(57)【要約】【課題】  基板処理装置のさらなるコンパクト化を実現することができるようにする。【解決手段】  搬送路１７１に沿って略水平姿勢で搬送されつつある基板Ｂに所定の処理を施す基板処理装置１０であって、搬送中の基板Ｂに所定の処理液を供給する処理液供給装置としての、供給した処理液を基板Ｂから回収可能に構成された液回収型ノズル装置２０と、前記処理液が供給された後の基板Ｂ上に残留している処理液を除去する処理液除去装置としての、基板Ｂ上の残留処理液を気流によって吹き飛ばすように構成されたエアナイフ３０とが搬送路１７１に沿って直列に配設されている。【選択図】      図１
2006019525.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送路に沿って略水平姿勢で搬送中の基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、前記搬送中の基板に向けて処理液を供給して基板処理を施すとともに処理後の処理液を基板から回収する液回収型ノズル部と、前記液回収型ノズル部の基板搬送路の直ぐ下流側に基板上の処理液をエアを吹き付けて液切りを行う液切り部とが前記搬送路に沿って直列に配設されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記液回収型ノズル部と、前記液切り部とで１単位の基板処理部が形成され、複数単位の基板処理部が前記搬送路に沿って直列に配設され、各単位の基板処理部で異なる種類の処理液が使用されることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記各基板処理部として搬送路の上流側からエッチング部、洗浄部および乾燥部が設けられ、前記エッチング部は、基板にエッチング処理を施すべく処理液としてエッチング液を使用するものであり、前記洗浄部は、基板を洗浄するべく処理液として純水を使用するものであり、前記乾燥部は、前記液切り部が乾燥用として使用されることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記液回収型ノズル部および液切り部は、互いに対向した壁面に基板搬入口と基板搬出口とを有するとともに、これら基板搬入口と基板搬出口との間に前記搬送路が形成されてなる処理装置本体内に配設され、前記処理装置本体内に清浄空気を導入する空気導入手段と、前記処理装置本体内の空気を排気する排気手段とを備えて構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶や各種の電子部品等がマウントされるガラス基板を含む各種の基板を製造するに際し、これら基板に所定の処理を施す基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等に用いられる基板は、その製造に際し処理液の種類毎に複数設けられた処理槽内に当該基板を順番に装入していき、各処理槽内で所定の処理液が供給されることによりそれぞれ独自の処理が施されるのが一般的である。基板に対してかかる処理を施すべく、各処理槽を貫通した搬送路が設けられるとともに、この搬送路に沿って複数の搬送ローラ等の搬送手段が配設され、基板はこの搬送手段に搬送されつつ各処理槽内に順番に送り込まれることになる。
【０００３】
基板に処理液が異なる複数の処理を施すときは、上流側の処理液が基板に同伴して下流側の処理槽に持ち込まれるのを防止するべく、処理槽間の距離を十分に確保することが行われるが、これによって基板処理のための占有空間が大きくなり、製造空間の有効利用が阻まれるという不都合が存在する。
【０００４】
かかる不都合を解消するべく、搬送路に沿って搬送中の基板に処理液を噴霧ノズルから噴霧する方式が採用される場合がある。かかる処理液噴霧方式によれば、前記のような基板全体に満遍なく処理液を付与することができ、浸漬方式に比べて処理時間が短縮される。
【０００５】
ところで、近年、特許文献１に記載されたような、搬送方向の下流側で基板に供給した処理液を上流側で基板上から回収するようにした液回収型ノズル装置が提案されている。
【特許文献１】特開２００２−２８０３４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の噴霧ノズル方式では、処理後の基板上に多量の処理液が残留することから、この残留処理液を確実に液切りするために所要の処理長が必要となり、例えば残留処理液がある程度基板上から滴り落ちてから液切り部材で確実に液切りするといった形態が必要であった。また、噴霧ノズル装置が適用された基板処理装置に特許文献１に記載の液回収型ノズル装置を適用しても、両ノズル装置のタイプが大きく異なること、および液回収型ノズル装置は処理液の多くを回収するという相違点があることから、単純に置き換えて適用することは困難である。
