(57)【要約】【課題】  金属繊維異物の混入を抑えたフィルムを製造する。【解決手段】  ＴＡＣと可塑剤とを含む原料ドープ３６を、濾過装置５７により濾過する。濾過装置５７に、原料ドープ３６の流下方向に順に、第１層５９ａ、第２層５９ｂ、第３層５９ｃからなる濾材５９を配置する。第１層５９ａは８μｍ，第２層５９ｂは４μｍ，第３層５９ｃは２０μｍの平均径を有する金属繊維を焼結させて、各層５９ａ〜５９ｃを構成する。濾材５９を４００℃，２時間で焙焼させて再利用する。第１層５９ａ，第２層５９ｂの金属繊維から生じる破損物は第３層５９ｃで濾過され、金属繊維異物としてドープに混入してしまうことがなくなる。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースアシレートと溶媒とを含むドープを濾過手段により濾過するドープ濾過方法において、
前記濾過手段は、焼結金属繊維からなる第１濾材と、前記第１濾材の焼結金属繊維の平均径よりも大きな平均径を有し、この平均径が１５μｍ以上６０μｍ以下である焼結金属繊維からなる第２濾材とを備え、
これら第１及び第２濾材が前記ドープの流れ方向に順に配置されたことを特徴とするドープ濾過方法。
【請求項２】
前記第１濾材は、複数の層からなり、前記複数の層のうちの少なくとも一つの層を構成する焼結金属繊維の平均径が４μｍ以上８μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のドープ濾過方法。
【請求項３】
前記濾過手段は筒状であり、第１濾材が外側に、第２濾材が内側に配置されたことを特徴とする請求項２記載のドープ濾過方法。
【請求項４】
前記第１濾材は、前記ドープ流れ方向に順に層設された第１層及び第２層を有し、前記第２層の前記焼結金属繊維の平均径が４μｍ以上８μｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記載のドープ濾過方法。
【請求項５】
前記第１層の前記焼結金属繊維の平均径を８μｍ以上６０μｍ以下とすることを特徴とする請求項４記載のドープ濾過方法。
【請求項６】
前記第２濾材は、前記濾過手段の最も下流側の濾材であることを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載のドープ濾過方法。
【請求項７】
前記濾過手段を３５０℃以上５００℃以下の温度で焙焼し、再利用することを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項記載のドープ濾過方法。
【請求項８】
前記濾過手段に対してドープ流れ方向の上流側に配置された非金属製濾過手段により、前記濾過手段で濾過する前の前記ドープを濾過することを特徴とする請求項１ないし７いずれか１項記載のドープ濾過方法。
【請求項９】
前記非金属製濾過手段は濾紙または濾布であることを特徴とする請求項８記載のドープ濾過方法。
【請求項１０】
前記溶媒が塩素系溶媒であることを特徴とする請求項１ないし９いずれか１項記載のドープ濾過方法。
【請求項１１】
前記焼結金属繊維が、オーステナイト系ステンレス，マルテンサイト系ステンレス，フェライト系ステンレスもしくはこれらの複合系のステンレスのうち少なくとも１種を含んだ素材から形成されていることを特徴とする請求項１ないし１０いずれか１項記載のドープ濾過方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１１いずれか１項記載のドープ濾過方法により濾過された前記ドープを支持体上に流延して剥離し、乾燥させてフィルムを製造することを特徴とする溶液製膜方法。
【請求項１３】
前記セルロースアシレートはセルローストリアセテートであることを特徴とする請求項１２記載の溶液製膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドープの濾過方法及び溶液製膜方法に関し、より詳しくはセルロースアシレートと溶媒とを含むドープの濾過方法及び溶液製膜方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
セルロースアシレート、特に５７．５％〜６２．５％の平均酢化度を有するセルロールトリアセテート（ＴＡＣ）から形成されるＴＡＣフィルムは、その強靭性と難燃性とから写真感光材料のフィルム用支持体として利用されている。また、ＴＡＣフィルムは光学等方性に優れていることから、近年市場の拡大している液晶表示装置の偏光板の保護フィルム、光学補償フィルム（例えば、視野角拡大フィルムなど）などに用いられている。
【０００３】
ＴＡＣフィルムは、通常溶液製膜方法により製造されている。溶液製膜方法は、溶融製膜方法などの他の製造方法と比較して、光学的性質に優れたフィルムを製造することができる。溶液製膜方法では、先ずジクロロメタンや酢酸メチルを主溶媒とする混合溶媒にポリマーを溶解して高分子溶液（以下、ドープと称する）を調製する。次に、ドープを流延ダイより支持体上に流延して流延膜を形成する。その流延膜が支持体上で自己支持性を有するものとなった後に、支持体から膜（以下、この膜を湿潤フィルムと称する）として剥ぎ取り、乾燥させた後にフィルムとして巻き取る。
【０００４】
溶液製膜や紡糸などに使用されるドープ中の異物除去のために、焼結金属繊維製の濾材（フィルタ）を用いた濾過を行うことが知られている（例えば、特許文献１ないし４参照）。これは焼結金属繊維製濾材が堅固な構造を持ち、高圧損に耐えられるため、一般に高粘度であるドープの濾過に適するためである。焼結金属繊維製濾材は任意の径・長さを持つ金属繊維を絡み合わせてフェルト状とし、非酸化雰囲気中で高温処理して繊維同士を溶着させて製作される（例えば、特許文献５ないし７参照）。この焼結金属繊維製濾材は、その原料となる金属繊維の径を任意に変更することにより比較的容易に濾過精度を調整することができる。そのため、特に異物が少ないことが要求される液晶表示装置に用いられる各種フィルムを製造するためのドープの濾過に適している。また、焼結金属繊維製濾材は、目詰まりした後に焙焼することにより再生して再使用が可能である。このため、廃濾材が廃棄物とならないため優れている。焙焼再生方法は例えば特許文献８に記載されている。
【特許文献１】特開平７−００９５８４号公報
【特許文献２】特開平７−１２４４２１号公報
【特許文献３】特開２００１−２１３９７４号公報
【特許文献４】特開２００２−３６３３４２号公報
【特許文献５】特開昭６０−１０３１０３号公報
【特許文献６】特公平３−３３３７０号公報
【特許文献７】特公平３−３９７２７号公報
【特許文献８】特公昭６３−５１７２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、焼結金属繊維製濾材を再生して使用する場合に、焙焼によって金属繊維が破損（以下、破損物と称する）し、濾材から離脱してドープ中に混合するおそれがある。これは焙焼により金属繊維が劣化し破断するためである。したがって、このような濾材で濾過したドープを例えば光学用途フィルムの製造に使用すると、破損物がフィルムに混入して製品の欠陥となる。破損物のドープへの混入は、焙焼前後に充分な洗浄を行い、金属繊維に残存する目詰まり物などを極力除去すること、及び焙焼条件を緩やかにすることにより、軽減することは可能であるが、皆無にすることは困難である。このため、光学特性に優れたフィルムを製造する上で、濾材破損物のドープへの混入に起因する異物が問題となっている。特に、焼結金属繊維製濾材を用いる場合において、濾過精度を向上しようとした場合、一般には濾材の製作に用いる金属繊維の径を小さくするため、この破損物がより発生しやすくなる。このため、金属繊維破損物の発生が、濾過精度を向上させて製品フィルム中の異物を改良しようとする際の障害となっている。
【０００６】
本発明の目的は、焼結金属繊維製濾材から生じる破損物のドープへの混入を抑制するようにしたドープの濾過方法及び濾過されたドープを用いた溶液製膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明では、セルロースアシレートと溶媒とを含むドープを濾過手段により濾過するドープ濾過方法において、濾過手段は、焼結金属繊維からなる第１濾材と、第１濾材の焼結金属繊維の平均径よりも大きな平均径を有し、この平均径が１５μｍ以上６０μｍ以下である焼結金属繊維からなる第２濾材とを備え、これら第１及び第２濾材がドープの流れ方向に順に配置されたことを特徴として構成されている。そして、第１濾材は、複数の層からなり、複数の層のうちの少なくとも一つの層を構成する焼結金属繊維の平均径が４μｍ以上８μｍ以下であることが好ましく、濾過手段は筒状であり、第１濾材が外側に、第２濾材が内側に配置されたことがより好ましい。第１濾材は、前記ドープ流れ方向に順に層設された第１層及び第２層を有し、前記第２層の前記焼結金属繊維の平均径が４μｍ以上８μｍ以下であることが好ましく、第１層の焼結金属繊維の平均径を８μｍ以上６０μｍ以下とすることがより好ましい。第２濾材は、前記濾過手段の最も下流側の濾材であることが好ましい。
【０００８】
また、濾過手段を３５０℃以上５００℃以下の温度で焙焼し、再利用することが好ましく、濾過手段に対してドープ流れ方向の上流側に配置された非金属製濾過手段により、濾過手段で濾過する前の前記ドープを濾過することが好ましい。
【０００９】
前記非金属製濾過手段は濾紙または濾布であることが好ましく、溶媒が塩素系溶媒であることが好ましい。なお、塩素系溶媒とは、脂肪族炭化水素に結合している水素が塩素で置換されているジクロロメタンなどを意味する。そして、焼結金属繊維が、オーステナイト系ステンレス，マルテンサイト系ステンレス，フェライト系ステンレスもしくはこれらの複合系のステンレスのうち少なくとも１種を含んだ素材から形成されていることが好ましい。
【００１０】
また、本発明は、上記のドープ濾過方法により濾過されたドープを支持体上に流延して剥離し、乾燥させてフィルムを製造することを特徴とする溶液製膜方法を含んで構成されている。セルロースアシレートはセルローストリアセテートであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の液の濾過方法によれば、焼結金属繊維からなる第１濾材、及び前記第１濾材の焼結金属繊維の平均径よりも大きな平均径を有し、この平均径が１５μｍ以上６０μｍ以下である焼結金属繊維からなる第２濾材を有し、これら第１及び第２濾材を前記ドープの流れ方向に順に配置するようにしたから、焼結金属繊維からなる第１濾材でドープを所望の濾過精度で濾過することができ、異物などの混入が抑えられる。しかも、焼結金属繊維製濾材を用いるため、耐久性に優れ、且つ高粘度の液の濾過や、送液流量を高めた高速濾過が可能になり、濾過効率が向上する。
【００１２】
また、第２濾材により焼結金属繊維の破損物を濾過することができ、ドープを所望の濾過精度で濾過するための第１濾材からの焼結金属繊維の破損物がドープに混入して排出されることがなくなる。したがって、このドープを用いて溶液製膜を行う場合に、異物の混入が阻止される。これにより、光学特性に優れたフィルムが得られるようになる。
【００１３】
前記第１濾材の焼結金属繊維の平均径を４μｍ以上８μｍ以下とすることにより、濾過して得られるドープを溶液製膜法により製造する場合に、異物の混入が少なくなり、光学特性に優れたフィルムが得られる。
【００１４】
