(57)【要約】【課題】  リング状セラミック成形体の積載効率を上げつつ、焼成のための雰囲気ガスを有効に利用できるセラミック焼成用さやを提供すること。【解決手段】  このセラミック焼成用さや１は、リング状セラミック成形体を焼成するためのセラミック焼成用さやであって、リング状セラミック成形体を配する複数の棒２２を支持するための一対の支持板１０を備え、一対の支持板１０それぞれには、互いに対応する位置に複数の棒２２をそれぞれ挿入可能な複数の穴１０１が形成され、一対の支持板１０は、それぞれに形成されている複数の穴１０１が向き合うように対向して保持されており、複数の穴１０１は、互いに交差する第１の方向及び第２の方向に沿って配置されている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リング状セラミック成形体を焼成するためのセラミック焼成用さやであって、前記リング状セラミック成形体を配する複数の棒を支持するための一対の支持板を備え、
前記一対の支持板それぞれには、互いに対応する位置に前記複数の棒をそれぞれ挿入可能な複数の穴が形成され、
前記一対の支持板は、それぞれに形成されている複数の穴が向き合うように対向して保持されており、
前記複数の穴は、互いに交差する第１の方向及び第２の方向それぞれに沿って配置されている、
ことを特徴とするセラミック焼成用さや。
【請求項２】
前記リング状セラミック成形体を前記複数の棒それぞれに配し、当該配した複数の棒を前記一対の支持板で支持した場合において、
当該支持された一の棒に配されたリング状セラミック成形体が、当該支持された他の棒に配されたリング状セラミック成形体と接触しないように、前記一対の支持板それぞれにおける穴の位置が決定されていることを特徴とする請求項１に記載のセラミック焼成用さや。
【請求項３】
前記支持板は、その主面から当該主面に対向する面に貫通する貫通孔を有する材料で形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のセラミック焼成用さや。
【請求項４】
前記支持板は円形板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のセラミック焼成用さや。
【請求項５】
前記一対の支持板それぞれの円周部分に沿って筒状を成す外筒部を備え、前記外筒部によって前記一対の支持板それぞれの円周部分を保持することを特徴とする請求項４に記載のセラミック焼成用さや。
【請求項６】
前記一対の支持板を所定間隔で保持するための支持棒を少なくとも３本備えることを特徴とする請求項１〜４に記載のセラミック焼成用さや。
【請求項７】
前記支持棒は前記支持板を貫通しており、前記支持棒を前記支持板の主面と当該主面に対向する面との間で挟むように係止部材が設けられていることを特徴とする請求項６に記載のセラミック焼成用さや。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のセラミック焼成用さやと、当該セラミック焼成用さやが挿入可能なように形成されている管状路と、当該管状路の周囲に配置されているヒータと、を備える焼成炉。
【請求項９】
前記セラミック焼成用さやを、その軸線を中心に回転させるための回転手段を備えることを特徴とする請求項８に記載の焼成炉。
【請求項１０】
前記管状路内に、前記セラミック成形体を焼成する雰囲気を構成する雰囲気ガスを導入するためのガス導入手段を備えることを特徴とする請求項８又は９に記載の焼成炉。
【請求項１１】
前記管状路の一端及び多端のそれぞれに繋がる置換室を備えることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の焼成炉。
【請求項１２】
前記管状路内において前記セラミック焼成用さやを進行させるための押し出し手段を備えることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載の焼成炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リング状セラミック成形体を焼成するためのセラミック焼成用さや、及び当該セラミック焼成用さやを用いた焼成炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、リング状セラミック成形体を焼成するためのセラミック焼成用さやとして、当該リング状セラミック成形体が配された棒を支持する溝が複数設けられた平板状のものが知られている（例えば、下記特許文献１参照）。下記特許文献１に記載されているセラミック焼成用さやを用いてリング状セラミック成形体を焼成する場合には、まずリング状セラミック成形体を串刺しにした棒を準備する。続いて、その串刺しにした棒を上述の溝に配置し、その後に棒を抜き去ってリング状セラミック成形体のみが上述の溝の間にある溝に残される。更にその後、リング状セラミック成形体のみを配置したセラミック焼成用さやを複数積み重ねて焼成する。
