(57)【要約】【課題】  可動子の移動速度の速い静電アクチュエータおよび撮像装置を提供する。【解決手段】  固定子に案内されて貫通部の貫通方向に移動可能に可動子が設けられている。可動子が貫通部の貫通方向に移動する際、可動子の固定子と可動子とが接触する部分に、膜が設けられている。膜が設けられているので、可動子の支持体と固定子枠や駆動用電極基板との間の摩擦係数が低い。従って、可動子の移動速度が速い。【選択図】  図２
2006087240.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定子と、
前記固定子に設けられ、前記固定子に案内されて所定方向に移動可能に設けられた可動子と、
前記可動子が前記所定方向に移動する際、前記可動子の前記固定子と前記可動子とが接触する部分に設けられた膜と、
前記固定子に設けられた２つの基板と、
一方の前記基板に設けられ、前記可動子を吸引保持するための保持用電極と、
他方の前記基板に設けられ、前記可動子を駆動するために前記所定方向に一定のピッチで設けられた駆動用電極と、
を有することを特徴とする静電アクチュエータ。
【請求項２】
前記膜は、堆積された金、二硫化モリブデン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンのいずれかを含む膜であることを特徴とする請求項１に記載の静電アクチュエータ。
【請求項３】
固定子と、
前記固定子に設けられ、前記固定子に案内されて所定方向に移動可能に設けられた可動子と、
前記可動子が前記所定方向に移動する際、前記可動子の前記固定子と前記可動子とが接触する部分に設けられた膜と、
前記固定子に設けられた２つの基板と、
一方の前記基板に設けられ、前記可動子を吸引保持するための保持用電極と、
他方の前記基板に設けられ、前記可動子を駆動するために前記所定方向に一定のピッチで設けられた駆動用電極と、
前記可動子に設けられ、被写体の像を結像させるためのレンズと、
前記レンズによって結像された被写体の像を検出するための撮像素子部と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項４】
前記膜は、堆積された金、二硫化モリブデン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンのいずれかを含む膜であることを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電アクチュエータおよび静電アクチュエータを用いてレンズを駆動する撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話等のモバイル機器にズーム機能やオートフォーカス機能を有する撮像装置を組み込むことが検討されている。このような撮像装置ではレンズを駆動することで焦点やピントを調節して、最終的にセンサに結像させる。このようにレンズを光軸方向に駆動する駆動源としては、静電アクチュエータが用いられる場合がある。
【０００３】
撮像装置は、レンズを駆動することでズーム倍率やピントを調整するものである。静電アクチュエータは、固定子と可動子とを備えており、可動子はレンズを保持している。
【０００４】
固定子は、固定子枠の上下内壁にそれぞれ取付けられた駆動用電極基板と保持用電極基板とを備えている。また、可動子は、一対の電極基板の間を数μｍのギャップをもってレンズの軸方向に沿って往復動可能となるように配置されている。保持用電極基板には、可動子を保持するための保持電極を有している。
【０００５】
このような構成をした撮像装置においては、固定子の電極基板の電極にスイッチング回路を用いて所定の順序で電圧を供給することで、可動子を静電気力で駆動するようにしている。（特許文献１）