【０００７】
本発明は、かかる状況に鑑みなされたものであって、処理液の効率的な使用を確保した上で、基板処理空間のさらなるコンパクト化を図ることができ、加えて基板処理の効率化をも図り得る基板処理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１記載の発明は、搬送路に沿って略水平姿勢で搬送中の基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、前記搬送中の基板に向けて処理液を供給して基板処理を施すとともに処理後の処理液を基板から回収する液回収型ノズル部と、前記液回収型ノズル部の基板搬送路の直ぐ下流側に基板上の処理液をエアを吹き付けて液切りを行う液切り部とが前記搬送路に沿って直列に配設されていることを特徴とするものである。
【０００９】
かかる構成を採用したことにより、基板処理装置内に導入された基板は、搬送されつつ、まず液回収型ノズル部から供給された処理液によって処理され、多くの処理液が回収される。そして、処理後の基板は液切り部に到達し、この液切り部によって残りの処理液に対する液切り処理が施される。このため、液回収型ノズル装置の直ぐ下流側の位置に液切り部を配設しても的確な液切り処理が行われる。したがって、液回収型ノズル部と、液切り部とを基板搬送方向に対してコンパクトに配置することができ、かつ、処理効率を高め得る。
【００１０】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記液回収型ノズル部と、前記液切り部とで１単位の基板処理部が形成され、複数単位の基板処理部が前記搬送路に沿って直列に配設され、各単位の基板処理部で異なる種類の処理液が使用されることを特徴とするものである。
【００１１】
かかる構成によれば、基板は、搬送路に沿って搬送されることにより、各単位の基板処理部を通過することで複数種類の処理液による処理が施される。しかも、上流側の基板処理部の処理液が基板に同伴して下流側の基板処理部に持ち込まれる量を従来に比べて少なくすることができるため、各基板処理部間の距離を従来に比べて可能な限り短くすることが可能になる。
【００１２】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の発明において、前記各基板処理部として搬送路の上流側からエッチング部、洗浄部および乾燥部が設けられ、前記エッチング部は、基板にエッチング処理を施すべく処理液としてエッチング液を使用するものであり、前記洗浄部は、基板を洗浄するべく処理液として純水を使用するものであり、前記乾燥部は、前記液切り部が乾燥用として使用されることを特徴とするものである。
【００１３】
かかる構成によれば、搬送路に沿って搬送されつつある基板は、まずエッチング部においてエッチング液が供給されたエッチング処理が施され、ついで洗浄部において純水が供給されることによる洗浄処理が施され、最後に乾燥部において液切り部から供給される気流により乾燥処理が施されたのち次工程へ向けて排出される。
【００１４】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の発明において、前記液回収型ノズル部および液切り部は、互いに対向した壁面に基板搬入口と基板搬出口とを有するとともに、これら基板搬入口と基板搬出口との間に前記搬送路が形成されてなる処理装置本体内に配設され、前記処理装置本体内に清浄空気を導入する空気導入手段と、前記処理装置本体内の空気を排気する排気手段とを備えて構成されていることを特徴とするものである。
【００１５】
かかる構成によれば、搬送路に沿って基板搬入口から処理装置本体内に導入された基板は、処理装置本体内に設けられた液回収型ノズル部および液切り部へ順次搬送され、各ノズル装置による所定の処理が施されたのち基板搬出口から系外に排出される。そして、処理装置本体内には空気導入手段からの清浄空気が常に導入されるとともに、処理装置本体内の空気は排気手段によって常に排気されるため、たとえ処理装置本体内に処理液の飛沫や浮遊パーティクルが存在しても排気に同伴して系外に排出され、これによって処理装置本体内は、常に清浄な雰囲気が維持される。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１記載の発明によれば、基板処理装置内に導入された基板は、搬送されつつ、まず液回収型ノズル部から供給された処理液によって処理され、引き続き液濡れ状態で液切り部に到達し、この液切り部によって液切り処理が施され、これによって濡れた基板に同伴して下流側に持ち込まれる処理液の量を極力少なくすることができるため、基板処理装置の前後長を従来のものに比べて極力短くすることがができる。
