(57)【要約】【課題】  薄物化と、一体化や省部材化による光利用効率の向上と生産性向上とを両立する導光体とその製造方法、およびかかる導光体を用いた面発光装置、表示装置及び照明装置を提供する。【解決手段】  放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなる導光部１０を有し、導光部１０は、気泡占有面積率が０．５％以下である低発泡領域１３と１％以上である高発泡領域１４とを有する。【選択図】  図１
2006155937.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなり、気泡占有面積率が所定の分布パターンを有する導光部を備えることを特徴とする導光体。
【請求項２】
前記発泡体の気泡占有面積率が６５％以下の範囲で分布する請求項１に記載の導光体。
【請求項３】
前記導光部が、気泡占有面積率が０．５％以下である低発泡領域と１％以上である高発泡領域とを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の導光体。
【請求項４】
さらに、前記発泡体からなり気泡占有面積率が１５％以上である光反射部を、前記導光部の表面の一部に隣接して備える請求項１から請求項３の何れかに記載の導光体。
【請求項５】
さらに、プリズム部を、前記導光部の表面の一部に隣接して備える請求項１から請求項４の何れかに記載の導光体。
【請求項６】
前記発泡体が、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を発泡させたものである請求項１から請求項５の何れかに記載の導光体。
【請求項７】
請求項１から請求項６の何れかに記載の導光体の製造方法であって、
放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形体に放射線エネルギー及び熱エネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備え、
（ａ）前記成形体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（ｃ）前記成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発生剤の濃度のいずれか１以上が、所定の不均一分布とされていることを特徴とする導光体の製造方法。
【請求項８】
請求項１から請求項６の何れかに記載の導光体と、該導光体の１側面に近接ないし接触して配置された光源とを備える面発光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の面発光装置を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の面発光装置を備えることを特徴とする照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導光体、並びにこれを用いた面発光装置、液晶表示装置等の表示装置及び照明装置に関する。さらに詳しくは、放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなる導光体、並びにこれを用いた面発光装置、表示装置及び照明装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
導光体は、入射光をその入射方向と異なる方向に出射させる光学部材である。導光体は、透光性の成形物からなり、その表面または内部に屈折率変化を生じさせる出光パターンが設けられている。
その出光パターンを得る手法としては、（１）白色ドットを表面に印刷する方法、（２）溝やドットを表面に成形加工する方法、（３）光散乱子を内部に分散する方法、が用いられている。
【０００３】
（３）の方法を用いた光散乱導光体は、内在する光散乱子によって入射光を散乱させて出光面に導く方式の導光体である。導光体表面にパターン加工することがないので、（１）の方法を用いた印刷導光体や（２）の方法を用いた成形導光体に比べて、光拡散シートが不要となり省部材化できるメリットがある。また、比重の小さい光散乱子を用いることにより導光体を軽量化できるというメリットもある。
光散乱子としては、例えば、特許文献１に記載のスチレン微粒子、特許文献２に記載のシリコンビーズ、特許文献３に記載のメタクリル微粒子、特許文献４に記載の中空ビーズ等の光散乱性粒子や、特許文献５に記載の二酸化炭素からなる気泡等が用いられている。
【０００４】
光散乱導光体を面発光装置に用いる場合、出光面から均一な光を出射させるために、光源から遠ざかるほど光散乱性を高める必要がある。しかし、光散乱子の粒子径や密度分布を変化させることは、現実には困難である。そのため、光散乱子は、単純に均一分散させ、導光体全体を光源から遠ざかるほど厚くなるようにくさび形状に（テーパー角をつけて）成形することが行われていた。
これに対して、光源から遠ざかるほど空孔径と密度が大きくなるように中空粒子を分散させて輝度ムラを削減する導光体も提案されている（特許文献６）。
【０００５】
光散乱導光体の光漏れを防ぎ出射効率を高めるには、入射面や出射面以外の面を反射板で塞ぐ必要がある。さらに、導光体の出射面にプリズム等、他の光学部材を設けることが必要とされる場合も多い。
そのため、従来の光散乱導光体では、光拡散シートは不要となるものの、複数の光学部材を組み合わせて使用することとなり、例えば、反射シート、導光板、プリズム等を箱形の筐体中に重ねて収納することが行われていた。
【特許文献１】特開平０６−３２４２１５号公報
【特許文献２】特開平１０−１８３５３２号公報
【特許文献３】特開平１１−１９９２８号公報
【特許文献４】特開平９−１７２２１号公報
【特許文献５】特開平１１−２９１３７４号公報
【特許文献６】特開平０６−３２４２１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
導光体は、主にエッジライト方式の面発光装置に内蔵されている。このエッジライト方式の面発光装置は、一般の照明機器や表示装置に使用されている。
例えば、液晶表示装置は、表示素子の液晶自身に発光性がないため、エッジライト方式のバックライトやフロントライトと言われる面発光装置と併用して表示機能を発現させている。液晶表示装置等の用途の多様化に伴い、導光体に要求される品質項目も厳しくなってきている。
特に、表示装置の省スペース化や携帯性が重視され、光源として用いられるＬＥＤが小型化していることから、導光体の薄物化や軽量化が強く求められている。導光体は、面発光装置の厚さのうち半分以上を占めるため薄物化への寄与が大きい。また、表示品質の向上や省電力化のために、光利用効率の向上も求められている。
【０００７】
しかし、光散乱子を単純に均一分散した導光体の場合、上述のように導光体全体をくさび形状に成形する必要がある。具体的には、射出成形により成形することとなるが、薄物になるほど金型への充填率や転写精度が悪くなるため（樹脂流動性の限界のため）、肉厚１ｍｍ以下に成形することは困難であった。
これに対して特許文献６のように、光源から遠ざかるほど空孔径と密度が大きくなるように中空粒子を分散させた導光体では、平板状とすることも可能であり、薄物化が容易になると考えられる。しかしながら、そのような空孔径と密度の分布をつくる具体的な分散方法は記載されておらず、現実的にそのような導光体を製造する方法はなかった。
したがって、光散乱導光体の薄物化には限界があった。
【０００８】
また、光散乱導光体を、反射シート、導光板、プリズム等を箱形の筐体中に重ねて収納して構成する場合、収納するだけでは各光学部材間に隙間を生じてしまい、光洩れを完全に抑えることはできなかった。そのため、光利用効率の向上にも限界があった。また、多数の部材を用いて構成するため、生産性にも問題があった。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みて、薄物化と、一体化や省部材化による光利用効率の向上と生産性向上とを両立する導光体とその製造方法、およびかかる導光体を用いた面発光装置、表示装置及び照明装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、微細気泡群が内在する導光体を、放射線エネルギーおよび熱エネルギーにより発泡した発泡体で形成することにより、薄型化および省部材化や一体化が可能な導光体を得られることを見いだした。すなわち、本発明は以下の構成を採用した。
【００１１】
［１］放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなり、気泡占有面積率が所定の分布パターンを有する導光部を備えることを特徴とする導光体。
［２］前記発泡体の気泡占有面積率が６５％以下の範囲で分布する［１］に記載の導光体。
［３］前記導光部が、気泡占有面積率が０．５％以下である低発泡領域と１％以上である高発泡領域とを有することを特徴とする［１］又は［２］に記載の導光体。
［４］さらに、前記発泡体からなり気泡占有面積率が１５％以上である光反射部を、前記導光部の表面の一部に隣接して備える［１］から［３］の何れかに記載の導光体。
［５］さらに、プリズム部を、前記導光部の表面の一部に隣接して備える［１］から［４］の何れかに記載の導光体。
［６］前記発泡体が、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を発泡させたものである［１］から［５］の何れかに記載の導光体。
［７］［１］から［６］の何れかに記載の導光体の製造方法であって、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形体に放射線エネルギー及び熱エネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備え、（ａ）前記成形体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（ｃ）前記成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発生剤の濃度のいずれか１以上が、所定の不均一分布とされていることを特徴とする導光体の製造方法。
［８］［１］から［６］の何れかに記載の導光体と、該導光体の１側面にないし接触して配置された光源とを備える面発光装置。
［９］［８］に記載の面発光装置を備えることを特徴とする表示装置。
［１０］［８］に記載の面発光装置を備えることを特徴とする照明装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、薄物化と、一体化や省部材化による光利用効率の向上と生産性向上とを両立する導光体とその製造方法、およびかかる導光体を用いた面発光装置、表示装置及び照明装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
＜発泡性組成物＞
（発泡性組成物の種類）
本発明の導光体を構成する発泡体は、発泡性組成物に放射線エネルギーおよび熱エネルギーを付与して発泡させたものである。
このような発泡性組成物の具体的な例としては、（Ａ）光照射によってガスを発生させる光発泡性化合物や、（Ｂ）光重合性化合物と熱発泡性化合物を組み合わせたもの（特許３４２２３８４号公報参照）、（Ｃ）放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物（特開２００４−２８１２号公報参照）を含む。
とりわけ、（Ｃ）の発泡性組成物（以下「組成物（Ｃ）」という。）は、気泡の直径を１０μｍ以下にすることができ、かつ、気泡分布パターンを広範囲に精密制御できるので好ましい。
【００１４】
組成物（Ｃ）は、放射線エネルギー及び熱エネルギーの作用により発泡性が発現する組成物である。その発泡性組成物は、少なくとも次の２つの成分を含有する。
その一つは、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤、または塩基を発生する塩基発生剤である。他の一つは、前記発生した酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性化合物を分解脱離する分解発泡性化合物である。
【００１５】
（酸発生剤及び塩基発生剤）
組成物（Ｃ）に用いられる酸発生剤又は塩基発生剤には、一般的に化学増幅型フォトレジスト、及び光カチオン重合などに利用されている光酸発生剤や光塩基発生剤と呼ばれているものを用いることができる。
【００１６】
組成物（Ｃ）に好適な光酸発生剤としては、
（１）ジアゾニウム塩系化合物
（２）アンモニウム塩系化合物
（３）ヨードニウム塩系化合物
（４）スルホニウム塩系化合物
（５）オキソニウム塩系化合物
（６）ホスホニウム塩系化合物
などから選ばれた芳香族もしくは脂肪族オニウム化合物のＰＦ6−、ＡsＦ6−、ＳbＦ6−、ＣＦ3ＳＯ3−塩を挙げることができる。その具体例を下記に列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。
【００１７】
ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｐ−メチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、
ベンゾイルフェニルスルホニルジアゾメタン、
【００１８】
トリフルオロメタンスルホネート、
トリメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
