(57)【要約】【課題】  データ転送速度が高く、熱揺らぎに強いフレキシブルディスクおよびフレキシブルディスクの記録再生方法を提供する。【解決手段】  シェル内に、少なくとも磁気記録媒体とライナーとを収容するフレキシブルディスクであって、前記磁気記録媒体に形成されている磁性層のマトリックス中にＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金が含有されており、前記磁気記録媒体と前記磁気記録媒体の記録面に対向する前記シェルの内壁面との間に、前記ライナーが少なくとも一つ設けられていることを特徴とするフレキシブルディスクである。  また、上記フレキシブルディスクへの記録再生方法であって、磁気記録媒体を回転数３０００ｒｐｍ〜９０００ｒｐｍで回転させた状態で、磁気ヘッドを用いて記録再生を行うことを特徴とする記録再生方法である。【選択図】  図１
2006107551.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シェル内に、少なくとも磁気記録媒体とライナーとを収容するフレキシブルディスクであって、
前記磁気記録媒体に形成されている磁性層のマトリックス中にＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金が含有されており、
前記磁気記録媒体と前記磁気記録媒体の記録面に対向する前記シェルの内壁面との間に、前記ライナーが少なくとも一つ設けられていることを特徴とするフレキシブルディスク。
【請求項２】
前記磁気記録媒体の表面に高さ１０ｎｍ〜７０ｎｍの微小突起が形成されており、当該微小突起の密度が０．１〜１００個／μｍ2であることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブルディスク。
【請求項３】
前記磁気記録媒体の記録面から前記シェル内壁面までの最短距離が０．５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のフレキシブルディスク。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のフレキシブルディスクへの記録再生方法であって、
磁気記録媒体を回転数３０００ｒｐｍ〜９０００ｒｐｍで回転させた状態で、磁気ヘッドを用いて記録再生を行うことを特徴とする記録再生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキシブルディスクおよびフレキシブルディスクの記録再生方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
可撓性の非磁性支持体上に磁性膜（磁性層）を設けた磁気ディスクを磁気記録媒体とするフレキシブルディスクドライブは、ハードディスクと比較して、対衝撃性に優れ低コストである。しかしながら、その転送速度は最近のハードディスクドライブと比較すると未だ低く、さらに面記録密度はハードディスクの１／２０以下である。この様な状況においては、ハードディスクドライブで扱えるデータ量とフレキシブルディスクドライブで扱えるデータ量との間には大きな開きがあるため、フレキシブルディスクドライブの使用用途は非常に限定されたものになりつつある。また、フレキシブルディスク（フロッピー（登録商標）ディスクもしくはフレキシブルディスクカートリッジともいう）を用いた磁気記録方式においても、高転送速度化、高記録密度化の要求が大きい。
【０００３】
ハードディスクに対し、フレキシブルディスクの記録密度が低い一因として、磁性体の差がある。ハードディスクで使用される磁性体は、一般にスパッタリングで成膜した直径１５ｎｍで高さ２０ｎｍ程度のカラムからなるＣｏＣｒＰｔである。
【０００４】
一方、フレキシブルディスクで使用される磁性体は、長軸１００ｎｍ、短軸２０ｎｍ程度のＦｅ系合金（メタル）をバインダーで分散したものである。従って、ＣｏＣｒＰｔに対し、粒子サイズがＦｅ系合金（メタル）より大きいこと、および、バインダーを必要とすることから、単位記録体積あたりの粒子数が多くなり、電磁変換特性上不利となる。
【０００５】
Ｆｅ系合金（メタル）を小さくする試みが行われているが、熱揺らぎの影響で、常磁性になってしまうという問題があり、長軸４５ｎｍ、短軸１０ｎｍ程度が限界である。これでは、磁性体の体積が、前述のＣｏＣｒＰｔと同じとなり、バインダーの分だけやはり不利になってしまう。
【０００６】
近年、熱揺らぎに対抗するためＦｅＰｔに代表される高い磁気異方性定数（Ｋｕ）を有するＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金が研究されている。ＦｅＰｔは合成時に軟磁性あるいは常磁性である。そこで、硬磁性（強磁性）とするためには、一般には５５０℃以上でアニールすることが必要である。そのため、分散助剤等の有機物は炭化してしまい膜強度は低いものであった。この点、フレキシブルディスクにおいては、ライナーを介して媒体表面を面で支える構造をしており、ヘッドが一部接触する形で走行することから、この膜強度の低さは特に問題となる。
【０００７】
転送速度がハードディスクドライブよりも遅い理由としては、面記録密度の差に加え、フレキシブルディスクの回転数がハードディスクより遅いことが挙げられる。従来の一般的なフレキシブルディスクを用いた磁気記録方式では、フレキシブルディスクはカートリッジの内部空間においてほぼ中心に位置するように設計されており、３０００ｒｐｍ程度の回転数までは磁気ヘッド近傍のフレキシブルディスクは一周期単位の振動となり、その振動幅も５０μｍ以下と小さく、安定な回転状態を達成できる。しかし、この状態でフレキシブルディスクを４０００ｒｐｍ以上の高速で回転させようとすると、フレキシブルディスクには振動周期が一周期では無い非定圧波が生じ、振動幅が大きくなるとともに回転が不安定となってしまう。この様な回転状態ではヘッドはフレキシブルディスクに追従できず、磁気ヘッド−フレキシブルディスク間のスペーシングが大きく変動し、ヘッド出力信号の変動が大きくなったり、磁気ヘッドとフレキシブルディスクとが強く接触して、フレキシブルディスクの摩耗や引っかき傷が発生するという問題があった。この点、上述したごとくＦｅＰｔ系ナノ磁性体では特に問題となった。
【０００８】
フレキシブルディスクを高速で安定に回転させて記録再生を行う手法としては、磁気ヘッドの周辺に設けたベルヌーイプレートとフレキシブルディスクに発生する負圧（ベルヌーイ効果）を利用して磁気ヘッドにフレキシブルディスクを安定に接触させる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。しかし、この様な手法においても４０００ｒｐｍといった高速で回転させる場合には、上記のフレキシブルディスクの不安定な回転の影響を受け、ヘッドの出力変動が大きくなるという問題があった。
【特許文献１】特開平５−２０８２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
以上から、本発明は、上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、データ転送速度が高く、熱揺らぎに強いフレキシブルディスクおよびフレキシブルディスクの記録再生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明者らは、下記本発明により当該課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、シェル内に、少なくとも磁気記録媒体とライナーとを収容するフレキシブルディスクであって、前記磁気記録媒体上に形成された磁性層のマトリックス中にＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金が含有されており、前記磁気記録媒体と前記磁気記録媒体の記録面に対向する前記シェルの内壁面との間に、前記ライナーが少なくとも一つ設けられていることを特徴とするフレキシブルディスクである。
【００１１】
前記磁気記録媒体の表面には高さ１０ｎｍ〜７０ｎｍの微小突起が形成されており、当該微小突起の密度が０．１〜１００個／μｍ2であることが好ましい。また、前記磁気記録媒体の記録面から前記シェル内壁面までの最短距離が３ｍｍ以下であることが好ましい。
【００１２】
さらに、本発明は、上記本発明のフレキシブルディスクへの記録再生方法であって、磁気記録媒体を回転数３０００ｒｐｍ〜９０００ｒｐｍで回転させた状態で、磁気ヘッドにより記録再生を行うことを特徴とする記録再生方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
［フレキシブルディスク］
本発明のフレキシブルディスクは、図１の分解組立図に例示するように、上部シェル１０および下部シェル１２からなるシェル（カートリッジ）が、ライナー１４、中心にハブ１８が設けられた磁気記録媒体２０、ライナー１６をこの順に収容してなる。その他、書込み禁止のタブ２２、シャッター２４等が設けられている。上部シェル１０および下部シェル１２のそれぞれには、ヘッドが通る穴１０ａおよび１２ａが設けられている。そして、磁気記録媒体２０の支持体上に形成された磁性層（不図示）のマトリックス中にはＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金が含有されている。ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金（以下、単に「強磁性規則合金」ということがある）を含有させることで、当該磁気記録媒体が高い磁気異方性定数を有することになる。また、熱揺らぎの影響を低減させることができる。当該強磁性規則合金の形態としては、粒子状（磁性粒子）であることが好ましい。
【００１４】
図１では、ライナー１４，１６は、磁気記録媒体２０の両面側に設けられているが、本発明では、磁気記録媒体と磁気記録媒体の記録面に対向するシェルの内壁面との間に、少なくとも一つ設けられていればよい。
【００１５】
また、カートリッジ内壁（上部シェルおよび下部シェルの少なくともいずれかの内壁）には磁気記録媒体の表面の清浄化、磁気記録媒体とシェルの接着防止のため、ライナーが設けられている。
【００１６】
ライナーの素材としては、例えばレーヨン繊維、ポリノジック繊維、キュプラ繊維、アセテート繊維等のセルロース系繊維を中心として、これらにポリエステル系繊維、アクリル系繊維を配合した不織布を使用することができる。また、ライナーには後述の防錆剤、潤滑剤、制電剤、防かび剤などが含有されていても良く、特に磁気記録媒体と近接させるライナーには潤滑剤が含有されていることが好ましい。この様な潤滑剤として後記の磁気記録媒体の潤滑剤層形成用の潤滑剤が使用できる。
【００１７】
本発明のフレキシブルディスクにおいて、円盤状の磁気記録媒体を収容するシェル（カートリッジ）の材質としては、ＡＢＳ樹脂等の強度の大きな合成樹脂、アルミニウム等の非磁性金属材料が使用できる。また、内部に収容される磁気記録媒体を保護するため、想定される外力に対し、大きく変形しない強度が必要である。さらに、回転時の振動を防止するため、ディスクと回転数に応じた強度と構造にすることが好ましい。
