(57)【要約】【課題】  シースルータイプと非シースルータイプのプラズマディスプレイパネルの製造方法の実現。【解決手段】  内面12ａに透明な第１の電極14を形成した透明な前面基板12と、内面20ａに透明な第２の電極22を形成した透明な背面基板20とを、両電極14，22が所定の間隙を隔てて交差するよう配置し、また、多数の貫通孔46を有し、表面に絶縁被膜が形成された有孔金属板48を、両基板12，20間に介在させることで、第１の電極14と第２の電極22との交差部分を、隔壁30ａ，30ｂで囲繞して放電セル32を形成する金属バリアリブ30を構成すると共に、放電セル32を囲繞する金属バリアリブ30の隔壁表面に蛍光体34を被着し、さらに、両基板12，20周縁を封止して気密容器24を形成すると共に、気密容器24内に放電ガスを封入し、各放電セル32の開口率を２５〜９５％としてシースルータイプとする。背面基板20の外面に反射層37を形成して非シースルータイプとする。【選択図】        図１
2006092756.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内面に複数の透明な第１の電極を形成した透明な前面基板と、内面に複数の透明な第２の電極を形成した透明な背面基板とを、上記第１の電極と第２の電極とが所定の間隙を隔てて交差するように対向配置し、また、多数の貫通孔を有し、表面に絶縁被膜が形成された有孔金属板を、上記前面基板及び背面基板間に介在させることにより、上記第１の電極と第２の電極との交差部分を、隔壁で囲繞して放電セルを形成する金属バリアリブを構成すると共に、各放電セルを囲繞する金属バリアリブの隔壁表面に蛍光体を被着し、さらに、前面基板及び背面基板周縁を封止して気密容器を形成すると共に、該気密容器内に放電ガスを封入し、さらにまた、上記各放電セルの開口率を２５％〜９５％と成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
内面に複数の不透明な第１の電極を形成した透明な前面基板と、内面に複数の不透明な第２の電極を形成した透明な背面基板とを、上記第１の電極と第２の電極とが所定の間隙を隔てて交差するように対向配置し、また、多数の貫通孔を有し、表面に絶縁被膜が形成された有孔金属板を、上記前面基板及び背面基板間に介在させることにより、上記第１の電極と第２の電極との交差部分を、隔壁で囲繞して放電セルを形成する金属バリアリブを構成すると共に、各放電セルを囲繞する金属バリアリブの隔壁表面に蛍光体を被着し、さらに、前面基板及び背面基板周縁を封止して気密容器を形成すると共に、該気密容器内に放電ガスを封入し、さらにまた、上記各放電セルの開口率を５０％〜９５％と成すと共に、各放電セル内に占める第１の電極及び第２の電極の面積の占有率を５０％以下と成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
内面に複数の透明な第１の電極を形成した透明な前面基板と、内面に複数の透明な第２の電極を形成した透明な背面基板とを、上記第１の電極と第２の電極とが所定の間隙を隔てて交差するように対向配置し、また、多数の貫通孔を有する有孔透明絶縁板を、上記前面基板及び背面基板間に介在させることにより、上記第１の電極と第２の電極との交差部分を、隔壁で囲繞して放電セルを形成する透明なバリアリブを構成すると共に、
各放電セルを囲繞するバリアリブの隔壁表面に蛍光体を被着し、さらに、前面基板及び背面基板周縁を封止して気密容器を形成すると共に、該気密容器内に放電ガスを封入することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
内面に複数の透明な第１の電極を形成した透明な前面基板と、内面に複数の透明な第２の電極を形成した透明な背面基板とを、上記第１の電極と第２の電極とが所定の間隙を隔てて交差するように対向配置し、また、多数の貫通孔を有する有孔透明絶縁板を、上記前面基板及び背面基板間に介在させることにより、上記第１の電極と第２の電極との交差部分を、隔壁で囲繞して放電セルを形成する透明なバリアリブを構成すると共に、各放電セルを囲繞するバリアリブの隔壁表面に蛍光体を被着し、さらに、前面基板及び背面基板周縁を封止して気密容器を形成すると共に、該気密容器内に放電ガスを封入し、さらにまた、各放電セル内に占める第１の電極及び第２の電極の面積の占有率を５０％以下と成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
