(57)【要約】【課題】明室条件でのコントラスト比を向上させて、モアレ現象を防止できる外光遮蔽層を提供すること。【解決手段】透明樹脂材質からなる基材２３２と、基材２３２の一面に所定の周期で相互に離隔されて形成された遮光パターン２３６とを含み、遮光パターン２３６の進行方向と基材２３２の長辺とがなすバイアス角αが、５度ないし８０度である外光遮蔽層。【選択図】図３
2006313360.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂材質の基材と、
前記基材の一面に所定の周期で相互に離隔されて形成された遮光パターンとを含み、
前記遮光パターンの進行方向と前記基材の長辺とがなすバイアス角αが、５度ないし８０度であること、
を特徴とするディスプレイフィルタ用外光遮蔽層。
【請求項２】
前記遮光パターンは、ウエッジ−ブラックストライプ形状、ウエッジ−ブラックマトリックス形状、ウエッジ−ブラックウェーブ形状、フラット−ブラックストライプ形状、フラット−ブラックマトリックス形状またはフラット−ブラックウェーブ形状であること、
を特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ用外光遮蔽層。
【請求項３】
前記基材上に、前記遮光パターン間に配置されて光を集光する半円筒型レンティキュラーレンズまたは半球型レンティキュラーレンズをさらに含むこと、
を特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ用外光遮蔽層。
【請求項４】
前記基材の一面に配列されたビーズレンズをさらに含み、
前記遮光パターンは、前記基材と前記ビーズレンズとの間を充填すること、
を特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ用外光遮蔽層。
【請求項５】
前記遮光パターンは、黒色の無機物、有機物及び金属のいずれか、またはこれらを組み合わせて構成されること、
を特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ用外光遮蔽層。
【請求項６】
前記外光遮蔽層は、複数の放電セルを含むパネルアセンブリと対向して配置され、
前記パネルアセンブリのピクセルピッチは、０．５ないし２．５であり、
前記遮光パターンのピッチは、０．０７ｍｍないし０．１１ｍｍであり、
前記バイアス角αは、５度ないし１０度であること、
を特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ用外光遮蔽層。
【請求項７】
フィルタベースと、
前記フィルタベースの一面に形成されて、透明樹脂材質からなる基材と、前記基材の一面に一定の周期で相互に離隔されて形成された遮光パターンとを具備する外光遮蔽層を含み、
前記外光遮蔽層において、前記遮光パターンの進行方向と前記基材の長辺とがなすバイアス角αが、５度ないし８０度であること、
を特徴とするディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項８】
前記遮光パターンは、ウエッジ−ブラックストライプ形状、ウエッジ−ブラックマトリックス形状、ウエッジ−ブラックウェーブ形状、フラット−ブラックストライプ形状、フラット−ブラックマトリックス形状またはフラット−ブラックウェーブ形状であること、
を特徴とする請求項７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項９】
前記基材上に、前記遮光パターン間に配置されて光を集光する半円筒型レンティキュラーレンズまたは半球型レンティキュラーレンズをさらに含むこと、
を特徴とする請求項７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１０】
前記基材の一面に配列されたビーズレンズをさらに含み、
前記遮光パターンは、前記基材と前記ビーズレンズとの間を充填すること、
を特徴とする請求項７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１１】
前記ディスプレイ装置用フィルタは、複数の放電セルを含むパネルアセンブリと対向して配置され、
前記パネルアセンブリのピクセルピッチは、０．５ないし２．５であり、
前記遮光パターンのピッチは、０．０７ｍｍないし０．１１ｍｍであり、
前記バイアス角αは、５度ないし１０度であること、
を特徴とする請求項７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１２】
前記遮光パターンは、黒色の無機物、有機物及び金属のいずれか、またはそれらを組み合わせて構成されること、
を特徴とする請求項７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１３】
前記パネルアセンブリと対向する前記ディスプレイ装置用フィルタの一面に形成された拡散層をさらに含むこと、
を特徴とする請求項７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１４】
前記拡散層は、アンチ−グレア処理された表面を有するフィルムで構成されたこと、
を特徴とする請求項１３に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１５】
前記フィルタベースは、導電性メッシュタイプの電磁波遮蔽層を含み、
前記バイアス角α及び前記メッシュの延長線と前記基材の長辺とがなすバイアス角βの２つの前記バイアス角の差（β−α）が、５度ないし４０度または５０度ないし７５度であること、
を特徴とする請求項７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１６】
前記ディスプレイ装置用フィルタは、複数の放電セルを含むパネルアセンブリと対向して配置され、
前記パネルアセンブリのピクセルピッチは、０．５ないし２．５であり、
前記遮光パターンのピッチは、０．０７ｍｍないし０．１１ｍｍであり、
前記メッシュパターンのピッチは、０．２５ｍｍないし０．３５ｍｍであること、
を特徴とする請求項１５に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１７】
透明基板と、
前記透明基板上に形成されて、透明樹脂材質からなる基材と、
前記基材の一面に所定の周期で相互に離隔されて形成された遮光パターンとを具備する外光遮蔽層及び、
前記透明基板上に形成された導電性メッシュタイプの電磁波遮蔽層を含み、
前記メッシュ及び前記遮光パターンの各延長線と前記基材の長辺とが成すバイアス角β及びバイアス角αの２つの前記バイアス角度の差（β−α）が、５度ないし４０度または５０度ないし７５度であること、
を特徴とするディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１８】
前記バイアス角αは、５度ないし８０度であること、
を特徴とする請求項１７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項１９】
前記ディスプレイ装置用フィルタは、複数の放電セルを含むパネルアセンブリと対向して配置され、
前記パネルアセンブリのピクセルピッチは、０．５ないし２．５であり、
前記遮光パターンのピッチは、０．０７ｍｍないし０．１１ｍｍであり、
前記メッシュパターンのピッチは、０．２５ｍｍないし０．３５ｍｍであること、
を特徴とする請求項１７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項２０】
前記遮光パターンは、ウエッジ−ブラックストライプ形状、ウエッジ−ブラックマトリックス形状、ウエッジ−ブラックウェーブ形状、フラット−ブラックストライプ形状、フラット−ブラックマトリックス形状またはフラット−ブラックウェーブ形状であること、
を特徴とする請求項１７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項２１】
