(57)【要約】【課題】  フィルタの目詰まりを紫外線の照射によって防止し、稼働率を向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】  フィルタ２５に流入する処理液には処理槽１で剥離された被膜のパーティクルや断片が存在しているので、フィルタ本体４１に吸着される。しかし、これはＵＶランプ４９，５１による紫外線照射によって分解される。したがって、被膜に起因するフィルタ２５の目詰まりが防止できるので、フィルタ２５の交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。【選択図】        図１
2006121031.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被膜が被着された基板に処理を行う基板処理装置において、
処理液により基板の処理を行う処理部と、
前記処理部から処理液を排出する排出管と、
前記排出管に設けられたフィルタと、
前記フィルタ内に流通している処理液に紫外線を照射するフィルタ用紫外線照射部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記フィルタは、中空部を備えたフィルタ本体と、このフィルタ本体を囲う外容器と、外容器の一端部から処理液を取り込む流入部と、前記フィルタ本体の中空部に連通し、前記外容器の他端部から処理液を排出する流出部とを備え、
前記フィルタ用紫外線照射部は、前記外容器と前記フィルタ本体との間または前記フィルタ本体の中空部のいずれか一方に配設されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記フィルタ用紫外線照射部は、前記外容器と前記フィルタ本体との間または前記フィルタ本体の中空部の他方にさらに配設されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板処理装置において、
処理液を前記処理部へ圧送するポンプを備え、
前記ポンプは、内部を流通する処理液に紫外線を照射するポンプ用紫外線照射部を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板処理装置において、
前記ポンプはベローズ式であり、
前記ポンプの流入部と流出部に前記ポンプ用紫外線照射部が配設されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記処理部へ供給される処理液を所定温度に加熱する加熱手段を備え、
前記加熱手段は、内部を流通する処理液に紫外線を照射する加熱手段用紫外線照射部を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置において、
前記加熱手段は、複数本の加熱ランプのうち少なくとも一つを紫外線照射ランプとしたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
被膜が被着された基板に処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させる内槽と、
前記内槽の外側に配置され、前記内槽から溢れた処理液を回収する外槽と、
前記外槽から排出された処理液を前記内槽へ供給する循環路と、
前記循環路に設けられたフィルタと、
前記処理液に紫外線を照射する紫外線照射部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記紫外線照射部は、前記外槽に設けられ、前記外槽に溢れた処理液に紫外線を照射することを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に設けられたメッシュ配管を備え、
前記紫外線照射部は、メッシュ配管の内部に紫外線を照射することを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の基板処理装置において、
前記メッシュ配管は、処理液が流れる方向に配列された複数枚のメッシュ板を備え、
前記紫外線照射部は、前記メッシュ配管の周囲に配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１２】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に設けられた蛇行管を備え、
前記紫外線照射部は、蛇行管の内部に紫外線を照射することを特徴とする基板処理装置。
【請求項１３】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記紫外線照射部は、前記内槽内に設けられ、前記内槽の処理液に紫外線を照射することを特徴とする基板処理装置。
【請求項１４】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に接続されたトラップ配管を備え、
前記紫外線照射部は、前記トラップ配管内の処理液に紫外線を照射することを特徴とする基板処理装置。
【請求項１５】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に設けられたトラップ部を備え、
前記紫外線照射部は、前記トラップ部内の処理液に紫外線を照射し、
前記トラップ部は、
前記循環路の上流側が接続された流入部及び前記循環路の下流側が接続された流出部を有し、かつ処理液を貯留する貯留タンクを備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の基板処理装置において、
前記トラップ部は、
前記流入部側の容積を前記流出部側の容積より大きく仕切り、前記流入部から離れた流路内にメッシュを備えた仕切部材と、
前記仕切部材のメッシュより下部に設けられ、前記紫外線照射部による紫外線を照射される被照射部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１７】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に設けられ、処理液を遠心分離する遠心分離部を備え、
前記紫外線照射部は、前記遠心分離部の内部に紫外線を照射することを特徴とする基板処理装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の基板処理装置において、
前記遠心分離部は、
容器と、
前記容器内に設けられ、前記循環路に連通した中央流路と、
前記容器内に設けられ、前記中央流路の周囲に形成された貯留部と、
前記容器内において、中央流路の上流部に設けられたスクリューコイルと、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１９】