上記背面基板の外面に反射層を形成する工程を備えることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明はプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、特に、シースルータイプのプラズマディスプレイパネル及び非シースルータイプのプラズマディスプレイパネルの双方を製造可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１４及び図１５は、従来の交流（ＡＣ）駆動型のプラズマディスプレイパネルの一例をを示すものであり、該プラズマディスプレイパネル70は、ガラス等の透明絶縁材より成る前面基板72の内面72ａに、帯状の第１の電極74を複数並設すると共に、該第１の電極74及び前面基板72の内面72ａを透明な誘電体層76で被覆し、さらに、該誘電体層76上に、透明な保護膜78を形成して成る。
また、ガラス等の絶縁材より成る背面基板80の内面80ａに、帯状の第２の電極82を複数並設すると共に、該第２の電極82及び背面基板80の内面80ａを誘電体層84で被覆し、さらに、該誘電体層84上に保護膜85を形成して成る。
【０００３】
そして、上記前面基板72と背面基板80とを、第１の電極74と第２の電極82とが所定の間隙を隔てて直交状態で交差するように配置し、両基板72，80周縁を図示しない封着材によって封止して気密容器86を形成し、該気密容器86の内部空間に放電ガスを封入して成る。
上記気密容器86の内部空間は、前面基板72の隣接する第１の電極間を区切る第１の隔壁88ａ及び背面基板80の隣接する第２の電極82間を区切る第２の隔壁88ｂとを備えた略格子状のバリアリブ88を介して仕切られ、第１の電極74と第２の電極82との交差部分毎に放電セル90が形成されている。
また、上記第１の隔壁88ａ及び第２の隔壁88ｂで仕切られた背面基板80の保護層85表面及び隔壁88表面に、所定の発光色を備えた蛍光体92が被着されている。
【０００４】
而して、図示しない電源より、第１の電極74及び第２の電極82間に交流電圧を印加すると、放電セル90内で放電が生成し、斯かる放電によって放電ガスから紫外線が放射される。この紫外線が放電セル90内の蛍光体92を励起し、所定の発光色を有する可視光が前面基板72から外部へ放射される。この電圧印加を、図示しない駆動・制御回路を介して選択的に実行することにより、所望の放電セル90内において放電発光を生成させ、表示面である前面基板72上に任意の文字や図形等を表示することができるのである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで近年は、消費者がデザイン性に優れた製品を好む傾向が強くなってきており、このため、デザイン性に優れ、意匠的効果の高いシースルータイプのプラズマディスプレイパネル70の登場が望まれている。
しかしながら、上記蛍光体92は、一般に、その粒径が２〜４μｍ程度と成された白色等の不透明体であり、この蛍光体92を背面基板80の保護層85表面に被着して成る従来のプラズマディスプレイパネル70は、背面基板80内面と平行する方向に蛍光体92が配置されているため、前面基板72側から目視した場合に、シースルータイプのプラズマディスプレイパネル70と成すことはできなかった。
尚、シースルーとは、前面基板72側から目視した場合に、プラズマディスプレイパネル70の背後が透けて見えることをいう。
【０００６】
因みに、本出願人は、先に、不透明な蛍光体の代わりに、透明な蛍光ガラスを用いることにより、スケルトン（シースルー）タイプと成されたプラズマディスプレイパネルを提案した（特開２００４−３０９４９号）。また、粒径が２〜４μｍ程度の一般的な蛍光体に比べて、粒径が５〜７０ｎｍと非常に小さい透明な蛍光体を用いることにより、スケルトン（シースルー）タイプと成されたプラズマディスプレイパネルも提案した（特願２００３−４１１７２２号）。
しかしながら、白色等の不透明と成された一般的な蛍光体92を用いたシースルータイプのプラズマディスプレイパネル70の登場が望まれている。
【０００７】
