(57)【要約】【課題】  電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、該表面層を加熱する場合であっても、特に８０℃以上の温度で加熱する場合であっても、電子写真感光体の表面に粗れが生じにくい電子写真感光体の製造方法を提供する。【解決手段】  結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層１０５に含有される電荷輸送物質のうち最も融点が低い電荷輸送物質の融点Ｔｍ［℃］と、電子写真感光体の表面層を加熱する際の温度Ｔｈ［℃］（Ｔｈ≧８０）と、結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層１０５に含有される電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）と結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）との比（Ｍｄ／Ｍｂ）とが、下記式（１）で示される関係を満たす。  Ｔｍ≧Ｔｈ＋（Ｍｄ／Ｍｂ）×２０  ・・・（１）【選択図】  図１
2006106677.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層の上に表面層用塗布液を塗布し、塗布された表面層用塗布液に電子線を照射することによって電子写真感光体の表面層を形成する表面層形成工程と、該表面層形成工程によって形成された該電子写真感光体の表面層を８０℃以上の温度で加熱する表面層加熱工程とを有する電子写真感光体の製造方法において、
該結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層に含有される電荷輸送物質のうち最も融点が低い電荷輸送物質の融点Ｔｍ［℃］と、該表面層加熱工程において該電子写真感光体の表面層を加熱する際の温度Ｔｈ［℃］（Ｔｈ≧８０）と、該結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層に含有される電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）と結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）との比（Ｍｄ／Ｍｂ）とが、下記式（１）で示される関係を満たすことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
Ｔｍ≧Ｔｈ＋（Ｍｄ／Ｍｂ）×２０  ・・・（１）
【請求項２】
前記式（１）中の（Ｍｄ／Ｍｂ）が、１．２〜２．０の範囲にある請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層が、２種以上の電荷輸送物質を含有する請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層に含有される結着樹脂のガラス転移点Ｔｇ［℃］と、前記表面層加熱工程において前記電子写真感光体の表面層を加熱する際の温度Ｔｈ［℃］（Ｔｈ≧８０）と、前記結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層に含有される結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）と電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）との比（Ｍｄ／Ｍｂ）とが、下記式（２）で示される関係を満たす請求項１〜３のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
Ｔｇ≧Ｔｈ＋（Ｍｂ／Ｍｄ）×２０  ・・・（２）
【請求項５】
前記結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層に含有される電荷輸送物質のうち少なくとも１種が、下記式（Ａ）で示される構造を有する化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【化１】
2006106677.tif 000035
（式（Ａ）中、Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアリール基を示し、Ａ５は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を示す。）
【請求項６】
前記式（Ａ）中のＡ１〜Ａ４が、それぞれ独立に、３−トリル基、４−トリル基、３，４−キシリル基、アルキル基置換もしくは無置換のビフェニリル基、および、置換もしくは無置換のフルオレニル基からなる群より選択される１価の基である請求項５に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項７】
前記式（Ａ）中のＡ１〜Ａ４が、それぞれ独立に、３，４−キシリル基、アルキル基置換もしくは無置換のビフェニリル基、および、置換もしくは無置換のフルオレニル基からなる群より選択される１価の基である請求項６に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項８】
前記結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層に含有される電荷輸送物質のうち少なくとも１種が、下記式（Ｂ）で示される構造を有する化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【化２】
2006106677.tif 000036
（式（Ｂ）中、Ｂ１〜Ｂ４は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアリール基を示し、Ｂ５およびＢ６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアリーレン基を示し、Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子、または、置換もしくは無置換の２価の炭化水素基を示す。）
【請求項９】
前記式（Ｂ）中のＢ１〜Ｂ４が、それぞれ独立に、３−トリル基、４−トリル基、３，４−キシリル基、アルキル基置換もしくは無置換のビフェニリル基、および、置換もしくは無置換のフルオレニル基からなる群より選択される１価の基である請求項８に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１０】
前記式（Ｂ）中のＢ１〜Ｂ４が、それぞれ独立に、３，４−キシリル基、アルキル基置換もしくは無置換のビフェニリル基、および、置換もしくは無置換のフルオレニル基からなる群より選択される１価の基である請求項９に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１３】
請求項１１に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【請求項１４】
前記露光手段が発振波長が３８０〜５００ｎｍの範囲にある半導体レーザーを有する請求項１３に記載の電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法および電子写真感光体、ならびに、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、複写機やプリンターなどの電子写真装置には、有機光導電性物質を含有する感光層を有する電子写真感光体（有機電子写真感光体）が広く用いられている。
【０００３】
有機電子写真感光体においては、電子写真感光体の高耐久化および出力画像の高画質化の双方を満足させるために、感光層として電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離したもの（積層型感光層）が採用されることが多く、また、電荷発生層よりも耐久性に優れた材料選択を行いやすい電荷輸送層を電子写真感光体の表面側の層とすることが多い。
【０００４】
電荷輸送層は、主に結着樹脂および電荷輸送物質で構成されている。
【０００５】
電子写真感光体の高耐久化を図る方法の１つとして、電子写真感光体の表面層となる電荷輸送層中の結着樹脂の比率を高める手法が挙げられる。しかしながら、電荷輸送層中の結着樹脂の比率を高め、一方で、電荷輸送層中の電荷輸送物質の比率を低めることは、一般的に、出力画像の画質に悪影響を与えることになるから、電荷輸送層中の結着樹脂の比率を高めることには限界がある。
【０００６】
電子写真感光体の高耐久化および出力画像の高画質化を高次元で両立させる技術の１つとして、従来の電荷輸送層の上に、電子写真感光体の表面の保護を目的とした保護層を設ける技術が知られている。
【０００７】
保護層を従来の電荷輸送層上に設け、これを電子写真感光体の表面層とすることにより、繰り返し使用による電子写真感光体の表面の摩耗や傷発生を抑制することができる。
【０００８】
保護層としては、熱可塑性樹脂よりも機械的強度の高い硬化性樹脂を結着樹脂として用いたものが、電子写真感光体の耐久性向上の観点から優れている。
【０００９】
硬化性樹脂は、重合性官能基を有するモノマーやオリゴマーがエネルギーを受けることによって、該重合性官能基が重合反応および／または架橋反応を起こし、もって硬化するという材料である。
【００１０】
