(57)【要約】【課題】  発色性と色相に優れ、発色感度に優れた記録材料を提供することにある。【解決手段】  支持体上に、ジアゾ化合物及びカップリング成分を含有する記録層を有する記録材料であって、該記録層が非解離型の前記カップリング成分と、分子量が３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物とを含有することを特徴とする記録材料。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、ジアゾ化合物及びカップリング成分を含有する記録層を有する記録材料であって、該記録層が非解離型の前記カップリング成分と、分子量が３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物とを含有することを特徴とする記録材料。
【請求項２】
前記カップリング成分が次の一般式（１）で表されるカプラ−であることを特徴とする請求項１に記載の記録材料。
【化１】
2006103141.tif 000032
［一般式（１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環残基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、又はスルファモイル基を表す。
Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、又はスルファモイル基を表す。
Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環残基を示す。］
【請求項３】
前記カップリング成分が下記一般式（２）で表されるカプラ−であることを特徴とする請求項２に記載の記録材料。
【化２】
2006103141.tif 000033
［一般式（２）中、Ａｒはアリール基、ヘテロ環残基を表す。Ｒ21はアルキル基、アルコキシ基を表す。］
【請求項４】
前記ジアゾ化合物が下記一般式（３）で表されるジアゾニウム塩であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の記録材料。
【化３】
2006103141.tif 000034
［一般式（３）中、Ｒ5は、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、ヘテロ環残基、又はアシル基を表す。Ｙ1は酸素原子、硫黄原子、又はスルホニル基を表し、Ｙ2及びＹ3は、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を表す。
Ｘ-は陰イオンを表す。］
【請求項５】
前記ジアゾ化合物が下記一般式（４）で表されるジアゾニウム塩であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の記録材料。
【化４】
2006103141.tif 000035
［一般式（４）中、Ｒ5は、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ22は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ23は、アルキル基、アリール基、アシル基、スルホニル基、カルバモイル基、又はヘテロ環残基を表す。］
【請求項６】
前記芳香族スルホンアミド化合物が下記一般式（５）で表されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の記録材料。
【化５】
2006103141.tif 000036
［一般式（５）中、Ａｒ基は、アリール基、ヘテロ環残基を表す。Ｒ11，Ｒ12はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、又はヘテロ環残基を表す。］
【請求項７】
前記芳香族スルホンアミド化合物が下記一般式（６）で表されることを特徴とする請求項６に記載の記録材料。
【化６】
2006103141.tif 000037
［一般式（６）中、Ｒ11、Ｒ12はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ13〜Ｒ17はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコシキカルボニル基、アリール基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基を表す。］
【請求項８】
前記ジアゾ化合物がマイクロカプセルに内包されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の記録材料。
【請求項９】
前記分子量３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物が前記マイクロカプセルに内包されずに、記録層に含まれることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の記録材料。
【請求項１０】
前記マイクロカプセルがポリウレタン／ポリウレア混合物からなることを特徴とする請求項８又は９に記載の記録材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジアゾ化合物及びカップリング成分の組合せを発色成分として用いる記録材料、特に、発色性、色相に優れ、発色感度に優れた記録材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
ジアゾ化合物は、フェノール誘導体や活性メチレン基を有する化合物などのカップリング成分と反応してアゾ染料を形成する。また、ジアゾ化合物は光照射によって分解し、その活性を失うという性質を有している。従来から、ジアゾ化合物はこの性質を利用されて、ジアゾコピーに代表される光記録材料として古くから利用されている（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００３】
また、ジアゾ化合物は、最近では画像の定着が要求される記録材料にも応用され、代表的なものとして、ジアゾ化合物とカプラー化合物とを画像信号に従って加熱し、反応させて画像を形成させた後、光照射して画像を定着する、光定着型感熱記録材料が提案されている（例えば、非特許文献２参照。）。
【０００４】
しかしながら、これらの記録材料は、暗所であっても活性なジアゾ化合物が徐々に熱分解して反応性を失うため、記録材料としてのシェルライフが短いという欠点がある。また、この欠点を改善する目的で、ジアゾ化合物をマイクロカプセル中に内包させ、ジアゾ化合物を、水・塩基のような分解を促進させる成分と隔離する方法が提案されている。この方法により、記録材料のシェルライフを飛躍的に向上させることが可能となる（例えば、非特許文献３参照。）。
【０００５】
一方、カプラーにおいて、従来のカプラーは発色場の塩基性を支配する化合物により、その色素化反応が促進されやすい性質を有するため、色相が安定せず、色相に優れたカプラーが求められていた。
また、近年、非銀塩系発色システムには、より簡便に、よりプリント時間を短縮することが求められており、それらに対応するため、更なる発色感度の向上が求められていた。
【０００６】
上記発色感度を向上する方法として、ジアゾ発色感熱記録材料に１級スルホンアミド化合物を添加する方法が開示されている（例えば、特許文献１〜４等参照。）。
しかしながら、これらに記載されている記録材料においては、いずれも、ジアゾニウム塩とカップリングするカプラー成分が解離型カプラーであり、形成されるアゾ色素がヒドラゾン型色素であるため、色素吸収の良好な長波側の裾切れと発色感度との両立が困難であった。
【非特許文献１】日本写真学会編「写真工学の基礎―非銀塩写真編―」コロナ社、１９８２年、８９〜１１７頁、１８２〜２０１頁
【非特許文献２】佐藤弘次共著「画像電子学会誌」第１１巻第４号、１９８２年、２９０〜２９６頁
【非特許文献３】宇佐美智正共著「画像電子学会誌」第２６巻第２号、１９８７年、１１５〜１２５頁
【特許文献１】特開昭６２−９９１８９号公報
【特許文献２】特開平９−３９３８９号公報
【特許文献３】特開平１０−１５１８５７号公報
【特許文献４】特開２００２−３０７８３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、発色性と色相に優れ、発色感度に優れた記録材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討した結果、感熱記録材料中に、特定の非解離型の前記カップリング成分と、疎水性が高いある特定の芳香族スルホンアミド化合物と、を含有させることにより発色感度が向上することを見出した。本発明は以下の手段によって達成された。
【０００９】
＜１＞  支持体上に、ジアゾ化合物及びカップリング成分を含有する記録層を有する記録材料であって、該記録層が非解離型の前記カップリング成分と、分子量が３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物とを含有することを特徴とする記録材料。
【００１０】
＜２＞  前記カップリング成分が次の一般式（１）で表されるカプラ−であることを特徴とする上記＜１＞に記載の記録材料。
【００１１】
【化１】
2006103141.tif 000002
［一般式（１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環残基アミノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、又はスルファモイル基を表す。
Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、又はスルファモイル基を表す。
Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環残基を示す。］
【００１２】
＜３＞  前記カップリング成分が下記一般式（２）で表されるカプラ−であることを特徴とする上記＜２＞に記載の記録材料。
【００１３】
【化２】
2006103141.tif 000003
【００１４】
［一般式（１）中、Ａｒはアリール基、ヘテロ環残基を表す。Ｒ21はアルキル基、アルコキシ基を表す。］
【００１５】
＜４＞  前記ジアゾ化合物が下記一般式（３）で表されるジアゾニウム塩であることを特徴とする上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の記録材料。
【００１６】
【化３】
2006103141.tif 000004
【００１７】
［一般式（３）中、Ｒ5は、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ5及びＲ7は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、ヘテロ環残基、又はアシル基を表す。Ｙ1は酸素原子、硫黄原子、又はスルホニル基を表し、Ｙ2及びＹ3は、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を表す。
Ｘ-は陰イオンを表す。］
【００１８】
＜５＞  前記ジアゾ化合物が下記一般式（４）で表されるジアゾニウム塩であることを特徴とする上記＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の記録材料。
【００１９】
【化４】
2006103141.tif 000005
【００２０】
［一般式（４）中、Ｒ22は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ23は、アルキル基、アリール基、アシル基、スルホニル基、カルバモイル基、又はヘテロ環残基を表す。］
【００２１】
＜６＞  前記芳香族スルホンアミド化合物が下記一般式（５）で表されることを特徴とする上記＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載の記録材料。
【００２２】
【化５】
2006103141.tif 000006
【００２３】
［一般式（５）中、Ａｒ基は、アリール基、ヘテロ環残基を表す。Ｒ11，Ｒ12はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、又はヘテロ環残基を表す。］
【００２４】
＜７＞  前記芳香族スルホンアミド化合物が下記一般式（６）で表されることを特徴とする上記＜６＞に記載の記録材料。
【００２５】
【化６】
2006103141.tif 000007
【００２６】
