(57)【要約】【課題】  複数のフィルタ領域を作り込んだ複数取り形式の基板に対し、フィルタ領域内で乾燥ムラの生ずることなく描画処理を行うことができる液滴吐出装置を用いた描画方法等を提供することを課題とする。【解決手段】  フィルタ領域ＦをＸ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板Ｗｔに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッド７１を用いて描画処理を行う液滴吐出装置１を用いた描画方法であって、ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）のフィルタ領域ＦのＹ軸方向の幅である領域描画幅Ｒに対応するように描画ラインＬを構成した状態で、機能液滴吐出ヘッド７１のＸ軸方向への相対的な移動に同期して機能液滴吐出ヘッド７１を駆動する主走査と、機能液滴吐出ヘッド７１をＹ軸方向へ描画ラインＬ分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、描画処理を行う。【選択図】  図９
2006078896.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素領域を有するフィルタ領域を、間隙を存して、Ｘ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを用い、前記複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置を用いた描画方法であって、
ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）の前記フィルタ領域の前記Ｙ軸方向の幅である領域描画幅に対応するように、前記機能液滴吐出ヘッドの複数の吐出ノズルにより描画ラインを構成した状態で、
前記基板に対する前記機能液滴吐出ヘッドの前記Ｘ軸方向への相対的な移動に同期して前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、前記基板に対して前記機能液滴吐出ヘッドを前記Ｙ軸方向へ前記描画ライン分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、前記描画処理を行うことを特徴とする液滴吐出装置を用いた描画方法。
【請求項２】
複数の画素領域を有するフィルタ領域を、間隙を存して、Ｘ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板に対し、複数色の機能液をそれぞれ導入すると共に前記Ｙ軸方向において互いに同位置に配置した色別複数の機能液滴吐出ヘッドを用い、前記複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置を用いた描画方法であって、
ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）の前記フィルタ領域の前記Ｙ軸方向の幅である領域描画幅に対応するように、前記色別複数の機能液滴吐出ヘッドのそれぞれ複数の吐出ノズルにより色別複数の描画ラインを構成した状態で、
前記基板に対する前記各機能液滴吐出ヘッドの前記Ｘ軸方向への相対的な移動に同期して前記各機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、前記基板に対して前記各機能液滴吐出ヘッドを前記Ｙ軸方向へ前記描画ライン分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、前記描画処理を行うことを特徴とする液滴吐出装置を用いた描画方法。
【請求項３】
複数の画素領域を有するフィルタ領域を、間隙を存して、Ｘ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを用い、前記複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置であって、
前記機能液滴吐出ヘッドと、
前記基板に対し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向に相対的に移動させる移動手段と、
前記機能液滴吐出ヘッドおよび前記移動手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）の前記フィルタ領域の前記Ｙ軸方向の幅である領域描画幅に対応するように、前記機能液滴吐出ヘッドの複数の吐出ノズルにより描画ラインを構成した状態で、前記基板に対する前記機能液滴吐出ヘッドの前記Ｘ軸方向への相対的な移動に同期して前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、前記基板に対して前記機能液滴吐出ヘッドを前記Ｙ軸方向へ前記描画ライン分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、前記描画処理を行わせることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
前記機能液滴吐出ヘッドは、複数設けられ、
前記複数の機能液滴吐出ヘッドは、複数のキャリッジに搭載され複数のキャリッジユニットを構成し、
前記描画ラインは、前記各キャリッジユニットの前記複数の機能液滴吐出ヘッドのそれぞれ複数の吐出ノズルから成る部分描画ラインが前記Ｙ軸方向に連続して構成されることを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記移動手段は、前記基板を搭載すると共に、前記基板を前記Ｘ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、前記複数のキャリッジユニットを前記Ｙ軸方向に個々に移動させるＹ軸テーブルとを有し、
前記制御手段は、前記基板の前記Ｘ軸方向への移動に同期して前記各機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、前記キャリッジユニットを介して、前記各機能液滴吐出ヘッドを前記描画ライン分移動させる副走査とを繰り返して、前記描画処理を行わせることを特徴とする請求項４に記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記Ｙ軸テーブルによる前記複数のキャリッジユニットの移動軌跡上には、前記各機能液滴吐出ヘッドを機能維持状態に保管するヘッド保管手段が設けられ、
前記複数のキャリッジユニットは、全前記部分描画ラインから構成される最大幅描画ラインが前記Ｘ軸テーブルに搭載可能な前記基板の最長の前記領域描画幅をカバーする個数で構成されており、
前記制御手段は、前記複数のキャリッジユニットのうち、前記Ｘ軸テーブルに搭載した前記基板の前記領域描画幅に対応する前記描画ラインを構成する最小個数の前記キャリッジユニットの前記各機能液滴吐出ヘッドを稼動させて前記描画処理を行うと共に、それ以外の前記キャリッジユニットを前記ヘッド保管手段に臨ませることを特徴とする請求項５に記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
複数の画素領域を有するフィルタ領域を、間隙を存して、Ｘ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板に対し、複数色の機能液をそれぞれ導入すると共に前記Ｙ軸方向において互いに同位置に配置した色別複数の機能液滴吐出ヘッドを用い、前記複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置であって、
前記色別複数の機能液滴吐出ヘッドと、
前記基板に対し、前記各機能液滴吐出ヘッドを前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向に相対的に移動させる移動手段と、
前記各機能液滴吐出ヘッドおよび前記移動手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）の前記フィルタ領域の前記Ｙ軸方向の幅である領域描画幅に対応するように、前記色別複数の機能液滴吐出ヘッドのそれぞれ複数の吐出ノズルにより色別複数の描画ラインを構成した状態で、前記基板に対する前記各機能液滴吐出ヘッドの前記Ｘ軸方向への相対的な移動に同期して前記各機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、前記基板に対して前記各機能液滴吐出ヘッドを前記Ｙ軸方向へ前記描画ライン分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、前記描画処理を行わせることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
各色の前記機能液滴吐出ヘッドは、複数設けられ、
各色の前記複数の機能液滴吐出ヘッドは、複数のキャリッジに搭載され複数のキャリッジユニットを構成し、
各色の前記描画ラインは、前記各キャリッジユニットの各色の前記複数の機能液滴吐出ヘッドのそれぞれ複数の吐出ノズルから成る部分描画ラインが前記Ｙ軸方向に連続して構成されることを特徴とする請求項７に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
前記移動手段は、前記基板を搭載すると共に、前記基板を前記Ｘ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、前記複数のキャリッジユニットを前記Ｙ軸方向に個々に移動させるＹ軸テーブルとを有し、
前記制御手段は、前記基板の前記Ｘ軸方向への移動に同期して前記各機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、前記キャリッジユニットを介して、前記各機能液滴吐出ヘッドを前記描画ライン分移動させる副走査とを繰り返して、前記描画処理を行わせることを特徴とする請求項８に記載の液滴吐出装置。
【請求項１０】
前記Ｙ軸テーブルによる前記複数のキャリッジユニットの移動軌跡上には、前記各機能液滴吐出ヘッドを機能維持状態に保管するヘッド保管手段が設けられ、
前記複数のキャリッジユニットは、各色の全前記部分描画ラインから構成される最大幅描画ラインが前記Ｘ軸テーブルに搭載可能な前記基板の最長の前記領域描画幅をカバーする個数で構成されており、
前記制御手段は、前記複数のキャリッジユニットのうち、前記Ｘ軸テーブルに搭載した前記基板の前記領域描画幅に対応する前記色別複数の描画ラインを構成する最小個数の前記キャリッジユニットの前記各機能液滴吐出ヘッドを稼動させて前記描画処理を行うと共に、それ以外の前記キャリッジユニットを前記ヘッド保管手段に臨ませることを特徴とする請求項９に記載の液滴吐出装置。
【請求項１１】
