(57)【要約】【課題】  色変換フィルタ層の膜厚を均一に形成し、安定した発光特性を維持する、見映えのよいカラー有機ＥＬディスプレイを提供する。【解決手段】  透明支持基板と、前記透明支持基板上に設けられた、３種以上の色変換フィルタ層を少なくとも有する色変換フィルタ基板において、前記色変換フィルタ層が、色の数をｎとしたとき、２（ｎ−１）個のサブピクセルで１つの画素を構成し、１つの色以外の各色はその色のサブピクセルは１画素あたり１サブピクセルであり、当該１つの色はその色のサブピクセルが互いに隣接することなく、一方の端及び他の色のサブピクセル１つを間に挟んだ位置で配置されていることを特徴とする色変換フィルタ基板、有機ＥＬディスプレイおよびそれらの製造方法。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持基板と、前記透明支持基板上に設けられた、３種以上の色変換フィルタ層を少なくとも有する色変換フィルタ基板において、前記色変換フィルタ層が、色の数をｎとしたとき、２（ｎ−１）個のサブピクセルで１つの画素を構成し、１つの色以外の各色はその色のサブピクセルは１画素あたり１サブピクセルであり、当該１つの色はその色のサブピクセルが互いに隣接することなく、一方の端及び他の色のサブピクセル１つを間に挟んだ位置で配置されていることを特徴とする色変換フィルタ基板。
【請求項２】
色変換フィルタ層が赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）の３色からなり、１つの画素を構成するサブピクセルの数が４であることを特徴とする請求項１記載の色変換フィルタ基板。
【請求項３】
前記当該１つの色が赤であることを特徴とする請求項１または２記載の色変換フィルタ基板。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項記載の色変換フィルタ基板と、少なくとも透明電極、と反射電極に狭持された有機ＥＬ層からなる有機ＥＬ素子とを有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項５】
透明支持基板と、前記透明支持基板上に設けられた、３種以上の色変換フィルタ層を少なくとも有する色変換フィルタ基板の製造方法において、前記色変換フィルタ層が、色の数をｎとしたとき、２（ｎ−１）個のサブピクセルで１つの画素を構成し、１つの色以外の各色はその色のサブピクセルは１画素あたり１サブピクセルであり、当該１つの色はその色のサブピクセルが互いに隣接することなく、一方の端及び他の色のサブピクセル１つを間に挟んだ位置に配置されている色変換フィルタ層の形成にあたって、当該１つの色以外の色のサブピクセルを間に１つのサブピクセルが形成される領域を空けて順次形成した後、最後に当該１つの色のサブピクセルを形成することを特徴とする色変換フィルタ基板の製造方法。
【請求項６】
色変換フィルタ層が赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）の３色からなり、１つの画素を構成するサブピクセルの数が４であることを特徴とする請求項５記載の色変換フィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
前記当該１つの色が赤であることを特徴とする請求項５または６記載の色変換フィルタ基板の製造方法。
【請求項８】
請求項５から７のいずれかに記載の製造方法により製造された色変換フィルタ基板上に、少なくとも透明電極、有機ＥＬ層および反射電極を順次積層することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項９】
請求項５から７のいずれかに記載の製造方法により製造された色変換フィルタ基板と、持基板上に少なくとも反射電極、有機ＥＬ層および透明電極が順次積層されている有機ＥＬ素子とを貼り合わせることを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は色変換フィルタ基板、有機ＥＬディスプレイ及びそれらの製造方法に関し、より詳細には、高精細で、耐環境性および生産性に優れた多色表示を可能とする色変換フィルタ基板、当該色変換フィルタ基板を具備する多色表示の有機ＥＬディスプレイ及びそれらの製造方法に関する。この有機ＥＬディスプレイはイメージセンサー、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、テレビ、ファクシミリ、オーディオ、ビデオ、カーナビゲーション、電気卓上計算機、電話機、携帯端末機ならびに産業用計測器等の表示用に好適である。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報の多様化が進んでいる。その中で固体撮像素子をはじめとして、情報分野における表示デバイスは「美・軽・薄・優」が求められ、さらに低消費電力・高速応答に向けて活発な開発が進められている。表示デバイスとしては、高精細なフルカラー表示デバイスが求められている。
【０００３】
液晶表示素子等に対して視野角依存性および高速応答性などに優れた、下記の特徴を有する、有機分子の薄膜積層構造を有し、印加電圧１０Ｖで、１０００ｃｄ／ｍ2以上の高輝度で発光する積層型有機エレクトロルミネセンス（以下、有機ＥＬと称する）素子が、Tangらによって報告されて以来、有機ＥＬ素子は実用化に向けての研究が活発に行われている（非特許文献１参照）。また、有機高分子材料を用いた同様の素子も活発に開発が進められている。
【０００４】
有機ＥＬ素子は低電圧で高い電流密度が実現できるため、無機ＥＬ素子またはＬＥＤと比較して高い発光輝度および発光効率が期待できる。また、表示素子としては、（１）高輝度および高コントラスト、（２）低電圧駆動と高い発光効率、（３）高解像度、（４）広視野角、（５）高応答速度、（６）微細化およびカラー化、（７）軽さおよび薄さ等の優れた特徴を有している。以上の点から、「美・軽・薄・優」なフラットパネルディスプレイへの応用が期待されている。
【０００５】
パイオニア社によって、車搭載用の緑色モノクロ有機ＥＬディスプレイが１９９７年１１月にすでに製品化されて以来、多様化する社会のニーズに応えるべく、長期安定性および高速応答性を有し、多色表示または高精細なフルカラー表示が可能な有機ＥＬディスプレイの実用化が急がれている。
【０００６】
