(57)【要約】【課題】  製造工程を短縮して，生産性を向上させることが可能な，新規かつ改良された単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法および電子写真感光体を提供する。【解決手段】  本発明に係る単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法は，バインダー樹脂の溶液中に分散された電荷発生物質としての顔料粉末を含む単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法であって，顔料粉末，正孔輸送物質，電子輸送物質，及びバインダー樹脂を含む感光層形成成分を溶剤中に添加して，顔料粉末を濡らす工程と，顔料粉末を粉砕しながら感光層形成成分を均質化する工程とを含む。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー樹脂の溶液中に分散された電荷発生物質としての顔料を含む単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法であって：
前記顔料，正孔輸送物質，電子輸送物質，及び前記バインダー樹脂を含む感光層形成成分を溶剤中に添加して，前記顔料を濡らす工程と；
前記顔料を粉砕しながら前記感光層形成成分を均質化する工程と；
を含むことを特徴とする，単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項２】
前記顔料を濡らす工程は，前記感光層形成成分を１〜２４時間シェーキングする工程を含むことを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項３】
前記感光層形成成分を均質化する工程は，０．０５〜４時間行われることを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項４】
前記感光層形成成分は，溶剤１００質量部に対して，前記バインダー樹脂を４０〜６０質量部，前記顔料を２〜６質量部，前記正孔輸送物質を２０〜４０質量部，及び前記電子輸送物質を５〜３０質量部含むことを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項５】
前記感光層形成成分を均質化する工程は，機械式ホモジナイザまたは超音波式ホモジナイザによって行われることを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項６】
前記顔料は，非金属フタロシアニン系顔料，オキソチタニルフタロシアニン系顔料，ヒドロキシガリウムフタロシアニン系顔料，ペリレン系顔料，ビスアゾ系顔料，ビスベンゾイミダゾール系顔料，非金属ナフタロシアニン系顔料，金属ナフタロシアニン系顔料，スクアライン系顔料，スクアリリウム系顔料，トリスアゾ系顔料，インジゴ系顔料，アズレニウム系顔料，キノン系顔料，シアニン系顔料，ピリリウム系顔料，アントロン系顔料，トリフェニルメタン系顔料，スレン系顔料，トルイジン系顔料，ピアゾリン系顔料及びキナクリドン系顔料からなる群から選択される１種または２種以上の顔料であることを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項７】
前記正孔輸送物質は，エナミンスチルベン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルフェニレンジアミン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルナフチレンジアミン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルフェナントリレンジアミン系化合物，オキサジアゾール系化合物，スチリル系化合物，カルバゾール系化合物，有機ポリシラン系化合物，ピラゾリン系化合物，ヒドラゾン系，インドール系化合物，オキサゾール系化合物，イソオキサゾール系化合物，チアゾール系化合物，チアジアゾール系化合物，イミダゾール系化合物，ピラゾール系化合物及びトリアゾール系化合物からなる群から選択される１種または２種以上の化合物であることを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項８】
前記電子輸送物質は，ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド系化合物，ジフェノキノン系化合物，ベンゾキノン系化合物，アゾキノン系化合物，モノキノン系化合物，ジナフチルキノン系化合物，カルボン酸ジイミド系化合物，スチルベンキノン系化合物，アントラキノン系化合物，マロノニトリル系化合物，チオピラン系化合物，キサントン系化合物，トリニトロチオキサントン系化合物，フルオレノン系化合物，フェナントラキノン系化合物，ジニトロアントラセン系化合物，ジニトロアクリジン系化合物，ニトロアントラキノン系化合物，ジニトロアントラキノン系化合物，テトラシアノエチレン系化合物，シアノキノジメタン系化合物，ジニトロベンゼン系化合物，無水コハク酸系化合物，無水マレイン酸系化合物，無水フタル酸系化合物及びハロゲン化無水マレイン酸系化合物からなる群から選択される１種または２種以上の化合物であることを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項９】
前記溶剤は，アルコール類，脂肪族炭化水素，芳香族炭化水素，ハロゲン化炭化水素，エーテル類，ケトン類，エステル類，ジメチルホルムアルデヒド及びジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキシドからなる群から選択される１種または２種以上の化合物であることを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項１０】
