(57)【要約】【課題】  回転ドラムをタンデムに接続した構成のコンパクトなワーク搬送処理装置を提案すること。【解決手段】  多槽式インラインメッキ処理装置２０は、複数台の回転ドラム２１（１）〜２７（１）が連結された構成であり、洗浄工程を経た後のワークＷがメッキ処理用の回転ドラム２５（１）内を搬送される間にメッキ液槽２５（２）に浸漬されメッキ処理が施される。メッキ処理後のワークＷは洗浄および乾燥され、排出される。各回転ドラムは投入されたワークを外周側から中心に送り込む送り込み通路３４と、中心に送り込まれたワークＷを次段の回転ドラムに向けて中心軸線方向に送り出す送り出し通路３５とを備えている。内周面に螺旋状に送りフィンが形成された構成の回転ドラムを用いる場合に比べて、軸長さの短いコンパクトな処理装置を実現できる。【選択図】図１
2006111371.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転に伴って前段の回転ドラムから次段の回転ドラムに順次にワークを搬送するワーク搬送処理装置において、
各回転ドラムは、前段の回転ドラムから送り出されたワークを外周側から中心側に送り込む送り込み通路と、当該送り込み通路を介して中心側に送り込まれたワークを次段の回転ドラムに向けて送り出す送り出し通路とを備えており、
少なくとも一つの前記回転ドラムは、当該回転ドラム内を搬送されるワークに対して、メッキ処理を施すためのメッキ処理用回転ドラムであることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記メッキ処理用回転ドラムは、少なくともその外周側の部分が、メッキ液を貯留したメッキ処理槽に浸漬した状態で回転するように配置されていることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記メッキ液槽は、交換可能なカートリッジ式メッキ液槽であることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項４】
請求項１、２または３において、
前記メッキ処理用回転ドラムに接触状態に保持されるメッキ用のワイヤ電極と、
当該ワイヤ電極をその軸線方向に搬送するワイヤ電極送り機構とを有していることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のうちのいずれかの項において、
少なくとも一つの前記回転ドラムを備えた前処理ステーションと、
前記メッキ処理用回転ドラムを備えたメッキ処理ステーションと、
少なくとも一つの前記回転ドラムを備えた後処理ステーションとを有し、
前記前処理ステーションにおいてワークの洗浄が行われ、
前記後処理ステーションにおいてメッキ後のワークの洗浄および乾燥が行われることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記前処理ステーションは、ワークをアルカリ洗浄するためのアルカリ洗浄用回転ドラムと、アルカリ洗浄後のワークを水洗浄するための水洗浄用回転ドラムと、水洗浄後のワークを酸洗浄するための酸洗浄用回転ドラムと、酸洗浄後のワークを水洗浄する水洗浄用回転ドラムとを備え、
前記後処理ステーションは、メッキ後のワークを水洗浄するための水洗浄用回転ドラムと、水洗浄後のワークを乾燥する乾燥用回転ドラムとを備えていることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のうちのいずれかの項において、
少なくとも一つの前記回転ドラムは、
前記送り込み通路が、前記中心軸線を中心とする渦巻き状の経路に沿って、その外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けてワークを送り出す渦巻き状通路であり、
前記送り出し通路が、前記中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンによってワークを当該中心軸線の方向に送り出す軸方向通路であることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項８】
請求項６において、
前記渦巻き状通路は、前記中心軸線を中心として所定の角度ずつ周方向にオフセットした状態に形成された少なくとも第１および第２の渦巻き状通路を含んでいることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記軸方向通路の前記送りフィンは、前記中心軸線を中心として所定の角度ずつ周方向にオフセットした状態に配置した第１および第２の送りフィンを含んでおり、
前記第１の渦巻き状通路と前記第１の送りフィンとの間でワークの受け渡しが行われ、
前記第２の渦巻き状通路と前記第２の送りフィンとの間でワークの受け渡しが行われることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【請求項１０】
請求項１ないし６のうちのいずれかの項において、
少なくとも一つの前記回転ドラムは、
