(57)【要約】【課題】薄層の塗布を行った場合でも、幅方向の膜厚を均一にでき、長手方向の膜厚の変動を抑制でき、スジ等の発生を抑え、安定した塗布を維持できる塗布方法、光学フィルム及び反射防止フィルムを提供する。【解決手段】支持体Ｗの走行方向上流側より減圧チャンバ４０とスロットダイ１３とを隣接して設けるとともに、スロットダイに対向させてバックアップローラ１１を設け、減圧チャンバにより張力を与えバックアップローラに巻き掛けて連続走行させる支持体上に、スロットダイを使用して塗布液１４を塗布する塗布方法。バックアップローラに巻き掛けられた支持体表面とスロットダイ先端とのクリアランスを１００μｍ以下の所定値に設定するとともに、クリアランスの変動を設定値の±７％以内に抑えて塗布液を塗布する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の走行方向上流側より減圧チャンバとスロットダイとを隣接して設けるとともに、前記スロットダイに対向させてバックアップローラを設け、前記減圧チャンバにより張力を与えるとともに、前記バックアップローラに巻き掛けて連続走行させる前記支持体上に、前記スロットダイを使用して塗布液を塗布する塗布方法において、
前記バックアップローラに巻き掛けられた前記支持体表面と前記スロットダイ先端とのクリアランスを１００μｍ以下の所定値に設定するとともに、
前記クリアランスの変動を設定値の±７％以内に抑えて前記塗布液を塗布することを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
前記支持体の走行を停止させた状態で、前記支持体の幅方向において１０箇所の前記クリアランスを測定し、該測定値の全てが設定値の±７％以内になった後に前記塗布液の塗布を開始することを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
【請求項３】
前記塗布液の塗布を停止させた状態で、前記支持体の幅方向の少なくとも１箇所において、前記バックアップローラの円周方向の位置を変えて４箇所の前記クリアランスを測定し、該測定値の全てが設定値の±７％以内になった後に前記塗布液の塗布を開始することを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布方法。
【請求項４】
前記スロットダイ先端において、上流側リップランドの先端エッジの曲率半径及び／又は下流側リップランドの後端エッジの曲率半径を１０μｍ以下とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布方法。
【請求項５】
前記スロットダイ先端部分を超硬部材で形成することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布方法。
【請求項６】
前記スロットダイ先端部分の表面粗さＲａを０．４μｍ以下とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の塗布方法。
【請求項７】
前記スロットダイ先端において、下流側リップランド長さを１００μｍ以下とすることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の塗布方法。
【請求項８】
前記請求項１〜７のいずれか１項に記載の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とす光学フィルム。
【請求項９】
前記請求項１〜７のいずれか１項に記載の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とす反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布方法、光学フィルム及び反射防止フィルムに係り、特に、薄い塗布膜を均一に形成するのに好適な塗布方法、及びこの塗布方法を使用して製造する光学フィルム、特に反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学フィルムとしての反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に使用されている。また、眼鏡やカメラのレンズにも、反射防止フィルムが使用されている。
【０００３】
このような反射防止フィルム等の光学フィルムの製造方法としては、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタリング法等が使用できるが、生産性が低く大量生産には適していない。
【０００４】
一方、無機微粒子の塗布により反射防止フィルム等の光学フィルムを製造する方法は、生産性が高く大量生産には適している。このような塗布方法としては、ディップコート法、マイクログラビア法、リバースロールコート法等が挙げられるが、ディップコート法は、段状のムラが発生しやすく、リバースロールコート法、マイクログラビア法は、ロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすく、また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が比較的困難である。
【０００５】
これに対し、ダイコート法は、前計量塗布方式であるため、膜厚の安定性が高い利点があり、ポケットの形状を規定したりリップの形状を規定したりする内容の提案が各種なされている（特許文献１〜４等）。