前記バインダー樹脂は，スチレン−ブタジエン共重合体，スチレン−アクリロニトリル共重合体，スチレン−マレイン酸共重合体，アクリル樹脂，メタクリル樹脂，スチレン−アクリル酸共重合体，ポリエチレン，エチレン−ビニルアセテート共重合体，塩化ポリエチレン，ポリビニルアセテート，塩化ポリビニル，塩化ポリビニリデン，ポリプロピレン，アイオノマー，塩化ビニル−ビニルアセテート共重合体，ポリエステル，アルキド樹脂，ポリアミド，ポリウレタン，ポリカーボネート，ポリアクリレート，ポリスチレン，ポリスルホン，ジアリルフタル酸樹脂，ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール，ケトン樹脂，ポリビニルホルマル，ポリビニルブチラル樹脂，ポリビニルアセタール樹脂，フェノキシ樹脂，ポリエーテル樹脂，カルボキシメチルセルロース，ポリビニルアルコール，エチルセルロース，シリコン樹脂，エポキシ樹脂，フェノール樹脂，ヨウ素樹脂，メラミン樹脂，シリコン−アルキド樹脂，スチレン−アルキド樹脂，エポキシアクリレート系樹脂及びウレタンアクリレート系樹脂からなる群から選択される１種または２種以上の樹脂であることを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項１１】
前記電子輸送物質は，下記式（１）で表されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミド系化合物であることを特徴とする，請求項８に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【化１】
2006018302.tif 000010
前記式（１）中，Ｒ及びＲ１は，互いに独立に，水素，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルキル基，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルコキシ基，炭素数６〜３０の置換または非置換のアリール基，または炭素数７〜３０の置換または非置換のアラルキル基を表し，
Ｒ２は，式−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｒ３（ｎは，１〜１２の整数）の基を表し，
Ｒ３は，水素原子，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルキル基，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルコキシ基，炭素数６〜３０の置換または非置換のアリール基，または炭素数７〜３０の置換または非置換のアラルキル基である。
【請求項１２】
前記感光層形成用成分は，界面活性剤，レべリング剤，酸化防止剤および光安定剤からなる群から選択される添加剤をさらに含むことを特徴とする，請求項１に記載の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法。
【請求項１３】
バインダー樹脂中に分散された電荷発生物質としての顔料を含む単層型感光層を備える電子写真感光体であって：
前記単層型感光層は，前記顔料，正孔輸送物質，電子輸送物質，及び前記バインダー樹脂を含む感光層形成成分を溶剤中に添加して前記顔料を濡らした後，前記顔料を粉砕しながら前記感光層形成成分を均質化して得たコーティング組成物を導電性支持体上にコーティングし，乾燥して形成されることを特徴とする，電子写真感光体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，単層型電子写真感光体の製造に使われる単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法および電子写真感光体に係り，さらに詳細には，単層型電子写真感光体の製造コストを節減できる経済的な単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法および電子写真感光体に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザプリンタ，複写機，ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）プリンタ，ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）プリンタ，液晶プリンタに用いられる電子写真法において，導電性支持体上に感光層を備えるプレート，ディスク，シート，ベルト，ドラム状等の形態の電子写真感光体は，まず，感光層の表面を均一に静電気的に帯電させ，帯電された表面を光パターンに露光させることによって画像が形成される。露光は，表面に光が衝突した照射領域の電荷を選択的に消散させることによって，帯電及び非帯電領域のパターン，いわば，潜像を形成する。次いで，湿式トナーまたは乾式トナーが潜像の隣接部位に提供され，トナー滴またはトナー粒子が帯電された領域または非帯電された領域のうち何れか一つの隣接部位に付着されて，感光層の表面上にトナー画像を形成する。結果物であるトナー画像は，紙のような適当な最終受容体または中間受容体の表面に転写された後に定着されて画像形成が完了する。転写後の電子写真感光体は，残留トナーのクリーニング及び除電が行われて，長期にわたって反復使用される。
【０００３】
電子写真感光体には，セレンや非晶質ケイ素などの無機材料を感光層に使用する無機感光体と，有機材料を感光層に使用する有機感光体とがある。これらのうち，有機感光体は，製造が容易であり，電荷発生物質，電荷輸送物質（ＣＴＭ：Ｃｈａｒｇｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ）またはバインダー樹脂などの材料選択の幅が広く，機能設計の自由度が高いために，注目されている。
