(57)【要約】【課題】イオン性不純物が溶解することによって液晶特性が変化して画素欠陥が発生することを防止し、画像品質を向上する。【解決手段】間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板からなる空セル７０１の注入口５２から第１の液晶Ｌ１を注入することによって液晶表示装置を製造する際に、まず、その第１の液晶Ｌ１よりも誘電率異方性が高い第２の液晶Ｌ２で注入口５２を洗浄する。そして、第２の液晶Ｌ２で洗浄された注入口５２から第１の液晶Ｌ１を空セル７０１の間隔に注入して、液晶表示装置１を製造する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板の注入口から第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１の液晶よりも誘電率異方性が高い第２の液晶で前記注入口を洗浄する第１工程と、
前記第１工程にて洗浄された前記注入口から前記第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する第２工程と
を有する
液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１工程にて洗浄された前記注入口を前記第１の液晶で共洗いする第３工程
を有し、
前記第２工程においては、前記第３工程にて共洗いされた前記注入口から前記第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第２工程においては、第１液晶組成物と、前記第１液晶組成物よりも誘電率異方性が高い第２液晶組成物とを含む前記第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入し、
前記第１工程においては、前記第１の液晶から前記第１液晶組成物を除いた前記第２の液晶で前記注入口を洗浄する
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板の前記間隔に第１の液晶が注入された液晶表示装置であって、
前記第１の液晶は、
当該第１の液晶を前記一対の基板の前記間隔に注入するための注入口が、前記第１の液晶よりも誘電率異方性が高い第２の液晶で洗浄された後に、前記洗浄された前記注入口から注入されている
液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１の液晶は、前記第２の液晶により洗浄された前記注入口が前記第１の液晶で共洗いされた後に、前記共洗いされた前記注入口から注入されている
請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１の液晶は、第１液晶組成物と、前記第１液晶組成物よりも誘電率異方性が高い第２液晶組成物とを含み、前記第１の液晶から前記第１液晶組成物を除いた前記第２の液晶によって前記注入口が洗浄された後に注入されている
請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１の液晶が注入された前記一対の基板に光を照射する光源と、
前記光源が照射し前記一対の基板を透過した光を拡大するように投射する投射光学系と
を有する
請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板の注入口から、第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する液晶注入装置であって、
前記第１の液晶よりも誘電率異方性が高い第２の液晶で前記注入口を洗浄する注入口洗浄部と、
前記注入口洗浄部によって洗浄された前記注入口から前記第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する注入部と
を有する
液晶注入装置。
【請求項９】
前記注入口洗浄部により洗浄された前記注入口を前記第１の液晶により共洗いする注入口共洗い部
を有し、
前記注入部は、前記注入口共洗い部により共洗いされた前記注入口から前記第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する
請求項８に記載の液晶注入装置。
【請求項１０】
前記注入部は、第１液晶組成物と、前記第１液晶組成物よりも誘電率異方性が高い第２液晶組成物とを含む前記第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入し、
前記注入口洗浄部は、前記第１の液晶から前記第１液晶組成物を除いた前記第２の液晶によって前記注入口を洗浄する
請求項８に記載の液晶注入装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、液晶注入装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）は、薄型、軽量、低消費電力などの利点を有し、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータなどのさまざまな電子機器に利用されている。
【０００３】
液晶表示装置は、たとえば、旋光モードと複屈折モードとの２つの表示方式に大別される。
【０００４】
旋光モードは、たとえば、ツイスト角が９０度のツイステッドネマティック（ＴＮ：Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ））型の液晶を用いている。本モードは、コントラスト比が高く、応答速度が大きい特徴を有する。本モードにおいては、時計や電卓などの用途には単純マトリクス駆動方式が採用され、画像をフルカラー表示するテレビなどの用途には画素毎にスイッチング素子が形成されたアクティブマトリクス駆動方式が採用されている。アクティブマトリクス駆動方式においては、たとえば、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、ＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  Ｍｅｔａｌ）などをスイッチング素子として用いている。
【０００５】
一方、複屈折モードは、たとえば、ツイスト角が９０度以上のスーパーツイスト（ＳＴＮ：ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型の液晶を用いている。本モードは、急峻な電気光学特性を有するため、アクティブマトリクス駆動方式でなくとも、単純マトリクス駆動方式にて、大きな表示容量と、優れた時分割駆動特性とを有する。
