(57)【要約】【課題】低硬度かつ耐汚染性の導電性ゴム組成物及びそれを用いた導電性ゴムローラを提供することである。【解決手段】導電性芯金上に少なくとも弾性体層を形成する。前記弾性体層は、導電性ゴムに、軟化点が９０℃〜１８０℃であるロジン樹脂、クマロン樹脂、テルペン樹脂のうち少なくとも１種を添加してなる導電性ゴム組成物を用いて形成する。前記導電性ゴム組成物の体積固有抵抗率が１０３Ω・ｃｍ〜１０９Ω・ｃｍの範囲である。次に、前記弾性体層の上に表面層を形成し、導電性ゴムローラを製作する。【選択図】図１
2006258967.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性ゴムに、軟化点が９０℃〜１８０℃であるロジン樹脂、クマロン樹脂、テルペン樹脂のうち少なくとも１種を添加してなることを特徴とする導電性ゴム組成物。
【請求項２】
前記導電性ゴム組成物の体積固有抵抗率が１０３Ω・ｃｍ〜１０９Ω・ｃｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の導電性ゴム組成物。
【請求項３】
前記導電性ゴム組成物の硬度（ＪＩＳ−Ａ）が３０〜７０の範囲であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の導電性ゴム組成物。
【請求項４】
導電性芯金上に少なくとも弾性体層を有し、前記弾性体層が、導電性ゴムに、軟化点が９０℃〜１８０℃であるロジン樹脂、クマロン樹脂、テルペン樹脂のうち少なくとも１種を添加してなる導電性ゴム組成物を用いて形成されていることを特徴とする導電性ゴムローラ。
【請求項５】
前記弾性体層上に、さらに表面層を設ける構成をとることを特徴とする請求項４に記載の導電性ゴムローラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性粒子を原料ゴム中に分散してなる導電性ゴム組成物および前記導電性ゴム組成物を利用して作製される導電性ゴムローラに関する。より具体的には、複写機、ページプリンター、ファクシミリなどの電子写真方式の画像形成装置において、画像形成プロセス、特には、帯電、現像、転写などのプロセスに使用する導電部材、すなわち導電性ゴムローラと、これら導電性ゴムローラの作製に用いる導電性ゴム組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用した画像形成装置において、感光体を帯電する手段として、様々な帯電手段が用いられている。従来の帯電手段としては、コロナ放電を利用したものがあり、ここ近年では感光体に帯電部材を接触させて帯電する接触帯電方式が多く利用されている。接触帯電方式としては、帯電部材に直流電圧と交流電圧を重畳したものや、直流電圧のみを印加した方式がある。
【０００３】
これらの接触帯電方式に用いられる帯電部材としては、様々な形態の部材が用いられており、ローラ形状、ブレード形状、ブラシ形状、ベルト形状のものがあり、一般的な形状としては、ローラ形状が多く採用されている。
【０００４】
例えば、帯電ローラにおいては、感光体を均一に帯電させるために、ローラ軸方向での感光体表面との均一な接触を確保する必要性があるため、導電性の弾性体層の低硬度化が望まれている。
【０００５】
また、画像形成後、クリーニング装置で残留トナーの除去を行うものの、感光体表面上には極微量のトナーが残留していることも少なくない。感光体表面に圧接して使用される間に、帯電ローラにもその残留トナーの移行・付着が起こる。ローラの硬度が高いと、蓄積される付着トナー量も増し、場合によっては、感光体の帯電不均一を招くこともある。この要因による画像不良を回避するため、帯電ローラには、硬度が小さいことが求められている。
【０００６】
しかしながら、低硬度の弾性ローラを用いる場合、長期間感光体と弾性ローラを圧接した状態に保つと、ローラ層が永久変形をおこすことが指摘されている。ローラ層の永久変形は、ニップ部からの過剰電流の要因となり、それに伴い、異常画像を引き起こすこともある。また、変形部分がローラ回転時に感光体表面と不均一にしか当接できないため、帯電電位にムラを生じ、結果として、画像不良を引き起こすなどの問題も指摘されている。
