(57)【要約】【課題】  画像欠陥が少なく、感度（輝度）、鮮鋭性共に良好な放射線画像変換パネルの製造方法及び放射線画像変換パネルの提供。【解決手段】  輝尽性蛍光体を含有する蒸発源を抵抗加熱方法により加熱して基板上に蒸着させることにより輝尽性蛍光体層を形成する工程を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸着装置として蒸発源と支持体（基板）との間に開閉可能なシャッタを具備した蒸着装置を用いて、該開閉可能なシャッタを閉じた状態で加熱を開始し、一定時間経過後にシャッタを開いて基板上に蒸着源を蒸着することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
輝尽性蛍光体を含有する蒸発源を抵抗加熱方法により加熱して基板上に蒸着させることにより輝尽性蛍光体層を形成する工程を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸着装置として蒸発源と支持体（基板）との間に開閉可能なシャッタを具備した蒸着装置を用いて、該開閉可能なシャッタを閉じた状態で加熱を開始し、一定時間経過後にシャッタを開いて基板上に蒸着源を蒸着することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項２】
加熱して蒸発源が全て蒸発するのに要する時間をＴとするとき、加熱開始後１／３Ｔ〜２／３Ｔ経過時にシャッタを開いて基板上に輝尽性蛍光体を蒸着することを特徴とする請求項１に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項３】
前記輝尽性蛍光体層中の輝尽性蛍光体が下記一般式（１）で表される輝尽性蛍光体であることを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
一般式（１）    ＣｓＸ：ｙＡ
（式中、ＸはＣｌ、Ｂｒ又はＩを表し、ＡはＥｕ、Ｓｍ、Ｉｎ、ＴＩ、Ｇａ又はＣｅを表す。ｙは１×１０-7〜１×１０-2である）
【請求項４】
請求項１〜３の何れか１項に記載の製造方法で得られることを特徴とする放射線画像変換パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は感度（輝度）、鮮鋭性共に優れ、また画像欠陥の少ない放射線画像変換パネルの製造方法及びその製造方法から得られる放射線画像変換パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、放射線画像を得るために、放射線照射によって得られた潜像をレーザー光等を使い光信号を取り出す方法がとられてきた。放射線を吸収してからある時間経過後に光信号を取り出すには、輝尽性蛍光体層（以下、単に蛍光体層ともいう）が必要で、その輝尽性蛍光体層を設けるには、従来塗布による方法があったが、塗布材料はバインダー等の発光に寄与しない成分を含むため、最近では蒸着等の気相堆積法が用いられるれるようになってきた。
【０００３】
従来、放射線画像を得るために銀塩を使用した、いわゆる放射線写真法が利用されているが、銀塩を使用しないで放射線画像を画像化する方法が開発されている。
【０００４】
即ち、被写体を透過した放射線を蛍光体に吸収せしめ、しかる後この蛍光体をある種のエネルギーで励起してこの蛍光体が蓄積している放射線エネルギーを蛍光として放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方法が開示されている。
【０００５】
具体的な方法としては、支持体上に輝尽性蛍光体層を設けたパネルを用い、励起エネルギーとして可視光線及び赤外線の一方又は両方を用いる放射線画像変換方法が知られている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００６】
また、蒸着による基板上への輝尽性蛍光体層の製造方法として、電子銃を用いて蒸着するＥＢ蒸着法、蒸発源をルツボに入れて加熱して蒸着する抵抗加熱法等がある。
【０００７】
しかし、特性が良好な蛍光体層を形成させるためには、ＥＢ蒸着法より抵抗加熱法が好ましい。
【０００８】
但し、抵抗加熱法では、蒸着時、蒸着ルツボから突沸が起こったように塊状の蛍光体が基板に蒸着される等により、蛍光体表面に突起状物が形成されることが多くなった。この表面の突起状物は医療診断する上で画像欠陥になり、誤診の原因となるいう重大な問題となった。
