(57)【要約】【課題】  エアレーション時間が従来に比して短縮される除染方法、及び除染システムを提供することを目的とする。【解決手段】  過酸化水素ガスをチャンバー２に供給する除染ガス供給工程と、凝縮液を形成する凝縮液形成工程と、当該チャンバー２内で過酸化水素ガスが凝縮したことを凝縮センサー１１が検知すると、チャンバー２の室温を上昇させて該凝縮液を消失させる凝縮液消失工程と、当該チャンバー２内における飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率αである非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程とを備えた除染方法を実行するようにした。なお、前記除染方法は、除染ガス供給制御内容、凝縮液消失制御内容、及び非凝縮状態維持制御内容を実行する除染システム１により実行するようにした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
室内と外界とが気密的に遮断された除染室に、除染ガスを供給して、当該除染室を除染する除染方法において、
除染ガスを除染室に供給する除染ガス供給工程と、
当該除染室内で除染ガスが凝縮したことにより凝縮液が形成された場合に、該凝縮液を消失させる凝縮液消失工程と、
当該除染室内の飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率である非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程と
を備えたことを特徴とする除染方法。
【請求項２】
除染ガス供給工程により供給された除染ガスを除染室内で凝縮させることにより、凝縮液を形成する凝縮液形成工程を備え、
凝縮液消失工程が、凝縮液形成工程で形成した凝縮液を消失させるものであることを特徴とする請求項１記載の除染方法。
【請求項３】
凝縮液消失工程が、
除染室への除染ガス供給量を、除染ガス供給工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の除染方法。
【請求項４】
凝縮液消失工程が、
除染室への除染ガス供給量を、凝縮液形成工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項２記載の除染方法。
【請求項５】
凝縮液消失工程が、
除染室の室温を上げることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の除染方法。
【請求項６】
凝縮液消失工程が、
除染室の内圧を下げることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の除染方法。
【請求項７】
凝縮液消失工程が、
除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ供給することにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の除染方法。
【請求項８】
除染ガスが、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の除染方法。
【請求項９】
室内と外界とが気密的に遮断された除染室と、
除染ガスを発生させて、該除染ガスを所定量だけ前記除染室に供給する除染ガス供給手段と
を備えた、除染室を除染する除染システムにおいて、
除染室内で除染ガスが凝縮して凝縮液が形成されたことを検知する凝縮液検知手段と、
除染ガス供給手段により除染ガスを除染室に供給する除染ガス供給制御内容、凝縮液検知手段が凝縮液の形成を検知すると、当該凝縮液を消失させる凝縮液消失制御内容、及び当該除染室内の飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率である非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持制御内容を具備し、各制御内容を順次実行する除染制御手段と
を備えたことを特徴とする除染システム。
【請求項１０】
除染制御手段が、除染室内で除染ガスを凝縮させることにより凝縮液を形成する凝縮液形成制御内容を具備したものであることを特徴とする請求項９記載の除染システム。
【請求項１１】
除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、
除染ガス供給手段に、除染ガス供給制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものであることを特徴とする請求項９又は請求項１０記載の除染システム。
【請求項１２】
除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、
除染ガス供給手段に、凝縮液形成制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものであることを特徴とする請求項１０記載の除染システム。
【請求項１３】
除染室の室温を調節する室温調節手段を備え、
除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、
室温調節手段により除染室の室温を上げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項９又は請求項１０記載の除染システム。
