(57)【要約】【課題】高彩度で優れた光輝感を有し、耐溶剤性、耐光性に優れた光輝性薄膜体、光輝性顔料、及び光輝性薄膜体の製造方法を提供する。【解決手段】  多孔質アルミナ板の厚さ方向に伸長する微細孔内に金属粒子が充填されていることを特徴とする光輝性薄膜体。  前記光輝性薄膜体において、金属粒子が金、銀、銅、白金、ニッケル、コバルト、スズ、パラジウム、及び鉛からなる群より選択される１種又は２種以上の粒子であることが好適である。  前記光輝性薄膜体において、微細孔の孔径が０．０１〜０．１μｍであることが好適である。  前記光輝性薄膜体を細断して得られる構造体が平均粒子径１０〜２０００μｍ、平均膜厚が１〜１００μｍで、かつ粒子径が膜厚より大きいことを特徴とする光輝性顔料。【選択図】      図１
2006176827.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質アルミナ板の厚さ方向に伸長する微細孔内に金属粒子が充填されていることを特徴とする光輝性薄膜体。
【請求項２】
請求項１に記載の光輝性薄膜体において、金属粒子が金、銀、銅、亜鉛、白金、ニッケル、コバルト、スズ、チタン、パラジウム、及び鉛からなる群より選択される１種又は２種以上の粒子であることを特徴とする光輝性薄膜体。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光輝性薄膜体において、微細孔の孔径が０．０１〜０．１μｍであることを特徴とする光輝性薄膜体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の光輝性薄膜体を細断して得られる構造体が平均粒子径１０〜２０００μｍ、平均膜厚が１〜１００μｍで、かつ粒子径が膜厚より大きいことを特徴とする光輝性顔料。
【請求項５】
下記（Ａ）〜（Ｃ）の工程を含む光輝性薄膜体の製造方法。
（Ａ）  アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を陽極酸化し、その表面を厚さ方向に伸長する微細孔を有する多孔質アルミナ皮膜で被覆する薄膜形成工程。
（Ｂ）  （Ａ）工程後、前記アルミナ皮膜を無電解めっき処理又は電気めっき処理し、その微細孔に金属粒子を充填する金属充填工程。
（Ｃ）  （Ｂ）工程後、前記アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を剥離する基材除去工程。
【請求項６】
請求項５に記載の製造方法において、（Ａ）の工程が下記（Ａ１）〜（Ａ３）の工程を含むことを特徴とする光輝性薄膜体の製造方法。
（Ａ１）  アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を陽極酸化し、その表面を厚さ方向に伸長する微細孔を有する多孔質アルミナ皮膜で被覆する第一次薄膜形成工程。
（Ａ２）  （Ａ１）工程後、前記アルミナ皮膜を厚さ方向に一部除去する薄膜調整工程。
（Ａ３）  （Ａ２）工程後、再び陽極酸化する第二次薄膜形成工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光輝性薄膜体、光輝性顔料、及び光輝性薄膜体の製造方法、特に陽極酸化皮膜を利用した光輝性薄膜体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光輝性顔料は、化粧料、塗料、樹脂等、光輝感と鮮やかな色が必要とされる分野で使用され、その需要及び工業的価値は年々増大している。
代表的な光輝性顔料には、二酸化チタン被覆雲母に代表されるパール剤と、ポリエチレンテレフタレートやエポキシ樹脂の薄膜にアルミニウム等の金属を蒸着したものに代表されるラメ剤とがある。例えば特開２００２−１３８０１６号公報にはパール光沢顔料を５〜８０重量％配合した化粧料、特開２００４−１０７２８３号公報にはラメ剤を含むオイルゲル化粧料が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−１３８０１６号公報
