(57)【要約】【課題】過熱蒸気の立ち上がりを早くでき、調理時間を短縮できる加熱調理器およびそれを用いた蒸気発生装置を提供する。【解決手段】水が供給されるポット４１と、そのポット４１内の底部４１b近傍に、少なくとも上側が略同一水平面上になるように配置されたヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)とを有する。上記ポット４１の底部４１bに、ポット４１内に供給される水の所定水位よりも低い凸部４７をヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)に対して所定の間隔をあけて設ける。【選択図】図６
2006284015.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
上記蒸気発生装置からの蒸気を昇温する蒸気昇温装置と、
上記蒸気昇温装置から供給される蒸気によって被加熱物を加熱するための加熱室と
を備え、
上記蒸気発生装置は、水が供給されるポットと、上記ポット内の底部近傍に、少なくとも上側が略同一水平面上になるように配置されたヒータ部とを有し、
上記ポットの底部に、上記ポット内に供給される水の所定水位よりも低い凸部を上記ヒータ部に対して所定の間隔をあけて設けたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
請求項１に記載の加熱調理器において、
上記凸部は、上記ヒータ部の下側の最下端よりも浅い部分に対応する上記ポットの底部の領域または上記ヒータ部が上方にない上記ポットの底部の領域の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする加熱調理器。
【請求項３】
請求項１または２に記載の加熱調理器において、
上記ヒータ部がシーズヒータであることを特徴とする加熱調理器。
【請求項４】
請求項１または２に記載の加熱調理器において、
上記ヒータ部は、湾曲させた大管径のシーズヒータと、上記大管径のシーズヒータよりも内側に配置され、湾曲させた小管径のシーズヒータであることを特徴とする加熱調理器。
【請求項５】
水が供給されるポットと、
上記ポット内の底部近傍に、少なくとも上側が略同一水平面上になるように配置されたヒータ部と
を備え、
上記ポットの底部の一部に、上記ポット内に供給される水の所定水位よりも低い凸部を上記ヒータ部に対して所定の間隔をあけて設けたことを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項６】
請求項５に記載の蒸気発生装置おいて、
上記凸部は、上記ヒータ部の下側の最下端よりも浅い部分に対応する上記ポットの底部の領域または上記ヒータ部が上方にない上記ポットの底部の領域の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の蒸気発生装置において、
上記ヒータ部がシーズヒータであることを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項８】
請求項５または６に記載の蒸気発生装置において、
上記ヒータ部は、湾曲させた大管径のシーズヒータと、上記大管径のシーズヒータよりも内側に配置され、湾曲させた小管径のシーズヒータであることを特徴とする蒸気発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、加熱調理器および蒸気発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、蒸気を用いて食品などの被加熱物の加熱調理を行う加熱調理器として、オーブン庫内に過熱蒸気を送り込むものがある(例えば、特許文献１(特開平８−４９８５４号公報)参照)。この加熱調理器は、ポット内に垂直平面に沿ってヒータを設けて蒸気を発生させる蒸気発生装置と、その蒸気発生装置により発生させた蒸気を加熱することにより過熱蒸気を生成する蒸気過熱器とを備え、蒸気過熱器で生成された過熱蒸気をオーブン庫内に送り込んで食品を調理する。
【０００３】
ところが、上記加熱調理器では、ポット内に垂直平面に沿ってヒータを配置しているため、多くの水をポット内に入れた状態で加熱しなければならないので、蒸気発生装置による蒸気の発生に時間がかかり、過熱蒸気の立ち上がりを早くできず、電子レンジなどに比べて調理時間が長くなるという問題がある。
【０００４】
また、このような早い蒸気の立ち上がりが要求される用途に適した蒸気発生装置はなかった。
【特許文献１】特開平８−４９８５４号公報(図８)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、この発明の目的は、過熱蒸気の立ち上がりを早くでき、調理時間を短縮できる加熱調理器を提供することにある。
