(57)【要約】     【課題】  基板表面に洗浄液の乾燥跡を残さないと共に、洗浄液を節約できる洗浄装置を提供する。    【解決手段】  この発明の洗浄装置によれば、液膜保持部材１２は、洗浄ツール１４とエアナイフ２Ａ,２Ｂとの間に配置されると共にガラス基板１に対して所定寸法を隔てて対向して、基板１の表面１Ａ,１Ｂに洗浄液１６による液膜１５を保持する。したがって、液膜保持部材１２は、基板１が洗浄ツール１４からエアナイフ２Ａ,２Ｂまで搬送されるまでの間に、基板１の表面１Ａ,１Ｂで洗浄液１６が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、エアナイフ２Ａ,２Ｂで基板１を乾燥させた後に、基板１の表面に乾燥跡を残さないようにすることができると共に、基板表面を均等に乾燥でき基板表面の劣化を防げる。【選択図】  図２Ａ
2006303355.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄液で基板を洗浄する洗浄ツールと、
上記洗浄ツールに対して上記基板の搬送方向に所定の間隔を隔てて配置されていると共に上記基板を乾燥させる乾燥ツールと、
上記洗浄ツールと上記乾燥ツールとの間に配置されると共に上記基板に対して所定寸法を隔てて対向して、上記基板の表面に上記洗浄液による液膜を保持する液膜保持部材とを備えることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の洗浄装置において、
上記液膜保持部材は、平板状であることを特徴とする洗浄装置。
【請求項３】
請求項２に記載の洗浄装置において、
上記液膜保持部材は、
上記基板に対して、５乃至１０ｍｍの寸法を隔てて対向するように配置されることを特徴とする洗浄装置。
【請求項４】
請求項１に記載の洗浄装置において、
上記液膜保持部材と上記基板との間に、洗浄液を供給する洗浄液供給部を備えることを特徴とする洗浄装置。
【請求項５】
請求項１に記載の洗浄装置において、
上記基板の搬送方向は、鉛直方向、または、水平方向と鉛直方向との中間の傾斜方向であることを特徴とする洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板を洗浄する洗浄装置に関し、一例として、膜形成基板を水で洗浄してから乾燥させるまでの間に基板に水膜を保持する洗浄装置に関する。より詳しくは、一例として、アクティブマトリクス型液晶表示装置に用いられる薄膜トランジスタマトリクス基板などの製造工程でのエッチング、洗浄、乾燥処理の際に使用される洗浄装置に関する。この発明は、例えば、膜形成基板に水膜を保持することで、基板にウォータマークなどの汚染が残ることを防止して、基板欠陥が生じるのを防止する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、薄膜トランジスタ基板等のガラス基板を処理する処理装置として、図６Ａに示すように、ローダ１００と処理槽１０１とリンス槽１０２と乾燥槽１０３とアンローダ１０４とを備えたものがある。また、図６Ｂは、上記リンス槽１０２、乾燥槽１０３、アンローダ１０４を側方から見た様子を示し、図６Ｃは、上記リンス槽１０２、乾燥槽１０３、アンローダ１０４を上方から見た様子を示している。上記リンス槽１０２と乾燥槽１０３が洗浄装置を構成している。
【０００３】
ガラス基板１１１は、ローダ１００からアンローダ１０４まで順次搬送される。このローダ１００から処理槽１０１に搬送されたガラス基板１１１は、この処理槽１０１で洗浄、ウェットエッチング、レジスト剥離等の処理が行われる。次に、図６Ｂに示すように、ガラス基板１１１は、リンス槽１０２に搬送され、リンス液シャワー部１１５により純水等のリンス液１１６が吹き付けられる。これにより、前段の処理槽１０１での処理液がガラス基板１１１から洗い流される。次に、このガラス基板１１１は、搬送ローラ１１４で乾燥槽１０３に搬送され、この乾燥槽１０３において、エアナイフ１１２によって、高圧空気、高圧不活性ガス等が吹き付けられる。これにより、ガラス基板１１１から、リンス液１１６が吹き飛ばされて、ガラス基板１１１の乾燥処理が行われる。そして、この乾燥後のガラス基板１１１は搬送ローラ１１４でアンローダ１０４から搬出される。
