(57)【要約】      （修正有）【課題】２層記録可能光ディスクの製品歩留まり及び効率を向上させる。【解決手段】２層記録可能光ディスクは、第１の記録層、及びこの第１の記録層上に配置した第２の記録層を具えている。第１の記録層は有機材料製とし、かつ第２の記録層は無機材料製とする。光ディスクはさらに、第１の基板、第２の基板、及び接着層を具えることができる。第１の記録層は、第１の基板上に配置した色素記録層、及びこの色素記録層上に配置した第１の反射層を具えており、また第２の記録層は、無機記録層、及びこの無機記録層上に配置した第２の反射層を具えている。さらに、第２の基板は第２の反射層上に配置され、そして接着層は第１の反射層と無機記録層との間に配置される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の記録層及び第２の記録層を具える２層記録可能光ディスクにおいて、第２の記録層は第１の記録層上に配置され、第１の記録層の記録材料は有機材料とし、かつ第２の記録層の記録材料は無機材料とした、２層記録可能光ディスク。
【請求項２】
第１の基板、第２の基板、及び接着層をさらに具える請求項１に記載の光ディスクにおいて、
第１の記録層は、第１の基板上に配置した色素記録層、及びこの色素記録層上に配置した第１の反射層を具え、第２の記録層は、無機記録層、及びこの無機記録層上に配置した第２の反射層を具え、かつ第２の基板は第２の反射層上に配置し、かつ接着層は、第１の反射層と無機記録層との間に配置した光ディスク。
【請求項３】
第１の基板は、この基板上に形成した第１の螺旋溝を有し、かつ第１の基板及び第１の螺旋溝は色素記録層に覆われている、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項４】
第１の基板は、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、アモルファス又はポリオレフィン製とした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項５】
色素記録層は、シアニン色素、アゾ、オキソノール、スクアリリウム化合物又はこれらの混合物製とした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項６】
第１の反射層は、銀、アルミニウム、銀−アルミニウム合金、又はアルミニウム合金製とした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項７】
第１の反射層の厚さは５〜３０ｎｍとした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項８】
無機記録層は、アルミニウム−ケイ素合金製、又はアルミニウム−ケイ素複合物の層とした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項９】
アルミニウム−ケイ素の合金は、１０〜８０重量％のアルミニウム及び２０〜９０重量％のケイ素を含有するようにした、請求項８に記載の光ディスク。
【請求項１０】
アルミニウム−ケイ素合金の厚さは５〜８０ｎｍとした、請求項８に記載の光ディスク。
【請求項１１】
第２の反射層は、銀、アルミニウム、銀合金、又はアルミニウム合金製とした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項１２】
第２の反射層の厚さは３０〜２００ｎｍとした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項１３】
第２の基板は、この基板に形成した第２の螺旋溝を有し、かつ第２の基板及び第２の螺旋溝は無機記録層によって覆われるようにした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項１４】
第２の基板は、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、又はアモルファス製とした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項１５】
無機記録層と第２の反射層との間に配置される第１の誘電体層をさらに具えるようにした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項１６】
