(57)【要約】      （修正有）【課題】搬送式基板処理において、処理槽の個数変更に容易に対応でき、同種処理を同一処理液で行うことができ、かつ装置規模の増大及びコスト増も抑制できる基板処理装置を提供する。【解決手段】処理液の散布機構を備えた処理槽１０を上部に有する複数の処理ユニットＡ〜Ｅを直列に連結し、基板が複数の処理ユニットＡ〜Ｅの各処理槽１０を順番に通過することにより湿式処理される基板処理装置において、前記各処理ユニットＡ〜Ｅは、前記処理槽１０の下の設置スペース２１に設置された処理液タンク２０から処理液が導入される渡し配管４０を有し、渡し配管４０が、隣接する処理ユニット間で連結されることにより、複数の処理ユニットＡ〜Ｅにまたがる管状の共用タンク１００を形成し、渡し配管１００内の処理液をポンプ６２により汲み上げて処理槽１０内の散布機構に供給する処理液供給系統６０を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液の散布機構を備えた処理槽を上部に有する複数の処理ユニットが直列に連結され、それらの処理ユニット内の各処理槽を基板が順番に通過することにより処理液による湿式処理を受ける組合せ型の基板処理装置において、各処理ユニットが、処理槽の下に、処理液を貯留する処理液タンクの設置スペースを有すると共に、前記設置スペースに設置された処理液タンクから処理液が導入され、隣接する処理ユニット間で連結されることにより、複数の処理ユニットにまたがる管状の共用タンクを形成する渡し配管を有しており、更に各処理ユニットは、渡し配管内の処理液をポンプにより汲み上げて処理槽内の散布機構に供給する処理液供給系統を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記渡し配管は、前記設置スペースに設置された処理液タンクから処理液を自重で流入させるために、前記処理液タンク内の液面より下側に位置するように設置されている請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記複数の処理ユニットにおいては、選択的に処理液タンクが設置されており、そのタンク設置数ｎは、ユニット数をＮとして１≦ｎ≦（Ｎ−１）である請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記複数の処理ユニットは、前記設置スペースを同じ位置に有する請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記複数の処理ユニットは、散布後の処理液が隣接する処理槽間で行き来するように槽底部が構成されており、且つ処理ユニット内の処理液タンクは、散布後の処理液を槽底部から当該タンクへ還流させるためのバルブ付き戻り管を装備する請求項１に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶製造プロセスにおけるエッチング処理や剥離処理等に使用される基板処理装置に関し、特に、平流し式と呼ばれる基板搬送方式の基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルの製造では、素材である大面積のガラス基板の表面に成膜、レジスト塗布、現像、エッチング、レジスト剥離の各処理が繰り返し実施されることにより、基板表面に集積回路が形成される。各処理方式の代表的なものの一つが平流しと呼ばれる基板搬送方式であり、基板を水平姿勢又は横に傾いた傾斜姿勢で水平方向に搬送しながらその表面に各種の処理を繰り返し行う。
【０００３】
例えば、平流し式のエッチング処理では、基板が複数の処理槽を順番に通過する過程でエッチング液による薬液処理を受ける。各処理槽は、基板搬送ラインの上に処理液散布機構を有しており、処理液タンクからポンプにより散布機構へエッチング液が汲み上げられることにより、槽内を通過する基板の表面にエッチング液を供給する。基板の表面に供給された後のエッチング液は前記タンクに回収され、循環使用される。エッチング液による薬液処理を受けた基板は、引き続いて洗浄水によるリンス処理を受けるが、リンスラインでも上流側のエッチングラインと同様に複数の処理槽を通過する過程で洗浄水を散布され、表面のエッチング液を除去される。
【０００４】
このような平流し式の基板処理装置では、複数の処理槽に薬液等の処理液を供給する方式として次の２種類が知られている。一つは、複数の処理槽の間で処理液タンクを共用し、そのタンク内の処理液を複数の処理槽に分配して供給する集中供給方式である。今一つは、複数の処理槽がそれぞれ独立した処理液タンクを有し、各処理槽で処理液の独立した閉ループを構成する個別供給方式である（特許文献１）。後者の個別供給方式の場合は、各処理槽が槽毎に独立した処理ユニットになっている場合が多い。ちなみに、前者の集中供給方式の場合は複数の処理槽で１つのユニットを構成する。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２１６４３３号公報
