(57)【要約】【課題】製品をしみ、汚れがなく効果的に洗浄でき、製造コストや安全性、環境にも良好な洗浄方法に利用できる洗浄純水の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は各種製品を洗浄する洗浄純水の製造方法において、洗浄純水を製造する方法において、純水中に含まれるシリカ及びその化合物を炭酸により除去して使用することを特徴とする。特に、洗浄純水のｐＨを４〜６とすることが好ましく、さらに水温を３０〜６０℃とすることによりさらに好ましい洗浄純水の洗浄方法を提供するものである。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄純水を製造する方法において、純水中に含まれるシリカ及びその化合物を炭酸により除去して使用することを特徴とする洗浄純水の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の洗浄純水の製造方法において、洗浄純水のｐＨを４〜６とすることを特徴とする洗浄純水の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の製品の洗浄方法において、洗浄純水の温度を３０〜６０℃とすることを特徴とする洗浄純水の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
製品をしみ、汚れがなく効果的に洗浄でき、製造コストや安全性、環境にも良好な洗浄純水を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、製品を洗浄する方法としては、精製した純水を用いて洗浄する方法がある。この方法では電気伝導度を小さくするために脱ガス処理を行う事が多い。それに逆浸透膜、イオン交換などを組み合わせて純水を製造する。
【０００３】
しかし、この方法ではシリカ及びその化合物が洗浄水中に残り製品を洗浄した際に汚れやしみなどの不良を起こすことがあった。
【０００４】
この問題を解決するため、特許文献１の様なオゾン処理によりシリカを除去する純水の製造方法も用いられている。
【０００５】
しかし、この方法ではオゾンによる環境への悪影響、高価なオゾンを使用するためコストがかかるなどの問題があった。
【０００６】
また、特許文献２の様に、ｐＨと電気伝導度を調整してシリカを除去する純水の製造方法も用いられている。
【０００７】
しかし、この方法では微妙なｐＨと電気伝導度の調整が必要とされ制御が困難である、あるいは不純物を除去するためｐＨ調整剤として炭酸を加えておきながらアニオン交換樹脂装置や逆浸透膜装置の前に脱炭酸処理を行い除去効果を無くしてしまう問題があった。このためシリカ及びその化合物を含まない洗浄水を安定して効果的に低コストで製造する方法が強く要望されている。
【０００８】
特許文献は以下の通り。
【特許文献１】特許第２６７７４６８号
【特許文献２】特許第２９０２５１１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のように製品を純水にて洗浄する方法としては精製した純水を用いる方法がある。しかし、この方法ではシリカ及びその化合物が洗浄水中に残り製品を洗浄した際に汚れやしみなどの不良を起こすことがあった。
【００１０】
また、洗浄純水中に含まれるシリカを除去する方法としてｐＨと電気伝導度を調整する方法も用いられているが、この方法は微妙なｐＨと電気伝導度の調整が必要とされ制御が困難であった。その他オゾン処理によりシリカを除去する純水の製造方法も用いられているがオゾンによる環境への悪影響、高価なオゾンを使用するためコストがかかるなどの問題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は上記の課題を解決するためになされるもので、本発明の請求項１に関わる発明は、洗浄純水を製造する方法において、純水中に含まれるシリカ及びその化合物を炭酸により除去して使用することを特徴とする洗浄純水の製造方法である。
【００１２】
請求項２に関わる発明は、請求項１記載の洗浄純水の製造方法において、洗浄純水のｐＨを４〜６とすることを特徴とする洗浄純水の製造方法である。
【００１３】
