(57)【要約】【課題】  配線抵抗を上昇させること、および有機ＥＬ層上部に形成される第２電極をフォトリソグラフ法および製膜マスクを用いることなしに製造することができる、セグメント部（特に可変表示可能なセグメント部）を備えた有機ＥＬパネルの提供。【解決手段】  基板と、基板上に設けられた第１電極、有機ＥＬ層および第２電極を含むセグメント部とを含む有機ＥＬパネルにおいて、セグメント部が複数のセグメントを有し、第１電極が金属電極と透明電極との積層構造を有し、かつ複数のセグメントの共通電極であり、第２電極は、逆テーパー断面形状を有する分離隔壁によって複数の部分に分離されていることを特徴とする有機ＥＬパネル。【選択図】  図１
2006107884.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、基板上に設けられた第１電極、有機ＥＬ層および第２電極を含むセグメント部とを含む有機ＥＬパネルにおいて、
前記セグメント部が複数のセグメントを有し、
前記第１電極が、金属電極と透明電極との積層構造を有し、かつ前記複数のセグメントの共通電極であり、
前記第２電極は、逆テーパー断面形状を有する分離隔壁によって複数の部分に分離されている
ことを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項２】
前記分離隔壁の周囲は、複数の直線と複数の曲線とで構成されており、前記複数の直線のそれぞれは端部をなす直線を除いて２つの曲線と連続しており、前記複数の曲線のそれぞれは２つの直線と連続しており、前記曲線は、３μｍ以上の曲率半径と９０゜以上の屈曲角を有する円弧であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項３】
前記基板は、透明基板と、前記透明基板上に設けられた１つまたは複数の色変調部とを含むことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項４】
マトリクス駆動部第１電極、有機ＥＬ層およびマトリクス駆動部第２電極を含むマトリクス駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項５】
前記マトリクス駆動部第２電極が、前記分離隔壁によって複数の部分に分離されていることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機ＥＬパネルに関する。より詳細には、本発明は、セグメント表示を行う有機ＥＬパネルに関し、および該パネルの配線抵抗の低減に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
１９８７年にイーストマンコダック社のTangらによって２層積層構成で高い効率を有する有機ＥＬ素子が発表されて以来、現在に至る間に様々な有機ＥＬ素子が開発されてきており、一部実用化がされ始めている（非特許文献１参照）。
【０００３】
フルカラー化の方法としては、異なる色を発光する複数種の有機ＥＬ発光素子を基板上に配列する方法（いわゆる３色塗り分け法）、バックライトの発光を波長分布変換することによる色変換法（以下、ＣＣＭ法と称する）、バックライトの発光をカラーフィルタを通して放射するカラーフィルタ法などが検討されてきている。これらの方式の中で、成膜時にメタルマスクを用いる必要がなく、フォトプロセスを用いて所望のパターンの色変換層ないしカラーフィルタ層を作製することができるという点において、ＣＣＭ法およびカラーフィルタ法がディスプレイの大面積化および高精細化に有利である。
【０００４】
現在、有機ＥＬパネルは、多色表示が可能なカラーパネルの開発が行われているが、カラーパネルの利用方法によっては、パネル内に常時点灯させなければならない箇所（たとえば、アイコン部、時計表示部など）が存在する可能性がある。しかし、常時点灯部分は連続通電されるために、焼き付きまたは輝度劣化などの問題を引き起こす可能性がある。そのために、常時点灯部分をマトリクス駆動ではなくスタティック駆動によってセグメント表示をしておく解決手法が採られることがある。たとえば、図１に示すように、可変表示可能なマトリクス駆動部６００に加えて、スタティック駆動される固定表示セグメント部６５０および／または可変表示セグメント部６６０とを有する有機ＥＬパネル５００を形成してもよい。
【０００５】
有機ＥＬパネルにセグメント部を形成する場合には、陰極あるいは陽極のいずれか一方をパターニングして表示形状に形成し、他方を共通電極として用いることが知られている（特許文献１参照）。また、支持基板上に表示形状に形成された金属陰極と、有機ＥＬ層と、共通電極（陽極）として用いられる透明電極とを備えた、支持基板とは反対側に光を取り出すいわゆるトップエミッション方式のセグメント表示有機ＥＬパネルが提案されている（特許文献２参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開平０９−１０６８８７号公報
