(57)【要約】【課題】  用力ケーブルの暴れを抑制すると共に省スペース化を実現し、ステージの移動を良好に行い、用力ケーブルどうしや他部品との接触や摺動に起因する断線やパーティクルの発生を抑制することができる保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】  線状部材を保持する保持部材を具備する保持装置２０Ｘ、２０Ｙであって、保持部材は、線状部材が延在する方向と交差する方向に対して略Ｕ字状断面を有し、Ｕ字状断面の内側で線状部材を保持すると共に該Ｕ字状断面の内側に向かって屈曲可能であることを特徴とする。【選択図】  図１
2006134921.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
線状部材を保持する保持部材を具備する保持装置であって、
前記保持部材は、前記線状部材が延在する方向と交差する方向に関する断面に湾曲部を有し、
前記湾曲部の内側及び外側の少なくとも一方の側で前記線状部材を保持すると共に該湾曲部の内側及び外側の少なくとも一方の側に向かって屈曲可能であることを特徴とする保持装置。
【請求項２】
前記線状部材と前記保持部材との間に設けられた保護部材をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
【請求項３】
前記線状部材と前記保持部材とが一体に形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の保持装置。
【請求項４】
前記保持部材を複数備え、該複数の保持部材の相互間に前記線状部材が保持されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の保持装置。
【請求項５】
前記線状部材を複数備え、前記保持部材は前記複数の線状部材の各々に応じて複数設けられていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の保持装置。
【請求項６】
前記保持部材の一端には第１の部材が設けられ、前記保持部材の他端には第２の部材が設けられ、前記線状部材は前記第１の部材と前記第２の部材との間で用力を伝達することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の保持装置。
【請求項７】
前記第１の部材と前記第２の部材は所定の方向に対して相対移動可能であり、
前記保持部材は、前記第１の部材と前記第２の部材との間で屈曲することを特徴とする請求項６に記載の保持装置。
【請求項８】
前記第１の部材は第１の方向に移動可能で、前記第２の部材は前記第１の方向と交差する第２の方向に移動可能であって、
前記保持部材は、前記第１の部材と前記第２の部材との間で屈曲する屈曲部を有し、
該屈曲部から前記第１の部材までの第１の区間と、前記屈曲部から前記第２の部材までの第２の区間とにおいて、それぞれ直線状に延在していることを特徴とする請求項６に記載の保持装置。
【請求項９】
前記屈曲部は、前記第１の部材及び前記第２の部材の位置に関わらず、前記第１の部材と前記第２の部材の少なくとも一方の移動軸と略平行な軸上に位置していることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の保持装置。
【請求項１０】
線状部材を保持する保持部材を備えた保持装置であって、
前記保持部材は、前記線状部材が延在する方向と交差する方向に対して略Ｕ字状断面を有し、前記線状部材と一体に形成されていることを特徴とする保持装置。
【請求項１１】
案内面に沿って移動可能なテーブルと、該テーブルに用力を伝達する用力伝達装置とを備えたステージ装置であって、
前記用力伝達装置は、少なくとも一部が前記テーブルに接続された線状部材と、該線状部材を保持する保持部材とを備え、
前記保持部材は、前記線状部材が延在する方向と交差する方向に関する断面に湾曲部を有し、前記湾曲部の内側及び外側の少なくとも一方の側で前記線状部材を保持すると共に、該湾曲部の内側及び外側の少なくとも一方の側に向かって屈曲可能であることを特徴とするステージ装置。
【請求項１２】
前記テーブルを複数備え、前記用力伝達装置は、前記線状部材を介して前記複数のテーブルの各々に用力を伝達することを特徴とする請求項１１に記載のステージ装置。
【請求項１３】
前記用力伝達装置は、前記線状部材に接続されて前記テーブルの移動に同期して所定の方向に移動可能な移動部を備え、
前記保持部材は、前記移動部と前記テーブルとの間で屈曲する屈曲部を有し、該屈曲部は前記移動部の移動軸と略平行な軸上に形成されることを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載のステージ装置。
【請求項１４】
マスクステージに保持されたマスクのパターンを投影光学系を介して基板ステージに保持された基板に露光する装置であって、
前記マスクステージと前記基板ステージの少なくとも一方に、請求項１１から請求項１３のいずれか一項に記載のステージ装置が用いられていることを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法であって、前記リソグラフィ工程の際に請求項１４に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子、半導体素子は、マスク上に形成されたパターンを基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。このフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、基板を載置して２次元移動する基板ステージとパターンを有するマスクを載置して２次元移動するマスクステージとを有し、マスク上に形成されたパターンをマスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながら投影光学系を介して基板に転写するものである。
【０００３】
露光装置としては、基板上にマスクパターン全体を同時に転写する一括露光型露光装置と、マスクステージと基板ステージとを同期走査させつつマスクパターンを連続的に基板上に転写する走査露光型露光装置との２種類が主に知られている。いずれの露光装置においてもマスクと基板との相対位置を高精度に一致させてマスクパターンの転写を行うことが要求されるため、マスクステージ及び基板ステージの位置決め精度は露光装置の最も重要な性能の一つである。
【０００４】
