(57)【要約】【課題】  より効率的に平坦な塗布膜を基板上に形成可能な電気光学装置用基板の製造方法及び該電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の製造装置を提供する。【解決手段】  反射膜９が形成された基板７上に、反射膜９に積層するようにカラーレジスト１０ｒを塗布し（Ｓ２）、反射膜９に積層するカラーレジスト１０ｒに選択的に光エネルギーを供給することとしたので（Ｓ３）、反射膜９に積層したカラーレジスト１０ｒの凸状部分を軟化させることができ、減圧乾燥処理前にカラーレジスト１０ｒの表面１０ａを平坦化し、表面１０ａが平坦化された着色層１０Ｒ等を基板７上に形成することが可能である。従って、着色層１０Ｒ等を透過する光の色むらを防止して表示性能を向上させることができる。また、例えばカラーレジスト１０ｒの凸状部分にのみエネルギーを供給するので、エネルギー効率に優れた液晶パネル１７の製造装置１とすることが可能である。【選択図】  図２
2006098447.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に凸状のパターンを形成する工程と、
前記パターンに積層するように第１の樹脂材料を塗布する工程と、
前記パターン上の前記第１の樹脂材料に対して選択的に少なくとも光、超音波及び温風のうちいずれか１つを供給する平坦化工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項２】
前記平坦化工程では、前記パターンに対応する透光部を有するマスクを介して、光を前記パターン上の前記第１の樹脂材料に照射することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項３】
前記平坦化工程の後に、前記第１の樹脂材料を減圧乾燥する工程を更に具備することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１の樹脂材料は着色されており、
前記第１の樹脂材料を塗布する工程の前に、
前記パターンとなる第２の樹脂材料を前記基板に塗布する工程と、
塗布された前記第２の樹脂材料の一部を除去する工程と、
前記第２の樹脂材料に積層するように反射膜を形成する工程と、
前記反射膜の、前記第２の樹脂材料を除去した部分に対応する部分を除去する工程と
を具備することを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項５】
前記パターンを形成する工程では、前記マスクと同じ形状のマスクを用いて前記パターンを形成する工程を更に具備することを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項６】
前記第１の樹脂材料にネガ型の感光性樹脂材料を用いることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１の樹脂材料を塗布する工程の後に、該第１の樹脂材料に対して全体的に振動を与える工程を更に具備することを特徴とする請求項１から請求項６のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項８】
凸状のパターンを備えた基板を有する電気光学装置の製造装置であって、
前記基板上の前記パターン上に樹脂材料が塗布された基板を収容する収容部と、
前記パターン上の前記樹脂材料に対して選択的に少なくとも光、超音波及び温風のうちのいずれか１つを供給可能な供給手段と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項９】
前記基板を収容し減圧乾燥可能な減圧乾燥部を更に具備することを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布膜を有する電気光学装置用基板の製造方法及び該電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、パーソナルコンピュータや携帯電話機等といった電子機器の表示装置として液晶表示装置等が用いられている。この液晶表示装置は、例えば２枚の対向する基板の間に液晶が封入された液晶パネルを備えており、これらの基板にはフォトリソグラフィ技術により回路パターン等が形成されている。
【０００３】
一般に、フォトリソグラフィ技術により基板上に例えばレジスト層を形成する工程では、基板にレジスト等の塗布液を塗布直後、減圧乾燥処理を施すことで、次の工程であるプレベークまでの間にレジストの膜厚が変化することを極力減らし、レジスト層の平坦化を図ろうとしている。
【０００４】
また、基板上に回路パターンを形成した後、更に回路パターンを覆うように基板上にレジストを塗布し、この塗布したレジストに振動、熱、エア等のエネルギーを与えることで、平坦化を図る技術も開示されている。（例えば、特許文献１、２参照。）  
