(57)【要約】【課題】本発明は隔壁を有する高分子ＥＬ素子の高分子発光媒体層形成時に、塗布液が隔壁の裾部分に溜まるために、しばしば逆テーパ―形状が損なわれ、陰極層形成時にストライプ形状とならず、隣接する陰極ラインと導通するという問題を解決することを課題とする。【解決手段】透光性基材上に少なくとも、ストライプ状の透明電極と、該透明電極と交わるように形成されたストライプ状の隔壁と、高分子発光媒体層と、該隔壁により分離形成されたストライプ状の陰極とを有してなる高分子エレクトロルミネッセンス素子において、該隔壁が、段差を有し、該隔壁の最上段の側面形状は逆テーパ―形状であることを特徴とする高分子エレクトロルミネッセンス素子とする。さらに前記段差を有する隔壁は、順テーパ―形状の側面を有するとより最上段の逆テーパー形状が保たれやすくなり好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基材上に少なくとも、ストライプ状の透明電極と、該透明電極と交わるように形成されたストライプ状の隔壁と、高分子発光媒体層と、該隔壁により分離形成されたストライプ状の陰極とを有してなる高分子エレクトロルミネッセンス素子において、該隔壁が、段差を有し、該隔壁の最上段の側面形状は逆テーパ―形状であることを特徴とする高分子エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記段差を有する隔壁は、順テーパ―形状の側面を有することを特徴とする請求項１記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記高分子発光媒体層が、スリットコート法により形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記透光性基材と前記透明電極との間にカラーフィルター層が設けられ、前記高分子発光媒体層は少なくとも白色発光を可能な材料を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報表示端末などのディスプレイや面発光光源として幅広い用途が期待される有機エレクトロルミネッセンス素子、特に有機発光層が高分子蛍光材料からなる高分子エレクトロルミネッセンス素子（以下、高分子ＥＬ素子とする）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、広視野角、応答速度が速い、低消費電力などの利点から、ブラウン管や液晶ディスプレイに変わるフラットパネルディスプレイとして期待されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、透明陽極と陰極との間に有機発光媒体層を挟持した構造であり、両電極間に電流を流すことにより有機発光媒体層で発光が生じる自発光型の表示素子である。
【０００４】
有機発光媒体層は、通常機能分離された複数の層から構成され、その典型的な例としては、正孔注入層に銅フタロシアニン、正孔輸送層にＮ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、蛍光体層にトリス（８−キノリノール）アルミニウムをそれぞれ積層されたものが挙げられる。これら有機発光媒体層を構成し機能する物質（発光媒体材料）は、いずれも低分子化合物であり、各層が抵抗加熱方式などの真空蒸着法などによって１０〜１００ｎｍ程度の厚みで積層されている。このため、低分子材料を用いる有機ＥＬ素子を製造するためには、複数の蒸着釜を連結した真空蒸着装置を必要とし、生産性が低く製造コストが高いといった問題点があった。
【０００５】
これに対して、有機発光媒体層として高分子材料を用いた高分子ＥＬ素子がある。蛍光体材料としては、ポリスチレンやポリメチルメタクリレートやポリビニルカルバゾールなどの高分子材料中に低分子の蛍光色素を溶解させたものや、ポリフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリアルキルフルオレン誘導体（ＰＡＦ）などの高分子蛍光体が用いられる。これら高分子材料は、溶剤に溶解することで塗布法により成膜ができ、前述の低分子型のＥＬ素子と比較して、大気圧下での成膜が可能であり設備コスト、ランニングコストが安い、大面積化が容易であるといった利点がある。
【０００６】
高分子材料を含む有機発光媒体層の成膜法としては、一般的に、スピンコート法、バーコート法、スリットコート法などのコーティング法や、スピンコート法や、フレキソ法、グラビア法などの印刷法、ディッピング法などが挙げられる。
【０００７】
