(57)【要約】 【課題】      従来の噴流式めっき装置において、めっき対象物の被めっき面と載置部内周面とで形成される微小角部におけるめっき液流動の滞留を解消するめっき処理装置を提供するものである。【解決手段】    めっき槽の上部開口縁に、めっき槽内壁面より内側に突出するように設けられた環状載置台及び該環状載置台上部に配置されたシールパッキンを有する載置部と、めっき槽の底部に設けられた液供給管と、載置部の下方位置に設けられた液流出口とを備え、液供給管から上昇流で供給されるめっき液に、液流出口からめっき槽の外部へ流出させる流動を形成させ、めっき対象物の被めっき面全面にめっき液を接触させてめっき処理を行うめっき装置において、載置部には、めっき対象物の被めっき面と載置部内周面とで形成される微小角部に滞留するめっき液を外部に排出するための液排出孔が設けられているものであるめっき装置とした。【選択図】    図１
2006176820.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき槽の上部開口縁に、めっき槽内壁面より内側に突出するように設けられた環状載置台及び、該環状載置台上部に配置されたシールパッキンを有する載置部と、めっき槽の底部に設けられた液供給管と、載置部の下方位置に設けられた液流出口とを備え、
液供給管から上昇流で供給されるめっき液に、液流出口からめっき槽の外部へ流出させる流動を形成させ、めっき対象物の被めっき面全面にめっき液を接触させてめっき処理を行うめっき装置において、
載置部には、めっき対象物の被めっき面と載置部内周面とで形成される微小角部に滞留するめっき液を外部に排出するための液排出孔が設けられていることを特徴とするめっき装置。
【請求項２】
載置部は、シールパッキンの内側面よりめっき槽中央側に張出すようにされた張出部を有する環状載置台を備え、当該張出部に液排出孔が設けられている、請求項１に記載のめっき装置。
【請求項３】
液排出孔は、環状載置台外周方向へと向かう下り勾配を有し、めっき槽中心から放射状となるように複数形成された、請求項２に記載のめっき装置。
【請求項４】
めっき槽の内壁面と一致するように内側面が形成されたフランジと、
フランジ内側面に、環状載置台を支持するために形成された複数の補強板と、
を有する環状トッププレートとを備え、
当該トッププレートは、載置部とめっき槽上部開口縁との間に挟持されている、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のめっき装置。
【請求項５】
液供給管は、めっき液を１Ｌ／ｍｉｎ〜２０Ｌ／ｍｉｎで供給するように流量調整可能なものである、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のめっき装置。
【請求項６】
載置部にカソード電極、めっき槽内にアノード電極が備えられるとともに、めっき槽内をカソード側とアノード側とに区画する隔壁が設けられており、
当該隔壁は、液供給管の上部から環状載置台の下部に向けて、すり鉢状に配置されている、請求項５に記載のめっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、半導体のウェハーや電子基板等のめっき対象物に対してめっき処理を行う、めっき装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体のウェハーや電子基板等のめっき対象物に対して、種々のめっき処理が行われている。そして、このようなめっき対象物にめっき処理を行う装置の一つとして噴流式めっき装置が知られている。
【０００３】
この噴流式めっき装置は、一般的に、底部に液供給管が設けられたカップ状のめっき槽と、当該めっき槽の開口に沿ってめっき対象物の周縁部を載置できるように形成された載置部と、当該載置部の下方で、且つめっき槽開口を形成する槽内壁面と同一面内に、めっき液を排出できるように設けられた液流出口とを備えた構造とされており、載置部にあるめっき対象物の被めっき面に向けて液供給管からめっき液を供給し、液流出口からめっき液を排出しながらめっき処理を行うようになっている。
