(57)【要約】【課題】  適度な光散乱性および光指向性を有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板が、容易かつ精度良く得られる電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供する。【解決手段】  電気光学装置用基板の製造方法等において、電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、樹脂層の所定箇所に対して、フォトマスクを介してパターン露光する工程と、現像液を用いて樹脂層を現像し、樹脂層に第１の凸部および第１の凹部を有する第１の凹凸パターンを形成する工程と、第１の凹凸パターンにおける第１の凸部上または第１の凹部内に、当該第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部または第２の凹部を有する第２の凹凸パターンを形成する工程と、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターン上に、光反射膜を形成する工程と、を含む。【選択図】  図１
2006058335.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の所定箇所に対して、フォトマスクを介してパターン露光する工程と、
現像液を用いて前記樹脂層を現像し、前記樹脂層に第１の凸部および第１の凹部を有する第１の凹凸パターンを形成する工程と、
前記第１の凹凸パターンにおける第１の凸部上または第１の凹部内に、当該第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部または第２の凹部を有する第２の凹凸パターンを形成する工程と、
前記第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターン上に、光反射膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項２】
前記樹脂層を形成する工程、パターン露光する工程、および現像する工程を繰り返して、前記第２の凹凸パターンを形成することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項３】
前記第１の凹凸パターンをネガ型感光性材料から形成し、前記第２の凹凸パターンをポジ型感光性材料から形成することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１の凹凸パターンを形成する工程と、第２の凹凸パターンを形成する工程との間に、加熱工程を設けて、前記第１の凹凸パターンの表面をなだらかにすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項５】
前記第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンを形成する際に、それぞれパターン露光する工程において、ハーフトーン露光をするか、あるいは複数のフォトマスクを用いて多重露光をすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項６】
前記樹脂層を形成する工程に先立って、前記基板上に、ヘキサメチルジシラザンによる前処理をする工程を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項７】
前記第２の凹凸パターンを形成する工程と、前記光反射膜を形成する工程との間に、前記第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターン上に、オーバーコート層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項８】
前記第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンの平面形状が、それぞれ円形または楕円形であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記凹凸パターンの傾斜角分布における平均傾斜角を３〜１３°の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１０】
電気光学物質を保持し、光反射膜が形成された基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の所定箇所に対して、フォトマスクを介してパターン露光する工程と、
現像液を用いて前記樹脂層を現像し、前記樹脂層に第１の凸部および第１の凹部を有する第１の凹凸パターンを形成する工程と、
前記凹凸パターンの第１の凸部上または第１の凹部内に、当該第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部または第２の凹部を有する第２の凹凸パターンを形成する工程と、
前記第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターン上に、光反射膜を形成する工程と、
を含んで形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
電気光学物質を保持する電気光学装置用基板を備えた電気光学装置であって、
前記電気光学装置用基板に設けられた樹脂層と、
前記樹脂層に設けられた、第１の凸部および第１の凹部を含む第１の凹凸パターンと、
前記樹脂層の、前記第１の凹部内または前記第１の凸部上に設けられた、当該第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部または第２の凹部を含む第２の凹凸パターンと、
第１の凸部上または第１の凹部内、および第２の凸部上または第２の凹部内に形成された光反射膜と、を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
前記第２の凹凸パターンは、前記第１の凸部上に設けられた凸部からなることを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置。
【請求項１３】
前記第２の凹凸パターンは、前記第１の凸部上に設けられた凹部からなることを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
前記第２の凹凸パターンは、前記第１の凹部内に設けられた凸部からなることを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置。
【請求項１５】
前記第２の凹凸パターンは、前記第１の凹部内に設けられた凹部からなることを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置。
【請求項１６】
前記第２の凹凸パターンは、前記第１の凸部の頂上、または前記第１の凹部の底部に設けられていることを特徴とする請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１７】
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関する。より詳細には、光散乱性と、指向性とのバランスが良好である電気光学装置用基板の製造方法、そのような電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の製造方法、そのような電気光学装置用基板を備えた電気光学装置、およびそのような電気光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、薄型化や省電力化等が図られることから、各種の電子機器における表示装置として、液晶表示装置が広く用いられている。このような液晶表示装置は、一対のガラス基板等の間に液晶を封入した状態で、シール材によって周囲を貼り合わせた構成が一般的である。そして、バックライトを利用して透過画像を表示するのみならず、省電力化のために、外光を利用して、光反射膜により、反射画像表示を行うことが行なわれている。
