(57)【要約】【課題】  液晶セル、特にＯＣＢモードやＥＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の正面方向および視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する光学補償フィルムを提供する。【解決手段】  第１の光学異方性層と第２の光学異方性層とが積層された光学補償フィルムであって、面内のレターデーションをＲｅ（０）とし、面内の遅相軸を傾斜軸として４０°傾けて測定したレターデーションをＲｅ（４０）としたとき、該積層体のＲｅ（０）の波長分散が該第２の光学異方性層単独のＲｅ（０）の波長分散よりも小さく、該積層体のＲｅ（４０）と該第２の光学異方性層単独のＲｅ（４０）とが実質的に等しい光学補償フィルムである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光学異方性層と第２の光学異方性層とが積層された光学補償フィルムであって、面内のレターデーションをＲｅ（０）とし、面内の遅相軸を傾斜軸として４０°傾けて測定したレターデーションをＲｅ（４０）としたとき、該積層体のＲｅ（０）の波長分散が該第２の光学異方性層単独のＲｅ（０）の波長分散よりも小さく、該積層体のＲｅ（４０）と該第２の光学異方性層単独のＲｅ（４０）とが実質的に等しい光学補償フィルム。
【請求項２】
可視光領域の異なる２つの波長λ１、λ２（λ１＜λ２）における面内のレターデーションをそれぞれ、Ｒｅλ1（０）およびＲｅλ2（０）としたとき、該第１の光学異方性層がＲｅλ1（０）＜Ｒｅλ2（０）となる波長領域が存在し、かつ厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が−３０〜３０ｎｍである請求項１に記載の光学補償フィルム。
【請求項３】
前記第１の光学異方性層がセルロースアシレートフィルムからなる請求項１または２に記載の光学補償フィルム。
【請求項４】
前記第２の光学異方性層が液晶化合物を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項５】
前記液晶化合物がディスコティック液晶化合物または棒状液晶化合物である請求項４に記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
前記液晶化合物の分子が、水平配向、垂直配向、傾斜配向およびハイブリッド配向のいずれかの配向状態に固定化されている請求項４または５に記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
さらに、第３の光学異方性層を含み、該第３の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜４００ｎｍであり、Ｒｔｈが−２００〜５００ｎｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項８】
前記第２の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜４０ｎｍであり、前記第３の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜２００ｎｍであり、かつＲｔｈが−１００〜３００ｎｍである請求項７に記載の光学補償フィルム。
【請求項９】
前記第２の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜４０ｎｍであり、前記第３の光学異方性層のＲｅ（０）が３０〜６０ｎｍであり、かつＲｔｈが１００〜３００ｎｍである請求項７に記載の光学補償フィルム。
【請求項１０】
前記第２の光学異方性層がディスコティック液晶化合物を含み、前記第３の光学異方性層がセルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項１１】
偏光膜と請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学補償フィルムとが積層されてなる偏光板。
【請求項１２】
液晶セルと、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学補償フィルム、または、請求項１１に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
【請求項１３】
前記液晶セルが、ベンド配向モードまたはＥＣＢモードである請求項１２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の表示特性の改善に寄与する光学補償フィルムおよび偏光板、さらに、それを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を有する。偏光板は、一般的に保護フィルム及び偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償フィルムを配置することもある。反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償フィルム、偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板及び液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
この様なＬＣＤの中でも、高い表示品位が必要な用途については、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、薄膜トタンジスタにより駆動する９０度ねじれネマチック型液晶表示装置（以下、ＴＮモードという）が主に用いられている。しかしながら、ＴＮモードは正面から見た場合には優れた表示特性を有するものの、斜め方向から見た場合にコントラストが低下したり、階調表示で明るさが逆転する階調反転等が起こることにより表示特性が悪くなるという視野角特性を有しており、この改良が強く要望されている。さらに、ＴＮモードでは応答速度に限界があり、より高速応答の液晶モードを用いたＬＣＤの開発が望まれている。
【０００４】
従来、ＴＮ方式の液晶表示装置用に光学補償フィルムが開発されていたが、近年、液晶テレビの需要が増加するにつれ、動画に尾引き、残像現象が生じるなど、応答速度に問題があることが指摘されつつある。そこで、応答速度の速さに特長を持つＯＣＢモード（あるいはベンドモード）に注目が集まっている。しかし、ＯＣＢモードで広い視角特性を得るのは難しく、光学補償フィルムを使う必要がある。例えば特許文献１及び２に記載の発明では、ＯＣＢ方式の液晶表示装置に、液晶性化合物からなる層を有する光学補償フィルムを適用している。しかし、これらの文献に述べられているような、従来知られている光学パラメ−タ−を制御しただけでは、良好な表示特性を得ることは困難であった。
【０００５】
また、光学補償フィルムの光学特性の波長依存性は重要なパラメーターであるが、一般に、光学異方性層の屈折率異方性の波長分散は素材に固有であるため、レターデーションの波長分散を任意に調整するのは容易ではない。異なる層を積層することにより面内のレターデーションの波長分散を調整できることは従来から知られていたが、この方法では厚み方向のレターデーションが所望の値からずれてしまうという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】特開平９−２１１４４４号公報
【特許文献２】特開平１１−３１６３７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、液晶セルが正確に光学的に補償され、高いコントラストを有し、且つ黒表示時の正面方向および視角方向に依存した色づきが軽減された液晶表示装置、特にＯＣＢモードやＥＣＢモードの液晶表示装置を提供することである。また、本発明は、液晶セル、特にＯＣＢモードやＥＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の正面方向および視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する光学補償フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の課題を解決する手段は以下の通りである。
［１］  第１の光学異方性層と第２の光学異方性層とが積層された光学補償フィルムであって、面内のレターデーションをＲｅ（０）とし、面内の遅相軸を傾斜軸として４０°傾けて測定したレターデーションをＲｅ（４０）としたとき、該積層体のＲｅ（０）の波長分散が該第２の光学異方性層単独のＲｅ（０）の波長分散よりも小さく、該積層体のＲｅ（４０）と該第２の光学異方性層単独のＲｅ（４０）とが実質的に等しいことを特徴とする光学補償フィルム。
［２］  可視光領域の異なる２つの波長λ１、λ２（λ１＜λ２）における面内のレターデーションをそれぞれ、Ｒｅλ1（０）、Ｒｅλ2（０）としたとき、該第１の光学異方性層は、Ｒｅλ1（０）＜Ｒｅλ2（０）となる波長領域を有し、かつ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が−３０〜３０ｎｍである［１］の光学補償フィルム。
［３］  前記第１の光学異方性層がセルロースアシレートフィルムからなる［１］または［２］の光学補償フィルム。
［４］  前記第２の光学異方性層は液晶化合物を含む［１］〜［３］のいずれかの光学補償フィルム。
［５］  前記液晶化合物がディスコティック液晶化合物または棒状液晶化合物である［４］の光学補償フィルム。
［６］  前記液晶化合物が水平配向、垂直配向、傾斜配向、ハイブリッド配向のいずれかに配向状態が固定化されている［４］または［５］の光学補償フィルム。
［７］  さらに、第３の光学異方性層を含み、該第３の光学異方性層はＲｅ（０）が０〜４００ｎｍであり、Ｒｔｈが−２００〜５００ｎｍである［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルム。
［８］  前記第２の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜４０ｎｍであり、前記第３の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜２００ｎｍであり、かつＲｔｈが−１００〜３００ｎｍである［７］の光学補償フィルム。
［９］  前記第２の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜４０ｎｍであり、前記第３の光学異方性層のＲｅ（０）が３０〜６０ｎｍであり、Ｒｔｈが１００〜３００ｎｍである［７］の光学補償フィルム。
［１０］  前記第２の光学異方性層はディスコティック液晶化合物を含み、前記第３の光学異方性層はセルロースアシレートフィルムからなる［７］〜［９］のいずれかの光学補償フィルム。
［１１］  偏光膜と［１］〜［１０］のいずれかの光学補償フィルムとが積層されてなる偏光板。
［１２］  液晶セルと、［１］〜［１０］のいずれかの光学補償フィルム、または、［１１］の偏光板を含む液晶表示装置。
［１３］  前記液晶セルが、ベンド配向モードまたはＥＣＢモードである［１２］の液晶表示装置。
【０００９】
なお、本明細書において、「４５゜」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１０】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。
【００１１】
