(57)【要約】【課題】  光学機能層の層厚分布が一定で、反射防止性能に優れ、耐湿性及び耐候性に優れた反射防止フィルムを製造する。【解決手段】  透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層の光学機能層を塗設する反射防止フィルムの製造方法において、前記光学機能層の少なくとも１層を、（１）熱及び／又は電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有し、固形分濃度が３〜１５質量％で、２５℃における粘度が０．５〜３．５ｍＰａ・ｓの塗布組成物を、ウェット塗布量２．５〜５ｍｌ／ｍ2で塗布する工程、及び（２）乾燥温度１５℃以上３５℃未満で、乾燥速度を０．０５〜１．０ｇ／ｍ2・secとして乾燥する乾燥工程と、乾燥温度５０℃以上１３０℃以下で乾燥する乾燥工程とを含む乾燥工程を含んで製造することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層の光学機能層を塗設する反射防止フィルムの製造方法において、前記光学機能層の少なくとも１層を、下記（１）及び（２）の工程を含む製造方法により製造することを特徴とする、反射防止フィルムの製造方法。
（１）熱および/または電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有し、固形分濃度が３〜１５質量％で、２５℃における粘度が０．５〜３．５ｍＰａ・ｓの塗布組成物を、ウェット塗布量２．５〜５ｍｌ／ｍ2で塗布する工程
（２）乾燥温度１５℃以上３５℃未満で、乾燥速度を０．０５〜１．０ｇ／ｍ2・secとして乾燥する乾燥工程（Ａ）と、乾燥温度５０℃以上１３０℃以下で乾燥する乾燥工程（Ｂ）とを含む乾燥工程
【請求項２】
透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層の光学機能層をを含む反射防止膜を有する反射防止フィルムであって、前記光学機能層の少なくとも1層が請求項１に記載の（１）及び（２）の工程を含む製造方法により製造されたことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
前記光学機能層の各層の層厚変動幅が各々±２．５％以内であることを特徴とする、請求項２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記光学機能層の少なくとも１層が、平均粒径が該光学機能層の厚みの３０％〜１００％で、かつ屈折率が１．１７〜１．４０の中空構造の無機微粒子を少なくとも１種含有し、屈折率が１．３１〜１．４９の低屈折率層であることを特徴とする、請求項２又は３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記反射防止膜が、前記透明支持体より低い屈折率を有する低屈折率層、前記透明支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層、および前記透明支持体と該高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層の３層の光学機能層からなり、前記３層光学機能層を前記透明支持体側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順に有し、設計波長λに対して、前記中屈折率層が下記数式（１）を、前記高屈折率層が下記数式（２）を、前記低屈折率層が下記数式（３）をそれぞれ充足し、且つ前記反射防止膜の層厚変動幅が±５％以内であることを特徴とする、請求項２〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
数式（１）：（ｍ1λ／４）×０．８０＜ｎ1ｄ1＜（ｍ1λ／４）×１．００
数式（２）：（ｍ2λ／４）×０．７５＜ｎ2ｄ2＜（ｍ2λ／４）×０．９５
数式（３）：（ｍ3λ／４）×０．９５＜ｎ3ｄ3＜（ｍ3λ／４）×１．０５
［式中、ｍ1は１であり、ｎ1は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ2は２であり、ｎ2は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ3は１であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、λは４００ｎｍ〜６８０ｎｍの値である。］
【請求項６】
波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が０．５％以下であり、更に耐候性試験前後の該反射率の変化が０．５％以下である、請求項２〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
ＣＩＥ標準光源Ｄ65の、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における入射角５゜の入射光に対して、正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値が、０≦ａ*≦７、−１０≦ｂ*≦０の範囲であり、かつ入射角５〜４５゜の範囲のあらゆる角度からの入射光に対する正反射光が、該色空間において、ａ*≧０、ｂ*≦０を満たすことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法において、該塗布方法が、バックアップロールによって支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから塗布組成物を塗布する方法の、前記スロットダイの透明支持体進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さを３０μm以上１００μm以下とするスロットダイを使用し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブの隙間を、前記ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いて塗布されることを特徴とする、反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１若しくは８に記載の製造方法により作製した反射防止フィルム又は請求項２〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを、偏光膜の保護フィルムの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項１０】
請求項１若しくは８に記載の製造方法により作製した反射防止フィルム又は請求項２〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを、偏光膜の保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項１１】
請求項１若しくは８に記載の製造方法により作製した反射防止フィルム、請求項２〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム、又は請求項９もしくは請求項１０に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする、画像表示装置。
【請求項１２】
画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ及びＯＣＢの何れかのモードの透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする請求項１１に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布方式による反射防止フィルムの製造方法、その方法で製造された反射防止フィルム、及びそのような反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルム上に用いた偏光板、並びにこれら反射防止フィルム又は偏光板が画像表示面に配置された画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている。画像表示装置においては、表示装置表面の、外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する反射防止膜（反射防止フィルム）が表示装置の最表面に配置されることが一般的になっている。また眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィルムが設けられている。
【０００３】
近年、生産性が良くて大量生産に適する塗布型反射防止膜として、屈折率の異なる無機微粒子を、含有量を調節してマトリックスに分散させた組成物の塗布により、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも２層以上からなる多層構造の反射防止フィルムを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１及び特許文献２等）。
また用途に応じて、反射防止膜の表面に微細な凹凸形状を形成した防眩性反射防止膜（Anti-Glare：ＡＧ）が各種開発されている。防眩性反射防止膜は、平滑な表面からなる上記の多層薄膜構造の反射防止膜（Anti-reflective：ＡＲ）に比較して平行光線透過率は減少するが、背景の映り込みが表面凹凸によって散乱されて低下するため防眩性を発現し、反射防止効果と相まって、画像形成装置に適用するとその表示品位は著しく改善される。
さらに反射防止膜表面は平滑だが、透明樹脂中に該樹脂とは屈折率の異なる透光性粒子を分散させた光散乱層を設けて、内部光散乱で防眩性を発現する方法も開示されている（特許文献３等）。
【０００４】
これらの塗布型反射防止膜は、外観面状不良や光学的な欠陥がないと共に、当該薄膜の層厚のムラによる画像表示装置の表示機能の低下を生じない層厚の均一性が極めて重要な要因となる。このような課題に対して、製膜における塗布膜の乾燥方法の選択が乾燥ムラやハジキのない均一な層厚とする反射防止膜作製の技術が提案されている。具体的には、固形分濃度が１〜５０％の塗布膜の表面を乾燥雰囲気温度４０〜１３０℃の中で風速０．１〜１ｍ／ｓｅｃで乾燥する方法が提案されている（特許文献４）。ここで開示されている反射防止膜は有機金属化合物を加水分解後縮重合する「ゾルゲル硬化膜」の形成であり、４０℃以上の乾燥温度が必要としている。
【０００５】
また、少なくともハードコート層と低屈折率層から成る反射防止膜の製膜において、塗布直後の乾燥を１０〜４０℃で行い塗布膜をセットしその後５０〜１４０℃で乾燥する方法が提案されている（特許文献５）。ウェット塗布量が３〜２０ｃｃ／ｍ2となる塗工液の乾燥温度の制御による乾燥膜の面状故障の改善には望ましいが、反射防止能の均一化及び反射光の色味の向上には未だ不十分であった。
【０００６】
他方、粘度が０．１〜２０ｍPa・ｓで樹脂成分濃度が１〜６０質量％の塗布液を塗設して成るハードコート層・反射防止膜等の光学機能性層の作製において、該塗布液を塗布した被塗布液の乾燥速度を０．０５〜０．３ｇ／ｍ2・secで乾燥し、更には被塗布液の粘度が５０ｍPa・ｓ以下にならないように後乾燥を制御する方法が開示されている（特許文献６）。ここでは、樹脂成分濃度が３０〜４０質量％の塗布液を塗布量１３ｇ／ｍ2程に塗布して乾燥する、厚み４〜５μｍの被膜の態様が記載されており、層厚２００ｎｍ以下の薄膜を少なくとも１層含有する反射防止膜について格別記載されていない。
【特許文献１】特開平８−１１０４０１号公報
【特許文献２】特開平１１−３８２０１号公報
【特許文献３】特開２０００−１８６０６１１号公報
【特許文献４】特開２００３−１２６７６８号公報
【特許文献５】特開２００３−３１５５０５号公報
【特許文献６】特開２００４−３４００２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
多層塗布型の反射防止フィルムは、少なくとも最上層に層厚１００ｎｍ前後の低屈折率層を含む構成からなり、あるいは該低屈折率層を含む少なくとも３層構成のＡＲタイプの反射防止層（各層は２００ｎｍ以下の薄層）を含む構成からなり、当該薄層には、より精密な制御が求められている。
また、最近、高度情報・通信時代に必須のフラットパネルディスプレイが多用され、特に高精細のカラー画像表示が可能なモニターやテレビなどの大型化あるいはモバイル化の伸びが顕著となっている。高精細のカラー画像表示には、表示画像の色味のより一層のニュートラル化が求められている。また使用する環境が低温・低湿から高温・高湿と大きく変わっても性能が変化しない、更には耐候性等の耐久性の向上が望まれている。更に、上記したような高性能な反射防止フィルムの生産性向上とフィルムの安価化も強く期待されている。
【０００８】
従って、本発明の目的は、光学機能層の層厚分布が一定で、反射防止性能に優れ、耐湿性及び耐候性に優れた反射防止フィルムの製造方法を提供することである。
本発明の更なる目的は、光学機能層の層厚分布が一定で、反射防止性能に優れ、安価で、生産性に優れた反射防止フィルムを提供することである。
また、本発明の他の目的は、反射防止性能に優れ、安価で、生産性に優れた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題は、以下の手段によって達成された。
１．透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層の光学機能層を塗設する反射防止フィルムの製造方法において、前記光学機能層の少なくとも１層を、下記（１）及び（２）の工程を含む製造方法により製造することを特徴とする、反射防止フィルムの製造方法。
（１）熱および/または電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有し、固形分濃度が３〜１５質量％で、２５℃における粘度が０．５〜３．５ｍＰａ・ｓの塗布組成物を、ウェット塗布量２．５〜５ｍｌ／ｍ2で塗布する工程
（２）乾燥温度１５℃以上３５℃未満で、乾燥速度を０．０５〜１．０ｇ／ｍ2・secとして乾燥する乾燥工程（Ａ）と、乾燥温度５０℃以上１３０℃以下で乾燥する乾燥工程（Ｂ）とを含む乾燥工程
【００１０】
２．透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層の光学機能層をを含む反射防止膜を有する反射防止フィルムであって、前記光学機能層の少なくとも1層が上記１項に記載の（１）及び（２）の工程を含む製造方法により製造されたことを特徴とする反射防止フィルム。
３．前記光学機能層の各層の層厚変動幅が各々±２．５％以内であることを特徴とする、上記２項に記載の反射防止フィルム。
４．前記光学機能層の少なくとも１層が、平均粒径が該光学機能層の厚みの３０％〜１００％で、かつ屈折率が１．１７〜１．４０の中空構造の無機微粒子を少なくとも１種含有し、屈折率が１．３１〜１．４９の低屈折率層であることを特徴とする、上記２項又は３項に記載の反射防止フィルム。
【００１１】
５．前記反射防止膜が、前記透明支持体より低い屈折率を有する低屈折率層、前記透明支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層、および前記透明支持体と該高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層の３層の光学機能層からなり、前記３層光学機能層を前記透明支持体側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順に有し、設計波長λに対して、前記中屈折率層が下記数式（１）を、前記高屈折率層が下記数式（２）を、前記低屈折率層が下記数式（３）をそれぞれ充足し、且つ前記反射防止膜の層厚変動幅が±５％以内であることを特徴とする、上記２〜４項のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【００１２】
数式（１）：（ｍ1λ／４）×０．８０＜ｎ1ｄ1＜（ｍ1λ／４）×１．００
数式（２）：（ｍ2λ／４）×０．７５＜ｎ2ｄ2＜（ｍ2λ／４）×０．９５
数式（３）：（ｍ3λ／４）×０．９５＜ｎ3ｄ3＜（ｍ3λ／４）×１．０５
［式中、ｍ1は１であり、ｎ1は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ2は２であり、ｎ2は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ3は１であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、λは４００ｎｍ〜６８０ｎｍの値である。］
【００１３】
６．波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が０．５％以下であり、更に耐候性試験前後の該反射率の変化が０．５％以下である、上記２〜５項のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
７．ＣＩＥ標準光源Ｄ65の、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における入射角５゜の入射光に対して、正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値が、０≦ａ*≦７、−１０≦ｂ*≦０の範囲であり、かつ入射角５〜４５゜の範囲のあらゆる角度からの入射光に対する正反射光が、該色空間において、ａ*≧０、ｂ*≦０を満たす個とを特徴とする、上記１〜６項のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【００１４】
８．上記１項に記載の反射防止フィルムの製造方法において、該塗布方法が、バックアップロールによって支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから塗布組成物を塗布する方法の、前記スロットダイの透明支持体進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さを３０μm以上１００μm以下とするスロットダイを使用し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブの隙間を、前記ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いて塗布されることを特徴とする、反射防止フィルムの製造方法。
９．２５ｍ／min以上の速度で塗布することを特徴とする上記８記載の反射防止フィルムの製造方法。
【００１５】
１０．上記１、８又は９のいずれか1項に記載の製造方法により作製した反射防止フィルム、上記２〜７のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルムの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
１１．上記１、８又は９のいずれか1項に記載の製造方法により作製した反射防止フィルム、上記２〜７のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたことを特徴とする偏光板。
１２．上記１、８又は９のいずれか1項に記載の製造方法により作製した反射防止フィルム、上記２〜７のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、又は上記１０もしくは１１に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする、画像表示装置。
１３．画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ及びＯＣＢの何れかのモードの透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする上記１２に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、層厚分布が一定で、反射防止性能に優れ、安価で、生産性に優れた反射防止フィルムの製造方法を提供することが可能になる。
更に、本発明によれば、反射防止性能に優れ、安価で、生産性に優れた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置を提供するが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、層厚２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層を少なくとも1層含む反射防止膜を塗設して成る。該反射防止膜は、光透過性を有し、且つ互いに屈折率の異なる少なくとも２つの光学機能層（光透過層）の硬化層を積層してなる、多層構造の反射防止層を有する反射防止膜であることが好ましい。本明細書において、「反射防止層」は、層厚２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層を少なくとも１層有する反射防止効果を有する層を意味する。本発明の反射防止膜は、上記「反射防止層」以外に、層厚が２００ｎｍより大きい光学機能層を有することが好ましく、本明細書においては、少なくとも１層の「反射防止層」と任意の「層厚が２００ｎｍより大きい光学機能層」を合わせて反射防止膜と呼称する。層厚が２００ｎｍより大きい光学機能層としては、ハードコート層、高屈折率ハードコート層、防眩性ハードコート層、光拡散性ハードコート層（内部散乱性ハードコート層）等が挙げられる。
【００１８】
具体的には、（１）屈折率の異なる少なくとも２層、好ましくは３層（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の層厚２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層から構成される反射防止層とハードコート層とを有する反射防止膜、（２）少なくとも透光性粒子を含有する光学機能層である光散乱層（高屈折率層が光散乱層である場合に相当）と、層厚２００ｎｍ以下の薄層の低屈折率層とを順次積層してなる光散乱性反射防止膜、（３）少なくとも表面凹凸を形成する光学機能層である防眩層（高屈折率層が防眩層である場合に相当）と、層厚２００ｎｍ以下の薄層の低屈折率層とを順次積層してなる防眩性反射防止膜などを好ましい態様として挙げることができる。
【００１９】
本発明の反射防止膜の実施態様は、これらに限定されるものではない。また、これらの反射防止膜の視認側とは反対側の面（以下背面ということがある）上に、少なくとも１層のハードコート層を設けることも好ましい。
【００２０】
なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００２１】
＜反射防止膜＞
〔反射防止膜の層構成〕
本発明に係る反射防止膜は、透明支持体（以下、透明基体フィルムとも呼ぶ）と屈折率が異なる少なくとも１層の、層厚２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層を有し、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる光学機能層が少なくとも２層以上積層された多層型反射防止膜であることが好ましい。通常、反射防止膜は透明基体フィルム上に設けられる。２層積層からなる反射防止膜は、基体フィルム上に、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有し、これらの２層のうち、少なくとも１層が層厚２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層であればよいが、通常、低屈折率層が層厚２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層である。透明基体フィルム、高屈折率層及び低屈折率層は以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率＞透明基体フィルムの屈折率＞低屈折率層の屈折率
【００２２】
また、透明基体フィルムと高屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、該高屈折率層が、高屈折率ハードコート層、光散乱層又は防眩性高屈折率層であってもよい。
【００２３】
本発明の反射防止膜が、少なくとも３層の層厚２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層の積層からなる反射防止層を含む態様も好ましく、この場合は、透明基体フィルム上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する。透明基体フィルム、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層は、以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明基体フィルムの屈折率＞低屈折率層の屈折率
【００２４】
また、透明基体フィルムと中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、防眩性高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。
【００２５】
このような３層構造の反射防止層は、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学層厚、すなわち屈折率と層厚の積が設計波長λ（４００〜６８０ｎｍ）に対してｎλ／４前後、又はその倍数であることが好ましいことが特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている。
【００２６】
