(57)【要約】【課題】      ＯＣＢモードの液晶表示装置において、視野角の拡大とコントラストの改善（または階調反転の抑制）との双方を実現する。【解決手段】  液晶性化合物から形成した光学異方層、第１透明保護膜、偏光膜、第２透明保護膜、そして光拡散層をこの順序で有する偏光板において、光拡散層のヘイズ値を４５％以上５５％以下に調整する。光拡散層は、光拡散層の第２透明保護膜側表面の法線方向から光を入射すると、反対側表面の法線方向から３０°傾けた方向に透過および拡散した光の量が、入射した光の量の０．０１５％以上０．０２５％以下となる光散乱プロファイルを有することが好ましい。【選択図】    図２
2006259003.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶性化合物から形成した光学異方層、第１透明保護膜、偏光膜、第２透明保護膜、そして光拡散層をこの順序で有する偏光板であって、光拡散層が４５％以上５５％以下のヘイズ値を有することを特徴とする偏光板。
【請求項２】
光拡散層が、Ｉ（３０）／Ｉ×１００（式中、Ｉは光拡散層の第２透明保護膜側表面の法線方向から入射した光の量であり、Ｉ（３０）は反対側表面の法線方向から３０°傾けた方向に透過および拡散した光の量である）が０．０１５％以上０．０２５％以下となる光散乱プロファイルを有することを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
光拡散層の上に、１．３５以上１．４５以下の屈折率を有する低屈折率層が設けられている請求項１に記載の偏光板。
【請求項４】
光学異方層を形成する液晶性化合物が円盤状化合物である請求項１に記載の偏光板。
【請求項５】
第１透明保護膜が、２０乃至７０ｎｍのＲｅレターデーション値と１００乃至５００ｎｍのＲｔｈレターデーション値とを有するセルロースアセテートフイルムからなる請求項１に記載の偏光板。
【請求項６】
バックライト、バックライト側偏光板、ＯＣＢモードの液晶セル、そして視認側偏光板をこの順序で有するＯＣＢモードの液晶表示装置であって、視認側偏光板として請求項１乃至５のいずれか一項に記載の偏光板を用い、液晶性化合物から形成した光学異方層が液晶セル側となるように配置することを特徴とするＯＣＢモードの液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶性化合物から形成した光学異方層、第１透明保護膜、偏光膜、第２透明保護膜、そして光拡散層をこの順序で有する偏光板に関する。さらに本発明は、ＯＣＢモードの液晶表示装置にも関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。液晶セルについては、現在の主流であるＴＮモードおよびＳＴＮモードを含め様々な表示モードが提案されている。ＴＮモードやＳＴＮモードの液晶表示装置では、表示画像の視野角や画質を改善するため、光学補償シートを偏光板と液晶セルの間に挿入することが普通に行われている。
【０００３】
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) モードの液晶セルを用いた液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。ＯＣＢとの名称は、棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、自己光学補償機能を有するからである。ＯＣＢモードの液晶表示装置は、自己光学補償機能に加えて、応答速度が速いとの利点がある。
【０００４】
以上のように、ＯＣＢモードの液晶表示装置は、一般的なＴＮモードやＳＴＮ モードの液晶表示装置と比較して、表示画像について多くの優れた性質を有している。しかし、ＣＲＴの表示画像と比較すると、さらに改良が必要である。
ＯＣＢモード液晶表示装置をさらに改良するため、ＴＮモードやＳＴＮモードの液晶表示装置と同様に光学補償シートを用いることが考えられる。具体的には、円盤状液晶性化合物を用いた光学補償シートを有するＯＣＢモードの液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献３〜６参照）。光学補償シートを使用することで、ＯＣＢモードの液晶表示装置の視野角は著しく改善される。
【０００５】
光学補償シートに加えて、表面に光散乱フイルムや光散乱フイルムの上層に低屈折率層を付与した反射防止型フイルムを併用することで更なる高視野角化を実現できることが報告されている（例えば、特許文献７、８参照）。しかしながら、これらの技術では高視野角化を達成できる反面、表面フイルムのヘイズに起因したコントラスト低下が著しく、高視野角と高コントラストを両立することは困難であることが新たに分かってきた。
【０００６】
【特許文献１】米国特許第４５８３８２５号明細書
【特許文献２】米国特許第５４１０４２２号明細書
【特許文献３】特開平０９−１９７３９７号公報
【特許文献４】米国特許第５８０５２５３号明細書
【特許文献５】国際公開第９６／３７８０４号パンフレット
【特許文献６】欧州特許出願公開第０７８３１２８号明細書
【特許文献７】特開２００３−２４８１２１号公報
【特許文献８】特開２００４−１９１８６５公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ＯＣＢモードの液晶表示装置において、視野角の拡大とコントラストの改善（または階調反転の抑制）との双方を実現することを課題とする。
【０００８】
本発明の目的は、ＯＣＢモードの液晶表示装置のコントラストの低下や階調反転を起こすことなく、視野角を拡大できる偏光板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の手段により解決された。
（１）液晶性化合物から形成した光学異方層、第１透明保護膜、偏光膜、第２透明保護膜、そして光拡散層をこの順序で有する偏光板であって、光拡散層が４５％以上５５％以下のヘイズ値を有することを特徴とする偏光板。
【００１０】
（２）光拡散層が、Ｉ（３０）／Ｉ×１００が０．０１５％以上０．０２５％以下となる光散乱プロファイルを有する（１）に記載の偏光板。
Ｉは光拡散層の第２透明保護膜側表面の法線方向から入射した光の量であり、Ｉ（３０）は反対側表面の法線方向から３０°傾けた方向に透過および拡散した光の量である。
（３）光拡散層の上に、１．３５以上１．４５以下の屈折率を有する低屈折率層が設けられている（１）に記載の偏光板。
（４）光学異方層を形成する液晶性化合物が円盤状化合物である（１）に記載の偏光板。
（５）第１透明保護膜が、２０乃至７０ｎｍのＲｅレターデーション値と１００乃至５００ｎｍのＲｔｈレターデーション値とを有するセルロースアセテートフイルムからなる（１）に記載の偏光板。
【００１１】
（６）バックライト、バックライト側偏光板、ＯＣＢモードの液晶セル、そして視認側偏光板をこの順序で有するＯＣＢモードの液晶表示装置であって、視認側偏光板として（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の偏光板を用い、液晶性化合物から形成した光学異方層が液晶セル側となるように配置することを特徴とするＯＣＢモードの液晶表示装置。
（７）集光性フイルムをバックライト側偏光板とバックライトの間に有する（６）に記載のＯＣＢモード液晶表示装置。
【００１２】
（８）第１透明保護膜が、１０乃至７０μｍの厚みを有するセルロースアセテートフイルムからなる（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の偏光板。
（９）第１透明保護膜が、酢化度が５９．０乃至６１．５ ％であるセルロースアセテートからなる（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の偏光板。
（１０）第１透明保護膜のセルロースアセテートフイルムが、セルロースアセテート１００質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１乃至２０質量部含む（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の偏光板。
（１１）第２透明保護膜がセルロースアセテートフイルムであり、２０乃至７０μｍの厚みを有する（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の偏光板。
（１２）第２透明保護膜がセルロースアセテートフイルムであり、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテートからなる（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の偏光板。
【００１３】
（１３）光拡散層が、透光性微粒子が透光性樹脂中に分散している層である（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の偏光板。
（１４）透光性微粒子の屈折率と透光性樹脂の屈折率との差が０．０２乃至０．１５である（１３）に記載の偏光板。
（１５）透光性微粒子が少なくとも二つのピークを有する粒径分布を有する（１３）に記載の偏光板。
（１６）透光性微粒子の粒径分布の一つのピークが０．５乃至２．０μｍの範囲にあり、もう一つのピークが２．５乃至５．０ｎｍの範囲にある（１５）に記載の偏光板。
（１７）低屈折率層の表面において、波長４５０乃至６５０ｎｍの範囲における積分球平均反射率が２．３％以下である（３）に記載の偏光板。
【００１４】
（１８）バックライト装置、バックライト側偏光板、ＯＣＢモードの液晶セル、そして視認側偏光板をこの順序で有するＯＣＢモードの液晶表示装置であって、（１）〜（５）、（８）〜（１７）のいずれか一つに記載の偏光板を、視認側偏光板として、液晶性化合物から形成した光学異方層が液晶セル側となるように有することを特徴とするＯＣＢモードの液晶表示装置。
【００１５】
本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
本明細書において、粒径分布のピークは、微粒子を粒子径（０．１μｍ単位）で分類し、横軸を粒径、縦軸を粒子数として得られる分布線における極大を意味する。
【００１６】
本明細書において、Ｒｅレターデーション値は、ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）においてある波長（特に記載しない場合は５５０ｎｍ）の光をフイルム法線方向に入射させて測定される。
本明細書において、Ｒｔｈレターデーション値は、前記Ｒｅレターデーション値、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨが算出する値である。
ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する。
セルロースアセテート：    １．４８
シクロオレフィンポリマー：１．５２
ポリカーボネート：        １．５９
ポリメチルメタクリレート：１．４９
ポリスチレン：            １．５９
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨは、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出できる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に従う偏光板を用いることで、ＯＣＢモードの晶表示装置の表示品位を改善することができる。
本発明に従うと、広視野角化された液晶表示装置の表示品位（特に下方向視野角）が改善（拡大する）される。すなわち、視野角（特に下方向視野角）が拡大され、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転、あるいは色相変化がほとんど発生しない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
［液晶表示装置の基本構成］
図１は、本発明に従う偏光板を有するＯＣＢモードの液晶表示装置の断面模式図である。図１に示す液晶表示装置は、バックライト装置（１）、バックライト側偏光板（２）、ＯＣＢモードの液晶セル（３）および視認側偏光板（４）からなる。
バックライト装置（１）は、バックライト光源（１０）および導光板（１１）からなる。バックライト装置（１）とバックライト側偏光板（２）との間に、拡散板や輝度向上フイルムを配置してもよい。
バックライト側偏光板（２）は、第２透明保護膜（２１）、偏光膜（２２）、セルロースアセテートフイルムからなる第１透明保護膜（２３）、配向膜（２４）そして液晶性化合物から形成した光学異方層（２５）をこの順序で有する。第１透明保護膜（２３）は、光学異方性を有していてもよい。配向膜（２４）に記入した矢印は、ラビング方向である。光学異方層（２５）では、円盤状液晶性化合物（２５１）が、配向膜（２４）に近い側で傾斜角が小さく、遠い側で傾斜角が大きくなるようにハイブリッド配向している。