有機ＥＬ素子を構成する透明電極（陽極）と陰極をそれぞれストライプ状に加工し、互いのラインが垂直に交差するよう配置すると、パッシブマトリクス型のディスプレイを作製することができる。通常、透明電極層をストライプ状に加工する手段としては、フォトリソ法およびウェットエッチング法が用いられる。一方、陰極層は、真空蒸着法を用いて成膜する際に、ストライプ状のマスクを介してパターン形成する方法があるが、蒸着源の輻射熱によるマスクの膨張変形や、大型化に伴いマスクの強度が保てず変形するといった問題があり、高精細、大型の有機ＥＬディスプレイを作製するパターニング法としては問題があった。それに対して、ストライプ状の透明電極を有する透光性基板上に、あらかじめ側面が逆テーパ―形状である隔壁を透明電極のストライプに垂直に交わるように、やはりストライプ状に形成しておき、この側面が逆テーパー形状であるために蒸着物が隔壁の裾部分に付着しない現象を利用し、陰極層をストライプ状に形成する方法が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−３１５９８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、側面が逆テーパ―形状の隔壁がストライプ状に形成された基板上に、スピンコート法を用いて高分子発光媒体層を成膜すると、放射ムラと呼ばれる膜厚ムラが発生し、ＥＬ素子を発光させると放射状の発光ムラになるといった問題がある。また、フレキソ法、オフセット法などの印刷法は、隔壁などの凹凸のある基板には塗布液を転写できないといった問題がある。
【０００９】
スリットコート法を用いると、凹凸のある基板上にも高分子発光媒体層をムラ無く均一に成膜することができる。しかし塗布液が隔壁の裾部分に溜まるために、しばしば逆テーパ―形状が損なわれ、陰極層形成時にストライプ形状とならず、隣接する陰極ラインと導通するといった高分子ＥＬ素子に特有の問題が生じていた。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記問題点を解決するために成されたものである。
【００１１】
請求項１に係る第一の発明は、透光性基材上に少なくとも、ストライプ状の透明電極と、該透明電極と交わるように形成されたストライプ状の隔壁と、高分子発光媒体層と、該隔壁により分離形成されたストライプ状の陰極とを有してなる高分子エレクトロルミネッセンス素子において、該隔壁が、段差を有し、該隔壁の最上段の側面形状は逆テーパ―形状であることを特徴とする高分子エレクトロルミネッセンス素子である。
【００１２】
請求項２に係る第２の発明は、前記段差を有する隔壁は、順テーパ―形状の側面を有することを特徴とする請求項１記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子である。
【００１３】
請求項３に係る第３の発明は、前記高分子発光媒体層が、スリットコート法により形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子である。
【００１４】
請求項４に係る第４の発明は、前記透光性基材と前記透明電極との間にカラーフィルター層が設けられ、前記高分子発光媒体層は少なくとも白色発光を可能な材料を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の高分子エレクトロルミネッセンス素子である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、高分子ＥＬ素子用塗布液を塗工しても、隔壁側面の逆テーパ―形状が損なわれることが無いため、ストライプ状の陰極ラインを容易に形成可能である。また、スリットコート法で塗布するため、塗布液を９９％以上の効率で無駄なく使用でき、メーター角の大面積基板であっても均一に薄膜形成することができ、ガラス基板だけでなくプラスチックフィルム基板にも塗工が可能であり、また、カラーフィルターと白色発光材料との組み合わせによりフルカラー表示も可能なディスプレイを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明は、上記問題点を解決するため鋭意検討した最良の実施形態である。以下、本発明による高分子ＥＬ素子の一例を図に基づいて説明する。
【００１７】
ここで、本実施の形態において、透光性基材１の材料としては、透光性と絶縁性を有する基板であれば如何なる基材も使用することができる（図１（ａ））。例えば、ガラスや石英や、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシート、または、これらプラスチックフィルムやシートに酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化珪素金属酸化物や、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マグネシウム等の金属酸化物、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム等の金属フッ化物、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化クロムなどの金属窒化物、酸窒化珪素などの金属酸窒化物、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレスなどの金属材料、アクリル樹脂やエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂などの高分子樹脂膜を、透光性に支障が無い範囲で、単層もしくは積層して用いることができる。