(57)【要約】【課題】  低コストで光量を犠牲にせずビームスポット径を制御できる光走査装置を提供する。【解決手段】  レーザアレイ１４にて射出されたビームの一部について偏光方向を制御するために、偏光方向の制御素子として１／２波長板１２をコリメータレンズ１６と第１シリンダレンズ１８間に入れている。コリメータレンズ１６後のビーム径が拡大した位置に１／２波長板１２を入れることで，ビームの偏光方向を部分的に変えている。すなわち、レーザアレイ１４にて射出されたビームの一部が１／２波長板１２を通過することによって偏光方向を部分的に変えられて（図中Bpol）、１／２波長板１２を通過しなかったビーム（図中Borg）とともにポリゴンミラー２０上に結像する。すなわちポリゴンミラー２０上ではｐ２のように、偏光方向を部分的に変えられたビームのプロファイル（Ppol）と、１／２波長板１２を通過しなかったビームのプロファイル（Porg）を合成したプロファイルを持つビームスポットとなる。【選択図】        図２
2006234956.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のビームを射出するレーザ光源と、
前記複数のビームを露光面上に結像させる光学系と、
を備えた光走査装置であって、
前記光学系の光路中に前記ビームの一部を偏光する偏光手段を設けたことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記偏光手段は前記露光面と光学的に共役関係にない位置に設けられたことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記偏光手段は透過型の１／２波長板であることを特徴とする請求項１乃至請求項２の何れかに記載の光走査装置。
【請求項４】
前記ビームは略平行なコリメート光として前記偏光手段に入射することを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載の光走査装置。
【請求項５】
前記偏光手段は前記光路中において前記複数のビームの主光線が略交差する位置に設けられたことを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れかに記載の光走査装置。
【請求項６】
前記光路中にビーム径を制限するアパーチャを設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れかに記載の光走査装置。
【請求項７】
前記アパーチャは前記偏光手段の近傍に設けられたことを特徴とする請求項６に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記偏光手段は前記ビーム中において偏光する割合を可変とすることを特徴とする請求項１乃至請求項７の何れかに記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光走査装置に関し、特にレーザ光により感光面上に画像を形成する光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来よりレーザアレイを光源として感光体の被走査面上にビームスポットを結像し走査露光を行う光走査装置において、走査ビームの被走査面における間隔とビーム径を決定する技術が必要とされている。
【０００３】
例えばレーザアレイの副走査方向の間隔（ｒ１）は，レーザ構造および製造プロセスの制限から任意に狭くすることはできない。一方レーザアレイより射出されるビームの拡がり角θ１（１／ｅ2強度の半角）は，レーザ構造によって決定される。
【０００４】
このレーザアレイを光源としてレーザ走査光学系を介し、被走査面上にレーザのＮＦＰ（near field pattern）を投影すると、被走査面上で得られるビーム径ｄ３（１／ｅ2直径）とスポット間隔ｒ３は、光学系の投影倍率をｍ、レーザ波長をλとすると、それぞれ以下の式で与えられる。
【０００５】
ｄ３＝ｍ・ｄ１＝ｍ・２λ/（π・θ１）
ｒ３＝ｍ・ｒ１
すなわち，ｄ３とｒ３の比はいかなる光学系の倍率ｍに対しても一定であって、任意に設定することはできない。これは任意の走査線密度に対して任意のビーム径を設定できないことになる。
【０００６】
