(57)【要約】【課題】静的光学系を使うパターニング生成システムでは、用途に応じて光学系を設計し直す必要があり、照明源出力の径時変化や複数特性の同時補償ができない。それで実測または検出した特性に応じて調整可能な動的光学系を提供する。【解決手段】本発明のシステム１００は、中に流体が通るチャンネルがある光学部品１０４を照明源が出す放射線ビーム１０３によって照明する。流体源１０６がこのチャンネルに供給する流体の圧力および／または濃度を圧力制御器１０８および／または濃度制御器１１２によって調整して、この光学部品を通過する放射線ビームの特性を変える。検出器１２０が光学部品１０４を通過した後のビームの光学特性を検出し、それに応じた信号を各制御器等へ送る。この補正対象となるビーム特性は、照明強度均一性、楕円性、またはテレセントリック性でもよい。【選択図】図１
2006324660.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線ビームを生じる照明系と、
このビームが通過し、中を少なくとも一つの流体路が貫通する少なくとも一つの光学部品で、このビームの一つ以上の部分の特性を変えられる光学部品と、
この少なくとも一つの流体路へ流体を供給する流体源と、
この流体源とこの光学部品の間に配置した、この流体の圧力を制御する圧力制御器およびこのビームの特性を変えるためにこの流体の濃度を制御する濃度制御器の少なくとも一つとを含む装置。
【請求項２】
請求項１の装置に於いて、上記一つ以上の流体路が層流または流体チャンネルの一つによって形成されている装置。
【請求項３】
請求項２の装置に於いて、上記流体チャンネルが種々の形状の断面を有する装置。
【請求項４】
請求項２の装置に於いて、上記流体チャンネルの厚さが流体路方向に全長に亘って一定であるか変動するかの一つである装置。
【請求項５】
請求項１の装置であって：
互いに関して隣接または順次のうちの一つで配置された上記光学部品の第１のものと第２のものを含み、上記光学部品のこの第１および第２のもののそれぞれのものの流体路が互いに関して平行、垂直、または、或る角度を成すうちの一つである装置。
【請求項６】
請求項１の装置に於いて：
上記照明系が瞳面および対象物面を含み；および
上記一つ以上の光学部品がこの瞳面または対象物面の一つに配置してある装置。
【請求項７】
請求項６の装置に於いて、上記光ビームの一つ以上の部分のテレセントリック性または強度均一性の一つを、上記一つ以上の光学部品が上記対象物面に配置してあるとき、調整する装置。
【請求項８】
請求項６の装置に於いて、上記光ビームの一つ以上の部分の楕円性を、上記一つ以上の光学部品が上記瞳面に配置してあるとき、調整する装置。
【請求項９】
請求項１の装置に於いて：
上記濃度制御器が上記流体の濃度を制御する流量制御器であり、上記流体の上記圧力および上記濃度の一つまたは両方を上記ビームの特性を調整するために制御する装置。
【請求項１０】
請求項１の装置に於いて、既知の特性の上記ビームを、それぞれ、上記圧力制御器または濃度制御器で受け、上記流体の、それぞれ、上記圧力または濃度を制御するために使う装置。
【請求項１１】
請求項１の装置であって、さらに
上記光学部品の後に配置され、上記ビームを検出し且つ上記流体の、それぞれ、上記圧力または濃度を制御するために使う信号を上記圧力制御器または濃度制御器へ伝送する検出器を含む装置。
【請求項１２】
前記放射線ビームが上記光学部品を通過した後、それにパターン付与するパターン付与装置と、
このパターン付与された放射線ビームを半導体ウエハ、フラットパネルディスプレイ基板、投影装置のディスプレイと、投影器のうちの一つの目標部分に投影する投影系とを含む請求項１に記載された装置。
【請求項１３】
請求項１の装置を使って作ったフラットパネルディスプレイ。
【請求項１４】
（ａ）放射線ビームの一つ以上の部分の特性を、このビームが通過し、中を少なくとも一つの流体路が貫通する少なくとも一つの光学部品を使って変える工程；
（ｂ）この少なくとも一つの流体路へ流体を供給する工程；および
