(57)【要約】  【課題】外部への高温蒸気の噴き出しを防止し、過度な加熱による弊害を除去して、生産効率のよい食品高温加熱装置を提供する。  【解決手段】入口側から順次、前室１０、高温加熱室１５及び低温加熱室２０をそれぞれ設置したトンネル式蒸し釜１を備える。前室１０と高温加熱室１５の間には処理液槽１２を設置し、コンベア４がこの処理液槽１２内を通過するように案内される。高温加熱室１５では高温蒸気による加熱処理が可能であり、高温加熱室１５と低温加熱室２０との間にはボイル槽２１を設置し、コンベア４はボイル槽２１内を通過するように案内される。高温加熱室１５の入口側通路には前記処理液１３が満たされ、高温加熱室１５の出口側通路にはボイル液２２が満たされ、高温加熱室１５は、高温加熱室１５の入口側で処理液によって前室１０と遮断され、出口側でボイル液によって低温加熱室２０と遮断される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入口側から順次、前室、高温加熱室及び低温加熱室をそれぞれ設置したトンネル式蒸し釜と、このトンネル式蒸し釜の入口と出口との間に設けられて食品を搬送するコンベアと、を備えた食品の高温加熱装置であって、
前記前室と高温加熱室の間には処理液槽を設置し、前記コンベアがこの処理液槽内の処理液中を通過するように案内され、
前記高温加熱室では高温蒸気を含む加熱手段による加熱処理が可能であり、
前記高温加熱室と低温加熱室との間にはボイル槽を設置し、前記コンベアはボイル槽内の液中を通過するように案内され、
前記低温加熱室は高温加熱室に比して低温の加熱処理が可能であり、
前記高温加熱室の入口側通路には前記処理液が満たされ、一方、前記高温加熱室の出口側通路には前記ボイル液が満たされることで、前記高温加熱室は、高温加熱室の入口側で前記処理液によって前室と遮断され、出口側で前記ボイル液によって低温加熱室と遮断されていることを特徴とする食品の高温加熱装置。
【請求項２】
前記高温加熱室には、高温蒸気を供給する蒸気噴出管及び電磁波照射手段が設置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の食品の高温加熱装置。
【請求項３】
前記処理液は、高温加熱室での蒸し処理前に加熱すべき食品を浸漬させて所定の前処理をするための漬込み液であることを特徴とする請求項１または２に記載の食品の高温加熱装置。
【請求項４】
前記低温加熱室での加熱処理は、ボイル槽でのボイル処理と、このボイル後の蒸し処理とを実施することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の食品の高温加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、水産物等の食品を連続的に加熱処理するための高温加熱装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
蛸、いか等の軟体水産物の加工方法としては、広く加熱処理が行われている。その目的は、加熱によって蛋白質を変成させることで、味覚及び食感を満足できる状態にすることであり、具体的処理方法としては、蒸し処理と茹で処理が代表的である。
【０００３】
一方、蒸し処理において高熱（１５０℃〜２５０℃）で加熱すると、蛸等の発色が鮮やかになり、通常使用されている発色剤を加えなくとも、或いはごく少量の発色剤の使用で充分な発色状態となることが知られている。
【特許文献１】特開２００３−５２５３８号公報
【特許文献２】特開２００１−１９８０１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、このような方法は一般的ではなく、それが広く普及しない原因としては次のような問題を指摘できる。
第１に、高温の蒸気で蛸等を大量に加熱処理する場合、連続処理が可能な構造、例えば、トンネル式蒸し釜と、この蒸し釜内を通過するコンベアを備えた装置を使用するときは、蒸し釜内から高温の蒸気が大量に流出する。特に、蒸し釜の入口付近は高熱になるため作業者に危険が及ぶおそれがある。
そこで、蒸し釜の入口付近に蒸気を遮断するためのエアカーテン等の遮蔽ゾーンを設けなくてはならないが、そのような場合には、どうしても熱効率が低下して蒸気の使用量が増大する問題がある。
また、上記の問題を回避するために、入口を極端に狭くすることも考えられるが、加熱する食品の大きさが制約されるので好ましくない。