【特許文献２】特開２００４−１０７２８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、パール剤では鮮やかな光輝感が得られず、ラメ剤では素材の厚みによる塗布時の違和感があり、耐溶剤性も十分ではなかった。また、鮮やかな赤や黄色を得るためには、有機系着色顔料が併用されているが、耐光性に劣るのが現状である。
本発明は、前記従来の課題に鑑みなされたもので、高彩度で優れた光輝感を有し、耐溶剤性、耐光性に優れた光輝性薄膜体、光輝性顔料、及び光輝性薄膜体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記問題に鑑み、本発明者等が鋭意検討した結果、アルミニウムを陽極酸化することで生成するアルミナの微細孔に金属粒子等を充填し、アルミニウム地金を剥離することにより得られる光輝性薄膜体を細断することにより、鮮やかで優れた光輝感を有する光輝性顔料が得られることを見出した。
本発明の第一の主題は、多孔質アルミナ板の厚さ方向に伸長する微細孔内に金属粒子が充填されていることを特徴とする光輝性薄膜体である。
【０００５】
前記光輝性薄膜体において、金属粒子が金、銀、銅、亜鉛、白金、ニッケル、コバルト、スズ、チタン、パラジウム、及び鉛からなる群より選択される１種又は２種以上の粒子であることが好適である。
前記光輝性薄膜体において、微細孔の孔径が０．０１〜０．１μｍであることが好適である。
本発明の第二の主題は、前記光輝性薄膜体を細断して得られる構造体が平均粒子径５〜２０００μｍ、平均膜厚が１〜１００μｍで、かつ粒子径が膜厚より大きいことを特徴とする光輝性顔料である。
【０００６】
本発明の第三の主題は、下記（Ａ）〜（Ｃ）の工程を含む光輝性薄膜体の製造方法である。
（Ａ）  アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を陽極酸化し、その表面を厚さ方向に伸長する微細孔を有する多孔質アルミナ皮膜で被覆する薄膜形成工程。
（Ｂ）  （Ａ）工程後、前記アルミナ皮膜を無電解めっき処理又は電気めっき処理し、その微細孔に金属粒子を充填する金属充填工程。
（Ｃ）  （Ｂ）工程後、前記アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を剥離する基材除去工程。
前記製造方法において、（Ａ）の工程が下記（Ａ１）〜（Ａ３）の工程を含むことが好適である。
（Ａ１）  アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を陽極酸化し、その表面を厚さ方向に伸長する微細孔を有する多孔質アルミナ皮膜で被覆する第一次薄膜形成工程。
（Ａ２）  （Ａ１）工程後、前記アルミナ皮膜を厚さ方向に一部除去する薄膜調整工程。
（Ａ３）  （Ａ２）工程後、再び陽極酸化する第二次薄膜形成工程。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、アルミニウムを陽極酸化することで生成するアルミナの微細孔に金属粒子等を充填し、アルミニウム地金を剥離することにより、鮮やかで優れた光輝感を有する光輝性薄膜体が得られ、それを細断することにより、鮮やかで優れた光輝感を有する光輝性顔料が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
＜光輝性薄膜体＞
本発明の光輝性薄膜体の製造方法を詳細に説明する。
本発明の光輝性薄膜体の製造方法は、以下の（Ａ）〜（Ｃ）工程を含むことを特徴とする（図１）。
（Ａ）  アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を陽極酸化し、その表面を厚さ方向に伸長する微細孔を有する多孔質アルミナ皮膜で被覆する薄膜形成工程。
（Ｂ）  （Ａ）工程後、前記アルミナ皮膜を無電解めっき処理又は電気めっき処理し、その微細孔に金属粒子を充填する金属充填工程。
（Ｃ）  （Ｂ）工程後、前記アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を剥離する基材除去工程。
【０００９】
