(57)【要約】 【課題】  低コスト化を図る。【解決手段】  基板搬送装置１３は、マザーガラスＢの搬送方向に沿って延出する取付板１７と、取付板１７に対し長さ方向に沿って並んだ状態で取り付けられる複数のホルダ１８と、各ホルダ１８に対してベアリング１９を介して回転可能に支持されるとともにマザーガラスＢを搬送可能なローラ２１を備えたシャフト２０とを備える。取付板１７と各ホルダ１８との間には、スペーサ２５を介在させることが可能とされており、このスペーサ２５によりホルダ１８の取り付け高さを調整することで、マザーガラスＢを傾斜した姿勢で搬送することが可能となっている。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状をなす基板を搬送するためのものであって、
前記基板の搬送方向に沿って延出する基部と、この基部に対し長さ方向に沿って並んだ状態で取り付けられる複数のホルダと、各ホルダに対してベアリングを介して回転可能に支持されるとともに前記基板を搬送可能な搬送シャフトとを備え、
前記基部に対する前記各ホルダの取り付け高さを調整可能な高さ調整機構が備えられ、この高さ調整機構により前記基板を傾けた状態で搬送するようにしたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記高さ調整機構は、前記基部と前記各ホルダとの間に介在可能なスペーサにより構成されていることを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記スペーサとして同一形状のものが用いられるとともに、前記基部と前記各ホルダとの間に介在させる前記スペーサの数を設定することで、前記各ホルダの取り付け高さを調整するようにしたことを特徴とする請求項２記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記高さ調整機構により、前記各ホルダの取付位置が前記基板の搬送方向前方に行くに従って次第に高くなるように設定されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記高さ調整機構により、前記各ホルダの取付位置が前記基板の搬送方向前方に行くに従って次第に高くなった後、途中から次第に低くなるように設定されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載された基板搬送装置を用いたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載された基板搬送装置または基板処理装置を用いて製造したことを特徴とする平面表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置、基板処理装置及び平面表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、平面表示装置の一種である液晶パネルを製造する際には、ガラス基板の表面にフォトリソグラフィにより各種処理（レジスト塗布処理、レジスト剥離処理、エッチング処理、洗浄処理など）を施すべく、各種処理装置が用いられる。処理装置は、ガラス基板を搬送するための基板搬送装置を備えるとともに、この基板搬送装置によりガラス基板を搬送しつつその表面に対して処理液を供給するようにしている。基板搬送装置は、大まかには、モータなどの動力源に接続されたシャフトと、ベアリングを介してシャフトの両端部を支持するホルダと、シャフトに取り付けられた多数個のローラとを備え、モータの駆動によってシャフトを回転させることでローラ上に載せたガラス基板を搬送するようにしている。
【０００３】
ところで、近年では取り扱うガラス基板が大型化する傾向にあり、そのような大型のガラス基板を搬送しようとすると以下の問題が生じるおそれがある。すなわち、シャフトは、ベアリングにより支持されるのが両端部のみであるため、大型のガラス基板に対応した長さになると、ガラス基板の重みによって両端部を支点として中央部分が下がるようにして撓むことがある。それに伴ってガラス基板自身にも同様の撓みが生じると、その撓んだ部位に供給された処理液が滞留してしまうという問題が生じていた。
【０００４】
そこで、上記したような処理液の滞留の問題を解消するものとして、下記特許文献１，２に記載されたものが知られている。このうち、特許文献１に記載のものは、シャフトに設けられたローラのうち、幅方向両端寄りのローラよりも幅方向中央のローラを高い位置に設けることで、基板を反らせた状態で搬送するようにしたものである。一方、特許文献２に記載のものは、基板搬送装置全体を幅方向について傾けるようにしたものである。このように基板を傾斜した状態で搬送するようにすれば、処理液を傾斜方向へ流し落とすことができるので、処理液が基板の表面に滞留するのを防止することができる。
