(57)【要約】【課題】  透過反射型のアクティブマトリクスを採用した液晶表示装置は、高精細化に伴い表示に用いられない部分の相対的な面積比が大きくなり、開口率が低下してしまう。【解決手段】  絵素電極内には透過表示領域と、前記絶縁層上に反射層を備えた反射表示領域とが区分されて設けられてなり、前記反射層上には絶縁層を介して、或いは直接反射層上に絵素電極が配置されており、前記配線の少なくとも一部又は前記非線形素子の少なくとも一部は、前記絶縁層と前記第１基板とに挟まれた、前記反射層と対向する位置に配置する。さらに能動素子として３端子素子である薄膜トランジスタに代えて薄膜ダイオードを用いることで配線に必要な面積を小さくする。【選択図】      図６
2006284936.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板との間に液晶層を挟持してなり、前記第１基板には表示領域を構成する複数の絵素領域と、該絵素領域のそれぞれに対応して配置された複数の絵素電極と、前記絵素電極のそれぞれに信号を供給する複数の配線と、各前記絵素電極と前記配線との間に電気的に接続された非線形素子と、反射層と、前記絵素電極と前記第１基板との間に設けられた絶縁層とを備えた液晶表示装置であって、
一つの前記絵素領域内には透過表示領域と、前記反射層を備えた反射表示領域とが個別に設けられてなり、前記反射層との間で前記絶縁層を介在させて前記配線の少なくとも一部が前記反射層と前記第１基板との間に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記複数の絵素電極は縦横にマトリクス状に配置され、一つの前記配線は縦横いずれかの方向に延在するとともに、延在する方向に配列した複数の前記絵素電極の前記反射表示領域に備えられた前記反射層の下層を延在するよう形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記絶縁層は、前記反射表示領域における前記液晶層の厚さを前記透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層を備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記絵素電極を備える一つの前記絵素領域は長手方向と短手方向とを有し、前記反射層は前記絵素領域の長手方向の端部に島状に配置され、前記配線は前記絵素領域の短手方向に沿って延在形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記絵素電極を備える一つの前記絵素領域は長手方向と短手方向とを有し、前記反射層は前記絵素領域の短手方向の端部に島状に配置され、前記配線は前記絵素領域の長手方向に沿って延在形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記反射層は、前記絵素領域間にも形成されるとともに前記配線に沿った方向に延在して形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記反射層には、１つの前記絵素領域内において、前記透過表示領域に対応した間口が設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記非線形素子も前記反射層と前記第１基板との間に配置されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記反射層が前記反射表領域において前記絵素電極を兼ねている、或いは前記絵素電極と電気的に接続されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高輝度かつ高精細な表示を実現する反射透過型のアクティブマトリクスを採用した液晶表示装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記した液晶表示装置では、１画素内に透過表示領域と反射表示領域との両方を割り当てており、両表示モードにおいて高輝度かつ高精細な表示品質が求められている。
【０００３】
