(57)【要約】【課題】作製中の表示装置の膜に生じた部分的な欠陥部を精度よく修正できる修正装置を提供すること。【解決手段】修正装置は、作製中の表示装置の膜に生じた欠陥部に加熱によって固化する所定の修正液を塗布して修正するための装置であって、表示装置を保持する固定ステージと、表示装置の欠陥部を除去してカット部を形成するための除去手段と、除去手段により形成されたカット部に修正液を吐出する吐出部を有する吐出手段と、カット部を観察する観察手段と、修正液を加熱して膜を形成させるための加熱手段と、除去手段、吐出手段、観察手段および加熱手段を搭載して表示装置に対して移動させる可動ステージと、待機中の吐出部の乾燥を防止するキャッピング手段とを備える。【選択図】図２
2006113127.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作製中の表示装置の膜に生じた欠陥部に修正液を塗布して修正するための装置であって、表示装置を保持する固定ステージと、表示装置の欠陥部を除去してカット部を形成するための除去手段と、除去手段により形成されたカット部に修正液を吐出する吐出部を有する吐出手段と、カット部を観察する観察手段と、修正液を加熱して膜を形成させるための加熱手段と、除去手段、吐出手段、観察手段および加熱手段を搭載して表示装置に対して移動させる可動ステージと、待機中の吐出部の乾燥を防止するキャッピング手段とを備えることを特徴とする修正装置。
【請求項２】
修正液は揮発性の溶媒を含み、キャッピング手段は、待機中の吐出部と近接して対向する皿部と、その上部に皿部を配する容器とからなり、待機中の吐出部が皿部と近接して対向したときに、皿部が吐出部の表面との間に表面張力による修正液の溜まりを形成すると共に、容器が皿部から垂れ落ちる修正液を収容し、かつ、吐出部と容器とによって規定される密閉空間を形成することにより、修正液の溜まりを修正液の溶媒雰囲気中に保持し、修正液の乾燥に起因する吐出部の詰まりを防止し良好な吐出状態を維持することを特徴とする請求項１に記載の修正装置。
【請求項３】
除去手段が欠陥部を切り欠くレーザー照射装置からなり、吐出手段の吐出部が修正液を吐出するインクジェットヘッドからなり、観察手段がカット部観察用顕微鏡からなり、加熱手段がヒーターと、修正箇所の温度を測定する温度計と、温度計によって得られたデータに基づいてヒーターの出力を制御するヒーター用制御部とからなることを特徴とする請求項１に記載の修正装置。
【請求項４】
可動ステージは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向にそれぞれ移動可能な第１Ｘ軸ステージ、第１Ｙ軸ステージおよび第１Ｚ軸ステージからなる第１のステージ群によって構成され、インクジェットヘッドとヒーターは第１Ｘ軸ステージに取り付けられ、カット部観察用顕微鏡と温度計は第１Ｙ軸ステージに取り付けられることを特徴とする請求項３に記載の修正装置。
【請求項５】
吐出手段は、インクジェットヘッドに修正液を供給する修正液タンクを備え、修正液タンクが第１Ｘ軸ステージに取り付けられることを特徴とする請求項４に記載の修正装置。
【請求項６】
吐出手段は、待機状態を終えたインクジェットヘッドの吐出状況を確認する吐出確認センサーと、修正液タンク内を加圧する加圧部と、吐出確認センサーによって得られたデータに基づいて加圧部の出力を制御する加圧部用制御部とを更に備えることを特徴とする請求項５に記載の修正装置。
【請求項７】
表示装置とインクジェットヘッドとの距離を計測するための変位センサーを更に備え、変位センサーが第１Ｘ軸ステージに取り付けられることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１つに記載の修正装置。
【請求項８】
第１のステージ群を構成する各ステージよりも可動範囲の大きな第２Ｘ軸ステージ、第２Ｙ軸ステージおよび第２Ｚ軸ステージから構成される第２のステージ群を更に備え、第１のステージ群が第２のステージ群のいずれか１つのステージに取り付けられることを特徴とする請求項４〜７のいずれか１つに記載の修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、修正装置に関し、詳しくは、作製中の表示装置の膜に生じた欠陥部に所定の修正液を塗布して修正するための修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の表示装置の大型化・高精細化が進んでいる。
これに伴って、作製中の表示装置の膜やパターンに欠陥部が発生する確率も高まっている。
【０００３】
従来、電極線等のパターンに生じた欠陥を修正するための装置として、例えば次のような装置が知られている。
基板上に形成されたパターンの修正箇所を検出する手段によって検出して、インクまたはペーストを塗布手段によって前記修正箇所に塗布する機構を備えるパターン修正装置であって、前記塗布手段は、前記針を上下に移動させる針上下動機構と、前記インクまたはペーストを前記塗布手段のしたに直線的に移動させ、かつ直線的に復帰させるインクまたはペースト移動機構とを備えるものであるパターン修正装置（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ところで、液晶表示装置等の表示装置において、画素電極を選択駆動するためのスイッチング素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やＭＩＭ（金属−絶縁膜−金属）が用いられている。