【０００５】
第２に、蒸し釜内において蒸気による食品の高熱加熱を行い、要求される品質に到達させる場合、蒸し釜内の雰囲気温度が高いため、温度コントロールがきわめて難しい。その結果、蛸等の表面を必要以上に加熱し過ぎてしまうことがしばしば生じる。このような場合、加熱過多によって、蛸等の表面の蛋白質の変成のみが加速され、内部に対する加熱が不足したものとなるので、歩留まりの低下を招く。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてされたもので、外部への高温蒸気の噴き出しを防止し、かつ過度な加熱による弊害をなくして、生産効率のよい食品高温加熱装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、前記課題を解決するため以下のような手段を採用した。すなわち、
入口側から順次、前室、高温加熱室及び低温加熱室をそれぞれ設置したトンネル式蒸し釜と、このトンネル式蒸し釜の入口と出口との間に設けられて食品を搬送するコンベアと、を備えた食品の高温加熱装置であって、
前記前室と高温加熱室の間には処理液槽を設置し、前記コンベアがこの処理液槽内の処理液中を通過するように案内され、
前記高温加熱室では高温蒸気を含む加熱手段による加熱処理が可能であり、
前記高温加熱室と低温加熱室との間にはボイル槽を設置し、前記コンベアはボイル槽内の液中を通過するように案内され、
前記低温加熱室は高温加熱室に比して低温の加熱処理が可能であり、
前記高温加熱室の入口側通路には前記処理液が満たされ、
一方、前記高温加熱室の出口側通路には前記ボイル液が満たされることで、前記高温加熱室は、高温加熱室の入口側で前記処理液によって前室と遮断され、出口側で前記ボイル液によって低温加熱室と遮断されていることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば前記高温加熱室に供給される、例えば２００℃以上の蒸気が処理液及びボイル液によって遮断されて高温加熱室から漏れることがなくなるので、蒸気がトンネル式蒸し釜の入口などから噴出する事態を回避できる。
【０００９】
前記処理液は、蒸し処理前に加熱すべき食品を浸漬して、所定の前処理を施すための漬込み液とすることができる。このようにして、高温での加熱処理の直前に、食品を所定の処理液を通過させることで、加熱に先立って実施される必要な前処理を、蒸気の遮断と併せて行うことができる。このような前処理としては、酸化防止剤を含む処理液への含浸、蛸やいかでは、食塩を含む液に含浸させて、皮剥け防止や味付け等の処理をすることが例示できる。
なお、処理液は食品の前処理をするための漬込み液ではなく、高温加熱室からの蒸気を遮断することのみを目的とする液体であってもよい。
【００１０】
さらに、高温加熱室で加熱された食品は、過度な加熱がされて表面温度のみが上昇するような状態になる前に、これを適切な加熱時間を経て低温加熱室に移動させ、食品の内部に対する加熱を目的とした低温加熱を続行することで、全体をバランスよく加熱処理することができる。
【００１１】
前記高温加熱室には高温蒸気を供給する蒸気噴出管を設置し、この蒸気噴出管には、外部に設けた蒸気発生装置（ボイラー等）から送られる蒸気をさらに加熱できる装置を設け、高温蒸気が供給されるようにすることができる。
【００１２】
高温加熱室に供給される蒸気は、例えば、電磁波照射手段を設け、蒸気を電磁加熱をしてさらに高温にしてもよい。このようにすれば、所望する高温状態を生じやすくすることができる。
【００１３】
また、低温加熱室での加熱処理は、ボイル槽でのボイル処理と、このボイル後の蒸し処理とを実施するようにしてもよい。すなわち、低温加熱室の全体にわたりボイル槽を設置する場合と、ボイル槽を入口側に設置し、比較的短時間のボイル処理をした後は、蒸し処理をして必要な加熱を補うようにすることができる。この場合は、低温加熱室に蒸気を送る手段を設けることができる。ただし、蒸気の加熱に換え、他の加熱手段、例えば電磁波加熱を採用し、または蒸気による加熱と他の加熱手段を併用することができる。
なお、低温加熱室での加熱用のボイル液、蒸気等の温度は、前記高温加熱室における加熱温度に比較して低温であるように調整される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、高温加熱室の入口と出口が処理液とボイル液により遮られるので、高温加熱室から高温蒸気が蒸し釜外部に不意に噴出することが防止され、加熱作業が安全に行える。
