(57)【要約】【課題】高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる光記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に、反射層、色素を含む記録層、透明樹脂層を、この順で有する光記録媒体であって、前記記録層と前記樹脂層との間にバリア層を設けるとともに、前記バリア層に用いる材料のバルクとしての３００Ｋでの熱伝導率Ｍが７０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、前記バリア層の膜厚ｔが５ｎｍより小さいようにする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、反射層、色素を含む記録層、透明樹脂層を、この順で有する光記録媒体であって、
前記記録層と前記樹脂層との間にバリア層を設けるとともに、
前記バリア層に用いる材料のバルクとしての３００Ｋでの熱伝導率Ｍが７０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、
前記バリア層の膜厚ｔが５ｎｍより小さい
ことを特徴とする、光記録媒体。
【請求項２】
前記Ｍが９０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である
ことを特徴とする、請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記ｔが１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である
ことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記バリア層が、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｗ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｇ、及びＡｕよりなる群から選ばれる金属元素の単体又は前記金属元素を主成分とする合金である
ことを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記バリア層が、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、及びＡｌよりなる群から選ばれる金属元素の単体又は前記金属元素を主成分とする合金である
ことを特徴とする、請求項４記載の光記録媒体。
【請求項６】
前記透明樹脂層の上に、第２の反射層と第２の記録層と透明基板とをこの順番で更に設けた
ことを特徴とする、請求項１〜５の何れか一項に記載の光記録媒体。
【請求項７】
前記記録層が、色素として、下記一般式（１）で表わされるアゾ系化合物とＺｎ金属イオンとからなる含金属アゾ色素を少なくとも含有する
ことを特徴とする、請求項６記載の光記録媒体。
【化１】
2006313612.tif 000020
（一般式（１）中、
Ｒ1は、水素原子又はＣＯ2Ｒ3で示されるエステル基（ここで、Ｒ3は、直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、シクロアルキル基を表わす。）を表わす。
Ｒ2は、直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。
Ｘ1及びＸ2のうち、少なくとも何れか一方はＮＨＳＯ2Ｙ基（ここで、Ｙは、少なくとも２つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。）を表わすとともに、残りは水素原子を表わす。
Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立して、水素原子、直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は直鎖若しくは分岐のアルコキシ基を表わす。
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１若しくは２のアルキル基を表わす。
尚、前記ＮＨＳＯ2Ｙ基からＨ+が脱離してＮＳＯ2Ｙ-（陰性）基となり、上記一般式（１）で表されるアゾ系化合物は金属イオンと配位結合を形成する。）
【請求項８】
第１の基板上に、第１の反射層、色素を含む第１の記録層、透明樹脂層、第２の反射層、色素を含む第２の記録層、及び第２の基板を、この順に有する光記録媒体であって、
前記第１の記録層が、色素として、下記一般式（１）で表わされるアゾ系化合物とＺｎ金属イオンとからなる含金属アゾ色素を少なくとも含有する
ことを特徴とする、光記録媒体。
【化２】
2006313612.tif 000021
（一般式（１）中、
Ｒ1は、水素原子又はＣＯ2Ｒ3で示されるエステル基（ここで、Ｒ3は、直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、シクロアルキル基を表わす。）を表わす。
Ｒ2は、直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。
Ｘ1及びＸ2のうち、少なくとも何れか一方はＮＨＳＯ2Ｙ基（ここで、Ｙは、少なくとも２つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。）を表わすとともに、残りは水素原子を表わす。
Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立して、水素原子、直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は直鎖若しくは分岐のアルコキシ基を表わす。
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１若しくは２のアルキル基を表わす。
尚、前記ＮＨＳＯ2Ｙ基からＨ+が脱離してＮＳＯ2Ｙ-（陰性）基となり、上記一般式（１）で表されるアゾ系化合物は金属イオンと配位結合を形成する。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体に関し、より詳しくは、高速記録で良好な記録再生特性が得られる光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶し、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータ等の情報処理装置における外部記憶装置として広く認知されている。例えば、有機色素含有記録層を有する代表的なＤＶＤ−Ｒ等は、透明ディスク基板上に色素記録層と反射層とをこの順に有し、これらの記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、基板を通してレーザー光にて記録・再生が行なわれる。また、これら光記録媒体の記録容量を更に大容量化するために、１枚の媒体に複数の記録層を設けた多層型光記録媒体が開発され、例えば、ディスク状の透明な第１の基板上に、紫外線硬化性樹脂からなる中間層を挟んで２個の色素記録層を有する２層型光記録媒体が報告されている。
【０００３】
このような２層型光記録媒体は、透明スタンパを用いる２Ｐ（Photo Polymerization）法と、記録層及び反射層を積層したディスク基板を２枚形成し、光硬化性樹脂層を介して貼着する方法とが知られている。何れの場合も、レーザー光の入射面に最も奥にあたる基板上に、反射層、色素を含む記録層（以下で、記録層（１）又は第２層目の記録層ともいう。）が、かかる順に積層されている。
【０００４】
そのうち、記録層及び反射層を積層したディスク基板を２枚貼着する方法では、記録トラック用の案内溝が形成された基板上に記録層と反射層とをこの順に積層した（以下、この様な積層体或いは積層構造を、溝が形成されている透明樹脂層を基板にみたてて、「正積層体」或いは「正積層構造」ということがある。）第１のディスク基板と、上記と同様の基板上に反射層と記録層とをこの順に積層した（以下、この様な積層体或いは積層構造を、「逆積層体」或いは「逆積層構造」ということがある。）第２のディスク基板とを形成し、それぞれのディスク基板に光硬化性樹脂を塗布した後、この塗布面同士を合わせて光硬化性樹脂を硬化させることにより製造する。２個の記録層には、第１のディスク基板側から入射する記録再生光を用いて光情報が記録・再生される。このようなディスク基板を２枚貼着する方法は、２Ｐ法のように、透明スタンパの凹凸形状を転写する工程が不要であり、生産性に優れ、低コスト化が図れると考えられる。
【０００５】
上記逆積層構成においては、記録層と光硬化性樹脂との間に「バリア層」と呼ばれる層を設けることが知られている（特許文献１、２参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３１１３８４号公報（段落［００５２］、［００５３］、実施例２）
【特許文献２】特開２００２−３７３４５１号公報（段落［００３４］、［００３５］、実施例）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そもそも有機色素を含有する記録層を備えた光記録媒体においては、高速記録用途におけるクロストークの発生をより抑制したいという課題がある。本発明者らの検討によれば、これは、有機色素の熱伝導率が、他の公知の無機系記録媒体（例えばＤＶＤ−ＲＷ）の記録層の熱伝導率よりもはるかに小さいことに主に起因するものである。
【０００８】
即ち、有機色素を含有する記録層においては、通常、集光された記録用レーザー光を吸収した色素が分解し光学定数が変化したり、その部分の膜厚が減少すると共に圧力が高まり、高温に曝された記録層周辺が変化するなどして記録部が形成される。この場合、熱拡散、特に記録層面内方向の放熱が起こりにくいために、記録部が隣接トラック部に拡大する傾向がある、また、複数トラックに記録が行なわれるとクロストークが増大する傾向がある。これらの傾向により、良好なジッター（ｊｉｔｔｅｒ）が得られにくくなるという現象が生じると考えられる。
【０００９】
更に、高速記録の場合、記録パルスが短小化するため、低速記録の場合より高パワーの記録用レーザー光を用いて色素を分解する必要がある。その結果、記録層が低速記録の場合より高温にさらされるため、クロストークの増大が顕著となりやすい。
【００１０】
このようなクロストークの発生は、前述の２Ｐ法による２層型光記録媒体にも見られる場合があるが、特に、２枚のディスク基板を貼着する方法により形成される２層型光記録媒体において、記録再生光の入射面から奥側に位置する記録層（これを以下「第２層目の記録層」という場合がある。）において顕著に見られる。前述したように、２枚のディスク基板を貼着する方法により形成される２層型光記録媒体の第２層目の記録層は、基板上に反射層と記録層とを積層した逆積層体に設けられている。このような逆積層体において、基板の溝間部に光情報を記録する場合は、記録変調度を確保するために、溝間部の記録層の膜厚を厚くする必要がある。その場合、記録部の隣接トラックは基板の溝部であるために、溝間部よりも記録層膜厚が厚くなりやすい。このために、溝部の記録層膜厚が厚くなる分、記録マークが横に広がり、クロストークが増大しやすくなる。このような溝部と溝間部との記録膜厚の差は、有機色素溶液を塗布する場合に発生しやすい。
【００１１】
また、２層型光記録媒体における記録再生光の入射面から奥側に設けた第２のディスク基板は、記録再生光の反射率を確保するために、案内溝の深さが従来よりも浅く設定されている。このため、案内溝の物理的障壁効果が小さくなり、記録時に基板の樹脂の流動変形等による過度の変形が生じやすく、クロストークが増大しやすい。
【００１２】
本発明は、このような課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる逆積層構成を含む光記録媒体を提供することにある。
更に、本発明のもう一つの目的は、２層型光記録媒体において、高速記録に特に優れた第２層目の記録層を有する光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは鋭意検討の結果、記録層と透明樹脂層との間に設けられるバリア層を、バルクとしての熱伝導率が高い材料によって形成するとともに、その膜厚を非常に薄くすることにより、上記課題が効果的に解決されることを見出した。
また、２層型光記録媒体における第２層目の記録層に、高速記録に特に優れた特定の色素を含ませることにより、第２層目の記録層に要求される種々の課題を解決しうる事、更に、十分な耐光性を維持することができる事を見出し、本発明に到達した。
【００１４】
即ち、本発明の要旨は、基板上に、反射層、色素を含む記録層、透明樹脂層を、この順で有する光記録媒体であって、前記記録層と前記樹脂層との間にバリア層を設けるとともに、前記バリア層に用いる材料のバルクとしての３００Ｋでの熱伝導率Ｍが７０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、前記バリア層の膜厚ｔが５ｎｍより小さいことを特徴とする、光記録媒体に存する（請求項１）。