ＯＣＢモードの液晶セル（３）は、下側ガラス基板（３１）、下側透明導電膜（３２）、下側配向膜（３３）、液晶層（３４）、上側配向膜（３５）、上側透明導電膜（３６）、カラーフィルター（３７）、そして上側ガラス基板（３８）をこの順序で有する。配向膜（３３、３５）に記入した矢印は、ラビング方向である。液晶層（３４）では、棒状液晶性分子（３４１）が上部と下部とで対称的にベンド配向している。カラーフィルター（３７）は、青領域（３７１）、緑領域（３７２）、赤領域（３７３）、およびそれらを区分するブラックマトリックス（３７４）からなる。
【００１９】
視認側偏光板（４）は、液晶性化合物から形成した光学異方層（４１）、配向膜（４２）、セルロースアセテートフイルムからなる第１透明保護膜（４３）、偏光膜（４４）、第２透明保護膜（４５）、そして光拡散層（４６）をこの順序で有する。光学異方層（４１） では、円盤状液晶性化合物（４１１）が、配向膜（４２）に近い側で傾斜角が小さく、遠い側で傾斜角が大きくなるようにハイブリッド配向している。配向膜（４２）に記入した矢印は、ラビング方向である。第１透明保護膜（４３）は、光学異方性を有する。第２透明保護膜（４５）は、光学等方性であってもよい。光拡散層（４６）は、透光性樹脂中に、第１の透光性微粒子（４６１）および第２の透光性微粒子（４６２）を含む。二種類の透光性微粒子は、屈折率が異なり、粒径も異なる（全体で二つの粒径分布のピークを有する）ことが好ましい。ただし、同じ種類で（屈折率が同じで）、粒径のみが異なってもよい。また、粒径がほとんど同じである（粒径分布のピークが分離しない）が、屈折率が異なる二種類の微粒子を用いてもよい。一種類の透光性微粒子を用いることもできる。光拡散層（４６）の上に、低屈折率層を設けてもよい。
【００２０】
［セルロースアセテートフイルム］
本発明では、二枚のセルロースアセテートフイルムを、偏光板の二枚の透明保護膜（第１透明保護膜および第２透明保護膜）として用いることが好ましい。セルロースアセテートは、酢化度が５９．０乃至６１．５％であることが好ましい。酢化度は、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｍ／Ｍｎ（Ｍ ｍは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｍ／Ｍｎの値は、１．００乃至１．７０であることが好ましく、１．３０乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４０乃至１．６０であることが最も好ましい。
【００２１】
セルロースアセテートの製造において、セルロースの２位、３位および６位のヒドロキシル基は、均等にアセチル基に置換されず、６位置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるセルロースアセテートでは、６位置換度が、２位および３位の置換度と同程度か、それ以上であることが好ましい。
全体の置換度（２位、３位および６位の置換度の合計）に対する６位置換度の割合は、３２％以上であることが好ましく、３３％以上であることがより好ましく、３４％以上であることがさらに好ましい。セルロースアセテートの６位置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
セルロースアセテートフイルムに、特開平１１−５８５１号公報の合成例１〜３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【００２２】
セルロースアセテートフイルムの厚みは、１０乃至７０μｍであることが好ましく、２０乃至７０μｍであることがさらに好ましく、２０乃至６０μｍであることが最も好ましい。
フイルムの弾性率は、３０００ＭＰａ以下が好ましく、２５００ＭＰａ以下がさらに好ましい。温湿度変化による歪みを小さくするため、吸湿膨張係数を３０×１０−５／ｃｍ２／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１５×１０−５／ｃｍ２／％ＲＨ以下とすることがさらに好ましく、１０×１０−５／ｃｍ２／％ＲＨ以下とすることが最も好ましい。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量で示す。なお、温湿度変化による歪みを小さくするには、二軸延伸によってポリマー分子の面配向を高める手段が有効である。
セルロースアセテートフイルムの平均表面粗さ（Ｒａ）は、０．２μｍ以下であることが好ましく、０．１６μｍ以下であることがさらに好ましく、０．１４μｍ以下であることが最も好ましい。平均表面粗さ（Ｒａ）の調整は、第２透明保護膜の光拡散層を設ける側の面において、特に効果がある。セルロースアセテートフイルムはその製膜工程から、巾方向に比較的短いピッチの凹凸が生じやすい。そのため、巾方向に任意に表面粗さを測定し、１００ｍｍ当たりの粗さを測定する。カットオフ値は、０．８ｍｍとする。
【００２３】
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを製造することが好ましい。
ソルベントキャスト法では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が２乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が２乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として好ましく用いることができる。有機溶媒は、アルコール性ヒドロキシル基のような他の官能基を有していてもよい。
【００２４】
エーテルの例は、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールを含む。
ケトンの例は、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンを含む。
エステルの例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００２５】
一般的な方法でセルロースアセテート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。
【００２６】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器を用いて冷却する。
【００２７】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００２８】
次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【００２９】
さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよいし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００３０】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【００３１】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを製造する。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００３２】
セルロースアセテート溶液（ドープ）を二層以上流延して、フイルムを製造することもできる。複数の溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフイルムを作製することができる（特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、同１１−１９８２８５号の各公報に記載）。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによって、フイルムを製造することもできる（特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、同６１−９４７２４５号、同６１−１０４８１３号、同６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載）。さらに、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出す流延方法（特開昭５６−１６２６１７号公報記載）も採用できる。
【００３３】
二個の流延口を用いて、第１の流延口により支持体に成型したフイルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第１の流延を行なうことでより、フイルムを作製する方法（特公昭４４−２０２３５号公報記載）も実施できる。
複数のセルロースアセテート溶液は、同一の溶液であってもよい。複数のセルロースアセテート層に機能を持たせるためには、その機能に応じたセルロースアセテート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。
セルロースアセテート溶液を、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光膜）の塗布液と同時に流延することもできる。
【００３４】
単層塗布では、必要なフイルム厚さにするために、高濃度で高粘度のセルロースアセテート溶液を押出すことが必要である。その場合、セルロースアセテート溶液の安定性が悪く、固形物が発生し、ブツ故障となるか、平面性が不良である場合が認められる。複数のセルロースアセテート溶液を流延すると、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができる。その結果、平面性が改善され、優れた面状のフイルムが作製できる。また、濃厚なセルロースアセテート溶液を用いることで、乾燥負荷が低減でき、フイルムの生産速度を早めることができる。
【００３５】
セルロースアセテートフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上させるため、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。
【００３６】
セルロースアセテートフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００３７】
第１透明保護膜に用いるセルロースアセテートフイルムは、光学異方性を有する。第２透明保護膜に好ましく用いられるセルロースアセテートフイルムは、光学等方性であってもよい。
液晶表示装置に、二枚以上の光学異方性セルロースアセテートフイルムを用いてもよい。例えば、偏光板（視認側偏光板）に加えて、バックライト側偏光板にも光学異方性セルロースアセテートフイルムを用いることができる。
第１透明保護膜に用いるセルロースアセテートフイルムの光学異方性とは、具体的には、２０乃至７０ｎｍのＲｅレターデーション値および１００乃至５００ｎｍのＲｔｈレターデーション値を有することを意味する。
なお、液晶表示装置に二枚の光学異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、一枚のフイルムのＲｅレターデーション値は２０乃至７０ｎｍであることが好ましく、Ｒｔｈレターデーション値は１００乃至２５０ｎｍであることが好ましい。
液晶表示装置に一枚の光学異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのＲｅレターデーション値は４０乃至１５０ｎｍであることが好ましく、Ｒｔｈレターデーション値は２００乃至５００ｎｍであることが好ましい。なお、セルロースアセテートフイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．００１乃至０．００２であることが好ましい。また、セルロースアセテートフイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２ −ｎｚ｝は、０．００１乃至０．０４であることが好ましい。
【００３８】
光学異方性セルロースアセテートフイルムは、レターデーション上昇剤の使用や製造条件（特に延伸条件）を調整することにより製造できる。
レターデーション上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物が好ましい。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１乃至２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５乃至１５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することが最も好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。レターデーション上昇剤の分子量は、３００乃至８００であることが好ましい。
