(57)【要約】【課題】  ゴミかみによる変形を抑え、安定したレチクル保持を実現すること。【解決手段】  レチクルの姿勢を保持する第１の保持部と、該第１の保持部の周囲に配置された第２の保持部と、該第２の保持部の周囲にレチクルのパターン面と直交する方向にバネ性を有するシール用弾性部材を設けたレチクルチャックにおいて、該シール用弾性部材のレチクル裏面に接する上面を固着性の小さい材料からなるものとする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルの姿勢を保持する第１の保持部と、該第１の保持部の周囲に配置された第２の保持部と、該第２の保持部の周囲にレチクルのパターン面と直交する方向にバネ性を有するシール用弾性部材を設けたレチクルチャックにおいて、該シール用弾性部材のレチクル裏面に接する上面は固着性の小さい材料からなることを特徴とするレチクルチャック。
【請求項２】
該シール用弾性部材はゴムなどの低弾性材料からなり、レチクル裏面に接する上面には固着性の小さい薄板が一体的に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のレチクルチャック。
【請求項３】
該シール用弾性部材はゴムなどの低弾性材料からなり、レチクル裏面に接する上面はコーティングまたはメッキにより固着性を小さくしていることを特徴とする請求項１に記載のレチクルチャック。
【請求項４】
該シール用弾性部材は金属からなり、バネ性を有する形状であることを特徴とする請求項１に記載のレチクルチャック。
【請求項５】
該シール用弾性部材の内側はＶａｃ吸引による負圧領域であることを特徴とする請求項１ないし４に記載のレチクルチャック。
【請求項６】
該シール用弾性部材の上面は、該第１の保持部や該第２の保持部の上面より高いことを特徴とする請求項１ないし５に記載のレチクルチャック。
【請求項７】
該第１の保持部は複数のピンからなることを特徴とする請求項１ないし６に記載のレチクルチャック。
【請求項８】
該第２の保持部は複数のピンからなることを特徴とする請求項１ないし６に記載のレチクルチャック。
【請求項９】
該第２の保持部はリング状外枠であることを特徴とする請求項１ないし６に記載のレチクルチャック。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体露光装置に用いられる、レチクルチャックに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造のフォトリソ工程には、レチクルの微細パターンを感光剤の塗布されたウェハー上に転写する露光装置が使用されている。半導体露光装置は色々な方式のものがあるが、最近はスリットあるいは円弧状の照明光をレチクルに照射し、スリットの長手方向は投影光学系の縮小倍率（例えば４：１）で露光を行い、短手方向はレチクルとウェハーを投影光学系の縮小倍率比で同期を取りながら露光する、いわゆるステップ・アンド・スキャン方式を採用した走査型露光装置が主流である。ステップ・アンド・スキャン方式では、レチクルおよびウェハーは各ショットごとに停止と移動による加減速を繰り返す。この時生じる加速度と基板の質量に応じた力が基板（レチクルやウェハー）にかかるため、この力に耐え得る程度の保持力で基板をステージに保持する必要がある。通常は真空吸着力で基板をステージに吸着保持している。
【０００３】
特にレチクルステージはウェハーステージに比べて大きな速度（例えば４倍の速度）で走査する必要があり、これに伴って加速度もレチクルステージの方が大きくなるため、レチクルの保持をしっかり行なわなければならない。
【０００４】
図６はレチクルＲの保持機構を示す概略斜視図であり、レチクル天板１にセラミックからなるレチクルチャックベース２が搭載され、その４ヶ所にセラミックからなる真空吸着部３が設けられている。図７、８および９はそれぞれ真空吸着部３の拡大斜視図、拡大平面図、拡大断面図を示す。これらの図に示すように真空吸着部３は、外枠３１、複数の内部ピン３２で構成され、吸引穴３４からエアを吸引することによって、領域３３を真空にしてレチクルＲを保持している。ここで、外枠３１と内部ピン３２の上面は同一平面に仕上げており、レチクルＲの下面が密着したときのレチクルＲの平坦度を補償している。また、外枠３１は幅を充分にとることで、シール機能を持たせて領域３３に外気が浸入して真空を破ることがないようにし、かつ吸着保持したときの摩擦力を確保してレチクルステージの加速時にレチクルＲがずれるのを防いでいる。
【０００５】
なお内部ピン３２がないと、レチクルＲは図１０のように真空吸着部３の内側でＲ’のように変形し、平坦度が悪化してしまうため、それを避けるために設けている。