第１の誘電体層は、硫化亜鉛−二酸化ケイ素（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯＸ）、又は窒化ケイ素（ＳｉＮ）製とした、請求項１５に記載の光ディスク。
【請求項１７】
前記硫化亜鉛−二酸化ケイ素（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）は、約８０重量％の硫化亜鉛、及び約２０重量％のケイ素酸化物（ＳｉＯ２）を含有するようにした、請求項１６に記載の光ディスク。
【請求項１８】
第１の誘電体層の厚さは５〜１５０ｎｍとした、請求項１５に記載の光ディスク。
【請求項１９】
無機記録層と接着層との間に配置される第２の誘電体層をさらに具えるようにした、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項２０】
第２の誘電体層の厚さは１〜２００ｎｍとした、請求項１９に記載の光ディスク。
【請求項２１】
光ディスクの製造方法であって、
第１の螺旋溝が形成された第１の基板を用立てる工程と、
第１の基板上に、色素記録層及び第１の反射層を順次形成する工程と、
第２の螺旋溝が形成された第２の基板を用立てる工程と、
第２の基板上に、第２の反射層及び無機記録層を順次形成する工程と、
色素記録層及びこの色素記録層上に形成した第１の反射層を有する第１の基板を、第２の反射層及びこの第２の反射層上に形成した無機記録層を有する第２の基板に接着する工程と、
を具えている光ディスクの製造方法。
【請求項２２】
第１の基板を第２の基板に接着するために、第１の反射層又は無機記録層上に配置される接着層を用立てる工程をさらに具える、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
色素記録層を、コーティング処理により形成する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
第１の反射層を、スパッタ処理により形成する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
第２の反射層を、スパッタ処理により形成する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
無機記録層を、スパッタ処理により形成する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２７】
第２の反射層を形成した後であって無機記録層を形成する前に、第２の反射層上に第１の誘電体層を形成する工程をさらに具える、請求項２１に記載の方法。
【請求項２８】
無機記録層上に第２の誘電体層を形成する工程をさらに具える、請求項２１に記載の方法。
【請求項２９】
第２の誘電体層をスパッタ処理により形成する、請求項２８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記憶媒体及びその製造方法に関し、特に２層記録可能光ディスク及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
慣例の磁気記憶媒体と比べて、光ディスクは容量が大きく低コストであり、かつ一層確実にデータ損失を防止することができ、したがって寿命が長くメンテナンスも容易である。製造方法及びマルチメディアのビデオ−オーディオデータ圧縮技術が比較的成熟するにつれて、光記憶媒体はさらに高容量で小型化されつつある。したがって、より高容量の２層光ディスクが、市場で一層流行となりつつある。
【０００３】
今日、２層記録可能光ディスクに用いられる記録材料は、有機色素である。このようなディスクの構成を、慣例の２層記録可能光ディスクの断面図として図１にて図示し、これにつき以下さらに説明する。図１に示すように、２層ディスク１００は、第１の基板１０２、第１の色素記録層１０４、第１の反射層１０６、接着層１０８、第２の色素記録層１１０、第２の反射層１１２、及び第２の基板１１４を具えている。ここで、第１の色素記録層１０４は第１の基板１０２上に配置され、第１の反射層１０６は第１の色素記録層１０４上に配置され、接着層１０８は第１の反射層１０６上に配置され、第２の色素記録層１１０は接着層１０８上に配置され、第２の反射層１１２は第２の色素記録層１１０上に配置され、そして第２の基板１１４は第２の反射層１１２上に配置されている。
【０００４】
