(57)【要約】【課題】  光導波路を形成した薄板を利用し、該薄板の裏面に接着された補強板とを含む光学素子において、補強板がアンダークラッド層の機能を兼ね備えた、安価で性能のバラツキが少ない光学素子を提供すること。【解決手段】  電気光学効果を有する単結晶材料で形成され、研磨加工又はイオンビーム加工により得られた厚さ２０μｍ以下の薄板１０と、該薄板の表面に形成されたリッジ型の光導波路１１，１４と、該光導波路内を通過する光を変調するための変調電極と、該薄板の裏面に接着された補強板１２とを含む光学素子において、該補強板は、薄板と同じ材料を使用し、少なくとも補強板のの接合面の屈折率が、薄板の屈折率より低減され、該薄板と該補強板とは、直接接合法により接合されていることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学効果を有する単結晶材料で形成され、研磨加工又はイオンビーム加工により得られた厚さ２０μｍ以下の薄板と、該薄板に形成されたリッジ型の光導波路と、該光導波路内を通過する光を変調するための変調電極と、該薄板に接着された補強板とを含む光学素子において、
該補強板は、薄板と同じ材料を使用し、少なくとも補強板の接合面の屈折率が、薄板の屈折率より低減され、該薄板と該補強板とは、直接接合法により接合されていることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載の光学素子において、該補強板には真空成膜装置を用いて不純物層を形成し、該不純物が拡散され屈折率が低減されていることを特徴とする光学素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学素子において、該薄板は、一致溶融組成を有するＬＮ結晶基板あるいはＬＴ結晶基板からなることを特徴とする光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子に関し、特に、電気光学効果を有する材料で形成された薄板と、該薄板に接着された補強板とを含む光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光通信分野や光測定分野において、電気光学効果を有する基板上に光導波路や変調電極を形成した導波路型光変調器などの光学素子が多用されている。
光変調周波数の広帯域化を実現するためには、変調信号であるマイクロ波と光波との速度整合を図ることが重要であり、これまでに、様々な方法が考案されている。具体例を挙げれば、バッファ層の厚膜化、電極の高アスペクト化やリッジ構造などがこれにあたる。
【０００３】
また、以下の特許文献１又は２においては、３０μｍ以下の厚みを有する極めて薄い基板（以下、「第１基板」という。）に、光導波路並びに変調電極を組み込み、第１基板より誘電率の低い他の基板を接合し、マイクロ波に対する実効屈折率を下げ、マイクロ波と光波との速度整合を図ることが行われている。
【特許文献１】特開昭６４−１８１２１号公報
【特許文献２】特開２００３−２１５５１９号公報
【０００４】
これらのように、薄板化された第１基板を用いることで、変調器の設計自由度が飛躍的に高まり、例えばバッファ層を用いずとも、広帯域かつ低駆動電圧の光変調器が作製可能となる。またさらに、マイクロ波の伝搬損失低減の観点からは、誘電率の低い材料を基板に用いることと同義に、第１基板を具体的には１５０μｍ以下とすることで、特に２６ＧＨｚ以上の領域においてマイクロ波の誘電体に対する放射損失を低減できることが以下の非特許文献１により公開され、変調器の広帯域化に適用されている。
【非特許文献１】山根他、「サンドブラスト法によるLN基板加工」,住友大阪セメント  テクニカルレポート2003年版, pp49-54 (2003)
【０００５】
従来、導波路型光変調器などの光学素子に光導波路を形成する際には、Ｔｉなどの金属を基板中に高温で熱拡散することにより、拡散部分の屈折率を他の部分より高くし、光の閉じ込めを行っている。この基板を研磨により薄板化することによって、上述のように広帯域かつ低駆動電圧の光変調器を設計・作製すること可能となる。しかし、光導波路を形成した基板を薄板化することにより、基板の機械的強度が低下するため、薄板に補強基板を接合する必要がある。
