(57)【要約】【課題】絶縁膜の放電性能などをパネルを破壊することなく、評価するのに適した情報を簡単かつ適確に得ることのできる検査装置、検査方法ならびに検査に適したＰＤＰを提供し、それによって表示装置を製造する上での歩留まり向上などに寄与することを目的とする。【解決手段】画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を備え、第２のセル領域の前面板にセルごとに２電極を備え、２電極の間隔が、第１のセル領域の前面板２電極の間隔より広く、かつ背面板に蛍光体が塗布されていない領域が存在する構成のＰＤＰとする。【選択図】図５
2006339025.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，
前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，
前記第１及び第２のセル領域では，前面板にセル領域ごとに２つの電極を備え、
前記第２のセル領域における前面板の２つの電極の間隔が、前記第１のセル領域における前面板の２つの電極の間隔より広く、
前記第２のセル領域では，背面板に蛍光体が塗布されていない領域が存在するプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，
前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，
第２のセル領域における背面板のセル内空間に接する最前面に可視領域に蛍光を発しない物質、又は金属の層が形成されている領域が存在するプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，
前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，
前記第１及び第２のセル領域では，前面板にセル領域ごとに２つの電極を備え、
前記第２のセル領域における前面板の２つの電極の間隔が、前記第１のセル領域における前面板の２つの電極の間隔より広く、
前記第２のセル領域では，背面板には電極がなく蛍光体が塗布されていない構造である領域が存在することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，
前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，
第２のセル領域では，前面板にセル領域ごとに１の電極のみを備え、
第２のセル領域では，背面板にセル領域ごとに１の電極を備え、蛍光体が塗布されていない構造である領域が存在するプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，
前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，
第２のセル領域では，背面板に蛍光体が塗布されておらず、
第２のセル領域のセルピッチが第１のセル領域のセルピッチより広いプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
第２のセル領域用の専用の取り出し配線を有し、第１のセル領域の取り出し配線と形状が異なる請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
第２のセル領域が、基板長辺方向または短辺方向に全体に及ぶ形状である請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
画像表示領域内に、蛍光体が塗布されていない性能評価用領域が存在する請求項１〜７の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，
前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，
第２のセル領域では，前面板にブラックストライプ又はブラックマトリックスが形成を備え、
前記第２のセル領域では，背面板に蛍光体が塗布されていない領域が存在するプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
保護膜を紫外光により励起し、保護膜から生じた発光を受光する発光分光法により膜質評価する検査方法であって、放電により発生する紫外光を保護膜への励起光源として使用することを特徴とする保護膜の検査方法。
【請求項１１】
