(57)【要約】【課題】  金属膜と着色層との密着性を向上させることにより、着色層の欠落による表示不良の発生を防止することができる電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】  パターニングされた金属膜及び当該パターニングされた金属膜上に積層された着色層を含む基板と、当該基板によって保持された電気光学材料と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、基板上に、クロム、タンタル、タングステンのうちの少なくとも一つの金属材料を積層する工程と、金属材料を、所定形状にパターニングされたレジスト材料を介してエッチング処理することにより、パターニングされた金属膜を形成する工程と、当該パターニングされた金属膜上のレジスト材料を、濃硫酸を用いて剥離する工程と、パターニングされた金属膜が形成された基板を８０〜２５０℃の範囲内の温度で熱処理する工程と、金属膜を含む基板上に着色層を形成する工程と、を含む。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターニングされた金属膜及び当該金属膜上に積層された着色層を含む基板と、当該基板によって保持された電気光学材料と、を含む電気光学装置の製造方法であって、
前記基板上に、クロム、タンタル及びタングステンのうちの少なくとも一つの金属材料を積層する工程と、
前記金属材料を、所定形状にパターニングされたレジスト材料を介してエッチング処理することにより、前記パターニングされた金属膜を形成する工程と、
当該パターニングされた金属膜上のレジスト材料を、濃硫酸を用いて剥離する工程と、
前記パターニングされた金属膜が形成された基板を８０〜２５０℃の範囲内の温度で熱処理する工程と、
前記金属膜を含む基板上に着色層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記基板の熱処理時間を５〜４５分の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記パターニングされた金属膜が、遮光膜、光反射膜又は電極であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記着色層を形成する前に、前記パターニングされた金属膜の表面に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を塗布することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記パターニングされた金属膜の厚さを１〜５μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記濃硫酸の濃度を８０％以上の値とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記濃硫酸を用いてレジスト材料を剥離する際に、当該レジスト材料を積層した基板を濃硫酸中に浸漬させるか、あるいは濃硫酸をシャワーすることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記濃硫酸を用いてレジスト材料を剥離する際に、振動を付与することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法に関する。特に、遮光膜等の無機材料からなる金属膜と有機材料からなる着色層との密着性を向上させることにより、着色層の欠落による表示不良の発生を防止することができる電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気光学装置の一態様である液晶表示装置として、カラー型の液晶表示装置がある。かかるカラー型の液晶表示装置は、対向配置される一対の基板の双方に形成した複数の電極を平面的に重ねることによって、ドットマトリクス状に配列された複数の画素を形成している。そして、それぞれの画素に印加する電圧を選択的にオン、オフさせることによって、当該画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、画像や文字等の像を表示するものである。
【０００３】
ここで、表示される画像をカラー表示とするために、液晶表示装置を構成するいずれかの基板上に、有機材料からなるＲＧＢの着色層が、画素領域に対応してそれぞれ形成されている。
また、着色層が形成される基板上における画素間領域には、画像表示のコントラスト性を高めるべく、隣接する画素間における混色を防止するために、クロム等の無機金属材料からなる遮光膜が形成される場合がある。さらに、消費電力量を低く抑えるべく、部分的又は全面的に反射型表示を可能とするために、アルミニウム等の金属材料からなる光反射膜が形成される場合がある。
そして、基板の構成上、これらの遮光膜や光反射膜と直接接するように着色層が積層される場合には、これらの無機材料からなる金属膜と有機材料からなる着色層との間の密着性が比較的低いために、着色層のカケやハガレ等の欠落が生じる場合があった。かかる場合には、当該欠落部分を介して、遮光膜や光反射膜等の金属膜と、着色層上に積層された透明電極と、の間でショートが発生するという問題があった。
