(57)【要約】【課題】  歩留まりの高い液晶表示パネルの製造方法を提供する。【解決手段】  一対の基板２、３の少なくとも一方の基板の内表面の所定の箇所をプレスクライブし且つ外表面の所定の箇所をスクライブして、プレスクライブ部位（Ｌａｉ又はＬｂｉ）と、スクライブ部位（Ｌａｏ又はＬｂｏ）に従って、一対の基板２、３の少なくとも一方を所定のサイズに分断するようにした。【選択図】        図２
2006106204.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板の間に液晶を狭持してなる液晶表示パネルの製造方法であって、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内表面の所定の箇所をプレスクライブし且つ外表面の所定の箇所をスクライブして、前記プレスクライブ部位と、前記スクライブ部位に従って、前記一対の基板の少なくとも一方を所定のサイズに分断するようにした液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内表面に設けたプレスクライブ部位と、外表面に設けたスクライブ部位とを整列するように設けた請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記プレスクライブ及び前記スクライブを、カッター又はレーザービームを使用する方法で行う請求項１又は請求項２に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記プレススクライブと、前記スクライブとを異なる方法で形成した請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
液晶表示パネルを形成する一対の基板の少なくとも一方の切断面の外表面側と内表面側との双方にリブマークが形成されている液晶表示パネル。
【請求項６】
液晶表示パネルを形成する一対の基板の少なくとも一方の切断面の外表面側と内表面側との双方に形成されているリブマークが異なっている請求項５に記載の液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示パネルに関し、特に、一対の基板（より特定的に説明するとＴＦＴ基板とＣＦ基板）が所定の間隔を隔てて設けられたものを、所定の大きさに分断する際に、基板の切断面に割れや欠けが生じるのを防ぐようにした液晶表示パネルの製造方法及びそのような液晶表示パネルの製造方法によって製造された液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近時、液晶ディスプレイは、ノートパソコン、電子手帳、テレビ電話、携帯電話、ビデオカメラ、カーナビその他の電気・電子機器の表示部に幅広く使用されている。
【０００３】
図４は、従来の液晶ディスプレイの液晶表示パネルの構成を模式的に示す図であり、図４（ａ）は、従来の液晶表示パネルの構成を模式的に示す断面図であり、また、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示す液晶表示パネルを、図４（ａ）中に示す矢印方向に、一方の基板（ＴＦＴ基板）を中心にして見た状態を模式的に示す側面図である。
【０００４】
液晶表示パネル１０１は、図４（ａ）に示すように、２枚の薄いガラス基板１０２、１０３を備え、２枚の薄いガラス基板１０２、１０３は、所定の間隔の隙間Ｓｐを有しており、隙間Ｓｐ内には、液晶Ｌｃが封じ込められた構成になっている。
【０００５】
尚、図４（ａ）中、１０４で示す部材は、配向膜であり、１０５で示す部材は、シール材を示しており、１０６で示す部材は、スペーサーを示しており、また、１０７で示す部材は、偏光フィルムを示している。
【０００６】
図５は、従来の液晶表示パネルの製造方法を模式的に示す液晶表示パネルの製造工程図である。
【０００７】
従来、液晶表示パネル１０１を製造する際には、まず、図５（ａ）に示すように、ＴＦＴ素子が形成されている側の基板（ＴＦＴ基板）１０２を製造し、また、カラーフィルターが形成されている側の基板（ＣＦ基板）１０３を製造する。
【０００８】
次いで、基板（ＴＦＴ基板）１０２と、基板（ＣＦ基板）１０３とを洗浄する。
【０００９】
さらに、基板（ＴＦＴ基板）１０２及び基板（ＣＦ基板）１０３の双方に、配向膜１０４を印刷し、その後、両基板を約２００度で焼きつける。
【００１０】
次に、例えば、ローラーに布を巻き付けた装置を用い、基板（ＴＦＴ基板）１０２及び基板（ＣＦ基板）１０３の各々を所定の方向にラビングした後、洗浄し、基板（ＴＦＴ基板）１０２及び基板（ＣＦ基板）１０３の各々に付着している布の毛を取り去る。
【００１１】
次いで、スクリーン印刷により、液晶を閉じ込めておく部分を形成する。
【００１２】
この液晶を閉じ込めるためのシール材１０５としては、接着剤（例えば、エポキシ樹脂接着剤）などが用いられる。
【００１３】
この接着剤中には、シール材１０５の厚さを一定に保つために、ガラス繊維が混入される。
【００１４】
次に、基板（ＴＦＴ基板）１０２と基板（ＣＦ基板）１０３とを貼り合わせた際に、基板（ＣＦ基板）１０３の対向電極を基板（ＴＦＴ基板）１０２の特定部分と導通させるための導電物質（カーボンペースト）（図示せず。）を付着させる。
【００１５】
