(57)【要約】      （修正有）【課題】  可能な限り廃棄物を削減し、工業的規模で経済的に実施可能な３−アミノフェニルアセチレンの製造方法を提供すること。【解決手段】  １）パラジウム化合物、銅化合物及び下記一般式（３）で表される化合物の存在下で、下記一般式（１）で表される化合物と下記一般式（２）で表される化合物とを反応させ反応生成物を得る工程と、２）前記反応生成物を晶析して、下記一般式（４）で表される化合物を結晶として析出させ、これを固液分離によって単離する工程と、３）前記一般式（４）で表される化合物と塩基とを反応させる工程と、を有する下記一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法。2006282587.tif 000012  Ｙはハロゲン原子を表し、Ｒ1〜Ｒ5は各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基等を表す。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記１）〜３）の工程を含むことを特徴とする下記一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法。
１）  パラジウム化合物、銅化合物及び下記一般式（３）で表されるアミン化合物の存在下で、下記一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物と下記一般式（２）で表されるアセチレン化合物とを反応させ、反応生成物を得る工程、
２）  前記反応生成物を晶析して、下記一般式（４）で表されるアニリン化合物を結晶として析出させ、これを固液分離によって単離する工程、
３）  前記一般式（４）で表されるアニリン化合物と塩基とを反応させて、下記一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレンを得る工程。
【化１】
2006282587.tif 000011
〔一般式（１）〜（４）において、Ｙはハロゲン原子を表し、Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ4及びＲ5は各々独立に、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。ここで、Ｒ1とＲ2とが互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ4とＲ5とが互いに結合して環を形成していてもよい。〕
【請求項２】
前記一般式（３）で表されるアミン化合物が、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン、ピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、及びＮ，Ｎ−ジエチルアニリンからなる群より選択されることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記パラジウム化合物が、ホスフィン化合物が配位したＰｄＸ2（Ｘは塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、酢酸イオン、アセチルアセトネート又はジベンジルアセトネートを表す。）で表されるパラジウム化合物であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は医農薬、熱硬化性樹脂、非線形光学材料などの合成原料として有用な３−アミノフェニルアセチレンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
３−アミノフェニルアセチレンはポリイミド、ポリイミンなどを構成しうるアミノ基と、重合性を有するアセチレン基が同一分子内に共存する興味深い化合物であり、様々な分野における研究対象として注目されている。例えば熱硬化性樹脂（例えば、特許文献１〜４参照。）、非線形光学材料（例えば、特許文献５、６参照。）、医農薬（例えば、特許文献７〜９参照。）等の合成中間体として有用である。
【０００３】
このように種々の用途が存在する３−アミノフェニルアセチレンの製造方法についても種々開示されている。これまで開示されている製造方法は、（１）アセチレン基とニトロ基がともに存在する前駆体のニトロ基還元を経由する方法、（２）ニトロ体を中間体として経由しない方法の２種に大別することができる。
【０００４】
（１）の経路による製造方法としては、３−ニトロフェニルアセチレンをいったんアセトンと縮合した誘導体に変換し、これをＲｕ触媒で還元する方法（例えば、非特許文献１参照。）、コバルトポリスルフィド（ＣｏＳｘ）やルテニウム（ＩＶ）スルフィドを用いる還元方法（例えば、非特許文献２参照。）、鉄あるいは鉄塩を用いて還元する方法（例えば、特許文献１０参照。）が知られている。
【０００５】
（２）のニトロ体を中間体として経由しない方法としては、有機スズ化合物であるトリアルキルスタニルアセチレンと３−ヨードアニリンをパラジウム触媒の存在下にカップリングする方法（例えば、非特許文献３参照。）、その他に３−ハロアニリンと保護されたアセチレン化合物を強塩基、パラジウム化合物及び銅化合物の存在下に反応させる工程を含む方法（例えば、特許文献１１参照。）が知られている。
特許文献１１に記載の方法では、３−ハロアニリンとアセチレン化合物の反応における好ましい強塩基としてジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロウンデカン、１，１，３，３−テトラメチルグアニジンが例示されている。
