(57)【要約】【課題】  入射する光を反射する研磨面を有してなる薄板状弾性部を、上記研磨面とは反対側にて起歪素子によりその起歪作用のもとに変形させる構成のもと、上記研磨面で反射した光をその反射方向に円滑に進行させるようにした光反射装置、波面曲率変調装置及び走査型表示装置を提供する。【解決手段】  シリコン基板からなる基板１０は凹所１２を備えており、この凹所１２は基板１０にその裏面１３側からエッチングにより形成されている。これに伴い、基板１０には、変形可能な薄板状弾性部１４が表面１１と凹所１２の底面１２ａとの間に形成されている。起歪素子２０は基板１０の凹所１２内にてその底面１２ａに設けられており、この起歪素子２０は、その起歪作用により、基板１０を薄板状弾性部１４にて湾曲変形させる。この湾曲変形のもと、薄板状弾性部１４の表面である研磨面に入射する画像光は当該研磨面にて反射される。  【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性材料からなる板状弾性部及びこの板状弾性部を支持する支持部を有する基体と、起歪素子とを備えて、
前記板状弾性部は、その両面の一方の面の少なくとも一部にて鏡面を構成しており、
前記支持部は、前記板状弾性部にその他方の面側にて凹所を形成するように設けられて前記板状弾性部を支持しており、
前記起歪素子は、前記凹所内にて前記板状弾性部の前記他方の面に当該板状弾性部を変形可能に設けられている光反射素子。
【請求項２】
前記基体に前記他方の面から前記起歪素子に対向するように設けられて前記基体を支持する支持部材を備えることを特徴とする請求項１に記載の光反射素子。
【請求項３】
前記板状弾性部の前記鏡面は、当該板状弾性部の前記一方の面を研磨面とし、この研磨面に反射膜を薄膜状にコーティングすることで形成されていることを特徴とする請求項１或いは２に記載の光反射素子。
【請求項４】
前記支持部も、弾性材料でもって形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の光反射素子。
【請求項５】
前記基体は、シリコン基板であって、
このシリコン基板には、前記凹所が、前記板状弾性部及び前記支持部を形成するようにエッチングにより形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の光反射素子。
【請求項６】
前記起歪素子は、前記板状弾性部の前記他方の面に放射状に設けた起歪素子であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の光反射素子。
【請求項７】
前記起歪素子は、前記板状弾性部の前記他方の面に、所定間隔をおいて互いに対向して２つ設けられて、互いに同相で駆動されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の光反射素子。
【請求項８】
前記板状弾性部のうち前記２つの起歪素子の間の前記所定間隔の領域に対する対応部位は、高剛性材料でもって形成されていることを特徴とする請求項７に記載の光反射素子。
【請求項９】
前記板状弾性部の前記他方の面のうち前記２つの起歪素子の間の前記所定間隔の領域に対する対応面部位には、高剛性部材が設けられていることを特徴とする請求項７に記載の光反射素子。
【請求項１０】
請求項１〜５、７〜９のいずれか１つに記載の光反射素子からなる第１及び第２の光反射素子、反射板及び光学系を備えて、
前記第２光反射素子は、その起歪素子の起歪方向にて、前記第１光反射素子の起歪方向とは異なるように同一の設置面上に、当該第１光反射素子とは離れて配設されており、
前記光学系は、収束光を前記第１光反射素子の鏡面に入射させて当該鏡面により前記第２光反射素子側へ反射させるように配設されており、
前記反射板は、前記第１光反射素子の鏡面により反射された前記収束光を前記第２光反射素子の鏡面に向け反射するように、前記第１及び第２の各光反射素子の各鏡面の上方に配設されており、
前記第２光反射素子は、その鏡面により、前記反射板により反射された収束光を反射するようにした光反射装置。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１つに記載の光反射素子と、
収束光を前記光反射素子の板状弾性部の鏡面上に入射させるように当該鏡面に対向して支持されるレンズ光学系と、
前記光反射素子の起歪素子の起歪方向を制御する制御手段とを備えて、
前記板状弾性部は、前記鏡面により、その入射収束光の波面曲率を変調して前記レンズ光学系に向けて反射するように、前記起歪素子の制御起歪方向に基づき変形する波面曲率変調装置。
【請求項１２】
画像を画像光でもって出射する画像光出射手段と、
この画像光出射手段からの出射画像光を入射されて２次元的に走査する走査手段と、
前記画像光出射手段と前記走査手段との間の光路中に配置される請求項１１に記載の波面曲率変調装置とを備えて、
この波面曲率変調装置は、前記画像光出射手段から出射される前記画像光の波面曲率を変調して、波面曲率変調光を前記出射画像光として前記走査手段に入射するようにした光走査型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光反射素子、光反射装置、波面曲率変調装置及び光走査型表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光反射素子としては、例えば、下記特許文献１に記載の可変光学面ユニットが挙げられる。この可変光学面ユニットは、枠状のフレームと、このフレームの内周部に設けた弾性変形可能な基板と、この基板の表面に入射光を反射するように形成した金属薄膜からなる光学面と、上記基板の裏面に設けた起歪素子とを備えている。
【特許文献１】特開平７−３０６３６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上記可変光学面ユニットにおいては、光学面が枠状のフレームの内周部側に位置するため、光学面に入射した光が当該光学面により反射されても、その反射方向によっては、フレームにより邪魔されて反射方向には円滑には進行できないという不具合が生ずる。
【０００４】
そこで、本発明は、以上のようなことに対処するため、入射光を反射する鏡面を有する板状弾性部を、上記鏡面とは反対側から起歪素子によりその起歪作用でもって変形させる構成のもと、上記鏡面で反射した光をその反射方向に円滑に進行させるようにした光反射素子、光反射装置、波面曲率変調装置及び光走査型表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題の解決にあたり、本発明に係る光反射素子は、請求項１の記載によれば、
弾性材料からなる板状弾性部（１４、７１、１０４）及びこの板状弾性部を支持する支持部（１５、７２、１０５）を有する基体（１０、７０、１００）と、起歪素子（２０、５０、１１０）とを備える。
【０００６】
ここで、板状弾性部は、その両面の一方の面（１１、７１ａ、１０１）の少なくとも一部にて鏡面を構成しており、
支持部は、板状弾性部にその他方の面（１２ａ、７１ｂ、１０２ａ）側にて凹所（１２、１０２）を形成するように設けられて板状弾性部を支持しており、
起歪素子は、上記凹所内にて板状弾性部の上記他方の面に当該板状弾性部を変形可能に設けられている。
【０００７】
これによれば、起歪素子がその起歪作用により基体の板状弾性部を変形させると、板状弾性部の一方の面である鏡面に入射する光は、当該板状弾性部によりその変形に応じた方向に反射され得る。
【０００８】
ここで、起歪素子が基体の凹所内に設けられているため、基体は、その鏡面側において何ら光の進行を妨げる構成部材を有していないこととなる。従って、板状弾性部により鏡面で反射される光のすべてが、何ら邪魔されることなく、そのまま円滑に進行し得る。また、当該鏡面は良好な反射面であるから、板状弾性部に入射する光の光量は減少することなく当該光は鏡面により効率よく反射され得る。
【０００９】
また、本発明は、請求項２の記載によれば、請求項１に記載の光反射素子において、基体に上記他方の面から起歪素子に対向するように設けられて基体を支持する支持部材（４０）を備えることを特徴とする。
【００１０】
これにより、何ら余分な部材を用いることなく、支持部材を基体に上記他方の面側から直接固着することができる。その結果、請求項１に記載の発明の作用効果を達成し得るのは勿論のこと、支持部材を採用するのみで、当該光反射素子を支持部材でもって適宜な静止部材に簡単に支持することができる。
【００１１】
また、上述のように支持部材を基体に上記他方の面から起歪素子に対向するように設けるから、当該起歪素子は、基体と支持部材との間にあって当該支持部材により確実に保護され得る。
【００１２】