また、基板（ＴＦＴ基板）１０２と基板（ＣＦ基板）１０３との隙間Ｓｐ、即ち、液晶層の厚みを一定に保つための一定の球径を有するプラスチックビーズ（スペーサー）１０６を散布する。
【００１６】
次に、図５（ｂ）に示すように、基板（ＴＦＴ基板）１０２と基板（ＣＦ基板）１０３とを所定の間隔を隔てるようにして貼り合わせる。より詳しく説明すると、基板（ＴＦＴ基板）１０２と基板（ＣＦ基板）１０３とを貼り合わせた後、圧力をかけた状態でシール材１０５・・・を加熱硬化させる。
【００１７】
次に、図５（ｃ）に示すように、カッター１２２（又は、レーザービーム）を用いて、基板（ＣＦ基板）１０３の外表面にスクライブラインＬａを形成する。
【００１８】
次に、図５（ｄ）に示すように、ローラー１２３を用い、基板（ＴＦＴ基板）１０２の外表面側から、スクライブラインＬａを形成した基板（ＣＦ基板）１０３に圧力を加え、スクライブラインを形成した基板（ＣＦ基板）１０３を、スクライブラインＬａに従って、所定のサイズに分断する。
【００１９】
その後、図５（ｅ）に示すように、カッター１２２（又は、レーザービーム）を用いて、基板（ＴＦＴ基板）１０２の外表面にスクライブラインＬｂを形成する。
【００２０】
その後、図５（ｆ）に示すように、ローラー１２３を用い、基板（ＣＦ基板）１０３の外表面側から、基板（ＴＦＴ基板）１０２に圧力を加え、スクライブラインＬｂを形成した基板（ＴＦＴ基板）１０２を、スクライブラインＬｂに従って、所定のサイズに分断する。
【００２１】
尚、上記図５（ｄ）に示す工程では、ローラーを用い、スクライブラインＬａを形成した基板（ＣＦ基板）１０３を分断した例を示したが、スクライブラインＬａを形成した基板（ＣＦ基板）１０３は、スクライブラインＬａを形成した基板（ＣＦ基板）１０３のスクライブラインＬａ近傍をレーザービーム加熱した後急冷して、スクライブした基板（ＣＦ基板）１０３を所定のサイズに分断してもよい。
【００２２】
また、上記図５（ｆ）に示す工程では、ローラー１２３を用い、スクライブラインＬｂを形成した基板（ＴＦＴ基板）１０２を分断した例を示したが、スクライブラインＬｂを形成した基板（ＴＦＴ基板）１０２は、スクライブラインＬｂを形成した基板（ＴＦＴ基板）１０２のスクライブラインＬｂ近傍をレーザービーム加熱した後急冷して、スクライブした基板（ＴＦＴ基板）１０２を分断してもよい。
【００２３】
また、上記の液晶表示パネルの製造方法では、先に、基板（ＣＦ基板）１０３にスクライブラインＬａを形成し、スクライブラインＬａを形成した基板（ＣＦ基板）１０３を所定のサイズに分断した後、基板（ＴＦＴ基板）１０２にスクライブラインＬｂを形成し、スクライブラインＬｂを形成したＴＦＴ基板（マザーガラス）１０２を分断した例を示したが、先に、ＴＦＴ基板（マザーガラス）１０２にスクライブラインＬｂを形成し、スクライブラインＬｂを形成した基板（ＴＦＴ基板）１０２を分断した後、基板（ＣＦ基板）１０３にスクライブラインＬａを形成し、スクライブラインＬａを形成した基板（ＣＦ基板）１０３を所定のサイズに分断するようにしてもよい。
【００２４】
その後、以上のようにして、所定の大きさに切り分けた、基板（ＴＦＴ基板）と基板（ＣＦ基板）との隙間に、真空注入法によって液晶を注入する。
【００２５】
所定の大きさに切り分けられた、基板（ＴＦＴ基板）と基板（ＣＦ基板）との隙間に液晶を注入した後、液晶Ｌｃを注入した液晶注入口を、封止材（例えば、紫外線硬化樹脂）で封止し、液晶表示パネル１０１を得る。
【００２６】
その後、以上の工程により作製された液晶表示パネル１０１を洗浄し、液晶表示パネル１０１の周辺に付着した液晶等を洗い落とす。
【００２７】
その後、液晶表示パネル１０１のガラス表面に偏光フィルムを、ガラスと偏光フィルムとの間にゴミなどが入り込まないように注意して貼り付ける。
【００２８】
その後、液晶表示パネル１０１の裏面に、バックライト（図示せず。）を設け、液晶ディスプレイ（図示せず。）が作製される。
【００２９】
尚、上記したような製造方法で製造される液晶表示パネル１０１のガラス切断面には、図４（ｂ）に示すように、ガラス基板（図４（ｂ）では、基板（ＴＦＴ基板）１０２の外表面側に、リブマークＲが形成される。
【００３０】
尚、図４（ｂ）中、ＭＣで示す領域は、カッターを用いて、基板（ＴＦＴ基板）１０２の外表面にスクライブラインＬａを形成した際に形成された、メカニカルクラック領域であり、Ｔで示す領域は、基板（ＴＦＴ基板）１０２を所定のサイズに分断した際に、分断された基板の分断面に発生する痕の領域である。
【００３１】
なお、ここでは、基板（ＴＦＴ基板）１０２の切断面の構成を中心に説明したが、基板（ＣＦ基板）１０３側の切断面にも、その外表面側に、リブマークが形成される。
【特許文献１】特開２００４−１５７１４５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３２】
しかしながら、上記した液晶表示パネルの製造方法には、一対の基板を所定のサイズに分断する際に、切断面に割れや欠けを生じる、という問題や、切断面が所望の方向に形成されないという問題がある。
