(57)【要約】【課題】被処理物の部分洗浄処理と全体洗浄処理を行なえるようにする。【解決手段】プラズマ装置本体２７に、プロセスガスが両電極の間に送り込まれる一対の対向電極３と、その対向電極３によって作られたプラズマを搬送装置３９によって移動する被処理物７に対して吹き出す幅の狭い長孔状に形成されたプラズマ吹出口９とを設ける。一方、前記プラズマ装置本体２７は、中心垂直軸線Ｐを中心として前記プラズマ吹出口９の長手方向の向きが平面からみた時に搬送方向に対して平行な状態から直交し合う状態まで所定角度変化するよう回動自在に固定支持し、プラズマ吹出口９を最小の洗浄処理幅から最大の洗浄処理幅まで切換可能とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ装置本体に、プロセスガスが両電極の間に送り込まれる一対の対向電極と、その対向電極によって作られたプラズマを搬送装置によって移動する被処理物に対して吹き出す幅の狭い長孔状に形成されたプラズマ吹出口とを有し、前記プラズマ装置本体は、中心垂直軸線を中心として前記プラズマ吹出口の長手方向の向きが平面からみた時に搬送方向に対して平行な状態から直交し合う状態まで所定角度変化するよう回動自在に固定支持されていることを特徴とするプラズマ洗浄処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマ洗浄処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にプラズマ洗浄は、地球に悪影響を与えるとされるフロンを用いたフロン洗浄処理にかわって近年にわかに脚光を浴びるようになっているもので、エレクトロニクス分野を始め、多くの分野にわたって用いられ、被処理物の表面に付着した汚染物質を除去したり、表面を活性化して濡れ性を向上させる等の目的に使用されるようになっている。
【０００３】
プラズマ洗浄処理の概要は、対向電極間にプラズマを発生させ、発生したプラズマを利用して洗浄処理する。洗浄処理手段としては被処理物を対向電極の間を通過させるカセットタイプの外に、発生したプラズマを被処理物の上から噴射させる噴射タイプがある。
【０００４】
プラズマ中にはイオン、電子、ラジカル、紫外線が存在し、これらが被処理物に対してエッチング（マイクロ単位で削る）作用又はアッシュレート（燃焼、剥離）作用することで汚れの除去処理が行なわれるようになっている。
【特許文献１】特開２００５−７２４９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
噴射タイプの洗浄処理にあっては、搬送手段によって移動する被処理物に対してプラズマを噴射するところから、全体の洗浄処理が前提となっている。このために、被処理物によっては洗浄処理が行えないものがでてくる。
【０００６】
例えば、携帯電話表面の表示パネル面のように、前面にわたって液晶の表示機器が組込まれたものについてはその表示機能に悪影響を与えるようになるため使用できない。特に、携帯電話表面の表示パネル面の端部領域は、例えば、信号線を樹脂のタブ形状にして溶着させて接続する接続領域となっている。この接続領域は配線作業にあたって接着性（ボンデング性）が良くなるよう油分等の汚れのないことが求められるが、このような場合、部分洗浄処理となるため噴射タイプのプラズマ洗浄処理装置にあっては使用できない不具合があった。
【０００７】
そこで、本発明にあっては、被処理物の部分洗浄処理を始めとして全体の洗浄処理を可能としたプラズマ洗浄処理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するために、本発明にあっては、プラズマ装置本体に、プロセスガスが両電極の間に送り込まれる一対の対向電極と、その対向電極によって作られたプラズマを搬送装置によって移動する被処理物に対して吹き出す幅の狭い長孔状に形成されたプラズマ吹出口とを有し、前記プラズマ装置本体は、中心垂直軸線を中心として前記プラズマ吹出口の長手方向の向きが平面からみた時に搬送方向に対して平行な状態から直交し合う状態まで所定角度変化するよう回動自在に固定支持されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のプラズマ洗浄処理装置によれば、プラズマ吹出口の長手方向の向きを、平面からみた時に搬送方向に対して平行な状態にセットすることで被処理物は一部分のみにプラズマが当る状態で通過する。この結果、被処理物の一部分のみを洗浄処理する洗浄処理幅が最小となる部分洗浄処理を行なうことができる。以下、プラズマ吹出口の向きを搬送方向と平行な状態から所定角度回動させることで、洗浄処理幅を最小の状態から順次大きくした部分洗浄処理を行なうことができる。
