(57)【要約】【課題】  電線を支持する支持部における電線の疲労劣化を抑制し得る電線支持装置を提供すること。【解決手段】  電柱に取り付けられて電線Ｗを支持する支持部１２を有する電線支持装置１０であって、支持部１２のうち少なくとも電線Ｗと接触する面１５を含む部分を電線Ｗとの摩擦抵抗が小さい低摩擦材料で形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電柱に取り付けられて電線を支持する支持部を有する電線支持装置であって、前記支持部のうち少なくとも前記電線と接触する面を含む部分が、残余の部分に比べて前記電線との摩擦抵抗が小さい低摩擦材料で形成されていることを特徴とする電線支持装置。
【請求項２】
前記低摩擦材料がセラミックスであることを特徴とする請求項１に記載の電線支持装置。
【請求項３】
前記低摩擦材料で形成された部分以外が、繊維強化プラスチックで形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電線支持装置。
【請求項４】
前記支持部のうち前記電線と接触する面が、電線の外周面の一部と面接触する凹溝形状から成ることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の電線支持装置。
【請求項５】
前記支持部は、電線の終端間の任意の部位でバインドにより電線を支持することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の電線支持装置。
【請求項６】
前記支持部は、電線の終端で電線をグリップを介して支持することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の電線支持装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電柱に取り付けられ、低圧配電線などの電線を支持する支持部を有する電線支持装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電力系統における低圧配電線（以下、単に電線と称す）を絶縁状態で支持する電線支持装置には、主として磁器碍子が広く使用されてきた。これは、磁器碍子が、無機質の材料で製造されていることから劣化し難いという特長を有し、また、長い使用経験を有するとともに、その製造技術が確立されていることによる。しかし、この種の電線支持装置には、耐候性に優れた絶縁用ポリマーの開発に伴って、これらを用いた繊維強化プラスチック（以下、ＦＲＰと称す）の適用が進められている。これは、ＦＲＰで全体を成形した電線支持装置（以下、単に電線支持装置と称す）が、磁器碍子に比べて、製造コストが低減されること、軽量であること、成形性に優れていること、等の利点を有しているためである。電線支持装置には、強化材（例えば、ガラス繊維）に低圧成型用樹脂（例えば、不飽和ポリエステル樹脂）を含浸させて成形品が利用されている。
【０００３】
従来の電線支持装置は、電柱に装柱される基部と、基部に配設されて電線を支持する支持部とから成り、装置全体がＦＲＰ等で形成されている。例えば、支持部としては、電線の外周面と面接触する略円弧状の凹溝を有するものがある。電線の支持は、凹溝等を有する支持部に電線を載置し、バインドにより支持部と電線を結束することによって行われる。ここで、バインドとは、周囲が塩化ビニル等の絶縁部材で全体あるいは一部分が覆われた線で構成される（以下、同様）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の電線支持装置は、全体がＦＲＰ等で形成されているため、製造コストが安価である等の利点はあるが、その一方で、支持部と電線の摩擦抵抗が大きくなる欠点があった。そのため、電線支持装置は、電線のギャロッピング現象などによる振動が繰り返されると、電線を支持する支持部で、その振動による繰り返し応力により、支持部との摩擦により電線の被覆が破れてその絶縁状態を確保することが困難になるという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明は、前述の問題点に鑑みて提案されたもので、その目的とするところは、支持部における電線と支持部の摩擦状態を改善し、電線の支持部における摩耗を抑制し得る電線支持装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、電柱に取り付けられて電線を支持する支持部を有する電線支持装置であって、前記支持部のうち少なくとも前記電線と接触する面を含む部分が、残余の部分に比べて前記電線との摩擦抵抗が小さい低摩擦材料で形成されていることを特徴とするものである。