【特許文献２】特開平１０−２０８８８２号公報
【非特許文献１】C. W. Tang, S. A. VanSlike, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、透明電極を形成するのに一般的に用いられるＩＴＯまたはＩＺＯのような透明導電性金属酸化物は、金属材料に比較して電導度が小さい。このことから透明導電性金属酸化物を用いて共通電極を形成しても、配線抵抗を大きく低減することはできない。また、トップエミッション構造では、上記の透明導電性金属酸化物の伝導性が小さいことを考慮すると、支持基板側に配設される金属電極を共通電極とし、光取り出し側に配設する導電性金属酸化物膜のパターンは、フォトリソグラフによるパターニング、あるいは位置合わせをした製膜マスクを用いた形成を行う必要がある。しかしながら、フォトリソグラフによるパターニングは、有機ＥＬ層に深刻なダメージを与える懸念がある。また、製膜マスクを用いる方法は、製膜マスクの位置合わせを精密に行う必要があるので装置費用が高価になり、製造工程が煩雑になる。
【０００８】
したがって、配線抵抗を増大させることなしに、セグメント部（特に可変表示可能なセグメント部）を形成する方法が強く求められている。また、セグメント部の有機ＥＬ層上部に形成される第２電極をフォトリソグラフ法および製膜マスクを用いることなしに形成する方法もまた、求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の有機ＥＬパネルは、基板と、基板上に設けられた第１電極、有機ＥＬ層および第２電極を含むセグメント部とを含む有機ＥＬパネルであって：前記セグメント部が複数のセグメントを有し；前記第１電極が、金属電極と透明電極との積層構造を有し、かつ前記複数のセグメントの共通電極であり；前記第２電極は、逆テーパー断面形状を有する分離隔壁によって複数の部分に分離されていることを特徴とする。ここで、前記分離隔壁の周囲は、複数の直線と複数の曲線とで構成されており、前記複数の直線のそれぞれは端部をなす直線を除いて２つの曲線と連続しており、前記複数の曲線のそれぞれは２つの直線と連続しており、前記曲線は、３μｍ以上の曲率半径と９０゜以上の屈曲角を有する円弧であることが望ましい。また、前記基板は、透明基板と、前記透明基板上に設けられた１つまたは複数の色変調部とを含む色変換フィルタであってもよい。
【００１０】
また、本発明の有機ＥＬパネルは、マトリクス駆動部第１電極、有機ＥＬ層およびマトリクス駆動部第２電極を含むマトリクス駆動部をさらに含んでもよい。ここで、前記マトリクス駆動部第２電極が、前記分離隔壁によって複数の部分に分離されていてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
以上のように形成される本発明の有機ＥＬパネルは、開口部を有する金属／透明導電性金属酸化物の積層体からなる第１電極を共通電極として用いることによって、配線抵抗の上昇を抑制することが可能となる。また、第２電極の分離を行う隔壁の形状を制御することによって、第２電極そのもののフォトリソグラフ法によるパターニングおよび製膜マスクを用いることなしに、所望の形状を有する第２電極を形成することが可能となり、セグメント部をより効率的に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図２および図３に、本発明の有機ＥＬパネルの第１電極部を示す。図２は第１電極部の上面図であり、図３は切断線（III−III）における断面図である。基板１０上に形成される第１電極は、金属電極２０および透明電極３０の積層体であり、透明電極３０の上に複数の開口部を有する絶縁膜４０が形成されている。
【００１３】
基板１は、透明基板であってもよく、透明基板上に色変調部を設けた色変換フィルタであってもよい。透明基板は、可視光（波長４００〜７００ｎｍ）に対して透明であることが望ましい。透明基板の材料として好ましいものは、ガラス、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。
【００１４】
透明基板上に設けられる色変調部は、カラーフィルタ層、色変換層、またはカラーフィルタ層と色変換層との積層体から構成することができる。カラーフィルタ層は、所望される波長域の光のみを透過させる層である。また、色変換層との積層構成を採る場合、色変換層にて波長分布変換された光の色純度を向上させることにカラーフィルタ層は有効である。カラーフィルタ層は、たとえば、市販の液晶用カラーフィルタ材料（富士フイルムアーチ製カラーモザイクなど）を用いて形成することができる。
