(57)【要約】  【課題】簡易な構成で光変調素子の入射面への集塵を抑制して、長期にわたって安定した光量のレーザ光を記録媒体に照射できる走査光学装置を提供する。  【解決手段】下記式（１）を満たす透過率を有し、吸収又は反射による減光機能を有する減光フィルタをレーザ光源３０とＡＯＭ３２の間のレーザ光の光路上に配置する。ηnd＝（Ｗ１／Ｗ０）／（ηAOM×ηref×ηtra）・・・（１）  式中、Ｗ０はレーザ光源３０の出射光量、Ｗ１は記録媒体の記録に必要な光量、ηAOMはＡＯＭ３２における回折効率、ηrefはレーザ光源３０から記録媒体の被走査面までの間に存在する反射光学素子の合計の反射率、ηtraはレーザ光源３０から被走査面までの間に存在する透過光学素子の合計の透過率であって減光フィルタの透過率を除いた透過率である。【選択図】図２
2006039466.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体をレーザ光で走査露光して前記記録媒体に潜像を記録するための走査光学装置であって、
前記レーザ光を発生させるレーザ光源と、
前記レーザ光源と前記記録媒体の間の光路上に配置され、前記レーザ光を変調させるための光変調素子と、
前記レーザ光を減光させるための吸収又は反射による減光機能を有する減光フィルタとを備え、
前記減光フィルタが、前記レーザ光源と前記光変調素子の間で、前記レーザ光の光路上に配置されており、
前記減光フィルタの透過率をηnd、前記レーザ光源の出射光量をＷ０、前記記録媒体の記録に必要な光量をＷ１、前記光変調素子における回折効率をηAOM、前記レーザ光源から前記記録媒体の被走査面までの間に存在する反射光学素子の合計の反射率をηref、前記レーザ光源から前記被走査面までの間に存在する透過光学素子の合計の透過率であって前記減光フィルタの透過率を除いた透過率をηtraとしたときに、下記式（１）：
ηnd＝（Ｗ１／Ｗ０）／（ηAOM×ηref×ηtra）・・・（１）
を満たすことを特徴とする走査光学装置。
【請求項２】
前記減光フィルタは、板状の硝材の少なくとも一方の面での反射又は吸収により透過光エネルギーを減少させる反射型の減光フィルタ、又は硝材中に分散された光吸収物質により透過光エネルギーを減少させる吸収型の減光フィルタであり、
前記減光フィルタに入射するレーザ光の入射角をθとし、前記光変調素子の有効開口幅をξ、前記減光フィルタの厚みをＴとし、前記減光フィルタが配置されている環境における媒質の屈折率をｎ０とし、前記減光フィルタを構成する硝材の屈折率をｎ１としたときに、下記式：
２Ｔ×tanφ×cosθ＞ξ・・・（２）
φ＝Arcsin（（ｎ０／ｎ１）×sinθ）・・・（３）
を満たすことを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項３】
前記減光フィルタに入射するレーザ光の一部が前記減光フィルタの光入射面で反射する場合において、前記反射光成分の光路上に前記反射光成分を吸収するための吸収体を有し、当該吸収体が、前記反射光成分のビーム径の２倍以上の外径を有することを特徴とする請求項２に記載の走査光学装置。
【請求項４】
記録媒体をレーザ光で走査露光して前記記録媒体に潜像を記録するための走査光学装置であって、
前記レーザ光を発生させるレーザ光源と、
前記レーザ光源のレーザ光を変調させるための光変調素子と、
前記レーザ光源と前記光変調素子との間の光路上に配置された少なくとも一つの光学素子とを有し、
前記少なくとも一つの光学素子に、前記レーザ光を減光させるための減光コーティング材が形成されているか、又は、前記少なくとも一つの光学素子が、光吸収物質を含む吸収型の減光機能を有する光学素子で構成されており、
前記少なくとも一つの光学素子の透過率をηnd、前記レーザ光源の出射光量をＷ０、前記記録媒体の記録に必要な光量をＷ１、前記光変調素子における回折効率をηAOM、前記レーザ光源から前記記録媒体の被走査面までの間に存在する反射光学素子の合計の反射率をηref、前記レーザ光源から前記被走査面までの間に存在する透過光学素子の合計の透過率であって前記少なくとも一つの光学素子の透過率を除いた値をηtraとしたときに、下記式（４）：
ηnd＝（Ｗ１／Ｗ０）／（ηAOM×ηref×ηtra）・・・（４）
を満足することを特徴とする走査光学装置。
【請求項５】
複数の感光層を有する感光体を露光するために用いられ、
前記レーザ光源が複数のレーザ光源で構成され、それぞれのレーザ光源が前記複数の感光層の感光感度に対応した波長のレーザ光を出射することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の走査光学装置。
【請求項６】