なお、２層記録可能光ディスク１００においては、第１の色素記録層１０４及び第１の反射層１０６をまとめて第１の記録層（Ｌ０）と称し、また第２の色素記録層１１０及び第２の反射層１１２をまとめて第２の記録層（Ｌ１）と称する。前述の２層記録可能光ディスクの製造方法は、以下に説明するように２通りある。
【０００５】
図２Ａ〜２Ｇは、慣例の２層記録可能光ディスクの製造工程を示している。図２Ａに示すように、第１の基板１０２には、螺旋溝Ｐ１が形成されている。次に、図２Ｂに示すように、第１の記録層Ｌ０が第１の基板１０２上に設けられている。
【０００６】
図２Ｃを参照するに、スタンパ２００には螺旋溝が設けられている。次に、スタンパ２００と第１の基板１０２との間の接着を容易にするために、ポリマ樹脂２１０がスタンパ２００上に設けられている。
【０００７】
次いで図２Ｄを参照するに、ポリマ樹脂２１０を設けたスタンパ２００が、第１の基板１０２上に押圧され、そして光ビームの下でポリマ樹脂２１０が硬化されるようにしている。ここで、スタンパの螺旋溝のパターンはポリマ樹脂２１０の表面に転写され、第２の螺旋溝Ｐ２を形成している。
【０００８】
図２Ｅを参照するに、ポリマ樹脂２１０が硬化した後で、スタンパ２００はポリマ樹脂２１０からリフトオフされる。なお、この工程の動作は第２の溝Ｐ２の質に直接影響を及ぼすため、スタンパ２００をポリマ樹脂２１０から円滑にリフトオフするに際し、良好なリフトオフ特性を有するポリマ樹脂を使用しなくてはならない。したがって、ポリマ樹脂２１０に用いる材料を選択する際には制限がある。
【０００９】
図２Ｆ及び２Ｇを参照するに、第２の螺旋溝Ｐ２を形成した後で、ポリマ樹脂２１０の表面に第２の記録層Ｌ１が形成される。次いで、第２の記録層Ｌ１に第２の基板１１４を押圧して、２層記録可能光ディスクの形成処理を終了している。前述の方法は、ポリマ樹脂（２１０）からスタンパ（２００）をリフトオフする工程を実施するのが困難である。というのは、この方法によると、縁部の欠損により、溝の再現性が悪化するため製品歩留まりが低下するというような問題が生じるからである。さらに、ポリマ樹脂によっては、この処理中にスタンパの表面に樹脂が付着することがあり、この場合スタンパの寿命は著しく短くなり、場合によってはスタンパが一度しか使用できなくなる。この問題によりスタンパの消費は増し、これが生産コストを上昇させる主な原因の１つとなっている。
【００１０】
スタンパをリフトオフする工程の問題を回避し、これにより製品歩留まりを向上させるために、他の製造方法が開発されている。図３Ａ〜３Ｄは、慣例の２層記録可能光ディスクの他の製造方法を示している。図３Ａ及び３Ｂに示すように、この方法の要点は、最初の製造方法（図２Ｃ〜２Ｅに示した）で説明したような、第１の記録層Ｌ０及び第２の記録層Ｌ１の溝が同じ基板に順次に形成されるのではなく、第２の記録層（図３ＣのＬ１）の溝が他の基板に形成されることにある。この場合、最初に、基板１０２に螺旋溝Ｐ１が形成される。次いで、図３Ｂに示すように、第１の基板１０２上に第１の記録層Ｌ０が形成される。
【００１１】
図３Ｃを参照するに、第２の基板１１４には、第２の記録層Ｌ１が形成される。第２の記録層Ｌ１は第２の色素記録層１１０及び第２の反射層１１２を具えること、並びに第２の記録層Ｌ１のために用いる螺旋溝は第２の基板１１４に形成しておくことは、図１から既知である。
【００１２】
最後に図３Ｄを参照するに、第１の記録層Ｌ０と第２の記録層Ｌ１とを接着するために、第１の基板１０２と第２の基板１１４との間に接着層１０８が形成される。これにて、２層記録可能光ディスクの形成処理が完了する。しかしながら、第２の色素記録層１１０にて、平坦な頂部領域Ｒ（即ち溝Ｐ２の傍の突出領域）には十分な量の色素がコーティングされず、また平坦な頂部領域Ｒは記録用の領域であるから、それが原因で記録の質に悪影響が及ぶことになる。第２の色素記録層１１０と接着層１０８との間で化学反応が発生するのを防ぐために、慣例の第２の記録層Ｌ１の形成が完了した後で、第２の色素記録層１１０上にやや厚めの保護層（図示せず）が形成されることがしばしばある。この厚い保護層は、特殊素材のスパッタ蒸着処理のような追加の処理を要し、したがって製造が一層困難になる。このような保護層の形成は追加の工程であり、したがって生産コストを抑えるには望ましくない。
【００１３】