２，４，６−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ｐ−トリルジフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート、
４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
１−（２−ナフトイルメチル）チオラニウムヘキサフルオロアンチモネート、
１−（２−ナフトイルメチル）チオラニウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
（２−オキソ−１−シクロヘキシル)(シクロヘキシル）メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
（２−オキソ−１−シクロヘキシル）（２−ノルボルニル）メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムパーフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウムパーフルオロオクタンスルホネート、
ジフェニル−４−メトキシフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、
【００１９】
ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−４−メトキシフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−４−イソプロピルフェニルスルホニウムトシレート
【００２０】
ジフェニルヨードニウム、
ジフェニルヨードニウムトシレート、
ジフェニルヨードニウムクロライド、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ジフェニルヨードニウムナイトレート、
ジフェニルヨードニウムパークロレート、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
【００２１】
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、
【００２２】
２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリ（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−フェニル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−(ｐ−メトキシフェニル)−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−ナフチル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−ビフェニル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（４′−ヒドロキシ−４−ビフェニル）−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（４′−メチル−４−ビフェニル）−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシ−１−ナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（ベンゾ［ｄ］［１，３］ジオキソラン−５−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（３，４，５−トリメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（３，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−メトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−ブトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
【００２３】
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリリウムトリフロオロメタンスルホネート、
トリメチルオキシニウムテトラフロオロボレート、
トリエチルオキシニウムテトラフロオロボレート、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ−ヒドロキシナフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
（α−ベンゾイルベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（β−ベンゾイル−β−ヒドロキシフェネチル）ｐ−トルエンスルホネート、
１，２，３−ベンゼントリイルトリスメタンスルホネート、
（２，６−ジニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（２−ニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（４−ニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
などが挙げられる。なかでも、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物が好ましい。
【００２４】
また、前記オニウム化合物以外にも、活性エネルギー線照射によりスルホン酸を光発生するスルホン化物、例えば２−フェニルスルホニルアセトフェノン、活性エネルギー線照射によりハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物、例えば、フェニルトリブロモメチルスルホン、及び１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、並びに活性エネルギー線照射により燐酸を光発生するフェロセニウム化合物、例えば、ビス（シクロペンタジエニル）フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェート、及びビス（ベンジル）フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェートなどを用いることができる。
【００２５】
さらには、下記に挙げる酸発生能を有するイミド化合物誘導体も使用できる。
Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフタルイミド、
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ナフタルイミド。
【００２６】
組成物（Ｃ）に好適な光塩基発生剤としては、
（１）オキシムエステル系化合物
（２）アンモニウム系化合物
（３）ベンゾイン系化合物
（４）ジメトキシベンジルウレタン系化合物
（５）オルトニトロベンジルウレタン系化合物
などが挙げられ、これらは光エネルギーの照射により塩基としてアミンを発生する。その他にも、光の作用によりアンモニアやヒドロキシイオンを発生する塩基発生剤を用いてもよい。これらは、例えばＮ−（２−ニトロペンジルオキシカルボニル）ピペリジン、１，３−ビス〔Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−ピペリジル〕プロパン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ジヘキシルアミン、及びＯ−ベンジルカルボニル−Ｎ−（１−フェニルエチリデン）ヒドロキシルアミンなどから選ぶことができる。さらには加熱により塩基が発生する化合物を上記光塩基発生剤と併用してもよい。
【００２７】
また、光酸発生剤または光塩基発生剤が活性化する光エネルギーの波長領域をシフトまたは拡大するために、適宜光増感剤を併用してもよい。例えば、オニウム塩化合物に対する光増感剤には、アクリジンイエロー、ベンゾフラビン、アクリジンオレンジなどが挙げられる。    
【００２８】
必要な酸を生成しながらも酸発生剤または塩基発生剤の添加量や光エネルギーを最小限に抑制するために、酸増殖剤や塩基増殖剤（Ｋ．Ｉｃｈｉｍｕｒａ ｅｔ ａｌ.,Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，５５１−５５２（１９９５）や特開平８−２４８５６１号公報、特開２０００−３３０２７００ ）を酸発生剤または塩基発生剤とともに用いることができる。酸増殖剤は、常温付近で熱力学的に安定であるが、酸によって分解し、自ら強酸を発生し、酸触媒反応を大幅に加速させる。この反応を利用することにより、酸または塩基の発生効率を向上させて、発泡生成速度や発泡構造をコントロールすることも可能である。
【００２９】
（分解発泡性化合物）
組成物（Ｃ）に用いられる分解発泡性化合物（以下、分解性化合物と略す）は、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質（低沸点揮発性化合物）が分解脱離する化合物である。
低沸点とは、発泡時にガス化が可能な沸点、すなわち、発泡時の温度よりも低い沸点を有することを意味する。低沸点揮発性物質の沸点は、通常１００℃以下であり、常温以下であることが好ましい。
低沸点揮発性物質としては、例えばイソブテン（沸点；−７℃） 、二酸化炭素（沸点；−７９℃）、窒素（沸点；−１９６℃）などがあげられる。
【００３０】
分解性化合物には、低沸点揮発性物質を発生し得る分解性官能基があらかじめ導入されていなければならない。
分解性官能基の内、酸と反応するものとしては、−O−ｔBuの構造式で示されるｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、−CO−O−ｔBuの構造式で示されるｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、−O−CO−O−ｔBu の構造式で示されるｔｅｒｔ−ブチルカーボネート基、ケト酸およびケト酸エステル基などが挙げられる。このとき、−ｔBuは−C(CH3)3を示す。
酸と反応して、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基およびｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基はイソブテンガスを、ｔｅｒｔ−ブチルカーボネート基はイソブテンガスと二酸化炭素を、ケト酸部位は二酸化炭素を、ケト酸エステルたとえばケト酸ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基は二酸化炭素とイソブテンガスを発生する。
塩基と反応するものとしては、ウレタン基、カーボネート基などが挙げられる。塩基と反応して、ウレタン基、カーボネート基は二酸化炭素ガスを発生する。
【００３１】
分解性化合物の形態は、モノマー、オリゴマー、高分子化合物（ポリマー）の何れであってもよい。分解性化合物は、以下のような化合物群に分類することができる。
（１）非硬化性低分子系の分解性化合物群
（２）硬化性低分子系の分解性化合物群
（３）高分子系の分解性化合物群
【００３２】
（１）の非硬化性低分子系の分解性化合物群は、放射線エネルギーを付与しても、重合反応を生じない低分子系の分解性化合物群である。（２）の硬化性低分子系の分解性化合物群は、放射線エネルギーの付与により重合反応を生じて硬化するような化合物群であり、たとえばビニル基のような重合性基を含んでいる。また、（３）の高分子系の分解性化合物群は、すでに重合体となっている高分子化合物（ポリマー）である。
上記分解性化合物群は単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。（２）の硬化性低分子系の分解性化合物群、または（３）の高分子系の分解性化合物群を用いると、均一な微細気泡の形成が容易であり、強度的に優れた発泡体を得ることが可能であり好ましい。
以下に分解性化合物の具体例を列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。
【００３３】
（１）−ａ、非硬化性低分子系の分解性化合物群（酸分解性）
１−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−エトキシエタン、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フタルイミド、
２，２−ビス[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル]プロパンなど
（１）−ｂ、非硬化性低分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）ピペリジンなど
【００３４】
（２）−ａ、硬化性低分子系の分解性化合物群（酸分解性）
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルアクリレート、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル）フェニルアクリレート、
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルアクリレート、
４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−８−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ
［５．２．１．０2,6］デカン、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジルアクリレート、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチルアクリレート、
６−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ヘキシルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベンジルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチル）ベンジルアクリレート、
（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）アクリレート、
（３−ｔｅｒｔ−ブトキシプロピル）アクリレート、
（１−ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ−１−メチル）エチルアクリレート、
３，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）プロピルアクリレート、
４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）ブチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、
ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、
ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、
アクリロイル酢酸、メタクロイル酢酸
ｔｅｒｔ−ブチルアクロイルアセテート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクロイルアセテートなど
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）マレイミド
【００３５】
（２）−ｂ、硬化性低分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
４−［（１、１−ジメチル−２−シアノ）エトキシカルボニルオキシ］スチレン、
４−[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレン、
４−[（１、１−ジメチル−２−メトキシカルボニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレン、
４−（２−シアノエトキシカルボニルオキシ）スチレン、
（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エチルメタクリレート、
（１、１−ジメチル−２−シアノ）エチルメタクリレートなど
【００３６】
（３）−ａ、高分子系の分解性化合物群（酸分解性）
ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）、
ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）、
ポリ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルアクリレート）、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル）フェニルアクリレート]、
ポリ[１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルアクリレート]、
ポリ｛４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−８−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン｝、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジルアクリレート]、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチルアクリレート]、
ポリ[６−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ヘキシルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベンジルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチル）ベンジルアクリレート]、
ポリ（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルアクリレート）、
ポリ（３−ｔｅｒｔ−ブトキシプロピルアクリレート）、
ポリ[（１−ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ−１−メチル）エチルアクリレート]、
ポリ[３，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）プロピルアクリレート]、
ポリ[４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）ブチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン]、
ポリ[ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリ[ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリアクリロイル酢酸、ポリメタクロイル酢酸、
ポリ[ｔｅｒｔ−ブチルアクロイルアセテート]、
ポリ[ｔｅｒｔ−ブチルメタクロイルアセテート]
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）マレイミド／スチレン共重合体など
【００３７】
（３）−ｂ、高分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
ポリ｛ｐ−［（１、１−ジメチル−２−シアノ）エトキシカルボニルオキシ］スチレン｝、
ポリ｛ｐ−[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレン｝、
ポリ｛ｐ−[（１、１−ジメチル−２−メトキシカルボニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレン｝、
ポリ[ｐ−（２−シアノエトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリ[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エチルメタクリレート]、
ポリ[（１、１−ジメチル−２−シアノ）エチルメタクリレート]、
【００３８】
分解性官能基を導入したポリエーテル、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、デンドリマーなどの有機系高分子化合物も酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物として用いることができる。さらには、シリカなどの無機系化合物に分解性官能基を導入した酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物も用いることができる。なかでも、分解性官能基は、カルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる官能基を有する化合物群に導入されることが好ましい。
【００３９】
発泡体の耐水性をあげるために、少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物を用いることもできる。疎水性官能基は、主に脂肪族基、脂肪環族基、芳香族基、ハロゲン基、ニトリル基からなる群の中から選ばれることが好ましい。
ただし、分解発泡性官能基は、主にカルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる親水性官能基に導入されやすいので、分解性化合物としては、親水性官能基に分解発泡性官能基を導入した分解性ユニットと、疎水性官能基を含む疎水性ユニットからなる複合化合物が好ましい。特に、ビニル系の共重合体化合物であることが好ましい。
疎水性ユニットとしては、メチル（メタ）アクリレートやエチル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート群、スチレン、メチルスチレン、ビニルナフタレンなどの芳香族ビニル化合物群、（メタ）アクリロニトリル化合物群、酢酸ビニル化合物群、塩化ビニル化合物群などが挙げられる。
【００４０】
分解性ユニットと疎水性ユニットの複合化合物からなる分解性化合物の具体例を以下に示す。
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／メチルアクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／メチルメタクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／メチルアクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタアクリレート／メチルメタクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／エチルメタクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／エチルアクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／エチルメタクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／塩化ビニル共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／アクリロニトリル共重合体
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン／スチレン共重合体
【００４１】
また、分解性化合物中の分解性ユニットおよび疎水性ユニットは、一種単独でまたは２種以上併用することができる。共重合の形式は、ランダム共重合、ブロック共重合、グラフト共重合などの任意の形式をとることができる。また、疎水性ユニットの共重合比は、分解性化合物全量に対して５〜９５質量％であることが好ましく、分解性化合物の分解発泡性および発泡構造の環境保存性を勘案すると、２０〜８０質量％がより好ましい。
上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。 上記分解性化合物は、分解発泡性官能基が分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物となる。
【００４２】
発泡体の耐水性をあげるために、発泡性組成物として、温度３０℃相対湿度６０％の環境雰囲気下においてＪＩＳＫ７２０９Ｄ法で測定した平衡吸水率が１０％未満低の吸湿性化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物を用いることもできる。分解発泡性官能基を導入しやすい構造を有する低吸湿性化合物としては、例えばｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンなどが挙げられる。したがって、分解性化合物は、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレンが挙げられる。これらは硬化性モノマーでも一種類以上を混合した重合体でもよい。
【００４３】
また、吸水率が１０％以上の高吸湿性化合物と、吸水率１０％未満の低吸湿性化合物との組合わせからなる複合化合物に分解発泡性官能基を導入してもよい。ただし、複合化合物は、適切な組合わせにより１０％未満の吸水率を有していることが好ましい。例えば、高吸湿性化合物であるアクリル酸と低吸湿性化合物であるｐ−ヒドロキシスチレンの共重合体（複合化合物）は、その共重合比がアクリル酸／ｐ−ヒドロキシスチレン＝９０／１０〜０／１００であることが好ましい。
【００４４】
高吸湿性化合物と低吸湿性化合物との組合わせからなる分解性化合物の具体的な例を以下に示す。
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン共重合体
【００４５】
さらには、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、デンドリマーからなる群の中から選ばれた低吸湿性高分子材料などに分解発泡性官能基を導入してもよい。
上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。 上記分解性化合物は、分解発泡性官能基が分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、低吸湿性化合物となる。
【００４６】
（その他の樹脂）
