(57)【要約】【課題】  加熱調理器において、熱線反射特性を向上させる。【解決手段】  筐体の扉部３が、第１基材６上に熱線反射体１３が形成された導電基材９とされ、熱線反射体１３が、第１基材６上に形成された第１透明導電膜１１と、第１透明導電膜１１より上層側に設けられ、第１透明導電膜１１より耐熱性が高い第２透明導電膜１２とを有する。【選択図】  図１
2006183885.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体の壁部の少なくとも一部に、第１基材上に熱線反射体が形成された導電基材が設けられ、
前記熱線反射体は、第１基材上に形成された第１透明導電膜と、この第１透明導電膜より上層側に設けられ、第１透明導電膜より耐熱性が高い第２透明導電膜とを有することを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記第１透明導電膜が、インジウム・スズ・オキサイドからなることを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記第２透明導電膜が、フッ素ドープ酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、酸化スズ、フッ素ドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、ホウ素ドープ酸化亜鉛、酸化亜鉛のうち１または２以上からなることを特徴とする請求項１または２に記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記導電基材が、筐体内を視認可能な窓部とされていることを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか１項に記載の加熱調理器。
【請求項５】
前記導電基材は、前記第１基材に対し空間部を隔てて設けられた第２基材を備え、
前記熱線反射体が、前記空間部に面する第１基材表面に設けられていることを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１項に記載の加熱調理器。
【請求項６】
前記第２基材は、前記第１基材より筐体内部側に設けられていることを特徴とする請求項５に記載の加熱調理器。
【請求項７】
前記空間部に冷媒を導入可能とされていることを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１項に記載の加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロ波や熱線ヒータを用いた加熱調理器、例えば電子レンジ、電子オーブンに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子レンジ等の加熱調理器では、扉部に、透明導電膜を有する導電基材が設けられることがある。
透明導電膜に用いられる材料としては、スズを数％ドープした酸化インジウム、すなわちインジウム・スズ・オキサイド（以下、ＩＴＯという）がある。ＩＴＯからなる透明導電膜は、透明性が優れ、かつ高い導電性を有する。
【特許文献１】特開２００２−３２７９２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、ＩＴＯからなる透明導電膜を用いた加熱調理器では、熱線反射特性が劣化し、調理の際の加熱効率が不充分になることがあった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、加熱調理器において、熱線反射特性を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の加熱調理器は、筐体の壁部の少なくとも一部に、第１基材上に熱線反射体が形成された導電基材が設けられ、前記熱線反射体が、第１基材上に形成された第１透明導電膜と、この第１透明導電膜より上層側に設けられ、第１透明導電膜より耐熱性が高い第２透明導電膜とを有することを特徴とする。
本発明の請求項２に係る加熱調理器は、請求項１において、前記第１透明導電膜が、インジウム・スズ・オキサイドからなることを特徴とする。
本発明の請求項３に係る加熱調理器は、請求項１または２において、前記第２透明導電膜が、フッ素ドープ酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、酸化スズ、フッ素ドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、ホウ素ドープ酸化亜鉛、酸化亜鉛のうち１または２以上からなることを特徴とする。
本発明の請求項４に係る加熱調理器は、請求項１〜３のうちいずれか１項において、前記導電基材が、筐体内を視認可能な窓部とされていることを特徴とする。
