(57)【要約】【課題】  インクジェット方式のヘッド底面に付着して析出した溶液を的確に除去する。【解決手段】  ノズルプレート１３を外側から囲みつつノズルプレート１３底面（先端面）とはほぼ同一平面を形成した環部材８を設け、磁石８ａによりヘッド１に着脱自在に取り付ける。  ノズルプレート底面に沿い溶液が広がり乾燥しても、環部材８を交換することで、蒸発乾燥による析出物を除去できる。【選択図】      図５
2006341228.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルプレートに設けられた吐出孔から溶液を噴射させて基板に塗布するインクジェット方式の塗布装置において、
前記ノズルプレートに着脱自在に設けられ、前記吐出孔が開口する吐出面とほぼ同一平面を形成する環部材を具備することを特徴とするインクジェット方式の塗布装置。
【請求項２】
前記ノズルプレートは、前記環部材を吸着可能な磁石を有することを特徴とする請求項１に記載のインクジェット方式の塗布装置。
【請求項３】
前記ノズルプレートの吐出面を拭き取り可能なワイピング部材を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のインクジェット方式の塗布装置。
【請求項４】
前記ノズルプレートとの間で、前記環部材を受け渡し可能に構成された受け渡し機構を具備することを特徴とする請求項１ないし請求項３のうちのいずれか１項に記載のインクジェット方式の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶液をノズルプレートの吐出孔から噴射させて基板面に塗布するインクジェット方式の塗布装置の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスがある。成膜プロセスにおいては、機能性薄膜を形成する溶液をノズルプレートから噴射させて基板面に塗布するインクジェット方式の塗布装置が用いられる。
【０００３】
インクジェット方式の塗布装置は、数十μｍの小さい吐出孔としての細孔（オリフィス）を多数設けたノズルプレートからインク等の溶液を噴射（吐出）させるように構成されている。
【０００４】
図８は、従来の塗布装置のノズルプレートを備えたヘッドの横断面図で、ヘッド１はヘッド本体１１を備え、ヘッド本体１１の下面には可撓板１２が設けられている。
【０００５】
可撓板１２はプレート状のノズルプレート１３によって覆われており、このノズルプレート１３には主管１４ａ及び液室１４ｂが形成されている。
【０００６】
図９は、ノズルプレート１３を取り付けたヘッド１の底面図で、図９に示すように、ノズルプレート１３は、ヘッド本体１１の長手方向（図示Ｙ方向）に沿いピッチＰを有する複数の細孔１３ａを、底面（吐出面）に千鳥状に穿設して設けている。
【０００７】
図８に示したように、ヘッド本体１１の長手方向の一端部には主管１４ａに連通する給液孔１５が形成され、この給液孔１５から主管１４ａに、配向膜やレジストなどの機能性薄膜を形成する溶液が供給されるので、液室１４ｂ内は供給された溶液で満たされる。
【０００８】
また、可撓板１２の上面には、ノズルプレート１３の各細孔１３ａに対向して複数の圧電素子１６が設けられている。
【０００９】
各圧電素子１６は、ヘッド本体１１内に設けられた駆動部１７による電圧駆動により伸縮し、可撓板１２を部分的に変形させるので、その圧電素子１６に対向して位置するノズルプレート１３の細孔１３ａから溶液が噴射して、搬送移動される基板上に塗布される。
【００１０】
ヘッド本体１１の長手方向他端部には、主管１４ａに連通する回収孔１８が形成され、供液孔１５から主管１４ａ，液室１４ｂに供給されて残った溶液は、回収孔１８から排出される。
【００１１】
上記のように、インクジェット方式の塗布装置は、ノズルプレート１３の外側面に向けて形成された細孔１３ａから、溶液を噴射させるように構成されるが、細孔１３ａからの溶液が噴射される際、溶液の一部はノズルプレート１３の底面（吐出面）に広がり付着する。