【特許文献１】特開２００１−２３７１７９号公報（段落[００３６]、[００４２]、図１２）。
【特許文献２】特開２００２−１０２７７８号公報（段落[００１８]、図１）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した技術では、基板全体の平坦性を考慮してレジストが塗布された基板全面に略同じエネルギーが供給されるため、エネルギー効率が悪くなるという問題がある。また、塗布膜の膜厚を厚くしたり複数回塗布処理を施したりするとコスト高となるだけでなく平坦化を図ることが困難となる。
【０００６】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされるもので、より効率的に平坦な塗布膜を基板上に形成可能な電気光学装置用基板の製造方法及び該電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る電気光学装置用基板の製造方法は、基板上に凸状のパターンを形成する工程と、前記パターンに積層するように第１の樹脂材料を塗布する工程と、前記パターン上の前記第１の樹脂材料に対して選択的に少なくとも光、超音波及び温風のうちいずれか１つを供給する平坦化工程とを具備することを特徴とする。
【０００８】
本発明では、平坦化工程で、パターン上の第１の樹脂材料に選択的に少なくとも光、超音波及び温風のうちいずれか１つ供給することで、パターン上の第１の樹脂材料の凸状部分を軟化させることができ、軟化した凸状部分の第１の樹脂材料を例えば凸状部分同士の間に形成された凹状部分に流動させることができるので、パターンレベルで平坦な塗布膜を基板上に形成することができると共に、最低必要な領域に光等を供給することで、エネルギー効率を向上させることができる。
【０００９】
本発明の一の形態によれば、前記平坦化工程では、前記パターンに対応する透光部を有するマスクを介して、光を前記パターン上の前記第１の樹脂材料に照射することを特徴とする。これにより、平坦化工程で、第１の樹脂材料を選択的に軟化させるときにこのマスクを用いることができると共に、例えば露光、現像等によりパターンを形成するときにこのマスクを用いることで、低コスト化を図ることができる。
【００１０】
本発明の一の形態によれば、前前記平坦化工程の後に、前記第１の樹脂材料を減圧乾燥する工程を更に具備することを特徴とする。これにより、平坦化工程で第１の樹脂材料を平坦化した後、平坦化された第１の樹脂材料を減圧乾燥することができるので、平坦化された第１の樹脂層を形成することができる。
【００１１】
本発明の一の形態によれば、前記第1の樹脂材料は着色されており、前記第１の樹脂材料を塗布する工程の前に、前記パターンとなる第２の樹脂材料を前記基板に塗布する工程と、塗布された前記第２の樹脂材料の一部を除去する工程と、前記第２の樹脂材料に積層するように反射膜を形成する工程と、前記反射膜の、前記第２の樹脂材料を除去した部分に対応する部分を除去する工程とを具備することを特徴とする。
【００１２】
これにより、例えば基板上に直接パターンを形成する場合に比べて、第１の樹脂材料中の光路長を容易に調整することができる。
【００１３】
本発明の一の形態によれば、前記パターンを形成する工程では、前記マスクと同じ形状のマスクを用いて前記パターンを形成する工程を更に具備することを特徴とする。これにより、パターンを形成する工程と、エネルギーを供給する工程とで、同じマスクを用いることができるので、低コスト化を図ることができる。
【００１４】
本発明の一の形態によれば、前記第１の樹脂材料にネガ型の感光性樹脂材料を用いることを特徴とする。これにより、例えば露光などによりマスクの透光部に対応する位置の第２の樹脂材料が基板上に残るので、マスクを水平方向に移動させずに、第２の樹脂材料に重なった第１の樹脂材料の凸状部分に光等を供給することができる。よって、ポジ型の第１の樹脂材料を用いる場合に比べて、マスクの水平方向の移動機構を設ける必要がないので、低コスト化を図ることができると共に、製造工程数を減少させることができるので、生産性を向上させることができる。
【００１５】
本発明の一の形態によれば、前記第１の樹脂材料を塗布する工程の後に、該第１の樹脂材料に対して全体的に振動を与える工程を更に具備することを特徴とする。これにより、例えばパターン上の第１の樹脂材料の全体的な平坦化を図ることができる。
【００１６】
本発明の他の観点にかかる電気光学装置の製造装置は、凸状のパターンを備えた基板を有する電気光学装置の製造装置であって、前記基板上の前記パターン上に樹脂材料が塗布された基板を収容する収容部と、前記パターン上の前記樹脂材料に対して選択的に少なくとも光、超音波及び温風のうちのいずれか１つを供給可能な供給手段とを具備することを特徴とする。
【００１７】
