(57)【要約】【課題】  ガラス基板の研磨後の洗浄において、基板表面の欠陥の顕在化や基板全体におけるうねりの発生を抑制することができ、また引き続くテクスチャー工程でのテクスチャーの形成が均一で、基板間でバラツキが生じたりすることのない磁気記録媒体用のガラス基板を製造することのできる方法およびそれによって得られる優れた特性の磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。【解決手段】  ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、０．０２〜０．３％のフッ酸水溶液を用いて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法およびこの方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、０．０２〜０．３％のフッ酸水溶液を用いて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
ガラス基板がアモルファスガラスからなる基板である、請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
フッ酸水溶液の濃度が０．０４〜０．１５％である、請求項１または２に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
洗浄が１０〜７０℃の温度で行われる、請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載した方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板。
【請求項６】
請求項５に記載した磁気記録媒体用ガラス基板を用いて製造された磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法およびそれにより得られる磁気記録媒体用ガラス基板に関する。より詳しくは、本発明は、ガラス基板を研磨後、テクスチャー処理前に、洗浄を行うことからなる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法およびその方法により得られる磁気記録媒体用ガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク等の磁気記録媒体に用いるためのガラス基板には、高度の平坦性や平滑性が求められる。そのため、ガラス基板は、その表面の研磨のための工程とそれに続く洗浄工程に付される。そして、これによって得られた磁気記録媒体用ガラス基板は、表面処理のためのテクスチャー工程に付される。
【０００３】
ガラス基板表面を効率よく研磨するためには、研磨剤として、酸化セリウムを酸化ジルコニウム等の研磨砥粒が用いられるが、これらの研磨砥粒はガラス表面に付着するという問題がある。そのため、研磨工程で付着した研磨砥粒やガラスの削り屑等を、テクスチャー処理の前に、洗浄により除去することが必要になる。
【０００４】
アモルファスガラス基板においては、一般に、研磨後の洗浄には無機酸や有機酸が用いられる（例えば、特許文献１参照）けれども、従来の洗浄方法では引き続くテクスチャー工程でのテクスチャーの形成が不均一となり、基板間でバラツキが生じたり、基板表面の欠陥が顕在化したり、あるいは基板全体にうねりが生じたりすることがあり、そのような問題を生じることのない洗浄方法の出現が望まれていた。
【０００５】
一方、ガラス基板の研磨後にフッ酸水溶液で処理することが知られている（特許文献２参照）けれども、この処理はガラス基板の表面層をフッ酸水溶液でエッチングして除去するためのものであり、ガラスの表面層のエッチングを行わせるために０．５％以上という高濃度のフッ酸水溶液が用いられている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−２１２６０３号公報
【特許文献２】特開２０００−３０２４８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ガラス基板の研磨後の洗浄において、基板表面の欠陥の顕在化や基板全体におけるうねりの発生を抑制することができ、また引き続くテクスチャー工程でのテクスチャーの形成が均一で、基板間でバラツキが生じたりすることのない磁気記録媒体用のガラス基板を製造することのできる方法を提供し、またそのような方法によって得られる優れた特性の磁気記録媒体用ガラス基板を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記の如き技術の現状に鑑み鋭意検討の結果、ガラス基板の研磨後の洗浄処理を低濃度のフッ酸水溶液を用いて行うことにより、上記課題を解決することができることを見出し、この知見に基づき本発明を完成させるに至ったものである。
【０００９】
よって、本発明は、例えば、下記の事項からなる。
【００１０】
〔１〕  ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、０．０２〜０．３％のフッ酸水溶液を用いて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１１】
〔２〕  ガラス基板がアモルファスガラスからなる基板である、上記〔１〕に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１２】
〔３〕  フッ酸水溶液の濃度が０．０４〜０．１５％である、上記〔１〕または〔２〕に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１３】
〔４〕  洗浄が１０〜７０℃の温度で行われる、上記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１４】
〔５〕  上記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載した方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板。
