(57)【要約】【課題】本発明は、透明性に優れ、材料の安全性が高く、密着が良好であり、クリーン性が高く、かつ高速製造によりコストダウンが可能なガスバリアフィルム積層体およびその製造方法を提供する。【解決手段】プラスチック材料からなる基材の片面もしくは両面に、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物を主成分とするガスバリア層を積層してなることを特徴とするガスバリアフィルム積層体およびそのガスバリア層を減圧下で成膜する製造方法である。【選択図】図１
2006103218.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック材料からなる基材の片面もしくは両面に、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物を主成分とするガスバリア層を積層してなることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。
【請求項２】
前記ガスバリア層が、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上のアミン化合物との複合物からなることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項３】
前記ガスバリア層が、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上の有機金属化合物もしくはその加水分解物との複合物からなることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項４】
前記フェノールカルボン酸が、没食子酸であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項５】
前記有機金属化合物が、シランカップリング剤であることを特徴とする請求項３記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項６】
前記ガスバリアフィルム積層体を構成するガスバリア層を減圧下で成膜することを特徴とするガスバリアフィルム積層体の製造方法。
【請求項７】
前記ガスバリア層の成膜方法が、減圧下でガスバリア材料を加熱し、昇華させて成膜することを特徴とする請求項６記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法。
【請求項８】
前記ガスバリア層の成膜方法が、減圧下でガスバリア材料を加熱し、昇華させて成膜する時に、昇華させている近傍で添加剤を噴霧し、ガスバリア層中に添加剤を添加させて成膜することを特徴とした請求項６又は７記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法。
【請求項９】
前記添加剤が、１種類以上の有機金属化合物もしくはその加水分解物および／またはアミン化合物であることを特徴とする請求項８記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法。
【請求項１０】
前記添加剤が、１種類以上のアクリル基を有する化合物であることを特徴とする請求項８記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法。
【請求項１１】
前記ガスバリア層の片面および／または両面に密着層を設けることを特徴とする請求項６乃至１０のいずれか１項に記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法。
【請求項１２】
前記ガスバリア層の片面および／または両面に無機酸化物からなる蒸着薄膜層を設けることを特徴とする請求項６乃至１１のいずれか１項に記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法。
【請求項１３】
前記ガスバリア層の片面および／または両面に無機酸化物からなる蒸着薄膜層を、減圧下で連続して成膜されることを特徴とする請求項６乃至１２のいずれか１項に記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリア性を示し、真空系での製造によりクリーン性が高く、かつ高速製造によりコストダウンが可能なガスバリアフィルム積層体およびその製造方法であり、酸素や水蒸気等の高いガスバリア性を持つことで、大気中の酸素や水蒸気から内容物を遮断し劣化・変質を抑制するガスバリアフィルム積層体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、食品及び医薬品や電子部材等の非食品等の包装に用いられる包装材料は、内容物の変質を抑制しそれらの機能や性質を保持するために、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要があり、これら気体（ガス）を遮断するガスバリア性を備えることが求められている。さらに、最近では電子部材が、金属やガラスからプラスチック材料へと移行するのに伴い、高いガスバリア性能をもつプラスチック材料への要求が高まっている。例えば液晶パネルなどの表示に全面保護層として用いた表示媒体に関するものである。