また、本発明は、請求項３の記載によれば、請求項１或いは２に記載の光反射素子において、板状弾性部の上記鏡面は、当該板状弾性部の上記一方の面を研磨面とし、この研磨面に反射膜を薄膜状にコーティングすることで形成されていることを特徴とする。
【００１３】
これによっても、請求項１或いは２に記載の発明と同様の作用効果が達成され得る。
【００１４】
また、本発明は、請求項４の記載によれば、請求項１〜３のいずれか１つに記載の光反射素子において、支持部も、弾性材料でもって形成されていることを特徴とする。
【００１５】
これによれば、起歪素子がその起歪作用により基体の板状弾性部を変形させると、板状弾性部の一方の面である鏡面に入射する光は、当該板状弾性部によりその変形に応じた方向に反射され得る。
【００１６】
ここで、基体の支持部は弾性材料で形成されているから、当該支持部はその弾性によりばねとして作用する。このため、板状弾性部の凹所側への変形或いは板状弾性部の凹所とは反対側への変形が、上述した支持部のばね作用でもってより一層円滑になされ得る。その結果、板状弾性部の鏡面に入射する光の反射方向が、より一層円滑にかつ確実に制御され得る。
【００１７】
また、本発明は、請求項５の記載によれば、請求項１〜４のいずれか１つに記載の光反射素子において、基体は、シリコン基板（１０）であって、このシリコン基板には、上記凹所が、板状弾性部及び支持部を形成するようにエッチングにより形成されていることを特徴とする。
【００１８】
このように基体をシリコン基板で構成し、上記凹所をエッチングにより形成することで、ステンレス等の金属やその他セラミックス材料と比較して、加工精度を良くすることができる。また、エッチングでは、起歪素子を形成する凹所の面に容易に面荒れを発生させることができる。このため、起歪素子の凹所の面に対する密着度合いがより一層向上する。その結果、請求項１〜４のいずれか１つに記載の発明の作用効果を達成しつつ、基体に対する起歪素子の良好な密着性を確保し得る。
【００１９】
また、上述のように基体をシリコン基板で構成することで、当該シリコン基板の面はウエハーとしての面として研磨面として形成されている。この研磨面は表面荒れの極めて少ない面であるから、当該研磨面は、そのまま、鏡面としての役割を果たす。従って、当該研磨面をそのまま鏡面として利用し、この鏡面における入射光の光量の減少を防止し得る。
【００２０】
また、本発明は、請求項６の記載によれば、起歪素子は、請求項１〜５のいずれか１つに記載の光反射素子において、板状弾性部の他方の面に放射状に設けた起歪素子（１１０）であることを特徴とする。
【００２１】
このように起歪素子として放射状の起歪素子を用いることで、当該起歪素子がその起歪作用を放射状にもたらす。このため、板状弾性部の凹所側或いはその反対側への変形が起歪素子の回転対称の起歪作用に基づき略円形形状部位の変形として発生する。
【００２２】
従って、一方向のみに湾曲して変位する板状弾性部の鏡面で反射される場合、その鏡面の変形形状に起因する反射光の波面が略楕円形状となるのに対し、当該反射光の断面形状が上記放射方向において均一化されて回転対称な真円形状に近づく。その結果、バランスのとれた良好な断面形状をもつ光として板状弾性部の鏡面にて反射され得る。
【００２３】
また、本発明は、請求項７の記載によれば、請求項１〜５のいずれか１つに記載の光反射素子において、起歪素子は、板状弾性部の上記他方の面に、所定間隔をおいて互いに対向して２つ設けられて、互いに同相で駆動されるいることを特徴とする。
【００２４】
これによれば、各起歪素子は、板状弾性部の上記他方の面のうち上記所定間隔に対する対応面部位には存在しない。このため、起歪素子が起歪作用を発揮しても、板状弾性部のうち上記所定間隔に対する対応部位は変形しにくい。
【００２５】
従って、光が、板状弾性部の鏡面のうち上記所定間隔に対する対応鏡面部位に入射したとき、この対応鏡面部位は略平面形状を保ったまま変位するから、反射光の断面形状も、入射光の断面形状と同じく回転対称な形状を維持する。その結果、請求項１〜５のいずれか１つに記載の発明の効果を達成しつつ、バランスのとれた良好な断面形状をもつ光として板状弾性部の鏡面にて反射され得る。
【００２６】
また、本発明は、請求項８の記載によれば、請求項７に記載の光反射素子において、板状弾性部のうち上記２つの起歪素子の間の上記所定間隔の領域に対する対応部位（１４ａ）は、高剛性材料でもって形成されていることを特徴とする。
【００２７】
これにより、板状弾性部のうち上記所定間隔に対する対応部位はより一層変形しにくくなる。その結果、請求項７に記載の発明の作用効果がより一層向上され得る。
【００２８】
また、本発明は、請求項９の記載によれば、請求項７に記載の光反射素子において、板状弾性部の上記他方の面のうち上記２つの起歪素子の間の上記所定間隔の領域に対する対応面部位には、高剛性部材（１６）が設けられていることを特徴とする。
【００２９】
このように高剛性部材を設けるようにしても、板状弾性部のうち上記所定間隔に対する対応部位は高剛性部材のためにより一層変形しにくくなる。その結果、請求項７に記載の発明の作用効果がより一層向上され得る。
【００３０】
また、本発明に係る光反射装置は、請求項１０の記載によれば、
請求項１〜５、７〜９のいずれか１つに記載の光反射素子からなる第１及び第２の光反射素子（Ｅ１、Ｅ２）、反射板（１４０）及び光学系（１３０）を備えて、
第２光反射素子（Ｅ２）は、その起歪素子の起歪方向にて、第１光反射素子（Ｅ１）の起歪方向とは異なるように同一の設置面上に、当該第１光反射素子とは離れて配設されており、
光学系は、収束光を第１光反射素子の鏡面に入射させて当該鏡面により第２光反射素子側へ反射させるように配設されており、
反射板は、第１光反射素子の鏡面により反射された上記収束光を第２光反射素子の鏡面に向け反射するように、第１及び第２の各光反射素子の各鏡面の上方に配設されており、
第２光反射素子は、その鏡面により、反射板により反射された収束光を反射する。
【００３１】
これによれば、光学系が入射光を収束光として収束させると、第１光反射素子は、その鏡面にて光学系からの収束光を反射板に向けて反射する。しかして、反射板は、第１光反射素子の鏡面により反射された反射光を第２光反射素子の鏡面に向け反射すると、このように反射された光は、第２反射素子によりその鏡面にて反射される。
【００３２】
これによれば、光学系からの収束光が、第１及び第２の光反射素子の各鏡面と反射板との間で相互反射されても、第１及び第２の光反射素子の各起歪素子の起歪方向が互いに異なることから、収束光は、第１及び第２の光反射素子の各板状弾性部の鏡面での各反射でもって、ほぼ真円形状に近い断面形状を有するような光に近づく。
【００３３】
その結果、この光は、バランスのとれた良好な断面形状の光として、第２光反射素子の鏡面で反射されて出射し得る。なお、このように第２光反射素子で反射された光は、例えば、上記光学系と共役な他の光学系を通り、拡散光として出射し得る。
【００３４】
また、本発明に係る波面曲率変調装置は、請求項１１の記載によれば、
請求項１〜９のいずれか１つに記載の光反射素子と、
収束光を光反射素子の板状弾性部の鏡面に入射させるように当該鏡面に対向して支持されるレンズ光学系（９０）と、
光反射素子の起歪素子の起歪方向を制御する制御手段（３０）とを備えて、
板状弾性部は、上記鏡面により、その入射収束光の波面曲率を変調してレンズ光学系に向けて反射するように、起歪素子の制御起歪方向に基づき変形する。
【００３５】
これによれば、レンズ光学系からの収束光は、制御手段による起歪素子の起歪方向の制御に基づく板状弾性部の凹所側或いはその反対側への湾曲変形に応じて、板状弾性部の鏡面により反射される。このため、板状弾性部の鏡面中央により反射されてレンズ光学系から出射する光の波面曲率が板状弾性部の湾曲変形に応じて変調され得る。
【００３６】
このことは、板状弾性部が、その鏡面とレンズ光学系との間の距離を、制御手段による起歪素子の起歪方向の制御に応じて変化させ、このように変化する上記距離に応じて、レンズ光学系から出射する光の波面曲率を変調し得ることを意味する。
【００３７】
また、本発明に係る光走査型表示装置は、請求項１２の記載によれば、
画像を画像光でもって出射する画像光出射手段（１６０、１８０、１９０、１９０ａ）と、
この画像光出射手段からの出射画像光を入射されて２次元的に走査する走査手段（２１０、２３０）と、
画像光出射手段と走査手段との間の光路中に配置される請求項１１に記載の波面曲率変調装置（２００）とを備えて、
この波面曲率変調装置は、画像光出射手段から出射される上記画像光の波面曲率を変調して、波面曲率変調光を上記出射画像光として走査手段に入射する。
【００３８】
これによれば、画像光出射手段からの画像光は、その波面曲率にて、波面曲率変調装置により変調された上で、走査手段により走査される。従って、このように走査された画像光によれば、画像は、上記波面曲率変調光に応じたピント位置のもとに表示される。