【００１２】
また、ノズルプレート１３の細孔１３ａが目詰まりを引き起こしたり、あるいは底面に付着したゴミが細孔１３ａを塞いだりすると、溶液の噴射動作は不安定になり塗布品質が低下するので、ワイピング部材でノズルプレート１３底面を拭き払う方法が提案されている。（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平６−１１５０８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上記のように、インクジェット方式の塗布装置では、ノズルプレート１３の細孔１３ａから溶液が噴射されると、溶液の一部が、ノズルプレート１３の底面において外側に広がる現象が見られる。
【００１４】
ノズルプレート１３の底面で広がった機能性薄膜を形成する溶液等は、溶液中に含む揮発成分は空気に触れて蒸発し、溶液中に含む固形成分は析出して乾燥し、やがて底面に貼り付くように付着する。
【００１５】
ノズルプレート１３の底面で広がる溶液も、塗布中は、細孔１３ａから溶液が噴射されては次々と押し出されることもあって、細孔１３ａ近傍では容易に乾燥しないが、細孔１３ａから離れた位置では、その勢いが鈍ることもあって比較的早めに乾燥し、しかも析出物が堆積されるように底面に付着する。
【００１６】
従来のインクジェット式の塗布装置は、塗布動作の合間に、弾性ブレード等のワイピング部材でノズルプレート底面に付着した溶液の拭き払いが行われるが、図１０に拡大して示したように、ノズルプレート１３の細孔１３ａから離れた領域（網目模様で示した部分）の溶液は、比較的早めに乾燥して付着するので、ワイピング部材で拭き払ったとしても容易に除去できないことがある。
【００１７】
また、仮に、ワイピング部材が乾燥した溶液の一部を引き剥がし得たとしても、その乾燥片が完全に下方に落ちることなく、そのまま濡れた底面への貼り付き、あるいはノズルプレートの細孔を塞いでしまったり、あるいは溶液の塗布作業中に振動や衝撃等により一部の乾燥片が基板上に落ちてしまう等の問題もあり改善が要望されていた。
【００１８】
そこで本発明は、たとえノズルプレート底面で広がる溶液が乾燥し、析出物が付着したとしても、その付着した析出物を容易かつ適切に除去可能であるとともに、塗布によって形成される塗布膜の品質向上が可能な塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明は、ノズルプレートに設けられた吐出孔から溶液を噴射させて基板に塗布するインクジェット方式の塗布装置において、前記ノズルプレートに着脱自在に設けられ、前記吐出孔が開口する吐出面とほぼ同一平面を形成する環部材を具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、環部材の交換作業により、比較的早期に乾燥し、析出物が付着する溶液、あるいは既に析出物として付着した溶液を容易に除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明による塗布装置の第１の実施例を図１ないし図７を参照して詳細に説明する。なお、図８ないし図１０に示した従来の構成と同一構成には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００２２】
すなわち、図１は、この発明の第１の実施例に係る塗布装置を示した概略構成図、図２は図１の要部右側面図である。
【００２３】
図１及び図２に示したように、塗布装置は、ベース２を有し、ベース２の上面には所定間隔で離間した一対のレール２ａがベース２の長手方向（図示矢印Ｘ方向）に沿って敷設され、レール２ａに差し渡された搬送テーブル２ｂが不図示の駆動源に駆動され走行可能に構成されている。
【００２４】
搬送テーブル２ｂの上面には多数の支持ピン２ｃが設けられ、これら支持ピン２ｃにはたとえば液晶表示装置に用いられるガラス製の基板Ｗが供給され支持される。
