(57)【要約】【課題】搬送アーム、及び装置全体を安価で製造する。【解決手段】同一円弧上にそれぞれの少なくとも一部が配置されたレチクル搬入部２９からレチクルステージＲＳＴを経由して、レチクル搬入部２９に至るまでのレチクルの搬送を、搬入アーム８２ａ、８２ｂが円弧の中心軸を回転軸として回転軸周りの所定方向の回転運動をするのみで行うことができるので、搬送アーム８２ａ，８２ｂの簡素化を図ることができ、これにより、搬送アーム８２ａ，８２ｂひいては露光装置全体を安価で製造することが可能となる。【選択図】図２
2006351863.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の物体を搬送する物体搬送装置であって、
同一円弧上にそれぞれの少なくとも一部が配置された前記物体の搬入部及び前記物体に所定処理を行う処理部と；
前記円弧の中心軸を回転軸とし、その回転軸と反対側の端部に前記物体を保持する保持部が設けられ、該保持部で保持した前記物体を、前記回転軸回りの所定方向の回転運動により前記搬入部から前記処理部を経由して前記搬入部まで搬送可能な少なくとも１つの搬送アームと；を備える物体搬送装置。
【請求項２】
前記搬送アームとして、前記回転軸を共通とし、個別に回転可能な第１搬送アーム及び第２搬送アームを含む複数の搬送アームが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の物体搬送装置。
【請求項３】
前記物体は、パターンが形成されたマスクであり、
前記搬入部は、前記マスクが搬入される搬入ポートを含み、
前記処理部は、前記円弧上に位置する受け渡し位置に移動可能でその受け渡し位置で前記搬送アームとの間で前記マスクの受け渡しを行うマスクステージを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の物体搬送装置。
【請求項４】
前記搬入部は、前記円弧上に位置し、前記搬入ポートから搬入された前記マスクに関する情報を読み取る読み取り装置を更に含むことを特徴とする請求項３に記載の物体搬送装置。
【請求項５】
前記円弧上に配置され、前記搬送アームで搬送された前記マスクの位置ずれを、前記搬入部から前記処理部に至る経路上で、前記搬送アームに前記マスクが保持された状態で検出する位置ずれ検出装置を更に備える請求項３又は４に記載の物体搬送装置。
【請求項６】
前記円弧上に配置され、前記搬送アームに保持された前記マスクの清浄度を前記搬送アームの移動中にチェックする清浄度検出装置を更に備える請求項３〜５のいずれか一項に記載の物体搬送装置。
【請求項７】
前記円弧上に配置され、前記搬送アームにより前記マスクを出し入れ可能なバッファを少なくとも１つ更に備える請求項３〜６のいずれか一項に記載の物体搬送装置。
【請求項８】
前記バッファは、少なくとも２つ設けられ、そのうちの少なくとも１つは、前記マスクステージの近傍に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の物体搬送装置。
【請求項９】
前記バッファは、前記搬送アームがその回転中に通り抜け可能な形状であることを特徴とする請求項７又は８に記載の物体搬送装置。
【請求項１０】
前記バッファは、マスクを収納可能な複数段の収納棚が設けられ、
前記搬送アームには、前記バッファ内の各段の収納棚内部のマスクの有無を非接触で検知可能なセンサが設けられていることを特徴とする請求項７〜９のいずれか一項に記載の物体搬送装置。
【請求項１１】
前記搬送アームは、保持したマスクの位置決めを行う位置決め機構を更に有していることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の物体搬送装置。
【請求項１２】
マスクに形成されたパターンを基板上に転写する露光装置であって、
請求項３〜１１のいずれか一項に記載の物体搬送装置と；
前記マスクステージ上に搭載されたマスクを露光光で照明する照明系と；を備える露光装置。
【請求項１３】
前記物体は、基板であり、
前記搬入部は、前記円弧上に位置する基板の待機位置を含み、
前記処理部は、前記円弧上に位置する受け渡し位置に移動可能でその受け渡し位置で前記搬送アームとの間で前記基板の受け渡しを行う基板ステージを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の物体搬送装置。
【請求項１４】
前記搬入部は、前記待機位置に配置され、前記基板の温度を調整する温度調整装置を更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の物体搬送装置。
【請求項１５】
前記受け渡し位置の近傍に配置され、前記基板ステージに受け渡されるのに先立って前記基板の位置ずれを検出する位置ずれ検出装置を更に備える請求項１３又は１４に記載の物体搬送装置。
【請求項１６】
請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の物体搬送装置と；
前記基板ステージ上に搭載された基板を露光し、前記基板上にパターンを形成する露光部と；を備える露光装置。
【請求項１７】
板状の物体を搬送する物体搬送装置であって、
前記物体が外部から搬入される搬入部と；
前記物体に所定処理を行う処理部と；
前記搬入部と処理部との間の物体の搬送路上に配置される少なくとも１つの中間装置と；
前記物体を保持する保持部を有し、該保持部で保持した前記物体を、前記搬入部から前記中間装置を経由して前記処理部まで、停止することなく搬送可能な少なくとも１つの搬送部材と；を備える物体搬送装置。
【請求項１８】
前記中間装置は、前記搬送部材により前記物体を出し入れ可能で、前記搬送部材が移動中に通り抜け可能なバッファを含むことを特徴とする請求項１７に記載の物体搬送装置。
【請求項１９】
前記バッファは、物体を収納可能な複数段の収納棚が設けられ、
前記搬送部材には、前記バッファ内の各段の収納棚内部の物体の有無を非接触で検知可能なセンサが設けられていることを特徴とする請求項１７又は１８に記載の物体搬送装置。
【請求項２０】
前記中間装置は、前記物体の清浄度を前記搬送部材の移動中にチェックする清浄度検出装置を含むことを特徴とする請求項１７〜１９のいずれか一項に記載の物体搬送装置。
【請求項２１】
前記搬送部材は、保持した物体の位置決めを行う位置決め機構を更に有していることを特徴とする請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の物体搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は物体搬送装置及び露光装置に係り、更に詳しくは、板状の物体を搬送する物体搬送装置及び該物体搬送装置を備える露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体素子、液晶表示素子等を製造するためのリソグラフィ工程では、スループットを重視する観点から、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはこのステッパを改良したステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）などの逐次移動型の投影露光装置が、主として用いられている。
【０００３】
この種の露光装置においては、露光装置の外部からマスク又はレチクル（以下、「レチクル」と総称する）を搬入し、レチクルを保持して移動可能なレチクルステージまで搬送するレチクル搬送系が設けられている。このレチクル搬送系としては、従来は図９に示されるような構成が採用されていた。
【０００４】
すなわち、図９に示されるように、レチクル搬送系は、露光装置外部に配置され、レチクルが内部に収容されるレチクルキャリア（ＳＭＩＦポッド）１１０1，１１０2からレチクルを取り出す多関節型ロボット１１２と、該ロボット１１２近傍に設けられた内部バッファ１１４と、内部バッファ１１４近傍に設けられたプリアライメントステージ１１６と、プリアライメントステージ１１６とレチクルステージＲＳＴとの間に設けられ、不図示の天井から吊り下げ支持された回転アーム１１８とを備えている。
