(57)【要約】      （修正有）【課題】大面積液晶パネル状態で電気的な不良検査を遂行できる電極構造を有する液晶パネル、液晶パネルの検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】互いに垂直に交差して形成された複数個のゲートライン５０及びデータライン６０を含んでなる多数の単位基板領域１００ａを備える基板１００と、前記基板の側端部に列と行とに形成された第１、第２金属ラインと、前記複数個のゲートラインを短絡させ、前記第２金属ライン１２３と電気的に連結された列短絡バー１２０と、前記複数個のデータラインを短絡させ、前記第１金属ライン１２１と電気的に連結された行短絡バー１２２を含んでなることを特徴とする。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに垂直に交差して形成された複数個のゲートライン及びデータラインを含んでなる多数の単位基板領域を備える基板と、
前記基板の側端部で行と列とに形成された第１、第２金属ラインと、
前記複数個のゲートラインを短絡させ、前記第２金属ラインと電気的に連結された列短絡バーと、
前記複数個のデータラインを短絡させ、前記第１金属ラインと電気的に連結された短絡バーと
を含んでなることを特徴とする液晶パネル。
【請求項２】
前記第１金属ライン及び第２金属ラインの一端部にそれぞれ形成された外部接続端子を更に含んでなることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記行短絡バーと前記列短絡バーとの間に絶縁膜が介在されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項４】
ステージと、
前記ステージにチルト機能を有するようにする回転軸と、
前記ステージの内部に配置されて一定光を照射する光源と、
大面積液晶パネルの大きさを有し、前記光源の上部に配置された第１の偏光板と、
一定電圧を印加する少なくとも二つ以上の電圧端子部と
を含むことを特徴とする検査装置。
【請求項５】
前記ステージは前記大面積液晶パネルが、前記ステージとの接触面積が最小になるようするために配置される少なくとも３個以上の突出部を更に含むことを特徴とする請求項４に記載の検査装置。
【請求項６】
前記ステージが回転する時に、前記大面積液晶パネルを固定する固定部を更に含むことを特徴とする請求項４に記載の検査装置。
【請求項７】
前記ステージは、前記大面積液晶パネルが装着されたときに前記大面積液晶パネルの上部の前記第１の偏光板と結合される第２の偏光板を更に含むことを特徴とする請求項４に記載の検査装置。
【請求項８】
前記大面積液晶パネルは多数の単位パネル領域を含むことを特徴とする請求項４に記載の検査装置。
【請求項９】
前記大面積液晶パネルは前記多数の単位パネル領域を同時に制御する少なくとも二つ以上の外部接続端子を備えることを特徴とする請求項８に記載の検査装置。
【請求項１０】
前記多数の単位パネル領域は、
互いに垂直に交差して形成された複数個のゲートライン及びデータラインを含んでなるＴＦＴ単位基板領域と、
光遮断役割をするブラックマトリックス層と三原色から構成されるカラーフィルタ層と前面に形成された共通電極を含んでなるＣＦ単位基板領域と、
前記ＴＦＴ単位基板領域と前記ＣＦ単位基板領域との間に介在された液晶層と
を含むことを特徴とする請求項９に記載の検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶パネル、液晶パネルの検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法に関し、特に、大面積液晶パネル状態で電気的な不良検査が遂行され得る電極構造を有する液晶パネル、液晶パネルの検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会の発展につれて表示装置に対する要求も多様な形態として漸増しており、これに応じて最近は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）、電場発光表示装置（ＥＬＤ）及び真空蛍光表示装置（ＶＦＤ）など種々の表示装置が研究されており、一部は既に様々な装置の表示装置として活用されている。