保護膜を紫外光により励起し、保護膜から生じた発光を受光する発光分光法により膜質評価する検査方法であって、パネル内の放電により発生する紫外光を保護膜への励起光源として使用することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの検査方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネルの検査方法であって、保護膜から生じた発光を前面板側から受光することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの検査方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネルの検査方法であって、保護膜から生じた発光を背面板側から受光することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの検査方法。
【請求項１４】
請求項１〜９のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルを用い、性能評価用領域に存在する電極に対し、電圧を印加する電源回路と、可動式プローブと、集光機構と、受光部を具備することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの検査装置。
【請求項１５】
電圧を印加する電源回路と、可動式プローブと、集光機構と、受光部を具備する絶縁膜の検査装置であって、絶縁膜を形成した基板の一部分を覆い、真空排気装置とガス供給装置を具備することを特徴とする絶縁膜の検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、交流型プラズマディスプレイパネルに関し、特に誘電体保護膜の検査用構造および検査方法、検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハイビジョンをはじめとする高品位で大画面のテレビに対する期待が高まっている中で、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ  以下、ＰＤＰと記載）をはじめとするディスプレイの分野において、これに適したディスプレイの開発が進められている。
【０００３】
ＡＣ型ＰＤＰ（図１４）は一般的に、平行に配置された前面板４８及び背面板４３を有し、前面板４８上に表示電極５３と誘電体層４７が配され、背面板４３上にデータ電極４４と誘電体層４５と隔壁５５と蛍光体層５４とが配設され、両基板間に放電ガスが封入されて構成されている。そして、前面板４８上の誘電体層４７の表面には保護膜４６が形成されている。この保護膜４６は、耐スパッタ性が良好で２次電子の放出が良好になされることなどが要求され、一般的にはＭｇＯ膜で形成される。
【０００４】
ＡＣ型ＰＤＰの放電性能や寿命は、保護膜の成膜状態や劣化の状態によって大きく左右される。特に、ＰＤＰ駆動時の書き込み期間において、表示電極とデータ電極間に書き込みパルスの印加を開始してから書き込み放電が発生するまでの時間（放電遅れ時間）は、パネル構造や放電ガスだけでなく、保護膜の帯電や電子放出に関する性質によってもかなり影響されると考えられる。また、ＰＤＰの消費電力低減には放電電圧Ｖｆを低下させることが有効であり、この放電電圧Ｖｆは保護膜の電子放出性能に強く影響される。従って、放電性能をはじめとする性能の優れた保護膜を安定して製造することが望まれる。
【０００５】
そのために、保護膜の放電性能などを容易にかつ適確に評価する技術が望まれる。その理由として、保護膜の性能を適確に評価できれば、その評価結果を保護膜形成工程の製造条件にフィードバックすることによって、適確な工程管理ができる点が挙げられる。
【０００６】
また、ＰＤＰを実際に製造する上で、保護膜に性能上のばらつきがある程度生じるのは避けられないが、保護膜を形成した後、早い段階において、その保護膜がＰＤＰに適した性能を有するか否かを適確に評価できれば、保護膜が良好なものだけを次の工程に用いることによって、歩留まりを向上できる点も挙げられる。
【０００７】
また、工程中の保護膜の評価とパネル形成後の保護膜の評価が同一手法で行えると、データの比較検討が容易で、不良を生じさせた工程の特定が可能となり、さらにプロセスの精度を向上させることが可能となる。
【０００８】
保護膜の性能を評価する方法としては、例えば特許文献１、２に記載されているように、その表面に電子ビームを照射しながら、当該表面からの可視発光を分光測定するカソードルミネッセンス（以下、ＣＬと記載）を用い、評価することが知られている。
【特許文献１】特開２００１−３３２１７５号公報
【特許文献２】特開２００２−３３０５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のように保護膜に対し電子線を励起し、そこで生じる可視発光を分光測定することによって当該保護膜の性能を評価する方法であるＣＬを用いると、高精度な評価が行える。