【０００４】
有機感光体は，次の２つの類型に大別される。第１類型は，バインダー樹脂と電荷発生物質（ＣＧＭ：Ｃｈａｒｇｅ  Ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ）とを含む電荷発生層と，バインダー樹脂とＣＴＭ（主に，正孔輸送物質（ＨＴＭ：Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ））とを含む電荷輸送層の積層構造からなる積層型感光体である。これは，一般的に，導電性支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層をこのような順序で積層した負帯電型の電子写真感光体の製造に利用される。第２類型は，バインダー樹脂，ＣＧＭ，ＨＴＭ及び電子輸送物質（ＥＴＭ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ）を何れも一つの感光層に分散させた単層型感光体である。これは，一般的に，正帯電型の電子写真感光体の製造に利用される。また，単層型電子写真感光体は，層構成が簡単であり，生産性に優れること，感光層の被膜欠陥が発生することを抑制できること，人体に有害なオゾンの発生が少ないこと，層間の界面が少ないため光学的特性を向上させることができること，ＣＴＭとしてＥＴＭとＨＴＭとを併用することによって一つの感光体を正帯電型または負帯電型の両方に使用できること，といった長所があるために，注目されている。
【０００５】
従来，ＣＧＭとして顔料を使用する場合，単層型感光層形成用のコーティング組成物は，特許文献１に記載されているように，次のようにしてＣＧＭ組成物及びＣＴＭ組成物を別途に製造する工程と，これらを混合する工程の２つの工程によって製造されている。
【０００６】
すなわち，ＣＧＭの光導電性の顔料粉末を電子写真感光体の製造に使用できるほどに微細に粉砕するために，溶剤中で長時間通常的に約２０時間ほどミリングする。このとき，バインダー樹脂が共存する状態で顔料粉末のミリングがなされる。この顔料粉末のミリング工程は，通常，ボールミル，サンドミル，またはペイントシェーカでガラスビード，スチールビード，ジルコニアビード，アルミナビード，ジルコニアボール，またはスチールボールが利用されるボールミリング工程であるか，またはツーロールミル，トリーロールミルのようなロールミルを利用するロールミリング工程である。このミリング工程で，顔料粉末は，通常，サブミクロンレベルに微細に粉砕され，これにより得られた組成物をＣＧＭ組成物という。これと別途に，ＨＴＭ，ＥＴＭ，及びバインダー樹脂を溶剤に溶解させてＣＴＭ組成物を準備する。次いで，このように別途に準備されたＣＧＭ組成物とＣＴＭ組成物とを混合して，最終的な単層型感光層形成用のコーティング組成物を完成する。
【０００７】
【特許文献１】大韓民国特許出願公開第２００４−０００５５２８号明細書
【特許文献２】米国特許第６，０８０，５１８号明細書
【特許文献３】米国特許第６，１９０，８１２号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら，上述のように，従来の単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造において，ＣＧＭとして顔料粉末が使われる場合，この組成物は，顔料粉末のミリング工程が必要であり，別途にＣＧＭ組成物及びＣＴＭ組成物を製造して，これらを混合する複雑な工程を必要とする，という問題があった。また，このような追加的なＣＧＭのミリング工程は，時間浪費だけでなく，電子写真感光体の製造コスト及び製造時間の増加につながるため，生産性が低下してしまう。
【０００９】
そこで，本発明は，このような問題に鑑みてなされたもので，その目的は，製造工程を短縮して，生産性を向上させることが可能な，新規かつ改良された単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法および電子写真感光体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，バインダー樹脂の溶液中に分散された電荷発生物質としての顔料を含む単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法であって：顔料，正孔輸送物質，電子輸送物質，及びバインダー樹脂を含む感光層形成成分を溶剤中に添加して，顔料を濡らす工程と；顔料を粉砕しながら感光層形成成分を均質化する工程と；を含むことを特徴とする単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法が提供される。
【００１１】
ここで，上記顔料を濡らす工程は，感光層形成成分を１〜２４時間シェーキングする工程を含むことが好ましい。
【００１２】
また，上記感光層形成成分を均質化する工程は，０．０５〜４時間行われることが好ましい。
【００１３】
また，上記感光層形成成分は，溶剤１００質量部に対して，バインダー樹脂を４０〜６０質量部，顔料を２〜６質量部，正孔輸送物質を２０〜４０質量部，及び電子輸送物質を５〜３０質量部含むことが好ましい。
【００１４】
また，上記感光層形成成分を均質化する工程は，例えば，機械式ホモジナイザまたは超音波式ホモジナイザによって行うことができる。
【００１５】
また，上記顔料としては，例えば，非金属フタロシアニン系顔料，オキソチタニルフタロシアニン系顔料，ヒドロキシガリウムフタロシアニン系顔料，ペリレン系顔料，ビスアゾ系顔料，ビスベンゾイミダゾール系顔料，非金属ナフタロシアニン系顔料，金属ナフタロシアニン系顔料，スクアライン系顔料，スクアリリウム系顔料，トリスアゾ系顔料，インジゴ系顔料，アズレニウム系顔料，キノン系顔料，シアニン系顔料，ピリリウム系顔料，アントロン系顔料，トリフェニルメタン系顔料，スレン系顔料，トルイジン系顔料，ピアゾリン系顔料及びキナクリドン系顔料からなる群から選択される１種または２種以上の顔料を使用することができる。
