(57)【要約】【課題】  表示装置の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現する。【解決手段】  表示装置において、複数の透過電極２ａ及び複数の反射電極２ｂを有する第１の基板１１と、各透過電極２ａ及び各反射電極２ｂに対向する対向電極４を有する第２の基板２１と、第１の基板１１と第２の基板２１との間に設けられた表示層７と、第２の基板２１上（又は第１の基板１１上）に各透過電極２ａにそれぞれ対応させて設けられた複数の第１の着色層２３ａと、それらの第１の着色層２３ａを着色層毎に隔てる隔離壁２４と、その隔離壁２４の一部であって反射電極２ｂと対向電極４との間の距離を透過電極２ａと対向電極４との間の距離に比べ短くする段差部２４ａとを備える。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を透過させる複数の透過電極及び光を反射する複数の反射電極を有する第１の基板と、
前記複数の透過電極及び前記複数の反射電極に対向する対向電極を有する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に設けられた表示層と、
前記第１の基板上又は前記第２の基板上に、前記複数の透過電極にそれぞれ対応させて設けられた複数の第１の着色層と、
前記複数の第１の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁と、
前記隔離壁の一部であって、前記反射電極と前記対向電極との間の距離を前記透過電極と前記対向電極との間の距離に比べ短くする段差部と、
を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記隔離壁は、前記第１の着色層の厚さより高いことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記段差部は、前記反射電極に対応する第２の着色層を有していることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項４】
前記段差部は、前記第２の着色層を収容する凹部を有していることを特徴とする請求項３記載の表示装置。
【請求項５】
前記凹部の深さは、前記第１の着色層の厚さの略１／２であることを特徴とする請求項４記載の表示装置。
【請求項６】
前記段差部は、前記第２の着色層を収容する貫通孔を有していることを特徴とする請求項３記載の表示装置。
【請求項７】
前記第２の着色層の厚さは、前記第１の着色層の厚さの略１／２であることを特徴とする請求項３記載の表示装置。
【請求項８】
光を透過させる複数の透過電極及び光を反射する複数の反射電極を有する第１の基板上、又は前記複数の透過電極及び前記複数の反射電極に対向する対向電極を有する第２の基板上に、前記複数の透過電極にそれぞれ対応する複数の第１の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁と、前記反射電極と前記対向電極との間の距離を前記透過電極と前記対向電極との間の距離に比べ短くする段差部とを一体に形成する工程と、
前記隔離壁と前記段差部とを一体に形成した前記第１の基板上又は前記第２の基板上に、前記複数の第１の着色層を形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記複数の第１の着色層を形成する工程では、前記隔離壁の高さより前記第１の着色層の厚さを薄く前記第１の着色層を形成することを特徴とする請求項８記載の表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記複数の第１の着色層を形成する工程では、インクを吐出するインク吐出装置により前記第１の着色層を形成することを特徴とする請求項８記載の表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記隔離壁と前記段差部とを一体に形成する工程では、前記段差部に、前記反射電極に対応する第２の着色層を収容する凹部を形成し、
前記複数の第１の着色層を形成する工程では、前記凹部に前記第２の着色層を形成することを特徴とする請求項８記載の表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記凹部の深さは、前記第１の着色層の厚さの略１／２であることを特徴とする請求項１１記載の表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記隔離壁と前記段差部とを一体に形成する工程では、前記段差部に、前記反射電極に対応する第２の着色層を収容する貫通孔を形成し、
前記複数の第１の着色層を形成する工程では、前記貫通孔に前記第２の着色層を形成することを特徴とする請求項８記載の表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第２の着色層の厚さは、前記第１の着色層の厚さの略１／２であることを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置としては、液晶を用いる液晶表示装置が様々な分野で使用されている。液晶表示装置は、薄型で軽量及び低消費電力であるため、携帯情報端末、コンピュータ及びテレビ等に用いられている。
【０００３】
この液晶表示装置は、複数の画素電極を有するアレイ基板、各画素電極に対向する対向電極を有する対向基板、及びアレイ基板と対向基板との間に保持された液晶層等を備えている。このような構成に加え、カラー液晶表示装置は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各色の複数の着色層を有するカラーフィルタを備えている。
【０００４】
カラー液晶表示装置の中には、室内外での良好な表示を得るため、半透過型のカラー液晶表示装置が提案されている（例えば特許文献１参照）。この半透過型のカラー液晶表示装置は、同一画素内において、光を透過させる画素電極である透過電極を有する透過部、及び光を反射する画素電極である反射電極を有する反射部を備えている。
【０００５】
このような半透過型のカラー液晶表示装置は、室内等の暗い場所において、透過部によりバックライトからの光を表示に使用する透過型の液晶表示装置として機能し、室外等の明るい場所において、反射部により外光を反射させて表示に使用する反射型の液晶表示装置として機能する。これにより、明るい場所では、バックライトを用いずに画像を表示することが可能になるため、消費電力を大幅に削減することができる。
