(57)【要約】【課題】  露光装置の照明輝度分布を最適に設定することができ、照明輝度分布の違いによるリワークを防いで開発効率の向上、更にはリソグラフィーの露光量余裕度及び焦点深度の予測精度の向上等に寄与する。【解決手段】  照明光源面からの光をフォトマスク上のマスクパターンに導き、基板面にマスクパターンの像を形成する露光装置に対し、照明光源面における照明輝度分布を規定する方法であって、照明光源面を複数の照明要素に分割し、分割した照明要素毎に基板面上に形成される像を計算し、該計算した像の性能を基に照明要素を選択して設計上の照明輝度分布を得、変形させた照明輝度分布を用いて基板面上に形成されるフォトマスクパターン像のリソグラフィー性能を算出し、算出したリソグラフィー性能と設定したリソグラフィー性能の閾値とを比較して照明輝度分布の変形量の許容変動範囲を求める。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光源面からの光をフォトマスク上のマスクパターンに導き、フォトマスクから発した光を光学系を介して基板面に導くことによって像を形成する露光装置に対し、照明光源面における照明輝度分布を規定する方法であって、
前記照明光源面を複数の照明要素に分割する工程と、
前記分割した照明要素の各々に対し、前記マスクパターンを照明した場合に前記基板面上に形成される像を計算し、該計算した像の性能に基づき前記照明要素を選択して設計上の照明輝度分布を得る工程と、
前記照明輝度分布を変形させる工程と、
前記変形させた照明輝度分布を用いて、前記基板面上に形成されるマスクパターン像のリソグラフィー性能を算出する工程と、
前記マスクパターンのリソグラフィー性能の閾値を設定する工程と、
前記算出したリソグラフィー性能と前記設定したリソグラフィー性能の閾値とを比較することによって、前記照明輝度分布の変形量の許容変動範囲を求める工程と、
前記設計上の照明輝度分布及び変形量の許容変動範囲から照明輝度分布を規定する工程と、
を含むことを特徴とする照明輝度分布の規定方法。
【請求項２】
前記照明輝度分布を変形させる工程として、前記照明輝度分布をガウス関数により解析的に変形することを特徴とする請求項１記載の照明輝度分布の規定方法。
【請求項３】
前記マスクパターンのリソグラフィー性能は、露光量余裕度，焦点深度，及び寸法特性カーブであることを特徴とする請求項１記載の照明輝度分布の規定方法。
【請求項４】
前記照明輝度分布の変形量の許容変動範囲の規定は、前記算出したリソグラフィー性能と前記設定したリソグラフィー性能の閾値とを比較し、前記算出したリソグラフィー性能が前記設定されたリソグラフィー性能より大きい間は照明輝度分布の変動量を更に変化させ、前記算出したリソグラフィー性能が前記設定されたリソグラフィー性能より小さくなった時点で、照明輝度分布の変動量を照明輝度分布の変形量の許容範囲として規定することを特徴とする請求項１記載の照明輝度分布の規定方法。
【請求項５】
照明光源面からの光をフォトマスク上のマスクパターンに導き、フォトマスクから発した光を光学系を介して基板面に導くことによって像を形成する露光装置に対し、照明光源面における照明輝度分布を規定する方法であって、
第１の露光装置の照明光源面を複数の照明要素に分割する工程と、
前記分割した照明要素の各々に対し、前記マスクパターンを照明した場合に第１の露光装置の基板面上に形成される像を計算し、前記計算した像の性能に基づき前記照明要素を選択して設計上の照明輝度分布を得る工程と、
前記照明輝度分布を変形させる工程と、
前記変形させた照明輝度分布を用いて、第１の露光装置の基板面上に形成されるマスクパターン像のリソグラフィー性能を算出する工程と、
前記マスクパターンのリソグラフィー性能の閾値を設定する工程と、
前記算出したリソグラフィー性能と前記設定したリソグラフィー性能の閾値とを比較することによって、前記照明輝度分布の変形量の許容変動範囲を求める工程と、
前記設計上の照明輝度分布及び変形量の許容変動範囲から第１の露光装置における照明輝度分布を規定する工程と、
第１の露光装置に規定した照明輝度分布を用いてマスクパターンを第１の露光装置で露光した場合の寸法特性を得る工程と、
