(57)【要約】【課題】低粘度・超薄膜塗布の場合であっても、ウエブ幅方向に均一塗布を行うことができると共に、スジ故障等も発生しにくい。【解決手段】バックアップローラ１２に巻きがけ支持されて連続走行するウエブ１４表面に、塗布ヘッド１８のリップ先端１８Ａから塗布液を液架橋させてウエブ１４との間にビード２０を形成し、該ビード２０を介してウエブ表面に塗布液を塗布する塗布方法において、バックアップローラ１２の回転軸両端を回転自在に支持する一対の軸受２８のうちの少なくとも一方を、鉛直方向（Ｘ軸方向）及び／又は水平方向（Ｙ軸方向）に移動することにより、リップ先端１８Ａに対してバックアップローラ１２を位置決め微調整する。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を液架橋させて前記ウエブとの間にビードを形成し、該ビードを介して前記ウエブ表面に塗布液を塗布する塗布液の塗布方法において、
前記バックアップローラの回転軸両端を回転自在に支持する一対の軸受のうちの少なくとも一方を、鉛直方向（Ｘ軸方向）及び／又は水平方向（Ｙ軸方向）に移動することにより、前記リップ先端に対して前記バックアップローラを位置決め微調整することを特徴とする塗布液の塗布方法。
【請求項２】
前記ウエブに塗布液を塗布しながら前記バックアップローラの位置決め微調整を行うことを特徴とする請求項１の塗布液の塗布方法。
【請求項３】
前記リップ先端と前記バックアップローラとのクリアランスが１００μｍ以下であると共に、粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液を１０ｃｃ／ｍ2 以下の塗布量で塗布することを特徴とする請求項１又は２の塗布液の塗布方法。
【請求項４】
前記塗布ヘッドのリップ先端とバックアップローラに巻きがけ支持されるウエブとのウエブ幅方向におけるクリアランス分布が１０％以下になるようにして微調整することを特徴とする請求項１〜３の何れか１の塗布液の塗布方法。
【請求項５】
バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を液架橋させて前記ウエブとの間にビードを形成し、該ビードを介して前記ウエブ表面に塗布液を塗布する塗布液の塗布装置において、
前記バックアップローラの回転軸両端を回転自在に支持する一対の軸受は、前記バックアップローラの軸芯に対して直交する鉛直面上における鉛直方向（Ｘ軸方向）及び水平方向（Ｙ軸方向）に移動可能なＸ−Ｙテーブルを介して支柱にそれぞれ支持されていることを特徴とする塗布液の塗布装置。
【請求項６】
前記塗布ヘッドは、スロットダイ又はスライドダイであることを特徴とする請求項５の塗布液の塗布装置。
【請求項７】
前記支柱が前記塗布ヘッドのリップ先端に接近・退避可能な移動台の上に支持されていることを特徴とする請求項５又は６の塗布液の塗布装置。
【請求項８】
請求項１〜４の何れか１の塗布液の塗布方法を使用して、反射防止、防眩性、視野角拡大の何れかの高機能性薄層フィルムを製造することを特徴とする高機能性薄層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布液の塗布方法に係り、特に反射防止、防眩性、視野角拡大の何れかの高機能性薄層フィルムを製造するための低粘度・超薄膜塗布技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
スロットダイコータやスライドダイコータのような塗布装置は、バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を液架橋させてウエブとの間にビードを形成し、該ビードを介してウエブ表面に塗布液を塗布する。かかる塗布装置においては、ウエブ幅方向において均一な膜厚の塗布を行う上で、リップ先端とバックアップローラに巻きがけ支持されるウエブとのクリアランスをウエブ幅方向で均一に設定することが極めて重要である。
