(57)【要約】【課題】本発明は、液晶表示パネル及びその検査方法並びにそれに用いる検査装置に関し、額縁領域を容易に検査できる液晶表示パネル及びその検査方法並びにそれに用いる検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】外周部の全周に切れ目なく塗布されたシール材５６を介して貼り合わされたＴＦＴ基板２及びＣＦ基板４と、基板２、４間に封止された液晶６と、表示領域αより外側であってシール材５６の形成領域より内側に配置された枠状の額縁領域βと、ＴＦＴ基板２の額縁領域βに形成された導電膜３０と、ＣＦ基板４に形成され、液晶６を介して導電膜３０に対向する導電膜３１とを有するように構成する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周部の全周に切れ目なく塗布されたシール材を介して貼り合わされた一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
前記一対の基板の表示領域より外側であって前記シール材の形成領域より内側に配置された枠状の額縁領域と、
前記一対の基板の一方の前記額縁領域に形成された第１の導電膜と、
前記一対の基板の他方に形成され、前記液晶を介して前記第１の導電膜に対向する第２の導電膜と
を有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第１及び第２の導電膜の双方は、前記表示領域内の画素毎に形成された画素電極と電気的に分離されていること
を特徴とする液晶表示パネル。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記シール材の形成領域より外側に配置され、前記第１及び第２の導電膜とそれぞれ電気的に接続された第１及び第２の端子部をさらに有すること
を特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
外周部の全周に切れ目なく塗布された光硬化型のシール材を介して貼り合わされた一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
前記一対の基板の表示領域より外側に配置された枠状の額縁領域と、
前記額縁領域に形成された遮光膜と、
前記一対の基板の一方に形成され、基板面に垂直に見て前記遮光膜に重なって配置された第１の導電膜と、
前記一対の基板の他方に形成され、基板面に垂直に見て前記遮光膜に重なって配置された第２の導電膜と
を有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】
請求項４記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第１及び第２の導電膜の少なくとも一方は、基板面に垂直に見て前記遮光膜の外側の端辺より内側に配置されていること
を特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
一対の基板の一方に液晶が滴下され、シール材を介して前記一対の基板が貼り合わされ、前記一対の基板を挟んで一対の偏光板が配置された液晶表示パネルの額縁領域の前記液晶に所定の電圧を印加し、
前記額縁領域での表示状態に基づいて、前記液晶表示パネル内の気泡の有無を検査すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査方法。
【請求項７】
一対の基板の一方に液晶が滴下され、シール材を介して前記一対の基板が貼り合わされた液晶表示パネルの額縁領域の電気物性値を測定し、
前記電気物性値に基づいて、前記液晶表示パネル内の気泡の有無を検査すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査方法。
【請求項８】
一対の基板の一方に液晶が滴下され、シール材を介して前記一対の基板が貼り合わされ、額縁領域に遮光膜を有する液晶表示パネルの前記額縁領域の電気物性値を測定し、
前記電気物性値に基づいて、前記シール材と前記遮光膜とが重なっているか否かを検査すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査方法。
【請求項９】
一対の基板の一方に液晶が滴下され、シール材を介して前記一対の基板が貼り合わされた液晶表示パネルを検査する液晶表示パネルの検査装置であって、