【０００７】
従来、低硬度な帯電ローラを作製する上では、可塑材等の柔軟化物質を添加したゴム組成物を弾性層に用いることにより、低硬度化する例が挙げられている。原料ゴムに、多量にパラフィンオイルを添加したゴム組成物が利用されている（例えば特許文献１）。しかしながら、前記オイル等の可塑材を多量に用いると、弾性層を低硬度化する一方、感光体等に当接して用いた場合、ローラ表面にパラフィンオイルが移行してしまうため、１層または複数の層を表面層として設けないと、感光ドラム等の当接物表面を汚染もしくは破壊してしまう。ただし、表面層は弾性層の柔軟性を保持するために薄層にすることが好ましいが、表面層を薄層とした場合、汚染を十分に抑制することができないといった制約があり、弾性層を低硬度化しても効果が得られにくい。
【０００８】
また、液状不飽和ゴムを添加して柔軟化したゴム組成物を用いた弾性層を用いることにより低硬度化する例が挙げられている（例えば特許文献２）。液状不飽和ゴムを添加することにより、低硬度化し、また、不飽和ゴムであることから架橋することで移行性を抑制し、感光体汚染を防止するものである。しかしながら、不飽和ゴムを用いた場合、移行性を抑えるためには架橋が十分に行われている必要があり、架橋が不十分であると、移行してしまうこと、また、残った架橋点が経時により架橋することによって、硬度が変動してしまうため、安定した特性を有するローラを作製することは容易ではない。
【特許文献１】特開平７−３２９２１４号公報
【特許文献２】特開平９−１４６３４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、感光体汚染がなく、かつ、低硬度の導電性ゴム組成物を提供することにある。より具体的には、本発明の目的は、感光体上の静電潜像を現像剤により可視像に転換する画像形成装置において、感光体と接触して配置される現像ローラや帯電ローラ、転写ローラなどとして好適に使用できる導電性ゴム組成物及びそれを用いた導電性ゴムローラを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、これらの目的を解決するため種々検討した結果、画像形成装置に用いられる導電性ゴムローラに好適な、低硬度かつブリードアウトの小さい導電性ゴム組成物を検討するにあたり、軟化点が９０℃〜１８０℃であるロジン樹脂、クマロン樹脂、テルペン樹脂のうち少なくとも１種を添加した導電性ゴム組成物とすることにより前記特性が両立することを見出した。このように前記樹脂を配合したゴム組成物により弾性体層が形成されているため、低硬度でありながら、帯電ローラ等として用いる場合に感光体などの被帯電部材の汚染が防止される。
【００１１】
即ち、本発明は、導電性ゴムに、軟化点が９０℃〜１８０℃であるロジン樹脂、クマロン樹脂、テルペン樹脂のうち少なくとも１種を添加してなることを特徴とする導電性ゴム組成物である。
【００１２】
また、本発明は、導電性芯金上に少なくとも弾性体層を有し、前記弾性体層が、導電性ゴムに、軟化点が９０℃〜１８０℃であるロジン樹脂、クマロン樹脂、テルペン樹脂のうち少なくとも１種を添加してなる導電性ゴム組成物を用いて形成されていることを特徴とする導電性ゴムローラである。
【００１３】
さらに、上記のような効果が得られる理由については以下のように推察される。
【００１４】
すなわち本発明においては、前記樹脂自体が柔軟性を有していることに加え、ゴム中に単独で分散し、原料ゴムのポリマー同士の絡み合いを抑制することにより粘度を低下させ、ゴム組成物を低硬度化することが可能になると考えられる。また、樹脂の軟化点を前記範囲とすることにより、樹脂の流動性が低くブリードアウトが発生しないと考えられる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明は、導電性ゴムに、軟化点が９０℃〜１８０℃であるロジン樹脂、クマロン樹脂、テルペン樹脂のうち少なくとも１種を添加してなる導電性ゴム組成物である。本発明により、前記樹脂を配合したゴム組成物により弾性体層が形成されているため、低硬度でありながら、帯電ローラ等として用いる場合に感光体などの被帯電部材の汚染が抑制された導電性ゴム組成物およびそれを用いた導電性ゴムローラを提供することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００１７】
