(57)【要約】【課題】本発明の課題とするところは、芳香族系の溶媒を用いる有機ＥＬ素子用のインキであっても精度良く転写法で印刷することのできるブランケット及びそれを用いて製造した有機ＥＬ素子を提供することにある。【解決手段】転写法により有機ＥＬ素子形成材料を基材上に転写させ有機ＥＬ素子を製造する際に用いられる印刷用ブランケットにおいて、シリコーン系ゴム素材からなる最表面層、該最表面層の下側にフッ素系ゴム素材からなる支持層とを備えた表面層を有することを特徴とする有機ＥＬ素子印刷用ブランケットとする。さらに最表面層より支持層を薄くする。また支持層を多孔質の素材とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写法により有機ＥＬ素子形成材料を基材上に転写させ有機ＥＬ素子を製造する際に用いられる印刷用ブランケットにおいて、
シリコーン系ゴム素材からなる最表面層、該最表面層の下側にフッ素系ゴム素材からなる支持層とを備えた表面層を有することを特徴とする有機ＥＬ素子印刷用ブランケット。
【請求項２】
前記最表面層の厚みが、前記支持層の厚みと比較して薄い層としたことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ素子印刷用ブランケット。
【請求項３】
前記支持層が、多孔質のフッ素系ゴム素材を用いたことを特徴とする請求項１または２記載の有機ＥＬ素子印刷用ブランケット。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の有機ＥＬ素子印刷用ブランケットを用いて、有機ＥＬ素子形成材料を基材上にパターニング形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子印刷用ブランケットに係り、ガラス板等の基材上にインキを高精細にパターニング印刷することで画像を形成する技術、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）の作成において、インキ化した有機発光材料を基材上に印刷法でパターニングする画像形成技術として用いる好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス板等の基材上に、高精細にパターニングして各色インキを印刷する方法としては、オフセット印刷法、凸版印刷法およびスクリーン印刷法による方法が考えられる。基材がガラス板の場合、グラビア印刷法のように金属版で直刷りするタイプの印刷方式を用いることは困難であった。このため、柔らかい素材のゴムブランケットから基材にインキを転移させるオフセット印刷法や、同じくゴム版を用いインキを転移させる凸版印刷法や非転移方式のスクリーン印刷法が印刷可能な方式として挙げられる。
【０００３】
一方、有機ＥＬ素子の作成において、有機発光材料を高精細にパターニングする方法としては、低分子有機発光材料を用いる場合、マスク蒸着法によりパターニングする方法が一般的である。しかし、この方法では、素子を形成する基材が大型化すると、それにあわせた大型化マスクが必要となるし、またパターニング精度を出しにくいという問題があった。
【０００４】
そこで、低分子有機発光材料にかえて、有機高分子発光材料をインキ化し、このインキを印刷法によりパターニングする方法が提案され、具体的にはオフセット印刷による方法、凸版印刷による方法、スクリーン印刷による方法などが提案されている。
【０００５】
しかし、オフセット印刷法や凸版印刷法は、ゴムブランケットやゴム版等の部材を用い、前記部材上に一旦有機発光材料を含むインキをパターニングし、ついで基材上に転移するが、パターニングを精細に行うには、前記部材上でインキをある程度乾燥させ、基材上に転移インキのパターン形状を一定に維持する必要がある。このため部材上のインキは、部材表面との密着力が高くなる。
【０００６】
そこで、基材上にインキを再転移させる際に、部材表面と基材との間でインキの取り合いがおこり、基材上に安定してインキを転移することが困難になるという問題がある。
【０００７】
また、スクリーン印刷法は、印刷したインキの膜厚が厚くなってしまい、有機ＥＬ素子形成で必要な、１００ｎｍ前後の厚さの発光層の実現には不適当である。
【０００８】
