(57)【要約】【課題】  高画質で印画することができるプリンタブル層を有し、反りが少ない情報媒体を提供する。【解決手段】  少なくとも、微粒子、結合剤、及び架橋剤を含有するインク受容層用塗布液を、下地層上に塗布してプリンタブル層を形成する工程を有する情報媒体の製造方法であって、前記インク受容層用塗布液の表面張力が５×１０-2Ｎ／ｍ以下であることを特徴とする情報媒体の製造方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、微粒子、結合剤、及び架橋剤を含有するインク受容層用塗布液を、下地層上に塗布してプリンタブル層を形成する工程を有するディスク状の情報媒体の製造方法であって、
前記インク受容層用塗布液の表面張力が５×１０-2Ｎ／ｍ以下であることを特徴とする情報媒体の製造方法。
【請求項２】
前記微粒子が、気相法シリカ、擬ベーマイト、及び酸化アルミニウムから選択される少なくとも１種であること、前記結合剤がポリビニルアルコールであること、前記架橋剤がホウ素化合物であること、及び前記インク受容層用塗布液がさらに媒染剤を含むことを特徴とする請求項１に記載の情報媒体の製造方法。
【請求項３】
前記インク受容層用塗布液を、エクストルージョンダイコータにより吐出口からの流量が線速度に応じて内周部から外周部に向けて多くなるように塗布することを特徴とする請求項１または２に記載の情報媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、文字や写真などを印刷することができるプリンタブル層を有する情報媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
広く市場に受け入れられている情報媒体の規格として、ＣＤ（コンパクトディスク）とＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）とがある。
ＣＤとしては、読み出し専用のＣＤ−ＲＯＭ、１回限り情報の記録が可能な追記型のＣＤ−Ｒ、何回でも情報の記録が書き換えられる書き換え可能型のＣＤ−ＲＷがある。
ＣＤ−ＲＯＭは、例えば、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの透明基板に１．６μｍのトラックピッチでピット列が形成され、約６５０Ｍバイトの記録容量を有しており、線速度を１．２〜１．４ｍ／ｓで一定とし波長７７０〜７９０ｎｍのレーザー光を照射して情報を再生する。
【０００３】
一方、ＤＶＤもＣＤの場合と同様に、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、及びＤＶＤ−ＲＷがある。
ＤＶＤ−ＲＯＭは記録密度がＣＤの約６〜８倍で、構成としては厚さ０．６ｍｍ程度の２枚の基板を貼り合わせた構成等があり、０．７４μｍのトラックピッチでピットが形成され、線速度を３．５ｍ／ｓ程度で一定とし波長６３５〜６５０ｎｍのレーザー光を照射して情報を再生する。
【０００４】
近年、このようなＣＤやＤＶＤにおいて、情報の再生面とは反対側の面に、インクジェットプリンターで画像の印画ができるようにプリンタブル層が形成された情報媒体が開発されている（例えば、特許文献１参照。）。このような情報媒体のプリンタブル層の材質としては、紫外線硬化樹脂が一般に使用されているが、紫外線硬化樹脂からなるプリンタブル層は、インクジェット記録用シートと比較して、高画質が得られないという問題があった。
また、紫外線硬化樹脂からなるプリンタブル層では層厚を厚く形成すると、紫外線硬化時に供給するエネルギーを大きくする必要があり、その結果ディスクの反りや面振れが問題となることがあった。そのため、プリンタブル層は、層厚を薄くする必要があり、結果としてインクの液滴をすべて吸収するだけの吸収容量が十分得られず、印字画像のニジミ安定性が課題となっていた。
さらに、紫外線硬化樹脂は皮膚刺激性があり、材料の安全性において問題があった。さらに、紫外線硬化樹脂は、常温暗室で保存する必要があり寿命が短く、また不快臭があり作業環境が悪くなるなど、取り扱い上問題があった。
【０００５】
そこで、本出願人は、紫外線硬化樹脂によるプリンタブル層の上記問題を解決するため、多孔質のインク受容層を含むプリンタブル層を有する情報媒体を提案した（特願２００３−６７７５０号）。このプリンタブル層によると、取扱い安全性が高く、インクジェット記録用シートに匹敵する高画質が得られるなどの利点がある。そして、このようなプリンタブル層におけるインク受容層は、十分なインク受容能力を確保するためには、層厚が一定以上ある必要がある。すなわち、インク受容層が薄すぎると層内の空隙の容積が小さいため、インクを十分吸収できず、印画直後にニジミが発生する。微粒子の種類にもよるが、一般に多孔質型のインク受容層の層厚はインクジェット記録用シートの場合、２０μｍ以上は必要である。
しかしながら、光ディスク（情報媒体）の場合、インク受容層を厚くすると、層の内部応力の影響でディスクの反りが発生することがある。従って、一定の層厚を確保した上で、ディスクの反りの問題を解決するためには何らかの対処が必要である。
【特許文献１】特開２００２−２４５６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、ニジミが少なく高画質で印画することができるプリンタブル層を有し、反りの発生が少ない情報媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  少なくとも、微粒子、結合剤、及び架橋剤を含有するインク受容層用塗布液を、下地層上に塗布してプリンタブル層を形成する工程を有するディスク状の情報媒体の製造方法であって、前記インク受容層用塗布液の表面張力が５×１０-2Ｎ／ｍ以下であることを特徴とする情報媒体の製造方法である。
【０００８】
＜２＞  前記微粒子が、気相法シリカ、擬ベーマイト、及び酸化アルミニウムから選択される少なくとも１種であること、前記結合剤がポリビニルアルコールであること、前記架橋剤がホウ素化合物であること、及び前記インク受容層用塗布液がさらに媒染剤を含むことを特徴とする前記＜１＞に記載の情報媒体の製造方法である。
【０００９】
＜３＞  前記インク受容層用塗布液を、エクストルージョンダイコータにより吐出口からの流量が線速度に応じて内周部から外周部に向けて多くなるように塗布することを特徴とする前記＜１＞または＜２＞に記載の情報媒体の製造方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ニジミが少なく高画質で印画することができるプリンタブル層を有し、反りの発生が少ない情報媒体及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の情報媒体の製造方法は、少なくとも、微粒子、結合剤、及び架橋剤を含有するインク受容層用塗布液を、下地層上に塗布してプリンタブル層を形成する工程を有するディスク状の情報媒体の製造方法であって、前記インク受容層用塗布液の表面張力が５×１０-2Ｎ／ｍ以下であることを特徴としている。以下、先ず、本発明の情報媒体の製造方法により製造される情報媒体について説明する。
【００１２】
＜情報媒体＞
本発明の製造方法により製造される情報媒体は、磁気媒体、光媒体、半導体媒体などに適用することができ、形態としては、ディスク状、カートリッジ収納型でもよく、カートリッジ収納型の場合はリムーバブルであることが好ましい。特に、ディスク状の媒体で光情報記録媒体（光ディスク）が好ましい。
光ディスクの場合、ＣＤ、ＤＶＤ、青紫色レーザーで記録再生する光ディスクなど、如何なるものであってもよい。
青紫色レーザーで記録する媒体の場合、ＤＶＤのような貼り合わせタイプと、１．１ｍｍ基板上に記録層とカバー層とが形成され、カバー層側からレーザー光が入射するタイプとがあるが、いずれであってもよい。
プリンタブル層を形成する箇所は、レーザー光が入射する面の反対側が基本であるが、レーザー光が入射する側でも入射エリア以外の領域であればプリンタブル層を形成することができる。
本発明に係る情報媒体は、ＲＯＭ型でも、書き換え可能型、及び追記型のいずれでもよいが、特に、追記型が好ましい。
【００１３】
以下、本発明に係る情報媒体に使用される基板および各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１４】
＜プリンタブル層＞
本発明に係る情報媒体においては、少なくとも下地層とインク受容層とを含むプリンタブル層を有する。以下、プリンタブル層の各層について説明する。
【００１５】
［インク受容層］
本発明におけるインク受容層は、例えば、微粒子と、結合剤と、架橋剤と、を少なくとも有する構成が好ましく、各種添加剤などを含んでいてもよい。
【００１６】
また、本発明におけるインク受容層は、表面張力の調整や、塗布適性、表面品質を高める目的で公知各種の界面活性剤や、表面の摩擦帯電や剥離帯電を抑制する目的で、イオン導電性を持つ公知の界面活性剤、光褪色性を高める目的で酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐オゾン退色性を高める目的で、イオウ含有化合物等を、本発明の効果を損なわない範囲で併用してもよい。
以下、インク受容層に含有される各成分について説明する。
【００１７】
（微粒子）
上述の通り、本発明におけるインク受容層は、微粒子を含有する。微粒子としては、気相法シリカ、擬ベーマイト、酸化アルミニウム、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ベーマイト等が挙げられ、中でも、気相法シリカ、擬ベーマイト、酸化アルミニウムが好ましい。
【００１８】
−気相法シリカ−
シリカ微粒子は、通常その製造法により湿式法粒子と乾式法（気相法）粒子とに大別される。上記湿式法では、ケイ酸塩の酸分解により活性シリカを生成し、これを適度に重合させ凝集沈降させて含水シリカを得る方法が主流である。一方、気相法は、ハロゲン化珪素の高温気相加水分解による方法（火炎加水分解法）、ケイ砂とコークスとを電気炉中でアークによって加熱還元気化し、これを空気で酸化する方法（アーク法）によって無水シリカを得る方法が主流であり、「気相法シリカ」とは該気相法によって得られた無水シリカ微粒子を意味する。
【００１９】
上記気相法シリカは、上記含水シリカと表面のシラノール基の密度、空孔の有無等に相違があり、異なった性質を示すが、空隙率が高い三次元構造を形成するのに適している。この理由は明らかではないが、含水シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が５〜８個／ｎｍ2で多く、シリカ微粒子が密に凝集（アグリゲート）し易く、一方、気相法シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が２〜３個／ｎｍ2であり少ないことから疎な軟凝集（フロキュレート）となり、その結果、空隙率が高い構造になるものと推定される。
【００２０】
上記気相法シリカは、比表面積が特に大きいので、インクの吸収性、保持の効率が高く、また、屈折率が低いので、適切な粒子径まで分散を行えばインク受容層に透明性を付与でき、高い色濃度と良好な発色性が得られるという特徴がある。
【００２１】
上記気相法シリカの平均一次粒子径としては３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましく、３〜１０ｎｍが最も好ましい。上記気相法シリカは、シラノール基による水素結合によって粒子同士が付着しやすいため、平均一次粒子径が３０ｎｍ以下の場合に空隙率の大きい構造を形成することができ、インク吸収特性を効果的に向上させることができる。
