(57)【要約】【課題】  比抵抗を検出する検出器の検出子の汚れを簡単に検出できるようにした比抵抗検出器及びこの汚れを自動的に検出する比抵抗検出装置を提供する。【解決手段】  比抵抗検出器は、溶液の抵抗値を測定する主検出器１と副検出器２とを有する。主、副検出器の出力信号Ｅw1,Ｅw2によって、主、副検出器の検出子１１，２１の汚れを検出する。検出子の汚れ具合に速度差が生じるようにするか、検出子が汚れていない状態で同一の溶液の抵抗値を測定し、主、副検出器の出力から異なる抵抗値が得られるように設定する。検出子が汚れると主、副検出器より求められる抵抗値の比が変化することから、この変化より検出子が汚れていると判断する。また、主、副検出器１，２の出力より自動的に抵抗値比を求め、汚れを自動的に判断する。検出子の汚れを正確に判断することができる。検出子を溶液から取り出す必要がなく作業が容易である。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液の比抵抗検出器であって、同一の溶液の抵抗値を測定したとき、夫々異なる抵抗値を検出する主検出器と副検出器で構成し、主、副検出器からの出力に基づいて、主、副検出器の検出子の汚れを検出することを特徴とする溶液の比抵抗検出器。
【請求項２】
溶液の比抵抗検出器であって、主検出器と副検出器で構成し、主検出器の検出子と副検出器の検出子は汚れの付着し易さが異なるよう構成され、主、副検出器からの出力に基づいて、主、副検出器の検出子の汚れを検出することを特徴とする溶液の比抵抗検出器。
【請求項３】
前記主検出器と副検出器は、検出子に汚れが付着していない状態で、同一の溶液の抵抗値を測定したとき、同じ抵抗値を検出するように調整されている請求項２に記載の比抵抗検出器。
【請求項４】
前記主検出器の検出子と副検出器の検出子は汚れの付着し易さが異なるよう構成されている請求項１に記載の比抵抗検出器。
【請求項５】
主検出器の検出子と副検出器の検出子の面粗さに差を設け、検出子への汚れの付着し易さを異ならせている請求項２乃至４の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器。
【請求項６】
主検出器の検出子と副検出器の検出子近傍の溶液の流れ速度を異なるようにして、主、副検出器の検出子を溶液内に配置し、汚れの付着し易さを異ならせた請求項２乃至４の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器。
【請求項７】
主検出器及び副検出器の電源を交流電源とし、一方の検出器の検出子間に微弱な直流電源を印加して、汚れの付着し易さを異ならせた請求項２乃至４の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器。
【請求項８】
前記主、副検出器の電源は直流電源である請求項１乃至６の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器。
【請求項９】
前記主、副検出器の電源は交流電源である請求項１乃至６の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器。
【請求項１０】
前記主、副検出器の電源は定電圧源である請求項１乃至９の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器。
【請求項１１】
前記主、副検出器の電源は定電流源である請求項１乃至９の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器。
【請求項１２】
主検出器の２つの検出子のうちの一方と、副検出器の２つの検出子のうちの一方を共通とした３つの検出子を一組とした請求項１乃至１１の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の内いずれか１項に記載の比抵抗検出器を用い、主、副検出器からの出力より抵抗値の比又は差を求める手段と、求められた抵抗値の比又は差と基準値とを比較し、主、副検出器の検出子の汚れを判別する手段とを備えたことを特徴とする比抵抗検出装置。
【請求項１４】