【００１７】
したがって、基板処理装置のコンパクト化およびランニングコストの低減化のために液回収型ノズル部を採用したにも拘らず、処理液の次工程への持ち込みを極力抑えるために次工程までの距離を長めにせざるを得ない従来の不都合が解消され、基板処理装置のコンパクト化による装置コストおよびランニングコストの低減化に貢献することができる。
【００１８】
請求項２記載の発明によれば、基板は、搬送路に沿って搬送されることにより、各単位の基板処理部を通過することで複数種類の処理液による処理が施され、しかも上流側の基板処理部の処理液が基板に同伴して下流側の基板処理部に持ち込まれる量を従来に比べて少なくすることができるため、各基板処理部間の距離を従来に比べて可能な限り短くして１つの装置本体内で、かつ、仕切りのない状態で基板を処理することが可能になり、複数種類の処理液を用いて基板を処理する基板処理装置の装置コストおよびランニングコストの低減化に貢献することができる。
【００１９】
請求項３記載の発明によれば、搬送路に沿って搬送されつつある基板は、まずエッチング部においてエッチング液が供給されたエッチング処理が施され、ついで洗浄部において純水が供給されることによる洗浄処理が施され、最後に乾燥部において液切り部から供給される気流により乾燥処理が施されるため、基板にこれら各処理部を通過させることで洗浄および乾燥も含めた一連のエッチング処理を施すことができる。
【００２０】
請求項４記載の発明によれば、処理装置本体内には空気導入手段からの清浄空気が常に導入されるとともに、処理装置本体内の空気は排気手段によって常に排気されるため、たとえ処理装置本体内にパーティクルや処理液の飛沫が浮遊していても、これらパーティクルや飛沫は排気に同伴して系外に排出され、これによって処理装置本体内の雰囲気を常に清浄に維持することができ、基板が処理装置本体内の汚染された雰囲気に起因して汚染されるような不都合を確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図１は、本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す断面視の説明図であり、図２は、その平面視の説明図である。この実施形態においては、基板処理装置１０として基板にエッチング処理を施すエッチング処理装置を例に挙げている。図１に示すように、基板処理装置１０は、直方体状を呈した処理装置本体１１内に、基板Ｂに対してエッチング処理を施すエッチング部１２と、このエッチング部１２から導出された基板Ｂに対して洗浄処理を施す洗浄部１３と、この洗浄部１３から導出された基板Ｂに対して乾燥処理を施す乾燥部１４とを備えて構成されている。
【００２２】
前記処理装置本体１１の上流側壁１１１（図１における右方）には、基板搬入口１５が開口されているとともに、下流側壁１１２には、前記基板搬入口１５と対向した位置に基板搬出口１６が開口されている。そして、これら基板搬入口１５と基板搬出口１６との間には、基板搬送方向（図１において左方へ向う方向）に等ピッチで複数の搬送ローラ１７が並設され、これら複数の搬送ローラ１７上に処理装置本体１１内で基板Ｂを搬送するための搬送路１７１が形成されている。各搬送ローラ１７は、図略の駆動モータの駆動で図１における反時計方向に駆動回転するようになっている。
【００２３】
したがって、系外から基板搬入口１５を介して処理装置本体１１内に導入された基板Ｂは、各搬送ローラ１７の駆動回転により搬送路１７１を下流側へ向けて搬送され、エッチング部１２でエッチング処理が施された後、洗浄部１３で洗浄処理が施され、最後に乾燥部１４で乾燥処理が施された後、基板搬出口１６を介して系外に排出されるようになっている。
【００２４】
前記洗浄部１３は、上流側（図１の右方）の第１洗浄部１３０と、下流側で第１洗浄部１３０に隣設された第２洗浄部１３０′とからなっている。第１洗浄部１３０は、エッチング部１２から導出された基板Ｂに対して通常の洗浄処理を施すものであるのに対し、第２洗浄部１３０′は、さらに高度の仕上げ洗浄処理を基板Ｂに施すものである。
