(57)【要約】【課題】フォトマスク等の板状の被検体を所定の保持状態で保持した際に、その保持状態に起因して被検体に生じる保持歪みを被検面の形状とは別に測定し得るようにする。【解決手段】所定の保持状態で保持された被検体４０の表面４１の形状を測定する第１測定と、同状態で保持された被検体４０の裏面４２の形状を測定する第２測定と、逆歪みが生じるように保持された被検体４０の裏面４２の形状を測定する第３測定とを行なう。第１測定により得られた表面形状データと、第２測定により得られた裏面形状データとに基づき第１のデータを得るとともに、第１測定により得られた表面形状データと、第３測定により得られた裏面形状データとに基づき第２のデータを得、これら第１、第２のデータに基づき保持歪みを求める。【選択図】          図３
2006126082.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の被検体を所定の保持状態で保持した際に、該所定の保持状態に起因して該被検体に生じる歪みを測定する方法であって、
前記所定の保持状態で保持された前記被検体の表面の形状を測定する第１測定と、
前記所定の保持状態で保持された前記被検体の裏面の形状を測定する第２測定と、
前記歪みに対して変形の向きが前記被検体の表裏逆向きで変形量が略同等の逆歪みが、該被検体に生じるように該被検体を保持し、前記表面または前記裏面の形状を測定する第３測定とを行ない、
前記第１測定により得られた表面形状データと、前記第２測定により得られた裏面形状データとに基づき、前記被検体の厚みむらに係る第１のデータを得るとともに、
前記第１測定により得られた前記表面形状データと、前記第３測定により得られた裏面形状データとに基づき、または前記第２測定により得られた前記裏面形状データと、前記第３測定により得られた表面形状データとに基づき、前記厚みむらに前記歪みおよび前記逆歪みの分が重畳されてなる第２のデータを得、
前記第１のデータと前記第２のデータとに基づき、前記所定の保持状態に起因して前記被検体に生じる保持歪みを求めることを特徴とする保持歪み測定方法。
【請求項２】
求められた前記保持歪みと、前記第１測定により得られた前記表面形状データとに基づき、該保持歪みが無い状態の前記表面の形状を求めることを特徴とする請求項１記載の保持歪み測定方法。
【請求項３】
所定の保持状態で保持された板状の被検体に該所定の保持状態に起因して生じる歪みを測定する装置であって、
前記所定の保持状態で測定光軸上に保持された前記被検体の表面形状を測定する第１測定、前記所定の保持状態で前記測定光軸上に保持された該被検体の裏面形状を測定する第２測定、および前記歪みに対して変形の向きが該被検体の表裏逆向きで変形量が略同等の逆歪みが生ぜしめられるように前記測定光軸上に保持された該被検体の表面形状または裏面形状を測定する第３測定を行なう形状測定手段と、
前記第１測定により得られた表面形状データと前記第２測定により得られた裏面形状データとに基づき、前記被検体の厚みむらに係る第１のデータを得るとともに、前記第１測定により得られた前記表面形状データと前記第３測定により得られた裏面形状データとに基づき、または前記第２測定により得られた前記裏面形状データと、前記第３測定により得られた表面形状データとに基づき、前記厚みむらに前記歪みおよび前記逆歪みの分が重畳されてなる第２のデータを得、前記第１のデータと前記第２のデータとに基づき、前記所定の保持状態に起因して前記被検体に生じる保持歪みを求める解析手段と、を備えてなることを特徴とする保持歪み測定装置。
【請求項４】
前記測定光軸上において前記被検体を保持可能に、かつ保持した該被検体の前記形状測定手段に対する向きを該被検体の保持状態を維持したまま反転可能に構成された保持手段を備えていることを特徴とする請求項３記載の保持歪み測定装置。
【請求項５】
前記形状測定手段は、光源からの出射光束を基準面および前記測定光軸上に保持された前記被検体の被検面に照射し、該基準面および該被検面からの各々の戻り光を互いに干渉させることにより、前記被検面の波面情報を担持した干渉縞を得る干渉光学系を備えてなることを特徴とする請求項３または４記載の保持歪み測定装置。
【請求項６】
前記光源は、前記出射光束が前記被検体の表裏面間の光学距離の２倍よりも短い可干渉距離を有する低可干渉光源であり、
前記形状測定手段は、前記光源からの前記出射光束を２光束に分岐するとともに、該２光束の一方を他方に対して所定の光学光路長分だけ迂回させた後に１光束に再合波して出力するパスマッチ経路部を備えていることを特徴とする請求項５記載の保持歪み測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、干渉計等を用いて光学部材等の表面形状等を測定する方法および装置に関し、特に、板状の被検体を所定の保持状態で保持した際に、その保持状態に起因して被検体に生じる歪みを測定する保持歪み測定方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体を製造する過程においては、半導体ウエハ上に所定の回路パターンを露光転写するためのフォトマスクが使用されている。この種のフォトマスクは、露光時においては、そのマスク面が略水平となるように（マスク面の法線が略重力方向を向くように）保持されて使用されるのが一般的であるため、正確な転写を可能とするためには、重力の影響等によりマスク面が撓まないように配慮しなければならない。このような事情から従来、露光時においてフォトマスクの平面性を維持するための保持方法については、種々の提案がなされている（下記特許文献１、２参照）。
【０００３】
一方、フォトマスクの面精度や屈折率分布等の光学性能を測定する場合には、重力の影響をなるべく受けないようにフォトマスクを立てた状態（マスク面の法線が重力方向と略直角となる状態）に配置するとともに、このように配置されたフォトマスクを静止させるためにフォトマスクに作用させなければならない荷重を極力抑えて、被検体に歪みが生じないようにすることが望ましい。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−３０６８３２号公報