【００３９】
ここで、波面曲率変調装置の光反射素子は、基体及び起歪素子でもって小型に構成されている。従って、波面曲率変調装置も同様に小型に構成されている。その結果、当該表示装置がより一層コンパクトに構成され得る。
【００４０】
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下、本発明の各実施形態を図面により説明する。
（第１実施形態）
図１及び図２は、本発明の第１実施形態を示している。本第１実施形態では、本発明が光反射装置に適用される一例を示している。本第１実施形態では、当該光反射装置は、例えば、網膜走査型表示装置において採用される。具体的には、当該光反射装置は、網膜走査型表示装置において、例えば、光源と光走査系との間に介装されて、光源から出射される画像光の光走査系への反射方向を制御する。
【００４２】
当該光反射装置は、図１及び図２にて示すごとく、長手状の基板１０及び長手板状の起歪素子２０を備えている。基板１０はシリコン基板からなるもので、当該基板１０の表面１１は研磨面として形成されている。また、基板１０は凹所１２を備えており、この凹所１２は基板１０にその裏面１３側からエッチングにより形成されている。なお、基板１０及び起歪素子２０でもって光反射素子を構成する。
【００４３】
これに伴い、この基板１０には、変形可能な薄板状弾性部１４が表面１１と凹所１２の底面１２ａとの間に形成される。これにより、基板１０は、上板部である薄板状弾性部１４及び両側板部１５（両支持板部１５）でもって略コ字状に構成される。なお、薄板状弾性部１４の表面は、基板１０の表面１１の一部でもって構成される。また、当該光反射装置の使用にあたり、基板１０は、その裏面にて、適宜な静止部材に固定される。
【００４４】
起歪素子２０は、その長手方向において、基板１０の凹所１２内にてその底面１２ａにその長手方向に沿うように設けられている。当該起歪素子２０は圧電素子からなるもので、この起歪素子２０は、図１にて示すごとく、電極２１、圧電体２２及び電極２３でもって構成されている。
【００４５】
電極２１は、凹所１２の底面１２ａにその長手方向に沿い電極材料でもって膜状に形成されている。圧電体２２は、電極２１にその長手方向に沿い圧電材料でもって膜状に形成されている。また、電極２３は、圧電体２２を介し電極２１に対向するように、電極材料でもって圧電体２２にその長手方向に沿い形成されている。
【００４６】
このように構成した起歪素子２０において、圧電体２２が制御回路３０から両電極２１、２３を介し正或いは負の制御電圧を印加されると、当該圧電体２２がその長手方向において薄板状弾性部１４の面方向に沿い伸長或いは収縮するように歪む。
【００４７】
ここで、圧電体２２がその長手方向に伸長するように歪むと、基板１０は、薄板状弾性部１４にて凹所１２側へ湾曲するように変形する。また、圧電体２２がその長手方向において収縮するように歪むと、基板１０は、薄板状弾性部１４にて凹所１２とは反対側へ湾曲するように変形する。
【００４８】
また、当該光反射装置は、図１にて示すごとく、上述した制御回路３０を備えている。この制御回路３０は、上記光走査系による光走査方向に応じて正或いは負の制御電圧を発生し起歪素子２０の両電極２１、２３間に印加する。このことは、薄板状弾性部１４に入射する画像光の反射方向が、制御回路３０からの制御電圧に応じた薄板状弾性部１４の変形度合いに基づき変わるように制御されることを意味する。
【００４９】
以上のように構成した本第１実施形態において、制御回路３０が正或いは負の制御電圧を発生すると、この制御電圧は、起歪素子２０の両電極２１、２３間に印加される。
【００５０】
これに伴い、当該制御電圧が正の制御電圧であれば、起歪素子２０の圧電体２２は、その長手方向に当該正の制御電圧に応じて伸長するように歪む。このため、基板１０はその薄板状弾性部１４にて圧電体２２の伸長に応じて凹所１２側へ湾曲するように変形する。
【００５１】
このような段階において上述した網膜走査型表示装置の光源から出射される画像光が、当該光反射装置における基板１０の薄板状弾性部１４の表面に図１及び図２にて矢印Ｒで示すごとく入射すると、この入射画像光は、図１及び図２にて矢印Ｒ１で示す方向に反射される。
【００５２】
一方、当該制御電圧が負の制御電圧であれば、起歪素子２０の圧電体２２は、その長手方向に当該負の制御電圧に応じて収縮するように歪む。このため、基板１０はその薄板状弾性部１４にて圧電体２２の収縮に応じて凹所１２とは反対側へ湾曲するように変形する。
【００５３】
このような段階において上述した網膜走査型ディスプレイの光源から出射される画像光が、当該光反射装置における基板１０の薄板状弾性部１４の表面に図１及び図２にて矢印Ｒで示すごとく入射すると、この入射画像光は、図１及び図２にて矢印Ｒ２で示す方向に反射される。
【００５４】
ここで、上述のような薄板状弾性部１２の湾曲変形に起因して、矢印Ｒ２で示す反射方向の画像光の反射角は、矢印Ｒ１で示す反射方向の反射角よりも大きい。これらの性質は、光走査装置としても利用できる。
【００５５】
また、上述のように薄板状弾性部１４が湾曲変形する際、薄板状弾性部１４は、基板１０の幅方向端部側において自由となっているから、当該薄板状弾性部１４の湾曲変形が容易になされ得る。
【００５６】
また、基板１０は、その表面１１側において上述した反射画像光の進行を妨げる構成部材を有していない。従って、上述のように薄板状弾性部１４により反射された画像光のすべてが、何ら邪魔されることなく、円滑に矢印Ｒ１或いはＲ２の方向に進行し、本光反射装置から確実に出射し得る。
【００５７】
また、上述のように、基板１０の表面１１側には何も反射画像光の進行を妨げる構成部材を有していない。従って、基板１０の薄板状弾性部１４の表面により走査される画像光の反射方向を広角度の範囲にできる。
【００５８】
また、起歪素子２０が、上述のごとく、基板１０に裏面１３側から形成した凹所１２内に設けられている。このため、当該起歪素子２０を基板１０の表面１１側に設けると仮定した場合に生じがちな事態、即ち、起歪素子２０を、薄板状弾性部１４の表面に画像光の入反射位置を避けて設けるという事態の発生を未然に防止することができ、その結果、起歪素子２０の基板１０に対する配設の自由度が増す。
【００５９】
また、基板１０の表面１１、換言すれば、薄板状弾性部１４の表面は、上述のごとく研磨面で形成されている。これは、基板１０を構成するシリコン基板であるウエハーとしての面は研磨面として形成されているためである。この研磨面は表面荒れの少ない面であるから、当該研磨面は、そのまま、鏡面としての役割を果たす。
【００６０】
従って、当該研磨面をそのまま鏡面として利用し、この鏡面における画像光の光量の減少を未然に防止し得る。
【００６１】
その結果、当該光反射装置によれば、画像光の反射方向は、当該画像光の光量を良好に維持しつつ、起歪素子２０による薄板状弾性部１４の変形度合いに精度よく対応するように制御され得る。
【００６２】
また、上述のごとく、基板１０を構成するシリコン基板の面が研磨面として形成されていることを活用して、当該研磨面を鏡面として利用するので、当該鏡面の形成にあたり、別途鏡面部材を薄板状弾性部１４の表面に設ける必要がない。
【００６３】
また、上述のごとく、基板１０において起歪素子２０を設けた凹所１２の底面１２ａはエッチングにより形成されているから、凹所１２の底面１２ａに容易に面粗れを発生させることができる。
【００６４】
このため、起歪素子２０の電極２１の底面１２ａに対する密着度合いがより一層向上し得る。その結果、基板１０に対する起歪素子２０の良好な密着性が確保され得る。
（第２実施形態）
図３は、本発明の第２実施形態の要部を示している。この第２実施形態の要部では、本発明が適用された光反射装置の他の例の要部を示している。この第２実施形態では、上記第１実施形態にて述べた光反射装置の構成において、支持板４０が付加的に採用されている。
【００６５】
支持板４０は、図３にて示すごとく、上記第１実施形態にて述べた基板１０にその裏面１３側から固着されており、この支持板４０は、当該光反射装置を適宜な静止部材に支持する役割を果たす。その他の構成は上記第１実施形態と同様である。
【００６６】
このように構成した本第２実施形態においては、起歪素子２０が、基板１０の凹所１２内に設けられているから、当該起歪素子２０が基板１０の裏面１３から外方へ突出することがない。従って、支持板４０を上述のごとく基板１０にその裏面１３側から固着するにあたり、起歪素子２０が邪魔になることがない。このため、何ら余分な部材を用いることなく、支持板４０を、直接、基板１０にその裏面１３側から固着することができる。
【００６７】
その結果、支持板４０を採用するのみで、当該光反射装置を支持板４０でもって適宜な静止部材に簡単に支持することができる。
