(57)【要約】【課題】  製造情報から不良原因を容易に特定できる情報管理システムを提供する。【解決手段】  基板１３に処理を施して製品を製造する際の複数項目のデータからなる製造情報を管理する情報管理システムは、基板１３を分割した複数のエリアＡ０１０１〜Ａ０５０５を定義するエリア定義手段４と、項目毎に、製造情報を基にして、それぞれのエリアＡ０１０１〜Ａ０５０５を代表する代表値を生成する情報加工手段３とを備える。【選択図】図１１
2006351667.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理を施して製品を製造する際の複数項目のデータからなる製造情報を管理する情報管理システムであって、
前記基板を分割した複数のエリアを定義するエリア定義手段と、
前記項目毎に、前記製造情報を基にして、それぞれの前記エリアを代表する代表値を生成する情報加工手段とを備えることを特徴とする情報管理システム。
【請求項２】
前記製造情報は、処理工程の処理データおよび検査工程の検査データを含むことを特徴とする請求項１に記載の情報管理システム。
【請求項３】
前記情報加工手段は、いずれかの前記項目のデータが前記基板全体に対して１つの値のみが与えられる基板単位データである場合、当該項目の全ての前記代表値を前記基板単位データと同じ値とすることを特徴とする請求項１または２に記載の情報管理システム。
【請求項４】
前記情報加工手段は、いずれかの前記項目のデータが前記基板上の座標と数値との組みで表される座標単位データである場合、当該項目の代表値をそれぞれの前記エリアに含まれる前記座標単位データの平均値とすることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の情報管理システム。
【請求項５】
前記情報加工手段は、いずれかの前記項目のデータが数値を含むデータであって、いずれかの前記エリア内に前記数値を含むデータが存在しない場合、当該エリアに対応する前記代表値を周囲の前記数値で補完して生成することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の情報管理システム。
【請求項６】
前記情報加工手段は、いずれかの前記項目のデータが前記基板上の座標を表す値のみからなる点座標データである場合、当該項目の代表値をそれぞれの前記エリアに含まれる前記点座標データの個数とすることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の情報管理システム。
【請求項７】
前記エリアは、前記基板を分割して製造される機能素子に対応することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の情報管理システム。
【請求項８】
前記代表値を記憶する代表値記憶手段と、
加工していない生の製造情報を記憶する生データ記憶手段とを備えることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の情報管理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に対して複数の処理を施して行われる液晶デバイスや半導体などの製造おける情報管理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶デバイスは、ガラス基板(半導体ではウェハ)に対して洗浄や成膜、レジストコーティング、露光、エッチングなどの処理工程を必要に応じて繰り返し行い、配線や回路素子を形成することで製造される。その後、基板を分断することで、最終的にパネル(半導体ではチップ)となる。それぞれの処理工程では、ガス圧や投入電力などの処理工程の条件を定める様々な項目の処理データが存在する。
【０００３】
また処理工程は異物の混入や層膜の形成不良など、液晶デバイスの動作不良の原因となる要素を含んでいるため、これらの処理工程の途中で必要に応じて様々な基板検査が実施され、基板上に形成される膜のムラ、膜厚、配線幅、異物の有無や大きさ、電気特性、液晶が実際に動作するか否かなどの多数の項目の検査データが得られる。
【０００４】
これらの検査データを定期的に監視し、異常と思われる検査データが表れたときには、異常の発生原因となる処理データを特定して対策を講じる必要がある。しかしながら、膨大なデータから異常の原因となる処理データを（ときには処理データを生み出す原因となっている装置の設定値を）特定する作業は、複雑な解析処理であり、簡単な作業ではない。
【０００５】
上記の問題を解決する手段として、特許文献１のシステムでは、検査工程の検査データを基板上の座標を基にマッピングして、マッピングした検査データから同一の処理工程を処理した装置毎に平均マップを作成し、同じ位置の平均値がばらついているほど異常の発生原因がある可能性が高い工程と判断している。
【特許文献１】特開２００２−２８９６６２号公報
【０００６】
