(57)【要約】【課題】  搬送テーブルの裏面に付着するゴミおよびかすを除去することができるワーク搬送システムを提供する。【解決手段】  ワーク搬送システムは基盤２と、基盤２上に設けられた搬送テーブル３とを備え、搬送テーブル３の周縁部に多数のワーク収納孔４が設けられている。基盤２上のワーク排出部Ｂからワーク供給部Ａまでの部分に、かす受溝５ａが設けられている。このかす受溝５ａは、ワークｗが収納されていないワーク収納孔４に対応する部分に設けられ、搬送テーブル３の裏面３ａに付着したゴミおよびかすは、このかす受部５ａ内に落下して除去される。【選択図】  図２
2006089268.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワーク供給部とワーク排出部とを有するワーク搬送システムにおいて、
基盤と、
基盤上に回転自在に配置され、周縁部近傍に多数のワーク収納孔を有する搬送テーブルとを備え、
搬送テーブルのワーク収納孔は、搬送テーブルを貫通して形成され、
基盤上のワーク排出部から下流側のワーク供給部までの部分であって、ワークが収納されないワーク収納孔に対応する部分に、基盤の表面から落ち込むかす受溝を設けたことを特徴とするワーク搬送システム。
【請求項２】
かす受溝のうち、搬送テーブルの搬送方向下流側に、搬送テーブル裏面のかすを掻き取る断面直角をなすエッジを設けたことを特徴とする請求項１記載のワーク搬送システム。
【請求項３】
かす受溝に、真空機構を接続したことを特徴とする請求項１記載のワーク搬送システム。
【請求項４】
かす受溝内に搬送テーブル裏面のかすを掻き取る掻取板を有する掻取治具を設けたことを特徴とする請求項１記載のワーク搬送システム。
【請求項５】
ワーク収納孔は搬送テーブルに１列以上にわたって環状に設けられ、
かす受溝には、各列のワーク収納孔に対応する掻取板が設けられていることを特徴とする請求項４記載のワーク搬送システム。
【請求項６】
ワーク収納孔は搬送テーブルに環状に設けられ、
かす受溝には、環状に設けられたワーク収納孔に対応して複数の掻取板が連続して設けられていることを特徴とする請求項４記載のワーク搬送システム。
【請求項７】
掻取治具にスリットが形成され、掻取板はこのスリット内に上下方向に摺動自在に設けられていることを特徴とする請求項４記載のワーク搬送システム。
【請求項８】
掻取治具に一対のスリットが形成され、掻取板はコ字状に形成され、一対のスリット内に上下方向に摺動自在に設けられていることを特徴とする請求項７記載のワーク搬送システム。
【請求項９】
掻取板には上面から降下する上方切欠きが設けられていることを特徴とする請求項７または８のいずれか記載のワーク搬送システム。
【請求項１０】
掻取板には上面から降下する上方切欠きおよび掻取治具上面との間に隙間を形成する下方切欠きが設けられていることを特徴とする請求項８記載のワーク搬送システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基盤と、搬送テーブルとを有するワーク搬送システムに係り、とりわけ搬送テーブル裏面に付着した金属粉や、ワークから排出される電極かすなどを除去することができるワーク搬送システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のワーク搬送システムについて、図７および図８により説明する。このうち図７は従来のワーク搬送システムを示す図であり、図８はワーク収納孔に収納されたワークを示す、搬送テーブルのラジアル方向の断面図である。
【０００３】
図７に示すようにワーク搬送システム１００において、基盤１０２上を回動する搬送テーブル３のワーク収納孔４内に、ワーク供給部Ａから図示しないワーク供給手段によりチップ状電子部品などのワークｗが収納される。ワーク収納孔４内のワークｗは、図８に示すように搬送テーブル３によって搬送され、最終のワーク排出部Ｂに至る間に検査や測定が行われ、その結果に応じてそれぞれの排出位置から排出される。
【０００４】
