(57)【要約】【課題】    基板の表面に、所望のように、凹凸を形成することができ、良好なトラッキング特性や良好な信号特性を有する再生信号を得ることができる光記録媒体を提供することを目的とする。【解決手段】    光記録媒体１は、光透過性基板２と、光透過性基板２上に形成された情報層３と、情報層３上に形成された接着層４と、接着層４上に形成されたダミー基板５を備え、光透過性基板２側からレーザビームが照射されることにより、データが記録および再生されるように構成されている。光透過性基板２の表面には、グルーブ２ａおよびランド２ｂが形成され、ランド２ｂの断面は、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有している。【選択図】      図２
2006048879.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザビームが照射されることにより、データが記録および／または再生されるように構成された光記録媒体であって、基板の表面に、少なくとも凸部が形成され、前記凸部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように形成されていることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
レーザビームが照射されることにより、データが記録および／または再生されるように構成された光記録媒体であって、基板の表面に、少なくとも凹部が形成され、前記凹部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状を有するように形成されていることを特徴とする光記録媒体。
【請求項３】
光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に、少なくとも凹部が形成され、前記凹部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状を有するように形成されていることを特徴とするスタンパ。
【請求項４】
光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に、少なくとも凸部が形成され、前記凸部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように形成されていることを特徴とするスタンパ。
【請求項５】
光記録媒体を製造するためのスタンパの製造方法であって、フォトレジスト層を露光現像して、複数の第一の凸部を形成する工程と、前記複数の第一の凸部上に、熱収縮剤を含有した塗膜を形成する工程と、前記塗膜をベーキングして、前記塗膜を収縮させることにより、前記複数の第一の凸部の形状を変化させ、複数の第二の凸部を形成し、フォトレジスト原盤を作製する工程と、前記フォトレジスト原盤を用いて、スタンパを作製する工程とを含むことを特徴とするスタンパの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関するものであり、とくに、基板の表面に、所望のように、凹凸を形成することができ、良好なトラッキング特性や良好な信号特性を有する再生信号を得ることができる光記録媒体に関するものである。
【０００２】
また、本発明は、スタンパおよびその製造方法に関するものであり、とくに、光記録媒体の基板を、金型から容易に離型させることができ、光記録媒体の基板の表面に、所望のように、凹凸を形成することができるスタンパおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く利用されている。これらの光記録媒体は、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのように、再生専用のＲＯＭ型光記録媒体と、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ−Ｒのように、ユーザーによってデータの書き込みが可能な追記型光記録媒体と、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷのように、データの書き換えが可能な書き換え型光記録媒体とに大別することができる。
【０００４】
これらのうち、追記型光記録媒体や書き換え型光記録媒体においては、基板の表面に、グルーブおよびランドと呼ばれる螺旋状の溝が形成され、グルーブに沿って、基板上に形成された情報層に、記録マークが形成されることにより、データが記録される。
【０００５】
かかる光記録媒体の基板に形成されるグルーブおよびランドは、Ｖ字型の断面形状のランドが形成されたＤＶＤ−ＲＷを除けば、図１６（ａ）に示されるように、その断面が、いずれも、略台形形状に形成されている。グルーブおよびランドのトラックピッチＴＷは、ＣＤ−ＲおよびＣＤ−ＲＷにおいて、１．５μｍないし１．７μｍに形成され、一方、ＤＶＤ±ＲおよびＤＶＤ＋ＲＷにおいては、ＣＤ−ＲおよびＣＤ−ＲＷに比べて狭く、０．７１μｍないし０．７７μｍに形成されている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００６】
こうした追記型光記録媒体や書き換え型光記録媒体を製造するにあたっては、まず、精密に研磨、洗浄されたガラス基板上に、フォトレジスト層が形成され、その後、フォトレジスト層が、露光、現像されることにより、光記録媒体のグルーブおよびランドに対応する凹凸パターンを有するフォトレジスト原盤が作製される。次いで、マスタリング工程によって、フォトレジスト原盤の表面形状が転写されたスタンパが作製され、最後に、スタンパが金型にセットされ、射出成形によって、その表面に、ランドおよびグルーブが形成されたディスク状の基板が作製される。
【０００７】
これに対して、ＲＯＭ型光記録媒体においては、基板の表面に、凸型または凹型の複数のピットが形成されている。これらピットおよび隣り合うピット間のスペースには、それぞれ、デジタルデータの「０」または「１」が対応付けられ、ピットおよびスペースによって、データが記録されている。
【０００８】
こうしたピットおよびスペースは、図１６（ｂ）に示されるように、その断面が、略台形形状に形成され、その長さＰＬ、ＳＬは、ＣＤ−ＲＯＭにおいて、０．８３μｍないし３．０４μｍに形成され、一方、ＤＶＤ−ＲＯＭにおいては、ＣＤ−ＲＯＭのピットおよびスペースの長さよりも短く、０．４０μｍないし１．８７μｍに形成されている。
【０００９】
また、ピットは、基板の表面に、螺旋状に形成されており、ピットおよびスペースによって、トラックが構成されている。各トラック間には、所定の幅を有するランドが構成されており、ランドには、ピットは形成されず、ランドは、スペースと同じレベルの平坦面を有するように形成されている。
【００１０】