【特許文献１】特開平８−１２８７８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上述の従来のセラミック焼成用さやでは、セラミック成形体を並べた後にセラミック焼成用さや同士を積み重ねて焼成している。また、各セラミック焼成用さやを同じ形状にすることが、セラミック焼成用さやの製造上も管理上も都合がいいことから、各セラミック焼成用さやは水平方向において同じ位置に一段ずつセラミック成形体を配置する形態となっている。この一段ずつの配置態様は、配置されたセラミック成形体が整列している方向から見ると、セラミック焼成用さやの投影面積に対するセラミック成形体の投影面積の比率が必ずしも高いとはいえない。従って、セラミック焼成用さやが占有する体積に対して、配置され得るセラミック成形体の体積の比率が必ずしも高いとはいえない。
【０００４】
また上述のセラミック焼成用さやにおいては、配置されたセラミック成形体が整列している方向から雰囲気ガス（焼成雰囲気を構成するガス）がセラミック焼成用さや内に導入される。上述の従来のセラミック焼成用さやには、棒を取り除いた後にリング状セラミック成形体がセラミック焼成用さやから脱落しないように土手が周囲に設けられている。従って、セラミック焼成用さやが搬送される焼成炉内に導入される雰囲気ガスがセラミック焼成用さやに円滑に導入されない場合もあり、雰囲気ガスが十分利用されずに排出される場合もある。
【０００５】
また上述のセラミック焼成用さやでは、セラミック成形体を配置する溝を形成する必要があることから、構造物としての構成要素が多く、重い。従って、セラミック焼成用さやの熱容量が大きくなり、セラミック成形体の温度を上昇させるために必要となる雰囲気ガスがより多くなる。
【０００６】
そこで本発明では、リング状セラミック成形体の積載効率を上げつつ、焼成のための雰囲気ガスを有効に利用できるセラミック焼成用さや及び焼成炉を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のセラミック焼成用さやは、リング状セラミック成形体を焼成するためのセラミック焼成用さやであって、リング状セラミック成形体を配する複数の棒を支持するための一対の支持板を備え、一対の支持板それぞれには、互いに対応する位置に複数の棒をそれぞれ挿入可能な複数の穴が形成され、一対の支持板は、それぞれに形成されている複数の穴が向き合うように対向して保持されており、複数の穴は、互いに交差する第１の方向及び第２の方向それぞれに沿って配置されている。
【０００８】
本発明によれば、一対の支持板に形成されている複数の穴が、互いに交差する第１の方向及び第２の方向それぞれに沿って配置されているので、支持板を有効に利用して棒を支持することができる。リング状セラミック成形体は棒に配されると共に、その棒は一対の支持板で保持されるので、このセラミック焼成用さやを雰囲気ガスに晒した場合にリング状セラミック成形体にその雰囲気ガスが行き渡りやすくなる。
【０００９】
また本発明のセラミック焼成用さやでは、リング状セラミック成形体を複数の棒それぞれに配し、当該配した複数の棒を一対の支持板で支持した場合において、当該支持された一の棒に配されたリング状セラミック成形体が、当該支持された他の棒に配されたリング状セラミック成形体と接触しないように、一対の支持板それぞれにおける穴の位置が決定されていることも好ましい。異なる棒に配したリング状セラミック成形体同士が接触しないように保持できるので、各リング状セラミック成形体に雰囲気ガスを有効に接触させることができる。
【００１０】
また本発明のセラミック焼成用さやでは、支持板は、その主面から当該主面に対向する面に貫通する貫通孔を有する材料で形成されていることも好ましい。支持板に貫通孔が形成されるので、支持板で棒を保持した状態でも支持板側からリング状セラミック成形体に雰囲気ガスを導入しやすくなる。
【００１１】
また本発明のセラミック焼成用さやでは、支持板は円形板であることも好ましい。支持板を円形板にすると、リング状セラミック成形体と相似形になるので、より積載効率を上げることができる。