第１の露光装置で使用した前記設計上の照明輝度分布及び変形量の許容変動範囲を満たすように、第２の露光装置の照明輝度分布を規定する工程と、
第２の露光装置に前記規定した照明輝度分布を用いてマスクパターンを第２の露光装置で露光した場合の寸法特性を得る工程と、
第１の露光装置で求めた寸法特性と第２の露光装置で求めた寸法特性とを比較し、これらの一致を確認して第２の露光装置の照明輝度分布と変形量の許容変動範囲を最終的に決定する工程と、
を含むことを特徴とする照明輝度分布の規定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子や液晶表示素子等を製造するための露光装置の光学条件を設定する技術に係わり、特に照明光源面の輝度分布を最適に規定するための照明輝度分布の規定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の半導体製造技術の進歩は非常に目覚しく、最小加工寸法０．１３μｍサイズの半導体素子が量産されている。このような微細化は、マスクプロセス技術，光リソグラフィー技術，及びエッチング技術等の微細パターン形成技術の飛躍的な進歩により実現されている。
【０００３】
パターンサイズが十分大きい時代には、ウェハ上に形成したいＬＳＩパターンの平面形状をそのまま設計パターンとして描き、その設計パターンに忠実なマスクパターンを作成する。そして、このマスクパターンを投影露光装置によってウェハ上に転写し、下地をエッチングすることによって、ほぼ設計パターン通りのパターンをウェハ上に形成できた。しかし、パターンの微細化が進むにつれて、各プロセスでパターンを忠実に形成することが困難になってきており、最終的な仕上り寸法が設計パターン通りにならない問題が生じてきた。
【０００４】
このような状況においては、パターンの転写に使用する投影露光装置に起因する誤差も、パターンの仕上がり形状を狂わせる大きな原因になる。近年では、露光装置の投影レンズの収差が原因で、ウェハ上に転写されたパターンに寸法誤差が生じたり、位置ずれが生じることが問題視され、露光装置を分解することなく投影レンズの収差を測定する方法が提案されている。
【０００５】
一方、照明光学系の有効な大きさを表すコヒーレンスファクタ（σ）の、露光領域内での形状・光強度の変動によって、露光領域内で寸法変動が生じることが明らかになってきた。露光領域内でコヒーレンスファクタの形状及び光強度が変動すると、レチクルを照らす光強度と向きが場所により変化する。ここで、σは像のコントラストを支配するパラメータであるので、σの上記の変動は露光性能の一括露光領域内での変動を意味する。
【０００６】
この問題に対応するために、投影露光装置を分解せずに、露光装置のσの検査及び調整を行う技術が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。最先端のデバイスの歩留まり低下を防ぐために、また投影露光装置の照明光学系の精密な評価を行うために、更に照明光学系と投影光学系を組み合わせた収差の精密な測定を可能にするために、これらの技術は必須となっている。
【０００７】
上記投影露光装置の照明輝度分布を測定する技術を使用し、解析的な関数を用いて照明輝度分布を記述し、照明輝度分布の測定値に対するフィッティングから、関数のモデリングを行う方法が提案されている。しかしながらこのモデリングの方法は、使用する露光装置が存在し、照明輝度分布の実験データが存在して初めて実現する技術である。一方、技術開発の観点からすれば、常にデバイス世代の１〜２年前に開発がスタートすることが多く、開発初期においてはパターンの転写を行うための露光装置が存在していない場合も起こり得る。
【０００８】
さらに、デバイスの開発が開始されてから製品のパターンニングを行う際に、露光装置の横展開（露光装置の処理能力と製品規模に応じて、パターンニングを行う露光装置を変える）が行われる場合がある。現時点でははじめに製品処理を行っていた露光装置（露光装置Ａとする）でテストパターンの寸法特性カーブ（特性カーブＡとする）を取得し、次に処理を行う露光装置（露光装置Ｂとする）は、寸法特性カーブＡが再現されるように照明輝度分布の調整が行われる。この際には、露光装置Ｂの調整後に、再び寸法特性カーブを取得することから、カーブ取得に必要なパターンニングおよび寸法計測に時間がかかるという問題点がある。