【特許文献１】特開平１１−１３０２４９号公報
【特許文献２】特開平１１−１８６２１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、これら特許文献１，２に記載のものは、既存の設備をそのまま使用することができず、傾斜搬送専用の設備を新規に導入する必要があった。つまり、既存の設備との入れ替えを図る必要があるため、投資すべき設備費が高額になってしまうという問題があった。
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、低コスト化を図ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するための手段として、請求項１の発明に係る基板搬送装置は、平板状をなす基板を搬送するためのものであって、前記基板の搬送方向に沿って延出する基部と、この基部に対し長さ方向に沿って並んだ状態で取り付けられる複数のホルダと、各ホルダに対してベアリングを介して回転可能に支持されるとともに前記基板を搬送可能な搬送シャフトとを備え、前記基部に対する前記各ホルダの取り付け高さを調整可能な高さ調整機構が備えられ、この高さ調整機構により前記基板を傾けた状態で搬送するようにした構成としたところに特徴を有する。
【０００７】
請求項２の発明は、請求項１に記載のものにおいて、前記高さ調整機構は、前記基部と前記各ホルダとの間に介在可能なスペーサにより構成されているところに特徴を有する。
【０００８】
請求項３の発明は、請求項２に記載のものにおいて、前記スペーサとして同一形状のものが用いられるとともに、前記基部と前記各ホルダとの間に介在させる前記スペーサの数を設定することで、前記各ホルダの取り付け高さを調整するようにしたところに特徴を有する。
【０００９】
請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のものにおいて、前記高さ調整機構により、前記各ホルダの取付位置が前記基板の搬送方向前方に行くに従って次第に高くなるように設定されているところに特徴を有する。
【００１０】
請求項５の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のものにおいて、前記高さ調整機構により、前記各ホルダの取付位置が前記基板の搬送方向前方に行くに従って次第に高くなった後、途中から次第に低くなるように設定されているところに特徴を有する。
【００１１】
請求項６の発明に係る基板処理装置は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載された基板搬送装置を用いたところに特徴を有する。
【００１２】
請求項７の発明に係る平面表示装置は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載された基板搬送装置または基板処理装置を用いて製造したところに特徴を有する。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１の発明に係る基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置によれば、既存の基板搬送装置に対し、各ホルダの取り付け高さを調整可能な高さ調整機構を追加することで、基板を傾けた状態で搬送することができる。従って、従来のような傾斜搬送用の装置を新規に導入した場合と比較すると、低コストで基板の傾斜搬送を実現することができる。
【００１４】
請求項２の発明に係る基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置によれば、各ホルダの高さ位置を簡単に調整することができる。
【００１５】
請求項３の発明に係る基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置によれば、スペーサを同一形状としたので、仮に各ホルダの取り付け高さに合わせた大きさのスペーサを多品種製造した場合と比較すると、低コストとなる。
【００１６】
請求項４の発明に係る基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置によれば、基板の搬送方向を上り勾配とすることができるので、基板の表面に処理液が供給されたとき、その処理液を基板の搬送方向後側へ流し落とすことができる。
【００１７】
請求項５の発明に係る基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置によれば、搬送過程では、基板が各ホルダの取付位置に応じて山なりに反ることになる。この状態で基板の表面に処理液を供給した場合、処理液は、基板の搬送方向前側と後側との双方に分かれて流れ落ちることになる。これにより、基板の表面に形成される処理液の層の厚さが薄くなるので、処理液が基板の表面に対して届き易くなる。