ここで、「電線との摩擦抵抗が小さい低摩擦材料」とは、電線に対する摩擦係数が小さく、電線および電線を支持する支持部の双方の摩耗が抑制される材料を意味する。また、電線および支持部の双方の摩耗が少なくとも抑制される材料であれば低摩擦材料に含まれるものとする。さらに、「少なくとも電線と接触する面を含む部分」とは、電線と接触する支持部表面、あるいは、電線と接触する支持部表面を含む支持部の一部又は全体を意味する。
【０００７】
更に、前記低摩擦材料としてセラミックスを用いることができる。セラミックスとしては、磁器碍子に用いられるような表面に釉薬を塗工して焼成した緻密で堅固なセラミックスを用いることが好ましい。
【０００８】
更に、前記低摩擦材料で形成された部分以外は、ＦＲＰで形成することができる。ＦＲＰとしては、樹脂単体を含浸させたもの、あるいは必要に応じてこの樹脂に充填剤を充填したものを用いることができる。また、この樹脂には、軽くて機械的強度・耐候性・成形性に優れているものを用いることが好ましい。
【０００９】
更に、前記支持部のうち前記電線と接触する面は、電線の外周面の一部と面接触する凹溝形状から成るようにすることができる。
【００１０】
更に、前記支持部は、電線の終端間の任意の部位でバインド線により電線を支持することができる。あるいは、前記支持部は、電線の終端部位で電線をグリップを介して支持することができる。これらの場合、バインドまたはグリップと支持部が接触する面を含む部分も前記低摩擦材料で形成されることが好ましい。前記低摩擦材料としては、電線との摩擦抵抗の小さい低摩擦材料に替えて、バインドまたはグリップとの摩擦抵抗が小さい低摩擦材料とするか、あるいは電線およびバインドまたはグリップとの双方に対して摩擦抵抗の小さい低摩擦材料とすることが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は前述の如く、電線を支持する支持部のうち、少なくとも電線と接触する面を含む部分が低摩擦材料で形成されるため、電線と支持部の摩擦抵抗を低減することができる。そのため、電線および支持部の双方の摩耗を抑制し得る電線支持装置を提供することができる。さらに、電線の摩耗により電線表面の被覆が破れることを抑制できるため、電線の絶縁状態は良好に保たれ、安定した電力供給が可能となる。また、電線の摩耗による電線の取替作業も低減されるため、電線の長期間の使用が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の電線支持装置に係る第１の実施形態を図１（ａ）〜（ｃ）に基づいて以下に説明する。
【００１３】
本実施形態の電線支持装置１０は、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、基部１１と、電線を支持する支持部１２とで構成されている。
【００１４】
基部１１は、ポリマーで形成された所定長さの中空棒状体であって、基部上面には間隔をおいて支持部１２を収容する凹溝１３が長手方向に３つ配設されている。なお、１４は、電線支持装置１０を電柱に装柱するときに用いる装柱用孔であり、装柱用孔１４に固定具を挿通させて電柱に固定される。このとき、支持装置１０の長手方向は、電柱に沿うよう（地平面に垂直）に固定される。この装柱用孔１４は、電線支持装置１０の長手方向が電柱に対して直行する（地平面に対して水平）に固定されるように設けることもできる。また、本実施形態では、軽量化を図るために基部１１を中空としたが、中実としてもよい。
【００１５】
支持部１２は、全体として略円柱状を成し、その側面には電線の外周面と面接触するような断面半円形状の環状凹溝１５が設けられている。支持部１２は、本実施形態では、電線およびバインドまたはグリップとの摩擦抵抗が小さい低摩擦材料、例えばセラミックス等で全体を形成している。
【００１６】
上記のように構成された支持部１２は、基部の各々の凹溝１３に収容され、図１（ｃ）に示すように、ボルト１６を介して基部に固定されている。また、支持部の固定は、ボルト固定に限らず、単に基部１１の凹溝１３に接着する等によっても行なうことができる。