（ｃ）この流体が工程（ａ）を実行するためにこの光学部品に入る前にその圧力または濃度の少なくとも一つを制御する工程を含む方法。
【請求項１５】
請求項１４の方法に於いて、工程（ａ）が、さらに：
層流または流体チャンネルの一つを使って上記一つ以上の流体路を作る工程を含む方法。
【請求項１６】
請求項１４の方法であって、さらに：
上記光学部品の第１のものと第２のものを、互いに関して隣接または順次のうちの一つで配置する工程；および
上記光学部品のこの第１および第２のものの各それぞれのものに上記流体流路を互いに関して平行、垂直、または或る角度を成すうちの一つで配置する工程含む方法。
【請求項１７】
請求項１４の方法に於いて、上記光ビームの上記特性がテレセントリック性、強度均一性、または楕円性の少なくとも一つである方法。
【請求項１８】
請求項１４の方法に於いて、工程（ｃ）が：
上記流体の上記圧力または上記濃度を制御するために上記ビームの既知の特性を使う工程；および
上記流体の上記圧力または上記濃度を制御するために使う信号を発生するために上記ビームが上記光学部品を通過してから検出する工程の一つを含む方法。
【請求項１９】
請求項１４の方法であって、さらに：
（ｄ）上記ビームが上記光学部品を通過してからそれをパターン化する工程；並びに
（ｅ）このパターン化したビームを半導体ウエハ、フラットパネルディスプレイ基板、投影装置のディスプレイ、および投影器の一つの目標部分へ投影する工程を含む方法。
【請求項２０】
請求項１４の方法を使って作ったフラットパネルディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線吸収流体を用いた照明強度均一性、楕円性およびテレセントリック性の制御に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
後に対象物上に投影する、放射線の入射ビームにパターンを付与するパターン発生環境では、放射線ビームおよび／またはパターン付与された放射線ビームの特性を制御することが重要である。これは、対象物上に正確なパターンを作るためには、放射線ビームおよび／またはパターン付与された放射線ビームを精密に制御しなければならないからである。
【０００３】
一般に、パターン発生装置は、静的光学系を用いる。静的光学系は、典型的には、所望の特性を有する光ビームを作るために、パターン発生装置の各用途に向けて設計され、かつ、製造される。静的光学系の例では、照明特性の変更が望ましいか、または、必要なとき、新しい光学系を設計し、製造しなければならない。また、照明源の出力の、時間による変化は、通常静的光学系では補償することができず、結果として、望むよりも劣るパターンが対象物上に形成される可能性がある。
【０００４】
その他の照明制御法では、望まない光特性の領域の光を捨てることによって補正が行われ、および／または、比較的ゆっくりした機械的装置によって修正が行われ、それによって、処理量がかなり低下することになるだろう。
【０００５】
さらに、或る例では、一つの光学特性（例えば、光強度の均一性）を修正することによって、その他の特性（例えば、楕円性および／またはテレセントリック性）が望ましくなくなる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、照明ビームおよび／またはパターン付与された照明ビームを測定または検出された特性に応じて調整可能な動的光学系を用いた装置と方法が必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一形態によれば、照明系と、少なくとも一つの光学部品と、流体源と、圧力制御器および流体濃度制御器のうちの少なくとも一つとを含む装置が提供される。前記照明系は、放射線ビームを作る。前記少なくとも一つの光学部品は、それを貫通する少なくとも一つの流体路を有し、放射線ビームが光学部品を通過し、前記光学部品が、放射線ビームの一つ以上の部分の特性を変ることができる。前記流体源は、前記少なくとも一つの流体路に流体を供給する。前記圧力および／または流体濃度制御器は、流体源と光学部品の間に配置され、放射線ビームの特性を変えるために流体圧力および／または流体濃度を制御する。