【０００４】
この洗浄装置では、図６Ｂに示すように、リンス槽１０２のリンス液シャワー部１１５と乾燥槽１０３のエアナイフ１１２との間にある程度の距離がある。ここで、ガラス基板１１１の最表面に撥水性の膜が露出している場合、上記距離をガラス基板１１１が搬送されている間に、リンス液シャワー部１１５が吐出したリンス液１１６(例えば純水)は上記撥水性の膜で部分的にはじかれて水玉１１３を発生してしまう。この水玉１１３の状態でリンス液１１６がエアナイフ１１２でもって乾燥されると、図６Ｃに示すように、乾燥槽１０３での乾燥のあとにガラス基板１１１にウォータマーク１１７が生じるという問題点がある。
【０００５】
また、図６Ｂに示すように、リンス槽１０２のリンス液シャワー部１０５と乾燥槽１０３のエアナイフ１１２との間において、ガラス基板１１１の最表面をなす膜がなるべく露出しないようにするためには、大量のリンス液１１６が必要となるという問題点もある。
【０００６】
また、図６Ｂに示すように、リンス槽１０２のリンス液シャワー部１１５と乾燥槽１０３のエアナイフ１１２との間において、ガラス基板１１１の表面の膜が露出し、ガラス基板１１１の表面と槽１０２,１０３内の空気が接触することにより、ガラス基板１１１の表面が酸化し、基板欠陥を生じるという問題点もある。
【０００７】
次に、他の従来技術による洗浄装置を、図７Ａ,図７Ｂに示す。図７Ａは、上記洗浄装置を側方から見た様子を示し、図７Ｂは、上記洗浄装置を上方から見た様子を示す。この洗浄装置は、例えば、特許文献１(特開平４−３３７６３７号公報)に記載されている。この洗浄装置は、リンス槽１０２の構成は図６Ｂに示した洗浄装置と同じだが、乾燥槽１０３に替えて、リンス部１０５Ａと乾燥部１０５Ｂとを有するリンス乾燥槽１０５を備えた点が、前述の図６Ｂの洗浄装置と異なる。この洗浄装置は、上記乾燥部１０５Ｂと上記リンス槽１０２との間に上記リンス部１０５Ａを備えている。
【０００８】
このリンス部１０５Ａは、ピンホール式リンス液シャワー部１１８を有し、このシャワー部１１８はガラス基板１１１にリンス液１１６を吹き付ける。そして、次の乾燥部１０５Ｂは、傾斜配置された搬送ローラ１１４でもってガラス基板１１１を搬送方向に向かって登り勾配となるように傾斜させた状態で、エアナイフ１１２から高圧空気、高圧不活性ガス等をガラス基板１１１に吹き付けて、ガラス基板１１１を乾燥させる。
【０００９】
図７Ａ,図７Ｂに示す従来の洗浄装置では、ガラス基板１１１がリンス部１０５Ａでの水平搬送から乾燥部１０５Ｂでの傾斜搬送に変わる際に、リンス液１１６が重力によりガラス基板１１１の後端から流れ落ち、エアナイフ１１２の直前の箇所１１９でガラス基板１１１の表面に水膜切れが発生する。この水膜切れの状態でエアナイフ１１２で乾燥されると、図７Ｂに示したように、乾燥あとにウォータマーク１１７が生じる問題点がある。
【００１０】
また、リンス槽１０２のリンス液シャワー部１０５の後段の乾燥部１０５Ａにピンホール式リンス液シャワー部１１８等を設けているので、大量のリンス液１１６が必要になるという問題点もある。また、前述の如く、ガラス基板１１１が水平搬送から傾斜搬送に変わる際に、リンス液１１６が重力により流れ落ち、ガラス基板１１１の表面に水膜切れの箇所１１９が生じ、ガラス基板１１１の表面が露出し、ガラス基板１１１の表面と乾燥部１０５Ｂの槽内の空気が接触することによりガラス基板１１１の表面が酸化し、基板欠陥を生じるという問題点もある。
【００１１】
