(57)【要約】【課題】  平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性、耐エッチング性などの各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる組成物、その上記組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物より形成された保護膜を提供すること。【解決手段】  組成物は（ａ１）オキシラニル基またはオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物、（ａ２）１−ジエチルプロピタルメタクリレートに代表される特定構造を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位および（ａ３）上記重合単位（ａ１）、（ａ２）と異なる重合単位を含有してなる共重合体を含有する。保護膜は上記組成物より形成される。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
〔Ａ−１〕（ａ１）オキシラニル基またはオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位ならびに（ａ２）下記式（０１）
【化１】
2006176746.tif 000008
ここで、Ｒは炭素数５以上の３級アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数４以上の３級アルキル基、表示された上記式においてＲと結合している酸素原子（−Ｏ−）に３級炭素原子で結合している、環員炭素数３以上のシクロアルキル基または表示された上記式においてＲと結合している酸素原子（−Ｏ−）に３級炭素原子で結合している、４員環以上のラクトン環もしくはラクタム環である、
で表わされる構造を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位を含有してなることを特徴とする共重合体。
【請求項２】
上記式（０１）で表わされる構造が下記式（１）
【化２】
2006176746.tif 000009
ここで、Ｒ１およびＲ２は、互に独立に、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数１〜４のアルコキシル基で置換された炭素数１〜８のアルキル基であり、そしてＲ３は炭素数２〜８のアルキル基または炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数１〜８のアルキル基である
で表わされる構造、下記式（２）
【化３】
2006176746.tif 000010
ここで、Ｒ１の定義は上記式（１）に同じであり、ｎは１〜８の整数であり、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、互に独立に、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、またはアルキル基の末端あるいは側鎖に炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜８のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を示すか、あるいはＲ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、少なくとも２つが結合してそれらが結合している炭素原子およびＲ１が結合している炭素原子と一緒になって、総環員炭素数７〜１６のジシクロアルカンまたはトリシクロアルカン構造を形成していてもよい。但し、ｎ＝２〜８のとき、複数のＲ６同士およびＲ７同士は同一でも異なっていてもよい。
で表わされる構造または下記式（３）
【化４】
2006176746.tif 000011
ここで、Ｒ１の定義は上記式（１）に同じであり、ｌは０、１または２であり、ｍは１〜４の整数であり、Ｘは酸素原子または窒素原子であり、そしてＲ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互に独立に、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、またはアルキル基の末端あるいは側鎖に炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜８のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基である、但しｌ＝２のときの２個のＲ８および２個のＲ９ならびにｍが２〜４の整数のときの複数のＲ１０および複数のＲ１１は、同一であっても異なっていてもよい。
で表わされる構造である、請求項１に記載の共重合体。
【請求項３】
請求項１に記載の共重合体〔Ａ−１〕を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【請求項４】
〔Ａ−２〕前記重合性不飽和化合物（ａ１）を含有する成分を重合させて得られる重合体、並びに〔Ａ−３〕前記重合性不飽和化合物（ａ２）を含有する成分を重合させて得られる重合体を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【請求項５】
〔Ｂ〕カチオン重合性化合物をさらに含有する請求項３または４記載の樹脂組成物。
【請求項６】
請求項４に記載の〔Ａ−３〕成分および請求項５に記載の〔Ｂ〕成分を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【請求項７】
〔Ｃ〕感熱性酸発生剤をさらに含有する請求項３〜６のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項８】
カラーフィルタの保護膜形成用である請求項３〜７のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項９】
基板上に、請求項７に記載の樹脂組成物の塗膜を形成し、次いで加熱処理することを特徴とする、カラーフィルタの保護膜の形成方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の樹脂組成物から形成された、カラーフィルタの保護膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、共重合体、樹脂組成物、その組成物から保護膜を形成する方法および保護膜に関する。さらに詳しくは、液晶表示素子（ＬＣＤ）用カラーフィルタおよび電荷結合素子（ＣＣＤ）用カラーフィルタに用いられる保護膜を形成するための材料として好適な組成物、その組成物を使用した保護膜の形成方法ならびにその組成物から形成された保護膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤやＣＣＤ等の放射線デバイスは、その製造工程中に、溶剤、酸またはアルカリ溶液等による表示素子の浸漬処理が行なわれ、また、スパッタリングにより配線電極層を形成する際には、素子表面が局部的に高温に曝される。従って、このような処理によって素子が劣化あるいは損傷することを防止するために、これらの処理に対して耐性を有する薄膜からなる保護膜を素子の表面に設けることが行なわれている。
このような保護膜は、当該保護膜を形成すべき基体または下層、さらに保護膜上に形成される層に対して密着性が高いものであること、膜自体が平滑で強靭であること、透明性を有するものであること、耐熱性および耐光性が高く、長期間にわたって着色、黄変、白化等の変質を起こさないものであること、耐水性、耐溶剤性、耐酸性および耐アルカリ性に優れたものであること等の性能が要求される。これらの諸特性を満たす保護膜を形成するための材料としては、例えばグリシジル基を有する重合体を含む熱硬化性組成物が知られている（特許文献１および特許文献２参照）。
【０００３】
また、このような保護膜をカラー液晶表示装置や電荷結合素子のカラーフィルタの保護膜として使用する場合には、一般的に下地基板上に形成されたカラーフィルタによる段差を平坦化できることが要求される。
さらに、カラー液晶表示装置、例えばＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式あるいはＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ）方式のカラー液晶表示素子では、液晶層のセルギャップを均一に保持するためにビーズ状のスペーサーを保護膜上に散布したうえでパネルを貼り合わせることが行われている。その後にシール材を熱圧着することにより液晶セルを密封することとなるが、その際にかかる熱と圧力で、ビーズが存在する部分の保護膜が凹む現象が見られ、セルギャップが狂うことが問題となっている。
特にＳＴＮ方式のカラー液晶表示素子を製造する際には、カラーフィルタと対向基板との張り合わせの精度を極めて厳密に行わなければならず、保護膜には極めて高度な段差の平坦化性能および耐熱耐圧性能が要求されている。
【０００４】
また、近年ではスパッタリングによりカラーフィルタの保護膜上に配線電極（インジウムチンオキサイド：ＩＴＯ、あるいはインジウム亜鉛オキサイド：ＩＺＯ）を成膜し、強酸や強アルカリ等でＩＴＯまたはＩＺＯをパターニングする方式も採られている。このため、カラーフィルタ保護膜はスパッタリング時に表面が局部的に高温に曝されたり、数々の薬品処理がなされる。したがって、これらの処理に耐えること、および薬品処理時にＩＴＯまたはＩＺＯが保護膜上から剥がれないように配線電極との密着性も要求されている。
【０００５】
このような保護膜の形成には、簡易な方法で硬度に優れる保護膜を形成できる利点のある熱硬化性組成物を使用することが便宜であるが、上記したような諸特性を発現させるための保護膜樹脂組成物は、強固な架橋を形成させる反応性のよい架橋基あるいは触媒を有しており、そのために組成物自身のシェルフライフが非常に短いという問題があり、ハンドリングが非常にやっかいであった。すなわち、組成物の塗布性能自体が経時的に悪化するばかりでなく、塗工機の頻繁なメンテナンス、洗浄等が必要になり操作上も煩雑であった。
透明性などの保護膜としての一般的な要求性能を満たしたうえ上記したような諸性能を満たす保護膜を簡易に形成でき、かつ組成物としての保存安定性に優れた材料は未だ知られていない。
また、特許文献３には、塗料、インク、接着剤、成形品に用いられる、潜在化カルボキシル化合物を含む熱硬化性組成物が開示されているが、カラーフィルタの保護膜については何ら開示されていない。
【特許文献１】特開平５−７８４５３号公報
【特許文献２】特開２００１−９１７３２号公報