【０００８】
前記少なくとも一つの光学部品は、それを貫通する少なくとも一つの流体路を有し、流体路を放射線ビームが通過し、前記光学部品は、放射線ビームの一つ以上の部分の特性を変ることができる。
本発明の別の形態によれば、以下の段階を含む方法が提供される。
放射線ビームが通過し、内部を少なくとも一つの流体路が貫通する少なくとも一つの光学部品を用いて、放射線ビームの一つ以上の部分の特性を変える段階、
前記少なくとも一つの流体路に流体を供給する段階、および
前記特性を変える段階を実行するために、流体が前記光学部品に入る前に、流体の圧力および／または流体濃度を制御する段階。
【０００９】
以下、本発明のその他の実施例、特徴および利点について、本発明の種々の実施例の構造および作用を合わせて、添付図を見ながら詳しく説明する。
【００１０】
本明細書に添付された図面は、本発明の一つ以上の実施例を示し、明細書の説明と合わせて、本発明の原理を説明し、当業者が本発明を製造し、かつ、利用することを可能にする。
【００１１】
本発明を添付図を見ながら説明する。図中、類似の参照符号は、同一または機能的に類似の部品を示すだろう。さらに、参照符号の最左桁は、その参照番号が最初に現れる図面を特定するだろう。
【実施例】
【００１２】
（概要）
特別な構成および配置について議論するが、これは単なる説明目的のために行うことを理解すべきである。当業者は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく別の構成および配置も利用できることが分るだろう。当業者にとって、種々の別の用途にも本発明を利用できることが明白だろう。
【００１３】
本発明の実施例によれば、一つ以上の流体流路が貫通する光学部品を用いる装置と方法が提供される。照明源からの放射線ビームがこの光学部品を通過すると、圧力制御器および／または濃度制御器が、必要ならば、このビームの一つ以上の部分またはこのビームの全断面の特性を変えるためにこの流体流を調整する。
【００１４】
種々の例で、二つ以上の光学部品を隣接関係か順次関係で使うことができる。流体流路は、二つ以上の光学部品を使うとき、各光学部品で互いに関して平行、垂直、および／または或る角度を成してもよい。流体路は、放射状、同心円、または湾曲路のような、何か他の形状も採ることができる。
【００１５】
種々の例で、この流体流、およびそれに基づく、このビームの特性の調整が楕円性、照明強度の均一性、および／またはこのビーム若しくはその部分のテレセントリック性の変更または補正を可能にする。ビーム断面も所望の形に修正できる。
【００１６】
（例示システム）
図１は、本発明の一実施例によるシステム１００を示す。システム１００は、例えば、図９、図１０または図１１に関して以下に説明するようなリソグラフィシステムの、照明系でもよい。システム１００は、流体路（図示せず）を有する光学部品１０４を照明する、放射線ビーム１０３を作る照明源１０２を含む。
【００１７】
光学部品１０４は、ビーム１０３の所望の波長（例えば、３４６ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ等）を所望の透過率または所望の吸収量で透過可能にするどんな材料からでも作ることができる。例えば、光学部品１０４は、マイクロチャンネルのある、または貫流空洞のあるガラス板でもよい。
【００１８】
一例では、光学部品１０４が照明系１００のフィールドより比較的大きく、例えば、光学部品１０４が幅約１０４ｍｍ、長さ約６０ｍｍ、および高さ約５ｍｍであることがある。
【００１９】
この流体路は、圧力制御器１０８（ＰＣ１０８）の制御の下で流体源１０６から流体を受ける。この流体を光学部品１０４から離れてからレセプタクル１１０で捕え、その後この流体を処分するかリサイクルする。
【００２０】
