(57)【要約】  【課題】  凸部の側壁での電極断線を防止すると共に、光漏れを防止してコントラストを向上させる。  【解決手段】  第１基板３３と第２基板１９との間に液晶層３５を設け、第１基板３３および第２基板１９の液晶層３５側の主面Ｓ１、Ｓ２には電極１７、３０が対向配置されて電極１７、３０により複数の絵素領域を規定し、第２基板１９は液晶層３５側へ向けて突出する凸部１５を備え、凸部１５の側壁１５ａには段差１６を形成している。また、液晶層３５の液晶分子４０は電圧無印加時に垂直配向状態となる一方、電圧印加時に配向状態を変化させて表示を行う。  【選択図】図１３
2006039035.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板との間に液晶層を設け、前記第１基板および前記第２基板の前記液晶層側の主面には電極が対向配置され、前記電極により複数の絵素領域が規定されており、
前記第１基板あるいは第２基板は前記液晶層側へ向けて突出する凸部を備え、前記凸部の側壁には少なくとも１つ以上の段差を設けていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶層の液晶分子は、電圧無印加時に垂直配向状態となる一方、電圧印加時に配向状態を変化させて表示を行う構成としている請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記段差は前記基板に対して略平行となる水平部を備えている請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２基板は観測者側に配置されると共に前記第１基板は背面側に配置され、
前記凸部は前記第２基板側に形成され、第２基板には前記凸部の側壁の観測者側の下層にブラックマスクが突設されている請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第２基板には前記ブラックマスクの上層に着色層が形成され、前記着色層のうち前記ブラックマスクを覆う部位が凸状の山部となっており、
前記着色層の上層には前記凸部が形成されていると共に、前記凸部の側壁が前記山部に配置されている請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記凸部は、第１凸部〜第ｎ凸部の積層体からなり（ｎは２以上の整数）、
上層の第ｍ凸部は下層の第ｍ−１凸部の上面内に収まるように配置されて（ｍ＝２〜ｎ）、第ｍ凸部の側壁と第ｍ−１凸部の上面との境界で前記段差を形成している請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
第１基板と、前記第１基板に対向するように配置される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる液晶層とを有し、前記第２基板には前記液晶層へ向けて突出する凸部を設けている液晶表示装置の製造方法であって、
前記第２基板を構成する透明基板上にブラックマスクを突設させる工程と、
前記ブラックマスクの上面側に前記凸部の側壁が位置するように前記凸部を形成する工程とを備えていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
第１基板と、前記第１基板に対向するように配置される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる液晶層とを有し、前記第２基板には前記液晶層へ向けて突出する凸部を設けている液晶表示装置の製造方法であって、
前記第２基板はカラーフィルタ基板とし、
前記第２基板を構成する透明基板上にブラックマスクを突設させる工程と、
前記ブラックマスクを覆うように前記透明基板上に着色層を形成する工程と、
前記着色層のうち前記ブラックマスクを覆って凸状に形成された山部に、前記凸部の側壁が位置するように前記凸部を形成する工程とを備えていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルの基板に液晶層側へ向けて突出する凸部を有している液晶表示装置およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機やＰＤＡ端末等のように液晶表示装置を備えた携帯情報端末機器が急速に普及しており、この携帯情報端末機器に用いられる液晶表示装置には、屋外・屋内等の環境によらない高表示品位と低消費電力とが求められている。これらの要求を満たす液晶表示装置として１絵素内に反射領域と透過領域とを備えて反射型と透過型の両モードで表示可能な半透過型の液晶表示装置が注目されている。
