(57)【要約】【課題】  基材の被成膜面を全体的に成膜することのできる成膜用冶具を提供すること。【解決手段】レンズの基材２を保持する冶具３０がねじりばね５０を備え、このねじりばね５０のピン部５１によって基材２の端面２２が保持されることとなるので、基材２の被成膜面２３が冶具３０によって遮られることなく、基材２の被成膜面２３を全体的に成膜することが可能となる。これにより、成膜の有効範囲が確保され、良品率を向上することができ、とりわけ、基材２が小型の電子機器用途である場合に適した成膜手段を提供することができる。その他、眼鏡用のレンズ基材であれば、被成膜面２３に全体的に均一な厚さの反射防止膜などを形成できるので、レンズの端縁などに色ムラが生じるなどの不具合を解消して、品質を向上できる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を成膜するための成膜用冶具であって、
前記基材を保持するホルダと、
このホルダに設けられる弾性部材とを備え、
前記弾性部材は、前記ホルダに対して前記基材の端面を付勢する
ことを特徴とする成膜用冶具。
【請求項２】
請求項１に記載の成膜用冶具において、
前記ホルダには、前記ホルダを貫通し、前記基材を収容する収容孔と、この収容孔の内周面に向かって前記ホルダの外周部から貫通する保持孔とが形成され、
前記収容孔の内周面には、前記弾性部材が前記保持孔を通って出没自在に設けられる
ことを特徴とする成膜用冶具。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の成膜用冶具において、
前記ホルダには、前記基材の端面と隣接する隣接面に当接される被当接部が形成される
ことを特徴とする成膜用冶具。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の成膜用冶具において、
前記ホルダには、成膜材料の発生源と対向する側に、前記収容孔の内周面と連続し、前記基材の端面と隣接する隣接面に対して逸れる方向に延びる傾斜部が形成される
ことを特徴とする成膜用冶具。
【請求項５】
請求項２から請求項４のいずれかに記載の成膜用冶具において、
前記弾性部材は、前記保持孔に挿通されるピン部を有する
ことを特徴とする成膜用冶具。
【請求項６】
請求項５に記載の成膜用冶具において、
前記収容孔は、複数設けられ、
前記ピン部は、一対設けられ、
これらのピン部は、前記複数の収容孔の内周面にそれぞれ貫通する保持孔にそれぞれ挿通されて同時に出没する
ことを特徴とする成膜用冶具。
【請求項７】
請求項６に記載の成膜用冶具において、
前記弾性部材は、線状部材により形成されるばねであり、前記ピン部と連続し、かつ前記各ピン部が延びる方向に対してそれぞれ曲げられる一対の屈曲部と、これらの屈曲部を互いに結ぶ連結部とを有し、
前記屈曲部は、前記ピン部の出没方向および前記ピン部が互いに対向する方向の２つの方向との交差方向に突出するようにそれぞれ湾曲する
ことを特徴とする成膜用冶具。
【請求項８】
請求項７に記載の成膜用冶具において、
前記屈曲部および前記連結部は、成膜材料の発生源とは反対側で、前記ホルダと重なるように設けられる
ことを特徴とする成膜用冶具。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれかに記載の成膜用冶具において、
前記成膜は、成膜材料を高真空中で加熱蒸発させて前記基材の表面に凝着させる蒸着によって行われる
