(57)【要約】【課題】光の利用効率に優れ、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】本発明のマイクロレンズ基板１は、光を入射させる面側に複数個のマイクロレンズ２１が形成されており、マイクロレンズ２１が形成されている面とは反対の面側には、当該面付近において、入射した光が全反射するのを防止する機能を有する全反射防止部としての凸曲面２２が多数形成されている。マイクロレンズ２１の曲率半径をＲ１［μｍ］、凸曲面２２の曲率半径をＲ２［μｍ］としたとき、３≦Ｒ２／Ｒ１≦１０の関係を満足する。また、凸曲面２２は、凸曲面２２の頂部と、マイクロレンズ２１の頂部とが、平面視した際に重なり合うように配されている。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の凸レンズを有するレンズ基板を製造する方法であって、
所定の曲率半径の凹部が多数形成された第１の凹部付き基板と、前記第１の凹部付き基板に設けられた凹部よりも曲率半径の大きい凹部が多数形成された第２の凹部付き基板との間に、流動性を有する樹脂材料を充填する工程と、
前記樹脂材料を固化させる工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
前記第１の凹部付き基板と第２の凹部付き基板との間に、前記樹脂材料と同程度の屈折率を有するスペーサーを配した状態で、前記樹脂材料を固化させる請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法を用いて製造されたことを特徴とするレンズ基板。
【請求項４】
光を入射させて用いるレンズ基板であって、
前記光を入射させる第１の面側に凸レンズが形成されており、
前記第１の面とは反対の第２の面側に、前記第１の面側から入射した光が前記第２の面付近で全反射するのを防止する機能を有する全反射防止部が設けられていることを特徴とするレンズ基板。
【請求項５】
前記全反射防止部は、多数個の凸曲面である請求項４に記載のレンズ基板。
【請求項６】
前記凸曲面の曲率半径は、１．６〜１２５００μｍである請求項５に記載のレンズ基板。
【請求項７】
前記凸レンズの曲率半径をＲ１［μｍ］、前記凸曲面の曲率半径をＲ２［μｍ］としたとき、３≦Ｒ２／Ｒ１≦１０の関係を満足する請求項５または６に記載のレンズ基板。
【請求項８】
平面視したときの、前記凸レンズが形成されている有効領域において、前記凸曲面が占める面積の割合が、５０％以上である請求項５ないし７のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項９】
前記凸曲面の頂部と、前記凸レンズの頂部とが、平面視した際に重なり合う請求項５ないし８のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項１０】
前記凸レンズの曲率半径は、５〜２５０μｍである請求項４ないし９のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項１１】
レンズ基板は、主として、絶対屈折率が１．２〜１．９の樹脂材料で構成されたものである請求項４ないし１０のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項１２】
前記凸レンズは、レンズ基板を平面視したときの形状が略円形または略楕円形のマイクロレンズである請求項４ないし１１のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項１３】
光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された請求項３ないし１２のいずれかに記載のレンズ基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１４】
請求項１３に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタ（背面投射型プロジェクションテレビ）は、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
このようなリア型プロジェクタでは、画像のコントラストを高めるために、映像光の強度の低下を抑えつつ、外光反射（映像光の出射側（観察者側）からの外光の反射）を抑えることが求められる。
このような目的を達成するために、レンチキュラレンズの光の出射面に、表面にマット加工やヘアライン加工が施された透光性前面板を配した投射スクリーンが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、上記のような加工を施した場合、外光の反射を抑制することができるものの、画像を形成するための入射光が、レンチキュラーレンズシートの光の出射面付近において全反射を起こすことを避けられなかった。より詳しく説明すると、上記のような加工を施した場合、レンチキュラーレンズシートの光の出射面と、レンチキュラーレンズシートが置かれた雰囲気（一般に、レンチキュラーレンズシートよりも絶対屈折率が小さい）との界面において、光の入射角が臨界角以上になる箇所が必然的に存在し、全反射を起こす。このような全反射が起こると、入射光の透過率が低下することになり、得られる画像は暗いものとなってしまう。また、上記のような全反射が起こると、外光反射を十分に防止したとしても、入射光の強度に対する出射光の強度の比率が低下するため、結果として、得られる画像のコントラストが低下する。
【０００４】
また、特許文献１には、透光性前面板の表面に、無反射コート処理、ハードコート処理を施すことについても提案されているが、このような処理を行った場合、コート層（無反射コート層、ハードコート層）での光の吸収が起こるため、前記と同様に、入射光の強度に対する出射光の強度の比率が低下し、結果として、得られる画像のコントラストが低下する。
【０００５】
【特許文献１】特開平７−１０４３８５号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、光の利用効率に優れ、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数の凸レンズを有するレンズ基板を製造する方法であって、
所定の曲率半径の凹部が多数形成された第１の凹部付き基板と、前記第１の凹部付き基板に設けられた凹部よりも曲率半径の大きい凹部が多数形成された第２の凹部付き基板との間に、流動性を有する樹脂材料を充填する工程と、
前記樹脂材料を固化させる工程とを有することを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れ、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
【０００８】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記第１の凹部付き基板と第２の凹部付き基板との間に、前記樹脂材料と同程度の屈折率を有するスペーサーを配した状態で、前記樹脂材料を固化させることが好ましい。
これにより、レンズ基板を透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適応した場合における、色ムラ等の不都合の発生をより効果的に防止することができる。
【０００９】
本発明のレンズ基板は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れ、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を提供することができる。
本発明のレンズ基板は、光を入射させて用いるレンズ基板であって、
前記光を入射させる第１の面側に凸レンズが形成されており、
前記第１の面とは反対の第２の面側に、前記第１の面側から入射した光が前記第２の面付近で全反射するのを防止する機能を有する全反射防止部が設けられていることを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れ、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を提供することができる。
【００１０】
本発明のレンズ基板では、前記全反射防止部は、多数個の凸曲面であることが好ましい。
これにより、外光の反射や光の利用効率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
本発明のレンズ基板では、前記凸曲面の曲率半径は、１．６〜１２５００μｍであることが好ましい。
これにより、外光の反射や光の利用効率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
【００１１】
本発明のレンズ基板では、前記凸レンズの曲率半径をＲ１［μｍ］、前記凸曲面の曲率半径をＲ２［μｍ］としたとき、３≦Ｒ２／Ｒ１≦１０の関係を満足することが好ましい。
これにより、外光の反射や光の利用効率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
【００１２】
本発明のレンズ基板では、平面視したときの、前記凸レンズが形成されている有効領域において、前記凸曲面が占める面積の割合が、５０％以上であることが好ましい。
これにより、外光の反射や光の利用効率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