また、本明細書において「分子対称軸」とは、分子が回転対称軸を有する場合は該対称軸をいうが、厳密な意味で分子が回転対称性であることを要求するものではない。一般的には、分子対称軸は、ディスコティック液晶性化合物では、円盤面の中心を貫く円盤面に対して垂直な軸と一致し、また棒状液晶性化合物では分子の長軸と一致する。また、本明細書において、Ｒｅλ（０）、Ｒｔｈλは各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。本発明では、Ｒｅλ（０）は、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）またはエリプソメーターＭ−１５０（日本分光（株）製）などを用いて測定される値とする。また、Ｒｔｈλは、前記Ｒｅλ（０）、測定装置によって判断される遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基に算出された値とする。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、光学補償フィルムの厚さ方向のレターデーションは変化させずに、面内のレターデーションの波長分散を独立に制御することができる。波長分散を独立に制御して光学的に最適値とした光学補償フィルムを用いることで、液晶セル、特にＯＣＢモードやＥＣＢモードの液晶セルの黒状態の補償をほぼ全ての波長において可能にするものである。その結果、本発明の液晶表示装置は、黒表示時の正面方向や斜め方向の色ずれが著しく改善されている。
【発明の実施の形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。
［光学補償フィルム］
本発明の光学補償フィルムでは、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層とが積層されている。面内のレターデーションをＲｅ（０）とし、面内の遅相軸を傾斜軸として４０°傾けて測定したレターデーションをＲｅ（４０）としたとき、該積層体のＲｅ（０）の波長分散が該第２の光学異方性層単独のＲｅ（０）の波長分散よりも小さく、該積層体のＲｅ（４０）と該第２の光学異方性層単独のＲｅ（４０）とが実質的に等しい。
波長分散が小さいとは、可視光領域の異なる２つの波長λ１、λ２（λ１＜λ２）における面内のレターデーションをそれぞれ、Ｒｅλ1（０）、Ｒｅλ2（０）としたとき、積層体のＲｅλ1（０）／Ｒｅλ2（０）の値が、第２の光学異方性層単独のＲｅλ1（０）／Ｒｅλ2（０）の値よりも小さいことを意味する。
Ｒｅ（４０）が実質的に等しいとは、可視光領域のある波長において、積層体のＲｅ（４０）と第２の光学異方性層単独のＲｅ（４０）との差が−５〜５ｎｍであることを意味する。その差は−４〜４ｎｍであるのがより好ましく、−３〜３ｎｍであるのがさらに好ましい。
【００１４】
また、例えば、第２の光学異方性層が液晶化合物を含有する組成物から形成されており、該液晶化合物が傾斜配向やハイブリッド配向している場合には、遅相軸を傾斜軸として、４０°傾斜させて測定したレターデーションＲｅ（４０）と、反対方向に４０°傾斜させて測定したレターデーションＲｅ（−４０）が異なる。その場合は、積層体のＲｅ（４０）と第２の光学異方性層単独のＲｅ（４０）、および、積層体のＲｅ（−４０）と第２の光学異方性層単独のＲｅ（−４０）を測定し、その差を比較するものとする。
【００１５】
なお、本発明の光学補償フィルムは、３層以上の光学異方性層を有していてもよく、かかる態様では、上記「積層体」のＲｅは、第１の光学異方性層とその他のいずれか１層以上の光学補償層との積層体のＲｅ、または、積層されたすべての光学異方性層を含む光学補償フィルム全体のＲｅを表す。
【００１６】
本発明において、前記第１の光学異方性層は、前記第２の光学異方性層と積層したとき、該第２の光学異方性層が単独で有する厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）にはほとんど影響を与えずに、面内のレターデーション（Ｒｅ）の波長分散を小さくするのに寄与する。前記第１の光学異方性層としては、以下の光学特性を有することが好ましい。
可視光領域の異なる２つの波長λ１およびλ２（λ１＜λ２）における面内のレターデーションをそれぞれ、Ｒｅλ1（０）およびＲｅλ2（０）としたとき、前記第１の光学異方性層のＲｅλ1（０）およびＲｅλ2（０）が、Ｒｅλ1（０）＜Ｒｅλ2（０）となる波長領域が存在する。λ１およびλ２は可視光領域であれば特に制限はないが、広範囲な可視光領域で上記関係式を満足していることが好ましい。より具体的には、λ１とλ２の差（λ２−λ１）が、１０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、８０ｎｍ以上であることが最も好ましい。なお、λ１とλ２の差（λ２−λ１）が８０ｎｍ以上であるとき、Ｒｅλ1（０）とＲｅλ2（０）の差は、０．５ｎｍ以上であるのが好ましく、０．７ｎｍ以上であるのがより好ましい。
さらに、前記第１の光学異方性層の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、−３０〜３０ｎｍであることが好ましく、−２５〜２５ｎｍであることがさらに好ましく、−２０〜２０ｎｍであることが最も好ましい。
【００１７】
上記光学特性を有する第１の光学異方性層としては、ポリマーフィルムが好適に用いられ、セルロースアシレートフィルムを用いることが特に好ましい。
【００１８】
前記第２の光学異方性層としては、ポリマーフィルムを延伸処理することにより光学異方性を発現させた層や、液晶化合物を配向状態に固定化して光学異方性を発現させた層を用いることができる。光学補償フィルムが用いられるそれぞれの液晶モードに対応して三次元方向の屈折率異方性が調整される。三次元方向の屈折率異方性の調整は、ポリマーフィルムを用いる場合には一軸延伸や二軸延伸や、それら延伸フィルムの積層などで可能であり、また、液晶化合物を用いる場合には液晶分子の形状や配向状態を選択することで可能である。ポリマーフィルムからなる層や液晶化合物からなる層から複数層選んで積層して所望の３次元方向の屈折率異方性を発現させてもよい。
【００１９】
前記第１の光学異方性層の遅相軸方向と第２の光学異方性層の遅相軸方向とは実質的に平行または直交であることが好ましい。ここで、実質的に平行であるとは、それぞれの遅相軸のなす角が、−２０〜２０°であることを意味する。さらに、−１０〜１０°であることがより好ましく、−５〜５°であることが最も好ましい。また、実質的に直交であるとは、それぞれの遅相軸のなす角が、７０〜１１０°であることを意味する。さらに、８０〜１００°であることがより好ましく、８５〜９５°であることが最も好ましい。
前記第２の光学異方性層が液晶化合物から形成された層の場合は、該液晶化合物の分子対称軸をフィルム面に投影した平均方向と、前記第１の光学異方性層の遅相軸方向とが実質的に平行または直交であることが好ましい。
【００２０】
本発明の光学補償フィルムは少なくとも第１および第２の光学異方性層を含んでいればよく、積層される順序や配置は上記例示に限定されない。
本発明の光学補償フィルムの好ましい態様として、前記第１の光学異方性層が、ポリマーフィルム（好ましくは後述するセルロースアシレートフィルム）からなり、前記第２の光学異方性層が、液晶性化合物を含有する組成物から形成され、該液晶性化合物の配向によって発現された光学異方性を示す態様が挙げられる。本態様では、前記第１の光学異方性層であるポリマーフィルムは、前記第２の光学異方性層を支持する支持体として利用され得る。
【００２１】
本発明の光学補償フィルムは前記第１および第２の光学異方性層と、さらに第３の光学異方性層を有してもよい。該第３の光学異方性層としては、前記第２の光学異方性層と同様にポリマーフィルムや液晶化合物により光学異方性を発現させた層を用いることができる。前記第３の光学異方性層はＲｅ（０）が０〜４００ｎｍであり、Ｒｔｈが−２００〜５００ｎｍであることが好ましい。Ｒｅ（０）が０〜３００ｎｍであり、Ｒｔｈが−１００〜４００ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｅ（０）が０〜２００ｎｍであり、Ｒｔｈが−１００〜３００ｎｍであるのがより好ましい。
【００２２】
前記第１〜３の光学異方性層のいずれかがポリマーフィルムからなる層であり、かつ、いずれかが液晶化合物からなる層である場合、該液晶化合物からなる層を形成するための支持体として該ポリマーフィルムを用いることができる。例えば、第３の光学異方性層として、ポリマーフィルムを延伸処理して所望の光学異方性を発現させ、その上に液晶化合物を含む層を第２の光学異方性層として形成し、さらに別途作製した第１の光学異方性層を貼り合せてもよい。あるいは、ポリマーフィルムからなる第１の光学異方性層を作製し、その上に液晶化合物を含む層を第２の光学異方性層として形成し、さらにその上に液晶化合物を含む層を第３の光学異方性層として形成してもよいし、別途作製した第３の光学異方性層を貼り合わせてもよい。
【００２３】
本発明の光学補償フィルムの好ましい態様の一つは、前記第１、第２及び第３の光学異方性層を有し、前記第２の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜４０ｎｍであり、前記第３の光学異方性層のＲｅ（０）が３０〜６０ｎｍであり、かつＲｔｈが１００〜３００ｎｍの態様である。かかる態様は、特にＯＣＢモードの液晶セルの光学補償に有効である。本態様において第２の光学異方性層はディスコティック液晶化合物を含むことが好ましく、該該ディスコティック液晶化合物はハイブリッド配向状態に固定化されていることがさらに好ましい。該第２の光学異方性層のＲｅ（０）は２０〜４０ｎｍであることがさらに好ましく、２５〜４０ｎｍであることが最も好ましい。該第３の光学異方性層のＲｅ（０）は３５〜５０ｎｍであり、Ｒｔｈが１５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。
【００２４】
本発明の光学補償フィルムの好ましい他の態様は、前記第１、第２及び第３の光学異方性層を有し、前記第２の光学異方性層のＲｅ（０）が０〜４０ｎｍであり、前記第３の光学異方性層のＲｅ（０）が５０〜３００ｎｍであり、かつＲｔｈが−１００〜１００ｎｍの態様である。かかる態様は、特にＥＣＢモードの液晶セルの光学補償に有効である。本態様において、第２の光学異方性層はディスコティック液晶化合物を含むことが好ましく、該該ディスコティック液晶化合物はハイブリッド配向状態に固定化されていることがさらに好ましい。該第２の光学異方性層のＲｅ（０）は２０〜４０ｎｍであることがさらに好ましく、２５〜４０ｎｍであることがよりさらに好ましい。該第３の光学異方性層のＲｅ（０）は５０〜２００ｎｍであり、Ｒｔｈが−５０〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。
【００２５】
［ポリマーフィルム］
本発明の光学補償フィルムに含まれる第１及び第２の光学異方性層、及び所望により含まれる第３の光学異方性層として、ポリマーフィルムを用いてもよい。適切なポリマー素材、添加剤、製膜条件、延伸条件などを選ぶことにより、それぞれの光学異方性層として所望の光学特性を発現させることができる。
【００２６】
［セルロースアシレートフィルム］
前記第１の光学異方性層としてポリマーフィルムを用いることが好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることが特に好ましい。
【００２７】
［セルロースアシレート原料綿］
本発明に使用可能なセルロースアシレートの原料となるセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
【００２８】
［セルロースアシレート置換度］
次に上記のセルロースを原料に製造される本発明に使用可能なセルロースアシレートについて記載する。
前記セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ  Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。前記セルロースアシレートフィルムは、アシル置換度が２．８５〜３．００のセルロースアシレートからなることが好ましい。
【００２９】
セルロースの水酸基を置換する、酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、また単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【００３０】
［セルロースアシレート溶液の有機溶媒］