【特許文献２】特開２０００−２２３４１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、フォトマスクをどのような姿勢で保持しようとも、重力や保持するための荷重がフォトマスクに作用する限り、フォトマスクにはその保持状態に起因した撓み等の歪みが生じる虞がある。
【０００６】
このような保持状態に起因して生じる歪みを完全に排除することは技術的に極めて困難である。また、このような歪みをフォトマスクの表面形状とは分離して測定する技術はこれまで知られていない。このため従来の測定技術においては、フォトマスクの表面形状等の測定結果に、保持状態に起因して生じる歪みの分が重畳されることが避けられず、このような歪みが無い状態の表面形状を高精度に測定することは極めて困難であった。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、フォトマスク等の板状の被検体を所定の保持状態で保持した際に、その保持状態に起因して被検体に生じる歪みを被検面の形状とは分離して測定することが可能な保持歪み測定方法および装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため本発明では、被検体の保持状態を変えて被検体に、所定の保持状態に起因して被検体に生じる歪み、すなわち、歪み、変形、撓み（本発明では「保持歪み」と称する）とは逆向きで略同等の変形量となる歪み（本発明では「逆歪み」と称する）が生じるようにして行なう測定を含めて複数回の測定を行ない、得られた測定データに基づき、保持歪みを被検面の形状とは別に測定し得るようにしている。
【０００９】
すなわち、本発明に係る保持歪み測定方法は、板状の被検体を所定の保持状態で保持した際に、該所定の保持状態に起因して該被検体に生じる歪みを測定する方法であって、
前記所定の保持状態で保持された前記被検体の表面の形状を測定する第１測定と、
前記所定の保持状態で保持された前記被検体の裏面の形状を測定する第２測定と、
前記歪みに対して変形の向きが前記被検体の表裏逆向きで変形量が略同等の逆歪みが該被検体に生じるように該被検体を保持し、前記表面または前記裏面の形状を測定する第３測定とを行ない、前記第１測定により得られた表面形状データと、前記第２測定により得られた裏面形状データとに基づき、前記被検体の厚みむらに係る第１のデータを得るとともに、
前記第１測定により得られた前記表面形状データと、前記第３測定により得られた裏面形状データとに基づき、または前記第２測定により得られた前記裏面形状データと、前記第３測定により得られた表面形状データとに基づき、前記厚みむらに前記歪みおよび前記逆歪みの分が重畳されてなる第２のデータを得、
前記第１のデータと前記第２のデータとに基づき、前記所定の保持状態に起因して前記被検体に生じる保持歪みを求めることを特徴とする。
【００１０】
上記「前記歪みに対して変形の向きが前記被検体の表裏逆向きで変形量が略同等となる逆歪み」とは、前記歪み（保持歪み）と前記逆歪みとの関係が、例えば、一方が、被検体の表面側を凹状に裏面側を凸状に変形させるものであると仮定した場合に、他方が、表面側を凸状に裏面側を凹状に変形させるものであり、かつ変形の大きさ（絶対値）は互いに略同じという関係にあることを意味する。
【００１１】
また、本発明において上記「表面」と上記「裏面」とは、被検体の互いに対向する２面の一方の面と他方の面とを意味する。
さらに、上記「第１測定」、上記「第２測定」および上記「第３測定」の各々に付した数字は単にこれらを区別するためのものであり、これらの測定を実施する順番を示すものではない。すなわち、これらの測定を実施する順番については任意の順番を選択することができる。
【００１２】
なお、求められた前記保持歪みと、前記第１測定により得られた前記表面形状データとに基づき、該保持歪みが無い状態の前記表面の形状を求めるようにしてもよい。
【００１３】
また、本発明に係る保持歪み測定装置は、所定の保持状態で保持された板状の被検体に該所定の保持状態に起因して生じる歪みを測定する装置であって、
前記所定の保持状態で測定光軸上に保持された前記被検体の表面形状を測定する第１測定、前記所定の保持状態で前記測定光軸上に保持された該被検体の裏面形状を測定する第２測定、および前記歪みに対して変形の向きが該被検体の表裏逆向きで変形量が略同等となる逆歪みが生ぜしめられるように前記測定光軸上に保持された該被検体の表面形状または裏面形状を測定する第３測定を行なう形状測定手段と、
前記第１測定により得られた表面形状データと前記第２測定により得られた裏面形状データとに基づき、前記被検体の厚みむらに係る第１のデータを得るとともに、前記第１測定により得られた前記表面形状データと前記第３測定により得られた裏面形状データとに基づき、または前記第２測定により得られた前記裏面形状データと、前記第３測定により得られた表面形状データとに基づき、前記厚みむらに前記歪みおよび前記逆歪みの分が重畳されてなる第２のデータを得、前記第１のデータと前記第２のデータとに基づき、前記所定の保持状態に起因して前記被検体に生じる保持歪みを求める解析手段と、を備えてなることを特徴とする。
【００１４】
本発明に係る保持歪み測定装置において、前記測定光軸上において前記被検体を保持可能に、かつ保持した該被検体の前記形状測定手段に対する向きを該被検体の保持状態を維持したまま反転可能に構成された保持手段を備えるようにすることができる。
【００１５】
また、前記形状測定手段は、光源からの出射光束を基準面および前記測定光軸上に保持された前記被検体の被検面に照射し、該基準面および該被検面からの各々の戻り光を互いに干渉させることにより、前記被検面の波面情報を担持した干渉縞を得る干渉光学系を備えてなるものとすることができる。
【００１６】
その際、被検体がフォトマスクのように透明な平行平板である場合には、被検面以外から反射される光に起因するノイズを除去し得るように、前記光源としては、前記出射光束が前記被検体の表裏面間の光学距離の２倍よりも短い可干渉距離を有する低可干渉光源を用い、前記形状測定手段としては、前記光源からの前記出射光束を２光束に分岐するとともに、該２光束の一方を他方に対して所定の光学光路長分だけ迂回させた後に１光束に再合波して出力するパスマッチ経路部を備えているものを用いることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る保持歪み測定方法および装置では、所定の保持状態で保持された被検体の表面および裏面の形状をそれぞれ測定する第１測定および第２測定と、逆歪みが被検体に生じるように被検体を保持して表面または裏面の形状を測定する第３測定とを行なう。