【０００６】
ところで、液晶製造プロセスにおけるエッチング処理や剥離処理等では、処理の種類、要求される処理の程度等に応じて処理槽の個数が調整される。集中供給方式の基板処理装置の場合は、処理槽の個数が変更される毎に、装置を新しく設計し直する必要があり、処理装置の仕様が多岐にわたる場合は、設計コストが負担となり、経済性が悪化する。
【０００７】
また、処理槽の個数が多くなった場合は処理液タンクが大きくなる。処理液タンクは一般に処理槽が並ぶ処理ラインの下に配置されるが、処理液タンクが大きくなると、処理ラインの設置レベルが高くなり、メンテナンス性等が著しく悪化する。更に配管の圧損も大きくなるため、ポンプの容量を処理液の散布量必要以上に大きくする必要があり、この点からも装置規模の増大、経済性の悪化が問題になる。
【０００８】
これに対し、個別供給方式の基板処理装置は、処理槽の個数変更に対して処理ユニットの連結個数を変更することにより簡単に対応できる。このため、処理装置の仕様が増えれば増えるほどコストメリットが大きくなる。また、処理槽の個数が多くなった場合も、処理液タンクの規模は変わらず、ポンプの容量も変動しないという利点もある。個別供給方式はユニット組合せ型と呼ぶこともできる。しかしながら、これらの利点の一方で次のような致命的な欠点がある。
【０００９】
例えばＡ槽、Ｂ槽及びＣ槽という３つの処理槽を連結したエッチングラインの場合、Ａ槽で使用されたエッチング液はＡタンクに戻り、再びＡ槽で使用される。同様にＢ槽及びＣ槽でも槽単位でエッチング液が循環使用される。このため、各槽でエッチング液の劣化度等に違いが生じ、エッチング液の品質などが同じでなくなる。その結果、エッチングラインを通過する基板は、槽が変わる毎に異なるエッチング処理を受ける。エッチングラインでは、その始めから終わりまで同じエッチング液で基板を処理することが不可欠であるところ、個別供給方式の基板処理装置はこの要求を満足することができないのである。
【００１０】
また、最近のエッチングラインでは、スタンバイタンクを装備することが多い。スタンバイタンクとは、本来のタンク内のエッチング液が使用限度に達したときに、それに変わって使用される予備タンクであり、これを装備することにより、使用中のエッチング液が使用限度に達したときも、引き続いて処理を行うことができるのである。スタンバイタンク設置の要望があった場合、個別供給方式の基板処理装置の場合は、本来の装置外にスタンバイタンクを設置しなければならず、装置規模が相当大きくなる。また、スタンバイタンクの設置に伴うコスト増も相当の負担となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、処理槽の個数変更に容易に対応でき、その個数変更に伴う装置規模の増大及びコスト増を可及的に抑制できると共に、同種処理を同一処理液で行うことができ、スタンバイタンクの設置に伴う装置規模の増大及びコスト増についてもこれらを可及的に抑制できる基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の基板処理装置は、処理液の散布機構を備えた処理槽を上部に有する複数の処理ユニットが直列に連結され、それらの処理ユニット内の各処理槽を基板が順番に通過することにより処理液による湿式処理を受けるユニット組合せ型の基板処理装置において、各処理ユニットが、処理槽の下に、処理液を貯留する処理液タンクの設置スペースを有すると共に、前記設置スペースに設置された処理液タンクから処理液が導入され、隣接する処理ユニット間で連結されることにより、複数の処理ユニットにまたがる管状の共用タンクを形成する渡し配管を有しており、更に各処理ユニットは、渡し配管内の処理液をポンプにより汲み上げて処理槽内の散布機構に供給する処理液供給系統を有するものである。
【００１３】
３つの処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃを連結する場合は、例えばＢユニット内にのみ処理液タンクを設置する。一方、３つの処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃでは、それぞれの渡し配管が連結されてこれらに跨がる管状の共用タンクが形成され、Ｂユニット内の処理液タンクからこの各ユニットに跨がる共用タンクへ処理液が供給される。そして、処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃでは、共用タンク内の共通処理液が各ユニット内の処理液供給系統により各処理槽に送られる。スタンバイタンクが必要なときは、例えばＣユニット内にこれを設置する。
【００１４】
