(57)【要約】【課題】  基板に形成されるアライメントマークに欠損、不良等が生じているか否かを検査可能なように基板をアライメントする。【解決手段】  基板１の外形を基準として粗位置決めを行い、基板１に形成されるアライメントマークＡ１乃至Ａ４のうち、Ａ１およびＡ２が観察手段Ｃ１およびＣ２に検出できたときには、アライメントマークＡ１およびＡ２を基準として、基板１の回転方向のずれを調整し、各アライメントマークＡ１乃至Ａ４が対応する撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の有効視野の中心に位置するように移動する。この状態において、全てのアライメントマークＡ１乃至Ａ４が検出できるか否かを判定し、アライメントマークに欠損又は不良等が生じているかの検査を行う。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上には３つ以上のアライメントマークが形成され、これらアライメントマークのうち、少なくとも２つのアライメントマークを夫々個別の撮影手段が検出することが可能な位置にまで粗位置決めをする粗位置決めステップと、
前記撮影手段に検出されたアライメントマークを基準として、前記基板の前記撮影手段に対するずれ量を算出して、前記撮影手段に検出されたアライメントマークの位置が前記撮影手段の視野の中心位置と一致するように調整する位置調整ステップと、からなり、
前記位置調整ステップによる位置調整後に前記全てのアライメントマークが前記撮影手段の視野内に入っているか否かを検出することを特徴とするアライメントマーク検査方法。
【請求項２】
前記撮影手段が検出したアライメントマークが３つ以上であったときには、これらアライメントマークのうち最も遠い距離関係にある２つのアライメントマークを基準とすることを特徴とする請求項１記載のアライメントマーク検査方法。
【請求項３】
前記基板の前記撮影手段に対してのずれ量は、前記基準とされた２つのアライメントマークと、これら２つのアライメントマークに対応する２台の撮影手段の視野の中心位置とがなす、Ｘ方向、Ｙ方向およびθ方向の相対位置に基づいて算出されることを特徴とする請求項１記載のアライメントマーク検査方法。
【請求項４】
前記位置調整ステップにおいて、前記基板のθ方向のずれを補正した後に、Ｙ方向またはＸ方向の何れかの方向のずれを補正し、さらに残りの方向のずれを補正することを特徴とする請求項３記載のアライメントマーク検査方法。
【請求項５】
前記基板を載置して、前記基板をＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に移動することが可能なテーブルにより前記各方向のずれが補正されることを特徴とする請求項４記載のアライメントマーク検査方法。
【請求項６】
前記各撮影手段が、相対位置を確保しつつＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に移動することにより前記各方向のずれが補正されることを特徴とする請求項４記載のアライメントマーク検査方法。
【請求項７】
請求項１乃至６記載の何れか１項に記載のアライメントマーク検査方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶のパネル、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）、有機ＥＬ（Electro Luminescence）等の基板に形成されるアライメントマークが欠損しているか否かを検査するアライメントマーク検査方法およびプログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶パネルは、２枚のガラス基板が重ね合わされて構成されるが、例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor）形の液晶パネルは、一方の基板にはＴＦＴ回路パターンが形成され、他方の基板にはカラーフィルタが形成され、これら両基板の間に液晶が封入される。これらＴＦＴ基板およびフィルタ基板には、夫々回路パターンやカラーフィルタ等が形成されるが、例えば回路パターンを形成するときには、フォトマスクを使用してパターンの形成が行われるため、基板とフォトマスクとを厳格にアライメントした状態で回路パターンの形成が行われる。また、ＴＦＴ基板とフィルタ基板とを重ね合わせるときにおいても、厳格にアライメントした状態で重ね合わせが行われる。