なお（Ａ）工程前に、前処理として、アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材表面に付着している油脂類や表面に自然酸化により生成している酸化皮膜を除去しておくことが好ましい。酸化皮膜を除去することで、陽極酸化後に金属を充填した基材の光沢、発色が良くなる。アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材表面に濃厚な油脂類が付着しているときには、有機溶剤による脱脂が必要であるが、通常はアルカリ性溶液に浸漬するか電解研磨を行えばよい。脱脂の方法としては５〜１０％ＮａＯＨを５０〜８０℃に設定し、０.５〜２分間浸漬する方法等が挙げられる。また、電解研磨の方法としては、８００ｍL８５％リン酸、１００ｇクロム酸、２００ｍL水の浴組成で６０〜９０℃、アノード電流密度３０〜５０Ａ/ｄｍ２で１〜４分間電解研磨する方法等が挙げられる。
【００１０】
（Ａ）工程
本発明において、多孔質アルミナ板は陽極酸化技術を利用して得られる。即ち、アルミニウム基材やアルミニウム合金基材を、硫酸、クロム酸、りん酸、しゅう酸、スルホマレイン酸、スルホフマル酸等の脂肪属カルボン酸のスルホン酸に硫酸を添加した混酸、スルホフタル酸、スルホサルチル酸等の芳香族スルホン酸に硫酸を添加した混酸の酸性水溶液、あるいは水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ性水溶液で陽極酸化すると多孔質のアルミナ皮膜が得られる。特に酸性浴が適している。
【００１１】
陽極酸化における電圧、温度などの条件はアルミニウム基材やアルミニウム合金基材の種類、浴の種類などの諸条件において、所望の孔径で孔径分布が狭い条件を適宜設定する必要がある。３０Ｖ以下の電圧では硫酸浴、８０Ｖ以上の電圧ではリン酸浴、その間の電圧ではシュウ酸浴を用いることが多い。
【００１２】
微細孔の孔径は溶媒（電解液）の種類により変化し、微細孔の深さは陽極酸化の反応時間により変化する。例えば０．５Ｍシュウ酸浴で４０Ｖ５時間の場合は、孔径４０〜７０ｎｍとなり、０．３Ｍ硫酸浴で２５Ｖ５時間の場合は、孔径２０〜３５ｎｍとなる。なお微細孔の深さは陽極酸化時間にほぼ比例して増加するが、ある一定以上になると構造破壊が生じる。
また浴の酸性が強く、電圧が高い場合、皮膜の生成速度が速くなり、浴の酸性が弱く、電圧が低い場合、皮膜の生成速度が遅くなる。
また、アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材の種類や、電解溶液の種類・温度、及び時間電流密度等により、アルミナ皮膜の色が変化する。
本発明において、アルミニウム合金基材としては、Al-Si系、Al-Cu系、Al-Mn系、Al-Mg系、Al-Mg-Si系、Al-Zn-Mg系等が使用できる。
【００１３】
陽極酸化皮膜は、水の電気分解と同じ原理を利用したものである。水を電気分解すると、陽極からは酸素、陰極からは水素が発生する。この陽極をアルミニウム基材に変え、一定の条件を満たした電解液中において電気分解すると同じように陽極から酸素、陰極から水素が発生する。この陽極から発生する酸素とアルミニウムとが化学反応をおこして、特異な形状をしたアルミナ皮膜が形成される。アルミナ皮膜は、蜂の巣のような六角柱のセルの集合体で、それぞれ中心に微細孔があり、アルミナ基材との界面付近にまで通じている。（図２参照）。
【００１４】
厚さ方向に伸長する微細孔の直行性を上げるには、アルミニウムを一定時間陽極酸化行って形成した酸化皮膜をいったん選択的に溶解除去した後、再度、同一条件で陽極酸化を行うことが有効である。すなわち、本発明において（Ａ）工程は、以下の（Ａ１）〜（Ａ３）の工程を含むことが好ましい。
（Ａ１）  アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材を陽極酸化し、その表面を厚さ方向に伸長する微細孔を有する多孔質アルミナ皮膜で被覆する第一次薄膜形成工程。
（Ａ２）  （Ａ１）工程後、前記アルミナ皮膜を厚さ方向に一部除去する薄膜調整工程。
（Ａ３）  （Ａ２）工程後、再び陽極酸化する第二次薄膜形成工程。
【００１５】
（Ａ１）の第一次薄膜形成工程において、規則配列した微細孔が形成される。
（Ａ２）の薄膜調整工程において、クロム酸処理等により、一旦皮膜を厚さ方向に一部除去し、（Ａ３）の第二次薄膜形成工程において、再び陽極酸化することにより、微細孔の直行性が向上する。