【００１８】
請求項７の発明に係る平面表示装置によれば、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載された基板搬送装置または基板処理装置を用いて製造されているから、製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１ないし図４によって説明する。本実施形態では、平面表示装置の一種である液晶表示装置を製造する過程において、液晶表示装置を構成するガラス基板の元となるマザーガラスＢを洗浄するのに用いる基板洗浄装置１０を例示する。なお以下では、図１の左方（マザーガラスＢの進行方向、各図面の矢線方向）を前方、その反対方向である図１の右方を後方とし、また上下方向については図１や図３などを基準とする。
【００２０】
まず液晶表示装置について簡単に説明する。液晶表示装置は、図示はしないが大まかには所定のギャップを確保しつつ互いに向き合わせた一対のガラス基板間に液晶を封入するとともに、一方のガラス基板の内面にスイッチング素子（例えばＴＦＴ）や透明電極などを設け、他方のガラス基板の内面にカラーフィルタや透明電極などを設けるようにした構成とされる。
【００２１】
この液晶表示装置を製造する際には、大型の平板状のマザーガラスＢの表面にスイッチング素子などを形成した後、マザーガラスＢを所定サイズにカットするようにしている。この製造工程では、マザーガラスＢの表面に例えばフォトリソグラフィによって各種処理（レジスト塗布処理、レジスト剥離処理、エッチング処理、洗浄処理など）を施すのであるが、その処理工程には、マザーガラスＢを処理液である洗浄液Ｌ（例えば純水）により洗浄する洗浄処理が含まれており、そのために次述する基板洗浄装置１０（基板処理装置）が用いられている。なおマザーガラスＢの大きさは、例えば長さ寸法が１８００ｍｍ、幅寸法が１５００ｍｍ程度とされ、その板厚寸法は、例えば０．７ｍｍ程度とされる。
【００２２】
続いて基板洗浄装置１０について説明する。基板洗浄装置１０は、図１に示すように、マザーガラスＢを洗浄するための槽本体１１と、マザーガラスＢの表面に洗浄液Ｌを噴射可能な基板洗浄手段１２（基板処理手段）と、槽本体１１内にてマザーガラスＢを寝かせた姿勢でほぼ水平に搬送可能な基板搬送装置１３とを備えている。
【００２３】
基板洗浄手段１２は、洗浄液ＬをマザーガラスＢに向けて所定の圧力で噴射可能なノズル部１４を備えるとともに、このノズル部１４には、ポンプ１５を介してタンク１６が接続されており、ポンプ１５を駆動させることでタンク１６からノズル部１４に対して洗浄液Ｌが供給されるようになっている。ノズル部１４は、マザーガラスＢを挟んで上方位置と下方位置とに対向して設けられることで、マザーガラスＢの上面と下面を同時に洗浄できるようになっている。上下のノズル部１４は、共に幅方向に沿って複数個ずつ並んで設けられており、搬送されるマザーガラスＢを全幅領域にわたってむらなく洗浄できるようになっている。また洗浄液Ｌは、マザーガラスＢを洗浄した後に槽本体１１から回収されるとともに、フィルタなどを通して浄化されたものが上記タンク１６内に貯蔵され、つまり循環使用されるようになっている。
【００２４】
基板搬送装置１３は、大まかには、図１及び図２に示すように、槽本体１１内にて所定の高さ位置に固定される一対の取付板１７と、各取付板１７に対して着脱可能に取り付けられる複数個のホルダ１８と、各ホルダ１８内に保持されるベアリング１９と、ベアリング１９を介して各ホルダ１８に支持されるシャフト２０と、各シャフト２０に設けられるとともにマザーガラスＢを搬送可能なローラ２１とを備える。
【００２５】
一対の取付板１７は、マザーガラスＢの幅寸法よりも大きな間隔を空けた位置にて互いに平行な状態で対向して配されている。取付板１７は、金属製とされ、マザーガラスＢの搬送方向に沿って延出する細長い板状に形成されている。取付板１７の上面側には、各ホルダ１８が取り付けられる取付部２２が上方及び側方へ開放する形態で凹設されている。この取付部２２は、取付板１７の長さ方向（マザーガラスＢの搬送方向）に沿って前後に複数個、所定の間隔を空けた位置に並んで配設されており、これにより取付板１７は、全体として櫛歯状に形成されている。取付部２２の底面、つまりホルダ１８に対する受け面は、水平に形成されている。また前後の取付部２２間のピッチは、例えば１０ｃｍ程度に設定されている。
【００２６】
