(57)【要約】【課題】            汚染された器具を速やかに洗浄して、他の操作室に移動させることのでき、しかも、他の操作室の清浄度を保持できる設備を提供する。【解決手段】        複数の操作室、洗浄室及び前室Ａを具備する製造設備であって、洗浄室は洗浄設備及び塵芥除去設備を具備しており、洗浄室と操作室とは前室Ａを介して連通するとともに、洗浄室と操作室とは前室Ａとは異なる位置で連通し、操作室の圧力は洗浄室よりも高く、前室Ａの圧力は操作室の圧力よりも高くなるように調整される構造を有することを特徴とする製造設備。【選択図】          図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の操作室、洗浄室及び前室Ａを具備する製造設備であって、洗浄室は洗浄設備及び塵芥除去設備を具備しており、洗浄室と操作室とは前室Ａを介して連通するとともに、洗浄室と操作室とは前室Ａとは異なる位置で連通し、操作室の圧力は洗浄室よりも高く、前室Ａの圧力は操作室の圧力よりも高くなるように調整される構造を有することを特徴とする製造設備。
【請求項２】
製造設備の各室にそれぞれ圧力センサーが具備され、該センサーによって各室が圧力調整される装置を有する請求項１に記載の製造設備。
【請求項３】
前室Ａがダンパーを具備する請求項１又は２に記載の製造設備。
【請求項４】
前室Ａと操作室との出入口、及び前室Ａと洗浄室との出入口が同時に開かない構造を具備する請求項１〜３のいずれかに記載の製造設備。
【請求項５】
前室Ａとは異なる位置での連通が、洗浄室と操作室との間に具備される前室Ｂを介した連通であり、該前室Ｂの圧力が洗浄室の圧力よりも高く操作室の圧力よりも低くなるように調整される構造を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の製造設備。
【請求項６】
前室Ｂと操作室との出入口、及び前室Ｂと洗浄室との出入口が同時に開かない構造を具備する請求項５に記載の製造設備。
【請求項７】
前室Ｂがダンパーを具備する請求項５又は６に記載の製造設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、食品、医農薬品、電子部品、電子工業薬品などの高度な清浄度が求められる分野の製造設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
食品、医農薬品、電子部品、電子工業薬品などの製造等は、高度な清浄度が保持された設備で操作されており、具体的には、操作室の圧力を高い順から操作室１、２、３と設定し、この順で空気を流すことによって塵芥などの移動を防止し、清浄度の高い順が、操作室１、２、３となるように保持されることが特許文献１に開示されている。
しかしながら、製造等の都合から、定められた以外の順番で製造中間体、製造部品あるいは製造器具などを操作室間で移動することが求められる場合がある。このような場合の対策として、操作室と操作室との間にチャンバと呼ばれる前室を設置し、前室を両室よりも高圧に保持しながら、かつ、清浄空気をチャンバに供給して、製造中間体、製造部品あるいは製造器具などを操作室間で移動に伴って発生する塵芥などの移動によって清浄度の低下を防止する方法が提案されている（特許文献２）。そして、特許文献２の設備において、塵芥で汚染された操作者や器具は、前室で塵芥を除去したのち操作室間を移動させることができる。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１５３４１５号公報（請求項１）
【特許文献２】特開平１１−２５７７００号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
医薬品製造設備では、反応終了後に反応器具などの汚染された器具が生じ、操作室内も汚染される場合がある。従来の設備では、操作室内に洗浄設備を有していても、まず、汚染の大部分を占める器具を洗浄したのち、汚染された操作室に仮置きし、操作室を洗浄したのち、再び器具を完全に洗浄しなければ、器具を他の操作室に移動させることができない。このため、器具を２度洗浄するため時間がかかり、器具を迅速に他の操作室に移すことができないという問題があった。
本発明の目的は、汚染された器具を速やかに洗浄して、他の操作室に移動させることができ、しかも、他の操作室の清浄度を保持できる設備を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、複数の操作室、洗浄室及び前室Ａを具備する製造設備であって、洗浄室は洗浄設備及び塵芥除去設備を具備しており、洗浄室と操作室とは前室Ａを介して連通するとともに、洗浄室と操作室とは前室Ａとは異なる位置で連通し、操作室の圧力は洗浄室よりも高く、前室Ａの圧力は操作室の圧力よりも高くなるように調整される構造を有することを特徴とする製造設備であり、中でも、前室Ａとは異なる位置での連通が、洗浄室と操作室との間に具備される前室Ｂを介した連通であり、該前室Ｂの圧力が洗浄室の圧力よりも高く操作室の圧力よりも低くなるように調整される構造を有する製造設備が好ましい。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の製造設備においては、汚染された器具は操作室から洗浄室に移されて速やかに洗浄されることから、操作室の洗浄を待つことなく、速やかに器具を洗浄して他の操作室に移動させることのでき、しかも、塵芥及び汚染は洗浄室で除去されて、前室Ａの存在により洗浄室の塵芥は他の操作室に移動することがなく、他の操作室の清浄度を保持できる。
