(57)【要約】  【課題】蛍光体パネルの製造において、表面研磨によって蛍光体層の微少突起部を好適に除去することができ、これに起因する欠陥等の画質劣化の無い蛍光体パネルを製造することができ、さらに、非常に良好な効率で確実に微少突起部を除去でき、あるいは、表面研磨に起因する画質劣化も防止できる蛍光体パネルの製造方法を提供することにある。  【解決手段】第１の態様においては、蛍光体層の膜厚分布を知見し、蛍光体層の膜厚分布の小さい方向と押圧部材の延在方向とを一致させて、押圧部材で研磨部材を押圧しつつ、研磨方向に蛍光体層と研磨部材とを相対的に移動することにより、また、第２の態様においては、蛍光体層と研磨部材との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍ、好ましくは１００μｍ〜３００μｍとした研磨を、蛍光体層の研磨位置を変更しつつ繰り返し行うことにより、蛍光体層の表面を研磨することにより、前記課題を解決する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空成膜法によって蛍光体層を形成した後、
前記蛍光体層の膜厚分布を知見し、一次元方向に延在する押圧部材を用い、前記蛍光体層の膜厚分布の小さい方向と前記押圧部材の延在方向とを一致させて、前記押圧部材で研磨部材を押圧しつつ、前記押圧部材の延在方向と直行する方向に蛍光体層と研磨部材とを相対的に移動することによって、前記蛍光体層の表面を研磨することを特徴とする蛍光体パネルの製造方法。
【請求項２】
前記蛍光体層の表面研磨を行った後、防湿保護層によって前記蛍光体層を封止する請求項１に記載の蛍光体パネルの製造方法。
【請求項３】
前記蛍光体層を輝尽性蛍光体により形成することを特徴とする請求項１または２に記載の蛍光体パネルの製造方法。
【請求項４】
前記蛍光体層をＣｓＢｒ：Ｅｕにより形成することを特徴とする請求項１または２に記載の蛍光体パネルの製造方法。
【請求項５】
真空成膜法によって蛍光体層を形成した後、
蛍光体層と研磨部材との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍとした研磨を、蛍光体層の研磨位置を変更しつつ繰り返し行うことにより、前記蛍光体層の表面を研磨することを特徴とする蛍光体パネルの製造方法。
【請求項６】
前記蛍光体層の膜厚分布を知見し、一次元方向に延在する押圧部材を用い、前記蛍光体層の膜厚分布の小さい方向と前記押圧部材の延在方向とを一致させて、前記押圧部材で研磨部材を押圧しつつ、前記押圧部材の延在方向と直行する方向に蛍光体層と研磨部材とを相対的に移動することによって、前記相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍとした研磨を行う請求項５に記載の蛍光体パネルの製造方法。
【請求項７】
前記蛍光体層と研磨部材との相対移動距離を１００μｍ〜３００μｍとすることを特徴とする請求項５または６に記載の蛍光体パネルの製造方法。
【請求項８】
前記蛍光体層の表面を研磨した後、防湿保護層によって前記蛍光体層を封止する請求項５〜７のいずれかに記載の蛍光体パネルの製造方法。
【請求項９】
前記蛍光体層を輝尽性蛍光体により形成することを特徴とする請求項５〜８のいずれかに記載の蛍光体パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記蛍光体層をＣｓＢｒ：Ｅｕにより形成することを特徴とする請求項５〜８のいずれかに記載の蛍光体パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蛍光体パネルの製造方法の技術分野に属し、詳しくは、蛍光体層表面を研磨する工程を有する蛍光体パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線、紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、輝尽性蛍光体（蓄積性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この輝尽性蛍光体の膜（輝尽性蛍光体層  以下、蛍光体層とする）を有する輝尽性蛍光体パネル（以下、蛍光体パネルとする（放射線像変換シートとも呼ばれている））を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、富士写真フィルム社製のＦＣＲ（Fuji Computed Radiography)等として実用化されている。
このシステムでは、人体などの被写体を介してＸ線等を照射することにより、蛍光体パネル（蛍光体層）に被写体の放射線画像情報を記録する。記録後に、蛍光体パネルをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、ＣＲＴなどの表示装置や、写真感光材料などの記録材料等に、被写体の放射線画像として出力する。
【０００４】
蛍光体パネルは、通常、輝尽性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のパネル状の支持体に塗布し、乾燥することによって、作成される。
これに対し、真空蒸着やスパッタリング等の真空成膜法（気相成膜法）によって、支持体に蛍光体層を形成してなる蛍光体パネルも知られている。真空成膜法による蛍光体層は、真空中で形成されるので不純物が少なく、また、輝尽性蛍光体以外のバインダなどの成分が殆ど含まれないので、性能のバラツキが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特性を有している。
【０００５】
真空成膜法で蛍光体層を形成した蛍光体パネルの特性を劣化させる１つの要因として、蛍光体層表面に生じる微少の凹凸（微少突起部、Ｈｉｌｌｏｃｋ）が挙げられる。
蛍光体層、特に、良好な特性を有するアルカリハライド系の蛍光体層は、柱状結晶構造を有するが、この柱状結晶の成長過程において、柱状結晶が局所的に異常成長したり、隣接する柱状結晶が互いに融合したりすることによって、蛍光体層表面に微少突起部を生じる。この微少突起部は、放射線画像上で点欠陥として視認できるようになり、その結果、各種の診断や検査に支障を来すことになる。
【０００６】
また、さらに、蛍光体パネルの特性を劣化させる別の要因として、蛍光体層の吸湿が挙げられる。
蛍光体層、特に、良好な特性を有するアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層は、吸湿性が高く、通常（常温／常湿）の環境下であっても、容易に吸湿する。その結果、輝尽発光特性すなわち感度の低下や、輝尽性蛍光体の結晶性の低下（例えば、柱状構造をもつアルカリハライド系の輝尽性蛍光体であれば、結晶の柱状性の崩壊）による再生画像の鮮鋭性の低下等を生じてしまう。
