(57)【要約】【課題】  精密な画像を高速に彫刻することが可能な印刷版の製版装置を提供することを目的とする。【解決手段】  レーザ彫刻機は、その外周部にフレキソ感材１０を装着して回転する記録ドラム１１と、この記録ドラム１１の軸線と平行な方向に移動可能に構成された記録ヘッド２０とを備える。記録ヘッド２０は、精密彫刻ビームＬ１を出射する第１レーザ光源２１と、粗彫刻ビームＬ２を出射する第２レーザ光源２４と、精密彫刻ビームＬ１を変調するためのＡＯＭ２２と、精密彫刻ビームＬ１を記録ドラム１１の軸線方向に走査させるＡＯＤ２３と、粗彫刻ビームＬ２を変調するＡＯＭ２５と、合成手段２７と、合成手段２７により合成された精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２をフレキソ感材１０上に集光させる光学系２６とを備える。【選択図】        図１
2006250983.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行うための第１レーザビームを出射する第１照射手段と、
記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うための第２レーザビームを出射する第２照射手段と、
前記第１照射手段から照射される第１レーザビームと前記第２照射手段から照射される第２レーザビームとを前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる第１走査手段と、
前記第１照射手段から照射される第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる第２走査手段と、
を備えたことを特徴とする印刷版の製版装置。
【請求項２】
その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行うための第１レーザビームを出射する第１レーザ光源と、
記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うための第２レーザビームを出射する第２レーザ光源と、
前記第１レーザビームを変調する第１変調手段と、
前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記第２レーザ光源より出射された第２レーザビームを変調する第２変調手段と、
前記偏向器により偏向された第１レーザビームと前記第２変調手段により変調された第２レーザビームとを合成する合成手段と、
前記合成手段により合成された第１、第２レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、
前記光学系を通過して記録材料上に集光した第１、第２レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、
を備えたことを特徴とする印刷版の製版装置。
【請求項３】
その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
第１レーザビームを出射する第１レーザ光源と、
第２レーザビームを出射する第２レーザ光源と、
前記第１レーザビームを変調するための第１変調手段と、
前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記第２レーザビームを変調するための第２変調手段と、
前記偏向器により偏向された第１レーザビームと前記第２変調手段により変調された第２レーザビームとを合成する合成手段と、
前記合成手段により合成された第１、第２レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、
前記光学系を通過して記録材料上に集光した第１、第２レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、を備え、
前記第１レーザビームは記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行い、
前記第２レーザビームは、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うとともに、
前記偏向器は、前記第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させることを特徴とする印刷版の製版装置。
【請求項４】
その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
レーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザビームを、第１レーザビームと第２レーザビームに分割するビームスプリッタと、
前記第１レーザビームまたは前記第２レーザビームの少なくとも一方のビーム径を変更するビーム径変更手段と、
前記第１レーザビームを変調する第１変調手段と、
前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記第２レーザビームを変調する第２変調手段と、
前記偏向器により偏向された第１レーザビームと前記第２変調手段により変調された第２レーザビームとを合成する合成手段と、
前記合成手段により合成された第１、第２レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、
前記光学系を通過して記録材料上に集光した第１、第２レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、を備え、
前記第１レーザビームは記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行い、
前記第２レーザビームは、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うとともに、
前記偏向器は、前記第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させることを特徴とする印刷版の製版装置。
【請求項５】
その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行うための第１レーザビームを出射する第１レーザ光源と、
記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うための第２レーザビームを出射する第２レーザ光源と、
前記第１レーザ光源より出射された第１レーザビームを変調する第１変調手段と、
前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記偏向器により変更された第１レーザビームを記録材料上に集光させる第１の光学系と、
前記第２レーザ光源より出射された第２レーザビームを変調する第２変調手段と、
