(57)【要約】  【課題】表示装置を精度良く短時間で製造する。  【解決手段】本発明の製造装置２は射出装置５を有しており、射出装置５は第一、第二の基板に吸収され易い第一の光線束と、封止材料に吸収され易い第二の光線束を射出可能になっているので、第一、第二の基板１１、２１と封止材料３１の温度制御を精密に行うことができる。溶融物３２が第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれる前には、予め第一、第二の基板１１、２１は第一の光線束で加熱されているので、間に引き込まれた溶融物３２が第一、第二の基板１１、２１で冷却されない。【選択図】図２
2006315902.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定間隔で離間された第一、第二の基板と、
前記第一、第二の基板の間に位置する表示範囲と、
前記表示範囲を取り囲み、前記表示範囲を外部雰囲気から遮断する封止部材とを有する表示装置を製造する製造装置であって、
載置台と照射装置とを有し、
前記載置台上に前記第一、第二の基板を所定間隔を空けて配置し、前記封止部材が配置されるべき領域に、溶融した封止材料を供給し、固化させて前記封止部材を形成させる際に、
前記照射装置により、前記第一、第二の基板に吸収される第一の波長に最大強度を有する第一の光線束と、前記第一、第二の基板に対する吸収率が前記第一の波長よりも低く、前記封止材料に吸収される第二の波長に最大強度を有する第二の光線束とを、前記封止部材が配置されるべき領域と、前記封止材料にそれぞれ照射し、前記封止材料を溶融させるように構成された製造装置。
【請求項２】
前記第一、第二の基板間に間隔保持部材を位置させ、
前記第一、第二の基板を間隔を開けた状態で前記第一、第二の基板のうちの一方の基板を他方の基板からはみ出させ、
前記はみ出した部分上に前記封止材料の溶融物を配置した時に、前記溶融物が前記他方の基板の縁から前記第一、第二の基板間に引き込まれるように構成された請求項１記載の製造装置。
【請求項３】
前記封止部材が配置されるべき領域に沿って、細長い前記封止材料を配置した時に、
前記第一、第二の光線束が、前記封止材料と、前記封止部材が配置されるべき領域の両方に照射されるように構成された請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の製造装置。
【請求項４】
前記封止材料は、前記はみ出し部分上に配置されるように構成された請求項２又は請求項３のいずれか１項記載の製造装置。
【請求項５】
前記照射装置は、前記第一の光線束が照射される第一の照射範囲と、前記第二の光線束が照射される第二の照射範囲は、前記封止部材が配置されるべき領域の長手方向の長さが、前記封止材料の長さよりも短く、
前記第一、第二の照射範囲が、前記封止材料の長手方向に沿ってそれぞれ移動するように構成された請求項３又は請求項４のいずれか１項記載の製造装置。
【請求項６】
前記第一、第二の光線束が照射されていない未照射範囲に、前記第一の照射範囲が前記第二の照射範囲よりも先に到達するように構成された請求項５記載の製造装置。
【請求項７】
前記照射装置は、第一、第二の光線束のいずれか一方又は両方が、前記封止材料に複数ずつ照射されるように構成された請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＰＤＰ、ＦＥＤのような表示装置の製造に用いられる製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ＰＤＰ(Plasma Display Panel)やＦＥＤ(Field Emission Display)のような表示装置の製造には、第一、第二のパネルを封止材料で固定する方法が採用されている。
【０００３】
従来技術のプラズマディスプレイパネルの製造方法の一例について説明すると、先ず、第一、第二のパネルのうち、いずれか一方のパネルの基板表面に、封止材料をリング状に配置する。
【０００４】
第一のパネルには隔壁が形成されており、封止材料の高さは、隔壁の高さよりも高いので、第一、第二のパネルを重ね合わせると、一方のパネル上の封止材料に、他方のパネルが載せられる。第一、第二のパネルを重ね合わせた状態で、全体を加熱しながら押圧すると、封止材料が加熱によって溶融し、押圧によって溶融した封止材料が第一、第二の基板の両方の表面に密着した状態で押しつぶされる。
【０００５】
封止材料が押しつぶされ、封止材料の高さが隔壁と、第二のパネルの表面が第一のパネルの隔壁に密着し、第二のパネルが隔壁に載せられた状態になり、全体を冷却し、封止材料の温度を下げると封止材料が第一、第二の基板の表面に密着した状態で固化し、第一、第二のパネルの間の空間をリング状に取り囲む固化物が形成される。
【０００６】
第一、第二のパネルを加熱する時に、第一、第二のパネルの温度を急激に上昇させると、第一、第二のパネルに熱膨張に伴う歪みが生じ、その内部回路が破損する場合がある。従って、従来の製造方法では、第一、第二のパネルの加熱を長時間かけて封止材料が溶融する温度まで昇温させる必要があり、生産時間の増加と、加熱に要するエネルギーの量が問題であった。
【０００７】
上記接続方法では封止材料を、リング状に配置する容易性から有機材料が含有された封止材料が用いられるが、そのような封止材料は加熱されると有機材料が熱分解して汚染ガスが発生する。また、上記製造方法では第一、第二のパネル全体を加熱するため、封止材料以外も昇温し、昇温によって他の部材（例えば第一、第二のパネル）から、Ｈ2Ｏガス、ＣＯガス、ＣＯ2ガス等の汚染ガスが発生することがあり、その汚染ガスがプラズマディスプレイパネルの性能に悪影響を与える。従って、従来のプラズマディスプレイパネルでは、加熱終了後に、汚染ガスを除去する脱ガスの工程が必要であり、その脱ガスの工程も生産時間が増加する要因であった。
【特許文献１】特開２０００−５１０２８１号公報
【特許文献２】特開２００２−０７５１９７号公報