【０００３】
クリアランスを均一に調整する方法としては、特許文献１にみられるように、塗布ヘッドの架台の位置を微調整することが提案されている。これにより、塗布ヘッドを洗浄ゾーンから運んできて、新たに設置する際に、塗布ヘッドのリップ先端とバックアップローラとができるだけ平行になるように塗布ヘッドを位置決めするものである。また、特許文献２では、塗布ヘッドや架台は重量物であり、重量物をバックアップローラに対して急速に接近・退避させて、１００μｍ程度の極めて小さなクリアランスに調整することには限界があることから、バックアップローラを塗布ヘッドに対して接近・退避させることが提案されている。
【０００４】
ところで、液晶表示装置等に使用される反射防止、防眩性、視野角拡大等の高機能性薄層フィルムの製造は、これらの機能を有する塗布液をウエブに塗布することにより製造される。そして、近年は、高機能性薄層フィルムに所望の機能を高精度に発現させるために、従来の塗布液に比べて低粘度（例えば１０ｍＰａ・ｓ以下）で、超薄膜（例えば塗布量１０ｃｃ／ｍ2 以下）で塗布することが要求されている。かかる、低粘度・超薄膜塗布の場合には、塗布した後の塗布液のレベリング効果が期待できにくいことから、塗布時においてウエブ幅方向において如何に均一な塗布を行えるかが重要になる。一般的に高機能性薄層フィルムの場合、ウエブ幅方向の膜厚分布５％以下が要求される。
【特許文献１】特開２００３−３３７１０号公報
【特許文献２】特開昭６３−８０８７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、塗布液が塗布される数千メートルと長いウエブは、必ずしも平坦なものではなく、ウエブ幅方向の左右で厚み分布がある。また、ウエブはロール状に巻かれて保管されていることからウエブ幅方向の左右で伸びに差があることが多く、バックアップローラに支持された状態においてウエブ幅方向のテンションが異なることが多い。更には、塗布液の種類、ロット、塗布速度等によっても塗布状況が微妙に変化することがあり、特許文献１や特許文献２だけでは、ウエブ幅方向に均一塗布を行うことができないと共に、クリアランスの微調整が高精度に行われないとスジ故障が発生することがある。
【０００６】
このように、塗布ヘッドを洗浄ゾーンから運んできて新たに設置する場合における組み立て精度や熱歪みによる再現性の問題、塗布ヘッドや架台は重量物であり極めて小さなクリアランスを形成する作業には高精度な熟練を必要とする問題、更にはウエブ自体の厚み分布等による問題を解決するには、水平方向と鉛直方法の高精度な再現性を備えた位置決め制御を必要とするが、従来技術では達成することができない。
【０００７】
特に、上記した高機能性薄層フィルムのように、塗布ヘッドのリップ先端とバックアップローラに巻きがけ支持されるウエブとのクリアランスを１００μｍ以下に狭くして、低粘度・超薄膜塗布を行うと、ウエブ幅方向の膜厚分布、スジ故障の発生、塗り付け不良が発生しやすく、従来の技術だけでは、これらの欠点を解消することは難しい。例えば、ウエブ幅方向のクリアランス分布が１０％あると、ウエブ幅方向の膜厚分布は５％以上になり、高機能性薄層フィルムの要求を満足できない。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、バックアップローラの水平方向と鉛直方法の高精度な再現性を備えた位置決め制御が可能なので、低粘度・超薄膜塗布の場合であっても、ウエブ幅方向に均一塗布を行うことができると共に、スジ故障等も発生しにくい塗布液の塗布方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を液架橋させて前記ウエブとの間にビードを形成し、該ビードを介して前記ウエブ表面に塗布液を塗布する塗布液の塗布方法において、前記バックアップローラの回転軸両端を回転自在に支持する一対の軸受のうちの少なくとも一方を、鉛直方向（Ｘ軸方向）及び／又は水平方向（Ｙ軸方向）に移動することにより、前記リップ先端に対して前記バックアップローラを位置決め微調整することを特徴とする。