【０００９】
従って、画像欠陥が少なく、輝度、鮮鋭性共に優れた放射線画像変換パネルの製造方法及び放射線画像変換パネルが求められていた。
【特許文献１】米国特許第３，８５９，５２７号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、画像欠陥が少なく、感度（輝度）、鮮鋭性共に良好な放射線画像変換パネルの製造方法及び放射線画像変換パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
【００１２】
（請求項１）
輝尽性蛍光体を含有する蒸発源を抵抗加熱方法により加熱して基板上に蒸着させることにより輝尽性蛍光体層を形成する工程を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸着装置として蒸発源と支持体（基板）との間に開閉可能なシャッタを具備した蒸着装置を用いて、該開閉可能なシャッタを閉じた状態で加熱を開始し、一定時間経過後にシャッタを開いて基板上に蒸着源を蒸着することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
【００１３】
（請求項２）
加熱して蒸発源が全て蒸発するのに要する時間をＴとするとき、加熱開始後１／３Ｔ〜２／３Ｔ経過時にシャッタを開いて基板上に輝尽性蛍光体を蒸着することを特徴とする請求項１に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【００１４】
（請求項３）
前記輝尽性蛍光体層中の輝尽性蛍光体が下記一般式（１）で表される輝尽性蛍光体であることを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【００１５】
一般式（１）    ＣｓＸ：ｙＡ
（式中、ＸはＣｌ、Ｂｒ又はＩを表し、ＡはＥｕ、Ｓｍ、Ｉｎ、ＴＩ、Ｇａ又はＣｅを表す。ｙは１×１０-7〜１×１０-2である）
（請求項４）
請求項１〜３の何れか１項に記載の製造方法で得られることを特徴とする放射線画像変換パネル。
【発明の効果】
【００１６】
本発明による放射線画像変換パネルの製造方法及びその製造方法から得られる放射線画像変換パネルは、画像欠陥が少なく、感度（輝度）、鮮鋭性共に優れた効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明を以下に詳細に述べる。
【００１８】
前述の如く、本発明者は種々検討した結果、輝尽性蛍光体を含有する蒸発源を抵抗加熱方法により加熱して基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸着装置として蒸発源と基板の間に開閉可能なシャッタを具備した蒸着装置を用いて、該開閉可能なシャッタを閉じた状態で加熱を開始し、一定時間経過後にシャッタを開いて基板上に蒸着源を蒸着することを特徴とし、これらの構成により、本発明の目的である、画像欠陥が少なく、輝度、鮮鋭性共に優れた放射線画像変換パネルを提供できたのである。
【００１９】
また、請求項２の発明の如く、加熱して蒸発源が全て蒸発するのに要する時間をＴとするとき、加熱開始後１／３Ｔ〜２／３Ｔ（より好ましくは２／５Ｔ〜３／５Ｔ）経過時にシャッタを開いて基板上に蛍光体を蒸着することで、本発明の効果をより奏する点で好ましい。
【００２０】
加熱開始後、１／３Ｔ未満にシャッタが開くと突起状物が多くなり、２／３Ｔを超えてシャッタが開くと膜厚が薄くなりすぎて感度（輝度）が低下する。
【００２１】
また、無作為に選んだ前記突起数２０個の平均長径が１〜７００μｍで高さが１〜４００μｍであることが本発明の効果をより奏する点で好ましい。
【００２２】
次に、本発明に好ましく用いられる下記一般式（Ａ）で表される輝尽性蛍光体について説明する。
【００２３】
一般式（Ａ）
Ｍ1Ｘ・ａＭ2Ｘ′・ｂＭ3Ｘ″：ｅＡ