前記送り込み通路が、当該回転ドラムの半径方向に延びる通路であり、
前記送り出し通路が、当該回転ドラムの中心軸線に沿って延びる通路であることを特徴とするワーク搬送処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転ドラム内に投入された金属加工品などのワークを搬送しながらメッキ処理を施すワーク搬送処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プレス加工、板金加工、切削加工等の金属加工が施されたワークにメッキ処理を施すためには、加工時等に付着した油などを洗浄する前処理工程と、メッキ処理されたワークを洗浄・乾燥する後処理工程が必要である。
【０００３】
ワークを洗浄するための装置としては回転ドラム式のものが知られている。回転ドラム式の洗浄装置では、円筒状の回転ドラム内に洗浄対象のワークを投入し、洗浄用回転ドラムを洗浄液に浸漬した状態で回転させながらワークを洗浄するようになっている。また、かかる洗浄工程を経た後のワークは、通常は、水切り工程および乾燥工程に掛けられるようになっている。
【０００４】
これら洗浄工程、水切り工程および乾燥工程に順次に連続してワークを送ることのできる回転ドラム式の洗浄装置としては、洗浄工程用の回転ドラムと、水切り工程用の回転ドラムと、乾燥工程用の回転ドラムをそれらの軸線方向に連結し、各回転ドラムの内周面に螺旋状に送りフィンが配置された構成のものが知られている。例えば、回転ドラムの連結体を洗浄用の回転ドラムが最も下側に位置するように傾斜配置し、ワークが回転ドラム内を送られながら洗浄液の表面から浮上し、次工程の水切り工程用の回転ドラムに送り込まれるように構成されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この構成の回転ドラム式の洗浄装置を利用してワークにメッキ処理を施すためには、メッキ処理用の回転ドラムを途中に配置し、前段の回転ドラムを搬送されながら前処理が施された後のワークにメッキ処理を施し、しかる後に次段の回転ドラムにワークを送り出して後処理を行うようにすることが考えられる。
【０００６】
しかしながら、従来の回転ドラム式洗浄装置を用いた場合には次のような問題点がある。まず、洗浄用の回転ドラムは、そのドラム内周面に形成されている螺旋状の送りフィンによってワークを送ると同時に洗浄液も送り出す。したがって、次工程の水切り用回転ドラムの側に洗浄液が送り込まれることの無い様にするために、回転ドラムの送り方向の先端部分をテーパ状に細くするなどして液止まりを設け、この先に、小径の液切り用回転ドラムを接続する必要がある。回転ドラムのテーパ角度が急な場合には、ワークの形状によってはテーパ面を乗り越えて次工程に送り出すことが困難になるので、ワークの円滑な送り動作を実現するためにはテーパ角度はなるべく緩やかな方が良い。このように、従来では、液止めを形成するために回転ドラムの先端側にテーパ状部分を形成する必要があるので、ドラム全長が長くなり、設置スペースの限られた工場内などに設置できないおそれがある。
【０００７】
また、ドラム内周面に取り付けた螺旋状の送りフィンによってワークが送られながら洗浄などの処理が施されるので、回転ドラム内におけるワークの滞留時間が長くなり、作業効率が悪い。また、回転ドラム内に多数のワークが滞留するので、滞留しているワークの重量に耐えるように、板厚を厚くし、また、補強部材を取り付けるなどしてドラム強度を高める必要がある。この結果、回転ドラムの製造コストが上がり、またドラム重量が増加するので回転駆動機構の容量を上げる必要が生ずるなどの問題点がある。
【０００８】
さらに、電解メッキを行うメッキ処理用の回転ドラムにおいては、電解液槽に浸漬された回転ドラム内を搬送されるワークを負に帯電させるためにメッキ電極を配置する必要がある。メッキ電極の表面にも金属が析出して付着するので、定期的にメッキ電極を清掃し、あるいは交換しないと、付着した金属がメッキ液槽に落下するなどの弊害が発生する。
【０００９】
本発明の課題は、このような問題点を解消するために、ドラム内周面に配置した螺旋状の送りフィンによってワークを送りながら洗浄などの処理を施す送り機構とは異なる送り機構を備えた回転ドラムを用いて構成されたワーク搬送処理装置を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために、本発明は、回転に伴って前段の回転ドラムから次段の回転ドラムに順次にワークを搬送するワーク搬送処理装置において、各回転ドラムは、前段の回転ドラムから送り出されたワークを外周側から中心側に送り込む送り込み通路と、当該送り込み通路を介して中心側に送り込まれたワークを次段の回転ドラムに向けて送り出す送り出し通路とを備えており、少なくとも一つの前記回転ドラムは、当該回転ドラム内を搬送されるワークに対して、メッキ処理を施すためのメッキ処理用回転ドラムであることを特徴としている。
【００１１】
ここで、前記メッキ処理用回転ドラムは、少なくともその外周側の部分が、メッキ液を貯留したメッキ処理槽に浸漬した状態で回転するように配置される。