前記感光体が、写真プリントで用いられる印画紙であることを特徴とする請求項５に記載の走査光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体に潜像を記録するための走査光学装置に関し、更に詳細には、光変調素子を用いてレーザ光を変調して記録媒体を走査する走査光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタルフォトプリンタや電子写真プリンタ等の各種の画像記録装置には、記録画像に応じて変調したレーザビームを所定の一次元方向（主走査方向）に偏向することにより、感光体等の記録媒体を走査露光して、記録媒体に潜像もしくは顕像を記録する走査光学装置が用いられている。
【０００３】
走査光学装置の光源には半導体レーザが主に使用されており、半導体レーザから出射するレーザビームの強度を記録データに応じて変調することで記録媒体に画像を記録する。レーザビームの強度変調は、出力振幅変調又はパルス幅変調によって行なわれる。
【０００４】
露光対象となる感光体には、現在利用可能な半導体レーザの波長域以外の波長域に感度を有する場合がある。このような場合は、半導体レーザの代わりに固体レーザを使用しなければならないが、固体レーザを直接制御して高速に変調することが困難な場合があり、音響光変調素子（ＡＯＭ）等による外部強度変調が必要となる。また、半導体レーザを使用する場合であっても、プリント生産性を高めるという観点から、半導体レーザで制御可能な変調速度よりも更に高速変調させなければならない場合もあり、このような場合もＡＯＭなどの外部強度変調が必要となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、レーザ光源から出射するレーザ光をＡＯＭで回折させるべく、ＡＯＭの結晶表面近傍で集光させて入射させると、装置内を浮遊する塵埃がＡＯＭのビーム入射点に集塵される現象が生じる。ＡＯＭの結晶表面、特に、ビームが通過する領域における塵埃の付着は透過効率の低下、すなわち、露光面における光量低下の要因となり、プリント品質の低下を引き起こす恐れがある。このような集塵の現象は波長の短いレーザの場合ほど顕著である。
【０００６】
キャリブレーション機能を有するプリンタであれば、露光面における光量低下分だけレーザ光源の出力を上げて出射光量を増加させることによって、プリント品質を維持させることはできる。しかしながら、レーザ光源の出力光量を増加するとレーザ光源自体の寿命が短くなってしまう恐れがある。
【０００７】
また、ＡＯＭの結晶表面に付着した塵埃を取り除こうとしても、ＡＯＭの結晶表面は非常に繊細で傷つきやすいため、結晶表面に付着した塵埃を除去する作業は工数とコストがかかる。結晶表面に塵埃が付着しないようにするために、組み込まれる装置の内部を密閉構造にすることも考えられるが、レーザ光源と、そのレーザ光源を収容する筐体の外部に設置されるレーザ光源駆動部とを結ぶハーネス類の引き回し等を考慮すると構造が複雑化し、コストや部品点数、組立工程数の増大を引き起こすため望ましくない。
【０００８】
また、ＡＯＭの使用においては、レーザ光を数十μｍ以下のビーム径で入射させて、回折させることから、エネルギー密度が高い状態でレーザ光がＡＯＭの結晶表面に入射する。このため、結晶表面及びその表面に形成されるコーティング材への損傷が生じる場合もある。また、装置内を浮遊する塵埃の付着のみならず、有機ガス等が焼きつくことによる表面劣化もある。このような場合も、ＡＯＭの透過効率の低下を引き起こし、プリント品質が低下してしまう。
【０００９】
本発明は、上記問題を解消するためになされたものであり、本発明の目的は、簡易な構成で光変調素子の入射面への集塵を抑制して、安定した光量のレーザ光で記録媒体を走査して記録媒体に潜像を記録することができる走査光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の第１の態様は、記録媒体をレーザ光で走査露光して前記記録媒体に潜像を記録するための走査光学装置であって、前記レーザ光を発生させるレーザ光源と、前記レーザ光源と前記記録媒体の間の光路上に配置され、前記レーザ光を変調させるための光変調素子と、前記レーザ光を減光させるための吸収又は反射による減光機能を有する減光フィルタとを備え、前記減光フィルタが、前記レーザ光源と前記光変調素子の間で、前記レーザ光の光路上に配置されており、前記減光フィルタの透過率をηnd、前記レーザ光源の出射光量をＷ０、前記記録媒体の記録に必要な光量をＷ１、前記光学素子における回折効率をηAOM、前記レーザ光源から前記記録媒体の被走査面までの間に存在する反射光学素子の合計の反射率をηref、前記レーザ光源から前記被走査面までの間に存在する透過光学素子の合計の透過率であって前記減光フィルタの透過率を除いた透過率をηtraとしたときに、下記式（１）：
