(57)【要約】【課題】  耐傷性に優れ、かつ周囲環境の温度および湿度による反りや変形が抑制されるため、高容量化および高記録密度化に適した光情報記録媒体の提供。【解決手段】  ２枚の光透過性支持体の間に、光情報を３次元的に記録する厚さ１００μｍ〜２ｍｍの光情報記録層が介設され、前記２枚の光透過性支持体の外側両面に、放射線硬化樹脂からなる保護層が形成されている光情報記録媒体。【選択図】      図１
2006039131.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の光透過性支持体の間に、光情報を３次元的に記録する厚さ１００μｍ〜２ｍｍの光情報記録層が介設された光情報記録媒体であって、
前記２枚の光透過性支持体の外側両面に、放射線硬化樹脂からなる保護層が形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記光情報記録層が、ホログラム記録材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記光情報記録層が、２光子吸収材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体に関し、特に、高容量化および高記録密度化に適した光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報の高容量化に伴い、高容量記録媒体として、３次元光情報記録媒体が注目されてきている。３次元光情報記録媒体は、３次元（膜厚）方向に何十、何百層もの記録を重ねることで、面内方向にのみ信号を記録する従来の２次元記録媒体の何十、何百倍もの超高密度記録、超高容量記録を達成しようとするものである。この３次元光情報記録媒体として、２光子吸収を用いるものと、ホログラフィ（干渉）を用いるものとが知られている。
【０００３】
ホログラフィによる記録は、一般的に、イメージ情報を持った光と参照光とを記録媒体の内部で重ね合わせ、そのときにできる干渉縞を記録媒体に記録することによって行なわれる。そして、記録された情報を再生する時には、その記録媒体に参照光を照射して、干渉縞で光を回折させてイメージ情報を再生する。このホログラフィック記録において、参照光と物体光を同じ方向からホログラム記録材料に入射させて形成されるホログラムを透過型ホログラムと呼ぶ（特許文献１等参照）。この透過型ホログラムでは、干渉縞は、記録材料膜面方向に垂直または垂直に近い形で１ｍｍに１０００〜３０００本程度の間隔で形成される。また、互いにホログラム記録材料の反対側から参照光と物体光を入射させて形成されるホログラムを、一般に反射型ホログラムと呼ぶ（特許文献２、特許文献３等参照）。この反射型ホログラムでは、干渉縞は、記録材料膜面方向に平行または平行に近い形で１ｍｍに３０００〜７０００本程度の間隔で形成される。例えば、（株）オプトウエアが提案しているものがある。
【０００４】
ホログラフィック記録は、一般的に、イメージ情報を持った光と参照光とを記録媒体の内部で重ね合わせ、そのときにできる干渉縞を記録媒体に記録することによって行なわれる（特許文献４参照）。そして、記録された情報を再生する時には、その記録媒体に参照光を照射して、干渉縞で光を回折させてイメージ情報を再生する。この記録媒体では、媒体の厚みを増すことで回折効率を高め、さらに同じ位置に信号を記録する多重記録を用いて記録容量の増大を図ることができるという特徴がある。この多重記録は、ホログラムの角度選択性や波長選択性の特徴を生かした記録方法であり、選択性が高いほど多重数を向上できるが、反面わずかの角度、波長のずれで再生できなくなる。
【０００５】
