(57)【要約】【課題】ノンハロゲンかつノンアンチモンで、難燃性、成形性、耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性等の信頼性に優れ、ＶＬＳＩの封止用に好適な封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこの成形材料で封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）水酸化マグネシウムを含有し、（Ｃ）水酸化マグネシウムがシリカにて被覆されているものを含む封止用エポキシ樹脂成形材料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）水酸化マグネシウムを含有し、（Ｃ）水酸化マグネシウムがシリカにて被覆されているものを含む封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項２】
シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムが水酸化マグネシウムに対してＳｉＯ2換算にて０.１〜２０質量％のシリカからなる被覆層を有する請求項１記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項３】
シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムがシリカからなる被覆層の上にアルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種を被覆しているものを含む請求項１又は２記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項４】
シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムがシリカからなる被覆層の中にアルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種を含有しているものを含む請求項１又は２記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項５】
シリカ被覆層の上に被覆又はシリカ被覆層に含有しているアルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種が水酸化マグネシウムに対してＡｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2及びＺｒＯ2換算にて０.０３〜１０質量％である請求項３又は４記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項６】
シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムがシリカからなる被覆層の上に高級脂肪酸、高級脂肪酸アルカリ金属塩、多価アルコール高級脂肪酸エステル、アニオン系界面活性剤、リン酸エステル、シランカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、チタネートカップリング剤、オルガノシラン、オルガノシロキサン及びオルガノシラザンから選ばれる少なくとも１種の表面処理剤にて表面処理されてなる請求項１又は２記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項７】
アルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種をシリカ被覆層の上に被覆又はシリカ被覆層に含有している水酸化マグネシウムがさらに高級脂肪酸、高級脂肪酸アルカリ金属塩、多価アルコール高級脂肪酸エステル、アニオン系界面活性剤、リン酸エステル、シランカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、チタネートカップリング剤、オルガノシラン、オルガノシロキサン及びオルガノシラザンから選ばれる少なくとも１種の表面処理剤にて表面処理されてなる請求項３〜５いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項８】
（Ｃ）水酸化マグネシウムが（Ａ）エポキシ樹脂１００質量部に対し、５〜３００質量部含有する請求項１〜７いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項９】
（Ｄ）金属酸化物をさらに含有する請求項１〜８いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１０】
（Ｄ）金属酸化物が典型金属元素の酸化物及び遷移金属元素の酸化物から選ばれる請求項９記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１１】
（Ｄ）金属酸化物が亜鉛、マグネシウム、銅、鉄、モリブデン、タングステン、ジルコニウム、マンガン及びカルシウムの酸化物の少なくとも１種である請求項１０記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１２】
（Ａ）エポキシ樹脂がビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型フェノール樹脂の少なくとも１種を含有する請求項１〜１１いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１３】
硫黄原子含有エポキシ樹脂が下記一般式（Ｉ）で示される化合物である請求項１２記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【化１】
2006052391.tif 000042
（一般式（Ｉ）で、Ｒ1〜Ｒ8は水素原子、置換又は非置換の炭素数１〜１０の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【請求項１４】
（Ｂ）硬化剤がビフェニル型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の少なくとも１種を含有する請求項１〜１３いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１５】
（Ｅ）硬化促進剤をさらに含有する請求項１〜１４いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１６】
（Ｅ）硬化促進剤がホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む請求項１５記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１７】
（Ｅ）硬化促進剤が、リン原子に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む請求項１６記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１８】
（Ｆ）カップリング剤をさらに含有する請求項１〜１７いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項１９】
（Ｆ）カップリング剤が２級アミノ基を有するシランカップリング剤を含有する請求項１〜１８いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項２０】
２級アミノ基を有するシランカップリング剤が下記一般式（II）で示される化合物を含有する請求項１９記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【化２】
2006052391.tif 000043
（一般式（II）で、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜２のアルコキシ基から選ばれ、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基及びフェニル基から選ばれ、Ｒ3はメチル基又はエチル基を示し、ｎは１〜６の整数を示し、ｍは１〜３の整数を示す。）
【請求項２１】
（Ｇ）リン原子を有する化合物をさらに含有する請求項１〜２０のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項２２】
（Ｇ）リン原子を有する化合物がリン酸エステル化合物を含有する請求項２１記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項２３】
リン酸エステル化合物が下記一般式（III）で示される化合物を含有する請求項２２記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【化３】
2006052391.tif 000044
（一般式（III）で、式中の８個のＲは炭素数１〜４のアルキル基を示し、全て同一でも異なっていてもよい。Ａｒは芳香族環を示す。）
【請求項２４】
（Ｇ）リン原子を有する化合物がホスフィンオキサイドを含有し、該ホスフィンオキサイドが下記一般式（IV）で示されるホスフィン化合物を含有する請求項２１記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【化４】
2006052391.tif 000045
（一般式（IV）で、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は炭素数１〜１０の置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基または水素原子を示し、すべて同一でも異なってもよい。ただしすべてが水素原子である場合を除く。）
【請求項２５】
（Ｈ）重量平均分子量が４，０００以上の直鎖型酸化ポリエチレン、および（Ｉ）炭素数５〜３０のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を炭素数５〜２５の一価のアルコールでエステル化した化合物をさらに含有する請求項１〜２４いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項２６】
（Ｈ）成分および（Ｉ）成分の少なくとも一方が、（Ａ）成分の一部または全部と予備混合されてなる請求項２５記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項２７】
（Ｊ）無機充填剤をさらに含有する請求項１〜２６いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項２８】
（Ｃ）水酸化マグネシウムと（Ｊ）無機充填剤の含有量の合計が封止用エポキシ樹脂成形材料に対して６０〜９５質量％である請求項２７記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【請求項２９】
請求項１〜２８のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止された素子を備えた電子部品装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封止用エポキシ樹脂成形材料及びこの成形材料で封止した素子を備えた電子部品装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、トランジスタ、ＩＣ等の電子部品装置の素子封止の分野では生産性、コスト等の面から樹脂封止が主流となり、エポキシ樹脂成形材料が広く用いられている。この理由としては、エポキシ樹脂が電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着性などの諸特性にバランスがとれているためである。これらの封止用エポキシ樹脂成形材料の難燃化は主にテトラブロモビスフェノールＡのジグリシジルエーテル等のブロム化樹脂と酸化アンチモンの組合せにより行われている。
近年、環境保護の観点からハロゲン化樹脂やアンチモン化合物に量規制の動きがあり、封止用エポキシ樹脂成形材料についてもノンハロゲン化（ノンブロム化）及びノンアンチモン化の要求が出てきている。また、プラスチック封止ＩＣの高温放置特性にブロム化合物が悪影響を及ぼすことが知られており、この観点からもブロム化樹脂量の低減が望まれている。
【０００３】
そこで、ブロム化樹脂や酸化アンチモンを用いずに難燃化を達成する手法としては、赤リンを用いる方法（例えば特許文献１参照。）、リン酸エステル化合物を用いる方法（例えば特許文献２参照。）、ホスファゼン化合物を用いる方法（例えば特許文献３参照。）、金属水酸化物を用いる方法（例えば特許文献４参照。）、金属水酸化物と金属酸化物を併用する方法（例えば特許文献５参照。）、フェロセン等のシクロペンタジエニル化合物（例えば特許文献６参照。）、アセチルアセトナート銅（例えば、非特許文献１参照。）等の有機金属化合物を用いる方法などのハロゲン、アンチモン以外の難燃剤を用いる方法、充填剤の割合を高くする方法（例えば特許文献７参照。）、難燃性の高い樹脂を使用する方法（例えば特許文献８参照。）、表面に処理を施した金属水酸化物を使用する方法（例えば特許文献９及び特許文献１０参照。）等が試みられている。
【特許文献１】特開平９−２２７７６５号公報
【特許文献２】特開平９−２３５４４９号公報
【特許文献３】特開平８−２２５７１４号公報
【特許文献４】特開平９−２４１４８３号公報
【特許文献５】特開平９−１００３３７号公報
【特許文献６】特開平１１−２６９３４９号公報
【非特許文献１】加藤寛、機能材料（シーエムシー出版）、１１（６）、３４（１９９１）
【特許文献７】特開平７−８２３４３号公報
【特許文献８】特開平１１−１４０２７７号公報
【特許文献９】特開平１−２４５０３号公報
【特許文献１０】特開平１０−３３８８１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、封止用エポキシ樹脂成形材料に赤リンを用いた場合は耐湿性の低下の問題、リン酸エステル化合物やホスファゼン化合物を用いた場合は可塑化による成形性の低下や耐湿性の低下の問題、金属水酸化物を用いた場合は流動性や金型離型性の低下の問題、金属酸化物を用いた場合や、充填剤の割合を高くした場合は流動性の低下の問題がそれぞれある。また、アセチルアセトナート銅等の有機金属化合物を用いた場合は、硬化反応を阻害し成形性が低下する問題がある。さらには難燃性の高い樹脂を使用する方法では、難燃性が電子部品装置の材料に求められる規格ＵＬ−９４  Ｖ−０を十分に満足するものではなかった。
また金属水酸化物の中で水酸化マグネシウムは耐熱性が高く、封止用エポキシ樹脂成形材料に好適に使用される可能性が示唆されていた。しかし、多量に添加しないと難燃性が発現せず、これにより流動性等の成形性が損なわれるといった問題があった。また耐酸性に劣るため、半導体装置作製時の半田メッキ工程にて表面が腐食され白化現象が起こるといった問題も有していた。このような問題は上記表面処理にても解決できるものではなかった。
以上のようにこれらノンハロゲン、ノンアンチモン系の難燃剤、充填剤の割合を高くする方法及び難燃性の高い樹脂を使用する方法では、いずれの場合もブロム化樹脂と酸化アンチモンを併用した封止用エポキシ樹脂成形材料と同等の成形性、信頼性及び難燃性を得るに至っていない。