前記第２変調手段により変調された第２レーザビームを記録材料上に集光させる第２の光学系と、
前記第１の光学系を通過して記録材料上に集光した第１レーザビームと、前記第２の光学系を通過して記録材料上に集光した第２レーザビームとを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、
を備えたことを特徴とする印刷版の製版装置。
【請求項６】
その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
第１レーザビームを出射する第１レーザ光源と、
第２レーザビームを出射する第２レーザ光源と、
前記第１レーザビームを変調する第１変調手段と、
前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記偏向器により変更された第１レーザビームを記録材料上に集光させる第１の光学系と、
前記第２レーザビームを変調する第２変調手段と、
前記第２変調手段により変調された第２レーザビームを記録材料上に集光させる第２の光学系と、
前記第１の光学系を通過して記録材料上に集光した第１レーザビームと、前記第２の光学系を通過して記録材料上に集光した第２レーザビームとを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、を備え、
前記第１レーザビームは記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行い、
前記第２レーザビームは、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うとともに、
前記偏向器は、前記第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させることを特徴とする印刷版の製版装置。
【請求項７】
請求項２乃至請求項６のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記第１の変調手段および前記第２の変調手段は、変調器である印刷版の製版装置。
【請求項８】
請求項２乃至請求項６のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記第１の変調手段は変調器であり、前記第２の変調手段は第２のレーザ光源を制御することにより第２のレーザ光源から変調された第２レーザビームを出射させる手段である印刷版の製版装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記第１レーザビームの前記記録ドラムの軸線方向への走査周波数をＦ１、前記第２変調手段の変調周波数をＦ２、前記第１の画素ピッチをｐｐ、前記第２の画素ピッチをｐｃとしたとき、下記の式を満足する印刷版の製版装置。
Ｆ１＝Ｆ２・（ｐｃ／ｐｐ）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば、フレキソ印刷版等の凸版印刷版や、グラビア版等の凹版印刷版などの印刷版に製版を行う印刷版の製版装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、このような印刷版の製版装置としては、例えば、特許文献１に記載されたレーザ彫刻機が知られている。このレーザ彫刻機は、レーザ光源から出射されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して凸版印刷版を製版するものであり、レーザ光源と、このレーザ光源から出射されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、この記録ドラムの軸線と平行な方向に移動可能に構成され、記録ドラムの外周部に装着された記録材料にレーザ光源から出射されたレーザビームを照射する記録ヘッドとを備える。
【０００３】
このような印刷版の製版装置においては、レーザ光源のパワーと記録材料の感度に基づいて、レーザビームの主走査速度、すなわち、記録ドラムの回転速度が、必要な最大彫刻深さが得られる値に設定される。そして、最大彫刻深さより浅い彫刻領域は、記録材料に照射されるレーザビームのパワーを低下させた状態で彫刻が実行される。このとき、レーザビームによる記録材料の彫刻には、比較的大きなエネルギーが必要であることから、印刷版の製版に比較的長い時間を要するという問題がある。
【０００４】
特許文献２には、複数のレーザビームを同時に記録材料に照射してレリーフを作成する印刷ブロックの製造方法が開示されている。
【０００５】
また、本出願人は、第１のビーム径を有するレーザビームを使用し第１の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行った後、前記第１のビーム径とは異なる第２のビーム径を有するレーザビームを使用し前記第１の画素ピッチとは異なる第２の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行う印刷版の製版装置を提案している（特願２００４−２８６１７５、特願２００４−３５７５８６）。このような製版装置によれば、レーザビームを効率的に使用することにより製版時間を短縮することが可能となる。
【特許文献１】米国特許第５３２７１６７号明細書
【特許文献２】特許第３５５６２０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した特許文献２に記載された印刷ブロックの製造方法においては、複数のレーザビームを同時に記録材料に照射してレリーフを効率的に作成することは可能ではあるが、各レーザビームによる画素ピッチが一定であることから、精密な彫刻を実行することは困難となる。一方、第１のビーム径を有するレーザビームを使用し第１の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行った後、前記第１のビーム径とは異なる第２のビーム径を有するレーザビームを使用し前記第１の画素ピッチとは異なる第２の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行う場合には、精密な彫刻を効率的に実行することができるが、彫刻の完了までに二工程を要するため、彫刻工程のさらなる効率化が望まれる。