【００１０】
しかし、工程中の保護膜の評価において、ＣＬ測定では真空チャンバーが必要であり、大型基板を評価する手法として、検査装置のコストが高い、検査時間が長いという問題がある。また、パネル形成後の保護膜の特性を評価するためにはパネルを破壊する必要があり、評価したパネルを出荷できないので、抜き取り検査にしか使用できない。
【００１１】
このような背景のもとで、ＰＤＰ保護膜の放電性能などをパネルを破壊することなく、容易にかつ適確に評価する技術が望まれる。
【００１２】
本発明は上記課題に鑑み、ＭｇＯ保護膜などの絶縁膜について、その放電特性などを評価するのに適した情報を簡単かつ適確に得ることのできる検査装置、検査方法ならびに検査に適したＰＤＰを提供し、それによって表示装置を製造する上での歩留まり向上などに寄与することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するため、本発明ではパネル形成前の保護膜検査方法とパネル形成後の保護膜検査方法を考案し、放電による紫外光を励起光源として用いたフォトルミネッセンス法（放電紫外光励起フォトルミネッセンス  以下、放電ＰＬと記載）により、高精度な絶縁膜、保護膜の評価が可能であることを見出した。
【００１４】
放電ＰＬ測定は次のように行われる。前面板に配した２電極に電圧を印加することによって、通常使用されている混合ガス（ＮｅおよびＸｅ）中にプラズマ放電が発生する。プラズマ放電により真空紫外線が発生して保護膜へ励起光源として照射し、保護膜の可視発光が生じる。そして、この可視発光を集光・受光して分光し、スペクトルを記録する。
【００１５】
放電ＰＬ測定を用いることで、パネル形成後であってもＣＬに近い保護膜の高精度な評価が行うことができるのだが、従来のパネル構成で上記放電ＰＬ測定を実施すると、蛍光体の強い可視発光が発生し、保護膜の可視発光を観測することは困難である。
【００１６】
そこで本発明では、ＰＤＰに画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を備えることにより、画像表示用セルを用いずに性能評価を行うことが可能となり、セル内にダメージを与える評価方法を用いても、性能評価後のパネルを出荷することができる。
【００１７】
上記第２のセル領域を蛍光体が塗布されていない構造とすることにより、放電ＰＬ法を用いた場合にノイズとなる蛍光体からの発光をなくし、高精度な保護膜評価が可能となる。
【００１８】
上記構成に加え、前面板の第２のセル領域に形成する評価用電極の間隔を、第１のセル領域に形成する表示電極の間隔より広く形成することにより、放電ＰＬ法を用いた場合に保護膜からの発光量が増加し、ノイズが減少し、高精度な保護膜評価が可能となる。
【００１９】
第２のセル領域の前面板にセルごとに２電極を備え、背面板にセルごとに１電極を備える構造のＰＤＰとすることにより、放電を用いる評価方法において、前面板の２電極のみの場合と比較して低電圧で性能評価を行うことが可能となる。
【００２０】
画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を備え、第２のセル領域の背面板のセル内空間に接する最前面に可視領域に蛍光を発しない物質、金属の層が形成されている領域が存在するＰＤＰとすることにより、背面板側の構成材料である誘電体あるいは蛍光体が紫外光により発光する現象を防止し、保護膜からの発光のみを観測することが可能となる。
【００２１】
画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を備え、第２のセル領域の前面板にセルごとに２電極を備え、背面板には電極がなく、かつ蛍光体が塗布されていない構造である領域が存在するＰＤＰとすることにより、背面板側の構成材料である蛍光体が紫外光により発光する現象を防止し、保護膜からの発光を感度よく観測することが可能となる。
【００２２】
画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を備え、第２のセル領域の前面板にセルごとに１電極のみを備え、背面板にセルごとに１電極を備え、かつ蛍光体が塗布されていない構造である領域が存在するＰＤＰとすることにより、背面板側の構成材料である蛍光体が紫外光により発光する現象を防止し、保護膜からの発光を感度よく観測できることに加え、前面板の２電極のみの場合と比較して低電圧で性能評価を行うことが可能となる。
【００２３】