【００２２】
また、含水シリカ微粒子、コロイダルシリカ、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ベーマイト、擬ベーマイト等の他の無機顔料微粒子を併用してもよい。該他の無機顔料微粒子と上記気相法シリカとを併用する場合、全無機顔料微粒子中、気相法シリカの含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がさらに好ましい。
【００２３】
−擬ベーマイト−
擬ベーマイトは、Ａｌ2Ｏ3・ｘＨ2Ｏ（１＜ｘ＜２）で表され、一般にその結晶は（０２０）面が巨大な平面を形成する層状の化合物であり、その格子定数ｄは０．６７ｎｍである。ここで、擬ベーマイトは、過剰な水を（０２０）面の層間に含んだ構造を有するものである。擬ベーマイトは、インクを良く吸収し定着し、インクの吸収性及び経時ニジミを向上させることができる。
また、容易に平滑な層が得られることから、ゾル状の擬ベーマイト（擬ベーマイトゾル）を原料として用いることが好ましい。
【００２４】
擬ベーマイトの一次平均粒子径は５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることが更により好ましく、２０〜３ｎｍの範囲内であることが特に好ましい。擬ベーマイトの平均一次粒径が上記範囲内にあると、空隙率の大きい構造を形成することができ、さらにインク受容層のインク吸収性を向上させることができる。尚、前記平均一次粒子径は、例えば電子顕微鏡を用いて測定することができる。また、擬ベーマイトのＢＥＴ比表面積としては、４０〜５００ｍ2が好ましく、２００〜５００ｍ2が更に好ましい。
【００２５】
更に、前記擬ベーマイトのアスペクト比としては、３〜１０が好ましい。擬ベーマイトの細孔構造については、その平均細孔半径は１〜３０ｎｍが好ましく、２〜１５ｎｍがより好ましい。また、その細孔容積は０．３〜２．０ｍｌ／ｇ（ｃｃ／ｇ）が好ましく、０．５〜１．５ｍｌ／ｇ（ｃｃ／ｇ）がより好ましい。ここで、上記細孔半径および細孔容積の測定は、窒素吸脱着法により測定されるもので、例えば、ガス吸脱着アナライザー（例えば、コールター社製の商品名「オムニソープ３６９」）により測定できる。
【００２６】
また、擬ベーマイトは、水系溶媒に分散して用いるのが好ましい。分散して用いる場合の分散液中における擬ベーマイトの含有量としては、６０質量％以下が好ましく、５〜６０質量％がより好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。
擬ベーマイトは、上記範囲で特に効果的に分散させることができ、例えば、分散時において擬ベーマイト同士の粒子間距離が短くなること等に起因する増粘やゲル化等を効果的に抑制することができる。
【００２７】
擬ベーマイト（Ａ）及びこれと併用する気相法シリカ（Ｓ）との含有比（Ｓ：Ａ）としては、９５：５〜５：９５となる範囲が好ましく、８０：２０〜２０：８０の範囲がより好ましく、７０：３０〜３０：７０の範囲が特に好ましい。
前記含有比の範囲で気相法シリカと擬ベーマイトを併用すると、複数色の全てのインクの経時ニジミを色相に依存することなく効果的に防止することができ、多色に画像形成する場合でも高解像度で鮮やかな画像を形成し、保持することができる。
【００２８】
−酸化アルミニウム−
本発明における酸化アルミニウムとしては、例えば、α−アルミナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ、χ−アルミナ等の無水アルミナや、活性酸化アルミニウムが挙げられる。これらの中でも好ましいアルミナ微粒子は、δ−アルミナであり、また、製造方法による観点からは、気相法により製造されるアルミナ微粒子、すなわち酸水素反応の際に発生する水の存在の下で、またそのような反応に特徴的な温度において、気体状の金属塩化物を加水分解することにより得られる気相法アルミナ微粒子が、比表面積が大きいため好ましい。
【００２９】
上記酸化アルミニウムの形態としては、例えば、所定の粒子径を有する微細な粒子、微粒子、微細粒子、粉体、微粉、微細粉等を採用することができ、その平均一次粒子径は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５〜１００ｎｍであるのがさらに好ましく、特に５〜２０ｎｍであることが好ましい。上記アルミナ微粒子の平均一次粒径が上記範囲内にあると、空隙率の大きい構造を形成することができ、さらにインク受容層のインク吸収性を向上させることができる。なお、上記平均一次粒子径は、例えば、電子顕微鏡を用いて測定することができる。
【００３０】
また、本発明において酸化アルミニウムは、分散液に分散して用いるのが好ましい。上記分散液中の酸化アルミニウムの含有量は、６０質量％以下が好ましく、５〜６０質量％がさらに好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。酸化アルミニウムの含有量が上記範囲内にあると、酸化アルミニウムをより効果的に分散させることができる。上記分散液における酸化アルミニウムの含有量が多くても６０質量％以下であると、例えば、分散液中において酸化アルミニウム微粒子同士の粒子間距離が短くなること等に起因する増粘やゲル化等を効果的に抑制することができる。また、上記分散液には凝集防止剤として、第１級〜第３級アミノ基およびその塩、第４級アンモニウム塩基を有するカチオンポリマーを添加してもよい。上記凝集防止剤の添加量としては、酸化アルミニウム微粒子に対して、１〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％がさらに好ましい。該添加量が、１質量％未満では分散性に劣る場合があり、１０質量％を超えるとインク受容層に印画した際、色濃度が低下することがあるため好ましくない。
【００３１】
上記酸化アルミニウムのインク受容層における固形分含有量は５０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上である。上記含有量が６０質量％を超えていると、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインク吸収性を備えたインク受容層が得られるので好ましい。ここで、上記酸化アルミニウムのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成物中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００３２】
また、本発明においては酸化アルミニウムと、他の微粒子と併用してもよい。該他の微粒子と上記酸化アルミニウムとを併用する場合、全微粒子中の本発明における酸化アルミニウムの含有量は、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上が更に好ましい。
上記他の微粒子としては、有機微粒子、無機微粒子のいずれでもよいが、インク吸収性および画像安定性の点から、無機微粒子が好ましい。
【００３３】
（結合剤）
上述の通り、本発明において、インク受容層は結合剤を含有する。当該結合剤としては水溶性樹脂が好ましい。
【００３４】
上記水溶性樹脂としては、例えば、親水性構造単位として水酸基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、アセトアセチル変性ＰＶＡ、カチオン変性ＰＶＡ、アニオン変性ＰＶＡ、シラノール変性ＰＶＡ、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース（ＭＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔例えば、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔例えば、ポリアクリルアミド（ＰＡＡＭ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕などが挙げられる。
また、水溶性樹脂として、解離性基としてカルボキシ基を有するポリアクリル酸塩、マレイン酸樹脂、アルギン酸塩、ゼラチン類等も利用することができる。
【００３５】
以上の中でも、特にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂が好ましい。該ポリビニルアルコールの例としては、特公平４−５２７８６号、特公平５−６７４３２号、特公平７−２９４７９号、特許第２５３７８２７号、特公平７−５７５５３号、特許第２５０２９９８号、特許第３０５３２３１号、特開昭６３−１７６１７３号、特許第２６０４３６７号、特開平７−２７６７８７号、特開平９−２０７４２５号、特開平１１−５８９４１号、特開２０００−１３５８５８号、特開２００１−２０５９２４号、特開２００１−２８７４４４号、特開昭６２−２７８０８０号、特開平９−３９３７３号、特許第２７５０４３３号、特開２０００−１５８８０１号、特開２００１−２１３０４５号、特開２００１−３２８３４５号、特開平８−３２４１０５号、特開平１１−３４８４１７号等に記載されたもの等を使用できる。
また、ポリビニルアルコール系樹脂以外の水溶性樹脂の例としては、特開平１１−１６５４６１号公報の段落番号［００１１］〜［００１４］に記載の化合物等も挙げられる。
【００３６】
これら水溶性樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。また、本発明において、上記水溶性樹脂の含有量としては、インク受容層の全固形分質量に対して、９〜４０質量％が好ましく、１２〜３３質量％がより好ましい。
【００３７】
また、ポリビニルアルコール系樹脂は、前記その他の水溶性樹脂を併用してもよい。該他の水溶性樹脂と上記ポリビニルアルコール系樹脂とを併用する場合、全水溶性樹脂中、ポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。
【００３８】
上記ポリビニルアルコールは、その構造単位に水酸基を有するが、この水酸基とシリカ微粒子表面のシラノール基とが水素結合を形成して、シリカ微粒子の二次粒子を鎖単位とする三次元網目構造を形成しやすくする。上記三次元網目構造の形成によって、空隙率の高い多孔質構造のインク受容層を形成しうると考えられる。
インクジェット記録において、上述のようにして得た多孔質のインク受容層は、毛細管現象によって急速にインクを吸収し、インクニジミのない真円性の良好なドットを形成することができる。
【００３９】
また、透明性の観点から、鹸化度７０〜９９％のポリビニルアルコールがさらに好ましく、鹸化度８０〜９９％のポリビニルアルコールが特に好ましい。
【００４０】
（微粒子と結合剤との質量比）
インク受容層内の前記微粒子（ｘ）と前記結合剤（ｙ）との質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕は、該インク受容層の膜構造及び膜強度に大きな影響を与える。即ち、該質量含有比〔ＰＢ比〕が大きくなると、空隙率や細孔容積、表面積（単位質量当り）が大きくなるが、密度や強度は低下する傾向にある。
【００４１】
本発明に係るインク受容層では、上記質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕としては、該ＰＢ比が大き過ぎることに起因する、膜強度の低下や乾燥時のひび割れを防止し、且つ該ＰＢ比が小さ過ぎることによって、該空隙が樹脂によって塞がれ易くなり、空隙率が減少することでインク吸収性が低下するのを防止する観点から、１．５／１〜１０／１が好ましい。