本発明のレンズ基板では、前記凸曲面の頂部と、前記凸レンズの頂部とが、平面視した際に重なり合うことが好ましい。
これにより、外光の反射や光の利用効率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止するとともに、レンズ基板を透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適応した場合における視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明のレンズ基板では、前記凸レンズの曲率半径は、５〜２５０μｍであることが好ましい。
これにより、レンズ基板を透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適応した場合における視野角特性を特に優れたものとすることができる。
本発明のレンズ基板では、レンズ基板は、主として、絶対屈折率が１．２〜１．９の樹脂材料で構成されたものであることが好ましい。
これにより、光の利用効率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
【００１４】
本発明のレンズ基板では、前記凸レンズは、レンズ基板を平面視したときの形状が略円形または略楕円形のマイクロレンズであることが好ましい。
これにより、レンズ基板を透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適応した場合における視野角特性を特に優れたものとすることができる。
本発明の透過型スクリーンは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された本発明のレンズ基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れ、コントラストに優れた画像を得ることが可能な透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れ、コントラストに優れた画像を得ることが可能なリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明のレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１６】
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、複数個のマイクロレンズ（凸レンズ）２１を備えた基板本体２を備えている。また、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１が形成された面とは反対の面（光の出射面）側には、多数個の微小な凸曲面２２が設けられている。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
【００１７】
基板本体２の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００１８】
基板本体２を構成する樹脂材料は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．２〜１．９であるのが好ましく、１．３５〜１．７５であるのがより好ましく、１．４５〜１．６０であるのがさらに好ましい。樹脂材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１９】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面（第１の面）側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
マイクロレンズ２１の平面視した際の形状（以下、単に「マイクロレンズ２１の形状」ともいう）は、特に限定されないが、略円形または略楕円形（ただし、略俵形を含み、更に略円の上下をカットした形状を含む）であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の形状が略円形または略楕円形であることにより、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２０】
マイクロレンズ２１の形状が楕円形の場合、その短軸方向の長さ（ピッチ）Ｌ１［μｍ］と、長軸方向の長さ（ピッチ）Ｌ２［μｍ］との比（Ｌ１／Ｌ２）は、０．１０〜０．９９であるのが好ましく、０．５〜０．９５であるのがより好ましく、０．６〜０．８であるのがさらに好ましい。Ｌ１／Ｌ２が前記範囲内の値であると、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２１】
マイクロレンズ２１の直径（マイクロレンズ２１の形状が楕円形である場合には、その短軸方向の長さ）は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の直径が前記範囲内の値であると、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。なお、マイクロレンズ基板１においては、隣接するマイクロレンズ２１−マイクロレンズ２１間のピッチは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。
【００２２】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径（マイクロレンズ２１の形状が楕円形である場合には、その短軸方向方向についての曲率半径）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２３】
また、マイクロレンズ２１の配列方式は、特に限定されず、例えば、格子状、ハニカム状、千鳥状（千鳥格子状）等の周期的な配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよいが、図２に示すような千鳥状の規則的な配列であるのが好ましい。これにより、液晶等のライトバルブやフレネルレンズとの干渉を効果的に防止し、モアレの発生をより効果的に防止することができるとともに、レンズ効果を最大に引き出すことができる。また、マイクロレンズ２１の配列がランダムな配列である場合、液晶等のライトバルブやフレネルレンズとの干渉をより効果的に防止することができ、モアレの発生をほぼ完全に無くすことが可能になる。これにより、表示品質の良い優れた透過型スクリーン１０を得ることができる。
【００２４】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ（レンズ部）２１が占める面積（投影面積）の割合は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましい。マイクロレンズ２１が占める面積の割合が９０％以上であると、マイクロレンズ２１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。なお、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ（レンズ部）２１が占める面積（投影面積）の割合は、マイクロレンズ２１の中心（頂部の中心）２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）で近似することができる（図２参照）。
【００２５】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射面（第２の面）側には、多数個の微小な凸曲面（全反射防止部）２２が設けられている。凸曲面２２は、その曲率半径が、前述したマイクロレンズ２１の曲率半径より大きいものである。このような凸曲面２２が設けられることにより、マイクロレンズ基板１の光の入射面（第１の面）側から入射した光が全反射するのを効果的に防止し、マイクロレンズ基板１中を効率良く透過させることができるとともに、マイクロレンズ基板１の光の出射面（第２の面）側から入射した光を効率良く乱反射させることができる。その結果、得られる画像のコントラストは特に優れたものとなる。
【００２６】
凸曲面２２の平面視した際の形状（以下、単に「凸曲面２２の形状」ともいう）は、特に限定されないが、マイクロレンズ２１の形状に対応する形状（相似形状）であるのが好ましい。より具体的には、マイクロレンズ２１の形状が略円形である場合には、凸曲面２２の形状も略円形であるのが好ましく、マイクロレンズ２１の形状が略楕円形である場合には、凸曲面２２の形状も略楕円形（より詳しくは、短軸長と長軸長の比が、マイクロレンズ２１のそれと実質的に同一である略楕円形）であるのが好ましい。これにより、入射光の透過率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
【００２７】
また、マイクロレンズ２１の頂部（平面視したときの中心）と、凸曲面２２の頂部（平面視したときの中心）とが、平面視した際に重なり合うような配置であるのが好ましい。これにより、これにより、入射光の透過率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