画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を備え、第２のセル領域に蛍光体が塗布されておらず、第２のセル領域のセルピッチが第１のセル領域のセルピッチより広いＰＤＰとすることにより、背面板側の構成材料である蛍光体が紫外光により発光する現象を防止し、かつ広い面積の保護膜を発光させることで、保護膜からの発光をさらに感度よく観測できるようになる。
【００２４】
第１のセル領域の取り出し配線はピッチが細かく、ラフにプローブを当てるには適さないが、広い接触用パッドを確保する等、第１のセル領域の取り出し配線とは形状が異なる、検査用に適した形状の第２のセル領域用の専用の取り出し配線を具備することにより、検査が容易になる。
【００２５】
第２のセル領域が、基板長辺方向または短辺方向に全体に及ぶ形状のＰＤＰとすることにより、基板内で特性分布を有する部材に対する性能評価の面内分布を測定することが可能となる。
【００２６】
画像表示領域内に、蛍光体が塗布されていない性能評価用領域が存在するＰＤＰとすることにより、基板内で特性分布を有する部材に対する性能評価において、画像表示部内まで面内分布を測定することが可能となる。
【００２７】
ブラックストライプまたはブラックマトリクスの下に相当する部分に蛍光体を塗布しないセルを形成し、前面板または背面板に少なくとも２電極を配する構造の評価用セル領域が存在するＰＤＰとすることにより、基板内で特性分布を有する部材に対する性能評価において、面内分布の測定を行うことができることに加え、画像表示に用いる面積を犠牲にすることがなく、輝度の低下を防げる。
【００２８】
保護膜を紫外光により励起し、保護膜から生じた発光を受光する発光分光法により膜質評価する検査方法であって、放電により発生する紫外光を保護膜への励起光源として使用する保護膜の検査方法とすることにより、外部からの紫外光照射機構および紫外線集光機構が不要となる。
【００２９】
保護膜を紫外光により励起し、保護膜から生じた発光を受光する発光分光法により膜質評価する検査方法であって、パネル内の放電により発生する紫外光を保護膜への励起光源として使用するＰＤＰの検査方法とすることにより、従来の発光分光法では不可能であった、パネルを割断することなく、保護膜を評価することが可能となる。
【００３０】
上記ＰＤＰの検査方法であって、保護膜から生じた発光を前面板側から受光するＰＤＰの検査方法とすることにより、従来の発光分光法では不可能であった、パネルを割断することなく、保護膜を評価することが可能であることに加え、簡便な検査装置となる。
【００３１】
上記ＰＤＰの検査方法であって、保護膜から生じた発光を背面板側から受光するＰＤＰの検査方法とすることにより、ブラックマトリクス等、前面側に光が出射しない部分を利用して評価用領域を形成し、測定することが可能となる。
【００３２】
上記ＰＤＰを用い、性能評価用領域に存在する電極に対し、電圧を印加する電源回路と、可動式プローブと、集光機構と、受光部を具備するＰＤＰの検査装置とすることにより、従来の発光分光法では不可能であった、パネルを割断することなく、保護膜を評価することが可能となる。
【００３３】
従来、単板上の絶縁膜の紫外線発光分光を用いた評価は、単板全体を真空内、または不活性ガス内に設置する必要があり、装置が大きく高価になり、また検査に時間がかかったが、絶縁膜を形成した基板の一部分を覆い、真空排気装置とガス供給装置を具備する絶縁膜の検査装置とすることにより、簡便な装置で、かつ検査時間を短縮することが可能となる。
【００３４】
以上に示すように，本発明は以下の構成を採る。すなわち，本発明のプラズマディスプレイパネルは，前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，前記第１及び第２のセル領域では，前面板にセル領域ごとに２つの電極を備え、前記第２のセル領域における前面板の２つの電極の間隔が、前記第１のセル領域における前面板の２つの電極の間隔より広く、前記第２のセル領域では，背面板に蛍光体が塗布されていない領域が存在することを特徴とする。
【００３５】
また，前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，第２のセル領域における背面板のセル内空間に接する最前面に可視領域に蛍光を発しない物質、又は金属の層が形成されている領域が存在することを特徴とする。
【００３６】
また，前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，前記第１及び第２のセル領域では，前面板にセル領域ごとに２つの電極を備え、前記第２のセル領域における前面板の２つの電極の間隔が、前記第１のセル領域における前面板の２つの電極の間隔より広く、前記第２のセル領域では，背面板には電極がなく蛍光体が塗布されていない構造である領域が存在することを特徴とすることを特徴とする。
【００３７】