【００３３】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、一対の基板を所定のサイズに分断する際に、切断面に割れや欠けを生じるのを抑制できる、液晶表示パネルの製造方法及びその液晶表示パネルの製造方法によって製造される液晶表示パネルを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法は、一対の基板の間に液晶を狭持してなる液晶表示パネルの製造方法であって、一対の基板の少なくとも一方の基板の内表面の所定の箇所をプレスクライブし且つ外表面の所定の箇所をスクライブして、プレスクライブ部位と、スクライブ部位に従って、前記一対の基板の少なくとも一方を所定のサイズに分断するようにした。
【００３５】
尚、本明細書で用いる用語、「プレスクライブ」は、基板の内表面のスクライブは、一対の基板を貼り合わせる前に、形成するので、基板の外表面のスクライブと区別するために用いている。
【００３６】
請求項２に記載の液晶表示パネルの製造方法は、請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法により、一対の基板の少なくとも一方の基板の内表面に設けたプレスクライブ部位と、外表面に設けたスクライブ部位とを整列するように設けた。
【００３７】
請求項３に記載の液晶表示パネルの製造方法は、請求項１又は請求項２に記載の液晶表示パネルの製造方法において、プレスクライブ及びスクライブを、カッター又はレーザービームを使用する方法で行う。
【００３８】
請求項４に記載の液晶表示パネルの製造方法は、請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法において、プレススクライブと、スクライブとを異なる方法で形成した。
【００３９】
請求項５に記載の液晶表示パネルは、液晶表示パネルを形成する、一対の基板の少なくとも一方の切断面の外表面側と内表面側との双方にリブマークが形成されている。
【００４０】
請求項６に記載の液晶表示パネルは、請求項５に記載の液晶表示パネルの、液晶表示パネルを形成する、一対の基板の少なくとも一方の切断面の外表面側と内表面側との双方に形成されているリブマークが異なっている。
【発明の効果】
【００４１】
請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法では、一対の基板を所定のサイズに分断するプレスクライブ部位を、内表面に形成したので、一対の基板の少なくとも一方の基板を分断する際に、基板の分断面に割れや欠けを抑制できる。
【００４２】
請求項２に記載の液晶表示パネルの製造方法では、一対の基板の少なくとも一方の基板の内表面に設けたプレスクライブ部位と、外表面に設けたスクライブ部位とを整列するように設けているので、一対の基板の少なくとも一方の基板を所定のサイズに分断する際に、所望の切断面が形成され、且つ、基板の分断面に割れや欠けを抑制できる。
【００４３】
請求項３に記載の液晶表示パネルの製造方法では、特に、特殊な方法を用いることなく、スクライブラインをカッター又はレーザービームにより形成するようにしているので、スクライブラインを容易にマザーガラスに容易に形成することができる。
【００４４】
請求項４に記載の液晶表示パネルの製造方法は、プレススクライブと、スクライブとを異なる方法で形成するようにすることで、一対の基板の少なくとも一方の基板を所定のサイズに分断する際に、所望の切断面が形成され、且つ、基板の分断面に割れや欠けを抑制できる。
【００４５】
請求項５又は請求項６に記載の液晶表示パネルは、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法によって製造できるので歩留まりが高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
以下、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の一例を、図面を参照しながら、更に、詳しく説明する。
【実施例１】
【００４７】
図１は、本発明に係る液晶表示パネルの構成を模式的に示す図であり、図１（ａ）は、本発明にかかる液晶表示パネルの構成を模式的に示す断面図であり、また、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す液晶表示パネルを、図１（ａ）中に示す矢印方向に、基板（ＴＦＴ基板）を中心にして見た状態を模式的に示す側面図である。
【００４８】
液晶表示パネル１は、図１（ａ）に示すように、２枚の薄いガラス基板２、３を備え、２枚の薄いガラス基板２、３は、所定の間隔の隙間Ｓｐを有しており、隙間Ｓｐ内には、液晶Ｌｃが封じ込められた構成になっている。
【００４９】
尚、図１（ａ）中、４で示す部材は、配向膜であり、５で示す部材は、シール材を示しており、６で示す部材は、スペーサーを示しており、また、７で示す部材は、偏光フィルムを示している。
【００５０】
図２は、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の一例を模式的に示す工程図である。
【００５１】
液晶表示パネル１を製造する際には、まず、図２（ａ）に示すように、ＴＦＴ素子が形成されている側の基板（ＴＦＴ基板）２を製造し、また、カラーフィルターが形成されている側の基板（ＣＦ基板）３を製造する。
【００５２】
次いで、基板（ＴＦＴ基板）２と、基板（ＣＦ基板）３とを洗浄する。
【００５３】
次いで、基板（ＴＦＴ基板）２及び基板（ＣＦ基板）３の双方に、配向膜４を印刷し、その後、両基板を約２００度で焼きつける。
【００５４】