上記基板ステージ及びマスクステージ（以下、両者を総称してステージという）には、基板及びマスクを吸着するための真空配管、ステージ内に設置されている各種駆動機構への電力供給ケーブル、ステージに設置された各種センサの信号線、ステージを摺動可能とするエアベアリングに使用する圧縮空気配管等（以下、用力ケーブルという）の接続が不可避である。このような配管を支持するケーブルダクト装置が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００１−３５１８５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、用力ケーブルをランダムに接続し、様々な方向に引き出したのでは各用力ケーブルの張力が複雑に働き合い、ステージの移動に支障を来たすという問題があった。また、用力ケーブルが暴れてしまうことで、当該用力ケーブルの省スペース化を実現できないという問題もあった。また、用力ケーブルどうしや他部品との接触や摺動によって、用力ケーブルが断線するという問題や、パーティクルが発生することで、当該パーティクルが露光光路中に侵入して露光不良が生じるという問題もあった。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、用力ケーブルの暴れを抑制すると共に省スペース化を実現し、ステージの移動を良好に行い、用力ケーブルどうしや他部品との接触や摺動に起因する断線やパーティクルの発生を抑制することができる保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す図１〜図１０に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の保持装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙは、線状部材４２を保持する保持部材４０を具備する保持装置であって、保持部材４０は、線状部材４２が延在する方向と交差する方向に関する断面に湾曲部を有し、湾曲部の内側及び外側の少なくとも一方の側で線状部材４２を保持すると共に該湾曲部の内側及び外側の少なくとも一方の側に向かって屈曲可能であることを特徴とする。本発明によれば、保持装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙは、Ｕ字状断面を有する保持部材４０を備えることから、当該保持部材４０の形状はその延在方向において屈曲し難く、直線性を有するものとなる。また、保持部材４０は、その一部においてＵ字状断面の内側に向けて屈曲力が生じた場合に、当該屈曲力が生じた部分の断面が略平面状となって容易に屈曲する。このように、保持装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙは、直線性と屈曲性とを兼ね備えた保持部材４０を有しているので、保持部材４０のＵ字状断面の内側に保持された線状部材４２を、保持部材４０の延在方向に倣って直線状に規制することができると共に、Ｕ字状断面の内側に向けて屈曲させることができる。従って、保持装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙは、線状部材４２を保持部材４０に倣って直線状にしたり又は屈曲させたりすることができるので、線状部材４２の暴れを抑制して省スペース化を実現でき、線状部材４２どうしや他部品との接触や摺動に起因する断線やパーティクルの発生を抑制できる。
【０００８】
本発明の保持装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙは、線状部材４２を保持する保持部材４０を備えた保持装置であって、前記保持部材４０は、前記線状部材４２が延在する方向と交差する方向に対して略Ｕ字状断面を有し、前記線状部材４２と一体に形成されていることを特徴とする。本発明によれば、保持部材４０と線状部材４２とが一体に形成されていることから、保持部材４０と線状部材４２との摺動や摩擦が生じることがない。これにより、当該摺動や摩擦に起因する断線やパーティクルの発生を抑制できる。
【０００９】
本発明のステージ装置ＲＳＴ、ＰＳＴは、案内面に沿って移動可能なテーブル８、９、１０５、１０６と、該テーブル８、９、１０５、１０６に用力を伝達する用力伝達装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙとを備えたステージ装置であって、用力伝達装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙは、少なくとも一部がテーブル８、９、１０５、１０６に接続された線状部材４２と、該線状部材４２を保持する保持部材４０とを備え、保持部材４０は、線状部材４２が延在する方向と交差する方向に関する断面に湾曲部を有し、湾曲部の内側及び外側の少なくとも一方の側で線状部材４２を保持すると共に該湾曲部の内側及び外側の少なくとも一方の側に向かって屈曲可能であることを特徴とする。本発明によれば、用力伝達装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙは、直線性と屈曲性とを兼ね備えた保持部材４０を有しているので、保持部材４０のＵ字状断面の内側に保持された線状部材４２を、保持部材４０の延在方向に倣って直線状に規制することができると共に、Ｕ字状断面の内側に向けて屈曲させることができる。従って、用力伝達装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙは、線状部材４２を保持部材４０に倣って直線状にしたり又は屈曲させたりすることができるので、線状部材４２の暴れを抑制して省スペース化を実現でき、線状部材４２どうしや他部品との接触や摺動に起因する断線やパーティクルの発生を抑制できる。また、線状部材４２は、テーブル８、９、１０５、１０６の一部に接続されているので、用力伝達装置２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙから線状部材４２を介してテーブル８、９、１０５、１０６に用力を伝達させることができる。
【００１０】
本発明の露光装置ＥＸは、マスクステージＲＳＴに保持されたマスクＲのパターンを投影光学系３０を介して基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｗに露光する装置であって、前記マスクステージＲＳＴと前記基板ステージＰＳＴの少なくとも一方に、上記のステージ装置ＲＳＴ、ＰＳＴが用いられていることを特徴とする。本発明によれば、線状部材４２の暴れを抑制して省スペース化を実現でき、線状部材４２どうしや他部品との接触や摺動に起因する断線やパーティクルの発生を抑制できる。また、パーティクルが露光光路中に侵入するのを防止でき、基板Ｗに良好に露光することができる。
【００１１】