本発明の請求項５に係る加熱調理器は、請求項１〜４のうちいずれか１項において、前記導電基材が、前記第１基材に対し空間部を隔てて設けられた第２基材を備え、前記熱線反射体が、前記空間部に面する第１基材表面に設けられていることを特徴とする。
本発明の請求項６に係る加熱調理器は、請求項５において、前記第２基材が、前記第１基材より筐体内部側に設けられていることを特徴とする。
本発明の請求項７に係る加熱調理器は、請求項１〜６のうちいずれか１項において、前記空間部に冷媒を導入可能とされていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の加熱調理器は、熱線反射体が、第１透明導電膜上に、高耐熱性の第２透明導電膜を形成した構造となっているので、高温に曝されても第１透明導電膜の熱線反射特性が劣化しない。
例えば、ＩＴＯからなる透明導電膜は、３００℃以上の高温に曝されると、酸素欠陥構造の一部に大気中の酸素が結合して電子の流路となる酸素欠損が減少するため、導電性が低下しやすい。
これに対し、本発明の加熱調理器では、第２透明導電膜が設けられているので、大気中の酸素が第１透明導電膜に接触しにくくなり、第１透明導電膜の酸化が起こりにくくなる。
従って、熱線反射特性を高め、調理時における加熱効率を改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、実施の形態に基づいて本発明を詳しく説明する。
図１〜図４は、本発明の加熱調理器の一例を示すものである。図１は、この加熱調理器の扉部を示す断面図である。図２は、扉部を構成する導電基材の要部断面図である。図３は、前記加熱調理器の概略構成を示す断面図である。図４は、前記加熱調理器の外観を示す図である。
【０００７】
図３および図４に示すように、この加熱調理器の筐体１は、前面側に開口を有する筐体本体２と、筐体本体２の開口を開閉可能に閉止する壁部である扉部３とを備えている。
扉部３は、枠部４と、筐体１内を視認可能な窓部５とを備えた構成が好ましい。
【０００８】
図１および図３に示すように、窓部５は、第１基材６と、第１基材６の内側（筐体内部側）に設けられた第２基材７とを備えた二重壁構造の導電基材９からなる。
第１および第２基材６、７は、空間部８を隔てて互いにほぼ平行に設けられている。
第１および第２基材６、７は、透明材料からなるものが好ましく、例えばソーダガラス、耐熱ガラス、石英ガラスなどのガラスからなる板材が好適である。
空間部８の幅は、例えば１〜２０ｍｍとすることができる。
なお、本明細書において、透明とは可視光が透過可能であることをいう。
【０００９】
図１および図２に示すように、第１基材６の内面（空間部８に面する表面）には、熱線反射体１３が形成されている。
熱線反射体１３は、第１基材６上に形成された第１透明導電膜１１と、第１透明導電膜１１より上層側（図２における左方）に形成された第２透明導電膜１２とを有する多層構造となっている。
第１透明導電膜１１は、インジウム・スズ・オキサイド（ＩＴＯ）からなることが好ましい。第１透明導電膜１１は、厚さ１００〜１０００ｎｍとすることができる。
【００１０】
第２透明導電膜１２は、第１透明導電膜１１の材料より耐熱性が高い材料からなる。
耐熱性は、例えば３００〜７００℃で加熱したときの電気抵抗値の上昇率により評価することができ、この電気抵抗値は、常温時（２５℃）に比べ２倍以下であることが好ましい。
【００１１】
第２透明導電膜１２としては、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化スズ（ＴＯ）、フッ素ドープ酸化亜鉛（ＦＺＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、ホウ素ドープ酸化亜鉛（ＢＺＯ）、酸化亜鉛（ＺＯ）のうち１または２以上からなるものが好ましい。
なかでも特に、ＦＴＯは、高温に曝されても電気抵抗が増加せず、耐熱性に優れているため好ましい。
第２透明導電膜１２は、薄すぎれば耐久性が低くなり、厚すぎれば透明性が低下することになるため、厚さ５０〜３００ｎｍとするのが好ましい。
なお、透明導電膜１１、１２は、上記のもの以外の成分を含んでいてもよい。
【００１２】
次に、透明導電膜１１、１２の形成方法について説明する。
透明導電膜１１、１２の形成方法としては、スプレー熱分解堆積法（ＳＰＤ法）、スパッタ法、ＣＶＤ法を採用でき、なかでもＳＰＤ法が好ましい。
ＳＰＤ法とは、加熱された基材上に原料溶液を噴霧し、基材上で熱分解反応を起こさせて酸化物微粒子を生成し、この酸化物微粒子を基材表面に堆積させる方法である。
【００１３】
第１透明導電膜１１の材料であるＩＴＯは高温下で酸化しやすいため、第２透明導電膜１２は、第１透明導電膜１１を形成した後に直ちに形成するのが好ましい。例えば、第１透明導電膜１１の形成後、１分以内に第２透明導電膜１２を形成するのが好ましい。
【００１４】
上記加熱調理器は、次に示す効果を奏する。