【０００６】
また、補強基板を、薄板として使用する材料より低屈折率とすれば光導波路のアンダークラッドとして機能し、光波の閉じ込めを大きくとることができる。強閉じ込め導波路はクロストーク抑制や光の急峻な曲げを可能とし、変調器への適用の際には、導波路と電極間隔を縮小可能なことによる電界効率の向上も図れるため、小型集積化が期待できる。しかし、この補強基板に異種材料を用いると線膨張係数の違いにより、温度変化に伴って応力が誘起され、ピエゾ効果による意図しない屈折率変化が生じることから、変調器として使用する際には、温度ドリフトやＤＣドリフトが発生することとなり、長期的な信頼性に劣ることとなる。
【０００７】
さらに、導波路型の光変調器などのように、シングルモードでの伝搬を必要とする光素子においては、薄板とアンダークラッド層の屈折率を厳密に考慮した設計が要求される。
この要求は、ドライエッチングや切削加工を利用して形成されるリッジ型の導波路の場合にはさらに厳密なものとなり、その設計許容値も小さい。
【０００８】
アンダークラッド層としては、従来、ＭｇやＺｎをドープしたＬＮ融液から結晶を引き上げることにより得られるＭｇ：ＬＮ，Ｚｎ：ＬＮ、または定比組成ニオブ酸リチウム（ＳＬＮ）、さらにはタンタル酸リチウム（ＬＴ）や定比組成タンタル酸リチウム（ＳＬＴ）などが利用されている。
【０００９】
しかしながら、これらの材料は、一致溶融組成ニオブ酸リチウム（ＣＬＮ）と比較し、高価である上、組成のバラツキが大きいという問題を生じている。結晶育成においてＭｇやＺｎの偏析係数は１よりも大きい（ＬＮ結晶に入りやすい）ため、結晶のトップとボトムでは濃度が異なる。Ｍｇ，Ｚｎの濃度と屈折率値には相関が強いため、前述のようにアンダークラッドとして使用する際には、使用結晶の部位（スライス位置）によって最適設計を行う必要が生じる。
【００１０】
一方、ＣＬＮは、融液と固相が平衡で同一組成で存在する一致融液より結晶が引き上げられるため、原理的に組成のズレも少なく、結晶のボトムからトップまで組成は一致し、育成中の温度変化に対しても組成ずれがおきにくく、さらには結晶ブール間は勿論のこと、結晶供給メーカー間でも組成のずれはほとんど生じることはなく、現在の市場においても安価に提供されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明が解決しようとする課題は、上述したような問題を解決し、光導波路を形成した薄板を利用し、該薄板に接着された補強板とを含む光学素子において、補強板がアンダークラッド層の機能を兼ね備えた、安価で性能のバラツキが少ない光学素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明では、電気光学効果を有する単結晶材料で形成され、研磨加工又はイオンビーム加工により得られた厚さ２０μｍ以下の薄板と、該薄板に形成されたリッジ型の光導波路と、該光導波路内を通過する光を変調するための変調電極と、該薄板に接着された補強板とを含む光学素子において、
該補強板は、薄板と同じ材料を使用し、少なくとも補強板の接合面の屈折率が、薄板の屈折率より低減され、該薄板と該補強板とは、直接接合法により接合されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る光学素子とは、単に、導波路型光変調器を意味するだけでなく、光スイッチなどの電気光学効果を有する単結晶材料で形成された基板上に、光導波路を形成する光学素子も含むものである。
また、リッジ型の光導波路とは、光導波路以外の基板表面より光導波路の部分が盛り上った、いわゆる「リッジ」が形成されたものを意味するだけでなく、光導波路の両側に溝を形成し、光の閉じ込め領域を構成する光導波路も含むものである。
【００１４】
請求項２に係る発明では、請求項１に記載の光学素子において、該補強板には真空成膜装置を用いて不純物層を形成し、該不純物が拡散され屈折率が低減されていることを特徴とする。
【００１５】