このような不都合をなくすために、蛍光体パネルには、防湿性を有する透明シートを防湿保護層として用いて、この防湿保護層と基板との密閉した領域に蛍光体層を封止したものが知られている。
【０００７】
ここで、上述の蛍光体層表面に生じる微少突起部がある程度の高さを有すると、蛍光体層上に防湿保護層等の被膜を設ける際に、防湿保護層が微少突起部に引っかかり、防湿保護層がテントを張ったような状態になるため、前記製造される蛍光体パネルの欠陥領域の拡張を引き起こす。
【０００８】
上記のような問題を解決するために、蛍光体層表面を研磨することによって蛍光体層表面を均一にすることが知られている。
例えば、特許文献１に開示される蛍光体パネルであれば、蛍光体層の柱状結晶表面に連続膜を形成したり、柱状結晶表面に機械的処理をしたりして、蛍光体層表面に平坦化処理を施し、蛍光体層表面の表面粗さ、さらに、柱状結晶表面部の平坦さを規定することにより、膜厚分布の少ない蛍光体層を形成することが開示されている。
また、特許文献２に開示される蛍光体パネルであれば、研磨部材を、蛍光体層表面の研磨の基準面との間に所定の間隔をもって位置させた状態で、研磨部材と基板とを相対的に移動させることにより、蛍光体層の膜厚を均一化することが開示されている。
【０００９】
【特許文献１】特許第３３９８４０６号公報
【特許文献２】特開２００４‐７７２３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、これらに開示される従来の蛍光体層表面の研磨方法では、前述のような微少突起部を好適に取り除くことは出来ず、やはり、これに起因する画像の欠陥が生じてしまう。
また、研磨の方法によっては、蛍光体層の表面にキズを生じてしまい、このキズによって、逆に画質が低下してしまう可能性もある。
【００１１】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、蛍光体パネルの製造において、表面研磨によって蛍光体層の微少突起部を好適に除去することができ、これに起因する欠陥等の画質劣化の無い蛍光体パネルを製造することができ、さらに、非常に良好な効率で確実に微少突起部を除去でき、あるいは、表面研磨に起因する画質劣化も防止できる蛍光体パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明は、真空成膜法によって蛍光体層を形成した後、前記蛍光体層の膜厚分布を知見し、一次元方向に延在する押圧部材を用い、前記蛍光体層の膜厚分布の小さい方向と前記押圧部材の延在方向とを一致させて、前記押圧部材で研磨部材を押圧しつつ、前記押圧部材の延在方向と直行する方向に蛍光体層と研磨部材とを相対的に移動することによって、前記蛍光体層の表面を研磨することを特徴とする蛍光体パネルの製造方法を提供するものである。
【００１３】
本発明においては、前記蛍光体層の表面研磨を行った後、防湿保護層によって前記蛍光体層を封止するのが好ましい。
【００１４】
本発明においては、前記蛍光体層を輝尽性蛍光体により形成するのが好ましい。
【００１５】
本発明においては、前記蛍光体層をＣｓＢｒ：Ｅｕにより形成するのが好ましい。
【００１６】
上記目的を達成するために、本発明は、真空成膜法によって蛍光体層を形成した後、蛍光体層と研磨部材との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍとした研磨を、蛍光体層の研磨位置を変更しつつ繰り返し行うことにより、前記蛍光体層の表面を研磨することを特徴とする蛍光体パネルの製造方法を提供するものである。
【００１７】
本発明においては、前記蛍光体層の膜厚分布を知見し、一次元方向に延在する押圧部材を用い、前記蛍光体層の膜厚分布の小さい方向と前記押圧部材の延在方向とを一致させて、前記押圧部材で研磨部材を押圧しつつ、前記押圧部材の延在方向と直行する方向に蛍光体層と研磨部材とを相対的に移動することによって、前記相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍとした研磨を行うのが好ましい。
【００１８】
本発明においては、前記蛍光体層と研磨部材との相対移動距離を１００μｍ〜３００μｍとするのが好ましい。
【００１９】
本発明においては、前記蛍光体層の表面を研磨した後、防湿保護層によって前記蛍光体層を封止するのが好ましい。
【００２０】
本発明においては、前記蛍光体層を輝尽性蛍光体により形成するのが好ましい。
【００２１】
本発明においては、前記蛍光体層をＣｓＢｒ：Ｅｕにより形成するのが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の蛍光体パネルの製造方法によれば、蛍光体層表面に生じる微少突起部をできる限り研磨し、これにより、微少突起部に起因する画質劣化、さらには、蛍光体層上に防湿保護層をラミネートした際に、防湿保護層がテントを張ったような状態になり、欠陥が拡大することがおよそなくなり、放射線像の鮮鋭性に優れた高品質な蛍光体パネルを得ることができる。
さらに、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法によれば、蛍光体層の膜厚分布を知見し、一次元方向に延在する押圧部材を用い、蛍光体層の膜厚分布の小さい方向と押圧部材の延在方向とを一致させて、押圧部材で研磨部材を押圧しつつ、押圧部材の延在方向と直行する方向に蛍光体層と研磨部材とを相対的に移動することによって、蛍光体層の表面を研磨することにより、すなわち、押圧部材が蛍光体層表面のうねりに追従して研磨部材を押圧しつつ、押圧部材の延在方向と直行する方向に蛍光体層と研磨部材とを相対的に移動することによって、蛍光体層表面を研磨することにより、微少突起部を効果的に研磨することができる。また、これにより、微少突起部以外の余分な部分を研磨することが低減されるので、蛍光体層の研磨量を低減することが可能となり、さらに、蛍光体層の柱状結晶と柱状結晶との間に研磨カスが詰まって、結果的に蛍光体パネルの放射線像が低下することを低減することができる。
