(57)【要約】      （修正有）【課題】電磁波の遮蔽はもとより，色域機能およびコントラストを向上させることの可能な電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置を提供する。【解決手段】  透明基材３１と，透明基材３１の上部に形成された接着層３２と，接着層３２の上部に形成された金属パターン３３と，金属パターン３３の間に形成され，透明物質と選択的吸光物質であるテトラアザホルフィリン系化合物とを含有する透明選択的吸光層３４とを備える電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置。【選択図】図３
2006086517.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
色域向上用の電磁波遮蔽フィルムであって，
透明基材と，
前記透明基材の上部に形成された接着層と，
前記接着層の上部に形成された金属パターンと，
前記金属パターンの間に形成され，透明物質と選択的吸光物質であるテトラアザホルフィリン系化合物とを含有する透明選択的吸光層と，
を備えることを特徴とする，電磁波遮蔽フィルム。
【請求項２】
前記テトラアザホルフィリン系化合物は，下記化学式１または２で表示される化合物であることを特徴とする，請求項１に記載の電磁波遮蔽フィルム。
【化１】
2006086517.tif 000009
【化２】
2006086517.tif 000010
前記化学式１または２中，Ｒ１〜Ｒ４は，互いに独立的な置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルキル基，置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルコキシ基，置換または非置換のＣ６−Ｃ２０のアリール基，置換または非置換のＣ５−Ｃ２０のシクロアルキル基，置換または非置換のＣ２−Ｃ２０のヘテロアリール基およびハロゲン原子からなる群から選択されてもよく，Ｍは，ニッケル（Ｎｉ），マンガン（Ｍｎ），マグネシウム（Ｍｇ），コバルト（Ｃｏ）および銅（Ｃｕ）からなる群から選択される。
【請求項３】
前記テトラアザホルフィリン系化合物は，化学式３，４，または５で表示される化合物であることを特徴とする請求項２に記載の電磁波遮蔽フィルム。
【化３】
2006086517.tif 000011
前記化学式３中，Ｒ１〜Ｒ４は，メチル基，ブチル基またはフェニル基である。
【化４】
2006086517.tif 000012
前記化学式４中，Ｒ１〜Ｒ４は，メチル基，ブチル基またはフェニル基である。
【化５】
2006086517.tif 000013
前記化学式５中，Ｒ１〜Ｒ４は，メチル基，ブチル基またはフェニル基である。
【請求項４】
前記金属パターンは，メッシュ状であることを特徴とする請求項１〜３のうちいずれかに記載の電磁波遮蔽フィルム。
【請求項５】
前記選択的吸光物質は，５５０〜６１０ｎｍ波長の光を選択的に吸収できる物質であることを特徴とする請求項１〜４のうちいずれかに記載の電磁波遮蔽フィルム。
【請求項６】
前記透明物質は，ポリエステル樹脂，チオールオレフィン樹脂，アクリル系樹脂，エポキシ系樹脂，プリポリマーと多官能性ビニル系モノマーとの化合物，尿素系，フェノール系，酢酸ビニル系，ニトリルゴム系，アクリル系，ネオプレンゴム系，エポキシ樹脂，ポリウレタン系，シリコンゴム系からなる群から選択された一つ以上であることを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽フィルム。
【請求項７】
前記透明選択的吸光層で，選択的吸光物質の含量は，透明物質と選択的吸光物質との総重量１００重量部を基準にして，０．１重量部〜２０重量部であることを特徴とする請求項１〜６のうちいずれかに記載の電磁波遮蔽フィルム。
【請求項８】
前記透明選択的吸光層の厚さは，１μｍ〜２００μｍであることを特徴とする請求項1〜７のうちいずれかに記載の電磁波遮蔽フィルム。
【請求項９】