【０００７】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、精密な画像を高速に彫刻することが可能な印刷版の製版装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行うための第１レーザビームを出射する第１照射手段と、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うための第２レーザビームを出射する第２照射手段と、前記第１照射手段から照射される第１レーザビームと前記第２照射手段から照射される第２レーザビームとを前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる第１走査手段と、前記第１照射手段から照射される第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる第２走査手段とを備えたことを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行うための第１レーザビームを出射する第１レーザ光源と、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うための第２レーザビームを出射する第２レーザ光源と、前記第１レーザビームを変調する第１変調手段と、前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、前記第２レーザ光源より出射された第２レーザビームを変調する第２変調手段と、前記偏向器により偏向された第１レーザビームと前記第２変調手段により変調された第２レーザビームとを合成する合成手段と、前記合成手段により合成された第１、第２レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、前記光学系を通過して記録材料上に集光した第１、第２レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、第１レーザビームを出射する第１レーザ光源と、第２レーザビームを出射する第２レーザ光源と、前記第１レーザビームを変調するための第１変調手段と、前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、前記第２レーザビームを変調するための第２変調手段と、前記偏向器により偏向された第１レーザビームと前記第２変調手段により変調された第２レーザビームとを合成する合成手段と、前記合成手段により合成された第１、第２レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、前記光学系を通過して記録材料上に集光した第１、第２レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段とを備え、前記第１レーザビームは記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行い、前記第２レーザビームは、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うとともに、前記偏向器は、前記第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させることを特徴とする。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、レーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを、第１レーザビームと第２レーザビームに分割するビームスプリッタと、前記第１レーザビームまたは前記第２レーザビームの少なくとも一方のビーム径を変更するビーム径変更手段と、前記第１レーザビームを変調する第１変調手段と、前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、前記第２レーザビームを変調する第２変調手段と、前記偏向器により偏向された第１レーザビームと前記第２変調手段により変調された第２レーザビームとを合成する合成手段と、前記合成手段により合成された第１、第２レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、前記光学系を通過して記録材料上に集光した第１、第２レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段とを備え、前記第１レーザビームは記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行い、前記第２レーザビームは、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うとともに、前記偏向器は、前記第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させることを特徴とする。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行うための第１レーザビームを出射する第１レーザ光源と、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うための第２レーザビームを出射する第２レーザ光源と、前記第１レーザ光源より出射された第１レーザビームを変調する第１変調手段と、前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、前記偏向器により偏向された第１レーザビームを記録材料上に集光させる第１の光学系と、前記第２レーザ光源より出射された第２レーザビームを変調する第２変調手段と、前記第２変調手段により変調された第２レーザビームを記録材料上に集光させる第２の光学系と、前記第１の光学系を通過して記録材料上に集光した第１レーザビームと、前記第２の光学系を通過して記録材料上に集光した第２レーザビームとを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段とを備えたことを特徴とする。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、第１レーザビームを出射する第１レーザ光源と、第２レーザビームを出射する第２レーザ光源と、前記第１レーザビームを変調する第１変調手段と、前記第１変調手段により変調された第１レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、前記偏向器により偏向された第１レーザビームを記録材料上に集光させる第１の光学系と、前記第２レーザビームを変調する第２変調手段と、前記第２変調手段により変調された第２レーザビームを記録材料上に集光させる第２の光学系と、前記第１の光学系を通過して記録材料上に集光した第１レーザビームと、前記第２の光学系を通過して記録材料上に集光した第２レーザビームとを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段とを備え、前記第１レーザビームは記録材料上において第１のビーム径を有し、第１の画素ピッチで記録材料を照射して、第１の深度まで彫刻を行い、前記第２レーザビームは、記録材料上において前記第１のビーム径より大きい第２のビーム径を有し、前記第１の画素ピッチより大きい第２の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第１の深度よりも深い第２の深度まで彫刻を行うとともに、前記偏向器は、前記第１レーザビームを、記録材料上において前記第２の画素ピッチで、前記記録ドラムの軸線方向に走査させることを特徴とする。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項２乃至請求項６のいずれかに記載の発明において、前記第１の変調手段および前記第２の変調手段は、変調器である。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、請求項２乃至請求項６のいずれかに記載の発明において、前記第１の変調手段は変調器であり、前記第２の変調手段は第２のレーザ光源を制御することにより第２のレーザ光源から変調された第２レーザビームを出射させる手段である。