本発明では、供給手段によりパターン上の樹脂材料に選択的に少なくとも光、超音波及び温風のうちのいずれか１つを供給することで、パターン上の樹脂材料の凸状部分を軟化させ、軟化した凸状部分の樹脂材料を例えば凸状部分同士の間に形成された凹状部分に移動させることができる。これにより、パターンレベルで平坦な塗布膜を基板上に形成することができると共に、最低必要な領域に光等を供給することで、エネルギー効率を向上させることができる。
【００１８】
本発明の一の形態によれば、前記基板を収容し減圧乾燥可能な減圧乾燥部を更に具備することを特徴とする。これにより、マスクを介してエネルギー供給手段により第１の樹脂材料にエネルギーを供給し、第１の樹脂材料を平坦化し、減圧乾燥部で減圧乾燥し、平坦化された第１の樹脂材料の層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。なお、以下実施形態を説明するにあたっては、単純マトリクス型の半透過反射型の電気光学装置としての液晶表示装置を例にあげるが、これに限られるものではない。また、電気光学装置の製造装置としての液晶表示装置の製造装置を例にあげるが、これに限定されるものではない。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００２０】
（第１の実施形態）  
【００２１】
（液晶表示装置の製造装置の構成）
【００２２】
図１は本発明に係る第１の実施形態の液晶表示装置の製造装置の概略ブロック図である。
【００２３】
本実施形態の液晶表示装置の製造装置１（以下、製造装置１と略称する。）は、図１に示すように、基板に塗布されたレジストに局所的に軟化処理を施す平坦化処理ユニット２と、平坦化処理ユニット２に隣接して設けられた搬送ユニット３と、搬送ユニット３に隣接して設けられた減圧乾燥処理ユニット４とを備えている。なお、製造装置１が、平坦化処理ユニット２で処理する前に基板にレジスト等を塗布するための塗布処理ユニット、プリベーク、露光、現像処理ユニットを備えるように構成してもよい。
【００２４】
図２は製造装置１の平坦化処理ユニット２を示す概略側面図である。
【００２５】
平坦化処理ユニット２は、図２に示すように、例えば基板７に塗布されたレジストに光を照射可能なライト５、ライト５に略平行に設けられたフォトマスク６、基板７を載置するためのステージ４０、及びこれらを収容する図示を省略したケーシングを備えている。なお、例えば平坦化処理ユニットにフォトマスク６が着脱自在に設けられるようにしてもよい。
【００２６】
ライト５には、例えば赤外線を発光可能な赤外線発光ランプが用いられている。ライト５から照射される光（赤外線）のエネルギーの強さは、例えば基板７に塗布された感光性樹脂中の溶媒が除去されずに軟化処理を施すことができるように設定されている。すなわち、光の照射により溶媒が急激に除去されないように設定されている。ランプ５による光の照射を開始してから溶媒の蒸発が始まるまでの時間が、例えば５秒以上６０秒以下に設定されている。この時間は、感光性樹脂中の溶媒が急激に乾燥することで平坦化を損ねることを防止するために５秒以上に設定され、生産性を確保するために６０秒以下に設定されている。
【００２７】
フォトマスク６は、ライト５から照射された光を透過可能な透光部６ａと、ライト５から照射された光を遮断可能な遮光部６ｂとを備えている。透光部６ａは、例えば、パターンレベルで選択的に光を照射できるように、パターンに対応した形状を有している。この透光部６ａの形状は、例えば、基板７に形成する下地層８に開口８ｂに対応した形状とされている。
【００２８】
搬送ユニット３は、平坦化処理ユニット２で処理された基板７を減圧乾燥処理ユニット４に搬送するための図示を省略した搬送機構を備えている。搬送機構は、例えば基板７を載置するための載置台と、載置台を水平移動させる駆動部とを備えている。基板が載置された載置台が、駆動部により水平移動するように構成されている。
【００２９】
ステージ４０は、基板７を載置可能な平板状であり、例えば基板７の受け渡しをするために、上下動可能に構成されている。
【００３０】
ケーシング内には、例えば、ライト５の周りにライト５を覆うように鏡等の図示を省略した反射部材が設けられている。これにより、ライト５から照射された光を反射部材で反射させて感光性樹脂等に供給することで、エネルギー効率を向上させることができるように構成されている。
【００３１】
図３は製造装置１の減圧乾燥処理ユニット４を示す概略断面図である。
【００３２】
減圧乾燥処理ユニット４は、搬送ユニット３により搬送された基板７に減圧乾燥処理を施すために用いられている。減圧乾燥処理ユニット４は、図３に示すように、減圧乾燥処理を施すために基板７を収容可能な収容台１１と、収容台１１の上方で上下動可能な上蓋１２と、収容台１１及び上蓋１２とで形成される密閉空間内に設けられ基板７を載置可能なステージ１３とを備えている。なお、上蓋１２に接触する収容台１１の端面には、図示を省略したシール部材が設けられており、収容台１１及び上蓋１２が接触することにより、減圧乾燥処理ユニット４内に密閉空間を形成することができるように構成されている。
