(57)【要約】【課題】安価であって、しかも、表示品位の良好なマルチドメイン型垂直配向モードの液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】アレイ基板２００は、少なくとも２種類のカラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を積層することによって形成された第１凸部１０４Ａと、第１凸部１０４Ａを含む基板主面を覆うように配置され液晶層４１０に含まれる液晶分子を所定方向に配向する第１配向膜２１９と、を備えている。対向基板４００は、液晶分子の配向を制御する構造体４０４と、構造体４０４と同一材料によって形成され第１凸部１０４Ａと接触して液晶層４１０を保持するためのギャップを形成する第２凸部１０４Ｂと、構造体４０４及び第２凸部１０４Ｂを含む基板主面を覆うように配置され液晶分子を所定方向に配向する第２配向膜４０５と、を備えたことを特徴とする。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板との間のギャップに液晶層を保持した液晶表示装置であって、
前記第１基板は、少なくとも２種類のカラーフィルタ層を積層することによって形成された第１凸部と、前記第１凸部を含む基板主面を覆うように配置され前記液晶層に含まれる液晶分子を所定方向に配向する第１配向膜と、を備え、
前記第２基板は、前記液晶分子の配向を制御する構造体と、前記構造体と同一材料によって形成され前記第１凸部と接触して前記ギャップを形成する第２凸部と、前記構造体及び前記第２凸部を含む基板主面を覆うように配置され前記液晶分子を所定方向に配向する第２配向膜と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第２基板は、さらに、画像を表示する有効表示部の外側に額縁状に配置された遮光層を備え、
前記遮光層は、前記構造体及び前記第２凸部とともに遮光性を有する同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１配向膜及び前記第２配向膜は、前記液晶分子を基板に対して略垂直な方向に配向する特性を有したことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１基板は、さらに、マトリクス状の表示画素に対応して配置された画素電極を備え、
前記第２基板は、さらに、全表示画素に共通に配置された対向電極を備えたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
第１基板と第２基板との間のギャップに液晶層を保持した液晶表示装置の製造方法であって、
少なくとも２種類のカラーフィルタ層を積層することによって形成された第１凸部と、前記第１凸部を含む基板主面を覆うように配置され前記液晶層に含まれる液晶分子を所定方向に配向する第１配向膜と、を備えた第１基板を用意する工程と、
前記液晶分子の配向を制御する構造体と、前記構造体と同一材料によって形成された第２凸部と、前記構造体及び前記第２凸部を含む基板主面を覆うように配置され前記液晶分子を所定方向に配向する第２配向膜と、を備えた第２基板を用意する工程と、
前記第１凸部と前記第２凸部とが接触するように前記第１基板と前記第２基板とを貼り合せる工程と、
前記第１凸部及び前記第２凸部によって形成された前記ギャップに液晶層を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記第２基板を用意する工程は、前記構造体と前記第２凸部とを同時に形成する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記第２基板を用意する工程は、画像を表示する有効表示部の外側に額縁状に配置された遮光層を、前記構造体及び前記第２凸部とともに遮光性を有する同一材料によって同時に形成する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置及びその製造方法に係り、特にマルチドメイン型の垂直配向モードを採用した液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に代表される平面表示装置は、軽量、薄型、低消費電力などの特徴を生かして、ＯＡ機器、情報端末、時計、テレビなどの各種分野で利用されている。中でも薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いた液晶表示装置は、その応答性の高さから携帯端末やコンピュータなど多くの情報を表示するモニタとして多用されている。
