(57)【要約】【課題】  転写装置において、転写用原盤等の洗浄対象を装置から取り外すことなく、簡易にかつ高レベルに洗浄することを可能とする。【解決手段】  転写装置１は、転写用原盤１０の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、転写用原盤１０の表面上の情報を被転写面に転写するものであり、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させ、洗浄対象である、転写用原盤１０、被転写体、及びこれらを保持する保持具３０のうち少なくとも一つを洗浄する洗浄手段４０と、洗浄対象を加熱ガス及び／又は光にて加熱する加熱手段５０とを備える。洗浄用ガスと、加熱ガス及び／又は光とが、洗浄対象の異なる領域に向けて供給されると共に、洗浄手段４０及び加熱手段５０に対して、洗浄対象を相対的に移動させる相対移動手段をさらに備えていることが好ましい。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用原盤の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、前記転写用原盤の表面上の情報を前記被転写面に転写する転写装置において、
冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させ、洗浄対象である、前記転写用原盤、前記被転写体、及び該転写用原盤と該被転写体とを保持する保持具のうち少なくとも一つを洗浄する洗浄手段と、
前記洗浄対象を、加熱ガス及び／又は光にて加熱する加熱手段とを備えたことを特徴とする転写装置。
【請求項２】
前記洗浄用ガスと、前記加熱ガス及び／又は光とは、前記洗浄対象の異なる領域に向けて供給されると共に、
前記洗浄手段及び前記加熱手段に対して、前記洗浄対象を相対的に移動させる相対移動手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
磁気転写用であることを特徴とする請求項１又は２に記載の転写装置。
【請求項４】
転写用原盤の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、前記転写用原盤の表面上の情報を前記被転写面に転写する転写体の製造方法において、
洗浄対象である、前記転写用原盤、前記被転写体、及び該転写用原盤と該被転写体とを保持する保持具のうち少なくとも一つを洗浄するに際し、
前記洗浄対象に対して、加熱ガス及び／又は光にて加熱しながら、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させることを特徴とする転写体の製造方法。
【請求項５】
前記洗浄用ガスと、前記加熱ガス及び／又は光とを、前記洗浄対象の異なる領域に向けて供給する共に、前記洗浄対象における該供給領域を相対的に移動させることを特徴とする請求項４に記載の転写体の製造方法。
【請求項６】
前記洗浄用ガスを前記洗浄対象に衝突させる前に、前記加熱ガス及び／又は光による前記洗浄対象の加熱を開始することを特徴とする請求項４又は５に記載の転写体の製造方法。
【請求項７】
転写用原盤の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、前記転写用原盤の表面上の情報を前記被転写面に転写する際の洗浄方法において、
前記転写用原盤、前記被転写体、及び該転写用原盤と該被転写体とを保持する保持具のうち少なくとも一つに対して、加熱ガス及び／又は光にて加熱しながら、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させることを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気転写等に用いて好適な転写装置、該装置を用いた転写体の製造方法、及び、転写装置等の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体の製造技術として、表面に所定の凹凸パターンを有し、少なくとも表面が磁性化された転写用原盤（マスタ担体）を用い、被転写体（スレーブ媒体）に対して、転写用原盤の表面凹凸パターンに応じた情報を磁気転写する技術がある（特許文献１等）。