【００４２】
インクジェット記録プリンターの搬送系を通過する場合、情報媒体に応力が加わることがあるので、インク受容層は十分な膜強度を有していることが好ましい。またシート状に裁断加工する場合、インク受容層の割れや剥がれ等を防止する上でも、インク受容層には十分な膜強度を有していることが好ましい。これらの場合を考慮すると、上記ＰＢ比（ｘ／ｙ）としては５／１以下がより好ましく、一方、インクジェット記録プリンターで、高速インク吸収性を確保する観点からは、２：１以上であることがより好ましい。
【００４３】
具体的には、例えば、平均一次粒子径が２０ｎｍ以下の気相法シリカ微粒子と水溶性樹脂とを、ＰＢ比（ｘ／ｙ）２／１〜５／１で水溶液中に完全に分散した塗布液を支持体上に塗布し、該塗布層を乾燥した場合、シリカ微粒子の二次粒子を網目鎖とする三次元網目構造が形成され、その平均細孔径が３０ｎｍ以下、空隙率が５０〜８０％、細孔比容積が０．５ｍｌ／ｇ以上、比表面積が１００ｍ2／ｇ以上の、透光性の多孔質膜を容易に形成することができる。
【００４４】
（架橋剤）
インク受容層は、前記結合剤を架橋し得る架橋剤を含む。架橋剤を含有させることにより、架橋剤と結合剤との架橋反応によって硬化された多孔質層とすることができる。
【００４５】
前記水溶性樹脂、特にポリビニルアルコールの架橋には、ホウ素化合物が好ましい。該ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩（例えば、オルト硼酸塩、ＩｎＢＯ3、ＳｃＢＯ3、ＹＢＯ3、ＬａＢＯ3、Ｍｇ3（ＢＯ3）2、Ｃｏ3（ＢＯ3）2、二硼酸塩（例えば、Ｍｇ2Ｂ2Ｏ5、Ｃｏ2Ｂ2Ｏ5）、メタ硼酸塩（例えば、ＬｉＢＯ2、Ｃａ（ＢＯ2）2、ＮａＢＯ2、ＫＢＯ2）、四硼酸塩（例えば、Ｎａ2Ｂ4Ｏ7・１０Ｈ2Ｏ）、五硼酸塩（例えば、ＫＢ5Ｏ8・４Ｈ2Ｏ、Ｃａ2Ｂ6Ｏ11・７Ｈ2Ｏ、ＣｓＢ5Ｏ5）等を挙げることができる。中でも、速やかに架橋反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましい。
【００４６】
水溶性樹脂の架橋剤として、上記のホウ素化合物以外の化合物を使用することもできる。例えば、
ホルムアルデヒド、グリオキザール、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、ジアルデヒドスターチ、植物ガムのジアルデヒド誘導体等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、１，２−シクロペンタンジオン、３−ヘキセン−２，５−ジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル）尿素、ビス（２−クロロエチル）スルホン、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン、１，３−ビス（ビニルスルホニル）−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、ジビニルケトン、１，３−ビス（アクリロイル）尿素、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロ−ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；トリメチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン、メラミン、ベンゾグアナミン、メラミン樹脂等のメラミン化合物；エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリセリンポリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテル、フェノール樹脂のポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；
【００４７】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシナネート等のイソシアネート系化合物；米国特許明細書第３０１７２８０号、同第２９８３６１１号等に記載のアジリジン系化合物；米国特許明細書第３１００７０４号等に記載のカルボジイミド系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；乳酸チタン、硫酸アルミ、クロム明ばん、カリ明ばん、酢酸ジルコニル、酢酸クロム等の金属含有化合物；テトラエチレンペンタミン等のポリアミン化合物；アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物；オキサゾリン基を２個以上含有する低分子又はポリマー等：米国特許明細書第２７２５２９４号、米国特許明細書第２７２５２９５号、米国特許明細書第２７２６１６２号、米国特許明細書第３８３４９０２号等に記載の多価酸の無水物、酸クロリド、ビススルホナート化合物；米国特許明細書第３５４２５５８号、米国特許明細書第３２５１９７２号等に記載の活性エステル化合物等が挙げられる。
上記の架橋剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組合わせて用いることもできる。
【００４８】
上記ポリビニルアルコールにゼラチンを併用する場合には、ゼラチンの硬膜剤として知られている、下記化合物を架橋剤としてホウ素化合物と併用することができる。
例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタールアルデヒド等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、シクロペンタンジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジクロロ−６−Ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン酸、１，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロ−ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；
【００４９】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物；米国特許明細書第３０１７２８０号、同第２９８３６１１号に記載のアジリジン系化合物；米国特許明細書第３１００７０４号に記載のカルボキシイミド系化合物；グリセロールトリグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；クロム明ばん、カリ明ばん、硫酸ジルコニウム、酢酸クロム等である。この場合、上記ホウ素化合物と他の架橋剤とを併用する場合、全架橋剤中ホウ素化合物の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がさらに好ましい。
尚、上記ホウ素化合物は、一種単独でも、２種以上を組合わせてもよい。
【００５０】
上記ホウ素化合物を付与する際、その溶液はホウ素化合物を水及び／又は有機溶剤に溶解して調製される。
上記ホウ素化合物溶液中のホウ素化合物の濃度としては、ホウ素化合物溶液の質量に対して、０．０５〜１０質量％が好ましく、０．１〜７質量％が特に好ましい。
ホウ素化合物溶液を構成する溶媒としては、一般に水が使用され、該水と混和性を有するの有機溶媒を含む水系混合溶媒であってもよい。
上記有機溶剤としては、ホウ素化合物が溶解するものであれば任意に使用することができ、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル；トルエン等の芳香族溶剤；テトラヒドロフラン等のエーテル、およびジクロロメタン等のハロゲン化炭素系溶剤等を挙げることができる。
【００５１】
（媒染剤）
本発明においては、形成画像の耐水性、耐経時ニジミの更なる向上を図るために、インク受容層に媒染剤が含有されることが好ましい。
上記媒染剤としてはカチオン性のポリマー（カチオン性媒染剤）が好ましく、該媒染剤をインク受容層中に存在させることにより、アニオン性染料を色材として有する液状インクとの間で相互作用し色材を安定化し、耐水性や経時ニジミを向上させることができる。
【００５２】
しかし、これを直接インク受容層を形成するための塗布液に添加すると、アニオン電荷を有する気相法シリカとの間で凝集を生ずる懸念があるが、独立の別の溶液として調製し塗布する方法を利用すれば、無機顔料微粒子の凝集を懸念する必要はない。よって、本発明においては、上記気相法シリカとは別の溶液（例えば、架橋剤溶液）に含有して用いることが好ましい。
【００５３】
上記カチオン性媒染剤としては、カチオン性基として、第１級〜第３級アミノ基、または第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好適に用いられるが、カチオン性の非ポリマー媒染剤も使用することができる。
上記ポリマー媒染剤としては、第１級〜第３級アミノ基およびその塩、または第４級アンモニウム塩基を有する単量体（媒染モノマー）の単独重合体や、該媒染モノマーと他のモノマー（以下、「非媒染モノマー」という。）との共重合体または縮重合体として得られるものが好ましい。また、これらのポリマー媒染剤は、水溶性ポリマー、または水分散性のラテックス粒子のいずれの形態でも使用できる。
【００５４】
上記単量体（媒染モノマー）としては、例えば、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−オクチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メチル）ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−フェニル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、
【００５５】
トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（３−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムアセテート、
【００５６】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドのメチルクロライド、エチルクロライド、メチルブロマイド、エチルブロマイド、メチルアイオダイド若しくはエチルアイオダイドによる４級化物、またはそれらのアニオンを置換したスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、酢酸塩若しくはアルキルカルボン酸塩等が挙げられる。
【００５７】
具体的には、例えば、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、
【００５８】
Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムブロマイド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムブロマイド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムスルホネート、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムアセテート等を挙げることができる。
その他、共重合可能なモノマーとして、Ｎ―ビニルイミダゾール、Ｎ―ビニル−２−メチルイミダゾール等も挙げられる。