【００１５】
色変換層は、色変換色素とマトリクス樹脂からなる層である。色変換色素は、入射光の波長分布変換を行って、異なる波長域の光を放射する色素であり、好ましくは有機発光層からの近紫外光または青色〜青緑色の光の波長分布変換を行って、所望の波長域の光（たとえば、青色、緑色または赤色）を放射する色素である。色変換色素としては、赤色光を放射するローダミン系色素、シアニン系色素など；緑色光を放射するクマリン系色素、ナフタルイミド系色素など；青色光を放射するクマリン系色素など、当該技術で知られている任意のものを用いることができる。
【００１６】
１つの有機ＥＬパネルに、複数種の色変調部、たとえば有機発光層からの光を吸収して赤色光を放射する赤色変調部、緑色光を放射する緑色変調部、青色光を放射する青色変調部などを設けてもよい。本発明においては、１つのセグメント（透明電極の１つの開口部に相当する）において、１種類の色変調部を設けて、該色変調部に相当する光を取り出してもよい。あるいはまた、１つのセグメント中に微細な部分に分割された複数種の色変調部を所定の比率で設けることによって、所望の色相を有する光を取り出してもよい。
【００１７】
色変調部は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各層の材料を塗布し、続いてフォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。必要に応じて、電極形成表面の平坦化を行うための平坦化層（種々の有機樹脂を用いて形成することができる）、色変調部からの酸素および／または水分などが有機ＥＬ層へと移動することを防止するパッシベーション層（無機酸化物、無機窒化物などを用いて形成することができる）などを色変調部を覆うように形成してもよい。
【００１８】
金属電極２０は、基板１０を通して光を外部へと取り出すために必要な開口部を除いて、外部駆動回路との接続部から表示部全体にわたって形成されている。金属電極２０は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ等の金属、あるいは、Ａｌ−Ａｇ、Ａｌ−Ｃｕ等の合金を用いて形成することができる。金属電極２０は、所望の形状のマスクを用いた蒸着法またはスパッタ法によって形成してもよいし、基板全面に蒸着法またはスパッタ法によって形成した後に、フォトリソグラフ法などを用いて所望の形状にパターニングを行ってもよい。金属電極２０は、通常１０〜２００ｎｍ、好ましくは１００〜５００ｎｍの厚さを有する。この導電率の高い金属または合金を用い、前述の範囲内の厚さとすることによって、金属電極２０と透明電極３０との積層構造である第１電極のシート抵抗値（すなわち配線抵抗）を低減させ、第１電極中で発生する電圧降下を抑制することが可能となる。
【００１９】
透明電極３０は、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物をスパッタ法を用いて積層することにより形成される。透明電極３０は、少なくとも、光を外部へと取り出すために必要な開口部を含む表示部全体にわたって形成され、金属電極２０と電気的に接続されている。必要に応じて、外部駆動回路との接続部においても透明電極３０を形成してもよいが、必ずしも必要ではない。透明電極３０は、開口部において、通常５０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍの範囲内の厚さを有することが望ましい。
【００２０】
図３においては、基板１０／金属電極２０／透明電極３０の積層構造を例示したが、金属電極２０と透明電極３０との積層順序を逆にしてもよい。しかしながら、透明電極３０上に金属電極の残渣を残さないために、図３に示すように金属電極２０上に透明電極３０を形成することが望ましい。
【００２１】
本発明において、金属電極２０および透明電極３０の積層構造を有する第１電極は、キャリア注入効率の観点から陽極として用いることが好ましい。上記の積層構造を有する第１電極は、導電性金属酸化物を単独で用いた場合よりも低いシート抵抗値を示し、共通電極として用いた場合にも配線抵抗の増大を抑制することが可能である。
【００２２】