【００１８】
カートリッジの内部空間幅（上部シェルの磁性面と対向する面と下部シェルの磁性面と対向する面との間隔）は０．５〜２．０ｍｍの範囲であることが好ましい。０．５ｍｍより狭いと、回転中も磁気記録媒体とシェルもしくはライナーが強く接触し、磁気記録媒体の起動トルクが著しく上昇したり、磁気記録媒体の摩耗が顕著となる場合がある。２．０ｍｍより広いとディスクの回転を規制する効果が少なくなる場合がある。特に、本発明の磁気記録媒体と近設させるカートリッジ内壁との最短距離は０．０５〜０．５ｍｍが好ましく、０．１〜０．３ｍｍがより好ましい。これより大きいとベルヌーイ効果が得られず、これより狭いと起動トルクの上昇やカートリッジの一部と局所的な強い接触を生じることがある。
【００１９】
フレキシブルディスクと近設させるカートリッジ内壁は、フレキシブルディスクドライブの回転軸が鉛直方向の装置において使用する際の下面側が好ましい。これはフレキシブルディスクに働くベルヌーイ効果による負圧の方向と重力の方向を一致させ、回転を安定させるためである。また、磁気記録媒体が静的にカールを有する場合には、表裏対称の形状になることは少なく、多くの場合どちらかの方向に凸状の形状となっている。この場合には通常フレキシブルディスクドライブとして使用する状態において傘状とし、カートリッジ下面（下部シェル）内壁に近接させる使用法が好ましい。逆に、皿状として使用する場合にはカートリッジ上面（上部シェル）内壁に近接させる使用方法が好ましい。
【００２０】
また、本発明のフレキシブルディスクにおける磁気記録媒体は、支持体の少なくとも一方の面側に磁性層が形成されている。磁性層は塗布により形成されていることが好ましい。必要に応じて、磁性層上に保護膜等が形成されていてもよい。
【００２１】
磁性層中にはマトリックス剤が含有されてなり、そのマトリックス中にＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金が含有されている。マトリックス剤の含有量は、当該マトリックス剤と磁性粒子との合計体積に対し、１０〜５０体積％となっている。そして、磁気的クラスタサイズが６０ｎｍ以下となっている。マトリックス剤の含有量をかかる範囲とすることで、磁気的クラスタサイズを６０ｎｍ以下とすることが可能となる。
【００２２】
当該マトリックス剤としては、非磁性の金属酸化物マトリックス剤や結合剤を使用することが好ましい。金属酸化物マトリックス剤を使用することで、磁性粒子を互いに凝集させずに、高分散な状態を維持させることができる。
【００２３】
非磁性の金属酸化物マトリックスとしては、シリカ、チタニアおよびポリシロキサンから選ばれる少なくとも１種のマトリックス剤からなることが好ましく、具体的には、オルガノシリカゾル（例えば、日産化学製シリカゾル、シーアイ化成製ナノテックＳｉＯ2）、オルガノチタニアゾル（例えば、シーアイ化成製ナノテックＴｉＯ2）およびシリコーン樹脂（例えば、東レ製トレフィルＲ９１０）から選ばれる少なくとも１種のマトリックス剤からなることが好ましい。上記材料は、磁性層の耐傷性および密着性を高める点においても有効である。
【００２４】
結合剤を使用する場合、当該結合剤の溶解性と磁性粒子の凝固防止との両立を図る観点から、極性溶媒と非極性溶媒との質量比（極性溶媒／非極性溶媒）は、１／９〜９／１であることが好ましく、２／８〜８／２であることがより好ましい。
【００２５】
結合剤としては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を使用することができる。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００（好ましくは１０，０００〜１００，０００）、重合度が約５０〜１０００のものを使用することが好ましい。
【００２６】
このような熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。
【００２７】
また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーとの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートとの混合物等が挙げられる。
【００２８】
これらの樹脂については、朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については、特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。
【００２９】
以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとしては、ポリウレタン単独の場合や、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂との組合せ、または、上記した共重合体等にポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。
【００３０】
ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン等が使用できる。
【００３１】
上記したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性とを得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2（以上につき「Ｍ」は水素原子、またはアルカリ金属塩基を表す）、ＯＨ、ＮＲ2、ＮＲ3（以上につき「Ｒ」は炭化水素基を表す）やエポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、等から選ばれる少なくとも１以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。なかでも、−ＳＯ3Ｍが検討した中では好ましかった。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであることが好ましく、１０-2〜１０-6モル／ｇであることがより好ましい。
【００３２】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例（製品名）としては、ユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ；日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ；電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ；日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ；日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４；大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９；東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０；大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０；三菱化成社製ＭＸ５００４；三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０；旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０；等が挙げられる。
【００３３】
結合剤は、磁性層だけでなく非磁性層が形成される場合には、当該非磁性層にも含有される。非磁性層および磁性層に用いられる結合剤は、非磁性層の場合は非磁性粉末の全質量、磁性層の場合は強磁性規則合金（磁性粒子）の全質量に対し、２〜５０質量％の範囲で使用することが好ましく、１０〜３０質量％の範囲で使用することがより好ましい。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタン樹脂のみまたはポリウレタン樹脂とイソシアネートのみを使用することも可能である。
【００３４】
また、ポリウレタン樹脂を用いる場合は、そのガラス転移温度が−５０〜１５０℃であることが好ましく、０℃〜１００℃であることがより好ましく、３０℃〜９０℃であることがさらに好ましい。また、破断伸びは１００〜２０００％であることが好ましく、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ2（０．４９〜９８ＭＰａ）であることが好ましく、降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ2（０．４９〜９８ＭＰａ）であることが好ましい。
【００３５】
本発明の磁気記録媒体の磁性層は単層でもかまわないが、好ましくは２層以上から構成される。従って、結合剤量、結合剤中に含有される塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ各層で変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。
例えば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層の結合剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００３６】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。
【００３７】
これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ；武田薬品社製タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、テスモジュールΗＬ；等があり、これらを単独または硬化反応性の差を利用して２組以上の組み合わせで各層とも用いることができる。
【００３８】
磁気記録媒体の支持体としては、可撓性の非磁性支持体であることが好ましい。具体的には、ポリイミド、ポリアミド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートなどのフィルムを使用することができる。支持体の厚さは２０〜１００μｍであることが好ましい。
【００３９】
高い電磁変換特性を確保するために、磁性層表面の表面粗さは、算術平均粗さ（Ｒａ）で２ｎｍ以下であることが好ましく、最大表面粗さＲmaxは６０ｎｍ以下が好ましい。より十分な電磁変換特性を確保するために磁性層表面の表面粗さはＲａで２ｎｍ以下であることが好ましい。最大表面粗さＲmaxは６０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４０】