［一般式（６）中、Ｒ11、Ｒ12はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ13〜Ｒ17はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコシキカルボニル基、アリール基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基を表す。］
【００２７】
＜８＞  前記ジアゾ化合物がマイクロカプセルに内包されていることを特徴とする上記＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の記録材料。
【００２８】
＜９＞  前記分子量３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物が前記マイクロカプセルに内包されずに、記録層に含まれることを特徴とする上記＜１＞〜＜８＞にのいずれか１項に記載の記録材料。
【００２９】
＜１０＞  前記マイクロカプセルがポリウレタン／ポリウレア混合物からなることを特徴とする上記＜８＞又は＜９＞に記載の記録材料。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、発色性と色相に優れ、発色感度に優れた記録材料を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
本発明の記録材料は、支持体上に、ジアゾ化合物及びカップリング成分を含有する記録層を有し、該記録層が非解離型の前記カップリング成分と、分子量が３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物とを含有することを特徴とする。
【００３２】
（カプラー）
本発明における前記非解離型のカプラーとは、下記（１）及び（２）のいずれかの方法を用いても酸解離定数（ｐＫａ）を求めることができないカプラーを言うものとする。
【００３３】
（１）カプラーをＴＨＦ／水＝６／４（質量）の混合液に溶解した液を、酸解離定数測定装置（Ｃｏｍ−９８０Ｗｎ、平沼産業（株）製）を用いて、０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で滴定しても変曲点が観測されない。
（２）カプラーをＴＨＦ／ｐＨバッファー水溶液＝５／５（質量）の混合液に溶解した液のＵＶスペクトルを測定し、ｐＨ１２バッファー水溶液を用いても低ｐＨバッファー水溶液でのＵＶスペクトルと比べて変曲点が観測されない。
【００３４】
本発明におけるカップリング成分を前記下記一般式（１）で表す非解離型カプラーとすることにより、アゾ・ヒドラゾン平衡がアゾ型へ偏るため分光吸収長波側裾切れ良化が得られやすいという点で好ましい。
【００３５】
【化７】
2006103141.tif 000008
【００３６】
一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4で示されるアルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基を表し、炭素数１〜２４が好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基が更に好ましい。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
３−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基、３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル基、ベンジル基、フェネチル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基等が挙げられる。
【００３７】
中でも、溶解性を向上させる観点から、アルキル基としては、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、３−ペンチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、イソノニル基、ｎ−ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフルオロメチル基が好ましく、イソペンチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、イソノニル基が更に好ましい。
【００３８】
Ｒ2で示されるアルコキシ基としては、炭素数１〜３０のアルコキシ基を表し、炭素数１〜２０のアルコキシ基であることが好ましい。アルコキシ基は置換基を有していてもよい。
例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ｔ−アミルオキシ基、１−ヘキシルオキシ基、１−（２−エチル）ヘキシルオキシ基、１−イソノニルオキシ基、１−ドデシルオキシ基、１−ヘキサデシルオキシ基等が挙げられる。
中でも、溶解性を向上させるの観点から、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、１−（２−エチル）ヘキシルオキシ基、１−イソノニルオキシ基が好ましい。
【００３９】
Ｒ1〜Ｒ4で示されるアリール基としては、炭素数６〜４０を表し、炭素数６〜２０がより好ましい。例えば、フェニル基、ナフチル基、１−（５−クロロ）ナフチル基、２−メチルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、ｍ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミノフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基、２−ヒドロキシ−５−ブトキシフェニル基、２−ヒドロキシフェニル基、３−フェニルフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基などを表す。
中でも、溶解性を向上させる観点から、２−メトキシフェニル基、ｍ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミノフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基が好ましい。
【００４０】
Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4で示されるヘテロ環残基としては、総炭素数１〜３０とヘテロ原子からなる環状構造の官能基を表し、総炭素数１〜２０が好ましい。
例えば、アジリジノ基、アゼチジノ基、ピロリジノ基、ピラゾリノ基、イミダゾリノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基、ピロリル基、ピロリドノ基、４−ピリジノ基、２−ピリジノ基、１，２，３−トリアゾール−１−イル基、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、オキサゾリノ基、チアゾリノ基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、５−テトラゾリノ基、ピペリジノ基、４−アセチルピペラジノ基、４−（２−エチルヘキサノイル）ピペラジノ基、ヘキサメチレンイミノ基、１−インドリノ基、ベンズイミダゾリル基、ベンズピラゾリル基、ベンズチアゾリノ基、ベンズオキサゾリノ基、イソインドリノ基、キノリノ基、又はコハク酸イミド等を表す。また、これらはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基で置換されていてもよい。
溶解性の観点から、ピロリジノ基、ピロリドノ基、ピラゾリノ基、２−ピリジノ基、４−（２−エチルヘキサイル）ピペラジノ基、１−インドリノ基、イソインドリノ基、ヘキサメチレンイミノ基等が好ましい。
Ｒ3、Ｒ4が互いに連結して、カプラーのピラゾール環３位の窒素原子を含む複素環を形成してもよく、例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピロリジン、ピラゾリン、イミダゾリン、オキサゾリジン、ピペリジン等が挙げられる。
【００４１】
Ｒ1で示されるアミノ基は、無置換、１置換、２置換でも良く、置換基としては脂肪族、芳香族のどちらでも良い。さらに置換基を有してもよく、その置換基としてはアルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子が好ましい。アミノ基としては、特に無置換のアミノ基、ブチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ブトキシエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、フェニルアミノ基、フェニルメチルアミノ基が好ましい。
【００４２】
Ｒ1、Ｒ2で示されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜４０のアルコキシカルボニル基を表し、炭素数２〜２０がより好ましい。
例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、２−フェノキシエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等を表す。
溶解性の観点から、イソブトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等が好ましい。
【００４３】
Ｒ1〜Ｒ4で示されるカルバモイル基は、総炭素数２〜４０のカルバモイル基を表し、総炭素数２〜２０のカルバモイル基が好ましい。
例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−イソノニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロパン−３−オン−１−イル）カルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル基、ピロリジノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基、Ｎ’−アセチルピペラジノカルボニル基、インドリノカルボニル基等を表す。
溶解性の観点から、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−イソノニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル基、ピロリジノカルボニル基、Ｎ’−アセチルピペラジノカルボニル基等が好ましい。
【００４４】
Ｒ1，Ｒ2のスルファモイル基は、総炭素数１〜３０のスルファモイル基を表し、総炭素数２〜２０が好ましい。例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ’−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ’−ジブチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルスルファモイル基、ピロリジノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基、モルホリノスルホニル基等を表す。
溶解性の観点から、Ｎ，Ｎ’−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルスルファモイル基、ピロリジノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等が好ましい。
【００４５】
Ｒ2のアリールオキシカルボニル基は、総炭素数７〜４０のアリールオキシカルボニル基を表し、総炭素数７〜２０がより好ましい。
例えば、フェノキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシカルボニル基、ｍ−ブトキシフェノキシカルボニル基、２−エチルへキシルオキシフェノキシカルボニル基、４−フェノキシフェノキシカルボニル基、２−（２−エチルヘキサノイル）オキシフェノキシカルボニル基等を表す。
溶解性の観点から、４−メチルフェノキシカルボニル基、２−エチルへキシルオキシフェノキシカルボニル基、２−（２−エチルヘキサノイル）オキシフェノキシカルボニル基などが好ましい。
