(57)【要約】【課題】  外周チャンファー面および内周チャンファー面のいずれをも鏡面状態に研磨することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法を提供する。【解決手段】  中心部に内孔を有するディスク状のガラス基板材料の外周端面を研磨する外周研磨工程と、前記ワークの内周端面を研磨する内周研磨工程とを少なくとも含むガラス基板の研磨方法。前記内周研磨工程において、外周端面をスエード状パッドで保持する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心部に内孔を有するディスク状のガラス基板材料の外周端面を研磨する外周研磨工程と、前記ワークの内周端面を研磨する内周研磨工程とを少なくとも含むガラス基板の研磨方法であって、
前記内周研磨工程において、外周端面をスエード状パッドで保持することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、種々の電子機器（コンピュータ等）における記録媒体として広く使用可能な磁気記録媒体用のガラス基板を好適に研磨することができる研磨方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク（例えば、ハードディスク）を始めとする磁気記録媒体用の基板としては、従来よりアルミニウム基板が広く用いられてきた。他方、近年においては、小型のパーソナルコンピュータ、携帯式の音響・映像の記録／再生装置等を始めとする種々の電化製品の普及に伴い、これらの電化製品における、いわゆる軽薄短小化に伴って、該製品の重要な部品の一つである磁気記録媒体に対しては、薄板化、記録の高密度化、種々の使用環境における要求が益々高まりつつある。
【０００３】
このようなシビアな要求に対応するために、近年では、高い耐衝撃性、剛性／硬度、および高い化学的耐久性とを有するガラス基板が広く用いられるようになって来た。このガラス基板をハードディスク（ＨＤ）形態の磁気記録媒体に用いた場合には、更には、磁気記録面の高密度化に極めて重要な、該磁気記録面上のヘッド低浮上化に好適な平坦度が容易に得られるという一般的な利点もある。
【０００４】
より具体的には、磁気ディスク用基板分野においては、軽量化に伴う薄型化や高速回転時のディスクのうねりに耐えうる高い剛性などの機械的特性が要求されるとともに、高記録密度化への要求が非常に高まっている。高記録密度化を達成する目的で、磁気ヘッドの磁気ディスク基板に対する浮上高さは非常に小さくなりつつあり、それを達成するために、磁気ディスク基板は鏡面のような平坦性や小さい表面粗さが要求され、かつ表面の微小スクラッチ、微小ピットなどの欠陥が極力無いことが要求される。
【０００５】
そのため、ガラス基板を高精度に表面研磨することが必要とされる。また、薄型化、機械的特性あるいは高い記録密度を満足させるために、ガラスの化学組成や製法についても種々の改良がなされている。他方で、外周端面の平滑度を向上させるために、記録面ラッピング工程の順序を工夫することも行われている（特許文献１）。
【０００６】
しかしながら、従来技術においては、外周チャンファー面および内周チャンファー面のいずれをも鏡面状態に研磨することは事実上は困難であった。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１２３９３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を解消することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、外周チャンファー面および内周チャンファー面のいずれをも鏡面状態に研磨することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は鋭意研究の結果、外周チャンファー面の研磨後に内周チャンファー面の研磨を行うに際して、後者の内周チャンファー面の研磨時に特定の外周ホルダーを使用することが、上記目的の達成のために極めて効果的なことを見出した。
【００１１】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法は上記知見に基づくものであり、より詳しくは、中心部に内孔を有するディスク状のガラス基板材料の外周端面を研磨する外周研磨工程と、前記ワークの内周端面を研磨する内周研磨工程とを少なくとも含むガラス基板の研磨方法であって；前記内周研磨工程において、外周端面をスエード状パッドで保持することを特徴とするものである。
本発明は例えば以下の態様を含む。
（１）中心部に内孔を有するディスク状のガラス基板材料の外周端面を研磨する外周研磨工程と、前記ワークの内周端面を研磨する内周研磨工程とを少なくとも含むガラス基板の研磨方法であって、前記内周研磨工程において、外周端面をスエード状パッドで保持することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法。
【００１２】
上記構成を有する本発明のガラス基板の研磨方法を用いた場合に、外周チャンファー面および内周チャンファー面のいずれをも鏡面状態に研磨することが可能な理由は、本発明者の知見によれば、以下のように推定される。
【００１３】
すなわち、従来の外周チャンファー面の研磨後に内周チャンファー面の研磨を行う方法においては、後者の内周チャンファー面の研磨を行うに際して、硬い（例えば金属製の）