【０００６】
また、この発明のもう１つの目的は、蒸気の立ち上がりを早くでき、加熱調理器等の加熱調理を行う装置に最適な蒸気発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、この発明の加熱調理器は、
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
上記蒸気発生装置からの蒸気を昇温する蒸気昇温装置と、
上記蒸気昇温装置から供給される蒸気によって被加熱物を加熱するための加熱室と
を備え、
上記蒸気発生装置は、水が供給されるポットと、上記ポット内の底部近傍に、少なくとも上側が略同一水平面上になるように配置されたヒータ部とを有し、
上記ポットの底部に、上記ポット内に供給される水の所定水位よりも低い凸部を上記ヒータ部に対して所定の間隔をあけて設けたことを特徴とする。
【０００８】
上記構成の加熱調理器によれば、ポットの底部の一部に、ポット内に供給される水の所定水位よりも低い凸部をヒータ部に対して所定の間隔をあけて設けることによって、ポットの底部からヒータ部の下側までの空間を凸部により埋めて、ヒータ部の略同一水平面上の上側よりも少し上に上記所定水位を定めることにより、ヒータ部により加熱するポット内の水量をできるだけ少なくすることが可能となる。これにより、蒸気発生装置による蒸気発生の立ち上がりを早くすることができる。そして、上記蒸気発生装置により発生させた蒸気を蒸気昇温装置により昇温して過熱蒸気とし、その過熱蒸気を加熱室内に供給することにより加熱室内の被加熱物を加熱する。したがって、上記蒸気発生装置による蒸気発生の立ち上がりを早くすることにより、加熱室に供給する過熱蒸気の立ち上がりを早くでき、調理時間を短縮できる。
【０００９】
また、一実施形態の加熱調理器は、上記凸部が、上記ヒータ部の下側の最下端よりも浅い部分に対応する上記ポットの底部の領域または上記ヒータ部が上方にない上記ポットの底部の領域の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする。
【００１０】
上記実施形態の加熱調理器によれば、上記ヒータ部の下側の最下端よりも浅い部分に対応するポットの底部の領域に凸部を設けることによって、上記所定水位に対してヒータ部の下側の浅い部分とポットの底部との間の空間を小さくでき、その分の水量を少なくすることができる。また、上記ヒータ部が上方にないポットの底部の領域に凸部を設けることによって、水面とポットの底部との間の空間を小さくでき、その分の水量を少なくすることができる。
【００１１】
また、一実施形態の加熱調理器は、上記ヒータ部がシーズヒータであることを特徴とする。
【００１２】
上記実施形態の加熱調理器によれば、上記シーズヒータを湾曲させてポット内に収納する場合に、上記所定水位に対してヒータ部の下側の浅い部分に対応するポットの底部の領域や、ヒータ部が上方にないポットの底部の領域ができて、水量を増やす余分な空間が形成されるので、凸部によってより効果的に水量を低減できる。したがって、上記蒸気発生装置による蒸気の発生をより早く立ち上げることができる。
【００１３】
また、一実施形態の加熱調理器は、上記ヒータ部は、湾曲させた大管径のシーズヒータと、上記大管径のシーズヒータよりも内側に配置され、湾曲させた小管径のシーズヒータであることを特徴とする。
【００１４】
上記実施形態の加熱調理器によれば、上記大管径のシーズヒータと小管径のシーズヒータの湾曲部の曲率半径を、シーズヒータの管径などにより定まる最小曲率半径にした場合、大管径のシーズヒータよりも小管径のシーズヒータの最小曲率半径が小さいので、大管径のシーズヒータの内側に小管径のシーズヒータが配置される。これによって、ヒータ部への投入電力が同一の条件であれば、径の異なる２種類のシーズヒータで構成されるヒータ部の外縁で囲まれる領域の占有体積を小さくできる。したがって、上記ポット内のヒータ部が水に浸かる容積を少なくでき、ポット内の水量に対するヒータ電力を高くすることにより、蒸気発生の立ち上がりをさらに早くすることができる。また、上記大電力の大管径のシーズヒータと小電力の小管径のシーズヒータの通電を切り換えることによって、その組み合わせにより蒸気発生のために投入される電力を調節することが可能となり、調理内容に応じた蒸気発生が可能となる。
【００１５】
また、この発明の蒸気発生装置は、
水が供給されるポットと、
上記ポット内の底部近傍に、少なくとも上側が略同一水平面上になるように配置されたヒータ部と
を備え、
上記ポットの底部の一部に、上記ポット内に供給される水の所定水位よりも低い凸部を上記ヒータ部に対して所定の間隔をあけて設けたことを特徴とする。