【０００６】
上記のような液晶表示装置を製造する際においては、たとえば、画素電極およびスイッチング素子が画素ごとに対応するように形成された第１基板と、その画素電極に共通する共通電極が形成された第２基板とを洗浄後、第１基板と第２基板とが間隔を隔てて対向するように貼り合わされる。そして、第１基板と第２基板との間の間隔に、注入口から液晶が注入される。
【０００７】
液晶を注入する際には、たとえば、真空注入法が用いられている。真空注入法では、シール材を用いて互いが貼り合わされた第１基板と第２基板とを、チャンバに収容して脱気する。その後、互いが貼り合わされた第１基板と第２基板とに予め設けた注入口から、第１基板と第２基板との間隔に液晶を注入する（たとえば、特許文献１，特許文献２，特許文献３，特許文献４，特許文献５参照）。
【０００８】
そして、ディップ方式やタッチ方式などにより液晶材料を注入した後、注入口から液晶が漏れないように、封止材で注入口を封止する。
【特許文献１】特開平０６−３０８４４７号公報
【特許文献２】特開平０６−３０８５０９号公報
【特許文献３】特開平１０−３３３１６５号公報
【特許文献４】特開２００２−２２１７２９号公報
【特許文献５】特開２００４−１１７６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図９は、液晶を注入する方式を説明するための図である。図９においては、図９（Ａ）がディップ（ｄｉｐ）方式を示し、図９（Ｂ）がタッチ（ｔｏｕｃｈ）方式を示している。
【００１０】
図９（Ａ）に示すように、ディップ方式においては、間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板である空セル１００の注入口１００ａを、注入ボード１０１が収容した液晶１０２に浸漬することによって、空セル１００に液晶１０２を注入する。
【００１１】
そして、図９（Ｂ）に示すように、タッチ方式においては、間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板である空セル１００の注入口１００ａを、注入ボード１０１が収容した液晶１０２に接触することによって、空セル１００に液晶１０２を注入する。
【００１２】
しかしながら、液晶表示装置を製造する際においては、ナトリウム、カリウム、有機酸などイオン性不純物が、露出している注入口に付着する場合がある。このために、一対の基板の間隔に注入される液晶にそのイオン性不純物が溶解して液晶の特性が変化し、画素欠陥が発生する場合があった。たとえば、液晶の比抵抗や電圧保持率が低下して、画質品質が悪化する場合があった。特に、一対の基板間の液晶を透過した光を拡大して投射することにより画像を表示する投射型の液晶表示装置においては、画像品質の低下が顕在化する場合があった。
【００１３】
したがって、本発明の目的は、画像品質を向上することが可能な液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、液晶注入装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的の達成のため、本発明の液晶表示装置の製造方法は、間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板の注入口から第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する液晶表示装置の製造方法であって、前記第１の液晶よりも誘電率異方性が高い第２の液晶で前記注入口を洗浄する第１工程と、前記第１工程にて洗浄された前記注入口から前記第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する第２工程とを有する。
【００１５】
上記目的の達成のため、本発明の液晶表示装置は、間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板の前記間隔に第１の液晶が注入された液晶表示装置であって、前記第１の液晶は、当該第１の液晶を前記一対の基板の前記間隔に注入するための注入口が、前記第１の液晶よりも誘電率異方性が高い第２の液晶で洗浄された後に、前記洗浄された前記注入口から注入されている。
【００１６】
上記目的の達成のため、本発明の液晶注入装置は、間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板の注入口から、第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する液晶注入装置であって、前記第１の液晶よりも誘電率異方性が高い第２の液晶で前記注入口を洗浄する注入口洗浄部と、前記注入口洗浄部によって洗浄された前記注入口から前記第１の液晶を前記一対の基板の間隔に注入する注入部とを有する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、画像品質を向上することが可能な液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、液晶注入装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下より、本発明にかかる実施形態の一例について説明する。
【００１９】
＜実施形態１＞
まず、本発明にかかる実施形態１における液晶表示装置について説明する。
【００２０】
図１、図２、図３、図４は、本実施形態における液晶表示装置の主要部を示す図である。ここで、図１は、本実施形態における液晶表示装置の主要部を示す断面図である。図２は、本実施形態における液晶表示装置の主要部を示す平面図である。また、図３は、本実施形態の液晶表示装置の回路図である。また、図４は、本実施形態の液晶表示装置における画素部分を拡大して示す断面図である。
【００２１】
本実施形態の液晶表示装置１は、アクティブマトリクス型であり、図１，図２，図４に示すように、アレイ基板１１と、対向基板２１と、液晶層３１とを含む液晶パネル１０を有する。また、本実施形態の液晶表示装置１は、直視型として構成されている。
【００２２】
アレイ基板１１は、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、石英により形成されている。アレイ基板１１は、複数の画素がマトリクス状に配置されており、図４に示すように、画素電極１１１と、画素スイッチング素子１１２と、保持容量素子１１３と、第１配向膜２２１とを有する。また、アレイ基板１１においては、図３に示すように、画素スイッチング素子１１２にそれぞれ接続する走査配線２１１と信号配線２１２とが形成されており、さらに、保持容量素子１１３に接続する保持容量配線２１３が形成されている。
