(57)【要約】【課題】  複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度および解像度に優れた画像形成材料及びその製造方法の提供、また、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷する画像形成方法の提供。【解決手段】  親水性支持体上に、化学的活性シェルと軟化点が該化学的活性シェルより４０℃低いコアを有するコア／シェル構造微粒子及び親水性ポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性支持体上に、化学的活性シェルと軟化点が該化学的活性シェルより４０℃低いコアを有するコア／シェル構造微粒子及び親水性ポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料。
【請求項２】
シェルの軟化点が２０度以上、コアが６０度以上であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成材料。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の画像形成材料を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士を融着させ、化学的に結合させる工程、且つ、画像形成材料を水性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除去する工程を経て画像を得ることを特徴とする画像形成方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の画像形成材料をレーザー光で走査することにより画像状に加熱し画像を得ることを特徴とする画像形成方法。
【請求項５】
請求項１又２に記載の記載の画像形成材料を製造することを特徴とする画像形成材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成層に高分子微粒子（コア／シェル）粒子を含有する画像形成材の画像形成方法に関する。特に本発明は、ディジタル信号に基づいたレーザー光の走査露光によって画像を記録し、印刷機により現像できる画像形成材料の画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインクを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性の非画像部とから成る。従来の平版印刷版は、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けたＰＳ版に、フイルムを介してマスク露光した後、非画像部を現像液によって溶解除去することにより製版することが普通であった。近年では、コンピュータを用いて画像情報をデジタル情報として電子的に処理し、蓄積して、出力する。従って、デジタル画像情報に応じた画像形成処理は、レーザ光の様な指向性の高い活性放射線を用いる走査露光により、フイルムを介することなく、平版印刷版用原版に対して直接画像形成を行ういわゆるコンピュータ・トゥ・プレート（ＣＴＰ）が今後の主流となる。
【０００３】
また、従来のＰＳ版では、露光の後、非画像部を溶解除去する工程（現像処理）が不可欠である。さらに、現像処理された印刷版を水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程も必要であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠であるという点は、従来のＰＳ版の大きな検討課題となっている。
【０００４】
前記のデジタル処理によって製版工程の前半（画像形成処理）が簡素化されても、後半（現像処理）が煩雑な湿式処理では、簡素化による効果が不充分である。特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっている。環境への配慮からも、湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更するか、さらには無処理化することが望ましい。
【０００５】
処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの印刷版用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによって、印刷版用原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、印刷版用原版を露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が完了する方式である。このような機上現像に適した平版印刷版用原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。従来のＰＳ版では、このような要求を満足することは、実質的に不可能であった。
【０００６】
また、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷原版が記載されている。（例えば、特許文献１を参照）
上記、特許文献１の記載によると、製版において、赤外線レーザ露光して熱可塑性疎水性重合体微粒子を熱により合体（融着）させて画像形成した後、印刷機の版胴上に版を取り付け、湿し水またはインクを供給することにより機上現像できる。この平版印刷版用原版は感光域が赤外領域であることにより、明室での取り扱い性も有している。
【０００７】
しかしながら、上記のような高分子重合体粒子を露光によって生じる熱で融着、合体させる画像形成方法では、機上現像をしやすくすると耐刷力が得にくく、耐刷力を高めると機上現像性や、印刷での汚れ難さが劣化するといった、両立させるのが困難な問題があった。
【特許文献１】特許２９３８３９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、第一に複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度および解像度に優れた画像形成材料及びその製造方法を提供することにある。また、第二として、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷する画像形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
【００１０】
（請求項１）
親水性支持体上に、化学的活性シェルと軟化点が該化学的活性シェルより４０℃低いコアを有するコア／シェル構造微粒子及び親水性ポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料。
【００１１】
（請求項２）
シェルの軟化点が２０度以上、コアが６０度以上であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成材料。
【００１２】
（請求項３）
請求項１又は２に記載の画像形成材料を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士を融着させ、化学的に結合させる工程、且つ、画像形成材料を水性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除去する工程を経て画像を得ることを特徴とする画像形成方法。
【００１３】
（請求項４）
請求項１又は２に記載の画像形成材料をレーザー光で走査することにより画像状に加熱し画像を得ることを特徴とする画像形成方法。
【００１４】
（請求項５）
請求項１又２に記載の記載の画像形成材料を製造することを特徴とする画像形成材料の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明による画像形成材料、画像形成方法及びその製造方法は、複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度および解像度に優れた効果を有する。また、本発明による画像形成方法、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷することができ優れた効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
コア／シェル粒子
シェルポリマーは、〜１８０℃の軟化温度を有することが好ましく、８０乃至１２０℃の軟化温度を有することがさらに好ましい。また、シェルポリマーは、コア微粒子を形成するポリマーの軟化温度よりも４０℃以上高い軟化温度を有することも好ましい。コアポリマーは、〜１２０℃の軟化温度を有することが好ましく、２５乃至６５℃の軟化温度を有することがさらに好ましい。
【００１７】
コア／シェル構造微粒子の平均粒径は、６０乃至３００ｎｍであることが好ましく、８０乃至２５０ｎｍであることがさらに好ましい。粒子サイズ分布は、なるべく均一であることが好ましい。コア／シェルの質量比は、０．０１乃至５であることが好ましく、０．０３乃至４であることがさらに好ましい。二種類以上のコア／シェル構造微粒子を混合して用いてもよい。コア／シェル構造微粒子は、画像形成層に２０乃至９９質量％含まれていることが好ましく、５０乃至９５質量％含まれていることがさらに好ましく、６０乃至９０質量％含まれていることが最も好ましい。
【００１８】
［化学的活性シェル］
微粒子のシェルには、化学的に活性な物質を使用する。画像形成において、シェルは、別のシェル、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかと、化学的に結合する。化学結合は、水素結合、イオン結合、配位結合および共有結合のいずれかである。化学結合は、外部のエネルギー（例、熱エネルギー、光エネルギー）なしで形成される結合であることが好ましい。
【００１９】
水素結合の場合、化学的活性シェルが、水素（プロトン）供与性基および水素受容性基の一方を有し、別のシェル、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが他方を有す。化学的活性シェルが、水素供与性基および水素受容性基の双方を有していてもよい。水素供与性基の例には、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、一級アミノ基（−ＮＨ2）、二級アミノ基（−ＮＲＨ）およびイミノ基（＝ＮＨ）が含まれる。水素受容性基の例には、カルボニル基（＞Ｃ＝Ｏ）、エーテル基（−Ｏ−）および三級アミノ基（−ＮＲ2）が含まれる。水素供与基−水素受容性基の組み合わせとしては、ヒドロキシル基−三級アミノ基、カルボキシル基−三級アミノ基およびヒドロキシル基−エーテル基が好ましい。ヒドロキシル基−三級アミノ基およびカルボキシル基−三級アミノ基がさらに好ましく、フェノール性ヒドロキシル基−含窒素複素環中の三級アミノ基およびカルボキシル基−含窒素複素環中の三級アミノ基が最も好ましい。
【００２０】
