(57)【要約】【課題】  簡易な構成で、輝度向上特性の向上や、液晶表示装置などの画像表示装置の視角特性を改善できる、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が負の光学異方性膜等を提供する。【解決手段】  ネマチック相またはスメクチックＡ相を発現し、当該液晶相の波長λにおける固有複屈折Δｎ（λ）が、下記式（Ｉ）を満足する液晶化合物を少なくとも１種以上含む光学異方性膜（Ａ）であって、面内の位相差（Ｒｅ）の絶対値が４０ｎｍ以下で、且つ厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が−１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学異方性膜（Ａ）。式（Ｉ）  Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．０【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネマチック相またはスメクチックＡ相を発現し、当該液晶相の波長λにおける固有複屈折Δｎ（λ）が、下記式（Ｉ）を満足する液晶化合物を少なくとも１種以上含む光学異方性膜（Ａ）であって、面内の位相差（Ｒｅ）の絶対値が４０ｎｍ以下で、且つ厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が−１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学異方性膜（Ａ）。
式（Ｉ）  Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．０
【請求項２】
前記光学異方性膜（Ａ）が略垂直配向した液晶相を固定して形成したことを特徴とする請求項１に記載の光学異方性膜（Ａ）。
【請求項３】
前記液晶化合物が下記式（II）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の光学異方性膜（Ａ）。
式（II）
【化１】
2006284903.tif 000055
（式（II）中、ＭＧ1およびＭＧ2は、それぞれ独立に、２〜８個の環状基を含む液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、前記環状基を構成する環は、芳香族環、脂肪族環または複素環である。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基または水素結合性基である。
Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に、ＭＧ1またはＭＧ2の環状基を置換して連結する連結基であり、下記式（II）−ＬＡまたは式（II）−ＬＢで表される。
式（II）−ＬＡ
【化２】
2006284903.tif 000056
（式（II）−ＬＡ中、＊はＭＧ1またはＭＧ2を構成する環状基を置換して連結する位置を表す。＃はＰと連結する位置を表す。Ａ1は、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−または−ＳＯ2−を表す。Ａ2は−ＣＨ＝または−Ｎ＝を表す。）
式（II）−ＬＢ
【化３】
2006284903.tif 000057
（式（II）−ＬＢ中、＊はＭＧ1またはＭＧ2を構成する環状基を置換して連結する位置を表す。＃はＰと連結する位置を表す。Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−を表す。）
Ｐは、上記Ｌ1およびＬ2の両方が式（II）−ＬＡで表される場合、単結合もしくは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、Ｌ1およびＬ2のいずれか一方が、式（II）−ＬＢで表される基の場合、＊＊＊＝ＣＨ−Ｐ1−＃＃、もしくは＊＊＊＝Ｎ−Ｐ1−＃＃で表し（＊＊＊は式（II）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃＃は式（II）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）、Ｌ1およびＬ2の両方が式（II）−ＬＢで表される場合、二重結合および、＝ＣＨ−Ｐ1−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ1−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ1−Ｎ＝を表す。但し、Ｐ1は単結合もしくは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基または、この組み合わせから選ばれる二価の連結基を表す。）
【請求項４】
コレステリック液晶フィルムと、１／４波長板と、これらの間に配置されている光学異方性膜とを有し、前記光学異方性膜が、請求項１〜３のいずれかに記載の光学異方性膜（Ａ）である、輝度向上フィルム。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の光学異方性膜（Ａ）に、さらに少なくとも１層の光学異方性膜（Ｂ）が積層されていることを特徴とする積層光学フィルム。
【請求項６】
前記光学異方性膜（Ｂ）は、面内の位相差（Ｒｅ）が３０ｎｍ〜１８０ｎｍ、厚さ方向の位相差(Ｒｔｈ)が４０ｎｍ〜３５０ｎｍのセルロースアシレート含有透明光学異方性フィルムまたはシクロオレフィン含有透明光学異方性フィルムであることを特徴とする請求項５に記載の積層光学フィルム。
【請求項７】
前記光学異方性膜（Ｂ）が下記式（III）および（IV）を満たすセルロースアシレートフィルムである請求項５に記載の積層光学フィルム。
（III）０≦Ｒｅ（６３０）≦１０、かつ、  −１００≦Ｒｔｈ（６３０）≦２５
（IV）｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５
（式（III）、（IV）中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。）
【請求項８】
請求項１〜３のいずれかに記載の光学異方性膜（Ａ）、請求項４に記載の輝度向上フィルム、または請求項５〜７のいずれかに記載の積層光学フィルムを有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、単独でまたは他の光学フィルムと組み合わせて光ピックアップデバイス、透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、自発光型表示装置などの光学性能や表示品位を向上するための位相差板、視角補償フィルム、光学補償フィルム、楕円偏光フィルム、輝度向上フィルム、反射防止フィルム等の光学フィルムとして使用できる厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が負である光学異方性膜、およびこれを使用した画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
厚み方向の位相差が負である光学異方性膜は、液晶表示装置の視野角を拡大や輝度向上膜の光利用効率を向上させる作用があり、さまざまな構成が検討されているが製造の容易性や均一性から、液晶を垂直に配向した後に、その配向状態を固定する方法が盛んに検討されている。
例えば、特許文献１〜４には高分子液晶をガラス転移温度（Ｔｇ）以上に加熱して、液晶相において垂直配向させた後に急速冷却して位相差膜を形成しており、ＴＮ液晶表示装置やＳＴＮ液晶表示装置の視野角が改善できることを報告している。
液晶の垂直配向した状態を固定する別の手段としてアクリロイル基などの重合性の結合基を有した、低分子の重合性液晶を配向させ、ＵＶや電子線を照射することによって重合させ固定する方法も提案されている（特許文献５、６）。
これらの液晶材料の中間の性質を持つ重合性の液晶オリゴマーを配向後に固定する方法も提案されている（特許文献７、８）。
【０００３】
さらに、これらの光学異方性膜と延伸形成した光学異方性膜と組み合わせたＳＴＮ液晶表示装置の視野角改善の試みも報告されている（特許文献７〜１１）。
また、コレステリック液晶を用いた輝度向上膜の光利用効率を向上する目的（特許文献１２〜１４）や偏光板の視野角依存性を軽減しインプレーンスイッチング液晶動作モードの液晶表示装置の視野角を改善する目的でのこの光学異方性膜の使用が提案されており、その効果が報告されている（特許文献１５、１６）。
【０００４】
【特許文献１】特開平０５−５３１０４号公報
【特許文献２】特開平０５−２７２３５号公報
【特許文献３】特開平０４−１６９１６号公報
【特許文献４】特開平０９−１０１５１５号公報
【特許文献５】特開平０５−１４２５３１号公報
【特許文献６】特開平０８−２１９１５号公報
【特許文献７】特開平０７−２３００８６号公報
【特許文献８】特開平０７−２９４９０３号公報
【特許文献９】特開平０２−２５６０２３号公報
【特許文献１０】特開平０５−２４１０１９号公報
【特許文献１１】特開平０８−２１９９９号公報
【特許文献１２】特表２０００−５１４２０２号公報
【特許文献１３】特表２００１−５００２７６号公報
【特許文献１４】特開２００３−１７７２４２号公報
【特許文献１５】特開平１０−３０７２９１号公報
【特許文献１６】特開平１１−１３３４０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上述した光学異方性膜を使用した液晶表示装置は、コントラストの改善には効果があるものの表示への着色やより斜角度でのコントラストの低下の課題が残されている。
この点について検討した結果、従来の光学異方性膜は、その位相差が可視光線の短波長ほど大きくなるために、所定の単色光に対しては、所望の位相差に調整可能であるが、他の可視光域の光線に対しては異なった位相差を示すことが主要因であることを突き止めた。
つまり、さまざまな波長の光が混在している白色光に対しては、各波長での位相角度偏光状態に分布が生じ、有色の偏光に変換されるという問題がある。
これは、位相差板を構成する材料が、位相差について波長分散性を有することに起因する。
この解決手段として、棒状液晶に、棒状液晶の長軸と直交するように配向する分子を混合することで逆波長分散性を発現された液晶組成物を塗布する方法が提案されている（例えば、特開２００２−２６７８３８号公報）。
しかし、この方法においては、混合する分子が液晶性ではなく、そのため混合比を上げていくと液晶性が消失するため、波長分散性を任意に制御することは非常に困難であった。
【０００６】
本発明は、前記諸問題に鑑みなされたものであって、簡易な構成で、輝度向上特性の向上や、液晶表示装置などの画像表示装置の視角特性を改善できる、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が−１０ｎｍ以下の光学異方性膜およびこれを備えた高品位な画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願発明の目的は、下記の（１）〜（８）の光学異方性膜、輝度向上フィルム、光学フィルム、および画像表示装置により達成された。
（１）ネマチック相またはスメクチックＡ相を発現し、当該液晶相の波長λにおける固有複屈折Δｎ（λ）が、下記式（Ｉ）を満足する液晶化合物を少なくとも１種以上含む光学異方性膜（Ａ）であって、面内の位相差（Ｒｅ）の絶対値が４０ｎｍ以下で、且つ厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が−１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学異方性膜（Ａ）。
式（Ｉ）  Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．０
（２）前記光学異方性膜（Ａ）が略垂直配向した液晶相を固定して形成したことを特徴とする（１）に記載の光学異方性膜（Ａ）。
（３）前記液晶化合物が下記式（II）で表されることを特徴とする（１）または（２）に記載の光学異方性膜（Ａ）。
式（II）
【化１】
2006284903.tif 000002
（式（II）中、ＭＧ1およびＭＧ2は、それぞれ独立に、２〜８個の環状基を含む液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、前記環状基を構成する環は、芳香族環、脂肪族環または複素環である。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基または水素結合性基である。
Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に、ＭＧ1またはＭＧ2の環状基を置換して連結する連結基であり、下記式（II）−ＬＡまたは式（II）−ＬＢで表される。
式（II）−ＬＡ
【化２】
2006284903.tif 000003
（式（II）−ＬＡ中、＊はＭＧ1またはＭＧ2を構成する環状基を置換して連結する位置を表す。＃はＰと連結する位置を表す。Ａ1は、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−または−ＳＯ2−を表す。Ａ2は−ＣＨ＝または−Ｎ＝を表す。）
式（II）−ＬＢ
【化３】
2006284903.tif 000004
（式（II）−ＬＢ中、＊はＭＧ1またはＭＧ2を構成する環状基を置換して連結する位置を表す。＃はＰと連結する位置を表す。Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−を表す。）
Ｐは、上記Ｌ1およびＬ2の両方が式（II）−ＬＡで表される場合、単結合もしくは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、Ｌ1およびＬ2のいずれか一方が、式（II）−ＬＢで表される基の場合、＊＊＊＝ＣＨ−Ｐ1−＃＃、もしくは＊＊＊＝Ｎ−Ｐ1−＃＃で表し（＊＊＊は式（II）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃＃は式（II）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）、Ｌ1およびＬ2の両方が式（II）−ＬＢで表される場合、二重結合および、＝ＣＨ−Ｐ1−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ1−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ1−Ｎ＝を表す。但し、Ｐ1は単結合もしくは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基または、この組み合わせから選ばれる二価の連結基を表す。）
（４）コレステリック液晶フィルムと、１／４波長板と、これらの間に配置されている光学異方性膜とを有し、前記光学異方性膜が、（１）〜（３）のいずれかに記載の光学異方性膜（Ａ）である、輝度向上フィルム。
（５）（１）〜（３）のいずれかに記載の光学異方性膜（Ａ）に、さらに少なくとも１層の光学異方性膜（Ｂ）が積層されていることを特徴とする積層光学フィルム。
（６） 前記光学異方性膜（Ｂ）は、面内の位相差（Ｒｅ）が３０ｎｍ〜１８０ｎｍ、厚さ方向の位相差(Ｒｔｈ)が４０ｎｍ〜３５０ｎｍのセルロースアシレート含有透明光学異方性フィルムまたはシクロオレフィン含有透明光学異方性フィルムであることを特徴とする（５）に記載の積層光学フィルム。
（７） 前記光学異方性膜（Ｂ）が下記式（III）および（IV）を満たすセルロースアシレートフィルムである（５）に記載の積層光学フィルム。
（III）０≦Ｒｅ（６３０）≦１０、かつ、  −１００≦Ｒｔｈ（６３０）≦２５
（IV）｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５
（式（III）、（IV）中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。）
（８）（１）〜（３）のいずれかに記載の光学異方性膜（Ａ）、（４）に記載の輝度向上フィルム、または（５）〜（７）のいずれかに記載の積層光学フィルムを有する画像表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光の波長による位相差の変化が小さい厚さ方向の位相差が−１０ｎｍ以下の光学異方性膜を提供できる。
さらに、本発明によれば、簡易な構成で、輝度向上特性の向上や、液晶表示装置などの画像表示装置の視角特性を著しく改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下において、本発明の液晶表示装置の一実施形態およびその構成部材について順次説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１０】
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長５５０ｎｍにおける面内の位相差（ｎｍ）および厚さ方向の位相差（ｎｍ）を表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５５０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差の計３つの方向で測定した位相差を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。また、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内位相差（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向の位相差（ｎｍ）を表す。
【００１１】
ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【００１２】
また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差がＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。但し、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。
【００１３】
