(57)【要約】【課題】    感光層の内部で層間剥離が生じ難く、銅張り基板などへのラミネート時に剥離欠陥が生じることのない感光性転写シート積層体およびその製造方法の提供。【解決手段】  支持体と前記支持体に積層された感光層と前記感光層を被覆する保護フィルムとからなる感光性転写シート積層体であって、前記感光層と前記保護フィルムとの間の層間密着力Ｆ１が、前記感光層と前記支持体との間の相関密着力Ｆ２よりも小さいことを特徴とする感光性転写シート積層体、およびその製造方法。【選択図】        図１
2006078574.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と前記支持体に積層された感光層と前記感光層を保護する保護フィルムとからなる感光性転写シート積層体であって、
前記感光層と前記保護フィルムとの間の層間密着力Ｆ１は、前記感光層と前記支持体との間の相関密着力Ｆ２よりも小さいことを特徴とする感光性転写シート積層体。
【請求項２】
支持体と前記支持体に積層された感光層と前記感光層を保護する保護フィルムとからなる感光性転写シート積層体であって、
前記感光層は複数のレジスト層からなり、
前記感光層と前記保護フィルムとの間の層間密着力Ｆ１は、前記感光層と前記支持体との間の相関密着力Ｆ２よりも小さく、前記感光層と前記支持体との間の相関密着力Ｆ２は、前記感光層におけるレジスト層相互の相関密着力Ｆ３よりも小さいことを特徴とする感光性転写シート積層体。
【請求項３】
前記複数のレジスト層の間にはバリア層が挿入されてなる請求項２に記載の感光性転写シート積層体。
【請求項４】
前記複数のレジスト層は、何れも露光により硬化する光硬化性のレジスト層であり、保護シートの近傍に位置するレジスト層は、支持体の近傍に配置されたレジスト層よりも感度が高い請求項２または３に記載の感光性転写シート積層体。
【請求項５】
前記複数のレジスト層は、何れも光重合性を有する光重合性化合物と光重合開始剤とが配合され、保護シートの近傍に位置するレジスト層は、支持体の近傍に配置されたレジスト層よりも光重合性化合物の配合割合が多い請求項４に記載の感光性転写シート積層体。
【請求項６】
前記複数のレジスト層のうち、保護シートの近傍に位置するものにおいては、光重合性化合物の割合は固形分全体に対して３５〜７０質量％であり、支持体の近傍に位置するものの光重合性化合物の割合は固形文全体に対して２０〜３５質量％である請求項５に記載の感光性転写シート積層体。
【請求項７】
前記バリア層は、水または炭素数１〜４の低級アルコールに膨潤し、または可溶な親水／アルコール性樹脂を主成分として含有する請求項３〜６の何れか１項に記載の感光性転写シート積層体。
【請求項８】
分子中に弗素原子を有する弗素系界面活性剤が少なくとも１つのレジスト層に配合されてなる請求項２〜７の何れか１項に記載の感光性転写シート積層体。
【請求項９】
前記感光層における弗素系界面活性剤の配合量は、感光性転写シート積層体１ｍ2当り０．０００１〜１０ｇである請求項８に記載の感光性転写シート積層体。
【請求項１０】
前記支持体の一方の面に感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層形成工程で形成された感光層を保護フィルムで被覆する保護フィルム被覆工程とを有してなり、
前記感光層形成工程は、
第１のレジスト層形成液を塗布、乾燥して一のレジスト層を形成する第１レジスト層形成工程と、
前記第１レジスト層形成工程で形成された一のレジスト層の表面に、親水／アルコール性樹脂が配合されたバリア層形成液を塗布、乾燥してバリア層を形成するバリア層形成工程と、
前記バリア層形成工程で形成されたバリア層の表面に、第２のレジスト層形成液を塗布、乾燥して他のレジスト層を形成する第２レジスト層形成工程とを、
有することを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の感光性転写シート積層体の製造方法。
【請求項１１】
前記支持体の一方の面に感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層形成工程で形成された感光層を保護フィルムで被覆する保護フィルム被覆工程とを有してなり、
前記感光層形成工程においては、同時多層塗布装置を用い、第１のレジスト層形成液、親水／アルコール性樹脂が配合されたバリア層形成液、第２のレジスト層形成液を一括で塗布して乾燥し、一のレジスト層、バリア層、および他のレジスト層を同時に形成することを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の感光性転写シート積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性転写シート積層体およびその製造方法に関し、特に、銅張り基板にラミネーションする前に保護フィルムを剥離したとき、および基板にラミネーションした後に支持体を剥離したときの何れにおいても剥離欠陥が生じ難い感光性転写シート積層体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線基板の製造に広く用いられているドライレジストラミネート積層体は、通常、透明な支持体の一方の面に、レーザ光またはＵＶ光を照射すると硬化し、または現像液への溶解性が増すフィルム状のドライレジスト層、即ち感光層を積層し、前記感光層を保護フィルムで被覆した構成を有する（特許文献１〜７）。
【０００３】
ドライレジストラミネート積層体を使用するときは、まず保護フィルムを剥離して感光層の側を銅張り基板に貼着し、熱を加える熱ラミネートを必要に応じて行う。
【０００４】
ドライレジストラミネート積層体を銅張り基板に熱ラミネートしたら、所定の回路パターンに沿って支持体の側からレーザ光またはＵＶ光で露光し、感光層を硬化させる。そして、支持体を剥離して現像剤で現像して未露光部を除去し、エッチングを行なって所定の回路パターンを形成する。
【０００５】
したがって、ドライレジストラミネート積層体は、少なくとも保護フィルムと感光層との間の剥離界面、および感光層と支持体との間の剥離界面の２つの剥離界面を有する。
【０００６】
近年、特性の異なる複数の層を積層して感光層を形成することにより、ドライレジストラミネート積層体において高微細化と膜強度即ちテント性とを高度に両立させることが検討されている（特許文献１〜７）。
【特許文献１】特開平１０−１４２７８９号公報
【特許文献２】特開平８−５４７３２号公報
【特許文献３】特開平１０−１１１５７３号公報
【特許文献４】特開平３−１７６５０号公報
【特許文献５】特公昭３７−１３０８号公報
【特許文献６】特開平７−１９１４５５号公報
【特許文献７】特開２００２−３４１５２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
感光層が積層構造を有するドライレジストラミネート積層体においては、保護フィルムと感光層との間、および感光層と支持体との間だけでなく、感光層の内部にも１または２以上の剥離界面を有する。
【０００８】
したがって、このようなドライレジストラミネート積層体をプリント配線基板の製造に使用すると、保護フィルムと感光層との間、および感光層と支持体との間のような所望の層間以外の位置、たとえば感光層の内部の層間で剥離が発生し、ラミネート時に剥離欠陥が生じる可能性があった。
【０００９】
本発明は、上記問題を解決すべく成されたものであり、ドライレジストラミネート積層体などの感光性転写シート積層体において、保護フィルム剥離時や露光後の支持体剥離時において感光層が剥離したり層間剥離が生じたりするのを防止すること、および前記欠陥の生じない感光性転写シート積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、支持体と前記支持体に積層された感光層と前記感光層を被覆する保護フィルムとからなる感光性転写シート積層体であって、前記感光層と前記保護フィルムとの間の層間密着力Ｆ１が、前記感光層と前記支持体との間の相関密着力Ｆ２よりも小さいことを特徴とする感光性転写シート積層体に関する。
【００１１】
感光性転写シートは、［背景技術］の欄でも述べたように、通常、保護シートを剥離して、銅張り基板または銅貼り基板を更に銅鍍金した銅鍍金基板にラミネートされる。そして支持体の側から所望の回路パターンに沿って露光される。露光後、支持体が剥離され、現像される。