【０００３】
包装材料として、従来ガスバリア層は、アルミ等の金属からなる金属箔やそれら金属蒸着フィルム、ポリビニルアルコールとエチレンビニル共重合体やポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂フィルムやあるいはこれらの樹脂をコーティングしたプラスチックフィルム等が主に用いられてきた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、金属箔や金属蒸着フィルムは、ガスバリア性に優れるが包装材料を透視して内容物が確認できない、検査の際金属探知器が使用できない、使用後の廃棄の際は不燃物として処理しなければならない等の問題がある。またガスバリア性樹脂フィルムやそれらをコーティングしたフィルムは、温湿度依存性が大きく高度なガスバリア性を維持できない、更に塩化ビニリデンやポリアクリロニトリル等は廃棄・焼却の際に有害物質の原料となりうる可能性があるなどの問題がある。つまり現在、主として用いられているガスバリア包材は、一長一短で各種問題を持っていると言える。
【０００５】
また、一酸化珪素（ＳｉＯ）などの珪素酸化物薄膜、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）薄膜を蒸着した蒸着フィルムは、透明で、ガスバリア性に優れるが、ガスバリア層に用いられる無機化合物の薄膜が可撓性に欠けており、ガスバリア性が著しく低下する問題がある。
【０００６】
以下に特許文献を記す。
【特許文献１】特表２００２−５１８２９号公報。
【０００７】
この問題を解決する為に、珪素酸化薄膜や酸化マグネシウム薄膜の代わりにトリアジン化合物を薄膜蒸着し、可撓性を向上させた報告がなされている（特許文献１参照）。しかし、結晶構造であるトリアジン化合物（メラミン）は、密着が期待できない、毒性の疑いがあるなど問題点も多い。
【０００８】
本発明は、以上のような従来技術の課題を解決しようとするものであり、透明性に優れ、材料の安全性が高く、密着が良好な、ガスバリアフィルム積層体およびその製造方法を提供することを目的とし、ガスバリア性能の必要な食品及び医薬品や電子部材等の非食品等の包装に用いられる包装材料や、プラスチック電子部材、例えば液晶パネルなどの表示
に全面保護層として用いた表示媒体などの電子部材にも用いることができるガスバリアフィルム積層体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するために、すなわち、
請求項１に係る発明は、プラスチック材料からなる基材の片面もしくは両面に、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物を主成分とするガスバリア層を積層してなることを特徴とするガスバリアフィルム積層体である。
【００１０】
請求項２に係る発明は、前記ガスバリア層が、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上のアミン化合物との複合物からなることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム積層体である。
【００１１】
請求項３に係る発明は、前記ガスバリア層が、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上の有機金属化合物もしくはその加水分解物との複合物からなることを特徴とする請求項１記載のガスバリアフィルム積層体である。
【００１２】
請求項４に係る発明は、前記フェノールカルボン酸が、没食子酸であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のガスバリアフィルム積層体である。
【００１３】
請求項５に係る発明は、前記有機金属化合物が、シランカップリング剤であることを特徴とする請求項３記載のガスバリアフィルム積層体である。
【００１４】
請求項６に係る発明は、前記ガスバリアフィルム積層体を構成するガスバリア層を減圧下で成膜することを特徴とするガスバリアフィルム積層体の製造方法である。
【００１５】
請求項７に係る発明は、前記ガスバリア層の成膜方法が、減圧下でガスバリア材料を加熱し、昇華させて成膜することを特徴とする請求項６記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法である。