【０００３】
例えば、特開２００４−８６１０８号公報等には半透過型液晶表示装置が開示されており、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板との間に液晶層を封入して液晶パネルを形成し、アクティブマトリクス基板に反射電極が設けられた領域を反射領域とすると共に反射電極のない領域を透過領域としている。透過領域では背面に設置されたバックライトからの光を透過させて表示を行う一方、反射領域では観測者側から入射した外光を反射電極に反射させて表示している。
【０００４】
前記のように、透過領域ではバックライトからの光が液晶層を１回通過して表示する一方、反射領域では外光が反射電極で反射し液晶層を往復して２回通過することにより表示を行っている。そのため、透過領域を通過する光の光路長と、反射領域を通過する光の光路長とを整合させるべく、反射領域には液晶層へ向けて突出する凸部を設けて液晶層の厚さを変化させ、反射モードと透過モードとの両方で最適な輝度を確保できるようにするマルチギャップ構造が採用されている。
【０００５】
図１５乃至図２５は反射モードと透過モードとの光路長の整合を図る凸部が形成されたカラーフィルタ基板の製造工程を説明する図面である。
まず、図１５、図１８、図２２に示すように、ガラス基板１上で絵素領域を区切る位置にブラックマスク２を間隔をあけて突設させ、図１６、図１９、図２３に示すように、ブラックマスク２の間に着色層３を形成する。次いで、図１７、図２０、図２４に示すように、着色層３の上に光路長整合用として透明樹脂からなる凸部４を形成し、図２１および図２５に示すように、凸部４を覆うように透明電極５を形成している。なお、図示していないが、液晶層側の最表面にはさらに垂直配向膜が形成される。
前記構成とすると、図２６（Ａ）（Ｂ）に示すように、垂直配向膜により、負の誘電率異方性を有する液晶分子６が透明電極５に電圧が印加されていない状態で垂直配向となり黒表示される（ノーマリブラック）。電圧印加時には、その発生する電界で液晶分子６の向きを変化させて白表示を行い、コントラストが高く、応答速度も速い液晶表示装置を実現している（特開平１１−２５８６０５号公報、特開２００３−１６７２５３号公報等）。
【０００６】
しかしながら、凸部４は膜厚を２．５μｍ〜３．０μｍと大きくしていると共に側壁４ａのテーパ角θも大きいため、透明電極５をコーティングする製造時に、自重により側壁４ａ部分に位置する透明電極５の膜厚が薄くなる。そのため、加熱工程等において透明電極５と凸部４との間の熱膨張率の相違により、透明電極５の断線が発生しやすいという問題がある。さらに、凸部４の側壁４ａはガラス基板１に対して略垂直方向となるため、側壁４ａに位置する液晶分子６は電圧無印加時において略水平方向に向いてしまい液晶分子６の配向乱れが生じる。この液晶配向乱れにより側壁４ａ部分において光漏れ領域Ｌが発生してコントラストが低下する。
【０００７】
また、特開平１１−２５８６０５号公報や特開２００３−１６７２５３号公報に開示されたＶＡ（vertically aligned）方式の液晶表示装置では、視野角特性等の表示品質を向上させるために液晶分子の配向が各絵素内で多方向となるように規制する凸部が設けられている。該構成とすると、電圧無印加時において、凸部の傾斜側面でのアンカリング効果により液晶分子が垂直とならず、傾斜した液晶分子の複屈折効果によって光漏れが生じてコントラストを低下させる問題がある。
【特許文献１】特開２００４−８６１０８号公報
【特許文献２】特開平１１−２５８６０５号公報
【特許文献３】特開２００３−１６７２５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、基板から液晶層側に突出する凸部の側壁における電極断線を防止すると共に、凸部の側壁での光漏れを防止してコントラストを向上させることを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明は、第１基板と第２基板との間に液晶層を設け、前記第１基板および前記第２基板の前記液晶層側の主面には電極が対向配置され、前記電極により複数の絵素領域が規定されており、
前記第１基板あるいは第２基板は前記液晶層側へ向けて突出する凸部を備え、前記凸部の側壁には少なくとも１つ以上の段差を設けていることを特徴とする液晶表示装置を提供している。