【特許文献３】特開２００２−２６５２３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、表示装置を短時間で、第一、第二のパネルの内部回路を破損させずに製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために請求項１記載の発明は、所定間隔で離間された第一、第二の基板と、前記第一、第二の基板の間に位置する表示範囲と、前記表示範囲を取り囲み、前記表示範囲を外部雰囲気から遮断する封止部材とを有する表示装置を製造する製造装置であって、載置台と照射装置とを有し、前記載置台上に前記第一、第二の基板が所定間隔を空けた状態で配置され、前記封止部材が配置されるべき領域に、溶融した封止材料を供給し、固化させて前記封止部材を形成させる際に、前記照射装置により、前記封止部材が配置されるべき領域に、前記第一、第二の基板に吸収され易い第一の波長に最大強度を有する第一の光線束を照射し、前記第一の波長とは異なり、前記第一、第二の基板に吸収されづらく、少なくとも前記封止材料に吸収される第二の波長に最大強度を有する第二の光線束を、前記封止材料に照射するように構成された製造装置である。
請求項２記載の発明は、請求項１記載の製造装置であって、前記第一、第二の基板間に間隔保持部材を位置させ、前記第一、第二の基板を間隔を開けた状態で前記第一、第二の基板のうちの一方の基板を他方の基板からはみ出させ、前記はみ出した部分上に前記封止材料の溶融物を配置した時に、前記溶融物が前記他方の基板の縁から前記第一、第二の基板間に引き込まれるように構成された製造装置である。
請求項３記載の発明は、請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の製造装置であって、前記封止部材が配置されるべき領域に沿って、細長い前記封止材料を配置した時に、前記第一、第二の光線束が、前記封止材料と、前記封止部材が配置されるべき領域の両方に照射されるように構成された製造装置である。
請求項４記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の製造装置であって、前記封止材料は、前記はみ出し部分上に配置されるように構成された製造装置である。
請求項５記載の発明は、請求項３又は請求項４のいずれか１項記載の製造装置であって、前記第一の光線束が照射される第一の照射範囲と、前記第二の光線束が照射される第二の照射範囲は、前記封止部材が配置されるべき領域の長手方向の長さが、前記封止材料の長さよりも短く、前記第一、第二の照射範囲が、前記封止材料の長手方向に沿ってそれぞれ移動するように構成された製造装置である。
請求項６記載の発明は、請求項５記載の製造装置であって、前記第一、第二の光線束が照射されていない未照射範囲に、前記第一の照射範囲が前記第二の照射範囲よりも先に到達するように構成された製造装置である。
請求項７記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の製造装置であって、前記照射装置は、第一、第二の光線束のいずれか一方又は両方が、前記封止材料に複数ずつ照射されるように構成された製造装置である。
【００１０】
尚、本発明で吸収率とは、入射対象物に入射する光（入射光）の波長の変化が無く、入射光の散乱が起こらず、更に屈折の法則に従うものとした場合に、下記式（１）で表される値のことである。
【００１１】
式（１）…Ａ＝（Ｉ−Ｒ−Ｔ）／Ｉ
上記式（１）中、Ａは入射対象物に対する光の吸収率を示し、Ｉは入射対象物に入射する入射光の強度を示し、Ｒは入射対象物で反射された反射光の強度を示し、Ｔは入射対象物を透過した透過光の強度を示している。
【発明の効果】
【００１２】
第一、第二の基板と封止材料の温度を加熱ヘッドや１種類の光線束だけで加熱すると、第一、第二の基板と封止材料の温度を調整するのが困難であるが、本発明の製造装置は、第一、第二の基板に吸収され易い第一の光線束と、封止材料に吸収され易い第二の光線束を封止材料に向かって照射可能になっているので、第一、第二の光線束の強度や照射範囲をそれぞれ調整することで、第一、第二の基板と封止材料をそれぞれ細かく温度調整することが容易である。第一、第二の基板の封止材料の溶融物が引き込まれる部分を予め加熱しておけば、溶融物が第一、第二の基板の間に引き込まれても急冷されないので、溶融物が第一、第二の基板の間で広がり、第一、第二の基板上に露出する表面と広い面積で接触するので、その溶融物が固化して生成される封止部材は、広い面積で第一、第二の基板上の露出する面と接触する。従って、第一、第二の基板は封止部材で強固に固定される。また、溶融物が第一、第二の基板の間に引き込まれた後も、第一の光線束の照射を続ければ、第一、第二の基板が急冷されないので、第一、第二の基板に歪みが生じず、内部回路が破損されない。本発明では、封止材料だけを選択して加熱可能である上、無機材料のみからなる封止材料を用いることができるので、第一、第二の基板を貼り合せる工程で、汚染ガスの発生量が少なく、汚染ガスを除去する工程が不要になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１の符号１は表示装置の一例であるプラズマディスプレイパネルを示しており、プラズマディスプレイパネル１は第一、第二のパネル１０、２０を有している。第一、第二のパネル１０、２０は第一、第二の基板１１、２１と、前記第一、第二の基板１１、２１表面上にそれぞれ配置された第一、第二の電極（ここでは不図示）とを有している。
【００１４】
第一のパネル１０は更に、第一の基板１１の表面上に形成された複数の隔壁１５を有しており、第二の基板２１は第一の基板１１の間隔保持部材（隔壁）１５が形成された面上に載せられている。
【００１５】
隔壁１５は少なくとも先端が第一のパネル１０の表面で露出しており、隔壁１５の先端は、第二のパネル２０の第二の基板２１上に露出する面（例えば、第二の基板２１表面や、第二の電極表面や、第二の基板２１上の保護膜表面）に接触している。
【００１６】
隔壁１５の先端は、第一のパネル１０表面に露出する他の表面（例えば第一の基板１１表面や、第一の電極の表面や、保護膜の表面）よりも高く突き出されているので、第二の基板２１は隔壁１５が高く突き出された分だけ持ち上げられ、第一、第二の基板１１、２１の間には間隙が形成されている。
【００１７】
隔壁１５と隔壁１５との間の空間には放電ガスが充填されており、第一、第二の電極に電圧を印加すると、電圧が印加された第一、第二の電極の間の領域（発光領域）で放電ガスがプラズマ化して励起光（例えば紫外線）が発生し、発光領域に配置された蛍光体材料に励起光が当たって可視光が発生する。