本発明はかかる状況に鑑みなされたもので、ノンハロゲンかつノンアンチモンで、成形性、耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の水酸化マグネシウムを配合した封止用エポキシ樹脂成形材料により上記の目的を達成しうることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
本発明は以下の（１）〜（２９）に関する。
（１）（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）水酸化マグネシウムを含有し、（Ｃ）水酸化マグネシウムがシリカにて被覆されているものを含む封止用エポキシ樹脂成形材料。
（２）シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムが水酸化マグネシウムに対してＳｉＯ2換算にて０.１〜２０質量％のシリカからなる被覆層を有する上記（１）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（３）シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムがシリカからなる被覆層の上にアルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種を被覆しているものを含む上記（１）又は（２）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（４）シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムがシリカからなる被覆層の中にアルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種を含有しているものを含む上記（１）又は（２）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（５）シリカ被覆層の上に被覆又はシリカ被覆層に含有しているアルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種が水酸化マグネシウムに対してＡｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2及びＺｒＯ2換算にて０.０３〜１０質量％である上記（３）又は（４）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（６）シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムがシリカからなる被覆層の上に高級脂肪酸、高級脂肪酸アルカリ金属塩、多価アルコール高級脂肪酸エステル、アニオン系界面活性剤、リン酸エステル、シランカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、チタネートカップリング剤、オルガノシラン、オルガノシロキサン及びオルガノシラザンから選ばれる少なくとも１種の表面処理剤にて表面処理されてなる上記（１）又は（２）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（７）アルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種をシリカ被覆層の上に被覆又はシリカ被覆層に含有している水酸化マグネシウムがさらに高級脂肪酸、高級脂肪酸アルカリ金属塩、多価アルコール高級脂肪酸エステル、アニオン系界面活性剤、リン酸エステル、シランカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、チタネートカップリング剤、オルガノシラン、オルガノシロキサン及びオルガノシラザンから選ばれる少なくとも１種の表面処理剤にて表面処理されてなる上記（３）〜（５）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（８）（Ｃ）水酸化マグネシウムが（Ａ）エポキシ樹脂１００質量部に対し、５〜３００質量部含有する上記（１）〜（７）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【０００７】
（９）（Ｄ）金属酸化物をさらに含有する上記（１）〜（８）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（１０）（Ｄ）金属酸化物が典型金属元素の酸化物及び遷移金属元素の酸化物から選ばれる上記（９）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（１１）（Ｄ）金属酸化物が亜鉛、マグネシウム、銅、鉄、モリブデン、タングステン、ジルコニウム、マンガン及びカルシウムの酸化物の少なくとも１種である上記（１０）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（１２）（Ａ）エポキシ樹脂がビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型フェノール樹脂の少なくとも１種を含有する上記（１）〜（１１）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（１３）硫黄原子含有エポキシ樹脂が下記一般式（Ｉ）で示される化合物である上記（１２）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【化１】
2006052391.tif 000002
（一般式（I）で、Ｒ1〜Ｒ8は水素原子、置換又は非置換の炭素数１〜１０の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
（１４）（Ｂ）硬化剤がビフェニル型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の少なくとも１種を含有する上記（１）〜（１３）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【０００８】
（１５）（Ｅ）硬化促進剤をさらに含有する上記（１）〜（１４）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（１６）（Ｅ）硬化促進剤がホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む上記（１５）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（１７）（Ｅ）硬化促進剤が、リン原子に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む上記（１６）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（１８）（Ｆ）カップリング剤をさらに含有する上記（１）〜（１７）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（１９）（Ｆ）カップリング剤が２級アミノ基を有するシランカップリング剤を含有する上記（１８）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（２０）２級アミノ基を有するシランカップリング剤が下記一般式（II）で示される化合物を含有する上記（１９）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【化２】
2006052391.tif 000003
（一般式（II）で、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜２のアルコキシ基から選ばれ、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基及びフェニル基から選ばれ、Ｒ3はメチル基又はエチル基を示し、ｎは１〜６の整数を示し、ｍは１〜３の整数を示す。）
（２１）（Ｇ）リン原子を有する化合物をさらに含有する上記（１）〜（２０）のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（２２）（Ｇ）リン原子を有する化合物がリン酸エステル化合物を含有する上記（２１）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（２３）リン酸エステル化合物が下記一般式（III）で示される化合物を含有する上記（２２）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【化３】
2006052391.tif 000004
（一般式（III）で、式中の８個のＲは炭素数１〜４のアルキル基を示し、全て同一でも異なっていてもよい。Ａｒは芳香族環を示す。）
（２４）（Ｇ）リン原子を有する化合物がホスフィンオキサイドを含有し、該ホスフィンオキサイドが下記一般式（IV）で示されるホスフィン化合物を含有する上記（２１）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
【化４】
2006052391.tif 000005
（一般式（IV）で、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は炭素数１〜１０の置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基または水素原子を示し、すべて同一でも異なってもよい。ただしすべてが水素原子である場合を除く。）
【０００９】
（２５）（Ｈ）重量平均分子量が４，０００以上の直鎖型酸化ポリエチレン、および（Ｉ）炭素数５〜３０のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を炭素数５〜２５の一価のアルコールでエステル化した化合物をさらに含有する上記（１）〜（２４）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（２６）（Ｈ）成分および（Ｉ）成分の少なくとも一方が、（Ａ）成分の一部または全部と予備混合されてなる上記（２５）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（２７）（Ｊ）無機充填剤をさらに含有する上記（１）〜（２６）いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（２８）（Ｃ）水酸化マグネシウムと（Ｊ）無機充填剤の含有量の合計が封止用エポキシ樹脂成形材料に対して６０〜９５質量％である上記（２７）記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
（２９）上記（１）〜（２８）のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止された素子を備えた電子部品装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明による封止用エポキシ樹脂成形材料は難燃性が良好で、かつ成形性や耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性等の信頼性が良好な電子部品装置等の製品を得ることができ、その工業的価値は大である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明において用いられる（Ａ）エポキシ樹脂は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているもので特に制限はないが、たとえば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂（トリフェニルメタン型エポキシ樹脂）をはじめとする、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ等のフェノール類及び／又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したもの（ノボラック型エポキシ樹脂）；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、アルキル置換又は非置換のビフェノール等のジグリシジルエーテル；スチルベン型エポキシ樹脂；ハイドロキノン型エポキシ樹脂；フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂；ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂；ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂のエポキシ化物（ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂）；ナフタレン環を有するエポキシ樹脂（ナフタレン型エポキシ樹脂）；フェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物；ビフェニレン型エポキシ樹脂；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂；テルペン変性エポキシ樹脂；オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂；脂環族エポキシ樹脂；硫黄原子含有エポキシ樹脂などが挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１２】
なかでも、耐リフロー性の観点からはビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂及び硫黄原子含有エポキシ樹脂が好ましく、硬化性の観点からはノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、低吸湿性の観点からはジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましく、耐熱性及び低反り性の観点からはナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂が好ましく、難燃性の観点からはビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂の少なくとも１種を含有していることが好ましい。
【００１３】
ビフェニル型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式（V）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式（VI）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、スチルベン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式（VII）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、硫黄原子含有エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式（I）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【化５】
2006052391.tif 000006
（一般式（V）で、Ｒ1〜Ｒ8は水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【化６】