このような表示装置では、開口率を向上させるために、上記スイッチング素子上に層間絶縁膜を形成し、この層間絶縁膜上にゲート配線やソース配線を配する手法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
このような表示装置において、層間絶縁膜は感光性有機材料を塗布し、露光および現像後にポストベークすることによって形成されるが、所定通りの膜厚に形成されていない欠陥部が部分的に生ずることがある。
【０００５】
層間絶縁膜の欠陥部の修正に利用できる可能性をもった従来の装置としては、例えば、次のような装置が挙げられる。
露光用マスク基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するためのパターン修正装置であって、その上に前記基板が設置されて水平方向に移動するテーブルと、前記基板の欠陥部に修正を加えるための修正液を塗布するための針と、前記針を上下方向に移動可能な駆動機構と、前記塗布した修正液を乾燥または固着させるための光源と、前記塗布した修正液を焼成あるいは前記欠陥部を切欠くためのレーザー照射機構とを備えており、前記レーザー照射機構によって前記欠陥部を切欠いた後発生した窪みに対して、前記針で修正液を塗布することを特徴とする、パターン修正装置（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２０００−５５６１５号公報
【特許文献２】特開２０００−２２１４８８号公報
【特許文献３】特開２０００−２８４４６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の従来のパターン修正装置は、いずれも針でペースト、インク、修正液等を塗布することを特徴としているが、この場合、１００μｍ角程度の寸法の欠陥部を修正するには針の先端をそれ以下の寸法に加工する必要があり、針の強度に課題がある。また、針では塗布量を正確に制御することが難しいという課題もある。
また、上述のパターン修正装置の中には、針の代わりにディスペンサーの使用を示唆しているものもあるが、ディスペンサーを用いた場合、待機時を含む非使用時に修正液が固化してしまい、使用できなくなる恐れがある。
【０００７】
この発明は以上のような事情を考慮してなされたものであり、作製中の表示装置の膜に生じた部分的な欠陥部を精度よく修正できる修正装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明は、作製中の表示装置の膜に生じた欠陥部に修正液を塗布して修正するための装置であって、表示装置を保持する固定ステージと、表示装置の欠陥部を除去してカット部を形成するための除去手段と、除去手段により形成されたカット部に修正液を吐出する吐出部を有する吐出手段と、カット部を観察する観察手段と、修正液を加熱して膜を形成させるための加熱手段と、除去手段、吐出手段、観察手段および加熱手段を搭載して表示装置に対して移動させる可動ステージと、待機中の吐出部の乾燥を防止するキャッピング手段とを備えることを特徴とする修正装置を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、修正液は吐出部によって吐出され、前記吐出部は待機中にキャッピング手段によって乾燥が防止されるので、所定量の修正液を正確に吐出できると共に吐出部を常に良好な状態に維持でき、層間絶縁膜等の膜やパターンに部分的に生じた欠陥部を精度よく修正できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
この発明による修正装置は、作製中の表示装置の膜に生じた欠陥部に修正液を塗布して修正するための装置であって、表示装置を保持する固定ステージと、表示装置の欠陥部を除去してカット部を形成するための除去手段と、除去手段により形成されたカット部に修正液を吐出する吐出部を有する吐出手段と、カット部を観察する観察手段と、修正液を加熱して膜を形成させるための加熱手段と、除去手段、吐出手段、観察手段および加熱手段を搭載して表示装置に対して移動させる可動ステージと、待機中の吐出部の乾燥を防止するキャッピング手段とを備えることを特徴とする。
【００１１】
この発明による修正装置において、表示装置とは、作製中に膜の作製を必要とするものを意味し、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置などを挙げることができるが、もちろんこれら以外の表示装置であってもよい。
また、膜とは面状のものに限定されるものではなく、パターン化されたものも含み、例えば、スイッチング素子としてのＴＦＴ上に形成された層間絶縁膜を挙げることができる。
【００１２】
膜の材料としては有機材料、或いは、無機材料のいずれであってもよいが、有機材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）などが挙げられ、無機材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコンなどが挙げられる。