ηnd＝（Ｗ１／Ｗ０）／（ηAOM×ηref×ηtra）・・・（１）
を満たすことを特徴とする走査光学装置を提供する。
【００１１】
本発明の第１の態様の走査光学装置において、前記減光フィルタは、板状の硝材の少なくとも一方の面での反射又は吸収により透過光エネルギーを減少させる反射型の減光フィルタ、又は硝材中に分散された光吸収物質により透過光エネルギーを減少させる吸収型の減光フィルタであり、前記減光フィルタに入射するレーザ光の入射角をθとし、前記光変調素子の有効開口幅をξ、前記減光フィルタの厚みをＴとし、前記減光フィルタが配置されている環境における媒質の屈折率をｎ０とし、前記減光フィルタを構成する硝材の屈折率をｎ１としたときに、下記式：
２Ｔ×tanφ×cosθ＞ξ・・・（２）
φ＝Arcsin（（ｎ０／ｎ１）×sinθ）・・・（３）
を満たすことが好ましい。この場合、前記減光フィルタに入射するレーザ光の一部が前記減光フィルタの光入射面で反射する場合において、前記反射光成分の光路上に前記反射光成分を吸収するための吸収体を有し、当該吸収体が、前記反射光成分のビーム径の２倍以上の外径を有することが好ましい。
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明の第２の態様は、記録媒体をレーザ光で走査露光して前記記録媒体に潜像を記録するための走査光学装置であって、前記レーザ光を発生させるレーザ光源と、前記レーザ光源のレーザ光を変調させるための光変調素子と、前記レーザ光源と前記光変調素子との間の光路上に配置された少なくとも一つの光学素子とを有し、前記少なくとも一つの光学素子に、前記レーザ光を減光させるための減光コーティング材が形成されているか、又は、前記少なくとも一つの光学素子が、光吸収物質を含む吸収型の減光機能を有する光学素子で構成されており、当該減光少なくとも一つの光学素子の透過率をηnd、前記レーザ光源の出射光量をＷ０、前記記録媒体の記録に必要な光量をＷ１、前記光変調素子における回折効率をηAOM、前記レーザ光源から前記記録媒体の被走査面までの間に存在する反射光学素子の合計の反射率をηref、前記レーザ光源から前記被走査面までの間に存在する透過光学素子の合計の透過率であって前記少なくとも一つの光学素子の透過率を除いた値をηtraとしたときに、下記式（４）：
ηnd＝（Ｗ１／Ｗ０）／（ηAOM×ηref×ηtra）・・・（４）
を満足することを特徴とする走査光学装置を提供する。
【００１３】
本発明の第１及び第２の態様の走査光学装置は、複数の感光層を有する感光体を露光するために用いられることが好ましく、前記レーザ光源が複数のレーザ光源で構成され、それぞれのレーザ光源が前記複数の感光層の感光感度に対応した波長のレーザ光を出射することが好ましい。この場合、前記感光体が、写真プリントで用いられる印画紙であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の走査光学装置は、レーザ光源と光変調素子の間に、吸収又は反射による減光機能を有する減光フィルタを配置することによって、又はレーザ光源と光変調素子の間に配置される少なくとも一つの光学素子にレーザ光を減光させるための減光コーティング材を形成することによって、若しくは、その少なくとも一つの光学素子を、光吸収物質を含み吸収型の減光機能を有する光学素子で構成することによって、光変調素子に入射するレーザ光の光量を抑制しているので、装置内を浮遊する塵埃が光変調素子の光入射面に集塵されることを抑制することができ、長期にわたって安定した光量のレーザ光を記録媒体に照射することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の走査レンズ及びそれを備える走査光学装置について、添付の図面に示される好適実施例を基に詳細に説明する。
【００１６】
図１に、走査光学装置１０の一例の概略構成図を示す。この走査光学装置１０は、感光体に画像を記録するための装置であり、画像記録（画像データ）に応じて変調した、Ｒ（赤）露光、Ｇ（緑）露光、およびＢ（青）露光に対応する３本の光ビームＬ（レーザビーム）を一次元方向（主走査方向（図中矢印ｘ方向））に偏向させて、所定の記録位置（露光位置）に入射させることにより、感光体を走査露光することができる。
【００１７】
このような走査光学装置１０は、一例として、写真フィルムに撮影された画像を光電的に読み取って得られた画像データや、デジタルカメラによって撮影された画像の画像データ等から写真プリントを作成する、デジタルフォトプリンタのプリンタ（焼付装置）に利用されるものである。このプリンタにおいては、前記記録位置において、主走査方向と直交する方向（副走査方向（図中矢印ｙ方向））に感光体Ｓ（印画紙）を走査搬送することにより、主走査方向に偏向された光ビームによって感光体（被走査面）を二次元的に走査露光して潜像を記録し、潜像を記録した感光体を現像処理装置に供給する。