【００４６】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4で表されるアシル基としては、炭素数２〜４０のアシル基を表し、総炭素数２〜２０のアシル基がより好ましい。
例えば、アシル基としては、特にアセチル基、プロピオニル基、イソブタノイル基、ピバロイル基、２−エチルヘキサノイル基、２−（２，４−ｔ−アミルフェノキシ）ブタノイル基、フェノキシアセチル基、メトクリロイル基、ベンゾイル基、パーフルオロベンゾイル基、シンナモイル基等を表す。
溶解性の観点から、イソブタノイル基、ピバロイル基、２−エチルヘキサノイル基、２−（２，４−アミルフェノキシ）ブタノイル基、４−メトキシベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基等が好ましい。
【００４７】
Ｒ2で示されるカルボンアミド基としては脂肪族、芳香族のカルボンアミド基のいずれでも良く、その炭素数は２〜２０が好ましい。
さらに置換基を有してもよい。その置換基としてはアルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子が好ましい。
カルボンアミド基としては、特にアセタミド基、ブタノイラミド基、ヘキサノイラミド基、デカノイラミド基、テトラデカノイラミド基、２−エチルヘキサノイラミド基、ベンジルアミド基、ベンゾイラミド基、２，５−ジブトキシベンゾイラミド基等が好ましい。
【００４８】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4で示されるアルキルスルホニル基としては、炭素数１〜２０のものが好ましく、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、デシルスルホニル、ドデシルスルホニル等が挙げられる。
アルキルスルホニル基はさらに置換基を有してもよく、その置換基としては例えばフェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、カルボン酸基、スルホン酸基、ヘテロ環残基等が挙げられる。
アルキルスルホニル基としては、特に、メチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、デシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、ベンジルスルホニル基が好ましい。
【００４９】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4で示されるアリールスルホニル基としては、炭素数１〜２０のものが好ましく、例えばベンゼンスルホニル基等が挙げられる。
アリールスルホニル基はさらに置換基を有してもよく、その置換基としては例えばアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、カルボン酸基、スルホン酸基またはヘテロ環残基が挙げられる。
アリールスルホニル基としては、特にベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基、クロロベンゼンスルホニル基、ブトキシベンゼンスルホニル基、２，５−ジブトキシベンゼンスルホニル基、が好ましい。
【００５０】
Ｒ2で示されるスルホンアミド基としては脂肪族、芳香族のスルホンアミド基のいずれでも良く、その炭素数は１〜２０が好ましい。
さらに置換基を有してもよい。その置換基としてはアルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子が好ましい。
スルホンアミド基としては、特にメタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、オクタンスルホンアミド基、デカンスルホンアミド基、２−エチルヘキシルスルホンアミド基、フェニルスルホンアミド基、２−ブトキシフェニルスルホンアミド基、４クロロフェニルスルホンアミド基、２，５―ジエトキシスルホンアミド基、４−ヘキシルオキシフェニルスルホンアミド基が好ましい。
【００５１】
前記一般式（１）で表されるカプラー化合物の中でも、下記一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。
【００５２】
【化８】
2006103141.tif 000009
【００５３】
前記一般式（２）中、Ａｒはアリール基、ヘテロ環残基を表す。該アリール基及びヘテロ環残基は、一般式（１）で表されるアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ21はアルキル基、アルコキシ基を表す。該アルキル基及びアルコキシ基は、一般式（１）で表されるアルキル基及びアルコキシ基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００５４】
以下、本発明に用いる下記一般式（１）及び（２）で表されるカプラー化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５５】
【化９】
2006103141.tif 000010
【００５６】
【化１０】
2006103141.tif 000011
【００５７】
【化１１】
2006103141.tif 000012
【００５８】
【化１２】
2006103141.tif 000013
【００５９】
一般式（１）で表される化合物は、公知の化合物であり、種々の報告例に記載の合成法で合成することが出来る。例えばＺｈ．Ｏｂｓｈｃｈ．ｋｉｍ．，１９６１，２３１１、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ，１９０９，６７、特開昭６３−３１３７７４号公報、特開昭６１−２３６７６８号公報、特開平４−２７５２７７号公報に記載の合成法で合成することが出来る。
【００６０】
本発明における記録層中のカプラーの総含有量としては、ジアゾ化合物１モルに対し０．２〜８モルが好ましく、０．５〜４モルがさらに好ましい。カプラーの総含有量がジアゾ化合物１モルに対して０．２モル未満であると十分な発色が得られない場合があり、ジアゾ化合物１モルに対して８モルを越えると塗布適正が劣化する場合がある。
【００６１】
また、本発明においては、上記カプラーと共に、色相調整等の目的で、必要に応じて、塩基性雰囲気でジアゾ化合物とカップリングして色素を形成する公知のカプラーを併用することもできる。上記カプラーと公知のカプラーとを併用する場合、記録層に含有される全カプラーの５０質量％以上が上記カプラーであることが好ましい。７０質量％以上であることがさらに好ましい。
【００６２】
上記公知のカプラーとしては、例えば、カルボニル基の隣にメチレン基を有するいわゆる活性メチレン化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体等が挙げられる。
【００６３】
上記公知のカプラーとしては、具体的に、レゾルシン、フロログルシン、２，３−ジヒドロキシナフタレン−６−スルホン酸ナトリウム、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸モルホリノプロピルアミド、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシ−６−スルホ−ナフタレン、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸モルホリノプロピルアミド、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸オクチルアミド、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸アニリド、ベンゾイルアセトニリド、１−フェニル−３−メチル−５−ピラゾロン、１−（２，４，６−トリクロロフェニル）−３−アニリノ−５−ピラゾロン、２−｛３−〔α−（２，４  −ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）−ブタンアミド〕ベンヅアミド｝フェノール、２，４−ビス−（ベンゾイルアセトアミノ）トルエン、１，３−ビス−（ピバロイルアセトアミノメチル）ベンゼン等が挙げられる。
【００６４】
（ジアゾ化合物）
本発明における記録層に用いられるジアゾ化合物としては、特に限定はないが、下記一般式（３）で表されるジアゾ化合物を用いるのが好ましい。
【００６５】
【化１３】
2006103141.tif 000014
【００６６】
一般式（３）中、Ｒ5はアルキル基、アリール基又はヘテロ環残基を表す。Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立して、アルキル基、アリール基、ヘテロ環残基、又はアシル基を表す。Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、置換基を有していてもよい。
Ｙ1は酸素原子、硫黄原子、又はスルホニル基を示し、Ｙ2及びＹ3は、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を表す。Ｘ-は陰イオンを示す。Ｒ6とＲ7は互いに結合して環を形成しても良い。
【００６７】
一般式（３）において、Ｒ6及びＲ7としては、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数２〜２０のアシル基、又は総炭素数１〜３０とヘテロ原子からなる環状構造のヘテロ環残基が好ましい。
【００６８】
Ｒ6及びＲ7で表されるアルキル基は、さらに置換基を有していてもよく、その置換基としては、例えばフェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、カルボン酸基、スルホン酸基またはヘテロ環残基が好ましい。
【００６９】
Ｒ6及びＲ7で表される（置換）アルキル基としては特に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ペンチル基、３−ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ベンゾイルオキシエチル基、２−（４−ブトキシフェノキシ）エチル基、ベンジル基、アリル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ジブチルアミノカルボニルメチル基が好ましい。
【００７０】
Ｒ6及びＲ7で表されるアリール基は、さらに置換基を有していてもよく、その置換基としては、例えば、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、カルボン酸基、スルホン酸基またはヘテロ環残基が好ましい。
Ｒ6及びＲ7で表される（置換）アリール基としては特に、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−ブトキシフェニル基、ナフチル基が好ましい。
【００７１】
Ｒ6及びＲ7がヘテロ環残基である場合、該ヘテロ環としては、ヘテロ原子として、窒素、酸素、硫黄を有しているものが好ましく、飽和、不飽和、単環、縮合環のいずれでもよい。具体的には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、アタゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、モルホニル基、ピペラジニル基、インドリル基、イソインドリル基等が挙げられる。さらにこれらのヘテロ環残基は置換基を有してもよい。該置換基としては、上述のアルキル基のものと同様のものが挙げられる。
【００７２】
Ｒ6及びＲ7で表されるアシル基は、脂肪族、芳香族、複素環のいずれでもよく、更に置換基を有してもよい。該置換基としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子が好ましい。
Ｒ6及びＲ7で表されるアシル基としては特に、アセチル基、プロパノイル基、ヘキサノイル基、ベンゾイル基等が好ましい。
【００７３】
また、Ｒ6及びＲ7とは互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ6及びＲ7とが結合した環としては、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環等が挙げられ、これらは更に置換基を有してもよい。該置換基としては、該置換基としては、上述のアルキル基のものと同様のものが挙げられる。
【００７４】
一般式（３）において、Ｒ5としては、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は総炭素数１〜３０とヘテロ原子からなる環状構造のヘテロ環残基が好ましい。