一方、２光子吸収を用いる３次元光情報記録媒体では、何十、何百倍にもわたっていわゆるビット記録が可能であって、より高密度記録が可能である。この２光子吸収による光情報記録媒体においては、非線形光学効果の非共鳴２光子吸収過程を利用して光情報記録層に情報が記録される。そして、非共鳴２光子吸収における光子収率は印加する光電場の２乗に比例する性質を示す（２光子吸収の２乗特性）。このため、２次元平面にレーザを照射した場合においては、レーザスポットの中心部の電界強度の高い位置のみで２光子の吸収が起こり、３次元空間においては、レーザ光をレンズで集光した焦点の電界強度の大きな領域でのみ２光子吸収が起こり、焦点から外れた領域では電界強度が弱いために２光子吸収が全く起こらない。そのため、印加された光電場の強度に比例してすべての位置で励起が起こる線形吸収に比べて、非共鳴２光子吸収では、この２乗特性に由来して空間内部の１点のみで励起が起こるため、空間分解能が著しく向上する。そして、２光子吸収を利用する記録媒体の再生では、レーザ光をあてると、周囲の層からも光が反射してくるが、読み出したい光のみ検出器で検出するようにディスク位置やピンホールで調整する（特許文献５等参照）。
【０００６】
これらのホログラフィック記録や２光子吸収材料を用いる高容量および高密度の３次元光情報記録媒体においては、レーザ光による読み取り位置を高精度にすることが求められる。例えば、ホログラフィック記録では、レーザ光が正確な角度で光情報記録層の３次元方向の所定の位置を照射して干渉縞を発生させること、また、２光子吸収では、レーザ光が光情報記録層内の３次元方向の正確な位置に焦点を結んで２光子吸収を励起させることが、記録された情報信号を正確に再生するために求められる。そのため、周囲環境の温度や湿度の変化によって、光情報記録媒体が反りや変形を生じると、記録時と再生時でレーザ光の照射位置が変化した場合は、再生できなくなる。特に、ホログラフィを利用した高容量媒体は、容量を増やすために角度多重を使うことが一般的であり、読み取り角度の精度が重要であることから、ディスクの反りや変形は致命的となる課題である。また、２光子吸収を利用した３次元記録媒体においても、光情報記録層の空間内部の１点のみで生じる再生光を検出器で検出するためには、記録時と再生時でディスクの反りが変化したり、変形が発生することは問題となる。
【０００７】
さらに、ホログラフィや２光子吸収を利用した３次元光情報記録媒体では、記録媒体の表面に傷があると、その傷によって光が回折して正確な記録再生光が十分に得られない場合がある。特に、高容量化を目指し、記録スポット径を小さくしたり、多重度を増した場合は、その影響は無視できなくなる。
【特許文献１】特開平６−４３６３４号公報（段落０００６〜０００７、図１）
【特許文献２】特開平２−３０８２号公報（第４頁右上欄第１４行〜第２０行）
【特許文献３】特開平３−５０５８８号公報（第２頁右下欄第１１行〜第３頁右下欄第１０行）
【特許文献４】特開２００１−００５３６８号公報（請求項１、請求項２、図１）
【特許文献５】特開２００２−１７２８６４号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで本発明の目的は、耐傷性に優れ、かつ周囲環境の温度および湿度による反りや変形が抑制されるため、高容量化および高記録密度化に適した光情報記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するため、本発明の光情報記録媒体は、２枚の光透過性支持体の間に、光情報を３次元的に記録する厚さ１００μｍ〜２ｍｍの光情報記録層が介設された光情報記録媒体であって、前記２枚の光透過性支持体の外側両面に、放射線硬化樹脂からなる保護層が形成されていることを特徴とする。
【００１０】
この光情報記録媒体では、光透過性支持体の外側両面に放射線硬化樹脂からなる保護層が形成されていることによって、耐傷性が向上するとともに、周囲環境の温度および湿度による反りや変形が抑制される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光情報記録媒体は、記録再生時に照射されるレーザ光の入射面および再生光読み出し面である、光透過性支持体の外側両面に放射線硬化樹脂からなる保護層を設けることによって、耐傷性を確保することができる。また、放射線硬化樹脂からなる保護層を外側両面に設けることによって、反りや変形を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る光情報記録媒体ＯＭの模式断面図である。
図１に示す光情報記録媒体ＯＭは、光透過性支持体１、２と、その光非透過性基板１と光透過性支持体２の間に介設された光情報記録層３と、光透過性支持体１の外側面に積層された保護層４と、光透過性支持体２の外側面に積層された保護層５とを有するものである。
