(57)【要約】【課題】  高いΔｎと低い波長分散性を両立する化合物を含む液晶組成物、および該化合物を含む薄膜を提供する。【解決手段】  下記一般式（ＤＩ）で表される化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物、および該化合物が均一に配向した薄膜。一般式（ＤＩ）【化１】2006265283.tif 000043（一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13は炭素原子または窒素原子を表し、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、５員環または６員環が結合した特定の長鎖の基を表す）【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（ＤＩ）で表される化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物。
一般式（ＤＩ）
【化１】
2006265283.tif 000036
（一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩ−Ｂ）、下記一般式（ＤＩ−Ｃ）、下記一般式（ＤＩ−Ｄ）、下記一般式（ＤＩ−Ｅ）および下記一般式（ＤＩ−Ｆ）のいずれかを表す。ただしＲ11、Ｒ12、Ｒ13のうち２つが同一であり、他の１つはこれと異なる。
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化２】
2006265283.tif 000037
（一般式（ＤＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ11は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ12は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ11はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化３】
2006265283.tif 000038
（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ21は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ21はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｃ）
【化４】
2006265283.tif 000039
（一般式（ＤＩ−C）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ32は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる二価の基からなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ31はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｄ）
【化５】
2006265283.tif 000040
（一般式（ＤＩ−Ｄ）中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ4は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ41は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ42は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる二価の基からなる群より選ばれる二価の連結基を表し、この連結基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ41はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｅ）
【化６】
2006265283.tif 000041
（一般式（ＤＩ−Ｅ）中、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55、Ａ56は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ5は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ51は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ52は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる二価の基からなる群より選ばれる二価の連結基を表し、この二価の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ51はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｆ）
【化７】
2006265283.tif 000042
（一般式（ＤＩ−Ｆ）中、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65、Ａ66は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ6は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ61は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ62は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ61はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
【請求項２】
透明支持体の上に、少なくとも一層の光学異方性層を有する位相差板であって、該光学異方性層が請求項１に記載の液晶組成物から形成される光学異方性層であることを特徴とする位相差板。
【請求項３】
請求項２に記載の位相差板と偏光膜とを有することを特徴とする楕円偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化合物、該化合物を含む液晶組成物、該化合物を用いた光学異方性層を有する位相差板、及び楕円偏光板に関し、特に位相差板等の光学要素に好適に利用できる液晶組成物及びその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、通常、液晶セルを挟んで第１の偏光板と第２の偏光板とが設けられ、液晶セルは一対の基板間に棒状液晶を含有する液晶層を有する。棒状液晶を用いた液晶セル内で生じる位相差を、円盤状化合物（例えば、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ｛４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ｝トリフェニレン等）から形成される光学異方性層を有する光学補償シート（例えば、特許文献１）によって相殺する場合、棒状液晶と円盤状化合物との波長分散性が異なるために全ての光の波長について同時に位相差を相殺できず、変色（黒の色味が出ない等）が生じる。
【０００３】
ヘテロ環基による３置換ベンゼンが報告されている（非特許文献１）。この化合物の使用によって低い波長分散性を達成することは容易でなく、より波長分散性の小さい（Ｒｅ（短波長（例えば４５０ｎｍ））／Ｒｅ（長波長（例えば６５０ｎｍ））の値が小さい）化合物が望まれている。
【０００４】
光学補償シートのレターデーション（△ｎｄ）は、補償しようとする液晶セルの光学的性質に応じて決定する必要がある。ここで、レターデーション（△ｎｄ）は、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）と光学異方性層の厚さ（ｄ）との積である。光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）が大きければ、層の厚さ（ｄ）が薄くても液晶セルを補償できる。逆に屈折率異方性（Δｎ）が小さくなると、層の厚さ（ｄ）を厚くする必要が生じ、その結果、液晶性化合物の配向に欠陥が生じやすくなる問題が生じてくる。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−５０２０６号公報