また，前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，第２のセル領域では，前面板にセル領域ごとに１の電極のみを備え、第２のセル領域では，背面板にセル領域ごとに１の電極を備え、蛍光体が塗布されていない構造である領域が存在することを特徴とする。
【００３８】
また，前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，第２のセル領域では，背面板に蛍光体が塗布されておらず、第２のセル領域のセルピッチが第１のセル領域のセルピッチより広い構成を採る。
【００３９】
また，第２のセル領域用の専用の取り出し配線を有し、第１のセル領域の取り出し配線と形状が異なることを特徴とする。
【００４０】
また，第２のセル領域が、基板長辺方向または短辺方向に全体に及ぶ形状であることを特徴とする。
【００４１】
また，画像表示領域内に、蛍光体が塗布されていない性能評価用領域が存在することを特徴とする。
【００４２】
また，前面板と背面板に挟まれた空間に複数のセル領域を備えたプラズマディスプレイパネルであって，前記複数のセル領域は，画像表示用第１のセル領域と、性能評価用第２のセル領域を含み，第２のセル領域では，前面板にブラックストライプ又はブラックマトリックスが形成を備え、前記第２のセル領域では，背面板に蛍光体が塗布されていない領域が存在することを特徴とする。
【発明の効果】
【００４３】
本発明により、蛍光体の可視発光を回避したセルまたは部分領域を設けることで放電ＰＬ観測が可能となり、表示領域の基板面内での保護膜の特性変化を評価することが可能となる。
【００４４】
また、本発明によれば、保護膜からの可視発光のうち前面板側から出射される光を、背面板を可視発光が透過する構造とすることにより、背面板側からも放電ＰＬを測定することが可能となり、ＰＤＰおよび検査装置の設計の自由度が高まる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４５】
使用するプラズマディスプレイの評価用領域の前面板には、導電性を有する２本以上の電極と、誘電体層が形成された基板上に評価対象である絶縁膜が形成されている。評価用領域の背面板側には蛍光体がない、あるいは蛍光体とその上に遮蔽膜が形成されている。他の部分は通常のＰＤＰであり、放電ガスとしては通常使用されるＮｅ，Ｘｅの混合ガスを用いる。
【００４６】
このパネルに対して、電極に電圧を印加し、放電を発生する。放電により真空紫外光（波長約１４７ｎｍ、１７３ｎｍ  以下、紫外光と記載）が発生する。この紫外光が主にＭｇＯからなる保護膜に照射されることにより、保護膜が励起され、可視光を発光する。
【００４７】
そして、保護膜からの可視発光を集光・受光し、分光することによって、絶縁膜の性質を評価する。
【００４８】
以下、この評価に適したＰＤＰ、およびこの評価を行なう検査装置、ならびに検査方法について詳細に説明する。
【００４９】
（実施の形態１）
本実施形態１では、絶縁膜検査装置について述べる。測定試料としての前面板には、導電性を有する２本以上の電極と、誘電体層の上に評価対象である絶縁膜が形成されている。
【００５０】
図１は、従来の発光分光法を用いた絶縁膜検査装置の構成を示す概略図である。従来の絶縁膜検査装置は、電子銃１４より照射される電子ビームを励起光源とするカソードルミネッセンス（ＣＬ）装置が用いられていた。電子ビームが測定対象となる絶縁膜１１に照射され、絶縁膜１１より発せられた可視光１９を集光・受光し、分光器１７により分光測定する。電子ビームを照射するため、前面ガラス板１３は真空チャンバー１８内に設置する必要があった。
【００５１】
図２および図３は、本実施形態１に係る絶縁膜検査装置の構成を示す概略図である。前面ガラス板２３には電極２４と、必要に応じて誘電体層２２と、評価対象である絶縁膜２１が形成されている。
【００５２】
図２の絶縁膜検査装置では、局所的に密閉する構造としての密閉覆い２５により、測定対象部分は真空引きされ、Ｎｅ，Ｘｅの混合ガスが供給される。電極２４に対して放電開始電圧以上の電圧を印加し、ガス放電を発生させる。これに伴い、紫外光３０が発生する。この紫外光３０が主にＭｇＯからなる絶縁膜２１に照射されることにより、絶縁膜２１が励起され、可視光２９を発光する。そして、絶縁膜２１からの可視発光を集光・受光し、分光することによって、絶縁膜の性質を評価する。
【００５３】
図２では前面ガラス板２３側から出射された絶縁膜２１からの可視発光を受光している。なお、局所的に密閉する構造内、あるいは密閉構造に窓をつけて、密閉構造外において、絶縁膜２１側から受光することも可能である。また、局所的に密閉する構造内に凹面鏡、レンズ、受光部の一部または全てを設置することも可能である。
【００５４】
