(57)【要約】【課題】  透明基材として断面が舟底形状であり、スジが存在するトリアセチルセルロースを用いた場合であっても、防眩層の形成を安定に効率良く行うことができ、かつ光学的特性をより高精度に制御することが可能な、光学素子を提供する。【解決手段】  透明基材上に、この透明基材の表面を平滑化するための平滑化透明樹脂層を介して防眩層が形成されてなり、前記の透明基材が本質的にトリアセチルセルロースからなり、前記の平滑化透明樹脂層が厚さ０．５〜２．０μｍの範囲内に制御され、かつこの平滑化透明樹脂層は前記の透明基材上に他層を介することなく直接形成されたものであることを特徴とする光学積層体、およびこの光学積層体を具備してなる光学素子。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、この透明基材の表面を平滑化するための平滑化透明樹脂層を介して防眩層が形成されてなり、
前記の透明基材が本質的にトリアセチルセルロースからなり、前記の平滑化透明樹脂層が厚さ０．５〜２．０μｍの範囲内に制御され、かつこの平滑化透明樹脂層は前記の透明基材上に他層を介することなく直接形成されたものであることを特徴とする、光学積層体。
【請求項２】
前記の平滑化透明樹脂層が、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂から選ばれる１または２種以上の樹脂から本質的に形成されてなる、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記の平滑化透明樹脂層が、前記の透明基材表面に前記の平滑化透明樹脂を塗工し、次いでこの塗工された平滑化透明樹脂を電離放射線の作用によって硬化させることによって形成されてなる、請求項１または２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記の防眩層が、電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化物中に無機または有機の微粒子が分散されてなるものである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記の防眩層上に低屈折率層がさらに形成された、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体を具備してなる、光学素子。
【請求項７】
偏光素子と、この偏光素子の表面に、前記光学積層体における前記防眩層と反対側の面を向けて積層された請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体とを具備してなる、偏光板。
【請求項８】
透光性表示体と、この透光性表示体を背面から照射する光源装置とを有し、前記透光性表示体の表面に請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体または請求項７に記載の偏光板が積層されていることを特徴とする、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体およびこの光学積層体を具備してなる光学素子に関するものである。さらに詳細には、本発明は、透明基材上にこの透明基材の表面を平滑化するために平滑化透明樹脂層を介して防眩層が形成されてなる光学積層体および光学素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイモニター、テレビジョン、カーナビゲーション等の液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス表示装置等は、光拡散フィルム、レンズフィルム、偏光フィルム、視野角調整フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、タッチパネル、傷付防止ハードコート、光学密着によるＮｅｗｔｏｎ環防止用の微細凹凸を表面に形成したフィルム（アンチニュートンフィルム）等の光学積層体から形成されている。こうした光学積層体は、軽量化や薄型化の観点からその多くがプラスチック材料で作製されている。例えば、特開平６−１８７０６号公報（特許文献１）には、透明基板上に帯電防止層および防眩層を形成させた積層構造体が記載されている。
【特許文献１】特開平０６−１８７０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記の光学積層体の透明基材としては、透明性が高く、複屈折率がないという観点から、フィルム状のトリアセチルセルロースが使用されている。通常、このトリアセチルセルロースフィルムは、ロール状に長尺に巻いてもブロッキングしないようにするために、幅方向で両サイド部が厚く、センター部が両サイド部より薄い所謂舟底形状に成形されている。一方、トリアセチルセルロースフィルムには、この舟底形状とは別に、延伸時にリップの影響によって細かな流れ方法のスジがフィルム全幅で発生していることが多かった。
【０００４】
トリアセチルセルロースからなる透明基材の上には防眩層等が形成されるが、この防眩層を塗工により形成する際にその作業が難しかったり、所期の光学特性が得られないことがあった。
【０００５】
