(57)【要約】【課題】  高速で回転するディスク面のうねりに対応して姿勢を変化するヘッドに対して、ヘッドの姿勢変動特性に影響を与えずに、安定的に光をヘッドに導入する。【解決手段】  ディスク１０７の回転により浮上力を受けるヘッド１０６と、前記ヘッドを支持するとともに前記ディスクに対して所定の姿勢と所定の浮上距離になるように前記ヘッドに対して負荷荷重を与えるアーム１０４と、前記ヘッドに光源１０１からの入射光を導入する光導入部１０３と、前記ヘッドに前記光導入部を固定する固定部とから成るヘッドモジュールにおいて、前記固定部２０５は、前記負荷荷重がかかる荷重点２２３から前記負荷荷重のかかる方向に延伸した位置の近傍部に形成されていることを特徴とするヘッドモジュール。【選択図】    図２
2006323908.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクの回転により浮上力を受けるヘッドと、前記ヘッドを支持するとともに前記ディスクに対して所定の姿勢と所定の浮上距離になるように前記ヘッドに対して負荷荷重を与えるアームと、前記ヘッドに光源からの入射光を導入する光導入部と、前記ヘッドに前記光導入部を固定する固定部とから成るヘッドモジュールにおいて、
前記固定部は、前記負荷荷重がかかる荷重点から前記負荷荷重のかかる方向に延伸した位置の近傍部に形成されていることを特徴とするヘッドモジュール。
【請求項２】
前記ヘッドが、前記ディスク表面に対して略水平に前記光導入部から出射した光導入部出射光を反射して前記ディスク表面に向けて伝搬させる反射ミラーを有することを特徴とする請求項１に記載のヘッドモジュール。
【請求項３】
前記ヘッドは、前記反射ミラーが形成されたミラー基板を含むことを特徴とする請求項２に記載のヘッドモジュール。
【請求項４】
前記光導入部が、前記光源からの入射光を前記ディスク表面に対して略垂直に反射させる光導入部内反射ミラーを持つことを特徴とする請求項１に記載のヘッドモジュール。
【請求項５】
前記ヘッドが、前記光導入部から出射した光導入部出射光を集光して前記ディスク表面に向けて伝搬させるレンズを持つことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のヘッドモジュール。
【請求項６】
前記ヘッドが、近接場光を発生あるいは検出する近接場光素子を持つことを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のヘッドモジュール。
【請求項７】
前記ヘッドが、前記近接場光素子を持つ近接場光素子基板を含むことを特徴とする請求項６に記載のヘッドモジュール。
【請求項８】
前記近接場光素子が、前記光源からの入射光の波長よりも小さな光学的開口を持つことを特徴とする請求項６あるいは７に記載のヘッドモジュール。
【請求項９】
前記近接場光素子が、前記光源からの入射光によってプラズモンを発生することによって前記近接場光を増強する金属膜を持つことを特徴とする請求項６から８のいずれかに記載のヘッドモジュール。
【請求項１０】
前記光導入部が光ファイバーから成ることを特徴とする、請求項６から９のいずれかに記載のヘッドモジュール。
【請求項１１】
前記光導入部が光導波路から成ることを特徴とする請求項６から９のいずれかに記載のヘッドモジュール。
【請求項１２】
前記光ファイバーが前記ヘッドに固定される前記固定部が、前記ヘッド表面に形成されたＶ溝内にあることを特徴とする請求項６から１０のいずれかに記載のヘッドモジュール。
【請求項１３】
前記Ｖ溝が、Ｓｉの結晶異方性を利用したエッチングによって形成されたものであることを特徴とする請求項１２に記載のヘッドモジュール。
【請求項１４】
前記Ｖ溝の一部分が他の部分に比べて浅く形成されており、前記一部分において前記光ファイバーが前記ヘッドに固定されていることを特徴とする請求項１２あるいは１３に記載のヘッドモジュール。
【請求項１５】
前記ヘッドが、前記ディスク表面の磁化状態を変化させる磁気素子を含むことを特徴とする請求項１から１４のいずれかに記載のヘッドモジュール。