また、前記焼結金属繊維を３５０℃以上の温度で焙焼して再利用することにより、濾材のコスト低減を図ることができる。前記溶媒に塩素系溶媒を用い、前記ポリマーにセルロースアシレートを用いると、溶液製膜法に好適なドープの製造が可能になる。前記ドープを用いて溶液製膜を行うことにより、ドープ中の異物が除去されているため、光学特性に優れるフィルムが得られる。さらには、前記焼結金属繊維が、オーステナイト系ステンレス，マルテンサイト系ステンレス，フェライト系ステンレスもしくはこれらの複合系のステンレスのうち少なくとも１種の素材を含んで形成されているから、耐久性に優れ焼結を繰り返しても再利用が可能であるため、コストの低減を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
セルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式（１−ａ）〜（１−ｃ)の全てを満足するセルロースアシレートを用いることが好ましい。以下、下記式を満たすセルロースアシレートをＴＡＣと称する。
２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０・・・（１−ａ）
０≦Ａ≦３．０・・・（１−ｂ）
０≦Ｂ≦２．９・・・（１−ｃ）
但し、式中Ａ及びＢは、セルロースの水酸基を置換したアシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０質量％以上は、０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。なお、本発明においてドープの原料ポリマーはＴＡＣに限定されるものではない。
【００１６】
ドープを調製する溶媒としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。
【００１７】
炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度など及びフィルムの光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２質量％〜２５質量％が好ましく、５質量％〜２０質量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノールあるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【００１８】
最近、環境に対する影響を最小限に抑えるため、ジクロロメタンを用いない溶媒組成も提案されている。炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数３〜１２のケトン、炭素原子数３〜１２のエステル、炭素原子数１〜１２のアルコールが好ましく用いられる。通常、これらを混合させた混合溶媒として用いる。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶媒などが挙げられる。また、これらのエーテル，ケトン，エステル及びアルコールは環状構造を有していても良い。エーテル，ケトン，エステル及びアルコール（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も溶媒として用いることができる。
【００１９】
セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号公報の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載も本発明に適用可能である。また、溶媒及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤、同じく特開２００５−１０４１４８号公報の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【００２０】
フィルムの特性を好ましいものとするために、ドープ中に添加剤を添加しても良い。添加剤としては、可塑剤（例えば、トリフェニルフォスフェート，ビフェニルジフェニルフォスフェート，ジペンタエリスリトールヘキサアセテート，ジトリメチロールプロパンテトラアセテートなど）、紫外線吸収剤（例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物など）、マット剤（例えば、二酸化ケイ素の微粒子など）、増粘剤、オイルゲル化剤、レターデーション制御剤（光学異方性コントロール剤）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。添加剤は、ポリマーを溶媒に溶解させるときに添加しても良いし、溶液製膜を行っている際に、調製されたドープにインラインで混合させても良い。また、添加剤を添加する際に、添加剤のみを添加しても良いし、添加剤を溶媒に溶解させた添加剤溶液を添加しても良い。
【００２１】
酸の性質を有する物質（以下、酸物質と称する）をドープ中に含有させて得られたフィルムは、剥離性に優れたものが得られる。酸物質としては、例えば、無機酸（例えば、塩酸など）、有機酸（例えば、フェノールなど）、有機カルボン酸（例えば、酢酸、乳酸など）、多価有機カルボン酸（例えば、クエン酸、酒石酸など）、多価有機カルボン酸誘導体などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。多価有機カルボン酸誘導体の基本骨格は、脂肪族炭化水素系（例えば、直鎖飽和、分岐飽和、直鎖不飽和、分岐不飽和、単環式、芳香族、縮合多環式、橋かけ環式、スピロ、環集合、テルペンなど）や芳香族炭化水素系（例えば、芳香族、縮合多環式など）や、複素環式（例えば、ヘテロ環など）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。フィルムの光学特性に影響を及ぼさないように、ポリマーに対して、２００ｐｐｍ〜８００ｐｐｍの範囲で含有させることが好ましい。
【００２２】
また、更に、光学異方性コントロール剤（レターデーション制御剤）として使用される化合物に関して、詳細に説明する。
【００２３】
【化１】
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【００２４】
化１に示されている一般式（２）中でＲ１  、Ｒ２  、Ｒ３  、Ｒ４  、Ｒ５  、Ｒ６  、Ｒ７  、Ｒ８  、Ｒ９  及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表し、置換基は後述の置換基Ｔが適用できる。Ｒ１  、Ｒ２  、Ｒ３  、Ｒ４  及びＲ５  のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。好ましくはＲ１  、Ｒ３   又はＲ５  のうちの１つが電子供与性基であり、Ｒ３  が電子供与性基であることがより好ましい。
【００２５】
電子供与性基とはＨａｍｍｅｔのσｐ値が０以下のものを表し、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９１，１６５（１９９１）に記載のＨａｍｍｅｔのσｐ値が０以下のものが好ましく適用でき、より好ましくは−０．８５〜０のものが用いられる。例えば、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基などが挙げられる。
【００２６】
電子供与性基として好ましくはアルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４である。）である。
【００２７】
Ｒ１  として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、最も好ましくはメトキシ基である。
【００２８】
Ｒ２  として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００２９】
Ｒ３  として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。最も好ましくはｎ−プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である。
【００３０】
Ｒ４  として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００３１】
Ｒ５  として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００３２】
Ｒ６  、Ｒ７  、Ｒ９  及びＲ１０として好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子である。
【００３３】
Ｒ８  は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【００３４】
Ｒ８  として好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアリールオキシ基であり、より好ましくは、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基である。
【００３５】
一般式（２）のうちより好ましくは下記一般式（２−Ａ）である。
【００３６】
【化２】
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【００３７】
一般式（２−Ａ）中のＲ１１はアルキル基を表す。Ｒ１  、Ｒ２  、Ｒ４  、Ｒ５  、Ｒ６  、Ｒ７  、Ｒ９  及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ８  は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。一般式（２−Ａ）中でＲ１  、Ｒ２  、Ｒ４  、Ｒ５  、Ｒ６  、Ｒ７  、Ｒ８  、Ｒ９  及びＲ１０はそれぞれ一般式（２）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００３８】
一般式（２−Ａ）中でＲ１１は炭素数１〜１２のアルキル基を表し、Ｒ１１で表されるアルキル基は直鎖でも分岐があってもよく、また更に置換基を有してもよいが、好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、更に好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、特に好ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げられる）を表す。
【００３９】
一般式（２）のうちより好ましくは下記一般式（２−Ｂ）である。
【００４０】
【化３】
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【００４１】
一般式（２−Ｂ）中でＲ１  、Ｒ２  、Ｒ４  、Ｒ５  、Ｒ６  、Ｒ７  、Ｒ９  及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ１１は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
【００４２】
一般式（２−Ｂ）中でＲ１  、Ｒ２  、Ｒ４  、Ｒ５  、Ｒ６  、Ｒ７  、Ｒ９  及びＲ１０は、一般式（２）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。一般式（２−Ｂ）中でＲ１１は、一般式（２−Ａ）におけるＲ１１と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００４３】