【特許文献１】特開２０００−２１７３２号公報
【特許文献２】特開２００２−３３２６９号公報
【特許文献３】特開２００４−７２１１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このように従来方法では、デバイスの開発初期段階において露光装置の照明輝度分布を正確に予測することは難しく、実際の照明輝度分布に対する誤差が発生し、照明輝度分布の違いによるリワークの必要性が生じ、開発の効率が低下する問題があった。さらに、照明輝度分布の誤差による寸法ずれの影響で、リソグラフィーの露光量余裕度及び焦点深度の予測精度が低下する問題があった。
【００１０】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、露光装置の照明輝度分布を最適に設定することができ、照明輝度分布の違いによるリワークを防いで開発効率の向上、更にはリソグラフィーの露光量余裕度及び焦点深度の予測精度の向上等に寄与し得る照明輝度分布の規定方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために本発明は、次のような構成を採用している。
【００１２】
即ち、本発明の一態様は、照明光源面からの光をフォトマスク上のマスクパターンに導き、フォトマスクから発した光を光学系を介して基板面に導くことによって像を形成する露光装置に対し、照明光源面における照明輝度分布を規定する方法であって、前記照明光源面を複数の照明要素に分割する工程と、前記分割した照明要素の各々に対し、前記マスクパターンを照明した場合に前記基板面上に形成される像を計算し、該計算した像の性能に基づき前記照明要素を選択して設計上の照明輝度分布を得る工程と、前記照明輝度分布を変形させる工程と、前記変形させた照明輝度分布を用いて、前記基板面上に形成されるマスクパターン像のリソグラフィー性能を算出する工程と、前記マスクパターンのリソグラフィー性能の閾値を設定する工程と、前記算出したリソグラフィー性能と前記設定したリソグラフィー性能の閾値とを比較することによって、前記照明輝度分布の変形量の許容変動範囲を求める工程と、前記設計上の照明輝度分布及び変形量の許容変動範囲から照明輝度分布を規定する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の別の一態様は、照明光源面からの光をフォトマスク上のマスクパターンに導き、フォトマスクから発した光を光学系を介して基板面に導くことによって像を形成する露光装置に対し、照明光源面における照明輝度分布を規定する方法であって、第１の露光装置の照明光源面を複数の照明要素に分割する工程と、前記分割した照明要素の各々に対し、前記マスクパターンを照明した場合に第１の露光装置の基板面上に形成される像を計算し、前記計算した像の性能に基づき前記照明要素を選択して設計上の照明輝度分布を得る工程と、前記照明輝度分布を変形させる工程と、前記変形させた照明輝度分布を用いて、第１の露光装置の基板面上に形成されるマスクパターン像のリソグラフィー性能を算出する工程と、前記マスクパターンのリソグラフィー性能の閾値を設定する工程と、前記算出したリソグラフィー性能と前記設定したリソグラフィー性能の閾値とを比較することによって、前記照明輝度分布の変形量の許容変動範囲を求める工程と、前記設計上の照明輝度分布及び変形量の許容変動範囲から第１の露光装置における照明輝度分布を規定する工程と、第１の露光装置に規定した照明輝度分布を用いてマスクパターンを第１の露光装置で露光した場合の寸法特性を得る工程と、第１の露光装置で使用した前記設計上の照明輝度分布及び変形量の許容変動範囲を満たすように、第２の露光装置の照明輝度分布を規定する工程と、第２の露光装置に規定した照明輝度分布を用いてマスクパターンを第２の露光装置で露光した場合の寸法特性を得る工程と、第１の露光装置で求めた寸法特性と第２の露光装置で求めた寸法特性とを比較し、これらの一致を確認して第２の露光装置の照明輝度分布と変形量の許容変動範囲を最終的に決定する工程と、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、デバイスの開発初期段階において露光装置の照明輝度分布を正確に予測することができる。