更には、設計波長λ（４００〜６８０ｎｍ）に対して、中屈折率層が下数式（１）を、高屈折率層が下数式（２）を、低屈折率層が下数式（３）をそれぞれ充足することが、より優れた反射防止性能を有する反射防止膜を作製できる点で好ましい。
【００２７】
数式（１）：（ｍ1λ／４）×０．６０＜ｎ1ｄ1＜（ｍ1λ／４）×０．８０
数式（２）：（ｍ2λ／４）×１．００＜ｎ2ｄ2＜（ｍ2λ／４）×１．５０
数式（３）：（ｍ3λ／４）×０．８５＜ｎ3ｄ3＜（ｍ3λ／４）×１．０５
【００２８】
［式中、ｍ1は１であり、ｎ1は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ2は２であり、ｎ2は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ3は１であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である］
【００２９】
また、設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と、低い屈折率を有する層を複数層組み合わせた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層又は高屈折率層と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも応用することができる。
【００３０】
上記数式（１）〜（３）をそれぞれ充足することにより、反射防止膜の反射光の色味がニュートラル近似となり、表示装置の表示画像の視認性が優れたものとなる。
【００３１】
本発明の多層構造の反射防止層は、その反射防止膜の厚さが「実質的に均一」に塗設して形成されるものであり、これにより上記の数式を其々充足する適切な数値の層厚を満たすことになり、反射光の色味のニュートラル近似性が改善した表示部全面においてムラの無い優れた反射防止効果を発現する。特に、層厚２００ｎｍ以下の薄膜からなる、本発明の最上層を形成する低屈折率層、或は少なくとも３層の屈折率の異なる層厚２００ｎｍ以下の薄層から構成されるＡＲタイプの反射防止膜の各層においては、当該各層の厚さが「実質的に均一」とは、各層の層厚の変動幅が平均層厚に対して±２．５％以内であることが好ましい。さらに好ましくは±２．０％以内である。
【００３２】
更に、本発明の多層構造の反射防止層は、その反射防止層全体の総厚みの変動幅が平均総厚みに対して±５％以内であることが好ましい。さらに好ましくは±３％以内である。
この範囲内において、著しく反射防止性能が低下するなどの不具合が生じにくいので好ましい。
上記層厚変動幅もしくは反射防止層全体総厚みの変動幅は、少なくとも幅方向に対して等間隔に５点以上の層厚を測定することによりその平均値と変動幅を求めることが好ましい。
【００３３】
反射防止層の各層の厚みは、望まれる場合には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、Ｘ線光電子分光計（ＥＳＣＡ）の様な、当分野では周知の各種表面分析手段により分析することができる。
もしくは、反射率曲線からＣａｕｃｈｙモデルを用いてフィッティングより層厚を求めることも可能である。
【００３４】
上記のような反射防止層を３層構成とすることで達成される本発明における反射防止フィルムは、低反射と反射光の色味の低減、さらに入射角によるその色味変化の低減を両立することができる。
入射角５゜での入射光における４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での鏡面反射率の平均値が１％以下であり、好ましくは０．５％以下である。表示装置表面での外光の反射による視認性の低下を防止でき、さらに０．４％以下では、外光の反射を十分に防止することができ、好ましい。
【００３５】
更に、当該反射防止フィルムは、その反射率の面内での変動幅が±５％以内であり、好ましくは変動幅が±４．５％以内であり、特に好ましくは変動幅が±４％以内である。これにより、表示装置表面での外光の反射ムラによる視認性の低下を防止できる。
【００３６】
本発明においては、ＣＩＥ標準光源Ｄ65の、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における入射角５゜の入射光に対して、正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値が、０≦ａ*≦７、−１０≦ｂ*≦０の範囲であり、かつ入射角５〜４５゜の範囲のあらゆる角度からの入射光に対する正反射光が、該色空間において、ａ*≧０、ｂ*≦０を満たすことで、低入射角における反射光の色味を低減し、かつ、反射光の入射角にともなう色味変化を低減することができ、好ましい。
【００３７】
さらに入射角５〜４５゜の範囲のあらゆる角度からの入射光に対する正反射光が、該色空間において、Ｃ*＝［（ａ*）2＋（ｂ*）2］1/2≦１２の範囲内であることによって、従来の反射防止フィルムで問題となっていた赤紫色から青紫色の反射光の着色を低減し、かつ反射光の入射角にともなう色味の変化をさらに低減することができ、好ましい。
【００３８】
さらにまたＣ*＝［（ａ*）2＋（ｂ*）2］1/2≦１０の範囲内とすることで、反射光の色味、およびその入射角による変化を十分に低減することができ、好ましい。この反射防止フィルムを保護フィルムとした偏光板を液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味が、広い入射角にわたってニュートラルで気にならない。
【００３９】
詳しくはａ*≧０であればシアン味を帯びることがなく、ｂ*≦０であれば黄味を帯びることがなく好ましい。またａ*≧０、ｂ*≦０であって、かつＣ*＝［（ａ*）2＋（ｂ*）2］1/2＜１２であれば、マゼンタ味が強くなりすぎることがなく好ましい。
【００４０】
鏡面反射率および色味の測定は、分光光度計"Ｖ−５５０"［日本分光（株）製］にアダプター"ＡＲＶ−４７４"を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角θ（θ＝５〜４５°、５°間隔）における出射角−θの鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ65の各入射角の入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のＬ*値、ａ*値、ｂ*値を算出し、反射光の色味を評価することができる。
【００４１】
さらに、反射防止膜の層厚が実質的に一定とされたことにより、厚みムラに起因する反射光の色味ムラが大幅に低減される。定量的には、ＴＤ方向（透明保護フィルムの長手方向と直交する方向）あるいはＭＤ方向（透明保護フィルム長手方向）に１０ｃｍ離れた任意の２つの場所における、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ65の入射角５°の入射光に対する正反射光の色味ムラで表すことができ、ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のΔＥａ*ｂ*値で２未満であることが好ましく、１．５未満であれば完全に人間の目でムラを検出できなくなるのでより好ましい。
【００４２】
本発明において、「５〜４５°のすべての入射角におけるａ*ｂ*値、もしくはＣ*値が、上記範囲内にある」とは、５〜４５°の５°間隔の入射光に対する正反射光スペクトルから算出されたａ*、ｂ*値もしくはＣ*が上記範囲内にある、ということである。
【００４３】
〔反射防止層の形成〕
本発明の反射防止膜が、上記のような実質的に均一な層厚の２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層からなる反射防止層から構成されるには、特に層厚が２００ｎｍ以下の薄層の均一化が重要であり、本発明はこれを充分に満足するものである。
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層の光学機能層を塗設する場合において、下記（１）及び（２）の工程を行うことを特徴とする。
（１）熱および/または電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有し、固形分濃度が３〜１５質量％で、２５℃における粘度が０．５〜３．５ｍＰａ・ｓの塗布組成物を、ウェット塗布量２．５〜５ｍｌ／ｍ2で塗布する工程
（２）乾燥温度１５℃以上３５℃未満で、乾燥速度を０．０５〜１．０ｇ／ｍ2・secとして乾燥する乾燥工程（Ａ）と、乾燥温度５０℃以上１３０℃以下で乾燥する乾燥工程（Ｂ）とを含む乾燥工程
【００４４】
本発明の薄膜用の塗布液は、熱および／または電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有した組成物からなり、組成物の固形分濃度は３〜１５質量％で、且つ温度２５℃での粘度が０．５〜３．５ｍＰａ・ｓの範囲のものである。この低濃度で低粘度の塗布液をウェット塗布量２．５〜５ｍｌ／ｇで基体上に塗布した塗膜を、乾燥温度が１５℃以上３５℃未満の条件で被塗布液の乾燥速度が０．０５〜１．０ｇ／ｍ2・ｓｅｃ以下になるように乾燥する乾燥工程（Ａ）と、乾燥温度５０℃以上１３０℃以内で乾燥する乾燥工程（Ｂ）とを行うことを特徴とする。好ましくは、塗布工程に続く乾燥工程のうちの、最初の乾燥工程が上記乾燥工程（Ａ）の条件を満たし、その後の乾燥工程中において、上記乾燥工程（Ｂ）による乾燥を行うことが好ましい。本明細書において、乾燥温度とは塗膜表面の温度を意味する。
【００４５】
好ましくは、組成物の固形分濃度は４〜１３質量％であり、温度２５℃での粘度は０．５５〜３．３[ｍＰａ・ｓ]の範囲のものである。塗布液の好ましいウェット塗布量は２．５〜４．５[ｃｃ／ｇ]である。
これらの範囲内において、好ましくは層厚５０〜２００ｎｍの乾燥被膜が形成され、特に好ましくは層厚６０〜１５０ｎｍの乾燥被膜が形成される。
本発明では、このような被塗布膜の乾燥を、乾燥温度の異なる少なくとも２つの乾燥工程で行うことを特徴とし、好ましくは、最も塗布工程に近い乾燥部（以下、「第一乾燥部」ともいう）の乾燥温度が１５度以上３５度未満であり、より好ましくは第一乾燥部の乾燥温度は１８℃以上３２℃以下である。
【００４６】
本発明は、上記第一乾燥部での被塗布液の乾燥速度が０．０６〜０．８ｇ／ｍ2・ｓｅｃであることが好ましい。上記第一乾燥部における乾燥時間は、５秒以上１２０以下であることが好ましく、８秒以上１００秒以下であることがより好ましく、１０秒以上８０秒以下であることがさらに好ましく、１２秒以上６０秒以下であることが最も好ましい。このような乾燥速度で塗布直後の被塗布液を乾燥することにより、得られる乾燥膜の面状が塗布面全面においてムラが無く、且つ層厚が実質的に一定となる。これにより、均一な反射防止性とニュートラル性近似の反射光となる良好な反射防止フィルムが得られる。且つ長尺フィルムに製造のロスが殆ど生じることなく好適に適用できることから、生産性良く安価なフィルムを得ることが出来る。
【００４７】
本発明では、１５℃以上３５℃以下に保たれた第一の乾燥部以降の乾燥工程で、更に高い温度での乾燥（以下、「第二乾燥部」ともいう）を行い、フィルム中の残留の溶剤量を低減することは、搬送ラインにある反転ロールや巻き取り後のフィルム裏面への転写、あるいは製膜したフィルムの膜強度、溶剤の泣き出し防止の観点から必要となる。第二乾燥部の温度は５０〜１３０℃であり、好ましくは５５〜１２５℃である。具体的には、選択した塗布液溶剤の沸点に対して設定することが好ましく、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度〜塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度＋２０℃の間が好ましく、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度＋２０℃〜塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度＋２０℃がより好ましい。
加熱時間としては、１５秒以上３０分以内が好ましい。より好ましくは２０秒以上１５分以下、特に好ましくは３０秒以上１０分以下である。
【００４８】
本発明の乾燥条件は、反射防止層を構成する少なくとも１層の２００ｎｍ以下の薄層の光学機能層（低屈折率層、中屈折率層または高屈折率層）に適用することが必要であり、更にその他の構成層の乾燥条件に適用することも好ましい。
【００４９】
〔反射防止層用硬化性組成物〕
本発明の層厚２００ｎｍ以下の薄膜となる、熱および/または電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有し、固形分濃度が３〜１５質量％で、温度２５℃での粘度が０．５〜３．５ｍＰａ・ｓの硬化性組成物について、屈折率層ごとに説明する。
【００５０】
｛高屈折率層｝
本発明の高屈折率層は、好ましくは、高屈折率の無機化合物微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性組成物を塗設して形成される屈折率１．５１〜２．４０の硬化皮膜から成る。屈折率は１．６０〜２．３０が好ましく、更には１．８０〜２．２０が特に好ましい。本発明の高屈折率層の屈折率は屈折率１．５５〜２．４０であり、いわゆる高屈折率層あるいは中屈折率層と言われている層であるが、以下の本明細書では、これらの層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。
【００５１】
また高屈折率層の表面は、光学的に影響を与えない大きさの微細な表面凹凸形態をなしており、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づく該高屈折率層の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．０３μｍ、さらには０．００１〜０．０１５μｍ、特には０．００１〜０．０１０μｍの範囲；十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．００１〜０．０６μｍ、さらには０．００２〜０．０５μｍ、特には０．００２〜０．０２５μｍの範囲；最大高さ（Ｒｙ）が０．０９μｍ以下、さらには０．０５μｍ以下、特には０．０４μｍ以下；且つ表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０１〜１μｍ、さらに０．０１〜０．８μｍ、特には０．０１〜０．６であることが好ましい。これらの範囲内において、該高屈折率層の上に塗布される低屈折率層の塗布面状は、ムラやスジ等のみられない良好なものとなり、且つ両層間の密着性を向上させることが可能となる。層表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
【００５２】
高屈折率層を、高屈折率粒子がマトリックスバインダー中に分散されてなる屈折率１．５５〜２．４０の高屈折率硬化膜とするには、通常、マトリックスバインダーの屈折率は１．４〜１．５であることから、該高屈折率粒子の使用割合は、用いられる該高屈折率粒子の屈折率によって決まるが、硬化膜の全質量中の４０〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは４５〜７５質量％である。
【００５３】
このように、高屈折率粒子の比率を多くして設計する高屈折率層の、それ自身の層強度を高め、且つ該高屈折率層上に設けられる低屈折率層との密着性を強固にするには、後述するように、高屈折率粒子として超微粒子径で、その粒度が揃ったものを用い、且つこれを高屈折率層中に均一に分散させること、及びその層の表面が上記のような凹凸状態を形成することが好ましい。高屈折率層表面全体の表面凹凸の形状と分布を特定の範囲とすることで、長尺フィルムに連続して低屈折率層を設けた時にでも、該低屈折率層の全面がムラなく均一にアンカリング効果を十分に発揮して密着が保たれるので好ましい。また、長期間を保存した後でも両層の密着性が変化無く保持されるので好ましい。
【００５４】
また、前記の表面形状が形成された高屈折率層を含む反射防止膜においては、視覚的に異物として目立ちやすくなる直径５０μｍ以上の大きさの輝度欠陥の数が、１平方メートル当たり２０個以下となることが好ましい。
【００５５】
（高屈折率無機微粒子）
本発明の高屈折率層に含まれる高屈折率の無機微粒子は、屈折率が好ましくは１．８０〜２．８０、一次粒子の平均粒径が好ましくは３〜２００ｎｍである。屈折率が上記範囲にあると、皮膜の屈折率を高める効果が充分であり、粒子の着色を避けることができる。
また、一次粒子の平均粒径が上記範囲にあると、高い屈折率が保持され、形成される皮膜のヘイズ値が低く、皮膜の透明性が維持される。本発明で、より好ましい無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０で、一次粒子の平均粒径が３〜１５０ｎｍの粒子であり、更に好ましい無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０で、一次粒子の平均粒径が５〜８０ｎｍの粒子である。
【００５６】
好ましい高屈折率無機微粒子の具体例は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ，Ｌａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｖ、Ｓｍ、Ｙ等の酸化物或は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで、主成分とは粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分をさす。本発明でより好ましい高屈折率無機微粒子の具体例は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む酸化物若しくは複合酸化物を主成分とする粒子である。
【００５７】
本発明で使用される無機微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない。例えば、Ｌｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｐ、Ｓなどが挙げられる。酸化錫、酸化インジウムの場合は、粒子の導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｐ、Ｂ、Ｉｎ、Ｖ、ハロゲンなどの元素を含有させることが好ましく、酸化アンチモンを約５〜２０質量％含有させたものが特に好ましい。
【００５８】
特に好ましい無機微粒子は、ＣＯ（コバルト）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）から選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子である。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。
【００５９】
本発明における二酸化チタンを主成分とする無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．１０〜２．８０であることがさらに好ましく、２．２０〜２．８０であることが最も好ましい。
二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の一次粒子の質量平均径は３〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは３〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは３〜１００ｎｍ、特に好ましくは５〜８０ｎｍである。
【００６０】
無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましく、特に好ましくは不定形状、紡錘形状である。
【００６１】
二酸化チタンを主成分とする無機微粒子に、Ｃｏ、Ａｌ及びＺｒから選ばれる少なくとも１つの元素を含有することで、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明の高屈折率層の耐候性を改良することができる。
特に、好ましい元素はＣｏである。また、２種類以上を併用することも好ましい。
Ｔｉ（チタン）に対するＣｏ、ＡｌまたはＺｒの含有量は、それぞれＴｉに対して０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％、・BR>ウらに好ましくは０．２〜７質量％、特に好ましくは０．３〜５質量％、最も好ましくは０．５〜３質量％である。
【００６２】
Ｃｏ、Ａｌ及びＺｒは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部と表面の少なくともいずれかに存在させることができるが、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在させることが好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。
【００６３】
Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒを二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在させる（例えば、ドープする）には、種々の手法がある。例えば、イオン注入法（Ｖｏｌ．１８，Ｎｏ．５，ｐｐ．２６２−２６８，１９９８；青木康）や、特開平１１−２６３６２０号公報、特表平１１−５１２３３６号公報、ヨーロッパ公開特許第０３３５７７３号明細書、特開平５−３３０８２５号公報に記載の手法が挙げられる。
【００６４】
二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の粒子形成過程において、Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒを導入する手法（例えば、特表平１１−５１２３３６号公報、ヨーロッパ公開特許第０３３５７７３号明細書、特開平５−３３０８２５号公報に記載）が特に好ましい。
Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒは、酸化物として存在することも好ましい。
二酸化チタンを主成分とする無機微粒子には、目的により、さらに他の元素を含むこともできる。他の元素は、不純物として含んでいてもよい。他の元素の例としては、上記の無機粒子で例示した元素が挙げられる。
【００６５】
また、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物はＣｏイオン、Ｚｒイオン、及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。ここで、該酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属酸化物の金属元素としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ、Ｓｎ、及びＢｉが好ましい。特には、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが好ましい。複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは０．０５〜１０質量％、さらに好ましくは０．１〜５質量％、最も好ましくは０．３〜３質量％である。
ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れのもので存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在する。表面と内部との両方に存在することが好ましい。
【００６６】
本発明の無機微粒子は結晶構造又はアモルファス構造の何れのものでも良い。結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼが主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。
このことにより、本発明の特定の酸化物又は特定の複酸化物の無機微粒子は、屈折率１．９０〜２．８０を有する。好ましくは、２．１０〜２．８０であり、更に好ましくは２．２０〜２．８０である。また、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明の高屈折率層の耐候性を改良することができる。
【００６７】
本発明の無機微粒子は、二酸化チタンを主成分とする酸化物、或は複合酸化物をコアとして、無機化合物からなるシェルを形成するコア／シェル構造の微粒子も好ましい。シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒから選ばれる少なくとも１種の元素から成る酸化物が好ましく、特にＡｌ、Ｚｒが好ましい。具体的には、例えば特開２００１−１６６０４号公報記載の内容が挙げられる。
【００６８】
また、本発明に用いる二酸化チタンを主成分とする無機微粒子は、表面処理により光触媒活性を低下または消失させる無機化合物または有機化合物により被覆されていることが、高屈折率層の耐候性を改良する上では、好ましい。
表面処理に用いる無機化合物の例には、Ｃｏを含有する無機化合物（ＣｏＯ2，Ｃｏ2Ｏ3，Ｃｏ3Ｏ4など）、Ａｌを含有する無機化合物（Ａｌ2Ｏ3，Ａｌ（ＯＨ）3など）、Ｚｒを含有する無機化合物（ＺｒＯ2，Ｚｒ（ＯＨ）4など）、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ2など）、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ2Ｏ3など）などが含まれる。
Ｃｏを含有する無機化合物、Ａｌを含有する無機化合物、Ｚｒを含有する無機化合物が特に好ましく、Ａｌを含有する無機化合物とＺｒを含有する無機化合物を併用することが特に好ましい。