【００６８】
また、上述のごとく、起歪素子２０は凹所１２内に位置し、支持板４０は基板１０にその裏面１３側から固着されている。このため、当該起歪素子２０は、基板１０の裏面側から支持板４０により確実に保護され得る。その他の作用効果は、上記第１実施形態と同様である。
（第３実施形態）
図４は、本発明の第３実施形態の要部を示している。この第３実施形態の要部では、本発明が適用される光反射装置のその他の例の要部を示している。この第３実施形態では、上記第１実施形態にて述べた光反射装置において、起歪素子２０に代えて、起歪素子５０を設けた構成が採用されている。
【００６９】
起歪素子５０は、上記第１実施形態にて述べた起歪素子２０に代え、その長手方向において、基板１０の凹所１２内においてその底面１２ａにその長手方向に沿い設けられている。この起歪素子５０は、起歪素子２０と同様に圧電素子からなるもので、当該起歪素子５０は、図４にて示すごとく、電極５１と、この電極５１よりも短い圧電体５２と、この圧電体５２よりも短い電極５３とでもって構成されている。
【００７０】
電極５１は、凹所１２の底面１２ａに沿い電極材料でもって膜状に形成されている。圧電体５２は、電極５１に沿いその図４にて図示左端部から圧電材料でもって膜状に形成されている。ここで、電極５１は、上述のごとく、圧電体５２よりも長いので、当該電極５１は、図４にて示すごとく、その図示右端部５１ａにて、圧電体５２よりも右側へ延出している。
【００７１】
また、電極５３は、図４にて示すごとく、圧電体５２に沿いその図示左端部から電極材料でもって膜状に形成されている。ここで、圧電体５２は、上述のごとく、電極５３よりも長いので、当該圧電体５２は、図４にて示すごとく、その図示右端部５２ａにて、電極５３の右端部５３ａよりも右側へ延出している。
【００７２】
また、当該光反射装置は、図４にて示すごとく、接続回路６０を備えており、この接続回路６０は、起歪素子５０を上記第１実施形態にて述べた制御回路３０に接続する役割を果たす。この接続回路６０は、導電材料でもって階段状に形成したリード６１を備えており、このリード６１は、その一側端部６１ａにて、図４に示すごとく、電極５１の図示右側において基板１０の凹所１２の底面１２ａの一部に固着されている。また、当該リード６１は、その他側端部６１ｂにて、電極５３の右端部５３ａにはんだ付けにより接続されている。
【００７３】
また、接続回路６０は、絶縁層６２を備えており、この絶縁層６２は、電気絶縁材料でもって階段状に形成されて、リード６１の両側端部６１ａ、６１ｂ以外の部位と、電極５１の右端部５１ａ、圧電体５２の右端部５２ａ及び電極５３の右端部５３ａとの間に介装されている。これにより、当該絶縁層６２は、正側電極５３と負側電極５１との間を電気的に絶縁する役割を果たす。
【００７４】
また、接続回路６０は、パッド６３及びパッド６４を備えている。パッド６３は、基板１０の薄板状弾性部１４の表面に電極５１の右端部５１ａに対応する位置にて導電材料により膜状に形成されており、このパッド６３は、薄板状弾性部１４に形成したビアホール６５を介し電極５１の右端部５１ａに電気的に接続されている。
【００７５】
また、パッド６４は、基板１０の薄板状弾性部１４の表面にリード６１の一側端部６１ａに対応する位置にて導電材料により膜状に形成されており、このパッド６４は、薄板状弾性部１４に形成したビアホール６６を介しリード６１の一側端部６１ａに電気的に接続されている。その他の構成は上記第１実施形態と同様である。
【００７６】
このように構成した本第３実施形態においては、接続回路６０が、両電極５１、５３を制御回路３０に接続するように、基板１０の薄板状弾性部１４及び起歪素子５０の各右端部側に、リード６１、両パッド６３、６４及び両ビアホール６５、６６でもって、まとめて設けられている。
【００７７】
このため、当該光反射装置において起歪素子５０を制御回路３０に接続する回路が、接続回路６０でもってコンパクトにまとめて構成され得る。
【００７８】
また、本第３実施形態において、上記第１実施形態と同様に、制御回路３０が、正或いは負の制御電圧を発生すると、この制御電圧は、起歪素子５０の両パッド６３、６４間に印加される。
【００７９】
すると、このように両パッド６３、６４間に印加された制御電圧は、ビアホール６５と、ビアホール６６及びリード６１とを介し、両電極５１、５３間に印加される。
【００８０】
これに伴い、当該制御電圧が正の制御電圧であれば、起歪素子５０の圧電体５２は、その長手方向に当該正の制御電圧に応じて伸長するように歪む。このため、基板１０はその薄板状弾性部１４にて圧電体５２の伸長に応じて凹所１２側へ湾曲するように変形する。
【００８１】
一方、当該制御電圧が負の制御電圧であれば、起歪素子５０の圧電体５２は、その長手方向に当該負の制御電圧に応じて収縮するように歪む。このため、基板１０はその薄板状弾性部１４にて圧電体５２の収縮に応じて凹所１２とは反対側へ湾曲するように変形する。
【００８２】
上述のように薄板状弾性部１４が凹所１２側へ或いはこの凹所１２とは反対側へ湾曲した状態において、上述した網膜走査型表示装置の光源から出射される画像光が、当該光反射装置における基板１０の薄板状弾性部１４上に図４にて矢印Ｒで示すごとく入射すると、この入射画像光は、図４で矢印Ｒ１或いは矢印Ｒ２にて示す方向に反射される。
【００８３】
これにより、本第３実施形態においては、上述のような接続回路６０のコンパクトな構成のもと、上記第１実施形態にて述べたと同様の作用効果が達成され得る。
（第４実施形態）
図５は、本発明の第４実施形態の要部を示している。本第４実施形態の要部では、本発明が適用される光反射装置のその他の例の要部を示している。この第４実施形態では、上記第１実施形態において、基板１０に代えて、基板７０を設けた構成が採用されている。
【００８４】
基板７０は、図５にて示す断面形状を有するようにステンレス鋼板でもって一体的に形成されており、当該基板７０は、薄板状弾性部７１と、この薄板状弾性部７１の裏面７１ｂ側へ当該薄板状弾性部７１の両端部から互いに逆向きとなるようにクランク状に延出する板状の両脚部７２とでもって、構成されている。
【００８５】
ここで、当該基板７０の薄板状弾性部７１は、その表面７１ａにて、研磨面として形成されている。両脚部７２は、それぞれ、薄板状弾性部７１の両端部からＬ字状に延出する延出部７２ａと、この延出部７２ａから外方へＬ字状に延出する着座部７２ｂとでもって、上記クランク状に形成されている。
【００８６】
なお、本第４実施形態において、当該光反射装置を使用するにあたり、基板７０は、両脚部７２の各着座部７２ｂにて、適宜な静止部材に支持される。
【００８７】
また、本第４実施形態では、上記第１実施形態にて述べた起歪素子２０は、基板１０の薄板状弾性部１４に代えて、基板７０の薄板状弾性部７１に設けられている。
【００８８】
ここで、起歪素子２０は、電極２１にて、基板７０の薄板状弾性部７１にその裏面７１ｂに沿い両脚７２の一方側から他方側にかけて固着されている。
【００８９】
なお、ステンレスは導電性であるため一方の電極とし、電極２１を特別に形成しなくてもよい構成としてもよい。また、本第４実施形態においては、基板７０を静止部材に取り付けて使用する際、その静止部材が導電性である場合には、電極２１と弾性部材の裏面５１との間に図示してはいないが、絶縁膜を形成することが望ましく、そういった対策を講じることで、取り付ける静止部材の選択の幅が広がる。その他の構成は上記第１実施形態と同様である。
【００９０】
このように構成した本第４実施形態において、上記第１実施形態にて述べたと同様に、制御回路３０が、正或いは負の制御電圧を起歪素子２０の両電極２１、２３間に印加すると、起歪素子２０の圧電体２２は、その長手方向に当該正或いは負の制御電圧に応じて伸長或いは収縮するように歪む。
【００９１】
このため、基板７０はその薄板状弾性部７１にて圧電体２２の伸長或いは収縮に応じて、両脚部７２間の領域側或いはこの領域とは反対側へ湾曲するように変形する。
【００９２】
ここで、基板７０の両延出部７２ａは、ステンレス鋼板で形成されているから、当該両延出部７２ａは、薄板状弾性部７１及び両着座部７２ｂとの間でばねとして作用する。
【００９３】
このため、上述した両脚部７２間の領域側への薄板状弾性部７１の湾曲変形或いは当該領域とは反対側への薄板状弾性部７１の湾曲変形が、両延出部７２ａのばね作用でもってより一層円滑になされ得る。
【００９４】
その結果、薄板状弾性部７１の表面７１ａに入射する画像光に対する反射方向が、より一層円滑にかつ確実に制御され得る。その他の作用効果は上記第１実施形態と同様である。
【００９５】
また、本第４実施形態において、上記第２実施形態にて述べた支持板４０を、起歪素子２０に対向するように基板７０にその両着座部７２ｂに亘り装着した場合には、上記第２実施形態にて述べたと同様の作用効果が本第４実施形態においても達成され得る。