【０００６】
一方、近年化学製造プロセスの環境に対する負荷が問題になってきており、廃棄物が少なく、有害な溶剤や反応剤等を可能な限り使用しないクリーンな化学反応が求められるようになってきている（例えば、非特許文献４参照。）。
【０００７】
（１）の経路による製造方法においては、アセチレン基とニトロ基がともに存在する系においてニトロ基のみを還元することが重要であるが、現実には完全な選択性を実現することは困難である。またコバルトポリスルフィド（ＣｏＳｘ）といった特殊な触媒の調整が必要であったり、還元剤として使用した鉄化合物の除去が煩雑であるなど、コストアップの要因となるばかりでなく廃棄物処理を含めた作業の煩雑さにもつながっていた。
【０００８】
一方、（２）のニトロ体を中間体として経由しない方法では還元に関する問題は回避されるが、例えば非特許文献３に開示されている方法では有毒な有機スズ化合物を用いており、環境面から工業スケールの製造には不向きである。
また特許文献１１におけるジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロウンデカン、１，１，３，３−テトラメチルグアニジンといった強塩基は比較的高価である。加えて、特許文献１１の製造方法は、反応生成物を塩化メチレンで抽出した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行う方法であり、操作が煩雑なため工業スケールの製造には不向きなうえに廃棄物の観点からも問題があった。
【特許文献１】米国特許第４，４８５，２３１号明細書
【特許文献２】米国特許第４，４４２，２７８号明細書
【特許文献３】米国特許第５，１３８，０２８号明細書
【特許文献４】特開平４−２７５２５９号公報
【特許文献５】特開平１−２３３２６３１号公報
【特許文献６】特開昭６３−６８５４９号公報
【特許文献７】米国特許第５，３６０，８０２号明細書
【特許文献８】特開昭５７−１１８５６８号公報
【特許文献９】特開昭５９−１６４１６０号公報
【特許文献１０】特開平１０−３６３２５号公報
【特許文献１１】米国特許第５，９０２，９０２号明細書
【非特許文献１】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４４巻，１２３３頁（１９７９）
【非特許文献２】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４４巻，３６７１頁（１９７９）
【非特許文献３】Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｕｓ，１９巻，２０９３頁（１９８６）
【非特許文献４】化学フロンティア４「グリーンケミストリー」，化学同人，ＧＳＣネットワーク訳，２００１年１１月３０日
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このように従来の製造方法は、操作性、安全性、製造コスト、反応１回あたりの処理量、目的物の分離精製、環境への配慮等などを考慮すると決して有利な方法とは言えなかった。
従って本発明の目的は、上記問題点を克服し、環境に対して好ましくない化合物や溶剤を使用することなく、可能な限り廃棄物を削減し、工業的規模で経済的に実施可能な３−アミノフェニルアセチレンの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は上記の事情に鑑み、３−アミノフェニルアセチレンの製造方法について鋭意研究した結果、以下の新規な手段によって上述の課題が解決されることを確認し、本発明を完成するに至ったものである。
【００１１】
＜１＞  下記１）〜３）の工程を含むことを特徴とする下記一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法。
１）  パラジウム化合物、銅化合物及び下記一般式（３）で表されるアミン化合物の存在下で、下記一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物と下記一般式（２）で表されるアセチレン化合物とを反応させ、反応生成物を得る工程、
２）  前記反応生成物を晶析して、下記一般式（４）で表されるアニリン化合物を結晶として析出させ、これを固液分離によって単離する工程、
３）  前記一般式（４）で表されるアニリン化合物と塩基とを反応させて、下記一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレンを得る工程。
【００１２】
【化１】
2006282587.tif 000002
【００１３】
一般式（１）〜（４）において、Ｙはハロゲン原子を表し、Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ4及びＲ5は各々独立に、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。ここで、Ｒ1とＲ2とが互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ4とＲ5とが互いに結合して環を形成していてもよい。
【００１４】
＜２＞  前記一般式（３）で表されるアミン化合物が、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン、ピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、及びＮ，Ｎ−ジエチルアニリンからなる群より選択されることを特徴とする前記＜１＞に記載の製造方法。
