(57)【要約】  【課題】  露光用の液体の漏出等による影響を抑え、良好に露光処理できる露光装置を提供する。  【解決手段】  基板テーブルＷＴＢに保持された基板Ｗに液体を供給して、基板Ｗにパターンを露光する露光装置において、基板テーブルＷＴＢに設けられた移動鏡４１Ｘ，４１Ｙと協働して基板テーブルＷＴＢの位置を検出する位置検出装置４２，４４と、投光部６１と受光部６２とを有し、移動鏡４１Ｘ，４１Ｙと対向する位置に光学部材を介在させずに、移動鏡４１Ｘ，４１Ｙに付着した異物を検出する検出装置６０と、を備える。  【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板テーブルに保持された基板に液体を供給して、前記基板にパターンを露光する露光装置において、
前記基板テーブルに設けられた移動鏡と協働して前記基板テーブルの位置を検出する位置検出装置と、
投光部と受光部とを有し、前記移動鏡と対向する位置に光学部材を介在させずに、前記移動鏡に付着した異物を検出する検出装置と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記検出装置は、前記投光部から射出された検出光の光路長の変化に基づいて、前記異物を検出することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記投光部は、前記基板テーブルの位置を検出する検出方向とは直交する方向に沿って前記検出光を射出することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記投光部と前記受光部とは、前記基板テーブルから独立して設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記基板テーブルとは異なるテーブルと、
該テーブルに設けられた移動鏡の異物を検出する第二検出装置と、
を備えたことを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
基板テーブルに保持された基板に液体を供給して前記基板上に液浸領域を形成し、前記基板にパターンを露光する露光装置において、
前記液浸領域を包囲するように検出光を射出する投光部を有し、前記液浸領域外の異常を検出する検出装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記投光部は、前記基板テーブルとは独立して設けられていることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記検出装置が前記異常を検出した際に、前記基板への前記液体の供給を中止する制御装置を備えることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
ベース上を移動する基板ステージに載置された基板に液体を供給して、前記基板にパターンを露光する露光装置において、
前記ベース上の前記基板ステージの移動領域内に検出光を射出する投光部を有し、前記ベース上の異物を検出する検出装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
前記ベースには、溝部が形成されており、
前記投光部は、前記溝部に沿って前記検出光を射出することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
マイクロデバイス（半導体デバイスや液晶表示デバイス等）の製造工程の一つであるフォトリソグラフィ工程では、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に投影露光する露光装置が用いられる。この露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを、投影光学系を介して基板に投影露光するものである。
マイクロデバイスの製造においては、デバイスの高密度化のために、基板上に形成されるパターンの微細化が要求されている。この要求に応えるために露光装置の更なる高解像度化が望まれており、その高解像度化を実現するための手段の一つとして、下記特許文献１に開示されているような、投影光学系と基板との間を気体よりも屈折率の高い液体で満たした状態で露光処理を行う液浸露光装置が案出されている。
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、液浸露光装置においては、露光用の液体が漏出等すると、その液体により装置・部材の故障、漏電あるいは錆び等といった不都合を引き起こす虞がある。また、漏出した液体が、基板ステージの側面等に設置された位置計測用の移動鏡に付着した場合には、位置計測に誤差が発生するため、基板を高精度に位置決め等することが不可能となる。このため、露光処理を良好に行うことができなくなるという問題がある。
【０００４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、露光用の液体の漏出等による影響を抑え、良好に露光処理できる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、一実施例を示す図面に対応づけて説明すると、基板テーブル（ＷＴＢ）に保持された基板（Ｗ）に液体（Ｌｑ）を供給して、基板にパターンを露光する露光装置（ＥＸ）において、基板テーブルに設けられた移動鏡（４１Ｘ，４１Ｙ）と協働して基板テーブルの位置を検出する位置検出装置（４２，４４）と、投光部（６１）と受光部（６２）とを有し、移動鏡と対向する位置に光学部材を介在させずに、移動鏡に付着した異物（Ｌｑ）を検出する検出装置（６０）と、を備えるようにした。
この発明によれば、移動鏡と対向する位置に光学部材を介在させないので、位置検出装置による基板テーブルの位置検出に支障を来すことなく、移動鏡に付着した異物を検出することができる。
【０００６】
また、検出装置（６０）が、投光部（６１）から射出された検出光（Ｌ１）の光路長の変化に基づいて、異物（Ｌｑ）を検出するものでは、異物が液体の場合であっても、検出光が液体を通過する際に光路長が変化するので、確実に検出することができる。
また、投光部（６１）が、基板テーブル（ＷＴＢ）の位置を検出する検出方向とは直交する方向に沿って検出光（Ｌ１）を射出するものでは、水平方向に延在する移動鏡の長手方向に沿って検出光を射出することで、移動鏡の検出面の全面に渡って、流れ落ちる液体等の異物を検出することができる。  
また、投光部（６１）と受光部（６２）とが、基板テーブル（ＷＴＢ）から独立して設けられているものでは、基板テーブルのケーブルレス化の実現と重量化の防止が図られる。
また、基板テーブル（ＷＴＢ）とは異なるテーブル（ＭＴＢ）と、そのテーブルに設けられた移動鏡（５１Ｘ，５１Ｙ）の異物を検出する第二検出装置（７０）と、を備えるものでは、いわゆるツインステージの場合であっても、各テーブルに設けられた移動鏡に付着した異物の検出を行うことができる。
【０００７】
基板テーブル（ＷＴＢ）に保持された基板（Ｗ）に液体（Ｌｑ）を供給して基板上に液浸領域（ＡＲ）を形成し、基板にパターンを露光する露光装置（ＥＸ）において、液浸領域を包囲するように検出光（Ｌ２）を射出する投光部（８１）を有し、液浸領域外の異常を検出する検出装置（８０）を備えるようにした。
この発明によれば、液浸領域から漏出した液体、すなわち、液浸領域外の異常を液浸領域の周辺において確実に検出することができる。
【０００８】
また、投光部（８１）が、基板テーブル（ＷＴＢ）とは独立して設けられているものでは、基板テーブルのケーブルレス化の実現と重量化の防止が図られる。