【００１８】
第１測定により、表面形状に保持歪みの分が重畳された表面形状データが得られ、第２測定により、裏面形状に保持歪みの分が重畳された裏面形状データが得られ、また、第３測定により、表面形状に逆歪みの分が重畳された表面形状データ、または裏面形状に逆歪みの分が重畳された裏面形状データが得られる。
【００１９】
さらに、第１測定により得られた表面形状データと第２測定により得られた裏面形状データとに基づき、被検体の厚みむらに係る第１のデータが得られるとともに、第１測定により得られた表面形状データと第３測定により得られた裏面形状データとに基づき、または第２測定により得られた裏面形状データと、第３測定により得られた表面形状データとに基づき、厚みむらに保持歪みと逆歪みの分が重畳されてなる第２のデータが得られる。
【００２０】
逆歪みは、所定の保持状態に起因して被検体に生じる保持歪みに対して変形の向きが逆向きで大きさは略同等であるので、保持歪みとは向きだけが異なる歪み量のデータとして扱うことが可能である。したがって、第１のデータおよび第２のデータに基づき、保持歪みを被検体の表裏面形状とは分離して求めることが可能となり、求められた保持歪みの測定データに基づき、保持歪みが無い状態の被検体の表裏面形状等を高精度に測定することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明に係る実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態に係る保持歪み測定装置の概略構成図、図２は図１に示す被検体保持装置の概略構成図であり、同図（ａ）はその正面図、同図（ｂ）は側面図である。
【００２２】
〈装置構成〉
図１に示す保持歪み測定装置は、クリーンルーム等においてフォトマスク等の被検体４０の表面形状や内部屈折率分布等の測定を行なうためのもので、形状測定手段を構成する干渉計装置１０と、透過型基準板１９および反射型基準板２０と、保持手段としての被検体保持装置３０と、解析手段としてのコンピュータ装置５０とから構成されている。
【００２３】
上記干渉計装置１０は、測定光束の光路長を調整するパスマッチ経路部１０ａと、干渉縞を得るための干渉光学系１０ｂと、得られた干渉縞を撮像するための撮像系１０ｃとを備えている。パスマッチ経路部１０ａは、ビームスプリッタ１２と、２つのミラー１３，１４とを備えており、光源１１から出力された光束が、ビームスプリッタ１２のハーフミラー面１２ａにおいて２光束に分岐され、分岐された２光束はミラー１３，１４においてそれぞれ逆向きに反射されてビームスプリッタ１２に戻り、ハーフミラー面１２ａにおいてそれぞれの一部が１光束に合波され、測定光束として干渉光学系１０ｂに向けて射出されるように構成されている。
【００２４】
上記パスマッチ経路部１０ａにおいては、ミラー１４が１軸ステージ２３に保持されて図中左右方向に移動可能とされており、アクチュエータ２４により１軸ステージ２３を駆動させてミラー１４の位置を変えることにより、ハーフミラー面１２ａ上の分岐点とミラー１４との間の往復経路（以下「第１の経路」と称する）と、この分岐点とミラー１３との間の往復経路（以下「第２の経路」と称する）との間の経路長差を調整し得るようになっている。なお、本実施形態では、上記第１の経路を通過する一方の光束は、上記第２の経路を通過する他方の光束に対して所定の光学光路長分だけ迂回（遠回り）するように構成されている。
【００２５】
上記光源１１は、測定光束として出力される出射光束の可干渉距離が被検体４０の表裏面間の光学距離の２倍よりも短くなるように設定された低可干渉光源で構成されている。このような低可干渉光源としては、ＬＥＤ、ＳＬＤ、ハロゲンランプ、高圧水銀ランプ等の一般的な低可干渉光源や、干渉縞の像を撮像素子で取り込んだ際に、上記低可干渉光源が有する可干渉距離と等価の可干渉距離となるように調整された波長変調光源を用いることができる。この種の波長変調光源は、撮像素子の応答時間（光蓄積時間）よりも短い時間内で、光源（一般的には半導体レーザ光源（ＬＤ）が用いられる）から射出される光の波長を変調し、撮像素子の応答時間において時間平均的に干渉縞を撮像することにより、スペクトル幅が広く可干渉距離が短い光を出射する光源を用いた場合と等価の結果が得られるようにしたもので、例えば、１９９５年５月光波センシング予稿集７５〜８２頁にコヒーレンス関数を合成する手法が示されている。また、その手法を改良した技術も開示されている（特開２００４−３７１６５号公報）。
【００２６】
上記干渉光学系１０ｂは、パスマッチ経路部１０ａから射出された測定光束の進む順に配置された、ビームエキスパンダ１５、収束レンズ１６、ビームスプリッタ１７、およびコリメータレンズ１８を備えており、上記撮像系１０ｃは、ビームスプリッタ１７の図中下方に配置された結像レンズ２１および撮像カメラ２２を備えている。また、干渉光学系１０ｂは、上記透過型基準板１９と上記反射型基準板２０と共にフィゾータイプの光学系配置を構成しており、透過型基準板１９の基準面１９ａで反射された参照光と、基準面１９ａを透過した後に上記被検体４０から戻る被検光との光干渉により生じる干渉縞を、ビームスプリッタ１７のハーフミラー面１７ａおよび結像レンズ２１を介して撮像カメラ２２内のＣＣＤ，ＣＭＯＳ等の撮像素子上に結像させるように構成されている。
【００２７】
なお、図示されていないが上記透過型基準板１９には、フリンジスキャン計測を実施する際に該透過型基準板１９を光軸Ｌの方向に微動させるフリンジスキャンアダプタと、上記被検体保持装置３０に保持された被検体４０と基準面１９ａとの間の傾きを微調整するための傾き調整機構が設けられており、上記反射型基準板２０には、同様の傾き調整機構が設けられている。
【００２８】
