(57)【要約】【課題】  被加工対象物を損傷することなく、薄膜を正確に形成することができる薄膜加工用マスク、及びこの薄膜加工用マスクを利用した被加工対象物の薄膜形成方法を提供すること。【解決手段】  被加工対象物の表面に密着される上マスク３０と、被加工対象物の裏面に密着される下マスク４０と、上マスク３０と下マスク４０との間に介在して、被加工対象物の外形に対応した開口部５４を有する外形マスク５０とを備え、上マスク３０及び／又は下マスク４０には、被加工対象物に設けられる薄膜の領域に対応した貫通孔３０ａ，４０ａが形成されており、外形マスク５０は、被加工対象物よりも厚く形成されていると共に、開口部５４の開口端面が上向き段部５６となるようにして、開口部５４の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部５２が設けられている薄膜加工用マスク。【選択図】    図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工対象物の表面に密着される上マスクと、
前記被加工対象物の裏面に密着される下マスクと、
前記上マスクと下マスクとの間に介在して、前記被加工対象物の外形に対応した開口部を有する外形マスクと
を備え、
前記上マスク及び／又は下マスクには、前記被加工対象物に設けられる薄膜の領域に対応した貫通孔が形成されており、
前記外形マスクは、前記被加工対象物よりも厚く形成されていると共に、前記開口部の開口端面が上向き段部となるようにして、前記開口部の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部が設けられている
ことを特徴とする薄膜加工用マスク。
【請求項２】
前記上マスクには、前記外形マスクの前記凹部内に挿入される凸部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の薄膜加工用マスク。
【請求項３】
前記外形マスクと前記下マスクとは一体に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の薄膜加工用マスク。
【請求項４】
前記外形マスクは、前記凹部の水平方向における一方側に前記上向き段部を有し、前記凹部の水平方向における他方側には段部が形成されていないことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の薄膜加工用マスク。
【請求項５】
被加工対象物の裏面に密着する下マスクの上に、前記被加工対象物よりも厚く形成されると共に、前記被加工対象物の外形に対応した開口部の開口端面が上向き段部となるようにして、前記開口部の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部が設けられた外形マスクを重ねる準備工程と、
前記外形マスクの前記開口部に前記被加工対象物を載置するワーク載置工程と、
前記外形マスクを振動させる振動工程と、
前記外形マスクの上であって、前記加工対象物の表面に密着する上マスクを配置する上マスク載置工程と、
前記上マスク及び／又は前記下マスクに設けた貫通孔に、薄膜用の形成部材を吹きつける薄膜付着工程と
を備える被加工対象物の薄膜形成方法。
【請求項６】
前記振動工程においては、前記被加工対象物が前記上向き段部に接触している部分を上にするようにして前記外形マスクを傾斜した後に、前記外形マスクを振動させることを特徴とする請求項５に記載の被加工対象物の薄膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加工対象物に薄膜を形成するための薄膜加工用マスク、及びに被加工対象物に薄膜を形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図８は、従来の薄膜加工用マスク１が圧電振動片２を挟みこんだ状態における概略縦断面図である。
この図に示されるように、薄膜加工用マスク１は、圧電振動片２の表面側に配置される上マスク４と、圧電振動片２の裏面側に配置される下マスク６とを備えている。
これら上マスク４と下マスク６には、圧電振動片２の薄膜電極（図示せず）を設ける領域に対応して貫通孔４ａ，６ａが形成されている。
そして、圧電振動片２を上マスク４と下マスク６とで挟み込んで、スパッタリング等でＣｒ（クロム）、Ａｕ（金）を蒸着することにより、貫通孔４ａ，６ａの部分に薄膜電極を形成するようにしている。
