(57)【要約】【課題】  欠陥が少なく、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する位相差板を提供することである。【解決手段】  少なくとも一種の液晶性化合物、及び下記一般式（Ｉ）又は下記一般式（II）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有する液晶組成物から形成された光学異方性層を有する位相差板である。式中、ＸはＣＲ1、窒素原子、燐原子及びＰ＝Ｏから選ばれる３価の基を；Ｒ1は水素原子又は所定の置換基を；Ｙ1〜Ｙ3はそれぞれ水素原子又は所定の置換基を表すが、少なくとも二つは置換もしくは無置換のアリール基である。式（II）中、Ｍ1及びＭ2はそれぞれ、ＣＲ2、窒素原子及び燐原子から選ばれる３価の基を；Ｒ2は水素原子又は所定の置換基を；Ｌ1〜Ｌ3はそれぞれ所定の２価の連結基を表すが、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3から選ばれる二つは連結していてもよい。【化１】2006098592.tif 000036【化２】2006098592.tif 000037【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体と、少なくとも一種の液晶性化合物、及び下記一般式（Ｉ）又は下記一般式（II）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有する液晶組成物から形成された光学異方性層とを有する位相差板：
【化１】
2006098592.tif 000034
一般式（Ｉ）中、Ｘは、ＣＲ1、窒素原子、燐原子及びＰ＝Ｏから選ばれる３価の基を表し、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロ環基、アミド基、アルコキシ基、アシル基、ウレイド基、ウレタン基又はカルボキシル基を表し、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基及びヘテロ環基から選ばれる置換基を表すが、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3から選ばれる少なくとも二つは置換もしくは無置換のアリール基であり、また、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3から選ばれる二つが連結していてもよい：
【化２】
2006098592.tif 000035
一般式（II）中、Ｍ1及びＭ2はそれぞれ独立に、ＣＲ2、窒素原子及び燐原子から選ばれる３価の基を表し、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、水酸基、アミノ基、アミド基、アシル基、ウレイド基、ウレタン基又はカルボキシル基を表し、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ2−、置換もしくは無置換の、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環連結基、及びこれらの組合せからなる２価の基から選ばれる２価の連結基を表し、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3から選ばれる二つは連結していてもよい。
【請求項２】
上記一般式（Ｉ）中、ＸがＣＲ1を表し、Ｒ1が水素原子、ヒドロキシ基又は置換もしくは無置換のアルコキシ基を表し、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3がそれぞれ独立して、置換もしくは無置換のフェニル基を表す請求項１に記載の位相差板。
【請求項３】
上記一般式（II）中、Ｍ1及びＭ2がそれぞれＣＨを表し、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3がそれぞれ独立に置換もしくは無置換のｏ−フェニレン基を表す請求項１又は２に記載の位相差板。
【請求項４】
上記一般式（Ｉ）及び上記一般式（II）で表される化合物が重合性基を有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の位相差板。
【請求項５】
上記の光学異方性層に用いられる液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の位相差板。
【請求項６】
上記の光学異方性層に用いられる液晶性化合物がディスコティック液晶性化合物であり、該ディスコティック液晶性化合物が透明支持体に対して略垂直に配向している請求項１〜５のいずれか１項に記載の位相差板。
【請求項７】
液晶セルと、請求項１〜６のいずれか１項に記載の位相差板とを有する画像表示装置。
【請求項８】
前記液晶セルが、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードである請求項７に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶組成物、及び、それからなる光学異方性層を有する位相差板に関し、特にディスコティック液晶性化合物と、その配向性を改良する化合物が含有された液晶組成物、及び該組成物からなる光学異方性層を有する位相差板に関する。また、本発明は、前記位相差板を用いた画像表示装置にも関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光素子及び位相差板からなる。透過型液晶表示装置では、通常、二枚の偏光素子を液晶セルの両側に配置し、一枚又は二枚の位相差板を液晶セルと偏光素子との間に配置する。反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚の位相差板、そして一枚の偏光素子の順に配置する。液晶セルは、通常、棒状液晶性分子層、それを封入するための二枚の基板、棒状液晶性分子に電圧を加えるための電極層、及び棒状液晶性分子の配向を制御する配向膜層からなる。液晶セルは、棒状液晶性分子の配向状態の違いで、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  ＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、反射型については、ＴＮ、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）のような様々な表示モードが提案されている。
【０００３】
位相差板は、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。位相差板としては、延伸複屈折ポリマーフイルムが従来から使用されている。延伸複屈折フイルムからなる位相差板に代えて、透明支持体上に液晶性分子から形成された光学的異方性層を有する位相差板を使用することが提案されている。液晶性分子には多様な配向形態があるため、液晶性分子を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフイルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。
