(57)【要約】【課題】  工業・農業・医療・学術などの各分野に有用な５−アミノピラゾール化合物を、簡便に、高収率で、かつ安価に製造する方法を提供すること。【解決手段】  下記の各工程を一貫して連続的に行うことを特徴とする５−アミノピラゾール化合物の製造方法。（ａ）芳香族アミノ化合物の酸溶液にジアゾ化剤を添加する工程；（ｂ）前記（ａ）工程で得られた反応液に還元剤を添加する工程；（ｃ）前記（ｂ）工程で得られた反応液に酸を添加する工程；および（ｄ）前記（ｃ）工程で得られた反応液にアシルアセトニトリル化合物を添加する工程。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の各工程を一貫して連続的に行うことを特徴とする５−アミノピラゾール化合物の製造方法。
（ａ）芳香族アミノ化合物の酸溶液にジアゾ化剤を添加する工程；
（ｂ）前記（ａ）工程で得られた反応液に還元剤を添加する工程；
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られた反応液に酸を添加する工程；および
（ｄ）前記（ｃ）工程で得られた反応液にアシルアセトニトリル化合物を添加する工程。
【請求項２】
５−アミノピラゾール化合物が、下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【化１】
2006265112.tif 000012
上記一般式（１）中：
Ｒ1は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、スルホ基、イオン性親水性基、アミド基、スルホンアミド基、アゾ基、イミド基、ホスホリル基、またはスルホニル基を表す。各基は更に置換基を有していても良い。
Ｒ2は独立して、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、またはスルファモイル基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ3はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｍ、ｎ、ｓはそれぞれ独立に０≦ｍ、０＜ｎ、０＜ｓ≦２を満たす整数を表す。
Ｑは、５−アミノピラゾールの１位に直結する炭素原子とともに芳香族環を形成する炭素原子あるいはヘテロ原子を示す。
【請求項３】
５−アミノピラゾール化合物が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
【化２】
2006265112.tif 000013
上記一般式（２）中：
Ｒ4は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、またはスルホ基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ5は独立して、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、またはスルファモイル基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ6はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０≦ｍ、０＜ｎを満たす整数を表す。
【請求項４】
５−アミノピラゾール化合物が、下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする請求項３に記載の製造方法。
【化３】
2006265112.tif 000014
上記一般式（３）中：
Ｒ7は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、またはスルホ基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ8はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｎ１は０＜ｎ１を満たす整数を表す。
【請求項５】
前記（ａ）〜（ｄ）工程で使用する溶媒が、無機酸および水であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
無機酸が塩酸であることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
アシルアセトニトリル化合物が、ピバロイルアセトニトリルであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、５−アミノピラゾール化合物の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、５−アミノピラゾール化合物は、非特許文献１に記載されているように、芳香族アミノ化合物をヒドラジン体に誘導し、それを用いて特許文献１に記載されているような、方法で５-アミノピラゾールを合成していた。すなわち（１）アルコール/塩酸溶媒下で芳香族アミノ化合物をジアゾ化してジアゾニウム塩を合成する工程、（２）その反応液を亜硫酸ソーダ等の水溶液に移して還元を行い、生成物を単離する工程、（３）単離した生成物に酸を作用させてヒドラジン化合物が得る工程及び（４）得られたヒドラジン化合物とピバロイルアセトニトリルではないアシルアセトニトリル化合物とを反応させ、環化する工程、により合成していたが、このような工程は手間がかかり、反応時間も長く、収率が低いという欠点を有していた。
【０００３】
【非特許文献１】実験化学講座第４版  ２０巻  ｐ３３８〜３４２
【特許文献１】特開昭６１−２３６７６８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、前記従来の問題点を解決し、工業・農業・医療・学術などの各分野に有用な５−アミノピラゾール化合物を、簡便に、高収率で、かつ安価に製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、鋭意検討した結果、芳香族アミノ化合物の酸溶液を出発材料として用いると、その後の各工程で生成する中間体を単離することなく１つの反応器で５−アミノピラゾール化合物の製造が可能であることを見出し、本発明を完成することができた。