【００１６】
また，上記正孔輸送物質としては，例えば，エナミンスチルベン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルフェニレンジアミン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルナフチレンジアミン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルフェナントリレンジアミン系化合物，オキサジアゾール系化合物，スチリル系化合物，カルバゾール系化合物，有機ポリシラン系化合物，ピラゾリン系化合物，ヒドラゾン系，インドール系化合物，オキサゾール系化合物，イソオキサゾール系化合物，チアゾール系化合物，チアジアゾール系化合物，イミダゾール系化合物，ピラゾール系化合物及びトリアゾール系化合物からなる群から選択される１種または２種以上の化合物を使用することができる。
【００１７】
また，上記電子輸送物質としては，例えば，ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド系化合物，ジフェノキノン系化合物，ベンゾキノン系化合物，アゾキノン系化合物，モノキノン系化合物，ジナフチルキノン系化合物，カルボン酸ジイミド系化合物，スチルベンキノン系化合物，アントラキノン系化合物，マロノニトリル系化合物，チオピラン系化合物，キサントン系化合物，トリニトロチオキサントン系化合物，フルオレノン系化合物，フェナントラキノン系化合物，ジニトロアントラセン系化合物，ジニトロアクリジン系化合物，ニトロアントラキノン系化合物，ジニトロアントラキノン系化合物，テトラシアノエチレン系化合物，シアノキノジメタン系化合物，ジニトロベンゼン系化合物，無水コハク酸系化合物，無水マレイン酸系化合物及び無水フタル酸系化合物及びハロゲン化無水マレイン酸系化合物からなる群から選択される１種または２種以上の化合物を使用することができる。この中でも，電子輸送物質は，下記式（１）で表されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミド系化合物であることが好ましい。
【００１８】
【化１】
2006018302.tif 000003
【００１９】
上記式（１）中，Ｒ及びＲ１は，互いに独立に，水素，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルキル基，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルコキシ基，炭素数６〜３０の置換または非置換のアリール基，または炭素数７〜３０の置換または非置換のアラルキル基を表す。また，Ｒ２は，式−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｒ３（ｎは，１〜１２の整数）の基を表す。ここで，Ｒ３は，水素原子，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルキル基，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルコキシ基，炭素数６〜３０の置換または非置換のアリール基，または炭素数７〜３０の置換または非置換のアラルキル基である。
【００２０】
また，上記溶剤としては，例えば，アルコール類，脂肪族炭化水素，芳香族炭化水素，ハロゲン化炭化水素，エーテル類，ケトン類，エステル類，ジメチルホルムアルデヒド及びジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキシドからなる群から選択される１種または２種以上の化合物を使用することができる。
【００２１】
また，上記バインダー樹脂としては，例えば，スチレン−ブタジエン共重合体，スチレン−アクリロニトリル共重合体，スチレン−マレイン酸共重合体，アクリル樹脂，メタクリル樹脂，スチレン−アクリル酸共重合体，ポリエチレン，エチレン−ビニルアセテート共重合体，塩化ポリエチレン，ポリビニルアセテート，塩化ポリビニル，塩化ポリビニリデン，ポリプロピレン，アイオノマー，塩化ビニル−ビニルアセテート共重合体，ポリエステル，アルキド樹脂，ポリアミド，ポリウレタン，ポリカーボネート，ポリアクリレート，ポリスチレン，ポリスルホン，ジアリルフタル酸樹脂，ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール，ケトン樹脂，ポリビニルホルマル，ポリビニルブチラル樹脂，ポリビニルアセタール樹脂，フェノキシ樹脂，ポリエーテル樹脂，カルボキシメチルセルロース，ポリビニルアルコール，エチルセルロース，シリコン樹脂，エポキシ樹脂，フェノール樹脂，ヨウ素樹脂，メラミン樹脂，シリコン−アルキド樹脂，スチレン−アルキド樹脂，エポキシアクリレート系樹脂及びウレタンアクリレート系樹脂からなる群から選択される１種または２種以上の樹脂を使用することができる。
【００２２】
また，上記感光層形成用成分は，界面活性剤，レべリング剤，酸化防止剤および光安定剤からなる群から選択される添加剤をさらに含んでいてもよい。
【００２３】