【請求項１４】
除染室の内圧を調節する内圧調節手段を備え、
除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、
内圧調節手段により除染室の内圧を下げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項９又は請求項１０記載の除染システム。
【請求項１５】
除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ所定量供給する不飽和ガス供給手段を備え、
除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、
不飽和ガス供給手段により不飽和ガスを除染室へ供給することによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項９又は請求項１０記載の除染システム。
【請求項１６】
除染ガスが、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項９乃至請求項１５のいずれかに記載の除染システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、過酸化水素ガス等の除染ガスを用いて、除染対象となる除染室を除染する除染方法、及び除染システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
密閉空間を構成する除染室を除染する除染方法は、既に良く知られている（例えば、特許文献１参照。）。かかる除染方法は、過酸化水素ガス等の除染ガスを除染室に供給すると共に、該除染ガスを除染室内で飽和させて、除染室の内壁や、除染対象となる容器等の表面上に凝縮液を形成し、さらに所定の時間のあいだその状態を維持するものである。
【０００３】
【特許文献１】特表２００３−５２７２１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前記特許文献１に示される除染方法は、凝縮液を除染対象物等の表面上に形成して当該面を除染する構成であるため、菌を死滅させた後に除染ガス成分を当該除染室から除去（エアレーション）するときは、形成させた凝縮液を全て蒸発させてガス化し、それからそのガス化した状態の除染成分（除染ガス）を排気して除去する必要があった。このように、特許文献１に示される従来構成は、エアレーション時に、凝縮液の蒸発工程が必ず含まれるため、全体として除染時間（除染ガスを除染室内に供給開始してからエアレーションが完了するまでの時間）が長くなってしまう問題がある。
【０００５】
そこで本発明は、エアレーション時間が従来に比して短縮され、それにより除染時間を短縮化できる除染方法、及び除染システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、室内と外界とが気密的に遮断された除染室に、除染ガスを供給して、当該除染室を除染する除染方法において、除染ガスを除染室に供給する除染ガス供給工程と、当該除染室内で除染ガスが凝縮したことにより凝縮液が形成された場合に、該凝縮液を消失させる凝縮液消失工程と、当該除染室内の飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率である非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程とを備えたことを特徴とする除染方法である。ここで、除染とは、化学Ｔ期除染、無菌、殺菌、滅菌等が含まれる。また、除染室内の飽和率は、（除染室内における除染ガスの実際の濃度／露点での濃度）×１００（％）で示されるものである。すなわち、除染ガスを除染室に供給する前にあっては飽和率はゼロ％であり、これに対し除染ガスが除染室で飽和したときは飽和率が１００％（＝露点濃度）となる。
【０００７】
かかる構成にあっては、実質的に、非凝縮状態維持工程を実行して、除染室を除染する構成である。さらに詳述すると、除染成分をガス化し、この除染ガスを除染室の内壁又はそこに内在する除染対象物の表面に接触させて、当該接触部分を除染する構成である。すなわち、凝縮液が形成されてなる凝縮状態を維持しない除染方法であることを特徴としている。したがって、菌を死滅させた後にエアレーションを実行するときは、除染室に残留する除染ガスをそのまま分解・排気すれば完了することとなるため、本発明は、従来構成（特許文献１参照）では必要であった凝縮液の蒸発工程が不要となり、エアレーション時間が短くなる。また、除染するのに必要な除染剤の量を従来構成に比して低減させることができ、経済的である。ところで、除染ガスを除染対象物に接触させる構成は、凝縮液を除染対象物に接触させる構成に比して除染効果が劣るという見解がある。これは、高濃度の除染成分を除染対象物に接触させるほど除染効果が高いという除染ガスの特性に基づくものである。しかしながら本発明は、前記の見解に鑑み、除染効果を可及的に高めるべく、凝縮液が消失した時点の除染ガス濃度を所定時間維持して除染室を除染する構成としたものである。かかる構成とすることにより、先に述べたエアレーション時間の短縮化を図りつつ、高い除染効果を確保することができる。
【０００８】