【０００３】
そのうち、現在は、ＬＣＤが画質に優れ、軽量薄型、低消費電力等の特長によって、移動型画像表示装置の用途にブラウン管の代りに一番多く使用されており、ノートブックコンピュータのモニターのような移動型の用途以外にも、テレビジョンモニターなどとして多様に開発されている。
【０００４】
このようなＬＣＤは互いに向き合うように結合されている二つの基板と、その間に注入され、温度の変化や濃度の変化に従って相転移を発生する液晶物質からなっている。
【０００５】
上記液晶は液体の流動性と固体の秩序性を有する、液体と固体の中間性質を有する物質である。即ち、固体である結晶が溶けて液体になる前に、固体結晶とか液体ではない中間状態になることをいう。このような液晶に光を照射したり電界または磁界を付加すると光学的な異方性結晶に特有な複屈折性を表し、ある温度範囲内では液体と結晶の双方の性質を表す。
【０００６】
このようなＬＣＤは大きくアレイ工程、カラーフィルタ工程、液晶セル工程及びモジュール工程を遂行することにより製造される。
【０００７】
上記アレイ工程は第１基板上に蒸着、フォトリソグラフィー及びエッチング工程を繰り返して薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などを形成する工程であり、カラーフィルタ工程は第２基板上に光遮断役割を遂行するブラックマトリックスと、染料とか顔料を使用して赤、緑、青のカラーフィルタと、共通電極用のインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）膜などを形成する工程である。
【０００８】
また、液晶セル工程はＴＦＴ配列が完了した第１基板（以下「ＴＦＴ基板」という）とカラーフィルタ工程が完了した第２基板（以下「カラーフィルタ基板」という）との間に一定した隙間が維持されるように合着して空いた液晶セルを作った後、その隙間の間に液晶を注入してＬＣＤセルを形成する工程であり、上記モジュール工程は信号処理のための回路部を製作し、ＴＦＴ液晶表示装置のパネルと信号処理回路部とを実装技術を通じて互いに連結したうえ何点かの機構物を取り付けてモジュールを製作する工程である。
【０００９】
ここで、従来の液晶セル工程をもっと詳しく説明すれば、次の通りである。
まず、複数個のＴＦＴ基板が積載されたカセットと複数個のカラーフィルタ基板が積載されたカセットとがそれぞれローダー（積載機）によって液晶セル工程ラインのそれぞれのポートに装着される。
【００１０】
上記ＴＦＴ基板にはアレイ工程により一定間隔を置いて一方向に配列された複数個のゲートラインと、上記各ゲートラインに垂直な方向に一定の間隔を置いて配列された複数個のデータラインと、上記ゲートライン及びデータラインによって定義されたマトリックス画素領域にそれぞれ形成された複数個のＴＦＴ及び画素電極などが形成されている。そして、カラーフィルタ基板には上記画素領域を除外した部分の光を遮断するためのブラックマトリックス層とカラーフィルタ層及び共通電極などが形成されている。
【００１１】
次に、複数個のＴＦＴ基板及び複数個のカラーフィルタ基板のうち、互いにマッチングされる基板などをそれぞれ一つずつ選択するようにプログラムされたロボットアームを用いて上記ＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板を選択する。
【００１２】
次いで、図１に示されたように、上記選択されたＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板上に配向物質を塗布した後、液晶分子が均一な方向性を有するようにする配向工程（１Ｓ）をそれぞれ遂行する。上記配向工程（１Ｓ）は配向膜塗布の前に洗浄、配向膜印刷、配向膜焼成、配向膜検査、ラビング工程の順に遂行する。