【０００３】
近年、情報量の増加に伴い高精細化や高速応答性が要求され始めている。高精細化については、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などの能動素子を用いたアレイ構造の微細化により対応がなされている。一方、高速応答性については、ネマチック液晶を用いたＯＣＢ方式、ＶＡＮ方式、ＨＡＮ方式、π配列方式、スメクチック液晶を用いた界面安定型強誘電性液晶（ＳＳＦＬＣ）方式、反強誘電性液晶（ＡＦＬＣ）方式が検討されている。
【０００４】
特に、ＶＡＮ方式、すなわち垂直配向モードは、従来のツイストネマチック（ＴＮ）配向モードより速い応答速度を得られ、しかも、垂直配向処理の採用により従来静電気破壊など不良原因の発生が危惧されていたラビング配向処理工程を削除可能なことから、近年注目されている。さらに、垂直配向モードでは、視野角の補償設計が比較的容易なことから広い視野角を実現するためのマルチドメイン型の垂直配向モードを採用した液晶表示装置が注目されている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平７−３１１３８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１によれば、突起や画素電極にスリットなどの配向制御部を設けることにより、配向膜の表面の凹凸構造で効率良く液晶分子の配向を制御し、マルチドメイン型垂直配向モードを実現している。しかしながら、基板上に配向制御を設ける場合、通常のアレイ基板及び対向基板の製造工程に加えて、これら配向制御部を形成するためのフォトリソグラフィプロセスが必要となる。このため、配向制御部を必要としない表示モードと比較して、製造コストが割高となってしまう。
【０００６】
そこで、この発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、安価であって、しかも、表示品位の良好なマルチドメイン型垂直配向モードの液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の第１の様態による液晶表示装置は、
第１基板と第２基板との間のギャップに液晶層を保持した液晶表示装置であって、
前記第１基板は、少なくとも２種類のカラーフィルタ層を積層することによって形成された第１凸部と、前記第１凸部を含む基板主面を覆うように配置され前記液晶層に含まれる液晶分子を所定方向に配向する第１配向膜と、を備え、
前記第２基板は、前記液晶分子の配向を制御する構造体と、前記構造体と同一材料によって形成され前記第１凸部と接触して前記ギャップを形成する第２凸部と、前記構造体及び前記第２凸部を含む基板主面を覆うように配置され前記液晶分子を所定方向に配向する第２配向膜と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この発明の第２の様態による液晶表示装置の製造方法は、
第１基板と第２基板との間のギャップに液晶層を保持した液晶表示装置の製造方法であって、
少なくとも２種類のカラーフィルタ層を積層することによって形成された第１凸部と、前記第１凸部を含む基板主面を覆うように配置され前記液晶層に含まれる液晶分子を所定方向に配向する第１配向膜と、を備えた第１基板を用意する工程と、
前記液晶分子の配向を制御する構造体と、前記構造体と同一材料によって形成された第２凸部と、前記構造体及び前記第２凸部を含む基板主面を覆うように配置され前記液晶分子を所定方向に配向する第２配向膜と、を備えた第２基板を用意する工程と、
前記第１凸部と前記第２凸部とが接触するように前記第１基板と前記第２基板とを張り合わせる工程と、
前記第１凸部及び前記第２凸部によって形成された前記ギャップに液晶層を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、安価であって、しかも、表示品位の良好なマルチドメイン型垂直配向モードの液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置及びその製造方法について図面を参照して説明する。
【００１１】
図１及び図２に示すように、液晶表示装置１は、液晶表示パネル１００を備えて構成されている。すなわち、液晶表示パネル１００は、アレイ基板（第１基板）２００と、対向基板（第２基板）４００と、アレイ基板２００と対向基板４００との間のギャップに保持された液晶層４１０と、を備えている。この液晶表示パネル１００は、画像を表示する有効表示部１０２を有している。この有効表示部１０２は、マトリクス状に配置された複数の表示画素ＰＸによって構成されている。