一般式（２−Ｂ）中で、Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
【００４４】
Ｒ１  、Ｒ２  、Ｒ４  及びＲ５  がすべて水素原子の場合には、Ｘとして好ましくはアルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、より好ましくは、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基である。
【００４５】
Ｒ１  、Ｒ２  、Ｒ４  又はＲ５  のうち少なくとも１つが、置換基の場合には、Ｘとして好ましくはアルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２）、シアノ基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜１２）であり、更に好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、より好ましくはフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基である。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素２〜１２、より好ましくは炭素数２〜６、更に好ましくは炭素数２〜４、特に好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニルである）、シアノ基であり、特に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。
【００４６】
一般式（２）のうち更に好ましくは下記一般式（２−Ｃ）である。
【００４７】
【化４】
2006299223.tif 000006
【００４８】
一般式（２−Ｃ）中でＲ１  、Ｒ２  、Ｒ４  、Ｒ５  、Ｒ１１及びＸは、一般式（２−Ｂ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００４９】
一般式（２）で表わされる化合物の中で好ましいのは下記一般式（２−Ｄ）で表わされ
る化合物である。
【００５０】
【化５】
2006299223.tif 000007
【００５１】
一般式（２−Ｄ）中で、Ｒ２  、Ｒ４  及びＲ５  は、一般式（２−Ｃ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。Ｒ２１、Ｒ２２はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基である。Ｘ１  は、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、又はシアノ基である。
【００５２】
Ｒ２１は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基である。Ｒ２２は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
【００５３】
Ｘ１  は、炭素数６〜１２のアリール基、炭素２〜１２のアルコキシカルボニル基又はシアノ基であり、好ましくは炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、シアノ基であり、更に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。
【００５４】
一般式（２）のうち最も好ましくは下記一般式（２−Ｅ）である。
【００５５】
【化６】
2006299223.tif 000008
【００５６】
一般式（２−Ｅ）中でＲ２  、Ｒ４  及びＲ５  は、一般式（２−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか１つは−ＯＲ１３で表される基である（Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキル基である。）。Ｒ２１，Ｒ２２及びＸ１  は一般式（２−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。好ましくはＲ４  、Ｒ５  が−ＯＲ１３で表される基であり、より好ましくはＲ４  が−ＯＲ１３で表される基である。Ｒ１３は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
【００５７】
以下に前述の置換基Ｔについて説明する。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）などが挙げられる。
【００５８】
例えば、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００５９】
例えば、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００６０】
例えば、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００６１】
例えば、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００６２】
例えば、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００６３】
例えば、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。また具体的なヘテロ環基には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００６４】
以下に一般式（２）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００６５】
【化７】
2006299223.tif 000009
【００６６】
【化８】
2006299223.tif 000010
【００６７】
【化９】
2006299223.tif 000011
【００６８】
【化１０】
2006299223.tif 000012
【００６９】
【化１１】
2006299223.tif 000013
【００７０】
【化１２】
2006299223.tif 000014
【００７１】
【化１３】
2006299223.tif 000015
【００７２】
【化１４】
2006299223.tif 000016
【００７３】
【化１５】
2006299223.tif 000017
【００７４】
【化１６】
2006299223.tif 000018
【００７５】
【化１７】
2006299223.tif 000019
【００７６】
【化１８】
2006299223.tif 000020
【００７７】
【化１９】
2006299223.tif 000021
【００７８】
【化２０】
2006299223.tif 000022
【００７９】
【化２１】
2006299223.tif 000023
【００８０】
【化２２】
2006299223.tif 000024
【００８１】
【化２３】
2006299223.tif 000025
【００８２】
【化２４】
2006299223.tif 000026
【００８３】
【化２５】
2006299223.tif 000027
【００８４】
【化２６】
2006299223.tif 000028
【００８５】
【化２７】
2006299223.tif 000029
【００８６】
【化２８】
2006299223.tif 000030
【００８７】
【化２９】
2006299223.tif 000031
【００８８】
【化３０】
2006299223.tif 000032
【００８９】
【化３１】
2006299223.tif 000033
【００９０】
【化３２】
2006299223.tif 000034
【００９１】
【化３３】
2006299223.tif 000035
【００９２】
【化３４】
2006299223.tif 000036
【００９３】
【化３５】
2006299223.tif 000037
【００９４】
【化３６】
2006299223.tif 000038
【００９５】
【化３７】
2006299223.tif 000039
【００９６】
【化３８】
2006299223.tif 000040
【００９７】
【化３９】
2006299223.tif 000041
【００９８】
【化４０】
2006299223.tif 000042
【００９９】
【化４１】
2006299223.tif 000043
【０１００】
【化４２】
2006299223.tif 000044
【０１０１】
【化４３】
2006299223.tif 000045
【０１０２】
【化４４】
2006299223.tif 000046
【０１０３】
【化４５】
2006299223.tif 000047
【０１０４】
【化４６】
2006299223.tif 000048
【０１０５】
【化４７】
2006299223.tif 000049
【０１０６】
【化４８】
2006299223.tif 000050
【０１０７】
【化４９】
2006299223.tif 000051
【０１０８】
【化５０】
2006299223.tif 000052
【０１０９】
【化５１】
2006299223.tif 000053
【０１１０】
【化５２】
2006299223.tif 000054
【０１１１】
【化５３】
2006299223.tif 000055
【０１１２】
【化５４】
2006299223.tif 000056
【０１１３】
【化５５】
2006299223.tif 000057
【０１１４】
【化５６】
2006299223.tif 000058
【０１１５】
一般式（２）で表される化合物は置換安息香酸とフェノール誘導体の一般的なエステル反応によって合成でき、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体を脱水縮合する方法などがあげられる。製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法が好ましい。
【０１１６】
反応溶媒として炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる）、エーテル系溶媒（好ましくはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。
【０１１７】
反応温度は、好ましくは０℃〜１５０℃、より好ましくは０℃〜１００℃、更に好ましくは０℃〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。本反応には塩基を用いないのが好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、３級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。
【０１１８】