【０００６】
このうち、特許文献１は、スロットの間隙をリップ接液面の全域に亘って均一にする内容の提案である。特許文献２は、リップエッジ等の形状を規定し、ビードを十分大きくする内容の提案である。特許文献３は、バックアップロールの回転による振れを小さくして、段ムラ等の欠点を減少させる内容の提案である。特許文献４は、光学フィルム対象としたもので、ダイに保温機能を与え、幅方向の膜厚分布を均一にさせる内容の提案である。
【特許文献１】特開平９−２５３５５５号公報
【特許文献２】特開平１１−１６９７６９号公報
【特許文献３】特開２００３−２５１２６０号公報
【特許文献４】特開２００３−２８５３４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記従来のダイコート法で薄層（たとえば、ウェット膜厚で１００μｍ以下）の塗布を行った場合、幅方向の膜厚が不均一になったり、長手方向の膜厚が変動したり、ビード形状の不安定化によりスジを発生させたりし、安定した塗布を維持することが難しいという問題がある。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、薄層（たとえば、ウェット膜厚で１００μｍ以下）の塗布を行った場合であっても、幅方向の膜厚を均一にでき、長手方向の膜厚の変動を抑制でき、スジ等の発生を抑え、安定した塗布を維持できる塗布方法、及びこの塗布方法を使用して製造する光学フィルム、特に反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明は、支持体の走行方向上流側より減圧チャンバとスロットダイとを隣接して設けるとともに、前記スロットダイに対向させてバックアップローラを設け、前記減圧チャンバにより張力を与えるとともに、前記バックアップローラに巻き掛けて連続走行させる前記支持体上に、前記スロットダイを使用して塗布液を塗布する塗布方法において、前記バックアップローラに巻き掛けられた前記支持体表面と前記スロットダイ先端とのクリアランスを１００μｍ以下の所定値に設定するとともに、前記クリアランスの変動を設定値の±７％以内に抑えて前記塗布液を塗布することを特徴とする塗布方法を提供する。
【００１０】
本発明によれば、支持体表面とスロットダイ先端とのクリアランスを１００μｍ以下の所定値に設定するとともに、このクリアランスの変動を設定値の±７％以内に抑えて塗布を行うので、幅方向の膜厚を均一にでき、長手方向の膜厚の変動を抑制でき、スジ等の発生を抑え、安定した塗布状態を維持できる。
【００１１】
すなわち、クリアランスの変動を設定値の±７％以内とすることにより、ビード部内の圧力差を幅方向で均一にして、その結果スロットダイのポケットとビード部内の圧力差から生じるスロット吐出流量分布も均一化できる。その結果、この吐出流量分布は±２％以下となり高精度の膜厚偏差の塗布膜が得られる。
【００１２】
本発明において、前記支持体の走行を停止させた状態で、前記支持体の幅方向において１０箇所の前記クリアランスを測定し、該測定値の全てが設定値の±７％以内になった後に前記塗布液の塗布を開始することが好ましい。このような設定を行えば、クリアランスの変動を抑制でき、本発明の効果が一層発揮できる。
【００１３】
また、本発明において、前記塗布液の塗布を停止させた状態で、前記支持体の幅方向の少なくとも１箇所において、前記バックアップローラの円周方向の位置を変えて４箇所の前記クリアランスを測定し、該測定値の全てが設定値の±７％以内になった後に前記塗布液の塗布を開始することが好ましい。このような設定を行えば、更にクリアランスの変動を抑制でき、本発明の効果が一層発揮できる。
【００１４】
また、本発明において、前記スロットダイ先端において、上流側リップランドの先端エッジの曲率半径及び／又は下流側リップランドの後端エッジの曲率半径を１０μｍ以下とすることが好ましい。このようなスロットダイ先端とすることにより、ビードの動的接触位置を支持体の幅方向で安定にでき、塗布量分布も安定化する。
【００１５】
また、本発明において、前記スロットダイ先端部分を超硬部材で形成することが好ましい。このような、精密加工が容易な超硬部材をスロットダイ先端部分に使用することにより、エッジの曲率半径を小さく加工することができ、また、スロットダイ先端部分の真直度を良好にすることができる。なお、超硬部材とは、超硬合金やセラミックス部材等の所定硬度以上の部材を意味する。
【００１６】
また、本発明において、前記スロットダイ先端部分の表面粗さＲａを０．４μｍ以下とすることが好ましい。このように、表面粗さが小さいスロットダイ先端部分であれば、ビードの形状を一定に保つことが容易にできる。
【００１７】
また、本発明において、前記スロットダイ先端において、下流側リップランド長さを１００μｍ以下とすることが好ましい。このようなリップランド長さであれば、薄膜を形成するための、微量の塗布量を選定する際に、好適なビードを形成できる。
【００１８】
また、係る本発明は、前記の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とす光学フィルム及び反射防止フィルムを提供する。
【発明の効果】
【００１９】