【００６９】
表面処理に用いる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることが出来る。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。
具体的には、該無機粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物が挙げられる。該有機化合物は、有機カップリング化合物を含む。無機粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等が挙げられる。有機化合物としては、分子中に少なくとも１種の上記極性基を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール化合物（例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート等）、ホスホノ基含有化合物（例えばＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリアクリレート等）、アルカノールアミン（エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等）が挙げられる。
【００７０】
有機カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、アルミネートカップリング剤、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤（例、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタンなどの金属アルコキシド、プレンアクト（ＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５５、ＫＲ−４１Ｂなど；味の素（株）製）など）等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。
【００７１】
表面処理に用いる有機化合物は、さらに、架橋または重合性官能基を有することが好ましい。架橋または重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基（例えば（メタ）アクリル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシカルボニル基、ビニルオキシ基等）、カチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基、スピロオルトエステル基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基、Ｎ−アルコキシメチル基等）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基、或はエポキシ基を有する基である。例えば、特開２００１−３１０４２３号公報明細書段落番号［００１１］〜［００１５］に記載の化合物等が挙げられる。これらの表面処理は、２種類以上を併用することもできる。
【００７２】
高屈折率層に含有される二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましく、特に好ましくは不定形状、紡錘形状である。
【００７３】
（分散剤）
無機微粒子の分散には、分散剤を用いることができる。
分散剤としては、該無機微粒子表面と親和性を有するヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基等の極性基を有する低分子化合物、または高分子化合物であることが好ましい。
【００７４】
分散剤は、さらに架橋または重合性官能基を含有することが好ましい。架橋または重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基（例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシカルボニル基、ビニルオキシ基等）、カチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基、Ｎ−アルコキシメチル基）等が挙げられる。好ましくは、エチレン性不飽和基、エポキシ基、或は加水分解性シリル基である。
具体的には、例えば特開２００１−３１０４２３号公報中の段落番号［００１３］〜［００１５］記載の化合物等が挙げられる。
【００７５】
本発明の好ましい分散剤は、アニオン性基と、架橋性官能基または重合性官能基のいずれかとを有する化合物が好ましい。更には、これらの化合物において該架橋または重合性官能基を側鎖に有する高分子分散剤が特に好ましい。
その質量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが１０００以上であることが好ましい。分散剤のより好ましい質量平均分子量（Ｍｗ）は２×１０3〜１×１０5であり、さらに好ましくは５０００〜２０００００、特に好ましくは１００００〜１０００００である。
具体的には、例えば特開平１１−１５３７０３号公報中の段落番号［００２４］〜［００４１］記載の化合物、特開２００４−２９７０５号公報記載の内容のものが挙げられる。
【００７６】
分散剤の無機微粒子に対する使用量は、１〜５０質量％の範囲であることが好ましく、５〜３０質量％の範囲であることがより好ましい。また、分散剤は２種類以上を併用してもよい。
【００７７】
（高屈折率微粒子の湿式メディア分散）
高屈折率層に用いる二酸化チタンを主成分とする無機微粒子は、分散物の状態で高屈折率層用塗布物とし、それを塗布、乾燥、硬化して高屈折率層形成に使用することが好ましい。
無機微粒子は、少なくとも分散媒、被分散微粒子及び分散剤を分散用メディア（分散用ビーズ）とともに湿式分散する。
湿式分散用の分散機としては、従来公知のものが挙げられる。具体的には、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター、コロイドミル、ダイノミル等が含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。具体的には、生産性と微細化／単分散化等の分散性能の観点で、スーパーアペックスミル（アペックス社製）が好適に用いられる。
【００７８】
また、分散前に予備分散処理を実施してもよい。予備分散を行うことにより、あらかじめ粗大粒径を有する凝集物をほぐして、また一方で分散剤を粒子に予め十分に馴染ませておくことができ、結果的に本分散の効率と精度を上げることができる。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。
【００７９】
分散物中の無機微粒子の一次粒子の質量平均径は３〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは３〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは３〜１００ｎｍ、特に好ましくは５〜８０ｎｍである。
【００８０】
更には、湿式分散物中の分散無機粒子中には、５００ｎｍ以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが好ましく、３００ｎｍ以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが特に好ましい。
【００８１】
上記分散機と共に用いるメディアとしては、その平均粒径が０．５ｍｍ未満であり、好ましくは０．３ｍｍ以下であり、より好ましくは０．０５〜０．２ｍｍである。
また、湿式分散に用いられるメディアとしては、ビーズが好ましい。具体的には、ジルコニアビーズ、ガラスビーズ、セラミックビーズ、スチールビーズ等が挙げられ、分散中におけるビーズの破壊等を生じ難い等の耐久性と超微粒子化の上から０．０５〜０．２ｍｍのジルコニアビーズが特に好ましい。
【００８２】
（分散媒）
本発明において、無機微粒子の湿式分散に供する分散媒体は、水、有機溶媒から適宜選択して用いることができ、沸点が５０℃以上の液体であることが好ましく、沸点が６０℃〜１８０℃の範囲の有機溶媒であることがより好ましい。
分散媒体は、無機微粒子及び分散剤を含む分散用組成物が５〜５０質量％となる割合で用いることが好ましい。更には、１０〜３０質量％が好ましい。この範囲において、分散が容易に進行し、得られる分散物は作業性良好な粘度の範囲となる。
【００８３】
分散媒体としては、アルコール類、ケトン類、エステル類、ニトリル類、アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。具体的には、具体的には、アルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等）、ケトン（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル（例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル等）、脂肪族炭化水素（例えばヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例えばメチレンクロライド、メチルクロロホルム等）、芳香族炭化水素（例えばトルエン、キシレン等）、アミド（例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン等）、エーテル（例えばジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等）、エーテルアルコール（例えば１−メトキシ−２−プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等）、フルオロアルコール類（例えば、特開平８−１４３７０９号公報  段落番号［００２０］、同１１−６０８０７号公報  段落番号［００３７］等に記載の化合物）が挙げられる。
【００８４】
これらの溶媒は、それぞれ単独で又は２種以上を混合して使用することができる。好ましい溶媒としては、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、イソプロパノール、ブタノールが挙げられる。また、ケトン溶媒（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられ、ケトン系溶媒の含有量が硬化性組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。より好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【００８５】
更には、分散物中の分散粒子がその平均粒径、および粒子径の単分散性が上記した範囲を満足する上で、分散物中の粗大凝集物を除去するためにビーズとの分離処理において精密濾過されるように濾材を配置することも好ましい。精密濾過するための濾材は濾過粒子サイズ２５μｍ以下が好ましい。精密濾過するための濾材のタイプは上記性能を有していれば特に限定されないが例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。
分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、かつ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
【００８６】
（高屈折率層のマトリックス）
高屈折率層は、高屈折率無機超微粒子とマトリックスを少なくとも含有してなる。
本発明の好ましい態様によれば、高屈折率層のマトリックスは、（ｉ）有機バインダー、または（ii）加水分解可能な官能基を有する有機金属化合物、及びこの有機金属化合物の部分縮合物、の少なくともいずれかを含有する高屈折率層形成用組成物を塗布後に、硬化して形成される。
【００８７】
（ｉ）有機バインダー
有機バインダーとしては、（イ）従来公知の熱可塑性樹脂、（ロ）従来公知の反応硬化型樹脂と硬化剤との組み合わせ、又は（ハ）バインダー前駆体（後述する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤との組み合わせ、から形成されるバインダーが挙げられる。
【００８８】
本発明では、上記（イ）、（ロ）又は（ハ）の有機バインダーと、高屈折率複合酸化物微粒子と分散剤を含有する分散液から高屈折率層形成用組成物が調製されることが好ましい。この組成物は、保護フィルム上に塗布され、塗膜が形成された後、バインダー形成用成分に応じた方法で硬化されて高屈折率層が形成される。硬化方法は、バインダー成分の種類に応じて適宜選択され、例えば加熱及び光照射の少なくともいずれかの手段により、硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応を生起させる方法が挙げられる。中でも、上記（ハ）の組み合わせを用いて光照射することにより硬化性化合物を架橋反応又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法が好ましい。
【００８９】
更に、高屈折率層形成用組成物を塗布と同時又は塗布後に、高屈折率粒子を含む該組成物に含有される分散剤を、架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
【００９０】
このようにして作製した硬化膜中のバインダーは、例えば、前記した分散剤とバインダーの前駆体である硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに、硬化膜中のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有するので、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、高屈折率粒子を含有する硬化膜である高屈折率層中の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良することができる。
【００９１】
前記（イ）の熱可塑性樹脂及び前記（ロ）の反応硬化型樹脂としては、例えば、特開平８−１２２５０４号公報段落番号[００３４]記載の化合物等が挙げられる。
【００９２】
これらの反応硬化型樹脂に必要に応じて、架橋剤（エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等）、重合開始剤（アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物、ケトン化合物等のＵＶ光開始剤等）等の硬化剤、重合促進剤（有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等）等の従来公知の化合物を加えて使用する。具体的には、例えば、山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」（大成社、１９８１年刊）記載の化合物が挙げられる。
【００９３】
以下、硬化したバインダーの好ましい形成方法である前記（ハ）の組み合わせを用いて、光照射により硬化性化合物を架橋又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法について、主に説明する。
【００９４】
光硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、ラジカル重合性又はカチオン重合性のいずれでもよい。
【００９５】
ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
分子内に２個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。
ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に２〜６個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、またはそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。
【００９６】
ラジカル重合性モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が挙げられる。
また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類やアミド類と、単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【００９７】
脂肪族多価アルコール化合物としては、アルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシットール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物（モノエステルまたはポリエステル）、例として、例えば、特開２００１−１３９６６３号公報段落番号［００２６］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。
【００９８】
その他の重合性エステルの例としては、例えば、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、特公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開平２−２２６１４９号公報等記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を有するもの、日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８頁（１９８４年）に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマー等も好適に用いられる。
これらラジカル重合性の多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
【００９９】
次に、高屈折率層のバインダーの形成に用いることができるカチオン重合性基含有の化合物（以下、「カチオン重合性化合物」または「カチオン重合性有機化合物」とも称する）について説明する。
本発明に用いられるカチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び／または架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニル炭化水素化合物などを挙げることができる。本発明では前記したカチオン重合性有機化合物のうちの１種を用いても２種以上を用いてもよい。
【０１００】
カチオン重合性基含有化合物としては、１分子中のカチオン重合性基の数は２〜１０個が好ましく、特に好ましくは２〜５個である。該化合物の分子量は３０００以下であり、好ましくは２００〜２０００の範囲、特に好ましくは４００〜１５００の範囲である。分子量が小さすぎると、皮膜形成過程での揮発が問題となり、大きすぎると、高屈折率層形成用の塗布組成物との相溶性が悪くなり好ましくない。
【０１０１】
上記エポキシ化合物としては脂肪族エポキシ化合物及び芳香族エポキシ化合物が挙げられる。
脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどを挙げることができる。さらに、前記のエポキシ化合物以外にも、例えば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチルエポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、或いは不飽和脂環族環（例えば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等）含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。
【０１０２】
また、芳香族エポキシ化合物としては、例えば少なくとも１個の芳香核を有する１価または多価フェノール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のモノまたはポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、例えば、特開平１１−２４２１０１号公報の段落番号〔００８４〕〜〔００８６〕記載の化合物、特開平１０−１５８３８５号公報の段落番号〔００４４〕〜〔００４６〕記載の化合物等が挙げられる。
【０１０３】
これらのエポキシ化合物のうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシ化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１０４】
環状チオエーテル化合物としては、上記のエポキシ環がチオエポキシ環となる化合物が挙げられる。
環状エーテルとしてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、例えば特開２０００−２３９３０９号公報の段落番号〔００２４〕〜〔００２５〕に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。
【０１０５】
スピロオルソエステル化合物としては、例えば特表２０００−５０６９０８号公報等記載の化合物を挙げることができる。
ビニル炭化水素化合物としては、スチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物（ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等）、プロペニル化合物（Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry,Vol.32,2895(1994)等記載）、アルコキシアレン化合物（Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol.33, 2493 (1995)等記載）、ビニル化合物（特開２００２−２９１６２号公報等記載）、イソプロペニル化合物（Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol.34, 2051 (1996)記載等）等を挙げることができる。
２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１０６】
また、本発明の多官能性化合物は、上記のラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる少なくとも各１種を少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。例えば、特開平８−２７７３２０号公報の段落番号〔００３１〕〜〔００５２〕記載の化合物、特開２０００−１９１７３７号公報の段落番号〔００１５〕記載の化合物等が挙げられる。本発明に供される化合物は、これらに限定されるものではない。
【０１０７】
上記したラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。
【０１０８】
次に、前記（ハ）の組み合わせにおいて、バインダー前駆体と組み合わせて用いられる重合開始剤について詳述する。
重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。
本発明の重合開始剤（Ｌ）は、光及び／または熱照射により、ラジカル若しくは酸を発生する化合物である。本発明において用いられる光重合開始剤（Ｌ）は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。
【０１０９】
まず、ラジカルを発生する化合物（Ｌ１）について詳述する。
本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物（Ｌ１）は、光または熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。
公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独または２種以上を併用して用いることができる。
【０１１０】
ラジカルを発生する化合物としては、例えば、従来公知の有機過酸化化合物（特開２００１−１３９６６３号記載）、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、アミン化合物（特公昭４４−２０１８９号公報記載）、有機ハロゲン化化合物（特開平５−２７８３０号公報中の段落番号〔００３９〕〜〔００４８〕等記載）、メタロセン化合物（特開平５−８３５８８号公報等記載）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物（米国特許第４，６２２，２８６号等記載）、有機ホウ酸化合物（特開２００２−１１６５３９号公報、特開平７−２９２０１４号公報等記載）、ジスルホン化合物（特開平５−２３９０１５号公報等）、カルボニル化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
【０１１１】
上記カルボニル化合物としては、例えば、「最新  ＵＶ硬化技術」６０〜６２ページ（（株）技術情報協会刊、１９９１年）、特開平８−１３４４０４号明細書の段落番号〔００１５〕〜〔００１６〕、同１１−２１７５１８号明細書の段落番号〔００２９〕〜〔００３１〕に記載の化合物等が挙げられ、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１１２】
これらのラジカル発生化合物は、一種のみを添加しても、二種以上を併用してもよい。
