(57)【要約】      （修正有）【課題】本発明は、真空容器及びその製造方法に関し、特に真空容器のゲッター素子に関する。【解決手段】本発明に係る真空容器は、側壁８０と、該側壁に設置され非蒸着形ゲッター８１が配置されたゲッター素子と、を含む。前記非蒸着形ゲッターはストライプ状に形成される。前記ゲッター素子は前記真空容器の内部に向けて前記側壁に設置される。本発明に係る真空容器の製造方法は、ストライプ状の非蒸着ゲッターを製造する段階と、前記ゲッターを真空容器の側壁の一方の表面に固定する段階と、前記ゲッターが設置された側面を前記真空容器の内部に向けるように前記真空容器を封着する段階と、を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
側壁と、該側壁に設置され、非蒸着ゲッターが配置されたゲッター素子と、を含む真空容器において、
前記非蒸着ゲッターはストライプ状に形成され、
前記ゲッター素子は前記真空容器の内部に向けて前記側壁に設置されることを特徴とする真空容器。
【請求項２】
前記ゲッター素子は前記非蒸着ゲッターの担体である基板を有し、
前記基板は金属材料からなり、前記非蒸着ゲッターの形状に対応して構成されることを特徴とする、請求項１に記載の真空容器。
【請求項３】
前記ゲッター素子を固定するために、前記側壁の前記真空容器の内部の対向する表面に係止部を設置することを特徴とする、請求項１又は２に記載の真空容器。
【請求項４】
前記係止部に対応して、前記ゲッター素子に孔部を設けることを特徴とする、請求項３に記載の真空容器。
【請求項５】
真空容器に用いられるゲッター素子であって、
非蒸着ゲッターを備え、
該非蒸着ゲッターはストライプ状に形成され、
該ゲッター素子は前記真空容器の内部に向けて前記側壁に設置されることを特徴とするゲッター素子。
【請求項６】
ストライプ状の非蒸着ゲッターを製造する段階と、
前記ゲッターを真空容器の側壁の一方の表面に固定する段階と、
前記ゲッターが設置された側面を前記真空容器の内部に向けるように前記真空容器を封着する段階と、を含むことを特徴とする真空容器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空容器及びその製造方法に関し、特に真空容器のゲッター素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来技術として、表示装置の使用寿命及び信頼性の方面から考え、高真空を保持するためにゲッターを設置するという提案がされている。ゲッターとして広く用いられるのは、蒸発ゲッター、非蒸発ゲッターがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、平面型表示装置に蒸発ゲッターを設置する場合、製造手段に欠点があるので、電極ラインの短絡（漏電）が起こり、電気素子に損害が生じる恐れがある。非蒸発ゲッターを設置する場合、一般に、該ゲッターを表示装置の内部へ延伸する排気パイプ内に設置するので、高真空度を保持することができない。また、平面型表示装置は、前面基板及び背面基板の間が狭く、気体流量が少ない特性があり、且つ平面型表示装置の表面積と体積の比率が非常に大きいので、該平面型表示装置の中の気体（表面又は裏表面の局部から放出の気体）がゲッターで速く吸着されなく、高真空度の保持ができないという課題がある。
【０００４】
また、平面型表示装置にゲッターの専用位置を設ける従来技術は、平面型表示装置の構成が複雑で大型化し、気体吸着の手段が合理的に設置されることができない課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決するために、本発明は高真空度を保持できる真空容器及びその製造方法、並びにゲッターを提供する。
【０００６】
本発明に係る真空容器は、側壁と、該側壁に設置され非蒸着ゲッターが配置されたゲッター素子と、を含む。前記非蒸着ゲッターはストライプ状に形成される。前記ゲッター素子は前記真空容器の内部に向けて前記側壁に設置される。
【０００７】
前記ゲッター素子は前記非蒸着ゲッターの担体である基板を有する。前記基板は金属材料からなり、前記非蒸着ゲッターの形状に対応して構成される。
【０００８】
前記ゲッター素子を固定するために、前記側壁の前記真空容器の内に対向の表面に係止部を設置する。
【０００９】
前記係止部に対応して、前記ゲッター素子に孔部を設ける。
【００１０】
本発明に係るゲッター素子は前記真空容器の内部に向けて前記側壁に設置され、非蒸着ゲッターを備える。また、前記非蒸着ゲッターはストライプ状に形成される。
【００１１】
本発明は真空容器の製造方法も提供する。本発明に係る真空容器の製造方法は、ストライプ状の非蒸着ゲッターを製造する段階と、前記ゲッターを真空容器の側壁の一方の表面に固定する段階と、前記ゲッターが設置された側面を前記真空容器の内部に向けるように前記真空容器を封着する段階と、を含む。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、気体吸着の効率を高め、真空容器の真空度を良好に保持することができる。また、本発明に係るゲッター素子は構成が簡単で、コストが低下し、小型化の真空容器が実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（実施例１）
図面を参照して、本発明の実施例について詳しく説明する。
【００１４】
図１を参照して、本実施例に係るディスプレイ７は背面基板７０と、該背面基板７０に対向して設置される前面基板７９と、を含む。本実施例において、前記ディスプレイ７は電界放射ディスプレイである。
【００１５】
