(57)【要約】【課題】  光走査装置における光偏向装置の取り付け誤差による性能低下を軽減する。【解決手段】  本発明の光走査装置は、単一の光偏向装置と、光源からの光線を光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、光偏向装置からの反射光線を被走査面に結像させる偏向後光学系と、偏向前光学系における光軸を調整するための光軸調整機構と、偏向前光学系の光軸調整機構とは別に、光偏向装置の角度を調整するための光偏向装置角度調整機構とを有する。そしてまず、光軸調整機構を利用し、偏向前光学系における光軸を調整し、その後、光偏向装置角度調整機構を利用し、光偏向装置の角度を調整する。【選択図】      図１４
2006259671.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一の光偏向装置と、
光源からの光線を上記光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、
上記光偏向装置からの反射光線を被走査面に結像させる偏向後光学系と、
上記偏向前光学系における光軸を調整するための光軸調整機構と、
上記偏向前光学系の光軸調整機構とは別に、上記光偏向装置の角度を調整するための光偏向装置角度調整機構と
を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
上記偏向前光学系が１つのサブユニットに搭載され、上記サブユニットが当該光走査装置のユニットに搭載されるものであり、上記サブユニット中に、上記光軸調整機構を有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
当該光走査装置のユニット上に、上記偏向前光学系の構成要素及び上記光偏向装置を配置するものであり、
上記光軸調整機構が、上記光偏向装置を搭載しない状態で光軸調整可能なものである
ことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項４】
当該光走査装置のユニットには、上記光偏向装置を搭載しない状態で、上記偏向前光学系から射出された光線をユニット外に導く光学的窓を有することを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
【請求項５】
少なくとも上記偏向前光学系及び上記光偏向装置が１つの同一のサブユニットに搭載され、上記サブユニットが当該光走査装置のユニットに搭載されるものであり、
上記サブユニットには上記光軸調整機構が設けられ、
上記光偏向装置角度調整機構が、上記サブユニットを回動する機構である
ことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項６】
上記サブユニットには、光を被走査面上に結像させる、上記偏向後光学系の中の１又は複数の光学素子のうち、最も上記光偏向装置側の光学素子も搭載されていることを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】
上記偏向前光学系における光源が複数であり、上記光偏向装置が上記複数光源からの光線を偏向するものであることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項８】
上記偏向前光学系は、複数の光線の光路を合成する光路合成素子を含み、上記光軸調整機構には、上記光路合成素子の主走査方向角度の調整機構も含まれていることを特徴とする請求項７に記載の光走査装置。
【請求項９】
上記偏向前光学系は、折り返しミラーを含み、上記光軸調整機構には、上記折り返しミラーの角度調整機構も含まれていることを特徴とする請求項７に記載の光走査装置。
【請求項１０】
複数の光線の１つの光線を除く各光線は、それぞれの光路中に、上記光軸調整機構の機構要素を有することを特徴とする請求項７に記載の光走査装置。
【請求項１１】
調整対象の光走査装置が、単一の光偏向装置と、光源からの光線を上記光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、上記光偏向装置からの反射光線を被走査面に結像させる偏向後光学系と、上記偏向前光学系における光軸を調整するための光軸調整機構と、上記偏向前光学系の光軸調整機構とは別に、上記光偏向装置の角度を調整するための光偏向装置角度調整機構とを有し、
まず、上記光軸調整機構を利用し、上記偏向前光学系における光軸を調整し、
その後、上記光偏向装置角度調整機構を利用し、上記光偏向装置の角度を調整する
ことを特徴とする光走査装置の調整方法。
【請求項１２】
単一の光偏向装置と、光源からの光線を上記光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、上記光偏向装置からの各反射光線を光線毎の被走査面に結像させる偏向後光学系と、上記偏向前光学系における光軸を調整するための光軸調整機構と、上記偏向前光学系の光軸調整機構とは別に、上記光偏向装置の角度を調整するための光偏向装置角度調整機構とを有する光走査装置と、
上記光走査装置からの光線に基づいて潜像が形成される被走査面を備えた感光体と
を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザプリンタ、デジタル複写機等の画像形成装置、及び、そのような画像形成装置に適用可能な光走査装置に関し、特に、調整手順を最適化しようとしたものである。
【背景技術】
【０００２】
光走査装置は、多くの光学部品を備えており、そのため、組立時に光軸合わせなどの調整を行ってから出荷するようになされている。また、保守点検時においても、適宜、光軸合わせなどの調整が行われる。
【０００３】
従来のマルチビーム光走査装置の調整方法としては、特許文献１に記載されている方法がある。この方法は、複数の光源、及び、それら複数の光源からの個別光ビームを合成する光学系をサブユニット化し、サブユニットで光路調整を行った後に、サブユニットを、合成ビーム光軸と交わる軸芯まわりで角度調整し、走査範囲を一括して調整可能としている。
【特許文献１】特開平４−８１８０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この従来方法は、ポリゴンミラーを入れない状態で、光軸調整を行うという面では、結像、副走査方向ビーム位置、ポリゴンミラーによるケラレに対し、有利な状態になるが、ポリゴンミラーの取り付け誤差によるビームの光路誤差については、調整を想定していない。これにより、結像、副走査方向ビーム位置、ポリゴンミラーによるケラレに対し大きな劣化要因となってしまう。
【０００５】