【非特許文献１】Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2001年, 370巻, 391頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、低い波長分散性を有する化合物の提供にある。また、本発明の別の目的は、ある特定の構造を有する化合物により、低い波長分散性を有し、かつ高い△ｎを有する化合物の提供にある。本発明のさらに別の目的は、該化合物を含む液晶組成物、該化合物を用いた位相差板及び楕円偏光板の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的は、以下の発明によって、達成される。
１．下記一般式（ＤＩ）で表される化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物。
一般式（ＤＩ）
【０００８】
【化１】
2006265283.tif 000002
【０００９】
（一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩ−Ｂ）、下記一般式（ＤＩ−Ｃ）、下記一般式（ＤＩ−Ｄ）、下記一般式（ＤＩ−Ｅ）および下記一般式（ＤＩ−Ｆ）のいずれかを表す。ただしＲ11、Ｒ12、Ｒ13のうち２つが同一であり、他の１つはこれと異なる。
一般式（ＤＩ−Ａ）
【００１０】
【化２】
2006265283.tif 000003
【００１１】
（一般式（ＤＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ11は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ12は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ11はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【００１２】
【化３】
2006265283.tif 000004
【００１３】
（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ21は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ21はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｃ）
【００１４】
【化４】
2006265283.tif 000005
【００１５】
（一般式（ＤＩ−C）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ32は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる二価の基からなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ31はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｄ）
【００１６】
【化５】
2006265283.tif 000006
【００１７】
（一般式（ＤＩ−Ｄ）中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ4は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ41は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ42は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる二価の基からなる群より選ばれる二価の連結基を表し、この連結基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ41はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｅ）
【００１８】
【化６】
2006265283.tif 000007
【００１９】
（一般式（ＤＩ−Ｅ）中、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55、Ａ56は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ5は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ51は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ52は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる二価の基からなる群より選ばれる二価の連結基を表し、この二価の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ51はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｆ）
【００２０】
【化７】
2006265283.tif 000008
【００２１】
（一般式（ＤＩ−Ｆ）中、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65、Ａ66は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表し、Ｘ6は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、Ｌ61は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ62は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ61はそれぞれ独立に、重合性基または水素原子を表す。）
２．透明支持体の上に、少なくとも一層の光学異方性層を有する位相差板であって、該光学異方性層が上記１に記載の液晶組成物から形成される光学異方性層であることを特徴とする位相差板。
３．上記２に記載の位相差板と偏光膜とを有することを特徴とする楕円偏光板。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、従来のディスコティック液晶性化合物では実現できなかった、高いΔｎと低い波長分散性を両立する化合物を提供することが可能になった。  また、該化合物を用いた液晶組成物、位相差板および楕円偏光板を提供することが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００２４】
本発明の化合物は、下記一般式（ＤＩ）で表される。
一般式（ＤＩ）
【化８】
2006265283.tif 000009
【００２５】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13は、それぞれ独立に炭素原子または窒素原子を表す。
【００２６】
Ｙ11、Ｙ12およびＹ13が炭素原子の場合、炭素原子は置換基を有していてもよい。ここで、「原子は置換基を有していてもよいとは」、該原子を含む環状構造の該原子の部分に結合している水素原子部分が他の基に置換されていてもよいことを意味している（以下同じ）。炭素原子が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基が最も好ましい。
Ｙ11、Ｙ12およびＹ13は、いずれも炭素原子であることがより好ましく、炭素原子は無置換であることが最も好ましい。
【００２７】
Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩ−Ｂ）、下記一般式（ＤＩ−Ｃ）、下記一般式（ＤＩ−Ｄ）、下記一般式（ＤＩ−Ｅ）または下記一般式（ＤＩ−Ｆ）を表す。ただしＲ11、Ｒ12、Ｒ13のうち２つが同一であり他の１つはこれと異なる。
【００２８】
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化９】
2006265283.tif 000010
【００２９】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表す。Ａ11およびＡ12は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることがより好ましい。Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16は、少なくとも３つが炭素原子であることが好ましく、すべて炭素原子であることがより好ましい。Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16が炭素原子の場合、炭素原子は置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、酸素原子が好ましい。＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＹ11、Ｙ12、Ｙ13を含む６員環と結合する位置を表す。