請求項３に係る発明では、請求項１又は２に記載の光学素子において、該薄板は、一致溶融組成を有するＬＮ結晶基板あるいはＬＴ結晶基板からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１に係る発明により、薄板は電気光学効果を有する単結晶材料で形成され、研磨加工又はイオンビーム加工により得られるため、単一配向性、結晶相均一性、化学組成均一性などに優れ、作製再現性も高い。また、薄板の厚さが２０μｍ以下であり、補強板には、薄板と同じ材料を使用し、少なくとも補強板の屈折率が、薄板の屈折率より低減され、かつ、該薄板と該補強板とは、直接接合法により接合されているため、アンダークラッド層の機能を補強板に持たせるとともに、薄板と補強板との線膨張係数の差が無く、熱膨張応力の発生が抑制されるため、光学素子作製プロセスの自由度を向上させることができ、高信頼度の光学素子が得られる。
【００１７】
請求項２に係る発明により、該補強板には真空成膜装置を用いて不純物層を形成するため、不純物量を再現性よく高精度に制御することが可能である。このため、薄板と同じ基板を補強板として使用しながら屈折率を厳密に制御した補強板を容易に得ることが可能となる。
【００１８】
請求項３に係る発明により、薄板は、一致溶融組成を有するＬＮ結晶基板あるいはＬＴ結晶基板からなるため、請求項１に係る発明により、補強板にも同様の一致溶融組成を有する結晶基板を使用することとなり、安価で特性のバラツキが少ない補強板を得ることが可能となる。なお、補強板として使用するには、該基板表面に不純物を拡散させる必要があることは言うまでもない。
【００１９】
なお、単結晶の強誘電体薄膜を形成する方法、ならびに基板材料に不純物を拡散することは既に以下の特許文献３及び４により開示されている。
【特許文献３】特開平４−１２０９５号公報
【特許文献４】特開平４−３７６９７号公報
【００２０】
特許文献３及び４に係る構成は、一見すると本発明と構成が類似しているように見えるが、特許文献らの構成は光導波路部を作製する薄板部にエピタキシャル膜を配しているのに対して、本発明は上述のように、原理的に組成ずれをほとんど有さず、結晶性が非常に良好なＣＬＮ単結晶基板を出発材として、これをＣＭＰ研磨により薄板化して用いていることが決定的に異なる。強誘電体薄板の光導波路素子への応用には、単一配向性や結晶相均一性などの結晶性はもちろんのこと、化学組成均一性、低光伝搬損失特性などが要求される。エピタキシャル膜は液相原料の調合により広い範囲において原理的に屈折率を制御することは可能であるが、一般に作製再現性は低く、また、本法による薄膜の結晶性は、チョコラルスキー法を用いた一致融液組成から引き上げられるＣＬＮ結晶に及ばないばかりか、不純物の含有の問題もあり、変調器とした際には長期信頼性が確保できない。これは、現在商用変調器にエピタキシャル膜により得られた結晶基板が用いられていないことからも容易に推定される。また、基板材料には同一素材を用いておらず、不純物量を厳密に制御する手法についても開示されていないため、本発明のように屈折率を厳密に制御した補強板を安価かつ容易に得るには至っていない。
このように、特許文献３及び４の発明は、本発明とは大きく異なるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明を好適例を用いて詳細に説明する。
本発明は、電気光学効果を有する単結晶材料で形成され、研磨加工又はイオンビーム加工により得られた厚さ２０μｍ以下の薄板と、該薄板に形成されたリッジ型の光導波路と、該光導波路内を通過する光を変調するための変調電極と、該薄板に接着された補強板とを含む光学素子において、該補強板は、薄板と同じ材料を使用し、少なくとも補強板の接合面の屈折率が、薄板の屈折率より低減され、該薄板と該補強板とは、直接接合法により接合されていることを特徴とする。
【００２２】
図１は、本発明に係る光学素子の断面図である。電気光学効果を有する材料で形成された薄板１０には、図１（ａ）のように薄板の表面にリッジ１１が形成され、該リッジ１１が光導波路の機能を有している。薄板１０の表面には、光導波路内を通過する光を変調するための変調電極や、ＳｉＯ２などのバッファ層が形成されているが、図１では、説明を簡便にするため、図面上では省略されている。
【００２３】