図１（Ａ）〜図３（Ａ）は、ポリゴンミラーを入れない状態で光軸調整した場合による波面収差（ｒｍｓ  ｏｐｄ）、副走査方向ビーム位置、ポリゴンミラーによるケラレの改善度合いを、いくつかの従来の調整方法についてシミュレーションしたものを用いて、メインエフェクトプロット（Ｍａｉｎ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｐｌｏｔ）したものである。図１（Ｂ）〜図３（Ｂ）は、ポリゴンミラー角度の調整を入れた場合の波面収差、副走査方向ビーム位置、ポリゴンミラーによるケラレの改善度合いを、いくつかの従来の調整方法についてシミュレーションしたものを用いて、メインエフェクトプロットしたものである。
【０００６】
メインエフェクトプロットという手法を簡単に説明する。
【０００７】
例えば、特性値に影響を与えると考えられる、２状態がある項目や条件が、仮に、Ａ、Ｂ、Ｃ、…、Ｚがあった場合において、Ａの第１の状態（図１〜図３の「０」）に係るＢ、Ｃ、…、Ｚの全ての組合せの特性値の平均又は最小二乗平均をプロットすると共に、Ａの第２の状態（図１〜図３の「１」）に係るＢ、Ｃ、…、Ｚの全ての組合せの特性値の平均又は最小二乗平均をプロットするものである。Ａの第１の状態でのプロット値とＡの第２の状態でのプロット値とに差がないことは、その特性値にＡがあまり関係又は寄与していない項目、条件であることを意味し、Ａの第１の状態でのプロット値とＡの第２の状態でのプロット値との差が大きいことは、その特性値にＡが大きく影響又は寄与していることを意味する。なお、図１〜図３における波線は、全ての場合の特性値の平均又は最小二乗平均を表している。
【０００８】
上述した図１〜図３から、波面収差と、ポリゴンミラーのケラレに関しては、ほぼ、同等の改善が見られ、副走査方向ビーム位置に関しては、ポリゴンミラー角度調整を入れた場合の方が、著しい改善がみられることが判る。
【０００９】
なお、副走査方向ビーム位置の変動は、近接するビームを偏向後光学系内の折り返しミラーによって分離するタイプの、カラー用にマルチビーム光走査装置では非常に重要な性能である。
【００１０】
そのため、光偏向装置の取り付け誤差による性能低下を軽減できる、光走査装置や、そのような光走査装置を利用した画像形成装置や、光走査装置の調整方法が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
かかる課題を解決するために、第１の本発明の光走査装置は、単一の光偏向装置と、光源からの光線を光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、光偏向装置からの反射光線を被走査面に結像させる偏向後光学系と、偏向前光学系における光軸を調整するための光軸調整機構と、偏向前光学系の光軸調整機構とは別に、光偏向装置の角度を調整するための光偏向装置角度調整機構とを有することを特徴とする。
【００１２】
第２の本発明の光走査装置の調整方法は、第１の本発明の光走査装置における光軸調整機構を利用し、偏向前光学系における光軸を調整し、その後、光偏向装置角度調整機構を利用し、光偏向装置の角度を調整することを特徴とする。
【００１３】
第３の本発明の画像形成装置は、第１の本発明の光走査装置と、光走査装置からの光線に基づいて潜像が形成される被走査面を備えた感光体とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、光走査装置における光偏向装置の取り付け誤差による性能低下を軽減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（Ａ）調整項目の検討、各実施形態の調整方法
本発明による光走査装置及び画像形成装置、並びに、光走査装置の調整方法の好適な各実施形態を説明する前に、各実施形態に到達するために検討した内容を説明する。検討した内容は、波面収差（ｒｍｓ  ｏｐｄ）、副走査方向ビーム位置、ポリゴンミラーによるケラレなどの光学特性に影響を与える調整項目がどのようなものであるかである。
【００１６】
図４〜図６は、この検討時に想定した光走査装置の説明図である。図４は、調整項目の検討時に想定した光走査装置の光学部材の配置を示す概略平面図であり、偏向後光学系については、その折り返しミラーによる折り返しを展開して示している。図５は、図４の偏向前光学系における光路の合成に関係する光学素子でのレーザビームの進行方向の説明図である。図６は、図４の光走査装置の概略縦断面であり、主として、偏向後光学系がユニット化されていることを示している。
【００１７】
なお、カラー画像形成装置に適用される光走査装置は、通常、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）及びＢ（ブラック）の各色成分ごとに画像を形成させるさまざまな部品が４組利用されることから、各参照符号に、Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢを付加することで色成分ごとの部品を識別することとする。
【００１８】
想定した光走査装置１は、図示しない第１〜第４の画像形成部のそれぞれに向けて光ビームを出力する光源（レーザダイオード）３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ及び３Ｂ、各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が放射した光ビーム（レーザビーム）を所定の位置に配置された像面、すなわち図６に示した第１〜第４の画像形成部の感光体ドラム５８Ｙ、５８Ｍ、５８Ｃ及び５８Ｂの外周面に向かって所定の線速度で偏向（走査）する偏向手段としてのただ１つの光偏向装置７を有している。光偏向装置７と各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）との間には、偏向前光学系５（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が、光偏向装置７と像面との間には、偏向後光学系９が、それぞれ、配置されている。
【００１９】
偏向前光学系５は、図４に示すように、半導体レーザ素子でなる色成分毎の各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）と、各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を出射されたレーザビームに所定の集束性を与える有限焦点レンズ１３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、有限焦点レンズ１３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を通過したレーザビームＬに任意の断面ビーム形状を与える絞り１４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、絞り１４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を通過した副走査方向に関してさらに所定の集束性を与えるシリンダレンズ１７（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を含み、各光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を出射されたレーザビームの断面ビーム形状を所定の形状に整えて、光偏向装置７の反射面に案内する。