この問題に対して、レーザ射出後のビーム光路中にアパーチャーを入れて結像レンズへの入射ビーム径を小さくし、結像レンズによって得られる被走査面でのビーム径ｄ３を拡大する構成の光学系が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
上記例においては図９、図１０に示すように、レーザ射出後のビーム光路中にアパーチャーを入れて結像レンズへの入射ビーム径を小さくし、結像レンズによって得られる被走査面でのビーム径ｄ３を拡大することができる。
【０００８】
例えば、図９のアパーチャ１０２の径ｄ２がコリメータレンズ１０６によりコリメート化された外径Ｄのレーザビームの最高強度部分（ビーム中心部分）の１／２の強度を有する部分の径と同じ大きさの径（＝１／２強度径。この１／２強度径はガウス型の強度分布を有するビームの場合Ｄ／１.７０＝０.５９Ｄである。）であるならば、図１０に示す通り結像面１１８におけるビームプロファイルｐ１０３となるビームスポットの径であるｄ３の値は、ｄ３＝１.９４である。
【０００９】
同様に、アパーチャ１０２の内径が１／e2強度径（すなわち、レーザビームの最高強度部分の１／e2＝０.１３５の強度を有する部分の径と同じ大きさの径）ならば、ｄ３の値は、ｄ３＝１.２８である。
【００１０】
また、アパーチャ１０２の内径がコリメートされたレーザビームの径Ｄよりも非常に大きいか、またはアパーチャ１０２を用いない場合には、ｄ３の値は、ｄ３＝１となり、ビームスポット径は最も小さくなる。
【００１１】
すなわちアパーチャーの径を可変とすることで、ｄ３は変更可能となる。アパーチャー径Ｄ2（＝レーザビームの径Ｄ）と走査面でのビーム径ｄ３の関係は、Ｄ2＝０．９ｍｍでおよそｄ３＝６０ｕｍ，Ｄ2＝２．７ｍｍでｄ３＝２０ｕｍとなる。
【００１２】
しかし、大きなビーム径ｄ３を得るためにはアパーチャー径D2を小さくすることが必要であり、結果としてレーザの透過光量が極端に減少してしまう。この例では，アパーチャー径Ｄ2＝０．９ｍｍのとき、アパーチャー部での光の透過率は１０％程度となり，光量損失が極めて大きい。
【００１３】
上記のようにアパーチャー部分での光量損失が大きくなると、被走査面で同一の露光量を確保するためには、より高いレーザ出力が要求される。これによりレーザの寿命は大幅に減少する結果となる。たとえば本例のレーザでは出力１ｍＷ時に１０００時間の平均寿命があるのに対し、２倍の出力２ｍＷ時では平均寿命約１４０時間とおよそ７分の１となり、装置の性能及びコスト上大きな問題となる。
【００１４】
あるいは他の例として、個々のレーザ光源にそれぞれレンズを配することにより、ビーム拡がり角θ１のみを変更して任意のビーム径ｄ３を得る方法も提案されている（例えば、特許文献２、３参照）。
【００１５】
しかし上記の例では、レーザ間隔と同一の間隔を持つレンズアレイが必要となり、極めて微細な加工精度が必要であるため製作が困難であり、コストも増大する。またレーザとレンズアレイの位置あわせも極めて微細な間隔であるため困難なものとなる。
【特許文献１】特開平５  ―  ５３０６８号公報
【特許文献２】特開平５  ―  ６６３５４号公報
【特許文献３】特開平５  ―２９７３２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は上記事実を考慮し、低コストで光量を犠牲にせずビームスポット径を制御できる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
請求項１に記載の光走査装置は、複数のビームを射出するレーザ光源と、前記複数のビームを露光面上に結像させる光学系と、を備えた光走査装置であって、前記光学系の光路中に前記ビームの一部を偏光する偏光手段を設けたことを特徴とする。
【００１８】
上記構成の発明では、アパーチャの開口径を大きく、光量を維持しながら十分に大きなビームスポット径が得られる。
【００１９】
請求項２に記載の光走査装置は、前記偏光手段は前記露光面と光学的に共役関係にない位置に設けられたことを特徴とする。
【００２０】
上記構成の発明では、被走査面と光学的に共役関係にない面に偏光手段を設けたことで、ビームスポット径の制御を行うことができる。
【００２１】
請求項３に記載の光走査装置は、前記偏光手段は透過型の１／２波長板であることを特徴とする。