【０００６】
また、半透過型のカラー液晶表示装置では、透過部及び反射部のどちらでも良好な表示特性を得るため、反射部の液晶層を透過部の液晶層より薄くする場合がある。このとき、反射部には、反射部の液晶層の厚さを制御する段差部（バンプ）が形成される。この段差部は、カラーフィルタ上に設けられたり、あるいは、カラーフィルタに対向させてアレイ基板上又は対向基板上に設けられたりする。
【０００７】
ここで、インクを吐出するインクジェット装置等によりカラーフィルタを製造する場合には、各色の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁を基板上に形成し、隔離壁を形成した基板上に着色層形成用のインクを滴下し、滴下したインクを乾燥硬化させてカラーフィルタを製造する。
【特許文献１】特開２００２−３４１１２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところが、前述したようなカラーフィルタ製造工程を用いて、段差部を有する半透過型のカラー液晶表示装置を製造する場合には、隔離壁を形成する工程と段差部を形成する工程とが別々に行われるため、製造工程数が増えてしまい、その結果として、製造上の歩留まりは低下してしまう。
【０００９】
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、表示装置の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の実施の形態に係る第１の特徴は、表示装置において、光を透過させる複数の透過電極及び光を反射する複数の反射電極を有する第１の基板と、前記複数の透過電極及び前記複数の反射電極に対向する対向電極を有する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に設けられた表示層と、前記第１の基板上又は前記第２の基板上に、前記複数の透過電極にそれぞれ対応させて設けられた複数の第１の着色層と、前記複数の第１の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁と、前記隔離壁の一部であって、前記反射電極と前記対向電極との間の距離を前記透過電極と前記対向電極との間の距離に比べ短くする段差部とを備えることである。
【００１１】
本発明の第１の特徴では、隔離壁の一部として段差部を設けることによって、隔離壁と段差部とを同じ製造工程で形成することが可能になるので、表示装置の製造工程数は削減される。
【００１２】
本発明の実施の形態に係る第２の特徴は、表示装置の製造方法において、光を透過させる複数の透過電極及び光を反射する複数の反射電極を有する第１の基板上、又は前記複数の透過電極及び前記複数の反射電極に対向する対向電極を有する第２の基板上に、前記複数の透過電極にそれぞれ対応する複数の第１の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁と、前記反射電極と前記対向電極との間の距離を前記透過電極と前記対向電極との間の距離に比べ短くする段差部とを一体に形成する工程と、前記隔離壁と前記段差部とを一体に形成した前記第１の基板上又は前記第２の基板上に、前記複数の第１の着色層を形成する工程とを有することである。
【００１３】
本発明の第２の特徴では、隔離壁と段差部とを一体に形成することによって、それらを同じ製造工程で形成することが可能になるので、表示装置の製造工程数は削減される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、表示装置の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態について図１乃至図７を参照して説明する。
【００１６】
［表示装置の構成］
まず、第１の実施の形態に係る表示装置１の構成について説明する。
【００１７】
第１の実施の形態に係る表示装置１は、図１に示すように、複数の画素電極２を有するアレイ基板３、各画素電極２に対向する対向電極４を有する対向基板５、及びアレイ基板３と対向基板５との間にシール材６により設けられた表示層７等を備えている。
【００１８】
表示層７は液晶材料により形成されている。この表示層７は液晶層として機能する。各画素電極２上及び対向電極４上には、液晶分子の配向方向を規定する配向膜８ａ，８ｂが設けられている。また、アレイ基板３の下方には、光を照射するバックライト等の光源９が設けられている。
【００１９】
表示装置１は、図２に示すように、画像を表示する表示領域内に半透過領域Ｒ１及び透過領域Ｒ２を有している。半透過領域Ｒ１は、光源９からの光及び外光（例えば太陽光等）の両方を表示に利用する領域である。また、透過領域Ｒ２は、光源９からの光だけを表示に利用する領域である。なお、表示領域は、液晶の配向状態の変化により画像を表示する領域である。
【００２０】
半透過領域Ｒ１では、図３に示すように、表示装置１は、同一画素Ｓ内において、光を透過させる画素電極２である透過電極２ａを有する透過部Ｔ、及び光を反射する画素電極２である反射電極２ｂを有する反射部Ｈを備えている。すなわち、半透過領域Ｒ１では、表示装置１は、画素Ｓ毎に透過部Ｔ及び反射部Ｈを備えている。ここで、透過部Ｔは、光源９からの光を透過させて表示に用いる部分である。また、反射部Ｈは、外光を反射して表示に用いる部分である。一方、透過領域Ｒ２では、表示装置１は、画素Ｓ内に透過部Ｔだけを備えている。
【００２１】
アレイ基板３は、ガラス基板等の光透過性及び絶縁性を有する第１の基板１１、その第１の基板１１上の内面（表示層７側の表面）に設けられた複数の透過電極２ａ、第１の基板１１上の内面に絶縁層１２を介して設けられた反射電極２ｂ、それらを覆うように設けられた配向膜８ａ、第１の基板１１上の外面に設けられたλ／４波長板１３、及びそのλ／４波長板１３上に設けられた偏光板１４から構成されている。
【００２２】
透過電極２ａは、例えばインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の透明導電性材料により形成されている。また、反射電極２ｂは、アルミニウム等の光反射可能な導電性材料により形成されている。
【００２３】