また、さらに、本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法によれば、蛍光体層と研磨部材との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍ、好ましくは１００μｍ〜３００μｍとした研磨を、蛍光体層の研磨位置を変更しつつ繰り返し行うことにより、蛍光体層の表面に研磨を施すことにより、研磨により蛍光体層表面に生じるキズの長さを、蛍光体パネルの放射線像の鮮鋭性に影響を及ぼさない一定値以下にすることができ、安定して放射線像の鮮鋭性に優れた蛍光体パネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法について、添付の図を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の製造方法で製造する輝尽性蛍光体パネルの一実施形態の構成を示す断面図である。
【００２４】
図１に示すように、本発明の製造方法で製造する蛍光体パネル１０は、基板１２と、基板１２上に真空成膜方によって形成された輝尽性蛍光体層（以下、蛍光体層とする）１４と、蛍光体層１４の吸湿を防止するために蛍光体層１４を封止する防湿保護層１６とを少なくとも有する。
【００２５】
本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法において、基板１２には特に限定はなく、蛍光体パネル１０で使用されている各種のものが利用可能である。
一例として、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのプラスチックフィルム；  石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダガラス、耐熱ガラス（パイレックスTM等）などから形成されるガラス板；  アルミニウムシート、鉄シート、銅シート、クロムシートなどの金属シートあるいは金属酸化物の被服層を有する金属シート；  等が例示される。
【００２６】
本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法においては、このような基板１２の表面に、真空成膜法によって蛍光体層１４を形成する。
なお、本発明においては、基板１２は、前記フィルムやシートそのものであってもよく、あるいは、これらの表面に輝尽発光光を反射するための反射膜、あるいはさらに、反射膜の上に反射膜を保護するためのバリア膜等を形成したものであってもよい。
なお、本発明においては、蛍光体層１４の成膜前の工程には、特に限定はなく、前述の通りであり、例えば、基板１２の表面に輝尽発光光を反射するための反射膜、あるいはさらに、反射膜の上に反射膜を保護するためのバリア膜等を形成し、これらの膜を形成したものを基板１２として、その表面に、蛍光体層１４を形成してもよい。さらに、蛍光体層１４が柱状蛍光体層であることが好ましい。
【００２７】
蛍光体層１４を形成する輝尽性蛍光体としては、各種のものが利用可能であるが、一例として、下記の輝尽性蛍光体が好ましく例示される。
米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されている輝尽性蛍光体である、「ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ」、「ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ」、「ＴｈＯ2 ：Ｅｒ」、および、「Ｌａ2 Ｏ2 Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ」。
【００２８】
特開昭５５−１２１４２号公報に開示される、「ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ」、「ＢａＯ・ｘＡｌ2 Ｏ3 ：Ｅｕ（但し、０．８≦ｘ≦１０）」、および、一般式「ＭIIＯ・ｘＳｉＯ2：Ａ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIIは、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，ＣｄおよびＢａからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｃｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉおよびＭｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０．５≦ｘ≦２．５である。）
【００２９】
特開昭５５−１２１４４号公報に開示される、一般式「ＬｎＯＸ：ｘＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｌｎは、Ｌａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種であり、Ａは、ＣｅおよびＴｂの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）
【００３０】
特開昭５５−１２１４５号公報に開示される、一般式「（Ｂａ1-x ，Ｍ2+x ）ＦＸ：ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ2+は、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．６であり、０≦ｙ≦０．２である。）
【００３１】
特開昭５７−１４８２８５号公報に開示される、下記のいずれかの輝尽性蛍光体。
すなわち、一般式「ｘＭ3 （ＰＯ4 ）2 ・ＮＸ2 ：ｙＡ」または「Ｍ3（ＰＯ4 ）2 ・ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、ＭおよびＮは、それぞれ、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｓｂ，Ｔｌ，ＭｎおよびＳｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦６、０≦ｙ≦１である。）
【００３２】
一般式「ｎＲｅＸ3 ・ｍＡＸ’2 ：ｘＥｕ」または「ｎＲｅＸ3 ・ｍＡＸ’2 ：ｘＥｕ，ｙＳｍ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、Ｒｅは、Ｌａ，Ｇｄ，ＹおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＸおよびＸ’は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，およびＢｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０-4＜ｘ＜３×１０-1であり、１×１０-4＜ｙ＜１×１０-1であり、さらに、１×１０-3＜ｎ／ｍ＜７×１０-1である。）