【００１３】
光透過性支持体１，２は、特に限定されず、天然または合成の有機合成樹脂からなるフィルムまたはシートで構成される。例えば、ガラス等の無機物、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アモルファスポリオレフィン等の有機合成樹脂等が挙げられる。これらの中で、本発明の光情報記録媒体を２光子吸収メモリまたはホログラフィックメモリのいずれかに適用する場合には、具体的には、光透過率が高く、複屈折が小さく、かつ、安価であることから、ポリカーボネートおよびトリアセチルセルロースが好ましい。
【００１４】
光透過性支持体１は、光情報記録層３に接する表面１ａに、反射層やその他の記録再生に必要となる層を設けてもよく、反射層は、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｃｒ等の元素成分を単独もしくは他の元素を含んだ状態でスパッタしたものを用いて形成されることが好ましい。
【００１５】
さらに、光透過性支持体１の光情報記録層３と接する表面１ａに、トラッキング・サーボ、フォーカス・サーボ等のサーボ制御を行うための情報、また、情報記録領域のアドレスを識別する情報などを示す凸凹プリフォーマットパターンや、ピットからなるサーボ信号記録領域を予め形成しておいてもよい。これによって、ホログラムメモリにおいて、光情報記録層における参照光および情報光の干渉による干渉縞の形成が正確に行われ、光情報を正確に記録することが可能となる。また、再生においても、参照光による光情報の再生を正確に行うことが可能となる。
【００１６】
また、光透過性支持体１，２は、比較的厚みのあるものが好ましく、例えば、５０〜１０００μｍ程度の厚さであることが好ましい。
【００１７】
光情報記録層３は、レーザビーム（参照光、情報光）が照射されたときにレーザビームの強度に応じて、屈折率、誘電率、反射率、吸収率等の光学的特性が変化する光記録材料によって形成される。
【００１８】
光記録材料としては、２光子吸収によって、光記録を行う光情報記録媒体の場合には、２光子または多光子吸収を行うことでそれ自身が何らかの化学的、物理的変化を起こす化合物のみから成るか、２光子または多光子吸収化合物と、その２光子または多光子吸収により何らかの化学的、物理的変化が誘起される第二の化合物とから成るか、２光子または多光子吸収化合物と、該化合物の２光子または多光子吸収に誘起されて化学的、物理的変化を起こす第二の化合物の他に、さらにこれらの記録の仕組みを調整する役割の、第三の化合物を含むものを用いることができる。この光記録材料としては、例えば、特開２００２−１７２８６４号公報等に記載されているもの等が挙げられる。
【００１９】
また、ホログラムによって光記録を行なう光情報記録媒体の場合には、光情報記録層３内に形成される干渉縞の明暗に沿って素材の物性が変化するもの、例えば、屈折率差や透過率差などが生じるものを用いることができる。
【００２０】
ホログラム用の光記録材料の具体例として、ハロゲン化銀や重クロム酸ゼラチン、フォトリフラクティブ材料、フォトクロミック材料、フォトポリマー材料などが挙げられる。これらの中でも、フォトポリマー材料は、高回折効率が得られること、低ノイズであること、記録後に完全に定着をすれば保存安定性が良好である特徴を有する。このフォトポリマー材料は、通常、バインダ、ラジカル重合可能なモノマー、増感色素、重合開始剤などを基本組成とし、屈折率変調を向上させるためにバインダーまたはラジカル重合可能なモノマーのどちらか一方に芳香環または塩素、臭素を有する化合物を用いて屈折率差を持たせる。そして、このフォトポリマー材料は、光情報の記録時において、光情報記録媒体内に干渉縞が形成されると、干渉縞明部においては、増感色素が励起されて電子を放出する。放出された電子は、重合開始剤に移動してラジカルを発生させ、このラジカルがモノマーに移動して重合が開始される。モノマーによっては、酸発生剤で重合を起こすものもある。その結果、干渉縞明部ではモノマーリッチに、干渉縞暗部ではバインダリッチな構成になり、屈折率差が干渉縞として光情報記録媒体内に記録される。光情報の記録に使用されなかったモノマーは、記録後にレーザや白色光源を用いて、全面露光され、定着される。また、素材によっては、熱処理によって定着される場合もある。さらに、ラジカル重合に対しカチオン重合、特にエポキシ化合物等の開環を伴うカチオン重合は、重合後の収縮が少なく、また酸素による重合阻害も受けず、剛性のある膜を与える。したがって、ホログラフィックメモリ用途としてはカチオン重合の方が適している場合もある。