前記基材上に、前記遮光パターン間に配置されて光を集光する半円筒型レンティキュラーレンズまたは半球型レンティキュラーレンズをさらに含むこと、
を特徴とする請求項１７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項２２】
前記基材の一面に配列されたビーズレンズをさらに含み、
前記遮光パターンは、前記基材と前記ビーズレンズとの間を充填すること、
を特徴とする請求項１７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項２３】
前記遮光パターンは、黒色の無機物、有機物及び金属のうちいずれか、またはそれらの組み合わせで構成されること、
を特徴とする請求項１７に記載のディスプレイ装置用フィルタ。
【請求項２４】
相互に対向配置するように接合する透明な前面基板及び背面基板及び、前記前面基板と前記背面基板との間に配置された複数のセルを含むパネルアセンブリと、
前記パネルアセンブリの前記前面基板に直接付着した請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の前記ディスプレイフィルタ用外光遮蔽層と、
前記ディスプレイフィルタ用外光遮蔽層と対向配置されて、反射防止機能及び／または電磁波、近赤外線またはこれらの組み合わせを遮蔽する機能を有するディスプレイ装置用フィルタとを含むこと、
を特徴とするディスプレイ装置。
【請求項２５】
相互に対向配置されるように接合する透明な前面基板及び背面基板及び、前記前面基板と前記背面基板との間に配置された複数のセルを含むパネルアセンブリと、
前記パネルアセンブリの前記前面基板と対向配置された、請求項７ないし請求項２３のいずれか１項に記載の前記ディスプレイ装置用フィルタとを含むこと、
を特徴とするディスプレイ装置。
【請求項２６】
前記前面基板は、アンチ−グレア処理された乱反射表面を有すること、
を特徴とする請求項２５に記載のディスプレイ装置。
【請求項２７】
前記前面基板と前記ディスプレイフィルタとは、接着剤または粘着剤で接合すること、
を特徴とする請求項２５に記載のディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は外光遮蔽層、これを含むディスプレイ装置用フィルタ及びこれを含んだディスプレイ装置に係り、さらに詳細には明室におけるコンストラクト比を向上させて、モアレ現象を防止できるディスプレイ装置用フィルタ及びこれを含んだディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現代社会が高度に情報化されて行くにつれて、イメージディスプレイ関連部品及びその機器が、著しく進歩しつつ普及している。そのうち、画像を表示するディスプレイ装置はテレビ装置用、パソコンのモニタ装置用等として著しく普及しており、また、このようなディスプレイの大型化と同時に薄形化が進行している。
【０００３】
一般的に、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）装置は、既存のディスプレイ装置を代表するＣＲＴ（Cathode Ray Tube）に比べて、大型化及び薄形化を同時に満足することができ、次世代ディスプレイ装置として脚光を浴びている。このようなＰＤＰ装置は、ガス放電現象を利用して画像を表示し、表示容量、輝度、コントラスト比、残像、視野角などの各種表示能力が優秀であるという特徴がある。
【０００４】
このようなＰＤＰ装置は、電極に印加される直流または交流電圧によって、電極間のガスで放電が発生して、これにともなう紫外線の放射によって蛍光体を励起させて発光する。
【０００５】
しかしながら、ＰＤＰ装置は、その駆動の特性上、電磁波及び近赤外線の放出量が多く、蛍光体の表面反射が高いだけでなく、封入ガスであるネオン（Ｎｅ）、ヘリウム（Ｈｅ）やゼノン（Ｘｅ）で放出されるオレンジ光により色純度が陰極線管に及ばないという短所がある。
【０００６】
したがって、ＰＤＰ装置で発生する電磁波及び近赤外線により人体に有害な影響を及ぼし、無線電話機やリモコンなどの精密機器の誤動作を誘発することがある。このようなＰＤＰ装置を使うためには、ＰＤＰ装置から放出される電磁波及び近赤外線の放出を所定値以下に抑制することが要求されている。このために、電磁波及び近赤外線を遮蔽すると同時に反射光を減少させて色純度を向上させるために、電磁波遮蔽、近赤外線遮蔽、光表面反射防止及び／または色純度改善などの機能を有するＰＤＰフィルタが採用されている。
【０００７】
このようなＰＤＰ装置は、ガス放電現象が起こる放電セルを含むパネルアセンブリと、電磁波及び近赤外線を遮蔽するＰＤＰフィルタとから構成される。このＰＤＰフィルタは、パネルアセンブリの前面部に装着されるため、透明性も同時に満足しなければならない。
【０００８】
このような従来技術によるＰＤＰ装置で、外部が明るい条件すなわち、明室条件では外部環境光がＰＤＰフィルタを通過してパネルアセンブリ内に流入することになる。このような場合、パネルアセンブリ内の放電セルで発生した入射光と、外部からＰＤＰフィルタを透過して入射した外部環境光の重畳が発生する。その結果、明室条件でのコントラスト比が低下して、ＰＤＰ装置の画面表示能力が低下する。
【０００９】
また、従来技術によるＰＤＰ装置の場合、ＰＤＰ装置を構成するピクセルと、ＰＤＰフィルタとの間の周期的なパターンの干渉により、モアレ現象が発生してＰＤＰ装置の画面表示能力が低下するという問題点もある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
したがって、本発明が解決しようとする技術的課題は、明室条件でのコントラスト比を向上させて、モアレ現象を防止できる外光遮蔽層を提供することである。
【００１１】
また、本発明が解決しようとする他の技術的課題は、このような外光遮蔽層を含むディスプレイ装置用フィルタを提供することである。
【００１２】
さらに、本発明が解決しようとする他の技術的課題は、このようなディスプレイ装置用フィルタを含むディスプレイ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記技術的課題を達成するための本発明に係るディスプレイフィルタ用外光遮蔽層は、透明樹脂材質からなる基材と、前記基材の一面に所定の周期で相互に離隔されて形成された遮光パターンとを含む。ここで、前記遮光パターンの進行方向と前記基材の長辺とがなすバイアス角αが、５〜８０度であることが望ましい。
【００１４】
前記他の技術的課題を達成するための本発明に係るディスプレイ装置用フィルタは、フィルタベースと、前記フィルタベースの一面に形成された透明樹脂材質からなる基材と、前記基材の一面に所定の周期で相互に離隔されて形成された遮光パターンとを具備する外光遮蔽層であって、前記遮光パターンの進行方向と前記基材の長辺とがなすバイアス角αが、５〜８０度であることを特徴とする。
【００１５】
前記他の技術的課題を達成するための本発明に係るディスプレイ装置用フィルタは、透明基板と、前記透明基板上に形成されて透明樹脂材質からなる基材と、前記基材の一面に所定の周期で相互に離隔されて形成された遮光パターンとを具備する外光遮蔽層と、前記透明基板上に形成された導電性メッシュタイプの電磁波遮蔽層とを含む。ここで、前記メッシュ及び前記遮光パターンの各延長線と前記基材の長辺とが成すバイアス角β及びバイアス角αの２つの前記バイアス角度の差（β−α）が、５〜４０度または５０〜７５度であることが望ましい。
【００１６】
前記の他の技術的課題を達成するための本発明に係るディスプレイ装置は、相互に対向配置されるように接合する透明な前面基板及び背面基板と、前記前面基板と前記背面基板との間に配置された複数のセルとを含むパネルアセンブリ、前記パネルアセンブリの前面基板に直接付着した外光遮蔽層及び、前記外光遮蔽層と対向配置されて反射防止機能及び／または電磁波、近赤外線またはこれらの組み合わせを遮蔽する機能を持つディスプレイ装置用フィルタを含む。