【００１０】
一方、プラズマ吹出口の長手方向の向きを、平面からみた時に搬送方向に対して直交する状態にセットすることで被処理物は全体にわたってプラズマが当る状態で通過する。この結果、被処理物全体を洗浄処理する洗浄処理幅が最大となる全体洗浄処理を行なうことが可能となり、被処理物の部分洗浄処理と全体洗浄処理を行なうことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明は、被処理物の部分洗浄処理から全体洗浄処理までを行なうという目的を、幅の狭い長孔状に形成されたプラズマ吹出口を有するプラズマ装置本体を回動自在に固定支持することで達成できるようにした。
【実施例】
【００１２】
以下、図１乃至図８に基づき本発明の実施形態について具体的に説明する。
【００１３】
図３は本発明にかかる噴射タイプのプラズマ洗浄処理装置全体を示した概要切断説明図を示している。プラズマ洗浄処理装置１は、一対の対向電極３と、その対向電極３間にプロセスガスを供給するプロセスガス供給手段５と、前記対向電極３によって作られるプラズマを被処理物７へ向けて噴射するプラズマ吹出口９とを有している。
【００１４】
一対の対向電極３は、第１電極ユニット１１と第２電極ユニット１３とからなり、第１電極ユニット１１は、材質が石英ガラス又はセラミック等で作られたプレート状の誘導体１５にアルミ等の材質で作られた電界印加電極１７が設けられた構造となっている。
【００１５】
電界印加電極１７は、プラズマ発生用電源１９によって高周波が印加されるようになっている。
【００１６】
高周波としては、５０ｋＭz〜２７．１２ＭＨzのサイン波が好ましいが、パルス波であってもよい。
【００１７】
第２電極ユニット１３は、材質が石英ガラス又はセラミック等で作られたプレート状の誘導体２１にアルミ等の材質で作られた接地電極２３が設けられ、接地された構造となっている。
【００１８】
電界印加電極１７及び接地電極２３は、冷却水が流れる冷却路２５がそれぞれ設けられた水冷式となっていて、絶縁支持部材によって取囲まれたプラズマ装置本体２７内に配置されている。
【００１９】
電界印加電極１７の誘導体１５と接地電極２３の誘導体２１は上下方向に連続し合うプラズマ空間２９が作られると共に上方はプロセスガスが送り込まれる供給部３１、下方はプラズマ吹出口９となっている。
【００２０】
供給部３１は、回転可能なエルボ管に接続された可撓性の供給管３５を介してプロセスガス供給部５と接続連通し、途中に設けられた制御バルブ３７の開又は閉によってプロセスガスの供給及び遮断制御が可能となっている。
【００２１】
プロセスガスとしては、酸素、アルゴン、窒素、水素等があり、それらを単独で使用したり、あるいは、組合せた混合ガスとして用いることも可能である。
【００２２】
プラズマ吹出口９は、幅の狭い長孔状に形成され搬送装置３９によって図７、図８に示すように搬送される被処理物７に対して供給部３１からの供給圧と相俟って生成されたプラズマを上方からスリット状に吹出すようになっている。プラズマ吹出口９の長さＬは、被処理物７の全体の長さより大きく設定され、プラズマ吹出口９の向きが搬送方向（矢印）に対して直交し合う状態（図８）の時、被処理物全面にわたってプラズマが当るようになっている。
【００２３】
搬送装置３９は、駆動輪と従動輪（いずれも図示していない）とにエンドレスに掛け回された搬送チェーン４１に被処理物７を１つずつセットするセットプレート４３が所定の間隔で設けられた構造となっている。
【００２４】
セットプレート４３は、図６に示すように例えば、部分洗浄処理を行なう部分洗浄処理セット部４５ａと、全体洗浄処理を行なう全体洗浄処理セット部４５ｂとを有している。
【００２５】
部分洗浄処理セット部４５ａは、横長のプラズマ吹出口９に対して被処理物７の端部が望む位置にセットされるようになっている。全体洗浄処理セット部４５ｂは横長のプラズマ吹出口９に対して被処理物７のほぼ中央部位が臨む位置にセットされ、プラズマ吹出口９の向きが搬送方向（図８矢印）に対して直交し合う状態の時、プラズマ吹出口９の長さＬ内に被処理物７全体が収まるよう設定されている。
【００２６】
この実施形態の場合、セットプレート４３に２つの各セット部４５ａ，４５ｂを設けるようにしたが、セットプレート４３の上に部分洗浄処理位置と全体洗浄処理位置の２態様にスライド切替可能な可動プレート（図示していない）を設けることで対応するようにしてもよい。
【００２７】