【００１５】
更に、本発明のもう一つの要旨は、第１の基板上に、第１の反射層、色素を含む第１の記録層、透明樹脂層、色素を含む第２の反射層、第２の記録層、及び第２の基板を、この順に有する光記録媒体であって、前記第１の記録層（第２層目の記録層）が、色素として、下記一般式（１）で表わされるアゾ系化合物とＺｎ金属イオンとからなる含金属アゾ色素を少なくとも含有することを特徴とする、光記録媒体に存する（請求項７）。
【化１】
2006313612.tif 000002
（一般式（１）中、
Ｒ1は、水素原子又はＣＯ2Ｒ3で示されるエステル基（ここで、Ｒ3は、直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、シクロアルキル基を表わす。）を表わす。
Ｒ2は、直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。
Ｘ1及びＸ2のうち、少なくとも何れか一方はＮＨＳＯ2Ｙ基（ここで、Ｙは、少なくとも２つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。）を表わすとともに、残りは水素原子を表わす。
Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立して、水素原子、直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は直鎖若しくは分岐のアルコキシ基を表わす。
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１若しくは２のアルキル基を表わす。
尚、前記ＮＨＳＯ2Ｙ基からＨ+が脱離してＮＳＯ2Ｙ-（陰性）基となり、上記一般式（１）で表されるアゾ系化合物は金属イオンと配位結合を形成する。）
【００１６】
なお、上記の本発明のもう一つの要旨においては、前記透明樹脂層としては、前記２Ｐ法により中間層に案内溝を形成した２層型光記録媒体における、案内溝を有する中間層（これを以下「２Ｐ層」という場合がある。）も含むものとする。
【発明の効果】
【００１７】
かくして本発明によれば、高密度、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる光記録媒体が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態（適宜「発明の実施の形態」と略称する。）について説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。
【００１９】
［本発明の基本概念１］
本発明の第１の光記録媒体は、その基本的な構成として、基板上に反射層、色素を含む記録層、及び透明樹脂層をこの順で有する。更に、前記記録層と前記樹脂層との間には、必要に応じてバリア層が設けられる。
【００２０】
そして、本発明では、前記バリア層に高熱伝導率の材料を用いることを特徴の一つとする。このようにバリア層に高熱伝導率の材料を用いることにより、逆積層体の記録層の記録時の熱を放熱させて、記録時の過度の変形などを抑制し、クロストークを低減することが可能となる。
【００２１】
更に、本発明では、前記バリア層の膜厚を５ｎｍより薄くすることにもう一つの特徴がある。このように膜厚を薄くすることにより、消衰係数が大きい金属膜や合金膜をバリア層としても、記録光の減衰を抑制し、逆積層構成の記録感度を低下させることなく、良好な記録特性を得ることが可能となる。また、後述のように、良好な記録エッジ部を形成することも可能となると考えられる。
【００２２】
本発明におけるクロストーク低減の効果は、逆積層体に用いる基板の溝形状、特に、溝深さを、通常の正積層或いは第２のディスク基板の溝深さのおよそ１／５以下にした場合に顕著に発揮される。つまり、ディスク反射率を確保し、記録感度の低下を抑制するために、逆積層体の基板の溝を浅く設けた場合に本発明の効果が顕著に発揮される。
【００２３】
なぜなら、溝深さが浅い場合には、基板の溝の壁による物理的な障壁、即ち、色素や流動した記録時の基板の樹脂などの物質移動の障壁効果が得られにくくなるため、記録時の記録部の過度の変形の発生などにより、クロストークが非常に大きくなってしまうという課題が生じうるからである。従って、本発明は、従来よりも浅い溝を有する基板を用いた逆積層体において適用されることが好ましい。
【００２４】
尚、かかるバリア層の熱伝導率と記録特性との関係は、後述の〔実験例１〕の図２からも裏付けられる。ここで、複数トラックに記録をし、隣接する両側のトラックに記録された信号を再生したときのジッターを、ＭＴ（％）と称する。また、隣接するトラックに記録がない状態で、１つのトラックのみに記録した部分を再生し得られるジッターを、ＳＴ（％）と称する。ＭＴ（％）にはクロストークの影響が含まれるのに対し、ＳＴ（％）にはクロストークの影響は含まれない。
【００２５】
そして、Δｊｉｔｔｅｒは、前記ＭＴ（％）とＳＴ（％）との差の値であり、この値が大きいほど、クロストークが大きいということを意味する。このΔｊｉｔｔｅｒの値は、２％以下が好ましい。Δｊｉｔｔｅｒが２％を超える場合には、例えばＳＴ（％）が７％と良好であっても、ＭＴ（％）が９％を超えることになるので好ましくないからである。
【００２６】
以上を踏まえて図２を見ると、実施例においては熱伝導率が７０Ｗ／ｍ・Ｋ以上で２％を下回り、良好な特性が得られることがわかる。
【００２７】
一方、バリア層の膜厚は、後述の〔実験例２〕の表３から裏付けられるように、高熱伝導率のバリア層においては、５ｎｍを境に、ジッターの改善が困難であることがわかる。これは、膜厚が厚くなることにより、記録光の強度が減衰し、記録感度が悪くなることが原因の一つと考えられる。また、膜厚が厚くなることによる膜のモルフォロジーの変化が悪化と関係していることも考えられる。この膜のモルフォロジーは、スパッタの成膜条件や膜の組成などにより、ある程度調整することが可能である。
【００２８】
更に、本発明の光記録媒体は、上述の基本的な構成において、逆積層体と接する透明樹脂層の、逆積層体側とは反対側に、第２の反射層と第２の記録層と透明基板とを順番に更に設けることにより、多層型の光記録媒体に展開することができる。
【００２９】
［第１の実施形態］
図１（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。図１（ａ）には、透明基板上に反射層及び記録層を積層したディスク基板（逆積層体１１）と、透明基板上に記録層及び反射層を順次積層したディスク基板（正積層体１２）とを有する２層型の光記録媒体１００が示されている。
【００３０】
図１（ａ）に示すように、光記録媒体１００は、逆積層体１１として、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の基板（１）１０１と、この基板（１）１０１のレーザー光１１０の入射面側に設けられた反射層（１）１０２と、色素を含む記録層（１）１０３と、バリア層１０４とを有する。また、正積層体１２として、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の基板（２）１０９と、基板（２）１０９上に設けられた色素を含む記録層（２）１０８と、基板（２）１０９側から入射したレーザー光１１０のパワーを振り分ける半透明の反射層（２）１０７と、反射層（２）１０７上に設けられた保護コート層１０６とを有する。そして、これらの逆積層体１１と正積層体１２とは、バリア層１０４と保護コート層１０６とが対向するように、透明樹脂層１０５を介して積層され、２層型の光記録媒体１００を構成している。また、記録層（１）１０３及び記録層（２）１０８において、正積層体１２の基板（２）１０９側から入射したレーザー光１１０により、光情報の記録再生が行なわれる。
【００３１】
〔逆積層体〕
次に、逆積層体１１の各層について説明する。逆積層体１１は、上述の様に、基板（１）１０１と、基板（１）１０１上に積層された反射層（１）１０２、記録層（１）１０３及びバリア層１０４（以下、これらの反射層（１）１０２、記録層（１）１０３、及びバリア層１０４をまとめて「Ｌ１層」ということがある。）とから構成される。
【００３２】
＜基板（１）＞
基板（１）１０１を構成する材料は、光透過性を有し、複屈折率が小さい等光学特性に優れることが望ましい。また、射出成形が容易である等、成形性に優れることが望ましい。更に、吸湿性が小さいことが望ましい。更に、光記録媒体１００がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。このような材料としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、ガラス等が挙げられる。また、ガラス等の基体上に、光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も使用できる。これらの中でも、光学特性、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点からはポリカーボネートが好ましい。また、耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。
【００３３】
また、基板（１）１０１は、必ずしも光透過性が必要ではないので、機械的安定性を高め、剛性を大きくするために、適当な材料からなる裏打ちを設けることができる。このような材料としては、例えば、Ａｌを主成分としたＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板；Ｍｇを主成分としたＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板；シリコン、チタン、セラミックス、紙等の基板又はこれらの組み合わせが挙げられる。
【００３４】
逆積層体１１を構成する基板（１）１０１の案内溝部の溝深さは、記録再生波長をλとして、通常λ／１００以上、好ましくは２λ／１００以上、更に好ましくは２．２λ／１００以上である。例えば、記録再生光の波長（記録再生波長）がλ＝６６０ｎｍの場合、基板（１）１０１の溝深さは、通常６．６ｎｍ以上、好ましくは１３ｎｍ以上、更に好ましくは１４．５ｎｍ以上である。
【００３５】
また、逆積層体１１における基板（１）１０１の溝深さの上限は、１１０ｎｍ以下とすることが好ましい。特に、本実施形態の光記録媒体１００の場合、基板（２）１０９及び透明樹脂層１０５を介して記録層（１）１０３に入射するレーザー光１１０の光量及び反射光量は、記録層（２）１０８及び反射層（２）１０７により減衰され、反射率が低くなるために、７λ／１００以下が好ましい溝深さの上限となる。例えば、記録再生波長をλ＝６６０ｎｍとすると、基板（１）１０１の溝深さは、４６．２ｎｍ以下とするのが好ましい。より好ましくは６λ／１００以下である。
【００３６】
以上のように、逆積層体１１における基板（１）の溝深さは、後述の正積層体１２の構成における基板（２）の溝の深さよりも浅くすることが好ましく、具体的には、基板（２）の溝深さに対する割合で、通常１／３以下、好ましくは１／４以下、更に好ましくは１／５以下である。
【００３７】
逆積層体１１における基板（１）１０１の溝幅は、トラックピッチをＴとして、通常Ｔ／１０以上、好ましくは２Ｔ／１０以上、更に好ましくは３Ｔ／１０以上である。但し、通常８Ｔ／１０以下、好ましくは７Ｔ／１０以下、更に好ましくは６Ｔ／１０以下である。基板（１）１０１の溝幅がこの範囲であれば、トラッキングを良好に行なうことができ、十分な反射率を得ることができる。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、基板（１）１０１の溝幅は、通常７４ｎｍ以上、好ましくは１４８ｎｍ以上、更に好ましくは２２２ｎｍ以上とする。また、基板（１）１０１の上限は、通常５９２ｎｍ以下、より好ましくは５１８ｎｍ以下、更に好ましくは４４４ｎｍ以下とする。なお、本明細書において、基板の「溝幅」とは、溝の最大深さの半分の深さにおける溝の幅、即ち半値幅のことを指すものとする。
【００３８】
基板（１）１０１はある程度厚いことが好ましく、基板（１）１０１の厚さは、通常０．３ｍｍ以上が好ましい。但し、通常３ｍｍ以下、好ましくは１．５ｍｍ以下である。
【００３９】
＜反射層（１）＞
逆積層体１１の反射層（１）１０２を構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、希土類金属等の金属及び半金属のうち何れか一種を単独で、又は何れか二種以上を合金にして用いることが可能である。これらの中でも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇが好ましく、特に、Ａｇを５０％以上含有する金属材料はコストが安い点、反射率が高い点から好ましい。
【００４０】