図１には、本発明における導電性ゴム組成物を用いた導電性ゴムローラの例として、帯電ローラの構成を示しており、金属製の芯金１の外周に、導電性ゴム組成物からなる弾性体層１ａ及び表面層１ｂが積層されている。
【００１８】
弾性体層の体積固有抵抗率は、帯電バイアス電圧を感光体に印加することができるように、１×１０３〜１×１０９Ω・ｃｍ程度とされる。
【００１９】
弾性体層に使用される原料ゴムとしては、特に限定される物ではなく、天然ゴム（ＮＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体ゴム（ＥＰＤＭ）、エピクロルヒドリンゴム（ＣＨＲ・ＣＨＣ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム等が挙げられる。
【００２０】
これらの原料ゴムには、必要に応じて電気抵抗を調整する目的で、導電性付与剤が配合される。導電性付与剤としては特に限定される物ではないが、電子導電系の導電剤である。カーボンブラック、グラファイト、導電性酸化チタン、導電性酸化スズなどの金酸化物、Ｃｕ、Ａｇなどの金属粉、導電性の繊維、等イオン導電剤である、過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カルシウム等の無機イオン物質；ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、トリオクチルプロピルアンモニウムブロミド、変性脂肪族ジメチルエチルアンモニウムエトサルフェート等の陽イオン性界面活性剤；ラウリルベタイン、ステアリルべタイン、ジメチルアルキルラウリルベタイン等の両性イオン界面活性剤；過塩素酸テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、過塩素酸トリメチルオクタデシルアンモニウム等の第四級アンモニウム塩；トリフルオロメタンスルホン酸リチウム等の有機酸リチウム塩などが挙げられ、添加量は原料ゴム１００質量部に対して０．１〜５質量部である。このようにして原料ゴムと導電性付与剤を混合することにより導電性ゴムが得られる。
【００２１】
ロジン樹脂としては、主成分がアビエチン酸、ピマール酸及びこれらに類似した構造のカルボン酸の混合物で各種のロジン系エステル、重合ロジン、水素添加ロジン、硬化ロジン、樹脂酸亜鉛、変性ロジン等が挙げられる。
【００２２】
クマロン樹脂としては、クマロン−インデン樹脂が挙げられ、クマロン、インデンの他にスチレンやフェノール等のモノマー成分を含んでいてもよい。
【００２３】
テルペン樹脂としてはテルペン重合体、βピネン重合体、芳香族変性テルペン重合体、水素添加したテルペン樹脂、テルペン−フェノール共重合体等が挙げられる。
【００２４】
また、前記樹脂の好ましい軟化点の範囲としては９０℃〜１８０℃である。９０℃未満であると粘度が低く、流動性が大きいため、導電性ゴムローラを帯電ローラ等の用途で感光体に圧接した場合、感光体を汚染してしまう。一方、１８０℃を超える場合には、かかる樹脂自身の通常の混練温度での分散が困難となる傾向がある。なお、軟化点は、ＪＩＳ  Ｋ  ６２２０−１９９５に規定された方法により測定でき、環球式軟化点測定装置で球が降下した時の温度を軟化点とする。
【００２５】
また、前記樹脂の配合量としては、原料ゴム１００質量部に対して、全体で１〜５０質量部が好ましい範囲である。１質量部より少ないと、ゴムの低硬度化がほとんど得られず、５０質量部より多いと、原料ゴムの比率が小さくなるため、圧縮永久歪みが増加してしまうため好ましくない。
【００２６】
弾性体層を発泡体とする為の発泡剤としては、ジニトロソペンタメチレンテトラミン（ＤＰＴ）、アゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）、パラトルエンスルフォニルヒドラジン（ＴＳＨ）、アゾビスイソブチロニトリル、４，４’−オキシビスベンゼンスルフォニルヒドラジン（ＯＢＳＨ）等の有機発泡剤、または重炭酸ソーダ等の無機発泡剤が挙げられる。高発泡倍率で良好なスキン表面層を得る為には、アゾジカルボンアミドと４，４’−オキシビスベンゼンスルフォニルヒドラジンを併用することが好ましい。