組成物（Ｃ）には、酸発生剤または塩基発生剤と分解発泡性化合物以外に、成形体の骨格となる一般の樹脂を混合する必要がある場合がある。即ち、非硬化性低分子系の分解性化合物群を用いる場合は単独では成形できないので、下記の一般に用いられる樹脂と混合して用いる必要がある。一般の樹脂は、分解性化合物と混合した時に相溶でも非相溶でもどちらでもかまわない。
一般の樹脂としてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系複合樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、アクリロイル樹脂、ＡＢＳ樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリサルホン樹脂、塩化ビニル樹脂、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、及びシリコーン樹脂など一般に用いられる樹脂から適宜選択して用いることができる。また、分解性化合物から分解してガス化する低沸点揮発性物質を成形体内に内在させることを目的として、ガスバリヤ性樹脂を用いることもできる。ガスバリヤ性樹脂は、混合しても被覆または積層してもよく、低沸点揮発性物質を成形体内により内在させるには、成形体表面に被覆または積層するのが好ましい。
分解性発泡化合物のうち、硬化性低分子系の分解性化合物群および高分子系の分解性化合物群は単独で用いてもよいし、上記の一般に用いられる樹脂と混合して用いてもよい。
【００４７】
上記一般の樹脂を用いる場合でも、そうでない場合でも、放射線エネルギーで硬化する他の不飽和有機化合物を併用することができる。併用化合物の例としては、
（１）脂肪族、脂環族、芳香族の１〜６価のアルコール及びポリアルキレングリコールの（メタ）アクリレート類
（２）脂肪族、脂環族、芳香族の１〜６価のアルコールにアルキレンオキサイドを付加させて得られた化合物の（メタ）アクリレート類
（３）ポリ（メタ）アクリロイルアルキルリン酸エステル類
（４）多塩基酸とポリオールと（メタ）アクリル酸との反応生成物
（５）イソシアネート、ポリオール、（メタ）アクリル酸の反応生成物
（６）エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸の反応生成物
（７）エポキシ化合物、ポリオール、（メタ）アクリル酸の反応生成物
（８）メラミンと（メタ）アクリル酸の反応生成物
等を挙げることができる。
【００４８】
併用できる化合物の中で、硬化性モノマーや樹脂は、発泡体の強度や耐熱性といった物性の向上効果や発泡性の制御効果などが期待できる。また分解性化合物および併用化合物に硬化性モノマーを用いれば、無溶剤成形ができ、環境負荷の少ない製造方法を提供できる。たとえば特開平８−１７２５７や、特開平９−１０２２３０ではこのような材料が用いられている。
併用化合物の具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、 ２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロヘキシルアクリレート、イソボロニルアクリレート、イソボロニルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸ダイマー、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、アクリル酸−９，１０−エポキシ化オレイル、マレイン酸エチレングリコールモノアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチレンアクリレート、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、３−メチル−５，５−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシ化リン酸アクリレート、エタンジオールジアクリレート、エタンジオールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−ブチル−２−エチルプロパンジオールジアクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ポリオキシエチレンエピクロロヒドリン変性ビスフェノールＡジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート、エチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることが出来るが、これらに限られるものではない。
【００４９】
さらに、前記の併用活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物の一部または全部として、分子鎖末端に（メタ）アクリロイル基を有する分子量が４００〜５０００程度の活性エネルギー線硬化性樹脂を組み合わせることもできる。このような硬化性樹脂として、例えば、ポリウレタン変性ポリエーテルポリ（メタ）アクリレートやポリウレタン変性ポリエステルポリ（メタ）アクリレートなどのポリウレタンポリ（メタ）アクリレートポリマー類を用いることが好ましい。
【００５０】
（添加物）
本発明に使用する発泡性組成物は、必要により、酸発生剤又は塩基発生剤と分解性化合物以外の添加物を含ませることができる。添加物としは、無機系または有機系化合物充填剤、並びに各種界面活性剤などの分散剤、多価イソシアネート化合物、エポキシ化合物、有機金属化合物などの反応性化合物および酸化防止剤、シリコーンオイルや加工助剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤、スリップ防止剤、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、光安定剤、滑剤、軟化剤、有色染料、その他の安定剤等を一種類以上含ませてもよい。
添加剤を用いることにより、成形性や発泡性、光学的物性（とくに白色顔料の場合）、電気および磁気的特性（とくにカーボン等の導電性粒子の場合）などの向上が期待できる。
【００５１】
無機系化合物充填剤の具体例としては、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、珪酸カルシウム、水酸化アルミニウム、クレー、タルク、シリカ等の顔料、ステアリン酸亜鉛のような金属石鹸、並びに各種界面活性剤などの分散剤、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、カオリン、珪酸白土、珪藻土、酸化亜鉛、酸化珪素、水酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、マイカ、アスベスト粉、ガラス粉、シラスバルーン、ゼオライトなどが遂げられる。有機系化合物充填剤としては、木粉、パルプ粉などのセルロース系粉末が挙げられる。
有機系化合物充填剤としては、例えば、木粉、パルプ粉などのセルロース系粉末、ポリマービーズなどが挙げられる。ポリマービーズとしては、例えばアクリル樹脂、スチレン樹脂又はセルロース誘導体、ポリビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリウレタン及びポリカーボネート、架橋用モノマーなどから製造されたものが使用できる。
これらの充填剤は、２種類以上混合したものであってもよい。
【００５２】
紫外線吸収剤の具体例としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤から選ばれる。サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレートなどが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００５３】
酸化防止剤の具体例としては、モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などが挙げられる。
光安定剤の代表的なものとしては、ヒンダードアミン系化合物が挙げられる。
【００５４】
軟化剤は、成形性または成形体の加工性を向上させる目的で使用でき、具体的には、エステル化合物類、アミド化合物類、側鎖を有する炭化水素重合体類、鉱油類、流動パラフィン類、ワックス類などが挙げられる。
軟化剤として用いるエステル化合物としては、アルコールとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリエステルであれば特に制限はなく、ヒドロキシル基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、エステル基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリルステアレート、ソルビタントリステアレート、エポキシ大豆油、精製ひまし油、硬化ひまし油、脱水ひまし油、エポキシ大豆油、極度硬化油、トリメリット酸トリオクチル、エチレングリコールジオクタノエート、ペンタエリスリトールテトラオクタノエートなどが挙げられる。
アミド化合物としては、アミンとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリアミド化合物であれば特に制限はなく、アミノ基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、アミド基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、トリメチレンビスオクチル酸アミド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、トリオクタトリメリット酸アミド、ジステアリル尿素、ブチレンビスステアリン酸アミド、キシリレンビスステアリン酸アミド、ジステアリルアジピン酸アミド、ジステアリルフタル酸アミド、ジステアリルオクタデカ二酸アミド、イプシロンカプロラクタム、およびこれらの誘導体が挙げられる。
【００５５】
側鎖を有する炭化水素重合体としては、ポリα−オレフィン類で、炭素数４以上の側鎖を有する通常オリゴマーに分類されるものが好ましい。具体的には、エチレン−プロピレンの共重合体やそのマレイン酸誘導体、イソブチレンの重合体、ブタジエン、イソプレンのオリゴマーおよびその水添物、１−ヘキセンの重合物、ポリスチレンの重合物およびこれらから誘導される誘導体、ヒドロキシポリブタジエンやその水添物、末端ヒドロキシポリブタジエン水添物などが挙げられる。  
【００５６】
（光散乱性微粒子）
組成物（Ｃ）等の発泡性組成物には、輝度向上や輝度ムラ抑制のために、補助的に光散乱性微粒子を添加しても良い。光散乱性微粒子としては、例えば、アクリル系、スチレン−アクリル系、ポリエチレン系の有機架橋ポリマービーズや、シリコンビーズ、中空粒子などが挙げられる。また、光散乱微粒子をナノスケールで相分離させてもよく、その場合、発泡性組成物から形成される気泡の微小化や数密度増加の効果が得られる。
【００５７】
組成物（Ｃ）等の発泡性組成物は、一般的な混練機を用いて調製することができる。例えば、二本ロール、三本ロール、カウレスデゾルバー、ホモミキサー、サンドグラインダー、プラネタリーミキサー、ボールミル、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザーなどである。また超音波分散機などを使用することもできる。
【００５８】
＜発泡体の製造方法＞
本発明の導光体を構成する発泡体は、上記発泡性組成物に放射線エネルギーおよび熱エネルギーを付与して発泡させたものである。発泡性組成物から発泡体を製造する製造方法は、発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形体に放射線エネルギー及び熱エネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備える。
【００５９】
（成形工程）
発泡性組成物の成形工程は、発泡性組成物を所望の形状の成形体に成形する工程である。成形体の形状としては、シート状物（フィルム状を含む）が好ましい。シート状物においては、支持体を用いない独立のシートであっても支持体上に密着したシート層であってもよい。
本発明における成形工程は、形状を決定するための工程である。成形工程の段階における成形体は、固体でなく流動体であってもよい。例えば、特定の型に流し込んだ液状物も、本発明における成形体に含まれる。
【００６０】
シート状物の成形方法は、特開２００４−２８１２号公報や、特願２００３−１９９５２１号公報に記載される方法を用いることができる。一般的には、溶融押出成形や射出成形、塗工成形、プレス成形が好ましい。特に、塗工成形は、導光体自身の薄型化が可能となり、また透光性樹脂支持体上にも容易に積層できるので好ましい。
また、バッチ式でも連続式でもかまわない。発泡性組成物が溶液の場合は、溶剤の乾燥処理を加えてもよい。また、複数の成形体を積層することも可能である。
【００６１】
塗工成形の場合、支持体に塗工ヘッドを用いて発泡性組成物を塗工した後、発泡性組成物が溶剤等で希釈された溶液ならば、乾燥器にて溶剤分を除去し、支持体上に発泡性組成物からなるシート層を得る。このとき、支持体からシート層を剥離することで、発泡性組成物からなる単独のシート状物を得ることもできる。塗工方法には、バーコート法、エアードクターコート法、ブレードコート法、スクイズコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、グラビアコート法、トランスファーコート法、コンマコート法、スムージングコート法、マイクログラビアコート法、リバースロールコート法、マルチロールコート法、ディップコート法、ロッドコート法、キスコート法、ゲートロールコート法、落下カーテンコート法、スライドコート法、ファウンテンコート法、およびスリットダイコート法などがあげられる。