凸曲面２２の直径（凸曲面２２の形状が楕円形である場合には、その短軸方向の長さ）は、３．３〜２５０００μｍであるのが好ましく、１０〜５０００μｍであるのがより好ましく、３０〜３０００μｍであるのがさらに好ましく、４０〜２０００μｍであるのがもっとも好ましい。凸曲面２２の直径が前記範囲内の値であると、入射光の透過率の低下を効率良く防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の光の出射面（第２の面）側から入射した光を効率良く乱反射させることができる。その結果、得られる画像のコントラストは特に優れたものとなる。なお、マイクロレンズ基板１においては、隣接する凸曲面２２−凸曲面２２間のピッチは、３．３〜２５０００μｍであるのが好ましく、１０〜５００μｍであるのがより好ましく、３０〜３００μｍであるのがさらに好ましく、５０〜１００μｍであるのがもっとも好ましい。
【００２８】
また、凸曲面２２の曲率半径（凸曲面２２の形状が楕円形である場合には、その短軸方向方向についての曲率半径）は、１５〜２５００μｍであるのが好ましく、１８〜１５００μｍであるのがより好ましく、２０〜７５０μｍであるのがさらに好ましい。凸曲面２２の曲率半径が前記範囲内の値であると、入射光の透過率の低下を効率良く防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の光の出射面（第２の面）側から入射した光を効率良く乱反射させることができる。その結果、得られる画像のコントラストは特に優れたものとなる。
【００２９】
また、凸曲面２２の曲率半径をＲ２［μｍ］、マイクロレンズ２１の曲率半径をＲ１［μｍ］としたとき、３≦Ｒ２／Ｒ１≦１００の関係を満足するのが好ましく、５≦Ｒ２／Ｒ１≦５０の関係を満足するのがより好ましく、８≦Ｒ２／Ｒ１≦２５の関係を満足するのがさらに好ましく、１０≦Ｒ２／Ｒ１≦２０の関係を満足するのがもっとも好ましい。このような関係を満足することにより、入射光の透過率の低下を効率良く防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の光の出射面（第２の面）側から入射した光を効率良く乱反射させることができる。その結果、得られる画像のコントラストは特に優れたものとなる。
【００３０】
また、凸曲面２２の配列方式は、特に限定されず、例えば、格子状、ハニカム状、千鳥状等の周期的な配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよいが、マイクロレンズ２１の配列方式に対応するものであるのが好ましい。これにより、入射光の透過率の低下によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
【００３１】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（または光の出射面側）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、凸曲面２２が占める面積（投影面積）の割合は、５０％以上であるのが好ましく、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましい。凸曲面２２が占める面積の割合が５０％以上であると、外光反射によるコントラストの低下をより確実に防止することができる。
また、マイクロレンズ基板１は、図示しない遮光部（ブラックマトリックス）を備えていてもよい。これにより、得られる画像のコントラストをさらに優れたものとすることができる。
【００３２】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
【００３３】
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色部が形成された面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。
このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００３４】
次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の一例について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ形成用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示すマイクロレンズ形成用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図６は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凸曲面形成用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図、図７は、図６に示す凸曲面形成用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図８は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図８中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【００３５】
また、マイクロレンズ形成用凹部付き基板の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板の製造においては、実際には基板上に多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。同様に、凸曲面形成用凹部付き基板の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（凸曲面形成用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板の製造においては、実際には基板上に多数の凸部（凸曲面）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００３６】
マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ形成用凹部付き基板、凸曲面形成用凹部付き基板の構成およびその製造方法について説明する。
まず、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ形成用凹部付き基板の構成およびその製造方法について説明する。
【００３７】
図４に示すように、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６は、規則的な千鳥状（千鳥格子状）に配された複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１を有している。
そして、このようなマイクロレンズ形成用凹部付き基板６を用いることにより、前述したような、マイクロレンズ２１が千鳥状に配されたマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００３８】
次に、マイクロレンズ形成用凹部付き基板の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数のマイクロレンズ形成用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００３９】
基板７の材料としてはソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられるが、中でも、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００４０】
＜Ａ１＞図５（ａ）に示すように、用意した基板７の表面に、マスク８を形成する（マスク形成工程）。また、これとともに、基板７の裏面（マスク８を形成する面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する。もちろん、マスク８および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
マスク８は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク８は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００４１】
かかる観点からは、このマスク８を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。また、マスク８を、Ｃｒ／Ａｕや酸化Ｃｒ／Ｃｒのように異なる材料からなる複数の層の積層構造としてもよい。
マスク８の形成方法は特に限定されないが、マスク８をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）から構成する場合、マスク８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク８をシリコンから構成する場合、マスク８は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００４２】