透明電極３０上に形成される絶縁膜４０は、第１電極として機能する部分を画定するための層であり、金属電極２０の開口部に相当する位置を除いて透明電極３０の全面に設けられる。絶縁膜４０は、フォトレジストまたはポリイミドなどの有機樹脂系材料、あるいはＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘなどの無機酸化物、無機窒化物または無機酸化窒化物を用いて形成することができる。絶縁膜４０の形成には、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、および湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ゾルゲル法など）などの、当該技術において知られている任意の方法を用いることができる。
【００２３】
図４に、本発明の有機ＥＬパネルの断面図を示す。図３に示した絶縁膜４０以下の構造の上に、分離隔壁５０、有機ＥＬ層６０および第２電極７０が順次積層された構造を有する。
【００２４】
有機ＥＬ層６０は、有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層および／または電子注入層を含む。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有して形成される。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。
（１）有機発光層
（２）正孔注入層／有機発光層
（３）有機発光層／電子注入層
（４）正孔注入層／有機発光層／電子注入層
（５）正孔輸送層／有機発光層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層
（７）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層
（上記の構成において、陽極として機能する電極が左側に接続され、陰極として機能する電極が右側に接続される）
【００２５】
有機発光層の材料としては、任意の公知の材料を用いることができる。たとえば、青色から青緑色の発光を得るためには、例えば縮合芳香環化合物、環集合化合物、金属錯体、スチリルベンゼン系化合物、ポルフィリン系化合物、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。あるいはまた、ホスト化合物にドーパントを添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成してもよい。ホスト化合物としては、ジスチリルアリーレン系化合物（たとえば出光興産製ＩＤＥ−１２０など）、Ｎ，Ｎ’−ジトリル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルビフェニルアミン（ＴＰＤ）、アルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３）等を用いることができる。ドーパントとしては、ペリレン（青紫色）、クマリン６（青色）、キナクリドン系化合物（青緑色〜緑色）、ルブレン（黄色）、４−ジシアノメチレン−２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−６−メチル−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ、赤色）、白金オクタエチルポルフィリン錯体（ＰｔＯＥＰ、赤色）などを用いることができる。
【００２６】
正孔注入層の材料としては、Ｐｃ類（ＣｕＰｃなどを含む）またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。
【００２７】
正孔輸送層は、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料（たとえばＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ＰＢＤ、ｍ−ＭＴＤＡＴＡなど）を用いて形成することができる。
【００２８】
電子輸送層の材料としては、ＰＢＤ、ＴＰＯＢのようなオキサジアゾール誘導体；ＴＡＺのようなトリアゾール誘導体；トリアジン誘導体；フェニルキノキサリン類；ＢＭＢ−２Ｔ、ＢＭＢ−３Ｔのようなチオフェン誘導体；Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体などを用いることができる。
【００２９】
電子注入層の材料としては、Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体、または、アルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体などを用いることができる。
【００３０】