【００１７】
また、前記の他の技術的課題を達成するための本発明に係るディスプレイ装置は、相互に対向配置されるように接合する透明な前面基板及び背面基板及び前記前面基板と前記背面基板との間に配置された複数のセルを含むパネルアセンブリと、前記パネルアセンブリの前面基板と対向配置された前記ディスプレイ装置用フィルタとを含む。
【００１８】
本発明のその他の形態の具体的な事項は、後記する実施形態の中で、詳しく説明する。
【発明の効果】
【００１９】
前記したような本発明に係る外光遮蔽層、ディスプレイ装置用フィルタ及びこれを含むディスプレイ装置によれば、ディスプレイ装置用フィルタに遮光パターンを形成してディスプレイ装置の輝度及びコントラスト比を向上させることができる。また、遮光パターンを所定のバイアス角度だけ傾けて配置したり、遮光パターンとメッシュタイプの電磁波遮蔽層を所定のバイアス角度だけ傾けて配置することによって、モアレ現象及びニュートンリング現象を効果的に防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明の好適な実施形態を説明するが、本発明はこの実施形態に限定されることなく、多様な形態で具現することがでる。つまり、以下に説明する実施形態は、単に本実施形態は本発明の開示を完全とするために、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に、発明の範囲を完全に知らせるために提供するものであり、本発明は特許請求項の範囲の記載により定義される。
なお、以下の実施形態において、同一の参照符号は、同様の構成要素を示している。
【００２１】
以下、添付した図面を参照しつつ、本発明の実施形態によるＰＤＰフィルタ及びこれを備えるＰＤＰ装置について説明する。
【００２２】
図１は、本発明の一実施形態によるＰＤＰ装置を示す分解斜視図である。図１に示したように、本実施形態によるＰＤＰ装置１００は、ケース１１０と、ケース１１０の上部を覆うカバー１５０と、ケース１１０内に収容される駆動回路基板１２０、ガス放電現象が起こる放電セルを含むパネルアセンブリ１３０及びＰＤＰフィルタ１４０から構成される。ＰＤＰフィルタ１４０は、透明基板上に、導電性の高い材料で形成された導電層が具備され、この導電層はカバー１５０を介してケース１１０に接地される。すなわち、パネルアセンブリ１３０から発生した電磁波が、カバー１５０側の視聴者に到達する前に、これをＰＤＰフィルタ１４０の導電層を介してカバー１５０とケース１１０に接地している。
【００２３】
以下、電磁波、近赤外線、外部環境光等を遮蔽するＰＤＰフィルタ１４０について先に説明して、その後、このようなＰＤＰフィルタ１４０及びパネルアセンブリ１３０を含むＰＤＰ装置１００について説明する。
【００２４】
図２は、本発明の一実施形態によるＰＤＰフィルタの断面図であって、図３は、図２に示したＰＤＰフィルタに使われる外光遮蔽層を示す斜視図である。
【００２５】
図２及び図３に示すように、本実施形態によるＰＤＰフィルタ２００は、透明基板２１０及び多様な遮蔽機能を有した層から形成されたフィルタベース２７０と、外光遮蔽層２３０とを含む。
【００２６】
ここで、フィルタベース２７０は、透明基板２１０、反射防止層２５０または電磁波遮蔽層２２０が順序に関係なく積層されて形成される。以下、本実施形態では電磁波遮蔽機能、反射防止機能を有する層がそれぞれ別個の層として分離して説明するが、本発明はこれに限られるのではない。すなわち、フィルタベース２７０は一つ、またはそれ以上の層から構成されることができ、各層は電磁波遮蔽機能、反射防止機能またはこれらを組み合わせた機能を有することができる。また、フィルタベース２７０は、先に言及した電磁波遮蔽機能、反射防止機能またはこれらを組み合わせた機能をすべて有することもでき、このうちいずれか一つの機能のみを有することもできる。
【００２７】
そして、フィルタベース２７０の一面には、外光遮蔽層２３０が配置される。図２に示した本実施形態の外光遮蔽層２３０は、フィルタベース２７０のパネルアセンブリ方向の面、すなわち、ＰＤＰフィルタ２００がＰＤＰ装置に装着されたときに、視聴者方向と反対側面に配置されているが、本発明はこれに限定するものではなく、フィルタベース２７０の他の面に外光遮蔽層２３０が配置される場合にも等しい作用及び効果を得ることができる。
【００２８】
図２及び図３を参照すると、外光遮蔽層２３０は、支持体２３２、支持体２３２の一面に形成された基材２３４及び基材２３４内に形成されて外部からパネルアセンブリに流入する外部環境光３２０を遮断する遮光パターン２３６を含む。本実施形態で遮光パターン２３６は、一定の周期で相互に離隔されて配置された複数のくさび型の黒いストライプで構成される。
【００２９】
ここで、遮光パターン２３６が形成された基材２３４は、直接、フィルタベース２７０に形成することができるが、図２に示したように支持体２３２に基材２３４を形成した後に、フィルタベース２７０と結合することもできる。支持体２３２は、遮光パターン２３６が形成された基材２３４を支持する役割を果たす。図２に示したＰＤＰフィルタ２００では、基材２３４とフィルタベース２７０の一面とを、支持体２３２を媒介して結合しているが、本発明はこれに限定するものではない。すなわち、支持体２３２は、基材２３４を支持する役割を目的とするため、外光遮蔽層２３０がフィルタベース２７０の他の面に配置される場合、基材２３４とフィルタベース２７０とを直接、結合することもできる。
【００３０】
本実施形態において、支持体２３２は紫外線透過性を有する透明な樹脂フィルムを用いることが望ましい。支持体２３２の材質は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等を用いることができる。もちろん、支持体２３２にはフィルタの固有機能を持った膜、例えば反射防止層２５０、色補正層２４０または電磁波遮蔽層２２０などを用いることもできる。
【００３１】
そして、遮光パターン２３６は、断面がくさび形状を有しており、パネルアセンブリ１３０（図１参照）に対向する基材２３４の一面に一定の周期で複数の黒いストライプパターンが相互に離隔されて形成されており、外部環境光３２０がパネルアセンブリ内部に入射することを防止する役割を果たす。
【００３２】
基材２３４は、紫外線硬化性樹脂で形成され、遮光パターン２３６は光を吸収することができる黒色無機物及び／または有機物、金属等で形成することができる。特に金属の場合には電気伝導度が大きく、すなわち電気抵抗が低いため、金属粉末を添加して遮光パターン２３６を形成した場合、金属粉末の濃度によって電気抵抗の調節が可能であるため、遮光パターン２３６は電磁波遮蔽機能を担うこともできる。
これにより、表面が黒く処理された、または黒色の金属を用いた場合、外光遮蔽機能及び電磁波遮蔽機能を効率的に具現することができる。また、遮光パターン２３６としては炭素を含む紫外線硬化性樹脂を用いることもできる。
【００３３】
前記した遮光パターン２３６は、ロール成形法、熱可塑性樹脂を利用した熱プレス法や、遮光パターン２３６と反対形状が転写された基材２３４内に熱可塑性または熱硬化性樹脂を充填して成形する射出成形法などにより形成することができる。また、基材２３４を構成する紫外線硬化性樹脂が反射防止機能、電磁波遮蔽機能、色調節機能またはこれらを組み合わせた機能を有している場合、外光遮蔽層２３０は付加的にこのような機能を担うことができる。
【００３４】
外光遮蔽層２３０を構成する遮光パターン２３６は、外部環境光３２０を吸収して、外部環境光３２０がパネルアセンブリに入射することを防いで、パネルアセンブリからの入射光３１０を視聴者側に全反射する役割を果たす。したがって、可視光線に対する高い透過率及び高いコントラスト比を得ることができる。
【００３５】
ＰＤＰ装置１００は、可視光線に対する高い透過率及び高いコントラスト比を有することが望ましい。ここで、コントラスト比は、次の式（１）のように示すことができる。