また、検出装置（８０）が異常を検出した際に、基板（Ｗ）への液体（Ｌｑ）の供給を中止する制御装置（ＣＯＮＴ）を備えるものでは、液浸領域からの液体の漏出を最小限に抑えることができる。
【０００９】
また、ベース（２１）上を移動する基板ステージ（ＷＴＢ）に載置された基板（Ｗ）に液体（Ｌｑ）を供給して、基板にパターンを露光する露光装置（ＥＸ）において、ベース上の基板ステージの移動領域内に検出光（Ｌ３）を射出する投光部（９１）を有し、ベース上の異物を検出する検出装置（９０）を備えるようにした。
この発明によれば、ベース上の基板ステージの移動領域に露出した液体等の異物を検出することができる。
また、ベース（２１）には、溝部が形成されており、投光部（９１）が溝部に沿って検出光（Ｌ３）を射出するものでは、液体が溝部に流れ込むことで、確実に液体を検出することが可能となる。
【００１０】
なお、本説明をわかりやすくするために、一実施例を示す図面における符号に対応づけて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば以下の効果を得ることができる。
位置検出装置による基板テーブルの位置検出に支障を来すことなく、移動鏡に付着した異物を検出することができるので、基板テーブルの高精度な位置決めを行いつつ、基板テーブルの位置計測に支障を来す虞のある移動鏡への異物付着の有無を監視することができる。
また、異物が液体の場合であっても確実に検出することができるので、液浸露光装置の液浸領域から液体が漏出した場合であっても、この液体を基板テーブル上等の複数箇所で検出することで、液体の漏出に起因する露光装置の不具合発生を未然に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施形態にかかる露光装置ついて、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の実施形態かかる露光装置の概略構成を示す側面図である。
露光装置ＥＸは、マスクとしてのレチクルＲと基板としてのウエハＷとを相対的に移動させつつ、レチクルＲに形成されたパターンを投影ユニットＰＵを介してウエハＷに逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置である。
なお、以下の説明において、投影ユニットＰＵの光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でレチクルＲとウエハＷとの同期移動方向（走査方向）をＸ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＹ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θｘ、θｙ、及びθｚ方向とする。
【００１３】
露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬＳ、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、ウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとを有するステージ装置ＳＴ、及びこれらの統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴを含んで構成される。
また、露光装置ＥＸは、露光波長を実質的に短くして解像度を向上するとともに焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用した液浸露光装置であって、ウエハＷ上に液体を供給、回収して、液浸領域ＡＲを形成する液浸装置１７を備える。
更に、露光装置ＥＸは、液浸装置１７により形成された液浸領域ＡＲから漏出した液体を検出するために、液体漏出検出装置６０，７０，８０，９０（図１では、液体漏出検出装置８０，９０は不図示）を備える。
【００１４】
照明光学系ＩＬＳは、不図示のレチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域を露光光ＥＬによってほぼ均一な照度で照明する。ここで、露光光ＥＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００１５】
レチクルステージＲＳＴ上には、所定のパターンが形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により保持されている。
レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータを含むレチクルステージ駆動部１１によって、照明光学系ＩＬＳの光軸ＡＸに垂直なＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（Ｙ方向）に指定された走査速度で駆動可能に構成されている。
レチクルステージＲＳＴのステージ移動面内の位置（Ｚ軸周りの回転を含む）は、レチクル干渉計１２によって、移動鏡１３（実際には、Ｙ軸に直交する反射面を有するＹ移動鏡とＸ軸に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。
このレチクル干渉計１２の計測値は、制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴは、このレチクル干渉計１２の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴのＸ方向、Ｙ方向、及びθｚ方向の位置を算出するとともに、この算出結果に基づいてレチクルステージ駆動部１１を制御することで、レチクルステージＲＳＴの位置及び速度を制御する。
【００１６】
投影ユニットＰＵは、鏡筒１５と、鏡筒１５内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子を含む投影光学系ＰＬとを含んで構成されている。投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズからなる屈折光学系が用いられている。
また、図示は省略しているが、投影光学系ＰＬを構成する複数のレンズのうち、特定の複数のレンズは、制御装置ＣＯＮＴからの指令に基づいて、その位置等が制御され、これにより、投影光学系ＰＬの光学特性（結像特性を含む）、例えば倍率、ディストーション、コマ収差、及び像面湾曲（像面傾斜を含む）等の調整が可能となっている。
【００１７】
ステージ装置ＳＴは、例えば半導体工場の床面ＦＬ上に配置されたフレームキャスタＦＣ、フレームキャスタＦＣ上に設けられたベース盤２１、ベース盤２１の上方に配置されてベース盤２１の上面２１ａに沿って移動するウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ、これらのステージＷＳＴ，ＭＳＴの位置を検出する干渉計システム２２，２３、及びステージＷＳＴ，ＭＳＴを駆動するステージ駆動系２４，２５（図２参照）を含んで構成される。
ウエハステージＷＳＴは、レチクルＲのパターンをウエハＷに露光転写するためにウエハＷを保持して移動するものである。一方、計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴがウエハＷの交換のためにローディングポジションに位置している間に、投影光学系ＰＬの下方に位置して各種の計測を行うものである。
なお、ステージ装置ＳＴの詳細構成については、後述する。
【００１８】