イオン結合の場合、化学的活性シェルが、アニオン性基およびカチオン性基の一方を有し、別のシェル、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが他方を有す。化学的活性シェルが、アニオン性基およびカチオン性基の双方を有していてもよい。アニオン性基の例には、スルホネート、カルボキシレートおよびホスホネートが含まれる。カチオン性基の例には、アンモニウム基、ヨードニウム基、スルホニウム基およびホスホニウム基が含まれる。
【００２１】
配位結合の場合、化学的活性シェルが、配位子として機能する官能基を有し、親水性支持体がアルミニウム支持体であって、配位子として機能する官能基がアルミニウムと錯体を形成することが好ましい。配位子として機能する官能基の例には、一級アミノ基、二級アミノ基、三級アミノ基、アンモニウム基、ピリジニウム基、ホスホン酸基およびその塩、ホウ酸基およびその塩、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基、エポキシ基およびシロキサン基が含まれる。配位子として機能する官能基は、アンモニウム基、ピリジニウム基、ホスホン酸基およびその塩、ホウ酸基およびその塩、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基、エポキシ基およびシロキサン基が好ましく、アンモニウム基、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基およびエポキシ基がさらに好ましい。
【００２２】
共有結合の場合、化学的活性シェルが、以下に述べる化学反応成分の一方を官能基として有し、別のシェル、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが他方を官能基として有す。化学的活性シェルが、双方の基を有していてもよい。
【００２３】
（Ａ）活性エステルと活性水素を含む基との反応活性エステルの例には、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシこはく酸イミドエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、ｐ−クロロフェニルエステル、ｐ−メトキシカルボニルフェニルエステル、ｐ−スルホニウムフェニルエステルおよびＨＣＨ（ＯＣＨ3）ＣＯＯＣＨ3が含まれる。活性水素を含む基の例には、ヒドロキシル、一級アミノ基、二級アミノ基、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジドおよびアミドが含まれる。
【００２４】
（Ｂ）酸無水物と活性水素を含む基との反応
（Ｃ）酸ハロゲン化物と活性水素を含む基との反応
（Ｄ）求核反応により脱離する基と求核性基との反応求核反応により脱離する基の例には、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基およびアジド基が含まれる。求核性基の例には、ヒドロキシル、アミノ、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド、アミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。
【００２５】
（Ｅ）環内に不飽和結合を有する複素環基とカルボニル基との縮合反応環内に不飽和結合を有する複素環の例には、Ｎ−アルキルインドール、Ｎ−アルキルピロール、Ｎ−アルキルイミダゾール、フランおよびオキサゾールが含まれる
（Ｆ）環内に不飽和結合を有する複素環基とアセタール基との縮合反応
（Ｇ）オルト位に活性水素を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するフェノール基との縮合反応
（Ｈ）オルト位に活性水素を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するアニリン基との縮合反応
（Ｉ）カルボキシル基とＮ−メチロール基との縮合反応
（Ｊ）カルボキシル基とＮ−アルコキシメチル基との縮合反応
（Ｋ）カルボキシル基とカルボキシル基との縮合反応
（Ｌ）カルボキシル基と活性水素を含む基との縮合反応
（Ｍ）活性水素を含む基とＮ−メチロール基との縮合反応
（Ｎ）活性水素を含む基とＮ−アルコキシメチル基との縮合反応
（Ｏ）カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応
（Ｐ）一級アミノ、ヒドラジノ、ケチミンまたはエステルと活性水素原子を含む基との縮合反応
（Ｑ）ジアゾ基と活性メチレン基との反応
（Ｒ）環状エーテル基と求核性基との反応環状エーテル基の例には、エポキシ、オキセタンおよびテトラヒドロフランが含まれる。求核性基の例には、ヒドロキシル、アミノ、カルボキシル、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド、アミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。
【００２６】
（Ｓ）ビニルエーテルとヒドロキシルまたはカルボキシルとの反応
（Ｔ）ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応
（Ｕ）エノンと求核性基とのマイケル付加反応エノンの例には、アクリロイルおよびメタクリロイルが含まれる。求核性基の例には、ヒドロキシル、アミノ、カルボキシル、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド、アミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。
【００２７】
（Ｖ）イソシアネートと活性水素を含む基との反応活性水素を含む基の例には、ヒドロキシル、一級アミノ基、二級アミノ基、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジドおよびアミドが含まれる。
【００２８】
好ましい反応は、
（Ａ）活性エステルと活性水素を含む基との反応、
（Ｄ）求核反応により脱離する基と求核性基との反応、
（Ｅ）環内に不飽和結合を有する複素環基とカルボニル基との縮合反応、
（Ｆ）環内に不飽和結合を有する複素環基とアセタール基との縮合反応、
（Ｇ）オルト位に活性水素を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するフェノール基との縮合反応、
（Ｈ）オルト位に活性水素を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するアニリン基との縮合反応、
（Ｉ）カルボキシル基とＮ−メチロール基との縮合反応、
（Ｊ）カルボキシル基とＮ−アルコキシメチル基との縮合反応、
（Ｍ）活性水素を含む基とＮ−メチロール基との縮合反応、
（Ｎ）活性水素を含む基とＮ−アルコキシメチル基との縮合反応、
（Ｏ）カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応、
（Ｑ）ジアゾ基と活性メチレン基との反応、
（Ｒ）環状エーテル基と求核性基との反応、
（Ｔ）ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応、および
（Ｖ）イソシアネートと活性水素を含む基との反応である。
【００２９】
さらに好ましい反応は、
（Ａ）活性エステルと活性水素を含む基との反応、
（Ｄ）求核反応により脱離する基と求核性基との反応、
（Ｅ）環内に不飽和結合を有する複素環基とカルボニル基との縮合反応、
（Ｆ）環内に不飽和結合を有する複素環基とアセタール基との縮合反応、
（Ｉ）カルボキシル基とＮ−メチロール基との縮合反応、
（Ｊ）カルボキシル基とＮ−アルコキシメチル基との縮合反応、
（Ｍ）活性水素を含む基とＮ−メチロール基との縮合反応、
（Ｎ）活性水素を含む基とＮ−アルコキシメチル基との縮合反応、
（Ｏ）カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応、および（Ｔ）ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応である。
【００３０】
最も好ましい反応は、
（Ａ）活性エステルと活性水素を含む基との反応、
（Ｉ）カルボキシル基とＮ−メチロール基との縮合反応、
（Ｊ）カルボキシル基とＮ−アルコキシメチル基との縮合反応、
（Ｍ）活性水素を含む基とＮ−メチロール基との縮合反応、
（Ｎ）活性水素を含む基とＮ−アルコキシメチル基との縮合反応、
（Ｏ）カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応、および（Ｔ）ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応である。
【００３１】
シェルは、以上述べたような化学的に活性な官能基を有する化合物からなる。シェルは、化学的に活性な官能基を有するポリマーであることが好ましく、化学的に活性な官能基を側鎖に有するポリマーであることがさらに好ましい。ポリマーの主鎖は、炭化水素（ポリオレフィン）、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエーテルおよびそれらの組み合わせから選ばれることが好ましい。炭化水素主鎖が特に好ましい。化学的に活性な官能基は、主鎖に直結することができる。ただし、化学的に活性な官能基は、連結基を介して、主鎖に結合する方が好ましい。
【００３２】
ポリマーの主鎖は、化学的に活性な官能基以外にも置換基を有することができる。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、スルホ、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基、一価の複素環基、−Ｏ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−Ｒ、−Ｎ（−Ｒ）2、−Ｎ+＜（−Ｒ）3、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ、−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2および−ＮＨ−ＣＯ−Ｒが含まれる。
【００３３】
上記Ｒは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。置換基が複数のＲが含む場合、複数のＲは互いに異なってもよい。カルボキシルおよびスルホは、水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。主鎖の複数の置換基が結合して、脂肪族環または複素環を形成してもよい。形成される環は、主鎖とスピロ結合の関係になっていてもよい。形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、上記主鎖の置換基に加えて、オキソ（＝Ｏ）が含まれる。また、主鎖の複数の置換基が結合して、架橋構造を形成してもよい。
【００３４】
脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基は、不飽和結合を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、１乃至４０であることが好ましく、１乃至３０であることがより好ましく、１乃至２０であることがさらに好ましく、１乃至１５であることがさらにまた好ましく、１乃至１２であることが最も好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。脂肪族基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、スルホ、シアノ、一価の芳香族基、一価の複素環基、−Ｏ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−Ｒ、−Ｎ（−Ｒ）2、−Ｎ+＜（−Ｒ）3、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ、−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）２および−ＮＨ−ＣＯ−Ｒが含まれる。上記Ｒは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。
【００３５】
芳香族基は、ベンゼン環またはナフタレン環を有することが好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。芳香族基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、スルホ、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基、一価の複素環基、−Ｏ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−Ｒ、−Ｎ（−Ｒ）2、−Ｎ+＜（−Ｒ）3、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ、−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2および−ＮＨ−ＣＯ−Ｒが含まれる。上記Ｒは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。カルボキシルおよびスルホは、水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。複素環基は、３員環乃至７員環を有することが好ましい。複素環は、不飽和結合を有していてもよい。複素環の例には、ピペリジン環およびピペラジン環が含まれる。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基は、芳香族基の置換基と同様である。
【００３６】
ポリマーが炭化水素主鎖を有する場合、ポリマーは、下記（Ｉ）で表される化学的に活性な官能基を含む繰り返し単位を有することが好ましい。
【００３７】
【化１】
2006256025.tif 000002
【００３８】
式（Ｉ）において、Ｒ1は、水素原子、炭素原子数が１乃至１０のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が２乃至１１のアルコキシカルボニル基である。Ｒ1は、水素原子、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が２乃至７のアルコキシカルボニル基であることが好ましく、水素原子、炭素原子数が１乃至３のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が２乃至４のアルコキシカルボニル基であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数が１乃至３のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることが最も好ましい。
【００３９】
式（Ｉ）において、Ｌ1は、単結合または二価の連結基である。Ｌ1は、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＮＨ−およびそれらの組み合わせからなる二価の連結基であることがさらに好ましい。
【００４０】
脂肪族基、芳香族基および複素環基の定義および例は、前述した通りである。式（Ｉ）において、Ｘは、化学的に活性な官能基である。
【００４１】
コアポリマーは、６０乃至１５０℃の軟化点を有することが好ましく、８０乃至１３０℃の軟化点を有することがさらに好ましい。コアポリマーの主鎖は、炭化水素（ポリオレフィン）、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエーテルおよびそれらの組み合わせから選ばれることが好ましい。炭化水素主鎖が特に好ましい。
【００４２】
コアポリマーの主鎖は、ポリマー全体が疎水性である範囲内で、置換基を有することができる。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基、一価の複素環基、−Ｏ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−Ｒ、−Ｎ（−Ｒ）2、−Ｎ+（−Ｒ）3、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ、−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2および−ＮＨ−ＣＯ−Ｒが含まれる。上記Ｒは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。置換基が複数のＲが含む場合、複数のＲは互いに異なってもよい。カルボキシル、スルホ、硫酸エステル基、ホスホノおよびリン酸エステル基は、水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。主鎖の複数の置換基が結合して、脂肪族環または複素環を形成してもよい。形成される環は、主鎖とスピロ結合の関係になっていてもよい。形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、上記主鎖の置換基に加えて、オキソ（＝Ｏ）が含まれる。
【００４３】
コアポリマーが炭化水素主鎖を有する場合、コアポリマーは、下記式（II）で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
【００４４】
【化２】
2006256025.tif 000003
【００４５】
式（II）において、Ｒ2は、水素原子、炭素原子数が１乃至１０のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が２乃至１１のアルコキシカルボニル基である。Ｒ2は、水素原子、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が２乃至７のアルコキシカルボニル基であることが好ましく、水素原子、炭素原子数が１乃至３のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が２乃至４のアルコキシカルボニル基であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数が１乃至３のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることが最も好ましい。式（II）において、Ｌ2は、−Ｏ−または−Ｎ（−Ｒ4）−である。式（II）において、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、脂肪族基、芳香族基または複素環基である。脂肪族基、芳香族基および複素環基の定義および例は、微粒子のコアで説明した通りである。
【００４６】
コアポリマーの繰り返し単位の例は、微粒子のコアで説明した繰り返し単位の例（１０１）〜（１４０）および（２０１）〜（２５２）と同様である。コアポリマーとして、二種類以上の繰り返し単位からなるコポリマーを用いることもできる。以下に、二種類の繰り返し単位からなるコポリマーの例を示す。かっこ内の番号は、微粒子のコアで説明した繰り返し単位の例示番号に相当する。繰り返し単位の割合は、モル比（％）である。
【００４７】
ＣＰ−１０１：−（１０２）70−  −（１１０）30−
ＣＰ−１０２：−（１０２）80−  −（１０４）20−
ＣＰ−１０３：−（１０２）60−  −（１１２）40−
ＣＰ−１０４：−（１０２）95−  −（１４０）5−
ＣＰ−１０５：−（１０２）50−  −（２０１）50−
ＣＰ−１０６：−（１０２）90−  −（２１２）10−
ＣＰ−１０７：−（１０２）80−  −（２０７）20−
ＣＰ−１０８：−（２０１）90−  −（１０１）10−
ＣＰ−１０９：−（２０１）80−  −（１０４）20−
ＣＰ−１１０：−（２０１）80−  −（１１０）20−
ＣＰ−１１１：−（２０１）90−  −（１１２）10−
ＣＰ−１１２：−（２０１）90−  −（１３９）10−
ＣＰ−１１３：−（２０１）95−  −（１２６）5−
ＣＰ−１１４：−（２０１）80−  −（２０４）20−
ＣＰ−１１５：−（２０１）80−  −（２０３）20−
ＣＰ−１１６：−（２０１）50−  −（２０７）50−
ＣＰ−１１７：−（２０９）80−  −（１０４）20−
ＣＰ−１１８：−（２０９）70−  −（１０６）30−
ＣＰ−１１９：−（２０９）70−  −（１１２）30−
ＣＰ−１２０：−（２０９）80−  −（２０７）20−
コアポリマーは、前述した繰り返し単位に対応するモノマー（一般に、エチレン性不飽和モノマー）の重合反応（ラジカル重合反応）によって合成できる。コアは、重合反応によりコア微粒子上に直接形成できる。均質な微粒子を形成するため、コア形成においては、コア形成と同様に界面活性剤を使用することが好ましい。好ましい界面活性剤は、コア形成において説明した界面活性剤と同様である。二種類以上の界面活性剤を併用してもよい。
【００４８】
界面活性剤の使用量は、モノマーの総量の０．０１乃至１０質量％であることが好ましい。重合反応は、重合開始剤（連鎖移動剤）を用いることが好ましい。重合開始剤の使用量は、モノマーの総量の０．０５乃至１０質量％であることが好ましい。コアポリマーは、６０乃至１８０℃の軟化温度を有することが好ましく、７０乃至１４０℃の軟化温度を有することがさらに好ましい。また、コアポリマーは、コア微粒子を形成するポリマーの軟化温度よりも低い軟化温度を有することも好ましい。
【００４９】
１基材
基材としては、印刷版の基板として使用される公知の材料を使用することができる。例えば、金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられる。基材の厚さとしては、印刷機に取り付け可能であれば特に制限されるものではないが、５０〜５００μｍのものが一般的に取り扱いやすい。
【００５０】
１．２非金属基材：ＰＥＴ等
プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエステル類等を挙げることができる。