【請求項１６】
前記ヘッドが、前記光源からの入射光を前記ディスク表面に照射し、前記照射位置において前記磁気素子が前記磁化状態を変化させることを特徴とする請求項１５に記載のヘッドモジュール。
【請求項１７】
前記光導入部が、光ファイバーと前記ヘッドを固定する固定部材を含むことを特徴とする請求項６から９のいずれかに記載のヘッドモジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、高密度で情報の記録再生を行うヘッドモジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年情報化社会における画像・動画情報の急激な増加に対応するため、情報記録再生装置は大容量化・小型化が進められている。光を用いた情報記録再生装置においては、記録密度が光波長に依存するため、短い波長の光を用いることで高密度化が図られてきた。波長に依存しない密度の実現の方法としては、近接場光を用いた記録再生原理が注目されている。
【０００３】
近接場光を利用した記録再生装置の構成は、磁気ディスク装置とほぼ同様であり、磁気ヘッドに代わり、近接場光ヘッドを用いる。近接場光ヘッドは、光学的微小開口やナノメートルサイズの突起などから近接場光を発生させる部分を持つ。近接場光ヘッドをサスペンションアームの先端に取り付けてフライングヘッド技術により一定の高さに浮上させ、ディスク上に存在する任意のデータマークへアクセスする。高速度回転するディスクに近接場光ヘッドを追従させるため、ヘッドモジュールにはディスクのうねりに対応してヘッドの姿勢を安定させるフレクチャ機能をもたせている。このような構成の近接場光ヘッドモジュールにおいて、近接場光ヘッドに光を供給する方法として、ヘッドの上方あるいは水平方向に設けたレーザーを直接ヘッドに照射する方法（例えば特許文献１）、あるいは光ファイバーや光導波路をヘッドに接続する方法（例えば特許文献２）をとっていた。
【特許文献１】特開２０００−１３１５０１号公報（第５−６頁、第１図）
【特許文献２】特開２００１−１４３３１６号公報（第４−５頁、第２図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した従来技術による近接場光ヘッドでは、高速で回転するディスクの表面上に、微小な浮上量と安定した姿勢で浮上を維持した状態で光源からの光を安定的にヘッドに導入することが困難であった。例えば特許文献１で開示されている構造は、リレーレンズ間の距離を制御することによってディスクの面振れに対応してフォーカス制御を行っているが、高速なデータの記録再生を行う際にはディスク面の揺れに対応させてレンズを移動させることが困難である。ヘッドへ入射光が高精度をもって導入されないと、発生する近接場光が弱い、あるいは局在していない、等の状態をもたらし、データの記録再生時におけるエラーの原因となる。
【０００５】
また、浮上時のヘッドの姿勢が安定しないと、ディスクに衝突するヘッドクラッシュを引き起こし、ストレージ装置全体として致命的な損傷となってしまう。またヘッドへの入射光がヘッド上方から空中を伝搬してヘッドに到達する構造になっているため、ヘッド上方にレンズやそのアクチュエーター、場合によってはレーザーなどを含む光学メカニズムを配置する必要があり、ストレージ装置内部に複数枚のディスクを持つ構造にした場合に薄型にしにくい、という課題がある。１台のストレージ装置が複数枚のディスクを持つことができないと、データ容量を大きくしにくい。
【０００６】