液浸装置１７は、ウエハＷ上に液体を供給、回収することにより、液浸領域ＡＲを形成するものであって、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハＷ側）のレンズＧＬ（以下、先玉ともいう）の近傍に配置される。液浸装置１７は、液体供給装置１９ａ及び液体回収装置１９ｂとから構成され、液体供給装置１９ａには液体供給ノズル１８ａが、また、液体回収装置１９ｂには液体回収ノズル１８ｂが、それぞれ接続されている。
液体としては、ここではＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水Ｌｑ」と記述する）を用いるものとする。超純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、ウエハＷ上に塗布されたフォトレジスト及び光学レンズ等に対する悪影響を及ぼさないという利点がある。なお、水Ｌｑの屈折率ｎは、ほぼ１．４４であり、この水Ｌｑの中では露光光ＥＬの波長は、１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。
【００１９】
液体供給装置１９ａは、制御装置ＣＯＮＴからの指示に応じて、液体供給ノズル１８ａを介して先玉ＧＬとウエハＷとの間に水Ｌｑを供給する。また、液体回収装置１９ｂは、制御装置ＣＯＮＴからの指示に応じて、液体回収ノズル１８ｂを介して先玉ＧＬとウエハＷとの間から液体回収装置１９ｂの内部に水Ｌｑを回収する。このとき、制御装置ＣＯＮＴは、先玉ＧＬとウエハＷとの間に液体供給ノズル１８ａから供給される水Ｌｑの量と液体回収ノズル１８ｂを介して回収される水Ｌｑの量とが常に等しくなるように、液体供給装置１９ａ及び液体回収装置１９ｂに対して指令を与える。
これにより、先玉ＧＬとウエハＷとの間に一定量の水Ｌｑが保持され、液浸領域ＡＲが形成される。なお、液浸領域ＡＲの水Ｌｑは、常に入れ替わることになる。
このように、液浸装置１７は、液体供給装置１９ａ、液体回収装置１９ｂ、液体供給ノズル１８ａ及び液体回収ノズル１８ｂ等を含んで構成された局所液浸装置である。
【００２０】
また、投影ユニットＰＵを保持する保持部材には、オフアクシス型のアライメント系４５が設けられる。アライメント系４５は、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷに形成されたアライメントマーク、及び計測ステージＭＳＴ上の基準板５３（図２参照）に形成された基準マーク等の位置を計測する。
このアライメント系４５は、ウエハＷ上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光束を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に結像された対象マークの像と不図示の指標（アライメント系４５内に設けられた指標板上の指標パターン）の像とを撮像素子（ＣＣＤ等）を用いて撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系のアライメントセンサである。アライメント系４５からの撮像信号は、制御装置ＣＯＮＴに供給される。
【００２１】
液体漏出検出装置６０，７０は、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴの側面に沿って検出光を投射して、液浸装置１７により形成された液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑを検出するものである。液体漏出検出装置６０，７０から投光される検出光は、液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑに触れると光路長が変化するので、この光路長の変化に基づいて、水Ｌｑの存在を検出する。
また、液浸領域ＡＲの周囲には、液体漏出検出装置８０が設けられ、更に、ステージ装置ＳＴのベース盤２１上には、液体漏出検出装置９０が設けられる（図４参照）。
これら液体漏出検出装置６０，７０，８０，９０の詳細構成については、後述する。
【００２２】
次に、ステージ装置ＳＴの構成について詳細に説明する。
図２は、ステージ装置ＳＴの構成を示す斜視図である。
フレームキャスタＦＣは、Ｘ方向の一側と他側との端部近傍にＹ方向を長手方向として上方に突出した突部ＦＣａ，ＦＣｂが一体的に形成された概略平板状からなるものである。
ベース盤２１は、フレームキャスタＦＣの突部ＦＣａ，ＦＣｂに挟まれた領域上に配置されている。ベース盤２１の上面２１ａは平坦度が極めて高く仕上げられ、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴのＸＹ平面に沿った移動の際のガイド面とされている。
【００２３】
ウエハステージＷＳＴは、ベース盤２１上に配置されたウエハステージ本体２６とウエハステージ本体２６上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを含んで構成されている。ウエハステージ本体２６は、断面矩形枠状でＸ方向に延びる中空部材によって構成されている。
このウエハステージ本体２６の下面には、自重キャンセラ機構（不図示）が設けられている。この自重キャンセラ機構は、圧縮空気を用いてウエハステージＷＳＴを支える支持部と、ガイド面としての上面２１ａに対向してウエハステージＷＳＴを上面２１ａに対して浮上させるエアベアリング部とを有している。このエアベアリング部により、ウエハステージ本体２６は、ベース盤２１上に所定の隙間をもって支持される。
また、ウエハステージＷＳＴは、ウエハステージ本体２６をＸ方向にロングストロークで駆動するとともに、Ｙ方向、Ｚ方向、θｘ、θｙ、θｚに微小駆動する第一駆動系２７と、ウエハステージ本体２６及び第一駆動系２７をＹ方向にロングストロークで駆動する第二駆動系２８ａ，２８ｂとを備えている。
更に、ウエハステージＷＳＴは、Ｘ方向に等速運動をするチューブキャリア２９と、真空又はエア等の用力をチューブキャリア２９からウエハステージ本体２６に非接触で伝達する不図示の６自由度パイプを備えている。なお、チューブキャリア２９がＸ方向に等速運動するのは、チューブキャリア２９の駆動により発生する反力がウエハステージ本体２６に及ぼす影響を少なくするためである。
【００２４】
ウエハステージ本体２６の＋Ｘ側の側面及び−Ｘ側の側面には、それぞれ３つの開口が形成されている。これらの開口のうちの各々の側面のほぼ中央部に形成された開口を介してウエハステージ本体２６を貫通するように、複数のコイルを備えるＹ軸用固定子３３が設けられている。また、各々の側面に形成された３つの開口のうち、Ｙ軸用固定子３３が貫通している開口をＹ方向に挟むように形成された２つの開口の各々を介してウエハステージ本体２６を貫通するように、２つのＸ軸用固定子３４ａ，３４ｂが設けられている。
更に、上述した３つの開口の各々には永久磁石が設けられている。
Ｙ軸用固定子３３は、それが貫通している開口に設けられた不図示の永久磁石と協働してウエハステージ本体２６をＹ方向に微小駆動する。また、２つのＸ軸用固定子３４ａ，３４ｂは、それぞれが貫通している開口に設けられた不図示の永久磁石とそれぞれ協働してウエハステージ本体２６をＸ方向に長いストロークで駆動する。そして、各々のＸ軸用固定子３４ａ，３４ｂの駆動量を異ならせることにより、ウエハステージ本体２６をθｚ方向に回転させることができる。
すなわち、第一駆動系２７は、Ｘ軸用固定子３４ａ，３４ｂと永久磁石とからなるムービングマグネット型のリニアモータと、Ｘ軸用固定子３４ａ，３４ｂと永久磁石とからなるムービングマグネット型のリニアモータとを備えている。