【０００３】
かかる技術では、転写不良を抑制するべく、転写用原盤、被転写体、及びこれらを保持する保持具（ホルダ）が清澄であることが重要である。特に、一枚の転写用原盤を用いて多数の被転写体に転写を行うため、転写用原盤の清澄性を維持することが重要である。
【０００４】
そこで、従来は、（１）装置内の減圧吸引及びその解除用のエア導排出機構を利用し、塵埃を払拭する、（２）転写用原盤等を装置から取り外して洗浄するなどの措置が採られている。
【０００５】
また、一般の表面洗浄技術として、（３）液化CO２ガス等の液化ガスをノズルから洗浄対象に向けて噴射させることで、断熱膨張によりガスの少なくとも一部を冷却粒状化させ、これを洗浄対象に衝突させる、いわゆる「ドライアイスクリーニング」が知られている（特許文献２等）。
【特許文献１】特開２００１−２５６６４４号公報
【特許文献２】特公昭６０−３５５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、（１）エアによる塵埃の払拭だけでは、洗浄力が充分でなく、洗浄対象の端部等に塵埃が残存する恐れがある。（２）洗浄対象を取り外しての洗浄作業は、手間やコストがかかり、好ましくない。
【０００７】
また、（３）公知の「ドライアイスクリーニング」技術を転写技術に単に適用するだけでは、洗浄対象が冷却され、結露が発生してしまう。結露抑制方法としては、例えば、転写用原盤の保持具（ホルダ）にヒータを直接取り付けることが想到される。しかしながら、磁気記録媒体製造用では、磁界を良好に印加するべく、保持具を含む保持用ユニット全体の厚みを極力薄くする必要があり、保持具にヒータを取り付けることは現実的ではない。
【０００８】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、転写用原盤等の洗浄対象を装置から取り外すことなく、簡易にかつ高レベルに洗浄することが可能な転写装置、及びこれを用いた転写体の製造方法、並びに洗浄方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は上記課題を解決するべく鋭意検討し、以下の転写装置、転写体の製造方法、及び洗浄方法を発明した。なお、本発明の技術は磁気転写用に限らず、任意の転写用に適用可能である。
【００１０】
本発明の転写装置は、転写用原盤の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、前記転写用原盤の表面上の情報を前記被転写面に転写する転写装置において、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させ、洗浄対象である、前記転写用原盤、前記被転写体、及び該転写用原盤と該被転写体とを保持する保持具のうち少なくとも一つを洗浄する洗浄手段と、前記洗浄対象を、加熱ガス及び／又は光にて加熱する加熱手段とを備えたことを特徴とする。
【００１１】
本明細書では、「被転写体」を転写前のもの、「転写体」を転写された後のものとして、区別してある。また、「加熱ガス」及び「光」は、少なくとも洗浄対象の結露を抑制できる程度に洗浄対象を加熱するものである。
【００１２】
本発明の転写装置においては、前記洗浄用ガスと、前記加熱ガス及び／又は光とが、前記洗浄対象の異なる領域に向けて供給されると共に、前記洗浄手段及び前記加熱手段に対して、前記洗浄対象を相対的に移動させる相対移動手段をさらに備えていることが好ましい。
【００１３】
