補正ルールの変更に迅速に対応することができる。また、補正ルール部９１３では、各補正ルールにルール種類および対象パターン要素の種類を示す識別子が付与されているため、補正ルール部９１３に複数の補正ルールが含まれている場合であっても、補正ルールの変更時に変更対象となる補正ルールを効率良く検索することができる。これにより、製造条件の変更等によるパターン変更にも迅速に対応することができる。なお、補正ルール部９１３の各補正ルールに付与される識別子は、ルール種類、または、対象パターン要素もしくは対象となるパターン要素の組み合わせの種類のいずれか１つであってもよい。
【００４８】
データ生成装置１では、補正ルール変更部１１３６により、基礎パターン部９１１から独立して補正ルール部９１３の変更を行うことができるため、基礎パターンを変更することなく、補正ルールのみを変更することにより、製造条件の変更等に迅速に対応することができる。また、パターン形成用データ９１では、補正ルール部９１３に含まれるパターン形成設備に固有の補正ルールを変更することにより、基礎パターンを変更することなく、各設備に適したパターン形成用データを生成することができる。
【００４９】
データ生成装置１では、補正ルール付加部１１３３により、基礎パターンの補正に使用される補正ルールをデータベース１４２から抽出することにより、補正ルール部９１３の生成に要する時間を短縮し、その結果、パターン形成用データ９１の生成に要する時間を短縮することができる。また、補正済データ生成部１１３４により、補正ルール部９１３の補正ルールに対応するパターン要素またはパターン要素の組み合わせを基礎パターン部９１１から特定して補正することにより、補正済データ９３を迅速に生成することができる。
【００５０】
データ生成装置１では、データ出力部１１２により、基礎パターン、補正済パターン、および、基礎パターンと補正済パターンとの相違である補正量がディスプレイ１５に表示されるため、補正前後のパターン形状の差違を容易に把握することができる。その結果、補正後のパターン形状の確認を容易に行うことができる。
【００５１】
パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１、ルール付加用インデックス９１２および補正ルール部９１３は同一の記述言語により記述されるため、パターン形成用データ９１の取り扱いが容易化される。特に、ＸＭＬは対応可能な記述形式の範囲が広く、データの通信等への対応にも優れているため、パターン形成用データ９１の記述に適している。また、パターン形成用データ９１は、ＸＭＬと同様に、対応可能な記述形式の範囲が広く、データの通信等への対応にも優れているＰＤＦ（Portable Document Format）により記述されてもよい。
【００５２】
次に、図１８およびその他の図面を参照しつつ、データ生成装置１によるパターン形成用データ、補正済データおよび最終データの生成動作の第２の例について説明する。図１８は、パターン形成用データの基礎とされる基礎パターンの１つのパターン要素である折れ線８６を拡大して示す図である。データ生成装置１では、折れ線８６を含む基礎パターンに基づいて、半導体基板のパターン形成に利用されるフォトマスクのパターン形成用データが生成される。なお、フォトマスク上において折れ線８６に対応する部位は光通過領域とされ、通過した光により基板上のレジスト膜にゲート電極のパターンが露光描画される。また、折れ線８６を構成する各直線要素は、互いに垂直に交わるものとする。
【００５３】
図１８に示すように、折れ線８６は複数の屈曲部８６１を有するため、このままの形状でフォトマスクの光通過領域が形成された場合、各屈曲部８６１近傍において光近接効果、すなわち、互いに近接する光通過領域を通過した光同士の干渉により基板上に描画されるパターンが歪む現象が生じる。データ生成装置１では、折れ線８６を含む基礎パターンのＣＡＤデータに対して、図５のステップＳ１１〜Ｓ２１に示す動作が行われ、光近接効果を抑制するための補正がなされたパターン形成用データ、補正済データおよび最終データが生成される。以下、データ生成装置１の動作について説明する。
【００５４】
データ生成装置１では、まず、折れ線８６の形状をベクトル図形形式にて表す基礎パターンＣＡＤデータが、図２に示すデータ受付部１１１により受け付けられてデータ生成部１１３に送られる（ステップＳ１１）。続いて、基礎パターン生成部１１３１により、基礎パターンＣＡＤデータからＸＭＬにて記述されたパターン形成用データが生成され（ステップＳ１２）、インデックス付加部１１３２によりルール付加用インデックスがパターン形成用データに付加される（ステップＳ１３）。以下、他のデータもＸＭＬにて記述されるものとする。
【００５５】