２層記録可能光ディスクの上記２つの製造方法において、最初のタイプの方法（図２Ａ〜２Ｇ）は製品歩留まりが低く大量生産には不向きである。また、第２のタイプの方法（図３Ａ〜３Ｄ）は、製品歩留まりは高いが比較的効率が低い。つまり、現在のところ、製品歩留まりにおいても効率においても望ましい２層記録可能光ディスクの製造方法は存在していない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
上記に鑑みて、本発明の目的は、記録材料を無機記録層又は色素記録層とする２層記録可能光ディスクの構体を提供することにある。
【００１５】
本発明の目的はまた、製品歩留まり及び効率を著しく向上させるような、２層記録可能光ディスクの製造方法を提供することにもある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、第１の記録層と第２の記録層とを具えている光ディスクの構体を提供する。ここで、第２の記録層は第１の記録層上に配置し、また第１の記録層は有機材料製とし、かつ第２の記録層は無機材料製とする。
【００１７】
本発明の好適実施例によると、光ディスクはさらに、第１の基板、第２の基板、及び接着層を具え、ここで第１の記録層は、第１の基板上に配置される色素記録層と、この色素記録層上に配置される第１の反射層とを具え、かつ第２の記録層は、下側の誘電体層と、無機記録層と、この無機記録層上に配置される無機材料の積層としての、上側の誘電体層及び第２の反射層とを具えている。さらに、第２の基板は第２の反射層上に配置し、かつ接着層は、第１の反射層と無機記録層との間に配置する。
【００１８】
本発明の好適実施例によると、第１の基板は、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、アモルファスポリオレフィン又は他の透明材料製とする。さらに第１の基板には、第１の螺旋溝を形成する。色素記録層は、例えば、シアニン色素、アゾ、オキソノール、スクアリリウム化合物、ホルマザン、又はこれら化合物の混合物製とする。
【００１９】
本発明の好適実施例によると、第１の反射層は、銀、アルミニウム、銀合金、又はアルミニウム合金のような反射材料製で、かつ厚さは、例えば５〜３０ｎｍとする。
【００２０】
本発明の好適実施例によると、無機記録層は、例えばアルミニウム−ケイ素合金製、又はアルミニウム−ケイ素複合物の層とする。ここで、アルミニウム−ケイ素の合金は、アルミニウムを１０〜８０重量％及びケイ素を２０〜９０重量％含み、なおアルミニウム−ケイ素合金の厚さは５〜８０ｎｍの間とする。
【００２１】
本発明の好適実施例によると、第２の反射層は、銀、アルミニウム、銀合金、又はアルミニウム合金のような反射材料製で、かつ厚さは、例えば３０〜３００ｎｍの間とする。
【００２２】
本発明の好適実施例によると、第２の基板は例えば、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、アモルファスポリオレフィン又は他の透明材料製とする。さらに、第２の基板には、第２の螺旋溝を形成する。
【００２３】
本発明の好適実施例によると、無機記録層と第２の反射層との間に、さらに第１の誘電体層を配置する。第１の誘電体層は、例えば硫化亜鉛−二酸化ケイ素（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯＸ）、又は窒化ケイ素（ＳｉＮ）製とする。酸化物はＹ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ又は他の酸化物とすることもでき、窒化物はＴｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ又は他の窒化物とすることもできる。ＺｎＳ−ＳｉＯ２を使用する場合、第１の誘電体層はＺｎＳを２０重量％及びＳｉＯ２を８０重量％含み、かつ厚さは５〜１５０ｎｍとする。さらに、無機記録層と接着層との間には第２の誘電体層を配置することができ、ここで、第２の誘電体層は、例えば硫化亜鉛−二酸化ケイ素（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯＸ）、又は窒化ケイ素（ＳｉＮ）製とし、かつ厚さは１〜２００ｎｍとする。
【００２４】
本発明はさらに、光ディスクの製造方法を提供する。最初に、第１の基板に、第１の螺旋溝を形成して設け、そして第１の基板上に、色素記録層及び第１の反射層を順次形成する。次いで、第２の基板に、第２の螺旋溝を形成して設け、そして第２の基板上に、第２の反射層及び無機記録層を順次形成する。さらに、基板上に形成された色素記録層及び第１の反射層を有する第１の基板を、基板上に形成された第２の反射層及び無機記録層を有する第２の基板に接着する。上述のように、第２の反射層の形成後であってかつ無機記録層の形成前に、第２の反射層上にさらに第１の誘電体層を配置することができる。