前記液晶表示パネルの額縁領域の電気物性値を測定する電気物性値測定部を有すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報機器の表示部に用いられる液晶表示パネル及びその検査方法並びにそれに用いる検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をスイッチング素子として画素毎に備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置は、フラットパネルディスプレイの主流として注目され、製造歩留まりの向上や製品不良の低減、製造プロセスの簡略化等による低コスト化が求められている。アクティブマトリクス型のカラー液晶表示装置は、ＴＦＴ等が形成されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタ（ＣＦ）等が形成されたＣＦ基板と、両基板間に封止された液晶とを有している。
【０００３】
ディップ式の真空注入法を用いた液晶表示装置の製造プロセスにおける基板貼合せ工程では、ＴＦＴ基板とＣＦ基板のいずれか一方の外周部にシール材を塗布形成し、加圧−加熱装置や真空加熱装置等の基板貼合せ装置を用いて両基板を加圧して貼り合わせ、所定のセルギャップを有する貼合せ基板を１枚毎に作製する。その後、液晶注入工程では、貼合せ基板間に液晶を注入し、液晶注入口を封止する。
【０００４】
しかし、近年の基板サイズの大型化に伴い、ディップ式の真空注入法では高精度のセルギャップ形成が困難であり、かつ液晶の注入に長時間を要するという問題が生じている。上記の問題を解決する方法として、滴下注入法（滴下貼合せ）がある。滴下注入法では、一方の基板の外周部全周にシール材を切れ目なく塗布し、当該基板又は他方の基板上に規定量の液晶を滴下する。続いて真空中で両基板を貼り合わせた後、大気圧中に戻すことにより液晶を充填する。その後シール材を硬化させる。滴下注入法を用いると、基板貼合せ及び液晶充填をほぼ同時に完了させることができ、液晶表示装置の製造工程が大幅に簡略化される。
【０００５】
滴下注入法を用いて作製される液晶表示パネルのセルギャップは、滴下される液晶量により決定される。両基板のいずれかに形成される柱状スペーサの高さが上記のセルギャップよりも高いと、液晶表示パネル内に気泡（真空気泡）が発生する。柱状スペーサの高さには種々の要因によりばらつきが生じるため、気泡の発生を完全に防ぐのは困難である。一般に、気泡は表示領域外の額縁領域に発生する傾向があるが、額縁領域に気泡が生じた液晶表示パネルは、低温になると表示領域内にも気泡が発生するため不良パネルとなる。したがって、液晶表示パネルの額縁領域の気泡の有無を工程内で検査する必要がある。
【０００６】
また、滴下注入法を用いた液晶充填工程では、基板貼合せ及び液晶充填が同時に行われるため、未硬化のシール材と液晶とが接触する。シール材の未硬化成分が液晶と長時間接触したり、その状態で高温に曝されたりすると液晶が汚染されてしまう。このため、滴下注入法を用いる場合のシール材には、一般に熱硬化性樹脂は用いられず、紫外光（ＵＶ光）照射により速やかに硬化する光硬化性樹脂が用いられている。ＵＶ光は、光を遮光してしまう金属配線の形成されていないＣＦ基板側から照射される。ＣＦ基板の額縁領域には遮光膜（ＢＭ）が形成されているため、シール材はＢＭより外側に塗布される。しかしながら、シール材塗布工程における基板の位置合わせずれ等により、ＢＭとシール材とが重なってしまう場合がある。ＢＭとシール材とが一部でも重なっていると、その部分のシール材にＵＶ光が照射されず、シール未硬化による液晶汚染が発生してしまう。したがって、塗布されたシール材がＢＭと重なっているか否かを工程内で検査する必要がある。
【０００７】
このように、滴下注入法を用いて作製される液晶表示パネルでは、気泡の有無、及びシール材とＢＭとが重なっているか否か、という額縁領域における２項目の工程内検査が重要になる。しかしながら、これらの２項目の検査は熟練の検査者の目視に頼らざるを得ない。このため、全数検査を行う場合には検査工程が極めて大きい負荷となり、液晶表示パネルの製造工程の煩雑化及び製造コストの増加の原因になってしまうという問題が生じる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−２８００３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、額縁領域を容易に検査できる液晶表示パネル及びその検査方法並びにそれに用いる検査装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的は、外周部の全周に切れ目なく塗布されたシール材を介して貼り合わされた一対の基板と、前記一対の基板間に封止された液晶と、前記一対の基板の表示領域より外側であって前記シール材の形成領域より内側に配置された枠状の額縁領域と、前記一対の基板の一方の前記額縁領域に形成された第１の導電膜と、前記一対の基板の他方に形成され、前記液晶を介して前記第１の導電膜に対向する第２の導電膜とを有することを特徴とする液晶表示パネルによって達成される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、額縁領域を容易に検査できる液晶表示パネル及びその検査方法並びにそれに用いる検査装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