【００２３】
対向基板２１は、間隔を隔ててアレイ基板１１に対向するように配置されている。対向基板２１は、アレイ基板１１と同様に、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、石英により形成されている。そして、対向基板２１は、図４に示すように、遮光層２２と、対向電極２３と、スペーサ２４と、第２配向膜２２２とを有する。
【００２４】
アレイ基板１１と対向基板２１とは、互いが間隔を隔てて対向するように、シール材５１を用いて貼り合わされており、一対の基板として構成されている。ここでは、図２に示すように、液晶層３１を構成する第１の液晶を一対の基板の間隔に注入するための注入口５２が形成されるように、シール材５１を用いてアレイ基板１１と対向基板２１とが貼り合わされている。
【００２５】
液晶層３１は、アレイ基板１１の画素電極１１１と、対向基板２１の対向電極２３との間に挟まれるように配置されている。液晶層３１は、たとえば、ツイストネマティック型であり、アレイ基板１１と対向基板２１とのそれぞれに形成された第１配向膜２２１と第２配向膜２２２とによって配向されている。液晶層３１は、画素電極１１１と対向電極２３とにより印加される電圧に基づいて配向状態が変化して光学特性が変わり、画像表示を制御する。
【００２６】
本実施形態においては、液晶層３１は、アレイ基板１１と対向基板２１とが間隔を隔てて対向するように貼り合わされて構成された一対の基板の間隔に、第１の液晶Ｌ１が注入されることにより形成されている。
【００２７】
ここでは、液晶層３１は、第１の液晶Ｌ１を一対の基板の間隔に注入するための注入口５２が、その第１の液晶よりも誘電率異方性Δεが高い第２の液晶Ｌ２で洗浄された後に、その洗浄された注入口５２から第１の液晶Ｌ１が注入されることにより形成されている。具体的には、液晶層３１を構成する第１の液晶Ｌ１として、第１液晶組成物Ｃ１と、その第１液晶組成物Ｃ１よりも誘電率異方性が高い第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物を用いる。たとえば、化学式（１）に示すような、Δε＝６のフッ素系液晶化合物を第１液晶組成物Ｃ１とし、化学式（２）に示すような、Δε＝９のフッ素系液晶化合物を第２液晶組成物Ｃ２とし、このような第１液晶組成物Ｃ１と第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物を第１の液晶Ｌ１として用いる。なお、第１の液晶Ｌ１は、第１液晶組成物Ｃ１や第２液晶組成物Ｃ２などの他、たとえば、ニュートラル剤とよばれるΔε＝０の液晶組成物が、液粘度などの調整のために混合されている。
【００２８】
【化１】
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【００２９】
【化２】
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【００３０】
そして、液晶層３１は、第１の液晶Ｌ１から誘電率異方性が低い第１液晶組成物Ｃ１を除いた第２の液晶Ｌ２によって注入口５２が洗浄された後に、その洗浄された注入口５２から第１の液晶Ｌ１が注入されることにより形成されている。つまり、ここでは、液晶層３１は、誘電率異方性が高い第２液晶組成物Ｃ２と、ニュートラル剤としての液晶組成物とにより構成される第２の液晶Ｌ２によって、注入口５２が洗浄された後に、第１の液晶Ｌ１が注入され形成される。
【００３１】
また、ここでは、液晶層３１は、第２の液晶Ｌ２により洗浄された注入口５２が第１の液晶Ｌ１で共洗いされた後に、その共洗いされた注入口５２から第１の液晶Ｌ１が注入されることによって、形成されている。つまり、第１液晶組成物Ｃ１と、その第１液晶組成物Ｃ１よりも誘電率異方性が高い第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物からなる第１の液晶Ｌ１を用いて、第２の液晶Ｌ２により洗浄された注入口５２が共洗いされた後に、その洗浄された注入口５２から第１の液晶Ｌ１が注入されて液晶層３１が形成されている。そして、第１の液晶Ｌ１を注入後において、注入口５２から第１の液晶Ｌ１が漏洩しないように、封止材が注入口５２を封止している。
【００３２】
アレイ基板１１と対向基板２１とにおける各部について、以下より、順次、説明する。
【００３３】
アレイ基板１１における画素電極１１１は、図３に示すように、第１方向ｘと、その第１方向ｘに略直交する第２方向ｙとに、複数がマトリクス状に並ぶように間隔を隔てて形成されている。画素電極１１１は、図４に示すように、画素スイッチング素子１１２と、保持容量素子１１３とが形成されたアレイ基板１１に、層間絶縁膜４１と保護膜４２とを介して形成されている。画素電極１１１は、たとえば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いて形成されており、光を透過する。また、複数の画素電極１１１は、それぞれに対応するように画素スイッチング素子１１２が形成され、画素スイッチング素子１１２のドレイン電極１１２ｅに接続している。画素電極１１１は、画素スイッチング素子１１２を介して、信号配線２１２から供給されるデータ信号を表示電圧として、液晶層３１に印加する。
【００３４】
画素スイッチング素子１１２は、図３に示すように、複数の画素電極１１１のそれぞれに対応するように複数が、第１方向ｘと、その第１方向ｘに略直交する第２方向ｙとにマトリクス状に形成されている。画素スイッチング素子１１２は、図４に示すように、たとえば、トップゲート型のＴＦＴであり、半導体層１１２ａと、ゲート絶縁膜１１２ｂと、ゲート電極１１２ｃと、ソース電極１１２ｄと、ドレイン電極１１２ｅとを有する。画素スイッチング素子１１２においては、ゲート電極１１２ｃが走査配線２１１に接続され、走査配線２１１を介してゲートドライバ（図示なし）からゲート電極１１２ｃに入力される走査信号によって、画素スイッチング素子１１２が駆動制御される。また、画素スイッチング素子１１２おいては、ソース電極１１２ｄが信号配線２１２に接続され、信号配線２１２を介してソースドライバ（図示なし）からソース電極１１２ｄにデータ信号が供給される。また、さらに、画素スイッチング素子１１２は、ドレイン電極１１２ｅが画素電極１１１と保持容量素子１１３とに接続されており、画素スイッチング素子１１２のゲート電極１１２ｃに走査信号が印加されてオン状態になった場合には、ドレイン電極１１２ｅから画素電極１１１と保持容量素子１１３とにデータ信号を印加する。
