(57)【要約】【課題】  有機ＥＬ発光素子の自動設計に必要な光学シミュレータを提供する。【解決手段】  正孔輸送層ＨＴＬ、正孔注入層ＨＩＬ、陽極Ａをそれぞれ多層膜とみなし、全体の反射率を多重反射等を考慮して演算式により求める。同様に、電子輸送層ＥＴＬ、陰極Ｃの全体の反射率と透過率を多重反射を考慮して演算式により求める。発光層の輝点のスペクトルと上記透過率とを乗算して、輝点の位置を発光層内で積分することにより、有機ＥＬ発光素子からの出射スペクトルを得る。これらの演算をするための式を構成し、シミュレータにより演算することにより、精度の良い有機ＥＬ発光素子の光学シミュレーションを行う。【選択図】図１
2006339050.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機多層膜から成る発光素子を、発光層を挟む一方の多層膜と他方の多層膜をそれぞれ特性マトリックスにより表現することにより、２つの等価単層膜から成る、内部に光源を持ったファブリペローエタロンとみなして、全体の透過率、及び、反射率の波長依存性（光学特性スペクトル）を演算し、該透過率に発光層の発光スペクトルを乗算して、発光層内について積分することにより得られた演算式により、出射スペクトルを計算する出射スペクトル演算手段と、
該出射スペクトルを最適化することにより、有機ＥＬ発光素子の光学シミュレーション結果を出力する最適化出力手段と、
ことを特徴とする有機ＥＬ発光素子光学シミュレータ。
【請求項２】
前記ファブリペローエタロンの光学特性スペクトルは、エアリ関数で表されることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光素子光学シミュレータ。
【請求項３】
前記全体の透過率、及び、反射率は、各多層膜の屈折率を用いて演算される各多層膜の反射率及び透過率を用いて、多重反射を考慮して計算されることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光素子光学シミュレータ。
【請求項４】
有機多層膜から成る発光素子を、発光層を挟む一方の多層膜と他方の多層膜をそれぞれ特性マトリックスにより表現することにより、２つの等価単層膜から成る、内部に光源を持ったファブリペローエタロンと見なして、全体の透過率、及び、反射率の波長依存性（光学特性スペクトル）を演算し、該透過率に発光層の発光スペクトルを乗算して、発光層内について積分することにより得られた演算式により、出射スペクトルを計算し、
該出射スペクトルを最適化することにより、有機ＥＬ発光素子の光学シミュレーション結果を出力する、
ことを特徴とする有機ＥＬ発光素子光学シミュレーション方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッサンス）素子の光学設計の為のシミュレータに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ（エレクトロルミネッサンス）素子が注目されている。有機ＥＬ（エレクトロルミネッサンス）素子は、ホール注入電極上にトリフェニルジアミン（ＴＰＤ）等のホール輸送材料を蒸着して薄膜とし、更にアルミキノリノール錯体（Alq3）等の蛍光物質を発光層として積層し、更にＭｇ等の仕事関数の小さな金属電極（電子注入電極）を形成した構成を基本構成とする素子である。有機ＥＬ素子は、１０Ｖ前後の電圧で数百〜数万（cd/m２）という極めて高い輝度が得られる。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、上記の様に、基板上に電子注入電極、有機層、ホール注入電極等を有する有機ＥＬ構造体が成膜されている基本構成を有し、通常、発光した光は、ホール注入電極を介して基板側から取り出される。
【０００４】
