(57)【要約】【課題】環境温湿度変化に対して光学特性変化が少なく、かつ面内レターデーションＲｅおよび膜厚方向レターデーションＲｔｈの設計の自由度の高い光学補償シートを提供すること。またこのような優れた光学補償シートを有する偏光板および液晶表示装置を提供すること。【解決手段】環状オレフィン系付加重合体を含有する基体フィルム上に、光学異方性層を積層したことを特徴とする光学補償シート。偏光子と、その両側に配置された２枚の保護膜からなる偏光板において、前記保護膜のうちの少なくとも１枚が、該光学補償シートであることを特徴とする偏光板。該偏光板を少なくとも１枚使用したことを特徴とする液晶表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状オレフィン系付加重合体を含有する基体フィルム上に、光学異方性層を積層したことを特徴とする光学補償シート。
【請求項２】
前記環状オレフィン系付加重合体が、一般式（Ｉ）で表される少なくとも１種の繰返し単位および一般式（II）で表される少なくとも１種の環状繰返し単位からなる共重合体であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償シート。
【化１】
2006293331.tif 000023
【化２】
2006293331.tif 000024
式中、ｍは０から４の整数を表す。Ｒ1〜Ｒ4は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘ1〜Ｘ2、Ｙ1〜Ｙ2は水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−(ＣＨ2)nＣＯＯＲ11、−(ＣＨ2)nＯＯＣＲ12、−(ＣＨ2)nＮＣＯ、−(ＣＨ2)nＮＯ2、−(ＣＨ2)nＣＮ、−(ＣＨ2)nＣＯＮＲ13Ｒ14、−(ＣＨ2)nＮＲ13Ｒ14、−(ＣＨ2)nＯＣＯＺ、−(ＣＨ2)nＯＺ、−(ＣＨ2)nＷ、またはＸ1とＹ1あるいはＸ2とＹ2から構成された(−ＣＯ)2Ｏ、(−ＣＯ)2ＮＲ15を示す。なお、Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15は炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｚは炭化水素基、またはハロゲンで置換された炭化水素基、ＷはＳｉＲ16pＤ3-p（Ｒ16は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子，−ＯＣＯＲ16または−ＯＲ16、ｐは０〜３の整数を示す）、ｎは０〜１０の整数を示す。
【請求項３】
前記環状オレフィン系付加重合体が、一般式（II）で表される１種の環状繰返し単位からなる重合体、あるいは、一般式（II）で表される少なくとも２種の環状繰返し単位からなる共重合体であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項４】
前記光学補償シートの膜厚方向のレターデーションＲｔｈが下記式を満たすことを特徴とする請求項３に記載の光学補償シート。
４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦３００ｎｍ
ここでＲｔｈ(λ)は波長λｎｍで測定したＲｔｈを表す。
【請求項５】
基体フィルムが、一次粒子径１ｎｍから２０μｍまでの微粒子を、０．０１から０．３質量％の割合で含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償シート。 
【請求項６】
前記光学異方性層がディスコティック液晶層を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償シート。 
【請求項７】
前記光学異方性層が棒状液晶層を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償シート。 
【請求項８】
前記光学異方性層がポリマーフィルムを含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償シート。 
【請求項９】
前記光学異方性層を形成するポリマーフィルムが、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする請求項８に記載の光学補償シート。
【請求項１０】
前記環状オレフィン付加重合体を含有する基体フィルムが、環状オレフィン付加重合体を１０〜３５質量％含有し、かつ塩素系有機溶剤を主溶剤として含有する溶液を出発原料として、順次、無端金属支持体上に流延する工程、残留揮発分が５〜６０質量％になるまで乾燥する工程、該金属支持体から０．２５Ｎ／ｃｍ以下の剥離抵抗で剥離する工程、および、乾燥して巻き取る工程を経て製膜されたものであることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項１１】
前記塩素系有機溶剤の５０質量％以上がジクロロメタンであり、且つ２０〜１００℃で該環状オレフィン付加重合体を溶解して、前記溶液とすることを特徴とする、請求項１０に記載の光学補償シート。
【請求項１２】
前記溶液中に、環状オレフィン付加重合体の貧溶媒を該環状オレフィン付加重合体１００質量部に対して３〜１００質量部含有することを特徴とする、請求項１０〜１１のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項１３】
前記貧溶媒が沸点１２０℃以下のアルコール類であることを特徴とする、請求項１２に記載の光学補償シート。
【請求項１４】
前記環状オレフィン付加重合体を含有する基体フィルムが界面活性剤を０．０５〜３質量％含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項１５】
偏光子と、その両側に配置された２枚の保護膜からなる偏光板において、前記保護膜のうちの少なくとも１枚が、請求項１〜１４のいずれかに記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
【請求項１６】
請求項１５に記載の偏光板を少なくとも１枚使用したことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置に関する。特に環状オレフィン系付加重合体を基体フィルムとして使用する光学補償シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光板は通常、ヨウ素、もしくは二色性染料をポリビニルアルコールに配向吸着させた偏光子の両側に、保護フィルムとして、セルローストリアセテートを主成分とするフィルム貼り合わせることで製造されている。セルローストリアセテートは、強靭性、難燃性、光学的等方性が高い（レターデーションが低い）などの特徴があり、上述の偏光板用保護フィルムとして広く使用されている。液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。現在、液晶表示装置の主流であるＴＮモードのＴＦＴ液晶表示装置においては、特開平８−５０２０６号公報に記載のように、光学補償シートを偏光板と液晶セルの間に挿入することにより、表示品位の高い液晶表示装置が実現されている。しかし、セルローストリアセテートは水分の吸収や透過が多く、そのため光学補償性能が変化したり、偏光子が劣化しやすいという問題点があった。またＴＮ液晶表示装置では電源オン後経時により画面４辺に光漏れを生じたり、またＶＡモード液晶表示装置では電源オン後経時により４隅に光漏れを生じるという問題があった。
一方、環状ポリオレフィンフィルムはセルローストリアセテートフィルムの吸湿性や透湿性を改良でき、環境温湿度変化に対する光学特性変化が小さいフィルムとして注目され、熱溶融製膜および溶液製膜による偏光板用および液晶表示用フィルムとしての開発が行われている。特許文献１には環状オレフィン系開環重合体よりなる基材フィルム上に光学異方性層を積層した光学補償シートが開示されている。しかし開環重合系のポリオレフィンフィルムは、延伸しない場合には面内レターデーション、膜厚方向レターデーションがともに低く光学等方的であり、また延伸すると面内レターデーション、膜厚方向レターデーションがともに上昇するという性質を有しており、単純な光学補償ができるのみであった。このため、光学異方性層と組み合わせて光学補償シートを作製したとしても、その光学補償シートの面内レターデーション、膜厚方向レターデーションの光学特性の設計の自由度は限られたものであり、ＴＮ液晶表示装置やＯＣＢ液晶表示装置に使用して視野角を改善する用途に適したものはなかった。
【特許文献１】特開２００４−２４６３３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、環境温湿度変化に対して光学特性変化が少なく、かつ面内レターデーションＲｅおよび膜厚方向レターデーションＲｔｈの設計の自由度の高い光学補償シートを提供することである。またこのような優れた光学補償シートを有する偏光板および液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは鋭意検討した結果、光学補償シートの基体フィルムの構成ポリマーとして環状オレフィン系付加重合体を用いることで、面内レターデーションと膜厚方向レターデーションを自由にコントロールでき、様々なモードの液晶表示装置に用いるのに適した光学補償シートが設計可能となることを見出した。環状オレフィン系付加重合体を含有する基体フィルムにおいて、環状オレフィン系付加重合体の構造を変更したり、基体フィルムを延伸することで、光学等方的な基体フィルムや、光学異方性の大きい基体フィルムなど様々な光学特性の基体フィルムを得ることができる。特に、これまで作製が困難であった面内レターデーションに対して相対的に膜厚方向レターデーションが大きい基体フィルムを得ることが可能になり、光学異方性層と組み合わせた光学補償シートの光学特性の設計の自由度を著しく高めることに成功した。
【０００５】
本発明は、以下のとおりである。
（１）環状オレフィン系付加重合体を含有する基体フィルム上に、光学異方性層を積層したことを特徴とする光学補償シート。
（２）前記環状オレフィン系付加重合体が、一般式（Ｉ）で表される少なくとも１種の繰返し単位および一般式（II）で表される少なくとも１種の環状繰返し単位からなる共重合体であることを特徴とする前記（１）に記載の光学補償シート。
【０００６】
【化３】
2006293331.tif 000002
【０００７】
【化４】
2006293331.tif 000003
【０００８】
式中、ｍは０から４の整数を表す。Ｒ1〜Ｒ4は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘ1〜Ｘ2、Ｙ1〜Ｙ2は水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−(ＣＨ2)nＣＯＯＲ11、−(ＣＨ2)nＯＯＣＲ12、−(ＣＨ2)nＮＣＯ、−(ＣＨ2)nＮＯ2、−(ＣＨ2)nＣＮ、−(ＣＨ2)nＣＯＮＲ13Ｒ14、−(ＣＨ2)nＮＲ13Ｒ14、−(ＣＨ2)nＯＣＯＺ、−(ＣＨ2)nＯＺ、−(ＣＨ2)nＷ、またはＸ1とＹ1あるいはＸ2とＹ2から構成された(−ＣＯ)2Ｏ、(−ＣＯ)2ＮＲ15を示す。なお、Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15は炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｚは炭化水素基、またはハロゲンで置換された炭化水素基、ＷはＳｉＲ16pＤ3-p（Ｒ16は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子，−ＯＣＯＲ16または−ＯＲ16、ｐは０〜３の整数を示す）、ｎは０〜１０の整数を示す。
（３）前記環状オレフィン系付加重合体が、一般式（II）で表される１種の環状繰返し単位からなる重合体、あるいは、一般式（II）で表される少なくとも２種の環状繰返し単位からなる共重合体であることを特徴とする前記（１）に記載の光学補償シート。
（４）前記光学補償シートの膜厚方向のレターデーションＲｔｈが下記式を満たすことを特徴とする前記（３）に記載の光学補償シート。
４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦３００ｎｍ
ここでＲｔｈ(λ)は波長λｎｍで測定したＲｔｈを表す。
（５）基体フィルムが、一次粒子径１ｎｍから２０μｍまでの微粒子を、０．０１から０．３質量％の割合で含有することを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれかに記載の光学補償シート。 
（６）前記光学異方性層がディスコティック液晶層を含有することを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載の光学補償シート。 
（７）前記光学異方性層が棒状液晶層を含有することを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載の光学補償シート。 
（８）前記光学異方性層がポリマーフィルムを含有することを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載の光学補償シート。 
（９）前記光学異方性層を形成するポリマーフィルムが、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする請求項８に記載の光学補償シート。 
【０００９】
（１０）前記環状オレフィン付加重合体を含有する基体フィルムが、環状オレフィン付加重合体を１０〜３５質量％含有し、かつ塩素系有機溶剤を主溶剤として含有する溶液を出発原料として、順次、無端金属支持体上に流延する工程、残留揮発分が５〜６０質量％になるまで乾燥する工程、該金属支持体から０．２５Ｎ／ｃｍ以下の剥離抵抗で剥離する工程、および、乾燥して巻き取る工程を経て製膜されたものであることを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の光学補償シート。
（１１）前記塩素系有機溶剤の５０質量％以上がジクロロメタンであり、且つ２０〜１００℃で該環状オレフィン付加重合体を溶解して、前記溶液とすることを特徴とする、（１０）に記載の光学補償シート。
（１２）前記溶液中に、環状オレフィン付加重合体の貧溶媒を該環状オレフィン付加重合体１００質量部に対して３〜１００質量部含有することを特徴とする、（１０）〜（１１）のいずれかに記載の光学補償シート。
（１３）前記貧溶媒が沸点１２０℃以下のアルコール類であることを特徴とする、（１２）に記載の光学補償シート。
（１４）前記環状オレフィン付加重合体を含有する基体フィルムが界面活性剤を０．０５〜３質量％含有することを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の光学補償シート。
（１５）偏光子と、その両側に配置された２枚の保護膜からなる偏光板において、前記保護膜のうちの少なくとも１枚が、前記（１）〜（１４）のいずれかに記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
（１６）前記（１５）に記載の偏光板を少なくとも１枚使用したことを特徴とする液晶表示装置。
【００１０】
また、液晶表示装置としては以下の形態が好ましい。
（１７）液晶表示装置に使用される偏光板を構成する保護膜の少なくとも１枚が、面内レターデーションＲｅ（６３０）が１５ｎｍ以下であり、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ（６３０）が４０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であり、且つディスコティック液晶層が積層されている、ＴＮモードの前記（１６）記載の液晶表示装置。
（１８）液晶表示装置に使用される偏光板を構成する保護膜の少なくとも１枚が、面内レターデーションＲｅ（６３０）が１５ｎｍ以下であり、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ（６３０）が１２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、且つ棒状液晶層が積層されている、ＶＡモードの前記（１６）のＶＡ液晶表示装置。
（１９）液晶表示装置に使用される偏光板を構成する保護膜の少なくとも１枚が、面内レターデーションＲｅ（６３０）が３０ｎｍ以上７０以下であり、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ（６３０）が１２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、且つディスコティック液晶層が積層されている、ＯＣＢモードの前記（１６）のＯＣＢ液晶表示装置。
ここでＲｅ（λ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍで測定したＲｔｈを表す。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、環境温湿度変化に対して光学特性変化が少なく、かつ面内レターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデーションＲｔｈの設計の自由度の高い光学補償シートが得られた。またこのような優れた光学補償シートを有する偏光板および液晶表示装置が得られた。
本発明によれば、環状オレフィン系付加重合体を含有する基体フィルムの光学特性を調節することで、ＴＮ、ＶＡ、ＯＣＢおよびＩＰＳといった様々なモードの液晶表示装置に対応した光学補償機能を有する光学補償シートや偏光板を作製できる。
また本発明の液晶表示装置は、経時による光漏れが生じないかあるいは少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。
［環状オレフィン系付加重合体基体フィルム］
（環状オレフィン系付加重合体）
環状オレフィン系付加重合体（以下、環状ポリオレフィンとも称する）の例には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィンの重合体、（３）環状共役ジエンの重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、および（１）〜（４）の水素化物などが挙げられる。これらの中でも、光学特性、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系重合体およびその水素化物、ビニル脂環式炭化水素重合体およびその水素化物などが好ましい。
【００１３】
本発明に好ましい重合体は、下記一般式（Ｉ）で表される少なくとも１種の繰返し単位および一般式（II）で表される少なくとも１種の環状繰返し単位からなるノルボルネン系付加（共）重合体である。
【００１４】
【化５】
2006293331.tif 000004
【００１５】
【化６】
2006293331.tif 000005
【００１６】
式中、ｍは０から４の整数を表す。Ｒ1〜Ｒ4は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘ1〜Ｘ2、Ｙ1〜Ｙ2は水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−(ＣＨ2)nＣＯＯＲ11、−(ＣＨ2)nＯＯＣＲ12、−(ＣＨ2)nＮＣＯ、−(ＣＨ2)nＮＯ2、−(ＣＨ2)nＣＮ、−(ＣＨ2)nＣＯＮＲ13Ｒ14、−(ＣＨ2)nＮＲ13Ｒ14、−(ＣＨ2)nＯＣＯＺ、−(ＣＨ2)nＯＺ、−(ＣＨ2)nＷ、またはＸ1とＹ1あるいはＸ2とＹ2から構成された(−ＣＯ)2Ｏ、(−ＣＯ)2ＮＲ15を示す。なお、Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15は炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｚは炭化水素基（好ましくは炭素数が１〜１０の炭化水素基）、またはハロゲンで置換された炭化水素基（好ましくは炭素数が１〜１０の炭化水素基）、ＷはＳｉＲ16pＤ3-p（Ｒ16は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子，−ＯＣＯＲ16または−ＯＲ16、ｐは０〜３の整数を示す）、ｎは０〜１０の整数を示す。
【００１７】