以上説明したように、本発明によれば、幅方向の膜厚を均一にでき、長手方向の膜厚の変動を抑制でき、スジ等の発生を抑え、安定した塗布状態を維持できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、添付図面に従って本発明に係る塗布方法、光学フィルム及び反射防止フィルムの好ましい実施の形態について詳説する。
【００２１】
図１は、本発明に係る塗布方法に使用される塗布装置のスロットダイ１３及びその周辺を示す斜視図である。図２は、スロットダイ１３の周辺部を示すコーター１０の部分断面図である。なお、図２では、減圧チャンバー４０の図示を省略してある。
【００２２】
コーター１０はバックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成する塗布装置である。
【００２３】
スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、たとえば、図２に示されるような略円形でもよいし、又は半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。
【００２４】
ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、又はスロット開口部１６ａとは反対側の面の中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【００２５】
スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップローラ１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【００２６】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は、先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの走行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。上流側リップランド１８ａと下流側リップランド１８ｂのウェブＷとの距離は等しくなっている。
【００２７】
上流側リップランド１８ａのランド長さＩＵＰは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲が好ましく採用される。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩＬＯは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。
【００２８】
下流側リップのランド長さＩＬＯが３０μｍよりも短い場合は、先端リップ１７のエッジ又はランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。
【００２９】
一方、下流側リップのランド長さＩＬＯが１００μｍよりも長い場合は、上流側の減圧度を大きくする必要がでてきて、ビードの安定性が損われ、薄層塗布を行うことは不可能である。
【００３０】
スロットダイ１３の先端部分である上流側リップランド１８ａ及び下流側リップランド１８ｂは、超硬部材で形成されている。スロットダイ１３の先端部分にステンレス鋼等のような材質を用いると、ダイ加工の段階でだれてしまい、先端リップの加工精度を満足できない場合が多い。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが好ましい。
【００３１】
具体的には、スロットダイ１３の少なくとも先端リップを、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣと称す）等の炭化物結晶粒子をＣｏ（コバルト）等の結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にＴｉ（チタン）、Ｔａ（タンタル）、Ｎｂ（ニオブ) 及びこれらの混合金属を用いることもできる。ＷＣ結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下が更に好ましい。
【００３２】
また、スロットダイ１３の先端において、上流側リップランド１８ａ及び下流側リップランド１８ｂの先端エッジの曲率半径を１０μｍ以下とすることが好ましい。また、スロットダイ１３の先端部分（上流側リップランド１８ａ及び下流側リップランド１８ｂ）の表面粗さＲａを０．４μｍ以下とすることが好ましい。このようなスロットダイ１３の先端部分とすることにより、ビードの形状を一定に保つことが容易にできる。
【００３３】
図１において、スロットダイ１３に対し、ウェブＷの走行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して充分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０が設置されている。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間にはそれぞれ隙間ＧＢ、ＧＳが設けられている。
【００３４】
本発明の塗布方法においては、公知の各種溶媒を用いた塗布液を使用することができる。たとえば、水、各種ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、エステル、ケトンなどを単独又は複数混合して使用することができる。