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、この方法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。ドープの調製に主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル及び、炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００３１】
以上、前記セルロースアシレートフィルムに対しては、塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよく、特に限定されるものではない。
【００３２】
その他、セルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含めて以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６号公報、特開平１２−９５８７７号公報、特開平１０−３２４７７４号公報、特開平８−１５２５１４号公報、特開平１０−３３０５３８号公報、特開平９−９５５３８号公報、特開平９−９５５５７号公報、特開平１０−２３５６６４号公報、特開平１２−６３５３４号公報、特開平１１−２１３７９号公報、特開平１０−１８２８５３号公報、特開平１０−２７８０５６号公報、特開平１０−２７９７０２号公報、特開平１０−３２３８５３号公報、特開平１０−２３７１８６号公報、特開平１１−６０８０７号公報、特開平１１−１５２３４２号公報、特開平１１−２９２９８８号公報、特開平１１−６０７５２号公報、特開平１１−６０７５２号公報などに記載されている。これらの公報によると、セルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
【００３３】
〔セルロースアシレートフィルムの製造工程〕
［溶解工程］
前記セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製に際して、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解でもよく、また冷却溶解法又は高温溶解方法でもよく、さらにはこれらの組み合わせで実施されてもよい。前記セルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、濾過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【００３４】
（ドープの透明度）
本発明におけるセルロースアシレート溶液である、ドープの透明度としては、８５％以上であることが望ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることが望ましい。
【００３５】
［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、本発明におけるセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いたフィルムの製造方法について述べる。
前記セルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供される、溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）で調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調整をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、次いでドープを加圧型ダイの口金（スリット）から、エンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを、乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して、巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせは、その目的により変わる。セルロースアシレートフィルムの主な用途としての電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護フィルムや、ハロゲン化銀写真感光材料に用いる場合の、溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
【００３６】
〔セルロースアシレートへの添加剤〕
前記セルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、Ｒｔｈを低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。これら添加剤の添加時期は、ドープ作製工程において何れでも添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【００３７】
［Ｒｔｈを低下させる化合物］
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物（以下、Ｒｔｈ低下剤ともいう）を、下記数式（３）及び（４）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。
数式（３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
上記数式（３）、（４）において、より望ましくは、
数式（３−１）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−２．０
数式（４−１）：０．０５≦Ａ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（３−２）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−３．０
数式（４−２）：０．１≦Ａ≦２０
である。
ここで、ＲｔｈλAはＲｔｈλ低下剤をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、Ｒｔｈλ0はＲｔｈλ低下剤を含有しないフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλ低下剤の質量（％）である。
【００３８】
（Ｒｔｈ低下剤の構造的特徴）
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈ低下剤について説明する。
光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅ、Ｒｔｈがともにゼロに近くなるようにするためには、フィルム中のセルロースアシレートが、正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いることが好ましい。また、光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００３９】
（ＬｏｇＰ値）
前記セルロースアシレートフィルムを作製するに当たっては、上記のように、フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制してＲｔｈ低下剤のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を選択することが好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れ、フィルムの白濁や粉吹きなどの不都合を生じない。またｌｏｇＰ値が０以上の化合物は、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させるなどの問題が生じないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
【００４０】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ  Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ震盪法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ．２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ．１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ．７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。
【００４１】
（Ｒｔｈ低下剤の物性）
Ｒｔｈ低下剤は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。またＲｔｈ低下剤は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【００４２】
Ｒｔｈ低下剤は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。またＲｔｈ低下剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００４３】
Ｒｔｈ低下剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．０５〜２５質量％であることがより好ましく、０．１〜２０質量％であることが特に好ましい。
【００４４】
Ｒｔｈ低下剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。Ｒｔｈ低下剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００４５】
このようなＲｔｈ低下剤としては、下記の一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【００４６】
【化１】
2006293275.tif 000002
【００４７】
上記一般式（１）において、Ｒ11はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13の炭素原子数の総和は１０以上であることが特に好ましく、またこれらのアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。
【００４８】
置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。
【００４９】
アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシルなど）が特に好ましい。
【００５０】
アリール基としては、炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニルなど）が特に好ましい。一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００５１】
【化２】
2006293275.tif 000003
【００５２】
【化３】
2006293275.tif 000004
【００５３】
【化４】
2006293275.tif 000005
【００５４】
【化５】
2006293275.tif 000006
【００５５】
Ｒｔｈ低下剤としては、また下記の一般式（２）で表される化合物を例示することができる。
【００５６】
【化６】
2006293275.tif 000007
【００５７】
上記一般式（２）において、Ｒ21はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ22及びＲ23は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。さらに、Ｒ21及びＲ22の炭素原子数の総和は１０以上であることが好ましく、それぞれ、アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。
【００５８】