重合性官能基を有するモノマーやオリゴマーに与えるエネルギーとしては、光や熱や放射線のエネルギーが挙げられるが、これらの中でも放射線、その中でも特に電子線が好ましく用いられる（特開２０００−０６６４２５号公報（特許文献１）など）。電子線の照射による硬化（以下「電子線硬化」ともいう）には、電子写真感光体の電位特性（感度や残留電位など）に対して悪影響を及ぼす可能性のある重合開始剤を使用しなくてもよい、短時間で効率的な重合反応を起こすことができるため生産性が高い、透過性が良いため微粒子や添加剤などの遮蔽物質が存在していても重合反応および／または架橋反応の阻害になりにくい、などの利点がある。
【００１１】
さらに、特開２００４−０１２９８６号公報（特許文献２）には、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、該表面層を加熱することによって、電子写真感光体の表面層の機械的強度をより向上させ、もって電子写真感光体の耐久性をより向上させる技術が開示されている。
【特許文献１】特開２０００−０６６４２５号公報
【特許文献２】特開２００４−０１２９８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述のとおり、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、該表面層を加熱することによって、電子写真感光体の表面層の機械的強度をより向上させることができる。
【００１３】
さらに、形成された表面層を加熱する際の温度を８０℃以上にすることで、電子写真感光体の電位特性（感度や残留電位など）や電位安定性（暗部電位や明部電位の安定性）を向上させることもできる。
【００１４】
しかしながら、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、該表面層を加熱した場合、特に８０℃以上の温度で加熱した場合、電子写真感光体の表面層の表面、すなわち、電子写真感光体の表面が粗れてしまうことがあった。
【００１５】
本発明の目的は、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、該表面層を加熱する場合であっても、特に８０℃以上の温度で加熱する場合であっても、電子写真感光体の表面に粗れが生じにくい電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【００１６】
また、本発明の目的は、上記製造方法によって製造された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層の上に表面層用塗布液を塗布し、塗布された表面層用塗布液に電子線を照射することによって電子写真感光体の表面層を形成する表面層形成工程と、該表面層形成工程によって形成された該電子写真感光体の表面層を８０℃以上の温度で加熱する表面層加熱工程とを有する電子写真感光体の製造方法において、
該結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層に含有される電荷輸送物質のうち最も融点が低い電荷輸送物質の融点Ｔｍ［℃］と、該表面層加熱工程において該電子写真感光体の表面層を加熱する際の温度Ｔｈ［℃］（Ｔｈ≧８０）と、該結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層に含有される電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）と結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）との比（Ｍｄ／Ｍｂ）とが、下記式（１）で示される関係を満たすことを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。 
Ｔｍ≧Ｔｈ＋（Ｍｄ／Ｍｂ）×２０  ・・・（１）
また、本発明は、上記製造方法により製造されたことを特徴とする電子写真感光体である。
【００１８】
また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
【００１９】
また、本発明は、上記電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、該表面層を加熱する場合であっても、特に８０℃以上の温度で加熱する場合であっても、電子写真感光体の表面に粗れが生じにくい電子写真感光体の製造方法を提供することができる。
【００２１】
また、本発明によれば、上記製造方法によって製造された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２３】
電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、この表面層を加熱することによって、表面層の機械的強度が向上するため、耐久性が高い電子写真感光体とすることができる。特に、表面層を加熱する際の温度を８０℃以上とすることにより、表面層の機械的強度が向上するだけでなく、残留電位が低減され、また、電位安定性が向上する。
【００２４】
しかしながら、従来、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、この表面層を加熱した場合、表面層の表面すなわち電子写真感光体の表面が粗れてしまうことがあった。
【００２５】
この原因の詳細については不明であるが、本発明者らは次のように考察している。
【００２６】
すなわち、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、この表面層を加熱すると、表面層の下の層（以下「表面層下層」ともいう。上記の「結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層」と同じ。）に含有される電荷輸送物質の温度がその融点に近づいて（または超えて）表面層下層中で動きやすくなり、表面層下層において電荷輸送物質が凝集してしまうことがある。表面層下層において電荷輸送物質が凝集すると、表面層下層の表面が粗れてしまうことがあり、その影響を受けて、表面層の表面も粗れてしまうことがある。また、表面層下層中の電荷輸送物質の結着樹脂に対する割合が大きくなるほど、この現象も大きくなると考えられる。
【００２７】
本発明者らは、上記考察に基づいて鋭意検討した結果、表面層下層に含有される電荷輸送物質の融点（電荷輸送物質が２種以上ある場合には最も融点が低い電荷輸送物質の融点）Ｔｍ［℃］と、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、この表面層を加熱する際の温度Ｔｈ［℃］（Ｔｈ≧８０）と、表面層下層に含有される電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）と結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）との比（Ｍｄ／Ｍｂ）とが、下記式（１）で示される関係を満たすようにすることで、電子写真感光体の表面の粗れを抑制することができることを見いだした。 
Ｔｍ≧Ｔｈ＋（Ｍｄ／Ｍｂ）×２０  ・・・（１）
ＴｍがＴｈ＋（Ｍｄ／Ｍｂ）×２０未満であると、電子写真感光体の表面の粗れを抑制する効果が得られない。
【００２８】
なお、本発明においては、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、この表面層を加熱する際の温度、すなわち、表面層加熱工程における加熱の温度の下限は８０℃であって、上限は限定されないが、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１４０℃以下であり、より一層好ましくは１１０℃以下である。表面層を加熱する際の温度が高すぎると、電荷発生物質などの熱的劣化を引き起こし、感度低下を引き起こしてしまう場合がある。
【００２９】
また、表面層加熱工程における加熱の時間は、５〜３０分であることが好ましく、１０〜３０分であることがより好ましい。加熱の時間が短すぎると、加熱を行うことによって得られる効果が乏しくなる。
【００３０】
また、表面層加熱工程における加熱方法としては、被加熱体（表面層加熱前の電子写真感光体）の外部から加熱を行う方法であってもよいし、内部から加熱を行う方法であってもよい。
【００３１】
外部から加熱する方法としては、被加熱体の近傍にヒーターを設置して直接加熱する方法や、被加熱体の周囲の雰囲気を加熱するか、あるいは、加熱された気体を被加熱体に接触させることにより間接的に加熱する方法などが挙げられる。
【００３２】
内部から加熱する方法としては、被加熱体の内部にヒーターを設置して直接加熱する方法や、被加熱体の内部に加熱された気体を通過させることにより間接的に加熱する方法などが挙げられる。
【００３３】
また、表面層加熱工程において表面層の温度を測定する方法としては、表面層の温度を直接測定する方法や、表面層近傍の雰囲気の温度を測定する方法などが挙げられるが、表面層の温度をより正確に測定するには、前者の方法が好ましい。
【００３４】
また、表面層が所定の温度（加熱温度）に到達するまでの昇温カーブは特に限定されないが、短時間で所定の温度に到達する昇温カーブほど好ましい。
【００３５】
なお、本発明において、加熱温度とは、表面層加熱工程における表面層の最高温度を意味する。
【００３６】