【００１７】
本実施形態の電線支持装置１０における電線の支持方法について、図２および図３に例示し、以下に説明する。なお、図中、電線支持装置１０の基部１１は省略している。
【００１８】
図２は、電線の終端間の任意の部位で電線を支持する、いわゆる電線の引通しを例示したものである。電線Ｗは、その外周面が支持部１２の環状凹溝１５に当接するように載置され、バインド線Ｂにより支持部１２に結束することで電線支持装置１０に支持されている。このとき、バインド線Ｂは、その略中央で支持部の環状凹溝１５を引っかけ、その両端を電線Ｗに螺旋状に数回捲回されている。
【００１９】
また、図３は、電線の終端で電線を支持する、いわゆる電線の引留めを例示したものである。同図に示すように、電線Ｗは、支持部１２に接触することなく、グリップＢを介して支持部１２に支持され、電線Ｗの終端部Ｗ1は、図示していない変圧器等に引き込まれるようになっている。このとき、グリップＢは、Ｕ字状に曲げられ、支持部１２の環状凹溝１５に引っかけられている。支持部１２で２本に分岐したグリップＢは、１本に束ねられ、前述の引通しの場合と同様に電線Ｗに螺旋状に数回捲回されている。
【００２０】
上記に電線の引通し及び引留めに関する支持方法を例示したが、これらの支持方法に限らず、勿論、他の支持方法に用いて電線を支持することもできる。いずれの支持方法を用いた場合であっても、支持部１２のうち、少なくとも電線ＷまたはバインドあるいはグリップＢと接触する面を含む部分は低摩擦材料であるセラミックスで形成されているので、支持部１２における電線Ｗ、バインドまたはグリップＢの摩耗を抑制することができる。さらに、支持部１２が、電線支持装置全体に占める割合は小さく、装置の大部分は、セラミックスに比べて安価なＦＲＰ等で形成されている。したがって、当該電線支持装置１０は、製造コストが低減されること、軽量であること、成形性に優れていること、等の利点を生かしつつ、電線Ｗと支持部１２の摩擦状態を良好に保つことができる。そのため、ギャロッピング現象等による電線Ｗが振動することによって、電線Ｗが支持部１２で摺動を起こしても、電線Ｗおよび支持部１２の双方の摩耗を抑制することができる。
【００２１】
本発明に係る第１の実施形態を上記に説明したが、基部および支持部のそれぞれの形状は、種々の変形が考えられる。これを第２、第３の実施形態として、以下に例示し、説明する。なお、第２、第３の実施形態を示すそれぞれの図中において、第１の実施形態と同一要素には、同一符号を付している。
【００２２】
本発明に係る第２の実施形態を図４（ａ）、（ｂ）に基づいて以下に説明する。
【００２３】
図４（ａ）、（ｂ）に示すように、基部２１は、ＦＲＰで形成されており、全体として中空棒状体であって、間隔をあけて上方に突出する３つの凸部２２を有している。この凸部２２は中空であり、各々の凸部２２の中空部分には、セラミックスで形成されている支持部２３がピン留め固定されている。支持部２３の基部２１への固定方法としては、ピン留め固定に限らず、単に接着等により基部２１に固定するものであってもよい。
【００２４】
図４（ａ）に示すように、基部２１の凸部２２は一部が開口しており、中空部分に収容された支持部２３の一部が、凸部２２の外部に突出している。支持部２３の突出している部分には、電線の外周面と面接触するような断面円弧状の凹溝２４が設けられている。また、基部２１の一部には貫通孔２５が設けられている。この貫通孔２５の外周面の一部は、基部２１の中空部分に固定された支持部２３により形成おり、凹溝形状を成している。
【００２５】
本実施形態の電線支持装置２０における電線の支持方法は、第１の実施形態で例示した支持方法を利用することができる。
【００２６】
電線の引通しの場合は、電線は支持部２３の凹溝２４により支持され、バインド線は電線に螺旋状に数回捲回され、バインド線の略中央で基部２１の貫通孔２５に挿通されている。このとき、バインド線が貫通孔２５と接する部分は、支持部２３で形成されている。また、引留めの場合は、基部２１の貫通孔２５にグリップを通し、電線を支持部２３にグリップを介して支持するようになっている。このとき、電線あるいはグリップが基部２１の貫通孔２５と接する部分は支持部２３で形成されている。
【００２７】