光導波路としては、図１（ａ）のリッジ１１の他に、図１（ｂ）に示すように、光導波路１４の両側に溝１３を形成し、光の閉じ込め領域を構成することも可能であり、本発明でにおいては、図１（ａ）及び（ｂ）の形態を含んで、「リッジ型光導波路」と称している。
【００２４】
図１の符号１２は、補強板を示し、薄板１０の裏面に接合されている。
本発明においては、補強板１２は、薄板１０と同じ材料で構成される基板であり、補強板として使用する際には、不純物を熱拡散などによりドープし、補強板表面に、薄板の屈折率より低い屈折率を有する部分を形成し、薄板１０の光導波路（１１，１４）のアンダークラッド層として機能するよう調整されている。
【００２５】
薄板１０や補強板１２の材料としては、安価で特性のバラツキが少ない一致溶融組成を有するＬＮ結晶（ＣＬＮ）基板あるいはＬＴ結晶（ＣＬＴ）基板を利用する。補強板として使用する際には、上述したように、Ｍｇ、Ｚｎ，Ｌｉ及びＴａなどを補強板の表面から熱拡散などによりドープする。
【００２６】
次に、本発明に係る光学素子の製造方法について説明する。
図３は、光学素子の製造方法の例を示すものである。
図３（ａ）に示すように、ＣＬＮ基板１２を用意し、Ｍｇなどの不純物を真空蒸着法などを利用して該基板上に付着させる（図３（ｂ）の符号１５参照）。真空蒸着法は、不純物の付着量を高精度に制御することが可能であるため、低屈折率の値及び領域を制御するには、好的に利用可能である。真空成膜装置は、真空蒸着装置以外にも、イオンプレーティング装置、スパッタ成膜装置、ＣＶＤ装置、ＭＯＣＶＤ装置などが使用可能である。次に基板を約１０００〜１２００℃で加熱し、基板表面から基板内部に向け不純物を拡散し、拡散前のＣＬＮ基板の屈折率より低屈折率となる領域を形成する。
【００２７】
なお、図３（ｂ）及び（ｃ）では、基板１２の表面全体に渡り不純物を蒸着・拡散しているが、このような低屈折率となる領域１６は、薄板の光導波路が形成された領域に対応する補強板の表面部分にあれば良く、必要に応じて光導波路に対応した形状に不純物を付着（蒸着）し、熱拡散させることも可能である。
【００２８】
また、このような低屈折率の領域は、補強板であるＣＬＮ基板の底面側から表面側に向かう光（迷光）が光導波路内に侵入することを防止する機能も果たすため、より特性の改善された光学素子を提供することが可能となる。
【００２９】
次に、図３（ｄ）に示すように、補強板１２上に、薄板となる他のＣＬＮ基板１０を接合する。接合方法としては、日立化成製Ｔ−２０００、日清紡製カルボジライトフィルムなどの接着剤を使用することも可能であるが、接着剤の耐熱温度が変調器作製プロセスで経験する熱履歴に制限をかけることとなり、また、汚染源としての影響も懸念されるため、直接接合法を用いることが特に好ましい。
【００３０】
接合したＣＬＮ基板１０は、ラップ盤研磨機などを使用し、２０μｍ以下の厚みになるよう研磨される（図３（ｅ）参照）。この研磨の際には、補強板１２は、薄板１０を支持する支持部材としても機能する。薄板を形成する方法として研磨に替わり、非特許文献２に示すようなイオンビームを用いて基板をスライスする方法であるイオンビーム加工を用いることも可能である。
【非特許文献２】Tomoyuki IZUHARA, et al., "Ion-sliced Single-crystal LiNbO3 Thin Films and Their Applications", IEEE LEOS NEWSLETTER, pp4-6, August 2004
【００３１】
次に、薄板１０に、サンドブラストなどの機械的切削や化学的なエッチングにより、光導波路１１となるリッジを形成する。リッジ等を形成する際に、補強板１２は、薄板に加わる機械的衝撃や又は熱応力などにより薄板が破損するの防止する役割も有している。リッジ形成はドライエッチング・ケミカルエッチング・マイクロサンドブラスト法、ダイサを用いたブレードによる機械加工などが好適に利用できる。
【００３２】
最後に、図示されていないが薄板１０上にバッファ層や電極を形成し、光学素子が完成する。
また、上記リッジの形成の際には、図２（ｂ）に示すように、光導波路となる部分の両側に機械的切削やエッチングなどで、溝を形成し、光導波路を形成することも可能である。
