(57)【要約】【課題】１度のエアナイフで洗浄後の基板表面の洗浄水を、複数の基板を載置するパレット上の形状に関わらず、確実かつ完全に除去することができる基板の洗浄方法を提供する。【解決手段】複数の基板をパレットに載置して該複数の基板表面を洗浄液により洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程後に、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面に、前記洗浄液よりも表面張力の低い溶剤を塗布して、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面を前記溶剤で一様に覆う溶剤塗布工程と、気体吹き出し手段を用いて前記溶剤が混入した前記洗浄液を前記複数の基板表面及び前記パレットの表面から除去して前記基板表面を乾燥する乾燥工程と、を具備することを特徴とする。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板をパレットに載置して該複数の基板表面を洗浄液により洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程後に、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面に、前記洗浄液よりも表面張力の低い溶剤を塗布して、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面を前記溶剤で一様に覆う溶剤塗布工程と、
気体吹き出し手段を用いて前記溶剤が混入した前記洗浄液を前記複数の基板表面及び前記パレットの表面から除去して前記基板表面を乾燥する乾燥工程と、
を具備することを特徴とする基板の洗浄方法。
【請求項２】
前記基板は、電気光学装置に用いられる表示領域に複数のスイッチング素子及び画素電極が形成された素子基板と、該素子基板に対向し対向電極が形成された対向基板との少なくとも一方であることを特徴とする請求項１に記載の基板の洗浄方法。
【請求項３】
前記パレットに載置される前記複数の基板の表面が、前記パレットの表面から突出されることを特徴とする請求項１または２に記載の基板の洗浄方法。
【請求項４】
前記溶剤の表面張力は、３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板の洗浄方法。
【請求項５】
素子基板と、該素子基板に対向する対向基板との間に電気光学物質を挟持する電気光学装置の製造方法であって、
前記素子基板と前記対向基板との少なくとも一方の基板の表面に、前記電気光学物質を配向させる配向膜を形成する工程と、請求項２乃至４のいずれかに記載の洗浄方法を用いて前記基板を洗浄する工程とを有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記溶剤は、前記洗浄液に対し水溶性を有すると共に、前記配向膜とは無反応な性質を有することを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記溶剤は、イソプロピルアルコール、イソプロピルエーテル、エチルアルコール、エチルエーテルのいずれかであることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の洗浄方法、及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、電気光学装置、例えば液晶装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す)等のスイッチング素子及び画素電極をマトリクス状に配置し、他方の基板に共通電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造される。ＴＦＴ基板及び対向基板は、例えばガラス又は石英基板上に、所定のパターンを有する半導体薄膜、絶縁性薄膜又は導電性薄膜を積層することによって構成される。層毎に各種膜の成膜工程とフォトリソグラフィ工程を繰り返すことによって形成されるのである。
【０００４】
このようにして形成されたＴＦＴ基板及び対向基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされる。このパネル組立工程は、先ず、各基板の製造工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との液晶層と接する面上に、液晶の分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成し、該配向膜に、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。