また、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後の該表面層の加熱は、１度だけであってもよいし、２度以上であってもよい。形成後の表面層を２度以上加熱する場合、本発明における「表面層加熱工程」は、最も長い時間表面層を加熱する工程を指す。表面層を加熱する時間が長いほど、電子写真感光体の表面層の機械的強度をより向上させることができ、また、電子写真感光体の電位特性（感度や残留電位など）や電位安定性を向上させることができる一方で、電子写真感光体の表面に粗れが生じやすくなるからである。
【００３７】
形成後の表面層を２度以上加熱する場合としては、まず、表面層をある環境下で短時間（例えば５分未満、特には３分以下）加熱し、次に、別の環境下で長時間（例えば３０分以上、特には１時間以上）加熱するという場合が例示できる。また、加熱を行う際の環境については、第１の加熱は酸素濃度５０ｐｐｍ以下の環境下で行い、第２の加熱は大気中で行うということが例示できる。
【００３８】
また、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成する際の電子線照射方法、すなわち、表面層形成工程における電子線照射方法としては、例えば、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型、ラミナー型などの加速器を用いて電子線を照射する方法が挙げられる。
【００３９】
また、表面層形成工程における電子線の加速電圧は３００ｋＶ以下が好ましく、特には１５０ｋＶ以下がより好ましい。また、電子線の吸収線量は１〜１００Ｍｒａｄの範囲が好ましく、特には１〜５０Ｍｒａｄの範囲がより好ましい。加速電圧や吸収線量が大きすぎると、電子写真感光体を構成する材料の劣化が起こりやすくなる。
【００４０】
本発明において、電子写真感光体の表面粗さは、１０点平均粗さＲｚｊｉｓで０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０７μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましく、０．０３μｍ以下であることがより好ましい。電子写真感光体の表面粗さ、すなわち、電子写真感光体の表面層の表面粗さが大きすぎると、表面層の膜厚が不均一となるため、電子写真感光体の電位（暗部電位や明部電位）が不均一となって出力画像にムラが生じる場合がある。
【００４１】
本発明において、表面層下層に含有される電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）と結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）との比（Ｍｄ／Ｍｂ）は特に限定されないが、出力画像の画質の観点からは１．２以上であることが好ましく、一方、電子写真感光体の表面の粗れを抑制するという観点からは、表面層下層に含有される電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）と結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）との比（Ｍｄ／Ｍｂ）は２．０以下であることが好ましい。
【００４２】
本発明において、表面層下層に含有させる電荷輸送物質は１種であっても２種以上であってもよいが、電子写真感光体の表面の粗れを抑制するという観点からは、２種以上含有させることが好ましい。
【００４３】
本発明においては、表面層下層に含有させる電荷輸送物質の種類は限定されないが、電子写真感光体の表面の粗れを抑制するという観点から、下記式（Ａ）で示される構造を有する化合物または下記式（Ｂ）で示される構造を有する化合物であることが好ましい。
【００４４】
【化１】
2006106677.tif 000003
【００４５】
（式（Ａ）中、Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアリール基を示し、Ａ５は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を示す。）
【００４６】
【化２】
2006106677.tif 000004
【００４７】
（式（Ｂ）中、Ｂ１〜Ｂ４は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアリール基を示し、Ｂ５およびＢ６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアリーレン基を示し、Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子、または、置換もしくは無置換の２価の炭化水素基を示す。）
上記アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フルオレニル基などが挙げられる。上記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられる。上記アリーレン基としては、フェニレン基などが挙げられる。上記２価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基などのアルキレン基や、エチリデン基、プロピリデン基、ブチリデン基などのアルキリデン基や、シクロヘキシリデン基などのシクロアルキリデン基、また、これら各基を組み合わせてなる２価の基などが挙げられる。
【００４８】
上記各基が有してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基や、フェニル基、ナフチル基などのアリール基や、トリル基、キシリル基などのアルキル基置換アリール基などが挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル基が好ましい。
【００４９】
電子写真感光体の表面の粗れをより抑制するという観点からは、上記式（Ａ）中のＡ１〜Ａ４は、３−トリル基、４−トリル基、３，４−キシリル基、アルキル基置換もしくは無置換のビフェニリル基、または、置換もしくは無置換のフルオレニル基であることが好ましく、特には、３，４−キシリル基、アルキル基置換もしくは無置換のビフェニリル基、または、置換もしくは無置換のフルオレニル基であることがより好ましい。また、同様に、上記式（Ａ）中のＡ５は、水素原子であることが好ましい。また、同様に、上記式（Ｂ）中のＢ１〜Ｂ４は、３−トリル基、４−トリル基、３，４−キシリル基、アルキル基置換もしくは無置換のビフェニリル基、または、置換もしくは無置換のフルオレニル基であることが好ましく、特には、３，４−キシリル基、アルキル基置換もしくは無置換のビフェニリル基、または、置換もしくは無置換のフルオレニル基であることが好ましい。また、同様に、上記式（Ｂ）中のＢ５およびＢ６は、フェニレン基であることが好ましい。
【００５０】
以下に、上記式（Ａ）で示される構造を有する化合物の具体例を示す。
【００５１】
【化３】
2006106677.tif 000005
【００５２】
【化４】
2006106677.tif 000006
【００５３】
これらの中でも、（Ａ−４）、（Ａ−６）および（Ａ−７）が好ましい。
【００５４】
以下に、上記式（Ａ−１）〜（Ａ−７）で示される構造を有する化合物の融点を示す。
【００５５】
【表１】
2006106677.tif 000007
【００５６】
以下に、上記式（Ｂ）で示される構造を有する化合物の具体例を示す。
【００５７】
【化５】
2006106677.tif 000008
【００５８】
【化６】
2006106677.tif 000009
【００５９】
【化７】
2006106677.tif 000010
【００６０】
これらの中でも、（Ｂ−３）、（Ｂ−４）、（Ｂ−５）、（Ｂ−６）、（Ｂ−８）、（Ｂ−９）および（Ｂ−１０）が好ましい。
【００６１】
以下に、上記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−１１）で示される構造を有する化合物の融点を示す。
【００６２】
【表２】
2006106677.tif 000011
【００６３】
なお、本発明の電子写真感光体の表面層下層に含有される電荷輸送物質は、上に例示した化合物に限定されるものではない。上に例示した化合物以外の化合物（電荷輸送物質）を以下に例示する。
【００６４】
【化８】
2006106677.tif 000012
【００６５】
【化９】
2006106677.tif 000013
【００６６】
これらの中でも、（Ｃ−１）、（Ｃ−２）および（Ｃ−１０）が好ましい。
【００６７】
以下に、上記式（Ｃ−１）〜（Ｃ−１０）で示される構造を有する化合物の融点を示す。
【００６８】
【表３】
2006106677.tif 000014
【００６９】
また、本発明の電子写真感光体の表面層下層は、上述のとおり、電荷輸送物質とともに結着樹脂を含有する層であるが、この表面層下層に含有される結着樹脂のガラス転移点Ｔｇ［℃］と、電子線硬化によって電子写真感光体の表面層を形成した後、この表面層を加熱する際の温度Ｔｈ［℃］（Ｔｈ≧８０）と、表面層下層に含有される結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）と電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）との比（Ｍｂ／Ｍｄ）とが、下記式（２）で示される関係を満たすようにすることで、電子写真感光体の表面の粗れをより一層抑制することができる。 