【００１６】
（Ｂ）工程
前記（Ａ）工程によって、生成されるアルミナ皮膜は微細孔があるため、高硬度であるのに加え吸着性が強く、容易に着色することができる。
本発明において金属充填方法は通常公知の方法を使用することができる。例えば、金属塩を含む電解液から金属を皮膜中に析出させる方法が挙げられる（図３参照）。
金属塩による電解着色には、金属塩を含む電解液で皮膜化成と着色を同時に行う一次電解着色法や、金属塩を含む電解液中で陽極酸化アルミナを交流電解し、金属あるいは金属塩を孔内に析出させる二次電解着色法などがあるが、本発明においては二次電解着色法が好適である。
充填させる金属としては、が金、銀、銅、亜鉛、白金、ニッケル、コバルト、スズ、チタン、パラジウム、及び鉛等が挙げられる。充填させる金属の種類及び充填時間（充填量）により、様々な色に着色される。
【００１７】
プラズモン吸収の原理
金属に光を当てると電場の振動につられて金属中の自由電子も振動し、電子の振動により、電磁波が放射され、これが反射光の起源になる。
一方、非常に小さい金属の微粒子では、電子の振動は粒子の大きさにより制限される。粒子の大きさが光の波長よりずっと小さくなると、金属の種類と粒子の形により電子が振動するのにちょうど良い振動数が決まり、例えば金の球形粒子の場合、緑色の光付近の振動数になり、緑色の光が強く吸収されるので、赤紫色になる。
（金コロイドの粒子径とプラズモン吸収との関係）
直径（ｎｍ）            λmax  
８．９              ５１７
１４．８              ５２０
２１．７              ５２１
４８．３              ５３３
９９．３              ５７５
【００１８】
（Ｃ）工程
（Ｂ）工程後、塩化第二水銀処理等により、アルミニウム基材又はアルミニウム合金基材（地金）を剥離することにより、高彩度で優れた光輝感を有し、耐溶剤性、耐光性に優れた光輝性薄膜体が得られる。
剥離方法としては、昇コウ法、過塩素酸メタノール法、逆電剥離法などがある。
昇コウ法は、陽極酸化アルミナを飽和塩化水銀水溶液に浸漬することで、アルミニウムが水銀アマルガムとなり液化することで、分離できる。
過塩素酸メタノール法は、７０％過塩素酸１００ｍＬとメタノール５００ｍＬとの混合溶液中で、陽極酸化アルミナを陽極に接続し、５０〜６５Ｖの電圧を印加する。
電流停止後、直ちに４０〜５０℃の温水中で約１分間洗浄し、冷水中で３０分程度揺り動かしていると、アルミニウム地金が分離できる。
【００１９】
逆電剥離法は、陽極酸化終了後、同じ浴中で印加電圧を陽極酸化終了時電圧よりも数Ｖ一度に低下させると一旦電流は流れなくなるが、時間が経過するとともに徐々に回復し、しばらくすると定常状態になる。その後、さらに印加電圧を順次段階的に低下させ、印加電圧が数Ｖ程度になるまでこれを繰り返す。
次に、アルミニウム板を陰極に接続し、電流を数十ｍＡ／ｃｍ２程度まで徐々に増加させると、水素ガスが発生しその圧力によりアルミニウム地金が分離できる。
なお、本発明において陽極酸化を行うアルミニウム基材の種類としては、前述のように純アルミニウム系以外に、Al-Si系、Al-Cu系、Al-Mn系、Al-Mg系、Al-Mg-Si系、Al-Zn-Mg系などが挙げられるが、前処理や陽極酸化条件を同一にしても、合金に添加されている元素の影響により、アルマイト皮膜は仕上がりの光沢、発色が異なる。
【００２０】
＜光輝性顔料＞
上記光輝性薄膜体を所望の大きさに細断することにより、高彩度で優れた光輝感を有し、耐溶剤性、耐光性に優れた光輝性顔料を得ることができる。
光輝性顔料の平均粒子径は、特に限定されないが、１０〜２０００μｍであることが好ましい。１０μｍ未満であると、光輝性が確認しづらくなることがあり、２０００μｍを超えると、化粧料等に配合した場合に使用感が劣ることがある。
また、平均膜厚は特に限定されないが、１〜１００μｍ、特に５〜３０μｍであることが好ましい。１μｍ未満であると製造時の取り扱いが困難であり、１００μｍを超えると化粧料等に配合した場合に使用感が劣ることがある。また粒子径は厚さより大きいことが好ましい。
【００２１】