透過率が３０％〜８０％であり，色温度が８０００〜１２０００Ｋであり，伝導度が０．５Ｓ／ｍ以下であり，赤色の色座標の範囲ｘが，０．６４〜０．７０であり，ｙが，０．２４〜０．３４である請求項１〜８のうちいずれかに記載の電磁波遮蔽フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のうちいずれかに記載の電磁波遮蔽フィルムを採用したプラズマ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置にかかり，特に電磁波遮蔽はもとより，色域機能とコントラストとを向上させることができる電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマ表示装置は，他の画像表示装置に比べて大型化の容易な薄型の発光型表示装置であって，高品質デジタルテレビに最も適した特性を有していると評価されている。しかし，プラズマ表示装置は，プラズマ発光および回路によって生成される電磁波と，画面発光時に使われる不活性機体のプラズマによる近赤外線の不要な発光とによって，色純度特性が低下する問題点がある。したがって，プラズマ表示装置で発生する電磁波および近赤外線による人体への有害と精密機器の誤作動とを防止するだけでなく，表面反射を減らして，色純度を向上させるために，プラズマ表示装置の前面にフィルタを設置している。
【０００３】
プラズマ表示装置に使われるフィルタは，一般的に透明ガラスやプラスチック基板上に導電膜や金属メッシュを処理し，近赤外線遮断および反射防止フィルムを積層する方式を使用しており，導電膜または金属メッシュに帯電される電荷をプラズマ表示装置内部のシャーシーを介して接地させる。
【０００４】
図１は，一般的なフィルタを採用したプラズマ表示装置の構造を概略的に示す図面である。図１を参照すれば，プラズマ表示装置のパネルおよび駆動回路１０の前面には，前面フィルタ１１が設置されている。この時，前面フィルタ１１は，ガラスまたはプラスチック基板１２の上部には，反射防止層１３が形成されており，前記ガラスまたはプラスチック基板１２の下部には，電磁波遮蔽層１４，近赤外線遮断および選択的波長の吸収フィルム１５が順次に積層された構造になっている。前記プラズマ表示装置のパネルおよび駆動回路１０および前面フィルタ１１は，ケース１６に収納されている。
【０００５】
プラズマ表示装置の前面に採用可能な他のフィルタとして，図２に示すようなメッシュフィルム２０が公示されている。
【０００６】
図２を参照すれば，透明基材２１上に接着層２２が形成されており，その上部に，メッシュ状の金属パターン２３が形成されている。ところが，このようなメッシュフィルム２０において，基材２１とメッシュ状の金属パターン２３とが分離または損傷される可能性がある。そして，金属パターン間の空き空間を埋めていない状態で他のフィルムに接合した場合，金属パターンとフィルムとの間の空気層の形成により，乱反射が発生して，画像がかすんで見える現象が発生する。したがって，このメッシュフィルムを他の基材に付着する以前に，空き空間に透明な物質を利用して埋める作業が必要となる。そして，このようなメッシュフィルムをプラズマ表示装置に適用するためには，近赤外線遮断が可能な色素含有フィルムを別途に製作し，これを図２のメッシュフィルムの上部に接合する方法を使用した。
【０００７】
ところが，この方法によれば，フィルタの製造工程が長く，かつ煩わしいという短所があり，他にも，ヘーズの減少，透過率およびコントラストの向上などの改善の余地が多い。
【０００８】
なお上記において，構成要素に付随して記した参照符号は，理解を容易にするため，後述の実施形態および図面における対応する構成要素および信号を一例として記したに過ぎず，本発明がこれに限定されるものではない。
【０００９】
【特許文献１】米国特許第６７６８６０２号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は，従来の電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的は，電磁波の遮蔽はもとより，色域機能およびコントラストを向上させることの可能な，新規かつ改良された電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため，本発明の第１の観点によれば，透明基材と，前記透明基材の上部に形成された接着層と，前記接着層の上部に形成された金属パターンと，前記金属パターンの間に形成され，透明物質と選択的吸光物質であるテトラアザホルフィリン系化合物とを含有する透明選択的吸光層とを備える色域向上用の電磁波遮蔽フィルムが提供される。
【００１２】
前記金属パターンは，電磁波を遮蔽する効果のあるメッシュ状とすることができる。
【００１３】
本発明のほかの観点によれば，本発明の色域向上用の電磁波遮蔽フィルムを採用したプラズマ表示装置が提供される。
【００１４】
５５０ｎｍ〜６１０ｎｍ領域の光を吸収し，熱安定性に優れた光選択吸収剤であるテトラアザホルフィリン化合物を含む電磁波遮蔽フィルムが提供される。
