(57)【要約】【課題】  シリコンやシリコン部分以外の金属の侵食を抑制しながら、電子部品の表面に付着した微細なゴミや有機物を効率的に洗浄除去でき、かつ液が白濁しにくい新たな電子部品用洗浄液の提供。【解決手段】  アニオン系界面活性剤、水酸化物、金属の腐食抑制剤、水、下記式（Ｉ）で示されるノニオン系界面活性剤及び／又は下記式（ＩＩ）で示されるノニオン系界面活性剤を含有することを特徴とする電子部品洗浄液。    ＨＯ−（（ＥＯ）x−（ＰＯ）y）z−Ｈ        （Ｉ）    Ｒ−［（（ＥＯ）a−（ＰＯ）b）c−Ｈ］m    （ＩＩ）（ＥＯはオキシエチレン基を表わし、ＰＯはオキシプロピレン基を表わす。ｘ及びｙはｘ／（ｘ＋ｙ）が、ａ及びｂはａ／（ａ＋ｂ）が０．０５〜０．５を満足する正の数を表わす。ｚ、ｃは正の整数を表わし、Ｒは、１価〜４価の基で表されるアルコール又はアミンの水酸基から水素原子を取り除いた残基等を表す。）【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アニオン系界面活性剤、水酸化物、金属の腐食抑制剤、水、下記式（Ｉ）で示されるノニオン系界面活性剤及び／又は下記式（ＩＩ）で示されるノニオン系界面活性剤を含有することを特徴とする電子部品洗浄液。
ＨＯ−（（ＥＯ）x−（ＰＯ）y）z−Ｈ        （Ｉ）
Ｒ−［（（ＥＯ）a−（ＰＯ）b）c−Ｈ］m    （ＩＩ）
（ＥＯはオキシエチレン基を表わし、ＰＯはオキシプロピレン基を表わす。ｘ及びｙはｘ／（ｘ＋ｙ）が、ａ及びｂはａ／（ａ＋ｂ）が０．０５〜０．５を満足する正の数を表わし、ｚ、ｃは正の整数を表わす。Ｒは、
2006016438.tif 000010
で表される１価の基、
2006016438.tif 000011
で表される２価の基、
2006016438.tif 000012
で表される３価の基又は
2006016438.tif 000013
で表される４価の基を表す。
Ｒ１はヒドロキシル基及び／又はアルキル基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表わし、ｍはＲの価数に対応した１以上４以下の整数を表わす。）
【請求項２】
更に還元剤を含有することを特徴とする請求項１記載の電子部品洗浄液。
【請求項３】
水酸化物が無機系水酸化物又は有機系水酸化物であることを特徴とする請求項1または２記載の電子部品洗浄液。
【請求項４】
水酸化物の濃度が０．０１〜３１重量％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の電子部品洗浄液。
【請求項５】
金属の腐食抑制剤が、分子内に窒素原子、酸素原子、燐原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる少なくとも一種以上を有する有機化合物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載の電子部品洗浄液。
【請求項６】
分子内に窒素原子、酸素原子、燐原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる少なくとも一種以上を有する有機化合物が、次の（１）〜（５）、
（１）分子内に少なくとも１つのメルカプト基を有する化合物、
（２）分子内に少なくとも１つのアゾール基を含む化合物、
（３）分子内に少なくとも２つの水酸基を有する化合物、
（４）分子内に少なくとも１つの水酸基とカルボキシル基を含む化合物及び
（５）分子内に少なくとも１つのメルカプト基を含む化合物であって、化合物を構成する炭素数が２以上であり、メルカプト基が結合している炭素と水酸基が結合している炭素とが隣接している脂肪族アルコール系化合物、
に記載されるいずれかの化合物であることを特徴とする請求項５に記載される電子部品洗浄液。
【請求項７】
金属の腐食抑制剤が、０．０００１〜５重量％含有されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか記載の電子部品洗浄液。
【請求項８】
アニオン系界面活性剤が、２以上のアニオン系官能基を有していることを特徴とする請求項１〜７のいずれか記載の電子部品洗浄液。
【請求項９】
アニオン系界面活性剤が、分子構造中に、更にエーテル結合を有していることを特徴とする請求項８記載の電子部品洗浄液。
【請求項１０】
アニオン系官能基がスルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸基及びカルボン酸基からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項８又は９記載の電子部品洗浄液。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか記載の洗浄液を用いて電子部品表面を洗浄することを特徴とする電子部品の洗浄方法。