また、本発明の製造設備が前室Ｂを具備すると、洗浄室からの塵芥や汚染が操作室に一層、侵入しにくくなり、さらに、操作室を一層多く具備させても洗浄室及び前室を集約することができることから、簡便な設備を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の実施の一態様である図１に基づいて説明する。
洗浄室は図１において１で表されており、洗浄室には洗浄装置（図示せず）と塵芥除去装置（図示せず）が具備されている。食品製造及び医農薬品製造の場合、洗浄装置においては、通常、洗浄水が供給され、廃水が除去できる。また、電子部品製造の洗浄装置は、例えば、清浄空気によって、塵芥を吹き飛ばす装置などが例示される。このように操作室内で発生した器具や運搬装置は、洗浄室の洗浄装置で洗浄される。
【０００８】
塵芥除去装置は、サイクロンなどのような集塵装置に接続されたダクトなどが挙げられ、ダクト及びサイクロンを経由して塵芥が洗浄室から除去される。塵芥除去設備により、汚染された器具や器具の移動の際に生じる塵芥が除去できるのである。
また、化学実験室のドラフトのように、洗浄装置と塵芥除去装置とが同時に具備されていてもよい。
洗浄室は、複数の操作室、前室Ａ及び洗浄室の中で最も低い圧力に設定されることから、塵芥除去装置の排気量では十分な圧力低下が生じない場合、さらに真空ポンプなどにより排気されていてもよい。
洗浄室は、通常、大気圧程度に設定される。
【０００９】
図１の場合、洗浄室は操作室と出入口３で連通している。
また図１のように、洗浄室は、外部との出入口６が具備されていてもよい。
本発明の設備は洗浄室が複数あってもよいが、好ましくは、設備を簡便にするために、洗浄室は１室である。
【００１０】
前室Ａは、図１中においてＡとして表されている。洗浄室とは出入口４を介して連通し、操作室２−１、２−２及び２−３とは、それぞれ別の出入口５を介して連通している。
前室Ａの圧力は、いずれの操作室よりも高く設定される。具体的には、設備の大きさ、出入口の大きさ、操作室の圧力によっても異なるが、通常、４０Ｐａ〜６０Ｐａ程度に設定される。
前室Ａには、清浄空気供給口から清浄空気が供給され、前記の圧力が設定される。清浄空気は、通常、ガラス繊維やポリエステル不織布などのフィルターを介して、外気の塵芥を除去した空気が供給される。
前室Ａと操作室との出入口５及び前室Ａと洗浄室との出入口４は、通常、同時に２つの出入口が開かない構造を具備する。このことにより、洗浄室の汚染や塵芥が前室Ａに侵入しない傾向が向上することから好ましい。具体的には２つの出入口に防爆タイプのインターロックを装備したり、警告灯、音声警告などで同時に開放しないように注意喚起をする構造などが挙げられる。
【００１１】
操作室は、図１中において２−１、２−２及び２−３に示されている。操作室は図に示したように前室Ａとは異なる位置で出入口などを介して連通されている。
操作室では、食品の場合には、例えば、食品の製造、充填、包装などの操作が行われ、医薬品製造の場合は、例えば、反応、分離、精製、充填、包装などの操作が行われ、電子部品製造の場合は、操作室に電子部品製造装置を具備させて、電子部品を製造、運搬、包装などの操作が行われる。例えば、電子部品製造の一種である集積回路製造の場合、レジストの塗布、除去などのように電子部品製造の際に洗浄工程が含まれる場合、洗浄室とは別に洗浄設備が具備されていてもよい。
【００１２】
操作室は、操作のみならず、倉庫などとして用いられていてもよい。
操作室の圧力は、洗浄室よりも高く、前室Ａよりも低く設定される。具体的には、設備の大きさ、出入口の大きさ、前室Ａの圧力によっても異なるが、通常、２１〜３９Ｐａ程度に設定される。かかる圧力条件を満足していれば、複数の操作室については、圧力が同一でも異なっていてもよい。
操作室は、通常、清浄空気を前室Ａから供給されるが、別途、清浄空気供給口が具備されていてもよい。
さらに、反応などによって生じる汚染や塵芥を除去するために、操作室に塵芥除去装置が具備されていてもよい。
【００１３】
図２の如く、洗浄室と操作室との間に前室Ｂが具備され、出入口などで連通していることが好ましい。このことにより、洗浄室からの塵芥や汚染が操作室に一層、侵入しにくい傾向があることから好ましく、また、操作室を一層多く具備させても洗浄室及び前室を集約することができることから、簡便な設備を実現することができる。