また、電子注入効率を向上させることを目的として、有機ＥＬ層６０と陰極として用いる電極（好ましくは第２電極７０）との界面に、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはそれらを含む合金、アルカリ金属フッ化物などの電子注入性材料からなるバッファ層を形成してもよい。これらの材料の光透過性を考慮して、バッファ層の膜厚を１０ｎｍ以下とすることが望ましい。
【００３１】
有機ＥＬ層６０を構成するそれぞれの層およびバッファ層は、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。
【００３２】
第２電極７０は、高反射率の金属およびその合金、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率の合金は、１つまたは複数の前述の金属を含む合金であり、たとえばＡｌ−Ａｇ合金、Ａｌ−Ｌｉ合金、Ｍｇ−Ａｇ合金などを用いることができる。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。本発明においては、第２電極７０を陰極として用いることが望ましい。第２電極７０は、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。
【００３３】
有機ＥＬ層６０および第２電極７０の形成前に分離隔壁５０を形成して、有機ＥＬ層６０および第２電極７０を、セグメントおよびその配線部と、それ以外の非表示部とに分離する。分離隔壁５０は、ネガ型フォトレジストを用い、塗布、パターン露光および現像処理を施すことによって逆テーパー形状断面を有して形成される。
【００３４】
第２電極７０は、フォトリソグラフ法も製膜マスクも用いることなしに、逆テーパー状の断面を有する分離隔壁５０を用いて、所望のパターンに形成される。分離隔壁５０は、ネガ型フォトレジストを用い、塗布、パターン露光および現像処理を施すことによって逆テーパー形状断面を有して形成される。第２電極の形状の例を図５に示す。図５においては、数字の表示に一般的に用いられる７個のセグメントからなる「日」型の配列を示している。第２電極７０のそれぞれは、金属電極２０の開口部に設けられた透明電極３０に対向して形成されて各セグメントと、絶縁膜４０上方に存在し、外部接続端子へと連絡する配線部とを有する。
【００３５】
ここで、分離隔壁５０を屈曲させて形成する場合に、分離隔壁の変曲点において充分な逆テーパー断面形状が得られないことが従来から知られている。充分な逆テーパー断面形状が得られない場合、隣接する第２電極が電気的に分離されないという故障を発生させる。この逆テーパー断面形状の異常は、パターン露光に用いるフォトマスクの変曲点（分離隔壁の変曲点に相当する位置にある）において、光の回り込みが発生し、変曲点以外の部分よりも過剰に露光される部分が発生するためと推測される。
【００３６】
本発明者らは、特定の形状のフォトマスクを用いて特定の形状の分離隔壁５０を形成することによって、この問題点を回避できることを見出した。図５のVIで示した部分の拡大図を、図６に示す。
【００３７】
本発明の分離隔壁５０は、複数の直線部５１と複数の屈曲部５２からなり、複数の直線部５１のそれぞれ（両端を除く）は２つの屈曲部５２に連結され、および複数の屈曲部５２のそれぞれ（両端を除く）は、２つの直線部５１に連結されている。本発明における「分離隔壁の直線部５１」とは、分離隔壁の側部が直線状である部分を意味する。１つの直線部５１において存在する２つの側部は、平行であっても、平行でなくてもよい。たとえば、直線部５１は、その一端から他端に向かって分離隔壁５０の幅が単調に増加する形状であってもよい。本発明における「分離隔壁の屈曲部５２」とは、分離隔壁の側部が円弧で形成されている部分を意味する。本発明において、屈曲部５２の側部は、３μｍ以上、好ましくは５〜５０μｍの曲率半径ｒを有する。屈曲部５２の２つの側部は、異なる曲率半径を有してもよい。また直線部５１と屈曲部５２との連結部分において、直線部５１のそれぞれの側部の直線は、屈曲部５２の対応する側部の円弧の接線となるようにして、変曲点を形成させないことが望ましい。また、本発明において、それぞれの屈曲部５２は、屈曲角θ（すなわち、曲線部に隣接する２つの直線部の側部がなす角）が９０゜以上１８０゜未満となるような長さを有する。
【００３８】
換言すれば、本発明の分離隔壁５０の周囲は、複数の直線と複数の曲線から構成されており、前記複数の直線のそれぞれは、端部をなす直線を除いて２つの曲線と連続しており、前記複数の曲線のそれぞれは２つの直線と連続しており、前記曲線のそれぞれは３μｍ以上の曲率半径ｒおよび９０゜以上の屈曲角θ（当該曲線に連続する２つの直線のなす角）を有する円弧である。また、連続している１つの直線と１つの曲線の連結部分において、該直線は、該曲線の接線であることが望ましい。
【００３９】