【００１０】
前記構成とすると、側壁の中間位置に段差が設けられるので、側壁の略垂直方向の部分が該段差で中断されて、側壁の略垂直部分の連続高さを低くすることができる。これにより、凸部を覆うように電極をコーティングする際に、電極の膜厚が自重により側壁位置で薄くなるのを低減させることができる。したがって、熱負荷等が加わった場合であっても断線が発生しにくくなる。
【００１１】
前記液晶層の液晶分子は、電圧無印加時に垂直配向状態となる一方、電圧印加時に配向状態を変化させて表示を行う構成としている。
【００１２】
前記構成とすると、液晶分子は電圧無印加時において基板側に対して直交方向にアンカリングされることになるが、凸部の側壁の一部に設けられた段差では側壁の角度が変わり、液晶分子を基板に対して垂直配向に近づける働きをする。さらに、段差部分にアンカリングされた液晶分子に近接する他の液晶分子もその影響を受けて基板に対して垂直配向に近づく傾向となる。したがって、凸部の側壁部分における光漏れが低減されてコントラストの向上を図ることが可能となる。
【００１３】
前記段差は前記基板に対して略平行となる水平部を備えていることが好ましい。
こうすると、水平部にアンカリングされる液晶分子は電圧無印加時において垂直配向となるので、段差近傍に存在する液晶分子の垂直配向の傾向を強めることができる。
【００１４】
前記第２基板は観測者側に配置されると共に前記第１基板は背面側に配置され、
前記凸部は前記第２基板側に形成され、第２基板には前記凸部の側壁の観測者側の下層にブラックマスクが突設されている。
【００１５】
前記構成のように、凸部を形成する下層にブラックマスクを予め突設しておくことで、凸部形成時に、基板から突出したブラックマスクとの相互作用により凸部の側壁に段差を自動的に発生させることができ、製造工数の増加を防止できる利点がある。さらに、電圧無印加時に凸部の側壁部分で垂直配向とならない液晶分子が生じても、ブラックマスクで遮光して光漏れが防止されるので、確実にコントラスト向上を図ることができる。
【００１６】
前記第２基板には前記ブラックマスクの上層に着色層が形成され、前記着色層のうち前記ブラックマスクを覆う部位が凸状の山部となっており、
前記着色層の上層には前記凸部が形成されていると共に、前記凸部の側壁が前記山部に配置されている。
【００１７】
前記構成のように、基板から突出したブラックマスクとの相互作用により、着色層に凸状の山部が形成され、さらにこの山部に凸部の側壁を配置させることで、凸部形成時に、山部との相互作用により、凸部の側壁に段差が自動形成される。したがって、電極の断線防止および液晶配向乱れに起因したコントラスト低下の防止を図るための段差を容易に形成することができる。
【００１８】
前記凸部は、第１凸部〜第ｎ凸部の積層体からなり（ｎは２以上の整数）、
上層の第ｍ凸部は下層の第ｍ−１凸部の上面内に収まるように配置されて（ｍ＝２〜ｎ）、第ｍ凸部の側壁と第ｍ−１凸部の上面との境界で前記段差を形成している。
【００１９】
前記構成とすると、平面視で下層の第ｍ−１凸部よりも上層の第ｍ凸部の方が小面積となるように積層した積層体を凸部として形成することで、全体として凸部の側壁に段差を発生させることができ、上述同様に電極の断線防止およびコントラスト向上を図ることができる。
【００２０】
また、本発明は、第１基板と、前記第１基板に対向するように配置される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる液晶層とを有し、前記第２基板には前記液晶層へ向けて突出する凸部を設けている液晶表示装置の製造方法であって、
前記第２基板を構成する透明基板上にブラックマスクを突設させる工程と、
前記ブラックマスクの上面に前記凸部の側壁が位置するように前記凸部を形成する工程とを備えていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供している。  
【００２１】
前記方法とすると、凸部の側壁が配置される位置の透明基板にブラックマスクを予め突設しておくことで、その上に凸部を形成するだけで凸部側壁に段差を発生させることができる。よって、コントラスト向上のためのブラックマスク形成工程と、凸部形成工程との他に作業工程を増加させることなく、凸部の側壁に容易に段差を形成することが可能となる。また、ブラックマスクは凸部側壁の下層に配置させているので、凸部側壁での液晶分子の配向乱れによる光漏れが遮光され、より一層のコントラスト向上を保証することができる。