【００１６】
請求項８に係る発明は、前記ガスバリア層の成膜方法が、減圧下でガスバリア材料を加熱し、昇華させて成膜する時に、昇華させている近傍で添加剤を噴霧し、ガスバリア層中に添加剤を添加させて成膜することを特徴とした請求項６又は７記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法である。
【００１７】
請求項９に係る発明は、前記添加剤が、１種類以上の有機金属化合物もしくはその加水分解物および／またはアミン化合物であることを特徴とする請求項８記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法である。
【００１８】
請求項１０に係る発明は、前記添加剤が、１種類以上のアクリル基を有する化合物であることを特徴とする請求項８記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法である。
【００１９】
請求項１１に係る発明は、前記ガスバリア層の片面および／または両面に密着層を設けることを特徴とする請求項６乃至１０のいずれか１項に記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法である。
【００２０】
請求項１２に係る発明は、前記ガスバリア層の片面および／または両面に無機酸化物からなる蒸着薄膜層を設けることを特徴とする請求項６乃至１１のいずれか１項に記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法である。
【００２１】
請求項１３に係る発明は、前記ガスバリア層の片面および／または両面に無機酸化物からなる蒸着薄膜層を、減圧下で連続して成膜されることを特徴とする請求項６乃至１２のいずれか１項に記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法である。
【００２２】
＜作用＞
本発明によれば、プラスチック材料からなる基材の片面もしくは両面にフェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物を主成分とするガスバリア層を減圧下で成膜することでガスバリアフィルム積層体を得ることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、酸素バリア性を有し、食品、医薬品の包装材料や電子部材等にも用いられるガスバリアフィルム積層体およびその製造方法を提供することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明を、図面を用いて更に詳細に説明する。図１〜３は本発明の一実施例としてのガスバリアフィルム積層体を示す断面模式図である。また図４〜６は本発明の一実施例としてのガスバリアフィルム積層体の製造方法を説明する説明図である。
【００２５】
まず、図１の本発明のガスバリアフィルム積層体を説明する。図１における基材はプラスチック材料からなる基材であり、その上にガスバリア層２が積層されている。
【００２６】
次に、図２の本発明のガスバリアフィルム積層体を説明する。図２における基材１はプラスチック材料からなる基材であり、その上に密着層３、ガスバリア層２が積層されている。
【００２７】
次に、図３の本発明のガスバリアフィルム積層体を説明する。図３における基材１はプラスチック材料からなる基材であり、その上に無機酸化物からなる蒸着薄膜層４、ガスバリア層２が積層されている。
【００２８】
次に、図４の本発明のガスバリアフィルム積層体の製造方法を説明する。図４は１０〜１０-5Ｐａの減圧下を保つ蒸着釜内であり、ヒーターを入れたるつぼ（ａ）内のガスバリア材料を加熱によって昇華させ、冷却キャン（ｂ）上の巻き取りフィルム（ｃ）に連続成膜させるものである。
【００２９】
次に、図５の本発明のガスバリアフィルム積層体の製造方法を説明する。図５は１０〜１０-5Ｐａの減圧下を保つ蒸着釜内であり、ヒーターを入れたるつぼ（ａ）内のガスバリア材料を加熱によって昇華させ、冷却キャン（ｂ）の巻き取りフィルム（ｃ）に連続成膜させる近傍に添加剤を噴霧するノズル（ｄ）があり、ガスバリア材料と一緒に添加剤を連続成膜するものである。
【００３０】
次に、図６の本発明のガスバリアフィルム積層の体製造方法を説明する。図５において、添加剤を噴霧するノズル（ｄ）の近傍に、添加剤を硬化させるエネルギー線照射ユニット（ｅ）があり、ガスバリア材料と一緒に添加剤を硬化させるものである。
【００３１】