【特許文献１】特開２００４−１２６００９公報  図２及び図３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の撮像装置は、駆動用電極基板に所定の順序で電圧を供給することで可動子を駆動する際、可動子と固定子や駆動用電極基板、保持用電極基板との間に発生する摩擦力が大きく、可動子の移動速度が遅いという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような事情を鑑みてされたもので、可動子の移動速度の速い静電アクチュエータおよび撮像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の静電アクチュエータは、固定子と、前記固定子に設けられ、前記固定子に案内されて所定方向に移動可能に設けられた可動子と、前記可動子が前記所定方向に移動する際、前記可動子の前記固定子と前記可動子とが接触する部分に設けられた膜と、前記固定子に設けられた２つの基板と、一方の前記基板に設けられ、前記可動子を吸引保持するための保持用電極と、他方の前記基板に設けられ、前記可動子を駆動するために前記所定方向に一定のピッチで設けられた駆動用電極と、を有することを特徴とする。
【０００９】
また、上記目的を達成するために、本発明の撮像装置は、固定子と、前記固定子に設けられ、前記固定子に案内されて所定方向に移動可能に設けられた可動子と、前記可動子が前記所定方向に移動する際、前記可動子の前記固定子と前記可動子とが接触する部分に設けられた膜と、前記固定子に設けられた２つの基板と、一方の前記基板に設けられ、前記可動子を吸引保持するための保持用電極と、他方の前記基板に設けられ、前記可動子を駆動するために前記所定方向に一定のピッチで設けられた駆動用電極と、前記可動子に設けられ、被写体の像を結像させるためのレンズと、前記レンズによって結像された被写体の像を検出するための撮像素子部と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
可動子の移動速度の速い静電アクチュエータおよび撮像装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００１２】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態に係る静電アクチュエータを用いた撮像装置１０を一部切欠して示す斜視図、図２は撮像装置１０を示す分解斜視図、図３（ａ）は駆動用電極基板４２（他方の基板）を模式的に示す平面図、図３（ｂ）は保持用電極基板４３（一方の基板）を模式的に示す平面図、図４はズームレンズユニット（静電アクチュエータ）３０を模式的に示す縦断面図である。これらの図中矢印ＸＹＺは互いに直交する三方向を示しており、特に矢印Ｘは貫通部の貫通方向（所定方向）であり、すなわち第１及び第２の可動子５０、６０の移動方向（光軸方向）である。また、実施の形態の説明において、図１に示すＺの矢印方向を仮に上方向として説明する。
【００１３】
撮像装置１０は、ズームレンズユニット３０に設けられた後述するレンズ５４、６４によって結像された被写体の像を検出する。撮像装置１０は、撮像素子部２０と、ズームレンズユニット３０とを備えている。撮像素子部２０は、基板２１と、この基板２１上に配置されたＣＣＤ等のセンサ２２及び制御用の電子部品２３とを備えている。電子部品２３には、駆動制御回路２４が組み込まれている。
【００１４】
ズームレンズユニット３０は、筒状のカバー３１と、固定子４０と、第１の可動子５０と、第２の可動子６０とを備えている。第１の可動子５０、第２の可動子６０は、互いに離間して光軸方向Ｘに沿って移動可能に固定子枠４１（後述）内に挿入されている。
【００１５】
固定子４０は、貫通部を有する中空の直方体形状の枠体なる固定子枠４１を備えている。この固定子枠４１は、上方内面４１ａおよび下方内面４１ｂを有している。上方内面４１ａには、第１および第２の可動子５０、６０を駆動するための駆動用電極基板４２が取付けられている。さらに、下方内面４１ｂには、可動子５０、６０をその位置に保持するための保持用電極基板４３が取付けられている。
【００１６】
駆動用電極基板４２は、図３に示すように絶縁性材料基板表面に所望の形状にパターニングして形成され、移動方向Ｘに対して直交するＹ方向に延伸する複数の電極群からなる駆動用電極４２ａ〜４２ｄが並列されている。絶縁性材料基板には、例えばガラス板や、表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハ、アラミドやガラスエポキシなどのプリント配線板用の絶縁基板を用いることができる。なお、各電極の幅は数μｍから数十μｍ程度であり、各電極間の間隔は数μｍから数十μｍ程度であり、電極は、一定のピッチで配列されている。ここで一定のピッチとは、加工の際に生じる加工誤差を含んでいる。