以上の工程は、図５に示す、従来の液晶表示パネルの製造方法と同様であるが、この液晶表示パネルの製造方法では、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３とを貼り合わせた際に、基板（ＴＦＴ基板）２の、基板（ＣＦ基板）３の表面に対向する表面（ＴＦＴ基板２の内表面）にスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉを形成し、基板（ＣＦ基板）３の、基板（ＴＦＴ基板）２の表面に対向する表面（基板（ＣＦ基板）２の内表面）にスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉを形成する。
【００５５】
この例では、スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉ及びスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉは、レーザー照射手段２１を用い、レーザービームを用いて形成した例を示しているが、スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉ及びスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉは、カッターを用いて形成してもよい。
【００５６】
次に、例えば、ローラーに布を巻き付けた装置を用い、基板（ＴＦＴ基板）２及び基板（ＣＦ基板）３の各々を所定の方向にラビングした後、洗浄し、基板（ＴＦＴ基板）２及び基板（ＣＦ基板）３の各々に付着している布の毛を取り去る。
【００５７】
次いで、スクリーン印刷により、液晶を閉じ込めておく部分を形成する。
【００５８】
この液晶を閉じ込めるためのシール材５としては、接着剤（例えば、エポキシ樹脂接着剤）などが用いられる。
【００５９】
この接着剤中には、シール材５の厚さを一定に保つために、ガラス繊維が混入される。
【００６０】
次に、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３とを貼り合わせた際に、基板（ＣＦ基板）３の対向電極を基板（ＴＦＴ基板）２の特定部分と導通させるための導電物質（カーボンペースト）（図示せず。）を付着させる。
【００６１】
また、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３との隙間Ｓｐ、即ち、液晶層の厚みを一定に保つための一定の球径を有するプラスチックビーズ（スペーサー）６を散布する。
【００６２】
次に、図２（ｂ）に示すように、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３とを貼り合わせる。より詳しく説明すると、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３とを所定の貼り合わせた後、圧力をかけた状態でシール材５・・・を加熱硬化させる。
【００６３】
次に、図２（ｃ）に示すように、カッター２２を用いて、基板（ＣＦ基板）３の外表面にスクライブラインＬａｏを形成する。
【００６４】
尚、ここでは、スクライブラインＬａｏをカッター２２を用いて形成した例を示したが、スクライブラインＬａｏは、レーザービームを用いて形成するようにしてもよい。
【００６５】
次に、図２（ｄ）に示すように、ローラー２３を用い、基板（ＴＦＴ基板）２の外表面側から、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬａｉとスクライブラインＬａｏとを形成した基板（ＣＦ基板）３に圧力を加え、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬａｉとスクライブラインＬａｏとを形成した基板（ＣＦ基板）３を所定のサイズに分断する。
【００６６】
その後、図２（ｅ）に示すように、カッター２１を用いて、基板（ＴＦＴ基板）２の外表面にスクライブラインＬｂｏを形成する。
【００６７】
尚、ここでは、スクライブラインＬｂｏをカッター２２を用いて形成した例を示したが、スクライブラインＬｂｏは、レーザービームを用いて形成するようにしてもよい。
【００６８】
その後、図２（ｆ）に示すように、ローラー２３を用い、基板（ＣＦ基板）３の外表面側から、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬｂｉとスクライブラインＬｂｏとを形成した基板（ＴＦＴ基板）２に圧力を加え、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬｂｉとスクライブラインＬｂｏとを形成した基板（ＴＦＴ基板）２を所定のサイズに分断する。
【００６９】
以上の工程により、この段階で、一対の基板（ＴＦＴ基板２と、ＣＦ基板３）は、液晶ディスプレイのパネルサイズに切り分けられる。
【００７０】
尚、上記図２（ｄ）に示す工程では、ローラーを用い、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬａｉとスクライブラインＬａｏとを形成した基板（ＣＦ基板）３を所定のサイズに分断した例を示したが、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬａｉとスクライブラインＬａｏとを形成した基板（ＣＦ基板）３は、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬａｉとスクライブラインＬａｏとを形成したＣＦ基板（マザーガラス）３のスクライブラインＬａｏ近傍をレーザービーム加熱した後急冷して、スクライブした基板（ＣＦ基板）３を所定のサイズに分断してもよい。
