(57)【要約】【課題】  本発明は、面積１０００ｃｍ２以上のペリクルにおいて、ホットメルト材を用いたマスク粘着材の条件を特定することにより、フレームを全周にわたって均一にマスクに貼り付けることのできる大型ペリクルを提供することを目的としている。【解決手段】  本発明に係る大型ペリクルの代表的な構成は、フレームをマスクに貼り付けるためのマスク粘着材が常温で粘着性を有するホットメルト材であって、フレーム底面に塗布されるホットメルトの各断面の最大幅をｃ、フレーム底面幅をｃ０、ホットメルトの高さをｂとすると、ｃ０≧ｃ≧ｃ０×０．５、または２≦ｃ／ｂ≦１０を満たす形状で設けていることを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
面積１０００ｃｍ２以上のペリクル膜と、
前記ペリクル膜を張着したフレームと、
前記フレームの全周にわたって設けられ、該フレームをマスクに貼り付けるためのマスク粘着材とを備えるペリクルにおいて、
前記マスク粘着材は常温で粘着性を有するホットメルト材であって、
フレーム底面に塗布されるホットメルトの各断面の最大幅をｃ、フレーム底面幅をｃ０とすると、ｃ０≧ｃ≧ｃ０×０．５を満たす形状で設けていることを特徴とする大型ペリクル。
【請求項２】
面積１０００ｃｍ２以上のペリクル膜と、
前記ペリクル膜を張着したフレームと、
前記フレームの全周にわたって設けられ、該フレームをマスクに貼り付けるためのマスク粘着材とを備えるペリクルにおいて、
前記マスク粘着材は常温で粘着性を有するホットメルト材であって、
フレーム底面に塗布されるホットメルトの各断面の最大幅をｃ、ホットメルトの高さをｂとすると、２≦ｃ／ｂ≦１０を満たす形状で設けていることを特徴とする大型ペリクル。
【請求項３】
面積１０００ｃｍ２以上のペリクル膜と、
前記ペリクル膜を張着したフレームと、
前記フレームの全周にわたって設けられ、該フレームをマスクに貼り付けるためのマスク粘着材とを備えるペリクルにおいて、
前記マスク粘着材は常温で粘着性を有するホットメルト材であって、
フレーム底面に塗布されるホットメルトの各断面の最大幅をｃ、フレーム底面幅をｃ０とすると、ｃ０≧ｃ≧ｃ０×０．５を満たし、
かつホットメルトの高さをｂとすると、２≦ｃ／ｂ≦１０を満たす形状で設けていることを特徴とする大型ペリクル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は大型ペリクルに係り、詳しくは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を構成する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）を製造する際に、リソグラフ工程で使用されるフォトマスクに異物が付着することを防止するためのペリクルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＬＣＤを構成するＴＦＴを製造する際のリソグラフ工程において、フォトマスクにペリクルと称する防塵手段を載置して、該フォトマスクへの異物の付着を防止することが行われている。フォトマスクの表面に異物が付着した場合、その異物が液晶パネル上に形成されたフォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因となるが、フォトマスクにペリクルを載置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォーカス位置のずれによって液晶パネル上に形成されたフォトレジスト上に結像することなく、回路パターンに欠陥を生じさせないものである。
【０００３】
図３に示すように、ペリクル10は、フォトマスク１の形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度のフレーム11の一方の縁面に高分子膜からなるペリクル膜12を展張して接着している。そして図４に示すように、該フレーム11の他方の縁面にマスク粘着材13を設けており、フォトマスク１の表面に貼着される。ＴＦＴマスク用ペリクル膜を構成する高分子膜の材料としては、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体や非晶質フッ素ポリマーなど露光光の透過性を考慮した材料が使用されている。
【０００４】
本発明のような大型ペリクルに関しては、本件特許出願人も例えば、特開２００１−１０９１３５号公報（特許文献１）、特開２００１−２０１８４５号公報（特許文献２）、特開２００２−２９６７６３号公報（特許文献３）等の発明を開発し、特許出願している。
【０００５】
前述の特許文献１の発明は、大型ペリクル膜を展張して支持する大型ペリクル用フレームの長辺の巾を短辺の巾よりも大きくして長辺の強度を確保して、長辺のフレームの内側に向かう撓みを抑制するようにした発明である。
【０００６】