【００３６】
【数１】
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【００３７】
ＰＤＰ装置１００の透過率を高めるために、パネルアセンブリ１３０から放出される光をＰＤＰフィルタ２００でフィルタリングすることなく透過させる場合、白色光の輝度だけではなく黒色光の輝度も高くなるようになる。したがって、ＰＤＰ装置１００の輝度を高める場合、全体的なコントラスト比は相対的に低くなってしまう。従来技術によるＰＤＰ装置の場合、黒色色素を含む色補正フィルムを備えるＰＤＰフィルタを用いて、ＰＤＰフィルタの透過率をある程度、抑制する代わりにコントラスト比を高める方法を取っている。このような従来技術によるＰＤＰ装置の場合、１２０：１程度のコントラスト比を得るために可視光線に対する透過率を、４０−４５％程度に下げなければならなかった。
【００３８】
本実施形態のＰＤＰフィルタ２００は、黒色色素を含む色補正フィルムを用いる代わりに、光を吸収する遮光パターン２３６を用いる。ここで、遮光パターン２３６はパネルアセンブリ１３０から放出される入射光３１０を一部吸収して、白色光及び黒色光の輝度を所定量、抑制することによってコントラスト比を高める役割をする。また、前記した式（１）によれば、コントラスト比は反射光の輝度に対する関数であるが、反射光とは外部環境光３２０がパネルアセンブリに入射した後、反射された光を含んでいる。ここで外部環境光３２０は、直接、遮光パターン２３６に吸収されたり、パネルアセンブリ１３０に反射されても、再び遮光パターン２３６に吸収されるため、反射光の輝度を低下させることができる。したがって、黒色光及び白色光に対して等しい反射光が生成されても式（１）の分母に位置する‘反射光の輝度’が低くなるため、コントラスト比を高めることができる。
【００３９】
基材２３４の一面に対して、遮光パターン２３６の底面が占める面積比率が、２０−５０％である場合、最小の透過量損失で良好なコントラスト比を得ることができる。さらに望ましくは、基材２３４の一面に対して、遮光パターン２３６の底面が占める面積比率が、２５−３５％である場合、もっとも優れた効果を得ることができる。このような外光遮蔽層２３０を含むＰＤＰフィルタ２００を用いたＰＤＰ装置１００の場合、可視光線に対する透過率を５０％以上に維持した状態で２５０：１以上のコントラスト比を得ることができる。
【００４０】
一方、外光遮蔽層２３０は、それ自体が可視光線波長帯で７０％以上の透過率を有する。パネルアセンブリ１３０からの入射光３１０は、外光遮蔽層２３０に対してほとんど垂直方向に入射することになり、このうち、入射光３１０の一部は遮光パターン２３６に吸収されるが、大部分の入射光３１０は、基材２３４をそのまま透過するためＰＤＰ装置１００の透過率を高める要因になる。
【００４１】
一方、パネルアセンブリ（図４Ａの６００参照）の放電セル（図４Ａの６６０参照）の周期的パターンと、外光遮蔽層２３０の遮光パターン２３６の周期的パターンとにより、モアレ縞が発生することがある。モアレ縞とは２個以上の周期的なパターンが重なる場合に発生する干渉縞を示す。このような放電セルと外光遮蔽層との間の干渉現象によるモアレ縞の発生を防止するために、図３に示したように、遮光パターン２３６の延長線と、基材２３４の長辺とが所定の角度を有して交差するように配置する。ここで、効果的にモアレ縞の発生を防止するためには、遮光パターン２３６の延長線と基材２３４の長辺が成す交差角で定義されるバイアス角αが約５〜８０度であることが望ましい。
【００４２】
以下、次に示す表１を参照して、バイアス角αの変化によるモアレ現象が発生する程度を説明する。ピクセルのピッチ（図４ＡのＰ１参照）が、約０．５〜２．５であるパネルアセンブリ（図４Ａの６００参照）と、黒いストライプ形状の遮光パターン２３６のピッチＰ２が、約０．０７〜０．１１ｍｍである外光遮蔽層２３０を利用して、バイアス角αをそれぞれ０゜、４゜、５゜、１０゜、２０゜、３５゜、４０゜、５０゜、６０゜、７０゜、８０゜、８１゜または９０゜に設定した１３個のテストサンプルを準備した。その後、パネルアセンブリ（図４Ａの６００参照）のピクセルと、外光遮蔽層２３０の遮光パターン２３６との間の干渉によるモアレ現象の発生有無を調査した。
【００４３】
【表１】
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【００４４】
前記の表１に示したように、遮光パターン２３６のピッチ及び幅が変わることによって、モアレ現象の発生有無が決定されることがわかる。バイアス角αが、約５〜８０゜である場合は、遮光パターン２３６のピッチ及び幅の変化と関係なくモアレ現象が発生しないことがわかる。さらに、バイアス角αが、約５〜１０゜である場合、モアレ現象をさらに効果的に防止できることがわかる。
【００４５】
モアレ現象を防止するために、ピクセルのピッチＰ１と遮光パターン２３６のピッチＰ２とを調節して相互に干渉現象が発生することを防止できる。このようなピッチＰ１、Ｐ２の相互調節は、工程マージンにより精密に具現しにくいことがあるので、ピクセルが一定なパターンで配置されたパネルアセンブリ（図４Ａの６００参照）に、外光遮蔽層２３０の遮光パターン２３６を所定のバイアス角αだけ傾けて配置することによってモアレ現象をさらに効果的に防止できる。
【００４６】
再び、図２を参照すると、フィルタベース２７０は、透明基板２１０の一面に形成された電磁波遮蔽層２２０と、透明基板２１０の他の面に形成された反射防止層２５０等が積層された構造を有している。但し、本発明はこの積層順序に限定されるものではなく、フィルタベース２７０は、透明基板２１０、反射防止層２５０または電磁波遮蔽層２２０が順序に関係なく積層された構造を有していればよい。
【００４７】
ここで、透明基板２１０としては、一般的に厚さが約２．０〜３．５ｍｍである強化ガラス、半強化ガラスまたはアクリルのような透明プラスチック材料を用いて形成できる。ガラスは比重が２．６であり、フィルタ製造時軽量化が難しくて厚さが厚くてプラズマディスプレイパネルセットへの装着時に、セットの全体の重さが増加するという短所があるが、破壊に対する安全性向上に多くの役割を果たす。ただし、フィルタベース２７０の仕様によっては、このような透明基板２１０を除外することもできる。
【００４８】
本実施形態において、透明基板２１０としては、ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高分子成形物を挙げることができる。
【００４９】
また、有機高分子成形物で構成された透明基板２１０としては、アクリルやポリカーボネートが一般的に使われるが本発明はこのような実施形態に限られるのではない。透明基板２１０は高透明性と耐熱性を有することが望ましくて高分子成形物及び高分子成形物の積層体を透明基板２１０で用いることができる。透明基板２１０の透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。高分子成形物は可視波長領域において透明ならば良くて、その種類を具体的に挙げれば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらのうち、価格、耐熱性及び透明性の面から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いることが望ましい。
【００５０】
そして、電磁波を遮蔽するためには、ディスプレイ表面を導電性が大きな物質で覆う必要がある。本実施形態による電磁波を遮蔽するための電磁波遮蔽層２２０としては導電性メッシュフィルムまたは金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層透明導電膜を用いることができる。本発明の一実施形態において、電磁波遮蔽層２２０は透明基板２１０の一面、すなわちパネルアセンブリ方向の面に形成したが、本発明はこのような配置に限られるのではない。
【００５１】