【００１６】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の発明において、前記第１レーザビームの前記記録ドラムの軸線方向への走査周波数をＦ１、前記第２変調手段の変調周波数をＦ２、前記第１の画素ピッチをｐｐ、前記第２の画素ピッチをｐｃとしたとき、下記の式を満足する。
【００１７】
Ｆ１＝Ｆ２・（ｐｃ／ｐｐ）
【発明の効果】
【００１８】
請求項１乃至請求項９に記載の発明によれば、精密な画像を高速に彫刻することが可能となる。
【００１９】
また、請求項２および請求項３に記載の発明によれば、光学系を共通化して装置のコストを低減することが可能となる。
【００２０】
また、請求項４に記載の発明によれば、単一のレーザ光源を使用して装置のコストを低減することが可能となる。
【００２１】
さらに、請求項５および請求項６に記載の発明によれば、使用するレーザ光源に対応した適切な光学系をを選択することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る印刷版の製版装置であるレーザ彫刻機の概要図であり、図２はその要部を示すブロック図である。
【００２３】
このレーザ彫刻機は、その外周部に凸版印刷版用の記録材料としてのフレキソダイレクト感光材料（以下「フレキソ感材」と呼称する）１０を装着する記録ドラム１１と、この記録ドラム１１の軸線と平行な方向に移動可能に構成された記録ヘッド２０とを備える。
【００２４】
記録ヘッド２０は、第１レーザビームとしての精密彫刻ビームＬ１を出射する第１レーザ光源２１と、この精密彫刻ビームＬ１を変調するための第１変調手段としてのＡＯＭ（音響光学変調器）２２と、ＡＯＭ２２により変調された精密彫刻ビームＬ１を記録ドラム１１の軸線方向に走査させるＡＯＤ（音響光学偏光器）２３と、第２レーザビームとしての粗彫刻ビームＬ２を出射する第２レーザ光源２４と、粗彫刻ビームＬ２を変調するための第２変調手段としてのＡＯＭ２５と、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２とを合成するビーム合成器２７と、ビーム合成器２７により合成された精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２をフレキソ感材１０上に集光させる光学系２６とを備える。なお、ＡＯＭ２２とＡＯＤ２３とは１つの素子により構成することも可能である。
【００２５】
第１レーザ光源２１としては精密彫刻ビームＬ１として最適のビーム径を有するものが採用され、第２レーザ光源２４としては粗彫刻ビームＬ２として最適のビーム径を有するものが採用される。ただし、ビームエキスパンダ等を使用して、第１、第２レーザ光源から出射されたレーザビームのビーム径を、最適値となるように変更してもよい。
【００２６】
ビーム合成器２７としては、第１レーザ光源２１と第２レーザ光源２４との波長の差異を利用したダイクロイックミラーや、第１レーザ光源２１と第２レーザ光源２４との偏光方向の差異を利用した偏光ビームスプリッタを使用することができる。なお、レーザビームに出力に余裕がある場合には、ビーム合成器２７として、ハーフミラー等を使用してもよい。
【００２７】
図２に示すように、このレーザ彫刻機は、装置全体を制御する制御部７０を備える。この制御部７０は、入出力部および表示部としてのパーソナルコンピュータ７１と接続されている。
【００２８】
図１に示す記録ドラム１１は、図２に示す回転モータ７２と接続されており、その軸線を中心に回転する。この回転モータ７２は、制御部７０から回転速度指令を受けて回転する。回転モータ７２の回転速度および回転モータ７２により回転する記録ドラム１１の回転角度位置は、エンコーダ７３により測定され、その情報が制御部７０に送信される。
【００２９】
図１に示す記録ヘッド２０は、図示しない案内手段に案内されることにより、記録ドラム１１の軸線と平行な方向に移動可能となっている。そして、この記録ヘッド２０は、記録ドラム１１の軸線と平行に設置され、図２に示す移動モータ７４により回転する図示しないボールねじの駆動を受け、記録ドラム１１の軸線と平行な方向に往復移動する。この移動モータ７４は、制御部７０から回転速度指令を受け回転する。移動モータ７４の回転速度および移動モータ７４により移動する記録ヘッド２０の位置は、エンコーダ７５により測定され、その情報が制御部７０に送信される。
【００３０】
第１レーザ光源２１は、レーザドライバ６１を介して制御部７０と接続されている。また、ＡＯＭ２２は、ＡＯＭドライバ６２を介して制御部７０と接続されている。さらに、ＡＯＤ２３は、ＡＯＤドライバ６３を介して制御部７０と接続されている。同様に、第２レーザ光源２４は、レーザドライバ６４を介して制御部７０と接続されている。また、ＡＯＭ２５は、ＡＯＭドライバ６６を介して制御部７０と接続されている。
【００３１】
このレーザ彫刻機においては、第１レーザ光源２１から出射された精密彫刻ビームＬ１は、ＡＯＭ２２で変調され、ＡＯＤ２３で記録ドラム１１の軸線方向に走査された後、ビーム合成器２７に入射する。一方、第２レーザ光源２４から出射された粗彫刻ビームＬ２は、ＡＯＭ２５で変調された後、ビーム合成器２７に入射する。そして、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２とは、ビーム合成器２７で合成された後、光学系２６を介してフレキソ感材１０上に集光する。
【００３２】
そして、移動モータ７４の駆動により記録ヘッド２０を記録ドラム１１の軸線と平行な方向に移動させ、光学系２６を通過してフレキソ感材１０上に集光した精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２を、記録ドラム１１の軸線方向に同期して走査させる
ことにより、印刷版の彫刻を実行する。
【００３３】