【００５９】
上記非媒染モノマーとは、第１級〜第３級アミノ基およびその塩、または第４級アンモニウム塩基等の塩基性あるいはカチオン性部分を含まず、インクジェットインク中の染料と相互作用を示さない、あるいは相互作用が実質的に小さいモノマーをいう。
上記非媒染モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；酢酸アリル等のアリルエステル類；塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類、等が挙げられる。
【００６０】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部位の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等が挙げられる。
中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。
上記非媒染モノマーも、一種単独で、または二種以上組合せて使用できる。
【００６１】
更に、ポリマー媒染剤として、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリメタクリロイルオキシエチル−β−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド、ポリエチレニミン、ポリアリルアミン、ポリアリルアミン塩酸塩、ポリアミド−ポリアミン樹脂、カチオン化でんぷん、ジシアンジアミドホルマリン縮合物、ジメチル−２−ヒドロキシプロピルアンモニウム塩重合物、ポリアミジン、ポリビニルアミン等も好ましいものとして挙げることができる。
【００６２】
上記ポリマー媒染剤の分子量としては、重量平均分子量で１０００〜２０００００が好ましく、重量平均分子量で３０００〜６００００がさらに好ましい。上記分子量が１０００〜２０００００の範囲にあると、耐水性が不十分となることがなく、また、粘度が高くなりすぎてハンドリング適正が低下するのを防止できる。
【００６３】
上記カチオン性の非ポリマー媒染剤としては、例えば、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、塩化マグネシウム等の水溶性金属塩が好ましい。
【００６４】
（他の成分）
インク受容層は、必要に応じて下記成分を含んでいてもよい。
色材の劣化を抑制する目的で、各種の紫外線吸収剤、酸化防止剤、一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤を含んでいてもよい。
上記紫外線吸収剤としては、桂皮酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフェノール誘導体等が挙げられる。例えば、α−シアノ−フェニル桂皮酸ブチル、ｏ−ベンゾトリアゾールフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−ｐ−クロロフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２,４−ジ−ｔ−オクチルフェノール等が挙げられる。ヒンダートフェノール化合物も紫外線吸収剤として使用でき、具体的には少なくとも２位または６位のうち１ヵ所以上が分岐アルキル基で置換されたフェノール誘導体が好ましい。
【００６５】
また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤等も使用できる。例えば、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同３，７０７，３７５号明細書、同３，７５４，９１９号明細書、同４，２２０，７１１号明細書等に記載されている。
【００６６】
蛍光増白剤も紫外線吸収剤として使用でき、例えば、クマリン系蛍光増白剤等が挙げられる。具体的には、特公昭４５−４６９９号公報、同５４−５３２４号公報等に記載されている。
【００６７】
上記酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、同３０９４０２号公報、同３１０５５１号公報、同第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８５３５号公報、同６０−１０７３８４号公報、同６０−１０７３８３号公報、同６０−１２５４７０号公報、同６０−１２５４７１号公報、同６０−１２５４７２号公報、同６０−２８７４８５号公報、同６０−２８７４８６号公報、同６０−２８７４８７号公報、同６０−２８７４８８号公報、同６１−１６０２８７号公報、同６１−１８５４８３号公報、同６１−２１１０７９号公報、同６２−１４６６７８号公報、同６２−１４６６８０号公報、同６２−１４６６７９号公報、同６２−２８２８８５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−０５１１７４号公報、同６３−８９８７７号公報、同６３−８８３８０号公報、同６６−８８３８１号公報、同６３−１１３５３６号公報、
【００６８】
同６３−１６３３５１号公報、同６３−２０３３７２号公報、同６３−２２４９８９号公報、同６３−２５１２８２号公報、同６３−２６７５９４号公報、同６３−１８２４８４号公報、特開平１−２３９２８２号公報、特開平２−２６２６５４号公報、同２−７１２６２号公報、同３−１２１４４９号公報、同４−２９１６８５号公報、同４−２９１６８４号公報、同５−６１１６６号公報、同５−１１９４４９号公報、同５−１８８６８７号公報、同５−１８８６８６号公報、同５−１１０４９０号公報、同５−１１０８４３７号公報、同５−１７０３６１号公報、特公昭４８−４３２９５号公報、同４８−３３２１２号公報、米国特許第４８１４２６２号、同第４９８０２７５号公報等に記載のものが挙げられる。
【００６９】
具体的には、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１,２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４，−テトラヒドロキノリン、シクロヘキサン酸ニッケル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２−メチル−４−メトキシ−ジフェニルアミン、１−メチル−２−フェニルインドール等が挙げられる。
【００７０】
上記褪色性防止剤は、単独でも２種以上を併用してもよい。この上記褪色性防止剤は、水溶性化、分散、エマルション化してもよく、マイクロカプセル中に含ませることもできる。
上記褪色性防止剤の添加量としては、インク受容層用塗布液の０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００７１】
また、無機顔料微粒子の分散性を高める目的で、各種無機塩類、ｐＨ調整剤として酸やアルカリ等を含んでいてもよい。
更に、表面の摩擦帯電や剥離帯電を抑制する目的で、電子導電性を持つ金属酸化物微粒子を、表面の摩擦特性を低減する目的で各種のマット剤を含んでいてもよい。
【００７２】
［下地層］
不透明性の高い下地層を設けると、紙に近い拡散性を有し、画質が向上する。特に、白色の下地層を設けると色再現性を良好とすることができる。下地層を光沢性の高いものにすると、光沢写真のように仕上がり、マット性の高いものとすると、マット写真のように仕上がる。下地層は、様々な色を用いると、様々な印象の画像を形成することができる。また、蛍光性の下地層の場合、蛍光性の画質とすることができる。
【００７３】
下地層の層厚としては、０．１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが最も好ましい。
【００７４】
［中間層］
本発明に係る情報媒体には、インク受容層と下地層との間に中間層を設けてもよい。この場合、インク受容層と下地層との密着性を向上させたり、情報媒体全体の反りを調整したりすることができる。
【００７５】
中間層の層厚としては、０．１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが最も好ましい。
【００７６】
［表面層］
本発明に係る情報媒体は、インク受容層の上に表面層があってもよい。表面層により、表面強度をさらに向上させたり、印画の保存性を向上させたりすることができる。表面層は、インクを受容するか、あるいは速やかに透過させる性質を有する必要がある。
【００７７】
表面層の層厚としては、０．０１〜１００μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがより好ましく、０．５〜５μｍが最も好ましい。
【００７８】
［基板］
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。
【００７９】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。
青紫色レーザーで記録する媒体の場合、プリグルーブのトラックピッチは、２００〜８００ｎｍの範囲とすること好ましく、２００〜５００ｎｍとすることがより好ましく、２００〜４００ｎｍとすることがさらに好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１０〜１８０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましい。
さらに、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることがさらに好ましい。
【００８０】
ＤＶＤ−ＲまたはＤＶＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることがさらに好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１３０〜１４０ｎｍとすることがさらに好ましい。
さらに、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることがさらに好ましい。
【００８１】
ＣＤ−ＲまたはＣＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、１．２〜２．０μｍの範囲とすること好ましく、１．４〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．５５〜１．６５μｍとすることがさらに好ましい。
プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることがさらに好ましい。
プリグルーブの半値幅は、４００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、４８０〜６００ｎｍとすることがより好ましく、５００〜５８０ｎｍとすることがさらに好ましい。
【００８２】
［記録層］
追記型の場合、記録層に用いる色素は特に限定されないが、使用可能な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。
記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲にある。
【００８３】
書き換え可能型の場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
【００８４】
［光反射層］
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００８５】
［保護層、保護基板］