ＲＯＭ型光記録媒体のランドは、図１６（ａ）に示された追記型光記録媒体や書き換え型光記録媒体のランドと同様に、その断面が、略台形形状に形成され、そのトラックピッチＴＷは、ＣＤ−ＲＯＭにおいて、１．５μｍないし１．７μｍに形成され、ＤＶＤ−ＲＯＭにおいて、０．７１μｍないし０．７７μｍに形成されている。
【００１１】
こうしたＲＯＭ型光記録媒体を製造するにあたっては、光記録媒体のピットに対応する凹凸パターンを有するフォトレジスト原盤が作製された後に、マスタリング工程によって、スタンパが作製される。その後、スタンパが金型にセットされ、射出成形によって、その表面に、ピットが形成されたディスク状の基板が作製される。
【特許文献１】特開平２００２−０９２９６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述のように、ＤＶＤ±Ｒ、ＤＶＤ＋ＲＷにおいては、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷに比べて、グルーブおよびランドの幅が狭く、基板の表面に、より多くのグルーブおよびランドが形成されている。このため、基板を射出成形によって作製する際に、金型内のスタンパに、基板が強固に付着してしまい、スタンパから基板を容易に剥離させることができないという問題があった。
【００１３】
また、ＤＶＤ−ＲＯＭにおいても、ＣＤ−ＲＯＭに比べて、ピットやスペースの長さが短くされ、基板の表面に、より多くのピットが形成されているため、ＤＶＤ±Ｒ、ＤＶＤ＋ＲＷと同様に、金型内のスタンパから基板を容易に剥離させることができないという問題があった。
【００１４】
こうした場合には、基板をスタンパから剥離させる際に、基板の表面のグルーブおよびランド、あるいはピット、スペースおよびランドに、強い応力が加わるため、それらが変形したり、欠落するなどの不具合が生じるおそれがあり、その結果、トラッキング特性が悪化して、レーザビームをトラックに正確に追従させるのが困難となったり、再生信号に含まれるノイズが増大して、良好な信号特性を有する再生信号を得ることが困難になっていた。
【００１５】
さらに、近年においては、より大容量で、かつ、高いデータ転送レートを有する次世代型の光記録媒が提案されており、かかる次世代型の光記録媒体においては、３８０ｎｍないし４５０ｎｍの波長λを有する青色レーザビームを用いるとともに、レーザビームを集束するための対物レンズの開口数ＮＡを大きくすることによって、記録容量の増大が図られている。
【００１６】
次世代型の光記録媒体においても、ＲＯＭ型光記録媒、追記型光記録媒体および書き換え型光記録媒体の開発が進められており、これら各光記録媒体は、ＣＤ型の光記録媒体およびＤＶＤ型の光記録媒体と同様に、その基板の表面に、ピット、あるいはグルーブおよびランドが形成されている。
【００１７】
これらの光記録媒体においては、ＤＶＤ型の光記録媒体にも増して、記録密度が高められているため、ピット、あるいはグルーブおよびランドのさらなる縮小化が図られており、スタンパから基板を容易に剥離させることが、より一層、困難なものとなっていた。
【００１８】
したがって、本発明は、基板の表面に、所望のように、凹凸を形成することができ、良好なトラッキング特性や良好な信号特性を有する再生信号を得ることができる光記録媒体を提供することを目的とするものである。
【００１９】
また、本発明の別の目的は、光記録媒体の基板を、金型から容易に離型させることができ、光記録媒体の基板の表面に、所望のように、凹凸を形成することができるスタンパおよびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の前記目的は、レーザビームが照射されることにより、データが記録および／または再生されるように構成された光記録媒体であって、基板の表面に、少なくとも凸部が形成され、前記凸部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように形成されていることを特徴とする光記録媒体によって達成される。
【００２１】
本発明者の研究によれば、基板の表面に形成される凸部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように形成されている場合には、金型内で硬化された樹脂を、金型内のスタンパから容易に剥離し得ることが見出されており、本発明によれば、基板をスタンパから剥離させる際に、基板の表面のグルーブおよびランド、あるいはピット、スペースおよびランドに、強い応力が加わるのを防止することができる。したがって、基板の表面に、所望のように、凹凸パターンを形成することができ、良好なトラッキング特性や良好な信号特性を有する再生信号を得ることが可能となる。
【００２２】
本発明の好ましい実施態様においては、前記基板の表面に、グルーブおよびランドが形成され、前記ランドの断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように形成されている。
【００２３】
追記型光記録媒体や書き換え型光記録媒体を製造するに際し、その断面が、両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように、基板の表面のランドを形成した場合には、金型内で硬化された樹脂を、金型内のスタンパから容易に剥離することができ、基板の表面に、所望のように、グルーブおよびランドを形成することが可能となる。
【００２４】
本発明の好ましい実施態様においては、前記基板の表面に、凹状ピット、スペースおよびランドが形成され、前記スペースおよび前記ランドの断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように形成されている。
【００２５】
基板の表面に凹状ピットを形成して、ＲＯＭ型光記録媒体を製造するに際し、その断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように、スペースおよびランドを形成した場合には、金型内で硬化された樹脂を、金型内のスタンパから容易に剥離することができ、基板の表面に、所望のように、凹状ピットを形成することが可能となる。
【００２６】
また、本発明の前記目的は、レーザビームが照射されることにより、データが記録および／または再生されるように構成された光記録媒体であって、基板の表面に、少なくとも凹部が形成され、前記凹部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状を有するように形成されていることを特徴とする光記録媒体によって達成される。
【００２７】
本発明の好ましい実施態様においては、前記基板の表面に、グルーブおよびランドが形成され、前記ランドの断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状を有するように形成されている。