【００１０】
ウエブ幅方向左右におけるウエブ厚みの分布、ウエブ幅方向左右での伸びの違い、更には塗布液の種類、ロット、塗布速度等の多様な塗布状況に対応してウエブ幅方向の塗布厚みを均一化するには、従来のように塗布ヘッド又はバックアップローラを互いに接近・退避させる、いわゆる水平方向のみの調整では対応することができず、バックアップローラ両端個々において水平・鉛直方向に微妙な微調整が必要である。
【００１１】
本発明の請求項１によれば、バックアップローラの回転軸両端を回転自在に支持する一対の軸受のうちの少なくとも一方を、鉛直方向（Ｘ軸方向）及び／又は水平方向（Ｙ軸方向）に移動することにより、リップ先端に対してバックアップローラを位置決め微調整するようにしたので、バックアップローラ両端個々において水平・鉛直方向に微妙な微調整が可能となる。これにより、水平方向と鉛直方法の高精度な再現性を備えた位置決め制御が可能なので、ウエブ幅方向左右におけるウエブ厚みの分布、ウエブ幅方向左右での伸びの違い、更には塗布液の種類、ロット、塗布速度等の多様な塗布状況があっても、塗布ヘッドのリップ先端と、バックアップローラに巻き付け支持されたウエブとのウエブ幅方向の平行度を高精度に微調整することができる。従って、ウエブ幅方向の塗布厚みを均一化ができる。
【００１２】
請求項２は請求項１において、前記ウエブに塗布液を塗布しながら前記バックアップローラの位置決め微調整を行うことを特徴とする。
【００１３】
本発明は、バックアップローラの軸受を微量移動させる方法であり、従来のように塗布ヘッド全体やバックアップローラ全体を移動する方法ではないので、ウエブに塗布液を塗布しながらバックアップローラの位置決め微調整が可能になる。これにより、ウエブに塗布された塗布膜面の面質状態をモニタリングしながらバックアップローラの位置決め微調整が可能なので、ウエブ幅方向左右におけるウエブ厚みの分布、ウエブ幅方向左右での伸びの違い、更には塗布液の種類、ロット、塗布速度等の多様な塗布状況に対応し易い。尚、請求項２では、ウエブに塗布液を塗布しながらバックアップローラの位置決め微調整を行うことを特徴としたが、本発明は塗布せずに運転を停止した状態でもバックアップローラの位置決め微調整ができることは当然である。
【００１４】
請求項３は請求項１又は２において、前記リップ先端と前記バックアップローラとのクリアランスが１００μｍ以下であると共に、粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液を１０ｃｃ／ｍ2 以下の塗布量で塗布することを特徴とする。
【００１５】
このように、１００μｍ以下のクリアランス、１０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液粘度、１０ｃｃ／ｍ2 以下の塗布量で低粘度・超薄膜塗布する場合に本発明はより有効だからである。
【００１６】
請求項４は請求項１〜３の何れか１において、前記塗布ヘッドのリップ先端とバックアップローラに巻きがけ支持されるウエブとのウエブ幅方向におけるクリアランス分布が１０％以下になるようにして微調整することを特徴とする。
【００１７】
これは、ウエブ幅方向におけるクリアランス分布が１０％あるとウエブ幅方向の膜厚分布は５％以上になり、高機能性薄層フィルムの要求を満足できないからである。
【００１８】
請求項５は前記目的を達成するために、バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を液架橋させて前記ウエブとの間にビードを形成し、該ビードを介して前記ウエブ表面に塗布液を塗布する塗布液の塗布装置において、前記バックアップローラの回転軸両端を回転自在に支持する一対の軸受は、前記バックアップローラの軸芯に対して直交する鉛直面上における鉛直方向（Ｘ軸方向）及び水平方向（Ｙ軸方向）に移動可能なＸ−Ｙテーブルを介して支柱にそれぞれ支持されていることを特徴とする。