【００３３】
図４は、光学素子の他の製造方法を示す図である。
図４（ａ）乃至（ｃ）は、図３と同様であり説明を省略する。次に、図４（ｄ）のように、補強板と同じ素材であるＣＬＮ基板１０を使用し、該基板の表面に上述した機械的切削やエッチングによりリッジを形成し、光導波路１１を形成する（図４（ｅ）参照）。さらに、光学素子に必要なバッファ層や変調電極なども併せて作成する。
【００３４】
リッジを形成したＣＬＮ基板１０の表面に、熱可塑性樹脂などの接着剤１７を塗布し、研磨用ジグ１８に基板を貼り付け固定する（図４（ｆ）参照）。基板１０は、ラップ盤研磨機などを使用し、２０μｍ以下の厚みになるよう研磨される（図４（ｇ）参照）。上述したように、薄板を形成する方法として研磨に替わり、イオンビーム加工を用いることも可能である。
【００３５】
薄板１０を研磨用ジグ１８から取外し、図４（ｉ）に示すように、補強板１２と薄板１０とを直接接合法などで、接合し、光学素子を完成させる。
このように、リッジやバッファ層又は変調電極などを形成する際には、機械的衝撃や熱応力などが加わるため、薄板へ加工する前にこれらの各種部材を組み込むよう設定することも可能であるが、薄板に補強板を貼り付けた後に、これらの処理を行うことも可能である。
【実施例】
【００３６】
次に、本発明の光学素子に係る具体的な実施例及びその試験について説明する。
（実施例１）
図３に示す製造方法を利用して、光学素子を作成した。
補強板１２として、厚み５００μｍのＺカット型ＣＬＮ（ＣＴＩ社製  光学グレード）を使用し、該基板表面に、電子線ビーム源を備えた真空蒸着装置を使用して、Ｍｇをそれぞれ厚さ３５，５０，６５，１００ｎｍで蒸着（付着）させた。次に、この補強板１２を電気炉内において１０００℃で５時間加熱し、Ｍｇを基板内に熱拡散させた。
【００３７】
薄板に加工する基板として、補強板と同じ材料を使用し、該薄板用基板と補強板とを、結晶方位を合わせて直接接合法により接合した。
直接接合は、まずそれぞれの基板を界面活性剤、有機溶剤を用い、超音波を付与して洗浄した後、電子工業用グレートのアンモニア水と過酸化水素水の混合薬液中にて５分間浸漬し、表面を活性化処理した。次に、超純水を用いてリンスを行った後、乾燥窒素にて表面をブローし、互いの結晶方位をそろえ、その後、付着力をより強固とするため、３００℃で１時間に渡り電気炉にて熱処理を行い、薄板と補強板とを張り合わせた。
【００３８】
次に、薄板側の基板１０を、ラップ盤研磨機（キャリア：ガラス繊維入エポキシ樹脂、ラップ剤：ＧＣ＃１２００  ２０ｗｔ％ａｑ）にて、速度３５ｍｉｎ−１、ラップ圧１２．７５〜９．８１ｋＰａの条件下において基板の厚さがおよそ５０μｍ、あるいは、仕上がり厚みからおよそ２０μｍ厚い状態となるまで粗研磨する。この後、パット材質に不織布、加工液にはコロイダルシリカを用いたメカノケミカルポリッシング（ＣＭＰ）により設定厚まで精密鏡面研磨を行う。なお、ここでの設定厚は６μｍとした。
【００３９】
次に、ノボラック樹脂を主体としたポジ型のフォトレジストによりパターニングを行い、同時にこれをドライエッチング時のマスク材料として、Ａｒプラズマを主体としたＥＣＲ−ＲＩＥ（アネルバ製  ＥＣＲ３１０Ｅ）ドライエッチング法により、薄板の表面にリッジを形成した。作製したリッジの幅はおよそ１０μｍであり、リッジの深さは３μｍ設定とした。その後、バッファ層及び変調電極を形成して光学素子を得た。なお、バッファ層は高純度ＳｉＯ２ターゲットを用いて、アルゴンガスと酸素ガスを混合導入しながらＲＦマグネトロンスパッタ法で形成し、変調用電極は、電解メッキ法で形成した。
【００４０】
（比較例１）
補強板にＭｇの蒸着及び拡散を行わない以外は、上記実施例と同様にして光学素子を得た。
【００４１】
（比較例２）
補強板として、厚み５００μｍのＭｇ添加一致融液組成ニオブ酸リチウム（Ｍｇ：ＣＬＮ、Ｍｇ添加量  ５ｍｏｌ％、基板屈折率２．１９２４〜２．１９３５＠６３３ｎｍ  ＴＭ）基板を用い、上述したＭｇの蒸着及び拡散を行わない以外は、上記実施例と同様にして光学素子を得た。
【００４２】
（試験方法及び結果）
（評価結果１）