【００１２】
液晶表示パネル１００において、アレイ基板２００は、ガラスなどの光透過性の絶縁基板２０１を用いて形成される。このアレイ基板２００は、有効表示部１０２において、絶縁基板２０１の一方の主面（表面）上に、マトリクス状に配置された複数の信号線Ｘ及び複数の走査線Ｙと、各表示画素ＰＸにおける信号線Ｘと走査線Ｙとの交点近傍に配置されたスイッチ素子２１１と、各表示画素ＰＸのスイッチ素子２１１にそれぞれ接続された画素電極２１３と、を備えている。
【００１３】
スイッチ素子２１１は、多結晶シリコン膜２１２を備えた薄膜トランジスタによって構成されている。この多結晶シリコン膜２１２は、チャネル領域２１２ｃ、及び、このチャネル領域２１２ｃを挟んで配置されたソース領域２１２ｓ及びドレイン領域２１２ｄを有している。スイッチ素子２１１のゲート電極２１５は、チャネル領域２１２ｃ上にゲート絶縁膜２１４を介して配置され、走査線Ｙに接続されている（ここでは、ゲート電極２１５は走査線Ｙと一体的に形成されている）。スイッチ素子２１１のソース電極２１６ｓは、ソース領域２１２ｓに接続されているとともに画素電極２１３に接続されている。スイッチ素子２１１のドレイン電極２１６ｄは、ドレイン領域２１２ｄに接続されているとともに信号線Ｘに接続されている（ここでは、ドレイン電極２１６ｄは信号線Ｘと一体的に形成されている）。
【００１４】
画素電極２１３は、例えば、光透過性を有するＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイド）やＩＺＯ（インジウム・ジンク・オキサイド）導電性部材などによって形成されている。この画素電極２１３は、カラーフィルタ層ＣＦ上に配置されている。このカラーフィルタ層ＣＦは、スイッチ素子２１１及びゲート絶縁膜２１４を覆う層間絶縁膜２１７の上に配置されている。この実施の形態では、カラーフィルタ層ＣＦは、例えば、赤、緑、青にそれぞれ着色されたカラーレジストによって形成されており、それぞれ赤色、緑色、及び、青色の各色成分の光を透過する。
【００１５】
各色のカラーフィルタ層は、対応する色の表示画素ＰＸ毎に割り当てられている。すなわち、図３に示すように、赤色カラーフィルタ層ＣＦＲは、赤色表示画素ＰＸＲに配置されている。緑色カラーフィルタ層ＣＦＧは、緑色表示画素ＰＸＧに配置されている。青色カラーフィルタ層ＣＦＢは、青色表示画素ＰＸＢに配置されている。
【００１６】
このような構成のアレイ基板２００は、対向基板４００との間にギャップを形成するための柱状スペーサ１０４を構成する第１凸部１０４Ａを備えている。この第１凸部１０４Ａは、少なくとも有効表示部１０２内に配置されている。このような第１凸部１０４Ａは、少なくとも２種類のカラーフィルタ層を積層することによって形成されている。ここでは、第１凸部１０４Ａは、赤色カラーフィルタ層ＣＦＲの上に緑色カラーフィルタ層ＣＦＧを積層することによって形成されている。
【００１７】
すなわち、下地となる赤色カラーフィルタ層ＣＦＲは、緑色カラーフィルタ層ＣＦＧより先の工程で形成され、各赤色表示画素ＰＸＲの他に、遮光性を有する配線部（例えば信号線Ｘ、走査線Ｙ、スイッチ素子２１１など）Ｗの上にも配置されている。緑色カラーフィルタ層ＣＦＧは、赤色カラーフィルタ層ＣＦＲより後の工程で形成され、各緑色表示画素ＰＸＧの他に、配線部Ｗの上にも配置されている。
【００１８】
したがって、配線部Ｗの上では、赤色カラーフィルタ層ＣＦＲの上に緑色カラーフィルタ層ＣＦＧが重なるため、カラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の主面ＣＦＰから緑色カラーフィルタ層ＣＦＧの厚み分だけ対向基板４００側に突出した第１凸部１０４Ａが形成される。つまり、カラーフィルタ層主面ＣＦＰに積層された緑色カラーフィルタ層ＣＦＧが実質的に第１凸部１０４Ａとして機能する
配向膜（第１配向膜）２１９は、すべての画素電極２１３及び第１凸部１０４Ａを含む基板主面を覆うように有効表示部１０２の全面に配置されている。この配向膜２１９は、液晶層４１０に含まれる液晶分子を所定方向に配向する特性を有している。この実施の形態では、配向膜２１９は、液晶分子を絶縁基板２０１（あるいはアレイ基板２００）に対して略垂直に配向する特性を有している。また、この配向膜２１９は、基本的には垂直配向性を示す光透過性を有する薄膜であればその材質を限定するものではない。
【００１９】