（第５実施形態）
図６及び図７は、本発明の第５実施形態を示しており、この第５実施形態では、本発明が波面曲率変調装置に適用された例を示している。この波面曲率変調装置は、上記第１実施形態にて述べた光反射装置（以下、光反射装置Ｕともいう）と、コ字状の支持部材８０と、凸レンズ９０とでもって構成されている。
【００９６】
支持部材８０は、図６及び図７にて示すごとく、その両側板部８１及び上板部８２でもって、光反射装置Ｕの基板１０の両側板部１５及び薄板状弾性部１４に対向するように配設されて、光反射装置Ｕをコ字状に覆うように設置面Ｌ上に配設されている。
【００９７】
ここで、上板部８２には、開口部８２ａが、基板１０の薄板状弾性部１４の長手方向中央に対応する位置にて形成されている。
【００９８】
凸レンズ９０は、支持部材８０の開口部８２ａに同心的に嵌装されている。ここで、基板１０の薄板状弾性部１４に歪みが発生していないとき、この凸レンズ９０の像側焦点ｆ（図６参照）は、薄板状弾性部１４の鏡面の中央に位置するように設定されている。その他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００９９】
このように構成した本第５実施形態において、光学系（図示しない）が凸レンズ９０に向けその光軸に沿いコリメート光を出射すると、このコリメート光は、凸レンズ９０により収束されて基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射する。
【０１００】
このとき、基板１０の薄板状弾性部１４が変形していなければ、当該コリメート光は、レンズの像側焦点距離ｆに基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央が設けられているので、ちょうど鏡面上に収束する。従って、このように収束した光は、薄板状弾性部１４の鏡面中央にて反射されて凸レンズ９０を通り再びコリメート光となって上記光学系からのコリメート光とは逆方向に出射される。
【０１０１】
このような状態において、上記第１実施形態にて述べたように基板１０が薄板状弾性部１４にて凹所１２側へ湾曲するように変形すると、。
【０１０２】
凸レンズ９０により収束される光は、凸レンズ９０の光学的作用のもと、薄板状弾性部１４の鏡面中央よりも上方に位置する像側焦点ｆで収束した後に上記鏡面中央に入射して当該鏡面中央により反射される。
【０１０３】
従って、このように反射される光が、凸レンズ９０により収束されて上記光学系に向けて進む。このとき、薄板状弾性部１４の鏡面中央で反射される光は、その断面形状は平面ではなく、或る波面曲率を有する収束光となって上記光学系に出射する。
【０１０４】
また、一方、このような状態において、上記第１実施形態にて述べたように基板１０が薄板状弾性部１４にて凹所１２側とは反対側へ湾曲するように変形すると、凸レンズ９０により収束される光は、凸レンズ９０の光学的作用のもと、像側焦点ｆよりも上方に位置する薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射して当該鏡面中央により反射される。
【０１０５】
従って、このように反射される光は、凸レンズ９０の光学的作用のもと、拡散するように上記光学系に向けて進む。換言すれば、薄板状弾性部１４の鏡面中央で反射される光は、その断面形状が平面ではなく、或る波面曲率を有する拡散光となって上記光学系に向けて進む。
【０１０６】
以上説明したように、本第５実施形態では、凸レンズ９０からの収束光は、基板１０の薄板状弾性部１４の凹所１２側或いはその反対側への湾曲変形に応じて、薄板状弾性部１４の鏡面中央により反射される。
【０１０７】
このため、薄板状弾性部１４の鏡面中央により反射されて凸レンズ９０から出射する光の波面曲率が薄板状弾性部１４の湾曲変形に応じて変調され得る。その他の作用効果は上記第１実施形態と同様である。
（第６実施形態）
図８及び図９は、本発明の第６実施形態の要部を示している。この第６実施形態では、本発明が適用される波面曲率変調装置の他の例が示されている。この波面曲率変調装置は、上記第５実施形態にて述べた波面曲率変調装置において、光反射装置Ｕに代えて、光反射装置Ｕａを設けた構成となっている。
【０１０８】
当該光反射装置Ｕａは、光反射装置Ｕにおいて、基板１０及び起歪素子２０に代えて、基板１００及び十字板状の起歪素子１１０を設けた構成を採用している。
【０１０９】
基板１００は、基板１０と同様にシリコン基板からなるもので、この基板１００の表面１０１は、研磨面として形成されている。また、基板１００は、凹所１０２を備えており、この凹所１０２は、基板１００のその裏面１０３側からエッチングにより箱状に形成されている。
【０１１０】
これに伴い、当該基板１００には、変形可能な薄板状弾性部１０４が表面１０１と箱状凹所１０２の底面１０２ａとの間に形成される。これにより、基板１００は、上板部である薄板状弾性部１０４及び両側板部１０５でもって箱状に構成される。なお、薄板状弾性部１０４の表面は、基板１００の表面１０１の一部でもって構成される。
【０１１１】
起歪素子１１０は、基板１００の凹所１０２内にてその底面１０２ａに十字方向に沿うように設けられている。当該起歪素子１１０は、起歪素子２０と同様に圧電素子からなるもので、この起歪素子１１０は、共に同一の十字形状を有する電極１１１、圧電体１１２及び電極１１３でもって構成されている。
【０１１２】
電極１１１は、凹所１０２の底面１０２ａに沿い電極材料でもって十字膜状に形成されている。圧電体１１２は、電極１１１に沿い圧電材料でもって十字膜状に形成されている。また、電極１１３は、圧電体１１２を介し電極１１１に対向するように、電極材料でもって圧電体１１２に沿い十字膜状に形成されている。
【０１１３】
このように構成した起歪素子１１０において、圧電体１１２が制御回路３０から両電極１１１、１１３を介し正或いは負の制御電圧を印加されると、当該圧電体１１２がその十字方向において薄板状弾性部１０４の面方向に沿い伸長或いは収縮するように歪む。
【０１１４】
ここで、圧電体１１２がその十字方向に伸長するように歪むと、基板１００は、薄板状弾性部１０４にて凹所１０２側へ湾曲するように変形する。また、圧電体１１２がその十字方向において収縮するように歪むと、基板１００は、薄板状弾性部１０４にて凹所１０２とは反対側へ湾曲するように変形する。
【０１１５】
上記第１実施形態にて述べた制御回路３０は、正或いは負の制御電圧を、起歪素子２０の両電極２１、２３間に代えて、起歪素子１１０の両電極１１１、１１３間に印加する。このことは、薄板状弾性部１０４に入射する画像光の反射位置及び反射方向が、制御回路３０からの制御電圧に応じた薄板状弾性部１０４の変形度合いに基づき変わるように制御されることを意味する。
【０１１６】
また、上記第５実施形態にて述べた支持部材８０は、その両側板部８１及び上板部８２でもって、基板１００の両側板部１０５及び上板部１０４に対向するように配設されて光反射装置Ｕａをコ字状に覆うように設置面Ｌ上に配設されている。ここで、基板１００の薄板状弾性部１０４が変形していないとき、上記第５実施形態にて述べた凸レンズ９０は、その像側焦点ｆにて、基板１００の薄板状弾性部１０４の鏡面中央上に位置している。その他の構成は上記第５実施形態と同様である。
【０１１７】
このように構成した本第６実施形態において、上記第５実施形態と同様に光学系が凸レンズ９０に向けその光軸に沿いコリメート光を出射すると、このコリメート光は、凸レンズ９０により収束されて基板１００の薄板状弾性部１０４の鏡面中央に入射する。
【０１１８】
このとき、基板１００の薄板状弾性部１０４が変形していなければ、当該コリメート光は、基板１００の薄板状弾性部１０４の鏡面中央上の像側焦点ｆにて収束する。従って、このように収束した光は、薄板状弾性部１０４の鏡面中央にて反射されて凸レンズ９０を通りコリメート光となって上記光学系からのコリメート光とは逆方向に進む。
【０１１９】
このような状態において、基板１００が上述のごとく薄板状弾性部１０４にて凹所１０２側へ湾曲するように変形すると、凸レンズ９０の像側焦点ｆが薄板状弾性部１０４の鏡面中央よりも図８にて図示上方に位置ずれする。
【０１２０】
このため、凸レンズ９０により収束される光は、凸レンズ９０の光学的作用のもと、薄板状弾性部１０４の鏡面中央よりも上方に位置する像側焦点ｆで収束した上で上記鏡面中央に入射して当該鏡面中央により反射される。
【０１２１】
従って、このように反射される光は、凸レンズ９０により収束されて上記光学系に向けて進む。換言すれば、薄板状弾性部１０４の鏡面中央で反射される光は、平面よりも小さな波面曲率を有する収束光となって上記光学系に向けて進む。
【０１２２】