上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，バインダー樹脂中に分散された電荷発生物質としての顔料を含む単層型感光層を備える電子写真感光体であって：上記単層型感光層は，顔料，正孔輸送物質，電子輸送物質，及びバインダー樹脂を含む感光層形成成分を溶剤中に添加して顔料を濡らした後，顔料を粉砕しながら感光層形成成分を均質化して得たコーティング組成物を導電性支持体上にコーティングし，乾燥して形成されることを特徴とする電子写真感光体が提供される。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば，ＣＧＭとして顔料を利用するとともに，追加的な顔料のミリング工程なしに顔料を含む感光層形成用の組成物の全ての感光層形成用成分がホモジナイザによって溶剤中で共に分散されるため，最終的な単層型感光層形成用の組成物が経済的に得られる，単層型感光層形成用の組成物の製造方法および有機感光体を提供することができる。
【００２５】
また，本発明によれば，感光層形成用組成物の製造工程を短縮することによって，電子写真感光体の製造コスト及び時間を節約し，生産性を向上させることが可能な，単層型感光層形成用の組成物の製造方法および有機感光体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２７】
以下，本発明の一実施形態による単層型感光層形成用の組成物の製造方法について詳細に説明する。
【００２８】
まず，溶剤中に顔料（本実施形態では，粉末状の形態の顔料粉末を使用する。），ＨＴＭ，ＥＴＭ，及びバインダー樹脂を含む感光層形成用成分を添加して顔料粉末を濡らす。このために，前記混合物を含む容器をウォーターバスで１時間〜２４時間程度，好ましくは，４時間〜１２時間程度シェーキングする。これにより，顔料粉末が溶剤によって濡らされ，また，ＨＴＭ，ＥＴＭ及びバインダー樹脂が溶解される。シェーキング時間が１時間未満であると，顔料粉末の濡れが不十分となるので，後続のホモジナイザを利用した均質化工程の作業性が悪くなり，２４時間を超過すると，それ以上ウェット効果が向上せずにコーティング組成物の製造時間のみが延長され，生産性が低下するため，好ましくない。
【００２９】
次いで，ホモジナイザを利用して顔料粉末を粉砕しつつ，感光層形成用成分を均質化処理することによって，ＣＧＭとして機能できる微細な顔料粉末を含む単層型感光層形成用のコーティング組成物が得られる。
【００３０】
本実施形態で使われるホモジナイザとしては，例えば，超音波ホモジナイザ，機械式ホモジナイザが挙げられる。
【００３１】
超音波ホモジナイザの具体的な例としては，ＢＩＯＬＯＧＩＣＳ  ＩＮＣ．のモデル１５０Ｖ／Ｔ，モデル３００Ｖ／Ｔ，ＲＯＳＥ  ＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ  ＬＴＤ．のＵＰＳ  ２００Ｓ超音波ホモジナイザが挙げられる。これは，超音波によって発生した振動によって組成物を均質化しつつ顔料粉末を粉砕するものである。機械式ホモジナイザの具体的な例としては，ＩＫＡ社のＴ２５ホモジナイザ，ＯＭＮＩ  ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ社のＯｍｎｉ  Ｍｉｘｅｒ  Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ，Ｏｍｎｉ  Ｍａｃｒｏ  Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ，Ｏｍｎｉ  Ｍｉｘｅｒ−ＥＳ及びＯｍｎｉ  Ｍａｃｒｏ−ＥＳ  Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ，またはＳＡＲＴＯＲＩＵＳ  ＡＧのＰｏｔｔｅｒ  Ｓ  Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒが挙げられる。これは，回転子／固定子ジェネレータプローブを利用して，組成物を激しく混合し，かつ顔料粉末を微細に粉砕するものである。
【００３２】
ホモジナイザを利用する分散及び均質化処理は，０．５時間〜４時間，好ましくは，１時間〜２時間ほど進められる。０．５時間未満であれば，顔料粉末の粉砕が不十分で電子写真感光体の静電特性が不良になり，４時間を超過しても，それ以上顔料粉末の粉砕効果が向上しない。
【００３３】
上記感光層形成用成分の使用量は，溶剤１００質量部に対して，バインダー樹脂４０〜６０質量部，顔料粉末１〜７質量部，ＨＴＭ  １０〜４０質量部，及びＥＴＭ  ５〜３０質量部であることが好ましい。
【００３４】
バインダー樹脂の含量が，溶剤１００質量部に対して４０質量部未満であれば，結着力が不十分であり導電性支持体上にコーティング後，これから脱離される恐れがあり，６０質量部を超過すれば，ＣＧＭ及びＣＴＭの含量が減少するので，これを利用して形成された電子写真感光体の静電特性が低下する。
【００３５】
ＣＧＭとして機能できる光導電性の顔料粉末の含量が，溶剤１００質量部に対して１質量部未満であれば，電荷発生量が十分でなく，７質量部を超過すれば，帯電安定性が不良になる。
【００３６】
ＨＴＭの含量が，溶剤１００質量部に対して１０質量部未満であれば，電荷輸送能が不十分であるため，感度が不足するため残留電位が高くなる傾向があり，４０質量部を超過すれば，感光層中の樹脂の含量が少なくなって機械的強度が低下するので，好ましくない。
【００３７】
ＥＴＭの含量が，溶剤１００質量部に対して５質量部未満であれば，電荷輸送能が不十分であるため，感度が不足するため残留電位が高くなる傾向があり，３０質量部を超過すれば，感光層中の樹脂の含量が少なくなって，機械的強度が低下するので，好ましくない。
【００３８】