搬送テーブル３の裏面３ａと基盤１０２の表面１０２ａ間において、搬送テーブル３の裏面３ａには、ワーク収納孔４に連通するとともに搬送テーブル３のラジアル方向に延びる吸引溝１３が設けられている。この吸引溝１３には、図示しない真空発生源に真空配管９ａを介して接続されたリング状の真空吸引溝９が接続されている。ワークｗがワーク収納孔４内に吸引保持され、真空吸引溝９の負圧により基盤１０２と搬送テーブル３とが互いに密接し、この状態で基盤１０２上を搬送テーブル３が回動している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところでワークｗをワーク収納孔４内に収納する際、ワークｗが基盤１０２と衝突したり、ワークｗの電極ｗａが基盤１０２と摩擦したり、ワークｗが特性測定の為の図示しない測定プローブと摩擦することがある。この場合、ワークｗの電極ｗａから電極かすなどの微粉末が排出され、この微粉末が真空吸引溝９による負圧により吸引されてワーク収納孔４から基盤１０２と搬送テーブル３との間に入り込んで搬送テーブル３の裏面３ａなどに付着する。この場合は、搬送テーブル３の回転が不安定になったり、次第に搬送テーブル３の裏面３ａと基盤１０２の表面１０２ａとの隙間が拡大して、真空漏れなどによる動作不良が発生するようになる恐れがある。
【０００６】
このような場合、その都度搬送テーブル３を基盤１０２から取外して搬送テーブル３の裏面３ａのかす除去を行ったり、基盤１０２の表面１０２ａの清掃を行うなどの機械停止を伴う作業が必要となり、稼働率低下およびメンテナンス費用の高騰の原因となっていた。
【０００７】
ところで上記したかす材料は、チップ状電子部品の電極材料（特に表面材料）が主で、これに埃等が入り込み、かすは延ばした様に付着して形成される。
【０００８】
電極の表面材料としてはハンダの様な軟質材の他、硬質材としてニッケル、パラジウム等が考えられる。
【０００９】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、基盤と搬送テーブルとの間に入り込む金属粉や電極かす等を確実に除去することができるワーク搬送システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、ワーク供給部とワーク排出部とを有するワーク搬送システムにおいて、基盤と、基盤上に回転自在に配置され、周縁部近傍に多数のワーク収納孔を有する搬送テーブルとを備え、搬送テーブルのワーク収納孔は、搬送テーブルを貫通して形成され、基盤上のワーク排出部から下流側のワーク供給部までの部分であって、ワークが収納されないワーク収納孔に対応する部分に、基盤の表面から落ち込むかす受溝を設けたことを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１１】
本発明は、かす受溝のうち、搬送テーブルの搬送方向下流側に、搬送テーブル裏面のかすを掻き取る断面直角をなすエッジを設けたことを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１２】
本発明は、かす受溝に、真空機構を接続したことを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１３】
本発明は、かす受溝内に搬送テーブル裏面のかすを掻き取る掻取板を有する掻取治具を設けたことを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１４】
本発明は、ワーク収納孔は搬送テーブルに１列以上にわたって環状に設けられ、かす受溝には、各列のワーク収納孔に対応する掻取板が設けられていることを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１５】
本発明は、ワーク収納孔は搬送テーブルに環状に設けられ、かす受溝には、環状に設けられたワーク収納孔に対応して複数の掻取板が連続して設けられていることを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１６】
本発明は、掻取治具にスリットが形成され、掻取板はこのスリット内に上下方向に摺動自在に設けられていることを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１７】
本発明は、掻取治具に一対のスリットが形成され、掻取板はコ字状に形成され、一対のスリット内に上下方向に摺動自在に設けられていることを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１８】
本発明は、掻取板には上面から降下する上方切欠きが設けられていることを特徴とするワーク搬送システムである。
【００１９】
本発明は、掻取板には上面から降下する上方切欠きおよび掻取治具上面との間に隙間を形成する下方切欠きが設けられていることを特徴とするワーク搬送システムである。
【発明の効果】
【００２０】
以上のように本発明によれば、搬送テーブルの裏面に付着したゴミおよびかすをかす受溝内に落下させて除去することができる。このため、搬送テーブルの裏面にゴミおよびかすが付着して堆積することはない。従って機械停止を伴う搬送テーブルの裏面の清掃が不要となり、機械の稼働率を大幅に向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
