(57)【要約】【課題】  ２枚の基板を貼り合わせてなる光記録媒体において、良好な機械特性を有し、高速記録に対応可能な光記録媒体を提供する。【解決手段】  少なくとも第１の基板と記録層とを有する第１の積層体と、少なくとも第２の基板を有する第２の積層体とが貼り合わされてなる光記録媒体であって、前記第２の基板が前記第１の基板よりも厚く、かつ第１の基板の厚みと第２の基板との厚みの差が、第１の基板の厚みの１０％以上であることを特徴とする光記録媒体である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の基板と記録層とを有する第１の積層体と、少なくとも第２の基板を有する第２の積層体とが貼り合わされてなる光記録媒体であって、
前記第２の基板が前記第１の基板よりも厚く、かつ第１の基板の厚みと第２の基板との厚みの差が、第１の基板の厚みの１０％以上であることを特徴とする光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関し、特に記録線速度１４ｍ／ｓ以上で情報を記録する貼り合わせ型の光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
近年、記録密度のより高い光記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案されている。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザー光のトラッキングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒに比べて半分以下（０．７４〜０．８μｍ）と狭く形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる記録層、そして通常は該記録層の上に光反射層、そしてさらに必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能であるとされている。
【０００４】
このようなＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ＋Ｒ／ＲＷなどの光ディスクにおいて、近年、４倍速以上（記録線速度１４ｍ／ｓ以上）の高速記録の要求が高まっている（例えば、特許文献１参照。）。高速記録の場合は、等倍速など低速記録の場合と比べ、フォーカスサーボやトラッキングサーボの周波数特性に限界があることから（ピックアップの慣性から高周波追従性に限界がある）、貼り合わせ後における機械特性（面振れ、ラジアルチルト、タンジェンシャルチルト等）が重要となる。機械特性が悪いと、フォーカスサーボやトラッキングサーボがかかりづらくなるという問題がある。
【特許文献１】特開２００２−８２３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、２枚の基板を貼り合わせてなる光記録媒体において、良好な機械特性を有し、高速記録に対応可能な光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  少なくとも第１の基板と記録層とを有する第１の積層体と、少なくとも第２の基板を有する第２の積層体とが貼り合わされてなる光記録媒体であって、前記第２の基板が前記第１の基板よりも厚く、かつ第１の基板の厚みと第２の基板の厚みとの差が、第１の基板の厚みの１０％以上であることを特徴とする光記録媒体である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、２枚の基板を貼り合わせてなる光記録媒体において、面触れ、ラジアルチルト、タンジェンシャルチルトが小さくなり、良好な機械特性を有し、高速記録に対応可能な光記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の光記録媒体の実施の形態について説明する。本発明の光記録媒体は、少なくとも第１の基板と記録層とを有する第１の積層体と、少なくとも第２の基板を有する第２の積層体とが貼り合わされてなる光記録媒体であって、前記第２の基板が前記第１の基板よりも厚く、かつ第１の基板の厚みと第２の基板との厚みの差が、第１の基板の厚みの１０％以上であることを特徴としている。
本発明の光記録媒体は、貼り合わせ型の光記録媒体、すなわち、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ＋Ｒ／ＲＷ、ＨＤ  ＤＶＤなどＤＶＤ構成の光記録媒体に適用することができる。
【０００９】
本発明の光記録媒体においては、第１の積層体は、少なくとも第１の基板と記録層とを有し、その他、必要に応じて、反射層、中間層、保護層を設けることができる。また、第２の積層体は、少なくとも第２の基板を有する。第２の積層体は第２の基板のみからなる構成でもよく、この場合、単層ということで、厳密には積層体ではないが、本明細書においては便宜上積層体と呼ぶ。いずれにしても、第１の積層体と第２の積層体とは、第１の積層体の記録層側に第２の積層体が位置するように貼り合わせる。
以下、先ず基板及び各層について説明する。
【００１０】
＜基板（第１の基板、第２の基板）＞
基板としては、第１の基板（記録層側）及び第２の基板（所謂、ダミー基板）のいずれも、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。また、第１の基板の材料と第２の基板の材料は同一でも異なっていてもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
【００１１】
また、基板の厚みは、第２の基板を第１の基板よりも厚くし、かつ第１の基板の厚みと第２の基板との厚みの差が、第１の基板の厚みの１０％以上となるように設定する。具体的には、第１の基板においては、０．５７〜０．６４ｍｍとすることが好ましく、０．５８〜０．６３ｍｍとすることがより好ましく、０．５８〜０．６２ｍｍとすることがさらに好ましい。第２の基板においては、０．６６〜０．８ｍｍとすることが好ましく、０．７〜０．８ｍｍとすることがさらに好ましい。ただし、システム上の制約から、貼り合わせ後の総厚みは、１．４ｍｍ以下とすることが好ましい。
【００１２】
本発明においては、第１の基板の厚みと第２の基板との厚みの差は、第１の基板の厚みの１０％以上とすることがより好ましく、１５％以上とすることがさらに好ましい。そして、光記録媒体全体の厚みが規格内の数値に収まるように適宜定めて設定すればよく、上限は、具体的には、２５％以下とすることが好ましい。
第１の基板の厚みと第２の基板との厚みの差が、第１の基板の厚みの１０％未満では、貼り合わせ後の機械特性の改善効果はほとんどない。
【００１３】