一例では、この流体が濃度に基づいて搬送体成分（例えば、Ｎ２等）および吸収成分（例えば、オゾン、ＮＯ、ＮＯ２等）を含む液体またはガスであってもよいが、それに限定されない。
【００２１】
別の例では、圧力制御器１０８を使ってこの流体（例えば、ＮＯ等）に加える圧力の調整によって、この流体のパラメータ（例えば、この流体の密度若しくは濃度またはこの流体の吸収特性）を調整する。これは、流体圧力の変化を適用するとき、分子の濃度が変るからである。必要ならば、これらの流体パラメータの調整を使ってビーム１０３の特性を調整する。
【００２２】
この照明系の中の光学部品１０４の位置に依って、図８に関して以下にさらに詳しく説明するように、ビーム１０３の特性が強度、楕円性、ビーム断面、およびテレセントリック性であってもよいが、それに限定されない。
【００２３】
種々の例では、この流体を、流量制御器１１２（ＭＦＣ）、ソレノイドおよび／またはマニホルド１１４（Ｓ／Ｍ）、または背圧制御器１１６の一つ以上を使っても調整する。ＭＦＣ１１２は、ここでは搬送体ガスの中の吸収流体の濃度を変え、それによってこの流体の吸収特性を各流体路で選択的に変えるために使う。
【００２４】
典型的に、Ｓ／Ｍ１１４は、以下に議論するように、例えば、多重流体路またはチャンネルを使うとき、他のパイプへ若しくは他のパイプからの幾つかの横出口を有するパイプまたは複数の開口を有するチャンバである。これを或る圧力で吸収材料、例えば、貯蔵装置で満たすことができる。Ｓ／Ｍ１１４のマニホルド部は、「コンデンサ」として作用することができ、それで各チャンネルを通る流が異なる背圧で変っても、このマニホルドが供給する圧力は変らない。これは、流れが変っても濃度を一定に保つ。十分な貯蔵量がなければ、これが全てのチャンネルの圧力、即ち、濃度に影響することがある。Ｓ／Ｍ１１４を使うことは、システム１００が流体流制御と別の圧力制御を持つことを可能にする。
【００２５】
典型的に、Ｓ／Ｍ１１４のソレノイド部は、コイルおよび磁界の影響の下でこのコイル軸に沿って自由にスライドする金属コアから成る、スイッチとして使う組立体である。一例で、これは、背圧制御器１１６を制御する。
【００２６】
典型的に、流量制御器１１２は、或る装置に配送する流体の量を制御するために流体配送管路に設置した器具である。別の例で、流量制御器１１２は、搬送体流体の中の吸収流体の濃度を調整するために使うことができる。流量制御器１１２は、搬送体流体の中の吸収流体の濃度を調整し、従って流体の放射線吸収特性を調整するために使うことができる。
【００２７】
搬送体流体の流量を制御することは、吸収にも影響することがある、ガスチャンネルの中の熱の量、即ち、温度上昇を制御することができる。それで、温度の変調も使うことができる。流量制御器１１２は、流量を制御し、それは熱上昇の割合および熱放散を制御する。流量制御器１１２は、搬送体ガスの中の吸収ガスの濃度を制御するために使うことができる。
【００２８】
背圧制御器１１６は、典型的にシステムが作動する圧力を変えるために使う。例えば、それを基本圧力を設定するために使うことができる。これを各流体路に対し異なる値に設定することができる。
【００２９】
圧力制御器１０８、および／または上に述べたその他の要素を、少なくとも一つまたは二つの構成を使って制御することができる。第１構成では、メモリ１１８がビーム１０３の光学パラメータに関する情報を受け且つ記憶する。この情報を少なくとも圧力制御器１０８へ伝えて光学部品１０４を通るビーム１０３の伝達中に、ビーム１０３の特性を、必要ならば、全体的にまたは部分的に変えるために使う。第２構成では、検出器１２０がビーム１０３を光学部品１０４の通過後に受ける。検出器１２０は、ビーム１０３の光学特性を検出し、それに相関する信号を少なくとも圧力制御器１０８へ送る。圧力制御器１０８は、この信号を使ってビーム１０３の特性を調整するために流体のパラメータを調整する。例えば、これは、フィードバックシステムであってもよい。検出器１２０を光学部品１０４の前に配置する、フィードバックシステムも使うことができることを理解すべきである。一例では、プロセッサを加えてビーム特性情報を各チャンネルに対する圧力または濃度制御要件に変換しおよび必要なデルタ変化を計算することができ、次にそれをこの圧力および／または濃度制御器へ実行のために伝達する。