また、特許文献２に開示されている構造は、空気浮上するヘッドへの荷重点が、ヘッドへの光導入部と一致しているために、ヘッドに対して安定した方向からの光導入が可能となっている反面、ヘッドとサスペンションアーム双方の小さな面積でのみ接触している荷重点を光が通過するために、荷重点での光の散乱や屈折などにより、光効率が低下してしまうという課題があった。また、光導入部を固定する際に用いる接着剤が接着箇所以外の場所に流れ出てしまうことで、接着剤による汚染を引き起こしやすい。またいずれの場合も新規なサスペンションアームの設計が必要となり、所望の浮上特性を得るためにはサスペンションアームの設計最適化が必要であった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明は、ディスクの回転により浮上力を受けるヘッドと、前記ヘッドを支持するとともに前記ディスクに対して所定の姿勢と所定の浮上距離になるように前記ヘッドに対して負荷荷重を与えるアームと、前記ヘッドに光源からの入射光を導入する光導入部と、前記ヘッドに前記光導入部を固定する固定部とから成るヘッドモジュールにおいて、前記固定部は、前記負荷荷重がかかる荷重点から前記負荷荷重のかかる方向に延伸した位置の近傍部に形成されていることを特徴とする。
【０００８】
また本発明は、ヘッドが、前記ディスク表面に対して略水平に前記光導入部から出射した光導入部出射光を反射して前記ディスク表面に向けて伝搬させる反射ミラーを有することを特徴とする。
【０００９】
また本発明は、ヘッドが、前記反射ミラーが形成されたミラー基板を含むことを特徴とする。
【００１０】
また本発明は、光導入部が、光源からの入射光をディスク表面に対して略垂直に反射させる光導入部内反射ミラーを持つことを特徴とする。
【００１１】
また本発明は、ヘッドが、光導入部から出射した光導入部出射光を集光してディスク表面に向けて伝搬させるレンズを持つことを特徴とする。
【００１２】
また本発明は、ヘッドが、近接場光を発生あるいは検出する近接場光素子を持つことを特徴とする。
【００１３】
また本発明は、ヘッドが、近接場光素子を持つ近接場光素子基板を含むことを特徴とする。
【００１４】
また本発明は、近接場光素子が、光源からの入射光の波長よりも小さな光学的開口を持つことを特徴とする。
【００１５】
また本発明は、近接場光素子が、光源からの入射光によってプラズモンを発生することによって近接場光を増強する金属膜を持つことを特徴とする。
【００１６】
また本発明は、光導入部が光ファイバーから成ることを特徴とする。
【００１７】
また本発明は、光導入部が光導波路から成ることを特徴とする。
【００１８】
また本発明は、光ファイバーがヘッドに固定される前記固定部が、ヘッド表面に形成されたＶ溝内にあることを特徴とする。
【００１９】
また本発明は、Ｖ溝が、Ｓｉの結晶異方性を利用したエッチングによって形成されたものであることを特徴とする。
【００２０】
また本発明は、Ｖ溝の一部分が他の部分に比べて浅く形成されており、その一部分において光ファイバーがヘッドに固定されていることを特徴とする。
【００２１】
また本発明は、ヘッドが、ディスク表面の磁化状態を変化させる磁気素子を含むことを特徴とする。
【００２２】
また本発明は、ヘッドが、光源からの入射光をディスク表面に照射し、照射位置において磁気素子が磁化状態を変化させることを特徴とする。
【００２３】
また本発明は、光導入部が、光ファイバーとヘッドを固定する固定部材を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、光導入部がヘッドに固定されていることによるヘッドの浮上性能への影響が最小限度に低減でき、ディスクの高速度回転による面ぶれにもヘッドが安定して追従することが可能である。また、光導入部がヘッドに固定されているため、ヘッドへの光導入はヘッドの姿勢によらず安定しており、常に安定した光がヘッドからディスク表面に照射されることで、十分な強度で安定した出力信号を得ることができる。ヘッドのナノメートルレベルでの浮上と、安定した光導入を両立させることができる。
【００２５】
また本発明によれば、光導入部からの光がディスク表面に対して水平に伝搬した後、ヘッド内部で方向を変えてディスクに向かう構造になっているため、ヘッド上方に光学メカニズムが一切不要であり、ストレージ装置内部に複数枚のディスクを格納した場合に装置全体が極めて薄型小型にすることができる。その結果、１台のストレージ装置の容量を大きく増加させることができる。