【００２５】
搬送テーブル２ｂに支持された基板Ｗの上方には、基板Ｗに機能性薄膜を形成するための溶液をインクジェット方式で噴射（吐出）する３個のヘッド１が、基板Ｗの走行方向とは直交する方向（図示矢印Ｙ方向）に沿って一列に配設されている。
【００２６】
図３（ａ）はヘッド１の縦断面図を示したもので、ヘッド１はヘッド本体１１を備え、その下面には可撓板１２が設けられている。
【００２７】
この可撓板１２はプレート状のノズルプレート１３によって覆われており、このノズルプレート１３には主管１４ａ及び液室１４ｂが形成されている。
【００２８】
図３（ｂ）はヘッド１の底面図を示したもので、図３（ｂ）に示すように、ノズルプレート１３の底面（吐出面）には、基板Ｗの搬送方向に直交する方向（矢印Ｙ方向）に沿って複数の吐出孔としての細孔１３ａが千鳥状に穿設されている。
【００２９】
このプレート状のノズルプレート１３は、段部を有して、細孔１３ａが設けられた中央部が下方に突き出るように構成され、その中央部を外側から取り囲みつつノズルプレート１３の底面とほぼ同一平面（底面）を形成した環部材８が着脱自在に嵌め込まれている。
【００３０】
環部材８は鉄やニッケル等の磁性材で形成され、環部材８の周縁部に対向するようにヘッド１内に磁石８ａが埋め込み構成されている。従って、環部材８は、ヘッド１のノズルプレート１３に嵌め込まれた状態で、磁石８ａに引き込まれて安定する。
【００３１】
なお、従来と同様に、ヘッド本体１１の長手（矢印Ｙ）方向の一端部には主管１４ａに連通する給液孔１５が形成されていて、この給液孔１５から主管１４ａを介して溶液Ｌが供給され、液室１４ｂ内に充填される。
【００３２】
また、可撓板１２の上面には、ノズルプレート１３の各細孔１３ａに対向する複数の圧電素子１６が設けられ、各圧電素子１６は、ヘッド本体１１内に設けられた駆動部１７から駆動電圧が供給されるので、圧電素子１６に対向して位置した細孔１３ａから、搬送される基板Ｗ上面に向けて溶液が噴射され塗布される。
【００３３】
ヘッド本体１１の長手方向他端部には主管１４ａに連通する回収孔１８が形成され、給液孔１５から主管１４ａ及び液室１４ｂに供給された溶液Ｌは、回収孔１８から回収される。
【００３４】
また、図１に示したように、図示矢印Ｙ方向に沿い一列に配設された３個のヘッド１には、開閉弁３ａａ，４ａａを介して供給管３ａ及び回収管４ａが共通接続され、供給管３ａと回収管４ａとは先端部で連通弁５を介して接続されている。
【００３５】
供給管３ａの基端は溶液Ｌが収容された溶液タンク６の底部に接続され、回収管４ａは、主回収弁４ａｂを介して、溶液タンク６に供給する溶液を貯蔵した貯蔵タンク７に接続されている。
【００３６】
回収管４ａの基端部は、供給管を兼ねており、この基端部からは供給弁３ｂａを有する供給分岐管３ｂが分岐接続され、溶液タンク６の底部に接続されている。
【００３７】
溶液タンク６の上部には開閉制御弁６ａａを設けた大気開放管６ａが接続されていて、開閉制御弁６ａａの開放により溶液タンク６内は大気に連通される。
【００３８】
溶液タンク６の上部には開閉制御弁６ｂａが設けられたガス供給管６ｂが接続されていて、このガス供給管６ｂには、図示しないガス供給源から窒素などの不活性ガスが供給される。なお、開閉制御弁６ｂａよりも上流側にはフィルタ６ｂｂ及び開閉制御弁６ｂｃが順次接続され、開閉制御弁６ｂｃには絞り弁６ｂｄが並列に設けられ、この絞り弁６ｂｄと開閉制御弁６ｂｃとでガス流量制御手段が構成されている。
【００３９】
一方、貯蔵タンク７の上部には、上記溶液タンク６と同様、開閉制御弁７ａａを有する大気開放管７ａが接続されており、さらに、開閉制御弁７ｂａを有するガス供給管７ｂが接続されている。このガス供給管７ｂにはフィルタ７ｂｂ及び開閉制御弁７ｂｃが順次接続され、開閉制御弁７ｂｃには絞り弁７ｂｄが並列に設けられている。
【００４０】