請求項８から１８のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記紫外線照射部は、
ＵＶランプと、
前記ＵＶランプ及び紫外線の被照射部位を囲って周囲から遮蔽するケーシングと、
前記ケーシングの一方側から不活性ガスを注入するための注入口と、
前記ケーシングの他方側から内部の気体を排気する排気口と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被膜が被着された半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）等の基板に対して、エッチング処理、剥離処理、洗浄処理といった各種処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、処理液を貯留する内槽と、内槽から溢れた処理液を回収する外槽と、外槽から内槽へ処理液を循環させる循環路と、循環路に配設されたポンプと、循環路を流通する処理液中からパーティクル等を除去するフィルタ等とを備えた基板処理装置がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このように構成された装置では、例えば、フッ酸などの処理液を内槽に貯留し、この中にフォトレジスト被膜が被着された基板を浸漬させることで、フォトレジスト被膜でマスクされていない部分に対してエッチング処理を行う。この処理の後、例えば、硫酸と過酸化水素水を含む処理液を内槽に貯留し、ここへフォトレジスト被膜が被着された基板を浸漬させて、フォトレジスト被膜自体の剥離を行って除去する。
【特許文献１】特開２００１−３５８１３４号公報（図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、剥離したフォトレジスト被膜で頻繁にフィルタが目詰まりし、フィルタの交換を頻繁に行わなければならないという問題がある。したがって、交換作業のための装置停止が増えて、装置の稼働率が低下するという問題がある。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、フィルタの目詰まりを紫外線の照射によって防止し、稼働率を向上できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に処理を行う基板処理装置において、処理液により基板の処理を行う処理部と、前記処理部から処理液を排出する排出管と、前記排出管に設けられたフィルタと、前記フィルタ内に流通している処理液に紫外線を照射するフィルタ用紫外線照射部と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００７】
［作用・効果］請求項1に記載の発明によれば、フィルタに流入する処理液には、被膜のパーティクルや被膜の断片が存在しているので、これらがフィルタに吸着される。しかし、これはフィルタ用紫外線照射部による紫外線によって分解される。したがって、フィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を少なくでき、装置の稼働率を向上させることができる。
【０００８】
また、本発明において、フィルタは、中空部を備えたフィルタ本体と、このフィルタ本体を囲う外容器と、外容器の一端部から処理液を取り込む流入部と、前記フィルタ本体の中空部に連通し、前記外容器の他端部から処理液を排出する流出部とを備え、前記フィルタ用紫外線照射部は、前記外容器と前記フィルタ本体との間または前記フィルタ本体の中空部の一方に配設されていることが好ましい（請求項２）。外容器とフィルタ本体との間には、空間があり、またフィルタ本体の中空部には空間があるので、いずれか一方の空間にはフィルタ用紫外線照射部を配設することができる。したがって、フィルタ本体までの距離が近く、紫外線を減衰させることなく照射させることができ、フィルタに吸着された被膜等を効率的に分解することができる。
【０００９】
また、本発明において、フィルタ用紫外線照射部は、前記外容器と前記フィルタ本体との間または前記フィルタ本体の中空部の他方にさらに配設されていることが好ましい（請求項３）。フィルタ本体の内部と外部の両側から紫外線を照射するので、フィルタに吸着された被膜等を短時間で分解させることができる。
【００１０】
また、本発明において、処理液を前記処理部へ圧送するポンプを備え、前記ポンプは、内部を流通する処理液に紫外線を照射するポンプ用紫外線照射部を備えていることが好ましい（請求項４）。排出管が処理液を再び処理部へ供給する循環路である場合、一般的にフィルタの上流側にはポンプが配設されているので、ポンプ用紫外線照射部により、フィルタの上流側において処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片等を一部分解しておくことができる。したがって、フィルタに吸着する被膜等の量を低減することができ、ポンプ用紫外線照射部による分解を短時間化できる。
【００１１】
また、本発明において、前記ポンプはベローズ式であり、前記ポンプの流入部と流出部に前記ポンプ用紫外線照射部が配設されていること好ましい（請求項５）。ポンプの内部構造は複雑であるが、流入部と流出部は比較的構成が簡単であるので、紫外線照射部を配設し易い。
【００１２】
また、本発明において、前記処理部へ供給される処理液を所定温度に加熱する加熱部を備え、前記加熱部は、内部を流通する処理液に紫外線を照射する加熱手段用紫外線照射部を備えていることが好ましい（請求項６）。処理液を高温に加熱した上で処理部に供給する構成の場合には、加熱手段にも加熱手段用紫外線照射部を備えておく。排出管が処理液を再び処理部へ供給する循環路である場合、この加熱手段は、フィルタの上流側に配備されているのが一般的であるので、加熱手段用紫外線照射部により加熱手段を流通する処理液に紫外線を照射して、処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片等をある程度分解しておく。したがって、フィルタに吸着する被膜等の量を低減することができ、フィルタにおいてフィルタ用紫外線照射部による分解を短時間化できる。
【００１３】
また、本発明において、加熱手段は、複数本の加熱ランプのうち少なくとも一つを紫外線照射ランプとしたことが好ましい（請求項７）。加熱手段が複数本の加熱ランプを備えた構成である場合には、そのうちの少なくとも一つを紫外線照射ランプにするだけで、加熱手段用紫外線照射部を容易に構成することができる。
【００１４】