本発明は、従来の上記問題に鑑みて案出されたものであり、その目的とするところは、意匠的効果の高いシースルータイプのプラズマディスプレイパネルと、非シースルータイプのプラズマディスプレイパネルの双方を製造可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するため、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、内面に複数の透明な第１の電極を形成した透明な前面基板と、内面に複数の透明な第２の電極を形成した透明な背面基板とを、上記第１の電極と第２の電極とが所定の間隙を隔てて交差するように対向配置し、また、多数の貫通孔を有し、表面に絶縁被膜が形成された有孔金属板を、上記前面基板及び背面基板間に介在させることにより、上記第１の電極と第２の電極との交差部分を、隔壁で囲繞して放電セルを形成する金属バリアリブを構成すると共に、各放電セルを囲繞する金属バリアリブの隔壁表面に蛍光体を被着し、さらに、前面基板及び背面基板周縁を封止して気密容器を形成すると共に、該気密容器内に放電ガスを封入し、さらにまた、上記各放電セルの開口率を２５％〜９５％と成したことを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、内面に複数の不透明な第１の電極を形成した透明な前面基板と、内面に複数の不透明な第２の電極を形成した透明な背面基板とを、上記第１の電極と第２の電極とが所定の間隙を隔てて交差するように対向配置し、また、多数の貫通孔を有し、表面に絶縁被膜が形成された有孔金属板を、上記前面基板及び背面基板間に介在させることにより、上記第１の電極と第２の電極との交差部分を、隔壁で囲繞して放電セルを形成する金属バリアリブを構成すると共に、各放電セルを囲繞する金属バリアリブの隔壁表面に蛍光体を被着し、さらに、前面基板及び背面基板周縁を封止して気密容器を形成すると共に、該気密容器内に放電ガスを封入し、さらにまた、上記各放電セルの開口率を５０％〜９５％と成すと共に、各放電セル内に占める第１の電極及び第２の電極の面積の占有率を５０％以下と成したことを特徴とする。
【００１０】
請求項３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、内面に複数の透明な第１の電極を形成した透明な前面基板と、内面に複数の透明な第２の電極を形成した透明な背面基板とを、上記第１の電極と第２の電極とが所定の間隙を隔てて交差するように対向配置し、また、多数の貫通孔を有する有孔透明絶縁板を、上記前面基板及び背面基板間に介在させることにより、上記第１の電極と第２の電極との交差部分を、隔壁で囲繞して放電セルを形成する透明なバリアリブを構成すると共に、各放電セルを囲繞するバリアリブの隔壁表面に蛍光体を被着し、さらに、前面基板及び背面基板周縁を封止して気密容器を形成すると共に、該気密容器内に放電ガスを封入することを特徴とする。
【００１１】
請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、内面に複数の透明な第１の電極を形成した透明な前面基板と、内面に複数の透明な第２の電極を形成した透明な背面基板とを、上記第１の電極と第２の電極とが所定の間隙を隔てて交差するように対向配置し、また、多数の貫通孔を有する有孔透明絶縁板を、上記前面基板及び背面基板間に介在させることにより、上記第１の電極と第２の電極との交差部分を、隔壁で囲繞して放電セルを形成する透明なバリアリブを構成すると共に、各放電セルを囲繞するバリアリブの隔壁表面に蛍光体を被着し、さらに、前面基板及び背面基板周縁を封止して気密容器を形成すると共に、該気密容器内に放電ガスを封入し、さらにまた、各放電セル内に占める第１の電極及び第２の電極の面積の占有率を５０％以下と成したことを特徴とする。
【００１２】
請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、請求項１乃至４の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、上記背面基板の外面に反射層を形成する工程を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に記載の方法で製造されるプラズマディスプレイパネルは、前面基板、背面基板、第１の電極及び第２の電極が透明であると共に、不透明な蛍光体は金属バリアリブの隔壁表面に被着し、背面基板内面と平行する方向には蛍光体を配置していない。また、各放電セルの開口率を２５％〜９５％と成している。この結果、表示面である前面基板側から視認した際に、背後が十分に透けて見えるシースルータイプのプラズマディスプレイパネルと成すことができる。
【００１４】
請求項２に記載の方法で製造されるプラズマディスプレイパネルは、前面基板、背面基板が透明であると共に、不透明な蛍光体は金属バリアリブの隔壁表面に被着し、背面基板内面と平行する方向には蛍光体を配置していない。また、各放電セルの開口率を５０％〜９５％と成すと共に、各放電セル内に占める不透明な第１の電極及び第２の電極の面積の占有率を５０％以下と成している。この結果、表示面である前面基板側から視認した際に、背後が十分に透けて見えるシースルータイプのプラズマディスプレイパネルと成すことができる。