ホルダ１８は、金属製とされ、全体が略ブロック状に形成されている。ホルダ１８には、ベアリング１９が収容される収容部２３が上方及び側方へ開放する形態で凹み形成されており、ベアリング１９の外輪が保持されるようになっている。ホルダ１８は、取付板１７よりも大きな幅寸法に形成されるとともに、ホルダ１８の外面のうち前面及び後面には、取付部２２の周縁部に対して嵌合可能な嵌合溝２４がそれぞれ形成されている。各嵌合溝２４の両側縁部２４ａが取付部２２の周縁部に外側から係止することで、ホルダ１８が取付板１７に対して幅方向に位置ずれすることなく保持可能とされる。またホルダ１８の上面は、取付状態で取付板１７の上面とほぼ面一状に配される。
【００２７】
シャフト２０は、金属製とされ、取付板１７の長さ方向と略直交する方向に延びるとともにその長さ寸法が両取付板１７間の間隔よりも大きな中空の円棒状に形成されている。シャフト２０は、両端部よりも少し内寄りの位置にそれぞれベアリング１９の内輪が嵌合されることで、ホルダ１８に対して回転自在に軸支される。シャフト２０は、軸支された両ベアリング１９が両ホルダ１８内に収容され、そのホルダ１８が両取付板１７における取付部２２に取り付けられることで、両取付板１７間を架け渡して配されるとともにその両端部が取付板１７よりも外側に突出して配される。前後に並んだ各シャフト２０は、各ホルダ１８の取り付け高さに応じてほぼ同じ高さ位置に配されるので、マザーガラスＢをほぼ水平に搬送できるようになっている。シャフト２０の両端部の少なくともいずれか一方には、図示しない受動カムローラが設けられるとともに、この受動カムローラには、モータなどの動力源に接続した駆動シャフトの駆動カムローラ（いずれも図示せず）が係合されることで、モータの駆動力がシャフト２０に対して回転力として伝達されるようになっている。
【００２８】
ローラ２１は、合成樹脂製とされており、シャフト２０のうち両ベアリング１９の被着部位よりも内寄りの部分において、複数個（図２では９個）、幅方向に所定の間隔を空けた位置に配設されている。ローラ２１は、外径寸法がベアリング１９よりも大きく設定されており、その外周端部が取付板１７やホルダ１８よりも上方へ突出可能とされる。ローラ２１は、シャフト２０の回転に伴って回転されるとともに、その上側に載せられたマザーガラスＢを各図面の矢線方向へ向けて搬送できるようになっている。
【００２９】
ところで、上記した基板搬送装置１３では、寝かせた姿勢のマザーガラスＢをほぼ水平に搬送するようになっている。このため、マザーガラスＢを搬送する際にその重さによりシャフト２０に撓みが生じると、マザーガラスＢにも同様の撓みが生じてそこに洗浄液Ｌが滞留することが懸念される。そこで、本実施形態では、上記した基板搬送装置１３に対し、各ホルダ１８の取り付け高さを調整するためのスペーサ２５を追加することにより、マザーガラスＢを傾斜した姿勢で搬送することが可能となっている。
【００３０】
詳しくは、スペーサ２５は、図３及び図４に示すように、金属製の平らな板材により構成されており、取付板１７における各取付部２２の底面と、そこに取り付けられる各ホルダ１８の下面との間に挟まれた状態で保持されるようになっている。各取付部２２と各ホルダ１８との間では、スペーサ２５を複数枚積層することも可能とされており、介在させたスペーサ２５の枚数分だけホルダ１８の取付位置を高くできるようになっている。またこのスペーサ２５は、板厚寸法が例えば１ｍｍに設定されている。なお図３及び図４では、傾斜搬送の説明のためスペーサ２５の板厚を誇張して図示している。また図３では上下のノズル部１４の図示を、図４では下側のノズル部１４の図示を省略している。
【００３１】
そして、本実施形態では、前後方向に沿って多数個並んだホルダ１８のうち、ノズル部１４を挟んだ前後１２個のホルダ１８について取り付け高さを調整するようにしている。これらのホルダ１８と対応する各取付部２２との間に介在されるスペーサ２５は、後側から前側に行くに従って次第に枚数が増加する設定とされ、具体的には、最後位置の取付部２２にはスペーサ２５を介在させず、その前の取付部２２には１枚のスペーサ２５を、さらにその前の取付部２２には２枚のスペーサ２５を介在させ、前に行く度に１枚ずつスペーサ２５を増やすようにして、１２番目の取付部２２には１１枚のスペーサ２５を積み重ねるようにしている。
【００３２】
これにより、各ホルダ１８と対応する各シャフト２０及び各ローラ２１の取付位置は、後側から前側に行くに従って次第に高くなっており、各シャフト２０や各ローラ２１の中心位置（回転軸の軸心位置）を結んだ仮想線Ｉ１が上り勾配をなす緩やかな傾斜を有することになる。従って、マザーガラスＢは、上記仮想線Ｉ１とほぼ平行に搬送され、その搬送姿勢は前端側を持ち上げ、後端側を下げた傾斜姿勢とされる。なお、取り付け高さを調整するホルダ１８の数については１２個以外にも任意に変更可能である。
【００３３】