【０００３】
例えば、反射型液晶表示装置に使用される拡散反射板の製造方法であって、良好な反射特性を発揮できるように、高さが異なる凹凸パターンを有する拡散反射板の製造方法が開示されている（特許文献１参照）。
より具体的には、図１６（ａ）〜（ｃ）に示すように、ベースフィルム４００と、高さが異なる微細な凹凸パターン４０１ａを有する下塗り層４０１と、ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層４０２と、を順次に積層した活性光線透過率が所定値以下である転写フィルム４０３を予め作成する。次いで、図示しないものの、この転写フィルム４０３を基材４０４に積層し、さらに露光した後、ベースフィルム４００、および微細な高さが異なる凹凸パターン４０１ａを有する下塗り層４０１を剥離して、高さが異なる凹凸パターン４０２ａを有する拡散反射板４０７とするものである。
【０００４】
また、図１７（ａ）〜（ｄ）に示すように、反射型液晶表示パネルに使用される反射板５１０の製造方法であって、正面から極角３０°の範囲に亘って高輝度の反射特性が得られるように、所定の凹凸状構造体５０５を有する反射板５１０の製造方法等が開示されている（特許文献２参照）。
より具体的には、図１７（ａ）〜（ｃ）に示すように、エッチングレートが異なる複数の感光性樹脂を用いて、所定の茸状構造体５０４を作成し、それを加熱して凹凸状構造体５０５としたり、あるいは、図１８（ａ）〜（ｃ）に示すように、複数の光透過率を有するハーフトーンマスク５０６を利用して、凹凸状構造体５０５としたりするとともに、その上に光反射膜（図示せず）を形成して、反射板５１０とするものである。
【特許文献１】特開２０００−３２１４０６号公報（特許請求の範囲、図４）
【特許文献２】特開２００１−２０１６１９号公報（特許請求の範囲、図１３、１４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示された拡散反射板を製造するにあたり、凹凸パターンをエンボスロールにより作成しており、凹凸パターンにおける高さを厳密に調整することは困難であった。さらに、開示された光反射膜の製造方法は、工程数が多く、管理項目が多いという製造上の問題も見られた。
また、特許文献２に開示された反射板を製造するにあたり、エッチングレートが異なる複数の感光性樹脂を用いたりして、凹凸パターンを作成しており、工程数が多く、安定的に光反射膜を形成することが困難であるという製造上の問題も見られた。
さらに、特許文献２に開示された反射板を製造するにあたり、基本的にフォトリソグラフィ法を用いており、フォトマスクにおけるマスクパターンの精度によって、凹凸パターンを安定的に形成することが困難であって、光散乱性や光指向性のばらつきが大きいという問題が見られた。
したがって、特許文献１および２に開示された反射型液晶表示装置等における光反射膜は、光散乱性や光指向性のばらつきがそれぞれ大きいばかりか、製造工程が複雑であって、安定かつ精度良く形成することが困難であるという問題が見られた。
【０００６】
そこで、本発明の発明者らは、以上の問題を鋭意検討した結果、第１の凹凸パターン上や間隙に、第２の凹凸パターンをさらに形成することによって、微細形状の凹凸パターンが容易かつ精度良く得られ、さらにその上に光反射膜を均一に形成することにより、適度な光散乱性と、光指向性とがそれぞれバランス良く得られることを見出したものである。
すなわち、本発明は、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板が容易かつ精度良く得られる電気光学装置用基板の製造方法、そのような電気光学装置用基板を利用した電気光学装置、および電気光学装置の製造方法をそれぞれ提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、
樹脂層の所定箇所に対して、フォトマスクを介してパターン露光する工程と、
現像液を用いて樹脂層を現像し、樹脂層に第１の凸部および第１の凹部を有する第１の凹凸パターンを形成する工程と、
第１の凹凸パターンにおける第１の凸部上または第１の凹部内に、第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部または第２の凹部を有する第２の凹凸パターンを形成する工程と、
第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターン上に、光反射膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、このように電気光学装置用基板を製造することにより、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが組み合わさった複雑な凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができる。したがって、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を容易かつ精度良く得ることができる。
なお、本発明においては、第１の凹凸パターンを形成するための現像工程と、第２の凹凸パターンを形成する現像工程とを、同時実施する場合も含めるものとする。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、樹脂層を形成する工程、パターン露光する工程、および現像する工程を繰り返して、第２の凹凸パターンを形成することが好ましい。
このように実施することにより、光反射膜の反射特性や耐久性等を適宜調整することができるとともに、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが組み合わさった複雑な凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、第１の凹凸パターンをネガ型感光性材料から形成し、第２の凹凸パターンをポジ型感光性材料から形成することが好ましい。
このように実施することにより、第２の凹凸パターンを現像する際に、第１の凹凸パターンまで現像するおそれが少なくなり、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが組み合わさった複雑な凹凸パターンを、さらに容易かつ精度良く形成することができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、第１の凹凸パターンを形成する工程と、第２の凹凸パターンを形成する工程との間に、加熱工程を設けて、第１の凹凸パターンの表面をなだらかにすることが好ましい。
このように実施することにより、第１の凹凸パターンに対する第２の凹凸パターンの密着性が向上するばかりか、第２の凹凸パターンを形成する際に、均一かつ精度良く形成することができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンを形成する際に、それぞれパターン露光を実施する工程において、ハーフトーン露光をするか、あるいは複数のフォトマスクを用いて多重露光をすることが好ましい。
このように実施することにより、第１および第２の凹凸パターンの形状を任意なものに容易に制御することができる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、樹脂層を形成する工程に先立って、基板上に、ヘキサメチルジシラザンによる前処理をする工程を含むことが好ましい。