2006052391.tif 000007
（一般式（VI）で、Ｒ1〜Ｒ8は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【化７】
2006052391.tif 000008
（一般式（VII）で、Ｒ1〜Ｒ8は水素原子及び炭素数１〜５の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜１０の整数を示す。）
【化８】
2006052391.tif 000009
（一般式（I）で、Ｒ1〜Ｒ8は水素原子、置換又は非置換の炭素数１〜１０のアルキル基及び置換又は非置換の炭素数１〜１０のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【００１４】
上記一般式（V）で示されるビフェニル型エポキシ樹脂としては、たとえば、４，４´−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）ビフェニル又は４，４´−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）−３，３´，５，５´−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピクロルヒドリンと４，４´−ビフェノール又は４，４´−（３，３´，５，５´−テトラメチル）ビフェノールとを反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。なかでも４，４´−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）−３，３´，５，５´−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。ｎ＝０を主成分とするＹＸ−４０００（ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名）等が市販品として入手可能である。
上記一般式（VI）で示されるビスフェノールＦ型エポキシ樹脂はとしては、例えば、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ6及びＲ8がメチル基で、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5及びＲ7が水素原子であり、ｎ＝０を主成分とするＹＳＬＶ−８０ＸＹ（新日鐵化学株式会社製商品名）等が市販品として入手可能である。
上記一般式（VII）で示されるスチルベン型エポキシ樹脂は、原料であるスチルベン系フェノール類とエピクロルヒドリンとを塩基性物質存在下で反応させて得ることができる。この原料であるスチルベン系フェノール類としては、たとえば３−ｔ−ブチル−４，４′−ジヒドロキシ−３′，５，５′−トリメチルスチルベン、３−ｔ−ブチル−４，４′−ジヒドロキシ−３′，５′，６−トリメチルスチルベン、４，４´−ジヒドロキシ−３，３´，５，５´−テトラメチルスチルベン、４，４´−ジヒドロキシ−３，３´−ジ−ｔ−ブチル−５，５´−ジメチルスチルベン、４，４´−ジヒドロキシ−３，３´−ジ−ｔ−ブチル−６，６´−ジメチルスチルベン等が挙げられ、なかでも３−ｔ−ブチル−４，４′−ジヒドロキシ−３′，５，５′−トリメチルスチルベン、及び４，４´−ジヒドロキシ−３，３´，５，５´−テトラメチルスチルベンが好ましい。これらのスチルベン型フェノール類は単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記一般式（I）で示される硫黄原子含有エポキシ樹脂のなかでも、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ6及びＲ7が水素原子で、Ｒ1、Ｒ4、Ｒ5及びＲ8がアルキル基であるエポキシ樹脂が好ましく、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ6及びＲ7が水素原子で、Ｒ1及びＲ8がｔ−ブチル基で、Ｒ4及びＲ5がメチル基であるエポキシ樹脂がより好ましい。このような化合物としては、ＹＳＬＶ−１２０ＴＥ(東都化成株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。
これらのエポキシ樹脂はいずれか１種を単独で用いても２種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して合わせて２０質量％以上とすることが好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上とすることがさらに好ましい。
【００１５】
ノボラック型エポキシ樹脂としては、たとえば下記一般式（VIII）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【化９】
2006052391.tif 000010
（一般式（VIII）で、Ｒは水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
上記一般式（VIII）で示されるノボラック型エポキシ樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂にエピクロルヒドリンを反応させることによって容易に得られる。なかでも、一般式（VIII）中のＲとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。ｎは０〜３の整数が好ましい。上記一般式（VIII）で示されるノボラック型エポキシ樹脂のなかでも、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。Ｎ−６００シリーズ（大日本インキ化学工業株式会社製商品名）等が市販品として入手可能である。
ノボラック型エポキシ樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して２０質量％以上とすることが好ましく、３０質量％以上がより好ましい。
【００１６】
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、たとえば下記一般式（IX）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【化１０】
2006052391.tif 000011
（一般式（IX）で、Ｒ1及びＲ2は水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜６の整数を示す。）
上記式（IX）中のＲ1としては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基などの炭素数１〜５の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び水素原子がより好ましい。Ｒ2としては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基などの炭素数１〜５の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、なかでも水素原子が好ましい。ＨＰ−７２００（大日本インキ化学工業株式会社製商品名）等が市販品として入手可能である。
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して２０質量％以上とすることが好ましく、３０質量％以上がより好ましい。
【００１７】
ナフタレン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式（X）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XI)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【化１１】
2006052391.tif 000012
（一般式（X）で、Ｒ1〜Ｒ3は水素原子及び置換又は非置換の炭素数１〜１２の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。ｐは１又は０で、ｌ、ｍはそれぞれ０〜１１の整数であって、（ｌ＋ｍ）が１〜１１の整数でかつ（ｌ＋ｐ）が１〜１２の整数となるよう選ばれる。ｉは０〜３の整数、ｊは０〜２の整数、ｋは０〜４の整数を示す。）
上記一般式（X）で示されるナフタレン型エポキシ樹脂としては、ｌ個の構成単位及びｍ個の構成単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体が挙げられ、これらのいずれか１種を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【化１２】
2006052391.tif 000013
（一般式（XI）で、Ｒは水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００１８】
一般式(XI)で示されるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂としてはたとえばＥＰＰＮ−５００シリーズ（日本化薬株式会社製商品名）が市販品として入手可能である。
これらのエポキシ樹脂はいずれか１種を単独で用いても両者を組合わせて用いてもよいが、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して合わせて２０質量％以上とすることが好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上とすることがさらに好ましい。
【００１９】
上記のビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂は、いずれか１種を単独で用いても２種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量はエポキシ樹脂全量に対して合わせて５０質量％以上とすることが好ましく、６０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらに好ましい。
【００２０】
ビフェニレン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式（XII）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式（XIII）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【化１３】
2006052391.tif 000014
（上記一般式（XII）中のＲ1〜Ｒ9は全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜１０のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、なかでも水素原子とメチル基が好ましい。ｎは０〜１０の整数を示す。）
【化１４】
2006052391.tif 000015
（一般式（XIII）で、Ｒ1〜Ｒ2は水素原子及び置換又は非置換の炭素数１〜１２の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは１〜１０の整数を示す。）
ビフェニレン型エポキシ樹脂としてはＮＣ−３０００（日本化薬株式会社製商品名）等が市販品として入手可能である。またナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂としてはＥＳＮ−１７５（東都化成株式会社製商品名）等が市販品として入手可能である。
これらのビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂はいずれか１種を単独で用いても両者を組合わせて用いてもよいが、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して合わせて２０質量％以上とすることが好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上とすることがさらに好ましい。
【００２１】
上記エポキシ樹脂の中でも、特には耐リフロー性等の信頼性、成形性及び難燃性の観点からは上記一般式（I）で示される構造の硫黄原子含有エポキシ樹脂が最も好ましい。
【００２２】
本発明において用いられる（Ａ）エポキシ樹脂の１５０℃における溶融粘度は、流動性の観点から２ポイズ以下が好ましく、１ポイズ以下がより好ましく、０.５ポイズ以下がさらに好ましい。ここで、溶融粘度とはＩＣＩコーンプレート粘度計で測定した粘度を示す。
【００２３】
本発明において用いられる（Ｂ）硬化剤は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているもので特に制限はないが、たとえば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び／又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂；フェノール類及び／又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス（メトキシメチル）ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂、ビフェニル・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂；フェノール類及び／又はナフトール類とジシクロペンタジエンから共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂；テルペン変性フェノール樹脂；トリフェニルメタン型フェノール樹脂などが挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、難燃性の観点からはビフェニル型フェノール樹脂が好ましく、耐リフロー性及び硬化性の観点からはアラルキル型フェノール樹脂が好ましく、低吸湿性の観点からはジシクロペンタジエン型フェノール樹脂が好ましく、耐熱性、低膨張率及び低そり性の観点からはトリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましく、硬化性の観点からはノボラック型フェノール樹脂が好ましく、これらのフェノール樹脂の少なくとも１種を含有していることが好ましい。
【００２４】
ビフェニル型フェノール樹脂としては、たとえば下記一般式(XIV)で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【化１５】
2006052391.tif 000016
上記式(XIV)中のＲ1〜Ｒ9は全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜１０のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、なかでも水素原子とメチル基が好ましい。ｎは０〜１０の整数を示す。
上記一般式(XIV)で示されるビフェニル型フェノール樹脂としては、たとえばＲ1〜Ｒ9が全て水素原子である化合物等が挙げられ、なかでも溶融粘度の観点から、ｎが１以上の縮合体を５０質量％以上含む縮合体の混合物が好ましい。このような化合物としては、ＭＥＨ−７８５１（明和化成株式会社製商品名）が市販品として入手可能である。