〔式中、Ｍ1はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓの各原子から選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属原子であり、Ｍ2はＢｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｃｕ及びＮｉの各原子から選ばれる少なくとも１種の二価金属原子であり、Ｍ3はＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ及びＩｎの各原子から選ばれる少なくとも１種の三価金属原子であり、Ｘ、Ｘ′、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩの各原子から選ばれる少なくとも１種のハロゲン原子であり、ＡはＥｕ、Ｔｂ、Ｉｎ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｇｄ、Ｌｕ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｌ、Ｎａ、Ａｇ、Ｃｕ及びＭｇの各原子から選ばれる少なくとも１種の金属原子であり、また、ａ、ｂ、ｅはそれぞれ０≦ａ＜０．５、０≦ｂ＜０．５、０＜ｅ≦０．２の範囲の数値を表す。〕
中でも、本発明においては前記一般式（１）で表される輝尽性蛍光体が更に好ましい。
【００２４】
前記一般式（１）において、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩを表し、Ａは、Ｅｕ、Ｓｍ、Ｉｎ、Ｔｌ、ＧａまたはＣｅを表す。ｙは、１×１０-7〜１×１０-2までの数値を表す。
【００２５】
前記輝尽性蛍光体は、例えば以下に述べる製造方法により製造される。
【００２６】
まず蛍光体原料として、以下の組成となるように炭酸塩に酸（ＨＩ、ＨＢｒ、ＨＣｌ、ＨＦ）を加え混合攪拌した後、中和点にて濾過を行い得られた後、ろ液の水分を蒸発気化させて以下の結晶を作製する。
【００２７】
前記蛍光体原料としては、
（ａ）ＮａＦ、ＮａＣｌ、ＮａＢｒ、ＮａＩ、ＫＦ、ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＫＩ、ＲｂＦ、ＲｂＣｌ、ＲｂＢｒ、ＲｂＩ、ＣｓＦ、ＣｓＣｌ、ＣｓＢｒ及びＣｓＩから選ばれる少なくとも１種の化合物が用いられる。
【００２８】
（ｂ）ＭｇＦ2、ＭｇＣｌ2、ＭｇＢｒ2、ＭｇＩ2、ＣａＦ2、ＣａＣｌ2、ＣａＢｒ2、ＣａＩ2、ＳｒＦ2、ＳｒＣＩ2、ＳｒＢｒ2、ＳｒＩ2、ＢａＦ2、ＢａＣｌ2、ＢａＢｒ2、ＢａＢｒ2・２Ｈ2Ｏ、ＢａＩ2、ＺｎＦ2、ＺｎＣｌ2、ＺｎＢｒ2、ＺｎＩ2、ＣｄＦ2、ＣｄＣｌ2、ＣｄＢｒ2、ＣｄＩ2、ＣｕＦ2、ＣｕＣｌ2、ＣｕＢｒ2、ＣｕＩ、ＮｉＦ2、ＮｉＣｌ2、ＮｉＢｒ2及びＮｉＩ2の化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物が用いられる。
【００２９】
（ｃ）前記一般式（Ａ）において、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｉｎ、Ｃｓ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｇｄ、Ｌｕ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｌ、Ｎａ、Ａｇ、Ｃｕ及びＭｇ等の各原子から選ばれる金属原子を有する化合物が用いられる。
【００３０】
（ｄ）賦活剤Ａは、例えばＥｕ、Ｔｂ、Ｉｎ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｇｄ、Ｌｕ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｌ、Ｎａ、Ａｇ、Ｃｕ及びＭｇの各原子から選ばれる少なくとも１種の金属原子が用いられる。
【００３１】
一般式（Ａ）で表される化合物において、ａは０≦ａ＜０．５、好ましくは０≦ａ＜０．０１、ｂは０≦ｂ＜０．５、好ましくは０≦ｂ≦０．０１、ｅは０＜ｅ≦０．２、好ましくは０＜ｅ≦０．１である。
【００３２】
上記の数値範囲の混合組成になるように前記（ａ）〜（ｄ）の蛍光体原料を秤量し、純水にて溶解する。
【００３３】
この際、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて充分に混合しても良い。
【００３４】
次に、得られた水溶液のｐＨ値Ｃを０＜Ｃ＜７に調整するように所定の酸を加えた後、水分を蒸発気化させ輝尽性蛍光体を得ることができる。
【００３５】
次ぎに本発明の製造方法について説明する。
【００３６】