反射層もしくは記録層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが好ましい。なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして貼り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層の材料としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4などの無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を用いることができる。保護層の層厚は、一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。
【００８６】
また、反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて、例えば、記録層との接着性向上のための光透過層を設けてもよい。
光透過層としては、レーザー波長で９０％以上の透過率があるものであれば如何なる材料をも使用することができる。
上記光透過層は、従来公知の方法により形成することができ、光透過層の厚さは、２〜５０ｎｍとすることが好ましい。
【００８７】
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００８８】
なお、本発明に係る情報媒体は、基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチや、記録層を構成する材料等を適宜設定することで、従来のＤＶＤ等よりトラックピッチが狭く、使用されるレーザ光より小さい波長のレーザ光で情報の記録再生を行うことが可能な情報媒体にも適用することができる。
【００８９】
本発明に係る情報媒体の厚みとしては、下限としては、０．３ｍｍが好ましく、０．５ｍｍがより好ましく、０．７ｍｍがさらに好ましい。また、上限としては、１００ｍｍが好ましく、２０ｍｍがより好ましく、５ｍｍがさらに好ましい。薄すぎると、曲げたときに欠陥が発生することがある。厚すぎると、リムーバブル性に劣ることがある。
【００９０】
＜情報媒体の製造方法＞
次いで、本発明の情報媒体の製造方法について説明する。先ず、プリンタブル層が未形成の状態の情報媒体の製造方法について説明する。
【００９１】
［情報基板、保護基板の成形］
情報基板、保護基板の成形は、前述の基板材料を用い、射出成形、圧縮成形、又は射出圧縮成形によって行うことができる。また、スタンパーを油圧プレス機のモールディングダイスの片側に取り付け、溶融点付近まで加熱した樹脂をプレス加工することにより圧縮成形することもできる。
【００９２】
［記録層の形成］
記録層は、上記色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して色素溶液を調製し、次いでこの色素溶液を基板（情報基板）のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより形成される。
塗布法として、スピンコート法を適用する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく３５℃とする。
【００９３】
また、記録物質等を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー、加温等の方法を適用することができる。
【００９４】
色素溶液を調製する際の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
【００９５】
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００９６】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００９７】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００９８】
褪色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４−１４６１８９号等の各公報に記載されている。
【００９９】
前記結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素１００質量部に対して０．２〜２０質量部、好ましくは、０．５〜１０質量部、更に好ましくは１〜５質量部である。
【０１００】
塗布温度としては、２０〜４０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２５〜３５℃、さらに好ましくは２７〜３３℃である。また、塗布時の相対湿度としは、２０〜６０％ＲＨであればよく、好ましくは３０〜５０％ＲＨ、さらに好ましくは３５〜４５％ＲＨである。
【０１０１】
［光反射層の形成］
光反射層は、例えば、上記反射性物質を、蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。本発明においては、保存性を向上させる目的、或いは外観を変える目的で、反射層は上記材料を単層で積層してもよく、２種以上の材料を多層に積層してもよい。
【０１０２】
［保護層の形成］
保護層は、無機物質の場合は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により、有機物質の場合は、プラスチックフィルムのラミネート、溶剤に溶解した塗布液の塗布乾燥等により形成することができる。あるいは保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを、接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１０３】
ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい。
【０１０４】
ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷの場合は、保護層に代わって、紫外線硬化樹脂等からなる接着層および保護基板としての基板（厚さ：０．６ｍｍ程度、材質については前記基板と同様）を積層する。
すなわち、光反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０等）をスピンコート法によって、２０〜６０μｍの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、例えば、保護基板としてのポリカーボネート基板（厚さ０．６ｍｍ）を載置し、基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせる。
【０１０５】
以上のようにして、基板上に記録層、光反射層、保護層または接着層を介した保護基板（ダミー基板）、等が設けられた積層体からなる情報媒体が作製される。
【０１０６】
［プリンタブル層の形成］
本発明の製造方法においては、以上のようにして得られた情報媒体の記録層とは反対の面側にプリンタブル層を形成する。
【０１０７】
（下地層の形成）
下地層を形成する場合、その形成手法は問わないが、生産性の観点から、放射線硬化樹脂をスクリーン印刷により形成することが好ましい。放射線硬化樹脂は、紫外線、電子ビーム、Ｘ線、γ線、赤外線等の電磁波によって硬化する樹脂であり、放射線としては、中でも、紫外線、電子ビームが好ましい。また、下地層を１５μｍ以上の層厚とするためには、スクリーン印刷・放射線硬化の工程を複数回行って、トータルの層厚が１５μｍ以上となるようにすればよい。換言すると、１５μｍ未満の層を複数重ねて１５μｍ以上となるように形成すればよい。
【０１０８】
（インク受容層の形成）
既述のように、インク受容層には、少なくとも、微粒子、結合剤、及び架橋剤を含有するインク受容層用塗布液を下地層上に塗布した塗布層を架橋硬化させる方法により形成されることが好ましい。以下、インク受容層用塗布液について説明する。
【０１０９】
−インク受容層用塗布液−
本発明において、少なくとも、微粒子、結合剤、及び架橋剤を含有するインク受容層用塗布液は、例えば、以下のようにして調製することができる。以下の例は、微粒子として気相法シリカを、結合剤としてポリビニルアルコールを用いた場合である。
即ち、気相法シリカを水中に添加して（例えば、１０〜２０質量％）、高速回転湿式コロイドミル（例えば、クレアミックス（エム・テクニック（株）製））を用いて、例えば１００００ｒｐｍ（好ましくは５０００〜２００００ｒｐｍ）の高速回転の条件で２０分間（好ましくは１０〜３０分間）分散させた後、ポリビニルアルコール水溶液（例えば、気相法シリカの１／３程度の質量のＰＶＡとなるように）を加え、上記と同じ回転条件で分散をおこなうことで調製することができる。得られた塗布液は均一ゾルであり、これを下記塗布方法で基板上に塗布形成することにより、三次元網目構造を有する多孔質性のインク受容層を形成することができる。なお、上記分散の処理方法としては、高速回転分散機、媒体攪拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、本発明では形成されるダマ状微粒子の分散を効率的におこなうという点から、コロイドミル分散機または高圧分散機が好ましく用いられる。
【０１１０】
本発明においては、前記インク受容層用塗布液の表面張力を５×１０-2Ｎ／ｍ以下としている。前述のように、インク受容層の層厚を必要以上に厚くすると、層の内部応力による影響でディスク（情報媒体）の反りが発生するという問題がある。そこで、本発明においては、インク受容層用塗布液の表面張力を５×１０-2Ｎ／ｍ以下と小さくすることにより、乾燥時における塗膜の体積変化が小さくなり、塗膜の内部応力を小さくすることができる。その結果、ディスクの反りが抑制されて、良好なディスク機械特性が得られる。インク受容層用塗布液の表面張力が５×１０-2Ｎ／ｍを超えると、乾燥時における塗膜の体積変化が大きくなり、ひいては、良好なディスク機械特性が得られない。
【０１１１】
インク受容層用塗布液の表面張力は、４．５×１０-2Ｎ／ｍ以下であることがより好ましく、４．０×１０-2Ｎ／ｍ以下であることがさらに好ましい。また、インク受容層用塗布液の表面張力の下限としては、２．０×１０-2Ｎ／ｍであることが好ましい。
【０１１２】
インク受容層用塗布液の表面張力を前記範囲に調整するには、界面活性剤を添加させる方法が挙げられ、該界面活性剤としてはカチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、フッ素系、シリコン系界面活性剤のいずれも使用可能である。以下に、本発明に使用可能な界面活性剤の具体例を挙げる。
【０１１３】