【０００３】
また、圧電振動片２にＣｒ（クロム）、Ａｕ（金）を蒸着する際、圧電振動片２が所定の位置からズレてしまうと、薄膜電極（図示せず）を正確に形成することができない。このため、圧電振動片２の外形に対応した開口部８ａを有する外形マスク８を設け、この開口部８ａに圧電振動片２を入れることで、圧電振動片２の位置決めをしている。
【０００４】
ところで、近年の圧電振動片２の薄型化に伴い、圧電振動片２を収容する外形マスク８も薄くせざるを得なくなっている。このため、外形マスク８の強度が不足して、外形マスク８の反りや曲げによる破損が問題となっていた。また、この外形マスク８の反りや曲げは、圧電振動片２の位置決めを不正確にし、その結果、薄膜電極の不良を原因とする圧電振動片の歩留まりの悪さも問題となっていた。
【０００５】
そこで、図９に示すような薄膜加工用マスク３を用いて、圧電振動片に薄膜電極を形成する方法も提案されている（例えば、特許文献１参照）。
図９に示す薄膜加工用マスク３においては、圧電振動片２を位置決めするための外形マスク９は、圧電振動片２の厚みよりも厚く形成されることにより、外形マスク９の強度不足を防止している。そして、外形マスク９の厚みを大きくした分を、上マスク４および下マスク６に形成された凹部４ｂ，６ｂが収納する構造になっており、これにより、外形マスク９を厚くしても、上マスク４および下マスク６が圧電振動片２に密着するようになっている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−１３１７４４公開特許公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、図９の薄膜加工用マスク３においては、外形マスク９の開口部９ａの開口面積は、圧電振動片２の外形に比べて、略一致するように僅かにだけ大きく形成されているため、圧電振動片２を開口部９ａに納めることが困難となっている。
このため、圧電振動片２を開口部９ａに納める際には、図９の点線の部分で示すように、吸着ノズル５で吸着された圧電振動片２をチャック７等で挟み、このチャック７等を動かすことで、動いた方向に圧電振動片２を移動させて、開口部９ａの位置と圧電振動片２の位置とを合わせるようにしている。
【０００８】
しかし、このように、チャック７等で圧電振動片２を挟んで位置決めすると、位置決めの際に、圧電振動片２にチッピングが起こしたり、クラックが発生しやすいという問題がある。特に、近年の圧電振動片２は薄型化されているため、軽い力を付加した場合であっても、チッピングやクラックが発生しやすい状態にあると言える。
また、圧電振動片２を外形マスク９の開口部に入れる方法として、圧電振動片２や外形マスク９等の位置情報を画像認識し、その認識に基づいたデータに対応してロボットにより位置決めする方法も知られている。しかし、その場合であっても、ロボットが圧電振動片２に損傷を及ぼす恐れはあり、また、このような装置は高価でもある。
【０００９】
本発明は、被加工対象物を損傷することなく、薄膜を安価かつ正確に形成することができる薄膜加工用マスク、及びこの薄膜加工用マスクを利用した被加工対象物の薄膜形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述の目的は、第１の発明によれば、被加工対象物の表面に密着される上マスクと、前記被加工対象物の裏面に密着される下マスクと、前記上マスクと下マスクとの間に介在して、前記被加工対象物の外形に対応した開口部を有する外形マスクとを備え、前記上マスク及び／又は下マスクには、前記被加工対象物に設けられる薄膜の領域に対応した貫通孔が形成されており、前記外形マスクは、前記被加工対象物よりも厚く形成されていると共に、前記開口部の開口端面が上向き段部となるようにして、前記開口部の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部が設けられている薄膜加工用マスクにより達成される。
【００１１】
第１の発明の構成によれば、外形マスクは、被加工対象物よりも厚く形成されているため、厚みの薄い被加工対象物に成膜する場合においても、外形マスクの強度を確保することができる。したがって、外形マスクの破損を有効に防止し、被加工対象物の位置決めを正確に行うことができる。