Ｒ5におけるアルキル基、アリール基、及びヘテロ環残基としては、上記Ｒ6及びＲ7におけるアルキル基、アリール基、およびヘテロ環残基と同様のものが挙げられる。
【００７５】
一般式（３）において、Ｙ2としては、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を表し、窒素原子である場合さらに置換基を有してもよい。該置換基としては、アルキル基、アリール基が挙げられる。
また、Ｙ2とＲ6とは環を形成してもよい。Ｙ2とＲ6とが形成する環としては、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、インドリル基等が挙げられ、これらは更に置換基を有してもよい。該置換基としては、上述のアルキル基のものと同様のものが挙げられる。
【００７６】
一般式（３）において、Ｙ1としては、酸素原子、硫黄原子、又はスルホニル基を表し、同様に、Ｙ3としては、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を表し、Ｙ1及びＹ3はそれぞれ独立に酸素原子、又は硫黄原子が好ましい。
【００７７】
一般式（３）におけるＸ-で表される陰イオンは、無機陰イオンおよび有機陰イオンが挙げられる。上記無機陰イオンとしては、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化水素酸イオン、塩化物イオン、硫酸イオンが好ましく、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化水素酸イオンが特に好ましい。上記有機陰イオンとしてはポリフルオロアルキルカルボン酸イオン、ポリフルオロアルキルスルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、芳香族カルボン酸イオン、芳香族スルホン酸イオンが特に好ましい。
【００７８】
前記一般式（３）で表されるジアゾニウム塩は下記一般式（４）で表されるジアゾニウム塩であることが好ましい。
【００７９】
【化１４】
2006103141.tif 000015
【００８０】
一般式（４）中、Ｒ5は、前記一般式（３）と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｒ22は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ23はアルキル基、アリール基、アシル基、スルホニル基、カルバモイル基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ5，Ｒ22、Ｒ23は置換基を有していてもよい。Ｘ-は陰イオンを示す。
【００８１】
一般式（４）におけるＲ22及びＲ23で示されるアルキル基としては、炭素数２〜３０のアルキル基を表し、炭素数４〜２０のアルキル基が好ましく、さらに置換基を有していてもよく、その置換基としては、例えば、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、カルボン酸基、スルホン酸基またはヘテロ環残基が好ましい。
【００８２】
Ｒ22及びＲ23で表される（置換）アルキル基としては特に、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ベンゾイルオキシエチル基、２−（４−ブトキシフェノキシ）エチル基、ベンジル基、アリル基、３−ブテン−１−イル基、メトキシエチル基、エトキシエチル、ジブチルメチル基が好ましい。
【００８３】
一般式（４）において、Ｒ22及びＲ23で表されるアリール基はさらに置換基を有していてもよく、その置換基としては、例えば、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、カルボン酸基、スルホン酸基またはヘテロ環残基が好ましい。
Ｒ22及びＲ23で表される（置換）アリール基としては特に、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基が好ましい。
【００８４】
一般式（４）において、Ｒ23で表されるアシル基はさらに置換基を有していてもよく、その置換基としては、例えば、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、又はヘテロ環残基が好ましい。
【００８５】
一般式（４）において、Ｒ23で表されるアシル基としては、炭素数２〜３０のアシル基を表し、炭素数３〜２０のアシル基が好ましく、さらに置換基を有していてもよい。
Ｒ23で表されるアシル基としては、アセチル基、イソブタノイル基、２−エチルヘキサノイル基、ベンゾイル基、２，４−ジクロロヘキサノイル基、４−ブチルベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、４−ドデシルオキシベンゾイル基、テオイル基、ニコチノイル基等が好ましい。
【００８６】
一般式（４）において、Ｒ23で表されるカルバモイル基としては、総炭素数３〜３０のカルバモイル基を表し、総炭素数４〜２０のカルバモイル基が好ましく、さらに置換基を有していてもよく、その置換基としては、例えば、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、シアノ基、又はヘテロ環残基等が挙げられる。
Ｒ23で表されるカルバモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、ピロリジノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、又はモルホリノカルボニル基等が好ましい。
【００８７】
一般式（４）において、Ｒ23で表されるスルホニル基としては、総炭素数１〜３０のスルホニル基が挙げられ、より好ましくは総炭素数２〜２０のスルホニル基が挙げられる。
Ｒ23のスルホニル基としては、メチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、ベンジルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、ｐ−トシルスルホニル基、４−ブトキシフェニルスルホニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニルスルホニル基等が好ましい。
【００８８】
一般式（４）において、Ｒ23で表されるヘテロ環残基としては、総炭素数２〜３０とヘテロ原子からなる環状構造の官能基を表し、総炭素数３〜２０のヘテロ環残基が好ましい。
例えば、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピロリジノ基、ピペラジノ基、イミダゾリニル基、モルホリノ基、オキサゾリジノ基、ピリジニル基、ピリミジノ基、テトラゾリノ基、インドリノ基、チオフェニル基、チアゾリノ基等が挙げられる。
これらは、さらに置換基を有しても良く、その置換基としては、例えば、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、シアノ基、またはヘテロ環残基などが挙げられる。
【００８９】
一般式（４）における、Ｘ-は、一般式（３）におけるＸ-と同義であり、同様のものが挙げられ、好ましい例も同様である。
【００９０】
以下に一般式（３）、（４）で表されるジアゾニウム塩化合物の具体例（例示化合物（Ｄ−１）〜（Ｄ−６０）を示す、本発明はこれに限定されるものではない。
【００９１】
〜一般式（３）で表されるジアゾニウム塩〜
【００９２】
【化１５】
2006103141.tif 000016
【００９３】
【化１６】
2006103141.tif 000017
【００９４】
【化１７】
2006103141.tif 000018
【００９５】
【化１８】
2006103141.tif 000019
【００９６】
〜一般式（４）で表されるジアゾニウム塩〜
【化１９】
2006103141.tif 000020
【００９７】
【化２０】
2006103141.tif 000021
【００９８】
【化２１】
2006103141.tif 000022
【００９９】
一般式（３）、（４）で表されるジアゾニウム塩は単独で用いてもよいし、２種以上を併用することもできる。さらに色相調整等の諸目的に応じて、一般式（３）、（４）で表されるジアゾニウム塩と公知のジアゾニウム塩とを併用することもできる。一般式（３）、（４）で表されるジアゾニウム塩と公知のジアゾニウム塩とを併用する場合、一般式（３）、（４）で表されるジアゾニウム塩が、記録層に含有される全ジアゾニウム塩の５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることが好ましい。
【０１００】
上記公知のジアゾニウム塩としては、４−ジアゾ−１−ジメチルアミノベンゼン、４−ジアゾ−２−ブトキシ−５−クロル−１−ジメチルアミノベンゼン、４−ジアゾ−１−メチルベンジルアミノベンゼン、４−ジアゾ−１−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、４−ジアゾ−１−ジエチルアミノ−３−メトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノ−２、５−ジブトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−トルイルメルカプト−２、５−ジエトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−ピペラジノ−２−メトキシ−５−クロルベンゼン、４−ジアゾ−１−（Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノカルボニル）ベンゼン、４−ジアゾ−１−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノキシ）ベンゼン、４−ジアゾ−１−（２−エチルヘキサノイルピペリジノ）−２、５−ジブトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−〔α−（２，４−ジｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）ブチリルピペリジノ〕ベンゼン、４−ジアゾ−１−（４−メトキシ）フェニルチオ−２、５−ジエトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−（４−メトキシ）ベンズアミド−２、５−ジエトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−ピロリジノ−２−メトキシベンゼン等が好ましい。
【０１０１】
また、本発明の記録材料においては、記録材料の使用前の生保存性を良好なものとするために、後に詳述する如く、ジアゾニウム塩をマイクロカプセル中に内包させることが好ましいが、その際、適当な溶剤に溶解させて用いるため、ジアゾニウム塩は、これらの溶剤に対する適当な溶解度と、低い水溶性とを有していることが好ましい。具体的には、使用する有機溶剤に対して５％以上の溶解度を有すると共に、水に対する溶解度は１％以下であることが好ましい。
【０１０２】
本発明の記録材料においては、記録層中にジアゾニウム塩を０．０２〜３ｇ／ｍ2の範囲で含有させることが好ましく、発色濃度の点から、特に０．１〜２ｇ／ｍ2 の範囲で含有させることが好ましい。
【０１０３】
（分子量３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物）
本発明における記録層には、発色感度の向上のために、分子量３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物を含有し、中でも、該芳香族スルホンアミド化合物が、下記一般式（５）であることが好ましい。
分子量が３００より小さいと親水性が高くなり、発色感度に寄与しないが、分子量が大きすぎると、カプセル壁への可塑化能が減退し、発色感度に寄与し難くなるので、分子量３００〜２０００が必要であり、３００〜１０００が好ましい。
【０１０４】
【化２２】
2006103141.tif 000023
【０１０５】
該一般式（５）中、Ａｒ基は、アリール基、ヘテロ環残基を表す。Ｒ11，Ｒ12はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、又はカルバモイル基を表す。また、Ｒ11、Ｒ12がはＡｒ基と環状構造を形成しても良い。
【０１０６】