従って、実際の照明輝度分布に対する誤差を最小限に抑え、照明輝度分布の違いによるリワークを防ぎ、開発の効率を上げることが可能となる。さらに、照明輝度分布の誤差による寸法ずれの影響をなくし、リソグラフィーの露光量余裕度及び焦点深度を精度良く予測することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の詳細を図示の実施形態によって説明する。
【００１６】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係わる照明輝度分布の規定方法を説明するためのフローチャートである。
【００１７】
本実施形態では、まず露光装置の瞳面上における有効光源のうち、照明光源形状の最適化手法を用いて、像を形成するために必要な照明要素を決定した。即ち、露光装置の有効光源を各要素に分割し、各有効光源の要素を光らせたときの像のコントラストをモニターし、像を形成するために必要なコントラストが得られる有効光源の要素を選択し、これを照明輝度分布要求値とした（Ｓ２）。このときの照明輝度分布要求値を、図２に示す。これは、例えば輪帯照明或いは二つ目照明の例である。
【００１８】
なお、照明要素は、フォトマスクパターンの光学像の性能をもとに選択するのが望ましい。また、フォトマスクパターンの光学像の性能とは、例えば基板の面上の所定の位置における像の微分値である。
【００１９】
次に、得られた照明輝度分布要求値の変形を行った（Ｓ３）。照明輝度分布要求値は図２に示すように矩形であるが、実際の装置における照明輝度分布は矩形が変形した分布をしている。そこで、照明輝度分布要求値に図３に示すガウス関数を畳み込むことによって、図４に示すように矩形を変形した分布を再現した。この際に、照明輝度分布要求値を変形させるためのパラメータ（照明輝度分布変形パラメータ：Ｓ４）を、ガウス関数の半値全幅（３０１）として、本実施形態では５ｎｍとした。
【００２０】
図５に示すように、ガウス関数の畳み込みを用いた変形では、ガウス関数の幅が大きくなるほど、元の照明輝度分布予測値（５０１）からの変形の度合いが大きくなる（５０２〜５０４）。そこで、照明輝度分布要求値の変形を、このガウス関数の半値全幅をパラメータとしてコントロールすることが可能である。
【００２１】
照明輝度分布を規定するためのマスクパターンとして、図６（ａ）（ｂ）に示した２つのパターンを用意し、本実施形態では、図６（ａ）に示す５５ｎｍのピッチパターンを使用した（評価用パターン：Ｓ１）。このパターンの露光量余裕度を、露光条件ＮＡ＝０．９１５，σ＝０．９，露光波長＝１９３ｎｍで計算した結果、５％を得た（マージンの計算：Ｓ５）。ここで、露光装置の基板の面はベストフォーカス位置に設定されているものとした。
【００２２】
そして、得られた露光量余裕度と予め決められた余裕度の閾値３％（マージンのスペック：Ｓ６）とを比較した（Ｓ７）。このとき、得られた余裕度５％が閾値３％よりも大きいために、変形パラメータの値を７ｎｍとして照明輝度分布を変形させ、再び露光量余裕度を計算した。変形パラメータと露光量余裕度との関係は、図７に示す通りである。
【００２３】
図１のフローチャートに従って、変形パラメータの大きさを変えつつ露光量マージンの閾値と算出される露光量マージンの値とを比較していった結果、露光量余裕度の閾値を満たすパラメータの変動範囲を１０ｎｍとした。そして、使用した照明輝度分布要求値と露光量マージンの閾値を満たす変動パラメータの範囲を用いて、照明輝度分布を規定した。
【００２４】
このように本実施形態によれば、照明要素の選択による照明輝度分布要求値をガウス関数の畳み込みにより変形し、この変形した照明輝度要求値を用いて露光量余裕度を計算し、これを露光量余裕度のマージンと比較することによって、露光装置の照明輝度分布を正確に予測することができる。このため、実際の照明輝度分布に対する誤差を最小限に抑え、照明輝度分布の違いによるリワークを防ぎ、開発の効率を上げることが可能となる。さらに、照明輝度分布の誤差による寸法ずれの影響をなくし、リソグラフィーの露光量余裕度及び焦点深度を精度良く予測することが可能となる。