【００５１】
本発明に用いる基材としては、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらプラスチックフィルムは塗布層との接着性を向上させるために、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行なうことが好ましい。易接着処理としては、コロナ放電処理や火炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられる。
【００５２】
また、下塗り層としては、ゼラチンやラテックスを含む層等が挙げられる。下塗り層に、有機または無機の公知の導電性素材を含有させることもできる。
【００５３】
また、裏面のすべり性を制御する（例えば版胴表面との摩擦係数を低減させる）目的で、裏面コート層を設けた基材も好ましく使用することができる
《プラズマ処理条件》
バッチ式の大気圧プラズマ処理装置（イーシー化学（株）製、ＡＰ−Ｉ−Ｈ−３４０）を用いて、高周波出力が４．５ｋＷ、周波数が５ｋＨｚ、処理時間が５秒及びガス条件としてアルゴン、窒素及び水素の体積比をそれぞれ９０％及び５％で、プラズマ処理を行った。
【００５４】
《熱処理条件》
１．２５ｍ幅にスリットした後の支持体に対し、張力２ｈＰａで１８０℃、１分間の低張力熱処理を実施した。
【００５５】
《印刷版材料の作製》
親水性層を塗設する直前に、下引き済み支持体１に対し、１００℃で３０秒間熱処理を加えて乾燥させ、防湿シートでカバーをして空気中の湿度が入らないようにした。支持体試料の一部をサンプリングして水分率測定をしたところ、支持体１は０．２％であった。カバーをしたものについてはシートを除去後、すぐに塗布を行った。
【００５６】
１．３金属基材：ＡＬ砂目等
金属板としては、鉄、ステンレス、アルミニウム等が挙げられるが、比重と剛性との関係から特にアルミニウムが好ましい。アルミニウム板は、通常その表面に存在する圧延・巻取り時に使用されたオイルを除去するためにアルカリ、酸、溶剤等で脱脂した後に使用される。脱脂処理としては特にアルカリ水溶液による脱脂が好ましい。また、塗布層との接着性を向上させるために、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行なうことが好ましい。
【００５７】
例えば、ケイ酸塩やシランカップリング剤等のカップリング剤を含有する液に浸漬するか、液を塗布した後、十分な乾燥を行なう方法が挙げられる。陽極酸化処理も易接着処理の一種と考えられ、使用することができる。また、陽極酸化処理と上記浸漬または塗布処理を組み合わせて使用することもできる。また、公知の方法で粗面化されたアルミニウム基材、いわゆるアルミ砂目を、親水性表面を有する基材として使用することもできる。
【００５８】
１．３．２アルミ砂目について詳細に述べる。
【００５９】
本発明の平版印刷版用支持体に使用されるアルミニウム支持体には、純アルミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支持体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。
アルミニウム支持体は、粗面化に先立ってアルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。
【００６０】
脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。
【００６１】
脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合には、燐酸、硝酸、塩酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。中和処理の次に電気化学的粗面化を行なう場合は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使用する酸に合わせることが特に好ましい。
【００６２】
支持体の粗面化としては本発明の方法での電解粗面化を行なうが、その前処理として、適度な処理量の化学的粗面化や機械的粗面化を適宜くみあわせた粗面化を行なってもかまわない。
【００６３】
化学的粗面化は脱脂処理と同様に苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いる。処理後には燐酸、硝酸、塩酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。中和処理の次に電気化学的粗面化を行なう場合は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使用する酸に合わせることが特に好ましい。
機械的粗面化法は特に限定されないがブラシ研磨、ホーニング研磨が好ましい。
ブラシ研磨では、例えば毛径０．２〜１ｍｍのブラシ毛を植毛した円筒状ブラシを回転し、接触面に研磨材を水に分散させたスラリーを供給しながら、支持体表面に押しつけて粗面化を行なう。
【００６４】
ホーニング研磨では、研磨材を水に分散させたスラリーをノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行なう。
研磨材としては、火山灰、アルミナ、炭化珪素等の一般に研磨に使用されるものがあげられ、その粒度は＃２００〜＃２０００、好ましくは＃４００〜＃８００である。
機械的に粗面化された支持体は、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑等を取り除いたり、ピット形状をコントロールする等のために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬して表面をエッチングすることが好ましい。酸としては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。
上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
中和処理の次に電気化学的粗面化を行なう場合は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使用する酸に合わせることが特に好ましく、また、中和処理の次に陽極酸化処理を行なう場合は、中和に使用する酸を陽極酸化処理に使用する酸に合わせることが特に好ましい。
【００６５】
電気化学的粗面化は一般に酸性電解液中で交流電流を用いて粗面化を行なう。酸性電解液は通常電気化学的粗面化法に用いられるものが使用できるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましく、本発明での分割電解処理には塩酸系電解液を用いるのが特に好ましい。
【００６６】
電解に使用する電源波形は、矩形波、台形波、のこぎり波等さまざまな波形を用いることができるが、特に正弦波が好ましい。
硝酸系電解液を用いての電気化学的粗面化において印加される電圧は、１〜５０Ｖが好ましく、５〜３０Ｖが更に好ましい。電流密度（ピーク値）は、１０〜２００Ａ／ｄｍ2が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄｍ2が更に好ましい。
【００６７】
電気量は全処理工程を合計して、１００〜２０００Ｃ／ｄｍ2、好ましくは２００〜１５００Ｃ／ｄｍ2、より好ましくは２００〜１０００Ｃ／ｄｍ2である。
【００６８】
温度は、１０〜５０℃が好ましく、１５〜４５℃が更に好ましい。硝酸濃度は０．１〜５質量％が好ましい。
【００６９】
電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることが出来る。
【００７０】
塩酸系電解液を用いての電気化学的粗面化において印加される電圧は、１〜５０Ｖが好ましく、５〜３０Ｖが更に好ましい。電流密度（ピーク値）は、１０〜２００Ａ／ｄｍ2が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄｍ2が更に好ましい。電気量は全処理工程を合計して、１００〜２０００Ｃ／ｄｍ2が好ましく、２００〜１０００Ｃ／ｄｍ2が更に好ましい。温度は、１０〜５０℃が好ましく、１５〜４５℃が更に好ましい。塩酸濃度は０．１〜５質量％が好ましい。
【００７１】
電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることが出来る。
また，特開平１０−８６９号に記載されているような，電気化学的粗面化を複数回に分割して行う方法も好ましく用いることができる．
電気化学的に粗面化された支持体は、表面のスマット等を取り除いたり、ピット形状をコントロールしたりする等のために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬して表面をエッチングすることが好ましい。
【００７２】
酸としては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。中和処理の次に陽極酸化処理を行なう場合は、中和に使用する酸を陽極酸化処理に使用する酸に合わせることが特に好ましい。
【００７３】
粗面化処理の次に、陽極酸化処理を行い、続いて、封孔処理、親水化処理を行なう。
本発明で用いられる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理により支持体上には酸化皮膜が形成される。本発明において、陽極酸化処理には、硫酸および／または燐酸等を１０〜５０％の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ2で電解する方法が好ましく用いられるが、他に米国特許第１，４１２，７６８号に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国特許第３，５１１，６６１号に記載されている燐酸を用いて電解する方法等を用いることができる。
【００７４】
陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行なうことができる。
【００７５】
１．３．３実施例：塩酸電解砂目
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を、５０℃の１質量％水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、溶解量が２ｇ／ｍ2になるように溶解処理を行い水洗した後、２５℃の０．１質量％塩酸水溶液中に３０秒間浸漬し、中和処理した後水洗した。
【００７６】
次いでこのアルミニウム板を、塩酸１０ｇ／Ｌ、アルミを０．５ｇ／Ｌ含有する電解液により、正弦波の交流を用いて、ピーク電流密度が５０Ａ／ｄｍ2の条件で電解粗面化処理を行なった。この際の電極と試料表面との距離は１０ｍｍとした。電解粗面化処理は１２回に分割して行い、一回の処理電気量（陽極時）を４０Ｃ／ｄｍ2とし、合計で４８０Ｃ／ｄｍ2の処理電気量（陽極時）とした。
【００７７】
また、各回の粗面化処理の間に５秒間の休止時間を設けた。