【０００４】
このような問題を解決するために、着色層の欠落部分を原因として、ショートが発生した場合であっても、液晶材料の駆動に支障が生じないようにした液晶表示装置用カラーフィルタが提案されている。
より具体的には、図１１に示すように、基板６１１上に、少なくとも金属薄膜の光反射膜６１２と、線状パターン又は矩形パターン等に規則的に配列された着色層６１３と、透明電極６１５と、をこの順に積層してなる反射型液晶表示用カラーフィルタにおいて、少なくとも金属薄膜の光反射膜６１２が、矩形パターンとしてパターニングされていて、かつ、当該光反射膜６１２は互いに電気的に独立している反射型液晶表示装置用カラーフィルタが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、液晶表示装置の製造方法における光反射膜等の形成方法として、アルカリ溶液に可溶なレジスト材料を用いたフォトリソグラフィが多用されている。
より具体的には、図１２に示すように、光反射膜７０２が全面的に形成された基板７０１上に透明導電層７０３を形成した後、所定のレジスト層７０４をマスクパターンとして、塩化第二鉄塩酸溶液等を用いて透明導電層７０３をパターニングする。次いで、所定のレジスト層７０４及びパターニングした透明導電層７０３をマスクパターンとして、所定濃度のアルカリ溶液を用い、光反射膜７０２をパターニングするとともに、所定のレジスト層７０４を同時剥離する方法が開示されている。
【特許文献１】特開平６−２３０３６４号公報  （特許請求の範囲、図１等）
【特許文献２】特開２００１−９１９４２号公報  （特許請求の範囲、図１等）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載されたカラーフィルタは、着色層の欠落によって、透明電極と光反射膜等の金属膜との間でショートが発生した場合であっても、液晶駆動に支障が生じないようにすることを目的としており、着色層の欠落自体を防止することについては何ら考慮されていなかった。したがって、例えば、隣接する画素領域同士が重なる箇所において、着色層の欠落が発生した場合には、当該重なる箇所を通過した光が着色されないために、カラー画像表示の認識性や、コントラスト性が低下するという問題が見られた。
また、特許文献２に記載された液晶表示装置の製造方法を用いた場合には、アルカリ現像において、所定のエッチング特性を発揮しなければならず、光反射膜等を構成する金属の種類が過度に制限されるという問題が見られた。さらに、アルカリ現像した場合、アルミニウム等の薄膜金属であっても残留しやすいばかりか、レジスト層の残留現象も見られた。したがって、それらの残留物に起因して、液晶表示装置におけるカラー画像表示の認識性や、コントラスト性が低下しやすいという問題も見られた。
【０００７】
そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、濃硫酸を用いてレジスト材料を剥離した後、パターニングされた金属膜を熱処理することにより、濃硫酸によって、レジスト材料や金属膜の残渣除去が十分に行なえるとともに、金属膜の表面における不動態化を促進させて、その上に着色層を形成した場合であっても優れた密着性が得られることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、電気光学装置の製造方法において、表面に不動態化部分を含む金属膜と、着色層との密着性を向上させることにより、着色層の欠落によるカラー画像表示の認識性低下や表示不良の発生を防止することができる電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、パターニングされた金属膜及び当該金属膜上に積層された着色層を含む基板と、当該基板によって保持された電気光学材料と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、基板上に、クロム、タンタル及びタングステンのうちの少なくとも一つの金属材料を積層する工程と、金属材料を、所定形状にパターニングされたレジスト材料を介してエッチング処理することにより、パターニングされた金属膜を形成する工程と、当該パターニングされた金属膜上のレジスト材料を、濃硫酸を用いて剥離する工程と、パターニングされた金属膜が形成された基板を８０〜２５０℃の範囲内の温度で熱処理する工程と、金属膜を含む基板上に着色層を形成する工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法が提供され上述した問題を解決することができる。
すなわち、パターニングされた金属膜上に積層されたレジスト材料を、濃硫酸を用いて剥離処理することにより、レジスト材料や金属膜の残渣除去を十分に行なえるとともに、当該レジスト材料の剥離処理後に、パターニングされた金属膜を所定温度で熱処理することにより、パターニングされた金属膜の表面における不動態化を促進させることができる。したがって、レジスト材料を確実に剥離処理することができ、かつ、レジスト材料の剥離後に着色層を形成した場合であっても、表面に不動態化部分を含む金属膜と、着色層との間で優れた密着性が得られ、着色層の欠落によるカラー画像表示の認識性低下や表示不良の発生を有効に防止することができる。