【００３５】
ウェブＷとしては、公知の各種ウェブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィルム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミニウム、銅、スズ等の金属箔等、あるいは帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたものが含まれる。
【００３６】
本発明の塗布方法に用いる塗布液として、光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、防眩性付与液磁性塗布液、写真感光性塗布液、磁性塗布液、視野角拡大塗布液、表面保護液、帯電防止液、滑性用塗布液、カラーフィルター用顔料液等が使用できるが、これらに限定される訳ではない。
【００３７】
また、湿潤膜厚が１００μｍ以下の薄層を塗布する系に有効であるが、特に２０μｍ以下の精密塗布を行う系が好ましく、単層の１回塗布のみならず、重層逐次塗布に対しても、特に各層の湿潤膜厚が２０μｍ以下の高精度の薄膜塗布の場合に有効である。塗布液の粘度としては０．０００５〜０．１Ｎ・ｓ／ｍ2 、また表面張力としては２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲が好ましい。
【００３８】
塗布速度は概ね１００ｍ／分程度までの領域で適用可能である。また、一般に塗布するのが困難といわれる領域や湿潤膜厚がより薄い塗布系、粘度が高い領域で、より効果を発揮する。
【００３９】
次に、上記の塗布装置を使用した塗布方法について説明する。
【００４０】
先ず、塗布装置を運転しない状態で、バックアップローラ１１にウェブＷを巻き掛ける。そして、ウェブＷの表面とスロットダイ１３の先端部分（上流側リップランド１８ａ及び下流側リップランド１８ｂ）とのクリアランスを１００μｍ以下の所定値に設定する。次いで、シックネスゲージを使用して、ウェブＷの幅方向において１０箇所のクリアランスを測定し、この測定値の全てが設定値の±７％以内になるように、スロットダイ１３の位置を調整する。
【００４１】
次いで、ウェブＷの幅方向の少なくとも１箇所において、バックアップローラ１１の円周方向の位置を９０度毎に変えて４箇所のクリアランスを、エリアセンサ型レーザー変位計を用いて測定し、測定値の全てが設定値の±７％以内になるように、バックアップローラ１１の心振れを調整する。
【００４２】
以上のように調整することにより、塗布装置の運転中にも、クリアランスの変動を設定値の±７％以内に抑えて塗布液の塗布が行える。
【００４３】
以上、本発明に係る塗布方法の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００４４】
たとえば、本実施形態では、スロットダイ１３の上流側リップランド１８ａと下流側リップランド１８ｂのウェブＷとの距離は等しくなっているが、下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離に差を設ける、いわゆる、オーバーバイト形状のスロットダイを採用することもでき、これによっても、本発明と同様の効果を得ることができる。
【実施例】
【００４５】
〔実施例１〕
光学フィルムである防眩フィルム用の塗布液を、以下のように調整した。
【００４６】
先ず、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２４０ｇを、１０４ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に溶解した。
【００４７】
得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０重量％の含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素界面活性剤（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した（なお、この溶液を塗布、紫外線硬化させて得られた塗布膜の屈折率は１．６５であった。）。
【００４８】
更に、この溶液に個数平均粒径２．０μｍ、屈折率１．６１の架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを、１６０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルタ（それぞれＰＰＥ−１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士写真フイルム（株）製）にて濾過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して防眩層用の塗布母液として調製した。
【００４９】
更にこの溶液に、メチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」と略す）を添加して、以下の３種類の濃度のものを作成した。
【００５０】
（１）ＭＥＫ添加なし：この塗布液の粘度は０．００７Ｎ・ｓ／ｍ2 であり、表面張力は０．０３３Ｎ／ｍであり、固形分と溶媒の質量比は５０／５０であった。
【００５１】
（２）ＭＥＫ９６０ｇ添加：この塗布液の粘度は０．００３Ｎ・ｓ／ｍ2 であり、表面張力は０．０２９Ｎ／ｍであり、固形分と溶媒の質量比は１７／８３であった。