【００２０】
シリンダレンズ１７Ｙから出射されたイエローのレーザビームＬＹは、折り返しミラー１５Ｃの下方を通過した後、偏光ビームスプリッタ（ハーフミラープリズムあるいはハーフミラーであっても良い）１９によって反射されて光偏向装置７の反射面に案内される。シリンダレンズ１７Ｍから出射されたマゼンタのレーザビームＬＭは、折り返しミラー１５Ｍによって光路が折り返された後、偏光ビームスプリッタ１９を直進して光偏向装置７の反射面に案内される。シリンダレンズ１７Ｃから出射されたシアンのレーザビームＬＣは、折り返しミラー１５Ｃによって光路が折り返された後、偏光ビームスプリッタ１９によって反射されて光偏向装置７の反射面に案内される。シリンダレンズ１７Ｂから出射されたブラックのレーザビームＬＢは、折り返しミラー１５Ｍの上方を通過した後、偏光ビームスプリッタ１９を直進して光偏向装置７の反射面に案内される。
【００２１】
光偏向装置７は、例えば８面の平面反射面（平面反射鏡）が正多角形状に配置された多面鏡本体（いわゆるポリゴンミラー）７ａと、多面鏡本体７ａを主走査方向に所定の速度で回転させるモータ７ｂとを有している。
【００２２】
偏向後光学系９は、多面鏡本体７ａにより偏向（走査）されたレーザビームＬ（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の像面上での形状及び位置を最適化する２枚組みの結像レンズ（ｆθレンズ）２１（２１ａ及び２１ｂ）、２枚組み結像レンズ２１から出射された各色成分毎のレーザビームＬ（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を対応する感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）に案内する複数のミラー３３Ｙ、３５Ｙ及び３７Ｙ、３３Ｍ、３５Ｍ及び３７Ｍ、３３Ｃ、３５Ｃ及び３７Ｃ、並びに、３３Ｂなどを有している。なお、ミラー３３Ｙ、３３Ｍ、３３Ｃは、色成分毎のレーザビームＬ（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の光路を分離する光路分離ミラーである。
【００２３】
図７は、想定した調整箇所、調整項目（シミュレーション条件）の説明図である。なお、レーザビームＬＣ、ＬＭ、ＬＹ、ＬＢを光線１、２、３、４で表記している。また、「第１次」は、偏向前光学系５の組立て時における調整箇所、調整項目を表し、「第２次」は、偏向前光学系５を組立てた後での調整箇所、調整項目を表している。さらに、「サブユニット」とは、偏向前光学系５をサブユニット化したことを表している。
【００２４】
条件（調整箇所、調整項目）１：サブユニット状態での第１次光軸調整時に光線１及び２に係る光源（レーザダイオード）３Ｃ、３Ｍの位置調整を行う
条件２：サブユニット状態での第１次光軸調整時に光線３に係る光源３Ｙの位置調整を行う
条件３：サブユニット状態での第１次光軸調整時に光線４に係る光源３Ｂの位置調整を行う
条件４：偏向前光学系の折り返しミラー１５Ｃ、１５Ｍの主走査方向の角度調整を行う
条件５：偏向前光学系の折り返しミラー１５Ｃ、１５Ｍの副走査方向の角度調整を行う
条件６：偏光ビームスプリッタ１９の主走査方向の角度調整（光線基準に合わせる）を行う
条件７：偏光ビームスプリッタ１９の主走査方向の角度調整（絶対角度に合わせる）を行う
条件８：光線１〜光線３の主走査方向の光軸調整時に、絶対位置で合わせる
条件９：光線４の主走査方向の光軸調整時に、絶対位置で合わせる
条件１０：副走査方向のビーム位置を調整する
条件１１：副走査方向の光軸調整時に絶対位置で合わせる
条件１２：第１次光軸調整をポリゴンミラー７ａより上流の部品を組み立てた状態で行う
条件１３：第１次光軸調整をポリゴンミラー７ａまでの部品を組み立てた状態で行う
条件１４：第１次光軸調整を第１のｆθレンズ２１ａまでの部品を組み立てた状態で行う
条件１５：第１次光軸調整を第２のｆθレンズ２１ｂまでの部品を組み立てた状態で行う
条件１６：第２次の副走査方向光軸調整を第１のｆθレンズ２１ａまでの部品をサブアッセンブリの状態で行う
条件１７：第２次の副走査方向光軸調整をポリゴンモータ７ｂの角度調整で行う
各部品、及び、その配置に所定の誤差を与え、図７の調整個所を調整したときの波面収差（ｒｍｓ  ｏｐｄ）、偏向後光学系の光線分離位置での副走査方向ビーム間ピッチ、及び、ポリゴンミラーによるケラレを、公差解析手法に基づき、シミュレーションを行った。
【００２５】
その結果を、メインエフェクトプロットにより検討した。後述するメインエフェクトプロット図において、それぞれのプロットの上には、検証している条件、プロットの下の「０」はその条件となる調整を行わないこと、プロットの下の「１」は、その条件の調整を行ったことを示している。
【００２６】
図８は、波面収差（ｒｍｓ  ｏｐｄ）についてのメインエフェクトプロット図である。この図８からは、光源と有限レンズの光軸単体調整以外の、条件１０（すなわち、副走査方向光軸調整を行う）の調整を行うことの効果が大であることが判る。そのため、今後は、条件１０は適用することを前提として、検討を進める。
【００２７】
条件１０の調整を行うことを前提とした際のメインエフェクトプロット図は、図９に示すようになる。この図９から判ることは、以下の通りである。
【００２８】
１−１：条件１２〜１５の光軸調整を見ると、条件１２のポリゴンミラーを含まない状態で光軸調整を行うと、波面収差が小さくなることが判る（ポリゴンミラーを含んで調整を行うと、条件１３〜１５で示されるように波面収差は劣化してしまっている）。
【００２９】
１−２：条件１２の光軸調整方法では、ポリゴンミラーや偏向後光学系の部品精度や、配置精度による光軸ずれを補正できなくなるため、光軸を設計値に合わせるという意味では、上記調整後、何らかの光軸調整を行うことが望ましい。図９の条件１６、１７のプロットからは、ポリゴンミラー、又は、第１のｆθレンズまでを含むサブユニットの角度を調整して光軸を合わせた方が結像特性も改善されることが判る。
【００３０】
１−３：条件６、７のプロットより、偏向ビームスプリッタの角度を絶対角度に合わせるように調整すると、波面収差が改善することが判る。