【００２５】
前記処理装置本体１１内におけるエッチング部１２の下方位置には第１ホッパ１２１が設けられ、同第１洗浄部１３０の下方位置には第２ホッパ１３１が設けられ、同第２洗浄部１３０′の下方位置には第３ホッパ１３２が設けられ、同乾燥部１４の下方位置には第４ホッパ１４１が設けられている。そして、搬送路１７１に沿って搬送中の基板Ｂから滴り落ちた処理液がこれら第１〜第４ホッパ１２１，１３１，１３２，１４１によって受けられた後、底部の開口から後述する気液分離器１８１を通って適宜排出されるようになっている。
【００２６】
また、エッチング部１２および洗浄部１３における搬送路１７１より上方空間には、各部を仕切る仕切り壁が設けられていないのに対し、第２洗浄部１３０′と乾燥部１４との境界位置には、処理装置本体１１の天板１１３から搬送路１７１の直上方位置まで垂下された上部仕切り壁１１４が設けられ、この上部仕切り壁１１４によってエッチング部１２および洗浄部１３内で生じた水滴等が乾燥部１４内に侵入するのを防止するようになされている。
【００２７】
また、第２洗浄部１３０′は、基板搬送方向の長さ寸法が第１洗浄部１３０の長さ寸法より長尺に設定されている。このようにされるのは、最終的な洗浄処理が施された後の基板Ｂに対しさらに後述の液保持用ノズル装置４０によるパーティクル形成防止処置を施すための空間を確保するためである。
【００２８】
そして、処理装置本体１１内に導入された基板Ｂに対し、前記エッチング部１２においてエッチング液によるエッチング処理が施され、第１洗浄部１３０において第１段階の洗浄処理が施され、第２洗浄部１３０′において仕上げの洗浄処理が施された後、乾燥部１４において洗浄処理済の基板Ｂに対し乾燥処理が施されるようになっている。
【００２９】
前記洗浄処理等のために、エッチング部１２、第１洗浄部１３０および第２洗浄部１３０′には、搬送路１７１を挟むように上下で対向した一対の液回収型ノズル装置（液回収型ノズル部）２０がそれぞれ設けられているとともに、エッチング部１２および第１洗浄部１３０には、液回収型ノズル装置２０の直下流側に搬送路１７１を挟んで上下一対のエアナイフ（液切り部）３０がそれぞれ設けられている。これに対し、第２洗浄部１３０′においては液回収型ノズル装置２０の下流側に搬送路１７１を挟んだ状態で上下一対の液保持用ノズル装置４０が設けられている。
【００３０】
第２洗浄部１３０′に液保持用ノズル装置４０が設けられているのは、エアナイフ３０による本格的な乾燥処理は、乾燥部１４によって行われるため、第２洗浄部１３０′では基板Ｂを乾燥させる必要はなく、エアナイフ３０による乾燥処理を行う必要がないことによる。
【００３１】
また、第２洗浄部１３０′にエアナイフ３０が設けられていないのは、液回収型ノズル装置２０により最終的な洗浄処理が施された基板Ｂは、乾燥部１４に到達するまでの間に自然乾燥してしまうことがあり、そうなると、基板Ｂの表裏面にパーティクルが固着したり、ウォータマークが付いた状態になる場合があるため、これを防止するべくさらなる最終的な洗浄処理として液保持用ノズル装置４０が設けられているのである。この液保持用ノズル装置４０から超純水が基板Ｂの表裏面に向けて吐出されることによって、乾燥部１４における乾燥処理で基板Ｂ上にパーティクルやウォータマークが生じないようにすることができる。
【００３２】
そして、基板処理装置１０の近傍には液回収型ノズル装置２０および液保持用ノズル装置４０に処理液を供給するための処理液供給源５０が設置されている。この処理液供給源５０は、エッチング部１２の液回収型ノズル装置２０にフッ酸を主成分とするエッチング液を供給するエッチング液供給源５１と、第１洗浄部１３０の液回収型ノズル装置２０に洗浄水を供給する第１洗浄水供給源５２と、第２洗浄部１３０′の液回収型ノズル装置２０に超純水を供給する第２洗浄水供給源５３とからなっている。
【００３３】
前記乾燥部１４には、搬送路１７１を挟むように配設された上下一対のエアナイフ３０が上流側と下流側とにそれぞれ設けられている。かかる各エアナイフ３０は、その吐出口が搬送路１７１に向うように上流側に向けて斜めに配設されている。かかるエアナイフ３０に清浄化処理された加圧エアを供給するエア供給装置６０が装置本体１１の近傍に設けられている。このエア供給装置６０からの加圧エアは、エッチング部１２および洗浄部１３のエアナイフ３０へも供給されるようになっている。
【００３４】