このように実施することにより、基板と、樹脂層との間の密着性が向上し、より平坦性に優れた樹脂層が得られ、ひいては、第１および第２の凹凸パターンの平均傾斜角や高さ等の調整についても容易となる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、第２の凹凸パターンを形成する工程と、光反射膜を形成する工程との間に、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターン上に、オーバーコート層を形成する工程を含むことが好ましい。
このように実施することにより、第１および第２の凹凸パターンの耐久性がそれぞれ向上するとともに、得られる光反射膜における光散乱性と、光指向性とのバランスをさらに良好なものとすることができる。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンの平面形状が、それぞれ円形または楕円形であることが好ましい。
このように実施することにより、光反射膜を均一に形成することができ、得られる光反射膜における光散乱性と、光指向性とのバランスをさらに良好なものとすることができる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、凹凸パターンの傾斜角分布における平均傾斜角を３〜１３°の範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、光反射膜を均一に形成することができ、得られる光反射膜における光散乱性と、光指向性とのバランスをさらに良好なものとすることができる。
【００１６】
また、本発明の別の態様は、電気光学物質を保持し、光反射膜が形成された基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、
基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、
樹脂層の所定箇所に対して、フォトマスクを介してパターン露光する工程と、
現像液を用いて樹脂層を現像し、樹脂層に第１の凸部および第１の凹部を有する第１の凹凸パターンを形成する工程と、
凹凸パターンの第１の凸部上または第１の凹部内に、当該第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部または第２の凹部を有する第２の凹凸パターンを形成する工程と、
第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターン上に、光反射膜を形成する工程と、
を含んで形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
すなわち、このように電気光学装置用基板を含む電気光学装置を製造することにより、電気光学装置用基板において、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが組み合わさった複雑な凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができる。したがって、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を利用した電気光学装置を効率的に得ることができる。
【００１７】
また、本発明の別の態様は、電気光学物質を保持する電気光学装置用基板を備えた電気光学装置であって、
電気光学装置用基板に設けられた樹脂層と、
樹脂層に設けられた、第１の凸部および第１の凹部を含む第１の凹凸パターンと、
樹脂層の第１の凹部内または第１の凸部上に設けられた、当該第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部または第２の凹部を含む第２の凹凸パターンと、
第１の凸部上または第１の凹部内、および第２の凸部上または第２の凹部内に形成された光反射膜と、
を有することを特徴とする電気光学装置である。
すなわち、このような電気光学装置用基板を備えた電気光学装置であれば、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが組み合わさった複雑な凹凸パターンを有するとともに、その上に光反射膜を形成してあることにより、適度な光散乱性と、光指向性とをバランス良く得ることができる。
より具体的には、電気光学装置用基板の樹脂層表面において、平坦部分が少ないほど、散乱に寄与する領域が増加し、光散乱性が向上するためである。つまり、平坦な基板が露出する部分、凹凸パターンのパターン間に存在する略平坦な部分、凹部の底や凸部の頂上に平坦または略平坦な部分、が多く存在するパターン上に光反射膜を形成した場合、樹脂層における散乱に寄与する領域の割合が減少することになる。一方、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが組み合わさった複雑な凹凸パターン上に光反射膜を形成した場合、樹脂層における散乱に寄与する領域の割合が増加することになる。
よって、このような第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが組み合わさった複雑な凹凸パターンを有する電気光学装置用基板を備えた電気光学装置であれば、適度な光散乱性と、光指向性とをバランス良く得ることができる。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第２の凹凸パターンは、第１の凸部上に設けられた凸部からなることが好ましい。
【００１９】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第２の凹凸パターンは、第１の凸部上に設けられた凹部からなることが好ましい。
【００２０】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第２の凹凸パターンは、第１の凹部内に設けられた凸部からなることが好ましい。
【００２１】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第２の凹凸パターンは、第１の凹部内に設けられた凹部からなることが好ましい。
【００２２】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第２の凹凸パターンは、第１の凸部の頂上、または第１の凹部の底部に設けられていることが好ましい。
【００２３】
また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を表示部として備えたことを特徴とする電子機器である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、言うまでもなく、以下に示す実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明の範囲内で任意に変更可能である。
【００２５】
[第１実施形態]
第１実施形態における電気光学装置用基板の製造方法を、図１〜図９を適宜参照しつつ、樹脂層形成工程、露光工程、現像工程、それらの繰り返し工程、および光反射膜形成工程等の各工程に分けて、具体的に説明する。
【００２６】
１．樹脂層形成工程
樹脂層形成工程は、電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程である。すなわち、図１中に記号Ｓ１で示すように、第１の凹凸パターン用樹脂層を形成する工程である。より具体的には、図２（ａ）に示すように、例えば、スピンコーター等の塗布装置を用いて、凹凸パターンを構成する感光性樹脂を、電気光学装置用基板の基板１２上に均一に塗布して、樹脂層１０７を形成する。そして、例えば、スピンコーターを用いた場合、６００〜２、０００ｒｐｍの回転数で、５〜２０秒の塗布時間とし、厚さ１〜１０μｍの樹脂層として形成する。