また、凹版オフセット法による有機ＥＬ発光素子の製造方法も提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−３０８９７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ここで、有機ＥＬ素子や有機ＴＦＴ等に用いる機能性材料をインキとするためには、トルエンやキシレンの芳香族系溶媒を用いることが多い。しかし芳香族系溶媒を用いたインキは、印刷に用いるブランケットや版に用いるゴムや樹脂を膨潤させてしまうため、パターン印刷した場合、その精度が悪く、また印刷精度を制御することが困難になるという問題があった。
【００１０】
特許文献１記載の技術によれば、印刷ブランケットにおける表面印刷層に著しい膨潤が生じるものであったとしても、有機ＥＬ素子のパターンを極めて微細に、しかも極めて高い精度でもって形成することができるとの記載があるが、このような技術であったとしても、パターン形成精度は、十分に満足できるレベルでなく、さらなる向上が求められている。
【００１１】
さらに、有機ＥＬ素子形成材料を含む印刷インキを、版、印刷用ブランケット等を介して基材上に転移させる転移印刷法において、版またはブランケットの有機溶媒に対する耐性、有機溶媒の吸収性が、印刷インキを確実に基材上に転移できるか、高精細のパターンが転移できるかに大きな影響を与える。
【００１２】
特に、ゴムブランケットは、インキの剥離性等による転移性能がパターンを正確に形成するのに大きな影響を与える。
【００１３】
ゴム製ブランケットにおいて、インキ転移性等による転移性能にかかる性質を決定するのは、表面層を形成するゴムの材質と、厚み、硬さ、表面粗さ、そして孔の径である。現状の技術では、ブランケット製造時においてゴム製表面層の孔の径を制御することは難しく、また、表面層のゴムの材質は、インキとの相性により制限がある。
【００１４】
したがって、インキと相性のよいゴム材質で、かつ有機溶媒の出入りがあっても表面層の膨潤等が制御することができる印刷用ブランケット、または版を実現したいという要求があった。
【００１５】
本発明は、上記の事情を鑑みてなされたもので、ガラス板等の基材上に印刷法によってインキを高精細にパターニングする際、特に有機ＥＬ素子を構成する有機発光層を印刷によりパターニングする場合に、インキの転移が安定しており、パターン形成精度を向上することができる印刷用ブランケット、およびこのブランケットを用いた有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の有機ＥＬ素子印刷用ブランケットは、転写法により有機ＥＬ素子形成材料を基材上に転写させ有機ＥＬ素子を製造する際に用いられる印刷用ブランケットにおいて、
シリコーン系ゴム素材からなる最表面層、該最表面層の下側にフッ素系ゴム素材からなる支持層からなる表面層を有する構成とすることで上記課題を解決した。
【００１７】
前記最表面層の厚みを、前記支持層の厚みと比較し、薄い層とすることが好ましく、具体的には、支持層の厚みの１／５以下とすることが好ましい。
【００１８】
また、前記支持層として多孔質のフッ素系ゴム素材を用いることが、インキの転写性を向上させるのことができるので好ましい。
【００１９】
そして、本発明の製造方法は、上記有機ＥＬ素子印刷用ブランケットを用いて、有機ＥＬ素子形成材料を基材上にパターニング形成することが可能である。
【００２０】
本発明の有機ＥＬ素子印刷用ブランケットは、最表面層がシリコーン系ゴム素材からなり、該最表面層の下側の支持層がフッ素系ゴム素材からなる表面層を有する構成であるので、有機発光材料層を表面に密着形成することができ、しかも芳香族炭化水素等の有機溶媒を含むインキであっても、膨潤を制御することが可能であり、有機ＥＬ素子パターンを高精細に形成することができる。
【００２１】
また、支持層を多孔質のフッ素系ゴムを用いることにより、ブランケットにインキが塗布された際に、最表面層を介して、インキの溶媒が支持層に吸収されるとともに、該ブランケット表面のインキを基材に転移する時の印圧により、支持体に吸収された溶媒が最表面層の外側に排出し、最表面層表面における、インキの剥離性を向上することが可能である。
【００２２】
これにより、転写法により有機発光体層を基材上に形成することにより有機ＥＬ素子を製造する際、転移が従来の方法より容易になり、パターン形成精度を向上し、転移不良を大幅に低減させることができ、大型で、高品質の有機ＥＬ素子を提供することが可能となる。
【００２３】
