(57)【要約】 【課題】  潤滑油成分として好ましいイソパラフィン、一環ナフテン、アルキルベンゼンが多く、潤滑油成分として好ましくない多環ナフテン、多環芳香族が少ない高性能潤滑油基油を安価に製造できる方法を提供する。【解決手段】  減圧蒸留留出油などの原料油を、格子定数が２４．２８Å以上２４．４６Å以下、メソポアを含有するフォージャサイト型ゼオライトに周期律表第４族金属元素を含有させた、ケイバン比が０．１〜１２０である修飾ゼオライトを０．０１〜８０質量％の範囲で含有する触媒担体を用いて成形した水素化分解触媒の存在下、全圧力１０〜２０ＭＰａ、温度３６０〜４４０℃、ＬＨＳＶ２．０ｈｒ−１以下の反応条件で、分解率が４０質量％以上になるように水素化分解して、当該分解生成物および／または当該分解生成物から回収した潤滑油留分を、次に脱ろう処理した後、脱芳香族処理するか、又は脱芳香族処理した後、脱ろう処理することにより、目的とする潤滑油基油を製造することができる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧蒸留留出油、減圧蒸留留出油のマイルドハイドロクラッキング処理油、脱瀝油および脱瀝油のマイルドハイドロクラッキング処理油から選ばれる１種または２種以上の混合油からなる原料油を、格子定数が２４．２８Å以上２４．４６Å以下、メソポアを含有するフォージャサイト型ゼオライトに周期律表第４族金属元素を含有させた、ケイバン比（［ＳｉＯ２］／［Ａｌ２Ｏ３］比）が０．１〜１２０である修飾ゼオライトを０．０１〜８０質量％の範囲で含有する触媒担体を用いて成形した水素化分解触媒の存在下、全圧力１０〜１５ＭＰａ、温度３６０〜４４０℃、ＬＨＳＶ２．０ｈｒ−１以下の反応条件で、分解率が４０質量％以上になるように水素化分解して、当該分解生成物および／または当該分解生成物から回収した潤滑油留分を、次に脱ろう処理した後、脱芳香族処理するか、又は脱芳香族処理した後、脱ろう処理することにより、下記（１）〜（７）の特性を有する潤滑油基油の製造方法。
（１）全芳香族含有量が２〜１５質量％
（２）飽和分中のイソパラフィンと一環ナフテンの合計含有量が６０質量％以上
（３）全芳香族分中のアルキルベンゼン含有量が３０質量％以上
（４）全芳香族分中の３環以上の芳香族含有量が４質量％以下
（５）粘度指数が１０５以上
（６）流動点が−１０℃以下
（７）潤滑油留分を分留して得られる留分が以下の少なくとも一方を具備している。
ａ）ＳＡＥ−１０留分の飽和分組成で３環以上のナフテン分が１０質量％以下
ｂ）ＳＡＥ−２０留分の飽和分組成で３環以上のナフテン分が３０質量％以下
【請求項２】
製造される潤滑油基油が、さらに以下のいずれかを満足することを特徴とする請求項１に記載の方法。
（イ）７０ペール留分で１０５以上の粘度指数と−１０℃以下の流動点
（ロ）ＳＡＥ−１０留分で１１５以上の粘度指数と−１０℃以下の流動点
（ハ）ＳＡＥ−２０留分で１２０以上の粘度指数と−１０℃以下の流動点
（ニ）ＳＡＥ−３０留分で１２０以上の粘度指数と−１０℃以下の流動点
【請求項３】
水素化分解触媒が水素化能を有する金属を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
水素化能を有する金属が、ニッケル、コバルト、モリブデンおよびタングステンから選ばれる金属であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
脱芳香族処理が、溶剤脱芳香族処理であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
溶剤脱芳香族処理において、溶剤としてフルフラールを用い、溶剤／原料油比（容量比）が２以下であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
溶剤脱芳香族処理において、ラフィネート収率が８５質量％以上であることを特徴とする請求項５又は６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は潤滑油基油の製造方法に関し、特にイソパラフィン、一環ナフテンに富む高性能潤滑油基油の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、自動車エンジン、工作機械をはじめとする各種機械分野での技術開発とともに、苛酷な条件と長期の使用に耐え、省エネルギーを可能にし、公害問題をもたらさない高性能潤滑油が要求されるようになってきた。
また、潤滑油基油は原油種の影響を大きく受けるため、高価で良質な特定の原油に依存せざるを得ない従来の溶剤精製法を中心とする製造法に代わり、原油の多様化が可能な新しい潤滑油基油の製造法が求められている。
このような要求を満足する方法として、高圧下での水素化分解処理および水素化仕上げ処理による方法が提案され、すでに数基が実稼動している。しかし、これらの処理方法はいずれも反応温度が高く、また反応圧力も２０ＭＰａ以上と高圧であるため、プラント建設費、運転費が嵩むほか、生成油中には潤滑油基油成分としては好ましくない多環ナフテンが多く含まれている一方、添加剤や潤滑油の使用中に発生するスラッジの溶解性を上げるのに必要なアルキルベンゼンの含有量が少ないという欠点がある。また、多環ナフテンが多いと、潤滑油として必要な低粘度を確保するために低分子量成分を一定以上含有させる必要があり、そのために潤滑油の蒸発性が高くなり、製品性状が悪化することが知られている。
【０００３】
これらの問題を解決するために、例えば特許文献１では、特定の原料油を選び、これらを特定の条件下で水素化分解したのち、ボトムを蒸留、脱ろう、脱芳香族処理して高性能潤滑油基油を製造する方法を提案している。しかし、この方法では、従来技術による触媒を用いているため、目的の粘度指数を示す基油を得るためには、連続運転初期の反応温度を３９５〜４０５℃と高く設定する必要がある。この初期の反応温度と触媒性能の劣化挙動を勘案すると、運転の継続に従い触媒活性は低下し、それを補うために反応温度を上昇させる必要が生じて、結果として、安全に装置を運転できる上限温度に到達してしまい、それ以上は運転を継続できなくなる。すなわち、触媒を交換する必要が高い頻度で発生するという欠点を有していた。
しかも、この方法で得られる基油中の３環以上の多環ナフテンは、ＳＡＥ−１０留分で１０％を超える程度含有され、十分に低減されているとはいえないレベルである。また、分解が不足であるため、粘度指数の高いｎ−パラフィン構造が残り、そのために、得られた潤滑油基油の流動点は−１５℃程度と、高い温度にとどまっている。