【００２１】
また、前記物質以外でも、干渉縞の明暗に沿って素材の物性が変化し、屈折率差や透過率差などが生じる物質であれば、ホログラム記録材料として用いることができる。例えば、色素の発色や消色に伴う屈折率変化を生じるものを用いることができる。また、これらの組み合わせ、例えば、光の照射によって発色または消色する色素とフォトポリマーを含む組成物、フォトリフラクティブ材料とフォトポリマーを含む組成物なども、ホログラム記録材料として用いることができる。
【００２２】
この光記録材料は、結合剤、光重合開始剤、増感剤、光学的増白剤、紫外線吸収剤、熱安定剤等のこの種の光情報記録媒体の光情報記録層の形成に常用されるものを、必要に応じて含んでいてもよい。
【００２３】
また、光情報記録層３の厚さは、１００μｍ〜２ｍｍ、好ましくは５００μｍ〜１．５ｍｍである。１００μｍ未満であると、ホログラムメモリ、２光子吸収メモリ等の高記録密度および高容量の３次元光記録を行うことが困難となり、２ｍｍを超えると、製膜が困難となる。
【００２４】
また、光透過性支持体１，２の外側両面に積層される保護層４，５は、放射線硬化樹脂で形成されている。放射線硬化樹脂としては、放射線により硬化可能な樹脂であればよく、特に、分子中に２個以上の放射線官能性の２重結合を有する化合物からなる樹脂であることが好ましい。例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等が挙げられる。中でも、２官能以上のアクリレート化合物、２官能以上のメタクリレート化合物等が好ましい。２官能以上のアクリレート化合物または２官能以上のメタクリレート化合物の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート等に代表される、脂肪族ジオールにアクリル酸またはメタクリル酸を付加させたものが挙げられる。
【００２５】
また、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポリオールに、アクリル酸またはメタクリル酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレート、さらに、公知の２塩基酸とグリコールとから得られるポリエステルポリオールに、アクリル酸やメタクリル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートなども用いることができる。
さらに、公知のポリオールやジオールと、ポリイソシアネート類とを反応させて得られるポリウレタンに、アクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートなどを用いてもよい。
【００２６】
さらにまた、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノール等のビスフェノール類、あるいはこれらのビスフェノール類のアルキレノキサイド付加物に、アクリル酸、メタクリル酸を付加させたもの；イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性メタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等の環状構造を有するものなどを用いることができる。
これらの放射線硬化樹脂は、１種単独でも２種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、紫外線照射により硬化可能な樹脂、すなわち、紫外線硬化樹脂を用いることが好ましい。
【００２７】