【００２２】
図１および図２は本発明によるワーク搬送システムの一実施の形態を示す図である。
【００２３】
このうち図１はワーク搬送システムの平面図であり、図２は図１のＣ−Ｃ線断面図である。
【００２４】
図１および図２に示すように、ワーク搬送システム１はワークｗ（図８参照）が供給されるワーク供給部Ａと、ワークｗが排出されるワーク排出部Ｂとを有している。このようなワーク搬送システム１は、表面２ａを有する基盤２と、基盤２の表面２ａ上に回転自在に配送された搬送テーブル３とを備えている。
【００２５】
このうち搬送テーブル３は、基盤２の表面に当接する裏面３ａを有し、その周縁部近傍に２列に渡って円周状（環状）に多数のワーク収納溝４が等間隔で設けられている。この搬送テーブル３のワーク収納溝４は、搬送テーブル３を上下方向に貫通して設けられている。
【００２６】
さらに各ワーク収納孔４は、搬送テーブル３の裏面３ａにワーク収納孔４それぞれに対応して設けられた吸引溝１３（図８）を介して基盤２側の環状の真空吸引溝９に各々連通されている。
【００２７】
ところでワーク搬送システム１は、図示しないワーク供給手段によりワークｗを供給するワーク供給部Ａと、電気特性の測定等を行なうワーク処理部Ｄと、図示しない排出手段により所定位置においてワーク収納孔４内のワークｗを排出するワーク排出部Ｂとを有している。全てのワークｗが排出されたワーク排出部Ｂとワーク供給部Ａの間であって、かつワークｗが収納されていないワーク収納孔４が通過する基盤２上、すなわち基盤２上であってワークｗが収納されていないワーク収納孔４に対応する部分には、かす除去装置５が設けられている。
【００２８】
図２に示すように、かす除去装置５は基盤２の表面２ａから落ち込むかす受溝５ａを有し、このかす受溝５ａは連通溝６および吸引孔７を介して、かす受溝５ａが常時吸引となるよう真空発生源７ａに連通されている。
【００２９】
次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
【００３０】
図１において、ワーク供給部Ａから供給されたワークｗは、基盤２に設けられた吸引溝９の負圧により吸引されて、図８に示すようにワーク収納孔４内に収納保持され、搬送テーブル３の回転に伴い搬送される。ワーク供給部Ａからワーク収納孔４内に収納されたワークｗは、ワーク排出部Ｂに至る間にワーク処理部Ｄにおいて電気特性の測定等の処理が行われた後、測定結果に基づき所定排出部においてそれぞれ排出され、ワーク排出部Ｂで全てのワークｗが排出されてワーク収納孔４が空になる。
【００３１】
この間、基盤２に設けられた吸引溝９の負圧により搬送テーブル３自体も吸引されるため、図２に示すように基盤２の表面２ａと搬送テーブル３の裏面３ａとは互いに略密接された状態で摺動する。また基盤２の表面２ａと搬送テーブル３の裏面３ｂとは、かす受溝５ａ内の負圧により、更に密接する。かす受溝５ａのうち、搬送テーブル３の搬送方向下流側に位置するかす受溝５ａと基盤２の表面２ａとの間の角部には、断面直角をなすエッジ５ｂが設けられている。
【００３２】
搬送テーブル３の裏面３ａに付着したゴミやかすは、搬送テーブル３の裏面３ａが基盤２のエッジ５ｂに引掛って掻き取られた後、かす受溝５ａ内に真空吸引により吸引され、その後かす受溝５ａから連通溝６および吸引孔７を介して外方へ排出される。
【００３３】
次に図３（ａ）（ｂ）および図４（ａ）（ｂ）により本発明の他の実施の形態について説明する。図３（ａ）（ｂ）および図４（ａ）（ｂ）に示すように、かす溝５ａ内に掻取板８ａからなる掻取治具８が設けられている。掻取板８ａのエッジ８ｂは、基盤２の表面２ａと面一になるように配置されている。かす受溝５ａの負圧により吸引された搬送テーブル３の裏面３ａは、更に掻取板８ａのエッジ８ｂに密接されるようになり、かす受溝５ａのエッジ５ｂによる掻き取りに加えて掻取板８ａのエッジ８ｂによりゴミやかすが掻き取られる。
【００３４】
ここで図３（ａ）はかす受溝を示す平面図であり、図３（ｂ）はかす受溝を示す断面図である。また図４（ａ）は掻取治具の平面図であり、図４（ｂ）は掻取治具の断面図である。
【００３５】
図３（ａ）（ｂ）および図４（ａ）（ｂ）において、図１および図２に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００３６】
図３（ａ）（ｂ）および図４（ａ）（ｂ）に示すように、各かす受溝５ａ内には、２列のワーク収納孔４に対応して、各列に１つずつの合計一対の掻取板８ａが設けられ、一対の掻取板８ａを有する掻取治具８はボルト１５により各かす受溝５ａ内に固定されている。