ところで、一般に、有機ＥＬ素子では、発光層の発光スペクトルは外部に出る間に素子内部で光学的な干渉を起こし、変調されることが知られている。この為、同一の発光材料を持つ有機ＥＬ素子であっても、光学系が異なれば外部に発光されるスペクトルやその強度が変化してしまう。
【０００５】
この問題に対して、例えば特許文献１等に記載の技術が知られている。特許文献１では、正確なシミュレーションモデルを確立する為に以下の手法を提案している。
（１）金属面以外での反射光を定量的に考慮する。
（２）対象とするデバイスは、屈折率の差が二倍以内の積層なので、金属面以外での反射は１回だけを考え、２回以上の反射は無視する。
（３）発光面は局在しているとし、それから非局在モデルへ拡張する。
【０００６】
また、有機ＥＬ素子に関して、他にも、例えば非特許文献１，２，３に記載の技術が知られている。また、光学多層膜の最適設計シミュレーション技術としては、非特許文献４が知られている。
【特許文献１】特開平１１−３１７２８９号公報
【非特許文献１】S.K.So, W.K.Choi, L.M.Leung, and K.Neyts, “Interference effects in bilayer organic light-emitting diodes”, Applied Physics Letters, vol.74, No.14,pp1939-1941,1999
【非特許文献２】J.Yamada, T.Hirano, Y.Iwase, and T.Sasaoka, “Micro cavity structures for full color AM-OLED displays”, AM-LCD’02,pp.77-80,2000
【非特許文献３】M.Matsumura, K.Furukawa, and Y.Jinde, “Effect of AI/LiF cathodes on emission efficiency of organic EL device”, Thin Solid Films 331,pp96-100,1998
【非特許文献４】中村正行、Excel VBAによる光学多層膜のシミュレーション技術と最適設計、技術情報協会、２００２．１０．２１（発行）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１記載の技術では、有機ＥＬ素子が光学多層膜から成っているにも係わらず、これを近似的に単層でシミュレーションしており、また光学層間の反射が無視されており、各層間の複雑な多波干渉は考慮されていない。これは、非特許文献１，２，３においても同様である。これは、換言すれば、従来では、理論的に正確なシミュレーションを行えないということである。また、非特許文献４では、有機ＥＬ発光素子の自動設計に適用した例は報告されていない。
【０００８】
本発明の課題は、有機ＥＬ発光素子の自動設計に必要な光学シミュレータを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の有機ＥＬ発光素子光学シミュレータは、有機多層膜から成る発光素子を、発光層を挟む一方の多層膜と他方の多層膜をそれぞれ特性マトリックスにより表現することにより、２つの等価単層膜から成る、内部に光源を持ったファブリペローエタロンと見なして、全体の透過率、及び、反射率の波長依存性（光学特性スペクトル）を演算し、該透過率に発光層の発光スペクトルを乗算して、発光層内について積分することにより得られた演算式により、出射スペクトルを計算する出射スペクトル演算手段と、該出射スペクトルを最適化することにより、有機ＥＬ発光素子の光学シミュレーション結果を出力する最適化手段とを有することを特徴とする。
【００１０】
本発明では、有機多層膜内の多重反射を考慮して光学特性を演算するので、より正確なシミュレーションが可能となる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、有機ＥＬ発光素子の自動設計をより正確に行うことが出来る光学シミュレータを提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
