(57)【要約】      （修正有）【課題】蛍光体層の吸湿による支持体の腐食を防止し、さらに、これにより、蛍光体層の劣化の促進を防止し、高品質な輝尽性蛍光体パネル、及び、輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供する。【解決手段】金属基板１２と、無機酸化物皮膜１４と、輝尽性蛍光体層１６とをこの順に堆積する。無機酸化物皮膜１４は、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液を乾燥してなるＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物で形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属基板と、無機酸化物皮膜と、輝尽性蛍光体層とをこの順に堆積してなり、
前記無機酸化物皮膜が、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、前記１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液を乾燥してなるＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる膜であることを特徴とする輝尽性蛍光体パネル。
【請求項２】
前記無機酸化物皮膜の膜厚が、０．５μｍ〜１０μｍである請求項１に記載の輝尽性蛍光体パネル。
【請求項３】
前記金属基板の表面粗さが、１μｍ以下である請求項１または２に記載の輝尽性蛍光体パネル。
【請求項４】
前記無機酸化物皮膜の表面粗さが、０．１μｍ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の輝尽性蛍光体パネル。
【請求項５】
前記無機酸化物皮膜がＳｉＯ２膜である請求項１〜４のいずれかに記載の輝尽性蛍光体パネル。
【請求項６】
前記金属基板が、Ｓｉを０．３８％〜０．４２％、Ｆｅを０．４８％〜０．５２％、Ｃｕを１．２％〜２．０％、Ｍｎを０．２８％〜０．３２％、Ｍｇを２．１％〜２．９％、Ｃｒを０．１８％〜０．２８％、Ｚｎを５．１％〜５．６％、およびＺｒを０．２８％〜０．３２％含有するアルミ合金からなるものである請求項１〜５のいずれかに記載の輝尽性蛍光体パネル。
【請求項７】
金属基板の少なくとも一方に、粘度が３ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓであり、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、前記１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液を５μｍ〜１００μｍの厚みになるように塗布し、
前記基板上に塗布液を乾燥して、ＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる前記無機酸化物皮膜を形成し、
前記無機酸化物皮膜上に輝尽性蛍光体層を形成することを特徴とする輝尽性蛍光体パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、輝尽性蛍光体パネル及び輝尽性蛍光体パネルの製造方法の技術分野に属し、詳しくは、吸湿による特性劣化のおよそ無い基板および輝尽性蛍光体層を有する、高品位な輝尽性蛍光体パネル及び輝尽性蛍光体パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線、紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、輝尽性蛍光体（蓄積性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この輝尽性蛍光体の膜（輝尽性蛍光体層  以下、蛍光体層とする）を有する輝尽性蛍光体パネル（以下、蛍光体パネルとする（放射線像変換シートとも呼ばれている））を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、富士写真フイルム社製のＦＣＲ（Fuji Computed Radiography)等として実用化されている。
このシステムでは、人体などの被写体を介してＸ線等を照射することにより、蛍光体パネル（蛍光体層）に被写体の放射線画像情報を記録する。記録後に、蛍光体パネルをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、ＣＲＴなどの表示装置や、写真感光材料などの記録材料等に、被写体の放射線画像として出力する。
【０００４】
蛍光体パネルは、通常、輝尽性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のパネル状の支持体に塗布し、乾燥することによって、作成される。
これに対し、真空蒸着やスパッタリング等の真空成膜法（気相成膜法）によって、支持体に蛍光体層を形成してなる蛍光体パネルも知られている。真空成膜法による蛍光体層は、真空中で形成されるので不純物が少なく、また、輝尽性蛍光体以外のバインダなどの成分が殆ど含まれないので、性能のバラツキが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特性を有している。
【０００５】
蛍光体パネルの特性を劣化させる要因の１つとして、蛍光体層の吸湿が挙げられる。