ノルボルネン系付加（共）重合体は、特開平１０−７７３２号、特表２００２−５０４１８４号の各公報、あるいは、ＷＯ２００４／０７０４６３Ａ１号等に開示されている。ノルボルネン系多環状不飽和化合物同士を付加重合したり、ノルボルネン系多環状不飽和化合物と、エチレン、プロピレン、ブテン；ブタジエン、イソプレンのような共役ジエン；エチリデンノルボルネンのような非共役ジエン；アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの化合物とを付加重合してつくられる。このノルボルネン系付加（共）重合体は、三井化学株式会社よりアペルの商品名で発売されており、ガラス転移温度（Ｔｇ）の異なる例えばＡＰＬ８００８Ｔ（Ｔｇ７０℃）、ＡＰＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ１２５℃）あるいはＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）などのグレードがある。またポリプラスチック株式会社からはＴＯＰＡＳ８００７、同６０１３、同６０１５などが、Ｆｅｒｒａｎｉａ社からはＡｐｐｅａｒ３０００などのペレットが発売されている。
【００１８】
ノルボルネン系付加（共）重合体において、一般式（Ｉ）で表される繰返し単位と、一般式（II）で表される環状繰返し単位との比率は、モル比（前者：後者）として、０：１００〜９０：１０、好ましくは０：１００〜７０：３０である。
さらに好ましくは、ノルボルネン系付加（共）重合体は、膜厚方向レターデーションを大きくするという理由から、一般式（II）で表される１種の環状繰返し単位からなる重合体、あるいは、一般式（II）で表される少なくとも２種の環状繰返し単位からなる共重合体であるのがよい。ノルボルネン系付加（共）重合体が、一般式（II）で表される少なくとも２種の環状繰返し単位からなる共重合体である場合は、一方の置換基Ｘ２または／及びＹ２が親水性あるいは極性の大きなものであり、他方の置換基Ｘ２または／及びＹ２が疎水性あるいは極性の小さなものであるのがよい。これにより、フィルムの親水性や水透過性を制御できるという効果が奏される。
【００１９】
また本発明の環状オレフィン系付加重合体の構造を変更したり、基体フィルムを延伸することにより、光学等方的な基体フィルムや、光学異方性の大きい基体フィルムなど様々な光学特性の基体フィルムを得ることができる。特に、これまで作製が困難であった面内レターデーションに対して相対的に膜厚方向レターデーションが大きい基体フィルムを得ることが可能になる。具体的には、前記のノルボルネン系付加（共）重合体の構造の変更する場合は、一般式(I)の繰返し単位成分の比率を少なくし、一般式（II)の繰返し単位成分の比率を多くすることにより行うのが好ましい。基体フィルムを延伸するには、セルロースアシレートフィルムに適用される手法を利用することができ、例えばテンター延伸が挙げられる。延伸倍率を適宜変更することにより、所望の光学特性が得られる。
【００２０】
（添加剤）
本発明の環状オレフィン系付加重合体溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、劣化防止剤、紫外線防止剤、レターデーション（光学異方性）調節剤、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に劣化防止剤の混合などである。また、赤外吸収染料としては例えば特開平２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の工程として、添加剤を添加する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各添加剤の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、環状オレフィン系付加重合体を含有する基体フィルム（以下、環状オレフィン系付加重合体の基体フィルム、環状ポリオレフィンとも称する）が多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。
【００２１】
（劣化防止剤）
本発明の環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムには公知の劣化（酸化）防止剤、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル，４−メチルフェノール、４，４’−チオビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなどのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス（４−メトキシ−３，５−ジフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。酸化防止剤の添加量は、環状オレフィン系付加重合体１００質量部に対して、０．０５〜５．０質量部が好ましい。
【００２２】
（紫外線吸収剤）
本発明の環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムには、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばヒンダードフェノール系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。ヒンダードフェノール系化合物の例としては、２，６−ジ−tert−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系化合物の例としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕などが挙げられる。これらの紫外線防止剤の添加量は、環状オレフィン系付加重合体に対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
【００２３】
（マット剤）
本発明においては、作製された環状オレフィン系付加重合体の基体フイルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり搬送性が悪化することを防止するために、微粒子（マット剤）を添加することが好ましい。マット剤の好ましい具体例は、無機化合物としては、ケイ素を含む化合物、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロングチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、フィルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名で市販されているものが使用できる。
これらのマット剤の１次平均粒子径としては、ヘイズを低く抑えるという観点から、好ましくは、１ｎｍ〜２０μｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜１０μｍであり更に好ましくは、２ｎｍ〜１μｍであり、特に好ましくは、５ｎｍ〜０. ５μｍである。マット剤の１次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡で粒子を平均粒径で求められる。購入した微粒子は凝集していることが多く、使用の前に公知の方法で分散することが好ましい。分散により二次粒子径を０．１〜１．５μｍにすることが好ましく、０．２〜１．０μｍが更に好ましい。マット剤の添加量は環状オレフィン系付加重合体の基体シート中に０．０１〜０．３質量％が好ましく、０．０５〜０．１５質量％がさらに好ましく、０．０８〜０．０８質量％が最も好ましい。
微粒子を添加した環状ポリオレフィンフィルムの好ましいヘイズの範囲は２．０％以下であり、１．２％以下が更に好ましく、０．５％以下が特に好ましい。微粒子を添加した環状ポリオレフィンフィルムの好ましい動摩擦係数は０．８以下であり、０．５以下が特に好ましい。
動摩擦係数は、ＪＩＳやＡＳＴＭが規定する方法に従い、鋼球を用いて測定できる。ヘイズは日本電色工業（株）製１００１ＤＰ型ヘイズ計を用いて測定できる。
【００２４】
（剥離剤）
エンドレス金属支持体から環状オレフィン系付加重合体フィルムを剥離する際の剥離荷重（剥離抵抗）を小さくし、製膜方向にフィルムが不規則に延伸されるのを防止するため、必要に応じてドープ中に下記に示すような界面活性剤を添加することができる。
【００２５】
環状オレフィン系付加重合体フィルムの剥離抵抗を小さくする好ましい界面活性剤としては燐酸エステル系の界面活性剤、カルボン酸あるいはカルボン酸塩系の界面活性剤、スルホン酸あるいはスルホン酸塩系の界面活性剤、硫酸エステル系の界面活性剤などがある。以下に具体例の一部を例示する。
【００２６】
ＲＺ−１  Ｃ8Ｈ17Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)−(ＯＨ)2
ＲＺ−２  Ｃ12Ｈ25Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)−(ＯＫ)2
ＲＺ−３  Ｃ12Ｈ25ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)−(ＯＫ)2
ＲＺ−４  Ｃ15Ｈ31(ＯＣＨ2ＣＨ2)5Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)−(ＯＫ)2
ＲＺ−５  ｛Ｃ12Ｈ25Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)5｝2−Ｐ(＝Ｏ)−ＯＨ
ＲＺ−６  ｛Ｃ18Ｈ35(ＯＣＨ2ＣＨ2)8Ｏ｝2−Ｐ(＝Ｏ)−ＯＮＨ4
ＲＺ−７  (ｔ−Ｃ4Ｈ9)3−Ｃ6Ｈ2−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)−(ＯＫ)2
ＲＺ−８  (iso-Ｃ9Ｈ19−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)5−Ｐ(＝Ｏ)−(ＯＫ)(ＯＨ)
ＲＺ−９  Ｃ12Ｈ25ＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１０  Ｃ12Ｈ25ＯＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１１  Ｃ17Ｈ33ＣＯＯＨ
ＲＺ−１２  Ｃ17Ｈ33ＣＯＯＨ・Ｎ(ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ)3
ＲＺ−１３  iso-Ｃ8Ｈ17−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)3−(ＣＨ2)2ＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１４  (iso-Ｃ9Ｈ19)2−Ｃ6Ｈ3−Ｏ−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)3−(ＣＨ2)4ＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１５  トリイソプロピルナフタレンスルフォン酸ナトリウム
ＲＺ−１６  トリ−ｔ−ブチルナフタレンスルフォン酸ナトリウム
ＲＺ−１７  Ｃ17Ｈ33ＣＯＮ(ＣＨ3)ＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１８  Ｃ12Ｈ25−Ｃ6Ｈ4ＳＯ3・ＮＨ4
【００２７】
界面活性剤の添加量は環状ポリオレフィンに対して０．００５〜５質量％が好ましく、０．０１〜２質量％が更に好ましく、０．０５〜０．５質量％が最も好ましい。
【００２８】
環状オレフィン系付加重合体フィルムの剥離抵抗を小さくする界面活性剤としては、パーフロロアルキル基を有するアクリレートあるいはメタクリレートなどのモノマーの重合体等のフッ素原子を有する重合体も好ましい。以下、剥離剤としての、フッ素原子を有する重合体（以下、本発明のフッ素原子を有する重合体ともいう）について記述する。本発明のフッ素原子を有する重合体としては、例えば、特開２００１−２６９５６４号公報に記載の重合体を挙げることができる。フッ素原子を有する重合体として好ましいものは、フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体（単量体Ａ）を必須成分として含有してなる単量体を重合せしめた重合体である。重合体に係わるフッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体（単量体Ａ）としては、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素化アルキル基を有する化合物であれば特に制限はない。好ましくはアクリルエステル基およびその類縁基を含有するものが適しており、具体的には下記一般式（III）で表されるフッ素化（メタ）アクリレートが挙げられる。ここでの（メタ）アクリレートは、メタクリレート、アクリレート、フルオロアクリレート、塩素化アクリレートを総称するものとする。
【００２９】
一般式（III）  ＣＨ2＝Ｃ(Ｒ1)−ＣＯＯ−(Ｘ)n−Ｒｆ
【００３０】
式中、Ｒｆは炭素数１〜２０のパーフロロアルキル基、または部分フッ素化アルキル基であり、Ｒｆは直鎖状であっても分岐状であってもよく、また酸素原子および／または窒素原子を含む官能基を主鎖中に有するものであってもよい。Ｒ1はＨ、フッ素化されていてもよいアルキル基、ＣｌまたはＦを表し、Ｘは２価の連結基を表し、ｎは０以上の整数を表す。
【００３１】
Ｒｆのパーフロロアルキル基の好ましい炭素数は１〜１８であり、より好ましくは４〜１８であり、さらに好ましくは６〜１４であり、最も好ましくは６〜１２である。部分フッ素化アルキル基は、その一部にパーフロロアルキル基を有するものが好ましく、そのパーフロロアルキル基の炭素数の好ましい範囲は上記と同じである。また、主鎖中に有していてもよい酸素原子を含む官能基としては、−ＳＯ2−、−Ｃ(＝Ｏ)−、窒素原子を含む官能基としては、−ＮＨ−、−Ｎ(ＣＨ3)−、−Ｎ(Ｃ2Ｈ5)−、−Ｎ(Ｃ3Ｈ7)−などを挙げることができる。
Ｒ1が採りうるフッ素化されていてもよいアルキル基は、無置換のアルキル基、パーフロロアルキル基、部分フッ素化アルキル基のいずれであってもよい。好ましいのは、無置換のアルキル基および部分フッ素化アルキル基である。無置換のアルキル基として好ましいのは、メチル基である。
【００３２】
Ｘが採りうる２価の連結基として好ましいものは、−(ＣＨ2)m−、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)−(ＣＨ2)m−、−(ＣＨ2)mＮ(Ｒ2)−ＳＯ2−、−(ＣＨ2)mＮ(Ｒ2)−ＣＯ−、−ＣＨ(ＣＨ3)−、−ＣＨ(ＣＨ2ＣＨ3)−、−Ｃ(ＣＨ3)2−、−ＣＨ(ＣＦ3)−、−Ｃ(ＣＨ3)(ＣＦ3)−、−Ｃ(ＣＦ3)2−であり、Ｒ2は水素または炭素数１〜６アルキル基である。
ｎは０以上の整数であり、０〜２５が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０が特に好ましい。ｎが２以上であるとき、各Ｘが表す連結基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
以下にフッ素化アルキル基含有（メタ）アクリレートの具体例を挙げるが、本発明で用いることができるフッ素化アルキル基含有（メタ）アクリレートはこれらに限定されるものではない。
【００３４】
【化７】
2006293331.tif 000006
【００３５】
【化８】
2006293331.tif 000007
【００３６】
フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体（単量体Ａ）は、１種類だけを用いても構わないし、２種類以上を同時に用いても構わない。フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体（単量体Ａ）におけるフッ素化アルキル基は、離型性（剥離性）の観点からは、その炭素数は６〜１８が特に好ましく、さらには６〜１４であり、特には６〜１２が好ましい。本発明において、フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体（単量体Ａ）のフッ素原子を有する重合体中への導入量に特に制限はないが、１０質量％以上重合せしめることが好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上の含有量が好ましい。
【００３７】
更に本発明においてはフッ素原子を有する重合体中に、ポリオキシアルキレン基含有不飽和単量体（単量体Ｂ）を含有させることも可能である。ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和単量体（単量体Ｂ）としては、１分子中にポリオキシアルキレン基とエチレン性不飽和基を有する化合物であれば特に制限はない。オキシアルキレン基としてはエチレンオキシド基および／またはプロピレンオキシド基が好ましい。またその重合度は通常１〜１００であり、５〜５０が好ましい。エチレン性不飽和基としては、原料の入手性、各種コーティング組成物中の配合物に対する相溶性、そのような相溶性を制御することの容易性、或いは重合反応性の観点から（メタ）アクリルエステル基およびその類縁基を含有するものが適している。不飽和結合は１分子中に１個だけでもよいし、２個以上を有していてもよい。
【００３８】
（有機溶剤）
次に、本発明の環状ポリオレフィンが溶解される有機溶剤について記述する。本発明においては、環状ポリオレフィンが溶解し流延，製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは、使用できる有機溶剤は特に限定されない。本発明で用いられる有機溶剤は、例えばジクロロメタン、クロロホルムの如き塩素系溶剤、炭素原子数が３〜１２の鎖状炭化水素、環状炭化水素、芳香族炭化水素、エステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶剤が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。炭素原子数が３〜１２の鎖状炭化水素類の例としては、ヘキサン、オクタン、イソオクタン、デカンなどが挙げられる。炭素原子数が３〜１２の環状炭化水素類としてはシクロペンタン、シクロヘキサン及びその誘導体が挙げられる。炭素原子数が３〜１２の芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶剤の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが挙げられる。有機溶剤の好ましい沸点は３５℃以上且つ１１０℃以下である。
【００３９】
たとえば特開平８−４３８１２号公報、特開２００１−２７２５３４号公報、特開２００３−３０６５５７号公報に開示されているように、環状ポリオレフィンの溶液製膜には従来どちらかというと非塩素系有機溶剤が使用されていた。非塩素系溶剤は乾燥工程において、パスロールとの剥離により帯電し、放電による引火火災を発生しやすい。本発明者らは、環状ポリオレフィンの溶液を作製するに際しては、主溶剤として塩素系有機溶剤が特に好ましいことを見出した。塩素系有機溶剤は溶解力が大きく且つ引火性が無いあるいは少ないために工業的利用において非常に有利である。またそれ以外にも後述するようにフィルムの剥離性を改善しやすいという大きな利点を見出した。本発明においては、環状ポリオレフィンが溶解し流延，製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りはその塩素系有機溶剤の種類は特に限定されない。塩素系有機溶剤のなかでも好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンは沸点が低いため、乾燥時の熱効率に優れているため好ましい。また、塩素系有機溶剤以外の、例えば前記の有機溶剤を混合することも特に問題ない。その場合は、塩素系有機溶剤は、溶剤全体の５０〜９９．５質量％使用することが好ましい。ジクロロメタンは溶剤全体の少なくとも５０質量％使用することが好ましい。本発明で塩素系有機溶剤と併用されるのに好ましい非塩素系有機溶剤について以下に記す。すなわち、好ましい非塩素系有機溶剤としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶剤が好ましい。エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も溶剤として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。二種類以上の官能基を有する溶剤の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノン等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等が挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶剤の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノール等が挙げられる。
【００４０】