【００１６】
上記構成の蒸気発生装置によれば、ポットの底部の一部に、ポット内に供給される水の所定水位よりも低い凸部をヒータ部に対して所定の間隔をあけて設けることによって、ポットの底部からヒータ部の下側までの空間を凸部により埋めて、ヒータ部の略同一水平面上の上側よりも少し上に上記所定水位を定めることにより、ヒータ部により加熱するポット内の水量をできるだけ少なくすることが可能となる。これにより、蒸気発生の立ち上がりを早くすることができる。そして、発生させた蒸気を蒸気昇温装置により昇温して過熱蒸気とし、その過熱蒸気を加熱室内に供給することにより加熱室内の被加熱物を加熱する。したがって、蒸気発生の立ち上がりを早くすることにより、加熱室に供給する過熱蒸気の立ち上がりを早くでき、調理時間を短縮できる。
【００１７】
また、一実施形態の蒸気発生装置は、上記凸部が、上記ヒータ部の下側の最下端よりも浅い部分に対応する上記ポットの底部の領域または上記ヒータ部が上方にない上記ポットの底部の領域の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする。
【００１８】
上記実施形態の蒸気発生装置によれば、上記ヒータ部の下側の最下端よりも浅い部分に対応するポットの底部の領域に凸部を設けることによって、上記所定水位に対してヒータ部の下側の浅い部分とポットの底部との間の空間を小さくでき、その分の水量を少なくすることができる。また、上記ヒータ部が上方にないポットの底部の領域に凸部を設けることによって、水面とポットの底部との間の空間を小さくでき、その分の水量を少なくすることができる。
【００１９】
また、一実施形態の蒸気発生装置は、上記ヒータ部がシーズヒータであることを特徴とする。
【００２０】
上記実施形態の蒸気発生装置によれば、上記シーズヒータを湾曲させてポット内に収納する場合に、上記所定水位に対してヒータ部の下側の浅い部分に対応するポットの底部の領域や、ヒータ部が上方にないポットの底部の領域ができて、水量を増やす余分な空間が形成されるので、凸部によってより効果的に水量を低減できる。したがって、上記蒸気発生装置による蒸気の発生をより早く立ち上げることができる。
【００２１】
また、一実施形態の蒸気発生装置は、上記ヒータ部は、湾曲させた大管径のシーズヒータと、上記大管径のシーズヒータよりも内側に配置され、湾曲させた小管径のシーズヒータであることを特徴とする。
【００２２】
上記実施形態の蒸気発生装置によれば、上記大管径のシーズヒータと小管径のシーズヒータの湾曲部の曲率半径を、シーズヒータの管径などにより定まる最小曲率半径にした場合、大管径のシーズヒータよりも小管径のシーズヒータの最小曲率半径が小さいので、大管径のシーズヒータの内側に小管径のシーズヒータが配置される。これによって、ヒータ部への投入電力が同一の条件であれば、径の異なる２種類のシーズヒータで構成されるヒータ部の外縁で囲まれる領域の占有体積を小さくできる。したがって、上記ポット内のヒータ部が水に浸かる容積を少なくでき、ポット内の水量に対するヒータ電力を高くすることにより、蒸気発生の立ち上がりをさらに早くすることができる。また、上記大電力の大管径のシーズヒータと小電力の小管径のシーズヒータの通電を切り換えることによって、その組み合わせにより蒸気発生のために投入される電力を調節することが可能となり、必要に応じた蒸気発生が可能となる。
【発明の効果】
【００２３】
以上より明らかなように、この発明の加熱調理器によれば、過熱蒸気の立ち上がりを早くでき、調理時間を短縮化することができる。
【００２４】
また、この発明の蒸気発生装置によれば、蒸気の立ち上がりを早くでき、加熱調理器等の蒸気加熱を行う装置に最適な蒸気発生装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、この発明の加熱調理器および蒸気発生装置を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２６】
以下、この発明の加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２７】
図１はこの発明の実施の一形態の送風装置を用いた加熱調理器１の外観斜視図であり、直方体形状のキャビネット１０の正面の上部に操作パネル１１を設け、キャビネット１０の正面の操作パネル１１の下側に、下端側の辺を中心に回動する扉１２を設けている。扉１２の上部にハンドル１３を設け、扉１２に耐熱ガラス製の窓１４を設けている。
【００２８】
また、図２は加熱調理器１の扉１２を開いた状態の外観斜視図を示しており、キャビネット１０内に直方体形状の加熱室２０が設けられている。加熱室２０は、扉１２に面する正面側に開口部２０aを有し、加熱室２０の側面,底面および天面をステンレス鋼板で形成している。また、扉１２は、加熱室２０に面する側をステンレス鋼板で形成している。加熱室２０の周囲および扉１２の内側に断熱材(図示せず)を配置して、加熱室２０内と外部とを断熱している。