図１に原料ドープ製造ライン１０を示す。原料ドープ（以下、単にドープとも称する）の製造は、始めに溶媒タンク１１に接続されているバルブ１２を開き、溶媒を溶解タンク１３に送る。次にホッパ１４に入れられているＴＡＣを溶解タンク１３に計量しながら送り込む。バルブ１６の開閉操作により添加剤タンク１５から添加剤溶液（例えば、可塑剤が溶解している溶液）を必要量分だけ溶解タンク１３に送り込む。なお、添加剤は溶液として送り込む方法以外にも、添加剤が常温で液体の場合には、その液体の状態で溶解タンク１３に送り込むことも可能である。また、添加剤が固体の場合には、ホッパを用いて溶解タンク１３に送り込むことも可能である。添加剤を複数種類添加する場合には、添加剤タンク１５中に複数種類の添加剤を溶解させた溶液を入れておくこともできる。また、多数の添加剤タンクを用いてそれぞれに添加剤が溶解している溶液を入れて、それぞれ独立した配管により溶解タンク１３に送り込むこともできる。
【０１１９】
前述した説明においては、溶解タンク１３に入れる順番が、溶媒，ＴＡＣ，添加剤であったが、この順番に限定されるものではない。ＴＡＣを計量しながら溶解タンク１３に送り込んだ後に、好ましい量の溶媒を送液することもできる。また、添加剤は必ずしも溶解タンク１３に予め入れる必要はなく、後の工程でＴＡＣと溶媒との混合物（以下、これらの混合物もドープと称する）に混合させることもできる。
【０１２０】
溶解タンク１３はジャケット１７及び第１攪拌翼１９を備えている。ジャケット１７は溶解タンク１３を包み込むように形成されている。このジャケット１７内には伝熱媒体が流されて、溶解タンク１３内を−１０℃〜５５℃の範囲内で一定温度に調整している。第１攪拌翼１９はモータ１８により回転され、溶解タンク１３内の溶媒，ＴＡＣ，添加剤を攪拌する。さらに、溶解タンク１３には第２攪拌翼２１が取り付けられていることが好ましい。第２攪拌翼２１はモータ２０により回転し、溶剤などを攪拌する。なお、第１攪拌翼１９は、アンカー翼であることが好ましく、第２攪拌翼２１はディゾルバータイプであることが好ましい。第１攪拌翼１９，第２攪拌翼２１を適宜選択して回転させることでＴＡＣが溶媒中で膨潤した膨潤液２２を得ることができる。
【０１２１】
膨潤液２２をポンプ２５により加熱装置２６に送液する。加熱装置２６は、ジャケット付き配管を用いることが好ましく、更に膨潤液２２を加圧できる構成であることが好ましい。膨潤液２２を加熱または加圧加熱条件下でＴＡＣなどを溶媒に溶解させてドープを得る。なお、この場合に膨潤液２２の温度を５０℃〜１２０℃の範囲内で一定温度に加熱してドープを調製する方法（以下、加熱溶解法と称する）を行うことが好ましい。また、膨潤液２２を−１００℃〜−３０℃の範囲内で一定温度に冷却する冷却溶解法を行うこともできる。加熱溶解法及び冷却溶解法を適宜選択して行うことでＴＡＣを溶媒に充分溶解させることが可能となる。温調機２７によりドープの温度を略室温とした後に、濾過装置２８により濾過を行いドープ中の不純物を取り除く。濾過装置２８の濾材の平均孔径が１０μｍ以下であることが好ましい。また、濾過流量は、５０Ｌ／ｈｒ以上であることが好ましい。濾過後のドープは、バルブ２９を介してミキシングタンク３０に入れられる。
【０１２２】
ところで、前記のように一旦膨潤液２２を調製し、その後に膨潤液２２をドープとする方法は、ＴＡＣの濃度を上昇させるほど時間がかかりコストの点で問題が生じる場合がある。その場合には、目的とするＴＡＣ濃度より低濃度のドープを調製した後に、目的とする濃度のドープを調製する濃縮工程を行うことが好ましい。濾過装置２８で濾過されたドープをバルブ２９を介してフラッシュ装置３１に送液する。フラッシュ装置３１内でドープ中の溶媒の一部を蒸発させる。蒸発した溶媒は凝縮器（図示しない）により液体とした後に回収装置３２で回収する。その溶媒は再生装置３３によりドープ調製用の溶媒として再生を行い再利用することがコストの点から有利である。
【０１２３】
濃縮されたドープをフラッシュ装置３１からポンプ３４を用いて抜き出す。さらに、ドープに発生している気泡を抜くための泡抜処理を行うことが好ましい。泡抜きは、公知のいずれの方法を適用しても良く、例えば超音波照射法が挙げられる。その後に濾過装置３５に送液して異物の除去を行う。なお、この際にドープの温度は、０℃〜２００℃の範囲内であることが好ましい。これらの方法によりＴＡＣ濃度が５質量％以上４０質量％以下のドープを製造することができる。より好ましくはＴＡＣ濃度が１５質量％以上３０質量％以下であり、最も好ましくは１７質量％以上２５質量％以下の範囲とすることである。また、添加剤（主には、可塑剤である）の濃度は、ドープ中の固形分全体を１００質量％とした場合に、１質量％以上２０質量％以下の範囲とすることが好ましい。なお、製造された原料ドープ３６は、ミキシングタンク３０に貯蔵される。
【０１２４】
ＴＡＣフィルムを得る溶液製膜方法での、ドープの素材、原料、添加剤の溶解及び添加方法、濾過方法、脱泡方法などのドープ製造方法については、特開２００５−１０４１４８号公報の［０５１７］段落から［０６１６］段落が詳しい。これらの記載も本発明には適用できる。
【０１２５】
図２にフィルム製造ライン５０を示す。ミキシングタンク３０には、モータ３７で回転する攪拌翼３８が取り付けられている。攪拌翼３８を回転させることで原料ドープ３６を常に均一にしている。
【０１２６】
原料ドープ３６をギヤポンプ５１を用いてストックタンク５２に移送する。その後にポンプ５３を用いて第１濾過装置５４で濾過した後にストックタンク５５に移送する。第１濾過装置５４の濾材には、濾紙，濾布，不織布，ケイソウ土などから形成されたものを用いることが好ましく、特に好ましくは濾紙，濾布またはこれらを組み合わせて使用することである。
【０１２７】
また、第１濾過装置５４の濾材は、メンブレンフィルタ，サーフェイスフィルタ，デプスフィルタのいずれのタイプであってもよい。これら濾材による濾過精度は、５μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。なお、絶対濾過精度とは、ＪＩＳ  Ｚ  ８９０１で定義される。測定方法の概略を説明する。粒径の異なる試験用粉体のガラスビーズ（以下、ビーズと称する）と純水とからなる被濾過液をビーカに入れてスターラで攪拌する。ビーカ内の被濾過液を真空ポンプにより大気圧から−４ｋＰａの状態で濾材試料を通して吸引して濾液を得る。被濾過液と濾液とに含まれている単位容積あたりのビーズの個数を顕微鏡で観察して、粒子捕集率（下記式）を算出し、粒子捕集率９５％のときの粒子径を絶対濾過精度と称する。
粒子捕集率（％）＝（単位体積中の被濾過液中のビーズの個数−単位体積中の濾液中のビーズの個数）／（単位体積中の被濾過液中のビーズの個数）×１００
【０１２８】
第１濾過装置５４の絶対濾過精度が５μｍ未満であると、濾過寿命が短くなり過ぎてフィルムの生産性の悪化を招くおそれがある。また、絶対濾過精度が５０μｍを超えると、フィルムの特性悪化を招く異物の除去が不完全になるおそれがある。また、この場合には、より下流側に設けられている濾過装置、図２では第２濾過装置５７の濾過負荷が高くなるために好ましくない。
【０１２９】
第１濾過装置５４では原料に起因する種々の不溶解物、梱包や工程外から混入する異物などが多量に濾過されるため、一般に濾材の再生再使用が困難である。このため、コストが低く使い捨てが可能な上記濾紙，濾布，不織布，ケイソウ土などの非金属製濾材が第１濾過装置５４の濾材として用いられる。
【０１３０】
ストックタンク５５内の原料ドープ３６をポンプ５６で第２濾過装置５７に送液して濾過を行う。図３に第２濾過装置５７の断面を示す。円筒状の濾過装置本体５８内に円筒状の濾材５９が設けられている。濾材５９には、オーステナイト系ステンレス，マルテンサイト系ステンレス，フェライト系ステンレスもしくはこれらの複合系のステンレスなどから形成された焼結金属繊維を用いることが好ましく、特に好ましくはオーステナイト系ステンレスから形成されたものを用いることである。
【０１３１】
このようにステンレスからなる焼結金属繊維を用いることにより、塩素系溶媒を用いたドープの場合に、塩酸などによる濾材腐蝕の発生が抑えられ、腐蝕による不純物の発生が無くなる。また、濾材５９は繊維を焼結して形成されているものを用いることが好ましく、この場合には、粉末焼結濾材や金網濾材などの金属濾材に比べて空孔率が大きく圧力損失が極めて小さなものとなる。
【０１３２】
濾材５９は、流下方向に順に第１層５９ａ，第２層５９ｂ，第３層５９ｃから構成されており、これら各層５９ａ〜５９ｃは上記の金属繊維を焼結して構成されている。第１層５９ａに用いられる金属繊維の平均径は、８μｍ以上６０μｍ以下である。第２層５９ｂに用いられる金属繊維の平均径は、４μｍ以上８μｍ以下である。最も下流側の第３層５９ｃに用いられる金属繊維の平均径は、１５μｍ以上６０μｍ以下である。好ましくは、第１層５９ａが８μｍ以上３０μｍ以下であり、第３層５９ｃが１５μｍ以上３０μｍ以下である。前記範囲内の繊維径のものを用いることで、焙焼による破損物の発生があっても、これら破損物を第３層５９ｃで確実に捕らえることができる。
【０１３３】
なお、本発明において、第２濾過装置５７の濾材５９の層数は３層に限定されるものではない。好ましくは２層以上６層以下であり、より好ましくは２層以上５層以下であり、最も好ましくは２層以上４層以下である。また、各層の厚みは０．２ｍｍ以上１ｍｍ以下のものを用いることが好ましい。各層を焼結させた後の濾材５９の全体厚みは、０．６ｍｍ以上１．５ｍｍ以下であることが好ましい。濾材５９の絶対濾過精度は、１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３μｍ以上４０μｍ以下であり、最も好ましくは５μｍ以上２０μｍ以下である。絶対濾過精度が３μｍ以上２０μｍ以下の範囲となるように濾材５９を形成させることが好ましい。
【０１３４】
また、第２濾過装置５７の濾材を３層構造として一体的に形成しているが、これに代えて、各層を単体の円筒状に形成した濾材を用い、これら円筒状濾材を重ねるように同心円状に配置して第２濾過装置５７を構成してもよい。この場合には、再使用の際の洗浄及び焙焼を各濾材単体で行ってもよく、各濾材を組み合わせた状態で行ってもよい。また、円筒状に形成する際に、プリーツを入れて、液の接触面積を増大させてもよい。
【０１３５】
第２濾過装置５７を用いて、濾材５９の外側の液流路（以下、外側液流路と称する）５８ａから原料ドープ３６を濾材５９に通して濾過した後に内側の液流路（以下、内側液流路と称する）５８ｂを通して第２濾過装置５７から排出する。原料ドープ３６は、濾材５９の第１層５９ａ，第２層５９ｂ，第３層（最下流層）５９ｃの順に濾過される。このため、第１層５９ａや第２層５９ｂの焼結金属繊維から生じる破損物は、最下流側層である第３層５９ｃで濾過されるために内側液流路５８ｂに排出されるおそれが無くなる。なお、外側液流路５８ａから内側液流路５８ｂへの送液圧力は１×１０５  Ｐａ以上１×１０６  Ｐａ以下の範囲であることが好ましい。送液圧力を１×１０５  Ｐａ未満とするためには、濾材の絶対濾過精度を上げる必要があり、製膜に適するドープを得ることが困難となる場合がある。または、送液流量を減らしても良いが、この場合にはドープの生産性が低下するために好ましくない。また、送液圧力を高めると濾過装置本体５８の耐久性を向上させる必要が生じ、コスト高の原因となる。
【０１３６】