【０００３】
以上のように、液晶ディスプレイの製造工程においては、アライメントという作業が極めて重要なものになり、その精度は極めて高いものが要求されるため、高精度なアライメントを実現するために基板上に幾つかのアライメントマークを形成しておき、このアライメントマークを基準として、位置合わせが行われる。かかるアライメントマークは、上述したように、基板間の重ね合わせや回路パターンの形成以外にも、カラーフィルタやＩＣ（Integrated Circuit）回路の接合のためにも使用されるが、各種のアライメントマークは共用されるものもあれば、専用に用いられるものもある。
【０００４】
従って、各種アライメントマークは極めて重要なものであるが、アライメントマークそのものに不良又は欠損が生じると、アライメント自体を行うことができなくなるため、全てのアライメントマークが正確な位置に形成されている必要がある。そこで、液晶パネルの製造工程に入る前段階で、全てのアライメントマークが正確な位置に形成されているかを検査し、必要に応じてアライメントマークのパターン認識を行う必要がある。このため、アライメントマーク検出ステージを設けて、ステージ上に基板を設置した状態で、アライメントマークの検出を行うことが望ましい。ここで、アライメントマークはテレビカメラやＣＣＤカメラ等の撮影手段により検出されるため、各アライメントマークが撮影手段に検出されるように、基板の姿勢を制御しなければならない。しかし、検出ステージ上での基板の姿勢制御は、基板の外形を基準として行われるため、基板の外形寸法にばらつき等があるときには、微細な位置決めをすることができず、粗位置決め状態となる。
【０００５】
ところで、液晶パネルの製造工程においては、高精度なアライメントが行われるため、アライメントマークの認識精度を高めるために、高い拡大率を有する撮影手段を使用してアライメントが行われる。従って、かかる撮影手段を使用してアライメントマーク検出ステージでアライメントマークの検出を行う場合、撮影手段の拡大率が高いため、必然的に観察できる視野が狭くなり、粗位置決めの状態では、基板が撮影手段に対して僅かにずれた場合でも、アライメントマークが撮影手段の視野内に入らないことがある。このため、各アライメントマークが基板に正確に形成されていたとしても、基板の姿勢がずれているためにアライメントマークを検出できないことがある。すなわち、撮影手段がアライメントマークを検出できない要因は、基板の姿勢が撮影手段に対してずれている場合と、アライメントマークそのものが不良又は欠損している場合とが考えられるため、各アライメントマークが基板に正確に形成されていたとしても、基板の姿勢がずれていると、アライメントマークを検出することができないということがある。
【０００６】
従って、検査工程において、基板を撮影手段に対して正しい姿勢に制御した後に、アライメントマークを検出する必要があるが、かかるアライメントマークの検出方法として、基板上に形成されている２つ以上のアライメントマークのうち１つのアライメントマークが検出できているときは、検出されているアライメントマークが撮影手段の視野から外れない範囲内で、基板全体の回転を繰り返し行い、他のアライメントマークを検出するサーチ方法は従来から知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開７−１０８４２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述した特許文献１の発明では、基板上に形成されているアライメントマークのうち、１つのアライメントマークを基準として、他のアライメントマークをサーチしているために、回転および移動を繰り返し行わなくてはならない。特に、上述したように撮影手段は高い拡大率で拡大されるため、非常に狭い範囲内を撮影することになる。従って、上述した特許文献１における１回あたりの回転角は極めて小さいものになり、アライメントマークが撮影手段から離れていた場合、アライメントマークが検出できる位置にまで姿勢を制御するために基板の回転および移動を繰り返して行わなければならず、タイムロスの問題が依然として大きい。
【０００８】