【０００４】
位相差板の光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定する。液晶性分子を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する位相差板を製造することができる。液晶性分子としては、一般に、棒状液晶性分子又はディスコティック液晶性分子が用いられている。液晶性分子を用いた位相差板では、様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。例えば、ＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特許文献１〜４の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモード又はＦＬＣモードの液晶セル用位相差板は、特許文献５及び６に記載がある。さらに、ＯＣＢモード又はＨＡＮモードの液晶セル用位相差板は、特許文献７及び８の各明細書に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特許文献９に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板は、特許文献１０に記載がある。
【０００５】
位相差板の作製においては、ディスコティック液晶性分子の配向温度よりも高い温度で加熱してディスコティック液晶性分子を配向させる処理（配向処理）を実施する。ところが、配向処理の加熱温度において、透明支持体が変形する場合がある。例えば、透明支持体としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルムを用いる場合、トリアセチルセルロースの軟化点は、約１３０℃であるが、ディスコティック液晶性分子には、配向温度が１３０℃よりも高い化合物が多く含まれている。特許文献１１には、ディスコティック液晶性分子に有機化合物を添加することにより、ディスコティック液晶性分子の配向温度を低下させる方法が開示されている。同公報には、配向温度を低下させる機能を有する有機化合物（以下、配向温度低下剤と称す）として、他官能モノマー等の化合物が記載されている。しかしながら、そこに記載されている化合物を添加すると、配向温度は低下するがディスコティック液晶組成物の固有複屈折率が低下し、光学異方性層の面内レターデーションも低下するという問題があった。
【０００６】
前記の問題を解決するために、特許文献１２には、ディスコティック液晶性分子の構造と同様に、アリール基の平面性が高い分子を添加することで面内レターデーションの低下を抑え、且つ、配向温度を低下させる化合物が記載されている。しかし、ここに記載されている化合物を添加された液晶組成物は、液晶性化合物と構造が類似していることから概して粘度が高く、配向温度は低下するものの長い配向時間が必要であったり、同一の配向時間では配向欠陥が多いということがわかってきた。このような事から、面内のレターデーションを下げず、且つ、配向欠陥もない配向温度低下剤が望まれていた。
【０００７】
【特許文献１】特開平６−２１４１１６号公報
【特許文献２】米国特許５５８３６７９号
【特許文献３】米国特許５６４６７０３号
【特許文献４】ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号
【特許文献５】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献６】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献７】米国特許第５８０５２５３号明細書
【特許文献８】国際特許出願公開第９６／３７８０４号パンフレット
【特許文献９】特開平９−２６５７２号公報
【特許文献１０】特許第２８６６３７２号公報
【特許文献１１】特開平９−１０４８６６号公報
【特許文献１２】特開２００１−８１４６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、光学異方性層に用いられる液晶性化合物の固有複屈折率を低下させない配向温度制御剤を提供することであり、且つ、欠陥が少なく、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する位相差板、更にそれを用いた液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は以下の手段によって達成された。
（１）  透明支持体と、少なくとも一種の液晶性化合物、及び下記一般式（Ｉ）又は下記一般式（II）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有する液晶組成物から形成された光学異方性層とを有する位相差板：
【００１０】
【化１】
2006098592.tif 000002
一般式（Ｉ）中、Ｘは、ＣＲ1、窒素原子、燐原子及びＰ＝Ｏから選ばれる３価の基を表し、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アミド基、アルコキシ基、アシル基、ウレイド基、ウレタン基又はカルボキシル基を表し、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基及びヘテロ環基から選ばれる置換基を表すが、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3から選ばれる少なくとも二つは置換もしくは無置換のアリール基であり、また、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3から選ばれる二つが連結していてもよい：
【００１１】
【化２】
2006098592.tif 000003
一般式（II）中、Ｍ1及びＭ2はそれぞれ独立に、ＣＲ2、窒素原子及び燐原子から選ばれる３価の基を表し、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、水酸基、アミノ基、アミド基、アシル基、ウレイド基、ウレタン基又はカルボキシル基を表し、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ2−、置換もしくは無置換の、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環連結基、及びこれらの組合せからなる２価の基から選ばれる２価の連結基を表し、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3から選ばれる二つは連結していてもよい。
【００１２】
（２）  上記一般式（Ｉ）中、ＸがＣＲ1を表し、Ｒ1が水素原子、ヒドロキシ基又は置換もしくは無置換のアルコキシ基を表し、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3がそれぞれ独立して、置換もしくは無置換のフェニル基を表す（１）の位相差板。
（３）  上記一般式（II）中、Ｍ1及びＭ2がそれぞれＣＨを表し、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3がそれぞれ独立に置換もしくは無置換のｏ−フェニレン基を表す（１）又は（２）の位相差板。