【００１２】
また本発明のセラミック焼成用さやでは、一対の支持板それぞれの円周部分に沿って筒状を成す外筒部を備え、外筒部によって一対の支持板それぞれの円周部分を保持することも好ましい。一対の支持板それぞれの円周部分を外筒部で保持するので、一対の支持板及び外筒部によって円筒状のさやを形成でき、リング状セラミック成形体を配した棒をその円筒内に収容できる。
【００１３】
また本発明のセラミック焼成用さやでは、一対の支持板を所定間隔で保持するための支持棒を少なくとも３本備えることも好ましい。一対の支持板を３本の支持棒で保持するので、一対の支持板を所定間隔をもって的確に保持できる。
【００１４】
また本発明のセラミック焼成用さやでは、支持棒は支持板を貫通しており、支持棒を支持板の主面と当該主面に対向する面との間で挟むように係止部材が設けられていることも好ましい。支持板を貫通した支持棒を、支持板と共に挟むように係止部材によって固定しているので、支持板と支持棒とをより確実に固定できる。
【００１５】
本発明の焼成炉は、上述のセラミック焼成用さやと、当該セラミック焼成用さやが挿入可能なように形成されている管状路と、当該管状路の周囲に配置されているヒータと、を備える。
【００１６】
本発明によれば、積載効率のよいセラミック焼成用さやが挿入可能な管状路を備え、その管状路の外部に配置されているヒータで管状路内を所定の温度に上昇させるので、積載効率を上げつつ雰囲気ガスを有効に利用できる。
【００１７】
また本発明の焼成炉では、セラミック焼成用さやを、その軸線を中心に回転させるための回転手段を備えることも好ましい。セラミック焼成用さやを回転させるので、セラミック焼成用さや内に配されているリング状セラミック成形体を斑なく焼成できる。
【００１８】
また本発明の焼成炉では、管状路内に、セラミック成形体を焼成する雰囲気を構成する雰囲気ガスを導入するためのガス導入手段を備えることも好ましい。管状路内に雰囲気ガスを導入することができるので、管状路内のセラミック焼成用さやに効果的に雰囲気ガスを当てることができる。
【００１９】
また本発明の焼成炉では、管状路の一端及び多端のそれぞれに繋がる置換室を備えることも好ましい。管状路の両端に繋がる置換室を備えているので、管状路内における炉内温度や炉内雰囲気に極力影響を与えずに、管状路内にセラミック焼成用さやを入れることができる。
【００２０】
また本発明の焼成炉では、管状路内においてセラミック焼成用さやを進行させるための押し出し手段を備えることも好ましい。管状路内でセラミック焼成用さやを進行させることができるので、管状路内に順次セラミック焼成用さやを送り込むことができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、セラミック焼成用さやの支持板を有効に利用して、リング状セラミック成形体を配した棒を支持することができる。また、リング状セラミック成形体に雰囲気ガスを効果的に行き渡らせることができる。従って、リング状セラミック成形体の積載効率を上げつつ、焼成のための雰囲気ガスを有効に利用できるセラミック焼成用さやを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の知見は、例示のみのために示された添付図面を参照して以下の詳細な記述を考慮することによって容易に理解することができる。引き続いて、添付図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。可能な場合には、同一の部分には同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
【００２３】
本発明の実施形態であるセラミック焼成用さやについて図１を参照しながら説明する。図１の（ａ）はセラミック焼成用さや１の構成を示す斜視図である。図１の（ｂ）はセラミック焼成用さや１にリング状のセラミック成形体２１を配した棒２２を収容した状態を示す斜視図である。
【００２４】
セラミック焼成用さや１は、一対の支持板１０と、３本の支持棒１２とを備えている。支持板１０は円形板であって、３本の支持棒１２によって所定間隔を保つように保持されている。支持板１０にはそれぞれ、穴１０１及び穴１０２が形成されている。穴１０１は、セラミック成形体２１を配した棒２２を挿入するための穴である。穴１０２は、支持棒１２を挿入するための穴である。
【００２５】