レターデーション上昇剤については、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号、同２００１−１６６１４４号の各公報および国際公開第００／０２６１９号パンフレットに記載されている。
【００３９】
延伸処理によりレターデーションを調整する場合、延伸倍率は、３乃至１００％であることが好ましい。
延伸処理は、テンターを用いて実施できる。具体的には、流延、剥ぎ取り直後のフイルムに対してテンターを用いてレターデーション値を調整する延伸処理を行い、延伸後半で剥ぎ取り地のドローと釣り合いをとるようにネックインするように、フイルムのガラス転移温度近傍で保持することで、遅相軸角度の標準偏差を小さくすることが好ましい。
また、ロール間にて縦延伸を行ってもよい。その場合、ロール間距離を広くすることによっても、遅相軸の標準偏差を小さくできる。
【００４０】
セルロースアセテートフイルムは、表面処理を施すことが好ましい。表面処理には、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理および紫外線照射処理が含まれる。
表面処理に加えて、または表面処理に代えて、下塗り層（特開平７−３３３４３３号公報記載）を設けてもよい。
フイルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフイルムの温度をＴ質量部（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
表面処理の結果、フイルムの表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上となることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下となることがさらに好ましい。
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社、１９８９．１２．１０発行）に記載のように、接触角法、湿潤熱法あるいは吸着法により求めることができる。
セルロースアセテートフイルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフイルムに滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフイルムの表面エネルギーを算出できる。
【００４１】
セルロースアセテートフイルムは、偏光膜との接着性を改善するため、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。これらのうちアルカリケン化処理が最も好ましい。
アルカリケン化処理は、フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液および水酸化ナトリウム溶液が好ましい。水酸化イオンの規定濃度は０．１Ｎ乃至３．０Ｎであることが好ましく、０．５Ｎ乃至２．０Ｎであることがさらに好ましい。アルカリ溶液の温度は、室温乃至９０℃であることが好ましく、４０乃至７０℃であることがさらに好ましい。
生産性の観点から、浸漬方法に代えて、塗布方法を採用することもできる。塗布方法では、アルカリ溶液を塗布し、ケン化処理後に水洗してフイルム表面よりアルカリを除去する。濡れ性の観点から、塗布溶媒は、アルコール（例、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、メタノール、エタノール）が好ましい。アルカリ溶解の助剤（例、水、プロピレングリコール、エチレングリコール）を添加してもよい。
【００４２】
偏光板の生産性には、透明保護膜として用いるセルロースアセテートフイルムの透湿性が影響する。偏光膜と透明保護膜とは一般に水性接着剤で貼り合わせられており、接着剤の溶剤が透明保護膜中を拡散することで接着剤が乾燥される。透明保護膜の透湿性が高ければ、乾燥は早くなり、生産性は向上する。透湿性が高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境によっては（例えば、高湿下では）、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
セルロースアセテートフイルムの透湿性は１００乃至１０００質量部／ｍ２・２４ｈｒｓであることが好ましく、３００乃至７００ｇ／ｍ２・２４ｈｒｓであることがさらに好ましい。
【００４３】
［光拡散層］
光拡散は透光性樹脂中に透光性微粒子を含むことで実現され、透光性微粒子のサイズ、屈折率および複数粒子種の混合によりそれらが複合的に機能することで光拡散の強度（ヘイズ）や角度依存性（プロファイル）、表面散乱／内部散乱比率が調整される。光拡散層は、透光性樹脂中に、複数の透光性微粒子を含むことが好ましい。特に好ましくは二種類の透光性微粒子を含む場合であり、例えば第１の透光性微粒子を架橋ポリスチレンビーズ（平均粒子径：３．５μｍ、屈折率：１．６１）で構成し、第２の透光性微粒子をシリカ微粒子（平均粒子径：１．０μｍ、屈折率：１．５１）で構成することができる。
【００４４】
光拡散機能は、透光性微粒子と透光性樹脂との屈折率の差によって得られる。屈折率の差は、０．０２乃至０．１５であることが好ましく、０．０３乃至０．１３であることがさらに好ましく、０．０４乃至０．１０であることが最も好ましい。
第１の透光性微粒子（大きい方の粒子）の粒径分布のピークは、２．５乃至５．０ｎｍの範囲にあることが好ましい。第２の透光性微粒子（小さい方の粒子）の粒径分布のピークは、０．５乃至２．０μｍの範囲にあることが好ましい。好ましい粒径分布は、最頻粒子径が異なる二種類の微粒子群を混合することにより容易に実現できる。
【００４５】
第２の透光性微粒子（小さい方の粒子）により、最適な光散乱の角度分布を得ることができる。表示品位を上げる（視野角改善）ためには、ある程度入射した光を拡散させることが必要である。拡散効果が大きい方が、視角特性は向上する。しかし、表示品位という点で正面の明るさを維持するためには、できる限り透過率を高めることが必要である。粒径のピークを０．５μｍ以上に調整することにより、後方散乱を小さくして、明るさの減少を抑制することができる。また、粒径のピークを２．０μｍ以下とすることより、大きな散乱効果が得られ、視角特性が改善される。第２の透光性微粒子（小さい方の粒子）の粒径分布のピークは、０．６乃至１．８μｍの範囲であることがさらに好ましく、０．７乃至１．６μｍの範囲であることが最も好ましい。
【００４６】
第１の透光性微粒子（大きい方の粒子）により、最適な表面散乱を得ることができる。表示品位を改善するためには、適切な表面散乱によって、外光の写り込みを防止することも重要である。そのために、第１の透光性微粒子（大きい方の粒子）の粒径分布のピークを、２．５乃至５．０ｎｍの範囲に調整する。
表面のヘイズ値が低いほど、表示のボケを小さくして明瞭なディスプレイ表示を得ることができる。ただし、ヘイズ値が低すぎると、映り込み及び面ギラ（シンチレーション）と呼ばれるキラキラ光る輝きが発生する。逆に、ヘイズ値が高すぎると白っぽくなり、黒濃度が低下（白化）する。
【００４７】
表面ヘイズ値を制御するには、第１の透光性微粒子（大きい方の粒子）により樹脂層表面に適度な凹凸を設けることが好ましい。ヘイズ値（曇価）は、ＪＩＳ−Ｋ−７１３６に準じ、村上色彩技術研究所製ＨＲ−１００を用いて測定できる。
粒子径を２．０μｍ以下とした場合、表面凸凹は小さくなり、表面散乱の効果が小さく、外光による写り込みを十分に抑えることができない。一方、５．０μｍ以上とした場合は、表面凸凹が大きくなり、写り込みは抑えられるが、著しく白化し逆に表示品位を落とすことになる。第１の透光性微粒子（大きい方の粒子）の粒径分布のピークは、２．２μｍ 乃至４．７μｍが好ましく、２．４μｍ乃至４．５μｍが最も好ましい。
【００４８】
以上のように、微粒子の粒径としては、平均粒径よりも最頻（モード）粒径の方が重要である。本明細書において、最頻粒径とは、微粒子を粒子径（０．１μｍ単位）で分類し、最大数の微粒子が分類される粒子径を意味する。以下に（実施例を含め）述べる微粒子の粒径は、最頻粒径を意味する。
表面凸凹は、平均表面粗さ（Ｒａ）として１．２μｍ以下であることが好ましく、０．８μ ｍ以下であることがさらに好ましく、０．３μｍ以下であることが最も好ましい。
【００４９】
光拡散層のヘイズ値、特に透過光の拡散に寄与が大きい内部散乱ヘイズは、視野角改良効果と強い相関関係がある。
バックライトから出射された光が視認側の偏光板表面に設置された光拡散層で拡散されることにより、視野角特性が改善される。拡散されすぎると、後方散乱が大きくなり、正面輝度が減少する。あるいは、散乱が大きすぎて画像鮮明性が劣化する問題が生じる。従って、光拡散層の内部散乱ヘイズは、４５％以上５５％以下が好ましく、４５％以上５０％以下が更に好ましく、４７％以上５０％以下が最も好ましい。
【００５０】
内部散乱ヘイズを上昇させる方法としては、粒径が０．５μｍ乃至１．５μｍである粒子濃度を上げる、もしくは膜厚を厚くする、さらには粒子の屈折率を上げるなどの方法がある。
内部散乱ヘイズとは別に、視認性の観点から表面凹凸により表面ヘイズを設けることが望ましい。内部散乱ヘイズと表面ヘイズとが存在する状態で、ヘイズ値全体は、４５％以上５５％以下が好ましく、４５％以上５０％以下が更に好ましく、４７％以上５０％以下が最も好ましい。
【００５１】
光散乱プロファイルは村上色彩研究所（株）製、ゴニオフォトメーターＧＰ−５によって測定したフイルム背面から垂直に入射した光の透過光強度の角度依存性により算出する。本発明においては、法線から３０°方向における０°方向の拡散光量に対する百分率で定義する。
図２は、光散乱層の光散乱プロファイルの測定原理を説明するための断面模式図である。
図２に示すように、光拡散フイルム（光拡散層）の裏面（第２透明保護膜側表面）の法線方向から光（光量：Ｉ）を入射する。そして、反対側表面に透過した光を、角度（θ）を０°から９０°まで変えながら散乱光量を測定する。そして、観察角度θの時の光散乱強度を下記式で定義する。
光散乱強度（θ）＝Ｉ（θ）／Ｉ×１００
本発明に従う光散乱層は、観察角度３０°の光散乱強度であるＩ（３０）／Ｉ×１００が、０．０１５％以上０．０２５％以下となる光散乱プロファイルを有する。
【００５２】
透光性微粒子は、プラスチックビーズが好適である。透明度が高いプラスチックを用いて、透光性樹脂との屈折率差を前記のように調整することが望ましい。プラスチックビーズには、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率：１．５５）、メラミン樹脂ビーズ（屈折率：１．５７）、架橋アクリル樹脂ビーズ（屈折率：１．４９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率：１．５７）、ポリスチレンビーズ（屈折率：１．６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率：１．６１）およびポリ塩化ビニルビーズ（屈折率：１．６０）が含まれる。
透光性樹脂として無機微粒子を用いてもよい。無機微粒子の例には、シリカビーズ（屈折率：１．４４）およびアルミナビーズ（屈折率：１．６３）が含まれる。
透光性微粒子は、透光性樹脂１００質量部に対して５乃至３０質量部を用いることが好ましい。
【００５３】
透光性微粒子は、樹脂組成物（透光性樹脂）中で沈降しやすい。沈降防止のために、無機フィラー（例、シリカ）を添加してもよい。なお、無機フィラーは、塗膜の透明性に悪影響を与える場合がある。従って、塗膜の透明性を損なわないために、無機フィラーの粒径を０．５μｍ以下として、添加量を透光性樹脂に対して０．１質量％未満にすることが望ましい。
【００５４】
光拡散層に用いる透光性樹脂は、紫外線または電子線によって硬化する樹脂であることが好ましい。熱硬化型樹脂を用いることもできる。樹脂に、熱可塑性樹脂と溶剤を混合してもよい。
透光性樹脂の屈折率は、１．５０乃至２．００が好ましく、１．５７乃至１．９０がさらに好ましく、１．６４乃至１．８０が最も好ましい。
透光性樹脂は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーをバインダーとして含むことが好ましい。ポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有することがさらに好ましい。また、ポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているポリマーを得るためには、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００５５】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。５官能以上のアクリレートが、膜硬度、すなわち耐傷性が優れた層を形成できるため好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物が市販されており、特に好ましく用いられる。
エチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶解、塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応により硬化することができる。
【００５６】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの使用に代えて、またはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル、ウレタン、金属アルコキシド（例、テトラメトキシシラン）も、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、架橋性官能基は、そのままでは反応性を示さず、分解の結果、反応性を示してもよい。
架橋性官能基を有するポリマーは、塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００５７】
透光性樹脂のバインダーは、上記のポリマーに加えて、高屈折率を有するモノマーが共重合したポリマーまたは高屈折率を有する金属酸化物超微粒子から形成することができる。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィドおよび４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテルが含まれる。
高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例は、粒径が１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。金属酸化物の金属は、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫またはアンチモンが好ましい。金属酸化物の例には、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３およびＩＴＯが含まれる。ＺｒＯ２が特に好ましい。金属酸化物超微粒子の添加量は、透光性樹脂の１０乃至９０質量％であることが好ましく、２０乃至８０質量％であることがさらに好ましい。
【００５８】
光拡散層は、セルロースアセテートフイルムの上に塗布により形成することが好ましい。通常は、セルロースアセテートフイルムからなる第２透明保護膜の上に、直接塗布により光拡散層を形成できる。第２透明保護膜とは別のセルロースアセテートフイルムの上に光拡散層を形成し、それを第２透明保護膜と接着してもよい。
光拡散層を、セルロースアセテートフイルムの上に形成する場合、光拡散層の塗布液に、セルロースアセテートを溶解する溶媒と、セルロースアセテートを溶解しない溶媒との二種類の溶媒を混合して用いることが特に好ましい。セルロースアセテートを溶解しない溶媒（の少なくとも一種類）は、セルロースアセテートを溶解する溶媒（の少なくとも一種類）よりも高沸点であることがより好ましい。セルロースアセテートを溶解しない溶媒の（ 数種ある場合は最も高い）沸点と、セルロースアセテートを溶解する溶媒の（数種ある場合は最も高い）沸点との差は、３０℃以上であることがさらに好ましく、５０℃以上であることが最も好ましい。
【００５９】
セルロースアセテートを溶解する溶媒の例には、炭素原子数が２乃至１２のエーテル（例、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１,４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１,３,５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール）、炭素原子数が３乃至１２のケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン）、炭素原子数が１乃至１２のエステル（例、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート、メチルプロピオネート、エチルプロピオネート、γ−ブチロラクトン）、２種類以上の官能基を有する有機溶媒（例、メチル２−メトキシアセテート、メチル２−エトキシアセテート、エチル２−エトキシアセテート、エチル２−エトキシプロピオネート、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート）が含まれる。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００６０】
セルロースアセテートを溶解しない溶媒の例には、アルコール（例、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、tert−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール）、エステル（例、イソブチルアセテート）、ケトン（例、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン）が含まれる。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
セルロースアセテートを溶解する溶媒の総量（Ａ）とセルロースアセテートを溶解しない溶媒の総量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）は、５／９５乃至５０／５０が好ましく、１０／９０乃至４０／６０がさらに好ましく、１５／８５乃至３０／７０が最も好ましい。
【００６１】
光拡散層は、塗布液の塗布後、電子線または紫外線の照射によって硬化することが好ましい。
電子線硬化の場合には、電子線加速器から放出される電子線が使用できる。電子線エネルギーは、５０乃至１０００ＫｅＶが好ましく、１００乃至３００ＫｅＶがさらに好ましい。電子線加速器としては、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型あるいは高周波型を用いることができる。紫外線硬化の場合、紫外線光源として、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアークあるいはメタルハライドランプが利用できる。
光拡散層の厚さは、０．５乃至５０μｍが好ましく、１乃至２０μｍがより好ましく、２乃至１０μｍがさらに好ましく、３乃至７μｍが最も好ましい。
【００６２】
［低屈折率層］
低屈折率層を光拡散層の上に、最外層として設けることができる。低屈折率層を設けることで、偏光板に反射防止機能を付与することができる。
低屈折率層の屈折率は、１．３５乃至１．４５であることが好ましく、低屈折率層の屈折率は、下記式を満足することが好ましい。
（ｍλ／４）×０．７＜ｎ１ｄ１＜（ｍλ／４）×１．３ 
式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、４５０〜６５０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、上記式を満足するとは、上記波長の範囲において上記式を満足する正の奇数（ｍ、通常は１）が存在することを意味する。
【００６３】
低屈折率層は、含フッ素樹脂で構成することが好ましい。含フッ素樹脂からなる低屈折率層は、熱硬化性または電離放射線硬化性の架橋性含フッ素化合物を硬化して形成できる。
低屈折率層表面の動摩擦係数は、０．０３乃至０．１５であることが好ましい。低屈折率層表面の水に対する接触角は、９０乃至１２０度であることが好ましい。
架橋性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）が好ましい。また、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーとを共重合させて得られる含フッ素ポリマーを用いることもできる。
【００６４】
含フッ素モノマーの例には、フルオロオレフィン類（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類および完全または部分フッ素化ビニルエーテル類が含まれる。（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体としては、市販品（ビスコート６ＦＭ、大阪有機化学（株）製；Ｍ−２０２０、ダイキン製）を用いることもできる。
【００６５】
架橋性基付与のためのモノマーとしては、分子内に架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマー（例、グリシジルメタクリレート）、他の反応性の官能基（例、カルボキシル、ヒドロキシル、アミノ、スルホン）を有する（メタ）アクリレートモノマー（例、（ メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート）を用いることができる。他の反応性の官能基を有する
モノマーは共重合後、反応性基に架橋構造を導入できる（特開平１０−２５３８８号、同１０−１４７７３９号の各公報記載）。
【００６６】
含フッ素モノマーおよび架橋性基付与のためのモノマーに加えて、他のモノマーを共重合させてもよい。
他のモノマーの例には、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エステル（例、メチルアクリレート、エチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート）、メタクリル酸エステル（例、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート）、スチレン、スチレン誘導体（例、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル（例、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルシンナメート）、アクリルアミド、アクリルアミド誘導体（例、Ｎ−tert−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド）、メタクリルアミド、メタクリルアミド誘導体およびアクリロニトリル誘導体が含まれる。
【００６７】
含フッ素樹脂には、耐傷性を付与するために、ケイ素酸化物超微粒子を添加することが好ましい。超微粒子の平均粒径は、０．１μｍ以下が好ましく、０．００１乃至０．０５μｍがさらに好ましい。
ケイ素酸化物超微粒子として、市販のシリカゾルを用いることができるが、特開２００１−２３３６１１号に記載の中空のシリカ微粒子であることが更に好ましい。シリカゾルは、そのまま低屈折率層の塗布液に添加することができる。また、市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して、ケイ素酸化物超微粒子として使用することもできる。
【００６８】
［液晶性化合物から形成した光学異方層］
液晶性化合物には、棒状液晶性化合物および円盤状液晶性化合物が含まれる。高分子の液晶性化合物を用いてもよい。低分子の液晶性化合物が、重合または架橋することにより、光学異方層において液晶性を示さなくなっていてもよい。
棒状液晶性化合物には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章および特開２０００−３０４９３２号公報に記載がある。
【００６９】
円盤状液晶性化合物が特に好ましい。
円盤状液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Mol.Cryst.122 巻,141 頁(1985 年)、physics lett,A,78 巻,82 頁(1990)） に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Angew.Chem.96 巻,70 頁(1984年)）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（J.Chem.Commun.,1794 頁(1985 年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（J.Am.Chem.Soc.116 巻,2655頁(1994 年)）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。円盤状液晶性化合物は、上記の母核（分子中心）に、直鎖のアルキル基、アルコキシ基あるいは置換ベンゾイルオキシ基が側鎖として放射線状に結合した構造を有する。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できる化合物であれば、文献記載の構造には限定されない。