本発明では、光学多層膜フィルタを設計するための特性マトリックス法により多層膜を等価的な１つの光学膜（等価光学膜）で表現する。有機ＥＬ発光素子は、通常、発光層を中心にその両端に光学多層膜が設けられた構成をとるので、特性マトリックス法により、これらをそれぞれ別々の等価光学膜で表す。このようにすることにより、有機ＥＬ発光素子の両端に設けられた複数の光学多層膜は、それぞれファブリペローエタロンと見なせる。エタロンの光学特性スペクトルは、エアリ関数によって表現されるので、このスペクトルに発光層の発光スペクトルを乗じれば、有機ＥＬ発光素子の発光スペクトルを計算できることになる。この計算は、パソコン等のコンピュータで実行できるので、計算用のアプリケーションソフトウェアをコンピュータの記憶部（ハードディスク、メモリ、可搬型記録媒体（ＣＤ−ＲＯＭ等））に記憶し、ＣＰＵ等の演算処理装置が当該アプリケーションソフトウェアを読出し／実行することで、有機ＥＬ発光素子の出射スペクトル用のシミュレータを実現できる。
【００１３】
まず、本シミュレータによるシミュレーションの原理について説明する。
図１は、本シミュレータの解析対象である有機ＥＬ発光素子の構造図である。
ＥＬとはエレクトロルミネッセンスのことである。ルミネッセンスとは、物質が、光／電子ビーム／電界等のエネルギーを受け取り、それを光として再放出する現象を指し、電圧を掛けたことによる電界の発生によって光が放出されるものがエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）である。有機ＥＬの基本構造は、発光層Ｂを両側から電極（陽極Ａ、陰極Ｃ）で挟んだサンドイッチ構造となっている。陰極Ｃは透明電極であり、発光層Ｂで発光された光は当該透明電極（陰極Ｃ）を通過して外部に放出される。これが基本構造であるが、実際には発光効率を上げるために、図１に示すように更に正孔注入層ＨＩＬ、正孔輸送層ＨＴＬ、電子輸送層ＥＴＬが加えられる。
【００１４】
本例では、正孔注入層ＨＩＬ、正孔輸送層ＨＴＬ、及び陽極Ａを多層膜光学ミラーと見なす。同様に、電子輸送層ＥＴＬ及び陰極Ｃを多層光学ミラーと見なす。
そして、正孔注入層ＨＩＬ、正孔輸送層ＨＴＬ、及び陽極Ａから成る多層の光学多層膜の全体の振幅反射率ｒｍを
【００１５】
【数１】
2006339050.tif 000003
【００１６】
とする（ｒｍａ；振幅反射率ｒｍの振幅、Φｍａ；光学多層膜の反射による位相遅れ）。
同様に、電子輸送層ＥＴＬ及び陰極Ｃから成る光学多層膜の全体の振幅反射率ｒを
【００１７】
【数２】
2006339050.tif 000004
【００１８】
とする（ｒａ；振幅反射率ｒの振幅、Φｒ；光学多層膜の反射による位相遅れ）。
更に、電子輸送層ＥＴＬ及び陰極Ｃから成る光学多層膜の全体の振幅透過率ｔを
【００１９】
【数３】
2006339050.tif 000005
【００２０】
とする（ｔａ；振幅透過率ｔの振幅、Φｔ；光学多層膜の透過による位相遅れ）。
一方、図２には、媒質１から媒質ｍより成る一般の光学多層膜を示す。
入射側の媒質を媒質０、出射側の媒質を“媒質ｍ＋１”とし、”媒質ｊ”から”媒質ｊ＋１”への光の入射角をθｊとする。また、ｊ番目の媒質ｊの厚みをｄｊ、屈折率はｎｊ、媒質０への光の入射角をθ０、媒質０の複素屈折率をｎ０とする。また、“媒質ｍ＋１”への光の出射角をθｍ＋１、“媒質ｍ＋１”の複素屈折率をｎｍ＋１とする。
【００２１】
以上の定義で、媒質１〜媒質ｍから成る多層膜の振幅反射率ｒ０、及び振幅透過率ｔ０は、下記の（６）〜（１１）式を用いて、次式（４）、（５）で表される。すなわち、正孔注入層ＨＩＬ、正孔輸送層ＨＴＬ、及び陽極Ａを光学多層膜と見なし、同様に、電子輸送層ＥＴＬ及び陰極Ｃを光学多層膜と見なすことにより、（４）式、（５）式を用いて、（１）式〜（３）式の振幅反射率ｒｍ、振幅反射率ｒ、振幅透過率ｔ、位相遅れΦｍａ、Φｔを求めることができる。尚、振幅反射率ｒｍ、振幅反射率ｒ、振幅透過率ｔは複素数として計算される。また、下記の（１０）式、（１１）式はいわゆる特性マトリックスである。