【００１３】
次に、配向工程（１Ｓ）後、ギャップ工程を遂行する。上記ギャップ工程はＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板をそれぞれ洗浄（２Ｓ）した後、ＴＦＴ基板にセルギャップを一定に維持するためのスペーサを散布（３Ｓ）し、カラーフィルタ基板の外郭部にシール剤を塗布（４Ｓ）した後、上記ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とに圧力を加えて合着（５Ｓ）する工程からなる。
【００１４】
ここで、上記ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とは互いに対向する大面積のガラス基板上に複数個の領域で形成されている。言い換えれば、大面積のガラス基板に複数の単位基板などが形成されており、上記単位基板領域のうち下部の単位基板（ＴＦＴ基板）領域など内側には別途の画素電極などがそれぞれ形成されている。そして、上部の単位基板（カラーフィルタ基板）領域などを含む大面積ガラス基板には上記画素電極と共に液晶を駆動させる共通電極が上記ガラス基板の前面に形成されている。このように構成されるそれぞれの大面積ガラス基板を上記のような合着工程を遂行することにより、それぞれの下部及び上部単位基板領域などからなる多数の単位パネル領域を備える大面積パネルを形成する。
【００１５】
次に、大面積パネルを多数の単位パネルに形成するための切断、加工工程を遂行する（６Ｓ）。上記切断工程は各単位パネルの画素電極に該当する電圧をそれぞれ印加して各単位パネル別に、それに該当する透過率になるようにそれぞれの単位パネルを製作するために遂行される工程である。
【００１６】
以後、上記のように加工された個々の単位パネルに液晶注入口を介して液晶を注入し、上記液晶注入口を封止（７Ｓ）することにより単位液晶パネルを形成する。次に、各単位液晶パネルの切断された面を研磨したうえで、単位液晶パネルの外観及び電気的な不良検査（８Ｓ）を遂行することにより液晶表示素子を製作することになる。
【００１７】
ここで、上記液晶注入工程をもっと具体的に説明すると、次の通りである。
図２に示されたように、まず、液晶物質を容器３０に入れた後、チャンバ２０中に容器を挿入する。次いで、チャンバ２０の中の圧力を真空状態に維持して液晶２５物質中や容器の内壁に存在する水分及び液晶内の微細な気泡を除去する脱泡工程を遂行する。
【００１８】
次に、数枚の単位パネル４０の液晶注入口を液晶物質に浸すか接触させた後、チャンバ２０内に窒素Ｎ２ガスを外部から導入してチャンバ２０内の圧力を大気圧状態に形成する。すると、単位パネル４０内の圧力とチャンバの圧力との間の差異によって液晶物質が液晶注入口を介して注入される。
【００１９】
次いで、液晶２５が各単位パネル４０にすべて充填されたら、注入口を密封する封止工程を遂行して単位液晶パネルを形成した後、それぞれの単位液晶パネルを洗浄する。
【００２０】
しかし、このような液晶注入方法は単位パネルに切断したうえで、二つの基板の間を真空状態に維持して液晶注入口を液晶物質に浸すか接触させて液晶を注入するため、液晶注入に長時間を要し、生産性が低下する問題があった。また、大面積の液晶表示装置を製造する場合、単位パネル内に液晶が完全に注入されず、不良の原因となることもあった。
【００２１】
従って、上記の問題点に対応するために、最近下記の液晶滴下方式が提案されている。
【００２２】
以下、液晶滴下方式を適用した液晶表示装置の製造方法について図３を添付して簡略に説明すれば、次の通りである。
図３に示されたように、ＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板上に配向物質を塗布した後、液晶分子が均一な方向性を有するようにする配向工程（１００Ｓ）を遂行し、ＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板をそれぞれ洗浄（１０２Ｓ）する。上記ＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板は前述のように、互いに対向する大面積ガラス基板に形成される複数の単位基板領域のうちいずれか一つの領域として定義される。