まず、上記の輝尽性蛍光体を含む蒸発源を用意する。蒸発源は、一般には輝尽性蛍光体のみから構成されるが、例えば輝尽性蛍光体と賦活剤成分や添加物成分との混合物であってもよい。蒸発源は、突沸防止などの点からその含水量が０．５質量％以下であることが好ましい。蛍光体がＣｓＢｒ：Ｅｕのように吸湿性である場合には特に、含水量をこのような低い値に抑えることは突沸防止などの点から重要である。蒸発源の脱水は、蛍光体を減圧下で１００〜３００℃の温度範囲で加熱処理したり、あるいは窒素雰囲気などの水分を含まない雰囲気中で、蛍光体の融点以上の温度で数十分〜数時間加熱溶融することにより行うことができる。
【００３７】
さらに、蒸発源は、アルカリ金属不純物（蛍光体の構成元素以外のアルカリ金属）の含有量が１０ｐｐｍ以下であり、そしてアルカリ土類金属不純物（蛍光体の構成元素以外のアルカリ土類金属）の含有量が１ｐｐｍ以下であることが望ましい。このような蒸発源は、アルカリ金属やアルカリ土類金属など不純物の含有量の少ない原料を使用することにより調製することができる。これによって、不純物の混入が少ない輝尽性蛍光体蒸着層を形成することができるとともに、そのような輝尽性蛍光体蒸着層は発光量が増加する。
【００３８】
次に、図１に示すような蒸着装置を用いて基板（支持体）上に本発明の輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換パネルの製造方法について説明する。
【００３９】
図１は、本発明の輝尽性蛍光体層の形成に用いられる蒸着装置の一例を示す概略図である。
【００４０】
図１に示すように、蒸着装置１は、真空容器２と、該真空容器２内に設けられた基板（支持体）上に蒸発源の蒸気を蒸着させる蒸発源ボートに挿入された蒸発源３と支持体を保持する支持体ホルダー４と、該支持体ホルダー４を蒸発源３に対して回転させることによって該蒸発源からの蒸気を蒸着させる支持体回転機構５と、真空容器２内の排気及び大気の導入を行う真空ポンプ６等を備えている。
【００４１】
蒸着源３は、輝尽性蛍光体を収容して抵抗加熱法で加熱するため、ヒータを巻いたアルミナ製のルツボに挿入されても良いし、高融点金属からなるヒータを有するボートに挿入されていても良い。
【００４２】
また、輝尽性蛍光体を加熱する方法は、抵抗加熱法以外にも電子ビームによる加熱、高周波誘導による加熱等の方法でも良いが、本発明においては抵抗加熱法が本発明の効果をより奏する点で好ましい。
【００４３】
また、蒸発源３は分子源エピタキシャル法による分子線源でもよい。
【００４４】
支持体回転機構５は例えば、支持体ホルダーを支持するとともに支持体ホルダー４を回転させる回転軸５ａと真空容器２外に配置された回転軸５ａの軌道源となるモータ（図示せず）等から構成されている。
【００４５】
また、支持体ホルダ４には、支持体１１を加熱するヒータ（図示せず）をそなえていることが好ましい。
【００４６】
支持体１１を加熱することによって、支持体１１表面の吸着物を離脱、除去し、支持体１１の表面と輝尽性蛍光体との間に不純物層が形成されるのを防止したり、支持体と輝尽性蛍光体層の密着性の強化や輝尽性蛍光体層の膜質調整をすることができる。
【００４７】
更に、本発明の輝尽性蛍光体の製造に使用する製造装置は支持体１１と蒸発源３との間に、蒸発源３から支持体１１に至る空間を遮断するシャッタ７を設けることを特徴としており、基板上に蒸着源３を蒸着して輝尽性蛍光体層を形成し、その後、後述する封止をし、本発明の放射線画像変換パネルを得るっことができる。
【００４８】
前記シャッタを設けることにより、輝尽性蛍光体が蒸着の初期段階で蒸発し、支持体に突起状に付着することを防ぐことができる。
【００４９】
このように構成された、蒸着装置１を用いて、開閉可能なシャッタを閉じた状態で加熱を開始し、一定時間経過後にシャッタ７を開いて支持体（基板）１１に輝尽性蛍光体層を形成するには、まず、支持体ホルダ４に支持体を取り付ける。
【００５０】
注いで、真空容器２内を真空排気する。その後、支持体回転機構５により、支持体ホルダ４を蒸発源３に対してして回転させ、蒸着可能な真空度１０-1Ｐａ〜１０-4Ｐａに真空容器２が達し、加熱されて一定時間後の蒸発源３から輝尽性蛍光体を蒸発させて、支持体１１の表面に輝尽性蛍光体層を所望の膜厚に成長させることができる。この場合において、支持対１１の表面と、蒸発源との距離を１００〜１５００ｍｍにするのが好ましい。
【００５１】
また、本発明においては、加熱して蒸発源が全て蒸発するのに要する時間をＴとするとき、加熱開始後１／３Ｔ〜２／３Ｔ経過時にシャッタを開いて基板上に蛍光体を蒸着することを特徴とする請求項１に記載の放射線画像変換パネルの製造方法が、本発明の効果をより奏する点で好ましい。
