(57)【要約】【課題】  バレル研磨とその後の洗浄処理とをまとめて一気に行うことのできる研磨洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】  処理対象物を収容したバレルＢＡ１〜ＢＡ３を、洗浄液に浸漬した状態で回転させて、処理対象物とメディアとを流動させる処理槽１〜３と、洗浄液に接触しない状態でバレルＢＡ１〜ＢＡ３を保持して回転させる空転機構ＲＴ（Ｈ）と、処理槽１〜３に接続された液タンクＴＫ１〜ＴＫ３と、液タンクＴＫ１〜ＴＫ３と各処理槽１〜３との間で洗浄液を循環させる循環機構とを備えている。各バレルＢＡ１〜ＢＡ３には、研磨屑が通過自在な貫通孔ＨＯが設けられているので研磨屑が有効に排出される。排出された研磨屑は、循環機構において捕捉される。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄液を保有すると共に研磨屑の通過自在なバレルを回転可能に保持する洗浄槽と、洗浄液を保有すると共に前記洗浄槽に接続されている液タンクと、前記洗浄槽と前記液タンクとの間で洗浄液を循環させる循環機構とを備えて、
前記循環機構によって循環される洗浄液に、前記バレルを浸漬して回転させて、前記バレル内の処理対象物とメディアを流動させるようにした研磨処理を設けたことを特徴とする研磨洗浄方法。
【請求項２】
処理対象物に液溜まり部が存在する場合には、前記研磨処理を終えた処理対象物は、洗浄液に接触しない状態で前記バレルを回転させる液切り処理に移行される請求項１に記載の研磨洗浄方法。
【請求項３】
前記研磨処理及び／又は前記液切り処理を備えた工程が、複数回連続して実行される請求項１又は２に記載の研磨洗浄方法。
【請求項４】
前記研磨処理及び／又は前記液切り処理を備えた処理工程を終えた後、前記バレルに収容された処理対象物に洗浄蒸気を供給する蒸気洗浄処理を設ける請求項１〜３の何れかに記載の研磨洗浄方法。
【請求項５】
前記蒸気洗浄処理を終えた処理対象物を減圧下で乾燥させる乾燥処理を設ける請求項４に記載の研磨洗浄方法。
【請求項６】
洗浄液を保有すると共に研磨屑の通過自在なバレルを回転可能に保持する洗浄槽と、洗浄液を保有すると共に前記洗浄槽に接続されている液タンクと、前記洗浄槽と前記液タンクとの間で洗浄液を循環させる循環機構とを備えて、
前記循環機構によって循環される洗浄液に、前記バレルを浸漬して回転させて、前記バレル内の処理対象物とメディアを流動させるようにしたことを特徴とする研磨洗浄装置。
【請求項７】
前記バレルを着脱自在に保持すると共に、水平方向及び垂直方向に移動可能な移送機構を備えた請求項６に記載の研磨洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バレル研磨とその後の洗浄処理とをまとめて一気に行うことのできる研磨洗浄方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
湿式のバレル研磨は、被研磨物とメディア（研磨材）が投入され、水を内在させたバレルを回転させることにより行なわれている。このようなバレル研磨に使用する装置は、メディアおよび水が投入されたバレルを、密閉状態にして研磨を行なうものである（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−３９３０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、引用文献１のようなバレル研磨では、研磨作業後に清水を用いた水洗浄処理が必要となり水を浪費するという問題がある。また、水洗浄処理の後には、更に、非水系洗浄剤での洗浄処理が必要となり、その意味でも作業効率が悪い。更にまた、特許文献１に記載のように、内部に水を保持した状態でバレルを回転させると、研磨が進むほどバレル内に研磨屑が蓄積されて研磨精度が低下するという問題点もある。