一般式（５）中、Ａｒ基が表すアリール基は、炭素数６〜３０のアリール基を表し、炭素数７〜２０がより好ましい。
例えば、フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ペンチロキシフェニル基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、ｐ−オクチロキシフェニル基、ｐ−（イソノニルオキシ）フェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、２−オクチロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル基、３−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、３−フェニルフェニル基等を表す。
中でも溶解性の観点から、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、ｐ−ペンチロキシフェニル基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、ｐ−オクチロキシフェニル基、ｐ−（イソノニルオキシ）フェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基等が好ましい。
【０１０７】
一般式（５）中、Ａｒ基が表すヘテロ環残基としては、総炭素数２〜３０とヘテロ原子からなる環状構造の官能基を表し、総炭素数３〜２０のヘテロ環残基が好ましい。
例えば、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピロリジノ基、ピペラジノ基、イミダゾリニル基、モルホリノ基、オキサゾリジノ基、ピリジニル基、ピリミジノ基、テトラゾリノ基、インドリノ基、チオフェニル基、チアゾリノ基等が挙げられる。
これらは置換されていても良く、この置換基としては、例えば、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、シアノ基、またはヘテロ環残基等が挙げられる。
【０１０８】
Ｒ11、Ｒ12で示されるアルキル基としては、炭素数１〜３０を表し、炭素数２〜３０がより好ましい。例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、３−ペンチル基、シクロヘキシル基、ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、イソノニル基、ｎ−ドデシル基、オクタデシル基、アリル基、３−ブテン−１−イル基、ベンジル基、メトキシエチル基、フェノキシエチル基、ジブチルカルバモイルメチル基等が挙げられる。
中でも、感熱記録層塗布液安定性の観点から、メチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、ｎ−ドデシル基、等が好ましい。
【０１０９】
Ｒ11、Ｒ12で示されるアリール基としては、炭素数６〜３０を表し、炭素数７〜２０がより好ましい。例えば、フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ペンチロキシフェニル基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、ｐ−オクチロキシフェニル基、ｐ−（イソノニルオキシ）フェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、２−オクチロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル基、３−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、３−フェニルフェニル基等を表す。
中でも感熱記録層塗布液安定性の観点から、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、ｐ−ペンチロキシフェニル基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、ｐ−オクチロキシフェニル基、ｐ−（イソノニルオキシ）フェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、等が好ましい。
【０１１０】
Ｒ11、Ｒ12で示されるアシル基としては、炭素数２〜４０を表し、炭素数２〜３０がより好ましい。
例えば、アセチル基、イソブタノイル基、２−エチルヘキサノイル基、ベンゾイル基、２，４−ジクロロヘキサノイル基、４−ブチルベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、４−ドデシルオキシベンゾイル基、テオイル基、ニコチノイル基等が挙げられる。
中でも感熱記録層塗布液安定性の観点から、アセチル基、イソブタノイル基、２−エチルヘキサノイル基等が好ましい。
【０１１１】
Ｒ11、Ｒ12で示されるカルバモイル基としては、総炭素数２〜４０のカルバモイル基を表し、総炭素数２〜２０のカルバモイル基が好ましい。
例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、ピロリジノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基等を表す。
中でも、感熱記録層塗布液安定性の観点から、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルカルバモイル基等が好ましい。
【０１１２】
Ｒ11、Ｒ12で示されるヘテロ環残基としては、総炭素数２〜３０とヘテロ原子からなる環状構造の官能基を表し、総炭素数３〜２０のヘテロ環残基が好ましい。
例えば、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピロリジノ基、ピペラジノ基、イミダゾリニル基、モルホリノ基、オキサゾリジノ基、ピリジニル基、ピリミジノ基、テトラゾリノ基、インドリノ基、チオフェニル基、チアゾリノ基等が挙げられる。
こららは、さらに置換基を有しても良く、その置換基としては、例えば、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、シアノ基、またはヘテロ環残基などが挙げられる。
【０１１３】
前記一般式（５）の中でも、感熱記録層塗布液安定性の観点から、下記一般式（６）であることがより好ましい。
【０１１４】
【化２３】
2006103141.tif 000024
【０１１５】
一般式（６）中、Ｒ11、Ｒ12はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、又はヘテロ環残基を表す。
一般式中（６）中、Ｒ13〜Ｒ17はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコシキカルボニル基、アリール基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基を表す。
【０１１６】
一般式（６）中、Ｒ11、Ｒ12で示されるアルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、及びヘテロ環残基は、一般式（５）と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１１７】
Ｒ13〜Ｒ17で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、中でも、感熱記録層塗布液安定性の観点から、フッ素原子、塩素原子であることが好ましい。
【０１１８】
Ｒ13〜Ｒ17で示されるアルキル基としては、炭素数２〜３０のアルキル基を表し、炭素数４〜２０のアルキル基が好ましく、さらに置換基を有していてもよい。例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、３−ペンチル基、シクロヘキシル基、ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、イソノニル基、ｎ−ドデシル基、オクタデシル基、アリル基、３−ブテン−１−イル基、ベンジル基、メトキシエチル基、フェノキシエチル基、ジブチルカルバモイルメチル基等が挙げられる。
中でも、感熱記録層塗布液安定性の観点から、メチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、ｎ−ドデシル基等が好ましい。
【０１１９】
Ｒ13〜Ｒ17で示されるアルコキシ基としては、炭素数１〜３０のアルコキシ基を表し、炭素数１〜２０のアルコキシ基であることが好ましい。アルコキシ基は置換基を有していてもよい。
例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ｔ−アミルオキシ基、１−ヘキシルオキシ基、１−（２−エチル）ヘキシルオキシ基、１−イソノニルオキシ基、１−ドデシルオキシ基、１−ヘキサデシルオキシ基等が挙げられる。
中でも、感熱記録層塗布液安定性の観点から、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、１−（２−エチル）ヘキシルオキシ基、１−イソノニルオキシ基が好ましい。
【０１２０】
Ｒ13〜Ｒ17で示されるアリールオキシ基としては、総炭素数６から４０のアリールオキシ基を表し、総炭素数６〜２０のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基は置換基を有してもよく、無置換でも良い。
例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルオキシ基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニルオキシ基、２，５−ジメチルフェニルオキシ基、２．６−ジメトキシフェニルオキシ基、２，４−ジ−ｔ−ジアミルフェニルオキシ基等が挙げられる。
中でも、感熱記録層塗布液安定性の観点から、２−メチルフェニルオキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニルオキシ基、２，４−ジ−ｔ−ジアミルフェニルオキシ基等が好ましい。
【０１２１】
Ｒ13〜Ｒ17で示されるアルコシキカルボニル基としては、総炭素数２〜４０のアリールオキシ基を表し、総炭素数２〜２０のアルコシキカルボニル基が好ましい。アルコシキカルボニル基は置換基を有してもよい。
例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルカルボニル基、ｔ−オクチルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、フェノキシエトキシカルボニル基、等が挙げられる。
中でも、感熱記録層塗布液安定性の観点から、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等が好ましい。
【０１２２】
Ｒ13〜Ｒ17で示されるアリール基としては、炭素数６〜３０を表し、炭素数６〜２０がより好ましい。例えば、フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ペンチロキシフェニル基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、ｐ−オクチロキシフェニル基、ｐ−（イソノニルオキシ）フェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、２−オクチロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル基、３−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、３−フェニルフェニル基等を表す。
中でも感熱記録層塗布液安定性の観点から、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、ｐ−ペンチロキシフェニル基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニル基、ｐ−オクチロキシフェニル基、ｐ−（イソノニルオキシ）フェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、等が好ましい。
【０１２３】
Ｒ13〜Ｒ17で示されるアリールオキシカルボニル基としては、総炭素数７〜４０のアリールオキシカルボニル基を表し、総炭素数７〜２０がより好ましい。
