(57)【要約】【課題】  チャンバ内の雰囲気制御を効率よく行うことを可能としつつ、ウェハを加熱するプレートの温度を効率よく降下させる。【解決手段】  制御部６は、ポンプＰ１をオンすることにより、チャンバ１内を排気し、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入することにより、ホットプレート２を冷却し、チャンバ１内に窒素ガスを導入してから所定時間が経過すると、バルブＶ１、Ｖ２を閉じるとともに、ポンプＰ１を再びオンすることにより、チャンバ１内を排気し、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入することにより、ホットプレート２をさらに冷却する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハを外気から隔離するチャンバと、
前記チャンバ内に設置されたウェハを加熱するプレートと、
前記チャンバの側壁を介して雰囲気調整用ガスを前記チャンバ内に導入する雰囲気調整用ガス導入部と、
前記チャンバの側壁を介して前記チャンバ内の排気を行う排気手段とを備えることを特徴とするベーキング装置。
【請求項２】
ウェハを外気から隔離するチャンバと、
前記チャンバ内に設置されたウェハを加熱するプレートと、
前記チャンバ内に雰囲気調整用ガスを導入する雰囲気調整用ガス導入部と、
前記チャンバ内の排気を行う排気手段と、
前記チャンバ内の排気状態に基づいて前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を制御する制御手段とを備えることを特徴とするベーキング装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記チャンバ内の排気と前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を交互に繰り返しながら、前記プレートを冷却させることを特徴とする請求項２記載のベーキング装置。
【請求項４】
ウェハを外気から隔離するチャンバと、
前記チャンバ内に設置されたウェハを加熱するプレートと、
前記チャンバ内に雰囲気調整用ガスを導入する雰囲気調整用ガス導入部と、
前記チャンバ内の排気を行う排気手段と、
前記チャンバ内の雰囲気のペーハーを計測するｐＨセンサと、
前記チャンバ内の雰囲気のペーハーに基づいて前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を制御する制御手段とを備えることを特徴とするベーキング装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記チャンバ内の排気と前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を交互に繰り返しながら、前記チャンバ内の雰囲気のペーハーを中性に移行させることを特徴とする請求項４記載のベーキング装置。
【請求項６】
ウェハを外気から隔離するチャンバと、
前記チャンバ内に設置されたウェハを加熱するプレートと、
前記チャンバの側壁を介して雰囲気調整用ガスを前記チャンバ内に導入する雰囲気調整用ガス導入部と、
前記チャンバの側壁を介して前記チャンバ内の常時排気を行う第１排気手段と、
前記チャンバの側壁を介して前記チャンバ内の強制排気を行う第２排気手段と、
前記チャンバ内の雰囲気のペーハーを計測するｐＨセンサと、
前記チャンバ内の排気状態に基づいて前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を制御する第１制御手段と、
前記チャンバ内の雰囲気のペーハーに基づいて前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を制御する第２制御手段とを備えることを特徴とするベーキング装置。
【請求項７】
第１レジストが塗布された第１ウェハをチャンバ内に設置されたプレート上に載置するステップと、
前記プレート上で前記第１レジストのベーキング処理を行うステップと、
前記ベーキング処理された前記第１レジストが塗布された前記第１ウェハを前記チャンバから搬出するステップと、
前記チャンバ内の排気と前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を交互に繰り返しながら、前記プレートを冷却させるステップと、
前記第１レジストよりもベーキング温度が低い第２レジストが塗布された第２ウェハを前記プレート上に載置するステップと、
前記プレート上で前記第２レジストのベーキング処理を行うステップとを備えることを特徴とするベーキング方法。
【請求項８】
第１レジストが塗布された第１ウェハをチャンバ内に設置されたプレート上に載置するステップと、
前記プレート上で前記第１レジストのベーキング処理を行うステップと、
前記ベーキング処理された前記第１レジストが塗布された前記第１ウェハを前記チャンバから搬出するステップと、
前記チャンバ内の排気と前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を交互に繰り返しながら、前記チャンバ内の雰囲気のペーハーを中性に移行させるステップと、