【００２８】
本発明の好ましい実施態様においては、前記基板の表面に、凸状ピット、スペースおよびランドが形成され、前記スペースおよび前記ランドの断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状を有するように形成されている。
【００２９】
また、本発明の前記目的は、光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に、少なくとも凹部が形成され、前記凹部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状を有するように形成されていることを特徴とするスタンパによって達成される。
【００３０】
さらに、本発明の前記目的は、光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に、少なくとも凸部が形成され、前記凸部の断面が、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように形成されていることを特徴とするスタンパによって達成される。
【００３１】
さらに、本発明の前記目的は、光記録媒体を製造するためのスタンパの製造方法であって、フォトレジスト層を露光現像して、複数の第一の凸部を形成する工程と、前記複数の第一の凸部上に、熱収縮剤を含有した塗膜を形成する工程と、前記塗膜をベーキングして、前記塗膜を収縮させることにより、前記複数の第一の凸部の形状を変化させ、複数の第二の凸部を形成し、フォトレジスト原盤を作製する工程と、前記フォトレジスト原盤を用いて、スタンパを作製する工程とを含むことを特徴とするスタンパの製造方法によって達成される。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、基板の表面に、所望のように、凹凸パターンを形成することができ、良好なトラッキング特性や良好な信号特性を有する再生信号を得ることができる光記録媒体を提供することが可能となる。
【００３３】
また、本発明によれば、光記録媒体の基板を、金型から容易に離型させることができ、光記録媒体の基板の表面に、所望のように、凹凸パターンを形成することができるスタンパおよびその製造方法を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００３５】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略斜視図であり、図２は、図１のＡで示される部分の略拡大断面図である。
【００３６】
図１に示されるように、光記録媒体１は、ディスク形状をなし、その中央部には、光記録媒体１を、データ記録再生装置にセットするためのセンターホール６が形成されている。
【００３７】
図１および図２に示された光記録媒体１は、ＤＶＤ型の追記型の光記録媒体であり、図２において、矢印で示される方向から、６３５ｎｍないし６６０ｎｍの波長λを有するレーザビームが、０．５９ないし０．６６の開口数ＮＡを有する対物レンズ（図示せず）を介して、照射されて、データが記録、再生されるように構成されている。
【００３８】
図２に示されるように、本実施形態にかかる光記録媒体１は、光透過性基板２と、光透過性基板２上に形成された情報層３と、情報層３上に形成された接着層４と、接着層４上に形成されたダミー基板５を備えている。
【００３９】
光透過性基板２は、データが記録、再生されるときに、レーザビームが透過する層であり、同時に、後述するダミー基板５とともに、光記録媒体１に求められる機械的強度を確保するための支持体としても機能する。
【００４０】
光透過性基板２を形成するための材料は、６３５ｎｍないし６６０ｎｍの波長λを有するレーザビームに対して、高い光透過性を有するものであれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂などを用いることができる。光透過性基板２の厚さは、とくに限定されるものではないが、光学的特性の観点から、約０．６ｍｍであることが好ましい。
【００４１】
図３は、光透過性基板２の表面の略斜視図であり、図３において、矢印Ｌは、レーザビームの走査方向を示している。
【００４２】
図３に示されるように、光透過性基板２の表面には、光記録媒体１の内周側から外周側、あるいは外周側から内周側に向かって、螺旋状に、グルーブ２ａおよびランド２ｂが形成されている。グルーブ２ａおよびランド２ｂは、後述する情報層３にデータを記録する場合、および、情報層３からデータを再生する場合において、レーザビームのガイドトラックとして機能する。
【００４３】
また、グルーブ２ａおよびランド２ｂは、所定の周期で、ウォブリングするように形成されており、グルーブ２ａおよびランド２ｂのウォブルは、データ再生用のクロックを生成するときの基準となったり、光記録媒体１の物理フォーマットの基準単位を示すなどの役割を果たしている。
【００４４】
さらに、ランド２ｂには、ランドプリピット（図示せず）が形成されており、このランドプリピットは、光記録媒体１の物理アドレスを表したり、セクタやフレームなどの物理フォーマットの先頭位置を示すなどの機能を有している。
【００４５】
グルーブ２ａおよびランド２ｂの幅は、照射されるレーザビームのビームスポット径に応じて、決定され、本実施態様において、グルーブ２ａおよびランド２ｂは、それぞれ、０．２５μｍないし０．４０μｍ、０．３４μｍないし０．４９μｍの幅を有するように形成されている。
【００４６】
図４は、図３のＸ−Ｘ軸断面の略断面図である。
【００４７】
図４に示されるように、本実施態様においては、グルーブ２ａが略台形形状を有するように形成されているのに対し、ランド２ｂは、その断面が、略放物線形状を有するように形成されている。すなわち、本実施態様において、ランド２ｂは、その断面が、図１６（ａ）に示された従来のＤＶＤ±Ｒのランドの断面形状とは異なり、角部がなく、その両端部から中心部に向かって、連続的に高さが高くなり、頂部が曲線形状を有するように形成されている。
【００４８】
ランド２ｂの深さは、とくに限定されるものではないが、６３５ｎｍないし６６０ｎｍの波長を有するレーザビームが照射されて、データが再生される本実施態様においては、グルーブ２ａは、たとえば、２０ｎｍないし２００ｎｍの深さに形成されることが好ましい。
【００４９】
図２に示されるように、光透過性基板２上には、情報層３が形成されている。
【００５０】
情報層３は、データが記録される層であり、記録膜を備えている。
【００５１】
本実施態様において、情報層３は、たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素、ポルフィリン系色素などの有機色素を主成分として含む追記型の記録膜を備えている。
