(57)【要約】【課題】小さなフィーチャを有するデバイスを高い精度で製造することができる、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を開示する。この装置は、放射線ビームを調整する照明系と、パターン形成デバイスを支持する支持構造とを含む。パターン形成デバイスは、放射線ビームの断面にパターンを付与する働きをする。また、この装置は、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系と、当該装置の第１の部品を当該装置の第２の部品に締結する少なくとも１つの締結具とを含む。この締結具は、第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含む。第１のねじ部と第２のねじ部は、異なるピッチを有する。【選択図】図５Ａ
2006019748.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを調整する照明系と、
前記放射線ビームの断面にパターンを付与する働きをするパターン形成デバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影する投影系と、
第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含む、当該装置の第１の部品を当該装置の第２の部品に締結する少なくとも１つの締結具とを含み、前記第１のねじ部及び前記第２のねじ部のピッチが異なる、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記第１の装置部品が、前記締結具の一部を受けるための少なくとも１つの開口を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の装置部品の前記少なくとも１つの開口が、前記締結具の前記軸の前記第１のねじ部と協働する内ねじ山を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記第２の装置部品が、前記締結具の前記軸の前記第２のねじ部と協働する内ねじ山を有する少なくとも１つの開口を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記締結具の前記第１のねじ部の少なくとも一部が、前記第１の装置部品の開口の内ねじ山と協働し、前記締結具の前記第２のねじ部の少なくとも一部が、前記第２の装置部品の開口の内ねじ山と協働する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記締結具の前記軸の前記第１のねじ部及び前記第２のねじ部が、使用中に時計回りに回して締めるように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記締結具の前記軸の前記第１のねじ部及び前記第２のねじ部が、使用中に反時計回りに回して締めるように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記締結具が、前記軸の一端から延びる幅広の頭部分を含まない、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記締結具が、前記軸の前記第１のねじ部と協働するねじ山付き開口を有する幅広の頭部分を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１の装置部品が、前記締結具によって前記第２の装置部品とクランプ部品との間にクランプされる、請求項４に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の装置部品が、組み立て後に前記締結具の一部を受ける少なくとも１つの貫通孔を含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記クランプ部品が、前記締結具の軸の前記第１のねじ部と協働する内ねじ山を有する少なくとも１つの開口を含む、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記締結具の前記軸が、前記第１のねじ部と前記第２のねじ部の間に延びる細い第３の部分を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記軸の前記第２のねじ部の直径が、前記軸の前記第１のねじ部の直径より小さい、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記第２の装置部品の前記少なくとも１つの開口が、前記締結具の前記軸の前記第２の部分と協働する内ねじ山を有する第１の部分と、前記第１の部分から前記第１の装置部品に向かって延びる、より幅広の第２の部分とを含む、請求項４に記載の装置。
【請求項１６】
前記第２の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第１の環状面を含み、前記第１の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第２の環状面を含み、組み立て後に前記環状面どうしが部分的に重なり合う、請求項５に記載の装置。
【請求項１７】
前記第２の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第１の環状面を含み、前記第１の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第２の環状面を含み、組み立て後に前記環状面どうしが部分的に重なり合う、請求項１０に記載の装置。
【請求項１８】
前記第１の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第３の環状面を含み、前記クランプ部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第４の環状面を含み、組み立て後に前記第３の環状面と前記第４の環状面が部分的に重なり合う、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記第１の環状面と前記第２の環状面の重複部分の平均直径が、前記第３の環状面と前記第４の環状面の重複部分の平均直径より大きい、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記第２の装置部品が、当該装置のフレーム部品、基部部品、及び／又は壁面部品である、請求項１に記載の装置。
【請求項２１】
