(57)【要約】【課題】本発明は、液晶表示装置に関し、低い製造コスト及び容易な製造工程で狭額縁化が可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】対向配置された一対の基板２、４と、基板２、４間の外周部に形成され、基板２、４を貼り合わせるシール材５６と、シール材５６が基板２、４の端辺２ａ、４ａ側で部分的に開口された液晶注入口５７と、基板２、４間に充填された液晶と、基板４上に形成され、基板２、４が貼り合わされたときにシール材５６が端辺２ａ、４ａ側に延伸するのを抑制する凸状構造物６０と、液晶注入口５７を封止する封止材５８とを有するように構成する。【選択図】図２
2006098609.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間の外周部に形成され、前記一対の基板を貼り合わせるシール材と、
前記シール材が前記一対の基板の一端辺側で部分的に開口された液晶注入口と、
前記一対の基板間に充填された液晶と、
前記一対の基板の少なくとも一方に形成され、前記一対の基板が貼り合わされたときに前記シール材が前記一端辺側に延伸するのを抑制する構造物と、
前記液晶注入口を封止する封止材と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記構造物は、前記一端辺にほぼ平行に延びていること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、
前記構造物は凸形状を有し、前記シール材と前記一端辺との間に配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３記載の液晶表示装置において、
前記シール材は、前記一対の基板の外周部に沿う枠状部と、前記液晶注入口を挟んだ両側で前記枠状部から前記一端辺側に向かって延びる首状部とを有し、
前記構造物は、前記シール材の両端部と前記一端辺との間に配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、
前記構造物は凹形状を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項５記載の液晶表示装置において、
前記シール材は、前記一対の基板の外周部に沿う枠状部と、前記液晶注入口を挟んだ両側で前記枠状部から前記一端辺側に向かって延びる首状部とを有し、
前記首状部の少なくとも一部は、前記構造物に重なって配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子機器の表示部等に用いられる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１５は、ディップ式の真空注入法を用いて作製された従来の一般的な液晶表示パネルの構成を示している。図１５に示すように、液晶表示パネル１０１は、対向配置された一対の透明な基板１０２、１０４と、両基板１０２、１０４間に挟持された液晶と、液晶を外部と隔離させるために両基板１０２、１０４の外周部に塗布形成されたシール材１５６とを有している。液晶表示パネル１０１の一端辺側には、シール材１５６の切れ目である液晶注入口１５７が形成されている。液晶注入口１５７は、封止材１５８により封止されている。基板１０２、１０４の一方には、表示領域を画定し、表示領域の外側の額縁領域を遮光する遮光膜（ＢＭ）１４８が形成されている。
【０００３】
シール材１５６は、液晶表示パネル１０１の外周部に沿って枠状に形成された枠状部１５６ａと、液晶注入口１５７を挟んだ両側で液晶表示パネル１０１の一端辺側に向かって延びる首状部１５６ｂとを有している。一般に、未硬化の状態で液晶に接触する封止材１５８には、熱硬化型樹脂ではなく紫外線硬化型樹脂が用いられる。このため、液晶注入口１５７に塗布される封止材１５８が、紫外線を遮蔽してしまうＢＭ１４８の形成領域にまで侵入しないように、シール材１５６には首状部１５６ｂが設けられる。
【０００４】
一般的な液晶表示パネルの製造工程のうちパネル工程では、まず所定の工程を経て作製された一対の基板１０２、１０４の一方のパネル毎の外周部に、熱硬化型のシール材１５６を一部が液晶注入口１５７として開口されるように描画する。次に、両基板１０２、１０４を重ね合わせ、加圧しながら加熱して両基板１０２、１０４を貼り合わせて所定のセルギャップを形成するホットプレス工程を行う。次に、貼り合わせた基板１０２、１０４をスクライブ工程及びブレーク工程によりパネル毎に分断し、複数の空セルを作製する。次に、ディップ式の真空注入法を用い、液晶注入口１５７から空セル内に液晶を注入する。次に、液晶注入口１５７に紫外線硬化型の封止材１５８を塗布し、紫外線を照射して封止材１５８を硬化させる。以上の工程により液晶表示パネル１０１が作製される。