【００５２】
また、情報層３は、必ずしも記録膜のみによって構成される必要はなく、記録膜の表面上、裏面上またはその双方に、必要に応じて、誘電体膜や反射膜などの他の層が形成されてもよい。
【００５３】
図２に示されるように、情報層３上には、接着層４が形成されている。
【００５４】
接着層４は、情報層３の表面上に、後述するダミー基板５を接着する役割を果たしている。
【００５５】
接着層４を形成するための材料は、ダミー基板５を確実に接着することができれば、とくに限定されるものではないが、加工性の観点から、たとえば、紫外線硬化性接着剤を用いることが好ましい。
【００５６】
接着層４の厚さは、とくに限定されるものではないが、４０μｍないし７０μｍであることが好ましく、５０μｍないし６０μｍであることが、さらに好ましい。
【００５７】
図２に示されるように、接着層４上には、ダミー基板５が形成されている。
【００５８】
ダミー基板５は、上述した光透過性基板２とともに、光記録媒体１に求められる機械的強度を確保するための支持体としての役割を果たす。
【００５９】
ダミー基板５を形成するための材料は、光記録媒体１の支持体として機能することができれば、とくに限定されるものではなく、光透過性基板２を形成するための材料と同様に、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂などを用いることができる。
【００６０】
ダミー基板５の厚さは、とくに限定されるものではないが、光記録媒体１全体の厚さが、約１．２ｍｍとなるように、約０．６ｍｍであることが好ましい。
【００６１】
以上のような構成を有する光記録媒体１は、以下のようにして、製造される。
【００６２】
光記録媒体１を製造するにあたっては、まず、光透過性基板２を作製するためのフォトレジスト原盤が作製される。
【００６３】
図５（ａ）ないし（ｄ）ならびに図６（ａ）ないし（ｃ）は、フォトレジスト原盤の製造工程を示す工程図である。図５（ａ）ないし（ｄ）ならびに図６（ａ）ないし（ｃ）においては、いずれも、光記録媒体１の径方向に対応する方向に沿った略拡大断面を示している。
【００６４】
図５（ａ）に示されるように、まず、精密に研磨され、洗浄されたガラス基板２０がスピンコーティング装置にセットされ、ガラス基板２０の表面上に、ヘキサメチルジシラザンなどのカップリング剤が塗布される。
【００６５】
次いで、ガラス基板２０上に塗布されたカップリング剤の表面上に、ノボラック系樹脂やポリスチレン樹脂などを骨格樹脂とするフォトレジストを含有する塗布液が、スピンコーティング法によって、均一に塗布されて、塗膜が形成される。
【００６６】
その後、塗膜がベーキングされ、図５（ｂ）に示されるように、ガラス基板２０上にフォトレジスト層２１が形成される。フォトレジスト層２１は、光透過性基板２の表面に形成すべきグルーブ２ａの深さに対応した厚さに形成される。
【００６７】
次いで、ガラス基板２０が、露光装置内のターンテーブルにセットされ、ガラス基板２０が回転されるとともに、図５（ｃ）に示されるにように、フォトレジスト層２１に、露光用レーザビーム２２が照射される。
【００６８】
露光用レーザビーム２２は、ガラス基板２０が回転される間、ガラス基板２０の中心部から外縁部に向かい、ガラス基板２０の径方向に沿って移動されながら、連続的に照射される。その結果、フォトレジスト層２１には、螺旋状の露光パターンが形成され、図５（ｃ）に示されるように、フォトレジスト層２１に、グルーブ２ａに対応する露光領域２１ａと、ランド２ｂに対応する未露光領域２１ｂが形成される。
【００６９】
露光用レーザビーム２２は、その強度がガウシアン分布を有するレーザビームであり、ビームスポットの中央部において、強度が最も強くなり、外縁部に向かって、強度が弱くなるため、フォトレジスト層２１に形成される露光領域２１ａは、図５（ｃ）に示されるように、略台形形状となるように形成される。
【００７０】
フォトレジスト層２１に、露光領域２１ａおよび未露光領域２１ｂが形成されると、フォトレジスト層２１が形成されたガラス基板２０が、アルカリ溶液中に浸漬され、フォトレジスト層２１が現像される。こうして、フォトレジスト層２１の露光領域２１ａが除去され、図５（ｄ）に示されるように、略台形形状を有し、それぞれ、凹型、凸型となる第一のグルーブ２３ａおよび第一のランド２３ｂが、ガラス基板２０上に形成される。
【００７１】
次いで、図６（ａ）に示されるように、ガラス基板２０上に形成された第一のグルーブ２３ａおよび第一のランド２３ｂのほぼ全体を覆うように、熱収縮剤が含有された塗布液が、スピンコーティング法によって、均一に塗布されて、塗膜２４が形成される。
【００７２】
本実施態様において、熱収縮剤に含まれる熱収縮材料としては、フォトレジスト層２１を形成するのに用いられているフォトレジストの軟化温度よりも低い温度で、熱収縮作用を発揮する材料であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、アクリル系重合体、ビニル系重合体、セルロース誘導体、アルキレングリコール系重合体などを用いることができる。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００７３】
本実施態様において、塗布液中の熱収縮剤の含有量は、３質量％ないし５０質量％であることが好ましく、５質量％ないし２０質量％であることが、さらに好ましい。
【００７４】
熱収縮剤の含有量が３質量％未満の場合には、十分な厚さの塗膜を形成するのが困難となるおそれがある。また、熱収縮剤は、その含有量が５０質量％に達すれば、それ以上を含有させても、熱収縮作用がさほど変わらないため、熱収縮剤の含有量が５０質量％を超えると、不要な熱収縮剤を消費することになり、製造コストが増大するおそれがある。
【００７５】
また、熱収縮剤の塗膜２４の厚さは、フォトレジスト層２１と同程度の厚さが確保されれば、とくに限定されるものではないが、塗膜２４は、フォトレジスト層２１の厚さ以上の厚さを有することが好ましい。
【００７６】
こうして、ガラス基板２０上に、熱収縮剤の塗膜２４が形成されると、次いで、熱収縮剤の塗膜２４がベーキングされ、熱収縮剤の塗膜２４が収縮される。その結果、図６（ｂ）に示されるように、略台形形状を有する第二のグルーブ２５ａと、略放物線形状を有する第二のランド２５ｂとが、ガラス基板２０上に形成される。
【００７７】
ガラス基板２０上に形成された第一のグルーブ２３ａおよび第一のランド２３ｂのほぼ全体を覆うように、熱収縮剤の塗膜２４を形成し、この塗膜２４をベーキングすることによって、図６（ｂ）に示されるような形状を有する第二のランド２５ｂを形成することができる理由は、必ずしも明らかではないが、熱収縮剤の塗膜２４が収縮していく際に、塗膜２４の下方に位置している第一のランド２３ｂが、塗膜２４によって、内側に押圧されて第一のランド２３ｂの形状が変化し、その過程で、第一のランド２３ｂに形成されていた角部が押し潰されたためではないかと推測される。