図３に示す絶縁膜検査装置では、真空ポンプは用いず、局所的に密閉する構造に対してガスフローにより放電ガスを満たす構造となっており、図２の構造以上に簡便な装置となっている。評価の方法は図２と同様である。
【００５５】
このように、本発明の実施形態１の絶縁膜検査装置において、局所的な密閉機構を用いることにより、基板全体を真空チャンバーに入れる必要がなくなり、検査装置が簡便化・小型化した。また、検査に要する時間が短縮された。
【００５６】
また、放電紫外光を励起光源として用いることにより、絶縁膜をプラズマディスプレイパネルの前面板に用いる場合、後述するパネルに対する保護膜検査と同じ検査方法を用いることが可能で、工程による特性変化が明確になり、また峻別も容易になった。
【００５７】
（実施の形態２）
本実施形態２では、ＰＤＰ内の保護膜の検査方法および検査装置、また、その検査方法に適したＰＤＰの構造について述べる。
【００５８】
図４（ａ）、（ｂ）にパネルに対して放電ＰＬを用いた本発明の検査方法に適したＰＤＰを示す。パネルには、第１の領域としての画像表示用領域４１と、第２の領域としての性能評価用領域４２が形成されている。
【００５９】
前面板４８には、表示電極５３と、性能評価用電極５２と、誘電体層４７と、保護膜４６が形成されている。背面板４３には、データ電極４４と、性能評価用電極５６と、誘電体層４５と、隔壁５５と、蛍光体層５４が形成されている。前面板４８と背面板４３はチップ管から真空排気を行った上で、Ｎｅ，Ｘｅの放電ガスが導入、封着されている。
【００６０】
電極に対して放電開始電圧以上の電圧を印加し、ガス放電を発生させる。これに伴い、紫外光５８が発生する。この紫外光５８が主にＭｇＯからなる保護膜４６に照射されることにより、保護膜４６が励起され、可視光を発光する。性能評価用電極５６に所定の電圧を印加することにより、低電圧で放電を起こすことが可能であり、また性能評価用領域が複数のセルからなる場合、セルを選択して放電させることが可能である。そして、保護膜４６からの可視光４９を集光・受光し、分光することによって、保護膜の性質を評価する。
【００６１】
しかしながら、保護膜４６からの発光は微弱であり、かつ放電により蛍光体からの発光およびＮｅガスの発光が重層されて観測されるため、精度の高い分析が困難である。これを回避するため、性能評価用領域４２のセルは、蛍光体が塗布されていない構造としている。また、性能評価用領域４２のセルには、性能評価用電極５２、５６が形成されている。前面板４８側の性能評価用電極５２の間隔は、画像表示用領域４１に形成された表示電極５３の間隔より広く形成されている。
【００６２】
例えば、図４（ｃ）に示すように、性能評価用電極５２の間隔が画像表示用領域４１に形成された表示電極５３の間隔と等間隔である場合、評価時の印加電圧は画像表示時と同等でよいものの、放電紫外光および保護膜からの発光が極めて弱く、精度良く放電ＰＬを観測できない。
【００６３】
一方、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、性能評価用電極５２の間隔が画像表示用領域４１に形成された表示電極５３の間隔より広い間隔で形成すると、放電ＰＬによる保護膜の分析の精度が向上する。
【００６４】
また、図５に示す本実施形態２における別のＰＤＰは、性能評価用領域４２のセル幅が画像表示用領域４１のセル幅より広く形成されている。本実施形態２の検査方法において、保護膜４６からの発光は微弱であり、画像表示用領域４１と同じセルピッチでは受光光量が不足し、高精度の検査が困難である。そこで、性能評価用領域４２のセルピッチを広く形成したことにより、保護膜４６からの発光輝度を増加させ、検査の精度を向上させている。
【００６５】
図６（ａ）、（ｂ）に本実施形態２における検査方法により得られたフォトルミネッセンス（ＰＬ）スペクトルを示す。特許文献１に示されているカソードルミネッセンス（ＣＬ）のスペクトルと近く、ブロードな発光（黒太線で図示）が観測される。これに加えて、ガス放電の輝線発光が重層されて観測されている。ブロードな発光が保護膜からの発光であり、４００ｎｍ付近の発光が強いと良好な放電特性が得られる。あらかじめ測定したガスの放電発光のスペクトルを差し引くことにより、さらに精度の良い評価が可能となる。
【００６６】
（実施の形態３）
本実施形態３では、上記実施形態２の検査方法に適したＰＤＰの構造について図７を用いて述べる。パネルには、画像表示用領域４１と性能評価用領域４２が形成されている。画像表示用領域４１の構成は実施形態２と同様である。
【００６７】
