(57)【要約】【課題】  近赤外領域で非線形性が大きく且つ製造トレランスが高い光ファイバを提供する。【解決手段】  光ファイバ２０は、コア領域２１とクラッド領域２２とを有し、クラッド領域２２内に長手方向に延びる複数の空孔２３が設けられている。第１層（最内層）の３個の空孔２３は、正六角形の６個の頂点のうち１つおきの３点に、すなわち、３回の回転対称性を有する位置に設けられている。第２層〜第４層では、各空孔２３は、正六角形の６個の頂点および各辺の等分位置に、すなわち、６回の回転対称性を有する位置に設けられている。空孔２３の配置のピッチＬと空孔２３の直径ｄとの比（ｄ／Ｌ）は０.５５以上である、【選択図】  図２
2006126725.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に延びる中実のコア領域と、このコア領域の周りに複数層に配列され長手方向に延びる複数の空孔を有するクラッド領域とを備え、
長手方向に直交する断面において、前記クラッド領域内の前記複数の空孔のうち、少なくとも最内層の空孔が前記コア領域の周りにＮ回（Ｎは３以上の整数）の回転対称性を有する位置に設けられ、他の何れかの層の空孔が前記コア領域の周りに２Ｎ回の回転対称性を有する位置に設けられており、
前記空孔の配置のピッチＬと前記空孔の直径ｄとの比（ｄ／Ｌ）が０.５５以上である、
ことを特徴とする光ファイバ。
【請求項２】
前記比（ｄ／Ｌ）が０.６以上であることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ。
【請求項３】
前記ピッチＬが０.７μｍ以上１.３μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ。
【請求項４】
捻れが付与されていることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ。
【請求項５】
長手方向において前記捻れの向きが少なくとも１回反転していることを特徴とする請求項４記載の光ファイバ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中実のコア領域の周りに長手方向に延びる複数の空孔を有する光ファイバに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
いわゆるホーリーファイバは、長手方向に延びる中実のコア領域と、このコア領域の周りに長手方向に延びる複数の空孔を有するクラッド領域と、を備えている。図１は、従来のホーリーファイバ１０の一部断面図である。この図は、ホーリーファイバ１０の長手方向に直交する断面における複数の空孔１３の配置を示している。図中において、クラッド領域１２内の実線の円は、空孔１３を示している。一方、点線の円は、空孔を示すものではなく、領域または位置を示しているにすぎない（後に説明する図２および図３でも同様）。
【０００３】
この図に示されるように、ホーリーファイバ１０は、中央部に長手方向（紙面に垂直な方向）に延びる中実のコア領域１１を有し、また、このコア領域１１を取り囲むクラッド領域１２を有していて、このクラッド領域１２内に長手方向に延びる断面が円形の複数の空孔１３が設けられている。空孔１３以外のクラッド領域１２の部分およびコア領域１１は、石英ガラスからなり、また、副構成物またはドーパントが添加される場合もある。長手方向に直交する断面において、クラッド領域１２内の複数の空孔１３は、コア領域１１の周りに複数層（この図では４層）に配列され、コア領域１１の周りに６回の回転対称性を有する位置に設けられている。
【０００４】
第１層（最内層）にある６個の空孔１３は、正六角形の６個の頂点に配置されている。第２層（内側から数えて２層目）にある１２個の空孔１３は、正六角形の６個の頂点および各辺の中央位置に配置されている。第３層（内側から数えて３層目）にある１８個の空孔１３は、正六角形の６個の頂点および各辺の３等分位置に配置されている。第４層（内側から数えて４層目）にある２４個の空孔１３は、正六角形の６個の頂点および各辺の４等分位置に配置されている。各層の正六角形は、中心位置が同一であり、方位も同一である。合計６０個の空孔１３のうち隣り合う任意の２つの空孔の中心位置間の距離（ピッチ）Ｌは一定である。また、６０個の空孔１３それぞれの直径ｄも一般には一定である。
【０００５】
このような構成のホーリーファイバ１０は、空孔１３の配置のピッチＬおよび直径ｄ等を適宜に設計することで、全体が中実である通常の光ファイバと比較して、波長分散の絶対値を大きくすることができ、従来の高非線形性ファイバに比べ非線形性を大きくすることができ、また、曲げ損失を小さくすることができる、等の優れた特徴を有することができる。そこで、このような特徴を活かしたホーリーファイバの研究・開発が行われている。