本発明者らは塩素系溶剤を主溶剤とし、環状ポリオレフィンに対して溶解性のほとんどない貧溶媒を少量混合した溶剤に環状ポリオレフィンを溶解することにより、剥離性を著しく改善できることを見出した。貧溶媒を使用しないで製膜するときに比べて適切な貧溶媒を併用すると、金属支持体からフィルムを剥離するときの剥離抵抗値が１／５以下から１／２０以下まで低下し、高速で製膜することが容易になる。貧溶媒使用による剥離抵抗低下効果は、付加（共）重合環状ポリオレフィンに対して著しい。
好ましい貧溶媒は使用するポリマー種により適宜選択する必要がある。まず使用する主溶剤（良溶剤）よりも沸点が１０℃以上高くて、主溶剤よりも揮発性が低い溶剤が好ましい。貧溶媒の沸点が主溶剤よりも高いと、乾燥が進んで支持体からフィルムを剥離する時には、フィルム中の残留溶剤は貧溶媒が多くなることと関係していると思われる。環状ポリオレフィンに対する貧溶媒のなかでも特に１価のアルコール類は、剥離抵抗低減効果が著しく好ましい。選択する良溶剤の沸点によって特に好ましいアルコール類は変化するが、乾燥負荷を考慮すると、沸点が１２０℃以下のアルコールが好ましく、炭素数が１〜６の１価アルコールが更に好ましく、炭素数１〜４のアルコール類が特に好ましい。
【００４１】
また塩素系有機溶剤と併用されるアルコールとしては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。
環状ポリオレフィン溶液を作成する上で特に好ましい混合溶剤は、ジクロロメタンを主溶剤とし、メタノール、エタノール、プロパノールあるいはイソプロパノールから選ばれる１種以上のアルコール類を貧溶媒にする組合わせである。
【００４２】
アルコール類貧溶媒の好ましい使用量は、環状ポリオレフィン１００質量部に対して３〜１００質量部であり、４〜４０質量部であると更に好ましい。特に好ましくは６〜３５質量部である。また主溶剤と貧溶媒との混合割合の好ましい範囲は、主溶剤１００質量部に対して０．５〜３０質量部である。１〜２０質量部が更に好ましく、４〜１５質量部が特に好ましい。
【００４３】
＜溶液製膜法による基体フィルムの製膜＞
本発明の環状オレフィン系付加重合体の製膜は、熱溶融製膜の方法と溶液製膜の方法がありいずれも適用可能である。まず溶液製膜方法について記述する。
【００４４】
（ドープ調製）
次に本発明の環状ポリオレフィン溶液（ドープ）の調製については、室温攪拌溶解による方法、室温で攪拌してポリマーを膨潤させた後−２０から−１００℃まで冷却し再度２０から１００℃に加熱して溶解する冷却溶解法、密閉容器中で主溶剤の沸点以上の温度にして溶解する高温溶解方法、さらには溶剤の臨界点まで高温高圧にして溶解する方法などがある。溶解性のよいポリマーは室温溶解が好ましいが、溶解性の悪いポリマーは密閉容器中で加熱溶解する。ジクロロメタンを主溶剤に選んだときは、多くの環状ポリオレフィンは２０〜１００℃の加熱により溶解することが出来る。溶解性があまり悪くないものはできるだけ低い温度を選ぶほうが、工程的には楽になる。
【００４５】
本発明の環状ポリオレフィン溶液の粘度は２５℃で１〜５００Ｐａ・ｓの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは５〜２００Ｐａ・ｓの範囲である。粘度の測定は次のようにして行った。試料溶液１ｍＬをレオメーター(ＣＬＳ  ５００)に直径 ４ｃｍ／２°のＳｔｅｅｌ  Ｃｏｎｅ(共にＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｎｔｓ社製)を用いて測定した。
試料溶液は予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始した。
【００４６】
環状ポリオレフィン溶液は高濃度のドープが得られるのが特徴であり、濃縮という手段に頼らずとも高濃度でしかも安定性の優れた環状ポリオレフィン溶液が得られる。更に溶解し易くするために低い濃度で溶解してから、濃縮手段を用いて濃縮してもよい。濃縮の方法としては、特に限定するものはないが、例えば、低濃度溶液を筒体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて溶剤を蒸発させながら高濃度溶液を得る方法（例えば、特開平４−２５９５１１号公報等）、加熱した低濃度溶液をノズルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容器内壁に当たるまでの間で溶剤をフラッシュ蒸発させるとともに、溶剤蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を容器底から抜き出す方法（例えば、米国特許第２，５４１，０１２号、米国特許第２，８５８，２２９号、米国特許第４，４１４，３４１号、米国特許第４，５０４，３５５号各明細書等などに記載の方法）等で実施できる。
【００４７】
溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。環状ポリオレフィン溶液の濾過には絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．５〜２５μｍであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、ろ過圧力は１．６ＭＰａ以下、より好ましくは１．３ＭＰａ以下、更には１．０ＭＰａ以下、特に好ましくは０．６ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知である材料を好ましく用いることができ、またセラミックス、金属等も好ましく用いられる。
環状ポリオレフィン溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常５Ｐａ・ｓ〜１０００Ｐａ・ｓの範囲に調製されることが好ましく、１５Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓがより好ましく、３０Ｐａ・ｓ〜２００Ｐａ・ｓが更に好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−５〜７０℃であり、より好ましくは−５〜３５℃である。
【００４８】
（製膜）
環状ポリオレフィン溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明の環状ポリオレフィンフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供するのと同様の溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（環状ポリオレフィン溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、テンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではない。
【００４９】
まず、調製した環状ポリオレフィン溶液（ドープ）は、ソルベントキャスト法により環状ポリオレフィンフィルムを作製される際に、ドープは無端金属支持体上、例えば金属ドラムまたは金属支持体（バンドあるいはベルト）上に流延し、溶剤を蒸発させてフィルムを形成することが好ましい。流延前のドープは、環状ポリオレフィン量が１０〜３５質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が３０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましく用いられ、特には−１０〜２０℃の金属支持体温度であることが好ましい。
さらに特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０１５５８号、特開平７−０３２３９１号、特開平３−１９３３１６号、特開平５−０８６２１２号、特開昭６２−０３７１１３号、特開平２−２７６６０７号、特開昭５５−０１４２０１号、特開平２−１１１５１１号、および特開平２−２０８６５０号の各公報に記載のセルロースアシレート製膜技術を本発明では応用できる。
【００５０】
（重層流延）
環状ポリオレフィン溶液を、金属支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、２層以上の複数の環状ポリオレフィン液を流延してもよい。
複数の環状ポリオレフィン溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口から環状ポリオレフィンを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。
また、２つの流延口から環状ポリオレフィン溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度環状ポリオレフィン溶液の流れを低粘度の環状ポリオレフィン溶液で包み込み、その高，低粘度の環状ポリオレフィン溶液を同時に押出す環状ポリオレフィンフィルム流延方法でもよい。更にまた、特開昭６１−９４７２４号および特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。或いはまた２個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことにより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法である。流延する環状ポリオレフィン溶液は同一の溶液でもよいし、異なる環状ポリオレフィン溶液でもよく特に限定されない。複数の環状ポリオレフィン層に機能を持たせるために、その機能に応じた環状ポリオレフィン溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらに環状ポリオレフィン溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。
【００５１】
単層液では必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度の環状ポリオレフィン溶液を押出すことが必要であり、その場合環状ポリオレフィン溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となりやすい。この解決として、複数の環状ポリオレフィン溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚な環状ポリオレフィン溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の１〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０％の厚さである。ここで、３層以上の共流延の場合は金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さと定義する。共流延の場合、前述の劣化防止剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なる環状ポリオレフィン溶液を共流延して、積層構造の環状ポリオレフィンフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成の環状ポリオレフィンフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。劣化防止剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。また、コア層とスキン層で劣化防止剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の劣化防止剤及び／または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。また、剥離促進剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。また、冷却ドラム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のＴｇが異なっていても良く、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。また、流延時の環状ポリオレフィンを含む溶液の粘度もスキン層とコア層で異なっていても良く、スキン層の粘度がコア層の粘度よりも小さいことが好ましいが、コア層の粘度がスキン層の粘度より小さくてもよい。
【００５２】
（流延）
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施でき、用いる溶剤の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明の環状ポリオレフィンフィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造に用いられる加圧ダイは、金属支持体の上方に１基或いは２基以上の設置でもよい。好ましくは１基または２基である。２基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられる環状ポリオレフィン溶液の温度は、−１０〜５５℃が好ましくより好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべてが同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
【００５３】
（乾燥）
環状ポリオレフィンフィルムの製造に係わる金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体（例えばドラム或いはバンド）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム或いはバンドの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をバンドやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム或いはバンドを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶剤の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶剤の内の最も沸点の低い溶剤の沸点より１〜１０度低い温度に設定することが好ましい。尚、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
【００５４】
（剥離）
生乾きのフイルムを金属支持体から剥離するとき、剥離抵抗（剥離荷重）が大きいと、製膜方向にフイルムが不規則に伸ばされて光学的な異方性むらを生じる。特に剥離荷重が大きいときは、製膜方向に段状に伸ばされたところと伸ばされていないところが交互に生じて、レターデーションに分布を生じる。液晶表示装置に装填すると線状あるいは帯状にむらが見えるようになる。このような問題を発生させないためには、フイルムの剥離荷重をフイルム剥離幅１ｃｍあたり０．２５Ｎ以下にすることが好ましい。剥離荷重はより好ましくは０．２Ｎ／ｃｍ以下、さらに好ましくは０．１５Ｎ以下、特に好ましくは０．１０Ｎ以下である。剥離荷重０．２Ｎ／ｃｍ以下のときはむらが現れやすい液晶表示装置においても剥離起因のむらは全く認められず、特に好ましい。剥離荷重を小さくする方法としては、前述のように剥離剤を添加する方法と、使用する溶剤組成の選択による方法がある。
剥離荷重の測定は次のようにして行う。製膜装置の金属支持体と同じ材質・表面粗さの金属板上にドープを滴下し、ドクターブレードを用いて均等な厚さに展延し乾燥する。カッターナイフでフィルムに均等幅の切れ込みを入れ、フィルムの先端を手で剥がしてストレンゲージにつながったクリップで挟み、ストレンゲージを斜め４５度方向に引き上げながら、荷重変化を測定する。剥離されたフィルム中の揮発分も測定する。乾燥時間を変えて何回か同じ測定を行い、実際の製膜工程における剥離時残留揮発分と同じ時の剥離荷重を定める。剥離速度が速くなると剥離荷重は大きくなる傾向があり、実際に近い剥離速度で測定することが好ましい。
剥離時の好ましい残留揮発分濃度は５〜６０質量％である。１０〜５０質量％が更に好ましく、２０〜４０質量％が特に好ましい。高揮発分で剥離すると乾燥速度が稼げて、生産性が向上して好ましい。一方、高揮発分ではフィルムの強度や弾性が小さく、剥離力に負けて切断したり伸びてしまう。また剥離後の自己保持力が乏しく、変形、しわ、クニックを生じやすくなる。またレターデーションに分布を生じる原因になる。
【００５５】
（延伸処理）
本発明の環状ポリオレフィンフィルムを延伸処理する場合は、剥離のすぐ後の未だフィルム中に溶剤が十分に残留している状態で行うのが好ましい。延伸の目的は、（１）しわや変形のない平面性に優れたフィルムを得るため及び、（２）フィルムの面内レターデーションを大きくするために行う。（１）の目的で延伸を行うときは、比較的高い温度で延伸を行い、延伸倍率も１％からせいぜい１０％までの低倍率の延伸を行う。２から５％の延伸が特に好ましい。（１）と（２）の両方の目的、あるいは（２）だけの目的で延伸する場合は、比較的低い温度で、延伸倍率も５から1５０％で延伸する。
【００５６】
延伸温度の選択について述べる。残留溶剤を含んだフィルムを密閉パンに入れて示差走査熱量計で昇温しながらフィルムの比熱を測定し、温度対比熱カーブが変曲し、比熱が低下し始める温度をＴｃとする。比較的高い延伸温度とはＴｃよりも１０℃以上高い温度、好ましくは１５から３０℃高い温度である。このような温度で延伸しても環状ポリオレフィンフィルムのレターデーションはほとんど発現しない。
一方比較的低い温度とは、Ｔｃの前後１０℃の範囲をさす。この温度域で延伸すると面内レターデーションが発現しやすく、所望の光学特性に調整しやすい。
フィルム中に残留溶媒が残っているときに延伸すると乾燥フィルムに比べて低い温度で延伸できる。環状ポリオレフィンは高いガラス転移点（Ｔｇ）を有するポリマーが多いが、ポリマー固有のＴｇよりも低い温度で延伸することができる。
フィルムの延伸は、縦あるいは横だけの一軸延伸でもよく同時あるいは逐次２軸延伸でもよい。ＶＡ液晶セルやＯＣＢ液晶セル用位相差フィルムの複屈折は、幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。
【００５７】
（後乾燥）
環状ポリオレフィンフィルムは延伸後更に乾燥し、残留揮発分を２％以下にして巻き取る。巻き取る前にフィルムの両端にナーリングを施すことが好ましい。ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは１〜５０μｍであり、好ましくは２〜２０μｍ、より好ましくは３〜１０μｍである。これは片押しであっても両押しであっても良い。
【００５８】
本発明の出来上がり（乾燥後）の環状ポリオレフィンフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常５から５００μｍの範囲であり、３０〜１５０μｍの範囲が好ましく、特に液晶表示装置用には４０〜１１０μｍであることが好ましい。
フィルム厚さの調製は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。以上のようにして得られた環状ポリオレフィンフィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは１ロールあたり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、幅は３ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍであり、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであっても良い。全幅のＲｅ値のばらつきが±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また、Ｒｔｈ値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。透明感を保つためヘイズは０．０１〜２％が好ましい。ヘイズを小さくするためには、添加する微粒子マット剤の分散を十分に行い凝集粒子の数を少なくしたり、添加量を少なくするためにスキン層だけにマット剤を使用したりする。
【００５９】
＜熱溶融製膜による基体フィルムの製膜＞
次に熱溶融製膜方法について記述する。溶融した環状オレフィン系付加重合体を押出機のダイからシート状に押し出し、冷却ロール上で冷却して環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムを形成する工程を有する。
この製造方法において、環状オレフィン系付加重合体を溶融させる場合、環状オレフィン系付加重合体ペレットを予熱しておくことができる。予熱温度は、Ｔｇ−９０℃〜Ｔｇ＋１５℃、好ましくはＴｇ−７５℃〜Ｔｇ−５℃、さらに好ましくはＴｇ−７０℃〜Ｔｇ−５℃である。Ｔｇ−９０℃〜Ｔｇ＋１５℃の範囲で予熱しておけば、この後の樹脂の溶融混練を均一に行うことができ、所望のＨ−Ｖ散乱光強度およびＶ−Ｖ散乱光強度を得ることができる。
【００６０】