【０００５】
次いで、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール材を設け、このシール材を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール材の一部に設けられた切り欠きを介して液晶が封入され、最後に切り欠きが封止材で封止されることにより液晶装置は製造される。
【０００６】
ところで、ＴＦＴ基板及び対向基板（以下、単に基板と称す）を製造するに際し、各処理後、例えば、配向膜形成後は、該配向膜形成の際に発生し該配向膜表面に付着した異物を除去するため、基板表面が水等の洗浄水により洗浄される。その後、配向膜の表面から洗浄に用いた水を除去するため、例えばエアナイフを用いた乾燥が行われる。
【０００７】
ここで、エアナイフ乾燥を行う際、配向膜の表面に、洗浄に用いた水が玉状に残っていると、エアナイフ乾燥後、配向膜の表面に、洗浄水の洗浄しみ、所謂ウォータマークが発生し、該基板を用いた液晶装置に表示不良が発生してしまうといった問題があった。
【０００８】
このような問題に鑑み、例えば特許文献１では、洗浄液による洗浄後、基板表面を純水等のリンス液で一様に覆い、その後エアナイフを用いて乾燥を行うことにより、洗浄水の水玉を防ぎ、ウォータマークの発生を防止した技術の提案がなされている。
【特許文献１】特開平８−２３６４９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、製造される基板の大きさは、該基板によって構成される液晶装置を用いた電子機器によって様々である。例えば、液晶装置がテレビ等に用いられる場合は、基板は大きいものが製造されるし、液晶装置がプロジェクタ等に用いられる場合は、基板は小さいものが製造される。
【００１０】
その中で、プロジェクタ等に用いられる小さな基板を製造するに際しては、製造工程における効率化を図る目的で、複数の基板を、溝が複数形成されたパレット等の溝にそれぞれ載置し、複数の基板の洗浄等の各種処理を複数枚一括して行うことが一般に知られている。
【００１１】
ここで、複数の基板をパレットの溝にそれぞれ載置すると、該パレットの溝は、該溝の深さに製造時の精度誤差があるため、パレットの表面と基板の表面とは、同一平面になるとは限らないので、パレットの表面と基板の表面との間に、段差が生じているのが一般的である。
【００１２】
よって、このようなパレット上に段差が生じている状態においては、上述した特許文献１に示したように基板表面を純水で覆っていたとしても、水は、空気中での表面張力が、約７３ｄｙｎｅ／ｃｍであるため、エアナイフによる乾燥の際、該水は、基板表面との接触角が大きい故、上述した段差で水跳ねしてしまう場合がある。
【００１３】
水が段差で跳ねてしてしまうと、該跳ねた水が基板表面に再付着してしまう場合があるため、１度のエアナイフでは、基板表面の水を除去することができず、完全に除去するためには、エアナイフを数回行う必要があり、工程数の増大を招いてしまう。
【００１４】
本発明は上記事情に着目してなされたものであり、その目的は、１度のエアナイフで洗浄後の基板表面の洗浄水を、複数の基板を載置するパレット上の形状に関わらず、確実かつ完全に除去することができる基板の洗浄方法、及び電気光学装置の製造方法を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために本発明に係る基板の洗浄方法は、複数の基板をパレットに載置して該複数の基板表面を洗浄液により洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程後に、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面に、前記洗浄液よりも表面張力の低い溶剤を塗布して、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面を前記溶剤で一様に覆う溶剤塗布工程と、気体吹き出し手段を用いて前記溶剤が混入した前記洗浄液を前記複数の基板表面及び前記パレットの表面から除去して前記基板表面を乾燥する乾燥工程と、を具備することを特徴とする。また、前記基板は、電気光学装置に用いられる表示領域に複数のスイッチング素子及び画素電極が形成された素子基板と、該素子基板に対向し対向電極が形成された対向基板との少なくとも一方であることを特徴とする。