【００１８】
隔壁１５と隔壁１５との間の空間は第二のパネル２０で蓋をされており、所望の発光領域で放電ガスをプラズマ化させる時には、隔壁１５を挟んで隣接する発光領域にはプラズマが伝わらないので、所望の発光領域だけから可視光を発生させることができる。
【００１９】
第一、第二の基板１１、２１のうち、少なくとも一方は透明基板で構成されているので、発光領域で発生した可視光は、透明基板を通って外部に放出される。従って、所望の発光領域だけを発光させることで、このプラズマディスプレイパネル１は図形や文字等の画像情報を表示することができる。
【００２０】
図１の符号１９は、第一、第二の基板１１、２１との間の空間のうち、発光領域が配置された範囲である表示範囲を示している。表示範囲１９の周囲にはリング状の封止部材３３が配置されており、表示範囲１９は封止部材３３と第一、第二の基板１１、２１とで取り囲まれ、表示範囲１９に外部雰囲気の大気が浸入しないようになっている。
【００２１】
第一、第二の基板１１、２１は少なくとも一部分が封止部材３３よりも外側にはみ出し、そのはみ出した部分の表面には接続端子が露出している。接続端子は第一、第二の電極に接続されているので、第一、第二の電極に電圧を印加するため、接続端子に外部回路の端子を接続すれば、外部回路の電圧を電極に印加することができる。
【００２２】
次に、このプラズマディスプレイパネル１を製造する本発明の製造装置について説明する。図２の符号２は本発明の製造装置の一例を示しており、この製造装置２は載置台３と、照射装置５とを有している。
【００２３】
照射装置５は、互い異なる波長に最大強度を有する第一、第二の光線束（ここではレーザー光）を生成する光源と、その光源で生成された第一、第二のレーザー光が通る通路と、その通路の終点に位置し、照射装置５の外部に第一、第二のレーザー光が射出される射出部材６を有している。
【００２４】
載置台３の側方には支柱９が取り付けられており、照射装置５は載置台３の上方に位置するように、支柱９に取り付けられている。射出部材６は照射装置５の下部であって、載置台３と面する位置に取り付けられており、第一、第二のレーザー光は射出部材６から載置台３に向かって射出されるようになっている。
【００２５】
上記第一、第二の基板１１、２１には一般的には透明ガラス基板が用いられ、上記封止部材３３が固化溶融される前の封止材料には、透明ガラス基板よりも融点が低い材料（例えば酸化亜鉛を主成分の一つとする低軟化点ガラス材料）が用いられている。図１１は透明ガラス基板に対する吸収スペクトルを示し、図１２は上記低軟化点ガラス材料に対する吸収スペクトルを示している。
【００２６】
例えば、第一のレーザー光の一例である炭酸ガスレーザーが最大強度を有する第一の波長は１０．６μｍであり、第二のレーザー光の一例であるＹＡＧレーザー（ネオジウムを含むイットリウム・アルミニウム・ガーネット結晶を用いた固体レーザー）が、最大強度を有する第二の波長は１．０６μｍである。
【００２７】
第一の波長の光は、第一、第二の基板１１、２１に対する吸収率と、封止材料３１に対する吸収率が高く、第一、第二の基板１１、２１と封止材料３１の両方に吸収されることがわかる。
【００２８】
第一の波長の光に比べ、第二の波長の光は第一、第二の基板１１、２１に対する吸収率が小さいが、第二の波長の封止材料３１に対する吸収率は、第一、第二の基板１１、２１に対する吸収率に比べて高く、第二の波長の光は封止材料３１には吸収され易いが、第一、第二の基板１１、２１には殆ど吸収されにくいことがわかる。
【００２９】
従って、第一、第二の基板１１、２１と封止材料３１に第一、第二のレーザー光を照射すると、封止材料３１は第一、第二のレーザー光を吸収して昇温し、第一、第二の基板１１、２１は第一のレーザー光を吸収して昇温する。
【００３０】
第一、第二のレーザー光は、最大強度を中心として山型に分布している。その強度分布を図３に示す。図３の縦軸は照射強度を、横軸は照射強度が最大となる位置（ゼロ）からの距離をそれぞれ示しており、図３の符号Ｌ1、Ｌ2はそれぞれ第一、第二のレーザー光の照射強度を示す曲線である。
【００３１】
最大強度の１０％未満の強度を無視できるとし、最大強度の１０％以上の強度を持つ範囲を各レーザー光の照射範囲とすると、図３の符号３６は第一のレーザー光の照射範囲である第一の照射範囲を示し、符号４６は第二のレーザー光の照射範囲である第二の照射範囲を示している。
【００３２】
第一、第二のレーザー光は分布の中心が近接するように射出部材６が設定されており、第一のレーザー光の最大強度は、第二の照射範囲４６内に位置している。従って、第二の照射範囲４６には第一、第二のレーザー光の両方の最大強度が含まれる。
【００３３】
第一、第二の照射範囲３６、４６は、第二の照射範囲４６の外周が、第一の照射範囲３６の外周から所定距離だけ内側に位置するように重なり合っており、第二の照射範囲４６内では第一、第二のレーザー光の両方が照射され、第二の照射範囲４６よりも外側であって、第一の照射範囲３６の内側では第一のレーザー光だけが照射され、第一の照射範囲３６よりも外側では、第一、第二のレーザー光のいずれも照射されないようになっている。
【００３４】
ここでは、載置台３は不図示の移動装置によって移動し、載置台３に載せられた処理対象物は載置台３と一緒に移動するようになっている。照射装置５は第一、第二の照射範囲３６、４６の上述した位置関係を変えないように設定されているので、処理対象物が移動すると、第一、第二の照射範囲３６、４６は、第二の照射範囲４６の外周が第一の照射範囲３６の外周よりも所定距離内側に位置する状上記位置関係を維持したまま、処理対象物の表面上を移動する。
【００３５】
次に、上記製造装置２を用いてプラズマディスプレイパネル１を製造する工程の一例について説明する。
第一、第二の基板１１、２１を、第一の基板１１の隔壁１５及び第一の電極が配置された側の面と、第二の基板２１の第二の電極が配置された側の面とが対向するように向かい合わせる。
【００３６】
第一の基板１１は、図１に示すように重ね合わせ時に、第一の基板１１の二辺の平行なＸ方向の長さが、第二の基板２１のＸ方向の長さよりも長く、Ｘ方向と直交するＹ方向の長さが、第二の基板２１のＹ方向の長さよりも短くなっており、表示範囲１９となるべき部分は第一、第二の基板１１、２１の平面形状の中央に位置する（図４）。