【００２２】
【数４】
2006339050.tif 000006
【００２３】
ただし、
【００２４】
【数５】
2006339050.tif 000007
【００２５】
また、λを波長として、
【００２６】
【数６】
2006339050.tif 000008
【００２７】
すなわち、ＨＴＬ，ＨＩＬ，陽極を光学多層膜とみなし、またＥＴＬ、陰極もやはり光学多層膜とみなすことにより（４）、（５）式を使って、反射率ｒｍ、ｒ、透過率ｔ及び位相遅れφｍａ、φｒを求めることができることが分かる。ここで、反射率ｒｍ、ｒ、透過率ｔは複素数として計算される。（１０）式、（１１）式はいわゆる特性マトリックスである。
【００２８】
次に、発光層中の１つの輝点を考える。このとき、陽極に垂直に入射する光の該輝点での電界をＥ＝ｅ・ｅｘｐ（−ｊΦｅ）、陰極に垂直に入射する光をＥ＝ｅ・ｅｘｐ（ｊΦｅ）とする。ｅはその振幅、Φｅは位相である。このとき、総合的な出射光の電界Ｉは次式（１２）のように表される。
【００２９】
【数７】
2006339050.tif 000009
【００３０】
但し、
【００３１】
【数８】
2006339050.tif 000010
【００３２】
ここで、図１に示すように、ｄは発光層の厚み、ｘは輝点の位置（電子輸送層ＥＴＬと発光層との境界面からの距離）を示す。ｊは虚数単位である。従って、総合複素出射効率η（λ）は、ｎを発光層の複素屈折率として、次式（１５）で表される。
【００３３】
【数９】
2006339050.tif 000011
【００３４】
一方、光は、その偏光状態によって、ｓ偏光とｐ偏光の二種類に分けられる。ｓ偏光についての総合複素出射効率をηｓ（λ）、ｐ偏光についての総合複素出射効率をηｐ（λ）とすると、一般に全総合複素出射効率η（λ）は、次式（１６）で表される。
【００３５】
【数１０】
2006339050.tif 000012
【００３６】
で表される。更に、一般に、複素屈折率Ｎの媒体の内部を進行する光のエネルギーＩは、その媒体の透磁率、誘電率をμ、εとし、媒体中を進行する光の振幅をＥとすると、Ｒｅを複素数の実数部を示す記号として、次式（１７）で表される。
【００３７】
【数１１】
2006339050.tif 000013
【００３８】
で表される。
反射を考える場合、光は同一媒体を進行するので、振幅反射率の絶対値の２乗の比が、入射光と反射光のエネルギーの比となる。一方、透過の場合は、透過前の媒体及び透過後の媒体の複素屈折率の実数部の比と振幅透過率の絶対値の２乗との掛け算が、透過前後のエネルギーの比となる。
【００３９】
よって、上記振幅透過率ｔ、振幅反射率ｒｍ、振幅反射率ｒのｓ偏光に対応する振幅透過率をｔｓ、振幅反射率ｒｍｓ、振幅反射率ｒｓとし、またそれぞれの位相遅れをΦｔｓ、Φｒｍｓ、Φｒｓとし、ｐ偏光に対応する振幅透過率をｔｐ、振幅反射率ｒｍｐ、振幅反射率ｒｐとし、また、それぞれの位相遅れをΦｔｐ、Φｒｍｐ、Φｒｐとし、更に、発光点のｓ偏光及びｐ偏光に対する発光スペクトルをＳｓ（λ）及びＳｐ（λ）とすれば、上記輝点位置ｘにおける輝点の出射スペクトルＳ（λ,ｘ）は、次式（１８）で表される。
【００４０】
【数１２】
2006339050.tif 000014
【００４１】
従って、厚さ方向（ｘ方向）の発光スペクトル強度分布をＤ（ｘ）として、最終的な出射スペクトルＳ（λ）は次式（１９）で表される。
【００４２】
【数１３】
2006339050.tif 000015
【００４３】