【０００５】
ところで、図１５に示したような形状にシール材１５６が形成されると、首状部１５６ｂの先端である端部１５６ｃは、液晶表示パネル１０１の一端辺、すなわち基板１０２、１０４の分断面１０２ａ、１０４ａに近接することになる。端部１５６ｃと分断面１０２ａ、１０４ａとの距離ｄは、パネル分断工程及び液晶封止工程等に影響する。距離ｄが長いと、封止材１５８による液晶注入口１５７の封止が困難になり、液晶の漏れが生じ易くなる。それとともに、液晶表示装置の額縁領域が広くなってしまう。したがって、液晶表示装置の高歩留り及び狭額縁化のためには、距離ｄを短くする方がよい。しかし一方で、端部１５６ｃが分断面１０２ａ、１０４ａより外側に位置してしまうと、ブレーク工程でのパネルの分断が困難になるため、距離ｄをある程度長くする必要がある。
【０００６】
このように、シール材１５６の端部１５６ｃの分断面１０２ａ、１０４ａに対する位置は正確に制御される必要がある。ところが、シール材１５６の塗布位置やパネル毎の分断位置には誤差が生じる。また、ホットプレス工程においては、両基板１０２、１０４が外側から加圧されることによってシール材１５６の幅が広くなるとともに長さも長くなる。このため、基板貼合せ後の端部１５６ｃの位置は、基板貼合せ前の位置よりも分断面１０２ａ、１０４ａ側に移動する。したがって、シール材１５６の端部１５６ｃと分断面１０２ａ、１０４ａとの間の距離ｄを正確に制御するのは困難である。
【０００７】
多面取り方式の場合、複数枚のパネルがマザーガラス上にレイアウトされる。シール材１５６の端部１５６ｃが分断面１０２ａ、１０４ａより外側に位置してしまう場合があることを考慮すると、マザーガラス上で隣接するパネル間の間隔を空ける必要がある。このため、面取り数が減少するという不具合が生じ、液晶表示パネル１枚当たりの製造コストが増加してしまうという問題が生じる。
【０００８】
図１６は、従来の液晶表示パネルの他の構成を示している。図１５に示した構成では、シール材１５６の枠状部と首状部が連続的に描画されるが、図１６に示す構成では、枠状部のシール材１６０を描画する工程と、首状部のシール材１５９を描画する土手付け工程とよばれる工程との２工程によりシール材１５９、１６０が塗布される。シール材１５９、１６０を独立した２工程で描画することによって、枠状部と首状部との境界近傍でシール材が円弧状に描画されてしまうことがなくなる。しかしながらこの構成では、上記と同様の問題が生じるのに加えて、シール材塗布工程が煩雑になるという問題も生じる。
【０００９】
【特許文献１】特開平７−１５９７９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、低い製造コスト及び容易な製造工程で狭額縁化が可能な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的は、対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間の外周部に形成され、前記一対の基板を貼り合わせるシール材と、前記シール材が前記一対の基板の一端辺側で部分的に開口された液晶注入口と、前記一対の基板間に充填された液晶と、前記一対の基板の少なくとも一方に形成され、前記一対の基板が貼り合わされたときに前記シール材が前記一端辺側に延伸するのを抑制する構造物と、前記液晶注入口を封止する封止材とを有することを特徴とする液晶表示装置によって達成される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、低い製造コスト及び容易な製造工程で狭額縁化が可能な液晶表示装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
〔第１の実施の形態〕
本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置について図１乃至図８を用いて説明する。まず、本実施の形態による液晶表示装置の概略構成について説明する。図１は、本実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示している。図１に示すように、液晶表示装置は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板２と、対向基板４と、両基板２、４間に封止された液晶６（図示せず）とを備えた液晶表示パネル１を有している。ＴＦＴ基板２には、絶縁膜を介して互いに交差するゲートバスライン及びドレインバスラインと、画素毎に配置されたＴＦＴ及び画素電極とが形成されている。対向基板４には、カラーフィルタ（ＣＦ）や共通電極が形成されている。