【００２７】
この他に弾性体用ゴム組成物には、必要に応じてゴムの配合剤として一般に用いられている架橋助剤、架橋促進剤、架橋遅延剤、補強剤、充填剤、増量剤、可塑材等を添加することが出来る。
【００２８】
架橋助剤としては、酸化亜鉛が挙げられる。
【００２９】
架橋促進剤としては、チアゾール系、スフェンアミド系、チウラム系、ジチオカルバミン酸塩系等が挙げられる。
【００３０】
架橋遅延剤としては、無水フタル酸やＮ−シクロヘキシルチオフタルイミド化合物が挙げられる。
【００３１】
補強剤としては、カーボンブラックやシリカ等が挙げられる。
【００３２】
増量剤としては、炭酸カルシウム、タルク、クレー等の無機粒子が挙げられる。
【００３３】
可塑材としては、パラフィン系オイル、エステル系オイル等が挙げられる。
【００３４】
弾性体層の形成方法としては、未加硫のゴム組成物を押出機により、芯金の外径よりも小さい内径を持つチューブ状に押出成形し、加硫したチューブを芯金に圧入接着し、研磨等によりローラ形状を得る方法や、未加硫のゴム組成物を、クロスヘッドを装着した押出機により、芯金を中心に円筒形に共押出し、ローラ形状を得る方法等を挙げることができる。
【００３５】
加熱は、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱などいずれの手法でもよく、加熱温度は１３０℃〜２５０℃で時間５分〜１２０分、好ましくは１４０℃〜２００℃で時間１０〜４０分で行われる。この後、必要に応じて２次加硫することもできる。
【００３６】
表面層は、感光体上にピンホール等の欠陥が生じた場合に、ここに帯電電流が集中して、帯電部材、感光体が破損することを防止するためのものであり、電気抵抗値としては１×１０６〜１×１０１０Ω程度が要求され、一般的には、アクリル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィン、シリコーン等のバインダー高分子に、カーボンブラック、グラファイト、酸化チタン、酸化錫等の酸化物；Ｃｕ、Ａｇ等の金属、酸化物や金属を粒子表面に被覆して導電化した導電粒子等を適宜量分散させることにより、所望の電気抵抗値としたものが用いられる。
【００３７】
表面層の形成方法としては、上記の様なバインダー高分子を溶剤に溶解または分散し、これに導電フィラーを分散させた液を、ディッピング、ビーム塗工、ロールコーター等の塗工法によって、弾性体層表面にコーティングする方法；、バインダー高分子中に導電フィラーを練り込み、それを押出機などによって円筒形状に成形したものを弾性体層に被覆する方法等を挙げることができる。
【００３８】
なお、本発明における弾性体ローラには、必要に応じて、弾性体層、表面層や表面被覆薄膜層以外に、接着層、拡散防止層、下地層、プライマー層等の機能層を設けることもできる。
【００３９】
以下、本発明を、実施例を用いて、更に詳細に説明する。
【実施例１】
【００４０】
下記の要領で本発明の導電性ゴムローラを作製した。
【００４１】
＜弾性抵抗層の作製＞
エピクロルヒドリンゴム（商品名：エピクロマーＣＧ１０２、ダイソー（株）製）１００質量部、充填剤としての炭酸カルシウム（商品名：シルバーＷ、白石化学工業（株）製）３０質量部、カーボンブラック（商品名：シーストＳＯ、東海カーボン（株）製）５質量部、酸化亜鉛５質量部、ステアリン酸亜鉛１質量部、ロジン樹脂（商品名：ペンセルＤ−１２５、荒川化学工業（株）製、軟化点１３０〜１４０℃）２０質量部、第４級アンモニウム塩（過塩素酸テトラブチルアンモニウム）２重量部を、８０℃に調節した密閉型ミキサーにて、１０分間混練し、原料コンパウンドを調製した。このコンパウンドに加硫促進剤としてのＤＭ１質量部、加硫促進剤としてのＴＳ１質量部、加硫剤としての硫黄１．５質量部を加えて更に１５分間オープンロールで混練した。
【００４２】
