(57)【要約】【課題】  レーザ波長の短波長化または対物レンズの高ＮＡ化により高密度記録化を達成しながらも、高信頼性を有する光磁気記録再生装置を提供する。【解決手段】  情報を記録或いは再生するための光ピックアップ４を光磁気ディスク１の基板側から記録層に光ビームを入射するように配置し、光磁気ディスク１の面振れを空気流の圧力差によって安定化させるスタビライザー６を光ピックアップ４とは反対側に光磁気ディスク１を挟んで配置する。また、スタビライザー６上に光磁気ディスク１に磁界を印加するための磁界発生手段５を配置する。【選択図】        図１
2006134399.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基板及び光磁気材料からなる記録層を有する可撓性の光磁気記録媒体に情報を記録し或いは記録情報を再生する光磁気記録再生装置において、情報を記録或いは再生するための光ピックアップを前記光磁気記録媒体の基板側から記録層に光ビームを入射するように配置し、前記光磁気記録媒体の面振れを空気流の圧力差によって安定化させるスタビライザーを前記光ピックアップとは反対側に前記光磁気記録媒体を挟んで配置し、且つ、前記スタビライザー上に前記光磁気記録媒体に磁界を印加するための磁界発生手段を配置したことを特徴とする光磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光磁気記録媒体上に光ビームにより情報の記録或いは記録情報の再生を行う光磁気記録再生装置、更に詳しくは高密度記録化を可能とする光磁気記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報の書き換え可能な大容量メモリの一つとして、レーザ光を用いて再生、記録を行う光ディスクが注目されている。再生光学系のレーザ波長λと対物レンズの開口数ＮＡによりビームウェスト径２Ｗ０（２Ｗ０＝Ｋ・λ／ＮＡ）が決まるので、光ディスクは信号再生時の空間周波数が２ＮＡ／λ程度まで検出可能である。即ち、レーザ波長λの短波長化または対物レンズの高ＮＡ化により、より小さな記録マークを読み出すことが可能となり、光ディスクの大容量化が実現できる。
【０００３】
一方、高ＮＡの対物レンズを用いた場合、対物レンズと光ディスクとの距離を小さくしなければならない。また、短波長化及び高ＮＡ化に伴い、光スポット径は小さく絞れるが、収差の影響は大きくなる。このことは、光ディスクのチルトに対するマージンの減少を意味し、何らかの対策が必要となる。
【０００４】
以上の課題に対する解決策として、一般的に、光記録媒体に用いる基板の厚さを薄くすることが考えられている。例えば、波長７８０ｎｍ、ＮＡ＝０．４５の光ピックアップを用いたＣＤ（Compact Disk）においては、基板最上面の光入射面から記録層までの距離が１．２ｍｍである。一方、波長６５０ｎｍ、ＮＡ＝０．６の光ピックアップを用いたＤＶＤ（Digital Versatile Disk）においてはその距離が０．６ｍｍ、波長４０５ｎｍ、ＮＡ＝０．８５の光ピックアップを用いたＢＤ（Blu-ray Disk）に到ってはその距離が０．１ｍｍ程度とすることにより、対物レンズと光記録媒体との距離及びチルトに対するマージンを確保しているのである。
【０００５】
しかし、これらの媒体は光ディスクのトータルの基板の厚さとしては、１．２ｍｍとなっている。例えば、ＤＶＤでは０．６ｍｍの厚さを有する基板を二枚貼り合わせてトータルの基板の厚さを１．２ｍｍとし、ＢＤでは０．１ｍｍの厚さを有する基板と１．１ｍｍの厚さを有する基板との張り合わせでトータルの基板の厚さを１．２ｍｍとしている。このように基板のトータル厚さを１．２ｍｍとすることにより、光ディスクの剛性が保持されるのである。
【０００６】
以上のＣＤやＤＶＤ、ＢＤは、光ピックアップからのレーザ光のみを用いて、情報の再生または記録を行う。これらの記録層を形成する記録膜の材料としては、高反射率を有する金属膜や相変化膜等の無機材料及び有機材料等からなっている。
【０００７】
一方、光ピックアップからのレーザ光による熱エネルギーと磁界発生手段からの磁界エネルギーにより情報を記録する光ディスクとして、光磁気ディスクがある。光磁気ディスクは、記録層として磁気Ｋｅｒｒ効果を有する磁性材料（光磁気材料）から成っており、基本的に記録トラックの溝が形成されたプラスチック基板上に光磁気記録層を成膜したディスク構成となっている。このような光磁気ディスクに対し、記録層とは反対側の基板面側から記録再生レーザ光を入射させて記録層をキュリー温度以上にまで昇温し、この昇温部分に対して磁界発生手段からの磁界により記録層の磁化を情報に応じて反転させて情報の記録を行う。