【０００５】
このようなレチクル搬送系では、レチクルの搬送に際して、多関節型ロボット１１２がレチクルキャリア１１０1又は１１０2からレチクルを取り出すとともに、旋回・伸縮し、内部バッファ１１４にレチクルを搬入する。この内部バッファ１１４内にはバーコードリーダや異物検査装置が併設されており、レチクルに付されたレチクルの種類等を表すバーコードの読み取りや、レチクル表面及びレチクルのパターン面側に設けられたパターン保護材（ペリクル）表面の異物（パーティクル）の有無等の検査が行われ、それらの作業が終了した後、内部バッファ１１４内で保管される。そして、内部バッファ１１４内で保管されているレチクルを露光に使用する段階で、多関節型ロボット１１２が内部バッファ１１４内からレチクルを取り出し、プリアライメントステージ１１６上に搬送し、プリアライメントステージ１１６上でレチクルを機械的に（あるいはマークの検出等により）位置あわせする。そして、位置あわせ終了後に回転アーム１１８によりレチクルが保持され、かつ回転アームが旋回駆動され、レチクルステージＲＳＴ上にレチクルが載置されるようになっている。
【０００６】
しかしながら、このようなレチクル搬送系では、ロボットとして旋回・伸縮可能な多関節型ロボットなどの複雑な構成のロボットを用いてレチクルをレチクルステージまで搬送する必要があるため、ロボットが高価となり、更には、レチクル搬送中にロボットの伸縮動作が含まれること、及び少なくともプリアライメントステージにおいて、多関節型ロボット１１２と回転アーム１１８との間でレチクルの受け渡しが必要であることから、レチクルの搬送に長時間を要するおそれがある。このことは、露光装置のスループットを低下させる要因となりかねない。
【０００７】
上記レチクル搬送系における事情は、ウエハの搬送を行うウエハ搬送系においても同様であり、更には、露光装置以外の、例えば検査装置等における物体の搬送系においても同様である。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上述した事情の下になされたものであり、第１の観点からすると、板状の物体を搬送する物体搬送装置であって、同一円弧上にそれぞれの少なくとも一部が配置された前記物体の搬入部及び前記物体に所定処理を行う処理部と；前記円弧の中心軸を回転軸とし、その回転軸と反対側の端部に前記物体を保持する保持部が設けられ、該保持部で保持した前記物体を、前記回転軸回りの所定方向の回転運動により前記搬入部から前記処理部を経由して前記搬入部まで搬送可能な少なくとも１つの搬送アームと；を備える第１の物体搬送装置である。
【０００９】
これによれば、物体の搬入部と処理部とのそれぞれの少なくとも一部が同一円弧上に配置され、少なくとも１つの物体を保持した搬送アームが円弧の中心軸を回転軸として回転軸回りの所定方向の回転運動をするのみで、搬入部→処理部→搬入部の順に物体を搬送できるので、搬送アームの簡素化を図ることができる。これにより、搬送アームひいては装置全体を安価で製造することが可能となる。
【００１０】
本発明は第２の観点からすると、マスクに形成されたパターンを基板上に転写する露光装置であって、物体としてマスクを採用する本発明の第１の物体搬送装置と；前記マスクステージ上に搭載されたマスクを露光光で照明する照明系と；を備える第１の露光装置である。
【００１１】
これによれば、搬入ポートからマスクステージを経由して搬入ポートに至るまでの経路におけるマスクの搬送を行う搬送アームが簡素化された、本発明の第１の物体搬送装置を備えているので、搬送アームを安価で製造でき、ひいては露光装置を低コストで製造する行うことが可能となる。
【００１２】
本発明は第３の観点からすると、物体として基板を採用する本発明の第１の物体搬送装置と；前記基板ステージ上に搭載された基板を露光し、前記基板上にパターンを形成する露光部と；を備える露光装置である。
【００１３】
これによれば、基板の待機位置から基板ステージを経由して基板の待機位置に至るまでの経路における基板の搬送を行う搬送アームが簡素化された、本発明の第１の物体搬送装置を備えているので、搬送アームを安価で製造でき、ひいては露光装置を低コストで製造する行うことが可能となる。
【００１４】
本発明は、第４の観点からすると、板状の物体を搬送する物体搬送装置であって、前記物体が外部から搬入される搬入部と；前記物体に所定処理を行う処理部と；前記搬入部と処理部との間の物体の搬送路上に配置される少なくとも１つの中間装置と；前記物体を保持する保持部を有し、該保持部で保持した前記物体を、前記搬入部から前記中間装置を経由して前記処理部まで、停止することなく搬送可能な少なくとも１つの搬送部材と；を備える第２の物体搬送装置である。
【００１５】
これによれば、少なくとも搬送部材が、停止することなく、搬入部から中間装置を経て処理部まで物体を搬送するので、搬入部から処理部までの物体の搬送を高速で行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の一実施形態を、図１〜図７に基づいて説明する。
【００１７】
図１には、一実施形態に係る露光装置１０が、一部破断して示されている。露光装置１０は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）である。この露光装置１０は、クリーン度がクラス１００〜１０００程度のクリーンルーム内に設置されている。この露光装置１０は、内部空間が高度に防塵されるとともに、高精度な温度制御がなされたエンバイロンメンタル・チャンバ１２（以下、「本体チャンバ１２」と略述する）、該本体チャンバ１２内に設置された露光装置本体３０及び露光装置本体３０との間でマスクとしてのレチクルを搬送する物体搬送装置としてのレチクル搬送系１４（図１では不図示、図２参照）等を備えている。本体チャンバ１２の内部は、化学的清浄度もある一定レベルに保たれている。
【００１８】
後述するように露光装置１０は、投影光学系を備えているので、以下では、この投影光学系の光軸方向をＺ軸方向、Ｚ軸に直交する平面内でレチクルとウエハとが同期移動される走査方向をＹ軸方向、及び該Ｙ軸に直交する非走査方向をＸ軸方向として、説明を行うものとする。
【００１９】
前記本体チャンバ１２の図１における＋Ｘ側の端部には、台部２２が形成されている。この台部２２に、レチクルキャリアの搬出入ポートが２つ設けられている。以下では、説明の便宜上、これらの搬出入ポートを、台部２２と同一の符号を用いて、搬出入ポート２２と記述するものとする。
【００２０】
各搬出入ポート２２を介してＯＨＶ（Over Head Vehicle）あるいはＯＨＴ（Over Head Transfer）と呼ばれる不図示の天井搬送系によってレチクルがレチクルキャリア２８1又はレチクルキャリア２８2内に収納された状態で、本体チャンバ１２に対して搬入されあるいは本体チャンバ１２から搬出される。
【００２１】
ここで、レチクルキャリア２８1，２８2としては、一例としてレチクルを複数枚上下方向に所定間隔を隔てて収納可能なボトムオープンタイプの密閉型のコンテナであるＳＭＩＦ（Standard Mechanical Interface）ポッドが用いられている。
【００２２】
前記露光装置本体３０は、図１に示されるように、不図示の光源からのパルス紫外光によりマスク（及び物体）としてのレチクルＲを照明する照明ユニットＩＬＵ、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出される照明光（パルス紫外光）を基板としてのウエハＷ上に投射する投影光学系ＰＬ、及びウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴ、並びにレチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ及びウエハステージＷＳＴなどが搭載されたボディ２６等を備えている。
【００２３】
