(57)【要約】【課題】  可動部分に直接冷媒を供給することなく、可動部分の温度を高精度に調節することが可能な温調機能付きステージを提供する。【解決手段】  基準ベース（２）がＸＹＺ直交座標系の基準となる。基準ベースに第１のテーブル（１０）が支持されている。Ｘ移動機構（２１、２２）が、Ｘテーブル（２０）を、Ｘ方向に移動可能に、第１のテーブルに支持する。Ｘテーブルに保持機構（５０）が支持されている。保持機構は、対象物（５１）を保持してＸテーブルと共にＸ方向に移動する。温調機構（６０、６１）が第１のテーブルの温度を調節する。第１のテーブルが、ＸＹ面に平行な第１の受熱表面（１０Ｂ）を含み、Ｘテーブルが、第１の受熱表面に間隙を隔てて対向する第１の放熱表面（２０Ｔ）を含む。Ｘ移動機構は、ＸＹ面内方向に関して、前記第１の受熱表面と第１の放熱表面とが重なる領域よりも外側に配置されている。【選択図】  図２
2006351740.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＸＹＺ直交座標系の基準となる基準ベースと、
前記基準ベースに支持された第１のテーブルと、
Ｘテーブルと、
前記Ｘテーブルを、Ｘ方向に移動可能に、前記第１のテーブルに支持するＸ移動機構と、
対象物を保持して前記Ｘテーブルと共にＸ方向に移動するように該Ｘテーブルに支持された保持機構と、
前記第１のテーブルの温度を調節する温調機構と
を有し、
前記第１のテーブルがＸＹ面に平行な第１の受熱表面を含み、前記Ｘテーブルが前記第１の受熱表面に間隙を隔てて対向する第１の放熱表面を含み、ＸＹ面内方向に関して、前記Ｘ移動機構が、前記第１の受熱表面と前記第１の放熱表面とが重なる領域よりも外側に配置されている温調機能付きステージ。
【請求項２】
前記第１のテーブルは、前記第１の受熱表面の内部に、該第１のテーブルを貫通する第１の開口部を有し、前記Ｘテーブルは、前記第１の放熱表面の内部に、該Ｘテーブルを貫通する第２の開口部を有し、
前記Ｘテーブルを、その最大行程の範囲内でＸ方向に移動させても、前記第１の開口部と第２の開口部とは、常に部分的に重なり、前記第１の受熱表面と前記第１の放熱表面とが重なる領域の面積の変動量は、該面積の最大値と最小値との平均の１０％以下である請求項１に記載の温調機能付きステージ。
【請求項３】
さらに、前記第１のテーブルを、ＸＹ面に対する傾斜の向き及び大きさが変化するように変位させるチルト機構を有する請求項１または２に記載の温調機能付きステージ。
【請求項４】
さらに、
Ｙテーブルと、
前記Ｙテーブルを、Ｙ方向に移動可能に、前記Ｘテーブルに支持するＹ移動機構と
を有し、前記保持機構は、前記Ｙテーブルと共にＹ方向に移動するように、該Ｙテーブルに支持されており、
前記Ｘテーブルは、前記第１の放熱表面とは反対側の面に第２の受熱表面を含み、前記Ｙテーブルは、前記第２の受熱表面に間隙を隔てて対向する第２の放熱表面を含み、ＸＹ面内方向に関して、前記Ｙ移動機構が、前記第２の受熱表面と前記第２の放熱表面とが重なる領域よりも外側に配置されており、
前記Ｙテーブルは、前記第２の放熱表面の内部に、該Ｙテーブルを貫通する第３の開口部を有し、
前記Ｘテーブルを、その最大行程の範囲内でＸ方向に移動させ、かつ前記Ｙテーブルを、そのストロークの範囲内でＹ方向に移動させても、前記第１の開口部、第２の開口部、及び第３の開口部は、常に部分的に重なり、前記第２の受熱表面と前記第２の放熱表面とが重なる領域の面積の変動量は、該面積の最大値と最小値との平均の１０％以下である請求項２に記載の温調機能付きステージ。
【請求項５】
さらに、前記第１のテーブルと前記Ｘテーブルとを熱的に結合させ、かつ前記ＸテーブルのＸ方向の移動を許容する可撓性を有する伝熱部材を有する請求項１〜４のいずれかに記載の温調機能付きステージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、温調機能付きステージに関し、特に真空雰囲気中で移動するテーブルの温度を高精度に調節することが可能な温調機能付きステージに関する。