〔６〕  上記〔５〕に記載した磁気記録媒体用ガラス基板を用いて製造された磁気記録媒体。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、表面欠陥や全体のうねりがなく、また引き続くテクスチャー工程でのテクスチャーの形成が均一で、基板間でバラツキが生じない磁気記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好ましい実施の形態につき説明する。ただし、これらの説明は本発明を実施する場合の好ましい例を具体的に説明することを主眼とするものであって、これによって本発明に何らの限定を加えようとするものではないことを理解されたい。
【００１７】
本発明においては、好ましくは、ガラス基板として、アルミノシリケートを基本組成とするアモルファスガラスからなる板状ガラスが用いられる。
【００１８】
ガラス基板表面の研磨には、研磨剤として、酸化セリウムや酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化珪素などの研磨砥粒を用いることができる。なかでも、研磨効率等の観点から、酸化セリウムからなる研磨砥粒を用いるのが好ましい。研磨剤は、これらの砥粒を水に懸濁させて懸濁液として用いられるのがよい。
【００１９】
研磨されたガラス基板は、次いで、洗浄工程に付される。本発明において、洗浄は、０．０２〜０．３％（質量％、以下単に％と記す）の濃度のフッ酸水溶液を用いて行われる。フッ酸水溶液中のフッ酸の濃度は、０．１５％以下であるのが好ましく、０．０４〜０．１５％であるのがさらに好ましい。フッ酸水溶液による洗浄は、一般に、ガラス基板をフッ酸水溶液中に浸漬して行われるのがよい。この場合、浸漬温度は好ましくは１０〜７０℃、さらに好ましくは１５〜６０℃、特に好ましくは２５〜５０℃、とりわけ約４０℃であるのがよく、浸漬時間は好ましくは１〜３分、とりわけ約２分であるのがよい。
【００２０】
本発明においては、かかるフッ酸水溶液による洗浄の前に、ガラス基板は、通常のブラシスクラブ洗浄等の機械的洗浄に付されるのが好ましい。
【００２１】
このようにして磁気記録媒体用ガラス基板が得られのであるが、この磁気記録媒体用ガラス基板は次いで磁気記録媒体の製造のために、先ず、テクスチャー工程に付され、次いで通常の手順に従ってその表面に磁性膜等を形成して、磁気記録媒体が製造される。しかるに、上記のような洗浄処理によれば、得られる磁気記録媒体用ガラス基板においては、基板表面の欠陥の顕在化や基板全体におけるうねりの発生を抑制することができ、また引き続くテクスチャー工程でのテクスチャーの形成が均一で、基板間でバラツキが生じたりすることがないという優れた利点が得られる。
【実施例】
【００２２】
以下、実施例により、本発明をさらに説明する。
【００２３】
９０質量％の骨格成分組成がＢ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3＋ＳｉＯ2であり、７質量％の残部成分組成がＬｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏであるアモルファスガラスを用いて磁気記録媒体用基板を作成した。
【００２４】
先ず、上記組成の原料ガラスを溶融し、プレス成形して、円盤状の板状ガラスを得た。この板状ガラスにドリルを用いて内径孔を形成した。次いで、基板の主面に粗ラップ加工および精密ラップ加工の２段ラップ加工を施し、基板の厚さを調整した。次に、この基板の内径孔に面する内周側端面と外周側の端面とにそれぞれ面取り加工を施して面取り部を形成した。
【００２５】
以上のように処理したガラス基板の内周側端面と外周側の端面を鏡面に研磨加工した後、さらに基板の主面を最終的に鏡面に研磨加工した。研磨剤として、酸化セリウム粉末を含む研磨剤（三井金属鉱業社製のミレーク）を用いた。
【００２６】
得られた基板に対して、引き続いて、ブラシスクラブ洗浄を行い、次いでフッ酸水溶液による浸漬洗浄を行い、表面の付着物を除去して、磁気記録媒体用ガラス基板を得た。
【００２７】
このとき、浸漬洗浄のフッ酸の濃度（質量％）を下記の表１に示すように変化させ、得られた基板の表面粗さ、基板うねりおよび表面欠陥を評価した。浸漬温度は約４０℃であり、浸漬時間は約２分であった。
【００２８】
表面粗さ（Ｒａ）は、Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製のＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて、１０μｍ視野で評価した。基板うねり（Ｗａ）は、Ｐｈａｓｅ  Ｓｈｉｆｔ社製のＯｐｔｉ−ｆｌａｔ干渉計を用いて、周波数成分５ｍｍまでの波長領域のうねりとして評価した。また、表面欠陥は、日立ハイテクノロジー社製のＯＤＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｆｅｃｔ  ｔｅｓｔｅｒ）  ＲＺ３５００を用いて、ｓｌｉｃｅ１０ｎｍで評価した。
【００２９】
次に、得られた基板を、ダイアモンドスラリーを用いてテクスチャー処理した後、スパッタリング装置に装填し、クロム合金からなる下地膜とコバルト合金からなる磁性膜をスパッタリングにより形成し、その上にＣＶＤ法によりダイアモンドライクカーボン膜を形成し、さらにその上に潤滑剤としてＦｏｎｂｌｉｎ  Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ（Ｓｏｌｖａｙ  Ｓｏｌｅｘｉｓ社製）をコーティングし、磁気記録媒体を作成した。スパッタリングにより形成した膜の合計厚さは９０ｎｍであり、ＣＶＤで形成した膜の厚さは１０ｎｍであった。このようにして、磁気記録媒体をそれぞれ２５枚宛作成した。
【００３０】
磁気記録媒体のテクスチャー均一性は、暗室内の１０万ルクスの集光灯下、目視検査により評価し、メディア収率はグライド（ＢＧ）およびエラーテスター（ＥＲ）により評価した。評価は、外径６５ｍｍのディスク１枚で４０ＧＢの記録要領を持つメディアを評価することができる条件下に行った。
【００３１】
【表１】
2006092718.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明は、表面欠陥や全体のうねりがなく、また引き続くテクスチャー工程でのテクスチャーの形成が均一で、基板間でバラツキが生じない磁気記録媒体用ガラス基板を提供することができるので、磁気記録媒体の製造に有利に用いることができる。