【０００６】
例えば、非特許文献１に記載されたホーリーファイバは、ホーリーファイバ１９において第１層の空孔を間引いたものであり、一般に光通信において信号光波長帯域として用いられる波長１.５５μｍ付近において、波長分散が略０であって、分散スロープの絶対値が小さく、非線形性が大きい。この文献に記載されたホーリーファイバを用いることで、波長１.５５μｍ付近において非線形光学現象を高効率に発現させることができ、種々のアプリケーションの実現が期待され得る。
【非特許文献１】K. P. Hansen, et al., "Fully Dispersion Controlled Triangular-Core Nonlinear Photonic Crystal Fiber", OFC2003, PD2
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、波長１.５５μｍ付近において、全体が中実である通常の光ファイバと比較すると、一般にホーリーファイバの伝送損失は非常に大きい。上記文献に記載されたホーリーファイバでも、非線形性（非線形定数）は１２／Ｗ／ｋｍ程度と中実の高非線形光ファイバと同じ又はやや劣るレベルであるにも拘らず、伝送損失は１０ｄＢ／ｋｍ程度と中実の高非線形光ファイバに対して１桁近く高い値となっている。したがって、非線形現象を発現させる効率である非線形定数の伝送損失との比（非線形定数／伝送損失）は、中実の光ファイバと比べて１桁小さい。また、波長分散の絶対値と伝送損失との比（波長分散絶対値／伝送損失）も、一般に光通信において用いられる信号光波長帯域において、通常の光ファイバよりホーリーファイバの方が小さい。さらに、ホーリーファイバの製造コストは高い。このようなことから、一般に光通信において用いられる信号光波長帯域におけるホーリーファイバの実用化は困難な状況にある。
【０００８】
一方、波長１.３μｍより短波長側の近赤外領域においては、全体が中実である通常の光ファイバの波長分散は常に負（正常分散）となる。一般に、非線形現象を発現させるには、零分散に近い波長分散が好ましく、使用する光の波長で零分散になるようにファイバ特性を調整する必要があるが、中実の光ファイバでは波長１.３μｍより短波長側において、このような特性を実現することは不可能である。ホーリーファイバでは波長０.６μｍ〜１.３μｍに零分散をシフトさせることが可能であり、このような波長領域ではホーリーファイバが通常の光ファイバに対して優位に立ち得る可能性がある。しかしながら、図１に示されるような従来のホーリーファイバでは、その構造（空孔の配置のピッチＬおよび直径ｄ）の僅かな変化に対して分散特性が大きく変化することから、製造トレランスの点で問題を有している。
【０００９】
そこで、本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、近赤外領域（特に波長範囲７００ｎｍ〜９００ｎｍ）で非線形性が大きく且つ製造トレランスが高い光ファイバを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る光ファイバは、長手方向に延びる中実のコア領域と、このコア領域の周りに複数層に配列され長手方向に延びる複数の空孔を有するクラッド領域とを備え、長手方向に直交する断面において、クラッド領域内の複数の空孔のうち、少なくとも最内層の空孔がコア領域の周りにＮ回（Ｎは３以上の整数）の回転対称性を有する位置に設けられ、他の何れかの層の空孔がコア領域の周りに２Ｎ回の回転対称性を有する位置に設けられており、空孔の配置のピッチＬと空孔の直径ｄとの比（ｄ／Ｌ）が０.５５以上であることを特徴とする。
【００１１】
より好適には、比（ｄ／Ｌ）が０.６以上であり、また、ピッチＬが０.７μｍ以上１.３μｍ以下である。
【００１２】
さらに、本発明に係る光ファイバは、捻れが付与されているのが好適であり、また、長手方向において捻れの向きが少なくとも１回反転しているのも好適である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、近赤外領域（特に波長範囲７００ｎｍ〜９００ｎｍ）で非線形性が大きく且つ製造トレランスが高い光ファイバを実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１５】
（第１実施形態）
先ず、本発明に係る光ファイバの第１実施形態について説明する。図２は、第１実施形態に係る光ファイバ２０の一部断面図である。この図は、光ファイバ２０の長手方向に直交する断面における複数の空孔２３の配置を示している。