請求項３ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項３ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１２に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数のフィルタ領域を作り込んだ複数取り形式の基板に対し、機能液滴吐出ヘッドによりインクジェット方式で機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置を用いた描画方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置のカラーフィルタ等の基板に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドをＸ軸方向に相対的に移動させながら、基板上に構成された複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させる主走査（吐出走査）と、機能液滴吐出ヘッドをＹ軸方向に相対的に移動させる副走査とを繰り返し行って、描画処理を行う液滴吐出装置が知られている。そして、この描画処理後、乾燥処理を行って、各画素領域に着弾した機能液中の溶剤を気化させることで、カラーフィルタの着色層（成膜部）が形成される。（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００３−２６５９９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、カラーフィルタ製造の効率アップを図るべく、基板を、複数の画素領域を有するフィルタ領域を間隙を存してＸ軸方向およびＹ軸方向に並べて複数作り込んだ複数取り形式のものとして構成することが考えられている。しかしながら、従来の液滴吐出装置では、機能液滴吐出ヘッドの複数の吐出ノズルにより構成される描画ラインと、フィルタ領域のＹ軸方向における幅とが対応していないため、１のフィルタ領域に対し２回以上の主走査により描画処理が行われる場合があった。この場合、先に主走査が行われた範囲と、後に主走査が行われた範囲との間で、各画素領域に機能液滴が吐出・着弾してから乾燥処理が行われるまでの時間が相違し、乾燥処理前における溶剤の気化量が互いに異なるものとなっていた。このような状態で乾燥処理が行われると、両範囲間において、乾燥ムラが生じるという問題があった。この乾燥ムラは、カラーフィルタにおいては、色ムラ（表示ムラ）の原因となる。特に、先に主走査が行われる範囲と、後に主走査が行われる範囲との境界部分では、この色ムラが目立ってしまう。
【０００４】
本発明は、複数のフィルタ領域を作り込んだ複数取り形式の基板に対し、フィルタ領域内で乾燥ムラの生ずることなく描画処理を行うことができる液滴吐出装置を用いた描画方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の液滴吐出装置を用いた描画方法は、複数の画素領域を有するフィルタ領域を、間隙を存して、Ｘ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを用い、複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置を用いた描画方法であって、ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）のフィルタ領域のＹ軸方向の幅である領域描画幅に対応するように、機能液滴吐出ヘッドの複数の吐出ノズルにより描画ラインを構成した状態で、基板に対する機能液滴吐出ヘッドのＸ軸方向への相対的な移動に同期して機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、基板に対して機能液滴吐出ヘッドをＹ軸方向へ描画ライン分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、描画処理を行うことを特徴とする。
【０００６】
また、本発明の液滴吐出装置は、複数の画素領域を有するフィルタ領域を、間隙を存して、Ｘ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを用い、複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置であって、機能液滴吐出ヘッドと、基板に対し、機能液滴吐出ヘッドをＸ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動させる移動手段と、機能液滴吐出ヘッドおよび移動手段を制御する制御手段と、を備え、制御手段は、ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）のフィルタ領域のＹ軸方向の幅である領域描画幅に対応するように、機能液滴吐出ヘッドの複数の吐出ノズルにより描画ラインを構成した状態で、基板に対する機能液滴吐出ヘッドのＸ軸方向への相対的な移動に同期して機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、基板に対して機能液滴吐出ヘッドをＹ軸方向へ描画ライン分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、描画処理を行わせることを特徴とする。
【０００７】
これらの構成によれば、描画ラインと、領域描画幅とを対応させた状態で、機能液滴の吐出・着弾がなされることで、各フィルタ領域に対して１回の主走査で機能液滴の吐出・着弾がなされ、各フィルタ領域に対して複数回の主走査で描画処理が行われることがない。このため、各フィルタ領域において、各画素領域に機能液滴が吐出・着弾してから乾燥処理が行われるまでの時間が略同一となり、機能液の溶剤の気化量が均一な状態で乾燥処理が行われる。したがって、複数取り形式の基板に対し、フィルタ領域内で乾燥ムラの生ずることなく描画処理を行うことができる。
【０００８】
なお、１回の主走査とは、副走査と副走査との間に行われる１回または複数回に亘る機能液滴吐出ヘッドの相対的な移動（往動および／または復動）をいう。
また、機能液滴吐出ヘッドの全吐出ノズルにより描画ラインを構成することが好ましく、これによれば、全吐出ノズルから機能液滴を吐出・着弾させて描画処理が行われるため、描画処理中に吐出ノズルが吐出駆動しない（遊んでしまう）ことがなく、その吐出ノズルの機能液が乾燥（ノズル詰まり）して吐出機能が低下するおそれがない。
【０００９】
本発明の他の液滴吐出装置を用いた描画方法は、複数の画素領域を有するフィルタ領域を、間隙を存して、Ｘ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板に対し、複数色の機能液をそれぞれ導入すると共にＹ軸方向において互いに同位置に配置した色別複数の機能液滴吐出ヘッドを用い、複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置を用いた描画方法であって、ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）のフィルタ領域のＹ軸方向の幅である領域描画幅に対応するように、色別複数の機能液滴吐出ヘッドのそれぞれ複数の吐出ノズルにより色別複数の描画ラインを構成した状態で、基板に対する各機能液滴吐出ヘッドのＸ軸方向への相対的な移動に同期して各機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、基板に対して各機能液滴吐出ヘッドをＹ軸方向へ描画ライン分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、描画処理を行うことを特徴とする。
【００１０】
本発明の他の液滴吐出装置は、複数の画素領域を有するフィルタ領域を、間隙を存して、Ｘ軸方向にｍ個（ｍは１以上の整数）およびＹ軸方向にｎ個（ｎは２以上の整数）作り込んだ複数取り形式の基板に対し、複数色の機能液をそれぞれ導入すると共にＹ軸方向において互いに同位置に配置した色別複数の機能液滴吐出ヘッドを用い、複数の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置であって、色別複数の機能液滴吐出ヘッドと、基板に対し、各機能液滴吐出ヘッドをＸ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動させる移動手段と、各機能液滴吐出ヘッドおよび移動手段を制御する制御手段と、を備え、制御手段は、ｋ個（ｋはｎの約数且つｋ≠ｎ）のフィルタ領域のＹ軸方向の幅である領域描画幅に対応するように、色別複数の機能液滴吐出ヘッドのそれぞれ複数の吐出ノズルにより色別複数の描画ラインを構成した状態で、基板に対する各機能液滴吐出ヘッドのＸ軸方向への相対的な移動に同期して各機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、基板に対して各機能液滴吐出ヘッドをＹ軸方向へ描画ライン分相対的に移動させる副走査とを繰り返して、描画処理を行わせることを特徴とする。
【００１１】
これらの構成によれば、色別複数の描画ラインと、領域描画幅とを対応させた状態で、機能液滴の吐出・着弾がなされることで、各フィルタ領域に対し１回の主走査で複数色の機能液滴の吐出・着弾がなされ、各フィルタ領域に対して複数回の主走査で描画処理が行われることがない。このため、上記と同様に、各フィルタ領域において、機能液の溶剤の気化量が均一な状態で乾燥処理が行われることになり、乾燥ムラの生ずることがない。したがって、複数取り形式の基板に対し、フィルタ領域内で色ムラの生ずることなく、描画処理を行うことができる。
【００１２】
なお、１回の主走査とは、上記と同様に、副走査と副走査との間に行われる１回または複数回に亘る機能液滴吐出ヘッドの相対的な移動（往動および／または復動）をいう。また、上記と同様に、色別複数の機能液滴吐出ヘッドの全吐出ノズルにより色別複数の描画ラインを構成することが好ましい。
さらに、カラーフィルタにおいては、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の３色の機能液滴が所定の配色パターンに基づいて画素領域にそれぞれ着弾し、機能液滴が着弾した３個の画素領域、すなわち、Ｒの機能液滴が着弾した画素領域と、Ｇの機能液滴が着弾した画素領域と、Ｂの機能液滴が着弾した画素領域とにより、いわゆる画素が構成される。複数色の機能液としては、上記のＲ・Ｇ・Ｂ３色の機能液が常用されているが、色再現性を高めるべく、Ｒ・Ｇ・ＢにＣ（シアン）やＥ（エメラルド）を加えた４色の機能液を用いてもよく、他の組み合わせ・他の色数の機能液を用いてもよい。
【００１３】
上記の液滴吐出装置において、機能液滴吐出ヘッドは、複数設けられ、複数の機能液滴吐出ヘッドは、複数のキャリッジに搭載され複数のキャリッジユニットを構成し、描画ラインは、各キャリッジユニットの複数の機能液滴吐出ヘッドのそれぞれ複数の吐出ノズルから成る部分描画ラインがＹ軸方向に連続して構成されることが好ましい。