中でも、反射層（１）１０２は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有する合金であることが好ましい。Ｔｉ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上の元素を含む場合は、各々の含有量を０．１〜１５原子％としてもかまわないが、それらの合計含有量が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００４１】
更に好ましい反射層（１）１０２の合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、必要に応じ、少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＢｉ、ＡｇＢｉＮｄ等である。尚、本実施の形態において使用される合金の組成比は上述した範囲のものである。
【００４２】
反射層（１）１０２としては、Ａｕのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適である。また、反射層（１）１０２としてＳｉからなる層を用いることも可能である。更に、金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００４３】
反射層（１）１０２を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
【００４４】
逆積層体１１における反射層（１）１０２は、高反射率、かつ高耐久性であることが望ましい。高反射率を確保するために、反射層（１）１０２の厚さは、通常３０ｎｍ以上、好ましくは４０ｎｍ以上、更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、生産上のタクトタイムを短縮しコストを低減するためには、通常４００ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下である。
【００４５】
＜記録層（１）＞
逆積層体１１における記録層（１）１０３は、通常、例えば、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ等の片面型記録媒体に用いられる記録層と同程度の感度の色素を含有する。このような色素は、３５０〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザーでの記録に適する色素化合物が好ましい。中でも、通常ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザー（例えば、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ）、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザー（例えば、６３５ｎｍ、６６０ｎｍ、６８０ｎｍ）、波長４０５ｎｍ又は５１５ｎｍ等のいわゆるブルーレーザー等による記録に適する色素がより好ましい。尚、相変化型材料を使用することも可能である。
【００４６】
記録層（１）１０３に使用される色素としては、特に限定されないが、通常、有機色素材料が使用される。有機色素材料としては、例えば、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。これらの中でも、含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久性、耐光性に優れるため好ましい。これらの色素は１種を単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。
【００４７】
また、記録層（１）１０３には、色素の他にその他の成分が含まれていてもよい。
例えば、記録層（１）１０３は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していてもよい。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えば、エチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００４８】
更に、記録層（１）１０３には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
ただし、前記記録層（１）において、高速記録特性を更にいっそう優れたものとするためには、特定の色素との組み合わせが好ましい。そのことについては、後述する。
【００４９】
記録層（１）１０３の成膜方法としては、特に限定されないが、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等、一般に行なわれている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法等の湿式成膜法が好ましい。また、均一な記録層が得られるという点から、真空蒸着法が好ましい。
【００５０】
スピンコート法による成膜の場合、回転数は１０〜１５０００ｒｐｍが好ましい。スピンコートの後、一般的に加熱処理を行ない、溶媒を除去する。ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００５１】
これらの溶媒を除去するための加熱処理は、溶媒を除去し、且つ、簡便な設備により行なうという観点から、通常、使用する溶媒の沸点よりやや低い温度で行なわれ、通常６０℃以上、１００℃以下の範囲で行なわれる。また、加熱処理の方法は、特に限定されないが、例えば、基板（１）１０１上に記録層（１）１０３を形成するために色素を含有する溶液を塗布して成膜した後、所定の温度で所定時間（通常５分間以上、好ましくは１０分間以上、また、通常３０分間以内、好ましくは２０分間以内）保持する方法が挙げられる。また、赤外線、遠赤外線を短時間（例えば、５秒間〜５分間）照射し、基板（１）１０１を加熱する方法も可能である。
【００５２】
真空蒸着法の場合は、例えば、有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０-2〜１０-5Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより行なわれる。
【００５３】
逆積層体１１の記録層（１）１０３の厚さは、通常４０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以上であり、但し、通常１５０ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下である。記録層（１）１０３の厚さがこの範囲とすれば、充分な記録信号振幅を確保しつつ、感度の低下を抑制することができる。また、記録層（１）１０３の厚さが過度に大きいと、感度が低下する場合がある。
【００５４】
＜バリア層＞
バリア層１０４は逆積層体１１に設けられる。一般的に、バリア層１０４は、透明樹脂層１０５からしみ出る成分が記録層（１）１０３を汚濁又は溶解することを防止するため、記録層（１）１０３と透明樹脂層１０５の間に設けられる。
【００５５】
本発明においては、上記目的の他に、記録層１０３での放熱性を確保して、高速記録におけるクロストークを抑制するためにバリア層１０４を用いる。このため、本発明においては、従来、合金や誘電体で知られていた厚い膜ではなく、バルクとしての熱伝導率が高い材料を用いて非常に薄い膜にするということにより、極めて良好な特性が得られるのである。
【００５６】
まず、バルクとしての熱伝導率は上記の通り、７０Ｗ／ｍ・Ｋを境に急激に特性が向上する。後述の実施例のデータの一部をまとめた図２においては、熱伝導率を更に９０Ｗ／ｍ・Ｋ以上とすると、特に、半導体であるＳｉとＣを除けば、Δｊｉｔｔｅｒが１％を下回り、極めて良好な特性が得られることがわかる。本発明におけるバリア層１０４の熱伝導率の上限は必ずしも制限はないが、７００Ｗ／ｍ・Ｋもあれば十分と考えている。単体では半導体であるＳｉ、Ｃなどは、合金化や添加物の使用等によって導電性を増加させることにより、更に良好な特性を示すものと考えられる。
【００５７】
一方、バリア層１０４の膜厚が５ｎｍを超えると、上述したように、特性の著しい劣化が見られる。よって、バリア層１０４の膜厚は通常５ｎｍより小さく、好ましくは４ｎｍ以下、更に好ましくは３．５ｎｍ以下の範囲とする。一方、膜厚の下限値は通常０．５ｎｍ以上、より好ましくは１ｎｍ以上、更に好ましくは１．５ｎｍ以上とする。後出の［実施例］の欄の表２に列記された元素の中からＭｏ、Ｃｏの例をとり図３に示すように、熱伝導率の違いによりその最適値は異なるものの、この範囲においてΔｊｉｔｔｅｒ並びにＳＴ（％）、ＭＴ（％）が安定して良好な値となることがわかる。
【００５８】
また、かかる薄膜にすることにより、熱伝導率が低いガラス質の誘電体膜とは異なり、延性、展性を有する高熱伝導率の材料の薄膜をバリア層１０４に用いることにより、記録層の色素の分解による変化をきちんとトレースすることが可能となり、ジッターが更に良好になっていることも考えられる。
【００５９】
本発明のバリア層１０４の材料としては、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｗ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕの単体もしくは合金が好ましい。より好ましくはＣｕ、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｗ、Ｃ、Ａｇの単体もしくは合金が挙げられる。更に好ましくは、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、及びＡｌよりなる群から選ばれる金属元素の単体又はこれら金属元素を主成分とする合金である。なお、ある金属元素が「主成分」であるとは、その金属元素が合金組成の５０重量％以上を占めることをいう。特にＭｏ、Ｗ、Ｃｕは特性が極めて良好であり、Ｃｏ、Ｃｒはともに、４倍速記録、８倍速記録で感度が良好でジッターも良好である。尚、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃは、合金化或いは光硬化性樹脂の改良などにより、記録特性並びに耐候性の良好なバリア層１０４となる可能性がある。
【００６０】
本発明者らの検討によれば、上に例示する材料を用いてバリア層１０４を形成した場合でも、記録層がそれと接する光硬化性樹脂に溶け込まないようなバリア効果を十分に得ることができることがわかった。また、バリア層１０４は緻密で平滑な膜の方が良いと考えられる。何故ならば、島状構造など膜内に粗密が存在する場合には、高温高湿度試験などの温度、湿度の変化により、粒界が発生したり粒径が拡大したりして、ノイズの上昇や膜欠陥の増加が起こりうるからである。
【００６１】
尚、このバリア層１０４の緻密で平滑な構造は、その構成成分や組成に依るほか、バリア層１０４を形成する際の条件にも依ると考えられる。バリア層１０４は真空蒸着法、スパッタ法など、一般的に用いられている成膜方法によって形成されるが、中でもスパッタ法によって形成することが好ましい。ここで、スパッタ法の場合を例にとると、緻密で平滑な構造のバリア層を得るためには、スパッタの前にターゲットをプリスパッタする。そのプリスパッタの時間を通常よりも長く設定して、ターゲットに吸着した水分や表面酸化層をなるべく除いてからスパッタを開始する、或いは、アルゴン圧をなるべく低く設定するなど、スパッタの条件を適切な範囲に調整してスパッタを行なうことが好ましい。また、本発明のバリア層１０４は薄膜であるため、バリア層１０４の膜の表面状態が記録に影響することが考えられる。そのため、緻密で平滑な膜構造を得ることにより、記録特性を向上させることが可能となるのである。
【００６２】
本明細書において、「熱伝導率」としては、キッテル著、「固体物理学入門  上巻」、第６版、１１７ページの表１「デバイ温度と熱伝導率」に記載された、３００Ｋでの熱伝導率の値を用いるものとする。前記の表に記載された主な材料の熱伝導率の値を下記の表１に示す。
【００６３】
【表１】
2006313612.tif 000003
【００６４】
実際の薄膜での熱伝導率を測定する方法はいくつか報告されているが、その実験には特殊な装置（例えば光交流法薄膜熱定数測定装置など）や特殊なサンプルの作製法を必要とする。そのために、これらの手法は一般に普及しておらず、測定には過度の労力を必要とする場合が多い。そのため、本発明においては、上記の一般化されているバルクの熱伝導率を用いた。
【００６５】
尚、合金の場合など、複数の組成からバリア層１０４が成り立つ場合には、以下の様に、それぞれの組成のバルクの熱伝導率に、その組成の割合をかけた値から求められる熱伝導率の値を、バリア層１０４に用いる材料のバルクとしての熱伝導率と定める。例えば、９５原子％のＡｌと５原子％のＣｒからなる合金の熱伝導率は、Ａｌのバルクの熱伝導率（２３７Ｗ／ｍ・Ｋ）と、Ｃｒのバルクの熱伝導率（９４Ｗ／ｍ・Ｋ）から、２３７×０．９５＋９４×０．０５＝２２９．９Ｗ／ｍ・Ｋと求められる。このようにして、例えば３元系でも４元系でも同様に算出する。
【００６６】