なお、本発明においては、濃硫酸とは、濃度が８０％以上の硫酸を意味しており、より好ましくは濃度が９８％以上の硫酸であって、逆に言うと、含有水分量を所定以下の値に低下させた硫酸である。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、熱処理時間を５〜４５分の範囲内とすることが好ましい。
このように実施することにより、金属膜上に、不動態としての酸化膜を効率よく、かつ、確実に形成して、金属膜と着色層との密着性を効果的に向上させることができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、パターニングされた金属膜が、遮光膜、光反射膜又は電極であることが好ましい。
このように実施することにより、着色層の欠落による表示不良を効果的に防止しつつ、コントラスト性や、反射型表示における視認性に優れた画像表示を実現することができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、パターニングされた金属膜の表面に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を塗布することが好ましい。
このように実施することにより、金属膜と着色層との密着性をさらに向上させることができる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、パターニングされた金属膜の厚さを１〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、エッチング処理液あるいはレジスト剥離に用いる濃硫酸によって金属膜の一部に欠落部分が生じることを有効に防止することができるとともに、画素間領域や反射領域における遮光性を確保することができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、濃硫酸の濃度を８０％以上の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、濃硫酸によって金属膜が溶解することを防止することができる。すなわち、濃度が８０％未満の希硫酸では、クロム等の金属膜が溶解してしまう場合があるが、かかる濃硫酸を用いることにより、クロム等を溶解させることなく、酸化させることができる。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、濃硫酸を用いてレジスト材料を剥離する際に、当該レジスト材料を積層した基板を濃硫酸中に浸漬させるか、あるいは濃硫酸をシャワーすることが好ましい。
このように実施することにより、金属膜上のレジスト材料を容易に剥離することができるとともに、その他の異物についても確実に除去することができる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、濃硫酸を用いてレジスト材料を剥離する際に、振動を付与することが好ましい。
このように実施することにより、金属膜上のレジスト材料及び他の異物を、迅速に剥離又は除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置の製造方法に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００１７】
本実施形態は、図１にそのフローを示すように、パターニングされた金属膜及び当該金属膜上に積層された着色層を含む基板と、当該基板によって保持された電気光学材料と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、
基板上に、クロム、タンタル及びタングステンのうちの少なくとも一つの金属材料を積層する工程と、
金属材料を、所定形状にパターニングされたレジスト材料を介してエッチング処理することにより、パターニングされた金属膜を形成する工程と、
当該パターニングされた金属膜上のレジスト材料を、濃硫酸を用いて剥離する工程と、
パターニングされた金属膜が形成された基板を８０〜２５０℃の範囲内の温度で熱処理する工程と、
金属膜を含む基板上に着色層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
以下、図１〜図１０を適宜参照しながら、遮光膜（金属膜）３９及び着色層３７を有する第１の基板（カラーフィルタ基板）３０、及び第２の基板（素子基板）６０を備えた液晶表示装置の製造方法であって、遮光膜３９と着色層３７との密着性を向上させた液晶表示装置１０の製造方法を例に採って説明する。
なお、本発明の電気光学装置は、ＴＦＤ素子（Thin Film Diode）又はＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置や、あるいは、パッシブマトリクス構造の液晶表示装置のいずれであっても適用することができる。
【００１８】
１．第１の基板の全体概要及び製造工程
まず、液晶表示装置の一部を構成する第１の基板（カラーフィルタ基板と称する場合がある。）の全体概要及び製造工程について説明する。