次に、付加されたルール付加用インデックスに基づいて、補正ルール付加部１１３３によるデータベース１４２からの補正ルールの取得が行われ（ステップＳ１４）、取得された補正ルールが、図１９に示す補正ルール部９１３ａとしてパターン形成用データに付加される（ステップＳ１５）。図１９に示すように、補正ルール部９１３ａには、ルール種類を示す「ｒｕｌｅＩｄ」が「ｃ１」であり、対象パターン要素の種類を示す「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が「ｐｏｌｙｌｉｎｅ」（折れ線）である補正ルール（以下、ｒｕｌｅＩｄの値を用いて、「補正ルールｃ１」という。）が含まれる。補正ルールｃ１は、折れ線にて表されるパターン要素の屈曲部（ｃｏｒｎｅｒ）に対して、光近接効果を抑制する補正を行うルールである。
【００５６】
補正ルール部９１３ａが付加されると、補正済データ生成部１１３４により、パターン形成用データの基礎パターン部が示すパターン要素またはパターン要素の組み合わせのうち、補正ルール部９１３ａが示す補正ルールｃ１に対応するもの、すなわち、補正ルールｃ１の属性「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が示すパターン要素である折れ線８６（図１８参照）が特定される。続いて、基礎パターン部が示す折れ線８６の座標値等から、折れ線８６の各屈曲部８６１が処理対象として特定される。
【００５７】
図２０は、補正ルールｃ１および／またはルール付加用インデックスのパターン形成条件に関連づけられる関連データベースｆｏｏ２のテーブルｂａｒ２を示す図である。補正済データ生成部１１３４では、図１９に示すｋｅｙ「Ｌ」および「Ｗ」、および、図２０に示すテーブルｂａｒ２に基づいて、補正長さおよび補正幅（ｖａｌｕｅ）が補正ルール部９１３ａの「ｄｂＶａｌｕｅＬ」および「ｄｂＶａｌｕｅＷ」として取得される（ステップＳ１６）。
【００５８】
補正長さおよび補正幅が取得されると、補正済データ生成部１１３４により、パターン形成用データの基礎パターン部における折れ線８６を示す部分が補正ルールｃ１に従って補正されて表示用データが生成され（ステップＳ１７）、表示用データに基づいてディスプレイ１５（図１参照）に図２１に示すパターン形状が表示される（ステップＳ１８）。データ生成装置１では、図２１に示すように、折れ線８６および補正済みの折れ線（以下、「補正済折れ線」という。）８６ａ、並びに、折れ線８６と補正済折れ線８６ａとの相違、（図２１中にて平行斜線を付して示す部分であり、以下、「補正量」という。）８６ｂがディスプレイ１５に表示される。図２１中にて符号「Ｌ」および符号「Ｗ」を付して示す補正量８６ｂの長さおよび幅は、ステップＳ１６にて取得された補正長さおよび補正幅である。なお、折れ線８６および補正済折れ線８６ａについては、いずれか一方が選択的に表示されてもよい。
【００５９】
ディスプレイ１５にパターンが表示されると、作業者により折れ線８６、補正済折れ線８６ａおよび補正量８６ｂの外観が確認される（ステップＳ１９）。補正済折れ線８６ａが所望の形状になっていない場合には、変更用データがデータ受付部１１１により受け付けられ、補正ルール変更部１１３６により、図１９に示すパターン形成用データの補正ルール部９１３ａが基礎パターン部から独立して変更される（ステップＳ１９１）。補正ルール部９１３ａが示す補正ルールが変更されると、ステップＳ１６に戻って表示用データが再び生成されてディスプレイ１５に折れ線８６、補正済折れ線８６ａおよび補正量８６ｂが表示される（ステップＳ１７，Ｓ１８）。
【００６０】
補正済折れ線８６ａが所望の形状になると（ステップＳ１９）、基礎パターン部の折れ線８６を示す部分が補正ルール部９１３ａの補正ルールに従って一括して補正され、補正済データが生成される（ステップＳ２０）。データ生成装置１では、最終データ生成部１１３５により、最終データが補正済データから生成される（ステップＳ２１）。その後、最終データはパターン形成設備に送られ、後工程において基板上にパターンが形成される。パターンの形成は、折れ線８６の屈曲部８６１に対する光近接効果を抑制する補正が行われて生成された最終データに基づいて行われる。その結果、光の干渉によりパターンの屈曲部の形状が歪むことが抑制されて適切なパターンが形成される。
【００６１】
以上に説明したように、データ生成装置１では、第１の例と同様に基礎パターン部に補正ルール部９１３ａを付加してパターン形成用データを生成することにより、パターンの設計効率を向上することができる。また、パターン形成用データが基礎パターン部と補正ルール部９１３ａとを備えることにより、基礎パターン（すなわち、折れ線８６）とパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化することができる。その結果、パターンの基礎となる構造の変更やパターン形成処理に合わせたパターンの微細な変更を容易に行うことができる。