本明細書において、「平行」、「直交」、「略垂直」とは、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５°未満であることが好ましく、±２°未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率および位相差の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１４】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板および液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」および「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」および「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１５】
本発明の光学異方性膜（Ａ）の構成成分と形成方法
まず、本発明の光学異方性膜（Ａ）の好ましい光学特性や光学異方性膜（Ａ）形成に用いられる材料、その製造方法等について、詳細に説明する。
【００１６】
［光学特性］
本発明の光学異方性膜（Ａ）の波長分散のより好ましい範囲としては、下記式（Ａ）−１と（Ａ）−２を満足することが好ましく、下記式（Ａ）−１’および（Ａ）−２’を満足するのがより好ましい。
式（Ａ）−１    ０．６０＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜０．９９
式（Ａ）−２    １.０１＜Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．３５
式（Ａ）−１’  ０．６０＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜０．９５
式（Ａ）−２’  １.０４＜Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．３５
また、光学補償膜として使用した場合のコントラストムラ低減の観点から、面内の位相差（Ｒｅ）は４０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。一方、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）は光学補償の効果の観点から、−１０ｎｍ以下であることが好ましく、−３０ｎｍ以下であることがより好ましく、−５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。光学的異方性膜（Ａ）の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．２〜１５μｍであることがより好ましく０．３〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００１７】
［形成方法］
下記式（I）で表されるΔｎの波長分散性を有する後述の液晶化合物を含む光学異方性膜（Ａ）は、当該液晶化合物、所望により、下記の重合性開始剤や空気界面垂直配向剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体の上に形成された垂直配向膜の上に塗布して、実質的に垂直配向させ、該配向状態を固定化することで形成することができる。
式（I）  Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．０
仮支持体上に形成した場合は、該位相差層を支持体上に転写することで作製することもできる。実質的に垂直とは、フィルム面と液晶化合物のダイレクターとのなす角度が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。これらの液晶化合物は斜め配向させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するように（ハイブリッド配向）させてもよい。斜め配向またはハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜角は７０°〜９０°であることが好ましく、８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°がさらに好ましい。
【００１８】
ここで、本発明でいう固定化したという状態は、光学異方性膜（Ａ）に含まれる液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、具体的には、例えば、０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該光学異方性膜（Ａ）に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を指すものである。
なお、本発明の光学異方性膜（Ａ）においては、光学異方性膜（Ａ）が最終的に形成された際に、その光学異方性が保持されていれば液晶化合物はもはや液晶性である必要はない。例えば、低分子の液晶化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。
【００１９】
前述の塗布液は塗布後に溶媒が蒸発した後に、室温もしくは加熱状態で液晶状態を呈示するように、調製されなければならない。その液晶温度範囲は、膜の製造適性等の面から１０〜２５０℃の範囲内に存在することが好ましく、１０〜１５０℃の範囲内に存在することがより好ましい。１０℃以上とすることにより、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるために冷却工程等を設ける必要がなくなるため好ましい。また、２００℃以下とすることにより、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にするために高温を要する必要がなくなり、熱エネルギーの浪費、基板の変形、変質等をより効果的に抑止できる。この範囲で液晶状態にあれば、上記式（II）を満たす液晶化合物を２種以上混合してもよいし、塗布液に非液晶性の化合物や高分子化合物、高分子液晶化合物、非重合性の液晶化合物、Δｎの波長分散が正常分散である液晶化合物なども配合できる。ここで、波長分散が正常分散であるとは、例えば、下記式(I-a)を満たすことを意味する。
式（I-a）  Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＞１．０
上記式（II）を満たす液晶化合物とΔｎの波長分散が正常分散である液晶化合物と混合することで、その中間の波長分散性を有する光学異方性膜（Ａ）を作り出すことが可能となる。
上記式（II）を満たす後述の液晶化合物は液晶性を示すため、Δｎの波長分散が正常分散である液晶化合物とは、いかなる混合比においても混合できる可能性が高い。従って、その混合比率を変化させるだけで、目標の波長分散特性を有する光学異方性膜（Ａ）を形成することができる。
【００２０】
［塗布溶媒］
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００２１】
塗布液は塗布後に溶媒が蒸発した後の液晶状態で、均一な欠陥のない配向のために、良好なモノドメイン性を示すものが望ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。これは、位相差板の透過率低下にもつながるので望ましくない。良好なモノドメイン性を得るために、塵埃や風のない環境で塗布を行うことや、後述の塗布助剤使用する方法や、偏光や磁場や電場などの外場を印加する方法を必要に応じて行う。
【００２２】
［重合開始剤］
垂直配向させた液晶化合物は、配向状態を維持して固定するのが好ましい。固定化は、ガラス転移温度以下に冷却する方法や液晶化合物に導入した重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００２３】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。棒状液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００２４】
［垂直配向膜］
液晶化合物を配向膜側で垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させる方法、および排除体積効果によって液晶を垂直にする方法が有効である。配向膜の表面エネルギーを低下させるためには、ポリマーに導入した官能基により配向膜の表面エネルギーを低下させる。
これには疎水性基の官能基が有効であり、具体的にはフッ素原子および炭素原子数が１０以上の炭化水素基が有効である。フッ素原子または炭化水素基を配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側鎖にフッ素原子または炭化水素基を導入することが好ましい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を０．０５〜８０質量％の割合で含むことが好ましく、０．１〜７０質量％の割合で含むことがより好ましく、０．５〜６５質量％の割合で含むことがさらに好ましく、１〜６０質量％の割合で含むことが最も好ましい。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、アルキル基（シクロアルキル基であってもよい）またはアルケニル基（シクロアルケニル基であってもよい）であることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数は、１０〜１００であることが好ましく、１０〜６０であることがより好ましく、１０〜４０であることがさらに好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造またはポリビニルアルコール構造を有することが好ましい。
【００２５】
ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸とジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテトラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用いて、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよい。フッ素原子または炭化水素基は、テトラカルボン酸起源の繰り返し単位に存在していても、ジアミン起源の繰り返し単位に存在していても、両方の繰り返し単位に存在していてもよい。ポリイミドに炭化水素基を導入する場合、ポリイミドの主鎖または側鎖にステロイド構造を形成することが特に好ましい。側鎖に存在するステロイド構造は、炭素原子数が１０以上の炭化水素基に相当し、液晶化合物を垂直に配向させる機能を有する。本明細書においてステロイド構造とは、シクロペンタノヒドロフェナントレン環構造またはその環の結合の一部が脂肪族環の範囲（芳香族環を形成しない範囲）で二重結合となっている環構造を意味する。ステロイド構造のような剛直な置換基やアルキル鎖などは、配向させる液晶分子に対して排除体積効果を発現できるのでより好ましい。
【００２６】
さらに液晶化合物を垂直に配向させる手段として、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、またはポリイミドの高分子に有機酸を混合する方法を好適に用いることができる。混合する酸としてはカルボン酸やスルホン酸、アミノ酸が好適に用いられる。後述の空気界面配向剤の内、酸性を示すものを使用してもよい。また、４級アンモニウム塩類も好適に用いることができる。その混合量は高分子に対して、０．１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜１０質量％であることがさらに好ましい。上記ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。
【００２７】
配向膜を、主鎖に結合した架橋性官能基を有する側鎖を有するポリマーまたは液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を有するポリマーを用いて形成し、その上に位相差膜を、多官能モノマーを含む組成物を用いて形成すると、配向膜中のポリマーと、その上に形成される位相差膜中の多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマー間だけではなく、配向膜ポリマー間および多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間にも共有結合が形成され、配向膜と位相差膜とが強固に結合される。従って、架橋性官能基を有するポリマーを用いて配向膜を形成することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］に記載のもの等が挙げられる。
【００２８】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］に記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【００２９】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、または高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【００３０】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマーおよび架橋剤を含む組成物を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、必要に応じてラビング処理することにより形成することができる。
棒状液晶化合物の垂直配向にはラビング処理は行なわないことが好ましい。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには位相差層表面の欠陥が著しく減少する。
【００３１】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、８０℃〜１００℃がより好ましい。乾燥時間は好ましくは１分〜３６時間であり、より好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【００３２】
［空気界面垂直配向剤］
通常、液晶化合物は、空気界面側では傾斜して配向する性質を有するので、均一に垂直配向した状態を得るために、空気界面側において液晶化合物を垂直に配向制御することが必要である。この目的のために、空気界面側に偏在して、その排除体積効果や静電気的な効果によって液晶化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を液晶塗布液に含有させて、位相差膜を形成するのが好ましい。
【００３３】
空気界面配向剤としては、特開２００２−２０３６３号公報、特開２００２−１２９１６２号公報に記載されている化合物を用いることができる。また、特開２００４−５３９８１号公報の段落番号［００７２］〜［００７５］に記載される事項も本発明に適宜適用することができる。また、これらの化合物を配合することによって塗布性が改善され、ムラまたはハジキの発生が抑制される。
【００３４】
液晶塗布液への空気界面配向剤の使用量は、０．０５質量％〜５質量％であることが好ましい。また、フッ素系空気界面配向剤を用いる場合は、１質量％以下であることが好ましい。
【００３５】
［塗布液中の他の材料（塗布助剤）］
上記の液晶化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【００３６】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落番号［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、液晶性分子に対して好ましくは１〜５０質量％の範囲にあり、より好ましくは５〜３０質量％の範囲にある。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と位相差膜（光学異方性膜（Ａ））間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【００３７】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報中の段落番号［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特開２００５−６２６７３号公報中の段落番号［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
【００３８】
液晶化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１７８］に記載のものが挙げられる。液晶化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
【００３９】
液晶化合物とともに使用して、塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般にポリマーを好適に用いることができる。使用するポリマーとしては、液晶化合物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。液晶の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、液晶化合物に対して、０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００４０】
［支持体］
本発明では、液晶化合物から形成された光学異方性膜（Ａ）を、支持体上に形成してもよい。支持体は透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。支持体は、波長分散が小さいのが好ましく、具体的には、Ｒｅ（４００）／Ｒｅ（７００）の比が１．２未満であることが好ましい。中でも、ポリマーフィルムが好ましい。透明支持体は偏光板保護膜を兼ねることもできる。偏光板保護膜を兼ねる場合は、支持体の光学異方性は小さいのが好ましく、面内位相差（Ｒｅ）が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが最も好ましい。また、使用目的に応じて、支持体自体が光学異方性を有していても良い  支持体の厚さは、５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がさらに好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【００４１】