【００１７】
電極のピッチが細かいほど、第１及び第２の可動子５０、６０の最小移動分解能を細かくする事が出来るが、あまり細かすぎると第１及び第２の可動子５０、６０や駆動用電極４２ａ〜４２ｄの加工に高い精度が求められ、コストアップの要因となってしまう。例えば、駆動用電極基板４２に表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハを用いる場合、駆動用電極４２ａ〜４２ｄは幅１２μｍ、間隔４μｍ、ピッチ１６μｍ前後とすることができる。
【００１８】
駆動用電極４２ａ〜４２ｄは、電子部品２３の駆動制御回路２４に接続され、駆動制御回路２４からの制御電圧信号が入力されて駆動される。すなわち、電圧信号は、各グループの駆動用電極４２ａ〜４２ｄに独立して印加される。例えば、駆動用電極４２ａに電圧が印加される場合には、駆動用電極基板４２上の全てのグループの駆動用電極４２ａに対応する凸部に電圧信号が印加される。ここで駆動用電極４２ａはチャンネル１（ｃｈ１）、駆動用電極４２ｂはチャンネル２（ｃｈ２）、駆動用電極４２ｃはチャンネル３（ｃｈ３）、駆動用電極４２ｄはチャンネル４（ｃｈ４）に該当する。
【００１９】
保持用電極基板４３は、図３に示すように絶縁性材料基板表面に所望の形状にパターニングして形成され、第１の可動子５０の第１可動子電極５３（後述）に対応するストライプ電極４３ａ（第１の保持用電極）と、第２の可動子６０の第２可動子電極６３（後述）に対応するストライプ電極４３ｂ（第２の保持用電極）が並行に形成されている。絶縁性材料基板には、例えばガラス板や、表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハ、アラミドやガラスエポキシなどのプリント配線板用の絶縁基板を用いることができる。ここで第２可動子用ストライプ電極４３ｂはチャンネル５（ｃｈ５）、第１可動子用ストライプ電極４３ａはチャンネル６（ｃｈ６）に該当する。また、これらストライプ電極４３ａ、４３ｂは、第１及び第２の可動子５０、６０を独立して制御されるように電気的に独立して配置される。
【００２０】
第１の可動子５０は、中空部を有する導電材料で形成された略直方体の支持体５１とを備えている。支持体５１は、例えば導電性材料を物理的な研削により、または化学的なエッチングにより形成することができる。また、導電性樹脂を射出成型して成型して形成することもできる。この支持体５１の上面には可動子側駆動用電極５２が形成され、下面には第１可動子電極５３が形成されている。さらに、中空部にはレンズ５４が固定されている。
【００２１】
導電性樹脂には、例えば導電性ＰＰＳ、導電性ＰＳ樹脂を用いることができる。特に導電性ＰＰＳ樹脂は、その電気特性や成形性から支持体５１の材質として好ましい。また、導電性ＰＰＳ樹脂には、摩擦係数を低減するためのフッ素系材料（例えばＰＴＦＥ）やチタン酸カリウム、オイル、カーボンファイバーを添加することが好ましい。フッ素系材料やチタン酸カリウム、オイル、カーボンファイバーはいずれか１つを添加しても構わないが、複数（例えばＰＴＦＥとオイル）添加しても構わない。
【００２２】
支持体５１の、支持体５１と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３とが接触する部分の表面には、膜７０が設けられている。この膜７０は、例えば堆積された金、二硫化モリブデン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンのいずれかを含む膜を用いることが好ましい。金、二硫化モリブデンは、支持体５１の表面に公知のスパッタ方法や蒸着方法を用いることができる。また、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンは、公知のスパッタ方法を用いることができる。また、電解めっきや無電解めっきなどの公知の堆積方法を用いることもできる。
【００２３】