【００７８】
電解粗面化後は、５０℃に保たれた１質量％水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、粗面化された面のスマット含めた溶解量が１．２ｇ／ｍ2になるようにエッチングし、水洗し、次いで２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中に１０秒間浸漬し、中和処理した後水洗した。次いで、２０％硫酸水溶液中で、２０Ｖの定電圧条件で電気量が１５０Ｃ／ｄｍ2となるように陽極酸化処理を行い、さらに水洗した。
【００７９】
次いで、水洗後の表面水をスクイーズした後、７０℃に保たれた１質量％のリン酸二水素ナトリウム水溶液に３０秒間浸漬し、水洗を行った後に８０℃で５分間乾燥し、基材１を得た。基材１のＲａは４６０ｎｍであった（ＷＹＫＯ社製ＲＳＴ  Ｐｌｕｓを使用し、４０倍で測定した）。
【００８０】
２親水性層（アンカー層も同様）
２．１無機バインダ
親水性層に用いられる親水性素材としては、金属酸化物が好ましい。
【００８１】
金属酸化物としては、金属酸化物微粒子を含むことが好ましい。例えば、コロイダルシリカ、アルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化物のゾルが挙げられる。該金属酸化物微粒子の形態としては、球状、針状、羽毛状、その他の何れの形態でも良い。平均粒径としては、３〜１００ｎｍであることが好ましく、平均粒径が異なる数種の金属酸化物微粒子を併用することもできる。又、粒子表面に表面処理がなされていても良い。
【００８２】
上記金属酸化物微粒子はその造膜性を利用して結合剤としての使用が可能である。有機の結合剤を用いるよりも親水性の低下が少なく、親水性層への使用に適している。
本発明には、上記の中でも特にコロイダルシリカが好ましく使用できる。コロイダルシリカは比較的低温の乾燥条件であっても造膜性が高いという利点があり、炭素原子を含まない素材が９１質量％以上というような層においても良好な強度を得ることができる。
【００８３】
上記コロイダルシリカとしては、後述するネックレス状コロイダルシリカ、平均粒径２０ｎｍ以下の微粒子コロイダルシリカを含むことが好ましく、さらに、コロイダルシリカはコロイド溶液としてアルカリ性を呈することが好ましい。
【００８４】
本発明に用いられるネックレス状コロイダルシリカとは１次粒子径がｎｍのオーダーである球状シリカの水分散系の総称である。本発明に用いられるネックレス状コロイダルシリカとは１次粒粒子径が１０〜５０ｎｍの球状コロイダルシリカが５０〜４００ｎｍの長さに結合した「パールネックレス状」のコロイダルシリカを意味する。パールネックレス状（即ち真珠ネックレス状）とは、コロイダルシリカのシリカ粒子が連なって結合した状態のイメージが真珠ネックレスの様な形状をしていることを意味している。ネックレス状コロイダルシリカを構成するシリカ粒子同士の結合は、シリカ粒子表面に存在する−ＳｉＯＨ基が脱水結合した−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−と推定される。ネックレス状のコロイダルシリカとしては、具体的には日産化学工業（株）製の「スノーテックス−ＰＳ」シリーズなどが挙げられる。
【００８５】
製品名としては「スノーテックス−ＰＳ−Ｓ（連結した状態の平均粒子径は１１０ｎｍ程度）」、「スノーテックス−ＰＳ−Ｍ（連結した状態の平均粒子径は１２０ｎｍ程度）」及び「スノーテックス−ＰＳ−Ｌ（連結した状態の平均粒子径は１７０ｎｍ程度）」があり、これらにそれぞれ対応する酸性の製品が「スノーテックス−ＰＳ−Ｓ−Ｏ」、「スノーテックス−ＰＳ−Ｍ−Ｏ」及び「スノーテックス−ＰＳ−Ｌ−Ｏ」である。
ネックレス状コロイダルシリカを添加することにより、層の多孔性を確保しつつ、強度を維持することが可能となり、層の多孔質化材として好ましく使用できる。
【００８６】
これらの中でも、アルカリ性である「スノーテックスＰＳ−Ｓ」、「スノーテックスＰＳ−Ｍ」、「スノーテックスＰＳ−Ｌ」を用いると、親水性層の強度が向上し、また、印刷枚数が多い場合でも地汚れの発生が抑制され、特に好ましい。
【００８７】
また、コロイダルシリカは粒子径が小さいほど結合力が強くなることが知られており、本発明には平均粒径が２０ｎｍ以下であるコロイダルシリカを用いることが好ましく、３〜１５ｎｍであることが更に好ましい。又、前述のようにコロイダルシリカの中ではアルカリ性のものが地汚れ発生を抑制する効果が高いため、アルカリ性のコロイダルシリカを使用することが特に好ましい。
【００８８】
平均粒径がこの範囲にあるアルカリ性のコロイダルシリカとしては日産化学社製の「スノーテックス−２０（粒子径１０〜２０ｎｍ）」、「スノーテックス−３０（粒子径１０〜２０ｎｍ）」、「スノーテックス−４０（粒子径１０〜２０ｎｍ）」、「スノーテックス−Ｎ（粒子径１０〜２０ｎｍ）」、「スノーテックス−Ｓ（粒子径８〜１１ｎｍ）」、「スノーテックス−ＸＳ（粒子径４〜６ｎｍ）」が挙げられる。
平均粒径が２０ｎｍ以下であるコロイダルシリカは前述のネックレス状コロイダルシリカと併用することで、層の多孔質性を維持しながら、強度をさらに向上させることが可能となり、特に好ましい。
【００８９】
平均粒径が２０ｎｍ以下であるコロイダルシリカ／ネックレス状コロイダルシリカの比率は９５／５〜５／９５が好ましく、７０／３０〜２０／８０がより好ましく、６０／４０〜３０／７０が更に好ましい。
【００９０】
本発明の親水性層にはその他の添加素材として、ケイ酸塩水溶液も使用することができる。ケイ酸Ｎａ、ケイ酸Ｋ、ケイ酸Ｌｉといったアルカリ金属ケイ酸塩が好ましく、そのＳｉＯ2／Ｍ2Ｏ比率はケイ酸塩を添加した際の塗布液全体のｐＨが１３を超えない範囲となるように選択することが無機粒子の溶解を防止する上で好ましい。
【００９１】
２．２有機無機バインダ
また、金属アルコキシドを用いた、いわゆるゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマーも使用することができる。ゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマーの形成については、例えば「ゾル−ゲル法の応用」（作花済夫著／アグネ承風社発行）に記載されているか、又は本書に引用されている文献に記載されている公知の方法を使用することができる。
【００９２】
２．３有機バインダ
親水性層中には親水性有機樹脂を含有させてもよい。
【００９３】
親水性有機樹脂としては、例えばポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の樹脂が挙げられる。
【００９４】
又、カチオン性樹脂を含有しても良く、カチオン性樹脂としては、ポリエチレンアミン、ポリプロピレンポリアミン等のようなポリアルキレンポリアミン類又はその誘導体、第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジアクリルアミン等が挙げられる。カチオン性樹脂は微粒子状の形態で添加しても良い。これは、例えば特開平６−１６１１０１号に記載のカチオン性マイクロゲルが挙げられる。
【００９５】
本発明のより好ましい態様としては、親水性層中に含有される親水性有機樹脂は水溶性であり、かつ、少なくともその一部が水溶性の状態のまま、水に溶出可能な状態で存在することが挙げられる。水溶性の素材であっても、架橋剤等によって架橋し、水に不溶の状態になると、その親水性は低下して印刷性能を劣化させる懸念がある。
【００９６】
本発明の親水性層に含有される水溶性素材としては、糖類が好ましい。親水性層に糖類を含有させることにより、後述する画像形成能を有する機能層との組み合わせにおいて、画像形成の解像度を向上させたり、耐刷性を向上させたりする効果が得られる。
糖類としては、後に詳細に説明するオリゴ糖を用いることもできるが、特に多糖類を用いることが好ましい。
【００９７】
多糖類としては、デンプン類、セルロース類、ポリウロン酸、プルランなどが使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。
【００９８】
これは、親水性層に多糖類を含有させることにより、親水性層の表面形状を好ましい状態形成する効果が得られるためである。
【００９９】
親水性層の表面は、ＰＳ版のアルミ砂目のように０．１〜５０μｍピッチの凹凸構造を有することが好ましく、この凹凸により保水性や画像部の保持性が向上する。
【０１００】
このような凹凸構造は、親水性層に適切な粒径のフィラーを適切な量含有させて形成することも可能であるが、親水性層の塗布液に前述のアルカリ性コロイダルシリカと前述の水溶性多糖類とを含有させ、親水性層を塗布、乾燥させる際に相分離を生じさせて形成することがより良好な印刷性能を有する構造を得ることができ、好ましい。
【０１０１】
凹凸構造の形態（ピッチ及び表面粗さなど）はアルカリ性コロイダルシリカの種類及び添加量、水溶性多糖類の種類及び添加量、その他添加材の種類及び添加量、塗布液の固形分濃度、ウエット膜厚、乾燥条件等で適宜コントロールすることが可能である。
【０１０２】
凹凸構造のピッチとしては０．２〜３０μｍであることがより好ましく、０．５〜２０μｍであることが更に好ましい。又、ピッチの大きな凹凸構造の上に、それよりもピッチの小さい凹凸構造が形成されているような多重構造の凹凸構造が形成されていてもよい。
表面粗さとしては、Ｒａで１００〜１０００ｎｍが好ましく、１５０〜６００ｎｍがより好ましい。
【０１０３】
また、親水性層の膜厚としては、０．０１〜５０μｍであり、好ましくは０．２〜１０μｍであり、更に好ましくは０．５〜３μｍである。
【０１０４】
２．４フィラー類
・多孔質シリカ多孔質シリカ又は多孔質アルミノシリケート粒子
多孔質シリカ粒子は一般に湿式法又は乾式法により製造される。湿式法ではケイ酸塩水溶液を中和して得られるゲルを乾燥、粉砕するか、中和して析出した沈降物を粉砕することで得ることができる。乾式法では四塩化珪素を水素と酸素と共に燃焼し、シリカを析出することで得られる。これらの粒子は製造条件の調整により多孔性や粒径を制御することが可能である。
【０１０５】
多孔質シリカ粒子としては、湿式法のゲルから得られるものが特に好ましい。
多孔質アルミノシリケート粒子は例えば特開平１０−７１７６４号に記載されている方法により製造される。即ち、アルミニウムアルコキシドと珪素アルコキシドを主成分として加水分解法により合成された非晶質な複合体粒子である。粒子中のアルミナとシリカの比率は１：４〜４：１の範囲で合成することが可能である。又、製造時にその他の金属のアルコキシドを添加して３成分以上の複合体粒子として製造したものも本発明に使用できる。これらの複合体粒子も製造条件の調整により多孔性や粒径を制御することが可能である。
【０１０６】
粒子の多孔性としては、分散前の状態で細孔容積で１．０ｍｌ／ｇ以上であることが好ましく、１．２ｍｌ／ｇ以上であることがより好ましく、１．８〜２．５ｍｌ／ｇ以下であることが更に好ましい。
【０１０７】