また、かかる構成にあって、除染ガス供給工程により供給された除染ガスを除染室内で凝縮させることにより、凝縮液を形成する凝縮液形成工程を備え、凝縮液消失工程が、凝縮液形成工程で形成した凝縮液を消失させるものである構成が提案される。換言すれば、除染システムが、除染室内で凝縮液を積極的に形成する工程を含むことを特徴とする構成である。
【０００９】
このように、除染室で凝縮液を積極的に形成して、それから凝縮液消失工程を実行する構成としたのは、凝縮液が消失する臨界的な除染ガス濃度を短時間で特定することを簡便かつ確実に可能とするためである。したがって、本発明にかかる凝縮液は、除染を目的として形成するものではない。ここで、凝縮液が消失した時点の除染ガス濃度を得るために、飽和率がほぼゼロ％の状態から徐々に除染ガスを投入して飽和率を連続的に増加させて、一度も凝縮液を発生させずに所望の飽和率を得る構成が提案され得るが、かかる構成は所望の飽和率を得るまでの濃度管理負担が大きい。一方、本発明にかかる構成は、差し当たって凝縮液が形成された状態（飽和率が１００％の状態）を得ることを目的としているため、凝縮液が形成されるまでの濃度管理は不要となり、管理負担が軽いという利点がある。また、何ら飽和率について制御することなく凝縮液が形成されるのを静観する構成は、その待機時間が無駄となり、除染時間が無用に長くなる。また、かかる構成では、除染効果の高い飽和率も長時間保持することが困難である。
【００１０】
また、上記構成にあって、凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、除染ガス供給工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成が提案される。
【００１１】
かかる構成とすることにより、除染ガスを除染室に供給するための除染ガス供給装置を用いて、凝縮液消失工程を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる。
【００１２】
また、凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、凝縮液形成工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成が提案される。
【００１３】
かかる構成とすることにより、除染ガスを除染室に供給するための除染ガス供給装置を用いて、凝縮液消失工程を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる。
【００１４】
また、凝縮液消失工程が、除染室の室温を上げることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。
【００１５】
かかる構成は、室内を温度調節し得る既存設備を利用できるという点で好適である。
【００１６】
また、凝縮液消失工程が、除染室の内圧を下げることにより凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。
【００１７】
かかる構成は、除染室の内圧を調節し得る既存設備を利用できるという点で好適である。
【００１８】
また、凝縮液消失工程が、除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ供給して凝縮液を消失させるものである構成としても良い。
【００１９】
かかる構成とすることにより、除染室の室温又は内圧を変化させること無く、凝縮液を蒸発させることができる。
【００２０】
なお、上記構成にあっては、除染ガスが、過酸化水素ガスである構成が好適である。
【００２１】
このように過酸化水素ガスが好適に用いられる理由としては、過酸化水素ガスが、１０-3から１０-12に至るまでの除染のバリデーションへの対応を可能とする強力な除染能力を備え、かつ安価で入手し易いことが挙げられる。また、この過酸化水素ガスは、最終的に酸素と水とに分解されるため、環境に対して影響が少ない点も理由の一つとして挙げられる。
【００２２】
また、本発明は、室内と外界とが気密的に遮断された除染室と、除染ガスを発生させて、該除染ガスを所定量だけ前記除染室に供給する除染ガス供給手段とを備えた、除染室を除染する除染システムにおいて、除染室内で除染ガスが凝縮して凝縮液が形成されたことを検知する凝縮液検知手段と、除染ガス供給手段により除染ガスを除染室に供給する除染ガス供給制御内容、凝縮液検知手段が凝縮液の形成を検知すると、当該凝縮液を消失させる凝縮液消失制御内容、及び当該除染室内の飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率である非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持制御内容を具備し、各制御内容を順次実行する除染制御手段とを備えたことを特徴とする除染システムである。なお、飽和率は前記した通りである。
【００２３】
かかる構成は、非凝縮状態維持制御内容を実行して、ガス化した除染成分を除染室の内壁等の表面に接触させて、当該接触部分を除染する構成である。すなわち、除染室では、凝縮液が形成されない状態が保持されることとなる。したがって、菌を死滅させた後にエアレーションを実行するときは、除染室に残留する除染ガスをそのまま分解・排気すれば良いため、本発明は、上記した従来構成では必要であった凝縮液の蒸発工程が不要となり、エアレーション時間が短くなる。また、除染するのに必要な除染剤の量を従来構成に比して低減させることができ、経済的である。一方、上述のように、除染ガスを除染対象物に接触させる構成は、特許文献１に示される構成よりも除染効果が劣るという見解がある。しかしながら本発明にかかる除染システムは、除染室内における除染ガス濃度が高い程、除染ガスの除染効果が高いという公知事実に鑑み、除染効果を可及的に高めるべく、凝縮液が消失した時点の飽和率を所定時間維持して除染室を除染する構成としたものである。かかる構成とすることにより、先に述べたエアレーション時間の短縮化を図りつつ、高い除染効果を確保することができる。