本発明は、以下の通りである。
１）下記の各工程を一貫して連続的に行うことを特徴とする５−アミノピラゾール化合物の製造方法。
（ａ）芳香族アミノ化合物の酸溶液にジアゾ化剤を添加する工程；
（ｂ）前記（ａ）工程で得られた反応液に還元剤を添加する工程；
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られた反応液に酸を添加する工程；および
（ｄ）前記（ｃ）工程で得られた反応液にアシルアセトニトリル化合物を添加する工程。
【０００６】
２）５−アミノピラゾール化合物が、下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする上記１）に記載の製造方法。
【０００７】
【化１】
2006265112.tif 000002
【０００８】
上記一般式（１）中：
Ｒ1は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、スルホ基、イオン性親水性基、アミド基、スルホンアミド基、アゾ基、イミド基、ホスホリル基、またはスルホニル基を表す。各基は更に置換基を有していても良い。
Ｒ2は独立して、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、またはスルファモイル基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ3はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｍ、ｎ、ｓはそれぞれ独立に０≦ｍ、０＜ｎ、０＜ｓ≦２を満たす整数を表す。
Ｑは、５−アミノピラゾールの１位に直結する炭素原子とともに芳香族環を形成する炭素原子あるいはヘテロ原子を示す。
【０００９】
３）５−アミノピラゾール化合物が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする上記２）に記載の製造方法。
【００１０】
【化２】
2006265112.tif 000003
【００１１】
上記一般式（２）中：
Ｒ4は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、またはスルホ基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ5は独立して、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、またはスルファモイル基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ6はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０≦ｍ、０＜ｎを満たす整数を表す。
【００１２】
４）５−アミノピラゾール化合物が、下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする上記３）に記載の製造方法。
【００１３】
【化３】
2006265112.tif 000004
【００１４】
上記一般式（３）中：
Ｒ7は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、またはスルホ基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ8はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｎ１は０＜ｎ１を満たす整数を表す。
【００１５】
５）前記（ａ）〜（ｄ）工程で使用する溶媒が、無機酸および水であることを特徴とする上記１）〜４）のいずれかに記載の製造方法。
【００１６】
６）無機酸が塩酸であることを特徴とする上記５）に記載の製造方法。
【００１７】
７）アシルアセトニトリル化合物が、ピバロイルアセトニトリルであることを特徴とする上記１〜６）のいずれかに記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、工業・農業・医療・学術などの各分野に有用な５−アミノピラゾール化合物を、簡便に、高収率で、かつ安価に製造する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明の５−アミノピラゾール化合物の製造方法は、下記の各工程を一貫して連続的に行うことを特徴とする。
（ａ）芳香族アミノ化合物の酸溶液にジアゾ化剤を添加する工程；
（ｂ）前記（ａ）工程で得られた反応液に還元剤を添加する工程；
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られた反応液に酸を添加する工程；および
（ｄ）前記（ｃ）工程で得られた反応液にアシルアセトニトリル化合物を添加する工程。
本発明でいう「各工程を一貫して連続的に行う」とは、芳香族アミノ化合物の酸溶液を出発材料として用い、その後の各工程で生成する中間体を単離することなく１つの反応器で５−アミノピラゾール化合物を製造することを意味する。
（ａ）工程における芳香族アミノ化合物とは、芳香族環に少なくともアミノ基を１以上有する化合物を意味する。本願明細書において、芳香族環とは、アリール基及び芳香性を示す複素環基を含む概念である。
本発明の製造方法により製造される５−アミノピラゾール化合物は、とくに制限されないが、下記の一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【００２０】
【化４】
2006265112.tif 000005
【００２１】
上記一般式（１）中：
Ｒ1は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、スルホ基、イオン性親水性基、アミド基、スルホンアミド基、アゾ基、イミド基、ホスホリル基、またはスルホニル基を表す。各基は更に置換基を有していても良い。
Ｒ2は独立して、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、またはスルファモイル基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ3はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｍ、ｎ、ｓはそれぞれ独立に０≦ｍ、０＜ｎ、０＜ｓ≦２を満たす整数を表す。