表示品質の向上に際しては、例えば配線等に用いられている表示に利用されない領域を微細化によって削減する方法では限界があり、高精細化と高輝度化を同時に実現する構造がいくつか提案されている。
【０００４】
例えば特許文献１では、配線が密集する薄膜トランジスタ（以下ＴＦＴと記載）の部分に反射表示領域を割り当てるように形成することで、配線による光の損失を防ぎ、明るさを向上させている。
【０００５】
また特許文献２では、一つの画素のうち透過表示領域を走査線を挟んで２分割し、反射電極及び透過電極をＴＦＴで駆動することで、透過領域の画像表示が主となる場合でも画像が荒く視認されず、良好な表示画質を得られるようにしている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−８５７２０    ６〜８頁、図１
【特許文献２】特開２００４−２５８５０７  ３〜５頁、図１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記した特許文献１の技術では、スイッチング素子にＴＦＴを用いている。ＴＦＴは３端子のトランジスタであるため、信号線と走査線の両方を同一基板上に形成することが必要となる。そのため、ソース及びゲートラインを覆うように反射電極を形成しても、一部には表示に直接役立たない配線が露出してしまい開口率が低下するという問題点がある。
【０００８】
また、上記した特許文献２の技術では、反射電極上を横切る走査線は非表示領域となり、上記と同様に開口率が低下するという問題点がある。
【０００９】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、開口率を低下させることなく明るい透過表示と反射表示とを実現する液晶表示装置、及び高精細で表示品位に優れた電子機器の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明の液晶表示装置は、第１基板と第２基板との間に液晶層を挟持してなり、前記第１基板には表示領域を構成する複数の絵素領域と、該絵素領域のそれぞれに対応して配置された複数の絵素電極と、前記絵素電極のそれぞれに信号を供給する複数の配線と、各前記絵素電極と前記配線との間に電気的に接続された非線形素子と、反射層と、前記絵素電極と前記第１基板との間に設けられた絶縁層とを備えた液晶表示装置であって、一つの前記絵素領域内には透過表示領域と、前記反射層を備えた反射表示領域とが個別に設けられてなり、前記反射層との間で前記絶縁層を介在させて前記配線の少なくとも一部が前記反射層と前記第１基板との間に配置されていることを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、絵素電極に信号を供給する配線の少なくとも一部が絶縁膜を介して反射層と第１基板との間に配置されるので、表示領域とは個別に配線の形成に必要とされる平面領域（表示に寄与しない領域）が大幅に削減され、高密度に絵素電極を形成、及び配置することができるので開口率が向上するとともに高精細な表示を実現することができる。
【００１２】
また、スイッチング素子に２端子の非線形素子を用いているため、第１基板上に走査線と信号線の両方を形成する必要はなく、走査線と信号線のいずれか一方のみに相当する配線を絵素電極の反射表示領域の反射層の下に形成、配置されるので、第１基板上に走査線と信号線の両配線を必要とするＴＦＴ素子を用いた液晶表示装置よりも高い開口率を実現することができる。
【００１３】
加えて、絶縁層が反射層と配線との間に介在するので絶縁性が確保され、各絵素電極の表示に干渉したり悪影響を及ぼすことは無い。
【００１４】
更に、反射層は反射電極として絵素電極の一部を兼ねていたり、或いは前記絵素電極と電気的に接続されている構成とされていても良く、絵素電極とは電気的に接続されずに反射表示領域に平面的に形成、配置されたものであってもよい。
【００１５】
また、上記した本発明の液晶表示装置は、前記非線形素子も前記反射層と前記第１基板との間に配置されていることを特徴とする。
【００１６】