前記第１レジストとペーハーの異なる第２レジストが塗布された第２ウェハを前記プレート上に載置するステップと、
前記プレート上で前記第２レジストのベーキング処理を行うステップとを備えることを特徴とするベーキング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はベーキング装置およびベーキング方法に関し、特に、半導体基板上に塗布されたレジストのベーキング方法に適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の半導体装置では、ウェハ上に塗布されたフォトレジストを焼き固めるために、フォトレジストのベーキング処理が行われる。ここで、半導体製造プロセスでは、製造工程ごとにベーキング温度やペーハーの異なる様々の種類のフォトレジストが使い分けられているため、水冷機構や空冷機構をベーキング装置に搭載してホットプレートを強制冷却できるようにしたり、Ｎ2供給ラインや排気ラインをベーキング装置に搭載してベーキング装置内の雰囲気を制御したりすることが行なわれている。
【０００３】
また、例えば、特許文献１には、基板を所定温度に冷却する基板冷却装置において、気体の温度を調節する温調器を設け、温度が調節された気体によって基板を所定温度に冷却する方法が開示されている。
【特許文献１】特開平１０−３０３２８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ホットプレートを強制冷却するために水冷機構を搭載する方法では、漏水の危険性があり、ホットプレートを強制冷却するために空冷機構を搭載する方法では、ホットプレートの冷却に時間がかかるという問題があった。また、ベーキング装置内の雰囲気を制御するためのＮ2供給ラインや排気ラインがベーキング装置の天井からベーキング装置内に引き込まれているため、昇華物の発生によってＮ2供給ラインや排気ラインの目詰まりを招くという問題があった。
【０００５】
また、特許文献１に開示された方法では、基板を所定温度に冷却するために、気体の温度を調節する温調器が必要になるとともに、温度調節された気体を基板冷却装置内に単に循環させているため、基板の冷却効率が悪いという問題があった。
そこで、本発明の目的は、チャンバ内の雰囲気制御を効率よく行うことを可能としつつ、ウェハを加熱するプレートの温度を効率よく降下させることが可能なベーキング装置およびベーキング方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係るベーキング装置によれば、ウェハを外気から隔離するチャンバと、前記チャンバ内に設置されたウェハを加熱するプレートと、前記チャンバの側壁を介して雰囲気調整用ガスを前記チャンバ内に導入する雰囲気調整用ガス導入部と、前記チャンバの側壁を介して前記チャンバ内の排気を行う排気手段とを備えることを特徴とする。
【０００７】
これにより、ベーキング装置内の雰囲気を制御するための雰囲気調整用ガスの導入ラインや排気ラインをチャンバの側壁を介してチャンバ内に引き込むことができる。このため、チャンバ内で昇華物が発生した場合においても、昇華物が雰囲気調整用ガスの導入ラインや排気ラインに付着することを抑制することができ、雰囲気調整用ガスの導入ラインや排気ラインの目詰まりを低減することが可能となる。
【０００８】
また、本発明の一態様に係るベーキング装置によれば、ウェハを外気から隔離するチャンバと、前記チャンバ内に設置されたウェハを加熱するプレートと、前記チャンバ内に雰囲気調整用ガスを導入する雰囲気調整用ガス導入部と、前記チャンバ内の排気を行う排気手段と、前記チャンバ内の排気状態に基づいて前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【０００９】
これにより、チャンバ内で暖められた雰囲気調整用ガスを強制的に排出しながら、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に導入することができ、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に効率よく導入することができる。このため、水冷機構を搭載することなく、昇温されたプレートを効率よく冷却することができ、漏水の危険性を回避しつつ、プレートの冷却時間を短縮することができる。
【００１０】
また、本発明の一態様に係るベーキング装置によれば、前記制御手段は、前記チャンバ内の排気と前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を交互に繰り返しながら、前記プレートを冷却させることを特徴とする。
これにより、チャンバ内で暖められた雰囲気調整用ガスが排出された状態で、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に導入することができ、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に効率よく導入することが可能となるとともに、チャンバ内に導入されたばかりの雰囲気調整用ガスが無駄に排出されることを防止することができる。このため、水冷機構を搭載することなく、昇温されたプレートを効率よく冷却することができ、漏水の危険性を回避しつつ、プレートの冷却時間を短縮することが可能となるとともに、雰囲気調整用ガスの浪費を防止することができる。