【００１６】
本発明の基板の洗浄方法によれば、洗浄後に、パレットに載置された素子基板と対向基板とのいずれかの複数枚の基板の表面を、洗浄液よりも表面張力の低い溶剤で一様に覆うことにより、溶剤により洗浄液と基板表面との接触角が小さくなるため、基板洗浄後の気体吹き出し手段を用いた乾燥において、複数の基板表面から溶剤が混入された洗浄液を１度の気体吹き出し工程で確実かつ完全に水切りすることができ、気体吹き出し乾燥後、洗浄液の乾燥しみ、即ちウォータマークが残ることがないという効果を有する。
【００１７】
また、前記パレットに載置される前記複数の基板の表面が、前記パレットの表面から突出されることを特徴とする。
【００１８】
本発明の基板の洗浄方法によれば、洗浄の際、パレット上に、該パレット表面と複数の基板表面から形成された段差があったとしても、基板洗浄後の気体吹き出し手段を用いた乾燥において、複数の基板表面から溶剤が混入された洗浄液を１度の気体吹き出し工程で確実かつ完全に水切りすることができ、気体吹き出し乾燥後、ウォータマークが残ることがないという効果を有する。
【００１９】
さらに、前記溶剤の表面張力は、３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることを特徴とする。
【００２０】
本発明の基板の洗浄方法によれば、溶剤の表面張力が、３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることにより、溶剤により洗浄液と基板表面との接触角が小さくなるため、基板洗浄後の気体吹き出し手段を用いた乾燥において、複数の基板表面から溶剤が混入された洗浄液が、パレットの表面と複数の基板表面との間の段差で液跳ねすることなく、１度の気体吹き出し工程で確実かつ完全に水切りすることができ、気体吹き出し乾燥後、ウォータマークが残ることがないという効果を有する。
【００２１】
本発明に関わる電気光学装置の製造方法は、素子基板と、該素子基板に対向する対向基板との間に電気光学物質を挟持する電気光学装置の製造方法であって、前記素子基板と前記対向基板との少なくとも一方の基板の表面に、前記電気光学物質を配向させる配向膜を形成する工程と、請求項２乃至４のいずれかに記載の洗浄方法を用いて前記基板を洗浄する工程とを有することを特徴とする。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、素子基板と対向基板とのいずれかの基板に配向膜が形成された後の該配向膜に付着する塵埃の洗浄後に、パレットに載置された複数枚の基板の表面を、洗浄液よりも表面張力の低い溶剤で一様に覆うことにより、基板洗浄後の気体吹き出し手段を用いた乾燥において、複数の基板表面から溶剤が混入された洗浄液を１度の気体吹き出し工程で確実かつ完全に水切りすることができ、気体吹き出し乾燥後、ウォータマークが残ることがないという効果を有する。
【００２３】
また、前記溶剤は、前記洗浄液に対し水溶性を有すると共に、前記配向膜とは無反応な性質を有することを特徴とする。さらに、前記溶剤は、イソプロピルアルコール、イソプロピルエーテル、エチルアルコール、エチルエーテルのいずれかであることを特徴とする。
【００２４】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、溶剤は、洗浄液に対し水溶性を有し、素子基板と対向基板とのいずれかの基板に形成された配向膜と無反応な性質を有するイソプロピルアルコール、イソプロピルエーテル、エチルアルコール、エチルエーテルのいずれかであることにより、配向膜を損傷することなく、基板洗浄後の気体吹き出し手段を用いた乾燥において、複数の基板表面から溶剤が混入された洗浄液を１度の気体吹き出し工程で確実かつ完全に水切りすることができ、気体吹き出し乾燥後、ウォータマークが残ることがないという効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。尚、本実施の形態においては、電気光学装置は、素子基板（以下、ＴＦＴ基板と称す）と、ＴＦＴ基板に対向する基板（以下、対向基板と称す）と、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に挟持される電気光学物質である液晶とを有する液晶装置を例に挙げて説明する。よって、電気光学装置用基板は、液晶装置用基板であり、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とのいずれかを例に挙げて説明する。