【０００８】
以上の光磁気ディスクの記録方法には大きく二種類がある。一つは光変調方式であり、もう一つは磁界変調方式である。光変調方式では、ある一方向に磁化された（初期化された）垂直磁化膜に対し、逆方向の磁化が形成されるように磁界発生手段により外部磁界をＤＣ的に印加しながら、レーザ光を照射して局所的に加熱し、逆方向の磁化による記録磁区を形成して記録を行う。一方、磁界変調方式では、記録情報に対応した電流を磁気ヘッド（磁界発生手段）の巻き線コイルに流し、コイルを巻いたコアから発生した変調磁界を使って記録磁区を形成して記録を行う。
【０００９】
以上の二つの光磁気記録方式を比較すると、光変調方式では記録前にある一方向へ着磁する初期化（或いは消去）という操作が必要であり、記録動作以外に初期化のためにディスクを更に一回転させなければならず、転送レート的に不利なものとなっている。この意味で、後者の磁界変調記録方式は、情報の上書き（オーバーライト）が可能であり、初期化に必要な一回転分の時間を必要としないので、転送レート的に優れたものとなっている。
【００１０】
磁界変調方式における光磁気ディスクの一例として、波長７８０ｎｍ、ＮＡ＝０．４５の光ピックアップを用いた１．２ｍｍの基板厚を有するＭＤ（Mini Disk）が挙げられる。装置構成としては、磁界発生手段としての磁気ヘッドを、光ピックアップとは光ディスクを挟んで反対側に配置した構成となっている。
【００１１】
以上のような磁界変調方式の光磁気ディスクに対しても、更なる高密度記録化を目指して、レーザ波長の短波長化または対物レンズの高ＮＡ化による光スポットの小径化が一つの有効な手段とされている。この場合、前述した通り、基板最上面の光入射面から記録層までの距離を小さくしなければならない。
【００１２】
しかしながら、従来の磁界変調方式の光磁気ディスクにおいては、装置構成上、他の光ディスクとは異なり、ディスク剛性を保つためのいわゆるダミー的な基板を貼り付けることができない。何故なら、ダミー基板を貼り付けることにより、磁気ヘッドと記録層間の距離は大きく離れ、十分な記録磁界を記録層に印加することができず、記録不能となってしまうからである。
【００１３】
この課題を解決するために、光の開口部のまわりに巻き線コイルを施し磁界発生部を設けた光ピックアップを搭載した浮上ヘッドを用いて、磁界変調記録を行う光磁気ディスクが提案されている（非特許文献１）。即ち、記録磁界発生部と記録再生光学系が光ディスクに対して同じ側に配置されているので、光ディスクの記録層側に浮上ヘッドを配置して光磁気記録再生を行うことができる。従って、短波長のレーザまたは高ＮＡの対物レンズを備えた光ピックアップを用いたとしても、この浮上ヘッドを用いれば基板のトータル厚さによらず光磁気記録再生ができるのである。
【非特許文献１】２００２年  Magneto Optical Recording International Symposium 2002  Digest Book  Ｐ１２６（Koich Tezuka他３名）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
上記浮上ヘッドを用いた場合には、浮上ヘッドと光磁気ディスク間の距離である浮上量は２〜４μｍ程度しかない。これは、ディスク回転速度にも依存した量ではあるが、記録磁界を記録層に十分に印加させるために、浮上ヘッドと光磁気ディスクとは近接させなければならないからである。このような状況下でディスク上に塵埃や汚れがある場合、ディスク面との接触、衝突等により、光磁気ディスク及び光ヘッドの支持機構・対物レンズ等が損傷する恐れがあり、可搬性媒体としての取り扱いが困難という問題があった。
【００１５】