【００３０】
一例では、この流体が光学部品１０４の材料の光学パラメータ、例えば、屈折率を整合または実質的に整合するために使う成分を含むことができる。これは、流体から光学部品境界面への影または反射光を最小化するために行うことができる。これは、境界面での回折を減らすこともできる。
【００３１】
一例では、この流体流がシステム１００の中の熱効果、および従って温度変化を実質的に減少しまたは制御するために光学部品１０４およびビーム１０３からのエネルギーを吸収する。これは、素子１０４を通る所望の流体密度または濃度を維持するために望ましい。
【００３２】
（例示光学部品）
図２、図３および図４は、本発明の種々の実施例による、光学部品の中の流体路に対する種々の構成を示す。図解目的だけであるが、他の形状および構成も可能であることを理解すべきである。
【００３３】
図２は、本発明の一実施例による、複数の流体路２２２を備える例示光学部品２０４を示す。放射線ビームが光学部品２０４にこの紙面の中へ入射する。流体路２２２が一つだけ必要であるが、光学部品２０４の所望の用途に依って任意の数を使うことができる。
【００３４】
１チャンネルの例では、光学部品２０４がフィルタとして作用できる。例えば、このチャンネルの断面が補正しようとする既知の断面またはビームに与える断面に関係する断面を有することができる。そこでこの単一チャンネルをこのビームを横切って置き、１チャンネルを使う。一例で、このチャンネルの中の流体の吸収作用が変っても、このビーム断面を横切る光の振幅が、上に議論したように、この流体の吸収特性に基づいて変るので、このチャンネルの形状によって作られる光ビームの断面は同じままである。
【００３５】
別の例では、照明ビームの非常に小さい部分を制御するために、例えば、各々チャンネル深さが５０マイクロメートルないし数百マイクロメートルの範囲の幅約１０〜２００μｍの複数の非常に密に詰めた流体路２２２を使うことができるが、これに限定されない。チャンネル間の間隔は、特定の用途で補正する所望の空間周波数に基づいて選択する。
【００３６】
一例では、各路の中の流体が異なる吸収特性を有して入射ビームの異なる部分を異なって処理することができる。
【００３７】
一例では、これを異なる流体路２２２の中の異なる流体混合物を使うことによっても行うことができる。例えば、各流体路２２２は、それぞれがその下のものの二倍であるように、階段状の吸収率を有することができる。一例では、圧力制御と濃度制御の両方を使って、速いシステムで比較的大きい範囲の補正性能を達成する。これは、濃度変化は非常に遅いが、圧力変化は非常に速いからである。異なる事前選択濃度の流体を有するチャンネルを使うことによって、一つを選び且つ圧力制御を使って「微調整」することができる。
【００３８】
別の例では、これを、各流体路２２２に一つずつ、複数の圧力制御器を使い、各流体路２２２に異なる濃度を生じ、それが各流体路２２２に異なる吸収率を生じることによって行うことができる。
【００３９】
さらに別の例では、これを一つ以上の流量制御器を使って行うことができる。
【００４０】
この様に、光学部品を動的に制御するために、圧力制御器を使う圧力変動、異なる流体路の中の複数の流体を使うか他の手段による濃度変動、または圧力変動と濃度変動の組合せの、少なくとも三つの方法がある。
【００４１】
図２の実施例では、流体路２２２を層流技術によって作り、それは、予め定義した流体路の中に矢印方向の流体を維持するために、入口２２４と出口２２６の間に十分な圧力を働かせる。一例では、複数流体路２２２を使うが、入射ビームの個々の部分を別々に調整することができる。これは、各流路２２２用に別々の圧力制御器を使うことによっておよび／または各々中の流体断面が異なる、流体源からの別々の流体チャンネルを有することによって行うことができる。例えば、流体の同じ搬送体成分を、このビームの部分の吸収を変えるために変動する吸収成分と共に使うことができる。
