(57)【要約】【課題】  液晶を滴下した滴下基板と滴下基板に貼り合わされる貼合基板の位置整合性と、その間の距離の均一性を向上して、液晶表示装置の生産性を向上した液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供する。【解決手段】  滴下基板４Ｍの各対向基板４に相対する位置に、それぞれ四角枠状のシール部材１２を形成し、シール部材１２によって囲まれる各滴下領域Ｓに、シール部材１２の厚さよりも薄い液晶１５の液滴Ｄを滴下するようにした。そして、貼合基板５Ｍの貼合面５Ｍａ（配向膜７ｂ）に対して、各滴下領域Ｓの液滴Ｄよりも先に、対応するシール部材１２が当接するようにした【選択図】      図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
滴下基板の一側面にシール部材で囲まれた滴下領域を形成して、前記滴下領域に液晶の液滴を滴下し、前記シール部材を介して、前記滴下基板に貼合基板を貼り合わせるようにした液晶表示装置の製造方法において、
前記滴下領域に滴下した前記液晶の前記一側面からの厚さを、前記一側面からの前記シール部材の厚さよりも薄くするようにしたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記一側面からの前記液滴の厚さを、前記一側面からの前記シール部材の厚さよりも薄くするようにしたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記滴下領域に、複数の前記液滴を滴下するようにしたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記液滴を、互いに離間するように滴下したことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記滴下領域に前記液滴を滴下した後に、前記貼合基板を減圧雰囲気下で前記シール部材に当接させ、前記シール部材を大気圧雰囲気下で硬化するようにしたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の液晶表示装置の製造方法によって製造した液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の製造工程には、基板と封止基板の間の間隙に液晶を封入する封入工程が行われている。封入工程では、注入口を有したシール部材を介して前記基板と前記封止基板を貼り合わせ、前記シール部材で囲まれた前記間隙を減圧して前記注入口から液晶を注入する、いわゆる液晶注入法が知られている。
【０００３】
ところが、上記する液晶注入法では、前記間隙と前記液晶との圧力差によって液晶を注入するため、液晶表示装置が大型化すると、封入工程の工程時間が極端に長くなり、ひいては液晶表示装置の生産性を損なう問題があった。
【０００４】
そこで、液晶表示装置の生産性低下を抑制する方法として、前記基板と前記封止基板のいずれか一方に四角枠状のシール部材を形成し、そのシール部材で囲まれた領域（滴下領域）に液晶の液滴を滴下する、いわゆる液晶滴下法が提案されている（例えば、特許文献１）。液晶滴下法では、ディスペンサ装置やインクジェット装置等の液晶滴下装置から、前記滴下領域に液晶の液滴を滴下し、減圧雰囲気下で、前記基板と前記封止基板を貼り合わせる。そして、貼り合わせた状態の前記基板と前記封止基板を大気開放し、前記シール部材を硬化することによって、前記滴下領域に滴下した液晶を前記間隙に封入することができる。これによって、液晶表示装置が大型化する場合であっても、工程時間の増加を抑制することができ、液晶表示装置の生産性低下を抑制することができる。
【特許文献１】特開平５−２８１５６２号  公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記する液晶滴下法では、液晶の滴下された前記滴下領域を介して、前記基板（滴下基板）と前記封止基板（貼合基板）を貼り合わせる。そのため、以下の問題を招いていた。すなわち、図９（ａ）に示すように、滴下基板１０１に対して貼合基板１０２が傾斜するように貼り合わされると、図９（ｂ）に示すように、滴下領域Ｓに滴下した液晶１５の液滴Ｄが、その表面張力等によって、先行して貼り合わされる方向（図９（ｂ）の左側）に流動するようになる。