【００１８】
図示例において、走査光学装置１０は、一面が解放する筐体であるフレーム１２と、フレーム１２の解放面（上面）を閉塞するカバー１４と、フレーム１２に固定される各種の光学素子とを有して構成される。
【００１９】
図示例において、フレーム１２は、光ビーム走査光学系を構成する各種の光学素子を収容し、固定するための光ビーム走査光学系の光学定盤として機能する筐体である。フレーム１２は、例えばアルミニウム合金により形成される。フレーム１２の内部は、隔壁２２（２２ａ、２２ｂおよび２２ｃ）によって、光源部１６、光偏向部１８、および出射部２０に略分離されている。なお、隔壁２２ａは、一部が切り欠かれて、ここに透明な窓部材２８ａが固定され、さらに、隔壁２２ｃも上部を除いて切り欠かれて、ここに透明な窓部材２８ｂが固定される。
また、フレーム１２の外壁および隔壁２２には、フレーム１２とカバー１４とを締結するためのネジが螺合するネジ孔２６（計１７個）が形成される。
【００２０】
図示例のフレーム１２の光源部１６には、光源３０Ｒ、３０Ｂ、３０Ｇと、光変調素子としてのＡＯＭ（音響光学変調器）３２Ｇ、３２Ｂと、ミラー３２と、ビームピント調整手段３６Ｒ、３６Ｂ、３６Ｇが配置されている。光源３０Ｒは、Ｒ露光を行うための光ビームＬｒを出射する半導体レーザであり、光源３０Ｂは、Ｂ露光を行う光ビームＬｂを出射する半導体レーザである。光源３０Ｇは、Ｇ露光を行うための光ビームＬｇを発する光源であり、レーザ光源とＳＨＧ素子とを組み合わせてなる二次高調波によって光ビームＬｇを発生させる。
【００２１】
ＡＯＭ３２Ｂ及び３２Ｇは、それぞれ、光源３０Ｂ及び３０Ｇから出射した光ビームＬｂ、Ｌｇの光路上に配置され、ＡＯＭ３２Ｂは、光源３０Ｂから出射した光ビームＬｂを画像データ信号に応じて変調し、ＡＯＭ３２Ｇは光ビームＬｇを画像データ信号に応じて変調するために用いられる。光ビームＬｒは、光源３０Ｒを変調駆動する直接変調によって画像データに応じて変調される。
【００２２】
レーザ光源３０ＢとＡＯＭ３２Ｂとの間には、図２に示すように、レーザ光源３０Ｂから出射したレーザ光をＡＯＭ３２において集光するための集光レンズ３１と、レーザ光の光量を減少させるためのＮＤフィルタ（減光フィルタ）３３が設けられている。また、レーザ光源３０ＧとＡＯＭ３２Ｇとの間にも同様に、レーザ光源３０Ｇから出射したレーザ光をＡＯＭ３２Ｇにおいて集光レンズと、レーザ光の光量を減少させるためのＮＤフィルタ３３が配置されている。従来の走査光学装置においては、光量を減少させるためのＮＤフィルタはＡＯＭと偏向器との間に配置されるが、本発明の走査光学装置では、レーザ光源３０とＡＯＭ３２の間にＮＤフィルタを備える。以下、レーザ光源３０とＡＯＭ３２の間に配置したＮＤフィルタを説明することで本発明の概念を詳述する。
【００２３】
ＮＤフィルタ３３は、薄板ガラスの少なくとも一方の面に、入射光量を減少させるコーティング材が形成された構造を有する。ここでは、薄板ガラスを用いてＮＤフィルタを形成したが、これに限定はされず、光透過性を有する材料であれば、例えば透明樹脂等を用いることができる。また、ＮＤフィルタとして、光吸収性を有する素材を用いたフィルタ、例えば、反射型ＮＤフィルタや吸収型ＮＤフィルタを用いても良い。
【００２４】
本発明では、上記反射型ＮＤフィルタ又は吸収型ＮＤフィルタを用い、その透過率は下記式（１）満たす。
【００２５】
ηnd＝（Ｗ１／Ｗ０）／（ηAOM×ηref×ηtra）・・・（１）
【００２６】
式（１）において、Ｗ０はレーザ光源の出射光量であり、Ｗ１は、記録媒体の記録に必要な光量である。記録媒体が感光層を有する感光体である場合は、その感光層を感光させるのに必要な光量である。ηAOMは、光変調素子における回折効率であり、使用する回折光束に対する入射光束の比である。ηrefはレーザ光源から記録媒体の被走査面（記録媒体の表面）までの間に存在する反射光学素子の合計の反射率である。図１に示す走査光学装置では、ミラー３４やシリンドリカルミラー４８、立ち下げミラー５０などが反射光学素子に含まれる。ηtraは、減光フィルタの透過率を除いた、レーザ光源から被走査面までの間に存在する透過光学素子の合計の透過率である。図１に示す走査光学装置では、走査レンズ４２、ビームピント調整手段３６に設けられたレンズ、シリンドリカルレンズ４６などが、この透過光学素子に含まれる。
【００２７】