本実施形態は以上のような構造であり、続いてその作用を説明する。まず、水平搬送用の基板搬送装置１３によりマザーガラスＢを傾斜搬送するには、取付板１７と各ホルダ１８との間にスペーサ２５を介在させるようにする。図３に示すように、最後位置の取付部２２にはスペーサ２５を配さず、後側から２番目の取付部２２にスペーサ２５を１枚配し、そこから前の取付部２２に行く度に１枚ずつスペーサ２５を増やすようにし、１２番目のの取付部２２には、１１枚のスペーサ２５を積み重ねた状態で配する。そして、図４に示すように、各取付部２２に対して各ホルダ１８を取り付けると、各ホルダ１８の取付位置がスペーサ２５を介在させた分だけそれぞれ高くなる。
【００３４】
その後、基板洗浄装置１０によりマザーガラスＢを洗浄する作業を行う。基板洗浄装置１０に投入されたマザーガラスＢは、基板搬送装置１３のシャフト２０及びローラ２１が回転されるのに伴って前方へ搬送されるとともに、搬送途中で上下のノズル部１４から噴射される洗浄液Ｌによって上面及び下面が同時に洗浄される。
【００３５】
この搬送過程においてマザーガラスＢが上下のノズル部１４を通過する際には、マザーガラスＢは、前端側が高く後端側が低い上り勾配の傾斜姿勢とされている。従って、マザーガラスＢ上に供給された洗浄液Ｌは、その勾配に沿ってマザーガラスＢの後側へ流され、その後端部から槽本体１１へと流し落とされる。これにより、マザーガラスＢ上に供給される洗浄液Ｌを確実に流し落とすことができるから、洗浄液ＬがマザーガラスＢ上に滞留するような事態が防がれる。
【００３６】
以上説明したように本実施形態によれば、既存の水平搬送用の基板搬送装置１３に各ホルダ１８の取り付け高さを調整するためのスペーサ２５を追加することで、マザーガラスＢの搬送方向を傾斜させるようにしたから、従来のように傾斜搬送専用の装置を新規に導入した場合と比較すると、低コストでマザーガラスＢの傾斜搬送を実現することができる。
【００３７】
また、取付板１７と各ホルダ１８との間に介在させるスペーサ２５によりホルダ１８の取り付け高さを調整するようにしたから、各ホルダ１８の高さ位置を簡単に調整することができる。
【００３８】
また、スペーサ２５として同一形状のものを用いるとともに、取付板１７と各ホルダ１８との間に介在させるスペーサ２５の数を設定することで、各ホルダ１８の取り付け高さを調整するようにしたから、仮に各ホルダの取り付け高さに合わせた大きさのスペーサを多品種製造した場合と比較すると、低コストとなる。
【００３９】
また、各ホルダ１８の取付位置がマザーガラスＢの搬送方向前方に行くに従って次第に高くなるように設定されているから、供給される洗浄液ＬをマザーガラスＢの搬送方向後側に流し落とすことができる。従って、仮に従来のようにマザーガラスを幅方向について傾けて搬送した場合には、その傾斜に沿って上面を流れる洗浄液が幅方向に並んだ隣りのノズル部による洗浄箇所を通過することになるため、洗浄液がマザーガラスの上面に届き難くなっており、そのためにノズル部による洗浄液の噴射圧を高める必要があるものの、本実施形態によればそのような事態が回避されるので、ノズル部１４の噴射圧が低くても十分な洗浄効果を得ることができ、低コスト化に寄与できる。
【００４０】
また、上記した基板洗浄装置１０及び基板搬送装置１３を用いて液晶表示装置を製造することにより、液晶表示装置の製造コストを低減することができる。
【００４１】
＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を図５または図６によって説明する。この実施形態２では、各ホルダ１８の取り付け高さを変更したものを示す。なおこの実施形態２では、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００４２】
本実施形態では、前後方向に沿って多数個並んだホルダ１８のうち、ノズル部１４を挟んだ前後１１個のホルダ１８について取り付け高さを調整することで、マザーガラスＢの傾斜搬送を行うようにしている。これらのホルダ１８と対応する各取付部２２との間に介在されるスペーサ２５は、図５に示すように、後端から前側に行く度に１枚ずつ増加され、途中から前側に行く度に１枚ずつ減少する設定とされる。具体的には、後から６番目の取付部２２（ノズル部１４と対応する取付部２２）には最大の５枚のスペーサ２５が配され、そこから前後に行く度に１枚ずつスペーサ２５が減少するように設定されている。従って、各ホルダ１８の取付位置は、後端側から前方に行くに従って次第に高くなった後、途中から次第に低くなる。これにより、各シャフト２０や各ローラ２１の中心位置を結んだ仮想線Ｉ２は、緩やかな逆Ｖ字型となり、マザーガラスＢの搬送方向の傾斜は、当初は上り勾配とされるものの、途中から下り勾配とされる。なお、取り付け高さを調整するホルダ１８の数については１１個以外にも任意に変更可能である。
【００４３】