マスク８が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されるものである場合、後述する初期孔形成工程において初期孔８１を容易に形成することができるとともに、後述するエッチング工程においては基板７をより確実に保護することができる。また、マスク８が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されたものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモンを用いることができる。一水素二フッ化アンモンは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。
【００４３】
マスク８の厚さは、マスク８を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、後述する初期孔形成工程において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク８の構成材料等によっては、マスク８の内部応力によりマスク８が剥がれ易くなる場合がある。
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク８と同様の材料で構成されている。このため、裏面保護膜８９は、マスク８の形成と同時に、マスク８と同様に設けることができる。
【００４４】
＜Ａ２＞次に、図５（ｂ）に示すように、マスク８に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔８１を形成する（初期孔形成工程）。
初期孔８１は、いかなる方法で形成されるものであってもよいが、物理的方法またはレーザ光の照射により形成されるのが好ましい。これにより、マイクロレンズ形成用凹部付き基板を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。
初期孔８１を形成する物理的方法としては、例えば、エッチング、プレス、ドットプリンタ、ショットブラスト、サンドブラスト等のブラスト処理、タッピング、ラビング等の方法が挙げられる。
【００４５】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、形成される初期孔８１の大きさや、隣接する初期孔８１同士の間隔等を容易かつ精確に制御することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。
【００４６】
形成された初期孔８１は、マスク８の全面に亘って偏りなく形成されているのが好ましい。また、形成された初期孔８１は、後述する工程＜Ａ３＞でエッチングを施した際に、基板７の表面の平らな面がなくなり、ほぼ隙間なく凹部６１が形成される程度に、小さい孔がある程度の間隔で配されているのが好ましい。
具体的には、例えば、形成された初期孔８１の平面視での形状は、略楕円形であり、その平均径（直径）は、２〜１０μｍであるのが好ましい。また、初期孔８１は、マスク８上に１，０００〜１，０００，０００個／ｃｍ２の割合で形成されているのが好ましく、１０，０００〜５００，０００個／ｃｍ２の割合で形成されているのがより好ましい。なお、初期孔８１の形状は、略楕円形に限定されないことは言うまでもない。
【００４７】
また、マスク８に初期孔８１を形成するとき、図５（ｂ）に示すように、マスク８だけでなく基板７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ２１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。
【００４８】
また、形成されたマスク８に対して物理的方法またはレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基板７にマスク８を形成する際に、予め基板７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク８を形成することでマスク８に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
このように、物理的な方法またはレーザ光の照射でマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク８に開口部（初期孔８１）を形成することができる。また、物理的な方法またはレーザ光の照射によれば、大きな基板に対する処理も容易に行うことができる。
【００４９】
＜Ａ３＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００５０】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
【００５１】
また、本実施形態では、工程＜Ａ２＞でマスク８に初期孔８１を形成した際に、基板７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、フッ酸（フッ化水素）を含むエッチング液（フッ酸系エッチング液）を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００５２】
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、フッ化アンモン溶液（一水素二フッ化アンモニウム溶液）が特に好適である。フッ化アンモン溶液（４ｗｔ％以下）は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、フッ化アンモン溶液を用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ形成用凹部付き基板６を提供することができる。
【００５３】
＜Ａ４＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去する。
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
【００５４】
以上により、図５（ｄ）および図４に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成されたマイクロレンズ形成用凹部付き基板６が得られる。
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（物理的方法またはレーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成し、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
【００５５】
すなわち、物理的な方法またはレーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク８に所定パターンで開口部（初期孔８１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ形成用凹部付き基板６を提供することができる。
【００５６】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型のマイクロレンズ形成用凹部付き基板（マイクロレンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
【００５７】
特に、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
さらに、工程＜Ａ４＞でマスク８を除去した後、基板７上に新しいマスクを形成し、マスク形成−初期孔形成−ウェットエッチング−マスク除去の一連の工程を繰り返して行ってもよい。これにより、凹部６１が緻密に形成されたマイクロレンズ形成用凹部付き基板６を得ることができる。
【００５８】
次に、マイクロレンズ基板の製造に用いる凸曲面形成用凹部付き基板の構成およびその製造方法について説明する。
図６に示すように、凸曲面形成用凹部付き基板９は、規則的な千鳥状（千鳥格子状）に配された複数個の凹部（凸曲面形成用凹部）９１を有している。
そして、このような凸曲面形成用凹部付き基板９を用いることにより、前述したような、凹曲面２２が千鳥状に配されたマイクロレンズ基板１を得ることができる。
次に、凸曲面形成用凹部付き基板の製造方法について、図７を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凸曲面形成用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００５９】
まず、凸曲面形成用凹部付き基板９を製造するに際し、基板７’を用意する。
この基板７’は、前述した基板７（マイクロレンズ形成用凹部付き基板６の製造に用いる基板７）と同様のものであり、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７’は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
基板７’の材料としては、前述した基板７（マイクロレンズ形成用凹部付き基板６の製造に用いる基板７）と同様であるのが好ましい。
【００６０】
＜Ｂ１＞図７（ａ）に示すように、用意した基板７’の表面に、マスク８’を形成する（マスク形成工程）。また、これとともに、基板７’の裏面（マスク８’を形成する面と反対側の面）に裏面保護膜８９’を形成する。もちろん、マスク８’および裏面保護膜８９’は同時に形成することもできる。
マスク８’は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１’を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク８’は、エッチングレートが、基板７’と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００６１】