【００４２】
直線路として示すが、流体路２２２は、どんな形状、例えば、特定の用途に基づいて、直線状、湾曲状、曲線状等も採ることができることを理解すべきである。この形状は、照明ビームにどんな変化をする必要があるかに依ることができる。
【００４３】
一例では、平行である代りに、流体路２２２を光学部品２０４に放射状に配置しまたは互いに関して他の角度に配置することができる。
【００４４】
図３および図４は、それぞれ、本発明の種々の実施例による光学部品３０４および４０４を示す。光学部品３０４、４０４は、以下を例外として光学部品２０４と同じである。光学部品３０４の流体路３２２は、層流を使う代りに壁３２６を使うチャンネルとして作ってある。光学部品４０４の流体路４２２は、例えば、２００３年１２月３１日に提出した米国特許出願番号１０／７４８８４９（その全記載内容を引用によって本明細書の記載として援用する）に示すように、壁３２６または層流技術の代りに案内４２８を使うチャンネルとして作ってある。
【００４５】
図３、図４に示すこれらの後者の二つの実施例では、放射線ビームが種々の形状の断面を通過するように、壁３２６および／または案内４２８で作ったチャンネルの形状を変えることができる。例えば、このビームの特性を適正に調整するために、チャンネルは、直線状、湾曲状、曲線状、円形状等の断面を作ることができる。別の例として、チャンネルは、扇形、環状形状等でもよい。
【００４６】
例えば、四分円、パイ、または部分に形作るとき、楕円性を非常に容易に制御できる。この例では、各四分円が、上で説明したように、別々の吸収特性を有することができる。これを照明系の瞳面に置くとき、楕円性を制御できる。
【００４７】
また、これらの後者の二つの実施例では、これらのチャンネルの各々が流方向にその全長に亘って厚さおよび深さが変ってもよい。例えば、これらのチャンネルは、一端または両端からこのチャンネルの中間の方へ先細りになってもよく（狭く始って大きくなるか、または大きく始って狭くなるか）、または内外に湾曲していてもよい等。一例では、チャンネルの先細りがこのチャンネルでの圧力低下を補正できる。これらの異なる構成は、このビームの特性に所望の変化を可能にする。例えば、既知の特性を有するビームを使うならば、実際の検出した特性に合わせて調整するために圧力制御器または濃度制御器も動的に使いながら、これらのビーム特性に合わせるために、光学部品３０４または４０４を特別に設計することができる。
【００４８】
（複数光学部品を使う例示構成）
図５、図６および図７は、本発明の種々の実施例に従って、複数の光学部品を使うときの種々の構成を示す。これらの実施例では、放射線ビームがそれぞれの光学部品の上からかまたは下から入射する。
【００４９】
図５は、本発明の一実施例に従って、それぞれ、一つ以上の流体流路５２２Ａ、５２２Ｂを有する、第１および第２隣接光学部品５０４Ａ、５０４Ｂを示す。二つだけを示すが、どんな数の光学部品５０４も使えることを理解すべきである。第１光学部品５０４Ａの流体流路５２２Ａは、第２光学部品５０４Ｂの流体流路５２２Ｂと平行であるが、それらは、所望の用途に依って互いに関して垂直または或る角度を成してもよい。この構成では、各光学部品５０４に関する入射ビームの断面のサイズに依って、一つ以上の圧力制御器の制御の下で流体流路５２２を使って、ビームの全体かその部分を同様にまたは異なって調整することができる。その上、複数組の板を有することは、補正するビーム断面の下で異なる吸収作用を有する異なる組の板を動かすことによって補正するビーム特性に迅速な変化をもたらすことを可能にする。
【００５０】
図６は、本発明の一実施例に従って、それぞれ、流体流路６２２Ａ、６２２Ｂを有する、順次的に関係する光学部品６０４Ａ、６０４Ｂを示す。この実施例では、流体流路６２２Ａ（光学部品６０４Ｂ上に仮想的に示す）が流体流路６２２Ｂに関して垂直である。他の例では、これらの流体流路が互いに関して平行または或る角度を成してもよいことを理解すべきである。この構成では、入射ビームを、必要ならば、異なって位置する流体流路６２２Ａおよび６２２Ｂに基づいて、このビームの光学特性を二度変えるために異なる軸向きに沿って二度調整することができる。