【０００６】
そして、貼り合わせた状態の滴下基板１０１及び貼合基板１０２を大気開放すると、図９（ｃ）に示すように、滴下基板１０１と貼合基板１０２の間の間隙で、液晶１５が偏倚するようになる。その結果、液晶１５の偏る側（図９（ｃ）の左側）の滴下基板１０１と貼合基板１０２との間の距離（セルギャップＣＧ）が、液晶１５の偏らない側（図９（ｃ）の右側）よりも大きくなり、液晶表示装置のセルギャップＣＧを不均一にする問題があった。
【０００７】
さらには、貼合基板１０２を滴下基板１０１に貼り合わせるときに、流動する液滴Ｄによって、貼合基板１０２が、液滴Ｄの流動する方向（図９（ｂ）の左側）に滑り、貼合基板１０２の位置ズレを来たす問題があった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液晶を滴下した滴下基板と前記滴下基板に貼り合わされた貼合基板の位置整合性と、その間の距離の均一性を向上して、液晶表示装置の生産性を向上した液晶表示装置の製造方法及び液晶表示
装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、滴下基板の一側面にシール部材で囲まれた滴下領域を形成して、前記滴下領域に液晶の液滴を滴下し、前記シール部材を介して、前記滴下基板と前記貼合基板を貼り合わせるようにした液晶表示装置の製造方法において、前記滴下領域に滴下した前記液晶の前記一側面からの厚さを、前記一側面からの前記シール部材の厚さよりも薄くするようにした。
【００１０】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、滴下領域の液晶の厚さがシール部材の厚さよりも薄く形成されるため、滴下基板に貼合基板を貼り合わせるときに、液晶よりも先に、シール部材を貼合基板に当接させることができる。
【００１１】
その結果、貼合基板と滴下基板を貼り合わせるときに、不均一な液晶の流動を抑制することができ、滴下基板に対する貼合基板の位置ズレを軽減することができる。従って、滴下基板と貼合基板の位置整合性を向上することができる。また、貼り合せた滴下基板と貼合基板の間の間隙で、滴下した液晶の偏倚を軽減させることができ、ひいては滴下基板と貼合基板との間の距離の均一性を向上することができる。そのため、液晶表示装置の生産性を向上することができる。
【００１２】
この液晶表示装置の製造方法において、前記一側面からの前記液滴の厚さを、前記一側面からの前記シール部材の厚さよりも薄くするようにしてもよい。
この液晶表示装置の製造方法によれば、液滴のサイズによって、滴下領域の液晶の厚さを規定することができる。その結果、滴下領域の液晶の厚さを、より正確に制御することができ、滴下基板と貼合基板の位置整合性と、滴下基板と貼合基板の間の距離の均一性を、より確実に向上することができる。
【００１３】
この液晶表示装置の製造方法において、前記滴下領域に、複数の前記液滴を滴下するようにしてもよい。
この液晶表示装置の製造方法によれば、滴下領域に複数の液滴を滴下するため、同量の液晶を滴下する場合、液滴の厚さを、より簡便な方法で薄くすることができる。その結果、滴下基板と貼合基板の位置整合性と、滴下基板と貼合基板の間の距離の均一性を、さらに向上することができる。
【００１４】
この液晶表示装置の製造方法において、前記液滴を、互いに離間するように滴下するようにしてもよい。
この液晶表示装置の製造方法によれば、滴下領域に、互いに離間した液滴を滴下するため、隣接する液滴の合一を回避することができ、滴下した液滴の厚さを維持することができる。
【００１５】
この液晶表示装置の製造方法において、前記滴下領域に前記液滴を滴下した後に、前記貼合基板を減圧雰囲気下で前記シール部材に当接させ、前記シール部材を大気圧雰囲気下で硬化するようにしてもよい。
【００１６】
この液晶表示装置の製造方法によれば、シール部材に当接させた貼合基板を、大気圧によって滴下基板側に押圧することができる。その結果、滴下基板と貼合基板との間の液晶のシール性を、より均一な押圧力によって得ることができる。その結果、液晶のシール性を損なうことなく、滴下基板と貼合基板の位置整合性と、滴下基板と貼合基板の間の距離の均一性を向上することができる。ひいては、液晶表示装置の生産性を向上することができる。