前記放射線硬化樹脂を硬化させるための放射線としては、電子線または紫外線を用いることができる。放射線として紫外線を用いる場合には、保護層４，５を形成するために光透過性支持体１，２の外側両面に塗布される紫外線硬化樹脂含有塗布液中に光重合開始剤が配合されていることが好ましい。この光重合開始剤としては、芳香族ケトンが好ましい。芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射源として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルである２５４、３１３、３６５ｎｍの波長において、吸光係数が比較的大きいものが好ましい。この光重合開始剤の代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ミヒラーケトン（Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓ  ｋｅｔｏｎ）などが挙げられる。
【００２８】
芳香族ケトンの配合割合は、紫外線硬化樹脂１００質量部に対して、０．５質量部、好ましくは２〜１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。紫外線硬化樹脂中に、予め、光重合開始剤を添加したものが、紫外線硬化型接着剤として市販されており、その市販品を紫外線硬化樹脂として用いてもよい。このような市販品としては、例えば、大日本インキ（株）製ダイキュリアＳＤ７１５、ダイキュリアＳＤ１０１、（株）スリーボンド製ＴＢ３０４２、日本化薬（株）製ＫＣＤ８０５等が挙げられる。
【００２９】
これらの放射線硬化樹脂は、そのまま、もしくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶媒に溶解して塗布液を調製し、光透過性支持体１，２に塗布される。塗布方法としては、従来公知の塗布方法を用いることができる。
【００３０】
また、放射線硬化樹脂は、必要に応じて、紫外線吸収剤等の放射線吸収剤、酸化防止剤、老化防止剤、滑剤、光安定剤、充填剤、防汚剤などを単独または２種以上を含むものでもよい。
【００３１】
保護層４，５の厚さは、通常、２〜２０μ程度である。また、保護層４，５は、表面硬度が、鉛筆硬度でＢ以上であることが好ましく、さらに好ましくは鉛筆硬度でＨ以上である。さらに、保護層４，５の表面の弾性率は、４ＧＰａ〜１０ＧＰａであることが好ましく、さらに好ましくは５ＧＰａ〜１０ＧＰａである。表面の弾性率が４ＧＰａ未満であると、耐傷性を得ることが困難となり、また、１０ＧＰａを超えると保護層４，５が脆くなる。また、防汚性の観点から、保護層４，５の表面の水に対する接触角は９０度以上であることが好ましく、さらに好ましくは９７度以上である。
【００３２】
本発明の光情報記録媒体ＯＭにおいて、光透過性支持体１，２と光情報記録層３とは、熱圧着による貼り合わせ、両層の間に介設した接着剤層を介して貼り合せ、あるいは光情報記録層３のうち、光透過性支持体１，２と接する表層が接着成分を含有し、この接着成分によって光透過性支持体１，２と光情報記録層３とを貼り合わせる、のいずれの態様によって貼り合わせられたものでもよい。接着剤層または接着成分としては、例えば、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、塩化ビニル、アクリル酸、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン等を主剤とする熱可塑性接着剤、あるいはフェノール系、尿素系の熱硬化型接着剤、エポキシ系、イソシアネート系の硬化剤硬化型接着剤などを用いることができる。
【００３３】
なお、前記の実施形態においては、１層の光情報記録層３を有する光情報記録媒体ＯＭについて説明したが、本発明の光情報記録媒体において、光情報記録層は、図１に示す１層で構成されるものに限定されず、２層以上の光記録層で構成されるものでもよく、光情報記録媒体への光情報の記録方式に応じて、適宜、層数が決定される。
【００３４】