【００１２】
前記感光性転写シートにおいては、感光層と保護フィルムとの間の層間密着力Ｆ１が、感光層と支持体との間の相関密着力Ｆ２よりも小さいから、保護フィルムを剥離したときに、保護フィルムと一緒に感光層が支持体から剥離することがない。したがって、銅張り基板または銅鍍金基板への無欠陥ラミネートが容易である。
【００１３】
感光層は、単一の感光層から形成されていてもよく、感度の異なる複数のレジスト層を積層したものであってもよい。なお、後者の感光層においては、感光層の間にバリア層が配置されていることが好ましい。更に、感光層は、露光により硬化して現像液に溶解しなくなる光硬化型であっても、露光により分解して現像液に溶解する光分解型であってもよい。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、支持体と前記支持体に積層された感光層と前記感光層を保護する保護フィルムとからなる感光性転写シート積層体であって、前記感光層は複数のレジスト層からなるとともに、前記感光層と前記保護フィルムとの間の層間密着力Ｆ１は、前記感光層と前記支持体との間の相関密着力Ｆ２よりも小さく、前記感光層と前記支持体との間の相関密着力Ｆ２は、前記感光層におけるレジスト層相互の相関密着力Ｆ３よりも小さいことを特徴とする感光性転写シート積層体に関する。
【００１５】
前記感光性転写シートもまた、請求項１に記載の感光性転写シートと同様に、保護シートを剥離して、銅張り基板または銅貼り基板を更に銅鍍金した銅鍍金基板にラミネートされる。そして支持体の側から所望の回路パターンに沿って露光される。露光後、支持体が剥離され、現像される。
【００１６】
ここで、前記感光性転写シートにおいては、感光層と保護フィルムとの間の層間密着力Ｆ１は感光層と支持体との間の相関密着力Ｆ２よりも小さいから、保護フィルムを剥離したときに、保護フィルムと一緒に感光層が支持体から剥離することがない。また、感光層と前記支持体との間の相関密着力Ｆ２は、感光層におけるレジスト層相互の相関密着力Ｆ３よりも小さいから、露光後支持体を剥離したときに感光層内で層間剥離が生じることがない。
【００１７】
したがって、前記感光性転写シート積層体を用ることにより、欠陥のないプリント回路基板が容易に作製できる。
【００１８】
ここで、レジスト層は、露光により現像液への溶解性が増加する光分解型性のレジスト層であってもよく、また露光によって硬化する光硬化性のレジスト層であってもよい。
【００１９】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の感光性転写シート積層体であって、前記複数のレジスト層の間にバリア層が挿入されてなる感光性転写シート積層体に関する。
【００２０】
感光層が複数のレジスト層を有する場合には、レジスト層の配合組成によっては保存中に隣接するレジスト層相互間で成分が移行してレジスト層間の感度差が小さくなることがある。
【００２１】
しかしながら、前記請求項に係る感光性転写シート積層体においては、レジスト層の間にバリア層が配置されているから、レジスト層相互間の成分の移行は前記バリア層によって効果的に防止される。
【００２２】
請求項４に記載の発明は、請求項２または３に記載の感光性転写シート積層体において、前記複数のレジスト層は、何れも露光により硬化する光硬化性のレジスト層であり、保護シートの近傍に位置するレジスト層は、支持体の近傍に配置されたレジスト層よりも感度が高い感光性転写シート積層体に関する。
【００２３】
前記感光性転写シート積層体は、レーザ光等によって露光した部分のみが硬化して現像液に溶けなくなるので、レーザ光で直接回路パターンを描画することにより、銅張り基板や銅鍍金基板に回路パターンを形成できる。したがって、回路パターンを描いたマスク等が不要になるので、工程が簡略化でき、また、ＤＭＤなどの空間変調素子を用いた描画露光装置による露光に容易に対応可能である。
【００２４】
また、銅張り基板や銅鍍金基板にスルーホールがある場合には、スルーホールの部分の露光強度を周囲よりも強くすることにより、スルーホールの部分においては支持体に近い低感度層を含む感光層全体が硬化し、それ以外の部分においては、感光層のうちの保護フィルムに近い側、換言すれば銅張り基板や銅鍍金基板に近い高感度層のみが硬化する。したがって、スルーホール部では厚い膜厚の硬化膜が形成され、それ以外の部分においては、薄い膜厚の硬化膜のみが形成されるから、微細パターンの高精度な形成とスルーホール部における膜強度との高いレベルでの両立が達成できる。
【００２５】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の感光性転写シート積層体において、前記複数のレジスト層が、何れも光重合性を有する光重合性化合物と光重合開始剤とが配合され、保護シートの近傍に位置するレジスト層は、支持体の近傍に配置されたレジスト層よりも光重合性化合物の配合割合が多い感光性転写シート積層体に関する。
【００２６】
レジスト層に配合される光重合性化合物の割合が多くなればなるほど、レジスト層は高感度になるが、前記感光性転写シート積層体においては、前述のように、保護シートの近傍に位置するレジスト層の方が、支持体の近傍に配置されたレジスト層よりも光重合性化合物の配合割合が多いから、感度も高い。
【００２７】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の感光性転写シート積層体において、前記複数のレジスト層のうち、保護シートの近傍に位置するものの光重合性化合物の割合が３５〜７０質量％であり、支持体の近傍に位置するものの光重合性化合物の割合が２０〜３５質量％である感光性転写シート積層体に関する。
【００２８】
前記感光性転写シート積層体によれば、保護シートを剥離する際や、露光後、支持体を剥離する際に感光層内部に層間剥離が生じ、得られるプリント回路基板に不良が生じることを効果的に防止できる。
【００２９】
請求項７に記載の発明は、請求項３〜６の何れか１項に記載の感光性転写シート積層体において、前記バリア層が、水または炭素数１〜４の低級アルコールに膨潤し、または可溶な親水／アルコール性樹脂を主成分として含有する感光性転写シート積層体に関する。
【００３０】
感光層が光硬化性のレジスト層を積層したものである場合、現像液としてはアルカリ性の水性現像液が一般的に使用される。
【００３１】
前記感光性転写シート積層体においては、バリア層が、親水／アルコール性樹脂を主成分としているから、現像の際、露光されなかった感光層とともに、バリア層も前記現像液によって容易に除去させる。
【００３２】
請求項８に記載の発明は、請求項２〜７の何れか１項に記載の感光性転写シート積層体において、分子中に弗素原子を有する弗素系界面活性剤が少なくとも１つのレジスト層に配合されてなる感光性転写シート積層体に関する。
【００３３】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の感光性転写シート積層体において、前記感光層における弗素系界面活性剤の配合量が感光性転写シート積層体１ｍ2当り０．０００１〜１０ｇである感光性転写シート積層体に関する。
【００３４】
これらの感光性転写シート積層体によれば、保護シートを剥離する際や、露光後、支持体を剥離する際に感光層内部に層間剥離が生じ、プリント回路基板に不良が生じることを特に効果的に防止できる。また、プリント回路基板における微細パターン作製にも効果的に対応できる。
【００３５】
請求項１０に記載の発明は、前記支持体の一方の面に感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層形成工程で形成された感光層を保護フィルムで被覆する保護フィルム被覆工程とを有してなり、前記感光層形成工程は、第１のレジスト層形成液を塗布、乾燥して一のレジスト層を形成する第１レジスト層形成工程と、前記第１レジスト層形成工程で形成された一のレジスト層の表面に、親水／アルコール性樹脂が配合されたバリア層形成液を塗布、乾燥してバリア層を形成するバリア層形成工程と、前記バリア層形成工程で形成されたバリア層の表面に、第２のレジスト層形成液を塗布、乾燥して他のレジスト層を形成する第２レジスト層形成工程とを有することを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の感光性転写シート積層体の製造方法に関する。