【００３７】
従って、第一、第二の基板１１、２１を表示範囲１９となるべき部分が対向するように位置合わせして重ね合わせ、隔壁１５上に第二の基板２１を載せると、図５に示したように、第一の基板１１のＸ方向の両端部と、第二の基板２１のＹ方向の両端部がそれぞれ他方の基板１１、２１の縁１８、２８からはみ出す。
【００３８】
図５の符号１７、２７は、第一、第二の基板１１、２１の他方の基板からはみ出した部分の表面を示しており、その部分をはみ出し部分とすると、上述したように第一、第二の基板１１、２１はそれぞれ両端が他方の基板１１、２１からはみ出しているので、第一、第二の基板１１、２１表面には、はみ出し部分１７、２７が２つずつある。
【００３９】
上記表示範囲１９を第一、第二の基板１１，２１と封止部材３３とで取り囲むには、先ず、図４に示した位置関係を維持したまま、一方の基板１１のはみ出し部分１７を上側に向け、第一、第二の照射範囲３６、４６が、はみ出し部分１７上の他方の基板２１の縁２８上を通るように、第一、第二の基板１１，２１を載置台３上に載せる。
【００４０】
ここでは、第一の基板１１のはみ出し部分１７が上側に向けられており、第一の基板１１の各はみ出し部分１７上に、そのはみ出し部分１７上の第二の基板２１の縁２８に沿って、細長で直線状の封止材料をその縁２８に隣接配置する。
【００４１】
第一、第二の照射範囲３６、４６が縁２８上で静止した状態では、第一、第二の照射範囲３６、４６の縁２８と平行な方向の長さは、封止材料３１の長さよりもそれぞれ短くなるように光源が設定されているので、封止材料３１の長手方向全範囲に第一、第二のレーザー光を照射するためには、第一、第二の照射範囲３６，４６を縁２８に沿って移動させる必要がある。
【００４２】
例えば封止材料の長手方向の一端から他端まで第一、第二の照射範囲３６、４６を移動させて、封止材料の長手方向全範囲に第一、第二のレーザー光を照射させる場合には、先ず封止材料の一端部に第一、第二のレーザー光を照射し、第一、第二のレーザー光を連続的又は断続的に照射しながら、第一、第二の照射範囲３６、４６を一端部から他端部に沿って移動させる。
図５は第一、第二の照射範囲３６、４６が封止材料３１の一端部から他端部に沿って移動している途中の状態を示す平面図である。
【００４３】
上述したように、第二の照射範囲４６の全外周は第一の照射範囲３６の外周よりも内側にあり、第一、第二の照射範囲３６、４６はその位置関係を維持したまま移動するから、第二の照射範囲４６の移動先であって、第一、第二のレーザー光が照射される前の場所には、先ず第一の照射範囲３６が到達して第一のレーザー光が照射され、第二の照射範囲４６が到達すると第一、第二のレーザー光の両方が照射され、第二の照射範囲４６が通過した後では、第二のレーザー光の照射が止み、再び第一のレーザー光だけが照射され、更に第一の照射範囲３６も通過すると、第一のレーザー光の照射も止む。
【００４４】
第一の照射範囲３６の縁２８と直交する方向の長さは、第二の照射範囲４６が到達する前の部分も、第二の照射範囲４６が到達した部分も、第二の照射範囲４６が通過した後の部分も、封止材料３１の幅よりも大きく、第一の照射範囲３６の上記各部分は、封止材料３１の幅方向全部と、はみ出し部分１７上の基板（ここでは第二の基板２１）の縁２８から所定距離だけ内側の所定領域を含んでいる。
【００４５】
上述したように、第一のレーザー光は封止材料３１と第一、第二の基板１１、２１の両方に吸収されやすいが、第一のレーザー光の一部は吸収されずに封止材料３１と第二の基板２１を透過するので、第一の照射範囲３６の上記各部分では、封止材料３１と第二の基板２１が第一のレーザー光で加熱されると共に、封止材料３１と第二の基板２１の下方に位置する第一の基板１１にも第一のレーザー光が到達し、加熱される。
【００４６】
従って、第二のレーザー光が照射される前と、第二のレーザー光が照射されている間と、第二のレーザー光が照射され終わった後では、封止材料３１と、第二の基板２１の上記所定領域と、第一の基板１１の封止材料３１と上記所定領域の下方に位置する部分とが加熱されることになる。
【００４７】
これに対し、第二の照射範囲４６の縁２８と直交する方向の長さは、第一の照射範囲３６よりは狭いが、封止材料３１の幅よりも大きく、第二の照射範囲４６が位置する部分では、第一のレーザー光と一緒に第二のレーザー光も封止材料３１の幅方向全部に照射される。
【００４８】
第二の照射範囲４６が到達する前には、封止材料３１は第一のレーザー光によって溶融しない程度に加熱されているので、封止材料３１に第二のレーザー光が照射されると、短時間で溶融し始める。
【００４９】
ここでは、図６（ａ）に示したように封止材料３１はその側面が第二の基板２１の縁２８に接触しているが、第二の基板２１の縁２８を含む所定領域は予め加熱されているので、封止材料３１は冷却されずに溶融する。封止材料３１が溶融するとはみ出し部分１７上で広がるが、第一の基板１１の封止材料３１の下方部分は予め加熱されている上、封止材料３１が溶融する間も第一のレーザー光で加熱され続けるので、封止材料３１は第一、第二の基板１１、２１で冷却されずに溶融し、粘度の低い溶融物が生成される。
【００５０】
封止材料３１は、溶融した時に、第一、第二の基板１１、２１上に露出する面（例えば保護膜表面）に対する濡れ性が高い材料で構成されており、第一の基板１１上の露出面から第二の基板２１上の露出面までの距離は短いので（例えば１００μｍ以上２００μｍ以下）、溶融物３２は毛細管現象によって第二の基板２１の縁２８から第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれる（図６（ｂ））。
【００５１】
上述したように、第二の基板２１の縁２８よりも内側の所定領域と、第一の基板１１の所定領域の下方に位置する部分は、溶融物３２が引き込まれる前に予め加熱されているだけではなく、溶融物３２が生成されている間も加熱され続けるので、第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれた溶融物３２は第一、第二の基板１１、２１で冷却されず、粘度が低い状態が維持される。従って、溶融物３２は第一、第二の基板１１、２１の間で広がり、第一、第二の基板１１、２１上の上記露出する面と広い面積で接触する。
