(57)【要約】【課題】プライミング放電を安定して発生させることで、高精細化した場合やキセノン（Ｘｅ）分圧を上げた場合でも、書込み動作を安定させて良好な品質で画像表示できるプラズマディスプレイパネルを実現する。【解決手段】走査電極２２、維持電極２３およびデータ電極３２とで放電を行う主放電セル４０と、前面基板２１に設けたプライミング電極２９とデータ電極３２とで放電を行うプライミング放電セル４１ａとを有し、少なくともプライミング放電セル４１ａに２次電子放出係数の大なる材料層５０を設けている。【選択図】図１
2006107865.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に平行に配置されかつ表示電極対を構成する走査電極および維持電極と、放電空間を挟んで前記第１の基板に対向配置された第２の基板上に前記走査電極と交差する方向に配置されかつ前記表示電極対とで主放電セルを構成するデータ電極と、前記主放電セルを区画し前記主放電セルが前記表示電極対に沿って複数連結した主放電セル行を形成するとともに隣接する主放電セル行の間に隙間部を設けた隔壁とを有し、
前記第１の基板上において２本の走査電極が隣り合う隙間部に対応する位置に、前記走査電極と平行にプライミング電極を配置し、少なくとも前記プライミング電極が配置された前記隙間部の前記第２の基板側に、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物、希土類酸化物および弗化物の中から選ばれる少なくとも１つの材料を含む材料層を設けたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物、希土類酸化物および弗化物の中から選ばれる少なくとも１つの材料が、前記隙間部の空間に面して前記材料層の表面に露出していることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
材料層が、ＭｇＯを含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
データ電極を誘電体層で覆うとともに前記誘電体層上に隔壁および材料層を設け、
材料層が、（Ｌａ，Ｍ１）Ｍ２Ｏ３（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ２はＣｏ、Ｎｉ、ＦｅおよびＭｎの中から選ばれるものである）であらわされるペロブスカイト型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ２の比率を１よりも大きくした材料、および（Ｌａ，Ｍ１）２Ｍ３Ｏ４（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ３はＣｕまたはＮｉである）であらわされるＫ２ＮｉＦ４型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ３の比率を１よりも大きくした材料のいずれかを主成分とする材料を含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、壁掛けテレビや大型モニターに用いられるプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＡＣ型として代表的な交流面放電型プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」と呼ぶ）は、面放電を行う走査電極および維持電極を配列して形成したガラス基板からなる前面板と、データ電極を配列して形成したガラス基板からなる背面板とを、両電極がマトリックスを組むように、しかも間隙に放電空間を形成するように平行に対向配置し、その外周部をガラスフリット等の封着材によって封着することにより構成されている。そして、基板間には、隔壁によって区画された放電セルが設けられ、この隔壁間のセル空間に蛍光体層が形成された構成である。このような構成のＰＤＰにおいては、ガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線でＲ、Ｇ、Ｂの各色の蛍光体を励起して発光させることによりカラー表示を行っている。
【０００３】
このＰＤＰは、１フィールド期間を複数のサブフィールドに分割し、発光させるサブフィールドの組み合わせによって駆動し階調表示を行う。各サブフィールドは初期化期間、書込み期間および維持期間からなる。画像データを表示するためには、初期化期間、書込み期間および維持期間でそれぞれ異なる信号波形を各電極に印加している。
【０００４】
初期化期間には、例えば、正のパルス電圧をすべての走査電極に印加し、走査電極および維持電極を覆う誘電体層上の保護層および蛍光体層上に必要な壁電荷を蓄積する。加えて、放電遅れを小さくして書込み放電を安定して発生させるためのプライミング（放電のための起爆剤＝励起粒子）を発生させるという働きを持つ。
【０００５】