前記第１の装置部品及び／又は前記第２の装置部品が、前記照明系の少なくとも一部、前記パターン形成デバイスを支持する前記支持構造の少なくとも一部、前記基板テーブルの少なくとも一部、前記投影系の少なくとも一部、調整可能な光学素子、ばね、及び／又は水晶構成部品を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項２２】
前記第１の装置部品の前記貫通孔の直径が、組み立て後にその中に延びる前記締結具の軸の直径より大きく、前記第１の装置部品の位置を、組み立て中に前記第２の装置部品に対して調節することができるようになっている、請求項１１に記載の装置。
【請求項２３】
リソグラフィ装置を用いたデバイス製造方法であって、
放射線ビームをパターン形成するステップと、
前記パターン形成された放射線ビームを基板の目標部分に投影するステップとを含み、
前記装置の第１の部品が、少なくとも１つの締結具によって前記装置の第２の部品に締結され、前記締結具が、第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含み、前記第１のねじ部及び前記第２のねじ部のピッチが異なる、デバイス製造方法。
【請求項２４】
前記締結具の軸の前記第１のねじ部が、前記第１の装置部品のねじ付き開口と協働し、前記締結具の前記第２のねじ部が、前記第２の装置部品のねじ付き開口と協働する、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記第２の装置部品が、当該装置のフレーム部品、基部部品、及び／又は壁面部品である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記第１の装置部品及び／又は前記第２の装置部品が、照明系の少なくとも一部、前記放射線ビームをパターン形成するパターン形成デバイスを支持する支持構造の少なくとも一部、前記基板を支持する基板テーブルの少なくとも一部、前記パターン形成された放射線ビームを投影する投影系の少なくとも一部、調整可能な光学素子、ばね、及び／又は水晶構成部品を含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
リソグラフィ装置を用いたデバイス製造方法であって、
放射線ビームをパターン形成するステップと、
前記パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するステップとを含み、
前記装置の第１の部品が、前記装置の第２の部品とクランプ部品の間でクランプされ、前記クランプ部品が、少なくとも１つの締結具を使用し、前記締結具が、第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含み、前記第１のねじ部及び前記第２のねじ部のピッチが異なる、方法。
【請求項２８】
前記締結具の軸の前記第１のねじ部が、前記クランプ部品のねじ付き開口と協働し、前記締結具の前記第２のねじ部が、前記第２の装置部品のねじ付き開口と協働する、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記第１の装置部品の位置が、前記装置の組み立て中に前記第２の装置部品に対して調整され、その後、前記締結具を締めて、前記第１の装置部品の位置を前記第２の装置部品に対して固定する、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記第２の装置部品が、前記装置のフレーム部品、基部部品、及び／又は壁面部品である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】
前記第１の装置部品及び／又は前記第２の装置部品が、照明系の少なくとも一部、前記放射線ビームをパターン形成するパターン形成デバイスを支持する支持構造の少なくとも一部、前記基板を支持する基板テーブルの少なくとも一部、前記パターン形成された放射線ビームを投影する投影系の少なくとも一部、調整可能な光学素子、ばね、及び／又は水晶構成部品を含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項３２】
リソグラフィ装置を用いたデバイス製造方法であって、放射線ビームをパターン形成するステップを含み、リソグラフィ投影装置の第１の部品が、少なくとも１つの締結具によって当該装置の第２の部品に締結され、前記締結具が第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含み、前記第１のねじ部が、前記第２のねじ部のピッチとは異なるピッチを有する、方法。
【請求項３３】
パターン形成デバイスのパターンを基板上に投影するように構成されたリソグラフィ装置であって、当該装置の第１の部品を当該装置の第２の部品に締結する少なくとも１つの締結具を含み、前記締結具が、第１のピッチを有する第１のねじ部、及び前記第１のピッチとは異なる第２のピッチを有する第２のねじ部を有する軸を含む、リソグラフィ装置。
【請求項３４】
前記第１の装置部品が、前記締結具の一部を受けるための少なくとも１つの開口を含む、請求項３３に記載の装置。
【請求項３５】
前記第１の装置部品の前記少なくとも１つの開口が、前記締結具の前記軸の前記第１の部分と協働する内ねじ山を有する、請求項３４に記載の装置。
【請求項３６】
前記第２の装置部品が、前記締結具の前記軸の前記第２の部分と協働する内ねじ山を有する少なくとも１つの開口を含む、請求項３３に記載の装置。
【請求項３７】
前記締結具の前記第１の部分の少なくとも一部が、前記第１の装置部品の開口の内ねじ山と協働し、前記締結具の前記第２の部分の少なくとも一部が、前記第２の装置部品の開口の内ねじ山と協働する、請求項３３に記載の装置。
【請求項３８】
前記締結具の前記軸の前記ねじ部が両方とも、使用中に時計回りに回して締めるように構成される、請求項３３に記載の装置。
【請求項３９】
前記締結具の前記軸の前記ねじ部が両方とも、使用中に反時計回りに回して締めるように構成される、請求項３３に記載の装置。
【請求項４０】
前記締結具が、前記軸の一端から延びる幅広の頭部分を含まない、請求項３３に記載の装置。
【請求項４１】
前記締結具が、前記軸の前記第１のねじ部と協働するねじ付き開口を有する幅広の頭部分を含む、請求項３３に記載の装置。
【請求項４２】
当該装置の前記第１の部品が、前記少なくとも１つの締結具によって当該挿置の前記第２の部品とクランプ部品との間にクランプされる、前記請求項３６に記載の装置。
【請求項４３】
前記第１の装置部品が、組み立て後に前記締結具の一部を受ける少なくとも１つの貫通孔を含む、請求項４２に記載の装置。
【請求項４４】
前記クランプ部品が、前記締結具の軸の前記第１のねじ部と協働する内ねじ山を有する少なくとも１つの開口を含む、請求項４３に記載の装置。
【請求項４５】
