(57)【要約】【課題】光導波路板の製造方法において、余剰コア層からなる中間層が少なくて光導波損失が小さい光導波路の実現を可能とする。【解決手段】光導波路板は、コア形成用の凹溝２１を有する下部クラッド２を基板１上に備えたクラッド基板３を形成するクラッド基板形成工程、クラッド基板表面に溶剤成分を含んだコア樹脂液５０を塗布するコア樹脂液塗布工程、コア樹脂液平坦化工程、コア樹脂液の溶剤成分を揮発させるコア溶剤揮発工程、クラッド基板の凹溝に入っているコア樹脂液５１のみを選択的に硬化させてコアを形成するコア樹脂部分硬化工程、クラッド基板表面から硬化していないコア樹脂液５１をエアジェットＡにより除去する未硬化コア樹脂液除去工程、上部クラッド樹脂液６０から上部クラッド６を形成する上部クラッド樹脂液塗布工程、上部クラッド樹脂液平坦化工程、上部クラッド樹脂硬化工程により製造される。【選択図】図１
2006039233.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア形成用の凹溝を表面に有する光透過性樹脂よりなる下部クラッドを基板上に形成し、前記凹溝にコア樹脂液を充填するとともに硬化させてコアを形成し、前記下部クラッド及びコアの表面に上部クラッドを形成することにより、基板上に上下クラッドとコアからなる光導波路を形成した光導波路板の製造方法であって、
前記コアの形成は、
前記下部クラッドの表面に溶剤成分を含んだコア樹脂液を塗布する工程と、
前記コア樹脂液の溶剤成分を揮発させる工程と、
前記工程の後に前記凹溝に入っているコア樹脂液のみを選択的に硬化させてコアを形成する工程と、
前記下部クラッドの表面から硬化していないコア樹脂液を除去する工程と、を備えたことを特徴とする光導波路板の製造方法。
【請求項２】
前記溶剤成分を揮発させる工程において、該溶剤成分の揮発は、前記凹溝及びその近傍に塗布された前記コア樹脂液を選択的に加熱することにより行うことを特徴とする請求項１に記載の光導波路板の製造方法。
【請求項３】
前記コア樹脂液を塗布する工程と前記コア樹脂液の溶剤成分を揮発させる工程とは、前記コア樹脂液に含まれる溶剤濃度を変化させて複数回行うことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光導波路板の製造方法。
【請求項４】
前記下部クラッドの表面に溶剤成分を含んだコア樹脂液を塗布する工程の前に、前記下部クラッドの凹溝表面に選択的にプラズマ照射を行うことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の光導波路板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報通信分野で用いられる光導波路板の製造方法に関し、特に、ポリマ導波路を備えた光導波路板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の光導波路板の一例を図１０（ａ）（ｂ）に示す。この光導波路板１０は、基板１と、基板１上に形成した下部クラッド２、上部クラッド６、及び光を導波するコア５からなる光導波路とを備え、コア５の両端に光ファイバＦを接続して光信号の分岐や重畳を行う光デバイスとして用いられる。この例では、コア５はＹ分岐しており、分岐前の一つのコア５から分岐後の二つのコアの一方に選択的に光信号を導波させる光スイッチを構成している。光スイッチは、コアの分岐部近傍にヒータ（不図示）を設けて構成され、ヒータへの通電制御によりコアを加熱してコアの屈折率を変化させて光の通路を切り替える。
【０００３】
ところで、近年、高価な従来の石英製コアによる光導波路板に替えて、低コストのいわゆるポリマ導波路による光導波路板が製造されている。ポリマ導波路は、コア材及びクラッド材に透明性に優れた高分子材料を用いて形成される。例えば、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）やポリスチレン等がコア材として用いられる。
【０００４】