（４）  上記一般式（Ｉ）及び上記一般式（II）で表される化合物が重合性基を有する（１）〜（３）のいずれかの位相差板。
（５）  上記の光学異方性層に用いられる液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である（１）〜（４）のいずれかの位相差板。
（６）  上記の光学異方性層に用いられる液晶性化合物がディスコティック液晶性化合物であり、該ディスコティック液晶性化合物が透明支持体に対して略垂直に配向している（１）〜（５）のいずれかの位相差板。
（７）  液晶セルと、（１）〜（６）のいずれかの位相差板とを有する画像表示装置。
（８）  前記液晶セルが、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードである（７）の画像表示装置。
【００１３】
なお、本明細書において、「略垂直」及び「略直交」は、正確に９０°である態様以外にも、９０±１０°である態様も含む意味である。また、本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５８９ｎｍの光をフイルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長５８９ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、特定の配向温度低下剤を用いることによって、従来は困難であったディスコティック液晶性分子の面内レターデーション低下抑制と配向欠陥の減少を両立した光学異方性層を形成する事ができ、光学特性、面状に優れた位相差板を提供し、且つ、画像表示装置の表示特性の向上に寄与する。
【発明の実施の形態】
【００１５】
以下において、本願発明の内容について詳細に報告する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００１６】
本発明は、透明支持体と、後述する一般式（１）又は（２）で表される化合物の少なくとも１種を含有する液晶組成物からなる光学異方性層とを有する位相差板に関する。本発明の位相差板の好ましい態様は下記のとおりである。
１）配向膜が、ポリビニルアルコールから形成されている。
２）光学異方性層が、ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基をもつ液晶性化合物と、一般式（１）又は（２）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する液晶組成物から形成されている。
３）光学異方性層が、ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基を持つディスコティック液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成されている。
【００１７】
以下に、本発明の位相差板の実施の形態を詳細に説明する。
本発明の位相差板の一実施形態は、支持体上に、少なくとも１種の重合体を主成分とした配向膜と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層を有する。図１は、本発明の位相差板の一実施形態の側面模式図である。図１に示す位相差板（０５）は、透明支持体（０１）上に、ポリマーからなる配向膜（０２）及び光学異方性層（０３）を有する。配向膜（０２）は、プラスチックフイルム等の透明支持体（０１）の表面に、塗布又は蒸着等によって形成することができる。配向膜（０２）の表面をラビングした後、液晶性化合物（０４）を含有する組成物（塗布液）をラビング処理面に塗布すると、液晶性化合物の分子はラビング方向によって配向制御され、所望の配向角度に配向する。その後、その配向状態に液晶性分子を固定して、光学異方性層（０３）を形成し、位相差板（０５）が得られる。
【００１８】
１．光学異方性層
本発明において、光学異方性層は、液晶性化合物、好ましくはディスコティック液晶性化合物、後述する一般式（１）又は（２）で表される化合物（以下、「配向温度低下剤」という場合がある）、及び所望により重合性開始剤や他の添加剤を含む液晶組成物から形成される。前記液晶組成物は、塗布液として調製してもよく、例えば、支持体表面または所望により支持体上に形成された配向膜表面に該塗布液を塗布し、液晶性化合物を配向、固定化することで形成することができる。液晶性化合物を配向及び固定化した後は、支持体を剥離してもよい。
（１）  光学異方性層の形成方法
本発明の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物を可溶できる溶媒に溶解して調製した塗布液を、上記の様に支持体上に形成され、且つ、配向性が付与された本発明の配向膜上に塗布することによって作製することができる。また、可能であれば蒸着により形成してもよいが、塗布により形成するのが好ましい。塗布方法としてはカーテンコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、印刷コーティング、スプレーコーティング、スロットコーティング、ロールコーティング、スライドコーテティング、ブレードコーティング、グラビアコーティング、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。次いで、２５℃〜１３０℃において用いた溶媒を乾燥すると同時に、液晶性化合物を配向させ、更に、所望により紫外線照射等によって固定化することによって、液晶性化合物による光学異方性層が形成される。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。このようにして形成された光学異方性層の厚さは、用途に応じて、例えば、最適なレターデーションの値に応じて、その好ましい範囲も異なるが、一般的には、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。
【００１９】
（２）光学異方性層に用いられる材料
本発明の光学異方性層に用いられる材料は、本発明の液晶配向温度低下剤、液晶性化合物、及び、重合開始剤、配向制御剤等の添加物からなる液晶組成物と、それを塗布するために溶解する溶媒からなる。以下に各材料の詳細について記載する。
【００２０】
（２）−１．配向温度低下剤
本発明では、光学異方性層の形成に用いる液晶組成物中に配向温度低下剤を含有させる。本発明では、配向温度低下剤は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び、一般式（II）で表される化合物群から選ばれる。以下にそれぞれの一般式で表される化合物について順次説明する。
【００２１】
【化３】
2006098592.tif 000004
【００２２】
一般式（Ｉ）中、Ｘは、ＣＲ1、窒素原子、燐原子及びＰ＝Ｏから選ばれる３価の基を表し、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アミド基、アルコキシ基、アシル基、ウレイド基、ウレタン基又はカルボキシル基を表し、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基及びヘテロ環基から選ばれる置換基を表すが、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3から選ばれる少なくとも二つは置換もしくは無置換のアリール基であり、また、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3から選ばれる二つが連結していてもよい。