そして、乾燥部１４に導入された基板Ｂは、上流側のエアナイフ３０によってまず液切りが行われ、引き続き下流側のエアナイフ３０によって十分な乾燥処理が施されるようになっている。ここでは、エアナイフ３０を斜めに配置することによって、液切りと乾燥とが効果的に行われる。かかる乾燥部１４での乾燥処理が完了した基板Ｂは、基板搬出口１６を通って系外に排出され、つぎの工程へ向わせられることになる。なお、この乾燥部１４でのエアナイフ３０は、上流側の上下一対のものだけで十分に乾燥することができる場合には、下流側のエアナイフ３０は設けなくてもよい。
【００３５】
図３は、液回収型ノズル装置２０、エアナイフ３０および液保持用ノズル装置４０を説明するための斜視図であり、液回収型ノズル装置２０および液保持用ノズル装置４０が第２洗浄部１３０′に、エアナイフ３０が乾燥部１４にそれぞれ設けられた状態を示している。図３に示すように、液回収型ノズル装置２０は、搬送路１７１の上方側に設けられる上部ノズル装置２０１と、同下方側に上部ノズル装置２０１と対向配置された下部ノズル装置２０２とからなっている。
【００３６】
かかる液回収型ノズル装置２０は、図４に示すように、基板搬送方向に直交する基板幅方向（図４の紙面に直交する方向）に長尺の直方体状を呈した上下一対のノズル本体２１と、各ノズル本体２１の基板搬送方向下流側の端部に接続された導入管２２と、同基板搬送方向上流側の端部に接続された導出管２３と、上下一対のノズル本体２１の各対向面に導入管２２と連通するように形成された基板搬送方向に直交する基盤幅方向に長尺の細長い液導入口２４と、同導出管２３と連通するように前記導入口２４と対向配置された液導出口２５とを備えて構成されている。
【００３７】
一方、第２洗浄水供給源５３の下流側には、図３に示すように、この第２洗浄水供給源５３の超純水を送出する送出ポンプ５３１が設けられている。この送出ポンプ５３１は前記各導入管２２に接続されているとともに、前記各導出管２３は処理装置本体１１の近傍に設けられた吸引ポンプ５３２に接続されている。したがって、送出ポンプ５３１の駆動で第２洗浄水供給源５３からの超純水が各導入管２２へ導入されると、この超純水は、上下のノズル装置２０１，２０２間に挟持された状態の基板Ｂの表裏面と上下のノズル本体２１の対向面との間に液導入口２４を介して供給され、毛細管現象によって基板Ｂとノズル本体２１の隙間から外部に漏洩することなく液導出口２５の方向へ向って移動することになる。そして、液導出口２５に到達した超純水は、吸引ポンプ５３２の駆動で導出管２３を介して吸引され、系外へ排出される。
【００３８】
また、下部のノズル本体２１の上面側には、基板Ｂを支持する複数の支持コロ２６が設けられ、基板Ｂがこれらの支持コロ２６に支持されることにより、当該基板Ｂと下部のノズル本体２１の上面との間に超純水を通過させる通路が形成されるようになっている。
【００３９】
このような液回収型ノズル装置２０を採用することにより、基板Ｂには必要最小限の超純水を供給することで確実な洗浄処理が実現するため、高価な超純水を用いた基板洗浄処理のランニングコストの低減化に貢献することができる。
【００４０】
前記エアナイフ３０は、図３に示すように、側面視で五角形状を呈した基板幅方向に長尺のエアナイフ本体３１と、このエアナイフ本体３１の先端側に形成された先細りのノズル部３２と、エアナイフ本体３１の基端側に接続されたエア導入管３３とを備えている。ノズル部３２の先端には、基板幅方向に長尺のエア吹付けスリット３２１が設けられている。したがって、エア供給装置６０の駆動で送出された加圧エアは、エア導入管３３を介してエアナイフ本体３１内に導入されたのちエア吹付けスリット３２１から基板Ｂへ向けて吹き付けられ、これによる加圧気流で基板Ｂの表裏面に付着している超純水が吹き飛ばされるようになっている。
【００４１】
かかるエアナイフ３０は、基板Ｂの搬送方向に対して斜めになるように姿勢設定されている。こうすることでエア吹付けスリット３２１から吐出された吹き付けエアは、その押圧力が基板Ｂに付着した洗浄水に対して基板幅方向に向かう分力として作用するため、エア吹付けスリット３２１が基板搬送方向に対して直交している場合に比較し、基板Ｂに付着した洗浄水の除去が効率的に行われる。
【００４２】
前記液保持用ノズル装置４０は、図３に示すように、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間にあって搬送路１７１を挟むように上下一対で設けられるものであり、円筒状のノズル管４１と、このノズル管４１の一端部に接続され、前記送出ポンプ５３１の駆動で第２洗浄水供給源５３からの超純水が導入される導入管４２と、各ノズル管４１における基板Ｂに対向した面に長手方向の略全長に亘って等ピッチで穿設された複数のノズル孔４３とを備えて構成されている。
