(57)【要約】【課題】光を好適に拡散させることができ、かつ安価に製造され得る光拡散基板を提供すること、該光拡散基板の製造方法を提供すること、前記光拡散基板を備えた透過型スクリーンを提供すること、該透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】光拡散基板７は、光の出射面側表面にフレネルレンズ２１１が形成されたフレネルレンズ基板２１０と、フレネルレンズ基板２１０の出射面側に配置され、複数のマイクロレンズ８が形成されたマイクロレンズ基板１とを備える透過型スクリーン３３０に設けられるものである。この光拡散基板７の面７１には、表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下の凹凸７２が設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ基板と、該フレネルレンズ基板の出射面側に配置され、複数のレンズが形成されたレンズ基板とを備える透過型スクリーンに設けられる光拡散基板であって、
その少なくとも一方の面には、表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下の凹凸が設けられていることを特徴とする光拡散基板。
【請求項２】
前記光拡散基板の凹凸における凸部同士の平均ピッチは、１μｍ以下である請求項１に記載の光拡散基板。
【請求項３】
前記光拡散基板の凹凸における凸部同士の平均ピッチは、前記レンズ基板のレンズの平均直径の０．１〜５．０％である請求項１または２に記載の光拡散基板。
【請求項４】
前記光拡散基板の平均厚さは、１．０〜５．０ｍｍである請求項１ないし３のいずれかに記載の光拡散基板。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の光拡散基板を製造する方法であって、
凹凸が形成された面を有する型を前記光拡散基板となる原板の一方の面に押圧することにより、前記型の凹凸形状を前記原板の一方の面に転写して、前記光拡散基板を得ることを特徴とする光拡散基板の製造方法。
【請求項６】
前記型の凹凸は、ブラスト法により形成されたものである請求項５に記載の光拡散基板の製造方法。
【請求項７】
前記ブラスト法は、ウェットブラスト法である請求項６に記載の光拡散基板の製造方法。
【請求項８】
衝突させる粒子の平均粒径は、１０μｍ以下である請求項６または７に記載の光拡散基板の製造方法。
【請求項９】
光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ基板と、該フレネルレンズ基板の出射面側に配置され、複数のレンズが形成されたレンズ基板と、請求項１ないし４のいずれかに記載の光拡散基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１０】
前記レンズ基板は、マイクロレンズ基板である請求項９に記載の透過型スクリーン。
【請求項１１】
前記光拡散基板は、前記フレネルレンズ基板と前記レンズ基板との間に配置されている請求項９または１０に記載の透過型スクリーン。
【請求項１２】
前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の一方の面に設けられており、該面が前記レンズ基板に対向している請求項１１に記載の透過型スクリーン。
【請求項１３】
前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の一方の面に設けられており、該面が前記フレネルレンズ基板に対向している請求項１１に記載の透過型スクリーン。
【請求項１４】
前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の両方の面にそれぞれ設けられている請求項１１に記載の透過型スクリーン。
【請求項１５】
前記光拡散基板は、前記レンズ基板の出射面側に配置されている請求項９または１０に記載の透過型スクリーン。
【請求項１６】
前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の一方の面に設けられており、他方の面が前記レンズ基板に対向している請求項１５に記載の透過型スクリーン。
【請求項１７】
前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の一方の面に設けられており、該面が前記レンズ基板に対向している請求項１５に記載の透過型スクリーン。
【請求項１８】
前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の両方の面にそれぞれ設けられている請求項１５に記載の透過型スクリーン。
【請求項１９】
前記レンズ基板のレンズは、前記フレネルレンズ基板側に設けられている請求項９ないし１８のいずれかに記載の透過型スクリーン。
【請求項２０】