【０００４】
つまり、この噴流式めっき装置では、被めっき面に向けて噴流で供給されためっき液が被めっき面の全面に沿うように流動し、液流出口から排出される。特に、液供給管が槽底部中央に設けられている場合、めっき液は被めっき面の中央に向けて噴流されて供給されることになり、被めっき面では、その中央付近から周辺方向に広がるような流動状態でめっき液が接触する。そのため、この噴流式めっき装置は、被めっき面全面に均一なめっき処理を行えるものである。さらに、この噴流式めっき装置は、載置部のめっき対象物を順次取り替えてめっき処理ができるので、小ロット生産やめっき処理の自動化に好適なものとして広く利用されている
【０００５】
ここで図８に、従来の噴流式めっき装置断面図を示す。このめっき装置１００は、めっき槽１１０の上部開口に形成された載置部１２０と、載置部１２０に固定されるカソード電極１２３と、載置部１２０の下方位置に形成された液流出口１３０と、めっき槽１１０底部に設けられた液供給管１４０と、液供給管１４０との周囲に形成されたアノード電極１５０とを備えている。
【０００６】
上記めっき装置１００にてめっき処理を行う場合、被めっき面Ｗｓがめっき槽内に臨むように載置されためっき対象物Ｗを、押圧手段Ｐにより、めっき対象物Ｗの周縁部を押え付けて載置部１２０に固定する。そして、液供給管から被めっき面に向けてめっき液を噴射して供給することにより、被めっき面中心から外周方向へ流動するようなめっき液を被めっき面に接触させ、その後通電してめっき処理を行う。
【０００７】
図９に、図８に示した噴流式めっき装置の載置部の詳細を示す。載置部１２０は、めっき槽１１０の開口と同一形状の開口を有する環状載置台１２１と、当該環状載置台１２１上に設置された環状のシールパッキン１２２と、シールパッキン１２２の上面に設置されたカソード電極１２３とからなる。環状載置台１２１、シールパッキン１２２及びカソード電極１２３は、トップリング１２４によりめっき槽１１０上部開口に固定されている。
【０００８】
図９に示した様に、この従来の噴流式めっき装置では、液流出口１３０が環状載置台１２１の下方位置に形成され、さらに液流出口１３０が、環状載置台１２１の内側面１２１Ａ及びシールパッキン１２２の内側面１２２Ａと一致するように形成されている。そのため、めっき液の、めっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓの周縁部と、環状載置台１２１の内側面１２１Ａ、シールパッキン１２２の内側面１２２Ａおよび液流出口１３０とで形成される角部（図９のＳ１に示す位置）では、めっき液の流動が滞留し、さらにその部分にめっき液中のエアーが溜まりやすい傾向があった。つまり、図８に示す従来の噴流式めっき装置において、上記流動状態を示すめっき液を、めっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓに接触させた場合、被めっき面Ｗｓの周縁部におけるめっき処理が不均一になってしまうのである。このようなことは、めっき処理されるめっき対象物被めっき面の使用可能面積を制限することとなり、めっき対象物が、ウェハーなどの場合には有効チップの生産歩留まりが低下する要因となり好ましくない。
【０００９】
このような、従来の噴流式めっき装置における構造上の特徴から生じるめっき性状の不均一性に対し、本出願人は、載置部の下方位置に設けられた液流出口を、めっき対象物の被めっき面の周縁より外側方向に離れた位置に設けためっき装置を提案した。（例えば特許文献１）
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−１２４１３８公報
【００１１】
特許文献１のめっき装置の例を図１０に示す。めっき装置の構成は、図８で示した従来の噴流式めっき装置と同様であるが、液流出口１３０が載置部１２０内周面１２０Ａより外側方向に形成されている。
【００１２】