例えば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルフェニルオキシカルボニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシフェニルオキシカルボニル基、ｐ−ペンチロキシフェニルオキシカルボニル基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニルオキシカルボニル基、ｐ−オクチロキシフェニルオキシカルボニル基、ｐ−（イソノニルオキシ）フェニルオキシカルボニル基、ｐ−ドデシルフェニルオキシカルボニル基、２−オクチロキシ−５−ｔ−オクチルフェニルオキシカルボニル基、３−（２−エチルヘキシロキシ）フェニルオキシカルボニル基、２，４−ｔ−アミルフェニルオキシカルボニル基、３−フェニルフェニルオキシカルボニル基等を表す。
中でも感熱記録層塗布液安定性の観点から、４−ｔ−ブチルフェニルオキシカルボニル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニルオキシカルボニル基、ｐ−ペンチロキシフェニルオキシカルボニル基、ｐ−（２−エチルヘキシロキシ）フェニルオキシカルボニル基、ｐ−オクチロキシフェニルオキシカルボニル基、ｐ−（イソノニルオキシ）フェニルオキシカルボニル基、ｐ−ドデシルフェニルオキシカルボニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニルオキシカルボニル基、等が好ましい。
【０１２４】
一般式（５）及び（６）で表される化合物の具体例を次に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【０１２５】
【化２４】
2006103141.tif 000025
【０１２６】
【化２５】
2006103141.tif 000026
【０１２７】
本発明における分子量３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物の含有量は、カプラーを除く乳化物中の固形分中で、乳化物調整ジアゾニウム塩化合物の乳化安定性を確保する観点から、１０〜８０％が好ましく、１５〜７５％が更に好ましく、２０〜７０％が特に好ましい。
更に溶解性向上の観点から、前記本発明における芳香族スルホンアミド化合物使用量の５０％以下であれば、分子量２００以上３００未満の芳香族スルホンアミド化合物を併用することできる。
【０１２８】
本発明における分子量３００以上２０００以下の芳香族スルホンアミド化合物は、いずれの添加方法も可能であり、後述のマイクロカプセルに内包しても、また、マイクロカプセル外の記録層に含有させても良いが、中でもマイクロカプセル外での存在が好ましい。
【０１２９】
（マイクロカプセル）
本発明の記録材料は、その使用前の生保存性を良好とするために、ジアゾ化合物をマイクロカプセルに内包させることが好ましい。
この場合に使用されるマイクロカプセルは、常圧で４０〜９５℃の沸点をもつ非水溶媒にジアゾ化合物、および、互いに反応して高分子物質を生成する同種または異種の化合物を溶解した溶液を、親水性保護コロイド溶液中に乳化分散した後、反応容器を減圧にしながら溶液を昇温して、溶媒を留去しつつ油滴表面に壁形成物質を移動させ、かつ油滴表面で重付加または重縮合による高分子生成反応を進行させて壁膜を形成させることによって製造される。
【０１３０】
本発明の記録材料においては、特に、後述する実質的に溶媒を含まないマイクロカプセルを使用することが、良好なシェルフライフを得る点からみて好ましい。また、マイクロカプセル壁を形成する高分子物質は、ポリウレタン／ポリウレアを含む混合物からなることが好ましい。
【０１３１】
以下に、本発明の記録材料におけるジアゾ化合物含有マイクロカプセル（ポリウレア・ポリウレタン壁）の製造方法について述べる。
まず、上記ジアゾ化合物を、カプセルの芯となる疎水性の有機溶媒に溶解させる。この際用いる疎水性の有機溶媒としては、沸点が１００℃〜３００℃の有機溶剤が好ましく、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、カルボン酸エステル類、リン酸エステル類、硫酸エステル類、スルホン酸エステル類、ケトン類、エーテル類等が挙げられる。該有機溶媒の具体例としては、アルキルナフタレン、アルキルジフェニルエタン、アルキルジフェニルメタン、アルキルビフェニル、塩素化パラフィン、トリキシリルホスフェート、トリクレジルホスフェート、マレイン酸ジオクチルエステル、アジピン酸ジブチルエステル等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、カプセル化しようとするジアゾ化合物の上記有機溶媒に対する溶解性が劣る場合には、該ジアゾ化合物に対する溶解性の高い低沸点溶媒を併用することもできる。該低沸点溶媒としては、具体的に、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチレンクロライド、テトラヒドロフラン、アセトン等が挙げられる。また、マイクロカプセルの芯となる疎水性の有機溶媒中には、さらに多価イソシアネートが壁材として添加される（油相）。
【０１３２】
一方、水相としては、ポリビニルアルコール、ゼラチンなどの水溶性高分子を溶解した水溶液を用意し、次いで上記油相を投入し、ホモジナイザー等の手段により乳化分散を行う。このとき水溶性高分子は乳化分散の安定化剤として作用する。乳化分散を更に安定に行うために、油相或いは水相の少なくとも一方に界面活性剤を添加してもよい。
【０１３３】
多価イソシアネートの使用量は、マイクロカプセルの平均粒径が０．３〜１２μｍで、壁厚みが０．０１〜０．３μｍとなるように決定される。分散粒子径は０．２〜１０μｍ程度が一般的である。乳化分散液中では、油相と水相の界面において多価イソシアネートの重合反応が生じてポリウレア壁が形成される。
【０１３４】
水相中にポリオールを添加しておけば、多価イソシアネートとポリオールが反応してポリウレタン壁を形成することもできる。反応速度を速めるために反応温度を高く保ち、或いは適当な重合触媒を添加することが好ましい。多価イソシアネート、ポリオール、反応触媒、或いは、壁剤の一部を形成させるためのポリアミン等については成書に詳しい（岩田敬治  編  ポリウレタンハンドブック日刊工業新聞社  （１９８７））。
【０１３５】
マイクロカプセル壁の原料として用いる多価イソシアネート化合物としては３官能以上のイソシアネート基を有する化合物が好ましいが、２官能のイソシアネート化合物を併用してもよい。具体的にはキシレンジイソシアネートおよびその水添物、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートおよびその水添物、イソホロンジイソシアネートなどのジイソシアネートを主原料とし、これらの２量体或いは３量体（ビューレット或いはイソシヌレート）の他、トリメチロールプロパンなどのポリオールとのアダクト体として多官能としたもの、ベンゼンイソシアネートのホルマリン縮合物などが挙げられる。
【０１３６】
更に、ポリオールまたはポリアミンを、芯となる疎水性溶媒中または分散媒となる水溶性高分子溶液中に添加しておき、マイクロカプセル壁の原料の一つとして用いることもできる。これらのポリオールまたはポリアミンの具体例としては、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリエタノールアミン、ソルビトール、ヘキサメチレンジアミンなどが挙げられる。ポリオールを添加した場合には、ポリウレタン壁が形成される。
【０１３７】
このようにして調製されたカプセルの油相を分散する水溶性高分子水溶液に用いる水溶性高分子は、乳化しようとする温度における水に対する溶解度が５以上の水溶性高分子が好ましく、その具体例としては、ポリビニルアルコールおよびその変性物、ポリアクリル酸アミドおよびその誘導体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、エチレン−アクリル酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、アラビヤゴム、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。
【０１３８】
これらの水溶性高分子は、イソシアネート化合物との反応性がないか、低いことが好ましく、たとえばゼラチンのように分子鎖中に反応性のアミノ基を有するものは、予め変性するなどして反応性をなくしておくことが必要である。また、界面活性剤を添加する場合には、界面活性剤の添加量は、油相の質量に対して０．１％〜５％、特に０．５％〜２％であることが好ましい。
【０１３９】
乳化は、ホモホジナイザー、マントンゴーリー、超音波分散機、ケディーミルなど、公知の乳化装置を用いることができる。乳化後は、カプセル壁形成反応を促進させるために乳化物を３０〜７０℃に加温することが行われる。また反応中はカプセル同士の凝集を防止するために、加水してカプセル同士の衝突確率を下げたり、充分な攪拌を行う等の必要がある。
【０１４０】
また、反応中に改めて凝集防止用の分散剤を添加しても良い。重合反応の進行に伴って炭酸ガスの発生が観測され、その終息をもっておよそのカプセル壁形成反応の終点とみなすことができる。通常、数時間反応させることにより、目的のジアゾ化合物含有マイクロカプセルを得ることができる。
【０１４１】
（発色助剤）
本発明においては、発色反応を促進させる目的で発色助剤を加えることができる。該発色助剤とは、加熱記録時の発色濃度を高くする、若しくは最低発色温度を低くする物質であり、カプラー、塩基性物質、若しくはジアゾ化合物等の融解点を下げたり、カプセル壁の軟化点を低下せしめる作用により、ジアゾ化合物、塩基性物質、カプラー等が反応しやすい状況を作るためのものである。
【０１４２】
本発明の記録材料に用いられる発色助剤として、例えば低エネルギーで迅速かつ完全に熱現像が行われるように、感光層中にフェノール誘導体、ナフトール誘導体、アルコキシ置換ベンゼン類、アルコキシ置換ナフタレン類、ヒドロキシ化合物、アミド化合物、スルホンアミド化合物等を加えることができる。これらの化合物は、カプラーや塩基性物質の融点を低下させるか、或いは、マイクロカプセル壁の熱透過性を向上させ、その結果高い発色濃度を可能とするものと考えられる。
【０１４３】
本発明の記録材料に用いられる発色助剤は、熱融解性物質でもよい。熱融解性物質は、常温では固体であって加熱により融解する融点５０℃〜１５０℃の物質であり、ジアゾ化合物、カプラー等を溶かす物質である。これらの化合物の具体例としては、カルボン酸アミド、Ｎ置換カルボン酸アミド、ケトン化合物、尿素化合物、エステル類等が挙げられる。
【０１４４】
（他の添加剤）
本発明の記録材料においては、熱発色画像の光および熱に対する堅牢性を向上させ、または、定着後の未印字部分の光による黄変を軽減する目的で、以下に示す公知の酸化防止剤等を用いることが好ましい。
【０１４５】
上記の酸化防止剤については、例えばヨーロッパ公開特許第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、同第３０９４０２号公報、同第３１０５５１号公報、同第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８５３５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−１１３５３６号公報、同６３−１６３３５１号公報、特開平２−２６２６５４号公報、特開平２−７１２６２号公報、特開平３−１２１４４９号公報、特開平５−６１１６６号公報、特開平５−１１９４４９号公報、アメリカ特許第４８１４２６２号、アメリカ特許第４９８０２７５号等に記載されている。
【０１４６】
更に、感熱記録材料や感圧記録材料において既に用いられている公知の各種添加剤を用いることも有効である。これらの酸化防止剤の具体例としては、特開昭６０−１０７３８４号公報、同６０−１０７３８３号公報、同６０−１２５４７０号公報、同６０−１２５４７１号公報、同６０−１２５４７２号公報、同６０−２８７４８５号公報、同６０−２８７４８６号公報、同６０−２８７４８７号公報、同６０−２８７４８８号公報、同６１−１６０２８７号公報、同６１−１８５４８３号公報、同６１−２１１０７９号公報、同６２−１４６６７８号公報、同６２−１４６６８０号公報、同６２−１４６６７９号公報、同６２−２８２８８５号公報、同６３−０５１１７４号公報、同６３−８９８７７号公報、同６３−８８３８０号公報、同６３−０８８３８１号公報、同６３−２０３３７２号公報、同６３−２２４９８９号公報、同６３−２５１２８２号公報、同６３−２６７５９４号公報、同６３−１８２４８４号公報、特開平０１−２３９２８２号公報、同０４−２９１６８５号公報、同０４−２９１６８４号公報、同０５−１８８６８７号公報、同０５−１８８６８６号公報、同０５−１１０４９０号公報、同０５−１１０８４３７号公報、同０５−１７０３６１号公報、特公昭４８−０４３２９４号公報、同４８−０３３２１２号公報等に記載されている化合物を挙げることができる。