【００２３】
次に、洗浄されたカラーフィルタ基板をシール剤ディスペンシング装備にローディングして各単位パネル領域の周辺部にシール剤を塗布（１０３Ｓ）する。この時、上記シール剤は光及び熱硬化性樹脂を用い、液晶注入口を作る必要がない。
【００２４】
一方、上記洗浄されたＴＦＴ基板を銀ディスペンシング装備にローディングして上記ＴＦＴ基板上の共通電圧供給ラインに銀ドットを形成し（１０５Ｓ）、上記ＴＦＴ基板を液晶ディスペンシング装備にローディングして各単位液晶パネル領域のアクティブアレイ領域上に液晶を滴下する（１０６Ｓ）。
【００２５】
その後、上記ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを真空合着器チャンバにローディングし、上記滴下された液晶が均一に各パネルに満たされるようにＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを合着し、上記シール剤を硬化（１０７Ｓ）して大面積液晶パネルを形成する。
【００２６】
次いで、大面積液晶パネルを多数の単位液晶パネルに形成するスクライブ／ブレーク（Ｓ／Ｂ）工程（１０８Ｓ）を遂行する。
【００２７】
上記Ｓ／Ｂ工程（１０８Ｓ）はガラスより硬度の高いダイヤモンド材質のペンでガラス表面にカッティングラインを形成するスクライブ工程と、力を加えて切断するブレーク工程とからなるものであり、上記大面積液晶パネルを数枚のセル単位の単位液晶パネルに切断する。
【００２８】
次に、上記多数の単位液晶パネルの面をそれぞれ研磨するグラインディング工程（１０９Ｓ）を遂行した後、単位液晶パネルの外観及びオート／プローブ（Ａ／Ｐ）検査（１１０Ｓ）を遂行して液晶セル工程を完了する。
【００２９】
上記Ａ／Ｐ検査は一定電圧を印加する電圧端子を備える装置を用いて単位液晶パネルの電気的な不良検査を遂行する工程である。即ち、単位液晶パネルのＴＦＴ基板に形成されたゲートラインとデータラインとに上記電圧端子を電気的に連結することにより単位液晶パネルのセルギャップ不良とか液晶注入不良（例えば未注入、リーク）などを検査する工程である。
【００３０】
上記のような一連の工程などを経て液晶セル工程を完了したら、図示しなかったが、ドライバＩＣの取り付けとかバックライト装着などをするモジュール工程が遂行される。
【００３１】
しかし、前記関連技術における液晶表示装置の製造方法は次のような問題点があった。
前記真空注入法を適用した液晶表示装置の製造方法は、複数の単位パネル領域が形成されている大面積パネルを切断した後、液晶を注入して多数の単位液晶パネルを形成した。それから、それぞれの単位液晶パネルの外観及び電気的な連結状態を肉眼で検査するため、検査時間が長くかかり、作業者の疲労度が大きいという問題があった。
【００３２】
また、液晶滴下方式を適用した液晶表示装置の製造方法においても、Ａ／Ｐ検査は大面積液晶パネルを複数の単位液晶パネルに切断した後、それぞれの単位液晶パネルを肉眼で検査するため、作業者の疲労度が大きく、検査時間が長くかかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３３】
従って、本発明は上記の問題点を解決するために案出されたものであって、大面積液晶パネル状態で電気的な不良検査を遂行することができる電極構造を有する液晶パネル、液晶パネルの検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
上記の目的を達成するための本発明の液晶パネル、液晶パネルの検査装置及びこれを用
いた液晶表示装置の製造方法は、互いに垂直に交差して形成された複数個のゲートライン及びデータラインを含んでなる多数の単位基板領域を備える基板と、前記基板の側端部に列と行とに形成された第１、第２金属ラインと、前記複数個のゲートラインを短絡させ前記第２金属ラインと電気的に連結された列短絡バーと、前記複数個のデータラインを短絡させ前記第１金属ラインと電気的に連結された行短絡バーを含んでなることを特徴とする。