一方、水素化分解触媒としては、特許文献２や特許文献３などが報告されているが、いずれも多環ナフテン分の生成抑制効果は低く、多環ナフテン生成を抑制して高い粘度指数をもつ潤滑油基油を製造可能な触媒の開発が望まれていた。
【特許文献１】特許第２９３８４８７号公報
【特許文献２】特許第２７６２３７１号公報
【特許文献３】特開２００３−２２６５１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明はこのような従来法の欠点を解決するためになされたもので、特定の原料油を用いて、高い粘度指数、低い流動点、および低い蒸発性を有し、かつ優れた酸化安定性および熱安定性を有し、さらには添加剤や潤滑油の使用中に発生するスラッジを潤滑油に溶解させる力が強い高性能潤滑油基油を、低温、低圧の条件で安価に製造する方法を提供するものである
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は前記課題について鋭意研究を行った結果、特定の原料油を特定の触媒を用いて低圧力、低ＬＨＳＶの反応条件で水素化分解し、脱ろうと脱芳香族処理を行うことにより上記の目的が達成できることを見出したものである。
【０００６】
すなわち本発明は、減圧蒸留留出油、減圧蒸留留出油のマイルドハイドロクラッキング処理油、脱瀝油および脱瀝油のマイルドハイドロクラッキング処理油から選ばれる１種または２種以上の混合油からなる原料油を、格子定数が２４．２８Å以上２４．４６Å以下、メソポアを含有するフォージャサイト型ゼオライトに周期律表第４族金属元素を含有させた、ケイバン比（［ＳｉＯ２］／［Ａｌ２Ｏ３］比）が０．１〜１２０である修飾ゼオライトを０．０１〜８０質量％の範囲で含有する触媒担体を用いて成形した水素化分解触媒の存在下、全圧力１０〜１５ＭＰａ、温度３６０〜４４０℃、ＬＨＳＶ２．０ｈｒ−１以下の反応条件で、分解率が４０質量％以上になるように水素化分解して、当該分解生成物および／または当該分解生成物から回収した潤滑油留分を、次に脱ろう処理した後、脱芳香族処理するか、又は脱芳香族処理した後、脱ろう処理することにより、下記（１）〜（７）の特性を有する潤滑油基油の製造方法に関する。
（１）全芳香族含有量が２〜１５質量％
（２）飽和分中のイソパラフィンと一環ナフテンの合計含有量が６０質量％以上
（３）全芳香族分中のアルキルベンゼン含有量が３０質量％以上
（４）全芳香族分中の３環以上の芳香族含有量が４質量％以下
（５）粘度指数が１０５以上
（６）流動点が−１０℃以下
（７）潤滑油留分を分留して得られる留分が以下の少なくとも一方を具備している。
ａ）ＳＡＥ−１０留分の飽和分組成で３環以上のナフテン分が１０質量％以下
ｂ）ＳＡＥ−２０留分の飽和分組成で３環以上のナフテン分が３０質量％以下
【０００７】
以下に本発明を詳述する。
本発明で用いられる原料油は、減圧蒸留留出油（ＷＶＧＯ）、ＷＶＧＯのマイルドハイドロクラッキング（ＭＨＣ）処理油（ＨＩＸ）、脱瀝油（ＤＡＯ）、ＤＡＯのＭＨＣ処理油、若しくはこれらの２種以上の混合油から選択される。
【０００８】
減圧蒸留留出油（ＷＶＧＯ）は、原油の常圧蒸留装置からの残渣油を減圧蒸留装置で蒸留した際に得られる留出油で、好ましくは３５０〜６００℃の沸点を持つものである。
減圧蒸留留出油のマイルドハイドロクラッキング処理油（ＨＩＸ）は、ＷＶＧＯをマイルドハイドロクラッキング（ＭＨＣ）することにより生成する重質減圧軽油である。
マイルドハイドロクラッキング（ＭＨＣ）とは、通常、全圧力が１０ＭＰａ以下、好ましくは６〜９ＭＰａ、温度が３５０〜４５０℃、好ましくは４００〜４３０℃、ＬＨＳＶが０．５〜４．０ｈｒ−１、好ましくは１．０〜２．０ｈｒ−１の反応条件下、３６０℃以上の留分の分解率が１０〜３０質量％の範囲にある比較的温和な水素分解のことをいう。
【０００９】
マイルドハイドロクラッキングの触媒としては、通常、アルミナ、シリカアルミナ、アルミナボリア等の複合酸化物担体に周期律表第６族金属および第８〜１０族金属を担持し硫化したものが用いられる。アルミナには、例えばリン化合物のようなプロモーターを添加することができる。
前記金属の担持量は、酸化物基準で第６族金属（例えば、モリブデン、タングステン、クロムなど）は５〜３０質量％、好ましくは１０〜２５質量％、第８〜１０族金属（例えば、コバルト、ニッケルなど）は１〜１０質量％、好ましくは２〜５質量％である。
ＷＶＧＯとＨＩＸとを混合する場合は、ＷＶＧＯにＨＩＸを２０質量％以上混合することが好ましい。
脱瀝油（ＤＡＯ）とは、原油の常圧蒸留装置からの残渣油を減圧蒸留装置で蒸留した際に得られる残渣油をプロパン脱瀝法等で処理し、実質的にアスファルテンを含有しない油である。
【００１０】
本発明で用いる水素化分解触媒は、格子定数が２４．２８Å以上２４．４６Å以下、メソポアを含有するフォージャサイト型ゼオライト（以下「フォージャサイト」という。）に周期律表第４族金属元素を含有させた、ケイバン比（ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比）が０．１〜１２０である修飾ゼオライトを０．０１〜８０質量％の範囲で含有する触媒担体を用いて成形したものである。
【００１１】
本発明に使用されるフォージャサイトは公知のものであり、ソーダライトケージを有し、ミクロ細孔の最大径は７．４Åと工業的に使用されているゼオライトの中で最大級のものである。フォージャサイトには、Ｘゼオライト、Ｙゼオライト、超安定化Ｙゼオライト（ＵＳＹ：Ultra Stable Y）などが包含される。本発明で用いるフォージャサイトとしてはＵＳＹが好ましい。
【００１２】
本発明で用いられるフォージャサイトの格子定数は、２４．２８Å以上、２４．４６Å以下の範囲にあることが必要である。格子定数の下限としては、好ましくは２４．３０Å以上、さらに好ましくは２４．３２Å以上、特に好ましくは２４．３５Å以上のものである。また上限としては、好ましくは２４．４０Å以下、さらに好ましくは２４．３８Å以下、特に好ましくは２４．３６Å以下である。本発明では、特に２４．３５Å〜２４．３６Åのものが好ましく用いられる。
本発明で用いる水素化分解触媒とする上では、この原料ゼオライトの格子定数が特に重要な因子であり、これが前記特定の範囲にあることにより触媒性能を著しく高くすることができる。この格子定数が２４．４６Åより大きすぎると、修飾ゼオライトのゼオライト構造が損なわれて触媒性能が低下し、一方、２４．２８Åより小さすぎると修飾の効果が小さくなる。
フォージャサイトの格子定数はＸ線回折分析（ＸＲＤ分析）によって測定できる。この測定方法についてＡＳＴＭ  Ｄ３９４２−９７に記載されており、本発明においては、この方法に準拠した測定により格子定数を決定するものとする。
【００１３】