ここで、起歪素子１１０は上述のごとく十字板状に形成されているため、薄板状弾性部１０４は、起歪素子１１０の十字方向に対する各対応部位にて、対称的に変形する。このため、上述のように像側焦点ｆで収束した上で上記鏡面中央に入射して当該鏡面中央により反射される光は、上述のような薄板状弾性部１０４の対称的変形に基づき当該鏡面中央上にて、真円形状或いはこれに近い形状の断面形状を有する光として反射される。従って、この光は、ある波面曲率を有する収束光であって真円形状或いはこれに近い形状の断面形状を有する収束光となって上記光学系に向けて進む。
【０１２３】
このような状態において、基板１００が上述のように薄板状弾性部１０４にて凹所１０２側とは反対側へ湾曲するように変形すると、凸レンズ９０の像側焦点ｆが薄板状弾性部１０４の鏡面中央よりも図８にて図示下方に位置ずれする。
【０１２４】
このため、凸レンズ９０により収束される光は、凸レンズ９０の光学的作用のもと、像側焦点ｆよりも上方に位置する薄板状弾性部１０４の鏡面中央に入射して当該鏡面中央により反射される。
【０１２５】
従って、このように反射される光は、凸レンズ９０の光学的作用のもと、拡散するように上記光学系に向けて進む。換言すれば、薄板状弾性部１０４の鏡面中央で反射される光は、平面よりも大きな波面曲率を有する拡散光となって上記光学系に向けて進む。
【０１２６】
ここで、上述のごとく、薄板状弾性部１０４は、起歪素子１１０の十字方向に対する各対応部位にて、対称的に変形するため、上述のように像側焦点ｆに達することなく上記鏡面中央に入射して当該鏡面中央により反射される光は、当該鏡面中央上にて、真円形状或いはこれに近い形状の断面形状を有する光となって反射される。従って、この光は、或る波面曲率を有する拡散光であって真円形状或いはこれに近い形状の断面形状を有する拡散光となって上記光学系に向けて進む。
【０１２７】
以上説明したように、起歪素子１００が十字板状に形成されているため、基板１００の薄板状弾性部１０４は、起歪素子１００の中央部に対する対応部を基準に対称的に変形する。従って、凸レンズ９０からの収束光は、薄板状弾性部１０４の凹所１０２側或いはその反対側への上記対称的な湾曲変形に基づき、薄板状弾性部１０４の鏡面中央により、真円形状或いはこれに近い形状の断面形状を有する光となって反射される。
【０１２８】
このため、薄板状弾性部１０４の鏡面中央により反射されて凸レンズ９０から出射する光の波面曲率が薄板状弾性部１０４の対称的な湾曲変形に応じて対称性のバランスよく変調され得る。その他の作用効果は上記第５実施形態と同様である。
（第７実施形態）
図１０は、本発明の第７実施形態を示している。この第７実施形態では、上記第５実施形態において、起歪素子２０（図６参照）に代えて、両起歪素子１２０を設けた構成が採用されている。
【０１２９】
当該両起歪素子１２０は、起歪素子２０においてその長手方向中央部を除去した構成を有する。両起歪素子１２０は、起歪素子２０と同一方向に伸張或いは収縮するように同相で駆動する。
【０１３０】
ここで、両起歪素子１２０は、それぞれ、起歪素子２０の電極２１、圧電体２２及び電極２３にそれぞれ対応する電極１２１、圧電体１２２及び電極１２３でもって構成されている。なお、基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央は、両起歪素子１２０の各対向端部の間に形成される空間領域Ａに対応する。
【０１３１】
また、上記第５実施形態にて述べた制御回路３０は、両起歪素子１２０の各電極１２１、１２３の間に正或いは負の制御電圧を印加するようになっている。その他の構成は上記第５実施形態と同様である。
【０１３２】
このように構成した本第７実施形態においては、上述したごとく、両起歪素子１２０は起歪素子２０の長手方向中央部を除去した構成であって空間領域Ａには存在しない。
【０１３３】
このため、両起歪素子１２０が制御回路３０から正或いは負の制御電圧を受けて両者同相で、起歪素子２０と同一方向において伸長或いは収縮するように歪んでも、基板１０の薄板状弾性部１４は、両起歪素子１２０に対する対応部位にて変形するものの、薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位は、長手方向に対して変形しにくく、従って、その平面性を保ったまま上下動する。
【０１３４】
このため、上記第５実施形態にて述べたと同様に凸レンズ９０からの収束光が薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射しても、この収束光は、基板１０の薄板状弾性部１４の凹所１２側或いはその反対側への湾曲変形とはかかわりなく、真円形状或いはこれに近い形状の断面形状を有する光となって、薄板状弾性部１４の鏡面中央、即ち、薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位にて反射され得る。
【０１３５】
その結果、薄板状弾性部１４の鏡面中央により反射されて凸レンズ９０から出射する光の波面曲率が、薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位の変形のしにくさに起因して、対称性のバランスよく変調され得る。その他の作用効果は上記第５実施形態と同様である。
（第８実施形態）
図１１及び図１２は、本発明の第８実施形態を示している。この第８実施形態では、上記第７実施形態にて述べた基板１０の薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位が高剛性部位１４ａとして形成されている。
【０１３６】
具体的には、当該高剛性部位１４ａは、薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位に熱処理等の処置（例えば、レーザによる焼き入れ）を施すことで形成されている。その他の構成は上記第７実施形態と同様である。
【０１３７】
このように構成した本第８実施形態においては、上述のごとく、基板１０の薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位が高剛性部位１４ａとして形成されている。しかも、当該高剛性部位１４ａに対応する空間領域Ａには、上記第７実施形態にて述べたと同様に、両起歪素子１２０が存在しない。
【０１３８】
従って、上記第７実施形態にて述べたように基板１０の薄板状弾性部１４が、両起歪素子１２０に対する対応部位にて変形しても、薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位、即ち高剛性部位１４ａは、より一層変形しにくい。
【０１３９】
このため、上記第５実施形態にて述べたと同様に凸レンズ９０からの収束光が薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射しても、この収束光は、基板１０の薄板状弾性部１４の凹所１２側或いはその反対側への湾曲変形とはかかわりなく、より一層良好な真円形状或いはこれに近い形状の断面形状を有する光として、薄板状弾性部１４の鏡面中央、即ち、高剛性部位１４ａにて反射され得る。
【０１４０】
その結果、薄板状弾性部１４の鏡面中央により反射されて凸レンズ９０から出射する光の波面曲率がより一層対称性のバランスよく変調され得る。その他の作用効果は上記第７実施形態と同様である。
【０１４１】
なお、本第８実施形態において、基板１０をシリコン基板ではなくステンレス基板で形成する場合には、このステンレス基板の薄板状弾性部（薄板状弾性部１４に対応）のうち空間領域Ａに対する対応部位に窒素（Ｎ）をイオン注入することによって高剛性となり、上記高剛性部位（高剛性部位１４ａに対応）として形成するようにしてもよい。
【０１４２】
これによっても、本第８実施形態と同様の作用効果が達成され得る。なお、上記ステンレス基板の薄板状弾性部には、絶縁板を介して起歪素子２０を装着すれば、起歪素子２０と上記ステンレス基板との間の電気絶縁が良好に維持され得る。また、上記ステンレス基板の薄板状弾性部の裏面には、当該ステンレス基板に固有の特性に起因する面荒れが発生しているから、上記絶縁板は上記ステンレス基板の薄板状弾性部の裏面に対し良好に接着され得る。
（第９実施形態）
図１３及び図１４は、本発明の第９実施形態を示している。この第９実施形態では、高剛性部材１６が、上記第７実施形態にて述べた基板１０の薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａにおいて、薄板状弾性部１４の裏面に形成固着されている。その他の構成は上記第７実施形態と同様である。
【０１４３】