【００３６】
前記感光性転写シート製造方法によれば、請求項１〜９に記載の感光性転写シート積層体が容易に製造できる。
【００３７】
請求項１１に記載の発明は、前記支持体の一方の面に感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層形成工程で形成された感光層を保護フィルムで被覆する保護フィルム被覆工程とを有してなり、前記感光層形成工程においては、同時多層塗布装置を用い、第１のレジスト層形成液、親水／アルコール性樹脂が配合されたバリア層形成液、第２のレジスト層形成液を一括で塗布して乾燥し、一のレジスト層、バリア層、および他のレジスト層を同時に形成することを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の感光性転写シート積層体の製造方法に関する。
【００３８】
前記感光性転写シート積層体の製造方法においては、レジスト層やバリア層を同時に形成しているから、各層毎に塗布液の塗布と乾燥、巻取りとを繰り返す場合に比較して製造ラインが遥かに短くて済み、製造ラインの占めるスペースや投資額も少なくて済む。更に、工程長が短くなるから、工程内において塗布液面が開放系にあることによる異物混入の可能性が少なくなり、したがって工程内の塵埃管理の負担も少なくなる。
【００３９】
加えて１層づつ塗布液を塗布して乾燥する場合に比較して１度に大きな膜厚の塗布膜を形成できるから、巻取り皺を軽減できる。また、１層づつ塗布液を塗布して乾燥する場合には、塗布後、乾燥中に塗布液または感光層が吸湿してレチキュレーションが生じることがあるが、前記方法においては、上層として硬度の高い他のレジスト層を形成することにより、レチキュレーションを効果的に防止できる。
【発明の効果】
【００４０】
以上説明したように本発明によれば、感光層の内部などにおいて層間剥離が生じ難く、銅張り基板などへのラミネート時に剥離欠陥が生じることのない感光性転写シート積層体およびその製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
１．実施形態１
本発明の感光性転写シート積層体のうち、感光層が、第１レジスト層と、それよりも高感度な第２レジスト層と、第１レジスト層と第２レジスト層との間に配置されたバインダ層とから構成されているものの例について以下に説明する。
【００４２】
図１に示すように、実施形態１の感光性転写シート積層体１００は、露光に使用されるレーザ光またはＵＶ光に対して透明なフィルムである支持体８と、支持体８の一方の面に形成された感光層１２と、感光層１２を保護する保護フィルムとから構成されている。
【００４３】
感光層１２は、支持体８に積層された第１レジスト層２と、第１レジスト層２に重ねて形成された第２レジスト層４と、第１レジスト層２と第２レジスト層４との間に形成されたバリア層６から構成されている。
【００４４】
保護フィルム１０は、感光層１２における第２レジスト層４に重ねて形成されている。
【００４５】
第２レジスト層４は、第１レジスト層２よりも感度が高く、言いかえればより少ない光量で硬化して現像液に溶解しなくなる。
【００４６】
また、保護フィルム１０と第２レジスト層４との間の層間密着力Ｆ１は、第１レジスト層と支持体８との間の相関密着力Ｆ２よりも小さく、また、第１レジスト層４と支持体８との間の相関密着力Ｆ２は、第１レジスト層２とバリア層６およびバリア層６と第２レジスト層４との間の相関密着力のうち最小の層間接着力Ｆ３よりも小さい。
【００４７】
１−１  感光性転写シート積層体の構成
感光性転写シート積層体１００を構成する各層について、以下に詳細に説明する。
【００４８】
１−１−Ａ  支持体
支持体８は、感光層１２を剥離可能であり、レーザ光またはＵＶ光に対して透明であるとともに、表面が平滑であり、熱ラミネーションにも耐えられる程度の耐熱性を有する合成樹脂フィルムが好ましい。支持体８は、有色透明であってもよいが、無色透明であることが好ましい。
【００４９】
支持体８としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、エチレン・プロピレン共重合体、ポリプロピレン、ポリカーボネート、三酢酸セルロース、ニ酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アルキルエステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリアミド、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチレンなどのフィルムが好適に使用される。また、２種類以上のフィルムからなる複合フィルムも好適に使用される。これらのフィルムのうち、支持体８として最も好適なものとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのフィルムが挙げられる。
【００５０】
支持体の厚みは２〜１５０μｍの範囲が適当であり、５〜１００μｍが好ましく、８〜５０μｍの範囲が最も好適である。
【００５１】
支持体８の表面には、下塗り処理やコロナ放電処理、帯電防止処理、背面処理など、各種の処理を施すことができる。感光層１２と支持体８との層間密着力、言い換えれば第１レジスト層２と支持体８との層間密着力は、支持体８に前記表面処理を施すことにより、調節できる。
【００５２】
たとえば、アクリル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、スチレンブタジエンゴム、ポリエステル、マレイン酸系樹脂などの樹脂層を支持体８に下塗り層として渡設することにより、第１レジスト層２と支持体８との層間密着力を大きくすることができる。
【００５３】
一方、下塗り層にシリコーン系樹脂または弗素系樹脂を添加することにより、前記層間密着力を小さくすることができる。
【００５４】
また、ＵＶ処理、コロナ処理、下縁処理、グロー処理などにより、第１レジスト層２と支持体８との層間密着力を増大させることができる。
【００５５】
１−１―Ｂ  第１レジスト層および第２レジスト層
第１レジスト層と第２レジスト層とは、いずれも光重合性化合物とバインダとを含んでいる。以下、これらの成分について詳説する。
【００５６】
（１）光重合性化合物
感光層には、光重合性化合物を用いるが、特に重合性基を２個以上含有するモノマー、あるいはオリゴマー（多官能モノマー、多官能オリゴマー）を用いることが好ましい。重合性基としてはエチレン性不飽和結合（例えば（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基、ビニルエステルやビニルエーテルなどのビニル基、アリルエーテルやアリルエステルなどのアリル基など）、重合可能な環状エーテル基（例えばエポキシ基、オキセタン基など）などが挙げられる。これらの内でエチレン性不飽和結合が好ましい。
【００５７】
このような多官能モノマーの例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などのエチレン性不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、前記エチレン性不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等があげられる。
【００５８】
脂肪族多価アルコール化合物とエチレン性不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレン基の数が２〜１８であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（たとえばジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ドデカエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカエチレングリコールジ（メタ）アクリレートなど）、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２から１８であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（たとえばジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ドデカプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど）、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート、１，５−ベンタンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール鎖／プロピレングリコール鎖を少なくとも各々一つずつ有するアルキレングリコール鎖のジ（メタ）アクリレート（たとえばＷＯ０１/９８８３２号公報に記載の化合物など）、エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドを付加したトリメチロールプロパンのトリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、キシレノールジ（メタ）アクリレート等がある。