書込み期間では、すべての走査電極に、順次負の走査パルスを印加することにより走査し、表示データがある場合、走査電極を走査している間に、データ電極に正のデータパルスを印加すると、走査電極とデータ電極との間で放電が起こり、走査電極上の保護層の表面に壁電荷が形成される。
【０００６】
つづく維持期間では、一定の期間、走査電極と維持電極との間に放電を維持するのに充分な電圧を印加する。これにより、走査電極と維持電極との間に放電プラズマが生成され、一定の期間、蛍光体層を励起発光させる。書込み期間においてデータパルスが印加されなかった放電空間では、放電は発生せず蛍光体層の励起発光は起こらない。
【０００７】
このようなＰＤＰでは、書込み期間の放電に大きな放電遅れが発生し、書込み動作が不安定になる、あるいは書込み動作を完全に行うために書込み時間を長く設定し書込み期間に費やす時間が大きくなりすぎるといった課題があった。
【０００８】
これら課題を解決するために、プライミング電極を設けてプライミングを発生させ、放電遅れを小さくするＰＤＰが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平９−２４５６２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、これらＰＤＰにおいて、高精細化してライン数が増えたときには、さらに書込み時間に費やす時間が長くなり、維持期間に費やす時間を減らさなければならず、高精細化したときに輝度の確保が難しいという課題が生じる。さらに、高輝度・高効率化を達成するために、キセノン（Ｘｅ）分圧を上げた場合においても放電開始電圧が上昇し、初期化放電が不安定になり、その結果、書込み不良を生じるおそれがあり、そのため書込み動作の駆動電圧マージンが狭くなるという課題があった。
【００１０】
本発明は、これらの課題に鑑みなされたものであり、プライミング放電を安定して発生させ、高精細化した場合やキセノン（Ｘｅ）分圧を上げた場合でも、書込み動作を安定させたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述した課題を解決するために、本発明のＰＤＰは、第１の基板上に平行に配置されかつ表示電極対を構成する走査電極および維持電極と、放電空間を挟んで第１の基板に対向配置された第２の基板上に走査電極と交差する方向に配置されかつ表示電極対とで主放電セルを構成するデータ電極と、主放電セルを区画し主放電セルが表示電極対に沿って複数連結した主放電セル行を形成するとともに隣接する主放電セル行の間に隙間部を設けた隔壁とを有し、第１の基板上において２本の走査電極が隣り合う隙間部に対応する位置に、走査電極と平行にプライミング電極を配置し、少なくともプライミング電極が配置された隙間部の第２の基板側に、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物、希土類酸化物および弗化物の中から選ばれる少なくとも１つの材料を含む材料層を設けたことを特徴とする。
【００１２】
この構成により、プライミング放電空間にアルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物、希土類酸化物および弗化物の少なくともいずれかを含む材料層を設けると、プライミング放電の放電電圧を大きく低減でき、さらに放電が発生しやすい条件を整えて放電の発生を均一化でき、安定したプライミング放電を実現できる。したがって、プライミング放電の動作マージンの増加と放電電圧の低減等により、クロストーク等の周囲への影響を抑制しつつ、プライミング放電を安定的に形成することで、書込み特性に優れた高精細化に好適なＰＤＰを実現することができる。
【００１３】
また、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物、希土類酸化物および弗化物の中から選ばれる少なくとも１つの材料が、隙間部の空間に面して材料層の表面に露出していることが望ましい。このような構成によれば、プライミング放電の発生をさらに安定させることができる。
【００１４】
また、材料層が、ＭｇＯを含むことが望ましい。このような構成によれば、ＭｇＯを主成分とする材料層が電子放出性能を高めて、安定したプライミング放電を効果的かつ確実に形成することができる。
【００１５】
また、データ電極を誘電体層で覆うとともに誘電体層上に隔壁および材料層を設け、材料層が、（Ｌａ，Ｍ１）Ｍ２Ｏ３（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ２はＣｏ、Ｎｉ、ＦｅおよびＭｎの中から選ばれるものである）であらわされるペロブスカイト型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ２の比率を１よりも大きくした材料、および（Ｌａ，Ｍ１）２Ｍ３Ｏ４（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ３はＣｕまたはＮｉである）であらわされるＫ２ＮｉＦ４型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ３の比率を１よりも大きくした材料のいずれかを主成分とする材料を含むことが望ましい。このような構成によれば、さらに２次電子放出係数が大きい材料によって電子放出性能をさらに高めて、安定したプライミング放電をさらに効果的かつ確実に形成することができる。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように、本発明によれば、プライミング放電を安定して発生させることで、高精細化した場合やキセノン（Ｘｅ）分圧を上げた場合でも、書込み動作を安定させて良好な品質で画像表示させるＰＤＰを実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態におけるＰＤＰについて図面を用いて説明する。