ことを特徴とする成膜用冶具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズを含む光学部品などの基材を成膜するための成膜用冶具に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レンズやレンズアレイ、フィルター、ミラーなどの光学部品や、基板、ウェーハなどの基材に成膜する際の冶具としては、これらの基材の外周に沿って、基材の端縁部を載置する受け部が形成されたトレイ式の冶具（例えば、特許文献１参照）や、受け部材と押さえ部材とで基材の端縁部を挟み込むクランプ式の冶具（例えば、特許文献２参照）などが使用されている。
また、基板面を垂直に立てて保持するものとして、枠部材の内側に立設された４つの爪部材の先端Ｖ字部分で基板の端縁部を散点的に支持する冶具が提案されている（特許文献３参照）。
このような各種の成膜用冶具に基材がセットされ、蒸着、スパッタなどによる成膜が行われていた。
【０００３】
【特許文献１】特開平７−２０１８３６号公報（図１（ｃ））
【特許文献２】特開２００２−９７５７２号公報（図３）
【特許文献３】特開２０００−１４９２５３号公報（図１、［００１９］、［００２０］）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、携帯電話などの通信機器、ＰＤＡ（Personal Digital Assistance）などの携帯型情報機器、デジタルカメラ、ディスク再生装置、プロジェクタなどの音響映像機器など、各種電子機器において小型化が促進されており、これらに使用される基板、レンズなどについては、小さい基材の出来るだけ広い範囲に成膜して有効領域を大きく確保することが要求されている。
しかしながら、前述のようなトレイ式、クランプ式、あるいは、爪部材による散点支持方式による冶具では、いずれも、基材の外周端縁部が冶具によって保持され、成膜時に成膜材料が冶具で遮られるため、基材の外周部に成膜されない領域が残り、基材の被成膜面全体に成膜することができない。たとえ基材が保持される部分が僅かな領域だとしても、このように基材の外周部が保持される以上、成膜材料の発生源に対して基材が冶具の陰となり、冶具によって保持された基材の部分のみならず、保持された部分周辺の成膜にも影響する。つまり、有効となる成膜領域は、冶具によって保持された部分のさらに内側までに制限されてしまう。
【０００５】
このような問題点から、本発明の目的は、基材の被成膜面を全体的に成膜することのできる成膜用冶具を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の成膜用冶具は、基材を成膜するための成膜用冶具であって、前記基材を保持するホルダと、このホルダに設けられる弾性部材とを備え、前記弾性部材は、前記ホルダに対して前記基材の端面を付勢することを特徴とする。
この発明によれば、弾性部材により、基材をその端面でホルダに保持可能となるので、基材の被成膜面が冶具によって遮られることなく、基材の被成膜面を全体的に均一な厚さで成膜することが可能となる。これにより、小型の電子機器に使用されるサイズが小さい基板やレンズなどについても、成膜の有効範囲が確保され、良品率を向上することができる。
また、基材の被成膜面全体にわたって均一な厚さで成膜できることから、近年登場した示差走査熱量測定（ＤＳＣ）における成膜条件にも対応でき、定性、定量分析などの化学分析の促進を図ることができる。
【０００７】
さらに、弾性部材の付勢を解除すれば基材をホルダから取り外すことができるので、基材の交換作業を容易に、かつ迅速に行うことができる。
なお、基材とは、レンズ、レンズアレイ、ミラー、光学フィルターなどの光学部品、あるいは、半導体が配設される基板、ウェーハなどの成膜加工が行われるものをいう。
【０００８】
本発明では、前記ホルダには、前記ホルダを貫通し、前記基材を収容する収容孔と、この収容孔の内周面に向かって前記ホルダの外周部から貫通する保持孔とが形成され、前記収容孔の内周面には、前記弾性部材が前記保持孔を通って出没自在に設けられることが好ましい。