尚、上述のキッテル著「固体物理学入門 上巻」第６版、１１７ページの表１「デバイ温度と熱伝導率」に熱伝導率が記載されていない材料の熱伝導率は、インターネットのＷＷＷサイト（http://www.a1s.co.jp/thermal/db/prop_met.htm等）や、「理科年表」（丸善）、「物理学辞典」（培風館）等に挙げられている「熱伝導率の表」等、最新の物性値を取得できる可能性があるデータベースから、その値を判断するものとする。
【００６７】
尚、基板（１）１０１と記録層（１）１０３との間、基板（２）１０９と記録層（２）１０８との間、記録層（２）１０８と反射層（２）１０７との間等に、それぞれバリア層１０４と同様な材料からなる層を設けてもよい。
【００６８】
〔透明樹脂層〕
次に、逆積層体１１のレーザー光１１０の入射面側に接して設けられた透明樹脂層１０５について説明する。本実施形態の２層型の光記録媒体１００における透明樹脂層１０５は、通常、基板（２）１０９側から入射するレーザー光１１０が記録層（１）１０３に到達する程度の光透過性を有する材料から構成される。透明樹脂層１０５は、ガラス転移温度Ｔｇが１５０℃以上を有する透明樹脂から構成されることが好ましい。尚、この透明樹脂層１０５は１層でも複数層から成っていてもよい。このような透明樹脂を用いて透明樹脂層を構成することにより、透明樹脂層の硬さを増大させ、ジッターを改善すると考えられる。
【００６９】
透明樹脂層１０５を構成する樹脂は、３０℃での弾性率が、通常１０００ＭＰａ以上、好ましくは２０００ＭＰａ以上、より好ましくは３０００ＭＰａ以上、更に好ましくは４０００ＭＰａ以上であることが望ましい。弾性率が１０００ＭＰａ以上の樹脂を用いて透明樹脂層１０５を構成することにより、Ｌ１層（図１）の記録・再生において、いわゆる閉じこめ効果がより高められる。但し、弾性率の上限は、通常、６０００ＭＰａ以下である。弾性率が６０００ＭＰａ以下の樹脂を用いることにより、例えば、塗布等の溶液法により透明樹脂層１０５を成膜することが可能となり、工業的に有利である。透明樹脂層１０５を構成する樹脂が上記範囲の弾性率を有することにより、逆積層体１１の記録層（１）１０３の光情報の記録において、隣接するトラック部に及ぶ過度の変形を抑制することができる。その結果、光記録媒体１００は、Ｌ１層の高速記録でのクロストークが低減し、ジッターが改善される。ここで、透明樹脂層１０５の「透明」とは、光記録媒体１００に入射するレーザー光１１０を散乱する構造を有しない、という意味である。
【００７０】
尚、複数層の記録層を積層し、それぞれにフォーカスをかけるためには、記録層間にある程度の距離があることが望ましい。そのために、透明樹脂層１０５の膜厚は、フォーカスサーボの機構にもよるが、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上である。
【００７１】
また、この層があまり厚い場合には、例えば、透明樹脂層１０５を介してフォーカスサーボをかける記録層（１）にフォーカスサーボを調整するのに時間を要することがある。更に、対物レンズの移動距離も長くなることがある。また、紫外線硬化にも時間を要し、生産性が劣る可能性がある。以上のことから、透明樹脂層１０５は、通常１００μｍ以下が好ましい。
【００７２】
次に、透明樹脂層１０５を構成する材料の具体例について説明する。
透明樹脂層１０５を構成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）等を挙げることができる。透明樹脂層１０５を構成する材料は、これらの中から適宜選択される。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は、必要に応じて適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの材料は単独又は混合して用いてもよい。
【００７３】
透明樹脂層１０５を形成する方法としては、例えば、スピンコート法やキャスト法等の塗布法等が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。高粘度の樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、２０℃〜４０℃において液状であるものを用いることが好ましい。これは、溶媒を用いることなく塗布できるため生産性が良好となるからである。また、塗布液の粘度は、通常２０ｍＰａ・ｓ以上、１０００ｍＰａ・ｓ以下となるように調整するのが好ましい。
【００７４】
透明樹脂層１０５を構成する材料の中でも、紫外線硬化性樹脂は、透明度が高く、硬化時間が短く製造上有利な点で好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂が挙げられ、何れも使用することができる。
【００７５】
ラジカル系紫外線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。
【００７６】
紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレート及び多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは各々１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。なお、本明細書においては、「アクリレート」と「メタアクリレート」とを併せて「（メタ）アクリレート」と称する。
【００７７】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル、ジシクロペンタニル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニロキシエチル等の基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７８】
多官能（メタ）アクリレートとしては例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７９】
また、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８０】
また、これらの重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとして、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８１】
一方、光重合開始剤としては、分子開裂型光重合開始剤又は水素引き抜き型光重合開始剤が好ましい。
【００８２】
分子開裂型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。更に、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用してもよい。
【００８３】
また、水素引き抜き型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００８４】
また、これらの光重合開始剤とともに、増感剤を併用することができる。増感剤としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００８５】
一方、カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、例えば、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ樹脂としては、遊離した塩素及び塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
【００８６】
カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は、通常０．１重量部以上、好ましくは０．２重量部以上、また、通常２０重量部以下、好ましくは５重量部以下の範囲である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００８７】
また、紫外線硬化性樹脂には、必要に応じて更にその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤及びエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
【００８８】
本実施形態の光記録媒体１００の透明樹脂層１０５において、比較的高弾性率の樹脂を得るための具体的な手段は特に限定されないが、通常は以下の方法が挙げられる。例えば、上述した紫外線硬化性樹脂として、分子内にメタアクリロイル基を２個以上、好ましくは３個以上有するモノマー成分の組成を増大する方法；直鎖高分子ジオールと混合するポリエステルジオール等の側鎖含有高分子ジオール成分の組成を増大する方法；主鎖がハードセグメントであるオリゴマー成分の側鎖を低分子量とし、分子内結合を増大させる方法；ポリイソシアネート化合物、アミノ樹脂、エポキシ化合物、シラン化合物、金属キレート化合物等の架橋剤を所定量添加する方法等が挙げられる。
【００８９】
特に、十分な硬さを有する樹脂を得るためには、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスルトールトリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスルトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たテトラアルコールのトリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのペンタ又はヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たヘキサアルコールのペンタ又はヘキサ（メタ）アクリレート、等の多官応（メタ）アクリレートを用いることは、架橋密度を高くでき、更に、収縮率を大きくすることもでき好ましい。
【００９０】
その中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスルトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールヘキサ（メタ）アクリレートが更に特に好ましい。
【００９１】
また、ノルボリナンジメタノールジアクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサオイド又はプロピレンオキサイドを２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロオペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート等があるが、中でも、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート等、架橋構造に剛直な環状構造を有するアクリレートも、高弾性率の樹脂として好ましい。
【００９２】
その中でも、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００９３】
更に、架橋密度が高くなるようなアクリルモノマーと、架橋構造に剛直な環状構造を有するアクリルモノマーを適宜組み合わせることが好ましい。
【００９４】
また、紫外線硬化性樹脂の中でも、低光散乱性且つ低粘度でスピンコートで塗布可能なカチオン型紫外線硬化性樹脂が好ましい。更に、種類が多く、配合比、組成の自由度が大きい点、また、透明樹脂層１０５の厚さが１０μｍ以上の場合は、酸素による硬化阻害を考慮する必要がない点から、ラジカル系紫外線硬化性樹脂を使用することが好ましい。
【００９５】
〔正積層体〕
次に、正積層体１２の各層について説明する。正積層体１２は、上述の様に、基板（２）１０９と、基板（２）１０９上に積層された記録層（２）１０８、反射層（２）１０７及び保護コート層１０６（以下、これらの記録層（２）１０８、反射層（２）１０７及び保護コート層１０６を、まとめて「Ｌ０層」ということがある。）とから構成される。
【００９６】
＜基板（２）＞
正積層体１２の基板（２）１０９は、逆積層体１１の基板（１）１０１と同様な材料により構成される。但し、基板（２）１０９は、光透過性であることが必要である。基板（２）１０９の溝幅は、トラックピッチをＴとして、通常２Ｔ／１０以上、好ましくは３Ｔ／９以上である。この範囲であれば反射率を十分に確保できる。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、基板（２）１０９の溝幅は、通常１４８ｎｍ以上、好ましくは２４６ｎｍ以上とする。但し、基板（２）１０９の溝幅は、通常７Ｔ／１０以下、好ましくは６Ｔ／１０以下である。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、光透過性の基板（２）１０９の溝幅は、通常５１８ｎｍ以下、好ましくは４４４ｎｍ以下とすると、溝形状の転写性を良好にできるので好ましい。
【００９７】