【００２６】
また本発明によれば、光導入部からの光をヘッド内部の基板に設けられた反射ミラーによって方向を変え、ディスクに向かわせるため、小型薄型のヘッドで高効率高精度な光の伝搬制御が可能となる。
【００２７】
また本発明によれば、光導入部の一部に光の伝搬方向を変える機能を持つため、ヘッドが１枚の基板から成る薄型構造にすることが可能となり、その結果浮上量の低減による高分解能と高Ｓ／Ｎ信号を可能とする。
【００２８】
また本発明によれば、ヘッドが光を集光する機能を持つため、十分な強度を持った光を介してディスクと相互作用を起こし、高分解能と高Ｓ／Ｎ信号を可能とする。
【００２９】
また本発明によれば、ヘッドが入射光を近接場光に変換して近接場光を発生させるため、入射光の回折限界を超える高分解能を実現できる。
【００３０】
また本発明によれば、入射光の波長よりも小さな光学的開口によって近接場光を発生させるため、入射光の波長によらない高分解能を実現できる。
【００３１】
また本発明によれば、近接場光を発生する部分が入射光によって表面プラズモンを励起する材質から成っているため、プラズモン共鳴によってエネルギーが増強され、高いエネルギーを持つ近接場光が微細な領域に局在する。これにより高分解能と高Ｓ／Ｎ信号を実現できる。
【００３２】
また本発明によれば、光導入部が光ファイバーであるため、低コストで簡便にヘッドを作製することができる。
【００３３】
また本発明によれば、光導入部が光導波路であるため、シリコンプロセスを利用したバッチ製造が可能となり、低コストで安定した性能のヘッドを作製することができる。
【００３４】
また本発明によれば、光ファイバーをヘッド表面のＶ溝に固定するため、安定した構造を簡便に組み立て可能である。
【００３５】
また本発明によれば、ヘッド表面のＶ溝がＳｉの異方性エッチングによって形成するため、簡便で高精度な加工によって光ファイバーを固定するための構造を作製することができる。
【００３６】
また本発明によれば、Ｖ溝の一部に浅い部分を形成しその部分において光ファイバーを固定するため、荷重点直下の正しい位置に確実に光ファイバーの固定ができる。また、固定するための接着剤が多過ぎた場合でも余剰接着剤がＶ溝の深い部分に流れ込むために、ヘッドの他の部分に接着剤汚染を引き起こすことが無い。
【００３７】
また本発明によれば、ヘッドが磁気素子を同時に搭載しているために、光によってディスク表面の微小領域を加熱し、そのアシストを受けて磁場で記録する光アシスト磁気記録が可能である。
【００３８】
また本発明によれば、光ファイバーとヘッドを固定する部材を用いるため、荷重点に対して任意の位置に光ファイバーを配置することができ、ヘッド底面の中で最もディスク表面に近接している部分に近接場光発生素子を配置するように設計することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
（実施の形態１）
図１に本発明の実施の形態１に係るヘッドモジュールを用いた情報再生装置の概略を示す。本実施の形態に係る情報再生装置は、従来の磁気ディスク装置と基本構成は類似であり、近接場光を発生する微小開口（図示略）を有するヘッド１０６を記録媒体ディスク１０７の表面に数〜数十ナノメートルまで近接した状態でディスク１０７を高速に回転させ、ヘッド１０６がディスク１０７に対して常に一定の姿勢で浮上するために、フレクシャー１０５をサスペンションアーム１０４の先端部に形成している。サスペンションアーム１０４は、ボイスコイルモータ（図示略）によってディスク１０７の半径方向に移動可能である。ここで、ヘッド１０６は、ディスク１０７に微小開口が対面するように配置されている。
【００４０】
