(57)【要約】【課題】  原反とした際に互に貼り付くことを防止した光学積層体を提供すること。【解決手段】  光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成された一種または二種以上の光学特性層とを備えてなる光学積層体であって、前記光学特性層が形成された前記光透過性基材の表面と反対の面に、有機溶剤により凹凸形状が形成されてなり、前記凹凸形状の存在により、前記光学積層体をロール状に巻き取った際に前記光学積層体同士が互いに貼り付くのを抑制したものにより達成される。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成された一種または二種以上の光学特性層とを備えてなる光学積層体であって、
前記光学特性層が形成された前記光透過性基材の表面と反対の面に、有機溶剤により凹凸形状が形成されてなり、
前記凹凸形状の存在により、前記光学積層体をロール状に巻き取った際に前記光学積層体同士が互いに貼り付くのを抑制した、光学積層体。
【請求項２】
前記凹凸形状の平均粗さＲｚが０．３μｍ以上１０μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記光透過性基材が、熱可塑性樹脂により形成されてなる、請求項１または２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記有機溶剤が、前記光透過性基材に対して浸透性を有するものである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記光学特性層が、ハードコート層、帯電防止層、防眩性層、屈折率層からなる群から選択される一種または二種以上のものである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体の上に、積層体。
【請求項６】
光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成された一種または二種以上の光学特性層とを備えてなる光学積層体をロール状にした原反であって、
前記光学特性層が形成された前記光透過性基材の表面と反対の面に、有機溶剤により凹凸形状が形成されてなり、
前記凹凸形状の存在により、前記光学積層体をロール状に巻き取った際に、前記光学積層体同士が互いに貼り付くのを抑制した、原反。
【請求項７】
光学積層体をロール状にした原反を製造する装置であって、
光透過性基材を導入する部位と、
前記光透過性基材の表面に光学特性層用組成物を塗布して光学積層体を形成する部位と、
前記光学特性層が形成された前記光透過性基材の表面と反対の面に、有機溶剤により凹凸形状を形成する部位と、
前記光学積層体をロール状に巻き取る部位とを備えてなり、
前記凹凸形状の存在により、前記光学積層体をロール状に巻き取った際に、前記光学積層体同士が互いに貼り付くのを抑制した、装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネル等のディスプレイに用いられる光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学積層体は、光透過性基材の表面に光学特性層、例えば、ハードコート層、帯電防止層、防眩層等が積層されて製造されてなる。製造された光学積層体はロール状に巻き取られて原反とされ、他の光学特性層の形成または最終製品であるディスプレイ用製品として利用される。
【０００３】
しかしながら、光学積層体がロール状の原反とされた場合、光学積層体同士が密着し貼り付いた状態となり剥がれ難くなることがしばしば見受けられた。このため、次工程における処理または最終製品として利用する際に、取り扱いが不便なことがあった。
【０００４】
このような問題に対して、従来より、多くの提案が成されている。例えば、光学積層体の巻き取りの際に、中間紙、サイドテープを挟む方法、または粉体、滑剤等を施す方法等が挙げられるが、次工程においてこれらを排除しなければならず経済的ではなく、また取り扱い上不便である。また、光透過性基材の裏面に凹凸形状を形成する方法が多く提案されている。例えば、光透過性基材ないに微細粒子を添加して凹凸形状を形成する方法が提案されている。しかしながら、この方法では光学積層体の光学特性を変更する恐れがある。他方、押し出し法、カレンダ法において光透過性基材の裏面に凹凸形状を形成させる方法等が提案されているが、キャスト法では光透過性積層体の表面に凹凸形状を形成することは殆ど不可能である。
【０００５】
従って、光透過性積層体に光学特性層を形成させた積層体にあっては、この積層体をロール状に形成した際に生じる光学積層体同士の貼り付きを抑制することが急務とされている。
【発明の概要】
【０００６】
本発明者等は、本発明時において、光学特性層が形成された光透過性基材の表面と反対の面に、有機溶剤により凹凸形状を形成することにより、光学積層体をロール状に巻き取った際に生じる光学積層体同士の貼り付き有効に防止し、次工程での処理または最終製品としての使用時において容易に剥離することができるとの知見を得た。本発明はかかる知見によるものである。
従って、本発明は光学積層体同士の貼り付きを有効に抑制し、次工程等における作業性を向上させることができる光学積層体の提供を目的とする。
よって、本発明による光学積層体は、光透過性基材の上に形成された一種または二種以上の光学特性層とを備えてなるものであって、
前記光学特性層が形成された前記光透過性基材の表面と反対の面に、有機溶剤により凹凸形状が形成されてなり、
前記凹凸形状の存在により、前記光学積層体をロール状に巻き取った際に前記光学積層体同士が互いに貼り付くのを抑制したものである。
【０００７】
本発明の別の態様による原反は、光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成された一種または二種以上の光学特性層とを備えてなる光学積層体をロール状にしたものであって、
前記光学特性層が形成された前記光透過性基材の表面と反対の面に、有機溶剤により凹凸形状が形成されてなり、
前記凹凸形状の存在により、前記光学積層体をロール状に巻き取った際に、前記光学積層体同士が互いに貼り付くのを抑制したものである。
【０００８】
本発明のさらに別の態様による原反を製造する装置は、光学積層体をロール状にした原反を製造するものであって、
光透過性基材を導入する部位と、