上記発明によれば、前記非線形素子も前記反射層と前記第１基板との間に配置されている、つまり、非線形素子が反射層と平面的に重なり覆われるように配置されているので、表示領域（透過表示又は反射表示に寄与する領域）とは個別にスイッチング素子を形成する平面領域を必要としないので、高密度に絵素電極を形成、及び配置することができるので開口率が向上するとともに高精細な表示を実現することができる。
【００１７】
また、上記した本発明の液晶表示装置は、前記複数の絵素電極は縦横にマトリクス状に配置され、一つの前記配線は縦横いずれかの方向に延在するとともに、延在する方向に配列した複数の前記絵素電極の前記反射表示領域に備えられた前記反射層の下層を延在するよう形成されていることを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、縦方向或いは横方向に配列した複数の絵素電極の反射層の下方を配線が縦方向或いは横方向に縫って通されているので、表示に用いられていない配線形成のための領域を、反射表示に用いられている領域により重ねて覆い隠せる。そのため表示に用いられる領域が大幅に増やせるので高密度に絵素電極を形成、及び配置することができ、開口率が向上すると共に高精細な表示を実現することができる。
【００１９】
また、上記した本発明の液晶表示装置は、前記絶縁層は、前記反射表示領域における前記液晶層の厚さを前記透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくする液晶層厚調整層を備えていることを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、反射透過型の液晶表示装置では、透過表示を行う透過表示領域では入射光が液晶層を１回しか透過しないが、反射表示を行う反射表示領域では入射光が液晶層を２回通過するため、透過表示領域と反射表示領域とのリタデーション（位相差）が生じるものである。そこで、液晶層厚調整層を形成し、これによって反射表示領域と透過表示領域とを個別に最適なリタデーションとなるよう調節することで、透過表示領域と反射表示領域との位相差が最適化され、表示品質に優れた液晶表示装置が得られる。このように、液晶層厚調整層を用いることで、第１基板上に平面的に重なって位置する反射層と配線との絶縁性の確保と、透過表示領域と反射表示領域の両方の表示品質の向上が図られる。
【００２１】
また、上記した本発明の液晶表示装置は、前記絵素電極を備える一つの前記絵素領域は長手方向と短手方向とを有し、前記反射層は前記絵素領域の長手方向の端部に島状に配置され、前記配線は前記絵素領域の短手方向に沿って延在形成されていることを特徴とする。
【００２２】
また、上記した本発明の液晶表示装置は、前記絵素電極を備える一つの前記絵素領域は長手方向と短手方向とを有し、前記反射層は前記絵素領域の短手方向の端部に島状に配置され、前記配線は前記絵素領域の長手方向に沿って延在形成されていることを特徴とする。
【００２３】
この構成によれば、表示に用いられる主として絵素領域（絵素電極）で占められる領域とは別に平面的に配線に必要とされる領域を互いに隣接する島状の反射層の間のみに留めることができるので、表示に用いられる主として絵素領域（絵素電極）を高密度に形成、及び配置することができ、高輝度且つ高精細な表示を実現することができる。
【００２４】
また、上記した本発明の液晶表示装置は、前記反射層は、前記絵素領域間にも形成されるとともに前記配線に沿った方向に延在して形成されていることを特徴とする。
【００２５】
この構成によれば、配線が反射層で確実に平面的に覆われる配置構成となるので、ドット領域間の光漏れを少なくすることができる。また、配線を帯状に形成することができるので、配線の抵抗率の低減及び信頼性の向上が可能となる。
【００２６】
また、上記した本発明の液晶表示装置は、前記反射層には、１つの前記絵素電極内において、前記透過表示領域に対応した間口が設けられていることを特徴とする。
【００２７】
この構成によれば、絵素領域内、或いは絵素領域間において、透過表示領域以外の領域が反射層で覆われるので光漏れを確実に防止することができ、コントラストの高い表示が得られる。
【００２８】
また、上記した本発明の液晶表示装置は、前記配線の幅は、前記絵素領域内に形成された反射層の幅（前記配線の幅方向と一致する方向の幅）よりも狭く形成されていることを特徴とする。つまり、反射層の幅内に配線の幅が収められていることを特徴とする。