前記照明ユニットＩＬＵは、例えば特開２００１−３１３２５０号公報（対応する米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号）などに開示されるように、照明系ハウジング４０と、該照明系ハウジング４０内に所定の位置関係で配置された、可変減光器、ビーム整形光学系、オプティカルインテグレータ（フライアイレンズ、内面反射型インテグレータ、あるいは回折光学素子など）、集光光学系、振動ミラー、照明系開口絞り板、リレーレンズ系、レチクルブラインド、メインコンデンサレンズ、ミラー及びレンズ系等を備え、レチクルステージＲＳＴ上に保持されたレチクルＲ上の所定の照明領域（Ｘ軸方向に直線的に伸びたスリット状又は矩形状の照明領域）を均一な照度分布で照明する。ここで、レチクルＲに照射される矩形スリット状の照明光は、投影光学系ＰＬの円形投影視野の中央にＸ軸方向（非走査方向）に細長く延びるように設定され、その照明光のＹ軸方向（走査方向）の幅はほぼ一定に設定されている。
【００２４】
前記ボディ２６は、床面Ｆ上に設けられた複数本（例えば３本又は４本）の支持部材４２及び各支持部材４２上部にそれぞれ固定された防振ユニット４４を介してほぼ水平に支持された鏡筒定盤４６と、この鏡筒定盤４６の上面に設けられた支持コラム５２とを備えている。
【００２５】
前記防振ユニット４４は、例えば支持部材４２それぞれの上部に直列（又は並列）に配置された内圧が調整可能なエアマウントとボイスコイルモータとを含んで構成されている。防振ユニット４４によって、支持部材４２を介して鏡筒定盤４６に伝わる床面Ｆからの微振動がマイクロＧレベルで絶縁されるようになっている。
【００２６】
前記鏡筒定盤４６は鋳物等で形成され、その中央部に平面視（上方から見て）円形の開口が形成され、その開口の内部に投影光学系ＰＬがその光軸方向をＺ軸方向として上方から挿入されている。投影光学系ＰＬの鏡筒の外周部にはフランジＦＬＧが設けられ、該フランジＦＬＧを介して投影光学系ＰＬが鏡筒定盤４６に対して取り付けられている。
【００２７】
前記支持コラム５２は、鏡筒定盤４６の上面に投影光学系ＰＬを取り囲んで配置された複数本（例えば３本又は４本）の脚５８と、これらの脚５８によってほぼ水平に支持されたレチクルステージ定盤６０とを備えている。また、鏡筒定盤４６の上面には、照明ユニットＩＬＵの一部を下方から支持する不図示の支持部材が設けられている。
【００２８】
前記レチクルＲは、一方の面（図１における下面）に微細なパターンが形成されたレチクル基板と、レチクル基板の下面に取り付けられたパターン保護装置（ペリクルフレーム及びペリクル）とを含んで構成されている。
【００２９】
前記レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ定盤６０上に配置されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含む不図示のレチクルステージ駆動系によって駆動され、レチクルＲをレチクルステージ定盤６０上でＹ軸方向に大きなストロークで直線駆動するとともに、Ｘ軸方向とθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）に関しても微小駆動可能な構成となっている。
【００３０】
前記レチクルステージＲＳＴのＸＹ面内の位置情報（θｚ方向の回転量の情報を含む）は、移動鏡７９を介してレチクルステージ定盤６０に固定されたレチクルレーザ干渉計６４によって例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で検出される。なお、実際には、レチクルステージＲＳＴ上面の＋Ｙ側端部に一対のレトロリフレクタから成るＹ軸移動鏡が設置され、＋Ｘ側端部に平面ミラーから成るＸ軸移動鏡がＹ軸方向に沿って延設されている。また、これらの移動鏡に対応して、Ｙ軸方向の位置計測に用いられる一対のＹ軸レーザ干渉計と、Ｘ軸方向の位置計測に用いられるＸ軸レーザ干渉計とがそれぞれ設けられている。このように、移動鏡及びレーザ干渉計はともに複数設けられているが、図１ではこれらが代表的に移動鏡７９、レチクルレーザ干渉計６４として図示されている。
【００３１】
レチクルレーザ干渉計６４によって計測されるレチクルステージＲＳＴ（即ちレチクルＲ）の位置情報（又は速度情報）は不図示の制御装置に送られる。制御装置は、基本的にはレチクルレーザ干渉計６４から出力される位置情報（或いは速度情報）が指令値（目標位置、目標速度）と一致するようにレチクルステージ駆動系を制御する。
【００３２】
前記投影光学系ＰＬとしては、ここでは、物体面（レチクルＲ）側と像面（ウエハＷ）側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英やホタル石を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）のみから成る１／４、１／５又は１／６縮小倍率の屈折光学系が使用されている。このため、レチクルＲにパルス紫外光が照射されると、レチクルＲ上の回路パターン領域のうちのパルス紫外光によって照明された部分からの結像光束が投影光学系ＰＬに入射し、その回路パターンの像（部分倒立像）がパルス紫外光の各パルス照射の度に投影光学系ＰＬの像面側の円形視野の中央にスリット状または矩形状（多角形）に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの像は、投影光学系ＰＬの結像面に配置されたウエハＷ上の複数のショット領域のうちの１つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。
【００３３】
前記ウエハステージＷＳＴは、ウエハホルダ２５を介してウエハＷを真空吸着等により保持し、例えばリニアモータ等を含む不図示のウエハ駆動系によって、ステージベースＢＳの上面に沿ってＸＹ２次元方向に自在に駆動されるようになっている。ステージベースＢＳは、複数の防振ユニット８７を介してほぼ水平に支持されており、防振ユニット８７によって、床面ＦからステージベースＢＳに伝達される微振動（暗振動）が例えばマイクロＧレベルで絶縁されるようになっている。なお、この防振ユニット８７として、ステージベースＢＳの一部に取り付けられた半導体加速度計等の振動センサの出力に基づいてステージベースＢＳを積極的に制振するいわゆるアクティブ防振装置を用いることも可能である。
【００３４】
ウエハステージＷＳＴの−Ｙ側の端部には、平面鏡から成るＹ移動鏡７０がＸ軸方向に延設されている。このＹ移動鏡７０にほぼ垂直にＹ軸レーザ干渉計７２からの測長ビームが投射され、その反射光がＹ軸レーザ干渉計７２内部のディテクタによって受光され、Ｙ軸レーザ干渉計７２内部の参照鏡の位置を基準としてＹ移動鏡７０の位置、すなわちウエハＷのＹ位置が検出される。
【００３５】
同様に、ウエハステージＷＳＴの＋Ｘ側の端部には、平面鏡から成るＸ移動鏡がＹ軸方向に延設されている（不図示）。そして、このＸ移動鏡を介してＸ軸レーザ干渉計（不図示）によって上記と同様にしてＸ移動鏡の位置、すなわちウエハＷのＸ位置が検出される。上記２つのレーザ干渉計の検出値（計測値）は不図示の制御装置に供給され、制御装置では、上記２つのレーザ干渉計の検出値をモニタしつつウエハ駆動系を介してウエハステージＷＳＴの位置制御を行うようになっている。以下においては、Ｙ軸レーザ干渉計７２とＸ軸レーザ干渉計とを纏めてウエハ干渉計システムと呼ぶものとする。
【００３６】
図１に示されるように、投影光学系ＰＬの側面には、オフアクシス方式のマーク検出系としてのアライメント検出系ＡＬＧが設けられている。このアライメント検出系ＡＬＧとしては、例えば特開平２−５４１０３号公報などに開示されているようなＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられている。
【００３７】
なお、アライメント検出系としては、ＦＩＡ系に限らず、ウエハ上の格子マークに所定方向（例えば垂直方向）からレーザビームを照射し、その格子マークから発生する同次数の回折光（±ｎ次回折光）の干渉光を検出するアライメントセンサなどを用いても良い。
【００３８】
図２には、前記レチクル搬送系１４の平面図が概略的に示されている。
【００３９】