【００１４】
上記の他の液滴吐出装置において、各色の機能液滴吐出ヘッドは、複数設けられ、各色の複数の機能液滴吐出ヘッドは、複数のキャリッジに搭載され複数のキャリッジユニットを構成し、各色の描画ラインは、各キャリッジユニットの各色の複数の機能液滴吐出ヘッドのそれぞれ複数の吐出ノズルから成る部分描画ラインがＹ軸方向に連続して構成されることが好ましい。
【００１５】
これらの構成によれば、標準的な吐出ノズル数の機能液滴吐出ヘッドを複数用いて、描画ラインを構成することができると共に、複数の機能液滴吐出ヘッドを複数のキャリッジに分散して搭載することで、各キャリッジユニットを構成する機能液滴吐出ヘッドの個数が少なくなるため、キャリッジユニット毎になされる機能液滴吐出ヘッドの相互の位置合わせや機能液滴吐出ヘッドの交換作業を容易に行うことができる。
なお、これらの場合、複数のキャリッジユニットは、Ｘ軸方向に互いに位置ずれして配置されることが好ましく、これによれば、キャリッジユニット間相互の物理的干渉を回避することができる。
【００１６】
上記の液滴吐出装置において、移動手段は、基板を搭載すると共に、基板をＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、複数のキャリッジユニットをＹ軸方向に個々に移動させるＹ軸テーブルとを有し、制御手段は、基板のＸ軸方向への移動に同期して各機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、キャリッジユニットを介して、各機能液滴吐出ヘッドを描画ライン分移動させる副走査とを繰り返して、描画処理を行わせることが好ましい。
さらに、この場合、Ｙ軸テーブルによる複数のキャリッジユニットの移動軌跡上には、各機能液滴吐出ヘッドを機能維持状態に保管するヘッド保管手段が設けられ、複数のキャリッジユニットは、全部分描画ラインから構成される最大幅描画ラインがＸ軸テーブルに搭載可能な基板の最長の領域描画幅をカバーする個数で構成されており、制御手段は、複数のキャリッジユニットのうち、Ｘ軸テーブルに搭載した基板の領域描画幅に対応する描画ラインを構成する最小個数のキャリッジユニットの各機能液滴吐出ヘッドを稼動させて描画処理を行うと共に、それ以外のキャリッジユニットをヘッド保管手段に臨ませることが好ましい。
【００１７】
上記の他の液滴吐出装置において、移動手段は、基板を搭載すると共に、基板をＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、複数のキャリッジユニットをＹ軸方向に個々に移動させるＹ軸テーブルとを有し、制御手段は、基板のＸ軸方向への移動に同期して各機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、キャリッジユニットを介して、各機能液滴吐出ヘッドを描画ライン分移動させる副走査とを繰り返して、描画処理を行わせることが好ましい。
さらに、この場合、Ｙ軸テーブルによる複数のキャリッジユニットの移動軌跡上には、各機能液滴吐出ヘッドを機能維持状態に保管するヘッド保管手段が設けられ、複数のキャリッジユニットは、各色の全部分描画ラインから構成される最大幅描画ラインがＸ軸テーブルに搭載可能な基板の最長の領域描画幅をカバーする個数で構成されており、制御手段は、複数のキャリッジユニットのうち、Ｘ軸テーブルに搭載した基板の領域描画幅に対応する色別複数の描画ラインを構成する最小個数のキャリッジユニットの各機能液滴吐出ヘッドを稼動させて描画処理を行うと共に、それ以外のキャリッジユニットをヘッド保管手段に臨ませることが好ましい。
【００１８】
これらの構成によれば、搭載された基板の領域描画幅に応じて、必要最小数のキャリッジユニットに搭載された機能液滴吐出ヘッドを稼動させて描画処理を行うと共に、それ以外のキャリッジユニットに搭載された機能液滴吐出ヘッドをヘッド保管手段に臨ませることで、稼動しない機能液滴吐出ヘッドの吐出ノズルの乾燥等による吐出機能低下を防止することができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２０】
本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２１】
これらの構成によれば、複数取り形式の基板に対し、乾燥ムラ（色ムラ）なく描画処理を行うことができる液滴吐出装置を用いて製造されるため、高品質な電気光学装置を効率良く製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２２】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２３】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、液晶表示装置等のＦＰＤの製造ラインに組み込まれた描画システムに設置されており、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入して、液晶表示装置等のカラーフィルタの基板上に機能液滴による着色層（成膜部）を形成するものである。そこで、まず、液滴吐出装置１による描画対象となる基板（ワーク）について説明する。なお、以下に説明する基板のサイズ等の値は概数である。
【００２５】
図１に示すように、基板Ｗは、石英ガラスやポリイミド樹脂等で構成された透明基板であり、そのサイズは、１５００ｍｍ×１８００ｍｍである。基板Ｗの両長辺部分には、導入された液滴吐出装置１（図２参照）により位置認識される一対の基板アライメントマーク（図示省略）が形成されており、その長辺がＹ軸方向と平行になるようにして、セットされる（後述する）。
【００２６】
また、この基板Ｗは、複数取り形式のものであり、予め、複数の画素領域５０７ａをマトリクス状に構成したフィルタ領域Ｆを、間隙を存して複数作り込んである。基板Ｗには、作り込まれたフィルタ領域Ｆの個数よって様々な種類のものがあり、本実施形態では、１２８０ｍｍ×５４０ｍｍのサイズのフィルタ領域Ｆが３個作り込まれた３面取り基板Ｗｔ（同図（ａ）参照）、７３０ｍｍ×３５０ｍｍのサイズのフィルタ領域Ｆが８個作り込まれた８面取り基板Ｗｅ（同図（ｂ）参照）の２種類が用いられる。３面取り基板Ｗｔでは、間隙（Ｙ軸方向に４５ｍｍ）を存して、Ｘ軸方向に１個、Ｙ軸方向に３個のフィルタ領域Ｆが作り込まれている。また、８面取り基板Ｗｅでは、間隙（Ｘ軸方向に２０ｍｍ、Ｙ軸方向に２０ｍｍ）を存して、Ｘ軸方向に２個、Ｙ軸方向に４個のフィルタ領域Ｆが作り込まれている。
【００２７】
なお、３面取り基板Ｗｔの３個のフィルタ領域Ｆを、後述する描画エリア３１側からメンテナンスエリア３２側に向けて（図１の右側から左側に向けて）順に第１フィルタ領域Ｆａ、第２フィルタ領域Ｆｂ、第３フィルタ領域Ｆｃとする（図８参照）。また、８面取り基板Ｗｅの８個のフィルタ領域Ｆのうち、後述する基板Ｗの往動側（図１の上側）の４個のフィルタ領域Ｆを、描画エリア３１側からメンテナンスエリア３２側に向けて（同図の右側から左側に向けて）順に第１フィルタ領域Ｆａ、第２フィルタ領域Ｆｂ、・・・、第４フィルタ領域Ｆｄとし、後述する基板Ｗの復動側（同図の下側）の４個のフィルタ領域Ｆを、描画エリア３１側からメンテナンスエリア３２側に向けて順に第５フィルタ領域Ｆｅ、第６フィルタ領域Ｆｆ、・・・、第８フィルタ領域Ｆｈとする（図１２参照）。
【００２８】
各画素領域５０７ａは、区画壁部５０７ｂで囲まれた平面視長方形の凹部となっており、後述する機能液滴吐出ヘッド７１によりＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）３色の成膜部（着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂ）を形成する際に、機能液滴の着弾領域となる（図１６参照）。この場合、機能液滴が着弾した３個の画素領域、すなわち、Ｒの機能液滴が着弾した画素領域と、Ｇの機能液滴が着弾した画素領域と、Ｂの機能液滴が着弾した画素領域とにより、いわゆる画素が構成される。
【００２９】
本実施形態における複数の画素領域５０７ａの配色パターンは、マトリクスの横列（Ｙ軸方向）においてすべて同色となるストライプ配列である。もっとも、マトリクスの縦列（Ｘ軸方向）においてすべて同色となるストライプ配列であってもよい。さらに、マトリクスの縦列・横列に並んだ任意の３つの画素が、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色となるモザイク配列であってもよく、複数の画素領域５０７ａが千鳥をなすデルタ配列であってもよい。
【００３０】
次に、本発明に係る液滴吐出装置について説明する。図２ないし図４に示すように、液滴吐出装置１は、基板Ｗに対しＲ・Ｇ・Ｂ３色の機能液を吐出可能なものであって、床上に設置した大型の共通架台（図示省略）と、共通架台上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド７１（キャリッジユニット２１）を搭載した描画装置１１と、描画装置１１に添設されたメンテナンス手段１２とを備え、メンテナンス手段１２により機能液滴吐出ヘッド７１の機能維持・回復を行うと共に、描画装置１１により基板Ｗ上に機能液を吐出する描画処理を行うようにしている。また、液滴吐出装置１には、上記の描画システム全体を制御する上位コンピュータ２に接続され液滴吐出装置１の各部を制御するコントローラ１３（制御部１２２、図７参照）等が組み込まれている。さらに、図示しないが、液滴吐出装置１には、ロボットアームで構成された基板搬出入装置が添設されており、この基板搬出入装置を介して、液滴吐出装置１に基板Ｗが導入される。
【００３１】
まず、液滴吐出装置１における描画装置１１およびこれによる描画処理について説明する。描画装置１１は、それぞれ複数（２４個）の機能液滴吐出ヘッド７１およびこれを搭載したキャリッジ６２から成る複数（５個）のキャリッジユニット２１と、共通架台上に設置され、基板Ｗを載置する吸着テーブル４１を有し、基板ＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル２２と、Ｘ軸テーブル２２を跨ぐようにして配設され、５個のキャリッジユニット２１を個々にＹ軸方向に移動させるＹ軸テーブル２３と、機能液を貯留する機能液タンク（図示省略）および各機能液滴吐出ヘッド７１に供給する機能液の水頭圧を調整する圧力調整弁（図示省略）を有し、各機能液滴吐出ヘッド７１に機能液を供給する機能液供給手段（図示省略）と、基板Ｗやキャリッジユニット２１等を画像認識する各種カメラを有する画像認識手段２４とを備えている。
【００３２】
そして、Ｘ軸テーブル２２による基板Ｗの移動軌跡と、Ｙ軸テーブル２３によるキャリッジユニット２１の移動軌跡とが交わる領域が、描画処理を行う描画エリア３１となっており、また、Ｙ軸テーブル２３によるキャリッジユニット２１の移動軌跡上のＸ軸テーブル２２から外側に外れた領域が、メンテナンスエリア３２となっており、このメンテナンスエリア３２に上記のメンテナンス手段１２が設置されている。一方、Ｘ軸テーブル２２の手前側の領域は、液滴吐出装置１に対する基板Ｗの搬出入を行う基板搬出入エリア３３となっている。