【００３５】
保持容量素子１１３は、図３に示すように、複数の画素電極１１１のそれぞれに対応するように、複数が第１方向ｘと、その第１方向ｘに略直交する第２方向ｙとにマトリクス状に複数形成されている。保持容量素子１１３は、図４に示すように、第１電極１１３ａと第２電極１１３ｂと誘電体膜１１３ｃを含み、第１電極１１３ａと第２電極１１３ｂとで誘電体膜１１３ｃを挟むように構成されている。また、保持容量素子１１３は、第１電極１１３ａが画素スイッチング素子１１２のドレイン電極１１２ｅに接続され、第２電極１１３ｂが保持容量配線２１３に接続されている。保持容量素子１１３は、液晶層３１による静電容量と並列になるように形成されており、液晶層３１に印加されるデータ信号による電荷を保持する。
【００３６】
第１配向膜２２１は、画素電極１１１を被覆するように、アレイ基板１１に形成されている。第１配向膜２２１は、たとえば、ポリイミドにより形成されている。第１配向膜２２１は、たとえば、ラビング処理され、対向基板２１に形成される第２配向膜２２２と共に、液晶層３１の配向方向を規定する。なお、第１配向膜２２１は、ポリイミドなどの有機材料の他、シリコン、ゲルマニウムなどのIV属元素の単体や、その混合物、その化合物などの無機材料の膜を用いて形成されていてもよい。また、スピンコート法の他、インクジェット法などの方法で形成されていてもよい。
【００３７】
走査配線２１１は、第１方向ｘに延在するようにアレイ基板１１に形成されており、第１方向ｘに並ぶ画素スイッチング素子１１２に接続している。また、走査配線２１１は、第２方向ｙに並ぶ画素スイッチング素子１１２に対応するように、複数が第２方向ｙに間隔を隔てて並んで形成されている。そして、走査配線２１１は、ゲートドライバに接続されており、画素電極１１１の行を順次、時分割で選択するように、ゲートドライバからの走査信号を画素スイッチング素子１１２に供給する。
【００３８】
信号配線２１２は、第２方向ｙに延在するようにアレイ基板１１に形成されており、第２方向ｙに並ぶ画素スイッチング素子１１２に接続している。また、信号配線２１２は、第１方向ｘに並ぶ画素スイッチング素子１１２に対応するように、複数が第１方向ｘに間隔を隔てて並んで形成されている。そして、信号配線２１２は、ソースドライバに接続されており、ソースドライバからのデータ信号を画素電極１１１に画素スイッチング素子１１２を介して供給する。
【００３９】
保持容量配線２１３は、第１方向ｘに延在するようにアレイ基板１１に形成されており、保持容量素子１１３に接続している。保持容量配線２１３は、第２方向ｙに並ぶ保持容量素子１１３に対応するように、複数が第２方向ｙに間隔を隔てて並んで形成されている。そして、保持容量配線２１３は、一端が保持容量素子１１３の第２電極１１３ｂに接続されており、他端が対向電極２３に接続されている。
【００４０】
一方、対向基板２１における遮光層２２は、光を遮光する層であり、画素部の開口領域以外の領域に対応するように形成されている。
【００４１】
また、対向電極２３は、ＩＴＯを用いて形成され、画素電極１１１に共通する共通電極として、対向基板２１の全面に形成されている。
【００４２】
スペーサ２４は、アレイ基板１１と対向基板２１との間に間隔を設けるように、対向基板２１に形成されている。スペーサ２４は、たとえば、スピンコート法により、約３μｍの厚さに感光性樹脂を塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン加工することによって形成される。
【００４３】
第２配向膜２２２は、対向電極２３を被覆するように、対向基板２１に形成されている。第２配向膜２２２は、たとえば、ポリイミドにより形成されている。第２配向膜２２２は、たとえば、ラビング処理され、アレイ基板１１に形成される第１配向膜２２１と共に、液晶層３１の配向方向を規定する。なお、第２配向膜２２２は、ポリイミドなどの有機材料の他、シリコン、ゲルマニウムなどのIV属元素の単体や、その混合物、その化合物などの無機材料の膜を用いて形成されていてもよい。また、スピンコート法の他、インクジェット法などの方法で形成されていてもよい。
【００４４】
そして、その他に、本実施形態の液晶表示装置は、アレイ基板１１と対向基板２１との液晶層３１側に対して反対側に偏光板（図示なし）がそれぞれ設けられている。そして、さらに、アレイ基板１１の液晶層３１が配置された側と反対側にバックライト（図示なし）が偏光板を介して設けられている。
【００４５】
なお、上記の本実施形態において、液晶表示装置１は、本発明の液晶表示装置に相当する。また、本実施形態のアレイ基板１１と対向基板２１とは、本発明の一対の基板に相当する。また、本実施形態の液晶層３１を構成する第１の液晶Ｌ１は、本発明の第１の液晶に相当する。また、本実施形態の第２の液晶Ｌ２は、本発明の第２の液晶に相当する。また、本実施形態の注入口５２が、本発明の注入口に相当する。
【００４６】
以下より、本実施形態の液晶注入装置について説明する。
【００４７】
図５は、本実施形態の液晶注入装置を示す斜視図である。
【００４８】
図５に示すように、本実施形態の液晶注入装置２は、チャンバ８０１と、注入口洗浄部８１１と、注入口共洗い部８１２と、注入部８１３とを有する。ここで、本実施形態の液晶注入装置は、前述のアレイ基板１１と対向基板２１とのように、シール材５１を用いて間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板からなる空セル７０１の注入口５２から、その空セル７０１の間隔に第１の液晶Ｌ１を真空注入法で注入して、上述した液晶注入装置２の液晶層３１を形成する。
【００４９】
各部について、以下より、順次、説明する。
【００５０】
チャンバ８０１は、空セル７０１を収容し、脱気されることによって真空状態になり、その真空状態を維持する。また、チャンバ８０１は、注入口洗浄部８１１と、注入口共洗い部８１２と、注入部８１３とを収容する。
【００５１】