Ｔｇ≧Ｔｈ＋（Ｍｂ／Ｍｄ）×２０  ・・・（２）
本発明においては、電荷輸送物質の融点および結着樹脂のガラス転移点は、セイコー電子工業製熱分析装置ＳＳＣ５２００Ｈを用いて測定した。具体的には、２３℃から２８０℃まで５℃／ｍｉｎの昇温速度で測定し、得られたチャートの固体側の接線と転移温度域の急峻な位置の接線との交点を融点またはガラス転移点とした。
【００７０】
さて、出力画像の高解像度化を図るための１つの手法として、発振波長が短波長領域（３８０〜５００ｎｍの範囲）にある半導体レーザーを露光手段に採用する手法があるが、本発明の製造方法によって製造された電子写真感光体は、表面の粗れが抑制されており、表面層の膜厚が均一であるため、発振波長が短波長領域（３８０〜５００ｎｍの範囲）にある半導体レーザーを有する露光手段を備えた電子写真装置用の電子写真感光体として好適に用いることができる。
【００７１】
次に、本発明の電子写真感光体の構成について説明する。
【００７２】
電子写真感光体としては、支持体および該支持体上に設けられた感光層を有するものが一般的である。
【００７３】
感光層は、電荷輸送物質と電荷発生物質を同一の層に含有する単層型感光層であっても、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とに分離した積層型（機能分離型）感光層であってもよいが、電子写真特性の観点からは積層型感光層が好ましい。また、電荷発生層を積層構造としてもよく、また、電荷輸送層を積層構成としてもよい。
【００７４】
本発明の電子写真感光体は、少なくとも、電子線硬化によって形成された後に８０℃以上の温度で加熱された表面層と、該表面層の下層としての結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層とを有する電子写真感光体である。
【００７５】
図１に、本発明の電子写真感光体の層構成の例を示す。
【００７６】
図１（ａ）に示される層構成の電子写真感光体は、支持体１０１上に結着樹脂、電荷輸送物質および電荷発生物質を含有する層１０４が設けられており、さらにその上に表面層として電子線硬化によって形成された後に８０℃以上の温度で加熱された層１０５が設けられている。
【００７７】
図１（ｂ）に示される層構成の電子写真感光体は、支持体１０１上に電荷発生物質を含有する層１０４１ならびに結着樹脂および電荷輸送物質を含有する層１０４２が順に設けられており、さらにその上に表面層として電子線硬化によって形成された後に８０℃以上の温度で加熱された層１０５が設けられている。
【００７８】
また、図１（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）に示すように、支持体１０１と結着樹脂、電荷輸送物質および電荷発生物質を含有する層１０４との間、または、支持体１０１と電荷発生物質を含有する層１０４１との間に、バリア機能や接着機能を有する中間層（バリア層、接着層）１０３や、干渉縞防止などを目的とする導電層１０２などを設けてもよい。
【００７９】
その他、どのような層構成であっても、電子線硬化によって形成された後に８０℃以上の温度で加熱された表面層と、該表面層の下層としての結着樹脂および電荷輸送物質をそれぞれ１種以上含有する層とを有していればよいが、電子写真特性の観点からは、図１（ｂ）や（ｅ）や（ｆ）に示される層構成が好ましい。
【００８０】
以下、図１（ｂ）や（ｅ）や（ｆ）に示される層構成の電子写真感光体を例にとり、本発明の電子写真感光体の構成についてより詳細に説明する。
【００８１】
支持体１０１としては、導電性を有していればよく（導電性支持体）、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレスなどの金属製（合金製）の支持体を用いることができる。また、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などを真空蒸着によって被膜形成した層を有する上記金属製支持体やプラスチック製支持体を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子を適当な結着樹脂と共にプラスチックや紙に含浸した支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチック製の支持体などを用いることもできる。また、支持体の形状としては、円筒状、ベルト状などが挙げられるが、円筒状が好ましい。
【００８２】
また、支持体１０１の表面は、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止などを目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
【００８３】
上述のとおり、支持体１０１と電荷発生物質を含有する層１０４１（以下「電荷発生層１０４１」ともいう）または後述の中間層１０３との間には、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止や、支持体の傷の被覆を目的とした導電層１０２を設けてもよい。
【００８４】
導電層１０２は、カーボンブラック、金属粒子、金属酸化物粒子などの導電性粒子を結着樹脂に分散させて形成することができる。
【００８５】
導電層１０２の膜厚は５〜４０μｍであることが好ましく、特には１０〜３０μｍであることがより好ましい。
【００８６】
また、上述のとおり、支持体１０１または導電層１０２と電荷発生層１０４１との間には、バリア機能や接着機能を有する中間層１０３を設けてもよい。中間層１０３は、感光層の接着性改良、塗工性改良、支持体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護などのために形成される。
【００８７】
中間層１０３は、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エチルセルロース樹脂、エチレン−アクリル酸コポリマー、エポキシ樹脂、カゼイン樹脂、シリコーン樹脂、ゼラチン樹脂、ナイロン、フェノール樹脂、ブチラール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ユリア樹脂などの樹脂や、酸化アルミニウムなどの材料を用いて形成することができる。
【００８８】
中間層１０３の膜厚は０．０５〜５μｍであることが好ましく、特には０．３〜１μｍであることがより好ましい。
【００８９】
支持体１０１、導電層１０２または中間層１０３の上には、電荷発生層１０４１が設けられる。
【００９０】
電荷発生層１０４１は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤と共に分散して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。分散方法としては、ホモジナイザー、超音波分散機、ボールミル、サンドミル、ロールミル、振動ミル、アトライター、液衝突型高速分散機などを用いた方法が挙げられる。電荷発生物質と結着樹脂との割合は、０．３：１〜１０：１（質量比）の範囲が好ましい。
【００９１】
電荷発生物質としては、例えば、モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料や、金属フタロシアニン、非金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ顔料や、ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミドなどのペリレン顔料や、アンスラキノン、ピレンキノン、ジベンズピレンキノンなどの多環キノン顔料や、スクワリリウム色素や、ピリリウム塩およびチアピリリウム塩や、トリフェニルメタン色素や、セレン、セレン−テルル、アモルファスシリコンなどの無機物質や、キナクリドン顔料や、アズレニウム塩顔料や、キノシアニンなどのシアニン染料や、アントアントロン顔料や、ピラントロン顔料や、キサンテン色素や、キノンイミン色素や、スチリル色素や、硫化カドミウムや、酸化亜鉛などが挙げられる。これら電荷発生物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
【００９２】
また、これら電荷発生物質の中でも、感度の観点から、フタロシアニン顔料やアゾ顔料が好ましい。
【００９３】
また、フタロシアニン顔料の中でも、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましく、特にはＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニンがより好ましい。
【００９４】
また、アゾ顔料の中でもジスアゾ顔料が好ましく、特には下記式（Ｄ）で示される構造を有するアゾ顔料がより好ましい。
【００９５】
【化１０】
2006106677.tif 000015
【００９６】
上記式（Ｄ）中、ＡＤ１は、下記式（ＤＡ−１）で示される構造を有する基、下記式（ＤＡ−２）で示される構造を有する基、下記式（ＤＡ−３）で示される構造を有する基、または、下記式（ＤＡ−４）で示される構造を有する基を示す。
【００９７】
【化１１】
2006106677.tif 000016