【００１２】
この場合、前記メッキ液槽を交換可能なカートリッジ式メッキ液槽としておけば、保守点検作業が容易になり、また、メッキ液の交換・補充作業も簡単になる。
【００１３】
次に、電解メッキ処理を行う回転ドラムの場合には、前記メッキ処理用回転ドラムに接触状態に保持され、当該メッキ処理用回転ドラム内を搬送されるワークに負の電圧を印加するためのメッキ電極が配置される。この場合、メッキ電極として銅線などのワイヤ電極を用いると共に、当該ワイヤ電極をその軸線方向に搬送するワイヤ電極送り機構を有していることが望ましい。定期的に、あるいは必要に応じて、ワイヤ電極を送り出せば、新しいワイヤ電極の部分をメッキ処理用回転ドラムに接触させることができる。この結果、メッキ金属が付着したワイヤ電極の部分からメッキ金属が剥離してメッキ液槽に落下するなどの弊害を防止できる。
【００１４】
メッキ処理用のワーク搬送処理装置は、一般に、少なくとも一つの前記回転ドラムを備えた前処理ステーションと、前記メッキ処理用回転ドラムを備えたメッキ処理ステーションと、少なくとも一つの前記回転ドラムを備えた後処理ステーションとを有する構成とされ、前記前処理ステーションにおいてはワークの洗浄が行われ、前記後処理ステーションにおいてメッキ後のワークの洗浄および乾燥が行われる。
【００１５】
また、前記前処理ステーションは、ワークをアルカリ洗浄するためのアルカリ洗浄用回転ドラムと、アルカリ洗浄後のワークを水洗浄するための水洗浄用回転ドラムと、水洗浄後のワークを酸洗浄するための酸洗浄用回転ドラムと、酸洗浄後のワークを水洗浄するための水洗浄用回転ドラムとを備えた構成とされ、前記後処理ステーションは、メッキ後のワークを水洗浄するための水洗浄用回転ドラムと、水洗浄後のワークを乾燥する乾燥用回転ドラムとを備えた構成とされる。
【００１６】
次に、送り込み通路および送り出し通路を備えた回転ドラムとしては、前記送り込み通路が、前記中心軸線を中心とする渦巻き状の経路に沿って、その外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けてワークを送り出す渦巻き状通路であり、前記送り出し通路が、前記中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンによってワークを当該中心軸線の方向に送り出す軸方向通路となっているものを用いることができる。
【００１７】
この場合、前記渦巻き状通路は、前記中心軸線を中心として所定の角度ずつ周方向にオフセットした状態に形成された少なくとも第１および第２の渦巻き状通路を含むものとすることができる。
【００１８】
また、前記軸方向通路の前記送りフィンとして、前記中心軸線を中心として所定の角度ずつ周方向にオフセットした状態に配置した第１および第２の送りフィンが含まれている場合には、前記第１の渦巻き状通路と前記第１の送りフィンとの間でワークの受け渡しが行われ、前記第２の渦巻き状通路と前記第２の送りフィンとの間でワークの受け渡しが行われる。
【００１９】
送り込み通路および送り出し通路を備えた回転ドラムとしては、上記構成の代わりに、前記送り込み通路が、当該回転ドラムの半径方向に延びる通路であり、前記送り出し通路が、当該回転ドラムの中心軸線に沿って延びる通路となっているものを用いることもできる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のワーク搬送処理装置の回転ドラムは、その回転に伴って、送り込み通路を通ってワークが外周側から中心側に送り込まれ、次に、送り出し通路を通って次段の回転ドラムに向けて送り出される。例えば、ワークが渦巻き状通路に沿って中心側に送り込まれ、次に、軸方向通路に沿って螺旋状の送りフィンによって軸線方向に送り出される。
【００２１】
このように、送り込み通路が回転ドラムの半径方向に向かうよう形成されているので、回転ドラムの内周面に螺旋状に配置された送りフィンの間の螺旋状の溝に沿ってワークを搬送しながら洗浄などの処理を行う場合に比べて、軸線方向の寸法の短いコンパクトなメッキ処理を行うワーク搬送処理装置を構築できる。
【００２２】
また、回転ドラムを連結した場合には、各回転ドラムの送り込み通路の間が完全に仕切られた状態を簡単に形成できる。よって、一方の回転ドラムの送り込み通路内の洗浄液などの処理液が次段の回転ドラムの側に流れ込むことを阻止するための液止め機構が不要になる。よって、メッキ処理用回転ドラムの前後の前処理および後処理を行うための装置構成を、従来の回転ドラム式洗浄装置を用いて構築する場合に比べて、軸線方向の寸法を小さくでき、また、製造コストを下げることが可能になる。
【００２３】
さらに、本発明では、メッキ用電極としてメッキ処理用回転ドラムに接触させたワイヤ電極を用いると共に、それを軸線方向に送ることができるようにしてある。したがって、ワイヤ電極を定期的に、あるいは必要に応じて送り出すことにより、新しいワイヤ電極の部分を使用することができる。よって、メッキ用の電極の清掃などが不要となり、また、電極に付着した金属がメッキ液槽に落下するなどの弊害も発生しない。