【請求項１２】
金属の腐食抑制剤が、分子内に少なくとも１つのメルカプト基を有する化合物、分子内に少なくとも２つの水酸基を有する化合物及び分子内に少なくとも１つの水酸基とカルボキシル基を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項１１記載の洗浄液を用いて、タングステンが露出している電子部品表面を洗浄することを特徴とする電子部品の洗浄方法。
【請求項１３】
金属の腐食抑制剤が、分子内に少なくとも１つのアゾール基を含む化合物及び分子内に少なくとも１つのメルカプト基を含む化合物であって、化合物を構成する炭素数が２以上であり、メルカプト基が結合している炭素と水酸基が結合している炭素とが隣接している脂肪族アルコール系化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項１１記載の洗浄液を用いて、銅が露出している電子部品表面を洗浄することを特徴とする電子部品の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品洗浄液に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板を用いる液晶ディスプレーや、シリコン基板を用いる集積回路デバイス等の電子部品を洗浄するのに用いられる洗浄液としては、アルカリ性を示す水酸化物と過酸化水素と水との混合水溶液が一般的に知られており、中でも、水酸化アンモニウムと過酸化水素と水の混合水溶液は、基板上の粒子状汚染物除去性に優れているため広く用いられている。しかし、このような過酸化水素を含むアルカリ性の水溶液を用いた場合には、過酸化水素の影響で電子部品表面のシリコン部分以外の金属が侵食されたり、過酸化水素を含まないアルカリ性の水酸化物水溶液ではシリコンが侵食されるという問題があった。
【０００３】
そこで、上記の問題を解決する洗浄液、すなわちシリコンやシリコン部分以外の金属に対して侵食を抑制でき、かつ優れた洗浄作用を有する洗浄液として、我々は既に、水酸化物、水、金属の腐食抑制剤及びノニオン系界面活性剤等を含有する洗浄液を提案している（特許文献１）。また、この洗浄液の白濁化を抑制するものとして、更に水溶性有機化合物を含有せしめた洗浄液も提案している（特許文献２）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−２８８４９６
【特許文献２】特開２００１−２１４１９９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、シリコンやシリコン部分以外の金属の侵食を抑制しながら、電子部品の表面に付着した微細なゴミや有機物を効率的に洗浄除去でき、かつ液が白濁しにくい新たな電子部品用洗浄液を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、その後さらに検討を重ねた結果、水溶性有機化合物に代えてアニオン系界面活性剤を用いることにより、液の白濁防止に同等もしくはそれ以上の効果が得られることを見出し、本発明に至った。
【０００７】
即ち本発明は、アニオン系界面活性剤、水酸化物、水、金属の腐食抑制剤及びノニオン系界面活性剤を含有する洗浄液（以下、本発明洗浄液と記す。）及び本発明洗浄液を用いた電子部品の洗浄方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、シリコンやシリコン以外の金属の侵食を抑制しながら、電子部品の表面に付着した微細なゴミや有機物を効率的に洗浄除去でき、かつ液が白濁しにくい新たな電子部品用洗浄液を提供できる。また本発明の電子部品用洗浄液は、高温においても長期間に亘り安定で白濁を生じないので工業的に有利となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明洗浄液はアニオン系界面活性剤を含有することを特徴とする。
ここで、アニオン系界面活性剤としては、一般的に知られるアニオン系界面活性剤全般が挙げられ、中でも、アニオン系官能基を有する界面活性剤が好ましい。
ここでいうアニオン系官能基とは、水中でアニオン性を示す基を表し、具体的にはスルホン酸を形成する基（以下、スルホン酸基と記す。）、硫酸エステルを形成する基（以下、硫酸エステル基と記す。）、リン酸エステルを形成する基（以下、リン酸エステル基と記す。）、カルボン酸を形成する基（以下、カルボン酸基と記す。）等が挙げられる。
【００１０】