上記ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルおよびポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル類（例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリーコールジエチルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等）、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル類（例えば、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等）、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類（例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレート等）、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル類（例えば、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット等）、グリセリン脂肪酸エステル類（例えば、グリセロールモノオレート等）、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル類（モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン、モノオレイン酸ポリオキシエチレングリセリン等）、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類（ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノオレート等）、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アセチレングリコール類（例えば、２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール、及び該ジオールのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物等）等が挙げられ、就中ポリオキシアルキレンアルキルエーテル類が好ましい。また、上記ノニオン系界面活性剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１４】
上記両性界面活性剤としては、アミノ酸型、カルボキシアンモニウムベタイン型、スルホンアンモニウムベタイン型、アンモニウム硫酸エステルベタイン型、イミダゾリウムベタイン型等が挙げられ、例えば、米国特許第３，８４３，３６８号明細書、特開昭５９−４９５３５号公報、同６３−２３６５４６号公報、特開平５−３０３２０５号公報、同８−２６２７４２号公報、同１０−２８２６１９号公報等に記載されているものを好適に使用できる。該両性界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤が好ましく、該アミノ酸型両性界面活性剤としては、特開平５−３０３２０５号公報に記載されているように、例えば、アミノ酸（グリシン、グルタミン酸、ヒスチジン酸等）から誘導体化されたものが挙げられ、具体的には長鎖のアシル基を導入したＮ−アミノアシル酸およびその塩が挙げられる。上記両性界面活性剤は１種で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１５】
前記アニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩（例えばステアリン酸ソーダ、オレイン酸カリ）、アルキル硫酸エステル塩（例えばラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン）、スルホン酸塩（例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム）、アルキルスルホコハク酸塩（例えばジオクチルスルホコハク酸ナトリウム）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等が挙げられる。
前記カチオン系界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリウム塩などが挙げられる。
【０１１６】
前記フッ素系界面活性剤としては、電解フッ素化、テロメリゼーション、オリゴメリゼーションなどの方法を用いてパーフルオロアルキル基を持つ中間体を経て誘導される化合物が挙げられる。
例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルトリアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどが挙げられる。
フッ素系界面活性剤のうちテロマー型フッ素系界面活性剤は、テトラフロロエチレンのテロメリゼーションで得られるフッ素系化合物から得られる界面活性剤であり、一般的には下記一般式１ないし一般式２で示されるフッ化アルキル基を有する界面活性剤である。
【０１１７】
ＣnＦ2n+1（ＣＨ2ＣＨ2）m−          一般式１
【０１１８】
ＣnＦ2n+1−ＣＯ−                  一般式２
【０１１９】
上記式中ｎは４以上の、ｍは１以上の整数を表す。
【０１２０】
この様な基を有する界面活性剤としてはこれらの基を有する低分子系化合物（直鎖型とも呼ばれる）、高分子系化合物（重合型とも呼ばれる）などがある。
【０１２１】
低分子系化合物としては例えば下記の一般式で示される化合物などが挙げられる。
【０１２２】
Ｒｆ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｘ1        一般式３
【０１２３】
Ｒｆ−ＣＯ−Ｘ2              一般式４
【０１２４】
上記式中、Ｒｆはフッ化アルキル鎖であり、具体的にはＣ10Ｆ21−、Ｃ8Ｆ17−、Ｃ6Ｆ13−、Ｃ5Ｆll−、Ｃ4Ｆ9−などが挙げられる。
またＸlとしては−ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）l−Ｈ、−ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−Ｍ、−Ｓ０3−Ｍ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）(ＯＭ）2、−ＯＣＯ−Ｌ−ＣＯＯＭ、−ＳＯ2ＮＲ2−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ、−ＳＯ2ＮＲ2−ＣＨ2ＣＯＯＭなどが挙げられる。
上記式中、ｌは１以上の整数を、Ｍは水素原子又は金属イオンなどの対カチオンを、Ｒ2はアルキル基を、Ｌは−(ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）3−、オルトフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−などを表す。
【０１２５】
Ｘ2としては−ＯＨ、−ＮＨ−Ｒ3などが挙げられる。
Ｒ3は水素原子、アルキル基、アンモニウム基などを含むアルキル基であり、例えば−(ＣＨ2）3−Ｎ+Ｒ4Ｒ5Ｒ6Ｙ-、−（ＣＨ2）3−Ｎ+Ｒ4Ｒ5Ｒ7ＣＯＯ一等が挙げられる。ここでＲ4、Ｒ5、Ｒ6はアルキル基、アリール基などを、Ｒ7はアルキレン基などを、Ｙ-はハロゲンなどを表す。
【０１２６】
高分子系化合物としては、例えば下記一般式５ないし一般式６のモノマーから得られる重合体、及びこれらと共重合可能な単量体との共重合体などが挙げられる。
【０１２７】
【化１】
2006102993.tif 000002
【０１２８】
【化２】
2006102993.tif 000003
【０１２９】
上記式中、Ｒｆは前記一般式３、一般式４におけると同じものを示し、Ｒlは水素原子又はメチル基などである。Ｒ2はアルキル基などである。
【０１３０】
またこれらと共重合なモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、［例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ‐ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ‐ブチル、（メタ）アクリル酸へキンル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキンル、及び（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリルなどの（メタ）アクリアレ酸Ｃ−１８アルキルエステルなど。］、（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸シクロへキシル、（メタ）アクリル酸ノルボルニルなど。］、（メタ）アクリル酸アリールエステル［例えば、（メタ）アクリル酸フェニルなど。］、アラルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸ベンジルなど。］、置換（メタ）アクリル酸アルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなど。］、
【０１３１】
ポリエーテル基を含有する（メタ）アクリル酸エステル類、［例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレニト、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレートなど。］、（メタ）アクリアミド類［例えば、（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドなど。］、芳香族ビニル類［例えば、スチレン、ビニルトルエン、α一メチルスチレンなど。］、ビニルエステル類［例えば、酢酸ビニル、プロピォン酸ビニル、バーサチック酸ビニルなど。］、アリルエステル類［例えば、酢酸アリルなど。］、ハロゲン含有単量体［例えば、塩化ビニリデン、塩化ビニルなど。］、シアン化ビニル［例えば、（メタ）アクリロニトリルなど。］、オレフィン類［例えば、エチレン、プロピレンなど。］が挙げられる。
【０１３２】
具体的には、大日本インキ化学工業（株）社製のメガファックＦ４７０、メガファックＦ４７２、メガファックＦ４７３、メガファックＦ４７５、メガファックＦ４７６、メガファックＦ１４０５、メガファックＦ１７８Ｋ、メガファックＦ−１４０ＮＫ、デュポシ社製のＺｏｎｙｌ  ＦＳＰ，同ＦＳＥ，同ＴＢＳ，同ＦＳ−６２，同ＦＳＡ，同ＦＳＯ，同ＦＳＮ，同ＦＳ−３００，同ＦＳ−３１０，同ＦＳＮ−１００，同ＦＳＯ−１００、ダイキン工業製のＤＳ１０１，ＤＳ２０２，ＤＳ４０１などが挙げられる。
【０１３３】
前記シリコーン系の界面活性剤としては、例えばポリジメチルシロキサンなどのオルガノポリシロキサン部を有する化合物（シリコーン系化合物）の側鎖、及び／又は末端に親水性の基や親水性ポリマー鎖を有する化合物がー般的である。前記親水性の基や親水性ポリマー鎖としては例えばポリエーテル結合（ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキンドやこれらの共重合体など）、ポリグリセリン（Ｃ3Η6Ｏ（ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ）n-Ｈなど）、ピロリドン、ベタイン（Ｃ3Η6Ｎ+Ｍｅ2−ＣＨ2ＣＯＯ―など）、硫酸塩（Ｃ3Ｈ6Ｏ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n-ＳＯ3Ｎａなど）、リン酸塩（Ｃ3Η6Ｏ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n-Ｐ(＝Ｏ)ＯＨＯＮａなど）、４級塩（Ｃ3Ｈ6Ｎ+Ｍｅ3Ｃｌ-など）が挙げられる。なお、上記化学式中ｎは１以上の整数を表す。
【０１３４】
また末端に重合性ビニル基を有するポリジメチルシロキサンなどとその他の共重合可能なモノマー（該モノマーの少なくとも一部には（メタ）アクリル酸やその塩などの親水性モノマーを用いることが好ましい）との共重合で得られる側鎖にポリジメチルシロキサンなどのシリコーン系化合物鎖を有するビニル系共重合体などなども挙げられる。