穴１０１及び穴１０２について図２を参照しながら更に詳細に説明する。図２の（ａ）は、セラミック焼成用さや１を図１の（ｂ）における矢印Ａ方向から見た図である。図２の（ｂ）はセラミック焼成用さや１の支持板１０の一部を拡大した図である。
【００２６】
図２の（ａ）に示すように、穴１０１は支持板１０の重心を基準とした３つの同心円１０ａ，１０ｂ，１０ｃに沿って配置されている。穴１０１の直径は棒２２の直径よりも大きくなるように形成されている。従って、穴１０１に挿入された棒２２は、穴１０１の下部に位置している。棒２２に配されているリング状のセラミック成形体２１の内径は、棒２２の直径よりも大きく形成されている。従って、穴１０１に対するセラミック成形体２１の位置は、図２の（ａ）に示すように下方にずれていることになる。
【００２７】
穴１０１相互の位置は、図２の（ａ）に示すように、セラミック成形体２１を配した棒２２を挿入した場合に、一の棒２２に配したセラミック成形体２１が、他の棒２２に配したセラミック成形体２１と接触しないように決定されている。また、穴１０１は前述したように、３つの同心円１０ａ，１０ｂ，１０ｃに沿って配置されているので、支持板１０の重心から見ると略放射状の複数の方向（第１の方向、第２の方向）に沿って配置されていることになる。
【００２８】
穴１０２は、穴１０１が配置されている同心円１０ｃ上において、穴１０１と隣り合うように形成されている。穴１０２の径は支持棒１２の径よりも若干大きく形成されており、穴１０２には支持棒１２が挿入されている。
【００２９】
支持板１０は、その主面から対抗する面に貫通する貫通孔を複数有する多孔質材料によって形成されている。従って、図２の（ｂ）に示すように、穴１０１（穴１０２）の他に複数の貫通孔１０３を有している。従って、セラミック焼成用さや１を雰囲気ガスに晒すと、雰囲気ガスがこの貫通孔１０３を通過して内部に配されているセラミック成形体２１を焼成する。
【００３０】
続いて、支持板１０と支持棒１２との固定態様について図３を参照しながら説明する。図３の（ａ）は支持板１０と支持棒１２との固定態様の一例を、図３の（ｂ）は支持板１０と支持棒１２との固定態様の別の一例を、それぞれ示した図である。
【００３１】
図３の（ａ）に示す例に拠れば、支持板１０を貫通している支持棒１２には穴１２１が２個形成されている。穴１２１の一方は支持板１０の主面１０４に沿う位置に、穴１２１の一方は主面１０４に対向する面１０５に沿う位置に、それぞれ形成されている。２つの穴１２１にはそれぞれピン２３（係止部材）が挿入される。
【００３２】
ピン２３は、支持棒１２の径よりも長い筒部２３ａと、穴１２１の径よりも大径の頭部２３ｂとを有している。従って、穴１２１に挿入されたピン２３は、支持棒１２から、頭部２３ｂと筒部２３ａの先端が突出する。ピン２３が挿入される穴１２１は支持板１０を挟む位置に形成されているから、穴１２１にピン２３を挿入することで支持板１０を挟み込んで固定できる。
【００３３】
図３の（ｂ）に示す例に拠れば、支持板１０を貫通している支持棒１２には溝１２２が形成されている。溝１２２は支持棒１２の直径方向において一対形成されている。更にこの一対の溝１２２が、支持板１０の主面１０４に沿う位置と、主面１０４に対向する面１０５に沿う位置と、のそれぞれに形成されている。それぞれの溝１２２にはクリップ２４が挿入される。
【００３４】
クリップ２４は一対の溝１２２のそれぞれに挿入されるように脚２４ａが一対形成されている。また、クリップ２４を溝１２２に挿入した場合には、クリップ２４の外周が支持棒１２の外周よりも外側に出るように形成されている。従って、クリップ２４を溝１２２に挿入することで支持板１０を挟み込んで固定できる。
【００３５】
続いて、セラミック焼成用さや１の変形例について図４を参照しながら説明する。図４は変形例としてのセラミック焼成用さや２の構成を示す斜視図である。セラミック焼成用さや２は、一対の支持板１５と、外筒部１４とを備えている。支持板１５は既に説明したセラミック焼成用さや１の支持板１０と同様に円形の板部材である。支持板１５には、セラミック成形体２１を配した棒２２を挿入するための穴１０１のみが形成されていて、支持棒１２を挿入するための穴１０２は形成されていない。
【００３６】
外筒部１４は、一対の支持板１５の円周部分に沿って筒状を成すように形成されている。外筒部１４の一端及び他端に支持板１５がそれぞれ挿入される。従って、外筒部１４は支持板１５の円周部分を保持することで、支持板１５を所定間隔に保持している。
【００３７】