スルホン酸基を有するアニオン系界面活性剤としては、具体的にはアルキルベンゼンスルホン酸、ジアルキルサクシネートスルホン酸、アルキルフェノキシエトキシエチルスルホン酸等のアニオン系官能基を１個有する化合物又はその塩、アルキレンジスルホン酸、アリーレンジスルホン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ナフタレンジスルホン酸ホルマリン縮合物、フェノールスルホン酸ホルマリン縮合物、フェノールジスルホン酸ホルマリン縮合物、フェニルフェノールスルホン酸ホルマリン縮合物、フェニルフェノールジスルホン酸ホルマリン縮合物等のアニオン系官能基を２個以上有する化合物又はその塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸等のアニオン系官能基を２個以上有し、更にエーテル結合を有している化合物又はその塩等が挙げられる。
ここで塩としてはナトリウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩、トリエタノールアミン塩、ジナトリウム塩、ジカルシウム塩、ジアンモニウム塩、ジトリエタノールアミン塩等が挙げられる。
中でも、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸又はその塩が好ましく、例えば、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ジナトリウム塩、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ジアンモニウム塩又はドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ジトリエタノールアミン塩が好ましい。
【００１１】
硫酸エステル基を有するアニオン系界面活性剤としては、具体的には、アルキルメチルタウリン、アシルメチルタウリン、脂肪酸メチルタウリン等のメチルタウリン類、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキエーテル硫酸エステル、ポリオキシアルキレン多環フェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアリールエーテル硫酸エステル等のアニオン系官能基を１個有する化合物又はその塩等が挙げられる。
ここで塩としてはナトリウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩、トリエタノールアミン塩等が挙げられる。
【００１２】
リン酸エステル基を有するアニオン系界面活性剤としては、具体的には、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテルリン酸等のアニオン系官能基１個を有し、更にエーテル結合を有している化合物又はその塩、アルキルジフェニルエーテルジホスホン酸等のアニオン系官能基を２個以上有し、更にエーテル結合を有している化合物またはその塩等が挙げられる。
ここで塩としてはナトリウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩、トリエタノールアミン塩、ジナトリウム塩、ジカルシウム塩、ジアンモニウム塩、ジトリエタノールアミン塩等が挙げられる。
【００１３】
カルボン酸基を有するアニオン系界面活性剤としては、具体的には、アニオン系官能基を１個有する化合物としてはアシルサルコシン、脂肪酸サルコシン等のサルコシン類化合物、やし油、オレイン酸等の脂肪酸類化合物又はその塩等が挙げられ、アニオン系官能基を２個以上有し、更にエーテル結合を有する化合物としてはアルキルジフェニルエーテルジカルボン酸等の化合物またはその塩等が挙げられる。
ここで塩としてはナトリウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩、トリエタノールアミン塩、ジナトリウム塩、ジカルシウム塩、ジアンモニウム塩、ジトリエタノールアミン塩等が挙げられる。
【００１４】
分子構造中に異なった２つのアニオン系官能基を有するアニオン系界面活性剤としては、スルホン酸基及びカルボン酸基を有するアニオン系界面活性剤であるアルキルスルホコハク酸、ポリオキシアルキレンアルキルスルホコハク酸、モノアルキルサクシネートスルホン酸等の化合物またはその塩が挙げられる。
本発明洗浄液には、これらのアニオン系界面活性剤が２種以上含有されていても良い。
【００１５】
本発明洗浄液においては、スルホン酸基及び／又は硫酸エステル基を有するアニオン系界面活性剤を用いるのが好ましく、アニオン系官能基を２以上有するアニオン系界面活性剤がより好ましい。また分子構造中に２つ以上のアニオン系官能基とともに、更にエーテル結合を有するアニオン系界面活性剤であることが、得られる洗浄液の保存安定性の観点から特に好ましい。