前記締結具の前記軸が、前記第１のねじ部と前記第２のねじ部の間に延びる細い第３の部分を含む、請求項３３に記載の装置。
【請求項４６】
前記軸の前記第２のねじ部の直径が、前記軸の前記第１のねじ部の直径より小さい、請求項３３に記載の装置。
【請求項４７】
前記第２の装置部品の前記少なくとも１つの開口が、前記締結具の前記軸の前記第２の部分と協働する内ねじ山を有する第１の部分と、前記第１の部分から前記第１の装置部品に向かって延びる、より幅広の第２の部分とを含む、請求項３６に記載の装置。
【請求項４８】
前記第２の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第１の環状面を含み、前記第１の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第２の環状面を含み、組み立て後に前記第１の環状面と前記第２の環状面が部分的に重なり合う、請求項３７に記載の装置。
【請求項４９】
前記第２の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第１の環状面を含み、前記第１の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第２の環状面を含み、組み立て後に前記第１の環状面と前記第２の環状面が部分的に重なり合う、請求項４２に記載の装置。
【請求項５０】
前記第１の装置部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第３の環状面を含み、前記クランプ部品が、組み立て後に前記締結具の周りに延びる第４の環状面を含み、組み立て後に前記第３の環状面と前記第４の環状面が部分的に重なり合う、請求項４９に記載の装置。
【請求項５１】
前記第１の環状面と前記第２の環状面の重複部分の平均直径が、前記第３の環状面と前記第４の環状面の重複部分の平均直径より大きい、請求項５０に記載の装置。
【請求項５２】
前記第２の装置部品が、当該装置のフレーム部品、基部部品、及び／又は壁面部品である、請求項３３に記載の装置。
【請求項５３】
前記第１の装置部品及び／又は前記第２の装置部品が、照明系の少なくとも一部、前記パターン形成デバイスを支持する支持構造の少なくとも一部、前記基板を支持する基板テーブルの少なくとも一部、前記パターン形成デバイスのパターンを投影する投影系の少なくとも一部、調整可能な光学素子、ばね、及び／又は水晶構成部品を含む、請求項３３に記載の装置。
【請求項５４】
前記第１の装置部品の前記貫通孔の直径が、組み立て後にその中に延びる前記締結具の軸の直径より大きく、前記第１の装置部品の位置を、組み立て中に前記第２の装置部品に対して調節することができるようになっている、請求項４３に記載の装置。
【請求項５５】
前記第１の装置部品が、前記第２の装置部品の中空案内軸を受けるための円筒形貫通孔を含み、前記クランプ部品が、前記案内軸の一部を受けるための受け開口を含む、請求項４２に記載の装置。
【請求項５６】
前記第２の装置部品の前記中空案内軸が、組み立て中及び／又は組み立て後に前記クランプ部品と協働する複数の案内突起をその一端に含む、請求項５５に記載の装置。
【請求項５７】
前記第１の装置の前記貫通孔の直径が、組み立て後にその中に延びる前記中空案内軸の外径より大きく、前記第１の装置部品の位置を、組み立て前及び／又は組み立て中に前記第２の装置部品に対して一定範囲内で調節することができるようになっている、請求項５４に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及びこの方法により製造されたデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置とは、基板の目標部分に所望のパターンを形成する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その場合には、マスクなどのパターン形成デバイスを使用して、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンを生成することができる。このパターンは、放射感応材料（レジスト）の層を備えた基板（例えばシリコン・ウェハ）の目標部分（例えば１つ又はいくつかのダイの一部を含む）に結像されうる。一般に、１枚の基板は、連続的に露光される複数の目標部分が隣り合ったネットワークを含むことになる。既知のリソグラフィ装置としては、いわゆるステッパ、及びいわゆるスキャナがある。ステッパでは、パターン全体を一度に露光して当該目標部分に写すことによって、各目標部分の照射を行う。スキャナでは、投影ビームの中で所与の方向（「走査」方向）にパターンを走査すると同時に、この方向に対して平行又は逆平行に基板を走査することにより、各目標部分の照射を行う
【０００３】
リソグラフィ装置では、様々な部品が締結具を用いて互いに締結される。例えば、ボルト又はねじといった締結具を使用して、装置部品どうしを締結することが知られている。例えば、１つ以上のこのような締結具を使用して、光学構成要素などの第１の装置部品を基部などの第２の装置部品にクランプすることもできる。
【０００４】
既知のボルト又はねじは、一定のピッチのねじ山を有する軸と、このボルト又はねじをそれぞれ対応する装置部品の適当な開口にねじ込むためのねじ頭とを有している。組み立て後に、ボルト又はねじは、軸のねじ山、ねじ開口、及びねじ頭の協働により装置部品を一体にクランプする。
【０００５】
特に、既知の装置では、締結具が装置構成部品をこの装置の基部部品の所望の位置に固定することに使用されうる。ただし、既知の締結具は、組み立て中に、この締結具を固定位置に打ち込む最中に、装置構成部品を変位させる傾向がある。このような変位は、例えば回転及び／又は平行移動などを伴うことがある。組み立て後に、締結具は、それが適所に固定している構成部品の内部に内部応力を引き起こすこともある。この応力により、望ましくない構成部品の位置ずれ及び回転ずれが生じることもある。このような装置構成部品のずれが生じると、所望の装置動作精度が得られなくなり、リソグラフィ・プロセスによって所望の精細なフィーチャを備えたデバイスを製造することが、不可能ではないとしても、困難になる可能性がある。
【０００６】
さらに、組み立て中にある程度のトルクが加えられ、装置構成部品と基部部品との間に一定のクランプ力を発生させる。このトルクが、ねじ頭のピボット面（及び係合している締結具のねじ山）を通して装置構成部品内部に誘導され、装置構成部品の弱い部分の変形、及び内部材料応力を引き起こす。これが、組み立て後の望ましくない装置構成部品の位置ずれ及び／又は回転ずれを引き起こす２番目に考えられる原因である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の一態様は、小さなフィーチャを有するデバイスを高い精度で製造することができる、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供することである。