【０００４】
一方、バレルを使用した洗浄装置も知られているが（例えば、特許文献２）、洗浄処理に特化した装置であり、研磨しつつ洗浄することを何も示唆していない。すなわち、特許文献２の装置は、単なる洗浄装置であって研磨処理を全く含まないため、例えば、処理対象物を鏡面状に仕上げる光沢仕上げの要求に応えることはできない。
【０００５】
また、特許文献２の装置では、ベルトコンベアに吊り下げた状態のまま洗浄工程から乾燥工程に移行させるので、減圧下での超音波洗浄や蒸気洗浄のような精密な洗浄処理が不可能である。そして、減圧下で乾燥処理を終える真空乾燥も不可能であるため、結局は、乾燥シミが残ってしまうことになる。
【特許文献２】特開平８−２４８０７号公報  本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであって、バレル研磨とその後の洗浄処理をまとめて一気に行うことのできる研磨洗浄方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するため、請求項１に係る研磨洗浄方法は、洗浄液を保有すると共に研磨屑の通過自在なバレルを回転可能に保持する洗浄槽と、洗浄液を保有すると共に前記洗浄槽に接続されている液タンクと、前記洗浄槽と前記液タンクとの間で洗浄液を循環させる循環機構とを備えて、前記循環機構によって循環される洗浄液に、前記バレルを浸漬して回転させて、前記バレル内の処理対象物とメディアを流動させるようにした研磨処理を設けたことを特徴とする。
【０００７】
また、請求項６に係る研磨洗浄装置は、洗浄液を保有すると共に研磨屑の通過自在なバレルを回転可能に保持する洗浄槽と、洗浄液を保有すると共に前記洗浄槽に接続されている液タンクと、前記洗浄槽と前記液タンクとの間で洗浄液を循環させる循環機構とを備えて、前記循環機構によって循環される洗浄液に、前記バレルを浸漬して回転させて、前記バレル内の処理対象物とメディアを流動させるようにしている。
【０００８】
上記各発明では、洗浄液中でバレル研磨を行うので、表面洗浄と表面研磨を同時に行うことができ、また、従来のバレル研磨装置のような研磨後の水洗浄処理も不要となる。また、研磨屑の通過自在なバレルが洗浄液に浸漬されて回転するので、研磨屑がバレル内に蓄積されることがなく研磨精度を劣化させない。なお、浸漬とは、完全浸漬状態だけでなく、一部浸漬状態を含む概念である。好ましくは、洗浄液の液面がバレルの３／４程度となる一部浸漬とすべきである。
【０００９】
洗浄液としては、水系ではなく、非水系の有機溶剤を使用するのが好適である。好適な有機溶剤としては、環境問題が懸念されているトリクロロエチレン等の塩素系有機溶剤ではなく、イソパラフィン系、ノルマルパラフィン系、ナフテン系等の炭化水素系有機溶剤または二種以上の炭化水素系溶剤の混合溶剤が採用される。但し、洗浄液としてグリコール溶剤を使用するのも好適であり、また、炭化水素系溶剤およびグリコール系溶剤の二種以上を選択した混合溶剤であっても良い。
【００１０】
上記何れの発明も、洗浄槽と液タンクとの間で洗浄液が循環しているので、この循環ライン中にフィルタなどを設けることによって、微細な研磨屑やその他の異物を濾過除去することが可能となり、研磨及び洗浄の精度を高めることができる。なお、本発明では、処理対象物がメディアと共にバレル内で流動すれば足りるので、メディアの通過しないバレル開口に設定して、予めバレルにメディアを収納しておいても良いし、メディアの通過するバレル開口に設定して、処理槽に予めメディアを収納しておいても良い。
【００１１】
本発明において、処理対象物にキャップ形状のような液溜まり部が存在する場合には、前記研磨処理を終えた処理対象物は、洗浄液に接触しない状態で前記バレルを回転させる液切り処理に移行されるのが好適である。この場合には、研磨屑やその他のゴミは、洗浄液が垂れ落ちると共に除去される。