【００２２】
また、本発明は、第１基板と、前記第１基板に対向するように配置される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる液晶層とを有し、前記第２基板には前記液晶層へ向けて突出する凸部を設けている液晶表示装置の製造方法であって、
前記第２基板はカラーフィルタ基板とし、
前記第２基板を構成する透明基板上にブラックマスクを突設させる工程と、
前記ブラックマスクを覆うように前記透明基板上に着色層を形成する工程と、
前記着色層のうち前記ブラックマスクを覆って凸状に形成された山部に、前記凸部の側壁が位置するように前記凸部を形成する工程とを備えていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供している。
【００２３】
前記方法とすると、凸部の側壁が配置される位置の透明基板にブラックマスクを予め突設しておくことで、着色層をコーティングするだけで山部が形成される。よって、その山部の上に凸部の側壁が配置されるように凸部を形成するだけで凸部の側壁に段差を発生させることができる。このように、コントラスト向上のためのブラックマスク形成工程と、カラー表示のための着色層形成工程と、凸部形成工程との他に作業工程を増加させることなく、凸部の側壁に容易に段差を形成することが可能となる。
【発明の効果】
【００２４】
以上の説明より明らかなように、本発明によれば、凸部の側壁に段差を設けることで、凸部を覆ってコーティングされる電極の膜厚が自重により凸部側壁で薄くなるのを低減することができ、断線等の不良を低減できる。また、凸部の側壁に段差を設けることで、電圧無印加時において凸部側壁に位置する液晶分子が垂直配向に近づく傾向となり、光漏れが低減されてコントラスト特性を高めることができる。さらに、凸部側壁の下層にブラックマスクを突設することで、段差の形成が容易になると共にその遮光効果による更なるコントラスト向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明の第１実施形態を図面を参照して説明する。
本実施形態の液晶表示装置１０は、図１に示すように、アクティブマトリクス基板（第１基板）３３の主面Ｓ１とカラーフィルタ基板（第２基板）１９の主面Ｓ２とで液晶層３５を挟持した液晶パネル１００を備えている。液晶パネル１００は、１絵素内に反射領域Ｒと透過領域Ｔとを設けており、液晶パネル１００の背面側にはバックライト２００を配置している。なお、アクティブマトリクス基板３３の主面Ｓ１とは、バックライト側の面ではない液晶層３５側に対向する面のことをいう。また、カラーフィルタ基板１９の主面Ｓ２とは、観測者側の面ではない液晶層３５側に対向する面のことをいう。
【００２６】
カラーフィルタ基板１９は、ガラス基板（透明基板）１１、ブラックマスク１３、着色層１４、凸部１５、透明電極１７および偏光板１８を備えている。アクティブマトリクス基板３３は、ガラス基板２０、ゲート電極２１、補助容量配線２２、ゲート絶縁膜２３、半導体層２４、ソース電極２５、ドレイン電極２６、チャネル保護層２７、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）３４、接続用電極２８、層間絶縁膜２９、透明電極３０、反射電極３１および偏光板３２を備えている。ＴＦＴ３４は、絵素領域に映像を表示させるために、各絵素領域に１つずつスイッチング素子として設けており、ゲート電極２１、半導体層２４、ソース電極２５およびドレイン電極２６を有している。
【００２７】
次に、カラーフィルタ基板１９の詳細について図１を参照しながら説明する。
ガラス基板１１の主面上には反射領域Ｒの外縁位置に遮光性を有するブラックマスク１３が突設されている。また、ガラス基板１１およびブラックマスク１３を覆うように着色層１４が配置されており、着色層１４はブラックマスク１３を覆う部分で凸状の山部１４ａを有している。山部１４ａに囲まれた領域には、ガラス基板１１の主面に対して垂直方向に突出する凸部１５が設けられている。凸部１５の側壁１５ａはブラックマスク１３および山部１４ａと重なるように配置されることで、段差１６を形成している。なお、凸部１５はアクリル樹脂などの有機樹脂からなる透明絶縁性材料により形成されている。
【００２８】