【００７１】
また、上記図２（ｆ）に示す工程では、ローラーを用い、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬｂｉとスクライブラインＬｂｏとを形成した基板（ＴＦＴ基板）２を所定のサイズに分断した例を示したが、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬｂｉとスクライブラインＬｂｏとを形成した基板（ＴＦＴ基板）２は、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬｂｉとスクライブラインＬｂｏとを形成した基板（ＴＦＴ基板）２のスクライブラインＬｂｏ近傍をレーザービーム加熱した後急冷して、スクライブした基板（ＴＦＴ基板）２を所定のサイズに分断してもよい。
【００７２】
また、上記の液晶表示パネルの製造方法では、先に、基板（ＣＦ基板）３にスクライブラインＬａｏを形成し、スクライブラインＬａｏを形成した基板（ＣＦ基板）３を所定のサイズに分断した後、基板（ＴＦＴ基板）２にスクライブラインＬｂｏを形成し、スクライブラインＬｂｏを形成した基板（ＴＦＴ基板）２を所定のサイズに分断した例を示したが、先に、基板（ＴＦＴ基板）２にスクライブラインＬｂｏを形成し、スクライブラインＬｂｏを形成した基板（ＴＦＴ基板）２を所定のサイズに分断した後、基板（ＣＦ基板）３にスクライブラインＬａｏを形成し、スクライブラインＬａｏを形成した基板（ＣＦ基板）３を所定のサイズに分断するようにしてもよい。
【００７３】
その後、以上のようにして、所定の大きさに切り分けた、一対の基板（ＴＦＴ基板とＣＦ基板）の隙間に、真空注入法によって液晶を注入する。
【００７４】
所定の大きさに切り分けた、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の隙間に液晶を注入した後、液晶を注入した液晶注入口を、封止材（例えば、紫外線硬化樹脂）で封止し、液晶表示パネル１を得る。
【００７５】
その後、以上の工程により作製された液晶表示パネルを洗浄し、液晶表示パネルの周辺に付着した液晶等を洗い落とす。
【００７６】
その後、液晶表示パネル１のガラス表面に偏光フィルム７を、ガラス２、３と偏光フィルム７との間にゴミなどが入り込まないように注意して貼り付ける。
【００７７】
その後、液晶表示パネル１の裏面に、バックライトを設け、液晶ディスプレイが作製される。
【００７８】
この液晶表示パネル１の製造方法では、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）を所定のサイズに分断するスクライブラインを、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の各々の外表面だけでなく（スクライブラインＬａｏとスクライブラインＬｂｏとを参照。）、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の各々の内表面側にも、スクライブラインを形成した（スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉとスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉとを参照。）ので、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）を所定のサイズに分断する際に、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の切断面に割れや欠けが生じるのを抑制できる。
【００７９】
尚、この液晶表示パネル１の製造方法では、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の双方の内表面にスクライブラインを設けた例を示したが（スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉとスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉとを参照。）、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の一方の内表面にのみスクライブラインを設け、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の双方の外表面にスクライブラインを設けた、液晶表示パネルの製造方法も本発明に係る液晶表示パネルの製造方法に含まれる。
【００８０】