前記光透過性基材の表面に光学特性層用組成物を塗布し光学積層体を形成する部位と、
前記光学特性層が形成された前記光透過性基材の表面と反対の面に、有機溶剤により凹凸形状を形成する部位と、
前記積層体をロール状に巻き取る部位とを備えてなり、
前記凹凸形状の存在により、前記光学積層体をロール状に巻き取った際に、前記光学積層体同士が互いに貼り付くのを抑制したものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
１．光学積層体
本発明による積層体を図１を用いて説明する。図１は本発明による積層体の概略図である。本発明による積層体１は光透過性基材２の表面に光学特性層５が積層されている。光透過性基材２の裏面には、有機溶剤が施されることにより、その表面が粗されて凹凸形状４が形成されていることが理解される。
【００１０】
１）光透過性基材
光透過性基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル、セルローストリアセテートが挙げられる。
光透過性基材は  上記材料をキャスト法または延伸法等によって製造されて良い。
【００１１】
光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは上限が２００μｍ以下であり、下限が３０μｍ以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもい。また、光透過性基材は、その上に光学特性層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。
【００１２】
凹凸形状の形成
光学特性層が形成される光透過性基材の表面とは反対の裏面に、有機溶剤により凹凸形状を形成する。この凹凸形状の存在により、製造された積層体をロール状に巻き取った際に積層体同士が互いに貼り付くのを有効に抑制することができる。ここで、「抑制」とは、積層体同士が互いに貼り付くこと、密着すること、および付着すること等が起きないこと、またこれらを予防し、低減し、排除すること等の全てを意味する。
【００１３】
凹凸形状を形成する際に有機溶剤が利用される。有機溶剤は光透過性基材に対して凹凸形状を形成しやすいものを適宜選択して利用することができる。好ましくは、光透過性基材の光学特性に影響を及ぼさないものが好ましく、より好ましくは光透過性基材に対して浸透性を有し、かつ、揮発性に富むものが好ましい。有機溶剤を光透過性基材に施す方法としては、塗布、液滴付着等の慣用手法を用いることができる。
【００１４】
凹凸形状の平均粗さＲｚ（十点平均粗さ）が０．３μｍ超過、好ましくは０．５μｍ  以上、下限値が１０μｍ以下である。
【００１５】
有機溶剤
本発明においては、光透過性基材の材質に合わせて適宜選択することができる。本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材がセルローストリアセテートの場合、有機溶剤がシクロヘキサノンであることが好ましい。
【００１６】
２）光学特性層
光学特性層は、ハードコート層、帯電防止層、防眩性層、屈折率層からなる群から選択される一種または二種以上のものである。
ハードコート層
「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と溶剤と任意成分とにより形成されてよい。
【００１７】
樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げら、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【００１８】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１９】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
【００２０】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
【００２１】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
【００２２】
溶剤
ハードコート層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合したハードコート層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
任意成分
【００２３】
１）重合開始剤
ハードコート層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア１８４（チバスペシャリティーケミカルズ社製）が挙げれられる。ハードコート層は、帯電防止剤（導電剤）および／または防眩性剤を含んでなるものであってもよい。帯電防止剤、防眩性剤は後記するものと同様であってよい。
【００２４】
２）帯電防止剤および／または防眩剤
ハードコート層は、帯電防止剤および／または防眩剤を含んでなるものが好ましい。帯電防止剤と防眩剤とは、後記する帯電防止層と防眩層で説明するのと同様であってよい。
【００２５】
ハードコート層の形成
ハードコート層は、上記した樹脂と溶剤と任意成分とを混合して得た組成物を光透過性基材に塗布することにより形成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、上記の液体組成物に、フッ素系またはシリコーン系などのレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した液体組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。
【００２６】
組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。液体組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００２７】
帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂と溶剤とを含んでなるものである。溶剤はハードコート層で説明したのと同様であって良い。帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１μｍ程度であることが好ましい。
【００２８】
帯電防止剤（導電剤）