【００２５】
（第２の実施形態）
本実施形態では、第１の実施形態で説明した前記図６（ａ）（ｂ）の両方のパターンを用い、これら二つのパターンの共通の露光量余裕度を満たす変形パラメータの変動範囲を求めた。それぞれのパターンの照明輝度分布要求値は共通のものを使用した。変形パラメータの変動範囲を求める方法は、第１の実施形態に示した方法と同様で、図１のフローチャートに示した通りである。図６（ａ）に示したパターンの照明輝度分布要求値の変形パラメータの変動範囲は１０ｎｍであった。一方、図６（ｂ）に示したパターンの変形パラメータの変動範囲は７ｎｍであった。二つの結果から、図６（ａ）（ｂ）の二つのパターンの露光量余裕度を満たす変形パラメータの変動範囲は７ｎｍであった。
【００２６】
このように本実施形態のように、照明輝度分布の変動範囲を複数のパターンに対して決める場合は、それぞれの変動範囲を求めて、その共通部分を求めればよい。
【００２７】
なお、上記の各実施形態で使用した照明輝度分布要求値は、実施形態で示した方法によるものでなくてもよい。例えば、露光装置のレンズの設計データそのものでも、さらに何らかの手法で計測した照明輝度分布の実験データでも可能である。
【００２８】
また、照明輝度分布要求値を変形させる方法は、実施形態に示した方法に限るものではない。例えば、照明輝度分布要求値の外側を段階的に傾斜させる方法でも、また湾曲させる方法でもよい。また、上記の各実施形態では、変動パラメータの範囲をパターンの露光量閾値で規定したが、この閾値は露光量余裕度に限るものではなく、焦点深度の余裕度、露光量余裕度と焦点深度の余裕度の両方など、照明輝度分布の形状の変化によって影響を受けるファクターであればよい。
【００２９】
また、マスクパターンも実施形態で使用したパターン以外でも可能であることはいうまでもない。さらに、実施形態で使用したガウス関数は、半値全幅ひとつをパラメータとするものであるが、畳み込みを行う関数はこれに限ったものではなく、二種類のガウス関数を組み合わせて畳み込みをかけるものであってもよい。さらに、畳み込みは、必ずしもガウス関数に限ることなく、照明輝度分布要求値を変形する種種の解析関数を使用することができる。
【００３０】
（第３の実施形態）
本実施形態では、照明輝度分布要求値の規定を、露光装置を横展開する（露光装置の処理能力と製品規模に応じて、パターンニングを行う露光装置を変える）際に行った。はじめに製品を処理した露光装置（露光装置Ａ）で、テストパターンを用いた寸法特性カーブを求めた。このときのテストパターンを図８に、得られた寸法特性カーブを図９に示す。
【００３１】
次に、露光装置の照明輝度分布を前記図１のフローに従って規定した。そのときの照明輝度分布要求値と、変形パラメータの変動量１０ｎｍを求めた。この製品を露光装置Ｂで処理することになったため、露光装置Ｂの照明輝度分布を、露光装置Ａの照明輝度分布とパラメータの変動範囲の間に入るよう照明輝度分布の合わせ込みを行った。そして、露光装置Ａで規定した照明輝度分布に露光装置Ｂの照明輝度分布を一致させたあと、図８のテストパターンを用いて露光装置Ｂの寸法特性カーブを取得すると、図１０に示すように二つの寸法特性カーブがほぼ一致した。図中の１００１が露光装置Ａで取得した寸法特性カーブ、１００２が露光装置Ｂで取得した寸法特性カーブである。
【００３２】
本実施形態の処理フローと従来の処理フローとを、図１１に比較して示す。（ａ）は従来の処理フロー、（ｂ）は本実施形態の処理フローである。
【００３３】
従来は、露光装置Ｂの照明輝度分布を調整する度に新たに露光装置Ｂの寸法特性カーブを取得する必要があったため、テストパターンの露光及び寸法測長に大幅に労力がかかっていた。これに対し本実施形態では、照明輝度分布を合わせ込んだ後、確認のために寸法特性カーブを取得するのみであるため、これまで調整の度に行っていた露光及び寸法測定の手間が省けて、労力が大幅に軽減された。
【００３４】