【００１１】
また、本発明の一態様に係るベーキング装置によれば、ウェハを外気から隔離するチャンバと、前記チャンバ内に設置されたウェハを加熱するプレートと、前記チャンバ内に雰囲気調整用ガスを導入する雰囲気調整用ガス導入部と、前記チャンバ内の排気を行う排気手段と、前記チャンバ内の雰囲気のペーハーを計測するｐＨセンサと、前記チャンバ内の雰囲気のペーハーに基づいて前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【００１２】
これにより、チャンバ内に残留する古い雰囲気を強制的に排出しながら、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に導入することができ、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に効率よく導入することができる。このため、チャンバ内の雰囲気を効率よく置換することができ、ペーハーの異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ内で効率よく行うことができる。
【００１３】
また、本発明の一態様に係るベーキング装置によれば、前記制御手段は、前記チャンバ内の排気と前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を交互に繰り返しながら、前記チャンバ内の雰囲気のペーハーを中性に移行させることを特徴とする。
これにより、チャンバ内に残留する古い雰囲気が排出された状態で、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に導入することができ、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に効率よく導入することが可能となるとともに、チャンバ内に導入されたばかりの雰囲気調整用ガスが無駄に排出されることを防止することができる。このため、チャンバ内の雰囲気を効率よく置換することができ、ペーハーの異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ内で効率よく行うことが可能となるとともに、雰囲気調整用ガスの浪費を防止することができる。
【００１４】
また、本発明の一態様に係るベーキング装置によれば、ウェハを外気から隔離するチャンバと、前記チャンバ内に設置されたウェハを加熱するプレートと、前記チャンバの側壁を介して雰囲気調整用ガスを前記チャンバ内に導入する雰囲気調整用ガス導入部と、前記チャンバの側壁を介して前記チャンバ内の常時排気を行う第１排気手段と、前記チャンバの側壁を介して前記チャンバ内の強制排気を行う第２排気手段と、前記チャンバ内の雰囲気のペーハーを計測するｐＨセンサと、前記チャンバ内の排気状態に基づいて前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を制御する第１制御手段と、前記チャンバ内の雰囲気のペーハーに基づいて前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を制御する第２制御手段とを備えることを特徴とする。
【００１５】
これにより、ロットの切り替わりなどにおいて、ベーキング温度の異なるレジストのベーキング処理を行う場合、チャンバ内で暖められた雰囲気調整用ガスを強制的に排出しながら、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に導入することができ、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に効率よく導入することができる。このため、水冷機構を搭載することなく、昇温されたプレートを効率よく冷却することができ、漏水の危険性を回避しつつ、プレートの冷却時間を短縮することが可能となることから、ベーキング温度の異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ内で効率よく行うことができる。
【００１６】
また、ロットの切り替わりなどにおいて、ペーハーの異なるレジストのベーキング処理を行う場合、チャンバ内に残留する古い雰囲気を強制的に排出しながら、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に導入することができ、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に効率よく導入することができる。このため、チャンバ内の雰囲気を効率よく置換することができ、ペーハーの異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ内で効率よく行うことができる。
【００１７】