【００２６】
先ず、本実施の形態の電気光学装置用基板の洗浄方法によって乾燥される基板を有する液晶装置の全体の構成について説明する。
【００２７】
図１は、液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図、図２は、図１中のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図である。
【００２８】
同図に示すように、液晶装置１は、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板を用いたＴＦＴ基板１０と、これに対向配置される、例えばガラス基板や石英基板を用いた対向基板２０との間に液晶５０が封入されて構成される。対向配置されたＴＦＴ基板１０と対向基板２０とは、シール材５２によって貼り合わされている。
【００２９】
ＴＦＴ基板１０の表面１０ａに、画素を構成する画素電極（ＩＴＯ）９ａ等がマトリクス状に配置される。また、対向基板２０の表面２０ａの全面に、対向電極（ＩＴＯ）２１が設けられる。
【００３０】
ＴＦＴ基板１０の画素電極９ａ上に、ラビング処理が施された配向膜１６が設けられている。一方、対向基板２０上の全面に渡って形成された対向電極２１上にも、ラビング処理が施された配向膜２２が設けられている。各配向膜１６，２２は、例えば、ポリイミド膜等の透明な有機膜からなる。
【００３１】
対向基板２０に、表示領域４０を区画する額縁としての遮光膜５３が設けられている。また、遮光膜５３の外側の領域に、液晶を封入するシール材５２が、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０間に形成されている。シール材５２は対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とを相互に固着する。
【００３２】
シール材５２は、ＴＦＴ基板１０の１辺の一部において欠落しており、その結果、液晶５０を注入するための液晶注入口１０８が形成されている。貼り合わされたＴＦＴ基板１０及び対向基板２０相互の間隙に、液晶注入口１０８より液晶５０が注入される。液晶５０の注入後に、液晶注入口１０８が封止材１０９で封止されるようになっている。
【００３３】
シール材５２の外側の領域に、ＴＦＴ基板１０の図示しないデータ線に画像信号を所定のタイミングで供給することにより前記データ線を駆動するデータ線駆動回路１０１及び外部回路との接続のための外部接続端子１０２がＴＦＴ基板１０の一辺に沿って設けられている。
【００３４】
この一辺に隣接する二辺に沿って、ＴＦＴ基板１０の図示しない走査線及びゲート電極に走査信号を所定のタイミングで供給することにより前記ゲート電極を駆動する走査線駆動回路１０４が設けられている。
【００３５】
走査線駆動回路１０４は、シール材５２の内側の遮光膜５３に対向する位置においてＴＦＴ基板１０上に形成される。また、ＴＦＴ基板１０上に、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、外部接続端子１０２及び上下導通端子１０７を接続する配線１０５が、遮光膜５３の３辺に対向して設けられている。
【００３６】
上下導通端子１０７は、シール材５２のコーナ部の４箇所のＴＦＴ基板１０上に形成される。そして、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０相互間に、下端が上下導通端子１０７に接触し、上端が対向電極２１に接触する上下導通材１０６が設けられており、上下導通材１０６によって、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通がとられている。
【００３７】
次に、このように構成された液晶装置１のＴＦＴ基板１０と対向基板２０とは、互いに貼り合わされる前の配向膜１６，２２が形成された後、その表面が洗浄される。各基板１０，２０の洗浄は、パレット７０に載置された状態で行われる。
【００３８】
以下、液晶装置１におけるＴＦＴ基板１０と対向基板２０とのいずれかの基板の洗浄後の乾燥方法について説明する。先ず、基板を洗浄、乾燥するための装置の構成について説明する。
【００３９】
図３は、基板の洗浄、基板への溶剤の塗布、及び基板の乾燥を行う処理装置の構成の概略を示す側面図、図４は、図３の装置の上面図、図５は、複数の基板が載置されたパレットの正面図、図６は、図５中のＶＩ−ＶＩ線に沿う断面図である。尚、以下の説明においては、基板は、対向基板２０を例に挙げて説明する。