なお、第１の基板１１上には、複数の信号線及び複数の走査線（いずれも図示せず）が格子状（マトリクス状）に交差させて設けられている。信号線及び走査線には、透過電極２ａ及び反射電極２ｂがスイッチ素子（図示せず）を介して接続されている。このスイッチ素子としては、例えば薄膜トランジスタを用いる。
【００２４】
対向基板５は、ガラス基板等の光透過性及び絶縁性を有する第２の基板２１、その第２の基板２１上の内面（表示層７側の表面）に設けられたブラックマトリクス（ＢＭ）２２、そのブラックマトリクス２２に対応させて設けられたＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各色の複数の着色層２３ａ、それらの着色層２３ａを着色層２３ａ毎に隔てる隔離壁２４、各着色層２３ａ及び隔離壁２４上に設けられた対向電極４、その対向電極４上に設けられた配向膜８ｂ、第２の基板２１上の外面に設けられた拡散板２５、その拡散板２５上に設けられたλ／４波長板２６、及びそのλ／４波長板２６上に設けられた偏光板２７から構成されている。
【００２５】
ブラックマトリクス２２は、画素Ｓ毎に透過電極２ａ及び反射電極２ｂの周縁部に対向させて格子状に設けられている。このブラックマトリクス２２は、例えば多重クロム等により形成されている。また、各着色層２３ａは、各透過電極２ａにそれぞれ対向させて設けられている。各色の着色層２３ａは、それぞれ対応する色の顔料を有するインクにより形成されている。
【００２６】
隔離壁２４は、その一部として、反射部Ｈの表示層７の厚さを制御する段差部２４ａ等を有している。この隔離壁２４は、例えば透明樹脂等により形成されている。
【００２７】
段差部２４ａは、反射電極２ｂと対向電極４との間の距離を透過電極２ａと対向電極４との間の距離に比べ短くするバンプである。段差部２４ａは、例えば、反射電極２ｂに対向させて設けられている。この段差部２４ａによって、反射部Ｈの表示層７の厚さは透過部Ｔの表示層７の厚さより薄くなる。これにより、反射部Ｈの表示層７を往復して透過する外光の位相差（リタデーション）と、光源９から透過部Ｔの表示層７を一方向に通過する光の位相差との差が小さくなるので、表示装置１の表示特性は向上する。
【００２８】
アレイ基板３と対向基板５との間には、その距離を規定する複数のスペーサ２７が設けられている。スペーサ２７は対向電極４上に透明樹脂等により形成されている。なお、スペーサ２７の高さは、アレイ基板３と段差部２４ａとの間の距離が例えば２．５μｍ程度になるように設定されている。
【００２９】
ここで、第１の実施の形態では、反射部Ｈの表示層７の厚さはスペーサ２７により略２．５μｍに規定されている。これに対して、透過部Ｔの表示層７の厚さは略５μｍに規定されている。このため、透過部Ｔでは、光源９からの光は、アレイ基板３側から表示層７に入射して表示層７の対向基板５側に到達するまでにλ／２の位相差を生じる。一方、反射部Ｈでは、外光は、表示層７に対向基板５側から入射して表示層７の反射電極２ｂ側に到達するまでの往路でλ／４の位相差を生じ、反射電極２ｂで反射され表示層７の対向基板５側に到達するまでの復路でλ／４の位相差を生じるため、往復でλ／２の位相差を生じる。
【００３０】
したがって、反射部Ｈの表示層７の厚さを透過部の表示層７の厚さの略１／２に設定することによって、反射部Ｈの表示層７を往復して透過する光の位相差（リタデーション）と、透過部Ｔの表示層７を一方向に通過する光の位相差とが等しくなるので、光変調率は同じになり、表示装置１の表示特性は向上する。
【００３１】
次いで、隔離壁２４について詳しく説明する。
【００３２】
隔離壁２４は、図４、図５及び図６に示すように、各着色層２３ａ間に設けられ列方向に伸びる列隔離壁として機能する複数の段差部２４ａ、及び各着色層２３ａ間に設けられ行方向に伸びる複数の行隔離壁２４ｂから構成されている。各段差部２４ａ及び各行隔離壁２４ｂは格子状（マトリクス状）に第２の基板２１上に設けられている（図４参照）。これらの段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂは一体に形成されている。
【００３３】
このような隔離壁２４は、各段差部２４ａ及び各行隔離壁２４ｂにより、各着色層２３ａを個別に隔てており、各色の着色層２３ａにおける混色の発生を防止する。なお、各段差部２４ａ間及び各行隔離壁２４ｂ間に設けられた着色層２３ａが第１の着色層として機能する。
【００３４】
隔離壁２４、すなわち段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂは、着色層２３ａの厚さより高く形成されている（図５及び図６参照）。これにより、着色層２３ａを形成する際に使用するインク等の液体が段差部２４ａや行隔離壁２４ｂから漏れ出すことを防止することができ、特に、各色の着色層２３ａにおける混色の発生を防止することができる。
【００３５】
ここで、反射部Ｈには、着色層２３ａが存在していない。このため、半透過領域Ｒ１では、反射部Ｈによる反射表示はモノクロ表示になる。例えば、表示装置１を携帯電話等に用いて、反射表示によりアンテナや電池残量等を表示する場合には、モノクロ表示でも十分に良好な画像を表示することができる。
【００３６】
このような構成の表示装置１は、室内等の暗い場所において、各透過部Ｔにより光源９からの光を選択的に透過させることによって画像を表示する透過型の表示装置として機能する。また、表示装置１は、室外等の明るい場所において、各反射部Ｈにより外光を選択的に反射することによって画像を表示する反射型の表示装置として機能する。このとき、表示装置１は、透過電極２ａと対向電極４との間への電圧印加により、透過部Ｔの表示層７の透過光量を変化させ、また、反射電極２ｂと対向電極４との間への電圧印加により、反射部Ｈの表示層７の透過光量を変化させる。
【００３７】
このように第１の実施の形態の表示装置１によれば、隔離壁２４の一部として段差部２４ａを設けることによって、隔離壁２４と段差部２４ａとを同じ製造工程で形成することが可能になるので、表示装置１の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【００３８】
また、隔離壁２４が着色層２３ａの厚さより高いことよって、着色層２３ａを形成する際にインク等の液体が段差部２４ａや行隔離壁２４ｂから漏れ出すことを防止することが可能になるので、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【００３９】
［表示装置の製造方法］