【００２３】
一般式（Ｉ）中、ＸはＣＲ1を表すのが好ましい。Ｒ1で表される脂肪族炭化水素基の例には、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基等）が含まれる。Ｒ1で表されるアリール基の例には、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のフェニル基、及びナフチル基が含まれる。Ｒ1で表されるヘテロ環基の例には、ピリジル基、イミダゾリル基及びフリル基が含まれる。Ｒ1で表されるアルコキシ基の例には、アルコキシ基に含まれるアルキル基部分の炭素数が１〜１０の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基等）が含まれる。前記脂肪族基、アリール基、アルコキシ基の置換基の例には、ヒドロキシ基、重合性基であるアクリロイル基、メタクリロイル基等が挙げられる。また、これらの基に直接又は連結基を介して、一般式（１）で表される化合物から水素原子を一除いて得られる残基が置換していてもよい。
Ｒ1は、水素原子、水酸基、又は置換もしくは無置換のアルコキシ基であるのが好ましい。
【００２４】
一般式（Ｉ）中、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3で表される、脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の直鎖もしくは環状アルキル基（例えば、メチル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ヒドロキシエチル基、メトキシエトキシエチル基等）が挙げられ、アリール基としては、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のフェニル基（無置換フェニル基、ｐ−トリル基、クロロフェニル基、ｐ−シアノフェニル基等）、置換もしくは無置換のナフチル基（例えば、無置換フェニル基等）が挙げられ、ヘテロ環基としては、置換もしくは無置換のピリジル基、ピリミジル基、ピペラジル基、キノリル基、イミダゾリル基、フリル基、チオフリル基等が挙げられる。これらの基の置換基としては、水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基、��ルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）3）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）3）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。また、これらの置換基は、可能であるならば置換基同士、または置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよい。
【００２５】
一般式（Ｉ）中、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3から選ばれる少なくとも二つは上記のアリール基であるが、３つともアリール基であるのがより好ましい。
【００２６】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例挙げるが、本発明は、以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【００２７】
【化４】
2006098592.tif 000005
【００２８】
【化５】
2006098592.tif 000006
【００２９】
一般式（II）中、Ｍ1及びＭ2はそれぞれ独立に、ＣＲ2、窒素原子及び燐原子から選ばれる３価の基を表し、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、水酸基、アミノ基、アミド基、アシル基、ウレイド基、ウレタン基又はカルボキシル基を表し、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ2−、置換もしくは無置換の、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環連結基、及びこれらの組合せからなる２価の基から選ばれる２価の連結基を表し、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3から選ばれる二つは連結していてもよい。
【００３０】
一般式（II）中、Ｍ1及びＭ2はそれぞれＣＲ2を表すのが好ましい。Ｒ2で表される脂肪族炭化水素基の例には、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基等）が含まれる。Ｒ2で表されるアリール基の例には、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル基等が含まれる。
Ｒ2として好ましくは水素原子である。
【００３１】
一般式（II）中、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3でそれぞれ表されるアルキレン基としては、置換もしくは無置換の鎖状もしくは環状のアルキレン基を表し、例えば、メチレン基、エチレン基、１，２−プロピレン基、１，２−シクロへキシレン基等が挙げられ、アリーレン基としては、置換もしくは無置換のフェニレン基（例えば、ｏ−フェニレン基等）、置換もしくは無置換のナフチレン基等が挙げられ、ヘテロ環連結基としては、ピリジン連結基等が挙げられる。これらの基の置換基の例には、後述する重合性基の例が含まれる。
【００３２】
一般式（II）中、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3で表される２価の連結基の好ましい例を以下に示す。尚、図中の・で示された部位がＭ1及びＭ2と連結する部位を表す。
【００３３】
【化６】
2006098592.tif 000007
【００３４】
一般式（II）中、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3はそれぞれ、置換もしくは無置換の、アルキレン基又はアリーレン基を表すのが好ましく、置換もしくは無置換のｏ−フェニレン基であるのがより好ましい。
【００３５】
以下に、上記一般式（II）表される化合物の具体例挙げるが、本発明は、以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【００３６】
【化７】
2006098592.tif 000008
【００３７】
また、上記一般式（Ｉ）、及び、一般式（II）で表される化合物に、重合性基が置換している事が好ましい。重合性基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、エポキシ基、及び、オキセタニル基等が好ましく、特にアクリロイル基、もしくはメタクリロイル基が好ましい。