次に、さらに別の従来技術の洗浄装置を、図８Ａ,図８Ｂに示す。図８Ａは、上記洗浄装置を側方から見た様子を示し、図８Ｂは、上記洗浄装置を上方から見た様子を示す。この洗浄装置は、例えば、特許文献２(特開平８−２３６４９８号公報)に記載されている。この洗浄装置は、リンス槽１０２の構成は図６Ｂに示した洗浄装置と同じだが、乾燥槽１０３に替えて、乾燥槽１０３Ａを備えた点が、前述の図６Ｂの洗浄装置と異なる。この乾燥槽１０３Ａは、エアナイフ１１２の直前の段階となる位置に、スリット状リンス液シャワー部１２１を配置した点が、前述の乾燥槽１０３と異なる。このスリット状リンス液シャワー部１２１は、スリット状の噴射孔からリンス液１１６を噴射するものである。この乾燥槽１０３Ａでは、リンス液シャワー部１２１がガラス基板１１１に向かって噴射するリンス液１１６と、上記ガラス基板１１１とが挟む領域が搬送方向に向かって先細りとなっている。なお、１０９は、はね返り隔離板である。
【００１２】
この図８Ａ,図８Ｂに示す従来の洗浄装置では、リンス槽１０２のリンス液シャワー部１１５とエアナイフ１１２の直前の位置にあるスリット状リンス液シャワー部１２１との間にある程度の距離がある。この距離をガラス基板１１１が搬送されている間に、ガラス基板１１１の表面の撥水性の膜が露出してしまい、リンス液１１６(例えば純水)は部分的にはじかれて水玉１１３を発生してしまう。この水玉１１３の状態でリンス液１１６がエアナイフ１１２でもって乾燥されると、ガラス基板１１１の表面に、図８Ｂに示すようにウォータマーク１１７が生じるという問題点がある。
【００１３】
また、リンス槽１０２のリンス液シャワー部１１５の他にエアナイフ１１２の直前の位置にあるスリット状リンス液シャワー部１２１を設けているので、大量のリンス液１１６が必要になるという問題点もある。また、上述の如く、リンス槽１０２のリンス液シャワー部１１５とスリット状リンス液シャワー部１２１との間において、ガラス基板１１１の表面の膜が露出し、ガラス基板１１１の表面と乾燥槽１０３Ａ内の空気が接触することによりガラス基板１１１の表面が酸化し、基板欠陥を生じるという問題点もある。
【特許文献１】特開平４−３３７６３７号公報
【特許文献２】特開平８−２３６４９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
そこで、この発明の課題は、基板表面に洗浄液の乾燥跡を残さないと共に、洗浄液を節約できる洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するため、この発明の洗浄装置は、洗浄液で基板を洗浄する洗浄ツールと、
上記洗浄ツールに対して上記基板の搬送方向に所定の間隔を隔てて配置されていると共に上記基板を乾燥させる乾燥ツールと、
上記洗浄ツールと上記乾燥ツールとの間に配置されると共に上記基板に対して所定寸法を隔てて対向して、上記基板の表面に上記洗浄液による液膜を保持する液膜保持部材とを備えることを特徴としている。
【００１６】
この発明の洗浄装置によれば、上記液膜保持部材は、上記洗浄ツールと上記乾燥ツールとの間に配置されると共に上記基板に対して所定寸法を隔てて対向して、上記基板の表面に上記洗浄液による液膜を保持する。したがって、上記液膜保持部材は、基板が洗浄ツールから乾燥ツールまで搬送されるまでの間に、上記基板の表面で洗浄液が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、乾燥ツールで基板を乾燥させた後に、基板の表面に乾燥跡を残さないようにすることができると共に、基板表面を均等に乾燥でき基板表面の劣化を防げる。
【００１７】
また、上記液膜保持部材は、上記洗浄ツールと乾燥ツールとの間において、基板に対向して基板表面に洗浄液による液膜を保持するから、基板表面が露出しないための大量の洗浄液が必要となることもなくなる。
【００１８】
したがって、この発明の洗浄装置によれば、基板表面に洗浄液の乾燥跡を残さないと共に、洗浄液を節約できる洗浄装置を実現できる。