次に、表示装置１の製造方法、特に対向基板５の製造方法について説明する。
【００４０】
まず、図７（Ａ）に示すように、第２の基板２１を準備する。第２の基板２１としては、ガラス基板等の透明性及び絶縁性を有する基板を用いる。
【００４１】
準備した第２の基板２１上に、図７（Ａ）に示すように、画素Ｓ毎に開口部を有するブラックマトリクス２２を形成する。ブラックマトリクス２２としては、多層クロム等を用いる。
【００４２】
ブラックマトリクス２２を形成した第２の基板２１上に、図７（Ａ）に示すように、隔離壁２４形成用の感光性透明樹脂層５１を形成する。この感光性透明樹脂層５１としては、アクリル感光性樹脂等を用いる。また、第２の基板２１上に感光性透明樹脂層５１を形成する方法としては、スピン塗布、スリット塗布及びロールコータ塗布等を用いる。なお、感光性透明樹脂層５１としては、インク反発性を有する樹脂を用いることが好ましい。
【００４３】
その後、図７（Ａ）に示すように、パターニング用のフォトマスク５２を介して第２の基板２１上の感光性透明樹脂層５１を露光する。このフォトマスク５２は、隔離壁２４形成用のパターンマスク、すなわち段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂを形成するためのマスクである。フォトマスク５２は、各透過電極２ａにそれぞれ対応する複数の開口部を有している。
【００４４】
次いで、露光後の第２の基板２１上の感光性透明樹脂層５１を現像し、加熱して硬化させる。これにより、図７（Ｂ）に示すように、隔離壁２４が第２の基板２１上に形成される。すなわち、段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂが同一工程で第２の基板２１上に一体に形成される。
【００４５】
次に、インクを吐出するインクジェット装置等のインク吐出装置（図示せず）によって、隔離壁２４が形成された第２の基板２１上に、図７（Ｃ）に示すように、赤色顔料を有する赤インクを滴下する。すなわち、第２の基板２１上の各段差部２４ａ間及び各行隔離壁２４ｂ間に滴下する。この赤インクは乾燥後に硬化して着色層２３ａとなる。このとき、赤インクは、着色層２３ａの厚さが段差部２４ａより例えば１〜４μｍ薄くなる量だけ滴下される。
【００４６】
ここで、インク吐出装置は、副走査方向に記録媒体を搬送する搬送部及び主走査方向に移動自在に設けられインクを吐出する吐出ヘッド等を備えている。このインク吐出装置は、隔離壁２４が形成された第２の基板２１を記録媒体として搬送部により搬送し、吐出ヘッドにより隔離壁２４に各色のインクを滴下する。なお、インクの滴下量は、インクの滴下径、インクの滴下数、第２の基板２１の搬送速度及び吐出ヘッドの移動速度等により調節される。
【００４７】
その後、混色を避けるために赤インクを乾燥させ、同様に、隔離壁２４が形成された第２の基板２１上に対し、緑インクを滴下して乾燥させ、青インクを滴下して乾燥させる。次いで、Ｒ、Ｇ及びＢの各色のインクを熱又は紫外線等により硬化させる。これにより、図７（Ｃ）に示すように、各色の着色層２３ａが第２の基板２１上に形成される。
【００４８】
ここで、各色のインクの基材としては、熱又は紫外線等により硬化する基材を用いる。この基材としては、硬化後に耐熱性及び耐薬品性に優れた基材が好ましく、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等を用いる。
【００４９】
このようにして、各色の着色層２３ａ及び隔離壁２４を形成した第２の基板２１上に、対向電極４、スペーサ２７及び配向膜８ｂをその順番で積層し、対向基板５を形成する。また、複数の画素電極２を有する第１の基板１１上に配向膜８ａを積層し、アレイ基板３を形成する。次いで、対向電極４と画素電極２とを対向させて対向基板５とアレイ基板３とを配置し、それらの対向基板５とアレイ基板３との間にシール材６により液晶材料を封止して、表示層７を形成する。その後、第１の基板１１の外面にλ／４波長板１３及び偏光板１４をその順番で積層する。さらに、第２の基板２１の外面に拡散板２５、λ／４波長板２６及び偏光板２７をその順番で積層する。これにより、表示装置１が完成する。
【００５０】
このように第１の実施の形態の製造方法によれば、隔離壁２４と段差部２４ａとを一体に形成することによって、それらを同じ製造工程で形成することが可能になるので、表示装置１の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【００５１】
また、隔離壁２４の高さより着色層２３ａの厚さを薄くして着色層２３ａを形成することよって、着色層２３ａを形成する際にインク等の液体が段差部２４ａや行隔離壁２４ｂから漏れ出すことを防止することが可能になるので、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【００５２】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態について図８乃至図１１を参照して説明する。
【００５３】
本発明の第２の実施の形態は、基本的に第１の実施の形態と同様である。第２の実施の形態では、第１の実施の形態との相違点について説明する。なお、第１の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
【００５４】
［表示装置の構成］
まず、第２の実施の形態に係る表示装置１の構成について説明する。
【００５５】
第２の実施の形態では、図８に示すように、表示装置１は表示領域の全面に半透過領域Ｒ１を有しており、図９、図１０及び図１１に示すように、段差部２４ａは、着色層２３ｂを収容する凹部６１を有している。この凹部６１は着色層２３ｂより満たされている。なお、この凹部６１に収容された着色層２３ｂが第２の着色層として機能する。
【００５６】
凹部６１は、段差部２４ａの表示層７側の表面に形成されている。この凹部６１の深さは、透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２に設定されている。これにより、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さは、透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２になる。したがって、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は、透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度の略１／２になる。なお、反射部Ｈの着色層２３ｂは、透過部Ｔの着色層２３ａと同じ材料で形成されている。