【００１４】
ＴＦＴ基板２には、複数のゲートバスラインを駆動するドライバＩＣが実装されたゲートバスライン駆動回路８０と、複数のドレインバスラインを駆動するドライバＩＣが実装されたドレインバスライン駆動回路８２とが接続されている。これらの駆動回路８０、８２は、制御回路８４から出力された所定の信号に基づいて、走査信号やデータ信号を所定のゲートバスラインあるいはドレインバスラインに出力するようになっている。ＴＦＴ基板２のＴＦＴ素子形成面と反対側の面には偏光板８７が配置され、対向基板４の共通電極形成面と反対側の面には、偏光板８７とクロスニコルに配置された偏光板８６が配置されている。偏光板８７のＴＦＴ基板２と反対側の面にはバックライトユニット８８が配置されている。
【００１５】
図２は本実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示し、図３は図２のＡ−Ａ線で切断した液晶表示パネル１の断面構成を示している。図２及び図３に示すように、ＴＦＴ基板２及び対向基板４間の外周部には、両基板２、４を貼り合わせる熱硬化型のシール材５６と、シール材５６の一部が開口された液晶注入口５７とが形成されている。シール材５６は、液晶表示パネル１の外周部の各端辺に沿って枠状に形成された枠状部５６ａと、液晶注入口５７を挟んだ両側で枠状部５６ａから液晶表示パネル１の端辺１ａ側に向かって延びる首状部５６ｂとを有している。首状部５６ｂの端部と液晶表示パネル１の端辺１ａとの間には、端辺１ａにほぼ平行に延びる断面凸形状の凸状構造物６０が対向基板４側に形成されている。凸状構造物６０は、基板２、４を貼り合わせたときに、シール材５６が端辺１ａ側に延伸するのを抑制するために設けられている。これにより首状部５６ｂの先端部５６ｄは、凸状構造物６０に沿って図中左右の２方向に延びている。凸状構造物６０は、表示領域αに形成される赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）各色のＣＦ樹脂層４０のいずれかと同一の形成材料で同時に形成されている。シール材５６が形成される面を基準にすると、凸状構造物６０の高さは例えば１〜２μｍ程度である。また、Ｒ、Ｇ、ＢのＣＦ樹脂層４０とそれぞれ同一の形成材料からなりそれぞれ同時に形成される層を複数積層することにより、凸状構造物６０の高さをさらに高くすることもできる。液晶注入口５７は、紫外線硬化型の封止材５８（図３では図示せず）により封止されている。また対向基板４上には、表示領域αを画定し、表示領域αの外側の額縁領域を遮光するＢＭ４８（図３では図示せず）が形成されている。
【００１６】
ここで、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、所定の工程によりＴＦＴ基板２及び対向基板４を作製する。対向基板４を作製する際には、基板貼合せ後に液晶注入口５７となる領域と、パネル毎に分断される際に分断面４ａとなる領域との間に、図２に示したような凸状構造物６０を形成する。凸状構造物６０は、例えばＲ、Ｇ、Ｂ各色のＣＦ樹脂層４０とそれぞれ同一の形成材料からなりそれぞれ同時に形成される層を３層積層して形成される。
【００１７】
次に、ＴＦＴ基板２及び対向基板４のうち一方のパネル毎の外周部に、熱硬化型のシール材５６を一部が液晶注入口５７として開口されるように描画する。シール材５６の描画は、ディスペンサ方式又はスクリーン印刷方式を用いて行われる。次に、両基板２、４を重ね合わせて、加圧しながら加熱して両基板２、４を貼り合わせ、シール材５６を硬化させるホットプレス工程を行う。次に、貼り合わせた両基板２、４をスクライブ工程及びブレーク工程によりパネル毎に分断し、複数の空セルを作製する。
【００１８】
図４は作製された空セルの構成を示し、図５は図４のＢ−Ｂ線で切断した空セルの断面構成を示している。なお図４では、基板貼合せ前のシール材５４を併せて示している。図４及び図５に示すように、凸状構造物６０は、Ｒ、Ｇ、ＢのＣＦ樹脂層４０とそれぞれ同一の形成材料からなる層を３層積層して形成され、両基板２、４の分断面２ａ、４ａにほぼ平行に延びている。凸状構造物６０の幅は１５０〜２００μｍ程度であり、高さは３．１〜３．５μｍ程度である。また、基板貼合せ前のシール材５４の幅は２００〜３００μｍ程度である。基板貼合せ後のシール材５６の幅は１１００〜１３００μｍ程度であり、高さ（シールギャップ）は６．２μｍ程度である。
【００１９】
凸状構造物６０を有さない従来の構成では、基板貼合せ前のシール材５４の先端５４ａから、基板貼合せによって分断面２ａ’、４ａ’側に延伸したシール材５６’の先端５６ｃまでの距離は、６００〜８００μｍ程度であった。このため、１５０μｍ程度のスクライブマージンを含め、シール材５４の先端５４ａと分断面２ａ’、４ａ’との間を間隔８５０μｍ程度（７５０〜９５０μｍ）空ける必要があった。