ＮＤフィルタとしては、硝材表面にＣｒコーティングを施し、当該フィルタによる反射及び吸収によって減光効果が得られる反射型ＮＤフィルタ、又は、硝材中に光吸収物質を分散させた素材で透過光を減光させる透過型ＮＤフィルタ等の一般的なＮＤフィルタを用いることができる。
【００２８】
本発明では、このようなＮＤフィルタをレーザ光源３０とＡＯＭ３２の間に配置したことにより、ＡＯＭの結晶入射面のビームエネルギー密度が最小限に抑えられ、ＡＯＭの結晶表面への集塵現象を抑制することができる。このような集塵現象を抑制することができる理由は以下のとおりである。
【００２９】
ＡＯＭの結晶表面への集塵が生じる原因は、浮遊する塵埃等にレーザ光が照射されたときに、その塵埃に、レーザ光の運動量変化に基づく光圧がレーザ光の伝播方向に作用するためであると考えられる。したがって、レーザ光の光圧が作用した塵埃は、レーザ光の伝播方向、すなわち、ＡＯＭの結晶表面に向かって移動してＡＯＭの結晶表面に付着する。そして、塵埃に作用する光圧は、レーザパワー、すなわち光量に比例することから、レーザ光の光量が多いほど結晶表面に付着しやすくなる。
【００３０】
従来の装置では、ＡＯＭと、ポリゴンミラーなどの光偏向器の間に減光フィルタを配置していたので、レーザ光源から出射したレーザ光がそのままＡＯＭに入射し、ＡＯＭには比較的高強度のレーザ光が入射していた。そのためＡＯＭのレーザ光入射側の結晶表面に塵埃が付着しやすく、長期間使用した場合には透過率の低下を招くことがあった。レーザ光源の出力光量を抑えてＡＯＭに入射する光量を低減することも考えられるが、レーザ光の出力特性（Ｉ−Ｌ特性）や安定駆動の観点からは、記録媒体への潜像の記録に必要な光量の数倍から数十倍の光量が必要とされるので、レーザ光源の出力光量を抑えることは望ましくない。
【００３１】
そこで、本発明では、レーザ光源とＡＯＭの間にＮＤフィルタを配置してＡＯＭに入射するレーザ光の光量をＮＤフィルタによって減少させている。これにより、ＡＯＭの結晶表面の集塵を従来よりも抑制することができ、透過率の低下を抑制して長期にわたって安定して所望の光量のレーザ光を記録媒体に照射することができる。
【００３２】
ＮＤフィルタ３３は、図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、レーザ光Ｌｉの光軸に対して斜めに配置されていることが好ましい。このようにレーザ光源３０から出射したレーザ光Ｌｉの光軸に対して斜めにＮＤフィルタ３３を配置することにより、そのレーザ光Ｌｉの一部が、ＮＤフィルタ３３で反射してレーザ光源３０に戻り光となってレーザ光源３０に入射することを防止することができる。
【００３３】
また、ＮＤフィルタ３３は、下記条件式（２）及び（３）を満たすような入射角度θでレーザ光が入射するように設置されることが好ましい。
【００３４】
２Ｔ×tanψ×cosθ＞ξ・・・（２）
ψ＝Arcsin（（ｎ０／ｎ１）×sinθ）・・・（３）
【００３５】
式（２）及び（３）において、θは、図３に示すように、ＮＤフィルタ３３に入射するレーザ光Ｌｉの入射角である。ξは、ＡＯＭ３２の有効開口幅であり、ＴはＮＤフィルタ３３の厚みである。ｎ０は、ＮＤフィルタ３３が配置されている環境の屈折率であり、大気環境下であれば空気の屈折率である。ｎ１は、ＮＤフィルタ３３を構成する薄板ガラス（硝材）の屈折率である。
【００３６】
ここで、上記式（２）の左辺２Ｔ×tanψ×cosθは、ＮＤフィルタ３３の内部で２回反射して出射する多重反射光Ｌｍｒと、ＮＤフィルタ３３の内部で反射することなく出射する透過光Ｌｔとの距離δに相当する。本発明では、この距離δがＡＯＭ３２の有効開口幅よりも大きくなるように、レーザ光に対するＮＤフィルタ３３の角度や、ＮＤフィルタ３３の厚さＴ、減光コーティング材の材料を設定することが好ましい。
【００３７】
本発明では、上記条件式（２）及び（３）を満たすようにＮＤフィルタ３３を配置することにより、レーザ光源３０から出射し、ＮＤフィルタ３３の内部で多重反射することなく出射するレーザ光ＬｔのみをＡＯＭ３２の有効開口部に入射させる。そして、ＮＤフィルタ３３の内部で多重反射する多重反射光Ｌｍｒを、ＡＯＭ３２の有効開口部の外側の領域に導くことで、ＡＯＭ３２の有効開口部には入射させない。これにより多重反射光に起因するフレア光の発生を回避することができる。
【００３８】