特許文献１のシステムでは、検査データが、基板を分割して得られるチップ毎に得られている必要がある。しかしながら、実際の検査工程においては、検査の種類や装置によって得られるデータの数や種類が異なるために全ての検査データを同じマップ上にマッピングすることができない。このため、チップ毎にデータが得られない検査工程のデータは、依然として作業者が解析する必要があるという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記問題に鑑みて、本発明は、製造情報から不良原因を容易に特定できる情報管理システムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するために、本発明の情報管理システムは、基板に処理を施して製品を製造する際の複数項目のデータからなる製造情報を管理する情報管理システムであって、前記基板を分割した複数のエリアを定義するエリア定義手段と、前記項目毎に、前記製造情報を基にして、それぞれの前記エリアを代表する代表値を生成する情報加工手段とを備えるものとする。
【０００９】
この構成によれば、情報加工手段によって、製造情報から項目およびエリアをキーとして正規化された代表値を生成するので、全ての製造情報に対して公知のデータベース処理が適用できるようになり、全ての製造情報の中から異常な値や異常の原因となっているデータを容易に探し出すことができる。
【００１０】
また、本発明の情報管理システムにおいて、前記製造情報は、処理工程の処理データおよび検査工程の検査データを含んでもよい。
【００１１】
この構成によれば、検査データの異常値と関連性の高い処理データを特定でき、処理工程の設定を適正にすることができる。
【００１２】
また、本発明の情報管理システムにおいて、前記情報加工手段は、いずれかの前記項目のデータが前記基板全体に対して１つの値のみが与えられる基板単位データである場合、当該項目の全ての前記代表値を前記基板単位データと同じ値としてもよい。
【００１３】
この構成によれば、基板全体に１つしか与えられていないデータを全てのエリアの代表値にすることで、基板単位データをエリア毎に得られる他のデータと同じ操作で同時に処理できるようになる。
【００１４】
また、本発明の情報管理システムにおいて、前記情報加工手段は、いずれかの前記項目のデータが前記基板上の座標と数値との組みで表される座標単位データである場合、当該項目の代表値をそれぞれの前記エリアに含まれる前記座標単位データの平均値としてもよい。
【００１５】
この構成によれば、１つのエリアに対して複数のデータが与えられても、エリア毎の平均値を代表値にするので、基板単位データをエリア毎に得られる他のデータと同じ操作で同時に処理できるようになる。
【００１６】
また、本発明の情報管理システムにおいて、前記情報加工手段は、いずれかの前記項目のデータが数値を含むデータであって、いずれかの前記エリア内に前記数値を含むデータが存在しない場合、当該エリアに対応する前記代表値を周囲の前記数値で補完して生成してもよい。
【００１７】
この構成によれば、直接データが得られていないエリアにも周囲のデータで補完して代表値を生成するので、基板単位データをエリア毎に得られる他のデータと同じ操作で同時に処理できるようになる。
【００１８】
また、本発明の情報管理システムにおいて、前記情報加工手段は、いずれかの前記項目のデータが前記基板上の座標を表す値のみからなる点座標データである場合、当該項目の代表値をそれぞれの前記エリアに含まれる前記点座標データの個数にしてもよい。
【００１９】
この構成によれば、特定の座標の情報を、エリア毎の度数を示す代表値に加工することで、基板単位データをエリア毎に得られる他のデータと同じ操作で同時に処理できるようになる。
【００２０】
また、本発明の情報管理システムにおいて、前記エリアは、前記基板を分割して製造される機能素子に対応してもよい。
【００２１】
この構成によれば、完成した機能素子単位で、製造工程を管理することができる。
【００２２】
また、本発明の情報管理システムにおいて、前記代表値を記憶する代表値記憶手段と、加工していない生の製造情報を記憶する生データ記憶手段とを備えてもよい。
【００２３】
この構成によれば、必要に応じて適宜代表値を参照し、異常な代表値を特定できる。さらに、特定した異常な代表値から加工していない生のデータを参照して、より詳しく原因を分析できる。
【発明の効果】
【００２４】
以上のように、本発明による情報管理システムは、情報加工手段によって、全ての製造情報を、項目毎に、各エリアを代表する１つの数値である代表値に加工する。これによって、全ての製造情報を、同じ処理方法で一括してコンピュータ処理できるので、異常な値を容易に探し出すことができ、製品の不良を発見したり、不良の原因を容易に特定できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
これより、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図１は、液晶（または半導体）デバイスの製造システムの構成の概要を示す。本実施形態の製造システムは、ネットワーク１上に本発明の１つの実施形態のデータベース装置である情報管理装置（システム）２が設けられている。情報管理装置２はマイクロプロセッサからなる情報加工演算装置３と、エリア定義記憶装置４と、生データ記憶装置５と、代表値記憶装置６とを有している。また、成膜装置７を含む複数の処理装置と、電気特性検査装置８、膜圧検査装置９および異物検査装置１０を含む複数の検査装置と、複数のクライアント１１，１２がネットワーク１を介して情報管理装置２と接続されている。