本発明のデバイス製造方法は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法であって、前記リソグラフィ工程の際に上記の露光装置ＥＸを用いることを特徴とする。本発明によれば、線状部材４２の暴れを抑制して省スペース化を実現でき、線状部材４２どうしや他部品との接触や摺動に起因する断線やパーティクルの発生を抑制できる。また、パーティクルが露光光路中に侵入するのを防止できるので、基板Ｗに良好に露光することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、線状部材の暴れを抑制して省スペース化を実現でき、線状部材どうしや他部品との接触や摺動に起因する断線やパーティクルの発生を抑制できる。また、パーティクルが露光光路中に侵入するのを防止でき、基板に良好に露光することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法の実施形態について図を参照して説明する。図１は、本発明の本発明に関する保持装置を有する露光装置の構成を示す模式図である。
【００１４】
（露光装置）
露光装置ＥＸは、レチクルＲとウエハＷとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルＲに形成されたパターンを投影光学系３０を介してウエハＷ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。
そして、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬによりレチクル（マスク）Ｒを照明する照明光学系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージ（ステージ装置、マスクステージ）ＲＳＴ、レチクルＲから射出される露光光ＥＬをウエハＷ上に投射する投影光学系３０、ウエハＷを保持するウエハステージ（ステージ装置、基板ステージ）ＰＳＴ、露光装置ＥＸを統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴ等を備える。
なお、以下の説明において、投影光学系３０の光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でレチクルＲとウエハＷとの同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。更に、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわり方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１５】
照明光学系１０は、レチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲを露光光ＥＬで照明するものであり、露光用光源５、露光用光源５から射出された光束の照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ＥＬを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、露光光ＥＬによるレチクルＲ上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等（いずれ不図示）を有している。
そして、光源５から射出されたレーザビームは、照明光学系１０に入射され、レーザビームの断面形状がスリット状又は矩形状（多角形）に整形されるとともに照度分布がほぼ均一な照明光（露光光）ＥＬとなってレチクルＲ上に照射される。
なお、照明光学系１０から射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。本実施形態においてはＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。
【００１６】
レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲを支持しつつ、投影光学系３０の光軸ＡＸに垂直な平面内、すなわちＸＹ平面内の２次元移動及びθＺ方向の微小回転を行うものであって、レチクルＲを保持するレチクル微動ステージと、レチクル微動ステージと一体に走査方向であるＹ軸方向に所定ストロークで移動可能なレチクル粗動ステージと、これらを移動させるリニアモータ等（いずれも不図示）を備える。そして、レチクル微動ステージには、矩形開口が形成されており、開口周辺部に設けられたレチクル吸着機構によりレチクルが真空吸着等により保持される。
レチクルステージＲＳＴ上には移動鏡２１が設けられる。また、移動鏡２１に対向する位置にはレーザ干渉計２２が設けられる。そして、レチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲの２次元方向の位置及び回転角は、レーザ干渉計２２によりリアルタイムで計測され、その計測結果は制御装置ＣＯＮＴに出力される。そして、制御装置ＣＯＮＴがレーザ干渉計２２の計測結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、レチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲの位置決め等が行われる。
【００１７】
投影光学系３０は、レチクルＲのパターンを所定の投影倍率βでウエハＷに投影露光するものであって、複数の光学素子で構成されており、これら光学素子は鏡筒３１で支持される。本実施形態において、投影光学系３０は、投影倍率βが例えば１／４あるいは１／５の縮小系である。なお、投影光学系３０は等倍系及び拡大系のいずれでもよい。
【００１８】
投影光学系３０及びレチクルステージＲＳＴは、それぞれ第１コラム１及び第２コラム２によって支持される。第１コラム１は定盤３上に設置され投影光学系３０を支持し、第２コラム２はその上面にレチクルステージＲＳＴが移動する案内面を形成され、第１コラム１上に設置される。
【００１９】
定盤３は、ウエハステージＰＳＴが２次元的に移動する案内面を形成されており、防振台４上に設置される。防振台４は、床からの振動が定盤３に伝達することを防ぐため防振パッドを用いている。また、防振台４は床振動の伝達を抑えるとともにレチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＰＳＴの走査による振動を制振するために、エアパッドと電磁アクチュエータ及び定盤３の位置や加速度を計測するセンサとを組み合わせて構成し、能動的に除振するシステムとしても構わない。