円盤状液晶性化合物から形成した光学異方層は、最終的に円盤状液晶性化合物を含んでいる必要はない。例えば、低分子の円盤状液晶性化合物が反応性基を有しており、熱や光で重合または架橋反応させ高分子化し、最終的に液晶性を失ってもよい。好ましい円盤状液晶性化合物については、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。
【００７０】
光学異方層は、円盤状液晶性化合物から形成した層であることが好ましい。円盤面は、セルロースアセテートフイルム面に対して傾き、円盤面とフイルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向に変化している（ハイブリッド配向している）ことが好ましい。
円盤面の角度（傾斜角）は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層の底面（セルロースアセテートフイルム面）からの距離の増加と共に増加または減少している。傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。傾斜角の変化には、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、並びに増加及び減少を含む間欠的変化が含まれる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含む。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【００７１】
光学異方層は、一般に円盤状液晶性化合物及び他の添加剤（例、重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマティック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。重合（例えば、ＵＶ照射による光重合）によって、配向状態を固定することが好ましい。ディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０乃至３００℃が好ましく、７０乃至１７０℃がさらに好ましい。
【００７２】
セルロースアセテートフイルム側の円盤面の傾斜角は、一般に円盤状液晶性化合物または配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤面の傾斜角は、一般に円盤状液晶性化合物あるいは円盤状液晶性化合物と共に使用する他の添加剤（例、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択することにより調整することができる。傾斜角の変化は、フイルム側と表面側（空気側）との傾斜角により調整する。
【００７３】
光学異方層に添加する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーは、円盤状液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが望ましい。これらの添加剤は、円盤状液晶性化合物の傾斜角を変化させてもよい。
重合性モノマーの重合性基の例には、ビニル、ビニルオキシ、アクリロイルおよびメタクリロイルが含まれる。重合性モノマーは、多官能アクリレートであることが好ましい。官能基の数は３官能以上が好ましく、４官能以上がさらに好ましく、６官能が最も好ましい。６官能モノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが特に好ましい。官能基の数が異なる多官能モノマーを混合して使用してもよい。
重合性モノマーは、円盤状液晶性化合物に対して１乃至５０質量％の量にて使用することが好ましく、５乃至３０質量％の量にて使用することがさらに好ましい。
【００７４】
光学異方層にポリマーを添加してもよい。ポリマーは、円盤状液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが望ましい。ポリマーは、円盤状液晶性化合物の傾斜角を変化させてもよい。ポリマーは、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース、セルロースアセテートブチレート）が好ましい。ポリマーの量は、円盤状液晶性化合物に対して、０．１乃至１０質量％が好ましく、０．１乃至８質量％がさらに好ましく、０．１乃至５質量％が最も好ましい。
【００７５】
［配向膜］
液晶性化合物は、配向膜を用いて配向させる。
配向膜は、架橋されたポリマーからなるラビング処理された膜であることが好ましい。配向膜は、架橋された二種類のポリマーからなることがさらに好ましい。ポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーに加えて、架橋剤により架橋されるポリマーも使用できる。
配向膜は、官能基を有するポリマーを、光、熱あるいはｐＨ変化により、ポリマー間で反応させて形成することができる。また、反応活性の高い化合物を架橋剤として用い、ポリマー間に架橋剤に由来する連結基を導入して、ポリマー間を架橋することにより配向膜を形成することができる。
【００７６】
ポリマーの架橋は、架橋性ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、セルロースアセテートフイルム上に塗布したのち、光、熱あるいはｐＨ変化により反応させる。ポリマーの架橋は、最終商品の段階で耐久性を確保することが主な目的であるため、配向膜をフイルム上に塗設した後から、偏光板あるいは液晶表示装置を製造するまでのいずれの段階で架橋させる処理を行えばよい。
配向膜上に形成される光学異方層の配向性を考えると、液晶性化合物を配向させてから、架橋反応を行なうことも好ましい。すなわち、セルロースアセテートフイルム上に、ポリマーおよび架橋剤を含む塗布液を塗布した場合、加熱乾燥した後（一般に加熱乾燥で架橋するが、加熱温度が低い場合には、液晶相の形成温度に加熱した際に架橋が進む）、ラビング処理を行なって配向膜を形成し、次いでこの配向膜上に液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、液晶相形成温度以上に加熱した後、冷却して光学異方層を形成する。
【００７７】
配向膜に使用されるポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ポリマレインイミド、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、セルロースニトレート、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル（例、ポリカーボネート）、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレンおよびポリプロピレンが含まれる。これらのコポリマーを用いてもよい。コポリマーの例には、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、スチレン／ビニルトルエン共重合体、酢酸ビニル／ 塩化ビニル共重合体およびエチレン／酢酸ビニル共重合体が含まれる。シランカップリング剤も、配向膜ポリマーを形成できる。水溶性ポリマーが好ましい。ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【００７８】
重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを二種類以上併用することが特に好ましい。
ポリビニルアルコールのケン化度は、７０乃至１００％が好ましく、８０乃至１００％がさらに好ましく、８５乃至９５％が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００乃至３０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールの変性基は、共重合変性、連鎖移動変性あるいはブロック重合変性によりポリビニルアルコールに導入できる。共重合変性における変性基の例には、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）３、Ｎ（ＣＨ３）３・Ｃｌ、Ｃ９Ｈ１９ＣＯＯ、ＳＯ３ＮａおよびＣ１２Ｈ２５が含まれる。連鎖移動変性における変性基の例には、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ１２Ｈ２５が含まれる。ブロック重合変性における変性基の例には、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＯＲ、Ｃ６Ｈ５が含まれる。
変性ポリビニルアルコールの合成方法、可視吸収スペクトル測定、および変性基導入率の決定方法は、特開平８−３３８９１３号公報に記載がある。
ケン化度が８５乃至９５％の未変性またはアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
【００７９】
架橋剤の例には、アルデヒド類（例、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド）、Ｎ−メチロール化合物（例、ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン）、ジオキサン誘導体（例、２，３−ジヒドロキシジオキサン）、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物（例、カルベニウム、２−ナフタレンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−クロロピリジニウム、１−モルホリノカルボニル−３−（スルホナトアミノメチル））、活性ビニル化合物（例、１、３、５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビニルスルホン）メタン、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス−［βー（ビニルスルホニル）プロピオンアミド］）、活性ハロゲン化合物（例、２，４  −ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジン）、イソオキサゾール類およびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。反応活性が高いアルデヒド類、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【００８０】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して５０質量％未満であることが好ましく、０．１乃至２０質量％がさらに好ましく、０．５乃至１５質量％が最も好ましい。配向膜は、架橋反応が終了後、未反応の架橋剤をある程度含むことができる。ただし、残存する架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。
配向膜は、ポリマー（および架橋剤）を含む塗布液をセルロースアセテートフイルム上に塗布した後、加熱乾燥（および架橋）させ、ラビング処理することにより形成することができる。塗布液は、消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水との混合溶媒を用いることが好ましい。混合溶媒中には、水が１質量％以上含まれることが好ましく、９質量％以上含まれることがさらに好ましい。
【００８１】
塗布液のｐＨは、使用する架橋剤に最適な値に設定する。グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５乃至５．５であることが好ましく、ｐＨ５であることが特に好ましい。塗布方法としては、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法あるいはＥ型塗布法を採用できる。特にＥ型塗布法が好ましい。
配向膜の厚さは、０．１乃至１０μｍが好ましい。加熱乾燥における加熱温度は、２０乃至１１０℃が好ましく、６０乃至１００℃がさらに好ましく、８０乃至１００℃が最も好ましい。乾燥時間は、１分乃至３６時間が好ましく、５乃至３０分がさらに好ましい。
【００８２】
配向膜は、ポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得られる。ラビング処理は、液晶表示装置の製造工程における処理として広く採用されている方法を利用できる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロンやポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行う。
【００８３】
［偏光膜］