次いで、図示しないものの、解像度や密着性を向上させるために、電気光学装置用基板の基板１２上に形成した樹脂層１０７をプリベークする。その場合、例えば、ホットプレートを用いて、８０〜１２０℃、１〜１０分のプリベーク条件とすることが好ましい。
【００２７】
ここで、樹脂層を構成する感光性材料の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。また、精度良く、非対称の凹凸パターンが形成できるように、感光性材料中に、シリカ粒子、酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無機フィラーを添加しておくことも好ましい。
また、感光性材料としては、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用することができる。
なお、以下の説明では、第１の凹凸パターン用樹脂層として、ネガ型の感光性材料を使用した場合を例に採って説明する。
【００２８】
２．露光工程
次いで、露光工程は、樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程である。すなわち、図１中に記号Ｓ２で示すように、第１の凹凸パターン用露光を実施する工程である。より具体的には、図２（ｂ）に示すように、均一に塗布された感光性樹脂からなる樹脂層１０７の所定位置にフォトマスク１１９を載置した後、記号Ｌで表されるｉ線等のエネルギー線を照射して、パターン露光を実施する。その場合、感光性樹脂の種類等にもよるが、通常、ｉ線等の露光量を５０〜３００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。
また、使用するフォトマスクの態様は特に制限されるものではないが、例えば、光透過部または光不透過部を独立した円や多角形からなる平面形状とするとともに、当該光透過部または光不透過部を画素の３ドット、６ドット、または１２ドットを一単位として、平面方向にランダムに配列されたマスクパターンを有するフォトマスクを使用することが好ましい。この理由は、このようなマスクパターンを有するフォトマスクを使用して得られた光反射膜であれば、液晶表示装置等に使用した場合に、干渉縞の発生を効果的に抑制することができるためである。
一方、フォトマスクにおけるマスクパターンの平面形状を予め非対称パターンとすることも好ましい。この理由は、次工程の現像工程において、現像条件等が多少ばらついた場合であっても、所望の非対称の凹凸パターンを精度良く形成することができるためである。したがって、適度な光散乱性および光指向性を有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を得ることができる。
【００２９】
３．現像工程
次いで、現像工程は、樹脂層に対して現像液を供給しながら所定箇所を現像し、第１の凹凸パターンを形成する工程である。すなわち、図１中に記号Ｓ３で示すように、第１の凹凸パターンを現像形成する工程である。より具体的には、図２（ｃ）に示すように、例えば、シャワー装置等を用いて現像液を供給し、フォトマスクの光透過部１１９ｂを透過した光が照射された部分、すなわち、露光部１０７ａあるいは非露光部１０７ｂを一部含めて現像することにより、独立した所定形状を有するとともに、複数の凸部または凹部からなる第１の凹凸パターン１１２を形成することができる。
なお、通常、長さ４７０ｍｍ、幅３７０ｍｍの基板１枚を現像するにあたり、現像温度を２０〜４０℃としたり、現像液の供給時間を５〜１００秒の範囲内の値としたり、現像液の供給量を１〜１００ｍｌ／分の範囲内の値としたりすることが好ましい。
【００３０】
ここで、パターン露光した樹脂層を現像して得られる第１の凹凸パターンにおける独立した複数の凸部の高さまたは凹部の深さを０．５〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる凸部の高さまたは凹部の深さが０．５μｍ未満の値になると、第２の基材を介して、適当な曲面を有する光反射膜を設けることが困難になる場合があるためである。一方、かかる凸部の高さまたは凹部の深さが５μｍを超えると、光反射膜の凹凸が大きくなって、過度に光を散乱させたり、あるいは断線しやすくなったりする場合があるためである。
したがって、第１の凹凸パターンにおける独立した複数の凸部の高さまたは凹部の深さを０．８〜４μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１〜３μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３１】
また、基材に形成された第１の凹凸パターンにおける凸部または凹部の平面形状は特に制限されるものでなく、円形、または図４（ａ）〜（ｃ）に示すような凹状楕円形、あるいは図５（ａ）〜（ｃ）に示すような凹状円錐形や、図６（ａ）〜（ｃ）に示すような凹状角錐形（凹状ピラミッド形）等の対称形状であることが好ましい。
この理由は、第１の凹凸パターンが対称形状であれば、現像液を用いて現像形成する際に、通常のシャワー現像を利用して、迅速かつ精度良く得られるためである。また、このような対称形状であれば、第２の凹凸パターンをその上に、精度良く形成することができるためである。
したがって、第１の凹凸パターンにおける凸部または凹部の平面形状を例えば円とした場合、その相当径を３〜１５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる相当径が３μｍ未満となると、光反射膜を製造する際に光硬化プロセスを用いたとしても、凸部の平面形状や配置パターンを、正確に制御することが困難となる場合があるためである。一方、第１の凹凸パターンにおける相当径が１５μｍを超えると、得られた光反射膜光において、光を適度に散乱させることが困難となって、干渉縞の発生を有効に防止することが困難となる場合があるためである。よって、第１の凹凸パターンにおける相当径を５〜１３μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、６〜１２μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３２】
ただし、第１の凹凸パターンとして、所定方向に対して直交する想定中心線を境とした分割形状が、左右で非対称となるような平面形状、例えば、図７（ａ）〜（ｃ）に示すような凸状の液滴形状を有する第１の凹凸パターン１１２´や凹状の液滴形状等も好ましい。
この理由は、このような非対称の凹凸パターンであれば、それ自体光を適度に光散乱させることができるとともに、所定の光指向性が得られることから、第２の凹凸パターンと相俟って、光散乱性と光指向性とのバランスがさらに良好となり、半透過反射型液晶表示装置等の電気光学装置用基板として好適に使用することができる。また、かかる非対称の凹凸パターンであれば、所定の再現性も得られるためである。
【００３３】
次いで、図２（ｃ）に示すように、第１の凹凸パターンを形成した後であって、第２の凹凸パターンを形成する前に、樹脂層に対して、後述する本焼成の温度よりも低い温度条件で加熱して、凹凸パターンの表面をなだらかにする工程をさらに含むことが好ましい。より具体的には、図２（ｂ）に示す現像工程の後に、樹脂層を本焼成の温度よりも低い温度条件で加熱し、仮焼成することにより、第１の凹凸パターン１１２の形状を、あらかじめ所望の形状となるように調整することが好ましい。
この理由は、現像後においては、樹脂層における凹凸パターンの形状がやや角張った外形を有する場合があるが、かかる仮焼成を実施することにより、表面をなだらかにすることができるためである。したがって、第１の凹凸パターンに対して、第２の凹凸パターンを均一かつ密着させて形成することができるとともに、第２の凹凸パターンを形成する際に、均一かつ精度良く形成することができるためである。また、このように加熱することにより、第１の凹凸パターンが形成された樹脂層中の水分や低分子量物を除去したり、あるいは、基板と、第１の凹凸パターンが形成された樹脂層との間の密着性も向上させたりすることもできるためである。