【特許文献３】特開平４−２１８５６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性、耐エッチング性などの各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる組成物、その上記組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物より形成された保護膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、本発明の上記目的は、第一に、〔Ａ−１〕（ａ１）オキシラニル基またはオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位ならびに（ａ２）下記式（０１）
【０００８】
【化１】
2006176746.tif 000002
【０００９】
ここで、Ｒは炭素数５以上の３級アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数４以上の３級アルキル基、表示された上記式においてＲと結合している酸素原子（−Ｏ−）に３級炭素原子で結合している、環員炭素数３以上のシクロアルキル基または表示された上記式においてＲと結合している酸素原子（−Ｏ−）に３級炭素原子で結合している、４員環以上のラクトン環もしくはラクタム環である、
で表わされる構造を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位を含有してなることを特徴とする共重合体によって達成される。
【００１０】
本発明によれば、本発明の上記目的は、第二に、本発明の上記共重合体〔Ａ−１〕を含有することを特徴とする樹脂組成物（以下、「樹脂組成物（α１）」という）によって達成される。
【００１１】
本発明によれば、本発明の徐記目的は、第三に、〔Ａ−２〕前記重合性不飽和化合物（ａ１）および前記重合性不飽和化合物（ａ３）の共重合体、並びに〔Ａ−３〕前記重合性不飽和化合物（ａ２）および前記重合性不飽和化合物（ａ３）の共重合体を含有することを特徴とする樹脂組成物（以下、「樹脂組成物（α２）」という）によって達成される。
【００１２】
本発明の上記目的は、第四に、前記〔Ａ−３〕成分、および前記〔Ｂ〕成分を含有することを特徴とする樹脂組成物（以下、「樹脂組成物（α３）」という）、によって達成される。
【００１３】
本発明の上記目的は、第五に、前記各樹脂組成物（α１）、樹脂組成物（α２）、樹脂組成物（α３）を用いて塗膜を形成し、次いで加熱処理することを特徴とする、カラーフィルタの保護膜の形成方法、によって達成される。
【００１４】
本発明の上記目的は、第六に、上記樹脂組成物から形成された、カラーフィルタの保護膜によって達成される。
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性、耐エッチング性などの各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる樹脂組成物、その樹脂組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物より形成された保護膜が提供される。
【発明の実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の樹脂組成物の各成分について説明する。
共重合体〔Ａ−１〕
本発明の共重合体〔Ａ−１〕は、（ａ１）オキシラニル基またはオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位、（ａ２）上記式（０１）
で表わされる構造を有する重合性不飽和に由来する重合性単位ならびに（ａ３）上記（ａ１）および（ａ２）の重合単位以外の、重合性不飽和化合物に由来する重合単位を含有してなる。
【００１７】
式（０１）中のＲは炭素数５以上の３級アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数４以上の３級アルキル基、表示された式（０１）においてＲと結合している酸素原子（−Ｏ−）に３級炭素原子で結合されている、環員炭素数３以上のシクロアルキル基または表示された式（０１）においてＲと結合している酸素原子（−Ｏ−）に３級炭素原子で結合している４員環以上のラクトン環またはラクタム環である。
Ｒが炭素数５以上の３級アルキル基または炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数４以上の３級アルナル基であるとき、式（０１）は、下記式（１）
【００１８】
【化２】
2006176746.tif 000003
【００１９】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、互に独立に、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数１〜４のアルコキシル基で置換された炭素数１〜８のアルキル基であり、そしてＲ３は炭素数２〜８のアルキル基または炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数１〜８のアルキル基である
で表わされる。
Ｒが環員炭素数３以上のシクロアルキル基であるとき、式（０１）は、下記式（２）
【００２０】
【化３】
2006176746.tif 000004
【００２１】
ここで、Ｒ１の定義は上記式（１）に同じであり、ｎは１〜８の整数であり、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、互に独立に、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、またはアルキル基の末端あるいは側鎖に炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜８のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を示すか、あるいはＲ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、少なくとも２つが結合してそれらが結合している炭素原子およびＲ１が結合している炭素原子と一緒になって、総環員炭素数７〜１６のジシクロアルカンまたはトリシクロアルカン構造を形成していてもよい。但し、ｎ＝２〜８のとき、複数のＲ６同士およびＲ７同士は同一でも異なっていてもよい。
で表わされる。
【００２２】
また、Ｒが４員環以上のラクトン環またはラクタム環であるとき、上記式（０１）は、下記式（３）
【００２３】
【化４】
2006176746.tif 000005
【００２４】
ここで、Ｒ１の定義は上記式（１）に同じであり、ｌは０、１または２であり、ｍは１〜４の整数であり、Ｘは酸素原子または窒素原子であり、そしてＲ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互に独立に、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、またはアルキル基の末端あるいは側鎖に炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜８のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基である、但しｌ＝２のときの２個のＲ８および２個のＲ９ならびにｍが２〜４の整数のときの複数のＲ１０および複数のＲ１１は、同一であっても異なっていてもよい。
で表わされる構造である。
【００２５】
式（１）、（２）または（３）中のＲ１、および式（１）中のＲ２は炭素数１〜８のアルキル基、またはアルキル基の末端あるいは側鎖に炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜８のアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基としては、例えばメチル、エチル、（イソ）プロピル、（イソ）ブチル、（イソ）ペンチル、（イソ）ヘキシル、（イソ）ヘプチル、（イソ）オクチルが挙げられる。炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、（イソ）プロピオキシ、（イソ）ブトキシ等が挙げられる。
Ｒ３は炭素数２〜８のアルキル基、またはアルキル基の末端あるいは側鎖に炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜８のアルキル基を示す。炭素数２〜８のアルキル基としては、例えばエチル、（イソ）プロピル、（イソ）ブチル、（イソ）ペンチル、（イソ）ヘキシル、（イソ）ヘプチル、（イソ）オクチルが挙げられる。炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、（イソ）プロピオキシ、（イソ）ブトキシ等が挙げられる。
【００２６】
式（２）中の環状構造はｎ＝１〜８のシクロアルカン構造を示す。シクロアルカンとしてはシクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカンが挙げられる。
Ｒ４〜Ｒ７は水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、またはアルキル基の末端あるいは側鎖に炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜８のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。環状アルカン上のＲ６およびＲ７は、ｎ＝２以上の場合、複数個有するが同一である必要はなく、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、またはアルキル基の末端あるいは側鎖に炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜８のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基のいずれでも良い。炭素数１〜８のアルキル基としては、例えばメチル、エチル、（イソ）プロピル、（イソ）ブチル、（イソ）ペンチル、（イソ）ヘキシル、（イソ）ヘプチル、（イソ）オクチル等があげられる。炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、（イソ）プロピオキシ、（イソ）ブトキシ等が挙げられる。
【００２７】