【００３８】
上記一般式（Ｉ）又は一般式（II）で表される化合物は容易に入手可能な化合物、もしくは、容易に合成可能な化合物である。
【００３９】
本発明に用いられる配向温度低下剤の液晶性化合物に対する好ましい割合は、０．０１質量％以上４０質量％以下、より好ましくは０．０５質量％以上３０質量％以下、特に好ましくは０．０５質量％以上２０質量％以下である。
【００４０】
（２）−２．液晶性化合物
本発明の位相差板に用いられる光学異方性層中の液晶性化合物は、棒状液晶性化合物、ディスコティック液晶性化合物のどちらでも良いが、ディスコティック液晶性化合物である事が好ましい。
ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性分子は、下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００４１】
式（III）      Ｄ（−Ｍ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｍは二価の連結基であり；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは４〜１２の整数である。式（III）の円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＭＰ（又はＰＭ）は、二価の連結基（Ｍ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味する。
【００４２】
【化８】
2006098592.tif 000009
【００４３】
【化９】
2006098592.tif 000010
【００４４】
【化１０】
2006098592.tif 000011
【００４５】
【化１１】
2006098592.tif 000012
【００４６】
【化１２】
2006098592.tif 000013
【００４７】
【化１３】
2006098592.tif 000014
【００４８】
【化１４】
2006098592.tif 000015
【００４９】
【化１５】
2006098592.tif 000016
【００５０】
式（III）において、二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及びＳ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及びＯ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよい。
【００５１】
二価の連結基（Ｍ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）に結合する。ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。
Ｍ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｍ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【００５２】
Ｍ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｍ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｍ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２０：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２１：−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２４：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ２５：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００５３】
式（III）の重合性基（Ｐ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示す。
【００５４】
【化１６】
2006098592.tif 000017
【００５５】
【化１７】
2006098592.tif 000018
【００５６】
【化１８】
2006098592.tif 000019
【００５７】
【化１９】
2006098592.tif 000020
【００５８】
【化２０】
2006098592.tif 000021
【００５９】
【化２１】
2006098592.tif 000022
【００６０】
重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）又はエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることが最も好ましい。式（II）において、ｎは４〜１２の整数である。具体的な数字は、ディスコティックコア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＭとＰの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類以上のディスコティック液晶性分子（例えば、二価の連結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子）を併用してもよい。
【００６１】
（２）−３．重合開始剤
液晶性分子は、配向状態を維持して固定することが好ましく、固定化は、液晶性分子に導入した重合性基（一般式（III）で表すところのＰ）の重合反応により実施することが好ましい。固定化には所望の光学異方性の発現と安定化が目的であり、その結果、液晶性が失われる事は何ら差し支えない。そのためには、前記塗布液中には、重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応、及び電子線を用いるＥＢ硬化が含まれる。このうち、光重合反応（光硬化）及びＥＢ硬化が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種又は２種以上を所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。
【００６２】
光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることが更に好ましい。液晶性分子の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。
【００６３】
（２）−４．その他の添加剤
前記光学異方性層形成用塗布液中には、上記光重合開始剤以外にも適宜添加剤を添加してもよい。例えば、界面活性剤、セルロースエステル、配向制御剤及びカイラル剤等が挙げられる。以下に配向制御剤について詳細に説明する。本発明における配向制御剤とは、液晶性化合物の塗布液に添加され、塗布後に液晶性化合物の層の表面、つまり、空気界面側に偏在することによって、空気界面側での液晶性化合物の配向を制御するのに寄与する化合物を意味する。この配向制御剤の構造によっては、液晶性化合物を空気界面側で略垂直に配向させたり、逆に略水平に配向させることもできるが、本発明においてはディスコティック液晶性化合物を空気界面側で略垂直に配向させる添加剤が好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合には、特開２０００−３４４７３４号公報等に記載の下記一般式（Ｖ）で表されるような化合物が挙げられる。