上記のようなポリマ導波路を備えた光導波路板の製造は、例えば、基板上にコア形成用の凹溝を備えた下部クラッドをクラッド用樹脂で形成し、コア形成用の凹溝にコア樹脂液を充填硬化させた後、下部クラッド上部及びコア周辺にクラッド用樹脂で上部クラッドを形成するという手順で行われる。この場合、本来のコア領域以外に下部クラッドと上部クラッドとの間に余剰のコア樹脂液により中間層が形成され、この中間層が多いと、中間層から光が漏れてしまい、光導波損失が発生する。そのため、光導波路としての所要の性能を得るには、余剰コア層からなる中間層を略ゼロにする必要がある。そこで、コア樹脂液が硬化の際に収縮することを考慮して予めコア樹脂を多く滴下し、コア樹脂硬化後に余剰分をドライエッチングや研磨等により除去する方法や、コア樹脂液の滴下、硬化という工程を複数回行う方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−２２８３５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述したようなコア樹脂硬化後に余剰分を除去する方法では、工程が多いという問題がある。また、コア樹脂液の滴下、硬化の工程を複数回行うという方法では、コア形成用の凹溝が密集している部分と、そうでない部分とでは、必要とするコア樹脂液量が異なるので、凹溝が密集している部分では、コア樹脂液が不足するため形成されたコアの上面が凹溝に沿って凹形状となってしまい、逆に凹溝が少ない部分では、コア樹脂の収縮時に凹溝に流れ込むコア樹脂液が比較的少ないためコア樹脂液に余剰が発生し、中間層が残ってしまうという問題がある。
【０００６】
本発明は、上記課題を解消するものであって、余剰コア層からなる中間層を少なくできて光導波損失を小さくできる光導波路板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を達成するために、請求項１の発明は、コア形成用の凹溝を表面に有する光透過性樹脂よりなる下部クラッドを基板上に形成し、前記凹溝にコア樹脂液を充填するとともに硬化させてコアを形成し、前記下部クラッド及びコアの表面に上部クラッドを形成することにより、基板上に上下クラッドとコアからなる光導波路を形成した光導波路板の製造方法であって、前記コアの形成は、前記下部クラッドの表面に溶剤成分を含んだコア樹脂液を塗布する工程と、前記コア樹脂液の溶剤成分を揮発させる工程と、前記工程の後に前記凹溝に入っているコア樹脂液のみを選択的に硬化させてコアを形成する工程と、前記下部クラッドの表面から硬化していないコア樹脂液を除去する工程と、を備えたものである。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光導波路板の製造方法において、前記溶剤成分を揮発させる工程において、該溶剤成分の揮発は、前記凹溝及びその近傍に塗布された前記コア樹脂液を選択的に加熱することにより行うものである。
【０００９】
請求項３の発明は、請求項１又は請求項２に記載の光導波路板の製造方法において、前記コア樹脂液を塗布する工程と、コア樹脂液の溶剤成分を揮発させる工程とは、前記コア樹脂液に含まれる溶剤濃度を変化させて複数回行うものである。
【００１０】
請求項４の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の光導波路板の製造方法において、前記下部クラッドの表面に溶剤成分を含んだコア樹脂液を塗布する工程の前に、前記下部クラッドの凹溝表面に選択的にプラズマ照射を行うものである。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１の発明によれば、溶剤成分を含んだコア樹脂液を用いるとともに、コア形成用の凹溝部分のコア樹脂液を選択的に硬化させて、未硬化コア樹脂液を除去してコアを形成するので、隣接するコア間に余剰のコア樹脂層（中間層）が存在したりコア間がコア樹脂で接続されたりするのを防止でき、光損失を抑制できる。また、溶剤成分を含んだ状態のコア樹脂液を用いるので、例えば粘性が高いため従来コア樹脂として用いられなかった樹脂を溶剤により低粘性化して用いることができ、コア樹脂材料選定の自由度が増す。
【００１２】