支持体となるポリマーフィルムの例には、シクロオレフィンポリマー、ノルボルネン系ポリマー、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレートのフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、透明性や均一性などの光学性能の観点からは、セルロースアシレートやノルボルネン系のフィルムを含んでいるものがより好ましい。
【００４２】
ノルボルネン系高分子としては、ノルボルネンおよびその誘導体、テトラシクロドデセンおよびその誘導体、ジシクロペンタジエンおよびその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレンおよびその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体であり、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、およびの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体または環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常５，０００〜５００，０００、好ましくは８，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲であるときに、フィルムの機械的強度および成形加工性が高度にバランスされて好適である。
【００４３】
セルロースアシレートとしては、そのアシル基が脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えば、セルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよく、総炭素数が２２以下のエステル基が好ましい。これらの好ましいセルロースアシレートとしては、エステル部の総炭素数が２２以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、バレル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基など）、アリールカルボニル基（アクリル基、メタクリル基など）、アリルカルボニル基（ベンゾイル基、ナフタロイル基など）、シンナモイル基を挙げることができる。これらの中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートステアレート、セルロースアセテートベンゾエートなどが好ましく、混合エステルの場合はその比率は特に限定されないが、好ましくはアセテートが総エステルの３０モル％以上であることがより好ましい。
【００４４】
これらの中でも、セルロースアセテートが好ましく、特に写真用グレードのものが好ましく、市販の写真用グレードのものは粘度平均重合度、置換度等の品質を満足して入手することができる。写真用グレードのセルローストリアセテートのメーカーとしては、ダイセル化学工業（株）（例えばＬＴ−２０、３０、４０、５０、７０、３５、５５、１０５など）、イーストマンコダック社（例えば、ＣＡＢ−５５１−０．０１、ＣＡＢ−５５１−０．０２、ＣＡＢ−５００−５、ＣＡＢ−３８１−０．５、ＣＡＢ−３８１−０２、ＣＡＢ−３８１−２０、ＣＡＢ−３２１−０．２、ＣＡＰ−５０４−０．２、ＣＡＰ−４８２−２０、ＣＡ−３９８−３など）、コートルズ社、ヘキスト社等があり、いずれも写真用グレードのセルロースアシレートを使用できる。また、フィルムの機械的特性や光学的な特性を制御する目的で、可塑剤（好ましい添加量はセルロースエステルに対して０．１〜２０質量％、以下同様）、改質剤（０．１〜２０質量％）、紫外線吸収剤（０．００１〜５質量％）、平均粒子サイズが５〜３０００ｎｍである微粒子粉体（０．００１〜５質量％）、フッ素系界面活性剤（０．００１〜２質量％）、剥離剤（０．０００１〜２質量％）、劣化防止剤（０．０００１〜２質量％）、光学異方性制御剤（０．１〜１５質量％）、赤外線吸収剤（０．１〜５質量％）などを混合することができる（参考資料：特開２００２−２７７６３２、特開２００２−１８２２１５、公開技報２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）１６頁〜２２頁）。
【００４５】
透明樹脂をシートまたはフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法および溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法およびプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。
【００４６】
溶液流延による方法は、例えば、セルローストリアセテートの場合、単層のセルローストリアセテートは、特開平７−１１０５５号公報等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作製でき、複数の層からなるセルローストリアセテートは、特開昭６１−９４７２５号、特公昭６２−４３８４６号等の各公報等で開示されている、いわゆる共流延法により作成することができる。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
【００４７】
Ｒｅ、Ｒｔｈをさらに調整するために、フィルムを延伸することもできる。延伸は、製膜中未乾燥の状態で実施しても良く（例えば、流延後支持体から剥ぎ取った後から乾燥完了までの間）、乾燥終了後に実施しても良い。これらの延伸は製膜工程中、オン−ラインで実施しても良く、製膜完了後、一度巻き取った後オフ−ラインで実施しても良い。延伸はＴｇ以上Ｔｇ＋５０℃以下で実施するのが好ましく、より好ましくはＴｇ＋１℃以上Ｔｇ＋３０℃以下、さらに好ましくはＴｇ＋２℃以上Ｔｇ＋２０℃以下である。好ましい延伸倍率は１％以上５００％以下、より好ましくは３％以上４００％以下、さらに好ましくは５％以上３００％以下である。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施しても良い。
このような延伸は出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて、長手方向に延伸してもよく（縦延伸）、フィルムの両端をチャックで把持しこれを直交方向（長手方向と直角方向）に広げても良い（横延伸）。一般にいずれの場合も、延伸倍率を大きくすると、Ｒｔｈを大きくすることができる。また、縦延伸と横延伸の倍率の差を大きくすることでＲｅを大きくすることができる。
【００４８】
Ｒｔｈを大きくするために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することも可能である。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。ここで、芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【００４９】
レターデーション上昇剤としての芳香族化合物が有する芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。また、芳香族性ヘテロ環は、一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は、最多の二重結合を有することが好ましい。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子がより好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
【００５０】
また、レターデーション上昇剤としての芳香族化合物が有する二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号パンフレット、国際公開ＷＯ００／２６１９Ａ１号パンフレット、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号、特開２００２−３６３３４３号の各公報等に記載されている。
【００５１】
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈを小さくする方法として、非平面構造性の化合物をフィルムに混合することが有効である。また、特開平１１−２４６７０４号公報、特開２００１−２４７７１７号公報に記載の方法などが挙げられる。また、セルロースアシレートフィルムの厚みを小さくすることによっても、Ｒｔｈを小さくすることができる。
【００５２】
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈを負にする方法としてはＲｔｈ低下剤の混合による方法とアシル基の置換度を２．８７以上にする方法が好ましい。Ｒｔｈを低下させる化合物は、セルロースアシレートの配向を乱し、かつ自身が配向しにくいおよび／または分極率異方性が小さい添加剤がＲｔｈを効果的に低下させる化合物である。したがって、セルロースアシレートの配向を乱すため、極性基と非極性基とを併せ持つ化合物が好ましい。また、化合物自身の配向を妨げたり分極率異方性を小さくしたりするため、液晶性を有するような剛直な構造でない化合物が好ましく、複数の芳香環を有する場合には、それらが同一平面内に存在しないことが好ましい。本発明で好ましく用いられるＲｔｈ低下剤は、セルロースアシレートに対して０．１〜３０質量％含有することが好ましく、１〜２５質量％含有することが好ましく、５〜２０質量％含有することがさらに好ましい。
【００５３】
また、アシル基の置換度を２．８７以上にする方法では、セルロースアシレート溶液の溶媒をハロゲン化炭化水素もしくはそれにアルコールを混合した溶媒を使用し、冷却溶解によって溶液（ドープ）を形成し、前述の流延方法でフィルムを形成することができる。
セルロースアシレートの置換度は、２．８７以上であることが好ましく、２．８７〜２．９６であることがより好ましく、２．８８〜２．９５がさらに好ましく、２．９０〜２．９５が最も好ましい。
特に好ましい有機溶媒は、ジクロロメタン、メチルホルメート、エチルホルメート、メチルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノール、メチルアセトアセテート、ヘキサン、シクロヘキサンである。
これらのうち、全溶媒中に少なくとも１０〜３０質量％、より好ましくは１１〜３０質量％、さらに好ましくは１２〜２５質量％のアルコールを含有することがセルロースエステルの溶解性向上の観点から好ましい。
また、Ｒｔｈ低減の観点から、乾燥過程初期において、ハロゲン化炭化水素とともに揮発する割合が小さく、次第に濃縮される沸点が９５℃以上の、セルロースエステルの貧溶媒である有機溶媒を全溶媒中に好ましくは１〜１０質量％、より好ましくは１．５〜８質量％、さらに好ましくは２〜６質量％含有される。そして、バンドからの剥離荷重低減およびＲｔｈ低減双方の観点から、沸点が９５℃以上の有機溶媒はアルコールであることが好ましく、乾燥負荷低減による生産性向上の観点から、アルコールは２種類以上のアルコールの混合物であり、沸点が９５℃以上のアルコールと沸点が９５℃未満のアルコールとからなることが好ましい。
【００５４】
セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、冷却溶解法を実施することが好ましく、高温溶解法との組み合わせで実施することもできる。セルロースアシレート溶液の調製方法については、特開昭５８−１２７７３７号、同６１−１０６６２８号、特開平２−２７６８３０号、同４−２５９５１１号、同５−１６３３０１号、同９−９５５４４号、同１０−４５９５０号、同１０−９５８５４号、同１１−７１４６３号、同１１−３０２３８８号、同１１−３２２９４６号、同１１−３２２９４７号、同１１−３２３０１７号、特開２０００−５３７８４号、同２０００−２７３１８４、同２０００−２７３２３９号の各公報に記載がある。
セルロースエステルと溶媒との混合物を冷却する工程について、その冷却温度は特に限定されないが、−１００℃〜−１０℃が好ましく、−１００℃〜−３０℃がさらに好ましく、−１００℃〜−５０℃が特に好ましい。
【００５５】
支持体とその上に設けられる層（接着層、粘着層、パッシベーション層、垂直配向膜あるいは位相差層、反射防止層、ハードコート層、帯電防止層、アンチグレア層）との接着を改善するため、フィルムに表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理ケン化処理（酸ケン化処理、アルカリケン化処理）を実施してもよく、特にグロー放電処理およびアルカリケン化処理が好ましい。表面処理に加えて、あるいは表面処理に代えて、下塗層（接着層）を設けることができる。下塗層については、公開技報２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁に記載があり、これらを適宜、使用することができる。また、保護膜や長尺の保護膜には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒子サイズが１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。セルロースアシレートフィルムに設ける機能性層については、公開技報２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に記載があり、これらを適宜、使用することができる。
【００５６】
［液晶化合物］
液晶化合物は通常、下記式（I）で表されるΔｎの波長分散性を持たない。
式（I）  Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．０
このようなΔｎの波長分散性を発現させるためには、少なくとも２種類の吸収波長と遷移モーメントの方向を上手く配置する必要がある。Δｎは異常光の屈折率から常光の屈折率を差し引いた値であるため、異常光の屈折率の波長分散性よりも、常光の波長分散性が、より右肩下がり（右を長波長側、左を短波長側とおいたときのΔｎの傾き）であれば、その差し引いた値は、式（I）を満足する。屈折率の波長分散性は、Ｌｏｒｅｎｔｚ−Ｌｏｒｅｎｚの式で表されているように、物質の吸収に密接な関係にあるため、常光の波長分散性をより右肩下がりにするためには、常光方向の吸収波長をより長波化できれば、式（I）を満たす分子を設計することができる。
【００５７】
常光の方向は、例えば棒状液晶では分子の幅方向であり、そのような分子の幅方向の吸収遷移波長を長波化することは非常に困難なことである。吸収の遷移を長波化するためには、通常π共役系を広げることにより達成することが可能であるが、そのような方法を用いようとすると、分子の幅を広げることになり、液晶性は消失してしまうからである。
このような液晶性の低下を防ぐためには、Ｗｉｌｌｉａｍ  Ｎ．  Ｔｈｕｒｍｓらが報告（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ、２５巻、１４９頁、１９９８年）している２つの棒状液晶を側方方向でつないだ骨格を用いることが可能である。この骨格は、２つの棒状液晶をエチニル基で連結するため、棒状液晶を構成するベンゼン環のπ共役系がエチニル基のπ結合と共役した形（トラン骨格）となるため、液晶性を損なわずに分子の幅方向の吸収波長を長波化することができる。しかし、このトラン骨格は、分子の長軸方向（光軸方向）に対して、約６０°しか傾いていないため、換言すれば吸収の遷移方向が約６０°しか傾いていないため、常光方向の吸収波長だけでなく、異常光方向の吸収波長も長波化するため、結果として波長分散性にはほとんど寄与しない。
【００５８】
常光の波長分散性のみをより右肩下がりにするためには、分子の長軸方向（光軸方向）に対して、好ましくは、吸収の遷移方向が７０〜９０°さらに好ましくは、８０〜９０°傾いている必要があることがわかった。傾き角が９０°に近くなるほど、異常光方向の吸収がなくなるため、常光の波長分散性のみを右肩下がりにすることができ好ましい。以上のように、異常光の屈折率に主に寄与する吸収の遷移よりも、常光の屈折率に主に寄与する吸収の遷移の方が長波長であり且つ常光に主に寄与する吸収の遷移方向が分子の長軸方向（光軸方向）に対して、７０〜９０°傾いている分子が好ましい。常光に主に寄与する吸収の遷移方向が分子の長軸方向（光軸方向）に対して、７０〜９０°傾けるためには、６員環と奇数員環（３員環、５員環、７員環、９員環等）が縮環した部分構造を有することが好ましいことが分かった。特に６員環と５員環が縮環した、下記式（II）で表される化合物が好ましいことがわかった。
式（II）
【００５９】
【化４】
2006284903.tif 000005
【００６０】
式（II）において、ＭＧ1およびＭＧ2はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基を含む液晶相の発現を誘起する液晶コア部である。液晶コア部とは液晶便覧３．２．２（丸善（株）、２０００年）記載されているように、環状基と連結基から構成される液晶を発現させるために必要な剛直な部分である。
環状基を構成する環は、芳香族環、脂肪族環および複素環を挙げることができる。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環、ピリミジン環、チオフェン環、１，３−ジオキサン環、１，３−ジチアン環が含まれる。
【００６１】
ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。チオフェン環を有する環状基としては、チオフェン−２，５−ジイル基が好ましい。１，３−ジオキサン環を有する環状基としては、１，３−ジオキシレン−２，５−ジイル基が好ましい。１，３−ジチアン環を有する骨格としては、１，３−ジチアニレン−２，５−ジイル基が好ましい。
【００６２】