【００３３】
Ｘ軸テーブル２２は、導入された基板Ｗを吸着セットする吸着テーブル４１と、吸着テーブル４１の下部に接続され、吸着テーブル４１を介して基板Ｗのθ位置を微調整（θ補正）する基板θ軸テーブル４２と、基板θ軸テーブル４２を支持するセットテーブル４３と、セットテーブル４３をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ４４と、Ｘ軸方向に延在し、吸着テーブル４１を介して基板ＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｘ軸リニアモータに並設され、Ｘ軸エアースライダ４４の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール４５，４５と、吸着テーブル４１の位置を把握するためのＸ軸リニアスケール（図示省略）とを備えている。そして、一対のＸ軸リニアモータを駆動すると、一対のＸ軸ガイドレール４５，４５をガイドにしながら、Ｘ軸エアースライダ４４をＸ軸方向に移動し、吸着テーブル４１にセットされた基板ＷがＸ軸方向に移動する。
なお、本実施形態では、基板Ｗ（吸着テーブル４１）が基板搬出入エリア３３側から描画エリア３１側（図３の下側から上側）に移動するときを往動とし、描画エリア３１側から基板搬出入エリア３３側（同図の上側から下側）に移動するときを復動とする。
【００３４】
吸着テーブル４１は、平面視略正方形に形成され、その一辺の長さは、基板Ｗの長辺の長さに合わせて１８００ｍｍに設定されており、基板Ｗを縦置き（基板Ｗの長辺をＸ軸方向と平行にする）および横置き（基板Ｗの長辺をＹ軸方向と平行にする）のいずれか任意の向きで、且つセンター中心でセット可能になっている。もっとも、本実施形態では、基板Ｗを横置きでセットするものとする。
【００３５】
そして、Ｘ軸テーブル２２による往復動の範囲は、基板ＷのＸ軸方向の端から端まで（１５００ｍｍ）を描画エリア３１に臨ませるべく、２０００ｍｍとなっている。また、Ｘ軸テーブル２２の移動速度は、２００ｍｍ／秒である。したがって、Ｘ軸テーブル２２による往復動には、片道１０秒を要する。
【００３６】
なお、セットテーブル４３上には、吸着テーブル４１に対し基板Ｗの往動側（図４の左側）に隣接して、ドット抜け検査台１１６が配設されている。このドット抜け検査台１１６には、上面に巻取り自在な検査紙が張設されており、この検査紙に対して全機能液滴吐出ヘッド７１から検査用に機能液滴を吐出させ、その描画結果を後述するドット認識カメラ１０２で画像認識することで、ドット抜け、飛行曲がり等の不良吐出の有無が検査（ドット抜け検査）される。さらに、セットテーブル４３上には、ドット抜け検査台１１６に対し基板Ｗの往動側に隣接して、定期フラッシングボックス１１４が設けられている。
【００３７】
一方、Ｙ軸テーブル２３は、Ｙ軸方向に延在する前後一対の支持スタンド５６，５６上に支持され、描画エリア３１およびメンテナンスエリア３２間を架け渡すと共に、５個のキャリッジユニット２１を、描画エリア３１とメンテナンスエリア３２との間で個々に移動させるものである。Ｙ軸テーブル２３は、５個のキャリッジユニット２１をそれぞれ垂設する５個のブリッジプレート５１と、５個のブリッジプレート５１がＹ軸方向に整列するよう、これを両持ちで支持する５組のＹ軸スライドテーブル（図示省略）と、Ｙ軸方向に延在し、各組のＹ軸スライドテーブルを介して各ブリッジプレート５１をＹ軸方向に移動させる前後一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｙ軸方向に延在し、５個のブリッジプレート５１の移動を案内する前後各２本（計４本）のＹ軸ガイドレール（図示省略）と、各キャリッジユニット２１の移動位置を検出するＹ軸リニアスケール（図示省略）とを備えている。
【００３８】
そして、一対のＹ軸リニアモータを駆動すると、５組のＹ軸スライドテーブルをそれぞれ独立して移動させ、５個のキャリッジユニット２１を個別にＹ軸方向へ移動させることができる。もちろん、５組のＹ軸スライドテーブルを同時にＹ軸方向に移動させることにより、５個のキャリッジユニット２１を一体としてＹ軸方向に移動させることも可能である。
なお、本実施形態では、単一のＹ軸テーブル２３に５個のキャリッジユニット２１を並べて搭載したが、複数のＹ軸テーブル２３を設け、５個のキャリッジユニット２１をこれらに分割して搭載してもよい。
【００３９】
図示しないが、各ブリッジプレート５１上には、対応する各キャリッジユニット２１に搭載された２４個の機能液滴吐出ヘッド７１を吐出駆動するヘッド用電装ユニットと、これらに機能液を供給する２４個の機能液タンク（図示省略）とが配設されている。５個のヘッド用電装ユニットは、相互に干渉することがないよう（ノイズ防止）、千鳥状に配置されており、５組の機能液タンクは、各ヘッド用電装ユニットに対峙するようにして、千鳥状に配置されている。
【００４０】
５個のキャリッジユニット２１は、Ｙ軸テーブル２３の５個のブリッジプレート５１によりそれぞれ垂設されてＹ軸方向に並んでおり、各キャリッジユニット２１は、２４個の機能液滴吐出ヘッド７１から成るヘッドユニット６１（図５参照）と、ヘッドユニット６１および２４個の圧力調整弁を搭載するキャリッジ６２とから構成されている。そして、５個のキャリッジユニット２１は、キャリッジユニット２１間相互の物理的干渉を回避すべく、Ｘ軸方向に互いに位置ずれして、千鳥状に配設されている。
なお、５個のキャリッジユニット２１を、描画エリア３１側からメンテナンスエリア３２側に向けて（図３の右側から左側に向けて）順に第１キャリッジユニット２１ａ、第２キャリッジユニット２１ｂ、・・・、第５キャリッジユニット２１ｅとする。
【００４１】
各キャリッジ６２は、ヘッドユニット６１および２４個の圧力調整弁を位置決め固定する支持プレート（図示省略）と、支持プレートを保持するキャリッジ本体６６と、キャリッジ本体６６を吊設すると共に、キャリッジ本体６６の上部に連結され、キャリッジ本体６６を介してヘッドユニット６１のθ位置を微調整（θ軸補正）するヘッドθ軸テーブル６７と、ヘッドθ軸テーブル６７の上部に連結され、ヘッドθ軸テーブル６７およびキャリッジ本体６６を介してヘッドユニット６１のＺ位置を微調整（Ｚ軸補正）するヘッドＺ軸テーブル６８とを有している。なお、図示しないが、各支持プレートには、画像認識を前提として、各キャリッジユニット２１（ヘッドユニット６１）をＸ軸、Ｙ軸およびθ軸方向に位置決め（位置認識）するための基準となる一対の基準ピンが設けられている。
【００４２】
図５に示すように、ヘッドユニット６１は、２４個の機能液滴吐出ヘッド７１と、ステンレス等から成る平面視略平行四辺形の厚板で構成され、２４個の機能液滴吐出ヘッド７１を位置決めするヘッドプレート７２と、各機能液滴吐出ヘッド７１を裏面側から固定するヘッド保持部材７３とを有している。なお、２４個の機能液滴吐出ヘッド７１は、３個ずつ８群のヘッド群７１ｕに分割されている。
【００４３】
図６に示すように、機能液滴吐出ヘッド７１は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針８２を有する機能液導入部８１と、機能液導入部８１に連なる２連のヘッド基板８３と、機能液導入部８１の下方（同図では上方）に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体８４とを備えている。接続針８２は、圧力調整弁を介して機能液タンクに接続され、機能液滴吐出ヘッド７１のヘッド内流路に機能液を供給する。また、ヘッド基板８３には、２連のコネクタ８５，８５が設けられており、各コネクタ８５は、フレキシブルフラットケーブルを介して上記のヘッド用電装ユニット（ヘッドドライバ１３１、図７参照）に接続されている。
【００４４】
ヘッド本体８４は、ピエゾ素子等で構成されたキャビティ９１と、２本のノズル列９４，９４を相互に平行に形成したノズル面９３を有するノズルプレート９２とを有している。各ノズル列９４の長さは、１インチ（２５．４ｍｍ）であって、各ノズル列９４は１８０個のノズル９５が等ピッチ（１４０μｍ）で並べられて構成されている。そして、両ノズル列９４は、互いにノズル列方向に半ピッチ（７０μｍ）分ずれており、ドット密度（解像度）は３６０ｄｐｉである。
【００４５】
また、ヘッド内流路の構造上、両端部に位置するノズル９５からの吐出量が中央部に位置するノズル９５からの吐出量に比べて多くなってしまうため、両端部の各１０個のノズル９５を不吐出ノズルとし、中央部の１６０個のノズル９５を吐出ノズルとして、吐出ノズルのみから機能液を吐出し、不吐出ノズルからは機能液を吐出しないようにしている。そのため、各ノズル列９４のうち中央部の１６０個の吐出ノズルにより部分描画ラインＬｐ（図５参照）が構成される。
【００４６】
図５に示すように、各群３個の機能液滴吐出ヘッド７１は、それぞれ２本のノズル列９４，９４をＹ軸方向と平行にすると共に、Ｙ軸方向において互いに同位置に配置されており、同図の上側から順に、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の機能液をそれぞれ導入したＲ系機能液滴吐出ヘッド７１Ｒ、Ｇ系機能液滴吐出ヘッド７１Ｇ、Ｂ系機能液滴吐出ヘッド７１Ｂとなっている。すなわち、各キャリッジユニット２１の２４個の機能液滴吐出ヘッド７１は、Ｒの機能液滴を吐出する８個のＲ系機能液滴吐出ヘッド７１Ｒと、Ｇの機能液滴を吐出する８個のＧ系機能液滴吐出ヘッド７１Ｇと、Ｂの機能液滴を吐出する８個のＢ系機能液滴吐出ヘッド７１Ｂとから構成される。
【００４７】
そして、各キャリッジユニット２１の８群のヘッド群７１ｕのうち、４群のヘッド群７１ｕを、各色４個の機能液滴吐出ヘッド７１の複数のノズル９５（吐出ノズル）がＹ軸方向に連続するように、ヘッド群７１ｕ毎にＹ軸方向にずらしながら階段状に配設し、さらに、他の４群のヘッド群７１ｕを、上記の４群のヘッド群７１ｕに対しＹ軸方向に列替えして、上記と同様の階段状に配設している。
なお、各機能液滴吐出ヘッド７１は、コネクタ８５がヘッドプレート７２の外側に位置し、ヘッド本体８４がヘッドプレート７２の内側に位置ヘッドプレート７２に固定されている。
【００４８】
そして、各キャリッジユニット２１の各色の全（８個）機能液滴吐出ヘッド７１の全ノズル９５（吐出ノズル）により、各色の部分描画ラインＬｐが構成され、各色の全（５本）部分描画ラインＬｐがＹ軸方向に連続して、各色の最大幅描画ラインＬｍが構成される。そのため、部分描画ラインＬｐの長さは、１８０．６ｍｍ（２５．４ｍｍ／１８０×１６０×８）であり、最大幅描画ラインＬｍの長さは、９０３ｍｍ（１８０．６ｍｍ×５）である。これによれば、標準的なノズル数の機能液滴吐出ヘッド７１を複数用いて、描画ラインＬを構成することができると共に、各色の複数の機能液滴吐出ヘッド７１を複数のキャリッジ６２に分散して搭載することで、各キャリッジユニット２１を構成する機能液滴吐出ヘッド７１の個数が少なくなるため、キャリッジユニット２１毎になされる機能液滴吐出ヘッド７１の相互の位置合わせや機能液滴吐出ヘッド７１の交換作業を容易に行うことができる。
