(57)【要約】【課題】弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や感光性樹脂版を用いる凸版印刷法を用いて有機ＥＬ素子を製造した場合、樹脂の伸縮による歪みが生じるので高精細印刷は困難であったので、この様な伸縮性の材料を用いた印刷にもかかわらず材料の伸縮による歪みが生じない高精細印刷方法を提供する。【解決手段】有機ＥＬ素子の製造方法における有機発光層製造工程が、少なくとも複数の耐溶剤性の凸部が表面円周上に連続形成された印刷用シリンダーを用い、被転写基板へ有機発光材料の印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供するものである。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ素子の製造方法における有機発光層製造工程が、少なくとも複数の耐溶剤性の凸部が表面円周上に連続形成された印刷用シリンダーを用い、被転写基板へ有機発光材料の印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、所定のパターンを有するマスクを介し印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、少なくともシリンダー表面に存在する耐溶剤性の凸部の全幅が、形成されるパターン幅に対して２００００倍以下であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３何れかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、耐溶剤性の凸部が耐溶剤性高分子であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１から４何れかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、横方向に複数のシリンダーに分割して印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
請求項１から４何れかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、横方向に分割して順次印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光材料が高分子材料である有機ＥＬ素子の製造方法に関し、特に凸版印刷法によって有機発光層を形成する有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、二つの対向する電極の間に有機発光材料からなる有機発光層を形成し、有機発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには有機発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出にくいという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に溶かして塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられる様になってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりＲＧＢ３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け、パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００５】
さらに、各種印刷法のなかでも、有機ＥＬ素子やディスプレイでは、基板としてガラス基板を用いることが多いため、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や感光性樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。実際にこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法（特許文献１）、凸版印刷による方法（特許文献２）などが提唱されている。
【０００６】
特許文献は以下の通り。
【特許文献１】特開平１０−７７４６７号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したような弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や感光性樹脂版を用いる凸版印刷法を用いて有機ＥＬ素子を製造した場合、ゴム、樹脂の伸縮による歪みが生じるので高精細印刷は困難であった。そこで、この様な伸縮性の材料を用いた印刷にもかかわらず材料の伸縮による歪みが生じない高精細印刷方法が求められていた。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に係る本願発明においては、有機ＥＬ素子の製造方法における有機発光層製造工程が、少なくとも複数の耐溶剤性の凸部が表面円周上に連続形成された印刷用シリンダ
ーを用い、被転写基板へ有機発光材料の印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供するものである。
【０００９】
請求項２に係る本願発明においては、請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、所定のパターンを有するマスクを介し印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供するものである。
【００１０】