この図２に示されるように、レチクル搬送系１４は、本体チャンバ１２内部の露光装置本体３０のレチクルステージ定盤６０の−Ｙ側に配置された搬送装置８０と、該搬送装置８０の中心軸９４を中心とする円弧（円周）上に、その少なくとも一部が時計回りに順次配置された、バーコードリーダ２６を含むレチクル搬入部２９、内部バッファＢＦ１、異物検査装置３２、内部バッファＢＦ２、レチクルプリアライメント部３４と、を備えている。
【００４０】
前記レチクル搬入部２９は、搬出入ポート２２と、該搬出入ポート２２の−Ｘ側に設けられたレチクル受け渡し機構２４と、バーコードリーダ２６とを含んで構成されている。
【００４１】
前記搬出入ポート２２には、図３に示されるように、前述したレチクルキャリア２８1、２８2がそれぞれセットされる２つの矩形の開口１７８1、１７８2がＹ軸方向に沿って所定間隔で形成されている。開口１７８1、１７８2の下方には、図３に示されるように、インデクサとも呼ばれる開閉装置１８０1、１８０2がそれぞれ設置されている
【００４２】
一方のレチクルキャリア２８1は、レチクルを上下方向に所定間隔で収納する複数段（例えば６段）の収納棚が一体的に設けられたキャリア本体１７４1と、このキャリア本体１７４1に上方から嵌合するカバー１７６1と、キャリア本体１７４1の底壁に設けられカバー１７６1をロックする不図示のロック機構とを備えている。前述の開口１７８1は、キャリア本体１７４1の底板より一回り大きく形成されており、開口１７８1は、通常は、図４に示される開閉装置１８０1を構成する開閉部材１８２1によって閉塞されている。
【００４３】
開閉装置１８０1は、開閉部材１８２1と、該開閉部材１８２1がその上端面に固定された駆動軸１８４1と、該駆動軸１８４1を上下方向（Ｚ軸方向）に駆動する駆動機構１８６1とを備えている。ここで、開閉部材１８２1は、搬出入ポート２２に搬入されるレチクルキャリア２８1のキャリア本体１７４1の底板を真空吸引あるいはメカニカル連結して係合するとともに、そのキャリア本体１７４1に設けられた不図示のロック機構を解除する不図示の係合・ロック解除機構を備えている。
【００４４】
開閉装置１８０1では、開閉部材１８２1の係合・ロック解除機構により、ロック機構を解除するとともに、キャリア本体１７４1を係合した後、開閉部材１８２1を下方に所定量移動し、本体チャンバ１２の内部と外部とを隔離した状態で、複数枚のレチクルを保持したキャリア本体１７４1をカバー１７６1から分離させることができる。この開閉装置１８０1は、不図示の制御装置によって制御される。
【００４５】
他方の開閉装置１８０2は、上述した開閉装置１８０1と同様に構成され、開閉装置１８０1と同様にして搬出入ポート２２の開口１７８2部分にセットされたレチクルキャリア２８2を構成するキャリア本体をカバーから分離させる。この開閉装置１８０2も、不図示の制御装置によって制御される。なお、図３では、レチクルキャリア２８2、開閉装置１８０2に関連する構成各部を、添え字「2」を付して括弧内に示している。
【００４６】
図２に戻り、前記レチクル受け渡し機構２４は、上述した開閉装置１８０1又は１８０2の−Ｘ側に配置されている。このレチクル受け渡し機構２４は、レチクルを保持可能であるとともに、不図示のガイドに沿って駆動可能とされており、符号２４ａで示される開閉装置１８０2近傍の位置、符号２４ｂで示されるバーコードリーダ２６上方の位置、及び符号２４ｃで示される開閉装置１８０1近傍の位置のそれぞれに位置決めすることができるようになっている。従って、このレチクル受け渡し機構２４によって、レチクルが位置２４ａ、２４ｂ，２４ｃの間において移動自在とされている。本実施形態では、不図示の制御装置によって、レチクル受け渡し機構２４が制御されるようになっている。
【００４７】
前記バーコードリーダ２６は、レチクルを載置可能な載置台としての機能も有している。本体チャンバ１２内に搬入される各レチクルには、そのレチクルに関する情報が記録されたバーコードが付設されており、バーコードリーダ２６では、該バーコードリーダ２６に載置されたレチクルに付設されたバーコードを読み取る。このバーコードリーダ２６で読み取られた各レチクルの情報は、制御装置に送られ、該制御装置では、このレチクル情報に基づいてレチクルを個別に管理する。これにより、レチクルの管理を効果的に行うことができる。
【００４８】
前記搬送装置８０は、搬送装置８０を斜視図にて示す図４から分かるように、回転軸９４と、該回転軸９４に沿った上下方向への微小駆動、及び回転軸９４回りの回転駆動が可能な回転駆動部９２ａ，９２ｂと、回転駆動部９２ａ，９２ｂにそれぞれの一端が固定された２本の搬送アーム８２ａ，８２ｂと、を備えている。
【００４９】
前記一方の搬送アーム８２ａは、いわゆるクランク状に、９０°ずつ２回折り曲げた形状を有するアーム部９６ａ1と、アーム部９６ａ1の回転軸９４とは反対側の端部に設けられたハンド部９６ａ2，９６ａ3とを有している。
【００５０】
ハンド部９６ａ2，９６ａ3は、不図示の駆動機構により、閉方向（矢印Ａ方向）及び開方向（矢印Ａ'方向）に駆動自在とされている。一方のハンド部９６ａ3の底面には、２つの真空吸引機構９８ａが設けられ、この吸引機構９８ａがレチクルＲに接触した状態で、吸引力を発生することによりレチクルＲを吸着保持する保持力を発生する。また、ハンド部９６ａ3の吸引機構９８ａそれぞれの近傍には、断面略コ字状（Ｕ字状）のストッパ（爪部材）９９ａが設けられている。これらストッパ９９ａは、その上端部近傍で起伏回動自在に支持されており、レチクルＲを保持した状態では、図４に示されるようにレチクルＲを下側から支持し、レチクルＲを保持していない状態では、この状態から図４の他方の搬送アーム８２ｂ側（ストッパ９９ｂ）に示されるようにほぼ９０°だけ起伏回動された状態で維持されるようになっている。なお、以下においてはレチクルを保持した状態（図４における一方の搬送アーム８２ａ側のストッパ９９ａの状態）を「保持状態」と呼び、保持していない状態（図４における他方の搬送アーム８２ｂ側のストッパ９９ｂの状態）を「解除状態」と呼ぶものとする。更に、ハンド部９６ａ3には、例えば静電容量型の近接センサ等から成るセンサＳＲａが設けられている。このセンサＳＲａについては後に更に詳述する。
【００５１】
他方のハンド部９６ａ2についても、前記一方のハンド部９６ａ3と左右対称ではあるが、ほぼ同様の構成（ただし、センサＳＲａは設けられていない）となっている。
【００５２】
前記他方の搬送アーム８２ｂは、上述した一方の搬送アーム８２ａと比較して、アーム部９６ｂ1の折れ曲がり方向が上下反転しているのみで、その他の構成は同様となっている。すなわち、搬送アーム８２ｂは、アーム部９６ｂ1と、ハンド部９６ｂ2，９６ｂ3とを有し、ハンド部９６ｂ2，９６ｂ3は、不図示の駆動機構により、閉方向（矢印Ｂ方向）及び開方向（矢印Ｂ'方向）に駆動自在とされ、ハンド部９６ｂ2，９６ｂ3それぞれに２つの真空吸引機構９８ｂ及び２つのストッパ（爪部材）９９ｂが設けられている。また、一方のハンド部９６ｂ3には、例えば静電容量型の近接センサ等から成るセンサＳＲｂが設けられている。
【００５３】
前記回転駆動部９２ａ，９２ｂは、上下方向に配列された状態で、回転軸９４に係合した状態となっている。これら回転駆動部９２ａ，９２ｂは、その内部に、回転モータ等の駆動機構を有し、独立して回転軸９４回りの回転及び回転軸９４に沿った上下方向への移動ができるようになっている。従って、これら回転駆動部９２ａ，９２ｂにその一端が固定された搬送アーム８２ａ，８２ｂは、それぞれが独立して、回転方向及び上下方向に駆動できるようになっている。
【００５４】
図２に戻り、前記内部バッファＢＦ１は、バーコードリーダ２６近傍に設けられており、図５（Ａ）に斜視図にて示されるように、概略直方体状の形状を有している。この内部バッファＢＦ１としては、レチクルを複数枚（本実施形態では６枚）出し入れ可能（収納可能）なものが用いられている。内部バッファＢＦ１は、図５（Ａ）及び図５（Ａ）の内部を示す図５（Ｂ）から分かるように、略直方体状のバッファ本体ケース７４と、バッファ本体ケース７４の裏面側に取り付けられたエア噴出機構７６と、バッファ本体ケース７４の内部空間に設けられた収納棚７７とを備えている。
【００５５】