また、特許文献２の発明は、大型ペリクル用フレームに大型ペリクル膜を展張した際に、大型ペリクル内外に気圧差が発生して大型ペリクル膜面の鉛直方向に膨らんだり凹んだりすることを防止するために、大型ペリクル用フレームに通気口を設けて、そのフレームの内外を同一の気圧にするようにした発明である。
【０００７】
また、特許文献３の発明は、大型ペリクル膜を展張する大型ペリクル用フレームの少なくとも一対の辺をフレームの外側に向って突出するように形成し、これによって長辺のフレームの内側に向かう撓みを抑制して、フォトマスクの有効露光領域を確保するようにした発明である。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−１０９１３５号公報
【特許文献２】特開２００１−２０１８４５号公報
【特許文献３】特開２００２−２９６７６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のような液晶用大型ペリクルは面積が１０００ｃｍ２以上あり、そのフレームは、一般的に面積が２３８ｃｍ２程度である半導体用ペリクルのフレームより平面度が大きい（うねりが大きい）。このため、マスクにペリクルのフレームを均一に貼り付けるために、大型ペリクル用のマスク粘着材13（図４参照）は弾性変形量の大きなものを使用する必要があり、従来は発泡体の両面テープを使用している。
【００１０】
しかし、発泡体は断面に無数のセルが開口していることから、このセルに埃などの異物が入り込み、マスクに貼り付けた後に出てきてこれを汚染するおそれがある。このような事態を防ぐために、従来は発泡体の側面に粘着材を塗布し、側面を覆うことが行われている。
【００１１】
ところで、大型ペリクル用フレームは平面度が大きいことから、ペリクルをマスクに貼り付けるために荷重をかけ、荷重を解除すると、マスク粘着材が部分的に伸ばされる箇所があり、マスク粘着材を覆っている粘着材が破れることがある。この傾向は、大型ペリクル用フレーム面積が大きくなるほど顕著である。
【００１２】
そのため特に面積が１０００ｃｍ２以上の大型ペリクル用においては、マスク粘着材として発泡体のようにセルのないホットメルト材を使用することにより、側面に粘着材を塗布する必要がなくなり、異物発生の防止の信頼性がより高まる。しかしながら大型ペリクル用フレームは、平面度が大きく、フレーム幅も大きい。また、種類によっては長辺幅と短辺幅が異なる場合がある。このようなフレームの全周にわたって、均一にマスクに張り付くようなホットメルトを成形することは困難である。
【００１３】
そこで本発明は、面積１０００ｃｍ２以上のペリクルにおいて、ホットメルト材を用いたマスク粘着材の断面形状を特定することにより、フレームを全周にわたって均一にマスクに貼り付けることのできる大型ペリクルを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明に係る大型ペリクルの代表的な構成は、面積１０００ｃｍ２以上のペリクル膜と、前記ペリクル膜を張着したフレームと、前記フレームの全周にわたって設けられ、該フレームをマスクに貼り付けるためのマスク粘着材とを備えるペリクルにおいて、前記マスク粘着材は常温で粘着性を有するホットメルト材であって、フレーム底面に塗布されるホットメルトの各断面の最大幅をｃ、フレーム底面幅をｃ０とすると、ｃ０≧ｃ≧ｃ０×０．５を満たす形状で設けていることを特徴とする。
【００１５】
また本発明に係る大型ペリクルの他の代表的な構成は、面積１０００ｃｍ２以上のペリクル膜と、前記ペリクル膜を張着したフレームと、前記フレームの全周にわたって設けられ、該フレームをマスクに貼り付けるためのマスク粘着材とを備えるペリクルにおいて、前記マスク粘着材は常温で粘着性を有するホットメルト材であって、フレーム底面に塗布されるホットメルトの各断面の最大幅をｃ、ホットメルトの高さをｂとすると、２≦ｃ／ｂ≦１０を満たす形状で設けていることを特徴とする。
【００１６】
また上記構成をあわせた構成も可能である。すなわち、面積１０００ｃｍ２以上のペリクル膜と、前記ペリクル膜を張着したフレームと、前記フレームの全周にわたって設けられ、該フレームをマスクに貼り付けるためのマスク粘着材とを備えるペリクルにおいて、前記マスク粘着材は常温で粘着性を有するホットメルト材であって、フレーム底面に塗布されるホットメルトの各断面の最大幅をｃ、フレーム底面幅をｃ０とすると、ｃ０≧ｃ≧ｃ０×０．５を満たし、かつホットメルトの高さをｂとすると、２≦ｃ／ｂ≦１０を満たす形状で設けていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、面積１０００ｃｍ２以上のペリクルにおいて、マスク粘着材としてホットメルト材を用いつつ、フレームを全周にわたって均一にマスクに貼り付けることができ、かつマスク粘着材が部分的な剥離および発塵することのない大型ペリクルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明に係る大型ペリクルの実施例について説明する。図４を用いて説明したペリクルの基本的な構成については説明を援用し、同一の部材については同一の符号を付して説明を省略する。