前記製造方法は、前記予熱の後、押出機を用いて２００〜３００℃の温度まで昇温し、環状オレフィン系付加重合体を溶融させる。この際、押出機の出口側の温度を入口側の温度より５〜１００℃、好ましくは２０〜９０℃、さらに好ましくは３０〜８０℃高くしておくことが好ましい。押出機の出口側の温度を入口側の温度より高くしておくことにより、溶融した樹脂を均一に混練することができ、所望のＨ−Ｖ散乱強度およびＶ−Ｖ散乱強度の値を得ることができる。
【００６１】
前記製造方法は、次いで溶融した環状オレフィン系付加重合体をギヤポンプに通し、押出機の脈動を除去した後、金属メッシュフィルター等で濾過し、押出機に取り付けられたＴ型のダイから冷却ロール上にシート状に押し出し、前記冷却ロール上で押出された環状オレフィン系付加重合体フィルムのフィルム幅方向１〜５０％、好ましくは２〜４０％、さらに好ましくは３〜３０％を押圧する。好ましくは、フィルム幅方向の両端側から均等に押圧を行ってフィルム幅方向１〜５０％を押圧する。
【００６２】
従来の方法のように押し出されたフィルムを冷却ロールの全面で押圧すると、押し付けむらや冷却ロールの温度むらに起因する局部的な冷却むらが発生し、これらの不均一な収縮応力はフィルムが全面で押圧されているためフィルム外に逃がすことはできない。また、押し出されたフィルムの全面を冷却ロールに押し付けた場合には、フィルムの温度が急激に低下し、ＲｅむらおよびＲｔｈむら、特にＲｔｈむらが発生しやすい。これに対し、本発明における上記の押圧であれば、環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの不均一な収縮応力を回避することができ、ＲｅむらおよびＲｔｈむらの発生を良好に抑えることができる。
【００６３】
本発明の製造方法における押圧方法は特に制限されず、例えば、エアーチャンバー、バキュームノズル、静電ピニング、タッチロール等の方法を用いることができる。その際の圧力については特に制限はないが、０．００１〜２０ｋｇ／ｃｍ2（９８Ｐａ〜１．９６ＭＰａ）が好ましく、０．０１〜１ｋｇ／ｃｍ2（９８０Ｐａ〜９８ｋＰａ）がさらに好ましい。
【００６４】
前記製造方法において、前記押圧は冷却ロール上で冷却しながら行うことができる。この際、冷却はできるだけゆっくり行うことが好ましい。一般に行われている製膜法では５０℃／秒以上の冷却速度で冷却されるが、前記製造方法では、冷却速度は０．２〜２０℃／秒であることが適当であり、０．５〜１５℃／秒であることが好ましく、１〜１０℃／秒であることがさらに好ましい。この冷却速度で冷却することにより、局所的な冷却むらの発生を防ぎ、急激な収縮による収縮応力の発現を防止し、ＲｅむらおよびＲｔｈむらの発現を抑制することができる。
【００６５】
上記の冷却（徐冷）は、冷却ロールのケージング内における保温と、冷却ロールの温度調整により達成される。好ましい効果が得られるのは前者である。
【００６６】
冷却ロールのケージング内における保温は、冷却ロールの少なくとも１本をＴｇ−１００℃〜Ｔｇ＋３０℃、より好ましくはＴｇ−８０℃〜Ｔｇ＋１０℃、さらに好ましくはＴｇ−７０℃〜Ｔｇに温調されたケーシング内に配置することにより達成される。冷却ロール上では製膜したシートは摩擦力で拘束され自由に収縮できないため、これに起因した収縮応力によりＲｅむらおよびＲｔｈむらが発生しやすいが、この方法を用いれば、幅方向における均一な徐冷が可能となり、冷却ロール上での温度むらを小さくすることができ、その結果、ＲｅむらおよびＲｔｈむらを小さくすることができる。
【００６７】
これに対し、特開２００３−１３１００６号公報に記載された方法では、Ｔ型ダイから冷却ドラム間（エアギャップ）を温調するが、この方法ではＲｅむらおよびＲｔｈむらを充分小さくすることはできない。これは、エアギャップではフィルムを拘束する手段が存在せず、ＲｅむらおよびＲｔｈむらの低減効果が少ないためである。
【００６８】
さらに、ＲｅむらおよびＲｔｈむらを小さくするために、以下の方法を併用することができる。
（１）押出機に取り付けられたダイからシート状に押し出された環状オレフィン系付加重合体を、一定の間隔で配置された少なくとも２〜１０本、好ましくは２〜６本、さらに好ましくは３〜４本の冷却ロール（密間ロール）上にキャストする。このように複数の冷却ロールを用いて冷却温度を制御することにより、容易に冷却速度を調整することができる。また、冷却ロールを一定間隔に配置することにより冷却ロール間における温度変化を小さくすることができる。
冷却ロールどうしの間隔（隣接するロール外周の最も近接した箇所の間隔）は０．１〜１５ｃｍであることが好ましく、０．３〜１０ｃｍであることがより好ましく、０．５〜５ｃｍであることがさらに好ましい。
【００６９】
（２）前記２〜１０本の冷却ロールのうち、少なくとも第１の冷却ロールの温度を環状オレフィン系付加重合体のＴｇ−４０℃〜Ｔｇ（より好ましくはＴｇ−３５℃〜Ｔｇ−３℃、さらに好ましくはＴｇ−３０℃〜Ｔｇ、最も好ましくはＴｇ−３０℃〜Ｔｇ−５℃）にする。さらに第２の冷却ロールの温度を第１の冷却ロールより１〜３０℃高く（好ましくは１〜２０℃高く、さらに好ましくは１〜１０℃高く）することが好ましい。第１の冷却ロールよりも第２の冷却ロールの温度を高めることにより環状オレフィン系付加重合体のフィルムの粘性をより高め、第２の冷却ロールとの密着性を高めることができる。これにより冷却ロール上のスリップを抑制し、搬送張力むらを抑制することができるため、ＲｅおよびＲｔｈむらを小さくすることができる。
【００７０】
（３）第２の冷却ロールの搬送速度を第１の冷却ロールの搬送速度より０．１〜５％（好ましくは０．２〜４％、さらに好ましくは０．３〜３％）速くする。これにより第１の冷却ロールおよび第２冷却ロール間のスリップを抑え、搬送張力むらを低減することができるため、ＲｅおよびＲｔｈむらを小さくすることができる。
【００７１】
（４）第２の冷却ロール通過後、第２の冷却ロールより１〜３０℃（好ましくは１．５〜２０℃、さらに好ましくは２〜１０℃）低い温度の第３の冷却ロールを通過させる。これによりこの後、冷却ロールから環状オレフィン系付加重合体のフィルムを剥ぎ取る工程における冷却速度を小さくできるため、ＲｅおよびＲｔｈむらを小さくすることができる。さらに、第３の冷却ロールの搬送速度を第２の冷却ロールの搬送速度より０．１〜５％（好ましくは０．２〜４％、さらに好ましくは０．３〜３％）遅くすることが好ましい。これにより第２の冷却ロールと第３の冷却ロール間の搬送張力むらを緩衝できるため、ＲｅおよびＲｔｈむらを小さくできる。
【００７２】
前記製造方法は、上述の方法により環状オレフィン系付加重合体のフィルムを冷却速度０．２〜２０℃／秒で冷却した後、さらに冷却ロールから環状オレフィン系付加重合体のフィルムを剥離する工程を有することができる。
【００７３】
剥離された環状オレフィン系付加重合体のフィルムは、０．２〜１０ｍの間隔、好ましくは０．３〜８ｍの間隔、さらに好ましくは０．４〜６ｍの間隔で配置された複数の搬送ロールを用いて搬送することができる。このような長いスパン間を冷却しながら搬送することで、搬送ロールとの摩擦に起因する搬送張力むらを抑制できる。冷却時に収縮量の左右不均一に伴う搬送張力のアンバランスが発生するが、これを緩和させるために、フィルムが自由に動いて緩衝できるだけの広いロール間隔が必要である。搬送ロールの間隔が０．２〜１０ｍであれば、環状オレフィン系付加重合体のフィルムと搬送ロールとの摩擦が生じることなく、環状オレフィン系付加重合体のフィルムが自由に動け、張力むらによる光軸のズレを小さくすることができる。
【００７４】
冷却ロールから剥離した環状オレフィン系付加重合体のフィルムは、０．１〜３℃／秒、好ましくは０．２〜２．５℃／秒、さらに好ましくは０．３〜２℃／秒で５０℃まで冷却することが好ましい。０．１〜３℃／秒の範囲内で冷却すれば、急激な収縮応力による左右の張力不均一による光軸ズレの発生を防ぐことができる。このような冷却速度の制御は、ケーシング内に環状オレフィン系付加重合体のフィルムを通過させ、ケージング中に吹き込む温度を上流側より下流側の温度を下げることによっても達成でき、さらに上流側および下流側の搬送ロールの温度を調整することによっても達成できる。
【００７５】
前記製造方法では、製膜速度を４０〜１５０ｍ／分とすることが適当であり、５０〜１００ｍ／分とすることが好ましく、６０〜８０ｍ／分とすることがさらに好ましい。製膜速度４０〜１５０ｍ／分で製膜することにより、第１の冷却ロールと環状オレフィン系付加重合体のフィルムとの間に空気を巻き込み、全面に亘る押圧を抑制することができ、その結果、ＲｅおよびＲｔｈむらを抑制できる。
【００７６】
製膜幅は１．５〜５ｍ、好ましくは１．６〜４ｍ、さらに好ましくは１．７〜３ｍで行うことができる。このような広幅にすることで、冷却ロールから環状オレフィン系付加重合体のフィルムを剥離した後の搬送工程における幅方向の収縮応力むらを抑制することができる。すなわち幅狭であると発生した張力むらを幅方向で緩衝することは難しいが、幅広とすることで幅方向に緩衝することができ、光軸むらを低減することができる。
【００７７】
（基体フィルムの特性）
環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムは従来偏光板に使用されているセルロースアシレートフィルムに比べて、透湿度や平衡含水率が小さいことが大きな利点である。好ましい透湿度は６０℃、９５％ＲＨ２４時間で１平方メートル当たり１０００ｇ以下である。さらに好ましくは４００ｇ以下である。好ましい平衡含水率は２５℃、８０％ＲＨにおける測定値が２．０％以下である。さらに好ましくは１．０％以下である。紫外線吸収剤やレターデーション発現剤などの添加剤に揮発性や分解性があってフィルムの質量変化や寸法変化が発生すると光学特性変化が起こる。従って８０℃９０％ＲＨで４８時間経時した後のフィルムの質量変化量は５％以下であることが好ましい。同様に６０℃９５％ＲＨで２４時間経時後の寸法変化量は５％以下であることが好ましい。また寸法変化や質量変化が少々あっても、フィルムの光弾性係数が小さいと光学特性の変化量は少なくなる。従ってフィルムの光弾性係数が３０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ（３×１０-13Ｎ／ｍ２）以下であることが好ましく、１５×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ（１．５×１０-13Ｎ／ｍ２）以下であることがさらに好ましい。
【００７８】
環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの好ましい光学特性は用途の液晶セルのモードによって若干異なる。ＴＮモードの液晶セル用途では、面内レターデーションＲｅ（６３０）は１５ｎｍ以下が好ましく、１１ｎｍ以下が更に好ましい。膜厚方向レターデーションＲｔｈ（６３０）は４０から１２０ｎｍが好ましく、６０から１００ｎｍが更に好ましい。ＴＮモードの液晶セル用途の光学補償シートは環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの上に配向層とディスコティック液晶層を形成することで得られる。
ＶＡモードの液晶セル用途では、Ｒｅ（６３０）は１５ｎｍ以下が好ましく、１１ｎｍ以下が更に好ましい。Ｒｔｈ（６３０）は１２０以上３００ｎｍ以下が好ましく、１５０以上２６０ｎｍ以下が更に好ましい。ＶＡモードの液晶セル用途の光学補償シートは環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの上に配向層と棒状液晶層を形成することで得られる。
ＯＣＢモードの液晶セル用途では、Ｒｅ（６３０）は３０以上７０ｎｍ以下が好ましく、３５以上５５ｎｍ以下が更に好ましい。Ｒｔｈ（６３０）は１２０以上３００ｎｍ以下が好ましく、１５０以上２６０ｎｍ以下が更に好ましい。ＯＣＢモードの液晶セル用途の光学補償シートは環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの上に配向層とディスコティック液晶層を形成することで得られる。
【００７９】
［偏光板］
一般的に偏光板は、偏光子およびその両側に配置された２枚の透明保護膜からなる。少なくとも一方の保護膜として、本発明の光学補償シートを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明の光学補償シートを偏光板保護膜として用いる場合、光学補償シートは後述の如き表面処理を行い、しかる後に光学補償シート処理面と偏光子を接着剤を用いて貼り合わせる。使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス、ゼラチン等が挙げられる。偏光板は偏光子およびその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
【００８０】
［光学異方性層の形成］
本発明の光学補償シートは、環状オレフィン系付加重合体の基体フィルム上に光学異方性層を有する。光学異方性層は、液晶性化合物、非液晶性化合物、無機化合物、有機／無機複合化合物等がある。なかでも液晶性化合物が好ましく使用される。液晶性化合物としては、重合性基を有する低分子化合物を配向させた後に光または熱による重合により配向を固定化するものや、液晶性高分子を加熱し配向させた後に冷却しガラス状態で配向固定化するものを使うことができる。液晶性化合物としては円盤状構造を有するもの、棒状構造を有するもの、光学的二軸性を示す構造を有するものを使うことができる。非液晶性化合物としては、ポリイミド、ポリエステル等の芳香族環を有する高分子を使うことができる。
以下に液晶性化合物による光学異方性層の形成方法を記載する。
【００８１】
（配向膜）
光学異方性層を形成する液晶性化合物の配向方向を規定するためには配向膜を用いることが好ましい。配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。長さおよび太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いることが好ましい。なお、光学異方性層の液晶性分子が配向膜上で配向固定化された後は、配向膜を除去しても液晶性分子の配向状態を保つことができる。すなわち、配向膜は、液晶性分子を配向させるため光学補償シートの製造においては必須であるが、製造された光学補償シートにおいては必須ではない。配向膜を環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムと光学異方性層との間に設けるに先立って、環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの表面処理を行うことが好ましい。表面処理にはコロナ放電処理、グロー放電処理あるいは火炎処理などがある。これら表面処理の詳しい方法については後述する。表面処理を行った後必要に応じてさらに下塗り層（接着層）を環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムと配向膜との間に設けてもよい。
【００８２】
配向膜用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
【００８３】
中でもアルキル変性のポリビニルアルコールは特に好ましく、液晶性化合物を均一に配向させる能力に優れている。これは配向膜表面のアルキル鎖と液晶のアルキル側鎖との強い相互作用のためと推察される。また、アルキル基は、炭素原子数６〜１４が好ましく、更に、−Ｓ−、−（ＣＨ3 ）Ｃ（ＣＮ）−または−（Ｃ2 Ｈ5）Ｎ−ＣＳ−Ｓ−を介してポリビニルアルコールに結合していることが好ましい。上記アルキル変性ポリビニルアルコールは、未端にアルキル基を有するものであり、ケン化度８０％以上、重合度２００以上が好ましい。また、上記側鎖にアルキル基を有するポリビニルアルコールは、クラレ（株）製のＭＰ１０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０などの市販品を利用することができる。
【００８４】
また、ＬＣＤの配向膜として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向膜として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を基体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００８５】
更に、本発明の環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムに適用される配向膜は、上記ポリマーに反応性基を導入することにより、あるいは上記ポリマーをイソシアネート化合物およびエポキシ化合物などの架橋剤と共に使用して、これらのポリマーを硬化させることにより得られる硬化膜であることが好ましい。
【００８６】
配向膜に用いられるポリマーと、光学異方性層の液晶性化合物とが、これらの層の界面を介して化学的に結合していることが好ましい。配向膜のポリマーが、ビニル部分、オキシラニル部分またはアジリジニル部分を有する基で、少なくとも一個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールから形成されていることが好ましい。ビニル部分、オキシラニル部分またはアジリジニル部分を有する基が、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合またはエステル結合を介してポリビニルアルコール誘導体のポリマー鎖に結合していることが好ましい。ビニル部分、オキシラニル部分またはアジリジニル部分を有する基が、芳香族環を持たないことが好ましい。上記ポリビニルアルコールが、特開平９−１５２５０９号公報に記載の（化２２）であることが好ましい。
【００８７】
光学異方性層は長尺の形態で偏光子と積層される。長尺のフィルム上を搬送しながら連続的に配向膜組成物の溶液を塗布することで配向膜を形成し、その表面を連続的にラビング処理を行い、その上に液晶性化合物を含む溶液を連続的に塗布することで、長尺の光学異方性層を得ることができる。
【００８８】
前記長尺の光学異方性層の遅相軸方向は、フィルム面に対して実質的に平行方向である。上記のように、長尺フィルム上に形成した配向膜を搬送しながら連続的にラビング処理を行うことで液晶性化合物を配向させるときには、長手方向に対して平行方向もしくは直交方向のどちらに液晶分子を配向させるかによって適宜配向膜素材を選ぶことができる。光学異方性層の遅相軸をラビング方向と平行に（すなわち、長手方向と平行に）発現させたい場合には、ポリビニルアルコール系の配向膜などを用いることができる。また、光学異方性層の遅相軸をラビング方向と直交に（すなわち、長手方向と直交に）発現させたい場合には、特開２００２−９８８３６号公報の段落［００２４］〜［０２１０］に記載の直交配向膜などを用いることができる。広く一般に使用されているヨウ素を用いた偏光子は、連続縦一軸延伸プロセスによって製造されるため、ロールの長手方向と平行に吸収軸がある。したがって、一般的な縦一軸延伸された長尺の偏光子と長尺の光学異方性層を、偏光子の吸収軸と光学異方性層の遅相軸が直交するようにロールトゥロールにより貼り合せる場合には、上記直交配向膜を用いるのが好ましい。
【００８９】
（液晶性化合物）
光学異方性層に用いる液晶は、ディスコティック化合物や棒状化合物が好ましく用いられる。
ディスコティック化合物については特開平７−２６７９０２号、特開平７−２８１０２８号、特開平７−３０６３１７号の各公報に詳細に記載されている。それらによると、光学異方性層はディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層である。即ち、光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物層、または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマー層である。それらのディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、前記公報において円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば前記低分子ディスコティック化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。さらに、ディスコティックネマティック相または一軸性の柱状相を形成し得る、円盤状化合物の少なくとも一種を含有し、かつ光学異方性を有することを特徴とする化合物を用いることが好ましい。また円盤状化合物がトリフェニレン誘導体であることが好ましい。ここで、トリフェニレン誘導体が、特開平７−３０６３１７号公報に記載の（化２）で表される化合物であることが好ましい。
【００９０】
液晶性を示す棒状化合物（棒状液晶性化合物）としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶分子には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は１〜６個、好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【００９１】