【００５９】
上記の（メタ）アクリル酸エステル類の中でも好ましい例としては、その入手の容易さから、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール鎖／プロピレングリコール鎖を少なくとも各々一つずつ有するアルキレングリコール鎖のジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加したトリメチロールプロパンのトリ（メタ）アクリル酸エステル等を挙げることができる。
【００６０】
イタコン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（イタコン酸エステル）の例としては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４ーブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、及びソルビトールテトライタコネート等がある。
【００６１】
クロトン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（クロトン酸エステル）の例としては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、及びソルビトールテトラジクロトネート等がある。
【００６２】
イソクロトン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（イソクロトン酸エステル）の例としては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、及びソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（マレイン酸エステル）の例としては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、及びソルビトールテトラマレート等がある。
【００６３】
また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸類から誘導されるアミドの例としては、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、オクタメチレンビス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミンビス（メタ）アクリルアミド、及びキシリレンビス（メタ）アクリルアミド等がある。
【００６４】
更に、ビスフェノール骨格を有する２，２−ビス〔４−（３−（メタ）アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（（メタ）アクリルオキシエトキシ）フェニル〕プロパン、フェノール性のＯＨ基１個に置換したエチレンオキシ基の数が２から２０の２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシポリエトキシ）フェニル）プロパン（例えば２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンなど）、２，２−ビス〔４−（（メタ）アクリルオキシプロポキシ）フェニル〕プロパン、フェノール性のＯＨ基１個に置換したプロピレンオキシ基の数が２から２０の２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン（例えば２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタデカプロポキシ）フェニル）プロパンなど）やこれらの化合物のポリエーテル部位として同一分子中にポリエチレンオキシド骨格とポリプロピレンオキシド骨格の両者を含む化合物なども挙げられる（たとえばＷＯ０１/９８８３２号公報に記載の化合物など）。これらの化合物は例えばＢＰＥ−２００，ＢＰＥ−５００，ＢＰＥ−１０００（新中村化学工業（株）製）などとして入手できる。
【００６５】
また、ビスフェノールとエチレンオキシドやプロピレンオキシドなどの付加物、重付加物として得られる末端に水酸基を有する化合物に対してイソシアネート基と重合基を有する化合物（２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、α、α−ジメチル−ビニルベンジルイソシアネートなど）の付加体の様にビスフェノール骨格とウレタン基を有する光重合性化合物も利用できる。
【００６６】
更に、ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等のグリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物も利用できる。
【００６７】
加えて重合性基とウレタン基を含有する化合物も利用できる。この様な化合物の例としては特公昭４８−４１７０８、特開昭５１−３７１９３、特公平５−５０７３７、特公平７−７２０８、特開２００１−１５４３４６、特開２００１−３５６４７６号公報などに記載されており、例えば１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、ジフェニルジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３′−ジメチル−４，４′−ジフェニルジイソシアネートやこれらのジイソシアネートのビュレット体やイソシアヌレートなどの３量体、これらのジイソシアネート類とトリメチロールプロパン、ペンタエリスルトール、グリセリンなどの多官能アルコール、またはこれらのエチレンオキシド付加物など得られる多官能アルコールとの付加体など）と分子中に水酸基を含有するビニルモノマー（例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、など）とを付加せしめることで得られる１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。またトリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル化イソシアヌレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸のトリ（メタ）アクリレート等の様なイソシアヌレート環を有する化合物も利用できる。
【００６８】
他には、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレートやポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー類、エポキシ化合物（ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテルなど）と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。またフタル酸やトリメリット酸などと前記の分子中に水酸基を含有するビニルモノマーから得られるエステル化物なども挙げられる。さらに日本接着協会誌vol.２０、Ｎo.７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【００６９】