図７において、性能評価用領域４２のセルには蛍光体層５４が形成されているが、形成されていなくてもよい。性能評価用領域４２のセルには、蛍光体層５４上あるいは誘電体層４５上と、隔壁５５上に遮蔽膜５７が形成されている。遮蔽膜５７は、放電により生じた紫外光５８により蛍光体層５４、隔壁５５および誘電体層４５が可視発光することを防止する目的で形成されている。蛍光体層５４、隔壁５５および誘電体層４５がそれぞれ固有の波長で可視光を発し、保護膜４６からの可視発光とともに受光すると、検査の精度が低下する。そのため、遮蔽膜５７の形成により検査の精度を向上させている。遮蔽膜５７の材質は、可視光を透過しない物質、紫外光を吸収し、かつ自ら可視発光をしない物質であればよく、本実施形態３においてはＡｌなどの金属を用いた。
【００６８】
なお、本実施形態３の検査方法、検査装置は実施形態２と同様である。
【００６９】
（実施の形態４）
本実施形態４では、ＰＤＰ内の保護膜の検査方法および検査装置、また、その検査方法に適したＰＤＰの構造について図８を用いて述べる。パネルには、画像表示用領域４１と性能評価用領域４２が形成されている。画像表示用領域４１の構成は実施形態２と同様である。
【００７０】
性能評価用領域４２のセルには、背面板４３側の電極が形成されておらず、また、蛍光体が塗布されていない。
【００７１】
電極に対して放電開始電圧以上の電圧を印加し、ガス放電を発生させる。これに伴い、紫外光５８が発生する。この紫外光５８が主にＭｇＯからなる保護膜４６に照射されることにより、保護膜４６が励起され、可視光４９を発光する。
【００７２】
本実施形態４においては、レンズ５０および受光部５１を背面板４３側に設置する。蛍光体が塗布されておらず、背面板４３のガラスは可視光４９を透過するので、背面板４３側から保護膜４６の可視発光を観測することが可能である。
【００７３】
なお、図８には背面板４３側の電極が形成されていないが、背面板４３側の電極が存在していても蛍光体が塗布されていなければ、背面板４３側からの測定は可能である。背面板４３側の電極が存在する場合と存在しない場合とを比較すると、保護膜４６からの発光を受光する強度がやや低下する。
【００７４】
（実施の形態５）
本実施形態５では、実施形態１〜４に述べた検査方法および検査装置を用いて保護膜検査を行うＰＤＰの構造について図９を用いて述べる。パネルには、画像表示用領域３４および性能評価用領域３２が形成されており、画像表示用領域と性能評価用領域とを分けることにより、保護膜などにダメージを与える検査方法を用いても良品を出荷することができる。
【００７５】
前面板３１の性能評価用領域３２に配された性能評価用取り出し配線は、基板端にパッド３３を有しており、可動式プローブ（図示せず）により電気的に接触させる。性能評価用取り出し配線に専用のパッド３３を形成することで、性能評価用電源回路との接触を容易にしている。
【００７６】
図１０（ａ）、（ｂ）にさらに改良したＰＤＰの概略図を示す。図９に記載したパネル（前面板３１）においては、保護膜の特性評価は局所的な評価となる。保護膜の特性を基板面内で一様に作成することは困難であり、面内の保護膜の特性が許容範囲であることが求められる。そこで、図１０（ａ）、（ｂ）に記載したように、性能評価用領域３２を基板長辺方向または短辺方向におおむね全体に及ぶ形状にすることにより、面内の保護膜の特性分布を推定することができるようになる。もちろん、長辺方向・短辺方向の両方に性能評価用領域３２を形成しても良いし、４辺にそれぞれ形成しても良い。
【００７７】
（実施の形態６）
本実施形態６では、ＰＤＰ内の保護膜の検査方法および検査装置、また、その検査方法に適したＰＤＰの構造について図１１を用いて述べる。ＰＤＰの一般的な構成は実施形態２と同様であるが、画像表示用領域４１中に、直接画像表示に寄与しない性能評価用セル６０を設ける点が異なる。
【００７８】
画像表示用領域４１中に設けた性能評価用セル６０内には蛍光体が塗布されていない。また、性能評価用セル６０内の前面板４８に性能評価用電極５２を形成する。性能評価用電極５２に対して放電開始電圧以上の電圧を印加し、ガス放電を発生させる。これに伴い、紫外光５８が発生する。この紫外光５８が主にＭｇＯからなる保護膜４６に照射されることにより、保護膜４６が励起され、可視光４９を発光する。
【００７９】
レンズ５０および受光部５１は、背面板４３側に設置する。蛍光体が塗布されておらず、背面板４３のガラスは可視光を透過するので、背面板４３側から保護膜４６の可視発光を観測することが可能である。
【００８０】
実施形態４で述べたＰＤＰおよび検査方法においては、局所的な保護膜特性の検査しかできない。実施形態５のＰＤＰおよび検査方法おいても、周辺部の保護膜特性の評価に限られる。保護膜の特性を基板面内で一様に作成することは困難であり、面内の保護膜の特性が許容範囲であることが求められる。
【００８１】