【００１５】
請求項３に記載の方法で製造されるプラズマディスプレイパネルは、前面基板、背面基板、第１の電極及び第２の電極、バリアリブが透明であると共に、不透明な蛍光体はバリアリブの隔壁表面に被着し、背面基板内面と平行する方向には蛍光体を配置していない。この結果、表示面である前面基板側から視認した際に、背後が十分に透けて見えるシースルータイプのプラズマディスプレイパネルと成すことができる。
【００１６】
請求項４に記載の方法で製造されるプラズマディスプレイパネルは、前面基板、背面基板、バリアリブが透明であると共に、不透明な蛍光体はバリアリブの隔壁表面に被着し、背面基板内面と平行する方向には蛍光体を配置していない。また、各放電セル内に占める不透明な第１の電極及び第２の電極の面積の占有率を５０％以下と成している。この結果、表示面である前面基板側から視認した際に、背後が十分に透けて見えるシースルータイプのプラズマディスプレイパネルと成すことができる。
【００１７】
請求項１乃至請求項４に記載の方法で製造されるシースルータイプのプラズマディスプレイパネルにおいて、請求項５に記載の背面基板の外面に反射層を形成する工程を付加するだけで、非シースルータイプのプラズマディスプレイパネルを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１乃至図５は、本発明に係る交流（ＡＣ）駆動型の第１のプラズマディスプレイパネル10を示すものであり、この第１のプラズマディスプレイパネル10は、厚さ数mmの平板ガラス等の透明絶縁材より成る前面基板12の内面12ａに、帯状の第１の電極14を複数並設すると共に、該第１の電極14及び前面基板12の内面12ａを透明な誘電体層16で被覆し、さらに、該誘電体層16上に、透明な保護膜18を形成して成る。
また、厚さ数mmの平板ガラス等の透明絶縁材より成る背面基板20の内面20ａに、帯状の第２の電極22を複数並設すると共に、該第２の電極22及び背面基板20の内面20ａを透明な誘電体層16で被覆し、さらに、該誘電体層16上に、透明な保護膜18を形成して成る。
上記第１の電極14及び第２の電極22は、透明材料であるＮＥＳＡ膜（ＳｎＯ２）、ＩＴＯ膜（Ｉｎ２Ｏ３・ＳｎＯ２）、或いは、不透明材料であるＡｇ・Ｐｄ系ペースト等で構成することができる。
上記誘電体層16は、低融点ガラス等で構成され、上記保護膜18はＭｇＯ等で構成されている。
【００１９】
そして、上記前面基板12と背面基板20とを、第１の電極14と第２の電極22とが所定の間隙を隔てて略直交状態で交差するように対向配置し、両基板12，20周縁を図示しない封着材によって封止して気密容器24を形成し、該気密容器24の内部空間に、ヘリウム、キセノン等の希ガスの単体若しくは混合物を主体とする紫外線放射用の放電ガスを封入して成る。
【００２０】
上記気密容器24の内部空間は、Ｆｅ−Ｎｉ合金等の金属基材26の表面に、ガラス等の絶縁被膜28を形成して成る略格子状の不透明な金属バリアリブ30を介して仕切られている。この金属バリアリブ30は、背面基板20の内面20ａに対して垂直な方向に延び、前面基板12の隣接する第１の電極14間を区切る第１の隔壁30ａ及び背面基板20の隣接する第２の電極22間を区切る第２の隔壁30ｂとを備えており、第１の電極14と第２の電極22との交差部分毎に、上記第１の隔壁30ａ及び第２の隔壁30ｂに囲繞された放電セル32が形成される。
【００２１】
また、背面基板20内面と垂直方向である各放電セル32を囲繞する第１の隔壁30ａ及び第２の隔壁30ｂの表面に、所定の発光色を備えた蛍光体34が被着されている。本発明のプラズマディスプレイパネル10は、従来の上記したプラズマディスプレイパネル70とは異なり、背面基板20の保護層18表面には蛍光体34を被着していない。このため、背面基板20の内面20ａと平行する方向には、蛍光体34が配置されないこととなる。
【００２２】
上記各放電セル32の開口率は、第１の電極14及び第２の電極22が透明材料で構成されている場合、２５％〜９５％と成される。
本発明において、開口率とは、各放電セル32を囲繞する第１の隔壁30ａ及び第２の隔壁30ｂで区切られた領域の面積に対する各放電セル32の開口面積の割合をいう。
すなわち、図３及び図４に示すように、各放電セル32を囲繞する両端の第１の隔壁30ａ，30ａの中心間の長さＡと、両端の第２の隔壁30ｂ，30ｂの中心間の長さＢとを乗じることにより、各放電セル32を囲繞する第１の隔壁30ａ及び第２の隔壁30ｂで区切られた領域の面積Ｓが算出される。要するに、Ｓ＝Ａ×Ｂとなる。