特許文献１のめっき装置によれば、液流出口１３０付近でめっき液の滞留は依然生じるものの、液流出口１３０がめっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓ周縁より外側に位置するために、被めっき面Ｗｓ周縁におけるめっき液流動の滞留を避けることができる。つまり、液流出口１３０付近で生じるめっき液流動の滞留がめっき対象物Ｗのめっき性状に直接影響を及ぼさなくなることから、めっき処理の不均一性を有効に防止できるものである。
【００１３】
しかしながら、本願出願人が提案した特許文献１のめっき装置であっても、図１１に示すように、めっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓと、環状載置台１２１の内側面１２１Ａ及びシールパッキン１２２の内側面１２２Ａとによって、微小な角部（Ｓ２）が形成される。そしてこの微小角部Ｓ２においては、依然としてめっき液の流動が若干滞留するため、被めっき面Ｗｓの周縁部の縁端付近におけるめっき性状が不均一となる傾向があった。
【００１４】
ところが、近年のめっき処理装置は、従来のめっき装置に求められていためっき処理の高速化や、高精度なめっき性状の均一性に加えて、例えばめっき対象物がウェハーの場合、一枚のめっき対象物からより多くの有効チップを取得できる技術が求められている。図１１に示される微小角部Ｓ２は、図８および図９に示されるの従来の噴流式めっき装置における角部Ｓ１と比べればかなり微小である。しかし、この微小角部におけるめっき液の流動を改善することができれば、めっき対象物の被めっき面周縁部において、高精度なめっき性状のめっき処理が可能となり、めっき対象物がウェハーである場合、従来のめっき装置でめっき処理した場合と比較して、さらに多くの有効チップの取得が期待できる。
【００１５】
また、高い製造効率の要請から、めっき対象物の大面積化が進行しており、このようなめっき対象物においてもさらなる高精度なめっき性状の均一性を有するめっき処理が望まれている。例えばめっき対象物がウェハーである場合、ウェハーの口径が大きくなるにつれて被めっき面周縁部で取得できる有効チップ量が増大することから、被めっき面の周縁部の縁端付近まで、均一なめっき処理が実現できる技術が強く要望されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本願発明は、以上のような事情を背景になされたものであり、噴流式めっき装置における、載置部内周面と被めっき面とで形成される微小角部で生じるめっき液流動の滞留を、容易に解消できるめっき処理技術を提供せんとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するために、本発明者が鋭意研究した結果、本発明は、めっき槽の上部開口縁に、めっき槽内壁面より内側に突出するように設けられた環状載置台及び、該環状載置台上部に配置されたシールパッキンを有する載置部と、めっき槽の底部に設けられた液供給管と、載置部の下方位置に設けられた液流出口とを備え、液供給管から上昇流で供給されるめっき液に、液流出口からめっき槽の外部へ流出させる流動を形成させ、めっき対象物の被めっき面全面にめっき液を接触させてめっき処理を行うめっき装置において、載置部には、めっき対象物の被めっき面と載置部内周面とで形成される微小角部に滞留するめっき液を外部に排出するための液排出孔が設けられているものとした。
【００１８】
本発明において、載置部内周面とは、載置部における、環状載置台内側面とシールパッキン内側面とが有する厚みに起因して形成される段差における側面を言う。この載置部に液排出孔を形成することで、微小角部に滞留するめっき液は、液排出孔により外部へと排出するようになるので、微小角部におけるめっき液流動の滞留を解消することが可能となる。
【００１９】
載置部に形成される液排出孔は、上記微小角部におけるめっき液流動の滞留を防止できるのであれば、どのような構造でもかまわない。たとえば、環状載置台内側面から環状載置台下面に向けて、これらの面に沿って形成しても良く、環状載置台またはシールパッキンの内側面にめっき液を外部に排出できる孔を形成しても良い。好ましくは、環状載置台の加工が容易であり、さらに載置部におけるシール性が損なわれないものが良い。