さらに、外形マスクは、開口部の開口端面が上向き段部となるようにして、開口部の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部が設けられている。このため、被加工対象物を開口部に上手く納められなかった場合であっても、被加工対象物を開口部の開口端面が支持するようにして、一旦、凹部内に被加工対象物を納めることができる。したがって、この凹部内に被加工対象物を納めた状態で、例えば外形マスクに振動を伝えれば、被加工対象物を損傷させることなく動かして開口部に納めることができる。
また、この被加工対象物が納められた開口部は、被加工対象物の外形に対応しているので、被加工対象物の位置決めがされる。
そして、以上のような位置決め方法であれば、例えば、被加工対象物の位置情報を画像認識し、この画像認識に基づいたデータに対応して、被加工対象物を挟み込んだチャックで移動させるロボット装置等を用いる必要もなく、安価に位置決めできる。
かくして、被加工対象物を損傷することなく、薄膜を安価かつ正確に形成することができる薄膜加工用マスクを提供することができる。
【００１２】
第２の発明は、第１の発明の構成において、前記上マスクには、前記外形マスクの前記凹部内に挿入される凸部が形成されていることを特徴とする。
第２の発明の構成によれば、上マスクには、外形マスクの凹部内に挿入される凸部が形成されている。このため、外形マスクや上マスクが思わぬ位置に移動しようとすると、外形マスクの凹部の内壁に上マスクの凸部が接触して、外形マスクや上マスクの移動を規制することになる。したがって、上マスクと外形マスクとの位置関係を規定して、正確な薄膜を形成することができる。
【００１３】
第３の発明は、第１または第２の発明の構成において、前記外形マスクと前記下マスクとは一体に形成されていることを特徴とする。
第３の発明は、外形マスクと下マスクとは一体に形成されている。したがって、外形マスク又は下マスクは、それぞれ外形マスク又は下マスクが一体に形成された分だけ厚みが増えて、両マスクの強度をさらに向上することができる。
また、外形マスクの設計公差と下マスクの設計公差とが累積されるようなこともなく、より精密なマスクを形成することができる。
【００１４】
第４の発明は、第１ないし第３の発明のいずれかの構成において、前記外形マスクは、前記凹部の水平方向における一方側に前記上向き段部を有し、前記凹部の水平方向における他方側には段部が形成されていないことを特徴とする。
第４の発明の構成によれば、外形マスクは、凹部の水平方向における一方側に上向き段部を有し、凹部の水平方向における他方側には段部が形成されていない。したがって、例えば上向き段部を上にして外形マスクを振動させ、被加工対象物を他方側に移動させると、被加工対象物は、段部のない開口部あるいは凹部の内周面に突き当たって、容易に開口部に納まることになる。
【００１５】
また、上述の目的は、第５の発明によれば、被加工対象物の裏面に密着する下マスクの上に、前記被加工対象物よりも厚く形成されると共に、前記被加工対象物の外形に対応した開口部の開口端面が上向き段部となるようにして、前記開口部の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部が設けられた外形マスクを重ねる準備工程と、前記外形マスクの前記開口部に前記被加工対象物を載置するワーク載置工程と、前記外形マスクを振動させる振動工程と、前記外形マスクの上であって、前記加工対象物の表面に密着する上マスクを配置する上マスク載置工程と、前記上マスク及び／又は前記下マスクに設けた貫通孔に、薄膜用の形成部材を吹きつける薄膜付着工程とを備える被加工対象物の薄膜形成方法により達成される。
【００１６】
第５の発明の構成によれば、外形マスクの開口部に被加工対象物を載置するワーク載置工程を有するが、このワーク載置工程の前に行う準備工程において、下マスクの上に重ねる外形マスクは、開口部の開口端面が上向き段部となるようにして、開口部の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部が設けられている。このため、ワーク載置工程で、被加工対象物を開口部に上手く納められなかった場合であっても、被加工対象物を上向き段部である開口部の開口端面が支持するようにして、一旦、凹部内に被加工対象物を納めることができる。