【００１６】
本発明洗浄液には、アニオン系界面活性剤が、通常０．００１〜１０重量％、好ましくは０．００１〜１重量％、より好ましくは０．００１〜０．５重量％含有される。
アニオン系界面活性剤が０．００１重量％より少ないと、６０℃以上の温度に洗浄液を加熱した場合液の白濁防止の効果が得られにくくなる傾向があり、１０重量％より多いと起泡性が高くなり、使用時の取り扱いが困難となる場合がある。
【００１７】
本発明洗浄液に含有される水酸化物としては、無機系水酸化物、有機系水酸化物等が挙げられる。無機系水酸化物としては、具体的には水酸化アンモニウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等が挙げられ、有機系水酸化物としては、具体的には水酸化テトラメチルアンモニウム、コリン等が挙げられる。
本発明洗浄液にはこれらの水酸化物が２種以上含有されていても良い。
中でも、電子部品への金属汚染を防ぐ観点から、水酸化アンモニウム又は水酸化テトラメチルアンモニウムが好ましい。
【００１８】
本発明洗浄液には、これらの水酸化物が、通常０．０１〜３１重量％、好ましくは０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５．０重量％含有される。本発明洗浄液において、水酸化物が０.０１重量％より少ない場合には洗浄性が悪くなる傾向があり、一方、３１重量％より多い場合には、本発明洗浄液の調製が困難になりやすい傾向がある。
【００１９】
本発明洗浄液に含有される金属の腐食抑制剤は、分子内に少なくとも窒素、酸素、燐、硫黄の元素の少なくとも１つを含む有機化合物であり、例えば分子内に少なくとも一つのメルカプト基を有する化合物、分子内に少なくとも一つのアゾールを含む化合物、分子内に少なくとも二つの水酸基を含む化合物、分子内に少なくとも一つの水酸基とカルボキシル基を含む化合物、分子内に少なくとも一つのメルカプト基を含む化合物であって、化合物を構成する炭素数が２以上であり、メルカプト基が結合している炭素と水酸基が結合している炭素とが隣接して結合している脂肪族アルコール系化合物等が挙げられる。
具体的には、分子内に少なくとも一つのメルカプト基を有する化合物としてはチオ酢酸、チオ安息香酸、チオグリコール、チオグリセロール、システイン等が挙げられ、分子内に少なくとも一つのアゾールを含む化合物としてはベンゾトリアゾール、トルトライアゾール、４−メチルイミダゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、５―ヒドロキシメチル−４―メチルイミダゾール、３―アミノトリアゾール等が挙げられ、分子内に少なくとも二つの水酸基を含む化合物としてはカテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ピロガロール等が挙げられ、分子内に少なくとも一つの水酸基とカルボキシル基を含む化合物としては没食子酸、タンニン酸等が挙げられ、分子内に少なくとも一つのメルカプト基を含む化合物であって、化合物を構成する炭素数が２以上であり、メルカプト基が結合している炭素と水酸基が結合している炭素とが隣接して結合している脂肪族アルコール系化合物としてはチオグリコール、チオグリセロール等が挙げられる。
本発明洗浄液には、これらの金属の腐食抑制剤が２種類以上含有されていても良い。
【００２０】
本発明洗浄液に含有される金属の腐食抑制剤は、洗浄対象となる電子部材表面に露出している金属の種類に応じて、適したものが選択される。
例えば、洗浄対象となる金属がタングステンの場合、本発明洗浄液には、分子内に少なくとも一つのメルカプト基を有する化合物、分子内に少なくとも二つの水酸基を含む化合物及び分子内に少なくとも一つの水酸基とカルボキシル基を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物が含有されるのが好ましい。
また、洗浄対象となる金属が銅の場合、本発明洗浄液には、分子内に少なくとも一つのアゾールを含む化合物及び分子内に少なくとも一つのメルカプト基を含む化合物であって、化合物を構成する炭素数が２以上であり、メルカプト基が結合している炭素と水酸基が結合している炭素とが隣接して結合している脂肪族アルコール系化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種が含有されるのが好ましい。
本発明洗浄液には、施用対象となる金属の種類にあわせて、数種類の金属腐食抑制剤が含有されていてもよい。