【００３０】
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化１０】
2006265283.tif 000011
【００３１】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26は、それぞれ独立に炭素原子または窒素原子を表す。Ａ21およびＡ22は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることがより好ましい。Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26は、少なくとも３つが炭素原子であることが好ましく、すべて炭素原子であることがより好ましい。Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26が炭素原子の場合、炭素原子は置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、酸素原子が好ましい。＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＹ11、Ｙ12、Ｙ13を含む６員環と結合する位置を表す。
【００３２】
一般式（ＤＩ−Ｃ）
【化１１】
2006265283.tif 000012
【００３３】
一般式（ＤＩ−Ｃ）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表す。Ａ31およびＡ32は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることがより好ましい。Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36は、少なくとも３つが炭素原子であることが好ましく、すべて炭素原子であることがより好ましい。Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36が炭素原子の場合、炭素原子は置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基で置換されたアルキル基がさらに好ましい。Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、酸素原子が好ましい。＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＹ11、Ｙ12、Ｙ13を含む６員環と結合する位置を表す。
【００３４】
一般式（ＤＩ−Ｄ）
【化１２】
2006265283.tif 000013
【００３５】
一般式（ＤＩ−Ｄ）中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46は、それぞれ独立に炭素原子または窒素原子を表す。Ａ41およびＡ42は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることがより好ましい。Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46は、少なくとも３つが炭素原子であることが好ましく、すべて炭素原子であることがより好ましい。Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46が炭素原子の場合、炭素原子は置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。Ｘ4は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、酸素原子が好ましい。＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＹ11、Ｙ12、Ｙ13を含む６員環と結合する位置を表す。
【００３６】
一般式（ＤＩ−Ｅ）
【化１３】
2006265283.tif 000014
【００３７】
一般式（ＤＩ−Ｅ）中、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55、Ａ56は、それぞれ独立に炭素原子または窒素原子を表す。Ａ51およびＡ52は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることがより好ましい。Ａ53、Ａ54、Ａ55、Ａ56は、少なくとも３つが炭素原子であることが好ましく、すべて炭素原子であることがより好ましい。Ａ53、Ａ54、Ａ55、Ａ56が炭素原子の場合、炭素原子は置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。Ｘ5は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、酸素原子が好ましい。＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＹ11、Ｙ12、Ｙ13を含む６員環と結合する位置を表す。
【００３８】
一般式（ＤＩ−Ｆ）
【化１４】
2006265283.tif 000015
【００３９】
一般式（ＤＩ−Ｆ）中、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65、Ａ66は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子を表す。Ａ61およびＡ62は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることがより好ましい。Ａ63、Ａ64、Ａ65、Ａ66は、少なくとも３つが炭素原子であることが好ましく、すべて炭素原子であることがより好ましい。Ａ63、Ａ64、Ａ65、Ａ66が炭素原子の場合、炭素原子は置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。Ｘ6は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、酸素原子が好ましい。＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＹ11、Ｙ12、Ｙ13を含む６員環と結合する位置を表す。
【００４０】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＬ11、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＬ21、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＬ31、一般式（ＤＩ−Ｄ）中のＬ41、一般式（ＤＩ−Ｅ）中のＬ51、一般式（ＤＩ−Ｆ）中のＬ61はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００４１】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＬ12、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＬ22、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＬ32、一般式（ＤＩ−Ｄ）中のＬ42、一般式（ＤＩ−Ｅ）中のＬ52、一般式（ＤＩ−Ｆ）中のＬ62は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００４２】
Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32、Ｌ42、Ｌ52、Ｌ62は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32、Ｌ42、Ｌ52、Ｌ62はそれぞれ独立して、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらにＬ12、Ｌ22、Ｌ32、Ｌ42、Ｌ52、Ｌ62は、それぞれ独立して、−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。