請求項３に係る本願発明においては、請求項１または２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、少なくともシリンダー表面に存在する耐溶剤性の凸部の全幅が、形成されるパターン幅に対して２００００倍以下であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供するものである。
【００１１】
請求項４に係る本願発明においては、請求項１から３何れかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、耐溶剤性の凸部が耐溶剤性高分子であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供するものである。
【００１２】
請求項５に係る本願発明においては、請求項１から４何れかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、横方向に複数のシリンダーに分割して印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供するものである。
【００１３】
請求項６に係る本願発明においては、請求項１から４何れかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、横方向に分割して順次印刷を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に係る本発明では、印刷時に版材料の伸縮による歪みが生じにくく、寸法精度の確保された高精細印刷方法が可能になり、高精細な有機ＥＬ素子を得ることができた。
【００１５】
請求項２に係る本発明では、版材料の伸縮による歪みが生じない高精細印刷方法が可能になっただけではなく、連続しないパターンの印刷も可能になった。また、画素サイズが同じであれば、同一の版を用いて、画面サイズの異なる有機ＥＬディスプレイを形成することが可能になった。これにより、版交換に要する時間や版製造に関するコストを大幅に短縮することができる。
【００１６】
請求項３に係る本発明では、請求項１に係る発明で得られた印刷用シリンダーの円周方向の寸法精度に加え、シリンダーの軸方向に対する寸法精度を得ることができた。特に、一度に印刷を行うシリンダーが軸方向に対し小さくなっているために、シリンダーが膨張伸縮したり歪んだりしても、そのシリンダーの大きさに応じた膨張伸縮や歪みにしかならず、画素として形成されるパターンの画素間隔に係る寸法安定性が良くなる。
【００１７】
請求項４に係る本発明では、柔軟性を持った高分子層を凸部として有することで、ガラスや金属といった硬質な被転写体に対しても印刷することが可能になった。
【００１８】
請求項５に係る本発明では、具体的に請求項１記載のシリンダーを用いて全幅の印刷を行う解決方法を提供することが可能になった。
【００１９】
請求項６に係る本発明では、請求項５とは異なる方法で具体的に請求項１記載のシリンダーを用いて全幅の印刷を行う解決方法を提供することが可能になった。また、請求項５と６共通の効果として、大画面の有機ＥＬディスプレイを省スペースで製造することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２１】
本実施形態は印刷用シリンダーが有機ＥＬ素子製造用シームレス凸版の一つである例を用いて図１で以下説明する。Ａは、シームレス凸版の外形を示し、Ｂは、その断面図を示している。この場合のシームレス凸版は、つなぎ目がないシリンダーを意味し、シリンダー１上に凸部が形成されている。シリンダー１の材質は、金属、ゴム、樹脂などを用いることができるが、温度や湿度といった印刷環境の変化に対し、サイズ変化が小さい金属製のシリンダーを用いることが望ましい。
【００２２】
凸部２は使用するインキに対する耐溶剤性があれば良く、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどのゴムの他に、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂やそれらの共重合体、セルロースなどの天然高分子などから一種類以上を選択することができるが、フッ素系エラストマーやポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ六フッ化ビニリデンやそれらの共重合体といったフッ素系樹脂を用いても良い。
【００２３】
凸部はシリンダーに一様に形成されたゴム層または樹脂層に対して、レーザー加工により形成される。また、感光性樹脂を用いた場合には、フォトリソ法により凸部は形成される。
【００２４】
また、凸部の全幅が、形成されるパターン幅に対して２００００倍以下であることが好ましい。２００００倍を超える場合には、凸部の材料によっては、印刷時の材料の伸縮によって所望の印刷精度を得ることができなくなってしまう。
【００２５】
次に、本発明の有機ＥＬ素子製造用凸版を用いた有機ＥＬ素子の製造方法についてのべる。
【００２６】
図３に該凸版を用いた有機ＥＬ素子製造装置の一例を示す。例えば図３のように、インキ補充装置１１から凸版へのインキング装置であるアニロックスロール１２へ有機発光材料を含むインキ１３の補充を行い、アニロックスロール１２に補充された有機発光材料を含むインキ１３はドクター装置１４により除去することができる。インキ補充装置には、滴下型の補充装置の他に、ファウンテンロールやスリットコータ、ダイコータ、キャップコータなどのコータやそれらを組み合わせたものなどを用いることもできる。ドクター装置１４にはドクターロールの他にドクターブレードを用いることもできる。
【００２７】