【００５２】
また、蒸着するにあたり、蒸着時必要に応じて、被蒸着体（支持体又は中間層）を加熱しても良い。
【００５３】
また、蒸着は必要に応じＯ2、Ｈ2等のガスを導入して蒸着する反応性蒸着を行っても良い。
【００５４】
このようにして、輝尽性蛍光体からなる柱状結晶がほぼ厚み方向に成長した層が得られる。蛍光体層の層厚は、通常は５０〜１０００μｍの範囲にあり、好ましくは２００μｍ〜７００ｍｍの範囲にある。
【００５５】
なお、上記本発明の方法において蒸着装置は、図１に示した装置に限定されるものではなく、基板上への蒸着を遮断しうるシャッタを備えた装置であればよい。
【００５６】
あるいは、上記輝尽性蛍光体からなる蒸着膜を形成するに先立って、蛍光体母体成分のみからなる蒸着膜を形成してもよい。これによって、柱状結晶性の良好な蒸着膜を得ることができる。なお、蛍光体からなる蒸着膜中の賦活剤など微量成分は、特に蒸着時の加熱および／または蒸着後の加熱処理によって、蛍光体母体からなる蒸着膜中に拡散するために、両者の境界は必ずしも明確ではない。
【００５７】
この様にして支持体上に形成した輝尽性蛍光体層は、結着剤を含有していないので、指向性に優れており、輝尽励起光及び輝尽発光の指向性が高く、輝尽性蛍光体を結着剤中に分散した分散型の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルより層厚を厚くすることができる。更に輝尽励起光の輝尽性蛍光体層中での散乱が減少することで像の鮮鋭性が向上する。
【００５８】
また、柱状結晶間の間隙に結着剤等充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層の補強となるほか、高光吸収の物質、高光反射率の物質等を充填してもよい、これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。
【００５９】
高反射率の物質とは、輝尽励起光（５００〜９００ｎｍ、特に６００〜８００ｎｍ）に対する反射率の高い物質のことをいい、例えば、アルミニウム、マグネシウム、銀、インジウム、その他の金属等、白色顔料及び緑色〜赤色領域の色材を用いることができる。白色顔料は輝尽発光も反射することができる。
【００６０】
白色顔料としては、例えば、ＴｉＯ2（アナターゼ型、ルチル型）、ＭｇＯ、ＰｂＣＯ３・Ｐｂ（ＯＨ）2、ＢａＳＯ4、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ（II）ＦＸ（但し、Ｍ（II）はＢａ、Ｓｒ及びＣａの各原子から選ばれるの少なくとも一種の原子であり、ＸはＣｌ原子又はＢｒ原子である。）、ＣａＣＯ3、ＺｎＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、リトポン（ＢａＳＯ4・ＺｎＳ）、珪酸マグネシウム、塩基性珪硫酸塩、塩基性燐酸鉛、珪酸アルミニウムなどがあげられる。
【００６１】
これらの白色顔料は隠蔽力が強く、屈折率が大きいため、光を反射したり、屈折させることにより輝尽発光を容易に散乱し、得られる放射線画像変換パネルの感度を顕著に向上させることができる。
【００６２】
また、高光吸収率の物質としては、例えば、カーボンブラック、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄など及び青の色材が用いられる。このうちカーボンブラックは輝尽発光も吸収する。
【００６３】
また、本発明の輝尽性蛍光体層は保護層を有していても良い。
【００６４】
保護層は保護層用塗布液を輝尽性蛍光体層上に直接塗布して形成してもよいし、あらかじめ別途形成した保護層を輝尽性蛍光体層上に接着してもよい。あるいは別途形成した保護層上に輝尽性蛍光体層を形成する手段を取ってもよい。
【００６５】
保護層の材料としては、酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等の通常の保護層用材料が用いられる。他に透明なガラス基板を保護層としてもちいることもできる。
【００６６】
また、この保護層は蒸着法、スパッタリング法等により、ＳｉＣ、ＳｉＯ2、ＳｉＮ、Ａｌ2Ｏ3等の無機物質を積層して形成してもよい。
【００６７】
これらの保護層の層厚は０．１〜２０００μｍが好ましい。
【００６８】