添加量としては、ラジカル重合性モノマーの全量に対し０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜２５質量％、特に好ましくは１〜２０質量％で添加することができる。この範囲において、高屈折率層形成用の塗布組成物の経時安定性が問題なく高い重合性となる。
【０１１３】
次に、光重合開始剤（Ｌ）として用いることができる光酸発生剤（Ｌ２）について詳述する。
酸発生剤（Ｌ２）としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。
また、酸発生剤（Ｌ２）として、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物、オニウム塩が挙げられる。有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物のこれらの具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開２００２−２９１６２号明細書の段落番号〔００５８〕〜〔００５９〕、特開２０００−７１３６６号明細書の段落番号〔００１０〕〜〔００１１〕、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号〔００３０〕〜〔００３３〕に記載の化合物等が挙げられる。
【０１１４】
これらの酸発生剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの酸発生剤は、全カチオン重合性モノマーの全質量１００質量％に対し０．１〜２０質量％、好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、高屈折率層形成用の塗布組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。
【０１１５】
本発明の高屈折率層形成用の塗布組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を０．５〜１０質量％及びカチオン重合開始剤を１〜１０質量％の割合で含有していることが好ましい。より好ましくは、ラジカル重合開始剤を１〜５質量％、及びカチオン重合開始剤を２〜６質量％の割合で含有する。
【０１１６】
本発明の高屈折率層形成用の塗布組成物には、紫外線照射により重合反応を行う場合には、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。例えばミヒラーズケトン、アミノ酸（グリシンなど）、有機アミン（ブチルアミン、ジブチルアミンなど）等が挙げられる。
【０１１７】
また、近赤外線照射により重合反応を行う場合には、近赤外線分光増感剤を併用することが好ましい。
併用する近赤外線分光増感剤は、７００ｎｍ以上の波長域の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、分子吸光係数が１００００以上の値を有する化合物が好ましい。近赤外線分光増感剤は、近赤外線吸収顔料及び近赤外線吸収染料として知られる種々の顔料及び染料を用いることができる。その中でも、従来公知の近赤外線吸収剤を用いることが好ましい。
市販の染料および文献（例えば、「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）、Ｊ．ＦＡＢＩＡＮ、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．、９２、ｐｐ１１９７〜１２２６（１９９２）等記載されている公知の染料が利用できる。
【０１１８】
（ii）加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物
本発明に用いる高屈折率層のマトッリクスとして、加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物を用いてゾルゲル反応により塗布膜形成後に硬化された膜を形成することも好ましい。有機金属化合物としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等からなる化合物が挙げられる。加水分解可能な官能基な基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水酸基が挙げられ、特に、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が好ましい。
【０１１９】
好ましい有機金属化合物は、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物及びその部分加水分解物（部分縮合物）である。なお、一般式（１）で表される有機ケイ素化合物は、容易に加水分解し、引き続いて脱水縮合反応が生じることは良く知られた事実である。
【０１２０】
一般式（１）：（Ｒ11）m−Ｓｉ（Ｘ11）n
【０１２１】
一般式（１）中、Ｒ11は、置換又は無置換の、炭素数１〜３０の脂肪族基又は炭素数６〜１４のアリール基を表す。Ｘ11は、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、ＯＨ基、ＯＲ12基、ＯＣＯＲ12基を表す。ここで、Ｒ12は置換または無置換のアルキル基を表す。
ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４である。但し、ｍが０の場合は、Ｘ11はＯＲ12基またはＯＣＯＲ12基を表す。
【０１２２】
一般式（１）においてＲ11の脂肪族基としては、好ましくは炭素数１〜１８（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル、ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基等）が挙げられる。より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは１〜８のものである。
Ｒ11のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０１２３】
置換基としては特に制限はないが、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、（メタ）アクリロイル等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が好ましい。
【０１２４】
これらの置換基うちで、更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイル）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）である。またこれら置換基は更に置換されていても良い。
【０１２５】
Ｒ12は置換もしくは無置換のアルキルを表す。アルキル基中の置換基の説明はＲ11と同じである。
ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４である。ｍとして好ましくは０、１または２であり、特に好ましくは１である。ｍが０の場合は、Ｘ11は−ＯＲ12基または−ＯＣＯＲ12基を表す。
【０１２６】
一般式（１）の化合物の具体例として、例えば特開２００１−１６６１０４号公報段落番号［００５４］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
一般式（１）の化合物の含有量は、高屈折率層の全固形分の１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％、特に好ましくは３０〜５０質量％である。
【０１２７】
高屈折率層において、有機バインダーは、シラノール基を有することが好ましい。バインダーがシラノール基を有することで、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性がさらに改良される。
シラノール基は、例えば、高屈折率層形成用の塗布組成物を構成するバインダー形成成分として、バインダー前駆体（硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）や重合開始剤、高屈折率無機微粒子の分散液に含有される分散剤と共に、架橋または重合性官能基を有する上記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物を該塗布組成物に配合し、この塗布組成物を透明支持体上に塗布して上記の分散剤、多官能モノマーや多官能オリゴマー、上記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物を架橋反応または重合反応させることによりバインダーに導入することができる。
【０１２８】
上記の有機金属化合物を硬化させるための加水分解・縮合反応は、触媒存在下で行われることが好ましい。触媒としては、酸類、塩基類、金属アルコキシド類、β−ジケトン類或いはβ−ケトエステル類の金属キレート化合物類等が挙げられる。具体的には、例えば特開２０００−２７５４０３号公報中の段落番号［００７１］〜［００８３］記載の化合物等が挙げられる。
【０１２９】
これらの触媒化合物の組成物中での割合は、有機金属化合物に対し、０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％である。反応条件は有機金属化合物の反応性により適宜調節されることが好ましい。
【０１３０】
高屈折率層においてマトリックスは、特定の極性基を有することも好ましい。特定の極性基としては、アニオン性基、アミノ基、及び四級アンモニウム基が挙げられる。アニオン性基、アミノ基及び四級アンモニウム基の具体例としては、前記分散剤について述べたものと同様のものが挙げられる。
【０１３１】
特定の極性基を有する単官能性モノマーは、塗布組成物の中で無機微粒子の分散助剤として機能する。さらに、塗布後、分散剤、多官能モノマーや多官能オリオリゴマーと架橋反応、または、重合反応させてバインダーとすることで高屈折率層における無機微粒子の良好な均一な分散性を維持し、物理強度、耐薬品性、耐候性に優れた高屈折率層を作製することができる。
特定の極性基を有する単官能性モノマーの分散剤に対する使用量は、０．５〜５０質量％であることが好ましく、さらに好ましくは１〜３０質量％である。高屈折率層の塗布と同時または塗布後に、架橋または重合反応によってバインダーを形成すれば、高屈折率層の塗布前に単官能性モノマーを有効に機能させることができる。
【０１３２】
また、本発明の高屈折率層のマトリックスとして、前記した有機バインダーの（イ）に相当し、従来公知の架橋または重合性官能基を含有する有機ポリマーから硬化・形成されたものが挙げられる。高屈折率層形成後のポリマーが、さらに架橋または重合している構造を有することが好ましい。ポリマーの例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素から成る）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。硬化前の有機ポリマーとしての質量平均分子量は１×１０3〜１×１０6が好ましく、より好ましくは３×１０3〜１×１０5である。
【０１３３】
硬化前の有機ポリマーは、前記の内容と同様の特定の極性基を有する繰り返し単位と、架橋または重合構造を有する繰り返し単位とを有する共重合体であることが好ましい。ポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位中の０．５〜９９質量％であることが好ましく３〜９５質量％であることがさらに好ましく、６〜９０質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二つ以上の同じでも異なってもよいアニオン性基を有していてもよい。
シラノール基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、２〜９８ｍｏｌ％であることが好ましく、４〜９６ｍｏｌ％であることがさらに好ましく、６〜９４ｍｏｌ％であることが最も好ましい。
アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．１〜５０質量％であることが好ましく、更には０．５〜３０質量％が好ましい。
【０１３４】
なお、シラノール基、アミノ基、及び四級アンモニウム基は、アニオン性基を有する繰り返し単位あるいは架橋または重合構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。
ポリマー中の架橋または重合構造を有する繰り返し単位の割合は、１〜９０質量％であることが好ましく、５〜８０質量％であることがさらに好ましく、８〜６０質量％であることが最も好ましい。
【０１３５】
バインダーが架橋または重合してなるマトリックスは、高屈折率層形成用の塗布組成物を透明支持体上に塗布して、塗布と同時または塗布後に、架橋または重合反応によって形成することが好ましい。
本発明の高屈折率層は、更に用途、目的によって適宜他の化合物を添加することが出来る。例えば、高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましく、高屈折率層に、芳香環、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含有すると有機化合物の屈折率が高くなることから、これらを含有する硬化性化合物などの架橋または重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
【０１３６】
（高屈折率層の他の成分）
高屈折率層には、前記の成分（無機微粒子、重合開始剤、光増感剤など）以外に、樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。
また、高屈折率層は、後述する平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能を付与した防眩層を兼ねることもできる。
【０１３７】
高屈折率層の層厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは４０〜１７０ｎｍ、特に好ましくは５０〜１５０ｎｍである。高屈折率層がハードコート層を兼ねる場合、０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１〜７μｍ、特に好ましくは２〜５μｍである。
【０１３８】
（高屈折率層用硬化組成物の調製）
本発明の高屈折率層用塗布液は、特定の無機化合物の超微粒子分散物、マトリックスバイダー用液、必要に応じて用いる添加剤を塗布用分散媒に各々所定の濃度に混合・希釈して調製される。
【０１３９】
高屈折率層の塗布溶媒としては、前記の特定の無機化合物の超微粒子分散物の分散媒での有機溶媒と同様のものが挙げられる。好ましくは、ケトン系溶媒の含有量が塗布組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。特に好ましいケトン溶媒としては、前記メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが挙げられる。
【０１４０】
塗布に用いる該硬化性組成物の塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲で、できるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルターが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜２５μｍであるフィルターを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
【０１４１】
濾過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物の濾過部材と同様のものが挙げられる。また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【０１４２】
作製された本発明の高屈折率層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う鉛筆硬度試験で、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましい。
また、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
高屈折率層は、前記透明支持体上に直接、または、他の層を介して構築することが好ましい。
【０１４３】
｛中屈折率層｝
本発明の反射防止フィルムは、更に中屈折率層を設けることが好ましい。
この層は、透明支持体と前記の高屈折率層の間に設けることが好ましく、屈折率は透明支持体の屈折率とこの支持体より高い高屈折率層との間の屈折率となるように設計される。具体的には、中屈折率層の屈折率が１．５５から１．７９、高屈折率層が１．８０〜２．０とすることが好ましい。
【０１４４】
中屈折率層は、少なくとも従来公知の屈折率１．６０以上の透明性の無機化合物粒子及びマトリックスバインダーから成る硬化性膜である。好ましくは、高屈折率層の組成物と同様のものが挙げられ、屈折率は該硬化膜層中の無機粒子の含有量で適宜に調節することが好ましい。
中屈折率層の層厚は用途により適切に設計することができる。中屈折率層の層厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、４０〜１７０ｎｍであることがより好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０１４５】
｛低屈折率層｝
本発明における低屈折率層の屈折率は、反射防止性を付与する目的で、好ましくは１．３１〜１．４９の範囲であるのが好ましい。より好ましくは、１．３５〜１．４９、さらに好ましくは１．３５〜１．４８である。
【０１４６】
本発明における低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築されることが好ましい。そして、該低屈折率層は、平均粒径が該低屈折率層の厚みの３０％〜１００％で、且つ屈折率１．１７〜１．４０である中空構造の無機微粒子を少なくとも１種含有してなることが好ましい。該無機微粒子の屈折率は、より好ましくは１．１７〜１．３７である。無機微粒子の平均粒径が低屈折率層の厚みの３０％〜１００％の範囲であれば、低屈折率層皮膜の強度が十分に発現されるので好ましい。またこのような屈折率の無機微粒子を低屈折率層に用いることにより、層自体の屈折率の上昇を抑えながら、しかも長時間の熱硬化や偏光膜を設けるために行う鹸化処理などの制約を受けることなく、低い屈折率と高い皮膜強度の両立を達成できる。
【０１４７】
（低屈折率層の硬化膜形成用素材）
更に上記低屈折率層には、低屈折率を実現し、且つ表面への滑り性の付与が効果的に行え、耐擦傷性を大きく向上させる手段として、従来公知のシリコーン及び／又は含フッ素化合物の導入された硬化膜形成用素材を適宜適用することが好ましい。含フッ素化合物を含有することがより好ましい。特に、本発明における低屈折率層は、熱硬化性及び／又は光もしくは放射線（例えば電離放射線）硬化型の架橋性の含フッ素化合物を主体として形成され、硬化した含フッ素ポリマーにより構成されることが好ましい。
【０１４８】
そのため、本発明において低屈折率層は、上記無機微粒子、酸触媒の存在下で製造されてなる、下記一般式（２）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物、及び硬化性反応基を有する含フッ素ポリマーを、それぞれ少なくとも１種含有する硬化性の低屈折率層形成用組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることが好ましい。
【０１４９】
一般式（２）：（Ｒ21）q−Ｓｉ（Ｙ21）4-q
【０１５０】
（式中、Ｒ21は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｙ21は水酸基又は加水分解可能な基を表す。ｑは１〜３の整数を表す。）
【０１５１】
また、低屈折率層形成用組成物は、更に、ラジカル重合性基及び／又はカチオン重合性基から選ばれる重合性基を少なくとも２個以上含有する多官能重合性化合物及び重合開始剤を含有することが好ましい。
【０１５２】
以下、硬化性の低屈折率層形成用組成物について説明する。
（中空構造の無機微粒子）
上記低屈折率層はその屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子（以下、中空粒子ということがある）を用いることが好ましい。中空粒子は屈折率が、通常１．１７〜１．４０、好ましくは１．１７〜１．３７、さらに好ましくは１．１７〜１．３５であるのがよい。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。中空粒子の屈折率は、粒子の強度及び該中空粒子を含む低屈折率層の耐擦傷性の観点から、１．１７以上とすることが好ましい。これら中空粒子の屈折率はアッベ屈折率計［アタゴ（株）製］にて測定することができる。
【０１５３】
なお、中空粒子内の空腔の半径をｒi、粒子外殻の半径をｒoとするとき、中空粒子の空隙率ｗ（％）は下記数式（６）に従って計算される。中空粒子の空隙率は、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％である。
【０１５４】
数式（６）：ｗ=（ｒi／ｒo）3×１００
【０１５５】
中空粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの３０〜１００％、さらには３５〜８０％、特には４０〜６０％であることが好ましい。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、中空粒子の粒径は３０〜１００ｎｍ、さらには３５〜８０ｎｍ、特には４０〜６０ｎｍの範囲となることが好ましい。該平均粒径が前記の範囲であると、膜の強度が十分に発現されて好ましい。
【０１５６】
低屈折率層に用いられる無機微粒子としては、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の粒子が好ましい。特に好ましくは二酸化珪素（シリカ）粒子である。
無機微粒子の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、又は不定形状であることが好ましい。
【０１５７】
（小サイズ粒径の無機微粒子）
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下、「小サイズ粒子」と称することがある）の少なくとも１種を、前記のこれより大きい粒径の無機微粒子（以下、「大サイズ粒子」と称すこともある）と併用することが好ましい。この小サイズ粒子は中空構造をもたないものでよい。
小サイズ粒子は、大サイズ粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒子の保持剤として寄与することができるので好ましい。また、原料コストの点でも好ましい。小サイズ粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１〜２０ｎｍが好ましく、５〜１５ｎｍが更に好ましい。
【０１５８】
小サイズ粒子の使用量は、大サイズ粒子（好ましくは中空粒子）１００質量部に対して５〜１００質量部が好ましく、より好ましくは１０〜８０質量部である。
小サイズ粒子を構成する具体的な化合物としては、前記の中空粒子で例示したと同様のものが挙げられる。特に好ましくは、ケイ素の酸化物が挙げられる。
【０１５９】
（無機微粒子の分散液）
上記した中空粒子（大サイズ粒子）、及び小サイズ粒子のいずれの無機微粒子も、分散液中又は硬化性の低屈折率層形成用組成物溶液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例えば、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング剤による処理が特に好ましい。シランカップリング剤としては上記一般式（２）で表されるものが挙げられる。
【０１６０】
上記のカップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として、硬化性の低屈折率層形成用組成物塗布液調製以前に予め表面処理を施すために用いられるが、該塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０１６１】
上記無機微粒子の配合割合は、上記低屈折率層形成用組成物１００質量部に対して５〜９０質量部とするのが、低屈折率層皮膜の透明性、強度等の観点から好ましく、２０〜６０質量部とするのがさらに好ましい。また、中空粒子と他の粒子を配合する場合は、全粒子中の中空粒子は５〜９５質量部が好ましく、より好ましくは１０〜９０質量部、特に好ましくは３０〜８０質量部である。
【０１６２】
（含フッ素ポリマー）
前述の通り、本発明における低屈折率層は、熱硬化型及び／又は光又は放射線（例えば電離放射線）硬化型の架橋性の含フッ素化合物を主体として形成され硬化した含フッ素ポリマーにより構成されているのが好ましい。
本発明において、「含フッ素化合物を主体とする」とは、低屈折率層中に含まれる含フッ素化合物が低屈折率層の全質量に対し、５０質量％以上であることを意味し、６０質量％以上含まれることがより好ましい。
【０１６３】
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含むことが好ましい。
【０１６４】
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテル、含フッ素シラン化合物等が挙げられる。具体的には、例えば特開平９−２２２５０３号公報  段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報  段落番号［００１９］〜［００３０］、同２００１−４０２８４号公報  段落番号［００２７］〜［００２８］、同２００４−４５４６２号公報  段落番号［００３０］〜［００４７］等の記載の化合物等が挙げられる。