また、本発明によると、第１、第２基板を提供する段階；前記第１、第２基板を合着して多数の単位パネル領域を備える大面積液晶パネルを形成する段階；及び前記大面積液晶パネルの電気的な不良検査を遂行するＡ／Ｐ検査を遂行する段階を含むことを特徴とする。
なお、本発明によると、第１、第２基板を提供する段階；前記第１、第２基板のうちいずれか一つの基板上にシール剤を塗布する段階；前記シール剤の内方領域の前記第１、第２基板のうちいずれか一つの基板上に液晶を滴下する段階；前記第１、第２基板を合着して多数の単位パネル領域を備える大面積液晶パネルを形成する段階；前記大面積液晶パネルの電気的な不良検査を遂行するＡ／Ｐ検査を進行する段階；前記大面積液晶パネルを切断して多数の単位液晶パネルを形成する段階；前記単位液晶パネルの面を研磨する段階を含むことを特徴とする。
さらに、本発明によると、ステージと、前記ステージにチルト機能を有するようにする回転軸と、前記ステージ内部に配置されて一定の光を照射させる光源と、大面積液晶パネルの大きさを含み、前記光源の上部に配置された第１の偏光板と、一定電圧を印加する少なくとも二つ以上の電圧端子部とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００３５】
上述した本発明の液晶表示装置の製造方法は次のような効果がある。
単位液晶パネルの形成前に、大面積液晶パネル状態で電気的な不良検査を遂行できる電極構造を形成することにより、従来の単位液晶パネルを形成した後、それぞれの単位液晶パネルの電気的な連結状態を検査する時の問題点などを防止することができる。
つまり、大面積液晶パネルで一度にパネルの不良状態を確認することにより、検査時間及び作業者の疲労を大幅に減らすことができ、それによる工程時間も大幅短縮できる効果がある。
また、大面積液晶パネル状態でＡ／Ｐ検査を早期実施することにより、パネルの特性に対する情報を迅速にフィードバックすることができ、量産性でも効果的である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、本発明の望ましい実施例を添付した図面を参照して詳しく説明する。
図４は本発明の実施例による大面積液晶パネルにおける第１基板の例示図であり、図５は本発明の実施例による大面積液晶パネルの例示図、図６は図５のＡ部分を拡大図示した断面図、図７は本発明の実施例による液晶表示装置の製造方法を説明するための製造工程フロー図、図８は本発明の実施例による検査装置の斜視図であり、図９は本発明の実施例による大面積液晶パネルの平面図である。
【００３７】
図４及び図５に示されたように、アレイ工程及びカラーフィルタ工程が遂行された第１基板１００及び第２基板２００を提供する。上記第１基板１００は複数の第１の単位基板領域（以下、“ＴＦＴ単位基板領域”と称する）１００ａを含み、上記第２基板は複数の第２の単位基板（以下、“ＣＦ単位基板領域”と称する）２００ａを含む。このような第１基板及び第２基板はアレイ工程及びカラーフィルタ工程完了時に、それぞれカセットに積載されて液晶セル工程に進入することになる。
【００３８】
上記各ＴＦＴ単位基板領域１００ａには一定間隔を置いて一方向に配列された複数個のゲートライン５０と、上記各ゲートライン５０に垂直な方向に一定間隔を置いて配列された複数個のデータライン６０とが形成されている。このようなゲートライン５０及びデータライン６０によってマトリックス形態の多数の画素領域７０が定義され、それぞれの画素領域７０には複数個のＴＦＴ及び画素電極などが形成されている。そして、複数の画素領域７０として画像の表示領域８０が構成されている。また、図示しなかったが、各画素領域７０のＴＦＴのゲート電極はゲートライン５０に接続されており、ソース電極はデータラインにそれぞれ接続されている。ＴＦＴのドレイン電極は画素領域７０内に形成された画素領域に接続されている。なお、上記複数のゲートライン５０及びデータライン６０はＴＦＴ単位基板領域１００ａの外周に形成されたゲートパッド部９０及びデータパッド部１１０にそれぞれ接続されている。