ここで、本発明の有機ＥＬ素子印刷用ブランケットは、厳密に印刷用ブランケットに限るものでなく、インキの剥離性、耐溶媒性を必要とするものであれば、必要に応じて版等、パターニングを行う印刷用部材に適応可能である。
【００２４】
なお、本発明において、前記支持層の下側には、基布、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等からなる支持体を設けることが可能である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、転写法により有機ＥＬ素子形成材料を基材上に転写させる有機ＥＬ素子の製造に用いられる有機ＥＬ素子印刷用ブランケットにおいて、最表面層がシリコーン系ゴム、該最表面層の下側にフッ素系ゴムからなる支持層を設けた表面層を有する構成としたので、有機発光材料の密着性を保持し、しかも転移性が良好であり、さらに、インキに含まれる有機溶媒によりブランケットが膨潤を制御することができ、高精細のパターン形成が可能となった。
【００２６】
また、支持層を多孔質フッ素系ゴムとすることで、インキに含まれる有機溶媒を吸収排出可能となり、インキの剥離性を向上させることが可能で、有機ＥＬ素子のパターンを極めて微細に、しかも極めて高い精度で形成することができるという効果を奏することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明に係る実施形態を、図面に基づいて説明する。
【００２８】
図１、図２は、本実施形態における有機ＥＬ素子印刷用ブランケットを示す断面図であり、図において、符号１は、有機ＥＬ素子印刷用ブランケットである。
【００２９】
本実施形態の有機ＥＬ素子印刷用ブランケット１は、図１、図２に示すように、金属等からなる胴部１１に、ＰＥＴからなる支持体１２が周設され、この支持体１２の周りに、支持層１４ｂ、および最表面層１４ａからなる表面層１４を、最表面層１４ａが外側となるように周設されている。
【００３０】
ここで、支持体１２は、硬質の金属等からなる胴部１１に表面層１４を支持するために設けられるもので、基布、またはＰＥＴ等フレキシブル材料からなる。
【００３１】
また、最表面層１４ａは、シリコーン系ゴムからなり、支持層１４ｂは、フッ素系ゴムからなる。
【００３２】
そして、表面層１４は、ニトリルゴム等の接着ゴムを用いて、支持層１４ｂを内側として支持体１２上に積層し、ブランケットとする。
【００３３】
本発明の最表面層は、シリコーン系ゴムからなり、具体的には、ジメチルシリコーン（ＭＱ）、ビニル基シリコーン（ＶＭＱ）、フェニル基シリコーン（ＰＭＱ）、フッ素化アルキルシリコーン（ＦＶＭＱ）やそれらの混合物、またはそれらと他のゴムの混合物が挙げられる。また、支持層は、フッ素系ゴムからなり、具体的には、フッ化ビニリデン系（ＦＫＭ）、テトラフルオロエチレン−プロピレン系（ＦＥＰＭ）、テトラフルオロエチレン−パープルオロビニルエーテル系（ＦＦＫＭ）のフッ素ゴム及びフッ素化アルキルシリコーン（ＦＶＭＱ）やそれらの混合物が挙げられる。
【００３４】
また、最表面層、支持層、支持体の各層間の溶剤吸収による剥離を防止するために、それぞれをニトリルゴム、シランカップリング剤、シリコーン系接着剤、高分子の架橋反応等で接着することが好ましい。また、必要に応じて各層の表面を粗面化するなどして密着性を向上させても良い。
【００３５】
前記最表面層１４ａの厚みは、支持層１４ｂの厚みと比較して薄い層とするのが好ましく、具体的には、支持層の１／５以下の厚みとすることが好ましい。
【００３６】
また、支持層１４ｂは、多孔質フッ素系ゴムとすることで、ブランケット周面に塗布されたインキの有機溶媒を最表面層１４ａを通して吸収し、インキの有機溶媒を吸収することで基材への転移に好ましい程度の強度を持つインキ膜をブランケット上に形成し、印刷時には、印圧により吸収した有機溶媒を最表面層１４ａの表面に排出し、インキの剥離性を向上させることができる。
【００３７】
支持体１４ｂを多孔質化する方法としては、フッ素系ゴムに砂糖や食塩などを混ぜ込んでから溶出させる溶出法や、水を分散させてから加硫して水を電磁波で気化発泡させる発泡剤法、イソブタンなどを封じ込めたマイクロカプセルを混入させるマイクロカプセル法、ポーラスなフィラーを混入する方法、針などで穴を空ける方法などを用いることが出来る。
【００３８】
図３に本実施形態により製造される有機ＥＬ素子の一例を示す。