またＲ４〜Ｒ７は、そのうち少なくとも２つが結合してそれらが結合している炭素原子およびＲ１が結合している炭素原子と一緒になって総環員炭素数７〜１６のジシクロアルカンまたはトリシクロアルカン構造を形成することもできる。かかるジクロロルカンまたはトリシクロアルカンとしては、例えば２−エチルトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−２−イル基、２−メチルトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−２−イル基、１−エチルトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−１−イル基、１−エチルトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−１−イル基、３−ヒドロキシトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−１−イル基が挙げられる。
式（３）におけるＲ８〜Ｒ１１としては、Ｒ４〜Ｒ７について上記した基と同じ基を例示することができる。
【００２８】
Ｘが酸素原子であるときの式（３）中におけるラクトン環としては、例えば２−エチル−γ−ブチロラクトン−２−イル基、２−メチル−γ−ブチロラクトン−２−イル基、２−エチル−γ−ブチロラクトン−３−イル基、２−メチル−γ−ブチロラクトン−３−イル基、２−エチル−γ−ブチロラクトン−４−イル基、２−メチル−γ−ブチロラクトン−４−イル基、２−エチル−δ−バレロラクトン−２−イル基、２−エチル−δ−バレロラクトン−２−イル基、２−エチル−δ−バレロラクトン−３−イル基、２−エチル−δ−バレロラクトン−３−イル基、２−エチル−δ−バレロラクトン−４−イル基、２−エチル−δ−バレロラクトン−４−イル基、２−エチル−δ−バレロラクトン−５−イル基および２−エチル−δ−バレロラクトン−５−イル基等を挙げることができる。
【００２９】
また、Ｘが窒素原子であるときの式（３）中におけるラクタム環としては、２−エチル−γ−ブチロラクタム−２−イル基、２−メチル−γ−ブチロラクタム−２−イル基、２−エチル−γ−ブチロラクタム−３−イル基、２−メチル−γ−ブチロラクタム−３−イル基、２−エチル−γ−ブチロラクタム−４−イル基、２−メチル−γ−ブチロラクタム−４−イル基、２−エチル−δ−バレロラクタム−２−イル基、２−エチル−δ−バレロラクタム−２−イル基、２−エチル−δ−バレロラクタム−３−イル基および２−エチル−δ−バレロラクタム−３−イル基、２−エチル−δ−バレロラクタム−４−イル基、２−エチル−δ−バレロラクタム−４−イル基、２−エチル−δ−バレロラクタム−５−イル基および２−エチル−δ−バレロラクタム−５−イル基等を挙げることができる。
【００３０】
共重合体〔Ａ−１〕において、重合性不飽和化合物（ａ１）としては、オキシラニル基またはオキセタニル基および重合性不飽和基を有する限り特に限定はないが、例えば、オキシラニル基含有の重合性不飽和化合物としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。
オキセタニル基含有の重合性不飽和化合物としては、例えば３−メチル−３−（メタ）アクロイロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクロイロキシメチルオキセタン等が挙げられる。
【００３１】
これらのうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが共重合反応性および得られる保護膜または絶縁膜の耐熱性、表面硬度を高める点から好ましく用いられる。
【００３２】
共重合体〔Ａ−１〕において、重合性不飽和化合物（ａ２）としては、上記化学式（１）または（２）の構造を有する重合性不飽和化合物で限り特に限定はないが、例えば、式（１）構造を有する重合性不飽和重合体としては、例えば１−ジメチル（イソ）プロピル（メタ）アクリレート、１−ジメチル（イソ）ブチル（メタ）アクリレート、１−ジメチル（イソ）オクチル（メタ）アクリレート、１−メチル−１−エチルエチル（メタ）アクリレート、１−メチル−１−エチル（イソ）プロピル（メタ）アクリレート、１−メチル−１−エチル（イソ）ブチル（メタ）アクリレート、１−メチル−１−エチル（イソ）オクチルアクリレート、１−ジエチル（イソ）プロピル（メタ）アクリレート、１−ジエチル（イソ）ブチル（メタ）アクリレート、１−ジエチル（イソ）オクチル（メタ）アクリレート等をあげることができる。
【００３３】
また、式（２）構造を有する重合性不飽和重合体としては、例えば１−メチルシクロプロパン（メタ）アクリレート、１−メチルシクロブタン（メタ）アクリレート、１−メチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−メチルシクロヘプタン（メタ）アクリレート、１−メチルシクロオクタン（メタ）アクリレート、１−メチルシクロノナン（メタ）アクリレート、１−エチルシクロデカン（メタ）アクリレート、１−エチルシクロプロパン（メタ）アクリレート、１−エチルシクロブタン（メタ）アクリレート、１−エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロヘプタン（メタ）アクリレート、１−エチルシクロオクタン（メタ）アクリレート、１−エチルシクロノナン（メタ）アクリレート、１−エチルシクロデカン（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロプロパン（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロブタン（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロヘプタン（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロオクタン（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロノナン（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロデカン（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロプロパン（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロブタン（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロヘプタン（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロオクタン（メタ）アクリレート、１−（イソ）−ブチルシクロノナン（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロデカニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ペンチルシクロプロパニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ペンチルシクロブタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ペンチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ペンチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ペンチルシクロヘプタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ペンチルシクロオクタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ペンチルシクロノナニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ペンチルシクロデカニル（メタ）アクリレート、
１−（イソ）ヘキシルシクロプロパニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘキシルシクロブタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘキシルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘキシルシクロヘプタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘキシルシクロオクタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘキシルシクロノナニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘキシルシクロデカニル（メタ）アクリレート、
１−（イソ）ヘプチルシクロプロパニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘプチルシクロブタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘプチルシクロヘプチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘプチルシクロヘプチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘプチルシクロヘプタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘプチルシクロオクタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘプチルシクロノナニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ヘプチルシクロデカニル（メタ）アクリレート、
１−（イソ）オクチルシクロプロパニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）オクチルシクロブタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）オクチルシクロオクチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）オクチルシクロオクチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）オクチルシクロヘプタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）オクチルシクロオクタニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）オクチルシクロノナニル（メタ）アクリレート、１−（イソ）オクチルシクロデカニル（メタ）アクリレート、