なお、図１の構成では、定盤３上に第１コラム１を設置するようにしたが、定盤３と第１コラム１とをそれぞれ個別に床に設置するように配置してもよい。例えば、防振台４を介して第１コラム１を床に設置する一方で定盤３を第１コラムおよび防振台４から分離し、その定盤３を防振台４とは別に設けられた防振台を介して床に設置させることもできる。
【００２０】
ウエハステージＰＳＴは投影光学系３０の下方に配置され、ウエハＷを真空吸着により保持して２次元に移動する。ウエハステージＰＳＴの位置は、基板ステージ干渉計６によって計測される。基板ステージ干渉計６はウエハステージＰＳＴの位置をｎｍオーダーで計測できる。
【００２１】
（ウエハステージの第１実施形態）
次に、ウエハステージの第１実施形態について説明する。
図２はウエハステージＰＳＴの詳細を示す図であり、以下、図２に沿ってウエハステージＰＳＴの構成について詳細に説明する。
ウエハステージＰＳＴは、定盤３上に形成された案内面と平行なＹ軸方向に摺動可能なＹテーブル９と、Ｙテーブル９上をＹ軸方向と直交し案内面と平行なＸ軸方向に摺動可能なＸテーブル８とから構成される。Ｘテーブル８、Ｙテーブル９のいずれも摺動装置としてエアベアリング（不図示）が用いられる。また、Ｘテーブル８及びＹテーブル９は駆動装置１０，１１により各軸方向に駆動可能である。駆動装置１０，１１としては、リニアモータを使用することができる。
【００２２】
ウエハステージＰＳＴは、Ｘテーブル８に接続されると共にＹテーブル９とＸテーブル８との間で用力を伝達する用力伝達装置（保持装置）２０Ｘと、Ｙテーブル９に接続されると共に定盤３とＹテーブル９との間で用力を伝達する用力伝達装置（保持装置）２０Ｙを備えている。ここで、用力伝達装置２０Ｘにおいては、その一端がＸテーブル（第１の部材）８に付設されていると共に、他端がＹテーブル（第２の部材）９に付設されている。また、用力伝達装置２０Ｙにおいては、その一端がＹテーブル（第１の部材）９に付設されていると共に、他端が定盤（第２の部材）３に付設されている。
【００２３】
（用力伝達装置の第１実施形態）
次に、用力伝達装置の第１実施形態について説明する。
図３は用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙの詳細を示す図であり、図３（ａ）は用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙの側面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ’断面における断面図、図３（ｃ）は図３（ａ）のＢ−Ｂ’断面における断面図である。以下、図３に沿って用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙの構成について詳細に説明する。なお、以下の説明では、用力伝達装置２０Ｘを代表して詳述する。用力伝達装置２０Ｙについては、用力伝達装置２０Ｘと基本的に同一の構成であるため説明を簡略化し、異なる構成のみを説明する。
図３に示すように、用力伝達装置２０Ｘは、金属板（保持部材）４０と、樹脂膜（保護部材）４１と、用力ケーブル（線状部材）４２と、取付部材４３ａ，４３ｂとによって構成されている。金属板４０は、用力ケーブル４２が延在する方向に倣って延在しており、当該延在方向と交差する方向に対して略Ｕ字状の断面となるような湾曲部が形成される金属板材である。このような金属板４０においては、Ｕ字状断面に内側に曲げるように外力が付与されることで容易に屈曲し、また、当該外力が解除されることで元の形状に復元する弾性を有している。このような金属板４０の材質としては、ＳＵＳ系のバネ材が好適に採用される。また、金属板４０の板厚は、後述する屈曲部の形状や、直線部における撓み難さを考慮して好適に設定される。樹脂膜４１は、例えば、ポリ４フッ化エチレン（例えば、テフロン（登録商標））からなり、金属板４０のＵ字状断面の内側にコーティングされて形成されたものである。なお、当該樹脂膜４１の材質としては、ポリ４フッ化エチレンを限定することなく、ゴアテックスシート等の摩擦抵抗が比較的少ない樹脂材料を採用してもよい。用力ケーブル４２は、金属板４０のＵ字状断面の内側に複数配置されており、樹脂膜４１に固定されている。このような複数の用力ケーブル４２は、樹脂膜４１上に連設されている。当該複数の用力ケーブル４２としては、ウエハＷを吸着するための真空配管、テーブル８，９に設置された各種センサの信号線、Ｘテーブル８内に設置されているＺ軸方向駆動機構への電力供給ケーブル、テーブル８，９を摺動可能とするエアベアリングに使用する圧縮空気配管、駆動装置１０，１１のモータを冷却する冷媒配管、等が挙げられる。取付部材４３ａ，４３ｂの各々は、用力伝達装置２０Ｘの両端をＸテーブル８及びＹテーブル９の各々に固定するものであり、当該用力伝達装置２０Ｘの両端において用力ケーブル４２が暴れるのを抑制するようになっている。取付部材４３ａ，４３ｂの材質としては、各種金属材料が採用され、Ｘテーブル８やＹテーブル９に固定してもステージの動作性能に影響を与えない軽量の金属材料が好ましく、例えば、アルミ（Ａｌ）部材が採用される。なお、用力伝達装置２０Ｙにおいては、取付部材４３ａ，４３ｂの各々は、用力伝達装置２０Ｙの両端をＹテーブル９及び定盤３の各々に固定するようになっている。
【００２４】
また、用力伝達装置２０Ｘの断面形状は、直線部Ｃと屈曲部Ｋとによって異なる形状となっている。具体的には、直線部Ｃにおいては、Ａ−Ａ’断面に示すようにＵ字状断面となっている。このような断面形状が維持されることにより、直線部Ｃは曲げに対する抵抗力が大きく、従って、直線部Ｃにおいて用力伝達装置２０Ｘが撓んだり、折れ曲がったりすることがない。一方、屈曲部Ｋにおいては、Ｂ−Ｂ’断面に示すように略平面状に弾性変形している。このような断面形状においては、直線部ＣにおけるＵ字状断面よりも曲げに対する抵抗力が小さく、従って、屈曲部Ｋにおいて容易に用力伝達装置２０Ｘが屈曲するようになっている。また、このような屈曲部Ｋにおいて用力伝達装置２０Ｘが変形した場合でも、樹脂膜４１は金属板４０から剥離することなく密着状態が維持され、また、用力ケーブル４２は樹脂膜４１に保持される。
なお、本実施形態では、用力ケーブル４２を金属板４０のＵ字状断面の内側に複数配置するようにしたが、これに限定されるものではなく、Ｕ字状断面の外側に配置するようにしてもよい。つまり、図３（ｄ）に示すように、金属板４０のＵ字状断面の外側に樹脂膜４１を形成し、その上に用力ケーブル４２を配置してもよい。また、Ｕ字状断面の曲がる方向は、用力ケーブル４２の配置位置に関係なく、内側にしてもよいし外側にしてもよい。
【００２５】