なお、かかる加熱工程における凹凸パターンが形成された樹脂層の仮焼成の条件としては、通常、１１０〜１４０℃、６０〜１８０秒の範囲とすることが好ましい。
【００３４】
４．繰り返し工程
次いで、繰り返し工程は、所定の第２の凹凸パターンを形成する工程である。すなわち、上述した樹脂層を形成する工程と、パターン露光を実施する工程と、現像する工程とを繰り返して、第１の凹凸パターンにおける第１の凸部上または第１の凹部内に、当該第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部および第２の凹部を有する第２の凹凸パターンを形成する工程である。
したがって、図１中に記号Ｓ４〜Ｓ６で示すように、第２の凹凸パターン用樹脂層の形成、露光、現像形成する各工程を実施する。かかる工程を実施することにより、図３（ａ）〜（ｄ）に示すように、第２の凹凸パターン１１３´を形成することができる。よって、図８（ａ）〜（ｄ）や図９（ａ）〜（ｄ）に例示するように、第１の凹凸パターンと、第２の凹凸パターンとが組み合わせられた凹凸パターンを形成することができる。
なお、第２の凹凸パターンに対しても、第１の凹凸パターンが形成された樹脂層と同様に、仮焼成することが好ましい。
【００３５】
ここで、かかる繰り返し工程は、基本的にフォトマスクを変えて、第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部および第２の凹部を有する第２の凹凸パターンを形成する以外、第１の凹凸パターンの製造条件と同様の内容とすることができる。ただし、図３（ａ）〜（ｄ）においては、第２の凹凸パターン用の樹脂層を形成する材料として、第１の凹凸パターン用の樹脂層とは異なり、ポジ型の感光性樹脂を用いた例を示している。
したがって、第２の凹凸パターンにおける凸部または凹部の平面形状についても、第１の凹凸パターンと同様に、図４〜図７に示すような対称形状や非対称形状であることが好ましい。
【００３６】
また、第２の凹凸パターンにおける凸部または凹部の平面形状を円とした場合、その相当径を１〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる相当径が１μｍ未満となると、光反射膜を製造する際に光硬化プロセスを用いたとしても、凸部の平面形状や配置パターンを、正確に制御することが困難となる場合があるためである。また、相当径が１μｍ未満となると、所定のマスクパターンを有するフォトマスク自体の製造も困難となる場合があるためである。
一方、相当径が１０μｍを超えると、第１の凹凸パターン上等に形成したとしても、得られる光反射膜光において、光を適度に散乱させることが困難となって、干渉縞の発生を有効に防止することが困難となる場合があるためである。
したがって、かかる相当径を２〜８μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、３〜６μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３７】
また、第２の凹凸パターンにおける独立した複数の凸部の高さまたは凹部の深さを０．１〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる凸部の高さまたは凹部の深さが０．１μｍ未満の値になると、適当な曲面を有する光反射膜を設けることが困難になる場合があるためである。一方、かかる凸部の高さまたは凹部の深さが５μｍを超えると、第１の凹凸パターン上等への均一な形成が困難になったり、得られる光反射膜光において光反射性が著しく低下したりする場合があるためである。
したがって、第２の凹凸パターンにおける独立した複数の凸部の高さまたは凹部の深さを０．２〜４μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜３μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３８】
なお、本発明の変形例として、第１の凹凸パターン用樹脂層の現像工程（Ｓ３）と、第２の凹凸パターン用樹脂層の現像工程（Ｓ４）とを、同時実施したり、一方を省略したりすることも好ましい。
すなわち、基板上に形成された感光性材料からなる樹脂層に対して、所定パターンに対応して光透過率を変えて構成したハーフトーンマスクを用いて露光したり、異なるパターン形状のパターンマスクを用いて多重露光したりするとともに、当該樹脂層に対して現像処理することにより、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンを同時に形成することも好ましい。
また、感光性材料からなる樹脂層に対して、多重露光やハーフトーン露光を実施した後、所定の現像処理を実施することにより、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが組み合わせられた複合凹凸パターンを形成することも好ましい。したがって、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが一つの連続層から形成された複合凹凸パターンであって、凹部パターン内に、さらに別の凹部パターンが形成された態様や、凸部パターン上に、さらに別の凸部パターンが形成された態様とすることができる。
よって、このような変形例によれば、現像工程が事実上一つ省略できるとともに、感光性材料の種類や感度に対する制限も少なくなる。
さらに、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが一つの連続層から形成されている場合には、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンの密着性等の問題を考慮する必要性も低下する。
【００３９】
５．加熱工程
次いで、加熱工程を設けて、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが形成された樹脂層を加熱することが好ましい。すなわち、図３（ｃ）に示す、第２の凹凸パターンが形成された樹脂層に対する仮焼成後であって、光反射膜を形成する前に、樹脂層を加熱し、焼成（本焼成）することにより、水分や不純物等を除去して、樹脂層における第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンの形状を固定させることができる。
また、このとき、上述した本焼成を実施する前に、現像された樹脂層に対して本焼成の温度よりも低い温度条件で加熱して、凹凸パターンの表面をなだらかにする工程をさらに含むことが好ましい。より具体的には、図３（ｃ）に示す現像工程の後に、図３（ｄ）に示すように、樹脂層を本焼成の温度よりも低い温度条件で加熱し、仮焼成することにより、第１の凹凸パターン１１２および第２の凹凸パターン１１３の表面をなだらかにした第１の凹凸パターン１１２´および第２の凹凸パターン１１３´とすることが好ましい。
この理由は、現像後においては、樹脂層における凹凸パターンの形状がやや角張った外形を有する場合があるが、かかる仮焼成を実施することにより、表面をなだらかにすることができるためである。したがって、凹凸パターンに対して、光反射膜を均一かつ密着させて形成することができ、得られる光反射膜において、光散乱性と、光指向性とのバランスをさらに良好なものとできるためである。また、このように加熱することにより、凹凸パターンが形成された樹脂層中の水分や低分子量物を除去したり、あるいは、基板と、凹凸パターンが形成された樹脂層との間の密着性も向上させたりすることもできるためである。