【００１３】
修正液は、膜の材料を溶媒中に溶解したもの、或いは、分散させたものを用いることができる。ここで、溶媒としては、膜の材料との組合せにもよるが、例えば、アセトン、アルコール系、ケトン系、アミン系の有機溶剤や水系の無機溶剤などが挙げられる。
【００１４】
加熱手段による修正液からの膜の形成は、通常、第１段階では使用した溶媒を蒸発除去するに足る温度に加熱し（プリベーク）、第２段階で固化した膜が得られる温度に加熱する（ポストベーク）することによって行われる。前述のポリイミド樹脂の前駆体を溶媒に溶解したものを修正液とする場合、第１段階では約１００℃、第２段階では約３００℃とすることができる。
【００１５】
この発明による修正装置において、修正液は揮発性の溶媒を含み、キャッピング手段は、吐出部と近接して対向する皿部と、皿部によって上部の開口がほぼ塞がれる容器とからなり、待機中の吐出部が皿部と近接して対向したときに、皿部が吐出部の表面との間に表面張力による修正液の溜まりを形成すると共に、容器が皿部から垂れ落ちる修正液を収容し、かつ、吐出部と容器とによって規定される密閉空間を形成することにより、修正液の溜まりを修正液の溶媒雰囲気中に保持し、修正液の乾燥に起因する吐出部の詰まりを防止し良好な吐出状態を維持することが好ましい。
このような構成によれば、吐出部の表面に残留した修正液は、吐出部の表面に近接する皿部によって引き寄せられ、吐出部の表面と皿部との間に表面張力による修正液の溜まりが形成される。皿部は容器の上部開口をほぼ塞ぐように設けられ、容器は吐出部が皿部と近接して対向したときに皿部から垂れ落ちる修正液を収容すると共に吐出部と容器とによって規定される密閉空間を形成するので、形成された修正液の溜まりは、修正液の溶媒雰囲気中に保持されることとなり、乾燥して固化することがない。これによって、待機中の吐出部の表面は常に良好な吐出状態に維持され、必要時に所定量の修正液を正確に吐出できるようになる。
【００１６】
また、この発明による修正装置において、除去手段は欠陥部を切り欠くレーザー照射装置からなり、吐出手段の吐出部は修正液を吐出するインクジェットヘッドからなり、観察手段はカット部観察用顕微鏡からなり、加熱手段はヒーターと、修正箇所の温度を測定する温度計と、温度計によって得られたデータに基づいてヒーターの出力を制御するヒーター用制御部とからなっていてもよい。
特に、吐出部としてインクジェットヘッドを用いることは、作製中の膜に部分的に生じた欠陥部を精度よく修正するというこの発明の目的を達成するうえで特に好ましい態様である。というのは、インクジェットヘッドは従来の針よりも修正液の吐出量の制御が行い易いからである。
また、上記構成において、ヒーターの出力を制御するヒーター用制御部としては、例えば、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、Ｉ／Ｏポートなどからなるマイクロコンピュータで一体的に構成できる。ヒーター用制御部は遠隔操作装置と有線又は無線によって通信可能に構成されていてもよい。
【００１７】
また、吐出部がインクジェットヘッドからなる上記構成の修正装置において、可動ステージは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向にそれぞれ移動可能な第１Ｘ軸ステージ、第１Ｙ軸ステージおよび第１Ｚ軸ステージからなる第１のステージ群によって構成され、インクジェットヘッドとヒーターは第１Ｘ軸ステージに取り付けられ、カット部観察用顕微鏡と温度計は第１Ｙ軸ステージに取り付けられることが好ましい。
このような構成によれば、修正液を吐出するインクジェットヘッドと、吐出された修正液を加熱するヒーターが同一のステージに取り付けられるため、吐出と加熱の両工程を１軸方向の往復移動のみで行うことができ、吐出と加熱にかかる工程時間の短縮を図ることができると共に、修正すべきカット部に対するインクジェットヘッド並びにヒーターの位置精度を高めることができる。
特に、１箇所のカット部に対して修正液の吐出と加熱を複数回繰り返して修正を行う場合には、３つのステージをそれぞれ移動させて同工程を行う場合と比較して工程時間の短縮効果が増大する。
また、吐出と加熱の両工程が行われる間、第１Ｙ軸ステージに取り付けられた温度計は移動しないので、温度測定に要する時間の短縮と測定精度の向上も図られる。
【００１８】
また、上記構成ではカット部観察用顕微鏡と温度計が、インクジェットヘッドとヒーターとは別のステージに取り付けられることにより、吐出と加熱の両工程中にカット部観察用顕微鏡と温度計を修正箇所から移動させずに済み、観測精度と測定精度の向上が図られる。
さらに、カット部観察用顕微鏡および温度計、並びに、インクジェットヘッドおよびヒーターが別々のステージに分散して取り付けられることにより、１つのステージに前記４つの装置を取り付ける場合と比較して、各ステージの可動距離を小さく設定できると共に、各ステージに必要となる剛性を弱く設定できる。
なお、第１のステージ群の駆動は、上述のヒーター用制御部と同様の構成を有する第１ステージ群用制御部によって行われ、また、第１ステージ群用制御部は上述のヒーター用制御部と一体に構成されていてもよい。