２−エチルトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−２−イル−（メタ）アクリレート、２−メチルトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−２−イル−（メタ）アクリレート、１−エチルトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−１−イル−（メタ）アクリレート、１−エチルトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−１−イル−（メタ）アクリレート３−ヒドロキシトリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン−１−イル−（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３４】
これらのうち、１−ジエチルプロピル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）プロピルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−（イソ）ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートを用いるのが好ましく、更に好ましいのは１−ジエチルプロピル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートであり、特に好ましいのは１−エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートである。これらは、共重合反応性および得られる保護膜または絶縁膜の耐熱性、表面硬度を高める点から好ましく用いられる。
【００３５】
また、式（３）構造を有する重合性不飽和化合物としては、例えば２−エチル−γ−ブチロラクトン−２−イル−（メタ）アクリレート、２−メチル−γ−ブチロラクトン−２−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−γ−ブチロラクトン−３−イル−（メタ）アクリレート、２−メチル−γ−ブチロラクトン−３−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−γ−ブチロラクトン−４−イル−（メタ）アクリレート、２−メチル−γ−ブチロラクトン−４−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクトン−２−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクトン−２−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクトン−３−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクトン−３−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクトン−４−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクトン−４−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクトン−５−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクトン−５−イル−（メタ）アクリレートの如きラクトン類：
２−エチル−γ−ブチロラクタム−２−イル−（メタ）アクリレート、２−メチル−γ−ブチロラクタム−２−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−γ−ブチロラクタム−３−イル−（メタ）アクリレート、２−メチル−γ−ブチロラクタム−３−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−γ−ブチロラクタム−４−イル−（メタ）アクリレート、２−メチル−γ−ブチロラクタム−４−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクタム−２−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクタム−２−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクタム−３−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクタム−３−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクタム−４−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクタム−４−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクタム−５−イル−（メタ）アクリレート、２−エチル−δ−バレロラクタム−５−イル−（メタ）アクリレートの如きラクタム類を挙げることができる。
【００３６】
共重合体〔Ａ−１〕は（ａ１）および（ａ２）以外に、さらに（ａ３）（ａ１）および（ａ２）以外の重合性不飽和化合物に由来する重合単位を含有することができる。重合性不飽和化合物（ａ３）は、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物類、マレイミド化合物類、不飽和芳香族化合物、共役ジエン系化合物、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物、その他の不飽和化合物を挙げることができる。
【００３７】
これらの具体例としては、例えば、メタクリル酸アルキルエステルとして、ヒドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、２−メタクリロキシエチルグリコサイド、４−ヒドロキシフェニルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ｎ−ラウリルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレート等；
アクリル酸アルキルエステルとしてメチルアクリレート、イソプロピルアクリレート等；
メタクリル酸環状アルキルエステルとして、シクロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート等；
アクリル酸環状アルキルエステルとして、シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート等；
メタクリル酸アリールエステルとして、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等；
アクリル酸アリールエステルとして、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等；
不飽和ジカルボン酸ジエステルとして、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等；
ビシクロ不飽和化合物類として、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等；
マレイミド化合物類として、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等；
不飽和芳香族化合物として、スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等；
共役ジエン系化合物として、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等；
不飽和モノカルボン酸として、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等；
不飽和ジカルボン酸として、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等；
不飽和ジカルボン酸無水物として、上記不飽和ジカルボン酸の各無水物；
その他の不飽和化合物として、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等を挙げることができる。
【００３８】
これらのうち、スチレン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート、ｐ−メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、１，３−ブタジエン、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドなどが共重合反応性、耐熱性等の点から好ましい。
これらは、単独であるいは組み合わせて用いられる。
【００３９】
共重合体〔Ａ−１〕は重合性不飽和化合物単量体に由来する構造単位を好ましくは（ａ１）５〜９５重量％、（ａ２）５〜９５重量％、および（ａ３）０〜９０重量％、さらに好ましくは（ａ１）２０〜８０重量％、（ａ２）２０〜８０重量％、および（ａ３）０〜６０重量％、最も好ましくは（ａ１）３０〜６０重量％、（ａ２）３０〜６０重量％、および（ａ３）１０〜４０重量％含有する。この範囲の含有量において、良好な平坦化性能および耐熱性を実現することができる。
【００４０】
共重合体（Ａ−１）の好ましい具体例としては、例えば、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル／メタクリル酸共重合体等が挙げられる。
【００４１】
（共）重合体〔Ａ−２〕
（共）重合体〔Ａ−２〕は、前記重合性不飽和化合物（ａ１）を含有する成分を重合させて得られる（共）重合体（前述の共重合体〔Ａ−１〕を除く）である。
（共）重合体〔Ａ−２〕は重合性不飽和化合物（ａ１）以外に、さらに前記重合性不飽和化合物（ａ３）との共重合体とすることができる。
（共）重合体〔Ａ−２〕は重合性不飽和化合物単量体に由来する構造単位を好ましくは（ａ１）５〜１００重量％、および（ａ３）０〜９５重量％、さらに好ましくは（ａ１）２０〜１００重量％、および（ａ３）０〜８０重量％、最も好ましくは（ａ１）３０〜９０重量％、および（ａ３）１０〜７０重量％含有する。この範囲の含有量において、良好な平坦化性能および耐熱性を実現することができる。
【００４２】
共重合体〔Ａ−２〕の好ましい具体例としては、例えば、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸共重合体、等が挙げられる。