【００１９】
また、一実施形態の洗浄装置では、上記液膜保持部材は、平板状である。
【００２０】
この実施形態の洗浄装置によれば、上記液膜保持部材は平板状であるので、基板との間に洗浄液による液膜を効率よく保持できる。
【００２１】
また、一実施形態の洗浄装置では、上記液膜保持部材は、上記基板に対して、５乃至１０ｍｍの寸法を隔てて対向するように配置される。
【００２２】
この実施形態の洗浄装置によれば、上記液膜保持部材は、上記基板に対して、５ｍｍ以上の寸法を隔てて対向しているので、上記基板が例えば薄膜トランジスタマトリクス基板などの場合に、製造工程での膜厚の増加(最大５ｍｍ程度)に対応できる。また、上記液膜保持部材は、上記基板に対して、１０ｍｍ以下の寸法を隔てて対向しているので、洗浄液の必要量を抑えつつ、洗浄液(例えば水)の粘性によって基板の略全面に液(水)膜を保持することができる。
【００２３】
また、一実施形態の洗浄装置では、上記液膜保持部材と上記基板との間に、洗浄液を供給する洗浄液供給部を備える。
【００２４】
この実施形態の洗浄装置によれば、洗浄液供給部が、液膜保持部材と基板との間に洗浄液を供給するので、液膜保持部材と基板との間に常に確実に洗浄液の液膜を保持できる。
【００２５】
また、一実施形態の洗浄装置では、上記基板の搬送方向は、鉛直方向、または、水平方向と鉛直方向との中間の傾斜方向である。
【００２６】
この実施形態によれば、基板の搬送方向が鉛直方向である場合には、重力によって、洗浄とリンスの効果を向上させつつ、搬送時に上記液膜保持部材でもって基板表面に洗浄液による液膜を保持して液膜切れを防止できる。また、基板の搬送方向が、傾斜方向である場合には、鉛直方向へ搬送する場合に比べて、液膜切れが起こり難くなる。なお、基板の搬送方向を水平方向とした場合には、重力による液膜切れは殆んど無く、基板を安定かつ容易に搬送できる。
【発明の効果】
【００２７】
この発明の洗浄装置によれば、液膜保持部材は、洗浄ツールと乾燥ツールとの間に配置されると共に基板に対して所定寸法を隔てて対向して、基板の表面に洗浄液による液膜を保持する。したがって、液膜保持部材は、基板が洗浄ツールから乾燥ツールまで搬送されるまでの間に、基板の表面で洗浄液が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、乾燥ツールで基板を乾燥させた後に、基板の表面に乾燥跡を残さないようにすることができると共に、基板表面を均等に乾燥でき基板表面の劣化を防げる。また、液膜保持部材は、洗浄ツールと乾燥ツールとの間において、基板に対向して基板表面に洗浄液による液膜を保持するから、基板表面が露出しないための大量の洗浄液が必要となることもなくなり、洗浄液を節約できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２９】
(第１の実施の形態)
図１の斜視図に、この発明の洗浄装置の第１実施形態が備えるリンス/乾燥槽５５の要部の概略構成を示す。また、図２Ａの側面図に、この実施形態の洗浄装置を側方から見た様子を示し、図２Ｂの上面図に、この実施形態の洗浄装置を上方から見た様子を示す。
【００３０】
図２Ａおよび図２Ｂに示すように、この実施形態の洗浄装置は、ガラス基板１の搬送方向(進行方向)に沿って順に、処理槽５１とリンス/乾燥槽５５を有する。この処理槽５１は、上記搬送方向に配列された搬送ローラ５４,５４と、この搬送ローラ５４で搬送されるガラス基板１に向かって洗浄液１６を吹き付ける洗浄ツール１４を有する。この実施形態では、洗浄液１６を水とした。
【００３１】
また、上記リンス/乾燥槽５５は、上記搬送方向に配列された搬送ローラ５４Ａ,５４Ａ,５４Ｂ,５４Ｂと、この搬送ローラ５４Ａ,５４Ａで搬送されるガラス基板１の上下両面１Ａ,１Ｂに対して所定間隔を隔てて対向するように配置された液膜保持部材１２を有する。また、上記リンス/乾燥槽５５は、液膜保持部材１２に対して搬送方向に隣接する乾燥ツールとしてのエアナイフ２Ａ,２Ｂを有する。このエアナイフ２Ａと２Ｂは、搬送されるガラス基板１の上方と下方に配置され、ガラス基板１の上面１Ａと下面１Ｂに向かって空気を吹き付ける。