本発明の実施の一態様である図２において、前室Ｂは、洗浄室とは出入口７を介して連通し、操作室２−１、２−２及び２−３とは、それぞれ別の出入口８を介して連通している。
前室Ｂの圧力は、洗浄室よりも高く、操作室よりも低く設定される。具体的には、設備の大きさ、出入口の大きさ、操作室の圧力によっても異なるが、通常、大気圧よりさらに１〜３０Ｐａ程度、好ましくは、１０〜２０Ｐａ程度加圧される。
前室Ｂは、通常、清浄空気を操作室から供給されるが、別途、清浄空気供給口が具備されていてもよい。
前室Ｂは、外部との出入口６が具備されていてもよい。外部から搬入された人や物品は、洗浄室に運ばれて、適宜、洗浄される。
前室Ｂと操作室との出入口８、及び前室Ｂと洗浄室との出入口７は、通常、同時に２つの出入口が開かない構造を具備する。このことにより、洗浄室の汚染や塵芥が前室Ｂに侵入しない傾向が向上することから好ましい。具体的には２つの出入口に防爆タイプのインターロックを装備したり、警告灯、音声警告などで同時に開放しないように注意喚起をする構造などが挙げられる。
【００１４】
洗浄室、前室Ａ、前室Ｂ及び操作室の圧力は、通常、各室に圧力センサが具備され、その圧力センサに基づいて、前室Ａの清浄空気供給口の清浄空気供給量及び／又は洗浄室の塵芥除去装置の排気量が適宜、変更されて、前記した圧力条件が維持される。洗浄室はほぼ大気圧であることから、前室Ｂと操作室との間、及び前室Ａと操作室との間に導圧管を設置し、前室と操作室間で圧力測定及び圧力調整してもよい。
前室Ａ及びＢは、通常、圧力調整が自動でできるようにダンパーが設置されている。
【００１５】
操作室間は、通常、壁などで仕切られており、このことにより、汚染は他の操作室に拡散しない。なお、例えば、操作室２−１の汚染を操作室２−２が受容できるのであれば操作室２−１と２−２は出入口が設けられていてもよい。
操作室間に前室を設置し、該前室が汚染を除去できる設備が具備されていれば、該前室を介して操作室間を連通させてもよい。
【００１６】
出入口の扉は、操作室の圧力を維持するため密閉性が確保されていればよく、例えば、エアタイトドア、観音開き型ドア、引き戸などが挙げられる。中でもエアタイトドアが密閉性に優れることから好ましい。
【００１７】
図２の如く、洗浄室、前室Ａ及び前室Ｂは一直線の限定されず、図３の如く、Ｌ字型に配置されていてもよい。
図４は前室Ａ及びＢが廊下のように操作室全てと洗浄室とを連接している場合を示した。もちろん、図４のように操作室は３個に限定されず、前室Ａ及びＢを延長してさらに操作室を増加させてもよい。
図５は、前室Ｂを外周部に、前室Ａを中央部に設置し、洗浄室、操作室をその間に設置する例を示した。もちろん、前室Ｂが中央部で前室Ａが外周部であってもよいし、洗浄室は他の操作室の位置にあってもよい。
【００１８】
図１〜５は、洗浄室、前室Ａ、前室Ｂ及び操作室を平面で表したが、図６のように立体的に、連通されていてもよい。図６の如く、１階に洗浄室を設置し、前室Ａ及びＢを異なるエレベータ（図示）あるいは階段室（図示せず）とし、２階を操作室とするような、複数階の建屋構造に、洗浄室、前室Ａ、前室Ｂ及び操作室を配置し、室間をエレベータあるいは階段等により連通させてもよい。
【００１９】
本発明では、洗浄室、前室Ａ、前室Ｂ及び操作室が壁により隣接した態様を示したが、室間の出入口を廊下で結ぶような態様でもよい。
【産業上の利用可能性】
【００２０】
本発明の設備は、半導体、液晶表示装置などの電子部品、医薬品、農薬品、電子工業薬品などの工業化学品、食品等の清浄な場での製造設備に用いることができる。特に、ＧＬＰ（Good Laboratory Practice）やＨＡＣＣＰ（Hazard Analysis Critical ControlPoints）などのように、厳しい管理が定められている医薬品や食品の製造設備に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の設備の概略図
【図２】さらに前室Ｂを具備する設備の概略図
【図３】図２とは異なる前室Ｂを具備する設備の概略図
【図４】図２及び３とは異なる前室Ｂを具備する設備の概略図
【図５】図２から４のいずれとも異なる前室Ｂを具備する設備の概略図
【図６】立体的な関係で連通している本発明の設備の概略図
【符号の説明】
【００２２】
Ａ：前室Ａ
Ｂ：前室Ｂ
１：洗浄室
２−１：操作室
２−２：操作室
２−３：操作室
２−４：操作室
３：洗浄室と操作室との出入口
４：洗浄室と前室Ａとの出入口
５：前室Ａと操作室との出入口
６：外部との出入口
７：洗浄室と前室Ｂとの出入口
８：操作室と前室Ｂとの出入口
±０：ほぼ大気圧であることを意味する。
＋：大気圧に約１５Ｐａ加圧されていることを意味する。
＋＋：大気圧に約３０Ｐａ加圧されていることを意味する。
＋＋＋：大気圧に約４５Ｐａ加圧されていることを意味する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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