【００２１】
本発明洗浄液には、これら金属の腐食抑制剤が、通常０．０００１〜５重量％、好ましくは０．００１〜１重量％含有される。本発明洗浄液中における金属の腐食抑制剤が０.０００１重量％より少ない場合には金属に対する腐食抑制効果が発揮されにくい傾向があり、５重量％より多い場合には、洗浄液中への溶解性が悪くなる傾向がある。
【００２２】
本発明洗浄液にはノニオン系界面活性剤が含有される。該ノニオン系界面活性剤としては、通常、式（Ｉ）及び／又は式（ＩＩ）
ＨＯ−（（ＥＯ）x−（ＰＯ）y）z−Ｈ        （Ｉ）
Ｒ−［（（ＥＯ）a−（ＰＯ）b）c−Ｈ］m    （ＩＩ）
（ＥＯはオキシエチレン基を表わし、ＰＯはオキシプロピレン基を表わす。ｘ及びｙはｘ／（ｘ＋ｙ）が、ａ及びｂはａ／（ａ＋ｂ）が０．０５〜０．５を満足する正の数を表わす。ｚ、ｃは正の整数を表わす。Ｒは、
2006016438.tif 000002
で表される１価の基、
2006016438.tif 000003
で表される２価の基、
2006016438.tif 000004
で表される３価の基又は
2006016438.tif 000005
で表される４価の基を表す。
Ｒ１はヒドロキシル基及び／又はアルキル基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表わし、ｍはＲの価数に対応した１以上４以下の整数を表わす。）
で示されるノニオン系界面活性剤が含有される。
【００２３】
式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、オキシエチレン基は―ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−で表され、オキシプロピレン基は―ＣＨ（ＣＨ3）−ＣＨ2−Ｏ−又は―ＣＨ2―ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−で表される。
【００２４】
式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、ｘ及びｙ、ａ及びｂは、ｘ／（ｘ＋ｙ）とａ／（ａ＋ｂ）が０．０５〜０．５を満足する正の数を表わし、ｚ、ｃは正の整数を表わす。
【００２５】
ｘ／（ｘ＋ｙ）及びａ／（ａ＋ｂ）の値がそれぞれ０．０５未満の場合、洗浄液調整時の溶解性が不十分となり、一方０．５より大きい場合は液の消泡性が不十分となる。
本発明洗浄液には、ｘ／（ｘ＋ｙ）及びａ／（ａ＋ｂ）における値が異なる化合物が二種以上含有されていてもよい。
【００２６】
ここで、式（Ｉ）における（（ＥＯ）ｘ−（ＰＯ）ｙ）ｚと、式（ＩＩ）における（（ＥＯ）a−（ＰＯ）b）cで表されるオキシエチレン基とオキシプロピレン基の重合部分は、ブロック共重合体であっても、ランダム共重合体であっても、ブロック性を帯びたランダム共重合体であってもよく、中でもブロック共重合体であることが好ましい。
【００２７】
Ｒは、１価、２価、３価又は４価の基で表され、Ｒ１はヒドロキシル基及び／又はアルキル基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表わす。
ここで炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基等のアルキレン基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基等が挙げられる。
【００２８】
１価から４価の基で表されるＲとしては、より具体的にはアルコール又はアミンの水酸基から水素原子を除いた残基が挙げられる。
アルコール又はアミンとしては、１価の基で表される化合物として２―エチルヘキシルアルコール、ラウリルアルコール、セチルアルコール、オレイルアルコール、トリデシルアルコール、牛脂アルコール及びヤシ油アルコール、モノエタノールアミン等が挙げられ、２価の基で表される化合物としてエチレングリコール、プロピレングリコール、１、３―プロパンジオール、１、２―ブタンジオール、１、３―ブタンジオール、２、３―ブタンジオール、１、４―ブタンジオール、２―メチル−１、２―プロパンジオール、２―メチル−１、３―プロパンジオール、ジエタノールアミン等が挙げられ、３価の基で表される化合物としてグリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等が挙げられ、４価の基で表される化合物としてペンタエリトリトール、ソルビトール、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン等が挙げられる。
【００２９】
式（ＩＩ）において、ｍはＲの価数に対応した１以上４以下の整数を表わす。