【０１４７】
具体的には、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、シクロヘキサン酸ニッケル、２，２−ビス−４−ヒドロキシフェニルプロパン、１，１−ビス−４−ヒドロキシフェニル−２−エチルヘキサン、２−メチル−４−メトキシ−ジフェニルアミン、１−メチル−２−フェニルインドール等が挙げられる。
【０１４８】
これらの酸化防止剤の添加量は、ジアゾ化合物１質量部に対して０．０５〜１００質量部の割合であることが好ましく、特に０．２〜３０質量部であることが好ましい。上記した公知の酸化防止剤はジアゾ化合物と共にマイクロカプセル中に含有させて用いることも、或いはカップリンク成分や塩基性物質、その他の発色助剤と共に、固体分散物として、若しくは適当な乳化助剤と共に乳化物にして用いることも、或いはその両方の形態で用いることもできる。また酸化防止剤を単独または複数併用することができるのは勿論である。また、記録層上に保護層を設け、該保護層に添加または存在させることもできる。
【０１４９】
これらの酸化防止剤は同一層に添加しなくもよい。更にこれらの酸化防止剤を組み合わせて複数用いる場合には、アニリン類、アルコキシベンゼン類、ヒンダードフェノール類、ヒンダードアミン類、ハイドロキノン誘導体、りん化合物、硫黄化合物の様に構造的に分類し、互いに異なる構造のものを組み合わせてもよいし、同一のものを複数組み合わせることもできる。
【０１５０】
本発明に用いられるカプラーは、塩基性物質、その他の発色助剤等と共に、サンドミル等により水溶性高分子と共に固体分散して用いることもできるが、適当な乳化助剤と共に乳化物にして用いることが特に好ましい。好ましい水溶性高分子としては、マイクロカプセルを調製する時に用いられる水溶性高分子が挙げられる（例えば、特開昭５９−１９０８８６号参照）。この場合、水溶性高分子溶液に対してカプラー、塩基性物質，発色助剤はそれぞれ５〜４０質量％になるように投入される。分散された或いは乳化された粒子サイズは１０μｍ以下であることが好ましい。
【０１５１】
本発明の記録材料には、定着後の地肌部の黄変を軽減する目的で、光重合性組成物等に用いられる遊離基発生剤（光照射により遊離基を発生する化合物）を加えることができる。このような遊離基発生剤としては、芳香族ケトン類、キノン類、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類、アゾ化合物、有機ジスルフィド類、アシルオキシムエステル類などが挙げられる。添加する量は、ジアゾ化合物１質量部に対して、遊離基発生剤を０．０１〜５質量部とすることが好ましい。
【０１５２】
また、同様に黄変を軽減する目的で、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物（以下、「ビニルモノマー」と称する場合がある。）を用いることもできる。ビニルモノマーとは、その化学構造中に少なくとも１個のエチレン性不飽和結合（ビニル基、ビニリデン基等）を有する化合物であって、モノマーやプレポリマーの化学形態をもつものである。それらの例としては、不飽和カルボン酸およびその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミンとのアミド化合物等が挙げられる。
【０１５３】
ビニルモノマーは、ジアゾ化合物１質量部に対して０．２〜２０質量部の割合で用いることが好ましい。上記遊離基発生剤やビニルモノマーは、ジアゾ化合物と共にマイクロカプセル中に含有させて用いることもできる。本発明では以上の素材の他に酸安定剤としてクエン酸、酒石酸、シュウ酸、ホウ酸、リン酸、ピロリン酸等を添加することができる。
【０１５４】
本発明の記録材料は、ジアゾ化合物を含有したマイクロカプセル、カプラー、およびその他の添加物を含有した塗布液を調製し、紙や合成樹脂フィルム等の支持体の上にバー塗布、ブレード塗布、エアナイフ塗布、グラビア塗布、ロールコーティング塗布、スプレー塗布、ディップ塗布、カーテン塗布等の塗布方法により塗布乾燥して、固型分２．５〜３０ｇ／ｍ2の感熱層を設けることが好ましい。
【０１５５】
本発明の記録材料においては、マイクロカプセル、カプラー、塩基などが同一層に含まれていても良いが、別層に含まれるような積層型の構成をとることもできる。また、支持体の上に特願昭５９−１７７６６９号明細書等に記載されているような中間層を設けた後、感熱層を塗布することもできる。
【０１５６】
＜支持体＞
本発明の記録材料で使用される支持体としては、通常の感圧紙や感熱紙、乾式や湿式のジアゾ複写紙などに用いられる紙支持体はいずれも使用することができる他、アルキルケテンダイマー等の中性サイズ剤によりサイジングされた、ｐＨが５〜９の中性紙（特願昭５５−１４２８１号記載のもの）、特開昭５７−１１６６８７号記載されたステキヒトサイズ度とメートル坪量との関係を満たし、かつベック平滑度が９０秒以上の紙、特開昭５８−１３６４９２号に記載された光学的表面粗さが８μｍ以下で、かつ厚みが３０〜１５０μｍの紙、特開昭５８−６９０９１号に記載されている密度０．９ｇ／ｃｍ3以下でかつ光学的接触率が１５％以上の紙、特開昭５８−６９０９７号に記載されたカナダ標準濾水度（ＪＩＳ  Ｐ８１２１）で４００ｍｌ（４００ｃｃ）以上に叩解処理されたパルプより抄造してなる塗布液のしみこみを防止した紙、特開昭５８−６５６９５号に記載のヤンキーマシーンにより抄造された原紙の光沢面を塗布面とし発色濃度および解像力を改良した紙、特開昭５９−３５９８５号に記載された原紙にコロナ放電処理を施し、塗布適性を改良した紙なども用いることができる。
【０１５７】
また、支持体として使用される合成樹脂フィルムは、現像過程での加熱に対しても変形せず、寸法安定性を有する公知の材料の中から任意に選択することができる。このようなフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、三酢酸セルロースフィルム等のセルロース誘導体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレン等のポリオレフィンフィルム等が挙げられる。これらは、単体で或いは貼り合わせて用いることができる。支持体の厚みとしては、２０〜２００μｍのものが用いられる。
【０１５８】
＜保護層＞
本発明の記録材料においては、必要に応じて、感熱記録層上にサーマルヘッドで印字する際の、スティッキングやヘッド汚れ等を防止したり記録材料に耐水性を付与する目的で、感熱記録層上に、ポリビニルアルコール等を主成分とし、各種の顔料や離型剤等を添加した保護層（以下、単に「保護層」と称する場合がある。）を、更に設けることが好ましい。
【０１５９】
＜記録方法＞
このようにして得られる本発明の記録材料の記録面にサーマルヘッド等で加熱すると、ポリウレア或いはポリウレタンのカプセル壁が軟化し、カプセル外のカプラーと塩基化合物がカプセル内に進入して発色する。記録後は、ジアゾ化合物の吸収波長の光を照射することにより、ジアゾ化合物が分解してカプラーとの反応性を失うため、画像の定着が行われる。
【０１６０】
定着用光源としては、種々の蛍光灯、キセノンランプ、水銀灯などが用いられる。この発光スペクトルは、記録材料で用いたジアゾ化合物の吸収スペクトルとほぼ一致していることが、効率良く光定着させることができるので好ましい。また、本発明の記録材料（感熱記録材料）は、原稿を用いて露光し、画像形成部以外のジアゾ化合物を分解して潜像を形成させた後、記録材料を加熱して現像し、画像を得ることもできる。
【実施例】
【０１６１】
以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下において「部」「％」は、特に断りのない限り総て「質量部」「質量％」を意味する。
【０１６２】
［実施例１］
＜フタル化ゼラチン溶液の調製＞
フタル化ゼラチン（商品名；ＭＧＰゼラチン，ニッピコラーゲン（株）製）３２部、１，２−ベンゾチアゾリン−３−オン（３．５％メタノール溶液，ダイトーケミックス（株）製）０．９１４部、イオン交換水３６７．１部を混合し、４０℃にて溶解し、フタル化ゼラチン水溶液を得た。
【０１６３】
＜アルカリ処理ゼラチン溶液の調製＞
アルカリ処理低イオンゼラチン（商品名；＃７５０ゼラチン，新田ゼラチン（株）製）２５．５部、１，２−ベンゾチアゾリン−３−オン（３．５％メタノール溶液，ダイトーケミックス（株）製）０．７２９部、水酸化カルシウム０．１５３部、イオン交換水１４３．６部を混合し、５０℃にて溶解し、乳化物作製用アルカリ処理ゼラチン水溶液を得た。
【０１６４】
（１）イエロー感熱記録層用塗布液（ａ）の調製
＜ジアゾニウム塩化合物内包マイクロカプセル液（ａ）の調製＞
酢酸エチル１８．１部に、下記ジアゾニウム塩化合物（Ａ）（最大吸収波長４２０ｎｍ）４．２部、モノイソプロピルビフェニル４．８部、フタル酸ジフェニル２．４部、ベンゾイルサリチル酸フェニルエステル２．４部およびジフェニル−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイド（商品名：ルシリンＴＰＯ，ＢＡＳＦジャパン（株）製）０．４５部を添加し、均一に溶解した。該混合液にカプセル壁材としてキシリレンジイソシアネート／トリメチロールプロパン付加物とキシリレンジイソシアネート／ビスフェノールＡ付加物との混合物（商品名；タケネートＤ１１９Ｎ（５０％酢酸エチル溶液），三井武田ケミカル（株）製）８．６部を添加し、均一に攪拌し混合液（Ｉ）を得た。
【０１６５】
別途、前記フタル化ゼラチン水溶液５８．６部にイオン交換水１６．３部、Ｓｃｒａｐｈ  ＡＧ−８（５０％；日本精化（株）製）０．４４部添加し、混合液（ＩＩ）を得た。
混合液（ＩＩ）に混合液（Ｉ）を添加し、ホモジナイザー（日本精機製作所（株）製）を用いて４０℃の下で乳化分散した。得られた乳化液に水２０部を加え均一化した後、４０℃下で攪拌し酢酸エチルを除去した。この後、イオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ６８（オルガノ（株）製）４．１部、アンバーライトＩＲＣ５０（オルガノ（株）製）８．２部を加え、更に１時間攪拌した。その後、イオン交換樹脂を濾過して取り除き、カプセル液の固形分濃度が２０．０％になるように濃度調節し、ジアゾニウム塩化合物内包マイクロカプセル液（ａ）を得た。
【０１６６】
【化２６】
2006103141.tif 000027
【０１６７】
＜カプラー化合物乳化液（ａ）の調製＞
酢酸エチル３７．０部に下記カプラー化合物（Ｂ）５．０部と、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール（商品名；ビスフェノールＭ（三井化学（株）製））１０．０部、３，３，３’，３’−テトラメチル−５，５’，６，６’−テトラ（１−プロピロキシ）−１，１’−スピロビスインダン２．５部、４−ドデシルオキシベンゼンスルホン酸アミド６．３部、燐酸トリクレジル５．０部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム（商品名パイオニンＡ−４１−Ｃ，７０％メタノール溶液，竹本油脂（株）製）０．８部を溶解し、混合液（ＩＩＩ）を得た。
【０１６８】
別途前記アルカリ処理ゼラチン水溶液１０５部にイオン交換水５．２部を混合し、混合液（ＩＶ）を得た。
混合液（ＩＶ）に混合液（ＩＩＩ）を添加し、ホモジナイザー（日本精機製作所（株）製）を用いて４０℃の下で乳化分散した。得られたカプラー化合物乳化物を減圧、加熱し、酢酸エチルを除去した後、固形分濃度が２４％になるように濃度調節をおこなった。
更に前記カプラー化合物乳化物１００部に対して、ＳＢＲラテックス（商品名ＳＮ−３０７，４８％液、住化エイビーエスラテックス（株）製）を２６．５％に濃度調整したものを１０部添加して均一に撹拌してカプラー化合物乳化液（ａ）を得た。
【０１６９】
【化２７】
2006103141.tif 000028
【０１７０】
＜感熱記録層用塗布液（ａ）の調製＞
前記ジアゾニウム塩化合物内包マイクロカプセル液（ａ）および前記カプラー化合物分乳化液（ａ）を、内包しているカプラー化合物／ジアゾ化合物のモル比が２／１になるように混合し、感熱記録層用塗布液（ａ）を得た。
【０１７１】