【００２４】
また、かかる構成にあって、除染制御手段が、除染室内で除染ガスを凝縮させることにより凝縮液を形成する凝縮液形成制御内容を具備した構成が提案される。
【００２５】
このように、積極的に凝縮液を形成し、それから凝縮液消失制御内容を実行する構成としたのは、簡便かつ確実に、凝縮液が消失する臨界的な飽和率を短時間で特定するためである。したがって、本発明にかかる凝縮液は、除染を目的として形成するものではない。
【００２６】
また、上述の本発明にかかる除染システムにあっては、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、除染ガス供給制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものである構成が提案される。
【００２７】
かかる構成とすることにより、除染ガス供給制御内容を実行するための除染ガス供給手段を用いて、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる。
【００２８】
また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、凝縮液形成制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものである構成が提案される。
【００２９】
かかる構成とすることにより、凝縮液形成制御内容を実行するための除染ガス供給手段を用いて、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる。
【００３０】
また、除染室の室温を調節する室温調節手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、室温調節手段により除染室の室温を上げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。
【００３１】
かかる構成とすることにより、周知な設備を用いて凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる。
【００３２】
また、除染室の内圧を調節する内圧調節手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、内圧調節手段により除染室の内圧を下げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。
【００３３】
かかる構成とすることにより、周知な設備を用いて凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる。
【００３４】
また、除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ所定量供給する不飽和ガス供給手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、不飽和ガス供給手段により不飽和ガスを除染室へ供給することによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。
【００３５】
かかる構成とすることにより、除染室の室温又は内圧を変化させること無く、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となる。
【００３６】
また、上述の本発明にかかる除染システムにあっては、除染ガスが、過酸化水素ガスである構成が好適である。
【００３７】
過酸化水素ガスとすることが好適な理由は、上述した通りである。
【発明の効果】
【００３８】
本発明にかかる除染方法は、除染ガス供給工程と、凝縮液消失工程と、非凝縮状態を所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程とを備えた構成としたため、菌を死滅させた後にエアレーションを実行するときは、除染室に残留する除染ガスを分解・排気すれば良いこととなり、エアレーション時間が従来構成に比して短くなる。これにより、除染時間が短縮化されるという優れた効果を生ずることとなる。また、除染するのに必要な除染剤の量を従来構成に比して低減させることができ、経済的にも有利である。さらに、前記非凝縮状態維持工程は、凝縮液が消失した時点の飽和率を所定時間維持する構成としたため、エアレーション時間の短縮化を図りつつ、高い除染効果を確保することができる利点がある。
【００３９】
また、凝縮液を形成する凝縮液形成工程を備え、凝縮液消失工程が、凝縮液形成工程で形成した凝縮液を消失させるものである構成とした場合は、凝縮液が消失する臨界的な飽和率を簡便かつ確実に短時間で特定することが可能となる効果がある。
【００４０】