【００９８】
上記式（Ｄ）中、ＣｐＤ１およびＣｐＤ２は、それぞれ独立に、下記式（ＤＣｐ）で示される構造を有する基を示す。
【００９９】
【化１２】
2006106677.tif 000017
【０１００】
上記式（ＤＣｐ）中、ＡｒＤ１は、置換もしくは無置換のフェニル基を示す。ｎは、１または２である。
【０１０１】
上記式（ＤＣｐ）中のＡｒＤ１のフェニル基が有してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基や、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチルオキシなどのアルコキシ基や、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのアルキルアミノ基や、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基などのアリールアミノ基や、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子や、ヒドロキシ基や、ニトロ基や、シアノ基や、アセチル基や、ベンゾイル基や、トリフルオロメチルなどのハロメチル基などが挙げられる。
【０１０２】
電荷発生層１０４１に用いられる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、スチレン−ブタジエンコポリマー、ナイロン、フェノール樹脂、ブチラール樹脂、ベンザール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂などが挙げられる。特には、ブチラール樹脂などが好ましい。これらは単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【０１０３】
電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、使用する結着樹脂や電荷発生物質の溶解性や分散安定性から選択されるが、有機溶剤としてはアルコール、スルホキシド、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族ハロゲン化炭化水素、芳香族化合物などが挙げられる。
【０１０４】
電荷発生層１０４１の膜厚は５μｍ以下であることが好ましく、特には０．１〜２μｍであることがより好ましい。
【０１０５】
また、電荷発生層１０４１には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。
【０１０６】
電荷発生層１０４１の上には、結着樹脂および電荷輸送物質を含有する層１０４２（以下「電荷輸送層１０４２」ともいう）が設けられる。
【０１０７】
電荷輸送層１０４２は、電荷輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。電荷輸送層１０４２は電子線硬化によって形成された後に８０℃以上の温度で加熱された表面層１０５の下層に相当するから、電荷輸送層１０４２に含有される電荷輸送物質の合計質量（Ｍｄ）と結着樹脂の合計質量（Ｍｂ）との比（Ｍｄ／Ｍｂ）は、上述のとおり、１．２以上であることが好ましく、また、２．０以下であることが好ましい。
【０１０８】
電荷輸送物質としては、上述のとおり、上記式（Ａ）で示される構造を有する化合物や上記式（Ｂ）で示される構造を有する化合物が好ましいが、その他の電荷輸送物質を用いることもできる。
【０１０９】
その他の電荷輸送物質としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリールメタン化合物、ブタジエン化合物などが挙げられる。
【０１１０】
電荷輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ナイロン、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ブチラール樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂などが挙げられる。特には、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂などが好ましい。これらは単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【０１１１】
電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤としては、プロパノール、ブタノールなどのアルコール（特に炭素原子数３以上のアルコール）、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル、クロロベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン原子で置換された炭化水素などが用いられる。
【０１１２】
電荷輸送層１０４２の膜厚は５〜４０μｍであることが好ましく、特には１５〜３０μｍであることがより好ましい。
【０１１３】
電荷輸送層１０４２の上には、電子写真感光体の表面層として、電子線硬化によって形成された後に８０℃以上の温度で加熱された層１０５（以下「表面層１０５」ともいう）が設けられる。
【０１１４】
表面層１０５は、結着樹脂または結着樹脂のモノマーもしくはオリゴマーを溶剤に溶解させることによって得られる表面層用塗布液を塗布し、これに電子線を照射することによって形成することができる。本発明においては、形成された表面層１０５は、さらに８０℃以上の温度で加熱される。
【０１１５】
結着樹脂としては、硬化性樹脂が好適に用いられる。硬化性樹脂とは、重合性官能基を有するモノマーやオリゴマーがエネルギーを受けることによって、該重合性官能基が重合反応および／または架橋反応を起こし、もって硬化するという樹脂である。本発明においては、重合性官能基を有するモノマーやオリゴマーに与えるエネルギーは、電子線のエネルギーである。
【０１１６】
モノマーやオリゴマーが重合性官能基を有する樹脂としては、例えば、フェノール樹脂やメラミン樹脂などが挙げられる。重合性官能基としては、例えば、アクリル基、メタクリル基、アルコキシシリル基などが挙げられる。
【０１１７】
また、電子写真特性の観点から、重合性官能基を有するモノマーやオリゴマーは、電荷輸送性構造を併有することが好ましい。表面層１０５を形成する際に、重合性官能基を有するモノマーやオリゴマーと電荷輸送物質を併用することも可能であるが、重合性官能基および電荷輸送性構造を併有するモノマーやオリゴマーであれば、電荷輸送物質を別途用いる必要がないため、高純度な３次元架橋構造の表面層１０５を形成することができる。
【０１１８】
重合性官能基および電荷輸送性構造を有するモノマーやオリゴマーとしては、例えば、特開２０００−０６６４２５号公報（特許文献１）に記載されている材料が挙げられる。重合性官能基の数については２個以上であることが表面層１０５の機械的強度という観点から好ましい。
【０１１９】
また、表面層１０５には、シリコーン樹脂粒子、フッ素原子含有樹脂粒子などの潤滑剤や、シリカ微粒子、アルミナ微粒子などの無機フィラーや、重合開始剤、酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤など含有させてもよい。
【０１２０】
表面層１０５の膜厚は０．５〜１０μｍであることが好ましく、特には１〜５μｍであることがより好ましい。
【０１２１】
図２に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す。
【０１２２】
図２において、１は円筒状の電子写真感光体であり、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。
【０１２３】
回転駆動される電子写真感光体１の表面は、帯電手段（一次帯電手段：帯電ローラーなど）３により、正または負の所定電位に均一に帯電され、次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段（不図示）から出力される露光光（画像露光光）４を受ける。こうして電子写真感光体１の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
【０１２４】
電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、現像手段５の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体１の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段（転写ローラーなど）６からの転写バイアスによって、転写材供給手段（不図示）から電子写真感光体１と転写手段６との間（当接部）に電子写真感光体１の回転と同期して取り出されて給送された転写材（紙など）Ｐに順次転写されていく。
【０１２５】
トナー像の転写を受けた転写材Ｐは、電子写真感光体１の表面から分離されて定着手段８へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物（プリント、コピー）として装置外へプリントアウトされる。
【０１２６】