前記検出子の汚れを判別する手段は、検出器の検出子に汚れが付着していない状態で、主検出器で検出した抵抗値と副検出器で検出した抵抗値との比率に基づいて前記基準値を求め、設定記憶する手段を備える請求項１３に記載の比抵抗検出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ワイヤ放電加工機等に用いられる加工液等の溶液の比抵抗を検出する比抵抗検出器、比抵抗検出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワイヤ放電加工機などの水系の加工液中で加工を行う装置においては、加工精度を一定に保持するために、加工液の比抵抗を一定に保持する必要がある。ワイヤ放電加工機では、比抵抗計を用い、検出した比抵抗値と設定値を比較し、イオン交換器等を用いて、加工液の比抵抗を所定の値に維持するよう制御している。  
図９は、従来から用いられている電源に直流電源を用いた比抵抗検出器の例である。  図９中、比抵抗検出器の検出部である２つの検出子８１，８１間の抵抗をＲｗとする。又、符号８２は２つの検出子８１，８１間の抵抗値を電気信号に変換する変換回路８２で、直流電源Ｅから抵抗Ｒを介して該２つの検出子８１，８１間に電圧が印加されている。検出子８１、８１間の電位差により変換回路８２の電気信号出力Ｅｗとして取り出している。この２つの検出子８１，８１間の抵抗Ｒｗは、
Ｒｗ＝｛Ｅｗ／(Ｅ−Ｅｗ)｝×Ｒ
として表される。即ち、変換回路８２の出力信号Ｅｗによって、検出子８１，８１間の抵抗Ｒｗが求められ、加工液等の溶液の比抵抗値が求められる。
【０００３】
又、図１０は、従来から用いられている交流電源Ｖを電源とした比例抵抗検出器の例で、２つの検出子８１，８１と、交流電源Ｖと増幅器８３で構成された２つの検出子８１，８１間の抵抗値Ｒｗを電気信号に変換する変換回路８２’で構成されている。  
【０００４】
２つの検出子８１，８１間の抵抗値Ｒｗは、変換回路８２’の出力信号Ｖｗによって、次式の演算により求められ、加工液等の溶液の比抵抗値が求められる。
Ｒｗ＝｛Ｖ／(Ｖｗ−Ｖ)｝×Ｒ
しかし、比抵抗検出器の検出子は、比抵抗測定のために常に加工液中に浸されている。長い期間使用し続けると、検出子の表面に加工液中の不純物などの汚れ(スケールなど)が付着する。そのため、検出した比抵抗の値は、検出子に付着した汚れの影響を含んだ値であり、実際の加工液の比抵抗とは異なった値となる。
【０００５】
加工液の比抵抗は、比抵抗検出器の検出値をもとに制御するため、実際の比抵抗が設定値とかけ離れていても、加工に影響が現れるまで、気付かない場合が多々ある。  
このため、比抵抗計の検出子は、定期的、あるいは随時に汚れを目視等で確認して、清掃し、付着物を除去する必要がある。  
ただ、検出子の汚れは、月或いは年の単位で進行するため、うっかり忘れるなどのミスも起こり易い。また、その汚れ具合は、放電加工機の加工の状況で変化するので、状況に合わせ汚れ具合を確認するなど煩雑な面もある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
溶液の比抵抗を検出する検出器の検出子が汚れているか否かの確認は忘れがちになる。特に、検出子の汚れは、一挙に変化するものではなく、徐々に長時間に亘って変化するものである。しかも、ワイヤ放電加工機の場合、検出された比抵抗が所定値になるようにイオン交換器等でフィードバック制御がなされるものであるから、作業員は、比抵抗を検出する検出器の検出子が汚れ、加工液の比抵抗と検出した比抵抗が乖離していることを発見することは難しい。又、検出子の汚れを目視で検出することも難しい。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、比抵抗を検出する検出器の検出子の汚れを簡単に検出できるようにした比抵抗検出器及びこの汚れを自動的に検出する比抵抗検出装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の請求項１に係る発明は、溶液の比抵抗検出器であって、同一の溶液の抵抗値測定したとき、夫々異なる抵抗値を検出する主検出器と副検出器で構成し、主、副検出器からの出力に基づいて、主、副検出器の検出子の汚れを検出することを特徴とするものである。又、請求項２に係る発明の比抵抗検出器は、主検出器と副検出器で構成し、主検出器の検出子と副検出器の検出子は汚れの付着し易さが異なるように構成され、主、副検出器からの出力に基づいて、主、副検出器の検出子の汚れを検出することを特徴とするものである。請求項３に係る発明は、この請求項２に係る発明において、主検出器と副検出器の検出子に汚れが付着していない状態で、同一の溶液の抵抗値を測定したとき、同じ抵抗値を検出するように調整されているものとした。  