さらに、溶液タンク６内の溶液Ｌの液面はレベルセンサ６ｃによって検出され、溶液Ｌの液面が所定以下になったことがレベルセンサ６ｃによって検出されると、その検出に基づいて貯蔵タンク７から溶液が補給される。つまり、貯蔵タンク７内の溶液Ｌが開閉制御弁７ｂａを通じて供給される不活性ガスによって加圧されることで、溶液Ｌが溶液タンク６に補給される。これにより、溶液タンク６内の液面レベルが一定のレベルに保たれるようになっている。
【００４１】
そこで、図２にも示したように、搬送テーブル２ｂの一端面には側面形状がＬ字状の取付部材２１が、３個並設されたヘッド１に対応するように、垂直な一辺を搬送テーブル２ｂの端面に固定して取り付けられている。
【００４２】
この取付部材２１の水平板部には上下シリンダ２２が垂直に設置されている。
【００４３】
上下シリンダ２２の作動ロッドには弾性部材２３を介して、回収槽を兼ねたテーブル２４が取り付けられている。
【００４４】
テーブル２４にはブレード状のゴムなどの弾性材によって形成されたワイピング部材２５が取り付けられている。
【００４５】
テーブル２４の一側にはガイド板２６が設けられ、このガイド板２６にはガイド部材２６ａが設けられ、このガイド部材２６ａは搬送テーブル２ｂの端面に上下方向に沿って設けられたガイドレール２ｂａに案内されて上下動可能となっている。
【００４６】
上記構成により、上下シリンダ２２の駆動により、テーブル２４が駆動されるとともに、ガイド板２６がガイドレール２ｂａに沿って上下動可能である。
【００４７】
従って、テーブル２４を上昇させてヘッド１の下面にワイピング部材２５を接触させ、その状態で搬送テーブル２ｂを往復動させることによって、ワイピング部材２５によってヘッド１の下面、すなわちノズルプレート１３の底面（吐出面）、及びそれに連なる環部材８の底面に付着した溶液を拭き取ることができる。
【００４８】
また、図２に示したように、ベース２上のレール２ａには、３個のヘッド１に対応し、搬送テーブル２ｂと同様に、レール２ａに案内されてＸ方向に移動可能な受け渡し機構９が載置されている。
【００４９】
受け渡し機構９は、レール２ａ上を移動し、ヘッド１の下方位置に到達して、ヘッド１のノズルプレート１３に着脱自在に取り付けられた環部材８の受け取り作業、及び環部材８を搬送してヘッド１のノズルプレート１３への引き渡し作業を行う。
【００５０】
すなわち、受け渡し機構９は、一対のレール２ａ間に差し渡されて移動可能な基台９ａ上に取り付けられたテーブル９ｃには、受け取り用チャック９ｄ及び受け渡し用チャック９ｅがそれぞれ対応して設けられたシリンダ９ｄａ，９ｅａを介して取り付けられている。
【００５１】
従って、受け取り用チャック９ｄ及び受け渡し用チャック９ｅは、ヘッド１との間で、シリンダ９ｄａ，９ｅａによる図示Ｚ方向への移動操作とチャックの開閉動作により、環部材８をノズルプレート１３との間で受け渡し可能である。
【００５２】
次に作動について説明する。
【００５３】
図２に示す位置において、基板Ｗが搬送テーブル２ｂ上に供給されて支持される。
【００５４】
基板Ｗが供給されると、搬送テーブル２ｂは、予め設定された速度で図示右方向に移動する。この搬送テーブル２ｂの移動中、ヘッド１の細孔１３ａからは、ヘッド１の細孔１３ａの下方を基板Ｗ上の塗布パターンの形成予定領域が通過するタイミングに合わせて、溶液Ｌが噴射される。
【００５５】
搬送テーブル２ｂは、レール２ａ右側の移動端に達すると、折り返し上記設定された速度で図示左方向に移動する。この移動中、右方向への移動時と同様にして、ヘッド１の細孔１３ａからは基板Ｗ上に向けて溶液Ｌが噴射される。
【００５６】
このような搬送テーブル２ｂの右方向への往動と左方向への復動との往復動中に行われるヘッド１の細孔１３ａからの溶液Ｌの噴射により、基板Ｗ上には予定されたパターンで溶液Ｌが塗布される。
【００５７】
溶液Ｌが塗布された基板Ｗは、不図示の搬送装置により、塗布膜のレベリング工程や乾燥工程等の後工程へと搬出される。
【００５８】
なおこのとき、ノズルプレート１３の底面及び環部材８の底面には、前回の基板Ｗに対する溶液Ｌの塗布によって、図４に示すように、溶液（斜線で示した部分及び網目模様で示した部分）Ｌが付着している。