一般式（Ｖ）
（Ｈｂ−）mＬ（−Ｂｕ）n
式中、Ｈｂは、炭素原子数が１〜４０のフッ素置換アルキル基、炭素原子数が６〜４０のフッ素置換アリール基、炭素原子数が６〜６０のアルキル基及び炭素原子数が１〜６０のアルキル置換オリゴシロキサノキシ基からなる群より選ばれる疎水性基であり、Ｂｕは少なくとも二つの環状構造を含む排除体積効果を有する基であり、Ｌは（ｍ＋ｎ）価の連結基であり、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、１〜１２の整数である。
【００６４】
一般式（Ｖ）で表される配向制御剤として好ましくは、トリヒドロキシベンゼン骨格及びトリアジン骨格に、フッ素アルキル基や長鎖アルキル基、アリール基が置換した低分子配向制御剤が挙げられる。空気界面側でディスコティック液晶を垂直に配向させるための配向制御剤の具体例としては、例えば、以下のＤ−１等が挙げられ、水平に配向させるための配向制御剤としてＤ−２等が挙げられる。
【００６５】
【化２２】
2006098592.tif 000023
【００６６】
また、配向制御剤としては、以下に示すような高分子化合物でもよい。添加される高分子配向制御剤は液晶層の塗布液に溶解しうるポリマーであればよい。好ましい高分子配向制御剤の一例を以下に示す。
【００６７】
ポリプロピレンオキシド
ポリテトラメチレンオキシド
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトン  ジオール
ポリ−ε−カプロラクトン  トリオール
ポリビニルアセテート
ポリメラミン
ポリ（エチレン  アジペート）
ポリ（１，４−ブチレン  アジペート）
ポリ（１，４−ブチレン  グルタレート）
ポリ（１，２−ブチレン  グリコール）
ポリ（１，４−ブチレン  スクシネート）
ポリ（１，４−ブチレン  テレフタレート）
ポリ（エチレンテレフタレート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレン  グルタレート）
ポリ（ネオペンチルグリコールアジペート）
ポリ（ネオペンチルグリコール  セバケート）
ポリ（１，３−プロピレン  アジペート）
ポリ（１，３−プロピレン  グルタレート）
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
ポリ（３−ヒドロキシブチリックアシッド）
【００６８】
また、少なくとも一つのフッ化アルキル基を有するモノマーからなる構成単位を含有したポリマーがより好ましく用いられ、例えば、以下に示したＤ−３のポリマー等が好適に用いられる。
【００６９】
【化２３】
2006098592.tif 000024
【００７０】
また、少なくとも一つのフッ化アルキル基を有するモノマーからなる構成単位を含有したポリマーがより好ましく用いられ、例えば、以下に示したＤ−３のポリマー等が好適に用いられる。
【００７１】
配向制御剤の添加量は、該制御剤の添加する液晶組成物中の液晶性化合物に対し０．０５質量％〜１０質量％添加することが好ましい。より好ましくは０．１質量％〜５質量％である。
【００７２】
（２）−５．溶媒
光学異方性層形成用の塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン）アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例：アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）などが含まれる。この中でアルキルハライド、ケトンが好ましい。２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。
【００７３】
塗布液中の液晶性化合物及びその他の添加剤の固形分濃度としては、０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．５質量％〜５０質量％がより好ましく、２質量％〜４０質量％がさらに好ましい。また、塗布液の粘度は、０．０１ｃｐ〜１００ｃｐが好ましく、０．１ｃｐ〜５０ｃｐがより好ましい。
【００７４】
２．配向膜
本発明では、光学異方性層の形成に配向膜を用いてもよい。配向膜に用いる具体的なポリマーの種類については液晶セル又は位相差板について種々の文献に記載があり、所望の配向方法、使用形態に合せて適宜選択できる。本発明では、特に重合性基を有するポリビニルアルコール誘導体、ポリアクリル酸誘導体、ポリアクリルアニリド誘導体を用いることで、液晶化合物と透明支持体の密着性を改善することができ好ましい。このような重合性基を有するポリビニルアルコール誘導体、ポリアクリル酸誘導体からなる水平配向膜、斜め配向膜、垂直配向膜、直交配向膜としては特開平９−１５２５０９号、特開２００２−６２４２７号、特開２００２−９０５４５号、特開２００２−９８８３６号等に記載されている化合物を用いることができる。
【００７５】
配向膜の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。なお、配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみをポリマーフイルム（又は透明支持体）上に転写してもよい。
【００７６】
前記配向膜は、前記配向膜用ポリマー以外にも、適宜添加剤を含有していてもよい。各種添加剤は、塗布液の調製時に、前記配向膜用ポリマーとともに、塗布液中に添加される。例えば、前記配向膜用ポリマーが水溶性の溶媒に溶解し難い場合は、塩基性化合物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミンなど）や、酸性化合物（例えば、塩酸、酢酸、コハク酸、ｐ−トルエンスルホン酸等）を添加して溶解を促進してもよい。本発明の配向膜の塗布液に用いられる溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等が挙げられるが、好ましくは、水、アルコール類、及び、これらの混合溶媒である。本発明に用いられる配向膜ポリマーは、上記溶媒中に０．１質量％〜４０質量％、好ましくは、０．５質量％〜２０質量％、より好ましくは、２質量％〜１０質量％含まれる。また、配向膜を溶解した塗布液の粘度は、好ましくは０．１ｃｐ〜１００ｃｐ、より好ましくは、０．５ｃｐ〜５０ｃｐである。
【００７７】
上記方法によって形成された配向膜は、その表面がラビング処理され、液晶配向性が付与されているのが好ましい。ラビング処理は、ポリマー塗布層の表面を、紙や布で一定方向（通常は長手方向）に、数回こすることにより実施することができる。また、ラビング以外の方法としては、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により液晶配向性を付与することもできる。液晶配向性を付与する方法としては、ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。