また、本発明で用いられるフォージャサイトはメソポアを有していることが必要である。メソポア容積は下限としては０．０５ｍｌ／ｇ以上が好ましく、さらに好ましくは０．０６ｍｌ／ｇ以上であり、上限としては０．２０ｍｌ／ｇ以下が好ましく、さらに好ましくは０．１５ｍｌ／ｇ以下である。このメソポア容積は広く公知の窒素吸着測定によって求められるが、本発明においては、窒素吸着測定の脱離等温線の測定データを用いてＢＪＨ法により算出した、細孔径が５０〜３００Åの範囲にあるメソポアの容積をメソポア容積と定義する。
【００１４】
本発明で用いられるフォージャサイトのケイバン比（ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比）には特に制限はないが、上限としては１００以下が好ましく、５０以下がさらに好ましい。また下限としては２以上が好ましく、５以上がさらに好ましい。
【００１５】
本発明で用いられるフォージャサイトの結晶化度は高い方が好ましい。好ましくは３０％以上、さらに好ましくは６０％以上、特に好ましくは８０％以上である。フォージャサイトの結晶化度はＸＲＤ分析によって測定できる。この測定方法についてＡＳＴＭ  Ｄ３９０６−９７に記載されており、本発明においては、この方法に準拠した測定により結晶化度を決定するものとする。この方法では、基準とするフォージャサイトに対する相対値として結晶化度が求められる。この基準とするフォージャサイトとして、通常、カチオンがナトリウムイオンであるナトリウム型Ｙゼオライトが用いられる。本発明において、この基準となるフォージャサイトとして東ソー（株）製のＨＳＺ−３２０ＮＡＡ（ロット番号：３００２）を採用する。
【００１６】
本発明で用いられるフォージャサイトの表面積は高い方が好ましい。ＢＥＴ表面積で表すと、好ましくは５００ｍ２／ｇ以上、さらに好ましくは６００ｍ２／ｇ以上である。この表面積は広く公知の窒素吸着測定によって求められる。
本発明で用いられるフォージャサイトの１次粒子径には特に制限はないが、下限としては０．１μｍ以上が好ましく、さらに好ましくは０．２μｍ以上であり、上限としては１．０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．５μｍ以下である。
フォージャサイトのカチオンは、水素イオンやアンモニウムイオンであることが好ましく、さらに好ましくは水素イオンである。一方、ナトリウムイオンは好ましくない。フォージャサイトは水熱合成により得られるが、この段階でのカチオンは通常、ナトリウムイオンである。また天然のフォージャサイトのカチオンもナトリウムイオンが多い。その後のイオン交換、スチーミングなどの処理によりナトリウムの含有量は減少する。原料のフォージャサイトのナトリウム含有量は少ない方が好ましく、Ｎａ２Ｏとして換算して好ましくは０．５質量％以下、さらに好ましくは０．２質量％以下である。この含有量は広く公知の化学分析法、たとえば、原子吸光分析、発光分光分析で求められる。
【００１７】
本発明に使用される水素化分解触媒は、前記のフォージャサイトに周期律表第４族金属元素を含有させた、ケイバン比（ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比）が０．１〜１２０である修飾ゼオライトを０．０１〜８０質量％の範囲で含有する触媒担体を用いて成形したものである。当該修飾ゼオライトは、これまでに述べた原料のフォージャサイトに、周期律表第４族金属元素の化合物による修飾を行うことにより得られる。
なお、本発明において、周期律表の族番号はＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版（１９８９年）による長周期型周期律表に基づく。
【００１８】
本発明で用いられる第４族金属元素としては、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなどが挙げられる。好ましくはチタン、ジルコニウムであり、さらに好ましくはチタンである。本発明において、金属元素の化合物には、場合によっては、その金属元素の単体も含むものとする。
【００１９】
修飾処理は、原料のフォージャサイトをそのまま用いて周期律表第４族金属元素の化合物による処理を行っても良いが、必要に応じてフォージャサイトを前処理して、原料のフォージャサイトをより好ましい物性としてから周期律表第４族金属元素の化合物による処理を行っても良い。前処理としては、酸処理、スチーミング処理、焼成処理、その他の脱アルミニウム処理などが挙げられる。好ましくは酸処理、スチーミング処理、焼成処理であり、希薄な酸による前処理がさらに好ましい。酸による前処理によって、不純物の除去、ゼオライト骨格外のアルミニウムの除去、ゼオライト骨格の適度な脱アルミニウムによる耐熱性、耐酸性の向上が達成される。また、前処理として上記の処理を適宜組合せて実施してもよい。
【００２０】
酸による前処理において用いる酸の種類は任意であり、無機酸、有機酸とも使用できるが、工業的に安価で取り扱いやすく、後の工程に悪影響を与えないものが好ましい。たとえば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸などが好ましく挙げられる。酸の濃度は原料のフォージャサイトの物性、酸の種類により異なるが、水素イオン濃度（規定：Ｎ）で表して、その下限としては、好ましくは０．０１Ｎ以上、さらに好ましくは０．０２Ｎ以上、特に好ましくは０．０５Ｎ以上である。その上限としては、好ましくは１Ｎ以下、さらに好ましくは０．５Ｎ以下、特に好ましくは０．２Ｎ以下である。
【００２１】
酸による前処理の温度は、原料のフォージャサイトの物性、酸の種類により適宜選択されるが、下限としては好ましくは０℃以上、さらに好ましくは２０℃以上、特に好ましくは２５℃以上であり、上限としては好ましくは１００℃以下、さらに好ましくは６０℃以下、特に好ましくは５０℃以下である。
処理時間は原料のフォージャサイトの物性、酸の種類により適宜選択されるが、下限としては好ましくは３０分以上、さらに好ましくは１時間以上であり、上限としては好ましくは２０時間以下、さらに好ましくは１０時間以下である。
【００２２】
処理後はフォージャサイトと処理液を分離する。分離の方法はロ過、遠心分離など公知の方法で行うことができる。
分離されたフォージャサイトは、次いで乾燥、焼成を行うことが好ましい。乾燥および焼成の雰囲気は空気、窒素、若しくは乾燥空気が好ましい。乾燥温度は、下限としては２５℃以上が好ましく、５０℃以上がさらに好ましい。上限としては１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がさらに好ましい。焼成温度は下限としては４００℃以上が好ましく、４５０℃以上がさらに好ましい。上限としては８００℃以下が好ましく、７００℃以下がさらに好ましい。焼成時間は下限としては１０分以上が好ましく、３０分以上がさらに好ましい。上限としては２０時間以下が好ましく、１０時間以下がさらに好ましい。  