上記環状基を連結する連結基としては、例えば、単結合、−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−を挙げることができる。
上記のような環状基と連結基で構成される液晶コア部としては、例えば、液晶便覧第３章（丸善（株）、２０００年）、液晶デバイスハンドブック第３章（日刊工業新聞社、１９８９年）、液晶材料第４章（講談社、１９９１年）、化学総説Ｎｏ．２２液晶の化学１〜７章（社団法人日本化学会、１９９４年）、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ、Ｖｏｌ．２ＡおよびＶｏｌ．２Ｂ（ＷＩＬＥＹ−ＶＣＨ社刊、１９９８年）に挙げられている液晶化合物の液晶コア部を参考にすることができる。特に、ネマチック相を発現する液晶化合物の液晶コア部が好ましい。
以下にＭＧ1およびＭＧ2の例を示す。＊＊はＲ1（Ｒ3）またはＲ2（Ｒ4）に連結する位置を表す。
【００６３】
【化５】
2006284903.tif 000006
【００６４】
【化６】
2006284903.tif 000007
【００６５】
ＭＧ1を構成する環状基およびＭＧ2を構成する環状基は、それぞれ１つずつが、Ｌ1またはＬ2で置換されている。すなわち、Ｌ1またはＬ2が環状基に連結し、環状基と縮環した構成となっている。
Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に、式（II）−ＬＡまたは式（II）−ＬＢで表される。
式（II）−ＬＡ
【化７】
2006284903.tif 000008
（式（II）−ＬＡ中、＊はＭＧ1またはＭＧ2を構成する環状基を置換して連結する位置を表す。＃はＰと連結する位置を表す。Ａ1は、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−または−ＳＯ2−を表す。Ａ2は−ＣＨ＝または−Ｎ＝を表す。）
式（II）−ＬＢ
【化８】
2006284903.tif 000009
（式（II）−ＬＢ中、＊はＭＧ1またはＭＧ2を構成する環状基を置換して連結する位置を表す。＃はＰと連結する位置を表す。Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−を表す。）
【００６６】
ここで、Ａ1、Ａ3、Ａ4が−ＮＨ−、−ＣＨ2−の場合、水素原子は他の置換基に置き換えられていてもよい。このような置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアシル基、シアノ基を挙げることができる。Ａ1は、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−が好ましく、−Ｏ−、−ＣＨ2−がより好ましい。Ａ3およびＡ4は、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−が好ましく、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＯ−がより好ましい。
【００６７】
Ａ2は−ＣＨ＝または−Ｎ＝を表す。Ａ2が−ＣＨ＝の場合、水素原子は他の置換基に置き換えられていてもよい。そのような置換基としては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニル���ミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００６８】
Ｌ1およびＬ2の両方が式（II）−ＬＡで表される場合、単結合もしくは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。Ｐは、組み合わせによっては吸収が長波長化しすぎて、黄色に着色するため、適当な連結基を選択することが好ましい。Ｐは好ましくは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基であり、さらに好ましくは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基である。Ｐに−ＣＨ＝ＣＨ−、１，４−フェニレン基が含まれる場合、メチンは窒素原子により置き換えられていてもよい。さらにＣＨ＝ＣＨ−および１，４−フェニレン基の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。そのような置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアシル基、シアノ基を挙げることができる。
【００６９】
Ｌ1もしくはＬ2のどちらか一方が、式（II）−ＬＢで表される場合、Ｐは、＊＊＊＝ＣＨ−Ｐ1−＃＃、もしくは＊＊＊＝Ｎ−Ｐ1−＃＃で表される。（＊＊＊は式（II）−ＬＢとの連結位置を表し、＃＃は式（II）−ＬＡとの連結位置を表す。）Ｐ1は、単結合もしくは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基または、この組み合わせから選ばれる二価の連結基であり、組み合わせによっては吸収が長波長化しすぎて、黄色に着色するため、適当な連結基を選択することが好ましい。Ｐ1は好ましくは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基であり、さらに好ましくは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン基である。Ｐ1に−ＣＨ＝ＣＨ−または１，４−フェニレン基が含まれる場合、メチンは窒素原子により置き換えられていてもよく、さらにＣＨ＝ＣＨ−および１，４−フェニレン基の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。そのような置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアシル基、シアノ基を挙げることができる。
Ｌ1およびＬ2の両方が式（II）−ＬＢで表される場合、Ｐは、二重結合および、＝ＣＨ−Ｐ1−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ1−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ1−Ｎ＝を表す。Ｐ1は上記Ｐ1と同様であり、好ましい範囲も同様である。
【００７０】
以下にＬ1およびＬ2で置換されたＭＧ1およびＭＧ2の例を示す（＊＊はＲ1（Ｒ3）またはＲ2（Ｒ4）に連結する位置を表す。また＃はＰと連結する位置を表す。）。
【００７１】
【化９】
2006284903.tif 000010
【００７２】
【化１０】
2006284903.tif 000011
【００７３】
ＭＧ1およびＭＧ2を構成する環状基は、Ｌ1およびＬ2以外にも、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜５のアルキル基、炭素原子数が１〜５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜５のアルコキシ基、炭素原子数が１〜５のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２〜６のアシルアミノ基が含まれる。
【００７４】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基または水素結合性基である。柔軟性のある置換基の例としては、炭素原子数１〜２０（好ましくは炭素原子数２〜１０）のアルキル基、炭素原子数１〜２０（好ましくは炭素原子数２〜１０）のアルキルオキシ基、炭素原子数２〜２０（好ましくは炭素原子数３〜１０）のアシル基、炭素原子数２〜２０（好ましくは炭素原子数    ３〜１０）のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜２０（好ましくは炭素原子数３〜１０）のアシルオキシ基、炭素原子数２〜２０（好ましくは炭素原子数３〜１０）のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素原子数１〜２０（好ましくは炭素原子数２〜１０）のアルキルチオ基、炭素原子数１〜２０（好ましくは炭素原子数２〜１０）のアミノ基、炭素原子数２〜２０（好ましくは炭素原子数３〜１０）のアシルアミノ基、炭素原子数２〜２０（好ましくは炭素原子数３〜１０）のアルコキシカルボニルアミノ基を挙げることができる。これらの柔軟性のある置換基はさらに他の置換基によって置換されていてもよい。そのような置換基の例には、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換または無置換のアミノ基（例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アルキルスルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基が挙げられる）、アリールスルホニルアミノ基（例えば、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（例えば、メチル���オ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、アルキルスルホニル基（例えば、メシル基などが挙げられる）、アリールスルホニル基（例えば、トシル基などが挙げられる）、アルキルスルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル基などが挙げられる）、アリールスルフィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（例えば、無置換のウレイド基、３−メチルウレイド基、３−フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。
【００７５】
双極子作用基の例としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基が含まれる。水素結合性基の例としては、カルボキシル基、水酸基が含まれる。
【００７６】
上記式（II）で表される化合物の中でも、上記式（I）で表されるΔｎの波長分散性を持たせるためには、（１）ＭＧ1およびＭＧ2で表される液晶コア部の主に異常光に寄与する吸収波長および吸収強度、および／または、（２）ＭＧ1およびＭＧ2を形成する環状基と−Ｌ1−Ｐ−Ｌ2−からなる主に常光に寄与する幅方向の吸収を長波化する部位の吸収波長および吸収強度を調整することが好ましい。式（I）を満足する、すなわち、異常光の屈折率の波長分散性よりも、常光の波長分散性が、より右肩下がりとするためには、上記（１）の吸収波長より、上記（２）の吸収波長が長波長であることは必須である。さらに吸収強度も波長分散性に関わる重要な因子であるが、常光および異常光の屈折率は吸収波長と吸収強度のバランスで成り立っているため、また、常光および異常光に関わる吸収波長と吸収強度を実測することが困難であるため、この両方の値を定義することは非常に困難である。ただ経験的には、（１）の最も吸収強度の強い吸収波長は、３２０ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましい。また、（２）の最も吸収強度の強い吸収波長は２８０ｎｍ以上であることが好ましく、３００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。（２）の吸収波長は、長波長化しすぎると黄色等に着色してくるため、好ましくない。そのため、吸収の裾が４００ｎｍを超えない方が好ましい。（１）と（２）の最も吸収強度の強い吸収波長の差は、２０ｎｍ以上あることが好ましく、４０ｎｍ以上あることがさらに好ましい。また（２）の最も吸収強度の強い吸収波長の吸光係数は、（１）の最も吸収強度の強い吸収波長の吸光係数の０．１倍以上であることが好ましく、０．２倍以上であることがさらに好ましい。但し、（１）および（２）の吸収波長および吸収強度は実測できない場合も多くあり、さらに副吸収を有する場合も多くあるため、上記規定に当てはまらない場合もある。
このような条件を満たす化合物として、式（II）で表される化合物は、下記式（III)で表される化合物であることが好ましい。
式（III)
【化１１】
2006284903.tif 000012
【００７７】
Ａ11およびＡ14は、それぞれ独立に、式（II）中のＡ1の定義と同様であり、好ましい範囲も同様である。Ａ12およびＡ13は、それぞれ独立に、式（II）中のＡ2の定義と同様であり、好ましい範囲も同様である。
【００７８】
Ｐ11は、式（II）中のＰ1の定義と同様であり、好ましい範囲も同様である。
【００７９】
式（III)中の５員環が縮環したベンゼン環の、水素原子は他の置換基に置き換えられていてもよい。そのような置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアシル基、シアノ基を挙げることができる。また、式（III）中の５員環が縮環したベンゼン環のメチンは窒素原子に置き換えられてもよい。
【００８０】
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ独立に下記式（IV）で表される。
【００８１】
式（IV）    ＊−Ｌ11−Ｑ
【００８２】
式（IV）中、＊は式（III)中のベンゼン環に結合する位置を表す。
Ｑは、それぞれ独立に、重合性基または水素原子である。本発明の位相差板を含め、一般式（II）で表される化合物を光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないものが好ましい光学フィルムに用いる場合には、Ｑは重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００８３】
【化１２】
2006284903.tif 000013
【００８４】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。
【００８５】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００８６】
【化１３】
2006284903.tif 000014
【００８７】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては、上記Ｒ1〜Ｒ4の置換基として挙げたものが挙げられる。Ｒとしては、水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子またはメチル基が特に好ましい。
上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）のなかでも、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【００８８】
開環重合性基は、環状エーテル基が好ましく、中でもエポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基がさらに好ましい。
【００８９】
式（IV）中、Ｌ11は二価の連結基である。Ｌ11は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
【００９０】
Ｌ11で表される二価の鎖状基は、無置換アルキレン基、置換アルキレン基、無置換アルケニレン基、置換アルケニレン基、無置換アルキニレン基または置換アルキニレン基が好ましく、無置換アルキレン基、置換アルキレン基、無置換アルケニレン基または置換アルケニレン基が好ましく、無置換アルキレン基または無置換アルケニレン基がさらに好ましい。
【００９１】
Ｌ11で表される二価の鎖状基としてのアルキレン基は、分岐を有していてもよい。また、アルキレン基中の−ＣＨ2−は、例えば−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられていてもよい。アルキレン基の炭素数は１〜１６であることが好ましく、２〜１４であることがより好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としては、アルキル基やハロゲン原子が含まれる。
【００９２】
Ｌ11で表される二価の鎖状基としてのアルケニレン基は、主鎖中に置換または無置換のアルキレン基を有してもよく、分岐を有していてもよい。また、アルケニレン基中に−ＣＨ2−がある場合、−ＣＨ2−は例えば−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられていてもよい。アルケニレン基の炭素数は２〜１６であることが好ましく、２〜１４であることがさらに好ましく、２〜１２であることが最も好ましい。置換アルケニレン基のアルケニレン部分は、上記アルケニレン基と同様である。置換基の例としてはアルキル基やハロゲン原子が含まれる。
【００９３】
Ｌ11で表される二価の鎖状基としてのアルキニレン基は、主鎖中に置換または無置換のアルキレン基を有してもよく、分岐を有していてもよい。また、アルキニレン基中に−ＣＨ2−がある場合、−ＣＨ2−は例えば−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられていてもよい。アルキニレン基の炭素数は２〜１６であることが好ましく、２〜１４であることがさらに好ましく、２〜１２であることが最も好ましい。置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換基の例としてはアルキル基やハロゲン原子が含まれる。
【００９４】
Ｌ11で表される二価の鎖状基の具体例としては、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、１−メチル−テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、２−ブテニレン基および２−ブチニレン基などが挙げられる。
【００９５】
Ｌ11で表される二価の環状基とは、少なくとも１種類の環状構造を有する二価の連結基である。二価の環状基は５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環、ピリミジン環、チオフェン環、１，３−ジオキサン環、１，３−ジチアン環が含まれる。
【００９６】