【００２２】
上記構成の発明では、透過型の１／２波長板を用いたことで光学系の各エレメントの配置を変更する必要がないので、ミラー等の増設を行う必要もなく、単純な構成とできる。
【００２３】
請求項４に記載の光走査装置は、前記ビームは略平行なコリメート光として前記偏光手段に入射することを特徴とする。
【００２４】
上記構成の発明では、偏光手段に入射するレーザ光を略平行なコリメート光とすることで、被走査面上におけるビーム位置を正確に規定し、スポット径を厳密に設定できる。
【００２５】
請求項５に記載の光走査装置は、前記偏光手段は前記光路中において前記複数のビームの主光線が略交差する位置に設けられたことを特徴とする。
【００２６】
上記構成の発明では、複数のビームに対して主光線が略交差する位置でビームプロファイルの同一部分の偏光方向を回転させると，走査面で同一のビーム径が得られ好都合である。
【００２７】
請求項６に記載の光走査装置は、前記光路中にビーム径を制限するアパーチャを設けたことを特徴とする。
【００２８】
上記構成の発明では、任意に設定できるパラメータとしてアパーチャの径を可変とすることで、ビームスポット径の制御を容易に行うことができる。
【００２９】
請求項７に記載の光走査装置は、前記アパーチャは前記偏光手段の近傍に設けられたことを特徴とする。
【００３０】
上記構成の発明では、アパーチャを偏光手段の近傍に設けたことで、各ビームに対し与える偏光制御と回折の影響が同一とできる。
【００３１】
請求項８に記載の光走査装置は、前記偏光手段は前記ビーム中において偏光する割合を可変とすることを特徴とする。
【００３２】
上記構成の発明では、偏光を回転させる領域を可変とすることにより，被走査面でのビーム径を制御可能となる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明は上記構成としたので、低コストで光量を犠牲にせずビームスポット径を制御できる光走査装置とすることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
図１、図２には本発明の第１実施形態に係る光走査装置の構成が示されている。
【００３５】
図１に示すように、光走査装置１０はレーザアレイ１４から射出された、ｐ１のようなビームプロファイルをもつレーザビームをコリメータレンズ１６にて平行光とし、その一部は透過率約９０％の透過型１／２波長板１２を通過し、ビームの偏光方向を部分的に変えたのち第１シリンダレンズ１８によってポリゴンミラー２０上に結像する。
【００３６】
ポリゴンミラー２０は等角速度で回転しながら入射したビームをｆθレンズ２２に向けて反射、主走査方向への走査光とする。ｆθレンズ２２は入射したビームを等速度走査となるように整形し、第２シリンダレンズまたはシリンダミラー２４、第３シリンダレンズまたはシリンダミラー２６によって感光体２８の表面である被走査面上にビームスポットとして結像させる。
【００３７】
図２に示すように、レーザアレイ１４にて射出されたビームの一部について偏光方向を制御するために、偏光方向の制御素子として１／２波長板１２をコリメータレンズ１６と第１シリンダレンズ１８間に入れている。コリメータレンズ１６後のビーム径が拡大した位置に１／２波長板１２を入れることで，ビームの偏光方向を部分的に変えている。
【００３８】
すなわち、レーザアレイ１４にて射出されたビームの一部が１／２波長板１２を通過することによって偏光方向を部分的に変えられて（図中Bpol）、１／２波長板１２を通過しなかったビーム（図中Borg）とともにポリゴンミラー２０上に結像する。すなわちポリゴンミラー２０上ではｐ２のように、偏光方向を部分的に変えられたビームのプロファイル（Ppol）と、１／２波長板１２を通過しなかったビームのプロファイル（Porg）を合成したプロファイルを持つビームスポットとなる。
【００３９】
このとき、問題となるのがフラウンホーファ回折におけるバビネの原理であり、すなわち互いに相補的な（開口部と遮蔽部が逆転した）２つの開口によって任意の点にできる回折光の振幅分布の和は、何も置かないときの振幅分布に等しいというものである。
【００４０】
図３には本発明に係る光走査装置のビームスポット合成の原理が示されている。
【００４１】