凸部１５は、反射領域Ｒにおける液晶層３５の層厚が透過領域Ｔにおける液晶層３５の層厚よりも小さくなるように、カラーフィルタ基板１９の主面に形成されるものである。具体的には、凸部１５は、反射領域Ｒにおける液晶層３５の厚さを透過領域Ｔにおける液晶層３５の厚さの略１／２にしている。これにより、透過領域Ｔにおいてバックライト２００から出力された光が透過する際の液晶層３５における光路長と、反射領域Ｒにおいて観測者側からの外光が反射電極３１で反射される際の液晶層３５における光路長とを実質的に同一としている。
また、着色層１４および凸部１５を覆うようにＩＴＯ等の透明電極１７が形成されている。ガラス基板１１の観測者側の表面には偏光板１８が積層されている。なお、カラーフィルタ基板１９の液晶層３５側の表面にはポリイミド等の高分子材料からなる垂直配向膜（図示せず）を積層している。
【００２９】
次に、アクティブマトリクス基板３３の詳細について図１を参照しながら説明する。  
ガラス基板２０上の所定領域には、導電材料（たとえばＴａ（タンタル））により、ゲート電極２１、補助容量配線２２およびゲート配線（図示せず）が配置される。前記ゲート配線は、ＴＦＴ３４のゲート電極２１に電気的に接続される。補助容量配線２８は、絵素領域を横断して形成されており、透明電極３０と電気的に接続されて補助容量を形成している。ゲート電極２１および補助容量配線２２が配置されたガラス基板２０の上層には全面を覆うようにＳｉＮｘ（シリコンナイトライド）のゲート絶縁膜２３が配置されている。さらに、ＴＦＴ３４が形成される領域であってゲート絶縁膜２３の上層には、アモルファスＳｉ（シリコン）の半導体層２４が配置されている。
【００３０】
ソース電極２５は、半導体層２４の上層片側にＭｏ（モリブデン）等の導電材料により形成されていると共に、ドレイン電極２６は、半導体層２４の上層他側にＭｏ等の導電材料により形成されている。また、ソース電極２５とドレイン電極２６との間にはチャネル保護層２７が配置されている。さらに、ゲート絶縁膜２３の上層の所定領域には、ＴＦＴ３４のソース電極２５に電気的に接続されたソース配線（図示せず）が配置されている。また、ゲート絶縁膜２３の上層にはドレイン電極２６と電気的に接続された接続用電極２８が配置されている。
【００３１】
層間絶縁膜２９は、ゲート絶縁膜２３の上層においてＴＦＴ３４および接続用電極２８を覆うように配置されている。層間絶縁膜２９の一部にはコンタクトホール２９ａが穿設されている。層間絶縁膜２９の上層には透明電極３０が配置されている。透明電極３０は、コンタクトホール２９ａを通じて接続用電極２８と接続されることでＴＦＴ３４のドレイン電極２６との導通を図っている。透明電極３０は、光透過性導電材料（例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide））により作成され、電圧が印加されることにより電界を生じて液晶層３５の液晶分子の配向を変化させる役割を果たす。
反射領域Ｒにおける透明電極３０の上層には、導電性反射材料（例えば、Ａｌ／Ｍｏ）により反射電極３１が配置されている。反射電極３１は、カラーフィルタ基板１９側から液晶層３５に入射してきた外光をカラーフィルタ基板１９側へと反射する役目を果たす。なお、アクティブマトリクス基板３３の液晶層３５側の表面にはポリイミド等の高分子材料からなる垂直配向膜（図示せず）が積層されている。また、ガラス基板２０の背面側には偏光板３２が積層されている。
【００３２】
液晶パネル１００は、図１に示すように、凸部１５が反射電極３１と対向するようにアクティブマトリクス基板３３とカラーフィルタ基板１９とを液晶層３５を封入して貼り合わせている。液晶層３５には負の誘電率異方性を有する液晶分子４０が封入されている。また、カラーフィルタ基板１９の前面（表示面）側とアクティブマトリクス基板３３の背面側とに配置された各偏光板１８、３２はクロスニコル状態となるように配置されている。
【００３３】
（カラーフィルタ基板の製造方法について）
次に、カラーフィルタ基板１９の製造方法について図２乃至図１２を参照しながら詳しく説明する。
図２、図５（図２のＡ−Ａ’線断面図）、図９（図２のＢ−Ｂ線断面図）に示すように、ガラス基板１１上で絵素領域を区切る位置にブラックマスク１２を突設させると共に、後工程で凸部１５の側壁１５ａが配置されることになる位置（即ち、反射領域Ｒの周縁部分）に予めブラックマスク１３を突設させる。