かかる観点からは、このマスク８’を構成する材料としては、例えば、前述したマスク８（マイクロレンズ形成用凹部付き基板６の製造に用いるマスク８）の構成材料と同様であるのが好ましい。
マスク８’の形成方法は特に限定されないが、これも、前述したマスク８（マイクロレンズ形成用凹部付き基板６の製造に用いるマスク８）と同様であるのが好ましい。
【００６２】
マスク８’が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されるものである場合、後述する初期孔形成工程において初期孔８１’を容易に形成することができるとともに、後述するエッチング工程においては基板７’をより確実に保護することができる。また、マスク８’が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されたものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモンを用いることができる。一水素二フッ化アンモンは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。
【００６３】
マスク８’の厚さは、マスク８’を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、後述する初期孔形成工程において形成される初期孔８１’の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７’のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１’を形成するのが困難になるほか、マスク８’の構成材料等によっては、マスク８’の内部応力によりマスク８’が剥がれ易くなる場合がある。
裏面保護膜８９’は、次工程以降で基板７’の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９’により、基板７’の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９’は、例えば、マスク８’と同様の材料で構成されている。このため、裏面保護膜８９’は、マスク８’の形成と同時に、マスク８’と同様に設けることができる。
【００６４】
＜Ｂ２＞次に、図７（ｂ）に示すように、マスク８’に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔８１’を形成する（初期孔形成工程）。
初期孔８１’の配置は、通常、形成すべき凹部９１の配置によって決まり、特に限定されないが、前述した初期孔８１と鏡像の関係にあるものであるのが好ましい。これにより、マイクロレンズ２１と凸曲面２２とが、前述したような位置関係で設けられたマイクロレンズ基板１を好適に製造することができる。
【００６５】
初期孔８１’は、いかなる方法で形成されるものであってもよいが、物理的方法またはレーザ光の照射により形成されるのが好ましい。これにより、凸曲面形成用凹部付き基板を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。
初期孔８１’を形成する物理的方法としては、例えば、エッチング、プレス、ドットプリンタ、ショットブラスト、サンドブラスト等のブラスト処理、タッピング、ラビング等の方法が挙げられる。
【００６６】
また、レーザ光の照射により初期孔８１’を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。レーザ光の照射により初期孔８１’を形成する場合、形成される初期孔８１’の大きさや、隣接する初期孔８１’同士の間隔等を容易かつ精確に制御することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１’を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１’を形成することなく初期孔８１’のみを形成したり、初期孔８１’とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１’を、容易かつ確実に形成することができる。
形成された初期孔８１’は、マスク８’の全面に亘って偏りなく形成されているのが好ましい。
【００６７】
具体的には、例えば、形成された初期孔８１の平面視での形状は、略楕円形であり、その平均径（直径）は、２〜１０μｍであるのが好ましい。また、初期孔８１’は、マスク８’上に１，０００〜１，０００，０００個／ｃｍ２の割合で形成されているのが好ましく、１０，０００〜５００，０００個／ｃｍ２の割合で形成されているのがより好ましい。なお、初期孔８１’の形状は、略楕円形に限定されないことは言うまでもない。
【００６８】
また、マスク８’に初期孔８１’を形成するとき、図７（ｂ）に示すように、マスク８’だけでなく基板７’の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１’を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１’の深さの調整により、凹部９１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１’の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１’の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１’とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、凸曲面形成用凹部付き基板９を構成する各凹部９１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各凸曲面２２の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各凸曲面２２の曲率半径等のばらつきを特に小さくさせることができる。
【００６９】
また、形成されたマスク８’に対して物理的方法またはレーザ光の照射で初期孔８１’を形成するだけでなく、例えば、基板７’にマスク８’を形成する際に、予め基板７’上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク８’を形成することでマスク８’に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１’としてもよい。
このように、物理的な方法またはレーザ光の照射でマスク８’に初期孔８１’を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク８’に開口部（初期孔８１’）を形成することができる。また、物理的な方法またはレーザ光の照射によれば、大きな基板に対する処理も容易に行うことができる。
【００７０】
＜Ｂ３＞次に、図７（ｃ）に示すように、初期孔８１’が形成されたマスク８’を用いて基板７’にエッチングを施し、基板７’上に多数の凹部９１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００７１】
初期孔８１’が形成されたマスク８’で被覆された基板７’に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図７（ｃ）に示すように、基板７’は、マスク８’が存在しない部分より食刻され、基板７’上に多数の凹部９１が形成される。上述したように、マスク８’に形成された初期孔８１’が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部９１は、基板７’の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
【００７２】
また、本実施形態では、工程＜Ｂ２＞でマスク８’に初期孔８１’を形成した際に、基板７’の表面に初期凹部７１’を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部９１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、フッ酸（フッ化水素）を含むエッチング液（フッ酸系エッチング液）を用いると、基板７’をより選択的に食刻することができ、凹部９１を好適に形成することができる。
【００７３】
マスク８’が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、フッ化アンモン溶液（一水素二フッ化アンモニウム溶液）が特に好適である。フッ化アンモン溶液（４ｗｔ％以下）は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、フッ化アンモン溶液を用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
【００７４】
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凸曲面形成用凹部付き基板９を提供することができる。