【００３９】
この有機電界発光（ＥＬ）素子１００は、図３に示すように、透明ガラス基板１０１上に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）透明画素電極（陽極）１０２、ホール輸送層１０３、発光層１０４、電子輸送層１０５および陰極１０６を順次積層したものである。
【００４０】
そして、この有機電界発光（ＥＬ）素子１００においては、陽極であるＩＴＯ透明画素電極１０２と陰極１０６との間に直流電圧１０７を印加すると、ＩＴＯ透明画素電極１０２から注入されたキャリアとしてのホール（正孔）がホール輸送層１０３を経て移動し、一方、陰極１０６から注入された電子が電子輸送層１０５を経てそれぞれ移動し、発光層１０４において、それら電子―正孔対の再結合が生じ、そこから所定波長の発光１０８が生じ、これを透明ガラス基板１０１から観察できる。
【００４１】
発光層１０４に用いる高分子発光体として、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィリン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換キナクリドン系、ナフチルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に溶解させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系等の高分子発光体を用いることができる。
【００４２】
これらの高分子発光体は、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独または混合溶媒に溶解し、必要に応じて版を用いてパターニングを行う。
【００４３】
また、高分子発光体層は必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。膜厚は、発光層１０４単独、またはホール輸送層１０３、発光層１０４、電子輸送層１０５を合わせて１０００ｎｍ以下であり、好ましくは合わせて５０〜１５０ｎｍの範囲である。
【００４４】
図４に本実施形態により製造される他の有機ＥＬ素子の一例を示す。この有機ＥＬ素子では、ＩＴＯ透明画素電極（陽極）１０２を設けたガラス基板１０１上にホール輸送層１０３を形成し、この上に発光層１０４を形成し、この上には電子の注入性を高めるカルシウム（Ｃａ）層１１１をアルミニウム（Ａｌ）層１０６との間に設ける。
【００４５】
このような有機ＥＬ素子１００の層構造として、ホール輸送層１０３の材料にポリ（３，４）−エチレンジオキシチオフェン（以下、ＰＥＤＯＴと略す）を用い、発光層１０４にポリ（２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン）（以下、ＭＥＨ−ＰＰＶと略す）を用い、この上には電子の注入性を高めるカルシウム（Ｃａ）層１１１及びアルミニウム（Ａｌ）層１０６からなる陰極が設けられている。
【００４６】
次に、図５に本実施形態における有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。
【００４７】
まず、ガラス基板１０１上にＩＴＯからなる透明画素電極１０２をパターニングし、ホール輸送性のＰＥＤＯＴの水系分散液を塗布後焼成し、ホール輸送（ＰＥＤＯＴ）層１０３を形成する。これを被転写体１１２とする。
【００４８】
次に、ＭＥＨ−ＰＰＶ等のトルエン溶液からなるインキ２を、被転写体１１２上に転写法により所定パターンに転写し、これを焼成して発光層１０４を形成する。
【００４９】
ここで、ＰＰＶ又はその誘導体等を含むインキ２の転写は、図１に示す有機ＥＬ印刷用ブランケット（ロール）１を用いてフレキソ印刷法で行うことができる。
【００５０】
即ち、図５（Ａ）に示すように、インキ剥離性処理を施した、シリコンゴムからなる最表面層１４ａと、フッ素系ゴムからなる支持層１４ｂの積層構成の表面層１４を周面に一体に設けたロール１に対し、図５（Ｂ）に示すようにワイヤーバー（図示せず）等によりインキ２を所定厚（例えば１００ｎｍ）に塗布する。
【００５１】
このとき、支持層１４ｂが、多孔質フッ素系ゴムから形成されている場合、インキ２中の溶媒が最表面層１４ａを通じて、支持層１４ｂに吸収される。
【００５２】