Ｌ11で表される二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。チオフェン環を有する環状基としては、チオフェン−２，５−ジイル基が好ましい。１，３−ジオキサン環を有する環状基としては、１，３−ジオキシレン−２，５−ジイル基が好ましい。１，３−ジチアン環を有する骨格としては、１，３−ジチアニレン−２，５−ジイル基が好ましい。
【００９７】
Ｌ11で表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜１６のアルキル基、炭素原子数が１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００９８】
Ｌ11で表される二価の連結基の例を以下に示す。ここで、右側が一般式（III）中のベンゼン環に、左側がＱに結合する。
【００９９】
Ｌ−１：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−２：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−３：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−４：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−ＮＲ7−
Ｌ−５：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−６：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−７：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−８：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−
Ｌ−９：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１０：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
【０１００】
Ｌ−１１：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−ＣＯ−ＮＲ7−
Ｌ−１２：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−１３：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１４：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１５：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−１６：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１７：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１８：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−ＮＲ7−
Ｌ−１９：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−２０：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
【０１０１】
Ｌ−２１：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２２：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−２３：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２４：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２５：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−ＮＲ7−
Ｌ−２６：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−２７：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２８：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−２９：−二価の鎖状基−
Ｌ−３０：−二価の鎖状基−Ｏ−
【０１０２】
Ｌ−３１：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−３２：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３３：−二価の鎖状基−ＣＯ−ＮＲ7−
Ｌ−３４：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−
Ｌ−３５：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−３６：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−３７：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
【０１０３】
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ独立に下記式（Ｖ）で表されるものがさらに好ましい。
式（Ｖ）
＊−Ｌ21−二価の環状基−Ｌ22−二価の鎖状基−Ｑ21
【０１０４】
式（Ｖ）中、＊は一般式（III）中のベンゼン環に結合する位置を表す。
Ｌ21は単結合または二価の連結基である。Ｌ21が二価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
【０１０５】
Ｌ21は単結合、および、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ2−ＣＨ2−、＊−Ｏ−ＣＨ2−、＊−ＣＨ2−Ｏ−、＊−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＨ2−（ここで、＊は式（Ｖ）中の＊側を表す）が好ましく、特に単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。
【０１０６】
式（Ｖ）中の二価の環状基は、式（IV）中の二価の環状基の定義と同様である。
式（Ｖ）中の二価の環状基は、１，４−フェニレン基、１，４−シクロへキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキシレン−２，５−ジイル基が好ましく、特に１，４−フェニレン基、１，４−シクロへキシレン基、１，３−ジオキシレン−２，５−ジイル基が特に好ましい。
【０１０７】
式（Ｖ）中の二価の環状基は、置換基を有していてもよく、その置換基としてはハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルキルオキシ基、炭素原子数２〜８のアシル基、炭素原子数２〜８のアシルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、炭素原子数１〜３のアルキルオキシ基、炭素原子数２〜４のアシル基、炭素原子数２〜４のアシルオキシ基、炭素原子数２〜４のアルコキシカルボニル基、シアノ基がより好ましい。
【０１０８】
Ｌ22は単結合または二価の連結基である。Ｌ22が二価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
【０１０９】
Ｌ22は単結合、および＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＯ−、＊−Ｓ−、＊−ＮＲ7−、（ここで、＊は一般式（Ｖ）中の二価の環状基に連結する位置を表す）が好ましく、単結合、＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。
【０１１０】
式（Ｖ）中の二価の環状基は、式（IV）中の二価の環状基の定義と同様である。
式（Ｖ）中の二価の鎖状基は、炭素数１〜１６の置換または無置換のアルキレン基、炭素数２〜１６の置換または無置換のアルケニレン基、炭素数２〜１６の置換または無置換アルキニレン基が好ましく、炭素数１〜１２の置換または無置換のアルキレン基がより好ましい。鎖状基の置換基としては、炭素数１〜５のアルキル基もしくはハロゲン原子が好ましい。さらに好ましくは、炭素数１〜１２の無置換のアルキレン基である。
【０１１１】
Ｑ21は重合性基または水素原子を表す。重合性基としては、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ6）＝ＣＨ2が好ましい。Ｒ6は水素原子またはメチル基を表し、好ましくは水素原子である。
【０１１２】
本発明においては、式（II）で表される化合物のなかでも、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14がそれぞれ独立に上記式（Ｖ）で表される前記式（III）で表される化合物が好ましい。
【０１１３】
以下に、式（Ｉ）または式（III）で表される化合物の具体例を示す。
【０１１４】
【化１４】
2006284903.tif 000015
【０１１５】
【化１５】
2006284903.tif 000016
【０１１６】
【化１６】
2006284903.tif 000017
【０１１７】
【化１７】
2006284903.tif 000018
【０１１８】
【化１８】
2006284903.tif 000019
【０１１９】
【化１９】
2006284903.tif 000020
【０１２０】
【化２０】
2006284903.tif 000021
【０１２１】
【化２１】
2006284903.tif 000022
【０１２２】
【化２２】
2006284903.tif 000023
【０１２３】
【化２３】
2006284903.tif 000024
【０１２４】
【化２４】
2006284903.tif 000025
【０１２５】
【化２５】
2006284903.tif 000026
【０１２６】
【化２６】
2006284903.tif 000027
【０１２７】
本発明に使用する液晶化合物は、固有複屈折率Δｎが逆波長分散性即ち下記式（I）を満足する波長分散性を有することが好ましい。本発明の液晶化合物は、同じ液晶相であれば、波長分散性は温度にほとんど依存しないが、本発明をより明確にするために、下記式（II）を満足する温度は、相が変化する温度の上限温度から２０℃下で測定した値を指すこととする。また、液晶温度範囲が２０℃以下の場合は液晶相の上限温度から１０℃下で測定した値、液晶温度範囲が１０℃以下の場合は上限温度から５℃下で測定した値、液晶温度範囲が５℃以下の場合は２℃下で測定した値を指す。
式（I）  Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．０
【０１２８】
Δｎの波長分散性は、液晶化合物を用いる用途により好ましい範囲が異なるため、一義的に範囲を限定することができないが、液晶表示装置の視野角拡大用位相差膜や輝度向上フィルムの色味視野角改善等に用いる場合のΔｎの波長分散のより好ましい範囲としては、下記式（I）−１および（I）−２を満足することが好ましい。
０．６０＜Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜０．９９  （I）−１
１．０１＜Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．３５  （I）−２
【０１２９】
本発明に使用する液晶化合物は、正または負の複屈折性のどちらの複屈折性を有していても良いが、正の複屈折性を有することが好ましい。  正の複屈折性を有する液晶相としては、詳しくは液晶便覧（丸善（株）２０００年発行）第２章などに記載されており、本発明に使用する液晶化合物を光学異方性膜（Ａ）に用いる場合には、均一な欠陥のない配向のために、良好なモノドメイン性を示すものが望ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。これは、光学異方性膜（Ａ）の透過率低下にもつながるので望ましくない。本発明に使用する液晶化合物は、特にネマチック相を発現することが好ましい。
【０１３０】
本発明に使用する液晶化合物は、低分子液晶化合物（例えば、分子量（３０００）以下）でもよいし、高分子液晶化合物（例えば、分子量（７０００）より大きい）でもよいが、液晶の配向のしやすさを考慮すると、低分子液晶化合物の方が好ましい。液晶化合物は、重合性基を有することが好ましく、化合物の分子の末端に重合性基を有することがより好ましい。重合性基を有することは、位相差板などに用いた場合に熱などにより位相差の変化を防ぐことができるので好ましい。
【０１３１】
液晶のΔｎの測定方法は、例えば液晶便覧２．４．１３（丸善（株）、２０００年）に記載されているようなくさび型の液晶セルを用いる方法を挙げることができる。この方法において、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの３種類のバンドパスフィルターを用いることで、それぞれの波長のΔｎを求める。液晶化合物が重合性基を有する場合においては、くさび型の液晶セル中で重合反応が起こることがあり、測定が困難な場合が生じやすい。このような場合は、重合禁止剤を添加し測定することが好ましい。また、液晶を均一に配向させた状態で、例えばＫＯＢＲＡ（王子計測機器（株）製）のような位相差を測定できる装置で測定することにより、それぞれの波長におけるＲｅを求め、膜厚を別途測定することで、Δｎを求めることができる（Δｎ＝Ｒｅ／ｄ（膜厚）の式より）。
【０１３２】
本発明の光学異方性膜（Ａ）は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与させることができる。
【０１３３】
本発明の光学異方性膜（Ａ）には、粘着層を設けることもできる。粘着剤層は、液晶セルへの貼着に用いることができる他、他の光学異方性膜（Ｂ）等の積層に用いられる。  粘着層は、異なる組成または種類等のものの重畳層として偏光板や光学フィルムの片面または両面に設けることもできる。また両面に設ける場合に、偏光板や光学フィルムの表裏において異なる組成や種類や厚さ等の粘着層とすることもできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、１〜５００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、１０〜１００μｍがさらに好ましい。
【０１３４】
粘着層の露出面に対しては、実用に供するまでの間、その汚染防止等を目的にセパレータが仮着されてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着層に接触することを防止できる。セパレータとしては、上記厚さ条件を除き、例えば、プラスチックフィルム、ゴムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属箔、それらのラミネート体等の適宜な薄葉体を、必要に応じシリコーン系や長鏡アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤でコート処理したものなどの、従来に準じた適宜なものを用いうる。
【０１３５】
本発明の輝度向上フィルム
液晶の動きによる偏光状態の変化を利用して画像表示する液晶表示装置には、偏光板が必要であり、そのためバックライトから放射された光の半分以上がこの偏光板によって吸収され、画像の表示に寄与できなくなる。輝度向上フィルムは、この吸収される偏光を、一度バックライト側に反射する機能を有するものであり、反射された偏光はバックライト側の光学部材によって再反射および偏光状態を変化された後に、偏光板を通過し液晶表示装置に入射できる。このため、元来、偏光板によって吸収されて表示に寄与できなかった光が利用できるようになり、その結果液晶表示装置の表示輝度を向上されることができるものである。
【０１３６】
［構成］
輝度向上フィルムは、液晶表示装置の裏側の偏光板に貼り合わせて使用することが好ましい。本発明の輝度向上フィルムは、前記光学異方性膜（Ａ）を、コレステリック液晶フィルムと、１／４波長板との間に配置して形成する。コレステリック液晶層は右左円偏光成分のうち片方のセンスの円偏光を反射し、もう片方のセンスの円偏光を透過する機能を有している。これを通過した円偏光を、偏光板を効率よく通過させるために、１／４波長板を用いて直線偏光に変換させる。１／４波長板はこの目的のために、偏光板とコレステリック液晶フィルムとの間に配置されている。しかし、コレステリック液晶層へ斜めに入射し、斜めに出射する光は、コレステリック液晶層が持つ厚み方向位相差による影響を受け楕円偏光化するため、斜め方向から見た場合に着色したり、光の利用効率のロスを生じたりする。前記の光学異方性膜（Ａ）は、コレステリック液晶層が持つ厚み方向位相差を補償する機能を有するため、この着色やロスを軽減することができる。前記の光学異方性膜（Ａ）のＲｅは面内の位相差（Ｒｅ）は４０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらも好ましい。一方、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）は光学補償の効果の観点から、−１００ｎｍ〜−６００ｎｍであることが好ましく、−１５０ｎｍ〜−４５０ｎｍであることがより好ましく、−２００ｎｍ〜−３５０ｎｍであることがさらに好ましい。コレステリック液晶フィルム、１／４波長板は、輝度向上フィルムに使用される各種のものを特に制限なく使用できる。
【０１３７】
輝度向上フィルムは、例えば、前記のＲｔｈの小さな透明支持体上に形成した光学異方性膜（Ａ）をコレステリック液晶フィルムと１／４波長板との間に粘着剤を用いて貼りあわせて形成できる。
また、１／４波長板を支持体として、本発明の光学異方性膜（Ａ）を作製し、さらに光学異方性膜（Ａ）に粘着剤層を介してコレステリック液晶フィルムを貼り合わせることにより作製することもできる。
また、支持体上に作製された光学異方性膜（Ａ）を、粘着剤層を介してコレステリック液晶フィルムまたは１／４波長板に転写した後、これに前記転写に用いていない１／４波長板またはコレステリック液晶フィルムをさらに粘着剤層を介して貼り合わせることにより作製することもできる。