【００５７】
このように第２の実施の形態の表示装置１によれば、第１の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、段差部２４ａが凹部６１により着色層２３ｂを有することによって、着色層２３ｂが反射部Ｈに存在することになるので、反射部Ｈによる反射表示をカラー表示にすることができる。また、段差部２４ａは、凹部６１という簡単な構成により着色層２３ｂを有することができる。
【００５８】
さらに、凹部６１の深さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２にすることによって、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さが透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２になり、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度の略１／２になるので、反射部Ｈの光学濃度と透過部Ｔの光学濃度とが略同じになる。すなわち、外光が反射部Ｈの着色層２３ｂを往復して透過した場合の光学濃度（以下、単に反射部Ｈの光学濃度という）と、光源９からの光が透過部Ｔの着色層２３ａを一方向に透過した場合の光学濃度（以下、単に透過部Ｔの光学濃度という）とが略同じになる。これにより、反射表示においても透過表示と同レベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。
【００５９】
［表示装置の製造方法］
次に、第２の実施の形態に係る表示装置１の製造方法、特に対向基板５の製造方法について説明する。
【００６０】
まず、第１の実施の形態と同様に、第２の基板２１を準備する。準備した第２の基板２１上に、画素Ｓ毎に開口部を有するブラックマトリクス２２を形成する（図７（Ａ）参照）。ブラックマトリクス２２を形成した第２の基板２１上に、隔離壁２４形成用の感光性透明樹脂層５１を形成する（図７（Ａ）参照）。
【００６１】
その後、パターニング用のフォトマスク５２を介して第２の基板２１上の感光性透明樹脂層５１を露光する（図７（Ａ）参照）。このフォトマスク５２は、隔離壁２４形成用のパターンマスク、すなわち凹部６１を有する段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂを形成するためのマスクである。フォトマスク５２は、各透過電極２ａにそれぞれ対応する複数の開口部を有している。さらに、このフォトマスク５２は階調マスクである。すなわち、各反射電極２ｂにそれぞれ対応する複数の凹部６１を形成するマスク部分の濃度は他のマスク部分に比べ高く設定されている。これにより、段差部２４ａ、行隔離壁２４ｂ及び凹部６１を同じ工程で同時に形成することが可能になる。
【００６２】
次いで、露光後の第２の基板２１上の感光性透明樹脂層５１を現像し、加熱して硬化させる。これにより、図１１に示すように、隔離壁２４が第２の基板２１上に形成される。すなわち、凹部６１を有する段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂが同一工程で第２の基板２１上に一体に形成される。
【００６３】
次に、隔離壁２４が形成された第２の基板２１上に、インク吐出装置によって、図１１に示すように、赤インクを滴下する。すなわち、第２の基板２１上の各段差部２４ａ間及び各行隔離壁２４ｂ間に赤インクを滴下し、さらに、段差部２４ａの凹部６１内に赤インクを滴下する。この赤インクは乾燥後に硬化して着色層２３ａ，２３ｂとなる。このとき、赤インクは、赤インクは、凹部６１を満たす量だけ凹部６１内に滴下される。
【００６４】
その後、混色を避けるために赤インクを乾燥させ、同様に、隔離壁２４が形成された第２の基板２１上に対し、緑インクを滴下して乾燥させ、青インクを滴下して乾燥させる。次いで、Ｒ、Ｇ及びＢの各色のインクを熱又は紫外線等により硬化させる。これにより、図１１に示すように、各色の着色層２３ａ，２３ｂが第２の基板２１上に形成される。その後の製造工程は第１の実施の形態と同じである。
【００６５】
このように第２の実施の形態の製造方法によれば、第１の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、段差部２４ａに凹部６１を形成し、その凹部６１内に着色層２３ｂを形成することによって、着色層２３ｂが反射部Ｈに存在することになるので、反射部Ｈによる反射表示をカラー表示にすることができる。
【００６６】
また、段差部２４ａに凹部６１を形成することによって、容易に段差部２４ａに着色層２３ｂを設けることが可能になるので、製造工程の複雑化を防止することができる。さらに、段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂを形成する工程と同じ工程で段差部２４ａに凹部６１を形成することによって、製造工程の増加を抑え、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【００６７】
また、凹部６１の深さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２にして凹部６１を形成することによって、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さが透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２になり、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度の略１／２になるので、反射部Ｈの光学濃度と透過部Ｔの光学濃度とが略同じになる。これにより、反射表示においても透過表示と同レベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。
【００６８】