図４はＸテーブル８及びＹテーブル９が相対移動した場合の用力伝達装置２０Ｘの動作を説明するための側面図であり、図４（ａ）はテーブル８，９の相対移動に伴って取付部材４３ａが取付部材４３ｂよりも紙面左方向に移動した場合を示す図、図４（ｂ）はテーブル８，９の相対移動に伴って取付部材４３ａが取付部材４３ｂよりも紙面右方向に移動した場合を示す図である。以下、図４に沿って用力伝達装置２０Ｘの動作について説明する。なお、以下の説明では、用力伝達装置２０Ｘを代表して詳述し、当該用力伝達装置２０Ｘと同一の構成を有する用力伝達装置２０Ｙについては説明を簡略化する。
図４（ａ）に示すように、取付部材４３ａが取付部材４３ｂよりも紙面左方向に移動した場合においては、屈曲部Ｋが自動的に形成されると共に取付部材４３ａの側部に位置する。また、直線部Ｃが取付部材４３ｂの側部に位置し、当該直線部Ｃにおいては用力伝達装置２０Ｘが盛り上がることがない。一方、図４（ｂ）に示すように、取付部材４３ａが取付部材４３ｂよりも紙面右方向に移動した場合においては、屈曲部Ｋが自動的に形成されると共に取付部材４３ｂの側部に位置する。また、直線部Ｃが取付部材４３ａの側部に位置し、当該直線部Ｃにおいては用力伝達装置２０Ｘが盛り上がることがない。このようにＸテーブル８及びＹテーブル９が相対移動した場合でも、自動的に屈曲部Ｋと直線部Ｃとが形成され、用力伝達装置２０Ｘは、屈曲部Ｋのみにおいて屈曲し、直線部Ｃにおいては撓みが生じることなく直線状に形状が保持される。また、このようにテーブル８、９が相対移動しても、用力ケーブル４２は金属板４０の内側に向けて屈曲しつつ、常に保持された状態となる。
なお、用力伝達装置２０Ｙにおいては、Ｙテーブル９と定盤３とが相対移動しても、屈曲部Ｋにおいて屈曲し、直線部Ｃにおいては撓むことなく直線状に形状が保持される。
【００２６】
上述したように、本実施形態においては、Ｘテーブル８とＹテーブル９とが相対移動しても、また、Ｙテーブル９と定盤３とが相対移動しても、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙは、屈曲部Ｋにおいて用力ケーブル４２を保持しつつ屈曲させることができる。また、直線部において用力ケーブル４２を保持しつつ撓みが生じることなく直線状に保持することができる。これにより、用力ケーブル４２の暴れを抑制して省スペース化を実現でき、用力ケーブル４２どうしや他部品との接触や摺動に起因する、断線やパーティクルの発生を抑制できる。
【００２７】
（用力伝達装置の変形例）
次に、用力伝達装置の変形例について説明する。
以下に説明する変形例においては、上記の第１実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。
図５は用力伝達装置の第１の変形例を説明するための図であって、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙにおける直線部Ｃの断面図である。図５（ａ）に示すように、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙは、金属板４０、樹脂膜４１、及び用力ケーブル４２を一体に形成するラミネート部材４３を備えている。ラミネート部材４３の材質としては、樹脂膜４１の材料と同様に、ポリ４フッ化エチレン等の樹脂材料を採用することが好ましい。
【００２８】
このように、第１の変形例においては、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙがラミネート部材４３を備えることにより、樹脂膜４１と用力ケーブル４２とが密着して配置されるので、当該樹脂膜４１と用力ケーブル４２との間において摩擦や摺動が生じることがない。従って、上記の第１実施形態の効果が得られるだけでなく、樹脂膜４１と用力ケーブル４２との接触や摺動に起因する断線やパーティクルの発生を抑制することができる。
なお、本変形例１においては，金属板４０のＵ字状断面の内側にラミネート部材４３が形成されているが、金属板４０のＵ字状断面の外側にもラミネート部材４３を形成し、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙの全周を当該ラミネート部材４３によって被覆させた構成を採用してもよい。
また、図５（ｂ）に示すように、金属板４０のＵ字状断面の外側に樹脂膜４１を形成し、その上に用力ケーブル４２を配置するようにしてもよい。
【００２９】
図６は用力伝達装置の第２の変形例を説明するための図であって、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙにおける直線部Ｃの断面図である。図６（ａ）に示すように、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙは、複数の金属板４０の相互間に用力ケーブル４２を配置した構成を有しており、具体的には、第１金属板４０ａ、第１樹脂膜４１ａ、用力ケーブル４２、接着部材４４、第２樹脂膜４１ｂ、及び第２金属板４０ｂが積層して構成されている。ここで、第１及び第２金属板４０ａ，４０ｂは、同一のＳＵＳ系のバネ材からなるものであり、また、第１及び第２樹脂膜４１ａ，４１ｂも、同一のポリ４フッ化エチレンからなるものである。また、接着部材４４は、第１金属板４０ａと第２金属板４０ｂとの間に充填される部材であり、また、両板４０ａ、４０ｂを接着すると共に用力ケーブル４２の周囲の隙間を自ら埋設するものである。このような接着部材４４としては、樹脂材料を採用することが好ましく、このようにすれば密着性を向上させることが可能となる。なお、第１金属板４０ａ及び第２金属板４０ｂの板厚は、必ずしも同一の厚さにする必要はなく、各々の板厚を異ならせてもよい。
【００３０】
このように、第２の変形例においては、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙが第１金属板４０ａと第２金属板４０ｂとの間に用力ケーブル４２を挟み込むことができる。従って、上記の第１実施形態の効果が得られるだけでなく、用力ケーブル４２の暴れをより確実に抑制することができる。また、第１金属板４０ａと第２金属板４０ｂの各々の板厚を調整することが可能となるので、当該板厚の調整によって、屈曲部Ｋにおける曲げ易さや、直線部Ｃにおける撓みの生じにくさを、容易に調整できる。
また、図６（ｂ）に示すように、金属板４０のＵ字状断面の外側に樹脂膜４１を形成し、その上に用力ケーブル４２を配置するようにしてもよい。
【００３１】