【００１９】
（１）全体概要
第１の基板３０は、一例として、図２に示すように、ガラス基板等の透明基板３１上に、遮光膜３９、着色層３７、表面保護層４１、及び第１の電極３３、第１の配向膜４５を順次積層して構成される。
なお、本実施形態に係る電気光学装置を、例えば、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置とする場合には、第１の電極３３は走査電極を意味する。
そして、本発明によれば、遮光膜３９等の金属膜と着色層３７との密着性を向上させることができるために、着色層３７の欠落を防止して、画像の表示特性を向上させることができる。
【００２０】
（２）金属材料の塗布工程
まず、図３（ａ）に示すように、第１のガラス基板３１上の全面にクロム、タンタル及び、タングステン、のうちの少なくとも一つからなる金属材料３９Ｘをスパッタリング法等により積層する。
このとき、金属材料３９Ｘの厚さが１〜５μｍの範囲内の値となるように積層することが好ましい。この理由は、金属材料３９Ｘの厚さが１μｍ未満の値となると、遮光性が確保できずにコントラストが低下したり、後工程において、レジスト材料を濃硫酸を用いて剥離する際に、金属材料（遮光膜）３９に欠落部分が生じたりする場合があるためである。一方、金属材料３９Ｘの厚さが５μｍを超えると、基板表面を平坦化することができずに表示ムラとなったり、液晶表示装置の薄型化を図ることが困難になったりする場合があるためである。
【００２１】
（３）レジスト材料の塗布及び金属材料のエッチング処理工程
次いで、第１のガラス基板３１上に積層された金属材料３９Ｘ上に、レジスト材料を全面的に塗布するとともに、所定のパターンマスクを介して露光した後、現像することにより、図３（ｂ）に示すように、形成される遮光膜３９の形状に一致するようにレジスト材料１２５をパターニングする。
次いで、レジスト材料１２５に被覆されていない箇所の金属材料３９Ｘをエッチング処理することにより、図３（ｃ）に示すように、所定形状にパターニングされた金属膜からなる遮光膜３９を形成する。
ここで、かかる金属材料３９Ｘのエッチング処理は、フッ酸液、フッ化硫酸液等を用いたウェットエッチング法や、Ｏ2、ＣＦ4等のエッチングガスを用いたドライエッチング法により適宜行うことができる。
【００２２】
（４）レジスト剥離工程
次いで、図３（ｄ）に示すように、パターニングされた遮光膜３９上のレジスト材料１２５を、濃硫酸９０を用いて剥離する。すなわち、レジスト材料１２５を剥離するために、濃硫酸９０を用いることにより、効率よく分解剥離することができるとともに、第１のガラス基板３１上に付着した金属材料の残渣等の異物をも容易に除去することができる。
かかる濃硫酸９０は、濃度が８０％以上の硫酸であることが好ましい。この理由は、濃度の高い硫酸であれば、水をあまり含んでおらず電離ができないために弱酸性を示し、遮光膜３９を溶解することがないためである。一方、濃度が８０％未満の、強酸性を示す希硫酸を用いた場合には、例えば、金属材料３９Ｘとしてクロムを用いた場合に、当該クロムを溶解してしまい、遮光膜３９に欠落部分が生じる場合があるためである。
したがって、レジスト剥離に用いられる濃硫酸９０は、濃度が９０％以上の硫酸であることがより好ましく、濃度が９６％以上の濃硫酸であることがさらに好ましい。
【００２３】
ここで、図５（ａ）及び（ｂ）を参照して、レジスト剥離に用いる硫酸の濃度が、レジスト剥離性、及び後述する熱処理を施した金属膜と着色層との密着性に与える影響について説明する。なお、図５（ａ）は、横軸に硫酸の濃度（％）を示し、縦軸にレジスト剥離性（相対値）を示している。また、図５（ｂ）は、横軸に硫酸の濃度（％）を示し、縦軸に金属膜と着色層との密着性（相対値）を示している。
かかる図５（ａ）及び（ｂ）から、レジスト剥離に用いる硫酸の濃度が８０％以上であれば、所定のレジスト剥離性を示すとともに、硫酸の濃度が高くなるにしたがって、金属膜と着色層との密着性が徐々に向上することが理解できる。
【００２４】
また、レジスト材料１２５を剥離するにあたり、図６（ａ）に示すように、遮光膜３９及びレジスト材料１２５が積層された第１のガラス基板３１を、濃硫酸９０中に浸漬させることが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、レジスト材料３９に対して濃硫酸９０を確実に接触させて効率的に剥離することができるとともに、第１のガラス基板３１全体に付着した異物を除去することができるためである。
また、第１のガラス基板３１を濃硫酸９０中に浸漬させて、レジスト材料１２５を剥離する場合には、第１のガラス基板３１あるいは濃硫酸９０に対して超音波振動を付与しながら、実施することが好ましい。この理由は、レジスト材料１２５の剥離及び異物を除去する効率を著しく向上させることができるためである。
【００２５】
一方、レジスト材料１２５を剥離するにあたり、図６（ｂ）に示すように、レジスト材料１２５等が積層された第１のガラス基板３１を、濃硫酸９０を用いてシャワー洗浄することも好ましい。
この理由は、レジスト材料１２５に対して、所定の圧力を付与しながら濃硫酸９０を接触させることができるために、レジスト材料１２５を効率よく剥離させることができるためである。