レーザー１０１からの光束はレンズ１０２を介して光ファイバー１０３に導かれ、光ファイバー１０３からヘッド１０６に導入される。ここでヘッド１０６への光導入部として光ファイバー１０３を用いたが、所定の屈折率を持つ酸化シリコンをパターニングして作製した光導波路であってもよい。必要に応じて、レーザー１０１は回路系１０８により強度変調などをかけることもできる。概略をわかりやすくするために、サスペンションアーム１０４とフレクシャー１０５とヘッド１０６はそれぞれ分解した形で示してあるが、実際には、それぞれは接続され必要に応じて固定されている。
【００４１】
光ファイバー１０３からの光は、ディスク１０７の表面に対して略水平方向からヘッド１０６に導入される。ヘッド１０６はこの光の伝搬方向を変えディスク１０７の表面方向に向かわせた後、微小開口によって近接場光に変換する。近接場光はレーザー１０１からの出射光波長よりもはるかに微細な空間に局在しており、ディスク１０７表面の微細な領域のみと相互作用し、その結果散乱光を発生させる。ディスク１０７表面には数〜数十ナノメートルサイズの記録ドット（図示略）が光学的に記録されており、このドットと近接場光との相互作用によって散乱された光は光検出器（図示略）によって検出されて出力信号となる。本実施の形態においては、光検出器はディスク１０７の裏面側に配置することによって、ディスク１０７を透過した光を検出したが、ヘッド１０６側に配置することでディスク１０７からの反射光を検出することも可能である。また記録ドットは、ディスク１０７の表面に凹凸形状を形成することで形成されているが、屈折率の異なる微細領域を配置することで形成することも可能である。
【００４２】
図２はヘッド１０６、光ファイバー１０３の一部、フレクシャー１０５の一部の拡大図である。ヘッド１０６はミラー基板２０１と近接場光素子基板２０２が接着された構造になっている。ミラー基板２０１はＳｉから成り、図中底面にＶ溝２０３が形成されている。Ｖ溝２０３は図中右側ではミラー基板２０１の端まで到達しているが、左側は途中までの形成でありその終端はミラー面２０４となっている。ミラー面２０４はミラー基板２０１表面に対して約５５°の傾斜を持っている。ミラー面２０４は表面にＡｌ膜（図示略）が製膜されている。光ファイバー１０３はＶ溝２０３の一部に接着剤２０５によって固定されている。この２０５がヘッドに光導入部を固定する固定部を形成している。光ファイバー１０３の先端面２０６は光軸に対して約３３°斜めに研磨されている。近接場光素子基板２０２は石英ガラスから成り、図中上面にマイクロレンズ２０７が形成され、底面に錐状突起２０８を持つ。錐状突起２０８はＡｌ遮光膜（図示略）で覆われているが、先端の数十ナノメートルの微細な領域のみＡｌ遮光膜が除去されていることで光学的開口２０９となっている。
【００４３】
フレクシャー１０５はサスペンションアーム（図示略）の先端に作られた構造体であり、板ばね２２１を荷重部２２２が荷重点２２３において荷重Ｆで押すことで、ヘッド１０６がディスク１０７（図１）から受ける空気浮上力とつりあってヘッド１０６の姿勢が安定に維持される。光ファイバー１０３を伝搬してきた入射光２３１は、先端面２０６で屈折して出射光２３２となり、ミラー面２０４で反射し、マイクロレンズ２０７によって集光されて錐状突起２０８先端の光学的開口２０９に照射される。入射光２３１の波長は４０５ナノメートルとしたが、８００ナノメートルあるいは１ミクロンを超える波長のものでも良い。光学的開口２０９は入射光２３１の波長よりもはるかに小さいため、光学的開口２０９の先に分布する光エネルギーは大半が近接場光２３３の成分である。
【００４４】
図３は、ミラー基板２０１の底面と、光ファイバー１０３の拡大図である。ミラー基板２０１底面に形成されたＶ溝２０３は、その終端がミラー面２０４となっている。光ファイバー１０３の先端面２０６は斜めに研磨されている。光ファイバー１０３はＶ溝２０３の一部において接着剤２０５によって固定されている。接着剤２０５は、図２に示した荷重点２２３から荷重Ｆの方向に伸ばした直線とＶ溝２０３の交点、すなわち荷重点直下部２５１の近傍にのみ塗布される。
【００４５】