蛍光体層、特に、良好な特性を有するアルカリハライド系の蛍光体層は、吸湿性が高く、通常（常温／常湿）の環境下であっても、容易に吸湿する。この吸湿は、蛍光体層の劣化を引き起こすばかりか、蛍光体層の支持体の腐食をも引き起こす。これにより、蛍光体パネルの機械的強度や平面度の低下、蛍光体層の劣化の促進、さらに、蛍光体パネルの再生画像の先鋭性低下等を生じてしまう。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、蛍光体層の吸湿による支持体の腐食を防止し、さらに、これにより、蛍光体層の劣化の促進を防止し、高品質な輝尽性蛍光体パネル、及び、輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、金属基板と、無機酸化物皮膜と、輝尽性蛍光体層とをこの順に堆積してなり、前記無機酸化物皮膜が、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、前記１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液を乾燥してなるＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる膜であることを特徴とする輝尽性蛍光体パネルを提供するものである。
【０００８】
本発明においては、前記無機酸化物皮膜の膜厚が、０．５μｍ〜１０μｍであるのが好ましい。
【０００９】
また、本発明においては、前記金属基板の表面粗さが、１μｍ以下であるのが好ましい。
【００１０】
また、本発明においては、前記無機酸化物皮膜の表面粗さが、０．１μｍ以下であるのが好ましい。
【００１１】
また、本発明においては、前記無機酸化物皮膜がＳｉＯ２膜であるのが好ましい。
【００１２】
前記金属基板が、Ｓｉを０．３８％〜０．４２％、Ｆｅを０．４８％〜０．５２％、Ｃｕを１．２％〜２．０％、Ｍｎを０．２８％〜０．３２％、Ｍｇを２．１％〜２．９％、Ｃｒを０．１８％〜０．２８％、Ｚｎを５．１％〜５．６％、およびＺｒを０．２８％〜０．３２％含有するアルミ合金からなるものである請求項１〜５に記載の輝尽性蛍光体パネル。
【００１３】
また、上記目的を達成するために、本発明は、金属基板の少なくとも一方に、粘度が３ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓであり、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、前記１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液を５μｍ〜１００μｍの厚みになるように塗布し、前記基板上に塗布液を乾燥して、ＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる前記無機酸化物皮膜を形成し、前記無機酸化物皮膜上に輝尽性蛍光体層を形成することを特徴とする輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、工業的に取り扱いやすい塗布液を用いて、平易な工程で金属基板上にゾルゲル法によりＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる無機酸化物皮膜を設けることにより、蛍光体層１６の吸湿に起因する金属基板１２表面の腐食を防止し、金属基板１２表面を常に良好に保つことができ、これにより、蛍光体パネルの機械的強度や平面度の低下、蛍光体層１６の劣化の促進等を引き起こすことなく、高品質な輝尽性蛍光体パネルおよび輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の輝尽性蛍光体パネル及び輝尽性蛍光体パネルの製造方法ついて、添付の図面を用いて、詳細に説明する。
【００１６】
図１は、本発明の製造方法で製造する本発明の輝尽性蛍光体パネルの概略構成断面図を示したものである。
図１に示すように、本発明の輝尽性蛍光体パネル（以下、蛍光体パネルとする）１０は、金属基板１２と、この金属基板１２上に形成された無機酸化物皮膜１４と、この無機酸化物皮膜１４上に形成された輝尽性蛍光体の膜（輝尽性蛍光体層、以下、蛍光体層とする）１６とを少なくとも有し、好ましくは、蛍光体層１６を覆って封止する、蛍光体層１６の吸湿を防止するための防湿保護層１８を有する。
また、本発明の蛍光体パネル１０は、上記構成が満たされていれば、蛍光体層１６を封止するために、接着層２０を有しても良い。
【００１７】
本発明の蛍光体パネル１０において、金属基板１２は、材質がアルミ合金であり、Ｓｉを０．３８％〜０．４２％、Ｆｅを０．４８％〜０．５２％、Ｃｕを１．２％〜２．０％、Ｍｎを０．２８％〜０．３２％、Ｍｇを２．１％〜２．９％、Ｃｒを０．１８％〜０．２８％、Ｚｎを５．１％〜５．６％、およびＺｒを０．２８％〜０．３２％含むものが好ましいが、金属であれば、アルミ合金等、特に限定はなく、蛍光体パネル１０で使用されている各種のものが利用可能である。
また、金属基板１２の表面の粗さは、１μｍ以下、特に、０．５μｍ以下であるのが好ましい。金属基板１２表面の粗さを１μｍ以下の粗さにすることで、その上に形成される無機酸化物皮膜１４の表面粗さを０．１μｍ以下とすることができる。
【００１８】
ここで、本発明の蛍光体パネル１０は、金属基板１２上に無機酸化物皮膜１４を有する。この無機酸化物皮膜１４は、蛍光体層１６の吸湿に起因する金属基板１２の腐食を防止するために、金属基板１２表面を被覆するものである。
【００１９】