ところで、支持体の磁性層を形成する面側の表面性が上記の支持体ほど平滑でない場合は、支持体（フィルム）の磁性層を形成する面にまず平滑化を目的とした下塗り膜を形成することが好ましい。この場合、下塗り膜の素材としては平滑化効果が高い熱硬化型イミドや熱硬化型シリコーン樹脂を用いることが好ましい。この下塗り膜の厚みとしては、０．１〜３μｍが好ましい。このような熱硬化性樹脂からなる下塗り膜は、例えばエポキシ基を有するシランカップリング剤を含有するモノマーや分子末端に不飽和結合を有する熱硬化型イミドモノマーを塗布した後、熱硬化させる方法によって形成することできる。
【００４１】
また、磁気記録媒体表面に、高さが非常に低い微小突起を設けることによって、媒体と摺動部材との真実接触面積を低減し、摺動特性を改善することができる。
【００４２】
この様な微小突起構造を設ける方法としては、支持体上に、シリカ粒子を塗布して微小突起を形成する方法や、エマルジョンを塗布して有機物の微小突起を形成する方法などが挙げられる。耐熱性を確保する観点から、シリカ粒子を塗布して微小突起を形成する方法を用いることが好ましく、当該シリカ粒子としては、球状シリカ粒子を用いることが特に好ましい。支持体上に微小突起を形成することで、最終的に、磁気記録媒体表面に微小突起を設けることができる。
【００４３】
また、微小突起を支持体表面に固定するためにバインダーを用いることも可能である。この場合、耐熱性を確保するため、十分な耐熱性を有する樹脂をバインダーとして使用することが好ましい。このような素材としては熱硬化性イミドや熱硬化性シリコン樹脂を用いることが特に好ましい。
【００４４】
バインダーを用いる場合、既述の粒子を含むバインダーの塗膜厚みは、乾燥後の厚みで２０ｎｍ以下であることが好ましい。バインダーの塗布膜の厚みが厚すぎると乾燥後にフィルム裏面と接着（ブロッキング）を生じる場合がある。
【００４５】
この微小突起の高さは、磁気記録媒体の状態で、１０〜７０ｎｍであることが好ましく、１０〜３０ｎｍであることがより好ましい。高さが１０〜７０ｎｍの微小突起のの密度は０．１〜１００個／μｍ2であることが好ましく、１０〜１００個／μｍ2であることがより好ましい。
【００４６】
微小突起の高さが高すぎると、記録再生ヘッドと磁気記録媒体との間にスペーシング損失が生じて電磁変換特性が劣化することがある。微小突起が低すぎると摺動特性の改善効果が少なくなることがある。微小突起の密度が０．１個／μｍ2よりも少ない場合は、摺動特性の改善効果が少なくなることがあり、１００個／μｍ2よりも多い場合には凝集粒子の増加によって高い突起が増加し電磁変換特性が劣化することがある。
【００４７】
微小突起の高さや密度は、例えば、以下のようにして求めることができる。まず、作製した磁気記録媒体の３０μｍ×３０μｍの面積について原子間力顕微鏡を用い、コンタクトモードでスキャンを行う。フィルター処理により測定上の問題で生じた、本来の表面形状とは関係のない歪み、ノイズを取り除いた検出画像において、同原子間力顕微鏡のラフネス解析コマンドを用いて凸部と凹部の体積が等しくなる面を基準面とし、基準面から１５ｎｍの高さでスライスした場合の突起に起因する表面積値を、各々基準面から１５ｎｍ以上の突起面積として、求めることができる。
【００４８】
［磁気記録媒体の製造方法］
本発明のフレキシブルディスクに収容される磁気記録媒体の製造方法について、以下に詳細に説明する。
【００４９】
当該磁気記録媒体は、磁性層に含有される磁性粒子を作製し、作製した磁性粒子をマトリックス中に含有する磁性層を支持体上に形成し、保護層や潤滑剤層等を適宜設けて製造される。まず、磁性粒子の製造方法について説明しながら、磁気記録媒体の製造方法について述べる。
【００５０】
磁性粒子は、強磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を液相法もしくは気相法等により作製する合金粒子作製工程、作製した合金粒子に酸化処理を施す酸化処理工程、酸化処理後にアニール処理を施すアニール処理工程、を経て製造される。以下、上記各工程を説明する。
【００５１】
＜合金粒子作製工程＞
アニール処理により磁性粒子となる合金粒子は、気相法や液相法により製造することができる。量産性に優れることを考慮すると、液相法が好ましい。液相法としては、従来から知られている種々の方法を適用することができるが、これらに改良を加えた還元法を適用することが好ましく、還元法のなかでも粒径が制御しやすい逆ミセル法が特に好ましい。
【００５２】
（逆ミセル法）
上記逆ミセル法は、少なくとも、（１）２種の逆ミセル溶液を混合して還元反応を行う還元工程と、（２）還元反応後に所定温度で熟成する熟成工程と、を有する。
以下、各工程について説明する。
【００５３】
（１）還元工程：
まず、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（Ｉ）を調製する。
【００５４】
前記界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えば、エーロゾルＯＴ（和光純薬製））、４級アンモニウム塩型（例えば、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールドデシルエーテル）などが挙げられる。
非水溶性有機溶媒中の界面活性剤量は、２０〜２００ｇ／リットルであることが好ましい。
【００５５】
前記界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒として好ましいものは、アルカン、エーテルおよびアルコール等が挙げられる。
アルカンとしては、炭素数７〜１２のアルカン類であることが好ましい。具体的には、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等が好ましい。
エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル等が好ましい。
アルコールとしては、エトキシエタノール、エトキシプロパノール等が好ましい。
【００５６】
還元剤水溶液中の還元剤としては、アルコール類；ポリアルコール類；Ｈ2；ＨＣＨＯ、Ｓ2Ｏ62-、Ｈ2ＰＯ2-、ＢＨ4-、Ｎ2Ｈ5+、Ｈ2ＰＯ3-などを含む化合物；を単独で使用、または２種以上を併用することが好ましい。
水溶液中の還元剤量は、金属塩１モルに対して、３〜５０モルであることが好ましい。
【００５７】
ここで、逆ミセル溶液（Ｉ）溶液中の水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）は、２０以下となるようにすることが好ましい。質量比が２０を超えると、沈殿が起きやすく、粒子も不揃いとなりやすいといった問題が生じることがある。質量比は、１５以下とすることが好ましく、０．５〜１０とすることがより好ましい。なお、逆ミセル溶液（Ｉ）溶液とともに、目的に応じて、上記質量比や使用原料を変えた逆ミセル溶液（Ｉ’）、（Ｉ’’）等を調製し、これらを併用してもよい。
【００５８】
上記とは別に、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（ＩＩ）を調製する。
界面活性剤および非水溶性有機溶媒の条件（使用する物質、濃度等）については、逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様である。
なお、逆ミセル溶液（Ｉ）と同種のものまたは異種のものを使用することができる。また、逆ミセル溶液（ＩＩ）溶液中の水と界面活性剤との質量比も逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様であり、逆ミセル溶液（Ｉ）の質量比と同一としてもよく、異なっていてもよい。また、逆ミセル溶液（ＩＩ）溶液とともに、目的に応じて、上記質量比や使用原料を変えた逆ミセル溶液（ＩＩ’）、（ＩＩ’’）等を調製し、これらを併用してもよい。
【００５９】
金属塩水溶液に含有される金属塩としては、作製しようとする磁性粒子がＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得るように、適宜選択することが好ましい。特に、ＣｕＡｕ型強磁性規則合金が好ましく用いられる。
【００６０】
ここで、当該ＣｕＡｕ型強磁性規則合金としては、ＦｅＮｉ、ＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＡｕなどが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔであることが好ましい。
Ｃｕ3Ａｕ型強磁性規則合金としては、Ｎｉ3Ｆｅ、ＦｅＰｄ3、Ｆｅ3Ｐｔ、ＦｅＰｔ3、ＣｏＰｔ3、Ｎｉ3Ｐｔ、ＣｒＰｔ3、Ｎｉ3Ｍｎが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ3、ＦｅＰｔ3、ＣｏＰｔ3、Ｆｅ3Ｐｄ、Ｆｅ3Ｐｔ、Ｃｏ3Ｐｔが好ましい。
【００６１】
金属塩の具体例としては、Ｈ2ＰｔＣｌ6、Ｋ2ＰｔＣｌ4、Ｐｔ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、Ｎａ2ＰｄＣｌ4、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ3）2、ＰｄＣｌ2、Ｐｄ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、ＨＡｕＣｌ4、Ｆｅ2（ＳＯ4）3、Ｆｅ（ＮＯ3）3、（ＮＨ4）3Ｆｅ（Ｃ2Ｏ4）3、Ｆｅ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）3、ＮｉＳＯ4、ＣｏＣｌ2、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ3）2などが挙げられる。
【００６２】
金属塩水溶液中の濃度（金属塩濃度として）は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌであることが好ましく、１〜１００μｍｏｌ／ｍｌであることがより好ましい。
【００６３】
前記金属塩を適宜選択することで、卑な金属と貴な金属とが合金を形成したＣｕＡｕ型もしくはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子が作製される。
【００６４】
合金粒子は後述するアニール処理によって合金相を不規則相から規則相へ変態させる必要があるが、当該変態温度を下げるために、前記２元系合金に、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｉｎなどの第三元素を加えることが好ましい。これらの第三元素は、それぞれの第三元素の前駆体を、前記金属塩溶液に予め添加しておくことが好ましい。添加量としては、２元系合金に対し、１〜３０ａｔ％であることが好ましく、５〜２０ａｔ％であることがより好ましい。
【００６５】
以上のようにして調製した逆ミセル溶液（Ｉ）と（ＩＩ）とを混合する。混合方法としては、特に限定されるものではないが、還元の均一性を考慮して、逆ミセル溶液（Ｉ）を撹拌しながら、逆ミセル溶液（ＩＩ）を添加していって混合することが好ましい。混合終了後、還元反応を進行させることになるが、その際の温度は、−５〜３０℃の範囲で、一定の温度とすることが好ましい。
還元温度が−５℃未満では、水相が凝結して還元反応が不均一になるといった問題が生じ、３０℃を超えると、凝集または沈殿が起こりやすく系が不安定となることがある。好ましい還元温度は０〜２５℃であり、より好ましくは５〜２５℃である。