そして、このワーク載置工程の後に、外形マスクを振動させる振動工程を有する。したがって、振動により被加工対象物を上向き段部から動かして開口部に納め、被加工対象物の位置決めを行うことができる。
また、このように被加工対象物の位置決めをした外形マスクは、被加工対象物よりも厚く形成されるため、外形マスクの強度を確保して破損を有効に防止し、被加工対象物の位置決めを正確に行うことができる。
かくして、被加工対象物を損傷することなく、薄膜を正確に形成することができる薄膜加工用マスクを利用した被加工対象物の薄膜形成方法を提供することができる。
【００１７】
第６の発明は、第５の発明の構成において、前記振動工程においては、前記被加工対象物が前記上向き段部に接触している部分を上にするようにして前記外形マスクを傾斜した後に、前記外形マスクを振動させることを特徴とする。
第６の発明の構成によれば、振動工程においては、被加工対象物が上向き段部に接触している部分を上にするようにして外形マスクを傾斜させて、外形マスクを振動させる。したがって、外形マスクを振動させると、被加工対象物は、上向き段部に接触している部分が上向き段部に接触しない方向に向かって移動して、開口部に納まり易くなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る薄膜加工用マスクを用いて薄膜を形成する被加工対象物の例示として、圧電振動片１０の概略斜視図を示している。
この圧電振動片１０は、例えば水晶で形成されており、水晶以外にもタンタル酸リチウム等の圧電材料を利用することができる。ここでは、水晶ウエハを定められた方向に沿って、矩形にカットした所謂ＡＴカット振動片を用いられているが、本実施形態はこれに限られるものではない。
【００１９】
また、圧電振動片１０は、少なくともその主面に、薄膜である薄膜電極１２が設けられている。この薄膜電極１２は駆動用の電極であり、本実施形態では、例えばクロム（Ｃｒ）および金（Ａｕ）をスパッタリング方式等で蒸着することにより形成されている。
具体的には、薄膜電極１２は、圧電振動片１０の中央付近の表裏面に、互いに異極となるように、対向して形成された励振電極１４と、この励振電極１４と接続され、パッケージ側の電極（図示せず）と接続されるマウント電極１６とを有している。なお、表面のマウント電極１６は、圧電振動片１０の端面を引き回されて裏面のマウント電極（図示せず）に接続されている。
【００２０】
図２は圧電振動片１０に薄膜電極１２を形成するための第１の実施形態に係る薄膜加工用マスク２０の概略縦断面図である。なお、理解の便宜のため、図２では被加工対象物である圧電振動片１０を図示している。
この図に示されるように、薄膜加工用マスク２０は、圧電振動片１０の表面に密着される上マスク３０と、圧電振動片１０の裏面に密着される下マスク４０と、上マスク３０と下マスク４０との間に介在して、圧電振動片１０を位置決めするための外形マスク５０とを備えている。
【００２１】
下マスク４０は、圧電振動片１０の裏面１０ａ側の薄膜電極用の形成材料をスパッタリング等で蒸着するためのマスクであって、ＳＵＳ（ステンレス）等の金属材料から形成されている。具体的に、下マスク４０は、圧電振動片１０の裏面１０ａに密着すると共に、圧電振動片１０の裏面に設けられる薄膜電極（図示せず）の領域に対応した貫通孔４０ａを有している。この貫通孔４０ａは、薄膜電極用の形成材料を正確な領域に吹きつけることができるように規制する案内手段であり、本実施形態の場合、ウエットエッチングで形成されているが、精度よく貫通孔４０ａを形成するためにドライエッチングで形成するようにしてもよい。
【００２２】
上マスク３０は、圧電振動片１０の表面１０ｂ側の薄膜電極用の形成材料を、正確な領域にスパッタリング等で蒸着するためのマスクであって、ＳＵＳ（ステンレス）等の金属材料から形成されている。具体的に、上マスク３０は、圧電振動片１０の表面１０ｂに密着すると共に、圧電振動片１０の表面に設けられる薄膜電極（図示せず）の領域に対応した貫通孔３０ａを有している。この貫通孔３０ａは、薄膜電極用の形成材料を正確な領域に吹きつけることができるように規制する案内手段であり、下マスク４０と同様にエッチングで形成されている。
【００２３】