また、請求項８に記載の発明は、被膜が被着された基板に処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させる内槽と、前記内槽の外側に配置され、前記内槽から溢れた処理液を回収する外槽と、前記外槽から排出された処理液を前記内槽へ供給する循環路と、前記循環路に設けられたフィルタと、前記処理液に紫外線を照射する紫外線照射部と、備えていることを特徴とするものである。
【００１５】
［作用・効果］被膜が剥離されてパーティクルや被膜の断片として混入している処理液に対して紫外線を照射するので、パーティクルや断片を分解することができる。したがって、被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。
【００１６】
また、本発明において、前記紫外線照射部は、前記外槽に設けられ、前記外槽に溢れた処理液に紫外線を照射することを特徴とするものである（請求項９）。紫外線照射部によって外槽内に紫外線が照射されるので、処理液中に混入している被膜のパーティクルや断片を分解した上で処理液を循環路に流入させる。したがって、被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。
【００１７】
また、本発明において、前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に設けられたメッシュ配管を備え、前記紫外線照射部は、メッシュ配管の内部に紫外線を照射することを特徴とするものである（請求項１０）。処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片をメッシュ配管で捕らえ、ここに紫外線を照射することで、処理液中のパーティクルや断片を分解することができる。したがって、被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、処理液中のパーティクルや断片をメッシュ配管で効率よく捕らえることができるので、被膜の分解効率を高めることができる。
【００１８】
また、本発明において、前記メッシュ配管は、処理液が流れる方向に配列された複数枚のメッシュ板を備え、前記紫外線照射部は、前記メッシュ配管の周囲に配置されていることを特徴とするものである（請求項１１）。処理液が流れる方向に配列された複数枚のメッシュ板により、処理液の流れを遅くした状態で紫外線照射部からの紫外線を処理液に照射できるので、処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片を確実に分解することができる。
【００１９】
また、本発明において、前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に設けられた蛇行管を備え、前記紫外線照射部は、蛇行管の内部に紫外線を照射することを特徴とするものである（請求項１２）。流路が長くされている蛇行管に処理液を通すことにより、被膜のパーティクルや断片が存在している処理液に紫外線を長時間にわたって照射することができる。したがって、処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片を効率的に分解することができ、被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、蛇管を用いたことにより、流路抵抗をあまり増大させることがなく、循環路の流れへの影響を小さくできる。
【００２０】
また、本発明において、前記紫外線照射部は、前記内槽内に設けられ、前記内槽の処理液に紫外線を照射することを特徴とするものである（請求項１３）。内槽に紫外線を照射することで、処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片を分解することができる。したがって、被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、内槽に位置された基板にも紫外線が照射されるので、処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片だけでなく、基板に被着している被膜の直接的な分解に寄与する。したがって、基板の被膜除去処理を短時間化することができる。
【００２１】
また、本発明において、前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に接続されたトラップ配管を備え、前記紫外線照射部は、前記トラップ配管内の処理液に紫外線を照射することを特徴とするものである（請求項１４）。処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片が沈殿してトラップ配管で捕らえられ、ここに紫外線を照射することで被膜を分解することができる。したがって、被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、トラップ配管を設けるだけであるので、簡易な構成で効果を得ることができる。
【００２２】
また、本発明において、前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に設けられたトラップ部を備え、前記紫外線照射部は、前記トラップ部内の処理液に紫外線を照射し、前記トラップ部は、前記循環路の上流側が接続された流入部及び前記循環路の下流側が接続された流出部を有し、かつ処理液を貯留する貯留タンクを備えていることを特徴とするものである（請求項１５）。処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片が沈殿してタンク貯留部で捕らえられ、ここに紫外線を照射することで被膜を分解することができる。したがって、被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、トラップ部を設けるだけであるので、簡易な構成で効果を得ることができる。
【００２３】
また、本発明において、前記トラップ部は、前記流入部側の容積を前記流出部側の容積より大きく仕切り、前記流入部から離れた流路内にメッシュを備えた仕切部材と、前記仕切部材のメッシュより下部に設けられ、前記紫外線照射部による紫外線を照射される被照射部と、を備えていることを特徴とするものである（請求項１６）。流入部を通って貯留タンクに流入した処理液は、仕切部材のメッシュを通る際に被膜が捕らえられて被照射部に滞留し、メッシュで濾過された処理液は流出部を通って循環路に戻る。したがって、被照射部に紫外線を照射することで、剥離されて処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片を効率的に分解することができる。
【００２４】