即ち、特性カーブＡを取得した露光装置Ａの照明輝度分布を第１及び第２の実施形態と同様の手法を用いて求め、露光装置Ｂを調整するときは、露光装置Ａの照明輝度分布が露光装置Ｂで再現するように露光装置Ｂを調整する。これにより、露光装置Ｂで新たに特性カーブを取得しなくても特性カーブＡを再現する調整が可能となり、調整にかかる時間が大幅に節約できる。
【００３５】
本実施形態で使用した露光装置は２種類であるが、同様の方法を用いて複数の露光装置の合わせ込みを行うことができる。また、調整に使用するテストパターンは図８に限らず、様々なパターンを使用することができる。
【００３６】
（変形例）
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。実施形態では、照明輝度分布の規定方法を説明したが、本発明は他のカテゴリーに適用することもできる。例えば、照明輝度分布規定方法以外のカテゴリーとしては、照明光源分布規定システム、照明光源分布規定方法を用いて作製したマスク、照明光源分布規定方法を実現するためのプログラム、照明光源分布規定方法を用いて作製した半導体装置に適用することもできる。
【００３７】
また、請求項１に記載した発明の望ましい実施態様としては、次のものがあげられる。
【００３８】
(1) 露光装置の基板の面はベストフォーカス位置に設定されていること。  
(2) 照明要素は、フォトマスクパターンの光学像の性能を基に選択すること。  
(3) フォトマスクパターンの光学像の性能は、基板の面上の所定の位置における像の微分値であること。
【００３９】
(4) フォトマスクパターン像のリソグラフィー性能の閾値は、フォトマスクパターンの世代に要求される寸法精度を基に決定すること。  
(5) 寸法精度は、露光装置の基板面上に形成されたフォトマスクパターン像の寸法を変動させる全ての要因の中で配分されていること。  
(6) パターンの寸法精度は、複数種類のフォトマスクパターンの寸法の均一性、及び露光装置の露光フィールド内における寸法の均一性を含むこと。
【００４０】
さらに、請求項６に記載した発明の望ましい実施態様としては、上記の (1)〜(6) に加え次のものがあげられる。
【００４１】
(7) 第２の露光装置の照明輝度分布を規定する工程を複数の露光装置で行うことによって、複数の露光装置の照明輝度分布を第１の露光装置の照明輝度分布に合わせて規定すること。  
(8) 寸法特性カーブを、ピッチが連続的に変化するパターンを用いて得ること。
【００４２】
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】第１の実施形態に係わる照明輝度分布の規定方法を説明するためのフローチャート。
【図２】第１の実施形態で使用した露光装置の照明輝度分布要求値を示す図。
【図３】照明輝度分布要求値の変形を行うためのガウス関数の例を示す図。
【図４】図２の照明輝度分布要求値を変形させた例を示す図。
【図５】図２の照明輝度分布が段階的に変形している様子を示す図。
【図６】照明輝度分布を規定するための評価用パターンの例を示す図。
【図７】照明輝度分布を変形させる変形パラメータと露光量余裕度との関係を示す図。
【図８】第３の実施形態で使用したテストパターンの例を示す図。
【図９】図８のパターンを用いて取得した寸法特性カーブを示す図。
【図１０】露光装置ＡとＢのそれぞれの寸法特性カーブを比較して示す図。
【図１１】第３の実施形態を説明するためのフローチャートであり、露光装置Ａ，Ｂ間の照明輝度分布の合わせ込みの動作を示す図。
【符号の説明】
【００４４】
３０１…ガウス関数の半値全幅
５０１…元の照明輝度分布要求値の形状
５０２…ガウス関数の半値全幅を５ｎｍとして変形させた場合の照明輝度分布
５０３…ガウス関数の半値全幅を１０ｎｍとして変形させた場合の照明輝度分布
５０４…ガウス関数の半値全幅を１５ｎｍとして変形させた場合の照明輝度分布
１００１…露光装置Ａで取得した寸法特性カーブ
１００２…露光装置Ｂで取得した寸法特性カーブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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