【０００８】
本発明の一態様は、当該リソグラフィ装置の複数の部品を高い確度で所望の位置に締結し、保持することができる、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供することである。
【０００９】
本発明の一態様は、所望の位置に固定された複数の構成部品のずれを防止することができる、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様によれば、放射線ビームを供給する照明系と、パターン形成デバイスを支持する支持構造とを含むリソグラフィ装置が提供される。パターン形成デバイスは、放射線ビームの断面にパターンを付与する働きをする。また、リソグラフィ装置は、基板を保持する基板テーブル、及びパターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系も含む。リソグラフィ装置は、さらに、当該装置の第１の部品を当該装置の少なくとも第２の部品に締結する少なくとも１つの締結具も含む。この締結具は、ピッチの異なる第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含む。
【００１１】
このようにして、締結具を締め付ける際に、比較的小さな締付けトルクで、第１の装置部品と第２の装置部品とを互いに締結又はクランプすることができる。したがって、締結具の締付け中にこれらの装置部品が互いに対して相対的にずれる可能性は比較的低い。また、組み立て中には、この締結具は、加えるトルクが比較的小さな状態でも、所望の比較的大きなクランプ力を生成して、少なくとも一方の装置部品を他方の装置部品にしっかりと固定することができる。さらに、組み立て後には、この締結具がこれらの装置部品の内部で引き起こす内部応力が比較的小さいので、応力に関連する装置部品の損傷及び／又は変形及び／又はずれが防止される。本発明は、特に、比較的壊れやすい装置構成部品を所望の作動位置に精密に固定するのに有利である。例えば、このような構成部品としては、ミラー及び／又はレンズなどの調節可能な光学素子、板ばね、線ばね、水晶板などの水晶構成部品、及び／又はその他の構成部品などがある。
【００１２】
ピッチの異なる第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含む締結具は、「差動ねじ」締結具と呼ばれることもある。差動ねじを含む締結具自体は、米国特許第４９５９９３８号及び米国特許第５２１７３３９号に記載されていることに留意されたい。ただし、これらの締結具は、屋根システムに用いられるものであり、さらに、屋根の構成部品に高いトルクを加えるような構成になっている。米国特許第３７２７４７１号には、可動ミラーの粗い調整及び細かい調整の両方を行うための差動ねじ機構が記載されている。本発明は、ピッチの異なる第１のねじ部及び第２のねじ部を軸に設ければ、リソグラフィ装置の部品を所望の位置に固定し、組み立て後にそれらの部品がそれ以上相対的に移動したりずれたりすることを防止するのに特に有利であるという革新的な考えに基づくものである。
【００１３】
本発明の一態様によれば、デバイスの製造に於ける装置の使用法が提供される。この装置は、放射線ビームを供給する照明系と、パターン形成デバイスを支持する支持構造とを含む。パターン形成デバイスは、放射線ビームの断面にパターンを付与する働きをする。また、この装置は、基板を保持する基板テーブル、及びパターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系も含む。この装置は、さらに、当該装置の第１の部品を当該装置の第２の部品に締結する少なくとも１つの締結具を含む。この締結具は、ピッチの異なる第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含む。
【００１４】
本発明の別の態様によれば、リソグラフィ装置を用いたデバイス製造方法が提供される。この方法は、基板を準備し、照明系を用いて放射線ビームを供給し、パターン形成デバイスを用いてこの放射線ビームの断面にパターンを付与するステップと、このパターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するステップとを含む。この装置の少なくとも第１の部品が、少なくとも１つの締結具によってこの装置の少なくとも第２の部品に締結される。締結具は、ピッチの異なる第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含む。
【００１５】
これにより、上述の利点、特に装置構成部品のずれの解消又は軽減に関する利点を得ることができるので、デバイスを高い精度で製造することができる。
【００１６】
本発明の別の態様によれば、リソグラフィ装置を用いたデバイス製造方法が提供される。この方法は、基板を準備するステップと、照明系を用いて放射線ビームを供給するステップと、パターン形成デバイスを用いてこの放射線ビームの断面にパターンを付与するステップと、このパターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するステップとを含む。この装置の少なくとも第１の部品が、少なくとも１つの締結具を用いて、この装置の少なくとも第２の部品と、少なくとも１つのクランプ部品との間にクランプされる。締結具は、ピッチの異なる第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含む。
【００１７】
例えば、締結具の軸の第１のねじ部は、クランプ部品のねじ付き開口と協働することができる。締結具の第２のねじ部は、第２の装置部品のねじ付き開口と協働することができる。また、組み立て中に、第１の装置部品の位置を第２の装置部品に対して調節して例えば作動位置に合わせ、その後、締結具を締めて第１の装置部品の位置を第２の装置部品に対して固定することができる。したがって、第１の装置部品は、比較的長い期間にわたって、比較的精密に所望の作動位置に固定することができる。
【００１８】
本発明の一態様によれば、リソグラフィ装置を用いたデバイス製造方法が提供される。この方法は、パターン形成デバイスのパターンを基板上に投影するステップを含む。リソグラフィ投影装置の少なくとも第１の部品は、少なくとも１つの締結具によって当該装置の少なくとも第２の部品に締結される。締結具は、ピッチの異なる第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を少なくとも含む。