Ｑは、５−アミノピラゾールの１位に直結する炭素原子とともに芳香族環を形成する炭素原子あるいはヘテロ原子を示す。
【００２２】
Ｒ1が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。
【００２３】
次にＲ1が表す脂肪族基または芳香族基を例示する。
Ｒ1が表すアルキル基には、置換基を有するアルキル基および無置換のアルキル基が含まれる。アルキル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２の、直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。置換基の例には、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シアノ基、およびハロゲン原子およびイオン性親水性基が含まれる。アルキル基の例には、メチル、エチル、ブチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、シアノエチル、トリフルオロメチル、３−スルホプロピルおよび４−スルホブチル基が含まれる。
【００２４】
Ｒ1が表すシクロアルキル基には、置換基を有するシクロアルキル基および無置換のシクロアルキル基が含まれる。例えば、側鎖を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基が挙げられるが、置換基を除いたときの炭素原子数が５〜１２のシクロアルキル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。シクロアルキル基の例には、シクロヘキシル基が含まれる。
【００２５】
Ｒ1が表すアルケニル基には、置換基を有するアルケニル基および無置換のアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルケニル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルケニル基の例には、ビニル、アリル基等が含まれる。また、側鎖を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルケニル基が含まれる。
【００２６】
Ｒ1が表すアルキニル基としては、炭素数２〜１２の直鎖状または分岐鎖状アルキニル基が挙げられる。
【００２７】
Ｒ1が表すアラルキル基としては、置換基を有するアラルキル基および無置換のアラルキル基が含まれる。アラルキル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアラルキル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アラルキル基の例には、ベンジル、３−フェノキシプロピルおよび２−フェネチル基が含まれる。
【００２８】
Ｒ1が表すアリール基には、置換基を有するアリール基および無置換のアリール基が含まれる。アリール基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリール基が好ましい。置換基の例には、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルキルアミノ基およびイオン性親水性基が含まれる。アリール基の例には、フェニル、ｐ−トリル、ｐ−メトキシフェニル、ｏ−クロロフェニルおよびｍ−（３−スルホプロピルアミノ）フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基が含まれる。
【００２９】
Ｒ1が表す複素環基には、置換基を有する複素環基および無置換の複素環基が含まれる。複素環基としては、５員または６員環の複素環基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。複素環基の例には、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル、２−ピリジル基が含まれる。
【００３０】
Ｒ1が表すカルバモイル基には、置換基を有するカルバモイル基および無置換のカルバモイル基が含まれる。置換基の例には、アルキル基が含まれる。カルバモイル基の例には、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基が含まれる。
【００３１】
Ｒ1が表すアルコキシカルボニル基には、置換基を有するアルコキシカルボニル基および無置換のアルコキシカルボニル基が含まれる。アルコキシカルボニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルコキシカルボニル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基、トキシカルボニル基、およびブトキシカルボニル基が含まれる。
【００３２】
Ｒ1が表すアリールオキシカルボニル基には、置換基を有するアリールオキシカルボニル基および無置換のアリールオキシカルボニル基が含まれる。アリールオキシカルボニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアリールオキシカルボニル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル基が含まれる。
【００３３】
Ｒ1が表すアシル基には、置換基を有するアシル基および無置換のアシル基が含まれる。アシル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のアシル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アシル基の例には、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル基が含まれる。
【００３４】