【００７８】
３．支持体
本発明の位相差板は支持体を有する。支持体は、作製時に用いられる支持体と必ずしも同一でなくてもよく、前記光学異方性層を作製した後、作製時に用いた仮支持体から他の支持体に転写してもよい。透明で光学異方性が小さく、波長分散が小さいポリマーフイルムを支持体として用いることが好ましい。ここで支持体が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。波長分散が小さいとは、具体的には、Ｒｅ４００／Ｒｅ７００の比が１．２未満であることが好ましい。光学異方性が小さいとは、具体的には、面内レターデーション（Ｒｅ）が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。透明支持体は、ロール状又は長方形のシート状の形状を有することが好ましく、ロール状の透明支持体を用いて、光学異方性層を積層してから、必要な大きさに切断することが好ましい。ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート及びポリメタクリレートが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。ポリマーフイルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
【００７９】
本発明の位相差板は、種々の用途に利用される。液晶表示装置の光学補償シートや、直線偏光膜や透明保護膜と積層して偏光板として利用され得る。
【００８０】
４．偏光板
本発明の位相差板に、直線偏光膜又は透明保護膜を貼り合せ、偏光板とした後に、実際の液晶表示素子に用いる際に好ましい。以下に該偏光膜及び透明保護膜について説明する。
【００８１】
（１）偏光膜
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。偏光膜の透過軸は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。ディスコティック液晶性化合物を光学異方性層に用いた場合には、偏光膜の透過軸は、配向膜側のディスコティック液晶性分子の面に対し、実質的に平行になるように配置される。また、棒状液晶性化合物を用いた場合、偏光膜の透過軸は、棒状液晶性分子の長軸方向（遅相軸）と、実質的に平行になるように配置する。通常は、位相差板の支持体側に張り合わせるのが好ましいが、必要によっては、光学異方性層側と張り合わせてもよい。
【００８２】
（２）透明保護膜
位相差板の光学異方性層側に透明保護膜として、透明なポリマーフイルムが用いられることが好ましい。保護膜が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフイルム、好ましくはトリアセチルセルロースフイルムが用いられる。セルロースエステルフイルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【００８３】
５．液晶表示装置
本発明の位相差板は、様々な表示モードの液晶セルを有する液晶表示装置に用いることができる。前述した様に、本発明の位相差板は、液晶セルの光学補償シートして有用である。液晶性分子からなる光学異方性層有する光学補償シートは、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  ＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、反射型については、ＴＮ、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）等の液晶セルに対応するものが既に提案されている。本発明によって得られる位相差板及び偏光板は、その配向状態によって種々の液晶表示モードに適用できるが、ディスコティック液晶を配向膜側から空気界面側まで垂直に配向させた光学異方性層を有する位相差板は、透過型のＩＰＳモードに好適に使用できる。
【実施例】
【００８４】
以下、本発明の位相差板を用いた実施例を示す。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本願発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【００８５】
［実施例１］
（ディスコティック液晶組成物の調製）下記のディスコティック液晶性化合物２００ｍｇに、本発明の配向温度低下剤（Ｉ−２）を２０ｍｇを添加し、混合物をメチルエチルケトン１００マイクロリットルに溶解して、ディスコティック液晶組成物を調製した。
【００８６】
【化２４】
2006098592.tif 000025
【００８７】
【化２５】
2006098592.tif 000026
【００８８】
（配向膜の作製）下記の変性ポリビニルアルコールをＮ−メチルピロリドンとメチルエチルケトンとの混合溶媒（容積比＝２０／８０）に溶解して、５質量％溶液を調製した。この溶液を、厚さ１．１ｍｍのガラス板上にバーコーターを用いて塗布した。塗布層を８０℃の温風で１０分間乾燥し、表面をラビング処理して配向膜を形成した。
【００８９】
【化２６】
2006098592.tif 000027
【００９０】
（配向温度の測定）配向膜の上にディスコティック液晶組成物をスピンコートした後、５℃／分の速度で加熱しながら、偏光顕微鏡で液晶組成物を観察し、均一配向する温度を求めた。配向温度は、１２５℃であった。
【００９１】
（楔セルの作製）配向膜を設けたガラス板を裁断し、幅２０ｍｍ、長さ４０ｍｍ、高さ０．８５ｍｍの楔セルを作製した。
【００９２】
（固有複屈折率の測定）ディスコティック液晶組成物に、ＴＥＭＰＯ（２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジノイルオキシ−フリーラジカル）の２質量％メチルエチルケトン溶液を３０マイクロリットル加えて、完全な溶液とした。次に、メチルエチルケトンを減圧下で除去して、液晶組成物の固形物を得た。楔セルに、固形物をＮＤ相温度で注入し、均一配向させた。光源に５５０ｎｍの干渉フィルターを入れた偏光顕微鏡で楔セルを観察すると、５５０ｎｍの整数倍のレターデーションを示す領域に黒色の筋が観察された。この筋が読みとれなくなる寸前まで温度を下げ（２０℃以上）、その温度における筋の幅を読みとって、波長５５０ｎｍにおける最大固有複屈折率（Δｎ）の値を求めた。Δｎは、０．１３３であった。
【００９３】
［比較例１］
配向温度低下剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様に、ディスコティック液晶組成物を作製して評価した。結果は、第１表に示す。
【００９４】
［実施例２］
配向温度低下剤（Ｉ−２）に代えて、配向温度低下剤を（Ｉ−４），（Ｉ−６），（II−１）、（II−５）をそれぞれ同量用いた以外は、実施例１と同様に、ディスコティック液晶組成物を作製して評価した。結果は、第１表に示す。
【００９５】
［比較例２］
配向温度低下剤（Ｉ−２）に代えて、配向温度低下剤（Ｈ−１）、及び、（Ｈ−２）をそれぞれ同量用いた以外は、実施例１と同様に、ディスコティック液晶組成物を作製して評価した。結果は、第１表に示す。
【００９６】
【化２７】