有機ＥＬディスプレイのマルチカラー化またはフルカラー化の方法の一例は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の発光体をマトリクス状に分離配置し、それぞれ発光させる方法である（特許文献１〜３参照）。有機ＥＬ素子を用いてカラー化する場合、ＲＧＢの３種の発光材料をマトリクス上に高精細に配置しなくてはならないため、技術的に困難であり、および安価で製造することができない。加えて、３種の発光材料の寿命（輝度変化特性）がそれぞれ異なるために、長期間にわたる使用により色度がずれてしまうなどの欠点を有する。
【０００７】
また、白色で発光するバックライトにカラーフィルタを用い、３原色を透過させる方法（たとえば、特許文献４〜６参照）が知られているが、高輝度のＲＧＢ光を得るために必要な長寿命かつ高輝度の白色発光の有機ＥＬ素子は、未だ得られていない。
【０００８】
あるいはまた、発光体の発光を平面的に分離配置した蛍光体に吸収させ、それぞれの蛍光体から多色の蛍光を発光させる方法も知られている（特許文献７参照）。ここで、蛍光体を用いて、ある発光体から多色の蛍光を発光させる方法は、ＣＲＴ、プラズマディスプレイらの応用に実績を有している。
【０００９】
また、近年では有機ＥＬ素子の発光域の光を吸収し、可視光域の蛍光を発光する蛍光材料をフィルタに用いる色変換方式が検討されてきている（たとえば、特許文献７および８参照）。有機ＥＬ素子の発光色は白色に限定されないため、より輝度の高い有機ＥＬ素子を光源に適用することができ、青色発光の有機ＥＬ素子を用いた色変換方式においては、青色光を緑色光および赤色光に波長変換している（たとえば、特許文献７、ならびに特許文献９および１０参照）。このような蛍光色素を含む色変換層を高精細にパターニングすれば、発光体の近紫外光ないし可視光のような弱いエネルギー線を用いても、フルカラーの発光型ディスプレイを構築できる。以下、フィルタ層及び/または色変換層を合わせて色変換フィルタ層という。色変換フィルタ層はカラーフィルタ層あるいは色変換層のみからなっていてもよく、フィルタ層と色変換層の積層体であってもよい。
【００１０】
色変換フィルタ層のパターニングの方法としては、（１）無機蛍光体の場合と同様に、蛍光色素等を液状のレジスト（光反応性ポリマー）中に分散させ、該分散物をスピンコート法などを用いて成膜した後に、フォトリソグラフィ法にてパターニングする方法（特許文献８および１１参照）、あるいは（２）塩基性のマトリクス中に蛍光色素を分散させ、酸性水溶液を用いて該分散物をエッチングする方法（特許文献１０参照）などがある。
【００１１】
【特許文献１】特開昭５７−１５７４８７号公報
【特許文献２】特開昭５８−１４７９８９号公報
【特許文献３】特開平３−２１４５９３号公報
【特許文献４】特開平１−３１５９８８号公報
【特許文献５】特開平２−２７３４９６号公報
【特許文献６】特開平３−１９４８８５号公報
【特許文献７】特開平３−１５２８９７号公報
【特許文献８】特開平５−２５８８６０号公報
【特許文献９】特開平８−２８６０３３号公報
【特許文献１０】特開平９−２０８９４４号公報
【非特許文献１】C. W. Tang, S. A. VanSlike, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
すなわち、従来技術においては、図１に示すように、ＲＧＢの一色の色変換フィルタ層を成膜し、パターニングした後に、ＲＧＢの他の一色の色変換フィルタ層を成膜、パターニングし、次いで残りの一色の色変換フィルタ層を成膜、パターニングしている。
【００１３】
しかし、その色変換フィルタ層は５〜１５μｍと厚く、図１−２、図１−３に示すように、２番目以降に形成する色変換フィルタ層は、先にその近傍に形成されている他の色の色変換フィルタ層の影響を受け、膜厚を均一に形成できない。また、その断面形状も一方の端が厚くなって、左右不均一な膜厚となりやすい。
【００１４】
このため、膜厚変動が生じても変換効率がほぼ一定になるように色変換フィルタ層を厚めに形成しているが、このことによりさらに段差が大きくなるため、さらに膜厚不均一となる膜厚変動を助長することになり、また、色変換層を被覆し、透明かつ平坦に形成される高分子平坦化膜の形成を難しくしている。
【００１５】
上述の膜厚不均一となる膜厚変動が生じると、不均一な膜厚により生じた傾斜によって、外光の反射が角度及び色によって異なってくる。結果としてディスプレイに光が当たったときに角度によって異なる色が反射し、パネルが一見着色しているように見え、パネルの見映えについて大きな問題を生じる。
【００１６】
本発明は上述の問題に鑑みなされたものであり、色変換フィルタ層の膜厚を均一に形成し、さらにその色変換フィルタ層を被覆する高分子平坦化膜の形成を容易にし、安定した発光特性を維持する、見映えのよいカラー有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の色変換フィルタ基板は、透明支持基板と、前記透明支持基板上に設けられた３種以上の色変換フィルタ層を少なくとも有する色変換フィルタ基板において、前記色変換フィルタ層が、色の数をｎとしたとき、２（ｎ−１）個のサブピクセルで１つの画素を構成し、１つの色以外の各色はその色のサブピクセルは１画素あたり１サブピクセルであり、当該１つの色はその色のサブピクセルが互いに隣接することなく、一方の端及び他の色のサブピクセル１つを間に挟んだ位置で配置されていることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイは、色変換フィルタ基板と、少なくとも透明電極、と反射電極に狭持された有機ＥＬ層からなる有機ＥＬ素子とを有することを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の色変換フィルタ基板の製造方法は、透明支持基板と、前記透明支持基板上に設けられた、３種以上の色変換フィルタ層を少なくとも有する色変換フィルタ基板の製造方法において、前記色変換フィルタ層が、色の数をｎとしたとき、２（ｎ-１）個のサブピクセルで１つの画素を構成し、１つの色以外の各色はその色のサブピクセルは１画素あたり１サブピクセルであり、当該１つの色はその色のサブピクセルが互いに隣接することなく、一方の端及び他の色のサブピクセル１つを間に挟んだ位置に配置されている色変換フィルタ層の形成にあたって、当該１つの色以外の色のサブピクセルを