【０００６】
又、従来例としては、例えば特許文献１と特許文献２をあげることが出来る。
【特許文献１】特開昭６２−１００７５３号公報
【特許文献２】特開２００１−３３２４８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、このような構成にすると、図１１のようにゴミ４が外枠３１とレチクルＲとの間に入り込んでしまうと、外枠３１はセラミックのような高剛性材料からなっているため、レチクルＲは変形が生じ（Ｒ’）、ディストーションの原因になってしまう。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために本発明のレチクルチャックは、レチクルの姿勢を保持する第１の保持部と、第１の保持部の周囲に配置された第２の保持部と、第２の保持部の周囲にレチクルのパターン面と直交する方向、すなわち厚さ方向にバネ性を有するシール用弾性部材を設けることで、レチクルをゴミかみによる変形を抑えて安定した保持を実現し、ディストーションを低減することができる。
【発明の効果】
【０００９】
以上説明したように本発明によれば、レチクルチャックにおいて保持部の周囲に、レチクルのパターン面と直交する方向の剛性が低く、レチクルとの吸着面は金属、テフロン（登録商標）コーティングおよびニッケルメッキなど固着しにくい材料であるシール用部材を設けることで、ゴミかみによるレチクルの平坦度の悪化を抑制し、ディストーションを低減した露光装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図１ないし図５を参照して本発明による改良されたレチクルチャックの実施の形態について説明する。
【実施例１】
【００１１】
図１から図３は本発明にかかわるレチクルチャックの第１実施例を示す概略図で、図１は真空吸着部１３の拡大斜視図、図２は拡大断面図、図３はレチクルＲ吸着時の拡大断面図である。
【００１２】
真空吸着部１０３は、外枠１３１、複数の内部ピン１３２およびシール用部材１３５で構成され、吸引穴１３４からエアを吸引することによって、領域１３３を真空にしてレチクルＲを吸着保持している。外枠１３１および内部ピン１３２はセラミックのような高剛性材料からなり、シール用部材１３５はゴムからなる低弾性部材１３５ｂの上面に金属の薄板１３５ａが接着あるいは接合されている。このような構成にすると、レチクルＲは外枠１３１と内部ピン１３２だけでなく、シール用部材１３５にも密着するため、摩擦による保持力が大きくなる。その分外枠１３１の幅を減じることができ、外枠１３１とレチクルＲの間にゴミが入り込む確率が低くなる。また、シール用部材１３５とレチクルＲの間にゴミが入り込んでも、シール用部材１３５のレチクルＲのパターン面と直交する方向、すなわち厚さ方向の剛性が小さいため、ゴミかみによる反力はシール用部材１３５でかわすことができレチクルＲに変形を及ぼすことはない。さらに、シール用部材１３５の上面には金属の薄板１３５ａがあるため、レチクルＲが固着して交換時にレチクルＲをシール用部材１３５からはがすのが困難になることがないし、ゴムの成分（例えば可塑剤）がレチクルＲに付着することもない。
【００１３】
なお、シール用部材１３５の上面は外枠１３１および内部ピン１３２の上面より若干高くなっており、図２および図３に示すようにレチクルＲを吸着保持するとき最初にシール用部材１３５とレチクルＲが接触し、さらに吸引によってシール用部材１３５が厚さ方向に圧縮され外枠１３１および内部ピン１３２の上面にレチクルＲが接触し、安定した保持をすることができる。
【００１４】
本実施例では、シール用部材１３５の上面には金属の薄板１３５ａを接着あるいは接合しているが、テフロン（登録商標）コーティングや化学ニッケルメッキなどの表面処理によって薄膜を設けレチクルＲの固着およびゴムの成分の付着を防止してもよい。
【実施例２】
【００１５】
図４は本発明にかかわるレチクルチャックの第２実施例を示す拡大斜視図である。真空吸着部２０３は、複数の内部ピン２３２、内部ピン２３２を囲むように配置された複数の外枠ピン２３１およびシール用部材２３５で構成され、吸引穴からエアを吸引することによって、領域２３３を真空にしてレチクルＲを保持している。複数の外枠ピン２３１および内部ピン２３２はセラミックのような高剛性材料からなり、シール用部材２３５はゴムからなる低弾性部材２３５ｂの上面に金属の薄板２３５ａが接着あるいは接合されている。複数の外枠ピン２３１は、第１実施例における外枠１３１のようにレチクルＲとの接触面が連続した面ではなく離散的な面になっており、レチクルＲを吸引保持するための摩擦力が確保できれば、外枠ピン２３１とレチクルＲの間にゴミが入り込む確率がさらに低くなる。そして、第１実施例と同様に、シール用部材２３５とレチクルＲの間にゴミが入り込んでも、シール用部材２３５の厚さ方向の剛性が小さいため、レチクルＲに変形を及ぼすことはなく、シール用部材２３５の上面には金属の薄板２３５ａがあるため、レチクルＲがシール用部材２３５に固着して交換時にレチクルＲをはがすのが困難になることがないし、ゴムの成分（例えば可塑剤）がレチクルＲに付着することもない。