【００６２】
支持体の具体例としては、紙、合成紙、プラスチック樹脂シート、金属シート、金属蒸着シート等が挙げられ、これらは単独で用いられてもよく、或は、互いに積層されていてもよい。プラスチック樹脂シートは、例えば、ポリスチレン樹脂シート、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂シート、並びにポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂シート等の汎用プラスチックシートやポリイミド樹脂シート、ＡＢＳ樹脂シート、ポリカーボネート樹脂シート等のエンジニアリングプラスチックシートなどが挙げられ、また金属シートを構成する金属としては、アルミニウムおよび銅などが挙げられる。金属蒸着シートとしては、アルミ蒸着シート・金蒸着シート・銀蒸着シートなどが挙げられる。
また、光反射シートや光拡散シート、プリズムシートのような機能性のシートを支持体とすれば、発泡体からなる導光部とこれらの機能性シートとの一体化を容易に行うことができる。
【００６３】
押出成形の場合、スクリュー状の押出軸を用いた一般の押出成形法、ピストン状押出軸を用いたラム押出成形法などがあげられる。例えば、押出成形機から押出された発泡性組成物はダイから押出されロールなどを介してシート状物を得ることができる。
【００６４】
発泡性組成物は、組成によって、例えば１５０℃以上の加熱により分解してしまう場合もある。そのため、発泡工程の前に正味の発泡性能を失わないよう留意する必要がある。
例えば、押出成形において、樹脂の溶融粘度まで加熱してしまうと発泡性能が損なわれる場合、塗工成形と同様に溶媒を用いて発泡性組成物の溶液を調整し、常温で成形する溶液キャスト法のような方法をとることもできる。
【００６５】
（発泡工程）
発泡工程は、成形体に放射線エネルギーと熱エネルギーとを付与して発泡させる工程である。発泡工程は、成形体に放射線を照射する放射線照射工程と、成形体を加熱する加熱工程とを含み、微細な気泡のみを作るときには、放射線照射工程後に加熱工程が行われることが好ましい。放射線照射工程と加熱工程とを順次行うことにより、安定した発泡体が形成できる。これは、組成物（ｃ）の発泡機構が、放射線により酸又は塩基を発生させ、その酸又は塩基と加熱とにより分解発泡性化合物が分解し発泡するという機構であるためである。組成物（ｃ）は比較的低い温度で気泡核を多数発生させ、更に温度を上げて気泡を成長させると微細な気泡が均一にできる。しかし、初めから高温にしておきそこに放射線を当てると、大きな気泡ができてしまう。
なお、各工程は、連続的に行っても不連続的に行ってもよい。
【００６６】
（放射線照射工程）
放射線照射工程で使用する放射線としては、電子線、紫外線、可視光線、γ線等の電離性放射線などが好ましい。これらの中では電子線又は紫外線を用いることが特に好ましい。
【００６７】
電子線を照射する場合は、充分な透過力を得るために、加速電圧が３０〜１０００ｋＶ、より好ましくは３０〜３００ｋＶである電子線加速器を用い、ワンパスの吸収線量を０.５〜２０Ｍｒａｄにコントロールすることが好ましい（１ｒａｄ＝０．０１Ｇｙ）。加速電圧、あるいは電子線照射量が上記範囲より低いと、電子線の透過力が不充分になり、成形体の内部まで充分に透過することができない。また、この範囲より大きすぎると、エネルギー効率が悪化するばかりでなく、得られた成形体の強度が不充分になり、それに含まれる樹脂及び添加剤の分解を生じ、得られる発泡体の品質が不満足なものになることがある。
【００６８】
電子線加速器としては、例えば、エレクトロカーテンシステム、スキャンニングタイプ、ダブルスキャンニングタイプ等を用いることができる。電子線照射に際しては照射雰囲気の酸素濃度が高いと、酸もしくは塩基の発生、および／または硬化性分解性化合物の硬化が妨げられることがある。このため照射雰囲気の空気を、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスにより置換することが好ましい。照射雰囲気の酸素濃度は１０００ｐｐｍ以下であることが好ましく、さらに安定的な電子線エネルギーを得るため、５００ｐｐｍ以下に抑制されることがより好ましい。
【００６９】
紫外線を照射する場合は、半導体・フォトレジスト分野や紫外線硬化分野などで一般的に使用されている紫外線ランプを用いることができる。一般的な紫外線ランプとしては、例えば、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーターランプ、キセノンショートアークランプ、キセノンフラッシュランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、ディープＵＶランプ、メタルハライドランプ、希ガス蛍光ランプ、クリプトンアークランプ、エキシマランプなどがあり、近年では、極短波長（２１４ｎｍにピーク）を発光するＹ線ランプもある。これらのランプには、オゾン発生の少ないオゾンレスタイプもある。これらの紫外線は、散乱光であっても、直進性の高い平行光であってもよい。
【００７０】
気泡分布の位置制御を精度よく行うためには、放射線として平行光を用いることが好ましい。紫外線照射には、ＡｒＦエキシマーレーザー、ＫｒＦエキシマーレーザーや、非線形光学結晶を含む高調波ユニットを介したＹＡＧレーザーなどに挙げられる種々のレーザーや、紫外発光ダイオードを用いることもできる。
紫外線ランプやレーザー、紫外発光ダイオードの発光波長は、発泡性組成物の発泡性を妨げないものであれば限定はないが、好ましくは、光酸発生剤または光塩基発生剤が酸または塩基を効率よく発生させられる発光波長がよい。すなわち、使用する光酸発生剤または光塩基発生剤の感光波長領域と重なる発光波長が好ましい。さらには、それら発生剤の感光波長領域における極大吸収波長または最大吸収波長と重なる発光波長が、発生効率が高くなるためより好ましい。紫外線のエネルギー照射強度は、発泡性組成物によって適宜決められる。
【００７１】
種々の水銀ランプやメタルハライドランプなどに代表される照射強度が高い紫外線ランプを使用する場合は、生産性を高めることができ、その照射強度（ランプ出力）は３０Ｗ／ｃｍ以上が好ましい。紫外線の積算照射光量（Ｊ／ｃｍ2）は、エネルギー照射強度に照射時間を積算したものであり、発泡性組成物および所望の気泡分布によって適宜決められる。酸発生剤や塩基発生剤の吸光係数に応じて設定することもある。安定かつ連続的に製造する上では、１.０ｍＪ／ｃｍ2〜２０Ｊ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
紫外線ランプを使用する場合は、照射強度が高いため、照射時間を短縮することができる。エキシマーランプやエキシマーレーザーを使用する場合は、その照射強度は弱いが、ほぼ単一光に近いため、発光波長が発生剤の感光波長に最適化したものであれば、より高い発生効率および発泡性が可能となる。照射光量を多くした場合、紫外線ランプによっては熱の発生が発泡性を妨げる場合がある。そのときは、コールドミラーなどの冷却処置を行なうことができる。
【００７２】
（加熱工程）
加熱工程で用いることのできる加熱器に特に制限はないが、接触加熱、誘導加熱、抵抗加熱、誘電加熱（およびマイクロ波加熱）、赤外線加熱により加熱ができるもの等が例示できる。
具体的には、放射熱を利用した電気あるいはガス式の赤外線ドライヤーや、電磁誘導を利用したロールヒーター、油媒を利用したオイルヒーター、電熱ヒーター、およびこれらの熱風を利用した熱風ドライヤーなどが挙げられる。
成形体に加熱体を接触させて加熱する接触加熱では、金属ブロック、金属板、金属ロールなどの加熱体が使用できる。
接触加熱では加圧しながら加熱してもよい。この場合、プレス成形の際に使用する加熱プレス機を用いることができる。
【００７３】
誘電加熱や赤外線加熱の場合，材料内部を直接加熱する内部加熱方式なので，熱風ドライヤーなどの外部加熱法よりも瞬時に均一な加熱を行うのに好ましい。誘電加熱の場合，周波数１MHzから300MHz（波長３０ｍ〜１ｍ）の高周波エネルギーを用いる。6MHz〜40MHzの周波数が用いられることが多い。誘電加熱のうち特にマイクロ波加熱では周波数が300MHzから300GHz（波長が１ｍ〜1mm）のマイクロ波をもちいるが、2450MHz、915MHz（電子レンジと同じ）を使うことが多い。
赤外線加熱の場合，赤外領域の波長０．７６〜１０００μmの電磁波を利用する。ヒータ表面温度および被加熱材料の赤外吸収スペクトルなどから、状況により選択される波長の最適帯は変化するが、好ましくは１．５〜２５μm、さらに好ましくは２〜１５μmの波長帯を用いることができる。
【００７４】
さらに、一般の熱記録用プリンターに使用されている加熱方式も利用できる。例えば、電流を流すことで発熱する感熱ヘッドやレーザー熱転写が挙げられ、熱の書き込みによって同パターンの発泡体を得ることができる。高精細や高解像度を得るときは、感熱ヘッドよりもレーザー熱転写の方が好ましい。
【００７５】
＜不均一発泡＞
本発明に用いる発泡体は、導光体としての機能を備えさせるため、気泡占有面積率が位置によって異なる不均一発泡体である。本発明において気泡占有面積率（％）とは、気泡密度を評価するための指標であり、発泡体断面の観察画像から画像解析して、最大気泡径が１μｍ未満の場合は１００μｍ２の断面中、最大気泡径が１μｍ以上５μｍの場合は２５００μｍ２の断面中、最大気泡径が５μｍ以上の場合は１００００μｍ２の断面中に、気泡断面が占める面積の割合である。
所望の気泡占有面積率の分布（以下「気泡分布」という場合がある。）は、（ａ）前記成形体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（ｃ）前記成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発生剤の濃度のいずれか１以上を、所定の不均一分布とすることにより得られる。
【００７６】
（放射線エネルギーの不均一化）
成形体に付与する放射線エネルギーを、所定の不均一分布とする手法を説明する。
放射線エネルギーの分布は、電子線または紫外線照射用のフォトマスクの使用により、照射エネルギー強度を調整することにより制御できる。
フォトマスクのパターン種類は、放射線エネルギーの透過性が、連続的に変化する傾斜パターンや、ある一定間隔で段階的に変化する階調パターン、透過性の有無で区分けされた区分パターンなど様々であり、これらは所望の気泡分布パターンに適したものを設計し使用する。
フォトマスクの材質は、クロムマスクやメタルマスク、銀塩ガラスマスク、銀塩フィルム、スクリーンマスクなどが使用できる。ガラスをイオンエッチングしたマスクや、集光機能を有する平面レンズの干渉縞を電子線描画したマスクなどが利用できる。波長３００ｎｍ以下の紫外線を照射する場合は、フォトマスクの基材は石英ガラスを使用することが好ましい。
【００７７】
フォトマスクを使用して照射する場合、密着照射、投影照射など方式が採用できる。フォトマスクのパターンを精度良く転写させるためには、照射する光が均一平行光であることが好ましい。
平行光を照射するための露光システムとしては、例えば、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系、フレネルレンズを利用した光学系、ハニカムボードと拡散板を利用した光学系などが挙げられる（http://www.kuranami.co.jp/toku_guide01.htm参照）。
高い均一性を得るには、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系が一般的に好ましく、この光学系に用いる光源としては、ショートアークランプが好ましい。ショートアークランプには、メタルハライドランプや超高圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、ナトリウムランプ、Ｙ線ランプが挙げられる。発泡性組成物からなる成形体にフォトマスクを密着させた後、紫外線の平行光を照射して加熱発泡することで、数μｍ幅のライン＆スペースパターンをもつ部分発泡が得られる。そのときのエッジも鮮明に転写することができる。
また、干渉縞を発生させた放射線を照射する方法も可能である。
【００７８】
（熱エネルギーの不均一化）
成形体に付与する熱エネルギーを、所定の不均一分布とするためには、加熱工程において、熱エネルギーの強度分布が生じるように加熱処理を施す。具体的には、加熱温度により制御することが好ましい。例えば、熱記録用プリンターを用いて印加熱エネルギーが連続的な勾配となるように加熱する方法が挙げられる。
【００７９】
（発泡性組成物の不均一化）
成形体中の分解発泡性官能基濃度、及び／又は成形体中の酸発生剤（あるいは塩基発生剤）の濃度分布は、組成の異なる複数の発泡性組成物を用いることによって調整することが好ましい。
たとえば、分解性化合物と光酸発生剤の混合比が異なる発泡性組成物を、支持体上に並列塗工して成形する方法が挙げられる。
【００８０】
（３次元の気泡分布）
気泡分布の不均一化のための手法として上述した放射線エネルギーの不均一化、熱エネルギーの不均一化、及び発泡性組成物の不均一化の各手法は、各々他の手法と互いに独立して気泡分布に影響を与えることができる。したがって、これらの手法の２以上を組み合わせることにより、同一発泡体内でその気泡分布の方向を３次元に制御することが可能である。