ここで、前記「一定温度」とは、設定温度をＴ（℃）とした場合、当該ＴがＴ±３℃の範囲にあることをいう。なお、このようにした場合であっても、当該Ｔの上限および下限は、上記還元温度（−５〜３０℃）の範囲にあるものとする。
【００６６】
還元反応の時間は、逆ミセル溶液の量等により適宜設定する必要があるが、１〜３０分とすることが好ましく、５〜２０分とすることがより好ましい。
【００６７】
還元反応は、粒径分布の単分散性に大きな影響を与えるため、できるだけ高速攪拌しながら行うことが好ましい。
好ましい攪拌装置は高剪断力を有する攪拌装置であり、詳しくは、攪拌羽根が基本的にタービン型あるいはパドル型の構造を有し、さらに、その羽根の端もしくは、羽根と接する位置に鋭い刃を付けた構造であり、羽根をモーターで回転させる攪拌装置である。具体的には、ディゾルバー（特殊機化工業製）、オムニミキサー（ヤマト科学製）、ホモジナイザー（ＳＭＴ製）などの装置が有用である。これらの装置を用いることにより、単分散な合金粒子を安定な分散液として合成することができる。
【００６８】
前記逆ミセル溶液（Ｉ）および（ＩＩ）の少なくともいずれかに、アミノ基またはカルボキシ基を１〜３個有する少なくとも１種の分散剤を、作製しようとする合金粒子１モル当たり、０．００１〜１０モル添加することが好ましい。
【００６９】
かかる分散剤を添加することで、より単分散で、凝集の無い合金粒子を得ることが可能となる。
添加量が、０．００１未満では、合金粒子の単分散性をより向上させされない場合があり、１０モルを超えると凝集が起こる場合がある。
【００７０】
前記分散剤としては、合金粒子表面に吸着する基を有する有機化合物が好ましい。具体的には、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基またはスルフィン酸基を１〜３個有するものであり、これらを単独または併用して用いることができる。
構造式としては、Ｒ−ＮＨ2、ＮＨ2−Ｒ−ＮＨ2、ＮＨ2−Ｒ（ＮＨ2）−ＮＨ2、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3Ｈ−Ｒ−ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3Ｈ−Ｒ（ＳＯ3Ｈ）−ＳＯ3Ｈ、Ｒ−ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2Ｈ−Ｒ−ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2Ｈ−Ｒ（ＳＯ2Ｈ）−ＳＯ2Ｈで表される化合物であり、式中のＲは直鎖、分岐または環状の飽和、不飽和の炭化水素である。
【００７１】
分散剤として特に好ましい化合物はオレイン酸である。オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、鉄等の金属粒子を保護するのに用いられてきた。オレイン酸の比較的長い（たとえば、オレイン酸は１８炭素鎖を有し長さは〜２０オングストローム（〜２ｎｍ）である。オレイン酸は脂肪族ではなく二重結合が１つある）鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与える。
エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に（たとえば、８〜２２の間の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独でまたは組み合わせて用いることができる）用いられる。オレイン酸は（オリーブ油など）容易に入手できる安価な天然資源であるので好ましい。また、オレイン酸から誘導されるオレイルアミンもオレイン酸同様有用な分散剤である。
【００７２】
以上のような還元工程では、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相中のＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）が還元され、極小サイズで単分散な状態で析出するものと考えられる。その後、昇温段階および後述する熟成工程において、析出した卑な金属を核とし、その表面で、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）が卑な金属で還元されて置換、析出する。イオン化した卑な金属は還元剤で再度還元されて析出すると考えられる。このような繰返しによって、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子が得られる。
【００７３】
（２）熟成工程：
還元反応終了後、反応後の溶液を熟成温度まで昇温する。
前記熟成温度は、３０〜９０℃で一定の温度とすることが好ましく、その温度は、前記還元反応の温度より高くする。また、熟成時間は、５〜１８０分とすることが好ましい。熟成温度および時間が上記範囲より高温長時間側にずれると、凝集または沈殿が起きやすく、逆に低温短時間側にずれると、反応が完結しなくなり組成が変化することがある。好ましい熟成温度および時間は４０〜８０℃および１０〜１５０分であり、より好ましい熟成温度および時間は４０〜７０℃および２０〜１２０分である。
【００７４】
ここで、前記「一定温度」とは、還元反応の温度の場合と同義（但し、この場合、「還元温度」は「熟成温度」となる）であるが、特に、上記熟成温度の範囲（３０〜９０℃）内で、前記還元反応の温度より５℃以上高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好ましい。５℃未満では、処方通りの組成が得られないことがある。
【００７５】
以上のような熟成工程では、還元工程で還元析出した卑な金属上に貴な金属が析出する。
すなわち、卑な金属上でのみ貴な金属の還元が起こり、卑な金属と貴な金属とが別々に析出することが無いため、効率良くＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を、高収率で処方組成比どおりに作製することが可能で、所望の組成に制御することができる。また、熟成の際の温度の撹拌速度を適宜調整することで、得られる合金粒子の粒径を所望なものとすることができる。
【００７６】
前記熟成を行った後は、水と１級アルコールとの混合溶液で前記熟成後の溶液を洗浄し、その後、１級アルコールで沈殿化処理を施して沈殿物を生成させ、該沈殿物を有機溶媒で分散させる洗浄・分散工程を設けることが好ましい。
かかる洗浄・分散工程を設けることで、不純物が除去され、磁気記録媒体の磁性層を塗布により形成する際の塗布性をより向上させることができる。
上記洗浄および分散は、少なくともそれぞれ１回、好ましくは、それぞれ２回以上行う。
【００７７】
洗浄で用いる前記１級アルコールとしては、特に限定されるものではないが、メタノール、エタノール等が好ましい。体積混合比（水／１級アルコール）は、１０／１〜２／１の範囲にあることが好ましく、５／１〜３／１の範囲にあることがより好ましい。
水の比率が高いと、界面活性剤が除去されにくくなることがあり、逆に１級アルコールの比率が高いと、凝集を起こしてしまうことがある。
【００７８】
以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。
当該合金粒子は、単分散であるため、支持体に塗布しても、これらが凝集することなく均一に分散した状態を保つことができる。従って、アニール処理を施しても、それぞの合金粒子が凝集することがないため、効率良く強磁性化することが可能で、塗布適性に優れる。
【００７９】
後述する酸化処理前の合金粒子の粒径は、ノイズを下げる観点から小さいことが好ましいが、小さすぎるとアニール後に超常磁性となり、磁気記録に不適当となることがある。一般に、１〜１００ｎｍであることが好ましく、１〜２０ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
【００８０】
（還元法）
還元法でＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を作製するには種々の方法があるが、少なくとも、酸化還元電位が卑な金属（以下、単に「卑な金属」ということがある）と、酸化還元電位が貴な金属（以下、単に「貴な金属」ということがある）と、を有機溶剤もしくは水、または有機溶剤と水との混合溶液中で還元剤等を使用して還元する方法を適用することが好ましい。
卑な金属と貴な金属との還元順序は、特に限定されず、同時に還元してもよい。
【００８１】
前記有機溶剤としては、アルコール、ポリアルコール等を使用することが可能で、アルコールとしては、メタノール、エタノール、ブタノール等が挙げられ、ポリアルコールとしては、エチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。
なお、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金の例としては、既述の逆ミセル法の場合と同様である。
また、貴な金属を先に析出させて合金粒子を調製する方法としては、特願２００１−２６９２５５号の段落１８〜３０等に記載の方法等を適用することができる。
【００８２】
酸化還元電位が貴な金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が好ましく用いることができ、Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ、Ｐｔ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、ＲｈＣｌ3・３Ｈ2Ｏ、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ3）2、ＰｄＣｌ2、Ｐｄ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌが好ましく、０．１〜１００μｍｏｌ／ｍｌがより好ましい。
【００８３】
また、酸化還元電位が卑な金属としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒを好ましく用いることができ、特に好ましくは、Ｆｅ、Ｃｏである。このような金属は、ＦｅＳＯ4・７Ｈ2Ｏ、ＮｉＳＯ4・７Ｈ2Ｏ、ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ3）2・４Ｈ2Ｏ等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌが好ましく、０．１〜１００μｍｏｌ／ｍｌがより好ましい。
【００８４】
また、既述の逆ミセル法と同様に２元系合金に、第三元素を加える事で強磁性規則合金への変態温度を下げる事が好ましい。添加量としては逆ミセル法と同様である。
【００８５】