基板（２）１０９の溝深さは、記録再生光波長をλとした場合、通常λ／１０以上とするのが、反射率を十分確保できるので好ましい。より好ましくはλ／８以上、更に好ましくはλ／６以上である。例えば、記録再生光の波長（記録再生波長）がλ＝６６０ｎｍの場合、基板（２）１０９の溝深さは、通常６６ｎｍ以上、好ましくは８２．５ｎｍ以上、更に好ましくは１１０ｎｍ以上である。ただし、基板（２）１０９の溝深さの上限は、通常２λ／５以下とするのが溝形状の転写性を良好にできるため好ましく、より好ましくは２λ／７以下である。例えば、記録再生波長が６６０ｎｍの場合、通常２６４ｎｍ以下、好ましくは１８８．６ｎｍ以下である。
【００９８】
＜記録層（２）＞
正積層体１２の記録層（２）１０８には、逆積層体１１の記録層（１）１０３と同様な色素が含有されている。正積層体１２の記録層（２）１０８の厚さは、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されないが、十分な変調度を得るために、通常２０ｎｍ以上、好ましくは３０ｎｍ以上、特に好ましくは４０ｎｍ以上である。但し、光を透過させる必要があるため、通常２００ｎｍ以下、好ましくは１８０ｎｍ以下、より好ましくは１５０ｎｍ以下である。尚、記録層（２）１０８の厚さは、厚膜部の膜厚（基板（２）１０９の溝部の記録層（２）１０８の厚さ）を示す。
【００９９】
＜反射層（２）＞
正積層体１２の反射層（２）１０７は、逆積層体１１の反射層（１）１０２と同様な材料から構成されている。正積層体１２の反射層（２）１０７は、基板（２）１０９側から入射する記録再生光であるレーザー光１１０の吸収が小さく、光透過率が、通常、４０％以上あり、且つ、通常、３０％以上の適度な光反射率を有する必要がある。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、反射層（２）１０７の上層（ここでは、透明樹脂層１０５）からしみ出る他の成分により、反射層（２）１０７の下層に位置する記録層（２）１０８が影響されないような遮断性を持つことが望ましい。
【０１００】
反射層（２）１０７の厚さは、通常４０％以上の光透過率を確保するために、通常５０ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下、更に好ましくは２５ｎｍ以下である。３０％以上の適度な光反射率を確保するために、反射層（２）１０７の厚さは、通常３ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上である。
【０１０１】
＜保護コート層＞
正積層体１２の保護コート層１０６は、反射層（２）１０７の酸化の防止、防塵又は防傷等を目的として、反射層（２）１０７の透明樹脂層１０５側に設けられている。保護コート層１０６の材料としては、反射層（２）１０７を保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、酸化スズ(IV)（ＳｎＯ2）等の誘電体が挙げられる。中でも、紫外線硬化性樹脂層を積層することが好ましい。保護コート層１０６の厚さは、通常１μｍ以上、好ましくは３μｍ以上、また、通常１００μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下、更に好ましくは１０μｍ以下の範囲である。保護コート層１０６の厚さがこの範囲に満たないと、酸素による硬化障害が起こる場合があり、一方、この範囲を超えると、ディスクが反る恐れや膜厚分布が生じやすくなる。尚、保護コート層１０６は、必ずしも設ける必要はなく、反射層（２）１０７に、直接透明樹脂層１０５を形成してもよい。
【０１０２】
本実施形態の光記録媒体には、アドレス情報、媒体の種類の情報、記録パルス条件、及び最適記録パワー等の情報を記録することができる。これらの情報を記録する形態としては、例えば、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒの規格書に記載されているＬＰＰやＡＤＩＰのフォーマット等を用いればよい。
【０１０３】
［第２の実施形態］
図１（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。図１（ｂ）には、基板側とは反対側から入射する記録再生光により光情報の記録再生が行なわれる膜面入射型の光記録媒体２００が示されている。図１（ｂ）に示されたように、光記録媒体２００は、基板２０１と、基板２０１上に設けられた反射層２０２と、反射層２０２上に積層された記録層２０３と、記録層２０３を保護するために設けられたバリア層２０４とからなる逆積層体に、更にレーザー光２１０の入射面側に透明樹脂層２０５が積層されている。光記録媒体２００は、透明樹脂層２０５側から記録層２０３に照射されるレーザー光２１０により、情報の記録・再生が行なわれる。
【０１０４】
逆積層体を構成する基板２０１は、第１の実施形態の光記録媒体１００における逆積層体１１の基板（１）１０１と同様な材料を用いて形成される。また、同様に、反射層２０２、記録層２０３及びバリア層２０４を構成する材料は、それぞれ、第１の実施形態の光記録媒体１００における逆積層体１１の反射層（１）１０２、記録層（１）１０３及びバリア層１０４において説明した材料と同様なものを使用することができる。また、各層の厚さ等は、光記録媒体１００において説明した範囲と同様な範囲である。
【０１０５】
更に、透明樹脂層２０５は、前述した光記録媒体１００における透明樹脂層１０５と同様な材料を用いて構成され、また、透明樹脂層２０５の弾性率及び厚さは、第１の実施形態の光記録媒体１００における透明樹脂層１０５と同様な範囲に調整されている。
なお、上述の各実施形態において、光記録媒体１００としての機能を損なわない範囲において、各層の間に任意の別の層を設けてもよい。
【０１０６】
［本発明の基本概念２］
続いて、本発明の第２の光記録媒体である、特に高速記録に適した２層型光記録媒体について、第２層目の記録層の構成を中心に、以下に説明する。
【０１０７】
本発明の第２の光記録媒体である２層型光記録媒体は、基板（これを「第１の基板」ということがある。）上に、第１の反射層、色素を含む第１の記録層、及び透明樹脂層をこの順で有し、前記透明樹脂層の上に、第２の反射層、第２の記録層、及び透明基板（これを「第２の基板」ということがある。）をこの順で更に設けた構成を有する。
【０１０８】
上記基本概念の具体例について、図１（ａ）及び図５を用いて説明すると、以下のようになる。
つまり、図１（ａ）及び図５における「基板（１）」が、上記「第１の基板」に対応する。
また、図１（ａ）及び図５における「反射層（１）」が、上記「第１の反射層」に対応する。
同様に、図１（ａ）及び図５における「記録層（１）」が、上記「第１の記録層」に対応する。
また、図１（ａ）及び図５における「反射層（２）」が、上記「第２の反射層」に対応する。
同様に、図１（ａ）及び図５における「記録層（２）」が、上記「第２の記録層」に対応する。
そして、図１（ａ）及び図５における「基板（２）」が、上記「透明基板」即ち「第２の基板」に対応する。
【０１０９】
そして、前記第１の記録層（第２層目の記録層）が、色素として、下記一般式（１）で表わされるアゾ系化合物とＺｎ金属イオンとからなる含金属アゾ色素（以下「式（１）に係る含金属アゾ色素」と略称する。）を少なくとも含有する。
【０１１０】
【化２】
2006313612.tif 000004
【０１１１】
（一般式（１）中、
Ｒ1は、水素原子又はＣＯ2Ｒ3で示されるエステル基（ここで、Ｒ3は、直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、シクロアルキル基を表わす。）を表わす。
Ｒ2は、直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。
Ｘ1及びＸ2のうち、少なくとも何れか一方はＮＨＳＯ2Ｙ基（ここで、Ｙは、少なくとも２つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。）を表わすとともに、残りは水素原子を表わす。
Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立して、水素原子、直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は直鎖若しくは分岐のアルコキシ基を表わす。
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１若しくは２のアルキル基を表わす。
尚、前記ＮＨＳＯ2Ｙ基からＨ+が脱離してＮＳＯ2Ｙ-（陰性）基となり、上記一般式（１）で表されるアゾ系化合物は金属イオンと配位結合を形成する。）
【０１１２】
Ｒ3として好ましくは、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等の炭素数が１以上４以下の直鎖もしくは分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数３以上８以下のシクロアルキル基；である。特に好ましくは、立体障害が小さいという理由から、メチル基、エチル基等の炭素数１若しくは２の直鎖アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３以上６以下のシクロアルキル基；である。
【０１１３】
Ｒ2として好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１以上６以下の直鎖アルキル基；イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシルメチル基等の炭素数３以上８以下の分岐アルキル基等が挙げられる。
【０１１４】
Ｙは、少なくとも２つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。直鎖又は分岐のアルキル基として好ましくは、炭素数１以上６以下の直鎖又は分岐のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数１以上３以下の直鎖アルキル基である。
【０１１５】
Ｒ4、Ｒ5として好ましくは、水素原子、炭素数１以上６以下の直鎖アルキル基、炭素数１以上８以下のアルコキシ基である。Ｒ4、Ｒ5としてより好ましくは、水素原子、炭素数１若しくは２のアルキル基、又は、炭素数１若しくは２のアルコキシ基である。上記アルキル基、アルコキシ基は無置換であることが好ましい。Ｒ4、Ｒ5として特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、又はメトキシ基である。
【０１１６】
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、及びＲ9は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１若しくは２のアルキル基を表わす。水素原子又は炭素数１若しくは２のアルキル基を用いることにより、吸光度や屈折率を所定の値に調整しやすくなるため好ましい。炭素数１若しくは２のアルキル基は、炭素原子に結合している水素原子が他の置換基（例えばハロゲン原子）で置換されていてもよいが、無置換のアルキル基であることが好ましい。炭素数１若しくは２のアルキル基としては、メチル基、エチル基が挙げられる。合成の容易性や立体構造の点から、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、及びＲ9として最も好ましいのは、水素原子である。
【０１１７】
上記式（１）に係る含金属アゾ色素は、（ｉ）適度な発熱量を有し、（ii）適切な波長域に吸収を有する（本発明者らは、（ｉ）と（ii）とを少なくともヒートモードの反応に寄与する因子と考えている。）上に、含金属アゾ色素の中では（iii）励起状態の失活速度が大きい（本発明者らは、（iii）をフォトンモードの反応に少なくとも寄与する因子と考えている。）と考えられる。その結果、ヒートモードとフォトンモードの分解反応のバランスが良く、ジッターを低減し、クロストークが低減できる可能性がある。そのために、２層型光記録媒体の第２層目の記録層と組み合わせる場合に、格段の効果が発揮されやすい。何故ならば、前述のように、２層型光記録媒体においてはジッターやクロストークの増大が顕著となりやすい。第２層目の記録層としての逆積層体では、十分な反射率を得るために溝深さを従来の溝深さよりも浅くする方が好ましい。その浅い溝が、ジッターやクロストークを増大させる原因の一つである。また、基板の溝間部に相当する領域に記録する場合には、前述のように、十分な記録変調度を得るために、記録層の膜厚を厚くする必要がある。かかる記録層の厚い膜が、ジッターやクロストークを増大させるもう一つの原因である。尚、ジッターやクロストークは、記録速度が大きくなるほど大きくなる傾向がある。一方、後述の第３の実施形態に係る、２Ｐ法による２層型光記録媒体においては、２Ｐ層の膜厚のむらや２Ｐの硬化収縮により発生する光学的歪や反りが発生する場合がある。そのために、記録レーザー光のビームが歪んだり、記録部分のビーム走行部分のオフセットが生じたりして、特に高速記録の時のジッターやクロストークを増大させる原因になる可能性がある。従って、かかる２Ｐ法による２層型光記録媒体の第２層目の記録層（レーザー光の入射側からみて遠い側にある記録層）に、上記式（１）に係る含金属アゾ色素を含有させることにより、格段の効果が得られる。