【００２３】
修飾に用いる第４族金属元素の化合物としては、水溶性で酸性の物質が好ましい。この点で鉱酸の塩が好ましく挙げられ、塩化物、硫酸塩、硝酸塩がさらに好ましく、硫酸塩が特に好ましい。
修飾の方法としては、フォージャサイトを上記の化合物の水溶液と接触させて処理する方法が好ましい。このとき、フォージャサイトを粉体のまま扱っても良く、またフォージャサイトを水に分散させてスラリーとして扱っても良い。また、加える順序として水溶液中にフォージャサイトを添加しても良く、フォージャサイトに水溶液を添加しても良い。
【００２４】
第４族金属元素化合物水溶液の好ましい濃度範囲は、その化合物の種類にもよるが、下限としては好ましくは０．０１Ｍ／Ｌ以上、さらに好ましくは０．０２Ｍ／Ｌ以上、特に好ましくは０．０３Ｍ／Ｌ以上であり、上限としては好ましくは０．１０Ｍ／Ｌ以下、さらに好ましくは０．０９Ｍ／Ｌ以下、特に好ましくは０．０８Ｍ／Ｌ以下である。このときの溶液のｐＨは、酸性の領域であり、化合物の種類によるが、下限としては好ましくは０．８以上、さらに好ましくは１．０以上であり、上限としては好ましくは２．０以下であり、さらに好ましくは１．９以下である。
【００２５】
修飾処理の温度は、第４族金属元素化合物の種類、濃度により適宜選択されるが、下限としては好ましくは０℃以上、さらに好ましくは２０℃以上、特に好ましくは２５℃以上であり、上限としては好ましくは１００℃以下、さらに好ましくは６０℃以下、特に好ましくは５０℃以下である。処理時間は化合物の種類、濃度により適宜選択されるが、下限としては好ましくは３０分以上、さらに好ましくは１時間以上であり、その上限としては好ましくは２０時間以下、さらに好ましくは１０時間以下である。
【００２６】
処理後は修飾ゼオライトと処理液を分離する。分離の方法はロ過、遠心分離など公知の方法で行うことができる。
分離された修飾ゼオライトは、次いで乾燥、焼成を行うことが好ましい。乾燥および焼成の雰囲気は空気、窒素、若しくは乾燥空気が好ましい。乾燥温度は、下限としては２５℃以上が好ましく、５０℃以上がさらに好ましい。上限としては１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がさらに好ましい。本発明では、特に５０〜１２０℃の範囲が好ましい。焼成温度は、下限としては４００℃以上が好ましく、４５０℃以上がさらに好ましい。上限としては６００℃以下が好ましく、５５０℃以下がさらに好ましい。本発明では、特に４５０〜５５０℃の範囲が好ましい。焼成時間は、下限としては１０分以上が好ましく、３０分以上がさらに好ましい。上限としては２０時間以下が好ましく、１０時間以下がさらに好ましい。
【００２７】
上記の周期律表第４族金属元素の化合物による修飾により得られる修飾ゼオライトの物性は任意であるが、好ましい物性は以下のとおりである。
修飾ゼオライトの格子定数は、下限としては好ましくは２４．２２Å以上、さらに好ましくは２４．２４Å以上である。また上限としては好ましくは２４．３４Å以下、さらに好ましくは２４．３３Å以下である。本発明では、特に２４．２４Å〜２４．３３Åの範囲が好ましい。
修飾ゼオライトの結晶化度は高い方が好ましい。好ましくは１０％以上、さらに好ましくは２０％以上、特に好ましくは３０％以上である。
修飾ゼオライトの表面積は高い方が好ましい。ＢＥＴ表面積で表すと、好ましくは５００ｍ２／ｇ以上、さらに好ましくは６００ｍ２／ｇ以上である。
修飾ゼオライトのメソポア容積はある程度大きい方が好ましい。下限としては好ましくは０．０６ｍｌ／ｇ以上、さらに好ましくは０．０８ｍｌ／ｇ以上である。上限としては好ましくは０．２０ｍｌ／ｇ以下、さらに好ましくは０．１５ｍｌ／ｇ以下である。
【００２８】
修飾ゼオライト中の第４族金属元素の含有量は、金属単体に換算して、その下限としては０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がさらに好ましく、１質量％以上が特に好ましい。また、その上限としては１０質量％以下が好ましく、８質量％以下がさらに好ましく、６質量％以下が特に好ましい。本発明においては、１〜８質量％が好ましく、１〜６質量％の範囲が特に好ましい。
【００２９】
本発明における水素化分解触媒は、前記した修飾ゼオライトを０．０１〜８０質量％の範囲で含有する触媒担体を成形して得られる。
触媒担体は、前記した修飾ゼオライトと酸化物から構成される。酸化物としては、具体的には、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２などのほか、Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＯ２などの二元複合酸化物、Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＺｒＯ２などの三元複合酸化物が挙げられる。
触媒担体中の修飾ゼオライトの含有割合は、０．０１〜８０質量％であり、好ましくは０．５〜４０質量％、さらに好ましくは１〜２０質量％である。
【００３０】
触媒担体の成形方法としては任意の方法が用いられるが、バインダーを用いる方法が好ましい。具体的には、触媒担体成分とバインダーを混合し押し出して成形する押出成形が好ましく挙げられる。バインダーとしては機械的強度が高く熱的に安定で表面積が大きい点から、安定な金属酸化物が好ましく、具体的にはアルミナ、シリカ、シリカアルミナ、シリカジルコニア、シリカチタニア、シリカマグネシア、シリカアルミナジルコニア、シリカアルミナチタニア、シリカアルミナマグネシア、アルミナボリアが好ましく挙げられる。また、担体構成成分と同一もしくは異なるゼオライトや、結晶性アルミナホスフェート（ＡＬＰＯ）、結晶性シリカアルミナホスフェート（ＳＡＰＯ）を用いることもできる。
【００３１】
次に、本発明で用いる水素化分解触媒について詳述する。
本発明で用いる水素化分解触媒は、必須ではないが、前記した修飾ゼオライトを含有する触媒担体に水素化活性金属を担持して成るものが好ましい。
ここでいう水素化活性金属とは、周期律表第６族、第８族、第９族、第１０族の各元素である。具体的には、第６族元素としてはクロム、モリブデン、タングステン、第８族元素としては鉄、ルテニウム、オスミウム、第９族元素としてはコバルト、ロジウム、イリジウム、第１０族元素としてはニッケル、パラジウム、白金が挙げられる。なお、第８〜１０族卑金属元素とは、鉄、コバルト、ニッケルを指し、第８〜１０族貴金属元素とは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金を指すものとする。水素化活性金属としては、好ましくはモリブデン、タングステン、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金が挙げられる。
