(57)【要約】【課題】  短時間でエラーを検出して無駄時間を大幅に短縮することのできるレチクル製造システム及び製造方法の提供を目的とする。【解決手段】  第１データ変換装置で変換を行うに先立ち、ＣＡＤデータを描画データに変換するための準備を行い、第２データ変換装置で変換を行うに先立ち、ＣＡＤデータを検査データに変換するための準備を行い、第１データ変換装置における第１処理ログを記録し、第２データ変換装置における第２処理ログを記録し、この第１処理ログと第２処理ログを比較し、準備処理が正しく行われていると判断したときに、第１データ変換装置及び第２データ変換装置におけるＣＡＤデータの変換処理を実行するようにした。【選択図】  図１
2006058406.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクル設計データであるＣＡＤデータを描画データに変換するとともに、前記ＣＡＤデータを検査データに変換し、前記描画データから作成したレチクルを前記検査データを使って検査するレチクル製造システムにおいて、
前記第１データ変換装置に設けられ、前記ＣＡＤデータを前記描画データに変換する第１変換部と、
この第１変換部で変換を行うに先立ち、前記ＣＡＤデータを描画データに変換するための準備処理を行う第１準備処理部と、
前記第２データ変換装置に設けられ、前記ＣＡＤデータを前記検査データに変換する第２変換部と、
この第２変換部で変換を行うに先立ち、前記ＣＡＤデータを検査データに変換するための準備処理を行う第２準備処理部と、
前記第１準備処理部の準備処理の内容を記録する第１準備処理記録部と、
前記第２準備処理部の準備処理の内容を記録する第２準備処理記録部と、
前記第１準備処理記録部及び前記第２準備処理記録部に記録された前記準備処理の内容を比較し、比較の結果、準備処理が正しく行われていると判断したときに、前記第１変換部及び前記第２変換部における前記ＣＡＤデータの変換を許可する比較判断部と、
を有することを特徴とするレチクル製造システム。
【請求項２】
前記準備処理の内容が、前記描画データ及び前記検査データに変換するための準備処理のログファイルであることを特徴とする請求項１に記載のレチクル製造システム。
【請求項３】
前記比較判断部には、前記ログファイルがテキスト形式で入力され、このテキスト形式の前記ログファイルを比較することにより前記準備処理が正しく行われているかどうかを判断することを特徴とする請求項２に記載のレチクル製造システム。
【請求項４】
前記第１準備処理部、前記第２準備処理部、前記第１準備処理記録部、前記第２準備処理記録部、前記比較判断部、前記第１変換部及び前記第２変換部を共通のデータ変換装置内に設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のレチクル製造システム。
【請求項５】
前記比較判断部が、前記準備処理が正しく行われていないと判断したときに、比較結果を前記第１準備処理部及び／又は前記第２準備処理部に送信して準備処理の見直しを促す機能を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のレチクル製造システム。
【請求項６】
レチクル設計データであるＣＡＤデータをデータ変換装置で描画データと検査データに変換し、前記描画データから作成したレチクルを前記検査データを使って検査するレチクルの製造方法において、
前記データ変換装置で変換を行うに先立ち、前記ＣＡＤデータを描画データに変換するための準備処理を行うステップと、
前記データ変換装置で変換を行うに先立ち、前記ＣＡＤデータを検査データに変換するための準備処理を行うステップと、
前記描画データに変換するための準備処理における第１処理ログをデータベースに記録するステップと、
前記検査データに変換するための準備処理における第２処理ログをデータベースに記録するステップと、
前記データベースに記録された第１処理ログと第２処理ログとを比較するステップと、
この比較の結果、準備処理が正しく行われていると判断したときに、前記データ変換装置における前記ＣＡＤデータの変換処理を実行するステップと、
を有することを特徴とするレチクルの製造方法。
【請求項７】
前記第１処理ログ及び前記第２処理ログがテキスト形式で作成され、テキスト形式の前記第１処理ログと前記第２処理ログとを比較することで前記準備処理が正しく行われているかの判断を行うことを特徴とする請求項６に記載のレチクルの製造方法。
【請求項８】