【００２４】
さらにまた、メッキ液槽をカートリッジ式のものとすれば、その保守・点検作業が簡単になり、また、メッキ液の補充・交換作業も簡単になるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に、図面を参照して、本発明を適用したワーク搬送処理装置の実施の形態を説明する。
【００２６】
［実施の形態１］
（全体構成）
図１は本発明を適用した多槽式インラインメッキ処理装置を示す全体構成図である。本例の多槽式インラインメッキ処理装置２０は、前処理ステーションであるアルカリ洗浄ステーション２１、水洗浄ステーション２２、酸洗浄ステーション２３および水洗浄ステーション２４と、メッキ処理ステーション２５と、後処理ステーションである水洗浄ステーション２６および乾燥ステーション２７とを有している。
【００２７】
前処理側の各ステーション２１〜２４にはそれぞれワーク洗浄用の回転ドラム２１(１)〜２１(４)と、洗浄液が貯留された洗浄液槽２１(２)〜２４(２)とが配置されている。メッキ処理ステーション２５には、メッキ処理用回転ドラム２５(１)とメッキ液が貯留されているメッキ液槽２５(２)が配置されている。後処理側の各ステーション２６、２７にも、それぞれ、ワーク洗浄用の回転ドラム２６(１)およびワーク乾燥用の回転ドラム２７(１)と、洗浄水が貯留されている洗浄液槽２６(２)および洗浄液回収槽２７(２)が配置されている。
【００２８】
前処理側の４台の回転ドラム２１(１)〜２４(１)、および後処理側の回転ドラム２６(１)は共通の駆動モータ２８によって一体回転し、メッキ処理用回転ドラム２５(１)は駆動モータ２９によって独立して回転し、後処理側のワーク乾燥用の回転ドラム２７(１)も駆動モータ３０によって独立して回転するようになっている。勿論、本例とは異なる駆動形態を採用してもよい。
【００２９】
円筒状の回転ドラム２１(１)は、その一方の端面の中心に形成したワーク投入口３２と、他方の端面に同軸状態に取り付けられているワーク排出口３３とを備えている。ドラム本体３１の内部では、ワーク投入口３２から投入されたワークＷを、下側に位置している円筒内周面部分３１ａまで落下させるようになっている。また、ドラム本体３１の内部には、下側の円筒内周面部分３１ａに落下したワークＷを、回転ドラム２１(１)の回転に伴って、半径方向の内側(回転ドラムの中心)に向けて矢印で示すように持ち上げる送り込み通路３４が形成されている。さらに、送り込み通路３４に沿って中心側まで持ち上げられたワークＷを、矢印で示すように、次段の回転ドラムに向けて軸線方向に送り出す送り出し通路３５が形成されている。
【００３０】
回転ドラム２１(１)はその外周板部分がメッシュあるいは多孔板から形成されており、洗浄液槽２１(２)に浸漬されている回転ドラム２１(１)の内部に位置するワークＷは洗浄液に浸漬された状態になる。したがって、投入されたワークＷは、洗浄液に浸漬され、回転ドラム２１(１)の回転に伴って移動しながら洗浄液内を持ち上げられる間に洗浄され、洗浄液の液面から上方に持ち上げられて洗浄液が振り落とされた後に、次段の回転ドラム２２(１)に向けて送り出される。
【００３１】
ここで、洗浄液槽２１(２)は装置架台４０に固定配置されたものであってもよいが、装置架台４０に対して着脱可能なカートリッジ式のものとすることもできる。カートリッジ式の洗浄液槽とすれば、装置架台４０から取り外すことにより、保守・点検作業を簡単に行うことができる。また、洗浄液が汚れた場合の交換作業、補充作業も簡単に行うことができる。
【００３２】
なお、回転ドラム２２(１)〜２７(１)は、回転ドラム２１(１)と基本構成が同一である。また、洗浄液槽２２(２)〜２４(２)および２６(２)も、洗浄液槽２１(２)と基本構成が同一であり、貯留されている洗浄液の種類が相違しているのみである。
【００３３】
図２は、メッキ処理用の回転ドラム２５(１)およびメッキ液槽２５(２)を備えたメッキ処理ステーションを示す説明図である。電解処理を行う場合にはメッキ電極を配置する必要がある。本例では、銅線などのワイヤ電極４１を、ガイドローラ４２、ガイドローラ対４３、４４およびガイドローラ４５を介してメッキ液槽２５(２)のメッキ液内に引き回し、送りモータ４６によって回転駆動するワイヤ送りローラ４７によってワイヤ電極４１を送り出すことが可能となっている。
【００３４】
ワークＷへのメッキ処理時にはワイヤ電極４１にも析出金属が付着し、これがワイヤ電極４１から剥離してメッキ液内に落下するおそれがある。本例では、定期的に、あるいは必要に応じて、送りモータ４６によってワイヤ送りローラ４７を回転駆動して、一定の長さだけワイヤ電極４１を送り出すことができる。このようにすれば、常に新しいワイヤ電極４１の部分を用いることができる。よって、従来のような電極の清掃などが不要になるなどの利点がある。
【００３５】
なお、各洗浄ステーションでは、過酸化水素系などの洗浄液、アルカリ性洗浄液を添加した溶液等が、例えば摂氏20度乃至90度の温度で使用される。
【００３６】