前記第２濾過装置５７の濾材５９を再生する場合には、濾材５９の金属繊維が溶融しない程度の温度で濾材５９を加熱し焙焼する。これにより、濾材５９である焼結金属繊維に付着している濾過ケークを燃焼して除去することができる。例えば、焼結金属繊維にステンレスを用いている場合、焙焼温度を３５０℃以上５００℃以下とすることが好ましく、より好ましくは３５０℃以上４５０℃以下の範囲であり、最も好ましくは３５０℃以上４２０℃以下である。また、焙焼時間は２時間以上８時間以下とすることが好ましく、より好ましくは２時間以上６時間以下の範囲であり、最も好ましくは２時間以上５時間以下である。前記条件で焙焼することで、濾材の捕捉物を除去でき、かつ破損物の発生を抑制できる。なお、２時間未満とすると濾過ケークの除去が不充分となり、８時間以上とすると、濾過ケークの除去は充分であるが、焙焼コストがかかり効率が低下することと、不必要な焙焼によって破損物が増加するおそれがあり、ともに好ましくない。また、焙焼における加熱速度を５℃／分以上１００℃／分以下とすることで、急激に金属繊維が加熱されることがなくなり、破損物の増加が抑えられる。
【０１３７】
第２濾過装置５７で濾過した原料ドープ３６に添加剤溶液６０，マット剤分散液６１をインラインで添加する。添加剤溶液（例えば、紫外線吸収剤溶液）６０，マット剤分散液６１は予め調製されて、ストックタンク６２，６３に入れられている。それぞれのストックタンク６２，６３から添加剤溶液６０，マット剤分散液６１をポンプ６４，６５で送液する。添加剤溶液６０とマット剤分散液６１とをスタティックミキサ６６で混合して均一なものとした後に原料ドープ３６にインラインで添加する。スタティックミキサ６６は、特に限定されるものではないが、例えばノリタケカンパニー製のスタティックミキサで、管径が１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下のものを用いる場合に、エレメント数が３０以上８０以下のものを用いることが好ましい。あるいは、スルザー社製スルーザーミキサ、東レ製ＨｉＭｉｘｅｒなどの他の型のインライン混合器においても同等の混合性能を持つものが好ましく使用できる。
【０１３８】
スタティックミキサ６７で原料ドープ３６中に添加剤溶液６０，マット剤分散液６１をインラインで添加した後に混合させて均一な流延用ドープとする。このスタティックミキサ６７も特に限定されるものではないが、例えばノリタケカンパニー製のスタティックミキサにおいて、管径が８０ｍｍ以上２００ｍｍ以下のものを用いる場合にエレメント数が２４以上６０以下であるものであることが好ましい。この流延用ドープを流延ダイ７０から支持体上に流延する。あるいは、スルザー社製スルーザーミキサ、東レ製ＨｉＭｉｘｅｒなどの他の型のインライン混合器においても同等の混合性能を持つものが好ましく使用できる。
【０１３９】
本発明において、添加剤溶液、特に紫外線吸収剤溶液６０及びマット剤分散液６１を流延直前の原料ドープ３６に混合させることが好ましい。すなわち、原料ドープ３６は脱泡を行うために流延する前に脱泡工程を行う必要がある。しかしながら、原料ドープ３６に紫外線吸収剤を添加しておくと、原料ドープ中で紫外線吸収剤が分解するおそれがある。また、マット剤には通常有機溶媒に溶解しない、二酸化ケイ素などが用いられる。そのため、予めマット剤を原料ドープ３６中に含有させると、原料ドープ３６移送時に、配管などに堆積するおそれがある。また、第１濾過装置５４，第２濾過装置５７の濾材でマット剤が捕捉されるため好ましくない。
【０１４０】
流延ダイ７０の材質は析出硬化型のステンレス鋼を用いることが好ましい。その熱膨張率が２×１０−５（℃−１）以下の素材を用いることが好ましい。また、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６と略同等の耐腐食性を有するものを用いることもできる。さらに、その素材はジクロロメタン、メタノール、水の混合液に３ヵ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有するものを用いる。さらに、鋳造後１ヶ月以上経過したものを研削加工して流延ダイ７０を作製することが好ましい。これにより流延ダイ７０内をドープが一様に流れ、後述する流延膜にスジなどが生じることが防止される。流延ダイ７０及び後に説明するフィードブロックの接液面の仕上げ精度は表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下のものを用いることが好ましい。スリットのクリアランスは自動調整により０．５ｍｍ〜３．５ｍｍの範囲で調整可能なものを用いる。流延ダイ７０のリップ先端の接液部の角部分について、Ｒはスリット全巾に亘り５０μｍ以下のものを用いる。また、流延ダイ７０内での剪断速度は１（１／ｓｅｃ）〜５０００（１／ｓｅｃ）となるように調整されているものを用いることが好ましい。
【０１４１】
流延ダイ７０の幅は特に限定されるものではないが、最終製品となるフィルムの幅の１．０１倍〜１．３倍程度のものを用いることが好ましい。また、製膜中は、所定の温度に保持されるように温調機を取り付けることが好ましい。また、流延ダイ７０にはコートハンガー型のものを用いることが好ましい。さらに、厚み調整ボルト（ヒートボルト）を流延ダイ７０の幅方向に所定の間隔で設けてヒートボルトによる自動厚み調整機構を取り付けることがより好ましい。特に、予め設定されるプログラムによりポンプ（高精度ギヤポンプが好ましい）５６の送液量に応じて、ヒートボルトのプロファイルを設定することが好ましい。また、フィルム製造ライン５０中に図示しない厚み計（例えば、赤外線厚み計）を設け、この厚み計によるプロファイルに基づく調整プログラムによってフィードバック制御を行っても良い。流延エッジ部を除いて製品フィルムの幅方向の任意の２点の厚み差は１μｍ以内に調整し、幅方向厚みの最小値と最大値との差が３μｍ以下となるように調整することが好ましく、２μｍ以下に調整することがより好ましい。また、厚み精度は±１．５μｍ以下に調整されているものを用いることが好ましい。
【０１４２】
リップ先端に硬化膜が形成されていることがより好ましい。硬化膜の形成方法は、特に限定されるものではないが、セラミックスコーティング、ハードクロムメッキ、窒化処理方法などが挙げられる。硬化膜としてセラミックスを用いる場合には、研削でき気孔率が低く脆くなく耐腐食性が良く、かつ流延ダイ７０と密着性が良く、ドープとの密着性がないものが好ましい。具体的には、タングステン・カーバイド（ＷＣ），Ａｌ２  Ｏ３  ，ＴｉＮ，Ｃｒ２  Ｏ３  などが挙げられるが特に好ましくはＷＣを用いることである。ＷＣコーティングは、溶射法で行うことができる。
【０１４３】
流延ダイ７０のスリット端に流出するドープが、局所的に乾燥固化することを防止するために溶媒供給装置（図示しない）をスリット端に取り付けることが好ましい。ドープを可溶化する溶媒（例えば、ジクロロメタン８６．５質量部，アセトン１３質量部，ｎ−ブタノール０．５質量部の混合溶媒）を、流延ビードの両端部、ダイスリット端部及び外気が形成する三相接触線の周辺部付近に供給することが好ましい。端部の片側それぞれに０．１ｍＬ／ｍｉｎ〜１．０ｍＬ／ｍｉｎの範囲で供給することが流延膜中に異物が混合することを防止できるために好ましい。なお、この液を供給するポンプの脈動率は５％以下のものを用いることが好ましい。
【０１４４】
流延ダイ７０の下方には、回転ローラ７１，７２に掛け渡された流延バンド７３が設けられている。流延バンド７３は、図示しない駆動装置により回転ローラ７１，７２が回転することに伴い無端で走行する。流延バンド７３の移動速度、すなわち流延速度は、１０ｍ／分〜２００ｍ／分の範囲内で一定速度であることが好ましい。また、流延バンド７３の表面温度を所定の値にするために回転ローラ７１，７２に伝熱媒体循環装置７４が取り付けられていることが好ましい。流延バンド７３の表面温度は、−２０℃〜４０℃であることが好ましい。回転ローラ７１，７２内には伝熱媒体流路が形成されており、その中を所定の温度に保持されている伝熱媒体が通過することにより回転ローラ７１，７２の温度を所定の値に保持できる。
【０１４５】
流延バンド７３の幅は特に限定されるものではないが、ドープの流延幅の１．０５倍〜１．５倍の範囲のものを用いることが好ましい。表面粗さは０．０５μｍ以下となるように研磨したものを用いることが好ましい。材質は、ステンレス製であることが好ましく、十分な耐腐食性と強度とを有するようにＳＵＳ３１６製であることがより好ましい。また、流延バンド７３の全体の厚みムラは０．５％以下のものを用いることが好ましい。
【０１４６】
回転ローラ７１，７２が駆動する際に流延バンド７３に生じるテンションが１０４  Ｎ／ｍ〜１０５  Ｎ／ｍとなるように調整することが好ましい。また、流延バンド７３と回転ローラ７１，７２との相対速度差は、０．０１ｍ／ｍｉｎ以下となるように調整する。流延バンド７３の速度変動を０．５％以下とし、流延バンド７３が一回転する際に生じる幅方向の蛇行は１．５ｍｍ以下とすることが好ましい。この蛇行を制御するために流延バンド７３の両端を検出する検出器（図示しない）を設け、その測定値に基づきフィードバック制御を行うことがより好ましい。さらに、流延ダイ７０直下における流延バンド７３表面の回転ローラ７１の回転に伴う上下方向の位置変動が２００μｍ以下となるように調整することが好ましい。
【０１４７】
なお、回転ローラ７１，７２及び流延バンド８２に代えて回転ドラム（図示せず）を支持体として用いることもできる。この場合には、回転速度ムラが０．２％以下となるように高精度で回転できるものであることが好ましい。回転ドラムは、表面の平均粗さが０．０１μｍ以下であることが好ましく、表面がハードクロムメッキ処理等を施されているものが好ましい。これにより、十分な硬度と耐久性とを向上させることができる。なお、回転ドラム、流延バンド８２、回転ローラ７１，７２は、表面欠陥が最小限に抑制されていることが好ましい。具体的には、３０μｍ以上のピンホールが無く、１０μｍ以上３０μｍ未満のピンホールは１個／ｍ２  以下であり、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ２  以下であることが好ましい。
【０１４８】
流延ダイ７０、流延バンド７３などは流延室７５に収められている。流延室７５内の温度を所定の値に保つため温調設備７６が取り付けられている。流延室７５の温度が−１０℃〜５７℃であることが好ましい。また、揮発している有機溶媒を凝縮回収するための凝縮器（コンデンサ）７７が設けられている。凝縮液化した有機溶媒は、回収装置７８により回収され再生させた後に、ドープ調製用溶媒として再利用される。
【０１４９】
流延ダイ７０からドープを流延し、流延ビードを形成させながら流延バンド７３上に流延膜７９を形成する。なお、このときのドープの温度は、−１０℃〜５７℃の範囲内であることが好ましい。また、流延ビードの形成を安定化させるため減圧チャンバ８０が流延ビード背面に取り付けられ、所望の圧力に調整されていることが好ましい。ビード背面は、前面との圧力よりも−２０００Ｐａ〜−１０Ｐａの範囲で減圧することが好ましい。さらに、減圧チャンバ８０の温度を所定の温度に保つため、ジャケット（図示しない）を取り付けることが好ましい。減圧チャンバ８０の温度は特に限定されるものではないが、用いられている有機溶媒の凝縮点以上にすることが好ましい。また、流延ビードの形状を所望のものに保つため流延ダイ７０のエッジ部に吸引装置（図示しない）を取り付けることが好ましい。エッジ吸引風量は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１００Ｌ／ｍｉｎの範囲であることが好ましい。
【０１５０】