間に１つのサブピクセルが形成される領域を空けて順次形成した後、最後に当該１つの色のサブピクセルを形成することを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、上記製造方法により製造された色変換フィルタ基板上に、少なくとも透明電極、有機ＥＬ層および反射電極を順次積層することを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の他の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、上記製造方法により製造された色変換フィルタ基板と、持基板上に少なくとも反射電極、有機ＥＬ層および透明電極が順次積層されている有機ＥＬ素子とを貼り合わせることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、本発明は上述の問題に鑑みなされたものであり、色変換フィルタ層の膜厚を均一に形成し、さらにその色変換フィルタ層を被覆する高分子平坦化膜の形成を容易にし、安定した発光特性を維持する、見映えのよいカラー有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの一例を、図２に示す。この有機ＥＬディスプレイパネルは色変換フィルタ基板２０のガスバリア層６の上に有機ＥＬ発光素子３０が積層されている。図２においては色変換方式のマルチカラーまたはフルカラーディスプレイとして使用するために、複数の画素を有する有機多色ディスプレイの、１つの画素に相当する部分および隣接する画素の一部分を示している。
【００２４】
図２において、色変換フィルタ基板２０は、透明支持基板１上に、所定のパターンを有する赤色変換フィルタ層２、緑色変換フィルタ層３および青色変換フィルタ層４が形成され、それら３種の色変換フィルタ層が一組となってマトリクス状に配置されている。色変換フィルタ層を覆って、その上面を平坦化する高分子平坦化膜５が形成され、高分子平坦化膜５の上にガスバリア層６が形成されている。ガスバリア層６の上表面は平坦である。
【００２５】
図２の有機ＥＬ発光素子は、色変換フィルタ基板２０のガスバリア層６上の各色変換フィルタ層２、３および４に対応する位置に透明電極（第１電極）７が設けられ、その上に正孔注入層８、正孔輸送層９、有機発光層１０、電子注入層１１及び反射電極（第２電極）１２が順次積層されている。以下、各層について詳細に述べる。
【００２６】
Ａ．色変換フィルタ基板
１．色変換フィルタ層
色変換フィルタ層は、カラーフィルタ層、色変換層、またはカラーフィルタ層と色変換層との積層体から構成される。カラーフィルタ層は、色変換の機能を持たず、選択される範囲の波長の光を透過させて、出力される光の色純度を向上させる層である。カラーフィルタ層と色変換層との積層体を使用する場合、通常は透明基板と色変換層との間にカラーフィルタ層が配置される。カラーフィルタ層は、液晶ディスプレイなどにおいて用いられている材料など当該技術において知られている任意の材料を用いて形成することができる。
【００２７】
色変換層は、色変換色素とマトリクス樹脂からなる層である。色変換色素は、入射光の波長分布変換を行って、異なる波長域の光を放射する色素であり、好ましくは有機発光層からの近紫外光または青色〜青緑色の光の波長分布変換を行って、所望の波長域の光（たとえば、青色、緑色または赤色）を放射する色素である。
【００２８】
１）色変換色素
本発明において、色変換色素は、発光体から発せられる近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。好ましくは、少なくとも赤色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上を用い、さらに緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上と組み合わせてもよい。
【００２９】
すなわち、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する有機ＥＬ素子を用いる場合、該素子からの光を単なる赤色フィルタに通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまう。これに対して、該素子からの青色ないし青緑色領域の光を、赤色変換層中の色変換色素によって赤色領域の光に変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となる。したがって、本発明において、赤色変換フィルタ層２は、好ましくは色変換層から構成され、さらに好ましくはカラーフィルタ層と色変換層との積層体から構成される。
【００３０】
一方、緑色領域の光は、赤色領域の光と同様に、該素子からの光を別の色変換色素によって緑色領域の光に変換させて出力してもよい。あるいはまた、該素子の発光が緑色領域の光を十分に含むならば、該素子からの光を単に緑色フィルタを通して出力してもよい。さらに、青色領域の光に関しては、有機ＥＬ素子の光を単なる青色フィルタに通して出力させることが可能である。
【００３１】
発光体から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
【００３２】
発光体から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
【００３３】
なお、本発明に用いる色変換色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機色変換顔料としてもよい。また、これらの色変換色素や有機色変換顔料（本明細書中で、前記２つを合わせて色変換色素と総称する）は単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
本発明に用いる色変換色素は、色変換層に対して、該色変換層の重量を基準として０．０１〜５質量％、より好ましくは０．１〜２質量％含有される。もし色変換色素の含有量が０．０１質量％未満ならば、十分な波長変換を行うことができず、あるいは含有量が５％を越えるならば、濃度消光等の効果により色変換効率の低下をもたらす。
【００３５】
２）マトリクス樹脂