他には、アリルエステル（例えばフタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、マロン酸ジアリル、フタル酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、ベンゼンジスルホン酸ジアリル、トリアリルイソシアヌレートなど）；及びジアリルアミド（例えばジアリルアセトアミドなど）なども利用できる。
【００７０】
また、光重合性化合物としてカチオン重合性のジビニルエーテル類（例えばブタンジオール−１，４−ジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテルなど）、エポキシ化合物（ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテルなど）、オキセタン類（例えば１，４−ビス〔（３−エチルー３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼンなど）を用いることもできる。またエポキシ化合物、オキセタン類としては、ＷＯ０１/２２１６５に記載の化合物を用いることもできる。
【００７１】
ビニルエステル類の例として、ジビニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−１，３−ジスルホネート及びジビニルブタン−１，４−ジスルホネート等も利用できる。
スチレン化合物の例としては、ジビニルベンゼン、４−アリルスチレン及び４−イソプロペンスチレン等を挙げることができる。
【００７２】
更に、上記化合物以外の化合物として、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルアミド）エチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクリロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレートなどの、異なったエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合物も、本発明に好適に用いられる化合物として挙げることができる。
【００７３】
これらの多官能モノマー、オリゴマーは単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００７４】
更に、必要に応じて、分子内に重合性基を１個含有する光重合性化合物（単官能モノマー）を併用することもできる。単官能モノマーの例としては、前述のバインダーの原料として例示した化合物、特開平６−２３６０３１号公報に開示されている２塩基のモノ((メタ)アクリロイルオキシアルキルエステル)モノ（ハロヒドロキシアルキルエステル）の様な単官能モノマー（例えばγ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレートなど）などや、特許２７４４６４３号、ＷＯ００／５２５２９号、特許２５４８０１６号公報などに記載の化合物があげられる。
【００７５】
（２）バインダ
各感光層に用いるバインダーは、アルカリ水溶液に可溶であることが好ましく、あるいは少なくとも膨潤性を有することが好ましい。このようなバインダーの例としては、酸性基（カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基など）を有するものが利用できるが、特にカルボキシル基を有するバインダーが代表的であり、例えばカルボキシル基含有ビニル共重合体、カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが挙げられるが、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調整の容易さなどからカルボキシル基含有ビニル共重合体が好ましい。
【００７６】
カルボキシル基含有ビニル共重合体は、カルボキシル基含有ビニルモノマーの単独重合、またはカルボキシル基含有ビニルモノマーと共重合可能なモノマーとカルボキシル基含有ビニルモノマーとの共重合により得ることができる。
【００７７】
カルボキシル基含有ビニルモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する単量体と無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物のような環状無水物との付加反応物、ω―カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなども利用できる。また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などの無水物含有モノマーを用いてもよい。なおこれらの内では、共重合性やコスト、溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
【００７８】
前記共重合可能なモノマーは、前記カルボキシル基含有ビニルモノマーと共重合可能なものであれば特に制限はないが、具体的には（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリルなどが好ましい。この様な例としては例えば以下の様な化合物が挙げられる。
【００７９】
（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、アセトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、β−フェノキシエトキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００８０】
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。
【００８１】
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００８２】
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００８３】
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ-Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
【００８４】
上記化合物の他にも、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（たとえばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなど）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。
【００８５】
また、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、リン酸モノ（２−アクリロイルオキシエチルエチル）、リン酸モノ（１−メチル−２−アクリロイルオキシエチルエステル）なども利用できる。
【００８６】
上記の化合物以外にも、例えばウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることが出来る。
【００８７】
前記ビニルモノマーは、例えばイソシアナート基と水酸基、又はアミノ基の付加反応を利用して合成することが可能である。
【００８８】
具体的には、イソシアナート基を有するビニルモノマーであるイソシアナート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物または１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、または水酸基を有するビニルモノマーである水酸基含有モノマーまたは１級あるいは２級アミノ基を有するビニルモノマーであるアミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により、前記ビニルモノマーを適宜合成することができる。
【００８９】
イソシアナート基含有モノマーの具体例としては、例えば下記のような化合物が挙げられる（Ｒ1は水素原子又はメチル基を表す）。
【００９０】
【化１】
2006078574.tif 000003