しかし、本実施形態６におけるＰＤＰおよび検査方法を用いることで、保護膜特性の詳細な面内分布を測定することが可能となり、明確な峻別と保護膜特性の面内分布を引き起こす工程改善が容易となる。
【００８２】
また、本発明の例として、図１２にＰＤＰの概略図を図示する。ブラックストライプ５９またはブラックマトリクスの下に相当する部分に、蛍光体を塗布しない性能評価用セル６０を形成し、前面板４８または背面板４３に少なくとも２電極を配する構造の性能評価用セル領域が存在するＰＤＰとする。これにより、基板内で特性分布を有する部材に対する性能評価において画像表示部の測定を行うことが可能であることに加え、従来のＰＤＰ（図１４）に存在していたブラックストライプ５９の領域を有効に利用でき、画像表示に用いる面積を性能評価用領域のために犠牲にする割合が減少し、輝度の低下を防げる。
【００８３】
以上、本発明により、性能評価用領域の電極の構成を、図５に示すように前面板側に２電極と背面板側に１電極形成すると、画像表示用領域との構成上の差が小さくなる上、同一工程で形成でき、コストが低減できるという効果がある。
【００８４】
また、性能評価用領域の電極の構成を、図８に示すように前面板側に２電極形成し、背面板側には形成しない構造とすると、放電ＰＬを背面板側から測定する場合に保護膜からの発光輝度が高く、精度の良い評価をすることができる。
【００８５】
また、性能評価用領域の電極の構成を、図１３に示すように前面板側に１電極形成し、背面板側に１電極形成する構造とすると、放電は対向放電となる。放電ＰＬを前面板側から測定する場合に保護膜からの発光輝度が高く、精度の良い評価をすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明の検査装置、検査方法、ＰＤＰは、ＰＤＰをはじめとするガス放電パネル、放電表示素子の製造などに適用することができ、これらを製造する上での歩留まり向上に寄与する。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】従来の絶縁膜検査装置（カソードルミネッセンス装置）の構成を示す概略図
【図２】本発明の絶縁膜検査装置（放電紫外光励起フォトルミネッセンス装置）の構成を示す概略図
【図３】本発明の絶縁膜検査装置（放電紫外光励起フォトルミネッセンス装置）の構成を示す概略図
【図４】（ａ）本発明の検査方法に適したＰＤＰを示す概略図（ｂ）本発明の検査方法に適したＰＤＰを示す概略図（ｃ）本発明の検査方法に不適なＰＤＰを示す概略図
【図５】パネル形成後のＰＤＰおよび保護膜検査装置の構成を示す概略図
【図６】（ａ）本発明の放電紫外光励起フォトルミネッセンスの測定データを示す図（ｂ）本発明の放電紫外光励起フォトルミネッセンスの測定データを示す図
【図７】パネル形成後のＰＤＰおよび保護膜検査装置の構成を示す概略図
【図８】パネル形成後のＰＤＰおよび保護膜検査装置の構成を示す概略図
【図９】本発明のパネル形成後の保護膜検査に適するＰＤＰの概略図
【図１０】（ａ）本発明のパネル形成後の保護膜検査に適するＰＤＰの概略図（ｂ）本発明のパネル形成後の保護膜検査に適するＰＤＰの概略図
【図１１】パネル形成後のＰＤＰおよび保護膜検査装置の構成を示す概略図
【図１２】パネル形成後のＰＤＰおよび保護膜検査装置の構成を示す概略図
【図１３】パネル形成後のＰＤＰおよび保護膜検査装置の構成を示す概略図
【図１４】従来のＡＣ型ＰＤＰの構成を示す概略図
【符号の説明】
【００８８】
１０    受光部
１１    絶縁膜
１２    誘電体層
１３    前面ガラス板
１４    電子銃
１５    石英窓
１６    レンズ
１７    分光器
１８    真空チャンバー
１９    可視光
２０    受光部
２１    絶縁膜、保護膜、保護膜
２２    誘電体層
２３    前面ガラス板
２４    電極
２５    密閉用覆い
２６    ガスボンベ
２７    分光器
２８    レンズ
２９    可視光
３０    紫外光
３１，４８    前面板
３２，４２    性能評価用領域
３３    パッド
３４，４１    画像表示用領域
４３    背面板
４４    データ電極
４５    誘電体層
４６    保護膜
４７    誘電体層
４９    可視光
５０    レンズ
５１    受光部
５２    性能評価用電極
５３    表示電極
５４    蛍光体層
５５    隔壁
５６    性能評価用電極
５７    遮蔽膜
５８    紫外光
５９    ブラックストライプ
６０    性能評価用セル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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