本発明の色変換層に用いられるマトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）を光および／または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものである。また、色変換層のパターニングを行うために、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
【００３６】
具体的には、マトリクス樹脂は、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物膜を光または熱処理して、光ラジカルまたは熱ラジカルを発生させて重合させたもの、（２）ボリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物を光または熱処理により二量化させて架橋したもの、（３）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物膜を光または熱処理してナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、および（４）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物膜を光または熱処理により、酸（カチオン）を発生させて重合させたものなどを含む。特に、（１）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物を重合させたものが好ましい。なぜなら、該組成物は高精細なパターニングが可能であり、および重合した後は耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いからである。
【００３７】
本発明で用いることができる光重合開始剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。本発明の蛍光変換フィルタ層において、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。
【００３８】
２．高分子平坦化膜
高分子平坦化膜５は、色変換フィルタ層の機能を損なうことなく形成することができ、かつ適度な弾力性を有する材料から形成することができる。高分子平坦化膜を構成する材料としては、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、表面硬度が鉛筆硬度２Ｈ以上であり、１００℃以上のＴｇを有し、色変換フィルタ層上に平滑な塗膜を形成することができ、色変換層の機能を低下させないポリマーであればよい。
【００３９】
そのようなポリマー材料の例は、イミド変性シリコーン樹脂、無機金属化合物（ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等）をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料、アクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーの反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化性樹脂／または熱硬化性樹脂を挙げることができる。あるいはまた、ゾル−ゲル法により形成される無機化合物を用いて平坦化層１３を形成してもよい。また、高い熱伝導率を有するメソゲン構造を有するエポキシ樹脂などの光硬化性樹脂を用いて、有機ＥＬ素子から透明基板１方向への熱の放散をはかることもできる。
【００４０】
３．ガスバリア層
高分子平坦化膜５の上に形成されるガスバリア層６は、優れた水分・酸素遮断性を有し、したがって色変換フィルタ層からの水分および酸素の透過を防止するための層である。有機ＥＬ素子からの光を色変換フィルタ層へと透過させるため、ガスバリア層６は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）を有することが好ましい。またガスバリア層６上に電気的に独立した複数の部分からなる透明電極７を形成する必要があるため、ガスバリア層６は少なくともその上面において電気絶縁性を有することが要求される。また、好ましくは、ガスバリア層６は、鉛筆硬度２Ｈ以上の膜硬度を有することが好ましい。
【００４１】
ガスバリア層６は酸化物、窒化物、炭化物、酸窒化物などの無機膜により構成される。また、ガスバリア層６は前記化合物の積層物や混合物であってもよい。ガスバリア層６は、図２に示すように高分子平坦化膜５を完全に覆うように構成されることが好ましい。こうすることによってガスバリア層６形成後に高分子平坦化膜５が大気に触れ、水蒸気等のガスを吸着することを防ぐことができ、有機ＥＬ素子作成後のガスバリア層６自体からの脱ガスを防ぐことができる。
【００４２】
また、ガスバリア層６が無機膜からなるので、水分及び酸素の捕捉性が向上し、色変換フィルタ層から有機ＥＬ素子への水分及び酸素の移行を防止することが可能となる。
【００４３】
この無機膜の膜厚は、前述の可視域における透明性を有する限り厚くすることができるが、通常５０〜３００ｎｍの範囲内である。このような範囲の膜厚を有する膜を形成することによって、可視域における透明性を含む前述の要求特性を満たすと同時に、ピンホールのような欠陥の発生を抑制して、良好なガス（水分および酸素）遮断性を提供することが可能となる。
【００４４】
４．透明支持基板
本発明において、色変換フィルタ基板に用いられる透明支持基板１は、前述の色変換フィルタ層からの光に対して透明であることが必要である。また、積層される層の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、および寸法安定性に優れていることが好ましい。好ましい支持基板１は、ガラス基板、およびポリオレフィン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などの樹脂基板を含む。同様の樹脂からなる可撓性フィルムを、支持基板１として用いてもよい。これらの中では、ホウケイ酸ガラス、青板ガラスが好ましい。
【００４５】
５．色変換フィルタ基板
色変換フィルタ基板は前述の透明支持基板１上に３種以上の色変換層を所望されるパターンに形成されている。すなわち、色の数をｎ（ｎ≧３）としたとき、２（ｎ−１）個のサブピクセルで１つの画素を構成し、１つの色以外の各色はその色のサブピクセルは１画素あたり１サブピクセルのみであり、当該１つの色のみが複数のサブピクセルを占める。