【００１６】
この図に示される光ファイバ２０は、中央部に長手方向（紙面に垂直な方向）に延びる中実のコア領域２１を有し、また、このコア領域２１を取り囲むクラッド領域２２を有していて、このクラッド領域２２内に長手方向に延びる断面が円形の複数の空孔２３が設けられている。空孔２３以外のクラッド領域２２の部分およびコア領域２１は、石英ガラスからなり、また、副構成物またはドーパントが添加される場合もある。長手方向に直交する断面において、クラッド領域２２内の複数の空孔２３は、コア領域２１の周りに複数層（この図では４層）に配列されている。
【００１７】
第１層（最内層）にある３個の空孔２３は、正六角形の６個の頂点のうち１つおきの３点に設けられている。第２層（内側から数えて２層目）にある１２個の空孔２３は、正六角形の６個の頂点および各辺の中央位置に配置されている。第３層（内側から数えて３層目）にある１８個の空孔２３は、正六角形の６個の頂点および各辺の３等分位置に配置されている。第４層（内側から数えて４層目）にある２４個の空孔２３は、正六角形の６個の頂点および各辺の４等分位置に配置されている。すなわち、第１層では、３つの空孔２３は、コア領域２１の周りに３回の回転対称性を有する位置に設けられている。第２層，第３層および第４層それぞれでは、各空孔２３は、コア領域２１の周りに６回の回転対称性を有する位置に設けられている。
【００１８】
図１に示した従来例の光ファイバ１０の断面における空孔１３の配置と比較すると、この図２に示した第１実施形態に係る光ファイバ２０の断面における空孔２３の配置では、第１層の正六角形の６個の頂点のうち、１つおきの３点に空孔２３１〜２３３が設けられていて、その他の３点の領域２４１〜２４３には空孔が設けられていない点で相違する。領域２４１〜２４３は、空孔２３以外のクラッド領域２２の部分と同じ材料からなるのが好適であり、また、当該材料に副構成物またはドーパント（例えば、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆ、Ｂ、希土類元素、等）が添加されていてもよい。
【００１９】
また、この光ファイバ２０は、空孔２３の配置のピッチＬと空孔２３の直径ｄとの比（ｄ／Ｌ）が０.５５以上である。また、比（ｄ／Ｌ）が０.６以上であるのが好ましく、また、ピッチＬが０.７μｍ以上１.３μｍ以下であるのも好ましい。
【００２０】
このように構成される光ファイバ２０は、近赤外領域（特に波長範囲７００ｎｍ〜９００ｎｍ）で非線形性が大きく且つ製造トレランスが高いものとなる。例えば半導体レーザ光源やＴｉサファイアレーザ光源から出力される波長８００ｎｍ付近のレーザ光を光ファイバ２０に入射させると、この光ファイバ２０から波長８００ｎｍを含む広帯域のＳＣ（Super Continuum）光が高効率に出力され得る。
【００２１】
（第２実施形態）
次に、本発明に係る光ファイバの第２実施形態について説明する。図３は、第２実施形態に係る光ファイバ３０の一部断面図である。この図は、光ファイバ３０の長手方向に直交する断面における複数の空孔３３の配置を示している。
【００２２】
この図に示される光ファイバ３０は、中央部に長手方向（紙面に垂直な方向）に延びる中実のコア領域３１を有し、また、このコア領域３１を取り囲むクラッド領域３２を有していて、このクラッド領域３２内に長手方向に延びる断面が円形の複数の空孔３３が設けられている。空孔３３以外のクラッド領域３２の部分およびコア領域３１は、石英ガラスからなり、また、副構成物またはドーパントが添加される場合もある。長手方向に直交する断面において、クラッド領域３２内の複数の空孔３３は、コア領域３１の周りに複数層（この図では４層）に配列されている。
【００２３】
第１層（最内層）にある３個の空孔３３は、正六角形の６個の頂点のうち１つおきの３点に設けられている。第２層（内側から数えて２層目）にある９個の空孔３３は、正六角形の６個の頂点のうち１つおきの３点および各辺の中央位置に配置されている。第３層（内側から数えて３層目）にある１８個の空孔３３は、正六角形の６個の頂点および各辺の３等分位置に配置されている。第４層（内側から数えて４層目）にある２４個の空孔３３は、正六角形の６個の頂点および各辺の４等分位置に配置されている。すなわち、第１層および第２層それぞれでは、各空孔３３は、コア領域３１の周りに３回の回転対称性を有する位置に設けられている。第３層および第４層それぞれでは、各空孔３３は、コア領域３１の周りに６回の回転対称性を有する位置に設けられている。
【００２４】