また、最終段の乾燥ステーションの回転ドラム２７(１)は遠心分離式のものであり、例えば、他の回転ドラムとは逆方向に高速回転させることにより、金属メッシュや多孔質板からなる外周板部分を介して遠心力によって洗浄液を振り落とす。しかる後に、回転ドラム２７(１)を他の回転ドラムと同一方向に回転させ、乾燥後のワークＷを排出口から排出するようになっている。
【００３７】
なお、本例では電解メッキ処理の例であるが、勿論、無電解メッキ処理を行う場合にも本例の構成を採用できる。
【００３８】
（回転ドラム）
次に、回転ドラム２１(１)〜２７(１)として用いるのに適した回転ドラムの例を説明する。図３(ａ)は本例の回転ドラムを前端側から見た場合の外観斜視図であり、(ｂ)は後端側から見た場合の斜視図であり、内部構造が分かるように透視状態で示してある。本例の回転ドラム１は、そのドラム中心軸線１ａの方向の前後に一定の間隔で対向配置した円形の前側端板２および後側端板３と、これらの間に渦巻き状に取り付けた仕切り板４とを有している。
【００３９】
仕切り板４は、円形の前後の端板２、３の外周縁に沿って取り付けられている半円形の大径円弧板部分５(大径内周面部分)と、この大径円弧板部分５の一端５ａに滑らかに連続している180度の角度を張る渦巻き状曲面板部分６(渦巻き状内周面部分)と、この渦巻き状曲面板部分６の端６ａに滑らかに連続している半円形の小径円弧板部分７(小径内周面部分)とを備えている。大径円弧板部分５と小径円弧板部分７は同心状態に配置されており、これらの間を繋ぐ渦巻き状曲面板部分６は例えばインボリュート曲線に沿った曲面とされている。勿論、インボリュート曲線以外の曲線、あるいは多角形状に折り曲げた直線を用いることもできる。
【００４０】
小径円弧板部分７の内周面７ａには、当該内周面に沿って中心軸線１ａを中心とする螺旋状の送りフィン８が取り付けられている。この送りフィン８は内周面７ａから垂直に起立した一定の高さのものであり、渦巻き状曲線板部分６の端６ａに繋がっている端７ｂにおける軸線方向の前端側の角から他方の端７ｃにおける軸線方向の後端側の角に到るように取り付けられている。送りフィン８の前端８ａが位置する前側端板２には、小径円弧板部分７とほぼ同一内径の円形搬入口９が形成されている。この搬入口９の内周縁には、当該内周縁に沿って円周方向に延びるガイド板１０が取り付けられている。このガイド板１０の一端１０ａは、送りフィン８の前端８ａに連続しており、先端に向かうに連れて幅が漸減している。また、送りフィン８の後端８ｂが位置する後側端板３にも、同一径の円形排出口１１が形成されている。
【００４１】
前側端板２の外側面からは、円形搬入口９と同一内径の連結リング１２が同軸状態で突出しており、同様に、後側端板３の外側面からも、円形排出口１１と同一内径の連結リング１３が同軸状態で突出している。本例の回転ドラム１は、前側の連結リング１２の外周に回転力導入用の従動歯車１４(回転入力部材)が一体形成され、あるいは、装着されている。
【００４２】
この構成の回転ドラム１においては、前後の端板２、３と、渦巻き状に配置した仕切り板４とによって、中心軸線１ａに直交する方向に延びる渦巻き状通路１５(ワークを半径方向に送り込むための送り込み通路)が区画形成されている。この渦巻き状通路１５の外周側の端は、大径円弧板部分の端５ｂに形成された矩形の投入口１６から外部に連通している。また、仕切り板４の中心側に位置している小径円弧板部分７は、ワークを排出口１１に向けて軸線方向に送り出す軸方向通路１７(ワークを次段の回転ドラムに送り出す送り出し通路)として機能する。
【００４３】
図４は本例の回転ドラム１のワーク搬送動作を示す説明図である。回転ドラム１は中心軸線１ａが水平となるように横置きされ、図２(ａ)に示すように、投入口１６が真上を向く状態が回転方向の原点位置Ｐ(０)とされる。この状態において、ワークＷ(１)を投入口１６の真上から投入すると、ワークＷは大径円弧板部分５の円弧状内周面５ｃを滑落して、最も低い位置に到る。この状態から回転モジュール１を矢印Ａの方向に回転すると、ワークＷ(１)は円弧状内周面５ｃを自重により相対的に滑り落ちて常に最も低い位置に保持される。図４(ｂ)は90度回転した位置Ｐ(９０)の状態を示してある。回転モジュール１が更に回転すると、ワークＷ(１)は渦巻き状曲面板部分６の渦巻き状内周面６ｃの上において最も低い位置に保持される。渦巻き状内周面６ｃは回転に伴って中心側に移動するので、ワークＷ(１)も中心側に向けて徐々に引上げられる。図４(ｃ)は180度回転した位置Ｐ(１８０)の状態を示し、図２(ｄ)は270度回転した位置Ｐ(２７０)を示す。270度回転すると、ワークＷ(１)は中心側の小径円弧板部分７の円形内周面７ａに移る。ここで、搬入口９の内周縁にはガイド板１０が取り付けられており、渦巻き状内周面６ｃに沿って移動するワークＷ(１)が搬入口９から落下することが阻止される。
【００４４】
