(57)【要約】【課題】  ガラス基板表面に発生する傷（スクラッチ）を低減させ、ガラス基板の検査機歩留まりを向上させ得、さらにはそのガラス基板より得られる磁気ディスクの検査機歩留まりを向上させ得る、磁気ディスク用基板の製造方法を提供する。【解決手段】  パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、加工レート０．１５μｍ/分以下、パッド溝幅２〜４ｍｍに設定してアモルファスもしくは結晶化ガラス基板を研磨する。さらには、加工レート０．１５μｍ/分以下に設定して化学強化ガラス基板を研磨する。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、加工レート０．１５μｍ/分以下、パッド溝幅２〜４ｍｍに設定してアモルファスもしくは結晶化ガラス基板を研磨することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項２】
パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、加工レート０．１５μｍ/分以下に設定して化学強化ガラス基板を研磨することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項３】
加工レートが０．０５μｍ/分以上である請求項１もしくは２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項４】
定盤の回転数が１０〜４０ｒｐｍである請求項１〜３のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項５】
定盤の回転数が２０〜３０ｒｐｍである請求項１〜４のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載の磁気ディスク用基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用基板の製造方法ならびに磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置はコンピュータの外部記憶装置としてコストパフォーマンスの優位性から著しい成長を遂げ、さらなる成長が期待されている。磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクの基板としては従来よりアルミニウム系基板が用いられているが、耐衝撃性に優れ、平滑性が得られ易い等の点から、化学強化ガラス、結晶化ガラス等のガラス基板が多く用いられるようになりつつある。すなわち、アルミニウム系基板は磁気特性に優れた磁気ディスクを得やすいが、研磨加工等の機械的処理の過程において塑性変形を伴うため、平滑性に難がある。これに対して、ガラス基板は表面の硬度が高く、上記のような塑性変形を伴わないため、平滑性が得られ易い。
【０００３】
ガラス基板のポリッシングは、ラッピングの後に行われ、パッドを有する一対の研磨定盤（上定盤および下定盤）によりガラス基板が挟持された状態で、上定盤および下定盤を逆回転させることにより行われるのが通常である。そこでは、ガラス基板の平坦度劣化等の問題を防止するために種々の検討がなされており、たとえば、パッド表面に特定の溝を形成させる方法（特許文献１）等が提案されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−２５４０２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、ガラス基板表面に発生する傷（スクラッチ）を低減させ、ガラス基板の検査機歩留まりを向上させ、さらにはそのガラス基板より得られる磁気ディスクの検査機歩留まりを向上させ得る、磁気ディスク用基板の製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するために以下の発明を提供する。
（１）パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、加工レート０．１５μｍ/分以下、パッド溝幅２〜４ｍｍに設定してアモルファスもしくは結晶化ガラス基板を研磨することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法；
（２）パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、加工レート０．１５μｍ/分以下に設定して化学強化ガラス基板を研磨することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法；
（３）加工レートが０．０５μｍ/分以上である（１）もしくは（２）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（４）定盤の回転数が１０〜４０ｒｐｍである（１）〜（３）のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（５）定盤の回転数が２０〜３０ｒｐｍである（１）〜（４）のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法；ならびに
（６）（１）〜（５）のいずれか記載の磁気ディスク用基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法、