【００７８】
本実施態様において、熱収縮剤の塗膜２４をベーキングするときのベーキング条件は、ベーキング温度を８０℃ないし１４０℃に設定し、ベーキング時間を１分間ないし１０分間に設定することが好ましく、ベーキング温度を１１０℃ないし１３０℃に設定し、ベーキング時間を２分間ないし５分間に設定することが、さらに好ましい。
【００７９】
熱収縮剤の塗膜２４をベーキングするときのベーキング温度が、８０℃未満の場合には、熱収縮剤の塗膜２４の収縮の程度が不足し、第一のランド２３ｂの形状を、所望の形状に変化させられないおそれがあり、一方、１４０℃を超える場合には、フォトレジストが軟化し、第一のランド２３ｂの形状に、望ましくない変化が生じるおそれがある。
【００８０】
また、ベーキング温度を８０℃ないし１４０℃に設定したときに、ベーキング時間が、１分間未満の場合には、熱収縮剤の塗膜２４の収縮の程度が、塗膜２４の面内でばらつき、第二のランド２５ｂの形状が不均一になるおそれがあり、一方、１０分間を超える場合には、熱収縮剤の塗膜２４が収縮の程度が過剰となり、第二のランド２５ｂの高さが所望の高さよりも低くなるおそれがある。
【００８１】
最後に、第二のグルーブ２５ａおよび第二のランド２５ｂが形成されたガラス基板２０が、純水によって洗浄されて、第二のグルーブ２５ａおよび第二のランド２５ｂ上の塗膜２４が除去され、図６（ｃ）に示されるように、フォトレジスト原盤３０が作製される。
【００８２】
こうして、フォトレジスト原盤３０が作製されると、次いで、その表面に、フォトレジスト原盤３０の表面に形成された凹凸パターンが転写されたスタンパが作製される。
【００８３】
図７（ａ）ないし（ｃ）は、スタンパの製造工程を示す工程図である。図７（ａ）ないし（ｃ）においても、図５（ａ）ないし（ｄ）ならびに図６（ａ）ないし（ｃ）と同様に、いずれも、光記録媒体１の径方向に対応する方向に沿った略拡大断面を示している。
【００８４】
スタンパの作製にあたっては、まず、フォトレジスト原盤３０の表面に形成された第二のグルーブ２５ａおよび第二のランド２５ｂの全体を覆うように、塩化Ｐｄおよび塩化Ｓｎを含有する薬液が塗布される。その後、フォトレジスト原盤３０が、ホウフッ化水素酸溶液中に浸漬され、フォトレジスト原盤３０に付着したＳｎが除去される。
【００８５】
さらに、純水によって、フォトレジスト原盤３０の表面が洗浄され、フォトレジスト原盤３０上に、Ｐｄの下地が形成される。
【００８６】
次いで、Ｐｄの下地が形成されたフォトレジスト原盤３０が、Ｎｉイオンを含有する溶液中に浸漬され、図７（ａ）に示されるように、無電解メッキ処理法によって、フォトレジスト原盤３０上に、無電解ニッケル層５２が形成され、その後に、無電解ニッケル層５２を電極として使用した電解メッキ処理によって、無電解ニッケル層５２上に、電解ニッケル層５３が形成される。
【００８７】
こうして、電解ニッケル層５３が形成されると、図７（ｂ）に示されるように、フォトレジスト、無電解ニッケル層５２および電解ニッケル層５３からなる積層体５４が、一体的に、ガラス基板２０から剥離される。その後、積層体５４が、アルカリ溶液中に浸漬され、フォトレジストが溶解されて、除去される。
【００８８】
さらに、フォトレジストが除去された積層体５４が乾燥されて、図７（ｃ）に示されるように、凸型のグルーブ６１ａと凹型のランド６１ｂを有するスタンパ６１が作製される。
【００８９】
本実施態様においては、フォトレジスト原盤３０の第二のランド２５ｂが、略放物線断面形状を有しているので、スタンパ６１の表面に形成されるランド６１ｂの断面は、略Ｕ字型形状を有し、角部がなく、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状を有するように形成される。
【００９０】
一方、スタンパ６１の表面に形成されるグルーブ６１ａは、フォトレジスト原盤３０の第二のグルーブ２５ａが、略台形断面形状を有しているので、その形状に対応して、その断面が略台形形状となるように形成される。
【００９１】
こうして、スタンパ６１が形成されると、このスタンパ６１を用いて、光記録媒体１の光透過性基板２が作製される。
【００９２】
図８（ａ）ないし（ｃ）は、光記録媒体１の製造工程を示す工程図である。
【００９３】
図８（ａ）に示されるように、スタンパ６１が金型７０内にセットされた後に、溶融されたポリカーボネート樹脂が、金型７０内に高圧で射出される。次いで、所定の冷却期間を経て、金型７０内のポリカーボネート樹脂が硬化され、その後、ポリカーボネート樹脂が、金型７０内にセットされたスタンパ６１から剥離される。こうして、その表面に、グルーブ２ａおよびランド２ｂが形成された光透過性基板２が作製される。
【００９４】
本実施態様においては、スタンパ６１の表面のランド６１ｂが、略Ｕ字型断面形状を有しているので、光透過性基板２の表面に形成されるランド２ｂは、図４に示されるように、略放物線断面形状を有するように形成される。
【００９５】
本発明者の研究によれば、光透過性基板２の表面に形成されるランド２ｂが、かかる断面形状を有するように形成されている場合には、光透過性基板２をスタンパ６１から容易に剥離し得ることが見出されている。したがって、本実施態様によれば、光透過性基板２をスタンパ６１から剥離させる際に、光透過性基板２の表面のグルーブ２ａやランド２ｂに、強い応力が加わるのを防止することができる。これにより、光透過性基板２の表面に、所望のように、グルーブ２ａおよびランド２ｂを形成することが可能となり、良好なトラッキング特性を有する光記録媒体を得ることが可能となる。
【００９６】
こうして、光透過性基板２が形成されると、次いで、ダミー基板５用のスタンパが金型７０内にセットされ、射出成形法によって、ダミー基板５が形成される。
【００９７】
次いで、光透過性基板２がスパッタリング装置にセットされ、図８（ｂ）に示されるように、光透過性基板２の表面上に、スパッタリング法によって、情報層３が形成される。
【００９８】
さらに、情報層３上に、粘度調整された紫外線硬化性接着剤が、スピンコーティング法などによって、塗布され、この紫外線硬化性接着剤を介して、情報層３上に、ダミー基板５が貼り合わされる。
【００９９】
最後に、紫外線硬化性接着剤に、ダミー基板５側から紫外線が照射されて、紫外線硬化性接着剤が硬化され、図８（ｃ）に示されるように、接着層４が形成されるとともに、情報層３上に、ダミー基板５が接着される。こうして、光記録媒体１が完成する。
【０１００】
図９は、本発明の他の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略拡大断面図である。
【０１０１】