【００１５】
＜３＞  前記パラジウム化合物が、ホスフィン化合物が配位したＰｄＸ2（Ｘは塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、酢酸イオン、アセチルアセトネート又はジベンジルアセトネートを表す。）で表されるパラジウム化合物であることを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、環境に対して好ましくない化合物や溶剤を使用することなく、可能な限り廃棄物を削減し、工業的規模で経済的に実施可能な３−アミノフェニルアセチレンの製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
まず一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物について説明する。
【００１８】
【化２】
2006282587.tif 000003
【００１９】
一般式（１）中、Ｙはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、より好ましくは臭素原子、ヨウ素原子であり、さらに好ましくは臭素原子である。
【００２０】
次に一般式（２）で表されるアセチレン化合物について説明する。
【００２１】
【化３】
2006282587.tif 000004
【００２２】
一般式（２）中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。
Ｒ1及びＲ2が、炭素数１〜６のアルキル基を表す場合、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロプロピルメチル、シクロブチル、シクロヘキシル等が挙げられる。これらのなかでもメチル、エチル、イソブチル、シクロプロピルが好ましい。なお、Ｒ1とＲ2が互いに結合して環を形成していてもよく、該環は、好ましくは３〜７員環で、脂環が好ましく、その例としてはシクロプロパン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等が挙げられる。
【００２３】
Ｒ1、Ｒ2が炭素数６〜１２のアリール基を表す場合、該アリール基としては置換あるいは無置換の芳香族炭化水素基が挙げられる。アリール基の具体的な例としてはフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ｐ−トリル、２，４，６−トリメチルフェニル（メシチル）等が挙げられるが、これらの中でもフェニル、１−ナフチル、ｐ−トリルが好ましく、フェニル、ｐ−トリルがより好ましく、フェニルが特に好ましい。
【００２４】
Ｒ1及びＲ2は、ともに炭素数１〜６のアルキル基である場合が好ましく、これらがともにメチル基である場合がより好ましい。
【００２５】
以下に一般式（２）で表されるアセチレン化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２６】
【化４】
2006282587.tif 000005
【００２７】
一般式（２）で表されるアセチレン化合物は、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６３巻，３５１５頁（１９９８）などの文献記載の方法によって得ることができる。
【００２８】
次に一般式（４）で表されるアニリン化合物について説明する。
【００２９】
【化５】
2006282587.tif 000006
【００３０】
一般式（４）中、Ｒ1及びＲ2は前記一般式（２）において説明したものと同義であり、好ましい範囲も同一である。またＲ1とＲ2が互いに結合して環を形成してもよく、該環の好ましい範囲も前記一般式（２）において説明したものと同一である。
以下に一般式（４）で表わされるアニリン化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３１】
【化６】
2006282587.tif 000007
【００３２】
次に、本発明の製造方法における各工程１）〜３）及びその反応もしくは操作条件について詳述する。
【００３３】
本発明の製造方法の工程１）は、一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物と一般式（２）で表されるアセチレン化合物をパラジウム化合物、銅化合物、及び下記一般式（３）で表されるアミン化合物の存在下で反応して、一般式（４）で表されるアニリン化合物を生成させる工程である。
【００３４】
【化７】
2006282587.tif 000008
【００３５】
一般式（３）中、Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｒ3が炭素数１〜４のアルキル基を表す場合、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、シクロプロピル、シクロプロピルメチル等が挙げられる。
Ｒ3としては、水素原子、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチルが好ましい。
【００３６】
Ｒ4及びＲ5は、各々独立に炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。