【００３３】
および、一般式「ＭI Ｘ・ａＭIIＸ’2 ・ｂＭIII Ｘ''3：ｃＡ」で示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭI は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＭIIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，ＣｕおよびＮｉからなる群より選択される少なくとも一種の二価の金属であり、ＭIII は、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ，ＢｉおよびＭｇからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ＜０．５であり、０≦ｂ＜０．５であり、０≦ｃ＜０．２である。）
【００３４】
特開昭５６−１１６７７７号公報に開示される、一般式「（Ｂａ1-X ，ＭIIX ）Ｆ2 ・ａＢａＸ2 ：ｙＥｕ，ｚＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、ＺｒおよびＳｃの少なくとも一種である。また、０．５≦ａ≦１．２５であり、０≦ｘ≦１であり、１×１０-6≦ｙ≦２×１０-1であり、０＜ｚ≦１×１０-2である。）
【００３５】
特開昭５８−６９２８１号公報に開示される、一般式「ＭIII ＯＸ：ｘＣｅ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIII は、Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）
【００３６】
特開昭５８−２０６６７８号公報に開示される、一般式「Ｂａ1-x Ｍa Ｌa ＦＸ：ｙＥｕ2+」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０-2≦ｘ≦０．５であり、０≦ｙ≦０．１であり、さらに、ａはｘ／２である。）
【００３７】
特開平５９−７５２００号公報に開示される、一般式「ＭIIＦＸ・ａＭI Ｘ’・ｂＭ’IIＸ''2 ・ｃＭIIIＸ3 ・ｘＡ：ｙＥｕ2+」で示される輝尽性蛍光体。（上記式において、ＭIIは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも１種であり、ＭIは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｍ’IIは、ＢｅおよびＭｇの少なくとも一方の二価の金属であり、ＭIIIは、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ、およびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ａは、金属酸化物であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，およびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ≦２であり、０≦ｂ≦１×１０-2であり、０≦ｃ≦１×１０-2であり、かつ、ａ＋ｂ＋ｃ≧１０-6であり、さらに、０＜ｘ≦０．５であり、０＜ｙ≦０．２である。）
【００３８】
特に、優れた輝尽発光特性を有し、かつ、本発明の効果が良好に得られる等の点で、特開昭５７−１４８２８５号公報に開示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく例示され、中でも特に、ＭI が、少なくともＣｓを含み、Ｘが、少なくともＢｒを含み、さらに、Ａが、ＥｕまたはＢｉであるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく、その中でも特に、一般式「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」で示される輝尽性蛍光体が好ましい。
【００３９】
このような輝尽性蛍光体からなる蛍光体層１４の形成方法には、特に限定はなく、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition)等の各種の真空成膜法が利用可能である。
中でも、生産性等の点で真空蒸着が好ましく、特に、蛍光体成分の材料と、付活剤（賦活剤：activator)成分の材料とを別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着が好ましい。例えば、前記「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」の蛍光体層１４であれば、蛍光体成分の材料として臭化セシウム（ＣｓＢｒ）を、付活剤成分の材料として臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒx （ｘは、通常、２〜３））を、それぞれ用いて、別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着が好ましい。
真空蒸着における加熱方法にも、特に限定はなく、例えば、電子銃等を用いる電子線加熱でも、抵抗加熱でもよい。さらに、多元の真空蒸着を行う場合には、全ての材料を同様の同じ加熱手段（例えば、電子線加熱）で加熱蒸発してもよく、あるいは、蛍光体成分の材料は電子線加熱で、微量である付活剤成分の材料は抵抗加熱で、それぞれ加熱蒸発してもよい。
【００４０】
成膜条件にも、特に限定はなく、成膜方法や形成する蛍光体層１４の組成等に応じて、適宜、決定すればよい。一例として、真空蒸着であれば、１×１０-5Ｐａ〜１×１０-2Ｐａの真空度で、０．０５μｍ／ｍｉｎ〜３００μｍ／ｍｉｎの成膜速度で成膜を行うのが好ましい。なお、多元の真空蒸着を行う際には、母体成分と付活剤成分の量比が目的範囲となるように、両材料の蒸発速度を制御する。
また、本件出願人の検討によれば、前述した各種の蓄積性蛍光体、特にアルカリハライド系蓄積性蛍光体、中でも特にＣｓＢｒ：Ｅｕを真空蒸着で成膜する場合には、一旦、系内を高い真空度に排気した後、アルゴンガスや窒素ガス等を系内に導入して、０．１Ｐａ〜２Ｐａ、特に０．５Ｐａ〜１．５Ｐａ程度の中真空度として成膜を行うのも好ましい。
また、基板の加熱等によって、成膜中に、形成された蛍光体層１４を５０℃〜４００℃で加熱してもよい。
【００４１】
