(57)【要約】      （修正有）【課題】光透過性基材と帯電防止層の界面における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止した光学積層体を開示する。【解決手段】光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる帯電防止剤が前記帯電防止層または前記光透過性基材中に分散されてなるものである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる帯電防止剤が前記帯電防止層または前記光透過性基材中に分散されてなる、光学積層体。
【請求項２】
前記帯電防止層が、帯電防止剤として有機導電性組成物を用いて形成されてなるものであり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層がクラックの入った不均質な膜として形成されてなるものである、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記帯電防止層が、帯電防止剤と、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる帯電防止層用組成物を用いて前記光透過性基材の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる前記帯電防止剤が前記帯電防止層または前記光透過性基材中に分散されてなる、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項４】
光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層に浸透することにより、前記帯電防止層が膨潤されるか、または前記帯電防止層の層中に微細なクラックが生じてなる、光学積層体。
【請求項５】
前記帯電防止層が、帯電防止剤と、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる帯電防止層用組成物を用いて前記光透過性基材の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記光透過性基材に浸透するものである、請求項４に記載の光学積層体。
【請求項６】
前記帯電防止層が、帯電防止剤と、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる帯電防止層用組成物を用いて前記光透過性基材の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる前記帯電防止剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材中に分散されてなる、請求項４に記載の光学積層体。
【請求項７】
前記帯電防止層用組成物中における浸透性溶剤の添加量が、前記帯電防止層用組成物の全重量に対して１重量％以上５０重量％以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項８】
前記ハードコート層用液体組成物中における浸透性溶剤の添加量が、前記ハードコート層用組成物の全重量に対して１０重量％以上９０重量％以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項９】
前記ハードコート層の上に低屈折率層をさらに備えてなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項１０】
前記ハードコート層が、帯電防止剤および／防眩剤を含んでなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項１１】
反射防止積層体として利用される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項１２】
画像表示装置に利用される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、界面反射と干渉縞を防止した光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置における表示面は、蛍光燈等の外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、透明な物体の表面を屈折率の低い透明皮膜で被覆することにより反射率を低下させた光学積層体（例えば、反射防止積層体）を備えてなることにより、画像表示装置の表示面の反射性を低減させ視認性を向上させることがなされている。
【０００３】
また、画像表示装置の表示面の耐汚染性等の観点から、光学積層体には帯電防止層を形成することが良くなされている。例えば、特開２００４−９４００７号（特許文献１）では、光透過型基材の表面に、帯電防止層、ハードコート層がこれらの順で平滑に形成されてなる反射防止光学積層体が提案されている。
【０００４】
しかしながら、屈折率の差が大きい層を積層させた反射防止積層体にあっては、互いに重なり合った層の界面において、界面反射および干渉縞が生じることがしばしば見受けられる。特に、光透過性基材と帯電防止層との界面にあっては、干渉縞が発生し、画像の視認性が低下されることが指摘されている。
【０００５】
これに対して、本発明者等は帯電防止層を凹凸形状として形成させた光学積層体を製造しその光学特性を調べたところ、干渉縞が有効に防止することができたが、光学積層体のヘイズ値が若干上昇することが分かった。また、干渉縞を防止することは可能であったが、帯電防止層の凹凸形状上に、適切な膜厚（0.8〜20μm）のハードコート層を形成した光学積層体では、その最表面に帯電防止層に起因する光学的な凹凸ひずみが残存することがあった。このため、最終形態である光学積層体の最表面は、一般に、ハードコート層のみを積層した光学積層体の最表面程度に平坦化することが非常に困難であることが分かった。その結果、帯電防止層の凹凸形状を有した光学積層体を画像表示装置に組み込んだ場合、装置の内部からの透過光が、非平坦化な最表面を通過すると、光学的な凹凸ひずみを起因として生じるキラキラとしたギラツキが生じることが確認された。
【０００６】
さらに、帯電防止層に凹凸形状を付与することは多段階工程を必要とされ、また凹凸形状用の装置等を必要とするため、製造コストが嵩む等の問題があり、帯電防止層組成物が硬化する際に、適切な凹凸形状が形成されれば、上記諸問題が解決しうる。
【０００７】