近年、ディスプレイパネル大型化や市場拡大に伴い、各種電子素子の大型化、高精度化が図られており、スジやムラ等が存在しない品質の整った大型の光学積層体が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、防眩層を有する光学積層体のスジやムラなどの面状欠陥の主原因の一つが、トリアセチルセルロースフィルム自身のもつ形態や、変形に起因する部分が極めて大きいことを見いだした。これらは、防眩層塗工時の塗工方式や乾燥条件に起因するものではなく、トリアセチルセルロース基材の形態および変形に相関している。
【０００７】
本発明は、主として、トリアセチルセルロースが舟底形状をしており、そしてその表面にスジが存在することによって発生する前記問題点を、基材表面に平滑化透明樹脂層を形成することにより。一度基材表面を平滑化した後に防眩層を形成することによって、解決するものである。
【０００８】
したがって、本発明による光学積層体は、明基材上に、この透明基材の表面を平滑化するための平滑化透明樹脂層を介して防眩層が形成されてなり、前記の透明基材が本質的にトリアセチルセルロースからなり、前記の平滑化透明樹脂層が厚さ０．５〜２．０μｍの範囲内に制御され、かつこの平滑化透明樹脂層は前記の透明基材上に他層を介することなく直接形成されたものであること、を特徴とするものである。
【０００９】
このような本発明による光学積層体は、好ましい態様として、前記の平滑化透明樹脂層が、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂から選ばれる１または２種以上の樹脂から本質的に形成されてなるもの、を包含する。
【００１０】
このような本発明による光学積層体は、好ましい態様として、前記の平滑化透明樹脂層が、前記の透明性基材表面に前記の平滑化透明樹脂を塗工し、次いでこの塗工された平滑化透明樹脂を電離放射線の作用によって硬化させることによって形成されてなるもの、を包含する。
【００１１】
このような本発明による光学積層体は、好ましい態様として、前記の防眩層が、電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化物中に無機または有機の微粒子が分散されてなるもの、を包含する。
【００１２】
このような本発明による光学積層体は、好ましい態様として、前記の防眩層上に低屈折率層がさらに形成されたもの、を包含する。
【００１３】
また、本発明による光学素子は、上記の光学積層体を具備してなるものである。
【００１４】
そして、本発明による偏光板は、偏光素子と、この偏光素子の表面に、前記光学積層体における前記防眩層と反対側の面を向けて積層された前記の光学積層体とを具備してなるもの、である。
【００１５】
また、本発明による画像表示装置は、透光性表示体と、この透光性表示体を背面から照射する光源装置とを有し、前記透光性表示体の表面に前記光学積層体または前記の偏光板が積層されていること、を特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明による光学積層体は、明基材上に、この透明基材の表面を平滑化するための平滑化透明樹脂層を介して防眩層が形成されてなり、前記の透明基材が本質的にトリアセチルセルロースからなり、前記の平滑化透明樹脂層が厚さ０．５〜２．０μｍの範囲内に制御され、かつこの平滑化透明樹脂層は前記の透明基材上に他層を介することなく直接形成されたものであるので、透明基材として断面が舟底形状であり、スジが存在するトリアセチルセルロースを用いた場合であっても、防眩層を塗工作業が難しかったり、所期の光学特性が得られない等の問題点が発生することがない。
【００１７】
このことから、防眩層の形成作業をより安定にかつ高速度で効率良く形成することが可能になるので、大型の光学素子であっても効率よく製造するが可能になる。そして、光学素子の光学的特性も、より精度よく安定的に制御することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明による光学積層体は、前記の通りに、透明基材上に、この透明基材の表面を平滑化するために平滑化透明樹脂層を介して、防眩層が形成されてなり、前記の透明基材が本質的にトリアセチルセルロースからなり、前記の平滑化透明樹脂層が厚さ０．５〜２．０μｍの範囲内に制御され、かつこの平滑化透明樹脂層は前記の透明基材上に他層を介することなく直接形成されたものである。
【００１９】
以下、本発明を図面に基づいて説明する。なお、これにより本発明が限定されるものではない。  
図１は、本発明による光学積層体の好ましい一具体例の断面図である。図１中、１は本発明による光学積層体を、２は透明基板を、３は平滑化透明樹脂層を、４は防眩層を、５は防眩層４に存在する微粒子を、６は低屈折率層を、それぞれ示す。
【００２０】
本発明での透明基材２は、本質的にトリアセチルセルロースからなるものである。厚みは、光学素子の種類、大きさ、具体的用途に応じて適宜変更することができるが、通常は２５〜１０００μｍ程度、好ましくは４０〜８０μｍ、である。なお、トリアセチルセルロースフィルムは、通常、幅方向で両サイド部が厚く、センター部が両サイド部より薄い所謂舟底形状に成型されていて、そして細かなスジがフィルム全幅で発生していることは前記の通りである。本発明による光学積層体を構成する透明基材は、このような舟底形状かつ細かなスジが存在するトリアセチルセルロースフィルムを対象とすることができる。