なお、蛍光体層１４の成膜は、基板を回転（自転、公転、自公転）しつつ行う通常の方法で行ってもよいが、好ましくは、蒸発源を一方向に配列し、この配列方向と直行する方向に基板を直線搬送、好ましくは他数回、直線状に往復搬送しつつ、成膜を行う。これにより、より膜厚の均一な蛍光体層１４を形成できる。
さらに、形成する蛍光体層１４の厚さにも、限定はないが、１０μｍ〜１０００μｍ、特に、２０μｍ〜８００μｍが好ましい。
【００４２】
ここで、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法においては、一例として、基板１２を直線搬送しつつ真空蒸着を行う真空蒸着装置を用いて、基板１２上に蛍光体層１４を形成する。
【００４３】
本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法においては、蛍光体層１４を形成した後、蛍光体層１４の輝尽発光特性を良好に発現させ、かつ、輝尽発光特性を向上するために、蛍光体層１４の加熱処理（アニール）を行う。
なお、本発明において、加熱処理とは、蛍光体層１４形成後の処理において、蛍光体層が１００℃以上の温度に保持される状態、および、蛍光体層が１０℃／ｍｉｎを超える速度で昇温／降温する状態の、少なくとも一方を含む処理である。
【００４４】
蛍光体層１４の加熱処理は、焼成炉を用いる方法等の公知の方法で行えばよく、また、基板１２の加熱手段を有する真空蒸着装置であれば、これを利用して加熱処理を行ってもよい。
また、蛍光体層１４の加熱処理の条件には、特に限定はないが、一例として、窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で、５０℃〜６００℃、特に、１００℃〜３００℃で、１０分〜１０時間、特に、３０分〜３時間行うのが好ましい。
【００４５】
ここで、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法においては、蛍光体層１４に加熱処理を行った後、前述の蛍光体層１４表面に生じる微細突起部３６を好適に除去するために、蛍光体層１４表面に研磨処理を施す。
【００４６】
本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法において、蛍光体層表面に施す研磨処理は、蛍光体層の膜厚分布を知見し、一次元方向に延在する押圧部材を用い、蛍光体層１４の膜厚分布の小さい方向と押圧部材の延在方向、すなわち、回転軸方向とを一致させて、押圧部材で研磨部材を押圧しつつ、押圧部材の回転軸方向と直行する方向に蛍光体層と研磨部材とを相対的に移動することによって、蛍光体層の表面を研磨する。
【００４７】
本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法における蛍光体層１４表面の研磨処理の一例を、添付の図を用いて詳細に説明する。図２は、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法に係る蛍光体層の研磨工程の説明図である。
【００４８】
図２に示す研磨装置２０は、長尺のラッピングテープ２２を送り出す送り出し部２４とこれを巻き取る巻き取り部２８、およびラッピングテープ２２を蛍光体層１４に対して位置決めして接触させる押圧部材である押圧ロール２６から構成されており、さらに、この研磨装置２０全体が、図示されていない移動機構により、図中の矢印ｂ方向（研磨方向）に沿って移動するように構成されている。
ここでは、蛍光体層１４の表面を、送り出し・巻き取り駆動機構により移送される所定の幅を有する長尺のラッピングテープ２２を用いて、蛍光体層１４表面を研磨する構成としている。
すなわち、図２に示す研磨工程では、基板１２上に形成された蛍光体層１４の表面に、上述の長尺のラッピングテープ２２を押圧ロール２６で押圧して、ラッピングテープ２２を長手方向に搬送するころにより、蛍光体層１４とラッピングテープ２２とを相対的に移動しつつ、接触駆動させつつ、さらに自らもラッピングテープ２２の搬送方向と逆方向に移動する研磨装置２０を用いて、研磨を行うように構成されている。
【００４９】
なお、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法では、押圧部材として、押圧ロール２６を用いているが、特に限定は無く、円柱状のコンタクトロールや四角柱状のパッド等を用いることができる。また、押圧ロール２６の回転軸方向の長さにも特に限定は無いが、研磨を効率的、且つ、均一に行うために、蛍光体層１４の押圧ロール２６の延在方向のサイズ以上にするのが好ましい。
【００５０】
ここでの研磨装置２０の移動機構としては、ラックアンドピニオンによる機構、ボールねじによる機構等、公知の種々の機構を用いて、駆動源であるモータ等の回転を変換するものでよく、移動方向も一方向への移動でもよく、移動方向を周期的に切り換える往復移動としてもよい。この場合の、移動方向の切り換え速度（周波数）は、適宜決定してよい。
なお、蛍光体シート３２とラッピングテープ２２との相対的な移動速度（研磨部材の当接速度）については、蛍光体層の特性や研磨部材の特性に応じて適宜決定すればよいが、本実施形態に示す蛍光体層（ＣｓＢｒ：Ｅｕ）の場合は、比較的軟質なので、低速でもかなりの研磨速度が得られるものである。
【００５１】
以下、上記研磨装置２０を用いて実施する研磨手順を説明する。
【００５２】
上述のような過程で蛍光体層１４が成膜された基板１２、つまり蛍光体シート３２は、研磨装置２０による研磨工程にかけられる。
【００５３】
蛍光体シート３２のセットは、例えば、シート支持台３４に蛍光体シート３２を公知の係止部材により係止することにより行う。このとき、予め蛍光体層１４の膜厚分布を知見しておき、蛍光体層１４の膜厚分布の少ない方向と研磨ロール２６の回転軸方向とが並行になるように、蛍光体シート３２をシート支持台３４にセットする。
蛍光体層１４の膜厚分布は、予め、膜厚測定器等の外部測定器で測定しておき、その結果を用いてもよいし、あるいは、成膜方法から、おおよそ、その膜厚分布が導けるものは、それを用いてもよい。例えば、蒸発源を一方向に配列し、この配列方向と直行する方向に基板１２を直線（往復）搬送することにより成膜を行う成膜方法では、成膜方法の性質上、通常は、蛍光体層１４に、基板１２を搬送する方向と直行する方向にうねりのような分布が生じてしまい、その結果、蛍光体層１４は、この方向の膜厚分布が大きくなる。そのため、この成膜方法で蛍光体層１４の成膜を行った場合には、蛍光体層１４の膜厚分布を測定することなく、基板１２の搬送方向を知見し、蛍光体層１４の膜厚分布の小さい方向、すなわち、成膜時における基板１２の搬送方向と押圧ロール２６とが並行になるように、シート支持体３４にセットすればよい。