図７は用力伝達装置の第３の変形例を説明するための図であって、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙにおける直線部Ｃの断面図である。図７（ａ）に示すように、用力伝達装置２０Ｘ，２０Ｙにおいては、複数の金属板４０が配置され、当該複数の金属板４０の各々が用力ケーブル４２ａ，４２ｂ，４２ｃを保持している。ここで、用力ケーブル４２ａは、Ｘテーブル８内に設置されているＺ軸方向駆動機構への電力供給ケーブルであり、用力ケーブル４２ｂは、テーブル８，９に設置された各種センサの信号線であり、用力ケーブル４２ｃは、駆動装置１０，１１のモータを冷却する冷媒配管である。従って、本変形例においては、種類の異なる用力ケーブル毎に金属板４０が設けられた構成となっており、当該種類の異なる用力ケーブルが同一の金属板４０に保持されないようになっている。
【００３２】
このように、第３の変形例においては、用力ケーブル４２ａ，４２ｂ，４２ｃの各々が混同されずに、個別に金属板４０によって保持されていることから、用力ケーブル４２ａ，４２ｂ，４２ｃのうち、いずれかを限定的に交換したりメンテナンスしたりすることができる。
また、図７（ｂ）に示すように、複数の金属板４０のＵ字状断面の外側に樹脂膜４１を形成し、その上に用力ケーブル４２を配置するようにしてもよい。
【００３３】
（ウエハステージの第２実施形態）
次に、ウエハステージの第２実施形態について説明する。
図８，図９は、ウエハステージＰＳＴの詳細を示す図である。
本実施形態のウエハステージＰＳＴは、ウエハＷを保持する２つのテーブル（ステージ）を備え、ウエハＷをアライメント処理する領域（以下、アライメント領域Ａという）と露光処理する領域（以下、露光領域Ｅという）との間で交互に移動させるように構成されている。
なお、以下に説明する第２実施形態板においては、上記の第１実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。
【００３４】
本実施形態のウエハステージＰＳＴは、ＸＹ平面の基準面となる定盤３の上面をＸ軸方向及びＹ軸方向に所定ストロークで駆動される２つのステージ１０３，１０４を備える。定盤３の上面とステージ１０３，１０４との間には、不図示の非接触ベアリング（エアベアリング）が配置され、浮上支持される。そして、ステージ１０３，１０４は、２つのＸリニアモータ１１１，１１２によってＸ軸方向に駆動されるとともに、２つのＹリニアモータ１２１，１２２によってＹ軸方向に駆動される。なお、ステージ１０３，１０４は、それぞれ、その上部にウエハＷを戴置するテーブル（第２の部材）１０５，１０６を備える。
【００３５】
Ｘリニアモータ１１１，１１２は、Ｘ軸方向に略平行に延設された２つの固定子１１３を共有するとともに、それぞれ固定子１１３に対応して設けられた一対の可動子１１４，１１５を備える。そして、一対の可動子１１４は、Ｙ軸方向に平行に延設されたＹガイドバー１６１により連結される。同様に、一対の可動子１１５は、Ｙ軸方向に平行に延設されたＹガイドバー１６２により連結される。したがって、Ｘリニアモータ１１１，１１２は、それぞれ、Ｙガイドバー１６１，１６２をＸ軸方向に移動可能に構成されるが、固定子１１３を共有するためにお互いにＸ軸方向の移動を規制し合う。なお、固定子１１３は、４つのモータポスト１０９を介して定盤３に支持される。
Ｙリニアモータ１２１，１２２は、Ｙ軸方向に略平行に延設された２つの固定子１２３を共有するとともに、それぞれ固定子１２３に対応して設けられた一対の可動子１２４，１２５を備える。そして、一対の可動子１２４は、Ｘ軸方向に平行に延設されたＸガイドバー１５１により連結される。同様に、一対の可動子１２５は、Ｘ軸方向に平行に延設されたＸガイドバー１５２により連結される。したがって、Ｙリニアモータ１２１，１２２は、それぞれ、Ｘガイドバー１５１，１５２をＹ軸方向に移動可能に構成されるが、固定子１２３を共有するためにお互いにＹ軸方向の移動を規制し合う。なお、固定子１２３は、固定子１１３と同様に、４つのモータポスト１０９を介して定盤３に支持される。
【００３６】
Ｘガイドバー１５１，１５２には、それぞれＸガイドバー１５１，１５２に沿ってＸ軸方向に平行移動可能に構成されたＸガイド１５３，１５４が設けられる。同様に、Ｙガイドバー１６１，１６２には、それぞれＹガイドバー１６１，１６２に沿ってＹ軸方向に平行移動可能に構成されたＹガイド１６３，１６４が設けられる。なお、Ｘガイドバー１５１，１５２とＸガイド１５３，１５４、及びＹガイドバー１６１，１６２とＹガイド１６３，１６４は、電磁力により連結される。
そして、Ｘガイド１５３，１５４のいずれか一方（図８においては、Ｘガイド１５３）とＹガイド１６３とがステージ１０３に連結される。また、他方のＸガイド１５３，１５４（図８においては、Ｘガイド１５４）とＹガイド１６４とがステージ１０４に連結される。
以上の構成により、リニアモータ１１１，１１２，１２１，１２２を駆動することにより、テーブル１０５，１０６（ステージ１０３，１０４）は、直交するＸ，Ｙ軸に沿って移動可能に構成される。
【００３７】
また、図９に示すように、直方体状に形成されたステージ１０３，１０４は、Ｘガイド１５３，１５４及びＹガイド１６３，１６４に連結される。そして、ステージ１０３，１０４の上部には、略四角形のテーブル１０５，１０６が配置される。また、テーブル１０５，１０６は、それぞれウエハＷを吸着保持するウエハホルダ１０７，１０８を備える。
ステージ１０３，１０４とテーブル１０５，１０６とは、不図示のアクチュエータを介して連結され、アクチュエータを駆動することにより、テーブル１０５，１０６をＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びこれらの軸（方向）周り方向の６方向（自由度）に微動可能に構成される。なお、アクチュエータは、一つないしは複数の回転モータ、ボイスコイルモータ、リニアモータ、電磁アクチュエータ、あるいは他の類のアクチュエータにより構成することができる。また、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向の３自由度に微動可能に構成される場合であってもよい。
そして、ステージ１０３，１０４の側面のうち、Ｙ軸方向に直交する二面（すなわち、Ｘガイド１５３，１５４と連結する二面）には、それぞれ不図示の電磁チャックが設けられる。そして、２つの電磁チャックのいずれか一方（或いは両方）を駆動することにより、Ｘガイド１５３，１５４とステージ１０３，１０４とが脱着可能に連結される。一方、Ｙガイド１６３とステージ１０３、及びＹガイド１６４とステージ１０４とは、着脱できないように連結される。
そして、各リニアモータ１１１，１１２，１２１，１２２によるステージ１０３，１０４の所定位置への移動と、２つの電磁チャックによるガイド１５３，１５４，１６３，１６４とステージ１０３，１０４との着脱と、を組み合わせることで、ステージ１０３とステージ１０４との間での位置の入れ替えを可能にしている。複数のステージの位置をこのような方法で入れ替えるステージシステムは、例えば、特願２００３−１９０６２７号に記載されている。