この上マスク３０は、圧電振動片１０の表面１０ｂに密着できれば、図２に示すような形状に限らず、例えば、後述する外形マスク５０の凹部５２に全体が挿入されるような直方体等であってもよい。本実施形態の上マスク３０は、後述する外形マスク５０の凹部５２に挿入される凸部３２が形成されており、全体がフランジのような形状となっている。この凸部３２は、先端が圧電振動片１０の表面１０ｂに密着される部分である。さらに、凸部３２は、外形マスク５０や上マスク３０が思わぬ位置に移動しようとしても、後述する外形マスク５０の凹部５２の内壁５２ａと、上マスク３０の凸部３２の外壁３２ａとが接触して、外形マスク５０や上マスク３０の移動を規制することになる。したがって、上マスク３０と外形マスク５０との位置関係を規定して、正確な薄膜を形成することができる。
【００２４】
外形マスク５０は、ＳＵＳ（ステンレス）等の金属材料により形成され、全体が圧電振動片１０の厚みよりも大きな厚みを有している。
この外形マスク５０は、圧電振動片１０を位置決めするためのマスクであって、圧電振動片１０の外形に対応した開口部５４が形成されており、この開口部５４の内面が圧電振動片１０の外面と接触して、圧電振動片１０の動きを規制するようになっている。
【００２５】
本実施形態の場合、開口部５４はエッチングにより外形マスク５０を貫通して形成されており、圧電振動片１０の水平方向の外形よりも僅かに大きく形成されている。具体的には、開口部５４の幅Ｗ１は圧電振動片１０の幅に比べて、略一致していると言ってよいほど僅かに大きく、長さも圧電振動片１０の長さに比べて、略一致していると言ってよいほど僅かに大きく形成されている（図示せず）。
一方、開口部５４の高さ（深さ）Ｈ１については、圧電振動片１０の厚みＨ２以下の寸法で形成されている。これにより、上マスク３０を配置した際、圧電振動片１０の表面１０ｂと上マスク３０の凸部３２とが密着するようになっている。
【００２６】
さらに、外形マスク５０には、開口部５４の開口端面が上向き段部５６となるようにして、開口部５４の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部５２が設けられている。
この凹部５２は、圧電振動片１０を開口部５４に導くための案内手段である。すなわち、凹部５２は、開口部５４に挿入し損ねた圧電振動片１０を一旦受け入れられるようになっており、その後、外形マスク５０を振動させることで、圧電振動片１０を開口部５４に挿入するようになっている。
この圧電振動片１０を開口部５４に案内する方法については、後で詳細に説明する。
【００２７】
具体的には、凹部５２は上マスク３０側に開口しており、その開口面積は、圧電振動片１０を開口部５４に搬送する機器の精度等により決められるが、少なくとも、垂直方向から見た場合に開口部５４の一部あるいは全体を覆うことがないようにして、開口部５４の開口面積よりも大きな面積を有すれば足りる。より好ましくは、開口部５４に圧電振動片１０を挿入し損ねた場合に、圧電振動片１０の全体を受け入れられる面積があればよい。
そして、この凹部５２は、その内側底面が開口部５４の開口端面となるように開口部５４に連続して形成されており、本実施形態の場合、開口部５４を貫通するようにエッチングした後に、ハーフエッチングで形成されている。
また、凹部５２の深さについては、開口部５４の深さＨ１と合わせた場合に、外形マスク全体の強度を確保できる深さを有するように設定され、かつ、後述する圧電振動片１０の製造方法において、外形マスク５０を振動させて、圧電振動片１０を移動させた場合に、圧電振動片が凹部５２から飛び出さない程度の深さを有するように設定されている。
【００２８】
なお、このような外形マスク５０は、下マスク４０と一体に形成されることがより好ましく、これにより、外形マスク５０又は下マスク４０は、それぞれ外形マスク５０又は下マスク４０が一体に形成された分だけ厚みが増え、例えば、凹部５２が設けられている部分の厚みについても下マスク４０の厚み分を追加して、マスクの強度をさらに向上することができる。また、外形マスク５０の設計公差と下マスク４０の設計公差とが累積されるようなこともなく、より精密なマスクを形成することができる。
【００２９】
図３は、圧電振動片１０の製造工程図である。
この図に示されるように、まず、本実施形態では、複数の圧電振動片を切り出すことができる大きさを有する水晶ウエハを、定められた方向に沿って矩形状に複数カットして、一度に複数の圧電振動片１０の外形を形成する（ＳＴ１）。
【００３０】