本実施形態で，コーティング組成物の製造のために使われる溶剤としては，各種有機溶剤が挙げられるが，例えば，メタノール，エタノール，イソプロパノール，ブタノールなどのアルコール類，ｎ−へキサン，シクロヘキサン，へプタンなどの脂肪族炭化水素，ベンゼン，トルエン，ザイレンなどの芳香族炭化水素，ジクロロメタン，ジクロロエタン，トリクロロエタン，クロロホルム，４塩化炭素，クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素，ジメチルエーテル，ジエチルエーテル，テトラヒドロフラン，エチレングリコールジメチルエーテル，ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類，アセトン，メチルエチルケトン，シクロへキサノンなどのケトン類，エチルアセテート，メチルアセテートなどのエステル類，ジメチルホルムアルデヒド，ジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらの溶剤は，単独で，または２種以上を混合して使用することができる。
【００３９】
本実施形態で使われるバインダー樹脂としては，例えば，スチレン−ブタジエン共重合体，樹脂スチレン−アクリロニトリル共重合体，スチレン−マレイン酸共重合体，アクリル樹脂，メタクリル樹脂，スチレン−アクリル酸共重合体，ポリエチレン，エチレン−ビニルアセテート共重合体，塩化ポリエチレン，ポリビニルアセテート，塩化ポリビニル，塩化ポリビニリデン，ポリプロピレン，アイオノマー，塩化ビニル−ビニルアセテート共重合体，ポリエステル，アルキド樹脂，ポリアミド，ポリウレタン，ポリカーボネート，ポリアクリレート，ポリスチレン，ポリスルホン，ジアリルフタル酸樹脂，ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール，ケトン樹脂，ポリビニルホルマル，ポリビニルブチラル樹脂，ポリビニルアセタール樹脂，フェノキシ樹脂，ポリエーテル樹脂，カルボキシメチルセルロース，ポリビニルアルコール，エチルセルロースなどの熱可塑性樹脂，シリコン樹脂，エポキシ樹脂，フェノール樹脂，ヨウ素樹脂，メラミン樹脂，シリコン−アルキド樹脂，スチレン−アルキド樹脂，その他の架橋性の熱硬化樹脂，エポキシアクリレート，ウレタンアクリレートなどの光硬化型樹脂などが挙げられる。これらバインダー樹脂は，単独で使われるか，または２種以上が混合されて使われる。
【００４０】
感光層でＣＧＭとして使われる顔料粉末としては，例えば，非金属フタロシアニン系顔料，オキソチタニルフタロシアニン系顔料，ヒドロキシガリウムフタロシアニン系顔料，ペリレン系顔料，ビスアゾ系顔料，ビスベンゾイミダゾール系顔料，非金属ナフタロシアニン系顔料，金属ナフタロシアニン系顔料，スクアリリウム系顔料，トリスアゾ系顔料，インジゴ系顔料，アズレニウム系顔料，キノン系顔料，シアニン系顔料，ピリリウム系顔料，アントロン系顔料，トリフェニルメタン系顔料，スレン系顔料，トルイジン系顔料，ピアゾリン系顔料，キナクリドン系顔料のような有機光導電体の従来の公知のＣＧＭが挙げられる。
【００４１】
ＣＧＭとしては，非金属フタロシアニン系顔料，オキソチタニルフタロシアニン系顔料，またはヒドロキシガリウムフタロシアニン系顔料が光効率の側面で好ましい。ＣＧＭは，所望の領域で吸収波長を有するように，単独で使われるか，または２種以上が混合されて使われる。
【００４２】
本実施形態の単層型電子写真感光体に使われるＣＴＭは，従来の公知のＨＴＭとＥＴＭとを含む。
【００４３】
上記ＨＴＭとしては，例えば，エナミンスチルベン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルフェニレンジアミン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルナフチレンジアミン系化合物，Ｎ，Ｎ，’，Ｎ’−テトラフェニルフェナントリレンジアミン系化合物，２，５−ジ（４−メチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物，９−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセンなどのスチリル系化合物，ポリビニルカルバゾールなどのカルバゾール系化合物，有機ポリシラン化合物，１−フェニル−３−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンなどのピラゾリン系化合物，ヒドラゾン系，インドール系化合物，オキサゾール系化合物，イソオキサゾール系化合物，チアゾール系化合物，チアジアゾール系化合物，イミダゾール系化合物，ピラゾール系化合物，トリアゾール系化合物などの含窒素環式化合物や縮合多環式化合物が挙げられる。
【００４４】
ＨＴＭとしては，特に，エナミンスチルベン系化合物を使用することが顔料分散の側面で好ましい。ＨＴＭは，単独で使われるか，または２種以上が混合されて使われる。
【００４５】
また，上記ＥＴＭとしては，例えば，ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド系化合物，ジフェノキノン系化合物，ベンゾキノン系化合物，アゾキノン系化合物，モノキノン系化合物，ジナフチルキノン系化合物，カルボン酸ジイミド系化合物，スチルベンキノン系化合物，アントラキノン系化合物，マロノニトリル系化合物，チオピラン系化合物，キサントン系化合物，トリニトロチオキサントン系化合物，フルオレノン系化合物，フェナントラキノン系化合物，ジニトロアントラセン系化合物，ジニトロアクリジン系化合物，ニトロアントラキノン系化合物，ジニトロアントラキノン系化合物，テトラシアノエチレン系化合物，シアノキノジメタン系化合物，ジニトロベンゼン系化合物，無水コハク酸系化合物，無水マレイン酸系化合物，無水フタル酸系化合物，ハロゲン化無水マレイン酸系化合物などの電子受容性を有する様々な化合物が挙げられる。ただし，本実施形態に使われるＥＴＭは，これらに限定されず，電子輸送性高分子化合物やｎ型半導体特性を有するその他の顔料でも良い。
【００４６】