【００３２】
水素化活性金属を触媒担体に担持する方法としては、水素化活性金属の水溶性の化合物を水溶液として触媒担体と接触させる方法が好ましい。水溶性の化合物としては、塩化物、硝酸塩、炭酸塩などが好ましく挙げられる。周期律表第６族元素の化合物では、モリブデン酸塩、タングステン酸塩が好ましく挙げられる。
【００３３】
触媒担体と接触させる方法としては吸着法、含浸法が好ましく挙げられる。
吸着法で担持する場合には、触媒担体を水素化活性金属の化合物の水溶液に浸して水素化活性金属の化合物を吸着させ、その後に液を分離する。吸着の際の水素化活性金属化合物の水溶液濃度は０．００１Ｍ／Ｌ以上が好ましく、０．００５Ｍ／Ｌ以上がさらに好ましい。
接触処理の温度は、水素化活性金属化合物の種類、濃度により適宜選択されるが、下限としては好ましくは０℃以上、さらに好ましくは２０℃以上、特に好ましくは２５℃以上であり、上限としては好ましくは１００℃以下、さらに好ましくは６０℃以下、特に好ましくは５０℃以下である。処理時間は化合物の種類、濃度により適宜選択されるが、その下限としては好ましくは３０分以上、さらに好ましくは１時間以上であり、その上限としては好ましくは２０時間以下、さらに好ましくは１０時間以下である。
【００３４】
含浸法で担持する場合には、Ｉｎｃｉｐｉｅｎｔ  Ｗｅｔｎｅｓｓ法、蒸発乾固法などが挙げられるが、Ｉｎｃｉｐｉｅｎｔ  Ｗｅｔｎｅｓｓ法が好ましい。含浸法で担持する場合、含浸液の濃度、液量を適宜調整することにより、所望する量の水素化活性金属を含有させることができる。
【００３５】
水素化活性金属の担持処理の後には乾燥、焼成を行うことが好ましい。乾燥温度の下限としては２５℃以上が好ましく、５０℃以上がさらに好ましい。上限としては１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がさらに好ましい。焼成温度の下限としては４００℃以上が好ましく、４５０℃以上がさらに好ましい。上限としては６００℃以下が好ましく、５５０℃以下がさらに好ましい。焼成時間は下限としては１０分以上が好ましく、３０分以上がさらに好ましい。上限としては２０時間以下が好ましく、１０時間以下がさらに好ましい。
【００３６】
触媒担体に対する前記水素化活性金属の担持量は、酸化物基準として第６族金属では５〜３０質量％、好ましくは１０〜２５質量％であり、第８〜１０族金属では１〜２０質量％、好ましくは５〜１５質量％である。
触媒中の水素化活性金属含有量は、金属単体に換算して、その下限として０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がさらに好ましく、１質量％以上が特に好ましい。その上限として１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がさらに好ましく、３質量％以下が特に好ましい。
【００３７】
水素化分解触媒として使用する時の水素化活性金属の状態は、金属、硫化物、酸化物の状態が好ましい。第６族元素および第８〜１０族卑金属の場合は硫化物の状態がより好ましく、反応前に硫化処理しておくことが好ましい。硫化処理は公知の方法により行うことができる。第８〜１０族貴金属の場合は金属の状態がより好ましく、反応前に還元処理しておくことが好ましい。還元処理は公知の方法により行うことができる。なお、修飾ゼオライトを成形体とする場合には、水素化活性金属の修飾ゼオライトへの担持は、成形体としてから行っても良い。
【００３８】
本発明で用いる水素化分解触媒は二元機能を有するものが好ましく、具体的には、第６族金属および第８〜１０族金属から構成される水素化点と、第３族、第４族および第５族元素の複合酸化物から構成される分解点を有する触媒が挙げられる。第６族金属としてはタングステン、モリブデンなどがあり、第８〜１０族金属としては鉄、コバルト、ニッケルなどがある。これらは、上述の修飾ゼオライトと複合酸化物との混合担体に担持され、水素化分解触媒成型品として加工された後、硫化処理を受けて最終的には硫化物として用いられる。
【００３９】
原料油の水素化分解は、前記した水素化分解触媒の存在下、全圧力が１０〜１５ＭＰａ、好ましくは１０〜１３ＭＰａの中低圧であり、温度が３６０〜４４０℃、好ましくは３７０〜４３０℃、ＬＨＳＶは２．０ｈｒ−１以下、好ましくは０．２〜０．５ｈｒ−１の低ＬＨＳＶであり、水素対原料油比が１７０〜１７００ＮＬ／Ｌ−原料油、好ましくは５１０〜１３５０ＮＬ／Ｌ−原料油である反応条件で行うことができる。
【００４０】
原料油の水素化分解率は、原料油に対する分解生成留分の割合をいい、その値は４０質量％以上であり、好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上である。なお、原料油としてＨＩＸを用いた場合、ＭＨＣと水素化分解の合計の分解率は、７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上が選ばれる。なお、未分解油の一部をリサイクルする場合、ここでいう分解率はリサイクル油込みの分解率ではなく、フレッシュフィード当りの分解率を指す。
【００４１】
なお、該水素化分解触媒の前段に脱硫、脱窒素能に優れた前処理触媒を充填してもよい。該前処理触媒としては、アルミナ、アルミナボリア等の担体に第６族金属および第８族金属を担持し、硫化したものなどが挙げられる。アルミナ、アルミナボリアにはプロモーター、例えばリン化合物が添加されることがある。
【００４２】
本発明においては、前記した原料油を水素化分解して得られる生成油を、あるいはまた、該原料油を水素化分解して得られる分解生成油を蒸留操作により潤滑油留分を回収したものを、次に脱ろう処理した後、脱芳香族処理するか、又は脱芳香族処理した後、脱ろう処理する。脱ろう処理としては溶剤脱ろう処理又は接触脱ろう処理を挙げることができる。
前記潤滑油留分としては、沸点範囲が３４３〜３９０℃の７０ペール留分、３９０〜４４５℃のＳＡＥ−１０留分、４４５〜５００℃のＳＡＥ−２０留分、５００〜５６５℃のＳＡＥ−３０留分が挙げられる。
【００４３】