次いで、図４（ａ）に示すように、複数の圧電振動片に設ける薄膜電極に対応した貫通孔４０ａ，４０ａ，・・・を有する下マスク４０の上に、外形マスク５０を重ねる（ＳＴ２：準備工程）。
この際、外形マスク５０は、複数の圧電振動片を挿入することができる開口部５４，５４，・・・と、これらの開口部５４，５４・・・の各々に連続する凹部５２，５２，・・・を有している。
【００３１】
次いで、図４のＡ−Ａ線の位置で切断した場合の概略断面図である図５（ｂ）に示すように、圧電振動片１０を例えば吸着ノズル１８で吸着して搬送し、外形マスク５０の開口部５４に挿入させる（ＳＴ３：ワーク載置工程）。
この際、圧電振動片１０を開口部５４に挿入する器具として、従来のように圧電振動片１０の位置を変更するためのチャック（図９参照）は使用せず、多少、圧電振動片１０の位置と開口部５４の位置とがズレていても、そのまま外形マスク５０に圧電振動片１０を載置する。そうすると、図５（ｂ）に示すように、圧電振動片１０は、開口部５４よりも大きな開口面積を有する凹部５２内に挿入し、上向き段部５６が圧電振動片１０を支持することになる。
【００３２】
次いで、図５（ｃ）に示すように、圧電振動片１０と上向き段部５６とが接触している部分が上になるように傾斜させて（外形マスク５０を下マスク４０ごと図５（ｃ）の＋Ｚ側に持ち上げて）、外形マスク５０を下マスク４０ごと振動させる（ＳＴ４：振動工程）。なお、この振動は縦方向（垂直方向）の振動であっても構わないが、本実施形態では、振動は水平方向の成分が大きくなるように微振動させ、例えば、外形マスク５０の傾きに沿って（傾斜角度θ１に沿って）、微振動させている。また、振動の幅は、圧電振動片１０の大きさや上向き段部５６の幅等により設定している。このようにして、圧電振動片１０は、上向き段部５６から滑り落ちるようにして、図５（ｄ）に示すように開口部５４に納まる。
【００３３】
次いで、外形マスク５０の上であって、圧電振動片１０の表面に上マスク３０の凸部３２（図２参照）が密着するように上マスク３０を配置する（ＳＴ５：上マスク載置工程）。この際、上マスク３０の凸部３２（図２参照）は、外形マスク５０の凹部５２内に挿入するため、この外形マスク５０の凹部５２と上マスク３０の凸部３２とで、互いの動きを規制することができる。
次いで、例えば、薄膜電極用の形成材料であるクロム（Ｃｒ）および金（Ａｕ）をスパッタリング方式で蒸着し（ＳＴ６：薄膜付着工程）、各マスク３０，４０，５０を複数の圧電振動片から取り外して、圧電振動片を完成させる。
【００３４】
本発明の第１の実施形態は以上のように構成され、外形マスク５０は、全体が圧電振動片１０よりも厚く形成されているため、厚みの薄い圧電振動片１０に成膜する場合においても、外形マスク５０の強度を確保することができる。
さらに、外形マスク５０は、開口部５４の開口端面が上向き段部５６となるようにして、開口部５４の開口面積よりも大きな開口面積を有する凹部５２が設けられている。このため、圧電振動片１０を開口部５４に上手く納められなかった場合であっても、圧電振動片１０を上向き段部５６が支持するようにして、一旦、凹部５２内に圧電振動片１０を納めることができる。したがって、この凹部５２内に圧電振動片１０を納めた状態で、外形マスク５０に振動を伝えれば、圧電振動片１０を損傷させることなく動かして、位置決めとなる開口部５４に納めることができる。
また、このような位置決め方法であれば、例えば、圧電振動片１０の位置情報を画像認識し、その画像認識に基づいたデータに対応して、圧電振動片１０を挟み込んだチャック等で圧電振動片１０を位置決めするロボット装置を用いる必要がない。したがって、このようなロボット装置が抱える高価であるという問題点や生産性が低いという問題点を解消することができる。
【００３５】
図６および図７は、本発明の第１の実施形態の変形例に係る薄膜加工用マスク６０であって、図６は薄膜加工用マスク６０の概略平面図、図７は図６のＢ−Ｂ線概略切断断面図である。なお、理解の便宜のため、図６では上マスクを省略し、図７では被加工対象物である圧電振動片１０を図示している。
これらの図において、図１ないし図５の説明で用いた符号と同一の符号を付した箇所は共通する構成であるから、重複した説明は省略し、以下、相違点を中心に説明する。
図６および図７の薄膜加工用マスク６０が、図１ないし図５の薄膜加工用マスク２０と異なるのは、外形マスク５０の凹部５２の形状についてである。
【００３６】