注入口洗浄部８１１は、容器を含み、空セル７０１に注入される第１の液晶Ｌ１よりも誘電率異方性Δεが高い第２の液晶Ｌ２を、その容器に収容する。そして、注入口洗浄部８１１は、その第２の液晶Ｌ２を用いて注入口５２を洗浄する。たとえば、注入口洗浄部８１１は、注入部８１３が第１の液晶Ｌ１を空セル７０１に注入する際に第１の液晶Ｌ１と接触する注入口５２の部分に、第２の液晶Ｌ２を接触させることによって、その部分に付着したイオン性不純物を第２の液晶Ｌ２へ解離させて洗浄する。また、ここでは、前述したように、アレイ基板１１と対向基板２１との間隔に配置される液晶層３１を構成する第１の液晶Ｌ１として、第１液晶組成物Ｃ１と、その第１液晶組成物Ｃ１よりも誘電率異方性Δεが高い第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物を用いるため、注入口洗浄部８１１は、第１の液晶Ｌ１から誘電率異方性Δεが低い第１液晶組成物Ｃ１を除いた混合物である第２の液晶Ｌ２を用いて注入口５２を洗浄する。たとえば、前述のように、化学式（１）のようなΔε＝６のフッ素系液晶化合物である第１液晶組成物Ｃ１と、化学式（２）のようなΔε＝９のフッ素系液晶化合物である第２液晶組成物Ｃ２との混合物を第１の液晶Ｌ１として空セル７０１に注入する場合においては、注入口洗浄部８１１は、第１の液晶Ｌ１からΔε＝６のフッ素系液晶化合物である第１液晶組成物Ｃ１を除き、Δε＝９のフッ素系液晶化合物である第２液晶組成物Ｃ２を含む混合物を用いて注入口５２を洗浄する。
【００５２】
注入口共洗い部８１２は、容器を含み、空セル７０１に注入される液晶材料と同様な第１の液晶Ｌ１を、その容器に収容する。そして、注入口共洗い部８１２は、注入口洗浄部８１１により洗浄された注入口５２を、第１の液晶Ｌ１を用いて共洗いする。たとえば、注入口共洗い部８１２は、注入口洗浄部８１１が第２の液晶Ｌ２で洗浄した注入口５２の部分に第１の液晶Ｌ１を接触させることによって、第２の液晶Ｌ２を除去するように共洗いする。つまり、ここでは、前述したように、アレイ基板１１と対向基板２１との間隔に配置される液晶層３１を構成する第１の液晶Ｌ１として、第１液晶組成物Ｃ１と、その第１液晶組成物Ｃ１よりも誘電率異方性Δεが高い第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物を用いるため、注入口共洗い部８１２は、注入部８１３が注入する第１の液晶Ｌ１と同様に、第１液晶組成物Ｃ１と第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物からなる第１の液晶Ｌ１を用いて共洗いをする。たとえば、化学式（１）のようなΔε＝６のフッ素系液晶化合物である第１液晶組成物Ｃ１と、化学式（２）のようなΔε＝９のフッ素系液晶化合物である第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物である第１の液晶Ｌ１を用いて、注入口共洗い部８１２は注入口５２を共洗いする。
【００５３】
注入部８１３は、容器を含み、空セル７０１に注入されて液晶層３１を構成する第１の液晶Ｌ１を、その容器に収容する。そして、注入部８１３は、注入口洗浄部８１１によって洗浄されると共に、注入口共洗い部８１２によって共洗いされた注入口５２から、空セル７０１である一対の基板の間隔に第１の液晶Ｌ１を注入する。ここでは、前述したように、注入部８１３は、アレイ基板１１と対向基板２１との間隔に配置される液晶層３１を構成する第１の液晶Ｌ１として、第１液晶組成物Ｃ１と、その第１液晶組成物Ｃ１よりも誘電率異方性Δεが高い第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物を用いる。たとえば、化学式（１）のようなΔε＝６のフッ素系液晶化合物である第１液晶組成物Ｃ１と、化学式（２）のようなΔε＝９のフッ素系液晶化合物である第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物である第１の液晶Ｌ１を、注入部８１３が注入する。
【００５４】
なお、上記の本実施形態において、液晶注入装置２は、本発明の液晶注入装置に相当する。また、本実施形態の注入口洗浄部８１１は、本発明の注入口洗浄部に相当する。また、本実施形態の注入口共洗い部８１２は、本発明の注入口共洗い部に相当する。また、本実施形態の注入部８１３は、本発明の注入部に相当する。
【００５５】
以下より、上記の液晶注入装置２を用いて、アレイ基板１１と対向基板２１との間の間隔に第１の液晶Ｌ１を注入し、前述の液晶表示装置１を製造する製造方法について説明する。
【００５６】
まず、アレイ基板１１と対向基板２１との間の間隔に第１の液晶Ｌ１を注入するに先立って、画素電極１１１と画素スイッチング素子１１２と保持容量素子１１３と走査配線２１１と信号配線２１２と層間絶縁膜４１と保護膜４２とを、図４に示すように、アレイ基板１１に形成する。そして、遮光層２２と対向電極２３とスペーサ２４とを、図４に示すように、対向基板２１に形成する。
【００５７】
つぎに、アレイ基板１１と対向基板２１とのそれぞれに、第１配向膜２２１と第２配向膜２２２とを、図４に示すように、それぞれ形成する。ここでは、アレイ基板１１と対向基板２１とのそれぞれに付着したイオン性不純物を除去するように洗浄を実施後、たとえば、スピンコート法によってポリイミド膜を形成する。そして、そのポリイミド膜を焼成処理した後に、ラビング法を用いて、そのポリイミド膜を配向処理することにより、第１配向膜２２１と第２配向膜２２２とをそれぞれ形成する。
【００５８】
つぎに、図１と図２とに示すように、シール材５１を用いて、アレイ基板１１と対向基板２１とが間隔を隔てて対向するように、アレイ基板１１と対向基板２１とを貼り合せ、一対の基板として構成する。具体的には、アレイ基板１１と対向基板２１とからなる一対の基板の間のギャップが所定の距離になるようなギャップ材を含むシール材５１を用いて、液晶層３１を構成する第１の液晶をその一対の基板の間隔に注入するための注入口５２が形成されるように、アレイ基板１１と対向基板２１とを貼り合わせる。そして、アレイ基板１１と対向基板２１とをアライメントした後、アレイ基板１１と対向基板２１とを加圧することによりギャップを調整する。その後、たとえば、シール材５１に紫外線を照射して硬化させる。このようにして、アレイ基板１１と対向基板２１とが対向している空セル７０１を形成する。
【００５９】
つぎに、アレイ基板１１と対向基板２１との間の間隔に第１の液晶Ｌ１を液晶注入装置２が注入する。つまり、空セル７０１に第１の液晶Ｌ１を注入する。
【００６０】
図６は、本実施形態において、アレイ基板１１と対向基板２１との一対の基板からなる空セル７０１に第１の液晶Ｌ１を注入する液晶注入方法を示すフロー図である。
【００６１】
図６に示すように、本実施形態における液晶注入方法は、注入口洗浄工程ＳＴ１１と、注入口共洗い工程ＳＴ２１と、注入工程ＳＴ３１とを有する。
【００６２】
なお、本実施形態において、注入口洗浄工程ＳＴ１１は、本発明の第１工程に相当する。また、本実施形態の注入口共洗い工程ＳＴ２１は、本発明の第３工程に相当する。また、本実施形態の注入工程ＳＴ３１は、本発明の第２工程に相当する。