【００１５】
前記透明選択的吸光層で，選択的吸光物質の含量は，透明物質と選択的吸光物質との総重量１００重量部を基準にして，０．１重量部〜２０重量部とすることができる。その理由として，選択的吸光物質の含量が０．１重量部未満であれば，吸光度が低下し，適切なレベルの色再現範囲が得られない。また，近赤外線透過率が高いため，電子製品の誤動作の発生率が高まる。逆に，２０重量部を超えれば，全体的な透過率が低下するからである。
【００１６】
前記透明選択的吸光層の厚さは，１μｍ〜２００μｍとすることができる。その理由として，厚さが１μｍ未満であれば，均一な厚さにコーティングしにくく，吸収率自体が低いため，適切なレベルの色再現範囲を具現しにくい。近赤外線吸収率も十分な効果をだしにくく，厚さが１０００μｍを超えれば，後処理工程で気泡問題が発生する可能性があり，コーティング層が割れる現象が発生するためである。
【００１７】
前記色域向上用の電磁波遮蔽フィルムは，透過率が３０％〜８０％であり，色温度が８０００Ｋ〜１２０００Ｋであり，伝導度が０．５Ｓ／ｍ以下であり，赤色の色座標範囲ｘが，０．６４〜０．７０であり，ｙが，０．２４〜０．３４とすることができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように，本発明によれば，電磁波遮蔽フィルムは，従来のメッシュフィルムに比べて色域が改善されるだけでなく，コントラスト特性および熱安定性が改善される。また，一枚のフィルムが電磁波遮蔽機能はもとより，色域向上機能も備えており，フィルタ製作時に既存の方式に比べて，接合回数および付加的な作業工程を簡略化でき，プラズマ表示装置のパネルにフィルタを直接付着する時にも対応が容易であるという長所がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下に添付図面を参照しながら，本発明にかかる電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置の好適な実施形態について詳細に説明する。なお，本明細書および図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２０】
（第１実施形態）
以下，本発明の色域向上用の電磁波遮蔽フィルムの製造工程を説明する。
【００２１】
まず，透明基材の上部に接着層を形成した後，この接着層の上部にパターン化されたメッシュ状の金属パターンを積層する。ここで，透明基材としては，ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ），ＴＡＣ（Ｔｒｉ−ａｃｅｔｙｌ−ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ），ポリビニルアルコール（ＰＶＡ），ポリエチレン（ＰＥ）などを利用し，その厚さは，１０μｍ未満の場合には，工程時にフィルムが損傷し，不均一な圧力によって破損されやすい。また，１０００μｍ以上の場合，フィルム製作後の接合工程で気泡不良が発生しやすい。適切な厚さは，１０μｍ〜１０００μｍであり，特に，５０μｍ〜５００μｍであることが好ましい。
【００２２】
前記メッシュ状の金属パターンは，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ａｌ，Ａｕ，Ｆｅ，Ｐｔ，Ｃｒからなる群から選択された物質を利用して形成される。そして，接着層は，粘着剤などを利用して形成され，その具体的な材料としては，アクリル系樹脂，ポリエステル樹脂，エポキシ樹脂，ウレタン樹脂などを挙げうる。そして，接着層の厚さは，１μｍ未満の場合，フィルムの接合後，充分な接合力を有することができず剥がれやすく，１０００μｍ以上の場合には，接合工程時の不均一な圧力により，接着層が端からはみ出すような不良が発生しやすい。適切な接着層の厚さは，１μｍ〜１０００μｍであり，特に，１０μｍ〜５００μｍであることが好ましい。
【００２３】
前記したメッシュ状の金属パターンを有するフィルタを形成する方法としては，銅金属薄板をポリエチレンテレフタレート基材の上部に粘着剤を利用して付着した後，エッチングを施して格子型のメッシュパターンを形成する方法，ガラス，フィルム，または金属基板上にパターンを形成した後，メッキ法を利用する方法，金属性繊維メッシュを利用する方法，プリンティング方法などを使用できる。
【００２４】
前記メッシュ状の金属パターンの間に透明物質と選択的吸光物質であるテトラアザホルフィリン化合物との混合物をスクリーン印刷，テーブルコーター器，キャップコーター器，バーコーター器，ブレードなどを利用して塗布した後，それを乾燥および硬化処理して，透明選択的吸光層を形成する。