特に、金属酸化物などの無機薄膜が透明性とバリア性において好ましいが、ピンホールなどの膜欠陥を生じやすく、たとえ厚膜化しても下地の膜欠陥を反映してしまうため、無機薄膜の単独膜ではなく、高分子樹脂膜などとの複合積層膜を用いることがより好ましい。また、これらの基材には、必要に応じて、あらかじめ加熱処理を行うことにより、基材内部や表面に吸着した水分を極力低減することがより好ましい。また、透光性基材１上に積層される材料におうじて、密着性を向上させるために、超音波洗浄処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理などの表面処理を施すことが好ましく、さらには透光性に支障が無い範囲内で、酸化珪素、窒化珪素、酸窒化珪素などの無機絶縁薄膜や、クロム、チタンなどの金属薄膜などの薄膜を挿入することがより好ましい。
【００１８】
白色発光可能な材料を光源とし高分子ＥＬ素子のカラー化を図る場合には、透光性基材１上に、カラーフィルター層２を形成する（図１（ａ））。カラーフィルター層２の材料としては、樹脂中に顔料、光重合開始剤、モノマー等を分散した顔料分散型フォトレジストを用いることが好ましく、さらに、塗工性向上のために界面活性剤を混入したり、散乱性をもたせるために樹脂ビーズなどの透明微粒子を適量混入しても良い。カラーフィルター層２の形成方法としては、スピンコート法やスリットコート法を用いて、顔料分散フォトレジスト２１を塗布し（図２（ａ））、乾燥した後に所定のマスク２２を用いて露光し（図２（ｂ））、炭酸ナトリウム水溶液等を用いて現像を行った後にポストベークすることにより１色目の赤色画素パターン２Ｒが完成する（図２（ｃ））。これを３回繰り返すことにより、ＲＧＢ３色の画素がパターン形成されたカラーフィルター層２が完成する（図２（ｄ））。さらには、ＲＧＢの混色を防ぎ、コントラストを向上させるために、カーボンブラックや、グラフトカーボンなどを分散させた樹脂をブラックマトリックス２３として、予め各色画素パターン間に形成することがより好ましい（図２（ｅ））。
【００１９】
また、カラーフィルター層２上には、ＲＧＢ各色画素パターン間の段差や、表面の微小突起を平滑化するために、オーバーコート層２５を積層することがより好ましい（図２（ｆ））。オーバーコート層は、段差や突起を平滑化できれば、特に材料の指定は無いが、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラ―ル樹脂、スチレンーマレイン酸共重合体、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、感光性樹脂などを用いることができる。オーバーコート層の形成方法としては、スピンコート法やスリットコート法などの塗布法や、フラッシュ蒸着法、イオンプレーティング法などの真空成膜法を用いることができる。さらに、カラーフィルタ層を形成するレジスト中の水分や不純物が高分子ＥＬ素子に拡散するのを防ぐために、オーバーコート層上にパッシベーション層２６を積層することがより好ましい（図２（ｆ））。パッシベーション層の材料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化珪素などの金属酸化物や、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウムなどの金属フッ化物、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化クロムなどの金属窒化物、酸窒化珪素などの金属酸窒化物を用いることができる。さらに、オーバーコート層とパッシベーション層を数段繰り返し積層しても良い。
【００２０】
このように積層したカラーフィルタ層上に、あるいはカラー化しない場合は透光性基材上に透明陽極層３を成膜し、ストライプ状にパターニングする（図１（ｂ））。透明陽極層３の材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物や、金、白金などの金属材料や、これら金属酸化物や金属材料の微粒子をエポキシ樹脂やアクリル樹脂などに分散した微粒子分散膜を、単層もしくは積層して使用することができる。また、透明陽極層の配線抵抗を低くするために、銅やアルミニウムなどの金属材料を補助電極として、透明陽極層に併設してもよい。透明陽極層３の形成方法としては、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などの乾式成膜法や、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの湿式成膜法などを用いることができる。透明陽極層３のパターニング方法としては、材料や成膜方法に応じて、マスク蒸着法、フォトリソグラフィー法、ウェットエッチング法、ドライエッチング法などの既存のパターニング法を用いることができる。