【０１６５】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含む繰り返し構造単位、架橋性もしくは重合性の官能基を含む繰り返し構造単位、及びそれ以外の置換基からなる繰り返し構造単位からなる共重合体が好ましい。すなわち、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーとの共重合体、すなわち、架橋性もしくは重合性の官能基である硬化性反応基を有する含フッ素ポリマーが好ましく、さらにその他のモノマーが共重合された含フッ素ポリマーを用いてもよい。
架橋性もしくは重合性の官能基としては従来公知の官能基の何れでもよい。
【０１６６】
重合性の官能基としては、ラジカル重合性基、カチオン重合性基が挙げられる。好ましくは、ラジカル重合性基［例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、ビニルオキシ基等］、カチオン重合性基（例えば、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基等）が挙げられる。又、加水分解し重縮合反応性のシリル基（例えば、トリメトキシシリル基、トリアルコキシシリル基、トリアセトキシシリル基等）が挙げられる。
【０１６７】
その他の繰り返し構造単位としては、溶媒可溶化のために炭化水素系共重合成分により形成される繰り返し構造単位が好ましく、このような構造単位をポリマー全体中５０質量％程度導入したフッ素系ポリマーが好ましい。この際には、シリコーン化合物と組み合わせることが好ましい。
【０１６８】
シリコーン化合物としては、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基又は重合性官能基を含有して、低屈折率層皮膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、上市品の「サイラプレーン」［チッソ（株）製］等の反応性シリコーン、特開平１１−２５８４０３号公報に記載のポリシロキサン構造の両末端にシラノール基含有の化合物等が挙げられる。
【０１６９】
架橋又は重合性基を有する含フッ素ポリマーの架橋又は重合反応は、最外層である低屈折率層を形成するための硬化性組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。この際、用いることのできる重合開始剤、分光増感剤は前記の高屈折率層で記載の内容と同一のものが挙げられる。
【０１７０】
共重合してもよいその他のモノマーには特に限定はなく、具体的には後述の一般式（３）中のＸ31で例示のものと同様のものが挙げられる。
【０１７１】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用してもよい。
【０１７２】
また、低屈折率層としては、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化して形成されるゾルゲル硬化膜も好ましく用いられる。
【０１７３】
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報等記載の化合物）、特開平９−１５７５８２号公報記載のペルフルオロアルキル基含有シランカップリング剤、フッ素含有長鎖基であるポリ「ペルフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
【０１７４】
併用する触媒としては、従来公知の化合物が挙げられ、上記文献中に記載のものが好ましく挙げられる。
【０１７５】
本発明で特に有用な硬化性反応基を有する含フッ素ポリマーとしては、ペルフルオロオレフィン、ペルフルオロシクロオレフィン、非共役ペルフルオロジエンから選ばれるペルフルオロ化合物類とビニルエーテル類又はビニルエステル類の共重合体が挙げられる。特に単独で架橋反応可能な基［（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等］を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０モル％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０モル％を占めていることである。
【０１７６】
本発明に用いられる共重合体の好ましい態様として下記一般式（３）で表される化合物が挙げられる。
【０１７７】
【化１】
2006126799.tif 000002
【０１７８】
一般式（３）中、成分［Ｆ］は、以下の成分（ｐｆ１）、成分（ｐｆ２）又は成分（ｐｆ３）を表す。
【０１７９】
【化２】
2006126799.tif 000003
【０１８０】
成分（ｐｆ１）において、Ｒ31はフッ素原子又は炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基を表す。
【０１８１】
【化３】
2006126799.tif 000004
【０１８２】
成分（ｐｆ２）において、Ｒ32、Ｒ33は、それぞれ同じでも異なってもよく、フッ素原子又は−ＣjＦ2j+1基を表し、ｊは１〜４の整数（好ましくはｊは１又は２）を表す。好ましくは、フッ素原子又は−ＣＦ3基、−Ｃ2Ｆ5基である。ａは０又は１、ｂは２〜５の整数を表す。ｃは０又は１を表す。ａ及び／又はｃが０の場合、それぞれ単結合を表す。
【０１８３】
【化４】
2006126799.tif 000005
【０１８４】
成分（ｐｆ３）において、Ｒ34、Ｒ35は、それぞれフッ素原子又は−ＣＦ3基を表す。ａは、上記成分（ｐｆ２）と同様０又は１を表す。ｄは０又は１、ｅは０又は１〜４の整数、ｆは０又は１、ｇは０又は１〜５の整数を表す。ｄ、ｅ、ｆ及び／又はｇが０の場合、それぞれ単結合を表す。また（ｅ＋ｆ＋ｇ）は１〜６の範囲の整数である。
【０１８５】
前記の一般式（３）において、Ｘ32は炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数２〜４の連結基を表し、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、また環構造を有していてもよい。さらにＯ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。連結基Ｘ32の好ましい例としては、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）2−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ2）4−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）6−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊（ここで、＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｕは０又は１を表す。
【０１８６】
また一般式（３）において、Ｙ31は水素原子又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０１８７】
さらに一般式（３）中、Ｘ31は任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、成分［Ｆ］に相当するモノマーと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、低屈折率層の下の層、例えば高屈折率層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶媒への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一又は複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【０１８８】
一般式（３）におけるＸ31の好ましい例としては、アルキルビニルエーテル類（アルキル基として、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シクロへキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、グリシジル基、アリル基等）、ビニルエステル類（例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等）、（メタ）アクリレートアルキルエステル（アルキル基として、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シクロへキシル基、ヒドロキシエチル基、グリシジル基、アリル基、トリメトキシシリルプロピル基等）、スチレン誘導体（例えばスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等）、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができる。より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０１８９】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
【０１９０】
特に好ましくは、一般式（３）において、［Ｆ］成分が（ｐｆ１）成分のもが挙げられ、具体的には特開２００４−４５４６２号公報段落番号「００４３」〜「００４７」に記載の化合物等が挙げられる。
【０１９１】
（オルガノシラン化合物）
次に、前記一般式（２）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物について説明する。
【０１９２】
一般式（２）：（Ｒ21）q−Ｓｉ（Ｙ21）4-q
【０１９３】
上記一般式（２）において、Ｒ21は、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基として好ましくは、炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものであり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０１９４】
Ｙ21は、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ22ＣＯＯ（Ｒ22は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
ｑは１〜３の整数を表し、好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。
Ｒ21又はＹ21が複数存在するとき、複数のＲ21又はＹ21はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【０１９５】
Ｒ21に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
Ｒ21が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
【０１９６】
前記一般式（２）で表されるオルガノシラン化合物の中でも、特にメタクロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基等のビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。具体的には、特開２００４−４２２７８号公報段落番号[００２６]〜[００２８]記載のものが挙げられる。
【０１９７】
オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、酸類、塩基類、有機金属化合物等であり、具体的には前記高屈折率層ゾルゲル反応で記載と同様のものが挙げられる。
【０１９８】
低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少なすぎると本発明の効果が得にくいが、該上限値以下の使用量とすれば屈折率が増加しすぎたり、低屈折率層の皮膜の形状・面状が悪化したりするなどの不具合が生じることがなく、本発明の優れた効果を発揮することができるので該範囲内で適宜の量使用することが好ましい。
【０１９９】
（多官能重合性化合物）
前述したように、前記の低屈折率層形成用の硬化性組成物には、更に多官能重合性化合物を添加することもできる。
多官能重合性化合物としては、ラジカル重合性官能基及び／又はカチオン重合性官能基のいずれでも２個以上重合性基を含有してよい。
これらのラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物の具体的な内容としては、前記の高屈折率層に記載の多官能モノマーやオリゴマーと同様のものが挙げられる。
【０２００】
上記したラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。またラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを含む前記多官能重合性化合物の配合量は、前記含フッ素ポリマー１００質量部に対して、０．１〜２０質量部とするのが好ましい。
【０２０１】
（その他の添加剤）
本発明における低屈折率層には、以上述べた成分の他、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物又はフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加されていることが好ましい。これらの添加剤を添加する場合には、低屈折率層形成用の硬化性組成物全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０２０２】
シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中には、ジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
【０２０３】
シリコーン系化合物の分子量には特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量にも、特に制限はないが、１８．０質量％以上であることが好ましく、２・BR>T．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。
【０２０４】
好ましいシリコーン系化合物の例としては、例えば特開２００４−４２２７８号公報段落番号[００６８]記載のもの等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、好ましいシリコーン系化合物の具体例としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２０５】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖［例えば−ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ、−ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＦ3、−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ等］であっても、分岐構造［例えば−ＣＨ（ＣＦ3）2、−ＣＨ2ＣＦ（ＣＦ3）2、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ（ＣＨ3）（ＣＦ2）5ＣＦ2Ｈ等］であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であってもよく、エーテル結合を有していてもよい（例えば−ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ4Ｆ8Ｈ、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ17、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＦ2ＣＦ2ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
【０２０６】
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層の皮膜との結合形成又は相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。
【０２０７】
フッ素系化合物は、フッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はなく用いられる。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが、２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としては、“Ｒ−２０２０”、“Ｍ−２０２０”、“Ｒ−３８３３”、“Ｍ−３８３３”［商品名：以上、ダイキン化学工業（株）製］；「メガファックＦ−１７１」、「メガファックＦ−１７２」、「メガファックＦ−１７９Ａ」、「ディフェンサＭＣＦ−３００」［商品名：以上、大日本インキ（株）製］などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２０８】
またシランカップリング剤と、特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを、触媒共存下に縮合反応で硬化するゾル／ゲル硬化物も好ましい。これらのシリコンとフッ素との複合化合物であるゾル／ゲル硬化物の具体例としては、例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報等記載の化合物）、特開平９−１５７５８２号公報記載のペルフルオロアルキル基含有シランカップリング剤、フッ素含有長鎖基であるポリ「ペルフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。これらのゾル／ゲル硬化物には、上記した他の添加剤を必要により併用してもよい。
【０２０９】
本発明における低屈折率層には、さらに防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤又はポリオキシアルキレン系化合物のような、防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は、前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には、硬化性組成物全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．１〜５質量%の範囲で添加される場合である。
【０２１０】
低屈折率層はまた、ミクロボイドを内包してもよい。具体的には、例えば特開平９−２２２５０２号公報、同９−２８８２０１号公報、同１１−６９０２号公報等に記載の内容が挙げられる。
【０２１１】
さらに本発明においては、有機微粒子を用いることもでき、該有機微粒子としては、例えば、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の化合物等があげられ、その形状は、上述の無機微粒子と同じである。
【０２１２】
低屈折率層の厚さは０．０３〜０．２μｍが好ましく、０．０５〜０．１５μｍがより好ましい。
【０２１３】
（低屈折率層の性状）
本発明における低屈折率層は、その表面エネルギーが２６ｍＮ／ｍ以下、さらには１５〜２５．８ｍＮ／ｍの範囲であることが好ましい。表面エネルギーをこの範囲にすることが防汚性の点で好ましい。
【０２１４】
また上記低屈折率層は、熱硬化性又は、光もしくは放射線（例えば電離放射線）硬化型の架橋性フッ素系化合物を含有する、フッ素系ポリマーによる硬化膜であれば防汚性の効果が発現されるので好ましい。特に、最外層となる低屈折率層中に含まれるフッ素系化合物が、最外層の全質量に対して５０質量％以上であれば、低屈折率層皮膜の表面全体がムラ無く安定した特性を示すので好ましい。
【０２１５】
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  1989.12.10発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明のフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液を、偏光板の保護フィルム面上に滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。最外層表面の水に対する接触角は９０゜以上、さらには９５゜以上、特には１００゜以上であることが好ましい。
【０２１６】
また低屈折率層表面の動摩擦係数は、０．２５以下であることが好ましく、さらには０．０５〜０．２５、特には０．０３〜０．１５であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数とは、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。
【０２１７】
低屈折率層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましい。また低屈折率層の耐擦傷性は、ＪＩＳ  Ｋ−６９０２に従うテーバー試験での摩耗量は小さいほど好ましい。
【０２１８】
〔ハードコート層〕
ハードコート層は、反射防止膜に物理強度を付与するために保護フィルムの表面に設けることができる。特に保護フィルムと前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
【０２１９】
ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、多官能モノマーや多官能オリゴマー又は加水分解性官能基含有の有機金属化合物を含む塗布組成物を保護フィルム上に塗布し、硬化性化合物を架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
【０２２０】
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。具体的には、高屈折率層のマトリックスバインダーと同様の内容のものが挙げられる。更には、特開２００２−３２２４３０号公報記載のラジカル重合性基含有化合物とカチオン重合性基含有化合物とを併用することも好ましい。
【０２２１】
ハードコート層は、一次粒子の平均粒径が３００ｎｍ以下の無機微粒子を含有することが好ましい。より好ましくは１０〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜１００ｎｍである。ここでいう平均粒径は質量平均径である。一次粒子の平均粒径を２００ｎｍ以下にすることで透明性を損なわないハードコート層を形成できる。無機微粒子はハードコート層の硬度を高くすると共に、塗布層の硬化収縮を抑える機能がある。また、ハードコート層の屈折率を制御する目的にも添加される。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等に記載の内容のもが挙げられる。ハードコート層における無機微粒子の含有量は、ハードコート層の全質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％である。
【０２２２】
前記したように、高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。高屈折率層がハードコート層を兼ねる場合、高屈折率層で記載した手法を用いて無機微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。ハードコート層の層厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の層厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍ、特に好ましくは０．７〜５μｍである。
【０２２３】
ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。またハードコート層の耐擦傷性は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２２４】
〔反射防止膜の各層の形成〕
反射防止膜の上記した各層は、上記のような各硬化用組成物の塗布液をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法、ダイコート法（エクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）、スライドコート法、押し出しコート法）等の方法を用いて塗布することができる。塗布方式に関しては、各種文献（例えば、Modern Coating and Drying Technology，Edward Cohen and Edgar B. Gutoff, Edits., VCH Publishers, Inc, 1992） に記載されている。少ない塗布量域でも安定に操作できるロッドコーター、グラビアコーター、ブレードコーター、ダイコーターが好ましい。
【０２２５】
特に、塗布装置部と塗布支持体面が非接触の方法であるダイコーターが、層厚２００ｎｍ以下の「中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層」の各層の各硬化性組成物を、少ない塗布量域で塗布スジのムラを発生することなく高速で塗布できるため、好ましい。
【０２２６】