【００４３】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＱ11、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＱ21、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＱ31、一般式（ＤＩ−Ｄ）中のＱ41、一般式（ＤＩ−Ｅ）中のＱ51、一般式（ＤＩ−Ｆ）中のＱ61は、それぞれ独立して、重合性基または水素原子を表す。本発明の化合物を光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないものが好ましい光学フィルム等に用いる場合には、Ｑ11、Ｑ21、Ｑ31、Ｑ41、Ｑ51、Ｑ61は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００４４】
【化１５】
2006265283.tif 000016
【００４５】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。
【００４６】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００４７】
【化１６】
2006265283.tif 000017
【００４８】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。
上記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【００４９】
開環重合性基は、環状エーテル基が好ましく、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【００５０】
以下に、一般式（ＤＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５１】
【化１７】
2006265283.tif 000018
【００５２】
【化１８】
2006265283.tif 000019
【００５３】
【化１９】
2006265283.tif 000020
【００５４】
【化２０】
2006265283.tif 000021
【００５５】
【化２１】
2006265283.tif 000022
【００５６】
【化２２】
2006265283.tif 000023
【００５７】
【化２３】
2006265283.tif 000024
【００５８】
【化２４】
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【００５９】
【化２５】
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【００６０】
【化２６】
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【００６１】
【化２７】
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【００６２】
【化２８】
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【００６３】
本発明の、均一に配向した状態とは、均一で欠陥のないモノドメインな配向状態を指す。このような配向状態を実現するためには、良好なモノドメイン性を示す液晶相が望ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。良好なモノドメイン性を示すと、例えば位相差板に用いた場合に該位相差板が高い光透過率を有しやすくなる。
【００６４】
本発明の液晶化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相およびディスコティックネマチック相（ＮD相）を挙げることができる。これらの液晶相の中でも、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮD相）が好ましい。
【００６５】
本発明の化合物を液晶化合物として用いる場合、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましい。さらに好ましくは４０℃〜２８０℃であり、最も好ましくは６０℃〜２５０℃である。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む趣旨である。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。
【００６６】
本発明の薄膜（光学異方性層）を、均一に配向した薄膜として得るためには、液晶性化合物の必要に応じて他の添加剤を加え液晶組成物とし、該液晶組成物を塗布した後、液晶状態で均一配向させることで得られる。液晶化合物に加えることのできる添加剤の例としては、後述する空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。
【００６７】
均一に配向した状態を実現するためには、配向膜を設けることが好ましい。但し、ディスコティック液晶性化合物の光軸方向が薄膜面の法線方向と一致する場合（ホメオトロピック配向）においては必ずしも配向膜は必要ではない。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
本発明の液晶組成物に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、ラビング処理もしくは、光照射により形成される配向膜が好ましい。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがさらに好ましい。
【００６８】
本発明で配向状態が固定化された状態とは、その配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、通常の条件下では、０℃〜５０℃が好ましく、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の条件下が好ましい。このような温度範囲は、固定化された液晶組成物に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を指すものである。なお、配向状態が最終的に固定化され光学異方性層が形成された際には、本発明の液晶組成物は液晶性を示す必要はない。例えば、液晶性化合物として重合性基を有する化合物を用いているので、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋反応が進行し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。
光学異方性層の形成にあたり本発明の液晶組成物に加えることのできる添加剤の例としては、空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。
【００６９】
［空気界面配向制御剤］
液晶性組成物は、空気界面においては空気界面のチルト角で配向する。このチルト角は、液晶性組成物に含まれる液晶性化合物の種類や添加剤の種類等で、その程度が異なるため、目的に応じて空気界面のチルト角を任意に制御する必要がある。
【００７０】
前記チルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができ、添加剤を用いることが好ましい。このような添加剤としては、炭素原子数６〜４０の置換もしくは無置換の脂肪族基、または炭素原子数６〜４０の置換もしくは無置換の脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１つ以上有する化合物が好ましく、分子内に２つ以上有する化合物がさらに好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開２００２−２０３６３号公報に記載の疎水性排除体積効果化合物を用いることができる。
【００７１】
空気界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、本発明の液晶組成物に対して、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１０質量％がさらに好ましく、０．１質量％〜５質量％が最も好ましい。
【００７２】
［ハジキ防止剤］
本発明の液晶組成物に添加し、該組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、本発明の液晶組成物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。
本発明の液晶組成物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、本発明の液晶組成物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００７３】
［重合開始剤］