【００２９】
この構成によれば、配線の幅が反射層の幅内に平面的に納まるので開口率の低下を防止できる。
【００３０】
また、本発明による液晶表示装置を搭載した電子機器は、例えば消費電力の小さい携帯電話やモバイルコンピュータ等表示品質に優れた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明に係る実施形態について、図面を参照して説明する。なお、本実施形態の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。また、本発明を説明する際に不要な要素については、記載を省いている。
【００３２】
（実施形態１）
図１（Ａ）は、島状の反射層を形成した液晶表示装置の平面図、図１（Ｂ）は単一画素の拡大図、図２は図１（Ｂ）のＡ−Ａ´部分の断面図である。なお、公知の技術である配向層や、液晶の厚みを制御するためのスペーサ等の要素については記載を省略している。
【００３３】
液晶表示装置１００は、以下に示す構成で形成されている。
【００３４】
ガラス等光を透過する材質からなる第１基板１０１上には、薄膜ダイオード（以下ＴＦＤと記載）１０２等、２端子の非線形素子が形成されている。図１上でマトリクスの縦側方向に延在するよう配置されている信号線１０３は例えばＣｒ等からなり、ＴＦＤ１０２は、例えばＴａ等からなる第１電極１と、第１電極１の表面に形成された絶縁層（陽極酸化膜）１１３と、Ｃｒ等からなる第２電極１１４から形成されている。第１電極１の表面に形成された絶縁層（陽極酸化膜）１１３は、陽極酸化ライン３を通じて形成されたものであり、第１電極１は陽極酸化後にエッチングによって陽極酸化ライン３から切り離されたものである。
【００３５】
ＴＦＤ１０２は、信号線１０３とＩＴＯ等の透明導電性物質からなる第１絵素電極１０４との間に介在し、画像表示単位となる図１（Ｂ）中に太線で示した絵素領域（走査線１１０と第１絵素電極１０４が平面的に重なる領域）１０５の明暗階調を保持、制御する。また、ＴＦＤ１０２は、反射層１０６と第１基板１０１との間に配置されている。従って、第２電極１１４は、ＴＦＤ１０２から第１絵素電極１０４とを電気的に接続する配線も兼ねており、反射表示領域１１６と透過表示領域１１５との境界部（絶縁層のよって段差が生じる端部）に延在して形成され、絶縁層からはみ出した箇所で第１絵素電極１０４と電気的な接続が図られている。
【００３６】
反射層１０６は例えばアルミニウムを用いて形成されており、鏡面反射を防止するために凸凹をつけた第１絶縁層１０７上に島状に孤立した状態で設けられている。そしてこの反射層１０６は図１（Ｂ）からわかるように絵素領域１０５の長辺に平行な端部に配置されている。つまり、反射層１０６は絵素領域１０５の短手方向の片側の端部に寄せられて島状に配置されている。反射層１０６を形成した領域は反射表示領域１１６として機能するため、反射層１０６と反射表示領域１１６は、平面図では同一の形状を成す。
【００３７】
信号線１０３は、反射層１０６の幅ｄ6よりも狭い幅ｄ3を有してなり、反射層１０６の下層を縫うように形成されている。なお、絵素領域１０５中で反射層１０６が形成されていない部分は透過表示領域１１５として機能する。従って、絵素領域１０５内には反射表示領域１１６と透過表示領域１１５とが個別に設けられている。
【００３８】
反射層１０６上には、反射層１０６と電気的に接触しないように第２絶縁層１０８を介してその上方に第１絵素電極１０４が形成されている。
【００３９】
第２基板１０９には、例えばＩＴＯ等の透明導電性物質からなり、帯状の形状を有し第２絵素電極を兼ねている走査線１１０が、図１上でマトリクスの横側方向と平行に延在するよう配置されている。そして、液晶層１１１が第１基板１０１と、第２基板１０９の間に挟持されている。液晶層１１１の厚みは透過表示領域１１５では約３μｍである。
【００４０】
ここで、第１絶縁層１０７及び第２絶縁層の厚み（、及び反射層１０６の厚み）の和によって、反射表示領域１１６における液晶層１１１の層厚が、透過表示領域１１５における液晶層１１１の層厚のおよそ半分程度の膜厚を有するように設定されており、この絶縁層が液晶層厚調整層１１２として機能することで透過光と反射光の光路長を合わせたマルチギャップ構成を実現している。