前記準備処理の内容を比較した結果、前記準備処理が正しく行われていないと判断したときに、前記描画データに変換するための準備処理のステップ及び／又は前記検査データに変換するための準備処理のステップに戻り、前記準備処理のやり直しを促すステップをさらに有することを特徴とする請求項６又は７に記載のレチクルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路装置の製造に使用するレチクル等のフォトリソグラフィ工程用のマスクを製造する製造システム及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路装置製造工程として欠かせないフォトリソグラフィ工程においては、一般的に、石英ガラス基板等の光を透過する基板上にクロム等の遮光材料で所望の半導体集積回路の設計パターンを描画したレチクルと称されるマスクを原版として用いている。現在のフォトリソグラフィ技術においては、このレチクル上に描画された回路パターンを、フォトレジストを塗布した半導体ウエハ上に、４分の１〜５分の１に縮小露光して転写する方法が一般的である。
【０００３】
図４は、本発明の従来例にかかり、上記した一般的なレチクルの製造工程を説明する模式図である。
半導体集積回路設計図等のＣＡＤデータ１０１は、第１データ変換装置１０２において電子ビーム（ＥＢ）描画データ１０３にデータ変換される。このＥＢ描画データ１０３はＥＢ描画装置１０４に入力され、ＥＢ描画装置１０４は、この入力されたＥＢ描画データ１０３に基づいて描画前レチクル１０５に回路パターン等の図形パターンを描画し、描画済みレチクル１０６を製造する。
【０００４】
この描画済みレチクル１０６は現像されて現像済みレチクル１０７となり、ＣＡＤデータ１０１を正しく転写したパターンが形成されているか否か、レチクル検査装置１１０において検査される。一方、ＣＡＤデータ１０１は、第２データ変換装置１０８において検査データ１０９にデータ変換される。この検査データ１０９は、レチクル検査装置１１０に入力され、現像済みレチクル１０７に描画された図形パターンにエラーがないことを検査するために用いられる。この検査によって、現像済みレチクル１０７に正しく図形パターンが形成されていることが確認されると、この現像済みレチクル１０７は良品判定を受け、検査済みレチクル１１１となる。
【０００５】
上記の製造工程では、レチクル検査装置１１０での検査工程において現像済みレチクル１０７に欠陥（エラー）が検出されると、この欠陥が第１データ変換装置１０２又は第２データ変換装置による変換エラーに起因するものであるのか、描画工程若しくは現像工程における製造欠陥であるのかを判別することは極めて困難であった。
また、上記製造工程では、第１データ変換装置又は第２データ変換装置による変換エラーが発生した場合も、そのまま描画工程及び現像工程を経てレクチルが製造されることになり、検査工程で初めてエラーとして検出されて不良とされることになる。
ところが、ＥＢ描画装置はレチクル検査装置１１０と同様に高価な装置であり、有効稼働率の向上が重視されるにも関わらず、データ変換エラーを含んだＥＢ描画データによる誤ったレチクル描画のために稼働させることは、製造コストを著しく増大させる要因となる。さらに、エラーのあるＥＢ描画データにより製造されたレチクルも無駄になってしまうという問題があった。
【０００６】
そこで、特許文献１に記載の技術では、データ変換後にＥＢ描画データと検査データとをデータ検証装置で比較して、データ変換エラーの有無を検証するようにし、この検証の結果、正しく変換されたものについてのみＥＢ描画装置及び現像装置を経てレチクルを製造するようにしている。
【特許文献１】特開２００４−０９４０４４号公報（明細書の［００２４］の記載及び図面の図１）
【０００７】
この文献に記載の製造工程を、図５に模式的に示す。なお、この図においては、図４と同一の部位には同一の符号を付し、詳しい説明は省略する。
図示するように、この特許文献１に記載のレチクル製造工程では、ＥＢ描画データ１０３及び検査データ１０９はデータ検証装置１１２に入力される。このデータ検証装置１１２は、入力されたＥＢ描画データ１０３と検査データ１０９とに含まれる図形パターンに関する情報を比較することによって、第１データ変換装置１０２及び第２データ変換装置１０８においてデータ変換が正しく行われたか否かを判断する。
データ検証装置１１２で、ＥＢ描画データ１０３がＣＡＤデータ１０１を正しくデータ変換したデータであることが判断されると、ＥＢ描画装置１０４での描画済みレチクル１０６の製造が許可される。逆に、データ変換にエラーがあると判断されると、ＥＢ描画装置１０４での描画済みレチクル１０６の製造は行われない。