本発明における配向状態の固定化は、例えば、液晶組成物を一度液晶相形成温度まで加熱し、次にその配向状態を維持したまま冷却することにより、その液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化することで形成できる。また、本発明の液晶組成物に重合開始剤を添加した組成物を液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによって液晶状態の配向状態を固定化することで形成できる。本発明における配向状態の固定化は、後者の重合反応により行うことが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応または電子線照射による重合反応が好ましい。
【００７４】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、光学異方性層の塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
【００７５】
重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＪ〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がさらに好ましく、３％以下が最も好ましい。
【００７６】
［重合性モノマー］
本発明の液晶組成物には、重合性のモノマーを添加してもよい。本発明で使用できる重合性モノマーとしては、本発明の化合物と相溶性を有し、液晶組成物の配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【００７７】
［塗布溶剤］
本発明の液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド、エステルおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００７８】
［塗布方式］
本発明の薄膜は、上記溶媒を用いて本発明の液晶組成物の塗布液を調製し配向膜上に塗布し、本発明の液晶組成物を配向処理することにより形成できる。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００７９】
［位相差板］
本発明の位相差板は、透明支持体の上に本発明の液晶組成物から形成される光学異方性層を有する。透明支持体と光学異方性層の間には配向膜を設けるのが好ましい。光学異方性層は、本発明の液晶組成物に必要に応じて他の添加剤を加え、該組成物を配向膜上に塗布した後、液晶状態の配向を固定化して得られる。
【００８０】
本発明の位相差板における光学的異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．２〜１５μｍであることがさらに好ましく、０．５〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００８１】
本発明の位相差板は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型、反射型、及び半透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、上記装置の視野角の拡大に寄与させることができる。
【００８２】
［配向膜］
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜上に設けられる光学異方性層の本発明の液晶組成物に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、ラビング処理もしくは、光照射により形成される配向膜が好ましい。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがさらに好ましい。
【００８３】
（配向膜のラビング密度）
配向膜のラビング密度と配向膜界面での液晶性化合物のプレチルト角との間には、ラビング密度を高くするとプレチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとプレチルト角は大きくなる関係があるので、配向膜のラビング密度を変えることで、プレチルト角の調整をすることができる。
配向膜のラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会編（丸善（株）、２０００年）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は式（Ａ）で定量化されている。
【００８４】
式（Ａ）：Ｌ＝Ｎｌ｛１＋（２πｒｎ／６０ｖ）｝
【００８５】
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
【００８６】
［透明支持体］
本発明の位相差板の透明支持体としては、主に光学的等方性で、光透過率が８０％以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフィルムが好ましい。
ポリマーの具体例として、セルロースアシレート類（例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下脂肪酸で、炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであってもＷＯ００／２６７０５号明細書に記載の分子の修飾により該発現性を低下させたものも使用できる。
【００８７】
以下、透明支持体として好ましく使用されるセルロースアシレート（特に、セルローストリアセテート）について詳述する。
セルロースアシレートとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【００８８】
セルロースアシレートでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％以上４０％以下でアシル基で置換されていることが好ましく、さらには３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求める事ができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【００８９】
透明支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアシレートフィルムは、レターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することも可能である。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。レターデーション上昇剤は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【００９０】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。
【００９１】
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【００９２】
前記芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
【００９３】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１、ＷＯ００／２６１９Ａ１、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報、特願２００２−７０００９号明細書等に記載されている。
【００９４】
セルロースアシレートフィルムは、調製されたセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加してもよい。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【００９５】
前記ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００℃から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００９６】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。
【００９７】
セルロースアシレートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、０〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明に用いるセルロースアシレートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【００９８】