【００５９】
そこで、基板２が搬出されると、ワイピング部材２５によりノズルプレート１３の底面及び環部材８の底面に付着した溶液Ｌが拭き取られる。
【００６０】
すなわち、図２に示すように、ワイピング部材２５をヘッド１よりも左側となる位置に位置付ける。なお、上述の搬送テーブル２ｂに対して基板Ｗの供給及び搬出が行なわれる受け渡し位置に搬送テーブル２ｂが位置した状態において、ワイピング部材２５はこの位置に位置する。
【００６１】
この位置で、ワイピング部材２５は、その先端がノズルプレート１３の底面及び環部材８の底面に確実に接することができる高さまで、上下シリンダ２２の作動により上昇される。
【００６２】
ワイピング部材２５が上昇すると、搬送テーブル２ｂが、ワイピング部材２５によるノズルプレート１３の底面及び環部材８の底面を払拭するに必要なストロークだけ図示右方向へ移動する。
【００６３】
この後、ワイピング部材２５は、上下シリンダ２２によりもとの位置に下降される。搬送テーブル２ｂは、次に溶液Ｌが塗布される基板Ｗの供給を受けるために、受け渡し位置へ戻る。
【００６４】
受け渡し位置へ移動した搬送テーブル２ｂ上には、次に溶液Ｌが塗布される基板Ｗが供給され、上述した溶液Ｌの塗布が行なわれる。
【００６５】
このような動作が繰り返されることで、供給される基板Ｗに対して順次溶液Ｌが塗布される。
【００６６】
ところで、上述したような溶液Ｌの塗布を繰り返し行なううちに、環部材８の底面には、溶液Ｌ中に含まれる固形成分（析出物）が貼り付くように付着する。
【００６７】
これは、従来技術で説明したように、細孔１３ａから飛び出しきれずにノズルプレート１３の底面に付着した溶液Ｌが、図４に示すように、ノズルプレート１３の底面及び環部材８の底面に広がり、この広がった溶液Ｌが乾燥するためである。
【００６８】
そして、この乾燥は、図４に示すように、ノズルプレート１３の底面及び環部材８の底面に付着して広がった溶液Ｌにおける、細孔１３に近い中央部分（図４に斜線で示した部分）よりも、細孔１３から離れた周辺部分（図４に網目模様で示した部分）で生じやすい。
【００６９】
そのため、ワイピング部材２５で拭き取ったとしても、図４に斜線で示した部分に付着した溶液Ｌは除去できるものの、図４に網目模様で示した部分では、次第に析出物が堆積してきてしまう。
【００７０】
そこで、受け渡し機構９を用いて、予め設定された数の基板Ｗに対して溶液Ｌの塗布が完了する毎に、環部材８を交換する。
【００７１】
以下に受け渡し機構９を用いた環部材８の交換動作について説明する。
【００７２】
受け渡し機構９は、ノズルプレート１３との間で環部材８の受け渡しを行なわないとき、つまり、基板Ｗに対する溶液Ｌの塗布作業中は、搬送テーブル２ｂの往復動を妨げることがないように、図２に示すレール２ａの右端位置に退避する。
【００７３】
一方、受け渡し機構９は、ノズルプレート１３との間で環部材８の受け渡しを行なうときは、ヘッド１の下方に位置するように、レール２ａ上を移動する。このとき、搬送テーブル２ｂは、受け渡し機構９の移動を妨げないように、図２における、レール２ａの左端位置に退避する。
【００７４】
受け渡し機構９は、まず、受け取り用チャック９ｄがヘッド１の真下に位置するように移動する。この位置で、受け渡し機構９は、シリンダ９ｄａを作動させて受け取り用チャック９ｄを上昇させ、受け取り用チャック９ｄにヘッド１のノズルプレート１３に取付けられた環部材８を保持させる。
【００７５】
受け取り用チャック９に環部材８を保持させたなら、受け渡し機構９は、シリンダ９ｄａにより受け取り用チャック９を下降させ、環部材８を磁石８ａの磁力に抗してノズルプレート１３から取り外す。
【００７６】
次に、受け渡し機構９は、受け渡し用チャック９ｅがヘッド１の真下に位置するように移動する。この位置で、受け渡し機構９は、シリンダ９ｅａにより受け渡し用チャック９ｅを上昇させ、受け渡し用チャック９ｅに予め保持していた新たな環部材８を、受け取り用チャック９ｄにて使用済みの環部材８が取り外されたノズルプレート１３に取付ける。