本工程で形成される凹部（凸曲面形成用凹部）９１は、前述したマイクロレンズ形成用凹部付き基板６の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１に比べて、曲率半径が大きいものである。このような凹部９１は、例えば、上述した凹部６１の形成に比べて、エッチング時間を長くしたり、エッチング温度を高くしたり、より高濃度のエッチング液を用いること等により、好適に形成することができる。
【００７５】
＜Ｂ４＞次に、図７（ｄ）に示すように、マスク８’を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８’の除去とともに、裏面保護膜８９’も除去する。
マスク８’が主としてＣｒで構成されたものである場合、マスク８’の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
【００７６】
以上により、図７（ｄ）および図６に示すように、基板７’上に多数の凹部９１が千鳥状に形成された凸曲面形成用凹部付き基板９が得られる。
基板７’上に千鳥状に配された複数個の凹部９１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（物理的方法またはレーザ光の照射によりマスク８’に初期孔８１’を形成し、その後、そのマスク８’を用いてエッチングを行うことにより、基板７’上に凹部９１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
【００７７】
すなわち、物理的な方法またはレーザ光の照射によりマスク８’に初期孔８１’を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク８’に所定パターンで開口部（初期孔８１’）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価に凸曲面形成用凹部付き基板９’を提供することができる。
【００７８】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の凸曲面形成用凹部付き基板（マイクロレンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
特に、初期孔８１’の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１’の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
【００７９】
また、マイクロレンズおよび凸曲面が、図２に示すように、規則的に配置されたもの（千鳥格子状に配置されたもの）である場合、マスク８およびマスク８’への初期孔形成を同じパターンで行うことができ、エッチング時間等のエッチング条件の変更のみでマイクロレンズ形成用凹部付き基板と凸曲面形成用凹部付き基板とを製造することができる。すなわち、エッチング処理の条件を変更するのみで、マイクロレンズ形成用凹部付き基板および凸曲面形成用凹部付き基板を、共通の材料、方法を用いて製造することができるため、マイクロレンズ形成用凹部付き基板、凸曲面形成用凹部付き基板、マイクロレンズ基板の生産の効率が向上する。
【００８０】
さらに、工程＜Ｂ４＞でマスク８’を除去した後、基板７’上に新しいマスクを形成し、マスク形成−初期孔形成−ウェットエッチング−マスク除去の一連の工程を繰り返して行ってもよい。これにより、凹部９１が緻密に形成された凸曲面形成用凹部付き基板９を得ることができる。
次に、上述したマイクロレンズ形成用凹部付き基板６、凸曲面形成用凹部付き基板９を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
【００８１】
＜Ｃ１＞まず、図８（ａ）に示すように、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の樹脂２３（例えば、軟化状態の樹脂２３、未重合（未硬化）の樹脂２３）を付与し、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６の凹部６１が形成された側の面と、凸曲面形成用凹部付き基板９の凹部９１が形成された側の面とが対向するように、凸曲面形成用凹部付き基板９で樹脂２３を押圧する。特に、本実施形態では、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６と、凸曲面形成用凹部付き基板９との間に、スペーサー２０を配した状態で、樹脂２３を押圧する。これにより、形成されるマイクロレンズ基板１の厚さをより確実に制御することができ、最終的に得られるマイクロレンズ基板１での、マイクロレンズ２１の焦点の位置をより確実に制御することができ、色ムラ等の不都合の発生をより効果的に防止することができる。
【００８２】
スペーサー２０は、樹脂２３（固化後の樹脂２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されている。このような材料で構成されたスペーサー２０を用いることにより、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６、凸曲面形成用凹部付き基板９の凹部が形成された部位にスペーサー２０を配した場合であっても、スペーサー２０が得られるマイクロレンズ基板１の光学特性に悪影響を及ぼすのを効果的に防止することができる。これにより、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６、凸曲面形成用凹部付き基板９の主面（凹部が形成された面側）の広い領域に、比較的多くのスペーサー２０を配することが可能となり、結果として、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６、凸曲面形成用凹部付き基板９のたわみ等による影響を効果的に排除し、得られるマイクロレンズ基板１の厚さをより確実に制御することができる。
【００８３】
上述したように、スペーサー２０は、樹脂２３（固化後の樹脂２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているが、より具体的には、スペーサー２０の構成材料の絶対屈折率と固化後の樹脂２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の樹脂２３とスペーサー２０とが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
【００８４】
スペーサー２０の形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサー２０がこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
なお、上記のようにスペーサー２０を用いる場合、樹脂２３を固化する際に、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６と凸曲面形成用凹部付き基板９との間にスペーサー２０が配されていればよく、スペーサー２０を供給するタイミングは特に限定されない。例えば、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサー２０が分散された樹脂２３を用いてもよいし、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６上にスペーサー２０を配した状態で樹脂２３を付与してもよいし、樹脂２３の供給後にスペーサー２０を付与してもよい。
【００８５】
また、樹脂２３の付与、凸曲面形成用凹部付き基板９での押圧に先立ち、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６の凹部６１が形成されている側の面や、凸曲面形成用凹部付き基板９の凹部９１が形成されている側の面に離型剤を塗布しておいてもよい。これにより、後述する工程において、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６や凸曲面形成用凹部付き基板９から、マイクロレンズ基板１（基板本体２）を容易かつ確実に分離（剥離）することができる。
【００８６】
＜Ｃ２＞次に、樹脂２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、その後、凸曲面形成用凹部付き基板９を取り除き（図８（ｂ）参照）、さらに、マイクロレンズ形成用凹部付き基板６を取り除く（図８（ｃ）参照）ことにより、凹部６１に充填された樹脂で構成され凸レンズとして機能するマイクロレンズ２１と、凸曲面２２とを備えたマイクロレンズ基板１（基板本体２）が得られる。
【００８７】
樹脂２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
また、マイクロレンズ基板１が図示しない遮光部（ブラックマトリックス）を備える場合には、例えば、以下のようにして、遮光部を形成することができる。
まず、図８（ｂ）に示すように、凸曲面形成用凹部付き基板９を取り除くことにより、基板本体２の凸曲面２２が形成された面側を露出させる。
【００８８】
次に、基板本体２の露出した面側に、流動性を有する遮光性の着色剤（遮光剤）を含む遮光部形成用液体を付与する。
その後、基板本体２の凸曲面２２が形成された面側を上に向けた状態で、放置（必要に応じて、基板本体２上の余剰の拭き取り等により除去した後に放置）したり、加熱すること等により、遮光部形成用液体を固化させる。その結果、隣接する凸曲面２２−凸曲面２２間の凹部に遮光部が形成される。