請求項９ないし１９のいずれかに記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光拡散基板、光拡散基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタ（プロジェクタ）は、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。このリア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンとしては、レンチキュラレンズを有するものが、例えば特許文献１、特許文献２および特許文献３に開示されている。
特許文献１に記載の透過型スクリーンは、レンチキュラレンズ基板（透明支持体にレンチキュラシートのレンズが支持されたもの）と、当該レンチキュラレンズ基板における光の出射側に設けられた光拡散層（拡散層）と、レンチキュラレンズ基板と光拡散層との間に設けられた遮光層（ブラックストライプ）とを有している。このような透過型スクリーンは、当該透過型スクリーンに入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）を遮光層によって、遮光するよう構成されている。これにより、レンチキュラレンズ基板や光拡散層から出射する光を好適に拡散させることができる、すなわち、コントラストを向上させることができる。
【０００３】
しかしながら、特許文献１の透過型スクリーンでは、当該透過型スクリーンを製造するとき、遮光層を設ける工程が必須となり、よって、製造コストが高くなるという問題があった。また、この透過型スクリーンでは、レンチキュラレンズ基板に対する遮光層の位置精度が不十分である場合には、前記外光を確実に遮光するのが困難となり、よって、レンチキュラレンズ基板からの光を十分に（好適に）拡散させることが困難となるという問題があった。
【０００４】
また、特許文献２に記載の透過型スクリーンは、レンチキュラレンズ基板と、当該レンチキュラレンズ基板に設けられた光吸収層（遮光部）とを有している。このような透過型スクリーンは、当該透過型スクリーンに入射する外光を光吸収層（着色層）によって、吸収（遮光）するよう構成されている。これにより、レンチキュラレンズ基板から出射する光を好適に拡散させることができる。
【０００５】
しかしながら、特許文献２の透過型スクリーンでは、当該透過型スクリーンを製造するとき、光吸収層を設ける工程が必須となり、よって、製造コストが高くなるという問題があった。
また、特許文献３に記載の透過型スクリーンは、フレネルレンズ基板（フレネルレンズシート）と、当該フレネルレンズ基板における光の出射側に設けられたレンチキュラレンズ基板とを有している。このレンチキュラレンズ基板のレンズ凸部表面には、微細な凹凸が形成されている。これにより、レンチキュラレンズ基板から出射する光を好適に拡散させることができる。
しかしながら、特許文献３の透過型スクリーンでは、当該透過型スクリーンを製造するとき、前記微細な凹凸を形成するための高度な技術を必要するため、製造コストが高くなるという問題があった。また、前記微細な凹凸の形成が不十分である場合には、レンチキュラレンズ基板からの光を好適に拡散させることが困難となるという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−３０１２０８号公報
【特許文献２】特開平５−３４８２９号公報
【特許文献３】特開平５−３１３２５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、光を好適に拡散させることができ、かつ安価に製造され得る光拡散基板を提供すること、該光拡散基板の製造方法を提供すること、前記光拡散基板を備えた透過型スクリーンを提供すること、該透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の光拡散基板は、光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ基板と、該フレネルレンズ基板の出射面側に配置され、複数のレンズが形成されたレンズ基板とを備える透過型スクリーンに設けられる光拡散基板であって、
その少なくとも一方の面には、表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下の凹凸が設けられていることを特徴とする。
これにより、光を好適に拡散させることができ、かつ安価に製造され得る光拡散基板を提供することができる。
【０００９】
本発明の光拡散基板では、前記光拡散基板の凹凸における凸部同士の平均ピッチは、１μｍ以下であることが好ましい。
これにより、光をより好適に拡散させることができる。
本発明の光拡散基板では、前記光拡散基板の凹凸における凸部同士の平均ピッチは、前記レンズ基板のレンズの平均直径の０．１〜５．０％であることが好ましい。
これにより、光をより好適に拡散させることができる。
【００１０】
本発明の光拡散基板では、前記光拡散基板の平均厚さは、１．０〜５．０ｍｍであることが好ましい。
これにより、回折光やモアレの発生をより効果的に防止・抑制することができる。