このとき、このレーザ彫刻機においては、小さなビーム径を有する精密彫刻ビームＬ１を使用し、精密彫刻画素ピッチｐｐでフレキソ感材１０を照射して、精密彫刻ビームＬ１での最大深度ｄｐまで彫刻を行う精密彫刻と、大きなビーム径を有する粗彫刻ビームＬ２を使用し、精密彫刻画素ピッチｐｐより大きい粗彫刻画素ピッチｐｃ（網点ピッチに等しい）でフレキソ感材１０を照射して、レリーフ深度ｄまで彫刻を行う粗彫刻とを同時に実行することにより、製版時間を短縮するようにしている。最初にこの点について説明する。
【００３４】
図３は、このレーザ彫刻機を使用して彫刻を実行した後のフレキソ感材１０表面の形状を模式的に示す説明図である。なお、図３（ａ）はフレキソ感材１０上において主走査方向に形成された７個のレリーフの平面図であり、図３（ｂ）はその断面図である。なお、この図においては、説明の便宜上、この図の左側より網点面積率が０％、１％、１％、２％、２％、０％、０％の７個のレリーフが形成されている場合を示している。
【００３５】
この図に示すように、精密彫刻のためには、小さなビーム径を有する精密彫刻ビームＬ１を使用する。そして、この精密彫刻ビームＬ１を精密彫刻画素ピッチｐｐでフレキソ感材１０上に照射し、フレキソ感材１０をその表面から最大深度ｄｐまで彫刻する。
【００３６】
この最大深度ｄｐは、非常に小さい網点面積率のレリーフ同士が隣接したときに、これらのレリーフの境界部分の彫刻深さに一致する。この最大深度ｄｐがこれより小さい場合には、微小な網点を良好に表現することが不可能となる。この最大深度ｄｐをこれより大きくすることは可能ではあるが、この場合には、彫刻効率が悪化する。この実施形態においては、網点面積率１％のレリーフ同士が隣接したときの、これらのレリーフの境界部分の彫刻深さを最大深度ｄｐに設定している。
【００３７】
この精密彫刻においては、フレキソ感材１０の表面から、最大深度ｄｐまでの、網点の形状に直接影響を与える部分の彫刻が実行される。このため、このときの彫刻画素ピッチとしては、比較的小さな精密彫刻画素ピッチｐｐが採用され、図３（ｃ）で模式的に示すように、微小な単位での彫刻が実行される。このときの精密彫刻ビームＬ１のビーム径は、精密彫刻画素ピッチｐｐでの彫刻が可能な小さなビーム径が採用される。
【００３８】
精密彫刻と同時に、粗彫刻が実行される。この粗彫刻においては、大きなビーム径を有する粗彫刻ビームＬ２を使用する。そして、この粗彫刻ビームＬ２を粗彫刻画素ピッチｐｃでフレキソ感材１０上に照射し、フレキソ感材１０を上記最大深度ｄｐからレリーフ深度ｄまで彫刻する。このように、精密彫刻で彫刻された領域が粗彫刻によって再度彫刻されているので、精密彫刻と粗彫刻を実行した後のフレキソ感材１０表面からのレリーフ深度ｄは、精密彫刻による最大深度ｄｐよりも大きい。この粗彫刻においては、網点の形状に直接影響を与えない部分の彫刻が実行されることから、粗彫刻画素ピッチｐｃを大きなものとすることが可能となる。これは、精密彫刻と粗彫刻の順序を逆と考えた場合も同様である。
【００３９】
このときの粗彫刻画素ピッチｐｃとしては、網点ピッチｗを採用することができる。この粗彫刻画素ピッチｐｃは、上述した精密彫刻画素ピッチｐｐ以上、網点ピッチｗ以下の範囲で任意に設定することが可能である。但し、これを網点ピッチｗに近づけるほど、彫刻効率が向上する。
【００４０】
図４は、フレキソ感材１０に形成されたレリーフ形状をより正確に示す説明図である。
【００４１】
レリーフ形状を表すパラメータとしては、レリーフ角θと、レリーフ深度ｄと、トップハット部Ｔを構成するためのステップｄｔおよびプラトーｗｔとがある。レリーフ角θは、全てのレリーフにおいて共通の値となる。レリーフ深度ｄは、網点パーセントがゼロの領域における彫刻深さである。なお、ステップｄｔはドットゲインを改良するために設けられ、プラトーｗｔはレリーフの機械的強度を増加させるために設けられるものであるが、トップハット部Ｔ自体を形成しない場合には、ステップｄｔおよびプラトーｗｔの値はゼロとなる。上述した説明においては、ステップｄｔおよびプラトーｗｔを省略した場合について説明している。
【００４２】
なお、図４に示すレリーフ形状を採用した場合には、上述した最大深度ｄｐは、下記の式（１）で計算することが可能となる。
【００４３】
ｄｐ＝（２1/2 ・ｐｃ／２−ｗｔ）ｔａｎ（θπ／１８０）＋ｄｔ  ・・・  （１）
なお、トップハット部Ｔ自体を形成しない場合には、ステップｄｔおよびプラトーｗｔにゼロを代入すればよい。
【００４４】
ところで、精密彫刻と粗彫刻とを同時に実行する場合、上述したように精密彫刻では精密彫刻画素ピッチｐｐで彫刻を行い、粗彫刻では粗彫刻画素ピッチｐｃで彫刻を行う必要がある。しかしながら、記録ヘッド２０を移動させることにより、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２を同期して記録ドラム１１の軸線方向に走査させる構成を採用した場合には、通常は記録ドラム１１の軸線方向については、彫刻画素ピッチは同一にならざるを得ない。このため、この発明に係るレーザ彫刻機においては、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２を同期して主走査方向（記録ドラム１１の周面方向）に走査させるとともに、精密彫刻ビームＬ１を、フレキソ感材１０上において粗彫刻画素ピッチｐｃで、副走査方向（記録ドラム１１の軸線方向）に走査させる構成を採用している。
【００４５】
以下、この構成について説明する。図５および図６は、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２の走査に使用される信号を示す説明図である。なお、図６は、図５の一部を拡大して示す拡大図となっている。
【００４６】
ここで、図５および図６に示す矢印ｓ１は、主走査方向を示している。精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２は、記録ドラム１１の回転にともなって、記録ドラム１１の周面に沿う主走査方向ｓ１に走査される。また、図５に示す矢印ｓ２は、副走査方向を示している。精密彫刻ビームＬ１は、ＡＯＤ２３により偏向され、記録ドラム１１の軸線方向を向く副走査方向ｓ２に走査される。また、これらの図において、ｐｃは上述した粗彫刻画素ピッチを、ｐｐは精密彫刻画素ピッチを、また、ｔはＡＯＤ２３による偏向周期を示している。
【００４７】
これらの図に示す偏向信号は、精密彫刻ビームＬ１をＡＯＤ２３により偏向するときに使用される信号である。精密彫刻ビームＬ１は、この変調信号により、フレキソ感材１０上において精密彫刻画素ピッチｐｐで副走査方向ｓ２に走査される。このとき、この偏向信号の周波数Ｆ１は、第１変調信号の変調周波数をＦ２としたとき、下記の式を満足する。
【００４８】
Ｆ１＝Ｆ２・（ｐｃ／ｐｐ）
また、これらの図に示す第１変調信号は、粗彫刻のため、ＡＯＭ２５により粗彫刻ビームＬ２を変調するための信号である。粗彫刻ビームＬ２は、この第１変調信号によりオン、オフとその強度が変更される。同様に、これらの図に示す第２変調信号は、ＡＯＭ２２により精密彫刻ビームＬ１を変調するための信号である。精密彫刻ビームＬ１は、この第２変調信号によりオン、オフとその強度が変更される。
