(57)【要約】【課題】可視表面が金属的外観を有する時計部品の文字盤と、この文字盤を製造するための二つの方法に関する。【解決手段】時計部品の文字盤の金属的外観表面は、この文字盤の真珠質層に相当する可視形態を有する。この文字盤を製造するための方法にしたがって、真珠質層の板は、サンドブラスト処理にさらされて、真珠質層形態の表面仕上げが得られる。この表面が清浄されて金属的外観の層で被覆される。【選択図】図１
2006177957.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可視表面が金属的外観を有する時計部品の文字盤であって、
金属的外観の前記表面の表面仕上げが、磨かれた真珠質層表面の文字盤の可視形態的特徴を備えることを特徴とする時計部品の文字盤。
【請求項２】
金属的外観の前記表面が被膜によって形成され、前記表面仕上げが真珠質層の前記被膜の前記形態的特徴を備え、且つ前記被膜が堆積される基材上の被膜である請求項１に記載の文字盤。
【請求項３】
前記基材が、真珠質層から形成される請求項２に記載の文字盤。
【請求項４】
前記被膜が、０．１〜１μｍの厚みを有する請求項２または３に記載の文字盤。
【請求項５】
可視表面が金属的外観の被膜を含み、前記被膜の表面仕上げが真珠質層の形態的特徴を備える時計部品の文字盤の製造方法であって、
真珠質層の板が、サンドブラスト処理作業にさらされ、真珠質層の形態に相当する表面仕上げを与えるため、前記表面が清浄され、且つ金属層あるいは金属の酸化物、窒化物または炭化物の層で被覆される、
ことを特徴とする時計部品の文字盤の製造方法。
【請求項６】
サンドブラスト処理された前記真珠質層の板が、少なくとも１種の被覆元素を有するターゲットで、物理蒸着マグネトロンスッパタリングによって被覆される、
請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
請求項１に記載の時計部品のダイヤルの製造方法であって、
真珠質層の板がサンドブラスト処理作業にさらされ、前記板の形態の表面仕上げを前記板に与えるため、前記表面が清浄され、前記表面の印象が記録され、前記真珠質層の板のレプリカが形成され、且つ前記レプリカが金属層で、あるいは金属の酸化物、窒化物または炭化物の層で被覆される、
ことを特徴とする時計部品の文字盤の製造方法。
【請求項８】
前記サンドブラスト処理作業が、水性媒質中で行われる請求項５〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可視表面が金属的外観を有する時計部品の文字盤と、この文字盤を製造するための二つの方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
時計の文字盤については非常に多様な表面形式が知られている。この多様性は、時計部品の必要不可欠な装飾元素の一つを可能な限り変化させることにより決められ、美しくて魅力的外観を時計部品に与え、且つ装飾的な特徴を形成する時計部品の表面の材料、色彩及び表面仕上げの選択に起因する。
【０００３】
特別な表面効果を得るために、この多様な材料の中から、すでに使用されている最も一般的な真珠質層は別にして、真珠のような白、ピンク、黒、または黄の真珠質層が加えられる。文字盤に使用されるこの真珠質層は、薄い盤または板の形で市場から入手でき、この盤または板は文字盤の前面を形成することを意図した側が磨き上げられている。真珠質層からの玉虫色半透明の反射は別にして、真珠質層の半透明の性質は層を形成する構造が現すものであり、この構造がこの表面が磨かれたときでも特徴的な形態を与える。
【０００４】
米国特許願書２００２／００６８１４８Ａ１は、真珠質層の板から作られた時計部品の文字盤用の装飾的な板をすでに提案していて、この板の上に矩形横断面の螺旋溝がエッチされている。この溝の三角形面の傾きは徐々に変化して、平らな表面がドーム状となる錯覚を与える。すなわち処理されたこの表面は、半透明層で覆われる。このような表面は、したがって、ドーム上の真珠質層の表面外観を有する。
【０００５】
また、文字盤がフランス特許２１６２３４９に提案され、この文字盤は薄い真珠質層の板が接着接合されている薄い金属の基板からなる。その半透明性により、真珠質層の板を通して見られるこの接合による不規則性を防止するために、被膜が、非電気的手段によってこの真珠質層の板の背面に塗布される。被覆する層あるいはペイントの色、及び真珠質層の屈折が、特別魅力的な効果を作り出すように組み合わされる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、真珠質層の新しい使用法により、時計文字盤の金属性表面の表面仕上げ外観を再び新しくすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的のために、本発明の第１の主題は時計部品の文字盤であり、この文字盤の可視表面が金属的外観を有し、且つ金属的外観のこの表面の表面仕上げが、真珠質層表面の文字盤の形態的特徴を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明の別の主題は、請求項５にしたがい、時計部品の文字盤の製造方法であって、文字盤の可視表面が金属的外観の被膜を有し、この被膜の表面仕上げが真珠質層の文字盤の形態的特徴を備える。