【００１９】
本発明の一態様によれば、パターン形成デバイスのパターンを基板上に投影するように構成されたリソグラフィ装置も提供される。この装置は、当該装置の少なくとも第１の部品を当該装置の少なくとも第２の部品に締結するための少なくとも１つの締結具を含む。この締結具は、ピッチの異なる第１のねじ部及び第２のねじ部を有する軸を含む。
【００２０】
本明細書では、リソグラフィ装置をＩＣの製造に使用する場合について詳細に言及するが、本明細書に記載のリソグラフィ装置は、集積光学系、磁気ドメイン・メモリの案内及び検出パターン、液晶ディスプレ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなど、その他にも応用することができることを理解されたい。こうした代替の応用分野では、本明細書で用いる「ウェハ」や「ダイ」などの用語は、それぞれ「基板」や「目標部分」など、より一般的な用語と同義と考えることができることは、当業者なら理解するであろう。本明細書で述べる基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジスト層を基板に塗布して露光後のレジストの現像を行うツール）或いは計測又は検査ツールで処理することができる。適用可能であれば、本明細書の開示は、このような基板処理ツール及びその他の基板処理ツールに適用することもできる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを作成するために複数回処理することもできるので、本明細書で使用する「基板」という用語は、複数の処理済の層を既に含む基板を指すこともある。
【００２１】
本明細書で使用する「放射線」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）（例えば３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ又は１２６ｎｍの波長を有する）や極紫外線（ＥＵＶ）（例えば５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）の他に、イオン・ビームや電子ビームなどの粒子ビームなども含めた、全ての種類の電磁放射を含む。
【００２２】
本明細書で使用する「パターン形成デバイス」という用語は、投影ビームの断面にパターンを付与して基板の目標部分にパターンを形成するために使用することができるデバイスを指すものとして、広い意味で解釈するものとする。投影ビームに付与されるパターンは、基板の目標部分の所望のパターンと正確に一致していないこともあることに留意されたい。一般に、投影ビームに付与されるパターンは、集積回路など、目標部分に作成しているデバイスの特定の機能層に対応することになる。
【００２３】
パターン形成デバイスは、透過型であっても、反射型であってもよい。パターン形成デバイスの例としては、マスク、プログラマブル・ミラー・アレイ、プログラマブルＬＣＤパネルなどがある。マスクは、リソグラフィ分野では周知であり、バイナリ、レベンソン型位相シフト、ハーフトーン型位相シフトなどのマスク・タイプだけでなく、様々なハイブリッド・マスク・タイプもある。プログラマブル・ミラー・アレイの一例では、マトリクス配列した複数の小型ミラーを使用する。これらのミラーをそれぞれ個別に傾けて、入射する放射線ビームを様々な方向に反射させることができ、これにより、反射ビームがパターン形成される。パターン形成デバイスのそれぞれの例において、支持構造は、例えばフレーム又はテーブルにすることができ、必要に応じて固定式にすることも可動式にすることもでき、パターン形成デバイスが例えば投影系に対して確実に所望の位置に位置するようにすることができる。本明細書で用いる「レチクル」又は「マスク」という用語は、より一般的な用語である「パターン形成デバイス」と同義と考えることができる。
【００２４】
本明細書で使用する「投影系」という用語は、屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系など、例えば利用している露光放射線、又はその他の要因、例えば浸漬液の使用や真空の使用などに適した様々なタイプの投影系を含むものとして広い意味で解釈するものとする。本明細書で用いる「レンズ」という用語は、より一般的な用語である「投影系」と同義と考えることができる。
【００２５】
照明系も、放射線投影ビームの方向付け、成形又は制御を行うための屈折光学構成部品、反射光学構成部品及び反射屈折光学部品など、様々なタイプの光学構成部品を含むことができ、これらの構成部品も、以下では集合的に、又は単独で「レンズ」と呼ぶこともある。
【００２６】
リソグラフィ装置は、２つ以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプ（２つの場合はデュアル・ステージ型）にすることができる。このような「複数ステージ」の機械では、追加分のテーブルは並列に使用することができ、１つ以上のテーブルを露光に使用している間に、その他の１つ以上のテーブル上で準備ステップを行うことができる。
【００２７】
リソグラフィ装置は、例えば水など比較的高い屈折率を有する液体の中に基板を浸漬して、投影系の最後の要素と基板との間の空間を満たすタイプであってもよい。浸漬液は、例えばマスクと投影系の最初の要素の間など、リソグラフィ装置のその他の空間に用いることもできる。投影系の開口数を高めるための浸漬技術は当技術分野では周知である。
【実施例】
【００２８】
次に、添付の概略図を参照しながら、例示のみを目的として本発明の実施例について説明する。図面では、同じ参照符号は同じ部分を示す。
【００２９】
本願では、特に指定しない限り、「約」やそれに類する言葉は、その言葉を付された値が、その値から少なくともプラスマイナス１０％ずれる可能性があるものと理解されたい。
【００３０】
図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す概略図である。この装置は、放射線（例えば紫外線や極紫外線、又はその他のタイプの放射線）の投影ビームＰＢを生成する照明系（照明器）ＩＬと、パターン形成デバイスをアイテムＰＬに対して正確に位置決めするための第１の位置決めデバイスＰＭに接続された、パターン形成デバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するための第１の支持構造（例えばマスク・テーブル）ＭＴと、基板をアイテムＰＬに対して正確に位置決めするための第２の位置決めデバイスＰＷに接続された、基板（例えばレジスト被覆ウェハ）Ｗを保持するための基板テーブル（例えばウェハ・テーブル）ＷＴと、パターン形成デバイスＭＡによって投影ビームＰＢに付与されたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば１つ又は複数のダイを含む）に結像するための投影系（例えば屈折投影レンズ）ＰＬとを含む。