【００７７】
環部材８をノズルプレート１３に取付けたらなら、受け渡し機構９は、シリンダ９ｅａにより受け渡し用チャック９ｅを下降させ、レール２ａ上を右端位置へと移動する。
【００７８】
この位置において、作業者は、受け取り用チャック９ｄに保持された使用済みの環部材８を取り出し、受け渡し用チャック９ｅに新たな環部材８を保持させ、受け渡し機構９を次の交換作業のために待機させる。
【００７９】
上記第１の実施例の塗布装置によれば、図４（ａ）の断面図及び図４（ｂ）の底面図に示したように、溶液Ｌが、細孔１３ａが形成されたノズルプレート１３の中央部の底面（吐出面）を外側に向けて広がり、またその底面と同一面を形成した環部材８の底面に溶液Ｌが付着し、外側から順次乾燥して環部材８に貼り付いたとしても、図５（ａ）の断面図及び図５（ｂ）の底面図に示したように、環部材８を磁石８ａの磁力に抗して取り外すことにより、環部材８の底面で乾燥し析出した溶液Ｌを完全に除去することができる。
【００８０】
そして、環部材８が取り外されたヘッド１のノズルプレート１３には、新たな環部材１８が取付けられるので、環部材８の底面を清浄な面とすることができる。
【００８１】
このため、溶液Ｌが乾燥して貼り付いた析出物が、ノズルプレート１３の細孔１３ａを塞いだり、溶液ＬＫの塗布中に基板Ｗ上に落下する等の不具合が防止でき、基板Ｗに対する溶液Ｌの塗布品質を向上させることができる。
【００８２】
また、環部材８を、磁石８ａによる磁力によりノズルプレート１３に固定するようにした。そのため、図３に示すように、環部材８をノズルプレート１３に嵌め込めば、磁石８ａの磁力で引き込まれて固定することができる。また、環部材８を磁石８ａの磁力に抗して引き下げれば、ノズルプレート１３から取り外すことができる。従って、ノズルプレート１３に対する環部材８の着脱を容易に行なうことができ、環部材８の交換作業を迅速に行うことができる。
【００８３】
また、ノズルプレート１３に対する環部材８の着脱を容易に行なうことができることから、ノズルプレート１３に対する環部材８の着脱を行なう受け渡し機構９は、環部材８を保持するチャック９ｄ，９ｅとこのチャック９ｄ，９ｅを上昇・下降させるシリンダ９ｄａ、９ｅａという比較的簡単な構成とすることができ、受け渡し機構９の簡素化を図ることができる。
【００８４】
また、受け渡し機構９を用いて環部材８の交換作業を行なうようにしたので、環部材８の交換作業を自動的に行なうことができ、環部材８の交換作業に関する作業者の負担を極力減少させることができる。
【００８５】
また、受け渡し機構９の受け取り用チャック９ｄから使用済みの環部材８を取り出す作業と、受け渡し用チャック９ｅへ新たな環部材８を保持させる作業とを、図２における、レール２ａの右端位置、すなわち塗布装置の端部において行なうようにした。そのため、上記の作業の際、作業者と受け渡し機構９との間の距離が近くなり、作業者の手が受け渡し機構９に容易に届くので、作業者が無理な姿勢で作業を行なうことや、塗布装置内に侵入して作業をすることを極力防止することができる。よって、上述の作業を作業性良く安全に行なうことができる。
【００８６】
なお、この第１の実施例では、磁石を用いて環部材８をノズルプレート１３に吸着させたが、ヘッド１側に真空パッド等の吸引機構を設けて、環部材８を吸着させても良い。
【００８７】
また上記第１の実施例の塗布装置では、環部材８をノズルプレート１３に磁石により取り付けたが、環部材８をノズルプレート１３にねじ止め固定しても良い。
【００８８】
すなわち、図６は本発明の塗布装置の第２の実施例に係る塗布装置を説明した図で、第１の実施例に示した図３に対応して示した図である。
【００８９】
すなわち、図６（ａ）の断面図及び図６（ｂ）の底面図に示したように、ヘッド１内に磁石８ａを設けることなく、環部材８をビス８ｂでノズルプレート１３に着脱自在に取り付けられるように構成されている。
【００９０】