【００１４】
外周ホルダーが使用されていたため、内周チャンファー面の研磨時に、不可避的に外周チャンファー面が微細な損傷を受けていたものと推定される。
【００１５】
これに対して、本発明者の実験によれば、本発明において、内周チャンファー面の研磨時に特定の外周ホルダーを使用した場合には、このような外周チャンファー面の損傷が効果的に防止され、したがって、外周チャンファー面および内周チャンファー面のいずれをも鏡面状態に研磨することが可能となったものと推定される。
【発明の効果】
【００１６】
上述したように本発明によれば、外周チャンファー面および内周チャンファー面のいずれをも鏡面状態に研磨することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ本発明を更に具体的に説明する。以下の記載において量比を表す「部」および「％」は、特に断らない限り質量基準とする。
【００１８】
（研磨方法）
本発明の研磨方法は、中心部に内孔を有するディスク状のガラス基板材料の外周端面を研磨する外周研磨工程と、前記ワークの内周端面を研磨する内周研磨工程とを少なくとも含むガラス基板の研磨方法であって、前記内周研磨工程において、外周端面をスエード状パッドで保持することが特徴である。
【００１９】
（基本的な一態様）
本発明の研磨方法の基本的な一態様を、図１の模式斜視図および図２の模式平面図／模式断面図に示す。
図１に示すように内側にスエード状パッドを貼り付ける。（内径が硬い物質例えば金属だと研摩された外周部にキズを付ける）。
外径を揃える為に図中の矢印の方向に枠（ガイド）を動かして包み込み、揃った時点で、（ガイドを外し）図２の内径研摩治具にセットし直す。
図２に示すように治具にセットした後に芯棒を抜く。
【００２０】
（スエード状パッド）
本発明において使用可能な「スエード状パッド」は、そのガラス基板との接触面が実質的にスエード状材料で構成されている限り特に制限されない。
【００２１】
（スエード状材料）
本発明において使用可能な「スエード状材料」は、そのガラス基板との接触面を実質的に損傷しない限り特に制限されず、公知のスエード状材料から適宜選択して使用することができる。
【００２２】
（スエード状材料の保持用基材）
上記したスエード状材料とともにスエード状を構成する基材は、ガラス基板との接触面を実質的にスエード状材料で構成することが可能な限り、特に制限されない。
【００２３】
（その他の構成）
本発明においては、上記した内周研磨工程において、外周端面をスエード状パッドで保持すること以外の構成に関しては、基本的に、前記特開２００２−１２３９３１号公報に記載されたような構成を採用することができる。本発明において、特に好適に使用可能な要素を示せば、以下の通りである。
【００２４】
（ガラス材料）
磁気ディスク用ガラス基板は、高剛性で薄型化に対応できる上に、耐衝撃性が高いなどのメリットを生かした基板として注目されており、その基板のガラス材料は、化学強化ガラスと結晶化ガラスに大別されている。これらの材料はいずれもガラス本来の脆いという欠点を克服するために強化処理を施したものである。
【００２５】
通常、ガラス表面の傷の存在は機械的強度を大きく損なうため、ディスク信頼性向上の点からイオン交換による化学強化処理が施されている。すなわち、ガラス基板（原板）をアルカリ溶融塩中に浸し、ガラス表面のアルカリイオンと溶融塩中のより大きなイオンとを交換することで、ガラスの表面層に圧縮応力歪み層を形成して、破壊強度を大幅に増加させたものである。好ましく使用されるＨＤ用ガラス基板としては、Ｌｉ+とＮａ+とを含むアルミノシリケートガラス基板、Ｋ+とＮａ+とを含むソーダライムガラス基板や、結晶化ガラスが挙げられる。
【００２６】
（好適なガラス材料）
本発明において好適に使用可能なガラス材料は、上記した特定の曲率を有するＲ面を形成することが可能である限り特に制限されない（ガラス種によらない）。
【００２７】
本発明において特に好適に使用可能なガラス材料は、いわゆる「ガラスセラミックス」と称される一連の材料であり、市販品では、例えばＯＨＡＲＡ社製のガラスセラミックス（商品名：ＴＳ−１０Ｘ）が挙げられる。
【００２８】
（研磨材スラリー）
本発明において使用可能な研磨材は特に制限されないが、例えば、特開２００４−１６２０６２号公報で開示された研磨材スラリーを好適に使用することができる。
【００２９】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
【実施例】
【００３０】
実施例１
（ガラス基板の作製）
上記の方法により、ガラス基板（オハラ社製、商品名：ＴＳ−１０ＳＸ）を研磨した。
【００３１】
実施例２
実施例１により得たそれぞれのガラス基板の特性を、以下のようにして測定した。
光学顕微鏡（２００Ｘ）にて外端部の全域にわたり観察した。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の研磨方法の基本的な一態様を示す模式斜視図である。
【図２】本発明の研磨方法の基本的な一態様を示す模式平面図および模式断面図である。
【図１】
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【図２】
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