【００１９】
本実施例に係るペリクル10においては、マスク粘着材14は、常温で弾性および粘着性を有するホットメルト材である。マスク粘着材14は熱で溶融させてフレーム11の底面（ペリクル膜12を張着する面と反対側の面）に塗布し、冷却して固定する。ペリクル10をフォトマスク１に貼り付けるまでは、マスク粘着材14の接着面には保護フィルムを貼り付けておき、不用意に接着してしまうことを防止する。使用に際しては保護フィルムを剥がし、フォトマスク１にフレーム11ごと加圧することによって全周にわたって接着する。
【００２０】
図１に示すように、ペリクル10のフレーム11の高さをａ、マスク粘着材14の高さをｂ、フレーム11の幅をｃ０、マスク粘着材14の各断面の最大幅をｃとする。
【００２１】
マスク粘着材14の幅については、ｃ０≧ｃ≧ｃ０×０．５を満たす形状で設けている。すなわちマスク粘着材14の幅は、フレーム11の幅を超すことはなく、かつフレーム11の幅の半分以上となっている。ｃ０≧ｃとしているのは、マスク粘着材14がフレーム11よりもはみ出してしまうと、フォトリソグラフ工程ではみ出したホットメルトが露光光を遮る可能性があるからである。ｃ≧ｃ０×０．５としているのは、これにより、面積が１０００ｃｍ２以上あるがゆえに平面度が大きい大型ペリクルであっても、十分な貼り付け面積が得られ、安定してマスクに貼り付けることが可能になるためである。
【００２２】
また、フレーム11の短辺と長辺の幅が異なる場合であっても、上記範囲によってマスク粘着材14の幅を規定することにより、十分な貼り付け面積、貼り付け強度を得ることができる。
【００２３】
マスク粘着材14の高さについては、２≦ｃ／ｂ≦１０を満たす形状で設けている。すなわちマスク粘着材14の高さは、マスク粘着材14の幅に対して半分から１／１０の範囲となっている。
【００２４】
ｃ／ｂ＞１０となると粘着材高さが低く（薄く）なり、以下の問題が発生する。まず、弾性変形量が小さいために、フレーム11のゆがみを吸収しにくくなる。一方、大型ペリクルはフレーム11の平面度が大きい。このため、フォトマスク１に貼り付けた後に、経時的にマスク粘着材14がフレーム11やフォトマスク１から剥離して、部分的に隙間が生じてしまうおそれがある。また、マスク粘着材14が薄いことから、フレーム11をフォトマスク１に加圧する際にフレーム11の露出部（マスク粘着材14を塗布していない部分）がフォトマスク１に接触し、これを傷つけてしまうおそれがある。
【００２５】
また１＞ｃ／ｂとなると、フレーム11の幅に対し、マスク粘着材14の高さが高くなりすぎてしまう。このためフレーム11をフォトマスク１に加圧する際にマスク粘着材14が変形し、フレーム11から幅方向にはみ出してしまうおそれがある。これはペリクルの有効領域を狭めることになり好ましくない。
【００２６】
図２に、具体的な数値例を示す。ただし下記の具体例は発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、本発明を限定するものではない。
【００２７】
図２（ａ）に示すように、ペリクル10のフレーム11は長辺と短辺の幅が異なっており、長辺の幅が８ｍｍ、短辺の幅が７ｍｍとなっている。
【００２８】
図２（ｂ）に示すように、短辺においては、フレーム11の幅７ｍｍに対し、マスク粘着材14の高さｂを１．６ｍｍ、幅ｃを５ｍｍとしている。このときｃ／ｂ＝３．１３となり、上記条件を満たしている。また図２（ｃ）に示すように、長辺においては、フレーム11の幅８ｍｍに対し、マスク粘着材14の高さｂを１．６ｍｍ、幅ｃを６ｍｍとしている。このときｃ／ｂ＝３．７５となり、上記条件を満たしている。
【００２９】
なおマスク粘着材14の高さを１．６ｍｍに固定した場合、上記条件を満たすためには、短辺においては３．５〜７ｍｍとなり、長辺においては４〜８ｍｍとなる。従って、短辺と長辺においてマスク粘着材14の幅を変えることなく、共通範囲である４〜７ｍｍの範囲においてマスク粘着材14の幅を設定し、全周にわたって同じ幅で塗布することでもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３０】
本発明は、面積１０００ｃｍ２以上の大型ペリクルとして利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の実施例に係るペリクルの構成を説明する図である。
【図２】本発明の実施例に係るペリクルの具体例を説明する図である。
【図３】ペリクルの概要を説明する図である。
【図４】従来のペリクルの構成を説明する図である。
【符号の説明】
【００３２】
１    …フォトマスク
10    …ペリクル
11    …フレーム
12    …ペリクル膜
13    …マスク粘着材
14    …マスク粘着材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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