【００２０】
そして、本願発明に係るめっき装置において、載置部は、シールパッキンの内側面よりめっき槽中央側に張出すようにされた張出部を有する環状載置台を備え、当該張出部に液排出孔が設けられているものが好ましい。張出部を有する環状載置台を採用すれば、液排出孔を容易に設けることができるとともに、載置部におけるシール性も維持できるからである。なお、この載置台における環状載置台の張出部は、シールパッキンの開口径を大きくすることで、環状載置台が張出すようにして形成しても良いものである。
【００２１】
そして、液排出孔は、環状載置台外周方向へと向かう下り勾配を有し、めっき槽中心から放射状となるように複数形成されていることが好ましい。環状載置台の張出部に上記勾配を有する液排出孔を形成すると、微小角部のめっき液は液排出孔から外部へと排出されるようになるため、微小角部におけるめっき液流動の滞留を解消できるからである。
【００２２】
本発明のめっき装置では、載置部がめっき槽内壁より内側に突出した状態で形成されているため、この突出部分にめっき対象物を載置し、押圧手段にて固定すると、載置部は強度不足により破損する恐れがある。そこで、載置部の突出部分には何らかの補強手段を設ける必要がある。補強手段はどのような構造でも良いが、めっき液流動をなるべく妨げないような構造を採用することが好ましい。
【００２３】
上記の点に鑑み、本願発明に係るめっき装置は、めっき槽の内壁面と一致するように内側面が形成されたフランジと、フランジ内側面に載置部を支持するために形成された複数の補強板とを有する環状トッププレートを備え、当該トッププレートは、載置部とめっき槽上部開口縁との間に挟持されているものとすることが好ましい。
【００２４】
環状トッププレートとは、フランジと補強板で構成され、フランジ内側面に複数の補強板が一体に構成されている環状のプレートである。この環状トッププレートを従来のめっき装置のめっき槽と載置部との間に挟持させれば、載置部の突出部分の下面が補強板と当接するようになり、載置部を補強することが可能になる。
【００２５】
上記環状トッププレートを採用する最大のメリットは、製造コストの面で優位性があることである。なぜならこれは、従来技術の噴流式めっき装置における載置部とめっき槽との間にこの環状トッププレートを挟持させるという比較的簡単な作業で本願発明に係るめっき装置に改造できるからである。
【００２６】
加えて、本願発明にかかるめっき装置における液供給量は、めっき液を１Ｌ／ｍｉｎ〜２０Ｌ／ｍｉｎで供給するように流量調整可能なものが好ましい。めっき液の供給流量が１Ｌ／ｍｉｎ未満であれば、高電流のめっき処理ができなくなる傾向となり実用的でなく、２０Ｌ／ｍｉｎを超えれば微小角部でのめっき液の流動の滞留が生じるおそれがあるからである。
【００２７】
液供給管におけるめっき液の流量調整は、上記に示す流量を確保できれば、どのような構造でもかまわないが、液供給管の液吐出部が、被めっき面から２０ｍｍ程度下方に位置するように液供給管を形成するのがよい。このように液供給管を配置するのは、めっき液の種類、めっき電流や、めっき液の供給流量等のめっき処理条件にもよるが、液供給管の液吐出部が、被めっき面に近づきすぎると、被めっき面中央と周縁付近とのめっき処理が均一にならないと予測されるからである。
【発明の効果】
【００２８】
本願発明に係るめっき装置であれば、従来の噴流式めっき装置において、めっき対象物の被めっき面と載置台の内周面とで形成される微小角部で生じていためっき液の滞留を効果的に解消することができる。これにより、めっき対象物の被めっき面の使用可能面積が拡大することとなり、例えばめっき対象物がウェハーの場合、有効チップの生産歩留まりを上昇させることが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本願発明に係るめっき装置の好ましい実施形態について図面を参照しつつ説明する。
【００３０】