Ｒ1が表すアルコキシ基には、置換基を有するアルコキシ基および無置換のアルコキシ基が含まれる。置換基を除いたときのアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基が好ましい。置換基の例には、アルコキシ基、ヒドロキシル基およびイオン性親水性基が含まれる。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メタンスルホニルエトキシ、イソプロポキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシ基が含まれる。
【００３５】
Ｒ1が表すアリールオキシ基には、置換基を有するアリールオキシ基および無置換のアリールオキシ基が含まれる。アリールオキシ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリールオキシ基が好ましい。置換基の例には、アルコキシ基およびイオン性親水性基が含まれる。アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルバモイルフェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシおよびｏ−メトキシフェノキシ基が含まれる。
【００３６】
Ｒ1が表すシリルオキシ基には、置換基を有するシリルオキシ基および無置換のシリルオキシ基が含まれる。置換基の例には、アルキル基が含まれる。シリルオキシ基の例には、ジブチルメチルシリルオキシ、トリメチルシリルオキシ基が含まれる。
【００３７】
Ｒ1が表すアシルオキシ基には、置換基を有するアシルオキシ基および無置換のアシルオキシ基が含まれる。アシルオキシ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数１〜１２のアシルオキシ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アシルオキシ基の例には、アセトキシおよびベンゾイルオキシ基が含まれる。
【００３８】
Ｒ1が表すカルバモイルオキシ基には、置換基を有するカルバモイルオキシ基および無置換のカルバモイルオキシ基が含まれる。置換基の例には、アルキル基が含まれる。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ基が含まれる。
【００３９】
Ｒ1が表す複素環オキシ基には、置換基を有する複素環オキシ基および無置換の複素環オキシ基が含まれる。複素環オキシ基としては、５員または６員環の複素環を有する複素環オキシ基が好ましい。置換基の例には、ヒドロキシル基、およびイオン性親水性基が含まれる。複素環オキシ基の例には、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ基が含まれる。
【００４０】
Ｒ1が表すアルコキシカルボニルオキシ基には、置換基を有するアルコキシカルボニルオキシ基および無置換のアルコキシカルボニルオキシ基が含まれる。アルコキシカルボニルオキシ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。置換基の例にはアルキル基、フェニル基が含まれる。アルコキシカルボニルオキシ基の例には、メトキシカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオキシ基が含まれる。
【００４１】
Ｒ1が表すアリールオキシカルボニルオキシ基には、置換基を有するアリールオキシカルボニルオキシ基および無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が含まれる。アリールオキシカルボニルオキシ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。置換基の例にはアルキル基、フェニル基が含まれる。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ基、ナフトキシカルボニルオキシ基が含まれる。
【００４２】
Ｒ1が表すアルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基において、アルキルアミノ基としては、置換基を有するアルキルアミノ基および無置換のアルキルアミノ基が含まれる。アルキルアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数１〜６のアルキルアミノ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルキルアミノ基の例には、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、メチルブチルアミノ基が含まれる。アリールアミノ基としては、置換基を有するアリールアミノ基および無置換のアリールアミノ基が含まれる。アリールアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリールアミノ基が好ましい。置換基の例としては、ハロゲン原子およびイオン性親水性基が含まれる。アリールアミノ基の例としては、アニリノおよび２−クロロアニリノ基が含まれる。
【００４３】
Ｒ1が表すアシルアミノ基には、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド基が含まれる。
【００４４】
Ｒ1が表すウレイド基には、置換基を有するウレイド基および無置換のウレイド基が含まれる。ウレイド基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のウレイド基が好ましい。置換基の例には、アルキル基およびアリール基が含まれる。ウレイド基の例には、３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基および３−フェニルウレイド基が含まれる。
【００４５】
Ｒ1が表すスルファモイルアミノ基には、置換基を有するスルファモイルアミノ基および無置換のスルファモイルアミノ基が含まれる。置換基の例には、アルキル基が含まれる。スルファモイルアミノ基の例には、Ｎ, Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ基が含まれる。
【００４６】