溶剤脱ろう処理は通常の方法で行うことができる。例えばＭＥＫ法が挙げられる。ＭＥＫ法は、溶剤としてベンゼン、トルエン及びアセトン、又はベンゼン、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）などの混合溶剤を使用する。処理条件は脱ろう油が所定の流動点になるように冷却温度を調節する。溶剤／油比（容量比）は通常０．５〜５．０、好ましくは１．０〜４．５であり、温度は通常−５〜−４５℃、好ましくは−１０〜−４０℃である。
【００４４】
接触脱ろう処理は通常の方法で行うことができる。例えばペンタシル型ゼオライトや結晶質シリコアルミノリン酸塩を触媒とし、水素流通下、脱ろう油が所定の流動点になるように反応温度を調節する。
前記水素流通下の反応条件は、全圧力が通常１〜７ＭＰａ、好ましくは２〜５ＭＰａであり、温度が２４０〜４００℃、好ましくは２６０〜３８０℃である。ＬＨＳＶは０．１〜３．０ｈｒ−１、好ましくは０．５〜２．０ｈｒ−１の範囲である。
【００４５】
脱芳香族処理としては、溶剤脱芳香族処理あるいは高圧水素化脱芳香族処理が挙げられる。
溶剤脱芳香族処理は、通常フルフラール、フェノール等の溶剤を用いるが、本発明では溶剤にフルフラールを用いることが好ましい。溶剤脱芳香族処理の条件としては、溶剤／油比（容量比）が４以下、好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下であり、温度が通常９０〜１５０℃で行なわれ、ラフィネート収率は６０ｖｏｌ％以上、好ましくは７０ｖｏｌ％以上、さらに好ましくは８５ｖｏｌ％以上となるように運転される。
【００４６】
高圧水素化反応による脱芳香族処理は、通常アルミナ担体に第６族金属および第８〜１０族金属を担持し硫化した触媒の存在下で、全圧力が通常１５〜２０ＭＰａ、好ましくは１７〜２０ＭＰａ、温度が２８０〜３５０℃、好ましくは３００〜３３０℃、ＬＨＳＶが０．２〜２．０ｈｒ−１、好ましくは０．５〜１．０ｈｒ−１の条件下で行なわれる。前記金属の担持量は、酸化物基準で第６族金属（例えば、モリブデン、タングステン、クロムなど）は５〜３０質量％、好ましくは１０〜２５質量％であり、第８〜１０族金属（例えば、鉄、コバルト、ニッケルなど）は１〜１０質量％、好ましくは２〜５質量％である。
【００４７】
本発明においては、脱芳香族処理としては溶剤脱芳香族処理を用いるのが好ましい。
本発明において、脱芳香族処理として溶剤脱芳香族処理を用いた場合、必要によりこの処理の後に、水素化処理をすることができる。該水素化処理は溶剤脱芳香族処理油を、全反応圧力が通常１５ＭＰａ以下、好ましくは５〜１０ＭＰａの水素化反応条件で、アルミナ担体に第６族金属及び第８〜１０族金属を担持し硫化して得られる水素化触媒と接触させることにより行う。前記金属の担持量は、酸化物基準で、第６族金属（例えば、モリブデン、タングステン、クロムなど）は５〜３０質量％、好ましくは１０〜２５質量％、第８〜１０族金属（例えば、鉄、コバルト、ニッケルなど）は１〜１０質量％、好ましくは２〜５質量％である。
このような比較的低圧下での水素化処理は、溶剤脱芳香族油の光安定性を飛躍的に向上させる。
【００４８】
本発明においては、水素化分解後に潤滑油留分を回収しない場合には、脱芳香族処理後若しくは脱ろう処理後に、あるいは前記した水素化処理の後に、通常の蒸留操作により、潤滑油留分を回収してもよい。ここで回収される潤滑油留分は、先の場合と同様、沸点範囲が３４３〜３９０℃の７０ペール留分、３９０〜４４５℃のＳＡＥ−１０留分、４４５〜５００℃のＳＡＥ−２０留分、５００〜５６５℃のＳＡＥ−３０留分等である。
【００４９】
本発明は、前記の処理を実施することにより、以下の（１）〜（７）の特性を有する潤滑油基油を製造することができる。
（１）芳香族分の総量である全芳香族含有量が２〜１５質量％、好ましくは３〜１０質量％。
（２）飽和分中のイソパラフィンと一環ナフテンの合計量が６０質量％以上、好ましくは６５質量％以上。これらの成分は高い粘度指数と優れた酸化安定性、熱安定性を有しているため、きわめて好ましい潤滑油基油成分である。
（３）全芳香族分中のアルキルベンゼン量が３０質量％以上、好ましくは４０質量％以上。アルキルベンゼンは、添加剤や潤滑油の使用中に発生するスラッジを潤滑油に溶解させる力が強く、かつ高い粘度指数を有するので大変好ましい潤滑油基油成分である。
（４）全芳香族分中の３環以上の芳香族含有量が４質量％以下、好ましくは３質量％以下。本発明者らは、製品基油中の３環以上の芳香族含有量と基油の熱安定性の間に明確な負の相関があることを先に見出しており、そしてさらに、中低圧、低ＬＨＳＶの水素化分解反応条件下で生成する本発明の潤滑油留分に関しては溶剤脱芳香族処理が、３環以上の多環芳香族分に対する選択性がきわめて高く、アルキルベンゼン含有量をあまり減少させることなく該多環芳香族分を効率よく抽出除去できることも見出した。
（５）粘度指数が１０５以上。
（６）流動点が−１０℃以下。
（７）潤滑油留分を分留して得られる留分が以下のａ）及びｂ）のうち少なくとも一方を具備している。
ａ）ＳＡＥ−１０留分の飽和分組成で３環以上のナフテン分が１０質量％以下。
ｂ）ＳＡＥ−２０留分の飽和分組成で３環以上のナフテン分が３０質量％以下
【００５０】
本発明の方法により得られる潤滑油基油は、好ましくはさらに以下のいずれかの特性を具備している。
（イ）７０ペール留分は、粘度指数が１０５以上、好ましくは１１０以上であり、流動点が−１０℃以下、好ましくは−２５℃以下の高い性能を有する。
（ロ）ＳＡＥ−１０留分は、粘度指数が１１５以上、好ましくは１２５以上であり、流動点が−１０℃以下、好ましくは−１５℃以下の高い性能を有する。
（ハ）ＳＡＥ−２０留分は、粘度指数が１２０以上、好ましくは１２５以上であり、流動点が−１０℃以下、好ましくは−１５℃以下の高い性能を有する。
（ニ）ＳＡＥ−３０留分は、粘度指数が１２０以上、好ましくは１２５以上であり、流動点が−１０℃以下、好ましくは−１５℃以下の高い性能を有する。
【００５１】
なお、潤滑油留分を分留して得られるＳＡＥ−１０およびＳＡＥ−２０留分の飽和分組成は、既報の手法（浜川論，質量分析計による潤滑油基油のタイプ分析，「日石レビュー」，１９９１年，３３巻，４号，ｐ．１３５−１４２）で分析して求められる。
【発明の効果】
【００５２】
本発明の方法を用いることにより、潤滑油成分として好ましいイソパラフィン、一環ナフテン、アルキルベンゼンが多く、潤滑油成分として好ましくない多環ナフテン、多環芳香族が少ない高性能潤滑油基油を安価に製造できる。
従って、高い粘度指数と低い流動点を有し、優れた酸化安定性、熱安定性を有し、かつ添加剤や潤滑油の使用中に発生するスラッジを潤滑油に溶解させる力が強い高性能潤滑油基油を製造することができる。
【実施例】
【００５３】
以下に実施例および比較例を挙げ本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５４】