【００３１】
次に、偏向後光学系内での光線を分離する位置での副走査方向ビーム間隔誤差について、図１０のメインエフェクトプロット図を参照しながら、調整箇所などを検討する。図１０から判ることは、以下の通りである。
【００３２】
２−１：条件２、３より、折り返しミラーや、偏光ビームスプリッタでの反射を含まない光線については、光源位置の調整を行うことが望ましいことが判る。
【００３３】
２−２：条件６より、光線基準（光線の下流側でのビーム位置を見ながら、偏光ビームスプリッタを回転調整させる）で合わせた偏光ビームスプリッタの主走査方向角度の回転調整に効果があることが判る
２−３：条件１７のプロットから、ポリゴンミラーの角度を調整すると効果大であることが判る（条件１６のプロットより、第１のｆθレンズまでのサブユニットでの角度調整でもある程度は効果が有ることが判る）。
【００３４】
図１１は、ポリゴンミラーによるケラレを考慮に入れ、ぎりぎりの大きさ（最小限）のポリゴンミラーにした際に、像面での光量変化がどのようになるかを表すポリゴンミラーエッジ部によるケラレによる光量変動のメインエフェクトプロット図である。このポリゴンミラーエッジ部によるケラレによる光量変動についての各条件についての検討結果そのものの説明は、省略するが、後述する図１２には、この面からの検討結果も含むものである。
【００３５】
検討結果を簡単にまとめたものが、図１２である。図１２において、波面収差、偏向後光学系の光線分離位置での副走査方向ビーム間ピッチ、ポリゴンミラーの反射面によるケラレによる光量変化のそれぞれの特性について、有利になるものには「○」、不利になるものには「×」、影響を与えないものには、「−」を付けている。このうち、いずれかの特性で有利であって、不利になる特性がない調整項目（条件）には、図１２の条件番号に（  ）を付けている。
【００３６】
すなわち、（４）偏向前折り返しミラー主走査方向角度調整、（５）偏向前折り返しミラー副走査方向角度調整、（６）偏光ビームスプリッタ主走査方向角度調整（光線基準で合わせる）、（７）偏光ビームスプリッタ主走査方向角度調整（絶対角度を合わせる）、（１２）第１次光軸調整をポリゴンミラーより上流側の部品を組み立てた状態で行う、（１６）第２次の副走査方向光軸調整を、第１のｆθレンズまでのサブアッセンブリの状態で行う、（１７）第２次の副走査方向光軸調整をポリゴンモータのチルト角調整で行う、がいずれかの特性で有利であって、不利になる特性がない調整項目（条件）である。
【００３７】
光走査装置の性能を上げるためには、これらの項目を組み合わせて調整を行うことが望ましい。これらの項目を組合せた調整方法としては、例えば、以下のような４種類の調整方法を挙げることができる。なお、以下の各調整方法におけるステップ処理は、他のステップ処理との順番が問題とならない場合には、逆転した順序で処理を行うようにしても良く、また、同時に処理するようにしても良い。
【００３８】
第１の調整方法（第１の実施形態の調整方法）：
ステップ１；ポリゴンミラーより光路上流側の光学部品をサブユニット上に組み立て、光源の位置を調整して、光軸調整を行う。
【００３９】
ステップ２；偏光ビームスプリッタの主走査方向角度を、偏光ビームスプリッタの反射面へビームを投射して、その反射光の位置又は角度をみながら調整するか、若しくは、ステップ１で調整したビーム位置を所定の位置で測定して調整する。
【００４０】
ステップ３；このサブユニットを全体光学ユニットに搭載し、ポリゴンミラー（ポリゴンモータ）、ｆθレンズを搭載して、所定の位置で副走査方向位置を見ながら、ポリゴンミラーの副走査方向角度を調整する。
【００４１】
なお、この明細書における「搭載」はある面上に載せ置くことを意味するだけでなく、広く装着すること全般を意味している。
【００４２】
第２の調整方法（第２の実施形態の調整方法）：
ステップ１；ポリゴンミラーより光路上流側の光学部品をユニット上に組み立て、光源の位置を調整して、光軸調整を行う。この際に、ポリゴンミラーを載せずに、光路を見るために、ユニットの壁面に穴が開けておき、調整後に、プレートなどを貼り付けて、この穴を塞ぐ。なお、機構的な穴に限定されず、光学的な窓であれば良い。
【００４３】
ステップ２；Ｂ／Ｓの主走査方向角度をＢ／Ｓの反射面ヘビームを投射して、その反射光の位置、又は、角度をみながら調整するか、若しくは、ステップ１で調整したビーム位置を所定の位置で測定して、調整する。
【００４４】
ステップ３；光学ユニットに、ポリゴンミラー（ポリゴンモータ）、ｆθレンズを搭載して、所定の位置で、副走査方向位置を見ながら、ポリゴンミラーの副走査方向角度を調整する。
【００４５】
第３の調整方法（第３の実施形態の調整方法）：
ステップ１；ポリゴンミラーより光路上流側の光学部品をサブユニット上に組み立て、光源の位置を調整して、光軸調整を行う。このサブユニットは、ポリゴンモータまで搭載する構造になっているが、この時点では、ポリゴンモータは搭載しない。
【００４６】
ステップ２；偏光ビームスプリッタの主走査方向角度を偏光ビームスプリッタの反射面へビームを投射して、その反射光の位置、又は、角度をみながら調整するか、若しくは、ステップ１で調整したビーム位置を所定の位置で測定して、調整する。
【００４７】
ステップ３；このサブユニットに、ポリゴンミラー（ポリゴンモータ）を搭載し、サブユニットを全体光学ユニットに搭載し、全体光学ユニットにｆθレンズを搭載して、所定の位置で、副走査方向位置を見ながら、サブユニットの角度を調整する。
【００４８】
第４の調整方法（第４の実施形態の調整方法）：
ステップ１；ポリゴンミラーより光路上流側の光学部品、及び、第１のｆθレンズ（ポリゴンミラーに近い側のレンズ）をサブユニット上に組み立て、光源の位置を調整して、光軸調整を行う。このサブユニットは、ポリゴンモータ、第１のｆθレンズまで搭載する構造になっているが、この時点では、ポリゴンモータは搭載しない。
【００４９】
ステップ２；偏光ビームスプリッタの主走査方向角度を偏光ビームスプリッタの反射面へビームを投射して、その反射光の位置、又は、角度をみながら調整するか、若しくは、ステップ１で調整したビーム位置を所定の位置で測定して、調整する。
【００５０】
ステップ３；このサブユニットに、ポリゴンミラー（ポリゴンモータ）を搭載し、サブユニットを全体光学ユニットに搭載し、全体光学ユニットに他のｆθレンズ（第２のｆθレンズ）を搭載して、所定の位置で、副走査方向位置を見ながら、サブユニットの角度を調整する。
【００５１】
これら４種類の調整方法において、ポリゴンミラーより光路上流側の光学部品の光軸調整については、偏向前光学系に折り返しミラーを含む光路については、折り返しミラーを調整した方が、結像特性が良くなり、偏向後光学系の光線分離位置での副走査ビーム位置ぱらつき、及び、ポリゴンミラーによるケラレの変動も抑えることができる。