本発明は、以上のような問題点に鑑みなされたもので、その目的は、レーザ波長の短波長化または対物レンズの高ＮＡ化により高密度記録化を達成しながらも、高信頼性を有する光磁気記録再生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、上記目的を達成するため、少なくとも基板及び光磁気材料からなる記録層を有する可撓性の光磁気記録媒体に情報を記録し或いは記録情報を再生する光磁気記録再生装置において、情報を記録或いは再生するための光ピックアップを前記光磁気記録媒体の基板側から記録層に光ビームを入射するように配置し、前記光磁気記録媒体の面振れを空気流の圧力差によって安定化させるスタビライザーを前記光ピックアップとは反対側に前記光磁気記録媒体を挟んで配置し、且つ、前記スタビライザー上に前記光磁気記録媒体に磁界を印加するための磁界発生手段を配置したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、記録層と磁気ヘッド（本発明では磁界発生部を搭載のスタビライザー）との距離を近接した状態でほぼ一定に維持できるので、情報の記録に要する記録磁界は十分且つ安定なものとなり、良好な記録特性を得ることができる。また、磁気ヘッドを兼ねるスタビライザーの容積は記録媒体上の塵埃や汚れ等に対し十分大きいため、塵埃や汚れに対しての衝突による磁気ヘッドの損傷は皆無に等しい。
【００１８】
また、光磁気ディスクと光ピックアップとの距離に関しても、従来の光ディスクと全く同程度で十分な距離を確保できるので、光磁気ディスクとの衝突による光ヘッドの損傷も僅少なものとなっており、可搬性記録媒体として用いることができる。
【００１９】
更に、本発明は可撓性を有する光磁気ディスクに適した記録再生方法であり、レーザの短波長化または対物レンズの高ＮＡ化による基板厚の薄型化に好適であり、より一層の高密度記録再生が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
次に、発明を実施するための最良の形態について図面を参照して詳細に説明する。図３は本実施形態の光磁気記録再生装置に用いる光磁気ディスクの媒体構成を示す模式的断面図である。
【００２１】
図３において、まず、基板３１としては、直径１２０ｍｍ、厚さ０．１ｍｍのアモルファスポリオレフィン（ＡＰＯ）基板を用いている。基板溝形状としては、トラックピッチは３２０ｎｍ、ランド幅２２０ｎｍ、溝深さは１００ｎｍのランド記録用基板である（レーザビームの入射面に遠い方の溝面をランドと定義）。ランド幅は溝深さの半値幅で規定している。
【００２２】
本実施形態では、ディスク基板にアモルファスポリオレフィン（ＡＰＯ）を用いたが、透光性及び可撓性を示す材料であれば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート等を基板材料として用いてもよい。また、本実施形態では、ランド記録用基板を用いたが、当然、ランド・グルーブ記録用基板でも、グルーブ記録用基板でも使用可能である。更に、本実施形態ではウォブルしていない溝形状の基板を使用しているが、二つの斜面の両側がウォブルした溝形状の場合でも、片側だけウォブルしている溝形状の場合でも、本発明の効果を得ることができる。
【００２３】
以上のようにして作製した基板上に記録膜をスパッタ法により成膜する。本実施形態で用いた光磁気ディスクは、ＤＷＤＤ（domain wall displacement detection）再生方式による磁壁移動型光磁気記録媒体である。この媒体は、再生光の温度分布により記録磁区間の磁壁を移動させて、光の回折限界以下の微小マークの記録磁区面積を拡大して再生できるように記録膜を多層構成にしており、大幅な線記録密度の高密度化を達成している。
【００２４】
本実施形態では、ＤＷＤＤ再生方式による光磁気ディスクを用いたが、ＭＳＲ（a magnetically induced superresolution readout method）再生方式やＭＡＭＭＯＳ（a magetic amplifying magneto-optical system）再生方式等による他の超解像再生方式による光磁気ディスクや、或いは超解像再生しない通常の再生方式による光磁気ディスクに対しても、本発明の効果を同様に得ることができる。
【００２５】
また、以下に本実施形態で用いる磁壁移動型光磁気ディスクにおける具体的な各記録膜の例を示すが、本発明はその主旨を逸脱しない限り、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２６】
記録膜としては、基板３１上に第一の誘電体層３２（ＳｉＮ、膜厚３０ｎｍ）、第一の磁性層３３１（磁壁移動層、ＧｄＦｅＣｏ、膜厚２０ｎｍ）、第二の磁性層３３２（磁壁移動補助層、ＧｄＦｅ、膜厚２０ｎｍ）、第三の磁性層３３３（制御層、ＴｂＦｅＣｏ、膜厚１５ｎｍ）、第四の磁性層３３４（スイッチング層、ＴｂＦｅ、膜厚１０ｎｍ）、第五の磁性層３３５（記録層、ＴｂＦｅＣｏ、膜厚４５ｎｍ）、第六の磁性層３３６（記録層、ＧｄＦｅＣｏ、膜厚１５ｎｍ）、第二の誘電体層３４（ＳｉＮ、膜厚２０ｎｍ）、放熱層３５（Ａｌ合金、膜厚１２０ｎｍ）が順次積層されている。