【００４６】
当該１つの色のピクセルは、一方の端から１つおきに配置され、他の色は当該１つの色のピクセルの間または当該１つの色のピクセルが配置された端と反対側の端（他端）に配置されている。
【００４７】
色変換層の色が３種の場合は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）であることが好ましく、４種以上の場合はその他に適宜中間色を用いることができる。以下、３色の場合を例にとりさらに説明する。
【００４８】
本発明において、色変換フィルタ層の所望されるパターン（色の組み合わせ）は、使用される用途に依存する。赤、緑および青のサブピクセル１つずつに、赤、緑、青の任意の１色のサブピクセル１つを加えた矩形または円形の区域（赤・緑・赤・青、赤・緑・青・緑、または赤・青・緑・青）を１画素として、それを透明支持基板１全面に形成してもよい。あるいはまた、赤、緑および青の平行するストライプ（所望される幅を有し、透明支持基板１の長さに相当する長さを有する区域に赤、緑、青の任意の１色のストライプを加えたもの（赤・緑・赤・青、赤・緑・青・緑、または赤・青・緑・青）を一組とし、それを透明支持基板全面に形成してもよい。
【００４９】
本発明においては、特定の色の色変換フィルタ層を他の色の色変換フィルタ層よりも面積的に多く配置することもできる。その面積的に多く配置される色の色変換フィルタ層は１画素当たり複数のサブピクセルを占める色の色変換フィルタ層であることが好ましい。
【００５０】
本発明においては、各色のサブピクセルが上述のように配置されているので、１画素当たり単一のサブピクセルを占める色の色変換フィルタ層を先に順次形成すると、それらの色変換フィルタ層は、隣接する位置に色変換フィルタ層が存在していないので先に形成された他の色変換層の影響をさほど受けることがなく、したがって左右同等の高さの色変換フィルタ層となる。最後に形成される１画素当たり複数のサブピクセルを占める色の色変換フィルタ層は両側にすでに色変換フィルタ層が形成されているので、それらの色変換フィルタ層からほぼ同様に影響を受けるので、やはり左右同等に近い高さの色変換フィルタ層となる。１画素中の端のサブピクセルは隣の画素の端の色変換フィルタ層が隣接して形成されているので、画素の端の色変換フィルタ層も同様に左右同等に近い高さの色変換フィルタ層となる。
【００５１】
現在における色変換材料は赤の発光効率が低いため赤の位置にある有機ＥＬ発光素子の発光を強めるか、赤の開口率を上げる必要がある。しかし、有機ＥＬ発光素子の発光を強めると有機ＥＬ発光素子の劣化を早めることとなるため、開口率による調整が望ましく、本発明においては、前記１画素当たり複数のサブピクセルを占める色を赤とすると、色変換フィルタ層の平坦化と赤の開口率の調整を同時に行うことができるため好ましい。
【００５２】
Ｂ．有機ＥＬディスプレイ
本発明の有機ＥＬディスプレイは、前述の色変換フィルタ基板と、該色変換フィルタ基板のガスバリア層の上に設けられた有機ＥＬ発光素子とを備える。この有機ＥＬディスプレイは有機ＥＬ発光素子を色変換フィルタ基板の上に形成してもよく、あるいは有機ＥＬ発光素子を別途形成した後に、この有機ＥＬ発光素子と色変換フィルタ基板とを重ね合わせてもよい。そしてこの有機ＥＬ発光素子から発せられる近紫外から可視領域の光、好ましくは青色から青緑領域の光を色変換フィルタ層に入射し、色変換フィルタ層から異なる波長の可視光を出射するようにしたものである。
【００５３】
有機ＥＬ発光素子は、少なくとも一対の電極（透明電極と反射電極）の間に有機発光層を把持したものであり、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層および／または電子注入層を介在させた構造を有している。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有している。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。
【００５４】
（１）陽極／有機発光層／陰極
（２）陽極／正孔注入層／有機発光層／陰極
（３）陽極／有機発光層／電子注入層／陰極
（４）陽極／正孔注入層／有機発光層／電子注入層／陰極
（５）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
【００５５】
上記の層構成において、陽極及び陰極の少なくとも一方は、有機ＥＬ発光素子の発する光の波長域において透明であることが望ましく、透明である電極を通して前記色変換フィルタ層に光を入射させる。当該技術において、陽極を透明にすることが容易であることが知られており、本発明においても陽極を透明にすることが好ましい。
【００５６】
陽極は、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸化物）、ＮＥＳＡ膜、Ｓｎ酸化物、Ｉｎ酸化物、ＩＺＯ（Ｉｎ−Ｚｎ酸化物）、Ｚｎ酸化物、Ｚｎ−Ａｌ酸化物、Ｚｎ−Ｇａ酸化物、またはこれらの酸化物に対してＦ、Ｓｂなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて形成することができる。陰極は、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。
【００５７】
透明電極と反射電極とをそれぞれを複数のストライプ形状の部分電極から形成し、透明電極のストライプと反射電極のストライプとが交差する方向（好ましくは直交する方向）に延びるように構成させてもよい。このような構成をとれば、透明電極の部分電極の１つと反射電極の部分電極の１つとを選択して電圧を印加すれば、それらの交差する点に位置する有機発光層が発光するというパッシブマトリクス駆動が可能となる。
【００５８】
また、透明電極または反射電極のいずれかを一体として形成される共通電極とし、他方の電極を複数の部分電極から作製し、該複数の部分電極のそれぞれに対してスイッチング素子（ＴＦＴなど）を１対１で接続する構成を採ることができる。このような構成では、所望する位置に相当するスイッチング素子をオン状態にすることによって該当位置の有機発光層を発光させる、アクティブマトリクス駆動が可能となる。
【００５９】