以上、シミュレーションに用いる演算式について説明した。パソコン等のコンピュータでシミュレーションを行う場合には、上記各演算式を予めコンピュータの記憶装置（ハードディスク、メモリ等）に記憶させておき、以下の図３で説明するようにユーザが所定のパラメータを入力することで実行される。
【００４４】
ここで、Ｄ（ｘ）は、発光層内の発光分布を位置の関数で示すものである。ガウス分布関数で表される場合は、（２０）式で示される。ここでΔｘは発光強度がピークの半分になる幅寸法、Ｃｅは発光中心位置を示す。
【００４５】
【数１４】
2006339050.tif 000016
【００４６】
図３は、本実施形態に従った有機ＥＬ発光素子光学シミュレータの処理フローチャート図である。
図３において、まず、ユーザが、所定のパラメータを入力する。すなわち、上記有機ＥＬを構成する各層（正孔注入層ＨＩＬ、正孔輸送層ＨＴＬ、陽極Ａ、電子輸送層ＥＴＬ及び陰極Ｃ）の複素屈折率、当該各層の厚み、発光点のｓ偏光及びｐ偏光に対する発光スペクトルＳｓ（λ）、Ｓｐ（λ）、発光層内の厚さ方向（ｘ方向）の発光スペクトル強度分布Ｄ（ｘ）、有機ＥＬ発光素子からの光の出射角度、測定開始波長λｓ、測定終了波長λＬ、測定波長間隔Δλ等のパラメータを入力する（ステップＳ１）。但し、（λＬ−λｓ）／Δλが整数となるように設定する。
【００４７】
次に、測定波長λｍに初期値λｓを代入する（ステップＳ２）。
そして、上記各式におけるλをλｍとして、入力されたパラメータと、記憶されている上記各式を用いて演算を実行し、最終的に（１８）式、（１９）式で表される、測定波長λ（＝λｍ）における有機ＥＬ発光素子からの出射スペクトルＳ（λ）（＝Ｓ（λｍ））を算出し（ステップＳ３）、この算出結果（Ｓ（λｍ））を測定波長λｍと対応付けて記憶する（ステップＳ４）。そして、測定波長λｍを更新し（λｍ＝λｍ＋Δλ）（ステップＳ５）、更新した測定波長λｍについて上記出射スペクトルＳ（λ）の算出と算出結果の記憶処理（ステップＳ３，Ｓ４）を、更新した測定波長λｍが測定終了波長λＬより大きくなるまで、繰返し実行する。そして、更新した測定波長λｍが測定終了波長λＬより大きくなったら（ステップＳ６，ＹＥＳ）、上記記憶してある各測定波長λｍ毎の算出結果を用いて、表示等を行い、当該シミュレーション処理を終了する。すなわち、例えば、測定開始波長λｓから測定終了波長λＬまでをグラフの横軸として、この横軸を波長間隔Δλに対応する間隔で分割して、それぞれの波長における上記出射スペクトルＳ（λｍ）を表示する（ステップＳ７）。尚、表示する例に限らず、何等かの形で出力する（例えばプリントアウト等）ようにしてもよい。
【００４８】
図４（ａ）、（ｂ）に、上記図３のシミュレーション処理によるシミュレーション結果と、実際の実測値とを比較して示す。このシミュレーションではθ０＝０とし、またＤ（ｘ）は、（２０）式を用いて、半値幅２(nm)、中心位置２５(nm)のガウス分布と仮定している。
【００４９】
また、図４（ａ）は陰極Ｃ、電子輸送層ＥＴＬの厚さをそれぞれ１４０(nm)、２０(nm)、陽極Ａ、正孔輸送層ＨＴＬ、正孔注入層ＨＩＬの厚さをそれぞれ４２(nm)、１５(nm)、１５(nm)とした例である。図４（ｂ）は陰極Ｃ、電子輸送層ＥＴＬの厚さをそれぞれ７５(nm)、２０(nm)、陽極Ａ、正孔輸送層ＨＴＬ、正孔注入層ＨＩＬの厚さをそれぞれ４２(nm)、２０(nm)、４０(nm)とした例である。
【００５０】
図示の通り、実測値とシミュレーション値とはよい一致を示す。
一方、上記シミュレーションのプログラムとは別に以下に述べる最適化のプログラムをシミュレーションのプログラムと組み合わせることにより有機ＥＬ発光素子の各層を所望の出射スペクトルにするための自動設計ツールを構成することが出来る。最適化の手法は種々知られている。例えば、勾配法の場合は、最急降下法、ニュートン法、準ニュートン法、共役方向法、共役勾配法、ＤＰＦ法等が知られている［例えば、中村正行著、Ｅｘｃｅｌ  ＶＢＡによる光学多層膜のシミュレーション技術と最適設計技術情報協会、２００２．１０．２１（発行）］。ここでは、その一例として共役勾配法の例を示す。