【００４０】
図３、図４に示すように、基板の洗浄、基板への溶剤の塗布、及び基板の乾燥を行う処理装置２００は、洗浄水吐出ノズル８０が配設された洗浄槽２００ａと、溶剤吐出ノズル８１が配設された溶剤塗布槽２００ｂと、洗浄液を吹き飛ばすための気体を吹き出す手段（代表的な手段としてはエアナイフであり、以下エアナイフと称する）８２が配設された乾燥槽２００ｃと、ガイドローラ２００ｒとにより、主要部が構成されている。
【００４１】
ガイドローラ２００ｒは、複数の対向基板２０が載置されたパレット７０を、洗浄槽２００ａ、溶剤塗布槽２００ｂ、乾燥槽２００ｃの順に案内するものであり、各槽２００ａ，２００ｂ，２００ｃに配設されている。
【００４２】
洗浄槽２００ａ内に、ガイドローラ２００ｒによってガイドされたパレット７０の表面７０ｆ及び該パレット７０に複数載置された対向基板２０の各表面２０ｆに対して、洗浄水、例えば水９０を吹き付ける洗浄水吐出ノズル８０が配設されている。
【００４３】
洗浄水吐出ノズル８０は、ガイドローラ２００ｒによってガイドされるパレット７０の上方であって、該パレット７０の進行方向に直交する１辺と平行にライン状に配設されている。
【００４４】
溶剤塗布槽２００ｂ内に、ガイドローラ２００ｒによってガイドされたパレット７０の表面７０ｆ及び該パレット７０に複数載置された対向基板２０の各表面２０ｆに対して、イソプロピルアルコール（以下、ＩＰＡと称す）等の溶剤９１を吹き付ける溶剤吐出ノズル８１が配設されている。尚溶剤９１については、後に詳細に説明する。
【００４５】
溶剤吐出ノズル８１は、ガイドローラ２００ｒによってガイドされるパレット７０の上方であって、該パレット７０の進行方向に直交する１辺と平行にライン状に配設されている。
【００４６】
尚、洗浄槽２００ａと溶剤塗布槽２００ｂとは、同一槽で構成しても良い。即ち、洗浄槽２００ａと溶剤塗布槽２００ｂとのいずれかの内部に、洗浄水吐出ノズル８０及び溶剤吐出ノズル８１を一緒に配設しても良い。
【００４７】
乾燥槽２００ｃ内に、ガイドローラ２００ｒによってガイドされたパレット７０の表面７０ｆ及び該パレット７０に複数載置された対向基板２０の各表面２０ｆに対して、エア９２を吹き付け、各表面２０ｆ及び表面７０ｆ上に残留した溶剤９１または溶剤９１が混入した水９０を水切りし、各表面２０ｆ及び表面７０ｆを乾燥させるエアナイフ８２が配設されている。
【００４８】
エアナイフ８２は、ガイドローラ２００ｒによってガイドされるパレット７０の上方であって、該パレット７０の進行方向に直交する１辺と規定の角度を以てライン状に配設されている。
【００４９】
また、図５、図６に示すように、パレット７０は、例えば厚さを有する略四角状を有しており、該パレット７０の表面７０ｆに、複数の対向基板２０がそれぞれ載置される複数の凹溝７０ｍが形成されている。尚、パレット７０の形状は、略四角状に限定されない。
【００５０】
また、複数の対向基板２０は、例えば複数の凹溝７０ｍの底面から図示しない吸引装置で吸引されることにより複数の凹溝７０ｍに固定される。このことにより、パレット７０上は、該パレット７０の表面７０ｆと対向基板２０の各表面２０ｆとの間に形成された、後述する段差１２０を有する形状となっている。
【００５１】
次に、このように構成された処理装置２００を用いた対向基板２０の乾燥方法について先に説明した図３〜図６、及び図７〜図１４を用いて説明する。尚、以下において説明する各処理工程は、対向基板２０に配向膜２２が形成された後に行われる。また、配向膜形成後の対向基板２０の洗浄される面は、正確には、配向膜２２の表面となるが、ここでは説明上、対向基板２０の各表面２０ｆとして説明する。
【００５２】
図７は、基板の乾燥方法を示すフローチャート、図８は、基板洗浄後、基板及びパレットの表面に、洗浄水が残留した状態を示す断面図、図９は、洗浄後の基板及びパレットの表面に溶剤が塗布された状態を示す断面図、図１０は、溶剤が塗布された基板及びパレットの表面がエアナイフにより乾燥された状態を示す断面図である。
【００５３】
また、図１１は、エアナイフを用いた乾燥におけるエア及び溶剤のパレット上の流れを示すパレットの正面図、図１２は、エアナイフを用いた基板表面及びパレット表面の従来の洗浄液の乾燥工程を示した工程図、図１３は、図１２の部分拡大図、図１４は、洗浄液及び溶剤の２０℃における表面張力の値を示した図表である。
【００５４】