請求項２の発明によれば、コア形成用の凹溝近傍のコア樹脂液中の溶剤成分が他の部位よりも先に揮発するので、凹溝に向かって凹溝に隣接する部位からコア樹脂液が流入し、従って、コア部上部が溶剤揮発により凹形状に歪む程度が緩和される。コア部形状の歪みが緩和されるので、光導波特性の良い光導波路、従って光導波特性の良い光導波路板を形成できる。
【００１３】
請求項３の発明によれば、各回毎に溶剤濃度を変化させることにより粘度を最適に調整したコア樹脂液を用いて、コア樹脂液塗布工程からコア溶剤揮発工程までの工程を複数回行うので、溶剤濃度を高くするとコア樹脂液の流動性が増加してコア形状部の歪みを緩和し易くなる反面、溶剤が揮発したときの体積変化率つまりコア部形状の歪み率が増大するというトレードオフの関係のもとで、コア部上部が溶剤の揮発により凹形状に歪むのを最小の歪みとなるように緩和でき、光導波特性の良い光導波路板を形成できる。また、各回のコア溶剤揮発工程後のコア部上部の凹形状化の程度に合わせて樹脂の粘度を調整することにより、コア樹脂液の塗布回数を最小限にすることができる。
【００１４】
請求項４の発明によれば、コアが形成される部分である凹溝表面が活性化され、下部クラッドとコア樹脂との密着性を増すことができるので、長期信頼性に優れた光導波路板を製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態に係る光導波路板の製造方法について、図面を参照して説明する。図１（ａ）〜（ｉ）は、本発明の光導波路板の製造工程を示す。光導波路板の製造方法は、クラッド基板形成工程、コア樹脂液塗布工程、コア樹脂液平坦化工程、コア溶剤揮発工程、コア樹脂部分硬化工程、未硬化コア樹脂液除去工程、上部クラッド樹脂液塗布工程、上部クラッド樹脂液平坦化工程、及び上部クラッド樹脂硬化工程を備えており、この順番で光導波路板の製造が行われる。これらの工程をこの順に説明する。
【００１６】
（クラッド基板形成工程）
クラッド基板形成工程では、図１（ａ）に示すように、基板１上に、コア形成用の凹溝２１を有する光透過性樹脂よりなる下部クラッド２を形成する。基板１と下部クラッド２とによりクラッド基板３が形成される。下部クラッド２は、基板１の平面上にエポキシ系又はアクリル系の液状樹脂からなる下部クラッド用の樹脂液を塗布し、この樹脂にコア形成用の凹溝２１に対応する凸部４１を有する金型４を押し付けて導波路コア形成用の凹溝２１を賦形して形成される。基板１として、ガラス基板、シリコン基板、又はセラミック基板を用いることにより表面平坦性の高いクラッド基板３を形成でき、そのため、凹溝部分及び凹溝以外の部分のそれぞれの部分において、均一な厚みの下部クラッドを形成できる。
【００１７】
（コア樹脂液塗布工程）
コア樹脂液塗布工程では、図１（ｂ）に示すように、クラッド基板３の表面に、溶剤成分を含んだコア樹脂液５０を所定量だけ、例えばマイクロピペットを用いて滴下することにより、塗布する。溶剤量は、後続のコア樹脂液平坦化工程においてコア樹脂液膜厚が１．５μｍ以下となるように粘度を調整する。
【００１８】
（コア樹脂液平坦化工程）
コア樹脂液平坦化工程では、図１（ｃ）に示すように、コア樹脂液５０の表面を平坦化するとともに下部クラッドの最上表面からのコア樹脂液５０の液厚であるコア樹脂液厚ｄを所定範囲の厚みに制御する。コア樹脂液５０の表面の平坦化及び液厚の制御方法として、コア樹脂液５０中にクラッド基板３を一旦浸してから引き上げるディッピング法や、コア樹脂液５０の塗布後にヘラでコア樹脂液５０を均一にならすスキージング法、及びこれらを併用した方法などを用いることができる。また、図２（ａ）に示すように、クラッド基板３にコア樹脂液５０を滴下した後、図示しないスピンコータを用いてクラッド基板３を基板平面に垂直な軸回りに回転させて不要なコア樹脂液５０をクラッド基板３外に飛ばすスピンコータ法を用いて容易にコア樹脂液５０の表面を平坦化できる。例えば、コア樹脂液５０の粘度を５００ｍＰａ・ｓ程度以下とし、４０００ｒｐｍ以上の回転数で２０ｓ以上スピンコートを行うことにより、コア樹脂液厚ｄ＝１．５μｍ以下とすることができる。
【００１９】
（コア溶剤揮発工程）