（１）熱線反射体１３は、第１透明導電膜１１上に、高耐熱性の第２透明導電膜１２を形成した構造となっているので、高温に曝されても第１透明導電膜１１の熱線反射特性が劣化しない。
例えば、ＩＴＯからなる透明導電膜は、３００℃以上の高温に曝されると、酸素欠陥構造の一部に大気中の酸素が結合して電子の流路となる酸素欠損が減少するため、導電性が低下しやすい。
これに対し、上記加熱調理器では、第２透明導電膜１２が設けられているので、大気中の酸素が第１透明導電膜１１に接触しにくくなり、第１透明導電膜１１の酸化が起こりにくくなる。
従って、熱線反射特性を高め、調理時における加熱効率を改善することができる。
（２）第１透明導電膜１１に、熱線反射特性、電気抵抗値、透明性の点で優れた材料であるＩＴＯを用いることによって、これらの特性に優れた熱線反射体１３を得ることができる。
（３）第２透明導電膜１２に、ＦＴＯ、ＡＴＯ、ＴＯ、ＦＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＢＺＯ、ＺＯのうち１または２以上を用いることによって、熱線反射体１３に十分な耐熱性を付与し、第１透明導電膜１１の特性（熱線反射特性、電気抵抗値、透明性など）が劣化するのを防ぐことができる。
上記ＦＴＯ等は、電気抵抗および透明性に劣ることが多いが、第１透明導電膜１１にＩＴＯが用いられている場合には、第２透明導電膜１２を薄くすることができるため、電気抵抗および透明性の低下を最小限とすることができる。
（４）導電基材９が窓部５とされているので、窓部５において熱線反射特性が劣化することがなく、十分な加熱効率が得られる。
（５）導電基材９が、空間部８を隔てて設けられた第１および第２基材６、７を備えているので、空間部８が断熱層として機能する。
このため、第２基材７から第１基材６に伝達される熱を最小限に抑え、第１基材６が高温になるのを防ぐことができる。
従って、操作性を向上させるとともに、安全性を高めることができる。
（６）第２基材７が第１基材６の内側に設けられているので、第１基材６が高温になるのを防ぐことができる。
従って、操作性を向上させるとともに、安全性を高めることができる。
また、第１基材６に設けられた熱線反射体１３が高温に曝されるのを防ぎ、熱線反射体１３の特性が劣化するのを防ぐことができる。
【００１５】
図１および図２に示す例では、２つの透明導電膜１１、１２からなる熱線反射体１３を例示したが、熱線反射体は３以上の透明導電膜を備えていてもよい。
透明導電膜を３以上設ける場合には、最表面側の透明導電膜以外の透明導電膜のうち少なくとも１つにＩＴＯを用い、この透明導電膜より上層側の透明導電膜に、上記第２透明導電膜の材料として例示したＦＴＯ等を用いることができる。
また、図１および図２に示す例では、第１基材６の内面に熱線反射体１３を設けたが、本発明では、熱線反射体が第１基材６の内面と第２基材７の外面との双方に形成された構成も可能であるし、熱線反射体が第２基材７の外面のみに形成された構成も可能である。
また、図１および図２に示す例の導電基材９は、２つの基材６、７を備えているが、基材の数は１でもよいし、３以上でもよい。
また、導電基材は、扉部に限らず、筐体本体に用いることもできる。
【００１６】
空間部８には、冷媒を導入可能とすることができる。すなわち、空間部８に冷媒を封入してもよいし、冷媒を空間部８内に流通させる冷媒流通機構を設けてもよい。
冷媒としては、気体または液体が使用でき、気体としては、空気、窒素、不活性ガスが好適であり、液体としてはシリコンオイル、水が好適である。
冷媒が気体である場合には、ファンなどの送気手段を冷媒流通機構として使用できる。
図５に示すように、冷媒が液体である場合には、冷媒流通機構としては、冷媒の供給源１５と、冷媒を供給する送液ポンプ１６（供給手段）と、冷媒を空間部８に導く導入経路１７と、空間部８を経た冷媒を導出する導出経路１８とを備えたものを例示できる。
【００１７】
空間部８に冷媒を導入可能とすることによって、第１基材６が高温となるのを防ぎ、操作性および安全性を高めることができる。
また、第１基材６に設けられた熱線反射体１３が高温に曝されるのを防ぎ、熱線反射体１３の特性が劣化するのを防ぐことができる。
【実施例】
【００１８】
（試験例１）
（１）ＩＴＯ用原料溶液の調製
塩化インジウム（ＩＩＩ）四水和物（ＩｎＣｌ３・４Ｈ２Ｏ、Ｆｗ：２９３．２４）５．０２ｇと、塩化スズ（ＩＩ）二水和物（ＳｎＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、Ｆｗ：２２５．６５）０．２１ｇとをエタノール６０ｍｌに溶解して、ＩＴＯ用原料溶液とした。
【００１９】
（２）ＦＴＯ用原料溶液の調製
塩化スズ（ＩＶ）五水和物（ＳｎＣｌ４・５Ｈ２Ｏ、Ｆｗ：３５０．６０）０．７０１ｇをエタノール１０ｍｌに溶解し、これにフッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ、Ｆｗ：３７．０４）０．５９２ｇの飽和水溶液を加え、この混合物を超音波洗浄機に約２０分間かけ、完全に溶解して、ＦＴＯ用原料溶液とした。