【００３０】
前記式（Ｉ）で表されるノニオン系界面活性剤及び／又は式（ＩＩ）で表わされるノニオン系界面活性剤中において、オキシプロピレン基の合計量の平均分子量は、通常５００〜５０００、好ましくは９００〜３５００、より好ましくは１５００〜３５００である事が好ましい。
平均分子量が５００より小さいと洗浄性能が不十分になりやすく、一方、平均分子量が５０００を超えると、調整時の溶解性が悪くなる傾向がある。
【００３１】
式（Ｉ）で表されるノニオン系界面活性剤としては、具体的にはポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物、ポリオキシプロピレンポリオキシエチレン縮合物等が挙げられる。
式（ＩＩ）で表されるノニオン系界面活性剤としては、具体的にはポリオキシエチレンポリオキシプロピレン２−エチルヘキシルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンステアリルエーテル、グリセリン付加型ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物、エチレンジアミン付加型ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物等が挙げられる。
本発明洗浄液には、ノニオン系界面活性剤が二種以上含有されていてもよく、また、式（Ｉ）で表されるノニオン系界面活性剤と式（ＩＩ）で表されるノニオン系界面活性剤が、それぞれ単独で含有されていても、また両方が含有されていても良い。
【００３２】
本発明洗浄液には、これらの式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表わされるノニオン系界面活性剤が、通常０．０００１〜１０重量％、好ましくは０．００１〜１．０重量％、さらに好ましくは０．００１〜０．１重量％含有される。
ノニオン系界面活性剤が０．０００１重量％より低い場合はシリコンに対する侵食量が多くなる傾向があり、一方、１０重量％より多い場合は液の発泡性が激しくなり、取り扱いが困難となる傾向がある。
【００３３】
本発明洗浄液には、金属の腐食抑制剤による効果をより高めるために還元剤が含有されていても良い。
本発明洗浄液に含有され得る還元剤としては、例えばヒドラジン、ヒドロキシルアミン、脂肪族飽和モノカルボン酸類、アルデヒド類及びそれらの誘導体類、反応性の二重結合又は多重結合を含有する化合物、ホウ水素化アルカリ化合物のアミン誘導体等が挙げられる。
【００３４】
ヒドラジン及びその誘導体は、式（ＩＩＩ）
2006016438.tif 000006
（ＩＩＩ）
（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１０のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基又はヒドロキシ置換アルキル基である。）で表わされる。
【００３５】
上記式（ＩＩＩ）で表わされるヒドラジン及びその誘導体としては、具体的には、ヒドラジン、メチルヒドラジン、１，１−ジメチルヒドラジン、ヒドロキシエタノール等が挙げられ、さらにそれらの塩、例えば硫酸ヒドラジン、炭酸ヒドラジン、トリルヒドラジン塩酸塩等が挙げられる。
【００３６】
ヒドロキシルアミン及びその誘導体は、式（ＩＶ）
2006016438.tif 000007
（ＩＶ）
（Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１０のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、またはヒドロキシ置換アルキル基である。）で表わされる。
【００３７】
上記式（ＩＶ）で表わされるヒドロキシルアミン及びその誘導体としては、より具体的には、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン等が挙げられ、さらにそれらの塩、例えば塩酸ヒドロキシルアミン、硫酸ヒドロキシルアミン等が挙げられる。
【００３８】
脂肪族飽和モノカルボン酸類及びその誘導体としては、具体的には、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸等が挙げられ、さらにそれらの塩、例えばギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等が挙げられる。
【００３９】
アルデヒド類及びその誘導体としては、具体的には、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド等が挙げられる。