コア溶剤揮発工程では、図１（ｄ）に示すように、クラッド基板３を加熱してコア樹脂液５０に含まれている溶剤成分を揮発させる。溶剤として、人体への影響が少なく主剤成分との溶解性が良好なＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）を用いるのが好ましい。この場合、１００℃における３分間の加熱により溶剤を完全に揮発させて溶剤成分を含まないコア樹脂液５１とすることができる。溶剤が揮発した後のコア樹脂液５１の表面形状は、コア形成用の凹溝部分において凹形状となる。
【００２０】
（コア樹脂部分硬化工程）
コア樹脂部分硬化工程では、図１（ｅ）に示すように、クラッド基板３の凹溝に入っているコア樹脂液５１のみを選択的に硬化させてコア５とする。コア樹脂液５１が熱硬化性樹脂である場合には、クラッド基板３の凹溝２１に入っているコア樹脂液５１に、例えば、レーザ光ＬＢを照射することにより選択的に加熱・硬化させる。
【００２１】
また、コア樹脂液５１が光硬化性樹脂である場合には、図３に示すように、クラッド基板３の凹溝の形状に合わせた開口７を有するマスクＭを用いて、クラッド基板３の凹溝部分のコア樹脂液５１のみに樹脂硬化用の光を照射して選択的に硬化させる。
【００２２】
これらのコア樹脂液５１を選択的に硬化させる方法によれば、クラッド基板３の凹溝に入っているコア樹脂液のみを確実に硬化させ、他の部分を未硬化状態にできるので、後工程で未硬化樹脂液のみを容易に除去することができる。そのため、残存した余剰コア樹脂液（未硬化樹脂液）が後工程において硬化する事態を回避でき、従ってコア部間を繋ぐ中間層が発生するのを確実に防止できるので、光損失の小さい導波路を作製できる。
【００２３】
（未硬化コア樹脂液除去工程）
未硬化コア樹脂液除去工程では、図１（ｆ）に示すように、未硬化のコア樹脂液５１を、例えばエアジェットＡによって吹き飛ばすことによりクラッド基板３上から除去する。コア５の部分以外はコア樹脂液５１が未硬化であるので、エアジェットＡを吹き付けることにより、クラッド基板３の表面を傷つけることなく容易に未硬化のコア樹脂液５１を除去することができる。
【００２４】
（上部クラッド樹脂液塗布工程）
上部クラッド樹脂液塗布工程では、図１（ｇ）に示すように、凹溝にコア５を形成したクラッド基板３の表面に、所定量の上部クラッド樹脂液６０を、例えばマイクロピペットを用いて滴下することにより塗布する。
【００２５】
（上部クラッド樹脂液平坦化工程）
上部クラッド樹脂液平坦化工程では、図１（ｈ）に示すように、クラッド基板３の表面に塗布した上部クラッド樹脂液６０の上面をスピンコート等を行いて平坦化する。
【００２６】
（上部クラッド樹脂硬化工程）
上部クラッド樹脂硬化工程では、図１（ｉ）に示すように、上部クラッド樹脂液６０を硬化させることにより上部クラッド６を形成し、光導波路が完成する。上部クラッド樹脂液６０の硬化は、上部クラッド樹脂液６０が熱硬化性樹脂である場合には加熱して、また、光硬化性樹脂である場合には光を照射して硬化させる。光導波路が形成されたクラッド基板（すなわち光導波路板）に、後処理として、熱光学効果用のヒータや電極を設けたり、必要に応じて切断や切断面の研磨等が行われて、最終的な光導波路板の形態とされる。
【００２７】
上述の上部クラッド樹脂６０に関する液の塗布と平坦化、及び硬化の工程については、上部クラッド樹脂液に溶剤が含まれていない場合を想定して説明している。上部クラッド樹脂液に溶剤が含まれている場合には、上部クラッド樹脂液平坦化工程の後に、さらに上部クラッド溶剤揮発工程を行う。
【００２８】
次に、図４〜図６を参照して、上述の加熱によりコア溶剤を揮発させる方法以外のコア溶剤揮発工程の２つの方法を説明する。まず、図４に示す方法は、コア溶剤揮発工程をポンプＰにより排気して真空状態にしたチャンバ８内で行うものである。真空排気によりコア溶剤の揮発がより促進されるとともに、コア樹脂液５１内の気泡の除去も同時に効率的に行うことができ、気泡のないコア５を形成でき、そのため、導波特性が向上する。また、上述の加熱による方法を併用して、加熱と真空排気によって、より効率的なコア溶剤揮発が可能である。
【００２９】