【００４９】
このような構成を採用した場合には、精密彫刻ビームＬ１は、記録ドラム１１の回転にともなって、主走査方向ｓ１への走査中に精密彫刻画素ピッチｐｐで彫刻を実行するとともに、ＡＯＤ２３による偏向動作にともなって、フレキソ感材１０上において粗彫刻画素ピッチｐｃの範囲内において、副走査方向ｓ２への走査中に精密彫刻画素ピッチｐｐで彫刻を実行する。一方、粗彫刻ビームＬ２は、記録ドラム１１の回転にともなって、主走査方向ｓ１への走査中に粗彫刻画素ピッチｐｃで彫刻を実行する。
【００５０】
これにより、記録ヘッド２０を移動させることにより、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２を同期して記録ドラム１１の軸線方向に走査させる構成を採用した場合においても、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２が、各々、必要な画素ピッチで彫刻を実行することができ、精密な画像を高速に彫刻することが可能となる。
【００５１】
次に、このレーザ彫刻機を用いてフレキソ感材１０を彫刻するフレキソ感材１０の製版工程について説明する。図７は、製版工程を示すフローチャートである。
【００５２】
フレキソ印刷版の製版を行う場合には、最初に、オペレータがレリーフ形状とスクリーン線数を指定する（ステップＳ１）。このレリーフ形状とスクリーン線数は、パーソナルコンピュータ１３から入力され、制御部１５に送信される。
【００５３】
次に、あらかじめ指定されたスクリーン線数から、網点ピッチｗが決定される（ステップＳ２）。この網点ピッチｗは、スクリーン線数の逆数となる。
【００５４】
次に、精密彫刻における最大深度ｄｐと、粗彫刻における最大深度ｄｃとを演算する（ステップＳ３）。この演算は、上述した式（１）を使用して実行される。
【００５５】
次に、オペレータが解像度を指定する（ステップＳ４）。この解像度は、例えば、１２００ｄｐｉ、２４００ｄｐｉ、４０００ｄｐｉのうちから選択される。
【００５６】
次に、指定された解像度から、精密彫刻画素ピッチｐｐが決定される（ステップＳ５）。なお、精密彫刻画素ピッチｐｐと、精密彫刻ビームＬ１の副走査方向の幅とがほぼ一致するように、精密彫刻ビームＬ１のビームスポットサイズが調整されている。
【００５７】
また、粗彫刻を実行するときの粗彫刻画素ピッチｐｃを決定する（ステップＳ６）。この粗彫刻画素ピッチｐｃは、上述したように、網点ピッチｗと一致している。
【００５８】
次に、彫刻時の走査速度を決定する（ステップＳ７）。
【００５９】
精密彫刻工程と粗彫刻工程とが個別に行われる場合には、レーザビームのビーム径によって変動する彫刻感度と各彫刻での画素ピッチと各彫刻で彫刻されるレリーフの形状に応じた彫刻深度と、所与のレーザビームパワーとに基づいて、各彫刻工程での走査速度を決定すればよい。
【００６０】
これに対し本実施形態においては、精密彫刻工程と粗彫刻工程とを同時に行うとともに、精密彫刻ビームＬ１による走査と粗彫刻ビームＬ２による走査とを同期させている。そこで本実施形態においては、これらのレーザビームによって同期した走査が可能なレーザビームパワー比をまず決定する。そして、粗彫刻ビームのレーザビームパワーを所与の条件として前記レーザビームパワー比から精密彫刻ビームのレーザビームパワーを決定する。
【００６１】
次に、同期した走査が可能な精密彫刻と粗彫刻の走査速度比を決定する。そして、粗彫刻ビームＬ２のレーザビームパワーと、粗彫刻ビームＬ２のビーム径に対応した彫刻感度と、基準時間内に粗彫刻により除去される必要のあるフレキソ感材の体積とに基づいて、粗彫刻ビームＬ２の主走査方向Ｓ１に沿った方向の走査速度を算出する。
【００６２】
そして、この粗彫刻ビームＬ２の主走査方向Ｓ１に沿った方向の走査速度ｖ２を上記走査速度比に適用することにより精密彫刻ビームＬ１の副走査方向Ｓ２に沿った方向の走査速度ｖ１を算出する。
【００６３】
以下、図８のフローチャートを用いてより詳細に説明する。なお、図８は図７のステップ７に含まれる各工程をより詳細に説明するフローチャートである。
【００６４】
まず、精密彫刻ビームＬ１のビーム径に対応した彫刻感度ｓｐを計算する（ステップＳ７−１）。ここで彫刻感度ｓｐは、レーザビームのエネルギーＥをレーザビームにより彫刻される体積Ｖで除算した値である。また、レーザビームのエネルギーＥは、レーザ光源２１のパワーと照射時間を乗算した値である。フレキソ感材１０を彫刻する際の彫刻感度はビーム径によって変動する。このため、レーザビームのビーム径毎に彫刻感度を対応づけたテーブルまたはレーザビーム径から彫刻感度を求める計算式を実験によって予め求めておき、このテーブルまたは計算式に精密彫刻ビームＬ１のビーム径を適用することにより彫刻感度ｓｐを取得する。
【００６５】
同様にして、粗彫刻ビームＬ２のビーム径に対応した彫刻感度ｓｃを取得する（ステップＳ７−２）。
【００６６】
次に、粗彫刻画素ピッチｐｃ四方の矩形領域を精密彫刻時の最大深度ｄｐまで彫刻する場合に彫刻されるフレキソ感材体積ｖｐを計算する（ステップＳ７−３）。粗彫刻画素ピッチｐｃ四方の矩形領域はレーザビームパワー比および走査速度比を決定する際の基準面積として使用される。図９は、彫刻の様子を模式的に表した斜視図である。この図９から明らかなように、精密彫刻ビームＬ１によって彫刻されるフレキソ感材体積ｖｐは、ｐｃ＊ｐｃ＊ｄｐとなる。
【００６７】
同様に、粗彫刻画素ピッチｐｃ四方の矩形領域を粗彫刻時の最大深度ｄｃまで彫刻する場合のフレキソ感材体積ｖｃを計算する（ステップＳ７−４）。フレキソ感材体積ｖｃは、ｐｃ＊ｐｃ＊（ｄ−ｄｐ）となる。
【００６８】
次に、ステップＳ７−３で求めたフレキソ感材体積ｖｐに相当するフレキソ感材１０を精密彫刻ビームＬ１で彫刻する際に必要とされるエネルギーを計算する（ステップＳ７−５）。これはフレキソ感材体積ｖｐに精密彫刻時の彫刻感度ｓｐを乗じた値に等しい。
【００６９】
同様に、ステップＳ７−４で求めたフレキソ感材体積ｖｃに相当するフレキソ感材１０を粗彫刻ビームＬ２で彫刻する際に必要とされるエネルギーを計算する（ステップＳ７−６）。これはフレキソ感材体積ｖｃに粗彫刻時の彫刻感度ｓｃを乗じた値に等しい。
【００７０】
ところで、レーザビームによって被照射物に加えられるエネルギーはレーザビームのビームパワーとレーザビームの照射時間の積に等しくなる。
【００７１】
すなわち、Ｅ１＝ＰＷ１＊ｔ１  ・・・  （２）
Ｅ２＝ＰＷ２＊ｔ２  ・・・  （３）
ただし、Ｅ１は精密彫刻ビームＬ１のエネルギー量、Ｅ２は粗彫刻ビーム１２のエネルギー量、ＰＷ１は精密彫刻ビームＬ１のビームパワー、ＰＷ２は粗彫刻ビームＬ２のビームパワー、ｔ１は基準面積を走査するのに要する時間、ｔ２は基準面積を走査するのに要する時間である。