また、第１のガラス基板３１を濃硫酸９０を用いてシャワー洗浄することにより、レジスト材料１２５を剥離する場合には、第１のガラス基板３１に対して超音波振動を付与しながら、実施することが好ましい。
この理由は、レジスト材料１２５の剥離及び異物の除去の効率を著しく向上させることができるためである。
【００２６】
（５）熱処理工程
次いで、図４（ａ）に示すように、パターニングされた金属膜からなる遮光膜３９が形成された第１のガラス基板３１を熱処理する。すなわち、レジスト材料１２５を剥離するために用いた濃硫酸９０が遮光膜３９上に付着している状態で熱処理することにより、濃硫酸９０が加熱され、酸化作用を発揮し、図４（ｂ）に示すように、遮光膜３９の表面において、全面的に又は部分的に、不動態としての酸化膜３９ａを形成することができる。したがって、遮光膜３９の表面状態が改質され、無機材料からなる遮光膜３９上に、有機材料からなる着色層３７を形成する場合であっても、密着性を著しく向上させることができる。よって、着色層のカケやハガレ等を有効に防止して、液晶表示装置等における表示不良の発生を有効に防止することができる。
【００２７】
また、熱処理温度を８０〜２５０℃の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、熱処理温度が８０℃未満の値となると、遮光膜の表面を酸化させることが不十分となり、効果が発現しない場合があるためである。一方、熱処理温度が２５０℃を超えると、遮光膜３９を溶解させてしまう場合があるためである。
したがって、熱処理温度を１００〜２３０℃の範囲内の値とすることがより好ましく、１２０〜２１０℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
ここで、図７に、熱処理温度と、熱処理を施した金属膜及び着色層の密着性と、の関係を示す。なお、図７は、横軸に熱処理温度（℃）を示し、縦軸に金属膜と着色層との密着性（相対値）を示している。かかる図７から、熱処理温度を８０℃以上とすることによって、所定の金属膜と着色層との密着性を得ることができ、中でも、約１５０℃を超えると、急激に密着性が向上することが理解できる。
なお、かかる熱処理工程は、第１のガラス基板３１の乾燥工程も兼ねている。
【００２８】
また、熱処理時間を５〜４５分の範囲内とすることが好ましい。
この理由は、熱処理時間が５分未満の値となると、遮光膜３９の表面を十分に酸化させることができない場合があるためである。一方、熱処理時間が４５分を超えると、遮光膜３９を過度に酸化させてしまい、欠落部分が生じる場合があるためである。
したがって、熱処理時間を１０〜３５分の範囲内の値とすることがより好ましく、１５〜３０分の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００２９】
（６）ＨＭＤＳ塗布工程
次いで、レジスト剥離工程の後工程として、図４（ｃ）に示すように、遮光膜３９の表面にヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）９１を塗布することが好ましい。
この理由は、無機材料からなる遮光膜３９の表面の濡れ性を向上させることができるために、有機材料からなる着色層との密着性をさらに向上させることができるためである。
なお、かかるヘキサメチルジシラザン９１の塗布方法としては、ノズル噴射、ハケ塗り等を適宜採用することができる。
【００３０】
（７）着色層の形成工程
次いで、図４（ｄ）に示すように、遮光膜３９上と一部重なるように、基板上に着色層３７を形成する。すなわち、画素領域を通過して視認される光を着色するとともに、遮光膜３９と着色層３７との間に間隙が生じて着色されない光が視認されることによるコントラストの低下を防止するためである。
かかる着色層は、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層３７を形成することができる。そして、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００３１】
また、かかる着色層３７は、通常、透明樹脂中に有機顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
そして、本発明の電気光学装置の製造方法においては、遮光膜３９表面に酸化膜３９ａが形成され、表面状態が改質されているために、有機材料からなる着色層３７と、無機の金属材料からなる遮光膜３９との間の密着性が向上されている。したがって、着色層３７のカケやハガレ等による色抜け等の表示不良が発生することを効果的に防止することができる。
【００３２】
（８）表面保護層及び第１の電極等の形成
次いで、第１の基板３０上の全面に渡って、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂等の、電気絶縁性樹脂から構成される透光樹脂層を、公知のスピンコート法や印刷法等を用いて塗布するとともに、フォトリソグラフィ法によりパターニングを施すことにより、表示領域Ａに限定された表面保護層４１を形成する。