Ｒ4及びＲ5で表される炭素数１〜４のアルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、シクロプロピル、シクロプロピルメチル等が挙げられ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチルが好ましい。
【００３７】
Ｒ4及びＲ5で表される炭素数１〜４のアルキル基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。該置換基としては、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、シアノ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシ基などが挙げられるが、なかでもメトキシ基、エトキシ基、シアノ基、フェノキシ基などが好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基等を挙げることができる。
【００３８】
Ｒ4及びＲ5で表される炭素数６〜１２のアリール基は、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル等が挙げられ、フェニル、１−ナフチルが好ましく、フェニルが特に好ましい。
【００３９】
Ｒ4及びＲ5で表される炭素数６〜１２のアリール基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。該置換基としては、メチル基、エチル基、ニトロ基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子などが挙げられるが、なかでもメチル基、ニトロ基、メトキシ基、塩素原子が好ましく、より好ましくはメチル基、ニトロ基等を挙げることができる。
【００４０】
Ｒ4とＲ5は互いに結合して環を形成してもよく、該環は脂環でもヘテロ環でもよく、芳香環でも芳香環以外の不飽和環でもよく、３〜７員環が好ましく、より好ましくは５〜６員環である。該環の好ましい環としては、含窒素５員環（例えばピロリジン環）あるいは６員環（例えばピペリジン環）、若しくは酸素原子を含んだ６員環（例えばモルホリン環）が挙げられる。
【００４１】
一般式（３）で表されるアミン化合物の具体例としては、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン、ピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、及びＮ，Ｎ−ジエチルアニリン等を挙げることができ、より具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、トリｎ−ブチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、ジブチルアミン等が挙げられる。これらの中でもＮ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルアニリン、トリｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、ジブチルアミンが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジンがより好ましい。最も好ましいアミン化合物は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、あるいはこれらの中から選択される２〜３種のアミン化合物の併用系である。
本発明においては、ジアザビシクロウンデカン、１，１，３，３−テトラメチルグアニジンといった高価な強塩基を用いる必要はない。
【００４２】
一般式（３）で表されるアミン化合物の使用量は、一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物に対して、１．０〜２０．０当量の範囲が好ましく、２．０〜１０当量がより好ましく、さらに好ましくは２．５〜６．０当量である。
【００４３】
本発明における工程１）で用いられるパラジウム化合物としては、２価又は０価のパラジウム化合物が挙げられる。
２価又は０価のパラジウム化合物の例としては、ホスフィン化合物が配位したＰｄＸ2（Ｘは塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、酢酸イオン、アセチルアセトネート又はジベンジルアセトネートを表す）で表されるパラジウム化合物が好ましい。
さらに好ましくは、後述する一般式（Ｐ１）、（Ｐ２）又は（Ｐ３）で表されるパラジウム化合物である。
【００４４】
一般式（Ｐ１）：    Ｌ2ＰｄＸ2
【００４５】
一般式（Ｐ１）中、Ｌは１座配位のホスフィン化合物を表し、好ましくはＰ（Ｒ6）（Ｒ7）（Ｒ8）で表されるホスフィン化合物である。ここでＲ6〜Ｒ8は各々独立に、アリール基又はアルキル基などの炭化水素基を表し、これらの少なくとも２個が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ6〜Ｒ8の基の具体例は、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、シクロヘキシル、エチルヘキシル、オクチル、ベンジル、ｏ−トルイル、ｍ−トルイル、フェニル、ナフチルなどが挙げられるが、好ましくはｎ−ブチル、シクロヘキシル、オクチル、ｏ−トルイル、フェニル、ナフチルであり、より好ましくはシクロヘキシル、オクチル、ｏ−トルイル、フェニルであり、さらに好ましくはｏ−トルイル、フェニルである。