【００３３】
収容台１１は減圧乾燥処理ユニット４の内圧を減圧させるための真空ポンプＰに接続されている。なお、減圧乾燥処理ユニット４の密閉空間内の雰囲気を例えば希ガス雰囲気とするために、希ガス供給部を減圧乾燥処理ユニット４に接続するようにしてもよい。収容台１１の底面部の例えば中央には、貫通孔１１ａが形成されている。
【００３４】
ステージ１３は、収容台１１の底面部の貫通孔１１ａを貫通するように設けられたリフトピン１４の上端部に固定されている。リフトピン１４の下端部はシリンダ１５に接続されている。シリンダ１５によりリフトピン１４とステージ１３とが一体的に上下動可能となるように構成されている。なお、減圧乾燥処理ユニット４内の密閉状態を確保するために、収容台１１の貫通孔１１ａの周りに例えば図示を省略したベローズを設けるようにしてもよい。
【００３５】
（液晶表示装置の構成）
【００３６】
図４は製造装置１で製造した基板７を備える液晶表示装置の部分拡大断面図である。
【００３７】
液晶表示装置１６は、液晶パネル１７と、液晶パネル１７を挟むように設けられた一対の偏光板１８と、液晶パネル１７に光を照射することができるように設けられたバックライト１９とを備えている。なお、液晶表示装置１６は、液晶パネル１７及びバックライト１９を保持する図示を省略したフレーム、その他の付帯機構が必要に応じて付設される。
【００３８】
液晶パネル１７は、基板７と、図示を省略した矩形枠状のシール材を介して基板７に対向して設けられた基板２０と、基板７、２０及びシール材の間に保持される液晶２１とを備えている。
【００３９】
基板７、２０は、例えばガラスや合成樹脂といった透光性を有する材料からなる板状部材である。基板７の上面（液晶２１側の面）７ａには下地層８が形成されている。下地層８は、バックライト１９からの光を透過させるための透光部となる開口８ｂが形成されている。下地層８の上面（液晶２１側の面）には、外光を散乱させるための図示を省略した凹凸が形成されている。下地層８の上面（液晶２１側の面）には、下地層８の凹凸形状に沿う反射膜９が形成されている。反射膜９の構成材料には、例えばアルミニウムやアルミニウム合金が用いられている。この下地層８の開口８ｂ及び反射膜９の上面（液晶２１側の面）には、着色層１０Ｒ（赤）、１０Ｇ（緑）及び１０Ｂ（青）が形成されている。カラーレジストには、例えば顔料により着色された感光性樹脂を用いることができる。着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂの上面１０ａは、平坦化処理ユニット２による処理により略平面状とされている。基板７の上面７ａから着色層１０Ｒ、１０Ｇ又は１０Ｂまでの高さｈ１は、例えば反射膜９の上面から着色層１０Ｒ、１０Ｇ又は１０Ｂの上面までの高さｈ２の２倍に設定されている。なお、着色層１０Ｒ及び着色層１０Ｇ、着色層１０Ｇ及び着色層１０Ｂ、及び、着色層１０Ｂ及び着色層１０Ｒが隣接する部分には、それぞれ隣り合う着色層が積層して形成された図示を省略した遮光層が形成されている。着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂ上にはオーバーコート層２２が形成され、オーバーコート層２２上には着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂに対応するように複数のストライプ状のコモン電極２３がＸ方向に形成されている。コモン電極２３は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：インジウムスズ酸化物）などの透明導電材料によって形成されている。コモン電極２３上には配向膜２４が形成されている。配向膜２４の上面にはラビング処理が施されている。なお、本実施形態では、開口８ｂは、着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂが基板７の上面７ａに接触するように、すなわち、下地層８の下の基板７が露出するように形成されている例を示した。しかし、開口８ｂの形状は、これに限定されず、例えば下地層８のＺ方向の厚さや着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０ＢのＺ方向の厚さに応じて変更することが好ましい。例えば、高さｈ１が高さｈ２の２倍より大きく設定される場合には、開口８ｂの基板７と着色層１０Ｒとの間に下地層を形成すればよい。これにより、開口８ｂ内に設けられる着色層のＺ方向の厚さを薄くすることで、例えば高さｈ１を高さｈ２の２倍とすることができる。
【００４０】
基板２０の液晶２１側の面には複数のストライプ状のセグメント電極２５がＹ方向に形成されている。セグメント電極２５は、例えばＩＴＯなどの透明導電材料によって形成されている。セグメント電極２５上には、配向膜２６が配向膜２４と同様に形成されている。コモン電極２３とセグメント電極２５とが平面的に交差する部分が画素となり、画素毎に下地層８の開口８ｂが形成されている。