（原料油の性状）
表１に実施例および比較例で用いた原料油の性状を示す。
【表１】
2006016521.tif 000002
【００５５】
（原料ゼオライトの物性）
修飾に用いた原料ゼオライトの物性を表２に示す。
格子定数、結晶化度については粉末Ｘ線回折分析装置（リガク社製、ＲＩＮＴ１４００）を用いて、Ｘ線源ＣｕＫα、出力４０ｋＶ、１５０ｍＡの条件で測定した。
格子定数はＡＳＴＭ  Ｄ３９４２−９７に準拠した方法で算出した。具体的にはサンプルに５％のシリコン粉末を混合して、２θ＝５０〜６０゜の範囲を測定し、ＣｕＫα２成分の除去を行った後、所定の方法に従いＣｕＫα１による２つのフォージャサイトのピ−クおよび１つのシリコンのピーク回折角を求めて格子定数を算出した。
結晶化度はＡＳＴＭ  Ｄ３９０６−９７に準拠した方法で算出した。具体的には測定サンプルと基準サンプル（東ソー（株）製、ＨＳＺ−３２０ＮＡＡ、ロット番号３００２）について２θ＝１４〜３５゜の範囲を測定し、ＣｕＫα２成分の除去を行った後、所定の方法に従いＣｕＫα１による８つのフォージャサイトのピ−ク強度を求めて結晶化度を算出した。
Ａｌ／Ｓｉ比、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比については、フッ酸を用いてゼオライトを溶解し、ＩＣＰ発光分光分析装置を用いて化学分析を行って求めたＡｌ、Ｓｉの含有量から算出した。表面積については全自動ガス吸着量測定装置を用いて、窒素吸着法により得られた脱離等温線の測定デ−タからＢＥＴ表面積を算出した。
【００５６】
表２の修飾例２に用いた原料ゼオライト２は、修飾例１で用いた格子定数が２４．３８Åである市販のフォージャサイト（酸型、ＵＳＹ、原料ゼオライト１）を、チタン修飾の前に希硫酸で前処理をして調製した。具体的には、０．１４Ｎの希硫酸２．５リットルに原料ゼオライト６０ｇを加え、撹拌しながら３０℃で２時間処理し、４５℃に昇温して２時間処理した。吸引ろ過により溶液を分離し、得られたゼオライトを約５０℃の温水でロ液に硫酸イオンがなくなるまで洗浄した。１２０℃で３時間乾燥後、乾燥空気中５００℃で３時間焼成した。
【００５７】
【表２】
2006016521.tif 000003
【００５８】
（修飾ゼオライトの物性）
原料ゼオライト１〜３を原料としてチタン修飾を行った。まず硫酸チタン０．０５Ｍ水溶液２．５リットルに原料ゼオライト６０ｇを加え、撹拌しながら３０℃で２時間処理し、４５℃に昇温して２時間処理した。吸引ろ過により溶液を分離し、得られたゼオライトを約５０℃の温水でロ液に硫酸イオンがなくなるまで洗浄した。１２０℃で３時間乾燥後、乾燥空気中５００℃で３時間焼成した。
得られた修飾ゼオライト１〜３の物性を表３に示す。
【００５９】
【表３】
2006016521.tif 000004
【００６０】
（成形触媒調製例１）
修飾ゼオライト１を、シリカアルミナ複合酸化物と混合し、水を加えて解膠させ、ペースト状になったものをシリンダーから押し出して、直径１／３２インチの円柱状の成形体とした。１２０℃で２時間乾燥後、乾燥空気中５５０℃で３時間焼成した。得られた成形体のゼオライト含有量は１０質量％であった。この成形体を用いて、続いてＩｎｃｉｐｉｅｎｔ  Ｗｅｔｎｅｓｓ法によりニッケルとモリブデンを担持した。触媒全体に対してＮｉＯが５質量％、ＭｏＯ３が２０質量％となるように濃度を調整した硝酸ニッケルとモリブデン酸アンモニウムの混合水溶液を含浸させた。１２０℃で３時間乾燥後、乾燥空気中５５０℃で３時間焼成した。得られた成形触媒を成形触媒１とした。
【００６１】
（成形触媒調製例２、３）
修飾ゼオライト１の代わりにそれぞれ修飾ゼオライト２、３を用いたほかは成形触媒調製例１と同様に成形触媒調製を行った。得られた成形触媒をそれぞれ成形触媒２、３とした。
【００６２】
（成形触媒調製例４）
ニッケルとモリブデンの代わりに、ニッケルとタングステンを担持する以外は、成形触媒調製例１と同様に成形触媒調製を行った。触媒全体に対してＮｉＯが５質量％、ＷＯ３が２０質量％となるように濃度を調整した硝酸ニッケルとタングステン酸アンモニウムの混合水溶液を含浸させた。得られた成形触媒を成形触媒４とした。
【００６３】
（成形触媒調製例５）
修飾ゼオライト１の代わりに、表２に示す原料ゼオライト２を用いたほかは成形触媒調製例１と同様に成形触媒調製を行った。得られた成形触媒を成形触媒５とした。
【００６４】
（成形触媒調製例６）
修飾ゼオライト１の代わりに、表２に示す原料ゼオライト２を用いたほかは成形触媒調製例４と同様に成形触媒調製を行った。触媒全体に対してＮｉＯが５質量％、ＷＯ３が２０質量％となるように濃度を調整した硝酸ニッケルとタングステン酸アンモニウムの混合水溶液を含浸させた。得られた成形触媒を成形触媒６とした。
【００６５】
［実施例１］
成形触媒１を用いて、ＷＶＧＯを表４に示す中圧、低ＬＨＳＶの条件下で水素化分解処理、溶剤脱ろう処理および溶剤脱芳香族処理を行って潤滑油基油を製造した。
高活性な成形触媒１により、重質な成分を多く含むＷＶＧＯを、３９５℃という比較的低い温度で７５％分解することができた。また、その結果、ＷＶＧＯ原料から製造されたＳＡＥ−１０グレードの製品基油は、全芳香族含有量が４．２質量％と高く、そのため添加剤の溶解性、使用中に生成するスラッジの溶解性に優れる。また、高い粘度指数を持つイソパラフィンおよび一環ナフテンの飽和分中の合計量が７６．１質量％と比較的多く、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが４．２質量％と低いため、基油の粘度指数は１２８と高い値を示す。さらに芳香族分中には基油の安定性を悪くする３環、４環芳香族および５環以上の芳香族は殆ど残存しておらず、熱安定性に優れる。この時のラフィネート収率は９０質量％と高く、望ましい成分であるアルキルベンゼンが多く含まれている。
また、ＳＡＥ−２０グレードの製品基油は、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが８．３質量％と低いため、基油の粘度指数は１３６と高い値を示す。
【００６６】
［比較例１］
成形触媒５を用いて、ＷＶＧＯを表４に示す中圧、低ＬＨＳＶの条件下で水素化分解処理、溶剤脱ろう処理および溶剤脱芳香族処理を行って潤滑油基油の製造した。
用いた成形触媒５の活性は成形触媒１より低いため、４０５℃ではＷＶＧＯを６５質量％までしか分解できなかった。