ダイコーターの好ましい態様としては、バックアップロールによって支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから塗布液を塗布する方法の、前記スロットダイの透明支持体進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さを３０μm以上１００μm以下とするスロットダイを使用し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブの隙間を、前記ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いて塗布される方法が挙げられる。
これにより、本発明の低濃度、低粘度の硬化性組成物の塗布液を極めて少ない塗布量を精密に安定して塗布することが可能となる。反射防止膜の各層は、１層で形成されても、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。また、透明支持体上に直接設けてもよいが、帯電防止層や防湿層等の他の層を介して設けてもよい。
【０２２７】
（ダイコーターの構成）
本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図を図１に示す。コーター１０はバックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ１２に対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブ１２上に塗膜１４ｂを形成する。
【０２２８】
スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図１に示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【０２２９】
スロット１６は、ポケット１５からウェブ１２への塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【０２３０】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブ１２の進行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。
【０２３１】
図２は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブとの距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩLOが短くされており、これによって、湿潤層厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。
【０２３２】
上流側リップランド１８ａのランド長さＩUPは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩLOは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩLOが３０μｍよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さＩLOが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。
【０２３３】
さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブ１２に近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブ１２との距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブ１２の隙間ＧL とは、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２の隙間を示す。
【０２３４】
図３は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。
ウェブ１２の進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行える
よう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブ１２の間、サイドプレート４０ｂとウェブ１２の間にはそれぞれ隙間ＧB 、ＧS が存在する。図４及び図５は、近接している減圧チャンバー４０とウェブ１２を示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは図４のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図５のように適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート４０ａとウェブ１２の間、サイドプレート４０ｂとウェブ１２の間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間ＧB 、ＧS と定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧB とは、減圧チャンバー４０を図３のようにウェブ１２及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブ１２までの隙間を示す。
【０２３５】
バックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧB をスロットダイ１３の先端リップ１７とウェブ１２との隙間ＧL よりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブ１２との隙間ＧL が３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブ１２の間の隙間ＧB は１００μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。
【０２３６】
（材質、精度）
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が２０μｍ以内とすることが好ましい。
【０２３７】
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを３０μm〜１００μmの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣとも称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。WC結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下がさらに好ましい。
【０２３８】
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。
【０２３９】
（塗布速度）
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、上記態様のダイコート方式は高速塗布時における層厚の安定性が高い。さらに、この塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した層厚の確保が容易である。本発明の反射防止フィルムの様な低塗布量の塗布液に対して、本発明の塗布方式は高速で層厚安定性良く塗布が可能である。この塗布方式を用いることで２５ｍ／min以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
【０２４０】
塗布に際しては２層以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載の方法が挙げられる。
【０２４１】
（硬化膜の形成）
本発明の反射防止膜の各層は、熱及び/又は光照射による硬化処理を行う。薄膜塗工及び迅速均一硬化の観点から、光照射の手段が有利である。更には、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。
【０２４２】
光照射の光源は、紫外線光域又は近赤外線光域のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長３５０〜４２０ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長７５０〜１４００ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。
【０２４３】
近赤外光光源を用いる場合、紫外線光源と組み合わせて用いても、又は高屈折率層塗設側とは反対側の基体表面側より光照射してもよい。このことにより、塗膜層内の深さ方向での膜硬化が、表面近傍と遅滞なく進行し、均一な硬化状態の硬化膜が得られる。
【０２４４】
光照射による光ラジカル重合の場合は、空気又は不活性気体中で行うことができるが、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のために、できるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。照射する紫外線の照射強度は、０．１〜１００ｍＷ／ｃｍ2程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±３℃以内が好ましく、更には±１．５℃以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内及び層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能であるが、生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。
【０２４５】
〔反射防止膜の防眩性の形成〕
本発明の反射防止膜は、上記に記載の態様の多層構造の反射防止膜が、下記内容の光散乱層（すなわち前記高屈折率層が光散乱層であってもよい）と低屈折率層（低屈折率層の反対側の光散乱層面にハードコート層を設けてもよい）からなる反射防止膜であってもよいし、光散乱性の特定の凹凸形状を形成した反射防止膜の態様であってもよい。
【０２４６】
｛光散乱層｝
本発明における光散乱層は、好適には少なくとも１種の平均粒子径０．５〜７．０μｍの透光性粒子を透光性樹脂に分散してなるものであり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２で、該透光性粒子が光散乱層全固形分中に３〜３０質量％含有されてなる層からなる。本発明における光散乱層には、表面の凹凸による光散乱効果が実質的にない内部散乱系の光散乱層も含まれる。
【０２４７】
（透光性粒子）
本発明における透光性粒子は、平均粒子径０．５〜７．０μｍ、さらには１．５〜４．０μｍの単分散性粒子であることが好ましい。透光性粒子は、有機化合物の粒子であっても無機化合物の粒子であってもよい。透光性粒子の平均粒子径が該下限値以上であれば、良好な光散乱効果が発揮されるので好ましく、該下限値以下であれば、層厚が厚くなってフィルムのカールが大きくなるなどの不具合が生じることがなく、光散乱効果も良好なものとなるので好ましい。粒子径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなりヘイズ価の設計が容易となる。
【０２４８】
透光性粒子としては、透明度が高く、透光性樹脂との屈折率差が前記のような数値になるものであれば特に限定されずに使用することができ、有機微粒子としては、例えばポリメチルメタクリレートビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５４）、メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率１．６８）等が挙げられる。また無機微粒子としては、例えばシリカビーズ（屈折率１．４４）、アルミナビーズ（屈折率１．６３）等が挙げられ、沈降防止や屈折率低下のために中空無機ビーズも好ましい。
【０２４９】
透光性粒子と透光性樹脂との間の屈折率の差は、０．０２〜０．２０、さらには０．０４〜０．１０であることが好ましい。その差が該上限値以下であれば、得られる散乱層皮膜が白濁するなどの不具合が生じないので好ましく、該下限値以上であれば、十分な光散乱効果を得ることができるので好ましい。透光性粒子の透光性樹脂に対する添加量も、屈折率の差と同様に重要である。透光性粒子の含有量は、光散乱層全固形分中３〜３０質量％、さらには５〜２０質量％であることが好ましい。透光性粒子の含有量が該上限値以下であれば、フィルムが白濁するなどの不具合が生じないので好ましく、該下限値以上であれば、十分な光散乱効果を得ることができるので好ましい。
【０２５０】
透光性粒子としては、異なる２種以上の透光性粒子を併用してもよい。２種類以上の透光性粒子を用いる場合には、複数種類の粒子の混合により屈折率の制御を効果的にするため、最も屈折率の高い透光性粒子と最も屈折率の低い透光性粒子との間の屈折率の差が０．０２以上、０．１０以下とすることが好ましく、０．０３以上、０．０７以下とすることが特に好ましい。
【０２５１】
またより大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することも可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止膜塗設保護フィルムを貼り付けた場合、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合が生じないことが要求される。ギラツキは、反射防止膜表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性粒子よりも粒子径が小さく、透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する透光性粒子を併用することにより大きく改善することができる。
【０２５２】
上記のような透光性粒子を添加する場合には、透光性樹脂中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増すほど、透光性粒子の沈降防止に有効ではあるが、光散乱層の透明性に悪影響を与えことがある。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して光散乱層の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるのがよい。
【０２５３】
（透光性樹脂）
光散乱層を形成する透光性樹脂としては、主として反応硬化型樹脂、即ち、（１）紫外線や電子線によって硬化する電離放射線硬化型樹脂、（２）電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶媒を混合したもの、（３）熱硬化型樹脂の３種類が好適に使用される。具体的には、前記の高屈折率層のマトリックスと同様の内容のものが挙げられる。
【０２５４】
また光散乱層の厚さは、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍがよい。
【０２５５】
透光性樹脂の屈折率は、好ましくは１．５１〜２．００であり、より好ましくは１．５１〜１．９０であり、更に好ましくは１．５１〜１．８５であり、特に好ましくは１．５１〜１．８０である。なお、透光性樹脂の屈折率は、透光性粒子を含まずに測定した値である。
【０２５６】
さらに光散乱層は、界面結合剤として、前記の低屈折率層の項で詳述した、一般式（２）で表される有機シリル化合物及び／又はその有機シリル化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物を含有することが好ましい。
【０２５７】
界面結合剤として具体的には、例えば“ＫＢＭ−５１０３”及び“ＫＢＭ−５０３”［商品名：共に信越化学工業（株）製］等の市販品、及び／又はその加水分解物及び／又はその部分縮合物が好ましい化合物として挙げられる。
界面結合剤の添加量は、光散乱層形成用組成物の全固形分１００質量部に対して、１〜５０質量部が好ましく、２〜３０質量部がより好ましい。
【０２５８】
更に、光散乱層に界面活性剤を添加すると、本発明における反射防止膜の面状均一性を向上させることができるので好ましい。界面活性剤としては、例えば炭素数６〜１２のペルフルオロアルキル基置換（メタ）アクリレート共重合体、炭素数６〜１２のペルフルオロビニルエーテル共重合体等が挙げられ、特開２００４−１９８５１１号公報の段落番号［００４９］〜［００５７］｛［化２０］〜［化２８］｝に記載された化合物が好ましい具体例である。
界面活性剤の添加量は、光散乱層形成用組成物の全固形分１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部が好ましく、０．１〜１０質量部がより好ましい。
【０２５９】
｛防眩性反射防止膜の形状｝
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能（防眩性機能）を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜５０％であることが好ましく、５〜４０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
【０２６０】
本発明の反射防止膜が防眩性を保持する場合、反射防止膜最上層（通常は低屈折率層）の表面は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に基づく該層の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０２〜１．０μｍ、さらには０．０２〜０．８μｍ、特には０．０４〜０．６μｍの範囲；表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が５〜６５μｍ、さらには５〜５０μｍ、特には１０〜４０μｍの範囲；であり、且つ十点平均粗さ（Ｒｚ）と算術平均粗さ（Ｒａ）の比（Ｒｚ／Ｒａ）が１０以下、さらには９以下、特には８以下；であることが好ましい。また表面凹凸の最大高さ（Ｒｙ）が２μｍ以下、さらには０．０５〜１．５μｍ、特には０．１〜１．０μｍであり、凹凸プロファイルの傾斜角（正反射面に対する傾斜角度の平均値）が１５゜以下、さらには０．２５〜１５゜、特には０．２５〜１０゜にあることが好ましい。
【０２６１】
ここで、ＲａとＲｚの関係は表面の凹凸の均一性を示すものである。
また、凹凸プロファイルの傾斜角は小さい方が好ましい。不規則な凹凸プロファイルの傾斜角は一義でなく分布をもって存在するが、小さい傾斜角の頻度が高くなりすぎなければ良好な防眩性が得られ、大きい傾斜角の頻度が高くなりすぎなければ防眩フィルムが白味をおびてくるなどの不具合を生じないので好ましい。膜表面の凹と凸の形状は、（株）ミツトヨ製２次元粗さ計“ＳＪ−４００”型又は、（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ製の「マイクロマップ」機により評価することができる。
【０２６２】
本発明において、傾斜角度は以下の方法で決定される。すなわち、特開２００３−２２２７１３号公報の図２に示されているように、保護フィルム面上に面積が０．５〜２μｍ2の範囲の三角形ＡＢＣを想定し、その３頂点Ａ，Ｂ，Ｃから鉛直上向きに伸ばした３つの垂線が防弦性反射防止膜表面と交わる点をＡ’，Ｂ’，Ｃ’とする。この３点によって形成される三角形Ａ’Ｂ’Ｃ’平面の法線Ｄ−Ｄ’が、保護フィルム上の三角形ＡＢＣ平面から鉛直上向きに伸ばした垂線Ｏ−Ｏ’となす角φを防弦性反射防止膜表面の傾斜角度とする。
【０２６３】
そのときの保護フィルム上での測定面積は、０．２５ｍｍ2以上とすることが好ましく、この測定面を支持体上で三角形に分割して、上記方法に従い傾斜角度φを測定し、その全測定値を平均して表面の平均傾斜角度を求め、また全測定三角形について、傾斜角度が１０°以上であるものの割合を求める。
【０２６４】
測定する装置はいくつかあるが、一例としてマイクロマップ社（米国）製“ＳＸＭ５２０−ＡＳ１５０”型を用いた場合について説明する。例えば、対物レンズが１０倍の時、傾斜角度の測定単位（測定対象三角形）は０．８５μｍ2単位であり、測定範囲は０．４８ｍｍ2である。対物レンズの倍率を大きくすれば、それに合わせて測定単位と測定範囲は小さくなる。測定データは、“ＭＡＴ−ＬＡＢ”等のソフトを用いて解析し、傾斜角度分布及びそれらの平均値を算出することができる。これにより傾斜角度が１０°以上の割合を容易に求めることができる。本発明において、傾斜角度が１０゜以上の割合は２％以下、さらには１％以下であることが好ましい。これにより、防眩性と黒色の明示性とを両立させることができる。
【０２６５】
（反射防止膜の表面形状の形成）
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用し、それにより膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜５μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報等）、低屈折率層を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法［例えば、エンボス加工方法（例えば、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等）、剥離紙転写方法（例えば、特登３３３２５３４号公報等）、粒子スプレー転写方法（例えば、特開平６−８７６３２号公報等）等が挙げられる。
【０２６６】
多層構造の各層の層厚を揃えること、表面凹凸形状を制御すること、及びその凹凸の耐久性を向上させること等の観点から、防眩性層（もしくは光散乱層）を設ける方法、又はエンボス加工方法が好ましい態様として挙げられる。
【０２６７】
｛防眩性層｝
反射防止膜のいずれかの層に粒子を含有させて防眩層を形成する場合、該防眩層に用いる防眩層用粒子としては、平均粒径が０．２〜１０μｍの範囲の粒子が好ましい。ここでいう平均粒径は、二次粒子（粒子が凝集していない場合は一次粒子）の質量平均径である。防眩層用粒子としては、無機微粒子と有機粒子が挙げられる。無機微粒子の具体例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン及び硫酸カルシウムなどの粒子が挙げられる。二酸化珪素、酸化アルミニウムが好ましい。
【０２６８】
有機粒子としては樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子の具体例としては、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ弗化ビニリデン樹脂から作製される粒子などが挙げられる。好ましくは、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリ・BR>Xチレン樹脂から作製される粒子であり、特に好ましくはポリメチルメタクリレート樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリスチレン樹脂から作製される粒子である。
【０２６９】
凹凸を形成するために防眩層に用いる防眩層用粒子としては、樹脂粒子であるほうが好ましい。粒子の平均粒径は、好ましくは０．５〜７．０μｍ、更に好ましくは１．０〜５．０μｍ、特に好ましくは１．５〜４．０μｍである。粒子の屈折率は１．３５〜１．８０であることが好ましく、より好ましくは１．４０〜１．７５、さらに好ましくは１．４５〜１．７５である。
【０２７０】
また防眩層用粒子の屈折率は特に限定されるものではないが、防眩層の屈折率とほぼ同じである（屈折率差で０．００５以内）か、０．０２以上異なっていることが好ましい。粒子の屈折率と、防眩層の屈折率をほぼ同じにすることで、反射防止膜付き偏光板を画像表示面に装着したときのコントラストが改良される。さらに粒子の屈折率と防眩層の屈折率の間に屈折率の差を付けることで、反射防止膜付き偏光板を液晶表示面に装着したときの視認性（ギラツキ故障、視野角特性など）が改良される。
【０２７１】
粒子の屈折率と防眩層の屈折率の間に屈折率の差を付ける場合、０．０２〜０．５であることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．４、特に好ましくは０．０５〜０．３である。
【０２７２】
透光性粒子としては、異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。２種類以上の透光性粒子を用いる場合には、複数種類の粒子の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために、最も屈折率の高い透光性粒子と最も屈折率の低い透光性粒子との間の屈折率の差が０．０２以上、０．１０以下であることが好ましく、０．０３以上、０．０７以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で画面の輝度の均一性が良好となる等の光学特性を付与することが可能である。
【０２７３】
防眩層用粒子の使用量は、防眩性を付与した層の固形分中３〜７５質量％となる量とするのが好ましい。
【０２７４】
防眩性を付与する粒子は、反射防止膜において構築されたいずれかの層に含有させることができ、好ましくはハードコート層、低屈折率層、高屈折率層であり、特に好ましくはハードコート層、高屈折率層である。複数の層に添加してもよい。
【０２７５】
（エンボス加工）
本発明の反射防止膜は、上記に記載の態様のようにして作製した多層構造の反射防止膜をエンボス加工することにより、本発明における特定の表面凹凸形状とした態様であってもよい。これにより、反射防止膜の層厚が実質的に一定とすることができる。
【０２７６】
（エンボス版）