【００５４】
次に、研磨装置２０を、予め定められている蛍光体層１４表面の研磨開始位置となるように位置調整して、必要な研磨量になるようにセットする。この位置調整は、例えば、研磨装置２０を、予め設定された位置に設けられているガイドレール上に載置する等の方法で行えばよい。
【００５５】
蛍光体シート３２のセットおよび研磨装置２０の位置決めが完了したら、まず、研磨装置２０におけるラッピングテープ２２の送りを開始し、さらに、前述の図示されていない移動（往復動）機構の駆動を開始して、研磨装置２０を、図２の状態から図中の右方向（ｂ方向）に駆動して、蛍光体シート３２の蛍光体層１４の表面を研磨ロール２６により研磨を開始する。通常は、研磨装置２０が蛍光体シート３２上を通過し終わった時点で、研磨が完了する。
なお、このとき、蛍光体シート３２のセットおよび研磨装置２０の位置決めが完了したら、送り出し部２４によるラッピングテープ２２の送り出しと巻き取り部２８によるラッピングテープ２２の巻き取りとを繰り返し、研磨を行っても良いし、基板１２を駆動して研磨を行っても良い。
【００５６】
なお、表面研磨を行う際に用いるラッピングテープ２２の粗さ、およびそれを用いて行う蛍光体シート３２の研磨時間については、予め実験的に測定して決定するようにしてもよい。
またラッピングテープ２２の繰り返し使用回数等についても、ある程度、実験的に定めるようにしてもよい。
【００５７】
本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法においては、蛍光体層１４の膜厚分布を知見し、一次元方向に延在する押圧ローラ２６を用い、蛍光体層１４の膜厚分布の小さい方向と押圧ローラ２６の延在方向、すなわち、回転軸方向とを一致させて、押圧ローラ２６でラッピングテープ２２を押圧しつつ、押圧ローラ２６の回転軸方向と直行する方向に蛍光体層１４と研磨ローラ２６とを相対的に移動することによって、蛍光体層１４表面に研磨を施す。そのため、押圧ローラ２６によるラッピングテープ２２の押圧を、蛍光体層１４表面のうねりに追従させることができ、これにより、蛍光体層１４のうねり等の大きな膜厚分布に起因するラッピングテープ２２の蛍光体層１４からの浮き上がりを防止して、ラッピングテープ２２を蛍光体層１４の全面に確実に押圧することができる。そのため、蛍光体層１４表面に形成されてしまった極微少な微少突起部３０も確実に研磨して取り除くことができる。また、効果的に微少突起部３０を研磨することが可能になることにより、微少突起部３０以外の余分な蛍光体層１４表面を研磨することが低減されるので、蛍光体層１４の研磨量を低減することができ、さらに、蛍光体層１４の柱状結晶と柱状結晶との間に研磨カスが詰まって、結果的に蛍光体パネルの放射線像が低下することを低減することができる。
また、本発明者らの検討によれば、微少突起部３０による画像の欠陥を、より好適に取り除くためには、微少突起部３０の高さａを１０μｍ以下にするのが好ましく、特に、前述の微少突起部３０によって防湿保護層１６が持ち上げられ、テント状になってしまうことによる画質劣化を、より確実に取り除くためには、微少突起部３０の高さａを２μｍ以下にするのが好ましい。従来公知の蛍光体層１４表面の研磨方法では、微少突起部３０の高さａが、好ましくは１０μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以下の蛍光体層１４を有する蛍光体パネルを得ることはできなかったが、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法によれば、このような微少突起部３０の高さａが、好ましくは１０μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以下の蛍光体層１４を有する蛍光体パネル１０を好適に製造することができる。
【００５８】
次に、本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法における蛍光体層１４表面の研磨処理について、添付の図を用いて詳細に説明する。図３は、図２とは異なる本発明に係る蛍光体層の研磨処理の説明図である。
本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法は、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法と、下記に述べる蛍光体層１４の研磨処理以外は、基本的に同様に実施することが可能である。そのため、ここでは、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法と異なる蛍光体層１４の研磨処理部分のみの説明を行う。
【００５９】
本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法においても、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法と同様にして、基板１２上に蛍光体層１４を形成し、加熱処理を行った後、蛍光体層１４表面に研磨処理を施す。
【００６０】
本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法において、蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍ、好ましくは１００μｍ〜３００μｍとした研磨を、蛍光体層１４の研磨位置を変更しつつ繰り返し行う。なお、蛍光体層１４の表面に研磨を施す以外は、特に限定は無い。
【００６１】
なお、図３では、図２に示す研磨装置２０と比較して、押圧部材として用いる四角柱状パッド３６のみ異なるが、その他の同一の部材に関しては、同一の符号を付している。
【００６２】
研磨装置３８は、四角柱状パッド３６によってラッピングシート２２を蛍光体層１４に押圧し、研磨装置３８全体を四角柱状パッド３６の延在方向と直行する方向に往復動することにより、あるいは、蛍光体パネル１０を同方向に往復動することにより、蛍光体層１４とラッピングシート２２とを相対移動して、蛍光体層１４の研磨を行う。
ここで、本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法に用いる研磨装置３８では、一回の研磨における蛍光体層１４とラッピングシート２２との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍ、好ましくは１００μｍ〜３００μｍとし、この研磨を、図３に点線で概念的に示すように、蛍光体層１４上における研磨位置を変更して行うことを、繰り返し行うことにより、蛍光体層１４の全面を研磨する。また、この相対移動距離が５０μｍ〜４００μｍ、好ましくは１００μｍ〜３００μｍの研磨を１回、あるいは所定回数行う毎に、送り出し部２４から巻き取り部３０にラッピングシートを搬送し、新規なラッピングシートを研磨に使用する。