このような液晶表示パネルの製造方法では、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）を所定のサイズに分断するスクライブラインを、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の少なくとも一方のマザーガラスの外表面（スクライブラインＬｂｏ又はスクライブラインＬａｏを参照。）だけでなく、内表面にも形成した（スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉ又はスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉを参照。）ので、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の少なくとも一方の一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）を所定のサイズに分断する際に、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の分断面に割れや欠けが生じるのを抑制できる。
【００８１】
また、この液晶表示パネルの製造方法では、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の少なくとも一方の基板の内表面に設けたプレスクライブラインと、外表面に設けたスクライブラインとを整列するように設けているので、一対の基板の少なくとも一方の基板を所定のサイズに分断する際に、予想外の方向に割れが生じるのが抑制され、所望の切断面が形成される。
【００８２】
また、ローラー２３を用いて、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬｂｉとスクライブラインＬｂｏとを形成した基板（ＴＦＴ基板）２とスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉを形成した基板（ＣＦ基板）３とが貼りあわされた状態のものの基板（ＴＦＴ基板）２を分断する工程において、基板（ＣＦ基板）３が基板（ＴＦＴ基板）２とともに分断された場合にあっては、基板（ＣＦ基板）３の外表面にスクライブラインＬａｏを設ける必要はなく、また、これとは逆に、スクライブライン（プレスクライブ部位）ＬaｉとスクライブラインＬａｏとを形成した基板（ＣＦ基板）３とスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉを形成した基板（ＴＦＴ基板）２とが貼りあわされた状態のものの基板（ＣＦ基板）３を分断する工程において、基板（ＴＦＴ基板）２が基板（ＣＦ基板）３ともに分断された場合にあっては、基板（ＴＦＴ基板）２の外表面にスクライブラインＬｂを設ける必要はないことは、言うまでもない。
【００８３】
また、上記した発明の実施の形態１では、ローラー２３を用いた例を示したが、ローラー２３の代わりに、ブレークバー（スキージ又はブレードともいう。）を用いてもよいことは、言うまでもない。
【実施例２】
【００８４】
図３は、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の他の一例を模式的に示す工程図である。
【００８５】
液晶表示パネル１を製造する際には、まず、図３（ａ）に示すように、ＴＦＴ素子が形成されている側の基板（ＴＦＴ基板）２を製造し、また、カラーフィルターが形成されている側の基板（ＣＦ基板）３を製造する。
【００８６】
次いで、基板（ＴＦＴ基板）２と、基板（ＣＦ基板）３とを洗浄する。
【００８７】
次いで、基板（ＴＦＴ基板）２及び基板（ＣＦ基板）３の双方に、配向膜４を印刷し、その後、両基板を約２００度で焼きつける。
【００８８】
以上の工程は、図５に示す、従来の液晶表示パネルの製造方法と同様であるが、この液晶表示パネルの製造方法では、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３とを貼り合わせた際に、基板（ＴＦＴ基板）２の、基板（ＣＦ基板）３の表面に対向する表面（基板（ＴＦＴ基板）２の内表面）にスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉを形成し、基板（ＣＦ基板）３の、基板（ＴＦＴ基板）２の表面に対向する表面（基板（ＣＦ基板）２の内表面）にスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉを形成する。
【００８９】
スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉ及びスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉは、例えば、レーザー照射手段２１を用い、レーザービームを用いて、形成する。
【００９０】
尚、ここでは、スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉ及びスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉをレーザービームを用いて形成した例を示したが、スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉ及びスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉは、カッターを用いて形成するようにしてもよい。
【００９１】
次に、例えば、ローラーに布を巻き付けた装置を用い、基板（ＴＦＴ基板）２及び基板（ＣＦ基板）３の各々を所定の方向にラビングした後、洗浄し、基板（ＴＦＴ基板）２及び基板（ＣＦ基板）３の各々に付着している布の毛を取り去る。
【００９２】