また、金、二硫化モリブデン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンには、適宜他の物質を添加することができる。例えば、金にニッケルや銀、インジウム、コバルト等の物質を添加し、硬度や耐磨耗性を向上させることもできる。支持体５１と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３の材質やズームレンズユニット３０の使用環境やスペック、目標とする寿命に応じて、材質を変更することができる。
【００２４】
可動子側駆動用電極５２は、第１の可動子５０の移動方向Ｘに直交するように突起状の複数のストライプが延出され、移動方向Ｘに並列されて凹凸部が形成されている。その間隔は例えば３２μｍ程度であり、凸部の高さは凹部内の面から高さ１０μｍ程度を有している。この高さは最低１０μｍあればよく、それ以上深くても構わない。すなわち、可動子側駆動用電極５２の凸の幅は、駆動用電極基板４２ａ〜４２ｄのピッチの倍に等しく、また、可動子側駆動用電極５２の凹の底面は、駆動用電極基板４２ａ〜４２ｄのピッチの倍と等しい幅を有している。例えば、駆動用電極基板４２に表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハを用いる場合、可動子側駆動用電極５２の凹或いは凸は、ほぼ６４μｍのピッチで配列されている。
【００２５】
第１可動子電極５３は、第１の可動子５０の移動方向に延出され、Ｙ方向に並列されるようにエッチングにより突起状の複数のストライプが形成されている。ここで第１可動子電極５３はチャンネル７（ｃｈ７）に該当する。
【００２６】
第２の可動子６０は、中空部を有する導電材料で形成された略直方体の支持体６１とを備えている。支持体６１は、例えば導電性材料を物理的な研削により、または化学的なエッチングにより形成することができる。また、導電性樹脂を射出成型して成型して形成することもできる。この支持体６１の上面には可動子側駆動用電極６２が形成され、下面には第２可動子電極６３が形成されている。さらに、中空部にはレンズ６４が固定されている。
【００２７】
第１の可動子５０と同様、支持体６１の、支持体６１と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３とが接触する部分の表面には、膜７０が設けられている。この膜７０は、例えば堆積された金、二硫化モリブデン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンのいずれかを含む膜を用いることが好ましい。金、二硫化モリブデン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンの堆積方法や他の物質の添加については、第１の可動子５０と同様なので、その説明を省略する。
【００２８】
可動子側駆動用電極６２は、第２の可動子６０の移動方向Ｘに直交するようにエッチングにより突起状の複数のストライプが延出され、移動方向Ｘに並列されて凹凸部が形成されている。その間隔は３２μｍ程度であり、凸部の高さは凹部内の面から高さ１０μｍ程度を有している。この高さは最低１０μｍあればよく、それ以上深くても構わない。すなわち、可動子側駆動用電極５２の凸の幅は、駆動用電極基板４２ａ〜４２ｄのピッチの倍に等しく、また、可動子側駆動用電極５２の凹の底面は、駆動用電極基板４２ａ〜４２ｄのピッチの倍と等しい幅を有している。例えば、駆動用電極基板４２に表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハを用いる場合、可動子側駆動用電極５２の凹或いは凸は、ほぼ６４μｍのピッチで配列されている。
【００２９】
第２可動子電極６３は、第１の可動子５０の移動方向に延出され、Ｙ方向に並列されるようにエッチングにより突起状の複数のストライプが形成されている。ここで第２可動子電極６３はチャンネル８（ｃｈ８）に該当する。
【００３０】
上述した第１の可動子５０のレンズ５４及び第２の可動子６０のレンズ６４の配置が変えられることによって両者で構成されるレンズ系は、ワイド及びテレ間でズームされ、また被写体に対してピントが合わせられる。
【００３１】
このように構成された撮像装置１０は、次のようにして第１及び第２の可動子５０、６０の駆動が行われる。
【００３２】