【００８１】
（気泡径）
上記の手法により、気泡分布を制御することができる。この場合、気泡占有面積率で評価される気泡密度と共に、気泡径も変化することは差し支えない。気泡密度が増加するときは気泡径も増加し、気泡密度が減少すると気泡径も減少する傾向にある。
しかし、発泡性組成物の組成を調整すること等により、気泡密度を重点的に変化させることも可能である。たとえば、発泡性組成物のガラス転移点を高めにすることにより、気泡径を比較的小さく保ったままで、主として気泡密度を変化させることも可能である。また、３次元架橋性の発泡性組成物を用いることにより、気泡径を比較的小さく保ったままで、主として気泡密度を変化させることも可能である。
本発明の発泡体における気泡は、２０μｍ以下の気泡径で構成されることが好ましく、１０μｍ以下の気泡径で構成されることがより好ましい。２０μｍ以下にすることで、光学機能を十分に発揮させるだけでなく、導光体自身の薄型化も可能となる。
【００８２】
＜導光体＞
本発明の導光体は少なくとも導光部を備え、必要に応じて光反射部、プリズム部、光拡散部を適宜組み合わせてなる。
本発明の導光部は、気泡占有面積率が所定の分布パターンを有している。好ましくは、０．５％以下である低発泡領域と１％以上である高発泡領域とを有する。
低発泡領域の気泡占有面積率は０％であってもよい。低発泡領域の気泡占有面積率を低くすれば、導光部全体の気泡占有面積率の変化量を大きくすることができるので、導光部から出射する光の分布を充分にコントロールして均一化することが容易となる。これにより、光拡散効果を得られ、光拡散部を別途設けることが不要となる。
高発泡領域の気泡占有面積率は、１５％（発泡倍率約１．１倍に相当）以上であることがより好ましく、３０％（発泡倍率約１．２倍に相当）以上であることがさらに好ましい。高発泡領域の気泡占有面積率を高くすれば、導光部全体の気泡占有面積率の変化量を大きくすることができるので、導光部から出射する光の分布を充分にコントロールして均一化することが容易となる。ただし、高発泡領域であっても、６５％（発泡倍率約２倍に相当）以下の気泡占有面積率を有することが好ましい。これにより、導光部の強度を維持しやすくなる。
【００８３】
低発泡領域と高発泡領域との間には、両領域の間をつなぐように、低発泡領域に隣接する側から高発泡領域に隣接する側に向かって気泡占有面積率が漸増する中発泡領域を備えることが好ましい。すなわち、本発明の導光体は、低発泡領域から高発泡領域に向かって気泡占有面積率が漸増するように構成されることが好ましい。
低発泡領域と高発泡領域とは、各々複数であってもよい。例えば、高発泡領域の両側に低発泡領域を配置し、気泡占有面積率が漸増した後、漸減するように構成してもよい。
各領域内の気泡分布は、均一であることが好ましいが、微細気泡群からなるドット状部が点在するような構成でもかまわない。ドット状部を点在させる場合、点在の密度を小さくすれば低発泡領域となり、点在の密度を大きくすれば高発泡領域となる。なお、各ドット状部内は、後述の光反射部と同程度に、高い気泡占有面積率であることが好ましい。
【００８４】
本発明の導光体の使用時において、導光部の低発泡領域は光源に近い場所に、高発泡領域は光源から離れたところに配置される。すなわち、光源に最も近い場所は占有面積率が最小であり、最も遠い場所で気泡占有面積率が最大になるような配置で使用される。
導光部における気泡は、０．１〜２０μｍの範囲の気泡径で構成されることが好ましく、０．１〜１０μｍの範囲の気泡径で構成されることがより好ましい。気泡径を可視光の波長以下とすることにより、気泡やドット状部を視認されにくくなる。そのため、光拡散シートをしょうりゃくすることが可能となる。
導光部における具体的な気泡分布は、光源の形状や位置、導光体の面積などに関するパラメーターを設定して、Ｍｉｅ散乱や多重散乱を考慮した光学シミュレーションソフトや光線追跡法などを駆使することで最適化することができる。
【００８５】
本発明の光反射部は、気泡占有面積率が１５％以上、好ましくは３０％以上である。光反射部の気泡占有面積率を高くすれば、反射率を高くすることができる。ただし、光反射部であっても、６５％以下の気泡占有面積率を有することが好ましい。これにより、光反射部の強度を維持しやすくなる。
光反射部の気泡分布は、光反射むらを防ぐため均一であることが好ましい。また、光反射部における気泡は、０．１〜１０μｍの範囲の気泡径で構成されることが好ましく、０．２〜１μｍの範囲の気泡径で構成されることがより好ましい。
気泡占有面積率が３０〜６５％、気泡径が０．２〜１μｍの範囲の場合、５０μｍ以下の厚みで、全光線反射率を８０％以上とすることが可能となる。
【００８６】
本発明の光拡散部は、気泡占有面積率が３０％以下、好ましくは１５％以下である。光拡散部の気泡占有面積率を低くすれば、全光線透過率を高くし、光利用効率を高めることができる。ただし、光拡散部であっても、０．５％以上の気泡占有面積率を有することが好ましい。これにより、充分な光拡散作用を発揮することができる。
光拡散部の気泡分布は、光反射むらを防ぐため均一であることが好ましい。また、光反射部における気泡は、０．１〜２０μｍの範囲の気泡径で構成されることが好ましく、０．１〜１０μｍの範囲の気泡径で構成されることがより好ましい。
具体的な光拡散部の気泡占有面積率、気泡径、厚みは、全光線反射率が６０％以上、好ましくは８０％以上となるように設定される。
本発明のプリズム部は、プリズム機能を奏するように、一方の面にＶ溝が刻まれた層として構成される。プリズム部には、気泡は不要であり、一般の樹脂で形成される。ただし、発泡性組成物を発泡させずに用いることも可能である。
【００８７】
以下、図面を参照しつつ、本発明の導光体の実施形態について説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
図１は、本発明の第１実施形態（導光体）を示す斜視図である。本実施形態の導光体は導光部１０のみで構成されている。導光部１０は、マトリクスＭ内に気泡Ｂが多数形成された発泡体からなり、入射光が入射する側の端面１１から反対側の端面１２にかけて気泡占有面積率が漸増するような気泡分布パターンとなっている。すなわち、端面１１の近傍が低発泡領域１３、端面１２の近傍が高発泡領域１４、低発泡領域１３と高発泡領域１４との間が中発泡領域１５とされている。なお、端面１１から端面１２にかけて気泡占有面積率と共に気泡径も漸増していてもよい。
本実施形態の導光体は、かかる気泡分布パターンを備えることにより、出射面１６全体から、略均一な光が出射されるようになっている。
【００８８】
図２は、図１の導光体の製造方法の一例である。図２に示すように、発泡性組成物を予め成形した成形体１に、エネルギー透過性が階調パターンとなっているフォトマスク２を使用して階調パターンの放射線を照射することにより、マトリクスＭ中に傾斜的な分布で気泡Ｂを有する導光部１０を得ることができる。
図３は、図１の導光体の製造方法の他の例である。図３に示すように、放射線照射中に、三角形状の開口部３を設けたフォトマスク２を成形体１上でスライドさせると、三角形状の頂点側３ａがスライドした方は照射時間が短く、底辺側３ｂは照射時間が長くなる。また、成形体１の方をスライドさせても同じ効果があることは自明である。このように照射時間に分布を生じさせることで、階調パターンのフォトマスクを用いたときと同様に、放射線エネルギーの分布をつくり、傾斜的な分布で気泡Ｂを有する導光部１０を得ることができる。
【００８９】
図４は、本発明の第２実施形態（導光体）を示す斜視図である。本実施形態の導光体も導光部１０のみで構成されている。導光部１０は、マトリクスＭ内にドット状部Ｄが多数形成された発泡体からなり、入射光が入射する側の端面１１から反対側の端面１２にかけてドット状部Ｄの分布が漸増するようになっている。各ドット状部Ｄは、多数の気泡Ｂの集合体なので、導光部１０全体を気泡分布の観点で見ると、入射光が入射する側の端面１１から反対側の端面１２にかけて気泡占有面積率が漸増するような気泡分布パターンとなっている。すなわち、端面１１の近傍が低発泡領域１３、端面１２の近傍が高発泡領域１４、低発泡領域１３と高発泡領域１４との間が中発泡領域１５とされている。
本実施形態の導光体は、かかる気泡分布パターンを備えることにより、出射面１６全体から、略均一な光が出射されるようになっている。なお、各ドット状部Ｄの視認性をより抑えるために、必要に応じて光拡散部を積層してもよい。
【００９０】
図５は、本発明の第３実施形態（導光体）を示す斜視図である。本実施形態の導光体も導光部１０のみで構成されているが、導光部１０は、発泡体１０ａと透明樹脂１０ｂの積層体とされている。
発泡体１０ａは第１実施形態の導光部１０とほぼ同等である。すなわち、マトリクスＭ内に気泡Ｂが多数形成された発泡体からなり、入射光が入射する側の端面１１ａから反対側の端面１２ａにかけて気泡占有面積率が漸増するような気泡分布パターンとなっている。
一方の透明樹脂１０ｂは気泡を有しない。透明樹脂１０ｂの材質としては、例えばポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂やメタクリル樹脂、ノルボルネンなどの環状オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、三酢酸セルロールなどのセルロース類、スチレン系樹脂およびこれらの材料を２種以上ブレンドした混合樹脂が好ましい。
本実施形態では、端面１１ａ、１１ｂの近傍が低発泡領域１３、端面１２ａ、１２ｂの近傍が高発泡領域１４、低発泡領域１３と高発泡領域１４との間が中発泡領域１５とされている。なお、第１実施形態の導光部１０と同様に、端面１１ａから端面１２ａにかけて、気泡占有面積率と共に気泡径も漸増していてもよい。
本実施形態の導光体は、かかる気泡分布パターンを備えることにより、出射面１６（透明樹脂１０ｂの上面）全体から、略均一な光が出射されるようになっている。
【００９１】
図５の導光体は、第１実施形態の導光体と同様にして得た発泡体１０ａと、透明樹脂１０ｂとを貼り合わせることによって製造することができる。また、図６に示すように、インモールド射出成形方法を用いて製造することができる。
図６に示すように、インモールド射出成形方法では、まず、ロール巻きの透明樹脂製シート４を射出成型用の金型５ａ、５ｂの間に通す（工程（１））。次に、透明樹脂製シート４を金型５ａ、５ｂで挟み込み、金型５ａ、５ｂ内に発泡性組成物６を射出充填し、透明樹脂製シート４と発泡性樹脂組成物とを一体化させる（工程（２））。そして、充填した発泡性組成物６を固化させた後に、金型５ａ、５ｂをはずす（工程（３））。そして、透明樹脂製シート４を送る（工程（４））。以下、工程（１）〜（４）を繰り返すことにより、透明樹脂製シート４と発泡性樹脂組成物とが一体化した積層体を多数得ることができる。この積層体に対し、放射線エネルギー及び熱エネルギーを付与して所定のパターンで発泡させることにより、図５の導光体を得ることができる。なお、発泡工程の前又は後に、ロール状に連結した積層体を個別にカットすることが必要である。
【００９２】
図７は、本発明の第４実施形態（導光体）を示す斜視図である。本実施形態の導光体も導光部１０のみで構成されているが、導光部１０は、発泡体１０ａと透明樹脂１０ｂの積層体とされている。
発泡体１０ａは第２実施形態の導光部１０とほぼ同等である。すなわち、発泡体１０ａは、マトリクスＭ内にドット状部Ｄが多数形成された発泡体からなり、入射光が入射する側の端面１１ａから反対側の端面１２ａにかけてドット状部Ｄの分布が漸増するようになっている。各ドット状部Ｄは、多数の気泡Ｂの集合体である。
一方の透明樹脂１０ｂは気泡を有しない。透明樹脂１０ｂの材質としては、第３実施形態の透明樹脂１０ｂと同等のものが使用できる。
導光部１０全体を気泡分布の観点で見ると、入射光が入射する側の端面１１ａ、１１ｂから反対側の端面１２ａ、１２ｂにかけて気泡占有面積率が漸増するような気泡分布パターンとなっている。
本実施形態でも、端面１１ａ、１１ｂの近傍が低発泡領域１３、端面１２ａ、１２ｂの近傍が高発泡領域１４、低発泡領域１３と高発泡領域１４との間が中発泡領域１５とされている。なお、第１実施形態の導光部１０と同様に、端面１１ａから端面１２ａにかけて、気泡占有面積率と共に気泡径も漸増していてもよい。
本実施形態の導光体は、かかる気泡分布パターンを備えることにより、出射面１６（透明樹脂１０ｂの上面）全体から、略均一な光が出射されるようになっている。
【００９３】
図７の導光体は、第２実施形態の導光体と同様にして得た発泡体１０ａと、透明樹脂１０ｂとを貼り合わせることによって製造することができる。また、第３実施形態と同様に、インモールド射出成形方法を用いて製造することができる。
【００９４】
図８は、本発明の第５実施形態（導光体）を示す斜視図である。本実施形態の導光体は、導光部１０とその三方の端面に接して設けられた光反射部２０とで構成されている。導光部１０としては、第１〜第４実施形態における導光部１０を適宜採用できる。導光部１０の端面周囲に光反射部２０を設けることで、光利用効率を高めることができる。
本実施形態の導光体の製造方法としては、発泡性組成物の板状成形物に、導光部１０を形成させたい領域にのみフォトマスク（傾斜パターン等）を被せて放射線を照射し、その後加熱して発泡させる方法が挙げられる。すなわち、フォトマスクを介した部分は放射線量が制御されて気泡分布パターンを有する導光部１０となり、フォトマスクからはみ出した周囲は放射線量が均一かつ十分に照射されることで多数の微細気泡群を高密度に均一内在させた光反射部２０となる。
【００９５】