【００３９】
一方、第１基板１００の側端部に列と行とで形成された第１、第２金属ライン１２１、１２３が形成されており、第１金属ライン１２１及び第２金属ライン１２３の一端部には外部接続端子１２１ａ、１２３ａが形成されている。上記第１、第２金属ライン１２１、１２３は以下で説明される検査工程で電気的な不良パネル検査をするための伝導層であって、単位液晶パネル形成時、除去される。
【００４０】
ゲートライン５０とデータライン６０との端には多数のゲートライン５０及びデータライン６０をそれぞれ一つに束ねる列短絡バー１２０及び行短絡バー１２２が第１基板１００の内端に形成されている。そして、行短絡バー１２２は第１金属ライン１２１と連結されており、列短絡バー１２０は第２金属ライン１２３と連結されている。結果的に、すべてのゲートライン５０が一つに連結され、また、すべてのデータライン６０が一つに連結されており、ゲート及びデータパッド部９０、１１０から静電気が発生すると、この短絡バーを経路として静電気が放電する。
【００４１】
また、図５を参照すると、第１基板１００と対向する第２基板２００に形成される多数のＣＦ単位基板領域２００ａはほとんどＴＦＴ単位基板領域１００ａのそれぞれのパッド部９０、１１０領域程度に小さく形成される。このようなＣＦ単位基板領域２００ａには画素領域７０を除外した部分の光を遮断するためのブラックマトリックス層２１０、三原色からなるカラーフィルタ層、上記第２基板の前面にかけて形成された共通電極及び液晶表示装置の大面積化に有利なコラム形状のスペーサなどが形成されている。上記コラム形状のスペーサは対向する第１基板上のゲートライン及びデータラインに対応するように形成されている。
【００４２】
なお、ブラックマトリックス枠部２２０は表示領域８０の外部からの不必要な光を遮光するために設けられている。このようなＴＦＴ単位基板領域１００ａなどとＣＦ単位基板領域２００ａなどとを備えるそれぞれの第１基板１００及び第２基板２００は光または熱硬化性樹脂から構成されるシール剤１３０によって接合されている。
【００４３】
図６は図５のＡ部分を拡大図示した断面図であって、第１基板１００上に列短絡バー１２０及び行短絡バー１２２との間に絶縁膜１２７が介在されて互いに絶縁された状態を示した図面である。
【００４４】
このように構成される第１基板及び第２基板は図７に示されたような工程フローによって単位液晶パネルに製造される。
【００４５】
図７を参照すると、複数個のＴＦＴ単位基板領域などを含む第１基板とＣＦ単位基板領域などを含む第２基板とがローダーにより移送されて液晶セル工程に進入することになる。このような液晶セル工程は第１乃至第３の段階５００、６００、７００の工程段階で遂行される。
【００４６】
第１の段階５００は第１基板及び第２基板上に配向物質を塗布した後、液晶分子が均一な方向性を有するようにする配向工程からなる。配向工程は配向膜塗布前の洗浄（２０Ｓ）、配向膜印刷（２１Ｓ）、配向膜焼成（２２Ｓ）、配向膜検査（２３Ｓ）、ラビング（２４Ｓ）の順に遂行される。
【００４７】
このような配向工程を簡略に説明すれば、第１基板及び第２基板に異物質及び粒子を除去するための洗浄（２０Ｓ）工程を遂行した後、配向膜を塗布する。
【００４８】
上記配向膜印刷（２１Ｓ）の配向液はディスペンサーで回転しているドクターロールとアニロクスロールとの間に滴下供給される。この塗布液は２個のロール間でアニロクスロール面に液体薄膜となって維持され、アニロクスロールから印刷ゴム板が取り付けられた印刷ロールで転写される。そして、塗布ステージ上に固定された基板が進行する時に、この塗布液の薄膜が第１基板及び第２基板に転写塗布される。
【００４９】
次に、上記第１基板及び第２基板上に印刷された配向膜内の溶媒を蒸発させるための焼成工程（２２Ｓ）を遂行し、配向膜状態の検査（２３Ｓ）及びラビング工程（２４Ｓ）を経て配向工程を完了する。