ビフェニル型フェノール樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して３０質量％以上とすることが好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上がさらに好ましい。
【００２５】
アラルキル型フェノール樹脂としては、たとえばフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等が挙げられ、下記一般式(XV)で示されるフェノール・アラルキル樹脂、下記一般式（XVI）で示されるナフトール・アラルキル樹脂が好ましい。一般式(XV)中のＲが水素原子で、ｎの平均値が０〜８であるフェノール・アラルキル樹脂がより好ましい。具体例としては、ｐ−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂、ｍ−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂等が挙げられる。これらのアラルキル型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して３０質量％以上とすることが好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
【化１６】
2006052391.tif 000017
（一般式（XV）で、Ｒは水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
【化１７】
2006052391.tif 000018
（一般式（XVI）で、Ｒ1〜Ｒ2は水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００２６】
ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂としては、たとえば下記一般式(XVII)で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【化１８】
2006052391.tif 000019
（一般式（XVII）で、Ｒ1及びＲ2は水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜６の整数を示す。）
ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して３０質量％以上とすることが好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
【００２７】
トリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、たとえば下記一般式(XVIII)で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【化１９】
2006052391.tif 000020
（一般式（XVIII）で、Ｒは水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは１〜１０の整数を示す。）
トリフェニルメタン型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して３０質量％以上とすることが好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
【００２８】
ノボラック型フェノール樹脂としては、たとえばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂等が挙げられ、なかでもフェノールノボラック樹脂が好ましい。ノボラック型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して３０質量％以上とすることが好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
【００２９】
上記のビフェニル型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂は、いずれか１種を単独で用いても２種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量は硬化剤全量に対して合わせて６０質量％以上とすることが好ましく、８０質量％以上がより好ましい。
【００３０】
本発明において用いられる（Ｂ）硬化剤の１５０℃における溶融粘度は、流動性の観点から２ポイズ以下が好ましく、１ポイズ以下がより好ましい。ここで、溶融粘度とはＩＣＩ粘度を示す。
【００３１】
（Ａ）エポキシ樹脂と（Ｂ）硬化剤との当量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数に対する硬化剤中の水酸基数の比（硬化剤中の水酸基数／エポキシ樹脂中のエポキシ基数）は、特に制限はないが、それぞれの未反応分を少なく抑えるために０．５〜２の範囲に設定されることが好ましく、０．６〜１．３がより好ましい。成形性及び耐リフロー性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料を得るためには０．８〜１．２の範囲に設定されることがさらに好ましい。
【００３２】
本発明において用いられる（Ｃ）水酸化マグネシウムは難燃剤として作用するもので、シリカにて被覆されている水酸化マグネシウムを含むものである。水酸化マグネシウムをシリカにて被覆する方法は特に限定するものではないが、水酸化マグネシウムを水中に分散させたスラリーに水溶性の珪酸塩を加え、酸で中和して水酸化マグネシウム表面にシリカを析出させる方法が好ましい。水溶液の温度は被覆性の観点から５〜１００℃が好ましく、さらには５０〜９５℃とすることがより好ましく、また中和は被覆性の観点からスラリーのｐHを６〜１０とするのが好ましく、さらには６〜９.５とするのがより好ましい。被覆させるシリカの量は耐酸性と流動性他成形性及び難燃性の観点からＳｉＯ2換算にて水酸化マグネシウムに対して０.１〜２０質量％とすることが好ましく、３〜２０質量％とすることがより好ましい。０.１質量％未満であると耐酸性に劣る傾向があり、２０質量％を超える場合は難燃性が劣る傾向にある。
【００３３】
被覆に用いる水酸化マグネシウムは特に限定するものではないが、天然鉱石を粉砕して得られた天然物、マグネシウム塩水溶液をアルカリで中和して得られた合成物、またこれら水酸化マグネシウムをホウ酸塩、リン酸塩、亜鉛塩等で処理したものでもよい。さらには下記組成式（XIX）で示される複合金属水酸化物でもよい。
（化２０）
ｐ(Ｍ1aＯb)・ｑ(Ｍ2cＯd)・ｒ(Ｍ3cＯd)・ｍＨ2Ｏ    （XIX）
（組成式（XIX）で、Ｍ1、Ｍ2及びＭ3は互いに異なる金属元素を示し、Ｍ1がマグネシウム元素で、a、b、c、d、ｐ、ｑ及びｍは正の数、ｒは０又は正の数を示す。）
なかでも、上記組成式（XIX）中のｒが０である化合物、すなわち、下記組成式（XIXａ）で示される化合物がさらに好ましい。
（化２１）
ｍ(Ｍ1aＯb)・ｎ(Ｍ2cＯd)・ｌ(Ｈ2Ｏ)    （XIXａ）
（組成式（XIXa）で、Ｍ1及びＭ2は互いに異なる金属元素を示し、Ｍ１がマグネシウム元素で、a、b、c、d、ｍ、ｎ及びｌは正の数を示す。）
上記組成式（XIX）及び（XIXａ）中のＭ1及びＭ2は、Ｍ1がマグネシウム元素で一方はマグネシウム元素と異なる金属元素であれば特に制限はないが、難燃性の観点からは、Ｍ1とＭ2が同一とならないようにマグネシウム以外の元素が第３周期の金属元素、IIＡ族のアルカリ土類金属元素、IVＢ族、IIＢ族、VIII族、ＩＢ族、IIIＡ族及びIVＡ族に属する金属元素から選ばれ、Ｍ2がIIIＢ〜IIＢ族の遷移金属元素から選ばれることが好ましく、Ｍ1がマグネシウム、Ｍ2がカルシウム、アルミニウム、スズ、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれることがより好ましい。流動性の観点からは、Ｍ1がマグネシウム、Ｍ2が亜鉛又はニッケルであることが好ましく、Ｍ1がマグネシウムでＭ2が亜鉛であることがより好ましい。上記組成式（XIX）中のｐ、ｑ、ｒのモル比は本発明の効果が得られれば特に制限はないが、ｒ＝０で、ｐ及びｑのモル比ｐ／ｑが９９／１〜５０／５０であることが好ましい。すなわち、上記組成式（XIXａ）中のｍ及びｎのモル比ｍ／ｎが９９／１〜５０／５０であることが好ましい。
なお、金属元素の分類は、典型元素をＡ亜族、遷移元素をＢ亜族とする長周期型の周期律表（出典：共立出版株式会社発行「化学大辞典４」１９８７年２月１５日縮刷版第３０刷）に基づいて行った。
【００３４】
上記シリカにて被覆した水酸化マグネシウムにはさらにアルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種からなる被覆を施すことが耐酸性や製造時、特にスラリーをろ過する際のろ過性の観点から好ましい。
被覆方法は特に限定するものではないが、アルミナの場合はアルミン酸ナトリウムと酸、チタニアの場合は硫酸チタニルとアルカリ、ジルコニアの場合は硫酸ジルコニルとアルカリをそれぞれ、シリカ被覆を形成させた水酸化マグネシウムスラリー中に加えて析出させる方法がある。
【００３５】
またアルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種は、シリカ被覆層の上に上記方法にて被覆させてもよいが、シリカと共に同時に水酸化マグネシウムを被覆させることによりシリカ被覆層の中に含有させてもよい。同時に被覆させる場合は、例えば水酸化マグネシウムスラリーに珪酸塩とアルミン酸ナトリウムを加えた後、酸を加えて珪酸塩とアルミン酸ナトリウムを中和する方法等がある。
本被覆の割合はどちらの場合も水酸化マグネシウムに対してＡｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2及びＺｒＯ2換算にて０.０３〜１０質量％であることが好ましい。０.０３質量％未満であると耐酸性やろ過性に劣る傾向があり、１０質量％を超える場合は難燃性が劣る傾向にある。
【００３６】
本発明のシリカ被覆水酸化マグネシウムには耐酸性向上の観点からシリカ被覆層の上に高級脂肪酸、高級脂肪酸アルカリ金属塩、多価アルコール高級脂肪酸エステル、アニオン系界面活性剤、リン酸エステル、シランカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、チタネートカップリング剤、オルガノシラン、オルガノシロキサン及びオルガノシラザンから選ばれる少なくとも１種の表面処理剤にて表面処理されることがさらに好ましい。
【００３７】
上記高級脂肪酸としては炭素数１４〜２４の飽和又は不飽和のものが好ましく、オレイン酸やステアリン酸を挙げることができる。また高級脂肪酸アルカリ金属塩としてはナトリウム塩、カリウム塩等が好ましい。多価アルコール高級脂肪酸エステルとしてはグリセリンモノステアレート、グリセリンモノオレエート等が好ましい。アニオン系界面活性剤としてはステアリルアルコール、オレイルアルコール等の高級アルコールの硫酸エステル塩、ポリエチレングリコールエーテルの硫酸エステル塩、アミド結合含有硫酸エステル塩、エステル結合含有硫酸エステル塩、エステル結合含有スルホネート、アミド結合含有スルホン酸塩、エーテル結合含有スルホン酸塩、エーテル結合含有アルキルアリルスルホン酸塩、エステル結合含有アルキルアリルスルホン酸塩、アミド結合含有アルキルアリルスルホン酸塩等を挙げることができる。
【００３８】
リン酸エステルとしてはリン酸トリエステル、ジエステル、モノエステル又はこれらの混合物が用いられる。リン酸トリエステルの例としてはトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリプロピルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリペンチルホスフェート、トリヘキシルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、ヒドロキシルフェニルジフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、オレイルホスフェート、ステアリルホスフェート等が挙げられる。ジエステル、モノエステルの例としてはメチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、イソプロピルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、２−エチルヘキシルアシッドホスフェート、イソデシルアシッドホスフェート、ジラウリルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホスフェート、トリデシルアシッドホスフェート、モノステアリルアシッドホスフェート、ジステアリルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフェート、イソステアリルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、ベヘニルアシッドホスフェート等を挙げることができる。
これらの酸性リン酸エステルは金属塩、即ち周期律表第ＩＡ、IIＡ、IIＢ及び IIIＡ族から選ばれる少なくとも１種の金属の塩であってもよい。従って、好ましい例としてリチウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩、ストロンチウム塩、バリウム塩、亜鉛塩、アルミニウム塩等を挙げることができる。
【００３９】
シランカップリング剤とは、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、塩素原子等から選ばれる反応性官能基と共に、アルコキシル基に代表される加水分解性基を有するオルガノシランをいう。シランカップリング剤としては、特に限定されるものではないが、例えばビニルエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。また、アルミニウムカップリング剤としては、例えばアセチルアルコキシアルミニウムジイソプロピレートを例示することができ、チタネートカップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルパイロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチルアミノエチル）チタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルホニルチタネート等を例示することができる。
【００４０】
オルガノシロキサンとしては、オルガノジシロキサンを含むオルガノシロキサンオリゴマーやオルガノポリシロキサンが用いられる。オルガノジシロキサンとしては、例えばヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサプロピルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、ナトリウムメチルシリコネート等を挙げることができる。また、オルガノシロキサンオリゴマーとしては、例えばメチルフェニルシロキサンオリゴマーやフェニルシロキサンオリゴマー等を挙げることができる。本発明ではオルガノシロキサンとしては、特にオルガノポリシロキサンが好ましく、なかでもシリコーンオイルと呼ばれるものが好適に用いられる、そのようなオルガノポリシロキサンの例としてはジメチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルポリシクロシロキサン等のストレートシリコーンオイルを挙げることができる。また種々の有機基を有する変性シリコーンオイルも好ましく用いられる。そのような変性シリコーンオイルとして、例えば、ポリエーテル変性、エポキシ変性、アミノ変性、カルボキシル変性、メルカプト変性、カルビノール変性、メタクリル変性、長鎖アルキル変性シリコーンオイル等を挙げることができるが、しかし、これらに限定されるものではない。