また、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２にすることによって、反射部Ｈの着色層２３ｂを形成するインク及び透過部Ｔの着色層２３ａを形成するインクとして同じインクを用いることが可能になるので、製造工程の複雑化を防止し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【００６９】
なお、第２の実施の形態においては、凹部６１の深さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２にして凹部６１を形成しているが、これに限るものではなく、例えば凹部６１の深さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さと略同じにして凹部６１を形成してもよい。このとき、凹部６１内に滴下するインクとしては、透過部Ｔの着色層２３ａを形成するインクの略１／２の色濃度を有するインクを用いる。これにより、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度の略１／２になるので、反射部Ｈの光学濃度と透過部Ｔの光学濃度とが略同じになる。
【００７０】
（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態について図１２及び図１３を参照して説明する。
【００７１】
本発明の第３の実施の形態は、基本的に第１の実施の形態と同様である。第３の実施の形態では、第１の実施の形態との相違点について説明する。なお、第１の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
【００７２】
［表示装置の構成］
まず、第３の実施の形態に係る表示装置１の構成について説明する。
【００７３】
第３の実施の形態では、図１２に示すように、段差部２４ａは、着色層２３ｂを収容する貫通孔７１及びその貫通孔７１を埋める充填部材７２を有している。なお、この貫通孔７１に収容された着色層２３ｂが第２の着色層として機能する。
【００７４】
貫通孔７１は、段差部２４ａの略中央部分に形成されている。充填部材７２は、透明材料により形成されている。この充填部材７２は、貫通孔７１に収容された着色層２３ｂ上に積層されて貫通孔７１内に設けられている。反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さは、透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２に設定されている。これにより、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は、透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度の略１／２になる。なお、反射部Ｈの着色層２３ｂと透過部Ｔの着色層２３ａとは同じ材料で形成されている。
【００７５】
このように第３の実施の形態の表示装置１によれば、第１の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、段差部２４ａが貫通孔７１により着色層２３ｂを有することによって、着色層２３ｂが反射部Ｈに存在することになるので、反射部Ｈによる反射表示をカラー表示にすることができる。また、段差部２４ａは、貫通孔７１という簡単な構成により着色層２３ｂを有することができる。
【００７６】
さらに、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２にすることによって、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度の略１／２になり、反射部Ｈの光学濃度と透過部Ｔの光学濃度とが略同じになるので、反射表示においても透過表示と同レベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。
【００７７】
［表示装置の製造方法］
次に、第３の実施の形態に係る表示装置１の製造方法、特に対向基板５の製造方法について説明する。
【００７８】
まず、図１３（Ａ）に示すように、第２の基板２１を準備する。第２の基板２１としては、ガラス基板等の透明性及び絶縁性を有する基板を用いる。
【００７９】
準備した第２の基板２１上に、図１３（Ａ）に示すように、画素Ｓ毎に開口部を有するブラックマトリクス２２を形成する。ブラックマトリクス２２としては、多層クロム等を用いる。
【００８０】
ブラックマトリクス２２を形成した第２の基板２１上に、図１３（Ａ）に示すように、隔離壁２４形成用の感光性透明樹脂層８１を形成する。この感光性透明樹脂層８１としては、アクリル感光性樹脂等を用いる。また、第２の基板２１上に感光性透明樹脂層８１を形成する方法としては、スピン塗布、スリット塗布及びロールコータ塗布等を用いる。なお、感光性透明樹脂層８１としては、インク反発性を有する樹脂を用いることが好ましい。
【００８１】
その後、図１３（Ａ）に示すように、パターニング用のフォトマスク８２を介して第２の基板２１上の感光性透明樹脂層８１を露光する。このフォトマスク８２は、隔離壁２４形成用のパターンマスク、すなわち貫通孔７１を有する段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂを形成するためのマスクである。フォトマスク８２は、各透過電極２ａ及び各反射電極２ｂにそれぞれ対応する複数の開口部を有している。
【００８２】
次いで、露光後の第２の基板２１上の感光性透明樹脂層８１を現像し、加熱して硬化させる。これにより、図１３（Ｂ）に示すように、隔離壁２４が第２の基板２１上に形成される。すなわち、貫通孔７１を有する段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂが同一工程で第２の基板２１上に一体に形成される。
【００８３】
次に、隔離壁２４が形成された第２の基板２１上に、インク吐出装置によって、図１３（Ｃ）に示すように、赤インクを滴下する。すなわち、第２の基板２１上の各段差部２４ａ間及び各行隔離壁２４ｂ間に赤インクを滴下し、さらに、段差部２４ａの貫通孔７１内に赤インクを滴下する。この赤インクは乾燥後に硬化して着色層２３ａ，２３ｂとなる。このとき、赤インクは、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さが透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２程度になるように貫通孔７１内に滴下される。