この発明によれば、弾性部材の突出により付勢された基材の端面が、弾性部材とは反対側の収容孔の内周面に押し当てられて保持されるので、弾性部材を没入させない限り基材がホルダから離脱せず、基材を確実に保持できる。
【０００９】
本発明では、前記ホルダには、前記基材の端面と隣接する隣接面に当接される被当接部が形成されることが好ましい。
この発明によれば、被当接部に基材を載置可能となり、弾性部材を基材に向かって突出させない状態でも基材がホルダから離脱しないため、ホルダの正確な位置に基材を容易にセットできる。なお、成膜を行う際には、被当接部が成膜材料の発生源とは反対側に位置するように成膜用冶具が設置される。
【００１０】
本発明では、前記ホルダには、成膜材料の発生源と対向する側に、前記収容孔の内周面と連続し、前記基材の端面と隣接する隣接面に対して逸れる方向に延びる傾斜部が形成されることが好ましい。
この発明によれば、収容孔の内周面に連続して傾斜部が形成されたことにより、基材の外周端縁がホルダから露出するので、成膜時に成膜材料がホルダによって遮られることなく、より均一な厚さで基材の被成膜面全体に亘って成膜できる。
また、この傾斜部により、基材をホルダにセットする際の基材の位置決めが容易となり、収容孔の内周面に端面が対向するように基材を確実にセットできる。
【００１１】
本発明では、前記弾性部材は、前記保持孔に挿通されるピン部を有することが好ましい。
この発明によれば、保持孔に挿通されたピン部によって基材が点支持されるので、基材のホルダへの着脱を簡便に行うことができる。
【００１２】
本発明では、前記収容孔は、複数設けられ、前記ピン部は、一対設けられ、これらのピン部は、前記複数の収容孔の内周面にそれぞれ貫通する保持孔にそれぞれ挿通されて同時に出没することが好ましい。
この発明によれば、ひとつの弾性部材に設けられた一対のピン部を出没させることにより、複数の収容孔に基材を一括して保持することが可能となるので、保持する基材の数に対して弾性部材の数が少なくて済み、基材をホルダにセットする作業効率も向上させることができる。
【００１３】
本発明では、前記弾性部材は、前記弾性部材は、線状部材により形成されるばねであり、前記ピン部と連続し、かつ前記各ピン部が延びる方向に対してそれぞれ曲げられる一対の屈曲部と、これらの屈曲部を互いに結ぶ連結部とを有し、前記屈曲部は、前記ピン部の出没方向および前記ピン部が互いに対向する方向の２つの方向との交差方向に突出するようにそれぞれ湾曲することが好ましい。
【００１４】
この発明によれば、線状部材を折り曲げたりねじったりして任意の形状のばねを形成できる。
また、屈曲部が撓むのでピン部を保持孔に挿通しやすく、また、弾性部材は屈曲部の突出方向にも弾性を有することとなるので、基材を安定的に保持できる。
そして、屈曲部および連結部を両側から把持するなどの簡便な方法で、ピン部が保持孔を介して出没し、基材のホルダへの着脱が可能となるので、取扱性を向上させることができる。
【００１５】
本発明では、前記屈曲部および前記連結部は、成膜材料の発生源とは反対側で、前記ホルダと重なるように設けられることが好ましい。
この発明によれば、成膜時に成膜材料が屈曲部や前記連結部によって遮られることを防止できる。
また、屈曲部および連結部がホルダと重なり、これらのホルダおよび弾性部材がかさ張らないので、成膜用冶具の取扱性を向上させることができる。
【００１６】
本発明では、前記成膜は、成膜材料を高真空中で加熱蒸発させて前記基材の表面に凝着させる蒸着によって行われることが好ましい。
この発明によれば、蒸着材料の発生源から上昇する蒸着材料が基材の被成膜面全体に均一な厚さで凝着するので、緻密で強度の高い薄膜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、レンズの基材２に反射防止膜を形成するのに用いられる蒸着装置１の模式図である。蒸着装置１は、真空容器１１、排気装置１８、およびガス供給装置１９を備えているいわゆる電子ビーム蒸着装置である。       