さらにまた、帯電防止層は、一般に、光透過性基材とハードコート層との間に形成されるため、帯電防止層中の帯電防止剤は密に集合し凝集状態で形成されているのが一般的であった。つまり、帯電防止剤が超微粒子の場合、その微粒子の１個もしくは凝集体で存在している時に、微粒子同士または凝集体同士が、それぞれいずれかの箇所で接触している状態であることが要求されていたのである。他方、帯電防止剤が有機導電性組成物の場合に、帯電防止防止性能を発揮させるためには、均質な帯電防止層の層膜を形成させることが必要とされていた。
【０００８】
しかしながら、本発明者等が確認したところ、光学積層体において、帯電防止層における帯電防止剤が層中において凝集せずに、帯電防止性能を維持しながら、それぞれが十分な分散状態で存在されるか、または、帯電防止剤としての有機導電性組成物が付与され形成された帯電防止層の一面において均質な膜として存在せずに、クラックの入った不均質な膜として形成されることにより、帯電防止層と光透過性基材の界面において、反射界面および干渉縞を有効に防止することができ、最表面に帯電防止層を設けずにハードコート層のみを形成した光学積層体のように平坦化することが可能となり、画像表示画面において問題となっていたギラツキも解消できたとする帯電防止層を形成した光学積層体は未だ提案されていない。
【特許文献１】特開２００４−９４００７号
【発明の開示】
【０００９】
本発明者等は、本発明時において、帯電防止層における帯電防止剤（導電性微粒子）が層中において凝集せずに、それぞれが帯電防止性能を維持しながら、十分な分散状態で存在していること、または帯電防止剤としての有機導電性組成物が塗工された層一面において均質な膜として存在せずに、帯電防止性能を維持しながら、クラックの入った不均質な膜として存在することにより、光透過性基材と帯電防止層の界面において、これらの界面を実質的になくすことにより各界面における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止することができるとの知見を得た。よって、本発明は光透過性基材と帯電防止層の界面に着目し、その界面を実質的に消滅させることにより、機械的強度を有し、優れた反射防止機能と、視認性を向上させた光学積層体の提供をその目的とするものである。
【００１０】
従って、本発明による光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなるものであって、
前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる帯電防止剤が前記帯電防止層または前記光透過性基材中に分散されてなるものである。
【００１１】
本発明の好ましい態様によれば、本発明の光学積層体において、前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、帯電防止剤としての有機導電性組成物を用いて形成された前記帯電防止層がクラックの入った不均質な膜であるものである。
【００１２】
本発明の別の態様による光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなるものであって、
前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層に浸透することにより、前記帯電防止層が膨潤されるか、または前記帯電防止層の層中に微細なクラックが生じてなるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
１．光学積層体
本発明による光学積層体を図を用いて説明する。図１は、本発明による光学積層体１の断面図をＴＥＭで測定したものである。図１によれば、光透過性基材２の上に帯電防止層３が形成されてなり、この帯電防止層３中に存在する帯電防止剤が互いに凝集せず、分散されて存在してなることが理解される。この帯電防止層３の上に、ハードコート層７が形成されてなる。また、この浸透性溶剤により、帯電防止層が膨潤し、または帯電防止層の層中に微細なクラックが生じていた。
【００１４】
この点、従来の光学積層体１０の断面図をＴＥＭで測定した図２と比較すると、図２では、光透過性基材１２の上に、帯電防止層１３が形成されてなり、その上にハードコート層１７が形成されている点で、本発明による光学積層体１０と層構成を同じくするものである。しかしながら、図２によれば、帯電防止層中１３の帯電防止剤が互いに密に集合し凝集して存在していることが理解される。よって、本発明による光学積層１と従来の光学積層体１０とは、帯電防止層中の帯電防止剤の状態が相違することが理解される。
【００１５】
本発明による光学積層体が、図１に記載された帯電防止層を形成しているのは、ハードコート層７が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて帯電防止層３の上に形成されてなることにより、この浸透性溶剤及びこの浸透性溶剤とハードコート樹脂の混合物が帯電防止層と光透過性基材に浸透することによるものと思われる。つまり、帯電防止層の上に、このハードコート層用組成物が塗布されることにより、その浸透性溶剤とハードコート樹脂が、帯電防止層と光透過性基材に浸透しまたは湿潤することにより、帯電防止層と光透過性基材とが渾然一体となり、その結果、帯電防止剤が互いに凝集することなく分散されるのではないかと思われる。また、浸透性溶剤が、帯電防止層と光透過性基材に浸透し、その結果、帯電防止層が膨潤されるか、または帯電防止層の層中に微細なクラックが生じてなるものと思われる。そしてさらに、帯電防止剤が互いに凝集することなく分散されるのではないかと思われる。
【００１６】
また、帯電防止層が帯電防止剤として有機導電性組成物を用いて形成された場合（図３及び図４）にも、上記と同様に、ハードコート樹脂と浸透性溶剤を含有するハードコート層組成物を付与することにより、先ず、その組成物中の浸透性溶剤が、帯電防止層と光透過性基材に浸透し、その結果、光透過性基材と均質な膜状になっていた帯電防止層が膨潤し、帯電防止層の層中に微細なクラックが生じ始める。次に、ハードコート組成物中の溶剤と共に、ハードコート樹脂が、帯電防止層および光透光性基材に浸透し始め、帯電防止層中に生じた微細なクラックが更に増加し均質な膜状であった帯電防止層が不均質なものとなり、また、帯電防止層と基材との間に渾然一体となる部分（有機導電性組成物のポリマーが基材中に分散したような状態）が生じるものと思われる。
【００１７】