【００１９】
請求項５によれば、バックアップローラの回転軸両端を回転自在に支持する一対の軸受は、バックアップローラの軸芯に対して直交する鉛直面上における鉛直方向（Ｘ軸方向）及び水平方向（Ｙ軸方向）に移動可能なＸ−Ｙテーブルを介して支柱にそれぞれ支持されている。これにより、バックアップローラを塗布ヘッドのリップ先端に対して鉛直方向（Ｘ軸方向）・水平方向（Ｙ軸方向）させることができ、リップ先端と、バックアップローラに巻き付け支持されたウエブとのウエブ幅方向の平行度を高精度に微調整することができる。従って、リップ先端と、バックアップローラに巻き付け支持されたウエブとの間に形成されるウエブ幅方向のクリアランス分布を極めて小さくすることができるので、低粘度（例えば１０ｍＰａ・ｓ以下）・超薄膜（例えばウエット膜厚で１０μｍ以下）塗布の場合であっても、ウエブ幅方向に均一塗布を行うことができると共に、スジ故障等も発生しにくい。
【００２０】
請求項６は請求項５において、前記塗布ヘッドは、スロットダイ又はスライドダイであることを特徴とする。請求項６は、本発明を適用する代表的な塗布装置を挙げたものである。
【００２１】
請求項７は請求項５又は６において、前記支柱が前記塗布ヘッドのリップ先端に接近・退避可能な移動台の上に支持されていることを特徴とする。
【００２２】
これは、塗布ヘッドに対してバックアップローラを目標の位置にラフに位置決めしておいてから、Ｘ−Ｙテーブルで微調整する方が効率的だからである。
【００２３】
請求項８は前記目的を達成するために、請求項１〜４の何れか１の塗布液の塗布方法を使用して、反射防止、防眩性、視野角拡大の何れかの高機能性薄層フィルムを製造することを特徴とする。
【００２４】
本発明の塗布装置を使用した塗布方法は、反射防止、防眩性、視野角拡大の何れかの高機能性薄層フィルムを製造する際の塗布方法として、特に有効だからである。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の塗布液の塗布方法及び装置によれば、バックアップローラの水平方向と鉛直方法の高精度な再現性を備えた位置決め制御が可能なので、低粘度・超薄膜塗布の場合であっても、ウエブ幅方向に均一塗布を行うことができると共に、スジ故障等も発生しにくい。従って、液晶表示装置等に使用される反射防止、防眩性、視野角拡大等の高機能性薄層フィルムを製造する際の塗布方法として好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下添付図面に従って本発明に係る塗布液の塗布方法及び装置の好ましい実施の形態について説明する。
【００２７】
図１は、本発明の塗布液の塗布装置でスロットダイ方式の塗布ヘッドの場合の構成図であり、図２はＸ−Ｙテーブルを備えたバックアップローラ装置を示すものである。尚、本実施の形態では、スロットダイ方式の塗布ヘッドの例で説明するが、これに限定されるものではなく、塗布ヘッドとバックアップローラとの間に形成した塗布液のビードを介して塗布する塗布装置であれば適用できる。
【００２８】
図１及び図２に示すように、塗布装置１０は、バックアップローラ１２に支持されて連続走行するウエブ１４表面に、リップランド１６を近接配置させた塗布ヘッド１８のリップ先端１８Ａから塗布液を吐出してウエブ１４との間に液架橋してビード２０を形成する。そして、このビード２０を介して塗布液を連続走行するウエブ１４に塗布する。この場合、ビード２０のウエブ上流側を減圧する減圧チャンバ（図示せず）を設けることが好ましい。これにより、ビードを安定させることができる。
【００２９】