【００５２】
第二の照射範囲４６の外周と第一の照射範囲３６の外周との間の距離は、移動方向Ｄの先頭側よりも、移動方向Ｄの後方側が長くされており、ここでは第一、第二の照射範囲３６、４６の移動速度は一定にされているので、第二の照射範囲４６が通過した後の方が、第一のレーザー光に長時間晒される。
【００５３】
第一の照射範囲３６の最大強度は第二の照射範囲４６にあり、図３に示したように、第一のレーザー光の照射強度は分布の中心から離れる程低くなるので、第二の照射範囲４６が通過した後は、第一のレーザー光の強度は叙々に弱くなる。
【００５４】
溶融物３２が引き込まれた後の第一、第二の基板１１、２１は、叙々に弱くなる第一のレーザー光に長時間晒されるので、第一、第二の基板１１、２１の温度は急激には下がらず、ゆっくり冷却される。従って、第一、第二の基板１１、２１には熱収縮に伴う歪みが低減され、第一、第二の基板１１、２１の内部回路が破損されない。
【００５５】
第一、第二の照射範囲３６、４６を封止材料３１の他端部まで移動させ、封止材料３１を一端から他端まで溶融させると、その溶融物３２は連続してはみ出し部分１７上の第二の基板２１の縁２８から、第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれる。従って、第一、第二の基板１１、２１の間には、はみ出し部分１７上の他方の基板２１の縁２８に沿って連続する１本の溶融物３２が形成されることになる。
【００５６】
次いで第一、第二のレーザー光の照射を停止し、第一、第二の基板１１，２１の図４に示した位置関係を変えずに、第一、第二の照射範囲３６、４６が、他方のはみ出し部分１７上の基板２１の縁２８を通るように第一、第二の基板１１、２１を移動させ、第一、第二のレーザー光の照射を再開し、上述した工程ではみ出し部分１７上の封止材料３１を一端から他端まで溶融させると、縁２８に沿って連続する溶融物３２が新たに形成される。
【００５７】
第一の基板１１の各はみ出し部分１７上の基板２１の縁２８に沿って溶融物３２を形成した後、第一、第二の基板１１、２１の図４に示した位置関係を維持したまま、第一の基板１１のはみ出し部分１７が下側に向き、第二の基板２１のはみ出し部分２７を上側に向くように第一、第二の基板１１、２１の上下を逆にし、第一、第二の照射範囲３６、４６が、上側に向けられたはみ出し部分２７上の他方の基板（第一の基板１１）の縁１８上を通るように、第一、第二の基板１１，２１を載置台３上に載せる。
【００５８】
図４に示したように、第一の基板１１のＸ方向の両端部と第二の基板２１のＹ方向の両端部が他方の基板１１、２１の縁１８、２８からはみ出している。第一、第二の基板１１、２１の縁１８、２８は４箇所で交差し、その交差する箇所を交点とすると、１つのはみ出し部分１７、２７は２つの交点を挟んで他方の基板１１、２１の２つのはみ出し部分１７、２７とそれぞれ隣接する。
【００５９】
第一、第二の基板１１、２１の間に先に引き込まれた溶融物３２は、はみ出し部分１７が、第二の基板２１のはみ出し部分２７と隣接する２つの交点のうち、一端が一方の交点近傍に到達し、他端が他方の交点近傍まで到達するように形成されている。従って、第二の基板２１のはみ出し部分２７が、第一の基板１１のはみ出し部分１７と隣接する２つの交点の近傍には、先に引き込まれた溶融物３２の端部がそれぞれ位置している。
【００６０】
第二の基板２１の各はみ出し部分２７上に、第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれた時に、溶融物の両端が、先に引き込まれた溶融物３２の端部とそれぞれ接触するように、細長で直線状の封止材料３１を他方の基板１１の縁１８に沿って配置し、上述したように、封止材料３１の長手方向全部に第一、第二のレーザー光が照射されるように、第一、第二の照射範囲３６、４６を移動させると、新たに生成された溶融物３２の両端が、先に引き込まれた溶融物３２の端部と第一、第二の基板１１、２１の間で接触する。
【００６１】
封止材料３１の両端部を溶融させる時には、その両端部だけではなく、先に引き込まれた溶融物３２の端部にも第一、第二のレーザー光が照射されるように、第一、第二の照射範囲３６、４６の広さと移動量を設定しておけば、先に引き込まれた溶融物３２が固化していたとしても、第一、第二のレーザー光の照射によってその溶融物３２は再び溶融する。
【００６２】
溶融した溶融物３２は、他の溶融物３２と接触によって容易に一体化するので、新たに生成された溶融物３２は、その両端部が、先に引き込まれた２本の溶融物３２の端部にそれぞれ接続され、コの字状の１本の溶融物３２になる。
【００６３】
更に、第二の基板２１の残りのはみ出し部分２７上の封止材料３１を上述した工程で一端から他端まで溶融させれば、第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれた細長の溶融物３２は、その両端が、先に引き込まれたコの字状の１本の溶融物３２の両端にそれぞれ接続されて一体化し、リング状の１つの溶融物３２が形成される。
【００６４】
図７は第二の基板２１の各はみ出し部分２７上で封止材料３１が溶融され、リング状の溶融物３２が形成された状態を示す平面図である。リング状の溶融物３２は、上述した第一、第二の基板１１、２１上の露出する表面に接触しており、全体を冷却して溶融物３２の温度が下がると、溶融物３２が第一、第二の基板１１、２１上の露出する表面に接触したまま固化し、その固化物（封止部材３３）によって第一、第二のパネル１０、２０は互いに固定される。
【００６５】
溶融物３２ははみ出し部分１７、２７上の他方の基板１１、２１の縁１８、２８から第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれるので、封止部材３３はその縁１８、２８に沿って配置されたことになる。
【００６６】
一般に、表示範囲１９は封止部材３３が配置される領域よりも、更に内側に形成されるので、表示範囲１９は封止部材３３で取り囲まれた状態になっている。従って、表示範囲１９に放電ガスを封止すれば、図１に示すようなプラズマディスプレイパネル１が得られる。
【００６７】