なお、ここではムービングマグネット型のリニアモータを備える場合を例に挙げて説明するが、ムービングコイル型のリニアモータを備えていても良い。
【００２５】
また、ウエハステージ本体２６の下方には、Ｘ方向に延びる２つのＺ軸固定子及びこれらに対応した永久磁石（いずれも不図示）が設けられている。各々のＺ軸固定子の駆動量を個別に制御することにより、ウエハステージ本体２６をＺ方向、θｘ、θｙ方向に駆動することができる。また、チューブキャリア２９をＸ方向に駆動するために、Ｘ方向に延びる固定子３７も設けられている。なお、上記のＹ軸用固定子３３、Ｘ軸用固定子３４ａ，３４ｂ、Ｚ軸固定子、及び固定子３７の各々は両端が第二駆動系２８ａ，２８ｂを構成する可動子３９ａ，３９ｂにそれぞれ固定されている。
【００２６】
フレームキャスタＦＣの突部ＦＣａ，ＦＣｂの上方には、第二駆動系２８ａ，２８ｂを構成するＹ方向に延びるＹ軸用の固定子３８ａ，３８ｂがそれぞれ配設されている。これらのＹ軸用の固定子３８ａ，３８ｂは、それぞれの下面に設けられた不図示の気体静圧軸受、例えばエアベアリングによって突部ＦＣａ，ＦＣｂの上方において所定のクリアランスを介して浮上支持されている。これは、ウエハステージＷＳＴや計測ステージＭＳＴのＹ方向の移動により発生した反力により、固定子３８ａ，３８ｂがＹ方向のＹカウンタマスとして逆方向に移動して、この反力を運動量保存の法則により相殺するためである。
【００２７】
これらの固定子３８ａ，３８ｂの間には、ウエハステージ本体２６等が配置されており、Ｙ軸用固定子３３、Ｘ軸用固定子３４ａ，３４ｂ、Ｚ軸固定子、及び固定子３７の各々の両端に固定された可動子３９ａ，３９ｂが固定子３８ａ，３８ｂの内側からそれぞれ挿入されている。固定子３８ａ，３８ｂはＹ方向に沿って配列された永久磁石（不図示）を備えており、可動子３９ａ，３９ｂはＹ方向に沿って配列されたコイル（不図示）を備えている。すなわち、第二駆動系２８ａ，２８ｂは、ウエハステージＷＳＴをＹ方向に駆動するムービングコイル型のリニアモータを備えている。
なお、ここではムービングコイル型のリニアモータを備える場合を例に挙げて説明するが、ムービングマグネット型のリニアモータを備えていても良い。
【００２８】
ウエハテーブルＷＴＢ上には、ウエハＷを保持するウエハホルダ（不図示）が設けられている。ウエハホルダは、板状の本体部と、この本体部の上面に固定されその中央にウエハＷの直径よりも大きな円形開口が形成された撥液性（撥水性）を有する補助プレート４０とを備えている。この補助プレート４０の円形開口内部の本体部の領域には、多数のピンが配置されており、その多数のピンによってウエハＷが支持された状態で真空吸着されている。この場合、ウエハＷが真空吸着された状態では、そのウエハＷの表面と補助プレート４０の表面との高さがほぼ同一の高さとなるように形成されている（図１参照）。なお、補助プレート４０を設けずに、ウエハテーブルＷＴＢの表面に撥液性を付与してもよい。
【００２９】
また、ウエハテーブルＷＴＢのＸ方向の一端（＋Ｘ側端）には、Ｘ方向に直交する（Ｙ方向に延在する）反射面４１Ｘが鏡面加工により形成されており、Ｙ方向の一端（＋Ｙ側端）には、Ｙ方向に直交する（Ｘ方向に延在する）反射面４１Ｙが同様に鏡面加工により形成されている。これらの反射面４１Ｘ，４１Ｙには、干渉計システム２２を構成するＸ軸干渉計４２、Ｙ軸干渉計４４からの干渉計ビームがそれぞれ投射される。
なお、図２に示すＸ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計４４は、図１においてはまとめて干渉計システム２２として図示している。
そして、Ｘ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計４４が反射面４１Ｘ，４１Ｙからの反射光をそれぞれ受光することで、各反射面４１Ｘ，４１Ｙの基準位置からの計測方向の変位を検出する。
【００３０】
Ｘ軸干渉計４２は、投影光学系ＰＬの投影中心（光軸ＡＸ、図１参照）を通りＸ軸に平行な測長軸と、アライメント系４５の計測視野中心を通りＸ軸に平行な測長軸とを有し、露光時には投影光学系ＰＬの投影中心位置を通る測長軸でウエハテーブルＷＴＢのＸ方向の位置を検出し、エンハンスト・グローバル・アライメント（ＥＧＡ）の際にはアライメント系４５の計測視野中心を通る測長軸でウエハテーブルＷＴＢのＸ方向の位置を測定する。また、Ｘ軸干渉計４２は、ベースライン量の計測や計測ステージＭＳＴに設けられた各種計測器の計測内容に応じて２つの測長軸を適宜用いて計測テーブルＭＴＢのＸ方向の位置を測定する。
つまり、Ｘ軸干渉計４２は、ウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢのＸ方向の位置を、Ｙ方向の投影中心位置及びアライメント中心位置のそれぞれで計測可能となっている。
【００３１】
計測ステージＭＳＴは、チューブキャリア２９及び不図示の６自由度パイプを除いてほぼウエハステージＷＳＴと同様の構成である。つまり、図２に示す通り、ベース盤２１上に配置された計測ステージ本体４６と、計測ステージ本体４６上に搭載された計測テーブルＭＴＢとを備えている。また、計測ステージ本体４６をＸ方向にロングストロークで駆動するとともに、Ｙ方向、Ｚ方向、θｘ、θｙ、θｚに微小駆動する第一駆動系４７と、計測ステージ本体４６及び第一駆動系４７をＹ方向にロングストロークで駆動する第二駆動系４８ａ，４８ｂとを備えている。計測ステージ本体４６は、断面矩形枠状でＸ方向に延びる中空部材によって構成されている。
【００３２】
第一駆動系４７は、ウエハステージＷＳＴに対して設けられた第一駆動系２７と同様に、計測ステージ本体４６の±Ｘ方向の端面に設けられた３つの開口の各々に配置された対をなす永久磁石と、開口の各々を介して計測ステージ本体４６をＸ方向に貫通するように複数のコイルを備える１つのＹ軸用固定子及び２つのＸ軸用固定子とを含んで構成される。
これらの永久磁石並びにＸ軸用固定子及びＹ軸用固定子は計測ステージ本体４６をＸ方向に長いストロークで駆動するとともにＹ方向に微少駆動し、更にはθｚ方向に回転させる。また、第一駆動系４７は、計測ステージ本体４６の下面に設けられた永久磁石（不図示）と、これら永久磁石と協働して推力を発生するＺ軸固定子（不図示）とを備えている。これらの永久磁石及びＺ軸固定子によって、計測ステージ本体４６をＺ方向、θｘ、θｙ方向に駆動することができる。
なお、ここでは第一駆動系４７がムービングマグネット型のリニアモータを備える場合を例に挙げて説明するが、ムービングコイル型のリニアモータを備えていても良い。
【００３３】
第二駆動系４８ａ，４８ｂは、固定子３８ａ，３８ｂと、計測ステージ本体４６をＸ方向に貫通するＸ軸用固定子及びＹ軸用固定子並びに計測ステージ本体４６の下方（−Ｚ方向）に配置されたＺ軸用固定子の両端に固定された可動子４９ａ，４９ｂとを含んで構成されており、可動子４９ａ，４９ｂは固定子３８ａ，３８ｂの内側からそれぞれ挿入されている。可動子４９ａ，４９ｂはＹ方向に沿って配列されたコイル（不図示）を備えており、Ｙ方向に沿って配列された永久磁石（不図示）を備える固定子３８ａ，３８ｂと協働してＹ方向への推力を発生させる。すなわち、第二駆動系４８ａ，４８ｂは、計測ステージＭＳＴをＹ方向に駆動するムービングコイル型のリニアモータを備えている。
このように、本実施形態では固定子３８ａ，３８ｂがウエハステージＷＳＴをＹ方向に駆動するリニアモータと、計測ステージＭＳＴをＹ方向に駆動するリニアモータとに共有された構成である。
なお、ここではムービングコイル型のリニアモータを備える場合を例に挙げて説明するが、ムービングマグネット型のリニアモータを備えていても良い。