光輝性薄膜体を粉末化する場合、粒子径を制御するために剥離工程前に所望の寸法の切込みを入れておくと、剥離工程後粒子径が制御された光輝性顔料が容易に得られる。
また、上記操作を行わない場合、光輝性薄膜体を粉砕機により粉末化した後、篩処理などにより粒子径を制御することが望ましい。
【００２２】
本発明の光輝性顔料は、塗料組成物に適宜配合して用いることも可能である。塗料組成物としては、特に限定されないが、バインダー樹脂、溶剤等が配合されたものが挙げられる。
バインダー樹脂とは、顔料混合粉体を基材上に安定に密着させうる樹脂であり、溶剤型インキ、紫外線硬化型インキ等を使用することができ、基材上に塗工後は顔料混合粉体を包埋した状態で基材上に皮膜を形成するものである。インキの種類は基材との相性や、形成皮膜強度、膜厚等によって選択されるので特に限定されないが、通常塗料や印刷インキのバインダーとして用いられているものを使用することができる。
上記インキの印刷方法としては、フレキソ印刷、グラビア印刷、凸版印刷、孔版印刷等の方法があり、適切な方法を選択すればよい。
【００２３】
本発明の光輝性顔料は、化粧料に適宜配合して用いることも可能であり、該化粧料においては、化粧料に用いられる他の成分を必要に応じて一種又は二種以上適宜配合することができる。
例えば、タルク、セリサイト、カオリン、マイカ、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛等の無機粉体、ナイロンパウダー、ポリエチレンパウダー、スチレンパウダー、ポリテトラフルオロエチレンパウダー、シルクパウダー、結晶セルロース等の有機粉体、赤色２０１号、黄色２０５号等のタール色素、クロロフィル、β−カロチン等の天然色素、酸化チタン被覆雲母等のパール顔料、スクワラン、流動パラフィン等の炭化水素、パルミチン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、トリイソステアリン酸グリセリル、トリヤシ油脂肪酸グリセリル等の油脂類、及び各種シリコーン油、エステル油、高級アルコール、ロウ、樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防腐剤、界面活性剤、保湿剤、香料、増粘剤等が挙げられる。
【００２４】
本発明の光輝性顔料を配合した化粧料は通常の方法により製造することができ、例えばファンデーション、白粉、ホホ紅、アイシャドウ、口紅、アイライナー、マスカラ等のメークアップ化粧料などとしてあるいは乳液、クリーム等の基礎化粧料等に適用することができる。
【００２５】
本発明の顔料を塗料、化粧料などに配合する場合、疎水性、分散性、耐光性等の向上の目的から、表面処理を行っても良い。表面処理剤としては特に制限されないが、例えばシリコーン油、脂肪酸金属塩、アルキルリン酸、アルキルリン酸のアルカリ金属塩又はアミン塩、Ｎ−モノ長鎖（炭素数８〜２２）脂肪族アシル塩基性アミノ酸、パーフルオロアルキル基を有するリン酸エステル等が挙げられる。
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。配合量については特に断りのない限り質量％を示す。
【実施例１】
【００２６】
＜実施例１−１＞
（電解研磨工程）
厚さ０．５ｍｍ純度９９.９９％アルミニウム板（東洋アルミニウム製）を１ｃｍ×５ｃｍに切り出し電解研磨を行い表面の酸化皮膜を除去した。
（Ａ１）工程
次いで、アルミニウム板を陽極、試料よりも十分大きな面積を持つＡｌ板を陰極として、陽極酸化を行った。陽極酸化は電解液として０.５Ｍシュウ酸水溶液を使用し、直流４０Ｖ、１６℃、５時間で行った。
（Ａ２）工程
（Ａ１）工程で得られたアルミニウム板を、７.１×１０−２Ｍ酸化クロム（IV）、０.２Ｍりん酸の混合水溶液中に４０℃で１５時間浸漬し、陽極酸化アルミニウムの酸化皮膜部分を選択的に溶解した。
（Ａ３）工程
（Ａ２）工程で得られたアルミニウム板を、試料よりも十分大きな面積を持つアルミニウム板を陰極として陽極酸化を行った。陽極酸化は電解液として０.５Ｍシュウ酸水溶液を使用し、交流４０Ｖ、１６℃、１時間で行った。
【００２７】
（Ｂ）工程