また、ＮＤフィルタ３３にレーザ光Ｌｉを入射させると、図３に示すように、そのレーザ光の一部が、ＮＤフィルタ３３の光入射側の面３３ａで反射する。本発明では、その反射した光（以下、反射成分光という）Ｌｒの光路上に、その反射成分光Ｌｒを吸収する吸収体を配置することが好ましい。このような吸収体を配置することにより、例えば、レーザ光源の安定又はレーザ光源の出力光を安定させるためにＡＰＣ（Automatic Power Control：自動出力制御）が設けられている場合に、そのＡＰＣに用いられるフォトダイオードに反射性分光Ｌｒが入射することを防止することができる。このような吸収体は、任意の形状で形成することができ、反射成分光Ｌｒのビーム径の２倍以上の大きさ（外径）を有することが好ましい。このように吸収体を配置することにより、反射成分光Ｌｒを確実に吸収して、反射成分光Ｌｒが、上述したフォトダイオードのような、走査光学装置の内部に設けられている他の光学機器に入射することを、より確実に防止することができる。
【００３９】
吸収体は、反射性分光の波長域に光吸収性を示す材料を用いて形成することができる。例えば、本実施の形態のように、赤、緑、青の可視域波長のレーザ光を用いるのであれば、カメラなどにおいて、内部反射光を防止する目的で利用される植毛紙を装置内部に貼り付けてもよい。また、反射性分光Ｌｒが伝播入射する部位を艶消し黒アルマイト処理する等の手法も効果的である。
【００４０】
ＮＤフィルタ３３は、レーザ光源３０Ｂの光路上とレーザ光源３０Ｇの光路上の２箇所に設けたが、どちらか一方でもよく、この場合は、波長の短いレーザ光源３０Ｂの方が集塵されやすいことから、レーザ光源３０ＢとＡＯＭ３２Ｂとの間にＮＤフィルタを配置することが好ましい。しかし、ＡＯＭの結晶表面への集塵による光量低下を有効に防止するためには、レーザ光源３０Ｂとレーザ光源３０Ｇのそれぞれのレーザ光の光路上に配置することが好ましい。
【００４１】
レーザ光源３０Ｒは、直接変調によりレーザ光を変調させているために、その光路上にはＡＯＭを設けていないが、レーザ光源３０Ｒの出射側にＡＯＭを配置して、ＡＯＭでレーザ光源から出射するレーザ光を画像データ信号に応じて変調させてもよく、この場合、レーザ光源３０ＲとＡＯＭの間に上述したＮＤフィルタを配置させても良い。
【００４２】
図示例では、レーザ光源３０Ｂ（３０Ｇ）とＡＯＭ３２Ｂ（３２Ｇ）の間にＮＤフィルタ３３を設けた構成にしたが、ＮＤフィルタ３３を設けずに、レーザ光源３０とＡＯＭ３２の間に配置される光学素子に反射型ＮＤコーティング材を形成するか、若しくはその光学素子の素材そのものに光吸収剤を分散させて吸収型の減光効果を付与させて、ＡＯＭ３２に入射する光量を減少させても良い。例えば、図２に示す集光レンズ３１の光入射側及び光出射側の少なくとも一方に前述したコーティング材を形成してもよい。このように、レーザ光源３０とＡＯＭ３２の間に配置される光学素子に減光機能を付与させることによっても、ＡＯＭ３２の結晶入射面上でのビームエネルギー密度を最小限に抑えることができ、ＡＯＭの結晶表面の集塵現象及びそれにより生じる透過率の低下、更には、被走査面における光量の低下を回避することができる。
【００４３】
この場合も、減光する手法としては、前述した減光手法と同様のものを適用することができる。すなわち、レーザ光源３０の出射光量をＷ０、記録媒体の記録に必要な光量をＷ１、ＡＯＭ３２の回折効率をηAOM、レーザ光源３０から記録媒体の被走査面までの間に存在する反射光学素子の合計の反射率をηref、レーザ光源から被走査面までの間に存在する透過光学素子の合計の透過率であって減光フィルタの透過率を除いた値をηtraとしたときに、減光フィルタとして下記式（４）を満たす透過率ηndを有する材料を用いればよい。
【００４４】
ηnd＝（Ｗ１／Ｗ０）／（ηAOM×ηref×ηtra）・・・（４）
【００４５】
また、レーザ光源３０とＡＯＭ３２の間にＮＤフィルタ３３を配置するとともに、更に、レーザ光源３０とＡＯＭ３２の間に介在する他の光学素子、例えば、集光レンズ３１に減光コーティング材を形成するか、若しくは、光学素子自体に光吸収物質を分散させて吸収型の減光効果を付与させてもよい。
【００４６】
以上、レーザ光源３０とＡＯＭ３２の間に配置され、ＡＯＭ３２に入射するレーザ光の光量を減少させるためのＮＤフィルタ３３について説明した。つぎに、走査光学装置１０の他の構成部品について図１を参照して説明する。
【００４７】
図１に示した走査光学装置において、ミラー３４は、光源３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂから出射したそれぞれの光ビームＬｒ、Ｌｇ、Ｌｂを、光偏向器の反射面の同一線上若しくはその近傍に向けて反射するために設けられている。ビームピント調整手段３６Ｒ、３６Ｇ、３６Ｂは、それぞれ、ミラー３４で反射された光ビームＬｒ、Ｌｇ、Ｌｂの光路上に配置されており、それら光ビームＬｒ、Ｌｇ、Ｌｂのピント（ビーム径）を調整する。ビームピント調整手段３６Ｒ、３６Ｇ、３６Ｂでビームピントが調整されたそれぞれの光ビームＬｒ、Ｌｇ、Ｌｂは、窓部材２８ａを透過して光偏向器４０に入射する。
【００４８】