前記バッファ本体ケース７４は内部が中空な箱状の部材から成り、その中央部に、前面から背面側に向かって所定深さに切除された状態で形成された、上下方向の幅ｄの帯状の切り欠き７４ａを有している。この切り欠き７４ａによりバッファ本体ケース７４の中央部に空隙１５が形成されている。
【００５６】
前記エア噴出機構７６は、バッファ本体ケース７４の裏面側に固定された所定厚さの直方体状の中空のケースを有している。このケースとバッファ本体ケース７４との隔壁には、所定間隔で多数の噴き出し口（図示省略）が形成されている。エア噴出機構７６を構成するケースの内部にはその一部に接続された給気管１３０を介して温調空気（所定温度に温度調整された空気）が供給されるようになっている。この温調空気は、例えば工場内に設置された大型の温調空気用の空気タンク（図示省略）からポンプによって供給されるようになっている。この場合、空気タンクから給気管１３０に至る温調空気の給気経路には、ＨＥＰＡフィルタあるいはＵＬＰＡフィルタ等のパーティクル除去用のエアフィルタが設けられている。このエアフィルタによってパーティクルが除去されたクリーンな温調空気がエア噴出機構７６を介してバッファ本体ケース７４内にサイドフローにて供給されるようになっている。ポンプのオン・オフは、不図示の制御装置によって制御される。
【００５７】
なお、上記の空気タンクからのクリーンな温調空気の供給に限らず、例えば本体チャンバ１２内部に不図示の空調装置によって供給されるクリーンエア（本体チャンバ１２内部の空調用のクリーンエア）の供給路に分岐路を設け、その分岐路に温調装置（ヒータ及びクーラー）を設け、その温調装置を経由した温調空気をエア噴出機構７６に送り込むようにしても良い。
【００５８】
前記収納棚７７は、図６に分解斜視図にて示されるように、第１の棚９１ａと、第２の棚９１ｂと、各棚９１ａ，９１ｂ間に設けられる蓋部９３と、を備えている。
【００５９】
前記第１の棚９１ａは、平面視（上方から見て）Ｕ字状の形状を有する３つの棚部７８ａ〜７８ｃと各棚部７８ａ〜７８ｃの間を所定間隔に維持する複数のスペーサＳＰとを有し、前記第２の棚９１ｂは、第１の棚９１ａと同様、３つの棚部７８ｄ〜７８ｆと各棚部７８ｄ〜７８ｆの間を所定間隔に維持する複数のスペーサＳＰとを有している。
【００６０】
前記蓋部９３は、互いに同一の形状を有する平面視矩形状の第１の板部材６６，６８と、該第１の板部材６６，６８の間を所定間隔ｄに維持する高さ方向の幅ｄの第２の板部材６７とを有している。この蓋部９３は、第１の棚９１ａに対しては第１板部材６６の上面において直接固定され、第２の棚９１ｂに対しては２本のスペーサＳＰを介して第１板部材６８の下面部分にて接続されるようになっている。
【００６１】
上記のように構成される収納棚７７は、不図示の上下動機構によりバッファ本体ケース７４内で上下方向に移動可能とされ、収納棚７７の一部には、収納棚７７の高さ方向の位置を検出するためのエンコーダ等から成る位置検出装置が設けられている。制御装置は、位置検出装置の出力に基づいて上下動機構を介して、収納棚７７を上下方向へスライド駆動する。
【００６２】
ここで、収納棚７７が図５（Ｂ）に示される位置に位置決めされた状態では、バッファ本体ケース７４の切り欠き７４ａ（空隙１５）部分に蓋部９３が位置するので、切り欠き７４ａが蓋部９３によって完全に閉塞されるようになっている。そして、例えば、収納棚７７が不図示の上下動機構により所定量上方に駆動された図５（Ｃ）に示される状態では、切り欠き７４ａ（空隙１５）部分に棚部７８ｅが位置するようになっている。本実施形態においては、全ての棚部７８ａ〜７８ｆが空隙１５部分に位置することが可能な構成となっている。
【００６３】
図２に戻り、前記異物検査装置（ＰＰＤ）３２は、レチクルＲ及びレチクルＲのパターン面を保護するためのペリクルに付着した異物（主としてパーティクル）の有無とその大きさを調べるものである。この異物検査装置３２としては、例えば、図７に示されるような異物検査装置が用いられる。図７の異物検査装置３２は、光源２１０と、照射光学系２１１と、多数の光ファイバーを束ねて構成されるファイバーバンドル２１２と、光電子増倍管やシリコンフォトダイオードなどの光電変換素子２１３とを有している。なお、図７では、レチクルＲの上面側の異物検査装置のみを図示しているが、実際には、レチクルＲの上下両側に異物検査装置が存在し、レチクルＲの上面及びペリクルに付着した異物の検査が行われる。
【００６４】
この異物検査装置３２によると、光源２１０から射出された光が照射光学系２１１を介して、レチクルＲの表面上に帯状の照射領域２０２を形成する。レチクルＲは、前述した搬送装置８０のいずれかの搬送アームにより保持された状態で、搬送アームが回転軸９４を中心として回転駆動することによって矢印Ｄ方向（図２及び図７参照）に移動することにより、レチクルＲの全面を照射領域２０２によって走査することができる。
【００６５】
照射領域２０２からの散乱光は、ファイバーバンドル２１２の端面に入射し、ファイバーバンドル２１２を介して導かれた散乱光は、光電変換素子２１３の受光面上に集光する。そして、光電変換素子２１３は、異物からの散乱光の強度に応じた散乱信号を不図示の制御装置に出力するので、制御装置は、散乱信号に基づいて、異物を検出することができる。更に、レチクルを保持する搬送アームの回転速度等の駆動情報も、制御装置に対して出力されるので、制御装置は、所定の演算を実行し、異物の位置を検出することができる。
【００６６】
なお、本実施形態では、円周方向にレチクルＲを走査していることから、厳密にいうと、照射領域２０２の長手方向に対して垂直な方向に走査する場合と比較して、異物の位置検出精度が低下することとなるが、要求される検出精度は十分に満たされる程度のものである。
【００６７】
この異物検査装置３２では、搬送装置８０によって搬送されているレチクルＲの上面及びペリクルを検査し、その検査結果（その異物の転写可能性の情報を含む）を制御装置に送るとともに、不図示のディスプレイ上に表示する。
【００６８】
ここで、転写可能性のある異物がレチクルＲ及びペリクルのいずれにも付着していない状態が、異物検査結果が良好な状態であり、転写可能性のある異物がレチクルＲ及びペリクルの少なくとも一方に付着している状態が異物検査結果が不良である状態である。
【００６９】
図２に戻り、前記内部バファＢＦ２は異物検査装置３２に隣接して設けられており、その構成は、前述した内部バッファＢＦ１と同様となっている。
【００７０】
前記レチクルプリアライメント部３４は、内部バッファＢＦ２に隣接して設けられ、例えば一対のレチクルアライメント顕微鏡を有している。この一対のレチクルアライメント顕微鏡によって、レチクルＲのパターン面に形成されたレチクルアライメントマーク（位置あわせマーク）が観察される。レチクルアライメント顕微鏡の観察データは制御装置に供給される。
【００７１】
次に、本実施形態の露光装置１０における動作をレチクルの搬送動作を中心に概略的に説明する。なお、以下に説明する各部の動作は、前述した不図示の制御装置の制御下で行われるが、以下では、説明の簡略化のため、特に必要な場合以外は、制御装置に関する説明は省略する。
【００７２】
前提として、レチクルステージＲＳＴ上にはレチクルが既に載置され、露光装置本体３０では露光動作が行われているものとする。
【００７３】
更に、前提として、例えば、露光装置の電源がオフされ再度電源がオンされたときや、露光の合間など適宜なタイミングで、搬送アーム８２ａ，８２ｂに設けられたセンサＳＲａ、ＳＲｂのいずれかを用いて、内部バッファＢＦ１、ＢＦ２の収納棚の各段におけるレチクルの搬入状況の確認作業が以下のようにして行われている。
【００７４】
すなわち、例えば、収納棚７７の最上段の棚部７８ａが空隙１５部分に位置する状態で、搬送アーム８２ａ（又は８２ｂ）に設けられたセンサＳＲａ（又はＳＲｂ）を所定距離だけ近づけ、センサの出力をとる。その出力に応じて、制御装置がレチクルの有無を判断する。また、その状態から、次の棚部７８ｂが空隙１５部分に位置する状態とし、同様にセンサＳＲａ（又はＳＲｂ）の出力に応じて、レチクルの有無を判断する。その後、同様にして棚部７８ｃ〜７８ｆまでのレチクルの有無を判断し、制御装置内のメモリ等に保存する。
【００７５】
同様に、内部バッファＢＦ２の収納棚内のレチクルの搬入状況も確認されているものとする。