対向基板４００は、ガラスなどの光透過性の絶縁基板４０１を用いて形成される。この対向基板４００は、有効表示部１０２において、絶縁基板４０１の一方の主面（表面）上に、全表示画素ＰＸに共通の対向電極４０３を備えている。この対向電極４０３は、全画素電極２１３に対向して配置され、例えばＩＴＯやＩＺＯなどの光透過性を有する導電性部材によって形成されている。
【００２０】
また、対向基板４００は、図３に示すように、液晶分子の配向を制御する構造体４０４と、アレイ基板２００との間にギャップを形成するための柱状スペーサ１０４を構成する第２凸部１０４Ｂと、を備えている。これらの構造体４０４及び第２凸部１０４Ｂは、同一材料例えば紫外線硬化型樹脂レジストによって形成されている。このため、構造体４０４及び第２凸部１０４Ｂは、同一工程にて形成できるため、それぞれを別個の工程にて形成した場合よりも製造工程数を削減することができる。
【００２１】
構造体４０４は、有効表示部１０２内において、各表示画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に配置されている。この構造体４０４は、１表示画素ＰＸ内においてドメイン分割に必要なパターン形状に形成される。すなわち、液晶分子を所定方向に配向した領域（液晶分子の配向方向が揃った領域）をドメインと称するが、対向基板４００の主面（液晶層４１０に接触する面）に凹凸構造を形成する構造体４０４が境界となってこれを挟んだ両側にそれぞれ液晶分子を異なる方向に配向したドメインを形成することが可能となる。このため、所定パターンの構造体４０４を形成することにより、１表示画素ＰＸ内を複数のドメインに分割することが可能となる。
【００２２】
第２凸部１０４Ｂは、少なくとも有効表示部１０２内に配置されている。この第２凸部１０４Ｂは、アレイ基板２００と対向基板４００とを貼り合せた際に第１凸部１０４Ａと接触する。つまり、第１凸部１０４Ａ及び第２凸部１０４Ｂは、液晶層４１０を保持するためのギャップを形成する柱状スペーサ１０４として機能する。
【００２３】
さらに、対向基板４００は、有効表示部１０２の外側に額縁状に配置された遮光層ＳＰを備えている。この遮光層ＳＰは、遮光性を有する樹脂によって形成され、例えば黒色樹脂によって形成されている。この遮光層ＳＰは、構造体４０４及び第２凸部１０４Ｂとともに同一材料例えば黒色の紫外線硬化型樹脂レジストによって形成されることが望ましい。これにより、遮光層ＳＰ、構造体４０４、及び、第２凸部１０４Ｂは、同一工程にて形成できるため、それぞれを別個の工程にて形成した場合よりも製造工程数を削減することができる。
【００２４】
配向膜（第２配向膜）４０５は、対向電極４０３全体とともに、構造体４０４及び第２凸部１０４Ｂを含む基板主面を覆うように有効表示部１０２の全面に配置されている。この配向膜４０５は、液晶層４１０に含まれる液晶分子を所定方向に配向する特性を有している。この実施の形態では、配向膜４０５は、液晶分子を絶縁基板４０１（あるいは対向基板４００）に対して略垂直に配向する特性を有している。この配向膜４０５も同様に、基本的には垂直配向性を示す光透過性を有する薄膜であればその材質を限定するものではない。
【００２５】
上述した構成のアレイ基板２００及び対向基板４００は、少なくとも有効表示部１０２内に配置された柱状スペーサ１０４によって所定のギャップを形成した状態で、シール材１０６によって貼り合せられている。液晶層４１０は、これら基板間のギャップに封止された液晶組成物によって形成される。すなわち、液晶層４１０は、アレイ基板２００側の配向膜２１９と、対向基板４００側の配向膜４０５との間に保持されている。これにより、液晶層４１０に含まれる液晶分子が配向膜２１９及び４０５による配向制御によって垂直配向された垂直配向モードを実現可能となる。
【００２６】
液晶表示パネル１００において、有効表示部１０２の周辺領域には、一体的に構成される駆動回路部１１０が配置されている。この駆動回路部１１０は、走査線Ｙの一端側に配置された走査線駆動回路部２５１、及び、信号線Ｘの一端側に配置された信号線駆動回路部２６１を備えている。走査線駆動回路部２５１は、各走査線Ｙに駆動信号（走査信号）を供給する。また、信号線駆動回路部２６１は、各信号線Ｘに駆動信号（映像信号）を供給する。これら走査線駆動回路部２５１及び信号線駆動回路部２６１は、有効表示部１０２内のスイッチ素子２１１と同様に多結晶シリコン膜を含む薄膜トランジスタによって構成されている。
【００２７】