である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ガラス基板表面に発生する傷（スクラッチ）を低減させ、ガラス基板の検査機歩留まりを向上させ得、さらにはそのガラス基板より得られる磁気ディスクの検査機歩留まりを向上させ得る、磁気ディスク用基板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明におけるガラス基板としては、磁気ディスク基板として用いられるアモルファス、化学強化もしくは結晶化ガラスを用いることができ、たとえばソーダライム、アルミノシリケート、リチウムシリケート、リチウムアルミノシリケート、アルミノホウケイ酸、等のガラスが挙げられる。化学強化ガラスとしては、高温で溶融塩と接触させ、ガラス中のアルカリイオンと溶融塩中の別種アルカリイオンをイオン交換させ、その圧縮応力により強化されたものが好適である。また、結晶化ガラスとしては、たとえばガラスを制御された条件下で再加熱して、多数の微小な結晶を析出成長させて得られるものが挙げられる。結晶化ガラスとしては、たとえばＡl2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、等が挙げられる。このようなガラス基板の厚みは、通常０．１〜２ｍｍ程度から選択される。
【０００９】
本発明の磁気ディスク用基板の製造方法においては、アモルファスもしくは結晶化ガラス基板を用いる場合には、パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、加工レート０．１５μｍ/分以下、パッド溝幅２〜４ｍｍに設定して研磨する。このように、アモルファスもしくは結晶化ガラス基板を用いる場合には、パッド溝幅２〜４ｍｍとすることにより、パッド表面上の研磨スラリーの排水性・流動性を最適化しうる。上記のパッド溝は、格子状に形成するのが好適である。
【００１０】
一方、化学強化ガラス基板を用いる場合には、パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、加工レート０．１５μｍ/分以下に設定して研磨する。この場合には、パッド溝は設けなくてもよい。
【００１１】
このような研磨は、ポリッシングをたとえば2段階で行う場合には、第２段階（仕上げ段階）で行われる。加工レートは生産性を考慮すると、好適には０．０５μｍ/分以上である。また、定盤の回転数は、好ましくは１０〜４０ｒｐｍ、さらに好ましくは２０〜３０ｒｐｍである。本発明におけるポリッシング研磨は、通常、パッドを有する研磨定盤を用いて遊離砥粒を水等に分散させた研磨スラリーを介してガラス基板表面とパッド表面を擦り合わせて行われる。砥粒としては酸化セリウム、酸化ジルコニウム、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム等が挙げられるが、研磨速度等の点から酸化セリウムが好適である。
【００１２】
本発明においては、ガラス基板の外端面と接触しうる内側面を樹脂コーティングした研磨用キャリアを用いて研磨することが好適である。樹脂コーティングにおける樹脂としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ＡＢＳもしくはポリスチレン樹脂、等の熱可塑性またはエポキシ、フェノール、不飽和ポリエステルもしくはポリイミド樹脂、等の熱硬化性樹脂が挙げられるが、エポキシ樹脂が最も好適である。そして、これらの樹脂は繊維強化されていないのが好適である。樹脂コーティングの厚さは１０μｍ〜１ｍｍ程度から選択される。
【００１３】
得られた磁気ディスク用基板は、常法により洗浄、乾燥された後に、磁気ディスクの作製に供される。たとえば、まず基板上に、必要に応じて、ヘッド走行方向にテクスチャー溝を形成するためにテクスチャリング処理を行う。ついで、この基板上にスパッタリング法により、Ｃｒ合金からなる下地膜を形成する。そして、この下地膜の上にCo系合金からなる磁性記録層が、たとえば１０〜１００ｎｍ程度の膜厚で形成される。この磁性記録層の上に、さらに耐食性、耐摺動性等を向上させるためにカーボン等の保護膜を形成するのが好ましい。カーボンとしては、たとえばスパッタリング法により水素化カーボン、ＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボン、等を１〜５０ｎｍ程度の膜厚で形成する。そして、このカーボン保護膜の表面には、潤滑層として、たとえばパーフルオロポリエーテルまたはその末端をエステル化もしくはアミド化した修飾したものを溶媒で希釈してスプレー、ディップ、スピンコート等により、膜厚０．５〜５ｎｍ程度に塗布することにより、耐久性、信頼性等をさらに向上しうる。
【００１４】
このようにして、本発明方法で得られる磁気ディスク用ガラス基板は、ガラス基板表面に発生する傷（スクラッチ）を低減させ、ガラス基板の検査機歩留まりを向上させさせ得る。そして、このガラス基板を用いて磁気ディスクを作製すると、歩留まり、さらには信頼性を向上し得る。
【実施例】
【００１５】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限りこれらの実施例に限定されるものではない。
【００１６】
実施例１
２．５インチのリチウムシリケート系結晶化ガラス基板を用いて、ダイアモンド固定砥石を用いて、定盤回転数１５ｒｐｍ、加工圧力１００ｇ/ｃｍ2（約７，３５４Ｐａ）で所定の厚みになるまでラッピングを行った。ついで、加工レート０．１０〜０．１５μｍ/分、パッド溝幅３ｍｍに設定して、定盤回転数３０ｒｐｍ、加工圧力５５ｇ/ｃｍ2（約５，３９３Ｐａ）、時間４０分間でポリッシングを行った。ついで、水、界面活性剤、イソプロピルアルコールにより洗浄した後、乾燥し、得られたガラス基板（１バッチ１５０枚）の傷発生状況を光学顕微鏡で観察したところ、傷発生による不合格品は平均で約１％であった。このガラス基板の合格品を用いて、スパッタにより、基板温度２００℃で、下地層としてＣｒ６０ｎｍ、磁性記録層としてＣｏ13Ｃｒ6Ｐｔ3Ｔａ合金２０ｎｍ、保護層としてダイアモンドライクカーボン１０ｎｍを逐次成膜し、さらにパーフルオロポリエーテル系潤滑層３ｎｍをスプレイで塗布して、磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクは良好な特性を有するものであった。
比較例１
加工レート０．２０〜０．３０μｍ/分、パッド溝幅１ｍｍに設定した以外は、実施例１と同様にして、ガラス基板および磁気ディスクを作製した。傷発生による不合格品は約８〜９％であった。
【産業上の利用可能性】
【００１７】
ガラス基板表面に発生する傷（スクラッチ）を低減させ、ガラス基板の検査機歩留まりを向上させ得る。