【００３２】
図１に示すように、この液膜保持部材１２は、全体として、搬送方向(進行方向)に延びる四角形の筒形状である。この液膜保持部材１２は、図２Ａに示すように、ガラス基板１の上側に位置する上側部１２Ａと、ガラス基板１の下側に位置する下側部１２Ｂを有する。図１に示すように、上側部１２Ａと下側部１２Ｂは、幅方向の両側の側部１２Ｃ,１２Ｄでつながっている。この上側部１２Ａは、ガラス基板１の上面１Ａに対して所定寸法を隔てて対向する対向面１２Ａ-１を有し、下側部１２Ｂは、ガラス基板１の下面１Ｂに対して所定寸法を隔てて対向する対向面１２Ｂ-１とを有する。
【００３３】
図１に示すように、上記液膜保持部材１２の上側部１２Ａの後端部付近には、幅方向に所定の間隔を隔てて複数の貫通穴１７が形成されている。そして、この複数の貫通穴１７を覆うように、上側部１２Ａに洗浄液供給部としての純水供給部１３が取り付けられている。この純水供給部１３は、例えば、配管(図示せず)でもって純水を供給するための純水タンク等に連結されている。この純水供給部１３は、上記複数の貫通穴１７を経由して、液膜保持部材１２とガラス基板１との間に、純水を供給する。これにより、液膜保持部材１２は、搬送されるガラス基板１の両面１Ａ,１Ｂに水膜１５を保持する。
【００３４】
また、水膜保持部材１２とガラス基板１とは、水膜１５の厚さが最小となるように最も近づいた位置に設けられる。例えば、水膜保持部材１２の上側部１２Ａの主要部１２ＡＡとガラス基板１との間の距離、および、水膜保持部材１２の下側部１２Ｂの主要部１２ＢＢとガラス基板１との間の距離は、５ｍｍ以上かつ１０ｍｍ以下に設定される。この距離を５ｍｍ以上かつ１０ｍｍ以下に設定したことで、水の粘性により水を基板１の上面１Ａ,１Ｂの全面に広げて、水膜１５が保持されるのに必要な水膜の厚さを確保しつつ、水膜の厚さを最小にして、液膜保持部材１２の対向面１２Ａ-１,対向面１２Ｂ-１とガラス基板１の上面１Ａ,１Ｂとの間の距離を最小にできる。また、上記距離を５ｍｍ以上に設定したことで、上記基板１が例えば薄膜トランジスタマトリクス基板などの場合に、製造工程で上記基板の膜圧が最大５ｍｍ程度増加することに対処できる。
【００３５】
また、図２Ａに示すように、上記水膜保持部材１２は、処理槽５１の洗浄ツール１４の直後の出口５１Ａの近傍からエアナイフ２Ａ,２Ｂの直前の位置付近まで延在している。そして、この水膜保持部材１２は、搬送方向の寸法が上記ガラス基板１の搬送方向の寸法と略同等である。
【００３６】
また、図２Ａに示すように、この水膜保持部材１２の上側部１２Ａは、搬送方向の後端で主要部１２ＡＡから下方に突出している突出部１２０を有し、下側部１２Ｂは、搬送方向の後端で主要部１２ＢＢから上方に突出している突出部１２１を有している。また、上記上側部１２Ａは、搬送方向の前端で主要部１２ＡＡから下方に突出している突出部１２２を有し、下側部１２Ｂは、搬送方向の前端で主要部１２ＢＢから上方に突出している突出部１２３を有している。この水膜保持部材１２の上側部１２Ａの突出部１２０,１２２および下側部１２Ｂの突出部１２１,１２３は、主要部１２ＡＡ,１２ＢＢの水膜１５を堰き止めて、流出を防ぐ役目をする。
【００３７】
上記水膜保持部材１２によれば、洗浄ツール１４とエアナイフ２Ａ,２Ｂとの間で、ガラス基板１の両面１Ａ,１Ｂに常に水膜１５を保持できる。したがって、基板１が洗浄ツール１４から乾燥ツールであるエアナイフ１２まで搬送されるまでの間に、上記基板１の表面１Ａ,１Ｂで洗浄液が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、乾燥ツールとしてのエアナイフ２Ａ,２Ｂから基板１の表面１Ａ,１Ｂに高圧空気、高圧不活性ガス等を吹き付けて、基板１の両面１Ａ,１Ｂを乾燥させた後に、基板１の表面１Ａ,１Ｂに乾燥跡を残さないようにすることができる。また、基板表面１Ａ,１Ｂを均等に乾燥でき基板表面１Ａ,１Ｂの劣化を防止できる。