また、本発明において、前記循環路において、前記フィルタが設けられた位置より上流側に設けられ、処理液を遠心分離する遠心分離部を備え、前記紫外線照射部は、前記遠心分離部の内部に紫外線を照射することを特徴とするものである（請求項１７）。処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片を遠心分離部で分離して捕らえ、ここに紫外線を照射することで、処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片を分解することができる。したがって、被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。
【００２５】
また、本発明において、前記遠心分離部は、容器と、前記容器内に設けられ、前記循環路に連通した中央流路と、前記容器内に設けられ、前記中央流路の周囲に形成された貯留部と、前記容器内において、中央流路の上流部に設けられたスクリューコイルと、備えていることを特徴とするものである（請求項１８）。スクリューコイルを処理液が通過する際に、処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片が中央流路から貯留部に分離される。したがって、比較的簡易な構成で、処理液中に存在している被膜のパーティクルや断片を比較的正確に分離して分解することができる。
【００２６】
また、本発明において、前記紫外線照射部は、ＵＶランプと、前記ＵＶランプ及び紫外線の被照射部位を囲って周囲から遮蔽するケーシングと、前記ケーシングの一方側から不活性ガスを注入するための注入口と、前記ケーシングの他方側から内部の気体を排気する排気口と、備えていることを特徴とするものである（請求項１９）。ケーシングの注入口から不活性ガスを注入し、排気口を通して排出する。これにより、紫外線を大気中で照射することで発生するオゾンを排気する。したがって、オゾンによる悪影響を防止できる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明に係る基板処理装置によれば、処理部からフィルタへ流入する処理液には、剥離された被膜のパーティクルや断片が存在しているので、これはフィルタに吸着され、フィルタ用紫外線照射部による紫外線によって分解される。したがって、フィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタの交換頻度を少なくでき、装置の稼働率を向上できる。
【実施例１】
【００２８】
以下、図面を参照してこの発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【００２９】
本発明における処理部に相当する処理槽１は、硫酸（Ｈ2ＳＯ4）・過酸化水素水（Ｈ2Ｏ2）とを含む処理液を貯留する内槽３と、内槽３の外側に配置され、内槽３から溢れた処理液を回収する外槽５とを備えている。処理対象である円形状を呈する基板Ｗは、内槽３中に位置する処理位置と、内槽３の上方に位置する図示しない待機位置とにわたり、昇降可能な保持機構７によって保持される。この保持機構７は、背板９と、この背板９の下端部で紙面方向に長軸を有する保持部材１１とを備えており、複数枚の基板Ｗを保持することが可能である。基板Ｗの表面には、例えば、フォトレジスト被膜が被着されている。
【００３０】
内槽３の底部には、その両側に注入管１３が配設されている。この注入管１３は、外槽５に形成されている排出口１５と循環路１７によって連通接続されている。循環路１７は、その上流側から、ミキシングバルブ１９と、ポンプ２１と、インラインヒータ２３と、フィルタ２５とを備えている。循環路１７のうちミキシングバルブ１９の上流部には、純水供給源２７が配備され、ミキシングバルブ１９の注入部には薬液供給源２９が連通接続されている。本実施例では、薬液供給源２９を一つだけ図示しているが、通常は複数種類の薬液が用意されてミキシングバルブ１９の注入部にそれぞれ接続されている。本実施例では、説明を簡単化するために一つの薬液供給源２９としている。
【００３１】
循環路１７のうちミキシングバルブ１９の上流側には、排出管路３１が循環路１７から分岐して設けられている。この排出管路３１には、開閉弁３３が配設されている。この開閉弁３３を開放することで、外槽５と循環路１７に貯留している処理液を排出する。また、内槽３の底部には、排液口３５が形成されている。この排液口３５には、排液管３７が接続されており、さらに開閉弁３９が取り付けられている。
【００３２】
上記のように構成された基板処理装置では、例えば、以下のようにしてフォトレジスト被膜が被着された基板Ｗの被膜除去処理を行う。なお、開閉弁３３，３９は閉止された状態である。
【００３３】
ミキシングバルブ１９において硫酸と過酸化水素水とを含む処理液を生成し、ポンプ２１を作動させて循環路１７および注入管１３を介して内槽３に処理液を供給する。内槽３から溢れた処理液は外槽５で回収され、循環路１７を介して注入管１３から再び内槽３に戻される。このとき必要に応じてインラインヒータ２３を作動させて所定の温度に処理液を加熱する。処理液が所定の温度に達したら、保持機構７によって保持した基板Ｗ（フォトレジスト被膜が被着されている）を内槽３の処理位置にまで下降させる。基板Ｗに被着されているフォトレジスト被膜は、処理液によって剥離されて処理液中に混入してゆく。フォトレジスト被膜が剥離され、そのパーティクルや断片が混入した処理液は、外槽５に溢れてゆき、再び循環路１７を介して内槽３へ供給される。所定時間が経過すると、開閉弁３９を開放して内槽３から処理液を排出するとともに、純水供給源２７から循環路７及び注入管１３とを介して内槽３に純水を供給して処理液が付着した基板Ｗの洗浄を行う。
【００３４】
本基板処理装置では上記のようにして基板Ｗが処理されるが、本基板処理装置では、フィルタ２５と、インラインヒータ２３と、ポンプ２１には以下に説明するように工夫が施してある。
【００３５】
ここで図２を参照する。この図２は、フィルタの構成を示す縦断面図である。
【００３６】
フィルタ２５は、中空部４１ａを有するフィルタ本体４１と、フィルタ本体４１の周囲を囲う外容器４３と、外容器４３の一端部で循環路１７に連通接続された流入部４５と、中空部４１ａに連通しているとともに、外容器４３の他端部から処理液を排出する流出部４７とを備えている。フィルタ本体４１は、その中空部４１ａの両端部のうち一端側が閉塞され、解放されている側が流出部４７側に位置するように連通接続され、かつ平面視では外容器４３の中央部に配置されている。
【００３７】
フィルタ本体４１の中空部４１ａには一つのＵＶランプ４９（フィルタ用紫外線照射部）が配設され、フィルタ本体４１と外容器４３との間には、複数本のＵＶランプ５１が配設されている。ＵＶランプ４９は、フィルタ本体４１の中空部４１ａにおける処理液の流通を妨げない長さと径を有する。また、ＵＶランプ５１（フィルタ用紫外線照射部）は、外容器４３とフィルタ本体４１との間における処理液の流通を妨げない本数が、流通に悪影響を与えない間隔を置いて配備されている。