本発明の光情報記録媒体の製造は、外側に放射線硬化樹脂からなる保護層４，５を有する２枚の光透過性支持体１，２の間に、光情報記録層３が介設された構造を有する光情報記録媒体を製造できる方法であれば、特に制限されず、いずれの方法にしたがって行ってもよい。この方法として、一面に放射線硬化樹脂からなる保護層４が形成された光透過性支持体１の他面に、光記録材料を塗布して光情報記録層３を形成する工程と、前記光情報記録層３の上に、一面に放射線硬化樹脂からなる保護層５が形成されたもう１枚の光透過性支持体２を、保護層５が外側面になるように貼り合わせる工程とを含む方法が挙げられる。保護層４，５を形成した光透過性支持体１，２は、所定の形状に成形しておき、光透過性支持体１の片面に光情報記録層３を形成した後、光透過性支持体２を貼り合わせて、所定の形状の光情報記録媒体を製造することもできるし、光透過性支持体１と光透過性支持体２の間に光情報記録層３を形成した後、打ち抜き、切断等の方法によって所定の形状に成形して光情報記録媒体を製造することもできる。また、光情報記録媒体は、光情報記録媒体の用途にしたがって、ディスク状、カード状などの所定の形状に成形される。
【００３５】
光透過性支持体１の上に光情報記録層３を形成する工程は、光透過性支持体１の上に、光記録材料を含む塗布液を所定の厚さに塗布した後、乾燥して光情報記録層３を形成することによって行なうことができる。また、光透過性支持体１の上に光記録材料を含む塗布液を塗布して乾燥する工程を繰返して所定の厚さの光情報記録層３を形成することによって行なってもよい。
【００３６】
光記録材料を含む塗布液は、前記の光硬化性または熱硬化性の樹脂の構成単量体、ならびに必要に応じて配合される、結合剤、光重合開始剤、増感剤、光学的増白剤、紫外線吸収剤、熱安定剤等の各成分を混合し、溶剤を加えて撹拌することによって調製することができる。この塗布液の調製は、光記録材料の硬化を防止するため、赤色灯等の暗室照明下で行うことが好ましい。
【００３７】
また、塗布液の粘度は、用いる塗布方法によって適宜調整されるが、通常、０．１〜５０Ｐｓ程度である。特に、ドクターナイフ等のコーターナイフを用いて塗布する場合には、１〜３０Ｐｓ程度の粘度であることが好ましい。
【００３８】
光透過性支持体１への塗布液の塗布方法は、ディップコート法、コータ、ロッド、コイルバー、ギーサー、ブレード、スピンコート等を用いて行うことができる。特に、均一かつ厚い光情報記録層を得るためには、コイルバーまたはロッドを用いて塗布する方法が好ましい。
【００３９】
光情報記録層３と光透過性支持体２を貼り付ける方法は、両者を熱圧着する、光情報記録層３の上に接着層を設けて光透過性支持体２と貼り合わせをする、あるいは光情報記録層３のうち光透過性支持体２と接する表層に接着成分を予め添加しておき、この接着成分によって接着してもよい。
【００４０】
また、光透過性支持体１および光透過性支持体２の一面に放射線硬化樹脂からなる保護層４，５を形成する方法は、光透過性支持体１または光透過性支持体２の片面に、前記放射線硬化樹脂およびその他の必要に応じて添加される成分を含む塗布液を塗布して乾燥した後、紫外線を照射して硬化させる方法などの方法を採用することができる。
【実施例】
【００４１】
次に、本発明の実施例および比較例について説明する。
【００４２】
（ホログラム記録材料）
塗布液Ａ
以下の組成の塗布液Ａを調製した。
下記式（１）で表わされる増感色素                    １質量部
下記式（２）で表わされる増感色素再生用ドナー      ４２質量部
下記式（３）で表わされる酸発生剤（消色剤前駆体）  ５０質量部
下記式（４）で表わされる酸消色性解離型色素          ８質量部
バインダー（ＰＭＭＡ−ＥＡ）                    １００質量部
溶媒
ジクロロメタン                              ６００質量部
アセトニトリル                                ５０質量部
【００４３】
【化１】
2006039131.tif 000003
【００４４】
塗布液Ｂ
下記の組成の塗布液Ｂを調製した。
バインダー    ＣＡＢ５３１−１              １００質量部
モノマー      ＰＯＥＡ                        ９２質量部
重合禁止剤    ＭＥＨＱ                    ０．０３質量部
増感色素      ＤＥＡＷ                    ０．０６質量部
重合開始剤    ＭＢＯ                        ３．６質量部