第一実施形態：この第一実施形態のめっき装置は、めっき槽と載置部との間に環状トッププレートを挟持し、さらに環状載置台に複数の液排出孔を有する張出部を設けたものである。図１に、本実施形態におけるめっき装置の概略断面図を示す。本実施形態におけるめっき槽１０の上部開口部には環状トッププレート６０がめっき槽１０内壁面とフランジ６１内側面が一致するように設けられている。
【００３１】
そして、載置部２０下部にはめっき槽１０内に供給されためっき液を排出する液流出口３０が設けられ、めっき槽１０の底部中央には槽内にめっき液を供給する液供給管４０が設けられている。さらに、液供給管４０の周囲には、被めっき面Ｗｓに対向するようにアノード電極５０が配置されている。このアノード電極５０とカソード電極２３とは、めっき電流供給電源に接続されている。
【００３２】
第一実施形態：この第一実施形態のめっき装置は、めっき槽と載置部との間に環状トッププレートを挟持し、さらに環状載置台に複数の液排出孔を有する張出部を設けたものである。図１に、本実施形態におけるめっき装置の概略断面図を示す。本実施形態におけるめっき槽１０の上部開口部には環状トッププレート６０が設けられ、フランジ６１の上面には、載置部２０が設けられている。環状トッププレート６０の上面に載置部２０を設けると、載置部２０の突出部分には補強板６２が当接するので、載置部の補強ができる。
【００３３】
そして、めっき槽１０の底部中央には槽内にめっき液を供給する液供給管４０が設けられている。さらに、液供給管４０の周囲には、被めっき面Ｗｓに対向するようにアノード電極５０が配置されている。このアノード電極５０とカソード電極２３とは、めっき電流供給電源に接続されている。
【００３４】
図２は、第一実施形態に係るめっき装置の載置部の概略断面図を示している。載置部２０は、カソード電極２３とその下にあるめっき液漏洩防止用のシールパッキン２２と、環状載置台２１とからなり、これらをトップリング２４により環状トッププレート６０の開口に固定させている。そして、載置部２０には、めっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓを下方にした状態でめっき対象物Ｗの周辺部分が載置され、押圧手段Ｐに設けられた環状の押圧部材によりめっき対象物Ｗｓ上面の全周を押圧して載置部へめっき対象物Ｗを固定するようになっている。このとき、めっき対象物Ｗの周縁部は、シールパッキンによってシールされるとともに、めっき電流用のカソード電極２３と接触することとなる。尚、シールパッキン２２の先端側は、凸部が設けられており、めっき液が外部に漏れることを確実に防止することができる。（特開２００４−６８０９３公報）
【００３５】
ここで、環状トッププレートについて説明する。環状トッププレート６０はフランジ６１と補強板６２とで形成され、補強板６２はフランジ６１の内側面に複数形成されている。そしてこの補強板６２は、めっき槽１０中心方向へ突出するように、放射状に立設されている。この補強板６２を設けると、補強板とフランジとにより区画された空間、即ち区画液室が、複数かつ放射状に形成される。その、各区画液室には、めっき液流出用の開口部（図示せず）を、フランジ上部に設けている。この場合、めっき液流出用の開口部と、環状トッププレート内側面と一致する面が液流出口となる。
【００３６】
このトッププレート６０フランジ内側面６１と、めっき槽１１の内壁面とが一致するように設置し、さらにフランジ上面に載置部を設置すると、放射状に複数形成された補強板が載置部の突出部分に当接するようになる。つまり、めっき槽開口と載置部との間に環状トッププレートを挟持するだけで載置部が補強板により支持され、載置部の強度を確保することができる。また、上記のように環状トッププレートを設置すれば、液流出口形成用開口部と、液流出路とは連通するようになるので、液流出口形成用の開口部からめっき液を排出することができる。
【００３７】
続いて、図３に本実施形態で用いている環状載置台の平面図を示す。この図に示されるように、この環状載置台２１は環状であり、張出部２１Ｂと、本体部２１Ｃとから形成されている。張出部２１Ｂには全周にわたって液排出孔２５が形成されている。
【００３８】