【００３８】
なお、フィルタ２５におけるＵＶランプは、フィルタ本体４１の中空部４１ａだけに配備してもよく、またフィルタ本体４１と外容器４３の間にだけ配置するようにしてもよい。また、外容器４１が紫外線透過部材で構成されている場合には、外容器４１の外部にＵＶランプを配備するようにしてもよい。
【００３９】
次に、図３及び図４を参照する。なお、図３は、インラインヒータの縦断面図であり、図４は、インラインヒータの横断面図である。
【００４０】
本発明における加熱手段に相当するインラインヒータ２３は、循環路１７の上流側に連結されている連結部５３と、循環路１７の下流側に連結されている連結部５５と、これらの連結部５３，５５に連通し、ジグザグ状に形成された加熱流路５７と、この加熱流路５７に設けられた加熱ランプ用の取付凹部５９とを備えている。この例では、三箇所の取付凹部５９が設けられているが、そのうちの二箇所には加熱用ハロゲンランプ６１が取り付けられ、残りの一箇所にはＵＶランプ６３（加熱手段用紫外線照射部）が取り付けられている。なお、加熱温度があまり高くない場合や、加熱用ハロゲンランプ６１の加熱可能が高い場合には、一箇所を加熱用ハロゲンランプ６１とし、残りの二箇所をＵＶランプ６３としてもよい。
【００４１】
またインラインヒータ２３が紫外線透過部材で構成されている場合には、インラインヒータ２３の周囲にＵＶランプを配備する構成としてもよい。
【００４２】
次に、図５を参照する。なお、図５は、ポンプの概略構成を示す断面図である。
【００４３】
このポンプ２１は、ポンプ枠体６５に、図示しないアクチュエータで伸縮駆動される一対のベローズ６６を備えたベローズ式のポンプである。ポンプ枠体６５は、循環路１７の上流側に連通接続された流入部６７と、循環路１７の下流側に連通接続された流出部６９とを備えている。また、流入部６７と流出部６９は、照射部７１，７３を備えている。それぞれの照射部７１，７３には、ＵＶランプ７５，７７（ポンプ用紫外線照射部）が配設されている。流入部６７側には、ベローズ６６に連通した吸引通路７９が形成され、流出部６９側には、ベローズ６６に連通した排出通路８１が形成されている。また、吸引通路７９とベローズ６６との間には、流入部６７からの処理液がベローズ６６内に流入することを許容する一方で、ベロローズ６６内の処理液が吸引通路７９に戻ることを規制する逆止弁８３が配設されている。さらに、排出通路８１とベローズ６６との間には、ベローズ６６からの処理液が排出通路８１に流入することを許容する一方、排出流路８１内の処理液がベローズ６６内に戻ることを規制する逆止弁８５が配設されている。
【００４４】
上述した各ＵＶランプ４９，５１，６３，７５，７７は、ランプ電源８７に接続されており、所要の電力が供給されるようになっている。なお、上述した各ＵＶランプ４９，５１，６３，７５，７７から照射される紫外線の波長は、基板Ｗに被着され、処理液中に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片を分解しやすいように、例えば、波長範囲が１００〜４００ｎｍであることが好ましい。
【００４５】
このように構成されている基板処理装置では、上述したようにして、例えば基板Ｗの被膜剥離処理が行われる。したがって、フィルタ２５に流入する処理液には処理槽１で剥離された被膜がパーティクルや断片となって存在しているので、これらがフィルタ本体４１に吸着される。しかし、これはＵＶランプ４９，５１による紫外線照射によって分解される。したがって、被膜に起因するフィルタ２５の目詰まりが防止できるので、フィルタ２５の交換頻度を低くでき、装置の稼働率を向上させることができる。
【００４６】
また、外容器４３とフィルタ本体４１との間には空間があり、またフィルタ本体４１の中空部４１ａには空間があって、これらの空間にＵＶランプ４９，５１を配設することにより、フィルタ本体４１までの距離を近くして紫外線を照射することができる。そのため、紫外線を減衰させることなく照射させることができ、フィルタ本体４１に吸着された被膜を効率的に分解することができる。その上、フィルタ本体４１の中空部４１ａと外部の両側から紫外線を照射するので、フィルタ本体４１に吸着された被膜を短時間で分解させることができる。
【００４７】
また、ポンプ２１にもＵＶランプ７５，７７を備えているが、一般的にフィルタ２５の上流側にポンプ２１が配設されているので、フィルタ２５の上流側において、処理液中に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片を一部分解しておくことができる。したがって、フィルタ２５に吸着する被膜の量を低減することができ、フィルタ２５における分解時間を短時間化できる。また、ポンプ２１の内部構造は複雑であるが、流入部６７と流出部６９は比較的構成が簡単であるので、ＵＶランプ７５，７７を配設し易い。
【００４８】
さらに、本実施例装置は、処理液を循環路１７中で加熱するインラインヒータ２３にもＵＶランプ６３を備えている。このインラインヒータ２３は、フィルタ２５の上流側に配備されているのが一般的であるので、インラインヒータ２３を流通する処理液に紫外線を照射して、処理液中に存在しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片をある程度分解しておくことができる。したがって、フィルタ２５に吸着する被膜の量を低減することができ、フィルタ２５におけるＵＶランプによる分解を短時間化できる。
【００４９】
なお、上述した装置では、フィルタ２５の他に、インラインヒータ２３と、ポンプ２１とにおいても紫外線照射を行う構成を採用しているが、少なくともフィルタ２５にて紫外線照射を行う構成を採用することで、被膜に起因するフィルタ２５の目詰まりを防止し、フィルタ２５の交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。
【００５０】
また、上記の基板処理装置は、処理液を循環させる構成を採用しているが、外槽５に溢れた処理液を循環させることなく、フィルタ２５で濾過した上で排液する構成であっても、フィルタ２５の構成を上述したものと同様にすることでフィルタ２５に係る不都合を回避することができる。
【実施例２】
【００５１】
次に、図面を参照してこの発明の実施例２を説明する。なお、上述した実施例１と同様の構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。図６は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【００５２】