【００３８】
なお、上記実施形態では、洗浄液１６を水としたが、水以外の洗浄液としてもよい。また、上記実施形態では、基板をガラス基板としたがガラス基板に限らず、様々な種類の基板であってもよい。
【００３９】
(第２の実施の形態)
次に、図３の斜視図、図４Ａの側面図、図４Ｂの上面図に、この発明の洗浄装置の第２実施形態を示す。この第２実施形態は、第１実施形態が備えた純水供給部１３を備えていない点が前述の第１実施形態と異なる。また、この第２実施形態は、第１実施形態の液膜保持部材１２とは異なる液膜保持部材４２を備える点が前述の第１実施形態と異なる。この第２実施形態は、上記２つの点以外は前述の第１実施形態と同様であるので、この第２実施形態では、第１実施形態と異なる点を説明する。
【００４０】
図３,図４Ａに示すように、この第２実施形態では、液膜保持部材４２は、上側部４２Ａと下側部４２Ｂを有し、この上側部４２Ａと下側部４２Ｂは、ガラス基板１の上側と下側とに分かれている点で、前述の第１実施形態の上側部１２Ａ,１２Ｂと異なるが、その他の点では、前述の第１実施形態の上側部１２Ａ,１２Ｂと同様である。
【００４１】
すなわち、この第２実施形態では、上記液膜保持部材４２によれば、洗浄ツール１４とエアナイフ２Ａ,２Ｂとの間で、ガラス基板１の両面１Ａ,１Ｂに常に水膜１５を保持できる。したがって、基板１が洗浄ツール１４から乾燥ツールであるエアナイフ２Ａ,２Ｂまで搬送されるまでの間に、上記基板１の表面１Ａ,１Ｂで洗浄液が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、乾燥ツールとしてのエアナイフ２Ａ,２Ｂから高圧空気や高圧不活性ガス等を基板１の両面１Ａ,１Ｂに吹き付けて、基板１の両面１Ａ,１Ｂを乾燥させた後に、基板１の表面１Ａ,１Ｂに乾燥跡を残さないようにすることができる。また、基板表面１Ａ,１Ｂを均等に乾燥でき基板表面１Ａ,１Ｂの劣化を防止できる。
【００４２】
なお、上記液膜保持部材４２の上側部４２Ａと下側部４２Ｂは、それぞれ、リンス乾燥槽５５Ｎ内の位置を保持するための部材(図示せず)でもって、リンス乾燥槽５５Ｎに固定される。
【００４３】
(第３の実施の形態)
次に、図５Ａ,図５Ｂを参照して、この発明の洗浄装置の第３実施形態を説明する。図５Ａはこの第３実施形態の洗浄装置を側方から見た様子を示す模式的な側面図であり、図５Ｂは上記洗浄装置を正面から見た様子を示す模式的な正面図である。
【００４４】
図５Ａおよび図５Ｂに示すように、この実施形態の洗浄装置は、ガラス基板７３を搬送する方向を、下から上への鉛直方向としている縦型搬送洗浄装置である。この第３実施形態は、ガラス基板７３の搬送方向(進行方向)に沿って順に、処理槽７１とリンス/乾燥槽７２を有する。この処理槽７１は、このガラス基板７３の両側面に配置されると共にガラス基板７３を上記搬送方向に搬送するための搬送ローラ(図示せず)を備える。また、この処理槽７１は、上記搬送ローラで下から上へ搬送されるガラス基板７３に向かって洗浄液７５を吹き付ける洗浄ツール７６を有する。この実施形態では、洗浄液７５を水とした。
【００４５】
また、上記リンス/乾燥槽７２は、処理槽７１と同様の搬送ローラ(図示せず)と、この搬送ローラで搬送されるガラス基板７３の両面７３Ａ,７３Ｂに対して所定間隔を隔てて対向するように配置された液膜保持部材７７Ａ,７７Ｂを有する。また、このリンス/乾燥槽７２は、液膜保持部材７７Ａ,７７Ｂに対して搬送方向に隣接する乾燥ツールとしてのエアナイフ７８Ａ,７８Ｂを有する。このエアナイフ７８Ａ,７８Ｂは、搬送されるガラス基板７３の面７３Ａ,面７３Ｂに対向するように配置され、搬送されるガラス基板７３の面７３Ａと面７３Ｂに向かって高圧空気(または高圧不活性ガス等)を吹き付ける。