【００５１】
図７は、本発明の一実施例に従って、それぞれ、流体流路７２２Ａ、７２２Ｂを有する、順次的に関係する光学部品７０４Ａ、７０４Ｂを示す。この実施例では、光学部品７０４Ａと７０４Ｂが互いに関して或る角度を成すが、流体流路７２２Ａ（光学部品７０４Ｂ上に仮に示す）は、流体流路７２２Ｂに関して或る角度を成す。他の例では、これらの流体流路が互いに関して平行または垂直でもよいことを理解すべきである。この構成では、入射ビームを、必要ならば、異なって位置する流体流路７２２Ａ、７２２Ｂに基づいて、このビームの光学特性を二度変えるために二度調整することができる。
【００５２】
一例では、上記の実施例および／または例の一つ以上による光学部品が光を走査方向のまたはそれに沿う楕円性またはテレセントリック性に何も実質的影響せずに通過させる。一例では、対称的減衰のために、テレセントリック性が実質的に影響されない。
【００５３】
一例では、図６および図７が、例えば、ＸおよびＹ両方向、および４５度のような、他の向きで、光ビーム分布の二次元制御を可能にし、または放射状経路も可能である。
【００５４】
（照明系に於ける光学部品の例示配置）
図８は、本発明の一実施例による、例示照明系８００を示す。照明系８００は、少なくとも瞳面８４０（例えば、特定の用途に基づいて位置する）、対象物面８４２（例えば、パターニング装置の）を有するように示す。照明系８００は、対象物面および／または物面も含むことができるが、それらの位置は用途特有である。一例では、パターニング装置を対象物面８４２に置くことができる。放射線ビームにどんな変更または調整を望むかに依って、一つ以上の光学部品（例えば、光学部品１０４）を瞳面８４０または対象物面８４２の一つまたは両方に置くことができる。例えば、楕円性を補正するときは、この光学部品を実質的に瞳面８４０に配置する。別の例として、テレセントリック性または強度均一性の一つまたは両方を補正するときは、この光学部品を実質的に対象物面８４２に配置する。
【００５５】
一例では、光学部品をフィールドに置くが、もし素子がこのフィールド内にあれば、それを他の位置に置くことができる。瞳面からの焦点ぼけ位置は、瞳特性とフィールド特性の両方を同時に可能にできる。
【００５６】
一例では、上記実施例または例のどれか一つによる光学部品を使うことが、瞳面に実質的に影響することなく且つフィールド面への影響を変えるだけで、照明系１００のどこへでも配置可能にする。
【００５７】
一例では、上記実施例または例のどれかによる光学部品が、機械的部品を有する従来の装置と対照的に、実質的に固定部品を有するので、より信頼性が高い。
【００５８】
一例では、上記実施例または例のどれか一つによる光学部品を使うことがこの光学部品を通過する光ビームの強度分布に、例えば、それを均一にまたは特注の分布にするために、非常に急速な変化を可能にする。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
（例示環境：リソグラフィ）
図９、図１０、および図１１は、本発明の種々の実施例による、種々のリソグラフィシステム９００、１０００、１１００を示す。これらのシステムで、中に流体路（図示せず）を有する光学部品を含む照明系９０２／１００２／１１０２からの放射線がパターン化した光を作るためにパターン発生器９０４／１００４／１１０４を照明し、その光をパターン発生器９０４／１００４／１１０４から投影システム９０８／１００８／１１０８を介して加工物９０６／１００６／１１０６の方へ導く。
【００６０】
システム１０００では、光をビームスプリッタ１００５を介してパターン発生器１００４へ出し入れするように導く。
【００６１】