なお、基材２に反射防止膜が形成されるレンズの用途としては、携帯電話などの電子機器における撮像部や、小型のプロジェクタに組み込まれる照明光学装置などが例示できる。また、基材２は眼鏡用レンズなどであってもよい。
【００１８】
真空容器１１は、真空容器１１内に蒸着材料がセットされた蒸発源（るつぼ）１２，１３、蒸発源１２，１３の蒸着材料を加熱溶解（蒸発）する加熱手段１４、基材２が保持された冶具３０が係止される支持台１５、基材２を加熱するための基材加熱用ヒータ１６等を備えている。また、必要に応じて真空容器１１内に残留した水分を除去するためのコールドトラップや、酸素等のガスを導入し、導入したガスをイオン化し加速して基材２に照射する装置、膜厚を管理するための装置等が具備される。
【００１９】
蒸発源１２，１３は、蒸着材料がセットされたるつぼであり、真空容器１１の下部に配置されている。
加熱手段１４は、フィラメント１７の発熱によって発生する熱電子を、電子銃により加速、偏向して、蒸発源１２，１３にセットされた蒸着材料に照射し蒸発させるいわゆる電子ビーム蒸着が行われる。加速電流値に特に制限はないが、加速電流値は蒸着速度との密接な関係があるため必要な蒸着速度に応じて調整できる。
また、蒸着材料を蒸発させる他の方法として、タングステン等の抵抗体に通電し蒸着材料を溶融／気化する方法（いわゆる、抵抗加熱蒸着）、高エネルギーのレーザー光を蒸発させたい材料に照射する方法等がある。
【００２０】
支持台１５は、蒸発源１２，１３と対向した真空容器１１内の上部に配置される矩形枠状の部材である。この支持台１５の短辺側の両端には、基材２を保持する冶具３０の両端部がそれぞれ係止される被係合部１５１が形成される。
なお、この支持台１５は、真空容器１１内の真空状態が確保された状態で真空容器１１内部に搬入され、基材２の成膜後は再び、真空容器１１の外部に搬出される。また、反射防止膜の均一性を向上させるために、真空容器１１の内部で任意の方向に移動自在な構造となっている。
【００２１】
基材加熱用ヒータ１６は、例えば赤外線ランプからなり、支持台１５の上部に配置されている。基材加熱用ヒータ１６は、基材２を加熱することにより基材２のガス出しあるいは水分とばしを行い、基材２の表面に形成される層の密着性を確保する。
なお、赤外線ランプの他に抵抗加熱ヒータ等を用いることができる。但し、基材２の材質がプラスチックの場合には、赤外線ランプを用いるのが好ましい。
【００２２】
排気装置１８は、真空容器１１内を高真空に排気する装置であり、ターボ分子ポンプ１８１と、真空容器１１内の圧力を一定に保つ圧力調節バルブ１８２を備えている。
ガス供給装置１９は、Ａｒ，Ｎ２，Ｏ２等のガスを内蔵するガスシリンダ１９１と、ガスの流量を制御する流量制御装置１９２とを備えている。ガスシリンダ１９１に内蔵されたガスは、流量制御装置１９２を介して真空容器１１内に導入される。
圧力計１１１は、真空容器１１内の圧力を検出する。圧力計１１１によって検出された圧力値に基づき、排気装置１８の圧力調節バルブ１８２が、制御部（図示せず）からの制御信号により制御されて、真空容器１１内の圧力が所定の圧力値に保たれる。
【００２３】
圧力の調整としては、排気口のコンダクタンスを変化させる方法とガスを導入して導入量を変化させる方法等があるがどちらでもかまわない。したがって、真空容器１１内の圧力は、ガス供給装置１９のガスシリンダ１９１から供給されるガスの流量を制御する流量制御装置１９２を制御する方法でも可能である。
また、特に調整をしないで排気後の残圧で圧力を調整する場合は、屈折率が変化する場合があるので膜厚の調整が必要になる。とくに圧力制御を行わない場合には蒸着中に大きく圧力が変化する場合がある。