本明細書において、洗浄用ガスと、加熱ガス及び／又は光とが、「洗浄対象の異なる領域に向けて供給される」とは、同タイミングにおいて、洗浄用ガスと、加熱ガス及び／又は光とが、洗浄対象における供給領域の少なくとも一部が異なるように供給されることを意味する。したがって、上記構成では、洗浄対象の同じ領域が、あるタイミングでは洗浄用ガスの供給を受け、別のタイミングでは加熱ガス及び／又は光の供給を受けることとなる。
【００１４】
また、ガス等は洗浄対象の表面に衝突した後、同表面で流下や反射等して、洗浄対象の他の領域を含む種々の方向に向かうが、「洗浄対象におけるガス等の供給領域」とは、ガス等が、洗浄対象にはじめに衝突する領域を意味するものとする。
【００１５】
本発明の転写装置は、磁気転写用として好適である。
【００１６】
本発明の転写体の製造方法は、転写用原盤の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、前記転写用原盤の表面上の情報を前記被転写面に転写する転写体の製造方法において、洗浄対象である、前記転写用原盤、前記被転写体、及び該転写用原盤と該被転写体とを保持する保持具のうち少なくとも一つを洗浄するに際し、前記洗浄対象に対して、加熱ガス及び／又は光にて加熱しながら、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させることを特徴とする。
【００１７】
本発明の転写体の製造方法においては、前記洗浄用ガスと、前記加熱ガス及び／又は光とを、前記洗浄対象の異なる領域に向けて供給する共に、前記洗浄対象における該供給領域を相対的に移動させることが好ましい。
【００１８】
また、前記洗浄用ガスを前記洗浄対象に衝突させる前に、前記加熱ガス及び／又は光による前記洗浄対象の加熱を開始することが好ましい。
【００１９】
本発明の洗浄方法は、転写用原盤の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、前記転写用原盤の表面上の情報を前記被転写面に転写する際の洗浄方法において、前記転写用原盤、前記被転写体、及び該転写用原盤と該被転写体とを保持する保持具のうち少なくとも一つに対して、加熱ガス及び／又は光にて加熱しながら、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させ、転写用原盤等の洗浄対象を洗浄すると共に、洗浄対象を、加熱ガス及び／又は光にて加熱する構成を採用しているので、洗浄対象を装置から取り外すことなく、簡易にかつ高レベルに洗浄することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
「転写装置」
次に、図面を参照し、本発明に係る一実施形態の転写装置について説明する。図１は本実施形態の転写装置を示す概略図であり、（ａ）は正面図（（ｂ）のＡ―Ａ’面正面図）、（ｂ）は側面図である。図１は転写装置の洗浄状態を示すもので、この図では、被転写体は保持具（３０）に装着されておらず、保持具を構成する一対の挟持部材（３１、３２）はオープンの状態にある。図２（ａ）、（ｂ）は転写方法の概略を示す図で、転写用原盤と被転写体の拡大厚み方向断面図である。
【００２２】
本実施形態では、片面磁気転写にて磁気記録媒体を製造する転写装置を例として説明する。本発明は洗浄機構が特徴的なものであり、転写用原盤、被転写体、及びこれらを保持する保持具（ホルダ）のうち少なくとも一つを洗浄する場合に適用可能であるが、本実施形態では、転写用原盤のみを洗浄する場合について説明する。
【００２３】
図１、図２に示すように、本実施形態の転写装置１は、転写用原盤１０と被転写体２０の被転写面とを密着させ、転写用原盤１０の表面形状に応じた情報を磁気転写し、磁気記録媒体（転写体）を製造するものである。
【００２４】
転写用原盤１０及び被転写体２０としてはいずれも、平面視、中心部に開口部を有するディスク状物が使用され、これらの表面及び断面の構造は、製造される磁気記録媒体に応じて適宜選定設計される。
【００２５】