ここで、導電性メッシュフィルムとしては一般的には、接地された金属メッシュ、または合成樹脂や金属繊維のメッシュに金属被服したものを用いることができる。導電性メッシュフィルムを構成する金属の材質としては例えば、銅、クロム、ニッケル、銀、モリブデン、タングステン、アルミニウムなど電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００５２】
そして、多層透明導電膜には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）で代表される高屈折透明薄膜を、電磁波遮蔽のために用いることができる。多層透明導電膜としては金、銀、銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜と、酸化インジウム、酸化第２スズ、酸化亜鉛などの高屈折率透明薄膜を交代に積層した多層薄膜等を用いることができる。
【００５３】
金属薄膜は、銀（Ａｇ）または銀を含有した合金から構成された薄膜層である。そのうち、銀の単体は、導電性、赤外線反射性及び多層積層をした時可視光線透過性が優秀であるため好適に使用できる。しかし、銀は化学的安定性及び物理的安定性が低く、周囲環境の汚染物質、水蒸気、熱、光などによって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズなどの周囲環境に安定的な金属を１種以上含有した合金も望ましく使用できる。
【００５４】
そして、高屈折率透明薄膜層は、可視光に対して透過性を有しており、金属薄膜との屈折率の差によって、金属薄膜により可視光線が反射されることを防止する効果を有する。このような高屈折率透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジム、ランタン、トリウム、マグネシウム、カリウムなどの酸化物、またはこれら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などを挙げることができる。
【００５５】
図示しなかったが、本実施形態によるフィルタベース２７０は、別途に近赤外線遮蔽層を含むこともできる。近赤外線遮蔽層は、パネルアセンブリ１３０から発生する、無線電話機やリモコンなどの電子機器の誤動作を起こす強力な近赤外線を遮蔽する役割を果たす。
【００５６】
本実施形態において、電磁波遮蔽層２２０として金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した多層透明導電膜を用いる場合には、多層透明導電膜が近赤外線を遮蔽する効果がある。したがって、この場合、近赤外線遮蔽層を別途に形成することなく電磁波遮蔽層２２０だけで、近赤外線及び電磁波を遮蔽する２つの機能を果たすことができる。もちろんこの場合にも、後記する近赤外線遮蔽層を別途に形成することもできる。
【００５７】
また、電磁波遮蔽層２２０として導電性メッシュフィルムを用いる場合には、パネルアセンブリから放出される近赤外線を遮蔽するために、近赤外線領域の波長を吸収する近赤外線吸収色素を含有した高分子樹脂を用いることができる。例えば、近赤外線吸収色素として、シアニン系、アントラキノン系、ナフトキノン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系（diimonium）、ニッケルジチオール系など多様な成分の有機染料を用いることができる。ＰＤＰ装置１００は、広い波長領域にわたって強力な近赤外線を発するため、広い波長領域にわたって近赤外線を吸収することができる近赤外線遮蔽層を用いる必要がある。
【００５８】
さらに、電磁波遮蔽層２２０として透明導電膜を用いる場合、導電性メッシュフィルムを用いる場合よりも電磁波遮蔽能が落ちることになるが、遮光パターン２３６に金属粉末を添加して電磁波遮蔽能を補完または強化することで、透明導電膜でも十分な電磁波遮蔽機能を具現することができる。
【００５９】
本実施形態による反射防止層２５０は、透明基板２１０の他の面に形成するが、本発明はこのような積層順序に限定されるものではない。望ましくは図２に示すように、反射防止層２５０は、ＰＤＰフィルタ２００がＰＤＰ装置１００に装着されたときに視聴者の方になる面、すなわちパネルアセンブリ１３０とは反対側の面に形成されることが効果的である。このような反射防止層２５０は外部光の反射を抑制して視認性を向上させることができる。
【００６０】
もちろん、反射防止層２５０をＰＤＰフィルタ２００の主面のうち、パネルアセンブリの側となる面に形成することによって、ＰＤＰフィルタ２００の外光反射をさらに減らすこともできる。また、反射防止層２５０を形成してＰＤＰフィルタ２００の外光反射を減らすことによって、パネルアセンブリからの可視光線の透過率を向上させてコントラスト比を高めることもできる。
【００６１】
再び、図２を参照して、本実施形態によるＰＤＰフィルタ２００は、５８０〜６００ｎｍの波長帯で６０％以上の透過率を有する色補正層２４０をさらに含むことができる。このような色補正層２４０は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の光量を調節して色均衡を変化させて校正するする機能を有する。
【００６２】
一般的に、パネルアセンブリ内のプラズマから発生する赤色の可視光線が、オレンジ色で現われる傾向がある。従来技術による色補正層の場合、５８０〜６００ｎｍの波長帯を有するこのようなオレンジ色を、赤色に色補正する役割を果たす。しかし、本実施形態による色補正層２４０は、５８０〜６００ｎｍの波長帯を有するオレンジ色について、６０％以上の透過率を有することによって、オレンジ色を赤色に色補正する機能を限定したり、そのような機能を有しないこともできる。
【００６３】
パネルアセンブリ１３０からオレンジ色の可視光線が強く放出される要因としては、プラズマ自体から放出される光と、外部環境光がパネルアセンブリ１３０において再反射された光とが、オレンジ色を帯びる傾向があるためである。本実施形態によるＰＤＰフィルタ２００は、外光遮蔽層２３０を形成して外部環境光３２０がパネルアセンブリ１３０に入射することを遮断することによって、根本的にオレンジ色の入射光３１０の量を減らすことができる。したがって、本発明のＰＤＰフィルタ２００は、さらにオレンジ色を色補正するための色素の使用量を減らしたり、使わなくても色純度を向上させることができる。例えば、明室（１５０ルクス（ｌｘ））でＲＧＢ色相を中間画像階調（５０ＩＲＥ）に置いて各色相に対して測定器で色座標を求めて固有の色相の色座標に対する面積対比測定色座標の面積比率を求めると、パネルアセンブリ１３０で直接測定すると、６６％の面積比率を得ることに比べて、ＰＤＰフィルタ２００を経て測定されると、８６％の面積比率を有することになり高い色純度を得ることが分かる。
【００６４】
また、色補正層２４０は、ディスプレイの色再現範囲を拡大させて、画面の鮮明度を向上させるために多様な色素を用いる。このような色素としては、染料あるいは顔料を用いることができる。色素の種類は、アントラキノン系、シアニン系、アゾ系、スチルベン系、フタロシアニン系、メチン系などのネオン光遮蔽機能を有した有機色素を用いることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。色素の種類及び濃度は、色素の吸収波長、吸収係数、及びディスプレイで要求される透過特性等によって決定され、適宜、最適な値に設定される。
【００６５】
本実施形態において、ＰＤＰフィルタ２００の各層または各膜を張り合わす際には、透明な粘着剤または接着剤を用いることができる。具体的な材料としては、アクリル系接着剤、シリコーン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニールブチラール接着剤（ＰＭＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）、ポリビニールエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等を挙げることができる。