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。
セルロースアセテートフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
【００８４】
［液晶表示装置］
本発明の偏光板は、ＯＣＢモードの液晶表示装置に用いられることが好ましい。
ＯＣＢモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。本発明に従う偏光板は、視認側（表示面側の）偏光板として用いる。偏光板の光拡散層が表示面側になるように配置する。
【００８５】
ＯＣＢモード（ベンド配向モード）の液晶セルでは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させる。そのため、ＯＣＢモードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。ＯＣＢモードの液晶セルを用いた液晶表示装置については、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に記載されている。
ＯＣＢモードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【００８６】
本発明の偏光板は、カラー画像が表示可能である液晶表示装置において特に有効である。カラー画像が表示可能である液晶表示装置では、液晶セルがカラーフィルターを有する。カラーフィルターは、一般に、液晶セルの視認側ガラス基板上に設置される。
カラーフィルターは、マトリックス状あるいはドット状に液晶セルの表示面側に設けられる。液晶表示装置には、コントラスト比（明暗比）が、透過光の波長と液晶層の厚さに依存して変化するという現象がある。その現象を考慮し、最も良好なコントラスト比を得るために、カラーフィルターの厚さを色毎に変化させてもよい（特開昭６０−１５９８２３号公報記載）。
カラーフィルターの上に液晶駆動用の透明電極を設けることができる。また、コントラスト比を改善する目的で、カラーフィルターの各色領域の間に、黒色の光吸収領域（ブラックマトリックス）を設けることが好ましい。対向電極側に薄膜トランジスタをスイッチング素子として設ける場合は、素子を隠蔽する目的でブラックマトリックスを設けることもできる。
ブラックマトリックスは、金属（例、クロム）または金属化合物（例、酸化クロム、窒化クロム）から形成できる。ブラックマトリックスは、複数の層から構成されていてもよい。ブラックマトリックスの厚さは、透過濃度（１ｏｇ１０  （入射光量／透過光量）の値が２乃至３となるように調整する。具体的な厚さは、０．０６乃至０．２μｍが好ましい。ブラックマトリックスは、フォトエッチング法やリフトオフ法で形成できる。
【００８７】
カラーフィルターは、色むらとして認識されやすい緑のフィルターを第１色目に形成することが好ましい。
各色のフィルター層は、染料または顔料、好ましくは染料をポリマーマトリックス中に添加して形成する。ポリマーマトリックスは、タンパク質（例、カゼイン、にかわ、ゼラチン）の水溶液に重クロム酸カリウムや重クロム酸アンモニウムを加えた感光性樹脂から形成できる。また、アクリレート系樹脂に光架橋剤を添加した感光性樹脂を用いてもよい。
感光性樹脂を回転塗布法により、所定の厚さに塗布し、マスク露光法を用いて現像し所望のパターンのレリーフ像を得て、これを酢酸により酸性とした染料水溶液により染色することが好ましい。
【００８８】
カラーフィルターに、市販の赤染料（ラナシンレッドＳ−２ＧＬ、サントス社製；イルガノールレッドＢＬ、チバガイギー社製；カヤノールミーリングレッドＲＳ、カヤカランスカーレットＧＬ、日本化薬（株）製；スミノールレベルビノール３ＧＰ、住友化学（株）製）、緑染料（ダイヤミラブリリアントグリーン６Ｂ、三菱化成（株）製；イリガノールイエロー４ＧＬＳ、チバガイギー製；スミフィックスターキスブルーＢＳ１００％、住友化学（株）製；カヤカランイエローＧＬ１４３、日本化薬（株）製；ブリリアントインドブルー、ヘキスト社製；スミノールイエローＭＲ、住友化学（株）製）、青染料（ソロフェルターキスブルーＢＲＬ、チバガイギー社製；カヤノールミーリングシアニンＧ、日本化薬（株）製；ミツイアシッドミーリングスカイブルーＦＳＥ、三井東圧（株）製）を用いてもよい。二種類以上の染料を混合して（二成分系染料として）用いることもできる。
染料は、濃度が０．５乃至２質量％の水溶液に、酢酸を１乃至３質量％添加することで酸性とした染料液を調製してフィルター層の染色に用いることができる。染色は、５０乃至７０℃の温浴で実施することが好ましい。浸漬時間は、５乃至２０分が好ましい。
【実施例】
【００８９】
［実施例１］
（第１透明保護膜用セルロースアセテートフイルムの作製）
【００９０】
──────────────────────────────────────── 
セルロースアセテート溶液組成
──────────────────────────────────────── 
酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）            ８０質量部
酢化度６０．８％のセルロースアセテート（リンター）            ２０質量部
トリフェニルホスフェート                                        ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                                ３．９質量部
メチレンクロライド                                          ３００質量部
メタノール                                                    ４５質量部
──────────────────────────────────────── 
【００９１】
上記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【００９２】
──────────────────────────────────────── 
レターデーション上昇剤溶液組成
──────────────────────────────────────── 
酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）              ４質量部
下記レターデーション上昇剤（化１）                            ２５質量部
シリカ微粒子（平均粒径：２０ｎｍ）                              ０．５質量部
メチレンクロライド                                            ８０質量部
メタノール                                                    ２０質量部
──────────────────────────────────────── 
【００９３】
上記組成物を別のミキシングタンクに加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
【００９４】
【化１】
2006259003.tif 000003
【００９５】
セルロースアセテート溶液４７０質量部にレターデーション上昇剤溶液３０質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。セルロースアセテート１００質量部に対して、レターデーション上昇剤の添加量は６．２質量部であった。
得られたドープをバンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が３５℃となってから１分間乾燥し、残留溶剤量が４５質量％の時に剥ぎ取った後、テンター延伸ゾーンで、１４０℃の温度雰囲気下で幅方向に２８％延伸した後、１４０℃で１０分、１３０℃で２０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（厚さ６０μ ｍ）を製造した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて光学特性を測定した結果、Ｒｅレターデーション値は３５ｎｍ、Ｒｔｈレターデーション値は１７５ｎｍであった。なお、光学特性はエリプソメーター（Ｍ１５０  日本分光（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値を測定した。
【００９６】
作製したセルロースアセテートフイルムの表面に、１．５Ｎ水酸化カリウム溶液（溶媒：水／イソプロピルアルコール／プロピレングリコール＝１４／８６／１５容量％）を５ｍｌ／ｍ２塗布し、１０秒間６０℃で保持した後、フイルム表面に残った水酸化カリウムを水洗し、乾燥した。セルロースアセテートフイルムの表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６０ｍＮ／ｍであった。
このようにして、第１透明保護膜用のセルロースアセテートフイルムを作製した。
【００９７】
（配向膜の形成）
第１透明保護膜用のセルロースアセテートフイルム上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
次に、セルロースアセテートフイルムの長手方向と４５°をなす方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。このようにして、配向膜を形成した。
【００９８】
────────────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
────────────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール                                １０質量部
水                                                          ３７１質量部
メタノール                                                  １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                                    ０．５質量部
────────────────────────────────────────
【００９９】
【化２】
2006259003.tif 000004
【０１００】
（光学異方層の形成）
下記組成物を溶解して塗布液を調製した。
【０１０１】
────────────────────────────────────────
光学異方層用塗布液組成
────────────────────────────────────────
メチルエチルケトン                                          １０２質量部
下記円盤状液晶性化合物                                        ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ３６０、大阪有機化学（株）製）                                                  ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）                                                                ０．６８質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
１．３５質量部
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）              ０．４５質量部
────────────────────────────────────────
【０１０２】
上記塗布液を、配向膜上に＃４のワイヤバーで塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、円盤状液晶性化合物をハイブリッド配向させた。次に１００℃の雰囲気下で１２００Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて０．４秒間ＵＶ照射し、円盤状液晶性化合物を重合させて配向を固定した。このようにして光学異方層を形成した。
波長５５０ｎｍで測定した光学異方層のＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。
また、円盤面とセルロースアセテートフイルム面の平均角度（傾斜角）は、３０°であった。
【０１０３】
【化３】