次いで、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明性導電材料を用いて、フォトリソグラフィ法等により、所定形状にパターニングされた第１の電極を形成するとともに、ポリイミド樹脂等を用いて配向膜４５を形成することにより、第１の基板３０を製造することができる。
【００３３】
２．第２の基板の製造工程
次いで、液晶表示装置の一部を構成する第２の基板（素子基板あるいは対向基板と称する場合がある。）の製造工程について説明する。
かかる第２の基板６０は、一例として、図２に示すように、ガラス基板等の透明基板６１における表示領域Ａに、第２の電極（図示せず）、スイッチング素子（図示せず）、電気配線６５、表面保護層（図示せず）、第２の配向膜７５等を形成して構成される。なお、本実施形態に係る電気光学装置を、例えば、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置とする場合には、第２電極は画素電極を、スイッチング素子はＴＦＤ素子を、電気配線はデータ線を、それぞれ意味する。
【００３４】
まず、図８（ａ）〜図８（ｂ）に示すように、第２の基板のガラス基板６１上に、第１の金属膜７１´を形成する。この第１の金属膜７１´は、例えば、タンタルから構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。
また、第１の金属膜７１´の形成前に、第２のガラス基板６１に対する第１の金属膜７１´の密着力を著しく向上させることができるとともに、第２のガラス基板６１から第１の金属膜７１´への不純物の拡散を効率的に抑制することができることから、第２ガラス基板６１上に、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
【００３５】
次いで、図８（ｃ）に示すように、第１の金属膜７１´の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜７２を形成する。より具体的には、第１の金属膜７１´が形成されたガラス基板６１を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、第１の金属膜７１´との間に所定電圧を印加して、第１の金属膜７１´の表面を酸化させることができる。その後、酸化膜７２が形成された第１の金属膜７１´を、エッチング処理することによりパターニングして、素子第１電極７１を形成することができる。
【００３６】
次いで、再び、スパッタリング法等により、素子第１電極７１上に、全面的に第２の金属膜を形成し、それをエッチング処理することによりパターニングして、図８（ｄ）に示すように、素子第２電極７３、７４、及び電気配線（データ線）６５を形成する。
次いで、スパッタリング法等により、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物等）等の透明導電体材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフィ法等によりパターニングすることにより、図８（ｅ）に示すように、画素電極６３を形成する。
さらに、これらの素子電極７３、７４、データ線６５、画素電極６３上に絶縁性材料からなる表面保護層、さらにポリイミド樹脂等からなる配向膜を形成することにより、第２の基板を製造することができる。
【００３７】
３．貼り合わせ工程
次いで、液晶表示装置構成するために、第１の基板と、第２の基板とを貼り合わせる工程について説明する。
例えば、この貼り合わせ工程は、第２の基板６０上において、エポキシ樹脂等を主成分とするシール材２３を、スクリーン印刷やディスペンサにより、表示領域Ａを囲むようにパターニングして塗布して実施することができる。また、この貼り合わせ工程に使用するシール材２３としては、例えば、加熱硬化性の接着剤を使用することができる。
次いで、第１の基板３０及び第２の基板６０を平面的に位置合わせした後、圧着して貼り合わせることにより、セル構造が組み立てられて形成される。
【００３８】
４．後工程
次いで、図示しないが、第１の基板３０及び第２の基板６０が形成する空間であって、シール材２３の内側部分に対して、液晶材料を注入した後、封止材等にて封止する。
さらに、第１の基板３０及び第２の基板６０のそれぞれの外面に、所定の偏光板を配置するとともに、バックライト等とともに筐体に組み込むことにより、液晶表示装置を製造することができる。
【００３９】
５．その他の適用例
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、図９に示すように、上述した第１の基板３０の代わりに、ガラス基板等の透明基板３１上に、光反射膜３５、遮光膜３９、着色層３７、表面保護層４１、及び第１の電極３３等を順次積層して構成される第１の基板３０を備えた、反射機能を有する電気光学装置１１を製造する際にも適用することができる。
すなわち、クロム、タンタル、及びタングステンのうちの少なくとも一つを用いて金属膜を形成するとともに、所定形状にパターニングされたレジスト材料を介してエッチング処理することにより、パターニングされた光反射膜３５を形成する。次いで、当該レジスト材料を濃硫酸を用いて剥離した後、光反射膜３５が形成された基板を８０〜２５０℃の範囲内の温度で熱処理する。