なお、かかる加熱工程における凹凸パターンが形成された樹脂層の本焼成の条件としては、通常、２００〜２５０℃、３０〜１２０分の範囲とするとともに、仮焼成の条件としては、通常、１１０〜１４０℃、１〜３分の範囲とすることが好ましい。
【００４０】
６．光反射膜形成工程
次いで、光反射膜形成工程は、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンが形成された樹脂層の表面に、適度に光散乱させるように、滑らかな曲面を有する光反射膜を形成する工程である。すなわち、図１中に記号Ｓ７で示すように光反射膜を形成し、より具体的には、図３（ｅ）に示すように光反射膜１１６を形成することができる。
ここで、光反射膜の厚さを０．０５〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる光反射膜の厚さが０．０５μｍ未満の値になると、反射効果が著しく乏しくなる場合があるためである。一方、かかる光反射膜の厚さが５μｍを越えると、得られる光反射膜のフレキシブル性が低下したり、製造時間が過度に長くなったりする場合があるためである。
したがって、かかる光反射膜の厚さを０．０７〜１μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜０．３μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４１】
また、光反射膜の構成材料は特に制限されるものでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｗ）およびニッケル（Ｎｉ）等の導電性や光反射性に優れた金属材料とすることが好ましい。
ただし、このような金属材料や透明導電材料を用いた際に、液晶への溶け込みがある場合には、当該金属材料等からなる光反射膜の表面に電気絶縁膜を設けたり、金属材料等とともに、電気絶縁物をスパッタリング等したりすることも好ましい。
また、光反射膜における鏡面反射率を５〜５０％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる鏡面反射率が５％未満の値となると、半透過反射型液晶表示装置等に使用した場合に、得られる表示画像の明るさが著しく低下する場合があるためである。一方、かかる鏡面反射率が５０％を超えると、散乱性が低下して、背景の写りこみや、外部光が過度に鏡面反射する場合があるためである。
したがって、光反射膜における鏡面反射率を１０〜４０％の範囲内の値とすることがより好ましく、１５〜３０％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４２】
また、光反射膜において、光を部分的に通過させるための開口部が設けてあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、半透過反射型液晶表示装置等に好適に使用することができるためである。すなわち、図１０および図１１に示すように、半透過反射型液晶表示装置２００において、光反射膜２１２の一部に開口部２１２ａを設けることにより、光反射膜２１２の反射領域２１２ｒによって外部からの光を効率的に反射できるとともに、バックライト等の内部光（図示せず）についても、開口部２１２ａを通して、外部に効果的に放出することができる。
また、かかる開口部の大きさは特に制限されるものでなく、光反射膜の用途等によって決定されることが好ましいが、例えば、光反射膜の全体面積を１００％としたときに、５〜８０％の範囲内の値とすることが好ましく、１０〜７０％の範囲内の値とすることがより好ましく、２０〜６０％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、光反射膜を形成するにあたり、スパッタリング等の手法を用いて、光反射膜を形成することが好ましい。また、所望の箇所以外の光反射膜材料は、フォトエッチング等の手法で除去することができる。
【００４３】
７．他の製造工程
他の製造工程として、図示しないものの、保護層を形成する工程を設けて、透明性樹脂等を塗布し、複数の凹凸パターンおよびその上の光反射膜の上に、連続層としての保護層を形成することも好ましい。また、凹凸パターンが形成された樹脂層の表面に、光反射膜を形成する前に、同様の保護層（オーバーコート層）を形成することも好ましい。
すなわち、このように実施することにより、非対称となる凹凸パターンや光反射膜の耐久性が向上するとともに、得られる光反射膜における光散乱性と、光指向性とのバランスをさらに良好なものとすることができるためである。
なお、オーバーコート層を構成する感光性樹脂の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。ただし、凹凸パターンと、オーバーコート層との間の密着力が向上するため、凹凸パターンを構成する感光性樹脂と、オーバーコート層を構成する感光性樹脂とを同種とすることが好ましい。
【００４４】
また、基材と凹凸パターンとの間の密着力が向上するため、基材の表面に、シランカップリング剤等の処理を施しておくことが好ましい。例えば、基板上に、ネガ型感光性材料またはポジ型感光性材料を積層する前に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を適用処理し、下地層を設けることが好ましい。
この理由は、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）の適用処理により、基板と、樹脂層との間の密着性が向上し、ひいては、非対称となる凹凸パターンの高さ調整についても容易となるためである。
【００４５】
このように製造される電気光学装置用基板は、図示しないものの、着色層および走査電極等を形成することにより、カラーフィルタ基板を構成することができる。
一方、かかる電気光学装置用基板は、図示しないものの、画素電極やＴＦＴ（Thin Film Transistor）やＴＦＤ(Thin Film Diode)等のスイッチング端子を形成することにより、素子基板を構成することができる。かかる素子基板を構成する場合において、上述した光反射膜を画素電極の一部として使用する場合には、当該スイッチング素子に電気接続することが好ましい。
【００４６】
[第２実施形態]
第２実施形態における電気光学装置用基板の構成や態様を、図１０〜図１２を参照して、電気光学装置として、外部光を用いた反射表示と照明装置を用いた透過表示を選択的に行うことができる半透過反射型液晶表示装置を例にとって説明する。ここで、図１０は、半透過反射型液晶表示装置２００の概略斜視図であり、図１１は当該半透過反射型液晶表示装置２００の概略断面図である。また、図１２（ａ）は第１の基板１２の平面図であり、図１２（ｂ）は第２の基板１４の平面図であり、図１２（ｃ）は第１の基板１２および第２の基板１４を重ね合わせた状態の平面図である。
かかる半透過反射型液晶表示装置２００は、透明なガラス基板等からなる第１の基体１３を含む第１の基板（カラーフィルタ基板と称する場合がある）１３と、同様に透明なガラス基板等からなる第２の基体２７を含む第２の基板（素子基板と称する場合がある）１４とが、対向配置されるとともに接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられて構成されている。
また、第１の基板１２と、第２の基板１４とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶材料２３２を注入した後、封止材２３０ａにて封止されてなるセル構造を備えている。すなわち、第１の基板１２と、第２の基板１４との間に液晶材料２３２が充填されている。
なお、かかる半透過反射型液晶表示装置２００には、図示しないものの、バックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを必要に応じて適宜取付けることもできる。