さらに、本発明の別の主題は、請求項７にしたがうこの文字盤の製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明にしたがう方法を用いる真珠質層の金属化が、真珠質層の透明性によって磨いた真珠質層の板に現れるように、真珠質層の本来備わる形態を再生することできること、すなわち金属的外観の表面に仕上げら非常に特別な表面を与えること、が幸運にも判明した。この形態は、真珠質層の層を形成する性質に本来備わる特別な粗さによって出現され、この層状を形成する性質は、これが生体によって作り出される自然材料であるので、各真珠質層の板に独特な特性を有することを出現させるための装飾的特徴に起因する。この基材の表面仕上げは、真珠質層形態を特徴とする被膜が施され、優れた被膜の接着を確実にする。
【００１０】
一般的な発明の概念である二つの別々の処理方法の存在は、金属的外観が、サンドブラスト処理された真珠質層で直接、またはこのサンドブラスト処理された真珠質層を用いて作ったレプリカで作られることに原因する。一つの場合では、金属的被膜の形態が、各々真珠質層の板が相違するので独特であり、一方別の場合では、所望の回数同じ形態を製造することが可能である。
【実施例】
【００１１】
次の記載は、実施例として、時計部品を製造するための工程を実施するための方法を示し、この処理方法は本発明の主題の一つである。
【００１２】
一枚の添付した図面は、１０００倍の走査型電子顕微鏡写真であり、真珠質層の板の表面仕上げを示し、この板は本発明にしたがう処理方法の予備相が施された後、金属的被膜が施される。
【００１３】
本発明にしたがう時計部品の文字盤は、実質的に二つの方法で達成され、以降に説明するように、好ましくは、予めサンドブラスト処理された真珠質層板を金属で被覆することによって、または真珠質層をもモールドすることによって達成されるモールドを用いて、予めサンドブラスト処理された真珠質層板のレプリカを作ること達成される。
【００１４】
第１に双方の場合において必要となる処理工程を説明する。主にこの手段は真珠質層の形態を表わすために用いられ、この形態はその半透明性特性のために通常目視可能である。すなわち、時計文字盤の可視表面を形成するために使用されるような真珠質層の板が被覆するつもりであったならば、滑らかな表面が簡単に達成できる、しかし真珠質層の形態に特有な全ての特徴が失われ、真珠質層はその興味は失われる。
【００１５】
この第１の工程は、水性媒質中のサンドブラスト処理作業で、文字盤の可視表面を形成することを意図して、真珠質層の表面を処理することからなる。使用されるグリットは、平均２７μｍの値を有する１５〜５０μｍの間で変化する粒子径を有する炭化珪素（ＳｉＣ）である。水性懸濁液は、懸濁液の速度を増加し且つこの益虫の懸濁液にＳｉＣ粒子を保持するように、懸濁液の速度を増加するために、１リットルのＳｉＣと、１０リットルの公共軟水と、４００ｇのゲルを混合することによって準備される。
【００１６】
この懸濁液の速度は、４ｍｍ直径のノズルを取付けたＤＩＮ５３２１１標準にしたがいそう度を測定するためにビーカーに１００ｍｌの懸濁液を置き換えることによって測定された。測定された流れ時間は１１秒であった。
【００１７】
この懸濁液は、処理される真珠質層の表面に吹き付けられ、圧力が３×１０５〜５×１０５Ｐａの圧力であり、懸濁液吹き付け用のノズルから処理される真珠質層の表面までの距離が１０ｃｍである。文字盤の背面を形成するためのこの真珠質層の盤は、この実施例では、回転する板によって形成される加工物支持の上に配置される。時計部品の文字盤用の所望の大きさの真珠質層の盤は、この板の回転スピンドルと同心の直径３７０ｍｍ円の周りに分布され、この板は３分あたり１回転の速度で回転する。
【００１８】
このサンドブラスト処理作業は、清浄作業と、硬水で３分間と軟水で１分間との洗浄処理が続けられ、且つ１１ｐＨのアルカリ洗剤を用いた清浄処理が続けられる。
【００１９】
用いた真珠質層は、白、真珠のような白、またはピンクの真珠質層で良く、すなわちオーストラリア又は日本からのペトリア・マーガリテフェラ(Pteria margaritifera)またはメレアグリナ・マーガリテフェラ(Meleagrina margaritifera)で良く。この真珠質層は、ピンクで良く、すなわち米国からのポタミラス・パープラタ(Potamilus purpurata)で良い。終局的に、それはクロでよくて、すなわちポリネシアからのピンカテダ・マーガリテフェラ(Pinctada margaritifera)で良い。
【００２０】
水性媒質中で真珠質層の基材のサンドブラスト処理の作業、及びそれらの清浄処理の後、これらの基材を純黄色(Au)の層、灰色(Pt)またはピンク金／銅(Au/Cu)合金で被覆することが好ましい。これらの層は、後で説明される条件のもとでＰＶＤ（物理蒸気蒸着）によって製造される。
