(57)【要約】【課題】  可視光域全域にわたって高反射率を示し、リアプロジェクション映像表示装置の背面ミラーとして使用できる大面積の表面鏡を提供する。【解決手段】  ガラス基板の表面に、銀膜／アルミニウム膜／増反射膜がこの順にスパッタリング法で形成されており、該アルミニウム膜の厚みが１ｎｍ〜５ｎｍであることを特徴とする表面鏡である。増反射膜は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚの中から選ばれる低屈折率膜とＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚの中から選ばれる高屈折率膜とを交互に２〜５層積層したものであり、アルミニウム膜の直上には低屈折率膜が形成されてなる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リアプロジェクション映像表示装置に用いる表面鏡であって、ガラス基板の表面に、銀膜／アルミニウム膜／増反射膜がこの順にスパッタリング法で形成されており、該アルミニウム膜の厚みが１ｎｍ〜５ｎｍであることを特徴とする表面鏡。
【請求項２】
増反射膜が、低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に２〜５層積層したものであり、アルミニウム膜の直上には低屈折率膜が形成されてなることを特徴とする請求項１に記載の表面鏡。
【請求項３】
低屈折率膜が、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚの中から選ばれる１種以上で構成される膜であり、該低屈折率膜の上に積膜される高屈折率膜が、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚの中から選ばれる１種以上で構成される膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の表面鏡。
【請求項４】
膜とガラス基板との間に、密着層としてＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｓｉ３Ｎ４、Ａｌ、Ｃｒ、Ａｌ２Ｏ３から選ばれる一種以上の膜が形成されてなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の表面鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大面積薄型ＴＶの１つであるリアプロジェクション映像表示装置に用いる背面ミラーに関し、特に、スパッタリング法で基板上に作製される、銀膜と増反射膜でなる表面鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
リアプロジェクション映像表示装置は大面積（大画像）ＴＶの１つとして注目を集めている。近年の大面積ＴＶでは、設置場所の自由度を増すため、あるいはデザイン的な側面から、奥行きの小さい薄型タイプに移行しつつある。
【０００３】
リアプロジェクション映像表示装置は、ＣＲＴや液晶プロジェクターなどで作り出した映像をスクリーンに投射するもので、映像は背面ミラーと呼ばれる表面鏡で折り返して反射させ、装置の奥行きを短くしている。
【０００４】
この、リアプロジェクション映像表示装置の背面ミラーに表面鏡が用いら、表面鏡の光反射層は、反射率の高い金属膜と、金属膜の保護層と増反射とを目的とする透明な無機物の膜で構成することが多い。
【０００５】
表面鏡の多くはガラス板を基板としており、その上に形成する金属反射層には蒸着法やスパッタ法などの真空法で成膜したアルミニウム膜や、これらの成膜法に加えて銀鏡反応などの湿式法で成膜した銀膜が用いられる。
【０００６】
このうち、アルミニウム膜を金属反射層とする表面鏡として、たとえば特許文献１にはアルミニウム膜の上にＭｇＦ２層とＡｌ２Ｏ３層の２層でなる増反射膜を形成した反射鏡が記載されている。また、特許文献２には、少なくともガラス基板の一方の表面を研磨して平滑にし、この研磨した平滑面上にＡｌ、ＭｇＦ２、ＴｉＯ２を順次積層する手法が述べられている。