【００１２】
本発明に係る研磨洗浄方法では、前記研磨処理及び／又は前記液切り処理を備えた工程が、複数回連続して実行されるのが好ましい。また、前記研磨処理及び／又は前記液切り処理を備えた処理工程を終えた後、前記バレルに収容された処理対象物に洗浄蒸気を供給する蒸気洗浄処理を設けるのも好適である。
【００１３】
また、蒸気洗浄処理を終えた処理対象物を減圧下で乾燥させる乾燥処理を設けるのも好適である。この場合には、精密に研磨及び洗浄されるため光沢仕上げを実現することができ、また、乾燥シミなどを残すこともない。但し、本発明は、温風（室温〜１８０℃程度）による乾燥を排除するものではなく、要求される研磨及び洗浄の精度によっては温風乾燥で足りる。温風乾燥が採用される場合としては、単なるバリ取りが要求される場合、スケール除去が要求される場合、光沢仕上げではなく平滑仕上げが要求される場合などを例示することができる。
【００１４】
本発明に係る研磨洗浄装置は、前記バレルを着脱自在に保持すると共に、水平方向及び垂直方向に移動可能な移送機構を備えるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
上記した本発明によれば、バレル研磨とその後の洗浄処理とをまとめて一気に行うことのできる研磨洗浄方法及び装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。図１は、実施例に係る研磨洗浄装置の概略構成を説明する図面である。図１（ａ）は、Ｘ−Ｙ水平面での装置概要を図示した平面図であり、図１（ｂ）は、Ｘ−Ｚ垂直面の各洗浄槽１〜５の概要を図示した正面図である。なお、この実施例は、液溜まり部を有するワークを、光沢仕上げする洗浄研磨装置である。
【００１７】
図１に示すように、この研磨洗浄装置は、バレル(barrel)ＢＡに収容された研磨洗浄対象物（ワーク）を上流側から下流側に移送しつつ研磨及び洗浄を行い、乾燥させて処理を終える洗浄槽１〜５と、間欠運転によってバレルＢＡを１つ下流の洗浄槽の位置まで搬送するコンベア搬送路ＣＮＶと、水平方向Ｙ及び垂直方向Ｚに移動してバレルＢＡを搬送路ＣＮＶと洗浄槽の間で往復させるリフターＬＦ１〜ＬＦ３と、Ｙ方向とＺ方向の他に水平方向Ｘにも移動して、必要な洗浄槽４，５Ａ，５ＢにバレルＢＡを搬入／搬出するリフターＬＦ４と、を中心に構成されている。
【００１８】
この実施例の場合、炭化水素からなる非水系の洗浄液が使用されており、研磨洗浄後のワークの平滑性と防錆性を実現している。洗浄槽１〜５は、上流側から下流側に向けて、浸漬状態のワークを噴流で洗浄する浸漬洗浄槽１と、常圧下で超音波洗浄を行う超音波洗浄槽２，３と、減圧下で超音波洗浄を行う減圧超音波洗浄槽４と、洗浄蒸気による仕上げ洗浄とその後の真空乾燥を行う蒸気洗浄・真空乾燥槽５とに区分されている。なお、蒸気洗浄と真空乾燥に十分な時間を割り当てることができるよう、蒸気洗浄・真空乾燥槽５が二槽５Ａ，５Ｂ設けられており、減圧超音波洗浄を終えたバレルＢＡは、何れか空き状態の槽５Ａ，５Ｂに投入される。
【００１９】
図１（ａ）に想像線で示すように、搬送路ＣＮＶの下部空間には、４つの液タンクＴＫ１〜ＴＫ４が配置されている。各液タンクＴＫ１〜ＴＫ４は、浸漬洗浄槽１、超音波洗浄槽２、超音波洗浄槽３、及び減圧超音波洗浄槽４にそれぞれ接続されており、洗浄動作中、液ポンプによって洗浄液が循環して研磨屑を捕捉するようになっている。なお、液タンクＴＫ１〜ＴＫ４は、洗浄槽１〜４より一段低い位置に配置されている。
【００２０】
洗浄槽１〜５の背面側には、汚れた洗浄液を受けて沸騰させる二つの再生釜７，８と、蒸気洗浄・真空乾燥槽５から洗浄蒸気を受けて液回収をする回収塔６と、再生釜８から洗浄蒸気を受けて液回収をする回収塔９とが配置されている。なお、洗浄槽４，５には、各洗浄槽を気密に閉塞する上蓋ＣＶが開閉自在に設けられている。この上蓋ＣＶは、バレルの搬入及び搬出時には開放されるが、洗浄動作時や乾燥動作時には閉塞される。