例えば、還元剤を用いて卑な金属と貴な金属とをこの順に還元して析出させる場合、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて卑な金属あるいは卑な金属と貴な金属の一部を還元したものを、貴な金属源に加え酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤を用いて還元した後、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて還元する事が好ましい。
酸化還元電位は系のｐＨに依存するが、酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤には、１，２−ヘキサデカンジオール等のアルコール類、グリセリン類、Ｈ2、ＨＣＨＯが好ましく用いられる。
−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元剤にはＳ2Ｏ62-、Ｈ2ＰＯ2-、ＢＨ4-、Ｎ2Ｈ5+、Ｈ2ＰＯ3-が好ましく用いる事ができる。
なお、卑な金属の原料として、Ｆｅカルボニル等の０価の金属化合物と用いる場合は、特に卑な金属の還元剤は必要ない。
【００８６】
貴な金属を還元析出させる際に吸着剤を存在させる事で合金粒子を安定して調製することができる。吸着剤としてはポリマーや界面活性剤を使用することが好ましい。
前記ポリマーとしては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリＮ−ビニル−２ピロリドン（ＰＶＰ）、ゼラチン等が挙げられる。なかでも、特に好ましくはＰＶＰである。
また、分子量は２万〜６万が好ましく、より好ましくは３万〜５万である。ポリマーの量は生成する合金粒子の質量の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．１〜５倍がより好ましい。
【００８７】
吸着剤として好ましく用いられる界面活性剤は、一般式：Ｒ−Ｘ、で表される長鎖有機化合物である「有機安定剤」を含むことが好ましい。上記一般式中のＲは、直鎖または分岐ハイドロカーボンまたはフルオロカーボン鎖である「テール基」であり、通常８〜２２個の炭素原子を含む。また、上記一般式中のＸは、合金粒子表面に特定の化学結合を提供する部分（Ｘ）である「ヘッド基」であり、スルフィネート（−ＳＯＯＨ）、スルホネート（−ＳＯ2ＯＨ）、ホスフィネート（−ＰＯＯＨ）、ホスホネート（−ＯＰＯ（ＯＨ）2）、カルボキシレート、およびチオールのいずれかであることが好ましい。
【００８８】
前記有機安定剤としては、スルホン酸（Ｒ−ＳＯ2ＯＨ）、スルフィン酸（Ｒ−ＳＯＯＨ）、ホスフィン酸（Ｒ2ＰＯＯＨ）、ホスホン酸（Ｒ−ＯＰＯ（ＯＨ）2）、カルボン酸（Ｒ−ＣＯＯＨ）、チオール（Ｒ−ＳＨ）等のいずれかであることが好ましい。これらのなかでも、逆ミセル法と同様のオレイン酸が特に好ましい。
【００８９】
前記ホスフィンと有機安定剤との組合せ（トリオルガノホスフィン／酸等）は、粒子の成長および安定化に対する優れた制御性を提供することができる。ジデシルエーテルおよびジドデシルエーテルも用いることができるが、フェニルエーテルまたはｎ−オクチルエーテルはその低コストおよび高沸点のため溶媒として好適に用いられる。
【００９０】
反応は必要な合金粒子および溶媒の沸点により８０℃〜３６０℃の範囲の温度で行うことが好ましく、８０℃〜２４０℃がより好ましい。温度がこの温度範囲より低いと粒子が成長しないことがある。温度がこの範囲より高いと粒子は制御されないで成長し、望ましくない副産物の生成が増加することがある。
【００９１】
合金粒子の粒径は逆ミセル法と同様で、１〜１００ｎｍが好ましく、より好ましくは３〜２０ｎｍであり、さらに好ましくは３〜１０ｎｍである。
粒子サイズ（粒径）を大きくする方法としては種晶法が有効である。磁気記録媒体として用いるには合金粒子を最密充填することが記録容量を高くする上で好ましく、そのためには、合金粒子のサイズの標準偏差は１０％未満が好ましく、より好ましくは５％以下である。
【００９２】
粒子サイズが小さすぎると超常磁性となり好ましくない。そこで粒子サイズを大きくするため既述のように、種晶法を用いることが好ましい。その際、粒子を構成する金属より貴な金属を析出させるケースが出てくる。このとき、粒子の酸化が懸念されるため、予め粒子を水素化処理することが好ましい。
【００９３】
合金粒子の最外層は酸化防止の観点から貴な金属にすることが好ましいが、凝集しやすいため、本発明では貴な金属と卑な金属との合金であることが好ましい。かかる構成は、既述のような、液相法によれば容易かつ効率良く実現させることができる。
【００９４】
合金粒子合成後に溶液から塩類を除くことは、合金粒子の分散安定性を向上させる意味から好ましい。脱塩にはアルコールを過剰に加え、軽凝集を起こし、自然沈降あるいは遠心沈降させ塩類を上澄みと共に除去する方法があるが、このような方法では凝集が生じやすいため、限外濾過法を採用することが好ましい。
以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。
【００９５】
合金粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができる。合金粒子もしくは磁性粒子の結晶系を決めるにはＴＥＭによる電子回折でもよいが、Ｘ線回折を用いた方が精度が高いため好ましい。合金粒子もしくは磁性粒子の内部の組成分析には、電子線を細く絞ることができるＦＥ−ＴＥＭにＥＤＡＸを付け評価することが好ましい。また、合金粒子もしくは磁性粒子の磁気的性質の評価はＶＳＭを用いて行うことができる。
【００９６】
＜酸化処理工程＞
作製した合金粒子に酸化処理を施すことで、後の非酸化性雰囲気下でアニール処理を施す際の温度を高くするすることなく、強磁性を有する磁性粒子を効率よく製造することができる。これは、以下に説明する現象によると考えられる。
すなわち、まず、合金粒子を酸化することで、その結晶格子上に酸素が進入する。酸素が進入した状態でアニール処理を行うと、熱により酸素が結晶格子上から脱離する。酸素が脱離することで欠陥が生じ、かかる欠陥を通じて合金を構成する金属原子の移動が容易になるため、比較的低温でも相変態が起こりやすくなると考えられる。
かかる現象は、例えば、酸化処理後の合金粒子とアニール処理を行った磁性粒子とをＥＸＡＦＳ（広範囲Ｘ線吸収微細構造）測定することで、推察される。
例えば、Ｆｅ−Ｐｔ合金粒子で酸化処理を施さない合金粒子では、Ｆｅ原子と、Ｐｔ原子やＦｅ原子との結合の存在が確認できる。
これに対し、酸化処理を施した合金粒子では、Ｆｅ原子と酸素原子との結合の存在を確認できる。しかし、Ｐｔ原子やＦｅ原子との結合はほとんど見えなくなる。このことは、酸素原子によりＦｅ−Ｐｔ、Ｆｅ−Ｆｅの結合が切られていることを意味する。これによりアニール時にＰｔ原子やＦｅ原子が動きやすくなったと考えられる。
そして、当該合金粒子にアニール処理を施した後は、酸素の存在を確認することができず、Ｆｅ原子の周りにはＰｔ原子やＦｅ原子との結合の存在が確認できる。
【００９７】
上記現象を考慮すれば、酸化しないと相変態が進行しにくくなりアニール処理温度を高くする必要が生じることがわかる。しかし、過度に酸化するとＦｅ等の酸化されやすい金属と酸素との相互作用が強くなりすぎて金属酸化物が生成してしまうことも考えられる。
よって、合金粒子の酸化状態を制御することが重要となり、そのためには酸化処理条件を最適なものに設定する必要がある。
【００９８】
酸化処理は、例えば、既述の液相法などにより合金粒子を作製した場合は、作製した後の合金粒子含有液に少なくとも酸素を含有するガスを供給すればよい。
このときの酸素分圧は、全圧の１０〜１００％とすることが好ましく、１５〜５０％とすることが好ましい。
また、酸化処理温度は、０〜１００℃とすることが好ましく、１５〜８０℃とすることが好ましい。
【００９９】
合金粒子の酸化状態は、ＥＸＡＦＳ等で評価することが好ましく、Ｆｅ等の卑な金属と酸素との結合数は、酸素によりＦｅ−Ｆｅ結合、Ｐｔ−Ｆｅ結合を切るという観点から、０．５〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。
【０１００】
必要に応じて酸化処理が施された合金粒子含有液に、既述のマトリックス剤や必要に応じて種々の添加剤を添加して、磁性層を形成するための塗布液（磁性層塗布液）を調製する。ここで、上記塗布液中の合金粒子の含有量は、１０〜１００ｍｇ／ｍｌとすることが好ましい。また、マトリックス剤は、既述のものを１種以上添加し、その含有量が、０．００７〜１．０μｇ／ｍｌとなるようにすることが好ましく、０．０１〜０．７μｇ／ｍｌとなるようにすることがより好ましい。
【０１０１】
＜アニール処理工程＞
酸化処理を施した状態でも合金粒子は不規則相である。既述のように不規則相では強磁性は得られない。そこで、規則相とするためには、熱処理（アニール）を施す必要がある。当該アニール処理としては、液体中で行うアニール処理と、比較的高温で行うアニール処理とがある。
【０１０２】
比較的高温で行うアニール処理は、示差熱分析（ＤＴＡ）を用い、合金粒子を構成する合金が規則不規則変態する変態温度を求め、その温度以上で行う事が必要である。
上記変態温度は、通常５００℃程度であるが、第三元素の添加により下がることがある。従って、アニール処理温度は１５０℃以上とすることが好ましく、１５０〜５００℃とすることがより好ましい。
【０１０３】
また、粒子状態でアニール処理を施すと粒子の移動が起こりやすく融着が生じやすい。このため高い保磁力は得られるが粒子サイズが大きくなる欠点を有しやすい。従ってアニール処理は、合金粒子の凝集を防ぐ観点から、支持体上などで上記磁性層塗布液を塗布した状態で行うことが好ましい。さらに、支持体上で合金粒子をアニールして磁性粒子とすることで、かかる磁性粒子をマトリックス中に含有する磁性層を有する磁気記録媒体に供することができる。
【０１０４】
支持体上に合金粒子を塗布するには、前記磁性層塗布液を支持体上に塗布すればよい。支持体に塗布する方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。
【０１０５】
なお、アニール処理を施す前の支持体に塗布した状態で、空気中で酸化処理を施してもよい。当該酸化処理の温度は、５０〜２５０℃程度とすることが好ましい。
【０１０６】
アニール処理を施す際の雰囲気としては、相変態を効率良く進行させ合金の酸化を防ぐため、Ｈ2、Ｎ2、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ等の非酸化性雰囲気下とすることが好ましい。特に、酸化処理により格子上に存在する酸素を脱離させる観点から、メタン、エタン、Ｈ2等の還元性雰囲気とすることがより好ましい。さらに、粒径維持の観点から、還元性雰囲気下の磁場中でアニール処理を行うことが好ましい。なお、Ｈ2雰囲気とする場合は防爆の観点から、不活性ガスを混合させることが好ましい。
【０１０７】
また、アニール時に粒子の融着を防止するために、変態温度以下、不活性ガス中で一旦アニール処理を行い、分散剤を炭化した後、還元性雰囲気中で変態温度以上でアニール処理を行うことが好ましい。このとき、必要に応じて変態温度以下の前記アニール処理後に、合金粒子からなる層上にＳｉ系の樹脂等を塗布し、変態温度以上でアニール処理を行うことが最も好ましい態様である。
【０１０８】