塗布ヘッド１８は架台１９に搭載されると共に、塗布ヘッド１８の内部には、マニホールド２２とスロット２４とが形成される。マニホールド２２は、塗布ヘッド１８に供給された塗布液をウエブ幅方向（塗布幅方向）に拡流する液溜め部であり、その断面が略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。マニホールド２２への塗布液の供給は、マニホールド２２の一端側から供給しても、マニホールド２２の中央部から供給してもよく、マニホールド２２の両端部には塗布液が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【００３０】
スロット２４は、マニホールド２２からスロット先端の開口２４Ａに至る狭隘な塗布液の流路であり、スロット２４の両端部には、塗布幅を規制する塗布幅規制板が挿入されることが一般的である。スロット２４の開口２４Ａが位置する塗布ヘッド１８のリップ先端１８Ａは先細り状に形成されており、その先端はリップランド１６と呼ばれる平坦部が形成される。
【００３１】
一方、バックアップローラ装置１１は、主として、バックアップローラ１２の回転軸２６両端を回転自在に支持する一対の軸受２８と、一対の軸受２８、２８をバックアップローラ１２の軸芯３０に対して直交する鉛直面上における鉛直方向（Ｘ軸方向）及び水平方向（Ｙ軸方向）に移動可能な一対のＸ−Ｙテーブル３２、３２と、一対のＸ−Ｙテーブル３２、３２を支持する一対の支柱３４、３４と、該支柱３４、３４を搭載して、塗布ヘッド１８に対して進退移動する移動機構３６とで構成される。
【００３２】
移動機構３６は、基台３８の上に一対の軌道レール４０、４０が平行に配設され、この軌道レール４０の上にリニアベアリング４２を介して移動台４４がスライド自在に支持され、この移動台４４の上に支柱３４が立設される。また、移動台４４の中央下面側には、ナット部材４６が固定されると共に、このナット部材４６にボールネジ４８が螺合される。そして、ボールネジ４８の一端が正逆回転可能なモータ５０の回転軸に連結される。これにより、モータ５０を正駆動するとバックアップローラ１２が塗布ヘッド１８側に接近移動し、モータ５０を逆駆動するとバックアップローラ１２が塗布ヘッド１８から離れる方向に退避移動する。この移動機構３６では、塗布ヘッド１８のリップ先端１８Ａとバックアップローラ１２に巻きがけ支持されたウエブ１４とのクリアランスＬ（図３参照）をラフに調整する役目を行う。
【００３３】
Ｘ−Ｙテーブル３２は、図３に示すように、支柱３４には、鉛直方向（Ｘ軸方向）に平行な一対のＸ軸軌道レール５２、５２が設けられ、このＸ軸軌道レール５２にリニアベアリング（図示せず）を介してＸ軸スライダ５４がスライド自在に支持される。このＸ軸スライダ５４の下側には、支柱３４に支持されると共にＸ軸スライダ５４をスライドさせるＸ軸アクチュエータ５６が設けられる。更に、Ｘ軸スライダ５４には、水平方向（Ｙ軸方向）に平行な一対のＹ軸軌道レール５８、５８が設けられ、このＹ軸軌道レール５８にリニアベアリング（図示せず）を介して軸受２８が支持される。この軸受２８の塗布ヘッド反対側には、Ｘ軸スライダ５４に支持されると共に軸受２８をスライドさせるＹ軸アクチュエータ６０が設けられる。これにより、Ｘ軸アクチュエータ５６を駆動すると、軸受２８は鉛直方向に微調整され、Ｙ軸アクチュエータ６０を駆動すると、軸受２８が水平方向に微調整される。
【００３４】
従って、一対のＸ−Ｙテーブル３２のＸ軸アクチュエータ５６及びＹ軸アクチュエータ６０のスライド量を色々変えることにより、塗布ヘッド１８のリップ先端１８Ａと、バックアップローラ１２に巻きがけ支持されたウエブ１４とのウエブ幅方向の平行度を高精度に微調整することができる。更には、リップ先端１８Ａのバックアップローラ１２に対する位置である塗布点の微調整も高精度に行うことができる。これにより、リップ先端１８Ａと、バックアップローラ１２に巻きがけ支持されたウエブ１４との間に形成されるウエブ幅方向のクリアランスＬの分布を極めて小さくすることができるので、低粘度（例えば１０ｍＰａ・ｓ以下）・超薄膜（例えば塗布量１０ｃｃ／ｍ2 以下）塗布の場合であっても、ウエブ幅方向に均一塗布を行うことができると共に、スジ故障等も発生しにくい。