また、本発明の一態様に係るベーキング方法によれば、第１レジストが塗布された第１ウェハをチャンバ内に設置されたプレート上に載置するステップと、前記プレート上で前記第１レジストのベーキング処理を行うステップと、前記ベーキング処理された前記第１レジストが塗布された前記第１ウェハを前記チャンバから搬出するステップと、前記チャンバ内の排気と前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を交互に繰り返しながら、前記プレートを冷却させるステップと、前記第１レジストよりもベーキング温度が低い第２レジストが塗布された第２ウェハを前記プレート上に載置するステップと、前記プレート上で前記第２レジストのベーキング処理を行うステップとを備えることを特徴とする。
【００１８】
これにより、ロットの切り替わりなどにおいて、ベーキング温度の異なるレジストのベーキング処理を行う場合、チャンバ内で暖められた雰囲気調整用ガスが排出された状態で、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に導入することができ、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に効率よく導入することが可能となるとともに、チャンバ内に導入されたばかりの雰囲気調整用ガスが無駄に排出されることを防止することができる。このため、水冷機構を搭載することなく、昇温されたプレートを効率よく冷却することができ、プレートの冷却時間を短縮することが可能となることから、ベーキング温度の異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ内で効率よく行うことができる。
【００１９】
また、本発明の一態様に係るベーキング方法によれば、第１レジストが塗布された第１ウェハをチャンバ内に設置されたプレート上に載置するステップと、前記プレート上で前記第１レジストのベーキング処理を行うステップと、前記ベーキング処理された前記第１レジストが塗布された前記第１ウェハを前記チャンバから搬出するステップと、前記チャンバ内の排気と前記チャンバ内への雰囲気調整用ガスの導入を交互に繰り返しながら、前記チャンバ内の雰囲気のペーハーを中性に移行させるステップと、前記第１レジストとペーハーの異なる第２レジストが塗布された第２ウェハを前記プレート上に載置するステップと、前記プレート上で前記第２レジストのベーキング処理を行うステップとを備えることを特徴とする。
【００２０】
これにより、ロットの切り替わりなどにおいて、ペーハーの異なるレジストのベーキング処理を行う場合、チャンバ内に残留する古い雰囲気が排出された状態で、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に導入することができ、新たな雰囲気調整用ガスをチャンバ内に効率よく導入することが可能となるとともに、チャンバ内に導入されたばかりの雰囲気調整用ガスが無駄に排出されることを防止することができる。このため、チャンバ内の雰囲気を効率よく置換することができ、ペーハーの異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ内で効率よく行うことが可能となるとともに、雰囲気調整用ガスの浪費を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態に係るベーキング装置およびベーキング方法について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係るベーキング装置の概略構成を示す断面図である。
図１において、ベーキング装置には、ウェハＷを外気から隔離するチャンバ１が設けられ、チャンバ１内には、ウェハＷを加熱するホットプレート２が設置されるとともに、チャンバ１上には、上蓋３が設けられている。ここで、ホットプレート２には、ホットプレート２の温度を計測する温度センサ８が取り付けられている。また、ベーキング装置には、チャンバ１内の雰囲気を制御するとともに、ホットプレート２を冷却するための液体窒素５が備えられている。そして、チャンバ１の側壁には、液体窒素５が気化した窒素ガスをチャンバ１内に導入する窒素ガス供給管Ｋ３が接続されている。そして、窒素ガス供給管Ｋ３には、窒素ガスの供給を遮断するバルブＶ１、Ｖ２が設けられている。
【００２２】
また、ベーキング装置には、チャンバ１内を常時排気するポンプＰ２が設けられ、チャンバ１の側壁には、ポンプＰ２にて排気される排気ガスを送出する排気管Ｋ２が接続されている。さらに、ベーキング装置には、チャンバ１内を強制排気するポンプＰ１が設けられ、チャンバ１の側壁には、ポンプＰ１にて排気される排気ガスを送出する排気管Ｋ１が接続されている。そして、排気管Ｋ１には、排気管Ｋ１を介して排出される排気ガスのペーハーを計測するｐＨセンサ４が設置されている。また、チャンバ１には、チャンバ１内の真空度を測定する真空計７が取り付けられている。
【００２３】
そして、制御部６は、ｐＨセンサ４、真空計７および温度センサ８に接続され、チャンバ１内の雰囲気のペーハーおよび真空度に基づいてポンプＰ１をオン／オフ制御を行なったり、バルブＶ１、Ｖ２の開閉制御を行なったりするとともに、ホットプレート２の温度およびチャンバ１内の真空度に基づいてポンプＰ１をオン／オフ制御を行なったり、バルブＶ１、Ｖ２の開閉制御を行なったりすることができる。
【００２４】