このように実施することにより、光反射膜３５としての金属膜と、その上に積層される着色層３７との密着性を向上させることができるために、着色層３７の欠落を防止して、画像の表示特性を向上させることができる。
【００４０】
さらに、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、図１０に示すように、ガラス基板等の透明基板３１上に、光反射膜３５、表面保護層４１、及び第１の電極３３、第１の配向膜４５を順次積層して構成される第１の基板３０と、ガラス基板等の透明基板６１における表示領域Ａに、電気配線６５、スイッチング素子６９、第２の電極６３、着色層７８、表面保護層７６、第２の配向膜７５等を形成して構成される第２の基板６０と、を備えた電気光学装置１２を製造する際にも適用することができる。
すなわち、クロム、タンタル、及びタングステンのうちの少なくとも一つを用いて金属膜を形成するとともに、所定形状にパターニングされたレジスト材料を介してエッチング処理することにより、パターニングされた第２の電極６３を形成する。次いで、当該レジスト材料を濃硫酸を用いて剥離した後、第２の電極６３が形成された基板を８０〜２５０℃の範囲内の温度で熱処理する。
このように実施することにより、第２の電極６３としての金属膜と、その上に積層される着色層７８との密着性を向上させることができるために、着色層７８の欠落を防止して、画像の表示特性を向上させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明によれば、パターニングされた金属膜を形成する際に、濃硫酸を用いたレジスト剥離工程と、熱処理工程とを含むことにより、当該金属膜の表面に不動態を形成し、その上に積層される着色層との間の密着性を高めて、着色層の欠落による表示不良の発生を有効に防止することができる。したがって、遮光膜や電気配線等をはじめとして、所定材料を用いて形成される金属膜上に、着色層が積層される構成を含む基板を備えた電気光学装置であれば、本発明を好適に使用することができる。その結果、かかる金属膜と着色層との間の密着性を向上させることができ、着色層の欠落による表示不良の発生を効果的に防止することができる。
【００４２】
したがって、本発明の製造方法によれば、耐久性や表示特性等に優れた電気光学装置が効率的に提供できるため、液晶表示装置をはじめとして、有機エレクトロルミネッセンス装置や、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ(フィールドエミッションディスプレイ)装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、電子放出素子を備えた装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）等が挙げられる。そして、当該電気光学装置を、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器、などに、好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明に係る電気光学装置の製造方法のフローを示す図である。
【図２】本発明により製造することができる液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、第１の基板の製造工程を説明するために供する図である（その１）。
【図４】（ａ）〜（ｄ）は、第１の基板の製造工程を説明するために供する図である（その２）。
【図５】（ａ）は、レジスト剥離に用いる硫酸の温度とレジスト剥離性との関係を示す図であり、（ｂ）は、硫酸の温度と金属膜及び着色層の密着性との関係を示す図である。
【図６】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ濃硫酸を用いたレジスト剥離方法について説明するために供する図である。
【図７】熱処理温度と金属膜及び着色層との密着性との関係を示す図である。
【図８】（ａ）〜（ｅ）は、第２の基板の製造工程を説明するために供する図である。
【図９】本発明を適用可能な別の電気光学装置を示す概略断面図である。
【図１０】本発明を適用可能なさらに別の電気光学装置を示す概略断面図である。
【図１１】従来の液晶表示装置を説明するために供する断面図である。
【図１２】従来の液晶表示装置の製造方法を説明するために供する図である。
【符号の説明】
【００４４】
１０・１１・１２：電気光学装置、２１：液晶材料、２３：シール材、３０：第１の基板、３３：第１の電極、３５：光反射膜、３７：着色層、３９：遮光膜、３９Ｘ：金属膜、４１：表面保護層、６０：第２の基板、６３：第２の電極、６５：電気配線、６５Ｘ：金属膜、６９：スイッチング素子、７６：表面保護層、７８：着色層、９０：濃硫酸、１２５：レジスト材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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