以上のように、本発明においては、いわゆるダミー基板である第２の基板が、記録層側の第１の基板よりも一定以上厚くしたことにより、第２の基板側の機械特性が良好となるため、貼り合わせ後の機械特性を改善することができる。ひいては、４倍速以上（記録線速度１４ｍ／ｓ以上）の高速記録に対してのサーボ追従性を確保することができる。
【００１４】
第１の基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が形成される。プレグルーブのトラックピッチは、４００〜９００ｎｍとすることが好ましく、４５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、５００〜８００ｎｍとすることがさらに好ましい。また、プレグルーブの深さ（溝深さ）は、８０〜１８０ｎｍとすることが好ましく、１００〜１７０ｎｍとすることがより好ましく、１１０〜１６０ｎｍとすることがさらに好ましい。さらに、プレグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍとすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２８０〜３８０ｎｍとすることがさらに好ましい。
また、ＨＤ  ＤＶＤの場合、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。この場合、グルーブのトラックピッチは、３００〜５００ｎｍの範囲にとすることが好ましく、３５０〜４５０ｎｍの範囲とすることがより好ましい。また、グルーブの深さ（溝深さ）は、２０〜１５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、５０〜１２０ｎｍの範囲とすることがより好ましい。
【００１５】
また、記録層が設けられる側の基板（第１の基板）表面には、平面性の改善、接着力の向上及び記録層の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；及びシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲で設けられる。
【００１６】
＜反射層＞
記録層の上には特に情報の再生時における反射率の向上の目的で反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組み合わせて用いてもよい。又は合金として用いてもよい。特に好ましくはＡｕ、Ａｇもしくはその合金である。反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。
【００１７】
＜記録層＞
記録層に用いる色素は特に限定されないが、使用可能な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。
【００１８】
記録層を形成するための塗布液の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独又は二種以上を適宜併用することができる。好ましくは、２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中には、所望により褪色防止剤や結合剤を添加してもよいし、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、そして潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００１９】
結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素１００質量部に対して０．２〜２０質量部、好ましくは、０．５〜１０質量部、更に好ましくは１〜５質量部である。
【００２０】
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
また、塗布温度としては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃、さらに好ましくは２５〜３７℃である。
【００２２】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００２３】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００２４】
一方、記録層として相変化記録層を使用することもできる。相変化記録層は、レーザー光の照射によって結晶相と非晶相との相変化を繰り返すことができる材料からなる層である。
例えば、以下のような方法により結晶相と非晶相の相変化を繰り返すものが挙げられる。即ち、情報記録時は、集中したレーザー光パルスを短時間照射し、相変化記録層を部分的に溶融する。溶融した部分は熱拡散により急冷され、固化し、非晶状態の記録マークが形成される。また、消去時には、記録マーク部分にレーザー光を照射し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加熱し、かつ除冷することによって、非晶状態の記録マークを結晶化し、もとの未記録状態に戻す。
【００２５】
相変化記録層を構成する材料の具体例としては、Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｖ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、等が挙げられる。なかでも、多数回の書き換えが可能であることから、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金が好ましい。
相変化記録層の層厚としては、１０〜５０ｎｍとすることが好ましく、１５〜３０ｎｍとすることがより好ましい
【００２６】
以上の相変化記録層は、スパッタ法、真空蒸着法などの気相薄膜堆積法、等によって形成することができる。
【００２７】
＜接着層＞
接着層は、第１の基板側と第２の基板側との貼り合わせのために設けられる層であり、反射層と第２の基板との間に形成される。
本発明においては、接着層を構成する接着剤として、ガラス転移温度が８０℃以下のものを用いる。前記接着剤のガラス転移温度を８０℃以下とすることにより変調度を高くすることができる。これは、接着層を構成する接着剤のガラス転移温度が８０℃以下と比較的低温であり、接着層が一定以上の柔軟性を有するため、記録時に記録層（記録ピット部）において発生する熱による変形を大きくすることができるためと考えられる。前記接着剤のガラス転移温度は、好ましくは、７０℃以下であり、より好ましくは５０℃以下である。
ガラス転移温度が８０℃を超えると、記録層（記録ピット部）の変形を大きくすることができず、変調度を高くすることができない。
なお、接着剤のガラス転移温度とは、硬化後の接着剤のガラス転移温度を指す。