有機発光層の材料としては、任意の公知の材料を用いることができる。たとえば、青色から青緑色の発光を得るためには、例えば縮合芳香環化合物、環集合化合物、金属錯体（Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体など）、スチリルベンゼン系化合物（４，４’−ビス（ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）など）、ポルフィリン系化合物、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。あるいはまた、ホスト化合物にドーパントを添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成してもよい。ホスト化合物としては、ジスチリルアリーレン系化合物（たとえば出光興産製ＩＤＥ−１２０など）、Ｎ，Ｎ’−ジトリル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルビフェニルアミン（ＴＰＤ）、アルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３）等を用いることができる。ドーパントとしては、ペリレン（青紫色）、クマリン６（青色）、キナクリドン系化合物（青緑色〜緑色）、ルブレン（黄色）、４−ジシアノメチレン−２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−６−メチル−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ、赤色）、白金オクタエチルポルフィリン錯体（ＰｔＯＥＰ、赤色）などを用いることができる。
【００６０】
正孔注入層の材料としては、Ｐｃ類（ＣｕＰｃなどを含む）またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。正孔輸送層は、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料を用いて形成することができる。用いることができる材料は、好ましくは、ＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ＭＴＤＡＰＢ（ｏ−，ｍ−，ｐ−）、ｍ−ＭＴＤＡＴＡなどを含む。
【００６１】
電子注入層の材料としては、Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体、あるいはアルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体などを用いることができる。
【００６２】
次に、本発明の色変換フィルタ基板及び有機ＥＬディスプレイの製造方法について述べる。製造方法についても、色変換フィルタ層の色が赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３種の場合について述べる。また説明の便宜上、１画素中に複数のサブピクセルを占める色変換層の色が赤の場合を例にとり説明する。
【００６３】
本発明においては、支持基板上に緑または青の色変換フィルタ層を形成する。
【００６４】
色変換フィルタ層は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂、色変換色素および添加剤を含有する溶液または分散液を、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて透明基板１１上に塗布して樹脂の層を形成し、そして所望される部分の光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を露光することにより重合させて形成される。所望される部分に露光を行って光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を不溶化させた後に、パターニングを行う。該パターニングは、未露光部分の樹脂を溶解または分散させる有機溶媒またはアルカリ溶液を用いて、未露光部分の樹脂を除去するなどの慣用の方法によって実施することができる。
【００６５】
図３では青色変換フィルタ層４を最初に形成している。基板上には何もないため、この色変換フィルタ層は図３−１に示すように左右の高さは同じとなる。
【００６６】
次いで青色変換フィルタ層４が形成された基板１上に緑色変換フィルタ層３用の塗布液を塗布し（図３−１）、パターニングにより緑色変換フィルタ層３を形成する（図３−２）。同一画素内の青色変換フィルタ層４と隣の画素の青色返還フィルタ層４'はそれぞれ１サブピクセル分離れているので、緑色変換フィルタ層３は青色変換フィルタ層４，４’の影響を大きく受けることなく、また、その影響も左右均等に受けるので図３−２に示すように左右の高さは均等となる。
【００６７】
次いで、青色変換フィルタ層４と緑色変換フィルタ層３が形成された基板１の上に赤色変換フィルタ層２を形成する。赤色変換フィルタ層２は同一画素内の青色変換フィルタ層４と緑色変換フィルタ層３の間及び同一画素内の緑色変換フィルタ層３と隣の画素の青色変換フィルタ層４'の間に形成される（図３−３）。赤色変換フィルタ層２は隣接する青色変換フィルタ層４、４'と緑色変換フィルタ層３の影響を受ける。
【００６８】
青色変換フィルタ層４、４'と緑色変換層３の高さには若干の差がある場合も考えられるが、従来技術におけるように一方の横に他の色の色変換フィルタ層があり、反対側の横のサブピクセルの位置に何もない場合に比べると、両側の色変換フィルタ層からの影響の差は小さく、赤色変換層２の左右の高さはほぼ同等となる。
【００６９】
色変換フィルタ層が形成された基板１の上に、必要に応じて高分子平坦化膜５、ガスバリア層６を形成してもよい。
【００７０】
高分子平坦化膜５を形成する方法には、特に制限はない。たとえば、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、あるいは湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法など）のような慣用の手法により形成することができる。
【００７１】
ガスバリア層６を形成する場合は、高分子平坦化膜５の上に形成する。ガスバリア層６として無機膜を形成する場合は、この無機膜は、蒸着法、スパッタ法（反応性スパッタ法を含む）、化学気相堆積（ＣＶＤ）法を用いて形成することができる。特に酸化物の膜を形成する場合、密着性、膜厚の均質性および生産性の観点から、スパッタ法（反応性スパッタ法を含む）を用いることが好ましい。