【０００７】
上記特許文献１や２で開示されたアルミニウムを金属反射層とした表面鏡では、可視光域の長波長側（波長６００〜７８０ｎｍ）の反射率が低いといったアルミニウム金属自体の特性から、赤色に対する反射率が低いという問題がある。
【０００８】
これを解決するために銀を金属反射層とする表面鏡も開発されている。
【０００９】
たとえば特許文献３では無電解Ｎｉメッキ上に蒸着した銀膜上にＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＹＦ３、ＳｉＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯを形成したものが、また特許文献４には基板上の少なくとも一面に、酸化アルミニウム層、銀層、フッ化マグネシウム層、およびチタンとランタンとの複合酸化物層が順次積層されたものが、開示されている。
【００１０】
特許文献３に開示されている、銀膜上にＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＹＦ３、ＳｉＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯを形成した表面鏡を作製する場合、大面積に均一に成膜できるスパッタリング法で銀上に酸化物膜を積層するときに、雰囲気中の酸素プラズマの影響によって銀膜が著しくダメージを受けて酸化し、反射率が激減して高反射率の表面鏡が得られず、高反射率の表面鏡を作製するためには、酸素プラズマを必要としない成膜方法、つまり蒸着法などでの成膜に限定される。
【００１１】
特許文献４の、銀膜上にイオンビームアシスト法でフッ化マグネシウム層、およびチタンとランタンとの複合酸化物層を順次積層する表面鏡は、イオンビームアシスト法が、原料に電子銃から発生させた電子ビームを照射し、原料を加熱・蒸発して基板に膜を堆積させる、蒸着法の一種で製作されるものである。
【００１２】
蒸着法は原料の蒸発源が点源となるため、大面積への均一な膜厚の制御が難しい。特に表面鏡の金属反射層上に成膜する酸化物膜は、薄膜による光の干渉を利用した増反射機能を持つことが重要であり、このため薄膜の膜厚を精度良くコントロールする必要がある。
【００１３】
リアプロジェクション映像表示装置の背面ミラー用表面鏡は、大きさが１ｍ×１．５ｍを超える大きなものが要求され、上述した理由から、特許文献３や４に開示されている表面鏡を、リアプロジェクションテレビの表面鏡として用いることは困難である。
【特許文献１】特開平４−３４０９０５号公報
【特許文献２】特開２００１−２３５７９８号公報
【特許文献３】特開平７−１６８００８号公報
【特許文献４】特開２００４−３４７６５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、反射率が可視光域全域に渡って高く、しかもリアプロジェクション映像表示装置の背面ミラーとして使用できる大面積の表面鏡を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の表面鏡は、リアプロジェクション映像表示装置に用いる表面鏡であって、ガラス基板の表面に、銀膜／アルミニウム膜／増反射膜がこの順にスパッタリング法で形成されており、該アルミニウム膜の厚みが１ｎｍ〜５ｎｍであることを特徴とする表面鏡である。
【００１６】
また、本発明の表面鏡は、前記表面鏡において、増反射膜が、低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に２〜５層積層したものであり、アルミニウム膜の直上には低屈折率膜が形成されてなることを特徴とする表面鏡である。
【００１７】
また、本発明の表面鏡は、前記表面鏡において、低屈折率膜が、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚの中から選ばれる１種以上で構成される膜であり、該低屈折率膜の上に積膜される高屈折率膜が、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚの中から選ばれる１種以上で構成される膜であることを特徴とする表面鏡である。