【００２５】
前記硬化処理時，ＵＶ硬化，電子線硬化または熱硬化を適用できる。
【００２６】
前記した透明物質と選択的吸光物質との混合物の塗布後，表面状態がよくない場合には，表面が均一な基材，例えば，ガラス基板などを利用してコーティング膜を均一にした後，後続の硬化処理工程を行う。
【００２７】
前記透明物質としては，無色の透明物質であって，透過率が９０％以上であるものを使用する。これには，ＵＶ硬化剤，電子線硬化剤，熱硬化剤，バインダー，接着剤などが属し，前記ＵＶ硬化剤の具体的な例として，不飽和ポリエステル樹脂，チオールオレフィン樹脂，アクリル系樹脂，エポキシ系樹脂などがあり，前記電子線硬化剤の具体的な例として，プリポリマーと多官能性ビニル系モノマーとの化合物などがあり，前記熱硬化剤の具体的な例として，尿素系，フェノール系，酢酸ビニル系，ニトリルゴム系，アクリル系，ネオプレンゴム系，エポキシ系樹脂，ポリウレタン系，シリコンゴム系などを挙げうる。そして，前記接着剤およびバインダーの具体的な例としては，アクリル系樹脂などを挙げうる。
【００２８】
前記テトラアザホルフィリン系化合物の例としては，下記化学式１または２で表示する化合物を挙げうる。
【００２９】
【化１】
2006086517.tif 000003
【００３０】
【化２】
2006086517.tif 000004
【００３１】
前記化学式１または２中，Ｒ１〜Ｒ４は，互いに独立的に置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルキル基，置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルコキシ基，置換または非置換のＣ５−Ｃ２０のシクロアルキル基，置換または非置換のＣ６−Ｃ２０のアリール基，置換または非置換のＣ２−Ｃ２０のヘテロアリール基およびハロゲン原子からなる群から選択され，Ｍは，ニッケル（Ｎｉ），マンガン（Ｍｎ），マグネシウム（Ｍｇ），コバルト（Ｃｏ）および銅（Ｃｕ）からなる群から選択される。
【００３２】
前記Ｒ１〜Ｒ４の具体的な例として，プロピル基，イソプロピル基，ブチル基，第３ブチル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基などの置換基を挙げうる。
【００３３】
前記化学式１または２で表示されるテトラアザホルフィリン化合物は，特に，下記化学式３，化学式４または化学式５で表示される化合物を挙げうる。
【００３４】
【化３】
2006086517.tif 000005
【００３５】
前記化学式３中，Ｒ１〜Ｒ４は，メチル基，ブチル基またはフェニル基である。
【００３６】
【化４】
2006086517.tif 000006
【００３７】
前記化学式４中，Ｒ１〜Ｒ４は，メチル基，ブチル基またはフェニル基である。
【００３８】
【化５】
2006086517.tif 000007
【００３９】
前記化学式５中，Ｒ１〜Ｒ４は，メチル基，ブチル基またはフェニル基である。
【００４０】
前記選択的吸光物質であるテトラアザホルフィリン化合物の含量は，透明物質と選択的吸光物質との総重量１００重量部を基準にして，０．１〜２０重量部であることが好ましい。選択的吸光物質の含量が０．１重量部未満であれば，吸光度が低下し，適切なレベルの色再現範囲が得られない。また，近赤外線透過率が高いため，電子製品の誤動作の発生率が高まる。逆に，２０重量部を超えれば，全体的な透過率が低下するため，好ましくない。
【００４１】
前記透明選択的吸光層の膜厚さは，１μｍ〜１０００μｍであることが好ましい。厚さが１μｍ未満であれば，均一な厚さにコーティングしにくく，吸収率自体が低いため，適切なレベルの色再現範囲を具現しにくく，近赤外線吸収率の十分な効果がでにくく，厚さが１０００μｍを超えれば，後処理工程で気泡問題が発生する可能性があり，コーティング層が割れる現象が発生するため好ましくない。
【００４２】
本発明の色域向上用の電磁波遮蔽フィルムは，透過率は，画像品質特性の低下を防止するため，透過率は３０％〜８０％が好ましい。また，電導度が０．５Ｓ／ｍを超過すると，ＥＭＩ規格を満足させられないため，伝導度は１．５Ｓ／ｍ以下が好ましい。また，色座標および色温度は，規格を画像具現は可能だが，ディスプレイ上で色を表示する面積が小さくなって、実際イメージと一致する色を具現することが難しいため，色温度が８０００Ｋ〜１２０００Ｋ，赤色の色座標範囲ｘが，０．５８〜０．７２であり，ｙが，０．２〜０．４以内であり，特に，ｘが，０．６４〜０．７０，ｙが，０．２４〜０．３４以内であることが好ましい。
