(57)【要約】【課題】  本発明は上述のような実情に鑑みてなされたものであり、粒子を配列して単粒子膜を形成するための原版と、この原版を用いた粒子が接近した単粒子膜の形成方法、および、高品質表示が可能な電気泳動表示装置を提供する。【解決手段】原版を、基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有し、この凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものとし、この原版を用いて熱収縮性フィルムの粘着層上に粒子を単粒子膜状態で転写し、熱収縮性フィルムを熱収縮させて転写シートとし、この転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写して単粒子膜を形成する。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子を単粒子膜状態で配設するための原版において、
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有し、該凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立することを特徴とする単粒子膜形成用の原版。
【請求項２】
前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項１に記載の単粒子膜形成用の原版。
【請求項３】
粒子を単粒子膜状態で配設するための原版において、
基体と、該基体に配列された複数の貫通孔とを有し、該貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立することを特徴とする単粒子膜形成用の原版。
【請求項４】
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
【請求項５】
前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項４に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項６】
前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるものであることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項７】
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
【請求項８】
前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項７に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項９】
前記熱収縮性フィルムは、一軸収縮型の熱収縮性フィルムであることを特徴とする請求項４乃至請求項８のいずれかに記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項１０】
前記基材における粒子の配列は、前記熱収縮性フィルムの熱収縮方向に沿って粒子が接触するストライプ状配列であり、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在することを特徴とする請求項９に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項１１】
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
【請求項１２】
前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項１１に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項１３】
前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるものであることを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項１４】
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
【請求項１５】
前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項１４に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項１６】
前記熱収縮性フィルムは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムであることを特徴とする請求項１１乃至請求項１５のいずれかに記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項１７】
前記転写シートにおける粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であることを特徴とする請求項１６に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項１８】
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写する工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
【請求項１９】
前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項１８に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項２０】
前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項２１】
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写する工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
【請求項２２】
前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項２０に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項２３】
前記熱収縮性フィルムは、一軸収縮型の熱収縮性フィルムであることを特徴とする請求項１８乃至請求項２２のいずれかに記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項２４】
前記転写シートにおける粒子の配列は、前記熱収縮性フィルムの熱収縮方向に沿って粒子が接触するストライプ状配列であり、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在することを特徴とする請求項２３に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項２５】
粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上にストライプ状配列の粒子を転写することを特徴とする請求項２４に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項２６】
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粒子配設面を被形成体に間隔を設けて対向させ、転写シートの前記基材の粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および／または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を被形成体方向に突出させ、被形成体上に粒子を転写して所望のパターンで単粒子膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
【請求項２７】
前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項２６に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項２８】
前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項２６または請求項２７に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項２９】
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粒子配設面を被形成体に間隔を設けて対向させ、転写シートの前記基材の粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および／または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を被形成体方向に突出させ、被形成体上に粒子を転写して所望のパターンで単粒子膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
【請求項３０】
前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項２９に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項３１】
前記熱収縮性フィルムは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムであることを特徴とする請求項２６乃至請求項３０に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項３２】
前記転写シートにおける粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であることを特徴とする請求項３１に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項３３】
粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上に所望のパターンで単粒子膜を形成することを特徴とする請求項２６乃至請求項３２に記載の単粒子膜の形成方法。
【請求項３４】
電極間に電気泳動表示素子層を備えた電気泳動表示装置において、