【００４１】
ここで、実施形態１の効果について説明する。
【００４２】
反射層１０６上の液晶層１１１の厚さを略半分にすることで透過する光と反射する光の光路長を合わせることができ、反射モードでも透過モードと同様にリタデーションを抑えた表示ができる。
【００４３】
また、上記したように２端子の非線形素子であるＴＦＤ１０２を用いることで、３端子を必要とするＴＦＴと比較して配線領域を減少させることが可能となる。例えばＴＦＴを用いた場合に必要となる第１基板上の信号線１０３と交差する走査線を省略することが可能であるため、ＴＦＴを用いて作られたアクティブマトリクス方法と比べ、高い開口率を得ることができ、明るい液晶表示装置を形成することができる。
【００４４】
（変形例１）
上記した実施例１では反射層１０６と第１絵素電極１０４とを電気的に分離した例について説明したが、これは、反射層１０６が反射表示領域１１６における液晶層１１１を駆動する電極（絵素電極１０４）を兼ねた構成、或いは、反射層１０６と第１絵素電極１０４とを電気的に接続した構成においても同様な効果が得られる。図３は、反射層と第１絵素電極を電気的に接続する場合の断面図である。図３は、図４のＡ−Ａ´部分の断面図である。
【００４５】
図３においては、第１絵素電極１０４は、反射層１０６の上に覆うように直接形成されて積層されている構成によって電気的な接続がなされている。また、図３において、第１絵素電極１０４が反射層１０６の端部（反射層１０６の一部）で重なって電気的に接続がなされた構成とされていてもよい。そして、電極を兼ねる反射層１０６は、ＴＦＤ１０２の第２電極１１４とコンタクトホール２を介して電気的に接続されている。
【００４６】
この場合、液晶層厚調整層１１２は第１絶縁層１０７と反射層１０６と層厚の和が透過表示の行う領域の液晶層１１１の層厚のおよそ半分程度の膜厚に設定することで透過光と反射光の光路長を合わせたマルチギャップ構成とすることが好ましい。
【００４７】
次に、変形例１の効果について説明する。
【００４８】
電気的に絵素電極１０４と反射層１０６とを短絡することで、反射層１０６は電気的な遮蔽層としての機能を有するため、他の領域からの電位の回り込み等を反射層１０６で遮断することでより安定した動作を行わせることができる。
【００４９】
（変形例２）
上記した実施例１では、島状に反射層１０６を形成して開口率を上げた構造について説明したが、ここでは、反射層１０６を帯状に繋げて信号線１０３を覆うことで更に反射率の向上と絵素領域間の遮光を実現する構造について説明する。図５は、反射率を更に向上させるために反射層の形状を変えた液晶表示装置の平面図である。
【００５０】
図５に示すように、反射層１０６は信号線１０３を全面覆っている。そのため、図１で示されるように実施例１では光制御に関与していなかった信号線１０３の領域にも反射層１０６と太線で示した第１絵素電極１０４が形成されるため、より輝度の高い反射表示を行うことができる。断面図は図２と同様であり、反射層１０６が信号線１０３に沿って、且つ信号線１０３を覆って帯状に形成されている。
【００５１】
次に、変形例２の効果について説明する。
【００５２】
反射層１０６が電気的に信号線１０３と並列に接続されることにより、信号線１０３の抵抗を等価的に下げられるため、信号線１０３の抵抗により発生する時定数による歪を軽減することができる。
【００５３】
（変形例３）
上記した変形例２では、反射層１０６が信号線１０３の全域とＴＦＤ１０２とを覆って帯状に形成された構造について説明したが、ここでは更に開口率を向上させるとともに反射率の向上を得る構造について説明する。図６は反射表示における明るさを更に向上させるために反射層の形状を変えた液晶表示装置の平面図である。尚、図６のＡ−Ａ´部分の断面図は図２と同様である。
【００５４】
図６に示すように、透過表示を行う透過表示領域１１５の領域以外は、全て反射層１０６で覆われている。即ち、反射層１０６に開口が設けられ、開口に対応する領域が背面から入射する光を透過して表示を行う透過表示領域１１５とされている。この構造を用いることで、光の利用効率をきわめて高くすることができる。
