(57)【要約】【課題】  表面形状の予測可能性が高くしかも表面形状の調節が容易な、表面に凹凸形状を有するハードコート層の形成方法の提供。【解決手段】  未硬化の電離放射線硬化型樹脂を含む層に対し、複数回の電離放射線照射を行い、前記電離放射線硬化型樹脂を硬化させてハードコート層を形成する方法であって、前記複数回の電離放射線照射のうち少なくとも１回は、電離放射線の透過部と非透過部を有するマスクを通して行い、前記電離放射線硬化型樹脂の硬化の程度が異なる部分を形成することにより凹凸形状を形成する、表面に凹凸形状を有するハードコート層の形成方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
未硬化の電離放射線硬化型樹脂を含む層に対し、複数回の電離放射線照射を行い、前記電離放射線硬化型樹脂を硬化させてハードコート層を形成する方法であって、
前記複数回の電離放射線照射のうち少なくとも１回は、電離放射線の透過部と非透過部を有するマスクを通して行い、前記電離放射線硬化型樹脂の硬化の程度が異なる部分を形成することにより凹凸形状を形成することを特徴とする、表面に凹凸形状を有するハードコート層の形成方法。
【請求項２】
前記複数回の電離放射線照射のうち、最終回の照射が、マスクを用いない全面照射である、請求項１に記載のハードコート層の形成方法。
【請求項３】
マスクを通じて電離放射線が照射される部分において、マスクを通じた照射量が、全照射量の２０〜８０％である、請求項１に記載のハードコート層の形成方法。
【請求項４】
前記未硬化の電離放射線硬化型樹脂中に、平均分子量３０，０００〜３００，０００のポリマーが添加されている、請求項１に記載のハードコート層の形成方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法によって得られた、ハードコート層。
【請求項６】
請求項５に記載のハードコート層を有する積層体。
【請求項７】
請求項５に記載のハードコート層を表面に有するディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面に凹凸形状を有する、ハードコート層の形成方法に関し、特に各種ディスプレイ表面に好適に用いることのできるハードコート層の形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴ、液晶パネル、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイには、その表面の特性を向上させるため各種の層が用いられている。このような層としては、例えば、外光の反射による表示品質の低下を低減する低屈折率層、帯電による埃などの付着を防止する帯電防止層、擦り傷や引っかき傷を防止するハードコート層、これら複数の層を有する積層体などが挙げられる。
【０００３】
このような層の１つに、表面を凹凸形状とすることにより表面のぎらつきを抑える防眩層（アンチグレア層）がある。この防眩層の表面に凹凸を設ける従来の手段としては、フィラーを含むインキの塗工によって凹凸を設ける方法、凹凸を有するフィルムによる形状転写によって凹凸を設ける方法、凹凸版を用いた形状転写によって凹凸を設ける方法がある。
【０００４】
しかしながら、これらの方法によると、防眩層の表面形状の予測可能性が低く、数多くの試行錯誤を経ないと目的の表面形状を得られない、表面形状の調節が容易にはできないといった問題点がある。
【特許文献１】特開２００２−３３１６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上記課題を解決すること、すなわち、表面形状の予測可能性が高く、しかも表面形状の調節が容易な、（典型的には防眩性を付与するため）表面に凹凸形状を有するハードコート層の形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、電離放射線硬化型樹脂によって、ハードコート層を形成する方法を採用したうえ、樹脂硬化のための電離放射線照射を複数回行い、このうち少なくとも１回は、電離放射線の透過部と非透過部を有するマスクを通して行い、前記電離放射線硬化型樹脂の硬化の程度が異なる部分を形成することにより硬化収縮差により凹凸形状を形成することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
すなわち本発明は、未硬化の電離放射線硬化型樹脂を含む層に対し、複数回の電離放射線照射を行い、前記電離放射線硬化型樹脂を硬化させてハードコート層を形成する方法であって、前記複数回の電離放射線照射のうち少なくとも１回は、電離放射線の透過部と非透過部を有するマスクを通して行い、前記電離放射線硬化型樹脂の硬化の程度が異なる部分を形成することにより凹凸形状を形成することを特徴とする、表面に凹凸形状を有するハードコート層の形成方法である。
【０００８】
本発明のハードコート層の形成方法は、好ましくは、前記複数回の電離放射線照射のうち、最終回の照射が、マスクを用いない全面照射とする方法である。
【０００９】
また、本発明のハードコート層の形成方法は、好ましくは、マスクを通じて電離放射線が照射される部分において、マスクを通じた照射量が、全照射量の２０〜８０％とする方法である。
【００１０】
さらに本発明のハードコート層の形成方法は、好ましくは、前記未硬化の電離放射線硬化型樹脂中に、平均分子量３０，０００〜３００，０００のポリマーが添加されている方法である。
【００１１】
本発明の別の態様としては、本発明は、上記方法によって得られた、ハードコート層である。
【００１２】
また、本発明の別の態様としては、本発明は、上記ハードコート層を有する積層体である。
【００１３】