そこで、本発明は、基板に形成された複数のアライメントマークのうち検出されている２つのアライメントマークの位置を基準として全てのアライメントマークが検査できる最適な位置に基板の姿勢を制御し、アライメントマークに欠損・欠陥が発生しているか否かについて検査を行うことができるアライメントマーク検査方法およびプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のアライメントマーク検査方法は、基板上には３つ以上のアライメントマークが形成され、これらアライメントマークのうち、少なくとも２つのアライメントマークを夫々個別の撮影手段が検出することが可能な位置にまで粗位置決めをする粗位置決めステップと、前記撮影手段に検出されたアライメントマークを基準として、前記基板の前記撮影手段に対するずれ量を算出して、前記撮影手段に検出されたアライメントマークの位置が前記撮影手段の視野の中心位置と一致するように調整する位置調整ステップと、からなり、前記位置調整ステップによる位置調整後に前記全てのアライメントマークが前記撮影手段の視野内に入っているか否かを検出することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のアライメントマーク検査方法およびプログラムは、基板上に形成された複数のアライメントマークのうち２つのアライメントマークを基準として、これら２つのアライメントマークが撮影手段の視野の中心となるように基板を正しい姿勢に制御することにより、基板の回転等を繰り返し行うことなく、全てのアライメントマークを検出できる最適な位置に基板を自動的にアライメントして検査を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明に係る実施形態を、図１のフローチャートを用いて説明する。本発明に適用される基板１は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板やフィルタ基板等の形状が四角形の基板である。その他にも、半導体ウェハ等の形状が円形の基板にも適用することができるが、何れの形状の基板であっても、基板上には、ずれ量を算出するときに基準とされる２つのアライメントマークが形成されており、その他に１または複数のアライメントマークが形成されているものとする。以下、基板１の形状は四角形であり、その四隅にアライメントマークＡ１乃至Ａ４が形成されているものについて説明する。ただし、全てのアライメントマークＡ１乃至Ａ４は適正な位置に形成されているが、その一部、すなわちアライメントマークＡ３には許容誤差の範囲内ではあるが、多少の形成位置の誤差が生じているものとする。
【００１２】
液晶パネルは、基板に対するＴＦＴ回路やカラーフィルタ等の形成、基板の重ね合わせ、ドライバＩＣの接合等の製造工程の段階の前に、基板上にアライメントマークが適正に形成されているか否かが検査される。かかる検査はアライメントマーク検査ステージにおいて行われるが、検査を行うために基板の姿勢を制御する必要がある。図２は、アライメントマーク検査ステージの一例を示す図であるが、このアライメントマーク検査ステージは、Ｘ方向（基板の縦方向又は横方向の何れか一方の方向）、Ｙ方向（Ｘ方向に直交する方向）およびθ方向（回転方向）に調整可能な３つのテーブルＴＸ、ＴＹおよびＴθを有して構成される。これら３つのテーブルにより、基板の姿勢が制御される。そして、これら各テーブルの上部には、基板１を載置可能なテーブルがさらに用意され、さらにその上部には、４台の撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４が設けられている。また、このアライメントマーク検出ステージは、実際の製造工程の前段階におけるステージであるため、アライメントマークの検査が終了した後に、次の製造ステージに搬送するために、送りねじ１０およびガイド部材１２が設けられ、送りねじ１０によりガイド部材１２がガイドレール１１を走行することにより、基板１が次の製造ステージに搬送される。また、図示はしていないが、テーブルＴＸ上にはテーブルＴＹをＹ方向に移動させるモータ、送りねじ、ガイドレールが設けられており、テーブルＴＸと同様に送りねじによりテーブルＴＹのガイド部材がガイドレールを走行することより、テーブルＴＸ及びその上のテーブルＴθが搬送される。かかるアライメントマーク検査ステージに、基板１を載置して、アライメントマークの検出を行うが、このとき、基板１の外形を基準として基板１の粗位置決めが行われる（ステップＳ１）。従って、この位置決めは粗位置決めとなる。このため、アライメントマーク検出ステージで、テーブルを所定の位置に配置しても、撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の全ての撮影手段の有効視野の範囲内にアライメントマークＡ１乃至Ａ４が入ってくることは難しい。