第１の可動子５０は、駆動用電極４２ａ〜４２ｄと可動子側電極５２の間に、またストライプ電極４３ａと第１可動子電極５３との間に電位差を設ける。すると駆動用電極４２ａ〜４２ｄと可動子側電極５２の間に、またストライプ電極４３ａと第１可動子電極５３との間に静電気力により吸引方向の力が生じる。公知の手順（例えば特開２００４−１２６００９号公報  段落００３７乃至００４９）にて、電位差を設ける駆動用電極４２ａ〜４２ｄ、ストライプ電極４３ａを切り替えることにより、第１の可動子５０の位置を移動させることができる。
【００３３】
一方、第２の可動子６０は、駆動用電極４２ａ〜４２ｄと可動子側電極６２の間に、またストライプ電極４３ｂと第２可動子電極６３との間に電位差を設ける。すると駆動用電極４２ａ〜４２ｄと可動子側電極６２の間に、またストライプ電極４３ｂと第２可動子電極６３との間に静電気力により吸引方向の力が生じる。第１の可動子５０と同様、公知の手順にて、電位差を設ける駆動用電極４２ａ〜４２ｄ、ストライプ電極４３ｂを切り替えることにより、第２の可動子６０の位置を移動させることができる。
【００３４】
また、第１の可動子５０を保持する場合、ストライプ電極４３ａと第１可動子電極５３との間に電位差を設ける。ストライプ電極４３ａと第１可動子電極５３との間に静電気力により吸引方向の力が生じ、第１の可動子５０を保持することができる。第２の可動子６０を保持する場合、第１の可動子５０と同様にストライプ電極４３ｂと第２可動子電極６３との間に電位差を設ける。
【００３５】
このようにしてできた撮像装置１０およびズームレンズユニット３０は、支持体５１、６１の、支持体５１、６１と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３とが接触する部分の表面に、膜７０が設けられているので、支持体５１、６１と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３との間の摩擦係数が低い。従って、第１の可動子５０および第２の可動子６０の移動速度が速い。同時に、支持体５１、６１の耐摩耗性が向上する。
【００３６】
第１の可動子５０および第２の可動子６０の移動速度が速いと、撮像装置１０のピント合わせやズーム動作の速度を向上させることができ、より速やかに被写体の像を鮮明に検出することができる。
【００３７】
また、支持体５１、６１の、支持体５１、６１と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３とが接触する部分の表面に、膜７０が設けられているので、支持体５１、６１の素材表面の摩擦係数の影響が少ない。これは、支持体５１、６１や固定子枠４１、駆動用電極基板４２、保持用電極基盤４３の材質の選択肢を広げることにつながり、撮像装置１０の使用目的やスペック、目標寿命などに合わせて材質を変更することができ、設計自由度を増すことができる。
【００３８】
（第２の実施の形態）
図５は本発明の第２の実施の形態に係る静電アクチュエータを用いた撮像装置１０の第１の可動子５０ｂを模式的に示す斜視図である。なお、図１に示す第１の実施の形態の各部と同一部分は、同一符号で示し、その説明を省略する。
【００３９】
ズームレンズユニット３０は、第１の実施の形態の第１の可動子５０に替えて、第１の可動子５０ｂを備えている。第１の可動子５０ｂ、第２の可動子６０は、互いに離間して光軸方向Ｘに沿って移動可能に固定子枠４１内に挿入されている。
【００４０】
第１の可動子５０ｂは、中空部を有する導電材料で形成された略直方体の支持体５１ｂとを備えている。支持体５１ｂは、第１の実施の形態と同様、例えば導電性材料を物理的な研削により、または化学的なエッチングにより形成することができる。また、導電性樹脂を射出成型して成型して形成することもできる。この支持体５１ｂの移動方向Ｘの両端には、ストッパ５５が設けられている。ストッパ５５は、固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３と接触するために、凸形状に形成されている。
【００４１】
第１の実施の形態と同様、導電性樹脂には、例えば導電性ＰＰＳ、導電性ＰＳ樹脂を用いることができる。特に導電性ＰＰＳ樹脂は、その電気特性や成形性から支持体５１ｂの材質として好ましい。また、導電性ＰＰＳ樹脂には、摩擦係数を低減するためのフッ素系材料（例えばＰＴＦＥ）やチタン酸カリウム、オイル、カーボンファイバーを添加することが好ましい。フッ素系材料やチタン酸カリウム、オイル、カーボンファイバーはいずれか１つを添加しても構わないが、複数（例えばＰＴＦＥとオイル）添加しても構わない。