このような構造のヘッドモジュールでは、光ファイバー１０３がヘッド１０６に対して荷重点直下部２５１でのみ固定されているため、高速で回転するディスク１０７の面のうねりに対してヘッド１０６が追従する動作を行うときに光ファイバー１０３が障害とならない。また、光ファイバー１０３の先端面２０６はヘッド１０６に対して常に一定の相対位置を維持しているため、ヘッド１０６の姿勢変動によらず安定した光導入が可能である。また、フレクシャー１０５は従来技術を利用しており、ヘッド１０６の浮上特性を良好なものにするために最適化された構造を持っている。光は荷重点２２３のような光学的に複雑な構造体を通過することが無いため、レーザー１０１から光学的開口２０９までの光伝搬中の光損失を最小限に抑えることができる。このようにしてヘッド１０６への安定した高効率光伝搬と、ヘッド１０６がディスク１０７に衝突する危険性増加の抑制とを両立させることができた。
（実施の形態２）
図４は本発明の実施の形態２に係るヘッドモジュールの、ミラー基板３００、光ファイバー１０３の一部、フレクシャー１０５の一部、の拡大図である。近接場光素子基板は図示していない。実施の形態１で説明した図２と同一部分には同一符号を与え、説明を省略する。実施の形態１との相違点は、Ｖ溝３０１のうち、荷重点２２３の直下近傍のみ浅い溝３０２になっている点である。この浅い溝３０２において光ファイバー１０３が接着剤２０５によって固定されている。
【００４６】
図５は実施の形態２によるミラー基板３００の底面図である。Ｖ溝３０１はその終端がミラー面２０４となっている点は実施の形態１と同様であるが、荷重点直下部２５１の近傍のみ浅い溝３０２となっている点が実施の形態１との相違点である。このようなＶ溝はＳｉの異方性エッチングを行う際のマスクパターン設計によって作製する。図６はこのミラー基板３００に光ファイバー１０３を接着した状態を示す。光ファイバー１０３はＶ溝３０１のうち浅い溝３０２の部分でのみ接着剤２０５によって固定される。この２０５がヘッドに光導入部を固定する固定部を形成している。
【００４７】
接着剤２０５を使わないで光ファイバー１０３を浅い溝３０２に固定する方法としては、浅い溝３０２の幅を数〜数十ミクロンに狭め、近接場光素子基板と浅い溝３０２のあいだに光ファイバー１０３を挟みこんだ状態で２枚の基板を接着する、という方法がある。その場合、近接場光素子基板側にもＶ溝と浅い溝を設けておくことで、光ファイバー１０３は浅い溝のせまい幅でのみヘッド１０６に固定される。この２０５と３０２がヘッドに光導入部を固定する固定部を形成している。
【００４８】
このような構造のヘッドにすることにより、実施の形態１で述べた効果に加えて、光ファイバー１０３の接着時に接着剤の塗布箇所に要求される位置精度が低くてもよく、また、余分な接着剤がＶ溝３０１のうち浅い溝３０２以外の場所へ流れ出るため、ヘッドの他の場所への汚染を防止することができる。また、ヘッド１０６の姿勢変動時にも光ファイバー１０３がＶ溝３０１に衝突する確率が下がり、ヘッド１０６の姿勢制御が容易になる。接着剤２０５を用いない方法を採用した場合は、光ファイバー１０３とヘッド１０６の接触面積が微小になるため、更にヘッド１０６の浮上が自由になる。
（実施の形態３）
図７は実施の形態３によるミラー基板４００の底面図である。Ｖ溝３０１はその終端がミラー面２０４となっている点と、荷重点直下部２５１の近傍のみ浅い溝３０２となっている点は実施の形態２と同様である。相違点は、ミラー基板４００が浅い溝３０２に接続する切り欠き４０１を持つ点である。このようなＶ溝はＳｉの異方性エッチングを行う際のマスクパターン設計によって作製する。図８はミラー基板４００に光ファイバー４０３を接着した状態を示す。光ファイバー４０３は、先端部を斜め研磨して作製するが、研磨と同時に先端から所定の距離の位置に突起４１０を付着または接着手段等の適宜の手法により形成する。この光ファイバー４０３は、浅い溝３０２において接着剤２０５によってミラー基板４００に固定されるが、その際、突起４１０を切り欠き４０１に嵌め込むことによって高精度な組み立てを容易に行うことができる。この２０５、４０１、及び４１０がヘッドに光導入部を固定する固定部を形成している。