【００５０】
次いで、第２の段階６００は次のような工程順序で遂行される。
上記配向工程が遂行された第１基板と第２基板とを洗浄（２５Ｓ）した後、多数のＣＦ単位基板領域上にフレーム形状でシール剤を塗布（２６Ｓ）する。上記シール剤はＴＦＴ単位基板領域の画素領域外郭側にＣＦ単位基板領域が一定間隔を置いて合着されるようにする、注入口のないシール剤である。
【００５１】
次に、第１基板上にＣＦ単位基板領域上の共通電極と電気的な連結のために銀をドット形状で塗布（２７Ｓ）する。次いで、第１基板上に上記シール剤の内方の対応領域に液晶を滴下（２９Ｓ）する工程を行う。言い換えれば、ＴＦＴ単位基板領域の画素領域内に一定したピッチで所定の液晶を均一に塗布する。
【００５２】
上記液晶滴下は液晶を真空下において脱泡させた後、液晶滴下装置を組立及びセッティングして液晶ディスペンシング装置に装着したうえで、第１基板を液晶ディスペンシング装置にローディングして、液晶滴下装置を用いて液晶を滴下する段階の工程が遂行される。
【００５３】
また、これに限定されず、上記シール剤の形成及び液晶の滴下はＴＦＴ単位基板領域及びＣＦ単位基板領域のうちいずれか一つの基板上に形成することもでき、ＩＰＳモードではＴＦＴ単位基板領域上に画素電極と共通電極とが形成されるので、上記銀ドットを形成する必要がない。
【００５４】
第３の段階７００は次のような工程順序で遂行される。
第２の段階６００までの工程を経た第１基板と第２基板とを真空合着器内で合着した後、シール剤の塗布領域にＵＶ光源を照射してシール剤を硬化（３０Ｓ）することにより大面積液晶パネルを形成する。
【００５５】
図示しなかったが、上記合着工程はまず、第１基板を水平方向に移動可能な真空容器内のテーブル上に搭載し、上記第１基板の下部表面の全面を第１の吸着機構で真空吸着して固定させる。次に、第２基板の下部表面全面を第２の吸着機構で真空吸着して固定し、真空チャンバを閉じて真空させる。次いで、上記第２の吸着機構を垂直方向に下降させて上記第１基板と第２基板との間隔を所定間隔に置き、上記第１基板を搭載した上記テーブルを水平方向に移動させて第１基板と第２基板とを位置合わせする。
【００５６】
その後、上記第２の吸着機構を垂直方向に下降させて第２基板を上記シール剤にて第１基板に接合し、上記滴下された液晶が第１基板及び第２基板に所定の厚さで充填されるように加圧して多数の単位パネル領域を含む大面積液晶パネルを形成する。
【００５７】
このように形成された大面積液晶パネルは多数の単位パネルに形成する切断工程を進行する前に、まず、大面積液晶パネル状態で電気的な点灯検査を遂行する（４０Ｓ）。
【００５８】
このような電気的な点灯検査（４０Ｓ）は次の通りに遂行される。
まず、大面積液晶パネルがロボットアームによって検査装置に装着される（４１Ｓ）。上記検査装置４００は図８に示されたように、ステージ３００と、上記大面積液晶パネルがロボットアームによって置かれる時、ステージ３００との接触面積が最小になるようするために配置される少なくとも３個以上の突出部３１０と、チルト機能を有するようにする回転軸３２０と、ステージ３００の内部に一定光を照射させ得る光源３３０と、大面積液晶パネルの大きさを有し、上記光源３３０の上部に配置された第１の偏光板（図示せず）と、上記ステージ３００が回転する時に、大面積液晶パネルを固定する固定部（図示せず）を含んで構成される。
【００５９】
また、図５のゲートパッド部９０及びデータパッド部１１０と電気的にそれぞれ連結される外部接続端子に人為的に電圧を印加して大面積液晶パネルの点灯状態を検査できるようにする少なくとも２個以上の電圧端子部（図示せず）を備える。
【００６０】
上記の構成を有する検査装置４００は図７のように、上記ロボットアームによって大面積液晶パネルが装着（４１Ｓ）されたら、検査装置４００に回転力を与え、回転軸３２０によって所定角度で回転されるようにする（４２Ｓ）。この時、大面積液晶パネルは上記外部接続端子と共通電極とに人為的な外部電圧が印加されることにより点灯することになる。
【００６１】