【０１３８】
粘着剤層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤のような光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
【０１３９】
粘着剤層の形成は、適宜な方式で行うことができる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物または混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解または分散させた１０〜４０重量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で前記基板または液晶フィルム上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着剤層を形成してそれを前記液晶層上移着する方式などがあげられる。また、粘着剤層には、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層などであってもよい。
【０１４０】
なお、基板上で形成された前記光学異方性膜（Ａ）を、粘着剤層を介して転写する際には、光学異方性膜（Ａ）を表面処理することが好ましい。表面処理の手段は、特に制限されないが、前記光学異方性膜（Ａ）の透明性を維持できるコロナ放電処理、スパッタ処理、低圧ＵＶ照射、プラズマ処理などの表面処理法を好適に採用できる。これら表面処理法のなかでもコロナ放電処理がより好ましい。
【０１４１】
［コレステリック液晶フィルム］
コレステリック液晶フィルムは、右円偏光または左円偏光のいずれかを可視光線波長の広い範囲で反射することが好ましい。フィルムの法線方向から入射した光に対して４００ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲で反射するものが好ましく、４３０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射するものがより好ましい。  
【０１４２】
反射される光の波長は、法線方向から入射する光に対して、コレステリック液晶の螺旋の周期（ピッチ）とコレステリック液晶の平均屈折率との積で与えられるので、螺旋のピッチは２５０ｎｍから８００ｎｍのものが使用できる。ただし、コレステリック液晶による円偏光の反射波長帯域の幅は  コレステリック液晶の屈折率異方性とピッチとの積になり、通常の液晶材料では  ２００ｎｍを超えることは極めて困難である。そのため、上記の可視光領域に渡る広い反射帯域を確保するために、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層または３層以上重畳した配置構造を取らせる方法や  反射帯域が４００ｎｍと９００ｎｍ程度のコレステリック液晶フィルムを重ね合わせた後に、加熱してコレステリック液晶構成成分をフィルムの厚さ方向に拡散させることによって、ピッチの連続的な分布を厚さ方向に形成して、反射帯域を広げる方法がある。ピッチの連続的な分布を厚さ方向に形成する別な方法としては、ＵＶ吸収剤と光異性化キラル剤をコレステリック液晶の構成成分に用いて、コレステリック液晶を配向した後に、ＵＶ光を照射する方法や、ＵＶ吸収剤と重合反応速度の異なるモノマーをコレステリック液晶の構成成分として配合して、照度の低いＵＶ光を照射して形成する方法がある。
【０１４３】
コレステリック液晶フィルムは、コレステリック高分子液晶や重合性のコレステリック液晶をラビングした配向膜が形成されている支持体の上で、その螺旋軸を支持体の法線方向と略平行にして配向させたのち固定化して形成する。コレステリック液晶は、例えば、棒状液晶化合物と光学活性な化合物とを混合して得られる。棒状液晶化合物は重合性の基を複数有するものが好ましい。コレステリック高分子液晶では、光学活性な置換基をポリマーに結合したものを用いることができる。光学活性な化合物の混合量を増大するとコレステリック液晶のピッチは混合量に比例して短くなるので、これを利用すれば容易に反射帯域を調整することができる。
【０１４４】
コレステリック液晶フィルムの厚さは、１〜３０μｍであることが好ましく、２〜１５μｍであることがより好ましい。なお、コレステリック液晶フィルムには、ポリマーや空気界面側配向剤、界面活性剤、安定剤、可塑剤などの無機化合物、有機化合物、金属やその化合物などの１種以上の添加剤を必要に応じて配合することができる。
【０１４５】
［１／４波長板］
１／４波長板は、使用目的に応じた適宜な位相差板が用いられる。１／４波長板は、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御することができる。位相差板としては、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーなどの液晶材料からなる配向フィルム、液晶材料の配向層をフィルムにて支持したものなどが挙げられる。１／４波長板の厚さは、０．５〜２００μｍであることが好ましく、１〜１００μｍであることがより好ましい。
【０１４６】
可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば、波長５５０ｎｍの淡色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層または２層以上の位相差層からなるものであってよい。
【０１４７】
本発明の積層光学フィルムの構成と形成方法
本発明の積層光学フィルムは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＦＦＳ(Ｆｒｉｎｇｅ‐Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。本発明の積層光学フィルムには、各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償の作用がある。
また、直交偏光板を斜めから見た場合の偏光軸交差角度の直交からのズレに基づく光漏れを軽減できる効果がある。
【０１４８】
本発明の積層光学フィルムは、前記光学異方性膜（Ａ）と少なくとも一層以上の光学異方性膜（Ｂ）とが積層されたものである。
積層光学フィルムは、例えば、光学異方性膜（Ｂ）を支持体として、本発明の光学異方性膜（Ａ）を塗布配向固定して作製できる。
また、支持体上に作製された光学異方性膜（Ａ）を、粘着剤層を介して光学異方性膜（Ｂ）に転写して作製することができる。または、前記のＲｔｈの小さな透明支持体上に形成した光学異方性膜を光学異方性膜に粘着剤を用いて貼りあわせて形成できる。
【０１４９】
［光学異方性膜（Ｂ）］
光学異方性膜（Ｂ）には、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどを使用することができ、また使用目的に応じた適宜な光学異方性膜（Ｂ）を有する２種以上の光学異方性膜（Ｂ）を積層して位相差等の光学特性を制御することができる。このような光学異方性膜（Ｂ）としては、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーなどの液晶化合物からなる配向フィルム、液晶材料の配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。他に二軸延伸処理や直交する二方向に延伸処理等された複屈折を有するフィルム、傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理または／および収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。特に、前記光学異方性膜（Ａ）と組み合わせることで、より高機能な光学特性を作り出せる光学異方性膜（Ｂ）として、以下に説明する透明光学異方性フィルムおよびＲｅが小さなセルロースアシレートフィルムが好適に用いられる。
【０１５０】
《透明光学異方性フィルム》
光学異方性膜（Ｂ）としての透明光学異方性フィルムは面内の位相差(Ｒｅ)が３０ｎｍ〜１８０ｎｍ、厚さ方向の位相差(Ｒｔｈ)が４０ｎｍ〜３５０ｎｍ）のセルロースアシレート若しくはシクロオレフィンを含有する透明光学異方性フィルムであることが好ましい。
偏光板の斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、Ｒｅは、４０ｎｍ〜１６０ｎｍであるのがより好ましく、６０ｎｍ〜１５０ｎｍであるのがさらに好ましい。また  斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、Ｒｔｈは、５０ｎｍ〜３００ｎｍであるのがより好ましく、６０ｎｍ〜２５０ｎｍであるのがさらに好ましい。  この範囲であれば透明光学異方性フィルムは光学的に一軸性であっても、二軸性であってもよい。
【０１５１】
基本的には前記透明光学異方性フィルムは、前記光学特性を有する限り、その材料および形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明支持体上に高分子化合物を塗布後に加熱延伸した膜、および透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【０１５２】
複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な一軸配向若しくは二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるもの好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、セルロースアシレート、または、それらポリマーの２種または３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。このうち、透明性や均一性などの光学性能の観点からは、セルロースアシレートやノルボルネン系のフィルムを含んでいるのがより好ましい。これらの製膜方法は前述の支持体の説明に述べた方法を用いてもよい。
【０１５３】
フィルムの二軸配向は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該熱可塑性樹脂からなるフィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより達成することができる。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より１〜３００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましく、２０〜１５０μｍがさらに好ましい。延伸は１．０１〜２倍の倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことができる。
【０１５４】
上記透明二軸フィルム（Ｂ）と光学異方性膜（Ａ）とを積層してなる積層光学フィルムは、特にＩＰＳ用液晶表示装置の視野角拡大フィルムとして好適に用いることができる。
またＶＡ用の位相差膜としても好適に用いることが可能である。ＩＰＳ用液晶表示装置の視野角拡大フィルムとして用いる場合には、光学異方性膜（Ｂ）の厚み方向の位相差Ｒｔｈは、８０ｎｍ〜４００ｎｍである。このＲｔｈのより好ましい範囲は、他の光学部材の光学特性に応じて変動し、特に、より近くに位置する偏光膜の保護膜（例えば、トリアセチルセルロースフィルム）のＲｔｈに応じて、大きく変動する。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、Ｒｔｈは、１００ｎｍ〜３４０ｎｍであるのがより好ましく、１２０ｎｍ〜２７０ｎｍであるのがさらに好ましい。
【０１５５】
《Ｒｅが小さいセルロースアシレートフィルム》
光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さいセルロースアシレートフィルムとしては、波長６３０ｎｍにおける面内の位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下（０≦Ｒｅ（６３０）≦１０）でかつ、膜厚方向の位相差Ｒｔｈがー１００ｎｍ〜２５ｎｍであることが好ましい。より好ましくは、０≦Ｒｅ（６３０）≦５、かつ、−６０≦Ｒｔｈ（６３０）≦２０であり、さらに好ましくは、０≦Ｒｅ（６３０）≦２、かつ、−４０≦Ｒｔｈ（６３０）≦１５である。
【０１５６】
さらに、波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムが好ましく、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５であることがより好ましい。さらに好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦５、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦２５であり、最も好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦３、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦１５である。
このフィルムと本発明の光学異方性膜との積層で、偏光板の視野角を効果的に広げる部材を提供できる。
また、積層したＲｅが小さいセルロースアシレートフィルムを偏光板の保護フィルムと使用した場合には、本発明の光学異方性膜（Ａ）の必要な厚さを薄くできる効果がある。
上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基、プロピオニル基およびブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに好ましくは２．６５〜３．００である。
本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【０１５７】
上記セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【０１５８】
セルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
本発明で用いることができるセルロースアシレートフィルムは、膜厚方向のＲｔｈが下記式（III）および（IV）を満たすようなＲｔｈを低下させる化合物を含有することが好ましい。
（III）（Ｒｔｈ(A)−Ｒｔｈ(0)）／Ａ≦−１．０
（IV）０．０１≦Ａ≦３０
（式（III）および（IV）中、Ｒｔｈ(A)は、Ｒｔｈを低下させる化合物をＡ％含有した保護膜のＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ(0)は、該保護膜であって、Ｒｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ａは、フィルム原料ポリマーの重量を１００としたときのＲｔｈを低下させる化合物の重量（％）を表す。）
上記式（III）、（IV）は
（III-I）（Ｒｔｈ(A)−Ｒｔｈ(0)）／Ａ≦−２．０
（IV-I）０．１≦Ａ≦２０
であることがさらに好ましい。
【０１５９】
セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物について説明する。本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、フィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学異方性を十分に低下させ、ＲｅがゼロかつＲｔｈがゼロに近くなるようにした。このためには光学異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【０１６０】
本発明で用いることができるセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物を採用することにより、セルロースアシレートとの相溶性がより良くなり、フィルムの白濁や粉吹きをより効果的に防止することができる。また、ｌｏｇＰ値が０以上の化合物を採用することにより、親水性が高いために、セルロースアセテートフィルムの耐水性が悪化してしまうのをより効果的に防止できる。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）、Viswanadhan's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,163(1989).）、Broto's fragmentation法（Eur.J.Med.Chem.− Chim.Theor.,19,71(1984).）などが好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。
【０１６１】
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０〜３０００であることが好ましく、１７０〜２０００であることがより好ましく、２００〜１０００であることがさらに好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０１６２】
光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％となるよう存在するのが好ましい。光学異方性を低下させる化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面および中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【０１６３】
以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。
【０１６４】
光学異方性を低下させる化合物としては、下記一般式（１３）または一般式（１８）で表される化合物が挙げられる。
【化２７】
2006284903.tif 000028