【００５５】
なお、ここでは変形例２と同様に第１絵素電極１０４にＴＦＤ１０２の第２電極（出力端子）１１４から電位を伝えるために、ＴＦＤ１０２の第２電極（出力端子）１１４を延長して配線し、ＴＦＤ１０２の第２電極（出力端子）１１４と第１絵素電極１０４の透過部分とを一部重ねた構造を用いている。また、この構造を用いる場合には、反射層１０６と走査線１０３とが電気的に絶縁されていることが必要である。
【００５６】
次に、変形例３の効果について説明する。
【００５７】
透過表示を行う透過表示領域１１５の領域以外は、全て反射層１０６で覆われているため、光の利用効率をきわめて高くすることができる。
【００５８】
（実施形態２）
図７（Ａ）は、島状の反射層７０６を形成した液晶表示装置の平面図、図７（Ｂ）は単一画素の拡大図、図８は図７（Ｂ）のＡ−Ａ´部分の断面図である。
【００５９】
液晶表示装置７００は、以下に示す構成で形成されている。
【００６０】
ガラス等光を透過する材質からなる第１基板７０１上には、薄膜ダイオード（以下ＴＦＤと記載）７０２等、２端子の非線形素子が形成されている。図７上でマトリクスの横側方向に延在している走査線７０３は例えばＣｒ等からなり、ＴＦＤ７０２は、例えばＴａ等からなる第１電極１と、第１電極１の表面に形成された絶縁層（陽極酸化膜）７１３と、Ｃｒ等からなる第２電極７１４から形成されている。第１電極１の表面に形成された絶縁層（陽極酸化膜）７１３は、陽極酸化ライン３を通じて形成されたものであり、第１電極１は陽極酸化後にエッチングによって陽極酸化ライン３から切り離されたものである。
【００６１】
ＴＦＤ７０２は、走査線７０３とＩＴＯ等の透明導電性物質からなる第１絵素電極７０４との間に介在し、画像表示単位となる図７（Ｂ）中に太線で示した絵素領域（信号線７１０と第１絵素電極７０４が平面的に重なる領域）７０５の明暗階調を保持、制御する。また、ＴＦＤ７０２は、反射層７０６と第１基板７０１との間に配置されている。従って、第２電極７１４は、ＴＦＤ７０２から第１絵素電極７０４とを電気的に接続する配線も兼ねており、反射表示領域１１６と透過表示領域１１５との境界部（絶縁層のよって段差が生じる端部）に延在して形成され、絶縁層からはみ出した箇所で第１絵素電極７０４と電気的な接続が図られている。
【００６２】
反射層７０６は例えばアルミニウムを用いて形成されており、鏡面反射を防止するために凸凹をつけた第１絶縁層７０７上に島状に孤立した状態で設けられている。そしてこの反射層７０６は図７（Ｂ）からわかるように絵素領域７０５の一方の短辺に配置されている。つまり、反射層７０６は絵素領域７０５の長手方向の片側の端部に寄せられて島状に配置されている。反射層７０６を形成した領域は反射表示領域１１６として機能するため、反射層１０６と反射表示領域１１６は、平面図では同一の形状を成す。
【００６３】
走査線７０３は、反射層７０６の幅ｄ6よりも狭い幅ｄ3を有してなり、反射層７０６の下層を縫うように形成されている。なお、絵素領域７０５中で反射層７０６が形成されていない部分は透過表示領域１１５として機能する。従って、絵素領域７０５内には反射表示領域１１６と透過表示領域１１５とが個別に設けられている。
【００６４】
反射層７０６上には、反射層７０６と電気的に接触しないように第２絶縁層７０８を介してその上方に第１絵素電極７０４が形成されている。
【００６５】
第２基板７０９には、例えばＩＴＯ等の透明導電性物質からなり、帯状の形状を有し第２絵素電極を兼ねている信号線７１０が、図７上でマトリクスの縦方向と平行に延在するように形成されている。そして、液晶層１１１が第１基板７０１と、第２基板７０９の間に挟持されている。液晶層１１１の厚みは透過表示領域１１５では約３μｍである。
【００６６】
ここで、第１絶縁層７０７及び第２絶縁層の厚み（、及び反射層７０６の厚み）の和によって、反射表示領域１１６における液晶層７１１の層厚が、透過表示領域１１５における液晶層１１１の層厚のおよそ半分程度の膜厚を有するように設定されており、この絶縁層が液晶層厚調整層１１２として機能することで透過光と反射光の光路長を合わせたマルチギャップ構成を実現している。
【００６７】
ここで、実施形態２の効果について説明する。