請求項３に関わる発明は、請求項１または２記載の製品の洗浄方法において、洗浄純水の温度を３０〜６０℃とすることを特徴とする洗浄純水の製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の洗浄純水の製造方法は、製品をしみ、汚れがなく効果的に洗浄でき、製造コストや安全性、環境にも良好な洗浄方法を提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の洗浄純水の製造方法を実施の形態にそって以下に図面を参照しながら説明する。図１は本発明の実施例を説明するための洗浄純水の製造装置主要部を示す説明図である。
【００１６】
本発明の洗浄純水の製造方法は原水がカチオン交換樹脂装置１に入り脱ガス装置２を通った後アニオン交換樹脂装置３に入り炭酸処理装置４により処理される。そしてフィルター５を通って洗浄装置６に送られる。各装置は配管によってつながれている。
【００１７】
洗浄純水の入口７、イオン交換樹脂装置出口８の配管に電気伝導度計を設け、炭酸装置４出口の配管にｐＨ計９を設ける。
【００１８】
複数のイオン交換樹脂装置、あるいは逆浸透膜装置を更に純水の純度を高めるため組み合わせても良い。
【実施例１】
【００１９】
電気伝導度１０００〜３０００ｎＳ／ｍｍ、ｐＨ６〜８の原水を通水し、カチオン交換樹脂装置、脱ガス装置、アニオン交換樹脂装置、炭酸処理装置により処理しミクロフィルターを通した。得られた洗浄純水のｐＨは５であった。原水、イオン交換樹脂装置後、炭酸処理装置後のフィルターを通った洗浄純水中に含まれるシリカ化合物濃度を分析した。結果を表１に示す。フィルター後のシリカ化合物濃度は２ｎｇ／ｍｌであった。
【実施例２】
【００２０】
電気伝導度１０００〜３０００ｎＳ／ｍｍ、ｐＨ６〜８の原水を通水し、カチオン交換樹脂装置、脱ガス装置、アニオン交換樹脂装置、炭酸処理装置により処理しミクロフィルターを通した。得られた洗浄純水のｐＨは５、水温は２０℃であった。この洗浄純水であらかじめ１．０ｇ／ｌのシリカ標準液に浸しておいたステンレス板（ＳＵＳ３０４）を洗浄した。洗浄後のステンレス板上に存在するシリカ化合物を測定したところ３０ｎｇ／ｍ2であった。
【実施例３】
【００２１】
電気伝導度１０００〜３０００ｎＳ／ｍｍ、ｐＨ６〜８の原水を通水し、カチオン交換樹脂装置、脱ガス装置、アニオン交換樹脂装置、炭酸処理装置により処理しミクロフィルターを通した。得られた洗浄純水のｐＨは５であった。この洗浄純水を４５℃に加熱しあらかじめ１．０ｇ／ｌのシリカ標準液に浸しておいたステンレス板（ＳＵＳ３０４）を洗浄した。洗浄後のステンレス板上に存在するシリカ化合物を測定したところ１０ｎｇ／ｍ2以下であった。
【実施例４】
【００２２】
＜比較例１＞
電気伝導度１０００〜３０００ｎＳ／ｍｍ、ｐＨ６〜８の原水を通水し、カチオン交換樹脂装置、脱ガス装置、アニオン交換樹脂装置により処理しミクロフィルターを通した。原水、イオン交換樹脂装置後、フィルターを通った洗浄純水中に含まれるシリカ化合物濃度を分析した。結果を表１に示す。フィルター後のシリカ化合物濃度は２５０ｎｇ／ｍｌであった。
【実施例５】
【００２３】
＜比較例２＞
電気伝導度１０００〜３０００ｎＳ／ｍｍ、ｐＨ６〜８の原水を通水し、カチオン交換樹脂装置、脱ガス装置、アニオン交換樹脂装置により処理しミクロフィルターを通した。この洗浄純水を４５℃に加熱しあらかじめ１．０ｇ／ｌのシリカ標準液に浸しておいたステンレス板（ＳＵＳ３０４）を洗浄した。洗浄後のステンレス板上に存在するシリカ化合物を測定したところ５０００ｎｇ／ｍ2であった。
【００２４】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明の洗浄純水の製造方法は、製品をしみ、汚れがなく効果的に洗浄でき、製造コストや安全性、環境にも良好な洗浄方法を提供することが出来る。特にしみ、汚れのない光学製品やディスプレイ関係製品の洗浄に適する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】洗浄純水の製造方法の説明図
【符号の説明】
【００２７】
１：カチオン交換樹脂装置
２：脱ガス装置
３：アニオン交換樹脂装置
４：炭酸処理装置
５：フィルター装置
６：洗浄装置
７、８：電気伝導度計
９：ｐＨ計
【図１】
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