【００３５】
また、塗布前に、リップ先端１８Ａと、バックアップローラ１２に巻きがけ支持されたウエブ１４とのウエブ幅方向の平行度を高精度に微調整することができるだけでなく、塗布運転中に、ウエブ１４に塗布される塗布膜の膜面状態を見ながら一対のＸ−Ｙテーブル３２で微調整することも可能である。
【００３６】
この場合、鉛直方向（Ｘ軸方向）・水平方向（Ｙ軸方向）には、それぞれ１μｍの精度で１００μｍのストローク幅、好ましくは２００μｍのストローク幅で移動可能なことが好ましい。従って、Ｘ軸アクチュエータ５６及びＹ軸アクチュエータ６０としては、圧電素子、電歪素子のような微動アクチュエータを、複数多段に設けたものを使用することが好ましい。
【００３７】
次に、上記の如く構成された塗布装置１０を用いた本発明の塗布方法の一例について説明する。
【００３８】
例えば、塗布ヘッド１８のリップ先端１８Ａとバックアップローラ１２に巻きがけ支持されるウエブ１４とのクリアランスＬを例えば１００μｍで塗布する場合、先ず移動機構３６により、クリアランスＬが１００μｍ程度になるようにバックアップローラ１２を移動させる。
【００３９】
次に、Ｘ−Ｙテーブル３２のＸ軸アクチュエータ及び／又はＹ軸アクチュエータを駆動して、バックアップローラ１２を回転自在に支持する少なくとも一方の軸受３２を鉛直方向（Ｘ軸方向）及び／又は水平方向（Ｙ軸方向）に移動して微調整し、ウエブ幅方向のクリアランスＬが１００μｍで均等になるようにする。クリアランスＬが１００μｍで均等になっているか否かは、例えばレーザー測定計、あるいは楔状のテーパゲージを使用して確認することができる。
【００４０】
Ｘ−Ｙテーブル３２による微調整が終了したら塗布運転を開始する。そして、塗布運転継続中に塗布膜面の面質をモニタリングし、面質が悪化するような場合には、塗布運転を継続したまま、Ｘ−Ｙテーブル３２を微調整し、面質を回復させる。
【００４１】
従来のように架台１９を含む塗布ヘッド１８全体やバックアップローラ１２全体のように重量物を塗布運転中に移動させて微調整をしようとすると移動による慣性力が大きいためにバックアップローラと塗布ヘッドとが衝突して破損する危険がある。しかし、本発明の場合には、Ｘ−Ｙテーブル３２でバックアップローラ１２の軸受２８を移動させて微調整するので、慣性力でバックアップローラ１２と塗布ヘッド１８とが衝突して破損する危険もなく、塗布運転中であっても高精度な微調整が可能である。
【００４２】
これにより、低粘度（例えば１０ｍＰａ・ｓ以下）・超薄膜（例えば塗布量１０ｃｃ／ｍ2 以下）塗布の場合であっても、ウエブ幅方向に均一塗布を行うことができると共に、スジ故障等も発生しにくい。更には、ウエブ幅方向左右におけるウエブ厚みの分布、ウエブ幅方向左右での伸びの違い、更には塗布液の種類、ロット、塗布速度等の多様な塗布状況があっても、塗布ヘッドのリップ先端と、バックアップローラに巻き付け支持されたウエブとのウエブ幅方向の平行度を高精度に微調整することができる。従って、液晶表示装置等に使用される反射防止、防眩性、視野角拡大等の高機能性薄層フィルムを製造する際の塗布方法として好適である。
【００４３】
尚、本発明の実施では、スロットダイ方式の塗布ヘッド１８の例で説明したが、スライドダイ方式の塗布ヘッドでもよい。スライドダイ方式の塗布ヘッドとは、塗布ヘッドのスロットからスライド面に吐出した塗布液をスライド面を流下させ、バックアップローラに巻きがけ支持されているウエブにスライド面先端から塗布する方式である。
【実施例】
【００４４】
以下、本発明の実施例を説明するが、これに限定されるものではない。
【００４５】