また、図３及び図４に示すように、矩形状と成された各放電セル32の一辺の長さａと、他辺の長さｂとを乗じることにより、各放電セル32の開口面積Ｕが算出される。要するにＵ＝ａ×ｂとなる。
この結果、各放電セル32の開口率（％）は、Ｕ÷Ｓ×１００で算出されることとなる。
【００２３】
例えば、第１の隔壁30ａの幅Ｍ（図３参照）と第２の隔壁30ｂの幅が、０．１mm、放電セル32の一辺の長さａが０．５mm、他辺の長さｂが０．５mmの場合、第１の隔壁30ａ，30ａの中心間の長さＡは０．６mm、第２の隔壁30ｂ，30ｂの中心間の長さＢは０．６mmとなる。
従って、各放電セル32を囲繞する第１の隔壁30ａ及び第２の隔壁30ｂで区切られた領域の面積Ｓは、０．６mm（Ａ）×０．６mm（Ｂ）＝０．３６mm2である。
また、各放電セル32の開口面積Ｕは、０．５mm（ａ）×０．５mm（ｂ）＝０．２５mm2である。
この結果、各放電セル32の開口率（％）は、０．２５mm2（Ｕ）÷０．３６mm2（Ｓ）×１００で６９．４％である。
【００２４】
尚、第１の電極14及び第２の電極22が不透明材料で構成されている場合には、上記各放電セル32の開口率は、５０％〜９５％と成されると共に、各放電セル32内に占める第１の電極14及び第２の電極22の面積Ｘ（図５参照）の占有率が、放電セル32の開口面積Ｕの５０％以下と成される。すなわち、第１の電極14及び第２の電極22の占有率（％）は、Ｘ÷Ｕ×１００で算出される。
例えば、放電セル32の一辺の長さａが０．５mm、他辺の長さｂが０．５mm、第１の電極14の幅Ｎ（図３参照）及び第２の電極22の幅が０．０８mmの場合、放電セル32の開口面積Ｕは、０．５mm（ａ）×０．５mm（ｂ）＝０．２５mm2である。
また、放電セル32内に占める第１の電極14及び第２の電極22の面積Ｘは、［０．０８×０．５（第１の電極14の面積）］＋［０．０８×０．５（第２の電極22の面積）］−［０．０８×０．０８（両電極14，22の重なっている部分の面積）］＝０．０７３６mm2である。
この結果、第１の電極14及び第２の電極22の占有率は、０．０７３６mm2（Ｘ）÷０．２５mm2（Ｕ）×１００で２９．４４％である。
【００２５】
上記第１のプラズマディスプレイパネル10にあっては、図示しない電源より、第１の電極14及び第２の電極22間に交流電圧を印加すると、放電セル32内で放電が生成し、斯かる放電によって放電ガスから紫外線が放射される。この紫外線が、放電セル32を囲繞する第１の隔壁30ａ及び第２の隔壁30ｂの表面に被着された蛍光体34を励起し、所定の発光色を有する可視光が前面基板12から外部へ放射される。この電圧印加を、図示しない駆動・制御回路を介して選択的に実行することにより、所望の放電セル32内において放電発光を生成させ、表示面である前面基板12上に任意の文字や図形等を表示することができるのである。
【００２６】
本発明の第１のプラズマディスプレイパネル10にあっては、前面基板12、背面基板20、誘電体層16、保護層18が透明であると共に、不透明な蛍光体34は、背面基板20内面と垂直方向である金属バリアリブ30の第１の隔壁30ａ及び第２の隔壁30ｂの表面に被着した結果、蛍光体34は、背面基板20内面と垂直な方向に配置されることとなり、背面基板20内面と平行する方向には蛍光体34が配置されていない。
また、第１の電極14及び第２の電極22が透明材料で構成されている場合には、各放電セル32の開口率を２５％〜９５％と成し、一方、第１の電極14及び第２の電極22が不透明な場合には、各放電セル32の開口率を５０％〜９５％と成すと共に、各放電セル32内に占める第１の電極14及び第２の電極22の面積の占有率を５０％以下と成している。
この結果、蛍光体34として粒径が２〜４μｍ程度の一般的なものを用いた場合であっても、表示面である前面基板12側から視認した際に、背後が十分に透けて見えるシースルータイプのプラズマディスプレイパネル10と成すことができる。
【００２７】
図６は、第２のプラズマディスプレイパネル35を示すものであり、この第２のプラズマディスプレイパネル35は、第１のプラズマディスプレイパネル10の背面基板20の外面20ｂに反射層37を形成し、非スケルトンタイプと成した点に特徴を有するものである。上記反射層37は、例えば、アルミニウムや銀等の光反射率の高い金属を蒸着することにより形成することができる。
而して、この第２のプラズマディスプレイパネル35の変形例にあっては、背面基板20を透過した可視光を、上記反射層37で反射させて表示面である前面基板12側へ導くことができるため、輝度向上を図ることができる。