2006259003.tif 000005
【０１０４】
（第２透明保護膜用セルロースアセテートフイルムの作製）
下記の組成のセルロースアセテート溶液を、内層用および外層（表面層）用のドープとして、それぞれ調製した。溶解は、冷却溶解法を採用した。具体的には、組成物を混合後、室温（２５℃）にて３時間放置した。不均一なゲル状溶液を、−７０℃にて６時間冷却した後、５０℃に加温し攪拌して溶液を得た。
【０１０５】
────────────────────────────────────────
組成物                        内層用ドープ        外層用ドープ
────────────────────────────────────────
酢化度５９．５％のセルロースアセテート    １００質量部        １００質量部
トリフェニルホスフェート                      ７．８質量部        ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート              ２．０質量部        ２．０質量部
酢酸メチル                                ３０６質量部        ３２７質量部
シクロヘキサノン                          １２２質量部        １３１質量部
メタノール                                  ３０．５質量部      ３２．７質量部
エタノール                                  ３０．５質量部      ３２．７質量部
平均粒径２０ｎｍのシリカ粒子                  １．０質量部        １．０質量部
────────────────────────────────────────
【０１０６】
外層用ドープを５０℃にて、絶対濾過精度０．００２５ｍｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。内層用ドープは５０℃にて、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）にて濾過した。
これらのドープを三層共流延ダイを用い、内層用ドープが内側に、外層用ドープが両外側になるように配置して金属支持体上に同時に吐出させて重層流延した。このとき、内層の乾燥膜厚が４８μｍ、表面層が各６μｍになるように設定して流延した。流延膜を支持体から剥ぎ取り、乾燥して、セルロースアセテートフイルムを製造した。乾燥は７０℃で３分、１４０℃で５分した後、支持体からフイルムを剥ぎ取り、そして１３０℃、３０分で段階的に乾燥して溶剤を蒸発させセルロースアセテートフイルムを得た。剥ぎ取りの段階での残留溶剤量は３０質量％、最終的な残留溶剤量は０．９質量％であった。
【０１０７】
剥ぎ取ったフイルムをテンターで１０％横一軸延伸し、さらにロール間で１５％縦一軸延伸処理をおこなった。ロール延伸機のロール表面は鏡面処理をした。ロールの温度は加熱した油を循環することで調整できるようにし、延伸温度は１３５℃とした。延伸後、１３０℃で３０分間乾燥して巻き取った。膜厚は５０μｍであった。
また、巾方向に任意に１０ヶ所の点で１００ｍｍ当たりの表面粗さ（Ｒａ）を測定したところ、その平均値は０．０９μｍであった。
このようにして、第２透明保護膜用のセルロースアセテートフイルムを作製した。
【０１０８】
（光拡散層の形成）
（透光性微粒子分散液Ａの調整）
透光性微粒子として、分散安定剤にマクロモノマーを使用せずに分散重合で得られたアクリル系（ＰＭＭＡ系）架橋微粒子ＭＸＳ３００（綜研化学（株）、架橋剤量５質量％、３．１１μｍ）を使用した。１７．５質量部のメチルイソブチルケトンに対してアクリル系架橋微粒子ＭＸＳ３００を７．５質量部加え、回転数５０００ｒｐｍ、分散時間３時間の条件でポリトロン分散を行い、３０質量％溶液の透光性微粒子分散液Ａを得た。平均粒子径測定はＭＡＬＶＥＲＮ製マスターサイザーを用いて、測定溶剤にメチルイソブチルケトンを使用した。平均粒子径は３．４μｍであった。
【０１０９】
（透光性微粒子分散液Ｂの調整）
透光性微粒子として、シリカ微粒子ＫＥＰ１５０（日本触媒（株）、１．５６μｍ）を使用した。１７．５質量部のメチルエチルケトンに対してシリカ微粒子ＫＥＰ１５０を７．５質量部加え、回転数５０００ｒｐｍ、分散時間３時間の条件でポリトロン分散を行い、３０質量％溶液の透光性微粒子分散液Ｂを得た。平均粒子径測定はＭＡＬＶＥＲＮ製マスターサイザーを用いて、測定溶剤にメチルイソブチルケトンを使用した。平均粒子径は１．５μｍであった。
【０１１０】
────────────────────────────────────────
光拡散層用塗布液Ａ
────────────────────────────────────────
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）                    ３１．２質量部
ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液（ＪＳＲ（株）製）    １０１．３質量部
透光性微粒子分散液Ａ                                          １２．３質量部
透光性微粒子分散液Ｂ                                          ２８．８質量部
シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１０．４質量部
メチルエチルケトン                                              ９．４質量部
メチルイソブチルケトン                                          ６．６質量部
────────────────────────────────────────
【０１１１】
上記光拡散層用塗布液Ａを調製した。
塗布液を、第２透明保護膜用のセルロースアセテートフイルム上に、８．６ｍｌ／ｍ２塗布した。溶媒を乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、窒素パージ下で照度１４０ｍＷ／ｃｍ２、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。このようにして、光拡散層Ａを形成した。
【０１１２】
────────────────────────────────────────
光拡散層用塗布液Ｂ
────────────────────────────────────────
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）                    ３１．８質量部
ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液（ＪＳＲ（株）製）    １０１．３質量部
透光性微粒子分散液Ａ                                          １２．３質量部
透光性微粒子分散液Ｂ                                          ２２．３質量部
シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１０．６質量部
メチルエチルケトン                                            １３．９質量部
メチルイソブチルケトン                                          ５．９質量部
────────────────────────────────────────
【０１１３】
上記組成液を光拡散層Ａと同様にして光拡散層を形成し、巻き取った。
【０１１４】
────────────────────────────────────────
光拡散層用塗布液Ｃ  
────────────────────────────────────────
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）                    ３２．５質量部
ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液（ＪＳＲ（株）製）    １０５．６質量部
透光性微粒子分散液Ａ                                          １２．３質量部
透光性微粒子分散液Ｂ                                          １４．４質量部
シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１０．６質量部
メチルエチルケトン                                            １９．３質量部
メチルイソブチルケトン                                          ５．１質量部
────────────────────────────────────────
【０１１５】
上記組成液を光拡散層Ａと同様にして光拡散層を形成し、巻き取った。
【０１１６】
────────────────────────────────────────
光拡散層用塗布液Ｄ
────────────────────────────────────────
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）                    ３３．２質量部
ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液（ＪＳＲ（株）製）    １０７．９質量部
透光性微粒子分散液Ａ                                          １２．３質量部
透光性微粒子分散液Ｂ                                            ６．５質量部
シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１１．１質量部
メチルエチルケトン                                            ２４．８質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４．３質量部
────────────────────────────────────────
【０１１７】
上記組成液を光拡散層Ａと同様にして光拡散層を形成し、巻き取った。
【０１１８】
────────────────────────────────────────
光拡散層用塗布液Ｅ
────────────────────────────────────────
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）                    ３３．８質量部
ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液（ＪＳＲ（株）製）    １０９．７質量部
透光性微粒子分散液Ａ                                          １２．３質量部
シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１１．３質量部
メチルエチルケトン                                            ２９．３質量部
メチルイソブチルケトン                                          ３．７質量部
────────────────────────────────────────
【０１１９】
上記組成液を光拡散層Ａと同様にして光拡散層を形成し、巻き取った。
【０１２０】
（低屈折率層の形成）
（ゾル液の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液を得た。質量平均分子量は１８００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１２１】
────────────────────────────────────────
低屈折率層用塗布液Ａ
────────────────────────────────────────
ポリシロキサンおよびヒドロキシル基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ−１１３、ＪＳＲ（株）製）                        １３．０質量部