（液晶層の形成）
光学異方性層は、液晶性化合物および必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。光学異方性層の厚さは、０．５〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることがさらに好ましい。
【００９２】
配向させた液晶性分子の配向状態の固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
【００９３】
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることが出来る。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性もしくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【００９４】
（光学異方性ポリマー層の形成）
次に光学異方性層がポリマーフィルムを含有する形態について説明する。ポリマーフィルムに使用される非液晶性ポリマーとしては、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーが好ましく使用できる。これらのポリマーを溶媒に溶解した溶液を、環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムに塗布し、溶媒を乾燥させて膜化することによって光学異方性層を作成する。この際、上記ポリマー膜と基体フィルムとを延伸して光学異方性を更に発現させて光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができる。また、上記非液晶性ポリマー膜を別の基材の上で作製しておき、非液晶性ポリマー膜を基材から剥離させたのちに、環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムと貼合してもよい。この非液晶性ポリマー膜の厚さは５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。
非液晶性ポリマーよりなる光学異方性層の作成については、特開２００３−３１５５５４号公報に、光学異方性層（Ｂ）の呼称で詳細に記載されている。
【００９５】
（光学異方性層の特性）
このようにして得られた本発明の光学補償シートは、膜厚方向のレターデーションＲｔｈが下記式を満たすことが好ましい。
４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦３００ｎｍ
さらに好ましくは１２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦２６０ｎｍである。このようなＲｔｈの範囲であるとＶＡ型液晶表示装置の視野角改善に使用できるという効果を奏する。
【００９６】
［偏光板の作製］
本発明の偏光板は、偏光子と２枚の保護膜（保護フィルム）とを接着剤を用いて貼りあわせることにより作成する。少なくとも一方の保護フィルムには本発明の光学補償シートを用いることが好ましい。もう一方の保護フィルムには一般的なセルローストリアセテートフィルムを用いることが出来る。以下本発明の偏光板の製造方法を順に説明する。
（偏光層を形成する結合剤）
偏光層は、ＰＶＡ中に分散した偏光色素を一方向に配向させることにより形成できる。ＰＶＡは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであり、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％がであることが好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％であることが特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、１,０００〜１０,０００であることが好ましく、１,５００〜５,０００であることが特に好ましい。
【００９７】
（偏光層の染色）
偏光層の染色は、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液にＰＶＡフィルムを浸漬させて行う。ヨウ素の含有量は０．１〜２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムの含有量は１〜２００ｇ／ｌであることが適当であり、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１〜２００であることが好ましい。染色時間は１０〜５,０００秒であることが好ましく、染色液の温度は５〜６０℃であることが好ましい。染色方法は浸漬だけでなく、ヨウ素−染料溶液の塗布又は噴霧等の任意の手段を用いることができる。染色工程は、延伸工程の前および後のいずれでもよいが、適度に膜が膨潤され延伸が容易になることから、延伸工程前に液相で染色することが特に好ましい。
【００９８】
本発明の偏光板では、上記ヨウ素以外の色素を用いることもできる。ヨウ素以外の好ましい染料としては、例えば、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素、アントラキノン系色素等の色素系化合物などが挙げられる。
【００９９】
（偏光層の硬膜化） 
延伸後のＰＶＡの配向構造を固定するために、ＰＶＡを架橋することが好ましい。架橋剤としては、例えば、米国再発行特許第２３２８９７号に記載されたものが使用できるが、ホウ酸、ホウ砂が実用的に好ましく用いられる。また、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、ニッケル、マンガン等の金属塩も併せて用いることができる。このような硬膜化は、ホウ砂、ホウ酸の水溶液に染料を含浸させたＰＶＡを浸漬させることにより達成できる。ホウ砂、ホウ酸の含有量は０．１〜１０モル／ｌであることが好ましく、０．２〜５モル／ｌであることがより好ましく、０．２〜２モル／ｌであることがさらに好ましい。硬膜化の液温度は１０〜４０℃であり、より好ましくは１５〜３５℃である。浸漬時間は１０秒〜１０分であり、より好ましくは２０秒〜５分である。この硬膜液の中にはヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等のヨウ化物塩を入れておくことも好ましい。ヨウ化物塩の濃度は０．１〜１０モル／ｌであることが好ましく、０．２〜５モル／ｌであることがより好ましく、さらに好ましくは０．２〜２モル／ｌである。なお、硬膜化は、延伸前、延伸中および延伸後のいずれの工程において行ってもよい。
【０１００】
（偏光層の延伸）
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させる。膨潤度は１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後の質量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で１５〜５０℃、好ましくは１７〜４０℃の浴温で延伸する。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後／初期状態の長さ比（以下同じ）に基づくが前記作用効果の点より好ましい延伸倍率は１．２〜３．５倍、好ましくは１．５〜３．０倍である。この後、５０〜９０℃で乾燥させて偏光子を得る。
【０１０１】
（環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの表面処理）
本発明では、偏光子と環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムとの接着性を改良するため接着剤を塗布する前に、環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの表面（光学異方性層塗布面の反対側）を表面処理する。表面処理については、接着性を改善できる限りいなかる方法を利用してもよいが、好ましい表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理および火炎処理が挙げられる。ここでいうグロー放電処理とは、低圧ガス下でおこる、いわゆる低温プラズマのことである。本発明では大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。その他、グロー放電処理の詳細については、米国特許第３４６２３３５号、米国特許第３７６１２９９号、米国特許第４０７２７６９号および英国特許第８９１４６９号明細書に記載されている。放電雰囲気ガス組成を放電開始後にポリエステル支持体自身が放電処理を受けることにより容器内に発生する気体種のみにした特表昭５９−５５６４３０号公報に記載された方法も用いられる。また真空グロー放電処理する際に、フイルムの表面温度を８０℃以上１８０℃以下にして放電処理を行う特公昭６０−１６６１４号公報に記載された方法も適用できる。
【０１０２】
グロー放電処理時の真空度は０．５〜３０００Ｐａが好ましく、より好ましくは２〜３００Ｐａである。また、電圧は５００〜５０００Ｖの間が好ましく、より好ましくは５００〜３０００Ｖである。使用する放電周波数は、直流から数千ＭＨｚ、より好ましくは５０Ｈｚ〜２０ＭＨｚ、さらに好ましくは１ＫＨｚ〜１ＭＨｚである。放電処理強度は、０．０１ＫＶ・Ａ・分／ｍ2〜５ＫＶ・Ａ・分／ｍ2が好ましく、より好ましくは０．１５ＫＶ・Ａ・分／ｍ2〜１ＫＶ・Ａ・分／ｍ2である。
【０１０３】
本発明では、表面処理として紫外線照射法を行うことも好ましい。例えば、特公昭４３−２６０３号、特公昭４３−２６０４号、特公昭４５−３８２８号の各公報に記載の処理方法によって行うことができる。水銀灯は石英管からなる高圧水銀灯で、紫外線の波長が１８０〜３８０ｎｍの間であるものが好ましい。紫外線照射の方法については、光源はフイルムの表面温度が１５０℃前後にまで上昇することが支持体の性能上問題なければ、主波長が３６５ｎｍの高圧水銀灯ランプを使用することができる。低温処理が必要とされる場合には主波長が２５４ｎｍの低圧水銀灯が好ましい。またオゾンレスタイプの高圧水銀ランプ、および低圧水銀ランプを使用する事も可能である。処理光量に関しては処理光量が多いほど環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムと偏光子との接着力は向上するが、光量の増加に伴い該フイルムが着色し、また脆くなるという問題が発生する。従って、３６５ｎｍを主波長とする高圧水銀ランプで、照射光量２０〜１００００（ｍＪ／ｃｍ2）がよく、より好ましくは５０〜２０００（ｍＪ／ｃｍ2）である。２５４ｎｍを主波長とする低圧水銀ランプの場合には、照射光量１００〜１００００（ｍＪ／ｃｍ2）がよく、より好ましくは３００〜１５００（ｍＪ／ｃｍ2）である。
【０１０４】
さらに、本発明では表面処理としてコロナ放電処理を行うことも好ましい。例えば、特公昭３９−１２８３８号、特開昭４７−１９８２４号、特開昭４８−２８０６７号、特開昭５２−４２１１４号の各公報に記載等の処理方法によって行うことができる。コロナ放電処理装置は、Ｐｉｌｌａｒ社製ソリッドステートコロナ処理機、ＬＥＰＥＬ型表面処理機、ＶＥＴＡＰＨＯＮ型処理機等を用いることができる。処理は空気中での常圧にて行うことができる。処理時の放電周波数は、５〜４０ＫＶ、より好ましくは１０〜３０ＫＶであり、波形は交流正弦波が好ましい。電極と誘電体ロールのギャップ透明ランスは０．１〜１０ｍｍ、より好ましくは１．０〜２．０ｍｍである。放電は、放電帯域に設けられた誘電サポートローラーの上方で処理し、処理量は、０．３〜０．４ＫＶ・Ａ・分／ｍ2、より好ましくは０．３４〜０．３８ＫＶ・Ａ・分／ｍ2である。
【０１０５】
本発明では、表面処理として火炎処理を行うことも好ましい。用いるガスは天然ガス、液化プロパンガス、都市ガスのいずれでもかまわないが、空気との混合比が重要である。  なぜなら、火炎処理による表面処理の効果は活性な酸素を含むプラズマによってもたらされると考えられるからであり、火炎の重要な性質であるプラズマの活性（温度）と酸素がどれだけ多くあるかがポイントである。このポイントの支配因子はガス／酸素比であり、過不足なく反応する場合にエネルギー密度が最も高くなりプラズマの活性が高くなる。具体的には、天然ガス／空気の好ましい混合比は容積比で１／６〜１／１０、好ましくは１／７〜１／９である。また、液化プロパンガス／空気の場合は１／１４〜１／２２、好ましくは１／１６〜１／１９、都市ガス／空気の場合は１／２〜１／８、好ましくは１／３〜１／７である。また、火炎処理量は１〜５０Ｋｃａｌ／ｍ2、より好ましくは３〜２０Ｋｃａｌ／ｍ2の範囲で行うとよい。またバーナーの内炎の先端とフイルムの距離は３〜７ｃｍ、より好ましくは４〜６ｃｍにするとよい。バーナーのノズル形状は、フリンバーナー社（米国）のリボン式、ワイズ社（米国）の多穴式、エアロジェン（英国）のリボン式、春日電機（日本）の千鳥型多穴式、小池酸素（日本）の千鳥型多穴式が好ましい。火炎処理にフイルムを支えるバックアップロールは中空型ロールであり、冷却水を通して水冷し、常に２０〜５０℃の一定温度で処理するのがよい。
【０１０６】
表面処理の程度については、表面処理の種類、環状オレフィン系付加重合体の種類によって好ましい範囲も異なるが、表面処理の結果、表面処理を施されたフイルムの表面の純水との接触角が、５０°未満となるのが好ましい。前記接触角は、２５°以上４５°未満であるのがより好ましい。フイルム表面の純水との接触角が上記範囲にあると、環状オレフィン系付加重合体の基体フイルムと偏光子との接着強度が良好となる。
【０１０７】
（接着剤）
本発明では、ポリビニルアルコールからなる偏光子と、表面処理された環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムとを貼合する際には、水溶性ポリマーを含有する接着剤を用いる。
前記接着剤に好ましく使用される水溶性ポリマーとしては、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、アクリル酸β−ヒドロキシエチル、メタクリル酸β−ヒドロキシエチル、ビニルアルコール、メチルビニルエーテル、酢酸ビニル、アクリルアミド、メタクリルアミド，ジアセトンアクリルアミド、ビニルイミダゾールなどエチレン性不飽和モノマーを構成要素として有する単独重合体もしくは共重合体、またポリオキシエチレン、ボリオキシプロピレン、ポリ−２−メチルオキサゾリン、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースゼラチン、などが挙げられる。本発明では、この中でもＰＶＡおよびゼラチンが好ましい。
【０１０８】
接着剤にＰＶＡを用いる場合の好ましいＰＶＡ特性は、前述の偏光子に用いるＰＶＡの好ましい特性と同様である。本発明では、さらに架橋剤を併用することが好ましい。ＰＶＡを接着剤に使用する場合に好ましく併用される架橋剤は、ホウ酸、多価アルデヒド、多官能イソシナネート化合物、多官能エポキシ化合物等が挙げられるが、本発明ではホウ酸が特に好ましい。
接着剤にゼラチンを用いる場合、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラチン、ゼラチン誘導体および変性ゼラチン等を用いることができる。これらのゼラチンのうち、好ましく用いられるのは石灰処理ゼラチン、酸処理ラチンである。接着剤にゼラチンを用いる場合に、好ましく併用される架橋剤としては、活性ハロゲン化合物（２，４−ジクロル−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンおよびそのナトリウム塩など）および活性ビニル化合物（１，３−ビスビニルスルホニル−２−プロパノール、１，２−ビスビニルスルホニルアセトアミド）エタン、ビス（ビニルスルホニルメチル）エーテルあるいはビニルスルホニル基を側鎖に有するビニル系ポリマーなど）、Ｎ−カルバモイルピリジニウム塩類（（１−モルホリノカルボニル−３−ピリジニオ）メタンスルホナートなど）やハロアミジニウム塩類（１−（１−クロロ−１−ピリジノメチレン）ピロリジニウム２−ナフタレンスルホナートなど）等が挙げられる。本発明では、活性ハロゲン化合物および活性ビニル化合物が特に好ましく使用される。
【０１０９】
上述の架橋剤を併用する場合の架橋剤の好ましい添加量は、接着剤中の水溶性ポリマーに対し、０．１質量％以上、４０質量％未満であり、さらに好ましくは、０．５質量％以上、３０質量％未満である。保護フイルムもしくは偏光子の少なくとも一方の表面に接着剤を塗布して、接着剤層を形成して、貼合するのが好ましく、保護フイルムの表面処理面に接着剤を塗布して、接着剤層を形成し、偏光子の表面に貼合するのが好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜３μｍが特に好ましい。
【０１１０】
（反射防止層）
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される保護フィルムには反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましい。特に、本発明では保護フィルム上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層または保護フィルム上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。
【０１１１】
保護フィルム上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。
本発明の光散乱層にはマット粒子が分散しており、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明においては光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。
【０１１２】
反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。
また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ＊値−２〜２、ｂ＊値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ＊値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。
また、面光源上と反射防止層の間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明のシートを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。
【０１１３】
本発明の反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０.５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値（比）が０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。
【０１１４】
（低屈折率層）
本発明の反射防止層における低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９であり、好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（IX）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（IX）：（ｍλ／４）×０．７＜ｎ１ｄ１＜（ｍλ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
【０１１５】
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含む。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の反射防止層を画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【０１１６】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【０１１７】
含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１１８】
架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０１１９】
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【０１２０】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
【０１２１】