【背景技術】
【０００２】
図６に、下記特許文献１に開示された温調機能付き位置決め装置の概略断面図を示す。底板１０１の上に、微動機構１０３により天板１０２が支持されている。微動機構１０３は、３軸方向及び各軸周りの回転方向の６自由度に関して、天板１０２を微小変位させ、位置決めを行う。底板１０１は、粗動テーブル１００に固定されている。底板１０１、天板１０２、粗動テーブル１００は、真空容器内に収容される。
【０００３】
底板１０１と天板１０２との間に、ペルチェ素子１０５が、その吸熱側の面を天板１０２に向けるような姿勢で、配置されている。ペルチェ素子１０５の高温側の表面に冷却板１０４が取り付けられ、冷却版１０４は、支持部材１０９により底板１０１に支持されている。ペルチェ素子１０５の吸熱側の面に輻射板１０６が取り付けられている。天板１０２の底面に黒体１０７が取り付けられている。黒体１０７と輻射板１０６とは、ある間隙を隔てて相互に対向する。
【０００４】
冷却板１０４に冷媒用配管１０８が結合している。冷媒用配管１０８内を流れる冷媒により冷却板１０４が冷却される。これにより、ペルチェ素子１０５の発熱側の表面が、冷却される。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−５８２５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示された装置の底板１０１は、粗動ステージと共に移動する。このため、冷媒用配管１０８は可撓性を有する材料で形成しなければならない。このような材料は、真空雰囲気の汚染の原因になる。
【０００７】
本発明の目的は、可動部分に直接冷媒を供給することなく、可動部分の温度を調節することが可能な温調機能付きステージを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一観点によれば、ＸＹＺ直交座標系の基準となる基準ベースと、前記基準ベースに支持された第１のテーブルと、Ｘテーブルと、前記Ｘテーブルを、Ｘ方向に移動可能に、前記第１のテーブルに支持するＸ移動機構と、対象物を保持して前記Ｘテーブルと共にＸ方向に移動するように該Ｘテーブルに支持された保持機構と、前記第１のテーブルの温度を調節する温調機構とを有し、前記第１のテーブルがＸＹ面に平行な第１の受熱表面を含み、前記Ｘテーブルが前記第１の受熱表面に間隙を隔てて対向する第１の放熱表面を含み、ＸＹ面内方向に関して、前記Ｘ移動機構が、前記第１の受熱表面と前記第１の放熱表面とが重なる領域よりも外側に配置されている温調機能付きステージが提供される。
【発明の効果】
【０００９】
第１の放熱表面からの輻射熱が第１の受熱表面で受熱される。これにより、Ｘテーブルから、第１のテーブルまでの熱流路が構成される。ＸＹ面内方向に関して、Ｘ移動機構が、第１の受熱表面と第１の放熱表面とが重なる領域よりも外側に配置されているため、Ｘ移動機構の大きさに制約されることなく、第１の放熱表面と第１の受熱表面との間隔を狭くすることができる。これにより、輻射による熱伝達効率を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図１に、実施例による露光装置の概略図を示す。下側基準ベース１の上にウエハ用可動ステージ５が取り付けられている。上側基準ベース２が下側基準ベース１に固定されており、ウエハ用可動ステージ５の上方に、マスク用可動ステージ６を支持している。下側基準ベース１及び上側基準ベース２により基準ベース３が構成されている。基準ベース３に固定され、水平面をＸＹ面とするＸＹＺ直交座標系が定義される。マスク用可動ステージ６の上方に、電子ビーム源７が配置されている。電子ビーム源７は、低速電子銃、アパーチャ、電子ビーム用レンズ、偏向器等を含んで構成される。基準ベース３、ウエハ用可動ステージ５、マスク用可動ステージ６、及び電子ビーム源７は、真空容器８内に収容されている。