【００５２】
第３及び第４の調整方法については、第２の調整方法のように、サブユニットを初めからユニットに載せておいて、光軸調整をできるように、ポリゴンミラーを載せずに、光路を見るために、ユニットの壁面に穴が開けておき、サブユニットを調整することもできる。
【００５３】
また、各調整方法のステップ２については、必要精度によっては、省略することも可能である。
【００５４】
上記では、カラー用のマルチ光学系について、検討を行ったが、シングルビームの光学系でも同様の効果があることは言うまでもない。すなわち、シングルビームの光学系では、図１２における偏向後光学系の光線分離位置での副走査方向ビーム間ピッチは評価特性にならないが、波面収差、ポリゴンミラーの反射面によるケラレによる光量変化という２特性について検討した場合にも、重要な調整項目は、上記のマルチビームの場合と同様であり、同様な調整方法を適用可能である。
【００５５】
（Ｂ）第１の実施形態
次に、本発明による光走査装置及び画像形成装置、並びに、光走査装置の調整方法の第１の実施形態を説明する。
【００５６】
図１３は、第１の実施形態の光走査装置が利用されるカラー画像形成装置を示している。図１３は、第１の実施形態のカラー画像形成装置の概略縦断面図である。
【００５７】
図１３に示すように、画像形成装置３００は、色分解された色成分毎に画像を形成する第１〜第４の画像形成部５０Ｙ、５０Ｍ、５０Ｃ及び５０Ｂを有している。
【００５８】
それぞれの画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）は、図１４を用いて説明するマルチビーム光走査装置１の第１の折り返しミラー３３Ｂ及び第３の折り返しミラー３７Ｙ、３７Ｍ及び３７Ｃにより各色成分の画像情報を光走査するためのレーザビームＬ（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が出射される位置のそれぞれに対応する光走査装置１の下方に、画像形成部５０Ｙ、５０Ｍ、５０Ｃ及び５０Ｂの順で配置されている。
【００５９】
各画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の下方には、それぞれの画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）を介して形成された画像を転写される転写材を搬送する搬送ベルト５２が配置されている。
【００６０】
搬送ベルト５２は、図示しないモータにより、矢印の方向に回転されるベルト駆動ローラ５６ならびにテンションローラ５４に掛け渡され、ベルト駆動ローラ５６が回転される方向に所定の速度で回転される。
【００６１】
各画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）は、矢印方向に回転可能な円筒状に形成され、光走査装置１により露光された画像に対応する静電潜像が形成される感光体ドラム５８Ｙ、５８Ｍ、５８Ｃ及び５８Ｂを有している。
【００６２】
各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の周囲には、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）表面に所定の電位を提供する帯電装置６０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）の表面に形成された静電潜像に対応する色が与えられているトナーを供給することで現像する現像装置６２（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）との間に搬送ベルト５２を介在させた状態で搬送ベルト５２の背面から各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）に対向され、搬送ベルト５２により搬送される記録媒体すなわち記録用紙Ｐに、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）のトナー像を転写する転写装置６４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）、各転写装置６４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）による用紙Ｐへのトナー像の転写の際に転写されなかった感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）上の残存トナーを除去するクリーナ６６（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）並びに各転写装置６４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）によるトナー像の転写後に感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）上に残った残存電位を除去する除電装置６８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が、各感光体ドラム５８（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）が回転される方向に沿って、順に、配置されている。
【００６３】
搬送ベルト５２の下方には、各画像形成部５０（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）により形成された画像が転写される記録用紙Ｐを収容している用紙カセット７０が配置されている。
【００６４】
用紙カセット７０の一端であって、テンションローラ５４に近接する側には、おおむね半月状に形成され、用紙カセット７０に収容されている用紙Ｐを最上部から１枚ずつ取り出す送り出しローラ７２が配置されている。
【００６５】
送り出しローラ７２とテンションローラ５４の間には、カセット７０から取り出された１枚の用紙Ｐの先端と画像形成部５０Ｂ（黒）の感光体ドラム５８Ｂに形成されたトナー像の先端を整合させるためのレジストローラ７４が配置されている。
【００６６】
レジストローラ７４と第１の画像形成部５０Ｙの間のテンションローラ５４の近傍であって、実質的に、テンションローラ５４と搬送ベルト５２が接する位置に対応する搬送ベルト５２の外周上に対向される位置には、レジストローラ７４により所定のタイミングで搬送される１枚の用紙Ｐに、所定の静電吸着力を提供する吸着ローラ７６が配置されている。
【００６７】