【００２１】
また、本発明では、透明基材２上に平滑化透明樹脂層３を介して防眩層４が形成される。この平滑化透明樹脂層３は、厚さ０．５〜２．０μｍの範囲内に制御され、かつこの平滑化透明樹脂層３は前記の透明基材２上に他層を介することなく直接形成されている。
【００２２】
本発明では、このように特定の厚さの平滑化透明樹脂層が透明基材上に他層を介することなく直接形成されていることから、前記のような舟底形状であり、スジが存在するトリアセチルセルロースを透明基材として用いた場合であっても、防眩層の塗工作業が難しかったり、所期の光学特性が得られない等の問題点が発生することがない。
【００２３】
平滑化透明樹脂層は、厚さ０．５〜２．０μｍ、好ましくは０．８〜１．６μｍ、である。厚さが０．５μｍ未満である場合には、トリアセチルセルロース基材を十分に平滑化することが困難であり、一方、２．０μｍ超過ではカールの影響や各構成層間での界面剥離の恐れがある。
【００２４】
この平滑化透明樹脂層３は、各種の透明性樹脂によって形成することができる。本発明では、例えば従来から光学分野において用いられてきた樹脂、好ましくは電離放射硬化型樹脂によって形成することができる。そのような電離放射硬化型樹脂の好ましい具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【００２５】
特に好適には、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を混合するのが好ましい。
【００２６】
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1，６−ヘキサンジオールジアクリレート等を混合するのが好ましい。
【００２７】
この平滑化透明樹脂層３は、この平滑化透明樹脂層を形成する電離放射線硬化型樹脂組成物および光重合開始剤その他の材料が溶解ないし分散した塗工液を調製し、これを上記のトリアセチルセルロースからなる透明基板に塗布し、その後、電離放射線を照射することからなる硬化処理に付すことによって形成することができる。
【００２８】
そして、本発明では、上記の平滑化透明樹脂層３に防眩層４が形成される。本発明では、透明樹脂材料に防眩性を付与するために無機または有機の微粒子５を分散させたものをこの防眩層４とすることができる。防眩層４を構成するこの透明樹脂材料としては、各種の透明樹脂、例えば従来から光学分野において用いられてきた樹脂、好ましくは電離放射硬化型樹脂によって形成することができる。そのような電離放射硬化型樹脂の好ましい具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【００２９】
透明樹脂材料に防眩性を付与するために無機微粒子としては、シリカ、アルミナを例示することができる。有機微粒子としては、好ましくは屈折率１．４０〜１．６０の樹脂ビーズを例示することができる。樹脂ビーズの屈折率をこのような値に限定する理由は、電離放射線硬化型樹脂、特にアクリレート又はメタアクリレート系樹脂の屈折率は通常１．４０〜１．５０であることから、電離放射線硬化型樹脂の屈折率にできるだけ近い屈折率を持つ樹脂ビーズを選択すると、塗膜の透明性が損なわれずに、しかも、防眩性を増すことができるからである。ところで、電離放射線硬化型樹脂の屈折率に近い屈折率を持つ樹脂ビーズとしては、ポリメタクリル酸メチルアクリレートビーズ（屈折率：１．４９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率：１．５８）、ポリスチレンビーズ（屈折率：１．６０）、ポリアクリルスチレンビーズ（屈折率：１．５７）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率：１．５４）を好ましい具体例として例示することができる。
【００３０】
これらの樹脂ビーズの粒径は、３〜８μｍのものが好適に用いられ、樹脂１００重量部に対して５〜２２重量部、通常１５重量部程度用いられる。このような樹脂ビーズを混入させると、塗工時に容器の底に沈澱した樹脂ビーズを攪拌して良く分散させる必要がある。このような不都合を無くすために、塗料液に樹脂ビーズの沈降防止剤として粒径０．５μｍ以下、好ましくは０．１〜０．２５μｍのシリカビーズを含ませてもよい。なお、このシリカビーズは添加すればするほど有機フィラーの沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。したがって、樹脂１００重量部に対して、防眩層としての透明性を損なわない程度に、しかも沈降防止することのできる範囲である０．１重量部未満程度が好ましい。
【００３１】
防眩層を構成する上記の透明樹脂材料には、必要に応じて、帯電防止剤、レベリング剤等の他の材料を配合することができる。
【００３２】
そのような帯電防止剤には、無機フィラー、例えば、金属フィラー、酸化すず、酸化インジウム等を用いることができる。特に、粒径が可視光線の波長以下のものは硬化後透明になり、防眩フィルムの透明性を損なわないので好ましい。
【００３３】