放電ガスの封止方法としては、例えば、第一、第二のパネル１０、２０のいずれか一方又は両方に、表示範囲１９と外部空間とを接続する貫通孔３８を設けておき、その貫通孔３８を通して表示範囲１９に所定量の放電ガスを供給した後、貫通孔３８を接着剤のような封止材料３９で塞げば、放電ガスが封止される（図８）。
【００６８】
また、貫通孔３８を設けなくても、放電ガスが充填された真空槽内部に、第一、第二のパネル１０、２０を搬入し、少なくとも封止材料３１を溶融させる工程から、リング状の溶融物が形成されるまでの工程を真空槽内部の放電ガス雰囲気で行えば、表示範囲１９は放電ガスが充填された状態で、封止部材３３と第一、第二の基板１１、２１によって外部から遮断される。
【００６９】
真空槽内部で封止材料３１を溶融させる場合には、第一、第二の基板１１、２１が配置されるのと同じ真空槽内部に照射装置５を配置して第一、第二のレーザー光の照射を行ってもよいし、照射装置５を真空槽外部に設ける時には、真空槽に第一、第二のレーザー光が透過する窓部を設けておき、その窓部を通して真空槽内部の封止材料３１に第一、第二のレーザー光を照射する。
【００７０】
以上は、封止材料３１を側面が基板１１の縁２８に接触するように配置する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、封止材料３１が第二の基板２１の縁２８に接触しなくても、封止材料３１の位置や量が、溶融した時に溶融物３２が第二の基板２１の縁２８に接触するように設定しておけば、溶融物３２が第一、第二の基板１１、２１の間の間隙に引き込まれる。
また、幅方向の少なくとも一部が、第一、第二の基板１１、２１の間に入り込むように、封止材料３１を配置してもよい。
【００７１】
封止材料３１は、溶融物３２が第一、第二の基板１１、２１の間の間隙に引き込まれた時に、表面と底面が第一、第二のパネル１０、２０の露出する部分と密着するのであれば、溶融物３２全部が引き込まれる量を配置しても良いし、溶融物３２の一部分だけが引き込まれ、他の部分がはみ出し部分１７、２７上に残る量を配置してもよい。
【００７２】
封止材料３１を溶融させる工程は、同時に２つ以上の封止材料３１を溶融させてもよく、封止材料３１を溶融させる順番も特に限定されるものではないが、一方の基板１１の各はみ出し部分１７上で封止材料３１の溶融を行った後、他方の基板２１のはみ出し部分２７上の封止材料３１を溶融させるようにすれば、第一、第二の基板１１、２１をひっくり返す工程が一度ですむ。
【００７３】
また、第一、第二の基板１１、２１の各はみ出し部分１７、２７上の封止材料３１を同時に溶融させることもできる。具体的には、各はみ出し部分１７、２７上に封止材料３１を仮固定しておけば、下側に向けられたはみ出し部分１７、２７上の封止材料３１が脱落しないので、第一、第二の基板１１、２１をひっくり返さずに、封止材料３１の溶融を行うことができる。
【００７４】
封止材料３１の仮固定の方法としては、接着材料を介して封止材料３１をはみ出し部分１７、２７上に固定する方法や、封止材料３１のはみ出し部分１７、２７と接触する底面か、基板１１、２１の縁１８、２８と接触する側面を部分的に溶融させて接着力を発現させ、封止材料３１自身の接着力ではみ出し部分１７、２７上に固定する方法がある。
【００７５】
封止材料３１をはみ出し部分１７、２７上に配置する方法は特に限定されないが、例えば、予め細長に成形された封止材料３１をはみ出し部分１７、２７上に載置したり、型転写、スクリーン印刷、インクジェット印刷等の印刷方法で、細長の封止材料３１をはみ出し部分１７、２７上に印刷してもよい。
【００７６】
第一、第二の照射範囲３６、４６の広さは特に限定されるものではなく、第一、第二の照射範囲３６、４６の広さが、封止材料３１の長さに対して十分に広いものであれば、第一、第二の照射範囲３６、４６を移動させる必要がない。
【００７７】
しかしながら、第一、第二の照射範囲３６、４６の広さが広すぎると表示範囲１９のように、封止材料３１や溶融物３２が配置され無い部分まで不必要に加熱されてしまうので、封止材料３１の幅方向の長さは、表示範囲１９に到達しないように設定することが好ましい。
【００７８】
第一、第二の照射範囲３６、４６の移動は、第一、第二の基板１１、２１を移動させる場合に限定されず、第一、第二の基板１１、２１を静止させ、第一、第二のレーザー光の射出方向又は射出位置を変えてもよいし、第一、第二の基板１１、２１を移動させると共に、第一、第二のレーザー光の射出方向又は射出位置を変えてもよい。
【００７９】
次に、本発明の製造装置の他の例について説明すると、製造装置は、第二のレーザー光と２以上の第一のレーザー光とを互いに異なる方向に照射する照射装置５を有している。
図１０の符号Ｌ1a〜Ｌ1bと、符号Ｌ2は第一、第二のレーザー光の第一、第二の基板１１、２１に照射される照射強度を示す曲線である。
【００８０】
照射強度が最大強度となるところを第一、第二のレーザー光の分布の中心とすると、第一、第二のレーザー光の照射方向は、第二のレーザー光の分布の中心の移動方向Ｄ前方と後方に、第一のレーザー光の分布の中心がそれぞれ位置するように設定され、第二のレーザー光が照射される範囲を第二の照射範囲４６とすると、移動方向Ｄ前方側に中心がある第一のレーザー光は、第二の照射範囲４６よりも移動方向前方側を含む範囲に照射され、移動方向後方側に中心がある第一のレーザー光は、第二の照射範囲４６よりも移動方向Ｄ後方側を含む範囲に照射されるようになっている。
【００８１】
従って、第二の照射範囲４６の移動先であって、第一、第二のレーザー光が照射される前の場所には、先ず第一のレーザー光が照射され、第二の照射範囲４６が通過した後は、第二のレーザー光の照射が止み、再び第一のレーザー光だけが照射されるようになっている。
【００８２】
図９は第一、第二のレーザー光を細長の封止材料３１上に照射した状態を示す平面図であり、複数の第一のレーザー光が照射される範囲を１つの第一の照射範囲３６Ａとすると、第一、第二の照射範囲３６Ａ，４６は、上述したように、第二のレーザー光の分布の中心の移動方向前方と後方に、それぞれ第一のレーザー光の分布の中心が位置する位置関係を維持したまま、封止材料３１上をその長手方向に沿って移動する。
【００８３】
各第一のレーザー光の分布の中心の位置関係は、例えば、第一のレーザー光が重なり合うように設定され、第一の照射範囲３６Ａが到達し、通過し終わるまでは、第一、第二の基板１１、２１が冷却されないようになっている。