本発明の輝尽性蛍光多層を有する支持体の封止方法は後述する実施例記載の積層保護フィルムＡ（熱融着なし）を２枚用いて袋状にして、輝尽性蛍光体板を減圧しながら包み、蛍光体層面側の蛍光体周縁より外側にある領域で基板と保護フィルムを熱融着性シートを用いて融着し、その後裏面の保護フィルムを除去して封止する構造であることが好ましい。
【００６９】
ここでいう熱融着性フィルムとは、一般に使用されるインパルスシーラーで融着可能な樹脂フィルムのことで、例えばエチレン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）やポリプロピレン（ＰＰ）フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィルム等が挙げられるが、本発明はこれらに限られるものではない。
【００７０】
保護フィルムの表面形状は、使用する樹脂フィルムを選択することや、樹脂フィルム表面に無機物等を含んだ塗膜を塗設することで容易に調整できる。また、この塗膜を着色し、励起光吸収層とすることも可能である。さらに近年では任意の表面形状の樹脂フィルムは容易に入手可能である。
【００７１】
前述のように、励起光吸収層放射線画像変換パネルの保護フィルムを着色し、散乱光や反射光を抑制し、鮮鋭性を向上させる方法については、特公昭５９−２３４００号に、放射線画像変換パネルを構成する支持体、下引層、蛍光体層、中間層、保護層の各層が着色された場合の種々の実施形態の一例として記載されている。
【００７２】
本発明において放射線画像変換パネルの保護層に好ましく使用される着色剤としては、該放射線画像変換パネルの励起光を吸収する特性を有する色剤が好ましく用いられる。
【００７３】
好ましくは、保護フィルムの励起光波長における光透過率が、該励起光吸収層を有しないことだけが異なる該保護フィルムの光透過率の９８％〜５０％（例えば、Ｈｅ−Ｎｅレーザー光（６３３ｎｍ））となるように励起光吸収層を設けることである。光透過率が９８％を超えると本発明の効果は小さく、５０％未満では放射線画像変換パネルの輝度が急激に低下してくる。
【００７４】
いかなる着色剤を用いるかは放射線画像変換パネルに用いる輝尽性蛍光体の種類によって決まるが、放射線画像変換パネル用の輝尽性蛍光体としては、通常、波長が４００〜９００ｎｍの範囲にある励起光によって３００〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体が用いられる。このため、着色剤としては通常、青色〜緑色の有機系もしくは無機系の着色剤が用いられる。
【００７５】
青色〜緑色の有機系着色剤の例としては、ザボンファーストブルー３Ｇ（ヘキスト社製）、エストロールブリルブルーＮ−３ＲＬ（住友化学社製）、スミアクリルブルーＦ−ＧＳＬ（住友化学社製）、Ｄ＆ＣブルーＮｏ．１（ナショナル・アニリン社製）、スピリットブルー（保土谷化学社製）、オイルブルーＮｏ．６０３（オリエント社製）、キトンブルーＡ（チバ・ガイギー社製）、アイゼンカチロンブルーＧＬＨ（保土谷化学社製）、レイクブルーＡ、Ｆ、Ｈ（協和産業社製）、ローダリンブルー６ＧＸ（協和産業社製）、ブリモシアニン６ＧＸ（稲畑産業社製）、ブリルアシッドグリーン６ＢＨ（保土谷化学社製）、シアニンブルーＢＮＲＳ（東洋インキ社製）、ライオノルブルーＳＬ（東洋インキ社製）が挙げられる。青色〜緑色の無機系着色剤の例としては、群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、ＴｉＯ2−ＺｎＯ−ＣｏＯ−ＮｉＯ系顔料が挙げられるがこれらに限られるものではない。
【００７６】
支持体（基板）としては、例えば、炭素繊維強化樹脂（ＣＦＲＰ）、ＣＦＲＰコンポジット、アルミニウム板、石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラス、結晶化ガラスなどの板ガラス、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッソ樹脂フィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、シンジオタクティックポリスチレン（ＳＰＳ）フィルム等のプラスチックフィルム、鉄、銅、クロム等の金属シートを併用しても良い。
【実施例】
【００７７】
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【００７８】