【００１１】
ウエハ用可動ステージ５に、露光すべきウエハが保持され、マスク用可動ステージ６にマスクが保持される。電子ビーム源７から出射された低エネルギ電子ビームが、マスクを通してウエハに入射する。
【００１２】
図２（Ａ）及び図２（Ｂ）に、マスク用可動ステージの概略断面図を示す。図２（Ａ）は、ＹＺ面に平行な断面図を示し、図２（Ｂ）は、ＸＺ面に平行な断面図を示す。
基準ベース２の下方に、チルトテーブル（第１のテーブル）１０、Ｘテーブル２０、Ｙテーブル３０、及び回転テーブル４０が、上方から下方に向かってこの順番に配置されている。チルトテーブル１０は、３個のＺ方向駆動機構１３により上側基準ベース２に支持されている。３個のＺ方向駆動機構１３は、ＸＹ面内に関して正三角形の頂点に対応する位置に配置されている。
【００１３】
Ｚ方向駆動機構１３の各々は、リニアアクチュエータ１１と弾性ヒンジ１２とを含む。リニアアクチュエータ１１は、上側基準ベース２に固定されている。リニアアクチュエータ１１の作用点と、チルトテーブル１０との間に弾性ヒンジ１２が介在する。リニアアクチュエータ１１を駆動することにより、ＸＹ面に対するチルトテーブル１０の傾きの大きさ及び向きを調節することができる。
【００１４】
Ｘテーブル２０が、Ｘ移動機構により、チルトテーブル１０に支持されている。Ｘ移動機構は、Ｘリニアガイド２１と、Ｘ用超音波モータ２２により構成される。Ｘリニアガイド２１は、Ｘテーブル２０を、チルトテーブル１０に対して、Ｘ方向に移動可能に支持する。Ｘ用超音波モータ２２は、Ｘテーブル２０をＸ方向に移動させる駆動力を発生する。
【００１５】
Ｙテーブル３０が、Ｙ移動機構により、Ｘテーブル２０に支持されている。Ｙ移動機構は、Ｙリニアガイド３１と、Ｙ用超音波モータ３２により構成される。Ｙリニアガイド３１は、Ｙテーブル３０を、Ｘテーブル２０に対して、Ｙ方向に移動可能に支持する。Ｙ用超音波モータ３２は、Ｙテーブル３０をＹ方向に移動させる駆動力を発生する。
【００１６】
回転テーブル４０が、回転機構により、Ｙテーブル３０に支持されている。回転機構は、回転軸受４１と、回転用超音波モータ４２により構成される。回転軸受４１は、回転テーブル４０を、Ｙテーブル３０に対して、Ｚ方向に平行な軸を中心として回転可能に支持する。回転用超音波モータ４２は、回転テーブル４０を回転させる駆動力を発生する。
【００１７】
回転テーブル４０の下側の面に静電チャック（保持機構）５０が取り付けられている。マスク５１が、静電チャック５０に保持される。チルトテーブル１０を傾斜させると、静電チャック５０も、チルトテーブル１０の傾斜に応じて傾斜する。Ｘテーブル２０をＸ方向に移動させると、静電チャック５０も、Ｘテーブル２０と同じ距離だけＸ方向に移動する。Ｙテーブル３０をＹ方向に移動させると、静電チャック５０も、Ｙテーブル３０と同じ距離だけＹ方向に移動する。回転テーブル４０を回転させると、静電チャック５０も、回転テーブル４０と同じ角度だけ回転する。
【００１８】
上側基準ベース２、チルトテーブル１０、Ｘテーブル２０、Ｙテーブル３０、回転テーブル４０、及び静電チャック５０に、それぞれ上側の表面から下側の表面まで貫通する開口部２Ａ、１０Ａ、２０Ａ、３０Ａ、４０Ａ、及び５０Ａが設けられている。開口部２Ａ、１０Ａ、２０Ａ、３０Ａ、４０Ａ、及び５０Ａは、Ｘテーブル２０及びＹテーブル３０を、それらの最大行程（最大ストローク）の範囲内で移動させても、常にＸＹ面内方向に関して少なくとも部分的に重なるような構成とされている。これらの開口部２Ａ、１０Ａ、２０Ａ、３０Ａ、４０Ａ、及び５０Ａの重なった領域を通って、電子ビームがマスク５１に達する。
【００１９】
チルトテーブル１０をＸＹ面に平行な姿勢に保持した状態では、チルトテーブル１０、Ｘテーブル２０、Ｙテーブル３０、及び回転テーブル４０の各々の上面と下面が、ＸＹ面に平行になる。チルトテーブル１０をＸＹ面から傾斜させると、厳密には、これらの面もＸＹ面に対して傾斜する。この傾斜は微小であるため、本明細書において、チルトテーブル１０を傾斜させた場合にも、これらの面は近似的にＸＹ面に平行であると表現する。