Ｒ1が表すアルコキシカルボニルアミノ基には、置換基を有するアルコキシカルボニルアミノ基および無置換のアルコキシカルボニルアミノ基が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ基が含まれる。
【００４７】
Ｒ1が表すアリールオキシカルボニルアミノ基には、置換基を有するアリールオキシカルボニルアミノ基および無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が含まれる。アリールオキシカルボニルアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ基が含まれる。
【００４８】
Ｒ1が表すアルキルまたはアリールスルホニルアミノ基には、置換基を有するアルキルまたはアリールスルホニルアミノ基および無置換のアルキルまたはアリールスルホニルアミノ基が含まれる。アルキルスルホニルアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のアルキルスルホニルアミノ基が、またアリールスルホニルアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基の例には、メチルスルホニルアミノ基、イソプロピルスルホニルアミノ基、ベンジルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、ナフチルスルホニルアミノ基が含まれる。
【００４９】
Ｒ1が表すアルキルまたはアリールチオ基において、アルキルチオ基としては、置換基を有するアルキルチオ基および無置換のアルキルチオ基が含まれる。アルキルチオ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のアルキルチオ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ基が含まれる。アリールチオ基としては、置換基を有するアリールチオおよび無置換のアリールチオ基が含まれる。アリールチオ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリールチオ基が好ましい。置換基の例には、アルキル基、およびイオン性親水性基が含まれる。アリールチオ基の例には、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオおよびｐ−トリルチオ基が含まれる。
【００５０】
Ｒ1が表すシリルチオ基には、置換基を有するシリルチオ基および無置換のシリルチオ基が含まれる。シリルチオ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が３〜２０のシリルチオ基が好ましい。さらに炭素原子数が３から１２のシリルチオ基が好ましい。シリルチオ基の例には、トリメチルシリルチオ基、ジブチルメチルシリルチオ基が含まれる。
【００５１】
Ｒ1が表すアシルチオ基には、Ｒ1が表すアシルチオ基には、置換基を有するアシルチオ基および無置換のアシルチオ基が含まれる。アシルチオ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数１〜１２のアシルチオ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アシルチオ基の例には、アセチルチオおよびベンゾイルチオ基が含まれる。
が含まれる。
【００５２】
Ｒ1が表すカルバモイルチオ基には、置換基を有するカルバモイルチオ基および無置換のカルバモイルチオ基が含まれる。カルバモイルチオ基としては、炭素原子数が２〜１２のカルバモイルチオ基が好ましい。置換基の例には、アルキル基が含まれる。カルバモイルチオ基の例には、Ｎ−メチルカルバモイルチオ、Ｎ−フェニルカルバモイルチオ基が含まれる。
【００５３】
Ｒ1が表す複素環チオ基には、置換基を有する複素環チオ基および無置換の複素環チオ基が含まれる。複素環チオ基としては、５員または６員環の複素環を有することが好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。複素環チオ基の例には、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ基が含まれる。
【００５４】
Ｒ1が表すアルコキシカルボニルチオ基には、置換基を有するアルコキシカルボニルチオ基および無置換のアルコキシカルボニルチオ基が含まれる。アルコキシカルボニルチオ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルコキシカルボニルチオ基が好ましい。置換基の例にはアルキル基、芳香族基が含まれる。アルコキシカルボニルチオ基の例には、メトキシカルボニルチオ基、ベンジルカルボニルチオ基が含まれる。
【００５５】
Ｒ1が表すアリールオキシカルボニルチオ基には、置換基を有するアリールオキシカルボニルチオ基および無置換のアリールオキシカルボニルチオ基が含まれる。アリールオキシカルボニルチオ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアリールオキシカルボニルチオ基が含まれる。置換基の例にはイオン親水性基、アルキル基、芳香族基が含まれる。アリールオキシカルボニルチオ基の例としては、フェニルオキシカルボニルチオ基、４−メチルフェニルオキシカルボニルチオ基が含まれる。
【００５６】
Ｒ1が表すアルキルまたはアリールスルホニル基には、置換基を有するアルキルまたはアリールスルホニル基および無置換のアルキルまたはアリールスルホニル基が含まれる。アルキルスルホニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のアルキルスルホニル基が、アリールスルホニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリールスルホニル基が含まれる。置換基の例には、アルキル基、イオン性親水性基、芳香族基が含まれる。アルキルまたはアリールスルホニル基の例としては、プロピルスルホニル基、４−スルホフェニルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基が含まれる。
【００５７】