【００２５】
本発明の製造方法の好適実施例によると、前述の接着工程は例えば、第１の反射層又は無機記録層上に接着層を設け、そして基板上に形成した色素記録層及び第１の反射層を有する第１の基板を、基板上に形成した第２の反射層及び無機記録層を有する第２の基板に接着することにより実施する。色素記録層は、例えばコーティング処理により形成するも、第１の反射層、第２の反射層、及び無機記録層は、例えばスパッタ処理により形成する。なお、スパッタ処理を用いることで、図３Ｃに示すように、無機記録層を領域Ｒにて十分厚くし、かつ第２の記録層Ｌ１に良好に付着させることを確実に行うことができる。
【００２６】
本発明は、新規な構体を採用し、かつその構体に記録層を形成するのに新しい無機材料を使用するため、第１の記録層Ｌ０及び第２の記録層Ｌ１は別個に異なる基板上に形成することができ、これによりリフトオフ工程を回避し、したがって製品歩留まりを向上させ、かつコストを低減させることができる。その上、第２の記録層Ｌ１の記録層として無機記録層を配置するためにスパッタ処理を用い、これにより、第２の記録層Ｌ１の記録動作の質が保証される。
【００２７】
なお、上述の全体的な説明及び以下の詳細な説明は例示であり、請求項に係る発明の更なる説明を提供するためのものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
図４は、本発明の好適実施例による２層記録可能光ディスクを示している。図４に示すように、２層記録可能光ディスク４００は、第１の基板４０２、色素記録層４０４、第１の反射層４０６、接着層４０８、無機記録層４１０、第２の反射層４１２、及び第２の基板４１４を具えている。ここでは、色素記録層４０４を第１の基板４０２上に配置し、第１の反射層４０６を色素記録層４０４上に配置し、接着層４０８を第１の反射層４０６上に配置し、無機記録層４１０を接着層４０８上に配置し、第２の反射層４１２を無機記録層４１０上に配置し、そして第２の基板４１４を第２の反射層４１２上に配置する。
【００２９】
なお、この実施例においては、色素記録層４０４及び無機記録層４１０は双方ともに同じ２層光ディスク４００内に作成するのが好適である。さらに、色素記録層４０４及び第１の反射層４０６を、まとめて第１の記録層Ｌ０と称するも、無機記録層４１０及び第２の反射層４１２を、まとめて第２の記録層Ｌ１と称する。
【００３０】
図４Ｂは、本発明の他の好適実施例による２層光ディスクを示している。この実施例の２層光ディスク４００’は、２層光ディスク４００（図４Ａに示す）と構造的に似たものである。前者が異なる点は、唯一、無機記録層４１０と第２の反射層４１２との間に、さらに第１の誘電体層４１１を配置していることにある。
【００３１】
この実施例においては、第１の誘電体層４１１は、例えば硫化亜鉛−二酸化ケイ素（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯＸ）、又は窒化ケイ素（ＳｉＮ）製とする。ＺｎＳ−ＳｉＯ２を使用する場合、第１の誘電体層４１１はＺｎＳを２０重量％及びＳｉＯ２を８０重量％含有し、かつ厚さは５〜１５０ｎｍとする。さらに、無機記録層４１０と接着層４０８との間には、随意で第２の誘電体層（図示せず）を配置し、ここに、この第２の誘電体層は、例えば硫化亜鉛−二酸化ケイ素（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯＸ）、又は窒化ケイ素（ＳｉＮ）製とし、かつ厚さは１〜２００ｎｍとする。
【００３２】
２層光ディスク４００（４００’）の各層の構成及び厚さのような諸特性を、ディスクの製造方法につき以下述べるように、さらに説明する。
【００３３】
図５Ａ〜５Ｅは、本発明の好適実施例による２層光ディスクの製造方法を示す。図５Ａに示すように、例えば、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、アモルファスポリオレフィン又は他の透明材料製の、第１の基板４０２を用立てる。なお、第１の基板４０２には、第１の螺旋溝Ｐ１を形成する。
【００３４】
次いで図５Ｂに示すように、第１の基板４０２上に色素記録層４０４を形成する。色素記録層４０４は、例えば、シアニン色素、アゾ、オキソノール、スクアリリウム化合物、ホルマザン、又はこれら化合物の混合物製とする。色素記録層４０４は、例えばコーティング処理により第１の基板４０２上に形成する。