上記のアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素など）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基及びアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基である。
【００５９】
以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００６０】
【化７】
2006293275.tif 000008
【００６１】
【化８】
2006293275.tif 000009
【００６２】
【化９】
2006293275.tif 000010
【００６３】
【化１０】
2006293275.tif 000011
【００６４】
【化１１】
2006293275.tif 000012
【００６５】
【化１２】
2006293275.tif 000013
【００６６】
［波長分散調整剤］
前記セルロースアシレートフィルムは、そのフィルムの｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物、すなわちレターデーションの波長分散を低下させる化合物（以下、波長分散調整剤ともいう）を少なくとも１種、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことが好ましい。以下、波長分散調整剤について説明する。
【００６７】
前記セルロースアシレートフィルムの、Ｒｔｈの波長分散を良化させるためには、下記数式（６）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈを低下させる化合物（波長分散調整剤）を、下記数式（７）及び（８）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。
数式（６）：ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜
数式（７）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−２．０
数式（８）：０．０１≦Ｂ≦３０
上記数式（７）及び（８）において、より望ましくは、
数式（７−２）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−３．０
数式（８−２）：０．０５≦Ｂ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（７−３）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−４．０
数式（８−３）：０．１≦Ｂ≦２０
である。
ここでΔＲｔｈBは、波長分散調整剤をＢ質量％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ0は波長分散調整剤を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｂはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの波長分散調整剤の質量（％）である。
【００６８】
（波長分散調整剤の添加方法）
これら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００６９】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【００７０】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記一般式（３）で示されるものが波長分散調整剤として好ましく用いられる。
一般式（３）：Ｑ31−Ｑ32−ＯＨ
（式中、Ｑ31は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ32は芳香族環を表す。）
【００７１】
Ｑ31は含窒素芳香族へテロ環をあらわし、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
【００７２】
Ｑ31で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【００７３】
Ｑ32で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。最も好ましくはベンゼン環である。
【００７４】
芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として、好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【００７５】
Ｑ32で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ32は更に置換基を有してもよく、下記の置換基Ｔが好ましい。
【００７６】
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００７７】
一般式（３）として、好ましくは下記一般式（３−１）で表される化合物である。
【００７８】
【化１３】
2006293275.tif 000014
【００７９】
上記一般式（３−１）において、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37及びＲ38は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては上記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【００８０】
Ｒ31及びＲ33として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【００８１】
Ｒ32、及びＲ34として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００８２】
Ｒ35及びＲ38として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００８３】
Ｒ36及びＲ37として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００８４】
一般式（３）として、より好ましくは下記一般式（３−２）で表される化合物である。
【００８５】
【化１４】
2006293275.tif 000015
【００８６】
式中、Ｒ31、Ｒ33、Ｒ36及びＲ37は、上記一般式（３−１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００８７】
以下に一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【００８８】
【化１５】
2006293275.tif 000016
【００８９】
【化１６】
2006293275.tif 000017
【００９０】
以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以上のものが、前記セルロースアシレートフィルムを作製した場合に、保留性の点で有利であることが確認された。
【００９１】
また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（４）で示されるものが好ましく用いられる。
【００９２】
【化１７】
2006293275.tif 000018
【００９３】
式中、Ｑ41及びＱ42は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ41はＮＲ41（Ｒ41は水素原子又は置換基を表す）、酸素原子又は硫黄原子を表す。
【００９４】
Ｑ41及びＱ42で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【００９５】
Ｑ41及びＱ42で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【００９６】
Ｑ41及びＱ42で表される芳香族ヘテロ環として、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれか１つを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【００９７】
Ｑ41及びＱ42であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。
【００９８】
Ｑ41及びＱ42は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸、スルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【００９９】
Ｘ41は、ＮＲ42（Ｒ42は水素原子又は置換基を表す。置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる）、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ41として好ましくは、ＮＲ42（Ｒ42として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい）、又は酸素であり、特に好ましくは酸素である。
【０１００】
一般式（４）として、好ましくは下記一般式（４−１）で表される化合物である。
【０１０１】
【化１８】
2006293275.tif 000019
【０１０２】
式中、Ｒ411、Ｒ412、Ｒ413、Ｒ414、Ｒ415、Ｒ416、Ｒ417、Ｒ418及びＲ419は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１０３】
Ｒ411、Ｒ413、Ｒ414、Ｒ415、Ｒ416、Ｒ418及びＲ419として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１０４】
Ｒ412として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【０１０５】
Ｒ417として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【０１０６】
一般式（４）として、より好ましくは下記一般式（４−２）で表される化合物である。
【０１０７】
【化１９】
2006293275.tif 000020
【０１０８】
式中、Ｒ420は水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアルキニル基、置換又は無置換のアリール基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。Ｒ420として、好ましくは置換又は無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換又は無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換又は無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換又は無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１０９】
一般式（４）であらわされる化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
【０１１０】
以下に一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１１１】
【化２０】
2006293275.tif 000021
【０１１２】
【化２１】
2006293275.tif 000022
【０１１３】
また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるシアノ基を含む化合物としては一般式（５）で示されるものが好ましく用いられる。
【０１１４】