分離隔壁５０を形成する際のパターン露光に用いられるフォトマスクは、分離隔壁と同様の構造を有するものである。
【００４０】
以上説明した構成において、有機ＥＬ素子は第１電極を共通電極とし、第２電極を各セグメントに相当する形状の電極として、スタティック駆動される。スタティック駆動を行うことによって、セグメント部全体を同時に発光させることができ、デューティ比の影響を受けるマトリクス駆動の場合よりも、低電力でより明るい表示を行うことが可能となる。
【００４１】
また、図１に示したように、スタティック駆動される固定表示セグメント部６５０および／または可変表示セグメント部６６０に加えて、可変表示が可能なマトリクス駆動部６００をさらに設けることができる。
【００４２】
マトリクス駆動部６００は、複数のストライプ状部分からなるマトリクス駆動部第１電極、有機ＥＬ層、複数のストライプ形状部分からなるマトリクス駆動部第２電極を含み、有機ＥＬ層およびマトリクス駆動部第２電極は、分離隔壁によって分離される。
【００４３】
マトリクス駆動部第１電極は、第１の方向の延びる複数のストライプ状部分から形成される。マトリクス駆動部第１電極は、前述の透明電極３０と同様の材料で形成することができる。必要に応じて、第１の方向に延びる複数のストライプ形状部分を有し、前述の金属電極２０と同様の材料で形成され、それぞれのストライプ形状部分が透明導電性酸化物で形成されたストライプ状部分のそれぞれに対して電気的に接続されている補助電極を設けてもよい。補助電極を形成することは、配線抵抗の低減に有効である。あるいはまた、マトリクス駆動部第１電極の外部接続端子を、前述の金属電極２０と同様の材料で形成してもよい。
【００４４】
有機ＥＬ層およびマトリクス駆動部第２電極は、前述のセグメント部と同様の構成を有し、好ましくは、分離隔壁５０による分離作用に基づいて、セグメント部の有機ＥＬ層および第２電極のそれぞれと同時に形成される。マトリクス駆動部第２電極は、第２の方向に延びる複数のストライプ状部分から形成される。ここで、第１の方向は、第２の方向と交差しており、好ましくは第２の方向と直交している。マトリクス駆動部第１電極のストライプ状部分とマトリクス駆動部第２電極のストライプ状部分の交差している部分が、発光部（ピクセルまたはサブピクセル）となる。また、マトリクス駆動部第２電極の外部接続端子を、前述の金属電極２０と同様の材料で形成してもよい。
【００４５】
マトリクス駆動部において、多色表示を行う場合には、基板１として複数種の色変調部を有する色変換フィルタを用いる。複数種の色変調部のそれぞれは、複数の部分から構成され、それら複数の部分はサブピクセルに相当する位置に配置される。たとえば、フルカラー表示を行う場合には、赤色変調部、緑色変調部および青色変調部を組み合わせたピクセル（各色の色変調部がサブピクセルに相当する）を単位として、マトリクス駆動部内にそれらピクセルを配列することが望ましい。
【実施例】
【００４６】
（実施例１）
１０ｍｍ角のパッシブマトリクス駆動部と２ｍｍ角のスタティック駆動緑色発光可変表示セグメント部とを有する有機ＥＬパネルを作製した。サブピクセルのサイズを１００μｍ×３００μｍとし、フィルファクターを７０％とした。ガラス基板上の色変調部以外の部分にブラックマスクを形成した。マトリクス駆動部においては、赤色変調部、緑色変調部および青色変調部を１つのピクセルとし、該ピクセルをマトリクス駆動部全体に配列させた。一方、可変表示セグメント部においては、セグメントとなるべき部分に緑色変調部を配置した。ここで、赤色および緑色変調部はカラーフィルタ層と色変換層との積層構造とし、青色変調部はカラーフィルタ層のみから構成した。次に、平坦化層およびパッシベーション層を順次形成して、基板１を形成した。
【００４７】
パッシベーション層の上に、スパッタ法にて膜厚５００ｎｍのＭｏを成膜し、必要なパターニングを行って金属電極２０を形成した。すなわち、マトリクス駆動部においては、第２電極の外部接続端子部分にのみＭｏ膜を残した。可変表示セグメント部においては、セグメントとなる開口部以外の部分にＭｏ膜を残した。形成されたＭｏ膜の抵抗率は、１．５×１０−５Ω・ｃｍであった。
【００４８】
次に、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ）をターゲット、Ａｒおよび酸素をスパッタガスとして用いるスパッタ法によって膜厚２００ｎｍのＩＺＯ膜を形成し、次にエッチング液としてシュウ酸を用いるフォトリソグラフ法によってパターニングを行い、透明電極３０を形成した。すなわち、マトリクス駆動部においては、幅１００μｍの複数のストライプ状部分からなるパターンを残した。一方、可変表示セグメント部においては、開口部を含む全面にＩＺＯを残した。
【００４９】