【００３４】
このように、ウエハステージＷＳＴを駆動する第一駆動系２７及び第二駆動系２８ａ，２８ｂによって、ステージ駆動系２４が構成されている。また、計測ステージＭＳＴを駆動する第一駆動系４７及び第二駆動系４８ａ，４８ｂによって、ステージ駆動系２５が構成されている。
ステージ駆動系２４，２５を構成する各種駆動系は、制御装置ＣＯＮＴによって制御される。つまり、制御装置ＣＯＮＴは、ステージ駆動系２４，２５を介して、例えば、ウエハＷの露光前における計測ステージＭＳＴの移動、及び露光時におけるウエハステージＷＳＴの移動を制御する。具体的には、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷに対する露光処理を行っている最中は計測ステージＭＳＴの位置を固定させ、計測ステージＭＳＴに設けられた各種計測器を用いた計測を行っている最中は、ウエハステージＷＳＴの位置を固定させる制御を行っている。
【００３５】
計測テーブルＭＴＢは、低熱膨張材料から形成されており、その上面は撥液性（撥水性）を有している。この計測テーブルＭＴＢは、例えば真空吸着によって計測ステージ本体４６上に保持されており、交換可能に構成されている。計測テーブルＭＴＢの表面の高さは、ウエハテーブルＷＴＢ上に設けられたウエハホルダの表面の高さとほぼ同一となるように設定されている。そして、投影ユニットＰＵの下方に計測ステージＭＳＴが位置する場合には、ウエハステージＷＳＴの場合と同様に、計測テーブルＭＴＢと先玉ＧＬとの間に水Ｌｑを満たすことが可能となっている。
また、計測ステージＭＳＴは、露光に関する各種計測を行うための計測器群（不図示）を備えている。この計測器群としては、例えば空間像計測装置、波面収差測定装置、及び露光検出装置等がある。空間像計測装置は、投影光学系ＰＬにより水Ｌｑを介して計測テーブルＭＴＢ上に投影される空間像を計測するものである。
計測テーブルＭＴＢ上面の所定位置には、これらの計測器群又はアライメント系４５で用いられる各種のマークが形成された計測パターン部としての基準板５３が設けられている。この基準板５３は、低熱膨張材料から形成されているとともに、上面が撥液性（撥水性）を有しており、計測テーブルＭＴＢに対して交換可能に構成されている。
【００３６】
計測テーブルＭＴＢのＸ方向の一端（＋Ｘ側端）には、Ｘ方向に直交する（Ｙ方向に延在する）反射面５１Ｘが鏡面加工により形成されており、また、Ｙ方向の一端（−Ｙ側端）には、Ｙ方向に直交する（Ｘ方向に延在する）反射面５１Ｙが同様に鏡面加工により形成されている。
これら反射面５１Ｘ，５１Ｙには、干渉計システム２３を構成するＸ軸干渉計４２、Ｙ軸干渉計５２からの干渉計ビームがそれぞれ投射される。そして、Ｘ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計５２が反射面５１Ｘ，５１Ｙからの反射光をそれぞれ受光することで、各反射面５１Ｘ，５１Ｙの基準位置からの計測方向の変位を検出する。
なお、図２に示すＸ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計５２は、図１においてはまとめて干渉計システム２３として図示している。
そして、Ｙ軸干渉計５２は、Ｙ軸干渉計４４と同様に、投影光学系ＰＬの投影中心（光軸ＡＸ）及びアライメント系４５の計測視野中心を結ぶＹ軸に平行な測長軸を有しており、ウエハステージＷＳＴがウエハＷの交換のためにローディングポジションに位置している間以外は、計測テーブルＭＴＢのＹ方向の位置を検出する。
【００３７】
図３は、液体漏出検出装置６０，７０の構成を示す模式図である。
液体漏出検出装置６０は、ウエハステージＷＳＴ上に形成された液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑを、ウエハステージＷＳＴの側面、特に反射面４１Ｘ，４１Ｙにおいて検出するものである。
液体漏出検出装置６０は、図３（ａ）に示すように、検出光Ｌ１を投光する投光器６１、検出光Ｌ１を受光する受光器６２、及び投光器６１から投光された検出光Ｌ１を反射させる複数の反射鏡６４，６５，６６から構成される。なお、投光器６１及び受光器６２は、別体に構成してもよいし、投光器６１と受光器６２とを一体に構成してもよい。本実施形態においては、一体に構成した場合について説明する。
投光器６１及び受光器６２としては、例えば、干渉計システム２２，２３と同様の干渉計を用いることができる。干渉計は、レーザ光を測定対象物に向けて投光し、その反射光を受光することにより、投光したレーザ光と受光したレーザ光との光路長の変化に基づいて、測定対象物の位置を高い分解能と精度で計測するものである。このため、水Ｌｑのように光を透過してしまうものの位置計測を行うことは不可能である。しかし、検出光Ｌ１（レーザ光）は、水Ｌｑのなかで、その波長（光路長）が変化するので、この光路長の変化を検出することで、異物、すなわち水Ｌｑの存在を確認することができる。
【００３８】
投光器６１及び受光器６２は、ウエハステージＷＳＴから離間した場所に設置される。反射鏡６４は、第二駆動系２８ｂの可動子３９ｂに固定され、投光器６１から投光された検出光Ｌ１をウエハテーブルＷＴＢの反射面４１Ｙに沿うように反射させる。反射鏡６５は、ウエハテーブルＷＴＢの反射面４１Ｘ，４１Ｙが交差する角部に固定され、反射面４１Ｙに沿って走行する検出光Ｌ１を反射面４１Ｘに沿うように反射させる。反射鏡６６は、反射面４１Ｘの−Ｙ端部に固定され、反射面４１Ｘに沿って走行する検出光Ｌ１を再度、反射面４１Ｘに沿うように反射させる。
これにより、図３（ａ）に示すように、ウエハステージＷＳＴの外部に設置された投光器６１からの検出光Ｌ１が、反射面４１Ｘ，４１Ｙの表面に沿って走行し、その後に受光器６２により受光される。そして、反射鏡６４が、第二駆動系２８ｂの可動子３９ｂに固定されていることから、ウエハステージＷＳＴがＸ方向、Ｙ方向に移動したとしても、検出光Ｌ１を反射面４１Ｘ，４１Ｙに沿って走行させ続けることができる。
なお、検出光Ｌ１の形状としては、線状であっても、帯状であってもよい。また、平行する複数の検出光を用いてもよい。
【００３９】
また、投光器６１からの検出光Ｌ１は、図３（ｂ）に示すように、ウエハステージＷＳＴの側面に形成された反射面４１Ｘ，４１Ｙに沿って、かつ反射面４１Ｘ，４１Ｙの表面から僅かに離間して走行する。具体的には、反射面４１Ｘ，４１Ｙの表面から約０．２ｍｍ程度離間した位置を走行する。
このように、検出光Ｌ１を反射面４１Ｘ，４１Ｙから僅かに離間する位置に配置したので、液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑが反射面４１Ｘ，４１Ｙを流れ落ちる際に検出光Ｌ１を横切ることで、受光器６２により検出光Ｌ１の光路長変化が検出され、水Ｌｑの存在が確認される。特に、投光器６１から検出光Ｌ１を投光し、受光器６２で受光するので、反射面４１Ｘ，４１Ｙ上に他の光学部材等を配置する必要がなくなる。このため、Ｘ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計４４（干渉計システム２２）による位置計測に悪影響を及ぼすことなく、水Ｌｑの検出を行うことができる。
【００４０】