搬送ベルト５２の一端かつベルト駆動ローラ５６の近傍であって、実質的に、ベルト駆動ローラ５６と接した搬送ベルト５２の外周上には、搬送ベルト５２に形成された画像又は用紙Ｐに転写された画像の位置を検知するためのレジストレーションセンサ７８及び８０が、ベルト駆動ローラ５６の軸方向に所定の距離をおいて配置されている（図１３は、縦断面図であるから、図１３において紙面前方に位置される第１のセンサ７８は見えない）。
【００６８】
ベルト駆動ローラ５６と接した搬送ベルト５２の外周上であって、搬送ベルト５２により搬送される用紙Ｐと接することのない位置には、搬送ベルト５２上に付着したトナーあるいは用紙Ｐの紙かすなどを除去する搬送ベルトクリーナ８２が配置されている。
【００６９】
搬送ベルト５２を介して搬送された用紙Ｐがベルト駆動ローラ５６から離脱されてさらに搬送される方向には、用紙Ｐに転写されたトナー像を用紙Ｐに定着する定着装置８４が配置されている。
【００７０】
図１４（Ａ）及び図１４（Ｂ）は、図１３に示した画像形成装置に組み込まれる第１の実施形態のマルチビーム光走査装置１を示す概略平面図及び概略断面図である。図１４（Ａ）において、偏向後光学系については、その折り返しミラーによる折り返しを展開して示したものである。図１４において、調整項目の検討で想定した光走査装置を示す図４〜図６との同一、対応部分には同一、対応符号を付して示しているが、紙面の面積の関係から、一部の符号については省略している。また、図１４は、上述した第１の調整方法を実現できる構成を明らかにする観点から記載されている。
【００７１】
第１の実施形態の光走査装置１は、光学系の構成要素として、シリンダレンズ１７Ｙから出射されたイエローのレーザビームＬＹを折り返す折り返しミラー１５Ｙが設けられている点が、想定した光走査装置と異なっているが、その他は同様である。
【００７２】
第１の実施形態の光走査装置１は、光源及び偏向前光学系の全ての構成要素は、サブプレートＳＡに搭載され、サブプレートＳＡ（図中、２点鎖線で示している）を介して、光走査装置１のユニットに取り付けられるようになされている。すなわち、サブプレートＳＡは、光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）と、有限焦点レンズ１３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）と、絞り１４（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）と、シリンダレンズ１７（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）と、折り返しミラー１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃと、偏光ビームスプリッタ１９とを搭載している。
【００７３】
折り返しミラー１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃは、主走査方向角度（図１４中の矢印の方向）、及び、副走査方向角度を調整可能なようにサブプレートＳＡに設けられている。調整機構は、例えば、折り返しミラーを３点止めとし、１点は固定、２点はセットスクリューによって進退動可能に取り付けられ、その反対側から折り返しミラーを挟んで、板ばねで抑えるようなものである。
【００７４】
偏光ビームスプリッタ１９も、少なくとも主走査方向角度（図１４（Ａ）中の矢印の方向）を調整可能なようにサブプレートＳＡに設けられている。この調整機構も、例えば、折り返しミラーの調整機構と同様である。
【００７５】
光源３（Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＢ）は、図１４（Ａ）に示す矢印の方向（主走査方向）、及び、図１４（Ａ）の紙面に垂直な方向に移動可能な機構によってサブプレートＳＡに設けられている。
【００７６】
光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）は、光走査装置１のユニットに副走査方向の角度を調整可能に取り付けられている。この調整機構は、ポリゴンモータ７ａとユニットとの間に設けられた、図１４（Ｂ）の矢印の方向に位置を調整可能な階段状のシムＳＢと、このシムＳＢを締め付けるネジとでなる。
【００７７】
図１４中のＡ部は、ウェーブワッシャ等の弾性力を持つものを介してネジで、サブプレートＳＡをユニットに固定する個所である。
【００７８】
第１の実施形態の調整方法は、上述した第１の調整方法に沿っているものである。
【００７９】
光路調整のため、光偏向装置７は外した状態で、黒用のレーザビームＬＢについて、光源３Ｂの位置を調整し、他の色用のレーザビームＬＹ、ＬＭ、ＬＣについては、光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃと有限レンズ１３とＹ、１３Ｍ、１３Ｃの組合せだけで光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃを動かして位置調整を行った後、偏向前光路中の偏光ビームスプリッタ１９や折り返しミラー１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃを調整する。より高精度を求める場合には、偏光ビームスプリッタ１９や折り返しミラー１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃを調整専用の光線を使って角度調整を行った後に、黒以外の他の色用の光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃの位置を調整する。
【００８０】
ここでの調整は、例えば、第１に、偏光ビームスプリッタ１９の角度調整を行い、第２に、折り返しミラー１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃの角度調整を行い、第３に、光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂの位置調整を行う。なお、第１及び第２の調整では、例えば、基準光源を用い、第３の調整時に実製品の光源を搭載するようにしても良い。また、黒以外の他の色用の光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃの位置を調整しない場合であれば、黒用の光源３Ｂの位置調整を最初に実行するようにしても良い。
【００８１】
光源及び偏向前光学系の全ての構成要素は、サブプレートＳＡに搭載されているので、このサブプレートＳＡをユニットに搭載しない状態で、光軸調整や焦点の粗調整を行う。なお、受光位置を電気信号に変換するポジションセンサなどを利用しながら調整する。
【００８２】