【０００８】
この特許文献１に記載の技術によれば、ＥＢ描画装置１０４における描画処理及びレチクル検査装置１１０における検査処理前にデータのエラーを検出することが可能になるという利点はある。しかし、第１及び第２データデータ変換装置１０２，１０８での変換作業を完了させる必要があり、かつ、この変換処理には長時間を要することから、エラーが検出されるとこの変換処理そのものが無駄になってしまい、大きな無駄時間を生じるという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記の問題点にかんがみてなされたもので、描画処理あるいは検査処理前にデータのエラーを検出することを可能にするとともに、データ変換作業を完了させることなく短時間でエラーを検出することができ、エラー発生時の無駄時間を大幅に短縮することができ、エラーを含むレチクルの製造を未然に防止することのできるレチクル製造システム及びレチクル製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の発明者が鋭意研究を行った結果、ＣＡＤデータを描画データ及び検査データに変換するに先立つ準備段階でエラーが発生しているか否かを判断するようにすることで、上記課題を解決できることに想到した。
具体的に、本発明のレチクル製造システムは、請求項１に記載するように、レチクル設計データであるＣＡＤデータを描画データに変換するとともに、前記ＣＡＤデータを検査データに変換し、前記描画データから作成したレチクルを前記検査データを使って検査するレチクル製造システムにおいて、前記第１データ変換装置に設けられ、前記ＣＡＤデータを前記描画データに変換する第１変換部と、この第１変換部で変換を行うに先立ち、前記ＣＡＤデータを描画データに変換するための準備処理を行う第１準備処理部と、前記第２データ変換装置に設けられ、前記ＣＡＤデータを前記検査データに変換する第２変換部と、この第２変換部で変換を行うに先立ち、前記ＣＡＤデータを検査データに変換するための準備処理を行う第２準備処理部と、前記第１準備処理部の準備処理の内容を記録する第１準備処理記録部と、前記第２準備処理部の準備処理の内容を記録する第２準備処理記録部と、前記第１準備処理記録部及び前記第２準備処理記録部に記録された前記準備処理の内容を比較し、比較の結果、準備処理が正しく行われていると判断したときに、前記第１変換部及び前記第２変換部における前記ＣＡＤデータの変換を許可する比較判断部とを有する構成としてある。
【００１１】
上記構成のレチクル製造システムによれば、ＣＡＤデータを描画データに変換するための準備処理を行う第１準備処理部の処理の内容と、ＣＡＤデータを検査データに変換するための準備処理を行う第２準備処理部の処理の内容とが比較判断部で比較される。そして、例えば両者が一致する場合には準備処理が正しく行われていると判断して実際の変換処理を許可する。
そのため、長時間を要する変換処理の前にエラーを検出することが可能になり、エラーの場合にその後の変換処理等を中止することで、無駄時間を最小に抑制することができる。まだ、不良レチクルを製造する無駄も省くことができる。
【００１２】
前記した処理の内容としては、例えば、請求項２に記載するように、前記描画データ及び前記検査データに変換するための準備作業のログファイルとするとよい。そして、請求項３に記載するように、前記ログファイルのデータ形式としてテキスト形式を選択することで、比較データの容量を小さくすることができ、比較・判断に要する時間も短くすることができる。
請求項４に記載するレチクル製造システムでは、前記第１準備処理部、前記第２準備処理部、前記第１準備処理記録部、前記第２準備処理記録部、前記比較判断部、前記第１変換部及び前記第２変換部を共通のデータ変換装置内に設けた構成としてある。
このようにすることで、共通のシステム上で準備処理が正しく行われたか否かの判断を行うことが可能になり、システムの小型化も図ることができる。
上記のレチクル製造システムにおいては、比較判断部でエラーと判断したときに、アラーム等で報知するようにしてもよいが、請求項５に記載するように、エラーと判断したときには、比較結果を前記第１準備処理部及び／又は前記第２準備処理部にフィードバックして、準備処理の内容の見直しを促すようにしてもよい。
【００１３】