【００２１】
各洗浄槽に搬入されるバレルＢＡは、本実施例では、図２（ａ）に示すように、六角筒状又は円筒状の本体部１０と、本体部１０の両端を閉塞する有底円筒状の閉口蓋１１と、閉口蓋１１から突出する保持軸１２とを中心に構成されている。本体部１０の周面には、多数の貫通孔ＨＯが一様に形成されており、図示しない一周面には、ワークを導入／導出するための開閉自在の投入口が設けられている。
【００２２】
この投入口は、研磨洗浄作業に先立って開放されてワークが導入されるが、このアークの導入に合わせて、ワークの素材や必要な研磨量に応じて選択されたメディアも導入される。そのため、貫通孔ＨＯの開口径に比べて細かいメディアも使用できるよう、本体部１０の内周面には、メディアの漏出を防止する金網が張設されている。なお、ワークの投入量は、バレル本体部の内容積の４０〜５０％程度に制限するのが好適である。
【００２３】
閉口蓋１１は、本体部１０に当接される円盤部１１ａと、円盤部１１ａの外周から立設される周壁部１１ｂとで構成され、周壁部１１ｂには、矩形孔ＪＫが連続して一様に形成されている。この矩形孔ＪＫは、バレル回転機構ＲＴのスプロケットに係合する係合孔であり、バレル回転機構ＲＴの駆動によってバレル全体が適宜に回転するようになっている。
【００２４】
バレル回転機構ＲＴは、リフターＬＦ１〜ＬＦ３に配置される回転機構ＲＴ（Ｈ）と、各洗浄槽１〜５の下部に配置される回転機構ＲＴ（Ｌ）とに区分される。洗浄槽１〜５に配置されるバレル回転機構ＲＴ（Ｌ）は、バレルＢＡに収容されたワークに、適宜な研磨と確実な洗浄とを行うものであり、図２（ｂ）に示すように、回転軸１３を回転させる駆動モータと、回転軸１３の両端で回転するスプロケット１４，１４と、自由回転してバレルＢＡの回転を支える案内ローラＧＤとを中心に構成されている。
【００２５】
洗浄槽に導入されたバレルＢＡは、左右の周壁部１１ｂ，１１ｂを案内ローラＧＤに保持され、この保持状態では、バレル回転機構ＲＴ（Ｌ）のスプロケット１４，１４が、バレルＢＡの矩形孔ＪＫに係合する。そのため、バレルＢＡは、回転するスプロケット１４，１４に駆動されて適宜な速度で回転することになる。なお、バレルの回転速度は、ワークの形状や素材、必要な研磨量などによって決定されるが、好ましくは２０〜５０ｒｐｍ程度である。
【００２６】
リフターＬＦ１〜ＬＦ３に配置されるバレル回転機構ＲＴ（Ｈ）は、洗浄槽１〜３から引き上げたバレルＢＡを、所定時間回転させて、十分な液切りにあわせて研磨屑を確実に排出するものである（空転機構）。その基本構成は、バレル回転機構ＲＴ（Ｌ）と同じであり、回転軸１３を回転させる駆動モータと、回転軸１３の両端で回転するスプロケット１４，１４とで構成されている。但し、バレルＢＡは、リフターＬＦ１〜ＬＦ３に吊り下げられて保持されているので、バレル回転機構ＲＴ（Ｈ）に案内ローラは設けられていない。
【００２７】
図３は、各洗浄槽１〜５の関係を図示したフロー図であり、実線は洗浄液の流れ、破線は洗浄蒸気の流れを示している。図示の通り、浸漬洗浄槽１、超音波洗浄槽２、超音波洗浄槽３、及び減圧超音波洗浄槽４には、液タンクＴＫ１〜ＴＫ４に接続されて洗浄液の循環路が形成されている。そして、この循環路には、ストレーナＳと液ポンプＰとフィルタＦとが配置されている。そのため、液ポンプＰに加圧された洗浄液は、各洗浄槽１〜４に供給され、洗浄槽１〜４から溢れ出た洗浄液は、液タンクＴＫ１〜ＴＫ４に回収されることになる。
【００２８】
このような洗浄液の循環動作に合わせて、各洗浄槽１〜４では、バレル回転機構ＲＴ（Ｌ）が動作してバレルＢＡが回転するので、バレルＢＡに収容されたワークは、適宜に研磨されつつ確実に洗浄されことになる。そして、研磨屑や洗浄ゴミは、ストレーナＳとフィルタＦとに捕捉されて除去される。