フレーム１２の光偏向部１８には、光偏向器４０と、ｆθレンズ（走査レンズ）４２とが配置される。さらに、フレーム１２の出射部２０には、シリンドリカルレンズ４６と、シリンドリカルミラー４８と、フラットミラー（立ち下げミラー）５０とが配置される。
【００４９】
光偏向器４０によって主走査方向に偏向され光ビームＬ（Ｌｒ、Ｌｂ及びＬｇ）は、走査レンズ４２によって走査速度が均一となるように調整される。
走査レンズ４２を通過した光ビームＬは、窓部２８ｂを透過して、シリンドリカルレンズ４６を通過する。そして、シリンドリカルミラー４８で反射されて、光路を調整されて面倒れを補正された後、フラットミラー５０によって下方に反射されて、感光体Ｓに入射する。
【００５０】
ここで、図１に示す走査光学装置のフレーム１２の光偏向部１８と光出射部２０に配置される光学部品について具体的に説明する。図４に、光偏向部１８と光出射部２０に配置される光学部品の概略構成を示す。
光偏向器４０は、６面の反射面（偏向面）４０ａを有するポリゴンミラーであり、回転軸４０ｂを中心にモータ（不図示）により回転駆動する。図１に示す光源３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂからそれぞれ出射したレーザ光Ｌｒ、Ｌｇ、Ｌｂは、回転軸方向において、ポリゴンミラー４０の反射面４０ａのほぼ同一の位置に照射される。ポリゴンミラー４０に入射したレーザ光は、反射面４０ａで反射されて走査レンズ４２が配置されている側に偏向される。
【００５１】
走査レンズ４２は、第１レンズ４３と第２レンズ４４と第３レンズ４５の３個のレンズから構成される。第１レンズ４３は、一方の面が凹面４３ａで、他方の面が平面４３ｂの凹平レンズであり、凹面４３ａのレンズ面が光偏向器４０側（光入射側）になるように配置されている。第２レンズ４４及び第３レンズ４５は、いずれも、一方の面が平面４４ａ、４５ａで、他方の面が凸面４４ｂ、４５ｂの平凸レンズであり、光偏向器４０側（光入射側）が平面４４ａ、４４ｂのレンズ面になるように配置されている。第１レンズ４３と第２レンズ４４は、図に示すように、それぞれの平面側４３ｂと４４ａを互いに密着された状態で配置されている。第１レンズ４３の凹面４３ａと、第２レンズ４４の凸面４４ｂは偏向方向（主走査方向）にのみパワーを有するシリンドリカル面であり、第３レンズ４５の凸面４５ｂは、同様のシリンドリカル面であるか、若しくは球面である。
【００５２】
図４に示すように、走査レンズ４２の光出射側に、シリンドリカルレンズ４６と、シリンドリカルミラー４８と、フラットミラー５０が配置されている。シリンドリカルレンズ４６は、一方の面が、偏向方向に対して垂直な方向にのみパワーを有する凹面のシリンドリカル面４６ａで形成され、他方の面が平面４６ｂで形成されている。シリンドリカルレンズ４６は、シリンドリカル面４６ａが走査レンズ４２側に向くように配置されている。フラットミラー５０は、シリンドリカルレンズ４６及びシリンドリカルミラー４８との間で、それらの上方に配置されている。シリンドリカルミラー４８は、反射面４８ａに入射した光が上方に配置されたフラットミラー５０の反射面５０ａに入射するように配置されている。シリンドリカルレンズ４６を透過したレーザ光は、シリンドリカルミラー４８に入射して反射した後、フラットミラー５０に入射する。フラットミラー５０に入射したレーザ光は記録媒体に向けて反射される。シリンドリカルレンズ４６とシリンドリカルミラー４８によって、ポリゴンミラー４０の面倒れが補正されている。
【００５３】
走査光学装置１０においては、各光源から出射された３つの光ビームＬ（Ｌｒ、Ｌｂ及びＬｇ）は、ポリゴンミラー４０の同一点に入射して偏向され、図４に示すように所定の記録位置に入射して同一の１本の走査線５２を画成する。従って、各光ビームＬは、主走査方向には異なり、かつ、副走査方向には略一致した光路で進行して、記録位置に入射する（非合波の光ビーム走査光学系）。
【００５４】
つぎに、図１及び図５を参照して、感光体Ｓへの画像記録開始の同期信号（ＳＯＳ（Start of scan））用の光センサについて説明する。走査光学装置１０においては、フレーム１２の出射部２０に光センサ５４が配置されている。光センサ５４は、上下方向（すなわち、略副走査方向）に延在するラインセンサである。
【００５５】
走査光学装置１０には、図５に示すように、フレーム１２の外壁を貫通して形成される光センサ５４の受光部５６を挿入するための開口部５８、および、光センサ５４を固定するボルト６０を挿通するための４つのボルト孔６２が形成される。
また、光センサ５４には、ボルト６０を挿通する４つのボルト孔６８が形成される。さらに、光センサ５４の裏面（受光部５６と逆面側）には、ボルト６０の径に応じた２つの貫通孔７４を上下に並ぶボルト孔６８に対応して設けた、上下方向に長尺な板材７２が、２枚、配置される。なお、板材７２の貫通孔７４の一方は、公差を吸収するための若干の長孔であってもよい。