したがって、本実施形態の電線支持装置２０は、第１の実施形態と同様に、支持部２３のうち、少なくとも電線またはバインドあるいはグリップと接触する部分はセラミックス等の低摩擦材料で形成されているので、電線またはバインドあるいはグリップと、支持部２３の摩耗を抑制することができる。
【００２８】
次に、本発明に係る第３の実施形態を図５（ａ）〜（ｄ）に基づいて以下に説明する。
【００２９】
図５（ａ）、（ｂ）、（ｄ）に示すように、基部３１は、ＦＲＰで形成された所定長さの棒状体であって、基部３１の上面には、基部３１の幅方向両端に、長手方向に沿って間隔をあけて３つの凹溝３２が設けられている。
【００３０】
図５（ｂ）〜（ｄ）に示すように、支持部３３は、全体としてＦＲＰで形成されており、その一部分にセラミックスで形成されているセラミック部材３４が嵌合されている。また、支持部３３には、貫通孔３５が設けられている。この貫通孔３５の一部は支持部３３に嵌合されたセラミック部材３４により形成されおり、凹溝形状を成している。このように形成された支持部３３は、軸３６によって、基部３１のそれぞれの凹溝３２に揺動自在に軸支されている。
【００３１】
本実施形態は、電線の引留めに用いられるものであり、電線の支持は、第１の実施形態で例示した引留めを利用することができる。
【００３２】
グリップは、支持部３３の貫通孔３５に通され、電線をグリップを介して支持部３３に支持するようになっている。支持部３３の貫通孔３５のうち、グリップと接触する面を含む部分は、セラミック部材３４により形成されている。なお、支持部３３は基部３１に揺動自在に軸支されているものであるが、例えば、これは、異なる方向から複数本の電線が架線されてきた場合の電線の引留めに好適である。
【００３３】
なお、本発明の実施形態は、上記第１〜３の実施形態に限定されることはなく、種々の変形が可能である。
【００３４】
例えば、電線等を支持する支持部の形状および個数は、適宜選択することができる。また、支持部の配列は、直線的に配列されたものに限らず、平面的あるいは立体的に配列されたものであっても良い。
【００３５】
また、低摩擦材料としては、セラミックスに替えて、例えば、添加剤等を混合することにより電線に対する耐摩擦特性を改善した低摩擦樹脂を用いることもできる。また、電線と支持部の双方の摩耗を抑制することができる材料であれば、いずれの材料であっても用いることができる。さらに、低摩擦材料は、磁器碍子に用いるような絶縁材料であることが好ましい。
【００３６】
また、支持部は、第１、第２の実施形態に示すように全体（１２、２２）を低摩擦材料で形成できることは勿論であるが、第３の実施形態に示すように支持部のうち、電線と接触する面を含む部分（３４）のみを低摩擦材料で形成することもできる。この場合、支持部の大部分をセラミックスに比べて安価なＦＲＰで形成することができるので、装置の製造コストのさらなる低コスト化を図ることができる。支持部のうち、電線と接触する面を含む部分のみを低摩擦材料で形成する方法としては、支持部の一部に低摩擦材料を嵌合させるか、あるいは支持部の電線と接触する面に低摩擦材料をコーティングするものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の第１の実施形態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は（ｂ）のＳ1−Ｓ1断面図である。
【図２】第１の実施形態における電線の支持方法を例示した斜視図である。
【図３】第１の実施形態における電線の支持方法を例示した斜視図である。
【図４】本発明の第２の実施形態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は（ａ）のＳ2−Ｓ2一部断面図、（ｄ）は（ｂ）のＳ3−Ｓ3断面図である。
【符号の説明】
【００３８】
１１、２１、３１    基部
１２、２３、３３    支持部
１３   凹溝
１４   装柱用孔
１５   環状凹溝
２２   凸部
２４   凹溝
２５   貫通孔
３２   凹溝
３４   セラミックス部材
３５   貫通孔
３６   軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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