【化２２】
2006293275.tif 000023
【０１１５】
式中、Ｑ51及びＱ52は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ51及びＸ52は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ51及びＱ52で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１１６】
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【０１１７】
芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１１８】
Ｑ51及びＱ52であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Ｑ51及びＱ52は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましい。
【０１１９】
Ｘ51及びＸ52は、水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ51及びＸ52で表される置換基は、前記の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ51及びＸ52はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ51及びＸ52は、それぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１２０】
Ｘ51及びＸ52として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ51（Ｒ51は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。
【０１２１】
一般式（５）として、好ましくは下記一般式（５−１）で表される化合物である。
【０１２２】
【化２３】
2006293275.tif 000024
【０１２３】
式中、Ｒ511、Ｒ512、Ｒ513、Ｒ514、Ｒ515、Ｒ516、Ｒ517、Ｒ518、Ｒ519及びＲ520は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。Ｘ511及びＸ512は、それぞれ前記一般式（５）におけるＸ51及びＸ52と同義である。
【０１２４】
Ｒ511、Ｒ512、Ｒ514、Ｒ515、Ｒ516、Ｒ517、Ｒ519及びＲ520として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１２５】
Ｒ513及びＲ518として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０１２６】
一般式（５）として、より好ましくは下記一般式（５−２）で表される化合物である。
【０１２７】
【化２４】
2006293275.tif 000025
【０１２８】
式中、Ｒ513及びＲ518は一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ513は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。
【０１２９】
Ｘ513は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ513として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ52（Ｒ52は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。
【０１３０】
一般式（５）として、更に好ましくは一般式（５−３）で表される化合物である。
【０１３１】
【化２５】
2006293275.tif 000026
【０１３２】
式中、Ｒ513及びＲ518は、一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ52は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ52として、好ましくは、Ｒ513及びＲ518が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【０１３３】
Ｒ52として、好ましくはＲ513及びＲ518が水素以外の場合には、一般式（５−３）で表される化合物の分子量が３００以上になり、且つ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【０１３４】
本発明において、一般式（５）で表される化合物は、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，６３巻、３４５２頁（１９４１年）記載の方法によって合成できる。
【０１３５】
以下に一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１３６】
【化２６】
2006293275.tif 000027
【０１３７】
【化２７】
2006293275.tif 000028
【０１３８】
【化２８】
2006293275.tif 000029
【０１３９】
前記セルロースアシレートフィルムは、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。
【０１４０】
前記セルロースアシレートフィルムは、６０℃、９０％ＲＨに２４０時間処理したフィルムのＲｅ及びＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることが望ましい。より望ましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらに望ましい。
【０１４１】
前記セルロースアシレートフィルムは、８０℃、２４０時間処理したフィルムのＲｅ及びＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることが望ましい。より望ましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらに望ましい。
【０１４２】
前記セルロースアシレートフィルムは、膜厚が１０〜１２０μｍであることが望ましい。２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。
【０１４３】
［液晶化合物を含む光学異方性層］
本発明の光学補償フィルムに含まれる第１及び第２光学異方性層、及び所望により含まれる第３の光学異方性層は、液晶化合物を含む層であってもよい。第２の光学異方性層は、液晶性化合物を含む層であるのが好ましい。液晶化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることができる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶でもよい。
【０１４４】
光学異方性層は一層のみからなっていてもよいし、二層以上の光学異方性層の積層体であってもよい。三次元方向の屈折率異方性を任意に制御するためには、二層以上の光学異方性層を積層することでより容易になる。
【０１４５】
光学異方性層に用いられる液晶化合物は、ディスコティック液晶でもよいし、棒状液晶化合物でもよい。液晶化合物の配向状態は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、傾斜配向いずれでもよい。液晶分子の形状や配向状態は、光学補償フィルムが用いられる液晶表示モードによって選ばれる。
【０１４６】
前記光学異方性層は、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物等の液晶性化合物と、所望により、下記の重合開始剤や空気界面配向剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成するのが好ましい。
【０１４７】
［ディスコティック液晶性化合物］
本発明では、ディスコティック液晶性化合物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【０１４８】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表わされる化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０１４９】
［棒状液晶化合物］
本発明では、棒状液晶化合物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶分子には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は１〜６個、好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【０１５０】
［重合開始剤］
垂直配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定する。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１５１】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。位相差層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。
【０１５２】
［光学異方性層の他の添加剤］
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー、含フッ素ポリマー、有機化合物塩等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【０１５３】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１５４】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号公報明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。
【０１５５】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
【０１５６】
［配向膜］
本発明では、配向膜の表面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させるのが好ましい。配向膜は、液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有するため、本発明の好ましい態様を実現する上で利用するのが好ましい。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
【０１５７】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０１５８】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。
【０１５９】
本発明の配向膜では、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【０１６０】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０１６１】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０１６２】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤および添加剤を含む溶液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０１６３】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【０１６４】