すなわち、薄膜加工用マスク６０においては、外形マスク５０は、凹部５２の水平方向における一方側に上向き段部５６を有し、凹部５２の水平方向における他方側には段部が形成されていない。
本実施形態では、図６に示すように、上向き段部５６は、開口部５４の水平方向の中心Ｏを通る中心線ＯＰの一方側（図６の右上側）にのみ形成されている。より具体的には、被加工対象物である圧電振動片１０の矩形状に合わせるように、開口部５４の水平方向の対角線の一方側である隣合う２辺をハーフエッチグすることで形成されている。
【００３７】
そして、凹部５２の水平方向における他方側（図６では中心線ＯＰの左下側）については、開口部５４の内壁５４ａと凹部５２の内壁５２ａとの間に段部がないように、凹部５２と開口部５４とが連続して形成されており、本実施形態では、図７に示すように、凹部５２および開口部５４により形成された外形マスク５０の他方側の内壁は略垂直な壁となっている。
また、図６および図７では、一枚の圧電振動片１０に対応した部分のみを図示しているが、本実施形態における薄膜加工用マスク６０は、複数の圧電振動片１０に対応できる大きさを有するマスクとなっている。そして、上述した開口部５４や凹部５２が複数の圧電振動片１０に対応した数だけ設けられており、上向き段部５６は一方向にそろって、すなわち図６を例にすると、全ての上向き段部５６が右上側に形成されている。
【００３８】
本発明の第１の実施形態の変形例は以上のように構成されており、このため、第１の実施形態と同様の作用効果を発揮する。
さらに、外形マスク５０は、凹部５２の水平方向における一方側に上向き段部５６を有し、凹部５２の水平方向における他方側には段部が形成されていない。したがって、例えば上向き段部５６を上にして外形マスク５０を振動させ、圧電振動片１０を他方側に移動させると、圧電振動片１０は、段部のない開口部５４あるいは凹部５２の内壁５４ａ，５２ａに突き当たって、容易に開口部５４に納まることになる。すなわち、凹部５２の他方側には段部がないので、振動により圧電振動片１０が内壁５４ａ，５２ａに突き当たると、そのまま開口部５４に挿入されることになる。また、凹部５２の他方側の内壁５４ａ，５２ａには一定の高さがあるので、圧電振動片１０が凹部５２からはみ出てしまうような事態を有効に防止することができる。
しかも、本実施形態の薄膜加工用マスク６０は、複数の圧電振動片１０に対応できる大きさを有し、各々の圧電振動片１０に対応して設けられた上向き段部５６は一方向にそろって形成されている。したがって、外形マスク５０を振動させる際は、この一方側のみを上にして傾斜させればよい。
【００３９】
本発明は上述の実施形態に限定されない。実施形態や各変形例の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略し、図示しない他の構成と組み合わせることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る薄膜加工用マスクを用いて薄膜を形成する被加工対象物の例示である圧電振動片の概略斜視図。
【図２】圧電振動片に薄膜電極を形成するための第１の実施形態に係る薄膜加工用マスクの概略縦断面図。
【図３】圧電振動片の製造工程図。
【図４】図３のＳＴ２に対応した下マスクと外形マスクの概略斜視図。
【図５】図３のＳＴ３およびＳＴ４に対応した図であって、図５（ｂ）は下マスクおよび外形マスクに圧電振動片を載置する図、図５（ｃ）は外形マスクを振動する図、図５（ｄ）は圧電振動片を開口部に納めた図。
【図６】本発明の第１の実施形態の変形例に係る薄膜加工用マスクであって、薄膜加工用マスクの概略平面図。
【図７】図６のＢ−Ｂ線概略切断断面図。
【図８】従来の薄膜加工用マスクが圧電振動片を挟みこんだ状態における概略縦断面図。
【図９】従来のその他の薄膜加工用マスクが圧電振動片を挟みこんだ状態における概略縦断面図。
【符号の説明】
【００４１】
１０・・・被加工対象物（圧電振動片）、１２・・・薄膜（薄膜電極）、２０，６０・・・薄膜加工用マスク、３０・・・上マスク、４０・・・下マスク、３０ａ，４０ａ・・・貫通孔、５０・・・外形マスク、５２・・・凹部、５４・・・開口部、５６・・・上向き段部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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