【００７２】
本実施の形態では、精密彫刻と粗彫刻とを同期して実行しているので、精密彫刻ビームＬ１が基準面積を走査するのに要する時間ｔ１と粗彫刻ビームＬ２が前記基準面積を走査するのに要する時間ｔ２とが等しくなる。
【００７３】
したがって、式（２）と式（３）とを以下の式（４）のように書き換えることができる。
【００７４】
Ｅ１／ＰＷ１＝Ｅ２／ＰＷ２＝ｔ１＝ｔ２  ・・・  （４）
また、前記基準面積を粗彫刻画素ピッチｐｃ四方の矩形領域と措くと、Ｅ１＝ｖｐ＊ｓｐであり、Ｅ２＝ｖｃ＊ｓｃであるので、さらに、式（４）はさらに式（５）のように書き換えられる。
【００７５】
ｖｐ＊ｓｐ／ＰＷ１＝ｖｃ＊ｓｃ／ＰＷ２  ・・・  （５）
また、精密彫刻ビームＬ１のビームパワーＰＷ１と粗彫刻ビームＬ２のビームパワーＰＷ２との和を総合レーザパワーをｐｗとする。
【００７６】
以上から、精密彫刻ビームＬ１のビームパワーＰＷ１は式（６）のようになる。
【００７７】
ＰＷ１＝ｐｗ＊ｖｐ＊ｓｐ／（ｖｐ＊ｓｐ＋ｖｃ＊ｓｃ）  ・・・  （６）
また、粗彫刻ビームＬ２のビームパワーＰＷ２は式（７）のようになる。
【００７８】
ＰＷ２＝ｐｗ＊ｖｃ＊ｓｃ／（ｖｐ＊ｓｐ＋ｖｃ＊ｓｃ）  ・・・  （７）
なお、精密彫刻時の最大深度ｄｐを式（１）に基づいて算出した場合には、式（６）を以下の式（８）のように変換することができる。ここで、以下の式（８）、（９）において、（２ｄ・α＋４・ｐｃ・α＋ｄ・ｐｃ・β）をＡとしている。
【００７９】
【数１】
2006250983.tif 000003
・・・  （８）
同様に式（７）を以下のように式（９）のように変換することができる。
【００８０】
【数２】
2006250983.tif 000004
・・・  （９）
以上によりＰＷ１とＰＷ２が決定される。
【００８１】
次に、粗彫刻ビームＬ２の主走査方向Ｓ１に沿った走査速度ｖ２と、精密彫刻ビームＬ１の副走査方向Ｓ２に沿った走査速度ｖ１との比を決定する（ステップＳ７−８）。
【００８２】
精密彫刻ビームＬ１が基準面積である粗彫刻画素ピッチＰＣ四方の矩形領域を走査するのに要する時間ｔ１を考える（図１０参照）。この時間ｔ１の間に精密彫刻ビームＬ１は、長さｐｃの走査線を（ｐｃ／ｐｐ）本走査する必要があるので時間ｔ１は以下の式（９）で表すことができる。
【００８３】
ｔ１＝（ｐｃ＊ｐｃ／ｐｐ）／ｖ１  ・・・  （１０）
一方、粗彫刻ビームＬ２が基準面積である粗彫刻画素ピッチＰＣ四方の矩形領域を走査するのに要する時間ｔ２は以下のようになる。
【００８４】
ｔ２＝ｐｃ／ｖ２  ・・・  （１１）
精密彫刻と粗彫刻とは同期して実行されるのでｔ１＝ｔ２である。従って式（１０）と式（１１）を以下のように変形して走査速度比が決定される。
【００８５】
ｖ１／ｖ２＝ｐｃ／ｐｐ  ・・・  （１２）
次に、粗彫刻ビームＬ２のビームパワーＰＷ２を以下の式１３に代入することにより粗彫刻ビームＬ２の走査速度ｖ２を決定する（ステップＳ７−９）。
【００８６】
ｖ２＝ＰＷ２／ｖｃ＊ｓｃ  ・・・  （１３）
そして、上記によって決定された走査速度ｖ２を式（１２）に適用することで精密彫刻ビームＬ１の走査速度ｖ１を決定する（ステップＳ７−１０）。
【００８７】
次に、フレキソ感材１０上に形成すべき画像データから、彫刻すべきレリーフ形状を示すレリーフデータを作成する（ステップＳ８）。基礎となる画像データは、オンラインで、またはオフラインによりパーソナルコンピュータ１３を介して制御部１５に転送される。この画像データに基づいて、レリーフデータが作成される。このレリーフデータは、各レリーフのデータを重畳させたデータであり、互いに重複する領域においては、より深度の浅いデータを優先させたものとなる。
【００８８】
図１１は、レリーフデータの作成方法を模式的に示す説明図である。
【００８９】
この図は、レリーフ１とレリーフ２とが形成された状態を示している。レリーフ１とレリーフ２との傾斜部が当接する地点よりレリーフ１側の領域はレリーフ１のレリーフデータが使用され、レリーフ１とレリーフ２との傾斜部が当接する地点よりレリーフ２側の領域はレリーフ２のレリーフデータが使用される。
【００９０】
次に、レリーフデータから精密彫刻用の多値データを作成する（ステップＳ９）。この多値データは、網点面積率が０％の領域に対して最大深度ｄｐまでの彫刻が実行されるような多値データである。この多値データは、網点面積率が０％〜１００％の領域において、図３（ｃ）に示すような階段状にレリーフの傾斜部が形成可能なデータとして作成される。
【００９１】
次に、レリーフデータから粗彫刻用の多値データを作成する（ステップＳ１０）。この多値データは、網点面積率が０％の領域に対して、レリーフ角度θを考慮した上で、彫刻深度ｄｃで彫刻を行うことにより、最終的にレリーフ深度ｄの彫刻が実行されるような多値データである。
【００９２】
そして、彫刻を実行する（ステップＳ１１）。このときには、制御部７０が走査速度ｖ１に応じてＡＯＤ２３を制御するとともに、走査速度ｖ２に応じて回転モータ７２を制御する。同時に上記各走査速度ｖ１およびｖ２に応じた周波数でＡＯＭ２２、２５を制御する。また、制御部７０は第１レーザ光源２１をビームパワーＰＷ１に応じたパワーで点灯させると共に、第２レーザ光源２４をビームパワーＰＷ２に応じたパワーで点灯させる。さらに、制御部７０は記録ヘッド１２を記録ドラム１１の回転速度に同期した速度で副走査方向に移動させる。また、制御部１５がＡＯＤ２３を制御することにより、精密彫刻ビームＬ１を副走査方向に走査させる。そして、制御部７０がＡＯＭドライバ６６、６２を制御することにより、必要な彫刻が実行される。
【００９３】
以上のように、この実施形態に係るレーザ彫刻機によれば、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２が、各々、必要な画素ピッチで彫刻を実行することができ、精密な画像を高速に彫刻することが可能となる。また、光学系２６を共通化して装置のコストを低減することが可能となる。
【００９４】
次に、この発明の他の実施の形態について説明する。図１２は、この発明の第２実施形態に係る印刷版の製版装置であるレーザ彫刻機の概要図である。
【００９５】
このレーザ彫刻機は、記録ドラム１１の軸線と平行な方向に移動可能に構成された記録ヘッド３０を備える。
【００９６】
この記録ヘッド３０は、単一のレーザ光源３１と、このレーザ光源３１から出射されたレーザビームを、第１レーザビームＬ１と第２レーザビームＬ２に分割するビームスプリッタ４１と、第１レーザビームを変調するＡＯＭ３２と、ＡＯＭ３２により変調された第１レーザビームを記録ドラム１１の軸線方向に走査させるＡＯＤ３３と、第２レーザビームを変調するＡＯＭ３４と、ＡＯＭ３４により変調された第２レーザビームのビーム径を変更するビーム径変更手段３６と、一対の折り返しミラー４２、４３と、ＡＯＤ３３により偏向された第１レーザビームとＡＯＤ３４により変調された第２レーザビームとを合成する合成手段４４と、合成手段４４により合成された第１、第２レーザビームをフレキソ感材１０上に集光させる光学系３５とを備える。その他の構成は、上述した第１実施形態に係るレーザ彫刻機と同様である。