上述した実施例１の基板処理装置は多数枚の基板Ｗを一括して処理するバッチ式であったが、本実施例２における基板処理装置は基板を一枚ずつ処理する枚葉式である。
【００５３】
この基板処理装置における処理部８９は、一枚の基板Ｗを水平姿勢に吸着保持するチャック９１と、このチャック９１の周囲を囲って配置された飛散防止カップ９３とを備えている。チャック９１は、その下部が回転モータ９５の回転軸に連結されている。飛散防止カップ９３の排液ゾーン９７は平面視環状に形成され、その一部位に排液口９９が形成されている。排液口９９には、排液管１０１が連通接続されており、その途中にはフィルタ２５が取り付けられている。
【００５４】
また、純水供給源２７は、供給配管１０３を介してノズル１０５に連通接続されている。供給配管１０３には、純水供給源２７側からノズル１０５側に向かってミキシングバルブ１９と、ポンプ２１と、インラインヒータ２３とが取り付けられている。
【００５５】
ポンプ２１と、インラインヒータ２３と、フィルタ２５は、実施例１と同様にそれぞれが紫外線を照射する機構を備えている。したがって、処理液中に含まれている有機物を除去して清浄な処理液を基板Ｗに供給することができるとともに、処理液に混入したフォトレジスト被膜などの有機物がフィルタ２５で目詰まりを起こすのを防止できる。なお、上記の実施例１と同様に、フィルタ２５だけにＵＶランプ４９，５１（フィルタ用紫外線照射部）を配備し、ポンプ２１やインラインヒータ２３には備えないようにしてもよい。
【実施例３】
【００５６】
以下、図面を参照してこの発明の実施例３を説明する。
図７は、実施例３に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００５７】
処理槽１は、硫酸・過酸化水素水とを含む処理液を貯留する内槽３と、内槽３の外側に配置され、内槽３から溢れた処理液を回収する外槽５とを備えている。処理対象である円形状を呈する基板Ｗは、内槽３中に位置する処理位置と、内槽３の上方に位置する図示しない待機位置とにわたり、昇降可能な保持機構７によって保持される。この保持機構７は、背板９と、この背板９の下端部で紙面方向に長軸を有する保持部材１１とを備えており、複数枚の基板Ｗを保持することが可能である。基板Ｗの表面には、例えば、フォトレジスト被膜を被着されている。
【００５８】
内槽３の底部には、その両側に注入管１３が配設されている。この注入管１３は、外槽５に形成されている排出口１５と循環路１７によって連通接続されている。循環路１７は、その上流側から、ミキシングバルブ１９と、ポンプ２１と、インラインヒータ２３と、フィルタ２５とを備えている。循環路１７のうちミキシングバルブ１９の上流部には、純水供給源２７が配備され、ミキシングバルブ１９の注入部には薬液供給源２９が連通接続されている。本実施例では、薬液供給源２９を一つだけ図示しているが、通常は複数種類の薬液が用意されてミキシングバルブ１９の注入部にそれぞれ接続されている。本実施例では、説明を簡単化するために一つの薬液供給源２９としている。この薬液供給源２９は、例えば、硫酸と過酸化水素水とを混合して供給するものである。
【００５９】
循環路１７のうちミキシングバルブ１９の上流側には、排出管路３１が循環路１７から分岐して設けられている。この排出管路３１には、開閉弁３３が配設されている。この開閉弁３３を開放することで、外槽５と循環路１７に貯留している処理液を排出する。また、内槽３の底部には、排液口３５が形成されている。この排液口３５には、排液管３７が接続されており、さらに開閉弁３９が取り付けられている。
【００６０】
外槽５の内部には、紫外線照射ユニット１１１（紫外線照射部）が取り付けられている。この紫外線照射ユニット１１１は、ＵＶランプ１１３と、ＵＶランプ１１３からの紫外線を一方側だけに向ける反射板１１４と、ＵＶランプ１１３を周囲と閉塞して囲うケーシング１１５とを備えている。紫外線照射ユニット１１１には、ランプ電源１１７から所定の電力が供給されている。ＵＶランプ１１３から照射される紫外線の波長は、基板Ｗに被着され、処理液中に存在しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片を分解しやすいように、例えば、波長範囲が１００〜４００ｎｍであることが好ましい。
【００６１】
上記のように構成された基板処理装置では、例えば、以下のようにしてフォトレジスト被膜が被着された基板Ｗの被膜除去処理を行う。なお、開閉弁３３，３９は閉止された状態である。
【００６２】
薬液供給源２９から硫酸と過酸化水素水とを含む処理液を供給し、ポンプ２１を作動させて循環路１７および注入管１３を介して内槽３に処理液を供給する。内槽３から溢れた処理液は外槽５で回収され、循環路１７を介して再び内槽３に戻される。このとき必要に応じてインラインヒータ２３を作動させて所定の温度に処理液を加熱する。処理液が所定の温度に達したら、保持機構７によって保持した基板Ｗ（フォトレジスト被膜が被着されている）を内槽３の処理位置にまで下降させる。基板Ｗに被着されているフォトレジスト被膜は、処理液によって剥離され、パーティクルや断片となって処理液中に混入してゆく。フォトレジスト被膜のパーティクルや断片が混入した処理液は、外槽５に溢れてゆくが、そこで紫外線が照射されるので、混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片が分解される。そして、処理液は再び循環路１７を介して内槽３へ供給される。所定時間が経過すると、開閉弁３９を開放して内槽３から処理液を排出するとともに、純水供給源２７から純水を供給して処理液が付着した基板Ｗの洗浄を行う。
【００６３】
このように紫外線照射ユニット１１１によって外槽５内に紫外線が照射されるので、処理液中に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片が分解された上で循環路１７に流入する。したがって、被膜に起因するフィルタ２５の目詰まりが防止できるので、フィルタ２５の交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。
【実施例４】
【００６４】
次に、図面を参照してこの発明の実施例４を説明する。
図８は、実施例４に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図であり、図９は、メッシュ配管の構成を示す斜視図である。なお、上述した実施例３と同様の構成については、同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
【００６５】