【００２０】
これに対して本実施の形態では、凸状構造物６０により、分断面２ａ、４ａ側へのシール材５６の延伸が抑制され、基板貼合せ時のシール材５６の先端部５６ｄは凸状構造物６０に沿う２方向（又は１方向）に延伸する。このため、基板貼合せ前のシール材５４の先端５４ａと分断面２ａ、４ａとの間に必要な間隔は、従来の８５０μｍよりも４００μｍ狭い４５０μｍ程度である。したがって、本実施の形態によれば、液晶表示パネル１の液晶注入口５７側の額縁領域を狭くすることができる。
【００２１】
次に、ディップ式の真空注入法を用い、液晶注入口５７から空セル内に液晶６を注入する。ディップ式の真空注入法では、真空中で液晶注入口５７を液晶皿に満たした液晶に接触させ、大気圧に戻すことによって毛細管現象により空セル内に液晶６を充填する。次に、液晶注入口５７に紫外線硬化型の封止材５８を塗布し、紫外線を照射して封止材５８を硬化させる。以上の工程により液晶表示パネル１が作製される。その後、所定のモジュール工程を経て、液晶表示装置が完成する。
【００２２】
本実施の形態では、分断面２ａ、４ａ側へのシール材５６の延伸を凸状構造物６０により抑制しているため、シール材５６の端部と分断面２ａ、４ａとの距離ｄをほぼ一定に制御できる。このため、液晶表示パネル１の額縁領域を狭くでき、多面取り方式の場合でも面取り数の減少が生じない。また凸状構造物６０は、ＣＦ樹脂層４０と同一の形成材料で同時に形成されるため、製造工程及び製造コストが増加することもない。したがって、本実施の形態によれば、低い製造コスト及び容易な製造工程で狭額縁化が可能な液晶表示装置を実現できる。
【００２３】
図６は本実施の形態による液晶表示パネル１の構成の変形例を示し、図７は図６のＣ−Ｃ線で切断した液晶表示パネル１の断面構成を示している。図６及び図７に示すように、本変形例の液晶表示パネル１は、例えば負の誘電率異方性を有する液晶６の配向を規制する配向規制用突起４２を表示領域αに有している。広視野角の得られる垂直配向（ＶＡ）モードの液晶表示装置では、配向規制用突起４２が一般に形成される。配向規制用突起４２は、例えばフォトリソグラフィ工程でエッチングマスクの形成材料として用いられるレジスト材料等の非導電性材料で形成される。本変形例では、端辺１ａ側へのシール材５６の延伸を抑制する凸状構造物６１が、配向規制用突起４２と同一の形成材料で同時に形成されている。凸状構造物６１の高さは、例えば１．５〜２．５μｍ程度である。なお、本例では凸状構造物６１を対向基板４側に形成しているが、ＴＦＴ基板２側に形成してもよい。本変形例によっても、図２乃至図５に示した構成と同様の効果が得られる。
【００２４】
図８は、本実施の形態による液晶表示パネル１の構成の他の変形例である。図８に示すように、本変形例では、ＣＦ樹脂層４０と同一の形成材料で同時に形成された第１層４１と、配向規制用突起４２と同一の形成材料で同時に形成された第２層４３とを積層することにより、凸状構造物６２を形成している。第１層４１と第２層４３とを積層することによって、凸状構造物６２の高さは４．６〜５．０μｍとなり、図５に示した凸状構造物６０や図７に示した凸状構造物６１の高さより高くなる。凸状構造物６２の高さを高くすることによって、端辺１ａ側へのシール材５６の延伸を抑制する効果がより高まる。なお、一般に液晶や封止材はシール材よりも粘度が低いため、シールギャップ（６．２μｍ）と凸状構造物６２の高さとの差が１μｍ程度あれば、液晶６を注入する際、及び液晶注入口５７を封止する際に支障が生じることはない。
【００２５】
〔第２の実施の形態〕
次に、本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置について図９及び図１０を用いて説明する。図９は、本実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示し、図１０は図９のＤ−Ｄ線で切断した液晶表示パネル１の断面構成を示している。図９及び図１０に示すように、本実施の形態では、端辺１ａ側へのシール材５６の延伸を抑制するために、端辺１ａにほぼ平行に延びる断面凹形状の凹状構造物６３がＴＦＴ基板２側に形成されている。凹状構造物６３は、ＴＦＴ基板２のゲートバスライン上に形成されるシリコン窒化膜（ＳｉＮ膜）やドレインバスライン上に形成されるＳｉＮ膜等の絶縁膜３０を部分的に除去して形成されている。凹状構造物６３の形成は、例えばＴＦＴのソース電極上、ゲートバスラインに接続されるゲートバスライン端子上、及びドレインバスラインに接続されるドレインバスライン端子上の絶縁膜３０を除去してコンタクトホールを形成する工程と同時に行われる。凹状構造物６３の深さは、例えば０．７〜０．９μｍである。シール材５６の首状部５６ｂの一部は凹状構造物６３に重なって配置され、首状部５６ｂの先端部５６ｄは、凹状構造物６３の例えば側壁に沿って図中左右の２方向に延びている。