次いで、スクリーン印刷により、液晶を閉じ込めておく部分を形成する。
【００９３】
この液晶を閉じ込めるためのシール材５としては、接着剤（例えば、エポキシ樹脂接着剤）などが用いられる。
【００９４】
この接着剤中には、シール材５の厚さを一定に保つために、ガラス繊維が混入される。
【００９５】
次に、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３とを貼り合わせた際に、基板（ＣＦ基板）３の対向電極を基板（ＴＦＴ基板）２の特定部分と導通させるための導電物質（カーボンペースト）（図示せず。）を付着させる。
【００９６】
また、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３との隙間Ｓｐ、即ち、液晶層の厚みを一定に保つための一定の球径を有するプラスチックビーズ（スペーサー）６・・・を散布する。
【００９７】
次に、図３（ｂ）に示すように、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３とを所定の間隔を隔てるようにして貼り合わせる。より詳しく説明すると、基板（ＴＦＴ基板）２と基板（ＣＦ基板）３とを所定の間隔を隔てるようにして貼り合わせた後、圧力をかけた状態でシール材５を加熱硬化させる。
【００９８】
次に、図３（ｃ）に示すように、レーザー照射手段２１を用い、レーザービームを用いて、基板（ＣＦ基板）３の外表面にスクライブラインＬａｏを形成する。
【００９９】
この時、レーザービームにより、基板（ＣＦ基板）３のスクライブラインＬａｏ近傍が加熱されるが、加熱された状態になっているスクライブラインＬａｏ近傍に水その他の冷媒をスプレー等で吹き付け、急冷し、熱応力歪みを用いて、基板（ＣＦ基板）３を所定のサイズに分断する。
【０１００】
その後、図３（ｄ）に示すように、レーザー照射手段２１を用い、レーザービームを用いて、基板（ＴＦＴ基板）２の外表面にスクライブラインＬｂｏを形成する。
【０１０１】
この時、レーザービームにより、基板（ＴＦＴ基板）２のスクライブラインＬｂｏ近傍が加熱されるが、加熱された状態になっているスクライブラインＬｂｏ近傍に水その他の冷媒をスプレー等で吹き付け、急冷し、熱応力歪みを用いて、基板（ＴＦＴ基板）２を分断する。
【０１０２】
以上の工程により、この段階で、一対の基板（ＴＦＴ基板２と、ＣＦ基板３）は、液晶ディスプレイのパネルサイズに切り分けられる。
【０１０３】
尚、上記の液晶表示パネルの製造方法では、先に、基板（ＣＦ基板）３にスクライブラインＬａｏを形成し、スクライブラインＬａｏを形成した基板（ＣＦ基板）３を所定のサイズに分断した後、基板（ＴＦＴ基板）２にスクライブラインＬｂｏを形成し、スクライブラインＬｂｏを形成した基板（ＴＦＴ基板）２を分断した例を示したが、先に、基板（ＴＦＴ基板）２にスクライブラインＬｂｏを形成し、スクライブラインＬｂｏを形成した基板（ＴＦＴ基板）２を所定のサイズに分断した後、基板（ＣＦ基板）３にスクライブラインＬａｏを形成し、スクライブラインＬａｏを形成した基板（ＣＦ基板）３を所定のサイズに分断するようにしてもよい。
【０１０４】
その後、以上のようにして所定の大きさに切り分けた、一対の基板（ＴＦＴ基板とＣＦ基板）との隙間ＳＰに、真空注入法によって液晶を注入する。
【０１０５】
基板（ＴＦＴ基板）と基板（ＣＦ基板）との隙間ＳＰに液晶を注入した後、液晶を注入した液晶注入口を、封止材（例えば、紫外線硬化樹脂）で封止して、液晶表示パネル１を作製する。
【０１０６】
その後、以上の工程により作製された液晶表示パネル１を洗浄し、液晶表示パネル１の周辺に付着した液晶等を洗い落とす。
【０１０７】
その後、液晶表示パネル１のガラス表面に偏光フィルム７を、ガラスと偏光フィルム７との間にゴミなどが入り込まないように注意して貼り付ける。
【０１０８】
その後、液晶表示パネル１の裏面に、バックライトを設け、液晶ディスプレイが作製される。
【０１０９】
この液晶表示パネル１の製造方法では、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）を所定のサイズに分断するスクライブラインを、一対のマザーガラスの各々の外表面だけでなく（スクライブラインＬａｏとスクライブラインＬｂｏとを参照。）、一対のマザーガラス２、３の各々の内表面側にも、スクライブラインを形成した（スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉとスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉとを参照。）ので、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）を所定のサイズに分断する際に、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の切断面に割れや欠けが生じるのを抑制できる。
【０１１０】
また、この液晶表示パネルの製造方法では、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の少なくとも一方の基板の内表面に設けたプレスクライブラインと、外表面に設けたスクライブラインとを整列するように設けているので、一対の基板の少なくとも一方の基板を所定のサイズに分断する際に、予想外の方向に割れが生じるのが抑制され、所望の切断面が形成される。