従って、このような構成によっても、溶液Ｌが、細孔１３ａが形成されたノズルプレート１３の中央部の底面（吐出面）を外側に向けて広がり、またその底面と同一面を形成した環部材８の底面に溶液Ｌが付着し、外側から順次乾燥して環部材８に貼り付いたとしても、内側でいまだ液状の溶液Ｌはワイピング部材２５で拭き取った後、図７（ａ）の断面図及び図７（ｂ）の底面図に示したように、ビス８ｂを緩めて、環部材８を取り外すことにより、環部材８の底面で乾燥し析出した溶液Ｌを完全に除去することができる。
【００９１】
なお、上記各実施例では、ノズルプレート１３は、細孔１３ａが列状に多数設けられて構成されている旨説明したが、個々の細孔１３ａを形成した管状のノズルが多数突設して配列されたものでも良い。
【００９２】
このように、ノズルが下方に突出した状態では、外側の環部材の底面は、その突出したノズルの先端面とほぼ同じ高さ位置であることが望ましい。
【００９３】
また、上記各実施例において、細孔１３ａが形成された中央部を囲む四角形状の環部材８は、枠状体で一体構成としたが、環部材８を適宜分割し、例えば４辺を形成する板部で個々にノズルプレート１３あるいはヘッド本体に着脱自在に取り付けるように構成しても良い。
【００９４】
また、受け渡し機構９を用いて、予め設定された数の基板Ｗに対して溶液Ｌの塗布が完了する毎に、環部材８の交換を行なう例で説明したが、要は、環部材８の交換を定期的に行なうことができれば良いので、設定された時間間隔毎に行なっても、一枚の基板に対して溶液Ｌの塗布が完了する毎に行なうようにしても良い。
【００９５】
また、ノズルプレート１３に細孔１３ａを千鳥に配置して設けた例で説明したが、一直線状に配置しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明による塗布装置の第１の実施例を示した全体の概略構成図である。
【図２】図１に示した装置の要部右側面図である。
【図３】図３（ａ）は、図２に示したヘッド及び環部材の底面図、図３（ｂ）はその底面図である。
【図４】図４（ａ）は、図３に示したヘッド及び環部材でヘッドに溶液Ｌが付着した状態を示した断面図、図４（ｂ）はその底面図である。
【図５】図５（ａ）は図４（ａ）に示したヘッドから環部材を取り外した状態を示した断面図、図５（ｂ）は図４（ａ）に示したヘッドから取り外した環部材の断面図である。
【図６】図６（ａ）は第２の実施例に係る本発明による塗布装置のヘッド及び環部材の断面図、図６（ｂ）はその底面図である。
【図７】図７（ａ）は図６（ａ）に示したヘッドから環部材を取り外した状態を示した断面図、図７（ｂ）は図６（ａ）に示したヘッドから取り外した環部材の断面図である。
【図８】従来の塗布装置にかかるヘッドの断面図である。
【図９】図８に示したヘッドの底面図である。
【図１０】図８に示したヘッドに溶液Ｌが付着した状態を示した断面図である。
【符号の説明】
【００９７】
１  ヘッド
１１  ヘッド本体
１２  可撓板
１３  ノズルプレート
１３ａ  細孔
１４ｂ  液室
１６  圧電素子
２  ベース
２ａ  レール
２ｂ  搬送テーブル
２５  ワイピング部材
８  環部材
８ａ  磁石
９  受け渡し機構
９ｄ  受け取りチャック
９ｅ  受け渡しチャック
Ｌ  溶液
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
2006341228.tif 000004
【図３】
2006341228.tif 000005
【図４】
2006341228.tif 000006
【図５】
2006341228.tif 000007
【図６】
2006341228.tif 000008
【図７】
2006341228.tif 000009
【図８】
2006341228.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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