細孔容積は塗膜の保水性と密接に関連しており、細孔容積が大きいほど保水性が良好となって印刷時に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなるが、２．５ｍｌ／ｇよりも大きくなると粒子自体が非常に脆くなるため塗膜の耐久性が低下する。細孔容積が１．０ｍｌ／ｇ未満の場合には、印刷時の汚れにくさ、水量ラチチュードの広さが不充分となる。
粒径としては、親水性層に含有されている状態で（例えば分散時に破砕された場合も含めて）、実質的に１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることが更に好ましい。不必要に粗大な粒子が存在すると親水性層表面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起周囲にインクが残りやすくなって非画線部汚れやブランケット汚れが劣化する場合がある。
・ゼオライト粒子
ゼオライトは結晶性のアルミノケイ酸塩であり、細孔径が０．３〜１ｎｍの規則正しい三次元網目構造の空隙を有する多孔質体である。天然及び合成ゼオライトを合わせた一般式は、次のように表される。
【０１０８】
（Ｍ1、Ｍ21/2）ｍ（ＡｌｍＳｉｎＯ2（ｍ＋ｎ））・ｘＨ2Ｏ
ここで、Ｍ1、Ｍ2は交換性のカチオンであって、Ｍ１はＬｉ+、Ｎａ+、Ｋ+、Ｔｌ+、Ｍｅ4Ｎ+（ＴＭＡ）、Ｅｔ4Ｎ+（ＴＥＡ）、Ｐｒ4Ｎ+（ＴＰＡ）、Ｃ7Ｈ15Ｎ2+、Ｃ8Ｈ16Ｎ+等であり、Ｍ2はＣａ2+、Ｍｇ2+、Ｂａ2+、Ｓｒ2+、Ｃ8Ｈ18Ｎ22+等である。又、ｎ≧ｍであり、ｍ／ｎの値つまりはＡｌ／Ｓｉ比率は１以下となる。Ａｌ／Ｓｉ比率が高いほど交換性カチオンの量が多く含まれるため極性が高く、従って親水性も高い。好ましいＡｌ／Ｓｉ比率は０．４〜１．０であり、更に好ましくは０．８〜１．０である。ｘは整数を表す。
【０１０９】
本発明で使用するゼオライト粒子としては、Ａｌ／Ｓｉ比率が安定しており、又粒径分布も比較的シャープである合成ゼオライトが好ましく、例えばゼオライトＡ：Ｎａ12（Ａｌ12Ｓｉ12Ｏ48）・２７Ｈ2Ｏ；Ａｌ／Ｓｉ比率１．０、ゼオライトＸ：Ｎａ８６（Ａｌ86Ｓｉ106Ｏ384）・２６４Ｈ2Ｏ；Ａｌ／Ｓｉ比率０．８１１、ゼオライトＹ：Ｎａ５６（Ａｌ56Ｓｉ136Ｏ384）・２５０Ｈ2Ｏ；Ａｌ／Ｓｉ比率０．４１２等が挙げられる。
【０１１０】
Ａｌ／Ｓｉ比率が０．４〜１．０である親水性の高い多孔質粒子を含有することで親水性層自体の親水性も大きく向上し、印刷時に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなる。又、指紋跡の汚れも大きく改善される。Ａｌ／Ｓｉ比率が０．４未満では親水性が不充分であり、上記性能の改善効果が小さくなる。
多孔質無機粒子の粒径としては、親水性層に含有されている状態で、実質的に１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることが更に好ましい。
【０１１１】
また、本発明の印刷版材料の親水性層は金属酸化物として、層状粘土鉱物粒子を含んでもよい。該層状鉱物粒子としては、カオリナイト、ハロイサイト、タルク、スメクタイト（モンモリロナイト、バイデライト、ヘクトライト、サボナイト等）、バーミキュライト、マイカ（雲母）、クロライトといった粘土鉱物及び、ハイドロタルサイト、層状ポリケイ酸塩（カネマイト、マカタイト、アイアライト、マガディアイト、ケニヤアイト等）等が挙げられる。
【０１１２】
中でも、単位層（ユニットレイヤー）の電荷密度が高いほど極性が高く、親水性も高いと考えられる。好ましい電荷密度としては０．２５以上、更に好ましくは０．６以上である。このような電荷密度を有する層状鉱物としては、スメクタイト（電荷密度０．２５〜０．６；陰電荷）、バーミキュライト（電荷密度０．６〜０．９；陰電荷）等が挙げられる。特に、合成フッ素雲母は粒径等安定した品質のものを入手することができ好ましい。又、合成フッ素雲母の中でも、膨潤性であるものが好ましく、自由膨潤であるものが更に好ましい。
【０１１３】
又、上記の層状鉱物のインターカレーション化合物（ピラードクリスタル等）や、イオン交換処理を施したもの、表面処理（シランカップリング処理、有機バインダとの複合化処理等）を施したものも使用することができる。
平板状層状鉱物粒子のサイズとしては、層中に含有されている状態で（膨潤工程、分散剥離工程を経た場合も含めて）、平均粒径（粒子の最大長）が２０μｍ以下であり、又平均アスペクト比（粒子の最大長／粒子の厚さ）が２０以上の薄層状であることが好ましく、平均粒径が５μｍ以下であり、平均アスペクト比が５０以上であることが更に好ましく、平均粒径が１μｍ以下であり、平均アスペクト比が５０以上であることが更に好ましい。
【０１１４】
粒子サイズが上記範囲にある場合、薄層状粒子の特徴である平面方向の連続性及び柔軟性が塗膜に付与され、クラックが入りにくく乾燥状態で強靭な塗膜とすることができる。また、粒子物を多く含有する塗布液においては、層状粘土鉱物の増粘効果によって、粒子物の沈降を抑制することができる。粒子径が上記範囲をはずれると、引っかきによるキズ抑制効果が低下する場合がある。又、アスペクト比が上記範囲以下である場合、柔軟性が不充分となり、同様に引っかきによるキズ抑制効果が低下する場合がある。
【０１１５】
層状鉱物粒子の含有量としては、層全体の０．１〜３０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましい。
【０１１６】
特に膨潤性合成フッ素雲母やスメクタイトは少量の添加でも効果が見られるため好ましい。層状鉱物粒子は、塗布液に粉体で添加してもよいが、簡便な調液方法（メディア分散等の分散工程を必要としない）でも良好な分散度を得るために、層状鉱物粒子を単独で水に膨潤させたゲルを作成した後、塗布液に添加することが好ましい。
【０１１７】
２．５その他含有可能な素材
また、本発明の親水性層（の塗布液）には、塗布性改善等の目的で水溶性の界面活性剤を含有させることができる。Ｓｉ系、又はＦ系等の界面活性剤を使用することができるが、特にＳｉ元素を含む界面活性剤を使用することが印刷汚れを生じる懸念がなく、好ましい。該界面活性剤の含有量は親水性層全体（塗布液としては固形分）の０．０１〜３質量％が好ましく、０．０３〜１質量％が更に好ましい。
【０１１８】
また、本発明の親水性層はリン酸塩を含むことができる。本発明では親水性層の塗布液がアルカリ性であることが好ましいため、リン酸塩としてはリン酸三ナトリウムやリン酸水素二ナトリウムとして添加することが好ましい。リン酸塩を添加することで、印刷時の網の目開きを改善する効果が得られる。リン酸塩の添加量としては、水和物を除いた有効量として、０．１〜５質量％が好ましく、０．５〜２質量％が更に好ましい。
【０１１９】
３画像形成層
３．１疎水化前駆体微粒子
本発明の画像形成層の好ましい態様のひとつとして、画像形成層が疎水化前駆体を含有する態様が挙げられる。
【０１２０】
疎水化前駆体としては、熱によって親水性（水溶性または水膨潤性）から疎水性へと変化するポリマーを用いることができる。具体的には、例えば、特開２０００−５６４４９に開示されている、アリールジアゾスルホネート単位を含有するポリマーを挙げることができる。
が、本発明においては、疎水化前駆体としては、熱可塑性疎水性粒子、もしくは、疎水性物質を内包するマイクロカプセルを用いることが好ましい。
【０１２１】
熱可塑性微粒子としては、後述する熱溶融性微粒子および熱融着性微粒子を挙げることができる。
【０１２２】
本発明に用いられる熱溶融性微粒子とは、熱可塑性素材の中でも特に溶融した際の粘度が低く、一般的にワックスとして分類される素材で形成された微粒子である。物性としては、軟化点４０℃以上１２０℃以下、融点６０℃以上１５０℃以下であることが好ましく、軟化点４０℃以上１００℃以下、融点６０℃以上１２０℃以下であることが更に好ましい。融点が６０℃未満では保存性が問題であり、融点が３００℃よりも高い場合はインク着肉感度が低下する。
【０１２３】
使用可能な素材としては、パラフィン、ポリオレフィン、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、脂肪酸系ワックス等が挙げられる。これらは分子量８００から１００００程度のものである。又、乳化しやすくするためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。更には、軟化点を下げたり作業性を向上させるためにこれらのワックスにステアロアミド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミド又はこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビスステラロアミドなどを添加することも可能である。又、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用することができる。
これらの中でもポリエチレン、マイクロクリスタリン、脂肪酸エステル、脂肪酸の何れかを含有することが好ましい。これらの素材は融点が比較的低く、溶融粘度も低いため、高感度の画像形成を行うことができる。
【０１２４】
又、これらの素材は潤滑性を有するため、印刷版材料の表面に剪断力が加えられた際のダメージが低減し、擦りキズ等による印刷汚れ耐性が向上する。
又、熱溶融性微粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は０．０１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜３μｍである。平均粒径が０．０１μｍよりも小さい場合、熱溶融性微粒子を含有する層の塗布液を後述する多孔質な親水性層上に塗布した際に、熱溶融性微粒子が親水性層の細孔中に入り込んだり、親水性層表面の微細な凹凸の隙間に入り込んだりしやすくなり、機上現像が不十分になって、地汚れの懸念が生じる。熱溶融性微粒子の平均粒径が１０μｍよりも大きい場合には、解像度が低下する。
【０１２５】
又、熱溶融性微粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。
被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。
層中の熱溶融性微粒子の含有量としては、層全体の１〜９０質量％が好ましく、５〜８０質量％がさらに好ましい。
【０１２６】
本発明の熱融着性微粒子としては、熱可塑性疎水性高分子重合体微粒子が挙げられ、高分子重合体微粒子の軟化温度に特定の上限はないが、温度は高分子重合体微粒子の分解温度より低いことが好ましい。高分子重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０、０００〜１、０００、０００の範囲であることが好ましい。
【０１２７】