次いで、図３、図６（図３のＡ−Ａ’線断面図）、図１０（図３のＢ−Ｂ’線断面図）に示すように、絵素領域を区切るブラックマスク１２の間に所要の配色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を有する着色層１４をコーティングする。この際、ブラックマスク１３を覆うように着色層１４が設けられるので、着色層１４のブラックマスク１３と相互作用をする部位には、上面に水平部１４ｂを有する山部１４ａが突出形成されることになる。
【００３４】
次いで、図４、図７（図４のＡ−Ａ’線断面図）、図１１（図４のＢ−Ｂ’線断面図）に示すように、アクリル樹脂等の無色透明材を用いて側壁１５ａが山部１４ａに位置するように凸部１５を形成する。これにより、凸部１５の側壁１５ａは、その中間位置で山部１４ａの水平部１４ｂと連続して段差１６を形成することになる。つまり、絵素領域を区切るブラックマスク１２とは別のブラックマスク１３を予め突設してから着色層１４をコーティングすることで、山部１４ａとの相互作用により凸部１５の側壁１５ａに段差１６を自動的に発生させることができる。したがって、製造工数を増加させることなく段差１６を形成することが可能となる。
【００３５】
次いで、図８、図１２に示すように、凸部１５および着色層１４を覆うようにＩＴＯ等の透明導電膜でコーティングして透明電極１７を形成する。この際、側壁１５ａの中間位置に水平部１４ｂを有する段差１６が存在するので、凸部１５の側壁１５ａの略垂直部分は段差１６で中断され低くなる。したがって、透明電極１７をコーティングする製造時において、透明電極１７が自重により側壁１５ａ部分で膜厚が薄くなる現象を緩和することができ、断線が発生しにくくなる。最後に、透明電極１７の表面にはポリイミド等の高分子材料からなる垂直配向膜（図示せず）を積層する。
【００３６】
上記液晶表示装置１０は、反射領域Ｒでは観測者側の上方から入射した外光等を反射電極３１にて反射させて表示を行い、反射電極３１が形成されていない透過領域Ｔではバックライト２００からの光を上方に透過させ表示する。
詳しくは、アクティブマトリクス基板３３の透明電極３０及び反射電極３１と、カラーフィルタ基板１９の透明電極１７との間に電圧が印加されていない状態では、液晶層３５の液晶分子４０が垂直配向となり黒表示を行う一方、電圧が印加されると液晶分子４０の配向状態が変化されて白表示を行う。
【００３７】
以上に説明した液晶表示装置１０によれば、電圧無印加時においては、図１３（Ａ）（Ｂ）に示すように、前記垂直配向膜（図示せず）の影響で液晶分子４０が基板表面に対して直交方向となるようにアンカリングされることになるが、本実施形態の液晶表示装置１０は凸部１５の側壁１５ａに段差１６を設けているので、側壁１５ａの中間位置において段差１６の水平部１４ｂで液晶分子４０Ａを基板１１に対して垂直配向にさせることができる。また、この垂直配向状態となった液晶分子４０Ａに近接して側壁１５ａに位置する他の液晶分子４０Ｂもその影響を受けて垂直配向に近づくように傾斜される。したがって、凸部１５の側壁１５ａ部分における光漏れが低減されてコントラストが向上する。
しかも、側壁１５ａの下層側（観測者側）にはブラックマスク１３が配置されているので、電圧無印加時に凸部１５の側壁１５ａ部分で垂直配向とならない液晶分子４０が生じても、ブラックマスク１３で遮光して確実にコントラスト向上が図られる。換言すれば、製造誤差等により凸部１５の側壁１５ａ部分がブラックマスク１３により完全に覆われなかった場合があったとしても、段差１６により液晶配向乱れに起因する光漏れが低減されているので、良好なコントラスト特性が保証されることになる。
【００３８】
図１４は第２実施形態を示す。
第１実施形態との相違点は、絵素領域を区切るブラックマスク１２以外にはブラックマスクを用いずに、複数の凸部５１、５２を積層することによって全体として凸部側壁に段差を形成している点である。
【００３９】
本実施形態の液晶表示装置のカラーフィルタ基板６０は、ガラス基板１１上の絵素領域を区切る位置にブラックマスク１２を形成し、ブラックマスク１２で区画された領域内に所要の配色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を有する着色層５０を形成している。着色層５０の上にはアクリル樹脂等の無色透明材からなる第１凸部５１を形成している。第１凸部５１の上には同じくアクリル樹脂等の無色透明材からなる第２凸部５２を形成し、該第２凸部５２は上面視で第１凸部５１よりも面積が小さくなるようにしている。即ち、上層の第２凸部５２の側壁５２ａと下層の第１凸部５１の上面５１ａとの境界を段差５４として、第１凸部５１および第２凸部５２の積層体からなる凸部５３を形成している。また、凸部５３および着色層５０を覆う上層にはＩＴＯ等の透明導電膜からなる透明電極５５を設けている。なお、透明電極５５の液晶層側の表面にはポリイミド等の高分子材料からなる垂直配向膜（図示せず）を積層している。