無機酸化物皮膜１４は、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、前記１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液を乾燥してなるＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる膜である。
【００２０】
無機酸化物皮膜１４は、上述のＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる膜であれば、特に限定は無いが、特に、ＳｉＯ２膜が好ましい。
【００２１】
無機酸化物皮膜１４は、膜厚が０．５μｍ〜１０μｍ、特に、１μｍ〜６μｍであるのが好ましい。無機酸化物皮膜１４の膜厚を０．５μｍ以上にすることで、蛍光体層１６の吸湿に起因する金属基板１２表面の腐食を良好に防止でき、１０μｍ以下の膜厚にすることで、無機酸化物皮膜１４の温度変化などによる破壊（クラック）を防止することができる。
また、無機酸化物皮膜１４は、表面粗さが０．１μｍ以下、特に、０．０７μｍ以下であるのが好ましい。無機酸化物皮膜１４の表面粗さを０．１μｍ以下とすることにより、無機酸化物皮膜１４と無機酸化物皮膜１４上に形成する蛍光体層１６との密着性を向上することが可能である。また、無機酸化物皮膜１４上に形成する蛍光体層の微細構造による放射線画像の粒状性を良好にすることができる。
【００２２】
なお、無機酸化物皮膜１４は、形成方法には、特に限定は無く、上記のような材料からなる塗布液を乾燥して得られるものであれば、各種の方法が利用可能である。
中でも、本発明の蛍光体パネルの製造方法、すなわち、無機酸化物皮膜１４は、粘度が３ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓ、特に、５ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓである塗布液を金属基板１２表面の少なくとも一方に、塗布時の塗布液の厚みが５μｍ〜１００μｍ、特に、１０μｍ〜７０μｍになるように塗布し、乾燥して形成するのが好ましい。
塗布液の粘度が３ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓであり、且つ、塗布時の塗布液の厚みが５μｍ〜１００μｍになるように金属基板１２上に塗布液を塗布することにより、金属基板１２の微細孔を塗布液で良好に埋めることができ、塗布液の塗布ムラがなくなり、無機酸化物皮膜１４の均一性が向上する。さらに、塗布液乾燥時のセル化、クラックの発生を低減することができ、欠陥のおよそ無い無機酸化物皮膜１４を形成することができる。また、先に述べた無機酸化物皮膜１４表面の粗さを良好に１μｍ以下にすることができる。
塗布液の乾燥方法には、特に限定は無く、加熱または常温で乾燥すれば良いが、１５℃〜４０℃の温度条件下で乾燥する一次乾燥と、１５０℃〜３５０℃の温度条件下で乾燥する二次乾燥とに分けて乾燥するのが好ましい。
【００２３】
ここで、本発明において、上述したように１種類以上の金属アルコキシドおよび１種以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、前記１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液を乾燥してなるＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる無機酸化物皮膜１４を金属基板１２上に設けることにより、蛍光体層１６が吸湿していても金属基板１２表面が腐食することがなくなり、金属基板１２表面を常に良好に保つことができ、高品質な輝尽性蛍光体パネルおよび輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供することができる。
なお、特開２００４−６１１５９号公報には、蛍光体層中の賦活剤の均一性に優れ、且つ、高輝度、高鮮鋭性である放射線像変換パネルおよび放射線像変換パネルの製造方法を得るために、支持体上に気層法により５０μｍ〜２０ｍｍの膜厚を有する蛍光体層を形成し、この支持体が酸化皮膜形成処理されたアルミ基板にて形成されている放射線像変換パネルおよび放射線像変換パネルの製造方法が開示されている。さらに、アルミ基板の酸化皮膜として、Ａｌアルコキシド化合物をアルミ基板上にスピンコータ等で塗布、乾燥し、形成する方法が開示されている。しかしながら、Ａｌアルコキシド溶液は、非常に不安定ですぐに凝固してしまうため、無機酸化物皮膜１４を形成するための塗布液として用いるのはおよそ不可能である。
これに対し、本発明において無機酸化物皮膜１４を形成するために用いる材料は、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、前記１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液であり、化学的に安定し、且つ、工業的に取り扱いやすい物質であるため、本発明の輝尽性蛍光体パネルおよび輝尽性蛍光体パネルの製造方法を容易に実現する。
【００２４】
本発明の蛍光体パネル１０において、蛍光体層１６を形成する輝尽性蛍光体としては、各種のものが利用可能であるが、一例として、下記の輝尽性蛍光体が好ましく例示される。