重合開始剤    ｏ−Ｃｌ−ＨＡＢＩ            ２．４質量部
溶剤          ジクロロメタン                ６３０質量部
【００４５】
注
ＣＡＢ５３１−１    セルロースアセテートブチレート（イーストマンケミカル社製）
ＰＯＥＡ            アクリル酸２−フェノキシエチル（ＣａｓＮｏ．４８１４５−０４−６）
ＭＥＨＱ            ４−メトキシフェノール（ＣａｓＮｏ．１５０−７６−５）
ＤＥＡＷ            シクロペンタノン−２，５−ビス[［４−（ジエチルアミノ）フェニル］メチレン]（ＣａｓＮｏ．３８３９４−５３−５）
ＭＢＯ              ２−メルカプトベンズオキサゾール（ＣａｓＮｏ．２３８２−９６−９）
ｏ−Ｃｌ−ＨＡＢＩ  ２，２−ビス［ｏ−クロロフェニル］−４，４，５，５−テトラフェニル−１，１−ビイミダゾール（ＣａｓＮｏ．１７０７−６８−２）
【００４６】
（保護層用塗布液の調製）
ＨＣ１
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）中にグリシジルメタクリレートを溶解させた後、熱重合開始剤（Ｖ−６５（和光純薬工業（株）製）を滴下しながら８０℃で２時間反応させた。得られた反応溶液をヘキサンに滴下し、生成する沈殿物を減圧乾燥してポリグリシジルメタクリレート（ポリスチレン換算分子量：１２０００）を得た。このポリグリシジルメタクリレートを、メチルエチルケトンに５０質量％の濃度になるように溶解した。得られたポリグリシジルメタクリレート溶液１００質量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート（ビスコース＃２９５：大阪有機化学工業（株）製）１５０質量部、光ラジカル重合開始剤（イルガキュア１８４、チバガイギー社製）６質量部、光カチオン重合開始剤（ロードシル２０７４、ローディア社製）６質量部、メガファック５３１Ａ（大日本インキ化学工業（株）製）１０質量部、およびメチルイソブチルケトン３０質量部の割合で混合して撹拌し、保護層用塗布液ＨＣ１を調製した。
【００４７】
ＨＣ２
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、ダイセル・ユーシービー（株）製）９３質量部、Ｒ−３８３３（ダイキンファインケミカル研究所製）５質量部、Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）２質量部、光ラジカル重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）３質量部の割合で、メチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（１：１質量比）混合液に溶解混合させて、保護層用塗布液ＨＣ２を調製した。
【００４８】
（透明ＰＣシートの作成）
ロール状に巻かれたＰＥＴ製の離型フィルムを搬送しながら、粘着剤塗布液を連続的に、乾燥厚１５μｍになるように離型フィルムに塗布した。乾燥ゾーン（１００℃）で乾燥させた直後に、ロール状に巻かれたポリカーボネートフィルム（帝人ピュアエース、厚さ８０μｍ）に離型フィルム上の粘着剤面が貼り合わされるようにロール状に共巻きした。この離型フィルムが貼り合わされたポリカーボネートフィルムを、作成する光情報記録媒体の基板と同一形状（直径１２０ｍｍ）になるように円板状に打ち抜いて、光情報記録媒体用の透明なＰＣシートを作製した。さらに、この透明なＰＣシートに前記放射線硬化樹脂からなる塗布液ＨＣ１またはＨＣ２を塗布して、保護層付きの透明ＰＣシートを作製した。
【００４９】
（透明ＴＡＣシートの作成）
ポリカーボネートフィルムの代わりに、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）を用いた以外は、前記と同様にして保護層付きの透明ＴＡＣシートを作製した。
【００５０】
（実施例１）