一方、上記被検体保持装置３０は、図２に示すように、透過波面測定用の開口部３１ａが形成された背板部３１と、被検体４０を支持する上下一対の支持部材（上側の支持部材３２と下側の支持部材３３）と、被検体４０に作用する荷重を検出する左右一対のロードセル３４，３４と、支持された被検体４０に所定の荷重を作用せしめるための荷重付与機構とを備えており、この荷重付与機構は、可動板３５と、左右一対のリニアガイド部３６，３６と、固定板３７と、図１に示す駆動ドライバ５５により駆動されるリニアアクチュエータ３８とからなる。また、被検体保持装置３０は反転機構３９（便宜上、上下に分離した支柱部のみを示している；図２でも同じ）を備えており、この反転機構３９により、被検体４０を保持したまま軸線Ｂの回りに１８０度反転し得るように構成されている。
【００２９】
図２に示す上記支持部材３２，３３は、被検体４０の面法線Ｃを挟む上下両側より被検体４０に当接して、被検体４０を上記面法線Ｃが重力方向（図中上下方向）に対して略直角となるような状態で支持するように構成されている。また、図示を省略しているが、支持部材３２，３３には、被検体４０が倒れるのを防止するために被検体４０の表裏面や側面の近傍位置に配設される押え部材が設けられている。なお、これら支持部材３２，３３や押さえ部材には発塵し難い材質、例えばピーク材（ＰＥＥＫ：ポリエーテルエーテルケトン）等を用いることが好ましい。
【００３０】
上記固定板３７は上記背板部３１に固定されており、上記一対のリニアガイド部３６，３６および上記リニアアクチュエータ３８は、この固定板３７に保持されている。一対のリニアガイド部３６，３６はそれぞれ、上記可動板３５の下面に設けられた一対のピン部材３５ａ，３５ａの各々と摺接係合する筒状の形状をなし、可動板３５を上下方向に往復移動可能にガイドするように構成されている。
【００３１】
上記リニアアクチュエータ３８は、直線的に往復移動するように駆動される先端部３８ａが、図２（ｂ）に示す作用線Ｄに沿って上記可動板３５を押圧するように構成されている。また、本実施形態ではこの作用線Ｄが、上記支持部材３３と被検体４０との当接位置から上記面法線Ｃに沿った方向（図中右方）に所定距離離れた位置を通り、かつ該面法線Ｃと略垂直となるように、リニアアクチュエータ３８が配置されている。これにより、リニアアクチュエータ３８の先端部３８ａが作用線Ｄに沿って可動板３５を押圧すると上記被検体４０には、可動板３５、一対のロードセル３４，３４および一対の支持部材３２，３３を介して被検体４０を上下方向両側から押圧する力と、被検体４０に所定の歪み（好ましくは、反転の上記軸線Ｂに対し対称な歪み（曲げによる変形））を生じさせるモーメントとが作用するようになっている。
【００３２】
上記一対のロードセル３４，３４は、上記下側の支持部材３３と上記可動板３５との間に配設されており、上記リニアアクチュエータ３８より上記被検体４０に作用せしめられる上下方向の荷重を検出し、その検出信号を図１に示す荷重検出部５３に出力するように構成されている。なお、図２に示すように、リニアアクチュエータ３８および一対のロードセル３４，３４を被検体４０の下方に配置することにより、これらの作動により生じる塵埃等が被検面に付着する可能性を低減し得るようになっている。
【００３３】
また、上記コンピュータ装置５０は、図１に示すように、マイクロプロセッサや各種メモリ、メモリ等に格納された演算処理プログラム等によりそれぞれ構成される、縞画像解析部５１、保持歪み導出部５２、荷重検出部５３、および制御部５４を備えるとともに、得られた干渉縞画像等を表示するモニタ装置と、コンピュータ装置５０に対する各種入力を行なうための入力装置と（いずれも不図示）が接続されている。なお、上記制御部５４は、上記駆動ドライバ５６を介して上記アクチュエータ２４の駆動量を制御することにより、上記ミラー１４の位置を調整するとともに、上記荷重検出部５３によりフィードバックされる荷重値に応じて、上記駆動ドライバ５５を介して上記リニアアクチュエータ３８の駆動量を制御することにより、上記被検体４０に作用せしめられる荷重の大きさを調整するように構成されている。
【００３４】
〈保持歪み測定方法〉
次に、本発明の一実施形態に係る保持歪み測定方法（以下「第１実施形態方法」と称する）について説明する。図３はこの第１実施形態方法を概略的に示す図であり、同図（ａ）は本発明の第１測定および第２測定の実施状態を示し、同図（ｂ）は本発明の第３測定の実施状態を示している。
【００３５】
この第１実施形態方法では、上述した保持歪み測定装置を用いて、本発明の第１測定、第２測定および第３測定が行なわれるが、以下の理由により各測定が実施される際には、図１に示すパスマッチ経路部１０ａにおいて、測定光束の経路長調整が行なわれる。
【００３６】
すなわち、上記被検体４０は、測定光束に対して透明な物質で構成されており、またその表面４１と裏面４２とが互いに略平行な平行平板状に形成されている。このため、被検体４０から上記基準面１９ａに戻る光には、この基準面１９ａを透過した後に被検体４０の表面４１で反射される第１の戻り光と、この表面４１から被検体４０の内部に入射した後に裏面４２で反射される第２の戻り光と、被検体４０を透過して上記反射型基準板２０の反射基準面２０ａで反射された後に再び被検体４０を透過する第３の戻り光とが含まれることになる。
【００３７】
後述するように、第１測定では被検体４０の表面４１が被検面とされるため上記第１の戻り光が被検光とされ、第２測定および第３測定では被検体４０の裏面４２が被検面とされるため上記第２の戻り光が被検光とされる。また、この第１実施形態方法では、被検体４０の透過波面の測定も行なわれるが、その測定では上記第３の戻り光が被検光とされる。その際、例えば第１測定において必要となるのは、第１の戻り光と参照光との干渉により生じる干渉縞情報であり、参照光と第２、第３の戻り光との間や各戻り光同士の間で干渉が生じた場合には、それらがノイズとなり測定精度に悪影響を及ぼすことになる。
【００３８】
そこで、上記各測定を行なう際に、図１に示すパスマッチ経路部１０ａにおいて、上述した第１の経路と第２の経路との光学光路長差が、干渉光学系１０ｂ内における参照光と被検光との光学光路長差に対して、光源１１の有する可干渉距離の範囲内で一致するように調整される。これにより、必要となる干渉のみが生じ、不要な干渉は生じないようにしている。なお、上記第３の戻り光が被検光とされない場合には、反射型基準板２０を傾けたり、反射型基準板２０と被検体４０との間にシャッタを配しておき、このシャッタにより反射型基準板２０と被検体４０との間の光路を遮断したりすることにより、第３の戻り光が透過型基準板１９の方向に反射されないようにしてもよい。