本発明に用いるエンボス版は、ビッカーズ硬度が５００以上の炭素とクロムを含む鉄合金であればいずれでもよく、そのエンボス版の形状は、以下の凹凸のパラメータであることが好ましい。凹凸配列の規則性が高いと光干渉が発生するために好ましくない。平均凹凸周期（Ｓｍ）は５μｍ〜１００μｍが好ましく、５μｍ〜３０μｍがさらに好ましい。
算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０５μｍ〜２０μｍが好ましく、０．３〜１μｍがさらに好ましい。凹凸プロファイルの傾斜角は０．５゜〜１０゜に分布していることが好ましく、０．５゜〜５゜に分布していることがさらに好ましい。
【０２７７】
平均凹凸周期（Ｓｍ）、算術平均粗さ（Ｒａ）、平均傾斜角は（株）ミツトヨ製２次元粗さ計“ＳＪ−４００型”もしくは、（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ製の「マイクロマップ」機を用いて測定することができる。
【０２７８】
（エンボス加工条件）
本発明におけるエンボス加工は、上記のように作製した反射防止膜塗設の保護フィルムに、片面エンボシングカレンダー機を用いて実施される。次に示すプレス条件は、フィルム表面に掛ける圧力、版の表面温度及びプレス時間である。
【０２７９】
プレス圧力は１×１０5Ｐａ以上が好ましく、１×１０5〜１００×１０5Ｐａがさらに好ましく、５×１０5〜５０×１０5Ｐａが最も好ましい。本発明に用いられるロール版ならびにバックアップロールの直径の範囲では、これら圧力範囲に対応する線圧として、１０００Ｎ／ｃｍ以上が好ましく、１０００〜５００００Ｎ／ｃｍがさらに好ましく、５０００〜３００００Ｎ／ｃｍが最も好ましい。
【０２８０】
プレス時のプレヒートロール温度は、好ましくは６０〜１８０℃、より好ましくは７０〜１６０℃；エンボスロール表面温度は、８０℃〜２２０℃であることが好ましく、１００℃〜２００℃であることがさらに好ましい。プレス時間は１秒〜６００秒が好ましく、１０秒〜３００秒がさらに好ましい。搬送速度は１〜５０ｍ／分が好ましく、５〜３０ｍ／分がさらに好ましい。
【０２８１】
〔その他の層〕
本発明の反射防止フィルムには、さらに、防湿層、帯電防止層（導電層）、プライマー層、下塗層や保護層、シールド層、滑り層、ガスバリアー層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【０２８２】
＜反射防止フィルムに用いる透明基体フィルム＞
本発明の反射防止膜の基材となる透明基体フィルムの光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明基体フィルムのヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明基体フィルムの屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【０２８３】
本発明において透明基体フィルムとしては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースアシレート（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース等）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例えば、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。
【０２８４】
これらのプラスチックフィルム材料には、公知の添加剤（例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑り剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等）を含有させたものも使用することができる。これらの詳細は、発明協会公開技法（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。これらの添加剤の添加量は、基材の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【０２８５】
特に、本発明の反射防止膜を偏光板の透明保護フィルムに設けた偏光板を液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いる場合には、透明保護フィルムすなわち透明基体フィルムとしてセルロースアシレートフィルムが好ましく用いられる。セルロースアシレートフィルムの作成法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合にはポリエチレンテレフタレート、あるいはポリエチレンナフタレートが好ましい。
透明基体フィルムの厚さは５〜２００μｍが好ましく、より好ましくは１０から１５０μｍ、さらに好ましくは２０〜１２０μｍである。
【０２８６】
＜偏光板＞
本発明の好ましい偏光板は、偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、本発明の反射防止フィルムを有する。
反射防止膜付き偏光板としては、反射防止膜を設けたセルロースアシレートフィルムの反対側のセルロースアシレートフィルム表面及びセルロースアシレートフィルムの片面を其々親水化処理して、偏光膜をこれらで挟んで接着剤で貼りあわせて作製した態様が好ましい。更には、反射防止膜を設けたセルロースアシレートフィルム及び光学補償層を設けたセルロースアシレートフィルムの各々の反対側のセルロースアシレートフィルム表面を親水化処理して、偏光膜をこれらで挟んで接着剤で貼りあわせて作製した態様が好ましい。これにより偏光板の厚みが薄くなり、画像表示装置の軽量化が可能となる。
【０２８７】
（親水化処理）
透明保護フィルムの表面の親水化処理は、公知の方法で行うことができる。例えば、コロナ放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ鹸化処理等で該フィルム表面を改質する方法が挙げられる。これらについては、前記の公技番号２００１−１７４５号、３０〜３２頁に詳細に記載されている。
これらの中でも特に好ましくは、セルロースアシレートフィルム表面をアルカリ鹸化処理で表面処理することが有効である。アルカリ液及び処理は、特開２００２−８２２２６号公報、国際公開０２／４６８０９号パンフレット、特開２００３−３１３３２６号公報に記載の内容が挙げられる。
【０２８８】
｛偏光膜｝
本発明に用いられる偏光膜は、通常、Optiva  Inc.に代表される塗布型偏光膜、もしくはバインダーと、ヨウ素または二色性色素からなる偏光膜が好ましい。
偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素および二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
【０２８９】
現在、市販の偏光子（偏光膜）は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
市販の偏光子は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。
【０２９０】
上記のように、バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、光漏れ現象は、１７インチの液晶表示装置で観察されなくなる。
【０２９１】
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例としては、前記の配向膜で記載のポリマーと同様のものが挙げられる。
ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。
ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
【０２９２】
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。
架橋しているバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることができる。官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入して得られるバインダーを、光、熱あるいはｐＨ変化により、バインダー間で反応させて偏光膜を形成することができる。
また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。
架橋は一般に、ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行うことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できれば良いため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行っても良い。
【０２９３】
バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１乃至２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。
偏光膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。
但し、残存する架橋剤の量は、偏光膜中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、偏光度の低下を生じない。
架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書の記載が挙げられる。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も架橋剤として用いることができる。
【０２９４】
二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
二色性色素の例としては、例えば、このような二色性染料の具体例としては、例えば、「偏光フィルムの応用」（ＣＭＣ刊、昭和６１年２月１０日発行）、或いは「COLOUR INDEX,ThirdEdition,Volume2」(The Society of Dyers and Colourists, The American Association of Textile Chemists and Colrists 刊、1971年発行)中のC. I. Direct染料（直接染料）等を挙げることができる。
【０２９５】
液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０乃至５０％の範囲にあることが好ましく、３５乃至５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０乃至５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０乃至１００％の範囲にあることが好ましく、９５乃至１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９乃至１００％の範囲にあることが最も好ましい。
【０２９６】
偏光膜と偏光板用保護フィルムを接着剤を介して配置することも可能である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１乃至１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５乃至５μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【０２９７】
偏光板用保護フィルムは、上記のように、高屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が２０度〜５０度の範囲にあることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐候性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性層のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
【０２９８】
〔光学補償フィルム〕
光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償シートは光学異方性層具備の複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。
光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成しても良いし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成しても良い。前記液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。
【０２９９】
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。これら低分子液晶性分子は重合性基を分子内に有することが好ましい（例えば、特開２０００−３０４９３２号公報段落番号［００１６］等記載）。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。高分子液晶性分子は、以上のような低分子液晶性分子に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性分子を用いた光学補償シートについては、特開平５−５３０１６号公報に記載の化合物が挙げられる。
【０３００】
ディスコティック液晶性分子としては、様々な文献（C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page2655 (1994)）に記載されている化合物が挙げられる。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報の記載が挙げられる。
【０３０１】
ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことが出来る。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［０１５１］〜［０１６８］記載の化合物等が挙げられる。
なお、ＳＴＮモードのような棒状液晶性分子がねじれ配向している液晶セルを、光学的に補償するためには、ディスコティック液晶性分子もねじれ配向させることが好ましい。
上記連結基に、不斉炭素原子を導入すると、ディスコティック液晶性分子を螺旋状にねじれ配向させることができる。また、不斉炭素原子を含む光学活性を示す化合物（カイラル剤）を光学異方性層に添加しても、ディスコティック液晶性分子を螺旋状にねじれ配向させることができる。
【０３０２】
二種類以上のディスコティック液晶性分子を併用してもよい。例えば、以上述べたような重合性ディスコティック液晶性分子と非重合性ディスコティック液晶性分子とを併用することができる。
非重合性ディスコティック液晶性分子は、前述した重合性ディスコティック液晶性分子の重合性基を、水素原子またはアルキル基に変更した化合物であることが好ましい。すなわち、非重合性ディスコティック液晶性分子は、例えば特許第２６４００８３号明細書記載の化合物等が挙げられる。
【０３０３】
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０３０４】
＜画像表示装置＞
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
【０３０５】
（液晶表示装置）
本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
【０３０６】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）28(1997)84５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０３０７】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０３０８】
ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。
【０３０９】
特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表２枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。
【０３１０】
また、本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板を透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。
【実施例】
【０３１１】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって何ら限定して解釈されるものではない。
【０３１２】
実施例１
（ハードコート層用塗布液(ＨＣＬ−１)の調製）
ＰＥＴ−３０、                                      ７４２質量部
ポリ（グリシジルメタクリレート）                    ２７７質量部
イルガキュア１８４、                                  ５１質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン）                        ７２８質量部
シクロヘキサノン                                    ５０３質量部
【０３１３】
（光散乱性ハードコート層用塗布液(ＨＣＬ−２)の調製）
デソライトＺ７４０４、                              １００質量部
ＤＰＨＡ                                              ３１質量部
ＫＢＭ−５１０３、                                    １０質量部
ＫＥ−Ｐ１５０、                                    ８．９質量部
ＭＸＳ−３００、                                    ３．４質量部
ＭＥＫ                                                ２９質量部
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）                    １３質量部
【０３１４】
（防眩性ハードコート層用塗布液(ＨＣＬ−３)の調製）
ＰＥＴＡ                                          ５０．０質量部
イルガキュア１８４、                                ２．０質量部
ＳＸ−３５０（３０％）                              １．７質量部
架橋アクリル−スチレン粒子（３０％）              １３．３質量部
ＦＰ−１３２、                                    ０．７５質量部
ＫＢＭ−５１０３、                                １０．０質量部
トルエン                                          ３８．５質量部
【０３１５】
（ハードコート層用塗布液(ＨＣＬ−４)の調製）
ＤＰＣＡ−２０、                                    ８５質量部
ＫＢＭ−５１０３、                                  １０質量部
イルガキュア１８４、                                  ５質量部
ＭＥＫ                                              ９０質量部
シクロヘキサノン                                    １０質量部
【０３１６】
（ハードコート層用塗布液(ＨＣＬ−５)の調製）
ＤＰＣＡ−２０、                                    ７７質量部
ＫＢＭ−５１０３、                                    ９質量部
イルガキュア１８４、                                  ５質量部
ＭＥＫ−ＳＴ                                        ３３質量部
ＭＥＫ                                              ６７質量部
シクロヘキサノン                                    １０質量部
【０３１７】
（防眩性ハードコート層用塗布液(ＨＣＬ−６)の調整）
ＰＥＴ−３０、                                      ３１質量部
ＫＢＭ−５１０３、                                    ６．２質量部
架橋アクリル−スチレン粒子Ｂ（３０％）              ３９質量部
イルガキュア１８４、                                  １．５質量部
ＦＰ−１３２、                                        ０．０４質量部
ＭＩＢＫ                                            ３８質量部
【０３１８】
「ＤＰＨＡ」：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）。
「ＰＥＴ−３０」：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製）。
「ＰＥＴＡ」：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）。
「ポリ（グリシジルメタクリレート）」：質量平均分子量１５，０００。
「イルガキュア１８４」：光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）。
「デソライトＺ７４０４」：ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液（ＪＳＲ（株）製）。
「ＫＢＭ−５１０３」：シランカップリング剤（信越化学工業（株）製）。
「ＫＥ−Ｐ１５０」：１．５μｍシリカ粒子、屈折率１．４６（日本触媒（株）製）。
「ＭＸＳ−３００」：３μｍ架橋ＰＭＭＡ粒子、屈折率１．４９（綜研化学（株）製）。
「ＳＸ−３５０」：平均粒径３．５μｍ架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用）。
「架橋アクリル−スチレン粒子」：平均粒径３．５μｍ（共重合組成比＝５０／５０。屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用）。
「架橋アクリル−スチレン粒子Ｂ」：平均粒径３．５μｍ（共重合組成比＝４５／５５。屈折率１．５４、綜研化学（株）製、３０％シクロヘキサノン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用）。
「ＦＰ−１３２」：下記のフッ素系表面改質剤。
「ＭＥＫ−ＳＴ」：コロイダルシリカ分散液（平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）
【０３１９】
【化５】
2006126799.tif 000006
【０３２０】
上記各塗布液は各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌したのち、塗布液ＨＣＬ−１は孔径０．４μｍ，塗布液ＨＣＬ−２，３は孔径７μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して調製した。
【０３２１】
（二酸化チタン微粒子分散液Ａの調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９Ｃ、石原産業（株）製、ＴｉＯ２：Ｃｏ３Ｏ４：Ａｌ２Ｏ３：ＺｒＯ２＝９０．５：３．０：４．０：０．５質量比）を使用した。
この粒子２５６質量部に、下記分散剤（化６）４２質量部、およびシクロヘキサノン７０２質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液Ａを調製した。
【０３２２】
【化６】
2006126799.tif 000007
【０３２３】
（二酸化チタン微粒子分散液Ｂの調製）
二酸化チタン微粒子分散液Ｂの調製において、酸化アルミニウムとステアリン酸で表面処理した二酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ：酸化チタン含量７９〜８５％：石原産業（株）製）にした以外は、二酸化チタン微粒子分散液Ａの調製と同様に二酸化チタン微粒子分散液Ｂを調製した。
【０３２４】
（中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）の調製）
二酸化チタン微粒子分散液Ａ                            ５９．６質量部
ＤＰＨＡ                                              ４０．７質量部
イルガキュア９０７、                                  ２．１９質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ                                    ０．８質量部
ＭＥＫ                                                  ５６０質量部