本発明の好ましい態様によれば、帯電防止層が、光透過性基材に対して浸透性を有する浸透性溶剤を含んでなる帯電防止層用組成物を用いて形成されてなる。この浸透性溶剤が光透過性基材に浸透することにより、帯電防止層と光透過性基材とが渾然一体となり、その結果、帯電防止剤が互いに凝集することなく分散されることが促進されるものと思われる。さらに、この浸透性溶剤が、光透過性基材を膨潤させることにより、帯電防止層の層中に微細なクラックが生じされるものとも思われる。また、帯電防止剤が有機導電性組成物であった場合にも、その組成物中に浸透性溶剤を含有することによって、浸透性溶剤が光透過性基材に浸透することにより、基材が膨潤し、均質な膜であった帯電防止層に微細なクラックが入り、帯電防止層の不均質化が、更に促進できるものと思われる。
【００１８】
但し、以上のことは、あくまでも推論であって、そのメカニズムは明確ではない。なお、図１では、本発明による光学積層体の積層構造を分かり易くするために光透過性基材２、帯電防止層３、ハードコート層７を領域に区分して記載したが、本来はこれら各層の各界面は明確に区別することができない状態となっている。
【００１９】
１）ハードコート層
「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と溶剤と浸透性溶剤（好ましい）と任意成分とにより形成されてよい。溶剤は帯電防止層の項で説明したのと同様であってよい。
【００２０】
浸透性溶剤
浸透性溶剤は、光透過性基材と帯電防止層に対して浸透性のある溶剤を利用する。よって、本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材とに対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられる。
【００２１】
浸透性溶剤の具体的な例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブが挙げられ、好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
【００２２】
ハードコート層組成物中に浸透性溶剤を添加する場合、浸透性溶剤の添加量は、ハードコート層用組成物の全溶剤重量に対して５０重量％以上、１００重量％以下である。ハードコート層組成物の好ましい固形分としては、加工適正面より、１０重量％以上７０重量％以下が好ましく、更に好ましくは、４０重量％以上５０重量％以下である。
【００２３】
樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、溶剤乾燥型樹脂（ポリマー成分からなる樹脂など、溶剤がない状態で、接着性のない樹脂の意味である）。電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の四種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【００２４】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２５】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
【００２６】
電離放射線硬化型樹脂に混合または単独で使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
【００２７】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂、アクリル酸エステル共重合体樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
【００２８】
任意成分
重合開始剤
ハードコート層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア１８４（チバスペシャリティーケミカルズ社製）が挙げれられる。
【００２９】
帯電防止剤および／または防眩剤
ハードコート層は、帯電防止剤および／または防眩剤を含んでなるものが好ましい。
【００３０】
帯電防止剤
帯電防止剤は、後記する帯電防止層で説明したのと同様であってよい。
【００３１】
防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物１００重量部に対し、２〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部程度である。
【００３２】
溶剤
ハードコート層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合したハードコート層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
【００３３】
ハードコート層の形成
ハードコート層は、上記した樹脂と溶剤と任意成分とを混合して得た組成物を光透過性基材に塗布することにより形成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、上記の液体組成物に、フッ素系またはシリコーン系などのレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した液体組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。
【００３４】
組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。液体組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００３５】
２）帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と、樹脂とを含んでなる帯電防止層用液体組成物により形成されてなる。帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１μｍ程度であることが好ましい。
【００３６】
浸透性溶剤
本発明の好ましい態様によれば、帯電防止層用組成物は、浸透性溶剤を含んでなるものが好ましい。浸透性溶剤の具体例は、ハードコート層の項で説明したのと同様であってよい。帯電防止層用液体組成物中における浸透性溶剤の添加量は、帯電防止層用組成物の全溶剤量の０．１％以上１００％以下が浸透性の面で好ましく、帯電防止用組成物全体の固形分は、０．１％以上５０％以下が塗工適性の面で好ましい。
【００３７】
帯電防止剤（導電剤）
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【００３８】
また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。また、本発明の好ましい態様によれば、微粒子の一次粒径は３０〜７０ｎｍ程度であり、二次粒径は２００ｎｍ以下程度が好ましい。