張出部２１Ｂは、載置部２０のシールパッキン２２の内側面２２Ａより２〜３ｍｍ程度めっき槽中央側に張出しているのが好ましい。３ｍｍより長いと、張出部によりめっき液の流動が遮断され、めっき液の流動が不均一となり、めっき性状に影響する恐れがあるからであり、２ｍｍより短くすると、張出部の加工が難しくなるからである。
【００３９】
なお、液排出孔２５の間隔は、環状載置台２１の中心と各液流出孔を結んで得られる線分Ｌ（図４参照）とのなす角度が３°となる間隔としている。また液排出孔２５の形状は、図４に示す通り、環状載置台２１外周方向へと向かう下り勾配を有し、円錐台状である。
【００４０】
次に、本実施形態に係るめっき装置において、上記載置台を用いた場合の微小角部おけるめっき液の流動について図２を用いて説明する。本実施形態に係るめっき装置において、めっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓに向けて供給されるめっき液は、被めっき面Ｗｓの中央付近から、周辺方向に広がるような流動Ｆが生じている。そして、被めっき面Ｗｓの周縁部では、めっき液の流動が滞留することなく液流出口に向かって流動している。
【００４１】
このめっき液の流動Ｆは、環状載置台張出部２１Ｂに設けた液排出孔２５の近傍において吸引力ｆを生じさせている。そのため、微小角部Ｓ２におけるめっき液は、吸引力ｆにより引張られて、液排出孔２５から液流出口３０へと向かう流動を形成する。また、本実施形態のめっき装置では、環状載置台２１の張出部に設けた液排出孔２５を、環状載置台２１外周方向へと向かう下り勾配、すなわち微小角部Ｓ２に滞留するめっき流動が液流出口３０へと向かうように形成しているので、この部分に滞留するめっき液は、液排出孔２５通過後、めっき液の流動Ｆともに外部へ排出される。
【００４２】
つまり、上記環状載置台を用いためっき装置では、環状載置台に設けた張出部に形成した液排出孔により、微小角部におけるめっき液流動の滞留を防止することが可能となり、微小角部においても、更なる均一なめっき処理が可能となる。
【００４３】
つぎに、上記第一実施形態のめっき装置において、めっき対象物としてウェハーをめっき処理した際のめっき処理有効面積調査を行った結果を説明する。めっき処理有効面積調査は、被めっき面にＡｕの金属シードが施されたＡｕシード付ウェハーの被めっき面全面にＡｕめっきすることで行った。この調査に使用するウェハーは直径２００ｍｍで、ウェハーの被めっき面は直径１９０ｍｍである。そして、めっき液は、ノンシアン系Ａｕめっき液（商品名ミクロファブＡｕ：日本エレクトロプレイテイングエンジニヤース社製）を使用した。また、比較のために、従来の噴流式めっき装置（図８）、特許文献１のめっき装置（図１０）についても同様な条件で、めっき処理をおこなった。
【００４４】
従来の噴流式めっき装置（図８）で上記ウェハーをめっき処理した場合、被めっき面の周縁から１５〜２０ｍｍ程度内側の部分で、めっき厚が薄くなる傾向がある。そして、被めっき面周縁から１０ｍｍ内側までの部分では、エアー滞留の影響により、不均一なめっき性状となる。上記の場合、めっき性状の不均一な部分は、めっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓ全体の約２５％近くを占め、この部分で有効なチップを取得することができない。
【００４５】
また、特許文献１のめっき装置（図１０）において上記ウェハーをめっき処理した場合、被めっき面周縁から３〜５ｍｍ程度内側の部分で、めっき厚が薄くなる傾向があった。そして、被めっき面周縁から２ｍｍ内側までの部分では、エアー滞留の影響やめっき液の流動が止まること起因して、不均一なめっき性状となった。この場合、めっき性状の不均一な部分は、めっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓ全体の約３％を占め、従来の噴流式めっき装置と比較して良好ではあるが、依然としてこの部分では有効なチップを取得することができない。
【００４６】