【０１１１】
尚、この液晶表示パネル１の製造方法では、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の双方の内表面にスクライブラインを設けた例を示したが（スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉとスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉとを参照。）、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の一方の内表面にのみスクライブラインを設け、一対のマザーガラス２、３の双方の外表面にスクライブラインを設けた、液晶表示パネルの製造方法も本発明に係る液晶表示パネルの製造方法に含まれる。
このような液晶表示パネルの製造方法では、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）を所定のサイズに分断するスクライブラインを、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の少なくとも一方の基板（ＴＦＴ基板２又はＣＦ基板３）の外表面（スクライブラインＬｂｏ又はスクライブラインＬａｏを参照。）だけでなく、内表面にも形成した（スクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌｂｉ又はスクライブライン（プレスクライブ部位）Ｌａｉを参照。）ので、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３の少なくとも一方の基板（ＴＦＴ基板２又はＣＦ基板３）を所定のサイズに分断する際に、基板の分断面に割れや欠けが生じるのを抑制できる。
【０１１２】
また、図１（ｂ）を参照しながら説明すると、上記した発明の実施の形態１、２で製造した液晶表示パネル１の基板の切断面には、図１（ｂ)から明らかなように、この液晶表示パネル１には、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）の少なくとも一方の基板（この例では、基板（ＴＦＴ基板２）の切断面の外表面Ｓ２ｏ側と内表面Ｓ２ｉ側との双方にリブマークＲが形成されている。
【０１１３】
尚、図１（ｂ）中、ＭＣで示す領域は、カッターを用いて、マザーガラスの外表面にスクライブラインＬａｏを形成した際に形成された、メカニカルクラック領域であり、Ｔで示す領域は、基板を所定のサイズに分断した際に発生する痕の領域である。
【０１１４】
尚、メカニカルクラック領域ＭＣは、スクライブラインをレーザービームを用いて形成した場合には、レーザービームにより形成した切断ライン（通常、ブラインド・ラインと称される。）は認識できない。
【０１１５】
また、ここでは、基板（ＴＦＴ基板）の切断面の構成を中心に説明したが、基板（ＣＦ基板）の内表面側と外表面側との双方にスクライブラインを設けた場合にあっては、基板（ＣＦ基板）側の切断面にも、その外表面側と内表面側との双方に、リブマークが形成される。
【０１１６】
また、一対の基板（ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３）少なくとも一方の基板（この例では、基板（ＴＦＴ基板）２）の切断面の外表面Ｓ２ｏ側と内表面Ｓ２ｉ側との双方にリブマークＲが形成されている液晶表示パネルは、いずれも、本発明に係る液晶表示パネルに含まれる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本発明に係る液晶表示パネルの構成を模式的に示す図であり、図１（ａ）は、本発明にかかる液晶表示パネルの構成を模式的に示す断面図であり、また、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す液晶表示パネルを、図１（ａ）中に示す矢印方向に、基板（ＴＦＴ基板）を中心にして見た状態を模式的に示す側面図である。
【図２】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の一例を模式的に示す工程図である。
【図３】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の他の一例を模式的に示す工程図である。
【図４】従来の液晶表示パネルの構成を模式的に示す図であり、図４（ａ）は、従来の液晶表示パネルの構成を模式的に示す断面図であり、また、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示す液晶表示パネルを、図４（ａ）中に示す矢印方向に、基板（ＴＦＴ基板）を中心にして見た状態を模式的に示す側面図である。
【図５】従来の液晶表示パネルの製造方法の一例を模式的に示す工程図である。
【符号の説明】
【０１１８】
１  液晶表示パネル
２  基板（ＴＦＴ基板）
３  基板（ＣＦ基板）
Ｌａｉ、Ｌｂｉ  スクライブライン（プレスクライブ部位）
Ｌａｏ、Ｌｂｏ  スクライブライン
Ｒ  リブマーク
【図１】
2006106204.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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