【００１９】
また、可動ステージが第１のステージ群から構成される上記構成の修正装置において、吐出手段は、インクジェットヘッドに修正液を供給する修正液タンクを備え、修正液タンクが第１Ｘ軸ステージに取り付けられることが好ましい。
このような構成によれば、インクジェットヘッドと修正液タンクが同一のステージに取り付けられることから、インクジェットヘッドと、インクジェットヘッドへ修正液を供給する修正液タンクとの高低差を常に一定とすることができる。このため、インクジェットヘッドと修正液タンクの高低差に起因する修正液タンク内の修正液に対する加圧状態の変動が抑えられて吐出量の制御が行い易くなり、所定量の修正液を精度よく吐出できるようになる。
また、修正液タンク内の修正液に対する加圧状態の変動が抑えられることから、非使用時のインクジェットヘッドから修正液が無駄、あるいは過剰に漏れ出すことも防止できる。
【００２０】
また、吐出手段が修正液タンクを備える上記構成の修正装置において、吐出手段は、待機状態を終えたインクジェットヘッドの吐出状況を確認する吐出確認センサーと、修正液タンク内を加圧する加圧部と、吐出確認センサーによって得られたデータに基づいて加圧部の出力を制御する加圧部用制御部とを更に備えることが好ましい。
このような構成によれば、待機状態を終えたインクジェットヘッドの吐出状態を、修正すべきカット部へ向かう前に事前に確認することができ、万一、修正液の固化等によって吐出状態が悪化している場合には、加圧部用制御部が加圧部の出力を上げて修正液タンク内の加圧を一時的に強めることにより、インクジェットヘッドの詰まり等を強制的に排除し良好な吐出状態に回復させることができる。
これにより、修正装置の信頼性が高められ、欠陥部を精度よく修正するというこの発明の目的をより確実に達成できるようになる。
なお、加圧部用制御部は上述のヒーター用制御部と同様の構成とすることができ、上述のヒーター用制御部および第１ステージ群用制御部と一体に構成されていてもよい。
【００２１】
また、可動ステージが第１のステージ群から構成される上記構成の修正装置において、修正装置は、表示装置とインクジェットヘッドとの距離を計測するための変位センサーを更に備え、変位センサーは第１Ｘ軸ステージに取り付けられることが好ましい。
このような構成によれば、表示装置とインクジェットヘッドとの距離を計測するための変位センサーがインクジェットヘッドと同一のステージに取り付けられることとなり、両者を別々のステージに取り付ける場合よりも計測精度が向上する。これにより、所定量の修正液を所定の箇所により精度よく吐出できるようになる。
なお、変位センサーから得られたデータは上述の第１ステージ群用制御部へフィードバックされ、第１ステージ群用制御部が所定のステージを移動させて表示装置とインクジェットヘッドとの距離を適切な距離に調節する。
【００２２】
また、可動ステージが第１のステージ群から構成される上記構成の修正装置において、修正装置は、第１のステージ群を構成する各ステージよりも可動範囲の大きな第２Ｘ軸ステージ、第２Ｙ軸ステージおよび第２Ｚ軸ステージから構成される第２のステージ群を更に備え、第１のステージ群が第２のステージ群のいずれか１つのステージに取り付けられることが好ましい。
このような構成によれば、修正作業を行う各種装置を搭載した第１のステージ群が膜の欠陥部の近傍に到達するまでの大まかな移動を第２のステージ群で素早く行い、第１のステージ群が欠陥部の近傍に到達した後、第１のステージ群を構成する各ステージを精密に移動させることにより、修正すべき欠陥部に対して第１のステージ群を高速で移動させつつ、欠陥部と修正作業を行う各種装置との位置精度をより一層向上させることができる。
なお、第２のステージ群の駆動は、第２ステージ群用制御部によって行われる。第２ステージ群用制御部は、上述のヒーター用制御部、加圧部用制御部および第１ステージ群用制御部と一体に構成されていてもよいし、或いは、それらの制御部を関連付けて統合して制御するための統合制御部が別途設けられてもよい。
【００２３】
以下、図面に示す実施例に基づいてこの発明を詳細に説明する。
【実施例】
【００２４】
この発明の実施例による修正装置について、図１〜１１に基づいて説明する。図１は実施例による修正装置の全体構成を示す斜視図、図２は第１のステージ群のみを示す斜視図、図３はキャッピング手段の構成を示す説明図であって、キャッピング手段に相当する部分のみが断面図として示されている。
図４はキャッピング手段の構成部材であってインクジェットヘッドと対向するプレート単体の斜視図、図５は図３の要部拡大図、図６はインクジェットヘッドと修正液タンクとの位置関係を説明する説明図、図７は実施例による修正装置のシステム構成を示すブロック図、図８は実施例による修正装置のシステム構成の変形例を示すブロック図、図９は作製中の表示装置の層間絶縁膜に部分的に生じた欠陥部を示す平面図、図１０は図９のＡ−Ａ矢視断面図、図１１〜１３は欠陥部が修正される工程を概略的に説明する工程図である。
【００２５】
修正装置の構成