図９は、本発明の第６実施形態（導光体）を示す斜視図である。本実施形態の導光体は、導光部１０と、その出射面１６の対向面に接して設けられた光反射部２０とで構成されている。導光部１０としては、第１〜第４実施形態における導光部１０を適宜採用できる。光反射部２０を設けることで光利用効率を高めることができる。
本実施形態の導光体の製造方法としては、２つの発泡性組成物の板状成形物を用意し、一方にはフォトマスク（傾斜パターン等）を介して放射線を照射し、他方には全面均一に放射線を照射し、その後両者を積層して、一体化させながら加熱発泡させて製造する方法が挙げられる。すなわち、フォトマスクを介した部分は放射線量が制御されて気泡分布パターンを有する導光部１０となり、フォトマスクを用いずに均一照射した部分は放射線量が均一かつ十分に照射されることで多数の微細気泡群を高密度に均一内在させた光反射部２０となる。
あるいは、他の方法として、発泡性組成物の板状成形物にフォトマスク（傾斜パターン）を介して放射線を照射し、さらにその裏面表層に浅い照射深度で放射線を照射して加熱発泡することで製造することができる。すなわち、フォトマスクを介した部分は気泡分布パターンを有する導光部１０となり、その裏面側は照射エネルギーが局部的に照射されているため表層に微細気泡群が高密度に均一内在させた光反射部２０となる。
【００９６】
図１０は、本発明の第７実施形態（導光体）を示す斜視図である。本実施形態の導光体は、導光部１０と、その出射面１６に接して設けられたプリズム部３０とで構成されている。導光部１０としては、第１〜第４実施形態における導光部１０を適宜採用できる。
本実施形態の導光体の製造方法としては、あらかじめプリズムとなるＶ溝が刻まれた金型に透光性樹脂を成形した後、それを金型から取り出さずに、さらにフォトマスク（傾斜パターン）を介して光照射した発泡性組成物の板状成形物を入れて加温加圧して、積層と同時に発泡させて製造する方法が挙げられる。発泡後に金型から取り出すと、気泡分布パターンを有する導光部とその表面にＶ溝のプリズム層が一体化された導光体が得られる。
また、第３実施形態において説明したインモールド射出成形方法を用いることができる。この場合、図６における透明樹脂製シート４に代えて、プリズムシートを用いればよい。
【００９７】
本発明の導光体は、上記第５〜７実施形態を適宜組み合わせたものであってもよい。例えば導光部１０の三方の端面とその出射面１６の対向面に接して光反射部２０を有する構成としてもよい。また、これに更にプリズム部３０を加えた構成としてもよい。
【００９８】
＜面発光装置＞
本発明の面発光装置は、上記本発明の導光体と当該導光体の入射面側に近接ないし接触して配置された光源とを備えている。光源としては、冷陰極管などの線光源や、発光ダイオード（ＬＥＤ）などの点光源を適宜採用できる。
本発明の面発光装置は、従来の面発光装置と同様に様々な表示装置に用いることが可能である。例えば、テレビや携帯電話、パソコン、自動車等のディスプレイに使用される液晶表示装置のバックライトまたはフロントライトとして用いることができる。また、駅や公共施設などにおける案内標示板や看板、交通標識等に使用される表示装置の内照式照明としても用いることができる。さらに、オフィスや家庭で使用される一般照明用としても用いることが可能である
【００９９】
以下、図面を参照しつつ、本発明の面発光装置の実施形態について説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
図１１は、本発明の第８実施形態（面発光装置）を示す斜視図である。本実施形態の面発光装置は、導光体１００と、導光体１００の入射面１１に近接ないし接触して設けられた光源２００、２００とで構成されている。本実施形態では、光源２００として、複数（好ましくは３〜４灯）の白色チップＬＥＤを用いている。
導光体１００は導光部１０と反射部２０とから構成されている。導光部１０は、第１実施形態の導光部１０と同等なので、同一の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。反射部２０は、導光部１０の三方の端面に接する端面光反射部２０ａと、出射面１６の対向面に接する裏面光反射部２０ｂとから構成されている。
【０１００】
本実施形態における面発光装置は、例えば以下の手順で製造することができる。まず、図１２に示すように、発泡性組成物を板状に成形し、さらに内部５１が導光部１０に、３つの側面５２が端面光反射部２０ａとなるように適宜放射線を照射した板５０を準備する。一方、図１３に示すように、裏面光反射部２０ｂとなるように放射線を照射した板５３を準備する。
次に、図１２の板５０と図１３の板５３とを重ね合わせて加熱しながらプレスし、２つの板を一体化させつつ発泡させることにより導光体１００を作成する。
その後、導光部１０の入射面１１に対向するように、光源２００、２００を一定間隔で固定することによって本実施形態の面発光装置が得られる。
なお、光源２００、２００を固定する際に、光が洩れる隙間を白色シールなどで覆ってもよい。また、光源２００、２００として白色チップＬＥＤに代えて、冷陰極管を並列させてもよいが、白色チップＬＥＤの方が小型化は容易である。
【０１０１】
図１４は、本発明の第９実施形態（面発光装置）を示す斜視図である。本実施形態の面発光装置は、導光体１００と、導光体１００の入射面１１に近接ないし接触して設けられた光源２００とで構成されている。本実施形態では、光源２００として、冷陰極管を用いている。
導光体１００は導光部１０と反射部２０とから構成されている。導光部１０は、第１実施形態の導光部１０と同等なので、同一の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。反射部２０は、導光部１０の三方の端面に接する端面光反射部２０ａと、出射面１６の対向面に接する裏面光反射部２０ｂと、導光部１０の入射面１１側に光源２００を覆うように設けられた光源反射部２０ｃとから構成されている。この光源反射部２０ｃには、入射面１１側が開口するＵ字溝状の貫通溝２０ｄが設けられ、この中に光源２００が挿入されている。
【０１０２】
本実施形態における面発光装置は、例えば以下の手順で製造することができる。まず、図１５に示すように、発泡性組成物を板状に成形し、さらに内部５１が導光部１０に、４つの側面５２が端面光反射部２０ａ及び光源反射部２０ｃとなるように適宜放射線を照射した板５０を準備する。一方、図１６に示すように、裏面光反射部２０ｂとなるように放射線を照射した板５３を準備する。
次に、図１５の板５０と図１６の板５３とを重ね合わせて加熱しながらプレスし、２つの板を一体化させつつ発泡させ、次いで貫通溝２０ｄを穿設することにより導光体１００を作成する。
その後、貫通溝２０ｄに、光源２００を挿入することによって本実施形態の面発光装置が得られる。
本実施形態では、光源２００を光源反射部２０ｃ内の貫通溝２０ｄに内蔵するので、冷陰極管からの光漏れをほぼ完全に防ぐことができる。なお、光源２００として、冷陰極管に代えて白色チップＬＥＤを用いてもよい。
【０１０３】
図１７は、本発明の第１０実施形態（面発光装置）を示す斜視図である。本実施形態の面発光装置は、導光体１００と、導光体１００の入射面１１ａに近接ないし接触して設けられた光源２００、２００とで構成されている。本実施形態では、光源２００として、一対の白色チップＬＥＤを用いている。導光体１００は導光部１０と反射部２０とから構成されている。
導光部１０は、出射部１０ｃと、出射部１０ｃの入射面１１ｂに接して設けられた導入部１０ｄから構成されている。出射部１０ｃの構成は、第１実施形態の導光部１０と同等なので、同一の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
導入部１０ｄは、入射面１１ｂに沿って入射面１１ａから反対側の入射面１１ａ（図示せず）にかけて、気泡占有面積率が漸増した後漸減するような気泡分布パターンとなっている。すなわち、双方の入射面１１ａの近傍が低発泡領域１３、中央部が高発泡領域１４、低発泡領域１３と高発泡領域１４との間（高発泡領域１４の両側）が中発泡領域１５とされている。なお、気泡占有面積率の増減と共に気泡径も増減していてもよい。導入部１０ｄは、かかる気泡分布パターンを備えることにより、入射面１１ｂに向けて略均一な光を出射できるようになっている。その結果、出射部１０ｃの出射面１６全体から、略均一な光が出射されるようになっている。
反射部２０は、出射部１０ｃの三方の端面に接する端面光反射部２０ａと、導入部１０ｄの入射面１１ｂと反対側の端面に接する導入反射部２０ｄと、出射面１６の対向面に接する裏面光反射部２０ｂとから構成されている。
【０１０４】
本実施形態における面発光装置は、例えば以下の手順で製造することができる。まず、図１８に示すように、発泡性組成物を板状に成形し、さらに内部５１が導光部１０に、４つの側面５２が端面光反射部２０ａ及び導入反射部２０ｄとなるように適宜放射線を照射した板５０を準備する。一方、図１９に示すように、裏面光反射部２０ｂとなるように放射線を照射した板５３を準備する。
次に、図１８の板５０と図１９の板５３とを重ね合わせて加熱しながらプレスし、２つの板を一体化させつつ発泡させ、次いで側面５２の一対の入射面１１ａに接する部分５２ａを除去することにより導光体１００を作成する。
その後、各入射面１１ａに対向するように、光源２００、２００を固定することによって本実施形態の面発光装置が得られる。
なお、光源２００、２００を固定する際に、光が洩れる隙間を白色シールなどで覆ってもよい。また、導入部１０ｄ上にも光反射部（発泡体からなる光反射部でも、従来公知の反射シートでもよい。）を設けてもよい。
【実施例】
【０１０５】
本発明を下記実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。また、特に断らない限り、例中の「部」および「％」は各々「質量部」および「質量％」を表わす。
【０１０６】
＜実施例１＞
薄物導光板の作成
（１）発泡性組成物のシート化
分解性化合物であるｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（６０重量％）とメチルメタクリレート（４０重量％）とメチルメタクリル酸（１０重量％）の共重合体１００部に対して、ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート（商標：ＢＢＩ−１０９、ミドリ化学製）３部を混合し、それらを溶解させた酢酸エチル溶液を調製した（固形分含有量：２５％）。この溶液を、シリコンＰＥＴシート（商標：ルミラーＳＰ−ＰＥＴ−０１−７５ＢＵ、パナック製）のシリコン処理表面上に塗布厚３００μｍのアプリケーターバー（商標：ドクターブレードＴＤ型、ＹＯＳＨＩＭＩＴＳＵ  ＳＥＩＫＩ製）を用いてコーティングした後、温度１１０℃の恒温乾燥機内で溶媒を蒸発除去し、無色透明な塗布層を得た。この塗布層を、シリコンＰＥＴシートから剥離させて、厚さ５０μｍの発泡性フィルムを得た。
【０１０７】
（２）平板成形
前記工程（１）で作成した発泡性フィルムを、縦５０ｍｍ・横３５ｍｍの寸法に切り出し、それを1２枚重ねて、図２０の（ａ）、（ｂ）に示すように、表面平滑な平押し金型（寸法；縦５０ｍｍ・横３５ｍｍ）に挟み、ハンドプレス機（商標：ＴＯＹＯＳＥＩＫＩ製  Ｍｉｎｉ  ＴＥＳＴ  ＰＲＥＳＳ−１０）を用いて加熱プレスした（プレス圧力；６ＭＰａ、プレス温度；１５０℃３分）。その後、図２０の（ｃ）に示すように、常圧に戻して、４０℃まで空冷したところで、金型を取り去り、無色透明な発泡性平板を得た。
【０１０８】
（３）紫外線照射
前記工程（２）で得られた発泡性平板の上面に、図２０の（ｄ）に示すように、石英ガラス製のフォトマスク（寸法；縦５０ｍｍ、横３５ｍｍ）を全面覆うように被せ、その上から紫外線照射した。フォトマスクは、その透過率が０〜４０％（測定波長２５４ｎｍ）まで長手方向に連続的に変化する傾斜パターンを用いた。紫外線は、メタルハライドランプ（商標；紫外線硬化用マルチメタルランプＭ０３−Ｌ３１、アイグラフィック（株）製）を光源として用い、照射線量２２００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射した。照射後にフォトマスクを取り去り、工程（１）と同様の無色透明な発泡性平板を得た。
【０１０９】
（４）加熱発泡
前記工程（３）で紫外線照射した発泡性平板を、図２０の（ｅ）に示すように、前記工程（２）と同様に平押し金型に挟みハンドプレス機で加熱プレスしながら発泡させた（プレス圧力；４ＭＰａ、プレス温度；１３０℃２分）。その後、図２０の（ｆ）に示すように、加圧したまま直ちに金型内部に冷却水を循環させて５０℃にまで急冷した。続いて、図２０の（ｇ）に示すように、常圧に戻し４０℃まで空冷したところで、金型を取り去り、図２０の（ｈ）に示すように、発泡体からなる導光部を得た。
得られた導光部は、入射面側（面発光装置として使用する際の光源側）からその対向面側（入射面と反対側）まで厚さが均一な平板状であり、その厚さは６００μｍであった。厚さ測定はマイクロメーター（商標：Ｍｉｔｕｔｏｙｏ製  ＭＣＤ−25Ｍ）を用いた。また、この導光部は、透明性が連続的に変化（フォトマスクの透過率が高いほど半透明化）していた。
【０１１０】
（５）発泡構造の評価
前記工程（４）で得られた導光部の気泡径（気泡直径の平均値）および気泡占有面積率（最大気泡径が１μｍ未満の場合は１００μｍ２の断面中、最大気泡径が１μｍ以上５μｍの場合は２５００μｍ２の断面中、最大気泡径が５μｍ以上の場合は１００００μｍ２の断面中に、気泡断面が占める面積の割合）を、走査電子顕微鏡による断面の観察画像から算出した。
断面の観察画像は、液体窒素中に浸した導光部を入射面から対向面に向かって並行に凍結割断し、その割断面を金属蒸着処理した後、走査型電子顕微鏡（商標：Ｓ−５１０、日立製作所製、拡大倍率５０００倍）にて観察することにより得た。