【００２４】
次に、反射防止膜の成膜時に基材２を保持する冶具３０の構造について、図２〜図５を参照して詳しく説明する。
図２は、真空容器１１の上方からＡ方向に沿って見た上面図（図１におけるＡ矢視図）であり、図３は、真空容器１１の下方から見上げた状態の下面図（図１におけるＢ矢視図）である。また、図４は、図２のIV−IV線における拡大断面図であり、基材２を保持した状態の図である。なお、図２および図３には、基材２を保持していない状態の冶具３０を示した。
この冶具３０は、基材２を成膜するために用いられ、基材２を保持するホルダ４０と、このホルダ４０に設けられ、ホルダ４０に保持された基材２の端面２２を付勢する弾性部材としてのねじりばね５０とを備えている。
【００２５】
ホルダ４０は、ステンレス製の平面視矩形状の板部材であり、その板面を貫通する複数の円形状の収容孔４１がそれぞれ形成され、上面側（図２）には、ホルダ４０の長手方向に沿って複数の半円形状の切欠４２が、互いに隣接する収容孔４１の間にそれぞれ形成されている。
また、ホルダ４０の下面側は、図１および図３に示すように、両方の短辺に沿って段落ち形成されるとともに、角部が面取りされた形状であって、蒸着装置１に設けられた支持台１５に係止される係合部４５がそれぞれ形成されている。
【００２６】
収容孔４１は、ホルダ４０の長手方向に沿って２列で４つずつ、互いに略等間隔で並び、合計８つ形成されている。
これらの収容孔４１は、図４に示すように、ホルダ４０の上面側（図２）が小径、下面側（図３）が大径に形成され、その内周面は、上面側から下面側に向かって、小径部４１１、基材２の裏面２１に当接される被当接部４１２、基材２の端面２２と対向する収容孔の内周面４１３、および基材２の端面２２と被成膜面２３との取り合い部２２１近傍から次第に拡がる傾斜部としての拡径部４１４により、段差状に構成されている。
【００２７】
切欠４２は、図２に示すように、ホルダ４０の各長辺に沿って、隣り合う収容孔４１の互いの間に２つずつ、合計４つ形成されている。
この切欠４２と、この切欠４２に対向する収容孔４１とは、切欠４２の平面視円弧状部分において互いに近接する部分を延びる保持孔４２１によって互いに連通されている。
保持孔４２１は、切欠４２の両側の収容孔４１それぞれについて１つずつ形成され、各切欠４２には、２つの保持孔４２１が形成されている。これらの保持孔４２１は、収容孔４１の内周面に対して略直交するようにそれぞれ延び、平面視ハ字状に配置されている。
このような切欠４２の断面形状は、図４に示すように、略直角形状であり、切欠４２の深さは、収容孔４１の小径部４１１および収容孔の内周面４１３の厚さ寸法を加えた寸法と略同様となっている。
そして、保持孔４２１は、切欠４２の側面から収容孔４１の収容孔の内周面４１３に向かって貫通している。この保持孔４２１にはピン部５１が保持孔４２１の径に対して緩い状態で挿通される。
【００２８】
一方、ねじりばね５０は、線状の金属製部材をねじって形成したもので、保持孔４２１にそれぞれ挿通される一対のピン部５１と、各ピン部５１が延びる方向に対してそれぞれ両端が曲げられ、ピン部５１を保持孔４２１に出没させるばね部５２とを有して構成されている。
図５（Ａ）および（Ｂ）はそれぞれ、ねじりばね５０の側面図、および平面図である。
ピン部５１は、切欠４２から保持孔４２１に挿通される（図４）直線状に延びる部分であって、一対のピン部５１は、図５（Ｂ）に示すように、平面視略Ｕ字状であるばね部５２の両端部からそれぞれ折れ曲がって略ハ字状に配置され、これらのピン部５１の先端部５１１は、ねじりばね５０全体のばね力によって基材２の端面２２を押圧する方向（図５における矢印Ｆ方向）にそれぞれ付勢されている。この付勢力により、図２および図３に示すように、各先端部５１１が保持孔４２１から突出する。