図２（ｂ）に示す如く、転写用原盤１０としては、例えば、表面に転写情報に応じた微細な凹凸パターン（転写パターン）Ｐを有する金属製等のマスタ基板１１と、その表面形状に沿って積層された磁性層１２とを備えたマスタ担体等が使用される。被転写体２０としては、片面又は両面に磁気記録層を有するスレーブ媒体が使用される。
【００２６】
本実施形態の転写装置１は、転写用原盤１０及び被転写体２０を着脱自在に保持する保持具（ホルダ）３０と、被転写体２０を転写用原盤１０の表面（凹凸パターン側）に対向密着させるよう、自動供給する被転写体供給手段（図示略）と、対向密着させた転写用原盤１０と被転写体２０に磁界を印加する電磁コイルや永久磁石等の磁界印加手段（図示略）とから概略構成されている。
【００２７】
保持具３０としては例えば、略板状の挟持部材３１、３２を主として構成され、一方の挟持部材３１に、転写用原盤１０の裏面を支持する支持面３１ａと、該面に突設され、転写用原盤１０及び被転写体２０の開口部に挿通される挿通部材３１ｂと、転写用原盤１０をエア吸引により保持し、エア押圧により保持を解除する吸引押圧機構（図示略）とが備えられたものが好ましく使用される。
【００２８】
詳細については後記するが、本実施形態では、転写用原盤１０と被転写体２０とを保持具３０（挟持部材３１、３２）にて挟持した状態で、磁界印加手段にて磁界を印加することで、磁気転写が行われる。
【００２９】
本実施形態ではさらに、転写用原盤１０の表面を洗浄するために、洗浄対象である転写用原盤１０の表面に対して、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを供給する洗浄用ガス供給ノズル（洗浄手段）４０と、同表面に対して、加熱ガスを供給する加熱ガス供給ノズル（加熱手段）５０とを有する洗浄ユニット２が備えられている。本実施形態では、かかる２種類のノズルを有する洗浄ユニット２が設けられていることが特徴的である。
【００３０】
洗浄用ガス供給ノズル４０と加熱ガス供給ノズル５０とはいずれも、転写用原盤１０の前方上方から下方に垂設された後、転写用原盤１０側に屈設されており、屈設された部分（先端部）が末広がりに拡径されている。本実施形態では、これらノズル４０及び５０は、転写用原盤１０の開口部を挟むように線対称に離間配置されており、転写用原盤１０の表面の異なる領域に向けて、洗浄用ガスと加熱ガスとが各々供給されるようになっている。
【００３１】
洗浄用ガスに含まれる冷却粒状化したガスの生成タイミングは、ノズル４０の吐出前、吐出後のいずれであってもよい。すなわち、（Ａ）あらかじめ、冷却粒状化したＡｒやＮ２等のガスを含むエアロゾルを調製し、これをノズル４０から吐出させてもよいし、（Ｂ）液化CO２ガス等の液化ガスをノズル４０から洗浄対象に向けて吐出させることで、断熱膨張によりガスの少なくとも一部を冷却粒状化（液化CO２ガスの場合はドライアイス化）させてもよい。洗浄用ガスには、必要に応じて任意のキャリアガスを含ませることができる。
【００３２】
加熱ガスの種類は制限されず、例えば、空気を加熱して用いることがコストの点で好ましい。加熱ガスの温度は、少なくとも洗浄対象の結露を抑制できる程度に適宜設定され、特に制限されない。ただし、結露抑制効果とコストの観点から、８０〜１００℃程度が好ましい。
【００３３】
洗浄ユニット２には、ノズル４０及び５０の他、これらを各々保持する断面視逆Ｌ字状の保持アーム４１及び５１と、保持アーム４１及び５１を共に保持する略板状のユニットベース４２とが設けられている。また、洗浄ユニット２は、略板状のステージ６０上に、転写用原盤１０の表面に対して垂直な面（図示Ｘ−Ｙ平面）で移動自在に保持されている。すなわち、本実施形態では、ステージ６０における洗浄ユニット２の移動機構により、洗浄用ガス供給ノズル４０及び加熱ガス供給ノズル５０の先端部（供給口）が転写用原盤１０に対向するように、洗浄ユニット２をＸ−Ｙ平面で移動（スライド）させ、洗浄が行われる。
【００３４】