【０１１８】
上記式（１）に係る含金属アゾ色素は、その配位子と金属との組み合わせにより、記録レーザー波長において高屈折率を可能にするアゾ色素である。そして、上記式（１）に係る含金属アゾ色素は一定以上の発熱量を有する。更に、中心金属イオンをＺｎ2+と組み合わせることにより、記録光により励起状態となる場合に、輻射遷移確率が増す、或いは、別の分子との間にエネルギー移動を起こすなどして、無輻射遷移をあまり経ないで、非常に高速で分解するものと考えられる。つまり、上記式（１）に係る含金属アゾ色素を含む記録層は、分解、即ち、記録部分の形成が、非常に短時間で完了されると考えられる。その結果、高速記録での、前述のような外乱が低減され、ジッターやクロストークの小さい良好な高速記録が、２層型光記録媒体の第２層目の記録層において達成されやすいのである。
【０１１９】
尚、かかるジッターの低減の効果は、例えば、ジッターのアシンメトリーのマージンが広くなることにより知ることができる。また、クロストークの低減は、既に説明したＭＴ％とＳＴ％の他に、前記アシンメトリーマージンが広くなることによっても知ることが可能である。
【０１２０】
上記式（１）に係る含金属アゾ色素の例としては、下記に挙げる色素が挙げられる。
【０１２１】
【化３】
2006313612.tif 000005
【化４】
2006313612.tif 000006
【０１２２】
【化５】
2006313612.tif 000007
【化６】
2006313612.tif 000008
【０１２３】
【化７】
2006313612.tif 000009
【化８】
2006313612.tif 000010
【０１２４】
【化９】
2006313612.tif 000011
【化１０】
2006313612.tif 000012
【０１２５】
【化１１】
2006313612.tif 000013
【０１２６】
［第３の実施形態］
続いて、上述した本発明の第２の光記録媒体に係る実施形態（これを以下「本発明の第３の実施形態」という。）について説明する。
【０１２７】
図５は、本発明の第３の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。図５に示す光記録媒体３００は、ディスク状の基板（２）３０１（第２の基板）上に、色素を含む記録層（２）（第２の記録層）３０２、半透明の反射層（２）３０３（第２の反射層）、透明樹脂層３０４、色素を含む記録層（１）３０５（第１の記録層）、反射層（１）３０６（第１の反射層）、接着層３０７、及び基板（１）３０８（第１の基板）をこの順に有する。そして、記録層（２）３０２及び記録層（１）３０６において、基板（２）１０９側から入射したレーザー光３１０により、光情報の記録再生が行なわれる。なお、基板（２）３０１、記録層（２）３０２、及び反射層（２）３０３を併せて「正積層体」と称する場合がある。また、記録層（１）３０５が、上述の「第２層目の記録層」に該当することになる。
【０１２８】
基板（２）３０１、記録層（２）３０２、及び反射層（２）３０３の材料や形成方法等の詳細は、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の基板（２）１０９、記録層（２）１０８、及び反射層（２）１０７の詳細と、それぞれ同様である。
【０１２９】
続いて、反射層（２）３０３上に透明樹脂層３０４を形成する。透明樹脂層３０４を形成する手法としては、通常は２Ｐ（Photo Polymerization）法が用いられる。２Ｐ法を用いて透明樹脂層３０４（これを「中間層」という場合もある。）に案内溝を形成する場合、その手順は通常、以下の通りである。
【０１３０】
まず、反射層（２）３０３上に、紫外線等の放射線に代表される光により硬化する光硬化性樹脂原料等を塗布して樹脂原料層を形成する。続いて、この上に転写用の凹凸形状（以下適宜「転写用凹凸形状」という。）を有するスタンパを載置する。次いで、上記光硬化性樹脂原料等を硬化させた後に、スタンパを剥離する。このようにして、光硬化性樹脂の表面にスタンパの転写用凹凸形状を転写させて、凹凸形状、即ち案内溝を有する透明樹脂層３０４（２Ｐ層）を、光硬化性樹脂の硬化物によって形成することができるようになっている。この場合、十分な反射率が得られるにようにするためには、この案内溝の深さを、（１／１００）×λ以上、（１／６）×λ以下の範囲内とすればよい。なお、「λ」はレーザー光３１０の記録再生波長を表わす。
【０１３１】
尚、前記スタンパとしては、例えば、環状ポリオレフィン又はポリスチレン系樹脂で形成したスタンパ等を用いることができる。
また、透明樹脂層３０４の材料となる光硬化性樹脂としては、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の透明樹脂層１０５の材料として記載した、各種の電子線硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂を挙げることができる。
【０１３２】
続いて、透明樹脂層３０４上に、第２層目の記録層である記録層（１）３０５を形成する。記録層（１）３０５の色素としては、少なくとも上記式（１）に係る含金属アゾ色素が用いられる。上記式（１）に係る含金属アゾ色素は、何れか一種を単独で用いてもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。また、一種又は二種以上の上記式（１）に係る含金属アゾ色素に加えて、その他の一種又は二種以上の色素を併用してもよい。上記式（１）に係る含金属アゾ色素と併用可能なその他の色素の種類は特に制限されない。例としては、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の記録層（１）１０３に用いられる色素と同様の色素が挙げられる。また、記録層（１）３０５の色素以外の材料や形成方法等の詳細についても、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の記録層（１）１０３の詳細と同様である。
【０１３３】
次に、記録層（１）３０５上に反射層（１）３０６を形成する。反射層（１）３０６の材料や形成方法等の詳細は、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の反射層（１）１０２の詳細と同様である。
【０１３４】
その後、反射層（１）３０６上に基板（１）３０８を設ける。基板（１）３０８の材料等の詳細は、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の基板（１）１０１の詳細と同様である。また、反射層（１）３０６上に基板（１）３０８を設ける方法も特に制限されないが、通常は図５に示すように、予め成形した基板（１）３０８を用意し、これを反射層（１）３０６上に接着層３０７を介して貼り合わせることにより形成される。
【０１３５】
接着層３０７の材料等は特に制限されない。例としては、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の透明樹脂層１０５と同様の各種の硬化性樹脂や、従来公知の各種の接着剤、感圧式両面テープ等が挙げられる。
【０１３６】
硬化性樹脂を用いる場合、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の透明樹脂層１０５と同様の塗布法等により、反射層（１）３０６上に硬化性樹脂の原料からなる層（硬化性樹脂原料層）を形成し、その上に基板（１）３０８を載置し、押圧するとともに、押圧中又は押圧後に硬化性樹脂原料を硬化させる条件（紫外線硬化性樹脂や放射線硬化性樹脂の場合には紫外線や放射線の照射、熱硬化性樹脂の場合には加熱）を加え、硬化性樹脂原料を硬化させて硬化性樹脂からなる接着層３０７を形成するとともに、当該接着層３０７を介して反射層（１）３０６と基板（１）３０８とを接着する。
【０１３７】
接着剤を用いる場合、反射層（１）３０６上にスクリーン印刷等の方法で接着剤を塗布し、その上に基板（１）３０８を載置し、押圧することにより、接着層３０７を形成するとともに、当該接着層３０７を介して反射層（１）３０６と基板（１）３０８とを接着する。
【０１３８】
両面テープ（例えば、感圧式両面テープ）を用いる場合、反射層（１）３０６と基板（１）３０８との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層３０７を形成するとともに、当該接着層３０７を介して反射層（１）３０６と基板（１）３０８とを接着する。
【０１３９】
以上の手法により形成される接着層３０７の光透過性は特に制限されず、透明であっても不透明であってもよい。接着層３０７の厚さも特に制限されないが、通常１μｍ以上、好ましくは３μｍ以上、また、通常３００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下の範囲である。
【０１４０】
以上、第３実施形態に係る光記録媒体３００について説明したが、本発明の実施の形態はこれに制限されることなく、任意の変形を加えて実施することも可能である。
【０１４１】
例えば、上述の光記録媒体３００の各層の間に、他の任意の層を設けてもよい。他の層の例としては、反射層（２）３０３と透明樹脂層３０４との間に設けられる保護コート層や、透明樹脂層３０４と記録層（１）３０５との間に設けられるバリア層等が挙げられる。保護コート層及びバリア層の材料や形成方法等の詳細は、［第１の実施形態］の欄において説明した光記録媒体１００の保護コート層１０６及びバリア層１０４の詳細と同様である。
【実施例】
【０１４２】
以下、実施例（実験例）に基づき本実施の形態を更に具体的に説明する。尚、本実施の形態は、その要旨を超えない限り以下の実施例（実験例）に限定されるものではない。
【０１４３】
［実験条件］
後述する実験例１、２及び４では、以下の手順に従って、逆積層体を有する２層型の光記録媒体（図１（ａ）に示す構成の光記録媒体）を調製し、逆積層体を構成する記録層（１）に記録された光情報のＭＴ（％）及びＳＴ（％）を測定した。
【０１４４】
〔光記録媒体の調製〕
＜逆積層体の調製＞
先ず、表面に溝が形成されたＮｉスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ０．７４μｍ、幅３４０ｎｍ、深さ２８ｎｍの溝が形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの基板（１）を形成した。次に、この基板（１）の上に、Ａｇ−Ｂｉ−Ｎｄ合金をスパッタ法により８０ｎｍの厚さに成膜して反射層（１）を形成した。次いで、有機色素化合物として、それぞれ下記化学式で表される含金属アゾ色素である色素Ａ及び色素Ｂの混合物（色素Ａ：色素Ｂ＝５０重量％：５０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度２重量％）を調製し、これを上述の反射層（１）上に滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し、記録層（１）を形成した。基板（１）の溝部における記録層（１）の膜厚（図１（ａ）における逆積層体の溝部、即ち、入射レーザー光に遠い部分の記録層膜厚）は約７０ｎｍ、基板（１）の溝間部における記録層（１）の膜厚（図１（ａ）における逆積層体の溝間部、即ち、入射レーザー光に近い部分の記録層膜厚）は約６０ｎｍであった。記録膜のＯＤ値は１．２０であった。
【０１４５】
【化１２】
2006313612.tif 000014
【０１４６】
【化１３】
2006313612.tif 000015
【０１４７】
続いて、記録層（１）の形成後、なるべく時間をおかずに、この記録層（１）上に、後述の〔実験例１〕の表２に記載の各組成からなるバリア層を、スパッタ法により形成した。ここで、スパッタ時間を調整することにより、バリア層の膜厚を２ｎｍとなるようにした。尚、バリア層のスパッタを行なう前に、前記のプリスパッタを実施した。このようにして、逆積層体のディスク１を調製した。
【０１４８】
＜正積層体の調製＞
深さ１６０ｎｍ、幅３６０ｎｍ、トラックピッチ７４０ｎｍの案内溝を形成したポリカーボネート製の基板（２）を調製し、この基板（２）の案内溝が形成された面上に、前述した含金属アゾ色素である色素Ａと下記化学式で表わされる含金属アゾ色素である色素Ｃとの混合物（色素Ａ：色素Ｃ＝１０重量％：９０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度２重量％）を滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し、記録層（２）を形成した。記録層（２）の厚さ（図１（ａ）における正積層体の溝部の記録層膜厚）は約８０ｎｍであった。次いで、記録層（２）上に、Ａｇ−Ｂｉ合金（Ｂｉ：１．０原子％）を１７ｎｍの厚さとなるようにスパッタ法により成膜して反射層（２）を形成した。更に、この反射層（２）上に、紫外線硬化性樹脂（大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化性樹脂ＳＤ３４７）をスピンコートして硬化させ、膜厚３μｍ〜４μｍの保護コート層を形成することにより、正積層体のディスク２を調製した。