モノイソシアネートの具体例としては、例えば、シクロヘキシルイソシアネート、ｎ−ブチルイソシアネート、トルイルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、フェニルイソシアネート等が挙げられる。
【００９１】
水酸基含有モノマーの具体例としては、例えば、下記のような化合物が挙げられる（Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、ｎは１以上の整数を表す）。
【００９２】
【化２】
2006078574.tif 000004
水酸基を１個含有する化合物としては、アルコール類（メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ―プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ−オクタデカノール、シクロペンタノール、シクロへキサノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール等）、フェノール類（フェノール、クレゾール、ナフトール等）、更に置換基を含むものとして、フロロエタノール、トリフロロエタノール、メトキシエタノール、フェノキシエタノール、クロロフェノール、ジクロロフェノール、メトキシフェノール、アセトキシフェノール等も挙げられる。
【００９３】
アミノ基含有モノマーの例としては例えばビニルベンジルアミンなどが挙げられる。
【００９４】
１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物の具体例としては、アルキルアミン（メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉ―プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、オクタデシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジオクチルアミン）、環状アルキルアミン（シクロペンチルアミン、シクロへキシルアミン等）、アラルキルアミン（ベンジルアミン、フェネチルアミン等）、アリールアミン（アニリン、トルイルアミン、キシリルアミン、ナフチルアミン等）、更にこれらの組み合わせ（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミン等）、更に置換基を含むアミン（トリフロロエチルアミン、ヘキサフロロイソプロピルアミン、メトキシアニリン、メトキシプロピルアミン等）等が挙げられる。
【００９５】
上記の化合物は一種のみでも、また二種以上を併用しても良い。特に好ましいその他のモノマーの例は、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、スチレン、クロルスチレン、ブロモスチレン、及びヒドロキシスチレンなどである。
【００９６】
カルボキシル基含有ビニル共重合体は、溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法などの周知の方法により得られる。
【００９７】
溶液重合法においては、用いるモノマー、及び生成する共重合体の溶解性に応じて溶媒を任意に選択できる。このような溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。ラジカル重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）の様なアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドの様な過酸化物、及び過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムの様な過硫酸塩などが利用できる。
【００９８】
前記カルボキシル基含有ビニル共重合体においては、カルボキシル基含有ビニルモノマー由来の繰り返し単位の全繰り返し単位に対する割合は、第１レジスト層２および第２レジスト層４の何れにおいても５〜５０モル％が好ましく、更に好ましくは１０〜４０モル％であり、１５〜３５モル％が特に好ましい。該刳り返し単位の含有率が５〜５０モル％であれば、アルカリ性現像液への現像性は充分である上、硬化部（画像部）の現像液耐性が不足するという問題もない。
【００９９】
バインダ中のカルボキシル基含有ビニル共重合体の分子量は、第１レジスト層２および第２レジスト層４の何れにおいても、質量平均分子量として２０００〜３０００００が好ましく、４０００〜１５００００が特に好ましい。質量平均分子量が２０００〜３０００００の範囲内にあれば、膜の強度が不足する問題が生じたり、安定な製造が困難になったりすることはない。また、現像性も良好である。
【０１００】
カルボキシル基含有ビニル共重合体は、１種のみを用いても。２種以上を併用してもよい。異なる共重合成分からなる２種以上のカルボキシル基含有ビニル共重合体を併用してもよく、異なる質量平均分子量のカルボキシル基含有ビニル共重合体を併用してもよい。また、異なる分散度のカルボキシル基含有ビニル共重合体を併用してもよい。
【０１０１】
前記カルボキシル基含有ビニル共重合体のカルボキシル基は、一部または全てが塩基性物質で中和されていてもよい。
【０１０２】
バインダとしては、前記カルボキシル基含有ビニル共重合体に加えてポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ゼラチンなどを併用しても良い。
【０１０３】
（３）光重合開始剤
光重合開始剤としては、光重合性化合物の光重合を開始させる化合物が挙げられ、特に紫外線〜可視光線領域に対して感光性を有するものであれば好適に使用できる。
【０１０４】
光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（より好ましくは３３０〜５００ｎｍ）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有することが好ましい。
【０１０５】
光重合開始剤はまた、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、また光重合性化合物の種類によっては、カチオン重合を開始させるような開始剤であてもよい。
【０１０６】
光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えばトリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの）、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル等を挙げることができる。この内、特にトリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素、オキシム誘導体、ヘキサアリールビイミダゾール、ケトン化合物を用いることが、感光層の感度、保存性、及び感光層とプリント配線板形成用基板との密着性等の観点から好ましい。
【０１０７】
光重合開始剤は、１種のみ使用してもよく、２種以上を併用してもよい。光重合開始剤を２種以上使用するときの組み合わせとしては、例えばヘキサアリールビイミダゾールと４−アミノケトン類との組み合わせ、ベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物の組み合わせ、チオキサントンなどの芳香族ケトン化合物と水素供与体（例えばジアルキルアミノ含有化合物、フェノール化合物など）の組み合わせ、ヘキサアリールビイミダゾールとチタノセンとの組み合わせ、クマリン類とチタノセンとフェニルグリシン類との組み合わせなどがある。
【０１０８】
（４）その他の成分
第１レジスト層２および例２レジスト層４の面状ムラを改善したり、支持体８と第１レジスト層２との密着力Ｆ２、第１レジスト層２とバリア層６と第２レジスト４との間の層間密着力Ｆ３，および第２レジスト層４と保護フィルム１０との密着力Ｆ１を調整したりするために、第１レジスト層２および例２レジスト層４の何れにも、必要に応じて界面活性剤を所定量配合することができる。
【０１０９】
界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、弗素系界面活性剤の何れも使用できる。
【０１１０】