トナー像転写後の電子写真感光体１の表面は、クリーニング手段（クリーニングブレードなど）７によって転写残りの現像剤（トナー）の除去を受けて清浄面化され、さらに前露光手段（不図示）からの前露光光（不図示）により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図２に示すように、帯電手段３が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。
【０１２７】
上述の電子写真感光体１、帯電手段３、現像手段５、転写手段６およびクリーニング手段７などの構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成し、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図２では、電子写真感光体１と、帯電手段３、現像手段５およびクリーニング手段７とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段１０を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ９としている。
【０１２８】
なお、本発明において、Ｘ線回折の測定は、ＣｕＫα線を用いて次の条件で行った。
【０１２９】
使用測定機：マック・サイエンス社製、全自動Ｘ線回折装置ＭＸＰ１８
Ｘ線管球：Ｃｕ
管電圧：５０ｋＶ
管電流：３００ｍＡ
スキャン方法：２θ／θスキャン
スキャン速度：２ｄｅｇ．／ｍｉｎ
サンプリング間隔：０．０２０ｄｅｇ．
スタート角度（２θ）：５ｄｅｇ．
ストップ角度（２θ）：４０ｄｅｇ．
ダイバージェンススリット：０．５ｄｅｇ．
スキャッタリングスリット：０．５ｄｅｇ．
レシービングスリット：０．３ｄｅｇ．
湾曲モノクロメーター使用
また、本発明において、粘度平均分子量（Ｍｖ）および重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（ゲル・パーミュエーション・クロマトグラフィー）により、東ソー（株）製ＨＬＣ−８１２０を用いて測定されるポリスチレン換算値とした。粘度平均分子量および重量平均分子量測定は常法に従って次の条件で行った。
【０１３０】
測定対象試料をテトラヒドロフラン中に入れ、数時間放置した後、十分に振盪してテトラヒドロフランとよく混ぜ（測定対象試料の合一体がなくなるまで）、さらに１２時間以上静置した。その後、サンプル処理フィルター（商品名：Ｈ−２５−５、東ソー（株）製、ポアサイズ：０．５μｍ）を通過させたものをＧＰＣの試料（テトラヒドロフラン試料溶液）とした。測定対象試料の濃度は０．５〜５ｍｇ／ｍｌとなるように調整した。
【０１３１】
次に、４０℃のヒートチャンバー中でカラムを安定化させ、この温度におけるカラムに、溶媒としてテトラヒドロフランを毎分０．６ｍｌの流速で流し、上記のテトラヒドロフラン試料溶液を２０μｌ注入して測定した。測定対象試料の分子量測定にあたっては、測定対象試料の有する分子量分布を、数種の単分散ポリスチレン標準試料により作成された検量線の対数値とカウント数との関係から算出した。検量線作成用の標準ポリスチレン試料としては、昭和電工（株）製の標準ポリスチレン試料（分子量：１０２〜１０７）を用いた。
【０１３２】
検出器にはＲＩ（屈折率）検出器を用いた。カラムには東ソー（株）製のＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−ＭとＴＳＫ  ｇｕａｒｄ  ｃｏｌｕｍｎとを組み合わせてを用いた。
【実施例】
【０１３３】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
【０１３４】
（合成例１）
上記式（Ｂ−４）で示される構造を有する化合物を以下のとおりにして合成した。
【０１３５】
・工程１
１，１−ビス（４−アミノフェニル）シクロヘキサン１００ｇ（３７６ｍｍｏｌ）をトルエン１０００ｍｌ中で攪拌しながら、無水酢酸１４０ｇ（１．１ｍｏｌ）を滴下し、滴下終了後、１１０℃まで昇温させて還流し、反応終了後に濾過し、トルエン洗浄を行い、下記式（Ｉｎｔ−１）で示される構造を有する１，１−ビス（４−アセチルアミノフェニル）シクロヘキサンを得た。収量９０ｇ、収率６８％、ＨＰＬＣ純度８１％であった。
【０１３６】
【化１３】
2006106677.tif 000018
【０１３７】
・工程２
１，１−ビス（４−アセチルアミノフェニル）シクロヘキサン７０ｇ（２００ｍｍｏｌ）、３−ヨードトルエン１４０ｇ（６４２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム５５ｇ（３９８ｍｍｏｌ）および銅触媒３８ｇ（５９８ｍｍｏｌ）を混合し、ｏ−ジクロロベンゼン２５０ｍｌ中で攪拌しながら１９０℃まで昇温させて還流した。１２時間反応させた。反応終了後、トルエン４００ｍｌを加えて熱時濾過し、洗浄した後、溶剤を減圧留去し、下記式（Ｉｎｔ−２）で示される構造を有する化合物を得た。収量１１３ｇ、収率１０７％（残留ｏ−ジクロロベンゼン含む）、ＨＰＬＣ純度９２．６％であった。
【０１３８】
【化１４】
2006106677.tif 000019
【０１３９】
・工程３
上記式（Ｉｎｔ−２）で示される構造を有する化合物９８ｇ（１８５ｍｍｏｌ）とナトリウムメチラート８５ｇ（１．５７ｍｏｌ）と水９．３ｇ（５２０ｍｍｏｌ）とを混合し、メチルセロソルブ５００ｍｌ中で攪拌しながら、１１０℃まで昇温させて５時間還流し、反応終了後、水１．８ｌ中に流し入れ、洗浄し、分液ロートで抽出し、抽出液にトルエンを加え、再抽出した。この処理を３回繰り返し、その後、溶剤を減圧留去し、下記式（Ｉｎｔ−３）で示される構造を有する化合物を得た。収量７６ｇ、収率８５．１％、ＨＰＬＣ純度９２．０％であった。
【０１４０】
【化１５】
2006106677.tif 000020
【０１４１】
・工程４
上記式（Ｉｎｔ−３）で示される構造を有する化合物２３ｇ（５１ｍｍｏｌ）、３、４−ジメチルヨードベンゼン２９ｇ（１２５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１９ｇ（１２８ｍｍｏｌ）および銅触媒１１ｇ（１５３ｍｍｏｌ）を混合し、ｏ−ジクロロベンゼン８５ｍｌ中で攪拌しながら１９０℃まで昇温させて還流した。１２時間反応させた。反応終了後、トルエン２００ｍｌを加えて熱時濾過し、洗浄した後、溶剤を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトにてトルエン／ｎ−へキサン＝１／３で展開させて精製を行い、粗生成物を得た。さらに、トルエン／ｎ−へキサンの混合溶剤を用いて加熱溶解後、冷却し、再結晶化させた。この再結晶化を２回繰り返し、生成物である上記式（Ｂ−４）で示される構造を有する化合物を得た。収量２３ｇ、収率６９．０％、ＨＰＬＣ純度９８．１％であった。
【０１４２】
得られた上記式（Ｂ−４）で示される構造を有する化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図３に、ＩＲスペクトルを図４に示す。
【０１４３】
測定装置および条件は以下のとおりである。
【０１４４】
・ＮＭＲ
測定装置：ＦＴ  ＮＭＲ装置  ＪＮＭ−ＥＸ４００（日本電子（株）製）
測定周波数：４００ＭＨｚ
パルス条件：５．０μＳ
データポイント：３２７６８
周波数範囲：１０５００Ｈｚ
積算回数：１００回
測定温度：２５℃
測定用サンプル：測定試料５０ｍｇを直径５ｍｍのサンプルチューブに入れ、溶媒としてＣＤＣｌ３（ＴＭＳ０．０５％）を添加することによって調製した。
【０１４５】
・ＩＲ
測定装置：ＦＴ−ＩＲ４２０（日本分光（株）製）
分解能：４ｃｍ−１
積算回数：１６回
測定用サンプル：測定試料５ｍｇをＫＢｒに混合することによって調製した。
【０１４６】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルより得られたＣＤＣｌ３中ＴＭＳ基準の化学シフト（ｐｐｍ）を以下に示す。
【０１４７】
７．２５（ｄ）：０．６８Ｈ，
７．０７〜７．１０（ｍ）：３．１４Ｈ，
６．９９〜７．０１（ｄ）：１．１２Ｈ，
６．８７〜６．９３（ｍ）：４．１０Ｈ，
６．８１〜６．８４（ｍ）：２．１３Ｈ，
６．７５〜６．７７（ｄ）：１．００Ｈ，
２．２１〜２．２４（ｍ）：８．２８Ｈ，
２．１７（ｓ）：３．３８Ｈ，
１．５４（ｓ）：４．２４Ｈ。
【０１４８】
（合成例２）
上記式（Ｂ−６）で示される構造を有する化合物を以下のとおりにして合成した。
【０１４９】
・工程１
１，１−ビス（４−アミノフェニル）シクロヘキサン１２５ｇ（４７０ｍｍｏｌ）、３−メチルブロモベンゼン５００ｇ（３．４ｍｏｌ）、酢酸パラジウム５．３ｇ（２３．５ｍｍｏｌ）およびナトリウム−ｔ−ブトキシド５００ｇ（５．２ｍｏｌ）を混合し、ｏ−キシレン７００ｍｌ中で攪拌しながら１１３℃まで昇温させ、反応終了後に濾過し、活性白土処理を行って残留物を得た。この残留物をシリカゲルカラムクロマトにてトルエン／ｎ−へキサン＝１／２で展開させて精製を行い、粗中間体を得た。さらに、アセトン／ｎ−へキサン＝１／１０の比率の溶剤３３０ｍｌを用いて再結晶化を行い、中間体である下記式（Ｉｎｔ−４）で示される構造を有する化合物を得た。収量１１０ｇ、収率５２％であった。
【０１５０】
【化１６】
2006106677.tif 000021
【０１５１】
・工程２