【００３９】
以下、上述した経路長調整が各測定を行なう際に行なわれることを前提として、この第１実施形態方法の手順を説明する。
【００４０】
（ステップＳ１）図２に示す被検体保持装置３０を用いて、被検体４０の面法線Ｃを挟む上下方向両側より被検体４０に一対の支持部材３２，３３を当接させ、該被検体４０を面法線Ｃが重力方向に対して略直角となるように配置する。なお、このとき、図示せぬ傾き調整機構を用いて、透過型基準板１９の基準面１９ａと被検体４０の表面４１とが互いに略平行となるように調整する。
【００４１】
（ステップＳ２）リニアアクチュエータ３８を駆動させて、可動部材３５、一対のロードセル３４，３４を介して支持部材３２，３３に所定の荷重を作用せしめることにより、被検体４０を所定の保持状態に保持する。このとき被検体４０には、この所定の保持状態に起因する保持歪み（図３（ａ）では便宜的に、被検体４０の表面４１側が凹状で、裏面４２側が凸状となるように示されている）が生じる。
【００４２】
（ステップＳ３）本発明の第１測定、すなわち所定の保持状態に保持された被検体４０の表面４１の形状測定を、図１に示す干渉計装置１０およびコンピュータ装置５０を用いて行ない、被検体４０の表面形状データΦ１（ｘ，ｙ）（以下、単に「Φ１」と記載する）を求める（測定結果の一例を図７に示す。なお、図中の数値は画素数を表している。このことは以下の図８〜図１１においても同様である）。この表面形状データΦ１には、被検体４０の表面４１の形状情報Ｐ（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｐ」と記載する）に、上記保持歪みＵ１（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｕ１」と記載する）の分が重畳されているので、表面形状データΦ１は、下式（１）で表すことができる。
Φ１＝Ｐ＋Ｕ１  …（１）
【００４３】
（ステップＳ４）被検体４０の保持状態を維持しつつ、本発明の第２測定、すなわち所定の保持状態に保持された被検体４０の裏面４２の形状測定を行ない、被検体４０の裏面４２を表面４１側から見た状態での裏面形状データΦ２（ｘ，ｙ）（以下、単に「Φ２」と記載する）を求める。この裏面形状データΦ２には、被検体４０の裏面４２を表面４１の側から見た状態での形状情報Ｑ（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｑ」と記載する）に、上記保持歪みＵ１（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｕ１」と記載する）の分と、被検体４０の屈折率分布等を示す透過波面情報Ｒ（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｒ」と記載する）の分とが重畳されているので、裏面形状データΦ２は、下式（２）で表すことができる。
Φ２＝Ｑ＋Ｒ＋Ｕ１  …（２）
【００４４】
（ステップＳ５）被検体４０の保持状態を維持しつつ、反射基準面２０ａからの上記第３の戻り光を被検光とする、被検体４０の透過波面情報Ｒを求める。
（ステップＳ６）上記ステップＳ３で得られた表面形状データΦ１と、上記ステップＳ４で得られた裏面形状データΦ２と、上記ステップＳ５で得られた透過波面情報Ｒとに基づき、下式（３）より被検体４０の厚みむら（Ｐ−Ｑ）（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｐ−Ｑ」と記載する）に係る第１のデータＤ１（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｄ１」と記載する）を求める（測定結果の一例を図８に示す）。
Ｄ１＝Φ１−Φ２＋Ｒ＝Ｐ−Ｑ  …（３）
【００４５】
（ステップＳ７）被検体４０の保持を一旦解除し、被検体４０を表裏反転させた状態に配置し直した後、図２に示す被検体保持装置３０を用いて、被検体４０に上記ステップＳ２のときと同様の荷重を作用せしめて被検体４０を保持する。このとき被検体４０には、上記保持歪みに対して変形の向きが被検体４０の表裏逆向きで変形量が略同等の逆歪み（図３（ｂ）では便宜的に、被検体４０の裏面４２側が凹状で、表面４１側が凸状となるように示されている）が生じる。
【００４６】
（ステップＳ８）本発明の第３測定、すなわち上記逆歪みが生じるように保持された被検体４０の裏面４２の形状測定を行ない、被検体４０の裏面形状データΦ３（ｘ，ｙ）（以下、単に「Φ３」と記載する）を求める。この裏面形状データΦ３には、被検体４０の裏面４２を裏面４２側から見た状態での形状情報Ｑ´（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｑ´」と記載する）に、上記逆歪みＵ２（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｕ２」と記載する）の分が重畳されているので、裏面形状データΦ３は、下式（４）で表すことができる。
Φ３＝Ｑ´＋Ｕ２  …（４）
【００４７】
（ステップＳ９）上記ステップＳ８で得られた裏面形状データΦ３に対し、被検体４０を表裏反転させた状態となるような座標変換処理を施し、反転させた裏面形状データｒΦ３（ｘ，ｙ）（以下、単に「ｒΦ３」と記載する。ｒは反転させたことを示す；以下同じ）を求める（測定結果の一例を図９に示す）。上記形状情報Ｑ´は反転させることにより上記形状情報Ｑと略等しくなり（ｒＱ´＝Ｑ）、上記逆歪みＵ２は反転させることにより上記保持歪みＵ１を正負逆にしたものと略等しくなる（ｒＵ２＝−Ｕ１）ので、反転させた裏面形状データｒΦ３は、下式（５）で表すことができる。
ｒΦ３＝ｒＱ´＋ｒＵ２＝Ｑ−Ｕ１  …（５）
【００４８】
（ステップＳ１０）上記ステップＳ３で得られた表面形状データΦ１と、上記ステップＳ９で得られた裏面形状データｒΦ３とに基づき、下式（６）より被検体４０の厚みむらＰ−Ｑに上記保持歪みＵ１の２倍の分が重畳されてなる第２のデータＤ２（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｄ２」と記載する）を求める（測定結果の一例を図１０に示す）。