また、本発明の別の態様としては、本発明は、上記ハードコート層を表面に有するディスプレイである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によって、表面形状の予測可能性が高く、しかも表面形状の調節が容易な、（典型的には防眩性を付与するため）表面に凹凸形状を有するハードコート層の簡易な形成方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
ハードコート層
本発明におけるハードコート層は、物の表面への擦り傷や引っかき傷などを防止する層であって、表面に凹凸形状を有するものであれば、特に限定されない。本発明におけるハードコート層は、これに限定されるものではないが、例えばディスプレイの表面に積層して、防眩フィルムとして用いることができる。
【００１６】
電離放射線硬化型樹脂
本発明のハードコート層は、未硬化の電離放射線硬化型樹脂を含む層から形成される。この電離放射線とは、樹脂を硬化させる作用のある様々な広義の放射線、例えば、紫外線、電子線などを意味する。電離放射線硬化型樹脂としては、ハードコート層の用途に応じ市販の様々なものを用いることができる。例えば、ディスプレイ表面の防眩フィルムを用途とするハードコート層の場合には、無色透明で、硬化後の硬度の高い電離放射線硬化型樹脂を用いることができる。
【００１７】
この未硬化の電離放射線硬化型樹脂中には、その性状の調節のため追加成分を含むことができ、例えばポリマー（例えば平均分子量３０，０００〜３００，０００の高分子）を予め含有させてもよい。
【００１８】
複数回の電離放射線照射
本発明のハードコート層の形成方法においては、樹脂硬化のための電離放射線照射を複数回行う。そして、前記複数回の電離放射線照射のうち少なくとも１回は、電離放射線の透過部と非透過部を有するマスクを通して行い、前記電離放射線硬化型樹脂の硬化の程度が異なる部分を形成する。このようにハードコート層の場所により、照射量を変えることにより、典型的には、ハードコート層の場所により硬化収縮差を生じさせ、表面に凹凸を形成することができる。
【００１９】
この照射量の差については、好ましくは、マスクを通じて電離放射線が照射される部分における、マスクを通じた照射量が、全照射量の２０〜８０％であるようにすることができる。このマスクを通じた照射量と全照射量を調節することにより、凹凸の高さを容易に調節することができる。
【００２０】
また、電離放射線透過部（マスク開口部）の形状や間隔を変化させることにより、ハードコート層の上面から見た凹凸の形状や間隔を容易に設定することができる。電離放射線透過部が例えばホール形状であるマスクを用いる場合には、これに限定されるものではないが、ホールの直径として例えば２０〜１０００μｍ、好ましくは５０〜２００μｍのもの、ホールの間隔として例えば２０〜２０００μｍ、好ましくは１００〜５００μｍのものを用いることができる。
【００２１】
凹凸形状
本発明のハードコート層の表面に形成される凹凸の形状は特に限定されない。例えば、円柱、角柱、円錐、角錐、球面の一部（半球など）、ドーナツ、格子枠形状など様々な形状とすることができる。
【００２２】
また、凹凸の大きさも特に限定されないが、防眩性を発現させるためには凹凸の高さを、例えば０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍ、凸部分または凹部分の幅を例えば１〜５００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍとすることができる。
【００２３】
製造物
本発明の対象とする製造物としては、まず、上記の方法によって得られた、ハードコート層が挙げられる。
【００２４】
また、本発明の対象とする製造物としては、このハードコート層を有する積層体も挙げられる。この積層体には、本発明のハードコート層に加え、例えば低屈折率層および／または帯電防止層を組み合わせた積層体が挙げられる。
【００２５】
さらに、本発明の対象とする製造物としては、このハードコート層（ないしこのハードコート層を有する積層体）を表面に有するディスプレイも挙げられる。このディスプレイとしては、例えばＣＲＴ、液晶パネル、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイが挙げられる。
【実施例１】
【００２６】
以下のようにして、未硬化の紫外線硬化型樹脂層に対し、複数回の紫外線照射を行い、表面に凹凸形状を有するハードコート層を形成した。
【００２７】
１．クリア用の未硬化の紫外線硬化型樹脂を基材上に塗工・乾燥（乾燥後膜厚約7μｍ）した。
２．シャドーマスクを該基材上に0.2mmのクリアランスで設置し、基材・マスクに対して垂直な紫外線(100mj/cm2)にて露光。マスクのホール部に相対する領域のみを硬化させた。紫外線露光はN2パージなし(大気下)にて行った。
３．次いでマスクを除去し、該基材全面に紫外線(100mj/cm2)にて露光した。マスキングされていた部分も硬化させた。
４．表面凹凸形状を評価した。
【００２８】
マスクとしてはホール直径100μｍ、XYピッチ300μｍのホールアレイを持つシャドーマスク(CRT内部に用いられるホールが千鳥格子状に並んだ金属薄板)を用いた。
【００２９】
得られたハードコート層の表面の凹凸を評価した結果は、以下の通りであった。
【００３０】
ａ．マスク露光部全域が凸あるいは凹とはなっていなかった。
ｂ．マスク露光領域の周辺部のみ凸部を形成していた。
ｃ．凸部は周辺部と比べ、高さ約1000nm程高くなっていた。
ｄ．マスクのホールサイズは100μｍであったので、結果としてハードコート層に高さ約1000nm、幅25μｍ程度のドーナッツ状の凸部が形成された。
ｅ．視認試験によれば十分な防眩性も認められた。