【００２６】
成膜装置７を含む各処理装置は、各製造工程における装置のパラメータの設定値やセンサの測定値などの処理データをネットワーク１を介して情報管理装置２に送信する。各検査装置８，９，１０も、各検査工程における検査値である検査データをネットワーク１を介して情報管理装置２に送信する。クライアント１１，１２は、オペレータが情報管理装置２に蓄積した成膜装置７の処理データや検査装置８，９，１０の検査データをモニタリングしたり、不良品が発生したときに原因を解析するためにデータ処置を行うコンピュータ端末などである。
【００２７】
情報管理装置２のエリア定義記憶装置４、生データ記憶装置５および代表値記憶装置６は、それぞれが独立したメモリやハードディスクなどの記憶装置であってもよいし、同じメモリに割り当てられた異なるアドレスや同じハードディスク上の異なるデータファイルであってもよい。また、情報管理装置２は、必ずしも情報加工演算装置３や各記憶装置４，５，６を同一の装置内に設けなくてもよく、複数のコンピュータシステムからなる分散型システムとして構成してもよい。
【００２８】
続いて、本実施形態において取り扱われるデータを例示する。
図２は、エリア定義記憶装置３に記憶されたエリア定義テーブルの一例を示す。１行目の機種名は、本製造システムにおいて製造する製品（液晶または半導体の型式）を特定するものであり、機種名によって、処理の組合せや処理順序などが特定される。エリア定義テーブルは、Ａ０１０１からＡ０５０５までの２５箇所の各エリアの基点となる座標と各領域の大きさとを示している。図３に示すように、各エリアＡ０１０１〜Ａ０５０５は、それぞれ、基板１３上の座標でＸ方向に１００、Ｙ方向に１５０の大きさを有する長方形の領域であり、図２のエリア定義テーブルには各エリアの座標Ｘ，Ｙの下側の境界値が定義されている。基板１３上の座標の原点（０，０）は、機能デバイスを形成可能な有効範囲の端部である。
【００２９】
図４は、製造装置の１つである成膜装置７から情報管理装置２に送信される処理データの例を示す。成膜装置７は、１度に１０枚の基板１３を処理することができ、ロットＮｏ．と基板Ｎｏ．とで基板１３を特定できる。成膜装置７は、１つの基板１３につきそれぞれ１つの数値からなる「ガス圧力」と「投入電力」という２つのデータ項目の処理データを送信する。情報属性の「１」は、このデータがそれぞれのデータ項目について、各基板１３に対応する１つの数値データを有する基板単位データであることを示している。
【００３０】
図５は、検査装置の１つである電気特性検査装置８から情報管理装置２に送信される検査データの例を示す。このデータの情報属性は「２」であり、最終製品の液晶パネルに対応する基板１３上の領域毎に数値データを有するパネル単位データであることを示す。前記エリアＡ０１０１〜Ａ０５０５は、このパネルが形成される領域に一致するように設定されている。電気特性検査装置８は、「出力電力」と「閾値電力」の２つの項目のパネル単位データを送信する。
【００３１】
図６は、検査装置の１つである膜圧検査装置９から情報管理装置２に送信される検査データの例を示す。このデータの情報属性は「３」であり、基板１３上の座標と膜圧の数値とが組みになった座標単位データであることを示す。このデータは、「膜圧」の１つの項目のデータのみからなる。図７は、図６のデータを基板１３上に点で示したものであり、各数値は図示した点における膜圧を示す。
【００３２】
図８は、検査装置の１つである異物検査装置１０から情報管理装置２に送信される検査データの例を示す。このデータの情報属性は「４」であり、基板１３上の座標のみからなる座標点データであることを示す。図９は、図６のデータを基板１３上に点で示したものである。
【００３３】
図１０は、成膜装置７の処理データおよび検査装置８，９，１０の各検査データからなる製造情報を情報加工演算装置２で加工した代表値の例であり、情報管理装置２の代表値記憶装置６に記憶される。代表値は、「ガス圧力」や「投入電力」などのデータ項目に関し、ロットＮｏ．と基板Ｎｏ．とで特定される基板１３の（図２のエリア定義テーブルで定義される）各エリアＡ０１０１〜Ａ０５０５０を代表する値である。つまり、各基板１３の製造情報は、項目名とエリアＮｏ．とをキーとして正規化した（項目名とエリアＮｏ．を指定すれば１つの値が定められるようにした）代表値に加工される。
【００３４】
次に、本実施形態において、成膜装置７の処理データや検査装置８，９，１０の各検査データを、図１０に示した代表値に加工する手順を、図１１の流れ図を参照しながら説明する。
情報管理装置２は、ステップＳ０１において、成膜装置７や検査装置８，９，１０から送信されるデータを受信して生データ記憶装置５に記憶する。そして、ステップＳ０２において、受信したデータの情報属性が「１」、つまり、基板単位データであれば、ステップＳ０３で、図１０のテーブルの同一の基板の全てのエリアＡ０１０１〜Ａ０５０５に対応する当該項目の代表値として基板単位データと同じ数値を代表値記憶装置６に書き込む。図４のデータには、「ガス圧力」と「投入電力」との２つのデータ項目が存在するので、それぞれのデータ項目について代表値が書き込まれる。