【００１８】
また、本発明の表面鏡は、前記表面鏡において、銀膜とガラス基板との間に、密着層としてＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｓｉ３Ｎ４、Ａｌ、Ｃｒ、Ａｌ２Ｏ３から選ばれる一種以上の膜が形成されてなることを特徴とする表面鏡である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の表面鏡は、リアプロジェクション映像表示装置の背面ミラー用として用いられる、大面積の高反射率反射鏡を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の表面鏡は、リアプロジェクション映像表示装置の背面ミラー用として用いられ、表面鏡の成膜法は、大面積の基板に均一な厚みで成膜が可能なスパッタリング法であり、金属反射層である銀膜と、銀膜上の酸化物を含む増反射層との間に厚さ１〜５ｎｍのアルミニウム膜を積層することを特徴とする。
【００２１】
図１にこの表面鏡の構成の１形態を示す。
【００２２】
ガラス基板３には、平滑性が良く、ある程度の剛性をもって歪みにくい部材として、比較的低コストで得られる、表面の平滑性が良いフロート法によるソーダライムガラスの使用が簡便である。
【００２３】
また、表面鏡の表面に凹凸があると、これが濃淡状のスジとなってスクリーンに投写されて不具合となるため、ガラス表面を研磨してウネリを取り除いた研磨品をガラス基板３に用いることが好ましい。
【００２４】
また、ガラスが自重により歪むとスクリーンに投写された映像も歪むために、ヤング率が高いガラス、たとえば高歪点ガラスをガラス基板３として使用できる。
【００２５】
ガラス基板３の厚さであるが、厚いガラスの方が薄いガラスよりも、使用する際、自重による歪みが小さく、結果として像が歪まないが、厚くすると、リアプロジェクション映像表示装置自体の重量が重くなるという問題があり、また、リアプロジェクション映像表示装置の組み立て時のハンドリングが難しくなり、さらに、表面鏡の成膜時において搬送系の構造材への負担が増すといった問題があるために、通常は２〜４ｍｍの厚さであることが望ましい。
【００２６】
このガラス基板３への光反射層の形成であるが、大きな面積の基板に成膜可能であり、膜厚の制御に優れ、かつ安定して長時間成膜が可能なスパッタリング法が良い。
【００２７】
スパッタリング法以外の成膜法として、蒸着法、イオンプレーティング法があるが、これらの方法では原料を点源から蒸発させるために、原料の蒸発がコサイン則に従って膜厚に分布が生じ（ルツボの直上部近傍が最も厚くなる）、膜厚が均一となる部分が少ない。また、均一な分布を得るためには膜厚補正板を取りつけて対策することも可能であるが、成膜速度が遅い部分に成膜レートをあわせるために原料の基板への付着効率が悪く、したがって大面積の基板への成膜法としては最適ではない。
【００２８】
光を反射させる金属反射層としては、アルミニウム膜および銀膜が一般的である。アルミニウム膜は安価であり化学的耐久性も比較的良いことから使いやすい原料であるが、波長５５０ｎｍ以上ではその反射率が波長の増加とともに減少し、可視光域の最長端である波長７８０ｎｍでの反射率は８０％程度まで減少するために、波長の長い赤色の反射率が低いという問題がある。
【００２９】
光を反射させる金属反射層として銀膜を用いると、アルミニウムのような波長の増加に対する反射率の減少はなく、可視光域全般に渡って均一な高い反射率を維持でき、反射特性に優れた表面鏡になる。
【００３０】
銀膜５の膜厚は、１４０ｎｍ未満では光が透過して高反射率の表面鏡が得られず、１４０ｎｍ以上の厚さであることが望ましい。また、銀膜５は、厚すぎても反射特性はあまり向上せず、コストメリットの点から膜厚は２００ｎｍ以下であることが望ましい。
【００３１】