【００６３】
空セル７０１に第１の液晶Ｌ１を注入する際においては、図６に示すように、まず、注入口洗浄工程ＳＴ１１を実施する。
【００６４】
ここでは、上記の液晶注入装置２の注入口洗浄部８１１が、空セル７０１に注入される第１の液晶Ｌ１よりも誘電率異方性Δεが高い第２の液晶Ｌ２を用いて注入口５２を洗浄する。たとえば、注入口洗浄部８１１は、注入工程ＳＴ３１において第１の液晶Ｌ１を空セル７０１に注入する際に第１の液晶Ｌ１と接触する注入口５２の部分に、第２の液晶Ｌ２を接触させることにより、その部分に付着したイオン性不純物を第２の液晶Ｌ２へ解離させて洗浄する。また、ここでは、後工程である注入工程ＳＴ３１において第１液晶組成物Ｃ１と、その第１液晶組成物Ｃ１よりも誘電率異方性Δεが高い第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物を第１の液晶Ｌ１として用いるため、第１の液晶Ｌ１から誘電率異方性Δεが低い第１液晶組成物Ｃ１を除いた混合物である第２の液晶Ｌ２を用いて、注入口洗浄部８１１が注入口５２を洗浄する。
【００６５】
つぎに、図６に示すように、注入口共洗い工程ＳＴ２１を実施する。
【００６６】
ここでは、上記の液晶注入装置２の注入口共洗い部８１２が、後工程である注入工程ＳＴ３１にて空セル７０１に注入される液晶材料と同様な第１の液晶Ｌ１を用いて、注入口洗浄工程ＳＴ１１により洗浄された注入口５２を共洗いする。たとえば、注入口共洗い部８１２は、注入口洗浄工程ＳＴ１１にて第２の液晶Ｌ２で洗浄した注入口５２の部分に第１の液晶Ｌ１を接触させることによって、第２の液晶Ｌ２を除去するように共洗いする。つまり、ここでは、注入工程ＳＴ３１にて注入される第１の液晶Ｌ１と同様に、第１液晶組成物Ｃ１と第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物を用いて注入口共洗い部８１２が注入口５２を共洗いする。
【００６７】
つぎに、図６に示すように、注入工程ＳＴ３１を実施する。
【００６８】
ここでは、上記の液晶注入装置２の注入部８１３が、液晶表示装置１の液晶層３１を構成する第１の液晶Ｌ１を、注入口洗浄工程ＳＴ１１で洗浄されると共に、注入口共洗い工程ＳＴ２１で共洗いされた注入口５２から、空セル７０１である一対の基板の間隔に第１の液晶Ｌ１を注入する。具体的には、第１液晶組成物Ｃ１と、その第１液晶組成物Ｃ１よりも誘電率異方性Δεが高い第２液晶組成物Ｃ２とを含む混合物である第１の液晶Ｌ１を、注入部８１３が注入して液晶層３１を形成し、封止材を用いて注入口５２を封止する。このようして、図１に示すような、液晶パネル１０を形成する。
【００６９】
つぎに、アレイ基板１１と対向基板２１との液晶層３１側の面に対して反対側の面に、偏光板（図示なし）をそれぞれ設ける。そして、さらに、アレイ基板１１の液晶層３１が配置された面と反対側の面に偏光板を介してバックライト（図示なし）を設け、上述した液晶表示装置１を形成する。
【００７０】
上記のように形成された液晶表示装置１の特性評価の結果について説明する。ここでは、注入口洗浄工程ＳＴ１１と注入口共洗い工程ＳＴ２１とを実施しないことを除いて、本実施形態の液晶表示装置１と同様に形成された液晶表示装置を比較例とし、本実施形態の液晶表示装置１の評価を行った。
【００７１】
電圧保持率の評価した結果においては、初期状態では本実施形態と比較例とが同等な電圧保持率を備えていたが、６０℃，９０％ＲＨの環境下での試験を実施後、比較例は、電圧保持率が低下し、注入口部分に白いシミ状の異常画像が観察された。一方、本実施形態においては、電圧保持率の低下が観察されなかった。
【００７２】
以上のように、本実施形態は、間隔を隔てて対向するように貼り合わされた一対の基板からなる空セル７０１の注入口５２から第１の液晶Ｌ１を注入することによって液晶表示装置を製造する際に、まず、その第１の液晶Ｌ１よりも誘電率異方性が高い第２の液晶Ｌ２で注入口５２を洗浄する。そして、第２の液晶Ｌ２で洗浄された注入口５２から第１の液晶Ｌ１を空セル７０１の間隔に注入して、液晶表示装置１を製造する。液晶材料は誘電率異方性が高くなるに伴ってイオンを解離し易くする性質があるため、本実施形態は、注入口５２からイオン性不純物を効率的に除去することができる。したがって、本実施形態は、一対の基板の間隔に注入される第１の液晶Ｌ１で構成される液晶層３１に、イオン性不純物が溶解することによって液晶特性が変化して画素欠陥が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。その他に、液晶注入装置２の注入部８１３が収容する第１の液晶Ｌ１にイオン性不純物が混入しにくくなるために、高純度な第１の液晶Ｌ１が注入されて画像品質を向上できると共に、液晶注入装置２の注入部８１３が収容する第１の液晶Ｌ１を再利用することが容易に可能になるために、コストダウンを実現できる。
【００７３】
また、本実施形態においては、第２の液晶Ｌ２で洗浄された注入口５２を第１の液晶Ｌ１で共洗いした後に、その共洗いされた注入口５２から第１の液晶Ｌ１を空セル７０１に注入する。本実施形態は、共洗いを実施しているために、第１の液晶Ｌ１で構成される液晶層３１に、注入口５２を洗浄する際に用いた第２の液晶Ｌ２が混入することを防止し、画像品質を向上することができる。
【００７４】
また、本実施形態においては、第１液晶組成物Ｃ１と、その第１液晶組成物Ｃ１よりも誘電率異方性が高い第２液晶組成物Ｃ２とを含む第１の液晶Ｌ１を空セル７０１に注入するに際し、その第１の液晶Ｌ１から誘電率異方性が低い第１液晶組成物Ｃ１を除いた第２の液晶Ｌ２で注入口５２を洗浄する。つまり、本実施形態は、第１の液晶Ｌ１を構成する複数の液晶組成物のうち、高い誘電率異方性の液晶組成物によって選択的に構成される第２の液晶Ｌ２を用いて、注入口５２を洗浄する。このため、洗浄の際に残留した第２液晶Ｌ２が、一対の基板の間隔に注入される第１の液晶Ｌ１で構成される液晶層３１に混入した場合であっても、液晶組成物が同種であるために、注入された第１の液晶Ｌ１の特性が変化することを防止し、画像品質を向上することができる。
【００７５】
＜実施形態２＞
以下より、本発明にかかる実施形態２の液晶表示装置について説明する。
【００７６】
図７は、本発明にかかる実施形態２の液晶表示装置を示す構成図である。
【００７７】