また、凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、除染ガス供給工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、除染ガスを除染室に供給するための除染ガス供給装置を用いて、凝縮液消失工程を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる効果がある。
【００４１】
また、凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、凝縮液形成工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、除染ガスを除染室に供給するための除染ガス供給装置を用いて、凝縮液消失工程を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる効果がある。
【００４２】
また、凝縮液消失工程が、除染室の室温を上げることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、室内を温度調節し得る既存設備を利用できるという利点がある。
【００４３】
また、凝縮液消失工程が、除染室の内圧を下げることにより凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、除染室の内圧を調節し得る既存設備を利用できるという利点がある。
【００４４】
また、凝縮液消失工程が、除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ供給して凝縮液を消失させるものである構成とした場合は、除染室の室温又は内圧を変化させること無く、凝縮液を蒸発させることができるという効果がある。
【００４５】
また、除染ガスが、過酸化水素ガスである構成とした場合は、１０-3から１０-12に至るまでの除染のバリデーションへの対応を可能とする強力な除染能力が得られ、かつ安価で入手し易いという効果がある。また、環境に対して影響が少ない利点もある。
【００４６】
また、本発明にかかる除染システムは、凝縮液検知手段と、除染ガス供給制御内容、凝縮液消失制御内容、及び非凝縮状態を所定時間だけ維持する非凝縮状態維持制御内容を具備した除染制御手段とを備えた構成としたため、菌を死滅させた後にエアレーションを実行するときは、除染室に残留する除染ガスをそのまま分解・排気すれば良いため、エアレーション時間が短くなる効果がある。また、除染するのに必要な除染剤の量を従来構成に比して低減させることができ、経済的に有利である。また、前記の非凝縮状態維持制御内容を、凝縮液が消失した時点の除染ガス濃度を所定時間維持して除染室を除染する構成としたため、エアレーション時間の短縮化を図りつつ、高い除染効果を確保することができる効果がある。
【００４７】
また、除染制御手段が、除染室内で除染ガスを凝縮させることにより凝縮液を形成する凝縮液形成制御内容を具備した構成とした場合は、簡便かつ確実に、凝縮液が消失する臨界的な飽和率を短時間で特定することができる効果がある。
【００４８】
また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、除染ガス供給制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものである構成とした場合は、除染ガス供給制御内容を実行するための除染ガス供給手段を用いて、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる利点がある。
【００４９】
また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、凝縮液形成制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものである構成とした場合は、凝縮液形成制御内容を実行するための除染ガス供給手段を用いて、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる利点がある。
【００５０】
また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、室温調節手段により除染室の室温を上げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、周知な設備を用いて凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる利点がある。
【００５１】
また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、内圧調節手段により除染室の内圧を下げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、周知な設備を用いて凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる利点がある。
【００５２】
また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、不飽和ガス供給手段により不飽和ガスを除染室へ供給することによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、除染室の室温又は内圧を変化させること無く、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となる利点がある。