また、検出光Ｌ１は、反射面４１Ｘ，４１ＹにおけるＸ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計４４からの干渉計ビーム照射位置よりも、＋Ｚ方向を走行させることが好ましい。液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑが反射面４１Ｘ，４１Ｙを流れ落ちて、Ｘ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計４４からの干渉計ビーム照射位置に到達する前に、検出光Ｌ１により検出させるためである。つまり、水Ｌｑが反射面４１Ｘ，４１Ｙの干渉計ビーム照射位置に到達すると、干渉計ビームが水Ｌｑに触れて、ウエハステージＷＳＴの位置計測に誤差が発生してしまうので、このような誤差が発生する前に、水Ｌｑを検出する。
そして、受光器６２の検出結果は、制御装置ＣＯＮＴに送られ、制御装置ＣＯＮＴはその検出結果に基づいて、所定の処理を行うようになっている。
【００４１】
液体漏出検出装置７０は、図３に示すように、計測テーブルＭＴＢに配置される。液体漏出検出装置７０は、計測テーブルＭＴＢの反射面５１Ｘ，５１Ｙを流れ落ちる水Ｌｑを検出するものであって、検出光Ｌ１を投光する投光器７１、検出光Ｌ１を受光する受光器７２、及び投光器７１から投光された検出光Ｌ１を反射させる複数の反射鏡７４，７５，７６から構成される。
なお、計測テーブルＭＴＢに配置される液体漏出検出装置７０は、ウエハテーブルＷＴＢ上に配置される液体漏出検出装置６０と同一構成、同一機能であるので、説明を省略する。
【００４２】
図４は、液体漏出検出装置８０，９０の構成を示す模式図である。なお、図４では、説明を分かりやすくするために、計測ステージＭＳＴ等を省略してある。
液体漏出検出装置８０は、ウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢ上に形成された液浸領域ＡＲからの水Ｌｑの漏出を、ウエハテーブルＷＴＢ或いは計測テーブルＭＴＢ上に形成された液浸領域ＡＲの周囲において、検出するものである。
液体漏出検出装置８０は、４組の投光器８１及び受光器８２を備える。４組の投光器８１及び受光器８２は、同一の性能、機能を備える。
そして、図４（ａ）に示すように、４つの投光器８１から投光される検出光Ｌ２は、ウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢ上に形成された液浸領域ＡＲを取り囲むように走行する。また、各検出光Ｌ２は、図４（ｂ）に示すように、ウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢの上面から約０．２ｍｍ程度離間した位置を走行する。
液浸領域ＡＲは、投影光学系ＰＬの下方に位置することから、ウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢがＸ方向又はＹ方向に移動したとしても、その位置は不変である。このため、４組の投光器８１及び受光器８２は、ベース盤２１に対して固定されており、反射鏡を用いることなく、各投光器８１からの検出光Ｌ２が直接、各受光器８２により受光されるようになっている。
そして、液浸領域ＡＲから水Ｌｑが漏出した際には、液体漏出検出装置６０，７０と同様に、検出光Ｌ２の波長（光路長）が変化し、その光路長の変化が各投光器８１により検出される。そして、各投光器８１の検出結果は、制御装置ＣＯＮＴに送られる。
【００４３】
液体漏出検出装置９０は、ウエハテーブルＷＴＢ或いは計測テーブルＭＴＢ上に形成された液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑが、ベース盤２１まで流れ落ちた場合に、その水Ｌｑ検出するものである。
液体漏出検出装置９０は、液体漏出検出装置８０と同様に、４組の投光器９１及び受光器９２を備える。４組の投光器９１及び受光器９２は、同一の性能、機能を備える。
そして、図４（ａ）に示すように、４つの投光器９１から投光される検出光Ｌ３は、投影光学系ＰＬの下方に位置するベース盤２１上において、投影光学系ＰＬの位置に対向する領域を取り囲むように配置される。また、各検出光Ｌ３は、図４（ｂ）に示すように、ベース盤２１の上面から約０．２ｍｍ程度離間した位置に配置される。
４つの検出光Ｌ３で囲まれた領域は、ウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢ上の外形（Ｘ、Ｙ方向の外形）よりも大きな面積を有する。ウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢ上に形成された液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑがベース盤２１上に流れ落ちた場合に、その水Ｌｑベース盤２１上から流れ落ちる前に検出するためである。
４組の投光器９１及び受光器９２は、ベース盤２１に対して固定されており、反射鏡を用いることなく、各投光器９１からの検出光Ｌ３が直接、受光器９３により受光されるようになっている。
そして、液浸領域ＡＲから水Ｌｑが漏出した際には、液体漏出検出装置６０等と同様に、検出光Ｌ３の波長（光路長）が変化し、その光路長の変化が各投光器９１により検出される。そして、各投光器９１の検出結果は、制御装置ＣＯＮＴに送られる。
【００４４】
次に、上述した露光装置ＥＸを用いてレチクルＲのパターンの像をウエハＷに露光する方法について説明する。
まず、レチクルＲがレチクルステージＲＳＴにロードされると共に、ウエハＷがウエハステージＷＳＴにロードされる。
次いで、制御装置ＣＯＮＴは、液体供給装置１９ａを駆動し、液体供給動作を開始する。水Ｌｑの流量は、一定であって、例えば、約０．３〜０．７Ｌ／ｍｉｎ程度である。こうして、液体供給ノズル１８ａから水ＬｑがウエハＷ上に供給される。
また、同時に液体回収装置１９ｂを駆動し、ウエハＷ上に供給された水Ｌｑの回収動作を開始する。このようにして、投影光学系ＰＬとウエハＷとの間に、液浸領域ＡＲが形成される。
【００４５】
液浸領域ＡＲが形成されると、制御装置ＣＯＮＴは、予め計測されているアライメント結果に基づいて、干渉計システム２２の計測値をモニタしつつ、ウエハＷのファーストショット（第一番目のショット領域）の露光のための加速開始位置（走査開始位置）にウエハステージＷＳＴを移動させる。
次いで、制御装置ＣＯＮＴは、レチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴのＸ軸方向の走査を開始し、レチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴがそれぞれの目標走査速度に達すると、照明光学系ＩＬＳから照射された露光光ＥＬによってレチクルＲのパターン領域を照射して、走査露光を開始する。
そして、レチクルＲのパターン領域の異なる領域が露光光ＥＬで逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、ウエハＷ上のファーストショット領域に対する走査露光が終了する。これにより、レチクルＲのパターンが投影光学系ＰＬ及び液浸領域ＡＲ（水Ｌｑ）を介してウエハＷ上のファーストショット領域のレジスト層に縮小転写される。
このファーストショット領域に対する走査露光が終了すると、制御装置ＣＯＮＴにより、ウエハステージＷＳＴがＸ，Ｙ軸方向にステップ移動し、セカンドショット領域の露光のための加速開始位置に移動する。すなわち、ショット間ステッピング動作が行われる。そして、セカンドショット領域に対して上述したような走査露光を行う。
このようにして、ウエハＷのショット領域の走査露光と次ショット領域の露光のためのステッピング動作とが繰り返し行われ、ウエハＷ上の全ての露光対象ショット領域にレチクルＲのパターンが順次転写される。
【００４６】