【００６８】
反射層７０６上の液晶層１１１の厚さを略半分にすることで透過する光と反射する光の光路長を合わせることができ、反射モードでも透過モードと同様にリタデーションを抑えた表示ができる。
【００６９】
また、上記したように２端子の非線形素子であるＴＦＤ７０２を用いることで、３端子を必要とするＴＦＴと比較して配線領域を減少させることが可能となる。例えばＴＦＴを用いた場合に必要となる第１基板上の走査線７０３と交差する信号線を省略することが可能であるため、ＴＦＴを用いて作られたアクティブマトリクス方法と比べ、高い開口率を得ることができ、明るい液晶表示装置を形成することができる。
【００７０】
（変形例４）
上記した実施例２では反射層７０６と第１絵素電極７０４とを電気的に分離した例について説明したが、これは、反射層７０６が反射表示領域１１６における液晶層１１１を駆動する電極（絵素電極７０４）を兼ねた構成、或いは、反射層７０６と第１絵素電極７０４とを電気的に接続した構成においても同様な効果が得られる。図９は、反射層と第１絵素電極を電気的に接続する場合の断面図である。図９は、図１０のＡ−Ａ´部分の断面図である。
【００７１】
図９においては、第１絵素電極７０４は、反射層７０６の上に覆うように直接形成されて積層されている構成によって電気的な接続がなされている。また、図９において、第１絵素電極７０４が反射層７０６の端部（反射層７０６の一部）で重なって電気的に接続がなされた構成とされていてもよい。そして、電極を兼ねる反射層７０６は、ＴＦＤ７０２の第２電極７１４とコンタクトホール２を介して電気的に接続されている。
【００７２】
この場合、液晶層厚調整層１１２は第１絶縁層７０７と反射層７０６と層厚の和が透過表示の行う領域の液晶層１１１の層厚のおよそ半分程度の膜厚に設定することで透過光と反射光の光路長を合わせたマルチギャップ構成とすることが好ましい。
【００７３】
次に、変形例４の効果について説明する。
【００７４】
電気的に絵素電極７０４と反射層７０６とを短絡することで、反射層７０６は電気的な遮蔽層としての機能を有するため、他の領域からの電位の回り込み等を反射層７０６で遮断することでより安定した動作を行わせることができる。
【００７５】
（変形例５）
上記した実施例２では、島状に反射層７０６を形成して開口率を上げた構造について説明したが、ここでは、反射層７０６を帯状に繋げて走査線７０３を覆うことで更に反射率の向上と絵素領域間の遮光を実現する構造について説明する。図１１は、反射率を更に向上させるために反射層の形状を変えた液晶表示装置の平面図である。
【００７６】
図１１に示すように、反射層７０６は走査線７０３を全面覆っている。そのため、図７で示されるように実施例２では光制御に関与していなかった走査線７０３の領域にも反射層７０６と太線で示した第１絵素電極７０４が形成されるため、より輝度の高い反射表示を行うことができる。断面図は図８と同様であり、反射層７０６が走査線７０３に沿って、且つ走査線７０３を覆って帯状に形成されている。
【００７７】
次に、変形例２の効果について説明する。
【００７８】
反射層７０６が電気的に走査線７０３と並列に接続されることにより、走査線７０３の抵抗を等価的に下げられるため、走査線７０３の抵抗により発生する時定数による歪を軽減することができる。
【００７９】
（変形例６）
上記した変形例５では、反射層７０６が走査線７０３の全域とＴＦＤ７０２とを覆って帯状に形成された構造について説明したが、ここでは更に開口率を向上させるとともに反射率の向上を得る構造について説明する。図１２は反射表示における明るさを更に向上させるために反射層の形状を変えた液晶表示装置の平面図である。尚、図１２のＡ−Ａ´部分の断面図は図８と同様である。
【００８０】
図１２に示すように、透過表示を行う透過表示領域１１５の領域以外は、全て反射層７０６で覆われている。即ち、反射層７０６に開口が設けられ、開口に対応する領域が背面から入射する光を透過して表示を行う透過表示領域１１５とされている。この構造を用いることで、光の利用効率をきわめて高くすることができる。
【００８１】