【００５３】
また、除染ガスが、過酸化水素ガスである構成とした場合は、上述のように、１０-3から１０-12に至るまでの除染のバリデーションへの対応を可能とする強力な除染能力が得られ、かつ安価で入手し易いという効果がある。また、環境に対して影響が少ない利点もある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５４】
以下に、本発明にかかる除染システム１について説明する。
図１に示されるように、本発明にかかる除染システム１は、チャンバー２と、ガス発生装置４とを備えている。ここで、チャンバー２は、室内と外界とが気密的に遮断された密閉空間を形成するものである。また、ガス発生装置４は、除染ガスとしての過酸化水素ガスを発生させ、前記チャンバー２に過酸化水素ガスを供給するものである。具体的には、ガス発生装置４とチャンバー２とにそれぞれ接続されたガス管Ｘ１を介して供給される。なお、本実施例にかかるチャンバー２により、本発明にかかる除染室が構成される。
【００５５】
また、チャンバー２には、凝縮センサー１１が配設されている。この凝縮センサー１１は、当該チャンバー２内で過酸化水素ガスが凝縮したことを検知するもので、公知品が好適に用いられる。さらに、この凝縮センサー１１は、図１に示されるように、中央制御装置ＣＰＵに電気的に接続されている。そして、凝縮センサー１１が過酸化水素ガスの凝縮液を検知すると、前記中央制御装置ＣＰＵに検知信号を送信する構成としている。なお、本実施例にかかる凝縮センサー１１により、本発明にかかる凝縮液検知手段が構成される。
【００５６】
また、本除染システム１は、温度センサー９と、温度調節装置１０とを備えている。前記温度センサー９は、チャンバー２内の室温を測定するものである。また、温度調節装置１０は、チャンバー２内の室温を調節するものである。これら温度センサー９と、温度調節装置１０は、公知品が好適に採用される。
【００５７】
また、温度センサー９と温度調節装置１０は、図１に示されるように、それぞれ中央制御装置ＣＰＵに電気的に接続されている。そして、温度センサー９が室温を測定すると、前記中央制御装置ＣＰＵに測定信号を送信する構成としている。また、中央制御装置ＣＰＵは、温度センサー９によって測定された室温に基づいて、所定の室温とする指令信号を温度調節装置１０に送信する構成としている。なお、このような制御内容を備えた中央制御装置ＣＰＵ、温度センサー９、及び温度調節装置１０により、本発明にかかる室温調節手段が構成される。
【００５８】
また、ガス発生装置４は、蒸発装置５、液体タンク６、送液ポンプ１５、及び送風機７を具備している。前記蒸発装置５は、過酸化水素水を蒸発させる加熱面（図示省略）を備えている。また、液体タンク６には、過酸化水素ガスが溶解した過酸化水素水が入っている。また、送液ポンプ１５は、液体タンク６内の過酸化水素水を前記蒸発装置５の加熱面に送るものである。また、送風機７は、蒸発装置５で発生した過酸化水素ガスを一方向へ送風するものである。
【００５９】
かかる構成にあって、液体タンク６の過酸化水素水は、送液ポンプ１５の駆動により、蒸発装置５の加熱面（図示省略）に滴下され、これにより過酸化水素水が蒸発され、過酸化水素ガスが発生する。そして、この過酸化水素ガスが送風機７の駆動によりチャンバー２内に送り込まれる。なお、この蒸発装置５は、フラッシュ蒸発（いわゆる急速蒸発法）によりガスを発生させる公知品が好適に用いられる。
【００６０】
ところで、前記送液ポンプ１５は、図１に示されるように、中央制御装置ＣＰＵに電気的に接続されている。そして、中央制御装置ＣＰＵからの指令信号に従って所定量の過酸水素水を蒸発装置５に供給し、所望量の過酸化水素ガスをチャンバー２内に供給可能としている。なお、このような制御内容を備えた中央制御装置ＣＰＵ、及びガス発生装置４により除染ガス供給手段が構成される。
【００６１】
また、チャンバー２とガス発生装置４には、ガス管Ｘ２が配設されている。そして、このガス管Ｘ２には、循環用送風機８が配設されている。かかる構成にあって、循環用送風機８が駆動すると、過酸化水素ガスが、ガス管Ｘ１，Ｘ２により構成される循環回路Ｘを循環することとなる。
【００６２】
また、前記中央制御装置ＣＰＵは、四つの制御内容を備えている。一つ目は、ガス発生装置４を駆動させて過酸化水素ガスをチャンバー２内に供給する除染ガス供給制御内容である。二つ目は、過酸化水素ガスをチャンバー２内で飽和状態として凝縮させる凝縮液形成制御内容である。三つ目は、チャンバー２内に形成された凝縮液を消失させる凝縮液消失制御内容である。四つ目は、チャンバー２内における飽和率を、凝縮液が消失した時点の飽和率αに維持する非凝縮状態維持制御内容である。なお、本実施例にかかる上記四つの制御内容を備え、各制御内容を順次実行する中央制御装置ＣＰＵにより、本発明にかかる除染制御手段が構成される。
【００６３】
次に、本除染システム１の除染態様を説明すると共に、当該除染システム１によって実現される除染方法を説明する。
まず、未だ除染されていない状態のチャンバー２について、漏れテストを実行する。具体的には、漏れテスト用エアーをチャンバー２内に供給し、チャンバー２を陽圧状態とした後、流量計（図示省略）でチャンバー２への流量変化を測定し、判定する。
【００６４】