高分子重合体微粒子を構成する高分子重合体の具体例としては、例えば、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレン−ブタジエン共重合体等のジエン（共）重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−（２−エチルヘキシルアクリレート）共重合体、メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、メチルアクリレート−（Ｎ−メチロールアクリルアミド）共重合体、ポリアクリロニトリル等の（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸（共）重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体等のビニルエステル（共）重合体、酢酸ビニル−（２−エチルヘキシルアクリレート）共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン等及びそれらの共重合体が挙げられる。これらのうち、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸（共）重合体、ビニルエステル（共）重合体、ポリスチレン、合成ゴム類が好ましく用いられる。
【０１２８】
高分子重合体微粒子は乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法、気相重合法等、公知の何れの方法で重合された高分子重合体からなるものでもよい。溶液重合法又は気相重合法で重合された高分子重合体を微粒子化する方法としては、高分子重合体の有機溶媒に溶解液を不活性ガス中に噴霧、乾燥して微粒子化する方法、高分子重合体を水に非混和性の有機溶媒に溶解し、この溶液を水又は水性媒体に分散、有機溶媒を留去して微粒子化する方法等が挙げられる。
【０１２９】
又、何れの方法においても、必要に応じ重合あるいは微粒子化の際に分散剤、安定剤として、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等の界面活性剤やポリビニルアルコール等の水溶性樹脂を用いてもよい。
又、熱融着性微粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は０．０１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜３μｍである。平均粒径が０．０１μｍよりも小さい場合、熱融着性微粒子を含有する層の塗布液を後述する多孔質な親水性層上に塗布した際に、熱融着性微粒子が親水性層の細孔中に入り込んだり、親水性層表面の微細な凹凸の隙間に入り込んだりしやすくなり、機上現像が不十分になって、地汚れの懸念が生じる。熱融着性微粒子の平均粒径が１０μｍよりも大きい場合には、解像度が低下する。
【０１３０】
又、熱融着性微粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。
【０１３１】
被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。
層中の熱可塑性微粒子の含有量としては、層全体の１〜９０質量％が好ましく、５〜８０質量％がさらに好ましい。
【０１３２】
本発明の印刷版材料に用いられるマイクロカプセルとしては、例えば特開２００２−２１３５号や特開２００２−１９３１７号に記載されている疎水性素材を内包するマイクロカプセルを挙げることができる。
【０１３３】
マイクロカプセルは平均径で０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．３〜５μｍであることがより好ましく、０．５〜３μｍであることがさらに好ましい。
マイクロカプセルの壁の厚さは径の１／１００〜１／５であることが好ましく、１／５０〜１／１０であることがより好ましい。
【０１３４】
マイクロカプセルの含有量は画像形成層全体の５〜１００質量％であり、２０〜９５質量％であることが好ましく、４０〜９０質量％であることがさらに好ましい。
マイクロカプセルの壁材となる素材、およびマイクロカプセルの製造方法は公知の素材および方法を用いることができる。
【０１３５】
たとえば、「新版マイクロカプセルその製法・性質・応用」（近藤保、小石真純著  ／  三共出版株式会社発行）に記載されているか、引用されている文献に記載されている公知の素材および方法を用いることができる。
【０１３６】
３．２バインダ
画像形成層には水溶性樹脂、水分散性樹脂を含有させることができる。水溶性樹脂、水分散性樹脂としては、オリゴ糖、多糖類、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の樹脂が挙げられる。
【０１３７】
これらのなかでは、オリゴ糖、多糖類、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩（Ｎａ塩等）、ポリアクリルアミドが好ましい。
【０１３８】
オリゴ糖としては、ラフィノース、トレハロース、マルトース、ガラクトース、スクロース、ラクトースといったものが挙げられるが、特にトレハロースが好ましい。
【０１３９】
多糖類としては、デンプン類、セルロース類、ポリウロン酸、プルランなどが使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。
【０１４０】
ポリアクリル酸、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩（Ｎａ塩等）、ポリアクリルアミドとしては、分子量３０００〜５００万であることが好ましく、５０００〜１００万であることがより好ましい。
【０１４１】
３．３その他含有可能な素材
画像形成層には後述の光熱変換素材を含有させることができる。画像形成層は一部が機上現像されるため、可視光での着色の少ない素材を用いることが好ましく、色素を用いることが好ましい。
【０１４２】
また、画像形成層には、水溶性の界面活性剤を含有させることができる。Ｓｉ系、又はＦ系等の界面活性剤を使用することができるが、特にＳｉ元素を含む界面活性剤を使用することが印刷汚れを生じる懸念がなく、好ましい。該界面活性剤の含有量は親水性層全体（塗布液としては固形分）の０．０１〜３質量％が好ましく、０．０３〜１質量％が更に好ましい。
【０１４３】
さらに、ｐＨ調整のための酸（リン酸、酢酸等）またはアルカリ（水酸化ナトリウム、ケイ酸塩、リン酸塩等）を含有していても良い。
【０１４４】
４光熱変換素材
４．１ＩＲ色素
一般的な赤外吸収色素であるシアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。具体的には、特開昭６３−１３９１９１号、特開昭６４−３３５４７号、特開平１−１６０６８３号、特開平１−２８０７５０号、特開平１−２９３３４２号、特開平２−２０７４号、特開平３−２６５９３号、特開平３−３０９９１号、特開平３−３４８９１号、特開平３−３６０９３号、特開平３−３６０９４号、特開平３−３６０９５号、特開平３−４２２８１号、特開平３−９７５８９号、特開平３−１０３４７６号等に記載の化合物が挙げられる。これらは一種又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
また、特開平１１−２４０２７０号、特開平１１−２６５０６２号、特開２０００−３０９１７４号、特開２００２−４９１４７号、特開２００１−１６２９６５号、特開２００２−１４４７５０号、特開２００１−２１９６６７号に記載の化合物も好ましく用いることができる。
【０１４５】
４．２顔料
顔料としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。
カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度（ｄ５０）は１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【０１４６】
グラファイトとしては粒径が０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を使用することができる。
金属としては粒径が０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子であれば何れの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等何れの形状でも良い。特にコロイド状金属微粒子（Ａｇ、Ａｕ等）が好ましい。
【０１４７】
金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材、または素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。
前者としては、黒色酸化鉄や二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。
【０１４８】
後者とては、例えばＳｂをドープしたＳｎＯ2（ＡＴＯ）、Ｓｎを添加したＩｎ2Ｏ3（ＩＴＯ）、ＴｉＯ2、ＴｉＯ2を還元したＴｉＯ（酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック）などが挙げられる。又、これらの金属酸化物で芯材（ＢａＳＯ4、ＴｉＯ2、９Ａｌ2Ｏ3・２Ｂ2Ｏ、Ｋ2Ｏ・ｎＴｉＯ2等）を被覆したものも使用することができる。これらの粒径は、０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下である。
【０１４９】
これらの光熱変換素材のうち黒色酸化鉄や二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物がより好ましい素材として挙げられる。
黒色酸化鉄（Ｆｅ3Ｏ4）としては、平均粒子径０．０１〜１μｍであり、針状比（長軸径／短軸径）が１〜１．５の範囲の粒子であることが好ましく、実質的に球状（針状比１）であるか、もしくは、八面体形状（針状比約１．４）を有していることが好ましい。
【０１５０】
このような黒色酸化鉄粒子としては、例えば、チタン工業社製のＴＡＲＯＸシリーズが挙げられる。球状粒子としては、ＢＬ−１００（粒径０．２〜０．６μｍ）、ＢＬ−５００（粒径０．３〜１．０μｍ）等を好ましく用いることができる。また、八面体形状粒子としては、ＡＢＬ−２０３（粒径０．４〜０．５μｍ）、ＡＢＬ−２０４（粒径０．３〜０．４μｍ）、ＡＢＬ−２０５（粒径０．２〜０．３μｍ）、ＡＢＬ−２０７（粒径０．２μｍ）等を好ましく用いることができる。
【０１５１】
さらに、これらの粒子表面をＳｉＯ2等の無機物でコーティングした粒子も好ましく用いることができ、そのような粒子としては、ＳｉＯ2でコーティングされた球状粒子：ＢＬ−２００（粒径０．２〜０．３μｍ）、八面体形状粒子：ＡＢＬ−２０７Ａ（粒径０．２μｍ）が挙げられる。
【０１５２】
黒色複合金属酸化物としては、具体的には、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、  Ｃｏ、  Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｂａから選ばれる二種以上の金属からなる複合金属酸化物である。これらは、特開平８−２７３９３号公報、特開平９−２５１２６号公報、特開平９−２３７５７０号公報、特開平９−２４１５２９号公報、特開平１０−２３１４４１号公報等に開示されている方法により製造することができる。