また、洗浄ユニット２のユニットベース４２には、ノズル４０及び５０側が開口した排気フード（排気手段）４３がノズル４０及び５０に跨って対向するよう、取り付けられている。この排気フード４３は、ブロワ等の吸引手段（図示略）に接続されている。この構成では、ノズル４０及び５０から供給されたガスは、装置内全体に広がることなく、転写用原盤１０の特定領域に衝突した後、直ちに排気フード４３を介して装置外に排出される。洗浄用ガスが転写用原盤１０に衝突する際には、転写用原盤１０の表面に付着した塵埃等が洗浄除去され、除去された塵埃等は洗浄用ガスと共に装置外に排出される。
【００３５】
洗浄ユニット２のユニットベース４２にはさらに、洗浄用ガス及び加熱ガスの転写用原盤１０と反対側への拡散を抑制するべく、遮蔽板７０が設けられている。この遮蔽板７０は、ノズル４０及び５０と挟持部材３２との間に介挿される。かかる構成を採用することで、除去された塵埃等の挟持部材３２側への付着を抑制できる。
【００３６】
本実施形態にはさらに、転写用原盤１０の全面を洗浄するために、洗浄用ガス供給ノズル４０及び加熱ガス供給ノズル５０に対して、転写用原盤１０を相対的に移動させる相対移動手段が設けられている。具体的には、相対移動手段として、転写用原盤１０を保持する挟持部材３１を回動するモータ等の回動手段（図示略）と、ノズル４０、５０を保持する保持アーム４１、５１を各々図示左右方向（Ｘ方向）に平行移動（スライド）させるノズル移動手段（図示略）とが備えられている。挟持部材３１の回動方向は任意であり、洗浄途中で適宜反転させることも差し支えない（例として、時計回り方向の場合について図示してある。）。
【００３７】
本実施形態の転写装置１は以上のように構成されている。
【００３８】
「転写体の製造方法」
次に、本発明に係る一実施形態の転写体の製造方法として、転写装置１を用いた磁気記録媒体の製造方法を説明する。本実施形態の製造方法は、転写工程と洗浄工程とから概略構成され、洗浄工程が特徴的である。
【００３９】
（転写工程）
はじめに、転写工程について簡単に説明する。
【００４０】
磁気記録媒体の製造では、図２（ａ）に示すように、あらかじめ、被転写体（スレーブ媒体）２０に対して、トラック方向又は厚み方向に磁界Ｈｉｎを印加し、磁気記録層（図示略）を初期磁化させる（トラック方向に磁界Ｈｉｎを印加した場合について図示してある）。この状態で、被転写体供給手段（図示略）にて、被転写体２０を転写用原盤１０に対向密着するよう供給し、保持具３０にて、転写用原盤（マスタ担体）１０及び被転写体２０を保持する。
【００４１】
次に、同図（ｂ）に示すように、転写用原盤１０及び被転写体２０に対して、保持具３０の外側から、初期磁化の方向と略反対方向に転写用磁界Ｈｄｕを印加する。この際、転写用磁界Ｈｄｕは、転写用原盤１０において、被転写体２０と密着した磁性層１２の凸部１２ａにのみ略選択的に吸い込まれる。その結果、面内記録の場合、被転写体２０の磁気記録層では、凸部１２ａに密着した部分の初期磁化は反転せず、その他の部分の初期磁化が反転する。垂直記録の場合には逆に、被転写体２０の磁気記録層では、凸部１２ａに密着した部分の初期磁化が反転し、その他の部分の初期磁化は反転しない。このようにして、転写用原盤１０の凹凸パターンＰに応じた磁化パターンが被転写体２０に磁気転写され、磁気記録媒体が製造される。
【００４２】
（洗浄工程）
磁気転写開始から所定時間が経過するごとに、あるいは所定枚数の被転写体２０に磁気転写を実施するごとに、転写用原盤１０の洗浄を定期的に実施する。洗浄はこのように定期的に行うことが好ましいが、実際に製造される磁気記録媒体の品質検査、あるいは転写用原盤１０の検査の結果に基づいて、転写用原盤１０が汚染されたと判定された場合にのみ洗浄を行うことも差し支えない。また、定期的な洗浄と、磁気記録媒体や転写用原盤の検査結果に基づく不定期的な洗浄を双方実施することも差し支えない。
【００４３】
洗浄は、被転写体２０を保持具３０に装着せず、保持具３０がオープンの状態で実施する。
【００４４】