その後、図５（Ｃ）に示すように、ロール１をガラス製の凸版３（ガラスマスク）上で相対的に転動させながら、その凸部先端部に接するインキを２ｂとしてロール１の表面から除去する。凸版３の凸部３ａは、形成すべき発光層１０４とは逆パターンに予め加工されている。
【００５３】
このインキ２ｂの除去においては、ブランケットの支持層１４ｂが、多孔質フッ素系ゴムから形成されている場合、ガラスマスク３によってロール１が押圧されることにより指支持層１４ｂ中の溶媒Ａが最表面層１４ａを通じて、該最表面層１４ａの表面に排出される（図６）。
このことで、表面層１４の表面において剥離作用が高まり、これによって、インキの剥離を容易、かつ確実に行なうことができる。
【００５４】
こうして、ロール１上に必要なインキパターン２ａを残した後、図５（Ｄ）に示すように、有機電界発光素子の被転写体１１２に接してロール１を相対的に転動させ、ロール１上の残ったインキ２ａを被転写体１１２上に所定パターンに転写し、上記した焼成、乾燥処理を行う。
【００５５】
ここで、ブランケットの支持層１４ｂが、多孔質フッ素系ゴムから形成されている場合、被転写体１１２へのインキパターン２ａの転写においては、図６に示したガラスマスク３によるインキ除去と同様に、印圧によって支持層１４ｂから最表面層１４ａを通じて該最表面層１４ａの表面に有機溶媒Ａが染み出てくる（図６）。
【００５６】
このことで表面層１４の表面において、インキ２ａの剥離作用が高まる。これにより、この転写による発光層１０４の形成を容易、かつ高精度に行うことができる。
【００５７】
このようにして形成された発光層１０４は、図５に示すような単色パターンは勿論、上記凸版反転オフセット法を順次行うことによって、フルカラー用のパターンＲ（赤色用）、Ｇ（緑色用）、Ｂ（青色用）をそれぞれ形成することができる。
【００５８】
次に、発光層１０４上にカルシウム（Ｃａ）層１１１を、例えば５ｎｍ厚に形成し、このカルシウム（Ｃａ）層１１１上に、主電極としてのアルミニウム（Ａｌ）層１０６を、例えば５００ｎｍ厚に形成し、さらに、このアルミニウム（Ａｌ）層１０６上に保護及びボンディング性向上のためのＡｕ−Ｇｅ層を１０００ｎｍ厚に形成し、陰極を形成する。次に、Ａｕ−Ｇｅ層上から対抗電極を被せ、さらに側部をエポキシ樹脂等によって封止し、有機ＥＬ素子を完成する。
【００５９】
本実施形態においては、ロール１の表面に、最表面層１４ａがシリコーン系ゴム、支持層１４ｂがフッ素系ゴムからなる積層構成の表面層１４を有することで、有機ＥＬ素子形成材料を含有するインキ２の溶媒が、芳香族炭化水素等の有機溶媒であり、従来の通常のゴムブランケット表面層に著しい膨潤を生じさせるものであったとしても、有機ＥＬ素子のパターンを極めて微細に、しかも極めて高い精度をもって形成することができる。
【００６０】
さらに図６へ示すように、前記支持層１４ｂとして多孔質材料を用い、最表面層１４ａの下側に設けることにより、前記溶媒Aを吸収排出可能となり、ロール１にインキが塗布された際、最表面層１４ａを介して支持層１４ｂにおいて前記溶媒Aを吸収するとともに、ロール１表面のインキ２を基材上に転写する際の印圧により、前記支持層１４ｂに吸収された溶媒Ａが排出されるため、最表面層１４ａ表面において、インキ２の剥離性を向上して、有機ＥＬ素子のパターンを極めて微細に、しかも極めて高い精度で形成することができる。
【００６１】
また、表面層１４を、シリコーン系ゴム、またはフッ素系ゴム単体からなる構成でなく、最表面層１４ａと支持層１４ｂの積層構成とすることで、インキ２の塗布形成時の安定性、インキの剥離性を発揮し、しかも前記溶媒による膨潤を抑制することができ、有機ＥＬ素子のパターンを極めて微細に、かつ極めて高い精度で形成することができる。
【００６２】
なお、上記実施形態では、発光層１０４のみを印刷用ブランケット１によって転写形成したが、これ以外の有機ＥＬ素子を構成する各層の形成に用いることも可能である。また、上記以外のロール等を用いて、印刷法により転写する場合にも適応可能である。
【００６３】
また、インキの調製に用いる溶媒にはインキの剥離性向上のためにシリコーンオイル等の添加剤を加えることができ、これも溶媒とともに支持層１４ｂに吸収・排出され、インキの転写性をコントロールするものとなる。
【００６４】
以下、本発明における実施例を説明する。
【実施例１】
【００６５】
上記実施形態における有機ＥＬ素子印刷用ブランケット１において、