図７に示すように、配向膜２２がそれぞれ形成された複数の対向基板２０が載置されたパレット７０が、ガイドローラ２００ｒにより洗浄槽２００ａに搬入された後、ステップＳ１では、洗浄槽２００ａにおいて、パレット７０が図３に示すようにガイドローラ２００ｒにより進行した状態で、洗浄水吐出ノズル８０から水等の洗浄液が、対向基板２０の各表面２０ｆ及びパレット７０の表面７０ｆにライン状に吹き付けられる。その結果、各表面２０ｆ及び表面７０ｆが、該各表面２０ｆ及び表面７０ｆの進行方向先端から後端まで順次洗浄される。
【００５５】
このことにより、配向膜２２の形成の際に該配向膜２２に付着した異物は、各表面２０ｆ及び７０ｆから除去される。尚、洗浄後は、図８に示すように、各表面２０ｆ及び表面７０ｆに、水９０が残留する。
【００５６】
尚、水９０は、図１４に示すように、２０℃での表面張力が７２．７５（約７３）ｄｙｎｅ／ｃｍあるため、水９０の各表面２０ｆ及び表面７０ｆに対する接触角は、θｗとなっている。その後、ステップＳ２に移行する。
【００５７】
ステップＳ２では、洗浄後のパレット７０がガイドローラ２００ｒにより溶剤塗布槽２００ｂに搬入された後、溶剤塗布槽２００ｂにおいて、パレット７０が図３に示すようにガイドローラ２００ｒにより進行した状態で、溶剤吐出ノズル８１から水に対し水溶性を有し該水よりも表面張力が低くかつ配向膜２２と反応しない溶剤、例えばＩＰＡ９１が、対向基板２０の各表面２０ｆ及びパレット７０の表面７０ｆにライン状に、該表面２０ｆ及び表面７０ｆの進行方向先端から後端まで順次吹き付けられる。
【００５８】
このことにより、図９に示すように、各表面２０ｆ及び表面７０ｆは、ＩＰＡ９１で一様に覆われる。尚、ＩＰＡ９１は、図１４に示すように、２５℃での表面張力が２０．８ｄｙｎｅ／ｃｍあるため、ＩＰＡ９１の各表面２０ｆ及び表面７０ｆとの接触角は、θｙとなっている。
【００５９】
ここで、ＩＰＡ９１の表面張力は、水９０の表面張力よりも大幅に小さいため、ＩＰＡ９１の接触角θｙは、水９０の接触角θｗよりも大幅に小さくなっている。よって、対向基板２０の各表面２０ｆ及びパレット７０の表面７０ｆ上のＩＰＡ９１は、接触角θｙを小さくして各表面２０ｆ及び表面７０ｆを、膜厚を均一にして一様に覆っている。
【００６０】
尚、溶剤９１は、ＩＰＡに限らず、水に対し水溶性を有し該水よりも表面張力の低い溶剤、例えば表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の溶剤であって、配向膜２２と反応しない、具体的には、配向膜２２を損傷させない溶剤であれば、図１４に示すように、表面張力が２２．３ｄｙｎｅ／ｃｍのエチルアルコール、表面張力が１７．６ｄｙｎｅ／ｃｍのエチルエーテル、表面張力が１７．７ｄｙｎｅ／ｃｍのイソプロピルエーテル等、どのようなものであっても構わない。
【００６１】
ＩＰＡ９１で各表面２０ｆ及び表面７０ｆが膜厚を均一にして一様に覆われた後、続くステップＳ３では、溶剤塗布後のパレット７０がガイドローラ２００ｒにより乾燥槽２００ｃに搬入される。その後、乾燥槽２００ｃにおいて、パレット７０が図３に示すようにガイドローラ２００ｒにより進行した状態で、エアナイフ８２からエア９２が、対向基板２０の各表面２０ｆ及びパレット７０の表面７０ｆの進行方向に直交する１辺と規定の角度を以た方向からライン状に、該表面２０ｆ及び表面７０ｆの進行方向先端から後端まで順次吹き付けられる。
【００６２】
このことにより、図１０に示すように、各表面２０ｆ及び表面７０ｆ上のＩＰＡ９１またはＩＰＡ９１が混入された水９０は、エア９２により、各表面２０ｆ及び表面７０ｆから吹き飛ばされ、その結果、各表面２０ｆ及び表面７０ｆが水切りされて乾燥される。
【００６３】
この際、上述したように対向基板２０の各表面２０ｆ及びパレット７０の表面７０ｆ上には、表面張力の小さい、即ち各表面２０ｆ及び表面７０ｆとの接触角が小さいＩＰＡ９１が、膜厚を均一にして一様に覆われているため、図１１に示すように、ＩＰＡ９１またはＩＰＡ９１が混入された水９０は、各表面２０ｆと表面７０ｆとの間に構成された段差１２０で跳ね返ることなく、エア９２により確実に水切りされる。
【００６４】
これは、図１２に示すように、表面張力の高い、即ち各表面２０ｆ及び表面７０ｆとの接触角の高い水９０等をエアナイフ８２を用いて水切りしようとすると、水９０は、該各表面２０ｆ及び表面７０ｆとの接触角θｗが大きく不均一な膜厚で残留しているため、図１３に示すように、各表面２０ｆと表面７０ｆとの間に構成された段差１２０で跳ね返り、該跳ね返った水９０が、対向基板２０の各表面２０ｆに再付着し、その結果、乾燥後、各表面２０ｆに、水９０の乾燥しみ、所謂ウォータマークが残ってしまうためである。
【００６５】