２５℃５０％ＲＨの環境下に、下面に前記の保護層用の塗布液ＨＣ１を塗布して保護層が形成された、厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍの射出成形ポリカーボネート樹脂（帝人化成社製ポリカーボネート、商品名パンライトＡＤ５５０３）からなる円板状の基板の上に、塗布液Ａを塗布乾燥して厚さ約１００μｍの光情報記録層を形成した。次に、光情報記録層の上に、前記の保護層用の塗布液ＨＣ１を塗布して形成されて保護層が上面になるように、もう１枚の射出成形ポリカーボネート樹脂からなる円板状の基板を貼り合わせ、ホログラフィック記録用の光情報記録媒体を製造した。
【００５１】
（実施例２）
塗布液Ｂを用いて光情報記録層を形成した以外は、実施例１と同様にしてホログラフィック記録用の光情報記録媒体を製造した。
【００５２】
（実施例３）
塗布液Ｂを用いて厚さ５００μｍの光情報記録層を形成した以外は、実施例１と同様にしてホログラフィック記録用の光情報記録媒体を製造した。
【００５３】
（実施例４）
塗布液Ｂを用いて厚さ２ｍｍの光情報記録層を形成した以外は、実施例１と同様にしてホログラフィック記録用の光情報記録媒体を製造した。
【００５４】
（実施例５）
２５℃５０％ＲＨの環境下、前記の保護層用の塗布液ＨＣ１を塗布して保護層が形成された透明ＰＣシートの上に、塗布液Ａを塗布・乾燥して、厚さ約５００μｍの光情報記録層を形成した。次に、光情報記録層の上に、もう１枚の同じ保護層付き透明ＰＣシートを、保護層が上面になるように貼り合わせ、ホログラフィック記録用の光情報記録媒体を製造した。
【００５５】
（実施例６）
保護層付き透明ＰＣシートの代わりに、前記の保護層用の塗布液ＨＣ１を塗布して保護層が形成された透明ＴＡＣシートを用いた以外は、実施例５と同様にして光情報記録媒体を製造した。
【００５６】
（実施例７）
保護層付き透明ＰＣシートの代わりに、前記の保護層用の塗布液ＨＣ２を塗布して保護層が形成された透明ＴＡＣシートを用いた以外は、実施例５と同様にして光情報記録媒体を製造した。
【００５７】
（比較例１）
保護層が形成されていない射出成形ポリカーボネート樹脂からなる円板状の基板を用いた以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を製造した。
【００５８】
（比較例２）
塗布液Ｂを用いて光情報記録層を、保護層が形成されていない射出成形ポリカーボネート樹脂からなる円板状の基板上に形成した以外は、実施例１と同様にしてホログラフィック記録用の光情報記録媒体を製造した。
【００５９】
（比較例３）
保護層が形成されていない射出成形ポリカーボネート樹脂からなる円板状の基板を用いた以外は、実施例５と同様にして光情報記録媒体を製造した。
【００６０】
（比較例４）
２５℃５０％ＲＨの環境下、前記の保護層用の塗布液ＨＣ２を塗布して保護層が形成された透明ＴＡＣシートの上に、塗布液ＨＣ２を塗布・乾燥して、厚さ約５００μｍの光情報記録層を形成した。次に、光情報記録層の上に、保護層が形成されていない透明ＰＣシートを貼り合わせ、ホログラフィック記録用の光情報記録媒体を製造した。
【００６１】
（比較例５）
保護層付き透明ＰＣシートの代わりに保護層付き透明ＴＡＣシートを、保護層が形成されていないＰＣシートの代わりに保護層が形成されていない透明ＴＡＣシートを用いた以外は、比較例４と同様にして光情報記録媒体を製造した。
【００６２】
（評価方法）
耐傷性
光情報記録媒体の保護層の上を、スチールウール＃００００（日本スチールウール（株）製）を用いて荷重２００ｇを加えながら１０回擦った後、表面の傷の有無を目視で観察した。
反り
光情報記録媒体を、２５℃、９０％ＲＨ、２５℃１０％ＲＨの環境に２時間保存後、それぞれ反りを評価した。このとき、２５℃、５０％ＲＨでのチルト角を初期値として、その変化が、半径方向チルト角で０．２度を超えたものを不可（表１中、×で示した）とした。
【００６３】
【表１】
2006039131.tif 000004
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の実施形態に係る光情報記録媒体の模式断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１      光透過性支持体
２      光透過性支持体
３      光情報記録層
４      保護層
５      保護層
【図１】
2006039131.tif 000005