図９に示された光記録媒体８０は、ＤＶＤ型のＲＯＭ型光記録媒体であり、光透過性基板８２と、光透過性基板８２上に形成された反射層８３と、反射層８３上に形成された接着層８４と、接着層８４上に形成されたダミー基板８５を備え、情報層３に代えて、反射層８３が形成されているとともに、光透過性基板８２の表面に、ピットが形成されて、データが記録されている点を除き、図２に示された光記録媒体１と同様の構成を有している。
【０１０２】
図１０は、光透過性基板８２の表面の略斜視図であり、図１０において、矢印Ｌは、レーザビームの走査方向を示している。
【０１０３】
図１０に示されるように、光透過性基板２の表面には、略楕円形状を有する複数の凸状ピット８２ａが形成されている。これら複数の凸状ピット８２ａおよび隣り合う凸状ピット８２ａ間のスペース８２ｂには、それぞれ、デジタルデータの「０」または「１」が対応付けられており、凸状ピット８２ａおよびスペース８２ｂによって、データが記録されている。
【０１０４】
また、凸状ピット８２ａは、光記録媒体８０の内周側から外周側、あるいは外周側から内周側に向かって、螺旋状に形成され、凸状ピット８２ａおよびスペース８２ｂによって、トラック８２ｃが構成され、各トラック８２ｃ間には、ランド８２ｄが構成されている。
【０１０５】
凸状ピット８２ａおよびスペース８２ｂの長さは、いずれも、記録すべきデータの「０」または「１」のビット数に応じて、決定され、たとえば、光記録媒体８０に、８−１６変調によって変調された３Ｔないし１４Ｔのデータを、約４．７ＧＢの記録容量で記録する場合には、凸状ピット８２ａおよびスペース８２ｂは、最短で０．４０μｍの長さを有し、最長で１．８７μｍの長さを有している。
【０１０６】
また、トラック８２ｃおよびランド８２ｄの幅は、いずれも、レーザビームのビームスポット径に応じて、決定され、本実施態様において、トラック８２ｃおよびランド８２ｄは、それぞれ、０．２５μｍないし０．３５μｍ、０．３９μｍないし０．４９μｍの幅を有するように形成されている。
【０１０７】
図１１（ａ）は、図１０のＹ−Ｙ軸断面の略断面図であり、図１１（ｂ）は、図１０のＺ−Ｚ軸断面の略断面図である。
【０１０８】
図１１（ａ）に示されるように、本実施態様においては、凸状ピット８２ａの断面が、略台形形状を有するように形成されているのに対し、スペース８２ｂは、その断面が、略Ｕ字型形状を有するように形成されている。また、ランド８２ｄにおいても、図１１（ｂ）に示されるように、その断面が、略Ｕ字型形状を有するように形成されている。
【０１０９】
このように、本実施態様においては、スペース８２ｂおよびランド８２ｄは、その断面が、いずれも、図１５（ａ）および（ｂ）に示された従来のＤＶＤ型の光記録媒体のスペースおよびランドの断面形状とは異なり、角部がなく、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状を有するように形成されている。
【０１１０】
スペース８２ｂおよびランド８２ｄの深さは、とくに限定されるものではないが、６３５ｎｍないし６６０ｎｍの波長を有するレーザビームが照射されて、データが再生される本実施態様においては、スペース８２ｂおよびランド８２ｄは、たとえば、５０ｎｍないし１５０ｎｍの深さに形成されることが好ましい。
【０１１１】
反射層８３は、光透過性基板８２を介して、入射したレーザビームを反射し、再び、光透過性基板８２側から出射させる機能を有している。
【０１１２】
本実施態様において、反射層８３を形成するための材料は、レーザビームを反射することができれば、とくに限定されるものではなく、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｎｄ、Ｉｎ、Ｓｎよりなる群から選ばれる少なく一種の金属またはこれらの合金によって、反射層８３を形成することができる。これらのなかでも、反射層８３が、ＡｇまたはＡｇを含む合金によって形成されている場合には、高い反射率を有し、表面の平坦性に優れた反射層８３を形成することができ、好ましい。
【０１１３】
反射層８３の厚さは、とくに限定されるものではないが、５ｎｍないし１００ｎｍであることが好ましく、１５ｎｍないし６０ｎｍであることが、さらに好ましい。
【０１１４】
以上のような構成を有する光記録媒体８０は、以下のようにして、製造される。
【０１１５】
光記録媒体８０を製造するにあたっては、まず、フォトレジスト原盤が作製される。
【０１１６】
図１２（ａ）ないし（ｄ）ならびに図１３（ａ）ないし（ｃ）は、フォトレジスト原盤の製造工程を示す工程図である。図１２（ａ）ないし（ｄ）ならびに図１３（ａ）ないし（ｃ）においては、いずれも、光記録媒体８０の径方向に対応する方向に沿った略拡大断面を示している。
【０１１７】
本実施態様において、フォトレジスト原盤を作製するにあたっては、まず、図１２（ａ）および（ｂ）に示されるように、ガラス基板９０上に、フォトレジスト層９１が形成され、その後、図１２（ｃ）に示されるように、フォトレジスト層９１の表面に、露光用のレーザビーム９２が照射されて、フォトレジスト層９１に、凹凸パターンの潜像が形成される。
【０１１８】
レーザビーム９２は、ガラス基板９０が回転される間、ガラス基板９０の中心部から外縁部に向かい、ガラス基板９０の径方向に沿って、移動されながら照射される。また、レーザビーム９２は、記録すべきデータに応じて、オン／オフが切り換えられて、照射時間および照射間隔が制御され、フォトレジスト層９１の表面に、断続的に照射される。この結果、フォトレジスト層９１には、ガラス基板の径方向に沿って、凸状ピット８２ａに対応する露光領域９１ａと、ランド８２ｄに対応する未露光領域９１ｄが交互に形成されるとともに、レーザビーム９２の走査方向に沿って、凸状ピット８２ａに対応する露光領域９１ａと、スペース８２ｂに対応する未露光領域（図示せず）が交互に形成される。
【０１１９】
次いで、露光領域９１ａおよび未露光領域９１ｄが形成されたガラス基板９０に、現像処理が施されて、露光領域９１ａが除去され、図１２（ｄ）に示されるように、ガラス基板９０上に、それぞれ、略台形断面形状を有する第一の凹状ピット９３ａ、第一のランド９３ｄおよび第一のスペース（図示せず）が形成される。
【０１２０】
次いで、図１３（ａ）に示されるように、ガラス基板９０の表面のほぼ全体を覆うように、熱収縮剤を主成分として含む塗布液が、スピンコーティング法によって、均一に塗布されて、塗膜９４が形成される。本実施態様において、熱収縮剤に含有される熱収縮材料は、図６（ａ）に示された実施態様と同様の熱収縮材料を用いることができ、また、塗布液中の熱収縮剤の含有量は、３質量％ないし５０質量％であることが好ましく、さらに、塗膜９４の厚さは、フォトレジスト層９１の厚さ以上の厚さであることが好ましい。
【０１２１】
ガラス基板９０上に、熱収縮剤の塗膜９４が形成されると、次いで、熱収縮剤の塗膜９４がベーキングされ、熱収縮剤の塗膜９４が収縮される。