実施例１
《放射線画像変換パネル１の作製》
以下に記載の方法に従って、輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネル１を作製した。
【００７９】
（輝尽性蛍光体板の作製）
厚さ２ｍｍ厚、５００ｍｍ角サイズの炭素繊維強化樹脂板（東邦テナックス製ＣＦＲＰ＃１６７Ａ，含侵樹脂硬化エポキシ樹脂）に厚さ０．７ｍｍ、５００ｍｍ角サイズのアルミ板（住友軽金属Ａ１１００  ＸＬタイプ）を耐熱両面テープで貼り付け、基板を作製した。
【００８０】
これを図１の蒸着装置の真空チャンバー中に基板と蒸着源の距離が６０ｃｍになるようにセットした後、ＣｓＢｒ：０．００１Ｅｕを有するアルカリハライド蛍光体を蒸着ルツボに入れ、真空チャンバー中にアルゴンガスを導入し、真空度を０．１Ｐａとした後、基板を回転させながら基板温度を８０℃とし、蒸着ルツボ内液温を徐々にあげ（６００〜８００℃）、加熱開始から３５分後にルツボ上のシャッタを明けて蒸着を行い、４００μｍ厚の柱状構造を有する輝尽性蛍光体板を作製した。
【００８１】
（防湿性封止フィルムの作製）
下記構成で表されるアルミナ蒸着ポリエチレンテレフタレート樹脂層を含む積層保護フィルムＡを作製した。
【００８２】
積層保護フィルムＡ：ＶＭＰＥＴ１２／／／ＶＭＰＥＴ１２／／／ＰＥＴ
積層保護フィルムＡにおいて、ＶＭＰＥＴは、アルミナ蒸着したポリエチレンテレフタレート（市販品：東洋メタライジング社製）を表し、ＰＥＴはポリエチレンテレフタレートを表す。
【００８３】
また、上記「／／／」は、ドライラミネーション接着層における２液反応型のウレタン系接着剤層の厚みが３．０μｍであることを表し、各樹脂フィルムの後に表示した数字は、各フィルムの膜厚（μｍ）を表す。
【００８４】
上記の保護フィルムを２枚使って袋状にして、輝尽性蛍光体板を減圧しながら包み、蛍光体面側の蛍光体周縁より外側にある領域で、基板と保護フィルムを融着機を使って融着し、裏面の保護フィルムは除去して放射線画像変換パネル１（試料Ｎｏ．１）を作製した。
【００８５】
実施例２〜４、比較例１、２の放射線画像変換パネル２〜６（試料Ｎｏ．２〜試料Ｎｏ．６）の作製
シャッタを開くタイミングを表１のように変更した以外は放射線画像変換パネル１と同様にして放射線画像変換パネル２〜６（試料Ｎｏ．２〜試料Ｎｏ．６）を作製した。
【００８６】
上記得られた各放射線画像変換パネルについて以下のような評価を行った。
【００８７】
感度と鮮鋭度は両方共、値が大きい方が優れている。
【００８８】
（感度の評価）
感度の測定は放射線画像変換パネルに管電圧８０ｋＶｐのＸ線を１０ｍＡｓで爆射線源とプレート間距離２ｍで照射した後、Ｒｅｇｉｕｓ３５０にパネルを設置して読みとった。得られたフォトマルからの電気信号を元に評価を行った。表中の感度は蛍光体面全体の平均値であり、試料１の感度を１．００とした場合の相対感度である。
【００８９】
（鮮鋭度の評価）
鮮鋭度は、変調伝達関数を求めて評価した。
【００９０】
放射線画像変換パネル試料にＣＴＦチャートを貼付した後、放射線画像変換パネル試料に８０ｋＶｐのＸ線を１０ｍＡｓ（被写体までの距離：１．５ｍ）照射した後、１００μｍφの直径の半導体レーザ（６８０ｎｍ：パネル上でのパワー４０ｍＷ）を用いてＣＴＦチャート像を走査読み取りして求めた。表の値は、２．０ｌｐ／ｍｍのＭＴＦ値を示した。値が大きいほど鮮鋭度がよい。
【００９１】
（画像欠陥（突起レベル）の評価）
輝尽性蛍光体層表面を電子顕微鏡で観察し突起の数を数えて評価した。
【００９２】
○：突起の数２０未満
○△：突起の数２０〜４０未満
×：突起の数４０以上
【００９３】
【表１】
2006078244.tif 000002
【００９４】
表１から明らかなように、本発明の放射線画像変換パネルは、比較の放射線画像変換パネルに比して、画像欠陥（突起の数）が少なく、感度、鮮鋭性共に優れていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明の輝尽性蛍光体層の形成に用いる蒸着装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００９６】
１  蒸着装置
２  真空容器
３  授発源
４  支持体ホルダー
５  支持体回転機構
６  真空ポンプ
７  シャッタ
１１  支持体
【図１】
2006078244.tif 000003