図１および図２に示されるように、実施例による修正装置２００は、作製中の表示装置１の膜に生じた欠陥部２に修正液７を塗布して修正するための装置であって、表示装置１を保持する固定ステージ３と、表示装置１の欠陥部２を除去してカット部２ａ（図１１（ｃ）参照）を形成するためのレーザー照射装置（除去手段）４と、レーザー照射装置４により形成されたカット部２ａに修正液７を吐出するインクジェットヘッド（吐出部）３１を有する吐出手段３０と、カット部を観察するカット部観察用顕微鏡（観察手段）３２と、修正液７を加熱して膜を形成させるためのヒーター３３および温度計（加熱手段）３４と、レーザー照射装置４、吐出手段３０、カット部観察用顕微鏡３２、並びに、ヒーター３３および温度計３４を搭載して表示装置１に対して移動させる第１のステージ群１０と、待機中のインクジェットヘッド３１の乾燥を防止するキャッピング手段４０とを備えている。
なお、図２は第１のステージ群１０のみを示す斜視図であり、図１に示されるように、第１のステージ群１０は、固定ステージ３上の全領域をカバーする第２のステージ群２０の第２Ｚ軸ステージ２３に取り付けられている。
【００２６】
図１に示されるように固定ステージ３は、作製中の表示装置１を固定するためのステージであって、予め欠陥部２の位置が検出された表示装置１を保持固定する。
固定ステージ３は、固定ステージ３に対する表示装置１の位置を決めるための位置決めピン３ａと表示装置１を真空吸着しておくための真空吸着孔３ｂを備えている。
また、図１および図２に示されるように、第１のステージ群１０は第１Ｘ軸ステージ１１、第１Ｙ軸ステージ１２および第１Ｚ軸ステージ１３から構成されている。図７又は図８に示されるように、第１のステージ群１０は第１ステージ群用制御部５０によって駆動制御される。
【００２７】
一方、上述の通り、図１に示されるように修正装置２００は、第１のステージ群１０よりも可動範囲が大きく、固定ステージ３の全領域をカバーする第２のステージ群２０を備えている。
第２のステージ群２０は第２Ｘ軸ステージ２１、第２Ｙ軸ステージ２２および第２Ｚ軸ステージ２３から構成され、上記の第１のステージ群１０は、第２のステージ群２０の第２Ｚ軸ステージ２３にベース板６を介して取り付けられている。
また、表示装置１の欠陥部２に対して詳細な位置データを得るための欠陥部観察用顕微鏡５と、欠陥部２を除去してカット部２ａ（図１１（ｃ）参照）を形成するためのレーザー照射装置４も上述の第１のステージ群１０と同様に第２Ｚ軸ステージ２３にベース板６を介して取り付けられている。
【００２８】
なお、図７又は図８に示されるように、欠陥部観察用顕微鏡５は画像処理装置６１と接続され、画像処理装置６１によって認識処理された欠陥部２の詳細な位置データに基づいて第２ステージ群用制御部６０が第２のステージ群２０を精密に移動させるように構成されている。また、レーザー照射装置４はレーザー照射装置用制御部７０によってその作動と出力が制御されるように構成されている。
【００２９】
第２のステージ群２０は、第１のステージ群１０、並びに、欠陥部観察用顕微鏡５およびレーザー照射装置４を表示装置１の欠陥部２近傍まで素早く移動させることを主な目的とするステージ群であり、高速移動が可能である。
【００３０】
図２に示されるように、第１のステージ群１０の第１Ｘ軸ステージ１１には、インクジェットヘッド３１、インクジェットヘッド３１へ修正液７を供給する修正液タンク３５、カット部２ａ（図１１（ｃ）参照）に吐出された修正液７（図１１（ｅ）参照）を乾燥・焼成させるためのヒーター３３、表示装置１とインクジェットヘッド３１との距離を測定するための変位センサー３７が取り付けられている。
なお、図７又は図８に示されるようにヒーター３３はヒーター用制御部８０によってその作動と出力が制御され、ヒーター用制御部８０は温度計３４から得られた測定データに基づいてヒーター３３の出力を調節するように構成されている。
【００３１】
また、図２に示されるように、修正液タンク３５は加圧部９２と減圧部９３（図７又は図８参照）によって任意の加圧状態に調節可能な修正液ボックス３６内に収容され、予め溶媒で薄められた修正液７が修正液タンク３５に収容される。
修正液ボックス３６と加圧部９２および減圧部９３はそれぞれ配管３８によって接続され、修正液タンク３５に収容された修正液７は配管３９を介してインクジェットヘッド３１へ供給される。
【００３２】
一方、図２に示されるように、第１のステージ群１０の第１Ｙ軸ステージ１２には、レーザー照射装置４によって形成されたカット部２ａ（図１１（ｃ）参照）を観察するためのカット部観察用顕微鏡３２および修正箇所の温度を測定するための温度計３４が取り付けられている。
なお、図７又は図８に示されるようにカット部観察用顕微鏡３２は画像処理装置５１と接続され、画像処理装置５１によって処理されたカット部２ａの詳細な位置データに基づいて上述の第１ステージ群用制御部５０が第１のステージ群１０を精密に移動させるように構成されている。また、第１ステージ群用制御部５０は、上述の変位センサー３７とも接続され、変位センサー３７から得られたデータによっても第１のステージ群１０の第１Ｚ軸ステージ１３を精密に上下移動させるように構成されている。
【００３３】