【００２１】
文字盤の可視表面を形成することを意図した真珠質層の基材面に被膜を作るために、ＰＶＤ−ＭＳ（物理蒸気蒸着マグネトロンスパッタリング）によって、サンドブラスト処理と洗浄処理の作業後に得た真珠質層の板が、真空被覆チャンバー内のターゲットに面するように配置された加工物支持物に、ターゲットに向かう板のサンドブラスト処理した面を、配置する。
【００２２】
最後に、この板の表面は、時計の文字盤の可視表面を形成することを意図した被覆をするために、イオンエッチングが成される。このエッチング処理作業の際に、このターゲットは、ターゲットマスクによって真珠質層の板を支えている加工物支持物から離される。チャンバー内を真空（８×１０−４Ｐａ）と、アルゴンの注入（４Ｐａで）と、１０分間のプラズマの形成とをした後に、このエッチング処理は実施され、プラズマに用いた操作出力は１０Ｗである。
【００２３】
その後ターゲットは同一条件のもとでエッチして、その後プラズマに用いた操作出力は５０Ｗである。
【００２４】
その後アルゴン圧力が加工圧力（７×１０−１Ｐａ）調整され、被覆される基材用の支持物がＲＦ（高周波）バイアスされ、同時にターゲットマスクを取り除き、且つＲＦ堆積は３０分間のターゲット陽極からスパッタリングによって行なわれる。
【００２５】
堆積の際の体積出力レベルは、ターゲット（Ａｕ、ＰｔまたはＡｕＣｕ）に依存して、ターゲット用は３０〜３５０Ｗ且つ基材用は５〜１５０Ｗに変化させる。
【００２６】
ターゲットと基材との間の距離は、４〜１５ｃｍである。
【００２７】
次に、バイアスとプラズマが取り除かれ、且つチャンバーがアルゴン流によって冷却される。
【００２８】
堆積された層の厚みは、１００ｎｍから１０００ｎｍ（すなわち、０．１μｍ〜１μｍ）まで典型的に変化される。この厚みは、サンドブラスト処理操作によって出現したような真珠質層形態を可能な限り正確に維持するように選ばれる。得られた結果は添付した図面に示され、それは純金の５００Ｎｍを被覆したサンドブラスト処理をした真珠質層の基材に関係する。
【００２９】
また、ＲＦ電流に代えてＤＣ電流を用いてＰＶＤによって基材を被覆することができる。
【００３０】
上記方法の改良型において、真珠質層基材の被覆処理に代わって、この真珠質層がレプリカを作るために使用することができ、且つこれらのレプリカは被覆される。すでに上述したように、この改良型の難点は、得られた生成物がその後完全に標準になり、この被覆した基材が、真珠質層が有する独特な表面形態を与え且つこの文字盤に豪華な製造物の特長を与える真珠質層自体であるならば、得られた排他性が失われる。
【００３１】
真珠質層の基材の主たる利点は、工業的方法によって、表面形態が一つの文字盤と他のものとが決して同一でない金属的外観の文字盤を得ることが可能になることが実際に存在し、代わりの真珠質層のレプリカ方法が使用される場合と明らかに相違し、各々の文字盤用の種々のモールドを作ることが可能でなく、各々のモールドはほとんど制限のない数の文字盤を作ることを意図する。
【００３２】
これらのレプリカを作るために、幾つかの方法が可能であり、具体的には、電鋳、セラミック噴射及び塑性メタラゼーションの技術である。
【００３３】
すべての場合において、この処理方法は水性真珠質層の板から始められ、上述の水性媒質中のサンドブラスト処理工程及び清浄処理工程を行なう。
【００３４】
すなわち得られた真珠質層の表面形態を再生成するためには、プラスチックが、それらの押印を得るためにこの真珠質層の表面に注入される。注入されたプラスチックは、この真珠質層の板から取り除かれ、この押印が、上述した貴金属または貴金属（Ａｕ、ＰｔまたはＡｕＣｕ）合金の薄膜（典型的には厚みが０．１〜１μｍ）のＰＶＤ堆積法及び非常に似ている操作方法を使用して電鋳される。つぎに、厚い金属被膜が、電鋳処理によって文字盤を形成するために、この薄い金属フィルム上に成長させられる。この被膜は、銅、ニッケル、または銀のような貴金属でない金属で作られ、且つ電鋳処理によって得られた厚い被膜によって形成される基材上の初期の真珠質層の板のレプリカを表わすように、最終的にこのプラスチックは溶解される。
【００３５】
レプリカを形成するためにその他の既知の技術を使用することができる。例えば、上記のようにサンドブレスト処理と清浄処理をした真珠質層の表面の押印によって形成することができ、この押印は珪素を用いて行なう。レプリカはこのモールドにおいては、アルミナ粉末のようなセラミックの注入処理または押圧処理によって製造される。このセラミックは乾燥したままでモールドから取り出して、セラミック中に含まれているバインダーが焼き取られてレプリカが焼成される。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明にしたがう真珠質層の板の表面仕上げを示し、１０００倍の走査型電子顕微鏡写真であり、この板は本発明にしたがう処理方法の予備相が施された後、金属的被膜が施される。
【図１】
2006177957.tif 000003