【００１８】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの構造を示す分解斜視図であり、図２は、同ＰＤＰの断面図である。第１の基板であるガラス製の前面基板２１と第２の基板である背面基板３１とが放電空間を挟んで対向配置され、放電空間には放電によって紫外線を放射するネオン（Ｎｅ）とキセノン（Ｘｅ）との混合ガスが封入されている。
【００１９】
前面基板２１上には、走査電極２２と維持電極２３とからなる表示電極対が互いに平行に複数対形成されている。このとき、例えば走査電極２２−維持電極２３の順で構成された表示電極対に隣接する表示電極対は維持電極２３−走査電極２２の順で構成されている。そして、隣接する表示電極対の間のうち、走査電極２２が対向する側にはプライミング電極２９が表示電極対と平行に構成されている。したがって、前面基板２１上には、維持電極２３−走査電極２２−プライミング電極２９−走査電極２２−維持電極２３−維持電極２３−走査電極２２−プライミング電極２９−走査電極２２−維持電極２３−・・・となるように配列されている。走査電極２２と維持電極２３は、それぞれ透明電極２２ａ、２３ａとその透明電極２２ａ、２３ａ上に形成された金属母線２２ｂ、２３ｂとから構成されている。走査電極２２−走査電極２２間、および維持電極２３−維持電極２３間には黒色材料からなる光吸収層２８が設けられており、プライミング電極２９は走査電極２２−走査電極２２間に設けられた光吸収層２８上に金属母線を用いて構成されている。そして、これらの走査電極２２、維持電極２３、プライミング電極２９および光吸収層２８とを覆うように誘電体層２４および保護層２５が形成されている。
【００２０】
背面基板３１上には、走査電極２２と交差する方向にデータ電極３２が互いに平行に複数形成され、そしてデータ電極３２を覆うように誘電体層３３が形成されている。そして誘電体層３３の上に主放電セル４０を区画するための隔壁３４が形成されている。
【００２１】
隔壁３４は、データ電極３２と平行な方向に延びる縦壁部３４ａと、主放電セル４０を形成するとともに主放電セル４０の間に隙間部４１を形成する横壁部３４ｂとで構成されている。その結果、隔壁３４は走査電極２２と維持電極２３とからなる一対の表示電極対に沿って主放電セル４０を複数連結した主放電セル行を形成し、隣接した主放電セル行の間に隙間部４１を形成する。隙間部４１のうち、２本の走査電極２２が隣り合う側に位置する隙間部４１の前面基板２１上にはプライミング電極２９が形成されており、この隙間部はプライミング放電セル４１ａとして働く。すなわち隙間部４１は１つおきにプライミング電極２９を有するプライミング放電セル４１ａとなっている。なお、隙間部４１ｂは２本の維持電極２３が隣り合う側に位置する隙間部４１である。
【００２２】
そして、これら隔壁３４の頂部は前面基板２１に当接するように平坦に形成されている。これは、隣接する主放電セル４０の相互干渉を防ぐためであり、特に書込み期間において隣接する主放電セル４０の書込み放電にともない発生するプライミングの影響を受けて誤書込みを生じる等の誤動作を防ぐためである。さらには、プライミング放電にともない、プライミング放電セル４１ａに隣接する主放電セル４０の壁電荷が減少し書込み不良を生じる等の誤動作を防ぐためである。
【００２３】
また、図１、図２に示すように、背面基板３１上の少なくともプライミング放電セル４１ａにおいては、２次電子放出係数の大なる材料層５０が略均一な膜厚に形成されている。２次電子放出係数の大なる材料としては、アルカリ金属の酸化物（例えば、Ｃｓ２Ｏ等）、アルカリ土類金属の酸化物（例えば、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等）、希土類酸化物（例えば、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｅｒ２Ｏ３、Ｌｕ２Ｏ３等）、または弗化物（例えば、ＬｉＦ、ＣａＦ２、ＭｇＦ２等）の少なくともいずれかを含む材料の使用が考えられる。
【００２４】
そして、隔壁３４により区画された主放電セル４０に対応する誘電体層３３の表面と隔壁３４の側面とに蛍光体層３５が設けられている。なお、図１では隙間部４１側に蛍光体層３５を形成していないが、蛍光体層３５を形成する構成としてもよい。