実施例１により得られた補強基板の表面屈折率測定結果ならびにＥＰＭＡにより測定したＭｇ濃度を表１に示す。
屈折率の測定はプリズムカプラー（メトリコン社製）を用い、測定波長はそれぞれ６３３ｎｍ、１５５０ｎｍとした。ＥＰＭＡによる半定量分析測定にはＺＡＦ法を用いた。
【００４３】
【表１】
2006284962.tif 000003
【００４４】
Ｍｇ蒸着厚は水晶振動子モニタにより制御を行うことで、設定値±２ｎｍ程度での制御が可能である。また、表１より理解できるように、Ｍｇ蒸着厚と熱拡散後の表面屈折率の変化量、Ｍｇ濃度はリニアな関係があるため、最終的な屈折率を±２×１０−４程度で制御可能であることが分かる。
【００４５】
（評価結果２）
実施例１ｄ及び比較例１，比較例２の光学特性を測定するため、ニアフィールド像（ＮＦＰ）を観察した。
比較例１では、上部薄板と補強板との屈折率差がないため光波の閉じ込めがなされず、モード径を測定することができなかったのに対し、実施例１ｄでは比較例２とともに良好な光波の閉じ込めを確認した。実施例１ｄ、及び比較例２の結果を図５、図６に示す
【００４６】
また、ＮＦＰ像により得られた光強度分布において、光強度が最大値の１／ｅ２となる範囲を光波のモード径として定め、その値を表２に記した。Ｘ，Ｙとはそれぞれ横方向成分、縦方向成分を表している。
【００４７】
【表２】
2006284962.tif 000004
【００４８】
（評価結果３）
実施例１ｄ、比較例２により得られたチャネル型光導波路の伝搬損失をカットバック法により測定したところ、波長１５５０ｎｍ、ＴＭモードにおける伝搬損失はそれぞれ０．５±０．１ｄＢ／ｃｍであり両者に差は確認されない。なお、液相エピタキシャル成長により得られた薄板を用いたほぼ同構造のチャネル型光導波路の伝搬損失は以下の非特許文献３により１．２ｄＢ／ｃｍと報告されており、薄板材料の結晶性の違いを反映したものと推定される。
【非特許文献３】大野  一茂他、「液相エピタキシャル成長LiNbO3薄膜光導波路とそれを用いた進行波形光変調器の作製と評価」、電子通信学会論文誌C-Ｉ  Vol.J77-C-Ｉ  No.５  pp.229-237(1994)
【００４９】
以上より、実施例が比較例２のものとも比較しても、同等以上の優れたアンダークラッドとしての特性を有することを示しており、実施例のものは、市販の安価なＣＬＮ基板を利用しても、十分な光学性能を有する光学素子であることが理解される。
また、不純物種としてＺｎ，Ｌｉ及びＴａを熱拡散したところ、Ｌｉ、ＴａについてはＭｇと同様に蒸着膜厚に比例して基板表面の屈折率が低下することを確認した。Ｎｉ、Ｚｎについては濃度が希薄な領域では負の屈折率変化をもつが、ある濃度を超えると屈折率変化が正に転じ、アンダークラッドとして機能することを確認した。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明に係る光学素子よれば、光導波路を形成した薄板を利用し、該薄板の裏面に接着された補強板とを含む光学素子において、補強板がアンダークラッド層の機能を兼ね備えた、安価で性能のバラツキが少ない光学素子を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】光学素子である光変調器の従来例を示す概略図である。
【図２】本発明に係る光学素子の断面図を示す。
【図３】本発明に係る光学素子の製造方法を示す図である。
【図４】本発明に係る光学素子の他の製造方法を示す図である。
【図５】実施例１ｄの光学素子におけるニアフィールド像（ＮＦＰ）を示す。
【図６】比較例２の光学素子におけるニアフィールド像（ＮＦＰ）を示す。
【符号の説明】
【００５２】
１，１０  薄板
２，１１，１４  光導波路
３  接着層
４，１２  補強板
１３  溝
１５  不純物
１６  不純物の拡散領域
１７  接着層
１８  固定用ジグ
【図１】
2006284962.tif 000005
【図２】
2006284962.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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