【００５１】
複数回の繰り返し計算により最適解を求める最適共役勾配法においてｋ回目の繰り返し計算によって求められた各層の膜厚それぞれｘｋ１、・・・、ｘｋｎとし、これをベクトル表現し
【００５２】
【数１５】
2006339050.tif 000017
【００５３】
で表す。最適解を探すための探索方向をベクトル表示でｄｋとする。最適化のための評価関数Ｗを、目標とする出射スペクトルと現在の膜厚の組み合わせで計算された出射スペクトルとの差を波長で積分した面積とする。αｋを共役勾配法のいわゆる修正ステップ幅とする。また、Ｔを転置行列を示す記号として
【００５４】
【数１６】
2006339050.tif 000018
【００５５】
とする。ここで、例えばｘｋｉはｋ回目の繰り返し計算における第ｉ番目の層の膜厚を指す。このとき以下のステップにより最適設計を行う。
ステップ１：初期解Ｘ０を与え、ｋ＝０とおく。
ステップ２：探索方向ｄｋを計算する。
【００５６】
【数１７】
2006339050.tif 000019
【００５７】
ここで
【００５８】
【数１８】
2006339050.tif 000020
【００５９】
は∇Ｗ（Ｘｋ）各要素の２乗和を表す。
ステップ３：ｄｋ方向に1次元探索を行い、探索方向における修正ステップ幅αｋを決める。
ステップ４：最適解の修正を行う。修正量はαｋｄｋである。また、
【００６０】
【数１９】
2006339050.tif 000021
【００６１】
として、Ｘｋを置き換える。
ステップ５：収束判定を行う。
収束判定の場合は、Ｘｋを最適解として採用し終了する。未収束の場合は、ステップ６へ移行する。収束判定はξを任意の微小な正の整数として、（２７）式で行う。
【００６２】
【数２０】
2006339050.tif 000022
【００６３】
ステップ６：ｋ←ｋ＋１としてｋをインクリメントした後、ステップ２に戻る。
以上のように、最適化のプログラムと前記シミュレーションのプログラムを組み合わせることにより、有機ＥＬ発光素子の各層の膜厚を設計するための自動設計ツールを実現できる。なお評価関数Ｗは以下のようにすることもできる。すなわち、
【００６４】
【数２１】
2006339050.tif 000023
【００６５】
実際の計算において波長λは離散値を取る。例えば、４００ｎｍから５ｎｍおきに８００ｎｍまでの値を取る。これをλｉ（ｉ＝１〜ｎ）とする。Ｗｉ＝Ｗ（λｉ）とする。シミュレーションされた出射スペクトルが波長ごとに設定された出射スペクトルの許容範囲内であれば、Ｗｉ＝０とする。
【００６６】
次に、θ０＝０の場合について、本自動設計ツールの最適設計例を示す。図５に（１）目標出射スペクトル、（２）初期の各層の膜厚を陰極２００ｎｍ、ＥＴＬ４０ｎｍ、発光層４２ｎｍ、ＨＴＬ３０ｎｍ、ＨＩＬ３０ｎｍとした際の初期スペクトル、（３）最適設計を行い陰極２００ｎｍ、ＥＴＬ２０ｎｍ、発光層４２ｎｍ、ＨＴＬ２０ｎｍ、ＨＩＬ２０ｎｍとしたときのすれぞれのスペクトルを合わせて示す。これから分かるように本自動設計ツールにより目標に近いスペクトルを得られることが分かる。
【００６７】
以上説明したように、本例のシミュレーション装置によれば、理論的に誤差の無いシミュレーションが行える。
以上のように本発明の実施形態によれば、理論的に誤差のないシミュレーションプログラムと最適化プログラムを組み合わせることにより、有機ＥＬ発光素子の各層の複素屈折率のデータを用い、各層の厚さを与えられた層厚の範囲内で振ることにより、所望の出射スペクトルの範囲内の出射スペクトルになるように、あるいは、与えられた各層の層厚の範囲内で所望の出射スペクトルに最も近い出射スペクトルになるように各層の層厚を計算機により自動的に設計できる。入力パラメータさえインプットすれば自動的に計算機が所望の出射スペクトルになるような各層の膜厚を決定できるので、有機ＥＬ発光素子を開発する際の有効な手段となる。