図２に示した第１実施形態に係る光ファイバ２０の断面における空孔２３の配置と比較すると、この図３に示した第３実施形態に係る光ファイバ３０の断面における空孔３３の配置では、第２層の正六角形の６個の頂点のうち、１つおきの３点に空孔３３１〜３３３が設けられていて、その他の３点の領域３４１〜３４３には空孔が設けられていない点で相違する。領域３４１〜３４３は、空孔３３以外のクラッド領域３２の部分と同じ材料からなるのが好適であり、また、当該材料に副構成物またはドーパント（例えば、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆ、Ｂ、希土類元素、等）が添加されていてもよい。
【００２５】
また、この光ファイバ３０は、空孔３３の配置のピッチＬと空孔３３の直径ｄとの比（ｄ／Ｌ）が０.５５以上である。また、比（ｄ／Ｌ）が０.６以上であるのが好ましく、また、ピッチＬが０.７μｍ以上１.３μｍ以下であるのも好ましい。
【００２６】
このように構成される光ファイバ３０は、近赤外領域（特に波長範囲７００ｎｍ〜９００ｎｍ）で非線形性が大きく且つ製造トレランスが高いものとなる。例えば半導体レーザ光源やＴｉサファイアレーザ光源から出力される波長８００ｎｍ付近のレーザ光を光ファイバ３０に入射させると、この光ファイバ３０から波長８００ｎｍを含む広帯域のＳＣ光が高効率に出力され得る。
【００２７】
（変形例）
上記の第１実施形態に係る光ファイバ２０（図２）は、第１層において各空孔２３がコア領域２１の周りに３回の回転対称性を有する位置に設けられており、他の層において各空孔２３がコア領域３１の周りに６回の回転対称性を有する位置に設けられている。また、第２実施形態に係る光ファイバ３０（図３）は、第１層および第２層において各空孔３３がコア領域３１の周りに３回の回転対称性を有する位置に設けられていて、第３層および第４層において各空孔３３がコア領域３１の周りに６回の回転対称性を有する位置に設けられている。
【００２８】
したがって、光ファイバ２０，３０は、長手方向（Ｚ軸方向）に垂直な２方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）の偏波モードが縮退している。それ故、理論上では、光ファイバ２０，３０の偏波モード分散は、通常の光ファイバと同程度に小さいことが期待される。しかし、光ファイバ２０，３０は、Ｚ軸の周りの回転対称性が低いことから、僅かな対称性の崩れが偏波モード分散に大きく影響する。このことから、実際に製造された光ファイバ２０，３０の偏波モード分散は、通常のファイバより大きくなる傾向がある。
【００２９】
そこで、光ファイバ２０、３０に対して捻れを付与しておくのが好ましい。また、長手方向において捻れの向きが少なくとも１回反転しているのも好ましい。このように捻れを付与された光ファイバ２０，３０は、偏波モード分散の累積が抑制され得る。このような捻れを有する光ファイバ２０，３０は、光ファイバ母材を線引する際に揺動線引することで実現可能である。揺動線引によりファイバ２０，３０の長手方向に空孔が螺旋を描くように捻れるため、コアの対称性が崩れることに起因する偏波モード分散が長手方向で相殺されるためである。
【００３０】
図４は、光ファイバ２０における捻れ付与の説明図である。図４（ａ）は、光ファイバ２０の一部の斜視図である。なお、光ファイバ２０の捻れを示すために１つの空孔２３のみを破線で示している。また、光ファイバ２０の中心軸線Ｌの方向をＺ軸とし、Ｚ軸に直交する断面において、互いに直交する方向をそれぞれＸ軸及びＹ軸としている。図４（ｂ）は、光ファイバ２０をＹ軸方向（矢印Ａ方向）に見た場合の空孔２３のＸ軸方向の位置を示す図である。図４（ｂ）において、横軸はＺ軸方向の距離を示し、縦軸は空孔２３のＸ軸方向の位置を示している。そして、縦軸において位置０（μｍ）が中心軸線Ｌの位置に相当する。図４（ａ），（ｂ）に示した空孔２３のＺ軸に対する位置の変化から分かるように、捻れは、矢印Ｂで指し示す位置近傍でその捻れの向きが反転するように付与されている。また、図４（ｂ）に示すように、捻れは、１ｍあたりで、空孔２３がＺ軸回りに少なくとも１回転するように付与されている。
【００３１】
第２層および更に外側の層（外層）に関しても、空孔をガラスで埋める場合には、偏波依存性が現れないように、３回以上の回転対称性を持つように設計することが望ましい。外層の空孔は第１層の孔に比べて光学特性に与える影響が小さいが、対称性の崩れた配置にすると偏波モード分散を悪化させる原因となる。