【００１５】
また、高温加熱処理と低温加熱処理を併用することで、食品の表面等の一部のみを過度に加熱することによる弊害を抑制しつつ、必要な加熱処理を容易に施すことが可能なので
、生産効率を上昇させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を図１及び図２に基づいて詳細に説明する。
（実施例１）
図１に示すように、一方の左端に入口２が設けられ、他方の右端に下方向を向いた出口３を有するトンネル式蒸し釜１を備えている。このトンネル式蒸し釜１内には、食品を搬送するエンドレスのステンレスコンベア４が設置されている。このコンベア４は、トンネル式蒸し釜１の入口側と出口側にそれぞれ設けたスプロケット６、６間に掛け渡され、スプロケット６、６は、図示しない減速機構等を介してモータに接続され、加熱条件に合致する搬送速度に調整可能である。コンベアの速度は、通常は、０．２から２ｍ／ｍｉｎの範囲に設定するが、用途によってコンベアの速度は適切にコントロールされる。
【００１７】
この高温加熱装置は、入口２側に前室１０が設けられている。前室１０では、入口から投入された蛸を、登り坂となっている傾斜部１１に沿って、コンベア４に載せて搬送する。蛸は冷凍されていたものを解凍した後、塩もみ等の処理を施し、さらに必要に応じて適当な大きさに切断されたものである。
【００１８】
コンベア４は、傾斜部１１の頂部１１ａを過ぎると処理液槽１２内に向けて下降し、処理液槽１２に貯められた処理液１３中を通過するようにガイドされている。ここでは処理液１３は、蛸の酸化防止と皮剥け防止を目的として、食塩とアルカリ剤を水に溶解させたものが用いられる。
なお、前室１０内は、ヒータによる加温や蒸気供給等により、２０℃〜５０℃に保持されるようにして、図示しない処理液の供給部から供給される処理液１３の温度が、２５℃〜４５℃程度に保たれるようにする。勿論、処理液槽１２内も同様な温度保持手段を設けることができる。
コンベア４により搬送されている蛸には、上記処理液１３内を通過するので、所定の前処理が施される。
【００１９】
ここで、処理液槽１２内の処理液１３は、その水面が高温加熱室入口１６ａよりも高い位置になるように満たされている。この処理液槽１２内の処理液１３の水面は、図示しないセンサ等によって感知され、常時、高温加熱室入口１６ａよりも高い位置に保持される。高温加熱室入口１６ａの通路は、隣接する高温加熱室１５に向けて上昇するように傾斜して設けられているが、高温加熱室入口１６ａの全体は処理液１３中に臨んでいる。
【００２０】
したがって、水平のトンネル状に形成された高温部１５の入口側には処理液１３が満たされていることになり、高温部１５内に供給された蒸気は、処理液１３によって外部に流出しないように遮断される。
【００２１】
次に、高温加熱室１５について説明する。
高温加熱室１５は、水平のトンネル状に形成されてコンベ４が水平に設置されている。この部分では、蛸は蒸気供給管３０から供給される高温蒸気によって加熱される。この蒸気は、図４に示す過熱手段３１によって約２００℃〜３００℃の温度に調整することにより、高温加熱室１５の雰囲気温度を１５０℃以上に保持することが好ましい。この高温加熱室１５を通過する蛸は、表面が高温に晒され、蛋白質の変成が表面から内部に向けて生じることになる。
【００２２】
図１に示す装置の高温加熱室１５では、蒸気供給管３０から蒸気が供給される。このとき、過熱手段３１を、蒸気供給管３０に送られる蒸気に対し電磁波を照射する電磁波照射装置としてもよい。
【００２３】
次いで、低温加熱室２０について説明する。
低温加熱室２０の全体にわたり低温ボイル槽２１が設けられ、低温ボイル槽２１内には６０℃〜９０℃に保持されたボイル液２２（湯水）が満たされている。低温ボイル槽２１内には、図示しないボイル液２２の供給部と、ボイル液２２を加熱するヒータが設置される。
【００２４】
低温ボイル槽２１内のボイル液２２は、その水面が低温加熱室入口２０ａよりも高い位置になるように満たされている。この低温ボイル槽２１内のボイル処理液２２の水面は、図示しないセンサ等によって感知され、常時、低温加熱室入口２０ａよりも高い位置に保持される。このように低温加熱室入口２０ａの全体はボイル液２２中に没している。