ウエハＷの露光処理が完了したら、制御装置ＣＯＮＴにより、ウエハステージＷＳＴを投影光学系ＰＬの直下から退避させ、計測ステージＭＳＴを投影光学系ＰＬの直下まで移動させる。この際、ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとを接近又は接触させた状態で、液浸領域ＡＲの水ＬｑをウエハステージＷＳＴから計測ステージＭＳＴに受け渡す。すなわち、液体供給装置１９ａによる水Ｌｑの供給動作と、液体回収装置１９ｂによる水Ｌｑの回収動作は維持されつつける。
或いは、液体供給装置１９ａによる水Ｌｑの供給動作を停止して、液浸領域ＡＲの水Ｌｑを回収し、その後に、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを移動させるようにしてもよい。
そして、ウエハステージＷＳＴ上に載置されたウエハＷが不図示のウエハローダによりアンロードされ、新たなウエハＷが再びウエハステージＷＳＴ上にロードされる。
このような処理を繰り返すことにより、複数枚のウエハＷの露光が行われる。
【００４７】
以上のようにして、液浸領域ＡＲの水Ｌｑを介した露光処理が行われるが、この露光処理の際に、液浸領域ＡＲから水Ｌｑが漏出してしまう場合がある。例えば、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴの移動、液体供給装置１９ａ及び液体回収装置１９ｂによる水Ｌｑの供給量、回収量の変化に伴って、水Ｌｑが液浸領域ＡＲから漏出してしまう。
しかし、本実施形態では、液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑは、液体漏出検出装置６０，７０，８０，９０により、常に監視・検出されている。
つまり、液体漏出検出装置８０において検出光Ｌ２の光路長の変化が検出された場合には、液浸領域ＡＲから水Ｌｑが漏出した、と判断される。更に、液体漏出検出装置６０，７０において検出光Ｌの光路長の変化が検出された場合には、水ＬｑがウエハテーブルＷＴＢ或いは計測テーブルＭＴＢ上から漏れて、反射面４１Ｘ，４１Ｙ，５１Ｘ，５１Ｙに沿って流れ落ちている、と判断される。そして、液体漏出検出装置９０において検出光Ｌ３の光路長の変化が検出された場合には、ベース盤２１上に水Ｌｑが溜まり始めていると、判断される。
【００４８】
制御装置ＣＯＮＴは、例えば、液体漏出検出装置８０で水Ｌｑが検出された時には、露光処理を中止する。更に、液体供給装置１９ａによる水Ｌｑの供給を停止し、液浸領域ＡＲの水Ｌｑを全て回収する。液浸領域ＡＲからの水Ｌｑの漏出を最小限に抑えるためである。
また、例えば、液体漏出検出装置８０で水Ｌｑが検出されたとしても、露光処理を続行し、液体漏出検出装置６０，７０で水Ｌｑが検出された時に、露光処理を中止するようにすることもできる。液体漏出検出装置６０，７０で水Ｌｑが検出された時、すなわち、水Ｌｑが反射面４１Ｘ，４１Ｙ，５１Ｘ，５１Ｙを流れ落ちている場合には、干渉計４２，４４，５２からのレーザ光がこの水Ｌｑに触れることにより、ウエハステージＷＳＴ又は計測ステージＭＳＴの位置計測に誤差が発生してしまうからである。特に、ウエハステージＷＳＴにおいては、ウエハＷの高精度な位置決めが困難となり、微細なパターンの露光ができなくなるからである。
一方、液体漏出検出装置８０で水Ｌｑが検出されたが、液体漏出検出装置６０，７０では水Ｌｑが検出されない時は、液体漏出検出装置９０で水Ｌｑが検出されるまで、露光処理を続行するようにしてもよい。この場合には、液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑは、ウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢ上に残っているか、或いは反射面４１Ｘ，４１Ｙ、５１Ｘ，５１Ｙとは異なる側面から、ベース盤２１上に流れ落ちているはずである。このため、干渉計４２，４４，５２によるウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴの位置計測に誤差が発生することはないので、露光処理をそのまま継続してもよい。そして、液体漏出検出装置９０で水Ｌｑが検出された場合には、水Ｌｑが露光装置ＥＸの他の部分にまで浸入してしまう虞があるので、露光処理を停止し、液体供給装置１９ａによる水Ｌｑの供給も停止させる。
このように、複数箇所において、水Ｌｑの漏出が検出されるので、検出された場所に応じて、露光処理を停止したり、液浸領域ＡＲの水Ｌｑを回収したりする等の措置をとることができる。
【００４９】
以上説明したように、本実施形態の露光装置ＥＸによれば、干渉によるウエハステージＷＳＴの位置検出に支障を来すことなく、反射面４１Ｘ，４１Ｙに付着した水Ｌｑを検出することができるので、ウエハステージＷＳＴの高精度な位置決めを行いつつ、ウエハステージＷＳＴの位置計測に支障を来す虞のある反射面４１Ｘ，４１Ｙへの水Ｌｑの付着の有無を監視することができる。
そして、液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑを検出することで、水Ｌｑの漏出に起因する露光装置ＥＸの不具合発生等を未然に防止することができる。
【００５０】
なお、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。
【００５１】
上記実施形態では、液体漏出検出装置６０，７０，８０，９０の投光器及び受光器として、レーザ干渉計を用いる場合について説明したが、これに代えて投光器及び受光器からなるフォトセンサを用いてもよい。すなわち、フォトセンサの検出光が水を透過する際には、検出光の光量が変化するので、その光量の変化に基づいて水の存在を検出できるからである。
また、上記実施形態では、検出光を所定方向に反射させるために反射鏡を用いる場合について説明したが、ビームスプリッタ、プリズム等の光学素子を用いてもよい。
【００５２】
液体漏出検出装置７０，８０においては、投光器と受光器をウエハステージＷＳＴ又は計測ステージＭＳＴから離間した位置に配置する形態について説明したが、これに限らない。投光器、受光器の両方、又はいずれか一方をウエハテーブルＷＴＢ及び計測テーブルＭＴＢに設置するようにしてもよい。投光器、受光器の両方をウエハテーブルＷＴＢに設置する場合には、投光器からの検出光を直接受光器で受光してもよいし、反射鏡を介してもよい。
【００５３】
また、ウエハテーブルＷＴＢ及び計測テーブルＭＴＢの２つの側面に設けた反射面に沿って、検出光を走行させる場合について説明したが、これに限らない。例えば、ウエハテーブルＷＴＢ及び計測テーブルＭＴＢの全周（４つの側面）に沿って、検出光を走行させてもよいし、３つ又は１つの側面に沿って検出光を走行させる場合であってもよい。この場合、例えば、各側面毎に投光器と受光器を設置するようにしてもよい。
【００５４】
液体漏出検出装置８０において、検出光Ｌ２がウエハテーブルＷＴＢ又は計測テーブルＭＴＢの上面から離間した位置を走行させる場合について説明したが、これに限らない。例えば、図５に示すように、ウエハテーブルＷＴＢ及び計測テーブルＭＴＢの上面の外縁に、各側面に沿って直線状の溝を形成し、この溝の底面から離間した位置に検出光Ｌ２を走行させるようにしてもよい。この場合には、投光器８１、受光器８２の両方をウエハテーブルＷＴＢ及び計測テーブルＭＴＢにそれぞれ設置する。これにより、液浸領域ＡＲから漏出した水Ｌｑが溝に流れ込むので、確実に漏出した水Ｌｑを液体漏出検出装置８０により検出することができる。