小径円弧板部分７の円形内周面７ａには中心軸線１ａの方向に螺旋状に延びる送りフィン８が取り付けられている。したがって、回転ドラム１の回転に伴って、円形内周面７ａに到ったワークＷ(１)は、送りフィン８の前端８ａの側から、その側面によって軸線方向１ａの後方に送り出される。回転ドラム１が１回転した後の位置Ｐ(３６０)の状態では、図２(ｅ)に示すように、ワークＷ(１)は小径円弧板部分７における軸線方向の中央に位置している。この状態から回転ドラム１を更に90度回転させた位置Ｐ(４５０)に到ると、図２(ｆ)に示すように、ワークＷ(１)は排出口１１まで送り出された状態になる。この後は、回転ドラム１の回転により、ワークＷは排出口１１から外部に排出される。
【００４５】
ここで、回転ドラム１の１回転毎に、図２(ｅ)に示すように、投入口１５から新たなワークＷ(２)を順次投入すれば、１回転毎にワークが順次に渦巻き状通路１５および軸方向通路１７を通って、排出口１１から排出される。例えば、この構成の２台の回転ドラム１を軸線方向に同軸状態に連結して、中心軸線１ａを中心として一体回転すると、前段の回転ドラム１に投入したワークは、渦巻き状通路１５および軸方向通路１７を通って排出口１１から排出された後に、後段の回転ドラム１の搬入口９から軸方向通路１７に投入される。搬入口９から軸方向通路１７に投入されたワークは、送りフィン８によって軸線方向１ａに送り出されて、渦巻き状通路１５における図４(ａ)において想像線で示す位置に落下する。渦巻き状通路１５に落下したワークは、投入口１６から投入されたワークと同様に、渦巻き状通路１５から中心側に再び送り込まれて、軸方向通路１７に入り、送りフィン８によって前側の排出口１に送り出され、ここから排出される。
【００４６】
したがって、複数台の回転ドラム１を軸線方向に連結して、これらを同一方向に回転駆動すれば、前段の回転ドラム１に投入されたワークは、各回転ドラム１の渦巻き状通路１５および軸方向通路１７を経由して次段の回転ドラム１に送り出され、最終段の回転ドラム１の排出口１１から排出される。よって、各回転ドラムの渦巻き状通路１５内を搬送されている間にワークに対して所定の処理を施すように、各段の回転ドラム１を処理ステーションとして構成しておけば、前段の回転ドラム１に投入したワークに、予め定めた順番で各処理が順次に施され、処理終了後のワークを最終段の回転ドラム１の排出口１１から取り出すことができる。
【００４７】
ここで、回転ドラム１を逆方向に回転すれば、排出口１１から投入されたワークを投入口９から排出することができる。すなわち、図４(ｆ)に示すように、排出口１１からワークを投入して矢印Ｂの方向に回転すると、ワークは、上記の説明とは逆に、図４(ｅ)から図４(ｄ)、(ｃ)、(ｂ)を経由して図２(ａ)の状態に移行し、この状態から更に90度回転すると図４(ｄ)状態になり、投入口１６からワークが落下する。
【００４８】
図３、４に示す回転ドラム１において、その渦巻き状通路１５の巻き方向を逆にすると、回転ドラム１を同一方向に回転させた場合に、排出口１１から投入されたワークを軸方向通路１７から渦巻き状通路１５の中心側に送りこみ、当該渦巻き状通路１５を通って外周端の投入口１６から排出することができる。この場合には、排出口１１がワークの投入口に変わり、投入口１６がワークの排出口に変わる。
【００４９】
また、図３、４に示す回転ドラム１では、一つの渦巻き状通路１５が形成されている。渦巻き状通路１５を複数設けることも可能である。例えば、図５に示すように、中心軸線１ａを中心として180度だけ円周方向にオフセットさせた状態で２枚の仕切り板４Ａ、４Ｂを渦巻き状に配置して、二つの渦巻き状通路１５Ａ、１５Ｂを形成してもよい。この場合には、各渦巻き状通路１５Ａ、１５Ｂの外周端に対応する180度オフセットした位置に投入口を位置させればよい。また、中心側の軸方向通路を規定している小径円弧板部分の内周面にも、180度オフセットした状態で、２枚の送りフィン８Ａ、８Ｂを螺旋状に取り付ければよい。勿論、３つ以上の渦巻き通路を形成することも可能である。
【００５０】
このように、複数の渦巻き状通路を設ければ、ワークの投入側の機械が、連続高速加工機などのように、連続してワークが送り出される場合に、それに対応してワークの搬送および所定の処理を連続して行うことが可能になる。
【００５１】
次に、渦巻き状通路１５を、インボリュート曲線によって規定しているが、円弧状の曲面を滑らかに連続させることにより渦巻き状通路を規定してもよい。この代わりに、複数の平面を所定の角度でつなぎ合せることにより、多角形状の内周面からなる渦巻き状通路を形成することも可能である。
【００５２】
さらに、図３、４の回転ドラム１では、その搬入口９の側に回転入力部材(従動歯車１４)を取り付けたが、勿論、排出口１１の側に取り付けることも可能であり、双方に取り付けても良い。場合によっては、回転入力部材を省略することもできる。回転入力部材としては、歯車列を介してモータから回転力が伝達される機構、ベルト・プーリ式の伝達機構、中空モータおよび中空減速機からなる中空アクチュエータから回転力が伝達される機構など、各種の形態のものを採用することができる。
【００５３】