一般式（１３）中、Ｒ111はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ112およびＲ113は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ111、Ｒ112およびＲ113の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。Ｒ111、Ｒ112およびＲ113は置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基、シアノ基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）が特に好ましい。
【０１６５】
【化２８】
2006284903.tif 000029
一般式（１８）中、Ｒ17はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
Ｒ17は、フェニル基または、環状アルキル基が好ましい。Ｒ15およびＲ16は、それぞれ、フェニル基またはアルキル基が好ましい。アルキル基としては、環状アルキル基および直鎖のアルキル基のいずれも好ましい。
これらの基は、置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。
一般式（１８）で表される化合物は、より好ましくは一般式（１９）で表される化合物である。
【化２９】
2006284903.tif 000030
一般式（１９）中、Ｒ114、Ｒ115およびＲ116はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。アルキル基は、環状アルキル基および直鎖のアルキル基のいずれも好ましいく、アリール基はフェニル基が好ましい。
以下に、一般式（１３）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。尚、化合物中、Ｐｒiは（イソプロピル）を意味する（以下、同じ）。
【０１６６】
【化３０】
2006284903.tif 000031
【０１６７】
【化３１】
2006284903.tif 000032
【０１６８】
【化３２】
2006284903.tif 000033
【０１６９】
以下に、一般式（１８）（および一般式（１９））で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。尚、化合物中、Ｂｕiはイソブチル基を意味する。
【０１７０】
【化３３】
2006284903.tif 000034
【０１７１】
【化３４】
2006284903.tif 000035
【０１７２】
【化３５】
2006284903.tif 000036
2006284903.tif 000037
【０１７３】
【化３６】
2006284903.tif 000038
【０１７４】
【化３７】
2006284903.tif 000039
【０１７５】
【化３８】
2006284903.tif 000040
【０１７６】
【化３９】
2006284903.tif 000041
【０１７７】
【化４０】
2006284903.tif 000042
【０１７８】
Ｒｔｈをさらに小さくし、負にするための手段は、支持体の製作方法に説明した手法が適用できる。
【０１７９】
本発明の画像表示装置
本発明の光学異方性膜（Ａ）や積層光学フィルムの利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、米国特許第５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特許第２８６６３７２号公報に記載がある。
さらにエレクトロルミネセンス装置やフィールドエミッション表示装置などの反射防止の目的にも偏光板と組み合わせて、本発明の光学異方性膜や積層光学フィルムの使用が効果がる。
【０１８０】
本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）を作製することができる。本発明の位相差板は、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＶＡおよびＨＡＮモードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
【実施例】
【０１８１】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１８２】
実施例１  Ｇ−１Ｇの合成
下記スキームに従い合成した。
【０１８３】
【化４１】
2006284903.tif 000043
【０１８４】
（Ｇ−１Ａの合成）
６−ブロモ−２−ヒドロキシ−３−メトキシベンズアルデヒド１０．２ｇを４０ｍｌのジメチルホルムアミドに溶解後、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）５０ｇとヨウ化銅０．８ｇを添加し、９５℃で８時間攪拌した。冷却後、水を加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を減圧留去し、Ｇ−１Ａの結晶７．４ｇを得た。
【０１８５】
（Ｇ−１Ｂの合成）
７．４ｇのＧ−１Ａおよびジイソプロピルエチルアミン１１ｍｌにジクロロメタン１００ｍｌを加え、内温３０℃以下で２−メトキシエトキシメチルクロライド（ＭＥＭＣｌ）７．０ｍｌを滴下した。室温で５時間攪拌後、水を加えジクロロメタンで抽出した。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、１０．０ｇのＧ−１Ｂを得た。
【０１８６】
（Ｇ−１Ｃの合成）
ブロモメチルトリフェニルホスホニウムブロミド２７．５ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに懸濁後、ｔ−ＢｕＯＫ１０．５ｇを加え１時間攪拌した。テトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解した８．５ｇのＧ−１Ｂを反応液に滴下後、さらに室温で２時間攪拌し、ｔ−ＢｕＯＫ１３ｇ追加した。５０℃で１時間攪拌後、水を加え、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、３．２ｇのＧ−１Ｃを得た。
【０１８７】
（Ｇ−１Ｄの合成）
２．６ｇのＧ−１Ｃ、１，４−ジブロモベンゼン１．０５ｇ、トリフェニルホスフィン１００ｍｇ、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド５０ｍｇおよびヨウ化銅（Ｉ）１０ｍｇをトリエチルアミン１００ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下で１０時間還流した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、２．８ｇのＧ−１Ｄを得た。
【０１８８】
（Ｇ−１Ｅの合成）
２．８ｇのＧ−１Ｄおよびピリジニウムパラトルエンスルホン酸（ＰＰＴＳ）０．６ｇをエタノール１００ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下で１２時間還流した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を減圧留去し、Ｇ−１Ｅ  １．９ｇを得た。
【０１８９】
（Ｇ−１Ｆの合成）
１．９ｇのＧ−１Ｅおよびｔ−ＢｕＯＫ１．５ｇをエタノール７０ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下で１２時間還流した。冷却後、析出した結晶を濾取し、乾燥することでＧ−１Ｆ  １．６ｇを得た。
【０１９０】
（Ｇ−１Ｇの合成）
Ｇ−１Ｆ１．６ｇをジクロロメタン１００ｍｌに溶解させ、三臭化ホウ素（１．０Ｍジクロロメタン溶液）１００ｍｌを添加し、１０時間還流した。冷却後、反応液に水を加え、析出した結晶をろ過により濾取した。この結晶を乾燥することで、Ｇ−１Ｇ  １．１ｇを得た。
【０１９１】
実施例２  Ｇ−２の合成
下記スキームに従い合成した。
【化４２】
2006284903.tif 000044
メタンスルホニルクロライド０．４３ｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解させ０℃に冷却した。この溶液に４−（４−アクリロイルオキシブチルオキシ）安息香酸１．０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン０．５１ｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を滴下した。０℃で１時間撹拌後、ジイソプロピルエチルアミン０．５１ｇ、４−ジメチルアミノピリジン０．０２ｇを添加し、実施例１に従って得られた０．１４ｇのＧ−１Ｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を添加した。室温で１２時間撹拌後、反応液にメタノール１００ｍｌを加え、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を乾燥後、カラムクロマトグラフィーを用いて精製し、Ｇ−２の結晶０．２２ｇを得た。得られたＧ−２のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
【０１９２】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
１．９０−２．００（１６Ｈ、ｍ）
４．１２−４．１６（８Ｈ、ｍ）
４．２７−４．３１（８Ｈ、ｍ）
５．８３（４Ｈ、ｄｄ）
６．１３（４Ｈ、ｄｄ）
６．４２（４Ｈ、ｄｄ）
６．９８（２Ｈ、ｓ）
７．０１（４Ｈ、ｄ）
７．０３（４Ｈ、ｄ）
７．１４（２Ｈ、ｄ）
７．２０（２Ｈ、ｄ）
７．７８（４Ｈ、ｓ）
８．２４（４Ｈ、ｄ）
８．２６（４Ｈ、ｄ）
【０１９３】
得られたＧ−２の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき１８０℃付近で結晶相からネマチック相に変わり、２５０℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｇ−２は１８０℃から２５０℃の間でネマチック相を呈することが認められた。
【０１９４】
［波長分散性の測定］
（配向膜の形成）
Ｇ−２（５０ｍｇ）と、添加剤ＳＨ−１（０．２ｍｇ）をクロロホルム０．５ｍｌに溶解させ、ラビング処理を施した下記の変性ポリビニルアルコール配向膜付ガラス板上にスピンコートした。このサンプルをホットステージ（（株）北里サプライ（製）ＭＰ２００ＤＭＳＨ）で１９０℃に加熱し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）でレターデーションを求め、別途求めた膜厚よりΔｎを求めたところ、それぞれ、Δｎ（４５０ｎｍ）＝０．０５７、Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．０６３、Δｎ（６５０ｎｍ）＝０．０６６であった。即ちΔｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．９１、Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝１．０５であることがわかった。
【０１９５】
【化４３】
2006284903.tif 000045
【０１９６】
【化４４】
2006284903.tif 000046
【０１９７】
実施例３  合性液晶化合物を用いた垂直配向光学異方性膜Ａ１〜Ａ３の作製
ガラス基板上に、市販のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（クラレ社製、ＭＰ‐２０３）を水／メタノール＝４／１の混合溶媒で溶解した後、バー塗布した後、１２００℃、５分間加熱して配向膜付基板を製作した。この配向膜表面をラビングして、上記液晶化合物Ｇ−２（１００質量部）、重合開始剤（３質量部）（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）、増感剤（１質量部）（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製、下記配向膜界面垂直配向剤(２質量部)）および下記空気界面垂直配向剤(０．２質量部)をクロロホルム(３５０質量部)に溶解させ、バー塗布した後に、１８０℃に加熱し配向させた。その後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性膜の配向状態を固定した。バーの番手と塗布液の濃度を調製することにより厚さが、それぞれ、３．１μｍ（光学異方性膜Ａ−１）、２．２μｍ（光学異方性膜Ａ−２）、および２．７μｍ（光学異方性膜Ａ−３）の光学異方性膜（Ａ）を得た。
【０１９８】
【化４５】
2006284903.tif 000047
【０１９９】
【化４６】
2006284903.tif 000048
【０２００】
作製した光学異方性膜（Ａ）の光学異方性を自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いてＲｅの光入射角度依存性を測定しで求めたところ、それぞれ、Ｒｅ／Ｒｔｈ＝０ｎｍ／−２１０ｎｍ（光学異方性膜Ａ−１）、Ｒｅ／Ｒｔｈ＝０ｎｍ／−１４５ｎｍ（光学異方性膜Ａ−２）、Ｒｅ／Ｒｔｈ＝０ｎｍ／−１８０ｎｍ（光学異方性膜Ａ−３）であった。別途求めた膜厚よりΔｎを求めたところ、いずれの光学異方性膜も、Δｎ（４５０ｎｍ）＝０．０６１、Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．０６７、Δｎ（６５０ｎｍ）＝０．０７０であった。即ちΔｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．９１、Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝１．０４であった。このようにして本発明に光学異方性膜（Ａ）を形成できた。これらの波長分散性は、重合していない実施例２の結果とほぼ同じであった。この結果より、逆波長分散性を有する液晶化合物を光重合して光学異方性膜（Ａ）を形成しても、重合前後で逆波長分散性は変化しないことが認められた。
【０２０１】
実施例４
＜輝度向上フィルムの作製＞
市販の厚さ８０μｍのセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、４００〜７００ｎｍの帯域において円偏光二色性を示すコレステリック液晶層（厚さ５μｍ）を形成したものを用い、この上にアクリル系粘着剤を塗布して、実施例３で形成した光学異方性膜Ａ−１を貼り合わせた後、支持体であるガラス基板を剥離した。
さらに光学異方性膜Ａ−１上にアクリル系粘着剤を塗布して、ポリカーボネートフィルムを延伸配向したＲｅが１３７ｎｍである１／４波長板（厚さ６０μｍ）を貼り合せて、輝度向上フィルムを作製した。
さらに、この１／４波長板の上に粘着剤を塗布して、１／４波長板の遅相軸が偏光板の透過軸とのなす角度が４５度となるように、偏光板を貼り付けた。
【０２０２】
これを、導光板付、バックライト上に拡散フィルム、輝度向上フィルム（コレステリック液晶層/光学異方性膜Ａ−１／１／４波長板）、偏光板、液晶セル、偏光板の順で配置された液晶ディスプレイを用いて、白レベルでの正面輝度（ｃｄ／ｍ2 ）を、分光放射輝度計を用いて測定した。
また、輝度向上フィルムを装着しない以外は、これと同じ構成で測定を行い、この値に対する輝度向上フィルム装着時の輝度の比（輝度向上率）を求めたところ、１．３１倍であった。
また、斜め視角方向（角度４５°）の色ムラが極めて小さいことを目視にて確認した。
【０２０３】
実施例５
＜ＩＰＳモード液晶セルの作製＞
一枚のガラス基板上に、図１に示す液晶素子画素領域１に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極（図１中画素電極２および表示電極３）を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。図１中に示す方向４に、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９および誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。尚、図１中、５ａおよび５ｂは黒表示時の液晶化合物のダイレクターを、６ａおよび６ｂは白表示時の液晶化合物のダイレクターを、ぞれぞれ示している。
【０２０４】
＜光学異方性膜Ａ−２つき偏光板１の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、市販のセルロースアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製、フジタックＴＤ８０ＵＦ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、この偏光膜の両側に貼り付け偏光板を形成した。この偏光板の片面側に接着剤を塗り、この接着剤面に上記ガラス基板上の光学異方性膜Ａ−２を貼り合わせ、これをローラーで加圧加温した後に、光学異方性膜Ａ−２の支持体であるガラス基板を剥離し、光学位異方性膜付偏光板１を形成した。
【０２０５】
＜位相差膜１つき偏光板２の作製＞
上記セルロースアセテートフィルムの表面をケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にフィルムの遅相軸方向と平行の方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
実施例２で用いた変性ポリビニルアルコール                      １０質量部
水                                                          ３７１質量部
メタノール                                                  １１９質量部
グルタルアルデヒド                                          ０．５質量部
テトラメチルアンモニウムフルオライド                        ０．３質量部
【０２０６】