【００８４】
第一のレーザー光の分布の中心は、第二のレーザー光の中心を挟んで移動方向Ｄ前方よりも移動方向Ｄ後方が多く配置され、移動方向前方側よりも後方側の方が第一の照射範囲３６Ａの移動方向Ｄの長さが長くされているので、第二の照射範囲４６が到達する前よりも、第二の照射範囲４６が通過した後の方が、第一のレーザー光が長時間照射されるようになっている。
【００８５】
各第一のレーザー光の最大強度となる分布の中心は移動方向Ｄに沿って並べられており、その最大強度は移動方向Ｄの後方側にある程弱くされているので、処理対象物に入射する第一のレーザー光は、第二の照射範囲４６が到達する前よりも通過した後が照射強度が弱く、第二の照射範囲４６が通過した後はその強度が徐々に弱くなる。従って、第二のレーザー光の照射で溶融物３２が形成された後の第一、第二の基板１１、２１は、叙々に弱くなる第一のレーザー光で加熱され、その温度がゆっくり降下する。
【００８６】
図３に示したように、１本のレーザー光で所望の照射強度分布（例えば非対象形の分布）を設定するためには、非対象光学素子等の特殊な光学手段を用いる必要があったが、照射強度分布が単純（例えば対象形の分布）であっても、上述したように照射強度の異なるレーザー光を別々の位置に照射することで、所望の照射強度分布を形成し、第一、第二の基板１１、２１や封止材料３１及びその溶融物３２の温度を、適切に制御することができる。
【００８７】
以上は、射出部材６よりも下方に配置された第一、第二の基板１１、２１に向かって第一、第二のレーザー光を射出する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、第一、第二の基板１１、２１よりも下方に射出部材６を配置し、第一、第二のレーザー光を下方から第一、第二の基板１１、２１に向かって射出してもよいし、第一、第二のレーザー光を第一、第二の基板１１、２１の上方と下方の両方から射出してもよい。更に、射出部材６を第一、第二の基板１１、２１の斜め上方又は斜め下方位置に配置し、第一、第二のレーザー光を第一、第二の基板１１、２１表面に対して斜め方向に射出してもよく、第一、第二のレーザー光を別々の射出部材６から射出してもよい。
【００８８】
第一のレーザー光の第一の波長と、第二のレーザー光の第二の波長は特に限定されるものではなく、第一、第二の基板１１、２１の材質と、封止材料３１の種類によって調整されるべきものである。
【００８９】
以上は、第一、第二の光線束にレーザー光を用いる場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、第一、第二の光線束としては、例えば可視光又は赤外光が集光レンズのような光学手段によって封止材料３１上で集光されたものも本発明には含まれる。
【００９０】
また、第一、第二の波長とは異なる波長を有する他の光線束を、第一、第二の光線束と一緒に封止材料３１や第一、第二の基板１１、２１に照射してもよい。更に、載置台３に加熱手段を設け、第一、第二の基板１１，２１を加熱手段で加熱しながら、第一、第二の光線束の照射を行うこともできる。
【００９１】
第一、第二の基板１１、２１の平面形状や、第一、第二の基板１１、２１の重ね合わせ方法も特に限定されず、はみ出し部分の数も特に限定されない。図１３は第一、第二の基板１１、２１にはみ出し部分１７、２７が１つずつ形成されるように重ね合わせた例である。図１４は第一、第二の基板１１、２１のうち、一方の基板（ここでは第一の基板１１）だけにはみ出し部分１７が形成された例であり、この場合ははみ出し部分１７上で封止材料３１を溶融させた後、第一、第二の基板１１，２１をひっくり返す必要がない。
【００９２】
いずれの場合も、第一、第二の基板１１，２１を重ね合わせた後は、第二の基板２１が隔壁１５で支持された状態が維持されるので、第一、第二の基板１１、２１を重ね合わせた時の第一、第二の基板１１、２１の位置関係は動かない。
【００９３】
放電ガスは特に限定されず、ＰＤＰに用いられる周知ガスを広く用いることができる。具体的には、Ｎｅガス、Ａｒガス、Ｋｒガス、Ｘｅガス、Ｈｅガス等を用いることができ、それらのガスは１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。
【００９４】
封止材料３１は常温で固体であって、昇温すると溶融するものであれば特に限定されるものではないが、第一、第二の基板１１、２１の間の間隙に確実に溶融物を引き込ませるためには、溶融した時の粘度が１０3ポアズ以下になるものが好ましい。封止材料３１としては具体的には、第一、第二の基板１１、２１の構成材料よりも融点の低い低融点ガラス材料がある。
【００９５】
低融点材料は樹脂材料、無機材料のいずれも用いることができるが、封止性の点からは低軟化点ガラス材料を用いることが好ましい。低軟化点ガラス材料としては、例えば、酸化亜鉛と酸化鉛のいずれか一方又は両方を含有するものが用いられる。
【００９６】
以上は、封止材料３１をはみ出し部分１７、２７上に配置してから、第一、第二の光線束を照射する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、封止材料３１をはみ出し部分１７上に供給しながら、第一、第二の光線束で溶融させる場合も本発明には含まれる。
【００９７】
具体的には、図１５に示すように、棒状の封止材料３１の先端をはみ出し部分１７に押し当て、その先端が第二の照射範囲４６に位置するように、第一、第二の照射範囲３６、４６の移動に、封止材料３１の先端を追従させると、第二の照射範囲４６が通過した後には、溶融物３２が配置される。
【００９８】
更に、図１６に示したように、噴出装置のノズル４１をはみ出し部分１７に向けて配置し、ノズルから粉体状の封止材料をはみ出し部分１７上の第二の照射範囲４６に吹き付け、第一、第二の照射範囲３６、４６の移動に、封止材料が吹き付けられる場所が追従するようにノズル４１の向きを変えると、第二の照射範囲４６が通過した後には溶融物３２が配置される。
【００９９】