なお、Ｘガイド１５３，１５４とステージ１０３，１０４とを脱着するための手段は、電磁チャックに限られるものではなく、例えばエアを用いたチャック機構としてもよい。
【００３８】
図８に戻り、ウエハステージＰＳＴには、テーブル１０５，１０６のそれぞれの２次元位置（Ｘ，Ｙ軸方向）を測定する計測システム１８０が設けられる。具体的には、テーブル１０５，１０６の上面には、それぞれ、直交する三辺に沿って移動鏡１８１〜１８６が固定される。
そして、これら移動鏡１８１〜１８６に対して測長用レーザを投射する４つのレーザ干渉計１９１〜１８４が設けられる。レーザ干渉計１９１〜１９４は、Ｘ軸方向或いはＹ軸方向に沿って配置される。そして、レーザ干渉計１９１，１９３は、アライメント領域Ａに位置するテーブル１０５，１０６の位置測定を行い、レーザ干渉計１９２，１９４は、露光領域Ｅに位置するテーブル１０５，１０６の位置測定を行う。なお、レーザ干渉計１９１〜１９４は、複数の光軸を有する多軸干渉計であり、ＸＹ平面の位置測定以外に、Ｘ，Ｙ，θＺ方向の測定も可能となっている。また、各光軸の出力値は独立に測定できるようになっている。
そして、レーザ干渉計１９１〜１９４により、テーブル１０５，１０６のＸＹ平面における距離（位置情報）が測定され、その測定情報は、制御装置ＣＯＮＴに送られる。そして、制御装置ＣＯＮＴにおいて、テーブル１０５，１０６のＸＹ平面における位置等が求められる。これにより、テーブル１０５，１０６上に戴置されたウエハＷのＸ，Ｙ軸方向及びθＺ方向の位置等が高精度に求められる。
なお、テーブル１０５，１０６のＺ軸方向の位置測定のために、テーブル１０５，１０６の下方には、不図示のＺ軸方向測定系が配置される。Ｚ軸方向の位置測定は、後述する露光領域Ｅ及びアライメント領域Ａにおいてのみ計測される。
【００３９】
また、本実施形態のウエハステージＰＳＴにおいては、ステージ１０３，１０４の各々に用力を伝達する用力伝達装置２０ａ，２０ｂと、当該用力伝達装置２０ａ，２０ｂをステージ１０３，１０４の駆動に伴って移動させるチューブキャリア（移動部、第１の部材）５０，５１と、当該チューブキャリア５０，５１の移動方向を案内するキャリアガイド（移動軸）５２，５３とが設けられている。また、ステージ１０３，１０４の各々には、取付部材（第２の部材）４３が設けられており、用力伝達装置２０ａ，２０ｂが保持する用力ケーブル４２がステージ１０３，１０４の各々に用力を供給するようになっている。従って、ステージ１０３においては、用力伝達装置２０ａの一端がステージ１０３の取付部材４３に接続され、その他端がチューブキャリア５１に接続されたものとなっている。また、ステージ１０４においては、用力伝達装置２０ｂの一端がステージ１０４の取付部材４３に接続され、その他端がチューブキャリア５０に接続されたものとなっている。また、キャリアガイド５１，５２は、固定子１２３の近傍に位置しており、Ｙ軸方向に延在している。従って、キャリアガイド５１，５２上において移動するチューブキャリア５０，５１は、Ｙ軸方向（第１の方向）のみに移動するようになっている。また、用力伝達装置２０ａ，２０ｂは、屈曲部Ｋを有している。また、屈曲部Ｋと取付部材４３までの区間（第１の区間）と、屈曲部Ｋと取付部材４３までの区間（第２の区間）とにおいては、用力伝達装置２０ａ，２０ｂは直線状に延在している。また、テーブル１０５，１０６は、上記のように定盤３の上方において、Ｘ軸方向（第２の方向）及びＹ軸方向（第２の方向）に向けて移動可能となっている。
【００４０】
図１０は、用力伝達装置２０ａ，２０ｂとチューブキャリア５０、５１の動作を説明するための図である。以下、図１０に沿って用力伝達装置２０ａ，２０ｂの動作について説明する。なお、以下の説明では、ステージ１０４が備えるテーブル１０６を代表して詳述し、当該テーブル１０６と同一の構成を有するテーブル１０５については説明を簡略化する。
【００４１】
まず、図１０（ａ）に示すように、用力伝達装置２０ｂは、その一端がテーブル１０６の取付部材４３に接続され、他端がチューブキャリア５０に接続されている。また、屈曲部Ｋは、キャリアガイド５２の近傍に形成されており、後述するようにテーブル１０６が定盤３上のどの位置にあってもキャリアガイド５２の延在方向に平行して移動するようになっている。また、屈曲部Ｋと取付部材４３までの区間Ｌ１（第１の区間）と、屈曲部Ｋと取付部材４３までの区間Ｌ２（第２の区間）においては、いずれも用力伝達装置２０ａ，２０ｂは直線状に延在している。また、区間Ｌ１，Ｌ２がなす角度は略９０°になっている。
【００４２】
次に、テーブル１０６が図１０（ａ）に示す位置からＸ軸方向に移動した場合、即ち、テーブル１０６が図１０（ｂ）に示す位置に移動する場合について説明する。この場合においては、テーブル１０６の移動に同期してチューブキャリア５０がキャリアガイド５２に沿ってＹ軸方向に移動することによって、テーブル１０６は図１０（ｂ）に示す位置に移動する。ここで、テーブル１０６の移動方向（Ｘ軸方向）とチューブキャリア５０の移動方向（Ｙ軸方向）とが異なるものの、チューブキャリア５０は、屈曲部Ｋがキャリアガイド５２の近傍に形成されるように移動するので、区間Ｌ１、Ｌ２は直線状に延在している状態が維持されると共に、区間Ｌ１，Ｌ２がなす角度も略９０°に維持される。
【００４３】
次に、テーブル１０６が図１０（ａ）に示す位置からＹ軸方向に移動した場合、即ち、テーブル１０６が図１０（ｃ）に示す位置に移動する場合について説明する。この場合においては、テーブル１０６の移動に同期してチューブキャリア５０がキャリアガイド５２に沿ってＹ軸方向に移動することによって、テーブル１０６は図１０（ｃ）に示す位置に移動する。ここで、テーブル１０６の移動方向（Ｙ軸方向）とチューブキャリア５０の移動方向（Ｙ軸方向）と同じであるので、屈曲部Ｋは、キャリアガイド５２の延在方向（Ｙ軸方向）に沿って移動し、区間Ｌ１、Ｌ２は直線状に延在している状態が維持されると共に、区間Ｌ１，Ｌ２がなす角度も略９０°に維持される。このように屈曲部Ｋは、常にキャリアガイド５２の延在方向と略平行な軸上を移動する。
【００４４】
上述したように、本実施形態においては、テーブル１０５，１０６が定盤３の平面上で２次元的に移動する場合であっても、用力伝達装置２０ａ，２０ｂは、屈曲部Ｋにおいて屈曲させることができる。また、区間Ｌ１，Ｌ２において用力ケーブル４２を保持しつつ撓みが生じることなく直線状に保持することができる。
また、テーブル１０５、１０６の移動に同期してチューブキャリア５０を移動させているので、屈曲部Ｋをキャリアガイド５２と平行に移動させることができる。これにより、用力伝達装置２０ａ，２０ｂの全長を変えることなく用力を供給することができる。