本発明の光拡散基板の製造方法は、本発明の光拡散基板を製造する方法であって、
凹凸が形成された面を有する型を前記光拡散基板となる原板の一方の面に押圧することにより、前記型の凹凸形状を前記原板の一方の面に転写して、前記光拡散基板を得ることを特徴とする。
これにより、光を好適に拡散させることができ、かつ安価に製造され得る光拡散基板を製造（提供）することができる。
【００１１】
本発明の光拡散基板の製造方法では、前記型の凹凸は、ブラスト法により形成されたものであることが好ましい。
これにより、型に粗面加工を安価に施すことができる、すなわち、型を安価に製作することができる。
本発明の光拡散基板の製造方法では、前記ブラスト法は、ウェットブラスト法であることが好ましい。
これにより、型に対する粗面加工を安価に施すことができる、すなわち、型を安価に製作することができる。
【００１２】
本発明の光拡散基板の製造方法では、衝突させる粒子の平均粒径は、１０μｍ以下であることが好ましい。
これにより、型に対する粗面加工をより安価に施すことができる、すなわち、型をより安価に製作することができる。
本発明の透過型スクリーンは、光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ基板と、該フレネルレンズ基板の出射面側に配置され、複数のレンズが形成されたレンズ基板と、本発明の光拡散基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、光を好適に拡散させることができ、かつ安価に製造され得る光拡散基板を製造することができる。
【００１３】
本発明の透過型スクリーンでは、前記レンズ基板は、マイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、透過型スクリーンが好適な視野角分布を有することができるとともに、モアレの発生を抑制することができる。
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散基板は、前記フレネルレンズ基板と前記レンズ基板との間に配置されていることが好ましい。
これにより、透過型スクリーンが好適な視野角分布を有することができるとともに、モアレの発生を抑制することができる。
【００１４】
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の一方の面に設けられており、該面が前記レンズ基板に対向していることが好ましい。
これにより、透過率の低下を防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の一方の面に設けられており、該面が前記フレネルレンズ基板に対向していることが好ましい。
これにより、透過率の低下を防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
【００１５】
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の両方の面にそれぞれ設けられていることが好ましい。
これにより、透過率の低下をさらに防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散基板は、前記レンズ基板の出射面側に配置されていることが好ましい。
これにより、光をより好適に拡散させることができる。
【００１６】
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の一方の面に設けられており、他方の面が前記レンズ基板に対向していることが好ましい。
これにより、光をより好適に拡散させることができる。
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の一方の面に設けられており、該面が前記レンズ基板に対向していることが好ましい。
これにより、透過率の低下を防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
【００１７】
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散基板の凹凸は、該光拡散基板の両方の面にそれぞれ設けられていることが好ましい。
これにより、透過率の低下をさらに防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
本発明の透過型スクリーンでは、前記レンズ基板のレンズは、前記フレネルレンズ基板側に設けられていることが好ましい。