【００１７】
本発明の液晶表示装置は、上記する液晶表示装置の製造方法によって製造した。
本発明の液晶表示装置によれば、滴下基板と貼合基板の位置整合性と、滴下基板と貼合基板の間の距離の均一性を向上した液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図８に従って説明する。まず、本発明の液晶表示装置について説明する。図１は、液晶表示装置の斜視図であり、図２は、図１のＡ−Ａ線断面図である。
【００１９】
図１において、液晶表示装置１は、液晶パネル２と、前記液晶パネル２に平面状の光（平面光Ｌ）を照射する照射装置３を備えている。液晶パネル２は、前記平面光Ｌの照射側に備えられた対向基板４と、前記対向基板４と相対向する位置に貼り合わされた素子基板５を有している。
【００２０】
対向基板４は、四角板状に形成される無アルカリガラス基板であって、図２に示すように、その素子基板５側（上側）の側面（対向電極形成面４ａ）には、ＩＴＯ等の透明導電層からなる対向電極６が積層されて、図示しない電源回路からの所定の共通電位が供給されるようになっている。対向電極６の上側には、ラビング処理等による配向処理の施された配向膜７ａが積層されて、前記対向電極６近傍で、後述する液晶１５の配向を所定の配向に設定するようになっている。
【００２１】
図１に示すように、素子基板５は、前記対向基板４と略同じサイズで、四角板状に形成された無アルカリガラス基板であって、その対向基板４側（下側）の側面（素子形成面５ａ）には、Ｘ矢印方向に延びる複数の走査線８が所定の間隔をおいて形成されている。各走査線８は、図示しない走査線駆動回路に電気的に接続されて、所定のタイミングで選択駆動され、対応する走査信号が所定のタイミングで出力されるようになっている。また、素子形成面５ａには、前記走査線８と直交するＹ矢印方向に延びる複数のデータ線９が所定の間隔をおいて形成されている。各データ線９は、図示しないデータ線駆動回路に電気的に接続されて、表示データに基づくデータ信号が、対応するデータ線９に所定のタイミングで入力されるようになっている。前記走査線８と前記データ線９の交差する位置には、対応する走査線８及びデータ線９に接続されて、マトリックス状に配列される複数の画素領域１０が形成されている。
【００２２】
各画素領域１０内には、それぞれＴＦＴ等からなる図示しない制御素子と、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極１１（図２参照）が形成されている。図２に示すように、前記データ線９（走査線８）及び画素電極１１の下側には、ラビング処理等による配向処理の施された配向膜７ｂが積層されて、前記画素電極近傍で、後述する液晶１５の配向を所定の配向に設定するようになっている。
【００２３】
素子基板５（配向膜７ａ）と対向基板４（配向膜７ｂ）の間の間隙には、略球形状の導電性粒子１２ａを有した四角枠状のシール部材１２が配設されている。そして、このシール部材（導電性粒子１２ａ）が前記対向基板４と前記素子基板５の外縁に配設されることによって、前記素子基板５（素子形成面５ａ）と前記対向基板４（対向電極形成面４ａ）の外縁が、所定の距離（スペーサ１２ａの略外形分）だけ離間するようになっている。
【００２４】
また、上記する素子基板５（配向膜７ａ）と対向基板４（配向膜７ｂ）の間の間隙には、前記シール部材１２によって封止される液晶１５からなる液晶層１５Ｌが形成されている。液晶層１５Ｌは、後述する液晶表示装置１の製造方法によって、均一な厚さで形成されている。そして、前記対向基板４と前記素子基板５の間の間隙に、均一な厚さの液晶層
１５Ｌが形成されることによって、前記配向膜７ａ（対向基板４）と前記配向膜７ｂ（素子基板５）との間の距離（セルギャップ）が、液晶パネル２の全体にわたり均一になっている。
【００２５】
そして、走査線８が線順次走査に基づいて１本ずつ順次選択されると、画素領域１０の制御素子が順次、選択期間中だけオン状態となり、対応するデータ線９及び制御素子を介して、対応する前記画素電極１１にデータ信号が出力される。すると、素子基板５の画素電極１１と対向電極６の電位差に応じて、前記液晶１５の配向状態が、平面光Ｌを変調するように維持されて、変調された光が、図示しない偏光板を通過するか否かによって、液晶パネル２に、所望する画像が表示される。