【００９７】
このレーザ彫刻機においても、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２を同期して主走査方向に走査させるとともに、精密彫刻ビームＬ１を副走査方向に走査させる構成を採用することにより、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２が、各々、必要な画素ピッチで彫刻を実行することができ、精密な画像を高速に彫刻することが可能となる。また、単一のレーザ光源３１を使用することで装置のコストを低減することが可能となる。
【００９８】
次に、この発明のさらに他の実施の形態について説明する。図１３は、この発明の第３実施形態に係る印刷版の製版装置であるレーザ彫刻機の概要図である。
【００９９】
このレーザ彫刻機は、記録ドラム１１の軸線と平行な方向に移動可能に構成された記録ヘッド５０を備える。
【０１００】
この記録ヘッド５０は、第１レーザビームを出射する第１レーザ光源５１と、第１レーザビームを変調するＡＯＭ５２と、ＡＯＭ５２により変調された第１レーザビームを記録ドラム１１の軸線方向に走査させるＡＯＤ５３と、ＡＯＤ５３により偏向された第１レーザビームをフレキソ感材１０上に集光させる光学系５４と、第２レーザビームを出射する第２レーザ光源５５と、第２レーザビームをフレキソ感材１０上に集光させる光学系５６とを備える。
【０１０１】
なお、この実施形態では、第１レーザビームにより彫刻する際に、第２レーザビームを連続点灯させておくことによりフレキソ感材１０を余熱しておいてもよい。この場合には第１レーザビームによる彫刻を促進させることができる。
【０１０２】
この第３実施形態に係るレーザ彫刻機においては、第１レーザビームはＡＯＭ５２により変調するが、第２レーザビームについてはＡＯＭを使用せず、第２のレーザ光源５５を制御することにより第２のレーザ光源５５から変調された第２レーザビームを出射させる構成を採用している。
【０１０３】
ＡＯＭは一般的に１ＭＨｚ程度の高速変調が可能であるが、ＡＯＭに使用されるゲルマニュウムはレーザビームの透過率が悪く、レーザビームはＡＯＭ中で数％程度のロスを生ずる。このため、高速変調が不要な粗彫刻においては第２のレーザ光源５５自体でレーザビームを変調して彫刻を行い、精密彫刻においては第１のレーザ光源５１から連続して出射されるレーザビームをＡＯＭ５２により変調して彫刻を行うと、粗彫刻時においてレーザビームを効率的に使用することができる。これは、上述した第１実施形態についても同様である。
【０１０４】
このレーザ彫刻機においても、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２を同期して主走査方向に走査させるとともに、精密彫刻ビームＬ１を副走査方向に走査させる構成を採用することにより、精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２が、各々、必要な画素ピッチで彫刻を実行することができ、精密な画像を高速に彫刻することが可能となる。また、各レーザ光源に応じて適切な光学系５４、５６を選択することが可能となる。
【０１０５】
なお、上述した実施形態においては、各レーザ光源を各記録ヘッドに配設しているが、レーザ光源を装置本体に固定し、レーザ光源から出射されたレーザビームを、記録ヘッドに配設された折り返しミラー等に照射することで、記録ヘッドを小型化するようにしてもよい。
【０１０６】
また、上述した実施形態においては、いずれも、凸版印刷版の１つであるフレキソ感材を記録材料として使用している。しかしながら、グラビア版などの凹版印刷版を記録材料に対してレーザ彫刻により凹部を形成する場合におおいても本発明は適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】レーザ彫刻機の概要図である。
【図２】レーザ彫刻機の要部を示すブロック図である。
【図３】フレキソ感材１０表面の形状を模式的に示す説明図である。
【図４】レリーフ形状を示す説明図である。
【図５】精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２の走査に使用される信号を示す説明図である。
【図６】精密彫刻ビームＬ１と粗彫刻ビームＬ２の走査に使用される信号を示す説明図である。
【図７】製版工程を示すフローチャートである。
【図８】ステップＳ７に含まれる工程を説明するフローチャートである。
【図９】彫刻の様子を模式的に表した斜視図である。
【図１０】彫刻の様子を模式的に示す説明図である。
【図１１】レリーフデータの作成方法を模式的に示す説明図である。
【図１２】この発明の第２実施形態に係るレーザ彫刻機の概要図である。
【図１３】この発明の第３実施形態に係るレーザ彫刻機の概要図である。
【符号の説明】
【０１０８】
１０    フレキソ感材
１１    記録ドラム
２０    記録ヘッド
２１    第１レーザ光源
２２    ＡＯＭ
２３    ＡＯＤ
２４    第２レーザ光源
２５    ＡＯＭ
２６    光学系
２７    ビーム合成器
３０    記録ヘッド
３１    レーザ光源
３２    ＡＯＭ
３３    ＡＯＤ
３４    ＡＯＭ
３６    ビーム径変更手段
４１    ビームスプリッタ
４２    折り返しミラー
４３    折り返しミラー
４４    合成手段
５０    記録ヘッド
５１    第１レーザ光源
５２    ＡＯＭ
５３    ＡＯＤ
５４    光学系
５５    第２レーザ光源
５６    光学系
６１    レーザドライバ
６２    ＡＯＭドライバ
６３    ＡＯＤドライバ
６４    レーザドライバ
６６    ＡＯＭドライバ
７０    制御部
７１    パーソナルコンピュータ
７２    回転モータ
７３    エンコーダ
７４    移動モータ
７５    エンコーダ
Ｌ１    精密彫刻ビーム
Ｌ２    粗彫刻ビーム
ｄ      レリーフ深度
ｄｐ    最大深度
ｄｃ    彫刻深度
ｐｐ    精密彫刻画素ピッチ
ｐｃ    粗彫刻画素ピッチ
【図１】
2006250983.tif 000005
【図２】
2006250983.tif 000006
【図３】
2006250983.tif 000007
【図４】
2006250983.tif 000008
【図５】
2006250983.tif 000009
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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