【００３５】
ステップＳ０２で、受信したデータが基板単位データでなければ、ステップＳ０４で、パネル単位データであるか否か、つまり、情報属性が「２」であるか否かを確認する。受信したデータがパネル単位データであれば、ステップＳ０５でそれぞれのパネルに対応するデータの値を、それぞれ、各パネルに対応するエリアの代表値として代表値記憶装置６に書き込む。図５のデータには、「出力電力」と「閾値電力」との２つのデータ項目が存在するので、それぞれのデータ項目について代表値が書き込まれる。
【００３６】
ステップＳ０４でデータの情報属性が「２」でなかった場合、ステップＳ０６において、情報属性が「３」であれば受信したデータは座標単位データであり、情報属性は、「３」でなければ残る「４」である。情報属性が「３」の座標単位データであるならば、ステップＳ０７で各エリア内に含まれる座標データの数値をそれぞれ平均する。そして、ステップＳ０８で全てのエリアにデータが存在しているか否かを確認し、データが存在していなければ、ステップＳ０９において、周囲のエリアのデータで補完する。図１２に示すように、例えば、図５のデータから代表値を算出する場合、エリアＡ０２０４の代表値には、隣接する８つのエリアのうちデータの存在するエリア（Ａ０１０３，Ａ０３０３，Ａ０１０５，Ａ０３０５）代表値（０．４１，０．４５，０．３７，０．３９）の平均０．４１をとって補完する。同様に、エリアＡ０４０１の代表値には、エリアＡ０３０１との代表値０．４０とＡ０５０１の代表値０．３６との平均０．３８をとって補完する。
【００３７】
情報属性が「４」である座標点データの場合は、ステップＳ１０において、図１３に示すように、エリア毎に含まれる座標を列記した対応テーブルを作成し、各エリアに含まれるデータの個数をそれぞれ代表値記憶装置６のテーブル（図１０）に代表値として書き込む。
【００３８】
本製造システムにおいて、各クライアント１１，１２は、必要に応じて、情報管理装置２の代表値記憶装置６から、代表値を受け取り、モニタ上にトレンド表示したり、好ましくない検査データを発生させる原因となっている処理データを特定するためのデータ操作を行う。
【００３９】
成膜装置７の処理データや検査装置８，９，１０の各検査データを基に生成した代表値は、図１０のテーブルに示すように、エリアＮｏ．と項目名とで１つの数値を特定できるリレーショナルなデータ構造をしている。このため、市販の表計算ソフトウェアなどを用いてデータ処理することができ、相関の強いデータ項目やエリアＮｏ．を抽出することも容易である。
【００４０】
本実施形態では、全てのエリアと項目に対して代表値を算出するが、基板１３の特定の部分にのみ作用する処理工程などで、処理が及ばないエリアに代表値を生成すると、かえって不良原因の特定を阻害する場合がある。そこで、処理工程によっては、代表値を生成せずにブランクを示す、例えば「−９９９９」のような特定の値を書き込むようにすれば、クライアント１１，１２において例外処理をすることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の製造システムの構成を示すブロック図。
【図２】図１のエリア定義記憶装置に記憶したエリア定義テーブルを例示する表。
【図３】図２のエリア定義テーブルによって基板上に定義されるエリアの配置図。
【図４】図１の成膜装置から情報管理装置に送信される基板単位データを例示する表。
【図５】図１の電気特性検査装置から情報管理装置に送信されるパネル単位データを例示する表。
【図６】図１の膜圧検査装置から情報管理装置に送信される座標単位データを例示する表。
【図７】図６の座標単位データの基板上の位置を示した配置図。
【図８】図１の異物検査装置から情報管理装置に送信される座標点データを例示する表。
【図９】図６の座標点データの基板上の位置を示した配置図。
【図１０】図１の代表値記憶装置に記憶される代表値を例示する表。
【図１１】図１の情報加工演算装置の処理を示す流れ図。
【図１２】図１１のデータ補完処理を基板上に例示する配置図。
【図１３】図１の情報加工演算装置において作成される対応テーブルを例示する表。
【符号の説明】
【００４２】
２  情報管理装置（情報管理システム）
３  情報加工演算装置
４  エリア定義記憶装置
５  生データ記憶装置
６  代表値記憶装置
７  成膜装置
８  電気特性検査装置
９  膜圧検査装置
１０  異物検査装置
１３  基板
【図１】
2006351667.tif 000003
【図２】
2006351667.tif 000004
【図３】
2006351667.tif 000005
【図４】
2006351667.tif 000006
【図５】
2006351667.tif 000007
【図６】
2006351667.tif 000008
【図７】
2006351667.tif 000009
【図８】
2006351667.tif 000010
【図９】
2006351667.tif 000011
【図１０】
2006351667.tif 000012
【図１１】
2006351667.tif 000013
【図１２】
2006351667.tif 000014
【図１３】
2006351667.tif 000015