【００２６】
この際、前記セルギャップが、液晶パネル２の全体にわたり均一に形成されるため、液晶表示装置１は、その表示画像にムラを来たすことなく均一な表示画質の画像を表示することができる。尚、本実施形態の液晶表示装置１は、画素領域１０に制御素子であるＴＦＴを備えた、いわゆるアクティブマトリックス方式の液晶表示装置であるが、例えばパッシブ方式の液晶表示装置であってもよい。また、本実施形態の液晶表示装置１は、前記平面光Ｌの照射側に対向基板４を配設する構成にしたが、これに限らず、例えば照射側に素子基板５を配設する構成であってもよい。
【００２７】
次に、上記する液晶表示装置１の製造方法について以下に説明する。図３〜図８は、液晶表示装置１の製造方法を説明する説明図である。尚、図４、図６及び図８は、それぞれ図３のＡ−Ａ線要部断面図、図５のＢ−Ｂ線要部断面図及び図７のＣ−Ｃ線要部断面図である。
【００２８】
まず、前記対向基板４を切り出し可能にしたマザー基板（以下単に、滴下基板４Ｍという。）にシール部材１２を形成するシール部材形成工程を行う。すなわち、図３及び図４に示すように、滴下基板４Ｍの一側面（滴下面４Ｍａ）であって、切り出し可能にした各対向基板４に対応する位置に、公知のディスペンサ装置やスクリーン印刷装置等を使用して、前記導電性粒子１２ａを分散させた紫外線硬化性樹脂を、各対向基板４の外縁に沿うように四角枠状に塗布する。尚、本実施形態の滴下基板４Ｍには、シール部材形成工程の前工程として、各対向基板４に対応する位置に、既に前記対向電極６と前記配向膜７ａが形成されている。
【００２９】
これによって、滴下基板４Ｍの滴下面４Ｍａ上に、滴下基板４Ｍから切り出す各対向基板４に対応した複数の液状のシール部材１２が形成される。そして、滴下面４Ｍａ上であって、滴下基板４Ｍから切り出す各対向基板４に対応した位置に、液状のシール部材１２で囲まれた領域が、前記対向基板４の数量分だけ形成される。本実施形態では、このシール部材１２で囲まれた領域を滴下領域Ｓという。
【００３０】
尚、本実施形態では、図４に示すように、前記シール部材１２の線幅（シール幅１２Ｗ）を０．５ｍｍで形成し、その配向膜７ａからの厚さ（シール厚さ１２Ｈ）を１０μｍで形成しているが、これに限られるものではない。
【００３１】
シール部材形成工程を終了すると、前記滴下基板４Ｍの各滴下領域Ｓに、液晶１５を滴下する液晶滴下工程を行う。すなわち、図５及び図６に示すように、前記滴下面４Ｍａに形成した各滴下領域Ｓに、公知のインクジェット装置やディスペンサ装置等を使用して、それぞれ液晶１５からなる多数の液滴Ｄを滴下する。
【００３２】
この際、各滴下領域Ｓに滴下する液滴Ｄは、図６に示すように、その配向膜７ａからの厚さ（液晶厚さＤＨ）が、前記シール部材１２のシール厚さ１２Ｈよりも薄くなるように
形成されて、かつ互いに離間するように、各滴下領域Ｓの全体にわたり均一に滴下される。尚、本実施形態の液滴Ｄは、上記するインクジェット装置によって、その重量が約５００μｇになるように形成されているが、滴下領域Ｓのサイズが大きくなってシール厚さ１２Ｈが大きくなる（例えば、１００μｍ程度）場合には、上記するディスペンサ装置によって液滴Ｄを形成してもよい。つまり、滴下した液晶１５が、シール厚さ１２Ｈよりも薄い液晶厚さＤＨであればよい。
【００３３】
液晶滴下工程を終了すると、前記素子基板５を切り出し可能にしたマザー基板（以下単に、貼合基板５Ｍという。）を前記滴下基板４Ｍに貼り合せる貼合工程を行う。すなわち、図７に示すように、液晶１５を滴下した滴下基板４Ｍの滴下面４Ｍａに、公知の貼合装置を使用して、減圧雰囲気下で、前記貼合基板５Ｍの一側面（貼合面５Ｍａ）を貼り合わせる。尚、本実施形態の貼合基板５Ｍには、貼合工程の前工程として、各素子基板５に対応する位置に、既に前記走査線８、データ線９、画素電極１１等が形成されている。
【００３４】
この貼合工程では、前記滴下基板４Ｍと前記貼合基板５Ｍが、それぞれ滴下面４Ｍａと貼合面５Ｍａを略平行にするように貼り合わされるが、滴下面４Ｍａと貼合面５Ｍａとの間の距離には、これら滴下基板４Ｍと貼合基板５Ｍの配置精度等に応じて、μｍオーダーのバラツキが生じる。つまり、この貼合工程では、図８の２点鎖線で示すように、前記滴下面４Ｍａに対して、前記貼合面５Ｍａが傾斜するように貼り合わされる。