上述した基材１はプラスチック材料からなり、好ましくは透明であるものが望ましい。特に限定するものではないが、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステルフィルム、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンやポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、６６−ナイロン等のポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリイミドフィルム等のエンプラフィルム等が用いられ、延伸、
未延伸のどちらでも良く、また機械強度や寸法安定性を有するものが良い。特にこれらの中で二軸方向に任意に延伸されたフィルムが好ましく用いられ、更に包装材料に使用する場合、価格面、防湿性、充填適性、風合、廃棄性を考慮すると二軸延伸ポリプロピレン、ポリアミドフィルム、ポリエステルフィルムが好ましい。
【００３２】
また、この基材１の表面に、周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、可塑剤、滑剤、酸化防止剤などが使用されていても良く、各種膜との密着性を良くするために、前処理としてコロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理などを施しておいても良く、更に薬品処理、溶剤処理を施しても良い。
【００３３】
基材１の厚さは特に制限を受けるものでないが、他の層を積層する場合もあること、ガスバリア層２を形成する場合の加工性を考慮すると、実用的には３〜２００μｍの範囲であることがより好ましい。
【００３４】
本発明のガスバリア層２はフェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物を主成分とする必要がある。
【００３５】
上記のフェノールカルボン酸については、具体的には、没食子酸、サリチル酸、ｍ‐ヒドロキシ安息香酸、ｐ‐ヒドロキシ安息香酸、２，３‐ジヒドロキシ安息香酸、２，４‐ジヒドロキシ安息香酸、２，６‐ジヒドロキシ安息香酸、３，５‐ジヒドロキシ安息香酸、ゲンチシン酸、プロトカテク酸、２，３，４‐トリヒドロキシ安息香酸、２，４，６‐トリヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシ‐ｍ‐トルイル酸、ヒドロキシ‐ｏ‐トルイル酸、ヒドロキシ‐ｐ‐トルイル酸、３，５‐ジ‐ｔ‐ブチルサリチル酸、３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐アミルサリチル酸、ヒドロキシイソフタル酸、ヒドロキシフタル酸、４‐クロロサリチル酸、４‐ブロモ‐α‐レゾルシン酸、５‐メトキシサリチル酸、カフェー酸、ウンベル酸、ヒドロキシフェニル酢酸、３‐（ヒドロキシフェニル）プロピオン酸、ヒドロフェルラ酸等を挙げることができる。フェノールカルボン酸エステルとはカルボン酸部位がアルコールと反応してエステル化したものである。
【００３６】
上記で列挙したフェノールカルボン酸の中でも、本発明で好適に用いられるフェノールカルボン酸としては、モノオキシモノカルボン酸としてサルチリ酸、ｐ‐ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシイソフタル酸、ジモノオキシモノカルボン酸としてプロトカテチュ酸、トリオキシモノカルボン酸として没食子酸等が挙げられる。
【００３７】
その中でも、特に、極性が高いためガスバリア性が高く、また昇華性があり、毒性が低く、安価な、トリオキシモノカルボン酸としての没食子酸および／または没食子酸エステルが最も好ましい。
【００３８】
また、ガスバリア層は、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上のアミン化合物との複合物をガスバリア材料に用いることで、フェノールカルボン酸とアミンとの反応により、被膜の柔軟性、密着性を向上することができる。
【００３９】
アミン化合物は、分子内に窒素を持つ化合物を指し、１分子内にアミノ基、イミノ基を２個以上もつものでもかまわない。メチルアミンやエチルアミン、プロピルアミンなどの第１級アミンや、ジメチルアミン、ジエチルアミン等の第２級アミン、トリエチルアミンやトリプロピルアミン等の第３級アミンのどれをも含み、脂肪族でも芳香族でもかまわない。また、アルコールアミンであるトリエタノールアミンやアミノ系シランカップリング剤のＮ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピル
トリメトキシシランなどでも良く、アクリル基をもつアミン化合物であるジメチルアミノエチルアクリレートなど、どれをも含む。
【００４０】
フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上のアミン化合物の混合方法は、任意の割合で単純に混ぜ合わせるだけでも良いし、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上のアミン化合物を共溶媒に溶かし、任意の割合で混ぜ合わせたものを、減圧乾燥してガスバリア材料としても良い。
【００４１】
また、ガスバリア層は、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上の有機金属化合物もしくはその加水分解物とからなる複合物をガスバリア材料に用いることで、ガスバリア性を向上し、被膜の柔軟性、密着性を向上した上、耐水性も向上できる。
【００４２】
有機金属化合物は、下記一般式（１）、
Ａm（ＯＲ）n-m・・・（１）
［式中、Ａは炭素数１〜１０の炭素主鎖１種以上で構成され、Ｍは金属元素、Ｒはアルキル基であり、ｎは金属元素の酸化数、ｍは置換数（但し、０≦ｍ＜ｎ）を表す］で表される有機金属化合物もしくはその有機金属化合物重合体からなることを特徴とするモノで等が好適に用いられるある。上記の金属元素Ｍは、好適な金属としてケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）のいずれかから選択できる。
【００４３】
本発明においては、中でも金属元素がケイ素であるものが、好適に用いられる。この場合の有機ケイ素化合物は、各種シランカップリング剤を好ましく使用することができる。
【００４４】
フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物と１種類以上の有機金属化合物もしくはその加水分解物は、任意の割合で単純に混ぜ合わせるだけでも良いし、有機金属化合物は、極性溶媒に溶かし、酸またはアルカリにて加水分解したものと、溶媒に溶かしたフェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物とを任意の割合で混合し、これを減圧乾燥したものを材料として使用しても良い。
【００４５】
前記ガスバリア層を減圧下で成膜してガスバリアフィルム積層体を製造するのが望ましい。減圧下で製造することにより、ゴミが入りにくく、クリーン性が高くなる。
【００４６】
さらに、前記ガスバリア層の成膜方法が、減圧下でガスバリア材料を加熱し、昇華させて成膜することが望ましい。減圧下で昇華させて成膜することにより、透明で薄膜のガスバリア層を積層することができる。
【００４７】
成膜方法は、図４より、１０〜１０-5Ｐａの減圧下で、ガスバリア材料をるつぼ（ａ）に入れ、ガスバリア材料の昇華温度にまで加熱し、冷却キャン（ｂ）上の巻き取りフィルム（ｃ）へ昇華させる。このとき冷却キャンの温度は−５０℃〜５０℃の間が望ましい。また、昇華したときフィルム表面へ付着しないものや、材料中に含まれる不純物を捕捉するために、減圧を保つユニットの前に捕捉装置を入れても良い。ガスバリア材料に、造膜性や密着性、柔軟性、被膜の透明性の向上を目的としてガスバリア材料と一緒に昇華する添加剤を混合してもかまわない。例えば、チヌビンやメラミンなどの窒素化合物やシランカップ剤などを指す。
【００４８】
また、ガスバリア層の成膜方法が、減圧下でガスバリア材料を加熱し、昇華させて成膜する時に、昇華させている近傍で添加剤を噴霧し、ガスバリア層中に添加剤を添加させて成膜してもよい。
【００４９】
図５より、１０〜１０-5Ｐａ／ｍ2の減圧下で、ガスバリア材料を昇華させ、成膜するときに、昇華させている近傍に、添加剤を噴霧するノズル（ｄ）をつけ、ガスバリア材料と一緒に添加剤を成膜してもよい。ノズル（ｄ）による添加剤の噴霧により、ガスバリア材料と添加剤を混合する必要がなく、ガスバリア材料と昇華温度や付着効率の異なる添加剤でも、ガスバリア材料中に添加剤を均一に添加することができる。
【００５０】
添加剤は、密着性、濡れ性、硬化促進性、柔軟性を考慮して、シランカップリング剤、有機酸、コロイダルシリカ、イソシアネート化合物、安定化剤、着色剤、粘度調整剤などの公知の添加剤などを指す。
【００５１】
１種類以上のアミン化合物および／または１種類以上の金属化合物もしくはその加水分解物を、添加剤としてガスバリア材料の昇華成膜中にノズルから添加しても良い。
【００５２】
また、添加剤にアクリル基を有する化合物を用いても良い。図６から、添加剤を噴霧するノズル（ｄ）の近傍に、添加剤を硬化させる電子線や紫外線によるエネルギー線照射ユニット（ｅ）を設け、アクリル添加剤をガスバリア材料と一緒に架橋、硬化させてもよい。
【００５３】
被膜の厚みは特に限定しないが、０．０１μｍ以下だと性能は発現せず、厚みが１０μｍ以上を越えると生産性が悪く、また密着低下が生じる為、０．０１μｍ〜１０μｍが望ましい。
【００５４】