前記背面基板７０は半導体材料又はガラスからなり、前記ディスプレイ７の後部に設置される。前記背面基板７０には、前記前面基板７９に対向して平板形状の陰極７１を設置する。前記陰極７１には、複数の電子放出部７４を設置して、且つ前記複数の電子放出部７４をそれぞれ隔てる複数の絶縁層７３を形成する。前記電子放出部７４を制御するために、前記絶縁層７３に複数のグリッド７５を配置する。ここで、前記電子放出部７４の先端は、例えばタングステン、シリコン、モリブデン、ダイヤモンド、酸化亜鉛、炭素ナノチューブ、シリコンライン、モリブデンラインの一種からなる。
【００１６】
前記前面基板７９は前記ディスプレイ７の前部に設置される。前記前面基板７９には、前記背面基板７０に対向して平板形状の陽極７８を設置する。前記陽極７８には、前記電子放出部７４に対応して蛍光層７７を形成する。ここで、前記陽極は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）透明導電材料からなる。
【００１７】
複数のスペーサ７６は前記各グリッド７５（又は背面基板７０）と前記陽極７８との間に位置して、前記背面基板７０及び前記前面基板７９を所定の距離で分離して固定させるように作用する。前記前面基板７９及び前記背面基板７０の周辺部がガラス基板で封着されて、四つの側壁８０（図１に二つの側壁が示される）が形成される。
【００１８】
図１及び図２を参照して、前記側壁８０が前記ディスプレイ７の内に向かう表面に、ゲッター８１が設けられる。前記ゲッター８１は例えば、チタニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、ツリウム及びその合金などの非蒸着形材料からなり、ストライプ状又は線形状に形成される。
【００１９】
前記ゲッター８１を固定するために、前記ゲッター８１に二つの孔部（図示せず）が形成され、該二つの孔部に対応して前記側壁８０の表面に二つの係止部８２が設置される。前記係止部８２は金属材料からなり、前記電界放射ディスプレイの内部に向けて突出して形成される。
【００２０】
前記ディスプレイ７の製造方法は、前記ストライプ状の非蒸着ゲッター８１を製造する段階と、前記ゲッター８１を前記側壁８０の一方の表面に固定させる段階と、前記ゲッター８１が設置された側面を前記ディスプレイ７の内部に向けるように前記ディスプレイ７を封着する段階と、を含む。
【００２１】
本実施例において、前記ディスプレイ７は画面が１６：９の４０インチ平面型表示装置であり、その前面基板と背面基板との距離が２ｍｍ以上、長辺が８８５ｍｍ、短辺が４９８ｍｍに設置するように構成される。前記ディスプレイ７において、前記側壁８０の四つの側壁にそれぞれ一つのゲッター８１を設置することにより、前記ゲッター８１を配置することができる面積が３０００ｍｍ２程度になる。さらに、二つの側壁を例として、前記ゲッター８１が配置された面積を詳しく計算する。即ち、前面基板と背面基板の距離×（長辺＋短辺）＝２×（８８５＋４９８）＝２７７６ｍｍ２となる。前記ディスプレイ７の他の長辺及び短辺の側壁には、配線のスペースがあるが、ここでは計算しない。
【００２２】
上述のように、本発明に係るゲッターの面積は従来技術の集中型の非蒸着ゲッターの面積（６０〜１５０ｍｍ２）より数十倍大きくなるので、前記ディスプレイ７の真空度を良好に保持することができる。また、前記ゲッター８１はストライプ状に設けられ、前記ディスプレイ７の各側壁８１に設置されることにより、最大の表面積で前記ディスプレイ７の内の気体に接触して吸着することができるので、吸着の効率を高めることができる。前記ゲッター８１はそれぞれ前記四つの側壁８０に設置され、前記ディスプレイ７の各方面からの気体を吸着することができるので、気圧強度の均一性を改善し、ディスプレイの使用寿命を延長することができる。さらに、本実施例に係るゲッター８１は構成が簡単になり、体積が小さく、コストが低下する。
【００２３】
勿論、前記ディスプレイ７は次の変形があることができる。陰極７１又は陽極７８はストライプ状に形成されることができる。ゲッターに対して、例えば、大寸法の平面表示装置である場合には四つの側壁の他に、その前面・背面基板の他の領域（例えば、側壁の辺部）にゲッターを設置することができ、真空電球のような小型真空装置である場合には、その一側乃至両側にゲッターを設置することができる。
【００２４】
（実施例２）
図３を参照して、本実施例に係るゲッター素子９１は、基板９１０と、該基板９１０の一側の表面に堆積された非蒸着ゲッター９１２と、を含む。前記基板９１０は金属材料からなり、前記非蒸着ゲッター９１２の形状に対応して形成される。前記基板９１０の一方の表面を前記非蒸着ゲッター９１２に張り合わせて、もう一方の表面を前記ゲッター素子９１の連接面として、他の装置に固定させる。また、実施例１に係るゲッター８１のように、前記ゲッター９１に固定用の孔を設置することもできる。
【００２５】
前記実施例は単に例をとして本発明について説明するためのものである。ゲッターは、例えば、ペースト又は係止手段を介して固定させることができる。また、前記固定用の孔又は係止部材の数量は実施例に限定されず、相応に変化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施例１に係る電界放射ディスプレイの断面図である。
【図２】本発明の実施例１係る電界放射ディスプレイの側壁の正面図である。
【図３】本発明の実施例２に係るゲッター素子の断面図である。
【符号の説明】
【００２７】
７  ディスプレイ
７０  背面基板
７１  陰極
７３  絶縁層
７４  電子放射部
７５  グリッド
７６  スペーサ
７７  蛍光層
７８  陽極
７９  前面基板
８０  側壁
８１  ゲッター
８２  係止部
９１  ゲッター素子
９１０  基板
９１２  ゲッター
【図１】
2006339152.tif 000003
【図２】
2006339152.tif 000004
【図３】
2006339152.tif 000005