また、定盤３におけるＺ軸方向においては、用力伝達装置２０ａ，２０ｂの撓みが殆ど生じることがないので、当該用力伝達装置２０ａ，２０ｂを定盤３の上方において宙に浮かせた状態で保持することができる。従って、ローラ等の接触部材によって用力伝達装置２０ａ，２０ｂを保持する必要がなく、接触部材を用いた場合のパーティクルの発生を防止できる。また、このような用力伝達装置２０ａ，２０ｂが用力ケーブル４２を保持することによって、用力ケーブル４２の暴れを抑制でき、また、用力ケーブル４２の省スペース化を実現でき、用力ケーブル４２どうしや他部品との接触や摺動に起因する、断線やパーティクルの発生を抑制できる。
【００４５】
なお、上記各実施形態のウエハＷとしては、半導体デバイス用の半導体ウエハのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００４６】
露光装置ＥＸとしては、レチクルＲとウエハＷとを同期移動してレチクルＲのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置の他に、レチクルＲとウエハＷとを静止した状態でレチクルＲのパターンを露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置にも適用することができる。
【００４７】
露光装置ＥＸの種類としては、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶表示素子製造用の露光装置に限られず、ウエハに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００４８】
また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ2 レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ6 ）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、レチクルＲを用いる構成としてもよいし、レチクルＲを用いずに直接ウエハ上にパターンを形成する構成としてもよい。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【００４９】
投影光学系３０としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズ及び偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系３０を用いることなく、レチクルＲとウエハＷとを密接させてレチクルＲのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【００５０】
ウエハステージＰＳＴやレチクルステージＲＳＴにリニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型及びローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージＰＳＴ、ＲＳＴは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００５１】
各ステージＰＳＴ、ＲＳＴの駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット（永久磁石）と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージＰＳＴ、ＲＳＴを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージＰＳＴ、ＲＳＴに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージＰＳＴ、ＲＳＴの移動面側（ベース）に設ければよい。
【００５２】
ウエハステージの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
【００５３】
レチクルステージの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
【００５４】
また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００５５】
また、半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１１に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明のステージ装置及び及び保持装置を有する露光装置の全体構成図である。
【図２】本発明の第１実施形態におけるステージ装置の斜視図である。
【図３】本発明の第１実施形態における保持装置の側面図と部分断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態における保持装置の動作説明図である。
【図５】本発明の第１実施形態における保持装置の第１変形例を示す部分断面図である。
【図６】本発明の第１実施形態における保持装置の第２変形例を示す部分断面図である。
【図７】本発明の第１実施形態における保持装置の第３変形例を示す部分断面図である。
【図８】本発明の第２実施形態におけるステージ装置の平面図である。
【図９】本発明の第２実施形態におけるステージ装置の要部を示す斜視図である。
【図１０】本発明の第２実施形態におけるステージ装置の動作説明図である。
【図１１】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００５７】
３  定盤（第２の部材）、８  Ｘテーブル（第１の部材）、９  Ｙテーブル（第１の部材、第２の部材）、２０ａ、２０ｂ、２０Ｘ、２０Ｙ  用力伝達装置（保持装置）、３０  投影光学系、４０  金属板（保持部材）、４１  樹脂膜（保護部材）、４２  用力ケーブル（線状部材）、５０，５１  チューブキャリア（移動部、第１の部材）、１０５，１０６  テーブル（第２の部材）、Ｋ  屈曲部、Ｌ１  第１の区間、Ｌ２  第２の区間、ＲＳＴ  レチクルステージ（ステージ装置、マスクステージ）、ＰＳＴ  ウエハステージ（ステージ装置、基板ステージ）、Ｒ  レチクル（マスク）、Ｗ  ウエハ（基板）、ＥＸ  露光装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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