例えば本実施例においては、前述の互いに相補的な２つの開口に相当するものは、光路中の１／２波長板１２の有無と言える。バビネの原理によれば、図３の（ａ）に示したスリットＡを通過し結像した像面での波面の振幅をＵＡ、（ｂ）に示したスリットＢを通過し結像した像面での波面の振幅をＵＢとすれば、スリットＡとスリットＢによる波面が像面で干渉可能な場合、ＵＡとＵＢの合成による振幅分布Ｕ０は、
Ｕ０＝ＵＡ＋ＵＢ
であり、振幅分布Ｕ０のビーム径はスリットＡ、スリットＢともに光路中に存在しないときの像のビーム径と等しくなる。すなわち、単純に２つの振幅分布の和とはならず、もともとスリットが存在しないときの振幅分布となってしまう。つまり開口の小さなスリットＢで絞り、ビーム径を大きくしたとしても、相補的なスリットＡで絞られたビームと像面で干渉すれば、スリットで絞る前のプロファイルに戻ってしまう。
【００４２】
本実施形態においては、ＵＡとＵＢのうち一方の偏光方向を１／２反射板１２によって変え、具体的にはＵＡとＵＢの偏光方向を互いに略直交させることにより、像面においてＵＡとＵＢ相互の干渉が発生しない。
【００４３】
そのため、像Ｕ０の振幅分布はＵＡとＵＢのスカラーの和となる。よって像面でのビーム径はもともとのプロファイルに戻ってしまうことはなく、ビーム径を拡大することが可能である。
【００４４】
これにより本実施形態では、図２の感光体２８上で結像する際には１／２波長板１２を通過したビーム（Ｂpol：図中破線）と通過しないビーム（Borg：図中一点鎖線）は互いに干渉せず、すなわち元のプロファイルに戻ることなく、両者の和となるプロファイルｐ４をもつビームスポットとして結像する。このため、ｐ４はもともとのプロファイルよりも径の大きなスポットとして結像させることができる。
【００４５】
図４には本発明の第１実施形態に係る光走査装置の偏光手段が示されている。
【００４６】
図４（ａ）に示すように、アパーチャ１５で絞ったビームの一部分に１／２波長板１２を入れることで、１／２波長板１２が入った部分のビームの偏光方向をビームの他の部分（１／２波長板が入っていない部分）に対しておよそ９０°回転させている。つまり元々左右方向（図中手前／奥）だった偏光方向は１／２波長板１２によって図中上下方向に変えられる。このときの１／２波長板１２の進相軸（（ｂ）（ｃ）中の矢印）は入射ビームの偏光方向に対しておよそ４５°の傾きを有して設置される。
【００４７】
すなわち図４（ｂ）、（ｃ）に示すように、ベースプレート１７上に設けられ光路の一部をカバーする一次元１／２波長板（ｂ）または円形１／２波長板（ｃ）によって、図４（ａ）のように１／２波長板１２を通過したビームのみ偏光方向を９０°回転させ、それ以外の部分では変化していないので、両者の偏光方向は９０°ずれ、略直交することになる。
【００４８】
ところで、光学系の結像倍率が固定された場合のビーム径を決定する要因として，レーザ波長λ、アパーチャ１５の開口径、１／２波長板１２の径，ビームの偏光回転角があげられる。このうち，レーザ波長λはレーザの構成材料によって決定され，任意に設定できない。またビームの偏光回転角は、入射光の直線偏光方向に対する１／２波長板１２の進相軸の方向によって決定されビーム径を制御可能であるが、入射光と射出光の偏光方向が直交しないため，得られるビーム径の算出が煩雑となってしまう。
【００４９】
よって，残された変更可能なパラメータであるアパーチャ１５の開口径と１／２波長板１２の径によって被走査面上のビーム径ｄ３を制御するのが望ましいが、１／２波長板１２の径を変更するためには、径の異なる１／２波長板１２を複数揃えておく必要がありコスト増大の要因となる。よって本実施形態では１／２波長板１２の径は固定とし、アパーチャ１５の開口径を可変することによって被走査面上のビーム径ｄ３を調整している。
【００５０】
図５には本発明の第２実施形態に係る光走査装置の偏光手段が示されている。
【００５１】
図５（ａ）に示すように、アパーチャ１５で絞ったビームの一部分に１／２波長板１２を入れることで、１／２波長板１２が入った部分のビームの偏光方向をビームの他の部分（１／２波長板が入っていない部分）に対しておよそ９０°回転させている。つまり元々左右方向（図中手前／奥）だった偏光方向は１／２波長板１２によって図中上下方向に変えられる。このときの１／２波長板１２の進相軸（（ｂ）（ｃ）中の矢印）は入射ビームの偏光方向に対しておよそ４５°の傾きを有して設置される。第１実施形態では１／２波長板１２はビームの中心に設けられていたが、本実施形態のようにビーム周辺部に設けても良い。