【００２５】
図３は、本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの電極配列図である。列方向にｍ列のデータ電極Ｄ１〜Ｄｍ（図１のデータ電極３２）が配列され、行方向にｎ行の走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ（図１の走査電極２２）とｎ行の維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ（図１の維持電極２３）とｎ／２行のプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１（図１のプライミング電極２９）とが維持電極ＳＵ１−走査電極ＳＣ１−プライミング電極ＰＲ１−走査電極ＳＣ２−維持電極ＳＵ２−維持電極ＳＵ３−走査電極ＳＣ３−プライミング電極ＰＲ３−走査電極ＳＣ４−維持電極ＳＵ４−・・・となるように配列されている。そして、一対の走査電極ＳＣｉ、維持電極ＳＵｉ（ｉ＝１〜ｎ）と１つのデータ電極Ｄｊ（ｊ＝１〜ｍ）とを含む主放電セルＣｉ，ｊ（図１の主放電セル４０）が放電空間内にｍ×ｎ個形成される。またプライミング電極ＰＲｐ（ｐは奇数）とデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとを含むプライミング放電セルＰＳｐ（図１のプライミング放電セル４１ａ）が放電空間内にｎ／２個形成される。そして詳細は後述するが、書込み期間においてこのプライミング放電セルＰＳｐで発生したプライミングは、プライミング放電セルＰＳｐに隣接する主放電セルＣｐ，１〜Ｃｐ，ｍ、Ｃｐ＋１，１〜Ｃｐ＋１，ｍに供給される。
【００２６】
つぎに、ＰＤＰを駆動するための駆動波形とそのタイミングについて、ＰＤＰの動作とともに説明する。図４は、本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの駆動波形図である。なお本発明の実施の形態１においては、１フィールド期間が初期化期間、書込み期間、維持期間を有する複数のサブフィールドから構成され、最初のサブフィールドの初期化期間は画像表示にかかわるすべての主放電セルで初期化放電を発生させる全セル初期化動作を行い、２番目以降のサブフィールドはその直前のサブフィールドの維持期間で維持放電を行った主放電セルに対して選択的に初期化放電を発生させる選択初期化動作を行うものとして説明する。全セル初期化期間を便宜上２つに分けて前半部、後半部と呼ぶことにする。
【００２７】
最初のサブフィールドの初期化期間前半部では、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎをそれぞれ０（Ｖ）に保持し、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎには電圧Ｖｉ１から、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎおよびデータ電極Ｄ１〜Ｄｍに対して放電開始電圧を超える電圧Ｖｉ２に向かって緩やかに上昇する傾斜波形電圧を印加する。また、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１にも走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと同様の傾斜波形電圧を印加する。すると、主放電セル内部では、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎとデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間でそれぞれ微弱な初期化放電が起こり、プライミング放電セル内部では、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１とデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間でそれぞれ微弱な初期化放電が起こる。そして、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ上部およびプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１上部に負の壁電圧が蓄積されるとともに、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ上部および維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ上部には正の壁電圧が蓄積される。ここで、電極上部の壁電圧とは電極を覆う誘電体層上あるいは蛍光体層上に蓄積された壁電荷により生じる電圧をあらわす。
【００２８】