５つの処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅを連結する場合は、例えばＢユニット内及びＣユニット内に処理液タンクを設置する。５つの処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでは、それぞれの渡し配管が連結されてこれらに跨がる管状の共用タンクが形成され、Ｂユニット内及びＣユニット内の処理液タンクからこの各ユニットに跨がる共用タンクへ処理液が供給される。そして、処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでは、共用タンク内の共通処理液が各ユニット内の処理液供給系統により各処理槽へ送られる。スタンバイタンクが必要なときは、例えばＤユニット内及びＥユニット内にこれを設置する。
【００１５】
このように、本発明の基板処理装置においては、ユニット数の変更により装置規模が簡単に変更され、装置仕様が多い場合に設計コストの大幅節減が図られる。ユニット数が増大し、装置規模が大きくなっても処理液タンクが大型化しない。また、処理タンクの個数をユニット数に対して低減できる。スタンバイタンクの設置による装置規模の増大も回避できる。そして何よりも、ユニット組合せ糧あるにもかかわらず、各処理槽で同じ処理液を使用できる。
【００１６】
これらの機能を実現するために、処理液タンクの規模は２〜４ユニット分を賄える容量が好ましく２．５〜３．５ユニット分を賄える容量が特に好ましい。処理液タンクの容量が１ユニット分の場合は、全てのユニットに処理液タンクを設置することが必要となり、タンク数を低減できないために設備コストが嵩む。またスタンバイタンクを設置するスペースを確保できない。処理液タンクの容量が大きくなり過ぎると、タンク数は減るものの、個々のタンクは大型化し、基板処理ラインが高くなるなどの問題が生じ、ユニット化の意味が薄れる。処理液タンクの規模が２．５〜３．５ユニット分の場合、スタンバイタンクを設置しても、タンク数ｎは、ユニット数をＮとして最大でも（Ｎ−１）となり、大きな経済効果を享受できる。最小タンク数は言うまでもなく１である。
【００１７】
複数の処理ユニットについては、処理液タンクが設置される設置スペースが各ユニット内の同じ位置にある構成が好ましい。この設計の標準化により、装置の製造コストが一層節減される。
【００１８】
複数の処理ユニットについては又、散布後の処理液が隣接する処理槽間で行き来するするように槽底部を構成するのが好ましく、一方、複数の処理ユニットに選択的に設置された処理液タンクは、散布後の処理液を槽底部から各々の処理液タンクへ還流させるためのバルブ付き戻り管を装備する構成が好ましい。これにより、各処理槽で生じる使用済みの処理液を、処理液タンクが何れのユニット内に設置されている場合にも、その処理液タンクに戻すことが可能となる。
【００１９】
処理ユニット内の渡し配管については、ユニット内の設置スペースに設置された処理液タンクから処理液を自重で流入させるために、タンク内の液面レベルより下側に位置するように設置するのが好ましい。これにより、処理液タンクから渡し配管へ処理液を供給するためのポンプが不要になり、設備コストが一層節減される。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の基板処理装置は、直列に連結された複数の処理ユニット内を基板が順番に通過することにより処理液による湿式処理を受けるユニット組合せ型の基板処理装置において、各処理ユニットが処理槽と共に、処理液タンクの設置スペースを有し、更に、複数の処理ユニットにまたがる管状の共用タンクを形成し、各処理ユニット内の処理液タンクから処理液を導入される渡し配管を有することにより、処理槽の個数変更に容易に対応でき、その個数変更に伴う装置規模の増大及びコスト増を可及的に抑制できる。そして何よりも、ユニット組合せ型であるにもかかわらず、同種処理を同一処理液で行うことができる。更に、スタンバイタンクの設置に伴う装置規模の増大及びコスト増についてもこれらを可及的に抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の一実施形態を示すエッチングラインの構成図である。
【００２２】
本実施形態の基板処理装置は、液晶パネルに使用するための大型ガラス基板に対するエッチング装置であり、特に図１に示したエッチングラインに特徴的な構成を採用している。エッチングラインの下流側には図示されないリンスラインが続く。
【００２３】
エッチングラインは、複数の処理ユニット（ここでは５つの処理ユニットＡ〜Ｅ）を直列に連結して使用するユニット組合せ型である。各処理ユニットは、実質的に同一の構成である。これらの処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄの構成を以下に説明する。
【００２４】