一方、第一実施形態のめっき装置において上記ウェハーのめっき処理をした場合、被めっき面全面においてめっき厚は均一であり、被めっき面周縁においても、エアーの滞留はみられなかった。これにより、第一実施形態のめっき装置にて上記ウェハーをめっき処理した場合、特許文献１のめっき装置では有効チップの取得が不可能であった被めっき面周縁部において、有効チップの取得が可能となった。
【００４７】
なお、液排出孔は、本実施形態に記載されたものに限られない。例えば図５に示す様に環状載置台内側面から環状載置台下面に向けてこれらの面に沿って形成したものでも良く、また図６には環状載置台またはシールパッキンの内側面にめっき液を外部に排出できる孔を形成したものでも良い。
【００４８】
第二実施形態：この第二実施形態は、第一実施形態のめっき装置において、液供給管はめっき槽底面から突出した状態で形成され、さらに液供給管の上部から環状載置台の内側面下部に向けてすり鉢状に配置した隔壁を備えるタイプのめっき装置である。尚、この第二実施形態を説明する図７では、上記第一実施形態のめっき装置と同じ構成を有している部材には同一の符号を付している。
【００４９】
めっき槽１０の上部開口に沿って環状トッププレート６０が配置され、その上に載置部２０が配置されている。そして、この載置部２０には、めっき対象物Ｗが載置され、このめっき対象物Ｗの被めっき面Ｗｓに対してめっき処理を行う。液流出口３０、アノード電極５０、及びめっき対象物Ｗのめっき方法は、第一実施形態の場合と同様であるので詳細は省略する。
【００５０】
液供給管４０は、めっき槽１０の中心位置に形成されている。また、液供給管４０の液吐出口４０Ａは、被めっき面Ｗｓより２０ｍｍ下方位置になるように形成されている。そして、液供給管４０は、めっき液をめっき槽１０内に１Ｌ／ｍｉｎ〜２０Ｌ／ｍｉｎで供給するように調整されている。
【００５１】
また、隔膜７０は、液供給管４０の上部から環状載置台２１の内側面下部に向けて、すり鉢状に配置され、環状載置台２１の内側面下部に接合されている。この隔膜７０の配置によって、めっき槽１０の内部は、カソード側とアノード側とに区画される。アノード側には、アノード電極５０から発生して隔膜７０付近に集まるエアーを抜くためのガス放出口（記載せず）を設けている。
【００５２】
第二実施形態のめっき装置を用いてめっき処理をしたところ、アノードから発生するエアーやアノードスラッジを隔膜７０により遮断することができた。それにより、アノードから発生するエアーやアノードスラッジがカソード側に侵入するのを防止できたので、めっき対象物の被めっき面におけるめっき性状がさらに均一となることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】第一実施形態のめっき装置における載置部の概略断面図
【図２】第一実施形態のめっき装置における載置部の概略断面図
【図３】第一実施形態のめっき装置に使用する環状載置台の平面図
【図４】環状載置台の液排出孔詳細図
【図５】液排出孔の例１
【図６】液排出孔の例２
【図７】第二実施形態のめっき装置における概略断面図
【図８】従来技術の噴流式めっき装置概略断面図
【図９】従来技術の噴流式めっき装置における載置部の概略断面図
【図１０】特許文献１のめっき装置概略断面図
【図１１】特許文献１のめっき装置における載置部の概略断面図
【符号の説明】
【００５４】
１    めっき装置
１０    めっき槽
２０    載置部
２１    環状載置台
２１Ａ  環状載置台内側面
２１Ｂ  環状載置台張出部
２１Ｃ  環状載置台本体部
２２    シールパッキン
２２Ａ  シールパッキン内側面
２３    カソード電極
２４    トップリング
３０    液流出口
４０    液供給管
５０    アノード電極
６０    環状トッププレート
６１    フランジ
６２    補強板
７０    隔膜
Ｆ      めっき液の流動
Ｐ      押圧手段
Ｓ１    角部
Ｓ２    微小角部
Ｗ      めっき対象物
Ｗｓ    被めっき面
ｆ      吸引力
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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