【００３２】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、コア領域の周りのクラッド領域において、空孔は４層に設けられていなくてもよく、３層または５層以上であってもよい。また、第３層以降においても各空孔は３回の回転対称性を有する位置に設けられていればよい。また、第２実施形態において、第１層および第２層それぞれの空孔の配置関係は、上記の説明のものに限定されない。
【００３３】
ただし、前述のように外層の孔を多少ガラスで埋めたとしても、波長分散などの光学特性に与える影響は小さいが、多数の空孔をガラスで埋めた場合には、クラッド領域の平均的な屈折率が上昇し、光をコア領域に閉じ込める効果が小さくなる。そのため、あまりに多くの空孔をガラスで埋めた構造にすると、曲げ損失が大きくなる問題や、光が導波できないなどの問題が発生する可能性があるので、好ましくない。
【実施例】
【００３４】
従来の光ファイバ１０（図１），第１実施形態の光ファイバ２０（図２）および第２実施形態の光ファイバ３０（図３）それぞれについて、計算例を示す。
【００３５】
先ず、光ファイバ１０，２０，３０それぞれの波長分散のピッチ依存性について説明する。図５は、図１に示した従来の光ファイバ１０における波長分散とピッチＬとの関係を示すグラフである。図６は、図２に示した第１実施形態に係る光ファイバ２０における波長分散とピッチＬとの関係を示すグラフである。また、図７は、図３に示した第２実施形態に係る光ファイバ３０における波長分散とピッチＬとの関係を示すグラフである。以下では、これらの図を参照しながら、従来の光ファイバ１０と対比して、実施形態に係る光ファイバ２０，３０の優位性について説明する。
【００３６】
ホーリーファイバである光ファイバ１０，２０，３０を高非線形用途に使用する場合、光ファイバの非線形性を上げるためには、コア領域の断面積を小さくして、導波光を狭い範囲に閉じ込めることが望ましい。また、非線形現象を利用するには、使用波長における分散が零になるように、光ファイバの構造を設計する必要がある。
【００３７】
図１に示すような従来の光ファイバ１０で、例えば波長７００ｎｍにおいて高非線形ファイバを設計すると、空孔１３の配置のピッチＬと空孔直径ｄとの比（ｄ／Ｌ）は０.８となり、ピッチＬは１.２μｍとなる。この場合の非線形定数γは、およそ９０[／Ｗ／ｋｍ]となり、通常の高非線形ファイバ（γ＝２０〜２５[／Ｗ／ｋｍ]）の４倍になる。このような素晴らしい特徴を持つ光ファイバ１０であるが、製造する上で分散値の制御が非常に難しいという問題を抱えている。図５に比(ｄ／Ｌ)が０.８である場合における従来の光ファイバ１０の波長分散値のピッチ依存性の計算結果が示されるように、従来の光ファイバ１０では、零分散近傍では波長分散のピッチ依存性が大きく、僅かなピッチＬの変動で波長分散値が大きく変動することを示している。波長分散値を±５ｐｓ／ｎｍ／ｋｍに入れるには、ピッチＬを１.２０μｍ〜１.２５μｍに制御する必要があり、現実的には製造が難しい。
【００３８】
これに対して、図２に示されるような第１実施形態に係る光ファイバ２０では、ピッチＬが多少変動しても波長分散値は殆ど変わらない。図６に、比（ｄ／Ｌ）が０.８である場合における第１実施形態に係る光ファイバ２０の波長分散値とピッチＬとの関係を示す。これは波長７８５ｎｍでの計算結果であるが、ピッチＬが０.７５μｍ〜１.１μｍの範囲で、波長分散が±５ｐｓ／ｎｍ／ｋｍの範囲に入っており、従来の光ファイバ１０に比べて圧倒的に製造が楽になる。極短パルスを光ファイバに入射し非線形現象を利用して広い波長範囲での白色光（ＳＣ光）を得る場合には、最低でも−２０〜＋２０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ程度の波長分散であることが必要であり、好ましくは−１０〜＋１０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ程度の波長分散であることが望ましい。第１実施形態に係る光ファイバ２０であれば、０.７μｍ〜１.３μｍのピッチ範囲で、このような条件を満たしている。このようなピッチ範囲であれば十分に製造可能である。
【００３９】
このような特性は、第２層以降の空孔の設け方を多少変えても、大きくは影響を受けない。波長分散などの光学特性はコア近傍の幾何学的な構造でほぼ決定されることがその理由である。図３のように、第２実施形態に係る光ファイバ３０の構造で比(ｄ／Ｌ)が０.８である場合について、波長７８５ｎｍでの波長分散とピッチＬとの関係を計算した結果を図７に示す。第２実施形態に係る光ファイバ２０では、第１実施形態のものより波長分散のピッチ依存性はやや大きくなるが、実用上は全く問題無いレベルである。第３層以降に関しては、第２層より更に光学特性に与える影響が小さくなるので、一部の空孔をガラスで埋めても分散に与える影響は小さい。