又、請求項４に係る発明は、請求項１に記載の発明において、前記主検出器の検出子と副検出器の検出子への汚れの付着し易さが異なるようしたものである。
【０００９】
検出子への汚れの付着し易さが異なるようにする構成として、請求項５に係る発明は、主検出器の検出子と副検出器の検出子の面粗さに差を設け、検出子への汚れの付着し易さを異ならせ、請求項６に係る発明は、主検出器の検出子と副検出器の検出子近傍の溶液の流れ速度を異なるようにして、主、副検出器の検出子を溶液内に配置し、汚れの付着し易さを異ならせ、請求項７に係る発明は、主検出器及び副検出器の電源を交流電源とし、一方の検出器の検出子間に微弱な直流電源を印加して、汚れの付着し易さを異ならせたものである。
【００１０】
又、前記主、副検出器の電源として請求項８に係る発明は、直流電源とし、請求項９に係る発明は、交流電源としたものである。請求項１０に係る発明は、請求項１乃至９に係る発明の電源を定電圧源とし、請求項１１に係る発明は、請求項１乃至９に係る発明の電源を定電流源としたものである。又、請求項１２に係る発明は、上述した主検出器の２つの検出子のうちの一方と、副検出器の２つの検出子のうちの一方を共通とした３つの検出子を一組とした比抵抗検出器である。
【００１１】
請求項１３に係る発明は、請求項１乃至１２に係る発明の比抵抗検出器を用い、主、副検出器からの出力より抵抗値の比又は差を求める手段と、求められた抵抗値の比又は差と基準値とを比較し、主、副検出器の検出子の汚れを判別する手段とを設けることにより、自動的に検出器の汚れを検出できるようにした比抵抗検出装置である。又、請求項１４に係る発明は、前記検出子の汚れを判別する手段を、検出器の検出子に汚れが付着していない状態で、主検出器で検出した抵抗値と副検出器で検出した抵抗値との比率に基づいて前記基準値を求め、設定記憶する手段を備えるものとした。
【発明の効果】
【００１２】
検出器の検出子の汚れを目視に頼らず、検出器の出力信号に基づいて検出できるから、正確に検出子の汚れを検出できる。又、検出子を溶液から取り出す必要がないので、検出子の汚れ検査作業が容易となる。さらに、比抵抗検出装置として自動的に検出子の汚れを検出することもできるので、検出子の汚れ検査作業を必要とせず、検査忘れを無くすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
溶液の比抵抗（Ω・ｃｍ）は、検出子で溶液の抵抗値（Ω）を測定し、検出子の表面積、検出子間の距離等から算出される。そのため、同じ比抵抗値の溶液を測定しても、検出子間の距離、検出子の表面積が異なれば測定される抵抗値が異なることになる。本発明の比抵抗検出器、及び該比抵抗検出器を使用し、自動的に検出子の汚れを検出する比抵抗検出装置の各実施形態では、溶液の抵抗値を検出する主検出器と副検出器の２つの検出器を備えている。そして、第１の実施形態では、２つの検出器の検出子が汚れていない状態で、夫々異なった抵抗値を検出する状態として、検出子の汚れを検出するようにする。又、第２の実施形態では、２つの検出器の検出子に付着する汚れの付着具合（汚れの進行速度）が異なる状態にして、検出器の汚れを検出するものである。さらに、第３の実施形態は、第１の実施形態と第２の実施形態を重畳したものである。
【００１４】
比抵抗を検出しようとする溶液の容量が大きい場合などは、測定場所によって比抵抗が異なるときがある。ワイヤ放電加工機では、加工液タンク内の加工液をイオン交換器に循環させて、比抵抗の調整を行う場合が多い。この場合、イオン交換器の加工液入口付近と出口付近では、異なる比抵抗となる。
【００１５】
このような溶液収納容器内の場所による溶液の比抵抗のばらつきの影響を受けないようにするために、本発明の各実施形態では、主、副の２つの検出器を近接して設けられた比抵抗検出器とする。
【００１６】
第１の実施形態では、溶液の比抵抗を測定する比抵抗測定器として、検出される抵抗値が夫々異なる主検出器と副検出器の２つの検出器を用いる。  
主、副の検出器の各検出子が汚れていないときの主検出器で検出した抵抗値に対する副検出器で検出した抵抗値の比を１／χとする。そのときの検出抵抗値は、
主検出器の検出子（以下、主検出子という）間の溶液の抵抗値Ｒｍ＝Ｒ０    …（１）
副検出器の検出子(以下、副検出子という)間の溶液の抵抗値Ｒｓ＝Ｒ０／χ  …（２）
と表せる。
【００１７】
主、副、両検出子に汚れが付着した場合、その検出子に付着した汚れの抵抗値＝Ｒｄとすると、汚れが付着した場合の各検出子間の抵抗値は、