配向膜は、透明支持体上に設けられることが好ましい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０１６５】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０１６６】
配向膜のラビング処理面に前記組成物を塗布して、ディスコティック液晶性化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させることで、前記光学異方性層を形成することができる。
配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
【０１６７】
［支持体］
本発明の光学補償フィルムは支持体を含んでもよい。液晶化合物を含む組成物を支持体上に塗布して光学異方性層を形成することにより、自己支持性のある光学補償フィルムを作製できる。該支持体に光学異方性層を一層のみ形成してもよいし、支持体の一方の面に二層以上の光学異方性層を順次積層してもよいし、支持体の両方の面に光学異方性層を形成してもよい。
【０１６８】
支持体としては、波長分散が小さいポリマーフィルムを用いることが好ましい。支持体は、光学異方性が小さいことも好ましい。支持体は光透過率が８０％以上であることが好ましい。波長分散が小さいとは、具体的には、Ｒｅ４００／Ｒｅ７００の比が１．２未満であることが好ましい。
【０１６９】
ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレートおよび環状ポリオレフィンが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。環状ポリオレフィンとしては、特公平２−９６１９号公報記載のテトラシクロドデセン類の開環重合体またはテトラシクロドデセン類とノルボルネン類の開環共重合体を水素添加反応させて得られた重合体を構成成分とするポリマー、商品名としてはアートン（ＪＳＲ製）や、ゼオネックス、ゼオノア（日本ゼオン製）のシリーズから使用することができる。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。
【０１７０】
ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、垂直配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０１７１】
上記した様に、支持体となるポリマーフィルムを光学異方性層として機能させてもよい。支持体は、前記第１及び第２の光学異方性層（好ましくは第１光学異方性層）のいずれかであってもよい。ポリマーフィルムは、複屈折性を発現し得るポリマーから形成する。複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性、透明性、耐熱性に優れるものや、光弾性が小さいものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な一軸配向もしくは二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるもの好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、ポリプロピレン等のポリオレフィン、セルロースアシレート、または、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。
【０１７２】
ポリマーフィルムの光学異方性は、一軸または二軸延伸により得ることが好ましい。一軸延伸は、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸が好ましい。また、ポリマーフィルムを縦方向および横方向に延伸することにより、二軸性の光学異方性を発現させてもよい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜４００ｎｍであることが好ましく、３０〜１００ｎｍであることが最も好ましい。
【０１７３】
Ｒｔｈが負の値となる光学特性を有するポリマーフィルムは、熱収縮性のフィルムを貼り合わせて加熱しながら所定の張力を加え高分子フィルムを膜の厚さ方向に延伸する方法（特開２０００−２０６３２８号公報、特開２０００−３０４９２５号公報）や、ビニルカルバゾール系高分子を塗布して乾燥させる方法（特開２００１−０９１７４６号公報）で容易に形成できる。
【０１７４】
［偏光板］
本発明の偏光板は、本発明の光学補償フィルムと偏光膜とが貼り合わされてなる。本発明の位相差板は偏光膜の保護膜としても機能できる。前記支持体が偏光膜の保護膜として機能して、光学補償フィルム一体型偏光板として提供されるのが好ましい。また、本発明の光学補償フィルムと保護膜を有す偏光板とを貼り合わされてもよい。
【０１７５】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。従って、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して平行に吸収軸を有し、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して垂直に吸収軸を有す。
【０１７６】
偏光膜は一般に保護膜を有する。本発明において、液晶化合物からなる光学異方性層を透明支持体上に形成した場合、該透明支持体を保護膜として機能させることができる。その支持体とは別に偏光膜の保護膜を用いる場合は、保護膜として光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムやノルボルネン系ポリマーフィルムを用いることが好ましい。
【０１７７】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、前記光学補償フィルムを少なくとも有し、反射型、半透過型、透過型液晶表示装置等が含まれる。液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、および必要に応じて位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート、カラーフィルター等の部材から構成されるが、本発明においては前記光学補償フィルムを使用することを必須とする点を除いて特に制限は無い。また前記光学補償フィルムの使用位置は特に制限はなく、また、１カ所でも複数カ所でも良い。液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶性化合物、高分子液晶性化合物およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性化合物等を添加することもできる。
【０１７８】
前記液晶セルは、前記電極基板および液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていても良い。前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であっても良い。カラーフィルターを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【０１７９】
本発明の光学補償フィルム、または該光学補償フィルムを用いた楕円偏光板は、複屈折モ−ドの液晶表示装置、特にＯＣＢ方式液晶表示装置、ＨＡＮ方式液晶表示装置、およびＥＣＢ方式液晶表示装置等、光学補償フィルムが装着されないと黒／白表示が困難な液晶表示装置に好適に用いられる。
液晶表示装置の配置は、透過型の場合、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の楕円偏光板からなり、液晶セルは二枚の電極基板の間に液晶を担持している。光学補償フィルムは、液晶セルと一方の楕円偏光板との間に一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の楕円偏光板との間に二枚配置する。
【０１８０】
ＯＣＢモ−ドの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モ−ドの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モ−ドの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。ベンド配向モ−ドの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１８１】
ＨＡＮモ−ドの液晶セルは、ＯＣＢモードの液晶セルを半分にしたような棒状液晶分子が液晶セルの上部でホメオトロピック配向し、下部でホモジニアス配向しており、全体としてはハイブリット配向した配向様式であり、反射型液晶表示装置に好ましく適用される。
ＥＣＢモ−ドの液晶セルは、棒状液晶分子を液晶セルの上部と下部で実質的に同じ方向に配向させる水平配向モ−ドの液晶セルを用いた、最も古くから知られている構成の液晶表示装置である。
【０１８２】
本発明の液晶表示装置は、第１および第２の光学異方性層が積層された光学補償フィルムのレターデーションの波長分散と、液晶セルに含まれる液晶組成物の屈折率異方性（Δｎ）の波長分散が等しいことが好ましい。具体的には、光学補償フィルムのＲｅλ1／Ｒｅλ2と液晶セルの液晶組成物のΔｎλ1／Δｎλ2との比がすなわち、（Ｒｅλ1・Δｎλ2）／（Ｒｅλ2・Δｎλ1）が、０．９〜１．１であることが好ましく、０．９２〜１．０８であることがさらに好ましく、０．９４〜１．０６であることが最も好ましい。ここで、波長λ１、λ２（λ１＜λ２）は可視光領域の異なる２つの波長とする。
【実施例】
【０１８３】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１８４】
［実施例１］
＜第１の光学異方性層の作製＞
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
セルロースアセテート溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート      １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８５】
（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
マット剤溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液            １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                          ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                    １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８６】
（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
添加剤溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――
下記の光学的異方性低下剤                ４９．３質量部
下記の波長分散調整剤                      ４．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                    ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ              １２．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８７】
【化２９】
2006293275.tif 000030
【０１８８】
【化３０】
2006293275.tif 000031
【０１８９】
（セルロースアセテートフィルムＡの作製）