【００２６】
本実施の形態による液晶表示装置の製造工程のホットプレス工程において、凹状構造物６３より内側に塗布されたシール材５６の首状部５６ｂは分断面２ａ、４ａ側に延びるが、凹状構造物６３に流れ込んだ後は凹状構造物６３に沿う２方向（又は１方向）に延伸する。したがって、本実施の形態によれば、シール材５６の端部と分断面２ａ、４ａとの距離ｄをほぼ一定に制御できる。このため、液晶表示パネル１の額縁領域を狭くでき、多面取り方式の場合でも面取り数の減少が生じない。また凹状構造物６３は、ＴＦＴのソース電極上などの絶縁膜３０を除去してコンタクトホールを形成するのと同時に形成されるため、製造工程が増加することもない。したがって、本実施の形態によれば、低い製造コスト及び容易な製造工程で狭額縁化が可能な液晶表示装置を実現できる。
【００２７】
〔第３の実施の形態〕
次に、本発明の第３の実施の形態による液晶表示装置について図１１乃至図１４を用いて説明する。図１１は、本実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示し、図１２は図１１のＥ−Ｅ線で切断した液晶表示パネル１の断面構成を示している。本実施の形態による液晶表示装置は、ＢＭ−ｏｎ−Ａｒｒａｙ構造を有している。ＢＭ−ｏｎ−Ａｒｒａｙ構造は画素の開口率を向上させる技術であり、ＴＦＴ基板２上に形成されるゲートバスライン及びドレインバスラインが画素領域間を遮光するＢＭとして用いられる。対向基板４側には画素領域間を遮光するＢＭが形成されていないため、両基板２、４の貼合せ精度等を考慮する必要がなく、高い開口率が得られる。ＢＭ−ｏｎ−Ａｒｒａｙ構造では、基板面に垂直に見ると画素電極端部がバスラインに重なって配置される。したがって、画素電極とバスラインとの間に形成される電気容量を低減させるために、図１１及び図１２に示すように、感光性樹脂等からなり比較的膜厚の厚い（２〜３μｍ程度）オーバーコート（ＯＣ）層３２がドレインバスライン上に形成される。一般にＯＣ層３２は表示領域αのみに形成されるが、本実施の形態では表示領域αの外側にもＯＣ層３２が形成されている。なお本例では、表示領域α周囲の額縁領域を遮光するＢＭ４８は対向基板４上に設けられている。
【００２８】
シール材５６の首状部５６ｂの端部近傍には、端辺１ａ側へのシール材５６の延伸を抑制するために、端辺１ａにほぼ平行に延びる断面凹形状の凹状構造物６４がＴＦＴ基板２側に形成されている。本実施の形態の凹状構造物６４は、液晶注入口５７の外側に向かう方向にのみ延びている。また、シール材５６の形成される領域の基板表面は平坦であることが望ましいため、本実施の形態では、ＴＦＴ基板２外周のシール材５６の描画される領域にも凹状構造物６５が形成されている。凹状構造物６４、６５は、ＯＣ層３２を部分的に除去して形成される。シール材５６は凹状構造物６５に重なって配置され、首状部５６ｂの一部は凹状構造物６４に重なって配置されている。首状部５６ｂの先端部５６ｄは、凹状構造物６４の例えば端辺１ａ側の側壁に沿って液晶注入口５７の外側に向かう方向に延びている。
【００２９】
ここで、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、所定の工程によりＯＣ層３２を備えたＴＦＴ基板２と対向基板４とを作製する。ＴＦＴ基板２を作製する際には、図１１に示したように、シール材５６が塗布される領域のＯＣ層３２を除去して凹状構造物６５を形成し、シール材５６の首状部５６ｂの端部が配置される領域近傍のＯＣ層３２を除去して凹状構造物６４が形成される。
【００３０】
次に、ＴＦＴ基板２及び対向基板４のうち一方のパネル毎の外周部に、熱硬化型のシール材５６を一部が液晶注入口５７として開口されるように描画する。シール材５６の描画は、ディスペンサ方式又はスクリーン印刷方式を用いて行われる。次に、両基板２、４を重ね合わせて、加圧しながら加熱して両基板２、４を貼り合わせ、シール材５６を硬化させるホットプレス工程を行う。次に、貼り合わせた両基板２、４をスクライブ工程及びブレーク工程によりパネル毎に分断し、複数の空セルを作製する。
【００３１】
図１３は、作製された空セルの構成を示し、図１４は図１３のＦ−Ｆ線で切断した空セルの断面構成を示している。なお図１３では、基板貼合せ前のシール材５４を併せて示している。図１３及び図１４に示すように、基板貼合せ前のシール材５４の幅は２００〜３００μｍ程度である。基板貼合せ後のシール材５６の幅は１１００〜１３００μｍ程度であり、高さ（シールギャップ）は８．２μｍ程度である。