以上のようなアニール処理を施すことで、合金粒子が不規則相から規則相に相変態し、強磁性を有する磁性粒子が得られる。
【０１０９】
既述のように、気相中で、かつ、比較的高温でアニール処理を施す方法もあるが、この方法では、基板に塗布した後にアニールすることとなる。このため耐熱性の基板を用いる必要があり、基板の選択の幅が狭くなる。そこで、規則相とするためには、既述のアニール処理に代えて、磁性層塗布液を塗布する前に、液体（溶媒）中でのアニール処理を施してもよい。これにより、磁性層中の磁性粒子を高い分散状態とすることができる。
【０１１０】
アニール処理は１５０〜３５０℃かつ１〜５０ＭＰａの条件下で行うことが好ましい。より好ましくは２００〜３５０℃かつ３〜４０ＭＰａ、さらに好ましくは２００〜３５０℃かつ５〜３０ＭＰａの条件下で行うことが好ましい。アニール処理を１５０〜３５０℃かつ１〜５０ＭＰａの条件下とすることで、溶媒中での規則相化をより促進することが可能となり、強磁性（特に、硬磁性）にすることができる。
【０１１１】
アニール処理時の溶媒としては、アルカン類とアルコール類との混合溶媒が好ましい。具体例としては、アルカンは炭素数６〜１４の、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン等が挙げられる。アルコール類は、エチルアルコール、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール、１，２−エタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−ヘキサンジオール等が挙げられる。
【０１１２】
溶媒は、合金粒子１ｇあたり、１０〜１００００ｍｌとすることが好ましく、１００〜１０００ｍｌがより好ましい。アルカン類とアルコール類の体積比は１／９〜９／１の範囲で用いることが好ましい。
【０１１３】
アニール処理時の有機溶媒中には、分散剤を共存させることが好ましい。好ましい分散剤としては、合金粒子作製工程で述べた分散剤が有用である。
【０１１４】
以上のようなアニール処理を施すことで、合金粒子が不規則相から規則相に相変態し、強磁性を有する磁性粒子が得られる。この磁性粒子を含有する溶液に、既述のようなマトリックス剤を添加し、磁性層用塗布液を作製して、これを支持体上に塗布することで、磁性層を形成することができる。
【０１１５】
以上のようにして、マトリックス中にＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金が含有された磁性層が支持体上に形成される。
【０１１６】
強磁性規則合金相を有する磁性粒子の粒径は、ノイズを下げる観点から小さいことが好ましいが、小さすぎるとアニール後に超常磁性となり、磁気記録に不適当となることがある。本発明の合金粒子は、数平均粒径で１〜３０ｎｍが好ましく、２〜２０ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０１１７】
磁気記録媒体として用いるには合金相を有する磁性粒子を最密充填することが記録容量を高くする上で好ましく、そのためには、該磁性粒子の粒径の標準偏差は２０％以下が好ましく、より好ましくは１０％以下である。
【０１１８】
強磁性規則合金相を有する磁性粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができる。該磁性粒子の結晶系を決めるにはＴＥＭによる電子回折でもよいが、Ｘ線回折を用いた方が精度高く好ましい。該磁性粒子の個々の組成分析には、電子線を細く絞ることができるＦＥ−ＴＥＭにＥＤＡＸを付け評価することが好ましい。また、該磁性粒子の磁気的性質の評価はＶＳＭを用いて行うことができる。
【０１１９】
このようにして製造される磁性粒子は、その保磁力が９５．５〜９５５ｋＡ／ｍ（１２００〜１２０００Ｏｅ）であることが好ましく、特に、記録ヘッドが対応できることを考慮して１５９〜４７８ｋＡ／ｍ（２０００〜６０００Ｏｅ）であることがより好ましい。
【０１２０】
磁性層上に非常に薄い保護膜を形成することで、耐磨耗性を改善し、さらにその保護膜上に潤滑剤を塗布して滑り性を高めることによって、十分な信頼性を有する磁気記録媒体とすることができる。
【０１２１】
保護膜の材質としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化物；炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物；グラファイト、無定型カーボンなどの炭素（カーボン）；等があげられるが、特に好ましくは、一般に、ダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質の非晶質のカーボンである。
【０１２２】
カーボンからなるカーボン保護膜は、非常に薄い膜厚で十分な耐磨耗性を有し、摺動部材に焼き付きを生じ難いため、保護膜の材料としては好適である。
カーボン保護膜の形成方法として、ハードディスクにおいては、スパッタリング法が一般的であるが、ビデオテープ等の連続成膜を行う必要のある製品ではより成膜速度の高いプラズマＣＶＤを用いる方法が多数提案されている。従って、これらの方法を適用することが好ましい。
中でもプラズマインジェクションＣＶＤ（ＰＩ−ＣＶＤ）法は成膜速度が非常に高く、得られるカーボン保護膜も硬質かつピンホールが少ない良質な保護膜が得られると報告されている（例えば、特開昭６１−１３０４８７号公報、特開昭６３−２７９４２６号公報、特開平３−１１３８２４号公報等）。
【０１２３】
このカーボン保護膜は、ビッカース硬度で１０００ｋｇ／ｍｍ2以上であることが好ましく、２０００ｋｇ／ｍｍ2以上であることがより好ましい。また、その結晶構造はアモルファス構造であり、かつ非導電性であることが好ましい。
そして、カーボン保護膜として、ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンドライクカーボン）膜を使用した場合、この構造はラマン光分光分析によって確認することができる。すなわち、ダイヤモンド状炭素膜を測定した場合には、１５２０〜１５６０ｃｍ-1にピークが検出されることによって確認することができる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造からずれてくるとラマン光分光分析により検出されるピークが上記範囲からずれるとともに、保護膜としての硬度も低下する。
【０１２４】
このカーボン保護膜を形成するための炭素原料としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等のアルカン；エチレン、プロピレン等のアルケン；アセチレン等のアルキン；をはじめとした炭素含有化合物を用いることが好ましい。また、必要に応じてアルゴンなどのキャリアガスや膜質改善のための水素や窒素などの添加ガスを加えることができる。
【０１２５】
カーボン保護膜の膜厚が厚いと、電磁変換特性の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐磨耗性が不足する。従って、膜厚は、２．５〜２０ｎｍとすることが好ましく、５〜１０ｎｍとすることがより好ましい。
また、この保護膜と基板となる磁性層の密着性を改善するために、あらかじめ磁性層表面を不活性ガスでエッチングしたり、酸素等の反応性ガスプラズマに曝して表面改質する事が好ましい。
【０１２６】
磁性層は電磁変換特性を改善するため重層構成としたり、磁性層の下に公知の非磁性下地層や中間層を有していてもよい。走行耐久性および耐食性を改善するため、既述のように、上記磁性層もしくは保護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。添加する潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。
【０１２７】
炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。
【０１２８】
フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。
パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）nまたはこれらの共重合体等である。
【０１２９】
また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。
さらに、この分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００未満では揮発性が高く、また潤滑性が低いなることがある。また、５０００を超えると、粘度が高くなるため、スライダーとディスクが吸着しやすく、走行停止やヘッドクラッシュなどを発生しやすくなることがある。
このパーフルオロポリエーテルは、具体例的には、アウジモンド社製のＦＯＭＢＬＩＮ、デュポン社製のＫＲＹＴＯＸなどの商品名で市販されている。
【０１３０】
極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類；亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類；トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類；二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤；などが挙げられる。
【０１３１】
前記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用される。これらの潤滑剤を磁性層もしくは保護膜上に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させればよい。
【０１３２】
防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体；ベンゾチアゾール、２−メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこの誘導体；等が挙げられる。
【０１３３】
本発明のフレキシブルディスクは上記のウエブ状、シート状、円盤状の磁気記録媒体をドーナツ状のディスク形態に打ち抜いて使用する。このときの磁気記録媒体の大きさとしては、いわゆる１．８型、２．５型、３．５型、３．７型、５型等の大きさのものが使用できる。
【０１３４】
本発明の磁気記録媒体の厚みは２０〜１００μｍであることが好ましく、３０〜８０μｍであることがより好ましい。厚みが薄すぎると静的なカールや変形が大きくなることがあり、厚すぎるとヘッドと磁気記録媒体とが接触したときの衝撃を緩和できなくなることがある。また、本発明の磁気記録媒体の静的なカールは、高速回転での回転安定性を高めるため小さければ小さいほど良く、好ましくは３．５型のフレキシブルディスクでは１ｍｍ以下、２．５型のフレキシブルディスクでは０．５ｍｍ以下である。
【０１３５】
［フレキシブルディスクの記録再生方法］