【００２１】
なお、本明細書中では便宜上、透明陽極層３の積層までが終わったものを基板１０として示す場合がある。
【００２２】
次に、透明陽極層３のストライプパターンと垂直に交わるように、陰極層６をストライプ状に分離形成するために、段差４７を有し、最上段の側面形状は逆テーパー形状である隔壁４を形成する（図１（ｃ））。ここで言う段差４７とは、隔壁の側面の傾きが明確に変化する部分であり、例えば、図３（ａ）に示す従来の隔壁形状である側面が逆テーパーの隔壁は段差がない隔壁４１であるが、図３（ｂ）に示す隔壁は段差が１段である隔壁４２であって本発明の一例である。同じく、図３（ｃ）及び図３（ｄ）は段差が２段である隔壁の例である。図３（ｅ）は段差が１段であるが、本発明で述べる段差４７と同じ効果を有する曲面４８を併せ持つ隔壁４５であり、従って本明細書中では段差は２段の場合に含めるものとする。
【００２３】
隔壁４が、図３（ａ）のように段差を持たない隔壁４１である場合、高分子発光媒体層５形成のために高分子発光媒材料（塗布液）を塗布すると隔壁の裾部分４６に溜まった塗布液が順テーパ―形状５０となり陰極分離効果が無くなるといった問題がある。そこで、図３（ｂ）のように、隔壁の最上段の側面形状は逆テーパーとすると、それよりも下の段の裾部分に塗布液が溜まり、その部分は順テーパー形状５０となるが、最上段の側面の逆テーパー形状は損なわれることがなく、陰極分離効果が保持される（図３（ｂ）〜（ｅ））。特に最上段から逆テーパ―、順テーパー、逆テーパーと隔壁側面の角度を変えることで（図３（ｄ）、（ｅ））、順テーパーの段には塗布液が溜まらずに最下段の裾部分に流れるため、テーパー形状保持効果、すなわち陰極分離効果が大きいものとなる。
【００２４】
隔壁４の形成方法としては、基板１０にＵＶ吸収剤を混合したネガ型感光性樹脂５１を塗布乾燥し（図４（ａ））、所定パターンのフォトマスク５２を用いてＵＶ露光を行うと、レジストの表面から一定の深さの部分までは感光する部分５３ができるが、吸収剤によりＵＶが深部まで到達できず深部にいくに従って露光度合いは少なくなる（図４（ｂ））。この状態で現像を行うと、表面層では露光が十分であるため溶解されずに残るが、深部になるにつれて露光度合いが少なくなるため１回目に形成された隔壁５４は逆テーパ―形状となる（図４（ｃ））。この１回目に形成された隔壁を加熱硬化し、再びネガ型感光性樹脂５５を塗布乾燥し、同様にしてＵＶ露光する。このとき、隔壁に順テーパーの側面を形成するために、基板１０裏面からも適量ＵＶ露光を行う（図４（ｄ））。この状態で現像を行うと、隔壁の最上部表面に近いところは前述の通り溶解されずに残るためひさしとなり、さらに裏面露光によって順テーパ―の側面がある隔壁４が形成される（図５（ｅ））。隔壁が有する段差の数は、高分子発光媒体層を形成する塗布液のウェット膜厚により適宜選ぶことが望ましく、少なくともウェット膜厚以上の高さ分の段数を積層することが好ましい。なお、、基板１０裏面から裏露光を行う場合には、カラーフィルター層２にはブラックマトリックス２３を設けないか、設けるブラックマトリックス２３の幅を裏露光に用いるフォトマスク５２のスリット幅よりも狭く設計することで、裏からの露光に対してもネガ型感光性樹脂５５を硬化させることができる。
【００２５】
２回目の露光の際に基板１０裏面から露光を行わないで隔壁を形成した場合は、図３（ｃ）に示すように、段差は２段だが順テーパーの側面を持たない隔壁４３となる。また、１回目に形成された隔壁を加熱硬化する際、ポストベークの温度を高めに設定することによって角を滑らかにし、その上に２回目のネガ型感光性樹脂５５を塗布乾燥、上面からのみ露光を行うことで、図３（ｅ）に示すように、２段の段差のうち片方は曲面４８である隔壁４５となる。これらの方式によれば裏面露光が必要ないため、カラーフィルタ層２がブラックマトリックス２３を有する構造であっても、本発明の側面が段差を有し、最上段の側面形状は逆テーパー形状である隔壁を形成することができる。
【００２６】
ＵＶ吸収剤としては、ベンゾフェノン系、フェニルサリチル酸系、シアノアクリレート系、ベンゾトリアゾール系、シュウ酸アニリド系などの有機物のほかに、酸化セリウムなどの無機物を使用することができる。また、必要に応じて黒色、ＲＧＢ顔料や染料を混合しても良い。
【００２７】
次に、高分子発光媒体層５を形成する（図１（ｄ））。本発明における高分子発光媒体層５としては、高分子蛍光体層のみの単層構造でもよく、正孔輸送層と高分子蛍光体層の２層構成でもよく、これらにさらに電子輸送層や絶縁層を設けた多層構造でも良い。
【００２８】
正孔注入輸送材料の例としては、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。