このように構成した本第９実施形態においては、上述のごとく、高剛性部材が両起歪素子１２０の間の空間領域Ａにて薄板状弾性部１４の裏面に固着されている。  従って、上記第７実施形態にて述べたように基板１０の薄板状弾性部１４が、両起歪素子１２０に対する対応部位にて変形しても、薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位が上記高剛性部位のために変形しにくい。
【０１４４】
このため、上記第７実施形態にて述べたと同様に凸レンズ９０からの収束光が薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射しても、この収束光は、基板１０の薄板状弾性部１４の凹所１２側或いはその反対側への湾曲変形とはかかわりなく、良好な円形ビーム状の断面形状を有する光として、薄板状弾性部１４の鏡面中央、即ち、薄板状弾性部１４のうち空間領域Ａに対する対応部位にて反射され得る。
【０１４５】
その結果、薄板状弾性部１４の鏡面中央により反射されて凸レンズ９０から出射する光の波面曲率が薄板状弾性部１４の湾曲に応じてより一層バランスよく変調され得る。その他の作用効果は上記第７実施形態と同様である。
【０１４６】
なお、本第９実施形態において、高剛性部材１６をシリコンでもって形成する場合には、凹所１２の形成にあたり基板１０をエッチングする際に、基板１０のうち高剛性部材１６に対応する部位をエッチング対象から外すことで、高剛性部材１６を基板１０と一体的に形成し得る。従って、別途高剛性部材１６を準備する必要がない分、加工が簡略化され、歩留まり上昇およびコスト減となる。
（第１０実施形態）
図１５は、本発明の第１０実施形態を示している。この第１０実施形態では、本発明が適用される波面曲率変調装置のその他の例が示されている。当該波面曲率変調装置は、両光反射素子Ｅ１、Ｅ２、凸レンズ１３０、反射板１４０及び凸レンズ１５０並びに上記第１実施形態にて述べた制御回路３０でもって構成されている。
【０１４７】
両光反射素子Ｅ１、Ｅ２は、共に、上記第１実施形態にて述べた光反射素子と同様の構成を有しており、光反射素子Ｅ１は、図１５及び図１６にて示すごとく、光反射素子Ｅ２の図示左側に配設されている。ここで、光反射素子Ｅ１は、図１５にて図示左右方向に沿い長手状に位置しており、一方、光反射素子Ｅ２は、図１５にて図示紙面の奥行き方向に沿い長手状に位置している（図１６参照）。
【０１４８】
また、光反射素子Ｅ１は、基板１０の表面１１にて、光反射素子Ｅ２の基板１０の表面１１と同一水平面上に位置しており、光反射素子Ｅ１の基板１０の長手方向中央部は、光反射素子Ｅ２の基板１０の長手方向中央部に対向している。
【０１４９】
以上のように配設した両光反射素子Ｅ１、Ｅ２において、光反射素子Ｅ１は、その入射光を基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央にて反射する。光反射素子Ｅ２は、その入射光を基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央にて反射する。
【０１５０】
凸レンズ１３０は、図１５にて示すごとく、光反射素子Ｅ１の図示左側上方に傾斜状に配設されており、この凸レンズ１３０は、光学系（図示しない）からのコリメート光を収束して、光反射素子Ｅ１の基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央に上記入射光として入射させる。なお、光反射素子Ｅ１の起歪素子２０に歪みがないとき、凸レンズ１３０の像側焦点は光反射素子Ｅ１の薄板状弾性部１４の鏡面中央上にあるように設定されている。
【０１５１】
反射板１４０は、図１５にて示すごとく、両光反射素子Ｅ１、Ｅ２の直上にて、両光反射素子Ｅ１、Ｅ２の各基板１０の薄板状弾性部１４と平行に位置するように支持されており、当該反射板１４０の反射面１４１は、各基板１０の表面１１に対向している。
【０１５２】
これにより、反射板１４０は、その反射面１４１にて、光反射素子Ｅ１の薄板状弾性部１４の鏡面中央による反射光を入射されて光反射素子Ｅ２の薄板状弾性部１４の鏡面中央に向けて上記入射光として反射する。
【０１５３】
凸レンズ１５０は、図１５にて示すごとく、光反射素子Ｅ２の右側上方に傾斜状に配設されており、この凸レンズ１５０は、光反射素子Ｅ２の薄板状弾性部１４の鏡面中央から反射される光をコリメートしコリメート光として出射する。なお、光反射素子Ｅ２の起歪素子２０に歪みがないとき、凸レンズ１５０の物点側焦点は光反射素子Ｅ２の薄板状弾性部１４の鏡面中央上にあるように設定されている。
【０１５４】
制御回路３０は、両起歪素子２０の各電極２１、２３の間に正或いは負の制御電圧を印加するようになっている。その他の構成は上記第１実施形態と同様である。
【０１５５】
このように構成した本第１０実施形態において、上記光学系からのコリメート光が凸レンズ１３０により収束されて光反射素子Ｅ１の薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射すると、この入射光は、光反射素子Ｅ１の薄板状弾性部１４の鏡面中央により反射板１４０に向けて反射される（図１５にて図示矢印方向参照）。
【０１５６】
しかして、この反射光が、反射板１４０によりその反射面１４１にて反射されて光反射素子Ｅ２の薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射すると、この入射光は、光反射素子Ｅ２の薄板状弾性部１４の鏡面中央により反射されて凸レンズ１５０によりコリメートされコリメート光として出射される。
【０１５７】
以上のような状態において、両光反射素子Ｅ１、Ｅ２の各基板１０が、薄板状弾性部１４にて、上記第１実施形態にて述べたと同様に、凹所１２側へ湾曲するように変形すると、凸レンズ１３０からの収束光は、光反射素子Ｅ１の薄板状弾性部１４の鏡面中央よりも上方に位置する上記物点側焦点で結像した上で当該鏡面中央に入射する。
【０１５８】
また、反射板１４０の反射光は、凸レンズ１５０の物点側焦点よりも下方に位置する光反射素子Ｅ２の薄板状弾性部１４の鏡面中央により凸レンズ１５０に向けて反射される。
【０１５９】
一方、両光反射素子Ｅ１、Ｅ２の各基板１０が、薄板状弾性部１４にて、上記第１実施形態にて述べたと同様に、凹所１２とは反対側へ湾曲するように変形すると、凸レンズ１３０からの収束光は、上記像側焦点よりも上方に位置する光反射素子Ｅ１の薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射する。
【０１６０】
また、反射板１４０の反射光は、凸レンズ１５０の物点側焦点よりも上方に位置する光反射素子Ｅ２の薄板状弾性部１４の鏡面中央により凸レンズ１５０に向けて反射される。
【０１６１】
ここで、光反射素子Ｅ１の基板１０は図１５にて左右方向に延在し、一方、光反射素子Ｅ２の基板１０は図１５にて紙面の奥行き方向に延在する。このため、凸レンズ１３０の収束光は、光反射素子Ｅ２の基板１０の長手方向に沿い当該基板１０の板状弾性部１４の鏡面中央に入射し、反射板１４０の反射光は、光反射素子Ｅ２の基板１０の幅方向（この基板１０の長手方向に対する直交方向）に沿い光反射素子Ｅ２の基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射する。
【０１６２】
また、両光反射素子Ｅ１、Ｅ２の各において、起歪素子２０は、基板１０の薄板状弾性部１４の裏面にその長手方向に沿い延在するように設けられている。しかも、起歪素子２０の歪みは当該起歪素子２０の長手方向に発生するのであって起歪素子２０の幅方向には発生しにくい。
【０１６３】
従って、光反射素子Ｅ１の基板１０に入射する凸レンズ１３０の収束光の断面形状は、当該基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央において図１６にて図示左右方向に歪む形状となる。一方、光反射素子Ｅ２の基板１０に入射する反射板１４０からの反射光の断面形状は、当該基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央において図１６にて図示上下方向に歪む形状となる。
【０１６４】
これにより、凸レンズ１３０から凸レンズ１５０までの光経路中の光の断面形状は、図１６にて図示左右方向及び上下方向に同様に歪むこととなる。従って、光反射素子Ｅ２から凸レンズ１５０に反射される光の断面形状は真円形状或いはこれに近い良好な形状となる。
【０１６５】
その結果、凸レンズ１３０から凸レンズ１５０へ進む光の波面曲率が、上述のように配設した両光反射素子Ｅ１、Ｅ２の各薄板状弾性部１４の湾曲変形に応じて対称性のバランスよく変調され得る。
【０１６６】
また、図１５に示すように、レンズ１３０に入射してレンズ１５０から出射する方式でなく、逆にレンズ１５０に入射してレンズ１３０から出射することとしても同様の効果が得られる。
（第１１実施形態）