図７に示すように、本実施形態の液晶表示装置３は、いわゆる投射型であり、液晶パネル１０と、光源３１１と、カットフィルタ３１２と、コンデンサレンズ３１３と、第１偏向板３１４と、第２偏向板３１５と、投射レンズ３１６とを有する。本実施形態の液晶表示装置３は、光源３１１から照射される光の光軸Ｃに沿って、カットフィルタ３１２とコンデンサレンズ３１３と第１偏向板３１４と液晶パネル１０と第２偏向板３１５と投射レンズ３１６とが、順次、配設されている。ここで、液晶パネル１０は、実施形態１と同様に構成されている。このため、重複する個所には同一の符号を付し、説明を省略する。
【００７８】
なお、上記の本実施形態において、液晶表示装置３は、本発明の液晶表示装置に相当する。また、本実施形態の光源３１１は、本発明の光源に相当する。また、本実施形態の投射レンズ３１６は、本発明の投射光学系に相当する。
【００７９】
各部について、順次、説明する。
【００８０】
光源３１１は、図７に示すように、ランプ３１１ａとリフレクタ３１１ｂとを含み、光を照射する。ここでは、ランプ３１１ａからの光がリフレクタ３１１ｂによって反射され、フィルタ３１２を介してコンデンサレンズ３１３へ入射する。
【００８１】
カットフィルタ３１２は、光源３１１からの光から、たとえば、赤外光成分と紫外光成分とを除去して、可視光をコンデンサレンズ３１３へ射出する。
【００８２】
コンデンサレンズ３１３は、カットフィルタ３１２を介して光源３１１が照射する光を受け、第１の液晶Ｌ１が注入された一対の基板からなる液晶パネル１０に集光する。ここでは、コンデンサレンズ３１３は、第１偏向板３１４を介して液晶パネル１０に集光する。
【００８３】
第１偏向板３１４は、コンデンサレンズ３１３からの光を偏向し、液晶パネル１０へ射出する。
【００８４】
第２偏向板３１５は、液晶パネル１０からの光を偏向し、投射レンズ３１６へ射出する。
【００８５】
投射レンズ３１６は、光源３１１が照射し、カットフィルタ３１２とコンデンサレンズ３１３と第１偏向板３１４と液晶パネル１０と第２偏向板３１５と順次透過した光を拡大するようにスクリーン３４０に投射する。
【００８６】
上記のように形成された液晶表示装置３の特性評価の結果について説明する。ここでは、実施形態１と同様に、注入口洗浄工程ＳＴ１１と注入口共洗い工程ＳＴ２１とを実施しないことを除いて、本実施形態の液晶表示装置３と同様な液晶表示装置を比較例とし、本実施形態の液晶表示装置３の評価を行った。
【００８７】
本実施形態においては、高温動作特性（６０℃以上）と耐光性（２０００万Ｌｘ以上）との信頼性試験を行った。この結果、本実施形態は、比較例と比べて、表示ムラなどの画質異常の発生時間が長かった。つまり、本実施形態は、耐久性が向上し、長期間に亘って、優れた画像を維持して画像品質を向上することが判明した。
【００８８】
以上のように、本実施形態においては、実施形態１と同様な液晶パネル１０を用いているため、実施形態１と同様に、画像品質を向上することができる。
【００８９】
＜実施形態３＞
以下より、本発明にかかる実施形態３における液晶表示装置について説明する。
【００９０】
図８は、本発明にかかる実施形態３の液晶表示装置を示す構成図である。
【００９１】
図８に示すように、本実施形態の液晶表示装置４は、３板式の投射型であり、光源５０１と、第１レンズアレイ５０３と、第１反射ミラー５０４と、第２レンズアレイ５０５と、第１ダイクロイックミラー５１１と、第２反射ミラー５１２と、第２ダイクロイックミラー５２１と、第１リレーレンズ５３１と、第３反射ミラー５３２と、第２リレーレンズ５３３と、第４反射ミラー５３４と、第１液晶パネル５４１Ｒと、第２液晶パネル５４１Ｇと、第３液晶パネル５４１Ｂと、第１コンデンサレンズ５５１Ｒと、第２コンデンサレンズ５５１Ｇと、第３コンデンサレンズ５５１Ｂと、ダイクロイックプリズム５６１と、投射レンズユニット５７１とを有する。ここで、第１液晶パネル５４１Ｒと、第２液晶パネル５４１Ｇと、第３液晶パネル５４１Ｂとは、いずれも実施形態１と同様に構成されている。このため、重複する個所については説明を省略する。
【００９２】
なお、上記の本実施形態において、液晶表示装置４は、本発明の液晶表示装置に相当する。また、本実施形態の光源５０１は、本発明の光源に相当する。また、本実施形態の投射レンズユニット５７１は、本発明の投射光学系に相当する。
【００９３】
以下より、本実施形態の液晶表示装置４の各部について、順次、説明する。
【００９４】
光源５０１は、ランプ５０１ａとリフレクタ５０１ｂとを有する。ランプ５０１ａは、たとえば、メタルハライドランプを用いて構成されており、放射状に白色の光線を出射する。リフレクタ５０１ｂは、反射面を有しており、その反射面がランプ５０１ａからの光線を反射する。
【００９５】
第１レンズアレイ５０３は、複数のレンズがマトリクス状に配列された構成をしており、光源５０１からの光を複数の光束に分割する。
【００９６】
第１反射ミラー５０４は、第１レンズアレイ５０３を透過した光を反射して、第２レンズアレイ５０５に偏向するために設けられている。
【００９７】
第２レンズアレイ５０５は、第１レンズアレイ５０３と同様な構成であり、複数のレンズがマトリクス状に配列されており、第１反射ミラー５０４からの光を第１ダイクロイックミラー５１１に出射する。
【００９８】
第１ダイクロイックミラー５１１は、第２レンズアレイ５０５からの光のうち、青色成分Ｂと緑色成分Ｇとの光を反射し、赤色成分Ｒの光を透過するように分離する。透過された赤色成分Ｒの光は、第２反射ミラー５１２に出射され、反射された青色成分Ｂと緑色成分Ｇとの光は、第２ダイクロイックミラー５２１へ出射される。
【００９９】
第２反射ミラー５１２は、第１ダイクロイックミラー５１１を透過した赤色成分Ｒの光を反射して偏向し、第１コンデンサレンズ５５１Ｒを介して第１液晶パネル５４１Ｒに入射させる。
【０１００】
第２ダイクロイックミラー５２１は、第１ダイクロイックミラー５１１が反射した青色成分Ｂと緑色成分Ｇとの光のうち、青色成分Ｂの光を透過し、緑色成分Ｇの光を反射するように分離する。反射された緑色成分Ｇの光は、第２コンデンサレンズ５５１Ｇを介して第２液晶パネル５４１Ｇに出射される。一方、青色成分Ｂの光は、第１リレーレンズ５３１を透過後、第３反射ミラー５３２に出射される。
【０１０１】
第１リレーレンズ５３１は、第２ダイクロイックミラー５２１からの光を受け、第３反射ミラー５３２に出射する。第１リレーレンズ５３１は、他の色の光よりも光路長が長い青色成分Ｂの光の利用効率を向上させるために設けられている。
【０１０２】
第３反射ミラー５３２は、青色成分Ｂの光を反射し偏向し、第２リレーレンズ５３３を介して第４反射ミラー５３４に出射する。
【０１０３】