【００２８】
図７乃至図１１は、本発明に係るスケルトンタイプの第３のプラズマディスプレイパネル40を示すものである。この第３のプラズマディスプレイパネル40は、第１のプラズマディスプレイパネル10における金属バリアリブ30に代えて、ガラス等の透明絶縁材料より成るバリアリブ42を用いた点に特徴を有するものである。
すなわち、気密容器24の内部空間は、透明絶縁材料より成る略格子状のバリアリブ42を介して仕切られている。このバリアリブ42は、背面基板20内面に対して垂直な方向に延び、前面基板12の隣接する第１の電極14間を区切る第１の隔壁42ａ及び背面基板20の隣接する第２の電極22間を区切る第２の隔壁42ｂとを備えており、第１の電極14と第２の電極22との交差部分毎に、上記第１の隔壁42ａ及び第２の隔壁42ｂに囲繞された放電セル32が形成される。
【００２９】
また、背面基板20内面と垂直方向である各放電セル32を囲繞する第１の隔壁42ａ及び第２の隔壁42ｂの表面に、所定の発光色を備えた蛍光体34が被着されている。この第３のプラズマディスプレイパネル40も、従来の上記したプラズマディスプレイパネル70とは異なり、背面基板20の保護層18表面には蛍光体34を被着していない。このため、背面基板20内面と平行する方向には、蛍光体34が配置されないこととなる。
【００３０】
上記第１の電極14及び第２の電極22が不透明材料で構成されている場合には、各放電セル32内に占める第１の電極14及び第２の電極22の面積Ｘ（図１１参照）の占有率が、放電セル32の開口面積Ｕの５０％以下と成される。すなわち、第１の電極14及び第２の電極22の占有率（％）は、Ｘ÷Ｕ×１００で算出される。
例えば、放電セル32の一辺の長さａが０．５mm、他辺の長さｂが０．５mm、第１の電極14の幅Ｎ（図９参照）及び第２の電極22の幅が０．０８mmの場合、放電セル32の開口面積Ｕは、０．５mm（ａ）×０．５mm（ｂ）＝０．２５mm2である。
また、放電セル32内に占める第１の電極14及び第２の電極22の面積Ｘは、［０．０８×０．５（第１の電極14の面積）］＋［０．０８×０．５（第２の電極22の面積）］−［０．０８×０．０８（両電極14，22の重なっている部分の面積）］＝０．０７３６mm2である。
この結果、第１の電極14及び第２の電極22の占有率は、０．０７３６mm2（Ｘ）÷０．２５mm2（Ｕ）×１００で２９．４４％である。
【００３１】
尚、上記第１の電極14及び第２の電極22が、ＮＥＳＡ膜（ＳｎＯ２）、ＩＴＯ膜（Ｉｎ２Ｏ３・ＳｎＯ２）等の透明材料で構成されている場合には、放電セル32内に占める第１の電極14及び第２の電極22の面積Ｘの占有率を、放電セル32の開口面積Ｕの５０％以下に制限する必要はない。
【００３２】
上記第３のプラズマディスプレイパネル40にあっては、図示しない電源より、第１の電極14及び第２の電極22間に交流電圧を印加すると、放電セル32内で放電が生成し、斯かる放電によって放電ガスから紫外線が放射される。この紫外線が、放電セル32を囲繞する第１の隔壁42ａ及び第２の隔壁42ｂの表面に被着された蛍光体34を励起し、所定の発光色を有する可視光が前面基板12から外部へ放射される。この電圧印加を、図示しない駆動・制御回路を介して選択的に実行することにより、所望の放電セル32内において放電発光を生成させ、表示面である前面基板12上に任意の文字や図形等を表示することができるのである。
【００３３】
本発明の第３のプラズマディスプレイパネル40にあっては、前面基板12、背面基板20、誘電体層16、保護層18、バリアリブ42が透明であると共に、不透明な蛍光体34は、背面基板20内面と垂直方向であるバリアリブ42の第１の隔壁42ａ及び第２の隔壁42ｂの表面に被着した結果、蛍光体34は背面基板20内面と垂直な方向に配置されることとなり、背面基板20内面と平行する方向には蛍光体34が配置されていない。
また、第１の電極14及び第２の電極22が不透明な場合には、各放電セル32内に占める第１の電極14及び第２の電極22の面積の占有率を５０％以下と成している。
この結果、蛍光体34として粒径が２〜４μｍ程度の一般的なものを用いた場合であっても、表示面である前面基板12側から視認した際に、背後が十分に透けて見えるシースルータイプのプラズマディスプレイパネル10と成すことができる。
【００３４】
図１２は、第４のプラズマディスプレイパネル43を示すものであり、この第４のプラズマディスプレイパネル43は、第３のプラズマディスプレイパネル40の背面基板20の外面20ｂに反射層37を形成し、非スケルトンタイプと成した点に特徴を有するものである。