なお、ここでは変形例５と同様に第１絵素電極７０４にＴＦＤ１０２の第２電極（出力端子）７１４から電位を伝えるために、ＴＦＤ７０２の第２電極（出力端子）７１４を延長して配線し、ＴＦＤ７０２の第２電極（出力端子）７１４と第１絵素電極７０４の透過部分とを一部重ねた構造を用いている。また、この構造を用いる場合には、反射層７０６と走査線７０３とが電気的に絶縁されていることが必要である。
【００８２】
次に、変形例６の効果について説明する。
【００８３】
透過表示を行う透過表示領域１１５の領域以外は、全て反射層７０６で覆われているため、光の利用効率をきわめて高くすることができる。
【００８４】
（実施形態３）
次に、上記した液晶表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
【００８５】
図１３は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１３において、符号１３００は携帯電話本体を示し、符号１３０１は上記液晶表示装置を用いた表示部を示している。符号１３０２は操作部、１３０３、１３０４はそれぞれ受話部及び送話部である。このような電子機器は、上記実施の形態の液晶表示装置を用いた表示部を備えているので、広視野角、高コントラストであって、高画質の表示が可能な電子機器となる。
【００８６】
また、上記の電子機器は、携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても高画質表示が可能になっている。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】実施形態１に係る島状の反射層を形成した液晶表示装置の平面図。
【図２】実施形態１に係る図１（Ｂ）のＡ−Ａ´部分の断面図。
【図３】変形例１に係る図１（Ｂ）のＡ−Ａ´部分の断面図。
【図４】変形例１に係る液晶表示装置の絵素領域の拡大平面図。
【図５】変形例２に係る反射層の形状を変えた液晶表示装置の平面図。
【図６】変形例３に係る反射層の形状を変えた液晶表示装置の平面図。
【図７】実施形態２に係る島状の反射層を形成した液晶表示装置の平面図。
【図８】実施形態１に係る図１（Ｂ）のＡ−Ａ´部分の断面図。
【図９】変形例４に係る図１（Ｂ）のＡ−Ａ´部分の断面図。
【図１０】変形例４に係る液晶表示装置の絵素領域の拡大平面図。
【図１１】変形例５に係る反射層の形状を変えた液晶表示装置の平面図。
【図１２】変形例６に係る反射層の形状を変えた液晶表示装置の平面図。
【図１３】実施形態３に係る携帯電話の一例を示した斜視図。
【符号の説明】
【００８８】
１００…液晶表示装置、１０１…第１基板、１０２…２端子の非線形素子としてのＴＦＤ、１０３…配線としての信号線、１０４…絵素電極としての第１画素電極、１０５…絵素領域、１０６…反射層、１０７…第１絶縁層、１０８…第２絶縁層、１０９…第２基板、１１０…走査線、１１１…液晶層、１１２…液晶層厚調整層、１１３…絶縁層、１１４…第２電極（出力端子）、１１５…透過表示領域、１１６…反射表示領域、７００…液晶表示装置、７０１…第１基板、７０２…２端子の非線形素子としてのＴＦＤ、７０３…配線としての信号線、７０４…絵素電極としての第１絵素電極、７０５…絵素領域、７０６…反射層、７０７…第１絶縁層、７０８…第２絶縁層、７０９…第２基板、７１０…信号線、７１３…絶縁層、７１４…第２電極（出力端子）、１３００…携帯電話本体、１３０１…表示部、１３０２…操作部、１３０３…受話部、１３０４…送話部。
【図１】
2006284936.tif 000003
【図２】
2006284936.tif 000004
【図３】
2006284936.tif 000005
【図４】
2006284936.tif 000006
【図５】
2006284936.tif 000007
【図６】
2006284936.tif 000008
【図７】
2006284936.tif 000009
【図８】
2006284936.tif 000010
【図９】
2006284936.tif 000011
【図１０】
2006284936.tif 000012
【図１１】
2006284936.tif 000013
【図１２】
2006284936.tif 000014
【図１３】
2006284936.tif 000015