図２に示されるように、第１のステージ群１０は、第１Ｚ軸ステージ１３のレールを支持する背板１４を介してベース板６に取り付けられ、背板１４の下縁からは底板１５が延び、この底板１５の上に待機中のインクジェットヘッド３１の乾燥を防止するためのキャッピング手段４０、および待機状態を終えたインクジェットヘッド３１の吐出状態を事前に確認するための吐出確認センサー９１が設けられている。
図７又は図８に示されるように吐出確認センサー９１は加圧部用制御部９０と接続され、加圧部用制御部９０は吐出確認センサー９１から得られたデータに基づいて上述の加圧部９２および減圧部９３を制御し、修正液ボックス（図２参照）３６内の加圧状態を調節する。
【００３４】
図３に示されるように、キャッピング手段４０は、待機中のインクジェットヘッド３１と近接して対向するプレート（皿部）４２、並びに、キャッピングボックス４１および廃液タンク４３（容器）とから主に構成されている。
プレート４２は、キャッピングボックス４１の上部開口をほぼ塞ぐように設けられ、キャッピングボックス４１と廃液タンク４３は連通孔４１ａ，４３ａによって連通している。
キャッピングボックス４１の上端面の周囲には弾性のシール材４４が設けられると共に、キャッピングボックス４１の底部の連通孔４１ａと廃液タンク４３の上部の連通孔４３ａとの間にはシール材４５が設けられ連通孔４１ａと連通孔４３ａとの間を密接にシールしている。
一方、インクジェットヘッド３１は、ヘッド本体３１ａとノズル部３１ｂとから構成され、ノズル部３１ｂの端面は、実際に修正液を吐出するノズル面３１ｃと、ノズル面３１ｃを取り囲むノズル面周辺部３１ｄとから構成されている。
【００３５】
図３および図４に示されるように、キャッピングボックス４１内にはＬ字形の断面を有するプレート４２が取り付けられ、プレート４２は、キャッピングボックス４１内に取り付けられた際にインクジェットヘッド３１のノズル部３１ｂと対向する水平面４２ａの４隅に突起４２ｂが形成されている。
【００３６】
このような構成からなるキャッピング手段４０にインクジェットヘッド３１を降下させると、図３に示されるように、キャッピングボックス４１の上端面に設けられた弾性のシール材４４がノズル面周辺部３１ｄに当接し、ノズル面３１ｃはキャッピングボックス４１の上端側開口を密閉する。
これにより、ノズル面３１ｃ、キャッピングボックス４１および廃液タンク４３によって規定された密閉空間が形成される。
【００３７】
この際、図５に示されるように、キャッピングボックス４１の上端面に設けられたシール材４４と同様に、プレート４２の水平面４２ａの両縁に形成された突起４２ｂがノズル面周辺部３１ｄに当接する。
これにより、ノズル面３１ｃとプレート４２の水平面４２ａが近接した状態で対向し、かつ、プレート４２の水平面４２ａとノズル面３１ｃとの間には所定の微細な間隔をもった隙間が形成される。
修正液７を吐出した後のノズル面３１ｃにはある程度の修正液７が残留しているか、あるいは修正液７が僅かに滲み出ているので、修正液７はプレートの水平面４２ａに引き付けられ、プレート４２の水平面４２ａとノズル面３１ｃとの間には表面張力による修正液７の溜まり７ａが形成される。
【００３８】
また、図３に示されるように、溜まり７ａ（図５参照）から溢れた修正液７はプレート４２の突起４２ｂが形成されていない水平面４２ａ（図４参照）の縁から垂れ落ち、連通孔４１ａ，４３ａを介して廃液タンク４３に収容される。
この結果、プレート４２の水平面４２ａとノズル面３１ｃとの間に形成された修正液７の溜まり７ａ（図５参照）は高い濃度の修正液７の溶媒雰囲気中に保持され、乾燥や固化から保護されることによりノズル面３１ｃの詰まりが防止される。
【００３９】
また、図２に示されるように、インクジェットヘッド３１と修正液タンク３５は同じ第１Ｘ軸ステージ１１に取り付けられているので、図６に示されるように、インクジェットヘッド３１と修正液タンク３５との高低差Ｈは常に一定である。このため、加圧部９２や減圧部９３（図７又は図８参照）が作動しない限り、修正液タンク３５内の修正液７に加わる圧力は常に一定であり、待機中のインクジェットヘッド３１のノズル面３１ｃから修正液７が過剰に漏れ出すことが防止される。
また、前述の高低差Ｈが常に一定に保たれることから、加圧部９２や減圧部９３による修正液ボックス３６内の加圧制御が行い易くなっている。
【００４０】
この実施例による修正装置２００のシステムをブロック図で表すと図７又は図８のような構成となる。
すなわち、図７に示されるように、第１ステージ群用制御部５０、第２ステージ群用制御部６０、レーザー照射装置用制御部７０、ヒーター用制御部８０および加圧部用制御部９０は、互いに関連して動作するように１つの制御部１００として構成されてもよいし、若しくは、図８に示すように各制御部５０，６０，７０，８０，９０を関連付けて制御する統合制御部１１０によって総合的に制御されるように構成されてもよい。
【００４１】
修正装置の動作
以下、上述の構成からなる修正装置２００の動作について図１１〜１３の工程図に基づいて説明するが、各部の動作については主に前出の図１および図２を、制御関連については前出の図７又は図８を適宜参照されたい。
【００４２】
まず、修正装置の動作の説明に先立ち、修正対象となる表示装置１の構成について簡単に説明する。