【００４０】
前記構成とすると、積層体からなる凸部５３の側壁に段差５４を形成することができるので、第１実施形態と同様に、電圧無印加時において凸部５３の側壁での光漏れによるコントラスト低下が抑制されると共に、透明電極５５の断線を防止することができる。なお、本実施形態では凸部５３を二層構造としているが、三層以上として側壁に複数の段差を設けてもよい。また、他の構成は第１実施形態と同様であるため説明を省略する。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の第１実施形態の液晶表示装置の断面図である。
【図２】第１実施形態のカラーフィルタ基板の形成工程を示す平面図である。
【図３】第１実施形態のカラーフィルタ基板の形成工程を示す平面図である。
【図４】第１実施形態のカラーフィルタ基板の形成工程を示す平面図である。
【図５】図２のＡ−Ａ’線断面図である。
【図６】図３のＡ−Ａ’線断面図である。
【図７】図４のＡ−Ａ’線断面図である。
【図８】図７に透明電極を形成した断面図である。
【図９】図２のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図１０】図３のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図１１】図４のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図１２】図１１に透明電極を形成した断面図である。
【図１３】（Ａ）は電圧無印加時における液晶分子の配向状態を説明する断面図、（Ｂ）は（Ａ）の直交方向から見た断面図である。
【図１４】第２実施形態のカラーフィルタ基板の要部断面図である。
【図１５】従来のカラーフィルタ基板の形成工程を示す平面図である。
【図１６】従来のカラーフィルタ基板の形成工程を示す平面図である。
【図１７】従来のカラーフィルタ基板の形成工程を示す平面図である。
【図１８】図１５のＡ−Ａ’線断面図である。
【図１９】図１６のＡ−Ａ’線断面図である。
【図２０】図１７のＡ−Ａ’線断面図である。
【図２１】図２０に透明電極を形成した断面図である。
【図２２】図１５のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図２３】図１６のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図２４】図１７のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図２５】図２４に透明電極を形成した断面図である。
【図２６】（Ａ）は従来の電圧無印加時における液晶分子の配向状態を説明する断面図、（Ｂ）は（Ａ）の直交方向から見た断面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０    液晶表示装置
１１、２０    ガラス基板
１２、１３    ブラックマスク
１４、５０    着色層
１４ａ  山部
１４ｂ  水平部
１５、５０    凸部
１５ａ  側壁
１６、５４    段差
１７、３０    透明電極
１８    偏光板
１９    カラーフィルタ基板（第２基板）
２１    ゲート電極
２２    補助容量配線
２３    ゲート絶縁膜
２４    半導体層
２５    ソース電極
２６    ドレイン電極
２７    チャネル保護層
２８    接続用電極
２９    層間絶縁膜
２９ａ  コンタクトホール
３１    反射電極
３３    アクティブマトリクス基板（第１基板）
３４    ＴＦＴ
３５    液晶層
４０    液晶分子
５１    第１凸部
５２    第２凸部
１００  液晶パネル
２００  バックライト
Ｒ      反射領域
Ｔ      透過領域
【図１】
2006039035.tif 000003
【図２】
2006039035.tif 000004
【図３】
2006039035.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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