【００７２】
こうして得られた色変換フィルタ基板の上に少なくとも透明電極、有機ＥＬ層および反射電極を順次積層することで本発明の有機ＥＬディスプレイを得ることができる。
【００７３】
透明電極は蒸着法、スパッタ法（反応性スパッタ法を含む）または化学気相堆積（ＣＶＤ）法を用いて形成され、好ましくはスパッタ法（反応性スパッタ法を含む）を用いて形成される。
【００７４】
透明電極と反射電極に挟持されて有機発光素子を形成する有機発光層を含む有機ＥＬ層の各層は、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。
【００７５】
反射電極は、用いる材料に依存して、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）、スパッタ、イオンプレーティング、レーザーアブレーションなどの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。複数の部分電極からなる反射電極が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる反射電極を形成してもよいし、あるいは、逆テーパー状の断面形状を有する分離隔壁を用いて複数の部分電極からなる反射電極を形成してもよい。
【００７６】
また、本発明においては、別個の支持基板上に反射電極、有機発光層を含む各層および透明電極を形成した有機ＥＬ素子を、透明電極とガスバリア層とを対向させた状態で色変換フィルタ基板と貼り合わせることによって有機ＥＬディスプレイを形成してもよい。
【００７７】
色変換フィルタ基板と有機ＥＬ素子との貼り合わせは、紫外線硬化型接着剤など当該技術において知られている任意の手段を用いて行うことができる。
【実施例】
【００７８】
以下、本発明の有機ＥＬディスプレイを、図面を参照しながら実施例を用いて説明する。
【００７９】
なお、各実施例及び比較例では画素数６０×８０、画素ピッチ０．３３ｍｍを有するカラー有機ＥＬディスプレイを作製した。
【００８０】
（実施例１）
［青色フィルタ層４の作製］
５０×５０×１．０ｍｍのコーニングガラスに対して、青色フィルタ材料（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製、カラーモザイクＣＢ−７００１）をスピンコート法で塗布した後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施して、線幅９５μｍ、ピッチ３３０μｍ、膜厚１０μｍのラインパターンを有する青色フィルタ層４を得た。
【００８１】
［緑色変換層３の作製］
次に、蛍光色素として、クマリン６（０．７質量部）を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＥＧＭＡ、１２０質量部）中に溶解させた。次に１００質量部の光重合性樹脂ＶＰＡ１００／Ｐ５（商品名、新日鐵化学工業株式会社製、屈折率１．５９）を添加して溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、図３−１に示すように上記の青色フィルタ層４のラインパターンを形成したコーニングガラス上にスピンコート法にて塗布し、フォトリソグラフ法によるパターニングを実施し、線幅９５μｍ、ピッチ３３０μｍ、および膜厚１０μｍの複数のストライプからなる緑色変換層３を形成した（図３−２）。  
【００８２】
色変換フィルタ層の高さは１０μｍあり、色変換フィルタ層の部分とコーニングガラス表面との段差が大きいため、従来技術の１画素が赤、緑、青の３色のサブピクセル１つずつからなるものでは図１−１〜図１−３に示すように、先に形成された色変換フィルタ層による段差の影響で、色変換層の上面が斜めになりやすい。これに対して、本発明においては、緑色変換層が図３−２に示すように隣接する先に形成された青色フィルタ層の中間に位置し、しかも青色変換層から１サブピクセル分離れた位置に形成されるため、青色フィルタ層による段差の影響が左右均等に働くため緑色変換層の膜厚変動が抑えられ、上面が斜めになることはなかった。
【００８３】
［赤色変換層の作製］
蛍光色素として、クマリン６（０．６質量部）、ローダミン６Ｇ（０．３質量部）、ベーシックバイオレット１１（０．３質量部）を、１２０質量部のＰＥＧＭＡ中に溶解させた。次に１００質量部の光重合性樹脂ＶＰＡ１００／Ｐ５を添加して溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を上記の青色フィルタ層及び緑色変換層のラインパターンが形成されているコーニングガラス上にスピンコート法にて塗布し、フォトリソグラフ法によるパターニングを実施し、青色フィルタ層と緑色変換層の間すなわち青色フィルタ層の両側（緑色変換層の両側）に線幅５５μｍ、ピッチ１６５μｍ、膜厚１０μｍのラインパターンを有する赤色変換層を形成した。
【００８４】
従来技術の１画素が赤、緑、青の３色のサブピクセル１つずつからなるものでは図１−３に示すように青色フィルタ層と、青色フィルタ層の影響で膜厚変動を起こした緑色変換層の段差の影響で赤色変換層の膜厚が左右不均一に変動している。これに対して、本発明では、緑色変換層の膜厚変動が抑えられたことにより、青色フィルタ層と緑色変換層の膜厚差が小さくなったため、赤色変換層の膜厚変動も減少した。
【００８５】
［高分子平坦化層の形成］
青色フィルタ層、緑色変換層および赤色変換層が形成された基板の上に、ＵＶ硬化型樹脂（エポキシ変性アクリレート）をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀灯に暴露して色変換フィルタ層の上の平坦化層の最も薄いところの厚みが５μｍになるように平坦化層１３を形成した。この際に、各色の色変換フィルタ層１２のパターンの変形はなく、かつ平坦化層１３の上面は平坦であった。
【００８６】
［ガスバリア層の形成］
次に、ガスバリア層として、室温におけるＲＦマグネトロンスパッタ法によって形成された膜厚３００ｎｍのＳｉＯｘ膜を形成した。この際にスパッタターゲットとしてＳｉを用い、スパッタガスとしてＡｒと酸素との混合ガスを用いた。
【００８７】
［有機ＥＬ素子の作製］