【００７６】
なお、上述した搬入状況の確認終了後は、図５（Ｂ）に示されるように、内部バッファＢＦ１，ＢＦ２の切り欠き７４ａ部分は、蓋部９３によって完全に閉塞された状態に維持される。
【００７７】
Ａ．  まず、レチクル搬入部２９内におけるレチクルの搬送動作について説明する。レチクル搬入部２９では、まず、例えば、ＯＨＶによりレチクルキャリア２８1（又は２８2）が搬出入ポート２２へ搬入されると、開閉装置１８０1（又は１８０2）によって、前述の如くして、本体チャンバ１２の内部と外部とを隔離した状態で、レチクルキャリア２８1の底部が開放される。すなわち、複数枚（例えば、６枚）のレチクルを保持したキャリア本体１７４1（又は１７４2）がカバー１７６1（又は１７６2）から分離される（図３参照）。このとき、レチクル受け渡し機構２４は、開閉装置１８０1（又は１８０2）にほぼ対向する位置に待機している。
【００７８】
次に、レチクル受け渡し機構２４が所定段のレチクルの下方に位置決めされ（図２において符号２４ａ又は２４ｃで示される位置）、開閉部材１８２1（又は１８２2）が下降駆動されることにより、キャリア本体１７４1（又は１７４2）の所定段の収納棚により支持されているレチクルＲがレチクル受け渡し機構２４に受け渡される。次に、レチクル受け渡し機構２４がガイドに沿って図２において符号２４ｂで示される位置まで駆動され、レチクルＲがバーコードリーダ２６上に載置される。
【００７９】
次いで、バーコードリーダ２６によりレチクルＲに付されたバーコードが読み取られ、その読み取りの結果得られた情報（ここでは、レチクルのＩＤの情報）が制御装置に送られる。上記の読み取りの結果、レチクルＩＤが不明のレチクルは、露光装置本体に搬入してはならず、レチクルキャリア２８1（又は２８2）に戻す必要がある。このため、本実施形態では、レチクルＩＤのチェックのためのバーコード読みとりを、露光装置１０内にレチクルを搬入した初期の段階で行っているのである。
【００８０】
その後、搬送装置８０の一方の搬送アーム（ここでは、搬送アーム８２ａとする）が回転駆動され、レチクルＲ上方に位置決めされると、搬送アーム８２ａが僅かに下降駆動され、レチクルＲの上面と搬送アーム８２ａに設けられた４つの真空吸着機構９８ａとを接触させる。この段階で真空吸着機構９８ａの真空吸引がオンされ、レチクルＲが搬送アーム８２ａにより上面吸着され、保持されるようになっている。また、搬送アーム８２ａのストッパ９９ａも解除状態から保持状態にされ、レチクルＲの脱落が防止される。
【００８１】
Ｂ．  次いで、搬送アーム８２ａが所定角度（ここでは約４５°）回転駆動され、内部バッファＢＦ１に差し掛かるが、この場合には、内部バッファＢＦ１の切り欠き７４ａ部分が、図５（Ｂ）に示されるように蓋部９３によって閉塞されているので、搬送アーム８２ａは、内部バッファＢＦ１に接触することなく、空隙１５部分を素通りすることができるようになっている。
【００８２】
Ｃ．  次いで、搬送アーム８２ａがさらに所定角度（ここでは約９０°）回転駆動され、異物検査装置３２に差し掛かった段階で、異物検査装置３４により、レチクルＲ及びペリクルの異物検査が行われる。この検査結果（良好か不良かなど）は制御装置に出力されると共に、不図示のディスプレイに表示される。
【００８３】
なお、上記の異物検査の結果が不良であった場合には、制御装置は、そのレチクルＲを搬送アーム８２ａ及びレチクル受け渡し機構２４を用いて、レチクルキャリア２８1（又は２８2）のキャリア本体１７４1（又は１７４2）の空いている棚に戻す。このようにすることで、パーティクルが付着したレチクルがレチクルステージＲＳＴ上に搬送されて露光不良が発生するのを未然に防止することができる。
【００８４】
Ｄ．  次に、制御装置では、レチクルのバーコードの読み取りの結果得られた情報（ここでは、レチクルのＩＤの情報）から、そのレチクルが使用されるタイミングを判断し、内部バッファＢＦ１、ＢＦ２のいずれにレチクルを搬入するかを判断する。その結果、搬送中のレチクルが比較的長い時間使用されないものである場合には、そのレチクルを内部バッファＢＦ１に収納する。内部バッファＢＦ１への収納方法は以下の通りである。
【００８５】
まず、事前の搬入状況の確認作業の結果に基づいて、内部バッファＢＦ１の収納棚７７の高さ位置が、レチクルの載置されていない棚部（ここでは、棚部７８ｅとする）が空隙１５に位置する位置となるように、上昇駆動される（図５（Ｃ）の状態）。また、搬送アーム８２ａがこれまでとは反対方向（反時計回り）に回転駆動されることにより、搬送アーム８２ａが空隙１５内に入り込んだ状態に設定される。
【００８６】
そして、搬送アーム８２ａが僅かに下降駆動されるとともに、ストッパ機構９９ａが解除状態とされ、かつ吸引機構９８ａの真空吸引がオフされることにより、搬送アーム８２ａによるレチクルの保持が解除され、レチクルが搬送アーム８２ａから棚部７８ｅに受け渡される。
【００８７】
このようにして、棚部７８ｅ上にレチクルが受け渡されると、搬送アーム８２ａは、空隙１５内から退避し、内部バッファＢＦ１の収納棚７７が下降駆動されることにより、図５（Ｂ）に示されるように、蓋部９３が切り欠き７４ａを閉塞した状態に設定される。なお、制御装置では、レチクルが搬入された棚と予め通知されているレチクルＩＤとに基づいて、レチクルＲが、内部バッファＢＦ１内のどの段の棚に収納されたかを管理することができるようになっている。
【００８８】
一方、レチクルのバーコードの読み取りの結果得られた情報（ここでは、レチクルのＩＤの情報）から、そのレチクルが比較的短期間のうちに使用されると判断された場合には、レチクルＲは内部バッファＢＦ２に搬入されるようになっている。この場合の搬入の方法は、上述した内部バッファＢＦ１の場合と同様である。
【００８９】
Ｅ．  その後、露光装置本体３０において、レチクルステージＲＳＴ上に載置されたレチクルを用いた露光動作が終了すると、レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ定盤６０の−Ｙ端部近傍に位置決めされ、他方の搬入アーム８２ｂを用いた露光終了後のレチクルのアンロードが行われる。そして、搬入アーム８２ｂが所定角度（ここでは約９０°）だけ時計回りに旋回し、バーコードリーダ２６上にレチクルが載置された後は、レチクル受け渡し機構２４によりレチクルが回収され、いずれか一方のレチクルキャリア内に搬入されるようになっている。
【００９０】
Ｆ．  上記Ｅ．が行われる一方で、搬入アーム８２ａにより、内部バッファＢＦ１、ＢＦ２のいずれかからレチクルＲが搬出される。この際、目的のレチクルが搬入されている棚部が空隙１５内に位置するように収納棚が駆動されるとともに、搬入アーム８２ａがレチクルの上方に位置決めされ、上記と反対の動作が行われることにより、レチクルが受け取られる。
【００９１】
そして、搬送アーム８２ａが旋回駆動されることにより、レチクルアライメント機構３４の一対のレチクルアライメント顕微鏡直下にレチクルＲが位置決めされ、レチクルアライメント顕微鏡によりレチクルの位置ずれ（具体的には、搬送アーム８２ａの位置から導き出されるレチクルＲの理想的な位置と、レチクルアライメント顕微鏡により検出されるレチクルＲの位置との相対関係）を検出する。
【００９２】
その後、レチクルアライメント機構３４によってレチクルアライメントマークの検出が終了した段階で、搬送アーム８２ａは、所定角度（ここでは、４５°）時計回りに旋回し、レチクルＲがレチクルステージＲＳＴ上に位置決めされる。
【００９３】
Ｇ．  制御装置では、前述したレチクルアライメント機構３４を構成する一対のレチクルアライメント顕微鏡の観察結果に基づいて基準点からのアライメントマークの位置ずれ、すなわちレチクルＲのＸＹ方向及びθｚ方向の誤差成分を算出し、不図示のレチクルステージ駆動系を介してレチクルステージＲＳＴの位置・姿勢を調整した状態で、搬送アーム８２ａが下降駆動され、レチクルステージＲＳＴ上に設けられた不図示のレチクルホルダ上にレチクルＲが接触した段階で、ストッパ機構９９ａを解除し、かつ真空吸引機構９８ａの真空吸引を停止することで、レチクルＲがレチクルステージＲＳＴ上に載置される。