次に、Ｉｎｔ−４で示される構造を有する化合物６１ｇ（１２８．６ｍｍｏｌ）、９，９−ジメチル−２−ヨードフルオレン１０２ｇ（３１８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４４ｇ（３１８．８ｍｍｏｌ）および銅触媒２５ｇ（３９３．７ｍｍｏｌ）を混合し、ｏ−ジクロロベンゼン３００ｍｌ中で攪拌しながら１９５℃まで昇温させて還流した。８時間反応させた後、銅触媒を１５ｇ追加し、さらに１６時間反応させた。反応終了後、トルエン４００ｍｌを加えて熱時濾過し、洗浄した後、溶剤を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトにてトルエン／ｎ−へキサン＝１／２で展開させて精製を行い、粗生成物を得た。さらに、ジメチルホルムアミド／アセトン／メタノール＝１２０ｇ／１２０ｇ／４０ｇの混合溶剤を用いて加熱溶解後、冷却し、再結晶化させた。この再結晶化を２回繰り返し、生成物である上記式（Ｂ−６）で示される構造を有する化合物を得た。収量７５ｇ、収率６７．９％、ＨＰＬＣ純度９９．４％であった。
【０１５２】
得られた上記式（Ｂ−６）で示される構造を有する化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図５に、ＩＲスペクトルを図６に示す。
【０１５３】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルより得られたＣＤＣｌ３中ＴＭＳ基準の化学シフト（ｐｐｍ）を以下に示す。
【０１５４】
７．６２（ｄ）：２．０Ｈ，
７．５６（ｄ）：２．０Ｈ，
７．３７（ｄ）：２．０Ｈ，
７．２３〜７．３２（ｍ）：７．０Ｈ，
７．１１〜７．１９（ｍ）：８．８Ｈ，
６．９９〜７．０３（ｍ）：５．８Ｈ，
６．９６（ｓ）：１．８Ｈ，
６．９２（ｄ）：１．８Ｈ，
６．８２（ｄ）：２．０Ｈ，
２．２５（ｓ）：９．４Ｈ，
１．５４〜１．５９（ｍ）：５．４Ｈ，
１．４０（ｓ）：１２．２Ｈ．
（合成例３）
上記式（Ｂ−１０）で示される構造を有する化合物を以下のとおりにして合成した。
【０１５５】
・工程１
合成例２の工程１において、３−メチルブロモベンゼン５００ｇを４−メチルブロモベンゼン５００ｇ（３．４ｍｏｌ）に変更した以外は、合成例２の工程１と同様の操作を行い、中間体である下記式（Ｉｎｔ−５）で示される構造を有する化合物を得た。収量１２０ｇ、収率５７％であった
【０１５６】
【化１７】
2006106677.tif 000022
【０１５７】
・工程２
合成例２の工程２において、上記式（Ｉｎｔ−４）で示される構造を有する化合物６１ｇを上記式（Ｉｎｔ−５）で示される構造を有する化合物５７ｇ（１２７．６ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例２の工程２と同様の操作を行い、生成物である上記式（Ｂ−１０）で示される構造を有する化合物を得た。収量８０ｇ、収率７５．４％、ＨＰＬＣ純度９９．６％であった。
【０１５８】
得られた上記式（Ｂ−１０）で示される構造を有する化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図７に、ＩＲスペクトルを図８に示す。
【０１５９】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルより得られたＣＤＣｌ３中ＴＭＳ基準の化学シフト（ｐｐｍ）を以下に示す。
【０１６０】
７．６０（ｄ）：２．０Ｈ，
７．５３（ｄ）：２．０Ｈ，
７．３６（ｄ）：２．０Ｈ，
７．２９（ｔｄ）：１．７Ｈ，
７．２１〜７．２５（ｍ）：３．０Ｈ，
７．１２〜７．１５（ｍ）：５．７Ｈ，
６．９８〜７．０６（ｍ）：１４．０Ｈ，
２．３２（ｓ）：５．５Ｈ，
２．２３（ｓ）：３．４Ｈ，
１．５４〜１．５８（ｍ）：１０．７Ｈ，
１．３９（ｓ）：１２．６Ｈ．
上記３種の化合物以外の上記式（Ｂ）で示される構造を有する化合物も、それぞれの構造に対応する構造の原料を用いることによって、合成例１〜３と同様にして合成することができる。
【０１６１】
（実施例１）
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
【０１６２】
直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とした。
【０１６３】
次に、ＳｎＯ２コート処理硫酸バリウム（導電性粒子）１０部、酸化チタン（抵抗調節用顔料）２部、フェノール樹脂（結着樹脂）６部、シリコーンオイル（レベリング剤）０．００１部およびメタノール４部／メトキシプロパノール１６部の混合溶剤を用いて導電層用塗布液を調製した。
【０１６４】
この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１４５℃で硬化（熱硬化）させることによって、膜厚が１５μｍの導電層を形成した。
【０１６５】
次に、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン３部および共重合ナイロン３部をメタノール６５部／ｎ−ブタノール３０部の混合溶剤に溶解させることによって、中間層用塗布液を調製した。
【０１６６】
この中間層用塗布液を導電性上に浸漬塗布し、これを１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．４μｍの中間層を形成した。
【０１６７】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン（電荷発生物質）４部をシクロヘキサノン１００部にポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１．積水化学工業（株）製）２部を溶解させた液に加え、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下１時間分散し、分散後、酢酸エチル１００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
【０１６８】
この電荷発生層用塗布液を中間層上に浸漬塗布し、これを１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．２２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１６９】
次に、上記式（Ｂ−１）で示される構造を有する化合物（電荷輸送物質）９６部、および、下記式（ＰＣ−１）
【０１７０】
【化１８】
2006106677.tif 000023
【０１７１】
で示される繰り返し構造単位を有するポリカーボネート樹脂（結着樹脂、粘度平均分子量：４００００）６４部をクロロベンゼン６００部に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
【０１７２】
この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを１時間８０℃で乾燥させることによって、膜厚が１０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１７３】
次に、下記式（Ｅ−１）
【０１７４】
【化１９】
2006106677.tif 000024
【０１７５】
で示される構造を有する化合物（連鎖重合性官能基であるアクリル基を有する電荷輸送物質）４５部、ポリテトラフルオロエチレン粒子（商品名：ルブロンＬ２、ダイキン（株）製）１０部およびｎ−プロパノール５５部を超高圧分散機で分散混合することによって、表面層（第２電荷輸送層）用塗布液を調製した。
【０１７６】
この保護層（第２電荷輸送層）用塗布液を電荷輸送層上に浸漬塗布し、これを５分間５０℃で乾燥させ、乾燥後、加速電圧１５０ｋＶ、吸収線量１．５Ｍｒａｄの条件で電子線を照射することによって硬化させることによって、保護層（第２電荷輸送層）を形成した。引き続き、保護層（第２電荷輸送層）が１２０℃になる条件で３分間加熱処理（第１加熱）を行った。電子線の照射から３分間の加熱処理までの酸素濃度は２０ｐｐｍであった。
【０１７７】
次に、大気中において、保護層（第２電荷輸送層）が８０℃になる条件で１時間加熱処理（第２加熱）を行った。第１加熱よりも加熱時間の長いこの第２加熱が、上記の「表面層加熱工程」に相当する。
【０１７８】
１時間加熱処理後の保護層の膜厚は５μｍであった。
【０１７９】
このようにして、保護層（第２電荷輸送層）が表面層である電子写真感光体を作製した。
【０１８０】
（実施例２〜４０、比較例１〜１４、参考例１）
実施例１において、電荷発生層に含有させた電荷発生物質の種類、電荷輸送物質に含有させた電荷輸送物質および結着樹脂の種類および使用量、ならびに、表面層加熱工程（第２加熱）における加熱温度（第２加熱時温度）を表４〜６に示すとおりにした以外は、実施例１と同様にして保護層（第２電荷輸送層）が表面層である電子写真感光体を作製した。
【０１８１】
なお、表４〜６中、「ＨＯＧａＰｃ」はＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニンを意味し、「アゾ」は下記式（Ｄ−１）
【０１８２】
【化２０】
2006106677.tif 000025
【０１８３】
で示される構造を有するアゾ顔料を意味し、「ＰＣ−１」は上記式（ＰＣ−１）で示される繰り返し構造単位を有するポリカーボネート樹脂（結着樹脂、粘度平均分子量：４００００）を意味し、「ＰＣ−２」は下記式（ＰＣ−２）
【０１８４】
【化２１】