【００２０】
厚さ２ｍｍの耐熱ガラス板からなる第１基材６を加熱し温度が３５０℃になったときに、ＩＴＯ用原料溶液を、口径０．３ｍｍのノズルから圧力０．０６ＭＰａで、第１基材６までの距離を４００ｍｍとして噴霧した。
このＩＴＯ用原料溶液の噴霧後、第１基材６をさらに加熱し、温度が４００℃になったときに、ＦＴＯ用原料溶液を噴霧した。原料溶液の噴霧条件は、ＩＴＯ原料溶液の噴霧の際の条件に準じた。
これにより、第１基材６上に、厚さ９００ｎｍのＩＴＯ膜（第１透明導電膜１１）と、厚さ１００ｎｍのＦＴＯ膜（第２透明導電膜１２）とからなる熱線反射体１３を備えた導電基材９が得られた。
【００２１】
（試験例２）
比較のために、試験例１で用いたものと同様の耐熱ガラス板の上に、厚さ１０００ｎｍのＩＴＯ膜のみを形成した導電基材を作製した。
【００２２】
上記試験例１、２の導電基材に、中赤外線ランプを用いて赤外線（熱線）を照射し、４００℃に加熱するとともに、熱線反射特性を評価した。熱線反射特性は、分光光度計を用い、波長２０００ｎｍでの反射率を測定することによって評価した。
また、電気抵抗値の測定は四端子法により行い、透明性は、紫外可視分光光度計を用い、波長５５０ｎｍでの透過率をもって評価した。
結果を表１および表２に示す。表１は加熱前のデータを示し、表２は加熱後のデータを示す。
【００２３】
【表１】
2006183885.tif 000003
【００２４】
【表２】
2006183885.tif 000004
【００２５】
表１および表２より、ＩＴＯ膜を用いた試験例２では、熱線反射率が加熱により大幅に劣化したのに対し、ＩＴＯ膜上にＦＴＯ膜を積層した熱線反射体１３を備えた試験例１では、加熱による熱線反射率の劣化がほとんど起こらなかったことがわかる。
また、電気抵抗値（シート抵抗、比抵抗）についても、ＩＴＯ膜を用いた試験例２では電気抵抗値が約４倍になったのに対し、試験例１では、電気抵抗値の劣化がほとんど起こらなかった。
また、試験例１では、透明性の劣化がほとんど起こらなかったことがわかる。
【００２６】
（試験例３）
第１および第２基材を有する導電基材を用いた加熱調理器を作製した。
第１および第２基材は、隙間なく積層して配置した。
筐体１の内部温度を４００℃にまで高めたときの第１基材外面の温度を測定した。結果を表３に示す。
【００２７】
（試験例４）
図１に示すように、第１および第２基材６、７を、空間部８を隔てて配置したこと以外は試験例３と同様の加熱調理器を作製した。
筐体１の内部温度を４００℃にまで高めたときの第１基材６外面の温度を測定した。結果を表３に示す。
【００２８】
（試験例５）
試験例４と同様の加熱調理器の空間部８内に、ファンを用いて空間部８に空気を流通させつつ、筐体１の内部温度を４００℃にまで高めたときの第１基材６外面の温度を測定した。結果を表３に示す。
【００２９】
（試験例６）
試験例４と同様の加熱調理器の空間部８内にシリコンオイルを流通させつつ、筐体１内部温度を４００℃にまで高めたときの第１基材６外面の温度を測定した。結果を表３に示す。
【００３０】
【表３】
2006183885.tif 000005
【００３１】
表３より、第１および第２基材６、７間に空間部８を設けることによって、第１基材６が高温になるのを防ぐことができたことがわかる。
また、冷媒を空間部８に流通させることによって、第１基材６を低温にすることができた。特に、冷媒としてシリコンオイルを用いることによって、第１基材６を低温にすることができた。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明は、マイクロ波や熱線ヒータを用いる加熱調理器、例えば電子レンジ、電子オーブンに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の加熱調理器の一例の扉部を示す断面図である。
【図２】図１に示す加熱調理器の扉部を構成する導電基材の要部断面図である。
【図３】図１に示す加熱調理器の概略構成を示す断面図である。
【図４】図１に示す加熱調理器の外観を示す図である。
【図５】本発明の加熱調理器に使用可能な冷媒流通機構を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００３４】
１…筐体、３…扉部（壁部）、５…窓部、６…第１基材、７…第２基材、８…空間部、９…導電基材、１１…第１透明導電膜、１２…第２透明導電膜、１３…熱線反射体
【図１】
2006183885.tif 000006
【図２】
2006183885.tif 000007
【図３】
2006183885.tif 000008
【図４】
2006183885.tif 000009
【図５】
2006183885.tif 000010