【００６６】
このように形成された本実施形態のＰＤＰフィルタ２００は、可視光線波長帯で５０％以上の透過率を有しながら、明室条件において２５０：１以上のコントラスト比を実現することができる。また、遮光パターン２３６と基材２３の長辺に対して所定のバイアス角を有するように配置することによって、モアレ現象を効果的に防止できる。
【００６７】
以上、本発明の一実施形態によるＰＤＰフィルタ２００を説明した。
以下、図４Ａ及び図４Ｂを参照して、前記したＰＤＰフィルタ２００を利用したＰＤＰ装置を説明する。図４Ａは本発明の一実施形態によるＰＤＰ装置を示した分解斜視図である。また、図４Ｂは、図４Ａに示したＰＤＰ装置を、Ｂ−Ｂ’に沿って切断した断面図である。
【００６８】
図４Ａ及び図４Ｂに示すように、本実施形態によるＰＤＰ装置は、ＰＤＰフィルタ２００及びパネルアセンブリ６００を含む。ＰＤＰフィルタ２００の構成については、前記の説明と同様であるため、その説明を省略する。
以下、パネルアセンブリ６００について詳細に説明する。
【００６９】
図４Ａに示すように、前面基板６１０の表面上には複数の維持電極６１５がストライプ状に配置されている。各維持電極６１５には、信号遅延を抑制するためのバス電極６２０が形成されている。維持電極６１５が配置された面上は、この面の全体を覆うように誘電体層６２５が形成されている。また、誘電体層６２５の面上には誘電体保護膜６３０が形成されている。例えば、本実施形態において、誘電体保護膜６３０は、スパッタリング法などを利用して、誘電体層６２５の表面上をＭｇＯの薄膜で覆うことによって形成することができる。
【００７０】
一方、背面基板６３５の前面基板６１０と対向する面には、複数のアドレス電極６４０がストライプ状に配置されている。アドレス電極６４０は、前面基板６１０と背面基板６３５とを対向配置する際に、維持電極６１５と交差する方向に配置する。アドレス電極６４０が配置された面上には、この面の全体を覆うように誘電体層６４５が形成されている。さらに、誘電体層６４５の面上には、アドレス電極６４０と平行しながら前面基板６１０側に向かって突出する、複数の隔壁６５０が設置されている。隔壁６５０は、隣接する２つのアドレス電極６４０の間の領域に配置されている。
【００７１】
隣接する２つの隔壁６５０及び誘電体層６４５で形成される溝部分の側面には蛍光体層６５５が配置されている。蛍光体層６５５としては、隔壁６５０で区画される溝部分ごとに、赤色蛍光体層６５５Ｒ、緑色蛍光体層６５５Ｇまたは青色蛍光体層６５５Ｂが配置されている。これら蛍光体層６５５は、スクリーン印刷法、インクジェット法またはフォトレジストフィルム法等の厚膜形成法を利用して形成された蛍光体粒子群で構成される層である。このような蛍光体層６５５の材質としては、例えば、赤色蛍光体として（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ、緑色蛍光体としてＺｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、青色蛍光体としてＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕを用いることができる。
【００７２】
このような構造を有する前面基板６１０と背面基板６３５とを対向配置した際に、溝部分と誘電体保護膜６３０とから形成される放電セル６６０には放電ガスが封入される。すなわち、放電セル６６０は、パネルアセンブリ６００では、前面基板６１０と背面基板６３５との間での維持電極６１５とアドレス電極６４０が交差するそれぞれの部分に形成される。この放電ガスとしては、例えば、Ｎｅ−Ｘｅ系ガス、Ｈｅ−Ｘｅ系ガス等を用いることができる。
【００７３】
以上の構造を有するパネルアセンブリ６００は、基本的に蛍光灯のような発光原理を用いて、放電セル６６０の内部での放電によって放電ガスから放出された紫外線が蛍光体層６５５を励起発光させて可視光に変換する。
【００７４】
但し、パネルアセンブリ６００に利用する各色の蛍光体層（６５５Ｒ、６５５Ｇ、６５５Ｂ）には、それぞれ異なる可視光への変換効率を有する蛍光体材料が使われている。そのため、パネルアセンブリ６００で画像を表示する際は、一般的に各蛍光体層（６５５Ｒ、６５５Ｇ、６５５Ｂ）の輝度を調整することによって、色バランスの調整がなされている。具体的には、輝度が最も低い色の蛍光体層を基準にして、他の蛍光体層の輝度を色ごとに所定の比率で低下させている。
【００７５】
このようなパネルアセンブリ６００の駆動は、大別してアドレス放電のための駆動と、維持放電のための駆動とに分けられる。アドレス放電は、アドレス電極６４０と１つの維持電極６１５との間で起こり、このとき、壁電荷（wall charge）が形成される。維持放電は、壁電荷が形成された放電セル６６０に位置する２つの維持電極６１５間の電位差によって起こる。この維持放電時に放電ガスから発生する紫外線により、当該放電セル６６０の蛍光体層６５５が励起されて可視光が発散されて、この可視光が前面基板６１０を介して出射されることで、視聴者が認識することができる画像を形成する。
【００７６】
以下、図４Ｂを参照して、パネルアセンブリ６００とＰＤＰフィルタ２００との関係を説明する。
【００７７】
図４Ｂに示したように、ＰＤＰフィルタ２００は、パネルアセンブリ６００の前面基板６１０上部に配置される。ＰＤＰフィルタ２００は、図４Ａに示したようにパネルアセンブリ６００の前面基板６１０と離隔して配置することもできる。
また、パネルアセンブリ６００とＰＤＰフィルタ２００との間に異物が流入することを防止したり、ＰＤＰフィルタ２００自身の強度を補強するために、図４Ｂに示したように前面基板６１０と接着剤または粘着剤６９０で結合して接触させて配置することもできる。
【００７８】
ＰＤＰフィルタ２００には、外部環境光が、パネルアセンブリ６００内に流入することを防止するために外光遮蔽層２３０が形成されている。外部環境光は、主に外光遮蔽層２３０により吸収されて、外部環境光が前面基板６１０を透過して再反射されることを防止できる。したがって、明室条件で、ＰＤＰ装置のコントラスト比を向上させることができる。
【００７９】
ここで、遮光パターン２３６のピッチＰ２は、パネルアセンブリ６００に形成された放電セル６６０（またはピクセル）のピッチＰ１より小さいことが望ましい。すなわち、１つの放電セル６６０に、複数の遮光パターン２３６を配置することによって、入射光を均一に分散させることができて、効率的に外部環境光を吸収することができる。
【００８０】
また、パネルアセンブリ６００の放電セル６６０の周期的パターンと、外光遮蔽層２３０の遮光パターン２３６の周期的パターンとによりモアレ縞が発生することがある。このようなモアレ縞を防止するために遮光パターン２３６のピッチＰ２は、約７０−１１０μｍであることが望ましい。このとき、パネルアセンブリ６００のピクセルのピッチは、約０．５〜２．５となる。
【００８１】
以上、本発明の一実施形態として、くさび型の黒いストライプ状の遮光パターン２３６が形成された外光遮蔽層２３０を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図５Ａないし図５Ｈに示すような多様な形状の遮光パターンが形成された外光遮蔽層を用いることもできる。図５Ａないし図５Ｈは、本発明の他の実施形態にかかる外光遮蔽層を示した斜視図である。
【００８２】
図５Ａないし図５Ｅに示したように、このような外光遮蔽層（４３０ａ、４３０ｂ、４３０ｃ、４３０ｄ、４３０ｅ）によると、多様な形状の遮光パターン（４３６ａ、４３６ｂ、４３６ｃ、４３６ｄ、４３６ｅ）を利用して外部環境光を吸収して、外部環境光がパネルアセンブリに入射することを防いで、パネルアセンブリからの入射光を視聴者側に反射することによって、可視光線に対する高い透過率と高いコントラスト比とを得ることができる。