汚れが付着した場合の主検出子間の抵抗値Ｒｍ＝Ｒ０＋Ｒｄ＝Ｒｍｄ        …（３）
汚れが付着した場合の副検出子間の抵抗値Ｒｓ＝Ｒ０／χ＋Ｒｄ＝Ｒｓｄ    …（４）
検出子に汚れが付着していない場合の副検出器の検出抵抗値に対する主検出器の検出抵抗値の比Ｒｓ／Ｒｍは、
（Ｒ０／χ）／Ｒ０＝１／χ        …（５）
と表されるが、検出子に汚れが付着した場合、
Ｒｓｄ／Ｒｍｄ＝
｛(Ｒ０／χ)＋Ｒｄ｝／(Ｒ０＋Ｒｄ)
＝｛(Ｒ０／χ)＋(Ｒｄ／χ)＋(χ−1)×(Ｒｄ／χ)｝／(Ｒ０＋Ｒｄ)
＝｛(Ｒ０/χ)＋(Ｒｄ/χ)｝/(Ｒ０＋Ｒｄ)｝＋(χ−1)×(Ｒｄ/χ)/(Ｒ０＋Ｒｄ)｝
＝1／χ＋｛(χ−1)×Ｒｄ／χ｝／(Ｒ０＋Ｒｄ)
≠1／χ                                                  …（６）
となり、検出子に汚れが付着しているか否かで、抵抗値の比が変わるので、これにより、検出子の汚れを判別できる。  
従って、主、副両方の検出子間の抵抗値を監視することで、検出子の汚れ具合を知ることができる。
この場合、χの値が１に近くないほど、例えば、χ＝０．９よりもχ＝０．１の方が、また、χ＝１．１よりもχ＝２の方が、抵抗値の比の変化が大きく、検出し易い。
【００１８】
第２の実施形態では、２つの検出器における検出子への汚れの付着具合（汚れの進行速度）に差があるように構成したものである。主、副２つの検出器の各検出子を同一溶液中に、近接して浸して配置すると、主、副２つの検出器の各検出子は同じ環境に置かれることになるから、検出子の汚れ付着具合も同程度となる。そのため、第１の実施形態では、検出子に汚れが付着されていない状態で、主、副２つの検出器の検出抵抗値が異なるように構成したが、この第２の実施形態では検出子に汚れが付着されていない状態で、主、副２つの検出器の検出抵抗値は同じとし、検出子に対する汚れの付着具合（汚れの進行速度）が異なるように構成する。物の表面はその面が粗い方が、汚れが付着し易い。そのため、この第２の実施形態では、主、副一方の検出器における検出子の面粗さを、他方の検出器における検出子の面粗さより粗く形成する。
【００１９】
また、溶液の流れの速さでも、その検出子への汚れの付着の仕方が異なる。流れの速い方が、スケールなど汚れの付き易い傾向にある。従って、溶液の流れのある場所に検出器を設置する場合は、片方に溶液の流れを緩和するための覆いなどを設置することで、検出子周囲における溶液の流れの速度に差を持たせることによって、汚れの付着具合に差をつけるようにする。
【００２０】
検出子が汚れていない状態では、
主検出子間の加工液の抵抗値Ｒｍ＝副検出子間の加工液の抵抗値Ｒｓ＝Ｒ０  …（７）
であるが、比抵抗検出器を使用し、検出子に汚れが付着している場合、汚れの付着具合（汚れの進行速度）が異なることから、
主検出子に付着した汚れの抵抗値＝Ｒｄ          …（８）
副検出子に付着した汚れの抵抗値＝Ｒｄ’        …（９）
とする。
【００２１】
図８は、検出子１１に汚れが付着していない状態と、汚れが付着している状態での検出子間の抵抗を模式的に表したもので、図８（ａ）は、検出子１１、１１に汚れが付着していない状態を示し、検出子１１，１１間の抵抗がＲ０であることを示している。又、図８（ｂ）は、検出子１１，１１に汚れが付着し、検出子１１，１１の抵抗がそれぞれＲｄ／２だけ増加し、検出子１１，１１間の抵抗がＲ０＋Ｒｄになっていることを示している。
【００２２】
よって、
汚れが付着した場合の、主検出子間の抵抗値Ｒｍ＝Ｒ０＋Ｒｄ＝Ｒｍｄ’  …（１０）
汚れが付着した場合の、副検出子間の抵抗値Ｒｓ＝Ｒ０＋Ｒｄ’＝Ｒｓｄ’…（１１）
となる。
ここで、
Ｒｄ’=α×Ｒｄ              …（１２）
とすると、
Ｒｓｄ’＝Ｒ０＋α×Ｒｄ
＝Ｒ０＋Ｒｄ＋(α−１)×Ｒｄ
＝Ｒｍｄ’＋(α−1)×Ｒｄ
≠Ｒｍｄ’              …（１３）
となり、汚れが付着する前は等しかった主、副両検出子間の抵抗値が、汚れが付着した後は等しくなくなる。その差、あるいは比を監視することで、検出子の汚れ具合を知ることができる。
【００２３】
第３の実施形態は、上述した第１，第２の実施形態を合わせたもので、主検出器と、主検出器と同一の溶液中に浸したときに、検出子間の加工液の抵抗値が主検出器とは異なる抵抗値を検出するように検出子を配した副検出器を備え、この主、副、２つの検出子の、汚れの付着し易さに差をつけることで、より、汚れを検出し易くしたものである。