上記セルロースアセテート溶液Ａを９６．７質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液２．０質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ６％、０．６％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍの長尺状のセルロースアセテートフィルムＡを製造した。
エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いてセルロースアセテートフィルムＡの光学特性を測定したところ、Ｒｅ450（０）、Ｒｅ550（０）、Ｒｅ630（０）はそれぞれ、−２ｎｍ、０ｎｍ、１ｎｍであり、厚み方向のレターデーションＲｔｈ550は−１ｎｍであった。
作製したセルロースアセテートフィルムＡを、第1の光学異方性層として用いた。
【０１９０】
＜光学補償フィルム１の作製＞
（フィルム表面の鹸化処理）
セルロースアセテートフィルムＡの上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液をロッドコーターを用いて塗布量１５ｃｃ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に１５秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｃｃ／ｍ２塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。
アルカリ溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム                                    ８．５５質量％
水                                            ２３．２３５質量％
イソプロパノール                                ５４．２０質量％
界面活性剤（Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2０Ｈ）         １．０質量％
プロピレングリコール                              １３．０質量％
消泡剤サーフィノールＤＦ１１０Ｄ（日信化学工業（株）製）
０．０１５質量％
――――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜の形成）
セルロースアセテートフィルムＡの鹸化処理した表面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、形成した膜にセルロースアセテートフィルムＡの長手方向と平行にラビング処理を施した。
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール      １０質量部
水                                ３７１質量部
メタノール                        １１９質量部
グルタルアルデヒド                ０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――
【０１９１】
【化３１】
2006293275.tif 000032
【０１９２】
（第２の光学異方性層の作製）
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液を上記作製した配向膜上に＃３．６のワイヤーバーで塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し第２の光学異方性層を形成し、光学補償フィルム１を作製した。
第２の光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶性化合物（１）              ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記のフッ素系ポリマー（Ａ）                        ０．４質量部
下記のピリジニム塩（Ｂ）                            ０．５質量部
メタノール                                            ３０質量部
メチルエチルケトン                                  １６５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９３】
【化３２】
2006293275.tif 000033
【０１９４】
【化３３】
2006293275.tif 000034
【０１９５】
【化３４】
2006293275.tif 000035
【０１９６】
上記セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、光学的に等方性のガラス板を基板として用いて、上記と同様にして、配向膜を形成し、ラビング処理を施した。ディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層を形成し、第２の光学異方性層のみからなるフィルムを作製した。
【０１９７】
上記作製した光学補償フィルム１および第２の光学異方性層のみからなるフィルムのレターデーションを測定した（表１）。これらの結果から、第１および第２の光学異方性層の積層体の面内レターデーションの波長分散は、第２の光学異方性層単独の波長分散よりも小さく、かつ、斜め方向のレターデーションは、積層体と第２の光学異方性層単独とは実質的に等しいことが確認できた。また、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であった。
【０１９８】
［実施例２］
＜光学補償フィルム２の作製＞
上記実施例１と同様にして、セルロースアセテートフィルムＡを作製した。その表面をケン化処理し、配向膜を形成し、長手方向と平行にラビング処理を施した。その配向膜上に、下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃２．０のワイヤーバーで塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及び棒状液晶化合物の配向熟成のために、９０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し第２の光学異方性層を形成し、光学補償フィルム２を作製した。
第２の光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物                              １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記のフッ素系ポリマー（Ｆ）                        ０．４質量部
下記の水平配向剤（Ｇ）                              ０．２質量部
メチルエチルケトン                                  １９４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９９】
【化３５】
2006293275.tif 000036
【０２００】
【化３６】
2006293275.tif 000037
【０２０１】
【化３７】
2006293275.tif 000038
【０２０２】
上記セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、光学的に等方性のガラス板を基板として用いて、上記と同様にして、配向膜を形成し、ラビング処理を施した。棒状液晶化合物を含む光学異方性層を形成し、第２の光学異方性層のみからなるフィルムを作製した。
【０２０３】
実施例１と同様に、光学補償フィルム２および第２の光学異方性層のみからなるフィルムのレターデーションを測定した（表１）。これらの結果から、第１および第２の光学異方性層の積層体の面内レターデーションの波長分散は、第２の光学異方性層単独の波長分散よりも小さく、かつ、斜め方向のレターデーションは、積層体と第２の光学異方性層単独とは実質的に等しいことが確認できた。また、棒状液晶分子の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、棒状液晶がフィルム面に対して水平に配向していることが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であった。
【０２０４】
［実施例３］
＜光学補償フィルム３の作製＞
上記実施例１と同様にして、セルロースアセテートフィルムＡを作製した。その表面をケン化処理し、配向膜を形成し、長手方向と直交にラビング処理を施した。その配向膜上に、下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃３．２のワイヤーバーで塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で１２０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し第２の光学異方性層を形成し、光学補償フィルム３を作製した。
第２の光学異方性層塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記のディスコティック液晶性化合物（１）                ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）    ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）          １質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）            １質量部
上記のフッ素系ポリマー（Ｆ）                          ０．４質量部
メチルエチルケトン                                    ２０４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０５】
上記セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、光学的に等方性のガラス板を基板として用いて、上記と同様にして、配向膜を形成し、ラビング処理を施した。ディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層を形成し、第２の光学異方性層のみからなるフィルムを作製した。
【０２０６】
上記実施例１と同様に、光学補償フィルム３および第２の光学異方性層のみからなるフィルムのレターデーションを測定した（表１）。これらの結果から、第１および第２の光学異方性層の積層体の面内レターデーションの波長分散は、第２の光学異方性層単独の波長分散よりも小さく、かつ、斜め方向のレターデーションは、積層体と第２の光学異方性層単独とは実質的に等しいことが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と直交していた。
【０２０７】
［実施例４］
＜第３の光学異方性層の作製＞
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｂを調製した。
セルロースアセテート溶液Ｂの組成
───────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                  １００質量部
トリフェニルフォスフェート                              ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                        ３．９質量部