従って、銀膜５の厚みは、１４０〜２００ｎｍの範囲であることが望ましく、製造のしやすさから、銀膜５の厚みは、１６０ｎｍとすることが好ましい。
【００３２】
銀膜５は化学的耐久性が十分でないため、銀膜の上に保護層を形成することが好ましい。表面鏡の反射特性を向上させる観点から、この保護層に増反射機能を併せて持たせた増反射膜２を用いることが望ましい。増反射膜２としては、屈折率の異なる膜を積層したものを用いることが望ましい。
【００３３】
増反射膜２として、アルミニウム膜の直上に低屈折率膜７を形成し、低屈折率膜７と高屈折率膜８とを交互に２〜５層積層したものを用いることができる。
【００３４】
ここで、低屈折率膜とは、増反射膜２として積層される屈折率の異なる膜の中で、隣接して積層される膜に対して、屈折率が小さい膜をいい、高屈折率膜とは、増反射膜２として積層される屈折率の異なる膜の中で、隣接して積層される膜に対して、屈折率が大きい膜をいう。
【００３５】
図１は、増反射膜２が低屈折率膜７と高屈折率膜８の２層でなる場合である。
【００３６】
低屈折率層７としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚなどを用いることができる。この中ではＳｉＯ２が最も屈折率が低く、最も反射率が高い表面鏡となる。ＳｉＯＮやＳｉＯＣＮを屈折率の低い膜として用いるためには、ＮやＣの含有量がＯに対して３０原子％以下にすることが重要である。
【００３７】
高屈折率層８としては、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚが挙げられる。このうち屈折率が高いＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５を用いると、反射率が高く反射特性の良い表面鏡となる。ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＣｙＮｚを用いるときには、屈折率の高い膜にするためにＮやＣの含有量がＯに対して８０原子％以上にすることが重要である。
【００３８】
ＳｉＯｘを高屈折率膜として用いるときにはｘ＝１近傍の組成が良いが、可視光域短波長側に吸収があるために、表面鏡がわずかに褐色になるという欠点がある。
【００３９】
厚さ１６０ｎｍの銀膜５を金属反射層として、その上の増反射膜を考える場合、例えば低屈折率膜をＳｉＯ２、高屈折率膜をＴｉＯ２とした際には、それぞれの膜厚を５５ｎｍ、４０ｎｍとすることが望ましい。
【００４０】
銀膜５上にスパッタリング法で増反射膜２を積層する場合、酸素ガスを含んだガスを導入した酸化雰囲気中では、プラズマ中で活性化、イオン化した酸素ガスの影響で、銀膜５が酸化されて著しく劣化し、表面鏡の反射率が著しく低下する。
【００４１】
たとえばＳｉＯ２膜を積層する際、通常Ｓｉをターゲットとして酸素ガス含有雰囲気中でＳｉとＯを反応させるＤＣスパッタリング法でＳｉＯ２を形成するが、厚さ１６０ｎｍの銀膜５上にこの方法でＳｉＯ２を積層すると、銀膜５が酸化されて波長７８０ｎｍで約６０％という大きな光の透過が生じる。
【００４２】
本発明の反射鏡は、銀膜５の上に厚さ１ｎｍ〜５ｎｍの極めて薄いアルミニウム膜６を積層したもので、アルミニウム膜６は、前述の、増反射膜２を形成する時の銀膜５の酸化による劣化を防止するものである。
【００４３】
銀膜５の上にアルミニウム膜６を積層することにより、増反射膜２を積層するときに、プラズマ中に酸素ガスを含んだガスを導入しても、アルミニウム膜６の表面が酸化するのみで銀膜５が酸化して劣化することはない。
【００４４】
該アルミニウム膜６の厚さが１ｎｍ未満の場合には、アルミニウム膜６を膜状に形成するのが難しく、また、酸素プラズマに対する銀膜５の劣化を防止する効果が無いので、銀膜５は劣化してしまう。
【００４５】
アルミニウム膜６の厚さが５ｎｍを超えると、アルミニウム膜６による光の反射の影響により、可視光域の長波長側の反射がアルミニウム膜６の膜厚とともに減少してしまい、可視光域全体に渡って均一な高反射特性が得られない。
【００４６】