これにより、透過型スクリーンが好適な視野角分布を有することができるとともに、モアレの発生を抑制することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、光を好適に拡散させることができ、かつ安価に製造され得るリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の透過型スクリーンの光学系の第１実施形態を模式的に示す縦断面図、図２は、図１に示す透過型スクリーンの分解斜視図、図３は、型を製造する工程を模式的に示す縦断面図、図４は、図３に示す型を用いて光拡散基板を製造する工程を模式的に示す縦断面図、図５は、本発明のリア型プロジェクタを模式的に示す図である。なお、図１、図４は、光拡散基板を模式的に示す図であり、実際の寸法を反映するものではない（後述する図６〜図８、図１０および図１１についても同様）。すなわち、光拡散基板に対する凹凸の大きさが実際より大きくなるように示している。
【００１９】
図１に示す透過型スクリーン３３０は、フレネルレンズ基板２１０と、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１と、光拡散基板７とを備えている。以下、各部の構成について説明する。
フレネルレンズ基板２１０は、光の出射面側表面に複数のフレネルレンズ２１１が形成されたものである。これらのフレネルレンズ２１１は、フレネルレンズ基板２１０の面方向（図２中の上下方向および左右方向）に沿って、規則的に配置（配列）されているのが好ましい。
【００２０】
図１および図２に示すように、透過型スクリーン３３０では、マイクロレンズ基板１は、フレネルレンズ基板２１０の出射面側、すなわち、フレネルレンズ２１１が形成されている面側に対向して配置されている。
このマイクロレンズ基板１は、光の入射面側表面、すなわち、フレネルレンズ基板２１０側表面に複数のマイクロレンズ（レンズ）８が形成されたものである。このようにマイクロレンズ８がフレネルレンズ基板２１０側に設けられて（位置して）いることにより、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン３３０）が好適な視野角分布を有することができるとともに、モアレの発生を防止または抑制することができる。
また、これらのマイクロレンズ８は、マイクロレンズ基板１の面方向（図２中の上下方向および左右方向）に沿って、規則的に配置されているのが好ましい。
【００２１】
図２（図１も同様）に示すように、透過型スクリーン３３０では、光拡散基板７は、フレネルレンズ基板２１０とマイクロレンズ基板１との間に配置（介挿）されている。これにより、フレネルレンズ２１１を通過した光はいったん光拡散基板７で拡散された後にマイクロレンズ基板１に入射されるようになる。その結果、規則的な干渉パターンの発生が防止・抑制され、フレネルレンズ基板２１０とマイクロレンズ基板１におけるモアレの発生が防止・抑制される。
【００２２】
図１に示すように、光拡散基板７におけるマイクロレンズ基板１に対向している面７１には、微小な凹凸７２がランダムに設けられている、すなわち、粗面加工が施されている。また、光拡散基板７におけるフレネルレンズ基板２１０に対向している面７３は、平面状をなしている。
面７１（凹凸７２）は、その表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下となっている。また、この表面粗さＲｚは、０．０１〜０．３μｍであるのが好ましく、０．０５〜０．１μｍであるのがより好ましい。
【００２３】
表面粗さＲｚが上記のような関係を満足することにより、光を好適に拡散させることができ、よって、たとえ少ない光源でも、透過型スクリーン３３０の正面輝度（ゲイン）を増加させることができる。このように、透過型スクリーン３３０は、省エネルギに対して有効である。
また、表面粗さＲｚが上記のような関係を満足することにより、後述するリア型プロジェクタ３００に用いられるような大きな面７１に粗面加工を施すときのコストを抑制（低減）することができ、よって、光拡散基板７を容易かつ安価に製造することができる。
【００２４】
面７１の凹凸７２には、例えば他の凸部より大きく突出した凸部が形成されている場合がある。このため、面７１の表面粗さに十点平均粗さを用いることにより、面７１において、均一な表面粗さを設定することができる。
また、光拡散基板７の凹凸７２における凸部同士の平均ピッチ（図１中、Ｐで示す長さ）は、１μｍ以下であるのが好ましい。平均ピッチＰが上記のような関係を満足することにより、光をより好適に拡散させることができる。
【００２５】
また、平均ピッチＰは、マイクロレンズ８の平均直径（図１中、φＤで示す長さ）の  ０．１〜５．０％であるのが好ましく、０．１〜１．０％であるのがより好ましい。平均ピッチＰが上記のような関係を満足することにより、光をより好適に拡散させることができる。また、拡散した光がマイクロレンズ８（マイクロレンズ基板１）に好適に入射することができる。
【００２６】
また、光拡散基板７の平均厚さ（図２中、ｔで示す長さ）は、フレネルレンズ基板２１０およびマイクロレンズ基板１の厚さ以下であることが好ましい。その値（平均厚さｔ）としては、例えば、１．０〜５．０ｍｍである。平均厚さｔが上記のような関係を満足することにより、フレネルレンズ基板２１０とマイクロレンズ基板１との間隔を短くすることができ、内部拡散によるゴーストの発生、コントラスト低下および透過率の低下を防止・抑制することができる。