【００２９】
ばね部５２は、各ピン部５１が延びる方向に対してそれぞれ屈曲するとともに略Ｕ字状に基材２の裏面２１（図４）側まで湾曲する一対の屈曲部５２１と、裏面２１に沿って平面視略Ｕ字状に延び、これらの屈曲部５２１の間を互いに結ぶ連結部５２２とを有して構成されている。連結部５２２は、その略中央部分がループ状にねじられている。
【００３０】
図６（Ａ）〜（Ｃ）は、冶具３０に基材２をセットする手順を示す模式図である。
冶具３０に基材２をセットする際は、まず、図６（Ａ）のように、冶具３０を成膜時に対して裏返しの状態、すなわち図３で示した下面を上面側に向けた状態としておく。
そして、ねじりばね５０の連結部５２２をそのＵ字形状の両側から掴み、屈曲部５２１が互いに近接するように弾性変形させると、各ピン部５１（図５、図３を参照）が保持孔４２１の内部を切欠４２側に向かって摺動し、先端部５１１が保持孔４２１の内部に没入する。これらのピン部５１が没入状態にある２つの収容孔４１（図３）に拡径部４１４（図４）側から基材２を供給し、収容孔４１の内部に基材２を収容する。すると、図４に示すように各基材２が被当接部４１２に載置され、基材２の端面２２が収容孔の内周面４１３と対向する。
【００３１】
この状態で、連結部５２２から手を離すと、図６（Ｂ）に示すように、ねじりばね５０の復元力によって各ピン部５１の先端部５１１が基材２の端面２２を押圧し（図４）、基材２は収容孔の内周面４１３にそれぞれ押し当てられる。こうして、２つの収容孔４１に、基材２がそれぞれ保持される。
このような手順をホルダ４０に設けられた他のねじりばね５０についても行うことによって、各収容孔４１にそれぞれ基材２が収容される。
【００３２】
冶具３０にセットされた各基材２は、ねじりばね５０の付勢力によって収容孔の内周面４１３に当接した状態で保持されるので、図６（Ｃ）のように、冶具３０の表裏を返して、拡径部４１４（図４）を下方に向けた状態としても、基材２は脱落することなく、収容孔４１に確実に保持される。これで、冶具３０への基材２のセットを完了する。
続いて、ホルダ４０の係合部４５を支持台１５（図１）の被係合部１５１に係合させて冶具３０を支持台１５に固定し、この支持台１５ごと真空容器１１内部に搬入する。真空容器１１の内部では、ホルダ４０の拡径部４１４が蒸発源１２，１３と対向し、蒸発源１２，１３から上昇した蒸着材料ＥＶが基材２の被成膜面２３に凝着する。この際、ホルダ４０に拡径部４１４が形成され、基材２の外周端縁がホルダ４０から露出しているため、基材２の端縁にも十分に蒸着材料ＥＶが到達し、被成膜面２３には、全体的に均一な厚さで蒸着材料ＥＶが凝着する。その後、乾燥、焼成工程へと進むことで、基材２への反射防止膜の成膜が完成する。
【００３３】
なお、基材２をホルダ４０から取り外す際には、連結部５２２を掴んで屈曲部５２１を互いに近接させ、ピン部５１を保持孔４２１の内部に没入させれば、収容孔４１から基材２が離脱可能な状態となり、基材２を簡単に取り外すことができる。
基材２の両面に反射防止膜を形成する場合は、一旦、基材２をホルダ４０から取り外し、基材２の表裏を返して、先ほどは被当接部４１２に載置されていた基材２の裏面２１を被成膜面として冶具３０にセットし直す。この際の連結部５２２の把持操作は前述と同様に行う。
【００３４】
このような本実施形態によれば、次のような効果を享受できる。
（１）レンズの基材２を保持する冶具３０がねじりばね５０を備え、このねじりばね５０のピン部５１によって基材２の端面２２が保持されることとなるので、基材２の被成膜面２３が冶具３０によって遮られることなく、基材２の被成膜面２３を全体的に成膜することが可能となる。これにより、被成膜面２３における成膜有効範囲が確保され、良品率を向上することができ、とりわけ、基材２が小型の電子機器用途である場合に適した成膜手段を提供することができる。その他、基材２が眼鏡用のレンズ基材である場合は、被成膜面２３に全体的に均一な厚さの反射防止膜を形成できるので、レンズの端縁などに色ムラが生じるなどの不具合を解消して、品質を向上できる。