ここで、検出器で汚れがない状態で
主検出子間の加工液の抵抗値Ｒｍ＝Ｒ０          …（１４）
副検出子間の加工液の抵抗値Ｒｓ＝Ｒ０／χ      …（１５）
比抵抗検出器を使用し、検出子に汚れが付着したとき、
主検出子に付着した汚れの抵抗値＝Ｒｄ          …（１６）
副検出子に付着した汚れの抵抗値＝α×Ｒｄ      …（１７）
とすると、
汚れが付着した主検出子間の抵抗値＝Ｒ０＋Ｒｄ＝Ｒｍｄ”              …（１８）
汚れが付着した副検出子間の抵抗値＝(Ｒ０／χ)＋α×Ｒｄ＝Ｒｓｄ”    …（１９）
となる。
検出子に汚れが付着していない場合の抵抗値の比は、
副検出器の抵抗値／主検出器の抵抗値＝(Ｒ０／χ)／Ｒ０＝1／χ        …（２０）
検出子に汚れが付着した場合は、
Ｒｓｄ”／Ｒｍｄ”＝｛(Ｒ０／χ)＋α×Ｒｄ｝／(Ｒ０＋Ｒｄ)
＝｛(Ｒ０／χ)＋(Ｒｄ／χ)＋(χ×α−1)×Ｒｄ／χ｝／(Ｒ０＋Ｒｄ)
＝1／χ＋｛(χ×α−1)×Ｒｄ／χ｝／(Ｒ０＋Ｒｄ)        …（２１）
式(６)と式(２１)を比較してわかるように、式(６)は、式(２１)の、α＝1の場合の式である。ここで、例えば、χ≧1で、α＞1となるように汚れの付着し易さに差をつけると、
(Ｒ０／χ)／Ｒ０＝１／χ＜Ｒｓｄ／Ｒｍｄ＜Ｒｓｄ''／Ｒｍｄ''      …（２２）
となり、汚れの付着し易さに差をつけることで、抵抗値の比の変化を大きくでき、より、容易に検出できるようになる。
【００２４】
例えば、χ＞１の場合、α＞１となるように、また、χ＜１（０．９や０．１)の場合、α＜１（同様に０．９や０．１）となるように、検出子の面粗さに差をつけると、抵抗値の比の変化が大きくなり、検出し易い。
但し、α＝１／χの場合は、
Ｒｓｄ”／Ｒｍｄ”＝｛(Ｒ０／χ)＋(Ｒｄ／χ)｝／(Ｒ０＋Ｒｄ)＝1／χ
となり、汚れが付着しても検出できないが、α≠１／χとなるように、χとαを選べば問題ない。
【００２５】
図１乃至４は、本発明の比抵抗検出器の態様の要部回路図である。  
図１に示す第１の態様の比抵抗検出器は、主検出器１と副検出器２の２つの検出器が設けられている。主検出器１は、２つの検出子１１，１１と該２つの検出子１１，１１間の抵抗値を電気信号に変換する変換回路１２で構成されている。変換回路１２は直流電源Ｅ１と抵抗Ｒ１及び出力端子からなり、２つの検出子１１，１１間に抵抗Ｒ１を介して電圧を印加している。そして、２つの検出子１１，１１の間の電位差を出力電気信号Ｅｗ１として出力している。
【００２６】
同様に、副検出器２も、２つの検出子２１，２１と該２つの検出子２１，２１間の抵抗値を電気信号に変換する変換回路２２で構成されている。変換回路２２は直流電源Ｅ２と抵抗Ｒ２及び出力端子からなり、２つの検出子２１，２１間に抵抗Ｒ２を介して電圧を印加している。検出子２１、２１の間の電位差を出力電気信号Ｅｗ２として出力している。
【００２７】
主検出器１の検出子１１，１１間の抵抗値をＲｍ、副検出器２の検出子２１，２１間の抵抗値をＲｓとすると、各検出器１，２からの出力Ｅｗ１，Ｅｗ２は次のようになる。
Ｅｗ１＝Ｅ１×Ｒｍ／（Ｒ１＋Ｒｍ）        …（２３）
Ｅｗ２＝Ｅ２×Ｒｓ／（Ｒ２＋Ｒｓ）        …（２４）
抵抗Ｒ１，Ｒ２、電源電圧、Ｅ１，Ｅ２は既知の値であるから、上記（２３）式、（２４）式により、検出器１，２からの出力Ｅｗ１，Ｅｗ２より抵抗値Ｒｍ，Ｒｓを求めることができる。そして、求めた抵抗値Ｒｍ，Ｒｓの比、又は差によって、検出器の検出子１１，１１，１２，１２が汚れたかを判別することができる。
【００２８】
第１の実施形態においては、この図１に示す態様の比抵抗検出器において、主、副の検出器１，２の検出子１１，１１，１２，１２に汚れがない状態で、副検出器２の一対の検出子２１，２１間の抵抗値（Ｒ０／χ）と主検出器１の一対の検出子１１，１１間の抵抗値Ｒ０の比を１／χとしている。
【００２９】
前述したように、検出子１１，１１，２１，２１に汚れが付着していない状態では、(５)式に示すように、副検出器２の一対の検出子２１，２１間の抵抗値（Ｒ０／χ）と主検出器１の一対の検出子１１，１１間の抵抗値Ｒ０の比は１／χであるが、スケール等の汚れが付着した状態では、(６)式に示すように、この比は、１／χとは異なったものとなる。例えば、χ＞１とすると、この比は１／χより大きい値となる。（６）式から分るように、検出子に付着した汚れの抵抗値Ｒｄが大きいほど、主検出子１１，１１間の抵抗値と副検出子２１，２１間の抵抗値の比、Ｒｓ／Ｒｍの値は大きい。この比が所定値以上になった時に、検出子１１，１１，２１，２１が汚れたと判断し、清掃するようにすればよい。