ドクター装置１４により余剰なインキが除去された後、少なくとも表面が有機ＥＬ素子製造用凸版となっているシリンダー１５へのインキングを行う。有機ＥＬ素子製造用凸版へのインキングは、少なくとも該版の画像形成部分に行われれば良い。有機ＥＬ素子製造用凸版へインキングされたインキは、被転写体１６へ印刷される。被転写体１６の基材としては、ガラスの他に水蒸気などに対するバリア性を持ったフィルムなどの透光性基板を用いることができる。被転写体１６へ印刷された有機発光材料を含むインキ１３は乾燥することにより有機発光層を形成する。
【００２８】
図２に本発明の印刷用シリンダーを用いた印刷状態を、単独の印刷用シリンダーで示した一例を示す概要斜視図を示した。２１はパターン化された有機発光層である。この場合
１本のシリンダーで全幅印刷すると従来の印刷と変わりがなくなるので、印刷の幅方向に領域分割して印刷する。その具体的方法としては、シリンダーの本数を増やして順次印刷する方法と、一本のシリンダーを順次位置を変えながら順次印刷する方法がある。
【００２９】
図４に図３の有機ＥＬ素子製造装置により製造された有機ＥＬ素子の一例を示した。図４（ａ）は該有機ＥＬ素子を上方から見た図、図４（ｂ）は該有機ＥＬ素子の断面図を示す。
【００３０】
印刷により形成された有機発光層２１は、少なくとも透光性基板２２上の画像形成部分である透明導電層２３上に均一に存在すればよい。
【００３１】
本発明は高精細なパターン印刷を行うのに好適であり、特に電子材料の印刷を行うのに適している。例えば、図４（ｃ）にこの製造方法によって得られる有機ＥＬ素子の一発光単位を示す。この有機ＥＬ素子の一発光単位は、透光性基板３１と透明導電層３２と正孔注入層３３と有機発光層３４と陰極層３５とを具備するものである。
【００３２】
この有機ＥＬ素子の一発光単位において、透光性基板３１としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取りにより有機発光素子の製造が可能となり、安価に素子を提供できる。そのプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。また、透明導電層３２を成膜しない側にセラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物等の他のガスバリア性フィルムを積層してもよい。
【００３３】
透明導電層３２をなす材料としては、インジウムと錫の複合酸化物（以下ＩＴＯという）が挙げられる。また、アルミニウム、金、銀等の金属が半透明状に蒸着されたものや、ポリアニリン等の有機半導体などが挙げられる。
【００３４】
正孔輸送層３３をなす材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の導電性高分子材料が挙げられる。
【００３５】
有機発光層３４は有機発光体を含有する層であり、電圧の印加により発光する層である。有機発光材料としては、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィリン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の有機溶剤に可溶な有機発光材料や該有機発光材料をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系などの高分子有機発光材料が挙げられる。
【００３６】
陰極層３５をなす材料としては、有機発光媒体層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウムなどの金属単体や酸化物、これらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。
【００３７】
上述した有機ＥＬ素子を、本発明を用いて製造するには、被転写体２６として透光性基板３１上に透明導電層３２、正孔輸送層３３を積層したものを用い、インキとして有機発光材料を含むインキを用いる。
【００３８】
最後にこれらの積層体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ＥＬ素子を得ることができる（図示せず）。また、透光性基板が可撓性を有する場合は封止剤と可撓性フィルムを用いて密閉封止をおこなう。
【００３９】
有機発光材料を含むインキは上述のように凸版の凸部へ供給され、上述の被転写基板２６へ印刷される。発光材料を溶解または分散させるような、インキに用いられる溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエチレン、水などの単独またはこれらの混合溶媒などが挙げられる。特に芳香族系溶剤およびハロゲン系溶剤は有機発光材料を溶かすのに優れている。また、有機発光材料を含むインキには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤、乾燥剤などが添加されても良い。
【００４０】
この装置と材料を用いて実際に製造する場合を図５から図８を枚葉方式の場合を用いて以下順次説明する。もちろん本発明は輪転方式でも構わない。
【００４１】
まず、図５の様に被転写基板４１には電極形成部４３がパターン状に設けられると共に、この電極形成部４３が開口部となっているパターンを持つマスク４２を重ねる。その結果、被転写基板の電極形成部４３だけが表面に露出する。この被転写基板４１の電極形成部４３とマスク４２の開口部との位置合わせは、被転写基板に形成されたアライメントマークとマスクに形成されたアライメントマークと合致させることによりおこなってもよい。マスク４２は歪んだり破れなければ材料は何でもいいが金属箔のほかにＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＥＳ、ＰＥ、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの公知のフィルム材が用いられる。また、その厚さは５００μｍ以下であることが好ましい。また、金属箔、フィルム材には被転写基板と固定するための粘着層が設けられていてもよい。