はじめに、ステージ６０における洗浄ユニット２の移動機構にて、洗浄ユニット２を洗浄用ガス供給ノズル４０及び加熱ガス供給ノズル５０の先端部（供給口）が転写用原盤１０に対向するように、洗浄ユニット２をＸ−Ｙ平面で移動（スライド）させる。
【００４５】
次に、相対移動手段（図示略）を作動させることで、転写用原盤１０を回動させると共に、洗浄用ガス供給ノズル４０及び加熱ガス供給ノズル５０を平行移動（スライド）させ、ノズル４０及び５０に対して、転写用原盤１０を連続的に又は断続的に相対移動させる。転写用原盤１０の回動とノズル４０及び５０の平行移動とは、同時に行っても順次行ってもよい。断続的に移動させる場合、移動のオンオフのタイミングは任意に設計できる。ただし、全面洗浄性や操作性を考慮すれば、いったん相対移動手段をオンにした後は洗浄終了まで、オン状態を維持することが最も好ましい。
【００４６】
さらに、加熱ガス供給ノズル５０を開け、加熱ガスによる転写用原盤１０の加熱を開始する。また、洗浄用ガス供給ノズル４０を開け、洗浄用ガスの転写用原盤１０への衝突による洗浄を開始する。
【００４７】
洗浄中は、加熱ガスと洗浄用ガスを連続的に又は断続的に供給する。断続的に供給する場合、供給のオンオフのタイミングは任意に設計できる。また、途中で洗浄用ガスと加熱ガスの種類や流量等を変更することも差し支えない。ただし、洗浄性や操作性を考慮すれば、いずれのガスも連続供給することが最も好ましい。すなわち、いったん加熱ガス供給ノズル５０及び洗浄用ガス供給ノズル４０を開けた後は洗浄終了まで、その状態を維持することが最も好ましい。
【００４８】
転写用原盤１０の相対移動、加熱ガスの供給、及び洗浄用ガスの供給の開始順序は、同時、一部同時、順次のいずれでもよく、適宜設計できる。ただし、洗浄用ガスの転写用原盤１０への衝突による洗浄前に、加熱ガスによる転写用原盤１０の加熱を開始することが好ましい。
【００４９】
このように、本実施形態では、転写用原盤１０に対して、加熱ガスにて加熱しながら、洗浄用ガスを衝突させ、洗浄を行うことを特徴としている。また、洗浄用ガスと加熱ガスとを、転写用原盤１０の異なる領域に向けて供給する共に、転写用原盤１０におけるこれらの供給領域を相対的に移動させることを特徴としている。
【００５０】
洗浄時間は転写用原盤１０の汚染具合等に応じて適宜設計され、特に制限はない。
【００５１】
洗浄用ガスの供給開始から所定時間経過後、ノズル４０及び５０を閉じ、洗浄用ガス及び加熱ガスの供給を停止する。また、相対移動手段による転写用原盤１０の相対移動を停止する。
【００５２】
洗浄用ガスの供給、加熱ガスの供給、及び転写用原盤１０の相対移動の停止順序は、開始順序と同様、同時、一部同時、順次のいずれでもよく、適宜設計できる。
【００５３】
最後に、ステージ６０における洗浄ユニット２の移動機構にて、洗浄ユニット２を元の場所に戻し、洗浄が完了する。
【００５４】
上記実施形態の転写装置１によれば、洗浄用ガス供給ノズル４０（洗浄手段）を設ける構成としているので、洗浄対象である転写用原盤１０に対して、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させ、洗浄を行うことができる。そのため、洗浄用ガスに含まれる冷却固化粒子の洗浄対象への物理的な衝突力、該粒子が洗浄対象の表面で液化する際の溶解力、さらには、再液化した粒子が気化する際の膨張力等が相俟って、高い洗浄効果が得られる。また、洗浄用ガスの供給は、洗浄用ガス供給ノズル４０を開けるだけでよいので、洗浄対象を装置から取り外すことなく、簡易に洗浄を実施できる。このように、転写装置１、及びこれを用いた洗浄方法によれば、洗浄対象を装置から取り外すことなく、簡易にかつ高レベルに洗浄を実施することができる。
【００５５】
しかも、上記実施形態では、加熱ガス供給ノズル５０（加熱手段）を設ける構成としているので、洗浄対象に対して、加熱ガスにて加熱しながら、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させ、洗浄を行うことができる。したがって、洗浄対象の表面が、温度の低い冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスによって過度に冷却され、洗浄対象に結露が発生することを抑制できる。