ＥＴＭとしては，特に，下記式（１）で表されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミド系化合物が，ポリエステル樹脂，ポリカーボネート樹脂，ポリアミド樹脂，ポリアクリレート樹脂などのバインダー樹脂との相溶性に優れるために好ましい。バインダー樹脂とＥＴＭとの相溶性に優れれば，感光層製造過程で熱風乾燥時に感光層の内部及び表面に存在するＥＴＭ分子の近くで体積収縮が起こり難くなり，感光層の表面にも微小孔隙が形成され難い。逆に，バインダー樹脂とＥＴＭとの相溶性が悪ければ，熱風乾燥時にＥＴＭ分子の近くでの体積収縮が起こりやすく，感光層の表面に微小孔隙が形成されやすい。
【００４７】
【化２】
2006018302.tif 000004
【００４８】
上記式（１）で，Ｒ及びＲ１は，互いに独立に水素，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルキル基，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルコキシ基，炭素数６〜３０の置換または非置換のアリール基，または炭素数７〜３０の置換または非置換のアラルキル基を表す。また，Ｒ２は，式−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｒ３基（ｎは，１〜１２の整数）を表す。ここで，Ｒ３は，水素原子，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルキル基，炭素数１〜２０の置換または非置換のアルコキシ基，炭素数６〜３０の置換または非置換のアリール基，または炭素数７〜３０の置換または非置換のアラルキル基である。
【００４９】
本実施形態において，ＥＴＭは，単独で使われるか，または２種以上が混合されて使われる。
【００５０】
このように，本実施形態による製造工程を短縮した簡単で経済的な方法によって製造された感光層コーティング組成物を，公知の方法を利用して導電性支持体上に塗布し，かつ乾燥すれば，単層型電子写真感光体が得られる。
【００５１】
上記導電性支持体としては，例えば，金属，または導電性ポリマーを含むドラムまたはベルトが挙げられる。上記金属としては，例えば，アルミニウム，ステンレススチールが挙げられる。上記導電性ポリマーとしては，例えば，ポリエステル樹脂，ポリカーボネート樹脂，ポリアミド樹脂，ポリイミド樹脂，及びこれらの共重合体に，導電性カーボン，酸化スズ，酸化インジウムなどの導電性物質を分散させたものが挙げられる。
【００５２】
塗布方法としては，例えば，浸漬塗布，リング塗布，ロール塗布，スプレー塗布などが挙げられる。得られた単層型感光層の厚みは，通常，約５〜５０μmの範囲であることが好ましい。単層型感光層の厚みが５μm未満であれば，感度が不足するという問題点があり，５０μmを超過すれば，帯電能及び感度が低下するという問題点がある。
【００５３】
一方，本実施形態による感光層コーティング組成物の製造方法において，上記コーティング組成物中には，ＣＧＭである顔料やＣＴＭなどの分散性，感光層の耐オゾン性及び平滑性を良くするために，界面活性剤，レべリング剤，酸化防止剤，光安定剤などの添加剤がさらに含まれていてもよい。
【００５４】
一方，単層型感光体の製造において，導電性支持体と感光層との間に導電層をさらに形成できる。導電層は，カーボンブラック，グラファイト，金属粉末，または金属酸化物粉末のような導電性粉末を溶剤に分散させた後，得られた分散液を支持体上に塗布し，かつ乾燥させて得られる。上記導電層の厚みは，約５〜約５０μm範囲であることが好ましい。
【００５５】
また，支持体と感光層との間，支持体と導電層との間，または導電層と感光層との間には，接着性の向上，あるいは支持体からの電荷注入を阻止する目的で中間層が設けられることもある。このような中間層としては，例えば，アルミニウムの陽極酸化層と，酸化チタン，酸化スズなどの金属酸化物粉末の樹脂分散層と，ポリビニルアルコール，カゼイン，エチルセルロース，ゼラチン，フェノール樹脂，ポリアミドなどの樹脂層とが挙げられるが，これらに限定されるものではない。また，上記中間層の厚みは，約０．０５〜約５μmの範囲が好ましい。
【００５６】
また，本実施形態のコーティング組成物を利用する単層型感光体の製造において，上記感光体は，必要に応じて，表面保護層をさらに含みうる。
【実施例】
【００５７】
以下，本発明の実施例を記載するが，これに例示目的のためのものであって，本発明の範囲は，これに限定されない。
【００５８】
（実施例１）
容器内にジクロロメタン２８０ｇ及び１，１，２−トリクロロエタン１２０ｇの混合溶剤を入れた。次いで，上記容器内にＣＧＭとして下記式（２）で表されるＸ型非金属フタロシアニン粉末を３ｇ，ＨＴＭとして下記式（３）で表されるエナミンスチルベン系ＨＴＭを１７ｇ，ＥＴＭとして下記式（４）で表されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミド系化合物を２０ｇ，及び下記式（５）で表されるポリエステル系バインダー樹脂（鍾紡社製商品名“Ｏ−ＰＥＴ”）を６０ｇ添加して密封した。この容器を常温で約１時間シェーキングして非金属フタロシアニン粉末を上記溶剤で濡らした。
【００５９】
次いで，５００  ｗａｔｔの攪拌式ホモジナイザ（製造社：ＩＫＡ社，モデル名：Ｔ２５）を利用して，約１１，０００ｒｐｍの回転速度で上記混合物を約１時間高速攪拌して分散させた。これにより得られた単層型感光層形成用の組成物に対して，レーザ散乱粒子サイズ分布分析器（製造社：日本ＨＯＲＩＢＡ社，モデル名：ＬＡ−９１０）を利用して測定した結果，分散体の平均粒子サイズは，約０．１μmであった。
【００６０】
これにより得られた組成物を陽極酸化処理されたアルミニウムドラム上にリングコータを利用してコーティングした後，１１０℃で１時間乾燥させて約１５〜１６μmの厚みの感光層を有する電子写真感光体ドラムを製造した。
【００６１】
（比較例１）