得られたコンパウンドを、ゴム押し出し機を使用して、熱硬化性接着剤（商品名：メタロックＵ−２０）を塗布した直径６ｍｍ、長さ２５０ｍｍの円柱形の導電性支持体（鋼製、表面はニッケルメッキ）の周囲にローラ状になるように成形し、電気オーブンの中で、１６０℃で２時間、加硫および接着剤の硬化を行った後、ゴム部分の両端部を突っ切り、ゴム部分を回転砥石で研磨し、端部直径１２．００ｍｍ、中央部直径１２．１０ｍｍのクラウン形状の弾性抵抗層を有する帯電ローラを得た。また、この帯電ローラの弾性抵抗層のＪＩＳ−Ａ硬度は４１度であった。また、弾性抵抗層の体積抵抗値は３．０×１０７Ω・ｃｍであった。弾性抵抗層の体積抵抗値は、別途厚さ１ｍｍのシートに成型した後、両面に金属を蒸着して電極とガード電極とを作製した。微小電流計（ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ  Ｒ８３４０Ａ  ＵＬＴＲＡ  ＨＩＧＨ  ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ  ＭＥＴＥＲ  （株）アドバンテスト社製）を用いて２００Ｖの直流電圧を印加し、３０秒後の電流を測定し、膜厚と電極面積とから計算して求めたものである。表１に材料物性を示す。
【００４３】
＜表面層の作製＞
ラクトン変性アクリルポリオール（商品名：プラクセルＤＣ２００９、ダイセル化学工業（株）製）２００質量部を、５００重量部のＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）に溶解し、固形分２０重量％の溶液とした。このアクリルポリオール溶液２００質量部に対してカーボンブラックを（商品名：ＭＡ１００、三菱化学（株）製）１２質量部を加え、これに直径０．８ｍｍのガラスビーズ２００質量部を加えて、４５０ｍｌのビンに入れてペイントシェーカを使い１２時間分散した。
【００４４】
この分散液３７０質量部にヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型３量体（商品名：デュラネートＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、旭化成工業製）を３０質量部混合し、ボールミルで１時間攪拌して表面層塗料を得た。
【００４５】
前記表面層塗料をディッピンク法により前記導電性弾性体基層の表面に塗工し、３０分間風乾した後、１６０℃で１２０分間乾燥した。表面層の膜厚は１５μｍであった。こうして完成したローラを実施例１の導電性ゴムローラとした。なお、表面層のマイクロ硬度（ＪＩＳ−Ａ）は４６度であった。また、得られた導電性ゴムローラの２３℃、湿度５０％下における電気抵抗は２．５×１０６Ωであった。導電性ゴムローラの電気抵抗は図２に示すような方法で行った。図中、１１は導電性ゴムローラ、１５はステンレス製の円筒電極、１６は抵抗、１７はレコーダーを示す。これらの間の押圧力は用いられる画像形成装置と同様にし、外部電源Ｓ１から−２００Ｖを印加した際の抵抗値を測定したものである。
【００４６】
以上のようにして作製した導電性ゴムローラを帯電ローラとして、以下の通りに感光体の耐汚染性を評価した。
【００４７】
ローラをヒューレットパッカード製のレーザープリンターレーザージェット４０００Ｎに使用される感光体に接触させ、両端に９．８Ｎの荷重を加え、４０℃で９５％ＲＨの環境下に１週間放置した。放置後、荷重を外し、顕微鏡により感光体の付着物を調べた後、使用した感光体を該カートリッジに組み込み、ベタ黒で５枚印字し、得られた画像を目視にて評価した。感光体に付着物が無く、得られた画像が良好なものを○、感光体に付着物があり、得られた画像に当接跡による横スジ不良が発生したものを×とした。
【００４８】
実施例１の導電性ゴムローラは低硬度なローラであり、かつ表面層が１５μｍといった薄層でも、感光体の汚染は発生せず、画像不良も見られなかった。表１にローラ物性及び耐汚染性の評価結果を示す。
【実施例２】
【００４９】
＜弾性抵抗層の作製＞