【００３１】
図示のように、この装置は透過型である（例えば透過型マスクを用いる）。別法として、この装置は反射型であってもよい（例えば上記で述べたタイプのプログラマブル・ミラー・アレイを用いる）。
【００３２】
照明器ＩＬは、放射線源ＳＯから放射線ビームを受光する。放射線源とリソグラフィ装置とは、例えば放射線源がエキシマ・レーザであるときには、別個の要素にすることができる。その場合には、放射線源はリソグラフィ装置の一部とはみなされず、放射線ビームは、例えば適当な指向ミラー及び／又はビーム・エキスパンダを含むビーム伝送系ＢＤによって放射線源ＳＯから照明器ＩＬに送られる。その他の場合には、例えば放射線源が水銀ランプであるときには、放射線源は装置の一部分とすることもできる。放射線源ＳＯ及び照明器ＩＬは、必要ならビーム伝送系ＢＤも含めて、放射系と呼ぶことがある。
【００３３】
照明器ＩＬは、ビームの強度角度分布を調整する調整デバイスＡＭを含むことができる。一般に、照明器の瞳面内の強度分布では、少なくともその外側及び／又は内側の径方向範囲（一般にそれぞれｓ−ｏｕｔｅｒ及びｓ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）は、調整することができる。さらに、一般に照明器ＩＬは、インテグレータＩＮや集光器ＣＯなど、その他にも様々な構成要素を含む。照明器は、投影ビームＰＢと呼ばれる、その断面に所望の均一性及び強度分布を有する調整された放射線ビームを送出する。
【００３４】
投影ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴに保持されたマスクＭＡに入射する。投影ビームＰＢは、マスクＭＡを通過した後でレンズＰＬを通過する。このレンズは、このビームを基板Ｗの目標部分Ｃに合焦させる。第２の位置決め装置ＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば干渉装置）を援用して、基板テーブルＷＴを正確に移動させ、様々な目標部分ＣをビームＰＢの経路内に位置決めすることができる。同様に、第１の位置決め装置ＰＭ及び別の位置センサ（図１には示していない）を使用して、例えばマスク・ライブラリから機械的に取り出した後、又は走査中に、ビームＰＢの経路に対して正確にマスクＭＡを位置決めすることができる。一般に、オブジェクト・テーブルＭＴ及びＷＴの移動は、位置決め装置ＰＭ及びＰＷの一部である長行程モジュール（粗い位置決め）及び短行程モジュール（細かい位置決め）を援用して行うことになる。しかし、（スキャナではなく）ステッパの場合には、マスク・テーブルＭＴは、短行程アクチュエータのみに接続する、又は固定することができる。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスク・アライメント・マークＭ１、Ｍ２及び基板アライメント・マークＰ１、Ｐ２を用いて位置合わせすることができる。
【００３５】
図示の装置は、下記の好ましいモードで使用することができる。
【００３６】
１．ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴはほぼ静止状態に保ち、投影ビームに付与されたパターン全体を一度で目標部分Ｃ上に投影する（すなわち単一静止露光）。次いで、基板テーブルＷＴをＸ方向及び／又はＹ方向にシフトさせ、別の目標部分Ｃの露光を行うことができるようにする。ステップ・モードでは、露光域の最大サイズによって、単一静止露光で結像される目標部分Ｃのサイズが制限される。
【００３７】
２．走査モードでは、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴを同時に走査しながら、投影ビームに付与されたパターンを目標部分Ｃ上に投影する（すなわち単一動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影系ＰＬの倍率及び像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光域の最大サイズによって単一動的露光の目標部分の幅（非走査方向の長さ）が制限され、走査距離によって目標部分の高さ（走査方向の長さ）が決まる。
【００３８】
３．別のモードでは、マスク・テーブルＭＴはプログラマブル・パターン形成デバイスを保持した状態でほぼ静止状態に保ち、基板テーブルＷＴを移動させる、又は走査しながら、投影ビームに付与されたパターンを目標部分Ｃ上に投影する。このモードでは、一般に、パルス放射線源を利用し、プログラマブル・パターン形成デバイスは、基板テーブルＷＴを移動させるたびに、又は走査中の連続した放射線パルスの合間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で述べたタイプのプログラマブル・ミラー・アレイなどのプログラマブル・パターン形成デバイスを用いるマスクレス・リソグラフィにも容易に適用することができる。
【００３９】
上述の使用モード又は全く異なる使用モードを、組み合わせて、及び／又は変更して、用いることもできる。
【００４０】
図１に概略的に示すように、この装置は、様々な第１の装置部品を所望の位置に固定するための締結具４を含む。この第１の装置部品としては、照明系ＩＬの少なくとも一部、パターン形成デバイスＭＡを支持する支持構造の少なくとも一部、基板テーブルＷＴの少なくとも一部、投影系ＰＬの少なくとも一部、例えばミラーやレンズなどの調節可能な光学素子、例えば板ばねや線ばねなどのばね、及び水晶板などの水晶構成部品があるが、これらに限定されるわけではない。
【００４１】
第１の装置部品は、例えばこの装置の１つ以上のフレーム部品、基部部品、及び／又は壁面部品などの第２の装置部品に締結することができる。
【００４２】
図２は、リソグラフィ装置の部品１、２を締結するための既知の締結具を備えたアセンブリを示す概略図である。この既知の締結具は、ねじ付き軸９１及びそれと一体に形成されたねじ頭９２を含む、ねじ又はボルト９０である。ねじ部分は一定のピッチで形成されている。組み立て後に、締結具９０は第１の装置部品１を第２の装置部品２に対してクランプする。そのために、第１の装置部品１は貫通孔２１１を有し、第２の装置部品２は、締結具９０のねじ部分を受けてこれと協働する内ねじ山を有する開口２１２を有する。ねじ部分のピッチは、参照符号Ｐで示してある。この締結具９０の１つの問題は、組み立て中に締結具のねじ頭９２によって第１の装置部品１にトルクが加わり、これにより部品１がシフトし、及び／又は部品１に内部応力が生じる可能性があることである。