容器内に１，１，２−トリクロロエタン９０ｇを入れた。次いで，上記容器中にＯ−ＰＥＴバインダー樹脂５ｇを入れて溶解させた後，この溶液内に下記式（２）で表されるＸ型非金属フタロシアニン粉末３ｇを入れて攪拌した。次いで，上記混合物をガラスビードと共にボールミル装置（大韓科学社製）で約１時間ミリングした。ミリングに使用したガラスビードを除去して電荷発生層（ＣＧＬ：Ｃｈａｒｇｅ  Ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ  Ｌａｙｅｒ）組成物を得た。
【００６２】
２０ｍｌのバイアル内に下記式（３）で表されるエナミンスチルベン系ＨＴＭ  ０．５７６ｇ，下記式（４）で表されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミド系化合物０．７３８ｇ，Ｏ−ＰＥＴバインダー樹脂２．０５２ｇを入れた。次いで，上記バイアル内にジクロロメタン１０．０８ｇ及び１，１，２−トリクロロエタン１．８ｇの混合溶剤を入れて上記混合物を溶解させることによって，電荷輸送層（ＣＴＬ：Ｃｈａｒｇｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  Ｌａｙｅｒ）組成物を準備した。
【００６３】
次いで，上記ＣＧＬ組成物に上記ＣＴＬ組成物を均一に混合して，最終的な単層型感光層形成用のコーティング組成物を得た。
【００６４】
上述したようにして得られた単層型感光層形成用の組成物に対して，レーザ散乱粒子サイズ分布分析器（製造社：日本ＨＯＲＩＢＡ社，モデル名：ＬＡ−９１０）を利用して測定した結果，分散体の平均粒子サイズは，約０．１μmであった。
【００６５】
これにより得られた組成物を陽極酸化処理されたアルミニウムドラム上に，リングコータを利用してコーティングした後，１１０℃で１時間乾燥させて約１５〜１６μmの厚みの感光層を有する電子写真感光体ドラムを製造した。
【００６６】
【化３】
2006018302.tif 000005
【００６７】
【化４】
2006018302.tif 000006
【００６８】
【化５】
2006018302.tif 000007
【００６９】
【化６】
2006018302.tif 000008
【００７０】
（試験例）
上記実施例１及び比較例１で製造した電子写真感光体の静電特性を自社製のコロナ帯電方式のドラム感光体評価装置を使用して測定した。上記評価装置のドラム直径は，３０ｍｍ，ドラム回転速度は，５ｉｐｓ（ｉｎｃｈ／ｓｅｃｏｎｄ）であり，露光エネルギーは，１．６μＪ／ｃｍ２であった。初期の帯電電位及び露光電位と，５００枚印刷後の帯電電位及び露光電位を測定した。表１は，この静電特性の評価結果を表す。
【００７１】
【表１】
2006018302.tif 000009
Ｖｏ  ｉｎｉｔｉａｌ：初期の帯電電位
Ｖｄ  ｉｎｉｔｉａｌ：初期の露光電位
Ｖｏ  ５００：５００枚印刷後の帯電電位
Ｖｄ  ５００：５００枚印刷後の露光電位
Ｅ１／２：初期の帯電電位が１／２に減少する時点の感光度
【００７２】
表１を参照すれば，従来の方法に該当する比較例１で得られた電子写真感光体及び本発明の一例である実施例１の電子写真感光体が，何れもほぼ同じ静電特性を表した。したがって，本発明の一例による単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法を利用すれば，感光層形成用組成物の製造工程を短縮することによって，電子写真感光体の製造コスト及び時間を節約できることがわかった。
【００７３】
図１は，バインダー樹脂の溶液内に分散されたＣＧＭとして機能する微細な顔料粉末を含む単層型感光層形成用のコーティング組成物の本発明による製造方法の一例を示すフローチャートである。本方法は，顔料粉末，ＨＴＭ，ＥＴＭ，及びバインダー樹脂を含む感光層形成用成分を溶剤に添加して顔料粉末を濡らす工程（ステップＳ１０２）と，感光層形成用成分をホモジナイザを利用して顔料粉末を粉砕しながら，感光層形成用成分を均質化する工程（ステップＳ１０４）と，を含む。
【００７４】
図２は，本発明の一実施形態による感光層を示す概略的な断面図である。感光層２１０は，上記方法によって準備された単層型感光層形成用のコーティング組成物を導電性支持体２０２上にコーティングし，乾燥して形成されたものである。感光層２１０は，顔料粉末，ＨＴＭ，及びＥＴＭを含む成分がバインダー樹脂内に溶解または分散された形態である。必要な場合には，導電層２０６が導電性支持体２０２と感光層２１０との間にさらに形成される。必要な場合には，第１中間層２０４が導電性支持体２０２と導電層２０６との間に介在されてもよい。または，第２中間層２０８が導電層２０６と感光層２１０との間に介在されてもよい。
【００７５】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明のホモジナイザを利用した単層型感光層形成用のコーティング組成物の製造方法は，特に，レーザプリンタ，複写機，ＣＲＴプリンタ，ＬＥＤプリンタ，液晶プリンタの電子写真法に関連した技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】バインダー樹脂の溶液中に分散されたＣＧＭとして機能する微細な顔料粉末を含む単層型感光層形成用のコーティング組成物の本発明による製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図２】本発明の一実施形態による感光層を示す概略的な断面図である。
【符号の説明】
【００７８】
２０２      導電性支持体
２０４      第１中間層
２０６      導電層
２０８      第２中間層
２１０      感光層
【図１】
2006018302.tif 000011
【図２】
2006018302.tif 000012