一例では、照明系光９１６／１０１６／１１１６を検出器９２０／１０２０／１１２０によってフィードバックシステム９１８／１０１８／１１１８で受けることができる。受けた照明光９１６／１０１６／１１１６を表す信号９２２／１０２２／１１２２を検出器９２０／１０２０／１１２０から制御器９２２／１０２２／１１２２へ伝送し、制御信号９２４／１０２４／１１２４を作るために使う。制御信号９２４／１０２４／１１２４は、光学特性、例えば、上に議論したように、強度、均一性、楕円性、テレセントリック性等に対する実際（実測）値対所望値に基づいて圧力制御器（図示せず）へ伝送する制御信号でもよい。
【００６２】
種々の実施例で、加工物９０６／１００６／１１０６は、基板、ウエハ、フラットパネルディスプレイ基板、プリントヘッド、マイクロまたはナノ流体機器等であるが、それに限定されない。
【００６３】
知られているように、照明系９０２／１００２／１１０２は、光源９１０／１０１０／１１１０および照明光学系９１２／１０１２／１１１２を含むことができ、並びにパターン発生器は、光学系９１４／１０１４／１１１４を持つことができる。また、これらの光学系の一つまたは両方は、一つ以上の光学部品（例えば、レンズ、ミラー等）を含むことができる。例えば、光学系９１２／１０１２／１１１２の一つまたは両方は、上に議論した光学部品のどれか一つまたは複数を含むことができ、それは照明光９２６／１０２６／１１２６がパターン発生器９０４／１００４／１１０４に達する前にそれを動的に制御するために使うことができる。これは、従来の、環状、単極、多極、クェーサー照明モードの一つ、または特定の用途に使うどれか他のモードを制御するために使うことができる。
【００６４】
一例では、投影システム９０８／１００８／１１０８が一つ以上の光学部品（例えば、レンズ、ミラー等）を含む。
【００６５】
種々の例で、パターン発生器９０４／１００４／１１０４は、当業者には明白になるように、マスクベースのまたはマスクレスのパターン発生器でもよい。このマスクベースのまたはマスクレスのシステムは、リソグラフィ、フォトリソグラフィ、マイクロリソグラフィ、フ浸漬リソグラフィシステム、ラットパネルディスプレイ・リソグラフィと関連することができる。
【００６６】
（結論）
本発明の種々の実施例を上に説明したが、それらは、例として呈示したに過ぎず、限定ではない。当業者には、それにこの発明の精神および範囲から逸脱することなく形および詳細の点で種々の変更を加えることができることが明白だろう。それで、本発明の幅および範囲は、上に説明した実施例のどれによっても限定されるべきでなく、以下の請求項およびその等価物に従ってのみ定義されるべきである。
【００６７】
この「実施例」の部分は、請求項を解釈するために使われることを意図するが、「課題を解決するための手段」および「要約書」の部分は、それに使われることを意図しないことを理解すべきである。この「課題を解決するための手段」および「要約書」の部分は、発明者が意図する通の本発明の実施例を一つ以上示すかも知れないが、全ては示さず、それで、本発明および添付の請求項をどの様にも制限することを意図しない。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の一実施例によるシステムを示す。
【図２】本発明の一実施例による、光学部品の中の流体路のための構成を示す。
【図３】本発明の一実施例による、光学部品の中の流体路のための構成を示す。
【図４】本発明の一実施例による、光学部品の中の流体路のための構成を示す。
【図５】本発明の一実施例による、複数の光学部品を使うときの構成を示す。
【図６】本発明の一実施例による、複数の光学部品を使うときの構成を示す。
【図７】本発明の一実施例による、複数の光学部品を使うときの構成を示す。
【図８】本発明の一実施例による、照明系を示す。
【図９】本発明の一実施例による、リソグラフィシステムを示す。
【図１０】本発明の一実施例による、リソグラフィシステムを示す。
【図１１】本発明の一実施例による、リソグラフィシステムを示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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