【００２９】
高分子蛍光体材料としては、一般に高分子蛍光材料として用いられているものであれば良く、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’―ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等の低分子系蛍光体をポリスチレンやポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどの高分子中に分散させたものや、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロ系、などその他既存の高分子蛍光材料を用いることができる。
【００３０】
これら正孔注入材料や高分子蛍光体材料を含む高分子発光媒体層５を、スリットコート法で均一に形成するためには、塗布液の溶剤の蒸気圧を一定範囲に規定したり、固形分比、粘度を制御することが必要である。溶剤としては、２５℃において蒸気圧が２５ｍｍＨｇ以下の溶剤、例えば水、キシレン、アニソール、シクロヘキサノン、メシチレン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、安息香酸メチル、安息香酸エチルなどから選択される溶剤を合わせて３０％以上含めば、これら単一溶剤でも良く、また、トルエン、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチルなどとの混合溶剤でも良い。また、塗工性向上のために、必要に応じて界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤などの添加剤を適量混合することがより好ましい。さらに、固形分比が０．０５〜２ｗｔ％になるように塗布液を調整し、さらにはその塗布液の粘度が２５℃において１〜１０ｍＰａ・ｓの範囲にすることがより好ましい。高分子発光媒体層の膜厚は、単層または積層により形成する場合においても１０００ｎｍ以下であり、好ましくは５０〜１５０ｎｍである。塗布液の乾燥方法としては、ＥＬ特性に支障が出ない程度に溶剤を取り除ければ良く、加熱しても、減圧しても、加熱減圧しても良い。
【００３１】
高分子発光媒体層を形成した後、陰極層６を形成する。本発明の隔壁４が設けられているので、高分子発光媒体層を形成するための塗布液が隔壁４の裾部分４６に溜まっても隔壁側面全体が順テーパー形状５０となってしまうことがないため、陰極層６を成膜すると同時に、ストライプ状にパターニングされる（図１（ｅ））。陰極層６の材料としては電子注入効率の高い物質を用いる。具体的にはＭｇ、Ａｌ、Ｙｂ等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界面にＬｉや酸化Ｌｉ、ＬｉＦ等の化合物を１ｎｍ程度挟んで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層して用いる。または電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数が低いＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ等の金属１種以上と、安定なＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属元素との合金系が用いられる。具体的にはＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ等の合金が使用できる。陰極層６の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。陰極層６の厚さは、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が望ましい。
【実施例１】
【００３２】
実施の形態に基づいた実施例１、２及び比較例１を図４に従って説明する。
【００３３】
まず、透光性基材１であるガラス基材上にスパッタリング法で透明陽極層３としてＩＴＯ膜を１５０ｎｍ形成した後に、フォトリソグラフィー法及びウェットエッチング法によって、ＩＴＯ膜を６４本のストライプラインにパターン形成した基板１０を用意した（図５（ａ））。
【００３４】
次に、ネガ型感光性樹脂５１を塗布し、露光、現像、加熱硬化を行い、透明陽極層３ラインと直交するように、ストライプ状の１回目に形成された隔壁５４とした（図５（ｂ））。この１回目に形成された隔壁５４の上にさらにネガ型感光性樹脂５５を塗布し、基板上面と裏面とからフォトマスクを通して露光を行い、現像、加熱硬化を行うことで、最上段の側面が逆テーパ―形状であり、次の側面が順テーパー形状であり、２段の段差４７を有する陰極分離用の隔壁４を６５本形成した（図５（ｃ））。
【００３５】