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【００２９】
また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。
【００３０】
樹脂
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物を含む）を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、より好ましくは、電離放射線硬化性樹脂または電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
【００３１】
電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものである。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。
【００３２】
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。
【００３３】
電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等を挙げることができる。
【００３４】
通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若しくは２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好ましい。
【００３５】
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
【００３６】
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。
【００３７】
電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。
【００３８】
電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。
有機ケイ素化合物の１は、一般式ＲｍＳｉ（ＯＲ'）ｎで表せるもので、ＲおよびＲ'は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＯＲ'の添え字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。
【００３９】
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００４０】
電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
【００４１】
帯電防止層の形成
帯電防止層として塗膜を形成するには、帯電防止剤と、樹脂と、溶剤とを混合した組成物を、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法により塗布する。次に、この液体組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。
電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。帯電防止層の形成にあっては、帯電防止層の表面抵抗値が、５×１０７Ω／□以下となるよう行うことが好ましい。
【００４２】
防眩層
防眩層は、透過性基材とハードコート層または低屈折率層との間に形成されてよい。防眩層は防眩剤と樹脂と溶剤とにより形成されてよく、樹脂と溶剤とは、ハードコート層の項で説明したのと同様であってよい。
【００４３】
本発明の好ましい態様によれば、防眩層は微粒子の平均粒径をＲ（μｍ）とし、防眩層凹凸の凸部分の鉛直方向での基材面からの距離の最大値をＨｍａｘ（μｍ）とし、防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍ（μｍ）とし、凹凸部の平均傾斜角をθａとした場合に、下記式：
８Ｒ≦Ｓｍ≦３０Ｒ
Ｒ＜Ｈｍａｘ＜３Ｒ
１．３≦θａ≦２．５
１≦Ｒ≦８
全てを同時に満たすものが好ましい。
【００４４】
また、本発明の別の好ましい様態によれば、微粒子と透明樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、ｎ１、ｎ２とした場合に、△ｎ＝│ｎ１−ｎ２│＜０．１を満たすものであり、かつ、防眩層内部のヘイズ値が５５％以下である防眩層が好ましい。
【００４５】
防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物１００重量部に対し、２〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部程度である。
【００４６】
防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が０．５μｍ以下、好ましくは０．１〜０．２５μｍ程度のシリカビーズが挙げられる。
【００４７】
防眩層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
【００４８】
低屈折率層
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が１．４６以下の、やはり３０ｎｍ〜１μｍ程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
【００４９】
低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも質量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層を形成する。
【００５０】
低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、好ましくは４０〜８０％、特に好ましくは４０〜７０％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％、好ましくは１０〜５０％、特に好ましくは１５〜４５％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０％、好ましくは０〜３５％、特に好ましくは１０〜３０％含有するものであってもよい。
【００５１】