【００２９】
また、加熱室２０の底面に、ステンレス製の受皿２１が置かれ、受皿２１上に被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック２４(図３に示す)が置かれる。さらに、加熱室２０の両側面に、長手方向が略水平の略長方形状の側面蒸気吹出口２２(図２では一方のみを示す)を設けている。
【００３０】
図３は加熱調理器１の基本構成を示す概略構成図を示している。図３に示すように、加熱調理器１は、加熱室２０と、蒸気用の水を貯める水タンク３０と、水タンク３０から供給された水を蒸発させる蒸気発生装置４０と、蒸気発生装置４０からの蒸気を加熱する蒸気昇温装置５０と、蒸気発生装置４０や蒸気昇温装置５０などを制御する制御装置８０とを備える。
【００３１】
加熱室２０内に置かれた受皿２１上に格子状のラック２４を載置し、そのラック２４の略中央に被加熱物９０が置かれる。
【００３２】
また、水タンク３０の下側に設けられた接続部３０aを、第１給水パイプ３１の一端に設けられた漏斗形状の受入口３１aに接続している。第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる第２給水パイプ３２の他端にポンプ３５の吸込側を接続し、そのポンプ３５の吐出側に第３給水パイプ３３の一端を接続している。また、第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる水位センサ用パイプ３８の上端に水タンク用水位センサ３６を配設している。さらに、第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる大気開放用パイプ３７の上端を後述する排気ダクト６５に接続している。
【００３３】
そして、第３給水パイプ３３は、垂直に配置された部分から略水平に屈曲するＬ字形状をしており、第３給水パイプ３３の他端に補助タンク３９を接続している。補助タンク３９の下端に第４給水パイプ３４の一端を接続し、その第４給水パイプ３４の他端を蒸気発生装置４０の下端に接続している。また、蒸気発生装置４０の第４給水パイプ３４が接続された下端に、排水バルブ７０の一端を接続している。そして、排水バルブ７０の他端に排水パイプ７１の一端を接続し、排水パイプ７１の他端に排水タンク７２を接続している。なお、補助タンク３９の上部は、大気開放用パイプ３７と排気ダクト６５を介して大気に連通している。
【００３４】
水タンク３０が接続されると、水タンク３０内の水は、水タンク３０と同水位になるまで大気開放用パイプ３７内に水が上昇する。水タンク用水位センサ３６につながる水位センサ用パイプ３８は先端が密閉されているため、水位は上がらないが、水タンク３０の水位に応じて水位センサ用パイプ３８の密閉された空間の圧力は大気圧から上昇する。この圧力変化を、水タンク用水位センサ３６内の圧力検出素子(図示せず)により検出することにより、水タンク３０内の水位が検出される。ポンプ３５の静止中の水位測定では、大気開放用パイプ３７は不要であるが、ポンプ３５の吸引圧力が直接圧力検出素子に働いて水タンク３０の水位検出の精度が低下するのを防止するため、開放端を有する大気開放用パイプ３７を用いている。
【００３５】
また、蒸気発生装置４０は、下側に第４給水パイプ３４の他端が接続されたポット４１と、ポット４１内の底面近傍に配置されたヒータ部４２と、ポット４１内のヒータ部４２の上側近傍に配置された水位センサ４３と、ポット４１の上側に取り付けられた蒸気吸引エジェクタ４４とを有している。そして、加熱室２０の側面上部に設けられた吸込口２５の外側にファンケーシング２６を配置している。ファンケーシング２６に配置された送風ファン２８により、加熱室２０内の蒸気は、吸込口２５から吸い込まれる。吸い込まれた蒸気は、第１パイプ６１と第２パイプ６２を介して蒸気発生装置４０の蒸気吸引エジェクタ４４の入口側に送り込まれる。第１パイプ６１は、略水平に配置されており、一端がファンケーシング２６に接続されている。また、第２パイプ６２は、略垂直に配置されており、一端が第１パイプ６１の他端に接続され、他端が蒸気吸引エジェクタ４４のインナーノズル４５の入口側に接続されている。
【００３６】
蒸気吸引エジェクタ４４は、インナーノズル４５の外側を包み込むアウターノズル４６を備えており、インナーノズル４５の吐出側がポット４１の内部空間と連通している。そして、蒸気吸引エジェクタ４４のアウターノズル４６の吐出側を第３パイプ６３の一端に接続し、その第３パイプ６３の他端に蒸気昇温装置５０を接続している。