表面層１４が、フッ素系ゴム（商品名カルレッツ  デュポン社製）からなる支持層１４ｂ（厚み１．７ｍｍ）上に、以下の組成からなるシリコーンゴムからなる最表面層１４ａを設けた積層構成からなる。
（最表面層の構成）
２液型シリコーンゴム主剤（商品名ＴＳＥ３０３２（Ａ）  ＧＥ東芝シリコーン社製）１００重量部と、２液型シリコーンゴム硬化剤（商品名ＴＳＥ３０３２（Ｂ）  ＧＥ東芝シリコーン社製）１０重量部とを混合したシリコーンゴム組成物を、バーコーターを用いてポリプロピレンフィルム上に塗布後、１００℃で１時間加熱し、硬化反応させることで、厚さ２００μｍのシリコーンゴム層を作製した。
【００６６】
このシリコーンゴム層を、前記支持層１４ｂ上に、厚み１００μｍのニトリルゴムからなる接着層を介して張り合わせ、１００℃で４時間加熱し、接着層を硬化するとともに、最表面層１４ａと架橋させた。
【００６７】
このブランケット１の表面に、ＭＥＨ−ＰＰＶ０．５重量％のトルエン／アニソール混合溶媒にてガラス基板への、ライン／スペースが、１００μｍ／１００μｍで、長さ１０ｍｍのラインを５０本のパターンを、凸版反転オフセット法で印刷テストを行なったところ、８０％の転写率で、かつライン形状の幅精度が１００μｍ±３μｍで作製することができた。
【実施例２】
【００６８】
支持層１４ｂに用いたフッ素系ゴムを以下の構成とした以外は、実施例１と同様のブランケット１を得、実施例１と同様のテストを行った。
【００６９】
この結果、１００％の転写率で、かつライン形状の幅精度が±３μｍで作製することができた。
（支持層）
フッ素ゴム（商品名バイトンＥ−６０Ｃ  デュポン社製）１００重量部、ＭＴブラック３０重量部、水酸化カルシウム６重量部、マグネシア３重量部を混合し、フッ素ゴム組成物を得た。この組成物をアセトンに溶解し、前記組成物に平均粒径２０μｍの食塩を１５０重量部投入し、均一に分散するように、混合攪拌して分散液を得た．
この分散液をナイフコーターを用いてアルミニウム板上に塗布し，乾燥後、２００℃で１０分加熱し加硫させた。その後、８０℃の水に一昼夜浸漬して食塩を溶出させ、厚さ１．７ｍｍのフッ素ゴム層を得た。
［比較例］
実施例１で用いた最表面層１４ａと同様のシリコンゴムの単層（厚み１．９ｍｍ）の表面層１４からなる印刷用ブランケットを１を用い、実施例１と同様のテストを行った。
【００７０】
その結果、表面層が１．５倍の厚みに膨潤し、印刷したパターンが９０％の転写率で、あったが、ライン形状の幅精度が１００μｍ±３７μｍとパターン形状に大きな歪みが生じた。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ素子用ブランケットの一実施形態を示す平面図である。
【図２】本発明に係る有機ＥＬ素子用ブランケットの一実施形態を示す平面図である。
【図３】本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法により製造される有機ＥＬ素子を示す模式断面図である。
【図４】本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法により製造される有機ＥＬ素子を示す模式断面図である。
【図５】本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を示す工程図である。
【図６】本発明に係る有機ＥＬ素子製造工程における有機ＥＬ用ブランケットの剥離性を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７２】
１      有機ＥＬ素子印刷用ブランケット
２      インキ
３      凸版（ガラスマスク）
３ａ    凸部
１１    胴部
１２    支持体
１４    表面層
１４ａ  最表面層
１４ｂ  支持層
１００  有機ＥＬ素子
１０１  透明ガラス基板
１０２  透明画素電極
１０３  ホール輸送層
１０４  発光層
１０５  電子輸送層
１０６  陰極
１０７  直流電圧
１０８  発光
１１１  カルシウム層
１１２  被転写体
Ａ      溶媒
【図１】
2006019157.tif 000003
【図２】
2006019157.tif 000004
【図３】
2006019157.tif 000005
【図４】
2006019157.tif 000006
【図５】
2006019157.tif 000007
【図６】
2006019157.tif 000008