【００３５】
さらに図５Ｂを参照するに、色素記録層４０４の形成の後、第１の反射層４０６を色素記録層４０４上に形成する。この実施例においては、第１の反射層４０６は、銀、アルミニウム、銀合金、又はアルミニウム合金のような反射材料製で、かつ厚さは、例えば５〜３０ｎｍとする。さらに、第１の反射層４０６は、例えばスパッタ処理等により色素記録層４０４上に形成する。なお、色素記録層４０４及び第１の反射層４０６はまとめて第１の記録層Ｌ０と称する。
【００３６】
図５Ｃを参照するに、例えば、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、アモルファスポリオレフィン又は他の透明な材料製の、第２の基板４１４も用立てる。なお、第２の基板４１４には、第２の螺旋溝Ｐ２を形成する。
【００３７】
図５Ｄを参照するに、第２の反射層４１２は第２の基板４１４上に形成する。この実施例においては、第２の反射層４１２は、銀、アルミニウム、銀合金、又はアルミニウム合金のような反射材料製で、かつ厚さは、例えば３０〜３００ｎｍとする。さらに、第２の反射層４１２は、例えばスパッタ処理等により第２の基板４１４上に形成する。
【００３８】
さらに図５Ｄを参照するに、第２の反射層４１２の形成の後、無機記録層４１０は第２の反射層４１２上に形成する。この実施例においては、無機記録層４１０は、例えばアルミニウム−ケイ素合金製、又はアルミニウム−ケイ素複合物の層とする。例えばアルミニウム−ケイ素合金を使用する場合には、アルミニウムは１０〜８０重量％及びケイ素は２０〜９０重量％とし、またアルミニウム−ケイ素合金の厚さは５〜８０ｎｍとする。さらに、無機記録層４１０は、例えばスパッタ処理等により第２の反射層４１２上に形成する。なお、第２の反射層４１２及び無機記録層４１０はまとめて第２の記録層Ｌ１と称する。
【００３９】
図５Ｅを参照するに、第１の基板４０２と第２の基板４１４との間に、接着層４０８を配置して、第１の記録層Ｌ０と第２の記録層Ｌ１とを接着する。なお、無機記録層４１０は、接着層４０８によって容易に汚染されることはないため、無機記録層４１０と接着層４０８との間に保護層を形成する必要はなく、これにより製造方法の追加の工程を回避し、したがって生産コストを低減させることができる。
【００４０】
図６は、本発明の更に他の好適実施例による２層光ディスクを示す断面図である。図６に示すように、２層光ディスク６００は、第１の基板６０２、色素記録層６０４、第１の反射層６０６、接着層６０８、無機記録層６１０、第２の反射層６１２、及び第２の基板６１４を具えている。ここでは、色素記録層６０４を第１の基板６０２上に配置する。色素記録層６０４は、例えばシアニン色素、アゾ、オキソノール、スクアリリウム化合物、ホルマザン、又はこれらの混合物製とし、かつ厚さは、例えば２５ｎｍとする。第１の反射層６０６は色素記録層６０４上に配置し、この反射層は、例えば銀製でかつ厚さは例えば２０ｎｍとする。接着層６０８は第１の反射層６０６上に配置する。無機記録層６１０は接着層６０８上に配置し、この無機記録層は、例えばアルミニウム−ケイ素合金製とし、かつ厚さは例えば２０ｎｍとする。第１の誘電体層６１１は無機記録層６１０上に配置し、この誘電体層は、例えば硫化亜鉛−二酸化ケイ素製で、かつ厚さは例えば４０ｎｍとする。第２の反射層６１２は第１の誘電体層６１１上に配置し、この反射層は、例えば銀製でかつ厚さは例えば８０ｎｍとする。第２の基板６１４は第２の反射層６１２上に配置する。
【００４１】
上述の２層光ディスクによる電子信号のテスト結果につき、以下説明する。このテスト結果のデータは、以下の表１に示す通りである。
2006155872.tif 000002
【００４２】
表１に示すように、記録電力の値（電力）は全て、商用ＤＶＤの通常の範囲内である。記録後の反射率（Ｒ１４Ｈ）もまた、１６％の基準最小値に従っている。したがって、記録処理の後に、有効にエラーを相殺するために誤り率を見出すべくディスクをテスト装置に設置し、その結果適切に再生させることができる。
【００４３】
上述の記載に基づき、本発明の２層記録可能光ディスク及びその製造方法により、少なくとも、製品歩留まりが向上し、製造コストが低減され、かつ製品の品質が保証されるという利点を有する。
【００４４】