【００５６】
また、加熱手段として保持具３０にヒータ等を取り付ける場合と異なり、保持具３０を含む保持用ユニット全体の厚みは従来のまま維持できるので、磁気転写時には磁界を良好に印加することができ、磁気転写が悪影響を受けることもない。
【００５７】
さらに、上記実施形態では、洗浄用ガス供給ノズル４０及び加熱ガス供給ノズル５０を離間配置し、洗浄用ガスと加熱ガスとが、洗浄対象の異なる領域に向けて供給される構成としている。したがって、洗浄用ガスと加熱ガスとは積極的には混ざらず、洗浄用ガス中の冷却固化粒子が、洗浄対象に衝突する前に加熱ガスによって加熱溶融し、冷却固化粒子の一部が消失し、冷却固化粒子の洗浄対象への物理的な衝突力が相対的に低下することを抑制できる。その結果、洗浄用ガスによる高い洗浄効果が、加熱ガスの存在によって損なわれることを抑制できる。
【００５８】
特に上記実施形態では、両ノズル４０及び５０から供給されるガスの流下側に、排気フード４３を設ける構成としているので、洗浄用ガスと加熱ガスとはほとんど混じることなく、高い洗浄効果を確保できる。
【００５９】
また、洗浄用ガスと加熱ガスとが、洗浄対象の異なる領域に向けて供給される構成では、特段の機構を備えていない場合、洗浄用ガスと加熱ガスとが洗浄対象に対して部分供給されることになるが、上記実施形態では、洗浄用ガス供給ノズル４０及び加熱ガス供給ノズル５０に対して、洗浄対象を相対的に移動させる相対移動手段を設ける構成としている。したがって、洗浄対象の全面を良好に洗浄することができる。また、洗浄対象の同じ箇所に着目すれば、あるタイミングでは洗浄用ガスの供給を受け、次のタイミングでは加熱ガスの供給を受け、洗浄と加熱とが繰り返されることとなる。しかも、洗浄対象の狭い領域に対して、集中的に洗浄用ガスと加熱ガスを供給できるので、装置内全体にこれらのガスを供給する場合に比して、洗浄対象に衝突するガス流速を高めることができる。その結果、高い洗浄効果と結露抑制効果が効率よく、しかもより高いレベルで発現する。
【００６０】
特に、洗浄用ガスを洗浄対象に衝突させる前に、加熱ガスによる洗浄対象の加熱を開始することが好ましい。この場合には、洗浄用ガスによる洗浄対象の冷却が、洗浄対象の加熱前に進行することを抑制し、結露発生をより効果的に抑制できる。
【００６１】
また、（Ａ）あらかじめ、冷却粒状化したガスを含むエアロゾルを調製し、これを洗浄用ガスとしてノズル４０から吐出させてもよいし、（Ｂ）液化ガスをノズル４０から洗浄対象に向けて吐出させることで、断熱膨張によりガスの少なくとも一部を冷却粒状化させ、洗浄用ガスとしてもよいことを述べた。ただし、粒子の衝突による洗浄効果がより高く、しかもガスの冷却粒状化装置を別途設ける必要がないことから、（Ａ）エアロゾルを用いるよりも、（Ｂ）液化ガスを用いてこれを冷却粒状化することがより好ましい。加えて、粒子の衝突による洗浄効果がより高いということは、相対的に洗浄対象が冷却されやすく結露が発生しやすい傾向にあることを意味する。したがって、上記実施形態では、（Ｂ）液化ガスを用いてこれを冷却粒状化し洗浄用ガスとする場合に、結露抑制効果がより顕著に発現する。
【００６２】
転写装置１を用いた上記実施形態の転写体の製造方法によれば、転写用原盤１０を清澄に維持することができ、転写不良のない高品質な転写体を安定的に製造することができる。
【００６３】
なお、上記実施形態は一例にすぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において適宜設計変更可能である。
【００６４】
転写用原盤１０のみを洗浄する場合についてのみ説明したが、本発明は、洗浄対象として、転写用原盤１０、被転写体２０、及びこれらを保持する保持具３０のうち少なくとも一つを洗浄する場合に、同様に適用可能である。また、洗浄対象ごとに、洗浄方法や洗浄条件を変えることも差し支えない。