＜中間層用塗布液の調製＞
アルカリ処理低イオンゼラチン（商品名；＃７５０ゼラチン，新田ゼラチン（株）製）１００部、１，２−ベンゾチアゾリン−３−オン（３．５％メタノール溶液、ダイトーケミックス（株）製）２．８６部、水酸化カルシウム０．５部、イオン交換水５２１．６４３部を混合し、５０℃にて溶解し、中間層作製用ゼラチン水溶液を得た。
前記中間層作製用ゼラチン水溶液１０．０部、４−〔（４−ノニルフェノキシ）トリオキシエチレン〕ブチルスルホン酸ナトリウム（三協化学（株）製２．０％水溶液）０．０５部、硼酸（４．０％水溶液）１．５部、ポリスチレンスルホン酸（一部水酸化カリウム中和型）水溶液（５％）０．１９部、下記化合物（Ｊ）の４％水溶液３．４２部、下記化合物（Ｊ’）の４％水溶液１．１３部、イオン交換水０．６７部を混合し、中間層用塗布液とした。
【０１７２】
【化２８】
2006103141.tif 000029
【０１７３】
＜光透過率調整層用塗布液の調製＞
（ｉｉｉ−１）紫外線吸収剤前駆体マイクロカプセル液の調製
酢酸エチル７１部に紫外線吸収剤前駆体として［２−アリル−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ｔ−オクチルフェニル］ベンゼンスルホナート１４．５部、２，５−ジ（ｔ−オクチル）ハイドロキノン５．０部、燐酸トリクレジル１．９部、α−メチルスチレンダイマー（商品名：ＭＳＤ−１００，三井化学（株）製）５．７部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム（商品名パイオニンＡ−４１−Ｃ（７０％メタノール溶液），竹本油脂（株）製）０．４５部を溶解し均一に溶解した。前記混合液にカプセル壁材としてキシリレンジイソシアネート／トリメチロールプロパン付加物（商品名；タケネートＤ１１０Ｎ（７５％酢酸エチル溶液），三井武田ケミカル（株）製）５４．７部を添加し、均一に攪拌し紫外線吸収剤前駆体混合液（ＶＩＩ）を得た。
【０１７４】
別途、イタコン酸変性ポリビニルアルコール（商品名：ＫＬ−３１８，クラレ（株）製）５２部に、３０％燐酸水溶液８．９部、イオン交換水５３２．６部を混合し、
紫外線吸収剤前駆体マイクロカプセル液用ＰＶＡ水溶液を調製した。
【０１７５】
前記紫外線吸収剤前駆体マイクロカプセル液用ＰＶＡ水溶液５１６．０６部に前記紫外線吸収剤前駆体混合液（ＶＩＩ）を添加し、ホモジナイザー（日本精機製作所（株）製）を用いて２０℃の下で乳化分散した。得られた乳化液にイオン交換水３００部を加え均一化した後、４０℃下で攪拌しながら３時間カプセル化反応を行った。この後、イオン交換樹脂アンバーライトＭＢ−３（オルガノ（株）製）９４．３部を加え、更に１時間攪拌した。その後、イオン交換樹脂を濾過して取り除きカプセル液の固形分濃度が１３．５％になるように濃度調節した。得られたマイクロカプセルの粒径は粒径測定（ＬＡ−７００，堀場製作所（株）製で実施）の結果、メジアン径で０．２３±０．０５μｍであった。このカプセル液８５９．１部に、カルボキシ変性スチレンブタジエンラテックス（商品名：ＳＮ−３０７、（４８％水溶液）、住友ノーガタック（株）製）２．４１６部、イオン交換水３９．５部を混合し、紫外線吸収剤前駆体マイクロカプセル液を得た。
【０１７６】
（ｉｉｉ−２）光透過率調整層用塗布液の調製
前記紫外線吸収剤前駆体マイクロカプセル液１０００部に、フッ素系界面活性剤（商品名：メガファックＦ−１２０，５％水溶液、大日本インキ化学工業（株））５．２部、４％水酸化ナトリウム水溶液７．７５部、（４−ノニルフェノキシトリオキシエチレン）ブチルスルホン酸ナトリウム（三協化学（株）製，２．０％水溶液）７３．３９部を混合し、光透過率調整層用塗布液を得た。
【０１７７】
＜保護層用塗布液の調整＞
（ｉｖ−１）保護層用ポリビニルアルコール溶液の調製
ビニルアルコール−アルキルビニルエーテル共重合物（商品名：ＥＰ−１３０，電気化学工業（株）製）１６０部、アルキルスルホン酸ナトリウムとポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステルとの混合液（商品名：ネオスコアＣＭ−５７，（５４％水溶液），東邦化学工業（株）製）８．７４部、イオン交換水３８３２部を混合し、９０℃のもとで１時間溶解し均一な保護層用ポリビニルアルコール溶液を得た。
【０１７８】
（ｉｖ−２）保護層用顔料分散液の調製
硫酸バリウム（商品名：ＢＦ−２１Ｆ，硫酸バリウム含有量９３％以上，堺化学工業（株）製）８部に陰イオン性特殊ポリカルボン酸型高分子活性剤（商品名：ポイズ５３２Ａ（４０％水溶液），花王（株）製）０．２部、イオン交換水１１．８部を混合し、ダイノミルにて分散して保護層用顔料分散液を調製した。この分散液は粒径測定（ＬＡ−９１０，堀場製作所（株）製で測定）の結果、メジアン径で０．１５μｍ以下であった。
上記硫酸バリウム分散液４５．６部に対し、コロイダルシリカ（商品名：スノーテックスＯ（２０％水溶液）、日産化学工業（株）製）８．１部を添加して目的の分散物を得た。
【０１７９】
（ｉｖ−３）保護層用マット剤分散液の調製
小麦澱粉（商品名：小麦澱粉Ｓ，新進食料工業（株）製）２２０部に１，２−ベンズイソチアゾリン−３（２Ｈ）−オン水分散物（商品名：ＰＲＯＸＥＬ  Ｂ．Ｄ，Ｉ．Ｃ．Ｉ（株）製）３．８１部、イオン交換水１９７６．１９部を混合し、均一に分散し、保護層用マット剤分散液を得た。
【０１８０】
（ｉｖ−４）保護層用塗布ブレンド液の調製
前記保護層用ポリビニルアルコール溶液１０００部に、フッ素系界面活性剤（商品名：メガファックＦ−１２０、５重量％水溶液、大日本インキ化学工業（株）製）４０部、（４−ノニルフェノキシトリオキシエチレン）ブチルスルホン酸ナトリウム（三協化学（株）製，２．０％水溶液）５０部、前記保護層用顔料分散液４９．８７部、前記保護層用マット剤分散液１６．６５部、ステアリン酸亜鉛分散液（商品名：ハイリドンＦ１１５，２０．５％水溶液，中京油脂（株）製）４８．７部を均一に混合し保護層用塗布ブレンド液を得た。
【０１８１】
（４）下塗り層つき支持体の製造
＜下塗り層液の作製＞
酵素分解ゼラチン（平均分子量：１００００、ＰＡＧＩ法粘度：１５ｍＰ、ＰＡＧＩ法ゼリー強度：２０ｇ）４０部をイオン交換水６０部に加えて４０℃で攪拌溶解して下塗り層用ゼラチン水溶液を調製した。
別途水膨潤性の合成雲母（アスペクト比：１０００、商品名：ソマシフＭＥ１００，コープケミカル社製）８部と水９２部とを混合した後、ビスコミルで湿式分散し、平均粒径が２．０μｍの雲母分散液を得た。この雲母分散液に雲母濃度が５％となるように水を加え、均一に混合し、所望の雲母分散液を調製した。
次いで、４０℃の４０％の前記ゼラチン水溶液１００部に、水１２０部およびメタノール５５６部を加え、十分攪拌混合した後、５％前記雲母分散液２０８部を加えて、十分攪拌混合し、１．６６％ポリエチレンオキサイド系界面活性剤９．８部を加えた。そして液温を３５℃から４０℃に保ち、エポキシ化合物のゼラチン硬膜剤（ナガセ化成工業（株）製、デナコールＥＸ８０）７．３部を加えて下塗り層用塗布液（５．７％）を調製し、下塗り用塗布液を得た。
【０１８２】
＜下塗り層付き支持体の作製＞
ＬＢＰＳ５０部、ＬＢＰＫ（広葉樹晒クラフトパルプ）５０部からなる木材パルプをデイスクリファイナーによりカナデイアンフリーネス３００ｃｃまで叩解し、エポキシ化ベヘン酸アミド０．５部、アニオンポリアクリルアミド１．０部、硫酸アルミニウム１．０部、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン０．１部、カチオンポリアクリルアミド０．５部をいずれもパルプに対する絶乾重量比で添加し長網抄紙機により坪量１１４ｇ／ｍ2の原紙を抄造しキャレンダー処理によって厚み１００μｍに調整した。
次に原紙の両面にコロナ放電処理を行った後、溶融押し出し機を用いてポリエチレンを樹脂厚３６μｍとなるようにコーテイングしマット面からなる樹脂層を形成した（この面をウラ面と呼ぶ）。次に上記樹脂層を形成した面とは反対側に溶融押し出し機を用いてアナターゼ型二酸化チタンを１０重量％及び微量の群青を含有したポリエチレンを樹脂厚５０μｍとなるようにコーテイングし光沢面からなる樹脂層を形成した（この面をオモテ面と呼ぶ）。ウラ面のポリエチレン樹脂被覆面にコロナ放電処理した後、帯電防止剤として酸化アルミニウム（商品名；アルミナゾル１００、日産化学工業（株）製）／二酸化珪素（商品名；スノーテックスＯ、日産化学工業（株）製）＝１／２（重量比）を水に分散させて乾燥後の重量で０．２ｇ／ｍ2塗布した。次にオモテ面のポリエチレン樹脂被覆面にコロナ放電処理した後、上記下塗り液を４０℃にて保温し、斜線グラビアロール１００メッシュにて０．２６ｇ／ｍ2となるように塗布し乾燥して、下塗り層つき支持体を得た。
【０１８３】
（５）感熱記録材料の製造
＜各感熱記録層用塗布液の塗布＞
前記下塗り層つき支持体の上に、下から、前記感熱記録層用塗布液（ａ）、前記中間層用塗布液、前記光透過率調整層用塗布液、前記保護層用塗布液の順に４層同時に連続塗布し、３０℃・湿度３０％、及び４０℃・湿度３０％の条件でそれぞれ乾燥して感熱記録材料を得た。
この際前記感熱記録層用塗布液（ａ）の塗布量は液中に含まれるジアゾニウム塩化合物（Ａ）の塗布量が固形分塗布量で０．０７８ｇ／ｍ2となるように塗布を行った。
また、前記中間層用塗布液は固形分塗布量が２．３９ｇ／ｍ2、前記光透過率調整層用塗布液は固形分塗布量が２．３５ｇ／ｍ2、保護層用塗布液は固形分塗布量が１．３９ｇ／ｍ2となるように塗布をおこなった。
【０１８４】
［実施例２］
実施例１中の４−ドデシルオキシベンゼンスルホン酸アミド６．３部の代わりに、４−（２−へキシルドデシルオキシ）ベンゼンスルホン酸アミド７．８部を用いた他は、実施例１と同様にして感熱記録材料を得た。
【０１８５】
［実施例３］
実施例１中の４−ドデシルオキシベンゼンスルホン酸アミド６．３部の代わりに、Ｎ−フェニル−４−（２−エチルヘキシルオキシ）ベンゼンスルホン酸アミド６．７部を用いた他は、実施例１と同様にして感熱記録材料を得た。
【０１８６】
［比較例１］
実施例１中の４−ドデシルオキシベンゼンスルホン酸アミド６．３部の代わりに、４−（２−エチルヘキシルオキシ）ベンゼンスルホン酸アミド１．７部、４−ｎ−ペンチルオキシベンゼンスルホン酸アミド３．３部を用いた他は、実施例１と同様にして感熱記録材料を得た。
【０１８７】
［比較例２］
実施例１中の４−ドデシルオキシベンゼンスルホン酸アミド６．３部の代わりに、４−ｎ−ペンチルオキシベンゼンスルホン酸アミド５．１部を用いた他は、実施例１と同様にして感熱記録材料を得た。
【０１８８】
［比較例３］
実施例１中、ジアゾニウム塩化合物Ａの代わりに下記ジアゾニウム塩化合物（Ｃ）を、カプラー化合物（Ｂ）代わりに下記カプラー化合物（Ｄ）を用いた他は、実施例１と同様にして感熱記録材料を得た。
【０１８９】
【化２９】
2006103141.tif 000030
【０１９０】
《評価》
前記実施例および比較例の多色感熱記録材料について、以下の評価をおこなった。各々の結果を表１に示す。
【０１９１】
＜発色感度試験、曝光着色試験＞
上記感熱記録材料を京セラ（株）製サーマルヘッドＫＳＴ型を用いて、記録エネルギーが２３ｍＪ／ｍｍ2になるように、サーマルヘッドに対する印加電圧、パルス幅を決めて、概観熱記録材料に印画して、イエロー画像を記録した。
１５分後に、その記録材料を発光中心波長３６５ｎｍ、出力４０Ｗの紫外線ランプ下に１５秒照射した。
熱記録された感熱記録材料の画像部の最大濃度部と未印画部分について、発色濃度を日本平板機材（株）製Ｘ−ｒｉｔｅ３１０ＴＲを用いて測定した。
その試料をスーパーキセノンウエザオメーター（スガ試験機（株）製）を用いて、２４時間光照射した後、未印画部分について、発色濃度を日本平板機材（株）製Ｘ−ｒｉｔｅ３１０ＴＲを用いて測定した。
【０１９２】
＜色相評価試験＞
色相の評価法としては、画像を記録した印画部を日本分光（株）製ＵＶ３１００で反射スペクトルを測定し、吸収極大で規格化したときに、吸収極大に対する吸収極大の８０ｎｍ長波の吸光度の割合を色相の評価値として用いた。
長波側の吸光度の割合が低いほど色相が良好となり、反対に、吸光度の割合が高いほどイエロー色素として赤化し、色相が悪化することを意味する。
【０１９３】
【表１】
2006103141.tif 000031
【０１９４】
表１から明らかな通り、低分子量の芳香族スルホン酸アミド用いた比較例１、２は画像部の発色濃度が低く、逆に非画像部の光学濃度は高くなってしまい良くないことがわかる。また、イエロー色素の色相も赤化しているのが分かる。解離型のカプラー化合物を用いた比較例３は、前記比較例と同様の結果であった。
一方、実施例のいずれにおいても画像部、非画像部、及び色相ともに良好な結果を示した。