このように、対向基板の乾燥方法においては、対向基板２０の各表面２０ｆ及びパレット７０の表面７０ｆが洗浄された後、エアナイフ８２を用いて各表面２０ｆ及び表面７０ｆを乾燥するに際し、洗浄後、各表面２０ｆ及び７０ｆを、表面張力の低い、即ち各表面２０ｆ及び表面７０ｆとの接触角の小さいＩＰＡ９１で膜厚を均一にして一様に覆うようにした。
【００６６】
このことによれば、洗浄後、各表面２０ｆ及び表面７０ｆに残留したＩＰＡ９１またはＩＰＡ９１が混入された水９０は、各表面２０ｆと表面７０ｆとの間に構成された段差１２０で跳ね返ることなく、１回のエア９２で、確実かつ完全に複数の対向基板２０を載置するパレット７０上の形状に関わらず各表面２０ｆ及び表面７０ｆから水切りすることができる。よって、乾燥後、各表面２０ｆ、７０ｆに、ウォータマークが残ることがない。
【００６７】
以下、変形例を示す。本実施の形態においては、液晶装置１用の基板に、対向基板２０を例に挙げて示したが、これに限らず、ＴＦＴ基板１０に適用しても本実施の形態と同様の効果を得ることができるということは勿論である。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
さらに、本発明により乾燥される基板を有する電気光学装置は、液晶装置を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ（Field Emission Display）装置、ＳＥＤ(Surface-Conduction Electron-Emitter Display)装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管または液晶シャッター等を用いた小型テレビを用いた装置などの各種の電気光学装置の基板の乾燥に適用できる。
【００６９】
また、本発明により乾燥される基板を有する電気光学装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上述した液晶装置は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールを例に挙げて説明したが、これに限らず、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールにも適用することができる。
【００７０】
さらに、本発明により乾燥される基板を有する電気光学装置が用いられる電子機器としては、光投写型表示装置や、携帯電話機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である液晶表示モジュールを用いる機器が挙げられる。したがって、これらの電子機器においても、本発明が適用可能であることはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。
【図２】図１中のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図。
【図３】基板の洗浄、基板への溶剤の塗布、及び基板の乾燥を行う処理装置の構成の概略を示す側面図。
【図４】図３の装置の上面図。
【図５】複数の基板が載置されたパレットの正面図。
【図６】図５中のＶＩ−ＶＩ線に沿う断面図。
【図７】基板の乾燥方法を示すフローチャート。
【図８】基板洗浄後、基板及びパレットの表面に、洗浄水が残留した状態を示す断面図。
【図９】洗浄後の基板及びパレットの表面に、溶剤が塗布された状態を示す断面図。
【図１０】溶剤が塗布された基板及びパレットの表面がエアナイフにより乾燥された状態を示す断面図。
【図１１】エアナイフを用いた乾燥におけるエア及び溶剤のパレット上の流れを示すパレットの正面図。
【図１２】エアナイフを用いた基板表面及びパレット表面の従来の洗浄液の乾燥工程を示した工程図。
【図１３】図１２の部分拡大図。
【図１４】洗浄液及び溶剤の２０℃における表面張力の値を示した図表。
【符号の説明】
【００７２】
１…液晶装置、９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴ基板、１６…配向膜、２０…対向基板、２０ｆ…対向基板の表面、２１…対向電極、２２…配向膜、４０…表示領域、５０…液晶、５２…シール材、７０…パレット、７０ｆ…パレットの表面、８２…エアナイフ、９０…水、９１…ＩＰＡ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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