ＷＶＧＯ原料から製造されたＳＡＥ−１０グレードの製品基油は、全芳香族含有量が３．８質量％と実施例１より低く、そのため添加剤の溶解性、使用中に生成するスラッジの溶解性は実施例１より劣る。また、高い粘度指数をもつイソパラフィンおよび一環ナフテンの飽和分中の合計量が４３．３質量％と不十分であり、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが１５．３質量％と高いため、基油の粘度指数は１１５と低い値を示す。さらに、芳香族分中には基油の安定性を悪くする３環、４環芳香族および５環以上の芳香族が多く残存しており、望ましい成分であるアルキルベンゼンの含有量は少ない。
また、ＳＡＥ−２０グレードの製品基油は、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが３０．２質量％と高いため、基油の粘度指数は１２４と低い値を示す。
【００６７】
［実施例２］
成形触媒１を用いて、ＨＩＸを表４に示す中圧、低ＬＨＳＶの条件下で水素化分解処理、溶剤脱ろう処理および溶剤脱芳香族処理を行って潤滑油基油を製造した。
高活性な成形触媒１により、ＨＩＸを、３８５℃という比較的低い温度で５５％分解することができた。また、その結果、ＨＩＸ原料から製造されたＳＡＥ−１０グレードの製品基油は、全芳香族含有量が２．７質量％と高く、そのため添加剤の溶解性、使用中に生成するスラッジの溶解性に優れる。また、高い粘度指数をもつイソパラフィンおよび一環ナフテンの飽和分中の合計量が８０．１質量％と多く、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが２．９質量％と低いため、基油の粘度指数は１３２と大変高い値を示す。さらに、芳香族分中には基油の安定性を悪くする３環、４環芳香族および５環以上の芳香族は殆ど残存しておらず、熱安定性に優れる。この時のラフィネート収率は９２質量％と高く、望ましい成分であるアルキルベンゼンが多く含まれている。
【００６８】
［比較例２］
成形触媒５を用いて、ＨＩＸを表４に示す中圧、低ＬＨＳＶの条件下で水素化分解処理、溶剤脱ろう処理および溶剤脱芳香族処理を行って潤滑油基油の製造した。
用いた成形触媒５の活性は成形触媒１より低いため、３９５℃ではＨＩＸを５０質量％までしか分解できなかった。
ＨＩＸ原料から製造されたＳＡＥ−１０グレードの製品基油は、全芳香族含有量が３．９質量％と実施例２より低く、そのため添加剤の溶解性、使用中に生成するスラッジの溶解性は実施例２よりに劣る。また、高い粘度指数をもつイソパラフィンおよび一環ナフテンの飽和分中の合計量が４４．０質量％と不十分であり、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが１４．７質量％と高いため、基油の粘度指数は１１７と低い値を示す。さらに、芳香族分中には基油の安定性を悪くする３環、４環芳香族および５環以上の芳香族が多く残存しており、望ましい成分であるアルキルベンゼンの含有量は少ない。
【００６９】
［実施例３］
成形触媒２を用いて、ＨＩＸを表４に示す中圧、低ＬＨＳＶの条件下で水素化分解処理、溶剤脱ろう処理および溶剤脱芳香族処理を行って潤滑油基油の製造した。
高活性な成形触媒２により、ＨＩＸを、３８５℃という比較的低い温度で５５％分解することができた。また、その結果、ＨＩＸ原料から製造されたＳＡＥ−１０グレードの製品基油は、全芳香族含有量が２．４質量％と高く、そのため添加剤の溶解性、使用中に生成するスラッジの溶解性に優れる。また、高い粘度指数をもつイソパラフィンおよび一環ナフテンの飽和分中の合計量が７９．５質量％と多く、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが３．１質量％と低いため、基油の粘度指数は１３２と大変高い値を示す。さらに、芳香族分中には基油の安定性を悪くする３環、４環芳香族および５環以上の芳香族は殆ど残存しておらず、熱安定性に優れる。この時のラフィネート収率は９２質量％と高く、望ましい成分であるアルキルベンゼンが多く含まれている。
【００７０】
［実施例４］
成形触媒３を用いて、ＨＩＸを表４に示す中圧、低ＬＨＳＶの条件下で水素化分解処理、溶剤脱ろう処理および溶剤脱芳香族処理を行って潤滑油基油の製造した。
高活性な成形触媒３により、ＨＩＸを、３８５℃という比較的低い温度で５５％分解することができた。また、その結果、高い粘度指数をもつイソパラフィンおよび一環ナフテンの飽和分中の合計量が７８．８質量％と多く、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが２．６質量％と低いため、基油の粘度指数は１３５と大変高い値を示す。さらに、芳香族分中には基油の安定性を悪くする３環、４環芳香族および５環以上の芳香族は殆ど残存しておらず、熱安定性に優れる。この時のラフィネート収率は９２質量％と高く、望ましい成分であるアルキルベンゼンが多く含まれている。
【００７１】
［実施例５］
成形触媒４を用いて、ＨＩＸを表４に示す中圧、低ＬＨＳＶの条件下で水素化分解処理、溶剤脱ろう処理および溶剤脱芳香族処理を行って潤滑油基油の製造した。
高活性な成形触媒４により、ＨＩＸを、３８５℃という比較的低い温度で５５％分解することができた。また、その結果、ＨＩＸ原料から製造されたＳＡＥ−１０グレードの製品基油は、全芳香族含有量が１．９質量％と高く、そのため添加剤の溶解性、使用中に生成するスラッジの溶解性に優れる。また、その結果、高い粘度指数をもつイソパラフィンおよび一環ナフテンの飽和分中の合計量が７８．０質量％と多く、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが３．９質量％と低いため、基油の粘度指数は１３３と高い値を示す。さらに、芳香族分中には基油の安定性を悪くする３環、４環芳香族および５環以上の芳香族は殆ど残存しておらず、熱安定性に優れる。この時のラフィネート収率は９２質量％と高く、望ましい成分であるアルキルベンゼンが多く含まれている。
【００７２】
［比較例３］
成形触媒６を用いて、ＨＩＸを表４に示す中圧、低ＬＨＳＶの条件下で水素化分解処理、溶剤脱ろう処理および溶剤脱芳香族処理を行って潤滑油基油の製造した。
用いた成形触媒６の活性は成形触媒４より低いため、３９５℃ではＨＩＸを５０質量％までしか分解できなかった。
ＨＩＸ原料から製造されたＳＡＥ−１０グレードの製品基油は、高い粘度指数をもつイソパラフィンおよび一環ナフテンの飽和分中の合計量が４５．３質量％とまだ充分ではなく、粘度指数を低下させる３環以上のナフテンが１２．５質量％と高いため、基油の粘度指数は１１８と低い値を示す。さらに、芳香族分中には基油の安定性を悪くする３環、４環芳香族および５環以上の芳香族が多く残存しており、望ましい成分であるアルキルベンゼンの含有量は少ない。
【００７３】
【表４】
2006016521.tif 000005