【００３９】
また、有機導電性組成物を利用することができ、例えば、高分子型導電性組成物が挙げられ、上記した有機化合物以外に、例えば、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられる。更に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重合した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。
【００４０】
樹脂
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物を含む）を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、より好ましくは、電離放射線硬化性樹脂または電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
【００４１】
電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものである。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。
【００４２】
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。
【００４３】
電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等を挙げることができる。
【００４４】
通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若しくは２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好ましい。
【００４５】
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
【００４６】
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。
【００４７】
電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。
【００４８】
電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。
【００４９】
有機ケイ素化合物の１は、一般式ＲｍＳｉ（ＯＲ'）ｎで表せるもので、ＲおよびＲ'は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＯＲ'の添え字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。
【００５０】
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５１】
電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
【００５２】
帯電防止層の形成
帯電防止層として塗膜を形成するには、帯電防止剤と、樹脂と、溶剤（ハードコート層で説明したのと同様であってよい）とを混合した組成物を、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法により塗布する。次に、この液体組成物の塗布後に乾燥する。電離放射線硬化性樹脂の場合、紫外線硬化または電子線硬化を行う。電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。帯電防止層の形成にあっては、帯電防止層の表面抵抗値が、５×１０７Ω／□以下となるよう行うことが好ましい。
【００５３】
３）光透過性基材
光透過性基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル、セルローストリアセテートが挙げられる。
【００５４】
光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは上限が２００μｍ以下であり、下限が３０μｍ以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもい。また、光透過性基材は、その上に光学特性層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。
【００５５】
４）低屈折率層
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層の上に低屈折率層が形成されてなるものが好ましい。低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が１．４６以下の、やはり３０ｎｍ〜１μｍ程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
【００５６】
低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも質量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層を形成する。
【００５７】
低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、好ましくは４０〜８０％、特に好ましくは４０〜７０％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％、好ましくは１０〜５０％、特に好ましくは１５〜４５％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０％、好ましくは０〜３５％、特に好ましくは１０〜３０％含有するものであってもよい。
【００５８】
上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０％以下、好ましくは１０％以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。
【００５９】
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。
【００６０】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００、特に１０，０００〜１００，０００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。
【００６１】