【００２７】
各誘電体層としては、上記誘電体層の他に、例えば、ＡｌＮ、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｎＳ、ＭｇＦ２等の透明誘電材料が使用できる。また、第一の磁性層３３１、第二の磁性層３３２、第三の磁性層３３３、第四の磁性層３３４、第五の磁性層３３５、第六の磁性層３３６としては、上記磁性材料を含む種々の磁性材料によって構成することが考えられるが、例えば、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ等の希土類金属元素の一種類或いは二種類以上が１０〜４０ａｔ％と、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の遷移金属の一種類或いは二種類以上が６０〜９０ａｔ％で構成される希土類・遷移金属非晶質合金によって構成し得る。
【００２８】
また、耐食性向上等のために、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｉｎ等の元素を少量添加してもよい。更に、放熱層としては、上記Ａｌ合金以外に、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕや、それらの合金等の熱伝導率の良い材料を使用することができる。また、熱伝導率の調整にＳｉやＣｒ等の熱伝導率の悪い材料を放熱層材料に添加して用いることもできる。
【００２９】
各磁性層の詳細な説明を以下に記す。磁壁移動型光磁気記録媒体の基本的な層構成は、第一の磁性層３３１、第四の磁性層３３４、第五の磁性層３３５であり、この三つの磁性層により、磁壁移動・磁区拡大再生動作が実現できる光磁気記録媒体を作製することが可能となる。
【００３０】
この時、第一の磁性層３３１は少なくとも再生ビームスポット内の記録情報検出領域内では第五の磁性層３３５に比べ相対的に磁壁抗磁力が小さく磁壁移動度が大きな垂直磁化膜からなっている。また、第四の磁性層３３４は全磁性層の中で最もキュリー温度の低い磁性層からなり、垂直磁気異方性、磁壁抗磁力が大きく、安定に磁化状態を転写できるものが望ましい。第五の磁性層３３５は垂直磁化膜からなっており、垂直磁気異方性、磁壁抗磁力が大きく、安定に記録磁区が保持できるものが望ましい。
【００３１】
更に、他の磁性層について説明すると、第二の磁性層３３２は再生特性を向上させるために設けており、第一の磁性層３３１のキュリー温度よりは低く、また、少なくとも再生ビームスポット内の記録情報検出領域内では第五の磁性層３３５に比べ相対的に磁壁抗磁力が小さく磁壁移動度が大きな垂直磁化膜からなっている。
【００３２】
第三の磁性層３３３は、再生ビームスポット後方端部での第五の磁性層３３５から第一の磁性層３３１へ再転写された磁区の磁壁の移動により引き起こされる、再生信号への重畳信号、いわゆるゴースト信号を抑制するための磁性層である。この第三の磁性層３３３は、垂直磁気異方性が大きく、第一の磁性層３３１よりも磁壁抗磁力が大きい磁性層を用いるのが望ましい。
【００３３】
第六の磁性層３３６は記録特性を向上させるために設けており、第五の磁性層３３５よりもキュリー温度が高いものが好ましい。
【００３４】
本実施形態では、各磁性層のキュリー温度として、第一の磁性層３３１は３２０℃程度、第二の磁性層３３２は２６０℃程度、第三の磁性層３３３は２００℃程度、第四の磁性層３３４は１６０℃程度、第五の磁性層３３５は３２０℃程度、第六の磁性層３３６は３７０℃程度である。
【００３５】
以上のようにして作製した磁壁移動型光磁気ディスクの記録膜に対し、アクリレート系ＵＶ樹脂により保護コート３６を施している。保護コート３６の厚さは１０μｍである。保護コート３６としては、上記ＵＶ樹脂以外にエポキシ系ＵＶ樹脂等も使用できる。
【００３６】
図１は本発明に係る光磁気記録再生装置の概略構成図である。可撓性を有するシート状の光磁気ディスク１は、ハブ７でスピンドルシャフト２に保持され、スピンドルモータ３によってスピンドルシャフト２を回転駆動させる。そして、光ピックアップ４から光磁気ディスク１に対して情報の記録及び再生を行うためのレーザ光が出射される。光磁気ディスク１は図３の構成である。