【００４９】
詳細は後述するが、この液滴吐出装置１は、各フィルタ領域Ｆに対し、１回の主走査で３色の機能液滴を吐出・着弾させるものである。そのため、必ずしも全キャリッジユニット２１により色別複数の最大幅描画ラインＬｍを構成した状態で描画処理を行わず、少なくとも１個のキャリッジユニット２１により、ｋ個（ｋは、基板ＷのＹ軸方向に並ぶフィルタ領域の個数ｎの約数且つｋ≠ｎ）のフィルタ領域のＹ軸方向の幅である領域描画幅Ｒに対応する色別複数の描画ラインＬを構成した状態で、描画処理を行う。すなわち、Ｘ軸テーブル２２に搭載した基板Ｗの領域描画幅Ｒに対応する色別複数の描画ラインＬを構成する最小個数のキャリッジユニット２１から成る稼動ユニット群２６を描画エリア３１に移動させると共に、描画エリア３１に臨む基板Ｗに対し、稼動ユニット群２６を相対的に移動させながら、その機能液滴吐出ヘッド７１から基板Ｗ上に機能液を吐出して描画処理を行い、且つ、稼動ユニット群２６以外のキャリッジユニット２１から成る描画待機ユニット群２７をメンテナンスエリア３２に移動させると共に、その各機能液滴吐出ヘッド７１を機能維持状態に保管するメンテナンス処理を行うようになっている（図９、図１３参照）。
【００５０】
具体的には、Ｘ軸テーブル２２に搭載した基板Ｗが３面取り基板Ｗｔである場合、上述したように、３面取り基板Ｗｔは、ｎ＝３であることから、ｋ＝１であり、その領域描画幅Ｒは、５４０ｍｍである。そのため、３面取り基板Ｗｔの領域描画幅Ｒに対応する各色の描画ラインＬを構成するキャリッジユニット２１の最小個数は、３個となる。すなわち、稼動ユニット群２６は、３個のキャリッジユニット２１から構成される（図９参照）。
【００５１】
また、Ｘ軸テーブル２２に搭載した基板Ｗが８面取り基板Ｗｅである場合、上述したように、８面取り基板Ｗｅは、ｎ＝４であることから、ｋ＝１または２である。ｋ＝１のとき、その領域描画幅Ｒは、３５０ｍｍである。そのため、８面取り基板Ｗｅの領域描画幅Ｒに対応する描画ラインＬを構成するキャリッジユニット２１の最小個数は、２個となる。すなわち、稼動ユニット群２６は、２個のキャリッジユニット２１から構成される。また、ｋ＝２のとき、その領域描画幅Ｒは、７２０ｍｍである。そのため、８面取り基板Ｗｅの領域描画幅Ｒに対応する描画ラインＬを構成するキャリッジユニット２１の最小個数は、４個となる。すなわち、稼動ユニット群２６は、４個のキャリッジユニット２１から構成される（図１３参照）。
【００５２】
本実施形態では、Ｘ軸テーブル２２に搭載可能な基板Ｗの最長の領域描画幅Ｒが７２０ｍｍ（８面取り基板Ｗｅでｋ＝２の場合）であり、この最長の領域描画幅Ｒは、全（５個）キャリッジユニット２１に対応する各色の全（５本）部分描画ラインＬｐから構成される最大幅描画ラインＬｍ（９０３ｍｍ）によりカバーされる。
なお、４個のキャリッジユニット２１から構成される描画ラインＬ（７２０ｍｍ）によっても、この最長の領域描画幅をカバー可能であるから、５個のキャリッジユニット２１に代えて、４個のキャリッジユニット２１を備えた構成であってもよい。また、搭載可能な基板Ｗの最長の領域描画幅Ｒに応じて、キャリッジユニット２１の個数を変更することが好ましい。
【００５３】
図示しないが、機能液供給手段は、各キャリッジユニット２１の２４個の機能液滴吐出ヘッド７１に対応して、機能液を貯留する２４個の機能液タンクから成るタンクユニットと、各機能液タンクおよび各機能液滴吐出ヘッド７１間の水頭圧を調整する２４個の圧力調整弁と、各圧力調整弁を介して、各機能液タンクおよび機能液滴吐出ヘッドを接続する給液チューブとを有している。２４個の機能液タンクは、Ｒ・Ｇ・Ｂそれぞれ８個の機能液滴吐出ヘッド７１に対応するように、Ｒの機能液を貯留する８個の機能液タンクと、Ｇの機能液を貯留する８個の機能液タンクと、Ｂの機能液を貯留する８個の機能液タンクとから構成される。そして、各機能液タンクの機能液が、給液チューブおよび圧力調整弁を介して、対応する機能液滴吐出ヘッド７１に導入される。
【００５４】
図２ないし図４に示すように、画像認識手段２４は、基板搬出入エリア３３の前後両側に臨むように配設され、基板Ｗの両長辺部分にそれぞれ形成された２つの基板アライメントマークをそれぞれ画像認識する２台の基板認識カメラ１０１と、Ｘ軸テーブル２２のＸ軸エアースライダ４４に連結され、各キャリッジ６２（支持プレート）の２つの基準ピンを画像認識するヘッド認識カメラ（図示省略）と、上記のＹ軸テーブル２３に添設されたカメラ移動機構（図示省略）によりＹ軸方向に移動可能にそれぞれ搭載され、基板Ｗ等に吐出された機能液滴（ドット）を画像認識する２台のドット認識カメラ１０２とを有している。これらの各種カメラの画像認識結果に基づいて、基板Ｗやヘッドユニット６１の位置補正および上記のドット抜け検査が行われる。
【００５５】
次に、図２ないし図４を参照して、液滴吐出装置１におけるメンテナンス手段１２およびこれによる機能液滴吐出ヘッド７１の機能維持・回復処理について説明する。メンテナンス手段１２は、稼動ユニット群２６以外のメンテナンスエリア３２側のキャリッジユニット２１から成る描画待機ユニット群２７に搭載された機能液滴吐出ヘッド７１を、吐出機能を維持した状態で保管すると共に、吐出機能を回復するものである。
【００５６】
メンテナンス手段１２は、メンテナンスエリア３２に配設されており、機能液滴吐出ヘッド７１内で増粘した機能液を除去するための吸引（クリーニング）を行う５個の吸引ユニット１１１と、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面９３を払拭する２個のワイピングユニット１１２と、５個の吸引ユニット１１１および２個のワイピングユニット１１２をそれぞれ個別に昇降可能に支持する７個のユニット昇降機構（図示省略）と、これらを支持するアングル架台１１３とを備えている。さらに、メンテナンス手段１２は、ワイピングユニット１１２の描画エリア３１側に配設された飛行観測ユニット１１７と、上記のセットテーブル４３上に配設された定期フラッシングボックス１１４と、吸着テーブル４１の前後両側に配設された一対の描画前フラッシングボックス１１５，１１５とを有している。
【００５７】
５個の吸引ユニット１１１は、５個のキャリッジユニット２１にそれぞれ対応しており、各吸引ユニット１１１は、各キャリッジユニット２１に対して下方から臨み、２４個の機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面９３にそれぞれ封止させる２４個のキャップ（図示省略）を備えている。これにより、各機能液滴吐出ヘッド７１のノズル９５の機能液が乾燥して吐出機能が低下することを防止できる。さらに、各キャップをノズル面９３に封止させた状態でノズル９５から機能液を吸引し、機能液滴吐出ヘッド７１内で増粘した機能液を排出する。
【００５８】
２個のワイピングユニット１１２は、吸引ユニット１１１の描画エリア３１側に配設され、５個のキャリッジユニット２１の千鳥配置に対応して、Ｘ軸方向に並んでいる。各ワイピングユニット１１２は、機能液滴吐出ヘッド７１の吸引等により、機能液が付着して汚れたノズル面９３を、ワイピングシート１１２ａを用いて拭き取る。そして、上記の吸引処理と、このワイピングとにより、ノズル詰まりの生じた機能液滴吐出ヘッド７１の吐出機能を回復させることができる。
【００５９】
飛行観測ユニット１１７は、ＣＣＤカメラおよびストロボ等から構成されており、各機能液滴吐出ヘッド７１をから吐出された機能液滴の飛行状態を撮像して、その画像認識結果に基づいて、機能液滴の飛行曲がりやサテライト（吐出された液体に起因して霧状に浮遊する微粒子）の有無、およびノズルの目詰まりがあるか否か等を検査している。
【００６０】
定期フラッシングボックス１１４は、基板Ｗの交換時等に行う定期フラッシングを受けるためのものである。上記のセットテーブル４３上に設けられており、基板Ｗの交換のために吸着テーブル４１が基板搬出入エリア３３に臨むとき、定期フラッシングボックス１１４が描画エリア３１に臨み、機能液滴吐出ヘッド７１の全ノズル９５（吐出ノズル）からの捨て吐出を受けるようになっている。この定期フラッシングにより、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル９５が乾燥して吐出機能が低下すること（ノズル詰まり）を防止できる。
【００６１】
一対の描画前フラッシングボックス１１５，１１５は、基板Ｗに機能液を吐出させる直前（一連の描画動作中）に行う描画前フラッシングを受けるためのものである。吸着テーブル４１をＸ軸方向に挟むように配設されており、基板Ｗの往復動に伴う機能液滴吐出ヘッド７１の吐出駆動の直前に行われる全ノズル９５（吐出ノズル）からの捨て吐出を受けるようになっている。この描画前フラッシングにより、機能液滴吐出ヘッド７１からの機能液滴の吐出が安定した状態で、基板Ｗに機能液滴を吐出することができる。
【００６２】
定期フラッシングボックス１１４および一対の描画前フラッシングボックス１１５，１１５は、上面を開放した平面視長方形の箱状にそれぞれ形成されており、その上面には、機能液を吸収させる吸収材（図示省略）が敷設されている。また、定期フラッシングボックスの長辺（Ｙ軸方向）は、稼動ユニット群２６が全キャリッジユニット２１により構成されている場合にもフラッシングを受け得るようにすべく、上記の最大幅描画ラインＬｍの長さ（９０３ｍｍ）に対応させて形成している（上記のドット抜け検査台１１６も同様）。一方、一対の描画前フラッシングボックス１１５，１１５の長辺（Ｙ軸方向）は、一連の描画動作中に稼動ユニット群２６の各キャリッジユニット２１を副走査させることから（後述する）、基板ＷのＹ軸方向の幅（１８００ｍｍ）に対応させて形成している。
【００６３】
次に、図７を参照して、液滴吐出装置１全体の制御系について説明する。液滴吐出装置１の制御系は、基本的に、上記の上位コンピュータ２と、機能液滴吐出ヘッド７１、Ｘ軸テーブル２２、Ｙ軸テーブル２３、メンテナンス手段１２等を駆動する各種ドライバを有する駆動部１２１と、駆動部１２１を含め液滴吐出装置１全体を統括制御する制御部１２２（コントローラ１３）とを備えている。
【００６４】
上位コンピュータ２は、コントローラ１３に接続されたコンピュータ本体１２６に、キーボード１２７や、キーボード１２７による入力結果等を画像表示するディスプレイ１２８等が接続されて構成されている。
【００６５】
駆動部１２１は、機能液滴吐出ヘッド７１を吐出駆動制御するヘッドドライバ１３１と、Ｘ軸テーブル２２およびＹ軸テーブル２３の各モータをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバ１３２と、メンテナンス手段１２の各ユニットを駆動制御するメンテナンス用ドライバ１３３とを備えている。
【００６６】