而して、この第４のプラズマディスプレイパネル43にあっては、背面基板20を透過した可視光を、上記反射層37で反射させて表示面である前面基板12側へ導くことができるため、輝度向上を図ることができる。
【００３５】
上記においては、交流（ＡＣ）駆動型のプラズマディスプレイパネルを例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、陰極及び陽極が放電セル内に露出して形成される直流（ＤＣ）駆動型のプラズマディスプレイパネルについても適用可能である。
【００３６】
以下において、上記第１のプラズマディスプレイパネル10の製造方法について説明する。
先ず、複数の前面基板12及び背面基板20の元となる１枚の大きな平板ガラス等の透明絶縁基板（図示省略）を準備し、該透明絶縁基板の表面に、厚膜印刷等の方法を用いて、複数の帯状の電極を所定ピッチで並設する。次に、スクリーン印刷等の方法を用いて、上記透明絶縁基板及び電極の表面に、誘電体層を形成することにより、透明絶縁基板表面及び電極を誘電体層で被覆する。
次に、電極及び誘電体層の形成された透明絶縁基板を所定寸法でカットすることにより、複数の上記前面基板12及び背面基板20を取り出す。その後、前面基板12の周縁に封着材を塗布すると共に、蒸着等の方法を用いて、前面基板12の誘電体層16上に保護膜18を形成する。また、背面基板20の誘電体層16上にも保護膜18を形成する。
【００３７】
一方、上記金属バリアリブ30は、図１３に示すように、多数の貫通孔46が形成された有孔金属板48を用い、表面に絶縁被膜が形成された当該有孔金属板48を前面基板12及び背面基板20間に介在させることにより形成される。尚、図１３の有孔金属板48は、貫通孔46が略正方形状と成されているが、これに限定されず、略長方形状等の適宜な形状とすることができる。
上記有孔金属板48の貫通孔46が、上記放電セル32を構成することとなり、また、各貫通孔46を囲繞する有孔金属板48の内壁が、上記第１の隔壁30ａ及び第２の隔壁30ｂを構成することとなる。従って、有孔金属板48の貫通孔46の幅が、上記放電セル32の一辺の長さａ、他辺の長さｂを構成し、貫通孔46を囲繞する有孔金属板48の内壁の幅が、上記第１の隔壁30ａの幅Ｍ及び第２の隔壁30ｂの幅を構成することとなる。
上記有孔金属板48は、金属板の表面における、貫通孔46形成箇所以外の領域にマスクを形成した後、エッチング処理を施して貫通孔46を形成することにより製造される。
この際、第１の電極14及び第２の電極22が透明材料で構成される場合には、各放電セル32の開口率が２５％〜９５％となるように、また、第１の電極14及び第２の電極22が不透明材料で構成される場合には、各放電セル32の開口率が５０％〜９５％、且つ、各放電セル32内に占める第１の電極14及び第２の電極22の面積の占有率が５０％以下となるように、エッチング処理で形成する貫通孔46の寸法が設定される。
製造された有孔金属板48の表面に絶縁被膜28を形成した後、各貫通孔46を囲繞する有孔金属板48の内壁表面に蛍光体34を塗布する。この場合、有孔金属板48を、蛍光体34が分散された樹脂液中に浸漬した後、有孔金属板48の表面及び裏面の蛍光体34を削り取る等して除去することにより、有孔金属板48の内壁表面に蛍光体34を容易に被着することができる。
【００３８】
次に、前面基板12と背面基板20とを、第１の電極14と第２の電極22とが所定の間隙を隔てて略直交状態で交差するように対向配置すると共に、前面基板12及び背面基板20間に上記有孔金属板48を介在させた状態で、両基板12，20周縁を封着材によって封止して気密容器24を形成する。この際、上記第１の電極14と第２の電極22との交差部分が、有孔金属板48の貫通孔46内に配置されるように位置決めされる。
その後、気密容器24の適宜箇所に形成した貫通孔（図示省略）に、図示しない排気管を接続して気密容器24内を真空排気した後、気密容器24内に放電ガスを封入し、最後に排気管を加熱溶融させて封じ切ることにより、シースルータイプの上記第１のプラズマディスプレイパネル10が完成する。
【００３９】
また、シースルータイプの第１のプラズマディスプレイパネル10の完成後に、背面基板20の外面20ｂに、アルミニウムや銀等の光反射率の高い金属を蒸着する等して上記反射層37を形成すれば、非シースルータイプの上記第２のプラズマディスプレイパネル35が完成する。
【００４０】
上記第３のプラズマディスプレイパネル40を製造する場合には、多数の貫通孔が形成されたガラス等の有孔透明絶縁板（図示せず）を用い、この有孔透明絶縁板を前面基板12及び背面基板20間に介在させて、上記バリアリブ42を形成する。