2006106677.tif 000026
【０１８５】
で示される繰り返し構造単位を有するポリカーボネート樹脂（結着樹脂、粘度平均分子量：４００００）を意味し、「加熱温度」は上記の「第２加熱」を行った際の加熱温度を意味する。
【０１８６】
また、実施例２２〜２５、３９および４０ならびに比較例１１〜１４は、電荷輸送層に２種の電荷輸送物質を併有させた例である。
【０１８７】
また、上記式（１）の関係を満足するものについては「式（１）」の欄に「○」、満足しないものについては「×」と記載した。上記式（２）についても同様である。
【０１８８】
（参考例２）
実施例１において、形成後の表面層について第１加熱および第２加熱を行わなかった以外は、実施例１と同様にして保護層（第２電荷輸送層）が表面層である電子写真感光体を作製した。
【０１８９】
【表４】
2006106677.tif 000027
【０１９０】
【表５】
2006106677.tif 000028
【０１９１】
【表６】
2006106677.tif 000029
【０１９２】
（評価）
・電子写真感光体の表面の粗れの評価
実施例１〜４０、比較例１〜１４ならびに参考例１および２で作製した電子写真感光体の表面の粗れを評価した。具体的には、これら電子写真感光体の表面の１０点平均粗さＲｚｊｉｓを（株）小坂研究所製の表面粗さ計ＳＥ−３５００で測定し、評価した。評価基準は以下のとおりである。
Ａ：０．０３μｍＲｚｊｉｓ以下
Ｂ：０．０３μｍＲｚｊｉｓを超え０．０５μｍＲｚｊｉｓ以下。
Ｃ：０．０５μｍＲｚｊｉｓを超え０．０７μｍＲｚｊｉｓ以下。
Ｄ：０．０７μｍＲｚｊｉｓを超え０．１μｍＲｚｊｉｓ以下。
Ｅ：０．１μｍＲｚｊｉｓを超え０．４μｍＲｚｊｉｓ以下。
Ｆ：０．４μｍＲｚｊｉｓを超え１μｍＲｚｊｉｓ以下。
Ｇ：１μｍＲｚｊｉｓを超える。目視で電子写真感光体の表面全体が粗れていることがわかる。
【０１９３】
評価結果を表７に示す。
【０１９４】
【表７】
2006106677.tif 000030
【０１９５】
・電子写真感光体の感度および残留電位の評価Ｉ
実施例１〜４０、比較例１〜１４ならびに参考例１および２で作製した電子写真感光体の感度および残留電位を、ＮＥＳＡガラスを用いる直接電圧印加方式の電子写真感光体測定装置を用いて測定した。なお、測定シーケンスについては、電子写真感光体をコンデンサーとみなし、コンデンサーモデルのシーケンスとした。この測定は、図９に示すように進められる。具体的には、まず、電子写真感光体の履歴を除去するために露光光（像露光光）および前露光光を電子写真感光体に照射し、１０ミリ秒後に所定の印加電圧Ｖａを電子写真感光体に印加する。次に、２０ミリ秒後に電位（Ｖｄ＋Ｖｃ）を測定し、測定後、電子写真感光体の電位をアースに落とす。次に、電位Ｖｃの測定を行い、これらの結果から求めたＶｄを電子写真感光体の電位とした。なお、Ｖｄが−７００Ｖになったその２０ミリ秒後、露光波長（像露光波長）４０３ｎｍの光を１００ミリ秒間照射し、９５ミリ秒後に表面電位を測定する。ＮＥＳＡ感度は表面電位が露光（像露光）により−２００Ｖになるときの光量から求めた。また、露光（前露光）の５０ミリ秒後の表面電位を残留電位とした。
【０１９６】
評価結果を表８に示す。
【０１９７】
【表８】
2006106677.tif 000031
【０１９８】
・電子写真感光体の感度および残留電位の評価ＩＩ
露光波長（像露光波長）４０３ｎｍの光を同６８３ｎｍの光に変更した以外は、電子写真感光体の感度および残留電位の評価Ｉと同様の評価を行った。ただし、評価対象は、実施例１〜２９、比較例１〜１４ならびに参考例１および２で作製した電子写真感光体とした。
【０１９９】
評価結果を表９に示す。
【０２００】
【表９】
2006106677.tif 000032
【０２０１】
・電子写真感光体の暗部電位の変動および明部電位の変動の評価
実施例１〜４０、比較例１〜１４ならびに参考例１および２で作製した電子写真感光体の暗部電位の変動および明部電位の変動を、２３℃／５％ＲＨ環境下で以下のようにして測定した。
【０２０２】
すなわち、図１０で示す構成のジェンテック（株）製ドラム試験機ＳＹＮＴＨＩＡ９０に作製した電子写真感光体を装着し、初期の暗部電位および明部電位を測定した後、帯電−露光−前露光を５００回繰り返し、繰り返し後の暗部電位および明部電位を測定した。そして、繰り返し後の暗部電位と初期の暗部電位との差を暗部電位変動量（＝繰り返し後の暗部電位−初期の暗部電位）とし、繰り返し後の明部電位と初期の明部電位との差を明部電位変動量（＝繰り返し後の明部電位−初期の明部電位）とした。なお、ドラム試験機のプロセススピードは９４ｍｍ／ｓとした。また、帯電にはスコロトロンを使用し、帯電電位（暗部電位）が−７００Ｖとなるようにスコロトロンのグリッド電圧を調整した。また、露光には水銀灯を使用して波長４０４．７ｎｍの輝線を用い、明部電位が−２００Ｖとなるように露光強度を調整した。また、前露光にはＬＥＤを使用して波長４７０ｎｍの光を用いた。
【０２０３】
図１０において、４０１は電子写真感光体であり、４０３は帯電器（スコロトロン）であり、４０４は露光器であり、４０５１は電位測定用のプローブであり、４０５２は電位計であり、４０６は前露光器（ＬＥＤ）である。
【０２０４】
測定結果を表１０に示す。
【０２０５】
【表１０】
2006106677.tif 000033
【０２０６】
・画像評価Ｉ
実施例１〜４０、比較例１〜１４ならびに参考例１および２で作製した電子写真感光体とそれぞれ同様の電子写真感光体それぞれにキヤノン（株）製複写機ＧＰ４０５用のギアおよびフランジを取り付け、それぞれキヤノン（株）複写機ＧＰ４０５に装着して画像を出力し、初期および１００００枚出力後の電子写真感光体の表面のトナー像を評価した。具体的には、ドット再現性と線画像再現性を観察した。初期および１００００枚出力後に、トナーを平均粒径５μｍの磁性トナーにして孤立ドットおよび線画像を電子写真感光体の表面に形成させ、これらを光学顕微鏡で観察した。
【０２０７】
なお、画像出力時の環境は２３℃／５％ＲＨであり、また、画像出力に用いたキヤノン（株）複写機ＧＰ４０５は、露光手段を発振波長４０７ｎｍの半導体レーザー（露出力５ｍＷのＧａＮ系チップ、ビームスポット径３０μｍ、日亜化学工業（株）製）に変更した改造機である。また、画像出力のモードは、プリント１枚ごとに１回停止する間欠モードとした。
【０２０８】
評価結果は、以下のとおりである。 
ドット再現性
Ａ：飛び散りが非常に少なく、ドットが鮮明
Ｂ：やや飛び散りが見られるが、ドットはほぼ鮮明
Ｃ：飛び散りによりドットがやや不鮮明
Ｄ：飛び散りが多く、ドットが不鮮明
線画質
Ａ：線がシャープ
Ｂ：一部境界領域がはっきりしない部分があるが、線はほぼ鮮明
Ｃ：線がやや不鮮明
Ｄ：線が不鮮明
評価結果を表１１に示す。
【０２０９】
【表１１】
2006106677.tif 000034
【図面の簡単な説明】
【０２１０】
【図１】本発明の電子写真感光体の層構成の例を示す図である。
【図２】本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。
【図３】式（Ｂ−４）で示される構造を有するアミン化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトル
【図４】式（Ｂ−４）で示される構造を有するアミン化合物のＩＲスペクトル
【図５】式（Ｂ−６）で示される構造を有するアミン化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトル
【図６】式（Ｂ−６）で示される構造を有するアミン化合物のＩＲスペクトル
【図７】式（Ｂ−１０）で示される構造を有するアミン化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトル
【図８】式（Ｂ−１０）で示される構造を有するアミン化合物のＩＲスペクトル
【図９】電子写真感光体の感度および残留電位の評価に関する図である。
【図１０】実施例で用いたドラム試験機の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【０２１１】
１０１  支持体
１０２  導電層
１０３  中間層
１０４  結着樹脂、電荷輸送物質および電荷発生物質を含有する層
１０４１  電荷発生物質を含有する層
１０４２  結着樹脂および電荷輸送物質を含有する層
１０５  電子線硬化によって形成された後に８０℃以上の温度で加熱された層（表面層）
１  電子写真感光体
２  軸
３  帯電手段
４  露光光
５  現像手段
６  転写手段
７  クリーニング手段
８  定着手段
９  プロセスカートリッジ
１０  案内手段
Ｐ  転写材
４０１  電子写真感光体
４０３  帯電器
４０４  露光器
４０５１  電位測定用のプローブ
４０５２  電位計
４０６  前露光器
【図１】
2006106677.tif 000037
【図２】
2006106677.tif 000038
【図３】
2006106677.tif 000039
【図４】
2006106677.tif 000040
【図５】
2006106677.tif 000041
【図６】
2006106677.tif 000042
【図７】
2006106677.tif 000043
【図８】
2006106677.tif 000044
【図９】
2006106677.tif 000045
【図１０】
2006106677.tif 000046