【００４３】
図３Ａ及び図３Ｂは、本発明の第１の実施例を示す概略図である。第１の実施例では、締結具４は、第１のねじ部６及び第２のねじ部７を有する円柱軸５を含む。第１のねじ部６のピッチを参照符号Ｐ１で示し、第２のねじ部７のピッチを参照符号Ｐ２で示してある。この実施例では、第１の部分６のピッチＰ１は、第２の部分７のピッチＰ２より狭い。締結具５の少なくとも一端は、ねじ回しなど、以下で述べるねじ切り開口に締結具４を挿抜するための適当なツールと係合するように構成されることが好ましい。締結具の少なくとも一端は、例えば、適当な形状のスリット又は開口など、適当な制御手段を含むことができる。この実施例によれば、この締結具４には、図２に示す従来技術の締結具の頭部分のような幅広の頭部分がない。
【００４４】
図３Ａに示す実施例では、第１の装置部品１は、締結具４の上側部分を受ける開口１１を含む。具体的には、第１の装置部品１の開口１１は、締結具の軸５の第１の部分６のねじ部分と協働するように構成された内ねじ山を有する円筒穴である。
【００４５】
同様に、第２の装置部品２は開口１２を含み、この開口は、具体的には、締結具４の軸の第２の部分７のねじ部分を受けてこれと協働するように構成された内ねじ山を有する円筒穴である。
【００４６】
この締結具４は、例えば、時計回りに回して締めるように構成される。使用時には、締結具４を時計回りに回せば、第１の装置部品及び第２の装置部品の開口中に挿入することができる。この場合、締結具４の第１の部分６の少なくとも一部が、第１の装置部品の開口１１の内ねじ山と協働し、締結具４の第２の部分７の少なくとも一部が、第２の装置部品２の開口１２の内ねじ山と協働する。締結具の軸５が第１の装置部品１及び第２の装置部品２両方のねじ山と協働すると、これらの装置部品が接近して、互いにクランプされることになる。
【００４７】
図４Ａ及び図４Ｂは、本発明の第２の実施例を示す図である。この実施例では、締結具の軸の両方の部分を、例えば使用中に反時計回りに回して締めるように構成されている。このようにするには、第２の締結具部分７のねじのピッチＰ２より広いピッチＰ１を有するねじを、軸の第１の部分６に形成すればよい。
【００４８】
どちらの実施例でも、第２の軸部分７の直径は、第１の軸部分６より小さいことが好ましい。同じことは、装置部品１及び２それぞれの開口１１及び１２にも言える。このようにすると、装置部品１及び２が既にほぼ図３Ａ及び図４Ａの位置にあるときに、締結具４を比較的容易に装置部品１及び２の両方に組み込むことができる。
【００４９】
第１の実施例及び第２の実施例のいずれにおいても、締結具４には、図２に示す従来技術の締結具のねじ頭のような幅広の頭部分はない。したがって、組み立て中に、締結具４を回して第１及び第２の装置部品の中に挿入する際に、締結具の頭部分がないので、組み立て中の第２の装置部品２に対する第１の装置部品１の位置の変動を比較的小さくすることができ、またその位置を比較的長期にわたって正確に保つことができる。これは、これら２つの装置部品の間に一定の所望のクランプ力を発生させるのに必要な締結トルクを比較的小さくすることにより、さらに改善される。これについて、以下の数値を用いた例で説明する。
【００５０】
この例では、第１の装置部品と第２の装置部品とをクランプするのに必要なトルクの大きさを、図２に示す従来技術の締結具について計算し、図３Ｂ又は図４Ｂに示す本発明による締結具と比較する。
【００５１】
一般的なねじ締結具９０（図２参照）では、一定の取付け力Ｆｍ（ｋＮ）を生じるために必要な締結トルクＭｔ（Ｎｍ）は、以下の式により概算で与えられる（例えば、Ｄｅｃｋｅｒ、Ｋａｒｌ−Ｈ．、「Ｍａｓｃｈｉｎｅｎｅｌｅｍｅｎｔｅ．Ｇｅｓｔａｌｔｕｎｇ  ｕｎｄ  Ｂｅｒｅｃｈｎｕｎｇ」、Ｃａｒｌ  Ｈａｎｓｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ  Ｍｕｎｃｈｅｎ  Ｗｉｅｎ、１９９０参照）。
【００５２】
Ｍｔ＝Ｆｍ（ねじピッチ因子＋ねじ摩擦因子＋ねじ頭摩擦因子）  （１ａ）
【００５３】
すなわち
【００５４】
Ｍｔ＝Ｆｍ（０．１６Ｐ＋０．５８μｐＤｐ＋０．５μｈＤｈ）  （１ｂ）
【００５５】
ここで、Ｐはねじ山のピッチ（ｍｍ）であり、μｐはねじ山の巻線の摩擦係数であり、μｈはねじ頭のピボット面の摩擦係数であり、Ｄｐはねじ山の巻線のピッチ円直径（ｍｍ）であり、Ｄｈはねじ頭のピボット面の平均接触直径（ｍｍ）である。
【００５６】
図３Ａ及び図４Ａに示すような差動ねじを取り付ける場合には、トルクＭｔｄは、ピッチＰを有効差動ねじピッチ（Ｐ１−Ｐ２）＝ΔＰで置換し、ねじ頭摩擦因子を省略し、第２のねじ摩擦因子を追加することにより、数式（１ｂ）から得ることができる。このようにすると、以下の数式（２）が得られる。
【００５７】
Ｍｔ＝Ｆｍ（０．１６ΔＰ＋０．５８μｐ１Ｄｐ１＋０．５８μｐ２Ｄｐ２）  （２）
【００５８】
ここで、μｐ１は第１の軸部分６のねじ山の巻線Ｐ１の摩擦係数であり、μｐ２は第２の軸部分７のねじ山の巻線Ｐ２の摩擦係数であり、Ｄｐ１は第１のねじ山の巻線Ｐ１のピッチ円直径（ｍｍ）であり、Ｄｐ２は第２のねじ山の巻線Ｐ２のピッチ円直径（ｍｍ）である。
【００５９】
図２〜図４に示す各アセンブリの材料の組合せが同じである場合には、数式（１ｂ）及び（２）に含まれる全ての摩擦因子は同じ値をとることになることに留意されたい。また、第２のねじ部のピッチ円直径Ｄｐ２は、ねじ頭のピボット面の平均接触直径Ｄｈより大幅に小さくなることにも留意されたい。また、ΔＰは、Ｐより大幅に小さくする、例えば１０分の１以下にすることができる。
【００６０】
数式（１ｂ）と（２）とを比較すると、所要のクランプ力が得られるまで差動ねじ締結具４を締め付けるのに必要なトルクは、それと同じねじ寸法を有する通常のねじ９０の場合より大幅に小さくできる、という結論が得られる。
【００６１】
図５Ａ及び図５Ｂは、本発明の第３の実施例を示す概略図である。第３の実施例は、リソグラフィ装置の第１の部品１０１、及びこの装置の第２の部品１０２を含む。例えば別個のナット・プレートなどのさらに別のクランプ部品１０３も用いて第１の装置部品１０１と第２の装置部品１０２とを結合するために、締結具１０４が設けられている。具体的には、装置の第１の部品１０１が、締結具１０４によって、第２の装置部品１０２とクランプ部品１０３の間にクランプされる。
【００６２】
図５Ｂに示すように、第３の実施例の締結具１０４は、第１のねじ部１０６、及び第１のねじ部１０６とはピッチの異なる第２のねじ部１０７を有する円柱軸１０５を含む。図５Ａ及び図５Ｂでは、ねじ部分は太線Ｔで概略的に示してある。
【００６３】