【００３５】
（２）ホルダ４０において、基材２が収容される収容孔４１と、この収容孔４１の内周面に貫通する保持孔４２１とが形成され、この保持孔４２１を介してねじりばね５０のピン部５１が出没自在に設けられているため、ピン部５１によって基材２が点支持され、基材２のホルダ４０への着脱を簡便に行うことができる。
【００３６】
（３）ホルダ４０の収容孔４１に被当接部４１２が形成され、この被当接部４１２に基材２を載置可能となるので、ピン部５１を基材２に向かって突出させない状態でも、基材２がホルダ４０から離脱せず、収容孔４１の内周面の正確な位置に基材２を容易にセットできる。
【００３７】
（４）ホルダ４０の収容孔４１に収容孔の内周面４１３が形成され、ピン部５１により付勢された基材２の端面２２が、収容孔の内周面４１３のピン部５１とは反対側の部分に押し当てられるため、ピン部５１を没入させない限り基材２が収容孔４１から離脱せず、基材２を確実に保持できる。このため、基材２を被当接部４１２に載置後、冶具３０を裏返した際の基材２の脱落を確実に防止できるので、蒸発源１２，１３の上方で、基材２の被成膜面２３が下向きとなるように冶具３０を設置して蒸着することが可能となり、被成膜面２３へのダスト付着などを防止できる。
【００３８】
（５）収容孔４１において、成膜時に蒸発源１２，１３と対向する側に拡径部４１４が形成されているので、この拡径部４１４が蒸発材料ＥＶの逃げ部となって、成膜時に成膜材料ＥＶがホルダ４０によって遮られることなく、基材２の被成膜面２３全体に亘って均一な厚さで成膜できる。
また、この拡径部４１４により、基材２を収容孔４１にセットする際の基材２の位置決めが容易となり、収容孔の内周面４１３に端面２２が対向するように基材２を確実にセットできる。
【００３９】
（６）ばね部５２が基材２の被成膜面２３とは反対側の裏面２１側に曲げられているので、成膜時に成膜材料ＥＶがばね部５２によって遮られるのを防止できる。また、ばね部５２がホルダ４０と平面的に重なり、これらのホルダ４０およびばね部５２がかさ張らないので、成膜用冶具３０の取扱性を向上させることができる。
【００４０】
（７）屈曲部５２１が保持孔４２１から基材２の裏面２１側まで略Ｕ字状に湾曲しており、この屈曲部５２１の撓みによってピン部５１を保持孔４２１に挿通しやすく、また、ねじりばね５０が屈曲部５２１のＵ字突出方向にも弾性を有することとなるので、基材２を安定的に保持できる。また、ホルダ４０にねじりばね５０を取り付ける作業も容易にできる。
そして、一対の屈曲部５２１を互いに結ぶ連結部５２２が平面視Ｕ字状に形成され、この連結部５２２を両側から掴むだけで基材２のホルダ４０への着脱が可能となるので、冶具３０の取扱性を向上させることができる。
【００４１】
（８）また、連結部５２２を掴むことによって、２つの収容孔４１に複数の基材２を同時に収容できるので、保持する基材２の数に対してねじりばね５０の数が少なくて済み、基材２をホルダ４０にセットする作業効率も向上させることができる。
【００４２】
（９）ホルダ４０に係合部４５が形成されているので、蒸着装置１が備える真空容器１１の支持台１５に冶具３０を容易に取り付けできる。
（１０）また、基材２への反射防止膜の形成を真空蒸着により行ったので、発生源１２，１３から上昇する蒸着材料ＥＶが被成膜面２３全体に均一な厚さで凝着し、緻密で硬い反射防止膜を形成することができる。
【００４３】
〔変形例〕