したがって、銀膜５上に成膜するアルミニウム膜６の厚さは、１ｎｍ〜５ｎｍとすることが好ましく、より好ましくは２ｎｍ〜４ｎｍである。
【００４７】
また、耐久性が必要とされる表面鏡では、銀膜５とガラス基板３との密着性が良好である必要がある。このために銀膜５とガラス基板３との界面に、密着層４としてＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｓｉ３Ｎ４、Ａｌ、Ｃｒ、Ａｌ２Ｏ３膜のいずれかを形成することで、銀膜５とガラス基板３との密着強度を改善できる。
【００４８】
なお、この密着層４の光学特性は表面鏡の反射特性に関与しないため、密着層４を構成する膜の吸収、屈折率等の光学特性が問題となることはなく、どのような光学特性の膜でもよい。
【００４９】
密着層４の厚さは５ｎｍ未満であると十分にその機能は発現せず、密着層４の厚さは５ｎｍ以上であることが好ましい。また、ガラス基板３にソーダライムガラスを用いた場合では、ガラス基板３からＮａイオンが銀膜５に拡散することを防止するために、密着層４の厚さが３０ｎｍ以上あった方がより好ましい。
【００５０】
また、密着層４の膜厚は厚くても問題ないが、コストメリットを考えると１００ｎｍ以下であることが望ましい。
【実施例１】
【００５１】
次に実際にスパッタリング法で表面鏡を成膜する手順について説明する。
【００５２】
実施例１
図７に示すスパッタリング成膜装置１０を用いた。このスパッタリング成膜装置は、基板の搬送をインターバック方式で行うものである。
【００５３】
スパッタリング成膜装置１０の真空チャンバー１２内に、スパッタリングターゲット１３として、Ｓｉターゲット１４、Ａｇターゲット１５、Ａｌターゲット１６およびＴｉターゲット１７を取りつけ、ドライポンプ１８およびターボ分子ポンプ１９を用いて真空チャンバー１２内を排気した。
【００５４】
１．５×１．５ｍ角に切断した厚さ３ｍｍのソーダライムガラスを基板２０として用いた。
【００５５】
基板２０を洗浄・乾燥し、スパッタリング成膜装置１０の基板搬入トレイ２１に載せた。この基板２０をロードロック室２２に搬入して真空引きし、その後、ゲートバルブ２３を開いて基板２０を真空チャンバー１２内に搬送した。
【００５６】
真空計２４を用いて、真空チャンバー１２内の到達真空度が２×１０−４Ｐａ以下であることを確認した。真空チャンバー１２内にアルゴンおよび酸素ガス２５を流し、所定の圧力になるようにガス流量を調整した。Ｓｉターゲット１４にＤＣ電源２６を用いて電力を投入してプラズマを発生させてＳｉターゲット１４をスパッタし、基板２０を所定の速度で通過させ、基板２０上にＳｉＯ２膜を形成した。
【００５７】
次いで雰囲気ガスをアルゴンのみにし、Ａｇターゲット１５に直流マグネトロンスパッタ法で電圧を印加し、Ａｇターゲット１５上に基板２０を通過させてＡｇ膜を積層した。この後、Ａｌターゲット１６に電圧を印加し、基板２０を通過させて極薄いアルミニウム膜を積層した。さらに、雰囲気をアルゴンおよび酸素混合ガスに戻し、同様にＳｉターゲット１４をスパッタしてＳｉＯ２膜を積層した。最後にＴｉタ−ゲット１７をスパッタして、ＴｉＯ２膜を積層した。各膜の成膜条件は表１に示すようにした。
【００５８】
その後、成膜したガラス基板３をロードロック室２１に戻し、大気開放して取り出した。
【００５９】
【表１】
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【００６０】
このようにして、ソーダライムガラスでなる基板２０に、厚み５０ｎｍのＳｉＯ２膜、厚み１６０ｎｍのＡｇ膜、厚み２ｎｍのアルミニウム膜、厚み５５ｎｍのＳｉＯ２および厚み４０ｎｍのＴｉＯ２膜を順次成膜した表面鏡を作製した。
【００６１】
この表面鏡の膜面側の４５°入射光に対する反射率を図２に示す。波長５５０ｎｍでの反射率は９８％を超え、著しく反射率が高かった。また、波長４００ｎｍから７００ｎｍまでの可視光域の広い範囲で反射率は９６％を超え、均一な高反射率の表面鏡であった。
【００６２】
この表面鏡を、５０℃、９５％ＲＨに保った恒温恒湿槽中で２４ｈ放置する耐湿試験を行ったが、外観は変化せず、十分な耐湿性を示した。