【００３０】
このように、検出器１，２からの出力Ｅｗ１，Ｅｗ２によって、検出子間の抵抗値を求め、該検出抵抗値より検出子の汚れ具合を検出できるから、従来のように目視によって、汚れ具合を検出する場合と比較して、正確に汚れ具合を検出できる。また、検出子を溶液内から取り出さずにその汚れ具合を検出できるから、検出子管理の作業が容易となる。
【００３１】
又、主、副の検出器１，２の検出子１１，１１，２１，２１が汚れていない状態で、電源Ｅ１，Ｅ２を同じ電圧として、変換回路１２，２２の抵抗Ｒ１，Ｒ２の一方を調整し、主、副検出器１，２の出力Ｅｗ１，Ｅｗ２が同一レベルの電気信号を出力するように調整しておき、この主、副検出器１，２の出力Ｅｗ１，Ｅｗ２の差が所定値以上になると、検出子１１，１１，２１，２１に汚れが付着したとして清掃するようにしてもよい。
なお、図２に示すように、主、副の検出器１，２の電源電圧を共通にしてもよいものである。
【００３２】
図３は第２の態様の比抵抗検出器の要部回路図であり、主、副検出器１，２の検出子の１つを共通化した実施形態である。主、副検出器１，２の検出子の１つは共通化した検出子３１とされ、主検出器１の専用の検出子１１と、副検出器２専用の検出子２１の合計３つの検出子が設けられているものである。これにより、主検出器１の検出子は、検出子１１と検出子３１のペアで構成され、副検出器２の検出子は、検出子２１と検出子３１のペアで構成されている。そして、検出子１１，３１，２１に汚れが付着していない状態で、主検出器１の検出子１１，３１間の抵抗値をＲ０、副検出器２の検出子２１，３１間の抵抗値をＲ０／χとするものである。他は、図１と共に説明した第１の態様と同一である。
なお、図４に示すように、主、副の検出器１，２の電源電圧を共通にしてもよいものである。
【００３３】
図５は、図４に示した比抵抗検出器を用いて、自動的に検出子の汚れを検出する比抵抗検出装置の第１の態様のブロック図である。この図５に示す態様では、比抵抗検出器の各検出器１，２からの出力Ｅｗ１，Ｅｗ２は、抵抗値の比を求める手段４に設けられた抵抗値演算手段４１，４２にそれぞれ入力され、各抵抗値演算手段４１，４２により下記（２５）式、（２６）式の演算を行って各検出器１，２の検出子間の抵抗値Ｒｍ，Ｒｓが求められる。
【００３４】
Ｒｍ＝Ｅｗ１×Ｒ１／（Ｅ−Ｅｗ１）      …（２５）
Ｒｓ＝Ｅｗ２×Ｒ２／（Ｅ−Ｅｗ２）      …（２６）
この各抵抗値演算手段４１，４２で求められた抵抗値Ｒｍ，Ｒｓの比（Ｒｓ／Ｒｍ）を比率演算手段４３によって求める。前述したように、最初は、Ｒｍ＝Ｒ０，Ｒｓ＝Ｒ０／χに設定されているから、Ｒｓ／Ｒｍ＝１／χが出力されることになる。しかし、検出子が汚れてくると、前述したように、この比（Ｒｓ／Ｒｍ）は１／χから乖離してくる。そこで、この比率演算手段４３の出力（Ｒｓ／Ｒｍ）と、予め設定記憶されている設定値（基準値）３とを比率比較手段５で比較し、該設定値（基準値）を超えるときには検出子が汚れていることを示す信号を出力する。このようにして、自動的に検出子の汚れが検出される。
【００３５】
図６は、別の態様の自動的に検出子の汚れを検出する比抵抗検出装置の態様のブロック図である。この図６に示す比抵抗検出装置の態様では、図１に示した第１の態様の比抵抗検出器を用いるものである。また、図５に示した比抵抗検出装置の態様と比較し、基準値の設定の方法が相違し、抵抗値の比を求める手段４’における各抵抗値演算手段４１’，４２’の演算式が異なっている。また、比率演算手段４３、比率比較手段５の構成は同一である。
【００３６】
この比抵抗検出装置の態様では、各抵抗値演算手段４１’，４２’が下記（２７）式、（２８）式の演算を行って各検出器１，２の検出子間の抵抗値Ｒｍ，Ｒｓを求める。  
Ｒｍ＝Ｅｗ１×Ｒ１／（Ｅ１−Ｅｗ１）      …（２７）
Ｒｓ＝Ｅｗ２×Ｒ２／（Ｅ２−Ｅｗ２）      …（２８）
そして、比率演算手段４３でその抵抗値の比率（Ｒｓ／Ｒｍ）を演算する。比率演算手段４３の出力は、基準値を設定記憶する手段３’と、比率比較手段５に入力される。この比抵抗検出装置の使用を開始した時点では、検出子に汚れは付着していないので、比率演算手段４３からは、主、副検出器で検出した抵抗値の比率Ｒｓ／Ｒｍ＝１／χが出力される。基準値を設定記憶する手段３’では、この値に所定の補正を加え、基準値として設定記憶する。以後は、この基準値と比率演算手段４３から出力される抵抗値の比率（Ｒｓ／Ｒｍ）とを比率比較手段５で比較し、比率演算手段４３の出力が基準値を超えると検出子が汚れていることを示す信号を出力することになる。