【００３７】
ファンケーシング２６,第１パイプ６１,第２パイプ６２,蒸気吸引エジェクタ４４,第３パイプ６３および蒸気昇温装置５０で外部循環路６０を形成している。また、加熱室２０の側面の下側に設けられた放出口２７に放出通路６４の一端を接続し、放出通路６４の他端を排気ダクト６５の一端に接続している。排気ダクト６５の他端に排気口６６を設けている。蒸気放出通路６４の排気ダクト６５側にラジエータ６９を外嵌して取り付けている。そして、外部循環路６０を形成する第１パイプ６１,第２パイプ６２との接続部を、排気通路６７を介して排気ダクト６５に接続している。排気通路６７の第１,第２パイプ６１,６２の接続側に、排気通路６７を開閉するダンパ６８を配置している。
【００３８】
また、蒸気昇温装置５０は、加熱室２０の天井側かつ略中央に、開口を下側にして配置された皿形ケース５１と、皿形ケース５１内に配置された第１蒸気加熱ヒータ５２と、皿形ケース５１内に配置された第２蒸気加熱ヒータ５３とを有している。皿形ケース５１の底面は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で形成されている。天井パネル５４には、複数の天井蒸気吹出口５５を形成している。また、天井パネル５４は、上下両面が塗装などにより暗色に仕上げられている。なお、使用を重ねることにより暗色に変色する金属素材や暗色のセラミック成型品によって天井パネル５４を形成してもよい。
【００３９】
さらに、蒸気昇温装置５０は、加熱室２０の左右両側に延びる蒸気供給通路２３(図３では一方のみを示す)の一端が夫々接続されている。そして、蒸気供給通路２３の他端は、加熱室２０の両側面に沿って下方に延び、加熱室２０の両側面かつ下側に設けられた側面蒸気吹出口２２に接続されている。
【００４０】
次に、図４に示す加熱調理器１の制御ブロックについて説明する。
【００４１】
図４に示すように、制御装置８０には、送風ファン２８と、第１蒸気加熱ヒータ５２と、第２蒸気加熱ヒータ５３と、ダンパ６８と、排水バルブ７０と、第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂと、操作パネル１１と、水タンク用水位センサ３６と、水位センサ４３と、ポンプ３５が接続されている。
【００４２】
制御装置８０は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなり、水タンク用水位センサ３６,水位センサ４３からの検出信号に基づいて、送風ファン２８,第１蒸気加熱ヒータ５２,第２蒸気加熱ヒータ５３,ダンパ６８,排水バルブ７０,第１蒸気発生ヒータ４２Ａ,第２蒸気発生ヒータ４２Ｂ,操作パネル１１およびポンプ３５を所定のプログラムに従って制御する。
【００４３】
次に、図５〜図７を用いて蒸気発生装置４０の要部について詳細に説明する。図５は蒸気発生装置４０のポット４１を上方から見た平面図であり、図６は図５のVI−VI線から見たポット４１の断面図であり、図７は図５のVII−VII線から見たポット４１の断面図である。
【００４４】
図５に示すように、ポット４１は、水平面図が略長方形状の筒部４１aと、筒部４１aの下側に設けられた底部４１bと、底部４１bに設けられた給水口(図示せず)とを有している。ポット４１の平面形状は、縦横比が１：２.５であるが、細長い形状、つまり長方形状や楕円形状であればよい。
【００４５】
ポット４１内の底部４１b近傍にヒータ部４２を配置しており、そのヒータ部４２は、大管径のシーズヒータである第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、第１蒸気発生ヒータ４２Ａの内側に配置された小管径のシーズヒータである第２蒸気発生ヒータ４２Ｂで構成されている。
【００４６】
この実施の形態では、第１蒸気発生ヒータ４２Ａは７００Ｗの大管径のシーズヒータを用い、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂは３００Ｗの小管径のシーズヒータを用いている。
【００４７】
第１蒸気発生ヒータ４２Ａは、接続部４２Ａaと、その接続部４２Ａaの他端に一端が連なる直線部４２Ａbと、直線部４２Ａbの他端に一端が連なる略半円弧形状の湾曲部４２Ａcと、湾曲部４２Ａcの他端に一端が連なる直線部４２Ａdと、直線部４２Ａdの他端に一端が連なる略半円弧形状の湾曲部４２Ａeと、湾曲部４２Ａeの他端に一端が連なり、直線部４２Ａbの下側に配置された直線部４２Ａfと、直線部４２Ａfの他端に一端が連なり、湾曲部４２Ａcの下側に配置された略半円弧形状の湾曲部４２Ａgと、湾曲部４２Ａgの他端に一端が連なり、直線部４２Ａdの下側に配置された直線部４２Ａhと、直線部４２Ａhの他端に一端が連なる接続部４２Ａiとを有している。