【００４０】
反応性の二重結合又は多重結合を含有する化合物としては、具体的には、２−ブチン−１，４−ジオール、２−ブチン−１オール、３−ブチン−１オール、L-アスコルビン酸、エリソルビン酸、尿酸等が挙げられる。
【００４１】
ホウ水素化アルカリ化合物のアミン誘導体としては、ジメチルアミンボラン等が挙げられる。
【００４２】
本発明洗浄液に還元剤が含有される場合、本発明洗浄液における還元剤の量は、通常０．０１〜２０重量％であり、好ましくは０．１〜１０重量％である。該濃度が０.０１重量％より低い場合は、金属に対する腐食抑制効果が低減しやすくなる傾向があり、２０重量％より多い場合には、製造する際のコストが高くなる場合がある。
【００４３】
本発明洗浄液は、水と所定量の各成分を混合することで得られる。混合順序や混合の方法は特に限定されるものではなく、種々の公知の方法を適用できる。
【００４４】
本発明洗浄液は、６０℃以上の高い温度でも白濁が生じ難く、かつ長時間の使用が可能な洗浄液である。
本発明洗浄液の使用時における温度としては、通常１０〜８０℃、好ましくは４０〜８０℃、さらに好ましくは６０〜８０℃の範囲である。
【００４５】
本発明洗浄液を用いて電子部品を洗浄する方法としては、たとえば本発明洗浄液を、上述の温度範囲になるように調整し、その中に電子部品を浸漬させる方法、あるいは、電子部品を回転させ、上述の温度範囲になるように加温した本発明洗浄液を当該電子部品表面に吹き付ける等の方法が挙げられる。またその場合、超音波の照射や回転又は左右に揺動させたブラシを接触させる等の物理的な洗浄方法とを併用しても良い。
【００４６】
本発明洗浄液は、洗浄効果に優れるとともに、単結晶シリコン、アモルファスシリコン、多結晶シリコン等のシリコンや、シリコン以外の金属、例えばタングステンや銅といった金属に対する侵食性を抑制したものであり、液晶ディスプレイ、シリコン基板を用いる集積回路デバイス等の電子部品の洗浄に好適である。
【００４７】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４８】
実施例１
表１記載の組成になるように洗浄液を調合した（以下、これを本発明洗浄液１とする。）。本発明洗浄液１を洗浄効果の高い４０℃と６５℃にて加温し、加温したまま放置した場合の液の白濁状態を目視にて観察した。洗浄液が透明である場合を○、白濁している状態を×で記載した。結果を表１に示す。
【表１】
2006016438.tif 000008
界面活性剤A：エチレンジアミン付加型ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物。
オキシプロピレン基の平均分子量が２５００〜３０００、ａ／（ａ＋ｂ）＝０．４、Ｒがエチレンジアミンから水素原子を除いた残基である一般式（ＩＩ）で表されるノニオン系界面活性剤。
界面活性剤Ｂ：ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸アンモニウム。アニオン系界面活性剤。
【００４９】
実施例２
表２に記載の組成になるように洗浄液を調整した（これを、それぞれ本発明洗浄液１及び比較洗浄液１とする。）。表面に平均粒径０．６μmのポリスチレンラテックス分散水溶液を、公知のスピンコート法で付着させたシリコンウエハーを被洗浄材とし、４０℃又は６５℃に調整された本発明洗浄液１と、６５℃に調整された比較洗浄液１を用いて、液温洗浄を行った。洗浄前後における付着粒子数を測定し、粒子除去率を求めた。また洗浄液の白濁状態を目視により観察した。なお、洗浄前におけるポリスチレンラテックスを付着させたシリコンウエハー上の０．１μm以上粒子の数は３０００〜２８００個/枚であった。
また、被洗浄材として、シリコン基板上に１００００Åの熱酸化膜を成膜した後、厚さ１０００Åのポリシリコン膜を成膜したテスト片（A）と、シリコン基板上に厚さ１０００Åの窒化硅素膜を形成した後、厚さ１００００Åのタングステン膜を形成したテスト片（B）を用い、表２記載の洗浄液に浸漬し、ポリシリコン及びタングステンに対する侵食性を調べた。洗浄条件及び結果を表２に示す。
【００５０】
【表２】
2006016438.tif 000009
界面活性剤A：エチレンジアミン付加型ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物。オキシプロピレン基の平均分子量が２５００〜３０００、ａ／（ａ＋ｂ）＝０．４、Ｒがエチレンジアミンから水素原子を除いた残基である本発明における一般式（ＩＩ）の界面活性剤。
界面活性剤Ｂ：ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸アンモニウム。アニオン系界面活性剤。