Ｒ1が表すアルキルまたはアリールスルフィニル基には、スルフィニル基には、３−フェノキシプロピルスルフィニルが含まれる。
【００５８】
Ｒ1が表すスルファモイル基には、置換基を有するスルファモイル基および無置換のスルファモイル基が含まれる。置換基の例には、アルキル基、アリ−ル基が含まれる。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、ジ−（２−ヒドロキシエチル）スルファモイル、フェニルスルファモイル基が含まれる。
【００５９】
イオン性親水性基としては、スルホ基、カルボキシル基、ホスホノ基、および４級アンモニウム基等が含まれる。イオン性親水性基としては、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、特にスルホ基が好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対イオンの例には、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）および有機カチオン（例、テトラメチルグアニジウムイオン）が含まれる。また、イオン性親水性基は置換されていてもよい。置換基としては、スルホン酸リチウム、カルボン酸カリウム、テトラメチルアンモニウムクロリドが挙げられる。
【００６０】
Ｒ1が表すアミド基には、置換基を有するアミド基および無置換のアミド基が含まれる。アミド基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアミド基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アミド基の例には、アセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミドおよび３，５−ジスルホベンズアミド基が含まれる。
【００６１】
Ｒ1が表すスルホンアミド基には、置換基を有するスルホンアミド基および無置換のスルホンアミド基が含まれる。スルホンアミド基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のスルホンアミド基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、トルエンスルホンアミドおよび３−カルボキシベンゼンスルホンアミド基が含まれる。
【００６２】
Ｒ1が表すアゾ基には、置換基を有するアゾ基および無置換のアゾ基が含まれる。アゾ基の例には、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ、ｐ−ニトロフェニルアゾ基が含まれる。
【００６３】
Ｒ1が表すイミド基には、置換基を有するイミド基および無置換のイミド基が含まれる。イミド基の例には、Ｎ−フタルイミドおよびＮ−スクシンイミド基が含まれる。
【００６４】
Ｒ1が表すホスホリル基には、置換基を有するホスホリル基および無置換のホスホリル基が含まれる。ホスホリル基の例には、フェノキシホスホリル基およびフェニルホスホリル基が含まれる。
【００６５】
Ｒ1が表すスルホニル基には、メタンスルホニル、オクタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル基が含まれる。
【００６６】
Ｒ2が有することができる置換基および置換基の詳細は、前記のＲ1が有することができる置換基、置換基の詳細と同義である。
また、一般式（１）で表される５−アミノピラゾール化合物は、置換基Ｒ1あるいはＱで構成される複素環をＬ（２価の連結基）で連結した２量体を形成してもよい。
【００６７】
Ｌで表される２価の連結基は、オキシ基−Ｏ−、チオ基−Ｓ−、カルボニル基−ＣＯ−、スルホニル基−ＳＯ2−、イミノ基−ＮＨ−、メチレン基−ＣＨ2−、フェニレン基−Ｐｈ−、複素環基、及びこれらを組み合わせて形成される基であり、連結基の組み合わせで形成される基として例えば、尿素、トリアジン、１，３-ジアミノプロパン、１，４-フェニレンジアミン等が挙げられる。
【００６８】
Ｑは５−アミノピラゾールの１位に直結する炭素原子とともに芳香族環を形成する炭素原子あるいはヘテロ原子を示す（即ち、５−アミノピラゾールの１位の窒素原子は、請求項１に用いる芳香族アミノ化合物のアミノ基の窒素原子に対応する）。ヘテロ原子は窒素原子、硫黄原子、酸素原子が含まれる。Ｑは好ましくは炭素原子または窒素原子であり、更に好ましくは炭素原子である。また芳香族環は５員環または６員環が好ましく、さらに好ましくは６員環である。
また前記芳香族環は、さらに他の環と縮合環を形成していてもよい。芳香族環の例には、置換位置を限定せずに挙げると、ベンゼン、ナフタレン、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、ピラゾール、ベンゾピラゾール、トリアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンゾイソチアゾール、オキサゾール、ベンゾオキサゾール、チアジアゾール、ピロール、ベンゾピロール、インドール、イソオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、チオフェン、ベンゾチオフェン、フラン、ベンゾフラン、ピリジン、キノリン、イソキノリン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、キノクサリン、トリアジン等が含まれる。
【００６９】
ｍ、ｎ、ｓはそれぞれ独立に０≦ｍ、０＜ｎ、０＜ｓ≦２を満たす整数を表す。ｍ、ｎ、ｓは好ましくは、ｍは０から２であり更に好ましくは０であり、ｎは１≦ｎ≦４であり更に好ましくは１≦ｎ≦２であり、ｓは１≦ｓ≦２であり更に好ましくは１である。
【００７０】
一般式（１）で表される５-アミノピラゾール化合物の中でも、下記一般式（２）で表される構造の５-アミノピラゾール化合物がさらに好ましい。
【００７１】
【化５】
2006265112.tif 000006
【００７２】
上記一般式（２）中：