【００６８】
上記の通り、本実施形態のシミュレーション装置は、例えばパソコン、エンジニアリング・ワークステーション等のコンピュータに、所定のアプリケーション・プログラムや上記各数式を記憶させ、上記所定のパラメータを入力することで、実現される。
【００６９】
図６に、本例のシミュレーション装置を実現するコンピュータのハードウェア構成の一例を示す。
図示のコンピュータ１０は、ＣＰＵ１１、メモリ１２、入力部１３、出力部１４、記憶部１５、記録媒体駆動部１６、及びネットワーク接続部１７を有し、これらがバス１８に接続された構成となっている。同図に示す構成は一例であり、これに限るものではない。
【００７０】
ＣＰＵ１１は、当該コンピュータ１０全体を制御する中央処理装置である。
メモリ１２は、プログラム実行、データ更新等の際に、記憶部１５（あるいは可搬型記録媒体１９）に記憶されているプログラムあるいはデータを一時的に格納するＲＡＭ等のメモリである。ＣＰＵ１１は、メモリ１２に読み出したプログラム／データを用いて、上述してあるシミュレーション処理（図３に示す処理等）を実行する。
【００７１】
入力部１３は、例えばキーボード、マウス等であり、オペレータ等はこれらを操作して、上記パラメータの入力等を行う。
出力部１４は、例えばディスプレイ、プリンタ等であり、例えば図４（ａ）、（ｂ）に示すようなシミュレーション結果の表示・出力を行う。
【００７２】
ネットワーク接続部１７は、例えば不図示のイントラネットやインターネット、ＬＡＮ、その他専用線等のネットワークに接続して、他の情報処理装置とのコマンド／データ送受信を行う為の構成である。
【００７３】
記憶部１５は、例えばハードディスク等であり、上述したシミュレーション処理を、コンピュータ１０に実行させるためのプログラム／データが格納されている。
あるいは、これらプログラム／データは、可搬型記録媒体１９に記憶されているものであってもよい。この場合、可搬型記録媒体１９に記憶されているプログラム／データは、記録媒体駆動部１６によって読み出される。可搬型記録媒体１９とは、例えば、ＦＤ（フレキシブル・ディスク）、ＣＤ−ＲＯＭ、その他、ＤＶＤ、光磁気ディスク等である。
【００７４】
あるいは、また、上記プログラム／データは、ネットワーク接続部１７により接続しているネットワークを介して、他の装置内に記憶されているものをダウンロードするものであってもよい。あるいは、更に、インターネットを介して、外部の他の装置内に記憶されているものをダウンロードするものであってもよい。
【００７５】
また、本発明は、上記本発明の各種処理をコンピュータ上で実現するプログラムを記録した可搬型記憶媒体として構成することもできる。あるいは、当該プログラム自体として構成することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本シミュレータの解析対象である有機ＥＬ発光素子の構造図である。
【図２】媒質１から媒質ｍより成る一般の光学多層膜を示す図である。
【図３】本例による有機ＥＬ発光素子光学シミュレータの処理フローチャート図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は、シミュレーション結果と実際の実測値とを比較して示す図である。
【図５】最適設計の効果を説明するためのシミュレーション結果を示す図である。
【図６】コンピュータ・ハードウェア構成図である。
【符号の説明】
【００７７】
１０  コンピュータ
１１  ＣＰＵ
１２  メモリ
１３  入力部
１４  出力部
１５  記憶部
１６  記録媒体駆動部
１７  ネットワーク接続部
１８  バス
１９  可搬型記録媒体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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