試験は、塗布ヘッド１８のリップ先端１８Ａに対してバックアップローラ１２に巻きがけ支持されたウエブ１４のウエブ幅方向の平行度をＸ−Ｙテーブルで微調整することにより、ウエブ幅方向の塗布量分布がどのように改善されるかを調べた。比較例としては、Ｘ−Ｙテーブルで微調整しないで塗布する場合である。
【００４６】
［実施例１］
実施例１における塗布液の組成及び塗布条件は表１の通りである。
【００４７】
【表１】
2006095455.tif 000003
【００４８】
（試験結果）
Ｘ−Ｙテーブル３２を微調整しない比較例１では、ウエブ幅方向の一端側と他端側との塗布量差が１０％あった。実施例１では比較例１での運転を一旦停止した後、一対のＸ−Ｙテーブル３２のうちの一方のＸ−Ｙテーブル３２のＹ軸アクチュエータ６０を駆動して軸受２８を水平方向に２０μｍ微調整してバックアップローラ１２の水平位置を位置決めし直した後に塗布を再開した。その結果、ウエブ幅方向の一端側と他端側との塗布量差が３％まで良化した。
【００４９】
［実施例２］
実施例２における塗布液の組成及び塗布条件は表２の通りである。
【００５０】
【表２】
2006095455.tif 000004
【００５１】
（試験結果）
Ｘ−Ｙテーブルを微調整しない比較例２では、ウエブ幅方向の一端側が液切れを起こして塗り付け不良が生じた。実施例２では比較例２の運転を継続しながら、一対のＸ−Ｙテーブル３２のうちの一方のＸ−Ｙテーブル３２のＹ軸アクチュエータ６０を駆動して軸受２８を水平方向に２０μｍ微調整し、更にＸ軸アクチュエータ５６を駆動して軸受２８を鉛直方向に３５μｍ微調整したところで液切れが停止し、その後安定塗布することができた。このように、本発明は、塗布装置を運転しながらでも塗布ヘッドのリップ先端に対するバックアップローラの位置決め微調整を行うことができる。従って、塗布膜面の面質状態をモニタリングしながらＸ−Ｙテーブルを駆動することで、最適な面質状態にすることができる。
【００５２】
［実施例３］
実施例３における塗布液の組成及び塗布条件は表３の通りである。
【００５３】
【表３】
2006095455.tif 000005
【００５４】
（試験結果）
Ｘ−Ｙテーブル３２を微調整しない比較例３では、ウエブ１４への塗布液の塗り付けが不安定で、ウエブ幅方向の全幅に渡ってビード２０が切れてしまうことが度々生じた。実施例３では比較例３の運転を継続しながら、両方のＸ−Ｙテーブル３２のＸ軸アクチュエータ５６を駆動して、両方の軸受２８を同じ８５μｍだけ鉛直方向下方にスライドさせたところ、良好な塗り付けを開始し、その後安定塗布することができた。
【００５５】
尚、本実施例２及び３では、塗布運転中にバックアップローラの微調整を行う例で示したが、塗布せずに運転を停止した状態でもバックアップローラの位置決め微調整ができることは当然である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の塗布液の塗布装置であって、塗布ヘッドとしてスロットダイ方式を使用した場合の全体構成図
【図２】バックアップローラ装置を説明する説明図
【図３】Ｘ−Ｙテーブルを説明する説明図
【符号の説明】
【００５７】
１０…塗布装置、１１…バックアップローラ装置、１２…バックアップローラ、１４…ウエブ、１６…リップランド、１８…スロットダイ方式の塗布ヘッド、２０…ビード、２２…マニホールド、２４…スロット、２６…回転軸、２８…軸受、３０…バックアップローラの軸芯、３２…Ｘ−Ｙテーブル、３４…支柱、３６…移動機構、３８…基台、４０…軌道レール、４２…リニアベリング、４４…移動台、４６…ナット部材、４８…ボールネジ、５０…モータ、５２…Ｘ軸軌道レール、５４…Ｘ軸スライダ、５６…Ｘ軸アクチュエータ、５８…Ｙ軸軌道レール、６０…Ｙ軸アクチュエータ
【図１】
2006095455.tif 000006
【図２】
2006095455.tif 000007
【図３】
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