Ｄ２＝Φ１−ｒΦ３＝Ｐ−Ｑ＋２Ｕ１  …（６）
【００４９】
（ステップＳ１１）上記ステップＳ６で得られた第１のデータＤ１と、上記ステップＳ１０で得られた第２のデータＤ２とに基づき、下式（７）より上記保持歪みＵ１を求める（測定結果の一例を図１１に示す）。
Ｕ１＝（Ｄ２−Ｄ１）÷２  …（７）
（ステップＳ１２）上記ステップＳ１１で得られた保持歪みＵ１と、上記ステップＳ３で得られた表面形状データΦ１とに基づき、下式（８）より保持歪みＵ１が無い状態の被検体４０の表面４１の形状Ｐを求める。
Ｐ＝Φ１−Ｕ１  …（８）
なお、上記保持歪みＵ１と、上記ステップＳ４で得られた裏面形状データΦ２とに基づき、保持歪みＵ１が無い状態の被検体４０の裏面４２の形状Ｑを求めることも可能である。
【００５０】
このように第１実施形態方法によれば、測定光束に対して透明な平行平板状の被検体４０を被検体保持装置３０により所定の保持状態で保持した際に、該保持状態に起因して被検体４０に生じる保持歪みＵ１を、被検体４０の表裏面形状とは分離して求めることが可能である。また、求められた保持歪みＵ１の測定データに基づき、保持歪みＵ１が無い状態の被検体４０の表裏面形状Ｐ，Ｑを高精度に測定することが可能となる。
【００５１】
〈態様の変更〉
次に、本発明の他の実施形態に係る保持歪み測定方法（以下「第２実施形態方法」と称する）について説明する。図４はこの第２実施形態方法を概略的に示す図であり、同図（ａ）は本発明の第１測定の実施状態を示し、同図（ｂ）は本発明の第２測定の実施状態を示し、同図（ｃ）は本発明の第３測定の実施状態を示している。
【００５２】
この第２実施形態方法は、上述した保持歪み測定装置を用いて、本発明の第１測定、第２測定および第３測定を行なう点については、上記第１実施形態方法と同様である。ただし、被検体４０Ａが測定光束に対して不透明であり、このため、上記第１実施形態方法では実施された被検体４０Ａの透過波面測定が行なわれない点などが異なっている。なお、被検体４０Ａが不透明であるので、レーザ光源等の高可干渉光源を用いることが可能であり、その場合には上記第１実施形態方法において各測定の際に実施された経路長調整を行なう必要はない。また、この第２実施形態方法により、測定光束に対して透明な被検体４０を測定することも可能である。その場合には、上記第１実施形態方法と同様に、低可干渉光源が用いられ、各測定の際の経路長調整および被検体４０の透過波面測定が実施されることになる。以下、この第２実施形態方法の手順を説明する。
【００５３】
（ステップＴ１）第１実施形態方法のステップＳ１，Ｓ２と同様に、図２に示す被検体保持装置３０を用いて被検体４０Ａに所定の荷重を作用せしめることにより、被検体４０Ａを所定の保持状態に保持する。このとき被検体４０Ａには、この所定の保持状態に起因する保持歪み（図４（ａ）では便宜的に、被検体４０Ａの表面４１Ａ側が凹状で、裏面４２Ａ側が凸状となるように示されている）が生じる。
【００５４】
（ステップＴ２）本発明の第１測定、すなわち所定の保持状態に保持された被検体４０Ａの表面４１Ａの形状測定を行ない、被検体４０Ａの表面形状データΨ１（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ψ１」と記載する）を求める。この表面形状データΨ１には、被検体４０Ａの表面４１Ａの形状情報Ｋ（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｋ」と記載する）に、保持歪みＷ１（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｗ１」と記載する）分が重畳されているので、表面形状データΨ１は、下式（９）で表すことができる。
Ψ１＝Ｋ＋Ｗ１  …（９）
【００５５】
（ステップＴ３）被検体保持装置３０による被検体４０Ａの保持状態を維持しつつ、図４（ｂ）に示すように、被検体保持装置３０を軸線Ｂの回りに回転させて被検体４０Ａを反転させる。この状態で、本発明の第２測定、すなわち所定の保持状態に保持された被検体４０Ａの裏面４２Ａの形状測定を行ない、被検体４０Ａの裏面４２Ａを裏面４２Ａ側から見た状態での裏面形状データΨ２（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ψ２」と記載する）を求める。この裏面形状データΨ２には、被検体４０Ａの裏面４２Ａを裏面４２Ａ側から見た状態での形状情報Ｊ´に、保持歪みＷ１を反転させた分ｒＷ１が重畳されているので、裏面形状データΨ２は、下式（１０）で表すことができる。
Ψ２＝Ｊ´＋ｒＷ１  …（１０）
【００５６】
（ステップＴ４）上記ステップＴ３で得られた裏面形状データΨ２に対し、被検体４０Ａを表裏反転させた状態となるような座標変換処理を施し、反転させた裏面形状データｒΨ２（ｘ，ｙ）（以下、単に「ｒΨ２」と記載する）を求める。上記形状情報Ｊ´は反転させることにより、被検体４０Ａの裏面４２Ａを表面４２Ａ側から見た状態での形状情報Ｊ（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｊ」と記載する）と略等しくなり（ｒＪ´＝Ｊ）、上記保持歪みＷ１を反転させた分ｒＷ１をさらに反転させるとＷ１に等しくなる（ｒｒＷ１＝Ｗ１）ので、反転させた裏面形状データΨ２は、下式（１１）で表すことができる。
ｒΨ２＝ｒＪ´＋ｒｒＷ１＝Ｊ＋Ｗ１  …（１１）
【００５７】
（ステップＴ５）上記ステップＴ２で得られた表面形状データΨ１と、上記ステップＴ４で得られた裏面形状データｒΨ２とに基づき、下式（１２）より被検体４０Ａの厚みむら（Ｋ−Ｊ）（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｋ−Ｊ」と記載する）に係る第１のデータＥ１（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｅ１」と記載する）を求める。
Ｅ１＝Ψ１−ｒΨ２＝Ｋ−Ｊ  …（１２）
【００５８】