また、液晶表示パネル１００において、アレイ基板２００の外面及び対向基板４００の外面には、それぞれ液晶層４１０の特性に合わせて偏光方向を設定した一対の偏光板２２０及び４０７が設けられている。すなわち、偏光板２２０は、アレイ基板２００を構成する絶縁基板２０１の他方の主面（裏面）上に、粘着剤２２１によって貼り付けられている。また、偏光板４０７は、対向基板４００を構成する絶縁基板４０１の他方の主面（裏面）上に、粘着剤４０６によって貼り付けられている。
【００２８】
次に、上述した構成の液晶表示装置の製造方法に基づいて説明する。なお、以下の説明において参照する図面には、説明に必要な構成のみを図示している。  
まず、アレイ基板２００を用意する工程について説明する。すなわち、図４Ａに示すように、絶縁基板２０１上において、金属膜及び絶縁膜の成膜とエッチングとを繰り返し行うことにより、走査線Ｙや信号線Ｘの他に、各表示画素ＰＸに対応したスイッチ素子２１１などの配線部Ｗを形成する。
【００２９】
その後、図４Ｂに示すように、基板表面にカラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を形成する。すなわち、各種配線部Ｗを備えた絶縁基板２０１の表面に、各表示画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対応した色に着色されたカラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を配置する。このカラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、例えば以下のようにして形成される。
【００３０】
まず、赤色の有機顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士フィルムオーリン（株）製）を、スピンナーなどにより、配線部Ｗを覆うように絶縁基板２０１の全面に塗布する。その後に、赤色表示画素ＰＸＲ及び配線部Ｗに対応したパターンを有するフォトマスクを介して波長３６５ｎｍの紫外光線を１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。そして、露光されたレジストをＫＯＨの１％水溶液で２０秒間現像した後、乾燥する。これにより、赤色表示画素ＰＸＲ及び配線部Ｗに赤色カラーフィルタ層ＣＦＲが配置される。
【００３１】
これに続いて、緑色の有機顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＧ−２０００（富士フィルムオーリン（株）製）を、スピンナーなどにより、絶縁基板２０１の全面に塗布する。その後に、緑色表示画素ＰＸＧ及び配線部Ｗに対応したパターンを有するフォトマスクを介して波長３６５ｎｍの紫外光線を１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。そして、露光されたレジストをＫＯＨの１％水溶液で２０秒間現像した後、乾燥する。これにより、緑色表示画素ＰＸＧ及び配線部Ｗに緑色カラーフィルタ層ＣＦＧが配置される。つまり、配線部Ｗにおいては、赤色カラーフィルタ層ＣＦＲの上に緑色カラーフィルタ層ＣＦＧが重なり、第１凸部１０４Ａが形成される。
【００３２】
この実施の形態では、カラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の膜厚は約２．５μｍであり、第１凸部１０４Ａの高さ、すなわち、カラーフィルタ層主面ＣＦＳから突出した緑色カラーフィルタ層ＣＦＧの厚みも同様に約２．５μｍであった。また、１層目の赤色カラーフィルタ層ＣＦＲの底面は一辺が３０μｍの正方形状とし、２層目の緑色カラーフィルタ層ＣＦＧの底面は一辺が２５μｍの正方形状とした。
【００３３】
これに続いて、青色の有機顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＢ−２０００（富士フィルムオーリン（株）製）を、スピンナーなどにより、絶縁基板２０１の全面に塗布する。その後に、青色表示画素ＰＸＢ及び配線部Ｗに対応したパターンを有するフォトマスクを介して波長３６５ｎｍの紫外光線を１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。そして、露光されたレジストをＫＯＨの１％水溶液で２０秒間現像した後、乾燥する。これにより、青色表示画素ＰＸＢに青色カラーフィルタ層ＣＦＢが配置される。
【００３４】