【００４１】
液晶２１は、配向膜２４と配向膜２６との間に保持されており、構成材料には例えばＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）が用いられている。
【００４２】
偏光板１８は、液晶パネル１７に入射する外光の特定の偏光成分を透過又は吸収するために用いられている。
【００４３】
バックライト１９は、例えば図示を省略したＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）や導光板がフレームに収容されて構成されており、照明装置として用いられている。
【００４４】
（液晶表示装置の製造方法）
【００４５】
次に液晶表示装置１６の製造方法について説明する。
【００４６】
図５は液晶パネル１７に用いられる基板７の製造工程を示すフローチャートである。まず、図５に示すステップ１（Ｓ１）について図６〜図９を用いて説明する。
【００４７】
図６に示すように、洗浄、乾燥した基板７を準備し例えばスピンコート法によりポジ型の感光性樹脂８ａを基板７に塗布する。次に、図７に示すように、感光性樹脂８ａを乾燥させ、感光性樹脂８ａをフォトマスクを介して露光し、光が照射された部分を現像液により溶解させて除去し透光部となる開口８ｂ及び下地層８を形成する。続いて、図８に示すように、スパッタリング等により下地層８を覆うようにアルミニウム層９ａを略一定の厚さで形成し、エッチングによりパターンとしての反射膜９を形成する（Ｓ１）。
【００４８】
次に、図５に示すステップ２（Ｓ２）について説明する。図１０に示すように、反射膜９を覆うようにカラーレジスト１０ｒを基板７上に塗布する（Ｓ２）。これにより、カラーレジスト１０ｒが反射膜９を覆うように基板７上に設けられる。このとき、反射膜９上に凸状部分が形成される。
【００４９】
次いで、図２に示す平坦化処理ユニット２で、フォトマスク６の透光部６ａを介して、反射膜９に積層したカラーレジスト１０ｒの凸状部分に赤外線を照射し、これらの凸状部分を軟化させる（Ｓ３）。これにより、図１１に示すように、カラーレジスト１０ｒの凸状部分同士の間に形成されている凹状部分に、凸状部分のカラーレジスト１０ｒを流動させて、カラーレジスト１０ｒの表面１０ａを平坦化する。このとき、ランプ５のエネルギーの強さが図示を省略した制御部によりカラーレジスト１０ｒ中の溶媒が急激に除去されることがないように制御されているため、カラーレジスト１０ｒ中の溶媒が除去されない状態で軟化処理を施すことができる。
【００５０】
平坦化処理が施された基板７を、搬送ユニット３により減圧乾燥処理ユニット４に搬送する。すなわち、上蓋１２を上に移動させ基板７を搬入させて、シリンダ１５、リフトピン１４により適切な高さに上昇していたステージ１３に基板７を受け渡す。するとシリンダ１５、リフトピン１４によりステージ１３は下降し、上蓋１２が下に移動して、基板７が減圧乾燥処理ユニット４内に密閉収容される。真空ポンプＰにより密閉空間の内圧を減圧させた状態で、減圧乾燥処理を施す（Ｓ４）。
【００５１】
続いて、図示を省略した加熱処理装置等でプリベーク（Ｓ５）、図示を省略した露光装置により露光（Ｓ６）、現像（Ｓ７）の各処理を施すことで、図１２に示すように上面１０ａが平坦化された着色層１０Ｒを形成する。同様にして着色層１０Ｇ及び１０Ｂを形成する。
【００５２】
次に、着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂを覆うようにオーバーコート層２２を形成し、オーバーコート層２２上に着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂに対応するようにＩＴＯからなる薄膜を同様に形成しパターニングしてコモン電極２３を形成する。更に、コモン電極２３を覆うように配向膜２４を形成しラビング処理を施す。
【００５３】
続いて、基板７上にシール材を設け、基板２０にセグメント電極２５を形成し、セグメント電極２５を覆うように配向膜２６を形成しラビング処理を施し、両基板７、２０を貼り合わせ、シール材に形成された注液口から液晶２１を注液し注液口を封止して液晶パネル１７を製造する。
【００５４】
ここで、例えば下地膜の形成時に使用したフォトマスクを、平坦化処理時に兼用できる場合について説明する。
【００５５】
図１３は基板７上に下地層を形成する工程を示す図、図１４はフォトマスクを用いた平坦化処理の工程を示す図である。
【００５６】
基板７上に下地層３１を形成する工程で用いるフォトマスク２９は、図１３に示すように、ランプ５からの赤外線を透過可能な透光部６Ａと、ランプ５からの赤外線を射光可能な遮光部６Ｂとを備えている。透光部６Ａと遮光部６Ｂとの基板７に沿う方向の幅ｈ３、ｈ４は例えば略同じ長さに設定されている。フォトマスク２９は、図示を省略した移動機構により水平方向に移動可能に構成されている。
【００５７】