〔第１の実施の形態〕
本発明の第１の実施の形態による液晶表示パネル及びその検査方法並びにそれに用いる検査装置について図１乃至図５を用いて説明する。図１は、本実施の形態による液晶表示パネル１の概略構成を示している。図２は、図１のＡ−Ａ線で切断した液晶表示パネル１の断面構成を示している。図１及び図２に示すように、液晶表示パネル１は、対向配置されたＴＦＴ基板２及びＣＦ基板４と、両基板２、４間に封止され、例えば負の誘電率異方性を有するＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モードの液晶６とを備えている。ＴＦＴ基板２は、ガラス基板１０上の画素毎に形成された画素電極１６やＴＦＴ（図示せず）を有している。ＣＦ基板４は、ガラス基板１１上に形成された共通電極４２やＣＦ（図示せず）を有している。画素電極１６等が形成された表示領域αの外側（図２では右側）には、表示領域αを囲む枠状の額縁領域βが配置されている。ＣＦ基板４上の額縁領域βには、光を遮光するＢＭ４８が枠状に形成されている。ＴＦＴ基板２及びＣＦ基板４は、光硬化型（例えば紫外線硬化型）のシール材（メインシール）５６を介して貼り合わされている。シール材５６は、ＴＦＴ基板２上又はＣＦ基板４上であってＢＭ４８の形成領域より外側の外周部全周に切れ目なく塗布されている。
【００１３】
ＢＭ４８の形成領域より外側であってシール材５６の形成領域より内側の額縁領域βには、ＴＦＴ基板２上に形成された第１の導電膜３０と、ＣＦ基板４上に形成され、液晶６を介して導電膜３０に対向する第２の導電膜３１とが配置されている。導電膜３０は、例えば画素電極１６と同一の形成材料で同時に形成され、いずれの画素電極１６とも電気的に分離されている。導電膜３０は、例えば表示領域αを囲む枠状に形成されている。導電膜３１は、本例では共通電極４２と同一の形成材料で共通電極４２と一体的に形成されている。導電膜３０、３１の双方が形成された領域は、額縁領域βでの気泡の有無を検査する際に用いられる検査領域になっている。
【００１４】
ＴＦＴ基板２上には、第１の端子部３２及び第２の端子部３３が設けられている。端子部３２は導電膜３０に電気的に接続され、端子部３３は不図示のトランスファを介してＣＦ基板４側の導電膜３１（及び共通電極４２）に電気的に接続されている。これにより、検査領域の液晶６に所望の電圧を印加できるようになっている。
【００１５】
また、ＴＦＴ基板２及びＣＦ基板４を挟んで、一対の偏光板８６、８７（図１では図示せず）がクロスニコルに配置されている。偏光板８６、８７は、表示領域αの全域と、額縁領域βのうち少なくとも検査領域とに配置されている。本例ではＶＡモードの液晶６が用いられているため、液晶表示パネル１はノーマリーブラックモードとなる。
【００１６】
次に、液晶表示パネル１の額縁領域βにおける気泡の有無を検査する方法について説明する。この検査は、例えば通常のパネル点灯表示検査とほぼ同時に行われる。パネル後方から光を照射したとき、検査領域の液晶６に電圧を印加していない状態では、液晶層のリタデーションがほぼ０であるので、気泡の有無に関わらず検査領域は黒表示となっている。
【００１７】
端子部３２、３３を介して導電膜３０、３１に所定の電圧を印加すると、検査領域の液晶６に電圧が印加され、液晶層のリタデーションが所定の値になる。これにより検査領域の光透過率が変化して、例えば白表示になる。しかし、気泡の生じている領域では、電圧が印加されても黒表示のまま、あるいは他の領域より輝度が低くなる。
【００１８】
図３は従来の液晶表示パネル１’の構成を示し、図４は図３のＢ−Ｂ線で切断した液晶表示パネル１’の断面構成を示している。図３及び図４に示すように、従来の液晶表示パネル１’の額縁領域βには図２に示すような導電膜３０、３１が形成されていない。このため、額縁領域βに一対の偏光板が配置されていても、額縁領域βでは気泡の有無に関わらず点灯表示検査の際に黒が表示されるため、気泡の有無の検査が困難であった。
【００１９】