この実施例において修正対象となる表示装置１は作製中の液晶表示装置であって、図９および図１０に示されるように、ガラス基板１２０上にＴＦＴ１２１、パッシベーション膜１２２、有機材料である熱硬化性樹脂を焼成してなる層間絶縁膜１２３が順に形成され、層間絶縁膜１２３の一部にＴＦＴ１２１のドレイン電極へ通ずるコンタクトホール１２３ａが形成され、層間絶縁膜１２３の一部に膜厚の不均一な欠陥部２を有するものである。
【００４３】
まず、この欠陥部２を有する作製中の表示装置１を固定ステージ３上に位置決めして固定する。なお、表示装置１における欠陥部２の位置は、固定ステージ３に固定する前に予め検出されている。
次に、予め検出されている欠陥部２の位置情報に基づいて第２ステージ群用制御部６０は、修正すべき欠陥部２が欠陥部観察用顕微鏡５の観察領域内に入るように第２のステージ群２０を駆動する。
次に、第２ステージ群用制御部６０は、欠陥部２が欠陥部観察用顕微鏡５の観察領域内の中心に位置し、かつ、ピントが合うように第２のステージ群２０を微動させる（図１１（ａ）参照）。
この際、欠陥部観察用顕微鏡５に接続されている画像処理装置６１が欠陥部２の正確な位置情報を認識処理し、得られた位置データを第２ステージ群用制御部６０へ送る。
【００４４】
次に、第２ステージ群用制御部６０は、欠陥部２の正確な位置情報に基づいてレーザー照射装置４が欠陥部２の中心に位置し、かつ、レーザー照射装置４が欠陥部２から適切な高さとなるように第２のステージ群２０を微動させる（図１１（ｂ）参照）。
次に、レーザー照射装置用制御部７０は、欠陥部２に向けてレーザーが照射されるようにレーザー照射装置４を作動させる。この際、レーザーが照射された欠陥部２はおよそ１００μｍ角、深さ数μｍにわたって（パッシベーション膜が露出する程度まで）切り欠かれ、修正すべきカット部２ａが形成される（図１１（ｃ）参照）。
【００４５】
次に、第２ステージ群用制御部６０は、先の工程で形成されたカット部２ａがカット部観察用顕微鏡３２の観察領域内に入るように、先に得ていた欠陥部２の位置情報に基づいて第２のステージ群２０を微動させる。
次に、カット部観察用顕微鏡３２に接続されている画像処理装置５１がカット部２ａの正確な位置情報を認識処理し、得られた位置データを第１ステージ群用制御部５０へ送る。
次に、第１ステージ群用制御部５０は、カット部２ａがカット部観察用顕微鏡３２の観察領域内の中心に位置し、かつ、ピントが合うように第１のステージ群１０を精密に微動させる（図１２（ｄ）参照）。
これにより、修正すべきカット部２ａの正確な位置情報が第１ステージ群用制御部５０に取り込まれ、以後の工程における位置情報の基準される。
【００４６】
次に、第１ステージ群用制御部５０は、第１のステージ群１０の第１Ｚ軸ステージ１３を若干上昇させる。これにより、キャッピングボックス４１からインクジェットヘッド３１が離れ上昇することとなる。
次に、加圧部用制御部９０は加圧部９２を作動させて修正液ボックス３６内の圧力を高め修正液タンク３５内の修正液７に圧力を加える。この際、インクジェットヘッド３１のノズル面３１ｃの吐出状態が良好であれば、ノズル面３１ｃから修正液７が吐出され吐出確認センサー９１によって修正液７の吐出が確認される。
吐出確認センサー９１は、修正液７の吐出を確認するとそのデータを加圧部用制御部９０に送り、加圧部用制御部９０は、減圧部９３を作動させて修正液ボックス３６内の圧力を通常の圧力に戻す。
【００４７】
仮に、ノズル面３１ｃに固化した修正液７が詰まっており、吐出が確認されなかった場合や吐出が不十分であった場合には、吐出確認センサー９１はそのデータを加圧部用制御部９０へ送り、加圧部用制御部９０は修正液ボックス３６内の圧力を更に高めるべく加圧部９２を作動させる。これにより、ノズル面３１ｃの詰まりが強制的に排除され、ノズル面３１ｃの吐出状態は正常な状態に回復する。
吐出確認センサー９１は、回復したノズル面３１ｃから正常な吐出が確認されると、そのデータを加圧部用制御部９０へ送り、加圧部用制御部９０は減圧部９３を作動させて修正液ボックス３６内の圧力を通常の圧力に戻す。
【００４８】
次に、第１ステージ群用制御部５０は、インクジェットヘッド３１がカット部２ａに修正液７を吐出するうえで最適な位置となり、かつ、温度計３４がカット部２ａ近傍の温度を測定するうえで最適な位置となるように、先に得ていたカット部２ａの正確な位置情報に基づいて第１のステージ群１０の各ステージ１１，１２，１３を精密に移動させる。
次に、加圧部用制御部９０は加圧部９２を作動させて修正液ボックス３６内の圧力を高め、インクジェットヘッド３１から所定量の修正液７を吐出させる。ここで、修正液７の量は、カット部２ａを埋めるのに必要な量の１／５程度の量とする（図１２（ｅ）参照）。
というのは、修正液７は後の乾燥工程によって溶媒が蒸発し、乾燥後の体積が液状時の体積よりも減ずるため、カット部２ａを埋めるのに必要な量の修正液７を一度に吐出すると、修正液７がカット部２ａから溢れ出てしまい、表示装置１上の不要な部分で固化してしまうためである。
【００４９】
次に、第１ステージ群用制御部５０は、ヒーター３３がカット部２ａに吐出された修正液７を乾燥させるうえで最適な位置となるように第１Ｘ軸ステージ１１を移動させる。
次に、ヒーター用制御部８０は第１Ｙ軸ステージ１２に取り付けられた温度計３４からのデータによってヒーター３３の出力を調整しつつヒーター３４を作動させ、カット部２ａに吐出された修正液７を５０〜１５０℃程度で乾燥させる（図１２（ｆ）参照）。