【００４７】
また、半透過反射型液晶表示装置２００の一部を構成する第１の基板１２は、一例として、第１の基体１３と、反射層２１２と、着色層１６と、保護膜（平坦化膜）２１５と、第１の透明電極１９と、配向膜２１７と、から構成してあることが好ましい。また、図示しないが、第１の基板１２において、電気絶縁性を向上させるための絶縁層を所定箇所に設けることも好ましい。さらに、電気光学装置としての半透過反射型液晶表示装置２００は、ＴＦＤ素子を利用した液晶表示装置であり、第１の電極３３は走査電極を意味している。そして、第１の基体１３の所定位置に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されている。
【００４８】
一方、第１の基板１２と対向する第２の基板１４は、一例として、第２の基体２７と、第２の透明電極２６や配向膜２２４を順次積層させたものであることが好ましい。そして、
本実施形態に係る半透過反射型液晶表示装置２００は、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置であり、第２の透明電極２６は画素電極を、スイッチング素子３１はＴＦＤ素子を、それぞれ意味する。また、第２の基体２７の外面には、第１の基体１３と同様に、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１がそれぞれ配置されている。
また、それぞれの基板上に形成された第１の透明電極１９と、第２の透明電極２６との交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素（以下、画素領域と称する場合がある。）を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Ａを構成することになる。
さらに、第２の基板１４における第２の基体２７は、第１の基体１３の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部１４Ｔを有しており、かかる基板張出部１４Ｔ上には、第２の透明電極２６に連なる配線パターン２６´や、入力端子部２１９が形成されている。したがって、基板張出部１４Ｔ上には、入力端子部２１９等に対して電気接続されるように、駆動回路等を内蔵した半導体素子２６１や、フレキシブル配線基板１１０が実装等されている。
【００４９】
そして、第２実施形態の電気光学装置としての液晶表示装置２００は、第１の凹凸パターンにおける第１の凸部上または第１の凹部内に、当該第１の凸部または第１の凹部の外径よりも小さい第２の凸部および第２の凹部を有する第２の凹凸パターンを形成し、その上に光反射膜が形成されているため、一定の視野角方向への反射光量を低く抑えた上で、別の特定の視野角方向への反射光量を増大させることができる。
この結果、観察者は、光反射膜を用いて行われる反射表示の際に、液晶表示装置の表示領域内に表示される像を特定の視野角方向に関して非常に明るい表示として観察できる。
【００５０】
３．応用例
次いで、本発明の電子光学装置の応用例を具体的に説明する。すなわち、図１３は、本発明の電子光学装置を備えた電子機器３００の概略構成図である。この電子機器３００の例では、液晶表示装置等の電子光学装置３１０と、これを制御するための制御手段３２０とを有している。そして、電子光学装置３１０を、パネル構造体３１０Ａと、半導体素子（半導体素子）等で構成される駆動回路３１０Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段３３０は、表示情報出力源３３１と、表示情報処理回路３３２と、電源回路３３３と、タイミングジェネレータ３３４とから構成してある。
さらに、表示情報出力源３３１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ３３４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路３３２に供給するように構成されている。
【００５１】
また、表示情報処理回路３３２は、シリアルーパラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３１０Ｂへ供給するように構成してある。さらに、駆動回路３１０Ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路および検査回路を含み、電源回路３３３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
よって、本実施形態の電子光学装置を備えた電子機器は、適度な光散乱性と、光指向性とを変え備えた光反射膜を備えた電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の特性を十分に応用することができる。
【００５２】
［第３実施形態］
以下、第２実施形態と同様に、電気光学装置として、図１０〜図１１に示すように外部光を用いた反射表示と、照明装置を用いた透過表示とを選択的に行うことができる半透過反射型液晶表示装置２００を例にとってその製造方法を説明する。ただし、光反射膜形成工程までは、第１実施形態と同様の内容とすることができるので、ここでは、図１４に示すフロー図に沿って、もう一方の基板を準備して、電気光学装置を組み立てる工程について中心に説明する。
【００５３】
１．第１の基板および第２の基板の製造工程
（１）第１の基板の製造
図１４に示すフロー図中、記号ＳＴ１で表される第１の基板における光反射膜の形成は、それぞれ第１実施形態と同様の内容とすることができるので、ここでの説明は省略する。
次いで、図１４に示すフロー図中、記号ＳＴ２で表されるように、光反射膜２１２ｒに対応させてカラーフィルタ２１２ａや遮光部材１８、あるいは第１の透明電極（走査電極）１９等をさらに形成することにより、第１の基板１３を製造することができる。
【００５４】
（２）第２の基板の製造
図１４に示すフロー図における第２の基板の製造は、第１の基板としてのカラーフィルタ基板１３と対向する第２の基板としての素子基板１４を製造する工程であり、かかるフロー図中記号ＳＴ１´およびＳＴ２´で表されるように、従来公知の方法により製造することができる。
例えば、図１０〜図１１に示す素子基板１４の場合、図１５に一例として示されるようなＴＦＤ素子３１ａ、３１ｂを形成する。かかるＴＦＤ素子３１ａ、３１ｂは、素子第１電極（第１金属膜）２４、絶縁膜２３、および素子第２電極（第２金属膜）２２、２５からなるサンドイッチ構成を備えている。したがって、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、第１金属膜２４および第２金属膜２５の両端子間に印加されると導通状態となり、半透過反射型液晶表示装置２００を効率的に駆動することができる。なお、二端子型の非線形素子であるＴＦＤ素子のかわりに、ＴＦＴ素子等の三端子型の非線形素子を形成することもできる。
次いで、ガラス板等からなる第２の基体２７上に、透明電極２６や配向膜２２４を順次に積層することにより、第２の基板としての素子基板１４を製造することができる。そして、第２の基体２７は、カラーフィルタ基板１３における第１の基体１３の外形よりも外側に張り出した基板張出部１４Ｔを有しており、この基板張出部１４Ｔ上には、透明電極２６や、その延長線としての複数の配線パターンからなる入力端子部２１９が形成されている。したがって、基板張出部１４Ｔ上には、入力端子部２１９等に対して電気接続されるように、駆動回路等を内蔵した半導体素子２６１や、フレキシブル配線基板１１０が実装されている。
【００５５】
２．組立工程