流延膜７９は、流延バンド７３の走行とともに移動する。このときに流延膜７９中の溶媒を蒸発させるため送風ダクト８１，８２，８３を設けることが好ましい。送風ダクト８１〜８３の取り付け位置は、流延バンド７３の上部上流側部分，上部下流側部分，下部全体に設けられている。なお、送風ダクト８１〜８３の取付位置及び形態、取付個数等は図示例のものに限られず、適宜変更してよい。また、流延直後の流延膜７９に乾燥風が吹き付けられることによる膜面の面状変動を抑制するために遮風板８４が設けられていることが好ましい。なお、図２では支持体として流延バンドを用いている例を示しているが、流延ドラムを用いることも可能である。流延ドラムの表面温度は、−２０℃〜４０℃であることが好ましい。
【０１５１】
流延膜７９が自己支持性を有するものとなった後に剥取ローラ８５で支持しながら湿潤フィルム８６として流延バンド７３から剥ぎ取る。剥ぎ取り時の残留溶媒量は、固形分基準で２０質量％〜２５０質量％であることが好ましい。その後に多数のローラが設けられている渡り部９０を搬送させた後に、テンタ式乾燥機９２に送り込む。渡り部９０では、送風ダクト９１から所望の温度の乾燥風を送風することで、湿潤フィルム８６の乾燥を進行させる。このとき乾燥風の温度が、２０℃〜２５０℃であることが好ましい。なお、渡り部９０では下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより湿潤フィルム８６にドローを付与させることも可能である。
【０１５２】
テンタ式乾燥機９２に送られる湿潤フィルム８６は、その両縁がクリップで把持され搬送されつつ乾燥される。また、テンタ式乾燥機９２内を異なった温度ゾーンに区画して乾燥条件を調整することが好ましい。テンタ式乾燥機９２を用いて湿潤フィルム８６を幅方向に延伸させることも可能である。このように、渡り部９０及び／またはテンタ式乾燥機９２で湿潤フィルム８６の流延方向と幅方向との少なくとも１方向を０．５％〜３００％延伸することが好ましい。
【０１５３】
テンタ式乾燥機９２で所定の残留溶媒量まで乾燥された湿潤フィルム８６は、フィルム９３として耳切装置８７に送られる。耳切装置８７では、フィルム９３の両側縁部が一定幅で切断される。切断されたフィルムは、図示しないカッターブロワによりクラッシャ９５に送られる。クラッシャ９５によりフィルムの縁部は、粉砕されてチップとなる。このチップをドープ調製用に再利用することがコストの点から有利である。なお、このフィルムの両縁を切断する工程は、省略することもできるが、前記流延工程から前記フィルムを巻き取る工程までのいずれかで行うことが好ましい。
【０１５４】
次にフィルム９３は、多数のローラ９６が備えられている乾燥室９７に送られる。乾燥室９７内の温度は、特に限定されるものではないが、５０℃〜１６０℃の範囲であることが好ましい。乾燥室９７でフィルム９３は、ローラ９６に巻き掛けられながら搬送され溶媒は揮発して乾燥される。また、乾燥室９７には、吸着回収装置９８が取り付けられている。揮発溶媒は、吸着回収装置９８により吸着回収される。溶媒成分が除去された大気は乾燥室９７内に乾燥風として再度送風される。なお、乾燥室９７は、乾燥温度を変えるために複数の区画に分割されていることがより好ましい。また、耳切装置９４と乾燥室９７との間に予備乾燥室（図示しない）を設け、フィルム９３の予備乾燥を行うことがフィルム温度が急激に上昇することによるフィルムの形状変化を抑制できるためにより好ましい。
【０１５５】
フィルム９３は、冷却室９９に搬送され、略室温まで冷却される。なお、乾燥室９７と冷却室９９との間に調湿室（図示しない）を設けても良い。調湿室でフィルム９３の所望の湿度及び温度に調整された空気を吹き付ける。これにより、フィルム９３のカールの発生や巻き取る際の巻き取り不良の発生を抑制できる。
【０１５６】
フィルム９３が搬送されている間の帯電圧が所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）となるように強制除電装置（除電バー）１００を設けている。図２では、冷却室９９の下流側に設けられている例を図示しているがその位置に限定されるものではない。さらに、ナーリング付与ローラ１０１を設けて、フィルム９３の両縁にエンボス加工でナーリングを付与することが好ましい。なお、ナーリングされた箇所の凹凸が、１μｍ〜２００μｍであることが好ましい。
【０１５７】
巻取室１０３に搬送される直前で、フィルム９３の欠陥を検出する。オンライン欠陥検出装置１０２は特に限定されるものではない。例えば、ＣＣＤ方式、レーザ散乱光方式その他の公知な方式を用いることができ、レーザ散乱光方式を用いることがもっとも好ましい。レーザ散乱光方式は、走行するフィルム９３の一方の側からレーザ光を照射して、フィルムの全幅をスキャンする。また、フィルム９３の他方側で前記レーザ光を受光し、そのレーザ光の散乱を検知することで異物の存在を検出できる。検知限界は特に限定されるものではないが、３０μｍ以上とすることが好ましく、２０μｍ以上とすることがより好ましく、最も好ましくは１０μｍ以上とすることである。検出限界は、小さくするほど異物によるフィルムの光学特性の悪化を抑制できる。しかしながら１０μｍ未満の異物がフィルム９３中に存在していても本発明で目的とする光学機能性フィルムのベースフィルムとして好ましく用いられることを見出した。
【０１５８】
最後に、フィルム９３を巻取室１０３内の巻取ローラ１０４で巻き取る。この際に、プレスローラ１０５で所望のテンションを付与しつつ巻き取ることが好ましい。なお、テンションは巻取開始時から終了時まで徐々に変化させることがより好ましい。巻き取られるフィルム９３は、長手方向（流延方向）に少なくとも１００ｍ以上とすることが好ましい。また、幅方向が６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であることがより好ましい。また、１８００ｍｍより大きい場合にも効果がある。フィルムの厚みは、１５μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。
【０１５９】
本発明の溶液製膜方法において、ドープを流延する際に、２種類以上のドープを同時積層共流延又は逐次積層共流延させることもできる。さらに両共流延を組み合わせても良い。同時積層共流延を行う際には、フィードブロックを取り付けた流延ダイを用いても良いし、マルチマニホールド型流延ダイを用いても良い。共流延により多層からなるフィルムは、空気面側の層の厚さ及び／又は支持体側の層の厚さがそれぞれ全体のフィルム厚さ中で０．５％〜３０％であることが好ましい。さらに、同時積層共流延を行う場合に、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に、高粘度ドープを低粘度ドープで包み込まれることが好ましい。また、同時積層共流延を行なう場合に、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に内部のドープは、そのドープよりもアルコールの組成比が大きなドープで包み込まれることが好ましい。
【０１６０】
流延ダイ、減圧チャンバ、支持体などの構造、共流延、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取り方法から、溶媒回収方法、フィルム回収方法まで、特開２００５−１０４１４８号公報の［０６１７］段落から［０８８９］段落に詳しく記述されている。これらの記載も本発明に適用することができる。
【０１６１】
［性能・測定法］
（カール度・厚み）
巻き取られたセルロースアシレートフィルムの性能及びそれらの測定法は、特開２００５−１０４１４８号公報の［０１１２］段落から［０１３９］段落に記載されている。これらも本発明にも適用できる。
【０１６２】
［表面処理］
前記セルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面が表面処理されていることが好ましい。前記表面処理が真空グロー放電処理、大気圧プラズマ放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、火炎処理、酸処理またはアルカリ処理の少なくとも一種であることが好ましい。
【０１６３】
［機能層］
（帯電防止・硬化層・反射防止・易接着・防眩）
前記セルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面が下塗りされていても良い。
さらに前記セルロースアシレートフィルムをベースフィルムとして、他の機能性層を付与した機能性材料として用いることが好ましい。前記機能性層が帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止層、易接着層、防眩層及び光学補償層から選択される少なくとも１層を設けることが好ましい。
【０１６４】
前記機能性層が、少なくとも一種の界面活性剤を０．１ｍｇ／ｍ２  〜１０００ｍｇ／ｍ２  含有することが好ましい。また、前記機能性層が、少なくとも一種の滑り剤を０．１ｍｇ／ｍ２  〜１０００ｍｇ／ｍ２  含有することが好ましい。さらに、前記機能性層が、少なくとも一種のマット剤を０．１ｍｇ／ｍ２  〜１０００ｍｇ／ｍ２  含有することが好ましい。さらには、前記機能性層が、少なくとも一種の帯電防止剤を１ｍｇ／ｍ２  〜１０００ｍｇ／ｍ２  含有することが好ましい。セルロースアシレートフィルムに、種々様々な機能、特性を実現するための表面処理機能性層の付与方法は、上記以外にも、特開２００５−１０４１４８号公報の［０８９０］段落から［１０８７］段落に詳細な条件、方法も含めて記載されている。これらも本発明に適用できる。
【０１６５】
（用途）
前記セルロースアシレートフィルムは、特に偏光板保護フィルムとして有用である。セルロースアシレートフィルムを偏光子に貼り合わせた偏光板を通常２枚用いて液晶表示装置を作製する。但し、液晶層と偏光板との配置位置は特に限定されるものではなく、公知のどの位置でも良い。特開２００５−１０４１４８号公報には、液晶表示装置として、ＴＮ型，ＳＴＮ型，ＶＡ型，ＯＣＢ型，反射型、その他の例が詳しく記載されている。この方法は、本発明にも適用できる。また、同出願には光学的異方性層を付与した、セルロースアシレートフィルムや、反射防止、防眩機能を付与したセルロースアシレートフィルムについての記載もある。更には適度な光学性能を付与し二軸性セルロースアシレートフィルムとして光学補償フィルムとしての用途も記載されている。これは、偏光板保護フィルムと兼用して使用することもできる。これらの記載は、本発明にも適用できる。特開２００５−１０４１４８号公報の［１０８８］段落から［１２６５］段落に詳細が記載されている。
【０１６６】
また、本発明の製造方法により光学特性に優れるセルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣフィルム）を得ることができる。このＴＡＣフィルムは、偏光板保護フィルムや写真感光材料のベースフィルムとして用いることができる。さらにテレビ用途などの液晶表示装置の視野角依存性を改良するための光学補償フィルムとしても使用可能である。特に偏光板の保護膜を兼ねる用途に効果的である。そのため、従来のＴＮモードだけでなくＩＰＳモード，ＯＣＢモード，ＶＡモードなどにも用いられる。また、前記偏光板保護膜用フィルムを用いて偏光板を構成しても良い。
【実施例１】
【０１６７】
以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。使用した質量部を下記に示す。
［組成］