次に、配向膜上に、下記のディスコチック液晶化合物１．８ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）０．２ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇ、空気界面垂直配向剤（例示化合物Ｐ−６）０．０１ｇを３．９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を、＃６のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、ディスコチック液晶化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射しディスコチック液晶化合物を架橋し、その後、室温まで放冷してディスコチック液晶位相差層を形成した。セルロースアセテートフィルムからなる支持体とディスコチック液晶位相差層とからなるフィルムを位相差膜１とする。
【０２０７】
【化４７】
2006284903.tif 000049
【０２０８】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、位相差膜１のＲｅの光入射角度依存性を測定し、予め測定したセルロースアセテートフィルムの寄与分を差し引くことによって、ディスコチック液晶位相差層のみの光学特性を算出したところ、Ｒｅが２１５ｎｍ、Ｒｔｈが−１１７ｎｍ、液晶の平均傾斜角は８９．９°であり、ディスコチック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。なお遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であった。上記作製したディスコチック液晶位相差層は、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行方向にある位相差層であった。
【０２０９】
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作した。ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、これに作製した位相差膜１を、セルロースアセテートフィルムが偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と位相差膜１の遅相軸（ディスコチック液晶位相差層の遅相軸もこれに一致する）とは直交になるように配置した。市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付け、偏光板２を製作した。
【０２１０】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、位相差膜１の遅相軸が液晶セルのラビング方向と直交になるように（即ち、ディスコチック液晶位相差層の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つディスコチック液晶位相差層面側が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、ＩＰＳモード液晶セルのもう一方の側に、上記作製した偏光板１を光学異方性膜Ａ−２側が液晶セル側になるように且つクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置を作製した。
【０２１１】
＜作製した液晶表示装置の漏れ光の測定＞
このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。測定はまず、暗室内に設置されたシャーカステン上に、偏光板を貼り合わせない状態で前記製作したＩＰＳモード液晶セルを置き、液晶セルのラビング方向を基準として左方向に４５度の方位で、且つ液晶セル法線方向から方向６０°の方向に１ｍ離れたところに設置された輝度計で輝度１を測定した。次いで、上記と同じシャーカステン上に漸次偏光板を貼り付けた液晶表示パネルを同様に配置して、暗表示の状態で同様に輝度２を測定し、これを輝度1に対する１００分率で表したものを漏れ光とした。測定した漏れ光は０．０３％であった。さらに黒表示状態での極角６０°で黒の色味身の方位角方向依存性を目視で観察したが、色味の変化は感知できなかった。
【０２１２】
実施例６
＜光学異方性膜Ｂ−５の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。該溶液を保留粒子サイズ４μｍ、濾水時間３５秒の濾紙（Ｎｏ．６３、アドバンテック製）を５ｋｇ／ｃｍ2以下で用いてろ過した。
【０２１３】
────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）                    １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
────────────────────────────────────
【０２１４】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤Ａを８質量部、レターデーション上昇剤Ｂを１０質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒子サイズ：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーション上昇剤溶液４０質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０２１５】
【化４８】
2006284903.tif 000050
【０２１６】
【化４９】
2006284903.tif 000051
【０２１７】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後クリップを外してセルロースアセテートフィルムを作製した。延伸終了時の残留溶媒量は５質量％であり、さらに乾燥して残留溶媒量を０．１質量％未満としてフィルムを作製した。
【０２１８】
このようにして得られたフィルム（光学異方性膜Ｂ−５）の厚さは８０μｍであった。作製した光学異方性膜Ｂ−５について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することによって、Ｒｅが７０ｎｍ、Ｒｔｈが１７５ｎｍであることが分かった。
＜積層光学フィルム１の作製＞
光学異方性膜Ｂ−５にケン化処理を行い、その表面に接着剤を塗布して、これに実施例３で製作した光学異方性膜Ａ−３を貼り合わせ、これをローラーで加圧加温した後に、光学異方性膜Ａ−３の支持体であるガラス基板を剥離し、積層光学フィルム１を形成した。
【０２１９】
＜偏光板３の作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製、フジタックＴＤ８０ＵＦ、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝４５ｎｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した積層光学フィルム１を、光学異方性膜Ｂ−５側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸と光学異方性膜Ｂ−５の遅相軸が平行になるように偏光膜のセルロースアセテートフィルムを貼合していない側に貼り付け偏光板３を形成した。
【０２２０】
＜偏光板４の作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製、フジタックＴＤ８０ＵＦ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして市販のセルロースアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製、フジタックＴ４０ＵＺ、Ｒｅ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝３５ｎｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板４を形成した。
【０２２１】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、光学異方性膜Ｂ−５の遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、光学異方性膜Ｂ−５の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ光学異方性膜Ａ−３面側が液晶セル側になるように偏光板３を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セルのもう一方の側に偏光板４をフジタックＴ４０ＵＺ側が液晶セル側になるように、且つ偏光板３とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を実施例５と同様にして測定したところ漏れ光は０．０７％であった。
【０２２２】
実施例７
＜光学異方性膜６の作製＞
厚さ１００μｍのノルボルネン系フィルム（ゼオノア、日本ゼオン（株）製）を縦延伸（温度１８０℃、連続延伸）して延伸複屈折率ロール状フィルムを得た。光学特性は、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し算出した。その結果、Ｒｅ１４０ｎｍ、Ｒｔｈ１４０ｎｍであり、遅相軸方向はロール状フィルムの長手方向と平行していた。これを光学異方性膜６とした。
【０２２３】
＜光学異方性膜Ｂ−７の作製＞
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
【０２２４】
（セルロースアセテート溶液Ａ組成）
酢化度２．８６のセルロースアセテート    １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                    ６０．０質量部
【０２２５】
（マット剤溶液の調製）
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子(ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
【０２２６】
（マット剤溶液組成）
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子分散液  １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）            ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                      ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                １０．３質量部
【０２２７】
（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０２２８】
（添加剤溶液組成）
光学異方性を低下させる化合物（Ａ−０１）  ４９．３質量部
波長分散調整剤（ＵＶ−０１）                ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）            ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                      ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                １２．８質量部
なお、Ａ−０１のＬｏｇＰ値はそれぞれ２.９である。
【０２２９】
【化５０】
2006284903.tif 000052
【０２３０】
【化５１】
2006284903.tif 000053
【０２３１】
（セルロースアセテートフィルムの作製）
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学異方性を低下させる化合物および波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．８％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルムを製造した。得られたセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍであった。
【０２３２】
また、この膜のＲｅ(630)は０.３ｎｍ、Ｒｔｈ(630)は３.２ｎｍ、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜は１．２ｎｍ、｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜は７.５ｎｍ、フィルムのＴｇは１３４.３℃、フィルムのヘイズは０.３４％、ΔＲｔｈ（１０％ＲＨ−８０％ＲＨ）は２４.９ｎｍであった。この膜を光学異方性膜Ｂ−７とした。
【０２３３】
＜積層光学フィルム２および偏光板５の作製＞
製作した光学異方性膜Ｂ−７の表面をケン化処理をした後に、これに接着剤を塗布して、実施例３で製作した光学異方性膜Ａ−２を貼り付け、支持体であるガラス板を剥離して、積層光学フィルムを製作した。
さらに、この光学異方性膜Ａ−２に接着剤を塗布して、光学異方性膜６を貼り合わせて積層光学フィルム２を製作した。
これを実施例５と同様に製作した偏光膜の片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、積層光学フィルムの光学異方性膜Ｂ−７が偏光膜側になるように、且つ偏光板の吸収軸が光学異方性膜６の遅相軸と平行になるように貼り付けた。さらにこの偏光膜のもう片側に市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、貼り付け偏光板５を形成した。
【０２３４】
＜偏光板６の作製＞
実施例５と同様に製作した偏光膜の片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、表面をケン化処理した光学異方性膜Ｂ−７を貼り付けた。さらにこの偏光膜のもう片側に市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、貼り付け偏光板６を形成した
【０２３５】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、光学異方性膜６の遅相軸が液晶セルのラビング方向と直交になるように（即ち、光学異方性膜６の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ光学異方性膜６面側が液晶セル側になるように偏光板５を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セルのもう一方の側に偏光板６を光学異方性膜Ｂ−７が液晶セル側になるように、且つ偏光板５とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を実施例５と同様にして測定したところ漏れ光は０．０５％であった。
【０２３６】
比較例１
＜一般的な重合性棒状液晶化合物との比較＞
下記の一般的な重合性液晶化合物ＮＧ−１を化合物Ｇ−２の替わりに用いて、配向固定を１００℃で行った以外は、実施例３と同様にして、膜の厚みが約１．７μｍと１．４μｍの垂直配向固定した位相差膜を形成した。作製した位相差膜の光学異方性を自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いてＲｅの光入射角度依存性を測定しで求め別途求めた膜厚よりΔｎを求めたところ、いずれの光学異方性膜も、Δｎ（４５０ｎｍ）＝０．１１６、Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．１０４、Δｎ（６５０ｎｍ）＝０．１００であった。即ちΔｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝１．１２、Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．０９６であった。
【０２３７】
【化５２】
2006284903.tif 000054
【０２３８】
比較例２
実施例４で製作した輝度向上フィルムの光学異方性膜Ａ−１を、上記比較例１で製作した通常の波長分散の位相差膜（Ｒｅ／Ｒｔｈ＝０ｎｍ/−２１０ｎｍ）に変えた以外は、実施例４と同様に製作したものの輝度向上率は１．２７であった。
また、斜め視角方向（角度４５°）の色ムラが極めて大きいことを目視にて確認した。
【０２３９】
比較例３
前記作製したＩＰＳモード液晶セルの両側に市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を、クロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置を作製した。
本発明の光学異方性膜（Ａ）や積層光学フィルムは用いなかった。上記液晶表示装置では、実施例５と同様に、上側の偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように偏光板を貼り付けた。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を同様に測定したところ０．５５％と大きなものであり、このため本発明の表示装置と比較してコントラスト視野角が大変狭いものであった。
【０２４０】
比較例４
実施例５で製作した液晶表示装置に使用した、光学位異方性膜付偏光板１の光学異方性膜Ａ−２を、上記比較例１で製作した通常の波長分散の位相差膜（Ｒｅ／Ｒｔｈ＝０ｎｍ/−１４５ｎｍ）に変えた以外は、実施例５と同様に液晶表示装置を製作した。実施例５と同様に測定した漏れ光は０．０５％であった。さらに黒表示状態での極角６０°で黒の色味の方位角方向依存性が認められた。
【図面の簡単な説明】
【０２４１】
【図１】本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０２４２】
１    液晶素子画素領域
２    画素電極
３    表示電極
４    ラビング方向
５ａ、５ｂ  黒表示時の液晶化合物のダイレクター
６ａ、６ｂ  白表示時の液晶化合物のダイレクター
【図１】
2006284903.tif 000058