本実施例では、循環路１７のうち、フィルタ２５より上流側の位置で、ミキシングバルブ１９と排出管路３１との間に、メッシュ配管１２１を備えている。このメッシュ配管１２１は、配管１２３が紫外線を透過する材料で構成され、その内部に上面から下面に連通した多数の小さな孔が形成されたメッシュ板１２５を備えている。この例では、処理液が流れる方向にメッシュ板１２５を三枚重ねて配列されている。メッシュ配管１２５の周囲には、紫外線照射ユニット１１１が配設されている。
【００６６】
なお、メッシュ板１２５は、矩形状を呈するが、円形状や他の形状であってもよい。配管１２３及びメッシュ板１２５は、紫外線照射ユニット１１１から照射される紫外線を透過する材料で構成されている。
【００６７】
このような構成の本実施例では、内槽３から外槽５に溢れて循環路１７に流れ込んだ処理液のうち、混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片がメッシュ配管１２１のメッシュ板１２５で捕らえられる。メッシュ板１２５には、紫外線照射ユニット１１１から紫外線が照射されているので、処理液中に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片を分解することができる。したがって、フォトレジスト被膜に起因するフィルタの目詰まりが防止できるので、フィルタ２５の交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片をメッシュ板１２５で効率よく捕らえることができるので、被膜の分解効率を高めることができる。
【００６８】
なお、メッシュ板１２５に代えて上面から下面に連通した小孔を多数形成してなるパンチング板を採用しても同等の効果を奏する。
【実施例５】
【００６９】
次に、図面を参照してこの発明の実施例５を説明する。
図１０は、実施例５に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。なお、上述した各実施例と同じ構成については、同符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７０】
本実施例は、上述した実施例４におけるメッシュ配管１２１に代えて、フィルタ２５より上流側の位置で、ミキシングバルブ１９と排出管路３１との間に、流路をジグザグ状に構成した蛇行管１２７を備えている。蛇行管１２７により、排出管路３１とミキシングバルブ１９との間における実効的な流路長さが長くされる。この蛇行管１２７の周囲には、紫外線照射ユニット１１１が配設されている。蛇行管１２７は、紫外線照射ユニット１１１から照射される紫外線を透過する材料で構成されている。
【００７１】
このように構成されている実施例５の装置は、流路が長くされている蛇行管１２７に処理液を通すことにより、混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片に対して紫外線を長時間にわたり照射できる。したがって、処理液中に混入しているフォトレジスト被膜を効率的に分解することができ、フォトレジスト被膜に起因するフィルタ２５の目詰まりが防止できるので、フィルタ２５の交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、蛇管１２７を用いたことにより、流路抵抗をあまり増大させることがなく、循環路１７の流れへの影響を小さくできる。
【実施例６】
【００７２】
次に、図面を参照してこの発明の実施例６を説明する。
図１１は、実施例６に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。なお、上記の各実施例と同じ構成については、同符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７３】
本実施例装置は、紫外線照射ユニット１１１を外槽５や循環路１７ではなく、内槽３に付設してある点で上記の各実施例と構成が相違する。内槽３に付設された紫外線照射ユニット１１１は、その紫外線が内槽３の側面から入射し、貯留されている処理液や基板Ｗに照射される。内槽３の側面部は、紫外線が透過する部材で構成してある。なお、紫外線照射ユニット１１１は、内槽３の左側面だけでなく、右側面や前後面（紙面方向）に設けてもよい。
【００７４】
上記の構成によると、内槽３内の処理液に紫外線を照射することで、内槽３内の処理液中に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片を分解することができる。したがって、フォトレジスト被膜に起因するフィルタ２５の目詰まりが防止できるので、フィルタ２５の交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、内槽３に位置された基板Ｗにも紫外線が照射されるので、処理液中に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片の分解だけでなく、基板Ｗに被着しているフォトレジスト被膜を直接的に分解することにも寄与する。したがって、基板Ｗの被膜除去処理を短時間化することができる。
【実施例７】
【００７５】
次に、図面を参照してこの発明の実施例７を説明する。
図１２は、実施例７に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。なお、上記の各実施例装置と同じ構成については、同じ符号を付与することで詳細な説明を省略する。
【００７６】
この装置は、排出管路３１とミキシングバルブ１９との間に、循環路１７の流路から逸れたトラップ部１２９を有する。このトラップ部１２９は、循環路１７の流通方向に対して鉛直方向に延出されたトラップ配管１３１を備えている。このトラップ配管１３１には、循環路１７を流通する処理液に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片が沈殿することになる。
【００７７】
この装置では、処理液中に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片が沈殿し、トラップ配管１３１で捕らえられるので、ここに紫外線を照射することでフォトレジスト被膜を分解することができる。したがって、フォトレジスト被膜に起因するフィルタ２５の目詰まりが防止できるので、フィルタ２５の交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。また、循環路１７にトラップ部１２９を設けるだけであり、簡易な構成で効果を得ることができる。
【００７８】
なお、上記のトラップ部１２９に代えて、以下のようなトラップ部１２９Ａを備えるようにしてもよい。図１３を参照する。なお、図１３は、トラップ部の変形構成を示す縦断面図である。
【００７９】