Ｒ4は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、またはスルホ基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ5は独立して、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、またはスルファモイル基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ6はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０≦ｍ、０＜ｎを満たす整数を表す。
【００７３】
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6における各基の詳細、ｍ、ｎにおける定義は、前記の一般式（１）で説明したものと同様であり、好ましい例も同様である。
【００７４】
一般式（２）で表される５-アミノピラゾール化合物の中でも、下記一般式（３）で表される構造の５-アミノピラゾール化合物がさらに好ましい。
【００７５】
【化６】
2006265112.tif 000007
【００７６】
上記一般式（３）中：
Ｒ7は独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アルキル基または芳香族基または複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、チオ基、アルキルまたはアリールチオ基、シリルチオ基、アシルチオ基、カルバモイルチオ基、複素環チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アリールオキシカルボニルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、またはスルホ基を表す。各基は更に置換されていても良い。
Ｒ8はイオン性親水性基または置換基を有するイオン性親水性基を表す。
ｎ１は０＜ｎ１を満たす整数を表す。
【００７７】
Ｒ7、Ｒ8における各基の詳細は、前記の一般式（１）で説明したものと同様であり、好ましい例も同様である。ｎ１における定義は、前記の一般式（１）で説明したｎと同様であり、好ましい例も同様である。
【００７８】
本発明において５−アミノピラゾール化合物は、下記の各工程を一貫して連続的に行うことにより製造される。
（ａ）芳香族アミノ化合物の酸溶液にジアゾ化剤を添加する工程；
（ｂ）前記（ａ）工程で得られた反応液に還元剤を添加する工程；
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られた反応液に酸を添加する工程；および
（ｄ）前記（ｃ）工程で得られた反応液にアシルアセトニトリル化合物を添加する工程。
以下、各工程について説明する。
【００７９】
（ａ）工程は、芳香族アミノ化合物の酸溶液にジアゾ化剤を添加する工程であり、この（ａ）工程により、ジアゾニウム塩化合物が生成される。
芳香族アミノ化合物は、目的とする５−アミノピラゾール化合物の構造に応じて適宜選択すればよい。例えば、一般式（１）において、置換基Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3に応じて適宜選択することができる。
酸溶液における酸は、特に限定されないが例えば、塩酸、硫酸、酢酸、リン酸、硫酸、メタンスルホン酸が挙げられる。使用する量は、原料の芳香族アミノ化合物に対して５０当量以下であり、好ましくは、２０当量以下であり、更に好ましくは１０当量以下である。
ジアゾニウム塩化合物の誘導に使用するジアゾ化剤は特に限定されないが例えば、亜硝酸カリウム、亜硝酸ナトリウム、ニトロシル硫酸、亜硝酸イソアミルが挙げられる。使用量は、芳香族アミノ化合物に対して、５当量以下、好ましくは３当量以下、更に好ましくは２当量以下である。５当量を超えて使用すると副反応が発生する恐れがある。
ジアゾニウム塩化合物の誘導に関して使用する溶媒は特に限定されないが例えば、水、あるいは、酢酸、プロピオン酸、硫酸、リン酸などの酸単独あるいはこれら酸と水を混合した水溶液（以下、希酸水溶液という場合がある）が挙げられるが、塩酸と水を混合することが好ましい。
希酸水溶液の使用量は用いる原料の酸性度、ジアゾ化剤の量により適宜決定することができるが、使用量として好ましくは原料の芳香族アミノ化合物に対して５０倍量以下、更に好ましくは３０倍量以下、最も好ましくは１〜１０倍量以下である。溶媒の使用量が１００倍量を超えると生産性が悪化し不経済となる。
ジアゾニウム塩化合物の誘導に関して、反応温度は−２０℃から２０℃で、好ましくは−２０℃から１５℃で、更に好ましくは−５℃から１０℃である。−２０℃よりも低いと反応に時間を要し、反応温度が２０℃よりも高いと、ジアゾニウム塩の分解を生じる。
【００８０】
（ｂ）工程は、前記（ａ）工程で得られた反応液に還元剤を添加する工程であり、この（ｂ）工程によりヒドラジン化合物前駆体が生成される。
（ｂ）工程におけるジアゾニウム塩化合物の還元に使用する還元剤としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、不安定な水素の化合物（ＨＩ、Ｈ2Ｓなど）、一酸化炭素、二酸化硫黄、アルカリ金属、マグネシウム、カルシウム、亜鉛などの金属、Ｆｅ（II）塩、Ｓｎ（II）塩、ギ酸、シュウ酸などの有機物質などが挙げられる。還元性の強い還元剤を用いると副反応の恐れがあり、適度な強さの還元剤が好ましい。
還元剤の使用量は、芳香族アミノ化合物に対して、３〜１５当量、好ましくは３〜１０当量、さらに好ましくは３〜５当量である。
【００８１】
（ｂ）工程では、還元剤を溶解するための溶媒を使用することができる。この溶媒としては、特に限定されないが例えば水、メタノール、イソプロパノール、ＤＭＦ、ＴＨＦなどが挙げられる。溶媒量は原料の芳香族アミノ化合物に対して１００倍量以下、好ましくは５０倍量以下、更に好ましくは３０倍量以下である。
【００８２】
ジアゾニウム塩化合物の還元に関して、反応温度は、０℃から１００℃であり、好ましくは０℃から８０℃であり、更に好ましくは０℃から６０℃である。反応温度が０℃未満であると、反応が遅く、反応時間が長くなり不経済である。また１００℃を超えると副生成物を生じる恐れがある。
【００８３】
ジアゾニウム塩化合物の還元に関して、反応時間は、１時間〜２０時間であり、好ましくは１時間〜１５時間であり、更に好ましくは１時間〜１０時間である。