【００５２】
（３）ＭＥＫ１３４４ｇ添加：この塗布液の粘度は０．００３Ｎ・ｓ／ｍ2 であり、表面張力は０．０２８Ｎ／ｍであり、固形分と溶媒の質量比は１３／８７であった。
【００５３】
ウエブＷとして、厚さ８０μｍで幅が１３００ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（以下、「ＴＡＣ」と略す）を使用した。
【００５４】
本発明のダイコータにより、上記の塗布液（調整液）の液量をウエブの面積１ｍ2 当り、（１）液は５ｍｌ／ｍ2 、（２）液は１５ｍｌ／ｍ2 （３）液は２０ｍｌ／ｍ2 になるように塗布した。
【００５５】
この際、塗布速度は５ｍ／分、減圧度は０．３ｋＰａｓで実施した。ダイコータの先端部は、ステンレス鋼製のものを用いた。なお、乾燥時に塗膜面に直接風が当たらないように、塗布直後の塗布面のの１０ｃｍ上空に囲いを設け、サイドも囲って乾燥した。
【００５６】
ウエブＷの走行中のクリアランスを、エリアセンサ型レーザー変位計を用いてウエブＷの幅方向の３箇所で測定し、その最大値を測定値として採用した。塗布後の塗膜面の膜厚測定は、塗膜中の酸化ジルコニアの量を蛍光Ｘ線により分析することにより行った。膜厚を幅方向に１０箇所測定し、３回測定した平均値より、最大値−最小値をとって、この値を膜厚分布とした（単位：％）。以上の条件及び結果を図３の表に纏める。なお、ここでは液は（２）液を使用した。
【００５７】
図３の表において、例１及び例２は、クリアランスの設定値を１００μｍ超の１５０μｍとするものであり、参考値である。例３〜例７は、クリアランスの設定値を１００μｍ以下とするものである。
【００５８】
例３〜例７の、クリアランスの設定値を１００μｍ以下の各種の値とするもののうち、クリアランスの偏差率のＲ（レンジ）が１４％以下、すなわち、クリアランスが設定値の±７％以内であれば、膜厚分布は４％を達成した。
【００５９】
なお、クリアランスの設定値を１５０μｍとする例１及び例２は、クリアランスの偏差率が大きくても、膜厚分布に与える影響は軽微であった。
【００６０】
〔実施例２〕
光学フィルムである防眩フィルム用の塗布液及びウエブＷは、実施例１と同一のものを使用した。
【００６１】
本発明のダイコータにより、上記の塗布液（調整液）の液量をウエブの面積１ｍ2 当り、（１）液は５ｍｌ／ｍ2 、（２）液は１５ｍｌ／ｍ2 （３）液は２０ｍｌ／ｍ2 になるように塗布した。
【００６２】
この際、塗布速度は５ｍ／分、減圧度は０．３ｋＰａｓで実施した。ダイコータの先端部は、ステンレス鋼製のものを用いた。なお、乾燥時に塗膜面に直接風が当たらないように、塗布直後の塗布面の１０ｃｍ上空に囲いを設け、サイドも囲って乾燥した。
【００６３】
塗布装置を運転しない状態で、バックアップローラ１１にウェブＷを巻き掛け、シックネスゲージを使用して、ウェブＷの幅方向において１０箇所のクリアランスを測定し、その偏差を記録した。
【００６４】
また、塗布後の塗膜面の膜厚をウェブＷ幅方向において１０箇所測定し、この測定を３回行い、平均値を膜厚分布とした（単位：％）。この膜厚測定は、塗膜中の酸化ジルコニアの量を蛍光Ｘ線により分析することにより行った。以上の条件及び結果を図４の表に纏める。なお、ここでは液は、塗布膜厚に応じて（１）液〜（３）液を使い分けた。
【００６５】
図４の表において、例１〜例４は、クリアランスの設定値を１００μｍ超の１５０μｍ及び２００μｍとするものであり、参考値である。例５〜例１１は、クリアランスの設定値を１００μｍ以下とするものである。
【００６６】
例５〜例１１の、クリアランスの設定値を１００μｍ以下の各種の値とするもののうち、クリアランスの偏差率のＲ（レンジ）が１４％以下、すなわち、クリアランスが設定値の±７％以内であれば、塗布量分布は４％を達成した。
【００６７】
なお、クリアランスの設定値を１５０μｍとする例１〜例４は、クリアランスの偏差率が大きくても、塗布量分布に与える影響は軽微であった。
【００６８】
〔実施例３〕
光学フィルムである防眩フィルム用の塗布液及びウエブＷは、実施例１と同一のものを使用した。
【００６９】
本発明のダイコータにより、上記の塗布液（調整液）の液量をウエブの面積１ｍ2 当り、（１）液は５ｍｌ／ｍ2 、（２）液は１５ｍｌ／ｍ2 （３）液は２０ｍｌ／ｍ2 になるように塗布した。
【００７０】
この際、塗布速度は５ｍ／分、減圧度は０．３ｋＰａｓで実施した。ダイコータの先端部は、ステンレス鋼製のものを用いた。なお、乾燥時に塗膜面に直接風が当たらないように、ダイコータの１０ｃｍ上空に囲いを設け、ダイコータのサイドも囲って乾燥した。
【００７１】
塗布装置を運転しない状態で、バックアップローラ１１にウェブＷを巻き掛け、シックネスゲージを使用して、バックアップローラ１１の円周方向の位置を９０度毎に変えて４箇所のクリアランスを測定した。その測定を、ウェブＷの幅方向に５箇所行い、バックアップローラ１１の回転方向のピークｔｏピーク値のウェブＷの幅方向の最大値を記録した。
【００７２】
また、塗布後の塗膜面の膜厚をウェブＷの長手方向において２０箇所（５０ｍｍ毎）測定し、その偏差を算出し、膜厚分布とした（単位：％）。この膜厚測定は、塗膜中の酸化ジルコニアの量を蛍光Ｘ線により分析することにより行った。以上の条件及び結果を図５の表に纏める。なお、ここでは液は、塗布膜厚に応じて（１）液〜（３）液を使い分けた。