【００４９】
このような構造のヘッドにすることにより、実施の形態１と２で述べた効果に加えて、光ファイバー４０３とミラー基板４００の接着工程が簡便で高精度なものになる。
（実施の形態４）
図９は本発明の実施の形態４に係るヘッド５０１、光ファイバー５０２の一部、フレクシャー１０５の一部の拡大図である。ヘッド５０１は実施の形態１から３とは異なり、光の伝搬方向を変える機能をミラー基板ではなく光ファイバー５０２に持たせている。光ファイバー５０２は、光源（図示略。図中では右端。）から、シングルモードファイバー５１５、グレイデッド・インデックス（ＧＩ）ファイバー５１６、コア無しファイバー５１７の順に光軸を一致させて融着させて作製する。コア無しファイバー５１７の先端は４５°の角度に研磨された反射面５１８となっている。近接場光素子基板５１１は実施の形態１から３とほぼ同じであるが、光ファイバー５０２と干渉しないための切り欠き溝５１２が設けられている。フレクシャー１０５は実施の形態１から３と同じであり、板ばね２２１を荷重部２２２が荷重点２２３において荷重Ｆで押す構造となっている。光源（図示略）からの入射光２３１は、シングルモードファイバー５１５内を伝搬した後、ＧＩファイバー５１６内で光束を広げた上で平行光となる。さらにコア無しファイバー５１７を伝搬した後、反射面５１８で反射して近接場光素子基板５１１に向けられる。その後は実施の形態１の説明（図２）と同一である。
【００５０】
図１０は板ばね２２１の底面と光ファイバー５０２の関係を示す。光ファイバー５０２には固定板５３１が接着されている。固定板５３１と板ばね２２１は、荷重点２２３の近傍において接着剤２０５によって接着されている。この２０５と５３１がヘッドに光導入部を固定する固定部を形成している。光ファイバー５０２は固定板５３１に接着されているが、板ばね２２１あるいは近接場光素子基板（図９の５１１）には接していない。入射光２３１は荷重点２２３近傍を通過することはない。
【００５１】
このような構造のヘッドは、実施の形態１から３で実現された効果に加えて、ヘッド５０１が１枚の基板から成っているため薄型になっている。空気浮上するヘッドの場合、浮上量はヘッドのサイズに依存するが、薄型にすることにより浮上量を大きく低減することができる。浮上量を低減することで、ディスクと相互作用する近接場光の強度を大幅に増加させ、より微小な領域に近接場光を局在させることができる。これにより、Ｓ／Ｎの向上やデータ転送速度の増加が可能となる。また実施の形態１から３までの構造では、近接場光を発生させる部分が、荷重点直下部に対して光ファイバーの光軸方向にずれているのに対し、本実施の形態でのヘッドでは、近接場光を発生させる部分が荷重点に対して光ファイバーと直交する方向にずれて配置されている。このように、近接場光を発生させる位置は荷重点とは独立に設計可能である。ヘッドはディスク表面に対してわずかに傾いた姿勢で浮上しており、荷重点直下部よりもディスク表面により近接した位置に近接場光発生部を配置することによって、浮上量低減と同様の効果を持たせることができる。
（実施の形態５）
図１１は本発明の実施の形態５に係るヘッドモジュールのうち、ヘッド６０１、光ファイバー５０２の一部、フレクシャー１０５の一部の拡大図である。光ファイバー５０２とフレクシャー１０５は実施の形態４における図９と同一であるので、同一符号を与え説明を省略する。ヘッド６０１は、近接場光及び磁場発生素子基板６１１から成る。近接場光２３３が発生するメカニズムは実施の形態４と同一である。実施の形態４との相違点は、磁気ヘッド素子６１２を搭載している点である。磁気ヘッド素子６１２は制御回路（図示略）と配線６１３によって接続され、磁場６１４を発生させる。磁場６１４と近接場光２３３は極めて近接した位置で発生するため、近接場光２３３によってディスク（図示略）表面の磁性膜の微小領域を加熱し保磁力を下げた状態で、磁場６１４によって磁化を反転させることで記録を行う。このような構造のヘッドにすることによって、実施の形態４までに述べた効果に加えて、近接場光２３３によるアシストを利用した磁気記録を行い、より高密度な記録再生が可能となる。