各処理ユニットは、角型のボックスタイプであり、そのボックスの最上部に処理槽１０を装備している。処理槽１０は、基板を下側からローラで水平に支持して水平方向（図では右から左）へ搬送するローラ式搬送機構（図示せず）を有している。基板搬送ラインＬの上には、下側を通過する基板の表面にエッチング液を散布するシャワー機構１１が設けられると共に、シャワー機構１１の上流側（基板搬送方向上流側）に位置してスリットノズル１２が設けられている。
【００２５】
シャワー機構１１は、マトリックス状に配置した多数個のスプレーノズルを備えており、基板表面の縦横両方向の２次元的な領域にエッチング液を供給する。上流側のスリットノズル１２は垂直な液膜を形成し、この下を基板が通過することにより、シャワー処理の前に基板の表面にエッチング液を幅方向全域で均一に供給する。この事前の液膜処理により、エッチング液の飛散に伴う処理ムラが防止される。
【００２６】
処理槽１０の槽底部は、基板の表面に供給された後のエッチング液を一次的に溜める受け皿であり、隣接する処理ユニット内の処理槽１０，１０の間で処理液が流路１３を通って自由に行き来できるように構成されている。
【００２７】
各処理ユニット内の処理槽１０の下側には、処理液タンク２０が設置されるタンク設置スペース２１が形成されている。処理液タンク２０はエッチング液を収容する主タンクであり、処理ユニット内のタンク設置スペース２１に必要に応じて設置することができるようになっている。処理槽１０の槽底部と下側の処理液タンク２０との間は、バルブ付きの戻り管３０により接続される。
【００２８】
各処理ユニット内の処理槽１０の下側には又、各ユニットを連結方向に貫通する水平な渡し配管４０が設けられている。渡し配管４０は大径管であり、図ではタンク設置スペース２１の下側に設置されているが、実際はユニット高を抑制するために、側方に変位して設置された処理液タンク２０の横に、処理液タンク２０内の液面レベルより下側に位置するように設けられている。渡し配管４０の端部は、隣接する処理ユニット間でそれそれの管端部同士を簡単に結合できるようにフランジタイプになっている。
【００２９】
そして、この渡し配管４０は、タンク設置スペース２１内の処理液タンク２０とは、渡し配管４０の側に向かって下降傾斜したバルブ付きの導入管５０により接続されるようになっており、また、処理液供給系統６０により前述した処理槽１０内のシャワー機構１１及びスリットノズル１２と接続される。導入管５０は、前述した戻り管３０と共に、処理液タンク２０とセットになっており、処理液タンク２０をタンク設置スペース２１に設置しない場合は省略される。
【００３０】
処理液供給系統６０は、渡し配管４０からシャワー機構１１及びスリットノズル１２へ向かって延びる供給管６１、供給管６１に介装されたポンプ６２及びフィルタ６３を備えており、ポンプ６２を作動させることにより、渡し配管４０内のエッチング液を加圧してシャワー機構１１及びスリットノズル１２へ供給する。ポンプ６２及びフィルタ６３も、ユニット高を抑制するために、処理液タンク２０の横に設置されている。また、配管６１の垂直部分はユニットボックスの一方の側壁部に沿って配設されており、その上端部はシャワー機構１１及びスリットノズル１２に側方から接続されている。
【００３１】
処理槽１０の下側には更に別のポンプ設置スペース７１が確保されている。ここに設置されるポンプ７２は、隣接する処理ユニットの間で共用される循環ポンプであり、隣接する処理ユニット内の２つの処理液タンク２０，２０内の処理液を底部から抜き取って頂部から再度処理液タンク２０，２０内へ導入する循環系統７０を構成する。循環ポンプ７０も、ポンプ６２及びフィルタ６３と同様、ユニット高を抑制するために、処理液タンク２０の横に設置される。隣接する処理ユニット内の２つの処理液タンク２０，２０は底部同士を連通させることが可能である。
【００３２】
処理液タンク２０は又、バルブ付きのドレン配管８０を備えている。ドレン配管８０は、前述した戻り管３０及び導入管５０と共に、処理液タンク２０とセットになっており、処理液タンク２０をタンク設置スペース２１に設置しない場合は省略される。
【００３３】
以上が、処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅの構成である。ここで、最終段の処理ユニットＥは、タンク設置スペース２１に処理液タンク２０が設置されていないので、戻り管３０、導入管５０及びドレン配管８０が省略され、更に循環系統７０も省略されているので、見かけ上は他の処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄと異なるが、これらの設備を同じ位置に設置できるように設計されている点で、他の処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄと同じである。
【００３４】
すなわち、処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅは、標準設備である処理槽１０、渡し配管４０及び処理液供給系統６０を全て同じ位置に有しており、更に設置するしないは別にして、オプション設備である処理液タンク２０、戻り管３０、導入管５０、循環系統７０及びドレン配管８０を同じ位置に設けることができるように設計されているのである。