セルローストリアセテート（置換度２．８４、酢化度６１．０％、粘度平均重合度３０６、含水率０．２質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度４２０ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．５ｍｍであって標準偏差０．５ｍｍである粉体）            ８９．３重量％
トリフェニルフォスフェート                                        ７．１重量％
ビフェニルジフェニルフォスフェート                                ３．６重量％
からなる固形分１００重量部に対し、
ジクロロメタン                                                      ９２重量％
メタノール                                                            ８重量％
からなる混合溶媒を適宜添加し、攪拌溶解して原料ドープ３６を調製した。原料ドープ３６の固形分濃度は１８．５重量％であった。
【０１６８】
紫外線吸収剤（ＵＶ剤）溶液６０の調製は、下記の処方に従い行った。
ＵＶ剤ａ：２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール                                        ５．８３重量％
ＵＶ剤ｂ：２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾール                                                １１．６６重量％
セルローストリアセテート（原料ドープ調製用と同一のもの）        １．４８重量％
トリフェニルフォスフェート                                      ０．１２重量％
ビフェニルジフェニルフォスフェート                              ０．０６重量％
ジクロロメタン                                                ７４．３８重量％
メタノール                                                      ６．４７重量％
前記処方で得られた紫外線吸収剤溶液６０を調製し、富士写真フィルム（株）製アストロポア１０μｍフィルタにて２回濾過してストックタンク６２に入れた。
【０１６９】
マット剤分散液６１の調製は下記の処方に従って行った。
シリカ（日本アエロジル（株）製  アエロジルＲ９７２）            ２．００重量％
セルローストリアセテート（原料ドープ調製用と同一のもの）        ２．００重量％
トリフェニルフォスフェート                                      ０．１６重量％
ビフェニルジフェニルフォスフェート                              ０．０８重量％
ジクロロメタン                                                ８８．１０重量％
メタノール                                                      ７．６６重量％
なるマット剤分散液を調製して、アトライターにて体積平均粒径０．５μｍになるように分散を行った。ここで体積平均粒径は堀場製作所製粒度分布測定装置ＬＡ９２０で測定した値を用いた。分散した液を富士写真フィルム（株）製アストロポア１０μｍフィルタで２回ろ過した後にストックタンク６３に入れた。
【０１７０】
なお、ここで使用したセルローストリアセテートは、残存酢酸量が０．１質量％以下であり、Ｃａ含有率が５８ｐｐｍ、Ｍｇ含有率が４２ｐｐｍ、Ｆｅ含有率が０．５ｐｐｍであり、遊離酢酸４０ｐｐｍ、さらに硫酸イオンを１５ｐｐｍ含むものであった。また６位水酸基の水素に対するアセチル基の置換度は０．９１であった。また、全アセチル基中の３２．５％が６位の水酸基の水素が置換されたアセチル基であった。また、このＴＡＣをアセトンで抽出したアセトン抽出分は８質量％であり、その重量平均分子量／数平均分子量比は２．５であった。また、得られたＴＡＣのイエローインデックスは１．７であり、ヘイズは０．０８、透明度は９３．５％であり、Ｔｇ（ガラス転移温度；ＤＳＣにより測定）は１６０℃、結晶化発熱量は６．４Ｊ／ｇであった。このＴＡＣは、綿から採取したセルロースを原料として合成されたものである。
【０１７１】
図２に示すフィルム製造ライン５０を用いてフィルムを製造した。ミキシングタンク３０内の原料ドープ３６を高精度のギヤポンプ５１でストックタンク５２へ送った。ギヤポンプ５１は、その１次側を増圧する機能を有しており、１次側の圧力が０．８ＭＰａになるようにインバーターモータによりギヤポンプ５１の上流側に対するフィードバック制御を行い送液した。ギヤポンプ５１は容積効率９９．２％、吐出量の変動率０．５％以下の性能であるものを用いた。また、吐出圧力は１．５ＭＰａであった。
【０１７２】
ストックタンク５２に原料ドープ３６をポンプ（容積効率９６％，吐出量の変動率２％以下，吐出圧力０．５ＭＰａ〜１．２ＭＰａ）５３により第１濾過装置５４に送液した。第１濾過装置５４の濾材には濾紙（東洋濾紙（株）製  ＃６３）を使用した。第１濾過装置５４でろ過された原料ドープ３６はストックタンク５５で３６℃で貯蔵した。
【０１７３】
その後に原料ドープ３６をポンプ（容積効率９６％，吐出量の変動率２％以下，吐出圧力０．５ＭＰａ〜１．５ＭＰａ）５６により第２濾過装置５７に送液した。第２濾過装置５７の濾材５９にはプリーツ加工され円筒状で焼結金属繊維からなるものを使用した。なお、金属繊維の素材はＳＵＳ３１６Ｌを用いて、第１層５９ａの繊維の平均径は８μｍ，第２層５９ｂの繊維の平均径は４μｍ，第３層（最下流層）５９ｃの繊維の平均径は２０μｍのものを用いた。また、第２濾過装置５７の濾材５９には一度製膜に用いて所定の圧力（１．０ＭＰａ）に到達し、いわゆる目詰まりが生じたものを以下の処理を行い再生させた。この再生方法では、濾過方向と逆方向に溶剤を通して洗浄し、その後に乾燥した。次に、４００℃に温度調整された加熱炉内に濾材５９を入れて２時間焙焼させて再生させた。
【０１７４】
紫外線吸収剤溶液６０及びマット剤分散液６１をそれぞれポンプ６４，６５によりスタティックミキサ６６に送液した。スタティックミキサ６６には、管径が２５．４ｍｍ、エレメント数が７６個のものを用いた。紫外線吸収剤溶液６０とマット剤分散液６１とを混合させた後に、原料ドープ３６に供給した。これらをスタティックミキサ６７で混合させて流延用ドープとした。なお、紫外線吸収剤の添加量は、原料ドープ３６の固形分濃度（ポリマー及び可塑剤）に対して１．０４重量％となるように調整した。また、マット剤の添加量は、原料ドープ３６の固形分濃度に対して０．１３重量％とした。
【０１７５】
流延ダイ７０は、乾燥されたフィルムの膜厚が８０μｍとなるように、流延ダイ７０の吐出口の流延用ドープの流量を調整して流延を行った。また流延ダイ７０の吐出口からの流延用ドープの流延幅を１７００ｍｍとした。流延用ドープの温度を３６℃に調整するために、流延ダイ７０にジャケット（図示しない）を設けてジャケット内に供給する伝熱媒体の入口温度を３６℃とした。流延ダイ７０と配管とはすべて、製膜中には３６℃に保温した。流延ダイ７０は、コートハンガータイプのダイである。
【０１７６】
また、流延ダイ７０の１次側には、この部分を減圧するための減圧チャンバ８０を設置した。この減圧チャンバ８０の減圧度は、流延ビードの前後で１Ｐａ〜５０００Ｐａの圧力差が生じるように調整され、この調整は流延速度に応じてなされる。その際に、ビードの長さが２０ｍｍ〜５０ｍｍとなるように流延ビードの両面側の圧力差を設定した。また、減圧チャンバ８０は、流延部周囲のガスの凝縮温度よりも高い温度に設定できる機構を具備したものを用いた。ダイ吐出口におけるビードの前面部、背面部にはラビリンスパッキン（図示しない）を設けた。また、流延ダイのダイ吐出口の両端には開口部を設けた。さらに、流延ダイ７０には、流延ビードの両縁の乱れを調整するためのエッジ吸引装置（図示しない）を取り付けた。
【０１７７】
流延ダイ７０の材質は、析出硬化型のステンレス鋼であり、熱膨張率が２×１０−５（℃−１）以下の素材であった。電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６製と略同等の耐腐食性を有する素材であった。また、ジクロロメタン，メタノール，水の混合液に３ヶ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有していた。流延ダイ７０の接液面の仕上げ精度は表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下であり、スリットのクリアランスは１．５ｍｍに調整した。流延ダイ７０のリップ先端の接液部の角部分については、Ｒはスリット全巾に亘り５０μｍ以下になるように加工されているものを用いた。ダイ内部での剪断速度は１（１／ｓｅｃ）〜５０００（１／ｓｅｃ）の範囲であった。また、流延ダイ７０のリップ先端には、溶射法によりＷＣ（タングステンカーバイト）コーティングをおこない硬化膜を設けた。
【０１７８】
さらに流延ダイ７０の吐出口には、流出する流延用ドープが局所的に乾燥固化することを防止するために、流延用ドープを可溶化するための混合溶媒（ジクロロメタン：メタノール＝５０重量部：５０重量部）を流延ビードの両則端部と吐出口との界面部に対し、それぞれ０．５ｍｌ／ｍｉｎずつ供給した。混合溶媒を供給するポンプの脈動率は５％以下であった。また、減圧チャンバ８０により流延ビード背面側の圧力を前面部よりも１５０Ｐａ低くした。減圧チャンバ８０の内部温度を所定の温度で一定にするためにジャケット（図示しない）を取り付けた。そのジャケット内には３５℃に調整された伝熱媒体を供給した。前記エッジ吸引装置は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１００Ｌ／ｍｉｎの範囲となるようにエッジ吸引風量を調整することができるものであり、本実施例ではこれを３０Ｌ／ｍｉｎ〜４０Ｌ／ｍｉｎの範囲となるように適宜調整した。
【０１７９】
支持体として幅２．１ｍで長さが７０ｍのステンレス製のエンドレスバンドを流延バンド７３として利用した。流延バンド７３は、厚みが１．５ｍｍ、表面粗さが０．０５μｍ以下になるように研磨した。その材質はＳＵＳ３１６製であり、十分な耐腐食性と強度を有するものを用いた。流延バンド７３の全体の厚みムラは０．５％以下であった。流延バンド７３は、２個の回転ローラ７１，７２により駆動させた。その際の流延バンド７３の搬送方向における張力は１×１０５Ｎ／ｍとなるように調整した。また、流延バンド７３と回転ローラ７１，７２との相対速度差が０．０１ｍ／ｍｉｎ以下になるように調整した。このときに、流延バンド７３の速度変動を０．２％以下とした。また１回転の幅方向の蛇行が、１．５ｍｍ以下に制限されるように流延バンド７３の両端位置を検出して制御した。流延バンド７３は、風圧変動抑制手段（図示しない）を有した流延室７５内に設置した。この流延バンド７３上に流延ダイ７０から流延用ドープを流延した。
【０１８０】