初期化期間後半部では、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎを正電圧Ｖｅに保ち、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎには、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎおよびデータ電極Ｄ１〜Ｄｍに対して放電開始電圧以下となる電圧Ｖｉ３から放電開始電圧を超える電圧Ｖｉ４に向かって緩やかに下降する傾斜波形電圧を印加する。また、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１にも走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと同様の傾斜波形電圧を印加する。すると、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎとデータ電極Ｄ１〜Ｄｍ、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１とデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間でそれぞれ微弱な初期化放電が起こる。そして、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ上部の負の壁電圧および維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ上部の正の壁電圧が弱められ、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ上部の正の壁電圧は書込み動作に適した値に調整され、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１上部の壁電圧もプライミング動作に適した値に調整される。以上により画像表示にかかわる全放電セルを初期化放電させる全セル初期化動作が終了する。
【００２９】
書込み期間では、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎおよびプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１を一旦Ｖｃに保持する。これは、後述する書込みパルス電圧Ｖｄの印加にともなって不要な放電を発生させないためである。そして、１行目のプライミング電極ＰＲ１に負のプライミングパルス電圧Ｖｐを印加する。このときのプライミングパルスは振幅の大きなパルスであり、データ電極Ｄ１〜Ｄｍに印加される書込みパルスの有無にかかわらず、プライミング電極ＰＲ１とデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間でプライミング放電が発生する。そして、１行目の主放電セルＣ１，１〜Ｃ１，ｍおよび２行目の主放電セルＣ２，１〜Ｃ２，ｍ内部にプライミングを供給する。この放電によってプライミング電極ＰＲ１上部には正の壁電圧が蓄積される。
【００３０】
つぎに、１行目の走査電極ＳＣ１に負の走査パルス電圧Ｖａを印加する。このとき同時に、データ電極Ｄ１〜Ｄｍのうち１行目に表示すべき画像信号に対応するデータ電極Ｄｋ（ｋは１〜ｍの整数をあらわす）に正の書込みパルス電圧Ｖｄを印加する。すると、書込みパルス電圧Ｖｄを印加したデータ電極Ｄｋと走査電極ＳＣ１との交差部で放電が発生し、対応する主放電セルＣ１，ｋの維持電極ＳＵ１と走査電極ＳＣ１との間の放電に進展する。そして、主放電セルＣ１，ｋの走査電極ＳＣ１上部に正の壁電圧が蓄積され、維持電極ＳＵ１上部に負の壁電圧が蓄積され、１行目の書込み動作が終了する。ここで、主放電セルＣ１，ｋの書込み放電は、プライミング電極ＰＲ１とデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間で発生したプライミング放電からプライミングが供給された後に発生するので放電遅れが小さく安定した放電となる。
【００３１】
つぎに、２行目の走査電極ＳＣ２に走査パルス電圧Ｖａを印加する。このとき同時に、データ電極Ｄ１〜Ｄｍのうち２行目に表示すべき画像信号に対応するデータ電極Ｄｋに正の書込みパルス電圧Ｖｄを印加する。すると、データ電極Ｄｋと走査電極ＳＣ２との交差部で放電が発生し、対応する主放電セルＣ２，ｋの維持電極ＳＵ２と走査電極ＳＣ２との間の放電に進展する。そして、主放電セルＣ２，ｋの走査電極ＳＣ２上部に正の壁電圧が蓄積され、維持電極ＳＵ２上部に負の壁電圧が蓄積され、２行目の書込み動作が終了する。ここでの、主放電セルＣ２，ｋの書込み放電も、プライミング電極ＰＲ１とデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間で発生したプライミング放電からプライミングが供給された後に発生するので放電遅れが小さく安定した放電となる。
【００３２】
また、２行目の走査電極ＳＣ２に走査パルス電圧Ｖａを印加すると同時に、プライミング電極ＰＲ３にプライミングパルス電圧Ｖｐを印加する。するとデータ電極Ｄ１〜Ｄｍに印加される書込みパルスの有無にかかわらず、プライミング電極ＰＲ３とデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間でプライミング放電が発生する。そして、３行目の主放電セルＣ３，１〜Ｃ３，ｍおよび４行目の主放電セルＣ４，１〜Ｃ４，ｍ内部にプライミングを供給する。この放電によってプライミング電極ＰＲ３上部に正の壁電圧が蓄積される。