これに対し、本実施の形態による液晶表示パネル１の額縁領域βには導電膜３０、３１が形成され、導電膜３０、３１が形成された検査領域の液晶６に電圧を印加できるようになっている。液晶６に電圧を印加することにより、検査領域内において気泡の存在する領域と気泡の存在しない領域との間で光透過率を異ならせることができるので、検査領域の表示状態に基づいて気泡の有無や気泡の大きさ等を検出できる。例えば、検査領域の気泡の大きさが所定の閾値を超える液晶表示パネルは、低温下では表示領域αにも気泡が発生すると判断され、不良パネルとして扱われる。ここで、従来の点灯表示検査では表示領域αのみが検査されるため、従来の点灯表示検査装置は額縁領域βまで検査できる構造を有していない。本実施の形態では表示領域αに加えて額縁領域βも検査するため、本実施の形態に用いる検査装置は、額縁領域βまで検査できるように検査領域の広い構造を有することが好ましい。
【００２０】
次に、本実施の形態による液晶表示パネルの検査方法の変形例及びそれに用いる検査装置について説明する。図５は、液晶表示パネル１の断面図と、本変形例に用いる検査装置の構成を示すブロック図とを併せて示している。図５に示すように、検査装置６０は、検査領域の電気物性値を測定する電気物性値測定部６４と、電気物性値測定部６４を制御する制御部６２とを有している。例えば電気物性値測定部６４は、検査領域の導電膜３０、３１を両電極とし、検査領域の液晶６を誘電体とするコンデンサの電気容量を測定する。まず、導電膜３０、３１間に所定の電圧を印加する。電圧の印加を止めた後、電気物性値測定部６４は、導電膜３０（３１）に蓄えられた電荷を検出することにより、コンデンサの電気容量を測定する。空気（真空気泡）の誘電率と液晶６の誘電率とは互いに異なるため、検査領域の気泡の有無によって電気容量は異なる。制御部６２は、測定された電気容量と空気及び液晶６の誘電率とに基づいて、気泡の有無及び気泡の大きさ等を検出する。
【００２１】
本例では検査領域の電気物性値としてコンデンサの電気容量を測定しているが、検査領域の液晶６の電気抵抗を測定してもよい。空気の抵抗率と液晶６の抵抗率とは互いに異なるため、検査領域の気泡の有無によって電気抵抗は異なる。したがって、測定された電気抵抗と空気及び液晶６の抵抗率とに基づいて、気泡の有無及び気泡の大きさ等を検出することもできる。
【００２２】
以上のように、本実施の形態によれば、額縁領域における気泡の有無の検査が容易になるため、滴下注入法を用いた液晶表示パネルの製造工程の簡略化及び製造コストの削減を実現できる。
【００２３】
〔第２の実施の形態〕
次に、本発明の第２の実施の形態による液晶表示パネル及びその検査方法について図６及び図７を用いて説明する。図６及び図７は、本実施の形態による液晶表示パネルを図１のＡ−Ａ線に対応する位置で切断した断面構成を示している。図６はシール材とＢＭとが重なっていない状態を示し、図７はシール材とＢＭとが重なっている状態を示している。図６に示すように、本実施の形態による液晶表示パネル１は、ＴＦＴ基板２上に形成された第１の導電膜３４と、ＣＦ基板４上に形成された第２の導電膜３５とを額縁領域βに有している。導電膜３４は、基板面に垂直に見てＢＭ４８に重なるように、ＢＭ４８の外側（図中右側）の端辺より内側に配置されている。導電膜３５は、基板面に垂直に見てＢＭ４８に重なった領域とそれより外側の領域とに配置されている。例えばＢＭ４８及び導電膜３４、３５は、基板面に垂直に見ると少なくとも一部の領域で全て重なっている。導電膜３４、３５の双方が形成された領域は、シール材５６とＢＭ４８とが重なっているか否かを検査する際に用いられる検査領域になっている。基板面に垂直に見て導電膜３４の外側端辺とＢＭ４８の外側端辺とがほぼ重なるように配置すれば、シール材５６とＢＭ４８とが重なっているか否かをより精度良く検出できる。本例では導電膜３４をＢＭ４８の外側端辺より内側に配置しているが、導電膜３４、３５の少なくともいずれか一方がＢＭ４８の外側端辺より内側に配置されていればよい。
【００２４】
導電膜３４は、例えば画素電極１６と同一の形成材料で形成され、いずれの画素電極１６とも電気的に分離されている。導電膜３４は、例えば表示領域αを囲む枠状に形成されている。導電膜３５は、本例では共通電極４２と同一の形成材料で共通電極４２と一体的に形成されている。なお図示していないが、ＴＦＴ基板２上には、導電膜３４に電気的に接続された端子部３２と、導電膜３５に電気的に接続された端子部３３とが形成されている。
【００２５】
紫外線硬化型のシール材５６とＢＭ４８とが重なっているか否かを検査する際には、図５に示したような検査装置６０を用いて、検査領域の電気物性値（例えば電気容量）を測定する。シール材５６の誘電率と液晶６の誘電率とは互いに異なるため、図６に示すように導電膜３４、３５間にシール材５６が存在せずほぼ液晶６のみが存在する場合と、図７に示すように導電膜３４、３５間にシール材５６が存在する場合とで電気容量は異なる。したがって、基板面に垂直に見てＢＭ４８に重なった領域に導電膜３４（３５）を形成しておけば、測定された電気容量とシール材５６及び液晶６の誘電率とに基づいて、シール材５６とＢＭ４８とが重なっているか否か及びその重なり幅を検出できる。例えば、導電膜３４、３５間に液晶６のみが存在する場合の検査領域の電気容量を予め基準値として測定しておく。検査領域の電気容量と基準値との差が所定の閾値を超える液晶表示パネルは、シール材５６とＢＭ４８とが重なっているためシール未硬化による液晶汚染が発生していると判断され、不良パネルとして扱われる。