【００９４】
なお、上では、内部バッファＢＦ１、ＢＦ２のいずれかに、レチクルＲを一時保管した後に、レチクルＲをレチクルステージＲＳＴまで搬送しているが、搬送中のレチクルを即刻使用する場合には、搬送アーム８２ａがバーコードリーダ２６においてレチクルＲを受け取った後、直接レチクルステージＲＳＴに搬送することとしても良い。
【００９５】
その後は、通常のスキャニング・ステッパと同様に、レチクルアライメント、不図示のアライメント系のベースライン計測、並びにＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）方式のウエハアライメント等の所定の準備作業が行われた後、以下のようにしてステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。
【００９６】
まず、ウエハＷのＸＹ位置が、ウエハＷ上の最初のショット領域（ファースト・ショット）の露光のための走査開始位置（加速開始位置）となるように、ウエハステージＷＳＴが移動される。同時に、レチクルＲの位置が走査開始位置となるように、レチクルステージＲＳＴが移動される。そして、レチクルレーザ干渉計６４によって計測されたレチクルＲの位置情報、及びウエハ干渉計システムによって計測されたウエハＷの位置情報に基づき、レチクルＲ（レチクルステージＲＳＴ）とウエハＷ（ウエハステージＷＳＴ）とを同期移動させることにより、走査露光が行なわれる。
【００９７】
このようにして、最初のショット領域に対するレチクルパターンの転写が終了すると、ウエハステージＷＳＴが非走査方向（Ｘ軸方向）に１ショット領域分だけステッピングされた後、次のショット領域に対する走査露光が行なわれる。このようにして、ショット間ステッピング動作と走査露光とが順次繰り返され、ウエハＷ上に複数のショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。
【００９８】
なお、上記露光動作の間にも、レチクルキャリア２８1，２８2から内部バッファＢＦ１，ＢＦ２内へのレチクルの搬送が適宜行われ、レチクル交換のタイミングで、次のレチクルがレチクルアライメント機構３４を介してレチクルステージＲＳＴまで搬送されるように、レチクル搬送系１４各部の動作が制御される。
【００９９】
以上詳細に説明したように、本実施形態のレチクル搬送系１４によると、同一円弧上にそれぞれの少なくとも一部が配置されたレチクル搬入部２９からレチクルステージＲＳＴを経由して、レチクル搬入部２９に至るまでのレチクルの搬送を、搬入アーム８２ａ、８２ｂが円弧の中心軸を回転軸として回転軸周りの所定方向の回転運動をするのみで、行うことができるので、搬送アーム８２ａ，８２ｂの簡素化を図ることができる。これにより、搬送アーム８２ａ，８２ｂひいてはレチクル搬送系１４全体を安価で製造することが可能となる。
【０１００】
なお、上述の実施形態では、搬入アーム８２ａ，８２ｂが回転運動をするのみのものを開示したが、本発明はこれに限られるものではない。図２に示されるような各ユニット（ＲＳＴ、２６、ＢＦ１、３２，ＢＦ２，３４）の平面的な配置（ほぼ同一のＺ位置での配置）が満たされるのであれば、搬入アーム８２のＺ軸方向の駆動を許容するようにしても良い。この場合でも、各ユニットが平面的な配置であれば、搬入アーム８２ａ，８２ｂのＺ駆動量はわずかな量に抑えることができる。
【０１０１】
また、本実施形態では、搬送アーム８２ａ，８２ｂが、レチクルが外部から搬入されるレチクル搬入部２９から、レチクルＲの搬送路上に配置される少なくとも１つの中間装置（本実施形態では、内部バッファＢＦ１、ＢＦ２、異物検査装置３２、プリアライメント機構３４）を経由して、レチクルステージＲＳＴに至るまで、停止することなくレチクルＲを搬送することが可能であるので、レチクル搬入部２９からレチクルステージＲＳＴまでのレチクルの搬送を高速で行うことが可能となる。
【０１０２】
また、搬送アームとして、回転軸を共通とし、個別に回転可能な搬送アーム８２ａ及び搬送アーム８２ｂを備えており、レチクルステージＲＳＴからのレチクルのアンロード及びレチクルステージＲＳＴへのレチクルのロードを、順次行うことができるので、レチクルの交換を高速で行うことが可能である。
【０１０３】
また、本実施形態では、レチクルに設けられたバーコードを読み取るためのバーコードリーダ２６が設けられているので、レチクルを個別に管理することにより、レチクルの管理を効果的に行うことができる。
【０１０４】
また、本実施形態では、レチクル搬送系１４内に、搬送アームに保持されたレチクルの清浄度（異物の有無）を搬送アームの移動中にチェックする異物検査装置（清浄度検出装置）が設けられているので、清浄度の低いレチクルを露光に用いるのを回避することが可能であり、結果的に露光精度の低下を抑制することが可能である。
【０１０５】
また、本実施形態では、レチクル搬送系１４内に、レチクルを一時保管する内部バッファＢＦ１、ＢＦ２が設けられているので、清浄度及び温度が管理された空間内でレチクルを保管でき、露光精度の低下を抑制することができるとともに、レチクルの使用タイミングにあわせて内部バッファＢＦ１、ＢＦ２を使い分けることにより（すなわち、短期間の間に使用するレチクルを、レチクルステージＲＳＴ近傍に設けられた内部バッファＢＦ２に収納しておく等することにより）、レチクルの搬送時間を短縮することができる。これにより、露光装置のスループットを向上することが可能である。
【０１０６】
なお、レチクル搬送系１４内が十分に清浄度及び温度が管理された空間であるならば、上述した内部バッファＢＦ１、ＢＦ２に蓋部９３（板部材６６，６８）を設けなくても良い。
【０１０７】
また、本実施形態では、内部バッファＢＦ１、ＢＦ２に切り欠き７４ａが設けられ、内部バッファにレチクルを収納しないときには、内部バッファに接触することなく切り欠き７４ａ（空隙１５）部分を通り抜けることができるので、搬送アーム側で回避動作を行うことによって内部バッファと搬送アームとが接触するのを回避する必要がない。このため、搬送アームの構造を簡易にすることができ、搬送アームを安価で製造することが可能となる。
【０１０８】
また、本実施形態では、内部バッファＢＦ１、ＢＦ２がレチクルを収納可能な複数段の収納棚７７を有し、搬送アームに、内部バッファ内の各段の収納棚内部のマスクの有無を非接触で検知可能なセンサ（ＳＲａ、ＳＲｂ）が設けられていることから、搬送アームを内部バッファ近傍の所定位置に固定した状態で、収納棚７７を上下方向にスキャンすることで、収納棚の各段におけるレチクルの有無を容易に確認することが可能である。
【０１０９】
更に、本実施形態の露光装置では、上述したようなレチクル搬送装置を備えているので、露光装置を低コストで製造することができるとともに、スループットを向上することができる。
【０１１０】
なお、上記実施形態では、搬送装置として２本の搬送アームを有する搬送装置を採用するものとしたが、本発明がこれに限られるものではなく、搬送アームを１本のみ有する搬送装置を採用することとしても良いし、搬送アームを３本以上有する搬送装置を採用することとしても良い。
【０１１１】
なお、上記実施形態では、レチクルの管理のためにレチクルにバーコードを設け、バーコードリーダによりバーコードを読み取る場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、その他の識別標識を設け、その識別標識を読み取る読み取り装置をレチクル搬送装置内に設けることとしても良い。
【０１１２】
なお、上記実施形態ではプリアライメント機構３４をレチクルステージＲＳＴ近傍に設けることとしたが、これに限らず、レチクル搬入部２９からレチクルステージＲＳＴに至るまでの経路上に設けられれば、その位置は問わない。また、プリアライメント機構３４として、上記実施形態では、一対のプリアライメント顕微鏡を有する構成を採用したが、本発明がこれに限られるものではなく、メカ的に位置あわせするようなプリアライメント機構を採用することとしても良い。また、プリアライメント顕微鏡を採用する場合には、レチクルをロードする際にレチクルステージＲＳＴが位置する位置の上方に配置することとしても良い。
【０１１３】
