(57)【要約】【課題】  耐熱性および透明性に優れた表示素子用プラスチック基板を提供する。【解決手段】  ２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）であって、オキシラン酸素濃度から求めた純度（オキシラン酸素濃度の測定値／構造式中のオキシラン酸素の割合×１００）が８５％以上であるエポキシ樹脂を構成成分として含む表示素子用プラスチック基板。２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）は、脂環式エポキシ樹脂または、水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂が好ましく、また、カチオン硬化系触媒で硬化するのが好ましい。【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）であって、オキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であるエポキシ樹脂を構成成分として含む表示素子用プラスチック基板。
【請求項２】
前記2つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）が下記化学式（１）で示される脂環式エ
ポキシ樹脂である請求項１記載の表示素子用プラスチック基板。
【化１】
2006039331.tif 000007
【請求項３】
前記２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）が下記化学式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂である請求項１記載の表示素子用プラスチック基板。
【化２】
2006039331.tif 000008
【請求項４】
カチオン硬化系触媒（ｂ）で硬化した請求項１〜３いずれか記載の表示素子用プラスチック基板。
【請求項５】
前記カチオン系硬化触媒（ｂ）が、活性エネルギー線及び／又は加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出する開始剤であり、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アルミニウムキレートから選ばれた1種以上である請求項１〜４いずれか記載の表示
素子用プラスチック基板。
【請求項６】
ガラス転移温度が２００℃以上であり、かつ波長４００ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であるである請求項１〜５いずれか記載の表示素子用プラスチック基板
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐熱性および透明性に優れた表示素子用プラスチック基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示素子には薄膜化、軽量化、大型化、曲面表示対応などの高度な要求がある。特に携帯機器については軽量化、高耐久性が強く要求され、これらの利用が拡大されるにつれて、従来のガラス基板に代わり軽くて割れ難い、透明プラスチックを基板とする液晶表示パネルが検討され一部で実用化され始めた。
表示素子用プラスチック基板に用いられる樹脂は例えば特許文献１には脂環式エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤、アルコール、硬化触媒からなる組成物、特許文献２には脂環式エポキシ樹脂、アルコールで部分エステル化した酸無水物系硬化剤、硬化触媒からなる樹脂組成物が、特許文献３には脂環式エポキシ樹脂、カルボン酸を有する酸無水物系硬化剤、硬化触媒からなる樹脂組成物が示されている。しかしながらこれらの文献に示される従来の表示素子基板用樹脂は、透明性は高いもののガラス転移温度が２００℃以下であり高温プロセスを必要とする場合には高温での基板の強度や弾性率が不十分で基板が変形するおそれがあった。
【０００３】
【特許文献１】特開平６−３３７４０８
【特許文献２】特開２００１−５９０１５
【特許文献３】特開２００１−５９０１４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は耐熱性および透明性が高い表示素子用プラスチック基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した。その結果、２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）であって、オキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であるエポキシ樹脂を構成成分として含む表示素子用プラスチック基板が液晶表示素子、カラーフィルター、有機ＥＬ表示素子、電子ペーパー等の表示素子に好適に利用できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち本発明は
（１）  ２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）であって、オキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であるエポキシ樹脂を構成成分として含む表示素子用プラスチック基板、
（２）  前記２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）が下記化学式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂である（１）の表示素子用プラスチック基板、
【化３】
2006039331.tif 000002
（３）  前記２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）が下記化学式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂である（１）の表示素子用プラスチック基板、
【化４】
2006039331.tif 000003
（４）  カチオン硬化系触媒（ｂ）で硬化した（１）〜（３）いずれかの表示素子用プラスチック基板、
（５）  前記カチオン系硬化触媒（ｂ）が、加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出する開始剤であり、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アルミニウムキレートから選ばれた1種以上である（１）〜（４）の表示素子基板用エポキシ樹脂組成物
、