【００５２】
すなわち図５（ｂ）、（ｃ）に示すように、ベースプレート１７上の上下端または周辺部に設けられ光路の一部をカバーする一次元１／２波長板（ｂ）または円形１／２波長板（ｃ）によって、図５（ａ）のように１／２波長板１２を通過したビームのみ偏光方向を９０°回転させ、それ以外の部分では変化していないので、両者の偏光方向は９０°ずれ、略直交することになる。
【００５３】
図６には本発明に係る偏光手段の有無とビーム径の関係が示されている。
【００５４】
図６（ａ）（ｂ）には１／２波長板１２の挿入前と挿入後によって被走査面でのビーム径ｄ３が変化する様子を示す。
【００５５】
図６（ａ）のように１／２波長板１２の挿入前にはビーム径は６０μｍであり、アパーチャ１５の径を変えずに１／２波長板１２を挿入した後のビーム径は図６（ｂ）のように１８０μｍに拡大している。
【００５６】
その後、図６（ｃ）のようにアパーチャ１５の開口を３倍の１２ｍｍに拡げ、アパーチャ１５での透過光量を３倍とし、ビームの収束角を大きくしても被走査面上のビーム径は１／３の２０μｍとはならず，ほぼ同一のビーム径６５μｍを得ることができた。１／２波長板１２自体の透過率はおよそ９０％であるため、これによりビーム径を変えず実質的に２．７倍（＝３倍×０．９）の光量を被走査面で得ることが可能となった。
【００５７】
ところで、１／２波長板１２を被走査面と光学的に共役な面であるポリゴンミラー２０の面位置やレーザアレイ１４の射出面に設置しても上記と同様の効果が得られることがわかっている。
【００５８】
しかし共役面ではビームが集光しているため、非常に小さな１／２波長板１２が必要となり１／２波長板１２には非常に高い加工精度が求められること、ビーム中に精度よく設置することが困難であるなどの問題が発生する。
【００５９】
被走査面と光学的に共役関係にない位置ではビームが広がっているため、１／２波長板１２の加工精度や設置精度が要求されることなく所望の結果が得られ都合がよい。よって、本実施形態では被走査面と光学的に共役関係にない位置に１／２波長板１２を設置している。
【００６０】
また、１／２波長板１２には透過型の１／２波長板を用いることによって、その入射光は直進する。このため１／２波長板１２以降の光学素子の位置を変化させる必要がなく、設計変更や部品点数の増加が最小限で済むためコスト増加を抑えるために都合がよい。これに対して反射型偏光板を用いた場合には、ビームを同一の光路に戻す場合にミラー等の他の光学素子が必要で，光学系が煩雑となってしまう。
【００６１】
さらに、コリメータレンズ１６でコリメートされた光の等位相波面はほぼ平面であり、
１／２波長板１２に波面が直角に入射する。よってビームの偏光方向を１／２波長板１２の進相軸に対して正確に角度設定できるため、１／２波長板１２を透過するビームの偏光方向を正確に所望の角だけ回転可能となる。
【００６２】
図７には本発明の第１実施形態に係る光走査装置の光路が示されている。
【００６３】
図７に示すように、複数のビームに対してビームプロファイルの同一部分の偏光方向を回転させると、被走査面で同一のビーム径が得られ好都合である。
【００６４】
すなわち図７に示されるように、本実施形態ではレーザアレイ１４から射出する各ビームがコリメータ光軸と平行に設定されるため，コリメータの像側焦点で各ビームの主光線が交わる。よってコリメータの像側焦点近傍（＝図中アパーチャ１５近傍）に１／２波長板１２を設置することで、各ビームに対して同様の偏光制御を行うことが可能となっている。
【００６５】
また同様の理由により、複数のビームについて被走査面で同一のビーム径を得るためには、複数のビームに対するアパーチャ１５の寄与もまた同一となる必要がある。本実施形態では、レーザアレイ１４から射出する各ビームがコリメータ光軸と平行に設定されるため，コリメータの像側焦点で各ビームの主光線が交わる。よってコリメータの像側焦点近傍にアパーチャ１５と１／２波長板１２を設置することで、各ビームに対し与える偏光制御と回折の影響が同一となる。
【００６６】
図８には本発明の第３実施形態に係る光走査装置の偏光手段が示されている。