Ｘは、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、酢酸イオン、アセチルアセトネート又はジベンジルアセトネートを表し、好ましくは、塩化物イオン、酢酸イオン、又はアセチルアセトネートである。
【００４６】
一般式（Ｐ１）の具体例としては、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリドが挙げられる。
【００４７】
一般式（Ｐ２）：    （Ｌ−Ｌ）ＰｄＸ2
【００４８】
一般式（Ｐ２）中、（Ｌ−Ｌ）は２座配位ホスフィン化合物又は２座配位窒素化合物を表す。
２座配位ホスフィン化合物の例としては、ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エチレン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，１’−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等が挙げられる。
２座配位窒素化合物としては１，１０−フェナントロリンが好ましく例示される。
Ｘは、一般式（Ｐ１）におけるＸと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００４９】
一般式（Ｐ３）：      ＰｄＬ4
【００５０】
一般式（Ｐ３）中、Ｌは一般式（Ｐ１）におけるＬと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００５１】
従来報告されているアリールハライドとアセチレン化合物のパラジウムカップリング反応では、一般式（Ｐ１）で表されるパラジウム化合物、例えばビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド等を触媒用いる例が多い（例えば特許文献１０や、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，３６４頁（１９８１））。しかし、一般式（Ｐ１）で表されるパラジウム化合物は非常に高価である。
【００５２】
そこで、本発明の製造方法では、一般式（Ｐ１）で表されるパラジウム化合物を反応系内で混合して用いる。
すなわち、ＰｄＸ2で表されるパラジウム化合物とこれに配位するホスフィン化合物とを反応系内に添加し、系内において一般式（Ｐ１）で表されるパラジウム化合物となるように調製する。これにより、安価なＰｄＸ2で表されるパラジウム化合物とホスフィン化合物とを用いて製造することが可能となる。
具体的には、ＰｄＸ2で表されるパラジウム化合物と組み合わせるホスフィン化合物の例としては、前述のＰ（Ｒ6）（Ｒ7）（Ｒ8）で表される１座配位ホスフィン化合物や２座配位ホスフィン化合物が挙げられ、その具体例、好ましい範囲は先に説明した内容と同一であるが、より好ましいホスフィン化合物はトリ（ｏ−トルイル）ホスフィン、トリフェニルホスフィンである。また、ＰｄＸ2としても、一般式（Ｐ１）で説明したものと同義であるが、酢酸パラジウム（ＩＩ）が特に好ましい。
【００５３】
一般式（Ｐ１）〜（Ｐ３）で表されるパラジウム化合物の使用量は、一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物に対して１．０×１０-8〜５．０×１０-2当量の範囲であルことが好ましく、より好ましくは、１．０×１０-6〜５．０×１０-3当量の範囲である。
この範囲を超えてパラジウム化合物を使用しても、反応速度は向上するが最終的な生成率、単離収率はそれほど向上しない。むしろ反応混合物／生成物の着色増大やコストアップにつながり、工業スケールでの製造ではかえって障害となる。逆にパラジウム化合物の使用量がこの範囲以下だと、反応速度が著しく低下する。
【００５４】
また、ＰｄＸ2で表されるパラジウム化合物とホスフィン化合物を反応系内に添加して、一般式（Ｐ１）又は（Ｐ２）で表されるホスフィン化合物が配位したパラジウム化合物を調製し反応を実施する場合、ＰｄＸ2で表されるパラジウム化合物に対するホスフィン化合物の使用量は、１．０〜１００当量の範囲が好ましく、より好ましくは、１．０〜４０当量であり、更に好ましくは２．０〜２５当量、特に好ましくは４．０〜１５当量である。
上記範囲を超えて大過剰に使用しても、反応速度、生成率、目的物にはそれほど影響しない。逆にあまり過剰にホスフィン化合物を使用すると後の除去操作が煩雑になり、かえって廃棄物量の増大やコストアップにつながるため工業スケールでの製造では障害となる。
【００５５】
工程１）における銅化合物としては、１価の銅化合物が好ましい。
具体的な銅（Ｉ）化合物の例としては塩化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、酢酸銅（Ｉ）、シアン化銅（Ｉ）等を好ましく挙げることができる。より好ましくは塩化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）であり、これらは複数種を併用することも可能である。
【００５６】
銅化合物の使用量は、一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物に対して１．０×１０-5〜５．０×１０-1当量の範囲が好ましく、１．０×１０-4〜５．０×１０-1当量がより好ましく、さらに好ましくは１．０×１０-3〜２．０×１０-1当量である。
【００５７】
工程１）において、４級アンモニウム塩を更に用いることもできる。