【００１３】
図３は、アライメントマーク検出ステージでテーブル上に基板１が載置され、基板１の四隅に形成されたアライメントマークＡ１乃至Ａ４のうち、２つのアライメントマークＡ１およびＡ２が撮影手段Ｃ１およびＣ２の有効視野の範囲内に入ったものの一例を示す図である。ここで、アライメントマーク検出ステージのテーブル上のＸ方向をＸ座標として、Ｙ方向をＹ座標として、ＸＹ座標系を設け、撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の夫々の中心座標を（Ｃ１Ｘ、Ｃ１Ｙ）、（Ｃ２Ｘ、Ｃ２Ｙ）、（Ｃ３Ｘ、Ｃ３Ｙ）、（Ｃ４Ｘ、Ｃ４Ｙ）とし、アライメントマークＡ１乃至Ａ４の座標を（Ａ１Ｘ、Ａ１Ｙ）、（Ａ２Ｘ、Ａ２Ｙ）、（Ａ３Ｘ、Ａ３Ｙ）、（Ａ４Ｘ、Ａ４Ｙ）とする。なお、撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の中心位置を結んで形成される四角形を基準四角形２という。また、各撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４は、夫々の中心座標を中心として、一定の有効視野を撮影できるものであればよく、図３に示されるように、正方形の領域を映し出すものに限られず、円形等のものであってもよい。
【００１４】
図３に示されるように、アライメントマークＡ１およびＡ２のみが撮影手段に検出されている場合、他のアライメントマークが適正に形成されているか否かの検査を行うために、全てのアライメントマークが検出可能なように基板１を正しい姿勢に制御しなくてはならない。すなわち、検出されていないアライメントマークＡ３およびＡ４は、適正に形成されているが、基板１の姿勢がずれているために検出できないのか、そもそもアライメントマークＡ３およびＡ４が適正に形成されていないことにより検出することができないのかを判定する必要がある。従って、各アライメントマークが本来であれば、撮影手段の視野の中心に位置するように調整して、基板１を正しい姿勢に制御する必要がある。
【００１５】
そこで、アライメントマークＡ１およびＡ２は、撮影手段Ｃ１およびＣ２に検出されているため、これらアライメントマークＡ１およびＡ２の座標から、基板１のずれ量を算出する。最初に、基板１のＸＹ座標系に対するθ方向のずれ量を算出する（ステップＳ２）。このずれ量は、アライメントマークＡ１とＡ２とのＸ座標の差分およびＹ座標の差分の正接により算出することができる。具体的には、基板１のＸＹ座標系に対するθ方向のずれ量である角度θgは、θg＝ｔａｎ−１（Ａ２Ｙ−Ａ１Ｙ）／（Ａ２Ｘ−Ａ１Ｘ）の式より求めることができる。次に、撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４が形成する基準四角形２のＸＹ座標系に対するθ方向のずれ量を算出する（ステップＳ３）。このずれ量である角度θpは、θp＝ｔａｎ−１（Ｃ２Ｙ−Ｃ１Ｙ）／（Ｃ２Ｘ−Ｃ１Ｘ）の式により求めることができる。従って、基板１は、撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４が形成する基準四角形２に対して相対角度θr＝θg−θpの角度だけ傾いていることになる。この算出された相対角度θrのずれ量を、テーブルＴθが回転することにより、図４に示されるように、基板１のθ方向のずれが調整されることになる（ステップＳ４）。
【００１６】
ただし、図４に示されるように、θ方向のずれを調整できたとしても、アライメントマークＡ３の形成位置が許容誤差の範囲内ではあるが、多少の位置ずれが生じているために、アライメントマークＡ３は依然として撮影手段Ｃ３の有効視野内には入らない。すなわち、基板１のθ方向のずれは調整されたが、依然として、Ｘ方向およびＹ方向のずれは調整されていない。そこで、かかるずれを調整することにより、各アライメントマークＡ１乃至Ａ４は各撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の視野の中心に位置するはずであり、アライメントマークＡ３が撮影手段Ｃ３の有効視野内に入る可能性もある。そこで、回転後のアライメントマークＡ１およびＡ２の位置を算出し（ステップＳ５）、アライメントマークＡ１およびＡ２を撮影手段Ｃ１およびＣ２の視野の中心位置に移動されるように調整する（ステップＳ６）。すなわち、２つのアライメントマークＡ１およびＡ２のθ方向のずれを調整した後に、これらアライメントマークＡ１およびＡ２が撮影手段Ｃ１およびＣ２の中心位置と一致するように調整すれば、基板を最も正しい姿勢に導くことができるため、かかる状態において、なお基板上に形成されたアライメントマークＡ１乃至Ａ４のうち何れかを検出できないときには、明らかにアライメントマークに不良又は欠損が生じているものと判定することができる。そこで、アライメントマークＡ１のＸＹ座標系における座標位置と、撮影手段Ｃ１の中心位置のＸＹ座標系における座標位置とが一致するように基板をＸＹ方向に調整する。