続いて、本実施形態のセラミック焼成用さや１（２）を用いる焼成炉について図５を参照しながら説明する。図５は焼成炉５の構成を説明するための図であって、焼成炉５の断面形状を模式的に示した図である。焼成炉５は、炉本体５１と、管状路５２と、ヒータ５３と、置換室５４とを備えている。
【００３８】
管状路５２は、炉本体５１内の炉内空間５１ａに配置されている。管状路５２は、炉本体５１の一端から他端まで連結されて一連の管状路を形成している。ヒータ５３は管状路５２の外側の炉内空間５１ａに配置されており、管状路５２を囲繞している。
【００３９】
管状路５２の一端及び他端には置換室５４が配置されている。置換室５４の構成について図６を参照しながら説明する。図６の（ａ）及び（ｂ）は置換室５４におけるセラミック焼成用さや１（２）の挙動について説明するための図である。図６の（ａ）に示すように、管状路５２内に新たにセラミック焼成用さや１（２）を導入する場合にはプッシャー５５（押し出し手段）を後退させる。
【００４０】
次に、管状路５２が置換室５４に臨む部分に形成されている入口５２ａを開いて置換室５４から管状路５２へセラミック焼成用さや１（２）が導入される。置換室５４からセラミック焼成用さや１（２）が導入されると、管状路５２の入口５２ａは閉じられる。置換室５４内のセラミック焼成用さや１（２）が管状路５２内に導入される一連の過程において、置換室５４の入口５４ａは閉じられている。
【００４１】
次に、プッシャー５５を管状路５２内に進行させて、新たに導入されたセラミック焼成用さや１（２）が管状路５２内を進行させる（図６の（ｂ））。図６の（ｂ）に示すように、プッシャー５５によってセラミック焼成用さや１（２）を管状路５２内に進行させている間に、置換室５４の入口５４ａを開いて次のセラミック焼成用さや１（２）を準備する。上述の手順を繰り返すことで、焼成炉５において連続的にセラミック焼成用さや１（２）によって保持されたセラミック成形体を焼成できる。
【００４２】
引き続いて、本実施形態のセラミック焼成用さや１（２）を用いる焼成炉の別の例について図７を参照しながら説明する。図７の（ａ）及び（ｂ）は焼成炉７の構成を説明するための図であって、焼成炉７の断面形状を模式的に示した図である。より具体的には、図７の（ａ）は焼成炉７の管状路７２の軸線に交わる方向の断面を、図７の（ｂ）は管状路７２の軸線に沿う方向の断面を、それぞれ示している。焼成炉７は、炉本体７１と、管状路７２と、ヒータ７３とを備えている。
【００４３】
管状路７２は、炉本体７１内の炉内空間７１ａに配置されている。管状路７２は、炉本体５１の一方の壁から他方の壁を貫通するように、３本ずつ３列配置されている。ヒータ７３は管状路７２の外側の炉内空間７１ａに配置されており、管状路７２の間に入り込むようになっている。
【００４４】
９本の各管状路７２の一端にはガス導入路７４（ガス導入手段）が、他端にはガス排出路７５が、それぞれ接続されている。管状路７２内に挿入されるセラミック焼成用さや１（２）によって保持されたセラミック成形体は、ガス導入路７４から導入される雰囲気ガスによって焼成される。セラミック成形体を焼成した雰囲気ガスはガス排出路７５から排出される。
【００４５】
ガス導入路７４は、図７に示すように、導入管７４ａと蓋７４ｂとから構成される。蓋７４ｂは、管状路７２内にセラミック焼成用さや１（２）を挿入した後に、管状路７２を封止するための蓋である。導入管７４ａは蓋７４ｂに接続されると共に、蓋７４ｂが管状路７２に装着された場合に、管状路７２内に雰囲気ガスを導入することが可能なように構成されている。
【００４６】
また、管状路７２はその軸線を中心に回転可能なように構成されている。管状路７２を回転させるための構成について図９を参照しながら説明する。図９の（ａ）は管状路７２の軸線に交わる方向の断面の構成を示し、図９の（ｂ）は管状路７２の軸線に沿う方向の断面の構成を示す。
【００４７】
管状路７２に沿ってローラ７６が一対設けられている。ローラ７６はそれぞれ管状路７２に当接していて、各ローラ７６が同じ方向に回転すると管状路７２がそれとは逆回りに回転するように構成されている。
【００４８】
各ローラ７６は、その両端近傍が軸受け７７によって支持されている。各ローラ７６の一端にはスプロケット７８が固定されている。スプロケット７８にはチェーン７９が掛けられていて、チェーン７９がモータ（図示しない）の回転によって回転するとスプロケット７８が回転する。スプロケット７８が回転するとローラ７６も回転することから、管状路７２を回転させることができる。従って、図９の（ａ）及び（ｂ）に示す、ローラ７６，軸受け７７，スプロケット７８，及びチェーン７９によって回転手段が構成されている。