【００３７】
次に掻取治具８の変形例を示す。図３（ａ）（ｂ）および図４（ａ）（ｂ）において、各かす受溝５ａ内に２列のワーク収納孔４に対応して各列に１つずつ合計一対の掻取板８ａを設けた例を示したが、各かす受溝５ａ内に各列のワーク収納孔４に対応して連続する２つの掻取板８ａを設け、各かす受溝５ａ内に合計４個の掻取板８ａを設けて掻取治具８を構成してもよい（図５（ａ）（ｂ））。
【００３８】
ここで図５（ａ）は掻取治具の平面図であり、図５（ｂ）は掻取治具の断面図である。このように各列のワーク収納孔４に対応して連続する２つの掻取板８ａを設けることにより、ワークｗの微細化に伴って搬送テーブル３が薄板化し、かす受溝５ａの真空吸引によって搬送テーブル３に歪みが生じる恐れがあっても、連続する２つの掻取板８ａにより搬送テーブル３の歪みを防止して、確実にゴミやかすを掻取ることができる。
【００３９】
図５（ａ）（ｂ）において、かす受溝５ａ内に設けられた４つの掻取板８ａの各々のエッジ８ｂによりゴミやかすが掻き取られる。
【００４０】
図４（ａ）（ｂ）および図５（ａ）（ｂ）により示される掻取治具８は、図３に示すようにボルト１５により基盤２に固定されている。このように寸法的に精密に掻取治具８を作製するため、掻取治具８の材料として安定な鋼材が使用され、また掻取板８ａは耐久性を持たせるため焼入れすることにより、硬度の上昇が図られている。
【００４１】
次に図６（ａ）（ｂ）（ｃ）により掻取治具の他の変形例について説明する。ここで図６（ａ）は掻取治具の平面図であり、図６（ｂ）は図６（ａ）のＥ−Ｅ線断面図であり、図６（ｃ）は図６（ａ）のＦ−Ｆ線断面図である。
【００４２】
図６（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、掻取治具１０はボルト１５によって基盤２に固着され、かつ掻取治具１０は両側に設けられた一対のスリット１１、１１を有している。この一対のスリット１１、１１内に２つのエッジ１０ｂを有するコ字状の掻取板１０ａが上下方向に摺動自在に設けられている。
【００４３】
コ字状の掻取板１０ａはスリット１１、１１内において、バネ１２により上方へ付勢されており、また掻取板１０ａには掻取板１０ａの上面から降下する上方切欠き１０ｃと、掻取治具１０の上面との間に隙間を形成する下方切欠き１０ｄとが形成されている。このうち上方切欠き１０ｃは真空吸引されるかすの流れをスムースにするための切欠きであり、下方切欠き１０ｄは掻取板１０ａが上下方向に振動した際に、掻取治具１０の他の部分と干渉しないようにするための切欠きである。
【００４４】
図６（ａ）（ｂ）（ｃ）に示す掻取治具１０において、掻取板１０ａの材料としては、例えば耐摩耗性があまりなく、加工精度も良好でなく、かつプラスチック材料のように吸湿性をもち、寸法精度が良好でない材料でも用いることができる。
【００４５】
なお掻取治具１０に用いられるバネ１２の強度は、搬送テーブル３のかすを掻き取る力で掻取板１０ａを搬送テーブル３に接触させることができ、かつ搬送テーブル３を真空吸引に抗して浮き上がらせる力以下であることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明によるワーク搬送システムの一実施の形態を示す平面図。
【図２】本発明によるワーク搬送システムの断面図。
【図３】本発明によるワーク搬送システムの他の実施の形態を示す図。
【図４】本発明によるワーク搬送システムの掻取治具を示す図。
【図５】掻取治具の変形例を示す図。
【図６】掻取治具の他の変形例を示す図。
【図７】従来のワーク搬送システムを示す平面図。
【図８】従来のワーク搬送システムの断面図。
【符号の説明】
【００４７】
１  ワーク搬送システム
２  基盤
２ａ  表面
３  搬送テーブル
３ａ  裏面
４  ワーク収納孔
５  かす除去装置
５ａ  かす受溝
５ｂ  エッジ
６  連通溝
７  吸引孔
８  掻取治具
８ａ  掻取板
８ｂ  エッジ
９  真空吸引溝
１０  掻取治具
１０ａ  掻取板
１０ｂ  エッジ
１０ｃ  上方切欠き
１０ｄ  下方切欠き
１１  スリット
１２  バネ
１５  ボルト
【図１】
2006089268.tif 000003
【図２】
2006089268.tif 000004
【図３】
2006089268.tif 000005
【図４】
2006089268.tif 000006
【図５】
2006089268.tif 000007
【図６】
2006089268.tif 000008
【図７】
2006089268.tif 000009
【図８】
2006089268.tif 000010