【００３５】
ただし、例外として１段目の処理ユニットＡでは、渡し配管４０が、導入管５０及び供給管６１が接続される箇所より上流側では、不必要という理由で除去されている。同様に、最終段の処理ユニットＥでも、渡し配管４０の不必要部分、すなわち供給管６１が接続される箇所より下流側は除去されている。
【００３６】
最終段の処理ユニットＥの更に下流側には、基板の表面に残るエッチング液を除去するために液切りユニット９０が配置されている。液切りユニット９０は前後長が短く、処理槽１０に対応する最上部に液切りのための処理槽９１を有している。処理槽９１では、基板搬送ラインを搬送される基板の両面に上下のスリットノズルから高圧エアを吹きつけて、その両面からエッチング液を除去する。処理槽９１の下には、高圧エアの導入部９２、フィルタ９３等が設置されている。
【００３７】
次に、本実施形態の基板処理装置の使用方法、特にそのエッチングラインの使用方法及び機能について説明する。
【００３８】
ここにおけるエッチングラインでは、５つの処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅが基板搬送方向に沿って直列に配置されている。それぞれの処理槽１０は、基板が各処理槽１０を順番に通過できるように基板搬送方向で一体化されており、槽底部はエッチング液が自由に行き来できるように一体化されている。また、それぞれの渡し配管４０が基板搬送方向で連結されて処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに跨がる水平方向の管状共用タンク１００が形成されている。
【００３９】
１段目の処理ユニットＡでは、タンク設置スペース２１に処理液タンク２０がスタンバイタンクとして設置されている。処理液タンク２０の設置に伴って、戻り管３０及びドレン配管８０が設けられている。
【００４０】
２段目の処理ユニットＢでは、タンク設置スペース２１に処理液タンク２０がスタンバイタンクとして設置されている。処理液タンク２０の設置に伴って、戻り管３０及びドレン配管８０が設けられている。また、循環ポンプ７２が設置されており、１段目の処理ユニットＡに跨がる循環系統７０が構成されている。
【００４１】
３段目の処理ユニットＣでは、タンク設置スペース２１に処理液タンク２０がメインタンクとして設置されている。処理液タンク２０の設置に伴って、戻り管３０及びドレン配管８０が設けられている。
【００４２】
４段目の処理ユニットＤでは、タンク設置スペース２１に処理液タンク２０がスタンバイタンクとして設置されている。処理液タンク２０の設置に伴って、戻り管３０及びドレン配管８０が設けられている。また、循環ポンプ７２が設置されており、３段目の処理ユニットＣに跨がる循環系統７０が構成されている。
【００４３】
５段目の処理ユニットＥでは、前述したとおり、処理液タンク２０及びこれに付随する諸設備が省略されている。
【００４４】
運転では、処理ユニットＡ，Ｂと処理ユニットＣ，Ｄと処理ユニットＥとで操作が異なる。処理ユニットＡ，Ｂでは、戻り管３０に付設されたバルブが閉状態とされる。導入管５０に付設されたバルブも閉状態とされる。一方、処理液供給系統６０内の供給管６１に介装されたポンプ６２はオン状態とされる。他方、処理ユニットＢ内の循環ポンプ７２はオフ状態とされる。
【００４５】
これに対し、処理ユニットＣ，Ｄでは、戻り管３０に付設されたバルブが開状態とされる。導入管５０に付設されたバルブも開状態とされる。処理液供給系統６０内の供給管６１に介装されたポンプ６２はオン状態とされる。処理ユニットＢ内の循環ポンプ７２もオン状態とされる。
【００４６】
また、処理ユニットＥでは、処理液供給系統６０内の供給管６１に介装されたポンプ６２がオン状態とされる。
【００４７】
これにより、処理ユニットＣ，Ｄ内の処理液タンク２０，２０から、処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに跨がる水平方向の管状の共用タンク１００にエッチング液が導入され、充満される。この状態で、全ての処理ユニットで、処理液供給系統６０内の供給管６１に介装されたポンプ６２がオン状態とされることにより、共用タンク１００からそれぞれの処理槽１０におけるシャワー機構１１及びスリットノズル１２にエッチング液が供給され、これらから吐出される。その結果、処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅの各処理槽１０を順番に通過する基板の表面にエッチング液が供給され、所定のエッチング処理が行われる。
【００４８】