また、有機系帯電防止剤には、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜３級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性帯電防止剤、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン系帯電防止剤、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性帯電防止剤、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性の帯電防止剤等の各種界面活性剤型帯電防止剤、更には上記の如き帯電防止剤を高分子量化した高分子型帯電防止剤等が挙げられ、又、第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を有し、電離放射線により重合可能なモノマーやオリゴノマー、例えば、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレートモノマー、それらの第４級化合物等の重合性帯電防止剤も使用できる。
【００３４】
このように、防眩材料に帯電防止剤を添加することにより、この防眩塗料を塗布して製造された防眩フィルムは静電気の発生がなく、静電気によってゴミが付着することがない。また液晶ディスプレイ等に組み込まれた際にも外部から静電気障害を受けることがない。
【００３５】
レベリング剤として、フッ素系、シリコーン系のレベリング剤を電離放射線硬化型樹脂中に添加すると、硬化に有利である。その理由は、通常、透明基板としてトリアセチルセルロースを用いた場合には、耐熱性がないために紫外線の照射強度をあまり上げられないので、得られた塗膜表面の硬度が不足するが、レベリング剤を添加した電離放射線硬化型樹脂においては、溶剤乾燥時の塗膜にはフッ素系、シリコーン系のレベリング剤が空気界面にブリードしてくるので、酸素による紫外線硬化型樹脂の硬化阻害を防ぐことができ、紫外線の照射強度が低くても十分な硬度を有する硬化塗膜を得ることができるからである。
【００３６】
防眩層の厚さは、２．０〜１０．０μｍ、好ましくは３．０〜６．０μｍ、である。
【００３７】
この防眩層４の上には、必要に応じて、低屈折率層６が形成される。
【００３８】
本発明の低屈折率層６の屈折率は、１．３０〜１．５０が好ましく、より好ましくは１．３０〜１．４５である。屈折率が小さいほど、反射率が低くなるため好ましいが、１．３０を下回ると、低屈折率層としての強度が不足するようになるため、最外面に用いられる反射防止フィルムとしては好ましくない。
【００３９】
この低屈折率層６の光学薄膜の厚さは、下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００４０】
（ｍ/４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍ/４）×１．３    （Ｉ）
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
【００４１】
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【００４２】
この低屈折率層６は、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、中空シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する透明性樹脂、中空シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂のいずれかから構成され、屈折率が１．４５以下で、光学薄膜を形成したもの、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。
【００４３】
低屈折率層６は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも質量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層６を形成する。
【００４４】
低屈折率層６を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、好ましくは４０〜８０％、特にに好ましくは４０〜７０％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％、好ましくは１０〜５０％、特に好ましくは１５〜４５％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０％、好ましくは０〜３５％、特に好ましくは１０〜３０％含有するものであってもよい。
【００４５】
上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０％以下、好ましくは１０％以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモー３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモー３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。
【００４６】
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。