【００４８】
また、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂは、接続部４２Ｂaと、その接続部４２Ｂaの他端に一端が連なる直線部４２Ｂbと、直線部４２Ｂbの他端に一端が連なる略半円弧形状の湾曲部４２Ｂcと、湾曲部４２Ｂcの他端に一端が連なる直線部４２Ｂdと、直線部４２Ｂdの他端に一端が連なる屈曲部４２Ｂeと、屈曲部４２Ｂeの他端に一端が連なる接続部４２Ｂfとを有している。
【００４９】
第１蒸気発生ヒータ４２Ａの湾曲部４２Ａc,４２Ａe,４２Ａgは、使用する大管径のシーズヒータにより定まる最小曲率半径となっており、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂの湾曲部４２Ｂcは、使用する小管径のシーズヒータにより定まる最小曲率半径となっている。
【００５０】
また、図６,図７に示すように、ポット４１の底部４１bの一部に、ポット４１内に供給される水の所定水位よりも低い凸部４７をヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)に対して所定の間隔をあけて設ける。ヒータ部４２は、ポット４１の筒部４１aの側壁に沿って近接して配置されており、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の外縁と筒部４１aの側壁の最短距離は２ｍｍ〜５ｍｍとしている。また、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の下端は、ポット４１の底部４１bに近接して配置されており、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の下側とポット４１の底部４１b(凸部４７を含む)の最短距離は２ｍｍ〜５ｍｍとしている。
【００５１】
ポット４１内のヒータ部４２の上側近傍かつ第２蒸気発生ヒータ４２Ｂの内側の非発熱部側の側壁に、水位センサ４３(図３に示す)を配置している。また、ポット４１内の水位センサに対向する側壁に温度センサ(図示せず)を配置している。
【００５２】
水位センサ４３は、自己加熱サーミスタであり、水中では、２０℃〜１００℃の水の温度に応じて１００℃〜１４０℃程度の温度が検出され、空気中では、略１４０℃〜１５０℃前後の温度が検出される。そして、温度センサにより検出された水の温度に基づいて、水位センサ４３により検出される温度を判定することにより、水の有無すなわち水位センサ４３の取付位置に水があるか否かを判定する。
【００５３】
上記構成の加熱調理器１において、操作パネル１１中の電源スイッチ(図示せず)が押されて電源がオンし、操作パネル１１の操作により加熱調理の運転を開始する。そうすると、まず、制御装置８０は、排水バルブ７０を閉ざして、ダンパ６８により排気通路６７を閉じた状態でポンプ３５の運転を開始する。ポンプ３５により水タンク３０から第１〜第４給水パイプ３１〜３４を介して蒸気発生装置４０のポット４１内に給水される。そして、ポット４１内の水位が所定水位に達したことを水位センサ４３が検出すると、ポンプ３５を停止して給水を止める。
【００５４】
次に、ヒータ部４２を通電し、ポット４１内に溜まった所定量の水をヒータ部４２により加熱する。
【００５５】
次に、ヒータ部４２の通電と同時、または、ポット４１内の水の温度が所定温度に達すると、送風ファン２８をオンすると共に、蒸気昇温装置５０の第１蒸気加熱ヒータ５２を通電する。そうすると、送風ファン２８は、加熱室２０内の空気(蒸気を含む)を吸込口２５から吸い込み、外部循環路６０に空気(蒸気を含む)を送り出す。送風ファン２８に遠心ファンを用いているので、プロペラファンに比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン２８に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。
【００５６】
次に、蒸気発生装置４０のポット４１内の水が沸騰すると、飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、蒸気吸引エジェクタ４４のところで外部循環路６０を通る循環気流に合流する。蒸気吸引エジェクタ４４から出た蒸気は、第３パイプ６３を介して高速で蒸気昇温装置５０に流入する。
【００５７】
そして、蒸気昇温装置５０に流入した蒸気は、第１蒸気加熱ヒータ５２により加熱されて略３００℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル５４に設けられた複数の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出する。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気昇温装置５０の左右両側に設けられた蒸気供給通路２３を介して加熱室２０の両側面の側面蒸気吹出口２２から噴出する。