４級アンモニウム塩としては、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウム、ヨウ化ベンジルトリブチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム等が挙げられる。４級アンモニウム塩の使用量は、一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物に対して１．０１×１０-2〜５．０×１０-1当量の範囲が好ましい。
【００５８】
一般式（２）で表されるアセチレン化合物は、一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物に対して、０．８〜３．０当量の範囲で反応させることが好ましく、１．０〜２．０当量がより好ましく、さらに好ましくは１．１〜１．５当量である。
【００５９】
工程１）における反応溶媒は、反応基質／反応中間体／反応生成物の析出等で攪拌不能になる等の工程操作上の問題を引き起こさず、反応の進行を妨げず、かつ本発明の製造条件において分解して反応に悪影響を与えない限り特に制限はないが、例えばエタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶剤、ヘキサン、へプタン、デカンに代表される脂肪族系炭化水素溶剤、トルエン、キシレン（ｏ−体、ｍ−体、ｐ−体あるいはこれらの任意の割合の混合物のいずれであってもよい）、メシチレン、エチルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、イソプロピルベンゼン（クメン）、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル、プロピオニトリル等が挙げられる。これらの中でもアセトニトリル、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、エチルベンゼン、ヘプタン、デカン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン、ジメチルスルホキシドが好ましく、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドがより好ましい。
これらの溶媒は単独でも、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。また先に説明した一般式（３）で表されるアミン化合物を溶媒として使用することも可能である。
【００６０】
溶媒を用いる場合には、一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物１ｋｇに対して、０．１〜１００ｋｇの範囲で使用することが好ましく、０．５〜１０ｋｇがより好ましく、さらに好ましくは０．８〜５ｋｇである。
【００６１】
工程１）の反応温度は、通常２０〜２００℃の範囲であるが、好ましくは５０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１３０℃の範囲である。反応時間は仕込み量、反応温度により異なるが通常０．５〜２０時間であり、３〜１０時間の範囲がより好ましい。反応時はアルゴン又は窒素気流等の不活性な雰囲気にすることが好ましい。
【００６２】
なお、パラジウム化合物、銅化合物及び下記一般式（３）で表されるアミン化合物、一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物、及び一般式（２）で表されるアセチレン化合物の添加の順序は特に制限はないが、パラジウム化合物、銅化合物及び下記一般式（３）で表されるアミン化合物、及び一般式（１）で表される３−ハロアニリン化合物を混合したものに、一般式（２）で表されるアセチレン化合物を上記反応温度で加熱して滴下することが、一般式（２）で表されるアセチレン化合物が酸化反応によりジイン化合物に変換される反応を制御する観点から好ましい。
【００６３】
次に工程２）を説明する。
工程２）では、一般式（４）で表されるアニリン化合物を結晶として析出せしめ、これを固液分離によって単離する。
工程１）の反応後、得られた反応生成物を単離するため、まず副生物として生成した塩化合物、触媒も含めた反応系中の不溶解物を固液分離によって除去することによって行う。固液分離の方法は特に制限されず、公知の方法を適用することができる。
次に、不溶解物を除去した反応混合物を濃縮、又は適当な有機溶剤で希釈した後、液液分離（いわゆる分液操作）、必要ならば濃縮等の化学工学的操作を行い、その後適当な溶剤系から晶析する。
【００６４】
一般式（４）で表されるアニリン化合物を晶析する溶剤系としては、例えばエタノール、２−プロパノール等のアルコール系溶媒、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶剤、アセトニトリル、プロピオニトリル、あるいはこれらの有機溶剤と非極性有機溶剤（具体的にはヘキサン、へプタンに代表される脂肪族系炭化水素溶剤、トルエン等の芳香族炭化水素溶剤）との混合系が挙げられる。晶析溶剤としては、アセトニトリル単独、プロピオニトリル単独、トルエン／２−プロパノール混合系、ヘキサン／２−プロパノール混合系、ヘプタン／２−プロパノール混合系、ヘプタン／メチル−ｔ−ブチルエーテル混合系、ヘキサン／アセトニトリル混合系等を挙げることができる。
晶析溶剤の量は、一般式（４）で表されるアニリン化合物１ｋｇに対して通常３〜５０倍容量であるが、好ましくは３〜２０倍容量である。
【００６５】
結晶を析出させる際の温度は５０℃以下、好ましくは５〜３０℃である。
【００６６】