すなわち、ウェハＷに塗布されたレジストのベーキング処理を行う際にホットプレート２の温度が高すぎる場合、制御部６はポンプＰ１をオンすることにより、チャンバ１内を排気する。そして、制御部６は、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、液体窒素５が気化された窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入する。そして、液体窒素５が気化された窒素ガスがチャンバ１内に導入されると、窒素ガスがホットプレート２に接触することにより、ホットプレート２を冷却することができる。そして、チャンバ１内に窒素ガスを導入してから所定時間が経過すると、制御部６は、バルブＶ１、Ｖ２を閉じるとともに、ポンプＰ１を再びオンすることにより、チャンバ１内を排気する。そして、制御部６は、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、液体窒素５が気化された窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入する。そして、液体窒素５が気化された窒素ガスがチャンバ１内に導入されると、窒素ガスがホットプレート２に接触することにより、ホットプレート２をさらに冷却することができる。
【００２５】
そして、制御部６は、ホットプレート２の温度が所定値以下に下がるまで以上の動作を繰り返すことにより、ホットプレート２を冷却することができる。
これにより、ロットの切り替わりなどにおいて、ベーキング温度の異なるレジストのベーキング処理を行う場合、チャンバ１内で暖められた窒素ガスを強制的に排出しながら、新たな窒素ガスをチャンバ１内に導入することができ、新たな窒素ガスをチャンバ１内に効率よく導入することができる。このため、水冷機構を搭載することなく、昇温されたホットプレート２を効率よく冷却することができ、漏水の危険性を回避しつつ、ホットプレート２の冷却時間を短縮することができる。
【００２６】
また、ウェハＷに塗布されたレジストのベーキング処理を行う際にチャンバ１内の雰囲気のペーハーがレジストのペーハーと異なる場合、制御部６はポンプＰ１をオンすることにより、チャンバ１内を排気する。そして、制御部６は、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、液体窒素５が気化された窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入する。そして、液体窒素５が気化された窒素ガスがチャンバ１内に導入されると、窒素ガスがチャンバ１内の雰囲気と置換することにより、チャンバ１内の雰囲気のペーハーを調整することができる。そして、チャンバ１内に窒素ガスを導入してから所定時間が経過すると、制御部６は、バルブＶ１、Ｖ２を閉じるとともに、ポンプＰ１を再びオンすることにより、チャンバ１内を排気する。そして、制御部６は、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、液体窒素５が気化された窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入する。そして、液体窒素５が気化された窒素ガスがチャンバ１内に導入されると、窒素ガスがチャンバ１内の雰囲気と置換することにより、チャンバ１内の雰囲気のペーハーをさらに調整することができる。
【００２７】
そして、制御部６は、チャンバ１内の雰囲気のペーハーが中性になるまで以上の動作を繰り返すことにより、チャンバ１内の雰囲気のペーハーを調整することができる。
これにより、ロットの切り替わりなどにおいて、ペーハーの異なるレジストのベーキング処理を行う場合、チャンバ１内に残留する古い雰囲気を強制的に排出しながら、新たな窒素ガスをチャンバ１内に導入することができ、新たな窒素ガスをチャンバ１内に効率よく導入することができる。このため、チャンバ１内の雰囲気を効率よく置換することができ、ペーハーの異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ１内で効率よく行うことができる。
【００２８】
また、排気管Ｋ１、Ｋ２および窒素ガス供給管Ｋ３をチャンバ１の側壁に取り付けることにより、ベーキング中にレジストから昇華物がチャンバ１内で発生した場合においても、昇華物が排気管Ｋ１、Ｋ２および窒素ガス供給管Ｋ３に付着することを抑制することができ、排気管Ｋ１、Ｋ２および窒素ガス供給管Ｋ３の目詰まりを低減することが可能となる。
【００２９】
図２（ａ）は、図１のホットプレート２の冷却方法を示すシーケンスチャートである。
図２（ａ）において、べーキング温度の高いレジストが塗布されたウェハＷのベーキング処理が終了し、ロットが切り替わったために、べーキング温度の低いレジストが塗布されたウェハＷのベーキング処理を行うものとする。