処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅの各処理槽１０で使用され槽底部に溜まった使用済みのエッチング液は処理ユニットＣ，Ｄにおける戻り管３０，３０を通って処理液タンク２０，２０に戻される。かくして、処理ユニットＣ，Ｄ内の処理液タンク２０，２０から共用タンク１００を経由して全ての処理ユニットの処理槽１０へ同じエッチング液が循環される。処理ユニットＤ内の循環ポンプ７０が作動することにより、処理ユニットＣ，Ｄ内の処理液タンク２０，２０に収容されるエッチング液が温度調整等のために強制的に循環する。
【００４９】
処理ユニットＣ，Ｄ内の処理液タンク２０，２０に収容されるエッチング液が劣化し、使用限度に達すると、処理ユニットＣ，Ｄでは、戻り管３０に付設されたバルブが閉状態とされる。導入管５０に付設されたバルブも閉状態とされる。処理液供給系統６０内の供給管６１に介装されたポンプ６２はオフ状態とされる。処理ユニットＢ内の循環ポンプ７２もオフ状態とされる。これに代わって、処理ユニットＡ，Ｂでは、戻り管３０に付設されたバルブが開状態とされる。導入管５０に付設されたバルブも開状態とされる。処理液供給系統６０内の供給管６１に介装されたポンプ６２はオン状態とされる。処理ユニットＢ内の循環ポンプ７２もオン状態とされる。
【００５０】
この結果、処理ユニットＣ，Ｄ内にスタンバイタンクとして設けられた処理液タンク２０，２０が開放され、ここから共用タンク１００を介して全ての処理ユニットの処理槽１０へエッチング液が循環される。処理ユニットＢ内の循環ポンプ７０が作動することにより、処理ユニットＡ，Ｂ内の処理液タンク２０，２０に収容されるエッチング液が温度調整等のために強制的に循環する。かくして、使用中のエッチング液が劣化し使用限界に達した場合もラインを停止することなく操業を続けることができる。
【００５１】
処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄに設けられる処理液タンク２０の容量は、１基で３つの処理部１０をまかなえるように選択されている。したがって、２つの処理液タンク２０，２０で５つの処理ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅにおける処理槽１０を担当することができる。
【００５２】
本実施形態では、スタンバイタンクを装備しているが、これが不要の場合は、処理ユニットＡ，Ｂにおいて、標準設備である処理槽１０、渡し配管４０及び処理液供給系統６０を残し、他の設備（オプション設備）を省略すればよい。また処理ユニットはＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅの５つであるが、６つの場合は、標準設備である処理槽１０、渡し配管４０及び処理液供給系統６０のみを装備した処理ユニットＥに相当する処理ユニットを追加すればよい。７つ以上の場合は処理液タンクの追加が必要である。逆に、処理ユニットが３つの場合は、処理ユニットＡ，Ｂを省略し、処理ユニットＣにおける処理液タンク２０をスタンバイタンク、処理ユニットＤにおける処理液タンク２０をメインタンクとして使用すればよく、スタンバイタンクが不要の場合は、処理ユニットＣにおいて、標準設備である処理槽１０、渡し配管４０及び処理液供給系統６０を残し、他の設備（オプション設備）を省略すればよい。
【００５３】
このように、本発明の基板処理装置では、処理槽の個数変更に容易に対応できる。処理槽へ同じエッチング液を供給することができる。処理槽の個数が多くなっても個々のタンク規模は変わらないので、タンクの大型化により基板搬送ラインが高くなるというような問題は生じない。更に、スタンバイタンクの設置も容易で、その設置により装置規模が増大することもない。更に又、ユニット数に比してタンク数を少なくでき、これも経済性の向上に寄与する。
【００５４】
また、各処理ユニットは設計を共通化し、同じ設備を同じ位置に配置するようにすると共に、できるだけ多くの設備をオプション設備として選択使用できるようにしているので、個々の製造コストが安く、設計コストが低いこととあいまって大型の基板処理装置も安価に構築できる。
【００５５】
なお、上記実施形態はエッチング装置におけるエッチングラインであるが、本発明はレジスト剥離装置における剥離ライン等、各種薬液処理ライン、更には洗浄ラインに使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施形態を示すエッチングラインの構成図である。
【符号の説明】
【００５７】
Ａ〜Ｅ  処理ユニット
１０  処理槽
２０  処理液タンク
２１  タンク設置スペース
３０  戻り管
４０  渡し配管
５０  導入管
６０  処理液供給機構
６１  供給管
６２  ポンプ
６３  フィルタ
７０  循環系統
７１  ポンプ設置スペース
７２  循環ポンプ
８０  ドレン配管
９０  液切りユニット
１００  共用タンク
【図１】
2006223994.tif 000003