【００４３】
（共）重合体〔Ａ−３〕
（共）重合体〔Ａ−３〕は、前記重合性不飽和化合物（ａ２）を含有する成分を重合させて得られる（共）重合体（前述の共重合体〔Ａ−１〕を除く）である。
（共）重合体〔Ａ−３〕は重合性不飽和化合物（ａ２）以外に、さらに前記重合性不飽和化合物（ａ３）との共重合体とすることができる。
（共）重合体〔Ａ−３〕は重合性不飽和化合物単量体に由来する構造単位を好ましくは（ａ２）５〜１００重量％、および（ａ３）０〜９５重量％、さらに好ましくは（ａ２）２０〜１００重量％、および（ａ３）０〜８０重量％、最も好ましくは（ａ２）３０〜９０重量％、および（ａ３）１０〜７０重量％含有する。この範囲の含有量において、良好な平坦化性能および耐熱性を実現することができる。
【００４４】
共重合体〔Ａ−３〕の好ましい具体例としては、例えば、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、
スチレン／１−ジエチルプロピルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、
スチレン／１−エチルシクロヘキシルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、
スチレン／１−エチルシクロペンチルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド共重合体等が挙げられる。
【００４５】
共重合体〔Ａ−１〕、〔Ａ−２〕および〔Ａ−３〕は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（溶出溶媒テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」ということがある。）が好ましくは１，０００〜１００，０００であり、さらに好ましくは２，０００〜５０，０００であり、特に好ましくは３，０００〜４０，０００である。この場合、Ｍｗが１，０００未満であると、組成物の塗布性が不十分となり、あるいは形成される保護膜の耐熱性が不足する場合があり、一方Ｍｗが１００，０００を超えると、平坦化性能が不十分となる場合がある。
さらに、共重合体〔Ａ−１〕、〔Ａ−２〕および〔Ａ−３〕の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は好ましくは５．０以下であり、さらに好ましくは３．０以下である。
【００４６】
このような共重合体は、共重合体〔Ａ−１〕においては上記重合性不飽和化合物（ａ１）、および（ａ２）を、重合体〔Ａ−２〕においては上記重合性不飽和化合物（ａ１）を、並びに重合体〔Ａ−３〕においては上記重合性不飽和化合物（ａ２）を適当な溶媒および適当な重合開始剤の存在下、公知の方法、例えばラジカル重合によって合成することができる。
【００４７】
カチオン重合性化合物〔Ｂ〕
本発明に使用されるカチオン重合性化合物〔Ｂ〕は、分子内に２個以上のオキシラニル基またはオキセタニル基を有する化合物（ただし前述の共重合体〔Ａ−１〕〔Ａ−２〕を除く。）である。上記分子内に２個以上のオキシラニル基またはオキセタニル基を有する化合物としては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、あるいは３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物が挙げられる。
【００４８】
上記分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル類；
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；
ポリフェノール型エポキシ樹脂；
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；
高級脂肪酸のグリシジルエステル類；
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等を挙げることができる。
【００４９】
上記分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の市販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）等；
ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）等；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）等；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）等；
ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）等；
環状脂肪族エポキシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ（株）製）、エピコート８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等；
脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等が挙げられる。
【００５０】
上記分子内に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等を挙げることができる。
このようなカチオン重合性化合物〔Ｂ〕のうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
【００５１】
本発明の樹脂組成物中におけるカチオン重合性化合物〔Ｂ〕の使用量は、重合体〔Ａ−１〕、〔Ａ−２〕および〔Ａ−３〕の合計量１００重量部あたり、好ましくは３〜２００重量部、さらに好ましくは５〜１００重量部、特に１０〜５０重量部である。カチオン重合性化合物〔Ｂ〕の使用量が２００重量部より多いと、組成物の塗布性に問題が生ずる場合があり、一方、３重量部未満であると、得られる保護膜の硬度が不足する場合がある。
【００５２】
感熱性酸発生剤〔Ｃ〕
感熱酸発生剤としては、スルホニウム塩類、ベンゾチアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類等が挙げられ、これらのうちでもスルホニウム塩類、ベンゾチアゾニウム塩類が好ましく用いられる。
【００５３】
上記スルホニウム塩類の具体例としては、４−アセトフェニルジメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネートなどのアルキルスルホニウム塩；
ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェートなどのベンジルスルホニウム塩；
ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−メトキシフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェートなどのジベンジルスルホニウム塩；
ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、３，５−ジクロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネートなどの置換ベンジルスルホニウム塩等が挙げられる。
【００５４】
これらのうちでも４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアルセネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルベンジルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート等が好ましく用いられる。
【００５５】
上記ベンゾチアゾニウム塩類としては３−ベンジルベンゾチアゾニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム  ヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム  テトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾニウム  ヘキサフルオロアンチモネートなどのベンジルベンゾチアゾニウム塩が挙げられる。
これらのうち、３−ベンジルベンゾチアゾニウム  ヘキサフルオロアンチモネ
ート等が好ましく用いられる。
【００５６】
感熱酸発生剤として好適に用いられる酸発生剤の市販品としては、アルキルスルホニウム塩として、旭電化工業（株）製  商品名：アデカオプトンＣＰ−６６、ＣＰ−７７を挙げることができる。
また、ベンジルスルホニウム塩として、三新化学工業（株）製  商品名：ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００Ｌ、ＳＩ−１１０Ｌを挙げることができる。
これらのうち、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０が、得られる保護膜が高い表面硬度を有することから好ましい。
【００５７】
本発明の樹脂組成物が〔Ｃ〕感熱酸発生剤を含有するものである場合、その使用量は重合体〔Ａ−１〕、〔Ａ−２〕および〔Ａ−３〕の合計量１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜２０重量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。この範囲の使用量とすることにより、充分な硬度を有する保護膜を得ることができる。
また、〔Ｃ〕感熱酸発生剤は感放射線酸発生剤に置き換えることができる。
感放射線性酸発生剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射により酸を発生することができる化合物である。
このような感放射線性酸発生剤としては、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールホスホニウム塩類等が挙げられ、これらを好ましく使用できる。
【００５８】
上記ジアリールヨードニウム塩類としては、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。これらのうちでも、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネートが好適に用いられる。
【００５９】