【００６２】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００６３】
例えば、パターン形成用データ９１、表示用データ９２および補正済データ９３は、ＳＧＭＬ（Standard Generalized Markup Language）やＨＴＭＬ（Hyper Text Markup Language ）等のマークアップ言語、あるいは、PostScript等のページ記述言語により記述されてもよく、また、その他の様々な記述言語により記述されてもよい。
【００６４】
また、データの取り扱いの容易化の観点からは、パターン形成用データ９１、表示用データ９２および補正済データ９３の各部（例えば、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１、ルール付加用インデックス９１２および補正ルール部９１３）は、同一の記述言語にて記述されていることが好ましいが、その内容に合わせて取り扱いが容易となる個別の記述言語や記述形式にて記述されてもよい。例えば、補正ルール部９１３がＸＭＬにて記述され、基礎パターン部９１１では、パターン要素の種類を示す識別子および名称がそれぞれ、バイナリおよびＡＳＣＩＩコードにて記述されてもよい。
【００６５】
補正ルール部９１３に含まれる補正ルールは、既述のように、必ずしもパターン形成設備に固有の補正ルールには限定されず、例えば、設備の特性には影響されない基礎パターン８の設計における設計規則や、基板上に実際のパターンを形成する際の各設備共通の製造規則等であってもよい。
【００６６】
パターン形成用データ９１のデータ容量が大きくなってしまう場合（例えば、基礎パターン８に含まれるパターン要素が多い場合等）には、補正ルールの種類を示す識別子（すなわち、ｒｕｌｅＩｄ）のみが補正ルール部９１３としてパターン形成用データ９１に付加され、ｒｕｌｅＩｄに対応する補正ルールがデータベース１４２からメモリー上に順次呼び出されつつ基礎パターン部９１１に対する補正が行われてもよい。
【００６７】
なお、データ生成装置１において補正済パターンの確認が行われない場合には、図５に示すステップＳ１７〜Ｓ１９の動作（表示用データの生成、パターン形状の表示、および、補正済パターンの確認）は省略されてよい。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】一の実施の形態に係るデータ生成装置の構成を示す図である。
【図２】データ生成装置の機能構成を示すブロック図である。
【図３】データベースの構造を示す図である。
【図４】データ要素の構造を示す図である。
【図５】パターン形成用データ、補正済データおよび最終データの生成動作の流れを示す図である。
【図６】基礎パターンを示す図である。
【図７】基礎パターンＣＡＤデータを示す図である。
【図８】パターン形成用データを示す図である。
【図９】パターン形成用データを示す図である。
【図１０】補正ルールの取得動作の流れを示す図である。
【図１１】検索キーを示す図である。
【図１２】パターン形成用データを示す図である。
【図１３】補正値の取得動作の流れを示す図である。
【図１４】関連データベースを示す図である。
【図１５】表示用データを示す図である。
【図１６】基礎パターンおよび補正済パターンを示す図である。
【図１７】補正済データを示す図である。
【図１８】基礎パターンのパターン要素を拡大して示す図である。
【図１９】補正ルール部を示す図である。
【図２０】関連データベースを示す図である。
【図２１】折れ線および補正済折れ線を示す図である。
【符号の説明】
【００６９】
８    基礎パターン
８１〜８３    円
８４，８４ａ，８５，８５ａ    直線
８６，８６ａ    折れ線
９１    パターン形成用データ
１０３    補正ルール
９１１    基礎パターン部
９１３，９１３ａ    補正ルール部
１０２２    対象パターン要素
１０３０    ルール種別
Ｓ１１〜Ｓ２１，Ｓ１４１〜Ｓ１４４，Ｓ１６１〜Ｓ１６３，Ｓ１９１    ステップ
【図１】
2006162954.tif 000003
【図２】
2006162954.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
2006162954.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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