【００８４】
その後、混色を避けるために赤インクを乾燥させ、同様に、隔離壁２４が形成された第２の基板２１上に対し、緑インクを滴下して乾燥させ、青インクを滴下して乾燥させる。次いで、Ｒ、Ｇ及びＢの各色のインクを熱又は紫外線等により硬化させる。
【００８５】
次に、インク吐出装置によって、着色層２３ｂが滴下された貫通孔７１内に透明インクを滴下する。これにより、図１３（Ｄ）に示すように、透明インクが充填部材７２として着色層２３ｂ上に積層される。その後、透明インクを熱又は紫外線等により硬化させる。これにより、図１３（Ｄ）に示すように、各色の着色層２３ａ，２３ｂが第２の基板２１上に形成される。その後の製造工程は第１の実施の形態と同じである。
【００８６】
このように第３の実施の形態の製造方法によれば、第１の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、段差部２４ａに貫通孔７１を形成し、その貫通孔７１内に着色層２３ｂを形成することによって、着色層２３ｂが反射部Ｈに存在することになるので、反射部Ｈによる反射表示をカラー表示にすることができる。
【００８７】
また、段差部２４ａに貫通孔７１を形成することによって、容易に段差部２４ａに着色層２３ｂを設けることが可能になるので、製造工程の複雑化を防止することができる。さらに、段差部２４ａ及び行隔離壁２４ｂを形成する工程と同じ工程で段差部２４ａに貫通孔７１を形成することによって、製造工程の増加を抑え、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【００８８】
また、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２にすることによって、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度の略１／２になり、反射部Ｈの光学濃度と透過部Ｔの光学濃度とが略同じになるので、反射表示においても透過表示と同レベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。
【００８９】
さらに、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２にすることによって、反射部Ｈの着色層２３ｂを形成するインク及び透過部Ｔの着色層２３ａを形成するインクとして同じインクを用いることが可能になるので、製造工程の複雑化を防止し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。
【００９０】
なお、第３の実施の形態においては、反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さの略１／２にしているが、これに限るものではなく、例えば反射部Ｈの着色層２３ｂの厚さを透過部Ｔの着色層２３ａの厚さと略同じにしてもよい。このとき、貫通孔７１内に滴下するインクとしては、透過部Ｔの着色層２３ａを形成するインクの略１／２の色濃度を有するインクを用いる。これにより、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度の略１／２になるので、反射部Ｈの光学濃度と透過部Ｔの光学濃度とが略同じになる。
【００９１】
（第４の実施の形態）
本発明の第４の実施の形態について図１４を参照して説明する。
【００９２】
本発明の第４の実施の形態は、基本的に第３の実施の形態と同様である。第４の実施の形態では、第３の実施の形態との相違点について説明する。なお、第３の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
【００９３】
［表示装置の構成］
まず、第４の実施の形態に係る表示装置１の構成について説明する。
【００９４】
第４の実施の形態では、図１４に示すように、段差部２４ａは、着色層２３ｂを収容する貫通孔７１を有している。この貫通孔７１は着色層２３ｂより満たされている。なお、この貫通孔７１に収容された着色層２３ｂが第２の着色層として機能する。
【００９５】
貫通孔７１は、段差部２４ａの略中央部分に形成されている。なお、段差部２４ａは、透過部Ｔの着色層２３ａより厚く形成されているため、貫通孔７１内の着色層２３ｂ、すなわち反射部Ｈの着色層２３ｂは、透過部Ｔの着色層２３ａに比べ厚くなる。このとき、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度と透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度とが同じであると、反射部Ｈの光学濃度と透過部Ｔの光学濃度との差が大きくなるため、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度は、透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度に比べ小さく設定されている。
【００９６】
このように第４の実施の形態の表示装置１によれば、第３の実施の形態と同様な効果を奏する。さらに、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度を透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度に比べ小さくすることによって、反射部Ｈの光学濃度と透過部Ｔの光学濃度との差が小さくなるので、反射表示においても透過表示と近いレベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。
【００９７】
［表示装置の製造方法］
次に、第４の実施の形態に係る表示装置１の製造方法、特に対向基板５の製造方法について説明する。
【００９８】
第３の実施の形態と同様に、第２の基板２１上に隔離壁２４を形成する（図１３（Ｂ）参照）。隔離壁２４が形成された第２の基板２１上に、インク吐出装置によって赤インクを滴下する。すなわち、第２の基板２１上の各段差部２４ａと各行隔離壁２４ｂとの間に滴下し、さらに、赤インクを段差部２４ａの貫通孔７１内に滴下する。この赤インクは乾燥後に硬化して着色層２３ａ，２３ｂとなる。このとき、赤インクは、貫通孔７１を満たす量だけ貫通孔７１内に滴下される。
【００９９】