同様に、液体漏出検出装置９０において、ベース盤２１上に直線状の溝を形成し、この溝の底面に沿って検出光Ｌ３を走行させるようにしてもよい。この場合、ベース盤２１上のウエハステージＷＳＴの移動領域内に検出光Ｌ３を走行させて、ベース盤２１に漏出した水Ｌｑを検出することができる。
【００５５】
反射面４１Ｘ，４１Ｙとしては、ウエハテーブルＷＴＢの端面に形成する構成に代えて、ウエハテーブルＷＴＢの上面に、Ｘ方向に延在する反射面を有するＹ移動鏡及びＹ方向に延在する反射面を有するＸ移動鏡をそれぞれ設ける構成としてもよい。同様に、反射面５１Ｘ，５１Ｙとしては、計測テーブルＭＴＢの端面に形成する構成に代えて、計測テーブルＭＴＢの上面に、Ｘ方向に延在する反射面を有するＹ移動鏡及びＹ方向に延在する反射面を有するＸ移動鏡をそれぞれ設ける構成としてもよい。この場合には、液体漏出検出装置６０，９０のみを設置すればよい。
【００５６】
本実施形態では、投影光学系の先端に光学素子が取り付けられており、この光学素子により投影光学系の光学特性、例えば収差（球面収差、コマ収差等）の調整を行うことができるが、この光学素子としては、投影光学系の光学特性の調整に用いる光学プレートであってもよい。あるいは露光光を透過可能な平行平面板であってもよい。
【００５７】
なお、液体の流れによって生じる投影光学系の先端の光学素子と基板との間の圧力が大きい場合には、その光学素子を交換可能とするのではなく、その圧力によって光学素子が動かないように堅固に固定してもよい。
【００５８】
なお、本実施形態では、投影光学系と基板表面との間は液体で満たされている構成であるが、例えば基板の表面に平行平面板からなるカバーガラスを取り付けた状態で液体を満たす構成であってもよい。
【００５９】
また、上述の実施形態の投影光学系は、先端の光学素子の像面側の光路空間を液体で満たしているが、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、先端の光学素子の物体面側の光路空間も液体で満たす投影光学系を採用することもできる。
【００６０】
なお、本実施形態の液体は水であるが、水以外の液体であってもよい、例えば、露光光の光源がＦ２レーザである場合、このＦ２レーザ光は水を透過しないので、液体としてはＦ２レーザ光を透過可能な例えば、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）やフッ素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。この場合、液体と接触する部分には、例えばフッ素を含む極性の小さい分子構造の物質で薄膜を形成することで親液化処理する。また、液体としては、その他にも、露光光に対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系や基板表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの（例えばセダー油）を用いることも可能である。
【００６１】
また、液体としては、屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用してもよい。更に、石英や蛍石よりも屈折率が高い（例えば１．６以上）材料で光学素子を形成してもよい。
【００６２】
また、上述の実施形態においては、投影光学系と基板との間に局所的に液体を満たす露光装置を採用しているが、本発明は、特開平６−１２４８７３号公報、特開平１０−３０３１１４号公報、米国特許第５，８２５，０４３号などに開示されているような露光対象の基板の表面全体が液体中に浸かっている状態で露光を行う液浸露光装置にも適用可能である。
【００６３】
露光装置ＥＸの種類としては、ウエハに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
同様に、ウエハＷとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ等が適用される。
【００６４】
露光装置ＥＸとしては、レチクルとウエハとを同期移動してレチクルのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、レチクルとウエハとを静止した状態でレチクルのパターンを一括露光し、ウエハを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。また、本発明はウエハ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００６５】
また、上述した実施形態では、ウエハステージ装置が計測ステージを備える、いわゆるツインステージ型の露光装置の場合について説明したが、計測ステージを設なえていない、いわゆるシングルステージ型の露光装置であってもよい。
【００６６】
また、本発明が適用される露光装置は、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（または位相パターン・減光パターン）が形成された光透過型マスク、或いは光反射性の基板上に所定の反射パターンが形成された光反射型マスクを用いるものに限らず、例えば、米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、或いは発光パターンを形成する電子マスクを用いる露光装置であってもよい。
【００６７】
本実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６８】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図６に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップＳ１０、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップＳ１１、デバイスの基材である基板を製造するＳ１２、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップＳ１３、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）Ｓ１４、検査ステップＳ１５等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明の実施形態による露光装置ＥＸの概略構成を示す側面図である。
【図２】本実施形態のステージ装置ＳＴの構成を示す斜視図である。
【図３】本実施形態の液体漏出検出装置６０の構成を示す模式図である。
【図４】本実施形態の液体漏出検出装置８０，９０の構成を示す模式図である。
【図５】本実施形態の液体漏出検出装置８０の変形例を示す模式図である。
【図６】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００７０】
２１…ベース盤
４１Ｘ，４１Ｙ…反射面（移動鏡）
４２…Ｘ軸干渉計
４４…Ｙ軸干渉計
５１Ｘ，５１Ｙ…反射面（移動鏡）
６０，７０，８０，９０…液体漏出検出装置
６１，７１，８１，９１…投光器（投光部）
６２，７２，８２，９２…受光器（受光部）
Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３…検出光
ＥＸ…露光装置
Ｗ…ウエハ（基板）
Ｌｑ…水（液体、異物）
ＡＲ…液浸領域
ＷＴＢ…ウエハテーブル（基板ステージ）
ＭＴＢ…計測テーブル
ＣＯＮＴ…制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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