【００３７】
なお、図６に示す比抵抗検出装置の態様で、比抵抗検出器を図２至乃４に示すいずれの比抵抗検出器に変えても、また図５に示す比抵抗検出装置の態様において、比抵抗検出器を図１至乃３に示すいずれの比抵抗検出器に変えてもよいものである。
【００３８】
図７は、さらに第３の態様の自動的に検出子の汚れを検出する比抵抗検出装置のブロック図である。この第３の態様の比抵抗検出装置においても比抵抗検出器としては、図１至乃４に示すいずれの比抵抗検出器を用いてもよいものであるが、図７では図４に示した比抵抗検出器を用いている。そして、主検出器１の変換回路１２の抵抗をＲとし、副検出器２の変換回路２２の抵抗をＲ／χとしている。さらに、この主、副検出器１，２の出力Ｅｗ１，Ｅｗ２を差動増幅器６に入力し、該差動増幅器６の出力を、絶対値回路７を介してコンパレータ８に入力し、自動的に検出子の汚れを知らせるようにしたものである。
【００３９】
検出子１１，３１，２１に汚れが付着していない状態で、主検出器１の検出子１１，３１間の抵抗値をＲ０、副検出器２の検出子２１，３１間の抵抗値をＲ０／χとしている。このときの主検出器１、副検出器２の出力は
Ｅｗ１＝Ｅ×Ｒ０／（Ｒ＋Ｒ０）                                        …（２９）
Ｅｗ２＝Ｅ×(Ｒ０／χ)／｛(Ｒ／χ)＋(Ｒ０／χ)｝＝Ｅ×Ｒ０／(Ｒ＋Ｒ０)…（３０）
となり、同一レベルの電気信号を出力する。このとき、差動増幅器６の出力は０Ｖとなり、絶対値回路７の出力も０Ｖとなる。コンパレータ８の基準値は０Ｖより少し高いところに設定しておき、この時のコンパレータ８の出力はハイレベルとなるようにしておく。検出子１１，３１，２１が汚れ、前述したように検出子間の抵抗値が変わると、主検出器１、副検出器２の出力はＥｗ１、Ｅｗ２の出力は異なり、絶対値回路７の出力レベルが基準値を超えると、コンパレータ８の出力がロウレベルとなり、検出子が汚れたことを自動的に知らせる。なお、この図７に示す比抵抗検出装置の第３の態様においても、図１至乃４に示すいずれの比抵抗検出器の構成を用いてもよいものである。この第３の比抵抗検出装置の態様では、この比抵抗検出装置を使用開始するとき、主、副検出器の電源が個別にある場合は、主検出器の電源Ｅ１と副検出器の電源Ｅ２を同じ電圧とし、主、副検出器の検出子間の抵抗値の比Ｒｓ／Ｒｍが１／χとなるように形成し、かつ、主検出器１の変換回路１２の抵抗をＲに対して副検出器２の変換回路２２の抵抗をＲ／χとし（逆に副検出器の抵抗を基準にして主検出器の比較回路の抵抗値を調整するようにしてもよい。）、主、副検出器１，２の出力Ｅｗ１，Ｅｗ２が同一となるように設定しておけばよいものである。
【００４０】
以上、第１の実施形態として、主検出器１と副検出器２の検出子に汚れが付着していない状態で主、副検出器における一対の検出子間の抵抗値の比を１／χとしたときの、検出子の汚れを検出できる比抵抗検出器及び自動的に検出する比抵抗検出装置のいくつかの態様について説明した。
【００４１】
次に第２の実施形態について説明する。この第２の実施形態における比抵抗検出器及び自動的に検出子の汚れを検出する比抵抗検出装置についても、図１至乃７に示すような態様で、主、副２つの検出器１，２を備える比抵抗検出器で構成し、検出子の汚れの付着し易さ(汚れの進行速度)が異なるようにしたものである。第２の実施形態では、検出子に汚れが付着していない状態で、主検出器１の検出子１１と検出子１１又は検出子１１と検出子３１間の抵抗値と副検出器２の検出子２１と検出子２１又は検出子２１と検出子３１間の抵抗値は同じとするものである。
【００４２】
この場合、(１３)式に示すように、検出子が汚れると、主、副検出器の検出子間の抵抗値は、夫々異なった値となることから、図１至乃４に示す態様では、主、副検出器１，２の出力Ｅｗ１、Ｅｗ２から演算された抵抗値の比が、検出子が汚れていない場合と比較して相違してくる、この比が所定値を超えると検出子が汚れたものとして、清掃するようにする。
【００４３】