この有孔透明絶縁板の貫通孔が、上記放電セル32を構成することとなり、また、各貫通孔を囲繞する有孔透明絶縁板の内壁が、上記第１の隔壁42ａ及び第２の隔壁42ｂを構成することとなる。従って、有孔透明絶縁板の貫通孔の幅が、上記放電セル32の一辺の長さａ、他辺の長さｂを構成する。
上記有孔透明絶縁板は、透明絶縁板の表面における、貫通孔形成箇所以外の領域にマスクを形成した後、エッチング処理を施して貫通孔を形成することにより製造される。
有孔透明絶縁板の製造後、各貫通孔を囲繞する有孔透明絶縁板の内壁表面には、蛍光体34が塗布される。
【００４１】
次に、前面基板12と背面基板20とを、第１の電極14と第２の電極22とが所定の間隙を隔てて略直交状態で交差するように対向配置すると共に、前面基板12及び背面基板20間に上記有孔透明絶縁板を介在させた状態で、両基板12，20周縁を封着材によって封止して気密容器24を形成する。この際、上記第１の電極14と第２の電極22との交差部分が、有孔透明絶縁板の貫通孔内に配置されるように位置決めされる。
その後、気密容器24の適宜箇所に形成した貫通孔（図示省略）に、図示しない排気管を接続して気密容器24内を真空排気した後、気密容器24内に放電ガスを封入し、最後に排気管を加熱溶融させて封じ切れば、シースルータイプの上記第３のプラズマディスプレイパネル40が完成する。
シースルータイプの第３のプラズマディスプレイパネル40の完成後に、背面基板20の外面に、アルミニウムや銀等の光反射率の高い金属を蒸着する等して上記反射層37を形成すれば、非シースルータイプの上記第４のプラズマディスプレイパネル43が完成することとなる。
【００４２】
上記の通り、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法にあっては、シースルータイプの第１のプラズマディスプレイパネル10、第３のプラズマディスプレイパネル40の製造後において、背面基板20の外面20ａに反射層37を形成する工程を付加するだけで、高輝度な非シースルータイプの第２のプラズマディスプレイパネル35、第４のプラズマディスプレイパネル43を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】第１のプラズマディスプレイパネルを模式的に示す要部断面図である。
【図２】図１のＢ−Ｂ要部断面図である。
【図３】第１のプラズマディスプレイパネルを模式的に示す要部拡大断面図である。
【図４】第１のプラズマディスプレイパネルにおいて、電極が透明材料で構成されている場合の放電セルを模式的に示す拡大平面図である。
【図５】第１のプラズマディスプレイパネルにおいて、電極が不透明材料で構成されている場合の放電セルを模式的に示す拡大平面図である。
【図６】第２のプラズマディスプレイパネルを模式的に示す要部断面図である。
【図７】第３のプラズマディスプレイパネルを模式的に示す要部断面図である。
【図８】図７のＣ−Ｃ要部断面図である。
【図９】第３のプラズマディスプレイパネルを模式的に示す要部拡大断面図である。
【図１０】第３のプラズマディスプレイパネルにおいて、電極が透明材料で構成されている場合の放電セルを模式的に示す拡大平面図である。
【図１１】第３のプラズマディスプレイパネルにおいて、電極が不透明材料で構成されている場合の放電セルを模式的に示す拡大平面図である。
【図１２】第４のプラズマディスプレイパネルを模式的に示す要部断面図である。
【図１３】金属バリアリブの元となる有孔金属板の一例を示す平面図である。
【図１４】従来のプラズマディスプレイパネルを模式的に示す要部断面図である。
【図１５】図１４のＡ−Ａ要部断面図である。
【符号の説明】
【００４４】
10    第１のプラズマディスプレイパネル
12    前面基板
14    第１の電極
16    誘電体層
18    保護層
20    背面基板
22    第２の電極
24    気密容器
30    金属バリアリブ
30ａ  第１の隔壁
30ｂ  第２の隔壁
32    放電セル
34    蛍光体
35    第２のプラズマディスプレイパネル
37    反射層
40    第３のプラズマディスプレイパネル
42    バリアリブ
42ａ  第１の隔壁
42ｂ  第２の隔壁
43    第４のプラズマディスプレイパネル
46    貫通孔
48    有孔金属板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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