【０１４９】
【化１４】
2006313612.tif 000016
【０１５０】
＜２層型光記録媒体の調製＞
上述した方法で調製した逆積層体であるディスク１のバリア層の上に、樹脂Ａ（大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化性樹脂：弾性率４０００ＭＰａ（３０℃）、ガラス転移温度Ｔｇ＝１７４℃）を、膜厚２３μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。また、正積層体であるディスク２の保護コート層の上に、上記樹脂Ａを、膜厚２３μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。次に、それぞれ樹脂Ａを塗布したディスク１とディスク２とを、樹脂Ａが塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク２（正積層体）の基板（２）側から紫外線を照射して樹脂Ａを硬化させ、樹脂Ａからなる透明樹脂層を形成することにより、２層型の光記録媒体を調製した。
【０１５１】
尚、樹脂Ａの弾性率及びガラス転移温度Ｔｇは、動的粘弾性試験機（レオバイブロン社製：ＤＤＶシリーズ）を使用し、測定周波数３．５Ｈｚ、昇温速度３℃／ｍｉｎの条件で測定した。
【０１５２】
〔ディスク１（逆積層体）への光情報の高速記録条件〕
尚、逆積層体であるディスク１への光情報の高速記録条件は以下の通りである。
評価機としては、パルステック製ＤＤＵ−１０００（波長６６２ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．６５）を使用した。
記録速度は、ＤＶＤの２．４倍速（線速度９．２ｍ／ｓ）とした。
記録パルスストラテジーとしては、DVD+Recordable Dual Layer 8.5Gbytes Basic Format Specifications version 1.1に準拠した。
記録パワーは、１７ｍＷ〜２５ｍＷとした。
ジッター（data-to-clock jitter）測定は、１倍速にて再生しながら行なった。
【０１５３】
〔ＭＴ、ＳＴ、ΔＪｉｔｔｅｒの評価〕
通常の光ディスク製品は、トラックを空かさず記録されるので、ＭＴ（％）が、その光ディスクの信号品質を反映する値となる。ＭＴ（％）は、一般的には１３％以下である必要があり、１０％以下が好ましく、更に好ましくは９％以下である。１３％を超えると、エラーが増大する傾向となる。
【０１５４】
尚、ＳＴ（％）は１０％以下が好ましい。より好ましくは９％以下であり、更に好ましくは８％以下である。尚、バリア層の膜厚等の条件、或いは記録ストラテジーをいかに変化させてもＳＴ（％）が１０％を下回らない場合は、そのバリア層が適切な材料ではないと判断する。
【０１５５】
また、ＳＴ（％）とＭＴ（％）の差、即ち、Δｊｉｔｔｅｒは、２％以下が好ましく、より好ましくは１．６％以下であり、更に好ましくは１％以下である。それを超えると、ＭＴ（％）が１３％を超えるおそれがある。
【０１５６】
［実験例１］
上述の手順に従って、それぞれ下記表２に示す材料からなる２ｎｍのバリア層をディスク１に設けた、２層型の光記録媒体（２層型ＤＶＤ−Ｒディスク）を作製した。得られた光記録媒体のディスク１に、上述の条件でＤＶＤ−Ｒの２．４倍速記録を行ない、ＳＴ（％）、ＭＴ（％）、Δｊｉｔｔｅｒを測定した。得られたＳＴ（％）、ＭＴ（％）、Δｊｉｔｔｅｒの結果を下記表２に示す。また、ＳＴ（％）が９％以下の材料について、熱伝導率を横軸に、Δｊｉｔｔｅｒを縦軸にとってプロットしたグラフを図２に示す。図２のグラフ中、「◆」が個々の材料に対応する。図２のグラフより、熱伝導率７０Ｗ／ｍ・Ｋ（Ｓｎの熱伝導率６７Ｗ／ｍ・Ｋ）を境にして、それよりも熱伝導率が大きくなると急激に特性が向上することが分かる。更に、熱伝導率が９０Ｗ／ｍ・Ｋ以上では、半導体であるＳｉとＣを除けば、Δｊｉｔｔｅｒが１％以下となり、極めて良好な特性が得られることがわかる。なお、ＳｉとＣについても、他の金属成分を混合して用いることにより、特性を向上させることが可能であると考えられる。
【０１５７】
【表２】
2006313612.tif 000017
【０１５８】
各種の材料をバリア層に用いて得られたＳＴ（％）及びＭＴ（％）のグラフを図４に示す。図４のグラフから、Ａｌ（熱伝導率２３７Ｗ／ｍ・Ｋ）、Ｍｏ（熱伝導率１３８Ｗ／ｍ・Ｋ）、Ｗ（熱伝導率１７４Ｗ／ｍ・Ｋ）、Ｃｕ（熱伝導率４０１Ｗ／ｍ・Ｋ）の記録特性が極めて良好であることがわかる。また、Ｃｏ、Ｃｒはともに、４倍速記録、８倍速記録で感度が良好で、ジッターも良好であった。尚、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃは、合金化或いは光硬化性樹脂の改良などにより、記録特性並びに耐候性の良好なバリア層となる可能性がある。また、Ａｕは、記録パルスストラテジーを調整することにより、ＭＴ（％）、ＳＴ（％）等の特性を改善できる可能性がある。しかし、上記の極めて良好なＭｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ａｌに比べれば、Ａｕは記録パルスマージンが狭く、やや良くない傾向は見られる。それは、Ａｕの高温での膜の機械特性に起因するものと考えられる。
【０１５９】
一方、ＳＴ（％）が１０％を超えたＮｂとＴａは、Δｊｉｔｔｅｒはそれぞれ０．９％と０．４％と小さいが、各マーク長のジッターがすべて悪いため、記録ストラテジー条件を検討しても、このジッターの値を改善することはできなかった。従って、Ｎｂ（熱伝導率５４Ｗ／ｍ・Ｋ）とＴａ（熱伝導率５８Ｗ／ｍ・Ｋ）は、本発明のバリア層の材料として選択することはできないことがわかる。
【０１６０】
［実験例２］
本発明に規定の熱伝導率を有するＭｏ、Ｃｏ（熱伝導率１００Ｗ／ｍ・Ｋ）、及び、それらの比較として誘電体膜であるＺｎＳ−ＳｉＯ2を材料に用い、上述の手順に従ってそれぞれ下記表３に示す膜厚のバリア層をディスク１に設けた、２層型の光記録媒体（２層型ＤＶＤ−Ｒディスク）を作製した。得られた光記録媒体のディスク１に、上述の条件でＤＶＤ−Ｒの２．４倍速記録を行ない、ＳＴ（％）、ＭＴ（％）、Δｊｉｔｔｅｒを測定した。得られたＳＴ（％）、ＭＴ（％）、Δｊｉｔｔｅｒの結果を下記表３に示す。また、バリア層の膜厚を横軸に、Δｊｉｔｔｅｒを縦軸にとってプロットしたグラフを図３に示す。
【０１６１】
【表３】
2006313612.tif 000018
【０１６２】
表３及び図３に明らかなように、熱伝導率が７０Ｗ／ｍ・Ｋを超えるＭｏ、Ｃｏのバリア層を有する光記録媒体は、膜厚が５ｎｍより薄くなると、Δｊｉｔｔｅｒが低減する傾向が見られ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2よりも良好なジッターを示している。特に、膜厚３ｎｍ前後では、Ｍｏ、Ｃｏ共に安定して良好なＳＴ（％）、ＭＴ（％）とΔｊｉｔｔｅｒが得られることがわかる。
【０１６３】
一方、ＺｎＳ−ＳｉＯ2は、膜厚によらずΔｊｉｔｔｅｒが２％前後と、本発明のバリア層ほどの良好な特性を得ることができないことがわかる。この違いは、まず、誘電体の熱伝導率が本発明の伝導率のおよそ１／１００以下と非常に低いことに起因すると考えられる。つまり、誘電体膜では十分な放熱効果が得らないために、浅溝でありかつ、逆積層構成での良好なクロストーク特性が得られないのである。また、誘電体膜が、本発明の金属や合金、半導体の膜のような延性、展性に乏しいことも、極めて良好なＳＴ（％）特性を得ることができない原因と考えられる。
【０１６４】
［実験例３］
実験例１で作製した光記録媒体のうち、バリア層の材料としてＭｏ、Ｃｒ、Ｃｏ（膜厚はすべて２ｎｍ）を用いた光記録媒体を、記録後に８０℃、８５％相対湿度の試験槽に保存し、２５０時間後に取り出して記録部の信号を再生した。何れの光記録媒体も、ＰＩ（Parity of Inner-code）エラーが殆んど変化せず、良好な保存安定性を持つことがわかった。
【０１６５】
［実験例４］
〔光記録媒体の調製〕
＜逆積層体の調製＞
先ず、表面に溝が形成されたＮｉスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ０．７４μｍ、幅３４０ｎｍ、深さ２８ｎｍの溝が形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの基板（１）を形成した。次に、この基板（１）の上に、Ａｇ−Ｂｉ−Ｎｄ合金をスパッタ法により８０ｎｍの厚さに成膜して反射層（１）を形成した。次いで、有機色素化合物として、上記色素Ａ（中心金属がＮｉ2+）及び上記色素Ｂ（中心金属がＺｎ2+）の混合物（色素Ａ：色素Ｂ＝５０重量％：５０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度２．１重量％）を調製し、これを上述の反射層（１）上に滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し、記録層（１）を形成した記録膜のＯＤ値は１．２０であった。
【０１６６】
尚、上記色素Ｂの窒素雰囲気中での発熱量は４０．７Ｃａｌ／ｇ、分解温度２７８℃であり、少なくともヒートモード記録には適切な程度の発熱量を有する色素であることがわかった。なお、発熱量及び分解温度の測定には、セイコーインスツルメント社製ＴＧ／ＤＴＡ６２００を用い、昇温速度１０℃／分、試料量約４ｍｇの条件で測定を行なった。
【０１６７】
尚、色素Ｂの色素塗布膜の吸収極大波長は５５４．１ｎｍと６０１．９（ｓｔｒｏｎｇ）ｎｍであり、色素Ｂは、記録波長である６６０ｎｍ近傍には、その吸収極大の吸光度の１５．５％という、２層型光記録媒体の第２層目の記録層への記録には適切な量の吸収を有する色素であることがわかった。
【０１６８】
続いて、記録層（１）の形成後、なるべく時間をおかずに、この記録層（１）上に、ＺｎＳ−ＳｉＯ2をスパッタ法により１３０ｎｍの厚さとなるように形成した。このようにして、逆積層体のディスク１を調製した。
【０１６９】
＜正積層体の調製＞
深さ１６０ｎｍ、幅３６０ｎｍ、トラックピッチ７４０ｎｍの案内溝を形成したポリカーボネート製の基板（２）を調製し、この基板（２）の案内溝が形成された面上に、上記色素Ａと上記色素Ｃとの混合物（色素Ａ：色素Ｃ＝１０重量％：９０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度２重量％）を滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し、記録層（２）を形成した。記録層（２）の厚さ（図１（ａ）における正積層体の溝部の記録層膜厚）は約８０ｎｍであった。次いで、記録層（２）上に、Ａｇ−Ｂｉ合金（Ｂｉ：１．０原子％）を１７ｎｍの厚さとなるようにスパッタ法により成膜して反射層（２）を形成した。更に、この反射層（２）上に、紫外線硬化性樹脂（大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化性樹脂ＳＤ３４７）をスピンコートして硬化させ、膜厚３μｍ〜４μｍの保護コート層を形成することにより、正積層体のディスク２を調製した。
【０１７０】
＜２層型光記録媒体の調製＞
上述した方法で調製した逆積層体であるディスク１のバリア層の上に、樹脂Ａ（大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化性樹脂：弾性率４０００ＭＰａ（３０℃）、ガラス転移温度Ｔｇ＝１７４℃）を、膜厚２３μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。また、正積層体であるディスク２の保護コート層の上に、上記樹脂Ａを、膜厚２３μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。次に、それぞれ樹脂Ａを塗布したディスク１とディスク２とを、樹脂Ａが塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク２（正積層体）の基板（２）側から紫外線を照射して樹脂Ａを硬化させ、樹脂Ａからなる透明樹脂層を形成することにより、２層型の光記録媒体を調製した。
【０１７１】
尚、樹脂Ａの弾性率及びガラス転移温度Ｔｇは、動的粘弾性試験機（レオバイブロン社製：ＤＤＶシリーズ）を使用し、測定周波数３．５Ｈｚ、昇温速度３℃／ｍｉｎの条件で測定した。
【０１７２】
〔ディスク１（逆積層体）における高速記録条件〕
尚、ディスク１（逆積層体）への光情報の高速記録条件は以下の通りである。
評価機としては、パルステック製ＤＤＵ−１０００（波長６６２ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．６５）を用いた。