（６）  ガラス転移温度が２００℃以上であり、かつ波長４００ｎｍ以上における光線透過率が８０％以上であるである（１）〜（５）いずれかの表示素子用プラスチック基板、である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の表示素子用プラスチック基板は耐熱性、及び透明性に優れ、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ用基板、タッチパネル、電子ペーパーなどに好適に利用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いられるエポキシ樹脂は、２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）であって、オキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上である。好ましくは、９０％以上、より好ましくは９２％以上、最も好ましくは９５％以上である。ここで、オキシラン酸素濃度から求めた純度とは、（オキシラン酸素濃度の測定値）／（構造式中のオキシラン酸素の割合）×１００  で求めることができる。また、オキシラン酸素濃度は、ＡＳＴＭ−１６５２に従って測定できる。本発明者らは、オキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以下のエポキシ樹脂を用いて表示素子用プラスチック基板を作成すると、耐熱性や耐薬品性が劣り、好ましくないことを見出した。
前記２つ以上のエポキシ基を有する化合物（ａ）の好ましい例としては、特に限定されないが、表示素子用プラスチック基板に適した耐熱性と透明性を有することから脂環式エポキシ樹脂が好ましい。中でも一般式（１）で表される脂環式エポキシ樹脂、一般式（２）で表される水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂がより好ましく、一般式（１）で表される脂環式エポキシ樹脂の中では、Ｘが−Ｃ(ＣＨ3)2−である２，２−ビス（３’，４’
−エポキシシクロヘキシル）プロパンがさらに好ましい。
【０００９】
【化５】
2006039331.tif 000004
【００１０】
【化６】
2006039331.tif 000005
【００１１】
本発明で用いられるカチオン系硬化触媒（ｂ）としては、加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出する開始剤や活性エネルギー線によってカチオン重合を開始させる物質を放出させる開始剤などがあげられるが、耐熱性が高い硬化物が得られることから加熱によりカチオン重合を開始する物質を放出する開始剤、すなわち熱カチオン系硬化触媒が好ましい。
【００１２】
好ましい熱カチオン硬化触媒としては、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アルミニウムキレートなどがある。具体的な例としては、芳香族スルホニウム塩としては三新化学工業製のＳＩ−６０Ｌ、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００Ｌ、旭電化工業製のＣＰ−６６やＣＰ−７７などがあり、アルミニウムキレートとしては、ダイセル化学工業製ＤＡＩＣＡＴ  ＥＸ−１などがあげられる。
【００１３】
本発明の表示素子用プラスチック基板を液晶表示素子用基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル用基板、電子ペーパー用基板等として用いる場合は、基板の厚さが５０〜２０００μｍであることが好ましく、ガラス転移温度が２００℃以上であり、かつ波長４００ｎｍの光線透過率が８０％以上であることが好ましい。基板の厚さがこの範囲内にあれば、平坦性に優れ、ガラス基板と比較して、基板の軽量化を図ることができる。ガラス転移温度は、より好ましくは２２０℃以上、最も好ましくは２５０℃以上である。ガラス転移温度が２００℃以下であると高温プロセスにおいて、高温での基板の強度や弾性率が低下し、基板が変形する恐れがある。波長４００ｎｍの光線透過率は、より好ましくは８５％以上である。波長４００ｎｍの光線透過率が８０％以下の場合は、着色が認められる傾向にあり好ましくない。
【実施例】
【００１４】
以下、本発明の内容を実施例により詳細に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り以下の例に限定されるものではない。
【００１５】
（実施例１）
オキシラン酸素濃度から求めた純度が８７％の水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂（Ｅ−ＢＰ）１００重量部に芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学工業製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合し、８０℃／２ｈ、２００℃／２ｈ硬化し厚さ３００μｍのシートを得た。
（実施例２）
オキシラン酸素濃度から求めた純度が９５％の２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン（Ｅ−ＤＯＡ）１００重量部に芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学工業製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合し、８０℃／２ｈ、２５０℃／２ｈ硬化し厚さ３００μｍのシートを得た。
（実施例３）
オキシラン酸素濃度から求めた純度が９８％の２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン（Ｅ−ＤＯＡ）１００重量部に芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学工業製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合し、８０℃／２ｈ、２５０℃／２ｈ硬化し厚さ３００μｍのシートを得た。
【００１６】
（比較例１）
オキシラン酸素濃度から求めた純度が８０％の２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン（Ｅ−ＤＯＡ）１００重量部に芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学工業製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合し、８０℃／２ｈ、２５０℃／２ｈ硬化し厚さ３００μｍのシートを得た。
以上のようにして作製した光学シートについて、下記に示す評価方法により、各種特性を測定した。
【００１７】
実施例、比較例の配合及び結果を表１、表２にそれぞれ示す。
ａ）耐熱性（Ｔｇ）
セイコー電子（株）製ＤＭＳ―２１０型粘弾性測定装置で測定し、１Ｈｚでのｔａｎδの最大値をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
ｂ）光線透過率
分光光度計Ｕ３２００（島津製作所製）で４００ｎｍ及び５５０ｎｍの光線透過率を測定した。
【００１８】
【表１】
2006039331.tif 000006
【００１９】
オキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上のエポキシ樹脂からなる実施例１、２および３の表示素子用プラスチック基板はガラス転移温度が２５０℃以上でかつ光線透過率も８５％で以上であり、耐熱性、透明性ともに優れていた。一方、純度が８０％の比較例−１ではガラス転移温度が２００℃以下であり、耐熱性が実施例に比較して劣っていた。
【産業上の利用可能性】
【００２０】
本発明のエポキシ樹脂組成物は液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、タッチパネル、電子ペーパー等に好適に利用できる。