【００４１】
オルガノシランとしては、アルキル基及び／又はアリールと共にアルコキシル基のような加水分解性基を有する有機ケイ素化合物をいい、例えばフェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、トリメチルクロロシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００４２】
また、オルガノシラザンとしては、例えばヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン、ヘキサフェニルジシラザン、ヘキサエチルシクロトリシラザン、メチルポリシラザン、フェニルポリシラザン等を挙げることができる。
【００４３】
このような表面処理剤は、水酸化マグネシウムに対して０．１〜２０質量％、好ましくは、０．５〜１５質量％、特に好ましくは、１〜１０質量％の範囲で用いられる。
また、このような表面処理剤による水酸化マグネシウム粒子の表面処理は、湿式、乾式のいずれでも行うことができる。
水酸化マグネシウム粒子を湿式にて表面処理する場合には、例えば、前述したように、水酸化マグネシウムのスラリー中にて水酸化マグネシウム粒子の表面にシリカからなる被覆を形成し、次いで、その水酸化マグネシウムのスラリーにエマルジョン、水溶液又は分散液等の適宜の形態にて表面処理剤を加え、温度２０〜９５℃、好ましくは加熱下に、ｐＨ６〜１２の範囲で攪拌、混合した後、水酸化マグネシウム粒子を濾過、水洗、乾燥し、粉砕すればよい。
また、水酸化マグネシウム粒子を乾式にて表面処理する場合には、前述したように水酸化マグネシウムのスラリー中にて水酸化マグネシウム粒子の表面にシリカからなる被覆を形成した後、水酸化マグネシウム粒子を濾過し、水洗、乾燥し、粉砕し、これを５〜３００℃、好ましくは加熱下に、表面処理剤と攪拌、混合すればよい。本発明における難燃剤は、このように、表面にシリカからなる被覆層を有するものを含む水酸化マグネシウム粒子からなり、好ましくは、そのような被覆された水酸化マグネシウム粒子を更に前記表面処理剤にて表面処理してなり、高い耐酸性を有する。特に本発明によれば、表面処理剤として、オルガノシロキサン、シランカップリング剤又はオルガノシランを用いることによって、すぐれた耐酸性を有する難燃剤を得ることができる。中でも最も好ましい表面処理剤はオルガノポリシロキサンであり、オルガノポリシロキサンのなかでも、特に、メチルハイドロジェンポリシロキサンが耐酸性の観点から好ましい。
【００４４】
また、前記アルミナ、チタニア及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種をシリカ被覆層の上に被覆したか、又はシリカ被覆層に含有した水酸化マグネシウム粒子が、さらに、同様に表面処理剤にて表面処理されても良い。
【００４５】
（Ｃ）水酸化マグネシウムの配合量はエポキシ樹脂１００質量部に対して、５〜３００質量部配合することが好ましい。１０〜２００質量部がより好ましく、２０〜１００質量部がさらに好ましい。配合量が５質量部未満であると難燃性に劣る傾向があり、３００質量部を超える場合、流動性等の成形性、耐酸性に劣る傾向がある。
【００４６】
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には、難燃性を向上させる観点から（Ｄ）金属酸化物を用いることができる。（Ｄ）金属酸化物としてはIA族、IIA族、IIIA〜VIA族に属する金属元素中の金属元素、いわゆる典型金属元素、及びIIIB〜IIB族に属する遷移金属元素の酸化物から選ばれることが好ましく、難燃性の観点からはマグネシウム、銅、鉄、モリブデン、タングステン、ジルコニウム、マンガン及びカルシウムの酸化物の少なくとも一種であることが好ましい。
なお、金属元素の分類は、典型元素をＡ亜族、遷移元素をＢ亜族とする長周期型の周期律表（出典：共立出版株式会社発行「化学大辞典４」１９８７年２月１５日縮刷版第３０刷）に基づいて行った。
（Ｄ）金属酸化物の配合量は（Ａ）エポキシ樹脂１００質量部に対して０．１〜１００質量部であることが好ましく、１〜５０質量部であることがより好ましく、３〜２０質量部であることがさらに好ましい。０．１質量部未満であると、難燃性の効果に劣る傾向があり、また１００質量部を超えると流動性や硬化性が低下する傾向にある。
【００４７】
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には、（Ａ）エポキシ樹脂と（Ｂ）硬化剤の反応を促進させるために必要に応じて（Ｅ）硬化促進剤を用いることができる。（Ｅ）硬化促進剤は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているもので特に制限はないが、たとえば、１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７、１，５−ジアザ−ビシクロ（４，３，０）ノネン、５、６−ジブチルアミノ−１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等のシクロアミジン化合物及びこれらの化合物に無水マレイン酸、１，４−ベンゾキノン、２，５−トルキノン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルベンゾキノン、２，６−ジメチルベンゾキノン、２，３−ジメトキシ−５−メチル−１，４−ベンゾキノン、２，３−ジメトキシ−１，４−ベンゾキノン、フェニル−１，４−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等の３級アミン類及びこれらの誘導体、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらの誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等のホスフィン化合物及びこれらのホスフィン化合物に無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、２−エチル−４−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、Ｎ−メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体などが挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。特にホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含むのが好ましい。
【００４８】
なかでも、難燃性、硬化性の観点からは、トリフェニルホスフィンが好ましく、難燃性、硬化性、流動性及び離型性の観点からは第三ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物が好ましい。第三ホスフィン化合物としては、特に限定するものではないが、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ブチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−エチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−プロピルフェニル）ホスフィン、トリス（４−ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（イソプロピルフェニル）ホスフィン、トリス（ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６−ジメチル−４−エトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４−エトキシフェニル）ホスフィンなどのアルキル基、アリール基を有する第三ホスフィン化合物が好ましい。またキノン化合物としてはｏ−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、ジフェノキノン、１，４−ナフトキノン、アントラキノン等があげられ、なかでも耐湿性、保存安定性の観点からｐ−ベンゾキノンが好ましい。トリス（４−メチルフェニル）ホスフィンとｐ−ベンゾキノンとの付加物が、離型性の観点からより好ましい。さらにはリン原子に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化合物とキノン化合物との付加物が硬化性、流動性及び難燃性の観点から好ましい。
硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成される量であれば特に制限されるものではないが、封止用エポキシ樹脂成形材料に対して０．００５〜２質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましい。０．００５質量％未満では短時間での硬化性に劣る傾向があり、２質量％を超えると硬化速度が速すぎて良好な成形品を得ることが困難になる傾向がある。
【００４９】
本発明では必要に応じて（Ｊ）無機充填剤を配合することができる。無機充填剤は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上の効果があり、たとえば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維等が挙げられる。さらに、難燃効果のある無機充填剤としては水酸化アルミニウム、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛などが挙げられる。ここで、ホウ酸亜鉛としてはＦＢ−２９０、ＦＢ−５００（Ｕ．Ｓ．Ｂｏｒａｘ社製）、ＦＲＺ−５００Ｃ（水澤化学工業株式会社製）等が、モリブデン酸亜鉛としてはＫＥＭＧＡＲＤ９１１Ｂ、９１１Ｃ、１１００（Ｓｈｅｒｗｉｎ−Ｗｉｌｌｉａｍｓ社製）等が各々市販品として入手可能である。
これらの無機充填剤は単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、充填性、線膨張係数の低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましく、無機充填剤の形状は充填性及び金型摩耗性の点から球形が好ましい。
無機充填剤の配合量は、難燃性、成形性、吸湿性、線膨張係数低減、強度向上及び耐リフロー性の観点から、（Ｃ）水酸化マグネシウムと合計して封止用エポキシ樹脂成形材料に対して５０質量％以上が好ましく、６０〜９５質量％がより好ましく、７０〜９０質量％がさらに好ましい。６０質量％未満では難燃性及び耐リフロー性が低下する傾向があり、９５質量％を超えると流動性が不足する傾向があり、また難燃性も低下する傾向にある。
【００５０】
（Ｊ）無機充填剤を用いる場合、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には、樹脂成分と充項剤との接着性を高めるために、（Ｆ）カップリング剤をさらに配合することが好ましい。（Ｆ）カップリング剤としては、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているもので特に制限はないが、たとえば、１級及び／又は２級及び／又は３級アミノ基を有するシラン化合物、エポキシシラン、メルカプトシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム／ジルコニウム系化合物等が挙げられる。これらを例示すると、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（トリメトキシシリルプロピル）エチレンジアミン、Ｎ−（ジメトキシメチルシリルイソプロピル）エチレンジアミン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルパイロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテートチタネ��ト、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート等のチタネート系カップリング剤などが挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
なかでも流動性、難燃性の観点からはシランカップリング剤、特に２級アミノ基を有するシランカップリング剤を含むのが好ましい。２級アミノ基を有するシランカップリング剤は分子内に２級アミノ基を有するシラン化合物であれば特に制限はないが、たとえば、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルエチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アニリノメチルトリメトキシシラン、γ−アニリノメチルトリエトキシシラン、γ−アニリノメチルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノメチルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノメチルエチルジエトキシシラン、γ−アニリノメチルエチルジメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。なかでも下記一般式（II）で示されるアミノシランカップリング剤を含むことが特に好ましい。
【化２２】
2006052391.tif 000021
（一般式（II）で、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜２のアルコキシ基から選ばれ、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基及びフェニル基から選ばれ、Ｒ３はメチル基又はエチル基を示し、ｎは１〜６の整数を示し、ｍは１〜３の整数を示す。）
【００５２】
カップリング剤の全配合量は、封止用エポキシ樹脂成形材料に対して０．０３７〜５質量％であることが好ましく、０．０５〜４．７５質量％であることがより好ましく、０．１〜２．５質量％であることがさらに好ましい。０．０３７質量％未満ではフレームとの接着性が低下する傾向があり、５質量％を超えるとパッケージの成形性が低下する傾向がある。
【００５３】
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には、難燃性を向上させる観点から（Ｇ）リン原子を有する化合物を用いることができる。（Ｇ）リン原子を有する化合物としては、本発明の効果が得られれば特に制限はなく、被覆又は無被覆の赤リン、シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合物、ニトリロトリスメチレンホスホン酸三カルシウム塩、メタン−１−ヒドロキシ−１，１−ジホスホン酸二カルシウム塩等のホスホン酸塩、トリフェニルホスフィンオキサイド、２−（ジフェニルホスフィニル）ハイドロキノン、２,２−[（２−（ジフェニルホスフィニル）−１,４−フェニレン）ビス（オキシメチレン）]ビス−オキシラン、トリ−ｎ−オクチルホスフィンオキサイド等のホスフィン及びホスフィンオキサイド化合物、リン酸エステル化合物などが挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種以上を組合わせて用いてもよい。