上記トリアリールスルホニウム塩類としては、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。これらのうちでも、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナートが好適に用いられる。
上記ジアリールホスホニウム塩類としては、（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスホネート等を挙げることができる。
【００６０】
感放射線性酸発生剤として好適に用いられる酸発生剤の市販品としては、ジアリールヨードニウム塩類として、ユニオンカーバイド社製  商品名：ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０、みどり化学（株）製  商品名：ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３等を挙げることができる。
また、トリアリールスルホニウム塩類として、旭電化工業（株）製  商品名：アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、日本曹達（株）製  商品名：ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４、みどり化学（株）製  商品名：ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、サートマー社製  商品名：ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２等を挙げることができる。
【００６１】
また、ジアリールホスホニウム塩類としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製  商品名：イルガキュアー２６１、日本化薬（株）製  商品名：ＰＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２Ｔ等を挙げることができる。
これらのうち、ユニオンカーバイド社製  商品名：ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０、旭電化工業（株）製  商品名：アデカオプトマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、サートマー社製  商品名：ＣＤ−１０１２、みどり化学（株）製  商品名：ＭＰＩ−１０３が、得られる保護膜が高い表面硬度を有することから好ましい。
【００６２】
本発明の樹脂組成物が感放射線性酸発生剤を含有するものである場合、その使用量は重合体〔Ａ−１〕、〔Ａ−２〕および〔Ａ−３〕の合計量１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜２０重量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。この範囲の使用量とすることにより、充分な硬度を有する保護膜を得ることができる。
【００６３】
〔Ｄ〕接着助剤
上記〔Ｄ〕接着助剤は、形成される保護膜と基板との密着性を向上させるために添加することができる。
このような〔Ｄ〕接着助剤としては、例えば、反応性置換基を有する官能性シランカップリング剤を使用することができる。上記反応性置換基としては、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基等を挙げることができる。
〔Ｄ〕接着助剤の具体例としては、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
このような〔Ｄ〕接着助剤は、共重合体〔Ａ−１〕、〔Ａ−２〕および〔Ａ−３〕の合計量１００重量部当たり、好ましくは３０重量部以下、より好ましくは２５重量部以下の量で用いられる。〔Ｄ〕接着助剤の量が３０重量部を超えると、得られる保護膜の耐熱性が不十分となる場合がある。
【００６４】
〔Ｅ〕界面活性剤
上記界面活性剤は、本発明の樹脂組成物の塗布性能を向上させるために添加することができる。
このような界面活性剤としては例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、その他の界面活性剤を挙げることができる。
上記フッ素系界面活性剤としては、例えば、ＢＭ  ＣＨＩＭＩＥ社製  商品名：ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、大日本インキ化学工業（株）社製  商品名：メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、住友スリーエム（株）社製  商品名：フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１、旭硝子（株）社製  商品名：サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１，同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２，同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６等の市販品を挙げることができる。
【００６５】
上記シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製  商品名：ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０、信越化学工業（株）社製  商品名：ＫＰ３４１、新秋田化成（株）社製  商品名：エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２等の市販品を挙げることができる。
上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリオキシエチレンジアルキルエステル類などが挙げられる。
上記ポリオキシエチレンアルキルエーテル類としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等が挙げられ、ポリオキシエチレンアリールエーテル類としては、例えば、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルが挙げられ、ポリオキシエチレンジアルキルエステル類としては、例えば、ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート等が挙げられる。
【００６６】
上記その他の界面活性剤として、共栄社化学（株）社製  商品名：（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７、同Ｎｏ．９０等を挙げることができる。
これらの〔Ｅ〕界面活性剤の添加量は、重合体〔Ａ−１〕、〔Ａ−２〕および〔Ａ−３〕の合計量１００重量部当たり、好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で使用される。界面活性剤の量が５重量部を越える場合は、塗布工程において塗膜の膜荒れが生じやすくなる場合がある。
【００６７】
樹脂組成物の実施の形態
本発明の樹脂組成物の好ましい実施の形態としては、下記（イ）〜（ハ）のものを挙げることができる。
（イ）共重合体〔Ａ−１〕と場合により、カチオン性重合性化合物〔Ｂ〕、感熱性酸発生剤〔Ｃ〕を含有する樹脂組成物。
（ロ）重合体〔Ａ−２〕および重合体〔Ａ−３〕と場合により、カチオン性重合性化合物〔Ｂ〕、感熱性酸発生剤〔Ｃ〕を含有する樹脂組成物。組成物（ロ）において、重合体〔Ａ−３〕の使用量は、重合体〔Ａ−２〕、〔Ａ−３〕の合計量１００重量部当たり、１０重量部〜９０重量部であり、好ましくは２０重量部〜８０重量部である。共重合体〔Ａ−３〕の量が１０重量部未満の場合は、硬化不足となる場合があり、９０重量部を越える場合は耐熱性が悪化する場合がある。
（ハ）共重合体〔Ａ−３〕およびカチオン性重合性化合物〔Ｂ〕と場合により、感熱性酸発生剤〔Ｃ〕を含有する樹脂組成物。
【００６８】
本発明の樹脂組成物は、上記の各成分を、好ましくは適当な溶媒中に均一に溶解または分散することにより調製される。使用される溶媒としては、組成物の各成分を溶解または分散し、各成分と反応しないものが好ましく用いられる。
このような溶媒としては、アルコール類、エーテル類、グリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類等を挙げることができる。
【００６９】
これらの具体例としては、例えば、アルコール類として、メタノール、エタノール、ベンジルアルコールなど；
エーテル類として、テトラヒドロフランなど；
グリコールエーテル類として、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなど；
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類として、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなど；
ジエチレングリコールジアルキルエーテル類として、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類として、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなど；
プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなど；
プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類として、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートなど；
芳香族炭化水素類として、トルエン、キシレンなど；
ケトン類として、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、メチルイソアミルケトンなど；
エステル類として、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどが、それぞれ挙げられる。
【００７０】
これらのうち、アルコール類、ジエチレングリコール類、プロピレングリコールアルキルアセテート類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類が好ましく、特に、ベンジルアルコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテルが好ましい。
溶媒の使用量としては、本発明の組成物中の全固形分（溶媒を含む組成物の総量から溶媒の量を除いた量）の含有量が好ましくは１〜５０重量％、より好ましくは５〜４０重量％となるような範囲である。