界面活性剤の添加量は、光重合性化合物およびバインダの合計量に対し、０．００１〜１０質量％が好ましい。界面活性剤の添加量が前記範囲内であれば、面状改良の効果が得られるうえ、感光層内で層間剥離が生じることもない。
【０１１１】
なお、弗素系界面活性剤としては、フルオロアルキル基を有するアニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤のほか、エチレン性不飽和脂肪酸のフルオロアルキルアルコールエステルやフルオロアルキルジオールエステルの単独重合体および共重合体のような高分子界面活性剤なども好ましい。なお、前記弗素系界面活性剤の有するフルオロアルキル基は、炭素数が３〜２０であってフッ素原子を４０質量％以上含み、且つ非結合末端から数えて少なくとも３個の炭素原子において水素原子が弗素原子に置換された構造を有することが好ましい。また、前記エチレン性不飽和脂肪酸としては、アクリル酸やメタクリル酸が好ましい。
【０１１２】
他には、増感剤や熱重合禁止剤、可塑剤、発色剤、着色剤などを配合することができる。
【０１１３】
増感剤を配合することにより、第１レジスト層および第２レジスト層におけるレーザ光に対する感度を調整できる。
【０１１４】
増感剤としては、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、インドカルボシアニン、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３,３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５,７−ジプロポキシクマリン等が挙げられる。
【０１１５】
重合開始剤と増感剤の組み合わせとしては、例えば電子供与型開始剤および増感色素、電子受容型開始剤および増感色素、電子供与型開始剤、増感色素および電子受容型開始剤（三元開始系）などがある。
【０１１６】
（５）各成分の割合
第１レジスト層２と第２レジスト層４とにおいて光重合性化合物（１）とバインダ（２）との割合を調節することによっても、第１レジスト層２と支持体８との間の層間密着力Ｆ２，第２レジスト層４と保護フィルム１０との層間密着力Ｆ１，および第１レジスト層２とバリア層６と第２レジスト層４との間の層間密着力Ｆ３を、所定の関係になるように調整できる。
【０１１７】
第１レジスト層２において、バインダ（２）に対する光重合性化合物（１）の割合を大きくすることにより、第１レジスト層２と支持体８との層間密着力Ｆ２を大きくすることができ、また、第１レジスト層２とバリア層６と第２レジスト層４との間の層間密着力Ｆ３も大きくすることができる。
【０１１８】
一方、第２レジスト層４において、バインダ（２）に対する光重合性化合物（１）の割合を小さくすることにより、第２レジスト層４と保護フィルム１０との間の層間密着力Ｆ１を小さくすることができ、また、第１レジスト層２とバリア層６と第２レジスト層４との間の層間密着力Ｆ３も小さくすることができる。
【０１１９】
光重合性化合物（１）とバインダ（２）との比率は、第１レジスト層と第２レジスト層との何れにおいても、０．０１〜１０（質量比）が一般的であり、０．１〜２（質量比）が好ましい。特に、光重合性化合物（１）は、第１レジスト層２においては固形分全体に対して２０〜３５質量％配合され、第２レジスト層４においては固形分全体に対して４０〜６０質量％配合されていることが好ましい。
【０１２０】
１−１−Ｃ  バリア層
バリア層６は、第１レジスト層２と第２レジスト層４との間の成分の移行を防止したり抑制したりする機能を有する。実施形態１の感光性転写シート積層体１００においては、バリア層６を設けることにより、第１レジスト層２および第２レジスト層４の一方から他方に成分が移行し、両者の感度や膜物性が変化するのを防止する。
【０１２１】
バリア層６としては、水または炭素原子数１〜４の低級アルコールに対して親和性を有する親水／アルコール性樹脂を主成分とする樹脂層が挙げられる。親水／アルコール性樹脂としては、水または低級アルコールに溶解する樹脂の他、これらに乳化、分散、膨潤、一部溶解などをする樹脂や、良好な濡れ性を示す樹脂などが挙げられるが、水または低級アルコールに溶解または膨潤する樹脂が好ましい。
【０１２２】
このような樹脂としては、たとえばポリビニルアルコール樹脂、変性ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン、水溶性ポリアミド、ゼラチン、セルロース等、およびこれらの誘導体などが挙げられる。これらのポリマーは単独で使用してもよいし、２種以上を併用しても良い。更に、水やアルカリ性現像液への溶解性を損なわない範囲で、前記親水／アルコール性樹脂に加えてアクリル系ポリマー、アミド系ポリマー、エステル系ポリマー、ポリビニルブチラール樹脂などの各種ポリマーを併用してもよい。更に、第１レジスト層２および第２レジスト層４のところで述べたのと同様なバインダーを用いても良い。
【０１２３】
１−１−Ｄ  保護フィルム
保護フィルム１０としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、紙、ポリエチレン層またはポリプロピレン層がラミネートされたラミネート紙などが挙げられるが、特に好ましいものとしてはリエチレンフィルムおよびポリプロピレンフィルムが挙げられる。
【０１２４】
保護フィルム１０の厚さは、５〜１００μｍの範囲が好ましく、８〜５０μｍの範囲が更に好ましく、１０〜３０μｍの範囲が最も好ましい。
【０１２５】
支持体８と同様、保護フィルム１０においても、下塗り処理やコロナ放電処理、帯電防止処理、背面処理など、各種の表面処理を施すことにより、第２レジスト層４との層間密着力Ｆ１を調節できる。
【０１２６】
１−１−Ｅ  製法
実施形態１の感光性転写シート積層体１００は、たとえば、支持体８に適宜表面処理を施した後、第１レジスト層形成液を塗布、乾燥して第１レジスト層２を形成し、その上に重ねてバリア層形成液を塗布、乾燥してバリア層６を形成し、更にその上に重ねて第２レジスト層形成液を塗布、乾燥して第２レジスト層４を形成し、第２レジスト層４を保護フィルム１０で被覆することにより、製造できる。
【０１２７】
第１レジスト層形成液、第２レジスト層形成液、およびバリア層形成液の塗布は、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、及びナイフコート法等の公知の塗布方法によって塗布できる。乾燥条件は、第１レジスト層形成液、第２レジスト層形成液、およびバリア層形成液の組成に応じて設定すればよいが、通常、乾燥温度６０〜１２０℃、乾燥時間３０秒〜１５分程度の範囲に設定することができる。
【０１２８】
第１レジスト層形成液および第２レジスト層形成液は、前述の光重合性化合物（１）、バインダ（２）、光重合開始剤（３）、および必要に応じて増感剤などのその他の成分（４）を適宜の有機溶媒に溶解または懸濁させることにより調製できる。第１レジスト層形成液および第２レジスト層形成液の固形分濃度は、１〜５０質量％程度が好ましい。
【０１２９】
溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、及びメトキシプロピルアセテートなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホランなどを挙げることができ、これらは混合して用いてもよい。第一感光性樹脂組成物溶液、及び第二感光性樹脂組成物溶液には、公知の界面活性剤を添加してもよい。
【０１３０】
バリア層形成液の溶剤としては、前記第１レジスト層形成液および第２レジスト層形成液のところで述べた有機溶媒を使用できるが、水、あるいは水と低級アルコールとの混合溶剤を用いることができる。低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等がある。バリア層形成液の固形分濃度は１〜５０質量％の範囲が好ましい。
【０１３１】
１−１−Ｆ  使用手順
実施形態１の感光性転写シート積層体１００を用いてプリント回路基板を作製する手順を図２に示す。
【０１３２】
図２において（Ａ）に示すように、適宜の基板２０２に銅箔２０４をラミネートして銅張り基板２００を作製する。そして同図において（Ｂ）に示すように銅張り基板２００の所定箇所にスルーホール２０８を開け、（Ｃ）に示すように表面を銅鍍金して銅鍍金層２０６によって銅箔２０４だけで無くスルーホール２０８の内側まで覆われるようにする。