【００４２】
次に、正孔輸送層を設ける。例えば、蒸着法によるパターニングを行っても良いが、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、キャストコート法、ダイコート法、スプレーコート法などのウェットコーティング方法などの他に凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、インクジェット法といった印刷法で設けるのが望ましい。これによりマスク４２のある領域においてはマスク４２の上に正孔輸送材料が、マスク４２の開口部においては被転写基板４１の上に電極形成部４３を介して正孔輸送層４４が設けられる。
【００４３】
次に、このマスク４２をそのままにして印刷用シリンダー４３を用いて有機発光材料を印刷する。この方法は後述の様な方法である。これによりマスク４２のある領域においてはマスク４２の上に正孔輸送材料の上に有機発光材料がパターン状に設けられ、マスク４２の開口部においては被転写基板４１の上に電極形成部４３と正孔輸送層の上に有機発光材料がパターン状に印刷され、これにより有機発光層４５が設けられる。
【００４４】
この印刷の終了後、図６の様にマスク４２を手作業もしくは専用の機械により被転写基板４１から剥がす。次に、陰極層を設ける。陰極の形成方法は材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム法、スパッタリング法を用い、マスクを介することにより必要に応じてパターニングすることができる。
【００４５】
印刷方法は、横方向に複数のシリンダーに分割して印刷を行う方法と、横方向に分割して順次印刷を行う方法が主な方法である。もちろん、必要に応じて両方法を組み合わせることも有効である。
【００４６】
横方向に複数のシリンダー５１に分割して印刷を行う方法としては、図７の様に横方向に複数のシリンダーを流れ方向にずらして複数設け、被転写基板５０に順次印刷する方法であり、これにより印刷パターン５２が平行に形成されるパターン幅全体に形成される。この場合のシリンダーのずらし量は適宜で構わないが、各々の間隔は一方のシリンダーの最端部のパターンと隣り合うシリンダーの最端部のパターンとが画素ピッチと同等になることが適当である。この場合、各シリンダー間の平行性を維持することが必要であり、各シリンダーは少なくとも十字型に形成されたアライメントマークをもとにカメラで観察しながら各印刷機の所定の位置に設置される。
【００４７】
横方向に分割して同一のシリンダー５３を用いて被転写基板５５に対して順次印刷を行う方法としては、図８の様に端部から順次シリンダー幅だけずらして印刷する方法であり、シリンダーの位置合わせ方法としてはシリンダー表面に形成されたアライメントマークをカメラで見ながら行うものである。これにより印刷パターン５４が平行に形成されるパターン幅全体に形成される。
【００４８】
なお、印刷されるパターンについては、以上説明した様に円周に沿った円環状の凸部を設けて万線状のパターンを設けた方法で説明したが、この様なパターンに限られることなく、凸部が表面円周上に連続形成されたパターンならばどの様な連続パターンでもよく、具体的にはドットパターンなどでも構わないことは当然である。
【００４９】
なお凸部の高さは特に規定しないが、１０μｍ以上が適当である。
【実施例１】
【００５０】
［有機発光層形成用発光塗工液の調製］
高分子蛍光体をキシレンに塗工液濃度が１．０重量％となるように溶解させ、有機発光層形成用発光塗工液を調製した。ここで高分子蛍光体とは、ポリ（パラフェニレンビニレン）誘導体からなる発光材料を示す。
【００５１】
［被転写基板の製造］
１５０ｍｍ角、厚さ０．４ｍｍのガラス基板上に表面抵抗率１５Ω／□のＩＴＯを成膜した基材（ジオマテック（株）製）に、スピンコーターを用いて正孔輸送層としてポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を１００ｎｍ膜厚で成膜した。さらにこの成膜されたガラス基板を減圧下１００℃で１時間乾燥することで、被転写基板３を製造した。
【００５２】
［シームレス凸版の製造］
凸部２が幅１２０μｍ、高さ１００μｍ、凹部が幅３８０μｍ、樹脂部総幅が１２０ｍｍの円環状パターンを設けた、シリンダー直径５０ｍｍの耐溶剤性シームレス樹脂凸版を、樹脂材を金属シリンダー上に塗布しレーザーによりアブレーションすることで形成した。
【００５３】
［シームレス凸版による有機発光層の形成］
有機ＥＬ素子の製造装置として、フレキソ校正機に、上記シームレス樹脂凸版を装備し、有機発光層形成用発光塗工液４を用いることにより万線状の直線が連続して平行して設けられたパターンを形成することで、印刷を行って形成されるパターン幅１５０ｍｍ全体の印刷を被転写基板３に対し行った後、１３０℃で１時間乾燥を行った。印刷により形成した有機発光層上にカルシウムを５ｎｍ成膜し、さらにその上に銀を２５０ｎｍ真空蒸着して有機ＥＬ素子を製造した。この有機ＥＬ素子の発光特性を見たところ、発光面全面で均一な発光が見られた。
【実施例２】
【００５４】
実施例１とは違い、シームレス凸版が樹脂幅上限の例を示す。
【００５５】
［シームレス凸版による有機発光層の形成］