【００２６】
本例では検査領域の電気物性値として電気容量を測定しているが、検査領域の液晶６の電気抵抗を測定してもよい。シール材５６の抵抗率と液晶６の抵抗率とは互いに異なるため、両導電膜３４、３５間にシール材５６が存在するか否かによって電気容量は異なる。したがって、測定された電気抵抗とシール材５６及び液晶６の抵抗率とに基づいて、シール材５６とＢＭ４８とが重なっているか否か及びその重なり幅を検出できる。
【００２７】
また、導電性を有するシール材５６を用いるか、あるいはシール材５６に導電性物質を混入してもよい。こうすることにより、両導電膜３４、３５間にシール材５６が存在すれば導電膜３４、３５間が短絡するため、シール材５６とＢＭ４８とが重なっているか否かをより簡単に検出できる。
【００２８】
以上のように、本実施の形態によれば、シール材５６とＢＭ４８とが重なっているか否かの検査が容易になるため、滴下注入法を用いた液晶表示パネルの製造工程の簡略化及び製造コストの削減を実現できる。
【００２９】
本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態ではＶＡモードの液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード等の他の液晶表示装置にも適用できる。
【００３０】
また、上記実施の形態では透過型の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、反射型や半透過型等の他の液晶表示装置にも適用できる。
【００３１】
上記実施の形態では、ＴＦＴ基板２に対向して配置された基板上にＣＦが形成された液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、ＴＦＴ基板２上にＣＦが形成された、いわゆるＣＦ−ｏｎ−ＴＦＴ構造の液晶表示装置にも適用できる。
【００３２】
また、上記実施の形態ではアクティブマトリクス型の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、単純マトリクス型の液晶表示装置にも適用できる。
【００３３】
以上説明した実施の形態による液晶表示パネル及びその検査方法並びにそれに用いる検査装置は、以下のようにまとめられる。
（付記１）
外周部の全周に切れ目なく塗布されたシール材を介して貼り合わされた一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
前記一対の基板の表示領域より外側であって前記シール材の形成領域より内側に配置された枠状の額縁領域と、
前記一対の基板の一方の前記額縁領域に形成された第１の導電膜と、
前記一対の基板の他方に形成され、前記液晶を介して前記第１の導電膜に対向する第２の導電膜と
を有することを特徴とする液晶表示パネル。
（付記２）
付記１記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第１及び第２の導電膜の双方は、前記表示領域内の画素毎に形成された画素電極と電気的に分離されていること
を特徴とする液晶表示パネル。
（付記３）
付記１又は２に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記シール材の形成領域より外側に配置され、前記第１及び第２の導電膜とそれぞれ電気的に接続された第１及び第２の端子部をさらに有すること
を特徴とする液晶表示パネル。
（付記４）
外周部の全周に切れ目なく塗布された光硬化型のシール材を介して貼り合わされた一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
前記一対の基板の表示領域より外側に配置された枠状の額縁領域と、
前記額縁領域に形成された遮光膜と、
前記一対の基板の一方に形成され、基板面に垂直に見て前記遮光膜に重なって配置された第１の導電膜と、
前記一対の基板の他方に形成され、基板面に垂直に見て前記遮光膜に重なって配置された第２の導電膜と
を有することを特徴とする液晶表示パネル。
（付記５）
付記４記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第１及び第２の導電膜並びに前記遮光膜は、基板面に垂直に見て少なくとも一部の領域で全て重なっていること