【００５８】
このようにして加熱室２０内で過熱蒸気の対流を形成することにより、加熱室２０内の温度,湿度分布を均一に維持しつつ、蒸気昇温装置５０からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５と側面吹出口２２から噴出して、ラック２４上に載置された被加熱物９０に効率よく衝突させることが可能となる。そうして、過熱蒸気の衝突により被加熱物９０を加熱する。このとき、被加熱物９０の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物９０の表面で結露するときに潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実にかつ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、むらがなく仕上がりよい加熱調理を実現することができる。
【００５９】
また、上記加熱調理の運転において、時間が経過すると、加熱室２０内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、放出口２７から放出通路６４,排気ダクト６５を介して排気口６６から外部に放出される。このとき、放出通路６４に設けたラジエータ６９により放出通路６４を通過する蒸気を冷却して結露させることによって、外部に蒸気がそのまま放出されるのを抑制している。ラジエータ６９により放出通路６４内で結露した水は、放出通路６４内を流れ落ちて受皿２１に導かれ、調理により発生した水と共に調理終了後に処理する。
【００６０】
調理終了後、制御装置８０により操作パネル１１に調理終了のメッセージを表示し、さらに操作パネル１１に設けられたブザー(図示せず)により合図の音を鳴らす。それにより、調理終了を知った使用者が扉１２を開けると、制御装置８０は、扉１２が開いたことをセンサ(図示せず)により検知して、排気通路６７のダンパ６８を瞬時に開く。それにより、外部循環路６０の第１パイプ６１が排気通路６７を介して排気ダクト６５に連通し、加熱室２０内の蒸気は、送風ファン２８により吸込口２５,第１パイプ６１,排気通路６７および排気ダクト６５を介して排気口６６から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉１２を開いても同様である。したがって、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物９０を加熱室２０内から取り出すことができる。
【００６１】
上記構成の加熱調理器によれば、ポット４１の底部４１bに、ポット４１内の所定水位よりも低い凸部４７をヒータ部４２に対して所定の間隔をあけて設けることによって、ポット４１の底部４１bからヒータ部４２の下側までの空間の一部を凸部４７により埋めて、蒸気が発生する水面の面積を減らすことなく、ヒータ部４２により加熱するポット４１内の水量をできるだけ少なくでき、蒸気発生装置４０による蒸気発生の立ち上がりを早くすることができる。したがって、蒸気発生装置４０による蒸気発生の立ち上がりを早くすることにより、加熱室に供給する過熱蒸気の立ち上がりを早くでき、調理時間を短縮できる。
【００６２】
また、ヒータ部４２の下側の最下端よりも浅い部分(第２蒸気発生ヒータ４２Ｂ)に対応するポット４１の底部４１bの領域と、ヒータ部４２が上方にないポット４１の底部４１bの領域に凸部４７を設けることによって、水面とポット４１の底部４１bとの間の空間を小さくでき、その分の水量を少なくすることができる。
【００６３】
また、シーズヒータを湾曲させてポット４１内に収納する場合、ヒータ部４２の下側の最下端よりも浅い部分に対応するポット４１の底部４１bの領域や、ヒータ部４２が上方にないポット４１の底部４１bの領域ができて、水量を増やす余分な空間が形成されるので、凸部４７によってより効果的に水量を低減することができる。したがって、蒸気発生装置４０による蒸気の発生をより早く立ち上げることができる。
【００６４】