【００１６】
なお、シール用部材２３５の上面は外枠ピン２３１および内部ピン２３２の上面より若干高くなっており、レチクルＲを吸着保持するとき最初にシール用部材２３５とレチクルＲが接触し、さらに吸引によってシール用部材２３５が厚さ方向に圧縮され外枠ピン２３１および内部ピン２３２の上面にレチクルＲが接触し、安定した保持をすることができる。
【００１７】
本実施例では、シール用部材２３５の上面には金属の薄板２３５ａを接合しているが、テフロン（登録商標）コーティングや化学ニッケルメッキなどの表面処理によって薄膜を設けレチクルＲの固着およびゴムの成分の付着を防止してもよい。
【実施例３】
【００１８】
図５は本発明にかかわるレチクルチャックの第３実施例を示す拡大断面図である。真空吸着部３０３は、外枠３３１、内部ピン３３２およびシール用部材３３５で構成され、吸引穴３３４からエアを吸引することによって、領域３３３を真空にしてレチクルＲを保持している。外枠３３１および内部ピン３３２は第１実施例と同様セラミックのような高剛性材料からなり、シール用部材３３５は金属からなりベローズ状の形状にすることによってレチクルＲのパターン面と直交する方向にバネ性を持たせている。このようにすることによって、シール用部材３３５とレチクルＲの間にゴミが入り込んでも、シール用部材３３５の厚さ方向の剛性が小さいため、レチクルＲに変形を及ぼすことはない。また、シール用部材３３５は金属からなるため、レチクルＲがシール用部材３３５に固着して交換時にレチクルＲをはがすのが困難になることがないし、ゴムの成分（例えば可塑剤）がレチクルＲに付着することもない。
【００１９】
なお、シール用部材３３５の上面は外枠３３１および内部ピン３３２の上面より若干高くなっており、レチクルＲを吸着保持するとき最初にシール用部材３３５とレチクルＲが接触し、さらに吸引によってシール用部材３３５が厚さ方向に変形し外枠３３１および内部ピン３３２の上面にレチクルＲが接触し、安定した保持をすることができる。
【００２０】
なお、保持部の周囲にシール用部材を設けたレチクルチャックの先行例として、例えば特開昭６２−１００７５３号に開示されたものがあるが、この場合はレチクルと保持部の接触を面から多点にしてゴミかみを防ぐものであり、シール用部材の構成に関する記述はなく本発明とは異なるものである。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明における第１実施例である半導体露光装置に適用されるレチクルチャックの拡大斜視図。
【図２】本発明における第１実施例である半導体露光装置に適用されるレチクルチャックの拡大断面図。
【図３】本発明における第１実施例である半導体露光装置に適用されるレチクルチャックのレチクル吸引時の拡大断面図。
【図４】本発明における第２実施例である半導体露光装置に適用されるレチクルチャックの拡大斜視図。
【図５】本発明における第３実施例である半導体露光装置に適用されるレチクルチャックの拡大断面図。
【図６】従来例におけるレチクルの保持機構を示す概略斜視図。
【図７】従来例におけるレチクルチャックの拡大斜視図。
【図８】従来例におけるレチクルチャックの拡大平面図。
【図９】従来例におけるレチクルチャックの拡大断面図。
【図１０】従来例におけるレチクルチャックで、内部ピンがない場合のレチクル吸引時の拡大断面図。
【図１１】従来例におけるレチクルチャックで、ゴミをかんだ場合のレチクル吸引時の拡大断面図。
【符号の説明】
【００２２】
１  レチクル天板
２  レチクルチャックベース
３，１０３，２０３，３０３  真空吸着部
３１，１３１，３３１  外枠
２３１  外枠ピン
３２，１３２，２３２，３３２  内部ピン
３３，１３３，２３３，３３３  真空領域
３４，１３４，３３４  吸引穴
１３５，２３５，３３５  シール用部材
１３５ａ，２３５ａ  金属薄板
１３５ｂ，２３５ｂ  ゴム
Ｒ，Ｒ’  レチクル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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