【００３２】
凹状構造物６４を有さない従来の構成では、基板貼合せ前のシール材５４の先端５４ａから、基板貼合せによって分断面２ａ’、４ａ’側に延伸したシール材５６’の先端５６ｃまでの距離は、６００〜８００μｍ程度であった。このため、１５０μｍ程度のスクライブマージンを含め、シール材５４の先端５４ａと分断面２ａ’、４ａ’との間を間隔８５０μｍ程度（７５０〜９５０μｍ）空ける必要があった。
【００３３】
これに対して本実施の形態では、凹状構造物６４により、分断面２ａ、４ａ側へのシール材５６の延伸が抑制され、基板貼合せ時のシール材５６の先端部５６ｄは、凹状構造物６４に沿って液晶注入口５７の外側に向かう方向に延伸する。このため、基板貼合せ前のシール材５４の先端５４ａと分断面２ａ、４ａとの間に必要な間隔は、従来の８５０μｍよりも４００μｍ狭い４５０μｍ程度である。また、凹状構造物６４の分断面２ａ、４ａ側の側壁と分断面２ａ、４ａとの間に必要な間隔は、スクライブマージン分の１５０μｍ程度である。したがって、本実施の形態によれば、液晶表示パネル１の液晶注入口５７側の額縁領域を狭くすることができる。
【００３４】
次に、ディップ式の真空注入法を用い、液晶注入口５７から空セル内に液晶６を注入する。ディップ式の真空注入法では、真空中で液晶注入口５７を液晶皿に満たした液晶に接触させ、大気圧に戻すことによって毛細管現象により空セル内に液晶６を充填する。次に、液晶注入口５７に紫外線硬化型の封止材５８を塗布し、紫外線を照射して封止材５８を硬化させる。以上の工程により液晶表示パネル１が作製される。その後、所定のモジュール工程を経て、液晶表示装置が完成する。
【００３５】
本実施の形態では、分断面２ａ、４ａ側へのシール材５６の延伸を凹状構造物６４により抑制しているため、シール材５６の端部と分断面２ａ、４ａとの距離ｄをほぼ一定に制御できる。このため、液晶表示パネル１の額縁領域を狭くでき、多面取り方式の場合でも面取り数の減少が生じない。また凹状構造物６４（及び６５）は、ＯＣ層３２のパターニング形状を変更するだけで形成できるため、製造工程及び製造コストが増加することもない。したがって、本実施の形態によれば、低い製造コスト及び容易な製造工程で狭額縁化が可能な液晶表示装置を実現できる。
【００３６】
なお、本例ではＴＦＴ基板２上のＯＣ層３２を除去して凹状構造物６４、６５を形成しているが、対向基板４側にＯＣ層３２が形成される場合には凹状構造物６４、６５を対向基板４側に形成することもでき、もちろんＴＦＴ基板２及び対向基板４の双方に凹状構造物６４、６５を形成することもできる。両基板２、４の双方に凹状構造物６４、６５を形成すれば、分断面２ａ、４ａ側へのシール材５６の延伸をより確実に抑制できる。
【００３７】
本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態ではアクティブマトリクス型の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、単純マトリクス型の液晶表示装置にも適用できる。
【００３８】
以上説明した実施の形態による液晶表示装置は、以下のようにまとめられる。
（付記１）
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間の外周部に形成され、前記一対の基板を貼り合わせるシール材と、
前記シール材が前記一対の基板の一端辺側で部分的に開口された液晶注入口と、
前記一対の基板間に充填された液晶と、
前記一対の基板の少なくとも一方に形成され、前記一対の基板が貼り合わされたときに前記シール材が前記一端辺側に延伸するのを抑制する構造物と、
前記液晶注入口を封止する封止材と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
（付記２）
付記１記載の液晶表示装置において、
前記構造物は、前記一端辺にほぼ平行に延びていること
を特徴とする液晶表示装置。
（付記３）
付記１又は２に記載の液晶表示装置において、
前記構造物は凸形状を有し、前記シール材と前記一端辺との間に配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
（付記４）
付記３記載の液晶表示装置において、
前記シール材は、前記一対の基板の外周部に沿う枠状部と、前記液晶注入口を挟んだ両側で前記枠状部から前記一端辺側に向かって延びる首状部とを有し、
前記構造物は、前記シール材の両端部と前記一端辺との間に配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
（付記５）
付記３又は４に記載の液晶表示装置において、