また、湾曲させた大管径のシーズヒータと、大管径のシーズヒータよりも内側に配置され、湾曲させた小管径のシーズヒータとをヒータ部４２に用いることによって、ヒータ部４２への投入電力が同一の条件であれば、径の異なる２種類のシーズヒータで構成されるヒータ部４２の外縁で囲まれる領域の占有体積を容易に小さくできる。したがって、ポット４１内の底部に溜める水量もヒータ部４２の大きさに合わせて少なくして、水量に対するヒータ電力を高くすることにより、蒸気発生の立ち上がりをさらに早くすることができる。また、上記大電力の大管径のシーズヒータを用いた第１蒸気発生ヒータ４２Ａと小電力の小管径のシーズヒータを用いた第２蒸気発生ヒータ４２Ｂの通電を切り換えることによって、その組み合わせにより蒸気発生のために投入される電力を調節することが可能となり、調理内容に応じた蒸気発生が可能となる。
【００６５】
上記実施の形態では、シーズヒータを用いたが、加熱平面を有するカートリッジヒータなどを用いてもよい。
【００６６】
また、上記実施の形態では、蒸気発生装置４０において大管径のシーズヒータである第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、小管径のシーズヒータである第２蒸気発生ヒータ４２Ｂとをヒータ部４２に用いたが、ヒータ部の形状はこれに限らず、ポット内の底部近傍に、少なくとも上側が略同一水平面上になるように配置されたヒータ部であればよい。
【００６７】
例えば、図８,図９に示すヒータ部１４２のような形状であってもよい。図８は蒸気発生装置の他のヒータ部１４２を用いたポット１４１の平面図を示し、図９は図８のIX−IX線から見たポット１４１の断面図を示している。
【００６８】
図８に示すように、ヒータ部１４２は、第１蒸気発生ヒータ１４２Ａと第２蒸気発生ヒータ１４２Ｂからなる。第１蒸気発生ヒータ１４２Ａは、略半円弧形状の湾曲部１４２Ａaと、その湾曲部１４２Ａaの両端から略平行に延びる２ヶ所の直線部１４２Ａb,１４２Ａcとを有している。また、第２蒸気発生ヒータ１４２Ｂは、略半円弧形状の湾曲部１４２Ｂaと、その湾曲部１４２Ｂaの両端から略平行に延びる２ヶ所の直線部１４２Ｂb,１４２Ｂcとを有している。第１蒸気発生ヒータ１４２Ａの湾曲部１４２Ａaは、使用する大管径のシーズヒータにより定まる最小曲率半径となっており、第２蒸気発生ヒータ１４２Ｂの湾曲部１４２Ｂaは、使用する小管径のシーズヒータにより定まる最小曲率半径(＜第１蒸気発生ヒータ１４２Ａの最小曲率半径)となっている。また、図９に示すように、ポット１４１の底部１４１bのヒータ部１４２が上方にない領域、すなわち、第２蒸気発生ヒータ１４２Ｂの内側領域に対向するポット１４１の底部１４１bの領域に、ポット１４１内に供給される水の所定水位よりも低い凸部１４７をヒータ部１４２に対して所定の間隔をあけて設けている。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】図１はこの発明の実施の一形態の蒸気発生装置を用いた加熱調理器の外観斜視図である。
【図２】図２は上記加熱調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。
【図３】図３は上記加熱調理器の構成を示す概略構成図である。
【図４】図４は上記加熱調理器の制御ブロック図である。
【図５】図５は上記蒸気発生装置のポットを上方から見た平面図である。
【図６】図６は図５のVI−VI線から見たポットの断面図である。
【図７】図７は図５のVII−VII線から見たポットの断面図である。
【図８】図８は上記蒸気発生装置の他のヒータ部を用いたポットの平面図である。
【図９】図９は図８のIX−IX線から見たポットの断面図である。
【符号の説明】
【００７０】
１…加熱調理器
１１…操作パネル
１２…扉
１３…ハンドル
１４…窓
２０…加熱室
２１…受皿
２２…側面蒸気吹出口
２３…蒸気供給通路
２４…ラック
２５…吸込口
２６…ファンケーシング
２７…放出口
２８…送風ファン
３０…水タンク
３１…第１給水パイプ
３２…第２給水パイプ
３３…第３給水パイプ
３４…第４給水パイプ
３５…ポンプ
３６…水タンク用水位センサ
３７…大気開放用パイプ
３８…水位センサ用パイプ
３９…補助タンク
４０…蒸気発生装置
４１,１４１…ポット
４１a…筒部
４１b,１４１b…底部
４２,１４２…ヒータ部
４２Ａ,１４２Ａ…第１蒸気発生ヒータ
４２Ｂ,１４２Ｂ…第２蒸気発生ヒータ
４３…水位センサ
４４…蒸気吸引エジェクタ
４５…インナーノズル
４６…アウターノズル
４７…凸部
５０…蒸気昇温装置
５１…皿形ケース
５２…第１蒸気加熱ヒータ
５３…第２蒸気加熱ヒータ
６０…外部循環路
６１…第１パイプ
６２…第２パイプ
６３…第３パイプ
６４…放出通路
６５…排気ダクト
６６…排気口
６７…排気通路
６８…ダンパ
６９…ラジエータ
７０…排水バルブ
７１…排水パイプ
７２…排水タンク
８０…制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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