このほか、低屈折率層は、ＳｉＯ２からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により、またはＳｉＯ２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ２ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、ＳｉＯ２以外にも、ＭｇＦ２の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ２薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。
【００６２】
２．光学積層体の製造方法
各層用組成物の調整
帯電防止層、薄層、ハードコート層等用の各組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。
【００６３】
塗工
光透過性基材表面、帯電防止層の表面への各液体組成物の塗布法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
【００６４】
硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。
【００６５】
３．光学積層体の用途
本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体として利用される。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、液晶パネルなどのディスプレイの表面に用いられる。
【００６６】
偏光板
偏光板は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護積層体により主として構成される。本発明の反射防止積層体は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護保護積層体のうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。本発明の光学積層体が保護積層体を兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の光学積層体を最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。偏光膜は、公知の偏光膜、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。
【実施例】
【００６７】
本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の内容は実施例により限定して解釈されるものではない。
【００６８】
実施例１
帯電防止層用組成物１の調製
下記組成表に表された組成物を、混合分散して帯電防止層用組成物を調製した。
【００６９】
帯電防止剤（ＡＴＯ分散液）                                  ５質量部
（ザ・インクテック(株)製、商品名；ＡＳＨＤ３００Ｓ）
シクロヘキサノン                                          ２２質量部
重合開始剤                                              ０．２質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア１８４）
【００７０】
ハードコート層用組成物１の調製
下記組成表に表された組成物を、混合分散してハードコート層用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート                    １００質量部
（日本化薬(株)製、商品名；ＰＥＴ３０）
メチルエチルケトン                                        ４３質量部
レベリング剤                                                ２質量部
（大日本インキ化学工業(株)、商品名；ＭＣＦ-３５０-５）
重合開始剤                                                  ６質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア１８４）
【００７１】
光学積層体の製造
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フイルム(株)製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層用液体組成物１を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が９８ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、０．７ｇ／ｃｍ２（乾燥時）の透明な帯電防止層を形成させて、光学積層体を調製した。帯電防止層を形成した後、ハードコート層用組成物１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が４６ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、１５ｇ／ｃｍ２（乾燥時）の透明帯電防止層を形成させて、光学積層体を調製した。
【００７２】
実施例２
帯電防止層用組成物２の調製
帯電防止剤２（ポリチオフェン分散液）                        １０質量部
（出光テクノファイン（株）製  ＴＡ２０１０）
イソプロピルアルコール                                  ４．９５質量部
シクロヘキサノン                                        ０．０５質量部
【００７３】
光学積層体の製造
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フイルム(株)製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層用液体組成物２を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させて、０．５ｇ／ｃｍ２（乾燥時）の透明な帯電防止層を形成させて、光学積層体を調製した。帯電防止層を形成した後、ハードコート層用組成物１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が４６ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、１５ｇ／ｃｍ２（乾燥時）の透明帯電防止層を形成させて、光学積層体を調製した。この光学積層体をミクロトームで断面カットし、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いてその断面を観察した。その結果は、図３及び図４で示した通りであった。