記録速度は、ＤＶＤの４倍速（４×記録）（線速度１５．３ｍ／ｓ）とした。
記録パルスストラテジーとしては、DVD+Recordable Dual Layer 8.5Gbytes Basic Format Specifications version 1.1に準拠した。
パルスのパワー比Ｐ0／Ｐm＝１．７とした。
記録パワーは、２０ｍＷ〜４０ｍＷとした。
ジッター（data-to-clock jitter）測定は、１倍速で行なった。
【０１７３】
図６（ａ）は、実験例４で作製した光記録媒体の逆積層体における、ジッターとアシンメトリーとの関係を表わすグラフであり、図６（ｂ）は、実験例４で作製した光記録媒体の逆積層体における、ジッターと記録パワーとの関係を表わすグラフである。なお、「アシンメトリー」とは、ＤＶＤ−Ｒ又はＤＶＤ＋Ｒの規格書に“asymmetry”と規定されている値である。アシンメトリーが正の値の場合には、十分大きな記録パワーで記録されたことを意味し、アシンメトリーが負の値の場合には、記録パワーが不十分であることを意味する。
【０１７４】
図６（ａ）に「色素Ａ＋色素Ｂ」として示した曲線が、Ｚｎが中心金属イオンである色素を記録層（１）に含む逆積層体のジッターのアシンメトリーマージンである。２層型光記録媒体において４倍速という非常に高速の記録にもかかわらず、アシンメトリーを、−５％（図６（ａ）では「−０．０５」に相当する。）から＋１５％（図６（ａ）では「０．１５」に相当する。）を少し越える値まで、という非常に広い範囲で変化させても、ジッター９％という良好なジッターを確保できることがわかる。
【０１７５】
一方、実験例４の逆積層体において、中心金属がＺｎイオンである色素Ｂを、中心金属がＺｎイオンではない色素Ｃに変え、色素Ａ：色素Ｃ＝４０重量％：６０重量％にした以外は、全く同様にして４×記録のジッターのアシンメトリーマージンを調べた結果が、図６（ａ）に「色素Ａ＋色素Ｃ」として示した曲線である。アシンメトリーマージン及びボトムジッターが、「色素Ａ＋色素Ｃ」の方が「色素Ａ＋色素Ｂ」の組み合わせよりも良くないことがわかる。尚、色素Ｃの窒素雰囲気中での発熱量は２７．６Ｃａｌ／ｇ、分解温度３４８℃であった。また、色素Ｃの色素塗布膜の吸収極大波長は５４７．１１ｎｍと５９７．０５ｎｍであり，色素Ｃは、記録波長である６６０ｎｍ近傍には、その吸収極大の吸光度の１４．４％の吸収を有する色素であることがわかった。色素Ｃの膜の吸収スペクトルの形は、前記の色素Ｂよりも緩慢となっていた。
【０１７６】
図６（ｂ）に、「色素Ａ＋色素Ｂ」と「色素Ａ＋色素Ｃ」の上記逆積層体の４×記録のＭＴ％を、記録レーザーパワーを変化させて測定した結果を示す。ＭＴ％においても、「色素Ａ＋色素Ｂ」の組み合わせの方が、「色素Ａ＋色素Ｃ」の組み合わせよりも優れていることがわかる。
【０１７７】
以上の結果により、Ｚｎ2+を中心金属とする本発明の色素を含む場合の方が、ジッターのアシンメトリーマージンが広く、また、ジッター値自体も良好であり、クロストークも低減されていることが明らかとなった。
【０１７８】
［実験例５］
実験例５では、以下の手順に従って、図５に示す構成の２層型の光記録媒体を調製し、記録層（１）（第２層目の記録層）に記録された光情報のＭＴ（％）及びＳＴ（％）を測定した。
【０１７９】
先ず、表面に溝が形成されたＮｉスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ０．７４μｍ、幅０．３３μｍ、深さ１６０ｎｍの溝が形成された、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５７ｍｍの基板（２）を形成した。
次に、上記色素Ａと上記色素Ｃとの混合物（色素Ａ：色素Ｃ＝１０重量％：９０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度２重量％）を滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し、記録層（２）を形成した。更に、記録層（２）上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、厚さ１７ｎｍの半透明の反射層（２）をスパッタリング法により成膜した。
【０１８０】
次に、反射層（２）上に、透明樹脂層を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂〔１〕を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約２５μｍの膜を形成した。一方、樹脂スタンパの案内溝が形成された面に、所定の紫外線硬化性樹脂〔２〕を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約２５μｍの膜を形成した。
【０１８１】
次に、紫外線硬化性樹脂〔１〕からなる樹脂層と、紫外線硬化性樹脂〔２〕からなる樹脂層とが対向するように、反射層（２）上に樹脂スタンパを貼り合わせた。続いて、樹脂スタンパ側から紫外線を照射して、これらの樹脂層を硬化させて接着させることにより、案内溝を有する透明樹脂層（２Ｐ層）を有する接着体を形成した。尚、形成された透明樹脂上の案内溝は、トラックピッチが０．７４μｍで溝幅が２９０ｎｍであり、溝深さが１９０ｎｍであった。
【０１８２】
なお、紫外線硬化性樹脂〔１〕，〔２〕としては、それぞれ以下のラジカル系紫外線硬化性樹脂を用いた。各紫外線硬化性樹脂〔１〕，〔２〕のガラス転移温度を、括弧書きで示す。
紫外線硬化性樹脂〔１〕：大日本インキ株式会社製ＳＤ６０３６（Ｔｇ＝６０℃）
紫外線硬化性樹脂〔２〕：日本化薬株式会社製ＭＰＺ３８８（Ｔｇ＝１６１℃）
【０１８３】
前記透明樹脂層（２Ｐ層）の上に、有機色素化合物として、上記色素Ａ（中心金属がＮｉ2+）及び上記色素Ｂ（中心金属がＺｎ2+）と、下記式で表わされる色素Ｄ（中心金属がＺｎ2+）との混合物（色素Ａ：（色素Ｂ＋色素Ｄ）＝５０重量％：（１５重量％＋３５重量％）＝５０重量％：５０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度２．１重量％）を調製し、これを上述の反射層（１）上に滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し、記録層（１）を形成した。
【０１８４】
【化１５】
2006313612.tif 000019
【０１８５】
尚、上記色素Ｂの窒素雰囲気中での発熱量は４０．７Ｃａｌ／ｇ、分解温度２７８℃であり、色素Ｄの窒素雰囲気中での発熱量は３４．１Ｃａｌ／ｇ、分解温度２５１℃であり、中心金属イオンをＺｎ2+とするこれら何れの色素も、少なくともヒートモード記録には適切な程度の発熱量を有する色素であることがわかった。なお、発熱量及び分解温度の測定には、セイコーインスツルメント社製ＴＧ／ＤＴＡ６２００を用い、昇温速度１０℃／分、試料量約４ｍｇの条件で測定を行なった。
【０１８６】
尚、色素Ｂの色素塗布膜の吸収極大波長は５５４．１ｎｍと６０１．９（ｓｔｒｏｎｇ）ｎｍであり、色素Ｂは、記録波長である６６０ｎｍ近傍には、その吸収極大の吸光度の１５．５％という、２層型光記録媒体の第２層目の記録層への記録には適切な量の吸収を有する色素であることがわかる。
【０１８７】
そして、色素Ｄの色素塗布膜の吸収極大波長は５６１．６ｎｍと６０８．３（ｓｔｒｏｎｇ）ｎｍであり、色素Ｄは、記録波長である６６０ｎｍ近傍には、その吸収極大の吸光度の２０．１％という、２層型光記録媒体の第２層目の記録層への記録には適切な量の吸収を有する色素であることがわかる。
【０１８８】
続いて、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、厚さ１２０ｎｍの反射層（１）をスパッタリング法により成膜した。
【０１８９】
更に、反射層（１）上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。そして、この接着層上に直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して基板（２）とし、紫外線を照射して硬化させ、接着させた。以上のようにして２Ｐ法による２層型光記録媒体を製造した。
【０１９０】
〔２層型光記録媒体の記録層（１）における高速記録条件〕
尚、光情報の２層型光記録媒体の記録層（１）への高速記録条件は以下の通りである。
評価機としては、パルステック製ＯＤＵ−１０００（波長６６０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．６５）を使用した。
記録速度は、ＤＶＤの８倍速（８×記録）（線速度３０．６７ｍ／ｓ）とした。
記録パルスストラテジーとしては、DVD+Recordable Dual Layer 8.5Gbytes Basic Format Specifications version 1.1に準拠した。
パルスのパワー比Ｐ0／Ｐm＝１．３とした。
記録パワーは、４０ｍＷ〜５２ｍＷとした。
ジッター（data-to-clock jitter）測定は、１倍速にて再生しながら行なった。
【０１９１】
図７は、実験例５で作製した光記録媒体の記録層（１）における、ジッターとアシンメトリーとの関係を表わすグラフである。
図７において、上記の記録層（１）への８倍速記録のジッターのアシンメトリーマージンの測定結果が、「色素Ａ＋色素Ｂ＋色素Ｄ」として示す曲線である。「色素Ａ＋色素Ｂ＋色素Ｄ」の記録層（１）の、アシンメトリーが＋１０％程度（図７では「０．１」に相当する。）という非常に大きな条件においても、ジッターが９％以下と、極めて良好な２層型光記録媒体の高速記録特性を示した。
【０１９２】
一方、上記色素Ｂと色素Ｄを、中心金属イオンがＮｉ2+である色素Ｃに変え、色素Ａ：色素Ｃ＝５０重量％：５０重量％とした以外、全く同様にして得た２層型光記録媒体の記録層（１）に上述の８倍速記録を行なった。その結果が、図７に「色素Ａ＋色素Ｃ」として示す曲線である。尚、色素Ｃの窒素雰囲気中での発熱量は２７．６Ｃａｌ／ｇ、分解温度３４８℃であった。また、色素Ｃの色素塗布膜の吸収極大波長は５４７．１１ｎｍと５９７．０５ｎｍであり、色素Ｃは、記録波長である６６０ｎｍ近傍には、その吸収極大の吸光度の１４．４％の吸収を有する色素であることがわかった。色素Ｃの膜の吸収スペクトルの形は、前記の色素Ｂ、色素Ｄよりも緩慢となっていた。
【０１９３】
図７により、色素Ａ色素Ｃの組み合わせでは、記録層（１）において、アシンメトリーが＋６％を越え大きくなるにつれて、ジッターが急峻に増加して悪化することがわかる。以上より、中心金属がＺｎ2+である本発明の色素Ｂ及び色素Ｄと組み合わせることにより、２層型光記録媒体の第２層目の記録層（記録層（１））における８倍速記録という極めて高速な記録が、非常に良好に行なえることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１９４】
本発明は、ＤＶＤ±Ｒ等の赤色半導体レーザー用の光記録媒体や、青色半導体レーザー用の光記録媒体等の用途において、好適に利用することが可能である。
【０１９５】
尚、本出願は、２００５年４月７日付けで出願された日本出願（特願２００５−１１１２４４）に基づいており、その全体が引用により援用される。
【図面の簡単な説明】
【０１９６】
【図１】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】実験例１で作製した光記録媒体の逆積層体における、バリア層の材料のバルクの熱伝導率とΔｊｉｔｔｅｒとの関係を表わすグラフである。
【図３】実験例２で作製した光記録媒体の逆積層体における、バリア層の膜厚とΔｊｉｔｔｅｒとの関係を表わすグラフである。
【図４】実験例１で作製した光記録媒体の逆積層体における、バリア層の材料とＳＴ（％）、ＭＴ（％）との関係を表わすグラフである。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。
【図６】（ａ）は、実験例４で作製した光記録媒体の逆積層体における、ジッターとアシンメトリーとの関係を表わすグラフであり、（ｂ）は、実験例４で作製した光記録媒体の逆積層体における、ジッターと記録パワーとの関係を表わすグラフである。
【図７】実験例５で作製した光記録媒体の記録層（１）における、ジッターとアシンメトリーとの関係を表わすグラフである。
【符号の説明】
【０１９７】
１１  逆積層体
１２  正積層体
１００，２００，３００  光記録媒体
１０１，３０８  基板（１）
１０２，３０６  反射層（１）
１０３，３０５  記録層（１）
１０４，２０４  バリア層
１０５，２０５  透明樹脂層
３０４  透明樹脂層（２Ｐ層）
１０６  保護コート層
１０７，３０３  反射層（２）
１０８，３０２  記録層（２）
１０９，３０１  基板（２）
１１０，２１０，３１０  レーザー光
２０１  基板
２０２  反射層
２０３  記録層
３０７  接着層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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