その後、図４Ｃに示すように、カラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）上に、マトリクス状の表示画素ＰＸに対応した画素電極２１３を配置する。すなわち、カラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の表面にスパッタ法などにより画素電極用の金属膜例えばＩＴＯ膜を１５００オングストロームの膜厚で成膜する。その後、ＩＴＯ膜を表示画素ＰＸに対応した所望形状にパターニングすることにより、スイッチ素子２１１と電気的に接続された画素電極２１３が形成される。  
その後、図４Ｄに示すように、基板主面の全面に配向膜材料としてＳＥ−７５１１Ｌ（日産化学工業（株）製）を全面に６００オングストロームの膜厚で成膜した後に、乾燥することにより、第１配向膜２１９が形成される。これら図４Ａ乃至図４Ｄを参照して説明したような製造工程により、アレイ基板２００が製造される。
【００３５】
続いて、対向基板４００を用意する工程について説明する。すなわち、図５Ａに示すように、絶縁基板４０１上における有効表示部１０２において、スパッタ法などによりＩＴＯ膜を１５００オングストロームの膜厚で成膜することにより、対向電極４０３が形成される。
【００３６】
その後、図５Ｂに示すように、基板表面に配向制御用の構造体４０４、柱状スペーサを構成する第２凸部１０４Ａ、及び、有効表示部１０２周辺の遮光層ＳＰを形成する。これらの構造体４０４、第２凸部１０４Ａ、及び、遮光層ＳＰは、例えば以下のようにして形成される。
【００３７】
まず、黒色の有機顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを、スピンナーなどにより、絶縁基板４０１の全面に塗布する。その後に、所定パターンを有するフォトマスクを介して波長３６５ｎｍの紫外光線を２００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。そして、露光されたレジストをＫＯＨの１％水溶液で２０秒間現像した後、乾燥する。これにより、構造体４０４、第２凸部１０４Ａ、及び、遮光層ＳＰが一括して形成される。この実施の形態では、第２凸部１０４Ｂの高さは、約１．２μｍであった。また、第２凸部１０４Ｂの底面は一辺が３０μｍの正方形状とした。
【００３８】
その後、図５Ｃに示すように、基板主面の全面に配向膜材料としてＳＥ−７５１１Ｌ（日産化学工業（株）製）を全面に６００オングストロームの膜厚で成膜した後に、乾燥することにより、第２配向膜４０５が形成される。これら図５Ａ乃至図５Ｃを参照して説明したような製造工程により、対向基板４００が製造される。
【００３９】
続いて、アレイ基板と対向基板とを貼り合せる工程について説明する。すなわち、有効表示部１０２を囲むように紫外線硬化型樹脂からなるシール材１０６を枠状に塗布形成する。そして、アレイ基板２００と対向基板４００とを互いに接近する方向へ所定圧力で加圧しながら紫外線を照射することによりシール材１０６を硬化させ、アレイ基板２００と対向基板４００とを貼り合せる。このとき、アレイ基板２００及び対向基板４００は、それらの間に所定のギャップを形成するよう位置合わせされる。すなわち、アレイ基板２００に設けられた第１凸部１０４Ａの頂部と、対向基板４００に設けられた第２凸部１０４Ｂの頂部とが接触することにより、それぞれの高さを利用したギャップが形成される。
【００４０】
続いて、第１凸部１０４Ａと第２凸部１０４Ｂとによって形成されたギャップに液晶層を形成する工程について説明する。すなわち、真空槽内において、アレイ基板２００と対向基板４００との間の注入口から誘電率異方性が負の液晶組成物としてＭＬＣ−２０３９（ＭＥＲＣＫ社製）を注入し、その後、注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。これにより、配向膜２１９及び４０５により配向制御された液晶分子を含む液晶層４１０が形成される。  
続いて、アレイ基板２００の外面すなわち絶縁基板２０１の外面に粘着剤２２１を介して偏光板２２０を接着するとともに、対向基板４００の外面すなわち絶縁基板４０１の外面に粘着剤４０６を介して偏光板４０７を接着する。
【００４１】
以上の製造プロセスにより製造した液晶表示装置について、偏光顕微鏡により液晶分子の配向状態を観察したところ、画素電極２１３と対向電極４０３との間に電位差が形成されていない状態で基板に対して略垂直に配向しており、また、画素電極２１３と対向電極４０３との間に電位差が形成された状態で配向制御用の構造体４０４を境界としてその両側に良好な配向状態のドメインを確認することができた。当然のことながら、この液晶表示装置は、広い視野角で良好な表示品位を有していた。
【００４２】