【００７３】
図５の表において、例１〜例３の、クリアランスの設定値を５０μｍ以下の各種の値とするもののうち、クリアランスの偏差率のＲ（レンジ）が１４％以下、すなわち、クリアランスが設定値の±７％以内であれば、塗布量分布は４％を達成した。
【００７４】
一方、ロール回転方向でクリアランス変動大きい例１は、横の縞状の分布が発生し所望の塗布量分布値内に収めることができなかった。
【００７５】
〔実施例４〕
光学フィルムである反射防止フィルム用の塗布液を、以下のように調整した。
【００７６】
屈折率が１．４２であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの６重量％のメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇに、ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ2 ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）８ｇ、メチルエチルケトン９４ｇ及びシクロヘキサノン６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ（ＰＰＥ−０１）で濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【００７７】
塗布液の粘度を０．００１Ｎ．ｓ／ｍ2 と、表面張力を０．０２４Ｎ／ｍとした。ウエブとして、実施例１のものを長尺で塗布し、これを送り出し機のローラに巻回して、再度繰り出して走行させた。ウエブの走行速度を５ｍ／分とし、塗布時の膜厚が４μｍ（塗布量が４ｍｌ／ｍ2 ）になるようにして、ダイコータにより塗布した。その際、クリアランスは５０μｍに設定した。
【００７８】
例１〜例３のダイコータの先端部は、ステンレス鋼製のものを用いた。例４のダイコータの先端部は、ＷＣの超硬材質を主成分とする材質のものを用いた。
【００７９】
また、例１及び例２では、ダイコータの上流側リップランド１８ａ及び下流側リップランド１８ｂの先端エッジの曲率半径が１０μｍのものを使用し、例３及び例４では、ダイコータの上流側リップランド１８ａ及び下流側リップランド１８ｂの先端エッジの曲率半径が５μｍのものを使用した。
【００８０】
また、例１では、スロットダイ１３の先端部分（上流側リップランド１８ａ及び下流側リップランド１８ｂ）の表面粗さＲａが１μｍであり、例２及び例３では、０．４μｍであり、例４では、０．１μｍであった。
【００８１】
塗布後の塗膜面の膜厚をウェブＷの幅方向において１０箇所測定し、分布値を算出した。塗布膜厚は、光学膜厚計（干渉型）を用いて測定した。以上の条件及び結果を図６の表に纏める。
【００８２】
図６の表において、例１及び例２のようにダイコータの先端エッジの曲率半径が大きいものについては、全体にスジ状の厚さムラが発生し、所望の品質を得られなかった。ただし、表面粗さＲａが大きい物（例１）と小さいもの（例２）では、そのスジ状の故障に差異がでて、結果的に分布に差を生じた。また、先端を超硬の素材にしたものも、ステンレス鋼製のものと同様の効果が得られ、なお且つ、長期使用の耐久性もあることが確認できた。
【００８３】
〔実施例５〕
光学フィルムである反射防止フィルム用の塗布液及びウエブＷは、実施例４と同一のものを使用し、塗布条件も実施例４と同一にした。クリアランスは５０μｍに設定した。
【００８４】
例１において、ダイコータの先端部の下流側リップランド１８ｂのランド長さＩＬＯを５００μｍとし、減圧チャンバー４０のサクション圧を−０．８ｋＰａに設定した。例２において、ダイコータの先端部の下流側リップランド１８ｂのランド長さＩＬＯを１００μｍとし、減圧チャンバー４０のサクション圧を−０．２ｋＰａに設定した。例３において、ダイコータの先端部の下流側リップランド１８ｂのランド長さＩＬＯを５０μｍとし、減圧チャンバー４０のサクション圧を−０．２ｋＰａに設定した。
【００８５】
塗布後の塗膜面の膜厚をウェブＷの幅方向において１０箇所測定し、分布値を算出した。塗布膜厚は、光学膜厚計（干渉型）を用いて測定した。以上の条件及び結果を図７の表に纏める。
【００８６】
図７の表において、例１は塗り付き不良を起こし、膜厚分布の測定ができなかった。その他の例２及び例３では膜厚分布は良好であった。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明に係る塗布方法に使用される塗布装置のスロットダイ及び周辺を示す斜視図
【図２】スロットダイの周辺部を示すコーターの部分断面図
【図３】実施例１の条件及び結果を示す表
【図４】実施例２の条件及び結果を示す表
【図５】実施例３の条件及び結果を示す表
【図６】実施例４の条件及び結果を示す表
【図７】実施例５の条件及び結果を示す表
【符号の説明】
【００８８】
１０…コーター、１１…バックアップローラ、１３…スロットダイ、１４…塗布液、１４ａ…ビード、１４ｂ…塗膜、１５…ポケット、１６…スロット、１７…先端リップ、１８…ランド、１８ａ…上流側リップランド、１８ｂ…下流側リップランド、Ｗ…ウェブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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