【００１７】
ここで、上述したようにθ方向のずれを調整したときには、アライメントマークＡ１を中心に回転しているため、アライメントマークＡ２乃至Ａ４の位置が移動している。回転前の各アライメントマークＡ１乃至Ａ４の座標を夫々（Ａ１Ｘ、Ａ１Ｙ）、（Ａ２Ｘ、Ａ２Ｙ）、（Ａ３Ｘ、Ａ３Ｙ）、（Ａ４Ｘ、Ａ４Ｙ）とし、回転後の各アライメントマークＡ１乃至Ａ４の座標を夫々（Ａ１Ｘ'、Ａ１Ｙ'）、（Ａ２Ｘ'、Ａ２Ｙ'）、（Ａ３Ｘ'、Ａ３Ｙ'）、（Ａ４Ｘ'、Ａ４Ｙ'）とすると、各アライメントマークＡ１乃至Ａ４の回転後のＸ座標およびＹ座標は次のようになる。
Ａ１Ｘ'＝（ＡＸ１−ＡＸ１）×ｃｏｓ（−θr）−（ＡＹ１―ＡＹ１）×ｓｉｎ（−θr）＋Ａ１Ｘ（＝Ａ１Ｘ）
Ａ１Ｙ'＝（ＡＸ１−ＡＸ１）×ｓｉｎ（−θr）＋（ＡＹ１―ＡＹ１）×ｃｏｓ（−θr）＋Ａ１Ｙ（＝Ａ１Ｙ）
Ａ２Ｘ'＝（ＡＸ２−ＡＸ１）×ｃｏｓ（−θr）−（ＡＹ２―ＡＹ１）×ｓｉｎ（−θr）＋Ａ１Ｘ
Ａ２Ｙ'＝（ＡＸ２−ＡＸ１）×ｓｉｎ（−θr）＋（ＡＹ２―ＡＹ１）×ｃｏｓ（−θr）＋Ａ１Ｙ
Ａ３Ｘ'＝（ＡＸ３−ＡＸ１）×ｃｏｓ（−θr）−（ＡＹ３―ＡＹ１）×ｓｉｎ（−θr）＋Ａ１Ｘ
Ａ３Ｙ'＝（ＡＸ３−ＡＸ１）×ｓｉｎ（−θr）＋（ＡＹ３―ＡＹ１）×ｃｏｓ（−θr）＋Ａ１Ｙ
Ａ４Ｘ'＝（ＡＸ４−ＡＸ１）×ｃｏｓ（−θr）−（ＡＹ４―ＡＹ１）×ｓｉｎ（−θr）＋Ａ１Ｘ
Ａ４Ｙ'＝（ＡＸ４−ＡＸ１）×ｓｉｎ（−θr）＋（ＡＹ４―ＡＹ１）×ｃｏｓ（−θr）＋Ａ１Ｙ
【００１８】
従って、回転後におけるアライメントマークＡ１乃至Ａ４の位置と、撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４とのＸ方向のずれＸｒは、Ｘｒ＝−（Ａ１Ｘ'―Ｃ１Ｘ）であり、Ｙ方向のずれＹｒは、Ｙｒ＝−（Ａ１Ｙ'―Ｃ１Ｙ）である。かかるＸｒおよびＹｒのずれ量を、テーブルＴＸおよびＴＹが移動することにより調整される。これにより、図５に示されるように、全てのアライメントマークＡ１乃至Ａ４は、本来的には撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の視野の中心になるように調整されることになる。かかる調整が行われると、基板１に形成された各アライメントマークＡ１乃至Ａ４が適正に形成されているか否かを検査するために最も理想的な姿勢、すなわち各アライメントマークＡ１乃至Ａ４が各撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の視野の中心位置に位置するように制御されているため、この調整後に全てのアライメントマークＡ１乃至Ａ４を検出できるか否かの検査を行う（ステップＳ７）。
【００１９】
図５に示されるように、上記調整が行われると、基板１のθ方向の調整が行われただけでは検出できなかったアライメントマークＡ３が撮影手段Ｃ３により検出可能な位置に入ってくるようになる。すなわち、アライメントマークＡ３は、多少の形成位置の誤差があったものの、許容誤差の範囲内であったため、各アライメントマークが各撮影手段の中心位置となるように調整することにより、調整前は検出できなかったアライメントマークＡ３を検出できるようになり、欠損又は不良が生じていないと判定することができる。
【００２０】
一方、上記調整が行われて、各アライメントマークＡ１乃至Ａ４が各撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の中心となるように調整されても、なお何れかのアライメントマークを検出できないときは、明らかに欠損又は不良が生じていると確定的に判定することができる。
【００２１】
ところで、アライメントマークの形成位置の誤差の他に、例えば撮影手段に組付け誤差が生じていた場合においても、これら誤差が累積したとしても、各アライメントマークＡ１乃至Ａ４が撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の視野の中心位置と一致するようにアライメントすることにより、ある程度までの累積誤差は吸収でき、全てのアライメントマークを検出することが可能になる。