基板７上に下地層３１を形成する工程では、図１３に示すように、まず、基板７上にポジ型の感光性樹脂３１ａを塗布する。次に、フォトマスク２９を介してランプ５から赤外線を照射し、現像して下地層３１を形成する。
【００５８】
次に、同じフォトマスク２９を平坦化処理に用いる方法について説明する。なお、図１４に示すように、基板７上に下地層３１、下地層３１上に反射膜９と同様に反射膜３２が形成され、反射膜３２を覆うように基板７上にポジ型のカラーレジストが塗布されている場合について説明する。なお、反射膜３２は、反射膜９より基板７に沿う方向の幅が短く形成されている。
【００５９】
この場合には、例えばフォトマスク２９を下地層３１形成時の位置から基板７に略平行に幅ｈ３だけ移動させる。これにより、反射膜３２に積層するカラーレジストの凸状部分に対応する位置に透光部６Ａが位置し、隣り合う凸状の部分の間に形成された凹状部分に対応する位置に遮光部６Ｂが位置する。この状態で、赤外線をランプ５から照射する。これにより、カラーレジストの凸状部分にのみ光エネルギーを供給し、着色層の表面を平坦化することができる。
【００６０】
以上のように、下地層３１形成時及びカラーレジストの表面の平坦化処理時に、同じフォトマスク２９等の同じ形状のマスクを兼用することができる。従って、製造装置１の低コスト化を図ることができる。なお、本実施形態では、ポジ型のカラーレジストを用いる例を示した。しかし、ネガ型のカラーレジストを用いてもよい。この場合には、図１４に示す基板７上の下地層３１がない部分に下地層が形成されることになる。従って、フォトマスク２９を水平方向に移動させずに、図１４で１点鎖線で示す位置にフォトマスク２９を位置させたままで、カラーレジストの凸状部分に赤外線を照射することができる。よって、ポジ型のカラーレジストを使用する場合に比べて、フォトマスク２９の水平方向の移動機構を設ける必要がないので、低コスト化を図ることができると共に、製造工程数を減少させることができるので、生産性を向上させることができる。
【００６１】
次に本実施形態の液晶表示装置１６の動作について説明する。
【００６２】
コモン電極２３及びセグメント電極２５に電圧を印加し、液晶２１を駆動するときに、バックライト１９からの光は、偏光板１８、基板７、平坦な着色層１０Ｒの表面及び液晶２１等を透過する。一方、外光は、偏光板１８、基板２０等を透過して平坦な着色層１０Ｒの表面から入射し反射膜９で反射し再び平坦な着色層１０Ｒの表面を透過する。このとき、外光が着色層１０Ｒ、１０Ｇ又は１０Ｂ中を通過する光路長（２・ｈ２）と、バックライト１９からの光が着色層１０Ｒ中を通過する光路長（ｈ１）とが略同じとなる。
【００６３】
以上により液晶表示装置１の動作についての説明を終了する。
【００６４】
以上のように、本実施形態によれば、反射膜９が形成された基板７上に、反射膜９に積層するようにカラーレジスト１０ｒを塗布し（Ｓ２）、反射膜９に積層するカラーレジスト１０ｒに選択的に光エネルギーを供給することとしたので（Ｓ３）、反射膜９に積層したカラーレジスト１０ｒの凸状部分を軟化させることができ、減圧乾燥処理前にカラーレジスト１０ｒの表面１０ａを平坦化し、表面１０ａが平坦化された着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂを基板７上に形成することが可能となる。従って、着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂの表面１０ａを透過する光の色むらを防止して表示性能を向上させることができる。また、例えばカラーレジスト１０ｒの凸状部分にのみに光エネルギーを供給するので、エネルギー効率に優れた液晶パネル１７の製造装置１とすることができる。なお、同様にオーバーコート層２２の表面の平坦化も図ることができる。
【００６５】
また、ステップ３の平坦化処理で、反射膜９に対応する透光部６ａを有するフォトマスク６を介して赤外線をカラーレジスト１０ｒに照射する。これにより、カラーレジスト１０ｒの凸状部分を軟化させるときにフォトマスク６を用いることができる。また、上述したようにフォトマスク２９を用いる場合には、図１４に示すようにカラーレジストの平坦化処理時にフォトマスク２９を用いることができると共に、図１３に示すように下地層３１を形成するときにも同じフォトマスク２９を用いることができる。従って、低コスト化を図ることができる。なお、カラーレジストの平坦化処理時及び下地層３１を形成時に同一のフォトマスク２９を用いる例を示した。しかし、例えばフォトマスク２９と同様の形状を有するフォオマスクを用いるようにしても同様な効果を得ることができる。
【００６６】
更に、ステップ３の平坦化処理の後に、表面１０ａが平坦化された状態のカラーレジスト１０ｒを減圧乾燥する工程（Ｓ４）を備えている。これにより、平坦化処理により平坦化されたカラーレジスト１０ｒを減圧乾燥することができる。従って、平坦化された状態のままカラーレジスト１０ｒ中の溶媒を除去することができるので、平坦な表面１０ａの着色層１０Ｒ等を得ることができる。