晶析した一般式（４）で表されるアニリン化合物は、通常の固液分離により容易に単離することができる。
これらの操作により反応工程に由来する不純物や着色成分を効果的に除去することができ、一般式（４）で表されるアニリン化合物を高い純度で得ることができる。
【００６７】
次に工程３）を説明する。
工程３）は、得られた一般式（４）で表されるアニリン化合物と塩基とを反応させて、一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレンを得る工程である。
【００６８】
一般式（４）で表されるアニリン化合物は末端アセチレン化合物とケトン化合物がアルドール縮合した骨格を有しており、塩基処理することにより逆アルドール反応で末端アセチレン構造を再生することができる。その手法は合成化学的に公知であり、例えば特許文献１０、非特許文献１、あるいはＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，３６４頁（１９８１）に記載の方法等が代表例として適用される。
【００６９】
一般式（４）で表されるアニリン化合物を塩基と反応して、３−アミノフェニルアセチレンに誘導する際に用いる反応溶剤は、攪拌不能になる等の工程操作上の問題を引き起こさず、反応の進行を妨げず、かつ本発明の反応条件において安定である限り特に制限はなく、例えばジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル系溶媒、ヘキサン、へプタン、デカンに代表される脂肪族系炭化水素溶剤、トルエン、キシレン（ｏ−体、ｍ−体、ｐ−体あるいはこれらの任意の割合の混合物のいずれであってもよい）、メシチレン、エチルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、イソプロピルベンゼン（クメン）、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶剤等を挙げることができる。
【００７０】
反応溶剤は、一般式（４）で表されるアニリン化合物１ｋｇに対して、２〜５０Ｌの範囲で用いることが好ましく、２．５〜２０Ｌがより好ましく、さらに好ましくは３〜１０Ｌである。
【００７１】
工程３）における塩基としては、アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、アルコキシド、あるいはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、アルコキシド等が挙げられるが、好ましくはアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属アルコキシドであり、具体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム−ｔ−ブトキシド、水酸化マグネシウム、水酸化バリウム、マグネシウムメトキシドである。
これらの中でも工業的規模での大量製造適性、入手の容易さ、価格等の観点から、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムに代表されるアルカリ金属水酸化物が特に好ましい。これらはフレーク状、ペレット状のものを使用してもよいし、任意の濃度の水溶液として使用してもよい。水溶液として使用する場合は反応媒体が有機溶剤と水からなる２層系となるが、２層系媒体中でも一般式（４）で表されるアニリン化合物から３−アミノフェニルアセチレンへの変換は容易に進行し、本発明の製造方法の好ましい実施形態の１つである。
【００７２】
工程３）における塩基は、一般式（４）で表されるアニリン化合物に対して、０．０５〜３．０当量の範囲で用いることが好ましく、０．１〜２当量がより好ましく、さらに好ましくは０．２〜１．２当量である。
【００７３】
工程３）における反応温度は、通常６０〜２００℃の範囲であるが、好ましくは６０〜１５０℃、より好ましくは７０〜１４０℃の範囲である。
反応時間は仕込み量、反応温度により異なるが、通常０．５〜８時間であり、１〜６時間の範囲がより好ましい。
反応はアルゴン又は窒素気流等の不活性な雰囲気下で実施し、反応進行に伴い副生するケトン化合物を形外に除去することが好ましい。
【００７４】
反応終了後は、目的とする３−アミノフェニルアセチレンが溶解した有機層を水洗、濃縮することで３−アミノフェニルアセチレンを容易に得ることができる。かかる方法で得られる３−アミノフェニルアセチレンは、通常これ以上精製を行うことなく以降の工程に使用できる程の純度を有する。必要に応じて蒸留、あるいは特許文献１０に記載の方法に準じて造塩することにより精製し、以降の工程に使用することも可能である。
【００７５】
本発明によって得ることのできる、下記一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレン化合物は、熱硬化性樹脂、非線形光学材料、発光材料、光応答性素子、接着剤、医薬または農薬等の合成中間体、及び架橋剤として有用である。
また、本発明の製造方法を用いることによって、特殊な触媒の調製を必要とせず、環境上有害な反応剤を使用することなく有用な一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレン化合物を製造することができるため、生産性に極めて優れている。よって、一般式（５）で表される３−アミノフェニルアセチレンを工業スケールで、経済的に製造することができる。
【００７６】
【化８】
2006282587.tif 000009
【００７７】