また、複数の回転ドラム１を連結して用いる場合などにおいては、前段の回転ドラム１における搬入口９を省略してもよい。また、最終段の回転ドラム１の排出口１１を省略し、逆回転させることにより、投入口１６からワークを排出することも可能である。
【００５４】
なお、回転ドラム１を軸線方向に連結するための連結機構としては各種の公知の機構を採用することができる。
【００５５】
（回転ドラムの別の例）
図６は回転ドラム２１(１)〜２７(１)として用いることのできる回転ドラムの別の構成例を示す説明図である。本例の回転ドラム５０は、その一方の端面の外周面側の部位にワーク投入口５１が形成されており、回転ドラム５０の内部には、ワーク投入口５１に外周端側が連通し、半径方向の内方に向けて延びている送り込み通路５２が形成されている。また、送り込み通路５２の中心側の端は、中心軸線５０ａに沿って延びている送り出し通路５３の一端に連通している。送り出し通路５３の他端は、回転ドラム５０の他方の端の中心に形成したワーク排出口５４に連通している。送り込み通路５２が中心軸線５０ａから下方に垂直に延びている回転位置(図６(ａ)、(ｂ))においては、送り出し通路５３に沿ってワークＷが自重によって滑落してワーク排出口５４に到るように、当該送り出し通路５３の内周面にはテーパが付いている。
【００５６】
この構成の回転ドラム５０では、図６(ａ)、(ｂ)の回転位置の状態において、ワークＷがワーク投入口５１から投入される。回転ドラム５０が図６(ｃ)に示すように矢印方向に回転すると、半径方向に延びる送り込み通路５２が下向きから水平状態を経由して傾斜路の状態になり、180度回転した状態では上方に延びる垂直路になる。かかる送り込み通路５２の姿勢の変化によって、投入口５１から送り込み通路５２の外周端に送り込まれたワークＷは、自重によって当該送り込み通路５２を滑落して、その中心側の端に連通している送り出し通路５３に送り込まれる。この結果、図６(ｄ)に示すように、当該送り出し通路５３を自重によって滑落してワーク排出口５４から排出され、例えば、次段の回転ドラムに引き渡される。
【００５７】
［実施の形態２］
図７は本発明を適用した実施の形態２に係る多槽式インラインメッキ処理装置を示す全体構成図である。多槽式インラインメッキ処理装置６０は、メッキ処理ステーション６１と、洗浄ステーション６２と、遠心分離による乾燥ステーション６３とを有している。メッキ処理ステーション６１には、図３および４に示す構造の回転ドラム６４からなる投入部分を介してメッキ対象のワークが投入される。メッキ処理ステーション６１は内周面に沿ってらせん状の送りフィン６５ａが形成された構成の回転ドラム６５と、この回転ドラム６５の下側部分が浸漬されているメッキ液槽６６から構成されている。
【００５８】
メッキ処理後のワークは、図３、４に示す構造の回転ドラム６７、６８がタンデムに２台連結された構成の搬送路部分を介して、洗浄ステーション６２に搬入される。洗浄ステーション６２は、メッキ処理ステーション６１と同様に、内周面にらせん状に送りフィン６９ａが形成された構成の回転ドラム６９と、その下側部分が浸漬している洗浄液槽７０から構成されている。洗浄ステーション６２で洗浄された後のワークは、図３、４に示す構成の回転ドラム７１からなる搬送路部分を介して乾燥ステーション６３に送り込まれる。乾燥ステーション６３は、図３、４に示す構成の回転ドラム７２と洗浄液回収槽７４から構成されており、その投入口部分には金属メッシュなどの多孔質の板材７２ａによって封鎖されている。
【００５９】
投入側の回転ドラム６４は、その第１方向の回転に伴って、端面中心から供給されたワークを外周側に送り出して、換言すると、下方に降下させて、次段の回転ドラム６５に引き渡す。回転ドラム６５はその内周面に形成されている送りフィン６５ａによってメッキ液に浸漬された状態でワークを次段側に向けて送り出す。ワークは、メッキ液に浸漬されながら送り出される間に無電解メッキが表面に施される。
【００６０】
メッキ処理後のワークは、次段の回転ドラム６６に引き渡されると、当該回転ドラム６６の第２方向の回転(第１方向の回転とは逆向きの回転)に伴って、外周側から中心側に引上げられ、次段の回転ドラム６７の中心に送り出される。回転ドラム６７は回転ドラム６６とは逆向きに回転し(第１方向に回転し)、当該回転に伴ってワークが中心から下方に降下して、そこに連通している次段の回転ドラム６９に引き渡される。
【００６１】
ワークは、回転ドラム６９の回転に伴って、その内周面に形成されているらせん状の送りフィン６９ａによって、洗浄液に浸漬された状態で次段側に向けて送られ、この間に洗浄される。洗浄後のワークは、次段の回転ドラム７１に引き渡され、当該回転ドラム７１の第２方向の回転に伴って、その中心に向けて引上げられ、しかる後に軸線方向に送り出されて、乾燥用の回転ドラム７２に投入される。回転ドラム７２は第１方向に回転して、その多孔板に押付けられたワークの液切りを行う。この後は第２方向に回転して、ワークを軸線方向に送りだしてその端面に形成されているワーク排出口７３から乾燥後のワークを排出する。
【００６２】