このトラップ部１２９Ａは、循環路１７の上流側が連通接続された流入部６３と、循環路１７の下流側が連通接続された流出部１３５とを備えた貯留タンク１３７と、流入部１３３側の容積を流出部１３５側の容積より大きく仕切り、流入部１３３から離れた流路内にメッシュ１３９を備えた仕切部材１４１と、仕切部材１４１のメッシュ１３９より下部にあたり、紫外線照射ユニット１１１による紫外線を照射される被照射部１４３とを備えている。貯留タンク１３７のうち、少なくとも被照射部１４３は紫外線を透過する部材で構成されている。
【００８０】
この構成では、流入部１３３を通って貯留タンク１３７に流入した処理液は、仕切部材１４１のメッシュ１３９を通る際にフォトレジスト被膜が捕らえられて被照射部１４３に滞留し、メッシュ１３９で濾過された処理液は流出部１３５を通って循環路１７に戻る。したがって、被照射部１４３に紫外線を照射することで、処理液に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片を効率的に分解することができる。
【００８１】
また、以下に示すように、トラップ部１２９，１２９Ａとは異なる構成を循環路１７に備えてもよい。図１４を参照する。なお、図１４は、遠心分離部の構成を示す縦断面図である。
【００８２】
この遠心分離部１４５は、容器１４６の内部に、循環路１７に連通した中央流路１４７と、中央流路１４７の周囲に形成された貯留部１４９と、中央流路１４７の上流部に設けられたスクリューコイル１５１とを備えている。中央流路１４７と貯留部１４９との間には、それらを仕切る仕切部材１５３が立設されている。その上部は、容器１４６の下面まで一定の間隔が空けられている。貯留部１４９の底面には、排出口１５５が形成されている。排出口１５５は、この遠心分離部１４５の下流側で循環路１７に連通接続されている。
【００８３】
上記の遠心分離部１４５では、スクリューコイル１５１を処理液が通過すると、大部分の処理液は二点鎖線矢印で示すように中央流路１４７を通る一方、図中に点線矢印で示すように処理液中のフォトレジスト被膜は中央流路１４７から貯留部１４９に分離される。貯留部１４９に滞留したフォトレジスト被膜は、紫外線照射ユニット１４からの紫外線により分解され、処理液は排出口１５５を通って再び循環路１７に戻される。したがって、比較的簡易な構成で、処理液に混入しているフォトレジスト被膜のパーティクルや断片を比較的正確に分離して分解することができる。
【００８４】
上述した各実施例及び変形例において用いている紫外線照射ユニット１１１は、以下のように構成するのが好ましい。図１５を参照する。なお、図１５は、紫外線照射ユニットの構成を示す縦断面図である。
【００８５】
紫外線照射ユニット１１１が備えているケーシング１１５は、ケーシング１１５の一方側から不活性ガスを注入するための注入口１５７と、ケーシング１１５の他方側から内部の気体を排気する排気口１５９とを備えている。不活性ガスとしては、例えば、窒素ガスが挙げられる。
【００８６】
このような構成とすることにより、紫外線を大気中で照射することにより発生するオゾンを排気することができ、オゾンによる人体への悪影響を防止することができる。
【００８７】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００８８】
（１）上述した各実施例では、処理液として硫酸・過酸化水素水とを含む処理液を採用しているが、これに代えて有機溶剤を含む処理液を利用した場合であっても本発明を適用することができる。また、処理として、例えば、基板表面のエッチング処理や洗浄処理にも利用することができる。
【００８９】
（２）上述した各実施例では、フォトレジスト被膜が被着されている基板Ｗを処理の対象としているが、フォトレジスト被膜とは異なる各種の被膜を被着された基板Ｗを処理する装置にも本発明を適用できる。
【００９０】
（３）基板Ｗとして円形状の基板を例に採って説明したが、角形の基板であっても本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】フィルタの構成を示す縦断面図である。
【図３】インラインヒータの縦断面図である。
【図４】インラインヒータの横断面図である。
【図５】ポンプの概略構成を示す断面図である。
【図６】実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図７】実施例３に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図８】実施例４に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図９】メッシュ配管の構成を示す斜視図である。
【図１０】実施例５に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図１１】実施例６に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図１２】実施例７に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図１３】トラップ部の変形構成を示す縦断面図である。
【図１４】遠心分離部の構成を示す縦断面図である。
【図１５】紫外線照射ユニットの構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００９２】
Ｗ  …  基板
１  …  処理槽（処理部）
３  …  内槽
５  …  外槽
１７  …  循環路
１９  …  ミキシングバルブ
２１  …  ポンプ
２３  …  インラインヒータ
２５  …  フィルタ
２７  …  純水供給源
２９  …  薬液供給源
４９，５１  …  ＵＶランプ（フィルタ用紫外線照射部）
６３  …  ＵＶランプ（加熱手段用紫外線照射部）
７５，７７  …  ＵＶランプ（ポンプ用紫外線照射部）
８７  …  ランプ電源
【図１】
2006121031.tif 000003
【図２】
2006121031.tif 000004
【図３】
2006121031.tif 000005
【図４】
2006121031.tif 000006
【図５】
2006121031.tif 000007
【図６】
2006121031.tif 000008
【図７】
2006121031.tif 000009
【図８】
2006121031.tif 000010
【図９】
2006121031.tif 000011
【図１０】
2006121031.tif 000012
【図１１】
2006121031.tif 000013
【図１２】
2006121031.tif 000014
【図１３】
2006121031.tif 000015
【図１４】
2006121031.tif 000016
【図１５】
2006121031.tif 000017