【００５４】
赤リンとしては、熱硬化性樹脂で被覆された赤リン、無機化合物及び有機化合物で被覆された赤リン等の被覆赤リンが好ましい。
熱硬化性樹脂で被覆された赤リンに用いられる熱硬化性樹脂としては、たとえば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、シアナート樹脂、尿素−ホルマリン樹脂、アニリン−ホルマリン樹脂、フラン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種以上組み合わせて用いてもよい。また、これらの樹脂のモノマー又はオリゴマーを用いて被覆と重合を同時に行い、重合によって製造された熱硬化樹脂が被覆されるものでもよく、熱硬化性樹脂は、被覆後に硬化されていてもよい。なかでも、封止用エポキシ樹脂成形材料に配合されるベース樹脂との相溶性の観点からは、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂が好ましい。
無機化合物及び有機化合物で被覆された赤リンに用いられる無機化合物としては、たとえば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化チタン、水酸化ジルコニウム、含水酸化ジルコニウム、水酸化ビスマス、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ニッケル、酸化鉄等が挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも、リン酸イオン捕捉効果に優れる水酸化ジルコニウム、含水酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム及び酸化亜鉛が好ましい。
また、無機化合物及び有機化合物で被覆された赤リンに用いられる有機化合物としては、たとえば、カップリング剤やキレート剤など表面処理に用いられる低分子量の化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の比較的高分子量の化合物などが挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも、被覆効果の観点から熱硬化性樹脂が好ましく、封止用エポキシ樹脂成形材料に配合されるベース樹脂との相溶性の観点からエポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂がより好ましい。
赤リンを無機化合物及び有機化合物で被覆する場合、その被覆処理の順序は、無機化合物で被覆した後に有機化合物で被覆しても、有機化合物で被覆した後に無機化合物で被覆しても、両者の混合物を用いて両者を同時に被覆してもよい。また、被覆形態は、物理的に吸着したものでも、化学的に結合したものでも、その他の形態であってもよい。また、無機化合物と有機化合物は、被覆後に別個に存在していても、両者の一部又は全部が結合した状態であってもよい。
無機化合物及び有機化合物の量は、無機化合物と有機化合物の質量比（無機化合物／有機化合物）は、１／９９〜９９／１が好ましく、１０／９０〜９５／５がより好ましく、３０／７０〜９０／１０がさらに好ましく、このような質量比となるように無機化合物及び有機化合物又はその原料となるモノマー、オリゴマーの使用量を調整することが好ましい。
【００５５】
熱硬化性樹脂で被覆された赤リン、無機化合物及び有機化合物で被覆された赤リン等の被覆赤リンの製造方法は、たとえば、特開昭６２−２１７０４号公報、特開昭５２−１３１６９５号公報等に記載された公知の被覆方法を用いることができる。また、被覆膜の厚さは本発明の効果が得られれば特に制限はなく、被覆は、赤リン表面に均一に被覆されたものでも、不均一であってもよい。
赤リンの粒径は、平均粒径（粒度分布で累積５０質量％となる粒径）が１〜１００μｍが好ましく、５〜５０μｍがより好ましい。平均粒径が１μｍ未満では、成形品のリン酸イオン濃度が高くなって耐湿性に劣る傾向があり、１００μｍを超えると、狭いパッドピッチの高集積・高密度化半導体装置に用いた場合、ワイヤの変形、短絡、切断等による不良が生じやすくなる傾向がある。
【００５６】
（Ｇ）リン原子を有する化合物のなかでも流動性の観点からは、リン酸エステル化合物またはホスフィンオキサイドを含むことが好ましい。リン酸エステル化合物はリン酸とアルコール化合物又はフェノール化合物のエステル化合物であれば特に制限はないが、例えばトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリス（２，６ジメチルフェニル）ホスフェート及び芳香族縮合リン酸エステル等が挙げられる。なかでも耐加水分解性の観点からは、下記一般式（III）で示される芳香族縮合リン酸エステル化合物を含むことが好ましい。
【化２３】
2006052391.tif 000022
（一般式（III）で、式中の８個のＲは炭素数１〜４のアルキル基を示し、全て同一でも異なっていてもよい。Ａｒは芳香族環を示す。）
上記式（III）のリン酸エステル化合物を例示すると、下記構造式（XX）〜（XXIV）で示されるリン酸エステル等が挙げられる。
【００５７】
【化２４】
2006052391.tif 000023
【００５８】
これらリン酸エステル化合物の添加量は、充填剤を除く他の全配合成分に対して、燐原子の量で０．２〜３．０質量％の範囲内であることが好ましい。０．２質量％より少ない場合は難燃効果が低くなる傾向がある。３．０質量％を超えた場合は成形性、耐湿性の低下や、成形時にこれらのリン酸エステル化合物がしみ出し、外観を阻害する場合がある。
【００５９】
ホスフィンオキサイドを難燃剤として用いる場合、ホスフィンオキサイドとしては下記一般式（IV）で示されるホスフィン化合物を含むことが好ましい。
【化２５】
2006052391.tif 000024
（一般式（IV）で、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は炭素数１〜１０の置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基または水素原子を示し、すべて同一でも異なってもよい。ただしすべてが水素原子である場合を除く。）
上記一般式（IV）で示されるホスフィン化合物の中でも、耐加水分解性の観点からはＲ１〜Ｒ３が置換又は非置換のアリール基であることが好ましく、特に好ましくはフェニル基である。
ホスフィンオキサイドの配合量は封止用エポキシ樹脂成形材料に対してリン原子の量が０．０１〜０．２質量％であることが好ましい。より好ましくは０．０２〜０．１質量％であり、さらに好ましくは０．０３〜０．０８質量％である。０．０１質量％未満であると難燃性が低下する傾向があり、０．２質量％を超えると成形性、耐湿性が低下する傾向がある。
【００６０】
またシクロホスファゼンとしては主鎖骨格中に次式（XXV）及び／又は次式（XXVI）を繰り返し単位として含む環状ホスファゼン化合物、あるいはホスファゼン環中の燐原子に対する置換位置が異なる次式（XXVII）及び／又は次式（XXVIII）を繰り返し単位として含む化合物等が挙げられる。
【化２６】
2006052391.tif 000025
【００６１】
ここで、式（XXV）及び式（XXVII）中のｍは１〜１０の整数で、Ｒ１〜Ｒ４は置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基、アリール基及び水酸基から選ばれ、全て同一でも異なっていても良い。Ａは炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基を示す。式（XXVI）及び式（XXVIII）中のｎは１〜１０の整数で、Ｒ５〜Ｒ８は置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基又はアリール基から選ばれ、全て同一でも異なっていても良く、Ａは炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基を示す。また、式中ｍ個のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はｍ個全てが同一でも異なっていても良く、ｎ個のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８はｎ個全てが同一でも異なっていても良い。上記式（XXV）〜式（XXVIII）において、Ｒ１〜Ｒ８で示される置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基又はアリール基としては特に制限はないが、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、ｏ−クメニル基、ｍ−クメニル基、ｐ−クメニル基、メシチル基等のアルキル基置換アリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基などが挙げられ、さらにこれらに置換する置換基としては、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、水酸基、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルアミノ基等が挙げられる。
これらの中で、エポキシ樹脂成形材料の耐熱性、耐湿性の観点からはアリール基が好ましく、より好ましくはフェニル基もしくはヒドロキシフェニル基である。
また、上記式（XXV）〜式（XXVIII）中のＡで示される炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基としては特に制限はないが、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基、ナフチレン基及びビフェニレン基等が挙げられ、エポキシ樹脂成形材料の耐熱性、耐湿性の観点からはアリレン基が好ましく、中でもフェニレン基がより好ましい。
【００６２】
環状ホスファゼン化合物は、上記式（XXV）〜式（XXVIII）のいずれかの重合物、上記式（XXV）と上記式（XXVI）との共重合物、又は上記式（XXVII）と上記式（XXVIII）との共重合物が挙げられるが、共重合物の場合、ランダム共重合物でも、ブロック共重合物でも、交互共重合物のいずれでも良い。その共重合モル比ｍ／ｎは特に限定するものではないが、エポキシ樹脂硬化物の耐熱性や強度向上の観点から１／０〜１／４が好ましく、１／０〜１／１．５がより好ましい。また、重合度ｍ＋ｎは１〜２０であり、好ましくは２〜８、より好ましくは３〜６である。
環状ホスファゼン化合物として好ましいものを例示すると、次式（XXIX）の重合物、次式（XXX）の共重合物等が挙げられる。
【００６３】
【化２７】
2006052391.tif 000026
（ここで、一般式（XXIX）中のｎは、０〜９の整数で、Ｒ１〜Ｒ6はそれぞれ独立に水素原子又は水酸基を示す。）
【００６４】
【化２８】
2006052391.tif 000027
ここで、上記一般式（XXX）中のｍ、ｎは、０〜９の整数で、Ｒ１〜Ｒ6はそれぞれ独立に水素原子または水酸基から選ばれる。また、上記一般式（XXX）で示される環状ホスファゼン化合物は、次に示すｍ個の繰り返し単位（ａ）とｎ個の繰り返し単位（ｂ）を交互に含むもの、ブロック状に含むもの、ランダムに含むもののいずれであってもかまわないが、ランダムに含むものが好ましい。
【００６５】
【化２９】
2006052391.tif 000028
（上記一般式（ａ）中のＲ１〜Ｒ6はそれぞれ独立に水素原子または水酸基から選ばれる。）
中でも、上記式（XXIX）でnが３〜６の重合体を主成分とするものや、上記式（XXX）でＲ1〜Ｒ6が全て水素原子又は１つが水酸基であり、n／mが１／２〜１／３で、n＋mが３〜６の共重合体を主成分とするものが好ましい。また、市販のホスファゼン化合物としては、ＳＰＥ−１００（大塚化学株式会社製商品名）等が入手可能である。
【００６６】
（Ｇ）リン原子を有する化合物の配合量は特に制限はないが、（Ｊ）無機充填剤を除く他の全配合成分に対して、リン原子の量で０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．５〜３質量％がさらに好ましい。配合量が０．０１質量％未満では難燃性が不十分となる傾向があり、５０質量％を超えると成形性、耐湿性が低下する傾向がある。
【００６７】
本発明においては離型性の観点から（Ｈ）重量平均分子量が４，０００以上の直鎖型酸化ポリエチレン、および（Ｉ）炭素数５〜３０のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を炭素数５〜２５の一価のアルコールでエステル化した化合物をさらに含有させてもよい。（Ｈ）重量平均分子量が４，０００以上の直鎖型酸化ポリエチレンは、離型剤として働くものである。ここで、直鎖型ポリエチレンとは、側鎖アルキル鎖の炭素数が主鎖アルキル鎖の炭素数の１０％程度以下のポリエチレンをいい、一般的には、針入度が２以下のポリエチレンとして分類される。
また、酸化ポリエチレンとは、酸価を有するポリエチレンをいう。（Ｈ）成分の重量平均分子量は、離型性の観点から４，０００以上であることが好ましく、接着性、金型・パッケージの汚れ防止の観点からは３０，０００以下であることが好ましく、５，０００〜２０，０００がより好ましく、７，０００〜１５，０００がさらに好ましい。ここで、重量平均分子量は、高温ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）で測定した値をいう。なお、本発明での高温ＧＰＣ測定方法は以下のとおりである。
測定器：Waters社製高温ＧＰＣ
（溶媒：ジクロロベンゼン
温度：１４０℃、
標準物質：ポリスチレン）
カラム：ポリマーラボラトリーズ社製商品名ＰＬgel  MIXED‐B
１０μｍ（７．５ｍｍ×３００ｍｍ）×２本
流量：１．０ｍｌ／分（試料濃度：０．３ｗｔ／vol％）
（注入量：１００μｌ）
また、（Ｈ）成分の酸価は、特に制限はないが、離型性の観点から２〜５０ｍｇ／ＫＯＨであることが好ましく、１０〜３５ｍｇ／ＫＯＨがより好ましい。
（Ｈ）成分の配合量は、特に制限はないが、（Ａ）エポキシ樹脂に対して０．５〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。配合量が０．５質量％未満では離型性が低下する傾向にあり、１０質量％を超えると接着性及び金型・パッケージ汚れの改善効果が不充分となる場合がある。
【００６８】
本発明において用いられる（Ｉ）炭素数５〜３０のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を炭素数５〜２５の一価のアルコールでエステル化した化合物も、離型剤として働くもので、（Ｈ）成分の直鎖型酸化ポリエチレンおよび（Ａ）成分のエポキシ樹脂のいずれとも相溶性が高く、接着性の低下や金型・パッケージ汚れを防ぐ効果がある。
【００６９】