なお、上記実施形態では、図４に示されるように、搬送アーム８２ａ，８２ｂ全体が回転軸回りに回転可能で、かつ、上下方向に微小駆動可能な構成を採用したが、本発明がこれに限られるものではなく、図８に示されるように、アーム部とハンド部との間にハンド部の矢印Ｅ方向の回転を許容する関節１４４を設けることとしても良い。
【０１１４】
すなわち、上記実施形態においては、プリアライメント機構３４で検出されたレチクルの位置ずれをレチクルステージＲＳＴの位置を調整することにより補正したが、図８のような構成を採用することにより、プリアライメント機構３４で検出されたレチクルの位置ずれを搬送アームにて補正することができる。
【０１１５】
なお、レチクル搬送系１４の構成としては、図２の構成に限らず、種々の構成を採用することができる。例えば、図２の構成から内部バッファＢＦ１の一方を省略することも可能であるし、また、露光装置内で異物検査を行わないのであれば、異物検査装置３２を省略することも可能である。このように、レチクル搬送装置内で行う動作に応じてレチクル搬送装置の構成各部の組み合わせを変更することが可能である。
【０１１６】
なお、搬送装置８０は、露光装置本体のボディ２６上に設けることとしても良い。
【０１１７】
なお、上記実施形態では、本発明の物体搬送装置がレチクルを搬送するレチクル搬送装置として採用された場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、ウエハを搬送するウエハ搬送装置として採用することもできる。
【０１１８】
この場合、搬入部として円弧上に位置するウエハの待機位置を含み、処理部として前記円弧上に位置するウエハ受け渡し位置に移動可能なウエハステージＷＳＴを含むこととすることができる。また、搬入部として、ウエハの温度を調整する温度調整装置（クールプレートなど）を含むことも可能であり、更にはウエハのプリアライメント部等を円弧上に配置することも可能である。
【０１１９】
なお、上記実施形態では、円弧上にレチクル搬入部２９、レチクルステージＲＳＴ及びその他の装置が配置された場合について説明したが、円に限らず、例えばＵ字状などの円に近似するライン上に装置が配置されることとしても良い。また、レチクル搬入部２９から中間装置（ＢＦ１，３２，ＢＦ２，３４）を介して処理部（レチクルステージＲＳＴ）に至るまで、停止することなく物体（レチクルＲ）を搬送するという観点からすると、各装置が円弧上に配置されている場合に限らず、直線上など円弧状でない形状のライン上に配置されていても構わない。
【０１２０】
また、露光装置に限らず、種々の検査装置等の装置に設けられる板状の物体を搬送する搬送装置においても、本発明の物体搬送装置を適用することが可能である。
【０１２１】
なお、上記実施形態では、レチクルキャリアとしてＳＭＩＦのマルチポッド（６枚用）を用いる場合について説明したが、これに限らず、シングルポッド（１枚用）を用いても良く、あるいはフロント・オープニング・ユニファイド・ポッド（ＦＯＵＰ）タイプのレチクルキャリア（マスクコンテナ）を用いても良い。
【０１２２】
また、上記実施形態では、単一のレチクルステージＲＳＴを備える場合について説明したが、本発明の露光装置は、独立に移動可能なレチクル（マスク）ステージを２つ備えていても良い。かかる場合には、前述したレチクル（マスク）搬送系１４を、それぞれのレチクルステージ毎に設けても良い。
【０１２３】
なお、上記実施形態では、本発明が、スキャニング・ステッパに適用された場合について説明したが、これに限らず、マスクとウエハ（基板）とを静止した状態でマスクのパターンを基板に転写するステップ・アンド・リピート型の露光装置にも、本発明は好適に適用できる。また、本発明は、投影光学系を用いることなくマスクと基板とを密接させてマスクのパターンを基板に転写するプロキシミティ露光装置にも適用することができる。
【０１２４】
なお、上記実施形態では、光源として、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザなどの遠紫外光源や、Ｆ2レーザ、Ａｒ2レーザなどの真空紫外光源は勿論、紫外域の輝線（ｇ線、ｉ線等）を発する超高圧水銀ランプなどを用いることができる。この他、真空紫外域の光を露光用照明光として用いる場合に、上記各光源から出力されるレーザ光に限らず、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（Ｅｒ）（又はエルビウムとイッテルビウム（Ｙｂ）の両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。
【０１２５】
更に、例えば国際公開ＷＯ９９／４９５０４号などに開示される、投影光学系ＰＬとウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置などにも本発明を適用しても良い。
【０１２６】
なお、本発明は、半導体製造用の露光装置に限らず、液晶表示素子などを含むディスプレイの製造に用いられる、デバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミックウエハ上に転写する露光装置、及び撮像素子（ＣＣＤなど）、マイクロマシン、有機ＥＬ、ＤＮＡチップなどの製造に用いられる露光装置などにも適用することができる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（遠紫外）光やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、螢石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク（ステンシルマスク、メンブレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
【０１２７】
半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに転写するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。
【産業上の利用可能性】
【０１２８】
以上説明したように、本発明の物体搬送装置は、板状の物体を搬送するのに適している。また、本発明の露光装置は、マスクに形成されたパターンを基板上に転写するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】一実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
【図２】レチクル搬送系を平面図にて概略的に示す図である。
【図３】レチクルキャリア２８1（又は２８2）近傍をＹ軸方向から見た状態を示す図である。
【図４】レチクル搬送装置を示す斜視図である。
【図５】図５（Ａ）は、内部バッファを示す斜視図であり、図５（Ｂ）、図５（Ｃ）は、内部バッファ内部に設けられた収納棚を示す斜視図である。
【図６】図５（Ｂ）、図５（Ｃ）の収納棚の分解斜視図である。
【図７】図２の異物検査装置を示す斜視図である。
【図８】レチクル搬送装置の変形例を示す斜視図である。
【図９】従来技術を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１３０】
１０…露光装置、１４…レチクル搬送装置（物体搬送装置）、２２…搬出入ポート（搬入ポート）、２６…バーコードリーダ（読み取り装置）、２９…搬入部、ＲＳＴ…レチクルステージ（処理部、マスクステージ）、３２…異物検査装置（清浄度検出装置、中間装置の一部）、３４…プリアライメント機構（位置ずれ検出装置、中間装置の一部）、８２ａ，８２ｂ…搬送アーム、ＢＦ１、ＢＦ２…内部バッファ（バッファ、中間装置の一部）、ＩＬＵ…照明ユニット（照明系）、Ｒ…レチクル（物体）、ＳＲａ，ＳＲｂ…センサ、Ｗ…ウエハ（物体、物体）、ＷＳＴ…ウエハステージ（処理部、基板ステージ）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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