【００６５】
片面転写についてのみ説明したが、本発明は両面転写にも同様に適用可能である。この場合、保持具３０を構成する挟持部材３１及び３２に、各々転写用原盤１０が保持されるが、双方の転写用原盤１０を同時に洗浄することもできるし、片方ずつ洗浄することもできる。両面転写で、かつ転写用原盤１０を片方ずつ洗浄する場合には、本実施形態で挙げた遮蔽板７０を用いることで、一方の転写用原盤１０を洗浄する際に、除去された塵埃等の他方の転写用原盤１０側への付着を効果的に抑制できる。
【００６６】
上記した如く、洗浄用ガスと加熱ガスとを、洗浄対象の異なる領域に向けて供給することは好適であるが、本発明は、洗浄用ガスと加熱ガスとを、洗浄対象の同一領域に向けて供給する場合や、装置内全体に洗浄用ガスと加熱ガスを供給する場合にも適用可能である。この場合には、洗浄効果は劣るが、結露防止効果は上記実施形態と同様に得られる。
【００６７】
洗浄用ガス供給ノズル４０及び加熱ガス供給ノズル５０の本数や形状、配置態様、洗浄ユニット２の構成については適宜設計変更可能である。
【００６８】
上記実施形態では、相対移動手段として、洗浄用ガス供給ノズル４０及び加熱ガス供給ノズル５０と、転写用原盤１０の双方を移動させる場合についてのみ説明したが、少なくとも一方を移動させる構成とすればよい。ノズル４０、５０を上下方向（Ｚ方向）、上下左右方向（Ｘ−Ｚ方向）に移動させるなど、移動方向も適宜設計できる。また、ノズル４０、５０の先端部の向きを変化させる構成としてもよい。
【００６９】
洗浄ユニット２の移動機構も適宜設計変更可能である。また、通常は洗浄を行う場所とは異なる場所に洗浄ユニット２を収め、洗浄時にのみ、洗浄ユニット２を移動させ洗浄を行う場合についてのみ説明したが、洗浄ユニット２を洗浄時にのみ装置に装着する構成としてもよい。
【００７０】
上記実施形態では、洗浄対象を加熱する加熱手段として、加熱ガス供給のみを挙げたが、加熱ガス供給の代わりに、もしくは加熱ガス供給と併せて、洗浄対象を加熱可能な光照射を採用することもできる。この場合にも同様の効果が得られる。洗浄対象を加熱可能な光としては、少なくとも洗浄対象の結露を抑制できる程度に加熱できれば特に制限されず、ハロゲン光、赤外光、レーザ光等が好ましく用いられる。
【００７１】
また、本発明は、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを用いて、洗浄を行うことが特徴の一つであるが、これに他の任意の洗浄、例えば、エア、超音波エア、除電エア等による塵埃の払拭や、粘着シート、粘着ローラ等による塵埃の吸着除去等を併用することは差し支えない。
【００７２】
本発明は、磁気記録媒体の製造等に用いられる磁気転写装置に好ましく適用できるが、転写用原盤と被転写体とを密着させて、磁気情報や形状等の情報を転写する任意の転写装置に適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
本発明は、表面に所定の凹凸パターンを有する転写用原盤を被転写体に密着させ、転写用原盤の凹凸パターンに応じた磁気情報や凹凸パターン形状等の情報を転写する、磁気転写、ナノインプリンティング、パターンドメディア等の転写技術に好ましく適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明に係る一実施形態の転写装置の概略図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【図２】転写方法の概略を示す図である。
【符号の説明】
【００７５】
１  転写装置
２  洗浄ユニット
１０  転写用原盤
２０  被転写体
３０  保持具
４０  洗浄用ガス供給ノズル（洗浄手段）
５０  加熱ガス供給ノズル（加熱手段）
【図１】
2006107595.tif 000003
【図２】
2006107595.tif 000004