（Ａ）工程で得られたアルミニウム板の対極を白金板として、電気めっき処理を行った。電気めっき処理はめっき液として２.９×１０−３Ｍ塩化金酸と７.１×１０−２Ｍ硫酸の混合水溶液を使用し、交流１３Ｖ、３５℃で５分間行った。
（Ｃ）工程
ＨｇＣｌ２飽和水溶液中に数十分間浸漬して、アルミニウム板から金充填陽極酸化アルミナを取り外した。
【００２８】
＜実施例１−２＞
（Ｂ）工程を１０分行った以外は実施例１と同様の条件で陽極酸化を行った。
＜実施例１−３＞
（Ｂ）工程を２０分行った以外は実施例１と同様の条件で陽極酸化を行った。
＜比較例１＞
（Ｂ）工程を行わなかった以外は実施例１と同様の条件で陽極酸化を行った。
【００２９】
本実施例の光輝性薄膜体は、金属充填時間により反射光、拡散光が以下のように色が変化した。ここで試料の法線から−４５度の角度で光を照射し、観察角度４０度の場合を反射光、観察角度０度の場合を拡散光と定義する。
（表１）                                                          
比較例１  実施例１  実施例２  実施例３      
金属充填時間（分）      ０        １０      ２０      ４０
拡散光による光          無色      淡い赤      赤      濃い赤
反射光による色          無色      淡い赤      赤紫    青紫        
上記実施例１−１〜１−３の光輝性薄膜体を所定の範囲内において粉砕、分級し、本発明の光輝性顔料を得た。この光輝性顔料は、高彩度で優れた光輝感を有し、且つ耐溶剤性、耐光性に優れたものであった。
【実施例２】
【００３０】
（電解研磨工程）
実施例１−１と同様の条件で電解研磨を行った。
（Ａ１）工程
次いで、アルミニウム板を陽極、試料よりも十分大きな面積を持つＡｌ板を陰極として、陽極酸化を行った。陽極酸化は電解液として０.３Ｍ硫酸水溶液を使用し、直流２５Ｖ、１６℃、５時間で行った。
（Ａ２）工程
（Ａ１）工程で得られたアルミニウム板を、７.１×１０−２Ｍ酸化クロム（IV）、０.２Ｍりん酸の混合水溶液中に４０℃で１５時間浸漬し、陽極酸化アルミニウムの酸化皮膜部分を選択的に溶解した。
（Ａ３）工程
（Ａ２）工程で得られたアルミニウム板を、試料よりも十分大きな面積を持つアルミニウム板を陰極として陽極酸化を行った。陽極酸化は電解液として０.５Ｍシュウ酸水溶液を使用し、交流４０Ｖ、１６℃、１時間で行った。その後、２Ｖステップで段階的に電圧を２Ｖまで降下させていった。
【００３１】
（Ｂ）工程
（Ａ）工程で得られたアルミニウム板の対極を白金板として、電気めっき処理を行った。電気めっき処理はめっき液として２.９×１０−３Ｍ塩化金酸と７.１×１０−２Ｍ硫酸の混合水溶液を使用し、交流１３Ｖ、３５℃で５分間行った。
（Ｃ）工程
（Ｂ）工程で得られたアルミニウム板を陰極とし、カーボンを陽極として０.５Ｍシュウ酸水溶液を使用し、１６℃で５ｍＡ／ｃｍ２〜１０ｍＡ／ｃｍ２のカソード電解を行い、アルミニウム板から金充填陽極酸化アルミナを取り外した。
実施例２で得られた光輝性薄膜体は拡散色、反射色ともに赤色を呈していた。
また、この光輝性薄膜体を細断したところ、高彩度で優れた光輝感を有し、且つ耐溶剤性、耐光性に優れた光輝性顔料が得られた。
【実施例３】
【００３２】
（Ｂ）工程でめっき液として１．８×１０−２Ｍ硝酸銀、１．７Ｍ硫酸の混合水溶液中で交流１３Ｖ、３５℃で２分間電気めっき処理を行った以外は、実施例１−１と同様の条件で陽極酸化を行った。
実施例３で得られた光輝性薄膜体は拡散色が黄色、反射色がわずかに赤色を呈した。
また、この光輝性薄膜体を細断したところ、高彩度で優れた光輝感を有し、且つ耐溶剤性、耐光性に優れた光輝性顔料が得られた。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の光輝性薄膜体の製造方法を示す図である。
【図２】本発明の光輝性薄膜体の製造方法における（Ａ）の薄膜形成工程を示す図である。
【図３】本発明の光輝性薄膜体の製造方法における（Ｂ）の金属充填工程を示す図である。
【図１】
2006176827.tif 000003
【図２】
2006176827.tif 000004
【図３】
2006176827.tif 000005