図１７は、本発明の第１１実施形態を示している。この第１１実施形態は、上記第１実施形態にて述べた光反射装置が、網膜走査型表示装置に適用された例を示している。
【０１６７】
当該網膜走査型表示装置は、使用者の左眼用のもので、図示しない右眼用のものと組み合わせて使用しても、単体で使用してもよい。両者はほぼ同じ構成であるから、ここでは左眼用について説明する。
【０１６８】
この表示装置は、映像信号処理回路１６０を備えている。映像信号処理回路１６０は、外部回路からの映像信号に基づき水平同期信号及び垂直同期信号、青色駆動信号、緑色駆動信号及び赤色駆動信号並びに映像の奥行きを表す奥行き信号を発生する。
【０１６９】
当該表示装置は、水平走査駆動回路１７０ａ及び垂直走査駆動回路１７０ｂを備えており、水平走査駆動回路１７０ａは、映像信号処理回路１６０からの水平同期信号に基づき水平走査機構２１０に水平走査させる。垂直走査駆動回路１７０ｂは、映像信号処理回路１６０からの垂直同期信号に基づき垂直走査機構２３０に垂直走査させる。
【０１７０】
また、当該表示装置は、レーザ光生成回路１８０を備えており、このレーザ光生成回路１８０は、映像信号処理回路１６０からの青色駆動信号、緑色駆動信号及び赤色駆動信号に基づき青色、緑色及び赤色のレーザ光を発生して各駆動信号に応じて強度変調した上で合波しビーム状の画像レーザ光を生成する。
【０１７１】
また、当該表示装置は、光ファイバ１９０、コリメートレンズ１９０ａ及び波面曲率変調装置２００を備えている。光ファイバ１９０は、レーザ光生成回路１８０からの画像レーザ光を導光してコリメートレンズ１９０ａに向けて出射する。このコリメートレンズ１９０ａは、光ファイバ１９０から出射する画像レーザ光をコリメートしてコリメート光を波面曲率変調装置２００に向けて出射する。
【０１７２】
波面曲率変調装置２００は、上記第１実施形態にて述べた光反射装置を構成する制御回路３０及び光反射素子（以下、光反射素子Ｅともいう）、ビームスプリッタ２０１並びに凸レンズ２０２でもって構成されている。
【０１７３】
光反射素子Ｅは、その薄板状弾性部１４にて、凸レンズ２０２を介しビームスプリッタ２０１に対向するように配設されている。
【０１７４】
ビームスプリッタ２０１は、コリメートレンズ１９０ａからのコリメート光を２方向に分割して一方を凸レンズ２０２に向けて出射し、また、凸レンズ２０２から出射する光を同様に２方向に分割し一方の分割された光を水平走査機構２１０に向けて出射する。
【０１７５】
凸レンズ２０２は、ビームスプリッタ２０１からの分割コリメート光を収束して光反射素子Ｅの基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射させる。また、当該凸レンズ２０２は、光反射素子Ｅの薄板状弾性部１４の鏡面中央に入射して反射される光を屈折させてビームスプリッタ２０１に向けて出射する。
【０１７６】
本実施形態では、光反射素子Ｅの基板１０の薄板状弾性部１４が湾曲変形していないとき、凸レンズ２０２は、その焦点にて、基板１０の薄板状弾性部１４の鏡面中央上に位置するように配設されている。
【０１７７】
従って、薄板状弾性部１４が凹所１２側へ湾曲変形するか或いは凹所１２とは反対側へ湾曲変形すると、薄板状弾性部１４の鏡面中央で反射される光は、凸レンズ２０１により収束或いは拡散するように屈折されてビームスプリッタ２０１の分割作用のもとに水平走査機構２１０へ出力される。このことは、コリメートレンズ１９０ａからのコリメート光（換言すれば、レーザ光生成回路１８０からの画像レーザ光）が、その波面曲率にて、波面曲率変調装置２００により変調されて、水平走査機構２１０に出射されることを意味する。
【０１７８】
制御回路３０は、映像信号処理回路１６０からの奥行き信号に基づき映像の奥行きの大小に対応して正負の制御電圧を発生し光り反射素子Ｅの起歪素子２０に印加する。
【０１７９】
水平走査機構２１０はポリゴンミラーからなるもので、この水平走査機構２１０は、水平走査駆動回路１７０ａにより駆動されて、ビームスプリッタ２０１からの分割光を水平走査しリレー光学系２２０を通して垂直走査機構２３０に向けて出射する。
【０１８０】
垂直走査機構２３０は、垂直走査駆動回路１７０ｂにより駆動されて、リレー光学系２２０からの水平走査光を垂直走査しリレー光学系２４０を通し２次元状の走査光として使用者の左眼Ｉの瞳孔１ａに入射する。これに伴い、当該２次元状の走査光は、左眼Ｉの網膜に２次元状の映像として表示される。
【０１８１】
ここで、上述のように、レーザ光生成回路１８０からの画像レーザ光は、その波面曲率にて、波面曲率変調装置２００により変調された上で、波面曲率変調光として、水平走査機構２１０、リレー光学系２２０、垂直走査機構２３０及びリレー光学系２４０を通り左眼Ｉに入射する。従って、左眼Ｉの網膜に表示される映像は、上記波面曲率変調光に応じたピント位置のもとに表示される。
【０１８２】
以上のように構成した本第１１実施形態では、上記第１実施形態にて述べた光反射装置の光反射素子Ｅが水平走査機構２１０、コリメートレンズ１９０ａ及び当該光反射装置の制御回路３０の間に介装されている。
【０１８３】
ここで、光反射素子Ｅが、基板１０及び起歪素子２０でもって上記第１実施形態にて述べたように構成されているから、当該光反射素子Ｅ自体は小型に構成されている。従って、波面曲率変調装置２００も同様に小型に構成されている。その結果、当該表示装置がより一層コンパクトに構成され得る。
【０１８４】
なお、本発明の実施にあたり、上記各実施形態に限ることなく、次のような種々の変形例が挙げられる。
（１）起歪素子２０、５０或いは１２０は、圧電素子に限ることなく、例えば、電歪素子や磁歪素子であってもよい。
（２）上記第４実施形態にて述べた基板７０の形成材料は合成樹脂材料であってもよい。なお、基板７０の薄板状弾性部７１の表面は、研磨面と実質的に同様の処理がなされていることが望ましい。
（３）基板１０の表面（研磨面）に反射膜を薄膜状にコーティングすることで鏡面としてもよい。
（４）基板１０は、一般的には、適宜な形状の基体であってもよく、この基体に凹所１２をエッチングでもって形成して薄板状弾性部及び支持部を形成するようにしてもよい。また、当該基体は、凹所を形成するように板状薄板部及び支持部を設けることで構成してもよい。
（５）表示装置としては、網膜走査型表示装置に限ることもなく、一般に画像によって変調された光を２次元方向に走査することで画像を表示する光走査型表示装置であればよく、この光走査型表示装置に波面曲率変調装置２００を適用することで、当該走査型表示装置のコンパクト化が確保され得る。
（６）基板１０の鏡面が形成される部位は、光の反射される部位さえ含めばよいので、光の反射される部位付近に限定し形成されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１８５】
【図１】図２にて１−１線に沿う断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態を示す斜視図である。
【図３】本発明の第２実施形態を示す正面図である。
【図４】本発明の第３実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明の第４実施形態を示す断面図である。
【図６】本発明の第５実施形態を示す断面図である。
【図７】上記第５実施形態の平面図である。
【図８】本発明の第６実施形態を示す断面図である。
【図９】図９の光反射素子の平面図である。
【図１０】本発明の第７実施形態を示す断面図である。
【図１１】本発明の第８実施形態を示す断面図である。
【図１２】図１１の光反射素子の平面図である。
【図１３】本発明の第９実施形態を示す断面図である。
【図１４】図１３の光反射素子の平面図である。
【図１５】本発明の第１０実施形態を示す概略断面図である。
【図１６】図１５の両光反射素子の配置構成を示す平面図である。
【図１７】本発明の第１１実施形態を示す全体構成図である。
【符号の説明】
【０１８６】
１０、７０、１００…基板、１１、７１ａ、１０１…表面、１２、１０２…凹所、
１２ａ、１０２ａ…底面、７１ｂ…裏面、１４、７１、１０４…薄板状弾性部、
１４ａ…高剛性部位、１５、１０５…側板部、７２…脚部、１６…高剛性部材、
２０、５０、１１０…起歪素子、３０…制御回路、４０…支持板、７２…脚部、
９０、１３０…凸レンズ、１４０…反射板、１６０…映像信号処理回路、
１８０…レーザ光生成回路、１９０…光ファイバ、１９０ａ…コリメートレンズ、
２１０…水平走査機構、２３０…垂直走査機構、２００…波面曲率変調装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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