第２リレーレンズ５３３は、第３反射ミラー５３２からの光を受け、第４反射ミラー５３４に出射する。第２リレーレンズ５３３は、前述の第１リレーレンズ５３１と同様に、他の色の光よりも光路長が長い青色成分Ｂの光の利用効率を向上させるために設けられている。
【０１０４】
第４反射ミラー５３４は、第３反射ミラー５３２からの青色成分Ｂの光を反射し偏向して、第３液晶パネル５４１Ｂへ第３コンデンサレンズ５５１Ｂを介して出射する。
【０１０５】
第１，第２および第３の液晶パネル５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂは、ダイクロイックプリズム５６１の入射面に、それぞれが対面するように配置されている。第１液晶パネル５４１Ｒと、第２液晶パネル５４１Ｇと、第３液晶パネル５４１Ｂとは、前述したように、いずれも実施形態１と同様にして形成されている。
【０１０６】
第１液晶パネル５４１Ｒは、パネルのそれぞれの面に一対の偏向板５４２Ｒ，５４３Ｒが配置されている。第１液晶パネル５４１Ｒは、第１コンデンサレンズ５５１Ｒから一方の偏向板５４２Ｒを介して入射する赤色成分Ｒの光を透過し、その透過した光を他方の偏向板５４２Ｒを介してダイクロイックプリズム５６１へ出射する。
【０１０７】
第２液晶パネル５４１Ｇは、パネルのそれぞれの面に一対の偏向板５４２Ｇ，５４３Ｇが配置されている。第２液晶パネル５４１Ｇは、第２コンデンサレンズ５５１Ｇから一方の偏向板５４２Ｇを介して入射する緑色成分Ｇの光を透過し、その透過した光を他方の偏向板５４２Ｇを介してダイクロイックプリズム５６１へ出射する。
【０１０８】
第３液晶パネル５４１Ｂは、パネルのそれぞれの面に一対の偏向板５４２Ｂ，５４３Ｂが配置されている。第３液晶パネル５４１Ｂは、第３コンデンサレンズ５５１Ｂから一方の偏向板５４２Ｂを介して入射する青色成分Ｂの光を透過し、その透過した光を他方の偏向板５４２Ｂを介してダイクロイックプリズム５６１へ出射する。
【０１０９】
ダイクロイックプリズム５６１は、第１，第２および第３の液晶パネル５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂを透過した各色成分の光を合成してカラー画像を生成し、その生成したカラー画像を投射レンズユニット５７１へ出射する。
【０１１０】
投射レンズユニット５７１は、ダイクロイックプリズム５６１により生成されたカラー画像をスクリーン５８０に拡大投射して表示する。
【０１１１】
上記のように形成された液晶表示装置４の特性評価の結果について説明する。ここでは、実施形態１と同様に、注入口洗浄工程ＳＴ１１と注入口共洗い工程ＳＴ２１とを実施しないことを除いて、本実施形態の液晶表示装置４と同様な液晶表示装置を比較例とし、本実施形態の液晶表示装置４の評価を行った。
【０１１２】
本実施形態においては、実施形態２と同様に、高温動作特性（６０℃以上）と耐光性（２０００万Ｌｘ以上）との信頼性試験を行った。この結果、本実施形態は、実施形態２と同様に、比較例と比べて、表示ムラなどの画質異常の発生時間が長かった。つまり、本実施形態は、耐久性が向上し、長期間に亘って、優れた画像を維持して画像品質を向上することが判明した。
【０１１３】
以上のように、本実施形態においては、実施形態１と同様な液晶パネル１０を用いているため、実施形態１と同様に、画像品質を向上することができる。
【０１１４】
なお、本発明の実施に際しては、上記の実施形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。
【０１１５】
たとえば、上記の実施形態においては、画素スイッチング素子としてＴＦＴを用いたアクティブマトリクス型について説明したが、これに限定されない。たとえば、ＭＩＭを画素スイッチング素子として用いた方式であってもよい。また、たとえば、画素スイッチング素子としてＭＯＳＦＥＴを単結晶シリコン基板にマトリクス状に形成したＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  ｏｎ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）などの反射型であってもよい。その他、駆動回路を内蔵する型、駆動回路を外付けする型、パッシブマトリクス駆動方式、旋光モード、複屈折モードなど、いずれの方式に適用してもよい。
【０１１６】
また、たとえば、注入口を洗浄する際に、第２の液晶に超音波を伝達させて洗浄してもよい。同様に、注入口を共洗いする際に、第１の液晶に超音波を伝達させて洗浄してもよい。これにより、洗浄および共洗いが効果的に実施できる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】図１は、本発明にかかる実施形態１における液晶表示装置の主要部を示す断面図である。
【図２】図２は、本発明にかかる実施形態１における液晶表示装置の主要部を示す平面図である。
【図３】図３は、本発明にかかる実施形態１の液晶表示装置の回路図である。
【図４】図４は、本発明にかかる実施形態１の液晶表示装置における画素部分を拡大して示す断面図である。
【図５】図５は、本発明にかかる実施形態１の液晶注入装置を示す斜視図である。
【図６】図６は、本発明にかかる実施形態１において、アレイ基板と対向基板との一対の基板からなる空セルに第１の液晶を注入する液晶注入方法を示すフロー図である。
【図７】図７は、本発明にかかる実施形態２の液晶表示装置を示す構成図である。
【図８】図８は、本発明にかかる実施形態３の液晶表示装置を示す構成図である。
【図９】図９は、液晶を注入する方式を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１１８】
１，３，４…液晶表示装置（液晶表示装置）、
２…液晶注入装置（液晶注入装置）、
１１…アレイ基板（一対の基板）、
２１…対向基板（一対の基板）、
３１…液晶層、
Ｌ１…第１の液晶（第１の液晶）、
Ｌ２…第２の液晶（第２の液晶）、
５２…注入口（注入口）、
８１１…注入口洗浄部（注入口洗浄部）、
８１２…注入口共洗い部（注入口共洗い部）、
８１３…注入部（注入部）、
３１１，５０１…光源（光源）、
３１６，５７１…投射レンズユニット（投射光学系）
【図１】
2006106477.tif 000005
【図２】
2006106477.tif 000006
【図３】
2006106477.tif 000007
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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