上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０％以下、好ましくは１０％以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。
【００５２】
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。
【００５３】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００、特に１０，０００〜１００，０００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。
【００５４】
このほか、低屈折率層は、ＳｉＯ２からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により、またはＳｉＯ２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ２ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、ＳｉＯ２以外にも、ＭｇＦ２の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ２薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。
【００５５】
２．光学積層体の製造方法
各層用組成物の調整
帯電防止層、薄層、ハードコート層等用の各組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。
【００５６】
塗工
光透過性基材表面、帯電防止層の表面への各液体組成物の塗布法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
【００５７】
硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。
【００５８】
３．光学積層体の用途
本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体として利用される。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、液晶パネルなどのディスプレイの表面に用いられる。
【００５９】
原反の製造方法および製造方法
本発明による積層体の原反およびその製造装置（方法）について図２を用いて説明する。図２は、本発明による積層体の原反を製造する装置の概略図を示す。光透過性基材がロールされた原反１１から光透過性基材がロール１２により導入され、光学特性層形成用塗工液が収納された塗工器１７に搬送される。この塗工機１７において、光塗工性基材の表面に光学特性層が一又は二以上塗工される。その後、光透過性基材は、この光透過性基材の裏面の下方部に有機溶剤が収納された塗工器１８に搬送される。塗工器１８に搬入された光透過性基材は有機溶剤が塗布されて、その裏面が粗されて凹凸形状が形成される。この処理後、光透過性基材はその後、必要に応じて、乾燥等がなされて、ロール１９により巻き取られて、本発明による積層体の原反２１が製造される。なお、本発明の装置にあっては、有機溶剤処理と光学特性層の形成順序は適宜変更して行ってよい。
【実施例】
【００６０】
実施例
本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の内容は実施例により限定して解釈されるものではない。
ハードコート層用組成物の調製
大日精化（株）製：ＥＸＧ４０−７７（Ｓ−２）   ：１０．０ｇ                   
トルエン                                       ：５．０ｇ
（固形分４０％）
【００６１】
光学積層体の調製
実施例１
富士写真フィルム株式会社製ＴＡＣフィルムＴ８０ＵＺに、上記ハードコート層用組成物をバーコーター♯１６にて塗工（塗布量８ｇ）し、７０℃、１分間乾燥させ、ＵＶ照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製）のＨバルブを光源に用いて硬化し（積算光量７０ｍｊ）、膜厚約５．０μｍのハードコート層を形成した光学積層体を調製した。その後、光学積層体の表面に形成されたハードコート層の表面とは反対側の裏面に有機溶媒としてシクロヘキサノンをバーコーター♯８で塗工し、７０℃、３分間乾燥させた。
実施例２
５０℃、３分間乾燥した以外は実施例１と同様にして光学積層体を調製した。
比較例１
有機溶剤による処理を行わなかった以外は実施例１と同様にして光学積層体を調製した。
比較例２
有機溶剤としてトルエンを使用した以外は実施例１と同様にして光学積層体を調製した。
【００６２】
評価試験
実施例と比較例で調製した光学積層体について、下記の評価試験を行った。その結果は下記表１に記載した通りであった。
試験１：凹凸形状の平均粗さＲｚ測定
光学積層体のＲｚ（１０点平均粗さ）は、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に基づいた測定値した。
【００６３】
試験２：剥離性評価試験
実施例１、比較例１〜３で調製した積層体をそれぞれ二枚用意し、それぞれの表面と裏面とを重ね合わせて試験片とした。土台の上に試験片を置き、その上から１００ｇ／ｃｍ２の加重を掛けて、４０℃で１２時間放置した。その後、下記基準によって評価した。
評価基準
評価◎：二枚の積層体は張り付かず、容易に剥離した。積層体に変性は見られなかった。
評価○：二枚の積層体は若干張り付いたが、剥離した。積層体に変性は見られなかった。
評価×：二枚の積層体は張り付き、剥離するのが困難だった。積層体に変性が見られた。
【００６４】
表１
評価１        評価２      
実施例１        ０．５       ◎
実施例２        ０．３       ○
比較例１        ０．２       ×      
比較例２        ０．２       ×            
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】図１は、本発明による積層体の一態様を示す概略図である。
【図２】図２は、本発明による積層体の原反を製造する装置の概略図である。
【図１】
2006095872.tif 000002
【図２】
2006095872.tif 000003