【００２０】
チルトテーブル１０の下面（第１の受熱表面）１０Ｂの一部と、Ｘテーブル２０の上面（第１の放熱表面）２０Ｔの一部とが、間隙を隔てて対向する。Ｘテーブル２０の下面（第２の受熱表面）２０Ｂの一部と、Ｙテーブル３０の上面（第２の放熱表面）３０Ｔの一部とが、間隙を隔てて対向する。Ｙテーブル３０の下面（第３の受熱表面）３０Ｂの一部と、回転テーブル４０の上面（第３の放熱表面）４０Ｔとが間隙を隔てて対向する。
【００２１】
第１の放熱表面２０Ｔからの輻射熱が第１の受熱表面１０Ｂに受熱される。同様に、第２の放熱表面３０Ｔからの輻射熱が第２の受熱表面２０Ｂに受熱され、第３の放熱表面４０Ｔからの輻射熱が第３の受熱表面３０Ｂに受熱される。これらの放熱表面及び受熱表面には、黒クロムめっきが施されている。なお、黒クロムめっきの代わりに、ダイヤモンドライクカーボン被膜を形成してもよい。静電チャック５０、回転テーブル４０、Ｙテーブル３０、Ｘテーブル２０、及びチルトテーブル１０は、例えばアルミニウムで形成されており、熱伝導により熱を伝える伝熱媒体として機能する。
【００２２】
これらの伝熱媒体、及び放熱表面から受熱表面までの間隙が、静電チャック５０からチルトテーブル１０までの熱流路を構成する。
リニアアクチュエータ１３が、可撓性を有する伝熱帯６１を介して冷却ジャケット６０に接続されている。伝熱帯６１は、例えば銅で形成される。冷却ジャケット６０に、冷媒供給路６２及び冷媒排出路６３が接続されている。冷却ジャケット６０内に形成された冷媒流路に、冷媒を流すことにより、冷却ジャケット６０が冷却される。弾性ヒンジ１２、リニアアクチュエータ１１、及び伝熱帯６１が、チルトテーブル１０から冷却ジャケット６２までの熱流路を構成する。
【００２３】
上述のように、静電チャック５０から冷却ジャケット６０までの熱流路が構成されることにより、チルトテーブル１０、Ｘテーブル２０、Ｙテーブル３０、回転テーブル４０、及び静電チャック５０を効率的に冷却することができる。
【００２４】
図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に、チルトテーブル１０とＸテーブル２０とのＸＹ面内における形状及び位置関係を示す。チルトテーブル１０の外周は、概ね、Ｘ方向及びＹ方向に平行な辺を持つ正方形の４つの角を、切り落とし部が直角２等辺三角形になるように切り落とした八角形の形状を有する。ただし、４箇所の切り落とし部のうち１箇所に、光学機器を配置するための切り込み部分１０Ｃが形成されている。
【００２５】
チルトステージ１０の内部に開口部１０Ａが形成されている。開口部１０Ａは、概ね、縦横比が２：１のＸ方向に長い長方形とＹ方向に長い長方形とを、両者の中心が一致するように交差させた形状を有する。ただし、切り込み部１０Ｃに対応する角部においては、開口部１０Ａの内側に向かって突出する部分の先端が斜めに切り落とされている。
【００２６】
Ｘテーブル２０の外周は、チルトテーブル１０の外周をやや小さくした形状を有する。ただし、切り込み部１０Ｃに対応する角部は、切り落とし部が小さな正方形になるように切り落とされている。開口部２０Ａは、チルトテーブル１０の開口部１０Ａと合同である。図３（Ａ）は、２つの開口部１０Ａと２０Ａとが重なった位置から、Ｘテーブル２０を図の左方向に移動させた状態を示し、図３（Ｂ）は、Ｘテーブル２０を図の右方向に移動させた状態を示す。
【００２７】
チルトテーブル１０の下面（第１の受熱表面）１０Ｂと、Ｘテーブル２０の上面（第１の放熱表面）２０Ｔとの重なった領域が、輻射による熱の伝達に関与する。Ｘテーブル２０が、その最大行程（最大ストローク）の範囲内でＸ方向に移動しても、第１の受熱表面１０Ｂと第１の放熱表面２０Ｔとの重なり部分の面積はほとんど変化しない。このため、Ｘテーブル２０をＸ方向に移動させても、チルトテーブル１０とＸテーブル２０との間の輻射による熱伝達効率は、ほぼ一定である。熱伝達効率をほぼ一定にするために、第１の受熱表面１０Ｂと第１の放熱表面２０Ｔとが重なる領域の面積の変動幅が、重なり領域の面積の最大値と最小値との平均の１０％以下になるような構成とすることが好ましい。