本発明の範囲又は精神から逸脱することなく、本発明の実施例に種々の変更及び変形をなし得ることは、当業者には明らかである。上述に鑑み、本発明は、請求の範囲及びその均等の範囲内にある限り、本発明の変更例及び変形例を含むものとする。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】従来の２層光ディスクを示す断面図である。
【図２Ａ】従来の２層光ディスクの製造処理における一製造段階を示す断面図である。
【図２Ｂ】従来の２層光ディスクの製造処理における次の製造段階を示す断面図である。
【図２Ｃ】従来の２層光ディスクの製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図２Ｄ】従来の２層光ディスクの製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図２Ｅ】従来の２層光ディスクの製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図２Ｆ】従来の２層光ディスクの製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図２Ｇ】従来の２層光ディスクの製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図３Ａ】従来の２層光ディスクの他の製造処理における一製造段階を示す断面図である。
【図３Ｂ】従来の２層光ディスクの他の製造処理における次の製造段階を示す断面図である。
【図３Ｃ】従来の２層光ディスクの他の製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図３Ｄ】従来の２層光ディスクの他の製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図４Ａ】本発明の好適実施例による２層光ディスクを示す断面図である。
【図４Ｂ】本発明の他の好適実施例による２層光ディスクを示す断面図である。
【図５Ａ】本発明の好適実施例による２層光ディスクの製造処理における一製造段階を示す断面図である。
【図５Ｂ】本発明の好適実施例による２層光ディスクの製造処理における次の製造段階を示す断面図である。
【図５Ｃ】本発明の好適実施例による２層光ディスクの製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図５Ｄ】本発明の好適実施例による２層光ディスクの製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図５Ｅ】本発明の好適実施例による２層光ディスクの製造処理におけるさらに次の製造段階を示す断面図である。
【図６】本発明の他の好適実施例による２層光ディスクを示す断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１００  ２層記録可能光ディスク
１０２  第１の基板
１０４  第１の色素記録層
１０６  第１の反射板
１０８  接着層
１１０  第２の色素記録層
１１２  第２の反射板
１１４  第２の基板
２００  スタンパ
２１０  ポリマ樹脂
４００  ２層記録可能光ディスク
４０２  第１の基板
４０４  色素記録層
４０６  第１の反射層
４０８  接着層
４１０  無機記録層
４１１  第１の誘電体層
４１２  第２の反射層
４１４  第２の基板
６００  ２層記録可能光ディスク
６０２  第１の基板
６０４  色素記録層
６０６  第１の反射層
６０８  接着層
６１０  無機記録層
６１１  第１の誘電体層
６１２  第２の反射層
６１４  第２の基板
【図１】
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【図２Ａ】
2006155872.tif 000004
【図２Ｂ】
2006155872.tif 000005
【図２Ｃ】
2006155872.tif 000006
【図２Ｄ】
2006155872.tif 000007
【図２Ｅ】
2006155872.tif 000008
【図２Ｆ】
2006155872.tif 000009
【図２Ｇ】
2006155872.tif 000010
【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図６】
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