（光散乱層）
光散乱層は、表面散乱および／または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。
【０１２２】
光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生および脆性の悪化の抑制の観点から、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。
【０１２３】
光散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、および窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。
【０１２４】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【０１２５】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【０１２６】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して光散乱層を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。
【０１２７】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。
【０１２８】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【０１２９】
光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。
【０１３０】
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。
【０１３１】
さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。
【０１３２】
上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【０１３３】
光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2およびＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理またはチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０質量％であり、特に好ましくは３０〜７５質量％である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
【０１３４】
光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダーおよび無機フィラーの種類および量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【０１３５】
光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止層の塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
【０１３６】
次に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層について述べる。
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい（例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等参照）。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止層のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０１３７】
（高屈折率層および中屈折率層）
反射防止層の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（：特開２００１−１６６１０４２００１−３１０４３２号公報等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。
【０１３８】
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性および／またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個有する多官能性化合物含有組成物と、加水分解性基を有する有機金属化合物およびその部分縮合体を含有する組成物とから選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の組成物が挙げられる。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
【０１３９】
高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０ｍμであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
【０１４０】
（低屈折率層）
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
【０１４１】
架橋または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
【０１４２】
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１４３】
（反射防止層の他の層）
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
【０１４４】
（ハードコート層）
ハードコート層は、反射防止層を設けた保護フィルムに物理強度を付与するために、保護フィルムの表面に設ける。特に、保護フィルムと前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１４５】
（帯電防止層）
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が１０-8（Ωｃｍ-3）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０-8（Ωｃｍ-3）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、これらの金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属としてＺｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ、またはＶをあげることができ、これを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ3、Ｖ2Ｏ5等、あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ2、およびＳｎＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ2に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ2に対してはＮｂ、ＴＡ等の添加が効果的である。更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０-8（Ωｃｍ-3）以下の導電性を確保するためには、該導電層が概ね１０-10（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく更に好ましくは１０-8（Ω／□）である。導電層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、本特許に記載の積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。
【０１４６】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償シートを用いた偏光板は、様々な表示モードの液晶セル、液晶表示装置に用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。このうち特に、ＴＮモード、ＯＣＢモードおよびＶＡモードに好ましく用いることができる。
【０１４７】
（ＯＣＢ型液晶表示装置）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。ＯＣＢモードの液晶セルは、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１４８】
（ＶＡ型液晶表示装置）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
ＶＡモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。本発明の液晶表示装置の一つの態様では、本発明の光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。
本発明の液晶表示装置の別の態様では、液晶セルと偏光子との間に配置される偏光板の透明保護膜として、本発明の光学補償シートが用いられる。一方の偏光板の（液晶セルと偏光子との間の）透明保護膜のみに上記の光学補償シートを用いてもよいし、あるいは双方の偏光板の（液晶セルと偏光子との間の）二枚の透明保護膜に、上記の光学補償シートを用いてもよい。一方の偏光板のみに上記光学補償シートを使用する場合は、液晶セルのバックライト側偏光板の液晶セル側保護膜として使用するのが特に好ましい。液晶セルへの張り合わせは、本発明の環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムはＶＡセル側にすることが好ましい。保護膜は通常のセルロースアシレートフィルムでも良い。たとえば、４０〜８０μｍが好ましく、市販のＫＣ４ＵＸ２Ｍ（コニカオプト株式会社製４０μｍ）、ＫＣ５ＵＸ（コニカオプト株式会社製６０μｍ）、ＴＤ８０（富士写真フイルム製８０μｍ）等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１４９】
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明の光学補償シートを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。例えば、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【実施例】
【０１５０】
以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明するが、本発明は下記例に限定されない。
尚、本実施例において、「部」とは「質量部」を示すものである。
［測定法］
以下、フィルムの諸特性は以下の方法で測定して実施した。
（レターデーション）
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA  21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフイルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADHまたはWRが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフイルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりRthを算出することもできる。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA  21ADHまたはWRはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたnx,ny,nzよりNz=（nx-nz)/(nx-ny)が更に算出される。
【０１５１】
【数１】
2006293331.tif 000008
【０１５２】
注記：上記のRe(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタデーション値をあらわす。
【０１５３】
Rth＝(（nx+ny）/2 - nz） x d       ---  式（２）
【０１５４】
（含水率）
試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法で測定。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。
（動摩擦係数）
動摩擦係数は、ＪＩＳやＡＳＴＭが規定する方法に従い、鋼球を用いて測定できる。
（ヘイズ）
ヘイズは日本電色工業（株）製１００１ＤＰ型ヘイズ計を用いて測定できる。
【０１５５】
（剥離抵抗）
剥離荷重の測定は次のようにして行う。製膜装置の金属支持体と同じ材質・表面粗さの金属板上にドープを滴下し、ドクターブレードを用いて均等な厚さに展延し乾燥する。カッターナイフでフィルムに均等幅の切れ込みを入れ、フィルムの先端を手で剥がしてストレンゲージにつながったクリップで挟み、ストレンゲージを斜め４５度方向に引き上げながら、荷重変化を測定する。剥離されたフィルム中の揮発分も測定する。乾燥時間を変えて何回か同じ測定を行い、実際の製膜工程における剥離時残留揮発分と同じ時の剥離荷重を定める。以下の実施例で調製した製膜用ドープを用いて剥離荷重を測定し、フィルム幅１ｃｍ当たりの剥離抵抗値を算出し、表１に示した。剥離フィルムの残留溶剤濃度が２０から２８質量％のときの最大剥離荷重値を採用した。
【０１５６】
（実施例１）
［基体フィルム製膜］
（環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムＦ−１１の製膜）
三井化学製アペルＡＰＬ５０１４（Ｔｇ１３５℃）を９０℃で予熱したまま、内径５０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝２８の単軸押出機を用いて溶融した。なお、入口側温度は２００℃、出口側温度は１４０℃であった。押出機の出口に焼結フィルター、ギヤポンプを経てＴダイから押し出した。
冷却工程では３本の冷却ロールを用いた。これらの冷却ロールは、いずれも間隔が３ｃｍとなるように配置した。最もダイに近い第１冷却ロールの温度（１３０℃）、および第２冷却ロールの温度から第１冷却ロールの温度を引いた値は３℃、第２冷却ロールの温度から第３冷却ロールの温度を引いた値は１３℃であった。
【０１５７】
また、これらのロールの搬送速度（第１冷却ロールの搬送速度（Ｓr1＝５０ｍ／分）に対する、第２冷却ロールの搬送速度（Ｓr2）と第１冷却ロールの搬送速度（Ｓr1）との差の比（ΔＳr21(％)＝１００×(Ｓr2−Ｓr1)／Ｓr1）は１％、第２冷却ロールの搬送速度（Ｓr2）に対する、第３冷却ロール（Ｓr3）と第２冷却ロールの搬送速度（Ｓr2）との差の比（ΔＳr23(％)＝１００×(Ｓr2−Ｓr3)／Ｓr2)は１％であった。これらの冷却ロールは、すべて１２０℃のケーシング内に配置した。また、第１冷却ロールには、静電印加法を用い、第１冷却ロール上のシート幅１．７ｍに対し、０．１７ｍ幅だけ押圧した。
上記のようにして密に配置した冷却ロール間の冷却速度は２℃／秒であった。なお、冷却速度は、第１冷却ロールに設置したフィルム温度と、最終冷却ロールから剥ぎ取られる直前のシート温度との差を、この間を通過するのに要した時間で除した値で示した。
最終冷却ロールの後、ロール間隔０．５ｍで配置した間を冷却速度２℃／秒で搬送した。得られたフィルムの厚みは７９μｍであった。この後、片面にラミフィルムを付けた後、両端を１０％ずつトリミング（スリット）し３,０００ｍ巻き取った。このフィルム（Ｆ−１１）を、KOBRA  21ADH（王子計測機器（株）製）で測定した面内レターデーションＲｅは１ｎｍ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈは４ｎｍであった。
【０１５８】
（環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムＦ−２１の製膜）
＜環状ポリオレフィン重合体Ｐ−１の合成＞
精製トルエン１００質量部とノルボルネンカルボン酸メチルエステル１００質量部を反応釜に投入した。次いでトルエン中に溶解したエチルヘキサノエート−Ｎｉ２５ｍｍｏｌ％（対モノマー質量）、トリ（ペンタフルオロフェニル）ボロン０．２２５ｍｏｌ％（対モノマー質量）およびトルエンに溶解したトリエチルアルミニウム０．２５ｍｏｌ％（対モノマー質量）を反応釜に投入した。室温で攪拌しながら１８時間反応させた。反応終了後過剰のエタノール中に反応混合物を投入し、共重合物沈殿を生成させた。沈殿を精製し得られた共重合体（Ｐ−１）を真空乾燥で６５℃２４時間乾燥した。
【０１５９】
共重合体（Ｐ−１）
【化９】
2006293331.tif 000009
【０１６０】
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状オレフィン系付加重合体溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状オレフィン系付加重合体Ｐ−１                    １５０質量部
メチレンクロライド                                  ４００質量部
メタノール                                            ５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６１】
次に上記方法で作成した環状ポリオレフィン溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株）製    ２．０質量部
メチレンクロライド                                  ７２．４質量部
メタノール                                          １０．８質量部
環状オレフィン系付加重合体溶液                      １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６２】
上記環状オレフィン系付加重合体溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量を混合し、製膜用ドープを調製した。
上述のドープをバンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５から２５質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、テンターを用いて幅方向に延伸して、フィルムに皺が入らないように保持しながら、１２０℃の熱風を当てて乾燥した。その後テンター搬送からロール搬送に移行し、更に１２０℃から１４０℃で乾燥し巻き取った。できたフィルム（Ｆ−２１）の特性は表１に示す。
【０１６３】
（環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムＦ−３１、Ｆ−４１の製膜）
下記組成物を用いてＦ−２１製膜と同様にしてドープを調製した。
【０１６４】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状オレフィン系付加重合体溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Ａｐｐｅａｒ３０００                                １５０質量部
メチレンクロライド                                  ４２０質量部
メタノール                                            ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６５】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株）製    ２．０質量部
メチレンクロライド                                  ７７．６質量部
メタノール                                            ５．６質量部
環状オレフィン系付加重合体溶液                      １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
フィルムＦ−２１と同じようにして製膜し、フィルムＦ−３１及びＦ−４１を作成した。
【０１６６】
（環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムＦ−５１の製膜）