【００２９】
減圧超音波洗浄槽４と蒸気洗浄・真空乾燥槽５Ａ，５Ｂには、真空ポンプＶＰが接続されて減圧機構が形成されている。また、回収塔６と回収塔９も、真空ポンプＶＰに接続されて減圧可能に構成されている。なお、再生釜７は、蒸気洗浄・真空乾燥槽５及び回収塔６を通して減圧され、再生釜８は、回収塔９を通して減圧される。また、送風ファンＦＡＮによって装置内が排気されている。
【００３０】
蒸気洗浄・真空乾燥槽５Ａ，５Ｂの底部と、回収塔６の底部は、開閉弁を通して接続されている。そして、再生釜７で沸騰した洗浄蒸気が、蒸気洗浄・真空乾燥槽５Ａ，５Ｂを経由して、回収塔６の底部から液中に導入されることで、回収塔６では、蒸留再生された洗浄液が回収される。同様に、再生釜８の上部と回収塔９の底部も、開閉弁を通して接続されており、再生釜８から供給された洗浄蒸気が、回収塔９の底部から液中に導入されることで蒸留再生された洗浄液が回収される。
【００３１】
図３に示すように、回収塔６で回収された新鮮な洗浄液は、減圧超音波洗浄槽４に導入された後、溢れ出て液タンクＴＫ４に至る。そして、液タンクＴＫ４から溢れ出た洗浄液は、その上流側の液タンクＴＫ３に導入される。以下、同じであり、液タンクＴＫ３から溢れ出た洗浄液が液タンクＴＫ２に導入され、液タンクＴＫ２から溢れ出た洗浄液が液タンクＴＫ１に導入される。
【００３２】
そのため、上流側の洗浄槽ほど汚れた洗浄液が流通することになるが、浸漬洗浄槽１を流通する洗浄液の一部は、クッションタンクＣＴＫを通して再生釜８に導入され、蒸留されて回収塔９で液回収される。このようにして蒸留再生された新鮮な洗浄液は、超音波洗浄槽３の流通路に導入される。したがって、最終段の超音波洗浄槽３には、蒸留再生された回収塔９からの洗浄液と、回収塔６からの新鮮な洗浄液とが供給されることになり、洗浄効果を高めることができる。
【００３３】
図４は、図３のフロー図を更に詳細に図示したものである。浸漬洗浄槽１には、噴流を生じさせる噴出ノズルＮＺが設けられている。また、超音波洗浄槽２，３及び得減圧超音波洗浄槽４には超音波発信器ＯＳＣが配置されている。また、各液タンクＴＫ１〜ＴＫ４には冷却水ラインＣＯＯＬが設けられおり、洗浄液の液温が一定以上になることが防止されている。したがって、可燃性の炭化水素系の洗浄液を使用しても、その蒸発が有効に抑制される。
【００３４】
再生釜７，８には、洗浄液を沸騰させるための加熱ラインＨＯＴが流通している。なお、再生釜７の加熱ラインＨＯＴは、二つの蒸気洗浄・真空乾燥槽５Ａ，５Ｂの外周壁を経由して流通している。なお、再生釜７，８には廃液回収タンクＤＵＳＴが接続されており、煮詰まった廃液を排出するようにしている。
【００３５】
一方、回収塔６，８には、冷却水ラインが設けられており、各回収塔６，８の底面から液中に供給される洗浄蒸気が、確実に液化されるようになっている。
【００３６】
続いて、上記の構成からなる研磨洗浄装置の動作内容を説明する。ここでは、便宜上、洗浄槽１〜５にバレルＢＡ１〜ＢＡ６が収容されている状態（図１参照）から説明を始める。
【００３７】
このような状態で、洗浄槽１〜４の研磨洗浄処理が終わると、リフターＬＦ１〜ＬＦ３が一斉にＺ方向に降下して、バレルＢＡ１〜ＢＡ３の保持軸１２を保持して各バレルＢＡ１〜ＢＡ３を持ち上げる。そして、その状態のまま、各リフターＬＦ１〜ＬＦ３のバレル回転機構ＲＴ（Ｈ）が動作してバレルＢＡ１〜ＢＡ３を空転させる。この空転処理の結果、各洗浄槽１〜３から持ち出された研磨屑や洗浄ゴミは、洗浄液と共に垂れ落ちることになる。そのような液切り処理を終えると、リフターＬＦ１〜ＬＦ３は前方（−Ｙ方向）に移動した後に降下し、バレルＢＡ１〜ＢＡ３を搬送路ＣＮＶに残して上昇する。なお、この時には、新たなバレルＢＡがバレルＢＡ１の上流側に用意されている。
【００３８】