【００３３】
以下同様の書込み動作をｎ行目の主放電セルＣｎ，ｋに至るまで行い、書込み動作を終了する。そして、それぞれの主放電セルＣｉ，ｊの書込み放電は、隣接するプライミング放電セルからプライミングが供給された後に発生するので、放電遅れの小さい安定した放電となる。
【００３４】
維持期間においては、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１および維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎを０（Ｖ）に一旦戻す。その後、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎに正の維持パルス電圧Ｖｓを印加する。このとき、書込み放電を起こした主放電セルＣｉ，ｊにおける走査電極ＳＣｉ上部と維持電極ＳＵｉ上部との間の電圧は、維持パルス電圧Ｖｓに加えて、書込み期間において走査電極ＳＣｉ上部および維持電極ＳＵｉ上部に蓄積された壁電圧が加算されるので放電開始電圧を超え維持放電が発生する。以降同様に、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎとに維持パルス電圧を交互に印加することにより、書込み放電を起こした主放電セルＣｉ，ｊに対して維持パルスの回数だけ維持放電が継続して行われる。
【００３５】
なお、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１には図４に示すように走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと同様の維持パルス電圧が印加される。書込み期間においてプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１上部には正の壁電圧が蓄積しているので、最初の維持パルス電圧印加時にはプライミング放電セル内部で放電が発生する。このとき、プライミング放電セル内での放電はデータ電極Ｄ１〜Ｄｍが陰極となる放電になる。そして、本構成ではプライミング放電セル内に２次電子放出係数の高い材料層５０を形成しているので、安定した放電を低電圧で発生させることができる。
【００３６】
つづくサブフィールドの初期化期間では、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎを正電圧Ｖｅに保ち、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎとプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１には電圧Ｖｉ４に向かって緩やかに下降する傾斜波形電圧を印加する。すると、維持放電を行った主放電セルＣｉ，ｋの走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ、データ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間、およびプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１とデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間でそれぞれ微弱な初期化放電が起こる。そして、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ上部および維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ上部の壁電圧が弱められ、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ上部の正の壁電圧は書込み動作に適した値に調整され、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１上部の正の壁電圧もプライミング動作に適した値に調整される。
【００３７】
この後の書込み期間、維持期間、およびつづくサブフィールドの駆動波形とパネルの動作は上述と同様である。
【００３８】
上述のように、初期化期間、維持期間においてはプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１には走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎとほぼ同様の駆動波形電圧を印加している。これは、走査電極ＳＣｐ、ＳＣｐ＋１とプライミング電極ＰＲｐとの距離が近いため、この電極間で不要な放電を発生させないためである。また、書込み期間および維持期間の最初の維持パルス電圧印加時にプライミング放電セル内部で画像表示に関係しない放電が発生するが、プライミング放電セルには光吸収層２８が設けてあるので、このときに発生する発光がパネル外部に漏れることはない。そして、書込み期間において、それぞれの主放電セルＣｉ，ｊの書込み放電は、隣接するプライミング放電セルからプライミングが供給された後に発生するので、放電遅れの小さい安定した放電となる。