その後、サブプレートＳＡをユニットに搭載し、光偏向装置７をユニットに取り付け、シムＳＢの進退動を利用して、ポリゴンモータ７ｂの角度調整（従って、その回転軸に取り付けられているポリゴンミラー７ａの反射面の角度調整）を行う。
【００８３】
ここで、光偏向装置７を含めた状態で、ユニットとしての光軸調整を一度に行ってしまう場合と比べ、第１の実施形態のように、２段階に分けた調整の方が、光学特性、及び、光路ずれ量を改善することができる。
【００８４】
（Ｃ）第２の実施形態
次に、本発明による光走査装置及び画像形成装置、並びに、光走査装置の調整方法の第２の実施形態を説明する。
【００８５】
第２の実施形態の光走査装置が利用されるカラー画像形成装置も、第１の実施形態に係る図１３で表すことができるので、その説明は省略する。
【００８６】
図１５（Ａ）及び図１５（Ｂ）は、図１３に示した画像形成装置に組み込まれる第２の実施形態のマルチビーム光走査装置１を示す概略平面図及び概略断面図であり、第１の実施形態に係る図１４（Ａ）及び（Ｂ）に対応する図面である。図１５は、上述した第２の調整方法を実現できる構成を明らかにする観点から記載されている。
【００８７】
第２の実施形態の光走査装置１も、光学系の構成要素は第１の実施形態と同様であり、その説明は省略する。第２の実施形態の光走査装置１の調整方法は、上述した第２の調整方法に沿っているものである。
【００８８】
第２の実施形態の光走査装置１は、サブユニット（サブプレート）を持っておらず、偏向前光学系の各要素は、ユニットに直接取り付けられる。ユニットには、偏向前光学系の調整機構（それぞれの調整機構は第１の実施形態と同様）が設けられており、光軸調整（偏光ビームスプリッタ１９の調整、折り返しミラー１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃの調整、光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂの位置調整など）が可能となされている。
【００８９】
この第２の実施形態の場合、ユニットのハウジングには、光偏向装置７を外した状態で光線を、ユニットの外側に導くための穴を有しており、この穴から出てきた光線の位置を例えばポジションセンサなどを利用して測定しながら、光軸調整を行う。
【００９０】
その後、光偏向装置７を取り付けて角度の調整を行う。光偏向装置７の角度調整機構は、例えば、第１の実施形態と同様に、階段状のシムＳＢの進退動を利用するものを適用し得る。
【００９１】
ここでも、光偏向装置７を含めた状態で、ユニットとしての光軸調整を一度に行ってしまう場合と比べ、第２の実施形態のように、２段階に分けた調整の方が、光学特性、及び、光路ずれ量を改善することができる。
【００９２】
（Ｄ）第３の実施形態
次に、本発明による光走査装置及び画像形成装置、並びに、光走査装置の調整方法の第３の実施形態を説明する。
【００９３】
第３の実施形態の光走査装置が利用されるカラー画像形成装置も、第１の実施形態に係る図１３で表すことができるので、その説明は省略する。
【００９４】
図１６（Ａ）及び図１６（Ｂ）は、図１３に示した画像形成装置に組み込まれる第３の実施形態のマルチビーム光走査装置１を示す概略平面図及び概略断面図であり、第１の実施形態に係る図１４（Ａ）及び（Ｂ）に対応する図面である。図１６は、上述した第３の調整方法を実現できる構成を明らかにする観点から記載されている。
【００９５】
第３の実施形態の光走査装置１も、光学系の構成要素は第１の実施形態と同様であり、その説明は省略する。第３の実施形態の光走査装置１の調整方法は、上述した第３の調整方法に沿っているものである。
【００９６】
第３の実施形態の光走査装置１は、図１６に示すように、サブプレート（サブユニット）ＳＡに、偏向前光学系５に加えて、光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）も搭載できるようになっている。
【００９７】
まず、光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）を外した状態で、偏向前光学系の光軸調整を行う。サブプレートＳＡを利用しているので、この偏向前光学系の光軸調整（偏光ビームスプリッタ１９の調整、折り返しミラー１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃの調整、光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂの位置調整など）を、第１の実施形態と同様に行うことができる。
【００９８】
その後、サブプレートＳＡ上に光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）を一体となるよう搭載し、そのサブプレートＳＡをユニット上に載せる。そして、サブプレートＳＡの角度を調整することにより、ポリゴンモータ７ｂの角度（従ってポリゴンミラー７ａの反射面角度）を調整する。
【００９９】
光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）を搭載したサブプレートＳＡの角度調整機構としても、例えば、階段状のシムＳＢの進退動を利用するものを適用し得る。この場合におけるサブプレートＳＡの回転中心は、光偏向装置７からの偏向後のレーザビームにおける主走査方向に平行な位置であって、しかも、光偏向装置７の有効な反射面に近い位置に設けられる。
【０１００】
第３の実施形態によっても、光偏向装置７を含めた状態で、ユニットとしての光軸調整を一度に行ってしまう場合と比べ、２段階に分けた調整を可能なので、光学特性、及び、光路ずれ量を改善することができる。
【０１０１】
（Ｅ）第４の実施形態
次に、本発明による光走査装置及び画像形成装置、並びに、光走査装置の調整方法の第４の実施形態を説明する。
【０１０２】
第４の実施形態の光走査装置が利用されるカラー画像形成装置も、第１の実施形態に係る図１３で表すことができるので、その説明は省略する。
【０１０３】
図１７（Ａ）及び図１７（Ｂ）は、図１３に示した画像形成装置に組み込まれる第４の実施形態のマルチビーム光走査装置１を示す概略平面図及び概略断面図であり、第１の実施形態に係る図１４（Ａ）及び（Ｂ）に対応する図面である。図１７は、上述した第４の調整方法を実現できる構成を明らかにする観点から記載されている。
【０１０４】
第４の実施形態の光走査装置１も、光学系の構成要素は第１の実施形態と同様であり、その説明は省略する。第４の実施形態の光走査装置１の調整方法は、上述した第４の調整方法に沿っているものである。
【０１０５】
第４の実施形態の光走査装置１は、図１７に示すように、サブプレート（サブユニット）ＳＡに、偏向前光学系５に加えて、光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）及び第１のｆθレンズ２１ａを一体として固定することが可能な機構となっている。