【００３５】
その結果、貼合基板５Ｍは、前記シール部材１２の一側辺（本実施形態では図８における反Ｘ矢印方向側）の厚さを薄くするように傾斜した状態で、各滴下領域Ｓの液滴Ｄ（液晶１５）を封止する。
【００３６】
この際、各滴下領域Ｓには、前記液晶滴下工程によって、前記シール部材１２の厚さ（シール厚さ１２Ｈ）よりも薄い液晶厚さＤＨの液滴Ｄが形成されている。そのため、貼合基板５Ｍには、各液滴Ｄよりも先行してシール部材１２が当接する。そして、傾斜した状態の貼合基板５Ｍは、図８の実線で示すように、各液滴Ｄに当接することなく、各滴下領域Ｓを封止する。これによって、貼合工程における各液滴Ｄの流動が回避され、各滴下領域Ｓ内の液滴Ｄ（液晶１５）の均一性が維持される。そして、各液滴Ｄの流動に起因した滴下基板４Ｍに対する貼合基板５Ｍの位置ズレが解消される。
【００３７】
貼合工程を終了すると、貼り合せた滴下基板４Ｍ及び貼合基板５Ｍを大気解放し、シール部材１２を硬化させるシール部材硬化工程を行う。すなわち、貼り合せた状態の滴下基板４Ｍ及び貼合基板５Ｍの雰囲気を、徐々に大気圧まで昇圧する。このとき、貼合基板５Ｍ（滴下基板４Ｍ）は、昇圧された分だけ、液状のシール部材１２を、滴下基板４Ｍ（貼合基板５Ｍ）側に均等に押圧する。そして、押圧する貼合基板５Ｍは、各シール部材１２から、その厚さや導電性粒子１２ａの弾性に対応した反作用の応力を受ける。
【００３８】
そのため、シール部材１２を押圧する貼合基板５Ｍは、上記貼合工程の傾斜した状態から、その滴下基板４Ｍとの間の距離を均一にするようにして、相対する滴下基板４Ｍとの間の距離を短縮する。
【００３９】
これによって、各滴下領域Ｓに滴下された各液滴Ｄは、略同じタイミングで、対応する貼合基板５Ｍの貼合面５Ｍａ（配向膜７ｂ）と当接する。そして、前記貼合工程で均一性の維持された各液滴Ｄは、その表面張力等によって、それぞれ略同じタイミングで、滴下面４Ｍａ及び貼合面５Ｍａの面方向に沿って、各滴下領域Ｓ内を等方的に流動する。
【００４０】
その結果、貼合基板５Ｍは、滴下基板４Ｍに対して位置ズレすることなく貼り合わされて、滴下基板４Ｍと貼合基板５Ｍとの間の間隙には、図２に示すように、その間の距離を
均一にした液晶１５（液晶層１５Ｌ）が形成される。
【００４１】
そして、この状態から、各シール部材１２に紫外線等を照射し、液状の各シール部材１２を、そのシール厚さ１２Ｈが均一になる状態で硬化する。そして、図７の２点鎖線に沿って、滴下基板４Ｍ及び貼合基板５Ｍをダイシングすると、対向基板４と素子基板５の位置整合性の向上された液晶パネル２（液晶表示装置１）が、前記セルギャップを均一にした状態で製造される。
【００４２】
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、滴下基板４Ｍの各対向基板４に相対する位置に、それぞれ四角枠状のシール部材１２を形成し、シール部材１２によって囲まれる各滴下領域Ｓに、シール部材１２の厚さよりも薄い液晶１５の液滴Ｄを滴下するようにした。そして、貼合基板５Ｍの貼合面５Ｍａ（配向膜７ｂ）に対して、各滴下領域Ｓの液滴Ｄよりも先に、対応するシール部材１２が当接するようにした。
【００４３】
その結果、滴下基板４Ｍと貼合基板５Ｍを貼り合わせるときに、不均一な液滴Ｄの流動を抑制することができ、滴下基板４Ｍに対する貼合基板５Ｍの位置ズレを回避することができる。従って、滴下基板４Ｍと貼合基板５Ｍの位置整合性を向上することができる。また、滴下基板４Ｍと貼合基板５Ｍとの間の間隙で、滴下した液晶１５の偏倚を軽減させることができ、滴下基板４Ｍ（対向基板４）と貼合基板５Ｍ（貼合基板５）との間の距離（セルギャップ）の均一性を向上することができる。ひいては、液晶表示装置１の生産性を向上することができる。
【００４４】
（２）上記実施形態によれば、滴下領域Ｓ内に、多数の液滴Ｄを滴下するようにした。その結果、同じ容量の液晶１５を滴下領域Ｓ内に滴下する場合、滴下した液滴Ｄの数量分だけ、液滴Ｄの厚さを薄くすることができる。その結果、素子基板５と対向基板４の位置整合性と、素子基板５と対向基板４の間のセルギャップの均一性を、確実に向上することができる。
【００４５】