また、光拡散基板７の構成材料（成形材料）としては、特に限定されず、例えば、各種ガラス、プラスチックが挙げられる。
【００２７】
次に、このような光拡散基板７を製造（成形）する方法について説明する。
まず、光拡散基板７を成形するときに用いる金型（型）４００を製作（製造）する。
図３（ａ）に示すように、ウェットブラスト法（ブラスト法）によって、金型４００となる原板４０１の表面（鏡面）４０２に粗面加工を施す。これにより、図３（ｂ）に示すように、表面４０２に微小な凹凸４０３が形成され、金型４００を得る。
【００２８】
このようにウェットブラスト法を用いることにより、表面４０２に粗面加工を安価に（容易に）施すことができる、すなわち、金型４００を安価に製作する（得る）ことができる。
なお、ウェットブラスト法における表面４０２に衝突させる粒子５００の平均粒径は、１０μｍ以下であるのが好ましく、１〜５μｍであるのがより好ましい。これにより、表面４０２に粗面加工をより安価に施すことができる、すなわち、金型４００をより安価に製作することができる。
【００２９】
また、粒子５００の構成材料としては、特に限定されず、例えば、主としてアルミナ、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素等で構成されたものであるのが好ましい。
また、金型４００（原板４０１）の構成材料としては、特に限定されず、例えば、耐熱鋼、超硬合金、セラミックス等が挙げられる。
また、原板４０１の表面４０２には、予めメッキ処理（例えば、ニッケル電鋳）が施されていてもよい。
【００３０】
次に、金型４００を用いて光拡散基板７を製造する。
図４（ａ）に示すように、金型４００における凹凸４０３が形成された面４０２を、光拡散基板７となる原板７０の面７１に対向させる。
次に、図４（ｂ）に示すように、金型４００を加熱しつつ、金型４００の面４０２を原板７０の面７１に押圧する。これにより、金型４００の面４０２における凹凸形状が原板７０の面７１に転写される。
【００３１】
その後、図４（ｃ）に示すように、離型することにより、面７１に凹凸７２が形成された光拡散基板７が得られる。
このように、光拡散基板７は、転写法により成形される。これにより、光拡散基板７を確実に製造することができる。
さて、前述したように、透過型スクリーン３３０では、光拡散基板７の凹凸７２がマイクロレンズ基板１に対向している（図１参照）。これにより、透過率の低下を防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
【００３２】
以下、透過型スクリーン３３０を用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図５に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン３３０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、透過型スクリーン３３０に、光を好適に拡散させることができる光拡散基板７を用いているため、光を好適に拡散させることができ、表示品質の良い優れたリア型プロジェクタとなる。
【００３３】
以上説明したように、光拡散基板７においては凹凸７２が形成されているため、光を好適に拡散させることができ、かつ安価な光拡散基板７を製造することができる。
これにより、光拡散基板７を用いた透過型スクリーンやリア型プロジェクタは、光を好適に拡散させることができるものとなり、表示品質（コストパフォーマンス）の良い優れたものとなる。
【００３４】
＜第２実施形態＞
図６は、本発明の透過型スクリーンの光学系の第２実施形態を模式的に示す縦断面図である。
以下、この図を参照して本発明の透過型スクリーンの第２実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【００３５】
本実施形態は、光拡散基板を設置する向き（方向）が異なること以外は前記第１実施形態と同様である。
図６に示すように、透過型スクリーン３３０Ａでは、光拡散基板７の凹凸７２（面７１）がフレネルレンズ基板２１０に対向している。これにより、透過率の低下を防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
【００３６】
＜第３実施形態＞
図７は、本発明の透過型スクリーンの光学系の第３実施形態を模式的に示す縦断面図である。
以下、この図を参照して本発明の透過型スクリーンの第３実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【００３７】
本実施形態は、光拡散基板の形状が異なること以外は前記第１実施形態と同様である。
図７に示すように、透過型スクリーン３３０Ｂにおける光拡散基板７Ａの面７１および７３には、それぞれ、凹凸７２が設けられている。