その後、混色を避けるために赤インクを乾燥させ、隔離壁２４が形成された第２の基板２１上に対し、同様に緑インクを滴下して乾燥させ、青インクを滴下して乾燥させる。次いで、それらの各色のインクを熱又は紫外線等により硬化させる。これにより、図１４に示すように、各色の着色層２３ａ，２３ｂが第２の基板２１上に形成される。その後の製造工程は第３の実施の形態と同じである。
【０１００】
このように第４の実施の形態の製造方法によれば、第３の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、反射部Ｈの着色層２３ｂの色濃度が透過部Ｔの着色層２３ａの色濃度に比べ小さいインクを用いることによって、透過部Ｔの光学濃度と反射部Ｈの光学濃度との差が小さくなるので、反射表示においても透過表示と近いレベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。
【０１０１】
（第５の実施の形態）
本発明の第５の実施の形態について図１５を参照して説明する。
【０１０２】
本発明の第５の実施の形態は、基本的に第１の実施の形態と同様である。第５の実施の形態では、第１の実施の形態との相違点について説明する。なお、第１の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
【０１０３】
［表示装置の構成］
第５の実施の形態に係る表示装置１の構成について説明する。
【０１０４】
第５の実施の形態では、図１５に示すように、各色の着色層２３ａは、色毎にストライプ状に設けられている。同色の着色層２３ａは所定数毎に連続して一列に並んでいる。なお、段差部２４ａは、ストライプ状の各色の着色層２３ａの間に設けられている。
【０１０５】
このように第５の実施の形態の表示装置１によれば、第１の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、複数の着色層２３ａを連続してストライプ状に設けることによって、隔離壁２４が形成された第２の基板２１上にインクを滴下する場合、インクは広い範囲でレべリング化（平滑化）され、塗布厚が均一になるので、第２の基板２１上の各段差部２４ａと各行隔離壁２４ｂとの間にムラなくインクを充填することができる。
【０１０６】
（他の実施の形態）
なお、第１乃至第５の各実施の形態においては、表示層７として液晶層を用いているが、これに限るものではない。
【０１０７】
また、第１乃至第５の各実施の形態においては、感光性透明樹脂層５１，８１を加熱して硬化させているが、これに限るものではなく、例えば現像後にＵＶ（紫外線）照射により硬化するようにしてもよい。この場合には、感光性透明樹脂層５１，８１として、紫外線硬化樹脂を用いる。
【０１０８】
また、第１乃至第５の各実施の形態においては、第２の基板２１上に感光性透明樹脂層５１，８１を形成する方法として、スピン塗布、スリット塗布及びロールコータ塗布等を用いているが、これらに限るものではない。
【０１０９】
また、第１乃至第５の各実施の形態においては、隔離壁２４にインク反発性を付与するため、隔離壁２４となる感光性透明樹脂層５１，８１を形成する材料としてインク反発性を有する樹脂を用いているが、これらに限るものではなく、例えば、隔離壁２４の表面にフッ素系ガスによるプラズマ処理等を行って、隔離壁２４にインク反発性を付与するようにしてもよい。
【０１１０】
また、第１乃至第５の各実施の形態においては、対向基板５として第２の基板２１上に隔離壁２４を設けているが、これに限るものではなく、例えばアレイ基板３として第１の基板１１上に隔離壁２４を設けるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図２】図１に示す表示装置の表示領域を示す平面図である。
【図３】図１に示す表示装置の半透過領域の概略構成を示す断面図である。
【図４】図１に示す表示装置が備える対向基板の概略構成を示す平面図である。
【図５】図４に示す対向基板のＸ１−Ｘ１線の断面図である。
【図６】図４に示す対向基板のＹ１−Ｙ１線の断面図である。
【図７】図４に示す対向基板の製造工程を示し、（Ａ）は第１工程の断面図、（Ｂ）は第２工程の断面図、（Ｃ）は第３工程の断面図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係る表示装置の表示領域を示す平面図である。
【図９】図８に示す表示装置の半透過領域の概略構成を示す断面図である。
【図１０】図８に示す表示装置が備える対向基板の概略構成を示す平面図である。
【図１１】図８に示す表示装置のＸ２−Ｘ２線の断面図である。
【図１２】本発明の第３の実施の形態に係る表示装置が備える対向基板の概略構成を示す断面図である。
【図１３】図１２に示す対向基板の製造工程を示し、（Ａ）は第１工程の断面図、（Ｂ）は第２工程の断面図、（Ｃ）は第３工程の断面図、（Ｄ）は第４工程の断面図である。
【図１４】本発明の第４の実施の形態に係る表示装置が備える対向基板の概略構成を示す断面図である。
【図１５】本発明の第５の実施の形態に係る表示装置が備える対向基板の概略構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【０１１２】
１        表示装置
２ａ      透過電極
２ｂ      反射電極
４        対向電極
７        表示層
１１      第１の基板
２１      第２の基板
２３ａ    第１の着色層
２３ｂ    第２の着色層
２４      隔離壁
２４ａ    段差部
６１      凹部
７１      貫通孔
【図１】
2006317799.tif 000003
【図２】
2006317799.tif 000004
【図３】
2006317799.tif 000005
【図４】
2006317799.tif 000006
【図５】
2006317799.tif 000007
【図６】
2006317799.tif 000008
【図７】
2006317799.tif 000009
【図８】
2006317799.tif 000010
【図９】
2006317799.tif 000011
【図１０】
2006317799.tif 000012
【図１１】
2006317799.tif 000013
【図１２】
2006317799.tif 000014
【図１３】
2006317799.tif 000015
【図１４】
2006317799.tif 000016
【図１５】
2006317799.tif 000017