【００７１】
前記の溶媒とともに高沸点溶媒を併用することができる。ここで併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。
高沸点溶媒を併用する際の使用量としては、全溶媒量に対して好ましくは９０重量％以下、さらに好ましくは８０重量％以下である。
上記のようにして調製された組成物は、孔径０．２〜３．０μｍ、好ましくは孔径０．２〜０．５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾別した後、使用に供することもできる。
【００７２】
カラーフィルタの保護膜の形成
次に、本発明の組成物を用いてカラーフィルタの保護膜を形成する方法について説明する。
本発明の樹脂組成物溶液を基板表面に塗布し、プレベークして溶媒を除去することにより塗膜を形成したのち、加熱処理をすることにより目的とするカラーフィルタの保護膜を形成することができる。
【００７３】
上記基板として使用できるものとしては、例えばガラス、石英、シリコン、樹脂等の基板が使用することができる。樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、ならびに環状オレフィンの開環重合体およびその水素添加物の如き樹脂を挙げることができる。
【００７４】
塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法、インクジェット法などの適宜の方法を採用することができ、特にスピンコーター、スピンレスコーター、スリットダイコーターを用いた塗布が好適に使用できる。
【００７５】
上記プレベークの条件としては、各成分の種類や配合割合などによっても異なるが、通常７０〜９０℃で１〜１５分間程度の条件を採用できる。塗膜の厚さとしては好ましくは０．１５〜８．５μｍ、より好ましくは０．１５〜６．５μｍ、さらに好ましくは０．１５〜４．５μｍとすることができる。なお、ここでいう塗膜の厚さは、溶媒除去後の厚さとして理解されるべきである。
【００７６】
塗膜形成後の加熱処理は、ホットプレートやクリーンオーブンなどの適宜の加熱装置により実施することができる。処理温度としては、１５０〜２５０℃程度が好ましく、加熱時間は、ホットプレート使用の場合は５〜３０分間、オーブン使用の場合は、３０〜９０分間の処理時間を採用することができる。
また、樹脂組成物に感放射線性酸発生剤を用いた場合には、当該樹脂組成物を基板表面に塗布し、プレベークにより溶媒を除去して塗膜とした後、放射線照射処理（露光処理）を施すことにより目的とする保護膜を形成することができる。必要に応じて、露光処理後にさらに加熱処理を行っても良い。
【００７７】
上記放射線の照射処理において使用できる放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を挙げることができるが、１９０〜４５０ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。
露光量としては、通常１００〜２０，０００Ｊ／ｍ２、好ましくは１５０〜１０，０００Ｊ／ｍ２である。
放射線照射後さらに任意的に加熱処理を行ってもよい。このときの加熱温度としては、１５０〜２５０℃程度が好ましく、加熱装置として例えばホットプレート、クリーンオーブン等の適宜の装置を使用することができる。加熱時間は、ホットプレート使用の場合は５〜３０分間、オーブン使用の場合は、３０〜９０分間の処理時間を採用することができる。
【００７８】
カラーフィルタの保護膜
このように形成された保護膜は、その膜厚が好ましくは０．１〜８μｍ、より好ましくは０．１〜６μｍ、さらに好ましくは０．１〜４μｍである。なお、本発明の保護膜がカラーフィルタの段差を有する基板上に形成される場合には、上記の膜厚は、カラーフィルタの最上部からの厚さとして理解されるべきである。
本発明の保護膜は、下記する実施例から明らかなように、密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、耐溶剤性などを満たすと共に、熱のかかった状態での荷重によっても凹まず、また下地基板上に形成されたカラーフィルタの段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜として好適である。
特に、本発明の保護膜が、パネル製造工程において２５０℃を超える加熱に曝されることがあるので、その場合にも十分に耐えられる耐熱性を持つことが、２７０℃で十分な寸法安定性を持つことによって保証される。
【実施例】
【００７９】
以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００８０】
（共）重合体の製造
合成例１
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル５０重量部、１−エチルシクロペンチルメタアクリレート５０重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ１−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３２．９％であった。
【００８１】
合成例２
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル４０重量部、１−ジエチルプロピルメタアクリレート４０重量部、スチレン１０重量部、およびメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ１−２）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。
【００８２】
合成例３
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル４０重量部、１−エチルシクロヘキシルメタアクリレート４０重量部、スチレン１０重量部、およびシクロヘキシルマレイミド１０重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ１−３）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。
【００８３】
合成例４
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル４０重量部、１−エチルシクロペンチルメタアクリレート４０重量部、スチレン１０重量部、およびＮ−シクロヘキシルマレイミド１０重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ１−４）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３２．７％であった。
【００８４】
合成例５
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル４０重量部、１−エチルシクロペンチルメタアクリレート４０重量部、メタクリル酸１０重量部、スチレン５重量部、およびＮ−シクロヘキシルマレイミド５重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ１−５）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３２．８％であった。
【００８５】
合成例６
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル４０重量部、２−メチル−γ−ラクトン−４−イル−メタアクリレート４０重量部、スチレン１０重量部、およびＮ−シクロヘキシルマレイミド１０重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ１−６）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３１．９％であった。
【００８６】
合成例７
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル１００重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ２−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．２％であった。
【００８７】
合成例８
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル８０重量部、スチレン２０重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ２−２）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．３％であった。
【００８８】
合成例９
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続き１−エチルシクロヘキシルメタアクリレート１００重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ３−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。
【００８９】
合成例１０
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続き１−エチルシクロヘキシルメタアクリレート８０重量部、スチレン１０重量部、およびメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ３−２）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．３％であった。
【００９０】
比較合成例１
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部およびメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（ａ−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。
【００９１】
比較合成例２
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル４０重量部、スチレン１０重量部、ｔ−ブチルメタクリレート４０重量部、およびシクロヘキシルマレイミド１０重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（ａ−２）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。
【００９２】
樹脂組成物の調製および評価