【０１３５】
これらの中でも本発明においてはオルガノポリシロキサン部を有する化合物に親水性ポリマー鎖を有する化合物が好ましく、前記親水性ポリマー鎖としては、ポリエーテル結合を含有するものが特に好ましい。
【０１３６】
具体的に本発明に好適の界面活性剤としては、信越シリコーン(株)社製の、ＫＦ６４０、ＫＦ６４２、ＫＦ３５１Ａ、ＫＦ３５２Ａ、ＫＦ３５３Ａ、ＫＦ３５４Ａ、ＫＦ３５５Ａ、ＫＦ−６１５，ＫＦ−９４５，ＫＦ−６１８，ＫＦ−６００４、東レダウコーニングシリコン社製の、ＳＨ３７４６オイル、ＳＨ３７４８オイル、ＳＨ３７４９オイル、ＳＨ３７７１オイル、ＳＨ８４００などが挙げられる。
【０１３７】
以上の界面活性剤のうち好ましいものとしては、シリコーン系界面活性剤、テロマー型フッ素系界面活性剤が挙げられる。
【０１３８】
本発明において、インク受容層用塗布液の表面張力を５×１０-2Ｎ／ｍ以下とするため、以上の界面活性剤を適宜選択し、例えば、インク受容層用塗布液に対して０．００１〜２．０％（好ましくは０．０１〜１．０％）の添加量を調整することが好ましい。
【０１３９】
上記インク受容層用塗布液には、必要に応じて、更にｐＨ調整剤、帯電防止剤等を添加することもできる。
【０１４０】
前記インク受容層用塗布液の塗布は、例えば、エクストルージョンダイコータ、バーコータ、ロールコータ、ブレードコータ、スクリーンコータ、タンポコータ、スプレーコータ、スピンコータ、カーテンコータ、ディップコータ、等を用いた塗布法により行うことができる。塗布の後、形成された塗布層は乾燥されるが、この場合の乾燥は、一般に塗布層を４０〜１５０℃で０．５〜１０分間加熱することにより行われ、好ましくは、４０〜１００℃で０．５〜５分間加熱することにより行われる。塗布層の乾燥については後述する。
【０１４１】
前記インク受容層用塗布液の塗布を、例えば、エクストルージョンダイコータにより行う場合、吐出される塗布液は、エクストルージョンダイコータの吐出口からの流量（吐出口における塗布液の流量）を線速度に応じて内周部から外周部に向けて多くなるように塗布することが好ましい。このように、インク受容層用塗布液を、エクストルージョンダイコータを用いて塗布量を周径により変化させて塗布することにより、インク受容層の層厚を所望の範囲にすることが容易になる。
具体的には、半径位置２５ｍｍから５５ｍｍにわたりエクストルージョンダイを近接させて塗布を行うが、吐出口の幅（スリット幅）を２５ｍｍの位置に対して５５ｍｍの位置では２〜１１倍になるように設計することが好ましい。この設計により、塗布量（吐出口における塗布液の流量）を調整することができ、その結果、所望の膜厚の色材受容層を得ることが可能となる。
【０１４２】
スプレーコートにより塗布を行う場合、圧力としては、１．０１３〜２０２６ｈＰａが好ましく、５０．６５〜１０１３ｈＰａがより好ましく、１０１．３〜５０６．５ｈＰａがさらに好ましい。スプレーの広がり角度としては、１〜１２０°が好ましく、１０〜６０°がより好ましく、２０〜５０°がさらに好ましい。液粒径としては、０．１〜１０００μｍが好ましく、１〜５００μｍがより好ましく、１０〜１００μｍがさらに好ましい。ワーク（情報媒体）からの距離としては、１〜１０００ｍｍが好ましく、１０〜２００ｍｍがより好ましく、３０〜１００ｍｍがさらに好ましい。温度としては、１０〜４０℃が好ましく、１５〜３５℃がより好ましく、２０〜３０℃がさらに好ましい。湿度としては、５〜７０％ＲＨが好ましく、１０〜４０％ＲＨがより好ましく、２０〜５０％ＲＨがさらに好ましい。
【０１４３】
スピンコートにより塗布を行う場合、塗布液の粘度としては、０．１〜１００００ｍＰａ・ｓが好ましく、１〜６０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、１０〜３０００ｍＰａ・ｓがさらに好ましい。インク受容層用塗布液）は厚みを確保するため、５０〜１００００ｍＰａ・ｓが好ましく、１００〜６０００ｍＰａ・ｓがより好ましく２００〜３０００ｍＰａ・ｓがさらに好ましい。回転数としては、ディスペンス時においては、１０〜１０００ｒｐｍとすることが好ましく、５０〜６００ｒｐｍとすることがより好ましく、１００〜４００とすることがさらに好ましい。振り切り時においては、徐々に回転数を上げ、上げ方はステップでもなだらかでもよく、具体的には、１００〜１００００ｒｐｍとすることが好ましく、２００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましく、３００〜３０００ｒｐｍとすることがさらに好ましい。ノズルの形状は、長さは１〜１００ｍｍであることが好ましく、５〜５０ｍｍであることがより好ましく、１０〜３０ｍｍであることがさらに好ましい。ノズルの内径は、０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．３〜３ｍｍであることがより好ましく、０．５〜２ｍｍであることがさらに好ましい。ノズルの肉厚は０．１〜１ｍｍであることが好ましく、０．２〜０．５ｍｍであることがより好ましい。また、ノズルは流れに沿って斜めに設置してもよい。ワークからの距離としては、０．５〜１００ｍｍが好ましく、１〜５０ｍｍがより好ましく、２〜２０ｍｍがさらに好ましい。温度としては、１０〜４０℃が好ましく、１５〜３５℃がより好ましく、２０〜３０℃がさらに好ましい。湿度としては、５〜７０％ＲＨが好ましく、１０〜４０％ＲＨがより好ましく、２０〜５０％ＲＨがさらに好ましい。
【０１４４】
インク受容層の乾燥は、自然乾燥、温風乾燥、赤外・遠赤外線乾燥、高周波乾燥、オーブン乾燥など、いかなる乾燥手法で行ってもよい。
自然乾燥の場合、インク受容層用塗布液の乾燥時間は、０．１〜１００００秒とすることが好ましく、１〜１０００秒とすることがより好ましく、１０〜５００秒とすることがさらに好ましい。乾燥温度は、０〜４０℃とすることが好ましく、１０〜３５℃とすることがより好ましく、２０〜３０℃とすることがさらに好ましい。乾燥湿度１０〜７０％ＲＨとすることが好ましく、２０〜６０％ＲＨとすることがより好ましく、３０〜５０％ＲＨとすることがさらに好ましい。
【０１４５】
温風乾燥の場合、インク受容層用塗布液の乾燥時間は、０．１〜５０００秒とすることが好ましく、１〜１０００秒とすることがより好ましく、１０〜５００秒とすることがさらに好ましい。乾燥温度は、４０〜２００℃とすることが好ましく、６０〜１５０℃とすることがより好ましく、８０〜１３０℃とすることがさらに好ましい。乾燥湿度０．０１〜５０％ＲＨとすることが好ましく、０．１〜３０％ＲＨとすることがより好ましく、１〜２０％ＲＨとすることがさらに好ましい。
【０１４６】
低温セット乾燥の場合、塗布層の乾燥温度は、２〜２５℃とすることが好ましく、５〜１５℃とすることがより好ましい。乾燥湿度１０〜５０％ＲＨとすることが好ましく、１０〜３０％ＲＨとすることがより好ましい。この温・湿度は、乾燥の進行に伴い、低温低湿から高温高湿ヘ、徐々に或いは段階的にあげていることが好ましい。なお、風速は、減率乾燥速度を示したら、塗布層に対して平行に３ｍ／ｓ以上であることが好ましい。
【０１４７】
赤外・遠赤外乾燥の場合、インク受容層用塗布液の乾燥時間は、０．１〜１０００秒とすることが好ましく、１〜５００秒とすることがより好ましく、１０〜３００秒とすることがさらに好ましい。出力は、１０〜２０００Ｗとすることが好ましく、５０〜１５００Ｗとすることがより好ましく、１００〜１０００Ｗとすることがさらに好ましい。
高周波乾燥の場合の乾燥条件も赤外・遠赤外乾燥の場合と同様である。
【０１４８】
オーブン乾燥の場合、インク受容層用塗布液の乾燥時間は、０．１〜１０００秒とすることが好ましく、１〜５００秒とすることがより好ましく、１０〜３００秒とすることがさらにが好ましい。
【０１４９】
以上は、少なくとも、微粒子と、結合剤と、架橋剤と、を含有するインク受容層の形成を示したが、本発明にそれに限定されず、インク受容層の形成は、例えば、特開平１１−２０８１０５号公報、特開平１１−３０１０９８号公報、特開平１１−３２１０８５号公報、及び特開２０００−３５１２６６号公報に記載の通り行ってもよい。
【０１５０】
また、各工程における溶媒として水、有機溶媒、またはこれらの混合溶媒を用いることができる。この塗布に用いることができる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。
【０１５１】
インク受容層を形成した後、該インク受容層は、例えば、スーパーカレンダ、グロスカレンダ等を用い、加熱加圧下にロールニップ間を通してカレンダー処理を施すことにより、表面平滑性、光沢度、透明性および塗膜強度を向上させることが可能である。しかしながら、該カレンダー処理は、空隙率を低下させる要因となることがあるため（即ち、インク吸収性が低下することがあるため）、空隙率の低下が少ない条件を設定しておこなう必要がある。
【０１５２】
カレンダー処理をおこなう場合のロール温度としては、３０〜１５０℃が好ましく、４０〜１００℃がより好ましい。
また、カレンダー処理時のロール間の線圧としては、５０〜４００ｋｇ／ｃｍが好ましく、１００〜２００ｋｇ／ｃｍがより好ましい。
【０１５３】
上記インク受容層の層厚としては、インクジェット記録の場合では、液滴を全て吸収するだけの吸収容量をもつ必要があるため、層中の空隙率との関連で決定する必要がある。例えば、インク量が８ｎＬ／ｍｍ2で、空隙率が６０％の場合であれば、層厚が約１μｍ以上の膜が必要となる。
この点を考慮すると、インクジェット記録の場合には、インク受容層の層厚としては、１〜２００μｍが好ましく、５〜１００μｍがより好ましく、１０〜６０μｍがさらに好ましい。
【０１５４】
また、インク受容層の細孔径は、メジアン径で０．００５〜０．０３０μｍが好ましく、０．０１〜０．０２５μｍがより好ましい。
上記空隙率および細孔メジアン径は、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。
【０１５５】
また、インク受容層は、透明性に優れていることが好ましいが、その目安としては、インク受容層を透明フイルム支持体上に形成したときのヘイズ値が、３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましい。
上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ：スガ試験機（株））を用いて測定することができる。
【０１５６】
以上のように、微粒子と、結合剤と、架橋剤、とをインク受容層に有することで、他のインク受容性能を低下させることなく、多孔質構造の形成時におけるインク受容層の乾燥収縮を抑制し、膜割れを防止することができる。しかも、インク受容層が気相法シリカを含んで空隙率５０〜８０％の三次元網目構造を有すると、良好なインク吸収性を示し高解像度で高濃度な画像が形成できると共に、高温高湿環境下での経時ニジミも抑制され、形成された画像も高い耐光性、耐水性を示すといった、優れたインク受容性能をも同時に確保することができる。
【０１５７】
以上のように、本発明の情報媒体のインク受容層は、紫外線硬化樹脂によって形成したものとは異なり、情報媒体に照射する紫外線の量を減少させることができ、ジッタなどの記録特性を向上させることができる。また、紫外線硬化樹脂のように皮膚刺激性がなく、取り扱い安全性が高い。
また、インクジェット記録用シートは、強い力で曲げると表面に亀裂など欠陥が生ずるが、本発明に係る情報媒体は、前述の基板がインクジェット記録用シートよりも厚く、曲げなどの外部からの応力に対して強い。
【実施例】