このように、マイクロレンズ基板１が凸曲面２２を有するものである場合、遮光部の形成も、容易かつ確実に行うことができる。
【００８９】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図９は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、コントラストに優れた画像を得ることができる。さらに、本実施形態では、上記のような構成を有しているので、視野角特性、光利用効率等も特に優れたものとなる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が発生し難い。
【００９０】
以上、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
【００９１】
また、前述した実施形態では、スペーサーとして、樹脂（固化後の樹脂）と同程度の屈折率を有するものを用いるものとして説明したが、スペーサーは、実質的に、マイクロレンズ形成用凹部付き基板、凸曲面形成用凹部付き基板の凹部が形成されていない領域のみ（非有効レンズ領域）に配されるものである場合、樹脂（固化後の樹脂）と同程度の屈折率を有するものでなくてもよい。また、レンズ基板の製造に際して、上記のようなスペーサーは必ずしも用いなくてもよい。
【００９２】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ形成用凹部付き基板の表面に樹脂を付与するものとして説明したが、例えば、凸曲面形成用凹部付き基板の表面に樹脂を付与し、これをマイクロレンズ形成用凹部付き基板で押圧することにより、マイクロレンズ基板を製造してもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ形成用凹部付き基板の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基板７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギー強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。また、凸曲面形成用凹部付き基板の初期孔８１’についても同様である。
【００９３】
また、前述した実施形態では、レンズ基板が全反射防止部として凸曲面を有するものとして説明したが、全反射防止部は、全反射を防止することができるものであればよく、凸曲面に限定されるものではない。
また、前述した実施形態では、平面視したときの形状が略楕円形のマイクロレンズが千鳥状に配置されたものとして説明したが、マイクロレンズの形状、配置はこのようなものに限定されない。例えば、マイクロレンズは、格子状に配されたものであってもよいし、ハニカム状に形成されたものであってもよいし、ランダムに配されたものであってもよい。
【００９４】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板（レンズ基板）とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、全反射防止部（凸曲面）がレンズ基板の光の入射側の全面に設けられているものとして説明したが、全反射防止部は、光の出射面側の一部のみに設けられるものであってもよい。
【００９５】
また、前述した実施形態では、レンズ部として、マイクロレンズを備えた構成について説明したが、レンズ基板を構成するレンズ部（レンズ）は、これに限定されず、例えば、レンチキュラレンズであってもよい。レンチキュラレンズを使用することにより、レンズ部の製造工程を簡略化することができ、また、透過型スクリーンの生産性を向上させることができる。
【００９６】
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適用されるものに限定されず、いかなる用途のものであってもよい。例えば、本発明のレンズ付き基板は、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【００９７】
［レンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えたマイクロレンズ形成用凹部付き基板を製造した。
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
【００９８】
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクおよび裏面保護膜を形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍであった。
【００９９】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、照射時間６０×１０−９秒という条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは５μｍであった。また、初期孔の形成密度は４０，０００個／ｃｍ２であった。
【０１００】
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ０．１μｍの凹部および変質層も形成した。
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の略楕円形状の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（直径）は５０μｍ、長軸方向の長さは７０μｍ、曲率半径は３８μｍであった。
【０１０１】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は１．５時間とした。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１０２】
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列されたウエハー状のマイクロレンズ形成用凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が９７％であった。また、マイクロレンズ形成用凹部付き基板の任意の近接した２点間（凹部−凹部間）の中心距離を多数とり、それらから標準偏差を求めた。このようにして求められた標準偏差は、それらの平均の３２％であった。
【０１０３】
次に、以下のように、凸曲面形成用の凹部を備えた凸曲面形成用凹部付き基板を製造した。
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
このソーダガラス基板に対し、上記のマイクロレンズ形成用凹部付き基板の製造で行ったのと同様にして、洗浄液を用いた清浄化、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥、マスクおよび裏面保護膜の形成、レーザ加工による初期孔の形成を行った。
【０１０４】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の略楕円形状の凹部（凸曲面形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（直径）は３０μｍ、長軸方向の長さは４５μｍ、曲率半径は５００μｍであった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は１５時間とした。
【０１０５】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、ソーダガラス基板上に、凸曲面形成用の多数の凹部が千鳥状に配列されたウエハー状の凸曲面形成用凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。また、マイクロレンズ形成用凹部付き基板の任意の近接した２点間（凹部−凹部間）の中心距離を多数とり、それらから標準偏差を求めた。このようにして求められた標準偏差は、それらの平均の５％であった。
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ形成用凹部付き基板および凸曲面形成用凹部付き基板を用いて、以下のようにしてマイクロレンズ基板を製造した。
【０１０６】
まず、上記のようにして得られたマイクロレンズ形成用凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、未重合（未硬化）の紫外線硬化性樹脂（Ｖ−２４０３（新日鐵化学株式会社製））を付与した。この際、紫外線硬化性樹脂（Ｖ−２４０３（新日鐵化学株式会社製））の硬化物で構成された略球形状のスペーサー（直径２ｍｍ）を、マイクロレンズ形成用凹部付き基板のほぼ全面に配しておいた。また、スペーサーは、約３個／ｃｍ２の割合で配した。
【０１０７】
次に、上記のようにして得られた凸曲面形成用凹部付き基板の凹部が形成された側の面で、前記紫外線硬化性樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル系樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、前記紫外線硬化性樹脂の押圧に先立ち、凸曲面形成用凹部付き基板の凹部が形成された側の面には、離型剤（ＧＦ−６１１０）を塗布した。