米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されている輝尽性蛍光体である、「ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ」、「ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ」、「ＴｈＯ2 ：Ｅｒ」、および、「Ｌａ2 Ｏ2 Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ」。
【００２５】
特開昭５５−１２１４２号公報に開示される、「ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ」、「ＢａＯ・ｘＡｌ2 Ｏ3 ：Ｅｕ（但し、０．８≦ｘ≦１０）」、および、一般式「ＭIIＯ・ｘＳｉＯ2：Ａ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIIは、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，ＣｄおよびＢａからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｃｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉおよびＭｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０．５≦ｘ≦２．５である。）
【００２６】
特開昭５５−１２１４４号公報に開示される、一般式「ＬｎＯＸ：ｘＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｌｎは、Ｌａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種であり、Ａは、ＣｅおよびＴｂの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）
【００２７】
特開昭５５−１２１４５号公報に開示される、一般式「（Ｂａ1-x ，Ｍ2+x ）ＦＸ：ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ2+は、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．６であり、０≦ｙ≦０．２である。）
【００２８】
特開昭５７−１４８２８５号公報に開示される、下記のいずれかの輝尽性蛍光体。
すなわち、一般式「ｘＭ3 （ＰＯ4 ）2 ・ＮＸ2 ：ｙＡ」または「Ｍ3（ＰＯ4 ）2 ・ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、ＭおよびＮは、それぞれ、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｓｂ，Ｔｌ，ＭｎおよびＳｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦６、０≦ｙ≦１である。）
【００２９】
一般式「ｎＲｅＸ3 ・ｍＡＸ’2 ：ｘＥｕ」または「ｎＲｅＸ3 ・ｍＡＸ’2 ：ｘＥｕ，ｙＳｍ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、Ｒｅは、Ｌａ，Ｇｄ，ＹおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＸおよびＸ’は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，およびＢｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０-4＜ｘ＜３×１０-1であり、１×１０-4＜ｙ＜１×１０-1であり、さらに、１×１０-3＜ｎ／ｍ＜７×１０-1である。）
【００３０】
および、一般式「ＭI Ｘ・ａＭIIＸ’2 ・ｂＭIII Ｘ''3：ｃＡ」で示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭI は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＭIIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，ＣｕおよびＮｉからなる群より選択される少なくとも一種の二価の金属であり、ＭIII は、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ，ＢｉおよびＭｇからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ＜０．５であり、０≦ｂ＜０．５であり、０≦ｃ＜０．２である。）
【００３１】
特開昭５６−１１６７７７号公報に開示される、一般式「（Ｂａ1-X ，ＭIIX ）Ｆ2 ・ａＢａＸ2 ：ｙＥｕ，ｚＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、ＺｒおよびＳｃの少なくとも一種である。また、０．５≦ａ≦１．２５であり、０≦ｘ≦１であり、１×１０-6≦ｙ≦２×１０-1であり、０＜ｚ≦１×１０-2である。）
【００３２】
特開昭５８−６９２８１号公報に開示される、一般式「ＭIII ＯＸ：ｘＣｅ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIII は、Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）
【００３３】