【００７４】
比較例１
実施例１において、帯電防止層用組成物１におけるシクロヘキサノン、ハードコート層用組成物１におけるメチルエチルケトンを、それぞれトルエンに変えた以外は同様にして光学積層体を調製した。
【００７５】
比較例２
比較例１において、帯電防止層用組成物を下記粒子含有帯電防止用組成物に変えた以外は同様にして光学積層体を調製した。
【００７６】
粒子含有帯電防止層用組成物の調製
帯電防止剤（ＡＴＯ分散液）                                  ５質量部
（ザ・インクテック(株)製、商品名；ＡＳＨＤ３００Ｓ）
干渉縞防止用粒子（シリカ分散液）                            １質量部
（大日精化工業（株）製  商品名  ；EXG ４０−７７（Ｄ−３０Ｍ））
トルエン                                                  ２２質量部
重合開始剤                                              ０．２質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア１８４）
【００７７】
比較例３
実施例２において、下記ハードコート層用組成物２を使用した以外は同様にして光学積層体を調整した。
【００７８】
ハードコート層用組成物２の調製
下記組成表に表された組成物を、混合分散してハードコート層用組成物２を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート                    １００質量部
（日本化薬(株)製、商品名；ＰＥＴ３０）
トルエン                                                  ４３質量部
レベリング剤                                                ２質量部
（大日本インキ化学工業(株)、商品名；ＭＣＦ-３５０-５）
重合開始剤                                                  ６質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア１８４）
【００７９】
評価試験
実施例、比較例で得られた光学積層体について下記評価試験を行い、その評価結果を下記の表１に表した。
【００８０】
評価１：全光線透過率
全光線透過率（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いて測定した。
【００８１】
評価２：ヘイズ値
ヘイズ値（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いて測定した。
【００８２】
評価３：干渉縞発生の有無
光学積層体のハードコート層を積層していない面が起因する裏面反射を防ぐため、光学積層体のハードコート層と反対面の面をサンドペーパーで擦り、その上に黒色テープを貼り、干渉縞検査ランプ（フナテック（株）製  FNA-18）および３波長蛍光灯にてハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。  
評価基準
○：干渉縞検査ランプ、３波長蛍光灯共に干渉縞はない
×：干渉縞検査ランプ、３波長蛍光灯共に干渉縞があった
【００８３】
評価４：ハードコート層表面平坦性評価
ウシオ電機(株)製投影露光装置（USHIO Optical Modeulex 超高圧水銀ランプインスペクション投影式  SX-UI501HEG  ）により、投影された影のムラを目視で観察し、下記評価基準にて評価した。この装置は、投影装置中の光源と白板の間に、評価したい光学積層体サンプルを設置する形態になっており、そのサンプルに光学的な膜厚ムラやひずみがある場合、白板に、その様態が拡大して投影され、目視観察できるようになる評価装置である。サンプルが平坦であれば、表面凹凸起因のムラは目視されないことになる。  
評価基準
評価○：ムラの発生はなかった。  
評価×：ムラの発生があった。
【００８４】
評価５：ギラツキ評価
ハードコート層の反対面に透明粘着付けガラス版に貼り、これに対して緑色に発色させたＣＲＴの光源を通して浅い角度から目視で観察し、ギラツキ度を下記評価基準にて評価した。ここで、ギラツキ度は、ディスプレイ内部からの透過光を、最表面で観察する場合、最表面が平坦ではない場合、つまりは光学的な凹凸ゆがみを持つ場合には、それを起因とするキラキラとした観察の障害となるギラツキを生じる。平坦であれば、ギラツキはない。これを、ギラツキと称し、評価項目とした。  
評価基準
評価○：ギラツキの発生はなかった。  
評価×：ギラツキの発生があった。
【００８５】
表１
評価１        評価２      評価３      評価４      評価５ 
実施例１    ９０．３      ０．４        ○          ○          ○  
実施例２    ９１．５      ０．３        ○          ○          ○  
比較例１    ９０．３      ０．４        ×          ×          ×  
比較例２    ９０．２      ０．９        ○          ×          ×  
比較例３    ９１．５      ０．３        ×          ○          ○  
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の光学積層体の断面図を表す。
【図２】従来の光学積層体の断面図を表す。
【図３】本発明（実施例２）による光学積層体の断面の透過型電子顕微鏡写真である。
【図４】図３における光学積層体の断面の透過型電子顕微鏡拡大写真である。
【図１】
2006126808.tif 000002
【図２】
2006126808.tif 000003
【図３】
2006126808.tif 000004
【図４】
2006126808.tif 000005