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、ジフェニルビフェニルホスフェートおよびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジ−２−エチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【００９９】
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。
【０１００】
セルロースアシレートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアシレートフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０１０１】
セルロースアシレートフィルムの表面処理は、配向膜などとの接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの濃度は、０．１〜３．０ ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０ ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１０２】
また、セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。
表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【０１０３】
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【０１０４】
［楕円偏光板］
本発明の位相差板と偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。本発明の位相差板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大しうる楕円偏光板を提供することができる。
前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【０１０５】
偏光膜は位相差板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の位相差板を積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【０１０６】
［液晶表示装置］
本発明の位相差板の利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償シートは、米国特許５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号公報に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償シートは、特許番号第２８６６３７２号公報に記載がある。
【０１０７】
本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）を作製することができる。本発明の位相差板は、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子及び位相差板（光学補償シート）からなる。偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなる。偏光膜と保護膜については、上記楕円偏光で説明したものを用いることができる。
【実施例】
【０１０８】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、化合物の合成はすべて既知の合成法を用いて合成した。
【０１０９】
［実施例１］
［Ｄ−９７を均一に配向させた薄膜の作製］
ガラス基板上に、ＰＶＡ−２０３（クラレ（株）製）の水溶液を塗布し、１００℃で３分乾燥させる。ＰＶＡ−２０３の厚みは、０．５μｍである。このＰＶＡ−２０３の薄膜を設けた基板上に下記塗布液をスピンコートし、８０℃の恒温槽中に入れ、５分後に６００ｍＪの紫外線を照射して配向状態を固定する。室温まで放冷後、偏光顕微鏡でその配向状態を観察すると、ディスコティック液晶性化合物が欠陥なくホメオトロピック配向していることが分かる。液晶性化合物の層の厚みは、３．２μｍである。
【０１１０】
（塗布液）
・前記液晶性化合物  Ｄ-９７                                 ５０質量部
・ＪＤ-５                                                   ５０質量部
・下記空気界面配向制御剤  Ｖ−（１）                      ０．２質量部
・イルガキュア９０７（長瀬産業（株））                    ３．０質量部
・ジエチルチオキサントン                                  １．０質量部
・メチルエチルケトン                                      ２５０質量部
【０１１１】
【化２９】
2006265283.tif 000030
【０１１２】
【化３０】
2006265283.tif 000031
【０１１３】
［比較例１］
［従来のディスコティック液晶性化合物を均一に配向させた薄膜の作製］
上記のＰＶＡ−２０３の薄膜を設けた基板上に下記塗布液をスピンコートし、１９０℃の恒温槽中に入れ、５分後に６００ｍＪの紫外線を照射して配向状態を固定した。室温まで放冷後、偏光顕微鏡でその配向状態を観察すると、ディスコティック液晶性化合物が欠陥なくホメオトロピック配向していることが分かった。
液晶性化合物の層の厚みは、３．０μｍであった。
【０１１４】
（塗布液）
・下記液晶性化合物  ＪＤ−１                            １００質量部
・上記空気界面配向制御剤  Ｖ−（１）                    ０．２質量部
・イルガキュア９０７（長瀬産業（株））                  ３．０質量部
・ジエチルチオキサントン                                １．０質量部
・メチルエチルケトン                                    ２５０質量部
【０１１５】
【化３１】
2006265283.tif 000032
【０１１６】
［Δｎと波長分散性の比較］
実施例および比較例１で得られた薄膜の波長分散値（Ｒｅ（４７８ｎｍ）／Ｒｅ（７４８ｎｍ）は、ＫＯＢＲＡ（王子計測機器（株）製）を用いて、斜め４０°から４７８ｎｍおよび７４８ｎｍのレターデーションを測定することで求める。
また、ΔｎはＫＯＢＲＡ（王子計測機器（株）製）を用いて、５８９ｎｍの波長を使用して観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想して、Designing Concepts of the Discotic Negative Compensation Films SID98 DIGESTに記載されている手法でΔｎ・ｄを算出し、別途求めた膜厚（ｄ）で割ることで求める。結果を表１に示す。
【０１１７】
【表１】
2006265283.tif 000033
【０１１８】
上記表１に示した結果から、本発明の液晶化合物は、従来の液晶性化合物と比較して、高いΔｎと低い波長分散性有することが認められた。
【０１１９】
［比較例２］
文献記載の方法（Kim, Bong Giらの報告、Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2001年, 370巻, 391頁）に従い合成した下記化合物ＪＤ−２を１０μｍのセルギャップの水平配向セル（（株）EHC製；KSRP-10/A107M1NSS(ZZ)）に１５０℃注入し、１３０℃でホメオトロピック配向させた。その後、上記の方法で波長分散値を求めたところ、１．１９であった。
【０１２０】
【化３２】
2006265283.tif 000034
【０１２１】
［比較例３］
下記化合物ＪＤ−３を１０μｍのセルギャップの水平配向セル（（株）EHC製；KSRP-10/A107M1NSS(ZZ)）に２００℃注入し、１９０℃でホメオトロピック配向させた。その後、上記の方法で波長分散値を求めたところ１．１８であった。
【０１２２】
【化３３】
2006265283.tif 000035
【０１２３】
本発明の化合物は、比較例２および比較例３の比較から、従来の液晶性化合物の非重合性タイプであるＪＤ−３はもちろん、本発明に近い骨格を有するＪＤ−２よりも小さい波長分散値を有することが明らかとなった。