有機ＥＬ素子の製造装置として、フレキソ校正機に、凸部が１２０μｍ、凹部が３８０μｍ、樹脂部総幅が２４００ｍｍ、シリンダー直径５０ｍｍの自社製耐溶剤性シームレス樹脂凸版を装備し、有機発光層形成用の発光塗工液４を用い、上記被転写基板３と同様のほほうで作成した２４００ｍｍ角の被転写基板に対し印刷を行った後、１３０℃で１時間乾燥を行った。乾燥の後、印刷により形成した有機発光層上にカルシウムを５ｎｍ成膜し、さらにその上に銀を２５０ｎｍ真空蒸着して有機ＥＬ素子を製造した。この有機ＥＬ素子の発光特性を見たところ、発光面全面で均一な発光が見られた。
【００５６】
なお、特記しないところは実施例１と同様である。
【実施例３】
【００５７】
シームレス凸版を用いてマスクでパターン印刷する例を以下に示す。
【００５８】
［マスクの形成］
厚さ１００μｍ、１５０ｍｍ角のＰＥＴフィルムの所定の位置をカッターナイフで切り抜き、被転写基板の非画素形成部を覆うためのマスクとした。
【００５９】
［シームレス凸版による有機発光層の形成］
有機ＥＬ素子の製造装置として、フレキソ校正機に、凸部が１２０μｍ、凹部が３８０μｍ、樹脂部総幅が１５０ｍｍ、シリンダー直径５０ｍｍの自社製耐溶剤性シームレス樹脂凸版を装備し、上記有機発光層形成用の発光塗工液４を用い、上記被転写基板３のＩＴＯパターンと適合するようなＰＥＴフィルム製のマスクを製造し、該マスクを介して被転写基板２に対し印刷を行った後、１３０℃で１時間乾燥を行った。乾燥の後、マスクを手作業で剥がし、印刷により形成した有機発光層上にカルシウムを５ｎｍ成膜し、さらにその上に銀を２５０ｎｍ真空蒸着して有機ＥＬ素子を製造した。この有機ＥＬ素子の発光特性を見たところ、パターン箇所内全面で均一な発光が見られた。
【００６０】
なお、特記しないところは実施例１と同様である。
【実施例４】
【００６１】
シームレス凸版を並べて大面積印刷する例を以下に説明する。
【００６２】
［シームレス凸版による有機発光層の形成］
有機ＥＬ素子の製造装置として、フレキソ校正機に、凸部が１２０μｍ、凹部が３８０μｍ、樹脂部総幅が７５ｍｍ、シリンダー直径５０ｍｍの自社製耐溶剤性シームレス樹脂凸版を横並びに二つ装備し、上記有機発光層形成用発光塗工液４を用い、被転写基板３に対し印刷を行った後、１３０℃で１時間乾燥を行った。乾燥の後、印刷により形成した有機発光層上にカルシウムを５ｎｍ成膜し、さらにその上に銀を２５０ｎｍ真空蒸着して有機ＥＬ素子を製造した。この有機ＥＬ素子の発光特性を見たところ、塗布領域全面で均一な発光が見られた。
【００６３】
なお、特記しないところは実施例１と同様である。
【実施例５】
【００６４】
一つのシームレス凸版を横にスライドさせてもう一回塗布する例を以下に示す。
【００６５】
［シームレス凸版による有機発光層の形成］
有機ＥＬ素子の製造装置として、フレキソ校正機に、凸部が１２０μｍ、凹部が３８０μｍ、樹脂部総幅が７５ｍｍ、シリンダー直径５０ｍｍの自社製耐溶剤性シームレス樹脂凸版を装備し、上記有機発光層形成用発光塗工液４を用い、上記被転写基板３に対し印刷を行った。シリンダーを７５ｍｍ＋３８０μｍ横にスライドさせ、一度印刷を行った被転写基板３に対し再び印刷を行った後、１３０℃で１時間乾燥を行った。この乾燥の後、印刷により形成した有機発光層上にカルシウムを５ｎｍ成膜し、さらにその上に銀を２５０ｎｍ真空蒸着して有機ＥＬ素子を製造した。この有機ＥＬ素子の発光特性を見たところ、塗布領域全面で均一な発光が見られた。
【００６６】
なお、特記しないところは実施例１と同様である。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明は、有機発光材料が高分子材料である有機ＥＬ素子の製造方法に利用可能であり、特に凸版印刷法によって有機発光層を形成する有機ＥＬ素子の製造方法に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明に用いる印刷用シリンダーの一例を示す概要斜視図と概要断面図である。
【図２】本発明の印刷用シリンダーを用いた印刷状態を、単独の印刷用シリンダーで示した一例を示す概要斜視図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ素子の製造工程の内、印刷工程の一例を示す概要断面図である。
【図４】（ａ）は本発明の製造方法による完成後の有機ＥＬ素子を上方から見た平面図、（ｂ）は該有機ＥＬ素子の断面図、（ｃ）は本発明の有機ＥＬ素子の一発光単位の断面図である。。
【図５】有機ＥＬ素子の製造工程のうち有機発光材料の印刷までの工程を示す概念平面図である。
【図６】有機ＥＬ素子の製造工程のうち有機発光材料の印刷からマスク取りまでの工程を示す概念平面図である。
【図７】横方向に複数のシリンダーに分割して印刷を行う様子を示す概要平面図である。
【図８】横方向に複数の領域に分割して一つのシリンダーで順次印刷を行う様子を示す概要平面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１    シリンダー
２    凸部
３    被転写基板
４    発光塗工液
１１  インキ補充装置
１２  アニロックスロール
１３  インキ
１４  ドクター装置
１５  シリンダー
１６  被転写体
２１  有機発光層
２２  透光性基板
２３  透明導電層
２６  被転写体
３１  透光性基板
３２  透明導電層
３３  正孔輸送層
３４  有機発光層
３５  陰極層
４１  被転写基板
４２  マスク
４３  電極形成部
４４  ホール注入層
４５  有機発光層
５０  被転写基板
５１  シリンダー
５２  印刷パターン
５３  シリンダー
５４  印刷パターン
５５  被印刷基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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