こうして得られた色変換フィルタ基板の上に、図２に示すような、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極の６層構成からなる有機ＥＬ素子を形成した。
【００８８】
まず、色変換フィルタ基板の最上層をなすガスバリア層の上面に、スパッタ法によって透明電極ＩＤＩＸＯ（出光興産株式会社製、インジウムおよび亜鉛の酸化物と酸化インジウムとの混合物）を全面成膜した。次に、レジストとしてＯＦＲＰ−８００（東京応化工業株式会社製）を用いるフォトリソグラフ法にてパターニングを行い、それぞれの青色フィルタ層と緑色変換層の発光部に位置する幅９０μｍおよび赤色変換層の発光部に位置する幅５０μｍ間隙１２．５μｍ、膜厚１００ｎｍの複数のストライプ状部分電極からなる透明電極を形成した。
【００８９】
次いで、透明電極を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層の４層からなる有機ＥＬ層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して、真空槽内圧を１×１０-4Ｐａまで減圧した。正孔注入層として、膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を、正孔輸送層として、膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を、有機発光層として、膜厚３０ｎｍの４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を、そして電子注入層として、膜厚２０ｎｍのトリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）を積層した。
【００９０】
引き続いて、真空を破ることなしに、透明電極のストライプパターンと直交する方向に延びる幅３００μｍおよびピッチ３３０μｍ（ギャップ幅３０μｍ）のストライプパターンが得られるマスクを用いて、膜厚２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（質量比１０／１）を堆積させて複数のストライプ状部分電極からなる反射電極を形成した。
【００９１】
こうして得られた積層体をグローブボックス内乾燥窒素雰囲気下（酸素および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）において、封止ガラス（図示せず）とＵＶ硬化接着剤を用いて封止して、カラー有機ＥＬディスプレイを得た。
【００９２】
得られたカラー有機ＥＬディスプレイを駆動回路に接続、１００ｃｄ／ｃｍ２で画像を表示させた。パネル面に照度２０００ｌｘのキセノンランプで照射を行った際のパネル表示の視認性（色再現性、反射の色づき）を調べた。その結果を表１に示す。
【００９３】
（実施例２）
青色フィルタ層、緑色変換層、赤色変換層の線幅およびピッチをいずれも線幅７５μｍ、ピッチ３３０μｍとし、透明電極の形成において、それぞれの発光部に位置する線幅７０μｍ、間隙１５μｍのストライブパターンとした以外は実施例１と同様にしてカラー有機ＥＬディスプレイを作製した。実施例１と同様にして、得られたカラー有機ＥＬディスプレイを駆動回路に接続、画像を表示させ、キセノンランプで照射時のパネル表示の視認性を調べた。その結果を実施例１の結果とともに表１に示す。
【００９４】
実施例１の場合と同様に、青色フィルタ層の部分とコーニングガラス表面との段差の影響が左右均等であり、緑色変換層の膜厚変動が抑えられた。さらに、赤色変換層の幅が実施例１の場合より広くなっており、左右の青色フィルタ層、緑色変換層に基づく段差の影響がさらに抑えられ、赤色変換層の膜厚変動がさらに減少した。
【００９５】
（比較例１）
１画素が赤、緑、青の３色のサブピクセル１つずつからなる、すなわち、青、緑、赤の平行する３つのストライプを１組とし、線幅１００μｍ、ピッチ３３０μｍ、膜厚１３μｍのラインパターンを形成した以外は、実施例１と同様にして色変換フィルタ層を得た。
【００９６】
得られた色変換フィルタ層は図１−１〜図１−３に示すように、先に形成された青色フィルタ層による段差の影響で、緑色変換層の上面が斜めになっており、また、この影響を受けて、図１−３に示すように赤色変換層の膜厚が左右不均一に変動していた。
【００９７】
この色変換層を用いて、透明電極の形成においては、それぞれの発光部に位置する線幅９０μｍ、間隙２０μｍ、膜厚１００ｎｍのストライプパターンを形成した以外は実施例１と同様にしてカラー有機ＥＬディスプレイを作製した。実施例１と同様にして、得られたカラー有機ＥＬディスプレイを駆動回路に接続、画像を表示させ、キセノンランプで照射時のパネル表示の視認性を調べた。その結果を実施例１，２の結果とともに表１に示す。
【００９８】
【表１】
2006351472.tif 000003
【００９９】
表１から、従来技術である比較例１では色変換フィルタ層の膜厚変動が大きく、キセノンランプ照射時のパネル表示の視認性が劣るのに対し、本発明による実施例１、実施例２では色変換層の膜厚変動が小さく、パネル表示の視認性に優れることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１００】
本発明によれば、色変換フィルタ層の膜厚を均一に形成することができ、安定した発光特性を維持する、見映えのよいカラー有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】従来技術による色変換フィルタ層の形成工程を示す概略断面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬディスプレイの一実施態様を示す概略断面図である。
【図３】本発明による色変換フィルタ層の形成工程を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１  透明基板
２  赤色変換フィルタ層
３  緑色変換フィルタ層
４  青色変換フィルタ層
４’隣の画素の青色変換フィルタ層
５  高分子平坦化膜
６  ガスバリア層
７  透明電極
８  正孔注入層
９  正孔輸送層
１０  有機発光層
１１  電子注入層
１２  反射電極
２０  色変換フィルタ基板
３０  有機ＥＬ素子
【図１】
2006351472.tif 000004
【図２】
2006351472.tif 000005
【図３】
2006351472.tif 000006