本発明のレチクル製造方法は、請求項６に記載するように、レチクル設計データであるＣＡＤデータをデータ変換装置で描画データと検査データに変換し、前記描画データから作成したレチクルを前記検査データを使って検査するレチクルの製造方法において、前記データ変換装置で変換を行うに先立ち、前記ＣＡＤデータを描画データに変換するための準備処理を行うステップと、前記データ変換装置で変換を行うに先立ち、前記ＣＡＤデータを検査データに変換するための準備処理を行うステップと、前記描画データに変換するための準備処理における第１処理ログをデータベースに記録するステップと、前記検査データに変換するための準備処理における第２処理ログをデータベースに記録するステップと、前記データベースに記録された第１処理ログと第２処理ログとを比較するステップと、この比較の結果、準備処理が正しく行われていると判断したときに、前記データ変換装置における前記ＣＡＤデータの変換処理を実行するステップとを有する方法としてある。
【００１４】
この場合、請求項７に記載するように、テキスト形式の前記第１処理ログと前記第２処理ログの比較を行って準備処理が正しく行われているかの判断を行うようにしてもよく、また、請求項８に記載するように、前記準備処理の内容を比較した結果、前記準備処理が正しく行われていないと判断したときに、前記描画データに変換するための準備処理のステップ及び／又は前記検査データに変換するための準備処理のステップに戻り、前記準備処理のやり直しを促すステップをさらに設けてもよい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、データ変換を行うに先立つ準備処理でエラーを検出することができるので、エラーがある場合に無駄な変換処理や、無駄なレチクルの製造を行うことがない。すなわち、エラーがある場合において、レチクルの製造工程で多大な時間を占めているデータ変換処理、描画処理及び検査処理が実行されず、無駄時間を大幅に抑制することができるとともに、エラーを含む無駄なレチクルの製造を防止することができる。
さらに、エラーが発生した場合に見直しを行う際にも、フィードバックの際の工数や時間を必要最小限に抑制することができる。
【００１６】
また、本発明においては、準備処理の内容としてテキスト形式の処理ログを用いることで、比較データの容量を小さくし、比較・判断に要する時間を短くすることができる。
さらに本発明では、従来から実施されている工程の処理ログを利用し、処理の比較・判断を自動化することで、新たな作業工程を発生させることなく、従来作業者が手作業で行っていた変換前の準備処理の際の確認ミスを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の好適な実施形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
［第一の実施形態］
図１は、本発明の第一実施形態にかかるレチクル製造システムにかかり、その構成を説明するブロック図である。
この実施形態におけるレチクル製造システムの基本構成は、図４に示すレチクル製造システムと同じである。入力データ作成部１には、レチクル設計データであるＣＡＤデータが格納されているＣＡＤデータベース１ａが設けられている。入力データ作成部１は、このＣＡＤデータベース１ａに記録されたＣＡＤデータと、ＣＡＤデータの配置情報などが記述された描画データ出力指示書又はマスク製作仕様書とから構成される設計データ等の入力データを作成する。
【００１８】
第１データ変換装置２は、前記ＣＡＤデータを描画パターン等の描画データに変換し、第２データ変換装置３は、ＣＡＤデータを検査データに変換する。
変換された描画データが描画データベース５に記録され、変換された検査データは検査データベース９に記録される。そして、描画データに基づいて描画前レチクル１１上に図形パターンを描画し、描画済みレチクル１３を製造する描画装置７と、描画済みレチクルを現像して現像済みレチクルを製造する現像装置８と、検査データを使って現像済みレチクルの検査を行う検査装置１０とを有している。
【００１９】
第１データ変換装置２には、ＣＡＤデータ１に含まれる図形パターンに対して、ＣＡＤデータベース１から送信された指示書に基づいて回転、拡大及び縮小並びに膨張及び収縮等の変換処理及びフォーマット変換を施すための変換条件設定などの準備処理を行う第１準備処理部２ａと、この第１準備処理部２ａにおける準備処理の内容をテキスト形式の処理ログとして記録する第１処理ログ記録部２ｂと、ＣＡＤデータを描画データに変換する第１変換部２ｃとが設けられている。
【００２０】
第２データ変換装置３には、ＣＡＤデータ１に含まれる図形パターンに対して、指示書に基づいて回転、拡大及び縮小並びに膨張及び収縮等の変換処理及びフォーマット変換を施す為の変換条件設定などの準備処理を行う第２準備処理部３ａと、この第２準備処理部３ａにおける準備処理の内容をテキスト形式の処理ログとして記録する第２処理ログ記録部３ｂと、ＣＡＤデータを描画データに変換する第２変換部３ｃとが設けられている。