このような遮光パターンとしては、図５Ａに示したウエッジ−ブラックマトリックス（wedge-black matrix）型遮光パターン４３６ａと、図５Ｂに示したウエッジ−ブラックウェーブ（wedge-black wave）型遮光パターン４３６ｂと、図５Ｃに示したフラット−ブラックストライプ（flat-black stripe）型遮光パターン４３６ｃと、図５Ｄに示したフラット−ブラックマトリックス（flat-black matrix）型遮光パターン４３６ｄと、図５Ｅに示したフラット−ブラックウェーブ（flat-black wave）型遮光パターン４３６ｅを例に挙げることができる。モアレ現象を防止するために、このような遮光パターン（４３６ａ、４３６ｂ、４３６ｃ、４３６ｄまたは４３６ｅ）を、基材２３４の長辺に対して約５〜８０度のバイアス角αを有するように形成することが望ましい。
【００８３】
また、図５Ｆないし図５Ｈに示した外光遮蔽層４３０ｆ、４３０ｇ及び４３０ｈによると、外部環境光を遮断すると同時に、パネルアセンブリからの入射光を効率的に集束して視聴者側に伝達することによって、可視光線に対する高い透過率と高いコントラスト比を得ることができる。
【００８４】
具体的に、図５Ｆに示した外光遮蔽層４３０ｆは、基材２３４と、基材２３４のパネルアセンブリと対向する一面に形成されて、入射光を集束する複数の半円筒型のレンティキュラーレンズ５１０と、基材２３４の他の面に形成されて外部環境光を遮断するフラット−ブラックストライプ型遮光パターン４３６ｃを含んで構成される。また、図５Ｇに示した外光遮蔽層４３０ｇは、基材２３４と、基材２３４のパネルアセンブリと対向する一面に形成されて、入射光を集束する複数の半球型のレンティキュラーレンズ５１２と、基材２３４の他の面に形成されて外部環境光を遮断するフラット−ブラックマトリックス型遮光パターン４３６ｄを含んで構成される。そして、図５Ｈに示した外光遮蔽層４３０ｈは、基材２３４と、基材２３４の一面に形成されて入射光を集束する複数の楕円形断面を有するビーズレンズ５１４と、基材２３４とビーズレンズ５１４との間を充填して、外部環境光を遮断する遮光パターン５２４を含む。
【００８５】
ここで、図５Ｈに示した遮光パターン５２４は、図２に示した遮光パターン２３６と同じ物質から形成されて、同等の機能を果たし、規則的に配列されたビーズレンズ５１４により、遮光パターン５２４も周期的なパターンを有することになる。そして、レンティキュラーレンズ５１０、５１２とビーズレンズ５１４とは、高い光透過率、例えば７０％以上の光透過率を有する透明材質で形成することができる。このような材料としては、例えば、ガラスまたは透明樹脂で形成することが可能であり、ネオン光及び／または近赤外線吸収剤を含むこともできる。
【００８６】
したがって、パネルアセンブリ６００の放電セル６６０の周期的パターンと、外光遮蔽層４３０ｆ、４３０ｇまたは４３０ｈの周期的パターンとによるモアレ現象を防止するために、このような遮光パターン（４３６ｃ、４３６ｄ及び５２４）は、基材２３４の長辺に対して約５−８０度のバイアス角αを有するように形成されることが好ましい。
【００８７】
以下、説明の便宜のために、くさび型の黒いストライプ状の遮光パターン２３６を用いて、本発明の実施形態に係るＰＤＰフィルタを説明する。
【００８８】
一般的に、２つ以上の周期的なパターンが重なる場合、モアレ縞のような干渉縞が発生することがあるが、図６を参照して外光遮蔽層と電磁波遮蔽層との間に発生するモアレ現象を防止できるＰＤＰフィルタについて詳細に説明する。図６は、図２に示したＰＤＰフィルタのうち、外光遮蔽層２３０と電磁波遮蔽層２２０とを分離して配置した分解斜視図である。以下、遮光パターンとしては、くさび型の黒いストライプ状のものを、電磁波遮蔽層２２０としては周期的パターンが形成された導電性メッシュフィルムを適用した場合を例に挙げて説明する。
【００８９】
先に説明したように、パネルアセンブリに、周期的に配置されたピクセルのピッチが約０．５〜２．５であって、遮光パターン２３６のピッチが約０．０７〜０．１１ｍｍの場合、遮光パターン２３６のバイアス角は、約５〜８０度である場合にピクセルと遮光パターン２３６との間のモアレ現象は確認されなかった。
【００９０】
図６に示したように、導電性メッシュタイプの電磁波遮蔽層２２０と、外光遮蔽層２３０との間でのモアレ現象を防止するために、外光遮蔽層２３０も一定のバイアス角βだけ傾けて配置することが望ましい。ここで、バイアス角βは、メッシュの延長線と基材２３４の長辺（すなわち、パネルアセンブリの長辺）とが成す交差角をいう。望ましくは電磁波遮蔽層２２０と外光遮蔽層２３０とのバイアス角（α、β）の差（β−α）が、５〜４０度または５０〜７５度である場合、モアレ現象を効果的に防止することができる。さらに、バイアス角（α、β）の差（β−α）が５〜１５度または５５〜６５度の場合、モアレ現象をさらに効果的に防止できる。
【００９１】
例えば、次に示す表２は、外光遮蔽層２３０のバイアス角βの変化に応じてモアレ現象が発生する程度を示した表である。ここで、パネルアセンブリのピクセルピッチは約０．５〜２．５であり、メッシュのピッチは約０．２５〜０．３５ｍｍであって、遮光パターン２３６のバイアス角αが５度の場合に、バイアス角βが０〜９度、１０〜４５度、４６〜５４度、５５〜８０度及び８１〜９０度に設定された５個のサンプルグループにおいて、モアレ縞が確認されるか否かを示した。
【００９２】
【表２】
2006313360.tif 000005
【００９３】
表２に示したように、電磁波遮蔽層２２０のバイアス角βを変化させることによって、モアレ縞の発生の有無が決定されることが分かる。すなわち電磁波遮蔽層２２０のバイアス角βが１０〜４５度または５５〜８０度の場合に、効果的にモアレ現象を防止できる。ここで、遮光パターン２３６のバイアス角αが５度であるので、電磁波遮蔽層２２０と外光遮蔽層２３０とのバイアス角（α、β）の差（β−α）が５〜４０度または５０〜７５度である場合に、モアレ現象を防止できることが分かる。
【００９４】
次に、図７Ａ及び図７Ｂを参照して、本発明のさらに他の実施形態によるＰＤＰフィルタについて説明する。
図７Ａは、本実施形態によるＰＤＰフィルタを示す断面図であって、図７Ｂは、図７Ａに示したＰＤＰフィルタを用いたＰＤＰ装置を示した断面図である。説明の便宜上、前記した実施形態の各部材と同様の機能を有する部材は同一の符号で示して、その説明は省略する。本実施形態によるＰＤＰフィルタは、図７Ａ及び図７Ｂに示したように、前記した実施形態と次の事項を除いて基本的に同等の構造を有する。
【００９５】
すなわち、図７Ａ及び図７Ｂに示したように、ＰＤＰフィルタ７００は、モアレ縞及びニュートンリングの発生を防止するための拡散層７１０を含む。外光遮蔽層２３０の遮光パターン２３６または電磁波遮蔽層２２０のメッシュパターンのような周期的なパターンが、パネルアセンブリ６００の前面基板６１０に反射される場合に、元パターンと反射光によるパターンとの間の相互干渉によりモアレ現象が発生したり、ＰＤＰフィルタ７００とこれに結合されるパネルアセンブリ６００の前面基板６１０との間の離隔距離が不均一な場合にニュートンリング現象が発生したりすることがある。ここで、拡散層７１０は、このような反射光によるパターンを拡散させることによって、元パターンと反射光によるパターンとの干渉現象が発生しなくなることで、モアレ現象及びニュートンリング現象を防止する。
拡散層７１０は、パネルアセンブリ６００に近いＰＤＰフィルタ７００の一面に形成することが望ましいが、モアレ縞及びニュートンリングの発生を防止できることができれば、ＰＤＰフィルタ７００内の任意の位置に配置することができる。すなわち、拡散層７１０は、ＰＤＰフィルタ７００の視聴者に向かう方向、すなわち反射防止層２５０上に形成することもできる。
【００９６】