このように、本例では、回転ドラムをタンデムに同軸状態に連結することにより、図７において矢印で示す搬送経路が構成されている。すなわち、中心部分から外周部分への移動(降下搬送)と、外周部分に沿っての軸方向への搬送(水平搬送)と、外周部分から中心部分への移動(上昇搬送)を繰り返すことにより、ワークに対するメッキ処理および洗浄処理が行われ、最後に、回転ドラム７２からなる遠心分離乾燥機によって乾燥された後に排出される。
【００６３】
［実施の形態３］
図８は、本発明を適用した実施の形態３に係る多槽式インラインメッキ処理装置を示す全体構成図である。多槽式インラインメッキ処理装置８０は、図３、４に示す構成の回転ドラムを４台タンデムに連結し、その最終段に同じく同一構成の回転ドラムからなる遠心分離乾燥機を連結した構成となっている。第１段の回転ドラム８１は、その第１方向の回転に伴って、その端面の中心から水平に送り込まれたワークをその外周側に搬送、すなわち、降下させ、第２段の回転ドラム８２に引き渡す。回転ドラム８２の下側部分はメッキ液槽９２に浸漬しており、所定時間だけワークを浸漬しておくことにより無電解メッキ処理がワークに施される。
【００６４】
回転ドラム８２を第２方向に回転すると、メッキ液槽に浸漬していたワークが中心に向けて引上げられて、その中心に沿って第３段の回転ドラム８３に向けて水平に搬送される。第３段の回転ドラム８３の下側部分は洗浄液槽９３に浸漬しており、当該回転ドラム８３が第１方向に回転して、ワークを降下させて洗浄液内に浸漬する。ワークは次段の回転ドラム８４の第２方向の回転により、中心に向けて洗浄液から引き上げられ、しかる後に、最終段の乾燥用の回転ドラム８５に送り込まれる。遠心分離により乾燥された後のワークはその中心を水平に搬送されて排出される。
【００６５】
（その他の実施の形態）
なお、本発明のワーク搬送処理装置は、洗浄工程およびメッキ処理工程と共に、別の処理工程を含む構成とすることも可能である。たとえば、回転ドラムによってワークを搬送しながらワークの検査を行う検査ステーションなどを含む構成とすることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明を適用した多槽式インラインメッキ処理装置を示す構成図である。
【図２】図１のメッキ処理ステーションの構成を示す説明図である。
【図３】図１の装置に用いることのできる回転ドラムの一例を示す前側斜視図、および透視状態で示す後側斜視図である。
【図４】図３の回転ドラムのワーク搬送動作を示す説明図である。
【図５】図３の回転ドラムの変形例を示す説明図である。
【図６】図１の装置に用いることのできる回転ドラムの別の例を示す説明図である。
【図７】本発明を適用した装置を示す構成図である。
【図８】本発明を適用した装置を示す構成図である。
【符号の説明】
【００６７】
１、２１(１)〜２７(１)  回転ドラム
１ａ、５０ａ  中心軸線
２、３  端板
４    仕切り板
５    半円形円弧板部分
５ｃ  大径内周面部分
６    渦巻き状曲面板部分
６ｃ  渦巻き状内周面部分
７    半円形円弧板部分
７ａ  半円形内周面部分
８    螺旋状の送りフィン
８ａ  送りフィンの前端
８ｂ  送りフィンの後端
９    搬入口
１０  ガイド板
１１  排出口
１２、１３  連結リング
１４  従動歯車
１５  渦巻き状通路
１６  投入口
１７  軸方向通路
２０  多槽式インラインメッキ処理装置
２１  アルカリ洗浄ステーション
２２  水洗浄ステーション
２３  酸洗浄ステーション
２４  水洗浄ステーション
２５  メッキ処理ステーション
２６  水洗浄ステーション
２７  乾燥ステーション
２１(１)〜２７(１)  回転ドラム
２１(２)〜２４(２)、２６(２)  洗浄液槽
２５(２)  メッキ液槽
２７(２)  洗浄液回収槽
２８、２９、３０  駆動モータ
３２  ワーク投入口
３３  ワーク排出口
３４  送り込み通路
３５  送り出し通路
４０  装置架台
【図１】
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【図２】
2006111371.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2006111371.tif 000008
【図７】
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【図８】
2006111371.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月21日(2004.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【図２】
2006111371.tif 000012
【図３】
2006111371.tif 000013
【図４】
2006111371.tif 000014
【図５】
2006111371.tif 000015
【図６】
2006111371.tif 000016
【図７】
2006111371.tif 000017
【図８】
2006111371.tif 000018