【００２１】
そして、第１データ変換装置２の第１処理ログ記録部２ｂと第２データ変換装置３の第２処理ログ記録部３ｂとから、回転、拡大及び縮小並びに膨張及び収縮等の変換条件を指定する過程に関する情報（処理ログ）を受け取り、これらを比較することにより、第１データ変換装置２と第２データ変換装置３においてデータ変換準備処理が正しく行われたかどうかを判断する比較判断部４が設けられている。この比較判断部４は、両者の処理結果が一致する場合には、準備処理が正しく行われたと判断し、第１変換部２ｃ及び第２変換部３ｃでの変換処理を許可する。両者が一致しない場合には、準備処理が正しく行われていないと判断して、その結果を第１及び第２準備処理部２ａ，３ａにフィードバックし、準備処理の見直しを促す。
【００２２】
図２は、本発明の第一実施形態にかかるレチクル製造方法を説明するフローチャートである。
なお、以下の説明では、図１のレチクル製造システムを適宜に参照するものとする。
レチクル設計データであるＣＡＤデータとその配置情報などが記載された指示書とから入力データが指示作成装置１で作成され、第１データ変換装置２及び第２データ変換装置３に送信される（ステップＳ１）。
【００２３】
第１データ変換装置２の第１準備処理部２ａでは、入力データに基づき、回転、拡大及び縮小並びに膨張及び収縮等の変換処理及びフォーマット変換を施すための変換条件設定などの準備処理を行う（ステップＳ２）。
準備処理の内容は、第１処理ログ記録部２ｂに処理ログとして記録される（ステップＳ３）。
一方、第２データ変換装置３においても、入力データに基づき準備処理が行われ（ステップＳ４）、準備処理の内容が、第２処理ログ記録部３ｂに処理ログとして記録される（ステップＳ５）。
【００２４】
比較判断部４では、第１処理ログ記録部２ｂ及び第２処理ログ記録部３ｂに含まれる、回転、拡大及び縮小並びに膨張及び収縮等の変換条件を指定する過程（処理ログ）を比較し（ステップＳ６）、第１準備処理部２ａと第２準備処理部３ａにおける処理の内容を比較し、一致するかどうかを判断する（ステップＳ７）。
両者が一致しない場合には、比較判断部４は、第１準備処理部２ａ及び第２準備処理部３ａにおける準備処理が正しく行われていないと判断して、ステップＳ２及びステップＳ４にフィードバックし、準備処理の見直しを促す。
【００２５】
両者が一致する場合には、比較判断部４は第１準備処理部２ａ及び第２準備処理部３ａにおける準備処理が正しく行われたと判断して、実際の変換処理を許可する。以後、第１変換部２ｃにおいてＣＡＤデータが描画データに変換され（ステップＳ９）、第２変換部３ｃにおいてＣＡＤデータが検査データに変換される（ステップＳ１０）。
変換された描画データは描画データベース５に記録され、変換された検査データは検査データベース９に記録される。
【００２６】
次いで、描画データベース５に記録された描画データと描画前レチクルデータベース６に記録された描画前レチクルとを準備し（ステップＳ１１）、描画装置７に入力する。なお、描画装置７に入力される前記描画データには、マスク作成のパターンである描画パターンと、この描画パターンをマスク上のどの位置にどのように描画するかを指示する描画ジョブとが含まれている。
描画装置７では、描画データに基づいて描画前レチクル上にＣＡＤデータで指定された回路パターンを描画して、描画済みレチクルを製造する（ステップＳ１２）。描画済みレチクルはこの後現像装置８に送られて現像済みレチクルが製造される（ステップＳ１３）。
【００２７】
この後、現像済みレチクルを検査装置１０に入力し、検査データベース９から検査データを読み出して、検査を行う（ステップＳ１４）。
検査装置１０では、検査データが検査データベース９から読み出され、検査データから参照画像を生成する。また、検査装置１０は、現像済みレチクルの表面から得られる情報から被検査画像を生成し、これと検査データから生成した前記の参照画像とを比較する。これにより、現像済みレチクル１５上にＣＡＤデータの情報通りの図形パターンが正しく形成されているか否かを判断する。
【００２８】
［第二の実施形態］
本発明のレチクル製造システム及び製造方法の第２実施形態を、図３を参照しながら説明する。
本発明における第１データ変換装置及び第２データ変換装置は、物理的に別体のものであってもよいし、一体のものであってもよい。
この第二の実施形態では、上記の実施形態で別々に説明した第１データ変換装置と第２データ変換装置とを一体にしたデータ変換装置２′としている。