また、図５に示す方法では、コア溶剤揮発工程において、コア形状部となるクラッド基板３の凹溝２１とその近傍に塗布されたコア樹脂液５０を、例えばレーザ光ＬＢの照射等により選択的に加熱することによって、コア形状部の溶剤成分を揮発させて溶媒成分を含まないコア樹脂液５１を局所的に形成する。すると、クラッド基板３の凹溝２１近傍のコア樹脂液５０中の溶剤成分が他の部位よりも先に揮発するので、他の部位から凹溝２１近傍にコア樹脂液５０が流れ込み、コア形状部の上面は、コア樹脂液５０の全面から溶剤成分を一斉に揮発させる場合よりも平坦な状態となる。
【００３０】
上述の状況を図６により説明する。図６（ａ）は、コア樹脂液平坦化工程後の状態を示す。図６（ｂ）（ｃ）は、コア形状部のみをレーザ光ＬＢで加熱して局所的に溶媒を揮発させ、溶媒を含まないコア樹脂液５１によりコア溝２１を埋めるとともに、溶媒を含むコア樹脂液５０の流動性により平坦な表面と略一様な厚みをもつコア樹脂液５０の層を形成した状態を示す。図６（ｄ）は、図６（ｃ）に示す状態のコア樹脂液５０の表面前面をレーザ光ＬＢで走査して平坦な表面を有する溶媒揮発後のコア樹脂液５１層を形成する様子を示す。図６（ｃ）において、コア樹脂液５０の厚みが略一様なので、図６（ｄ）における樹脂液収縮量が、全体で略一様となり、平坦なコア樹脂液５１の表面を形成できる。
【００３１】
なお、コア形状部分への他の部分からのコア樹脂液５０の流入が停止した図６（ｃ）に示す状態で、クラッド基板３を加熱炉に投入して全面の溶剤成分を揮発させたり、ホットプレートに載せて全面の溶剤成分を揮発させてもよい。この状態では、コア形成用の凹溝２１上面に存在するコア樹脂液５０の液厚と、それ以外の部分に存在するコア樹脂液５０の液厚が略同厚であるので、溶剤成分の揮発によるコア上面に発生する窪み量は少ない。
【００３２】
上述のように、溶媒揮発工程後に略平坦な表面を有するコア樹脂液５１が形成できるので、その後のコア樹脂部分硬化工程において、コア部表面形状の歪みがより少ない（コア部上面がより平坦化な）コア５を形成できる。コア形状（断面形状）の歪みを少なくすることによって、より光損失の少ない光導波路を形成できる。
【００３３】
次に、図７を参照して、コア溶媒揮発工程後に平坦なコア樹脂液５１の表面を得るさらに他の方法を説明する。この方法は、各回毎に溶剤濃度を変化させて粘度を調整したコア樹脂液５０を用いて、コア樹脂液塗布工程からコア溶剤揮発工程までの工程を複数回行うものである。図７（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、コア樹脂液塗布〜平坦化の後の溶剤揮発の工程において、コア形状部上面に凹形状ができてしまうが、図７（ｄ）（ｅ）に示すように、コア樹脂液塗布工程からコア溶剤揮発工程までのステップを複数回行うことにより、溶剤揮発によってできたコア形状部上面の凹部に新たなコア樹脂液５０を次々に補充して、コア形状部上部が揮発により凹形状となる現象を緩和する。
【００３４】
上述のように、コア樹脂液塗布工程からコア溶剤揮発工程までのステップを複数回行うことにより、中間層の厚み、すなわち図７（ｅ）に示す厚みｄ２、が大きくなることが懸念されるが、最終のコア溶剤揮発工程の後にコア部のみを選択的に部分硬化させ、未硬化樹脂を除去するコア樹脂部分硬化工程と未硬化コア樹脂液除去工程とを備えているので、最終製品に光損失に悪影響を及ぼす中間層は存在しない。
【００３５】
また、複数回のコア樹脂液５０の塗布工程において、各回の溶剤濃度を変化させてコア樹脂液５０の粘度を調整し、コア樹脂液５０の塗布を行うことにより、コア樹脂液５０の塗布回数を最小限にすることができる。すなわち、溶剤濃度を高くするとコア樹脂液の流動性が増加してコア形状部の歪みを緩和し易くなるが、溶剤が揮発したときの体積変化率、つまりコア部形状の歪み率が増大するという、コア樹脂液５０の流動性と体積変化のトレードオフの関係において、溶剤濃度の最適値がコア形状部におけるコア樹脂液５０の厚みに依存して決定されるので、各回の溶剤濃度を変化させるこの方法により、コア部形状の歪みを少なくでき、コア部形状の歪みによる光損失を減少させることができる。