【００６７】
また更に、ステップ３の平坦化処理では、光のエネルギーの強さは、ランプ５により光の照射を開始してから溶媒の蒸発が始まるまでの時間が、例えば５秒以上６０秒以下となるように設定されている。これにより、平坦化処理によりカラーレジスト１０ｒ中の溶媒が急激に除去されることで、カラーレジスト１０ｒの表面が凹凸形状となることを防止することができる。
【００６８】
本発明に係る液晶パネル１７の製造装置１は、光エネルギーを供給可能なランプ５と、反射膜９に積層するように塗布されたカラーレジスト１０ｒに選択的に光エネルギーを供給するためのフォトマスク６とを備えているため、ランプ５により反射膜９に積層するカラーレジスト１０ｒの凸状部分に光エネルギーを供給することで、カラーレジスト１０ｒの凸状部分を軟化させることができ、パターンレベルで平坦な着色層１０Ｒ等を基板７上に形成することが可能である。
【００６９】
また、平坦化処理ユニット２に隣接して設けられた搬送ユニット３と、減圧乾燥処理ユニット４とを備えているので、フォトマスク６を介してランプ５によりカラーレジスト１０ｒに光エネルギーを供給し、搬送ユニット３により減圧乾燥処理ユニット４に基板７を搬送し、平坦化された着色層１０Ｒが形成された基板７を減圧乾燥処理ユニット４で減圧乾燥することができる。従って、平坦化された状態のままカラーレジスト１０ｒを乾燥し平坦な表面１０ａの着色層１０Ｒ等を得ることができる。
【００７０】
（変形例）
【００７１】
本発明に係る平坦化処理ユニットの変形例について説明する。なお、本変形例では、上記実施形態と同一の構成部材等には同一の符号を付してその説明を省略し、異なる箇所を中心に説明する。
【００７２】
図１５は変形例の平坦化処理ユニットを示す概略側面図である。
【００７３】
本変形例の平坦化処理ユニット３５は、ランプ５の代わりに、所定のエネルギーの超音波を発生することができる超音波発信機３６を備えている。このエネルギーの強さは、超音波発信機３６により超音波を発信してから溶媒の蒸発が始まるまでの時間が、例えば５秒以上６０秒以下となるように設定されている。これにより、超音波により溶媒が急激に除去されないように設定されている。ここで、超音波発信機３６は、例えば所望の孔が形成された板を介して基板７上のカラーレジスト１０ｒの凸状部分にエネルギーを供給することができるように、板に近接して設けることが好ましい。なお、超音波発信機３６の代わりに、熱エネルギーを供給可能な温風器等を設けるようにしてよい。温風器は、板を介して熱エネルギーをカラーレジスト１０ｒに効果的に供給できるように、例えばランプ５を用いる場合よりも板に近づけて設けることが好ましい。また、温風の出口に例えば温風を案内するための案内板を設けるようにしてもよい。
【００７４】
本変形例では、超音波発信機３６により、カラーレジスト１０ｒの凸状部分にエネルギーを供給し、凸状部分を軟化させて、凸状部分同士の間に形成された凹状部分にカラーレジスト１０ｒを流動させることで、カラーレジスト１０ｒの表面を平坦化し、減圧乾燥処理ユニット４において減圧乾燥処理し、着色層１０Ｒ等の表面１０ａを平坦化することができるので、色むら等を防止し表示性能を向上させることができる。
【００７５】
また、他の変形例として、例えば、基板を載置、保持可能な図示を省略したステージと、このステージを例えば水平方向に振動させるための水平振動機構とを備えた振動処理ユニット、又は上述した減圧乾燥処理ユニット４にステージ１３を例えば水平方向に振動させることが可能な水平振動機構を更に備えたユニット等を用い、図５に示すステップ３（平坦化処理工程）と、ステップ４との間で、基板上の塗布されたカラーレジスト等を振動させる振動処理を施すようにしてもよい。これにより、例えば平坦化工程において凸状部分に光エネルギー等を供給しカラーレジスト１０ｒを軟化させておき、水平振動機構により水平方向にカラーレジスト１０ｒを全体的に振動させることで、軟化したカラーレジスト１０ｒを凸状部同士の間の凹部に移動させることができる。従って、平坦化工程で必要な光エネルギー等の効率化を図ることができる。なお、ステップ３の平坦化工程で、ランプを用いる代わりに超音波発信機３６や温風器を用いた後に、上述した振動処理ユニット等を用いる場合にも、同様な効果を得ることができる。また、ステップ３の平坦化工程の後に、水平振動機構を用いる代わりに、ランプを用いて光エネルギーをカラーレジスト１０ｒ等に選択的ではなく全体的に供給するようにしても同様の効果を得ることができる。
【００７６】
（第２の実施形態・電子機器）
【００７７】
次に、上述した液晶表示装置１６を備えた本発明の第２の実施形態に係る電子機器について説明する。
【００７８】
図１３は本発明の第２の実施形態にかかる電子機器の表示制御系の全体構成を示す概略構成図である。
【００７９】