（ステップＴ６）図２に示す被検体保持装置３０を軸線Ｂの回りに回転させて元の位置に戻すとともに、被検体４０Ａの保持を一旦解除し、被検体４０を表裏反転させた状態に配置し直した後、被検体４０Ａに上記ステップＴ１のときと同様の荷重を作用せしめて被検体４０Ａを保持する。このとき被検体４０Ａには、上記保持歪みに対して変形の向きが被検体４０Ａの表裏逆向きで変形量が略同等の逆歪み（図４（ｃ）では便宜的に、被検体４０Ａの裏面４２Ａ側が凹状で、表面４１Ａ側が凸状となるように示されている）が生じる。
【００５９】
（ステップＴ７）本発明の第３測定、すなわち上記逆歪みが生じるように保持された被検体４０Ａの裏面４２Ａの形状測定を行ない、被検体４０Ａの裏面形状データΨ３（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ψ３」と記載する）を求める。この裏面形状データΨ３には、被検体４０Ａの裏面４２Ａを裏面４２Ａ側から見た状態での形状情報Ｊ´に、上記逆歪みＷ２（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｗ２」と記載する）の分が重畳されているので、裏面形状データΨ３は、下式（１３）で表すことができる。
Ψ３＝Ｊ´＋Ｗ２  …（１３）
【００６０】
（ステップＴ８）上記ステップＴ７で得られた裏面形状データΨ３に対し、被検体４０Ａを表裏反転させた状態となるような座標変換処理を施し、反転させた裏面形状データｒΨ３（ｘ，ｙ）（以下、単に「ｒΨ３」と記載する）を求める。上記形状情報Ｊ´は反転させることにより上記形状情報Ｊと略等しくなり（ｒＪ´＝Ｊ）、上記逆歪みＷ２は反転させることにより上記保持歪みＷ１を正負逆にしたものと略等しくなる（ｒＷ２＝−Ｗ１）ので、反転させた裏面形状データｒΨ３は、下式（１４）で表すことができる。
ｒΨ３＝ｒＪ´＋ｒＷ２＝Ｊ−Ｗ１  …（１４）
【００６１】
（ステップＴ９）上記ステップＴ２で得られた表面形状データΨ１と、上記ステップＴ８で得られた裏面形状データｒΨ３とに基づき、下式（１５）より被検体４０Ａの厚みむらＫ−Ｊに上記保持歪みＷ１の２倍の分が重畳されてなる第２のデータＥ２（ｘ，ｙ）（以下、単に「Ｅ２」と記載する）を求める。
Ｅ２＝Ψ１−ｒΨ３＝Ｋ−Ｊ＋２Ｗ１  …（１５）
（ステップＴ１０）上記ステップＴ５で得られた第１のデータＥ１と、上記ステップＴ９で得られた第２のデータＥ２とに基づき、下式（１６）より上記保持歪みＷ１を求める。
Ｗ１＝（Ｅ２−Ｅ１）÷２１  …（１６）
【００６２】
（ステップＴ１１）上記ステップＴ１０で得られた保持歪みＷ１と、上記ステップＴ２で得られた表面形状データΨ１とに基づき、下式（１７）より保持歪みＷ１が無い状態の被検体４０Ａの表面４１Ａの形状Ｋを求める。
Ｋ＝Ψ１−Ｗ１  …（１７）
なお、上記保持歪みＷ１と、上記ステップＴ３で得られた裏面形状データΨ２とに基づき、保持歪みＷ１が無い状態の被検体４０Ａの裏面４２Ａの形状Ｊを求めることも可能である。
【００６３】
このように第２実施形態方法によれば、測定光束に対して不透明な平行平板状の被検体４０Ａを被検体保持装置３０により所定の保持状態で保持した際に、該保持状態に起因して被検体４０Ａに生じる保持歪みＷ１を、被検体４０Ａの表裏面形状とは分離して求めることが可能である。また、求められた保持歪みＷ１の測定データに基づき、保持歪みＷ１が無い状態の被検体４０Ａの表裏面形状Ｋ，Ｊを高精度に測定することが可能となる。
【００６４】
次に、本発明の他の実施形態に係る保持歪み測定装置について説明する。図５は本発明の他の実施形態に係る保持歪み測定装置の概略構成図である。なお、図５において、図１に示す装置と同様の構成部材については、図１で用いたものと同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００６５】
図５に示す保持歪み測定装置は、クリーンルーム等においてフォトマスク等の被検体４０Ｂの表面形状や内部屈折率分布等の測定を行なうためのもので、形状測定手段を構成する干渉計装置１０と、透過型基準板１９および反射型基準板２０と、被検体４０Ｂを所定の保持状態で保持する被検体保持台６１と、コンピュータ装置５０Ａとから構成されている。
【００６６】
なお、図示されていないが上記透過型基準板１９には、フリンジスキャン計測を実施する際に該透過型基準板１９を光軸Ｌの方向に微動させるフリンジスキャンアダプタと、上記被検体保持台６１に保持された被検体４０Ｂと基準面１９ａとの間の傾きを微調整するための傾き調整機構が設けられており、上記反射型基準板２０は、同様の傾き調整機構を介して光学定盤６２の上に配置されている。また、上記被検体保持台６１には、保持した被検体４０Ｂの傾きを調整するための傾き調整機構が設けられている。
【００６７】
上記干渉計装置１０は、図１において横置きに配置されていたものを縦置きに配置したものであり、その内部の構成は図１に示すものと同じである。また、上記コンピュータ装置５０Ａは、図１に示すコンピュータ装置５０と同様に、マイクロプロセッサや各種メモリ、メモリ等に格納された演算処理プログラム等によりそれぞれ構成される、縞画像解析部および保持歪み導出部（図示略）を備えるとともに、得られた干渉縞画像等を表示するモニタ装置と、コンピュータ装置５０Ａに対する各種入力を行なうための入力装置と（いずれも不図示）が接続されている。
【００６８】
一方、上記被検体保持台６１は、図５に示すように、被検体４０Ｂを略水平に保持するとともに、この保持状態に起因して被検体４０Ｂに、重力の作用による所定の歪みを生ぜしめるように構成されている。
【００６９】
図６に、図５に示す保持歪み測定装置を用いて行なう保持歪み測定方法（以下「第３実施形態方法」と称する）の概略を示す。図６（ａ）は本発明の第１測定および第２測定の実施状態を示し、同図（ｂ）は本発明の第３測定の実施状態を示している。
【００７０】
この第３実施形態方法では、図５に示す保持歪み測定装置を用いて、本発明の第１測定、第２測定および第３測定が行なわれるが、その手順は、上述の第１実施形態方法と同様である。すなわち、第１実施形態方法との主な相違点は、第１実施形態方法では図２に示す被検体保持装置３０を用いて被検体４０を立てた状態で保持するのに対し、この第３実施形態方法では図５に示す被検体保持台６１を用いて被検体４０Ｂを水平状態で保持する点にある。この保持状態の相違の他には、被検体４０Ｂをその表面４１Ｂを上にして保持したときに被検体４０Ｂに生じる歪みと、被検体４０Ｂをその裏面４２Ｂを上にして保持したときに被検体４０Ｂに生じる歪みとが、上述した保持歪みと逆歪みの関係にあることを考慮すれば、測定手順そのものは第１実施形態方法と同様とみなせるので、その詳細な説明は省略する。