2006098592.tif 000028
【００９７】
【化２８】
2006098592.tif 000029
【００９８】
【表１】
2006098592.tif 000030
【００９９】
上記の結果から、本発明の化合物は、特開平９−１０４８６６号公報中の配向温度低下剤よりは、同等の温度低下能を有し、固有複屈折の低下能が小さい事がわかる。また、特開２００１−８１４６５号公報中の配向温度低下剤と比較すると、同等の性能であった。
【０１００】
［実施例３］
１．位相差板の作製
（１）配向膜の形成
厚さ１００μｍ、幅１５０ｍｍ、長さ２００ｍの光学的に等方性のトリアセチルセルロースフイルムを透明支持体として用いた。次に配向膜として下記のポリビニルアルコール誘導体（ＡＬ−１）を水／メタノール混合液に４質量％になるように希釈し、更に配向膜側でのディスコティック液晶性化合物の配向角度を上昇させる目的で、ｐ−トルエンスルホン酸を配向膜（ＡＬ−１）に対し０．１質量％添加し、配向膜の塗布液を調液した。この塗布液を、透明支持体の片面に連続塗布し、塗布層を１２０℃で２分間加熱して、乾燥し、厚さ１μｍの配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向（搬送方向）に連続的にラビング処理を実施した。
【０１０１】
【化２９】
2006098592.tif 000031
【０１０２】
（２）光学異方性層の形成
ラビング処理を行った配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１００℃で１分間加熱して、ディスコティック液晶性分子を配向させた。その温度で４秒間、６００ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射してディスコティック液晶性分子を重合させ、配向状態を固定した。このようにして光学的異方性層を形成し、本発明の位相差板ＲＬ−１０１を作製した。波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション（Ｒｅ）を、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨを用いて測定したところ、Ｒｅは１２０ｎｍであった。
────────────────────────────────────
光学的異方性層（Ａ）塗布液組成
────────────────────────────────────
下記のディスコティック液晶性化合物  ＩＩＩ−１    １４．５質量％
本発明の配向温度低下剤              Ｉ−２          １．３質量％
下記の増感剤                                      ０．１５質量％
下記の光重合開始剤                                ０．４５質量％
下記の配向制御剤    Ｄ−３                        ０．１０質量％
メチルエチルケトン                                ８３．５質量％
────────────────────────────────────
【０１０３】
【化３０】
2006098592.tif 000032
【０１０４】
位相差板の配向状態と配向欠陥、消光度の評価
偏光板とする前の位相差板を、偏光顕微鏡下で観察し、配向状態及び配向欠陥の評価を行った。配向状態は光学顕微鏡を用いて目視評価した結果、ディスコティック液晶性分子は、作製した光学異方性層中において、ディスコティック液晶性分子が、分子の円盤面とラビング方向（位相差板の長手方向）とのなす角を平行にして、且つ配向膜平面に対して垂直にした配向状態に固定されていることを確認した。さらに、光学異方性層中に生じた配向欠陥の数を光学顕微鏡で観察して調べた結果、点欠陥の個数（１．０ｍｍ2範囲の平均値）は１．０ｍｍ2範囲で１０個以下であった。
また、上記位相差板ＲＬ−１０１を直交する二枚の偏光板に挟み、片側から光を照射し、透過してくる光の強度との比を消光度として測定した。（消光度＝透過光強度／入射光強度）このようにして測定したＲＬ−１０１の消光度の値は、０．００１５であった。
【０１０５】
２．偏光板の作製
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフイルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜を得た。偏光膜の一方の面に、ケン化処理したロール状セルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を、他方の面にケン化処理した、上記作製したロール状位相差板（ＲＬ−１０１）の透明支持体を、連続して貼り合わせ、偏光板ＨＬ−１０１を作製した。作製した偏光板を透過型ＩＰＳ用液晶セルに貼り付け、人物画像を表示した状態を目視で観察した結果、ムラの無い画像が得られた。
【０１０６】
［実施例２］
実施例１に示した、位相差板の作製方法において、本発明の配向温度低下剤（Ｉ−２）の代わりに、以下の表２に示した、本発明の配向温度低下剤（Ｉ−４）、（Ｉ−６）、（II−１）、（II−５）、及び、比較例として、上記（Ｈ−１），及び、（Ｈ−２）の配向温度低下剤に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、本発明の位相差板ＲＬ−１０２〜１０５、及び比較用位相差板ＲＭ−１０１、ＲＭ−１０２をそれぞれ作製した。
【０１０７】
作製した位相差板について、上記と同様に光学異方性層中のディスコティック液晶性分子の配向状態を観察したところ、本発明の配向膜用ポリマーを用いた位相差板ＲＬ−１０２〜１０５、及び、比較用のＲＭ−１０１及び１０２のディスコティック液晶性分子の配向は、ＲＬ−１０１と同様であった。作製したこれら位相差板について上記と同様にして求めた配向欠陥の数の評価結果を以下の表２に示した。
【０１０８】
更に、実施例１において用いた位相差板ＲＬ−１０１を、位相差板ＲＬ−１０２〜１０５及び比較用位相差板ＲＭ−１０１にそれぞれ代えた以外は、実施例１と同様にして、偏光板ＨＬ−１０２〜１０５及びＨＭ−１０１、１０２をそれぞれ作製した。作製したこれらの偏光板について、上記と同様に画像表示性能を評価したところ、本発明のＨＬ−１０２〜１０５は実施例１と同様に良好な画像表示性能を示した、比較例ＨＭ−１０１画像にムラが観測され、ＨＭ−１０２はＨＬ−１０１〜１０５に比べて視野角が狭かった。
【０１０９】
【表２】
2006098592.tif 000033
【０１１０】
以上の結果から、本発明の配向温度低下剤を用いることによって、従来の配向温度低下剤よりも配向が良く、欠陥の少ない位相差板が得られることがわかる。また、ディスコティック液晶性化合物の固有複屈折率を低下させない事から、位相差板の面内レターデーションの低下も少なく、結果として良好な画像表示性能を与える偏光板を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】本発明の位相差板の一実施形態の側面模式図である。
【符号の説明】
【０１１２】
０１  透明支持体
０２  配向膜表面
０３  光学異方性層
０４  ディスコティック液晶性分子
０５  位相差板
【図１】
2006098592.tif 000038