次に、凸曲面形成用凹部付き基板上から、１００００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させた。
【０１０８】
その後、凸曲面形成用凹部付き基板、マイクロレンズ形成用凹部付き基板を、この順に取り除き、多数個の略楕円形状のマイクロレンズ、多数個の略楕円形状の凸曲面が形成されたマイクロレンズ基板（基板本体）を得た。得られたマイクロレンズ基板（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５２であった。また、得られたマイクロレンズ基板の樹脂層（マイクロレンズおよび凸曲面よる凸部を除く部分）の厚さは２ｍｍ、マイクロレンズの曲率半径は３８μｍ、マイクロレンズの短軸方向の長さは５０μｍ、凸曲面の曲率半径は５００μｍ、凸曲面の短軸方向の長さは３０μｍであった。また、得られたマイクロレンズ基板を平面視したときに、マイクロレンズが形成されている有効領域において、マイクロレンズが占める面積（投影面積）の割合は９７％であった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１０９】
（実施例２）
凸曲面が形成された面側に、遮光部（ブラックマトリックス）を形成した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
遮光部の形成は以下のようにして行った。
前記実施例１と同様にして、紫外線硬化性樹脂を硬化させた後、凸曲面形成用凹部付き基板を、得られた基板本体から取り除いた。
【０１１０】
その後、基板本体の露出した面側に、黒色塗料（タミヤ製タミヤカラーＸＦ１）を水で２倍に希釈して調製した遮光部形成用液体（分散液）を付与した。遮光部形成用液体の付与は、スプレー法により行った。ここで、この黒色塗料はアクリル系塗料である。また、遮光部形成用液体の２５℃における粘度は５ｃＰであった。
次に、基板本体の遮光部形成用液体が付与された面側に、圧縮空気を吹き付けて、隣接する凸曲面−凸曲面間の凹部に付着した着色層形成用液体を除去した。
【０１１１】
次に、凸曲面が設けられた面側を上方に保持したまま、常温下で１日間放置して乾燥させた。これにより遮光部形成用液体中の溶剤または分散媒が除去されて、凸曲面−凸曲面間の凹部に、遮光部が形成された。
その後、マイクロレンズ形成用凹部付き基板を取り除くことにより、マイクロレンズ基板を得た。
【０１１２】
（実施例３〜５）
レーザ光の照射条件、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸曲面形成用凹部付き基板の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成される凸曲面の形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１１３】
（実施例６〜８）
レーザ光の照射条件、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ形成用凹部付き基板の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１１４】
（比較例１）
凸曲面形成用凹部付き基板の変わりに、ソーダガラス製の平板（表面粗さＲａ０．００２μｍ以下）を用いた以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（比較例２）
凸曲面形成用凹部付き基板の変わりに、ヘアライン加工を施したソーダガラス製の平板を用いた以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板を製造した。なお、ソーダガラス製の平板へのヘアライン加工は、１０００番の酸化アルミニウムを用いて、細かいキズを付けることにより行った。
得られたマイクロレンズ基板は、マイクロレンズが設けられた面とは反対の面側に、前記ヘアライン加工に対応する形状が転写されていた。
また、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。
【０１１５】
（比較例３）
凸曲面形成用凹部付き基板の変わりに、ソーダガラス製の平板（表面粗さＲａ０．００３μｍ以下）を用いた以外は、前記実施例１と同様にして基板本体を製造した。
その後、上記のようにして製造された基板本体の、マイクロレンズが設けられた面とは反対の面側に、無反射コート層を形成することにより、マイクロレンズ基板を得た。無反射コート層は、複数の屈折率の異なる薄膜をデッピングにより積層することにより形成した。
また、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および各比較例についての、凸曲面の形状、配列パターン、マイクロレンズの形状、配列パターン等を表１にまとめて示す。
【０１１６】
【表１】
2006106359.tif 000002
【０１１７】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図９に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
【０１１８】
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストについて、以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが５００以上。
○：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが４００以上５００未満。
△：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００以上４００未満。
×：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが２９９未満。
【０１１９】
［色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：色ムラが全く認められない。
○：色ムラがほとんど認められない。
△：色ムラがわずかに認められる。
×：色ムラが顕著に認められる。
【０１２０】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１２１】
【表２】
2006106359.tif 000003
【０１２２】
表２から明らかなように、本発明では、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。また、本発明では、色ムラのない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。
これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。中でも、比較例１では、外光の反射が顕著で、画像のコントラストは著しく低いものであった。また、比較例２、３では、外光の反射は、若干緩和されているものの、得られる画像が全体的に暗く、結果としてコントラストに劣っていた。これは、ヘアライン加工や、無反射コート層により入射光の透過（観察者側への透過）が防止されているためであると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ形成用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図４に示すマイクロレンズ形成用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】マイクロレンズ基板の製造に用いる凸曲面形成用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図６に示す凸曲面形成用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図８】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１２４】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（レンズ部）  ２２…凸曲面（全反射防止部）  ２３…樹脂  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…マイクロレンズ形成用凹部付き基板  ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部）  ７…基板  ７’…基板  ７１…初期凹部  ７１’…初期凹部  ８…マスク  ８’…マスク  ８１…初期孔  ８１’…初期孔  ８９…裏面保護膜  ８９’…裏面保護膜  ９…凸曲面形成用凹部付き基板  ９１…凹部（凸曲面形成用凹部）  １０…透過型スクリーン  ２０…スペーサー  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体
【図１】
2006106359.tif 000004
【図２】
2006106359.tif 000005
【図３】
2006106359.tif 000006
【図４】
2006106359.tif 000007
【図５】
2006106359.tif 000008
【図６】
2006106359.tif 000009
【図７】
2006106359.tif 000010
【図８】
2006106359.tif 000011
【図９】
2006106359.tif 000012