このような透過型スクリーン３３０Ｂでは、光拡散基板７Ａの面７１の凹凸７２がマイクロレンズ基板１に対向しており、光拡散基板７Ａの面７３の凹凸７２がフレネルレンズ基板２１０に対向している。これにより、透過率の低下をさらに防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
なお、面７１の凹凸７２および面７３の凹凸７２は、少なくとも一方の凹凸７２が前記平均ピッチＰの数値範囲を満足していればよい。
【００３８】
＜第４実施形態＞
図８は、本発明の透過型スクリーンの光学系の第４実施形態を模式的に示す縦断面図、図９は、図８に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。
以下、これらの図を参照して本発明の透過型スクリーンの第４実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【００３９】
本実施形態は、光拡散基板を設置する位置が異なること以外は前記第１実施形態と同様である。
図８および図９に示すように、透過型スクリーン３３０Ｃの光拡散基板７は、マイクロレンズ基板１における光の出射面側、すなわち、マイクロレンズ８が形成されていない面側に配置されている。
【００４０】
また、透過型スクリーン３３０Ｃでは、光拡散基板７が、面７３がマイクロレンズ基板１に対向するように配置されている。換言すれば、透過型スクリーン３３０Ｃでは、光拡散基板７が、面７１が光拡散基板７における光の出射面となるように配置されている。
このような光拡散基板７の配置により、透過型スクリーン３３０Ｃに入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）を抑制（遮光）することができ、よって、光を好適に拡散させることができる、すなわち、コントラストを向上させることができる。
【００４１】
＜第５実施形態＞
図１０は、本発明の透過型スクリーンの光学系の第５実施形態を模式的に示す縦断面図である。
以下、この図を参照して本発明の透過型スクリーンの第５実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【００４２】
本実施形態は、光拡散基板を設置する向き（方向）が異なること以外は前記第４実施形態と同様である。
図１０に示すように、透過型スクリーン３３０Ｄでは、光拡散基板７の凹凸７２がマイクロレンズ基板１に対向している。これにより、透過率の低下を防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
【００４３】
＜第６実施形態＞
図１１は、本発明の透過型スクリーンの光学系の第６実施形態を模式的に示す縦断面図である。
以下、この図を参照して本発明の透過型スクリーンの第６実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【００４４】
本実施形態は、光拡散基板の形状が異なること以外は前記第４実施形態と同様である。
図１１に示すように、透過型スクリーン３３０Ｅにおける光拡散基板７Ｂの面７１および７３には、それぞれ、凹凸７２が設けられている。
このような透過型スクリーン３３０Ｅでは、光拡散基板７Ａの面７３の凹凸７２がマイクロレンズ基板１に対向している。これにより、透過率の低下をさらに防止・抑制することで輝度を向上させることができる。
【００４５】
以上、本発明の光拡散基板、光拡散基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
また、透過型スクリーン３３０は、マイクロレンズ基板を有するのに限定されず、例えば、マイクロレンズ基板に代えてレンチキュラレンズ基板を有していてもよい。
【００４６】
また、透過型スクリーン３３０では、マイクロレンズがフレネルレンズ基板側に設けられているのに限定されず、フレネルレンズ基板側と反対側に設けられていてもよい。
また、透過型スクリーン３３０では、光拡散基板がフレネルレンズ基板とマイクロレンズ基板との間に配置されている、または光拡散基板がマイクロレンズ基板の出射面側に配置されているのに限定されず、例えば、フレネルレンズ基板とマイクロレンズ基板との間、およびマイクロレンズ基板の出射面側にそれぞれ、光拡散基板が配置されていてもよい。
【００４７】
また、金型の凹凸は、ウェットブラスト法により形成されるのに限定されず、例えば、ドライブラスト法、ショットブラスト法、フォトリソグラフィ、機械加工（例えば、機械切削）等により形成されてもよい。
また、光拡散基板の内部には、例えば、シリカやガラス等で構成された粒子状の光拡散材を分散させてもよい。
【００４８】
また、マイクロレンズ基板のマイクロレンズ、およびマイクロレンズが形成されていない面の少なくとも一方に、光拡散基板に形成された凹凸と同様の凹凸が設けられていてもよい。例えばマイクロレンズ基板の両方の面に光拡散基板の凹凸と同様の凹凸が設けられた場合、透過型スクリーンにおけるコントラストを、通常２〜４％向上させることができる。