【０１２２】
その結果、図１３（ｂ）に示されるように、略台形断面形状を有する第二の凹状ピット９５ａと、略放物線断面形状を有する第二のランド９５ｄおよび第二のスペース（図示せず）とが、ガラス基板９０上に形成される。
【０１２３】
最後に、第二の凹状ピット９５ａ、第二のランド９５ｄおよび第二のスペースが形成されたガラス基板９０が、純水によって洗浄されて、第二の凹状ピット９５ａ、第二のランド９５ｄおよび第二のスペース上の塗膜９４が除去され、図１３（ｃ）に示されるように、フォトレジスト原盤１００が作製される。
【０１２４】
フォトレジスト原盤１００が作製されると、次いで、図７（ａ）ないし（ｃ）に示された実施態様と同様にして、フォトレジスト原盤１００の表面形状が転写されたマスタースタンパが作製される。
【０１２５】
本実施態様においては、上述したように、フォトレジスト原盤１００の表面には、略台形断面形状を有する第二の凹状ピット９５ａと、略放物線断面形状を有する第二のランド９５ｄおよび第二のスペースとが形成されているので、マスタースタンパの表面には、略台形断面形状を有する凸状ピットと、略Ｕ字型断面形状を有するランドおよびスペースが形成される。
【０１２６】
こうして、マスタースタンパが作製されると、このマスタースタンパをもとにして、マスタリング工程により、マザースタンパが作製される。
【０１２７】
図１４（ａ）および（ｂ）は、本発明の好ましい実施態様にかかるマザースタンパの製造工程を示す工程図である。
【０１２８】
まず、マスタースタンパ１１０が過マンガン酸カリウム溶液に浸漬されて、マスタースタンパ１１０の表面に酸化処理が施される。次いで、酸化処理されたマスタースタンパ１１０が、電解ニッケル溶液に浸漬されて、電解メッキ処理により、金属膜が形成され、図１４（ａ）に示されるように、マスタースタンパ１１０の表面上に電解ニッケル層１１１が形成される。
【０１２９】
次いで、図１４（ｂ）に示されるように、電解ニッケル層１１１が、マスタースタンパ１１０から剥離され、この後に、剥離された電解ニッケル層１１１の中心穴および外周が打ち抜かれて、マザースタンパ１２０が作製される。
【０１３０】
本実施態様においては、上述したように、マスタースタンパ１１０の表面には、略台形断面形状を有する凸状ピットと、略Ｕ字型断面形状を有するランドおよびスペースとが形成されているので、マザースタンパ１２０の表面には、略台形断面形状を有する凹状ピット１２０ａと、略放物線断面形状を有するランド１２０ｄおよびスペース（図示せず）とが形成される。
【０１３１】
マザースタンパ１２０が作製されると、図８（ａ）に示された実施態様と同様に、マザースタンパ１２０が、金型内にセットされ、その後、射出成形によって、光透過性基板８２が形成される。こうして、図１１（ａ）および（ｂ）に示されるように、その両端部から中心部に向かって、連続的に深さが深くなり、底部が曲線形状の断面を有するランド８２ｄおよびスペース８２ｂが形成された光透過性基板８２が作製される。
【０１３２】
本発明者の研究によれば、光透過性基板８２の表面に形成されるスペース８２ｂおよびランド８２ｄが、かかる断面形状を有するように形成されている場合には、金型内で硬化された樹脂を、金型内のマザースタンパ１２０から容易に剥離し得ることが見出されている。したがって、本実施態様によれば、光透過性基板８２をマザースタンパ１２０から剥離させる際に、光透過性基板８２の表面の凸状ピット８２ａ、スペース８２ｂあるいはランド８２ｄに、強い応力が加わるのを防止することができる。これにより、光透過性基板８２の表面に、所望のように、凸状ピット８２ａを形成することが可能となり、良好な信号特性を有する再生信号を得ることができる光記録媒体を得ることが可能となる。
【０１３３】
光透過性基板８２が作製されると、次いで、図８（ｂ）および（ｃ）に示された実施態様と同様に、光透過性基板８２の表面上に、反射層８３が形成され、最後に、接着層８４を介して、光透過性基板８２上に反射層８３が形成された積層体と、ダミー基板８５とが張り合わされる。こうして、光記録媒体８０が完成する。
【実施例】
【０１３４】
以下、本発明の効果を、より一層明らかにするため、実施例を掲げる。
【０１３５】
まず、厚さ６ｍｍを有するガラス基板を準備し、ガラス基板の表面を研磨、洗浄した後に、ガラス基板の表面上にヘキサメチルジシラザンを付与した。
【０１３６】
次いで、日本ゼオン株式会社製のフォトレジスト「ＤＶＲ１００」（商品名）を塗液として、ガラス基板の表面上に、スピンコーティング法によって、塗膜を形成した。
【０１３７】
さらに、ガラス基板上に塗膜が形成されたガラス基板を、８５℃で、２０分間ベーキングして、塗膜中の残留溶剤を除去し、３０ｎｍの厚さを有するフォトレジスト層を形成した。
【０１３８】
フォトレジスト層が形成されたガラス基板を、ソニー株式会社製のカッティングマシンにセットし、フォトレジスト層の表面に、２６６ｎｍの波長を有するレーザビームを照射して、フォトレジスト層に、グルーブに対応する露光領域と、ランドに対応する未露光領域を形成した。フォトレジスト層に露光パターンを形成するにあたっては、露光用レーザビームの照射レートを、０．８３ｍＪ／ｍに設定し、露光領域および未露光領域のトラックピッチを、０．７４μｍにした。
【０１３９】
次いで、露光パターンが形成されたガラス基板を、アルカリ溶液で現像して、露光領域を除去することにより、ガラス基板の表面に、凹型の第一のグルーブと、凸型の第一のランドを形成した。
【０１４０】
さらに、ガラス基板の表面に形成された第一のグルーブおよび第一のランドのほぼ全面を覆うように、アクリル酸ポリマーを主成分として含む東京応化工業株式会社製の熱収縮剤「ＦＳＣ−５０００ＥＸ」（商品名）を、スピンコート法によって、塗布し、３００ｎｍの厚さを有する塗膜を形成した。
【０１４１】
次いで、熱収縮剤の塗膜が形成されたガラス基板を、１２０℃で、３分間ベーキングして、熱収縮剤を収縮させた後に、ベーキング処理の施されたガラス基板を、室温で６０分間にわたって冷却し、純水によって、１分間、洗浄して、ガラス基板の表面の熱収縮剤の塗膜を除去した。こうして、ガラス基板の表面に、凹型となり、略台形断面形状を有する第二のグルーブと、凸型となり、略放物線断面形状を有する第二のランドを形成し、フォトレジスト原盤を作製した。
【０１４２】
次いで、フォトレジスト原盤をもとにして、マスタリング工程により、マスタースタンパを作製した。
【０１４３】
最後に、マスタースタンパを、金型内にセットして、射出成形法により、金型内にポリカーボネート樹脂を充填し、金型内のポリカーボネート樹脂が硬化した後に、金型から離型した。こうして、その表面に、グルーブおよびランドが形成された基板サンプルを作製した。
【０１４４】
次いで、ケサント社製の原子間力顕微鏡「Ｑ−ＳＣＯＰＥ４００」（商品名）を用いて、基板サンプルの表面のグルーブおよびランドの形状を、確認した。