【００７１】
なお、上述した実施形態においては、測定装置の系統誤差については触れていない。このような系統誤差としては、基準板誤差や分岐光学系誤差等があり、これらの誤差は通常、校正用基準板を用いて校正されている。また、校正用基準板自体の誤差についても、校正用基準板をいわゆる３面合わせ方法（特開平９−２０３６１９号公報参照）等により絶対精度測定を行ない値付けをすることで、コンピュータにより取り除くことが可能である。
【００７２】
以上、本発明に係る保持歪み測定方法および装置の実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、種々に態様を変更することが可能である。
【００７３】
例えば上述した保持歪み測定方法では、第３測定において被検体の裏面形状を測定しているが、第３測定において被検体の表面形状を測定するようにしてもよい。この場合には、第２測定により得られた裏面形状データと、第３測定により得られた表面形状データとに基づき、第２のデータが得られることになる。
【００７４】
また、上述した保持歪み測定装置では、形状測定手段として干渉計装置を備えているが、干渉計装置に替えて、いわゆるモアレ装置や光切断測定装置を備えるようにすることも可能である。
【００７５】
また、形状測定手段として干渉計装置を用いる場合でも、干渉光学系の配置がフィゾー型のものに限られるものではなく、マイケルソン型やアブラムソン型斜入射干渉計等の他の光学系配置を有する干渉計装置にも適用することが可能である。
【００７６】
また、上記実施形態において示したパスマッチ経路部の光学系配置は、マイケルソン干渉計の光学系配置と類似したものとされているが、特開平９−２１６０６号公報に記載されているような、一方の経路が他方の経路に対してコの字状に迂回するような態様とすることも可能である。
【００７７】
また、測定光束に対して透明な平行平板状の被検体を測定する場合には、パスマッチ経路部を備えることにより、高精度な測定が可能となるので好ましいが、測定光束に対して不透明な被検体を測定する場合にはパスマッチ経路部は不要である。なお、パスマッチ経路部を備えていない干渉計装置により、測定光束に対して透明な平行平板状の被検体を測定する場合でも、本発明を適用することは可能である。
【００７８】
さらに、測定光束に対して透明な被検体と不透明な被検体を１つの干渉計装置を用いて測定する場合には、測定光束の光源として、上述した低可干渉光源とレーザ光源等の高可干渉光源とを切替え可能に配設しておき、透明な被検体を測定する場合は低可干渉光源を用いて測定を行ない、不透明な被検体を測定する場合は高可干渉光源を用いて測定を行なうようにしてもよい。
【００７９】
また、特表２００４−５１０９５８号公報に記載されている周波数変換位相シフト干渉計測法を用いて測定を行なうことも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】本発明に係る保持歪み測定装置の一実施形態を示す概略図
【図２】図１に示す被検体保持装置の構成を示す図
【図３】本発明に係る保持歪み測定方法の第１実施形態を示す概略図
【図４】本発明に係る保持歪み測定方法の第２実施形態を示す概略図
【図５】本発明に係る保持歪み測定装置の他の実施形態を示す概略図
【図６】本発明に係る保持歪み測定方法の第３実施形態を示す概略図
【図７】被検体の表面形状データに係る測定結果の一例を示す図
【図８】第１のデータに係る測定結果の一例を示す図
【図９】被検体の裏面形状データに係る測定結果の一例を示す図
【図１０】第２のデータに係る測定結果の一例を示す図
【図１１】保持歪みに係る測定結果の一例を示す図
【符号の説明】
【００８１】
１０      干渉計装置（形状測定装置）
１０ａ    パスマッチ経路部
１０ｂ    干渉光学系
１０ｃ    撮像系
１１      光源
１２，１７      ビームスプリッタ
１２ａ，１７ａ  ハーフミラー面
１３，１４      ミラー
１５      ビームエキスパンダ
１６      収束レンズ
１８      コリメータレンズ
１９      透過型基準板
１９ａ    基準面
２０      反射型基準板
２０ａ    反射基準面
２１      結像レンズ
２２      撮像カメラ
２３      １軸ステージ
２４      アクチュエータ
３０      被検体保持装置（保持手段）
３１      背板部
３１ａ    開口部
３２      （上側の）支持部材
３３      （下側の）支持部材
３４      ロードセル
３５      可動板
３５ａ    ピン部材
３６      リニアガイド
３７      固定板
３８      リニアアクチュエータ
３８ａ    先端部
３９      反転機構
４０，４０Ａ，４０Ｂ      被検体
４１，４１Ａ，４１Ｂ      （被検体の）表面
４２，４２Ａ，４２Ｂ      （被検体の）裏面
５０，５０Ａ      コンピュータ装置（解析手段）
５１      縞画像解析部
５２      保持歪み導出部
５３      荷重検出部
５４      制御部
５５，５６      駆動ドライバ
６１      被検体保持台
６２      光学定盤
Ｌ        光軸
Ｂ        軸線
Ｃ        面法線
Ｄ        作用線
【図１】
2006126082.tif 000003
【図２】
2006126082.tif 000004
【図３】
2006126082.tif 000005
【図４】
2006126082.tif 000006
【図５】
2006126082.tif 000007
【図６】
2006126082.tif 000008
【図７】
2006126082.tif 000009
【図８】
2006126082.tif 000010
【図９】
2006126082.tif 000011
【図１０】
2006126082.tif 000012
【図１１】
2006126082.tif 000013