電子機器３００は、表示制御系として例えば図１５に示すように液晶パネル１７及び表示制御回路３９０などを備え、その表示制御回路３９０は表示情報出力源３９１、表示情報処理回路３９２、電源回路３９３及びタイミングジェネレータ３９４などを有する。
【００８０】
また、液晶パネル１７には表示領域Ｉを駆動する駆動用ＩＣを含む駆動回路３６１を有する。
【００８１】
表示情報出力源３９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源３９１は、タイミングジェネレータ３９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路３９２に供給するように構成されている。
【００８２】
また、表示情報処理回路３９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３６１へ供給する。また、電源回路３９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。
【００８３】
このように本実施形態によれば、電子機器３００に備えられた液晶パネル１７は、パターンレベルで平坦な着色層１０Ｒ等が形成された基板７を備えている。従って、高画質の映像等を表示することができる。
【００８４】
具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータなどの他に液晶表示装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶表示装置１６が適用可能なのは言うまでもない。
【００８５】
なお、本発明の電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲において上述した各例を組み合わせても良い。
【００８６】
例えば、上述の実施形態ではパッシブマトリクス型の液晶表示装置について説明したがこれに限られるものではなく、例えば薄膜トランジスタ素子アクティブマトリクス型、薄膜ダイオード素子アクティブマトリクス型の液晶表示装置であってもよい。更には、半透過型に限らず透過型、反射型であってもよい。平坦化処理ユニット２を用いることで、着色層１０Ｒ、１０Ｇ及び１０Ｂの平坦化と同様に、例えば、薄膜ダイオード素子（ＴＦＤ）を覆う保護膜等の平坦化を図ることもできる。
【００８７】
また、カラーレジスト等の塗布方法としては、回転している基板上に塗布部材を供給して塗布膜を形成するスピンコート法、基板を回転させずにノズルから塗布部材を基板上に供給しながらノズルを移動させて塗布膜を形成する方法、基板を回転させずにノズルから塗布部材を基板上に供給しながらノズルを移動させて塗布膜を形成した後、基板を回転させる方法など、既知の成膜方法を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明に係る第１の実施形態の液晶表示装置の製造装置の概略ブロック図である。
【図２】第１の実施形態の製造装置の平坦化処理ユニットを示す概略側面図である。
【図３】第１の実施形態の製造装置の減圧乾燥処理ユニットを示す概略断面図である。
【図４】図１の実施形態の製造装置で製造した基板を備える液晶表示装置の部分拡大断面図である。
【図５】第１の実施形態の基板製造工程を示すフローチャートである。
【図６】基板に感光性樹脂を塗布した状態を示す断面図である。
【図７】基板上に下地層を形成した状態を示す断面図である。
【図８】下地層上にアルミニウム層を形成した状態を示す断面図である。
【図９】下地層上に反射膜が形成された状態を示す断面図である。
【図１０】反射膜を覆うように基板にカラーレジストを塗布した状態を示す断面図である。
【図１１】カラーレジストが平坦化された状態を示す断面図である。
【図１２】着色層が形成された状態を示す断面図である。
【図１３】フォトマスクを用いた下地層形成の工程を示す図である。
【図１４】フォトマスクを用いた平坦化処理の工程を示す図である。
【図１５】変形例の平坦化処理ユニットを示す概略側面図である。
【図１６】第２の実施形態に係る電子機器の表示制御系の概略構成図である。
【符号の説明】
【００８９】
１  液晶表示装置の製造装置、  ２  平坦化処理ユニット、  ３  搬送ユニット、  ４  減圧乾燥処理ユニット、  ５  ランプ、  ６、２９  フォトマスク、  ７、２０  基板、  ８  下地層、  ９  反射膜、  １０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｇ  着色層、  １７  液晶パネル、  ２１  液晶、  ２３  コモン電極、  ２４  オーバーコート層、  ２５  セグメント電極、３６  超音波発信機、  ３００  電子機器、  ３６１  駆動回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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