メチレンクロライド                                      ３００質量部
メタノール                                                ４５質量部
───────────────────────────────────
【０２０８】
別のミキシングタンクに、酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）４質量部、下記のレターデーション上昇剤２５質量部、シリカ微粒子（平均粒径：２０ｎｍ）０．５質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
【０２０９】
【化３８】
2006293275.tif 000039
【０２１０】
（セルロースアセテートフィルムＢの作製）
セルロースアセテート溶液４７０質量部に、レターデーション上昇剤溶液１８．５質量部を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は３．５％であった。残留溶剤量が３５質量％のフィルムをバンドから剥離した後、１４０℃の温度で、フィルムのテンターを用いて３８％の延伸倍率で横延伸した後、クリップを外して１３０℃で４５秒間乾燥させセルロースアセテートフィルムＢを製造した。製造されたフィルムの残留溶剤量は０．２質量％であり、膜厚は８８μｍであった。
上記実施例１と同様にして、作製したセルロースアセテートフィルムＢの光学特性を測定したところ、Ｒｅ550（０）は３６ｎｍであり、Ｒｔｈ550は１７５ｎｍであった。また、面内の遅相軸方向はフィルム長手方向と直交していた。
【０２１１】
＜第２の光学異方性層の形成＞
上記作製したセルロースアセテートフィルムＢの表面をケン化処理し、配向膜を形成し、長手方向と４５°の方向にラビング処理を施した。その配向膜上に、実施例３と同様にディスコティック液晶化合物を含む第２の光学異方性層を形成した。
＜光学補償フィルム４の作製＞
上記第２の光学異方性層の上に実施例１のセルロースアセテートフィルムＡを貼りあわせて光学補償フィルム４とした。このとき、第２の光学異方性層の面内の遅相軸の方向とセルロースアセテートフィルムＡの長手方向は平行となるように貼り合わせた。
【０２１２】
［実施例５］
＜第３の光学異方性層の作製＞
（セルロースアセテートフィルムＣの作製）
実施例４と同様にして、セルロースアセテート溶液とレターデーション上昇剤溶液を混合し、ドープを調製した。得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムを作製した。
このフィルムの両面に、一軸延伸ポリエステルフィルム製の熱収縮性フィルムをその遅相軸が直交するようにアクリル系粘着層を介して接着し、これを１６０℃に加熱して熱収縮性フィルムを収縮させながら延伸装置を用いて、幅方向の長さを収縮前の８８％にした後、熱収縮性のフィルムを剥がして、厚さ９０μｍのセルロースアセテートフィルムＣを得た。上記実施例１と同様にして、作製したセルロースアセテートフィルムＣの光学特性を測定したところ、Ｒｅ550（０）は１０５ｎｍであり、Ｒｔｈ550は２ｎｍであった。また、セルロースアセテートフィルムＣの面内の遅相軸方向はフィルム長手方向と平行であった。
【０２１３】
＜第２の光学異方性層の形成＞
上記作製したセルロースアセテートフィルムＣの表面をケン化処理し、配向膜を形成し、長手方向と４５°の方向にラビング処理を施した。その配向膜上に、実施例３のディスコティック液晶化合物を含む第２の光学異方性層を形成において、＃３．６のワイヤーバーを用いる以外は同様にして、セルロースアセテートフィルムＣ２の上に第２の光学異方性層を形成した。
【０２１４】
＜光学補償フィルム５の作製＞
上記第２の光学異方性層の上に実施例１のセルロースアセテートフィルムＡを貼り合わせて光学補償フィルム５とした。このとき、第２の光学異方性層の面内の遅相軸の方向とセルロースアセテートフィルムＡの長手方向は平行となるように貼り合わせた。
【０２１５】
［比較例］
＜光学補償フィルム１’の作製＞
上記実施例１において、セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を支持体（第１の光学異方性層）として用いる以外は光学補償フィルム１と同様にして、ディスコティック液晶化合物を含む第２の光学異方性層を形成し、光学補償フィルム１’を作製した。また、使用した市販のセルローストリアセテートフィルムの光学特性を測定したところ、Ｒｅ450（０）、Ｒｅ550（０）、Ｒｅ630（０）はそれぞれ、−１ｎｍ、２ｎｍ、４ｎｍであり、厚み方向のレターデーションＲｔｈ550は４０ｎｍであった。
＜光学補償フィルム２’の作製＞
上記実施例２において、セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を支持体（第１の光学異方性層）として用いた以外は光学補償フィルム２と同様にして、棒状液晶化合物を含む第２の光学異方性層を形成し、光学補償フィルム２’を作製した。
【０２１６】
＜光学補償フィルム３’の作製＞
上記実施例３において、セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を支持体（第１の光学異方性層）として用いた以外は光学補償フィルム３と同様にして、ディスコティック液晶化合物を含む第２の光学異方性層を形成し、光学補償フィルム３’を作製した。
＜光学補償フィルム４’の作製＞
上記実施例４において、セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を第１の光学異方性層として貼り合せた以外は光学補償フィルム４と同様にして、光学補償フィルム４’を作製した。
＜光学補償フィルム４”の作製＞
上記実施例４において、セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、市販のノルボルネン系ポリマーフィルム（ゼオノアＺＦ１４、日本ゼオン（株）製）を第１の光学異方性層として貼り合せた以外は光学補償フィルム４と同様にして、光学補償フィルム４”を作製した。また、使用した市販のノルボルネン系ポリマーフィルムの光学特性を測定したところ、Ｒｅ450（０）、Ｒｅ550（０）、Ｒｅ630（０）はそれぞれ、２ｎｍ、２ｎｍ、２ｎｍであり、厚み方向のレターデーションＲｔｈ550は５ｎｍであった。
【０２１７】
＜光学補償フィルム５’の作製＞
上記実施例５において、セルロースアセテートフィルムＡの代わりに、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を第１の光学異方性層として貼り合せた以外は光学補償フィルム５と同様にして、光学補償フィルム５’を作製した。
【０２１８】
表１に示すように、本発明の光学補償フィルム１〜４は、第１の光学異方性層を積層することにより、斜め±４０°から測定したレターデーションにほとんど影響を与えずに、面内レターデーションの波長分散を小さくできた。それに対し、比較例の光学補償フィルム１’〜４’は、面内レターデーションの波長分散は小さくなったが、斜め±４０°から測定したレターデーションが大きくずれてしまった。
【０２１９】
［実施例６］
＜楕円偏光板１の作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルム４の第２の光学異方性層が形成されていない面を、他方の面にセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ、楕円偏光板１を作製した。このとき、偏光膜の吸収軸方向と光学補償フィルム４に含まれる第３の光学異方性層（セルロースアセテートフィルムＢ）の遅相軸方向は直交するように貼り合わせた。
【０２２０】
［比較例］
＜楕円偏光板１’、１”の作製＞
光学補償フィルム４の代わりに、光学補償フィルム４’または４”を用いる以外は上記楕円偏光板１と同様にして、それぞれ楕円偏光板１’または１”を作製した。
【０２２１】
［実施例７］
＜液晶表示装置の作製＞
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを４．１μｍに設定した。セルギャップにΔｎ550が０．１３９６であり、Δｎ450／Δｎ630が１．１４である液晶性化合物を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
作製したベンド配向セルを挟むように、上記楕円偏光板１を二枚貼り合わせた。このとき、第１の光学異方性層が液晶セル基板に対面するようにし（偏光膜が液晶セル基板に最も遠くなるようにし）、液晶セルのラビング方向とそれに対抗する第２の光学異方性層のラビング方向とが反平行になるように配置した。
【０２２２】
同様にして、比較例の楕円偏光板１’または１”を貼り合わせた液晶表示装置を作製した。
【０２２３】
作製した液晶表示装置をバックライト上に配置し、ベンド配向液晶セルに５５Ｈｚ矩形波で電圧を印加した。電圧を調整しながら輝度計（ＴＯＰＣＯＮ製ＢＭ−５）を用い、黒輝度（正面輝度）が最も小さくなる電圧を判定した。続いて、ＴＯＰＣＯＮ製ＢＭ−５またはＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄを用いて、正面のコントラストや色味、それらの視野角依存性を調べた。
【０２２４】
楕円偏光板１を有す液晶表示装置は正面方向で良好な黒表示が得られ、さらに、斜め方向での光漏れも小さかった。楕円偏光板１を使用した場合に比べ、楕円偏光板１’を有す液晶表示装置は黒表示時の斜め方向の光漏れが大きかった。また、楕円偏光板１”を有す液晶表示装置は黒表示時の正面方向の色味が青味を帯びていた。
【０２２５】
［実施例８］
＜楕円偏光板２の作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルム５の第２の光学異方性層が形成されていない面を、他方の面にセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ、楕円偏光板２を作製した。このとき、偏光膜の吸収軸方向と光学補償フィルム５に含まれる第３の光学異方性層（セルロースアセテートフィルムＣ）の遅相軸方向は平行になるように貼り合わせた。
【０２２６】
［比較例］
＜楕円偏光板２’の作製＞
光学補償フィルム５の代わりに、光学補償フィルム５’を用いる以外は上記
楕円偏光板２と同様にして、それぞれ楕円偏光板２’を作製した。
【０２２７】
［実施例９］
＜液晶表示装置の作製＞
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が反平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを２．８μｍに設定した。セルギャップにΔｎ550が０．１３９６であり、Δｎ450／Δｎ630が１．１４である液晶性化合物を注入し、ＥＣＢセルを作製した。
作製したＥＣＢセルを挟むように、上記楕円偏光板２を二枚貼り合わせた。このとき、第１の光学異方性層が液晶セル基板に対面するようにし（偏光膜が液晶セル基板に最も遠くなるようにし）、液晶セルのラビング方向とそれに対向する第２の光学異方性層のラビング方向とが反平行になるように配置した。
【０２２８】
同様にして、比較例の楕円偏光板２’を貼り合わせた液晶表示装置を作製した。
【０２２９】
作製した液晶表示装置をバックライト上に配置し、ＥＣＢセルに５５Ｈｚ矩形波で電圧を印加した。電圧を調整しながら輝度計（ＴＯＰＣＯＮ製ＢＭ−５）を用い、黒輝度（正面輝度）が最も小さくなる電圧を判定した。続いて、ＴＯＰＣＯＮ製ＢＭ−５またはＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄを用いて、正面のコントラストや色味、それらの視野角依存性を調べた。
【０２３０】
楕円偏光板２を有す液晶表示装置は正面方向で良好な黒表示が得られ、さらに、斜め方向での光漏れも小さかった。一方、楕円偏光板２’を有す液晶表示装置は黒表示時の正面方向の色味が青味を帯びていた。
【０２３１】
【表１】
2006293275.tif 000040