特開昭５８−２０６６７８号公報に開示される、一般式「Ｂａ1-x Ｍa Ｌa ＦＸ：ｙＥｕ2+」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０-2≦ｘ≦０．５であり、０≦ｙ≦０．１であり、さらに、ａはｘ／２である。）
【００３４】
特開平５９−７５２００号公報に開示される、一般式「ＭIIＦＸ・ａＭI Ｘ’・ｂＭ’IIＸ''2 ・ｃＭIIIＸ3 ・ｘＡ：ｙＥｕ2+」で示される輝尽性蛍光体。（上記式において、ＭIIは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも１種であり、ＭIは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｍ’IIは、ＢｅおよびＭｇの少なくとも一方の二価の金属であり、ＭIIIは、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ、およびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ａは、金属酸化物であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，およびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ≦２であり、０≦ｂ≦１×１０-2であり、０≦ｃ≦１×１０-2であり、かつ、ａ＋ｂ＋ｃ≧１０-6であり、さらに、０＜ｘ≦０．５であり、０＜ｙ≦０．２である。）
【００３５】
特に、優れた輝尽発光特性を有し、かつ、本発明の効果が良好に得られる等の点で、特開昭５７−１４８２８５号公報に開示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく例示され、中でも特に、ＭI が、少なくともＣｓを含み、Ｘが、少なくともＢｒを含み、さらに、Ａが、ＥｕまたはＢｉであるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく、その中でも特に、一般式「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」で示される輝尽性蛍光体が好ましい。
【００３６】
蛍光体層１６は、このような輝尽性蛍光体からなり、形成方法には、特に限定はなく、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition)等の各種の真空成膜法で得られるものが利用可能である。
中でも、生産性等の点で真空蒸着により形成された蛍光体層１６が好ましく、特に、蛍光体成分の材料と、付活剤（賦活剤：activator)成分の材料とを別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着により形成された蛍光体層１６が好ましい。例えば、前記「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」の蛍光体層１６であれば、蛍光体成分の材料として臭化セシウム（ＣｓＢｒ）を、付活剤成分の材料として臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒx（ｘは、通常、２〜３））を、それぞれ用いて、別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着により形成されることが好ましい。
真空蒸着における加熱方法にも、特に限定はなく、例えば、電子銃等を用いる電子線加熱、又は、抵抗加熱で形成されたものでもよい。さらに、多元の真空蒸着による形成される場合には、全ての材料を同様の同じ加熱手段（例えば、電子線加熱）で加熱蒸発してもよく、あるいは、蛍光体成分の材料は電子線加熱で、微量である付活剤成分の材料は抵抗加熱で、それぞれ加熱蒸発して形成されてもよい。
【００３７】
蛍光体層１６は、特に限定された成膜条件はなく、成膜方法や形成する蛍光体層１６の組成等に応じて、適宜、決定された成膜条件によって形成され、得られる蛍光体層１６であればよい。一例として、真空蒸着であれば、１×１０-5Ｐａ〜１×１０-2Ｐａの真空度で、０．０５μｍ／ｍｉｎ〜３００μｍ／ｍｉｎの成膜速度で成膜し、得られる蛍光体層１６が好ましい。なお、多元の真空蒸着により形成される場合には、母体成分と付活剤成分の量比が目的範囲となるように、両材料の蒸発速度が制御される。
また、本件出願人の検討によれば、前述した各種の蓄積性蛍光体、特にアルカリハライド系蓄積性蛍光体、中でも特にＣｓＢｒ：Ｅｕを真空蒸着で成膜する場合には、一旦、系内を高い真空度に排気した後、アルゴンガスや窒素ガス等を系内に導入して、０．０１Ｐａ〜３Ｐａ、特に、０．５Ｐａ〜１．５Ｐａ程度の中真空度とし、この中真空下で抵抗加熱等による真空蒸着を行うことにより、蛍光体層１６を形成するのが好ましい。前記ＣｓＢｒ：Ｅｕ等のアルカリハライド系の蛍光体層１６は、柱状結晶構造を有するが、このような中真空下で成膜して得られる蛍光体層１６は、特に良好な柱状の結晶構造を有し、輝尽発光特性画像の鮮鋭性等の点で好ましい。
また、金属基板１２の加熱等によって、成膜中に、形成された蛍光体層１６を３００℃以下、好ましくは２００℃以下で加熱してもよい。
さらに、厚さにも、限定はないが、５０μｍ以上、特に、２００μｍ以上の蛍光体層１６が好ましい。
【００３８】
このようにして形成された蛍光体層１６は、輝尽発光特性を良好に発現させ、かつ、輝尽発光特性を向上させるために、熱処理（アニーリング）が施される。