制御部１２２は、ＣＰＵ１４１と、ＲＯＭ１４２と、ＲＡＭ１４３と、Ｐ−ＣＯＮ１４４とを備え、これらは互いにバス１４５を介して接続されている。ＲＯＭ１４２は、ＣＰＵ１４１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、描画動作や画像認識を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域とを有している。
【００６７】
ＲＡＭ１４３は、各種レジスタ群のほか、基板Ｗに機能液の吐出を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、基板Ｗおよび機能液滴吐出ヘッド７１の位置データを記憶する位置データ記憶部等の各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。
【００６８】
Ｐ−ＣＯＮ１４４には、駆動部１２１の各種ドライバのほか、画像認識手段２４の各種カメラが接続されており、ＣＰＵ１４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ１４４は、上位コンピュータ２からの各種指令等をそのままあるいは加工してバス１４５５に取り込むと共に、ＣＰＵ１４１と連動して、ＣＰＵ１４１等からバス１４５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部１２１に出力する。
【００６９】
そして、ＣＰＵ１４１は、ＲＯＭ１４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ１４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ１４３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ１４４を介して駆動部１２１等に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１全体を制御している。例えば、ＣＰＵ１４１は、機能液滴吐出ヘッド７１、Ｘ軸テーブル２２およびＹ軸テーブル２３を制御して、所定の液滴吐出条件および所定の移動条件で基板Ｗに描画を行う。
【００７０】
ここで、図８ないし図１４を参照して、本実施形態の液滴吐出装置１による描画制御について詳細に説明する。この液滴吐出装置１は、上述したように、稼動ユニット群２６を描画エリア３１に移動させると共に、描画エリア３１に臨む基板Ｗに対し、稼動ユニット群２６を相対的に移動させながら、その機能液滴吐出ヘッド７１（図５参照）から基板Ｗ上に機能液を吐出して描画処理を行い、且つ、描画待機ユニット群２７をメンテナンスエリア３２に移動させると共に、その機能液滴吐出ヘッド７１を機能維持状態に保管するメンテナンス処理を行う。この描画処理およびメンテナンス処理は、コントローラ１３により、描画装置１１の各装置およびメンテナンス手段１２の各ユニットを制御して行われる。
【００７１】
はじめに、２種類の基板Ｗのうち、３面取り基板Ｗｔに対して行われる描画処理について説明する。まず、Ｘ軸テーブル２２に３面取り基板Ｗｔをセットする。続いて、上記の基板認識カメラ１０１により、セットされた３面取り基板Ｗｔを撮像し、その画像認識結果に基づいて、上記の基板θ軸テーブル４２によるθ軸方向の位置補正と、ワークＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置データ補正とを行う。なお、予め、上記のヘッド認識カメラによる画像認識結果に基づいて、各キャリッジユニット２１のヘッドユニット６１の位置を補正済みである。
【００７２】
この３面取り基板Ｗｔのセット作業と相前後して、上記の３面取り基板Ｗｔの領域描画幅Ｒ（５４０ｍｍ）に対応する色別複数の描画ラインＬを構成できるように、３個のキャリッジユニット２１により稼動ユニット群２６を構成する。すなわち、オペレータは、上記のキーボード１２７により、描画エリア３１側の３個のキャリッジユニット２１（第１〜第３キャリッジユニット２１ａ〜ｃ）を稼動ユニット群２６として設定し、メンテナンスエリア３２側の２個のキャリッジユニット２１（第４・第５キャリッジユニット２１ｄ・ｅ）を描画待機ユニット群２７として設定する。
なお、このユニット群仕分け設定は、このようにオペレータが各キャリッジユニット２１を稼動ユニット群２６および描画待機ユニット群２７のいずれかに仕分けすることで行われるほか、オペレータが導入される基板Ｗの領域描画幅Ｒを入力し、コントローラ１３がその入力値に基づいて仕分けをしてもよい。
【００７３】
次に、Ｙ軸テーブル２３を駆動制御して、稼動ユニット群２６として設定された第１〜第３キャリッジユニット２１ａ〜ｃを描画エリア３１に残したまま、描画待機ユニット群２７として設定された第４・第５キャリッジユニット２１ｄ・ｅをメンテナンスエリア３２に移動する（図８参照）。なお、３面取り基板Ｗｔへの吐出が行われるまでの間、稼動ユニット群２６の各機能液滴吐出ヘッド７１から上記の定期フラッシングボックス１１４に対し捨て吐出をする。
【００７４】
このように吐出前の準備が行われた後、３面取り基板Ｗｔの各フィルタ領域Ｆに対する描画処理が行われる。このとき、領域描画幅Ｒ（５４０ｍｍ）に対応するように、第１〜第３キャリッジユニット２１ａ〜ｃの各色の全（８×３個）機能液滴吐出ヘッド７１のそれぞれ全ノズル９５（吐出ノズル）により各色の描画ラインＬを構成するように制御し、この状態で描画処理が行われる。
なお、Ｘ軸テーブル２２に搭載された基板Ｗの領域描画幅Ｒが、例えば５３０ｍｍである場合には、上記のように各色の全機能液滴吐出ヘッド７１のそれぞれ全ノズル９５（吐出ノズル）により各色の描画ラインＬを構成するのではなく、Ｙ軸方向の一方の外側に位置する各色の機能液滴吐出ヘッド７１の一部（１０ｍｍ分に相当）のノズル９５（吐出ノズル）を除いた複数のノズル９５（吐出ノズル）により各色の描画ラインＬを構成するように制御する。
【００７５】
描画装置１１は、Ｙ軸テーブル２３を駆動して、稼動ユニット群２６の第１〜第３キャリッジユニット２１ａ〜ｃを第１フィルタ領域Ｆａに臨ませる。そして、３面取り基板ＷｔをＸ軸テーブル２２によりＸ軸方向に往動させると共に、これに同期して稼動ユニット群２６の各機能液滴吐出ヘッド７１を選択的に駆動させて、ストライプ配列の配色パターンとなるように、第１フィルタ領域Ｆａの複数の画素領域５０７ａに３色の機能液滴をそれぞれ吐出・着弾させる。続いて、３面取り基板Ｗｔを復動させながら、再度第１フィルタ領域Ｆａに対する機能液の吐出を行う。そして、各画素領域５０７ａに所定量の機能液を吐出・着弾させるべく、このような３面取り基板ＷｔのＸ軸方向への往動・復動および機能液滴吐出ヘッド７１の駆動を複数回（例えば往動２回、復動２回）行う。このようにして、第１回目の主走査が行われ、第１フィルタ領域Ｆａに対する描画処理が完了する（図９参照）。１回の主走査に要する時間は４０秒（１０秒×４回の往動・復動）である。
なお、３面取り基板Ｗｔの往動・復動毎に、Ｙ軸テーブル２３により稼動ユニット群２６の各キャリッジユニット２１をＹ軸方向に微小距離（例えば、ノズルピッチの１／８の寸法分）移動させることが好ましく、これによれば、各画素領域５０７Ａの全域に隈なく機能液滴を吐出・着弾させることができる。
【００７６】
第１フィルタ領域Ｆａに対する描画処理が完了すると、Ｙ軸テーブル２３により稼動ユニット群２６の各キャリッジユニット２１をＹ軸方向に描画ラインＬ分移動させ（副走査）、第１〜第３キャリッジユニット２１ａ〜ｃを第２フィルタ領域Ｆｂに臨ませる。以下、第１フィルタ領域Ｆａに対する描画処理と同様にして、第２フィルタ領域Ｆｂに対する描画処理（第２回目の主走査）を行う（図１０参照）。
【００７７】
さらに、第２フィルタ領域Ｆｂに対する描画処理が完了すると、Ｙ軸テーブル２３により稼動ユニット群２６の各キャリッジユニット２１をＹ軸方向に描画ラインＬ分移動させ（副走査）、第１〜第３キャリッジユニット２１ａ〜ｃを第３フィルタ領域Ｆｃに臨ませる。以下、第１・第２フィルタ領域Ｆａ・ｂに対する描画処理と同様にして、第３フィルタ領域Ｆｃに対する描画処理（第２回目の主走査）を行う。以上のようにして、３面取り基板Ｗｔの全フィルタ領域Ｆに対する描画処理が完了する（図１１参照）。
【００７８】
なお、この３回目の主走査の最後の復動時に、上記のドット抜け検査台１１６に対し、ドット抜け検査用の吐出を行う。本実施形態では、ドット抜け検査台１１６を、吸着テーブル４１に対し、図３の左側の寄せて（Ｙ軸方向において定期フラッシングボックス１１４と同位置に）配設しているため、３面取り基板Ｗｔの図示右側から左側に向けて（第１フィルタ領域Ｆａから順に）描画を行うが、ドット抜け検査台１１６を、吸着テーブル４１に対し、図３の右側の寄せて（定期フラッシングボックス１１４の斜め向かいに）配設し、３面取り基板Ｗｔの図示左側から右側に向けて（第３フィルタ領域Ｆｃから順に）描画を行ってもよい。これによれば、描画処理前に定期フラッシングボックス１１４に対し捨て吐出を行っている各機能液滴吐出ヘッド７１を、Ｙ軸方向に移動させることなく、即座に描画処理に移行させることができる。
【００７９】
このように、色別複数の描画ラインＬと、領域描画幅Ｒとを対応させた状態で、機能液滴の吐出・着弾がなされることで、各フィルタ領域Ｆに対して１回の主走査で機能液滴の吐出・着弾がなされ、各フィルタ領域Ｆに対して複数回の主走査で描画処理が行われることがない。
【００８０】
この点、仮に、各フィルタ領域Ｆに対して、２回の主走査で機能液滴の吐出・着弾がなされるとすると、第１回目の主走査（の２回目の復動）の４０秒後に第２回目の主走査（の２回目の復動）が行われることから、第１回目の主走査が行われた範囲と、第２回目の主走査が行われた範囲との間で、各画素領域５０７ａに機能液滴が吐出・着弾してから乾燥処理が行われるまでの時間が４０秒相違するため、乾燥処理における溶剤の気化量が互いに異なるものとなってしまう。しかし、本実施形態では、各フィルタ領域Ｆにおいて、各画素領域５０７ａに機能液滴が吐出・着弾してから乾燥処理が行われるまでの時間が略同一となり、機能液の溶剤の気化量が均一な状態で乾燥処理が行われることになり、乾燥ムラの生ずることがない。したがって、３面取り基板Ｗｔに対し、フィルタ領域Ｆ内で色ムラの生ずることなく、描画処理を行うことができる。
【００８１】
一方、メンテナンスエリア３２に移動した描画待機ユニット群２７（第４・第５キャリッジユニット２１ｄ・ｅ）に対しては、対応する吸引ユニット１１１により、各機能液滴吐出ヘッド７１を封止して、機能維持状態に保管しておく（図８ないし図１１参照）。これによれば、稼動ユニット群２６を描画エリア３１に移動させて、その機能液滴吐出ヘッド７１により描画処理を行っている間、描画待機ユニット群２７をメンテナンスエリア３２に移動させて、その機能液滴吐出ヘッド７１を、吐出機能を維持した状態で保管することができる。
【００８２】