次に、フォトリソグラフ法を用いてポリイミド膜（東レ（株）製、フォトニース）を形成し、絶縁膜４０を得た。マトリクス駆動部においては、サブピクセルとなる位置以外の部分に絶縁膜４０を形成した。一方、可変表示セグメント部においては、金属電極２０の開口部以外の部分に絶縁膜を形成した。
【００５０】
次に、ネガ型フォトレジスト（日本ゼオン製、ＺＰＮ１１６８）を用いて分離隔壁５０を形成した。スピンコート法を用いてフォトレジストを塗布した後にプリベークし、フォトマスクを用いて所定のパターンで露光した後にポストエクスポージャベーク（１１０℃のホットプレート、６０秒間）を行った。次いで現像を行って所望のパターンを形成した後に、１５分間にわたって１６０℃のホットプレートで加熱して、焼成を行った。マトリクス駆動部においては、ＩＺＯのストライプの延びる方向と直交する方向マトリクス駆動部第１電極の外部接続端子を、前述の金属電極２０と同様の材料で形成してもよい。に延びるストライプ形状とした。一方、可変表示セグメント部においては、図５および図６に示したような、直線部および５μｍ以上の曲率半径および９０゜以上１８０゜未満の屈曲角を有する屈曲部からなる分離隔壁５０を形成した。
【００５１】
以上のように形成した積層体を真空蒸着装置に移動させ、真空を破らずに有機ＥＬ層６０、および反射電極７０を蒸着法によって順次成膜した。有機ＥＬ層６０は、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層の積層構造とした。装置の真空槽内圧を１×１０−４Ｐａまで減圧し、正孔注入層として膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニンを、正孔輸送層として膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を、有機発光層として膜厚３０ｎｍの４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を、および電子注入層として膜厚２０ｎｍのアルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３）を積層した。その後に、膜厚２００ｎｍのＭｇ−Ａｇ（Ｍｇ／Ａｇは、重量比で１０／１である）を積層して、第２電極７０を形成した。分離隔壁５０により、マトリクス駆動部においては、第２電極７０は、透明電極３０を形成するストライプ状部分と直交する方向に延びる、幅３００ｎｍの複数のストライプ状部分から構成された。一方、可変表示セグメント部においては、図５に示したようなセグメントおよび配線部を有する第２電極が形成された。
【００５２】
得られた有機ＥＬパネルを、乾燥窒素雰囲気下（酸素濃度および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）において、封止ガラスおよびＵＶ硬化型接着剤を用いて封止した。
【００５３】
得られた有機ＥＬパネルにおいて、第２電極間の分離不良は発生せず、可変表示セグメント部の各セグメントを独立的にオン／オフすることができた。また、可変表示セグメント部は、マトリクス駆動部よりも低い電圧の印加によってマトリクス駆動部と同等の輝度を有する表示を行うことが可能であった。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】セグメント部とマトリクス部とを有する有機ＥＬパネルの概念的上面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬパネルの可変表示セグメント部の第１電極を示す概念的上面図である。
【図３】図２の切断線III−IIIで切断した、本発明の有機ＥＬパネルの可変表示セグメント部の第１電極を示す概念的断面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬパネルの可変表示セグメント部を示す概念的断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬパネルの可変表示セグメント部の第２電極を示す概念的上面図である。
【図６】図５のVI部分を拡大した、本発明の分離隔壁の構造を示す概念的上面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０  基板
２０  金属電極
３０  透明電極
４０  絶縁膜
５０  分離隔壁
６０  有機ＥＬ層
７０  第２電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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