【００４２】
ストッパ５５の、ストッパ５５と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３とが接触する部分の表面には、膜７０が設けられている。第１の実施の形態と同様、この膜７０は、例えば堆積された金、二硫化モリブデン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンのいずれかを含む膜を用いることが好ましい。金、二硫化モリブデンは、支持体５１の表面に公知のスパッタ方法や蒸着方法を用いることができる。また、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンは、公知のスパッタ方法を用いることができる。また、電解めっきや無電解めっきなどの公知の堆積方法を用いることもできる。
【００４３】
また、金、二硫化モリブデン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド・ライク・カーボンには、適宜他の物質を添加することができる。例えば、金にニッケルや銀、インジウム、コバルト等の物質を添加し、硬度や耐磨耗性を向上させることもできる。支持体５１ｂと固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３の材質やズームレンズユニット３０の使用環境やスペック、目標とする寿命に応じて、材質を変更することができる。
【００４４】
このようにしてできた撮像装置１０およびズームレンズユニット３０は、支持体５１ｂの、ストッパ５５と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３とが接触する部分の表面に、膜７０が設けられているので、ストッパ５５と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３との間の摩擦係数が低い。従って、第１の可動子５０ｂの移動速度が速い。同時に、支持体５１ｂの耐摩耗性が向上する。
【００４５】
第１の可動子５０ｂの移動速度が速いと、撮像装置１０のピント合わせやズーム動作の速度を向上させることができ、より速やかに被写体の像を鮮明に検出することができる。
【００４６】
また、支持体５１ｂの、ストッパ５５と固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３とが接触する部分の表面に、膜７０が設けられているので、支持体５１ｂの素材表面の摩擦係数の影響が少ない。これは、支持体５１ｂや固定子枠４１、駆動用電極基板４２、保持用電極基盤４３の材質の選択肢を広げることにつながり、撮像装置１０の使用目的やスペック、目標寿命などに合わせて材質を変更することができ、設計自由度を増すことができる。
【００４７】
また、ストッパ５５が設けられているので、第１の実施の形態に比べ、第１の可動子５０ｂと固定子枠４１や駆動用電極基板４２、保持用電極基板４３との間の摩擦係数がさらに低い。従って、第１の可動子５０ｂの移動速度がさらに速い。
【００４８】
なお、第２の可動子６０も第１の可動子５０ｂと同じ構成をとることもできるが、第１の可動子５０ｂと同様のため、その説明を省略する。
【実施例１】
【００４９】
図１に示す本発明の第１の実施の形態によるズームレンズユニット３０を用いて実験を行った。実験は、支持体５１の表面に、シリコン窒化膜（Ｓｉ３Ｎ４）をスパッタにて２０００オームストロング堆積させた第１の可動子５０を用いた。第１の可動子５０を可動子側駆動用電極５２の面を下にして駆動用電極基板４２の上に置き、駆動用電極基板４２を徐々に傾けて、第１の可動子５０が滑り始める時の駆動用電極基板４２の角度を調べた。なお、支持体５１は、チタン酸カリウムを添加した導電性ＰＰＳを射出成型して形成した。
【００５０】
また、従来のズームレンズユニットの比較例として、以下の４つのズームレンズユニットについても同様の実験を行った。
【００５１】
（比較例１）
支持体５１は、ＰＴＦＥを添加した導電性ＰＰＳを射出成型して形成した。支持体５１の表面に膜はなにも設けなかった。その他の構成、測定方法は実施例１と同等とした。
【００５２】
（比較例２）