【００３７】
また、記録層に記録された情報に応じて磁気Ｋｅｒｒ効果により偏光面が変化した反射光を、図示しない再生検出系に入射して情報再生ができるようになっている。この反射光は記録したい記録トラックのみにレーザスポットをトレースする、フォーカシング及びトラッキングのサーボ用にも用いられる。
【００３８】
また、図２に示すように光磁気ディスク１の面振れを防止し、記録情報に応じて変調磁界を発生させる磁界発生部５を搭載したスタビライザー６が、光ピックアップ４とは反対側に光磁気ディスク１を挟んで配置されている。このスタビライザー６としては、先端形状が半径５０ｍｍ（曲率半径Ｒ）、直径が２０ｍｍの円柱状の部材を用いている。以上の光ピックアップ４及びスタビライザー６は、位置、角度を設定するための位置設定機構８及び９をそれぞれ備えている。
【００３９】
更に、光磁気記録再生装置の光ピックアップ４の光学系は、レーザ波長λ＝４０５ｎｍ、対物レンズのＮＡ＝０．８５であり、光磁気ディスク１の記録層が形成された記録面とは反対側の基板側からレーザ光を入射させて、情報の記録再生を行う。これにより、光磁気ディスク１と光ピックアップ４の距離は、従来の光ディスクと同様の距離を確保できる。即ち、この距離が２〜４μｍ程度の光ピックアップを搭載した浮上ヘッドを用いた光磁気記録再生装置に比べ、本実施形態では光ピックアップ４と磁気ヘッド（スタビライザー６に搭載された磁界発生手段５）を光磁気ディスク１を挟んで別々に配置しており、光ピックアップ４と光磁気ディスク１との距離を大きくできるので、光磁気ディスク１と光ピックアップ４との衝突確率は激減し、格段に信頼性が向上したものとなっている。
【００４０】
ここで、以上の光磁気記録再生装置を用いて半径４５ｍｍの記録トラックに対して、線速度５ｍ／ｓ、スタビライザー６と光磁気ディスク１との間隔を約６μｍに設定して、前述のような磁壁移動型光磁気ディスクの記録再生を行った。この時、スタビライザー６のディスク回転軸方向の位置としては、１．５ｍｍ、基準面に対しディスクを押し込む位置に設定した（０．１ｍｍの基板厚を有する平らなディスクをスピンドルシャフトに水平に載置した時にできる光入射側の基板面を基準面とする。図１参照。）。
【００４１】
このスタビライザー６の位置は、ディスク半径位置によって異なり、半径毎に位置調整が必要となる。例えば、本実施形態では半径５５ｍｍではスタビライザー６の位置として、２．５ｍｍに設定する必要がある。このディスク半径位置毎のスタビライザー６の位置調整という煩雑な操作を省く方法として、スタビライザー６とは別の補助的なスタビライザーをディスク上の別の位置に設けるという手段がある。
【００４２】
すなわち、スタビライザー６とは干渉しない位置に、一箇所、もしくは、複数箇所、ディスク上に補助的なスタビライザーを配置するという手段である。例えば、先端形状が半径１００ｍｍ、直径が３０ｍｍの円柱状の部材により構成された補助的なスタビライザーをディスク半径４５ｍｍの位置に二箇所配置する。このとき、二つの補助的なスタビライザーを配置する位置として、例えば、補助的なスタビライザーの中心同士を結んだ直線上にディスク中心が通るように配置する。そして、この２点を結んだ直線に対して垂直な直線上に、スタビライザー６を配置されるようにして、装置を構成する。
【００４３】
以上のような補助的なスタビライザーの効果により、記録再生する半径位置が異なった場合にでも、スタビライザー６の位置を所定の位置にほぼ固定して用いることができる。また、このような補助的なスタビライザーを追加した装置構成にした場合でも、本発明の効果は同様に得られる。
【００４４】
以上の各種設定条件でディスクを回転させて、レーザ変位計を用いて光磁気ディスク１の面振れ（ディスク回転軸方向の振れ）を測定したところ、３μｍ程度であった。このように面振れが非常に小さいのは以下の理由による。
【００４５】
回転しているシート状の光磁気ディスク１は小さいながら剛性を持つ。これにより、回転すると遠心力との作用も手伝って、光磁気ディスク１としては真っ直ぐな状態になろうとする力が働くようになる。また、光磁気ディスク１に対してスタビライザー６を近づけると、ベルヌーイの法則に基づく空気流の圧力差による反発力が生成されて光磁気ディスク１に与えられる。以上の光磁気ディスク１が真っ直ぐになろうとする力と、スタビライザー６からの反発力の二つの力の釣り合いによって、面振れを小さく抑制することができるのである。