【００２８】
可撓性を有する板状の伝熱帯２３が、Ｕ字状に変形され、その一端が、チルトテーブル１０の縁（図３（Ａ）及び図３（Ｂ）において最も右側の縁）からＺ方向に立ち上がる支持具２３ａを介してチルトテーブル１０に固定されている。伝熱帯２３の他端は、Ｘテーブル２０の縁からＺ方向に立ち上がる支持具２３ｂを介してＸテーブル２０に固定されている。
【００２９】
図３（Ａ）の状態では、伝熱帯２３で画定されるＵ字形状が相対的に開き、図３（Ｂ）の状態では、Ｕ字形状の開いた部分が相対的に狭まる。伝熱帯２３は、Ｘテーブル２０とチルトテーブル１０との間の熱流路を構成する。伝熱帯２３が、第１の受熱表面１０Ｂと第１の放熱表面２０Ｔとで構成される輻射による伝熱機構を補完し、熱伝達効率を高めることができる。
【００３０】
Ｘ用リニアガイド２１及びＸ用超音波モータ２２（図２参照）は、ＸＹ面内において、第１の受熱表面１０Ｂと第１の放熱表面２０Ｔとが重なる領域よりも外側に配置されている。このため、第１の受熱表面１０Ｂと第１の放熱表面２０Ｔとの間隔を狭くすることができ、輻射による伝熱効率を高めることができる。
【００３１】
図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に、Ｘテーブル２０とＹテーブル３０とのＸＹ面内における形状及び位置関係を示す。Ｙテーブル３０の外周は、Ｘテーブル２０の外周をやや小さくした形状を有する。Ｙテーブル３０に形成された開口部３０Ａは、Ｘテーブル２０に形成された開口部２０Ａと合同である。図４（Ａ）は、２つの開口部２０Ａと３０Ａとが重なった位置から、Ｙテーブル３０を図の上方向に移動させた状態を示し、図４（Ｂ）は、Ｙテーブル３０を図の下方向に移動させた状態を示す。
【００３２】
Ｘテーブル２０の下面（第２の受熱表面）２０Ｂと、Ｙテーブル３０の上面（第２の放熱表面）３０Ｔとの重なった領域が、輻射による熱の伝達に関与する。Ｙテーブル２０が、その最大行程の範囲内でＹ方向に移動しても、第２の受熱表面２０Ｂと第２の放熱表面３０Ｔとの重なり部分の面積はほとんど変化しない。このため、Ｙテーブル３０をＹ方向に移動させても、Ｘテーブル２０とＹテーブル３０との間の輻射による熱伝達効率は、ほぼ一定である。熱伝達効率をほぼ一定にするために、第２の受熱表面２０Ｂと第２の放熱表面３０Ｔとが重なる領域の面積の変動幅が、重なり領域の面積の最大値と最小値との平均の１０％以下になるような構成とすることが好ましい。
【００３３】
可撓性を有する板状の伝熱帯３３が、Ｕ字状に変形され、その一端が、Ｘテーブル２０の縁（図４（Ａ）及び図３（Ｂ）において最も右側の縁）からＺ方向に立ち上がった支持具２３ｂによりＸテーブル２０に固定されている。伝熱帯３３の他端は、Ｙテーブル３０の、対応する縁からＺ方向に立ち上がった支持具３３ａを介してＹテーブル３０に固定されている。
【００３４】
Ｙテーブル３０をＹ方向に移動させると、伝熱帯３３で画定されるＵ字形状の２本の腕の間隔を保ったまま、腕の長さが変化するように変形する。伝熱帯３３は、Ｙテーブル３０とＸテーブル２０との間の熱流路を構成する。伝熱帯３３が、第２の受熱表面２０Ｂと第２の放熱表面３０Ｔとで構成される輻射による伝熱機構を補完し、熱伝達効率を高めることができる。
【００３５】
Ｙ用リニアガイド３１及びＹ用超音波モータ３２（図２参照）は、ＸＹ面内において、第２の受熱表面２０Ｂと第２の放熱表面３０Ｔとが重なる領域よりも外側に配置されている。このため、第２の受熱表面２０Ｂと第２の放熱表面３０Ｔとの間隔を狭くすることができ、輻射による伝熱効率を高めることができる。
【００３６】