シクロヘキサノン                                        ７６９質量部
【０３２５】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）の調製）
二酸化チタン微粒子分散液Ａ                          ４３０．７質量部
ＤＰＨＡ                                              ３６．６質量部
イルガキュア９０７、                                    ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ                                    １．０質量部
ＭＥＫ                                                  ５３５質量部
シクロヘキサノン                                        ４９５質量部
【０３２６】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−２）の調製）
二酸化チタン微粒子分散液Ａ                          ４３０．７質量部
ＤＰＨＡ                                              ３６．６質量部
イルガキュア９０７、                                    ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ                                    １．０質量部
ＭＥＫ                                                  ９３２質量部
シクロヘキサノン                                          ９７質量部
【０３２７】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−３）の調製）
二酸化チタン微粒子分散液Ａ                          ４３０．７質量部
ＤＰＨＡ                                              ３６．６質量部
イルガキュア９０７、                                    ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ                                    １．０質量部
シクロヘキサノン                                    １，０２９質量部
【０３２８】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−４）の調製）
二酸化チタン微粒子分散液Ｂ                          ４３０．７質量部
ＤＰＨＡ                                              ３６．６質量部
イルガキュア９０７、                                    ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ                                    １．０質量部
ＭＥＫ                                                  ５３５質量部
シクロヘキサノン                                        ４９５質量部
【０３２９】
上記各塗布液は各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌したのち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して調製した。
【０３３０】
「イルガキュア９０７」：光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
「カヤキュアーＤＥＴＸ」：光増感剤（日本化薬（株）製）
【０３３１】
【表１】
2006126799.tif 000008
【０３３２】
（ゾル液aの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１１９部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１０１部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０３３３】
（中空シリカ分散液ａの調製）
中空シリカ微粒子ゾル（粒子サイズ約４０〜５０ｎｍ、シエル厚６〜８ｎｍ、屈折率１．３１、固形分濃度２０％、主溶媒イソプロピルアルコール、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じて粒子サイズを変更して作製）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０３３４】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）の調製）
ＪＮ７２２８Ａ                                        ４４７．０質量部
ＭＥＫ−ＳＴ                                            １８．３質量部
ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ                                        ２３．７質量部
ゾル液ａ                                                １２．３質量部
ＭＥＫ                                                  ９３．０質量部
シクロヘキサノン                                        １８．０質量部
【０３３５】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）の調製）
ＪＴＡ１１３、                                        ５２４．０質量部
ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ                                        ５２．４質量部
ゾル液ａ                                                ２３．６質量部
ＭＥＫ                                                  ２０．４質量部
シクロヘキサノン                                        ２４．０質量部
【０３３６】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−３）の調製）
ＤＰＨＡ                                                  ５．６質量部
パーフルオロオレフィン共重合体（１）                    ２２．４質量部
中空シリカ分散液ａ                                      ８０．０質量部
ゾル液ａ                                                ２４．８質量部
ＲＭＳ−０３３、                                          ２．８質量部
イルガキュア９０７、                                      ０．８質量部
ＭＥＫ                                              １０４０．６質量部
シクロヘキサノン                                        ３６．０質量部
【０３３７】
【化７】
2006126799.tif 000009
【０３３８】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−４）の調製）
ＪＴＡ１１３、                                        ９３３．３質量部
中空シリカ分散液ａ                                    １９５．０質量部
ゾル液ａ                                                １２．７質量部
ＭＥＫ                                                ５９３．９質量部
シクロヘキサノン                                          ８．５質量部
【０３３９】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−７）の調製）
ＤＰＨＡ                                              ３．３質量部
中空シリカ分散液ａ                                  ３６．４質量部
ＲＭＳ−０３３、                                      ０．７質量部
イルガキュア９０７、                                  ０．２質量部
ゾル液ａ                                              ６．２質量部
ＭＥＫ                                                １８０質量部
シクロヘキサノン                                    １２．６質量部
【０３４０】
「ＪＮ７２２８Ａ」：熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６％、ＪＳＲ(株)製）
「ＪＴＡ１１３」：熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６％、ＪＳＲ(株)製）
「ＭＥＫ−ＳＴ」：コロイダルシリカ分散液（平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）
「ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ」：コロイダルシリカ分散液（平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）
「ＲＭＳ−０３３」：反応性シリコーン（Ｇｅｌｅｓｔ（株）製）
【０３４１】
上記各塗布液は各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌したのち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して調製した。さらに、塗布液（ＬＬ−４）及び（ＬＬ−３）の処方を表２に示すように変更して、塗布液（ＬＬ−５）及び（ＬＬ−６）を調製した。
【０３４２】
【表２】
2006126799.tif 000010
【０３４３】
実施例１
（反射防止フィルム（ＡＦ−１）の作成）
上記のハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）、中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）、高屈折率層（ＨＬ−１）、低屈折率層（ＬＬ−１）を用いて、下記に記載の塗布、乾燥方法にしたがって塗布を行った。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フィルム（株）製、屈折率：１．４８）に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）を、搬送速度２０ｍ／ｍｉｎの条件でグラビアコーターを用いて塗布し、第一（最初）の乾燥ゾーン内で３０℃３０秒間の乾燥の後、更に以降の第二の乾燥ゾーン内で１１０℃、２分の乾燥の後、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。上記第一の乾燥ゾーン内の風速は、最大で０．２ｍ／ｓであり、乾燥ゾーン内で塗布膜はセットしていることが確認された。このハードコート層は屈折率１．５１、層厚８μｍであった。
【０３４４】
続いて、上記の中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）を搬送速度１０ｍ／ｍｉｎの条件でグラビアコーターを用いて塗布し、表４に示した条件で乾燥、硬化し、中屈折率層（屈折率：１．６３、層厚：６７ｎｍ）を設けた。中屈折率層の上に、上記の高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）を搬送速度１０ｍ／ｍｉｎの条件でグラビアコーターを用いて中屈折率層と同様に塗布、乾燥、硬化し、高屈折率層（屈折率：１．９０、層厚：１０７ｎｍ）を設けた。さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布液（ＬＬ−３）を搬送速度２０ｍ／ｍｉｎの条件でグラビアコーターを用いて塗布し、第一（最初）の乾燥ゾーン内で２５℃３０秒間の乾燥の後、１１０℃で２分間乾燥し、１２５℃１０分乾燥した後に、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率：１．４３、層厚：８６ｎｍ）を設けた。このようにして反射防止フィルム（ＡＦ−１）を作成した。
さらに、表３に示すように使用する塗布液、作製条件を変更して反射防止フィルム（ＡＦ−２）〜（ＡＦ−７）を作製した。
【０３４５】
【表３】
2006126799.tif 000011
【０３４６】
【表４】
2006126799.tif 000012
【０３４７】
（１）鏡面反射率及び色味
分光光度計“Ｖ−５５０”｛日本分光（株）製｝にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、各反射防止フィルム試料の入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの領域における平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ65の入射角５゜の入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のＬ*値、ａ*値、ｂ*値を算出し、この中からａ*値、ｂ*値を用いて反射光の色味を評価した。塗布の幅方向に対して等間隔５点の平均値を表す。
（２）層厚変動幅
塗布の幅方向に対して等間隔に５点上記記載の反射率測定を行う。得られた３８０〜７８０ｎｍの反射率曲線から、Ｃａｕｃｈｙモデルを用いてフィッティングにより各点の層厚を求め、平均値を求めて、各点の層厚と平均値との差をとり、層厚変動幅とする。
（３）色味ムラ
３波長光源＋環境を記載し、
色味ムラを以下の基準で目視により評価した。
○：かすかに見えるが気にならない。
△：やや気になる。
×：かなり気になる。
（４）耐光性試験前後の反射率変化
各反射防止フィルム試料について、サンシャインウエザーメーター（ＳＸ-７５、スガ試験機（株）製）を用い、サンシャインカーボンアーク灯、放射照度１５０Ｗ/ｍ2  、湿度５０％ＲＨ、１００時間の条件で耐光性試験を行った。試験後の各試料について、前（１）項と同様に反射率測定を行い変化率を求めた。
【０３４８】
【表５】
2006126799.tif 000013
【０３４９】
反射防止フィルム（ＡＦ−１）〜（ＡＦ−５）、（ＡＦ−１４）〜（ＡＦ−１６）は層厚変動幅が５％以下で色味ムラが目立たないが、（ＡＦ−６）は高屈折率層形成時の乾燥速度が速く塗布直後のムラがレベリングする前に膜がセットされ層厚変動幅が５％以上で色味ムラが目立った。（ＡＦ−７）は高屈折率層形成時の乾燥速度が遅く第一乾燥ゾーンで膜がセットされず第二乾燥ゾーンで乾燥風によるムラを起こし層厚変動幅が５％以上で色味ムラが目立った。また、（ＡＦ−２）は耐光性試験前後の反射率が０．５以上となり耐光性試験前後での色味の変化が目立つ。
【０３５０】
実施例２
（ダイコーターの構成）
スロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩUPが0.5mm、下流側リップランド長ＩLOが５０μｍで，スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブ１２の隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２の隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２との隙間ＧL を５０μｍに設定した。また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブ１２との隙間ＧS 、及びバックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧB はともに２００μｍとした。
【０３５１】
（反射防止フィルムの作製）
層厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フィルム（株）製）の上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）を前記ダイコーターを用いて２５m/minの塗布速度で塗布した。ＨＣＬ−１の塗布では下流側リップランド１８ｂとウェブ１２との隙間ＧL を８０μｍに変更し、減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。
第一（最初）の乾燥ゾーン内で３０℃１分の乾燥の後、更に以降の第二の乾燥ゾーン内で１１０℃、２分の乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
【０３５２】
上記のハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）を前記ダイコーターを用いて２５m/minの塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。  その後第一（最初）の乾燥ゾーン内で３０℃２４秒間の乾燥の後、更に以降の第二の乾燥ゾーン内で１１０℃、２分の乾燥の後、酸素濃度が０.１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．６３、層厚64ｎｍ）を形成した。
【０３５３】
中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）を前記ダイコーターを用いて２５m/minの塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。その後第一（最初）の乾燥ゾーン内で３０℃２４秒間の乾燥の後、更に以降の第二の乾燥ゾーン内で１１０℃、２分の乾燥の後、酸素濃度が0.1体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ｃｍ2、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、高屈折率層（屈折率１．９０、層厚１０３ｎｍ）を形成した。
【０３５４】
高屈折率層の上に、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を前記ダイコーターを用いて２５m/minの塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。その後第一（最初）の乾燥ゾーン内で２５℃２４秒間の乾燥の後、更に以降の第二の乾燥ゾーン内で１１０℃、２分の乾燥の後、酸素濃度が0.1体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ/ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４５、層厚８３ｎｍ）を形成した。このようにして、反射防止フィルム（ＡＦ−８）を作製した。
さらに、表６に示すように使用する塗布液、作製条件を変更して、反射防止フィルム（ＡＦ−９）〜（ＡＦ−１３）を作製した。
【０３５５】
【表６】
2006126799.tif 000014
【０３５６】
【表７】
2006126799.tif 000015
【０３５７】
【表８】
2006126799.tif 000016
【０３５８】
反射防止フィルム（ＡＦ−８）〜（ＡＦ−１１）、（ＡＦ−１７）〜（ＡＦ−１９）は層厚変動幅が５％以下で色味ムラが目立たないが、（ＡＦ−１３）は低屈折率層形成時の塗布量が少ないため乾燥速度が速く塗布直後のムラがレベリングする前に膜がセットされ層厚変動幅が５％以上で色味ムラが目立った。（ＡＦ−１２）は低屈折率層形成時の塗布量が多く遅く第一乾燥ゾーンで膜がセットされず第二乾燥ゾーンで乾燥風によるムラを起こし層厚変動幅が５％以上で色味ムラが目立った。
【０３５９】
実施例３
〔画像表示装置の評価〕
前記実施例１、２で作製した本発明の各反射防止フィルム（ＡＦ−１）〜（ＡＦ−５）、（ＡＦ−８）〜（ＡＦ−１１）、（ＡＦ−１４）〜（ＡＦ−１９）を装着した画像表示装置は、反射防止性能に優れ、白味等のない極めて視認性が優れた性能を示した。
【０３６０】
実施例４
〔偏光板用保護フィルムの作製〕
実施例１、２で作製した反射防止フィルム（ＡＦ−１）〜（ＡＦ−５）、（ＡＦ−８）〜（ＡＦ−１１）、（ＡＦ−１４）〜（ＡＦ−１９）において、本発明の反射防止膜を有する側とは反対側の透明支持体の表面に、水酸化カリウム５７質量部、プロピレングリコール１２０質量部、イソプロピルアルコール５３５質量部、及び水２８８質量部からなるアルカリ溶液を４０℃に保温した鹸化液を塗布して、その透明支持体の表面を鹸化処理した。
鹸化処理した透明支持体表面のアルカリ溶液を、水で十分に洗浄した後、１００℃で十分に乾燥させた。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
【０３６１】
〔偏光板の作製〕
｛偏光膜の作製｝
層厚７５μｍのポリビニルアルコールフィルム｛（株）クラレ製｝を、水１０００ｇ、ヨウ素７ｇ、ヨウ化カリウム１０．５ｇからなる水溶液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。次いで、このフィルムを４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥して偏光膜を作製した。
【０３６２】
次に、接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、上記本発明の各反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したセルロースアシレートフィルム“ＴＤ８０ＵＦ” ｛富士写真フィルム（株）製｝を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
【０３６３】
〔画像表示装置の評価〕
このようにして作製した本発明の各偏光板をＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置に装着し手その評価を行ったところ、これらの液晶表示装置は、何れも反射防止性能に優れ、極めて視認性が優れていた。
【０３６４】
実施例５
〔偏光板の作製〕
光学補償フィルム「ワイドビューフィルム  Ａ  １２Ｂ」｛富士写真フィルム（株）製｝の、光学補償層を有する側とは反対側の表面を実施例４と同様の条件で鹸化処理した。
【０３６５】
次に、実施例４で作製した偏光膜に、接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、実施例４で作製した各反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には鹸化処理した光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
【０３６６】
〔画像表示装置の評価〕
このようにして作製した本発明の各偏光板をＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置に装着してその評価を行ったところ、これらの液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない、前記の偏光板を装着した液晶表示装置よりも、何れも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が非常に広く、更に、反射防止性能に優れ、極めて視認性と表示品位が優れていた。
【図面の簡単な説明】
【０３６７】
【図１】スロットダイを用いたコーターの一例を示す断面図である。
【図２】スロットダイの断面形状を従来のもの（Ｂ）と比較して示す図である。
【図３】塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。
【図４】近接する減圧チャンバーとウェブの一例を示す断面図である。
【図５】近接する減圧チャンバーとウェブの一例を示す断面図である。
【図１】
2006126799.tif 000017
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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