【００４３】
図３は，本実施形態のおける電磁波遮蔽フィルム３０の構造を概略的に示す説明図である。
【００４４】
図３を参照すれば，透明基材３１の上部に接着層３２が形成されており，その上部には，金属パターン３３が積層されている。この時，金属パターンの形態が特別に制限されるものではないが，本発明では，メッシュ状を有することが電磁波遮蔽の効果面で好ましい。そして，金属パターン３３の間には，透明物質と選択的吸光物質であるテトラアザホルフィリン系化合物とを含む透明選択的吸光層３４が形成されている。
【００４５】
以下，前記した電磁波遮蔽フィルムを採用したプラズマディスプレイパネルについて説明する。
【００４６】
本発明のプラズマディスプレイパネルは，透明な前面基板と，前記前面基板に対して平行に配置された背面基板と，前記前面基板に一定の距離離れて配置された色域向上用の電磁波遮蔽フィルムと，前記前面基板と背面基板との間に配置されて発光セルを区画する隔壁と，一方向に配置された発光セルにわたって延び，後方誘電体層によって埋め込まれたアドレス電極と，前記発光セル内に配置された蛍光体層と，前記アドレス電極が延びた方向と交差する方向に延び，前方誘電体層によって埋め込まれた維持電極対と，前記発光セル内にある放電ガスとを備える構造である。
【００４７】
前記アドレス電極は，前記背面基板と後方誘電体層との間に配置され，前記隔壁は，前記後方誘電体層上に配置され，前記維持電極対は，前面基板と前方誘電体層との間に配置され，前記前方誘電体層は，保護膜によって覆われ得る。
【００４８】
図４は，本実施形態の色域向上用の電磁波遮蔽用のフィルムを採用したプラズマディスプレイ装置の構造を示す斜視図である。
【００４９】
図４を参照すれば，前記した色域向上用の電磁波遮蔽用のフィルム２００は，前方パネル７０および後方パネル６０を備えるプラズマ表示装置の前方パネル７０の前方に一定の距離離れて配置されている。
【００５０】
本発明の電磁波遮蔽用のフィルム２００は，前方パネル７０に向う方向からメッシュ状の金属パターン２０５，接着層２０４および透明基材２０３が順次に積層された構造である。
【００５１】
前記前方パネル７０は，前面基板５１，前記前面基板５１の背面に形成されたＹ電極およびＸ電極を備える維持電極対，前記維持電極対を覆う前方誘電体層５５ａ，および前記前方誘電体層５５ａを覆う保護膜５６を備える。前記Ｙ電極およびＸ電極のそれぞれは，ＩＴＯなどから形成された透明電極５３ａ，５３ｂと，導電性に優れた金属から形成されたバス電極５４とを備える。
【００５２】
前記後方パネル６０は，背面基板５２，背面基板５２の前面に前記維持電極対と交差するように形成されたアドレス電極５３ｃ，前記アドレス電極５３ｃを覆う後方誘電体層５６ｂ，前記後方誘電体層５６ｂ上に形成されて発光セルを区画する隔壁５７，および前記発光セル内に配置された蛍光体層５８を備える。
【００５３】
（第１実施形態の効果）
以上のように，本実施形態によれば，電磁波遮蔽フィルム方式は，従来のメッシュフィルム方式に比べて，接合回数および付加的な作業工程を簡略化でき，プラズマ表示装置のパネルにフィルタを直接付着する時にも対応が容易であるという長所がある。
【００５４】
以下，本発明を下記実施例を挙げてより詳細に説明するが，本発明が下記実施例に限定されるものではない。
【００５５】
（実施例１）
ポリエチレンテレフタレート基板の上部に金属粘着剤である熱硬化剤を利用してＣｕ金属薄板を付着した後，所定パターンにエッチングしてメッシュ状の金属パターンを形成した。
【００５６】
透明物質としてＵＶ硬化剤（ＵＶ３９００３Ｈ−１，ＶＦＰ社）（９９．５）重量部と，化学式３のテトラアザホルフィリン化合物（Ｒ１〜Ｒ４は，いずれもブチル基である）０．５重量部とを混合し，この混合物を利用してスクリーン印刷を実施して，メッシュ状の金属パターンの間に透明選択的吸光層形成用の組成物を塗布し，これを，メタルハライドランプを利用してＵＶ硬化を実施し，透明選択的吸光層を形成することで電磁波遮蔽フィルムを製造した。
【００５７】
（実施例２）
透明選択的吸光層の形成時，化学式３のテトラアザホルフィリン化合物の代わりに化学式４のテトラアザホルフィリン（Ｒ１〜Ｒ４は，いずれもブチル基である）を使用したことを除いては，実施例１と同じ方法で実施して電磁波遮蔽フィルムを製造した。
【００５８】
（実施例３）