一方、プラズマ吹出口９を有するプラズマ装置本体２７は、中心垂直軸線Ｐを中心として前記プラズマ吹出口９の長手方向の向きが平面からみた時に搬送方向（図１矢印）に対して平行な状態（点線）から直交し合う状態（二点鎖線）まで略９０度の範囲内において回動自在に固定支持されるようになっている。
【００２８】
プラズマ装置本体２７を略９０度の範囲内で回動自在に固定支持する手段としては手動タイプ、動力タイプ等があるが、ここではその代表例として手動タイプについて具体的に説明する。
【００２９】
図４と図５はその具体例を示したもので、平行な固定フレーム４７に対して両端支持されたプレート状の装置本体支持部材４９が一体に固定支持されている。装置本体支持部材４９はプラズマ装置本体２７から左右に延長された支持ブラケット５１、５１を支持する支持機能を備え、中央部位にはプラズマ装置本体２７が配置される開口孔５３と、その開口孔５３の中心垂直軸線Ｐを中心とする円弧状に形成された一対のガイド溝５５がそれぞれ設けられている。
【００３０】
ガイド溝５５は、一端５５ａが搬送方向（矢印）となる搬送軸線Ｘ上に臨むと共に、他端５５ｂが搬送方向（矢印）と直交する直交軸線Ｙ上にそれぞれ臨む形状に作られている。各ガイド溝５５にはプラズマ装置本体２７の支持ブラケット５１に設けられた取付孔５７を貫通した調節ボルト５９が挿入され、そのねじ部にはナット６１が螺合している。したがって、ナット６１を弛めることで略９０度の範囲内においてプラズマ装置本体２７の回動が可能となり、プラズマ吹出口９の向きを搬送方向（図１矢印）と平行な状態（点線）から直交し合う状態（図２）まで切換え制御することが可能となっている。
【００３１】
このように構成されたプラズマ洗浄処理装置１において、部分洗浄処理を行なうには、図７に示すように予めプラズマ装置本体２７を回動させてプラズマ吹出口９の向きを搬送方向（矢印）と平行となるようにセットした後、部分洗浄処理セット部４５ａに被処理物７をセットし、セットプレート４３を移動させる。と同時に搬送方向（矢印）と平行にプラズマ吹出口９からスリット状にプラズマを噴射する。これにより、被処理物７の一部分を洗浄処理する部分洗浄処理を行なうことができる。この場合、プラズマ吹出口の向きを搬送方向と平行な位置から直交する方向へ向かって所定角度回動させることで、図１（ｂ）（ｃ）に示すように最小の洗浄処理幅ｄ１からｄ２にまで部分洗浄する洗浄処理幅を拡げることが可能となる。
【００３２】
次に、全体洗浄処理を行なうには図８に示すようにプラズマ装置本体２７を回動させてプラズマ吹出口９の向きを搬送方向（矢印）と直交するようセットした後、全体洗浄処理セット部４５ｂに被処理物７をセットし、セットプレート４３を移動させる。と同時に搬送方向（矢印）と直交し合うようにプラズマ吹出口９からスリット状にプラズマを噴射する。この時、図２（ｂ）に示すように洗浄処理幅ｄ３は最大となる。これにより、移動する被処理物７は先端から後端へ向かって順々にプラズマを浴びるようになり、被処理物７の全体洗浄処理を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明にかかるプラズマ洗浄処理装置のプラズマ吹出口の向きを平面からみた時に搬送方向に対して平行な状態を示した概要説明図。
【図２】プラズマ洗浄処理装置のプラズマ吹出口の向きを平面からみた時に搬送方向に対して直交する状態を示した概要説明図。
【図３】プラズマ洗浄処理装置の全体を示した概要切断説明図。
【図４】プラズマ装置本体の概要斜視図。
【図５】プラズマ装置本体を回動自在に支持する装置本体支持部材を平面からみた概要説明図。
【図６】搬送装置のセットプレートを平面からみた概要説明図。
【図７】被処理物の部分洗浄処理の状態を示した概要説明図。
【図８】被処理物の全体洗浄処理の状態を示した概要説明図。
【符号の説明】
【００３４】
３    対向電極
５    プロセスガス供給手段
７    被処理物
９    プラズマ吹出口
１１    第１電極ユニット
１３    第２電極ユニット
２７    プラズマ装置本体
３１    供給部
３９    搬送装置
４３    セットプレート
４７    固定フレーム
４９    装置本体支持部材
５１    支持ブラケット
５５    ガイド溝
５９    調節ボルト
６１    ナット
Ｐ    中心垂直軸線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2006320864.tif 000008
【図７】
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【図８】
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