本発明は、前述の実施形態に限定されるものではない。すなわち、本発明は、主に特定の実施の形態に関して特に図示され、かつ、説明されているが、以上述べた実施の形態に対し、本発明の技術的思想および目的の範囲から逸脱することなく、形状、材質、数量、その他の詳細な構成において、当業者が様々な変形を加えることができる。
【００４４】
例えば、前記実施形態では、基材の成膜方法として蒸着が採用されていたが、これに限らず、スパッタなども採用できる。スパッタは通常蒸着の場合と比べて、成膜圧力が高く、基材の端縁部への成膜が不十分となりやすいことから、本発明の冶具を使用して基材を端面のみで保持することが非常に有効である。
なお、スパッタを実施する際は、基材の被成膜面が立つように冶具を設置し、冶具の側方にスパッタ材料発生源を配置してもよい。
【００４５】
そのほか、成膜用冶具において、ホルダの形状や弾性部材の形状、数、配置、間隔などは前記実施形態に限定されず、外周形状が円形状のホルダや、板ばねなども採用できる。
ホルダに形成された収容孔の数や形状、位置、配列なども勿論限定されるものではなく、例えば、円形状のホルダの外周に沿って複数の収容孔が形成されていてもよい。
また、前記実施形態では、ねじりばね５０が一対のピン部５２を備え、各ねじりばね５０によって基材２が２つずつ保持されていたが、１つの弾性部材で基材を１つずつ保持することも考えられる。
さらに、前記実施形態において、各収容孔４１の内周面には保持孔４２１が１つずつ貫通していたが、各収容孔４１に２つ以上の保持孔が貫通形成され、これらの保持孔に挿通された弾性部材によって基材が２箇所以上で保持されていてもよい。
【００４６】
一方、保持孔に出没する弾性部材の突出量、没入量などは適宜設定でき、これにより、基材への付勢力を調整できる。また、弾性部材に外力を加える際には、前記実施形態のように連結部５２２を掴むなどの手段に限らず、機械や装置を使用してもよい。
なお、基材の端面とホルダの収容孔の内周面との間には、ホルダへの基材の着脱容易さを考慮して、多少の隙間を設けても構わない。
【００４７】
そして、前記実施形態では、小型の電子機器に組み込まれる微小なサイズの基材２を冶具３０によって保持していたが、本発明の成膜用冶具によって保持可能な基材には、例えば、眼鏡用のレンズや、基板、ウェーハなども含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明は、レンズやレンズアレイ、フィルター、ミラーなどの光学部品や、基板、ウェーハなどの基材に成膜する際の冶具として広く利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の実施形態における蒸着装置の模式図。
【図２】前記実施形態における成膜用冶具の上面図。
【図３】前記実施形態における成膜用冶具の下面図。
【図４】前記実施形態における成膜用冶具の断面図。
【図５】前記実施形態における成膜用冶具が備えるねじりばねを示す図。
【図６】前記実施形態における成膜用冶具に基材をセットする手順を示す図。
【符号の説明】
【００５０】
１・・・蒸着装置、２・・・基材、１２，１３・・・蒸発源（成膜材料発生源）、２１・・・裏面（隣接面）、２２・・・端面、２３・・・被成膜面（隣接面）、３０・・・冶具（成膜用冶具）、４０・・・ホルダ、４１・・・収容孔、４２・・・切欠、４５・・・係合部、５０・・・ねじりばね（弾性部材）、５１・・・ピン部、５２・・・ばね部、４１２・・・被当接部、４１３・・・収容孔の内周面、４１４・・・拡径部（傾斜部）、４２１・・・保持孔、５２１・・・屈曲部、５２２・・・連結部、ＥＶ・・・蒸着材料。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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