以下実施例、比較例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【００７８】
＜実施例１＞
（中間体１を経由する３−アミノフェニルアセチレンの合成（その１））
以下の反応式により合成した。
【００７９】
【化９】
2006282587.tif 000010
【００８０】
３−ブロモアニリン（１７２ｇ）、トリフェニルホスフィン（８．５ｇ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（６００ｍｇ）、ヨウ化銅（Ｉ）（１．２ｇ）及びトリエチルアミン（５００ｇ）からなる混合物に、還流条件下に加熱攪拌しながら２−メチル−３−ブチン−２−オール（１００ｇ）を滴下した。反応混合物を７時間攪拌した後、冷却し、濾過して析出した不溶解成分を除去した。濾液を濃縮、残渣に２−プロパノール（１５０ｍｌ）、ヘキサン（４００ｍｌ）を加えて加熱溶解し、攪拌しながら２０℃まで冷却すると結晶が析出した。
晶析液を１０℃まで冷却した後、濾過して結晶を集め、洗浄、乾燥して１３２ｇの中間体１を淡褐色針状結晶として得た。３−ブロモアニリンを基準として収率は７５％であった。下記に、得られた中間体１の分析結果を示す。
【００８１】
・融点：１１７．２〜１１８．０℃
・11Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）及びマススペクトルデータは、非特許文献１に記載の値と一致した。
【００８２】
次に、中間体１（１０５ｇ）、水酸化ナトリウム（７ｇ）、トルエン（２５０ｍｌ）からなる混合物を、窒素気流下に３時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、濾過し、濾液をエチレンジアミン４酢酸２ナトリウム塩（ＥＤＴＡ−２ナトリウム塩）の水溶液、次いで水で洗浄後、トルエンを留去した。残渣を蒸留し、６２ｇの３−アミノフェニルアセチレンを無色液体として得た。収率は８８％であった。下記に、得られた無色液体の３−アミノフェニルアセチレンの分析結果を示す。
【００８３】
・沸点：  １２８〜１３２℃／５ｍｍＨｇ
・ＧＣ純度：  ９９．２％
・ＭＳ：  ｍ／ｚ１１７（Ｍ+）、８９、６９、５９
・1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：  測定結果のチャートを図１に示す。
【００８４】
ＧＣ測定条件は以下の通りである。
【００８５】
カラム：Ｃｈｒｏｍｐａｃｋ  ＷＣＯＴ  ＦＵＳＥＤ  ＳＩＬＩＣＡ  ＣＰ−ＳＩＬ  ８ＣＢ  ｆｏｒ  ＡＭＩＮＥＳ  ０．２５ｍｍ×３０ｍ
キャリアーガス：ヘリウム、５０ｋＰａ
検出：ＦＩＤ
温度：１３０℃（２０分）→１８０℃（昇温１０℃／分）
【００８６】
＜実施例２＞
（中間体１を経由する３−アミノフェニルアセチレンの合成（その２））
反応スキームは実施例１に記載の反応スキームと同一である。
３−ブロモアニリン（１７２ｇ）、トリフェニルホスフィン（８．５ｇ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（６００ｍｇ）、ヨウ化銅（Ｉ）（１．２ｇ）、テトラｎ−ブチルアンモニウムブロミド（９ｇ）、２−メチル−３−ブチン−２−オール（１００ｇ）及びトリエチルアミン（５００ｇ）からなる混合物を、還流条件下に６時間攪拌した。反応混合物を冷却した後、濾過して析出した不溶解成分を除去した。濾液を濃縮し酢酸エチルで希釈し、エチレンジアミン４酢酸２ナトリウム塩（ＥＤＴＡ−２ナトリウム塩）の水溶液、次いで水で洗浄し、濃縮した。残渣を２−プロパノール／ヘキサン（体積比１／３）からなる混合系から晶析し、析出した結晶を濾過して集め、洗浄、乾燥して１２８ｇの中間体１を淡褐色針状結晶として得た。３−ブロモアニリンを基準として、収率は７３．１％であった。
物性値は実施例１、非特許文献１に記載の値と一致した。
【００８７】
以下実施例１に記載の方法に従い、３−アミノフェニルアセチレンを無色液体として得た。収率は８７％であった。
【００８８】
ＧＣ純度は、９９．３％であった。測定条件は実施例１に記載の測定条件と同一とした。
また、各種スペクトルデータは実施例１で得られたデータと一致した。
【００８９】
＜実施例３＞
（中間体１を経由する３−アミノフェニルアセチレンの合成（その３））
反応スキームは実施例１に記載の反応スキームと同一である。
実施例２に記載の方法で合成した中間体１（５０ｇ）、トルエン（１５０ｍｌ）、水酸化ナトリウム水溶液（水酸化ナトリウム５ｇ／水５０ｍｌ）からなる混合物を、窒素気流下に９０℃で３時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、有機層を分取し、水洗後、トルエンを留去した。残渣を蒸留し、２９ｇの３−アミノフェニルアセチレンを無色液体として得た。収率は８３％であった。
【００９０】
ＧＣ純度は、９９．０％であった。なお測定条件は実施例１に記載の測定条件と同一とした。
また、各種スペクトルデータは実施例１で得られたデータと一致した。
【００９１】
以上説明した実施例より、本発明の製造方法は特殊な触媒の調製や環境上有害な反応剤を使用する必要がなく、クロマトグラフィーといった煩雑な操作も不要である。目的物の純度も高く、３−アミノフェニルアセチレンを工業スケールで、経済的に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】実施例１で得られた３−アミノフェニルアセチレンの1Ｈ−ＮＭＲチャートである。
【図１】
2006282587.tif 000013