図１５、１６に示した場合も、第二の照射範囲４６が到達する前であって、溶融物３２が配置される前には、はみ出し部分１７の溶融物３２が配置されるべき場所と、はみ出し部分１７上の他方の基板２１の縁２８も加熱されているので、溶融物３２は冷却されず、また、基板２１の縁２８から内側の所定領域と、その所定領域の下方に位置する基板１１も予め加熱されているので、第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれた溶融物３２は冷却されず、更に、第二の照射範囲４６が通過した後も、第二の基板２１の上記所定領域と、第一の基板１１の所定領域の下方の部分は第一の光線束で加熱されるので、上述したように第一、第二の基板１１、２１に歪みが生じにくい。
【０１００】
以上は、本発明の製造装置２を用いて、表示範囲１９に放電ガスを充填されたプラズマディスプレイパネル１を製造する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、表示範囲１９に有機層が配置され、第一、第二の電極間に電圧を印加すると有機層が発光するように構成された有機ＥＬ装置や、表示範囲１９に液晶材料が配置された液晶パネル（ＬＣＤ）の製造に、本発明の製造装置２を用いることもできる。
【０１０１】
更に、表示範囲１９に真空雰囲気が形成され、第一、第二のパネルのうち、一方のパネルに設けられた電子放出源から真空雰囲気中に電子が放出されると、その電子が他方のパネルに設けられた蛍光体膜に入射して光が発生するように構成されたＦＥＤの製造に、本発明の製造装置２を用いることもできる。
【０１０２】
本発明の製造装置、及びこれを用いた製造方法は、封止に必要な部分だけを加熱し、不純ガスの発生量が少ないので、不純ガスの影響を受けやすいＦＥＤやＰＤＰの製造に特に適している。
【０１０３】
以下に、第一、第二の照射範囲３６、４６の広さや、封止材料３１と第一、第二の基板１１、２１の加熱温度等の諸条件の一例を述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１０４】
封止材料として有機物を含まない低軟化点ガラス材料を用い、第一、第二の基板１１、２１にPDP用高歪み点glass（旭硝子（株）社製の商品名「PD200」等）を用いた場合は、封止材料３１が500℃以上になるように加熱し、溶融させる。また、これとは別に、本発明では上記低軟化点ガラス材料よりも融点（軟化点）が低く、従来用いられる低軟化点封止材料（例えば軟化温度が４５０℃程度）よりも更に軟化温度の低い材料（例えば軟化温度が３００℃）も用いることができる。
【０１０５】
第二の照射範囲４６は、溶融前の封止材料３１と、第一、第二の基板１１、２１の間に引き込まれた溶融物３２の両方に、第二の光線束が照射されるように設定することが好ましく、具体的には第二の照射範囲４６の移動方向Ｄと直交する方向の最大長さは、基板１１、２１の縁１８，２８を挟んで１ｍｍ以上２ｍｍ以下の範囲、即ち、縁１８、２８よりも１ｍｍ以上２ｍｍ以下内側の範囲と、縁１８、２８よりも１ｍｍ以上２ｍｍ以下外側の範囲の両方を含むように設定される。
【０１０６】
第二の照射範囲４６の移動方向Ｄの長さは特に限定されないが、封止材料３１を十分に溶融させるためには、１箇所に１秒以上１０秒未満の間第二の光線束が照射されることが好ましい。従って、第二の照射範囲４６の移動方向Ｄの長さは、移動速度によって設定されるものであり、具体的には、移動速度が20cm/分で、3秒の照射時間を設定する場合は、その長さは10mmである。
【０１０７】
第一、第二の基板１１、２１は溶融物３２との濡れ性確保と、高温溶融物３２と接触した時の局所歪み応力を緩和するために、第二の照射範囲４６が到達する前に、第一、第二の基板１１、２１を200℃以上350℃以下に予め加熱する必要がある。しかしながら、その温度が200℃未満であっても、溶融物３２との濡れ性が確保できるようであれば、その加熱温度は200℃未満であっても構わない。
【０１０８】
第一の照射範囲３６は、基板１１、２１の縁１８、２８よりも１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下内側の範囲が第一の光線束で加熱されるように設定されるが、第一、第二の基板１１、２１の種類と応力分布によってその加熱範囲を変更すべきなので、特に限定されるものではない。
【０１０９】
第一の照射範囲３６の移動方向Ｄの長さは、上記第二の照射範囲４６と同様に移動速度で決定されるものであり、例えば第一、第二の基板１１、２１の歪み応力を緩和するために第一の光線束を２０秒間加熱する必要があるとすると、その長さは１００ｍｍである。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明により製造されたプラズマディスプレイパネルの一例を説明する断面図
【図２】本発明の製造装置の一例を説明する断面図
【図３】第一、第二のレーザー光の強度分布の一例を説明するグラフ
【図４】第一、第二の基板を重ね合わせた状態を説明する平面図
【図５】第一、第二の照射範囲の移動状態の一例を説明する拡大平面図
【図６】（ａ）封止材料を配置した状態を示す断面図、（ｂ）溶融物が引き込まれた状態を示す断面図
【図７】リング状の溶融物が形成された状態を説明する平面図
【図８】放電ガスが封止された状態のプラズマディスプレイパネルを説明する断面図
【図９】第一、第二の照射範囲の移動状態の他の例を説明する拡大平面図
【図１０】第一、第二のレーザー光の強度分布の他の例を説明するグラフ
【図１１】透明ガラス基板の吸収スペクトル
【図１２】封止材料の吸収スペクトル
【図１３】第一、第二の基板の重ね合わせ方法の第二例を説明する平面図
【図１４】第一、第二の基板の重ね合わせ方法の第三例を説明する平面図
【図１５】封止材料の供給方法の一例を説明する平面図
【図１６】封止材料の供給方法の他の例を説明する断面図
【符号の説明】
【０１１１】
１……プラズマディスプレイパネル    ２……製造装置    ５……照射装置    １０……第一のパネル    １１……第一の基板    １５……隔壁    １７、２７……はみ出し部分    １８、２８……基板の縁    １９……表示範囲    ２０……第二のパネル    ２１……第二の基板    ３１……封止材料    ３２……溶融物    ３３……封止部材    ３５……レーザー光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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