前記一対の基板の一方に形成されたカラーフィルタ樹脂層をさらに有し、
前記構造物は、前記カラーフィルタ樹脂層と同一の形成材料で形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
（付記６）
付記３又は４に記載の液晶表示装置において、
前記液晶を配向規制するために前記一対の基板の一方に形成された配向規制用突起をさらに有し、
前記構造物は、前記配向規制用突起と同一の形成材料で形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
（付記７）
付記１又は２に記載の液晶表示装置において、
前記構造物は凹形状を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
（付記８）
付記７記載の液晶表示装置において、
前記シール材は、前記一対の基板の外周部に沿う枠状部と、前記液晶注入口を挟んだ両側で前記枠状部から前記一端辺側に向かって延びる首状部とを有し、
前記首状部の少なくとも一部は、前記構造物に重なって配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
（付記９）
付記７又は８に記載の液晶表示装置において、
前記構造物は、前記一対の基板の一方に形成された絶縁膜を部分的に除去して形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
（付記１０）
付記７又は８に記載の液晶表示装置において、
前記一対の基板の一方に形成されたオーバーコート層をさらに有し、
前記構造物は、前記オーバーコート層を部分的に除去して形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の製造工程における空セルの構成を示す図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の製造工程における空セルの構成を示す断面図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の構成の変形例を示す図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の構成の変形例を示す断面図である。
【図８】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の構成の他の変形例を示す断面図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示す図である。
【図１０】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示す断面図である。
【図１１】本発明の第３の実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示す図である。
【図１２】本発明の第３の実施の形態による液晶表示装置の液晶表示パネル１の構成を示す断面図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態による液晶表示装置の製造工程における空セルの構成を示す図である。
【図１４】本発明の第３の実施の形態による液晶表示装置の製造工程における空セルの構成を示す断面図である。
【図１５】従来の液晶表示パネルの構成を示す図である。
【図１６】従来の他の液晶表示パネルの構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
１  液晶表示パネル
１ａ  端辺
２  ＴＦＴ基板
２ａ、４ａ  分断面
４  対向基板
６  液晶
３０  絶縁膜
３２  ＯＣ層
４０  ＣＦ樹脂層
４１  第１層
４２  配向規制用突起
４３  第２層
４８  ＢＭ
５４、５６、５６’  シール材
５４ａ  先端
５６ａ  枠状部
５６ｂ  首状部
５６ｃ  先端
５６ｄ  先端部
５７  液晶注入口
５８  封止材
６０、６１、６２  凸状構造物
６３、６４、６５  凹状構造物
８０  ゲートバスライン駆動回路
８２  ドレインバスライン駆動回路
８４  制御回路
８６、８７  偏光板
８８  バックライトユニット
【図１】
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【図２】
2006098609.tif 000004
【図３】
2006098609.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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