ガスバリア層の片面および／または両面に密着層を設けることで、さらに密着が必要な商品形態にも本発明が応用できる。密着層はアクリルポリオールやポリビニルアセタール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール等のポリオール類とイソシアネート化合物との２液反応によって得られる有機高分子、ポリエチレンイミンまたはその誘導体、ポリオレフィン系エマルジョン、ポリイミド、メラミン、フェノール、また有機変性コロイダルシリカのような無機シリカ、シランカップリング剤およびその加水分解物のような有機シラン化合物を主剤とするものなどが挙げられ、どれもが密着層として使用できる。
【００５５】
また、密着層としての性質をより向上させる目的で周知の添加剤、酸化防止剤、耐候剤、熱安定剤、滑剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、着色剤などを添加しても一向にかまわない。例えばアニオン系活性剤、カチオン系活性剤、非イオン系活性剤、両性活性剤等の界面活性剤や、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、酸化チタン、水酸化アルミニウム、カーボンブラック等の無機粒子、架橋ポリスチレン、架橋アクリル粒子などの有機粒子、シランカップリング剤やチタンカップリング剤などである。
【００５６】
密着層の被膜形成方法としては、通常の湿式コーティング方法を用いても良いし、乾式コーティング方法であるフラッシュ蒸着法で、減圧下でガスバリア層と連続して成膜してもよい。
【００５７】
ガスバリア層の片面および／または両面に無機酸化物からなる蒸着薄膜層を、減圧下で連続して成膜してもよい。本発明のガスバリア層と無機酸化物からなる蒸着薄膜層とを組み合わせることでガスバリア性を非常に向上させ、高いバリア性を発現することができる。また、通常、無機酸化物からなる蒸着薄膜層とガスバリア層はそれぞれ単独で成膜される。このとき成膜装置間の移動における汚染や、傷つきが発生するが、同一装置で連続して成膜することによりこれらを防ぐことができる。
【００５８】
無機酸化物からなる蒸着薄膜層は特に限定されるものではなく、ケイ素、アルミニウム
、チタン、ジルコニウム、錫、マグネシウムなどの酸化物、チッソ、弗化物の単位あるいはそれらの複合物からなり、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ気相成長法などの真空プロセスにより形成され、透明性を有し、酸素、水蒸気のガスバリア性を有するものが好ましい。膜厚は、用途や第２層の膜厚によって異なるが、数十Åから５０００Åの範囲が望ましいが、５０Å以下では薄膜の連続性に問題があり、また３０００Åを超えるとクラックが発生しやすく、可とう性が低下するため、好ましくは５０〜３０００Åである。
【００５９】
ガスバリア層上には必要に応じて、印刷層を積層する事も可能であるし、接着剤を介して複数の樹脂を積層する事も可能である。基材１の被膜面および反対面にも、印刷層、ヒートシール層、接着剤を介する複数の樹脂の積層も可能である。
【００６０】
また、本発明で得られたガスバリアフィルム積層体は、ＥＬ素子、液晶表示素子などの各種表示媒体のバリア性保護フィルムとして応用することも可能である。
【００６１】
以下、本発明のガスバリアフィルム積層体を具体的な実施例を挙げて更に説明する。
【実施例１】
【００６２】
フィルム巻き取り式の蒸着釜に、没食子酸１水和物（Ａ）を入れたヒーター備え付けのるつぼを用意し、１０-2Ｐａに減圧した。ヒーターで加熱し、没食子酸１水和物（Ａ）を昇華させ、厚さ５０μｍのコロナ処理を施したＰＥＴ基材に巻き取り速度を調節して、膜厚約０．３μｍのガスバリア層を形成し、本発明のガスバリアフィルム積層体を得た。
【実施例２】
【００６３】
実施例２は、実施例１において、没食子酸１水和物（Ａ）の代わりに、没食子酸１水和物（Ａ）と没食子酸プロピル（Ｂ）を重量比で９５対５に混合したものを用いた以外は実施例１と同様にして本発明のガスバリアフィルム積層体を得た。
【実施例３】
【００６４】
実施例３は、実施１において、没食子酸１水和物（Ａ）の代わりに、没食子酸１水和物（Ａ）とＮ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン（Ｃ）を重量比で９対１に混合したものを用いた以外は実施例１と同様にして本発明のガスバリアフィルム積層体を得た。
【実施例４】
【００６５】
実施例４は、実施１において、没食子酸１水和物（Ａ）を昇華させるとき、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン（Ｃ）を、添加剤を噴霧するノズルから噴霧した以外は実施例１と同様にして本発明のガスバリアフィルム積層体を得た。