その後、第１ステージ群用制御部５０は、修正液７の吐出と乾燥の繰り返しによってカット部２ａが乾燥した修正液７で埋められるまで、第１Ｘ軸ステージ１１のみを５回程度往復させる。
【００５０】
次に、第１ステージ群用制御部５０は、ヒーター３３が乾燥した修正液７を焼成するうえで最適な位置となるように第１Ｘ軸ステージ１１を移動させる。
次に、ヒーター用制御部８０は第１Ｙ軸ステージ１２に取り付けられた温度計３３からのデータによってヒーター３３の出力を調整しつつ、カット部２ａ内の乾燥した修正液７を１００〜３００℃程度で焼成しカット部２ａを埋める膜とする（図１３（ｇ）参照）。
ここで留意されたいのは、修正液７の吐出と乾燥の繰り返しが第１Ｘ軸ステージ１１の往復移動のみでなされる点と、その間、第１Ｙ軸ステージ１２に取り付けられた温度計３４は移動しない点である。
これにより、複数のステージを移動させて吐出と乾燥の両工程を行う場合と比較して、これら両工程にかかる時間が大幅に短縮され、かつ、カット部２ａに対するインクジェットヘッド３１およびヒーター３３の位置精度が向上する。また、温度計３４が移動しないことにより、計測時間の短縮と計測精度の向上が図られる。
【００５１】
その後、第１ステージ群用制御部５０は、カット部観察用顕微鏡３２が修正後のカット部２ａを観察するうえで最適な位置となるように第１Ｙ軸ステージ１２を移動させて焼成状態を確認した後（図１３（ｈ）参照）、第１のステージ群１０の各ステージ１１，１２，１３を初期位置に戻す（図２参照）。初期位置に戻った待機中のインクジェットヘッド３１のノズル面３１ｃは、上述の通り、キャッピング手段４０により乾燥から保護され、常に良好な吐出状態に維持される。
もし、表示装置１に修正すべき他の欠陥部２があれば、以上の動作と工程が繰り返される。
欠陥部２の修正が完了した表示装置１は固定ステージ３から取り外され、一連の修正作業が完了する。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】実施例による修正装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】第１のステージ群のみを示す斜視図である。
【図３】キャッピング手段の構成を示す説明図であって、キャッピング手段に相当する部分のみが断面図として示されている。
【図４】キャッピング手段の構成部材であってインクジェットヘッドと対向するプレート単体の斜視図である。
【図５】図３の要部拡大図である。
【図６】インクジェットヘッドと修正液タンクとの位置関係を説明する説明図である。
【図７】実施例による修正装置のシステム構成を示すブロック図である。
【図８】実施例による修正装置のシステム構成の変形例を示すブロック図である。
【図９】作製中の表示装置の層間絶縁膜に部分的に生じた欠陥部を示す平面図である。
【図１０】図９のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図１１】実施例による修正装置によって欠陥部が修正される工程を概略的に説明する工程図である。
【図１２】実施例による修正装置によって欠陥部が修正される工程を概略的に説明する工程図である。
【図１３】実施例による修正装置によって欠陥部が修正される工程を概略的に説明する工程図である。
【符号の説明】
【００５３】
１・・・表示装置
２・・・欠陥部
２ａ・・・カット部
３・・・固定ステージ
３ａ・・・位置決めピン
３ｂ・・・真空吸着孔
４・・・レーザー照射装置
５・・・欠陥部観察用顕微鏡
６・・・ベース板
７・・・修正液
７ａ・・・修正液の溜まり
１０・・・第１のステージ群
１１・・・第１Ｘ軸ステージ
１２・・・第１Ｙ軸ステージ
１３・・・第１Ｚ軸ステージ
１４・・・背板
１５・・・底板
２０・・・第２のステージ群
２１・・・第２Ｘ軸ステージ
２２・・・第２Ｙ軸ステージ
２３・・・第２Ｚ軸ステージ
３０・・・吐出手段
３１・・・インクジェットヘッド
３１ａ・・・ヘッド本体
３１ｂ・・・ノズル部
３１ｃ・・・ノズル面
３１ｄ・・・ノズル面周辺部
３２・・・カット部観察用顕微鏡
３３・・・ヒーター
３４・・・温度計
３５・・・修正液タンク
３６・・・修正液ボックス
３７・・・変位センサー
３８，３９・・・配管
４０・・・キャッピング手段
４１・・・キャッピングボックス
４１ａ，４３ａ・・・連通孔
４２・・・プレート
４２ａ・・・水平面
４２ｂ・・・突起
４３・・・廃液タンク
４４，４５・・・シール材
５０・・・第１ステージ群用制御部
５１，６１・・・画像処理装置
６０・・・第２ステージ群用制御部
７０・・・レーザー照射装置用制御部
８０・・・ヒーター用制御部
９０・・・加圧部用制御部
９１・・・吐出確認センサー
９２・・・加圧部
９３・・・減圧部
１００・・・制御部
１１０・・・統合用制御部
１２０・・・ガラス基板
１２１・・・ＴＦＴ
１２２・・・パッシベーション膜
１２３・・・層間絶縁膜
１２３ａ・・・コンタクトホール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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