次に、８面取り基板Ｗｅに対して行われる描画処理について説明する。なお、８面取り基板Ｗｅでは、上述したように、２個のキャリッジユニット２１により稼動ユニット群２６を構成し、３５０ｍｍ（ｋ＝１）の領域描画幅Ｒに対応する色別複数の描画ラインＬを構成する場合と、４個のキャリッジユニット２１により稼動ユニット群２６を構成し、７２０ｍｍ（ｋ＝２）の領域描画幅Ｒに対応する色別複数の描画ラインＬを構成する場合とがあるが、ここでは４個のキャリッジユニット２１により稼動ユニット群２６を構成する場合について主に説明する。まず、Ｘ軸テーブル２２に８面取り基板Ｗｅをセットし、上記と同様にして、８面取り基板Ｗｅに対する位置補正が行われる。続いて、上記と同様にして、８面取り基板Ｗｅの領域描画幅Ｒ（７２０ｍｍ）に対応する色別複数の描画ラインＬを構成できるように、第１〜第４キャリッジユニット２１ａ〜ｄを稼動ユニット群２６として設定すると共に、第５キャリッジユニット２１ｅを描画待機ユニット群２７として設定する。
【００８３】
次に、Ｙ軸テーブル２３を駆動制御して、稼動ユニット群２６として設定された第１〜第４キャリッジユニット２１ａ〜ｄを描画エリア３１に残したまま、描画待機ユニット群２７として設定された第５キャリッジユニット２１ｅをメンテナンスエリア３２に移動する（図１２参照）。
【００８４】
このように吐出前の準備が行われた後、８面取り基板Ｗｅの各フィルタ領域Ｆに対する描画処理が行われる。このとき、上記と同様に、領域描画幅Ｒ（７２０ｍｍ）に対応するように、第１〜第４キャリッジユニット２１ａ〜ｄの各色の全（８×４個）機能液滴吐出ヘッド７１のそれぞれ全ノズル９５（吐出ノズル）により各色の描画ラインＬを構成するように制御し、この状態で描画処理が行われる。
【００８５】
描画装置１１は、Ｙ軸テーブル２３を駆動して、稼動ユニット群２６の第１〜第４キャリッジユニット２１ａ〜ｄを第１・第２フィルタ領域Ｆａ・ｂ（および第５・第６フィルタ領域Ｆｅ・ｆ）に臨ませる。そして、８面取り基板ＷｅをＸ軸テーブル２２によりＸ軸方向に往動させると共に、これに同期して稼動ユニット群２６の各機能液滴吐出ヘッド７１を選択的に駆動させて、ストライプ配列の配色パターンとなるように、第１・第２フィルタ領域Ｆａ・ｂおよび第５・第６フィルタ領域Ｆｅ・ｆの複数の画素領域５０７ａに３色の機能液滴をそれぞれ吐出・着弾させる。続いて、３面取り基板Ｗｔを復動させながら、再度第１・第２フィルタ領域Ｆａ・ｂおよび第５・第６フィルタ領域Ｆｅ・ｆに対する機能液の吐出を行う。そして、上記と同様に、各画素領域５０７ａに所定量の機能液を吐出・着弾させるべく、このような８面取り基板ＷｅのＸ軸方向への往動・復動および機能液滴吐出ヘッド７１の駆動を複数回（例えば往動２回、復動２回）行う。このようにして、第１回目の主走査が行われ、第１・第２フィルタ領域Ｆａ・ｂおよび第５・第６フィルタ領域Ｆｅ・ｆに対する描画処理が完了する（図１３参照）。
【００８６】
第１・第２フィルタ領域Ｆａ・ｂおよび第５・第６フィルタ領域Ｆｅ・ｆに対する描画処理が完了すると、Ｙ軸テーブル２３により稼動ユニット群２６の各キャリッジユニット２１をＹ軸方向に描画ラインＬ分移動させ（副走査）、第１〜第４キャリッジユニット２１ａ〜ｄをの第３・第４フィルタ領域Ｆｃ・ｄ（および第７・第８フィルタ領域Ｆｇ・ｈ）に臨ませる。以下、第１・第２フィルタ領域Ｆａ・ｂおよび第５・第６フィルタ領域Ｆｅ・ｆに対する描画処理と同様にして、第３・第４フィルタ領域Ｆｃ・ｄおよび第７・第８フィルタ領域Ｆｇ・ｈに対する描画処理（第２回目の主走査）を行う。以上のようにして、８面取り基板Ｗｅの全フィルタ領域Ｆに対する描画処理が完了する（図１４参照）。
【００８７】
このように、８面取り基板Ｗｅに対しても、色別複数の描画ラインＬと、領域描画幅Ｒとを対応させた状態で、機能液滴の吐出・着弾がなされることで、各フィルタ領域Ｆに対して１回の主走査で機能液滴の吐出・着弾がなされ、各フィルタ領域Ｆに対して複数回の主走査で描画処理が行われることがない。したがって、８面取り基板Ｗｅに対し、フィルタ領域Ｆ内で色ムラの生ずることなく、描画処理を行うことができる。
【００８８】
一方、この場合も、メンテナンスエリア３２に移動した描画待機ユニット群２７（第５キャリッジユニット２１ｅ）に対しては、対応する吸引ユニット１１１により、各機能液滴吐出ヘッド７１を封止して、機能維持状態に保管しておくことで、その機能液滴吐出ヘッド７１を、吐出機能を維持した状態で保管することができる。
【００８９】
以上、８面取り基板Ｗｅに対し、４個のキャリッジユニット２１により稼動ユニット群２６を構成し、７２０ｍｍ（ｋ＝２）の領域描画幅Ｒに対応する色別複数の描画ラインＬを構成する場合について説明したが、２個のキャリッジユニット２１により稼動ユニット群２６を構成し、３５０ｍｍ（ｋ＝１）の領域描画幅Ｒに対応する色別複数の描画ラインＬを構成する場合についても、同様に、各フィルタ領域Ｆに対して１回の主走査で機能液滴の吐出・着弾がなされ、各フィルタ領域Ｆに対して複数回の主走査で描画処理が行われることがない。すなわち、２個のキャリッジユニット２１の全機能液滴吐出ヘッド７１の全ノズル９５（吐出ノズル）により構成される色別複数の描画ラインＬ（３５０ｍｍ）と、領域描画幅Ｒ（３５０ｍｍ）とを対応させ、第１回目の主走査で第１・第５フィルタ領域Ｆａ・ｅに対し描画処理が行われ、第２回目の主走査で第２・第６フィルタ領域Ｆｂ・ｆに対し描画処理が行われ、第３回目の主走査で第３・第７フィルタ領域Ｆｃ・ｇに対し描画処理が行われ、第４回目の主走査で第４・第８フィルタ領域Ｆｄ・ｈに対し描画処理が行われる。したがって、８面取り基板Ｗｅに対し、フィルタ領域Ｆ内で色ムラの生ずることなく、描画処理を行うことができる。
【００９０】
また、本実施形態の液滴吐出装置１を、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色のうちいずれか１色の機能液を吐出・着弾させる構成とし、３台の液滴吐出装置１により、それぞれ基板Ｗ上に１色の着色層５０８を順次形成するようにしてもよい。この場合も、各色の描画処理において、各フィルタ領域Ｆに対して１回の主走査で描画可能であるため、複数取り形式の基板Ｗに対し、フィルタ領域Ｆ内で色ムラの生ずることなく、描画処理を行うことができる。
【００９１】
さらに、後述するように、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて、カラーフィルタ以外の電気光学装置を製造することも可能である。この場合も、複数取り形式の各種基板Ｗに対し、フィルタ領域Ｆ内で乾燥ムラの生ずることなく、描画処理を行うことができる。
【００９２】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００９３】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１５は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１６は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１１）では、図１６（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００９４】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１６（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１６（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド７１により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００９５】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００９６】
次に、着色層形成工程（Ｓ１３）では、図１６（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド７１によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド７１を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００９７】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１４）に移り、図１６（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００９８】
図１７は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１６に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００９９】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１００】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１７において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１０１】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１０２】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１０３】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド７１で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド７１で行うことも可能である。
【０１０４】
図１８は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１０５】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【０１０６】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１０７】
図１９は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１０８】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【０１０９】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１１０】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１１１】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１１２】