【００４３】
搬送路１７１を挟んで上下一対で設けられたかかる液保持用ノズル装置４０のノズル孔４３から超純水が基板Ｂの表裏面に噴霧されることにより、液回収型ノズル装置２０によって洗浄処理された基板Ｂは、エアナイフ３０に到達するまでに乾燥することが防止されるとともに、液保持用ノズル装置４０からの噴霧水によってさらに最終段階の洗浄処理が施されるため、エアナイフ３０による基板Ｂの乾燥処理が実行された状態で、基板Ｂの表裏面にパーティクルが固着するような不都合の発生が確実に防止される。
【００４４】
そして、本実施形態においては、かかる液保持用ノズル装置４０は、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間の中間位置より液回収型ノズル装置２０寄りの位置であって、可能な限り液回収型ノズル装置２０に接近した位置に設けられている。このようにされるのは、液回収型ノズル装置２０では必要最小限の超純水しか基板Ｂに接触しないため付着水の量が少なく、したがって、基板Ｂの洗浄されていた部分が液回収型ノズル装置２０から外れた瞬間から速やかに自然乾燥が進行してしまうため、これを避けるべく液保持用ノズル装置４０は可能な限り液回収型ノズル装置２０に近づけて設置されるのである。
【００４５】
一方、第１〜第４ホッパ１２１，１３１，１３２，１４１の低部には、図１に示すように、処理装置本体１１内の気液の導出を案内する案内管１８が設けられている。各案内管１８は、下端部が開放されて処理装置本体１１の底部に臨まされているとともに、案内管１８の途中には排気管１９が分岐されている。案内管１８の排気管１９に対する分岐位置には、所定の気液分離器１８１が設けられ、案内管１８に集められた清浄空気および処理液は、これらの気液分離器１８１によって分離された後、処理液は案内管１８の下端開口から処理装置本体１１の底部へ導出される一方、エッチング部１２、洗浄部１３および乾燥部１４を通過した用済み空気は排気管１９へ向わせられるようになっている。
【００４６】
前記各排気管１９は、その下流端が基板処理装置１０の近傍に配設された、工場内各所の排気を吸引するための集中排気管（排気手段）７４に接続されている。したがって、気液分離器１８１で分離された排気管１９内の用済み空気は集中排気管７４へ集められ、工場内に設置された図略の集塵装置で所定の集塵処理が施された後、系外に排出されることになる。
【００４７】
そして、各排気管１９内には、吸引風量を調節するための調節ダンパー１９１がそれぞれ設けられている。この調節ダンパー１９１は、エッチング部１２、第１洗浄部１３０および乾燥部１４においてエアナイフ３０から加圧エアが吐出されている場合と吐出されていない場合とで開度を調節するものであり、これによって処理装置本体１１内の圧力を常に予め設定された負圧環境にすることができる。
【００４８】
すなわち、エアナイフ３０から加圧エアが吐出される場合には、このことが所定のセンサによって検出され、この検出信号が図略の制御装置に入力されることにより、当該制御装置からの制御信号が調節ダンパー１９１へ向けて出力され、この制御信号に基づく調節ダンパー１９１の開度増大で調節ダンパー１９１への用済み空気の吸引量が増加される一方、エアナイフ３０からの加圧エアの吐出が停止されると、このことが所定のセンサによって検出され、この検出信号に基づく制御装置からの制御信号によって調節ダンパー１９１の開度が小さくされ、用済み空気の吸引量が減少されるようになっている。
【００４９】
かかる調節ダンパー１９１の開度制御によって、エアナイフ３０からの加圧エアの吐出および吐出停止に拘らず、エッチング部１２、洗浄部１３および乾燥部１４内の圧力が常に一定になるようにしている。
【００５０】
以上詳述したように、本発明に係る基板処理装置１０は、搬送路１７１に沿って略水平姿勢で搬送されつつある基板Ｂに所定の処理を施すものであり、搬送中の基板Ｂに所定の処理液を供給する処理液供給装置としての、供給した処理液を基板Ｂから回収可能に構成された液回収型ノズル装置２０と、前記処理液が供給された後の基板Ｂ上に残留している処理液を除去する処理液除去装置としての、基板Ｂ上の残留処理液を気流によって吹き飛ばすように構成されたエアナイフ３０とが搬送路１７１に沿って直列に配設されているため、基板処理装置１０内に導入された基板Ｂは、搬送されつつ、まず液回収型ノズル装置２０から供給された処理液によって処理され、引き続き液濡れ状態でエアナイフ３０に到達し、このエアナイフ３０によって液切り処理が施され、これによってエッチング部１２と洗浄部１３０のように隣接して異種の液を使用する部分で処理液を分離し、濡れた基板Ｂに同伴して下流側に持ち込まれる処理液の量を極力少なくすることができる。