【００４６】
図５Ａおよび図５Ｂに示すように、上記液膜保持部材７７Ａは、ガラス基板７３と略同等の長さを有していると共に、ガラス基板７３と略同等の幅寸法を有している。また、液膜保持部材７７Ｂも、ガラス基板７３と略同等の長さを有していると共に、ガラス基板７３と略同等の幅寸法を有している。
【００４７】
この液膜保持部材７７Ａは、上下方向の両端に、対向する液膜保持部材７７Ｂに向かって突き出した突出部７７Ａ-１と７７Ａ-２と、この突出部７７Ａ-１と７７Ａ-２との間の主要部７７Ａ-３とを有する。この主要部７７Ａ-３は、搬送されてくるガラス基板７３の面７３Ａに所定寸法を隔てて対向する対向面Ｓ１を有する。この所定寸法は、液膜保持部材７７Ａの主要部７７Ａ-３とガラス基板７３の面７３Ａとの間の液膜８０Ａの厚さができるだけ小さくなるように、一例として、５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内の値に設定する。また、上記突出部７７Ａ-１は、ガラス基板７３の面７３Ａの近傍まで達しており、主要部７７Ａ-３とガラス基板７３の面７３Ａから洗浄液７５が下方へ漏れ難くしている。一方、上側の突出部７７Ａ-２は、主要部７７Ａ-３よりもガラス基板７３の面７３Ａに接近しており、洗浄液７５が上方へあふれ出るのを防いでいる。
【００４８】
一方、上記液膜保持部材７７Ｂは、上下方向の両端に、対向する液膜保持部材７７Ａに向かって突き出した突出部７７Ｂ-１と７７Ｂ-２と、この突出部７７Ｂ-１と７７Ｂ-２との間の主要部７７Ｂ-３とを有する。この主要部７７Ｂ-３は、搬送されてくるガラス基板７３の面７３Ｂに所定寸法を隔てて対向する対向面Ｓ２を有する。この所定寸法は、液膜保持部材７７Ｂの主要部７７Ｂ-３とガラス基板７３の面７３Ｂとの間の液膜８０Ｂの厚さができるだけ小さくなるように、一例として、５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内の値に設定する。また、上記突出部７７Ｂ-１は、ガラス基板７３の面７３Ｂの近傍まで達しており、主要部７７Ｂ-３とガラス基板７３の面７３Ｂから洗浄液７５が下方へ漏れ難くしている。一方、上側の突出部７７Ｂ-２は、主要部７７Ｂ-３よりもガラス基板７３の面７３Ｂに接近しており、洗浄液７５が上方へあふれ出るのを防いでいる。
【００４９】
図５Ａ,図５Ｂに示すように、液膜保持部材７７Ａ,７７Ｂは、突出部７７Ａ-１,７７Ｂ-１と主要部７７Ａ-３,７７Ｂ-３との間に、幅方向に所定の間隔を隔てて複数の貫通穴８２Ａ,８２Ｂが形成されている。そして、この複数の貫通穴８２Ａ,８２Ｂを覆うように、液膜保持部材７７Ａ,７７Ｂに純水供給部８３Ａ,８３Ｂが取り付けられている。この純水供給部８３Ａ,８３Ｂは、上記複数の貫通穴８２Ａ,８２Ｂを経由して、液膜保持部材７７Ａ,７７Ｂとガラス基板７３との間に、純水を供給する。この純水供給部８３Ａ,８３Ｂは、配管等で純水供給タンク(図示せず)に接続されている。
【００５０】
図５Ａに示すように、この液膜保持部材７７Ａ,７７Ｂは、処理槽７１の出口７１Ａ近傍からエアナイフ７８Ａ,７８Ｂの近傍にまで達している。したがって、この液膜保持部材７７Ａ,７７Ｂによれば、洗浄ツール７６とエアナイフ７８Ａ,７８Ｂとの間で、ガラス基板７３の両面７３Ａ,７３Ｂに常に液膜８０Ａ,８０Ｂを保持できる。
【００５１】
したがって、この実施形態によれば、ガラス基板７３が洗浄ツール７６から乾燥ツールとしてのエアナイフ７８Ａ,７８Ｂまで搬送されるまでの間に、ガラス基板７３の表面７３Ａ,７３Ｂで洗浄液７５が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、この実施形態の洗浄装置のように、縦型搬送を行うことに起因して、水平に搬送を行う場合に比べて、重力によってガラス基板７３の両面７３Ａ,７３Ｂで液膜切れが起こり易い場合であっても、乾燥ツールとしてのエアナイフ７８Ａ,７８Ｂが噴出する高圧空気や高圧不活性ガス等でガラス基板７３の両面７３Ａ,７３Ｂを乾燥させた後に乾燥跡を残さないようにすることができる。また、基板表面７３Ａ,７３Ｂを均等に乾燥でき、基板表面７３Ａ,７３Ｂの劣化を防止できる。