本発明のフレキシブルディスクを用いた磁気記録方法は、当該フレキシブルディスクの磁気記録媒体を、回転数３０００ｒｐｍ〜９０００ｒｐｍ（好ましくは、４０００ｒｐｍ〜８０００ｒｐｍ）で回転させた状態で、磁気ヘッドを用いて記録再生を行うものである。この高速の回転によって高いデータ転送速度を得ることができる。
【０１３６】
本発明においては、磁気記録媒体を、上部シェルおよび下部シェルのいずれかに近設させた状態で回転させることが好ましい。このようにすることで、磁気記録媒体とシェル内壁に働くベルヌーイ効果によって回転を安定させることができる。この場合、磁気記録媒体には、シェル内壁からほぼ全面にわたって負圧を受けるため、例えば、４０００ｒｐｍ〜８０００ｒｐｍといった高速回転時においても回転を安定させることができる。安定した回転状態で磁気記録媒体の両面に磁気ヘッドを押し当てて磁気信号の記録再生を行うことにより、出力変動の小さい良好な記録再生特性を得ることができる。
【０１３７】
本発明のフレキシブルディスクを用いた記録再生方法で使用するヘッドは、ハードディスクで一般に使用されているインダクティブヘッド、磁気抵抗素子を用いたＭＲヘッドが使用できる。記録密度を高めるため、再生ヘッドにＭＲヘッドを使用することが好ましく、例えば、一般的なＭＲヘッドの他にＧ−ＭＲヘッド、デュアルストライプ型ＭＲヘッド等が使用できる。なかでも、デュアルストライプ型ＭＲヘッドはヘッドの構造によってサーマルアスペリティーの発生を軽減させることができるので好適である。
【０１３８】
ヘッドを搭載するスライダーはハードディスクで使用されるものと同様な構造のものが使用できる。例えば、テーパーフラット型の正圧スライダーやこのレールにスロットを設けたもの、トライパッドスライダー、負圧スライダー等が使用でき、なかでもテーパーフラット型の正圧スライダーやこのレールにスロットを設けたものがフレキシブルディスクと組み合わせた場合、ディスクの面ぶれの影響を受け難いため好ましい。
【０１３９】
このスライダーは、例えばＡ１2О3−ＴｉＣ、アルミナ、ジルコニア、ＣａＴｉＯ3等のセラミックスを材料として作製することができる。このスライダー上に、フレキシブルディスクと同様の炭素保護膜を設けることが好ましい。炭素保護膜を設けることによって、フレキシブルディスクとヘッドとの摺動特性を改良し、ヘッドの耐摩耗性を高めることができる。その結果、本発明のフレキシブルディスクの記録再生の信頼性をさらに高めることができる。
【０１４０】
ヘッドに設ける保護膜としては炭素膜の中でもダイヤモンド状炭素膜またはダイヤモンド膜が好ましく、さらには、炭素、水素からなる硬質炭素膜であるダイヤモンド状炭素膜が好ましい。ヘッドに設ける保護膜の硬度はフレキシブルディスク保護膜の硬度より高いものが好ましく、このように硬度を調整することで、ヘッド保護膜の寿命を延ばすことができる。
【０１４１】
また、炭素保護膜の密着性を改善するためケイ素またはその酸化物や窒化物等の中間層を設けても良く、この中間層の厚みは１〜５ｎｍ程度が好ましい。さらに、スライダーの大きさもハードディスクで使用される一般的な大きさのものが使用できる。なかでも、ディスク振動への追従性が良く入手が容易なナノスライダー（５０％スライダー）、ピコスライダー（３０％スライダー）と呼ばれるものが好適である。
【０１４２】
スライダーに適切な加重を付与しながらディスク振動に追従させるためのサスペンションはハードディスクと同様な形式のものが使用できる。なかでも、その適正加重が９．８〜５８．８ｍＮ（１〜６ｇｆ）程度の加重のものが適している。加重がこれよりも軽いと、ヘッドはディスクから跳躍しやすくなり、再生信号のドロップアウトを発生する。逆に加重がこれよりも重いとディスクが磨耗しやすくなり、ディスクの寿命が短くなってしまう。
【０１４３】
また、ヘッド駆動機構の構成としてはいわゆるインライン型のものとトランスバース型のものの両方が使用できるが、ディスク径が３．５型といった比較的大きい場合にはトランスバース型が好ましい。これはトランスバース型のヘッド駆動機構を用いることによってシェルのヘッド窓を小さくすることができ、これによってディスクの面ぶれを軽減することができるからである。本発明の磁気記録方式においては、２つのヘッド駆動機構をフレキシブルディスクの表裏の両面に対して対称となるように組み合わせて使用することが好ましい。
【０１４４】
本発明の記録再生方法においては、フレキシブルディスクの磁気記録媒体の回転数は、好ましくは、４０００ｒｐｍ〜８０００ｒｐｍであるが、これより回転数が低い場合には、高いデータ転送速度を得ることができないばかりか、磁気記録媒体とカートリッジ内壁間に働くベルヌーイ効果が少ないため、磁気記録媒体の回転の規制効果が少なくなり、面ぶれが大きくなる。一方、これより回転数が高いと、本発明を用いてもディスクの振動を規制することが困難となり、周期が１周期ではない振動が発生し、ヘッドがディスクに追従できなくなるため、エラレートが悪化したり、ディスクが摩耗しやすくなる。
【実施例】
【０１４５】
以下に、実施例および比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４６】
［実施例１，２および比較例１，２］
（支持体の作製）
磁性層塗布面にフィラーを有しない厚みが５０μｍのポリイミドフィルムを用意し、これを支持体（１）とした。
【０１４７】
平均粒径１８ｎｍのオルガノシリカゾルをその濃度が０．１５重量％になるようにシクロヘキサノンに分散し、さらに濃度が０．７５重量％になるようバインダー（熱硬化型イミド樹脂：丸善石油化学社製ＢＡＮＩ−ＮＢ）を添加して塗布液（２）を調製した。この塗布液（２）を上記支持体（１）上にディップコート法で塗布した後、２５０℃で１時間乾燥して、表面に微小突起を形成した支持体（２）を作製した。なお、上記平均粒径は、走査型電子顕微鏡で計測し、２０個の平均値とした。
【０１４８】
（ＦｅＰｔＣｕ合金粒子の作製）
高純度Ｎ2ガス中で下記の操作を行った。
ＮａＢＨ4（和光純薬製）０．５７ｇをＨ2Ｏ（脱酸素処理済み）１８ｍｌに溶解した還元剤水溶液に、エーロゾルＯＴ（和光純薬製）１６ｇをデカン（和光純薬製）１２０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（Ｉ）を調製した。
【０１４９】
三シュウ酸三アンモニウム鉄（Ｆｅ（ＮＨ4）3（Ｃ2Ｏ4）3）（和光純薬製）０．４３ｇと塩化白金酸カリウム（Ｋ2ＰｔＣｌ4）（和光純薬製）０．２５ｇとをＨ2Ｏ（脱酸素処理済み）１８ｍｌに溶解した金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ１６ｇをデカン１２０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ１６ｇをデカン１２０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（ＩＩ）を調製した。
【０１５０】
塩化銅（ＣｕＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）（和光純薬製）０．１１ｇをＨ2Ｏ（脱酸素処理済み）４．５ｍｌに溶解した金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ４ｇをデカン３０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（Ｉ’）を調製した。
【０１５１】
アスコルビン酸（和光純薬製）０．８８ｇとＢｉｃｉｎｅ（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン；同仁化学研究所製）０．０６ｇをＨ2Ｏ（脱酸素処理済み）９ｍｌに溶解した還元剤水溶液に、エーロゾルＯＴ（和光純薬製）８ｇとオレイルアミン（東京化成製）３ｍｌとをデカン（和光純薬製）６０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（ＩＩ’）を調製した。
【０１５２】
逆ミセル溶液（Ｉ）を２２℃でオムニミキサー（ヤマト科学製）で高速攪拌しながら、逆ミセル溶液（ＩＩ）を瞬時に添加した。３分後、さらに、逆ミセル溶液（Ｉ’）を瞬時に添加した。さらに２分後、逆ミセル溶液（ＩＩ’）を添加した。この５分後に、マグネチックスターラー攪拌に変更して、５０℃に昇温した後、１２０分間熟成した。室温に冷却後、オレイン酸（和光純薬製）３ｍｌを添加、混合して、大気中に取出した。逆ミセルを破壊するために、Ｈ2Ｏ４５０ｍｌとメタノール４５０ｍｌとの混合液を添加して水相と油相とに分離した。油相側に合金粒子が分散した状態が得られた。油相側をＨ2Ｏ９００ｍｌとメタノール３００ｍｌとの混合液で１回洗浄した。その後、メタノールを２５００ｍｌ添加して合金粒子にフロキュレーションを起こさせて沈降させた。上澄み液を除去して、ヘプタン（和光純薬製）４０ｍｌを添加して再分散した。さらに、メタノール２００ｍｌ添加による沈降とヘプタン４０ｍｌ分散を２回繰り返して、最後にヘプタン（和光純薬製）１０ｍｌを添加して、ＦｅＣｕＰｔ合金粒子含有液を得た。粒径は数平均径で４．６ｎｍ（変動係数８．１％）であった。また、組成はＦｅ／Ｐｔ／Ｃｕ＝４１／４０／１９（ａｔ．％比）であった。
【０１５３】
合金粒子含有液を真空脱気しヘプタンを除去した。この後、デカンを加え希釈し、合金粒子の含有量を４重量％とした。その後、マトリックス剤として東レ製トレフィルＲ９１０をデカン溶液に溶解し１重量％とした液を、合金粒子分散液１ｍｌあたり下記表１記載の量を加え、攪拌した後、クリーンルーム内でフィルターろ過を行って磁性層用塗布液を調製した。
【０１５４】
［磁気記録媒体の作製］
（１）磁性層用塗布液の塗布：
下記表１に従って、実施例１および比較例１の場合は支持体（１）上、実施例２および比較例（２）の場合は、支持体（２）上に、磁性層用塗布液をスピンコータで塗布し、乾燥した。このとき、磁性層となる塗布膜の厚さは約５０ｎｍであった。塗布後、２００℃で２５分間、空気にさらし塗布膜中の合金粒子に酸化処理を施した。
【０１５５】
（２）アニール処理等：
酸化処理後、昇温速度を５０℃／ｍｉｎとし「５％Ｈ2＋９５％Ａｒ」雰囲気下の電気炉（４５０℃）中で３０分間加熱し、５０℃／ｍｉｎで室温まで降温してアニール処理を施し、マトリックス中に磁性粒子を含有する磁性層（膜厚：５０ｎｍ）を形成し、実施例１，２および比較例１，２に係る磁気記録媒体を作製した。
【０１５６】
アニール後、表１に従って、４００ＷのＲｆスパッタでＣ層、Ｓｉ層を保護層として、形成した。この時の膜厚は１０ｎｍであった。
【０１５７】
下記のバーニッシュヘッドを用い、それぞれの磁気記録媒体を７２００ｒｐｍで回転させながらバーニッシュ処理を行った。当該処理においてバーニッシュヘッドの仕様は下記の通りとした。
【０１５８】
−バーニッシュヘッド仕様（グライドシグナス社）−
（１）スライダー：２４ｐａｄｓ
（２）荷重：５ｇ
（３）サスペンション：Ｔｙｐｅ  ２０３０
（４）Ｚ−ｈｅｉｇｈｔ：２９ｍｉｌ（０．７３６６ｍｍ）
【０１５９】
それぞれの磁気記録媒体表面をフロリナート  ＦＣ７２（住友スリーエム社製）で洗浄し、乾燥した。溶媒（フロリナート  ＦＣ７２）でフォンブリンＺゾル（アウジモント社製）を１重量％とした溶液を調製し、当該溶液を用いて、磁気記録媒体をディップコータで１ｍｍ／ｍｉｎで引き上げながら塗布し、潤滑剤層を形成した。