【０１３３】
次に、同図において（Ｄ）に示すように、感光性転写シート積層体１００の保護フィルム１０を剥離して第２レジスト層４の側を銅張り基板２００の銅箔２０４に貼り合わせ、熱ラミネートして密着させる。そして、支持体８の側から回路パターンに沿ってレーザ光を照射し、第１レジスト層２および第２レジスト層４を光硬化させる。ここで、図３に示すように、第１レジスト層２は、第２レジスト層４よりも高い露光エネルギーで始めて硬化するから、スルーホール２０８においては、第１レジスト層２を硬化させるのに必要な露光エネルギーで、それ以外の部分では、第２レジスト層４を硬化させるが第１レジスト層２を硬化させない程度の露光エネルギーでレーザ露光する。
【０１３４】
レーザ露光後、支持体８を剥離して現像液で現像することにより、図２において（Ｅ）に示すように、スルーホール２０８上においては第１レジスト層２と第２レジスト層４の何れもが硬化し、それ以外の部分においては第２レジスト層４のみが硬化して回路パターンが形成される。。
【０１３５】
回路パターンが形成されたら、図２において（Ｆ）に示すようにエッチング液で銅鍍金層２０８および銅箔２０４をエッチングすることにより、（Ｇ）に示すように回路パターンが形成される。エッチングの後、第１レジスト層２および第２レジスト層４を用材やアルカリ溶液などの剥離液で除去することにより、プリント回路基板が形成される。
【実施例】
【０１３６】
１．実施例１
以下の手順に従って感光性転写シート積層体を形成した。
【０１３７】
２０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に、表１に示す配合組成を有する第１レジスト層形成液を塗布し、６０〜１２０℃の温度に保持された連続的な４つの乾燥ゾーンで乾燥して２０μｍ厚の第１レジスト層を形成した。
【０１３８】
【表１】
2006078574.tif 000005
次に、第１レジスト層の上に表２に示す配合組成のバリア層形成液を塗布し、８０〜１２０℃の温度に保持された連続的な５つの乾燥ゾーンで乾燥して１．６μｍ厚のバリア層を形成した。
【０１３９】
（バリア層形成液の組成）
【０１４０】
【表２】
2006078574.tif 000006
バリア層の上に、上に下記配合組成の第２レジスト層形成液を塗布し、６０〜１２０℃の温度に保持された連続的な４つの乾燥ゾーンで乾燥して５μｍ厚の第２レジスト層を形成した。第２レジスト層形成液の組成を表３に示す。
【０１４１】
【表３】
2006078574.tif 000007
最後に、第２レジスト層に保護フィルムを貼り合せて感光性転写シート積層体を作製した。保護フィルムには、厚さ１２μｍのポリプロピレンフィルムを用いた。なお、第１レジスト層および第２レジスト層におけるバインダ（成分（ａ）、（ｄ））、光重合性化合物（成分（ｂ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ））、および弗素系高分子界面活性剤（成分（ｃ）、（ｈ））の割合については後述の表４および表５に示す。
【０１４２】
得られた感光性転写シート積層体につき、銅張り基板に熱ラミネートする前の保護フィルムと第２レジスト層との間の層間密着力Ｆ１を測定した。ついで、熱ラミネート前、熱ラミネート特後、および露光後の夫々について、第１レジスト層と支持体との層間密着力Ｆ２および第１レジスト層と第２レジスト層との間の創刊密着力Ｆ３を測定した。結果を表５に示す。なお、各層間の層間密着力は、以下の手順で測定した。なお、露光は、レーザ光源で１０ｍＪ／ｃｍ2の照射エネルギー密度で行なった。
【０１４３】
（層間密着力の測定手順）
２３℃、相対湿度６５％の環境において、感光性転写シート積層体を巾４．５ｃｍに裁断し、剥離すべき層が上側になるように静置した。そして、剥離すべき層側を手で少し剥離してきっかけを作り、ＳＩＭＰＯ（株）製デジタルフォースゲージＦＧＸ−２で、１８０度の角度において２０００ｍｍ／分の速度で剥離して抵抗値を読み取った。
【０１４４】
次に、保護フィルムを剥離したとき、支持体を剥離したときのそれぞれにつき、良品率を評価した。結果を表５に示す。良品率については以下の手順および評価基準にに従って評価した。
【０１４５】
（良品率の評価手順および評価基準）
保護フィルム剥離時の良品率は、２３℃、相対湿度６５％の環境において、感光性転写シート積層体を５ｃｍの正方形に裁断し、保護フィルムが上になるように静置して保護フィルム側を手で全面剥離することにより評価した。全面において所定の正常な位置で層間剥離していれば良品とし、一部でも正常な位置以外で剥離していたり、膜浮きしていたりしたときは不良品として良品率を求めた。
【０１４６】
支持体剥離時の良品率は、２３℃、相対湿度６５％の環境において、同様に５ｃｍ片の正方形の感光性転写シート積層体を基板にラミネートした後、支持体側を手で全面剥離して評価した。全面において所定の正常な位置で層間剥離していれば良品とし、一部でも正常な位置以外で剥離していたり、膜浮きしていたりしたときは不良品として良品率を求めた。
【０１４７】
【表４】
2006078574.tif 000008
【０１４８】
【表５】
2006078574.tif 000009
【０１４９】
【表６】
2006078574.tif 000010
２．実施例２〜７、比較例１、参考例１
バインダ（成分（ａ）、（ｄ））、光重合性化合物（成分（ｂ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ））、および弗素系高分子界面活性剤（成分（ｃ）、（ｈ））の割合を、表１および表２に示すように変更した感光性転写シート積層体を作製し、各感光性転写シート積層体について熱ラミネート前、熱ラミネート直後、および露光後の各層の層間密着力、良品率を測定した。測定手順および評価条件は実施例１に述べた通りである。結果を表６に示す。
【０１５０】
表６に示すように、保護フィルムと第２レジスト層との層間密着力Ｆ１が熱ラミネート前および熱ラミネート後の支持体と第１レジスト層との創刊密着力Ｆ２よりも小さな実施例１〜４、実施例５〜７、および参考例１の感光性転写シート積層体においては、保護フィルム剥離時の良品率は７５〜１００％と高かった。これに倒し、保護フィルムと第２レジスト層との層間密着力Ｆ１が熱ラミネート前の支持体と第１レジスト層との創刊密着力Ｆ２よりも大きな比較例１においては、保護フィルム剥離時の良品率は５０％と低かった。
【０１５１】
このことから、保護フィルムと第２レジスト層との層間密着力、即ち保護フィルムと感光層との創刊密着力Ｆ１が支持体と第１レジスト層との創刊密着力、即ち支持体と感光層との層間密着力Ｆ２よりも小さくなるようにすれば、保護フィルムを剥離するときの感光層における層間剥離を防止できることがわかる。
【０１５２】
また、熱ラミネート前において、支持体と感光層との層間密着力Ｆ２よりも第１レジスト層と第２レジスト層との密着力Ｆ３が大きく、しかも、熱ラミネートによって第１レジスト層と第２レジスト層との密着力Ｆ３が大幅に上昇した実施例２、実施例４、実施例５〜７においては、支持体を剥離したときの良品率も５０〜１００％と高かった。とくに、基板にラミネートされる側の第２レジスト層における成分（ｈ）（弗素系高分子界面活性剤）の配合量が全固形分の０．８３〜７．８質量％と高かった実施例６および実施例７においては、、支持体を剥離したときの良品率は１００％であり、第１レジスト層と第２レジスト層との間の層間剥離はまったく見られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１５３】
【図１】図１は、実施形態１の感光性転写シート積層体１００の構成を示す概略断面図である。
【図２】図２は、図１に示す感光性転写シート積層体を用いてプリント回路基板を製造する手順を示す工程図である。
【図３】図３は、図１に示す感光性転写シート積層体の備える第１レジスト層と第２レジスト層とについて露光エネルギーと膜強度との関係の概略を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１５４】
２    第１レジスト層
４    第２レジスト層
６    バリア層
８    支持体
１０    保護フィルム
【図１】
2006078574.tif 000011
【図２】
2006078574.tif 000012
【図３】
2006078574.tif 000013