【００５６】
光センサ５４の受光部５６を開口部５８からフレーム１２の内部に向けて挿入し、光センサ５４の裏面に板材を配置して、板材７２の貫通孔７４および光センサ５４のボルト孔６８にボルト６０を挿通して、ボルト６０、ワッシャ６４、およびナット（図示せず）によって、ボルト孔６２に固定することにより、光センサ５４をフレーム１２に固定する。
【００５７】
ここで、光センサ５４のボルト孔６８は、上下方向に延在する長孔となっている。従って、光学ユニット１０においては、カバー１４を取り外してフレーム１４を解放しなくても、外部から光センサ５４の上下方向（略副走査方向）の位置調整を行うことができる。
また、図示例においては、２枚の板材７２によって長孔であるボルト孔６８を閉塞して、光センサ５４をフレーム１２に固定している。そのため、光センサ５４の位置調整のためにボルト６０を緩めても、ボルト孔６８および６２からフレーム１２内部に塵や埃が混入することを防止できる。
【００５８】
図１に示すように、光学素子が固定されるフレーム１２の上面（解放面）は、カバー１４によって閉塞される。このカバー１４によるフレーム１２上面の閉塞によって、光学ユニット１０の内部は（略）密閉され、内部の防塵性すなわちフレーム１２内に配置される各光学素子の防塵性が確保される。このように構成することによってＡＯＭへの集塵を一層抑制することができる。
フレーム１２とカバー１４との締結方法には、特に限定はなく、ネジによる方法、ボルトとナットによる方法、凹凸等を用いた係合に固定部材を組み合わせる方法等、公知の各種の方法が利用可能である。
【００５９】
以上、本発明の走査光学装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
【００６０】
例えば、図２に示した構成では、減光フィルタに入射する光の一部が下方に反射するように、減光フィルタの上端部が図中左側に位置し、下端部が図中右側に位置するように配置したが、減光フィルタの上端部が図中右側、下端部が図中左側に位置するように配置して、反射光が上方に反射するようにしてもよい。この場合は、上方に反射した光を吸収するための吸収体を、例えば、走査光学装置のカバーに設ければよい。
また、上記例では光変調素子としてＡＯＭを用いたが、ＥＯＭ（電気光学変調素子：Electro Optical Modulator）を用いることも可能である。
【００６１】
また、本発明の走査光学装置は、感光体を露光する装置に限定されず、光ビームを被走査面上にほぼ等速で走査させる装置、例えば、表示装置などにも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の走査光学装置の一例の概略斜視図であり、カバーを解放した様子を示す。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、本発明の走査光学装置のレーザ光源と音響光学変調器の間に配置される光学部品の斜視図及び断面図である。
【図３】ＮＤフィルタと、そのＮＤフィルタに入射するレーザ光との関係を説明するための図である。
【図４】図１に示した走査光学装置の光偏向部及び出射部に配置される光学素子の概略斜視図である。
【図５】図１に示す走査光学装置のＳＯＳセンサの取り付けを説明するための分解概略斜視図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０  走査光学装置
１２  フレーム
１４  カバー
１６  光源部
１８  光偏向部
２０  出射部
２２  隔壁
２６  ネジ孔
２８  窓部材
３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ  光源
３１  集光レンズ
３２Ｂ，３２Ｇ  ＡＯＭ
３３  ＮＤフィルタ
３４  ミラー
３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ  ピント（ビーム径）調整手段
４０  ポリゴンミラー
４２  走査レンズ
４３  第１レンズ
４４  第２レンズ
４５  第３レンズ
４６  シリンドリカルレンズ
４８  シリンドリカルミラー
５０  フラットミラー
５４  光センサ
５６  受光部
５８  開口部
６０  ボルト
６２，６８  ボルト孔
６４  ワッシャ
７２  板材
７４  貫通孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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