【００３９】
また、走査電極ＳＣｐ−１に走査パルス電圧を印加している時間とプライミング電極ＰＲｐにプライミングパルス電圧を印加している時間とには重なりがあるので、１行目のプライミング放電を除いて、プライミング放電のための時間をあらたに設ける必要がない。実施の形態１においては、走査電極ＳＣｐ−１とデータ電極Ｄｋとの間で書込み放電を発生させると同時にプライミング電極ＰＲｐとデータ電極Ｄ１〜Ｄｍとの間でプライミング放電を発生させることにより、パネルの駆動時間を延ばすことなくプライミング放電を発生させることが可能となっている。
【００４０】
なお、上述の動作説明においては、最初のサブフィールドの初期化期間はすべての主放電セルで初期化放電を行う全セル初期化動作を行い、つぎのサブフィールド以降の初期化期間は維持放電を行った主放電セルを選択的に初期化する選択初期化動作を行うものとして説明したが、これらの初期化動作は任意に組み合わせてもよい。
【００４１】
このようにして、本発明の実施の形態１では、プライミング放電は、前面基板２１に設けられたプライミング電極２９と背面基板３１に設けられたデータ電極３２との間で上下方向に発生させている。しかも、背面基板３１のプライミング放電セル４１ａに２次電子放出係数の大きい材料層５０を形成している。したがって、特にデータ電極３２を陰極として放電を発生させるときには、放電を低電圧で発生させることができるようになり、その結果、放電開始電圧のばらつきが低減され、動作マージンを大きくすることができる。また、放電を低電圧で発生させることができるので放電の強度を小さくすることができ、プライミング放電セル４１ａにおける放電の他への影響、例えばクロストーク等を抑制することができる。また、従来と同じ放電電圧とする場合は、従来よりも放電の動作マージンを大きくすることができる。言うまでもなく、印加電圧を調整することにより、クロストークの抑制効果と動作マージン増大の効果を併用することもできる。このことにより、高精細度のＰＤＰにおいても、書込み特性をより安定化させることができる。
【００４２】
本発明の実施の形態１では、２次電子放出係数が大きい材料として、ＡＣ型ＰＤＰの材料として使用実績があり、ネオン（Ｎｅ）およびキセノン（Ｘｅ）ガスを封入した場合に２次電子放出係数が大きく耐久性に優れたＭｇＯを主成分とする材料によって材料層５０を形成している。したがって、材料層５０は、プライミング電極２９とデータ電極３２との間に電圧を印加した場合に、材料層５０からプライミング放電セル４１ａ内に効果的に２次電子を放出する機能を有している。この結果、本発明の実施の形態１では、プライミング放電セル４１ａの長手方向に連続して形成された材料層５０からプライミング放電セル４１ａ内に均一に２次電子を供給することができる。したがって、細長い形状を有するプライミング放電セル４１ａにおけるプライミング放電のばらつきを抑制し、各主放電セル４０に対して均一なプライミング放電を発生させることができる。また、プライミング放電の発生を促進し、プライミング放電に印加すべき電圧を低減することができる。さらに、これらの２次電子放出係数の大きい材料が材料層５０の表面に露出するように形成してもよい。図５は、本発明の実施の形態１のＰＤＰにおける材料層５０の詳細を示す断面図である。図５には、材料層５０として、ガラス材料５１とＭｇＯ等の酸化物５２が均一に混合され、所定の膜厚を有して形成されている例を示している。このように、材料層５０の表面にＭｇＯ等の酸化物５２が露出して形成されるように構成することで、より効果的に２次電子を放出させることが可能となる。
【００４３】
このように、本発明の実施の形態１によれば、プライミング放電を安定的に形成することで、書込み特性に優れ、高画質表示が可能な高精細化に好適なＰＤＰを実現することができる。
【００４４】
（実施の形態２）
本発明の実施の形態２においては、材料層５０を、２次電子放出係数がさらに大きく耐スパッタ性に優れたペロブスカイト型構造あるいはＫ２ＮｉＦ４型構造をもつ導電性酸化物を主成分とする材料によって形成する。導電性酸化物は、（Ｌａ，Ｍ１）Ｍ２Ｏ３（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ２はＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｎの中から選ばれるものである）であらわされるペロブスカイト型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ２の比率を１よりも大きくしたもの、あるいは（Ｌａ，Ｍ１）２Ｍ３Ｏ４（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ３はＣｕまたはＮｉである）であらわされるＫ２ＮｉＦ４型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ３の比率を１よりも大きくしたものである。