【００６３】
実施例２
実施例１と同じスパッタリング成膜装置１と基板とを用いて表面鏡を作製した。
【００６４】
基板２０上に、ガラス側からＣｒを３０ｎｍ、Ａｇ膜を１６０ｎｍ、アルミニウム膜を３ｎｍ、ＳｉＯ２膜を５５ｎｍ、Ｎｂ２Ｏ５膜を４０ｎｍ積層し、表面鏡とした。
【００６５】
膜面側の４５°入射光に対する反射特性は図３に示すようになり、波長５５０ｎｍでの反射率は９７％で、波長４００ｎｍから７００ｎｍまでの可視光域で反射率は９４％を超え、可視域で均一な高反射特性の表面鏡であった。
【００６６】
また、この表面鏡を実施例１と同じ耐湿試験を行ったところ、十分な耐湿性であった。
【００６７】
比較例１
実施例１と同じスパッタリング成膜装置１で、ソーダライムガラス基板２０上にガラス側からＳｉＯ２を５０ｎｍ、Ａｌを１６０ｎｍ、ＳｉＯ２を５５ｎｍ、ＴｉＯ２を４０ｎｍ、順次成膜した。この膜つきガラスの膜面側の４５°入射での反射特性を図４に示すが、波長５５０ｎｍでの反射率は９０％程度で、波長６００ｎｍ以上の可視光域長波長側では反射は低く（７００ｎｍでの反射率は７５％にとどまる）、可視光域でフラットな特性とは言えない反射特性であった。
【００６８】
比較例２
実施例１の膜構成に対してアルミニウム膜のみを成膜せず、他の膜は同じ構成になるような反射鏡を作製した。
【００６９】
ソーダライムガラス基板２０に順次、ＳｉＯ２膜を５０ｎｍ、Ａｇ膜を１６０ｎｍ、ＳｉＯ２膜を８５ｎｍ、ＴｉＯ２膜を４５ｎｍ積層したものであったが、成膜装置から取り出したサンプルは赤褐色を呈しており、４５度入射光に対して図５に示すような反射特性となり、可視光域の反射率は２０％程度で、高反射率の表面鏡が得られなかった。
【００７０】
比較例３
実施例１と同じスパッタリング成膜装置１で、ソーダライムガラス基板２０上に、ＳｉＯ２膜を５０ｎｍ、Ａｇ膜を１６０ｎｍ、アルミニウム膜を１０ｎｍ、ＳｉＯ２膜を８５ｎｍ、ＴｉＯ２膜を４５ｎｍ積層し、表面鏡とした。
【００７１】
本比較例の膜面側の４５°入射光に対する反射特性は図６に示す様になり、波長５５０ｎｍでの反射率は９０％程度で、波長６００ｎｍ以上の可視光域長波長側では反射は低く、波長７００ｎｍでの反射率は７５％であり、可視光域で均一な光反射率の表面鏡が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の表面鏡の構成の１形態を示す。
【図２】実施例１で示した表面鏡の可視光域の４５度入射光に対する分光反射特性を示す。
【図３】実施例２で示した表面鏡の可視光域の４５度入射光に対する分光反射特性を示す。
【図４】比較例１で示した積層膜の可視光域の４５度入射光に対する分光反射特性を示す。
【図５】比較例２で示した積層膜の可視光域の４５度入射光に対する分光反射特性を示す。
【図６】比較例３で示した積層膜の可視光域の４５度入射光に対する分光反射特性を示す。
【図７】実施例で用いたスパッタリング装置の概略図である。
【符号の説明】
【００７３】
１  表面鏡
２  増反射層
３  ガラス基板
４  密着層
５  銀膜
６  アルミニウム膜
７  低屈折率膜
８  高屈折率膜
１０  インターバック方式のスパッタリング成膜装置
１２  真空チャンバー
１３  スパッタリングターゲット
１４  Ｓｉターゲット
１５  Ａｇターゲット
１６  Ａｌターゲット
１７  Ｔｉターゲット
１８  ドライポンプ
１９  ターボ分子ポンプ
２０  ソーダライムガラス基板
２１  基板搬送トレイ
２２  ロードロック室
２３  ゲートバルブ
２４  真空計
２５  アルゴンおよび酸素ガス
２６  ＤＣ電源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2006317603.tif 000007
【図５】
2006317603.tif 000008
【図６】
2006317603.tif 000009
【図７】
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