【００４７】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００、特に１０，０００〜１００，０００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。
【００４８】
このほか、低屈折率層６は、ＳｉＯ２からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により、またはＳｉＯ２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ２ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層５は、ＳｉＯ２以外にも、ＭｇＦ２の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ２薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。
【００４９】
本発明による光学積層体における平滑化透明樹脂層防眩層および防眩層を電離放射硬化型樹脂によって形成した場合、その電離放射硬化型樹脂の硬化は、通常の電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法、即ち、紫外線、可視光線等の電磁波、又は電子線の照射によって硬化することができる。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線、可視光線等の電磁波による硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する電磁波が利用できる。
【００５０】
以上の通りにして、本発明による光学積層体が形成される。この光学積層体は、透明基材として断面が舟底形状であり、スジが存在するトリアセチルセルロースを用いた場合であっても、防眩層を塗工作業が難しかったり、所期の光学特性が得られない等の問題点が発生することがない。このことから、防眩層の形成作業をより安定にかつ高速度で効率良く形成することが可能になるので、大型の光学素子であっても効率よく製造するが可能になる。そして、光学素子の光学的特性も、より精度よく安定的に制御することが可能になる。
【実施例】
【００５１】
以下、本発明を実施例と比較例により更に詳しく説明する。  
（実施例１）
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００５２】
（基材平滑化透明樹脂層１の調製）
紫外線硬化型樹脂であるウレタンアクリレート（ＵＶ７６０５Ｂ）を１４．２質量部（日本合成化学工業（株）製、屈折率１．５１）、同じく紫外線硬化型樹脂である１，６ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）を２７．８質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、エチルセロソルブを５５．０質量部、シクロヘキサノンを１０９．０質量部及び、ＭＩＢＫを２５４．０質量部を十分混合して塗布液として調整した。この塗布液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して基材平滑化透明樹脂層の塗液を調製した。
【００５３】
（防眩層用塗布液の調製）
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を９５．0質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、同じく紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを５．０質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を１０．０質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を５．０質量部（チバガイギー（株）製）、透光性微粒子としてのスチレンビーズを１５．０質量部（綜研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）、本発明のレベリング剤である１０−２８を０．０１質量部（ザ・インクテック（株）製）、トルエンを１２７．５質量部、及び、シクロヘキサノンを５４．６質量部を十分混合して塗布液として調整した。この塗布液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液を調製した。
【００５４】
（１）   基材平滑化透明樹脂層の塗工
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、防眩層用塗布液１を、乾燥膜厚が１．２μｍになるように塗布し、７０℃で１分間溶剤乾燥の後、さらに窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を７０ｍＪ照射して、光硬化させ、基材平滑化透明樹脂層を形成し、巻き取った。
【００５５】
（２）   防眩層の塗工