また、図１４に示すフロー図における組立工程は、ガラス板や透明合成樹脂板等を第１の基体１３とするカラーフィルタ基板１２と、これに対向して、実質的に同様の構成を第２の基体２７とする素子基板１４とを、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせる工程である。
より具体的には、図１４に示すフロー図に示されるように、カラーフィルタ基板１２および素子基板１４のいずれか一方、あるいは両方に、シール材２３０を塗布し（ＳＴ３）、さらに位置ずれ防止部材としての紫外線硬化性接着剤を塗布する（ＳＴ４）。次いで、カラーフィルタ基板１２および素子基板１４の位置合わせを行い（ＳＴ５）、仮圧着して、シール材２３０により仮固定する（ＳＴ６）。次いで、紫外線を照射して、位置ずれ防止部材としての紫外線硬化性接着剤を硬化させた後（ＳＴ７）、本圧着して、シール材２３０により両基板を固定する（ＳＴ８）。
【００５６】
また、図１４中のフロー図の後工程（ＳＴ９）として示すが、カラーフィルタ基板１２と、素子基板１４とが貼り合わせられて形成される空間であって、シール材２３０の内側部分に、開口部２３０ａを介して液晶２３２を注入する。その後、かかる開口部２３０ａを封止材２３１にて封止し、半透過反射型液晶表示装置２００が組み立てられることになる。
さらに、図１４中のフロー図の後工程（ＳＴ９）に含めることができるが、カラーフィルタ基板１２における第１の基体１３の外側に、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１を配置し、同様に、素子基板１４における第２の基体２７の外側に、位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１を配置して、半透過反射型液晶表示装置２００における画像表示動作が可能となる。
なお、かかる半透過反射型液晶表示装置２００には、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けて、構成することができる。
【００５７】
すなわち、以上のようにして組み立てられた電気光学装置としての半透過反射型液晶表示装置２００は、使用するカラーフィルタ基板１２の製造工程において、第１の凹凸パターン１１２上や間隙に、さらに第２の凹凸パターン１１３を形成することによって、微細な複合構造を有する凹凸パターン１１２、１１３を容易かつ精度良く形成することができ、さらにその上に均一に光反射膜１１６を形成することができる。
よって、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を利用した電気光学装置を効率的に製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明によれば、第１の凹凸パターン上や間隙に、さらに第２の凹凸パターンを形成することによって、微細な複合構造を有する凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができ、さらにその上に光反射膜を均一に形成することにより、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板、それを利用した電気光学装置をそれぞれ効率的に製造することができる。なお、上述の各実施例においては、３種類以上の異なる形状の凹凸を備えた樹脂層であっても良い。この場合、更に平坦部の領域の割合が小さくなるのでより光散乱性が向上する。さらに、上述の各実施例においては、樹脂層の凸部の頂上および凹部の底部以外の部分、つまり、頂上と底部との間の部分に、第２の凸部または凹部を設けても良い。この場合、凹凸部がランダムに配置されることになるので、光散乱性が向上する。
したがって、電気光学物質を用いた電気光学装置や電子機器として、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器や、電子放出素子を使用した装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）、プラズマディスプレイ装置、有機エレクトロルミネッセンス装置および無機エレクトロルミネッセンス装置などに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明に係る電気光学装置用基板の製造工程のフロー図である。
【図２】本発明に係る電気光学装置用基板の製造工程を視覚的に説明するために供する図である（その１）。
【図３】本発明に係る電気光学装置用基板の製造工程を視覚的に説明するために供する図である（その２）。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ凹凸パターン（凹状の楕円形状）を説明するために供する図である（その１）。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ別の凹凸パターン（凹状の円錐形状）を説明するために供する図である（その２）。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ別の凹凸パターン（凹状の角錐形状）を説明するために供する図である（その３）。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ別の凹凸パターン（凸状の液滴形状）を説明するために供する図である（その４）。
【図８】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ第１の凹凸パターンと、第２の凹凸パターンとの組み合わせを説明するために供する図である（その１）。
【図９】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ第１の凹凸パターンと、第２の凹凸パターンとの組み合わせを説明するために供する図である（その２）。
【図１０】本発明に係る半透過反射型液晶表示装置を模式的に示す斜視図である。
【図１１】本発明に係る半透過反射型液晶表示装置を模式的に示す概略断面図である。
【図１２】本発明の電子光学装置を備えた電子機器の概略構成を説明するために供する図である。
【図１３】本発明の電子光学装置を備えた電子機器の概略構成を説明するために供する図である。
【図１４】本発明の電子光学装置の製造工程のフロー図である。
【図１５】ＴＦＤ素子の構成を説明するために供する図である。
【図１６】（ａ）〜（ｅ）は、それぞれ従来の電気光学装置用基板の製造工程を説明するために供する図である（その１）。
【図１７】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ従来の電気光学装置用基板の製造工程を説明するために供する図である（その２）。
【図１８】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ従来の電気光学装置用基板の製造工程に使用される中間調フォトマスク等を説明するために供する図である。
【符号の説明】
【００６０】
１２：第１の基板、１３：第１の基体、１４：第２の基板、１８：ブラックマトリクス、１９：第１の透明電極（走査電極）、２０：第２の透明電極（画素電極）、２２・２５：素子第２電極（第２金属膜）、２３：絶縁膜、２４：素子第１電極（第１金属膜）、２６：電気配線（データ電極）、２７：第２の基体、３１ａ：第１のＴＦＤ素子、３１ｂ：第２のＴＦＤ素子、１０７：樹脂層、１０７´：パターン露光した樹脂層、１１０：フレキシブル配線基板、１２０：現像液、１１２：凹凸パターン、１１６、２１２：光反射膜、１１９：フォトマスク、１３０：ノズル、１３０ａ：噴出口、１３２：ノズルの駆動装置、１４０：基板の駆動装置、２００：半透過反射型液晶表示装置、２１２ａ：開口部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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