【０１６０】
なお、磁気記録媒体の磁性層から、スパチェラにより磁性粒子を掻き落して、体積平均粒径評価を行った。磁性粒子の直径（粒径）は５ｎｍであった。
【０１６１】
（フレキシブルディスクの作製）
アルミニウム製の上部シェルと下部シェルの両方の内壁にレーヨン繊維からなるライナーを貼り付け、内部空間を１．２ｍｍとしたアルミニウム製のシェル（カートリッジ）を作製し、これに作製した磁気記録媒体（実施例１，２および比較例１，２に係る磁気記録媒体のそれぞれ）を水平面に垂直な回転軸に取り付けて使用した場合に傘型となるように組み込んみ、実施例１，２および比較例１，２に係るフレキシブルディスクを作製した。
【０１６２】
（評価）
（１）走行耐久性試験：
ヘッドを、実施例１，２および比較例１，２に係るフレキシブルディスクの同一トラックを繰り返し走行するように設定し、周波数８ＭＨｚの信号を記録し、再生した。この再生出力が当初の−３ｄＢとなるまでの時間を測定し、結果を表１に記載した。測定環境は２５℃ＲＨ５０％とした。
【０１６３】
電磁変換特性（再生出力）は協同電子社製スピンスタンドＬＳ９０を用い、リングヘッドを用い媒体半径２５ｍｍの位置で記録再生をおこなった。書き込み電流は１０ｍＡであった。磁気記録媒体の回転数は５４００ｒｐｍとした。
【０１６４】
（２）微小突起の密度の評価：
作製したフレキシブルディスクについて３０μｍ×３０μｍの面積について原子間力顕微鏡（ＡＦＭ、「ＤＩＧＩＴＡＬ  ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製ＮＡＮＯＳＣＯＰＥ３」）を用い、コンタクトモードでスキャンした。フィルター処理により測定上の問題で生じた、本来の表面形状とは関係のない歪み、ノイズを取り除いた検出画像において、同原子間力顕微鏡のラフネス解析コマンドを用いて凸部と凹部の体積が等しくなる面を基準面とし、基準面から１５ｎｍの高さでスライスした場合の突起に起因する表面積値を、各々基準面から１５ｎｍ以上の突起面積とし、結果を下記表１に記載した。また、探針にはナノセンサーズ社製：室化ケイ素探針、ＮＰ型を用いた。
【０１６５】
【表１】
2006107551.tif 000003
【０１６６】
上記表１より、比較例１，２のフレキシブルディスクは、ヘッドによるメディア傷のため、耐久時間を測定することができなかった。これに対し、磁性層のマトリックス中にＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を含有する実施例１，２のフレキシブルディスクは、耐久時間が高かった。特に、実施例１よりも微小突起の密度を高くした実施例２のフレキシブルディスクは、耐久時間がより高いものとなった。
【０１６７】
［実施例３］
（ＦｅＰｔ合金粒子の作製）
高純度Ｎ2ガス中で下記の操作を行った。
ＮａＢＨ4（和光純薬製）０．５７ｇをＨ2Ｏ（脱酸素処理済み）２４ｍｌに溶解した還元済水溶液に、エーロゾルＯＴ（和光純薬製）１６ｇをデカン（和光純薬製）１２０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（Ｉ）を調製した。
【０１６８】
三シュウ酸三アンモニウム鉄（Ｆｅ（ＮＨ4）3（Ｃ2Ｏ4）3）（和光純薬製）０．４６ｇと塩化白金酸カリウム（Ｋ2ＰｔＣ１4）（和光純薬製）０．３８ｇとをＨ2Ｏ（脱酸素処理済み）２４ｍｌに溶解した金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ１６ｇをデカン１２０ｍ１に溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（ＩＩ）を調製した。
【０１６９】
アスコルビン酸（和光純薬製）０．４４ｇをＨ2Ｏ（脱酸素処理済み）６ｍｌに溶解した還元剤水溶液に、エーロゾルＯＴ（和光純薬製）４ｇとオレイルアミン（東京化成製）３ｍｌとをデカン（和光純薬製）３０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（ＩＩ’）を調製した。
【０１７０】
逆ミセル溶液（Ｉ）を２２℃でオムニミキサー（ヤマト科学製）で高速撹拌しながら、逆ミセル溶液（ＩＩ）を瞬時に添加した。４分後、さらに、逆ミセル溶液（ＩＩ’）を瞬時に添加した。添加終了４分後に、マグネチックスターラー攪拌に変更して、４０℃に昇温した後、１２０分間熟成した。室温に冷却後、オレイン酸（和光純薬製）３ｍｌを添加、混合して、大気中に取出した。逆ミセルを破壊するために、Ｈ2Ｏ４５０ｍｌとメタノール４５０ｍｌとの混合液を添加して水相と油相とに分離した。油相側に合金粒子が分散した状態が得られた。油相側をＨ2Ｏ９００ｍｌとメタノール３００ｍｌとの混合液で１回洗浄した。その後、メタノールを２０００ｍｌ添加して合金粒子にフロキュレーションを起こさせて沈降させた。上澄み液を除去して、ヘプタン（和光純薬製）４０ｍｌを添加して再分散した。さらに、メタノール２００ｍｌ添加による沈降とヘプタン４０ｍｌ分散を２回繰り返して、最後にヘプタン（和光純薬製）１０ｍｌを添加して、ＦｅＰｔ合金粒子含有液を得た。粒径は数平均径で５．１ｎｍ（変動係数７．６％）であった。また、組成はＦｅ／Ｐｔ＝５４／４６（ａｔ．％比）であった。
【０１７１】
（酸化処理工程）
合金粒子が４質量％となるように調節した、ＦｅＰｔ合金粒子含有液に酸素ガスを供給した。なお、酸素ガスの供給温度および時間は、２５℃および１分間とした。
【０１７２】
（液中アニール処理工程）
酸化処理をした合金粒子を４質量％含むＦｅＰｔ合金粒子含有液５ｍｌにオレイルアミン０．５ｍｌとオレイン酸０．５ｍｌを添加し、さらに、エチレングリコールを５ｍｌ添加して金属製の耐圧容器に注入した。密閉後、３５０℃で２０ＭＰａに加圧した状態で３時間放置した。室温に戻した後、精製を行った。その後、真空脱気により溶媒を除去し、磁性粒子を作製した。
【０１７３】
（磁性層塗布液の調製）
下記（１）〜（１３）の材料を混合して、磁性層塗布液の調製した。
【０１７４】
（１）磁性粒子：１００部
（２）下記化合物：７．５部
塩化ビニル／酢酸ビニル／グリシジルメタクリレート／２−ヒドロキシプロピルアリルエーテル＝８６／５／５／４の共重合体にヒドロキシエチルスルフォネートナトリウム塩を付加した化合物
（ＳＯ3Ｎａ＝６×１０−５ｅｑ／ｇ、エポキシ＝１０−３ｅｑ／ｇ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３０，０００）
（３）ポリウレタン樹脂：５部（ＳＯ3Ｎａ＝７×１０−５ｅｑ／ｇ、末端ＯＨ基含有、Ｍｗ＝４０，０００、Ｔｇ９０℃のポリエステルポリウレタン）
（４）シクロヘキサノン：６０部
（５）研磨剤（ダイヤモンド、粒径０．０１μｍ）：０．０１部
（６）カーボンブラック（粒子サイズ４０ｎｍ）：２部
（７）メチルエチルケトン：５１部
（８）トルエン：１２００部
（９）ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート３０４１）：５部（固形分）
（１０）ブチルステアレート：５部
（１１）イソヘキサデシルステアレート：５部
（１２）ステアリン酸：１部
（１３）オレイン酸：１部
【０１７５】
（下層用非磁性液の調製）
下記（１）〜（１０）の材料を混合して下層用磁性液を調製した。
【０１７６】
（１）酸化チタン：８５部（平均粒径０．０３５μｍ、結晶型ルチル、ＴｉＯ2含有量９０％以上、表面処理層；アルミナ、ＳＢＥＴ３５〜４２ｍ2／ｇ、真比重４．１、ｐＨ６．５〜８．０）
（２）下記化合物：１１部
塩化ビニル／酢酸ビニル／グリシジルメタクリレート＝８６／９／５（質量比）の共重合体にヒドロキシエチルスルフォネートナトリウム塩を付加した化合物
（ＳＯ3Ｎａ＝６×１０-5ｅｑ／ｇ、エポキシ＝１０-3ｅｑ／ｇ、Ｍｗ＝３０，０００）
（３）スルホン酸含有ポリウレタン樹脂（東洋紡社製ＵＲ８７００）：１０部（固形分）
（４）シクロヘキサノン：４２６０部
（５）メチルエチルケトン：５６部
（６）ブチルステアレート：５部
（７）イソヘキサデシルステアレート：５部
（８）ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート３０４１）：５部（固形分）
（９）ステアリン酸：１部
（１０）オレイン酸：１部
【０１７７】
（磁気記録媒体およびフレキシブルディスクの作製）
下層用非磁性液を乾燥後の厚さが１．５μｍになるように、支持体上に塗布した。塗布した直後に、その塗布面に磁性層用塗布液を乾燥後の厚さが０．２μｍになるように、塗布した。なお、支持体は、実施例１で使用した支持体（１）を用いた。また、磁気記録媒体の表面には、高さが１０ｎｍ〜７０ｎｍの微小突起が形成されており、微小突起の密度は、６５個／μｍ2であった。
【０１７８】
両層が未乾燥の状態で周波数５０Ｈｚ、２５０ガウス、また周波数５０Ｈｚ、１２０ガウスの２つの磁場強度の交流磁場発生装置の中を通過させランダム配向処理を行ない、さらに乾燥後、金属ロール・金属ロール・金属ロール・金属ロール・金属ロール・金属ロール・金属ロールの組み合せによるカレンダー処理を（速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃）で行ない、磁気記録媒体を作製した。
【０１７９】
実施例１と同じカートリッジに、実施例１と同一のライナーと共に上記磁気記録媒体を収容し、その他所定の機構部品を付加してフレキシブルディスクを作製した。なお、下部シェルの内壁面と磁気記録媒体の磁性面との間隔は０．２ｍｍとした。
【０１８０】
（回転試験）
作製したフレキシブルディスクのカートリッジをスピンドルにマウントし、回転数を下記表２のようにして、回転試験を行った。
【０１８１】
当該試験は、まず、ヘッドをロードせずにヘッドロード窓のほぼ最外周に当たる中心からの半径が４０ｍｍ位置の磁気記録媒体の面ぶれをフォトニックセンサーで計測し、ディスク（磁気記録媒体）の回転安定性を評価した。この評価では面ぶれ幅の絶対値と非定在波発生の有無を調べ、一周に帰属されない非定在波が発生した場合には回転安定性を不良とし、非定在波が発生しない場合は、回転安定性は良好とした。
【０１８２】
ベルヌーイ効果の有無はフレキシブルディスクの回転状態を目視で観察し、カートリッジ下面内壁にフレキシブルディスクが吸着するかどうかを観察した。カートリッジ内のディスクの回転状態はシェルの上面、ヘッド付近に切り欠きを設け、この部分から目視ならびに光変位計でディスクの回転高さを測定して調べた。結果を表２に示す。
【０１８３】
【表２】
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【０１８４】
上記表２の結果から、本発明に従うフレキシブルディスクは、実用的な高速回転では面ぶれが少なく、安定性が優れていた。
【図面の簡単な説明】
【０１８５】
【図１】本発明の磁気記録媒体の分解組立図である。
【符号の説明】
【０１８６】
１０…上部シェル
１２…下部シェル
１０ａ，１２ａ…穴
１４，１６…ライナー
２０…磁気記録媒体
２２…タブ
２４…シャッター
【図１】
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