【００４６】
また、本発明に係るスタビライザー６には、図２に示すように磁界変調記録を行うための磁界発生部５が搭載されている。従って、この磁界発生部５（スタビライザー６）と光磁気ディスク１との距離も６μｍとなっている。また、面振れは前述の通り３μｍと非常に小さいため、光磁気記録層と磁界発生部５との距離に対しても、ディスク回転軸方向の振れにして３μｍと非常に小さく、ほぼ一定の距離が保たれ、安定した記録を行うことができる。
【００４７】
更に、スタビライザー６の容積（先端形状が半径５０ｍｍ（曲率半径Ｒ）、直径が２０ｍｍの円柱状の部材）は、光磁気ディスク上に付着する通常の塵埃や汚れの容積に比べ非常に大きく、たとえ、スタビラーザー６と接触、衝突したとしても破損することはまずない。一方、光磁気ディスクへのダメージについては、保護コートにより記録層が保護されており、記録層にまでダメージが及ぶことはない。
【００４８】
以上の光磁気記録再生装置を用いて、前述した磁壁移動型光磁気ディスクの記録再生を行った。記録再生までの手順としては、まず、スタビライザー６が光磁気ディスク１から遠ざかっていることを確認し、遠ざかっていない場合には位置設定機構９により光磁気ディスク１からスタビライザー６を遠ざけてから、所定の線速度（本実施形態では線速度５ｍ／ｓ）で回転させる。
【００４９】
その後、所望の半径位置（本実施形態では半径４５ｍｍ）に光ピックアップ４及びスタビライザー６を、位置設定機構８及び位置設定機構９により移動させる。そして、スタビライザー６を回転軸方向から光磁気ディスク１に徐々に近づけていき、レーザ変位計等を用いて面振れの測定を行って所定の面振れ安定範囲内（本実施形態では面振れ３μｍ以下）に入ったときに、その位置（本実施形態では１．５ｍｍ）でスタビライザー６を固定する。その後、光ピックアップ４によりレーザ光を光磁気ディスク１に照射して、従来通りのフォーカシング及びトラッキング動作を行い、所望のトラックにレーザスポットをトレースして、記録再生を行う。
【００５０】
以上のようにして、光磁気ディスク１に光ピックアップ４から記録パワーに設定したレーザ光を照射し、磁界発生部５から、６７ｎｍ／ｂｉｔ（面記録密度３０Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ２）、（１，７）−ＲＬＬのランダムパターンによる変調磁界を印加することにより情報を記録した。記録パワーは５．０ｍＷで、ＤＣ光照射により記録を行った。記録磁界強度は２００（Ｏｅ）で行った。
【００５１】
この記録後、光磁気ディスク１に再生パワーによるレーザ光を照射して、記録情報の再生を行った。再生パワーは２．０ｍＷで行った。この時、誤り率ｂＥＲはｂＥＲ＝２．０×１０−５であり、良好な特性を示していた。その後、光磁気ディスク１を光磁気記録再生装置から一旦取り出し、再度、光磁気記録再生装置内に戻して、前記と同一条件で記録再生を行った。
【００５２】
この時、ｂＥＲ＝１．８×１０−５であった。以上の光磁気ディスク１の取り出し、記録再生の操作を１００回繰り返して誤り率を測定したところ、すべての誤り率でｂＥＲ＝１．０〜３．０×１０−５の範囲内に収まり、磁気ヘッド及び光磁気ディスクを損傷させることなく、安定して良好な特性を示し、可搬性記録媒体として十分利用可能であることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明に係る光磁気記録再生装置の一実施形態の概略構成を示す構成図である。
【図２】本発明に係るスタビライザーの概略構成を示す正面図である。
【図３】図１の光磁気記録再生装置で用いる光磁気記録媒体の基本構成図である。
【符号の説明】
【００５４】
１  光磁気ディスク
２  スピンドルシャフト
３  スピンドルモータ
４  光ピックアップ
５  磁界発生部
６  スタビライザー
７  ハブ
８  光ピックアップの位置設定機構
９  スタビライザーの位置設定機構
３１  基板
３２  第一の誘電体層
３４  第二の誘電体層
３５  放熱層
３６  保護コート
３３１  第一の磁性層
３３２  第二の磁性層
３３３  第三の磁性層
３３４  第四の磁性層
３３５  第五の磁性層
３３６  第六の磁性層
【図１】
2006134399.tif 000003
【図２】
2006134399.tif 000004
【図３】
2006134399.tif 000005