を特徴とする液晶表示パネル。
（付記６）
付記４又は５に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第１及び第２の導電膜の少なくとも一方は、基板面に垂直に見て前記遮光膜の外側の端辺より内側に配置されていること
を特徴とする液晶表示パネル。
（付記７）
付記４乃至６のいずれか１項に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記シール材は導電性を有すること
を特徴とする液晶表示パネル。
（付記８）
一対の基板の一方に液晶が滴下され、シール材を介して前記一対の基板が貼り合わされ、前記一対の基板を挟んで一対の偏光板が配置された液晶表示パネルの額縁領域の前記液晶に所定の電圧を印加し、
前記額縁領域での表示状態に基づいて、前記液晶表示パネル内の気泡の有無を検査すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査方法。
（付記９）
一対の基板の一方に液晶が滴下され、シール材を介して前記一対の基板が貼り合わされた液晶表示パネルの額縁領域の電気物性値を測定し、
前記電気物性値に基づいて、前記液晶表示パネル内の気泡の有無を検査すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査方法。
（付記１０）
一対の基板の一方に液晶が滴下され、シール材を介して前記一対の基板が貼り合わされ、額縁領域に遮光膜を有する液晶表示パネルの前記額縁領域の電気物性値を測定し、
前記電気物性値に基づいて、前記シール材と前記遮光膜とが重なっているか否かを検査すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査方法。
（付記１１）
一対の基板の一方に液晶が滴下され、シール材を介して前記一対の基板が貼り合わされた液晶表示パネルを検査する液晶表示パネルの検査装置であって、
前記液晶表示パネルの額縁領域の電気物性値を測定する電気物性値測定部を有すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査装置。
（付記１２）
付記１１記載の液晶表示パネルの検査装置において、
前記電気物性値測定部は、前記額縁領域の電気抵抗を測定すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査装置。
（付記１３）
付記１１記載の液晶表示パネルの検査装置において、
前記電気物性値測定部は、前記額縁領域の電気容量を測定すること
を特徴とする液晶表示パネルの検査装置。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液晶表示パネルの概略構成を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液晶表示パネルの概略構成を示す断面図である。
【図３】従来の液晶表示パネルの構成を示す断面図である。
【図４】従来の液晶表示パネルの構成を示す断面図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態による液晶表示パネルの検査方法の変形例及びそれに用いられる検査装置の構成を示す図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態による液晶表示パネルの概略構成を示す断面図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態による液晶表示パネルにおいてシール材とＢＭとが重なった状態を示す断面図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  液晶表示パネル
２  ＴＦＴ基板
４  ＣＦ基板
６  液晶
１０、１１  ガラス基板
１６  画素電極
３０、３１、３４、３５  導電膜
３２、３３  端子部
４２  共通電極
４８  ＢＭ
５６  シール材
６０  検査装置
６２  制御部
６４  電気物性値測定部
８６、８７  偏光板
【図１】
2006078741.tif 000003
【図２】
2006078741.tif 000004
【図３】
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【図４】
2006078741.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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