ＥＰＤＭゴム（商品名：ＥＰＴ４０４５、三井化学（株）製）１００質量部、充填剤としての炭酸カルシウム（商品名：シルバーＷ、白石化学工業（株）製）１０質量部、カーボンブラック（商品名：旭ＨＳ５００、旭カーボン（株）製）５０質量部、酸化亜鉛５質量部、ステアリン酸亜鉛１質量部、テルペン樹脂（商品名：クリアロンＫ１００、ヤスハラケミカル（株）製、軟化点１００±５℃）２０質量部、可塑材（商品名：ダイアナプロセスオイルＰＷ−９０、出光石油（株）製）３０質量部を８０℃に調節した密閉型ミキサーにて１０分間混練し、原料コンパウンドを調製した。このコンパウンドに加硫促進剤としてのＤＭ２質量部、加硫促進剤としてのＴＳ１質量部、加硫剤としての硫黄２質量部を加えて更に１５分間オープンロールで混練した。
【００５０】
得られたコンパウンドを実施例１と同じ方法により導電性ゴムローラを得た。この導電性ゴムローラの弾性抵抗層のＪＩＳ−Ａ硬度は３１度であった。また、弾性抵抗層の体積抵抗値は４．５×１０５Ω・ｃｍであった。表１に材料物性を示す。
【００５１】
表面層は、実施例１と同様にして作製した。なお、表面層のマイクロ硬度（ＪＩＳ−Ａ）は３５度であった。また、得られた導電性ゴムローラの２３℃、湿度５０％下における電気抵抗は３．４×１０５Ωであった。
【００５２】
実施例２の導電性ゴムローラは実施例１と同じく低硬度でかつ耐汚染性（汚染評価）も良好な結果であった。評価結果を表１に示す。
【実施例３】
【００５３】
実施例２のテルペン樹脂を軟化点の高いテルペン樹脂（商品名：マイティエースＧ１５０、ヤスハラケミカル（株）製、軟化点１５０±５℃）、可塑材の配合部数を２０質量部に変更し、実施例１と同様にして導電性ゴムローラを作製した。
【００５４】
実施例３の導電性ゴムローラは実施例１と同じく低硬度でかつ耐汚染性も良好な結果であった。材料物性及び評価結果を表１に示す。
【実施例４】
【００５５】
実施例３にロジン樹脂（商品名：ペンセルＤ−１２５、荒川化学工業（株）製  軟化点１３０〜１４０℃）を加えたことを除き、実施例１と同様にして導電性ゴムローラを作製した。
【００５６】
実施例４の導電性ゴムローラは実施例１と同じく低硬度でかつ耐汚染性も良好な結果であった。材料物性及び評価結果を表１に示す。
【実施例５】
【００５７】
実施例２のテルペン樹脂をクマロン樹脂（商品名：エスクロンＧ−９０、（株）製  軟化点９０℃）に替えて、可塑材の配合部数を１０質量部に変更したことを除き、実施例１と同様にして導電性ゴムローラを作製した。
【００５８】
実施例５の導電性ゴムローラは実施例１と同じく低硬度でかつ耐汚染性も良好な結果であった。
材料物性及び評価結果を表１に示す。
［比較例１］
実施例２のテルペン樹脂を配合せず、可塑材の配合部数を５０質量部に変更したことを除き、実施例１と同様にして導電性ゴムローラを作製した。材料物性及び評価結果を表１に示す。
【００５９】
比較例１の導電性ゴムローラは低硬度ではあるが、感光体を汚染し、実機画像においても画像不良が発生してしまった。
［比較例２］
実施例１のロジン樹脂を配合せず、可塑材（商品名：ポリサイザーＷ３０５ＥＬＳ、大日本インキ化学工業（株）製）を１５質量部配合したことを除き、実施例１と同様にして導電性ゴムローラを作製した。材料物性及び評価結果を表１に示す。
【００６０】
比較例２の導電性ゴムローラは低硬度ではあるが、感光体を汚染し、実機画像においても画像不良が発生してしまった。
【００６１】
【表１】
2006258967.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００６２】
低硬度でありながら、帯電ローラ等として用いる場合に感光体などの被帯電部材の汚染が抑制された導電性ゴムローラが提供され、画像形成装置の分野での利用が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の導電性ゴムローラの抵抗測定装置の模式図である。
【図２】本発明の導電性ゴムローラの構成図である。
【符号の説明】
【００６４】
１    芯金
１ａ    弾性体層
１ｂ    表面層
１１    導電性ゴムローラ
１５    ステンレス製の円筒電極
１６    抵抗
１７    レコーダー
【図１】
2006258967.tif 000004
【図２】
2006258967.tif 000005