【００８４】
（ｃ）工程は、前記（ｂ）工程で得られた反応液に酸を添加する工程であり、この（ｃ）工程によりヒドラジン化合物が誘導される。
（ｃ）工程において、ヒドラジン化合物への誘導で使用する酸は、特に限定されないが例えば、塩酸、硫酸、酢酸、リン酸、硫酸、メタンスルホン酸が挙げられる。使用する量は、原料の芳香族アミノ化合物に対して５０当量以下、好ましくは２０当量以下、更に好ましくは１０当量以下である。
なお、ここでいう酸の使用量は、（ａ）工程で使用する酸の量は考慮しない量である。
ヒドラジン化合物への誘導に関して、反応温度は、０℃から１００℃であり、好ましくは０℃から８０℃であり、更に好ましくは０℃から６０℃である。
ヒドラジン化合物への誘導に関して、反応時間は、１時間〜２０時間であり、好ましくは１時間〜１５時間であり、更に好ましくは１時間〜１０時間である。
【００８５】
（ｄ）工程は、前記（ｃ）工程で得られた反応液にアシルアセトニトリル化合物を添加する工程であり、この（ｄ）工程により、目的とする５−アミノピラゾール化合物が生成される。
アシルアセトニトリル化合物におけるアシル基としては、置換あるいは無置換のアシル基を示しており、メチルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、２−ピルジルカルボニル基などが挙げられる。とくに好ましくはメチルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ピバロイル基、ベンゾイル基であり、好ましくはピバロイル基である。
アシルアセトニトリル化合物は、ヒドラジン化合物のヒドラジンのモル数を１とした場合、１〜５当量、好ましくは１〜３当量の割合で添加するのがよい。
ヒドラジン化合物とアシルアセトニトリル化合物の反応よる５−アミノピラゾールへの誘導について、反応温度は、０℃から１２０℃であり、好ましくは０℃から１００℃であり、更に好ましくは０℃から９０℃である。
【００８６】
ヒドラジン化合物とアシルアセトニトリル化合物の反応よる５−アミノピラゾールへの誘導について、酸を添加するのが好ましい。酸の種類は特に限定されないが例えば、塩酸、硫酸、酢酸、リン酸、硫酸、メタンスルホン酸が挙げられる。使用する量は、原料の芳香族アミノ化合物に対して５０当量以下、好ましくは２０当量以下、更に好ましくは１０当量以下である。
なお、ここでいう酸の使用量は、（ａ）及び（ｃ）工程で使用する酸の量は考慮しない量である。
【００８７】
ヒドラジン化合物とアシルアセトニトリル化合物の反応よる５−アミノピラゾールへの誘導について、反応時間は、１時間〜２０時間であり、好ましくは１時間〜１５時間であり、更に好ましくは１時間〜１０時間である。
【００８８】
本発明の５−アミノピラゾール化合物の製造方法の一連の工程の反応スキーム例を下記に示す。なお、下記スキームでは、（ａ）工程の芳香族アミノ化合物としてアミノイソフタル酸、溶媒として水と塩酸を使用し、（ｂ）工程の還元剤として亜硫酸ナトリウムを使用し、（ｃ）工程の酸として塩酸を使用し、（ｄ）工程のアシルアセトニトリル化合物としてピバロイルアセトニトリルを使用し、酸として塩酸を使用した場合を示しているが、本発明はこれに制限されない。
【００８９】
【化７】
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【００９０】
【化８】
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【００９１】
【化９】
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【実施例】
【００９２】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１）
アミノイソフタル酸  １８．１２ｇをイオン交換水  １００ｍｌに懸濁後、濃塩酸  ２５．７ｍLを添加し、氷浴で５℃に保った。そこへ亜硝酸ナトリウム  ６．９７ｇの水溶液  １１．６ｍｌを滴下した（反応液A）。亜硫酸ナトリウム  ３７．８１ｇの水溶液  １３０ｍｌを内温２５℃で攪拌し、そこへ反応液Ａを注入した。この状態で３０分攪拌した後、内温を３０℃まで加熱して、６０分攪拌した。この反応液に塩酸５０ｍLを添加し、すぐに内温５０℃まで昇温した。この状態で９０分攪拌した後に、ピバロイルアセトニトリル  １２．５２ｇとイソプロパノール  １０ｍLを添加後、内温を９３℃まで昇温し、２４０分攪拌した。室温まで冷却後、析出した結晶を吸引濾過し、結晶をイオン交換水  １５０ｍL、続いてイソプロパノール  １００ｍLで洗浄後乾燥した。単離収率  ２２．３５ｇ。収率  ７３．７％。
【００９３】
（比較例１）
アミノイソフタル酸  ９０．５０ｇをイオン交換水  ５００ｍＬに懸濁後、濃塩酸  １３０ｍＬを添加し、氷浴で５℃に保った。そこへ亜硝酸ナトリウム  ３５．００ｇの水溶液  ７０ｍＬを滴下した（反応液Ｂ）。亜硫酸ナトリウム  １８９．００ｇの水溶液  ６５０ｍＬを５℃以下に冷却後、反応液Ｂを注入した。内温５℃で２５分、内温１２℃で８０分攪拌した。続いて塩酸  ２６０ｍＬ注入後、内温９３℃で９０分攪拌した。室温まで冷却後、析出した結晶を吸引濾過し、イオン交換水  ３００ｍＬ、続いてＩＰＡ  ２００ｍＬで洗浄した。乾燥後８２．２６ｇのヒドラジン体を得た。収率  ７０．７％。
このヒドラジン体  ５９．８０ｇとピバロイルアセトニトリル  ３２．１８ｇをイオン交換水  ３４０ｍＬとエタノール  ３４０ｍＬに内温２６℃で懸濁させ、炭酸水素ナトリウム  ６５．００ｇを添加した。室温で３０分攪拌後、内温８０℃で６０分攪拌した。そこへ塩酸５８ｍＬを滴下後、さらに内温８０℃で９０分攪拌した。続いて、塩酸３０ｍＬを分割添加した後、エタノールを減圧で留去した。ここで、エタノール  ７０ｍＬを追添し、還流温度で６０分攪拌した。室温に冷却後、析出した結晶を吸引濾過し、イオン交換水  ２００ｍＬ、続いてイソプロパノール  ４００ｍＬで洗浄した。乾燥後、６４．０６ｇのアミノピラゾール化合物を得た。収率  ８２．１％。
表１に結果をまとめた。
【００９４】
【表１】
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