透明選択的吸光層の形成時，化学式３のテトラアザホルフィリン化合物の代わりに化学式５のテトラアザホルフィリン（Ｒ１〜Ｒ４は，いずれもブチル基である）を使用したことを除いては，実施例１と同じ方法で実施して電磁波遮蔽フィルムを製造した。
【００５９】
（実施例４）
透明選択的吸光層の形成時，化学式３のテトラアザホルフィリン化合物の含量を０．５重量部から０．３６重量部にしたことを除いては，実施例１と同じ方法で実施して電磁波遮蔽フィルムを製造した。
【００６０】
（実施例５）
透明選択的吸光層の形成時，化学式４のテトラアザホルフィリン化合物の含量を０．５重量部から０．３６重量部にしたことを除いては，実施例２と同じ方法で実施して電磁波遮蔽フィルムを製造した。
【００６１】
（実施例６）
透明選択的吸光層形成時，化学式５のテトラアザホルフィリン化合物の含量を０．５重量部から０．３６重量部にしたことを除いては，実施例３と同じ方法で実施して電磁波遮蔽フィルムを製造した。
【００６２】
（比較例１）
ポリエチレンテレフタレートの上部に粘着剤である熱硬化剤を利用してＣｕ金属薄板を付着した後，所定パターンにエッチングしてメッシュ状の金属パターンを形成した。
【００６３】
透明物質であるＵＶ硬化剤１００ｇでスクリーン印刷を実施して，メッシュ状の金属パターンの間に塗布し，これに２４０〜４５０ｎｍ波長の光を照射して透明コーティング膜を形成することで，電磁波遮蔽フィルムを製造した。
【００６４】
前記実施例１〜実施例６によって製造された電磁波遮蔽フィルムにおいて，光スペクトルを調査し，その結果は，図５Ｂに表した。
【００６５】
図５Ｂを参照すれば，化学式３のテトラアザホルフィリン化合物を利用した場合，吸収ピク波長が約５８４ｎｍで表れ，化学式４のテトラアザホルフィリン化合物を利用した場合には，吸収ピク波長が約５８２ｎｍで表れ，化学式５のテトラアザ化合物を利用した場合には，吸収ピク波長が約５９６ｎｍで表れることが分かる。
【００６６】
前記実施例１〜実施例６および比較例１によって製造された電磁波遮蔽フィルムにおいて，色温度，色再現範囲および色座標特性を調査し，その結果を図５Ａおよび表１に示す。
【００６７】
【表１】
2006086517.tif 000008
【００６８】
表１から分かるように，実施例１〜実施例６の電磁波遮蔽フィルムは，比較例１の場合と比較して，色温度，色再現範囲および色座標特性が改善されたことが分かる。
【００６９】
以上，添付図面を参照しながら本発明にかかる電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明の電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置は，プラズマディスプレイパネルに関連した技術分野に好適に適用され得る。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】一般的なフィルタを採用したプラズマ表示装置の構造を概略的に示す説明図である。
【図２】従来技術に係るプラズマ表示装置用のフィルタの構造を概略的に示す説明図である。
【図３】第１実施形態の色域向上用の電磁波遮蔽フィルムの構造を概略的に示す説明図である。
【図４】図３の色域向上用の電磁波遮蔽フィルムを採用したプラズマ表示装置の斜視図である。
【図５Ａ】実施例１〜実施例６および比較例１によって製造された電磁波遮蔽フィルムのカラー特性を示す説明図である。
【図５Ｂ】実施例１〜実施例６および比較例１によって製造された電磁波遮蔽フィルムの光スペクトル図である。
【符号の説明】
【００７２】
１０  駆動回路
１１  前面フィルタ
１２  ガラスまたはプラスチック基板
１３  反射防止層
１４  電磁波遮蔽層
１５  近赤外線および選択的波長吸収フィルム
１６  ケース
２０  フィルム
２１  透明基材
２２  接着層
２３  メッシュ状の金属パターン
３０  フィルム
３１  透明基材
３２  接着層
３３  メッシュ状の金属パターン
３４  透明選択的吸光層
５１  前面基板
５２  背面基板
５３ａ  透明電極
５３ｂ  透明電極
５３ｃ  アドレス電極
５４  バス電極
５５ａ  前方誘電体層
５６  保護膜
５６ｂ  後方誘電体層
５７  隔壁
５８  蛍光体層
６０  後方パネル
７０  前方パネル
２００  色域向上用の電磁波遮蔽フィルム
２０３  透明基材
２０４  接着層
２０５  メッシュ状の金属パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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