（３）上記実施形態によれば、滴下領域Ｓ内に、互いに離間する液滴Ｄを滴下するようにした。その結果、滴下領域Ｓ内で、隣接する液滴Ｄの合一を回避することができ、滴下した液滴Ｄの厚さを、シール硬化工程まで維持することができる。従って、素子基板５と対向基板４の位置整合性と、セルギャップの均一性を、より確実に向上することができる。
【００４６】
（４）上記実施形態によれば、液晶滴下工程の後に、滴下基板４Ｍを減圧雰囲気下に配置し、貼合基板５Ｍを貼り合わせて、滴下基板４Ｍと貼合基板５Ｍとの間の間隙に、液滴Ｄを封入するようにした。そして、貼り合わせた滴下基板４Ｍと貼合基板５Ｍを大気雰囲気下に解放し、シール部材１２を硬化するようにした。
【００４７】
その結果、シール部材１２に当接した貼合基板５Ｍを、大気圧によって滴下基板４Ｍ側に押圧することができ、滴下基板４Ｍと貼合基板５Ｍとの間の液晶１５のシール性を、より均一な押圧力によって得ることができる。従って、液晶１５のシール性を損なうことなく、液晶表示装置１の生産性を向上することができる。
【００４８】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
○上記実施形態では、滴下領域Ｓに滴下した液滴Ｄを、互いに離間した球形状に形成するようにした。これに限らず、例えば滴下領域Ｓに滴下した複数の液滴Ｄを合一させて液晶１５を液膜状に形成してもよく、滴下領域Ｓに滴下した液晶１５の厚さが、シール部材１２のシール厚さ１２Ｈよりも薄く形成されていればよい。
【００４９】
○上記実施形態では、滴下基板４Ｍ（対向基板４）と貼合基板５Ｍ（素子基板５）との間に、液晶１５のみを充填する構成にした。これに限らず、例えばポリマー粒子等のスペーサを介在させるようにしてもよい。これによれば、セルギャップの均一性を、さらに向上させることができる。
【００５０】
○上記実施形態では、減圧雰囲気下で貼合工程を行い、シール部材１２を硬化させるときに、大気圧によって、貼合基板５Ｍ（滴下基板４Ｍ）を滴下基板４Ｍ（貼合基板５Ｍ）側に押圧する構成にした。これに限らず、例えば大気圧雰囲気下で貼合工程を行い、シール部材１２を硬化させるときに、別途貼合基板５Ｍに滴下基板４Ｍ側への押圧力を付与する構成にしてもよい。
【００５１】
○上記実施形態では、滴下基板を対向基板４のマザー基板として具体化し、貼合基板を素子基板５のマザー基板として具体化した。これに限らず、例えば滴下基板を１枚の対向基板４（素子基板５）として具体化してもよく、貼合基板を１枚の素子基板５（対向基板４）として具体化してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本実施形態の液晶表示装置の概略斜視図。
【図２】同じく、液晶表示装置の概略断面図。
【図３】同じく、液晶表示装置の製造工程を説明する説明図。
【図４】同じく、液晶表示装置の製造工程を説明する説明図。
【図５】同じく、液晶表示装置の製造工程を説明する説明図。
【図６】同じく、液晶表示装置の製造工程を説明する説明図。
【図７】同じく、液晶表示装置の製造工程を説明する説明図。
【図８】同じく、液晶表示装置の製造工程を説明する説明図。
【図９】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ従来例における液晶表示装置の製造工程を説明する説明図。
【符号の説明】
【００５３】
１…液晶表示装置、４…対向基板、４Ｍ…滴下基板、４Ｍａ…滴下面、５…素子基板、５Ｍ…貼合基板、１２…シール部材、１２Ｈ…シール厚さ、１５…液晶、Ｄ…液滴、ＤＨ…液晶厚さ、Ｓ…滴下領域。
【図１】
2006323046.tif 000003
【図２】
2006323046.tif 000004
【図３】
2006323046.tif 000005
【図４】
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【図５】
2006323046.tif 000007
【図６】
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【図７】
2006323046.tif 000009
【図８】
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【図９】
2006323046.tif 000011