次に、管理者が直接所定規格の大きさを有する第２の偏光板を用いたり、検査装置４００自体に大面積液晶パネルを隔てて結合する第２の偏光板を用いてＡ／Ｐ検査を遂行する（４４Ｓ）。
【００６２】
図９は第１基板１００と第２基板２００とが合着された大面積液晶パネルの平面図であって、第１金属ライン１２１の一端部に接続された外部接続端子１２１ａ及び第２金属ライン１２３の一端部に接続された外部接続端子１２３ａを上記電圧端子部に接続して外部電圧を印加し、第２基板２００の前面に形成された共通電極に一定ＤＣ電圧を印加することにより、大面積液晶パネル状態でＡ／Ｐ検査を遂行できるようにする（４４Ｓ）。
【００６３】
なお、管理者は上記第２の偏光板を用いて配向不良などを検査する外観検査を遂行することもできる。
【００６４】
上記Ａ／Ｐ検査はむら不良及び電気的な点灯状態を検査するためのものであって、例えば、格子むら、黒色むら、カラーフィルタ突起、斜線むら、ラビング縞、ピンホール、ゲートライン及びデータラインの単線または短絡などを検査する。上記むら不良は肉眼、若しくはＣＣＤなどの固体撮像素子による自動検出が可能である。
【００６５】
次いで、Ａ／Ｐ検査が完了すると、上記検査装置４００を元の位置に回転（４５Ｓ）させた後、ロボットアームを用いて大面積液晶パネルをカセットに積載する（４６Ｓ）。
【００６６】
このように、上記Ａ／Ｐ検査をＩＮ−ＬＩＮＥ上の大面積液晶パネル状態で遂行することができ、従来のＡ／Ｐ検査時の不必要な時間浪費及び作業の不便さを防ぐことができる。
【００６７】
次に、Ｓ／Ｂ工程を遂行する（４７Ｓ）。上記Ｓ／Ｂ工程はガラスより硬度の高いダイヤモンド材質のペンでガラス表面にカッティングラインを形成するスクライブ工程と、力を加えて切断するブレーク工程とからなったものであって、上記大面積液晶パネルを数枚のセル単位の単位液晶パネルに形成する工程である。
【００６８】
次いで、上記単位液晶パネルの面を研磨するグラインディング工程（４８Ｓ）を遂行して第３の段階７００の工程を完了する。
【００６９】
以後、図示しなかったが、ドライバＩＣの取り付けとかバックライト装着などをするモジュール工程が遂行される。
【００７０】
以上説明した本発明は、上述した実施例及び添付された図面に限定されるものでなく、本発明の技術的な思想を逸脱しない範囲内で様々な置換、変形及び変更が可能であるということが、本発明の属する技術分野で通常の知識を持つ者において明白であるだろう。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】関連技術における真空注入法を適用した液晶表示装置の製造工程フロー図。
【図２】関連技術における真空注入法を説明するための斜視図。
【図３】関連技術における滴下注入法を用いた液晶表示装置の製造工程フロー図。
【図４】本発明の実施例による大面積液晶パネルの第１基板の例示図。
【図５】本発明の実施例による大面積液晶パネルの例示図。
【図６】図５のＡ部分を拡大図示した断面図。
【図７】本発明の実施例による液晶表示装置の製造方法を説明するための製造工程フロー図。
【図８】本発明の実施例による検査装置の斜視図。
【図９】本発明の実施例による大面積液晶パネルの平面図である。
【符号の説明】
【００７２】
５０：ゲートライン
６０：データライン
７０：画素領域
８０：表示領域
９０：ゲートパッド部
１００：第１基板
１００ａ：ＴＦＴ単位基板領域
１１０：データパッド部
１２０：列短絡バー
１２１：第１金属ライン
１２１ａ、１２３ａ：外部接続端子
１２２：行短絡バー
１２３：第２金属ライン
１２７：絶縁膜
１３０：シール剤
２００：第２基板
２００ａ：ＣＦ単位基板領域
２１０：ブラックマトリックス
２２０：ブラックマトリックス枠部
３００：ステージ
３１０：突出部
３２０：回転軸
３３０：光源
４００：検査装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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