【００２２】
以上のように、基板１上に形成されたアライメントマークＡ１乃至Ａ４のうち、２つのアライメントマークＡ１およびＡ２が撮影手段Ｃ１およびＣ２の有効視野内にあるときには、これらアライメントマークＡ１およびＡ２の位置から、基板１のθ方向、Ｘ方向およびＹ方向のずれ量を算出して、各アライメントマークＡ１乃至Ａ４が対応する撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４の視野の中心位置となるように調整を行うことにより、基板の回転等を繰り返し行わなくても、全てのアライメントマークを検出可能な位置に基板１をアライメントすることができ、全てのアライメントマークにつき、欠損・欠陥が発生しているか否かを検査することができる。
【００２３】
次に、図６に示されるように、粗位置決めの段階で、アライメントマークＡ１乃至Ａ４のうちＡ１、Ａ２およびＡ４が撮影手段Ｃ１、Ｃ２およびＣ４の有効視野内に入っており、アライメントマークＡ３のみが有効視野内に入っていない場合について説明する。
【００２４】
この場合、アライメントマークＡ１、Ａ２およびＡ４のうち、何れか２つのアライメントマークを基準として、基板１のアライメントを行う。このとき、Ａ１、Ａ２またはＡ１、Ａ４の隣接する２つのアライメントマークを選択することも考えられるが、対角の２つのアライメントマークが検出されているときは、Ａ２、Ａ４の対角に位置するアライメントマークを選択する。すなわち、対角に位置するアライメントマークＡ２、Ａ４を基準とすると、基板１のＸＹ座標系に対するθ方向のずれ量である角度θgは、θg＝ｔａｎ−１（Ａ４Ｙ−Ａ２Ｙ）／（Ａ４Ｘ−Ａ２Ｘ）の式より求めることができる。また、撮影手段Ｃ１乃至Ｃ４のＸＹ座標系に対するθ方向のずれ量である角度θpは、θp＝ｔａｎ−１（Ｃ４Ｙ−Ｃ２Ｙ）／（Ｃ４Ｘ−Ｃ２Ｘ）の式より求めることができる。
【００２５】
ここで、θgおよびθpは、隣接するアライメントマークを選択したときよりも、対角に位置するアライメントマークを選択したときの方が、正接の分母および分子の値を大きくすることができる。従って、アライメントマークＡ２、Ａ４および撮影手段Ｃ２、Ｃ４に多少の誤差が発生したとしても、値の大きいＹ座標の差分と値の大きいＸ座標の差分との商により正接を求めているため、誤差を低減させることができる。従って、アライメントマークＡ１乃至Ａ４のうち３つのアライメントマークが検出されていたときは、対角に位置するアライメントマークを選択して、基板１のアライメントを行う。これにより、さらにアライメントマークの検査精度を高めることができる。
【００２６】
なお、本実施形態では、四角形の形状をした基板の四隅にアライメントマークが形成されたものを例示したが、これに限られず、基板の形状は任意の形状を採ることができる。例えば、半導体ウェハのように円形の基板を採ることもできる。ただし、いかなる基板を採用したとしても、基板上には基準となる２つのアライメントマークと、その他に１または複数のアライメントマークが形成されていなければならない。
【００２７】
また、本実施形態では、テーブルにＸ、Ｙ、θ調整機構を設けているが、カメラ側において、各カメラが相対位置を確保しつつ、Ｘ、Ｙ、θ方向に移動する調整機構を設けて、カメラ側を移動させてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の処理を説明するフローチャートである。
【図２】基板、回転テーブル、撮影手段の概略構成図である。
【図３】２つのアライメントマークが検出可能な位置に粗位置決めされた状態を示す説明図である。
【図４】基板のθ方向のずれを調整したときの例を示す説明図である。
【図５】基板のＸＹ方向のずれを調整したときの例を示す説明図である。
【図６】３つのアライメントマークが検出可能な位置に粗位置決めされた状態を示す説明図である。
【符号の説明】
【００２９】
１    基板                ２    基準四角形
Ａ１乃至Ａ４    アライメントマーク    Ｃ１乃至Ｃ４    撮影手段
【図１】
2006112933.tif 000003
【図２】
2006112933.tif 000004
【図３】
2006112933.tif 000005
【図４】
2006112933.tif 000006
【図５】
2006112933.tif 000007
【図６】
2006112933.tif 000008