図１至乃４に示す態様において、主、副検出器の電源が個別にある場合は、主検出器の電源Ｅ１と副検出器の電源Ｅ２を同じ電圧とし、主、副検出器１，２の変換回路１２、２２の抵抗Ｒ１、Ｒ２を同じ抵抗値とすれば、検出器に汚れがない状態では、主、副検出器１，２の出力Ｅｗ１、Ｅｗ２は同一であり、検出子の汚れが進むと、異なった値となることから、主、副検出器１，２の出力Ｅｗ１、Ｅｗ２の比又は差が所定値を超えたとき検出子が汚れているとして清掃するようにすればよい。
【００４４】
又、図５至乃７に示す自動的に検出子の汚れを検出する比抵抗検出装置については、第１の実施形態とその構成は同様であるので、説明は省略する。
なお、第２の実施形態における図７に示す第３の比抵抗検出装置の態様では、副検出器２の変換回路２２の抵抗値は、主検出器２の変換回路１２の抵抗値と同じにすればよいものである。
【００４５】
第３の実施形態は、第２の実施形態と同様に、比抵抗検出器の主、副検出器１，２の検出子への汚れの付着し易さ(汚れの進行速度)に差があるように構成し、さらに、第１の実施形態と同様に検出子が汚れていない状態で、主検出器で検出した抵抗値に対する副検出器で検出した抵抗値の比を１／χとし、主検出子間の溶液の抵抗値＝Ｒ０、副検出子間の溶液の抵抗値＝Ｒ０／χとしたものである。
【００４６】
この第３の実施形態では、検出子が汚れていない状態では、副検出器の抵抗値と主検出器の抵抗値の比は１／χであるが、検出子が汚れてくると(２１)式に示すように、この比は１／χと異なった値に変化する。その差又は比が基準値を超えると検出器が汚れたとして検出できる。
【００４７】
上述した、各実施形態では、直流の定電圧源を用いた。電源には、直流の定電圧源の他に、直流の定電流源や、交流の定電圧源、交流の定電流源があり、本発明において、どの電源を用いてもよいものである。常に加工液中に浸した状態で使用する場合、直流電圧をかけ続けると、検出子に放電加工で発生した金属の水酸化物などの汚れが吸着するなど不具合が生じる。このため、通常は交流電源を用いるなど、検出子にかかる平均電圧が０Ｖになる方式をとるのが普通である。この場合、一方の検出子に微弱な直流電圧を印加することで、汚れ具合に差をつけることも可能となるから、この方法により、検出子の汚れ具合（汚れの進行速度）に差をつけるようにしてもよいものである。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の各実施形態に用いる比抵抗検出器の第１の態様の、主、副個別に電源を有する場合の概要回路図である。
【図２】本発明の各実施形態に用いる比抵抗検出器の第１の態様の、電源を共通にした場合の概要回路図である。
【図３】本発明の各実施形態に用いる比抵抗検出器の第２の態様の、主、副個別に電源を有する場合の概要回路図である。
【図４】本発明の各実施形態に用いる比抵抗検出器の第２の態様の、電源を共通にした場合の概要回路図である。
【図５】本発明の各実施形態を構成する第１の態様の比抵抗検出装置のブロック図である。
【図６】本発明の各実施形態を構成する第２の態様の比抵抗検出装置のブロック図である。
【図７】本発明の各実施形態を構成する第３の態様の比抵抗検出装置のブロック図である。
【図８】検出子にスケール等の汚れが付着したときの検出子間の抵抗が変化することの説明図である。
【図９】電源に直流電源を用いた、従来の比抵抗検出器の一例の概要回路図である。
【図１０】電源に交流電源を用いた、従来の比抵抗検出器の一例の概要回路図である。
【符号の説明】
【００４９】
１    主検出器
２    副検出器
３    基準値
３’  基準値を設定記憶する手段
E, E1, E2  直流電源
Ｖ    交流電源
４，４’  抵抗値の比を求める手段
４１，４１’  抵抗値演算手段
４２，４２’  抵抗値演算手段
４３  比率演算手段
５    比率比較手段
６    差動増幅器
７    絶対値回路
８    コンパレータ
９    汚れ
１１  検出子(主検出子)
２１  検出子(副検出子)
３１  検出子(共通検出子)
１２，２２  変換回路  
Ｒ，Ｒ１，Ｒ２  抵抗
Ｅｗ１，Ｅｗ２  検出器の出力
８０  検出器
８１  検出子  
８２，８２’    変換回路
８３  差動増幅器
Ｅｗ，Ｖｗ  変換回路の出力
Ｒｗ  検出子間の加工液の抵抗値
Ｒｍ  主検出子間の加工液の抵抗値
Ｒｓ  副検出子間の加工液の抵抗値
Ｒｄ  汚れの抵抗値
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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