次に、正孔輸送層と蛍光体層からなる高分子発光媒体層５を形成した。正孔輸送層にはポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物（２０ｎｍ）、蛍光体層にはポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチル−ヘキシロキシ）−１，４−フェニレン  ビニレン］（ＭＥＨＰＰＶ）（１００ｎｍ）を、それぞれスリットコート法により形成した（図５（ｄ））。
【００３６】
次に、陰極層６として、真空蒸着法によりＣａ（２０ｎｍ）とＡｇ（２００ｎｍ）をこの順に積層すると、最上段が逆テーパ―形状の側面を有する隔壁で陰極層が分断されるため、６４本のストライプラインが形成された（図５（ｅ））。
【００３７】
この高分子ＥＬ素子は、６４×６４ドットの黄色発光のパッシブマトリクスディスプレイであり、陰極分離効果が得られ、どの画素においてもドット表示ができ、文字表示を確認した。
【実施例２】
【００３８】
実施例１に記載した高分子ＥＬ素子において、透光性基材１であるガラス基材上に、ＲＧＢの顔料をそれぞれ分散させたレジストを順にフォトリソ法を用いてパターン形成してカラーフィルター層２とし、この上にスパッタリング法で透明陽極層３としてＩＴＯ膜を１５０ｎｍ形成し、フォトリソグラフィー法及びウェットエッチング法によって、ＩＴＯ膜を１９２本のストライプラインにパターン形成した（図６（ａ））。
【００３９】
次に、ネガ型感光性樹脂５１を塗布し、露光、現像、加熱硬化を行い、透明陽極層３ラインと直交するように、ストライプ状の１回目に形成された隔壁５４とした。このとき、１回目に形成された隔壁のポストベーク温度を高めに設定（２３０℃）することで、隔壁５４の角５８が丸くなり、順テーパー形状になったのと同じ効果を奏するようになる（図６（ｂ））。この１回目に形成された隔壁５４の上にさらにネガ型感光性樹脂５５を塗布し、基板上面からフォトマスクを通して露光を行い、現像、加熱硬化を行うことで、最上段の側面が逆テーパ―形状であり、次の側面が順テーパー形状であり、２段の段差（うち１段は曲面）を有する陰極分離用の隔壁４を６５本形成した（図６（ｃ））。
【００４０】
この上へ高分子発光媒体層を塗布形成した。高分子発光媒体層５は実施例１と同様に正孔輸送層と蛍光体層を積層して形成したが、蛍光体層には、ポリスピロ系の白色発光材料を用いた（図６（ｄ））。
【００４１】
次に実施例１と同様にして陰極層６を形成した。陰極層６は最上段が逆テーパー形状の側面を有する隔壁で分断されるため、陰極分離効果が得られ、この高分子ＥＬ素子は、６４×６４ＲＧＢドットの白色ＣＦ方式のカラーディスプレイであり、どの画素においてもドット表示ができ、文字表示を確認した。
［比較例１］
実施例１に記載した高分子ＥＬ素子において、２段目の隔壁ラインを形成せずに、逆テーパ―形状の隔壁ライン１段のみを用いてあとは同様にディスプレイを作製した。その結果、部分的に隔壁ラインの逆テーパ―形状が損なわれているために、隣接画素が発光し、ドット表示できる画素は半分程度であった。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の高分子エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の高分子高分子エレクトロルミネッセンス素子におけるカラーフィルター層の形成方法の一例を示す図である。
【図３】高分子エレクトロルミネッセンス素子における従来の隔壁形状（ａ）と、本発明の最上段に逆テーパ―形状の側面を有する隔壁（ｂ）〜（ｅ）との、その隔壁を有する基板への高分子発光媒体層の形成状態を示す断面図である。
【図４】本発明の高分子エレクトロルミネッセンス素子における隔壁の形成方法の一例を示す図である。
【図５】本発明の実施の一例を示す説明図である。
【図６】本発明の実施の他の例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４３】
１  …透光性基材
１０…基板
２  …カラーフィルター層
２１…顔料分散フォトレジスト
２２…フォトマスク
２Ｒ…赤色画素パターン
２Ｇ…緑色画素パターン
２Ｂ…青色画素パターン
２３…ブラックマトリックス
２５…オーバーコート層
２６…パッシベーション層
３  …透明陽極層
４  …隔壁
４１…段差がない隔壁
４２…段差が１段である隔壁
４３…段差が２段である隔壁
４４…段差が２段である隔壁
４５…段差と曲面を併せ持つ隔壁
４６…隔壁の裾部分
４７…段差
４８…曲面
５  …有機発光媒体層
５０…順テーパー形状
５１…ネガ型感光性樹脂
５２…フォトマスク
５３…感光部分
５４…１回目に形成された隔壁
５５…ネガ型感光性樹脂
５６…感光部分
５８…隔壁の角
６  …陰極層
【図１】
2006048980.tif 000003
【図２】
2006048980.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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