【００２８】
接着層を構成する接着剤としては、紫外線硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような紫外線硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がより好ましく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。
【００２９】
接着層を構成する接着剤の他の例を挙げる。該接着剤は、放射線照射により硬化可能な樹脂であって、分子中に２個以上の放射線官能性の２重結合を有する樹脂であり、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などがあげられる。好ましくは２官能以上のアクリレート化合物、メタクリレート化合物である。
【００３０】
２官能の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレートなどに代表される脂肪族ジオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものを用いることができる。
【００３１】
また、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレートや公知の二塩基酸、グリコールから得られたポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートも用いることができる。
さらに、公知のポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートを用いてもよい。
【００３２】
また、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものやイソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレートなどの環状構造を有するものも用いることができる。
【００３３】
前記放射線としては、電子線および紫外線を使用することができる。紫外線を使用する場合には以下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要となる。光重合開始剤としては芳香族ケトンが使用される。芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。２５４，３１３，８６５ｎｍの波長において吸光係数の比較的大きいものが好ましい。その代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−２ジエトキシアセトフェノン、Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使用できる。芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａ）１００質量部に対し０．５〜２０質量部、好ましくは２〜１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加したものが市販しており、それを使用してもかまわない。紫外線光源としては、水銀ランプ又はメタルハライドランプが用いられる。該ランプとしては２０〜３００Ｗ／ｃｍのものを用い、０．１〜２０秒間照射される。光記録媒体とランプとの距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好ましい。
【００３４】
電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が１００〜１０００ｋＶ、好ましくは１５０〜３００ｋＶであり、吸収線量として０．５〜２０Ｍｒａｄ、好ましくは１〜１０Ｍｒａｄである。加速電圧が１０ｋＶ以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し１０００ｋＶを超えると重合に使われるエネルギー効率が低下しコスト的に好ましくない。
【実施例】
【００３５】
以下に、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３６】
（実施例１）
射出成形機（住友重機械工業（株）製）にスタンパを設置した上で、ポリカーボネート樹脂を材料として、スパイラル状のグルーブ（溝深さ：１５０ｎｍ、溝幅：３００ｎｍ、トラックピッチ：０．７４μｍ）を有する厚み０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板１（第１の基板）を成形した。同時に、基板１と同様に、厚み０．６６ｍｍの基板２（第２の基板）を成形した。
【００３７】
下記色素Ａ０．６ｇと下記色素Ｂ０．６ｇとを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００ｃｍ2に溶解した溶液を、スピンコート法により基板１のグルーブが形成された面上に塗布し記録層を形成した。次に、記録層上に銀をスパッタして約１５０ｎｍ積層し反射層を形成した。この反射層上に、接着剤として紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製、ダイキュアクリアＳＤ−６６１）をスピンコート法により内周側にドーナツ状に塗布し、その上に基板２を載せ紫外線硬化樹脂を振り切り、基板２を通して紫外線を照射することにより紫外線硬化樹脂を硬化させ、基板２を接着した。以上のようにして実施例１の光記録媒体を得た。
【００３８】
【化１】
2006155800.tif 000002
【００３９】
（実施例２）
基板２の厚みを０．８０ｍｍに変更したこと以外は実施例１と同様にして実施例２の光記録媒体を作製した。
【００４０】
（比較例１〜２）
基板２の厚みを、それぞれ０．６０ｍｍ、０．６４ｍｍに変更したこと以外は実施例１と同様にして比較例１〜２の光記録媒体を作製した。
【００４１】
［評価］
前記各実施例１〜２及び比較例１〜２の光記録媒体の以下の（１）〜（３）の特性について、ジャパンＥＭ製、ＤＬＤ４０００機械特性評価装置を用いて評価した。結果を表１に示す。
【００４２】
（１）面振れ量の最大値平均（ｎ＝１０）
（２）ラジアルチルト（Ｒ−ｔｉｌｔ）の最大値平均（ｎ＝１０）
（３）タンジェンシャルチルト（Ｔ−ｔｉｌｔ）の最大値平均（ｎ＝１０）
【００４３】
【表１】
2006155800.tif 000003
【００４４】
表１において、「基板１と基板２との厚みの差」は、基板１の厚みに対する割合である。
【００４５】
表１より、基板２の厚みを基板１の厚みよりも１０％以上厚くした実施例１〜２の光記録媒体は、比較例１〜２の光記録媒体よりも機械特性に優れており、特に、面振れ量、タンジェンシャルチルトが小さくなることが分かる。