下記組成物を用いてＦ−２１製膜と同様にしてドープを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状オレフィン系付加重合体溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Ａｐｐｅａｒ３０００                                １５０質量部
メチレンクロライド                                  ４１０質量部
エタノール                                            ４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６７】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株）製    ２質量部
メチレンクロライド                                  ７８質量部
エタノール                                            ５質量部
環状オレフィン系付加重合体溶液                      １０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
フィルムＦ−２１と同じようにして製膜し、フィルムＦ−５１を作成した。
【０１６８】
（環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムＦ−６１の製膜）
下記組成物を用いてＦ−２１製膜と同様にしてドープを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状オレフィン系付加重合体溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Ａｐｐｅａｒ３０００                                １５０質量部
メチレンクロライド                                  ４５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６９】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株）製    ２質量部
メチレンクロライド                                  ８３質量部
環状オレフィン系付加重合体溶液                      １０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
フィルムＦ−２１と同じようにして製膜し、フィルムＦ−６１を作成した。
【０１７０】
下記表１に作成した実施例F-11〜F-51及び比較例F-61の環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの特性を記す。
【０１７１】
【表１】
2006293331.tif 000010
【０１７２】
（実施例２）  
［環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの表面処理］
環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムＦ−１１、Ｆ２１、Ｆ−３１、Ｆ−４１、Ｆ−５１およびＦ−６１を、真鍮製の上下電極間（アルゴンガス雰囲気）で、グロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）してフィルムＦ−１２、Ｆ−２２、Ｆ−３２、Ｆ−４２、Ｆ−５２およびＦ−６２を作製した。グロー放電処理した保護フイルム表面の純水の接触角はすべて３６°から４１°の間であった。接触角は協和界面科学株式会社製の接触角計ＣＡ−Ｘ型により測定した。
【０１７３】
（実施例３−１）
［光学補償シートＬ−３１作成］
（配向膜の形成）  
環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムＦ−３１上に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの長手方向（搬送方向）を０°とし、時計方向の１３５°方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
【０１７４】
（配向膜塗布液の組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        ４０質量部
水                                                  ７２８質量部
メタノール                                          ２２８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                            ２質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株））        ０．６９質量部
【０１７５】
【化１０】
2006293331.tif 000011
【０１７６】
（光学異方性層の形成）
配向膜上に、下記のディスコティック液晶性化合物４１．０１ｋｇ、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート“Ｖ＃３６０”｛大阪有機化学（株）製｝４．０６ｋｇ、セルロースアセテートブチレート“ＣＡＢ５３１-１”（イーストマンケミカル社製）０．２９ｋｇ、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝１．３５ｋｇ、増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」｛日本化薬（株）製｝０．４５ｋｇ、クエン酸エステル“ＡＳ３”｛三協化学（株）製｝０．４５ｋｇを、１０２ｋｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液に、フルオロ脂肪族基含有共重合体「メガファックＦ７８０」｛大日本インキ（株）製｝を０．１ｋｇ加え、＃２．７のワイヤーバーを３９１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されているフィルムＦ−３１の配向膜面に連続的に塗布した。室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３５℃の乾燥ゾーンで、ディスコティック液晶性化合物層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／秒となるようにし、約９０秒間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、８０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フィルムの表面温度が約１００℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶性化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にした。このようにして、ロール状の、光学異方性層を有する光学補償シートＬ３１を作製した。光学異方性層の厚さは１．６μｍであった。
【０１７７】
【化１１】
2006293331.tif 000012
【０１７８】
自動複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて測定した光学異方性層のＲｅは２７ｎｍであった。さらに、できた光学補償シートから光学異方性層のみを剥離し、β値および光学異方性層の分子対称軸の平均方向を自動複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝により測定したところ、β値は３３°、分子対称軸の平均方向は基体環状ポリオレフィンフィルムの長手方向に対して、４５．５°であった。β値の計算には平均屈折率として１．６を入力した。
【０１７９】
（実施例３−２）
［光学補償シート  Ｌ１２、Ｌ４２］  
実施例３−１で配向膜を形成したのと同様の方法で、グロー放電処理を施したフィルムＦ−１２およびＦ−４２に配向膜を形成した。ついでフィルムの長手方向（搬送方向）を０°とし、時計方向の１８０°方向に、形成した配向膜にラビング処理を実施した。
配向膜上に、前記ディスコティック液晶性化合物９１．０ｋｇ、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート“Ｖ＃３６０”｛大阪有機化学（株）製｝９．０ｋｇ、セルロースアセテートブチレート“ＣＡＢ５５１-０．２”（イーストマンケミカル社製）２．０ｋｇ、セルロースアセテートブチレート“ＣＡＢ５３１-１”（イーストマンケミカル社製）０．５ｋｇ、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝３．０ｋｇ、増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」｛日本化薬（株）製｝１．０ｋｇを、２０７ｋｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液に、フルオロ脂肪族基含有共重合体「メガファックＦ７８０」｛大日本インキ（株）製｝を０．４ｋｇ加え、＃３．２のワイヤーバーを３９１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されているフィルムの配向膜面に連続的に塗布した。
【０１８０】
室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３５℃の乾燥ゾーンで、ディスコティック液晶性化合物層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に５．０ｍ／秒となるようにし、約９０秒間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、８０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フィルムの表面温度が約１００℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶性化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にした。このようにして、ロール状の、光学異方性層を有する光学補償シートＬ１２（基体フィルムはＦ−１２）とＬ４２（基体フィルムはＦ−４２）を作製した。光学異方性層の厚さは１．９μｍであった。
【０１８１】
自動複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて、測定した光学異方性層のＲｅは４６ｎｍであった。さらに、サンプルから光学異方性層のみを剥離し、β値および光学異方性層の分子対称軸の平均方向を自動複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝により測定したところ、β値は３８°、分子対称軸の平均方向は光学補償フィルムの長手方向に対して、−０．３°であった。β値の計算には平均屈折率として１．６を入力した。
【０１８２】
（実施例３−３）
［光学補償シートＬ１３，Ｌ２３、Ｌ５３］  
下記のアクリル酸コポリマーおよびトリエチルアミン（中和剤）を、メタノール／水の混合溶媒（質量比＝３０／７０）に溶解して、４質量％溶液を調製した。グロー放電処理を施した環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムＦ−１２、Ｆ−２２およびＦ−５２を搬送しながら、この上に上記溶液をバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１２０℃で５分間加熱して、乾燥し、厚さ１μｍの層を形成した。次いで長手方向（搬送方向）に連続的に塗布層の表面をラビング処理して、配向膜を形成した。
【０１８３】
【化１２】
2006293331.tif 000013
【０１８４】
上記配向膜の上に、以下の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１００℃で１分間加熱して、棒状液晶分子を配向させた後、紫外線を照射して棒状液晶分子を重合させ、配向状態を固定し光学補償シートＬ１３、Ｌ２３およびＬ５３（基体フィルムはそれぞれＦ−１２、Ｆ−２２、Ｆ−５２）を作成した。光学異方性層の厚さは１．７μｍであった。
【０１８５】
光学異方性層の塗布液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物                        ３８．４質量％
下記の増感剤                                  ０．３８質量％
下記の光重合開始剤                            １．１５質量％
下記の空気界面水平配向剤                      ０．０６質量％
メチルエチルケトン                            ６０．０質量％
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８６】
【化１３】
2006293331.tif 000014
【０１８７】
【化１４】
2006293331.tif 000015
【０１８８】
【化１５】
2006293331.tif 000016
【０１８９】
【化１６】
2006293331.tif 000017
【０１９０】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償シートＬ１３、およびＬ２３のＲｅの光入射角度依存性を測定し、予め測定した環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの寄与分を差し引くことによって、光学異方性層のみの光学特性を算出した。Ｒｅは４７ｎｍ、Ｒｔｈは２３ｎｍ、棒状液晶分子の長軸の層平面に対する平均傾斜角は０°であり、フイルム平面に対して平行に配向していた。また、棒状液晶性分子は、長軸方向がロール状環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの長手方向と直交するように配向していた（すなわち、光学異方性層の遅相軸方向はロール状環状オレフィン系付加重合体の基体フィルムの長手方向と直交していた）。
得られた光学補償シート（Ｌ１３）のＲｅ、およびＲｔｈ（測定波長５９０ｎｍ）は、それぞれ４８ｎｍ、２７ｎｍであった。一方、光学補償シート（Ｌ２３）のＲｅ、およびＲｔｈ（測定波長５９０ｎｍ）は、それぞれ５８ｎｍ、２３９ｎｍであった。
【０１９１】
（実施例３−４）
［光学補償シートＬ２４］
２，２'−ビス（３，４−ジカルボキジフェニル）ヘキサフルオロプロパン）および２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニルから合成されたポリイミド（質量平均分子量５９,０００）をシクロヘキサノンに溶解し、１５質量％のポリイミド溶液を調製した。調製したポリイミド溶液を、グロー放電処理を施した環状ポリオレフィンフィルムＦ−２２上に塗工し、温度１８０℃で幅方向に７％延伸し乾燥した。このようにしてできた光学補償シートＬ２４のフィルム全体厚さは５９μｍ、Ｒｅは４５ｎｍ、Ｒｔｈは３９０ｎｍであった。
【０１９２】
（実施例４−１）
［偏光板Ａの作成］
（光散乱層用塗布液の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＰＥＴＡ、日本化薬（株）製）５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇおよび平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７５ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇを加え、完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層の塗布液を調製した。
【０１９３】
【化１７】
2006293331.tif 000018
【０１９４】
（低屈折率層用塗布液の調製）
まず初めに、次のようにしてゾル液ａを調製した。攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、上記ゾル液ａ０．６ｇおよびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０１９５】
（光散乱層付き透明保護膜ＴＡＣ０１の作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記の機能層（光散乱層）用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２ 、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
該機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出してその光散乱層側に、該調製した低屈折率層用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２ 、照射量９００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を機能性膜側から測定し、４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を求めたところ、２．３％であった。
【０１９６】
（偏光板Ａの作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
作製した光散乱層付き透明保護膜ＴＡＣ０１の表面をアルカリケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、機能性膜の無い側と偏光子の片側を貼り付けた。
実施例３−１から３−４で作製した光学補償シート（Ｌ１２、Ｌ１３、Ｌ２３、Ｌ２４、Ｌ３１、Ｌ４２およびＬ５３）にグロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、基体フィルム面を偏光子の反対側に貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥した。
偏光子の透過軸と実施例３−１から３−４で作製した光学補償シートの遅相軸とは平行になるように配置した。偏光子の透過軸と光散乱層付き透明保護膜ＴＡＣ０１の遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（Ａ−１２、Ａ−１３、Ａ−２３、Ａ−２４、Ａ−３１、Ａ−４２およびＡ−５３）を作製した。
【０１９７】
（実施例４−２）
［偏光板Ｂの作成］
（ハードコート層用塗布液の調製）
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７５０．０質量部に、質量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０ｇ、シクロヘキサノン５００．０ｇおよび光重合開始剤（イルガキュア１８４、日本チバガイギー（株）製）５０．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
【０１９８】
（二酸化チタン微粒子分散液の調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９、石原産業（株）製）を使用した。
この粒子２５７．１ｇに、下記分散剤３８．６ｇ、およびシクロヘキサノン７０４．３ｇを添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。
分散剤
【０１９９】
【化１８】
2006293331.tif 000019
【０２００】
（中屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液８８．９ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）５８．４ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７）３．１ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１ｇ、メチルエチルケトン４８２．４ｇおよびシクロヘキサノン１８６９．８ｇを添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
【０２０１】