（実施の形態６）
図１２は本発明の実施の形態６に係るヘッドモジュールのうち、近接場光発生素子部の形状を示す。図１２（ａ）は三角錐台からなる錐状突起２０８が遮光膜（図示略）に覆われ、先端部のみ遮光膜が除去されているため微小な光学的開口２０９となっている構造である。光ファイバーなどの光導入部から導入された光が、この光学的開口２０９によって近接場光となって近傍に分布する。図１２（ｂ）は遮光平面膜７０１に微小な貫通穴７０２が設けられている構造であり、同様に貫通穴７０２から近接場光が発生する。図１２（ｃ）は四角錐台８０１がその側面を遮光膜で覆われ、先端部８０２のうち一部に三角形状に金属膜８０３が設けられている。先端部８０２は平坦であっても良いし、中央が突出した錐状でも良い。金属膜８０３のすき間８０４に近接場光が強く局在することによって高分解能と高Ｓ／Ｎを実現する。この金属膜８０３はＡｕやＡｇなど、可視光によって表面プラズモンを発生させる材質を使用することができ、その場合はプラズモンによる増強効果によって、極めて高いエネルギーを持った近接場光を局在させることができる。本発明を実施する際の近接場光発生部は以上述べたものに限らず、入射光から近接場光を発生させる機能を持つものであれば良い。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】実施の形態１に係る近接場光ヘッドを用いた情報再生装置の概略図。
【図２】ヘッド、光ファイバー（一部）、及びフレクシャー（一部）の拡大図。
【図３】ミラー基板の底面と光ファイバーの拡大図。
【図４】実施の形態２に係るヘッドモジュールのミラー基板、光ファイバー（一部）、及びフレクシャー（一部）の拡大図。
【図５】実施の形態２によるミラー基板の底面図。
【図６】ミラー基板に光ファイバーを接着した状態を示す図。
【図７】実施の形態３によるミラー基板の底面図。
【図８】ミラー基板に光ファイバーを接着した状態を示す図。
【図９】実施の形態４に係るヘッド、光ファイバー（一部）、及びフレクシャー（一部）の拡大図。
【図１０】板ばねの底面と光ファイバーの関係を示す図。
【図１１】実施の形態５に係るヘッドモジュールのヘッド、光ファイバー（一部）、及びフレクシャー（一部）の拡大図。
【図１２】実施の形態６に係るヘッドモジュールのうち、近接場光発生素子部の形状を示す図。
【符号の説明】
【００５３】
１０１  レーザー
１０２  レンズ
１０３  光ファイバー
１０４  サスペンションアーム
１０５  フレクシャー
１０６  ヘッド
１０７  ディスク
１０８  回路系
２０１  ミラー基板
２０２  近接場光素子基板
２０３  Ｖ溝
２０４  ミラー面
２０５  接着剤
２０６  光ファイバー１０３の先端面
２０７  マイクロレンズ
２０８  錐状突起
２０９  光学的開口
２２１  板ばね
２２２  荷重部
２２３  荷重点
２３１  入射光
２３２  出射光
２３３  近接場光
２５１  荷重点直下部
３００  ミラー基板
３０１  Ｖ溝
３０２  浅い溝
４００  ミラー基板
４０１  切り欠き
４０３  光ファイバー
４１０  突起
５０１  ヘッド
５０２  光ファイバー
５１１  近接場光素子基板
５１２  切り欠き溝
５１５  シングルモードファイバー
５１６  グレイデッド・インデックス（ＧＩ）ファイバー
５１７  コア無しファイバー
５１８  反射面
５３１  固定板
６０１  ヘッド
６１１  近接場光及び磁場発生素子基板
６１２  磁気ヘッド素子
６１３  配線
６１４  磁場
７０１  遮光平面膜
７０２  貫通穴
８０１  四角錐台
８０２  先端部
８０３  金属膜
８０４  金属膜８０３のすき間
Ｆ      荷重
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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