蛍光体層１６の熱処理条件には、特に限定はないが、一例として、窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で、５０℃〜６００℃、特に、１００℃〜３００℃で、１０分〜１０時間、特に、３０分〜３時間行うのが好ましい。
蛍光体層１６の加熱処理は、焼成炉を用いる方法等の公知の方法で実施すればよく、また、金属基板１２の加熱手段を有する真空蒸着装置であれば、これを利用して加熱処理を実施してもよい。
【００３９】
蒸着による蛍光体層１６は、吸湿性が高く、吸湿によって容易に特性が劣化してしまう。そのため、本発明の蛍光体パネル１０の製造方法においては、以上の構成に加え、蛍光体層１６の吸湿を防止するために、下記に詳述する防湿保護層１８で蛍光体層１６を覆って、蛍光体層１６を封止して、吸湿を防止することが好ましい。
【００４０】
防湿保護層１８は、十分な防湿性を有するものであれば、各種のものが利用可能であり、特に限定はない。一例として、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、ＳｉＯ２膜とＳｉＯ２とＰＶＡ（ポリビニルアルコール）とのハイブリット層とＳｉＯ２膜との３層を形成してなる防湿保護層１８が例示される。これ以外にも、ガラス板（フィルム）、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等の樹脂フィルム、樹脂フィルムにＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＣなどの無機物質が堆積したフィルム等も好ましく例示される。なお、前記ＰＥＴフィルム上に、ＳｉＯ２膜／ＳｉＯ２とＰＶＡとのハイブリット層／ＳｉＯ２膜の３層を形成した防湿保護層１８において、例えば、ＳｉＯ２膜は、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ２とＰＶＡとのハイブリット層は、ＰＶＡとＳｉＯ２の比率が１：１となるようにゾルゲル法を用いて、それぞれ形成すればよい。
【００４１】
防湿保護層１８で、蛍光体層１６を封止する方法は、特に限定はない。一例として、接着層２０によって、防湿保護層１８を金属基板１２表面に接着する方法が例示される。なお、本発明においては、防湿保護層１８と金属基板１２表面のみとを接着しても良いが、より耐久性に優れた蛍光体パネル１０を得るために、図示例のように、防湿保護層１８は金属基板１２表面のみならず蛍光体層１６表面とも接着するのが好ましい。
接着層２０は、防湿性に優れた接着剤で形成されたものであれば、特に限定はない。一例として、ポリエステル系接着剤が好適に例示される。さらに、蛍光体層１６表面も防湿保護層１８と接着する際には、放射線の入射及び輝尽発光光の出射を妨げない光学特性を有するものであるのが好ましい。
形成方法、および、形成条件においても、特に限定はない。一例として、塗布形成が例示される。
前記接着層２０を設けた後、防湿保護層１８を蛍光体層１６に被せ、防湿保護層１８と金属基板１２あるいはさらに蛍光体層１６とを封止接着する。この封止接着方法には特に限定はないが、例えば、熱ラミネーションが例示される。
また、接着層２０で防湿保護層１８と金属基板１２表面とを接着するときの接着強度を向上し、良好な接着強度が得られるように、防湿保護層１８による蛍光体層１６の封止に先立ち、封止部（防湿保護層１８と金属基板１２表面との接着箇所）および蛍光体層１６の加熱を、例えば金属基板１２の加熱等によって行っても良い。
【００４２】
本発明の蛍光体パネル１０の製造方法においては、蛍光体層１６の封止後の工程には、特に、限定はない。
【００４３】
本発明の蛍光体パネル１０の製造方法の一例について説明する。
まず、粘度が３ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓ、特に、５ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓである１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは、１種類以上の金属アルコキシドおよび１種類以上の金属アルコキシドを加水分解することにより得られる加水分解物の少なくとも一方を含む水／アルコール溶液を主剤とする塗布液を用意する。この塗布液を金属基板１２表面の少なくとも一方に、塗布時の塗布液の厚みが、５μｍ〜１００μｍ、特に１０μｍ〜７０μｍの厚みになるように塗布する。次いで、上記塗布液を加熱または常温乾燥して、ＳｉＯ２膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜のいずれか、または、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、およびＴｉＯ２のうちのいずれか２種類以上の混合物でなる無機酸化物皮膜１４を形成する。
金属基板１２表面に無機酸化物皮膜１４を形成した後、無機酸化膜皮膜１４上に蛍光体層１６を形成する。他方、防湿保護層１８の表面全体に、適宜選択した接着剤で、所定の厚みになるように、接着層２０を形成する。
接着層２０は、防湿保護層１８と蛍光体層１６とを接着し、さらに、防湿保護層１８と金属基板１２とを接着する。このような接着層２０は、防湿保護層１８と蛍光体層１６とを接着するための層と蛍光体層１６と金属基板１２とを接着するための層を一体にし、１回の塗布形成で形成することが可能である。さらに、耐久性等の点でより好ましいことは、先に述べた通りである。
接着層２０を有する防湿保護層１８を無機酸化物皮膜１４に被せ、蛍光体層１６と防湿保護層１８、及び、防湿保護層１８と金属基板１２とを、所定の温度及び線速で熱ラミネーションを実施することにより接着する。