この場合、制御部６はポンプＰ１をオンすることにより、チャンバ１内を排気する（ｔ１）。そして、制御部６は、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、液体窒素５が気化された窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入する（ｔ２）。そして、液体窒素５が気化された窒素ガスがチャンバ１内に導入されると、窒素ガスがホットプレート２に接触することにより、ホットプレート２を冷却することができる。そして、チャンバ１内に窒素ガスを導入してから所定時間が経過すると、制御部６は、バルブＶ１、Ｖ２を閉じるとともに、ポンプＰ１を再びオンすることにより、チャンバ１内を排気する（ｔ３）。そして、制御部６は、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、液体窒素５が気化された窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入する（ｔ４）。そして、液体窒素５が気化された窒素ガスがチャンバ１内に導入されると、窒素ガスがホットプレート２に接触することにより、ホットプレート２をさらに冷却することができる。
【００３０】
そして、制御部６は、ホットプレート２の温度が所定値以下に下がるまで以上の動作を繰り返すことにより（ｔ５〜ｔ８）、ホットプレート２を所定の温度まで冷却することができる。
これにより、ロットの切り替わりなどにおいて、ベーキング温度の異なるレジストのベーキング処理を行う場合、チャンバ１内で暖められた窒素ガスが排出された状態で、新たな窒素ガスをチャンバ１内に導入することができ、新たな窒素ガスをチャンバ１内に効率よく導入することが可能となるとともに、チャンバ１内に導入されたばかりの窒素ガスが無駄に排出されることを防止することができる。このため、水冷機構を搭載することなく、昇温されたホットプレート２を効率よく冷却することができ、ホットプレート２の冷却時間を短縮することが可能となることから、ベーキング温度の異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ１内で効率よく行うことが可能となるとともに、液体窒素５の浪費を防止することができる。
【００３１】
図２（ｂ）は、図１のチャンバ１内のペーハーの調整方法を示すシーケンスチャートである。
図２（ｂ）において、例えば、アルカリ性のレジストが塗布されたウェハＷのベーキング処理が終了し、ロットが切り替わったために、酸性のレジストが塗布されたウェハＷのベーキング処理を行うものとする。
【００３２】
この場合、制御部６はポンプＰ１をオンすることにより、チャンバ１内を排気する（ｔ１１）。そして、制御部６は、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、液体窒素５が気化された窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入する（ｔ１２）。そして、液体窒素５が気化された窒素ガスがチャンバ１内に導入されると、窒素ガスがチャンバ１内の雰囲気と置換することにより、チャンバ１内の雰囲気のペーハーを調整することができる。そして、チャンバ１内に窒素ガスを導入してから所定時間が経過すると、制御部６は、バルブＶ１、Ｖ２を閉じるとともに、ポンプＰ１を再びオンすることにより、チャンバ１内を排気する（ｔ１３）。そして、制御部６は、チャンバ１内の真空度が所定値に達すると、ポンプＰ１をオフするとともに、バルブＶ１、Ｖ２を開き、液体窒素５が気化された窒素ガスを窒素ガス供給管Ｋ３を介してチャンバ１内に導入する（ｔ１４）。そして、液体窒素５が気化された窒素ガスがチャンバ１内に導入されると、窒素ガスがチャンバ１内の雰囲気と置換することにより、チャンバ１内の雰囲気のペーハーをさらに調整することができる。
【００３３】
そして、制御部６は、チャンバ１内の雰囲気のペーハーが中性になるまで以上の動作を繰り返すことにより、チャンバ１内の雰囲気のペーハーを調整することができる（ｔ１５〜ｔ１８）。
これにより、ロットの切り替わりなどにおいて、ペーハーの異なるレジストのベーキング処理を行う場合、チャンバ１内に残留する古い雰囲気が排出された状態で、新たな窒素ガスをチャンバ１内に導入することができ、新たな窒素ガスをチャンバ１内に効率よく導入することが可能となるとともに、チャンバ１内に導入されたばかりの窒素ガスが無駄に排出されることを防止することができる。このため、チャンバ１内の雰囲気を効率よく置換することができ、ペーハーの異なる様々の種類のレジストのベーキング処理を同一チャンバ１内で効率よく行うことが可能となるとともに、液体窒素５の浪費を防止することができる。
【００３４】
なお、図２（ｂ）の実施形態では、アルカリ性のレジストから中性または酸性のレジストに切り替える方法について説明したが、酸性のレジストから中性またはアルカリ性のレジストに切り替える方法に適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の一実施形態に係るベーキング装置の概略構成を示す断面図。
【図２】図１のホットプレート２の冷却方法およびベーキング装置のペーハーの調整方法を示すシーケンスチャート。
【符号の説明】
【００３６】
１  チャンバ、２  ホットプレート、３  上蓋、４  ｐＨセンサ、５  液体窒素、６  制御部、７  真空計、８  温度センサ、Ｐ１、Ｐ２  ポンプ、Ｖ１、Ｖ２  バルブ、Ｋ１、Ｋ２  排気管、Ｋ３  窒素ガス供給管、Ｗ  ウェハ
【図１】
2006313780.tif 000003
【図２】
2006313780.tif 000004