本発明に用いる複合金属酸化物としては、特にＣｕ−Ｃｒ−Ｍｎ系またはＣｕ−Ｆｅ−Ｍｎ系の複合金属酸化物であることが好ましい。Ｃｕ−Ｃｒ−Ｍｎ系の場合には、６価クロムの溶出を低減させるために、特開平８−２７３９３号公報に開示されている処理を施すことが好ましい。これらの複合金属酸化物は添加量に対する着色、つまり、光熱変換効率が良好である。
【０１５３】
これらの複合金属酸化物は平均１次粒子径が１μｍ以下であることが好ましく、平均１次粒子径が０．０１〜０．５μｍの範囲にあることがより好ましい。平均１次粒子径が１μｍ以下とすることで、添加量に対する光熱変換能がより良好となり、平均１次粒子径が０．０１〜０．５μｍの範囲とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となる。ただし、添加量に対する光熱変換能は、粒子の分散度にも大きく影響を受け、分散が良好であるほど良好となる。
【０１５４】
したがって、これらの複合金属酸化物粒子は、層の塗布液に添加する前に、別途公知の方法により分散して、分散液（ペースト）としておくことが好ましい。平均１次粒子径が０．０１未満となると分散が困難となるため好ましくない。分散には適宜分散剤を使用することができる。分散剤の添加量は複合金属酸化物粒子に対して０．０１〜５質量％が好ましく、０．１〜２質量％がより好ましい。
【０１５５】
５．露光（画像形成）方法
本発明のひとつの態様の印刷版材料の画像形成は熱により行うことができるが、特に赤外線レーザーによる露光によって画像形成を行うことが好ましい。
本発明に関する露光に関し、より具体的には、赤外および／または近赤外領域で発光する、すなわち７００〜１５００ｎｍの波長範囲で発光するレーザーを使用した走査露光が好ましい。レーザーとしてはガスレーザーを用いてもよいが、近赤外領域で発光する半導体レーザーを使用することが特に好ましい。
【０１５６】
本発明の走査露光に好適な装置としては、該半導体レーザーを用いてコンピュータからの画像信号に応じて印刷版材料表面に画像を形成可能な装置であればどのような方式の装置であってもよい。
【０１５７】
一般的には、
（１）平板状保持機構に保持された印刷版材料に一本もしくは複数本のレーザービームを用いて２次元的な走査を行って印刷版材料全面を露光する方式、
（２）固定された円筒状の保持機構の内側に、円筒面に沿って保持された印刷版材料に、円筒内部から一本もしくは複数本のレーザービームを用いて円筒の周方向（主走査方向）に走査しつつ、周方向に直角な方向（副走査方向）に移動させて印刷版材料全面を露光する方式、
（３）回転体としての軸を中心に回転する円筒状ドラム表面に保持された印刷版材料に、円筒外部から一本もしくは複数本のレーザービームを用いてドラムの回転によって周方向（主走査方向）に走査しつつ、周方向に直角な方向（副走査方向）に移動させて印刷版材料全面を露光する方式があげられる。
【０１５８】
本発明に関しては特に（３）の走査露光方式が好ましく、特に印刷装置上で露光を行う装置においては、（３）の露光方式が用いられる。
【０１５９】
６．機上現像方法
本発明の印刷版材料の好ましい態様である、赤外線レーザー熱溶融・熱融着方式の印刷版材料の画像形成層は、赤外線レーザー露光部が親油性の画像部となり、未露光部の層が除去されて非画像部となる。未露光部の除去は、水洗によっても可能であるが、印刷機上で湿し水およびまたはインクを用いて除去する、いわゆる機上現像することも十分に可能である。
【０１６０】
印刷機上での画像形成層の未露光部の除去は、版胴を回転させながら水付けローラーやインクローラーを接触させて行うことができるが、下記に挙げる例のような、もしくは、それ以外の種々のシークエンスによって行うことができる。また、その際には、印刷時に必要な湿し水水量に対して、水量を増加させたり、減少させたりといった水量調整を行ってもよく、水量調整を多段階に分けて、もしくは、無段階に変化させて行ってもよい。
【０１６１】
（１）印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーを接触させて版胴を１回転〜数十回転、回転させ、次いで、インクローラーを接触させて版胴を１回転〜数十回転させ、次いで、印刷を開始する。
【０１６２】
（２）印刷開始のシークエンスとして、インクローラーを接触させて版胴を１回転〜数十回転、回転させ、次いで、水付けローラーを接触させて版胴を１回転〜数十回転させ、次いで、印刷を開始する。
【０１６３】
（３）印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーとインクローラーとを実質的に同時に接触させて版胴を１回転〜数十回転させ、次いで、印刷を開始する。
【実施例】
【０１６４】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【０１６５】
《支持体の作製》
（ポリエステルフィルムの作製）
（支持体１：ポリエチレンテレフタレート支持体）
テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従いＩＶ（固有粘度）＝０．６６（フェノール／テトラクロルエタン＝６／４（質量比）中２５℃で測定）のＰＥＴを得た。これをペレット化した後１３０℃で４時間乾燥し、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出し、５０℃の冷却ドラム上で急冷し熱固定後の平均膜厚が１７５μｍになるような厚みの未延伸フィルムを作製した。これを、延伸温度は前段延伸が１０２℃で１．３倍に、後段延伸は１１０℃で２．６倍に縦延伸した。ついでテンターで１２０℃で４．５倍に横延伸した。この後、２４０℃で２０秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に４％緩和した。この後テンターのチャック部をスリットした後、両端にナーリング加工を行い、４０℃に冷却後４．８ｋｇ／ｍで巻き取った。このようにして厚さ１７５μの二軸延伸ＰＥＴフィルムを得た。この二軸延伸ＰＥＴフィルムのＴｇは７９℃であった。得られたＰＥＴフィルムの幅（製膜幅）は２．５ｍであった。また、得られた支持体１の厚み分布は３％であった。
【０１６６】
《下引き済み支持体１の作製》
上記で得られた支持体１のフィルムの両面に、８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放電処理を施し、次いで、表４に記載のように、一方の面に下記下引き塗布液ａを乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設後にコロナ放電処理（８Ｗ／ｍ2・分）を行いながら下引き塗布液ｂを乾燥膜厚０．１μｍになるように塗布し、各々１８０℃、４分間乾燥させた（下引き面Ａ）。また反対側の面に下記下引き塗布液ｃを乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設後にコロナ放電処理（８Ｗ／ｍ2・分）を行いながら下引き塗布液ｄを乾燥膜厚１．０μｍになるように塗布し、しそれぞれ１８０℃、４分間乾燥させた（下引き面Ｂ）。塗布後の２５℃、２５％ＲＨでの表面電気抵抗は１０8Ωであった。また、下引き面Ｂ側の表面の表面粗さを測定したところＲａ値で０．８μｍであった。ついで、各々の下引き層表面に下記プラズマ処理条件でプラズマ処理を施した。
【０１６７】
《下引き塗布液ａ》；
スチレン／グリシジルメタクリレート／ブチルアクリレート＝６０／３９／１の３元系共重合ラテックス（Ｔｇ＝７５℃）                        ６．３％（固形分基準）
スチレン／グリシジルメタクリレート／ブチルアクリレート＝２０／４０／４０の３元系共重合ラテックス                                                    １．６％
アニオン系界面活性剤Ｓ−１                                          ０．１％
水                                                                ９２．０％
《下引き塗布液ｂ》；
ゼラチン                                                                １％
アニオン系界面活性剤Ｓ−１                                        ０．０５％
硬膜剤Ｈ−１                                                      ０．０２％
マット剤（シリカ，平均粒径３．５μｍ）                            ０．０２％
防黴剤Ｆ−１                                                      ０．０１％
水                                                                ９８．９％
【０１６８】
【化３】
2006256025.tif 000004
【０１６９】
《下引き塗布液ｃ》；
スチレン／グリシジルメタクリレート／ブチルアクリレート＝２０／４０／４０の３元系共重合ラテックス                                      ０．４％（固形分基準）
スチレン／グリシジルメタクリレート／ブチルアクリレート／アセトアセトキシエチルメタクリレート＝３９／４０／２０／１の４元系共重合ラテックス          ７．６％
アニオン系界面活性剤Ｓ−１                                          ０．１％
水                                                                ９１．９％
《下引き塗布液ｄ》；
成分ｄ−１／成分ｄ−２／成分ｄ−３＝６６／３１／１の導電性組成物    ６．４％
硬膜剤Ｈ−２                                                        ０．７％
アニオン系界面活性剤Ｓ−１                                        ０．０７％
マット剤（シリカ，平均粒径３．５μｍ）                            ０．０３％
水                                                                ９３．４％
成分ｄ−１；
スチレンスルホン酸ナトリウム／マレイン酸＝５０／５０の共重合体からなるアニオン性高分子化合物
成分ｄ−２；
スチレン／グリシジルメタクリレート／ブチルアクリレート＝４０／４０／２０からなる３成分系共重合ラテックス
成分ｄ−３；
スチレン／イソプレンスルホン酸ナトリウム＝８０／２０からなる高分子活性剤
【０１７０】
【化４】
2006256025.tif 000005
【０１７１】
【表１】
2006256025.tif 000006
【０１７２】
表から明らかなように、本発明の試料が比較に比して優れていることが分かる。