【００６７】
図８（ａ）に示すように、アパーチャ１５で絞ったビームの一部分に１／２波長板１２を入れることで、１／２波長板１２が入った部分のビームの偏光方向をビームの他の部分（１／２波長板が入っていない部分）に対しておよそ９０°回転させている。つまり元々左右方向（図中手前／奥）だった偏光方向は１／２波長板１２によって図中上下方向に変えられる。このときの１／２波長板１２の進相軸（（ｂ）（ｃ）中の矢印）は入射ビームの偏光方向に対しておよそ４５°の傾きを有して設置される。以上の点は第１および第２実施形態と同様である。
【００６８】
本実施形態においては、１／２波長板１２によって偏光を回転させる領域の面積を可変とすることにより、被走査面でのビーム径ｄ３を制御可能とする。
【００６９】
すなわち図８（ｂ）（ｃ）に示すように、ビームの外側から１／２波長板１２を挿入し、その挿入量を微動装置１９によって調整することで、偏光を回転させる領域を調整可能としている。１／２波長板１２が取り付けられた微動装置１９によって、１／２波長板は図中上下方向にスライドし任意の位置で固定されるので、偏光を回転させる領域を可変とすることができる。
【００７０】
本発明は上記の構成とすることにより、アパーチャ開口径を３倍に拡げて透過光量を３倍としても被走査面上のビーム径は１／３とはならず，ほぼ同一のビーム径を得ることができた。１／２波長板自体の透過率は９０％であるため，実質的に２．７０倍（＝３倍×０．９）の光量を被走査面で得ることが可能となった。
【００７１】
すなわち光学系の透過効率を高く保ちながら、被走査面でのビーム間隔とビーム径の比を自由に設定することが可能となり、ビーム径を小さく設定したときに発生する浅い焦点深度に起因するビームデフォーカスの問題を回避でき，高い画質の画像を安定して得ることができる。
【００７２】
さらに１／２波長板１２の開口幅またはアパーチャ１５の開口幅のどちらか一方を調整することで被走査面でのビーム径を自由に調整でき、走査光学系の調整工数を削減することが可能となった。
【００７３】
また本実施形態ではレーザアレイ１４の個々の光源に対応させてレンズアレイを設置する必要が無くなり，大幅な調整工数の簡略化ができた。また、精密なレンズアレイといった高価な部品が必要ないため、部品コストを低減することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の第１形態に係る光走査装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１形態に係る光走査装置の光路図である。
【図３】本発明に係る光走査装置のビーム合成の原理を示す図である。
【図４】本発明の第１形態に係る光走査装置の偏光板を示す図である。
【図５】本発明の第２形態に係る光走査装置の偏光板を示す図である。
【図６】本発明の第１形態に係る偏光板の効果を示す図である。
【図７】本発明の第１形態に係る光走査装置の光路図である。
【図８】本発明の第３形態に係る光走査装置の偏光板を示す図である。
【図９】従来の光走査装置の光路図である。
【図１０】従来の光走査装置における絞りとビーム径の関係を示す図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０    光走査装置
１２    １／２波長板
１４    レーザアレイ
１５    アパーチャ
１６    コリメータレンズ
１８    第１シリンダレンズ
１９    微動装置
２０    ポリゴンミラー
２２    ｆθレンズ
２４    第２シリンダレンズまたはシリンダミラー
２６    第３シリンダレンズまたはシリンダミラー
２８    感光体
【図１】
2006234956.tif 000003
【図２】
2006234956.tif 000004
【図３】
2006234956.tif 000005
【図４】
2006234956.tif 000006
【図５】
2006234956.tif 000007
【図６】
2006234956.tif 000008
【図７】
2006234956.tif 000009
【図８】
2006234956.tif 000010
【図９】
2006234956.tif 000011
【図１０】
2006234956.tif 000012