そして、観察画像中の気泡とマトリックスとを２値化処理した後、画像解析装置（商標：イメージアナライザーV１０、TOYOBO製）を用いて気泡径および気泡占有面積率を算出した。
得られた導光部は、入射面から対向面に向かって気泡径および気泡占有面積率が漸増する傾斜分布となっていた。最大気泡径は０.３μｍであった。また、気泡占有面積率は０％から１６％まで変化していた。
【０１１１】
（６）面発光装置と発光評価
前記工程（４）で得られた導光部からなる導光体の側面に４個の白色チップＬＥＤ（日亜化学製、外形寸法；縦１.２ｍｍ、横１.８ｍｍ、高さ０.６ｍｍ）を均一配置した。このときの入射方向は、ちょうど導光部の半透明化する方向に沿うように調整した。また、導光部の片側（出射面）に三角柱形状の凹凸を表面形成してあるプリズムシートを、その反対側の面に光反射シート（反射率９０％以上）を配置し、これらすべての光学部材を白色筐体に組み込むことで面発光装置を得た。
得られた面発光装置の均一発光性を目視で評価したところ、光拡散シートを重ねずとも均一な発光を示し、気泡分布パターンは視認されなかった。すなわち、従来技術では困難であった、厚さ０．６ｍｍと薄物で、かつ、光拡散シートがなくても輝度ムラなく均一に発光する導光体を容易に得ることができた。
【０１１２】
＜実施例２＞
実施例１の工程（１）〜（３）とほぼ同様の操作で、発泡性平板（Ａ）を得た。ただし、実施例１の工程（３）で用いたフォトマスクよりも小さいフォトマスク（寸法；縦４８ｍｍ、横３１ｍｍ）を用いた。そして、このフォトマスクの長手方向の一辺を発泡性平板の長手方向の一辺中央に合わせ、他の３辺側に隙間（各周囲２ｍｍずつ）ができるようにして発泡性平板を覆って紫外線照射を行なった。
この発泡性平板（Ａ）と、実施例１の工程（１）で得られた発泡性フィルムに紫外線を全面照射（照射線量２２００ｍＪ／ｃｍ2）した発泡性フィルム（Ｂ）３枚とを重ねて、実施例１の工程（４）と同様にして加熱プレスを行なった。その結果、導光部の端面および下面に高密度に発泡した光反射部を含む一体型導光体を得ることができた。得られた導光体の導光部の厚さは、実施例１の導光部と同等であった。
得られた導光体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、導光部については、実施例１と同等であった。一方、光反射部の気泡径は０.４μｍで全体として均一であった。また、光反射部の気泡占有面積率は５２％で全体として均一であった。この光反射部は、半透明な導光部とは異なり、９０％以上の高光反射率を有していた。
均一発光性を、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したが、出光対向面に配置する光反射シートは用いなかった。この一体型導光体は、実施例１と同様に均一発光するだけでなく、端面の光反射部によって白色筐体との隙間からの光洩れもなかった。
【０１１３】
＜実施例３＞
三角柱形状の凹凸形状が規則的に配列している金型（寸法；縦５０ｍｍ×横３５ｍｍ、深さ０．１ｍｍ）に、エポキシアクリル系紫外線硬化型樹脂（日本合成ゴム製）を充填した後、紫外線を照射して硬化させた。その硬化表面に、実施例１の工程（３）で得られた発泡性平板を重ねて、加熱プレスして発泡させた。その結果、導光部の上面にプリズム部を有する一体型導光体が得られた。得られた導光体の導光部の厚さは、実施例１の導光部と同等であった。
得られた導光体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、導光部については、実施例１と同等であった。一方、プリズム部には発泡構造は見られなかった。
均一発光性を、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したが、出光対向面に配置するプリズムシートは用いなかった。この一体型導光体は、実施例１と同様に均一発光するだけでなく、別途プリズムシートを用いなくとも良好な面発光装置とすることができた。
【０１１４】
＜実施例４＞
三角柱形状の凹凸形状が規則的に配列している金型（寸法；縦５０ｍｍ×横３５ｍｍ、深さ０．１ｍｍ）に、エポキシアクリル系紫外線硬化型樹脂（日本合成ゴム製）を充填した後、紫外線を照射して硬化させた。その硬化表面に、実施例２の発泡性平板（Ａ）と発泡性フィルム（Ｂ）をこの順序で重ねて同時に加熱プレスした。その結果、導光部と光反射部およびプリズム部を含む一体型導光体が得られた。得られた導光体の導光部の厚さは、実施例１の導光部と同等であった。
得られた導光体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、導光部及び光反射部については、実施例２と同等であった。一方、プリズム部には発泡構造は見られなかった。
均一発光性を、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したが、プリズムシートおよび光反射シートは用いなかった。また、独立した部材がないので収納するための白色筐体も省くことができた。
この一体型導光体は、実施例１と同様に均一発光するだけでなく、別途プリズムシート、光反射シート及び白色筐体を用いなくとも良好な面発光装置とすることができた。
【０１１５】
＜実施例５＞
実施例１の工程（１）で得られた発泡性フィルム１枚に、実施例１の工程（３）と同様に傾斜パターンのマスクを介して紫外線照射した。その後、透明樹脂であるポリカーボネート樹脂板（PC板；厚さ５５０μｍ）と共に実施例１の工程（４）と同様にして加熱プレスした。得られた導光体の導光部全体の厚さは、実施例１の導光部と同等で６００μｍであった。ただし、その内、発泡体からなる部分の厚さは５０μｍであった。
得られた導光体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、発泡体からなる部分については実施例１と同等であった。一方、樹脂板には発泡構造は見られなかった。導光部全体としての気泡占有面積率は０％から１．３％まで変化していた。
また、均一発光性を、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したところ、実施例１と同様の均一発光性が得られた。
【０１１６】
＜実施例６＞
実施例１の工程（１）で得られた発泡性フィルム１枚に、ドットパターンのマスクを介して紫外線照射した（照射線量３３０ｍＪ／ｃｍ2）。このとき、ドット径および密度が徐々に増大するパターンを用いた。その後、透明樹脂であるポリカーボネート樹脂板（厚さ５５０μｍ）と共に実施例１の工程（４）のように加熱プレスした。得られた導光体の導光部全体の厚さは、実施例１の導光部と同等で６００μｍであった。ただし、その内、発泡体からなる部分の厚さは５０μｍであった。
得られた導光体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、発泡体からなる部分については、入射面から対向面に向かってドット状部が漸増する傾斜分布となっていた。ドット状部における最大気泡径は０.１μｍ、気泡占有面積率は４．５％でドット内ではほぼ均一であった。一方、樹脂板には発泡構造は見られなかった。導光部全体としての気泡占有面積率は０％から０．３８％まで変化していた。
また、均一発光性を、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したところ、光拡散シートを重ねずとも均一な発光を示し、ドット状部のパターンは視認されなかった。すなわち、従来技術では困難であった、厚さ０．６ｍｍと薄物で、かつ、光拡散シートがなくても輝度ムラなく均一に発光する導光体を容易に得ることができた。
なお、本実施例の導光体では、入射した光は、屈折率の異なるドット状物によって屈折し、スネルの法則に従って出光する。
【０１１７】
＜比較例１＞
アクリル高架橋ポリマーを外殻とした中空粒子（直径５〜３０μｍ）を、アクリル樹脂に溶融分散させ、それをシリンダー温度２３０℃、金型温度８０℃の条件でくさび形状に射出成形することで導光体を得た。
均一発光性を、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したところ、内在するほとんどの中空粒子が気泡径１０μｍ以上となってしまうため、光拡散シートを使用せずに発光させると中空粒子の分散パターンが視認されてしまい、不均一な発光となった。
【０１１８】
＜比較例２＞
メタクリル樹脂（三菱レイヨン社製）にシリコーン粒子（東芝シリコーン社、平均粒径１２μｍ）０．１質量％を均一混合したペレットを、シリンダー温度２４０℃、金型温度８０℃の条件でくさび形状に射出成形することで導光体を得た。
均一発光性を、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したところ、光拡散シートを使用しなくても均一発光するが、薄くても厚さ１ｍｍの導光板しか得られなかった。すなわち、射出成形を使用しなければならないため肉厚１ｍｍ以下の成形が困難となった。また、シリコーン粒子を用いているために、実施例の導光体と比べて比重が大きい。そのため、軽量化が困難なものであった。
【０１１９】
＜比較例３＞
比較例２で用いた混合ペレットを、厚さ６００μｍになるように加熱温度２４０℃でプレス成形した。均一発光性を、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したところ、光拡散シートを使用しないと不均一な発光になった。すなわち、光源近傍が明るく、光源遠方が暗くなる現象が起こった。
上記各実施例、比較例の導光体の性状を表１にまとめた。
【０１２０】
【表１】
2006155937.tif 000003
【０１２１】
微細気泡群を内在させ、かつ気泡分布を有する実施例１および実施例５においては、光拡散シートがなくても均一に発光でき、かつＬＥＤ光源の最小径と同等の薄物導光体を作成することができた。また、実施例２〜４においては、光反射部やプリズム部を一体化させることが容易にできた。また、微細気泡群のドット状物の分布を変化させた実施例６においては、透光性と光散乱性を両立できるため、光拡散シートがなくとも、ドット状物のパターンが視認されずに均一に発光できる導光体が得られた。
一方、中空粒子を分散させた比較例１は、気泡径が１０μｍ以上となってしまい分散パターンが視認されて不均一な発光になった。また、微粒子分散させた比較例２〜３においては、均一な発光と薄物化を両立させることができなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】本発明の第１実施形態（導光体）を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態（導光体）の製造方法の一例である。
【図３】本発明の第１実施形態（導光体）の製造方法の他の例である。
【図４】本発明の第２実施形態（導光体）を示す斜視図である。
【図５】本発明の第３実施形態（導光体）を示す斜視図である。
【図６】本発明の第３実施形態（導光体）の製造方法の一例である。
【図７】本発明の第４実施形態（導光体）を示す斜視図である。
【図８】本発明の第５実施形態（導光体）を示す斜視図である。
【図９】本発明の第６実施形態（導光体）を示す斜視図である。
【図１０】本発明の第７実施形態（導光体）を示す斜視図である。
【図１１】本発明の第８実施形態（面発光装置）を示す斜視図である。
【図１２】本発明の第８実施形態（面発光装置）の製造方法の説明図である。
【図１３】本発明の第８実施形態（面発光装置）の製造方法の説明図である。
【図１４】本発明の第９実施形態（面発光装置）を示す斜視図である。
【図１５】本発明の第９実施形態（面発光装置）の製造方法の説明図である。
【図１６】本発明の第９実施形態（面発光装置）の製造方法の説明図である。
【図１７】本発明の第１０実施形態（面発光装置）を示す斜視図である。
【図１８】本発明の第１０実施形態（面発光装置）の製造方法の説明図である。
【図１９】本発明の第１０実施形態（面発光装置）の製造方法の説明図である。
【図２０】本発明の実施例の導光体の製造過程を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１２３】
１０…導光部、１３…低発泡領域、１４…高発泡領域、１５…中発泡領域、
Ｍ…マトリクス、Ｂ…気泡
【図１】
2006155937.tif 000004
【図２】
2006155937.tif 000005
【図３】
2006155937.tif 000006
【図４】
2006155937.tif 000007
【図５】
2006155937.tif 000008
【図６】
2006155937.tif 000009
【図７】
2006155937.tif 000010
【図８】
2006155937.tif 000011
【図９】
2006155937.tif 000012
【図１０】
2006155937.tif 000013
【図１１】
2006155937.tif 000014
【図１２】
2006155937.tif 000015
【図１３】
2006155937.tif 000016
【図１４】
2006155937.tif 000017
【図１５】
2006155937.tif 000018
【図１６】
2006155937.tif 000019
【図１７】
2006155937.tif 000020
【図１８】
2006155937.tif 000021
【図１９】
2006155937.tif 000022
【図２０】
2006155937.tif 000023