（Ｉ）成分に用いられる炭素数５〜３０のα−オレフィンとしては、特に制限はないが、たとえば、１−ペンテン、１−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、1−ノナデセン、1−エイコセン、1−ドコセン、1−トリコセン、1−テトラコセン、1−ペンタコセン、1−ヘキサコセン、1−ヘプタコセン等の直鎖型α−オレフィン、３−メチル−１−ブテン、３，４−ジメチル−ペンテン、３−メチル−１−ノネン、３，４−ジメチル−オクテン、３−エチル−１−ドデセン、４−メチル−５−エチル−１−オクタデセン、３，４，５−トリエチル−１−１−エイコセン等の分岐型α−オレフィン等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも炭素数１０〜２５の直鎖型α−オレフィンが好ましく、1−エイコセン、1−ドコセン、1−トリコセン等の炭素数１５〜２５の直鎖型α−オレフィンがより好ましい。
【００７０】
（Ｉ）成分に用いられる炭素数５〜２５の一価のアルコールとしては、特に制限はないが、たとえば、アミルアルコール、イソアミルアルコール、ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、カプリルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、ペンタデシルアルコール、セチルアルコール、ヘプタデシルアルコール、ステアリルアルコール、ノナデシルアルコール、エイコシルアルコール等の直鎖型または分岐型の脂肪族飽和アルコール、ヘキセノール、２−ヘキセン−１−オール、１−ヘキセン−３−オール、ペンテノール、２−メチル−１−ペンテノール等の直鎖型または分岐型の脂肪族不飽和アルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等の脂環式アルコール、ベンジルアルコール、シンナミルアルコール等の芳香族アルコール、フルフリルアルコール等の複素環式アルコール等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも炭素数１０〜２０の直鎖型アルコールが好ましく、炭素数１５〜２０の直鎖型脂肪族飽和アルコールがより好ましい。
【００７１】
本発明の（Ｉ）成分における炭素数５〜３０のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物は、特に制限はないが、たとえば、下記一般式（XXXI）で示される化合物、下記一般式（XXXII）で示される化合物等が挙げられ、市販品としては、１−エイコセン、１−ドコセンおよび１−テトラコセンを原料としたニッサンエレクトールＷＰＢ−１（日本油脂株式会社製商品名）等が入手可能である。
【化３０】
2006052391.tif 000029
（一般式（XXXI）および（XXXII）で、Ｒは炭素数３〜２８の一価の脂肪族炭化水素基から選ばれ、ｎは１以上の整数、ｍは正の数を示す。）
上記一般式（XXXI）および（XXXII）中のｍは、無水マレイン酸１モルに対しα−オレフィンを何モル共重合させたかを示し、特に制限はないが、０．５〜１０が好ましく、０．９〜１．１がより好ましい。
【００７２】
（Ｉ）成分の共重合物の製造方法としては、特に制限はなく、一般的な共重合法を用いることができる。反応には、α−オレフィンと無水マレイン酸が可溶な有機溶媒等を用いてもよい。有機溶媒としては特に制限はないが、トルエンが好ましく、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、アミン系溶媒等も使用できる。反応温度は、使用する有機溶媒の種類によっても異なるが、反応性、生産性の観点から、５０〜２００℃とすることが好ましく、８０〜１２０℃がより好ましい。反応時間は、共重合物が得られれば特に制限はないが、生産性の観点から１〜３０時間とするのが好ましく、２〜１５時間とするのがより好ましく、４〜１０時間とするのがさらに好ましい。反応終了後、必要に応じて、加熱減圧下等で未反応分、溶媒等を除去することができる。その条件は、温度を１００〜２２０℃、より好ましくは１２０〜１８０℃、圧力を１３．３×１０3Ｐａ以下、より好ましくは８×１０3Ｐａ以下、時間を０．５〜１０時間とすることが好ましい。また、反応には、必要に応じてアミン系触媒、酸触媒等の反応触媒を加えてもよい。反応系のｐＨは、１〜１０程度とするのが好ましい。
【００７３】
（Ｉ）成分の共重合物を炭素数５〜２５の一価のアルコールでエステル化する方法としては、特に制限はなく、共重合物に一価のアルコールを付加反応させる等の一般的な方法を用いることができる。共重合物と一価のアルコールの反応モル比は、特に制限はなく、任意に設定可能であるが、この反応モル比を調整することによって親水性の度合いをコントロールすることができるので、目的の封止用エポキシ樹脂成形材料に合わせて適宜設定することが好ましい。反応には、共重合物が可溶な有機溶媒等を用いてもよい。有機溶媒としては特に制限はないが、トルエンが好ましく、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、アミン系溶媒等も使用できる。反応温度は、使用する有機溶媒の種類によっても異なるが、反応性、生産性の観点から、５０〜２００℃とすることが好ましく、８０〜１２０℃がより好ましい。反応時間は、特に制限はないが、生産性の観点から１〜３０時間とするのが好ましく、２〜１５時間とするのがより好ましく、４〜１０時間とするのがさらに好ましい。反応終了後、必要に応じて、加熱減圧下等で未反応分、溶媒等を除去することができる。その条件は、温度を１００〜２２０℃、より好ましくは１２０〜１８０℃、圧力を１３．３×１０3Ｐａ以下、より好ましくは８×１０3Ｐａ以下、時間を０．５〜１０時間とすることが好ましい。また、反応には、必要に応じてアミン系触媒、酸触媒等の反応触媒を加えてもよい。反応系のｐＨは、１〜１０程度とするのが好ましい。
【００７４】
（Ｉ）成分のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を一価のアルコールでエステル化した化合物としては、たとえば、下記の式（ａ）または（ｂ）で示されるジエステル、および式（ｃ）〜（ｆ）で示されるモノエステルから選ばれる１種以上を繰り返し単位として構造中に含む化合物等が挙げられる。また、式（ｇ）または（ｈ）で示されるノンエステルを含んでいても、無水マレイン酸が開環して二つの−ＣＯＯＨ基を有する構造を含んでいてもよい。
このような化合物としては、
（１）主鎖骨格が式（ａ）〜（ｆ）のいずれか１種単独で構成されるもの、
（２）主鎖骨格中に式（ａ）〜（ｆ）のいずれか２種以上をランダムに含むもの、規則的に含むもの、ブロック状に含むもの、
（３）主鎖骨格中に式（ａ）〜（ｆ）のいずれか１種または２種以上と式（ｇ）および（ｈ）の少なくとも一方とをランダムに含むもの、規則的に含むもの、ブロック状に含むもの、
等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、（４）主鎖骨格中に式（ｇ）および（ｈ）をランダムに含むもの、規則的に含むもの、ブロック状に含むもの、と
（５）主鎖骨格が式（ｇ）または（ｈ）のいずれか単独で構成されるもの、
との、いずれかまたは両方を含んでいてもよい。
【化３１】
2006052391.tif 000030
【化３２】
2006052391.tif 000031
【化３３】
2006052391.tif 000032
（上記式（ａ）〜（ｈ）で、Ｒ1は炭素数３〜２８の一価の脂肪族炭化水素基、Ｒ2は炭素数５〜２５の一価の炭化水素基から選ばれ、ｍは正の数を示す。）
上記式（ａ）〜（ｈ）中のｍは、無水マレイン酸１モルに対しα−オレフィンを何モル共重合させたかを示し、特に制限はないが、０．５〜１０が好ましく、０．９〜１．１がより好ましい。
【００７５】
（Ｉ）成分のモノエステル化率は、（Ｈ）成分との組み合わせにより適宜選択可能であるが、離型性の観点から２０％以上とすることが好ましく、（Ｉ）成分としては式（ｃ）〜（ｆ）で示されるモノエステルのいずれか１種または２種以上を併せて２０モル％以上含む化合物が好ましく、３０モル％以上含む化合物がより好ましい。
また、（Ｉ）成分の重量平均分子量は、金型・パッケージ汚れ防止及び成形性の観点から５，０００〜１００，０００とすることが好ましく、１０，０００〜７０，０００がより好ましく、１５，０００〜５０，０００がさらに好ましい。重量平均分子量が５，０００未満では金型・パッケージ汚れを防ぐ効果が低い傾向にあり、１００，０００を超えると化合物の軟化点が上昇し、混練性等に劣る傾向がある。ここで、重量平均分子量は、常温ＧＰＣで測定した値をいう。本発明での常温ＧＰＣによる重量平均分子量の測定方法は以下のとおりである。
測定器：島津製作所製ＬＣ−６Ｃ
カラム：shodex KF‐802.5＋KF‐804＋KF‐806
溶媒：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
温度：室温（２５℃）
標準物質：ポリスチレン
流量：１.０ml／分（試料濃度 約０.２ｗｔ／vol％）
注入量：２００μl
（Ｉ）成分の配合量は、特に制限はないが、（Ａ）エポキシ樹脂に対して０．５〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。配合量が０．５質量％未満では離型性が低下する傾向にあり、１０質量％を超えると耐リフロー性が低下する傾向にある。
【００７６】
耐リフロー性や金型・パッケージ汚れの観点から、本発明における離型剤である（Ｈ）成分および（Ｉ）成分の少なくとも一方は、本発明のエポキシ樹脂成形材料の調製時に（Ａ）成分のエポキシ樹脂の一部または全部と予備混合することが好ましい。（Ｈ）成分および（Ｉ）成分の少なくとも一方を（Ａ）成分と予備混合すると、これらのベース樹脂中での分散性が上がり、耐リフロー性の低下や金型・パッケージ汚れを防ぐ効果がある。
予備混合の方法は、特に制限するものではなく、（Ｈ）成分および（Ｉ）成分の少なくとも一方が（Ａ）成分のエポキシ樹脂中に分散されればいかなる方法を用いてもよいが、たとえば、室温〜２２０℃で０．５〜２０時間撹拌する等の方法が挙げられる。分散性、生産性の観点からは、温度を１００〜２００℃、より好ましくは１５０〜１７０℃、撹拌時間を１〜１０時間、より好ましくは３〜６時間とすることが好ましい。
予備混合するための（Ｈ）成分および（Ｉ）成分の少なくとも一方は、（Ａ）成分の全量と予備混合してもよいが、一部と予備混合することでも十分な効果が得られる。その場合、予備混合する（Ａ）成分の量は、（Ａ）成分の全量の１０〜５０質量％とすることが好ましい。
また、（Ｈ）成分と（Ｉ）成分とのいずれか一方を（Ａ）成分と予備混合することで、分散性向上の効果が得られるが、（Ｈ）成分および（Ｉ）成分の両方を（Ａ）成分と予備混合した方がより効果が高く好ましい。予備混合する場合の３成分の添加順序は、特に制限はなく、全てを同時に添加混合しても、（Ｈ）成分と（Ｉ）成分とのいずれか一方を先に（Ａ）成分と添加混合し、その後残りの成分を添加混合してもよい。
【００７７】
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には、さらに難燃性を向上する目的で従来公知のノンハロゲン、ノンアンチモンの難燃剤を必要に応じて配合することができる。たとえばメラミン、メラミン誘導体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物、水酸化アルミニウム、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛、ジシクロペンタジエニル鉄等の金属元素を含む化合物などが挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種以上を組合わせて用いてもよい。
【００７８】
また、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には、ＩＣ等の半導体素子の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から陰イオン交換体を添加することもできる。陰イオン交換体としては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、たとえば、ハイドロタルサイト類や、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス等から選ばれる元素の含水酸化物等が挙げられ、これらを単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、下記組成式（XXXIII）で示されるハイドロタルサイトが好ましい。
（化３４）
Ｍｇ１−ｘＡｌｘ（ＯＨ）2（ＣＯ3）ｘ／２・ｍＨ2Ｏ    （XXXIII）
（上記式（XXXIII）中  0＜ｘ≦0.5、ｍは正の数）
さらに、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には、その他の添加剤として、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型剤、カーボンブラック等の着色剤、シリコーンオイルやシリコーンゴム粉末等の応力緩和剤などを必要に応じて配合することができる。
【００７９】
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機、らいかい機、プラネタリミキサ等によって混合又は溶融混練した後、冷却し、必要に応じて脱泡、粉砕する方法等を挙げることができる。また、必要に応じて成形条件に合うような寸法及び重量でタブレット化してもよい。
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料を封止材として用いて、半導体装置等の電子部品装置を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等も挙げられる。ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等を用いてもよい。
【００８０】
本発明で得られる封止用エポキシ樹脂成形材料により封止した素子を備えた本発明の電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材や実装基板に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止した、電子部品装置等が挙げられる。
ここで、実装基板としては特に制限するものではなく、たとえば、有機基板、有機フィルム、セラミック基板、ガラス基板等のインターポーザ基板、液晶用ガラス基板、ＭＣＭ（Ｍｕｌｔｉ  Ｃｈｉｐ  Ｍｏｄｕｌｅ）用基板、ハイブリットＩＣ用基板等が挙げられる。
【００８１】