また、前述した説明では、本発明の光拡散基板を、透過型スクリーンおよび該透過型スクリーンを備えた投射型表示装置に用いた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明の光拡散基板を、例えば、ＣＣＤ、光通信素子等の各種電気光学装置、液晶表示装置（液晶パネル）、有機または無機ＥＬ（Electro luminescence：エレクトロルミネッセンス）表示装置、その他の装置等に用いることができるのは言うまでもない。
また、表示装置もリアプロジェクション型の表示装置（リア型プロジェクタ）に限定されず、例えば、フロントプロジェクション型の表示装置に本発明の光拡散基板を用いることができる。
【実施例】
【００４９】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．光拡散基板の製造
以下のようにして、それぞれ、Ｎｏ．１〜８の光拡散基板を製造した。
（Ｎｏ．１）
まず、光拡散基板を製造するための金型を、以下に示すようにして製造した。
【００５０】
金型となる原板として、縦１１５０ｍｍ×横６５０ｍｍ×厚さ２ｍｍの板部材を用意した。また、この原板の表面は、スルファミン酸ニッケル溶液を用いたニッケル電鋳で形成（構成）されている。
次いで、図３に示すように、金型の原板の表面全体に、ウェットブラスト法による粗面加工を施した。
【００５１】
なお、ウェットブラスト法における条件は、以下に示す通りである。
・ブラスト液（処理液）          ：アルミナ製の粒子（平均粒径：５μｍ）の水分散液
・ブラスト液を衝突させる際の圧力：０．２ＭＰａ
次に、得られた金型を用いて光拡散基板を製造した。
まず、光拡散基板となる原板として、縦１１００ｍｍ×横６２０ｍｍ×厚さ２．０ｍｍの板部材を用意した。
なお、この原板の構成材料は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）である。
【００５２】
次いで、この原板を、図４に示すように、金型に押し当てて光拡散基板を製造した。
原板材料であるポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のガラス転移温度に対して、約１０〜２０度高い温度領域で熱プレス転写を行なった。
以上のようにして、Ｎｏ．１の光拡散基板を製造した。
なお、得られた光拡散基板の表面粗さＲｚは、表１に示す通りであった。
【００５３】
（Ｎｏ．２〜６）
金型を製造する際に、異なる平均粒径の粒子の水分散液を用いた以外は、それぞれ、前記Ｎｏ．１と同様にして、光拡散基板を製造した。
なお、得られた各光拡散基板の表面粗さＲｚは、それぞれ、表１に示す通りであった。
（Ｎｏ．７）
図７に示すような光拡散基板（双方の面が荒れたもの）を、前記Ｎｏ．３と同様にして製造した。
なお、得られた光拡散基板の表面粗さＲｚは、表１に示す通りであった。
（Ｎｏ．８）
金型を製造する際に、異なる平均粒径（平均粒径：５０μｍ）の粒子の水分散液を用いた以外は、前記Ｎｏ．１と同様にして、光拡散基板を製造した。
なお、得られた光拡散基板の表面粗さＲｚは、表１に示す通りであった。
【００５４】
２．レンズ基板の製造
（実施例１）
Ｎｏ．１の光拡散基板を用いて、図１に示す透過型スクリーンを製造した。
なお、フレネルレンズ基板およびマイクロレンズ基板の仕様は、それぞれ、以下に示す通りである。
【００５５】
・フレネルレンズ基板
構成材料：ガラス
平均厚さ：２ｍｍ
・マイクロレンズ基板
構成材料：ガラス
平均厚さ：２ｍｍ
【００５６】
（実施例２）
Ｎｏ．２の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、図１に示す透過型スクリーンを製造した。
（実施例３）
Ｎｏ．３の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、図１に示す透過型スクリーンを製造した。
【００５７】
（実施例４）
Ｎｏ．４の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、図１に示す透過型スクリーンを製造した。
（実施例５）
Ｎｏ．５の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、図１に示す透過型スクリーンを製造した。
【００５８】
（実施例６）
Ｎｏ．６の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、図１に示す透過型スクリーンを製造した。
（実施例７）
Ｎｏ．７の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、図７に示す透過型スクリーンを製造した。
【００５９】
（実施例８）
Ｎｏ．３の光拡散基板を用いた以外は、図８に示す透過型スクリーンを製造した。
なお、フレネルレンズ基板およびマイクロレンズ基板の仕様は、それぞれ、前記実施例１と同様である。
（実施例９）
Ｎｏ．７の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例８と同様にして、図１１に示す透過型スクリーンを製造した。
【００６０】
（比較例１）