【実施例５】
【００６６】
実施例５は、実施１において、没食子酸を昇華させるとき、トリエチレングリコールトリアクリレート（Ｄ）を、添加剤を噴霧するノズルから噴霧し、電子線を照射した以外は実施例１と同様にして本発明のガスバリアフィルム積層体を得た。
【実施例６】
【００６７】
実施例６は、実施１において、厚さ５０μｍのコロナ処理を施したＰＥＴ基材の代わりに、ポリウレタン系樹脂を０．２μｍコーティングした厚さ５０μｍのコロナ処理を施したＰＥＴ基材を用いた以外は実施例１と同様にして本発明のガスバリアフィルム積層体を得た。
【実施例７】
【００６８】
フィルム巻き取り式の蒸着釜を仕切りで２つに分け、一方に金属アルミを入れたヒーター備え付けのるつぼを用意し、もう片方に没食子酸１水和物（Ａ）を入れたヒーター備え付けのるつぼを用意した。１０-2Ｐａに減圧して、２つのヒーターを加熱し、厚さ５０μｍのコロナ処理を施したＰＥＴ基材に巻き取り速度を調節してアルミナを膜厚約０．０２μｍで形成後、没食子酸を昇華させて膜厚約０．５μｍのガスバリア層を形成し、本発明のガスバリアフィルム積層体を得た。
【実施例８】
【００６９】
実施例１〜７の本発明のガスバリアフィルム積層体との性能を比較するための比較例として、厚さ５０μｍのコロナ処理を施したＰＥＴ基材を使用した。
【実施例９】
【００７０】
フィルム巻き取り式の蒸着釜に、没食子酸１水和物（Ａ）を入れたヒーター備え付けのるつぼを用意し、１０-2Ｐａに減圧した。ヒーターで２３０℃にるつぼを加熱し、没食子酸１水和物（Ａ）を昇華させ、厚さ１２μｍのコロナ処理を施したＰＥＴ基材に巻き取り速度２０ｍ／ｍｉｎで、膜厚約０．２μｍのガスバリア層を形成し、本発明のガスバリアフィルム積層体を得た。
【実施例１０】
【００７１】
実施例９の本発明のガスバリアフィルム積層体との性能を比較するための比較例として、厚さ１２μｍのコロナ処理を施したＰＥＴ基材を使用した。
【００７２】
実施例１〜１０で得られたガスバリアフィルム積層体のガスバリア層にセロハンテープをつけ、剥離させたときの剥離度合いを観察し密着を評価した。
○・・・ガスバリア層が剥離しておらずセロハンテープに充分粘着力が残っている。
△・・・ガスバリア層が一部剥離しており、セロハンテープの粘着力が一部失われている。
×・・・ガスバリア層が完全にセロハンテープ表面に付着しており、セロハンテープの粘着力が全く失われている。
【００７３】
実施例１〜１０で得られたガスバリアフィルム積層体を酸素透過度測定装置（モダンコントロール社製  ＯＸＴＲＡＮ−１０／５０Ａ）を用いて、３０℃相対湿度７０％中の雰囲気下で酸素バリアを測定した。
【００７４】
また、実施例９、１０で得られたガスバリアフィルム積層体については、濁度計（日本電色工業株式会社製  ＮＤＨ２０００）を用いて全光線透過度（％）を測定した。
【００７５】
実施例１〜８で得られたガスバリアフィルム積層体についての測定結果を表１に示す。また、実施例９、１０で得られたガスバリアフィルム積層体についての測定結果を表２に示す。
【００７６】
【表１】
2006103218.tif 000003
【００７７】
表１より、実施例１〜７で得られた本発明のガスバリアフィルム積層体は密着が良好で、高いガスバリア性を示した。
【００７８】
【表２】
2006103218.tif 000004
【００７９】
表２より、実施例９で得られた本発明のガスバリアフィルム積層体は、透明性も変わらず、密着が良好で、高いガスバリア性を示した。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】実施例１〜５で得られた本発明のガスバリアフィルム積層体の断面模式図である。
【図２】実施例６で得られた本発明のガスバリアフィルム積層体の断面模式図である。
【図３】実施例７、９で得られた本発明のガスバリアフィルム積層体の断面模式図である。
【図４】実施例１、２、３、６、７におけるガスバリアフィルム積層体の製造方法を説明する概略説明図である。
【図５】実施例４におけるガスバリアフィルム積層体の製造方法を説明する概略説明図である。
【図６】実施例５におけるガスバリアフィルム積層体の製造方法を説明する概略説明図である。
【符号の説明】
【００８１】
１・・・基材
２・・・ガスバリア層
３・・・密着層
４・・・無機酸化物からなる蒸着薄膜層
ａ・・・るつぼ
ｂ・・・冷却キャン
ｃ・・・フィルム
ｄ・・・ノズル
ｅ・・・エネルギー線照射ユニット
【図１】
2006103218.tif 000005
【図２】
2006103218.tif 000006
【図３】
2006103218.tif 000007
【図４】
2006103218.tif 000008
【図５】
2006103218.tif 000009
【図６】
2006103218.tif 000010