コロイダルシリカ分散物（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）                                                １．３質量部
前記ゾル液                                                      ０．６質量部
メチルエチルケトン                                              ５．０質量部
シクロヘキサノン                                                ０．６質量部
────────────────────────────────────────
【０１２２】
上記組成を添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ａを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４５であった。
【０１２３】
（分散液Ａの調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０質量部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５質量部加え混合した後に、イオン交換水を９質量部加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加した。この分散液５００質量部にほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０１２４】
────────────────────────────────────────
低屈折率層用塗布液Ｂ  
────────────────────────────────────────
ポリシロキサンおよびヒドロキシル基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ−１１３、ＪＳＲ（株）製）                      ７８３．３質量部
分散液Ａ                                                    １９５質量部
（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）
コロイダルシリカ分散物（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）                                              ３０．０質量部
前記ゾル液                                                    １７．２質量部
────────────────────────────────────────
【０１２５】
上記組成物を添加し、塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液Ｂを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３９であった。
【０１２６】
ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、測定器（村上色彩技術研究所製、ＨＲ−１００）を用いて、光拡散層を形成した第２透明保護膜フイルムのヘイズを測定した。
さらにゴニオフォトメーターにより散乱光プロファイルを測定し、３０°光散乱強度を求めた。
結果を第１表に示す。
【０１２７】
第１表
────────────────────────────────────────
光拡散層      低屈折率層        ヘイズ          ３０°光散乱強度
────────────────────────────────────────
Ａ              Ａ          ６８．２％          ０．０３２９
Ｂ              Ａ          ５９．０％          ０．０２５７
Ｃ              Ａ          ４７．７％          ０．０１７９
Ｄ              Ａ          ３７．４％          ０．０１２６
────────────────────────────────────────
【０１２８】
（ＯＣＢモード用視認側偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
各々前述した光拡散層および低屈折率層を第１表に示す組み合わせで形成した第２透明保護膜に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、第２透明保護膜（セルロースアセテートフイルム）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。
更に光学異方層を形成した第１透明保護膜を、第１透明保護膜（セルロースアセテートフイルム）が偏光膜側になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と第１透明保護膜の遅相軸とは平行になるように配置した。
このようにしてＯＣＢモード用視認側偏光板を作製した。
【０１２９】
（バックライト側偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
光学異方層を形成した第１透明保護膜を、第１透明保護膜（セルロースアセテートフイルム）が偏光膜側になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と第１透明保護膜の遅相軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、偏光膜の反対側に貼り付けた。
このようにしてバックライト側偏光板を作製した。
【０１３０】
（ＯＣＢモードの液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを６μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ＯＣＢモードの液晶セルを作製した。
作製したＯＣＢモードの液晶セルに、前述の視認側偏光板を貼り付けた。反対側にはバックライト側偏光板を貼り付けた。視認側偏光板の光学異方層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方層のラビング方向とが反平行となるように配置した。さらに一部のサンプルには図３に例示するように集光フイルムを配置し、バックライト装置を取り付けて、第２表に示す組み合わせの液晶表示装置を作製した。
【０１３１】
図３は、光吸収型偏光素子と光散乱型偏光素子とを積層した偏光板を用いた液晶表示装置を示す断面模式図である。
図３に示す液晶表示装置では、光源（１２１）から出射され、反射板（１２２）および導光板（１２３）を経由した光は散乱シート（１３３）により面内で輝度が均一化され、光を所定方向に集光する機能を有する集光性フイルム（１３４）により、ユーザが見ることの無い極端に斜め方向の光を正面付近に集光させて輝度を向上させる。集光性フイルム（１３４）では逆にユーザが見る可能性のある正面よりやや斜め方向の光を減少させるが、光吸収型偏光素子（１２４）と光散乱型偏光素子（１３１）とを積層した偏光板（１３２）によって適度に拡散される。光散乱型偏光素子（１３１）によって、下側の光吸収型偏光素子（１２４）の透過軸と同じ方向の偏光は選択的に透過し、透過軸と直交する偏光の一部は前方散乱による偏光解消によって偏光面が透過軸方向に揃えられることにより利用効率が向上する。また、透過軸と直交する偏光の一部は、後方散乱によって光源（１２１）側へ戻り、導光板（１２３）により偏光解消されて反射板（１２２）で反射され、再び光散乱型偏光素子（１３１）に戻って再利用されることによっても、利用効率が向上する。
以上の結果、自然な輝度の視野角分布が得られる。
【０１３２】
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Contrast１ ６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で測定した。結果からコントラストが１０以上となる上方向の視野角および、正面コントラストを求めた。
結果を第２表に示す。
【０１３３】
第２表
────────────────────────────────────────
試料番号  光拡散層  低屈折率層  集光フイルム  ＣＲ＞１０（上）      ＣＲ
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１０１      Ａ        Ａ          なし          ＞８０          ２７８
１０２      Ｂ        Ａ          なし          ＞８０          ２８４
１０３      Ｃ        Ａ          なし          ＞８０          ２９３
１０４      Ｄ        Ａ          なし          ＞８０          ２８６
１０５    なし        Ａ          なし            ７２          ２９９
１０６      Ｂ        Ｂ          なし          ＞８０          ２８９
１０７      Ｃ        Ｂ          なし          ＞８０          ３０１
１０８      Ｄ        Ｂ          なし          ＞８０          ２９４
１０９      Ｂ        Ａ          あり          ＞８０          ４０８
１１０      Ｃ        Ａ          あり            ７９          ４２８
１１１      Ｄ        Ａ          あり            ７５          ４２０
１１２    なし        Ａ          あり            ６９          ４２７
────────────────────────────────────────
【０１３４】
試料１０１から試料１０５の比較より、本発明試料１０３は正面コントラストは光拡散フイルムを用いなかった試料１０５並でありながら視野角が広い事、試料１０６から試料１０８においても同様に本発明試料１０７の正面コントラストが高く、さらに試料１０９から試料１１２において、本発明試料１１０は集光フイルムとの組み合わせにより、正面コントラストを損なうことなく、視野角が広くなり、いずれも本発明試料は視野角と正面コントラストにおいてバランスのとれた良好な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】本発明に従う偏光板を有するＯＣＢモードの液晶表示装置の断面模式図である。
【図２】光散乱層の光散乱プロファイルの測定原理を説明するための断面模式図である
【図３】光吸収型偏光素子と光散乱型偏光素子とを積層した偏光素子を用いた液晶表示装置を示す断面模式図である。
【符号の説明】
【０１３６】
１    バックライト装置
１０  バックライト光源
１１  導光板
２    バックライト側偏光板
２１  第２透明保護膜
２２  偏光膜
２３  セルロースアセテートフイルムからなる第１透明保護膜
２４  配向膜
２５  液晶性化合物から形成した光学異方層
２５１  円盤状液晶性化合物
３  液晶セル
３１  下側ガラス基板
３２  下側透明導電膜
３３  下側配向膜
３４  液晶層
３４１  棒状液晶性分子
３５  上側配向膜
３６  上側透明導電膜
３７  カラーフィルター
３７１  青領域
３７２  緑領域
３７３  赤領域
３７４  ブラックマトリックス
３８  上側ガラス基板
４  視認側偏光板
４１  液晶性化合物から形成した光学異方層
４１１  円盤状液晶性化合物
４２  配向膜
４３  セルロースアセテートフイルムからなる第１透明保護膜
４４  偏光膜
４５  第２透明保護膜
４６  光拡散層
４６１  第１の透光性微粒子
４６２  第２の透光性微粒子
点線の矢印（配向膜内）  ラビング方向
ｄ１、ｄ２  カラーフィルターと光拡散層との距離
１２１  バックライト光源
１２２  反射板
１２３  導光板
１２４  下側光吸収型偏光素子
１２５  上側光吸収型偏光素子
１２６  液晶セル
１３１  光散乱型偏光素子
１３２  偏光板
１３３  散乱シート
１３４  集光性フイルム
１３５  集光性フイルム
【図１】
2006259003.tif 000006
【図２】
2006259003.tif 000007
【図３】
2006259003.tif 000008