実施例１
上記合成例１で得られた共重合体（Ａ１−１）を含む溶液（共重合体（Ａ１−１）１００重量部（固形分）に相当する量）と（Ｅ）界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．１重量部を加え、さらに固形分濃度が２０％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加した後、孔径０．５μｍのミリポアフィルタで濾過して樹脂組成物を調製した。
【００９３】
スピンナーを用いて上記組成物を、ＳｉＯ２ディップガラス基板上に塗布した後、ホットプレート上で８０℃、５分間プレベークして塗膜を形成し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理して膜厚２．０μｍの保護膜を形成した。
【００９４】
保護膜の評価
（１）透明性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所（株）製））を用いて４００〜８００ｎｍの透過率を測定した。４００〜８００ｎｍの透過率の最小値を表１に示した。この値が９５％以上のとき、保護膜の透明性は良好といえる。
【００９５】
（２）耐熱寸法安定性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、オーブン中２５０℃で１時間の条件で加熱し、加熱前後の膜厚を測定した。下記式にしたがって算出した耐熱寸法安定性を表１に示した。この値が９５％以上のとき、耐熱寸法安定性は良好といえる。
耐熱寸法安定性＝（加熱後の膜厚）／（加熱前の膜厚）×１００（％）
【００９６】
（３）耐熱変色性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、オーブン中２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の透明性を、上記（１）と同様にして測定した。下記式にしたがって算出した耐熱変色性を表１に示した。この値が５％以下のとき、耐熱変色性は良好といえる。
耐熱変色性＝加熱前の透過率−加熱後の透過率（％）
【００９７】
（４）表面硬度の測定
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、ＪＩＳ  Ｋ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆引っかき試験により保護膜の表面硬度を測定した。この値を表１に示す。この値が４Ｈまたはそれより硬いとき、表面硬度は良好といえる。
【００９８】
（５）ダイナミック微小硬度の測定
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、島津ダイナミック微小硬度計ＤＵＨ−２０１（（株）島津製作所製）を用い、稜角１１５°三角圧子（ヘルコビッチ型）の押し込み試験により、保護膜のダイナミック微小硬度を、荷重：０．１ｇｆ、速度：０．０１４５ｇｆ／ｓｅｃ．、保持時間：５ｓｅｃ．、温度は２３℃および１４０℃の測定条件で測定した。結果を表１に示す。
【００９９】
（６）密着性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００％、４時間）を行った後、ＪＩＳ  Ｋ−５４００−１９９０の８．５．３付着性碁盤目テープ法により保護膜の密着性（ＳｉＯ２に対する密着性）を評価した。碁盤目１００個中、残った碁盤目の数を表２に示した。
また、Ｃｒに対する密着性の評価として、ＳｉＯ２ディップガラス基板の替わりにＣｒ基板を用いた他は上記と同様にして膜厚２．０μｍの保護膜を形成し、上記の碁盤目テープ法により同様に評価した。結果は表１に示した。
【０１００】
（７）ＩＴＯエッチング耐性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、日本真空技術社製Ｈｉｇｈ ｒａｔｅ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ装置ＳＨ−５５０−Ｃ１２にて、ＩＴＯターゲット（ＩＴＯ充填率９５％以上、Ｉｎ２Ｏ３／ＳｎＯ２＝９０／１０重量比）を用いて、６０℃にてＩＴＯスパッタを実施した。このときの雰囲気は減圧度１．０×１０−５Ｐａ、Ａｒガス流量３．１２×１０−３ｍ３／ｈ、Ｏ２ガス流量１．２×１０−５ｍ３／ｈ）であった。スパッタ後の基板を上記のクリーンオーブンにて２４０℃×６０ｍｉｎ加温し、アニーリングを実施した。次に基板をスピンナーにセットし、ＪＳＲ製Ｇ線用ポジレジストＰＦＲ３６５０−２１ｃｐを基板上に滴下、３５００ｒｐｍ×３０ｓｅｃにて塗工した。基板をホットプレートにて９０℃×２ｍｉｎ加温して溶剤を除去した。その後、１０μｍ／１０μｍのパターンマスクを介して、露光機Ｃａｎｏｎ  ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２．７：２．５：４．８）をｉ線換算で照度２３ｍＷ／ｍ２、２５ｍＪ／ｍ２の露光量で照射し、室温下、２．４％ＴＭＡＨ水溶液を用いて６０秒間浸漬現像し、超純水にて６０秒間リンスした後、風乾した。その後クリーンオーブンにて１５０℃×６０ｍｉｎでポストベークした。エッチャントは硝酸／塩酸を１／３の重量比で混合して供した。基板をエッチャントに浸漬し、１０秒ごとに基板を取り出し、１０μｍのＩＴＯラインを形成するジャストエッチング時間を決定し、ジャストエッチング時間の１．２倍時のＩＴＯライン幅を光学顕微鏡にて計測し、結果を表１に示した。１０μｍのＩＴＯラインの保持率が高ければ高いほど、ＩＴＯエッチング耐性が優れているとした。
【０１０１】
（８）平坦化性の評価
ＳｉＯ２ディップガラス基板上に、顔料系カラーレジスト（商品名「ＪＣＲ  ＲＥＤ  ６８９」、「ＪＣＲ  ＧＲＥＥＮ  ７０６」、「ＣＲ  ８２００Ｂ」、以上、ＪＳＲ（株）製）をスピンナーにより塗布し、ホットプレート上で９０℃、１５０秒間プレベークして塗膜を形成した。その後、所定のパターンマスクを介して、露光機Ｃａｎｏｎ  ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２．７：２．５：４．８）をｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ２の露光量で照射し、０．０５％水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、超純水にて６０秒間リンスした後、さらにオーブン中で２３０℃にて３０分間加熱処理して、赤、緑、および青の３色のストライプ状カラーフィルタ（ストライプ幅１００μｍ）を形成した。
【０１０２】
このカラーフィルタが形成された基板表面の凹凸を、表面粗さ計「α−ステップ」（商品名：テンコール社製）で測定したところ、１．０μｍであった。ただし、測定長２，０００μｍ、測定範囲２，０００μｍ角、測定点数ｎ＝５で測定した。すなわち、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向および赤・赤、緑・緑、青・青の同一色のストライプライン長軸方向の２方向とし、各方向につきｎ＝５で測定した（合計のｎ数は１０）。
この上に、上記保護膜形成用組成物をスピンナーにて塗布した後、ホットプレート上で９０℃、５分間プレベークして塗膜を形成し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理し、カラーフィルタの上面からの膜厚が２．０μｍの保護膜を形成した。ただし、ここで言う膜厚は、基板上に形成されたカラーフィルタの最上面からの厚さを意味する。
【０１０３】
上記のようにして形成した、カラーフィルタ上に保護膜を有する基板について、接触式膜厚測定装置α−ステップ（テンコールジャパン（株）製）にて保護膜の表面の凹凸を測定した。ただし、測定長２，０００μｍ、測定範囲２，０００μｍ角、測定点数ｎ＝５で測定した。すなわち、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向および赤・赤、緑・緑、青・青の同一色のストライプライン長軸方向の２方向とし、各方向につきｎ＝５で測定した（合計のｎ数は１０）。各測定ごとの最高部と最底部の高低差（ｎｍ）の１０回の平均値を表１に示した。この値が３００ｎｍ以下のとき、平坦化性は良好といえる。
【０１０４】
（９）保存安定性の評価
実施例１で調製した保護膜形成用の樹脂組成物における粘度を、東京計器（株）製  ＥＬＤ型粘度計を用いて測定した。その後、該組成物を２５℃にて静置しつつ、２５℃における溶液粘度を毎日測定した。調製直後の粘度を基準に５％増粘するのに要した日数を求め、この日数を表１に示した。この日数が２０日以上のとき、保存安定性は良好といえる。
【０１０５】
実施例２〜２８および比較例１、２
組成物の各成分の種類および量を表１および表２に記載の通りとし、表１および表２に記載の溶媒を使用して表１および表２記載の固形分濃度に合わせた他は、実施例１と同様にして樹脂組成物を調製した。
上記のように調製した保護膜形成用の樹脂組成物を使用し、実施例１と同様に保護膜を形成し、評価した。結果を表１および表２に示した。
【０１０６】
実施例２９〜３２
組成物の各成分の種類および量を表２に記載の通りとし、表２に記載の溶媒を使用して表２記載の固形分濃度に合わせた他は、実施例１と同様にして樹脂組成物を調製した。
スピンコーターの代わりに、スリットダイコーターを用いて塗布した以外は、実施例１と同様に樹脂組成物を調整し、保護膜を形成し、評価した。結果を表２に示した。
【０１０７】
【表１】
2006176746.tif 000006
【０１０８】
【表２】
2006176746.tif 000007
【０１０９】
なお、表１および表２において、カチオン重合性化合物（Ｂ）、感熱性酸発生剤（Ｃ）、接着助剤（Ｄ）および溶媒（Ｓ）の略称は、それぞれ以下のものを表す。
Ｂ−１：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製  商品名：エピコート１５７Ｓ６５）
Ｃ−１：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート
Ｄ−１：γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
Ｄ−２：γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
Ｅ−１：シリコーン系界面活性剤（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製  商品名：ＳＨ−２８ＰＡ）
Ｓ−１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｓ−２：ジエチレングリコールジメチルエーテル