【００５１】
したがって、基板処理装置１０のコンパクト化およびランニングコストの低減化のために液回収型ノズル装置２０を採用したにも拘らず、処理液の次工程への持ち込みを極力抑えるために次工程までの距離を長めにせざるを得ない従来の不都合が解消され、基板処理装置１０のコンパクト化による装置コストおよびランニングコストの低減化に貢献することができる。
【００５２】
また、液回収型ノズル装置２０と、エアナイフ３０とで１単位の基板処理部（本実施形態においてはエッチング部１２および第１洗浄部１３０）が形成されるようにし、複数単位の基板処理部が搬送路１７１に沿って直列に配設され（本実施形態ではエッチング部１２と洗浄部１３とが直列に配設され）、しかも各単位の基板処理部で異なる種類の処理液が採用されているため（本実施形態ではエッチング部１２では処理液としてエッチング液が採用され、第１洗浄部１３０では処理液として洗浄水が採用されているため）、基板Ｂは、搬送路１７１に沿って搬送されることにより、各単位の基板処理部（エッチング部１２および第１洗浄部１３０）を通過することで複数種類の処理液による処理を実行することができる。しかも、処理液供給装置として液回収型ノズル装置２０が採用されているため、上流側の基板処理部の処理液が基板Ｂに同伴して下流側の基板処理部に持ち込まれる量を従来に比べて少なくすることができ、これによって各基板処理部間の距離を従来に比べて可能な限り短くすることが可能になり、複数種類の処理液を用いて基板Ｂを処理する基板処理装置１０の装置コストおよびランニングコストの低減化に貢献することができる。
【００５３】
また、本実施形態においては、各基板処理部として搬送路１７１の上流側からエッチング部１２、洗浄部１３および乾燥部１４が設けられ、エッチング部１２では、基板Ｂにエッチング処理を施すべく処理液としてエッチング液が使用され、洗浄部１３では、基板Ｂを洗浄するべく処理液として純水が使用され、乾燥部１４では、エアナイフ３０が乾燥用として使用されるため、搬送路１７１に沿って搬送されつつある基板Ｂは、まずエッチング部１２においてエッチング液が供給されたエッチング処理が施され、ついで洗浄部１３において純水が供給されることによる洗浄処理が施され、最後に乾燥部１４においてエアナイフ３０から供給される気流により乾燥処理が施される。したがって、基板Ｂにこれら各処理部（エッチング部１２、洗浄部１３および乾燥部１４）を通過させることで基板Ｂに対して洗浄および乾燥も含めた一連のエッチング処理を施すことができる。
【００５４】
また、液回収型ノズル装置２０およびエアナイフ３０は、互いに対向した上流側壁１１１および下流側壁１１２にそれぞれ開口された基板搬入口１５と基板搬出口１６とを有するとともに、これら基板搬入口１５と基板搬出口１６との間に搬送路１７１が形成されてなる処理装置本体１１内に配設されているため、搬送路１７１に沿って基板搬入口１５から処理装置本体１１内に導入された基板Ｂは、処理装置本体１１内に設けられた液回収型ノズル装置２０およびエアナイフ３０へ順次搬送され、各ノズル装置による所定の処理が施されたのち基板搬出口１６から系外に排出される。しかも、処理装置本体１１内には、清浄空気を導入する清浄空気用ブロア６１と、処理装置本体１１内の空気を排気する集中排気管７４とが備えられているため、処理装置本体１１内には清浄空気用ブロア６１からの清浄空気が常に導入されるとともに、処理装置本体１１内の空気は集中排気管７４を介して常に排気される。したがって、たとえ処理装置本体１１内に処理液の飛沫や浮遊パーティクルが存在しても排気に同伴して系外に排出され、これによって処理装置本体１１内の雰囲気を常に清浄に維持することができ、基板Ｂが処理装置本体１１内の汚染された雰囲気に起因して汚染されるような不都合を確実に防止することができる。
【００５５】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００５６】
（１）上記の実施形態においては、基板処理装置１０として基板Ｂにエッチング処理を施すものを例として挙げているが、本発明は、基板処理装置１０がエッチング処理用のものであることに限定されるものではなく、基板処理装置１０の全体を洗浄処理用のものとしてもよい。この場合には、エッチング液供給源５１は洗浄水処理源に代えられる。