【００２９】
すなわち、この実施形態では、ＣＡＤデータを描画データに変換するための準備を行う第１準備処理部、検査データに変換するための準備を行う第２準備処理部、第１及び第２準備処理部におけるそれぞれの処理ログの記録を行う第１及び第２処理ログ記録部、描画データへの変換を行う第１変換部及び検査データへの変換を行う第２変換部は、一つのデータ変換装置２′内に収容されている。
【００３０】
このように描画データ及び検査データの変換システムを統合することにより、共通のシステム上で準備処理が正しく行われたか否かの判断を行うことが可能になり、システムの小型化も図ることができる。また、判断結果がエラーであった場合には、自動的にデータ変換準備処理にフィードバックすることが可能になる。さらに、入力データ作成部１で作成された入力データを複数装置に入力させる必要が無くなることから、ファイルの冗長性がなくなり、データ保存領域の削減や、データのコピー転送などの時間が節約できるという点で有利である。
比較判断部４でデータ変換準備処理が正しいと判断された場合の以後の処理は、先の実施形態と同じである。
【００３１】
本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。
例えば、上記の説明では、第１準備処理部２ａ及び第１処理ログ記録部２ｂが第１データ変換装置２に含まれ、第２準備処理部３ａ及び第２処理ログ記録部３ｂが第２データ変換装置３に含まれるものとして説明したが、これらは第１データ変換装置２の第１変換部２ｃや第２データ変換装置の第２変換部３ｃよりも工程の上流側に設けられていればよく、必ずしもこれらデータ変換装置に含まれてる必要はない。データ変換装置と別体に設けられていてもよい。
【００３２】
また、上記の説明では、比較判断部４の判断結果を第１準備処理部２ａや第２準備処理部３ａにフィードバックしているが、必ずしも判断結果をフィードバックする必要はなく、エラーと判断したときに、作業者にアラーム等で報知するだけであってもよい。
またさらに、上記の実施形態においては、入力データ作成部１から入力されるＣＡＤデータのデータフォーマットが描画装置のデータフォーマットと異なることを前提としているが、本発明は、ＣＡＤデータのデータフォーマットと描画装置のデータフォーマットが同一の場合にも適用が可能である。この場合は、準備処理で上記の比較・判断を行った後、描画データへの変換を行うことなく、そのまま描画装置に入力するようにすればよい。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
本発明のレチクルの製造システム及び製造方法は、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦ及びＡｒＦ等の従来の短波長光源によるフォトリソグラフィ技術に使用されるマスクとしてのレチクルだけではなく、ＶＵＶ及びＥＵＶ等の極短波長紫外線領域の光源によるフォトリソグラフィ技術並びにＸ線及びＥＢ等の紫外線以外の光源によるフォトリソグラフィ技術に使用されるマスクにも適用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の第一の実施形態にかかるレチクル製造システムにかかり、その構成を説明するブロック図である。
【図２】本発明の第一の実施形態にかかるレチクル製造方法を説明するフローチャートである。
【図３】本発明の第二の実施形態にかかるレチクル製造システム及び製造方法を説明するブロック図である。
【図４】本発明の従来例にかかり、レチクルの製造工程を説明する模式図である。
【図５】本発明の従来例にかかり、特許文献１に記載されたレチクルの製造工程を説明する模式図である。
【符号の説明】
【００３５】
１    入力データ作成部
２    第１データ変換装置
２ａ  第１準備処理部
２ｂ  第１処理ログ記録部（第１準備処理記録部）
２ｃ  第１変換部
３ａ  第２準備処理部
３ｂ  第２処理ログ記録部（第２準備処理記録部）
３ｃ  第２変換部
４    比較判断部
５    描画データベース
６    描画前レチクル用データベース
７    描画装置
８    現像装置
９    検査データベース
１０  検査装置
【図１】
2006058406.tif 000003
【図２】
2006058406.tif 000004
【図３】
2006058406.tif 000005
【図４】
2006058406.tif 000006
【図５】
2006058406.tif 000007