また、リフターＬＦ４は、リフターＬＦ１〜ＬＦ３とほぼ同様に動作して、減圧超音波槽４のバレルＢＡ４を搬送路ＣＮＶに取り出している。但し、減圧超音波槽４では、大気開放処理や、上蓋ＣＶの開放処理が必要であるので、リフターＬＦ４の動作は、リフターＬＦ１〜ＬＦ３の動作と完全には同期しない。また、リフターＬＦ４は、３つの槽４，５Ａ，５ＢのバレルＤＡ４〜ＢＡ６の搬入／搬出処理を担当しているので、減圧超音波槽４から取り出したバレルＤＡ４についても空転処理を行わない。そのため、リフターＬＦ４には、バレル回転機構ＲＴ（Ｈ）が設けられていない。
【００３９】
いずれにしても、上記したリフターＬＦ１〜ＬＦ４の動作によって、搬送路ＣＮＶには、処理後のバレルＢＡ１〜ＢＡ４と、処理前のバレルＢＡが並ぶことになる。そこで、搬送路ＣＮＶが下流側に一ステップ移動して、各バレルＢＡ，ＢＡ１〜ＢＡ４を一つ下流側に移送する。
【００４０】
続いて、リフターＬＦ１〜ＬＦ４が−Ｚ方向に降下して各バレルを保持して上昇する。そして、後方（Ｙ方向）に移動して再度降下し、洗浄槽１〜４にバレルを残して上昇する。その後は、各槽１〜４の回転機構ＲＴ（Ｈ）が起動して各バレルを回転させるので、ワークは研磨されつつ洗浄されることになる。なお、各洗浄槽１〜４には、バレルＢＡの３／４程度が浸る程度の洗浄液が保有されており、また、各バレルＢＡが２０〜５０ｒｐｍ程度で回転するのも先に説明した通りである。
【００４１】
ところで、このような動作中、リフターＬＦ４は、Ｘ方向に適宜に移動して、減圧超音波処理を終えたバレルＢＡを、何れかの蒸気洗浄・真空乾燥槽５Ａ，５Ｂに搬入すると共に、真空乾燥処理を終えたバレルＢＡを搬送路ＣＮＶに搬出している。本実施例では、２つの蒸気洗浄・真空乾燥槽５Ａ，５Ｂを設けているので、蒸気洗浄処理及び真空乾燥処理に、他の処理の最大二倍の時間を割当てることができる。
【００４２】
以上、研磨洗浄装置の動作について説明したが、本装置においてメディアを使用しない場合には、通常の洗浄装置として機能する。したがって、本装置は、研磨洗浄装置としても洗浄装置としても使用できる利点がある。なお、洗浄装置として使用する場合にはバレルが埋まる程度まで洗浄液を満たし、且つ、バレルの回転速度を低下させれば良い。
【００４３】
以上、本発明を具体的に説明したが、具体的な記載内容は、特に本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨を逸脱することなく、各種の変更が可能である。例えば、メディアはワークに応じて適宜に選択されるのは勿論である。また、実施例のように予めバレルにメディア投入しても良いし、メディアを洗浄槽に予め投入したのでも良い。但し、後者の場合には、メディアに対して大きい貫通孔ＨＯを設ける必要がある。
【００４４】
また、ワークに液溜まり部が存在しない場合には、バレル回転機構ＲＴ（Ｈ）による空転動作は不要であり、言い換えると、液切り処理は省略される。また、要求される洗浄精度によっては、超音波洗浄槽２，３及び減圧洗浄槽４での処理が適宜に省略される。また、光沢仕上げが要求されない場合には、真空乾燥処理に代えて温風乾燥処理を実行しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】実施例に係る研磨洗浄装置を説明する概略平面図と概略正面図である。
【図２】バレルの一例及び回転機構の概要を図示したものである。
【図３】図１の研磨洗浄装置のフロー図である。
【図４】図３をやや詳細に図示したフロー図である。
【符号の説明】
【００４６】
ＢＡ    バレル
１〜５    処理槽（洗浄槽）
ＲＴ（Ｈ）  空転機構
ＨＯ        開口（貫通孔）
【図１】
2006320859.tif 000003
【図２】
2006320859.tif 000004
【図３】
2006320859.tif 000005
【図４】
2006320859.tif 000006