図５に、Ｘテーブル２０、Ｙテーブル３０、及び回転テーブル４０のＸＹ面内における形状及び位置関係を示す。Ｙテーブル３０の下面に回転用超音波モータ４２が取り付けられている。回転用超音波モータ４２は、回転テーブル４０を、Ｚ軸に平行な軸を中心とした回転方向に変位させる。回転テーブル４０に設けられた開口部４０Ａは、概ね縦横比が２：３のＸ方向に長い長方形とＹ方向に長い長方形とを、両者の中心が一致するように交差させた形状を有する。
【００３７】
可撓性を有する板状の伝熱帯４３が、Ｕ字状に変形され、その一端が、Ｙテーブル３０の縁（図５において左下の縁）からＺ方向に立ち上がる支持具４３ａを介してＹテーブル３０に固定されている。伝熱帯４３の他端は、回転テーブル４０の縁からＺ方向に立ち上がる支持具４３ｂを介して回転テーブル４０に固定されている。伝熱帯４３は、回転テーブル４０の回転方向の変位を許容する程度の可撓性を有し、回転テーブル４０とＹテーブル３０との間の熱流路を構成する。伝熱帯４３は回転テーブル４０の第３の放熱表面３０ＴとＹテーブル２０の第３の受熱表面２０Ｂとで構成される輻射による伝熱機構を補完し、熱伝達効率を高めることができる。
【００３８】
可撓性を有する板状の伝熱帯４４が、Ｕ字状に変形され、その一端が超音波モータ４４に取り付けられている。伝熱帯４４の他端は、Ｘテーブル２０の縁（図５において左側の縁）からＺ方向に立ち上がる支持具４４ａを介してＸテーブル２０に固定されている。伝熱帯４４は、Ｙテーブル３０のＹ方向への移動を許容する程度の可撓性を有し、回転用超音波モータ４２とＸテーブル２０との間の熱流路を構成する。伝熱帯４４を設けることにより、発熱源である超音波モータ４４を効率的に冷却することができる。
【００３９】
回転軸受４１（図２参照）及び回転用超音波モータ４２は、ＸＹ面内において、第３の受熱表面３０Ｂと第３の放熱表面４０Ｔとが重なる領域よりも外側に配置されている。このため、第３の受熱表面３０Ｂと第３の放熱表面４０Ｔとの間隔を狭くすることができ、輻射による伝熱効率を高めることができる。
【００４０】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】実施例による低エネルギ電子ビーム近接露光（ＬＥＥＰＬ）装置の概略図である。
【図２】実施例によるＬＥＥＰＬ装置のマスク用可動ステージの概略断面図である。
【図３】マスク用可動ステージのチルトテーブルとＸテーブルとの平面形状及び相対位置関係を示す底面図である。
【図４】マスク用可動ステージのＸテーブルとＹテーブルとの平面形状及び相対位置関係を示す底面図である。
【図５】マスク用可動ステージのＸテーブル、Ｙテーブル及び回転テーブルの平面形状及び相対位置関係を示す底面図である。
【図６】従来の可動ステージの冷却機構を示す概略正面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  下側基準ベース
２  上側基準ベース
３  基準ベース
５  ウエハ用可動ステージ
６  マスク用可動ステージ
７  電子ビーム源
８  真空容器
１０  チルトテーブル
１１  リニアアクチュエータ
１２  弾性ヒンジ
１３  Ｚ方向駆動機構
２０  Ｘテーブル
２１  Ｘリニアガイド
２２  Ｘ用超音波モータ
２３、３３、４３、４４、６１  伝熱帯
３０  Ｙテーブル
３１  Ｙリニアガイド
３２  Ｙ用超音波モータ
４０  回転テーブル
４１  回転軸受
４２  回転用超音波モータ
５０  静電チャック
５１  マスク
６０  冷却ジャケット
６２  冷媒供給路
６３  冷媒排出路
【図１】
2006351740.tif 000003
【図２】
2006351740.tif 000004
【図３】
2006351740.tif 000005
【図４】
2006351740.tif 000006
【図５】
2006351740.tif 000007
【図６】
2006351740.tif 000008