【０１０６】
まず、光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）及び第１のｆθレンズ２１ａをサブプレート（サブユニット）ＳＡから外した状態で、偏向前光学系５の光軸調整を行う。サブプレートＳＡを利用しているので、この偏向前光学系の光軸調整（偏光ビームスプリッタ１９の調整、折り返しミラー１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃの調整、光源３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂの位置調整など）を、第１の実施形態と同様に行うことができる。
【０１０７】
その後、サブプレートＳＡ上に光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）及び第１のｆθレンズ２１ａを一体となるよう搭載し、そのサブプレートＳＡをユニット上に載せる。そして、サブプレートＳＡの角度を調整することにより、ポリゴンモータ７ｂの角度（従ってポリゴンミラー７ａの反射面角度）を調整する。
【０１０８】
光偏向装置７（ポリゴンモータ７ｂ）及び第１のｆθレンズ２１ａを搭載したサブプレートＳＡの角度調整機構としても、例えば、階段状のシムＳＢの進退動を利用するものを適用し得る。第４の実施形態におけるサブプレートＳＡの回転中心も、光偏向装置７からの偏向後のレーザビームにおける主走査方向に平行な位置であって、しかも、光偏向装置７の有効な反射面に近い位置に設けられる。
【０１０９】
第４の実施形態によっても、光偏向装置７を含めた状態で、ユニットとしての光軸調整を一度に行ってしまう場合と比べ、２段階に分けた調整を可能なので、光学特性、及び、光路ずれ量を改善することができる。
【０１１０】
（Ｆ）他の実施形態
上記各実施形態の説明などにおいても種々変形実施形態に言及したが、さらに、以下に例示するような変形実施形態を挙げることができる。
【０１１１】
図１６及び図１７のものとは異なり、サブプレートの回転中心を規定する部材が、凸条などの線接触する部材であっても良い。
【０１１２】
本発明の主たる特徴は、偏向前光学系の光軸調整機構とは別に、偏向器（ポリゴンミラー）の角度を調整するための機構を有していることであり、マルチビーム光走査装置だけでなく、シングルビーム光走査装置に対しても、本発明を適用することができる。
【０１１３】
上記各実施形態においては、偏向器（ポリゴンミラー）の１個の反射面だけを利用するマルチビーム光走査装置を示したが、偏向器（ポリゴンミラー）の２個の反射面を利用するマルチビーム光走査装置に対しても、本発明を適用することができ、また、ポリゴンモータの回転軸に２個のポリゴンミラーが設けられ、各ポリゴンミラーの２個の反射面を利用するマルチビーム光走査装置に対しても、本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】ポリゴンミラーを入れない状態で光軸調整した場合による波面収差（ｒｍｓ  ｏｐｄ）と、ポリゴンミラー角度の調整を入れた場合の波面収差の改善度合いを示すメインエフェクトプロット図である。
【図２】ポリゴンミラーを入れない状態で光軸調整した場合による偏向後光学系での光線分離位置での副走査方向ビーム位置と、ポリゴンミラー角度の調整を入れた場合の偏向後光学系での光線分離位置での副走査方向ビーム位置の改善度合いを示すメインエフェクトプロット図である。
【図３】ポリゴンミラーを入れない状態で光軸調整した場合によるポリゴンミラーによるケラレと、ポリゴンミラー角度の調整を入れた場合のポリゴンミラーによるケラレの改善度合いを示すメインエフェクトプロット図である。
【図４】調整項目の検討時に想定した光走査装置の光学部材の配置を示す概略平面図である。
【図５】図４の偏向前光学系における光路の合成に関係する光学素子でのレーザビームの進行方向の説明図である。
【図６】図４の光走査装置の概略縦断面である。
【図７】想定した調整箇所、調整項目（シミュレーション条件）の説明図である。
【図８】シミュレーション結果の波面収差（ｒｍｓ  ｏｐｄ）についてのメインエフェクトプロット図である。
【図９】図７の条件１０を除外したシミュレーション結果の波面収差（ｒｍｓ  ｏｐｄ）についてのメインエフェクトプロット図である。
【図１０】図７の条件１０を除外したシミュレーション結果の、偏向後光学系内での光線を分離する位置での副走査方向ビーム間隔誤差についてのメインエフェクトプロット図である。
【図１１】図７の条件１０を除外したシミュレーション結果の、ポリゴンミラーの反射面によるケラレによる光量変化についてのメインエフェクトプロット図である。
【図１２】想定した調整箇所、調整項目の評価一覧を示す説明図である。
【図１３】第１の実施形態の光走査装置が適用される画像形成装置の構成を示す概略縦断面図である。
【図１４】第１の実施形態の光走査装置の構成を示す概略平面図及び概略縦断面図である。
【図１５】第２の実施形態の光走査装置の構成を示す概略平面図及び概略縦断面図である。
【図１６】第３の実施形態の光走査装置の構成を示す概略平面図及び概略縦断面図である。
【図１７】第４の実施形態の光走査装置の構成を示す概略平面図及び概略縦断面図である。
【符号の説明】
【０１１５】
１…光走査装置、３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂ…光源、７…光偏向装置、７ａ…ポリゴンミラー、７ｂ…ポリゴンモータ、１５Ｙ、１５Ｍ…折り返しミラー、１９…ビームスプリッタ、１００…画像形成装置、ＳＡ…サブプレート、ＳＢ…シム。
【図１】
2006259671.tif 000003
【図２】
2006259671.tif 000004
【図３】
2006259671.tif 000005
【図４】
2006259671.tif 000006
【図５】
2006259671.tif 000007
【図６】
2006259671.tif 000008
【図７】
2006259671.tif 000009
【図８】
2006259671.tif 000010
【図９】
2006259671.tif 000011
【図１０】
2006259671.tif 000012
【図１１】
2006259671.tif 000013
【図１２】
2006259671.tif 000014
【図１３】
2006259671.tif 000015
【図１４】
2006259671.tif 000016
【図１５】
2006259671.tif 000017
【図１６】
2006259671.tif 000018
【図１７】
2006259671.tif 000019