支持体５１は、チタン酸カリウムを添加した導電性ＰＰＳを射出成型して形成した。支持体５１の表面に膜はなにも設けなかった。その他の構成、測定方法は実施例１と同等とした。
【００５３】
（比較例３）
支持体５１は、カーボンファイバーを添加した導電性ＰＰＳを射出成型して形成した。支持体５１の表面に膜はなにも設けなかった。その他の構成、測定方法は実施例１と同等とした。
【００５４】
（比較例４）
支持体５１は、オイルを添加した導電性ＰＰＳを射出成型して形成した。支持体５１の表面に膜はなにも設けなかった。その他の構成、測定方法は実施例１と同等とした。
【００５５】
図６に示すとおり、比較例１乃至比較例４は、第１の可動子５０が滑り始める時の駆動用電極基板４２の角度が、２６〜３０°であった。一方、実施例１は、第１の可動子５０が滑り始める時の駆動用電極基板４２の角度が、２０°以下であった。
【００５６】
また、実施例１と比較例２について、ズームユニット３０に実際に組み込み、第１の可動子５０の移動速度を比較した。比較結果を表１に示す。
【表１】
2006087240.tif 000003
表１に示すように、比較例２は第１の可動子５０は、移動速度３ｍｍ／ｓｅｃ以上では移動させることができなかった。一方、実施例１の第１の可動子５０は、移動速度６ｍｍ／ｓｅｃで移動させることができた。
【実施例２】
【００５７】
図１に示す本発明の第１の実施の形態によるズームレンズユニット３０を用いて実験を行った。実験は、支持体５１の表面に、シリコン酸化膜（ＳｉＯ２）をスパッタにて１０００オームストロング堆積させた第１の可動子５０を用いた。第１の可動子５０を可動子側駆動用電極５２の面を下にして駆動用電極基板４２の上に置き、駆動用電極基板４２を徐々に傾けて、第１の可動子５０が滑り始める時の駆動用電極基板４２の角度を調べた。なお、支持体５１は、チタン酸カリウムを添加した導電性ＰＰＳを射出成型して形成した。
【００５８】
図６に示すとおり、比較例１乃至比較例４は、第１の可動子５０が滑り始める時の駆動用電極基板４２の角度が、２６〜３０°であった。一方、実施例２は、第１の可動子５０が滑り始める時の駆動用電極基板４２の角度が、２０°以下であった。
【００５９】
また、実施例２と比較例２について、ズームユニット３０に実際に組み込み、第１の可動子５０の移動速度を比較した。比較結果を表１に示す。
【００６０】
表１に示すように、比較例２は第１の可動子５０は、移動速度３ｍｍ／ｓｅｃ以上では移動させることができなかった。一方、実施例２は第１の可動子５０は、移動速度３ｍｍ／ｓｅｃで移動させることができた。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明による第１の実施の形態に係る静電アクチュエータを用いた撮像装置を示す斜視図
【図２】本発明による第１の実施の形態に係る静電アクチュエータを用いた撮像装置を示す分解斜視図
【図３】本発明による第１の実施の形態に係る静電アクチュエータを用いた駆動用電極基板と、保持用電極基板を模式的に示す平面図
【図４】本発明による第１の実施の形態に係る静電アクチュエータを模式的に示す縦断面図
【図５】本発明による第２の実施の形態に係る静電アクチュエータを用いた撮像装置の第１の可動子を模式的に示す斜視図
【図６】本発明による静電アクチュエータの実施例の第１の可動子の滑り出し角度を示す図
【符号の説明】
【００６２】
１０  撮像装置
２０  撮像素子部
２１  基板
２２  センサ
２３  電子部品
２４  駆動制御回路
３０  ズームレンズユニット
３１  カバー
４０  固定子
４１  固定子枠
４１ａ  上方内面
４１ｂ  下方内面
４２  駆動用電極基板
４２ａ、４２ｂ、４２ｃ、４２ｄ  駆動用電極
４３  保持用電極基板
４３ａ  ストライプ電極
４３ｂ  ストライプ電極
５０、５０ｂ  第１の可動子
５１、５１ｂ、６１  支持体
５２、６２  可動子側駆動用電極
５３  第１可動子電極
５４、６４  レンズ
５５  ストッパ
６０  第２の可動子
６３  第２可動子電極
７０  膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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