締結具１０４の軸は、第１の軸部分１０６と第２の軸部分１０７の間に延びる、細い第３の部分１０９を含む。軸１０５の第２のねじ部１０７の直径は、軸１０５の第１の部分１０６の直径より小さい。
【００６４】
軸１０５の上端部は、ねじ回しなど、対応するねじ切りされた開口に締結具４を挿抜するための適当なツールと係合するように構成される。この実施例では、軸の上端部には、挿抜ツールと係合するのに適した形状の開口１１３が形成される。
【００６５】
第１の装置部品１０１は、例えば、このリソグラフィ装置の位置調節可能な構成部品にすることもできる。第１の装置部品１０１は、第２の装置部品１０２の中空案内軸１１９を受けるための円筒形の貫通孔１１１を有する。この貫通孔１１１の直径は、組み立て後にその中に延びることになる中空案内軸１１９の外径より若干大きくしておき、第１の装置部品１０１の位置を、組み立て前又は組み立て中に第２の装置部品１０２に対して一定範囲内で調節できるようにする。
【００６６】
さらに、第２の装置部品１０２の中空案内軸１１９は、クランプ部品１０３の受け開口１１４ｂの中にも延びる。第２の装置部品１０２の中空軸１１９は、クランプ部品１０３と協働するように、その端部にいくつかの案内突起１０８を備える。これらの案内突起１０８は、部品１０２に対する部品１０３の径方向の遊びを解消し、それにより組み立て中にクランプ部品１０３及び締結具１０４のセンタリングを行う働きもする。
【００６７】
クランプ部品１０３は、締結具の軸１０５の第１の部分のねじ部分と協働する内ねじ山を有する貫通孔１０４ａを有する。具体的には、クランプ部品１０３は、締結具１０４の軸１０５の一端に延びる締結具の幅広のねじ頭部分とみなすことができ、このねじ頭部分は、軸１０５に回転可能に接続される。
【００６８】
第３の実施例では、第２の装置部品１０２は、例えば取付け基部などにすることができる。第２の装置部品１０２は、開口１１２を有する。この開口１１２は、締結具１０４の軸の第２のねじ部分１０７と協働する内ねじ山を有する第１の部分１１２ａを含む。また、開口１１２は、組み立て後に第１の部分１１２ａからクランプ部品１０３に向かって延びる、より幅広の第２の部分１１２も含む。組み立て中に望ましくないふれ摩擦が生じないように、この幅広部分１１２ｂの直径は、締結具のねじ部１０６の直径より大きい。この実施例では、この幅広部分１１２ｂが、中空案内軸１１９の内部空間である。
【００６９】
この実施例では、第１の装置部品１０１の、第２の装置部品１０２に対向する表面は、組み立て後に締結具１０６から同心円状に延びる第１の環状面２１を含む。第２の装置部品１０２の対向する表面は、やはり組み立て後に締結具１０６から同心円状に延びる第２の環状面２２を含む。軸方向に見ると、組み立て後に、第１の環状面２１は、一定の比較的短い径方向長さだけ第２の環状面２２と重なり合う。
【００７０】
また、この実施例では、第１の装置部品１０１の、クランプ部品１０３に対向する表面は、組み立て後に締結具１０６の周りに延びる、具体的には締結具１０６からほぼ同心円状に延びる第３の環状面２３を含む。クランプ部品１０３の対向する表面は、やはり組み立て後に締結具１０６から同心円状に延びる第４の環状面２４を含む。軸方向に見ると、組み立て後に、第３の環状面２３は、一定の比較的短い径方向長さだけ第４の環状面２４と重なり合う（図５Ａ参照）。第１の環状面２１と第２の環状面２２の径方向重複部分の平均直径は、第３の環状面２３と第４の環状面２４の重複部分の平均直径より大きい。
【００７１】
したがって、第１の装置部品１０１と第２の装置部品１０２は、これらの環状面と対向する環状溝とが当接する比較的小さなクランプ表面を利用して互いにクランプすることができるので、第１の装置部品１０１を比較的正確に位置決めすることができ、また、この位置を第２の装置部品１０２に対して維持することができる。環状面２１、２２、２３及び２４の重複部分の直径が上記のようになっているので、組み立て中に、環状面２１、２２、２３及び２４は接触している間に所望のクランプ力を得るために締結具１０４を回しても、第１の装置部品１０１の回転は防止される。
【００７２】
第３の実施例の使用時には、図５Ａに示すように、締結具１０４は、クランプ部品１０３及び第２の装置部品１０２の開口１１４ａ、１１２ｂ及び１１２ａに挿入される。第１の軸部分１０６及び第２の軸部分１０７のねじ部分のピッチによって決まる適当な締結方向に締結具を回すと、クランプ部品１０３及び第２の装置部品１０２が互いに接近し、それらの間で第１の装置部品１０１がクランプされる。第１の軸部分１０６及び第２の軸部分１０７はピッチの異なるねじ部分を有するので、それほど高い締結トルクを加えなくても、比較的高いクランプ力を得ることができる。したがって、クランプ中に、第１の装置部品１０１及び第２の装置部品１０２の相対的な位置が精密に維持される。位置合わせされた状態も長期間にわたって維持することができるが、これは特に、この締結具が、装置部品１０１及び１０２の内部に比較的小さな内部応力しか生じずにクランプを行うからである。
【００７３】
第３の実施例は、３自由度の調節が可能な物体の取付け方法で使用することができる。
【００７４】
上記では本発明の具体的な実施例について説明したが、上記以外の方法で本発明を実施することもできることを理解されたい。上記の説明は、本発明を制限するものではない。
【００７５】
例えば、本発明は、基部など、例えば位置／回転調整済みの構成部品など、に様々な構成部品を中立的にロックするために使用することができる。
【００７６】
締結具の寸法や直径などは様々にすることができ、例えば、規格寸法、特定の基準の公称ねじサイズ、及び／又は様々なサイズにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】従来技術による締結アセンブリを示す、一部展開側面図である。
【図３Ａ】図１の装置の締結アセンブリの一実施例を示す、一部展開側面図である。
【図３Ｂ】図３Ａの締結アセンブリの締結具を示す側面図である。
【図４Ａ】図１の装置の締結アセンブリの一実施例を示す、一部展開側面図である。
【図４Ｂ】図４Ａの締結アセンブリの締結具を示す側面図である。
【図５Ａ】図１の締結アセンブリの一実施例を示す、一部展開側面図である。
【図５Ｂ】図５Ａの締結アセンブリの締結具を示す側面図である。
【図１】
2006019748.tif 000003
【図２】
2006019748.tif 000004
【図３Ａ】
2006019748.tif 000005
【図３Ｂ】
2006019748.tif 000006
【図４Ａ】
2006019748.tif 000007
【図４Ｂ】
2006019748.tif 000008
【図５Ａ】
2006019748.tif 000009
【図５Ｂ】
2006019748.tif 000010
【外国語明細書】
2006019748000001.pdf