拡散層７１０は、アンチ−グレア処理された表面を有するフィルムで構成される。ここでアンチ−グレア処理とは、例えば、サンドブラスト処理またはエンボシングによる粗面化処理方法、及び透明微粒子配合方法のような好適な方法を利用してフィルムの表面に微細な凹凸構造を形成する工程である。このような透明微粒子として、例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、スズ酸化物、インジウム酸化物、カドミウム酸化物、アンチモン酸化物等を含む導電性を有する無機型微粒子、及び架橋（cross-linked）または非架橋重合体を含む有機型微粒子のように、平均粒子直径が０．１〜５０μｍである透明微粒子を用いることができる。
【００９７】
次に、図８を参照して、本発明のさらに他の実施形態によるＰＤＰ装置を説明する。図８は、本実施形態によるＰＤＰ装置を示した分解斜視図である。説明の便宜上、前記した実施形態の各部材と同様の機能を有する部材は、同一の符号で示して、その説明は省略する。本実施形態によるＰＤＰフィルタは、図８に示したように、前記した実施形態と次に事項を除いて基本的に同等の構造を有する。
【００９８】
図８に示したように、モアレ現象及びニュートンリング現象の発生を防止するために、ＰＤＰフィルタ２００に、図７Ａに示した拡散層７１０を形成する代わりに、パネルアセンブリ６００の前面基板６１０に、前記したアンチ−グレア処理を施している。つまり、ＰＤＰフィルタ２００に対向する前面基板６１０の乱反射表面６１１は、アンチ−グレア処理された面であって、前面基板６１０における反射光が一定なパターンを有することがないように乱反射させることによって、干渉現象を抑制する。したがってモアレ現象及びニュートンリング現象の発生を防止できる。また、本実施形態のＰＤＰ装置にも、前記した実施形態で説明した拡散層を含むＰＤＰフィルタを適用することもできる。
【００９９】
以下、図９Ａ及び図９Ｂを参照して、本発明のさらに他の実施形態によるＰＤＰ装置について説明する。
図９Ａは、本実施形態によるＰＤＰ装置を示した分解斜視図であって、図９Ｂは、図９Ａに示したＰＤＰ装置をＢ−Ｂ’に沿って切断した断面図である。説明の便宜上、前記した実施形態の各部材と同様の機能を有する部材は同一の符号で示して、その説明は省略する。
【０１００】
前記した実施形態では、外光遮蔽層２３０はフィルタベース２７０と共にＰＤＰフィルタの構成要素として説明したが、本発明はこれ限定されることなく、本実施形態のように、外光遮蔽層２３０をパネルアセンブリ６００の前面基板６１０に直接、付設したり、フィルタベース２７０をこのような外光遮蔽層２３０上に配置することでＰＤＰ装置を形成することもできる。
【０１０１】
すなわち、図９Ａに示したように、外光遮蔽層２３０は、パネルアセンブリ６００の前面基板６１０に直接、付設したり、付着することができる。そして、ＰＤＰフィルタ９００は、フィルタベース２７０及び色補正層２４０を含み、ＰＤＰフィルタ９００は図９Ａに示したように前面基板６１０上に形成された外光遮蔽層２３０と離隔して配置したり、接触して配置することもでき、またパネルアセンブリ６００とＰＤＰフィルタ９００との間に異物が流入すること等を防止したり、ＰＤＰフィルタ９００自身の強度を補強するために、図９Ｂに示したように外光遮蔽層２３０と接着剤または粘着剤（９９０）で結合することもできる。このような構造のＰＤＰ装置でも、前記した実施形態と同等の作用、効果を得ることができる。
【０１０２】
以上、説明した本発明で用いられるディスプレイ装置は、格子パターンの画素を有してＲＧＢ光を具現するＰＤＰ装置、有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置または電界放出ディスプレイ装置などの大型ディスプレイ装置と、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）または小型ゲーム機のディスプレイ装置、携帯電話のディスプレイ装置などの小型モバイルディスプレイ装置と、そして、フレキシブルディスプレイ装置などの多様なディスプレイ装置に適用することができる。
特に、外部環境の光が強い屋外用ディスプレイ装置及び公共施設等の室内に設置されたディスプレイ装置に好適に適用することができる。
【０１０３】
また、本発明で用いられる遮光パターンは外部環境光を遮断するためのパターンであって、ブラックストライプ（black stripe）、ブラックマトリックス（black matrix）または波（wave）パターン等を用いることができる。そして、所定の基材に形成された遮光パターンは、くさび型（wedge type）またはフラット型（flat type）等の断面を有することができる。
【０１０４】
以上、添付した図面を参照して本発明の実施形態を説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想や必須な特徴に基づいて、他の具体的な実施形態を具現することができる。つまり、開示した実施形態はすべて例示的なものであって、本発明を限定するものではない。したがって、本発明は、特許請求の範囲に記載された技術的思想により定められる。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】一実施形態によるＰＤＰ装置を示す分解斜視図である。
【図２】一実施形態によるＰＤＰフィルタを示す断面図である。
【図３】図２のＰＤＰフィルタに使われる外光遮蔽層を示す斜視図である。
【図４Ａ】一実施形態によるＰＤＰ装置を示した分解斜視図である。
【図４Ｂ】図４ＡのＢ−Ｂ’に沿って切断した断面図である。
【図５Ａ】外光遮蔽層の変形例を示した斜視図である。
【図５Ｂ】外光遮蔽層の変形例を示した斜視図である。
【図５Ｃ】外光遮蔽層の変形例を示した斜視図である。
【図５Ｄ】外光遮蔽層の変形例を示した斜視図である。
【図５Ｅ】外光遮蔽層の変形例を示した斜視図である。
【図５Ｆ】外光遮蔽層の変形例を示した斜視図である。
【図５Ｇ】外光遮蔽層の変形例を示した斜視図である。
【図５Ｈ】外光遮蔽層の変形例を示した斜視図である。
【図６】図２のＰＤＰフィルタのうち外光遮蔽層と電磁波遮蔽層を分離して配置した分解斜視図である。
【図７Ａ】他の実施形態によるＰＤＰフィルタを示す断面図である。
【図７Ｂ】図７ＡのＰＤＰフィルタを用いたＰＤＰ装置を示した断面図である。
【図８】他の実施形態によるＰＤＰ装置を示した分解斜視図である。
【図９Ａ】他の実施形態によるＰＤＰ装置を示した分解斜視図である。
【図９Ｂ】図９ＡのＢ−Ｂ’に沿って切断した断面図である。
【符号の説明】
【０１０６】
２００  ＰＤＰフィルタ
２１０  透明基板
２２０  電磁波遮蔽層
２３０  外光遮蔽層
２３２  支持体
２３４  基材
２３６  遮光パターン
２４０  色補正層
２５０  反射防止層
２７０  フィルタベース
４３０ａ、４３０ｂ、４３０ｃ、４３０ｄ  外光遮蔽層
４３０ｅ、４３０ｆ、４３０ｇ、４３０ｈ  外光遮蔽層
４３６ａ、４３６ｂ、４３６ｃ、４３６ｄ  遮光パターン
４３６ｅ、４３０ｆ、４３０ｇ、４３０ｈ  遮光パターン
５１０  半円筒型レンティキュラーレンズ
５１２  半球型レンティキュラーレンズ
５１４  ビーズレンズ
５２４  遮光パターン
６００  パネルアセンブリ
６１０  前面基板
６１１  乱反射表面
６１５  維持電極
６２０  バス電極
６２５  誘電体層
６３０  誘電体保護膜
６３５  背面基板
６４０  アドレス電極
６４５  誘電体層
６５０  隔壁
６５５  蛍光体層
６６０  放電セル
７００、９００  ＰＤＰフィルタ
７１０  拡散層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図５Ｆ】
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【図５Ｇ】
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【図５Ｈ】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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