前記基材平滑化透明樹脂層を塗工したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記防眩層用塗布液Ｉを乾燥膜厚が６．５μｍになるように塗布し、１１０℃で７０秒乾燥の後、更に窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を５０ｍＪ照射して、光硬化させ、防眩層が塗設された防眩フィルムを形成し、巻き取った。
【００５６】
（３）  防眩フィルムの鹸化処理
低反射防眩フィルム製膜後、以下の処理を行った。  
２．０ｍｏｌ／ｌの水酸化カリウム水溶液を調製し、６０℃に保温した。０．００５ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、４０℃に保温した。 作製した防眩フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した。  
その後、水に浸漬し水酸化カリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。 最後に試料を１００℃で十分に乾燥させた。  
このようにして、鹸化処理済み低反射防眩フィルムを作製した。  
これを実施例１試料とする。
【００５７】
（比較例１）
比較例１は、基材平滑化透明樹脂層を塗工せずに、直接、防眩層を、トリアセチルセルロースフイルムに塗工した以外は、実施例１の試料と全く同じにして作製した。
【００５８】
（比較例２）
比較例２は、基材平滑化透明樹脂層の乾燥膜厚を０．２μｍにした以外は、実施例１の試料と全く同じにして作製した。
【００５９】
（比較例３）
比較例３は、基材平滑化透明樹脂層の乾燥膜厚を３．０μｍにした以外は、実施例１の試料と全く同じにして作製した。
【００６０】
（比較例４）
比較例４は、基材平滑化透明樹脂層のバインダーを官能基の高いモノマーに置き換えた下記の基材平滑化透明樹脂層２を調製して使用した以外は、実施例１の試料と全く同じにして作製した。
【００６１】
（基材平滑化透明樹脂層２の調製）
紫外線硬化型樹脂であるウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ）を１１．２質量部（日本合成化学工業（株）製、屈折率１．５１）、同じく紫外線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を３０．８質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、エチルセロソルブを５５．０質量部、シクロヘキサノンを１０９．０質量部及び、ＭＩＢＫを２５４．０質量部を十分混合して塗布液として調整した。この塗布液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して基材平滑化透明樹脂層の塗液を調製した。
【００６２】
（比較例５）
比較例５は、基材平滑化透明樹脂層の中に導電無機顔料（ＡＴＯ）を分散させた。  
下記の基材平滑化透明樹脂層３を調製して使用した以外は、実施例１の試料と全く同じにして作製した。
【００６３】
（基材平滑化透明樹脂層３の調整）
帯電防止材料のＣ-４４５６ Ｓ-７（ＡＴＯ含有導電インキ、ＡＴＯの平均粒径３００〜４００ｎｍ、固形分濃度４５％  日本ペルノックス（株）製）２．０ｇ、およびメチルイソブチルケトン２．８４ｇ、シクロヘキサノン１．２２ｇを添加、攪拌の後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、帯電防止層用塗布液３を調製した。  
下記の表１は、実施例および比較例の結果を示すものである。
【００６４】
表１において、「スジの有無」、「カール」、「密着性」および「透過率」は、それぞれ下記方法に従って評価したときのものである。
【００６５】
１）スジの有無評価：
防眩フィルムを、１）三波長蛍光灯下での透過面状検査、ならびに、２）低反射防眩フィルム面と反対側に偏光板をクロスニコルにして貼合し、三波長蛍光下での反射面状検査を行って、スジの発生の有無を詳細に評価した。  
×  ：目標未達（スジがどの角度からも目視で確認でき、幅方向全てで発生）
△  ：許容（スジは軽微であるが、ある角度からもしくは、幅方向で局所的に発生）
○〜◎：かなり良好〜極めて良好（スジは、極めて軽微もしくは、発生していない）
２）カールの評価：
塗工直後の巻き取り試料の外側を１５０×１５０ｍｍのサイズに切り出し、１時間常温放置し、一級金尺で試料の四角のうち、一番カールしている部位についての水平面からの高さを計測する。  
×： カール部位の高さ１５ｍｍ以上
△： カール部位の高さ１０〜１５ｍｍの範囲
○： カール部位の高さ１０ｍｍ以下
３）密着性：
塗膜に１ｍｍ碁盤目カットを入れ、ニチバン製工業用２４ｍｍセロテープを用いて、９０°方向に５回剥離を行う。  
×： 碁盤の升目で剥離部あり
△： 碁盤目カット部でエッジ欠け剥離があり
○： 剥離なし
４）透過率：
（株）村上色彩技術研究所製の反射・透過率計（型番：ＨＲ−１００）を用いて塗工面を光源側に向けて測定する。
【表１】
2006098997.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明による光学積層体の好ましい一具体例の断面図
【符号の説明】
【００６７】
１  光学積層体
２  透明基板
３  平滑化透明樹脂層
４  防眩層
５  微粒子
６  低屈折率層
【図１】
2006098997.tif 000004