【００４９】
以上のように、本実施形態のセラミック焼成用さや１（２）によれば、一対の支持板１０に形成されている複数の穴１０１が、異なる同心円上に沿って配置されているので、円形の支持板１０をより有効に利用して棒２２を支持することができる。リング状のセラミック成形体２１は棒２２に配されると共に、その棒２２は一対の支持板１０で保持されるので、このセラミック焼成用さや１を雰囲気ガスに晒した場合にセラミック成形体２１にその雰囲気ガスが行き渡りやすくなる。
【００５０】
また、セラミック焼成用さや１（２）では、異なる棒２２に配したセラミック成形体２１同士が接触しないように保持できるので、各セラミック成形体２１に雰囲気ガスを有効に接触させることができる。
【００５１】
また、セラミック焼成用さや１（２）では、支持板１０に貫通孔１０３が形成されているので、支持板１０で棒２２を保持した状態でも支持板１０側からセラミック成形体２１に雰囲気ガスを導入しやすくなる。
【００５２】
また、セラミック焼成用さや１（２）では、支持板１０が円形板なので、リング状のセラミック成形体２１と相似形になり、より積載効率を上げることができる。
【００５３】
また、セラミック焼成用さや１では、一対の支持板１０を３本の支持棒１２で保持するので、一対の支持板１０を所定間隔をもって的確に保持できる。
【００５４】
また、セラミック焼成用さや１では、支持板１０を貫通した支持棒１２を、支持板１０と共に挟むようにピン２３やクリップ２４によって固定しているので、支持板１０と支持棒１２とをより確実に固定できる。
【００５５】
また、変形例であるセラミック焼成用さや２では、一対の支持板１０それぞれの円周部分を外筒部１４で保持するので、一対の支持板１０及び外筒部１４によって円筒状のさやを形成でき、セラミック成形体２１を配した棒２２をその円筒内に収容できる。
【００５６】
本実施形態の焼成炉５（７）によれば、積載効率の高いセラミック焼成用さや１（２）が挿入可能な管状路５２（７２）を備え、その管状路５２（７２）の外部に配置されているヒータ５３（７３）で管状路５２（７２）内を所定の温度に上昇させるので、積載効率を上げつつ雰囲気ガスを有効に利用できる。
【００５７】
また、焼成炉５（７）では、回転手段（ローラ７６，軸受け７７，スプロケット７８，及びチェーン７９）によってセラミック焼成用さや１（２）を回転させるので、セラミック焼成用さや１（２）内に配されているセラミック成形体２１を斑なく焼成できる。
【００５８】
また、焼成炉７では、管状路７２内に、セラミック成形体を焼成する雰囲気を構成する雰囲気ガスを導入するためのガス導入路７４を備え、管状路７２内に雰囲気ガスを導入することができるので、管状路７２内のセラミック焼成用さやに効果的に雰囲気ガスを当てることができる。
【００５９】
また、焼成炉５では、管状路５２の両端に繋がる置換室５４を備えているので、管状路５２内における炉内温度や炉内雰囲気に極力影響を与えずに、管状路５２内にセラミック焼成用さや１（２）を入れることができる。
【００６０】
また、焼成炉５では、管状路５２内においてセラミック焼成用さや１（２）を進行させるためのプッシャー５５を備えることも好ましい。管状路５２内でセラミック焼成用さや１（２）を進行させることができるので、管状路５２内に順次セラミック焼成用さや１（２）を送り込むことができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の実施形態である、セラミック焼成用さやの構成を示す斜視図である。
【図２】図１の支持板を説明するための図である。
【図３】図１の支持板及び支持棒の取り付け部分を説明するための図である。
【図４】図１の変形例を示す図である。
【図５】本発明の実施形態である、焼成炉の構成を示す図である。
【図６】図５の置換室を説明するための図である。
【図７】本発明の実施形態である、焼成炉の構成を示す図である。
【図８】図７のガス導入路の構成を示す図である。
【図９】図７の管状路を回転させる構成を示す図である。
【符号の説明】
【００６２】
１…セラミック焼成用さや、１０…支持板、１２…支持棒、１０１…穴、１０２…穴、２１…セラミック成形体、２２…棒。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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