なお、研磨装置３８で押圧部材として用いる部材は、四角柱状パッド３６が好適に例示されるが、蛍光体層１４表面を一度に研磨可能な蛍光体層１４以上の面積を有するもの、研磨装置２０で用いた研磨ロール等、各種適当な物が利用可能である。また、押圧部材の延在方向の長さに関しても、特に限定は無いが、研磨を効率的、且つ、均一に行うために、蛍光体層１４の四角柱パッド３６の延在方向と並行な方向の幅以上にするのが好ましい。
【００６３】
ここでの研磨装置３８における蛍光体層１４とラッピングシート２２との相対移動を行う移動機構としては、ラックアンドピニオンによる機構、ボールねじによる機構等、公知の種々の機構を用いればよい。また、蛍光体層１４上における研磨位置の変更を行う移動機構も上記と同様、もしくは、その他の公知の機構を用いればよい。なお、相対移動を行う移動機構と研磨位置の変更を行う移動機構とは、別々の機構を用いても、同一の機構を用いてもよい。
なお、蛍光体シート３２とラッピングテープ２２との相対的な移動速度（研磨部材の当接速度）については、蛍光体層の特性や研磨部材の特性に応じて適宜決定すればよいが、本実施形態に示す蛍光体層（ＣｓＢｒ：Ｅｕ）の場合は、比較的軟質なので、低速でもかなりの研磨速度が得られるものである。
【００６４】
以下、上記研磨装置３８を用いて実施する研磨手順を説明する。
【００６５】
本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法と同様の過程で蛍光体層１４が成膜された基板１２、つまり蛍光体シート３２は、研磨装置３８による研磨工程にかけられる。
【００６６】
蛍光体シート３２のセットは、例えば、シート支持台３４に蛍光体シート３２を公知の係止部材により係止することにより行う。
ここで、本発明の第２の蛍光対パネルの製造方法においても、蛍光体シート３２をシート支持台３４にセットする際に、本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法と同様に、研磨装置３８の四角柱状パッド３６の延在方向と蛍光体層１４の膜厚分布の少ない方向とが並行になるように、蛍光体シート３２をシート支持台３４にセットするのが好ましい。
【００６７】
まず、研磨装置３８を、予め定められている蛍光体層１４表面の研磨開始位置となるように位置調整して、必要な研磨量になるようにセットする。この位置調整は、例えば、研磨装置３８を、予め設定された位置に設けられているガイドレール上に載置する等の方法で行えばよい。
【００６８】
次に、蛍光体シート３２のセットおよび研磨装置３８の位置決め完了したら、まず、研磨装置３８におけるラッピングテープ２２の送りを開始し、さらに、前述の図示されていない移動（往復動）機構の駆動を開始して、研磨装置３８を、図３の状態から図中の矢印ｄ方向（研磨方向）に駆動して、蛍光体シート３２の蛍光体層１４の表面を研磨部材２０により研磨を開始する。このとき、蛍光体層１４と四角柱状パッド３６との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍ、好ましくは１００μｍ〜３００μｍとした研磨を、蛍光体層１４の研磨位置を変更しつつ繰り返し行うことにより、蛍光体層１４の表面を研磨し、通常は、研磨装置３８が蛍光体シート３２上を通過し終わった時点で、研磨が完了する。
【００６９】
ここで、表面研磨を行う際に用いるラッピングテープ２２の粗さ、およびそれを用いて行う蛍光体シート４４の研磨時間については、予め実験的に測定して決定するようにしてもよい。
またラッピングテープ２２の繰り返し使用回数等についても、ある程度、実験的に定めるようにしてもよい。
【００７０】
本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法においては、蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍ、とした研磨を、蛍光体層１４の研磨位置を変更しつつ繰り返し行う。
ここで、蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動距離がある程度大きい方が、微少突起部の高さを速やかに低くできる点で好ましい。しかし、一方で、蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動による研磨に伴って、相対移動距離に応じたキズが生じる場合がある。ここでのキズは直ちに当該蛍光体パネルを使用不可能にするものではないが、放射線像読取装置にて一般に用いられる画像補正処理が必要になってくる。すなわち、蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動距離を５０μｍ〜４００μｍ、とした研磨を、蛍光体層１４の研磨位置を変更しつつ繰り返し行うことにより、上述の研磨処理の速度と画像補正処理の負担をできる限り軽減することとを効率良く両立することができ、研磨を効率良く、且つ、研磨により生じるキズの長さが、蛍光体パネル１０のノイズと同レベルの影響を与えるに留まり、蛍光体パネル１０において画像処理を施すことにより、ノイズと共に消去することができる。これにより、粒状性の良好な蛍光体パネルを得ることができる。
さらに、本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法においては、蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動距離を１００μｍ〜３００μｍとした研磨を、蛍光体層１４の研磨位置を変更しつつ繰り返し行うことが好ましい。
前述のように、蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動距離はある程度大きい方が、微少突起部３０の高さａを速やかに低くできる点で好ましい。しかし、一方で、蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動による研磨に伴い、相対移動距離に応じた大きさのキズが生じる場合がある。ここでのキズは、直ちに蛍光体パネルを使用不可能にするものではないが、放射線像読取装置にて一般に用いられる画像補正処理が必要になってくる。現有の放射線像読取装置では、１００μｍを読取画素として設定しているものが多く、また、異常画素に１画素を加えた正方形領域を補正しなければならない。この場合、相対移動距離が１００μｍであれば、（１＋１）２＝４画素分、相対移動距離が２００μｍであれば（２＋１）２＝９画素分、相対移動距離が３００μｍであれば（３＋１）２＝１６画素分の補正が必要となり、画素数に応じた補正時間を要することになる。