以上詳述したように、この実施の形態によるマルチドメイン型垂直配向モードを採用した液晶表示装置においては、一方の基板は、液晶分子の配向を制御するための構造体とともに柱状スペーサを構成する第２凸部を備えている。これら構造体及び第２凸部は、同一材料によって形成可能であるため、同一工程で形成することができる。つまり、構造体を形成するための別個の製造プロセスが不要となり、製造コストを削減することが可能となる。また、構造体及び第２凸部に加えて、有効表示部周辺の遮光層も同一材料によって形成可能であるため、これらを個別に製造するプロセスが不要となり、さらに製造コストを削減することが可能となる。
【００４３】
また、他方の基板は、複数のカラーフィルタ層を積層することによって形成された第１凸部を備え、これら第１凸部及び第２凸部によって液晶層を保持するためのギャップを形成する柱状スペーサを構成している。つまり、カラーフィルタ層及び構造体を形成するのと同時に柱状スペーサが形成可能であるため、柱状スペーサを形成するための別個の製造プロセスが不要となり、製造コストを削減することが可能となる。  
また、構造体により、１表示画素内を配向方向の異なる複数のドメインに分割することが可能となる。これにより、視野角が広く、表示品位の良好な液晶表示装置を安価に提供することが可能となる。
【００４４】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【００４５】
上述した実施の形態では、カラーフィルタ層をアレイ基板側の各表示画素に配置したカラーフィルタオンアレイ（ＣＯＡ）構造を採用した例について説明したが、対向基板側にカラーフィルタ層を配置した構造を採用しても良い。この場合、カラーフィルタ層を積層することによって形成される第１凸部は対向基板に形成され、また、配向制御用構造体、遮光層、及び、第２凸部はアレイ基板に形成される。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１に示した液晶表示装置における１表示画素及び有効表示部周辺の構造を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、図１に示した液晶表示装置において、各色の表示画素の構造を概略的に示す断面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、図３に示したアレイ基板の製造工程を説明するための図であり、配線部を形成する工程を示す図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、図３に示したアレイ基板の製造工程を説明するための図であり、カラーフィルタ層を形成する工程を示す図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、図３に示したアレイ基板の製造工程を説明するための図であり、画素電極を形成する工程を示す図である。
【図４Ｄ】図４Ｄは、図３に示したアレイ基板の製造工程を説明するための図であり、配向膜を形成する工程を示す図である。
【図５Ａ】図５Ａは、図３に示した対向基板の製造工程を説明するための図であり、対向電極を形成する工程を示す図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、図３に示した対向基板の製造工程を説明するための図であり、構造体、第２凸部、及び、遮光層を形成する工程を示す図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、図３に示した対向基板の製造工程を説明するための図であり、配向膜を形成する工程を示す図である。
【符号の説明】
【００４７】
１…液晶表示装置、１００…液晶表示パネル、１０２…有効表示部、１０４…柱状スペーサ、１０４Ａ…第１凸部、１０４Ｂ…第２凸部、２００…アレイ基板、２０１…絶縁基板、２１３…画素電極、２１９…配向膜、４００…対向基板、４０１…絶縁基板、４０３…対向電極、４０４…配向制御用構造体、４０５…配向膜、４１０…液晶層、ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…表示画素、ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…カラーフィルタ層、Ｗ…配線部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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