このような素子を備えた電子部品装置としては、たとえば半導体装置が挙げられ、具体的には、リードフレーム（アイランド、タブ）上に半導体チップ等の素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いてトランスファ成形などにより封止してなる、ＤＩＰ（Ｄｕａｌ  Ｉｎｌｉｎｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＰＬＣＣ（Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｌｅａｄｅｄ  Ｃｈｉｐ  Ｃａｒｒｉｅｒ）、ＱＦＰ（Ｑｕａｄ  Ｆｌａｔ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＯＰ（Ｓｍａｌｌ  Ｏｕｔｌｉｎｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＯＪ（Ｓｍａｌｌ  Ｏｕｔｌｉｎｅ  Ｊ−ｌｅａｄ  ｐａｃｋａｇｅ）、ＴＳＯＰ（Ｔｈｉｎ  Ｓｍａｌｌ  Ｏｕｔｌｉｎｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＴＱＦＰ（Ｔｈｉｎ  Ｑｕａｄ  Ｆｌａｔ  Ｐａｃｋａｇｅ）等の樹脂封止型ＩＣ、テープキャリアにリードボンディングした半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したＣＯＢ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｂｏａｒｄ）、ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）等のベアチップ実装した半導体装置、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び／又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したハイブリッドＩＣ、ＭＣＭ（Ｍｕｌｔｉ  Ｃｈｉｐ  Ｍｏｄｕｌｅ）マザーボード接続用の端子を形成したインターポーザ基板に半導体チップを搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより半導体チップとインターポーザ基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で半導体チップ搭載側を封止したＢＧＡ（Ｂａｌｌ  Ｇｒｉｄ  Ａｒｒａｙ）、ＣＳＰ（Ｃｈｉｐ  Ｓｉｚｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＭＣＰ（Ｍｕｌｔｉ  Ｃｈｉｐ  Ｐａｃｋａｇｅ）などが挙げられる。また、これらの半導体装置は、実装基板上に素子が２個以上重なった形で搭載されたスタックド（積層）型パッケージであっても、２個以上の素子を一度に封止用エポキシ樹脂成形材料で封止した一括モールド型パッケージであってもよい。
【実施例】
【００８２】
次に実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例用水酸化マグネシウムの合成例）
(1)水酸化マグネシウム１
水酸化マグネシウムのスラリー（濃度：１５０ｇ/リットル）２０リットルを８０℃に加熱し、ケイ酸ナトリウムをSiO2として４５０ｇ加えた後、スラリーのｐHが９になるまで硫酸を１時間かけて滴下し、このスラリーを８０℃/１時間加熱した。このスラリーから表面処理水酸化マグネシウムをろ過にて分離、水洗、乾燥、粉砕して水酸化マグネシウム１を得た。
(2)水酸化マグネシウム２
水酸化マグネシウムのスラリー（濃度：１５０ｇ/リットル）２０リットルを８０℃に加熱し、ケイ酸ナトリウムをSiO2として３００ｇ加えた後、スラリーのｐHが９になるまで硫酸を１時間かけて滴下し、このスラリーを８０℃/１時間加熱した。次にこのスラリーにメチルハイドロジェンポリシロキサン９０ｇを含むエマルジョンを加え、８０℃で１時間攪拌した後、このスラリーから表面処理水酸化マグネシウムをろ過にて分離、水洗、乾燥、粉砕して水酸化マグネシウム２を得た。
(3)水酸化マグネシウム３
水酸化マグネシウムのスラリー（濃度：１５０ｇ/リットル）２０リットルを８０℃に加熱し、ケイ酸ナトリウムをSiO2として９０ｇ加えた後、スラリーのｐHが９になるまで硫酸を１時間かけて滴下し、このスラリーを８０℃/１時間加熱した。この後、ｐHを９に保ちながら、アルミン酸ナトリウムをAl2O3換算にて３０ｇと硫酸を加え、１時間加熱した。次にこのスラリーにメチルハイドロジェンポリシロキサン９０ｇを含むエマルジョンを加え、８０℃で１時間攪拌した後、このスラリーから表面処理水酸化マグネシウムをろ過にて分離、水洗、乾燥、粉砕して水酸化マグネシウム３を得た。
(4)水酸化マグネシウム４
水酸化マグネシウムのスラリー（濃度：１５０ｇ/リットル）２０リットルを８０℃に加熱し、ケイ酸ナトリウムをSiO2として９０ｇ加えた後、スラリーのｐHが９になるまで硫酸を１時間かけて滴下し、このスラリーを８０℃/１時間加熱した。次にこのスラリーにデシルトリメトキシシラン９０ｇを含むエマルジョンを加え、８０℃で１時間攪拌した後、このスラリーから表面処理水酸化マグネシウムをろ過にて分離、水洗、乾燥、粉砕して水酸化マグネシウム４を得た。
(5)水酸化マグネシウム５
水酸化マグネシウムのスラリー（濃度：１５０ｇ/リットル）２０リットルを８０℃に加熱し、ケイ酸ナトリウムをSiO2として９０ｇ加えた後、スラリーのｐHが９になるまで硫酸を１時間かけて滴下し、このスラリーを８０℃/１時間加熱した。次にこのスラリーにステアリン酸ナトリウムの１０ｗｔ％水溶液０.９リットルを加え、８０℃で１時間攪拌した後、このスラリーから表面処理水酸化マグネシウムをろ過にて分離、水洗、乾燥、粉砕して水酸化マグネシウム５を得た。
(6)水酸化マグネシウム６
水酸化マグネシウムのスラリー（濃度：１５０ｇ/リットル）２０リットルを８０℃に加熱し、ケイ酸ナトリウムをSiO2として１.５ｇ加えた後、スラリーのｐHが９になるまで硫酸を１時間かけて滴下し、このスラリーを８０℃/１時間加熱した。このスラリーから表面処理水酸化マグネシウムをろ過にて分離、水洗、乾燥、粉砕して水酸化マグネシウム６を得た。
(7)水酸化マグネシウム７
水酸化マグネシウムのスラリー（濃度：１５０ｇ/リットル）２０リットルを８０℃に加熱し、ケイ酸ナトリウムをSiO2として９００ｇ加えた後、スラリーのｐHが９になるまで硫酸を１時間かけて滴下し、このスラリーを８０℃/１時間加熱した。このスラリーから表面処理水酸化マグネシウムをろ過にて分離、水洗、乾燥、粉砕して水酸化マグネシウム７を得た。
(8)水酸化マグネシウム８
水酸化マグネシウムのスラリー（濃度：１５０ｇ/リットル）２０リットルをろ過にて分離、水洗、乾燥、粉砕した。この水酸化マグネシウムを乾式で攪拌しながらメチルハイドロジェンポリシロキサン９０ｇを加え、１０分間攪拌した後、１５０℃/１時間加熱処理して水酸化マグネシウム８を得た。
(9)水酸化マグネシウム９
何も処理を施さない水酸化マグネシウムを水酸化マグネシウム９とした。
合成した各種水酸化マグネシウムの処理比率を表１に示す。
【表１】
2006052391.tif 000033
【００８３】
（離型剤の合成例）
α−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物として１−エイコセン、１−ドコセンおよび１−テトラコセンの混合物と無水マレイン酸との共重合物（日本油脂株式会社製商品名ニッサンエレクトールＷＰＢ−１）、一価のアルコールとしてステアリルアルコールを用い、これらをトルエンに溶解して１００℃で８時間反応させた後、１６０℃まで段階的に昇温しながらトルエンを除去し、さらに減圧下１６０℃で６時間反応させて未反応分を除去し、重量平均分子量３４，０００、モノエステル化率７０モル％のエステル化化合物（（Ｉ）成分：離型剤３）を得た。ここで、重量平均分子量は、溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いてＧＰＣで測定した値である。
【００８４】
（実施例１〜２１、比較例１〜７）
エポキシ樹脂として、エポキシ当量１９６、融点１０６℃のビフェニル型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名エピコートＹＸ−４０００Ｈ：エポキシ樹脂１）、エポキシ当量２４５、融点１１０℃の硫黄原子含有エポキシ樹脂（東都化成株式会社製商品名ＹＳＬＶ−１２０ＴＥ：エポキシ樹脂２）、エポキシ当量２６６、軟化点６７℃のβ−ナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂（東都化成株式会社製商品名ＥＳＮ−１７５：エポキシ樹脂３）及びエポキシ当量１９５、軟化点６５℃のｏ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（住友化学工業株式会社製商品名ＥＳＣＮ−１９０：エポキシ樹脂４）、
硬化剤として軟化点７０℃、水酸基当量１７５のフェノール・アラルキル樹脂（三井化学株式会社製商品名ミレックスＸＬＣ−３Ｌ：硬化剤１）、軟化点８０℃、水酸基当量１９９のビフェニル・アラルキル樹脂（明和化成株式会社製商品名ＭＥＨ−７８５１：硬化剤２）及び軟化点８０℃、水酸基当量１０６のフェノールノボラック樹脂（明和化成株式会社製商品名Ｈ−１：硬化剤３）、
硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン（硬化促進剤１）、トリフェニルホスフィンと１，４−ベンゾキノンの付加物（硬化促進剤２）及びトリブチルホスフィンと１，４−ベンゾキノンの付加物（硬化促進剤３）、
カップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（エポキシシラン）、２級アミノ基を含有するシランカップリング剤としてγ−アニリノプロピルトリメトキシシラン（アニリノシラン）、
難燃剤として上記表１に示す各種表面被覆水酸化マグネシウム（水酸化マグネシウム１〜９）、酸化亜鉛、芳香族縮合リン酸エステル（大八化学工業株式会社製商品名ＰＸ−２００）、トリフェニルホスフィンオキサイド、三酸化アンチモン及びエポキシ当量３９７、軟化点６９℃、臭素含量４９質量％のビスフェノールＡ型ブロム化エポキシ樹脂（東都化成株式会社製商品名ＹＤＢ−４００）、
無機充填剤として平均粒径１４．５μｍ、比表面積２．８ｍ２／ｇの球状溶融シリカ、
その他の添加剤としてカルナバワックス（離型剤１）、重量平均分子量８，８００、針入度１、酸価３０ｍｇ／ＫＯＨの直鎖型酸化ポリエチレン（（Ｈ）成分：離型剤２：クラリアント社製商品名ＰＥＤ１５３）、上記で調製した（Ｉ）成分（離型剤３）、及びカーボンブラック（三菱化学株式会社製商品名ＭＡ−１００）をそれぞれ表２〜表５に示す質量部で配合し、混練温度８０℃、混練時間１０分の条件でロール混練を行い、実施例１〜２１、比較例１〜７を作製した。
【００８５】
【表２】
2006052391.tif 000034
【００８６】
【表３】
2006052391.tif 000035
【００８７】
【表４】
2006052391.tif 000036
【００８８】
【表５】
2006052391.tif 000037
【００８９】
作製した実施例１〜２１、比較例１〜７の封止用エポキシ樹脂成形材料の特性を、次の各試験により求めた。結果を表６〜表９に示す。
（１）スパイラルフロー
ＥＭＭＩ−１−６６に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ樹脂成形材料をトランスファ成形機により、金型温度１８０℃、成形圧力６．９ＭＰａ、硬化時間９０秒の条件で成形し、流動距離（ｃｍ）を求めた。
【００９０】
（２）熱時硬度
封止用エポキシ樹脂成形材料を上記（１）の成形条件で直径５０ｍｍ×厚さ３ｍｍの円板に成形し、成形後直ちにショアＤ型硬度計を用いて測定した。
【００９１】
（３）難燃性
厚さ１／１６インチの試験片を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂成形材料を上記（１）の成形条件で成形して、さらに１８０℃で５時間後硬化を行い、ＵＬ−９４試験法に従って難燃性を評価した。
【００９２】
（４）耐酸性
８ｍｍ×１０ｍｍ×０．４ｍｍのシリコンチップを搭載した外形寸法２０ｍｍ×１４ｍｍ×２ｍｍの８０ピンフラットパッケージ（ＱＦＰ）を、封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製し、半田メッキ処理を行い、表面の腐食の度合いを目視で観察した。
【００９３】
（５）せん断離型性
縦５０ｍｍ×横３５ｍｍ×厚さ０．４ｍｍのクロムめっきステンレス板を挿入し、この上に直径２０ｍｍの円板を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で成形し、成形後直ちに該ステンレス板を引き抜いて最大引き抜き力を記録した。これを同一のステンレス板に対して連続で１０回繰り返し、２回目から１０回目までの引き抜き力の平均値を求めて評価した。
【００９４】
（６）耐リフロー性
８ｍｍ×１０ｍｍ×０．４ｍｍのシリコンチップを搭載した外形寸法２０ｍｍ×１４ｍｍ×２ｍｍの８０ピンフラットパッケージ（ＱＦＰ）を、封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製し、８５℃、８５％ＲＨの条件で加湿して所定時間毎に２４０℃、１０秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの有無を観察し、試験パッケージ数（５個）に対するクラック発生パッケージ数で評価した。
【００９５】
（７）耐湿性
５μｍ厚の酸化膜上に線幅１０μｍ、厚さ１μｍのアルミ配線を施した６ｍｍ×６ｍｍ×０．４ｍｍのテスト用シリコンチップを搭載した外形寸法２０ｍｍ×１４ｍｍ×２．７ｍｍの８０ピンフラットパッケージ（ＱＦＰ）を、封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製し、前処理を行った後、加湿して所定時間毎にアルミ配線腐食による断線不良を調べ、試験パッケージ数（１０個）に対する不良パッケージ数で評価した。
なお、前処理は８５℃、８５％ＲＨ、７２時間の条件でフラットパッケージを加湿後、２１５℃、９０秒間のベーパーフェーズリフロー処理を行った。その後の加湿は０．２ＭＰａ、１２１℃の条件で行った。
【００９６】
（８）高温放置特性
５μｍ厚の酸化膜上に線幅１０μｍ、厚さ１μｍのアルミ配線を施した５ｍｍ×９ｍｍ×０．４ｍｍのテスト用シリコンチップを、部分銀メッキを施した４２アロイのリードフレーム上に銀ペーストを用いて搭載し、サーモニック型ワイヤボンダにより、２００℃でチップのボンディングパッドとインナリードをＡｕ線にて接続した１６ピン型ＤＩＰ（Ｄｕａｌ  Ｉｎｌｉｎｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）を、封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製して、２００℃の高温槽中に保管し、所定時間毎に取り出して導通試験を行い、試験パッケージ数（１０個）に対する導通不良パッケージ数で、高温放置特性を評価した。
【００９７】
【表６】
2006052391.tif 000038
【００９８】
【表７】
2006052391.tif 000039
【００９９】
【表８】
2006052391.tif 000040
【０１００】
【表９】
2006052391.tif 000041
【０１０１】
本発明におけるシリカにて被覆されている水酸化マグネシウムを含まない水酸化マグネシウムを使用した比較例１、２は全て耐酸性に劣っており、また難燃剤を配合していない比較例３及び酸化亜鉛のみを用いた比較例４は難燃性に劣っており、ＵＬ−９４  Ｖ−０を達成していない。またリン系難燃剤のみを使用した比較例５、６は耐湿性に劣っている。臭素系難燃剤/アンチモン系難燃剤を使用した比較例７は高温放置特性に劣っている。
これに対し、本発明の構成成分を全て含んだ実施例１〜２１は全てＵＬ−９４  Ｖ−０を達成し、難燃性が良好で、また耐酸性、成形性も良好である。さらには実施例１〜１７、１９〜２１は耐リフロー性に優れ、実施例１〜２１は耐湿性及び高温放置特性に優れるといった信頼性にも優れている。