また、ボイル液２２は、ボイル処理を継続して行うことで汚れが生じたときは、図示しない排水管を介して排出され、新規のボイル液が供給される。使用されるボイル液としては、蛸等を加熱処理するときには、例えばアルカリ性の薬剤（二亜硫酸ナトリウム等）を含む液を使用して、蛸を色鮮やかに発色させるようにすることができる。
【００２５】
上述した本発明の加熱装置によれば、入口２から解凍した蛸等がコンベア４で前室１０内に送られ、処理液１３中で酸化防止剤等に浸漬する処理が行われた後、高温加熱室１５で高温加熱処理がされる。次いで、低温加熱室２０で比較的時間をかけて加熱されるので、必要な加熱処理を蛸の表面のみでなく内部まで及ぼすことができる。この補助加熱は、低温ボイル槽２１でのボイル処理によってのみ行うことができる。
【００２６】
（実施例２）
図１に示す例では、低温加熱室２０において、低温ボイル槽２１を長手方向（コンベアの進行方向）の全体にわたって設けているが、図３に示すように、低温ボイル槽２１を低温加熱室２０の入口側に設置し、その他の空間を食品の蒸し処理が可能な蒸し処理室３２とすることができる。
【００２７】
このようにすれば、ボイル後には、蒸し処理室３２で蒸し処理を施して、ボイル処理のみでは不足している加熱を補うようにすることができる。
また、蒸し蛸の製造では、低温ボイル槽２１を通過する時間をごく短くすることが好ましいので、このような処理が適切である。
【００２８】
さらに、図３に示すように、低温ボイル槽２１を別体とし、トンネル式蒸し釜１の後部に設置して、トンネル式蒸し釜１の長さを短くすることもできる。
この場合は、高温加熱室１５の後方には、高温加熱室１５内の蒸気が流出しないように遮蔽液槽４０を設置する。この遮蔽液槽４０内には、遮蔽液４１を満たし、その水面が低温加熱室入口２０ａよりも高い位置になるようにする。この遮蔽液槽４０内の遮蔽液４１の水面は、図示しないセンサ等によって感知され、常時、低温加熱室入口２０ａよりも高い位置に保持される。なお、遮蔽液４１としては、低温ボイル槽２１に満たされるボイル液２２と同様のものを使用することができるが、遮蔽液４１をボイル液２２よりも高温になるように維持するようにしてもよい。
【００２９】
また、トンネル式蒸し釜１と低温ボイル槽２１は水平に並設してもよいが、図３のように、設置場所を効率的な使用のため、垂直方向に重ねるように設けることもできる。
このように低温ボイル槽２１をトンネル式蒸し釜１と別体にすれば、低温ボイル槽２１の長さの設計の自由度が増すため、ボイル時間の調整が容易になる。よって、加熱の程度をより広範囲でコントロールすることが可能となる。
【００３０】
前記高温加熱室１５における蒸し処理によって、蛸を１５０℃〜２５０℃の高温で加熱
処理すると、蛸の発色が鮮やかになり、通常使用されている発色剤を加えなくとも、或いはごく少量の発色剤の使用で充分な発色状態に加工することができる。この場合、表面だけが過度に加熱されないように加熱時間をコントロールし、その後、さらに低温加熱室における加熱をすることで、蛸の内部が所定の温度になるように加熱することで、表面も内部もバランスよく短時間で加熱処理することが可能となり、全体として充分な加熱状態を容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の高温加熱装置の内部構造を示す概略図である。
【図２】別の実施態様にかかる高温加熱装置の内部構造を示す概略図である。
【図３】低温ボイル槽を別体として、トンネル式蒸し釜の後部に設置した例を示す概略図である。
【図４】蒸気供給管に送られる蒸気を過熱する状態を示す図である。
【符号の説明】
【００３２】
１      トンネル式蒸し釜
２      入口
３      出口
４      コンベア
６      スプロケット
１０      前室
１１      傾斜部
１１ａ    頂部
１２      処理液槽
１３      処理液
１５      高温加熱室
２０      低温加熱室
２１      ボイル槽
２２      ボイル液
３０      蒸気供給管
３１      過熱手段
４０      遮蔽液槽
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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