取付板１７と各ホルダ１８との間に上記したようにスペーサ２５を介在させた基板搬送装置１３によりマザーガラスＢを搬送すると、図６に示すように、途中まで上り勾配で搬送された後、下り勾配で搬送される。従って、搬送過程においてマザーガラスＢは、前端部と後端部とを共に下げるとともに前後方向中央部分が最も高くなるよう、緩やかな逆Ｖ字型（アーチ型）に反った姿勢でローラ２１により支持される。
【００４４】
この状態では、マザーガラスＢの頂点部分が前後方向についてノズル部１４の位置とほぼ一致している。従って、ノズル部１４からマザーガラスＢの上面側に供給された洗浄液Ｌは、マザーガラスＢの頂点部分を境に前方と後方とに二手に分かれて流れ落ちることになる。これにより、マザーガラスＢ上を流される洗浄液Ｌの層の厚みは、実施形態１のように後方へのみ流される場合と比較すると、ほぼ半分になるので、洗浄液ＬがマザーガラスＢの上面に対して届き易くなっている。従って、洗浄液Ｌの噴射圧を低くしても、十分な洗浄効果を得ることができ、使用する洗浄液Ｌの量が少なくて済み、また洗浄液Ｌを供給するポンプ１５についても噴射圧の低い安価なものを使用できるなど、低コスト化を図ることができる。
【００４５】
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、下記以外にも要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
【００４６】
（１）上記した各実施形態では、高さ調整機構としてスペーサ２５を用いた場合を示したが、他の手段により代用してもよい。例えば、取付部２２の底面に下方へ貫通するねじ孔を設けるとともに、このねじ孔に対して下方からねじを螺合され、このねじの先端をホルダ１８の下面に当接させつつねじを上下に進退させることでホルダ１８の高さ位置を調整するようにしてもよい。
【００４７】
（２）上記した各実施形態では、ホルダ１８がホルダ１８自身とシャフト２０とローラ２１との重さによって取付板１７に保持されるものを示したが、取付部２２に取り付けたホルダ１８を押さえ部材により上方から押さえ付けるようにしてもよい。
【００４８】
（３）スペーサ２５の形状、素材などは任意に変更可能である。またスペーサ２５は同一形状のものに限らず、各ホルダ１８の取り付け高さに対応した大きさのスペーサをそれぞれ製造するようにしてもよい。
【００４９】
（４）上記した各実施形態では、マザーガラスＢの搬送方向を上り勾配としたものや、上り勾配と下り勾配を組み合わせたものを例示したが、例えば、マザーガラスＢの搬送方向が下り勾配となるよう各ホルダ１８の取り付け高さを調整したものも本発明に含まれる。
【００５０】
（５）上記した各実施形態では、洗浄処理に用いる基板洗浄装置１０及びその基板搬送装置１３を例示したが、他の種類の基板処理装置、例えばレジスト剥離装置やエッチング装置及びその基板搬送装置にも本発明は適用可能である。またこれらの基板処理装置や基板搬送装置を用いて製造した液晶表示装置、及びプラズマディスプレイなど液晶表示装置の以外の平面表示装置も本発明に含まれる。
【００５１】
（６）上記した各実施形態では、液晶表示装置を製造するのに用いる基板洗浄装置１０及びその基板搬送装置１３を例示したが、プラズマディスプレイなど他の種類の平面表示装置、半導体及びプリント基板などを製造する際に用いる基板処理装置及びその基板搬送装置にも本発明は適用可能である。またこれらの基板処理装置や基板搬送装置を用いて製造した液晶表示装置、及びプラズマディスプレイなど液晶表示装置の以外の平面表示装置も本発明に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の実施形態１に係る基板洗浄装置の概略を表す側面図
【図２】基板搬送装置の概略を表す平面図
【図３】ホルダ及びスペーサを取付板に取り付ける前の状態を示す側面図
【図４】ホルダと取付板との間にスペーサを介在させた状態でマザーガラスを搬送する途中の状態を表す側断面図
【図５】本発明の実施形態２に係る基板洗浄装置の分解側面図
【図６】ホルダと取付板との間にスペーサを介在させた状態でマザーガラスを搬送する途中の状態を表す側断面図
【符号の説明】
【００５３】
１０…基板洗浄装置（基板処理装置）
１３…基板搬送装置
１７…取付板（基部）
１８…ホルダ
１９…ベアリング
２０…シャフト（搬送シャフト）
２１…ローラ（搬送シャフト）
２５…スペーサ（高さ調整機構）
Ｂ…マザーガラス（基板）
【図１】
2006256768.tif 000003
【図２】
2006256768.tif 000004
【図３】
2006256768.tif 000005
【図４】
2006256768.tif 000006
【図５】
2006256768.tif 000007
【図６】
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