次に、湿度調整を実行する。これは、過酸化水素ガスを供給する前に予めチャンバー２内を可及的に除湿（０％＜Ｗ≦４０％）しておき、除染環境を良好とするものである。なお、チャンバー２内が除湿されると、後で過酸化水素ガスを供給した際に、チャンバー２内における飽和率を高くすることができる。
【００６５】
所定時間経過し、除湿が完了すると、中央制御装置ＣＰＵは、除染ガス供給制御内容を実行して、過酸化水素ガスをチャンバー２内に供給する。そしてさらに、凝縮液形成制御内容を実行して、チャンバー２内で過酸化水素ガス飽和させ、当該チャンバー２の内壁に凝縮液を形成する。この凝縮液が形成されたときのチャンバー２内における飽和率は、１００％（飽和状態）である。さらに詳述すると、予め定められた所望時間内にチャンバー２内で凝縮液が形成開始されるために必要な過酸化水素ガスを供給できるように、所定量の過酸化水素水を蒸発装置５に送る指令信号を送液ポンプ１５に送信する。また、温度センサー９による室内温度に関する情報を適宜処理しながら、温度調節装置１０に室温を下げる指令信号を送信する。これにより、過酸化水素ガスがチャンバー２内に供給され、かつ凝縮液が形成される除染ガス供給工程が実行されることとなる。このような制御内容を積極的に実行することにより、凝縮液をチャンバー２内に短時間で形成させることができる。なお、凝縮液を形成するための制御内容は上記構成に限定されず、例えば、過酸化水素水の供給量のみを管理して凝縮液を形成する構成としても勿論良い。すなわち、ある単独のパラメータを変更させる構成や、様々なパラメータの組み合わせによる構成が提案され得る。
【００６６】
上記除染ガス供給制御内容、及び凝縮液形成制御内容を実行すると、凝縮センサー１１は、チャンバー２内に凝縮液が形成されたことを検知する。そして、中央制御装置ＣＰＵは、凝縮センサー１１からの検知信号を受信すると、凝縮液消失制御内容を実行する。具体的には、ガス発生装置４に、過酸化水素ガスの供給量を減じる指令信号を送信する。また、温度調節装置１０に、室温を上げる指令信号を送信する。このように、除染ガス供給制御内容、及び凝縮液形成制御内容実行時に比して、過酸化水素ガスの供給量を減じ、室温を上昇させることにより、チャンバー２内は飽和状態から非飽和状態に移行し、凝縮液が蒸発して凝縮液が消失することとなる。これにより、凝縮液を消失させる凝縮液消失工程が実行されることとなる。なお、過酸化水素ガスの供給量を減じる指令信号には、過酸化水素ガスの供給を一時的に停止させる（供給量をゼロとする）ものも含まれる。また、凝縮液を消失させるための制御内容は上記構成に限定されず、例えば、過酸化水素水の供給量のみを管理して凝縮液を消失させる構成としても勿論良い。すなわち、ある単独のパラメータを変更させる構成や、様々なパラメータの組み合わせによる構成が提案され得る。
【００６７】
次に、中央制御装置ＣＰＵは、非凝縮状態維持制御内容を実行し、チャンバー２内における飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率αである非凝縮状態を所定時間だけ維持する。換言すれば、凝縮液が消失した直後の非凝縮状態であるチャンバー２内の雰囲気を保持することとなる。具体的には、本除染システム１は、濃度センサー３０を備えている。この濃度センサー３０は、チャンバー２内における過酸化水素ガスの実際の濃度（単位：例えばｐｐｍ）を検知し得るものである。この濃度センサー３０は、公知品が好適に用いられる。また、この濃度センサー３０は、中央制御装置ＣＰＵに電気的に接続されており、測定信号を当該中央制御装置ＣＰＵに送信する構成としている。
【００６８】
そして、前記濃度センサー３０により濃度管理しながら、飽和率を、５０％以上１００％未満の範囲で保持し、好ましくは、８０％以上１００％未満の範囲で保持する。具体的には、室温及び過酸化水素ガスの供給量を適宜増減させて、かかる非凝縮状態を維持する。これにより、非凝縮状態が所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程が実現されることとなる。ここで、凝縮液が消失した時点の飽和率αは、上述のように露点濃度に近く、除染効果が高い。したがって、かかる非凝縮状態維持制御内容を実行することにより、高い除染効果が得られることとなる。なお、非凝縮状態を維持する時間は、所望の除染レベルを得るのに必要な時間が設定される。
【００６９】
次に、他の実施例を説明する。
これまでに述べた構成は、中央制御装置ＣＰＵが、過酸化水素ガスの供給量を減少させ、かつ室温を上昇させる凝縮液消失制御内容を実行して、凝縮液消失工程を実現させる構成であったが、かかる構成に代えて、チャンバー２の内圧を下げることにより凝縮液を消失させる構成としても良い。また、既に述べた構成と組み合わせた構成としても良い。具体的には、図２に示されるように、内圧センサー１２と、内圧調節装置１３とを備えた除染システム１ａが提案される。この内圧センサー１２は、チャンバー２の内圧を検知できるものである。また、内圧調節装置１３は、チャンバー２内の内圧を調節できるものである。これら内圧センサー１２と内圧調節装置１３は、公知品が好適に採用される。また、内圧センサー１２と内圧調節装置１３は、図２に示されるように、それぞれ中央制御装置ＣＰＵに電気的に接続されている。
【００７０】