【００５２】
また、この実施形態では、上記液膜保持部材７７Ａ,７７Ｂで液膜を薄い状態で保持するので、洗浄液７５の消費量を節約できる。したがって、基板７３が大型化した場合にも、洗浄液(あるいはリンス液)７５の消費量を最小限に抑えることができる。
【００５３】
なお、上記実施形態では、洗浄液７５を水としたが、水以外の洗浄液としてもよい。また、上記実施形態では、ガラス基板７３を上下方向に略垂直方向に搬送する場合を説明したが、鉛直方向と水平方向との間の傾斜方向にガラス基板７３を搬送する場合にもこの発明を適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】この発明の洗浄装置の第１実施形態が備えるリンス/乾燥槽の要部の概略構成を示す斜視図である。
【図２Ａ】上記第１実施形態の洗浄装置を側方から見た様子を示す側面図である。
【図２Ｂ】上記第１実施形態の洗浄装置を上方から見た様子を示す上面図である。
【図３】この発明の洗浄装置の第２実施形態が備えるリンス/乾燥槽の要部の概略構成を示す斜視図である。
【図４Ａ】上記第２実施形態の洗浄装置を側方から見た様子を示す側面図である。
【図４Ｂ】上記第２実施形態の洗浄装置を上方から見た様子を示す上面図である。
【図５Ａ】この発明の洗浄装置の第３実施形態の洗浄装置を側方から見た様子を示す側面図である。
【図５Ｂ】上記第３実施形態の洗浄装置を正面から見た様子を示す正面図である。
【図６Ａ】従来の洗浄装置の構成を示す図である。
【図６Ｂ】上記従来の洗浄装置を側方から見た様子を示す側面図である。
【図６Ｃ】上記従来の洗浄装置を上方から見た様子を示す上面図である。
【図７Ａ】他の従来の洗浄装置を側方から見た様子を示す側面図である。
【図７Ｂ】上記他の従来の洗浄装置を上方から見た様子を示す上面図である。
【図８Ａ】さらに別の従来の洗浄装置を側方から見た様子を示す側面図である。
【図８Ｂ】上記さらに別の従来の洗浄装置を上方から見た様子を示す上面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１、７３  ガラス基板
１Ａ  上面
１Ｂ  下面
２Ａ、２Ｂ、７８Ａ、７８Ｂ  エアナイフ(乾燥ツール)
１２、４２、７７Ａ、７７Ｂ  液膜保持部材
１２Ａ、４２Ａ  上側部
１２Ｂ、４２Ｂ  下側部
１２ＡＡ、１２ＢＢ、７７Ａ-３、７７Ｂ-３  主要部
１２Ａ-１、１２Ｂ-１  対向面
１４、７６  洗浄ツール
１５  水膜
１６、７５  洗浄液
１７  貫通穴
５１、７１  処理槽
５４  搬送ローラ
５５、７２  リンス/乾燥槽
７３Ａ、７３Ｂ  面
８０Ａ、８０Ｂ  液膜
【図１】
2006303355.tif 000003
【図２Ａ】
2006303355.tif 000004
【図２Ｂ】
2006303355.tif 000005
【図３】
2006303355.tif 000006
【図４Ａ】
2006303355.tif 000007
【図４Ｂ】
2006303355.tif 000008
【図５Ａ】
2006303355.tif 000009
【図５Ｂ】
2006303355.tif 000010
【図６Ａ】
2006303355.tif 000011
【図６Ｂ】
2006303355.tif 000012
【図６Ｃ】
2006303355.tif 000013
【図７Ａ】
2006303355.tif 000014
【図７Ｂ】
2006303355.tif 000015
【図８Ａ】
2006303355.tif 000016
【図８Ｂ】
2006303355.tif 000017