【００３６】
例えば、断面が５μｍ角のコア溝２１が存在する下部クラッド基板３に対し、コア樹脂液を塗布〜平坦化〜溶剤揮発の各工程を行う場合、１回目の条件は、コア樹脂液５０の粘度が５００ｍＰａ・ｓ程度以下、４０００ｒｐｍ以上の回転数で２０ｓ以上のスピンコート、及び溶剤としてＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）を用い、２回目の条件は、１回目の溶剤量に対し、溶剤量を２〜３倍程度に増加させて樹脂粘度を低下させることにより必要最小限のステップ数で所望のコア形状を得ることができる。
【００３７】
次に、図８、図９を参照して、長期信頼性に優れた光導波路の作製について説明する。図８に示すように、クラッド基板形成工程後に、コア形成部となる凹溝２１に合わせた開口７を有するマスクＭを用いて、コア形成部となる凹溝２１のみに選択的にプラズマＰＬを照射して表面を清浄化及び活性化する。プラズマＰＬの照射により、下部クラッド２と凹溝２１におけるコア樹脂との密着力を増すことができ、熱履歴によるコア樹脂の剥離などへの耐性が向上し、従って長期信頼性に優れた光導波路の作製が可能となる。
【００３８】
また、図９に示すように、未硬化コア樹脂除去工程後に、クラッド基板３の下部クラッド２及びコア５の全面にプラズマＰＬを照射することにより、下部クラッド２及びコア５と、上部クラッド（不図示）との密着力を増すことができ、長期信頼性に優れた光導波路を作製できる。
【００３９】
なお、本発明は、上記構成に限られることなく種々の変形が可能である。例えば、未硬化コア樹脂液除去工程において、エアジェットＡを用いる方法の他に、溶剤噴霧、溶剤吹き付け、又は溶剤浸漬による方法や、液流による洗い流し方法、さらに超音波振動の援用などにより、クラッド基板の表面を傷つけることなく容易かつ確実に未硬化コア樹脂液を除去できる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】（ａ）〜（ｉ）は本発明の一実施形態に係る光導波路板の製造方法を説明する光導波路板の部分断面図。
【図２】（ａ）は同上製造方法におけるコア樹脂液塗布工程を説明するクラッド基板の斜視図、（ｂ）は同製造方法におけるコア樹脂平坦化工程を説明するクラッド基板の斜視図。
【図３】同上製造方法におけるコア樹脂部分硬化工程の他の例を説明する断面図。
【図４】同上製造方法におけるコア溶剤揮発工程の他の例を説明する断面図。
【図５】同上製造方法におけるコア溶剤揮発工程のさらに他の例を説明する断面図。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は同上コア溶剤揮発工程を説明する断面図。
【図７】（ａ）〜（ｅ）は同上製造方法におけるコア樹脂液塗布工程からコア溶剤揮発工程の組合せ例を説明する断面図。
【図８】同上製造方法におけるクラッド基板形成工程後の処理を説明する断面図。
【図９】同上製造方法における未硬化コア樹脂液除去工程後の処理を説明する断面図。
【図１０】（ａ）は従来及び本発明が適用される光導波路板の平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ断面図。
【符号の説明】
【００４１】
１    基板
２    下部クラッド
３    クラッド基板
５    コア
６    上部クラッド
１０    光導波路板
２１    凹溝
５０    コア樹脂液
５１    コア樹脂液（溶剤揮発後）
６０    上部クラッド樹脂液
ＰＬ    プラズマ
【図１】
2006039233.tif 000003
【図２】
2006039233.tif 000004
【図３】
2006039233.tif 000005
【図４】
2006039233.tif 000006
【図５】
2006039233.tif 000007
【図６】
2006039233.tif 000008
【図７】
2006039233.tif 000009
【図８】
2006039233.tif 000010
【図９】
2006039233.tif 000011
【図１０】
2006039233.tif 000012