次に、図２０は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【０１１３】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１１４】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【０１１５】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【０１１６】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【０１１７】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【０１１８】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【０１１９】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【０１２０】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１２１】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１２２】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１２３】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１２４】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図２１〜図２９を参照して説明する。
この表示装置６００は、図２１に示すように、バンク部形成工程（Ｓ２１）、表面処理工程（Ｓ２２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）、発光層形成工程（Ｓ２４）、および対向電極形成工程（Ｓ２５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１２５】
まず、バンク部形成工程（Ｓ２１）では、図２２に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図２３に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１２６】
表面処理工程（Ｓ２２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド７１を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１２７】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１の吸着テーブル４１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）および発光層形成工程（Ｓ２４）が行われる。
【０１２８】
図２４に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）では、機能液滴吐出ヘッド７１から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２５に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１２９】
次に発光層形成工程（Ｓ２４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１３０】
そして次に、図２６に示すように、各色のうちのいずれか（図２６の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１３１】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２７に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１３２】
同様に、機能液滴吐出ヘッド７１を用い、図２８に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１３３】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ２５）に移行する。
【０１３４】
対向電極形成工程（Ｓ２５）では、図２９に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１３５】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１３６】
次に、図３０は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１３７】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１３８】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１３９】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１４０】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１の吸着テーブル４１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド７１により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１４１】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１４２】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド７１から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１４３】
次に、図３１は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１４４】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１４５】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１４６】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１４７】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１４８】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図３２（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図３２（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１４９】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１５０】
【図１】複数取り形式の基板の平面図である。
【図２】液滴吐出装置の外観斜視図である。
【図３】液滴吐出装置の平面図である。
【図４】液滴吐出装置の側面図である。
【図５】複数のキャリッジユニットに搭載された機能液滴吐出ヘッドおよびその吐出ノズルにより構成される描画ラインを説明する図である。
【図６】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図７】液滴吐出装置の制御系について説明したブロック図である。
【図８】液滴吐出装置を用いた３面取り基板に対する描画処理の説明図である。
【図９】図８に続く、液滴吐出装置を用いた３面取り基板に対する描画処理の説明図である。
【図１０】図９に続く、液滴吐出装置を用いた３面取り基板に対する描画処理の説明図である。
【図１１】図１０に続く、液滴吐出装置を用いた３面取り基板に対する描画処理の説明図である。
【図１２】液滴吐出装置を用いた８面取り基板に対する描画処理の説明図である。
【図１３】図１２に続く、液滴吐出装置を用いた８面取り基板に対する描画処理の説明図である。
【図１４】図１３に続く、液滴吐出装置を用いた８面取り基板に対する描画処理の説明図である。
【図１５】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１６】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１７】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１８】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２０】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図２１】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図２２】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２３】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２４】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２５】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２６】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２７】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２８】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２９】陰極の形成を説明する工程図である。
【図３０】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図３１】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図３２】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１５１】
１…液滴吐出装置  １２…メンテナンス手段  １３…コントローラ  ２１…キャリッジユニット  ２２…Ｘ軸テーブル  ２３…Ｙ軸テーブル  ６２…キャリッジ  ７１…機能液滴吐出ヘッド  ９５…ノズル  ５００…カラーフィルタ  ５０７ａ…画素領域  Ｆ…フィルタ領域  Ｌ…描画ライン  Ｌｍ…最大幅描画ライン  Ｌｕ…部分描画ライン  Ｒ…領域描画幅  Ｗｅ…８面取り基板  Ｗｔ…３面取り基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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