そして、内圧センサー１２が内圧を測定すると、内圧センサー１２は中央制御装置ＣＰＵに測定信号を送信する構成としている。また、中央制御装置ＣＰＵは、内圧センサー１２によって測定された内圧に基づいて、所定の内圧とする指令信号を内圧調節装置１３に送信する構成としている。なお、このような制御内容を備えた中央制御装置ＣＰＵ、内圧センサー１２、及び内圧調節装置１３により、本発明にかかる内圧調節手段が構成される。
【００７１】
かかる構成にあっては、凝縮センサー１１が凝縮液を検知すると、中央制御装置ＣＰＵは、内圧調節装置１３に、内圧を下げる指令信号を送信する。これにより、チャンバー２内は飽和状態から非飽和状態に移行し、凝縮液が蒸発して凝縮液が消失することとなる。
【００７２】
また、さらに別の構成として、凝縮液消失工程が、圧縮空気をチャンバー２に供給して凝縮液を消失させる内容の構成が提案される。また、既に述べた構成と適宜組み合わせた構成としても良い。ここで、圧縮空気は、チャンバー２内で飽和しない不飽和ガスに属するものであって、図３に示されるように、不飽和ガス発生装置２０を備えた除染システム１ｂが提案される。前記不飽和ガス発生装置２０は、圧縮空気を発生させる圧縮機２１、圧縮空気用フィルター２２、圧縮空気を除湿する除湿機２３、及び流量の調整機能を備えた流量計２４を具備し、低湿度（例えば、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％）で、かつチャンバー２内で凝縮しないものである。また、前記流量計２４は、図３に示されるように、中央制御装置ＣＰＵに電気的に接続されている。
【００７３】
かかる構成にあって、前記圧縮機２１により発生された圧縮空気は、図３に示されるように、圧縮空気用フィルター２２を介して除湿機２３に送り込まれる。そして、中央制御装置ＣＰＵが、流量計５２に、流量を規定する指令信号を送信する。そうすると、除湿機２３からは、除湿された所定量の圧縮空気が放出される。そして、当該圧縮空気は、一端が除湿機２３に接続され、他端がチャンバー２と接続されたガス管２５を介してチャンバー２内に供給される。なお、このように、圧縮空気がチャンバー２へ供給されると、相対的にチャンバー２内における過酸化水素ガス濃度が減少し、過酸化水素ガスの飽和状態が解消されて、凝縮液が消失することとなる。かかる構成は、チャンバー２内の温度や内圧を変更する必要がないため、凝縮液消失工程を迅速に実行することが可能となる。なお、本実施例にかかる中央制御装置ＣＰＵ、及び不飽和ガス発生装置２０により、本発明にかかる不飽和ガス供給手段が構成される。
【００７４】
なお、菌を死滅させた後は、チャンバー２内から過酸化水素ガスを抜き取ることとなる（エアレーション）。具体的には、触媒を備えた排気用の回路（図示省略）に過酸化水素ガスを含む室内ガスを通過させ、過酸化水素ガスを分解し、さらに清浄化した後、外界に排気する。このように本発明は、チャンバー２に内在する過酸化水素ガスを排気すればエアレーションが完了するため、従来構成では必要であった凝縮液の蒸発工程が不要となり、エアレーション時間が短くなる利点がある。
【００７５】
また、これまでに述べた凝縮センサー１１としては、例えば、凝縮液が形成されるガラス板を備え、当該ガラス板内を通過する光の受光量変化から凝縮液の形成の有無を検知する構成が提案される。また、チャンバー２に配設された湿度センサーを配設し、この湿度センサーを凝縮センサー１１として用いても良い。
【００７６】
また、中央制御装置ＣＰＵに、データを随時読み書きできる記憶装置ＲＡＭと、演算処理に用いる動作プログラムやデータが格納される記憶装置ＲＯＭとが備えられた周知な構成にあって、除染ガス供給制御内容、凝縮液消失制御内容、及び非凝縮状態維持制御内容を予め定められた内容で順に実行するプログラムを、所定のスタート条件を契機として自動実行させる構成としても良い。
【００７７】
また、本発明にあっては、除染ガス供給工程を、凝縮液を形成することを構成要件としないものとしても良い。すなわち、中央制御装置ＣＰＵの除染ガス供給制御内容が、単に、ガス発生装置４を駆動して過酸化水素ガスをチャンバー２に供給するというものであり、チャンバー２内で凝縮液が形成された場合に限り、凝縮液消失制御内容を実行するものである。かかる構成としても、凝縮液消失制御内容実行後に、飽和率が高い非凝縮状態を維持することが可能である。
【００７８】
また、除染ガスとしては、ホルムアルデヒド、エチレンオキサイド、過酢酸水溶液、オゾン水等の除染剤をガス化したものが例示される。
【００７９】
また、前記した不飽和ガスとしては、不活性ガスを用いた構成としても良い。不活性ガスとしては、窒素、又はアルゴンガス等が例示される。かかる構成とすることにより、過酸化水素ガスの飽和状態を解消し、凝縮液を消失させることが可能となる。
【００８０】
また、本発明にかかる除染室は、アイソレータ等であっても良く、これまでに述べた構成は、その態様を適宜変更することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】除染システム１の概略図である。
【図２】除染システム１ａの概略図である。
【図３】除染システム１ｂの概略図である。
【符号の説明】
【００８２】
１，１ａ，１ｂ  除染システム
２  チャンバー
４  ガス発生装置
９  温度センサー
１０  温度調節装置
１１  凝縮センサー
１２  内圧センサー
１３  内圧調節装置
２０  不飽和ガス発生装置
【図１】
2006288527.tif 000003
【図２】
2006288527.tif 000004
【図３】
2006288527.tif 000005