回転ローラ７１，７２は、流延バンド７３の温度調整を行うことができるように、内部に伝熱媒体を送液できるものを用いた。流延ダイ７０側の回転ローラ７１には５℃の伝熱媒体を流し、他方の回転ローラ７２には乾燥のために４０℃の伝熱媒体を流した。流延直前の流延バンド７３中央部の表面温度は１５℃であり、その両側端の温度差は６℃以下であった。なお、流延バンド７３には、表面欠陥がないものが好ましく、３０μｍ以上のピンホールは皆無であり、１０μｍ〜３０μｍのピンホールは１個／ｍ２  以下、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ２  以下であるものを用いた。
【０１８１】
流延室７５の温度は、温調設備７６を用いて３５℃に保った。流延バンド７３上に流延された流延用ドープから形成された流延膜７９には、最初に流延膜７９に対して平行に流れる乾燥風を送り、流延膜７９を乾燥した。この乾燥風からの流延膜７９への総括伝熱係数は２４ｋｃａｌ／（ｍ２  ・ｈｒ・℃）であった。乾燥風の温度は、流延バンド７３上部の上流側に配置した送風ダクト８１のものを１３５℃とし、流延バンド７３の上部下流側に配置した送風ダクト８２のものを１４０℃とした。また、流延バンド７３の下部に配置した送風ダクト８３のものを６５℃とした。それぞれの乾燥風の飽和温度は、いずれも−８℃付近であった。流延バンド７３上での乾燥雰囲気における酸素濃度は５ｖｏｌ％に保持した。なお、この酸素濃度を５ｖｏｌ％に保持するために空気を窒素ガスで置換した。また、流延室７５内の溶媒を凝縮回収するために、凝縮器７７を設け、その出口温度を−１０℃に設定した。
【０１８２】
流延後５秒間は乾燥風が、直接流延用ドープ及び流延膜７９に当たらないように遮風板８４を設置して、流延ダイ７０直近の静圧変動を±１Ｐａ以下に抑制した。流延膜７９中の溶媒比率が乾量基準で５０質量％になった時点で流延バンド７３から剥取ローラ８５で支持しながらフィルム（湿潤フィルム）８６として剥ぎ取った。なお、この乾量基準による溶媒含有率は、サンプリング時におけるフィルム重量をｘ、そのサンプリングフィルムを乾燥した後の重量をｙとするとき｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００で算出される値である。剥取不良を抑制するために、流延バンド７３の速度に対して剥取速度（剥取ローラドロー）は１００．１％〜１１０％の範囲で適切に調整した。剥ぎ取った湿潤フィルム８６の表面温度は１５℃であった。流延バンド７３上での乾燥速度は、平均６０質量％乾量基準溶媒／ｍｉｎであった。乾燥により発生した溶媒ガスは−１０℃の凝縮器７７で凝縮液化して回収装置７８で回収した。回収された溶媒は、水分量が０．５％以下となるように調整した。溶媒が除去された乾燥風は、再度加熱して乾燥風として再利用した。湿潤フィルム８６を渡り部９０のローラを介して搬送し、テンタ式乾燥機９２に送った。この渡り部９０では送風ダクト９１から４０℃の乾燥風を湿潤フィルム８６に送風した。なお、渡り部９０のローラで搬送している際に、湿潤フィルム８６に約５０Ｎ／ｍのテンションを付与した。
【０１８３】
テンタ式乾燥機９２に送られた湿潤フィルム８６は、クリップでその両端を固定されながら乾燥ゾーン内を搬送され、この間に乾燥風により乾燥された。クリップは、２０℃の伝熱媒体の供給により冷却した。クリップの搬送は、チェーンで行い、そのスプロケットの速度変動は０．５％以下であった。また、テンタ式乾燥機９２内を３ゾーンに分け、それぞれのゾーンの乾燥風温度を上流側から９０℃，１１０℃，１２０℃とした。乾燥風のガス組成は−１０℃における飽和ガス濃度とした。テンタ式乾燥機９２内での平均乾燥速度は１２０質量％（乾量基準溶媒）／ｍｉｎであった。テンタ式乾燥機９２の出口ではフィルム９３内の残留溶媒量が７質量％となるように、乾燥ゾーンの条件を調整した。テンタ式乾燥機９２内では搬送しつつ幅方向に延伸も行った。なお、この延伸前の湿潤フィルム８６の幅を１００％としたとき、延伸後の幅が１０３％となるように延伸した。剥取ローラ８５からテンタ式乾燥機９２の入口に至るまでの延伸率（テンタ駆動ドロー）は１０２％とした。テンタ式乾燥機９２内での延伸率は、クリップによる噛み込み開始位置から１０ｍｍ以上離れた位置の任意の２点における各実質延伸率の差異が１０％以下であり、かつ２０ｍｍ離れた任意の２点の延伸率の差は５％以下であった。また、テンタ式乾燥機９２の入口から出口までの長さに対する、クリップ挟持開始位置から挟持解除位置までの長さの割合は９０％とした。テンタ式乾燥機９２内で蒸発した溶媒は−１０℃の温度で凝縮させ液化して回収した。凝縮回収用に凝縮器（コンデンサ）を設け、その出口温度は−８℃に設定した。そして凝縮溶媒は、含まれる水分量が０．５質量％以下に調整されて再使用された。そして、テンタ式乾燥機９２からフィルム９３として送り出した。
【０１８４】
そして、テンタ式乾燥機９２の出口から３０秒以内にフィルム９３の両端の耳切りを耳切装置９４で行った。ＮＴ型カッターにより両側５０ｍｍの耳をカットし、カットした耳はカッターブロワ（図示しない）によりクラッシャ９５に風送して平均８０ｍｍ２  程度のチップに粉砕した。このチップは、再度ドープ調製用原料としてＴＡＣフレークと共にドープ製造の際の原料として利用した。テンタ式乾燥機９２の乾燥雰囲気における酸素濃度は５ｖｏｌ％に保持した。なお、酸素濃度を５ｖｏｌ％に保持するため空気を窒素ガスで置換した。後述する乾燥室９７で高温乾燥させる前に、１００℃の乾燥風が供給されている予備乾燥室（図示しない）でフィルム９３を予備加熱した。
【０１８５】
フィルム９３を乾燥室９７で高温乾燥した。乾燥室９７を４区画に分割して、上流側から１２０℃，１３０℃，１３０℃，１３０℃の乾燥風を送風ダクト（図示しない）から乾燥室内に送った。フィルム９３のローラ９６による搬送テンションを５０Ｎ／ｍ〜１５０Ｎ／ｍとして、最終的に残留溶媒量が０．３質量％になるまで約１０分間乾燥した。前記ローラ９６のラップ角度（フィルムの巻き掛け中心角）は、９０度および１８０度とした（図２では誇張して示している）。前記ローラ９６の材質はアルミ製もしくは炭素鋼製であり、表面にはハードクロム鍍金を施した。ローラ９６の表面形状はフラットなものとブラストによりマット化加工したものとを用いた。ローラ９６の回転によるフィルム位置の振れは、全て５０μｍ以下であった。また、テンション１００Ｎ／ｍでのローラ撓みは０．２ｍｍ以下となるように選定した。
【０１８６】
乾燥風に含まれる溶媒ガスは、吸着回収装置９８を用いて吸着回収除去した。ここに使用した吸着剤は活性炭であり、脱着は乾燥窒素を用いて行った。回収した溶媒は、水分量を０．３質量％以下に調整してドープ調製用溶媒として再利用した。乾燥風には、溶媒ガスの他、可塑剤，ＵＶ吸収剤，その他の高沸点物が含まれるので冷却除去する冷却器およびプレアドソーバでこれらを除去して再生循環使用した。そして、最終的に屋外排出ガス中のＶＯＣ（揮発性有機化合物）は１０ｐｐｍ以下となるよう、吸脱着条件を設定した。また、全蒸発溶媒のうち、凝縮法で回収する溶媒量は９０質量％であり、残りのものの大部分は吸着により回収した。
【０１８７】
乾燥されたフィルム９３を第１調湿室（図示しない）に搬送した。乾燥室９７と第１調湿室との間の渡り部には、１１０℃の乾燥風を給気した。第１調湿室には、温度５０℃、露点が２０℃の空気を給気した。さらに、フィルム９３のカールの発生を抑制する第２調湿室（図示しない）にフィルム９３を搬送した。第２調湿室では、フィルム９３に直接９０℃，湿度７０％の空気をあてた。
【０１８８】
調湿後のフィルム９３は、冷却室９９で３０℃以下に冷却した後に耳切装置（図示しない）で再度両端の耳切りを行った。搬送中のフィルム９３の帯電圧は、常時−３ｋＶ〜＋３ｋＶの範囲となるように強制除電装置（除電バー）１００を設置した。さらにフィルム９３の両端にナーリング付与ローラ１０１でナーリングの付与を行った。ナーリングはフィルム９３の片側からエンボス加工を行うことで付与し、ナーリングを付与する幅は１０ｍｍであり、凹凸の高さがフィルム９３の平均厚みよりも平均１２μｍ高くなるようにナーリング付与ローラによる押し圧を設定した。
【０１８９】
オンライン欠陥検出装置１０２を用いてフィルム９３中の異物の数をカウントした。オンライン欠陥検出装置１０２は走行しているフィルム９３の一方の側からレーザ光を照射し、フィルム９３の全幅をスキャンしながらフィルムの反対面で受光し、異物によるレーザ光の散乱を検知することで異物を検出している。本実施例では、３０μｍ以上の異物を検知可能なように調整を行った。この状態で製品５００ｍの異物数は２４個であった。この異物を採取して顕微鏡を用いて確認したところ、金属繊維状の異物は発見されなかった。
【０１９０】
そして、フィルム９３を巻取室１０３に搬送した。巻取室１０３は、室内温度２８℃，湿度７０％ＲＨに保持した。巻取室１０３の内部には、フィルム９３の帯電圧が−１．５ｋＶ〜＋１．５ｋＶとなるようにイオン風除電装置（図示しない）も設置した。このようにして得られたフィルム（厚さ８０μｍ）９３の製品幅は、１３３０ｍｍとなった。巻取ローラ１０４の径は１６９ｍｍのものを用いた。巻き始めテンションは４００Ｎ／ｍであり、巻き終わりが１５０Ｎ／ｍになるようなテンションパターンとした。巻き取り全長は３９４０ｍであった。巻き取りの際の巻きズレの変動幅（オシレート幅と称することもある）を±５ｍｍとした、巻取ローラ１０４に対する巻きズレ周期を４００ｍとした。また、巻取ローラ１０４に対するプレスローラ１０５の押し圧は、４０Ｎ／ｍに設定した。巻き取り時のフィルムの温度は２５℃、含水量は１．４質量％、残留溶媒量は０．３質量％であった。全工程を通しても平均乾燥速度は２０質量％（乾量基準溶媒）／ｍｉｎであった。また巻き緩み、シワもなく、１０Ｇでの衝撃テストにおいても巻きずれが生じなかった。また、ロール外観も良好であった。また、オンライン欠陥検出装置１０２で検出された異物数は２４個であったが金属繊維に由来する破損物は０個であった。
【０１９１】
フィルム９３のフィルムロールを２５℃、５５％ＲＨの貯蔵ラックに１ヶ月保管して、さらに上記と同様に検査した結果、いずれも有意な変化は認められなかった。さらにロール内においても接着も認められなかった。また、フィルム９３を製膜した後に、流延バンド７３上にはドープから形成された流延膜７９の剥げ残りは全く見られなかった。
【０１９２】
第１層５９ａの金属繊維の平均径が８μｍ，第２層５９ｂの金属繊維の平均径が４μｍ，第３層５９ｃの金属繊維の平均径が８μｍの濾材５９を用いて比較実験を実施した。その他の条件は実施例と同じである。オンライン欠陥検出装置１０２を用いた異物の検出では、製品フィルム５００ｍあたりの総異物数が８０個であり、そのうち金属繊維由来の破損物が６０個であった。
【０１９３】
本実施例から、焼結金属繊維製濾材の濾過精度を上げてもなお、金属繊維破損物による異物を含まない溶液の製造が可能であることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【０１９４】
【図１】本発明に係るドープの原料ドープを製造する設備の概略図である。
【図２】本発明に係るドープを製造し、製膜を行う設備の概略図である。
【図３】本発明に係るドープを製造するための濾過装置の断面図である。
【符号の説明】
【０１９５】
１０  原料ドープ製造ライン
３６  原料ドープ
５０  フィルム製造ライン
５６  第１濾過装置
７６  第２濾過装置
５８  濾過装置本体
５８ａ  外側液流路
５８ｂ  内側液流路
５９  濾材
９３  フィルム
【図１】
2006299223.tif 000059
【図２】
2006299223.tif 000060
【図３】
2006299223.tif 000061