【００４０】
続いて、光ファイバ１０，２０，３０それぞれの波長分散の波長依存性について説明する。図８は、図１に示した従来の光ファイバ１０の波長分散と波長との関係を示すグラフである。図９は、図２に示した第１実施形態に係る光ファイバ２０の波長分散と波長との関係を示すグラフである。また、図１０は、図３に示した第２実施形態に係る光ファイバ３０の波長分散と波長との関係を示すグラフである。以下では、これらの図を参照しながら、従来の光ファイバ１０と対比して、実施形態に係る光ファイバ２０，３０の優位性について説明する。
【００４１】
非線形現象を利用する場合、光ファイバの分散スロープの大きさも問題となる。光ファイバの波長分散値は使用波長の全域で零分散近傍にあることが望ましい。したがって、波長に対する波長分散値の変化（すなわち、分散スロープ）は小さい方が望ましい。
【００４２】
図１のような従来の光ファイバ１０における波長分散値と波長との関係の一例として、ピッチＬが１.２２μｍであって比（ｄ／Ｌ）が０.８である場合の計算結果を図８に示す。波長７００ｎｍ付近の零分散における分散スロープは０.９２ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍと大きな値を示している。
【００４３】
これに対して、図２のような第１実施形態に係る光ファイバ２０の一例として、ピッチＬが１.０３μｍであって比（ｄ／Ｌ）が０.８である場合の計算結果を図９に示す。波長７００ｎｍ付近の零分散における分散スロープは０.４３ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍと従来の構造に比べて半減している。
【００４４】
また、図３のような第２実施形態に係る光ファイバ２０の一例として、ピッチＬが１.１２μｍであって比（ｄ／Ｌ）が０.８である場合の計算結果を図１０に示す。波長７００ｎｍ付近の零分散における分散スロープは０.４６ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍであり、図９と同様に従来構造に比較して半減している。
【００４５】
以上のように、従来の光ファイバ１０と比較して、実施形態に係る光ファイバ２０，３０は、ピッチＬが変動しても波長分散値があまり変化せず、製造トレランスが大きくなる。また、零分散近傍の分散スロープも従来構造に比較して半減するため、非線形現象を利用したアプリケーションに利用し易くなる。図１１は、図２に示した第１実施形態に係る光ファイバ２０で波長分散のピッチＬ依存性が小さくなる条件において、波長分散と比（ｄ／Ｌ）との関係を示すグラフである。この図から判るように、比（ｄ／Ｌ）が０.５以下では常に負の分散値となっており、非線形現象には利用できない。製造誤差を考慮すると比（ｄ／Ｌ）が０.６以上の範囲が好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】従来のホーリーファイバ１０の一部断面図である。
【図２】第１実施形態に係る光ファイバ２０の一部断面図である。
【図３】第２実施形態に係る光ファイバ３０の一部断面図である。
【図４】光ファイバ２０における捻れ付与の説明図である。
【図５】図１に示した従来の光ファイバ１０における波長分散とピッチＬとの関係を示すグラフである。
【図６】図２に示した第１実施形態に係る光ファイバ２０における波長分散とピッチＬとの関係を示すグラフである。
【図７】図３に示した第２実施形態に係る光ファイバ３０における波長分散とピッチＬとの関係を示すグラフである。
【図８】図１に示した従来の光ファイバ１０の波長分散と波長との関係を示すグラフである。
【図９】図２に示した第１実施形態に係る光ファイバ２０の波長分散と波長との関係を示すグラフである。
【図１０】図３に示した第２実施形態に係る光ファイバ３０の波長分散と波長との関係を示すグラフである。
【図１１】図２に示した第１実施形態に係る光ファイバ２０の波長分散と比（ｄ／Ｌ）との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４７】
１０…光ファイバ、１１…コア領域、１２…クラッド領域、１３…空孔、２０…光ファイバ、２１…コア領域、２２…クラッド領域、２３…空孔、３０…光ファイバ、３１…コア領域、３２…クラッド領域、３３…空孔。
【図１】
2006126725.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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