そこで、本願発明者は、蛍光体パネル１０の製造工程において、微少突起部３０を低くするに要する時間と、製造した蛍光体パネル１０の放射線像読取時において研磨に伴うキズを画像補正処理するに要する時間との均衡を鑑み、蛍光体パネル１０の製造に当たって最適な蛍光体層１４と研磨部材である四角柱状パッド３６との相対移動距離を１００μｍ〜３００μｍと見出した。
【００７１】
なお、上述したように本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法においては、四角柱状パッド３６等の様に一次元方向に延在する押圧部材を用いるに限定されず、蛍光体層１４全面を覆うような形状の押圧部材を用いることも可能であるが、本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法においても、一次元方向に延在する押圧部材を用い、この押圧部材の延在方向と蛍光体層１４の膜厚分布の少ない方向とが並行になるように、押圧部材でラッピングテープ２２を押圧しつつ、押圧部材の延在方向と直行する方向に蛍光体層１４とラッピングテープ２２とを相対的に移動することによって、蛍光体層１４の表面を研磨することが特に好ましい。なぜなら、これにより、本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法においても、四角柱状パッド３６によるラッピングテープ２２の押圧を、蛍光体層１４表面のうねりに追従させることができ、これにより、蛍光体層１４のうねり等の大きな膜厚分布に起因するラッピングテープ２２の蛍光体層１４からの浮き上がりを防止して、ラッピングテープ２２を蛍光体層１４の全面に確実に押圧することができる。そのため、蛍光体層１４表面に形成されてしまった極微少な微少突起部３０も確実に研磨して取り除くことができる。その結果、本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法においても、上述したように画像の欠陥をより好適に取り除くことが可能な微少突起部３０の高さａが１０μｍ以下の蛍光体層１４、あるいはさらに、微少突起部微３０によって防湿保護層１６が持ち上げられ、テント状になってしまうことによる画質劣化をより確実に取り除くことが可能なように微笑突起部の高さａを２μｍ以下の蛍光体パネル１０を好適に製造することができる。
さらに、本発明の第２の蛍光体パネルの製造方法においては、研磨により生じるキズの長さが、製造する蛍光体パネル１０においてノイズと同レベルの影響を与えるに留まり、蛍光体パネル１０において画層処理を施すことにより、ノイズと共に消去することができるため、非常に放射線像の鮮鋭性に優れた蛍光体パネルを安定して得ることができる。
【００７２】
上記のように本発明の第１の蛍光体パネルの製造方法または第２の蛍光体パネルの製造方法を用いて蛍光体層１４形成後、蛍光体層１４は、非常に吸湿性が高く、吸湿によって容易に特性が劣化してしまうため、蛍光体層１４を、吸湿を防止するための防湿保護層１６と基板１２との間の密閉領域に密閉する。
【００７３】
防湿保護層１６は、十分な防湿性を有するものであれば、各種のものが利用可能であり、特に限定はない。一例として、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、ＳｉＯ２膜とＳｉＯ２とＰＶＡ（ポリビニルアルコール）とのハイブリット層とＳｉＯ２膜との３層を形成してなる防湿保護層１６が例示される。これ以外にも、ガラス板（フィルム）、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等の樹脂フィルム、樹脂フィルムにＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＣなどの無機物質が堆積したフィルム等も好ましく例示される。なお、前記ＰＥＴフィルム上に、ＳｉＯ２膜／ＳｉＯ２とＰＶＡとのハイブリット層／ＳｉＯ２膜の３層を形成した防湿保護層１６において、例えば、ＳｉＯ２膜は、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ２とＰＶＡとのハイブリット層は、ＰＶＡとＳｉＯ２の比率が１：１となるようにゾルゲル法を用いて、それぞれ形成すればよい。
【００７４】
防湿保護層１６で、蛍光体層１４を封止する方法は、特に限定はない。一例として、接着剤によって、防湿保護層１６を基板１２表面に接着する方法が例示される。なお、本発明においては、防湿保護層１６と基板１２表面のみとを接着しても良いが、より耐久性に優れた蛍光体パネル１０を得るために、図示例のように、防湿保護層１６は基板１２表面のみならず蛍光体層１４表面とも接着するのが好ましい。
【００７５】
本発明の第１および第２の蛍光体パネルの製造方法においては、蛍光体層１４表面の微少突起部３０の高さａを２μｍ以下にすることができるので、蛍光体層１４上に防湿保護層１６を成膜する際に、微少突起部３０で蛍光体層１６が大きく浮き上がることはなく、これに起因する欠陥の拡大を防止できる。
【００７６】
蛍光体パネル１０の製造方法においては、蛍光体層１４の封止後の工程には、特に、限定はない。
【００７７】
以上、本発明蛍光体パネルの製造方法について説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明に係る蛍光体パネルの一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明に係る蛍光体層の研磨工程の一例を説明するための図である。
【図３】本発明に係る蛍光体層の研磨工程の一例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００７９】
１０  輝尽性蛍光体パネル
１２  基板
１４  輝尽性蛍光体層
１６  防湿保護層
２０  第１の研磨装置
２２  ラッピングテープ
２４  送り出し部
２６  押圧ロール
２８  巻き取り部
３０  微少突起部
３２  蛍光体シート
３４  シート支持体
３６  四角柱状パッド
３８  第２の研磨装置
【図１】
2006300647.tif 000003
【図２】
2006300647.tif 000004
【図３】
2006300647.tif 000005