【０１４５】
図１５に、上述の原子間力顕微鏡によって得られた基板サンプルの表面の断面形状が、示されている。図１５においては、横方向を収縮して断面形状を表示しており、縦と横の比率が約１００：１とされている。
【０１４６】
図１５に示されるように、基板サンプルにおいては、その表面に、略台形断面形状を有するグルーブと、略放物線断面形状を有するランドとが形成されていることが確認された。また、基板サンプルにおいては、グルーブおよびランドが、それぞれ、規則正しく配列され、それらの変形や欠落は認められず、その表面上に、所望のように、グルーブおよびランドを形成できていることが分かった。
【０１４７】
本発明は、以上の実施態様および実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【０１４８】
たとえば、図１ないし図１４に示される光記録媒体１、８０においては、光透過性基板２、８２およびダミー基板５、８５の２つの基板を備え、光透過性基板２、８２側からレーザビームが照射されるように構成されたＤＶＤ型の光記録媒体であるが、本発明は、ＤＶＤ型の光記録媒体に限定されるものではなく、約１．１ｍｍの厚さを有する支持基板上に、約１００μｍの厚さを有する光透過層が形成され、３８０ｎｍないし４５０ｎｍの波長λを有する青色レーザビームが、光透過層側から照射されるように構成された次世代型の光記録媒体にも適用することができる。
【０１４９】
また、図１ないし図８に示される光記録媒体１においては、情報層３が追記型の記録膜を備え、追記型の光記録媒体によって構成されているが、本発明は、追記型の光記録媒体に限られるものではなく、情報層３が、たとえば、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｓｎ−Ｓｅ−Ｔｅ、Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｎ、Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｌなどの相変化材料を主成分として含む相変化型の記録膜を備えている相変化型の光記録媒体にも適用が可能である。
【０１５０】
さらに、図１ないし図８に示された実施態様においては、光透過性基板２の表面に、凸型となり、略放物線断面形状を有するランド２ｂが形成されているが、基板の表面に形成されるランドは、必ずしも凸型である必要はなく、スタンパ６１をマスタースタンパとして、スタンパ６１からマザースタンパを作製し、このマザースタンパを金型にセットすることにより、基板の表面に、凹型となり、略Ｕ字型断面形状を有するランドを形成するようにしてもよい。
【０１５１】
また、図１ないし図８に示された実施態様においては、フォトレジスト原盤３０の表面形状を転写させたスタンパ６１を金型にセットして、光透過性基板２を作製するようにしているが、これに限られるものではなく、スタンパ６１をマスタースタンパとして、スタンパ６１からマザースタンパおよびチャイルドスタンパを作製し、これらのうちのチャイルドスタンパを金型にセットして、光透過性基板２を作製するようにしてもよい。
【０１５２】
さらに、図９ないし図１４に示された実施態様においては、光透過性基板２の表面に、複数の凸部が設けられて、凸状ピット８２ａ、スペース８２ｂおよびランド８２ｄが形成されているが、必ずしも、光透過性基板８２の表面に、複数の凸部を設けることによって、凸状ピット８２ａ、スペース８２ｂおよびランド８２ｄを形成する必要はなく、光透過性基板８２の表面に、略楕円断面形状を有する複数の凹部を設けることによって、凹状ピット、スペースおよびランドを形成するようにしてもよい。こうした凹状ピット、スペースおよびランドは、マザースタンパ１２０ではなく、フォトレジスト原盤１００の表面形状を転写させたマスタースタンパや、マザースタンパ１２０から作製されたチャイルドスタンパを金型内にセットすることによって、形成することができるため、スペースおよびランドは、いずれも、凸型となり、略放物線断面形状を有するように形成される。
【図面の簡単な説明】
【０１５３】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略斜視図である。
【図２】図２は、図１のＡで示された部分の略拡大断面図である。
【図３】図３は、光透過性基板の表面の略斜視図である。
【図４】図４は、図３の略断面図である。
【図５】図５は、フォトレジスト原盤の製造工程を示す工程図である。
【図６】図６は、フォトレジスト原盤の製造工程を示す工程図である。
【図７】図７は、スタンパの製造工程を示す工程図である。
【図８】図８は、光記録媒体の製造工程を示す工程図である。
【図９】図９は、本発明の他の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略拡大断面図である。
【図１０】図１０は、光透過性基板の表面の略斜視図である。
【図１１】図１１は、図１０の略断面図である。
【図１２】図１２は、フォトレジスト原盤の製造工程を示す工程図である。
【図１３】図１３は、フォトレジスト原盤の製造工程を示す工程図である。
【図１４】図１４は、マザースタンパの製造工程を示す工程図である。
【図１５】図１５は、基板の表面の略拡大断面図である。
【図１６】図１６は、従来の光記録媒体の基板の表面の略拡大断面図である。
【符号の説明】
【０１５４】
１…光記録媒体、２…光透過性基板、２ａ…グルーブ、２ｂ…ランド、３…情報層、４…接着層、５…ダミー基板、６…センターホール、２０…ガラス基板、２１…フォトレジスト層、２１ａ…露光領域、２１ｂ…未露光領域、２２…露光用レーザビーム、２３ａ…第一のグルーブ、２３ｂ…第一のランド、２４…熱収縮剤の塗膜、２５ａ…第二のグルーブ、２５ｂ…第二のランド、３０…フォトレジスト原盤、５２…無電解ニッケル層、５３…電解ニッケル層、５４…積層体、６１…スタンパ、６１ａ…グルーブ、６１ｂ…ランド、７０…金型、８０…光記録媒体、８２…光透過性基板、８２ａ…凸状ピット、８２ｂ…スペース、８２ｃ…トラック、８２ｄ…ランド、８３…反射層、８４…接着層、８５…ダミー基板、９０…ガラス基板、９１…フォトレジスト層、９１ａ…露光領域、９１ｄ…未露光領域、９２…露光用レーザビーム、９３ａ…第一の凹状ピット、９３ｄ…第一のランド、９４…熱収縮剤の塗膜、９５ａ…第二の凹状ピット、９５ｄ…第二のランド、１００…フォトレジスト原盤、１１０…マスタースタンパ、１１１…電解ニッケル層、１２０…マザースタンパ、１２０ａ…凹状ピット、１２０ｄ…ランド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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