（高屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液５８６．８ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４７．９ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）４．０ｇ、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．３ｇ、メチルエチルケトン４５５．８ｇ、およびシクロヘキサノン１４２７．８ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。
【０２０２】
（低屈折率層用塗布液の調製）
下記式で表される共重合体をメチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）を固形分に対して３％、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）を固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。
共重合体
【０２０３】
【化１９】
2006293331.tif 000020
【０２０４】
（反射防止層付透明保護膜ＴＡＣ０２の作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２ 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
【０２０５】
中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２ 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。
【０２０６】
高屈折率層および低屈折率層の乾燥条件はいずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。
硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍ、低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止層付き透明保護膜ＴＡＣ０２を作製した。
【０２０７】
（偏光板Ｂの作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
作製した透明保護膜ＴＡＣ０２の表面をアルカリケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、機能性膜の無い側と偏光子の片側を貼り付けた。
実施例３−１から３−４で作製した光学補償シート（Ｌ１２、Ｌ１３、Ｌ２３、Ｌ２４、Ｌ３１、Ｌ４２およびＬ５３）にグロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、基体フィルム面を偏光子の反対側に貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥した。
偏光子の透過軸と実施例３−１から３−４で作製した光学補償シートの遅相軸とは平行になるように配置した。偏光子の透過軸と透明保護膜ＴＡＣ０２の遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（Ｂ−１２、Ｂ−１３、Ｂ−２３、Ｂ−２４、Ｂ−３１、Ｂ−４２およびＢ−５３）を作製した。
【０２０８】
（実施例４−３）
［偏光板Ｃの作製］
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の表面をアルカリケン化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光子の片側に貼り付けた。
実施例３−１から３−４で作製した光学補償シート（Ｌ１２、Ｌ１３、Ｌ２３、Ｌ２４、Ｌ３１、Ｌ４２およびＬ５３）にグロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、基体フィルム面を偏光子の反対側に貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥した。
偏光子の透過軸と実施例３−１から３−４で作製した光学補償シートの遅相軸とは平行になるように配置した。偏光子の透過軸と透明保護膜フジタックＴＤ８０ＵＦの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（Ｃ−１２、Ｃ−１３、Ｃ−２３、Ｃ−２４、Ｃ−３１、Ｃ−４２およびＣ−５３）を作製した。
【０２０９】
比較例１
（セルロースアセテートドープの調製）  
アセチル置換度２．７９のセルロースアセテート、可塑剤（トリフェニルフォスフェイトとビフェニルジフェニルフォスフェイトの２対１の混合物）、および溶剤（ジクロロメタン／メタノール＝８７／１３質量部）を混合攪拌溶解し、耐圧密閉容器中で７０から９０℃に加熱溶解後ろ過することによりドープを調製した。
【０２１０】
次に上記方法で作成したセルロースアセテート溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、各マット剤分散液を調製した。
【０２１１】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株）製    ２．０質量部
メチレンクロライド                                  ７２．４質量部
メタノール                                          １０．８質量部
セルロースアセテート溶液                            １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２１２】
次に上記方法で作成したセルロースアセテート溶液を含む下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して溶解しレターデーション発現剤溶液を調製した。
【０２１３】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
レターデーション発現剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記レターデーション発現剤                    ２０．０質量部
メチレンクロライド                            ５８．３質量部
メタノール                                      ８．７質量部
セルロースアセテート溶液                      １２．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２１４】
次に上記方法で作成したセルロースアセテート溶液を含む下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して溶解しＵＶ吸収剤溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ＵＶ吸収剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
紫外線吸収剤（Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  １６５Ｆ）      ２０．０質量部
酢酸メチル                                      ６７．０質量部
セルロースアセテート溶液                        １２．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２１５】
レターデーション発現剤
【０２１６】
【化２０】
2006293331.tif 000021
【０２１７】
（セルロースアセテートフィルムの製膜）
調製したセルロースアセテート溶液をギアポンプで送り出し、途中マット剤分散液、レターデーション発現剤溶液およびＵＶ吸収剤溶液を規定量注入して、スタチックミキサーで均一に混合し、バンド流延機を用いて流延した。流延ドープの組成を下記表２に記載する。ついで残留溶媒量が２５から３５質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、テンターで保持して幅方向に延伸しながら熱風を当てて乾燥させ、その後テンター搬送からロール搬送に移行し、更に乾燥し、ナーリングし１４４０ｍｍ幅で巻き取った。
次いで１．５ ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。また０．００５ｍｏｌ／Ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製したセルロースアセテートフィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させ、セルロースアセテートフィルムＣ１及びＣ２を作成した。残留溶媒はすべて０．２質量％以下であった。できたフィルムの特性と延伸倍率を下記表２に記載する。
【０２１８】
【表２】
2006293331.tif 000022
【０２１９】
（開環重合環状ポリオレフィンドープの調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
【０２２０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン溶液Ｄ−３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アートンＧ（ＪＳＲ株式会社製）                    １５０質量部
メチレンクロライド                                ５５０質量部
エタノール                                          ５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２１】
次に上記方法で作成した開環重合環状ポリオレフィン溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
【０２２２】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株）製        ２  質量部
メチレンクロライド                                      ７５  質量部
エタノール                                                ５  質量部
環状ポリオレフィン溶液      Ｄ−３                      １０  質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２３】
上記環状ポリオレフィン溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．１質量を混合し、製膜用ドープを調製した。
【０２２４】
上述のドープをバンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が約２２質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、テンターを用いて５０％の延伸率で幅方向に延伸した。その後テンター搬送からロール搬送に移行し、更に１２０℃から１４０℃で乾燥し巻き取った。できた環状ポリオレフィンフィルムの厚さは６０μｍ、Ｒｅが６３ｎｍ、Ｒｔｈは８０ｎｍであった。このフィルムを真鍮製の上下電極間（アルゴンガス雰囲気）で、グロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）して開環重合環状ポリオレフィンフィルムＣ３を作製した。フィルム表面の純水の接触角は３６°から４１°の間であった。
【０２２５】
比較例３
（光学補償シートＣＬ−１）  
実施例３−１と同様にしてセルロースアセテートフィルムＣ１に配向膜を塗付し、ラビング処理を行い、ディスコティック液晶層（光学異方性層）を塗付することにより光学補償シートＣＬ−１を作製した。
自動複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて測定した光学異方性層のＲｅは２７ｎｍであった。さらに、できた光学補償シートから光学異方性層のみを剥離し、β値および光学異方性層の分子対称軸の平均方向を自動複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝により測定したところ、β値は３３°、分子対称軸の平均方向は基体セルロースアシレートフィルムの長手方向に対して、４５．５°であった。β値の計算には平均屈折率として１．６を入力した。
【０２２６】
比較例４
（光学補償シートＣＬ−２、ＣＬ−３）  
実施例３−２と同様にして、比較例１で作成したフィルムＣ２及び比較例２で作成したフィルムＣ３に配向膜を塗付し、ラビング処理を行い、ディスコティック液晶層（光学異方性層）を塗付することにより光学補償シートＣＬ−２及びＣＬ−３を作製した。
自動複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて、測定した光学異方性層のＲｅは４６ｎｍであった。さらに、できた光学補償シートから光学異方性層のみを剥離し、β値および光学異方性層の分子対称軸の平均方向を自動複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝により測定したところ、β値は３８°、分子対称軸の平均方向は光学補償シートの長手方向に対して、−０．３°であった。β値の計算には平均屈折率として１．６を入力した。
【０２２７】
比較例５
実施例４−１と同様に光学補償シートＣＬ−１、ＣＬ−２およびＣＬ−３を用いて、偏光板ＣＡ−１、ＣＡ−２およびＣＡ−３を作製した。
【０２２８】
比較例６
実施例４−２と同様に光学補償シートＣＬ−１、ＣＬ−２およびＣＬ−３を用いて、偏光板ＣＢ−１、ＣＢ−２およびＣＢ−３を作製した。
【０２２９】
比較例７  
実施例４−３と同様に光学補償シートＣＬ−１、ＣＬ−２およびＣＬ−３を用いて、偏光板ＣＣ−１、ＣＣ−２およびＣＣ−３を作製した。
【０２３０】
＜液晶表示装置への実装＞
実施例５−１  
（ＯＣＢパネルへの実装）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた２枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを５．７μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物“ＺＬＩ１１３２”（メルク社製）を注入し、セルを作製した。
【０２３１】
実施例４−１、実施例４−２で作製した偏光板Ａ−３１、Ｂ−３１、比較例５、６で作製した偏光板ＣＡ−１、ＣＢ−１のいずれか１つを視認側偏光板とし、実施例４−３および比較例７でそれぞれ作製した偏光板Ｃ−３１およびＣＣ−１のいずれか１つをバックライト側偏光板として組み合わせ、作製したＯＣＢセルを挟むように、厚さ約８μｍの粘着剤（ダイアボンドＤＡ ７５３、ノガワケミカル製）を介して偏光板を貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置し、液晶表示装置ＯＣＢ−１（実施例）およびＯＣＢ−Ｃ１（比較例）を作製した。共に、２３”ワイドのサイズで打抜き後の偏光板の長辺に対して吸収軸が４５゜長辺となるように、長方形に打抜いた。偏光板貼り付け後、５０℃５ｋｇ／ｃｍ２で２０分間保持し、接着させた。
【０２３２】
液晶表示装置の偏光板の組み合わせは以下のとおりである。
ＯＣＢ−１
（偏光板Ａ−３１）−（ＯＣＢセル）−（偏光板Ｃ−３１）
（偏光板Ｂ−３１）−（ＯＣＢセル）−（偏光板Ｃ−３１）
ＯＣＢ−Ｃ１
（偏光板ＣＡ−１）−（ＯＣＢセル）−（偏光板ＣＣ−１）
（偏光板ＣＢ−１）−（ＯＣＢセル）−（偏光板ＣＣ−１）
【０２３３】
作製した液晶表示装置をバックライト上に配置し、液晶セルに白表示電圧２Ｖ、黒表示電圧４．５Ｖを印加し、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示および白表示の輝度測定から視野角（コントラスト比が１０以上の範囲）を算出した。いずれの偏光板を使用した場合も、全方位で極角８０゜以上の良好な視野角特性が得られた。
得られた実施例および比較例のＯＣＢモード液晶表示装置の電源を入れて１２時間経時させ、画面４辺の光漏れを比較した。その結果、比較例は光漏れが認められたが、実施例はほとんど光漏れがなかった。
【０２３４】
実施例５−２
（ＴＮパネルへの実装）  
実施例４−１で作製した偏光板Ａ−１２を視認側偏光板、実施例４−３で作製した偏光板Ｃ−４２をバックライト側偏光板として組み合わせ、共に１７”のサイズで打抜き後の偏光板の長辺に対して吸収軸が４５゜長辺となるように、長方形に打抜いた。ＴＮモードの液晶モニター“ＳｙｎｃＭａｓｔｅｒ  １７２Ｘ”（サムソン社製）の表裏の偏光板および位相差板を剥し、その代わりに厚さ約８μｍの粘着剤（ダイアボンドＤＡ ７５３、ノガワケミカル製）を介して上記の偏光板を貼り付け、実施例の液晶表示装置ＴＮ−１を作製した。偏光板貼り付け後、５０℃、５ｋｇ／ｃｍ２で２０分間保持し、接着させた。この際、偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
また、比較例５、６で作製した偏光板ＣＡ−２、ＣＢ−２のいずれか一方を視認側偏光板、比較例７で作製した偏光板ＣＣ−２をバックライト側偏光板として組み合わせ、あとはすべて同様にして比較例のＴＮモード液晶表示装置ＴＮ−Ｃ２を作成した。
更に、比較例５、６で作製した偏光板ＣＡ−３、ＣＢ−３のいずれか一方を視認側偏光板、比較例７で作製した偏光板ＣＣ−３をバックライト側偏光板として組み合わせ、あとはすべて同様にして比較例のＴＮモード液晶表示装置ＴＮ−Ｃ３を作成した。
【０２３５】
液晶表示装置の偏光板の組み合わせは以下のとおりである。
ＴＮ−１
（偏光板Ａ−３１）−（ＯＣＢセル）−（偏光板Ｃ−３１）
（偏光板Ｂ−３１）−（ＯＣＢセル）−（偏光板Ｃ−３１）
ＴＮ−Ｃ２
（偏光板ＣＡ−２）−（ＯＣＢセル）−（偏光板ＣＣ−２）
（偏光板ＣＢ−２）−（ＯＣＢセル）−（偏光板ＣＣ−２）
ＴＮ−Ｃ３
（偏光板ＣＡ−３）−（ＯＣＢセル）−（偏光板ＣＣ−３）
（偏光板ＣＢ−３）−（ＯＣＢセル）−（偏光板ＣＣ−３）
【０２３６】
測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示および白表示の輝度測定から視野角（コントラスト比が１０以上の範囲）を算出した。液晶表示装置ＴＮ−１及びＴＮ−Ｃ２は全方位で極角６０゜以上の良好な視野角特性が得られた。しかし比較例の液晶表示装置ＴＮ−Ｃ３は極角４０゜以下の視野角特性しか得られなかった。
実施例および比較例のＴＮモード液晶表示装置ＴＮ−１とＴＮ−Ｃ２の電源を入れて１２時間経時させ、画面４辺の光漏れを比較した。その結果、比較例は光漏れが強いが、実施例はほとんど光漏れがなかった。
【０２３７】
実施例５−３
（ＶＡパネルへの実装）  
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（即ち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。
偏光子の表も裏もフジタックＴＤ８０ＵＦをアルカリケン化した透明保護膜を使用した以外は実施例４−３と同様にして偏光板Ｃ−０を作製した。上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置の視認側偏光板に実施例４−１で作製したＡ−２３を、バックライト側偏光板には偏光板Ｃ−０を使用した。Ａ−２３の光学異方性層が液晶セル側になるように、厚さ約８μｍの粘着剤（ダイアボンドＤＡ ７５３、ノガワケミカル製）を介して実施例で作成した偏光板を貼り付けた。視認側偏光板の透過軸が上下方向に、バックライト側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。このようにしてＶＡモード液晶表示装置ＶＡ−１を作成した。
また、実施例４−２で作製したＢ−５３を視認側にしたほかは上記と同様にして、ＶＡモード液晶表示装置ＶＡ−２を作成した。
【０２３８】
測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、実施例のＶＡ液晶表示装置ＶＡ−１及びＶＡ−２の黒表示および白表示の輝度測定を行い、視野角（コントラスト比が１０以上の範囲）を算出した。液晶表示装置ＶＡ−１及びＶＡ−２は全方位で極角６０゜以上の良好な視野角特性が得られた。液晶表示装置の電源を入れて１２時間経時させ、画面４隅の光漏れを観察したが、光漏れは認められなかった。