防湿保護層１８による蛍光体層１６の封止に先立ち、金属基板１２に熱をかけても良い。
【００４４】
以上、本発明の輝尽性蛍光体パネルの製造方法及び輝尽性蛍光体パネルについて説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
【実施例】
【００４５】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、さらに、添付の図を用いて、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されないのは言うまでもない。
【００４６】
［実施例１］
無機酸化物皮膜１４の成膜材料として、Ｓｉアルコキシド溶液系の塗布液（株式会社日興製：ＧＳ‐６００‐１、固形分濃度：３６％、粘度：８ｍＰａ・ｓｅｃ）を、金属基板１２として、面積４５０ｍｍ×４５０ｍｍ、表面粗さ０．０３μｍのアルミ合金製の金属基板１２（製品名：ＹＨ７５、日鐡商事製、ＪＩＳ呼称：７０７５）を、それぞれ用意した。
金属基板１２の表面にドクターナイフ法によって、塗布液の厚みが３０μｍになるように、塗布液を塗布し、次いで、塗布液を塗布した金属基板１２を、２５℃、湿度４０％ＲＨ雰囲気で３０分間自然乾燥させ、さらに、２００℃の温度条件下で１時間乾燥させ、ＳｉＯ２膜である無機酸化物皮膜１４を成膜した。
このときの無機酸化物皮膜１４の膜厚は、約４μｍであった。
【００４７】
上述のようにして形成した無機酸化物皮膜１４表面に、付活剤の成膜材料として臭化ユーロピウムを、蛍光体の成膜材料として臭化セシウムをそれぞれ用いる二元の真空蒸着によって、ＣｓＢｒ：Ｅｕからなる蛍光体層１６を成膜した。
両成膜材料共に、加熱は、タンタル製のルツボと出力６ｋＷのＤＣ電源とを用いる抵抗加熱装置で行った。
真空蒸着装置（真空チャンバ）の基板ホルダに面積４５０ｍｍ×４５０ｍｍのアルミ合金製の金属基板１２をセットし、また、各所定位置に各成膜材料をセットした後、真空チャンバを閉鎖し、排気を開始した。排気は、ディフュージョンポンプおよびクライオコイルを用いた。
真空度が８×１０−４Ｐａとなった時点で、真空チャンバ内にアルゴンガスを導入して真空度を０．５Ｐａとし、次いで、ＤＣ電源を駆使して成膜材料を充填したルツボに通電し、金属基板１２の表面に抵抗加熱による蛍光体層１６の成膜を介した。
なお、蛍光体層１６におけるＥｕ／Ｃｓのモル濃度比が０．００３：１、かつ、成膜速度が８μｍ／ｍｉｎとなるように、両ルツボのＤＣ電源の出力を調整した。
また、成膜中は、ハロゲンランプを用いて金属基板１２表面を直接加熱した。
蛍光体層１６の膜厚が約７００μｍとなった時点で、成膜を終了し、真空チャンバから金属基板１２を取り出した。なお、膜厚は、予め行った実験により制御した。
次いで、成膜を終了した金属基板１２に、窒素雰囲気下で、温度２００℃で２時間のアニーリング処理を行った。
【００４８】
他方、６μｍ厚みのＰＥＴフィルム上に、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ２膜をｌ００ｎｍ形成し、その上に、ＰＶＡとＳｉＯ２の比率が１：１となるようにゾルゲル法を用いて、ＰＶＡとＳｉＯ２のハイブリット層を６００ｎｍ形成し、ハイブリット層上に、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ２膜を１００ｎｍ形成し、防湿保護層１８とした。
【００４９】
ディスペンサーを用いて、金属基板１２上の周縁部に、接着層２０となるエポキシ樹脂（セメダイン製：ＥＰ００１）を塗布した。なお、エポキシ樹脂は、接着後の接着層２０が幅５ｍｍ、厚み７μｍとなるように塗布した。
次に、４２０ｍｍ×４２０ｍｍサイズに裁断した上述の防湿保護層１８をＳｉＯ２膜側が蛍光体層１６と対向するように、蛍光体層１６に被せ、上述の接着層２０に相当する形状のプレス型（プレス面はゴム）を押し付け、押した状態のまま維持し、蛍光体層１６を封止して、図１に示すパネル１０と同じ構成を有する蛍光体パネルを作成した。
【００５０】
［比較例１］
金属基板１２の表面粗さは規定せず、金属基板１２上に無機酸化物皮膜１４を設けなかった以外は、実施例１と全く同様にして蛍光体パネル１０を得た。
【００５１】
［比較例２］
金属基板１２の表面粗さは規定せず、Ａｌアルコキシド溶液を塗布液として、Ａｌ２Ｏ３膜を無機酸化物皮膜１４としようとした以外は、実施例１と全く同様にして蛍光体パネル１０を得た。
なお、Ａｌアルコキシド溶液は、管理が非常に困難で、金属基板１２上に無機酸化物皮膜１４であるＡｌ２Ｏ３膜を塗布形成することはできなかった。
【００５２】
［比較例３］
アルマイト処理により形成したＡｌ２Ｏ３膜を無機酸化物皮膜１４とした以外は、実施例１と全く同様にして蛍光体パネル１０を得た。
【００５３】
［実施例２］
金属基板１２の種類を純アルミとした以外は、実施例１と全く同様にして蛍光体パネル１０を得た。
【００５４】
［実施例３］
実施例１で用いた塗布液をイソプロピルアルコールで希釈することにより、塗布液の粘度を４ｍＰａ・ｓとし、且つ、塗布時の塗布液の厚みを約１０μｍにした以外は、実施例１と全く同様にして、蛍光体パネル１０を得た。
【００５５】
［実施例４］
実施例１で用いた塗布液を開口容器中で攪拌し、塗布液中の有機溶剤成分を蒸発させることにより、塗布液の粘度を４０ｍＰａ・ｓとした以外は、実施例１と全く同様にして、蛍光体パネル１０を得た。
【００５６】
［実施例５］