【０１５８】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、実施例中の「部」および「％」は、全て「質量部」および「質量％」を表す。
【０１５９】
［実施例１］
《円盤状基板の作製》
予め所定のトラックピッチで所定の溝形状となるように作製したスタンパを内部に備えた射出成型機にポリカーボネート樹脂（樹脂商品名：パンライトＡＤ５５０３、帝人（株））を注入し、１１５℃の温度で成型し、ポリカーボネート製の円盤状樹脂基板を作製した。得られた円盤状樹脂基板は、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍで、その表面にスパイラル状の凹状の溝（プレグルーブ）が形成されていた。凹状の溝のトラックピッチは、１．６μｍであり、溝幅は５００ｎｍであり、溝深さは１８０ｎｍであった。
【０１６０】
下記構造式で示されるシアニン色素２．５ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００ｍｌに溶解し、記録層形成用塗布液を調製した。この塗布液を、上記で得た円盤状ポリカーボネート基板のそのプレグルーブが設けられている表面上に、スピンコートにより塗布し、記録層（厚さ：１９０ｎｍ（グルーブ部）、１１０ｎｍ（ランド部））を形成した。
【０１６１】
【化３】
2006102993.tif 000004
【０１６２】
次に、記録層上にＡｇをＤＣマグネトロンスパッタ装置を用いてスパッタして、厚さが約１２０ｎｍのＡｇからなる反射層を形成した。更に反射層上にＵＶ硬化性樹脂（商品名：ＳＤ３１８、大日本インキ化学工業（株）製）を回転数３００〜４０００ｒｐｍの間で変化させながらスピンコート法を利用して塗布した。塗布後、その上から高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させ、層厚５μｍの保護層を形成した。以上の工程により、基板、記録層、反射層及び保護層からなるＣＤ−Ｒ型の情報媒体（光ディスク）を製造した。
【０１６３】
次いで、記録再生用レーザー光の入射面とは反対側の保護層上に、以下のようにして、プリンタブル層を形成した。
【０１６４】
−下地層の形成−
基板表面とは反対側の保護層上に紫外線硬化インク（Ｗｈｉｔｅ  Ｎｏ．３、帝国インキ製造（株）製）をスクリーン印刷で印刷し、印刷後、その上からメタルハライドランプで８０Ｗ／ｃｍの紫外線を照射して硬化させ８μｍの下地層（白色層）を繰り返し２層、トータルで１６μｍの厚みで形成した。スクリーンは３００本／インチメッシュ、糸径３１μｍ、オープニング３８μｍのテトロン製スクリーンを用いた。
【０１６５】
次に、下地層上にインク受容層を形成するため以下の工程を経た。
【０１６６】
−インク受容層用塗布液Ａの調製−
下記組成中の（１）気相法シリカ微粒子、（２）イオン交換水を混合し、高速回転式コロイドミル（クレアミックス、エム・テクニック（株）製）を用いて、回転数１００００ｒｐｍで２０分間分散させた。その後、その水分散物に、（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル、（４）ポリビニルアルコール９％水溶液、及び（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテルから構成される第１の溶液と、（６）硼酸、（７）媒染剤、及び（８）イオン交換水からなる第２の溶液と、をそれぞれ添加し、更に上記と同一条件で再分散を行い、インク受容層用塗布液Ａを調製した。
シリカ微粒子と水溶性樹脂との質量比（ＰＢ比／（１）：（４））は、３．５：１であり、インク受容層用塗布液ＡのｐＨは３．４であり、酸性を示した。
なお、インク受容層用塗布液Ａの表面張力を協和界面科学（株）製、表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚを用い、液温２０℃にして測定した。測定結果を表１に示す。
【０１６７】
〔インク受容層用塗布液Ａの組成〕
（１）気相法シリカ微粒子（無機顔料微粒子）                          １０．０部
（平均一次粒子径７ｎｍ；アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）
（２）イオン交換水                                                  ５５．２部
［第１の溶液］
（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤）              ０．０４部
（エマルゲン１０９Ｐ（１０％）、花王（株）製、ＨＬＢ値１３．６）
（４）ポリビニルアルコール９％水溶液（水溶性樹脂）                  ３１．７部
（ＰＶＡ４２０、（株）クラレ製、鹸化度８１．８％、重合度２，０００）
（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテル                          ０．５部
（一般式（１）で表される化合物）
［第２の溶液］
（６）硼酸（６％；架橋剤）                                          １０．４部
（７）媒染剤（ＰＡＳ−Ｆ５０００；２０％水溶液、日東紡（株）製）      ２．５部
（８）イオン交換水                                                    ５．３部
【０１６８】
−インク受容層の形成−
上記情報媒体の下地層の面にコロナ放電処理を行った後、上記から得たインク受容層用塗布液Ａを、エクストルージョンダイコータを用いて、下地層上に塗布した。
その後、低温低湿庫にて５０℃、１０％ＲＨ環境で、表面の塗布液の流動性が抑えられるまで乾燥させた。塗布層は、この期間恒率乾燥速度を示した。その直後、熱風乾燥機にて、２０℃、２０％ＲＨの環境（風速４ｍ／ｓｅｃ）で１０分間乾燥させた。これより、乾燥膜厚３５μｍのインク受容層が設けられた、実施例１の情報媒体を作製した。
【０１６９】
［実施例２］
射出成形により、表面にスパイラル状のグルーブ（ランド）とＬＰＰとを形成したポリカーボネート基板（厚さ：０．６ｍｍ、外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）を作製した。溝深さ：１４０ｎｍ、溝幅：３１０ｎｍ、溝ピッチ：７４０ｎｍであった。
【０１７０】
下記オキソノール色素（Ａ）とオキソノール色素（Ｂ）とを６５：３５の割合で混合した色素１ｇを、２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解し、記録層形成用塗布液を調製した。この記録層形成用塗布液を、得られた基板のグルーブ面に、回転数を３００〜３０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコート法により塗布し、乾燥して記録層を形成した。記録層の厚さは、記録層の断面をＳＥＭにより観察して計測したところグルーブ内では１５０ｎｍ、ランド部では１１０ｎｍであった。
【０１７１】
【化４】
2006102993.tif 000005
【０１７２】
次いで、アルゴン雰囲気中での、ＤＣスパッタリングにより、記録層上に厚さ約１５０ｎｍのＡｇからなる反射層を形成した。なお、チャンバー内の圧力は０．５Ｐａであった。
【０１７３】
更に、反射層上に、ＵＶ硬化性樹脂（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業（株）製）を環状にディスペンスし、別に用意したポリカーボネート製の円盤状保護基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を中心を一致させて重ね合わせ、回転数５０００ｒｐｍで３秒間回転させ、ＵＶ硬化性樹脂（ＳＤ６４０、大日本インキ化学工業（株）製）を全面に広げ且つ余分なＵＶ硬化性樹脂を振り飛ばした。ＵＶ硬化性樹脂が全面に広がったところで、高圧水銀灯により紫外線を照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、記録層及び反射層が形成された基板と円盤状保護基板とを貼り合わせた。貼り合わせ層の厚さは２５μｍであり、気泡の混入もなく貼り合せることができた。
【０１７４】
次いで、実施例１の「下地層の形成」及び「インク受容層の形成」と同様にして、円盤状保護基板の表面に下地層及びインク受容層を形成し、実施例２の情報媒体を作製した。
【０１７５】
［実施例３］
実施例２の「インク受容層の形成」におけるインク受容層用塗布液の界面活性剤の添加量０．５部に変更したこと以外は実施例２と同様にして実施例３の情報媒体を作製した。
【０１７６】
［比較例１］
実施例１において、インク受容層を、紫外線硬化樹脂（ＵＶ  ＳＰ  ８１０１９Ｂ、帝国インキ製造（株）製）をスクリーン印刷して紫外線硬化して形成したものに代えたこと以外は実施例１と同様にして比較例１の情報媒体を作製した。
【０１７７】
［比較例２］
実施例２の「インク受容層の形成」におけるインク受容層用塗布液の界面活性剤を添加しなかったこと以外は実施例２と同様にして比較例２の情報媒体を作製した。
【０１７８】
＜性能評価＞
上記より得られた実施例１〜３の情報媒体、及び比較例１〜２の情報媒体について、以下の評価を行った。
【０１７９】
［印刷］
実施例１〜３及び比較例１〜２の情報媒体のプリンタブル層に対し、インクジェットプリンター（セイコーエプソン（株）製；ＰＭ−９７０Ｃ）を用いて画像をプリントした。
［画質評価］
次いで、印刷した実施例１〜３及び比較例１〜２の情報媒体に対し、プリント画像を１０名が目視にて官能評価した。１０名全員が従来品よりきれいであると評価した場合を○、従来品と同等以下であると評価した場合を×として評価した。結果を表１に示す。
［ニジミ評価］
実施例１〜３及び比較例１〜２の情報媒体のプリンタブル層に対し、前記プリンタを用いてマゼンタインクとブラックインクとを隣り合わせにした格子状の線状パターン（線幅０．２８ｍｍ）を印画した。印画後３時間放置した後、ブラック部分の線幅を測定して下記基準に従い評価した。評価結果を表１に示す。
〔基準〕
◎：  経時ニジミの発生はほとんど認められず、良好であった。
（線幅：０．２８〜０．３０ｍｍ）
○：  若干の経時ニジミが認められたが、実用上問題ないレベルであった。
（線幅：０．３１〜０．３５ｍｍ）
×：  経時ニジミが顕著に認められ、実用上問題となるレベルであった。
（線幅：０．３５ｍｍ以上）
［反りの評価］
実施例１〜３の情報媒体、及び比較例１〜２の情報媒体に対し、半径方向チルトを測定した。測定には、ＤＶＤ機械特性評価装置ＤＬＤ４０００（ジャパン・イー・エム社製）を用い、色材受容層の外周端部（ｒ＝５５ｍｍ）について５１２箇所行った。その平均値を表１に示す。
なお、情報媒体において、０．８ｄｅｇ以下が実用上問題のないレベルであり、０．８ｄｅｇ以下を○とし、それを超えるものを×として評価した。
【０１８０】
【表１】
2006102993.tif 000006
【０１８１】
表１より、実施例１〜３の情報媒体は、ニジミが少なく、高画質で印刷できたのに対し、比較例１の情報媒体はニジミが多く、画質に関しては従来品と同等の印刷品質であった。また、実施例１〜３の情報媒体においては、解像度が高く、細かな質感が出た。特に、髪の毛が鮮明にプリントすることができた。さらに、実施例１〜３の情報媒体は、反りの発生が抑えられ、機械特性においても優れていたことが分かる。
これに対し、比較例２の情報媒体は、画質に関しては問題がなかったものの、反りの発生を抑えることができず、機械特性において劣っていたことが分かる。