Ｎｏ．８の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、図１に示す透過型スクリーンを製造した。
（比較例２）
Ｎｏ．８の光拡散基板を用いた以外は、前記実施例８と同様にして、図８に示す透過型スクリーンを製造した。
【００６１】
（比較例３）
前記実施例で用いた光拡散基板の原板を、光拡散基板として用いた以外は、前記実施例１と同様にして、図１に示す透過型スクリーンを製造した。
（比較例４）
前記実施例で用いた光拡散基板の原板を、光拡散基板として用いた以外は、前記実施例８と同様にして、図８に示す透過型スクリーンを製造した。
【００６２】
３．評価
各実施例および各比較例で製造されたレンズ基板について、それぞれ、拡散透過率およびヘイズ値（ＨＡＺＥ値：拡散透過率をＰｄ、全透過率をＰａとしたとき、（Ｐｄ／Ｐａ）×１００で表される値）を、それぞれ測定した。
また、各実施例および比較例１、２、４で製造された透過型スクリーンについて、比較例３で製造された透過型スクリーンの正面輝度に対する増加率を、それぞれ測定した。
【００６３】
なお、表面粗さＲｚは、電気的粗さ測定器を用いて測定した。
また、拡散透過率は、分光光度計により測定した。
また、全透過率は、分光光度計により測定した。
また、正面輝度は、光拡散基板（原板）における平坦な面側から光を照射し、そのときの値を照度計を用いて測定した。
これらの結果を、それぞれ、表１に示す。
【００６４】
【表１】
2006259642.tif 000003
【００６５】
表１に示すように、各実施例で製造されたレンズ基板では、いずれも、正面輝度の増加率が明らかに高いものであった。換言すれば、各実施例で製造された透過型スクリーンは、いずれも、光を好適に拡散させることができた。
また、表面粗さＲｚを設定することにより、正面輝度の増加率が大きくなる傾向をしまし、表面粗さＲｚを０．０５〜０．１の範囲に設定した光拡散基板を備える透過型スクリーンでは、正面輝度の増加率が特に高いものとなった。
これに対し、各比較例で製造された透過型スクリーンでは、いずれも、正面輝度の増加率が著しく劣るものであった。換言すれば、各比較例で製造された透過型スクリーンは、いずれも、光を好適に拡散させることが困難であった。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の透過型スクリーンの光学系の第１実施形態を模式的に示す縦断面図である。
【図２】図１に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。
【図３】型を製造する工程を模式的に示す縦断面図である。
【図４】図３に示す型を用いて光拡散基板を製造する工程を模式的に示す縦断面図である。
【図５】本発明のリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【図６】本発明の透過型スクリーンの光学系の第２実施形態を模式的に示す縦断面図である。
【図７】本発明の透過型スクリーンの光学系の第３実施形態を模式的に示す縦断面図である。
【図８】本発明の透過型スクリーンの光学系の第４実施形態を模式的に示す縦断面図である。
【図９】図８に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。
【図１０】本発明の透過型スクリーンの光学系の第５実施形態を模式的に示す縦断面図である。
【図１１】本発明の透過型スクリーンの光学系の第６実施形態を模式的に示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１……マイクロレンズ基板  ７、７Ａ、７Ｂ……光拡散基板  ７０……原板  ７１、７３……面  ７２……凹凸  ８…マイクロレンズ  ２１０……フレネルレンズ基板  ２１１……フレネルレンズ  ３００……リア型プロジェクタ  ３１０……投写光学ユニット  ３２０……導光ミラー  ３３０、３３０Ａ、３３０Ｂ、３３０Ｃ、３３０Ｄ、３３０Ｅ……透過型スクリーン  ３４０……筐体  ４００……金型  ４０１……原板  ４０２……表面  ４０３……凹凸  ５００……粒子
【図１】
2006259642.tif 000004
【図２】
2006259642.tif 000005
【図３】
2006259642.tif 000006
【図４】
2006259642.tif 000007
【図５】
2006259642.tif 000008
【図６】
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【図７】
2006259642.tif 000010
【図８】
2006259642.tif 000011
【図９】
2006259642.tif 000012
【図１０】
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【図１１】
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