【００５７】
（２）上記の実施形態においては、エッチング部１２および第１洗浄部１３０に液保持用ノズル装置４０が設けられていないが、本発明は、エッチング部１２および第１洗浄部１３０に液保持用ノズル装置４０を設けないことに限定されるものではなく、基板処理の種類や状況に応じてこれらの基板処理部にも液保持用ノズル装置４０を設けてもよい。こうすることによって、エッチング部１２および第１洗浄部１３０内での処理が液回収型ノズル装置２０と液保持用ノズル装置４０との２段処理になるため、より効果的な基板処理を実現することができる。
【００５８】
（３）上記の実施形態においては、第２洗浄部１３０′における液回収型ノズル装置２０を用いた超純水による基板Ｂの洗浄処理で液回収型ノズル装置２０から排出された洗浄処理後の超純水を系外に排出するようにしているが、こうする代わりに、洗浄処理後の超純水を第１洗浄部１３０へ戻して再利用に供してもよい。
【００５９】
（４）上記の実施形態においては、液保持用ノズル装置４０に洗浄水を吐出するための円形のノズル孔４３がノズル管４１に穿設されているが、本発明は、洗浄水を吐出する部分が円形のノズル孔４３であることに限定されるものではなく、角孔や多角形状の孔、あるいは星型孔等であってもよいし、孔に代えてスリットを採用してもよいし、所定のノズル部材を取り付けてもよい。
【００６０】
（６）上記の実施形態においては、第２洗浄部１３０′において液保持用ノズル装置４０は、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との略中間位置に設けられているが、本発明は、液保持用ノズル装置４０が前記中間位置に設けられることに限定されるものではなく、基板Ｂの種類や操業条件など基板処理に関する各種の状況に基づき適宜設置位置を設定すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す断面視の説明図である。
【図２】図１に示す基板処理装置の平面視の説明図である。
【図３】液回収型ノズル装置、エアナイフおよび液保持用ノズル装置が第２洗浄部に、エアナイフが乾燥部にそれぞれ設けられた状態を示す斜視図である。
【図４】図３に示す液回収型ノズル装置の側面視の断面図である。
【符号の説明】
【００６２】
１０  基板処理装置            １１  処理装置本体
１１１  上流側壁              １１２  下流側壁
１１３  天板                  １１４  仕切り壁
１２  エッチング部            １２１  第１ホッパ
１３  洗浄部                  １３０  第１洗浄部
１３０′  第２洗浄部          １３１  第２ホッパ
１３２  第３ホッパ            １４  乾燥部
１４１  第４ホッパ            １５  基板搬入口
１６  基板搬出口              １７  搬送ローラ
１７１  搬送路                １８  案内管
１８１  気液分離器            １９  排気管
１９１  調節ダンパー          ２０  液回収型ノズル装置（液回収型ノズル部）
２０１  上部ノズル装置        ２０２  下部ノズル装置
２１  ノズル本体              ２２  導入管
２３  導出管                  ２４  液導入口
２５  液導出口                ３０  エアナイフ（液切り部）
３１  エアナイフ本体          ３２  ノズル部
３２１  エア吹付けスリット    ３３  エア導入管
４０  液保持用ノズル装置      ４１  ノズル管
４２  導入管                  ４３  ノズル孔
５０  処理液供給源            ５１  エッチング液供給源
５２  第１洗浄水供給源        ５３  第２洗浄水供給源
５３１  送出ポンプ            ５３２  吸引ポンプ
６０  エア供給装置            ６１  清浄空気用ブロア（空気導入手段）
７４  集中排気管（排気手段）
Ｂ  基板
【図１】
2006019525.tif 000003
【図２】
2006019525.tif 000004
【図３】
2006019525.tif 000005
【図４】
2006019525.tif 000006