【００４５】
なお、上述したペロブスカイト型構造あるいはＫ２ＮｉＦ４型構造をもつ導電性酸化物は、導電性を有するが、絶縁体としての性質を有する誘電体層３３によってデータ電極３２を覆っているので、プライミング放電セル４１ａとデータ電極３２との間の絶縁性を確保することができる。
【００４６】
実施の形態２においては、この導電性酸化物にペロブスカイト型構造の酸化物の代表的な組成である（Ｌａ０．５Ｓｒ０．５）ＣｏＯ３（コバルタイト）を用いた。材料は共沈法を用いて作成した。出発原料として、Ｌａ、Ｓｒ、Ｃｏの各硝酸溶液を所定の元素比率になるように混合し、それぞれの溶液を蓚酸とエタノールの混合液に滴下し、それぞれの蓚酸塩の沈澱物をつくる。この沈澱物を７０℃で、乾燥し、乾燥した固形物を混合し、空気雰囲気中で、５００℃で、３時間加熱し、不要な蓚酸塩を熱分解し、Ｌａ、Ｓｒ、Ｃｏの酸化物をつくる。そして、この酸化物を５００℃以上の温度で、３００ｃｃ／分導入した酸素気流中において、１３００℃で、５時間焼成することによりペロブスカイト型構造を得る。焼成後の粉末は粒子が結合して固まっているので、乳鉢やボールミル等により、数μｍ以下に粉砕する。こうして作成した粉末と、低融点ガラス粉末、および有機溶媒を適当な粘度になるように調整し混合して印刷用のペーストを作成した。そして、プライミング放電セル４１ａにおいて、誘電体層３３上を覆うように、スクリーン印刷法にて導電性酸化物によって材料層５０を形成した。
【００４７】
ここで、上述の導電性酸化物の組成として、ペロブスカイト型構造の場合には（Ｌａ，Ｍ１）の元素を、Ｋ２ＮｉＦ４型構造の場合には（Ｌａ，Ｍ１）の元素を本来の化学量論的な組成に比べ過剰としている。この理由は、これら酸化物が仮に放電によってスパッタされたとしてもスパッタ膜が電極間を短絡するといった問題を発生させないためである。すなわち、これら過剰な元素は焼成工程中に酸化されそれぞれの元素の酸化物（Ｌａ２Ｏ３，ＢａＯ，ＳｒＯ等）となって結晶中に混入する。これらはもともと電気抵抗が高いので、放電中にスパッタされても低抵抗の膜をつくることはない。これに対して、Ｍ２あるいはＭ３の元素が過剰になるとＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｕ等の酸化物が形成されるが、これらの電気抵抗は低くまた還元されやすい性質ももつので、これらがスパッタされた場合電極間を短絡するおそれがある。したがって、導電性酸化物としては、化学量論的な組成とするのではなく、あらかじめ安全側にシフトした組成としておくことにより、信頼性の高いＰＤＰを得ることができる。
【００４８】
このように、本発明の実施の形態２では、材料層５０を、２次電子放出係数がさらに大きく耐スパッタ性に優れた材料であるペロブスカイト型構造あるいはＫ２ＮｉＦ４型構造をもつ導電性酸化物を主成分とする材料によって形成する。この構成により、電子放出性能をさらに高めて、安定したプライミング放電を効果的かつ確実に形成することができる。また、絶縁体としての性質を有する誘電体層３３によってデータ電極３２を覆うことで、プライミング放電セル４１ａとデータ電極３２との間の絶縁性を確保する。
【００４９】
なお、以上の説明ではプライミング放電セル４１ａに２次電子放出係数の大きな材料層５０を設ける例について主として説明したが、維持電極２３が配置された位置に対応する隙間部４１ｂにおいても同様の構成とすることが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明は、書込み動作の駆動電圧マージンを狭めることなく書込み放電を安定して発生させることができるので、壁掛けテレビや大型モニター等に用いられるＰＤＰとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの構造を示す分解斜視図
【図２】同ＰＤＰの断面図
【図３】同ＰＤＰの電極配列図
【図４】同ＰＤＰの駆動波形図
【図５】同ＰＤＰにおける材料層の詳細を示す断面図
【符号の説明】
【００５２】
２１    前面基板
２２    走査電極
２２ａ，２３ａ    透明電極
２２ｂ，２３ｂ    金属母線
２３    維持電極
２４，３３    誘電体層
２５    保護層
２８    光吸収層
２９    プライミング電極
３１    背面基板
３２    データ電極
３４    隔壁
３４ａ    縦壁部
３４ｂ    横壁部
３５    蛍光体層
４０    主放電セル
４１，４１ｂ    隙間部
４１ａ    プライミング放電セル
５０    材料層
【図１】
2006107865.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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