表面の粗さが２μｍの金属基板１２を用いた以外は、実施例１と全く同様にして、蛍光体パネル１０を得た。
【００５７】
［実施例６］
実施例１で用いた塗布液をイソプロピルアルコールで希釈することにより、塗布液の粘度を２ｍＰａ・ｓとし、且つ、塗布時の塗布液の厚みが約１５０μｍにした以外は、実施例１と全く同様にして、蛍光体パネル１０を得た。
【００５８】
［実施例７］
実施例１で用いた塗布液を開口容器中で攪拌し、塗布液中の有機溶剤成分を蒸発させることにより、塗布液の粘度を５７ｍＰａ・ｓとし、且つ、塗布時の塗布液の厚みが約１２μｍにした以外は、実施例１と全く同様にして、蛍光体パネル１０を得た。
【００５９】
得られた蛍光体パネルの無機酸化物皮膜１４の膜厚ａ、表面粗さ、クラックの有無、蛍光体層１６の腐食のレベル、および、得られた放射線画像の均一性は、以下のように測定した。
【００６０】
［無機酸化物皮膜の膜厚］
金属基板１２上に無機酸化物皮膜１４を成膜した後、１０ｍｍ×１０ｍｍサイズでサンプルを適当な治具を用いて切り出し、サンプルの断面を研磨し、走査型電子顕微鏡（日本電子製：ＪＳＭ‐６３６０）によりサンプルの断面を観察し、金属基板１２表面に形成された無機酸化物皮膜１４の膜厚を測定した。
【００６１】
［無機酸化物皮膜の表面粗さ］
金属基板１２上に無機酸化物皮膜１４を成膜した後、無機酸化物皮膜１４をＪＩＳ  Ｂ  ０６５１に準拠して測定した。
なお、金属基板１２の表面粗さも同様の方法で測定した。
【００６２】
［無機酸化物皮膜のクラックの有無］
金属基板１２上に無機酸化物皮膜１４を成膜した後、金属基板１２を２００℃で加熱し、無機酸化物皮膜１４にクラックが入ったかどうかを視認評価した。「無機酸化物皮膜１４にクラックを確認した」場合を×、「無機酸化物皮膜１４にクラックが無かった」場合を○とし、結果を表１に併記する。
【００６３】
［蛍光体層の腐食レベル］
上記のようにして得られた蛍光体パネルを、３０℃、湿度６０％ＲＨの環境下で３日間放置した後、読取装置（富士フイルム製：Ｖｅｌｏｃｉｔｙ−Ｕ）に装着し、８０ｋｖｐＸ線を均一に１ｍＲ照射し、読取動作を行い、放射線画像を得た。
蛍光体層１６の腐食部分は、放射線画像上では、低発光のブツとして観測される。「腐食によるブツが観測されないレベル」を○、「腐食によるブツが観測されるが実用上問題ないレベル」を△、「腐食によるブツが観測され、実用不可能なレベル」を×とし、結果を表１に併記する。
【００６４】
［放射線画像の均一性］
上記のようにして得た蛍光体パネルを［蛍光体層の腐食レベル］測定時と同様の処理を行い、放射線画像を得た。
得られた放射線画像の均一性を視認評価し、「画像が均一であり問題ないレベル」を○、「画像に若干の粗さはあるが、実用上問題のないレベル」を△、「画像に粗さがあり、実用不可能なレベル」を×とし、結果を表１に併記する。
【００６５】
上記［無機酸化物皮膜の膜厚］、［無機酸化物皮膜の表面粗さ］、［無機酸化物皮膜のクラックの有無］［蛍光体層の腐食レベル］、および［放射線画像の均一性］に基づいて、上記のようにして得た蛍光体パネルを総合的に評価した。この総合評価において、○は、「画質問題なし」、△は、「若干画質劣るが実用問題なし」、×は、「画質が劣り、実用不可能」である。総合評価を表１に併記する。
【００６６】
【表１】
2006267013.tif 000003
【００６７】
表１より明らかなように、実施例１は、無機酸化物皮膜１４にクラックや蛍光体層に腐食も観測されず、且つ、画像が均一である、すなわち、実用可能な優れた蛍光体パネルである。
また、実施例２は、金属基板の剛性が低くいため平面度が低く、画像に若干の粗さはあるが、実用に問題の無いレベルである。実施例３は、無機酸化物皮膜１４中にピンホールがあり、蛍光体層１６の一部に腐食が観測られ、且つ、画像に若干の粗さはあるが、実用に問題の無いレベルである。実施例４は、無機酸化物皮膜１４の一部に微細なクラックが観測され、画像に若干の粗さはあるが、実用に問題の無いレベルである。実施例５は、無機酸化物皮膜１４にクラックが入り、蛍光体層１６の一部に腐食が観測され、且つ、画像に若干の粗さはあるが、実用に問題の無いレベルである。実施例６は、無機酸化物皮膜１４の表面粗さを０．１５μｍとしたため、画像に若干の粗さはあるが、実用上問題の無いレベルである。実施例７は、塗布時に金属基板１２表面上に塗布液のスジやムラが発生し、画像に若干の粗さはあるが、実用上問題の無いレベルである。
これに対して、比較例１は、無機酸化物皮膜を金属基板１２上に設けていないため、蛍光体層１６中に腐食が観測され、画像に粗さがあり、実用不可能なレベルである。また、比較例２は、アルコキシド溶液を塗布液として無機酸化物皮膜１４であるＡｌ２Ｏ３膜を塗布形成しようとしたが、塗布液の管理が困難であるため、金属基板１２上に膜を形成することができず、蛍光体パネルを得ることができなかった。比較例３に関しては、金属基板１２表面にアルマイト処理によりＡｌ２Ｏ３膜を形成したが、無機酸化物皮膜１４にクラック、蛍光体層１６に腐食が観測され、且つ、画像に粗さがあるため、総合的に実用不可能なレベルである。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の製造方法により製造する蛍光パネルの一実施形態の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１０  輝尽性蛍光体パネル
１２  金属基板
１４  無機酸化物皮膜
１６  輝尽性蛍光体層
１８  防湿保護層
２０  接着層
【図１】
2006267013.tif 000004