少なくとも一方の電極は、所定のパターン形状を有し、かつ、電気的に独立した複数系統のパターン電極であり、前記電気泳動表示素子層は、電気泳動粒子と分散媒体をマイクロカプセルに収納してなる電気泳動表示素子を、請求項２５または請求項３３に記載の単粒子膜の形成方法により前記パターン電極上に単粒子膜状態となるように配列したものであり、前記電気泳動表示素子の分散媒体の色が各系統のパターン電極毎に異なることを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項３５】
前記電気泳動表示素子の分散媒体の色は、少なくとも青色、赤色、黄色の３種であることを特徴とする請求項３５に記載の電気泳動表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粒子を単粒子膜とするための原版、例えば、平均粒径が１０〜１００μｍの範囲内にある粒子を単粒子膜とするための原版と、この原版を用いた単粒子膜の形成方法、および、電気泳動粒子と分散媒体を収納したマイクロカプセルを電気泳動表示素子として使用した電気泳動表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
粒子を被形成体の表面に配列して単粒子膜を形成する方法として、例えば、予め粘着層を形成した被形成体上に粒子を散布し、ブレードにより掻き取る方法、粒子を分散させた塗布液を被形成体上に均一に塗布し、乾燥させる方法等がある。
また、所望のパターンで単粒子膜を形成する方法として、基材上に光熱変換層を設け、この光熱変換層上に、粒子をバインダーに分散させた塗布液を均一に塗布して粒子層を形成した転写シートを用いる方法がある。この方法では、粒子層が被形成体に接触するように、被形成体上に転写シートを載置した状態で、基材側から所望の部位にレーザーを照射したり、サーマルヘッドで熱を供給する。これにより、上記の部位の粒子層にてバインダーの溶融を生じ、バインダーとともに粒子が被形成体上に所望のパターンで転写される。
【０００３】
一方、近年、電気泳動粒子と分散媒体を収納したマイクロカプセルを電気泳動表示素子として２枚の電極間に挟み込み、この電気泳動表示素子に電圧を印加することにより、電気泳動粒子がマイクロカプセル内を異なる極性を有する電極に向かって電気泳動する現象を利用した電気泳動表示装置が開発されている（特許文献１、２）。この電気泳動表示装置では、マイクロカプセルを分散させた塗布液を電極上に均一に塗布し、乾燥させることにより電気泳動表示素子層を形成することが行なわれていた。
上記のような電気泳動表示装置では、分散媒体をイエロー、シアン、マゼンタとした各色のマイクロカプセルを使用し、各色毎に各電極間に挟み込むことにより、カラー表示が可能となる。
【特許文献１】特開２００２−３５７８５３号公報
【特許文献２】特開２００２−３３３６４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の単粒子膜の形成方法では、平均粒径が１０〜１００μｍの範囲内にある均一な材質からなる粒子や、電気泳動粒子と分散媒体を収納したマイクロカプセル等のように内部に異なる物質を包含した粒子等であって平均粒径が１０〜１００μｍの範囲内にある粒子を、被形成体の表面に粒子が接近した単粒子膜状態で配列することは困難であった。例えば、マイクロカプセルを分散させた塗布液の調製段階では、電気泳動粒子の微油滴分散乳化やマイクロカプセルの製造を容易にするために、水溶液中でその処理を行っており、さらに、結合材としてポリビニルアルコール、その他の水溶性高分子材料を適当量含んでいる。したがって、マイクロカプセルを分散含有する塗布液は、水系のチキソトロピックな溶液であり、このため、塗布特性が悪く、泡の混入等を生じ易く、欠陥を生じることなくマイクロカプセルを配列することが困難であった。そして、電気泳動表示素子層を構成するマイクロカプセルに配列欠陥が存在する場合、画像品質の低下を来たすという問題があった。
【０００５】
また、従来の転写シートを用いた方法では、平均粒径が１０〜１００μｍの範囲内にある粒子を所望のパターンで被形成体上に転写して単粒子膜を形成することは可能であるが、異なる粒子からなる単粒子膜を所望のパターンで転写形成することは不可能であった。これは、既に形成されている単粒子膜と被形成体との間に存在する段差により、異なる粒子からなる単粒子膜を近接して転写することが妨げられるためである。
また、従来の転写シートを用いた方法では、溶融状態で粒子とともに転写されたバインダーのダレが生じ、高精細なパターンでの単粒子膜の形成が困難であり、また、バインダーのダレは、上記のような、異なる粒子からなる単粒子膜を隣接して形成する場合の支障にもなっていた。
【０００６】
上述のような問題は、均一な材質からなる粒子や、電気泳動粒子と分散媒体を収納したマイクロカプセル等のように内部に異なる物質を包含した粒子等、平均粒径が１０〜１００μｍの範囲内にある全ての粒子における問題である。
さらに、従来の転写シートを用いた単粒子膜の形成方法では、バインダーが溶融状態とされる際に、粒子も加熱され、粒子によっては熱ダメージが発生するという問題もあった。また、所望のパターンで形成された単粒子膜では、粒子間にバインダーが存在するため、例えば、粒子を加圧変形させて密着させることができないという問題もあった。
本発明は上述のような実情に鑑みてなされたものであり、粒子を配列して単粒子膜を形成するための原版と、この原版を用いた粒子が接近した単粒子膜の形成方法、および、高品質表示が可能な電気泳動表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的を達成するために、本発明は、粒子を単粒子膜状態で配設するための原版において、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有し、該凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
【０００８】
また、本発明は、粒子を単粒子膜状態で配設するための原版において、基体と、該基体に配列された複数の貫通孔とを有し、該貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するような構成とした。
【０００９】
本発明の単粒子膜の形成方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるものであるような構成とした。
【００１０】
また、本発明の単粒子膜の形成方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
【００１１】
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは、一軸収縮型の熱収縮性フィルムであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材における粒子の配列は、前記熱収縮性フィルムの熱収縮方向に沿って粒子が接触するストライプ状配列であり、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在するような構成とした。
【００１２】
本発明の単粒子膜の形成方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えるような構成とした。
【００１３】
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるものであるような構成とした。
【００１４】
また、本発明の単粒子膜の形成方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えるような構成とした。
【００１５】
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記転写シートにおける粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であるような構成とした。
【００１６】
本発明の単粒子膜の形成方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写する工程と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
【００１７】
また、本発明の単粒子膜の形成方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写する工程と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
【００１８】
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは、一軸収縮型の熱収縮性フィルムであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記転写シートにおける粒子の配列は、前記熱収縮性フィルムの熱収縮方向に沿って粒子が接触するストライプ状配列であり、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在するような構成とした。
本発明の他の態様として、粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上にストライプ状配列の粒子を転写するような構成とした。
【００１９】
また、本発明の単粒子膜の形成方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粒子配設面を被形成体に間隔を設けて対向させ、転写シートの前記基材の粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および／または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を被形成体方向に突出させ、被形成体上に粒子を転写して所望のパターンで単粒子膜を形成する工程と、を備えるような構成とした。
【００２０】
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
【００２１】
また、本発明の単粒子膜の形成方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粒子配設面を被形成体に間隔を設けて対向させ、転写シートの前記基材の粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および／または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を被形成体方向に突出させ、被形成体上に粒子を転写して所望のパターンで単粒子膜を形成する工程と、を備えるような構成とした。
【００２２】
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムであるような構成とした。
【００２３】
本発明の他の態様として、前記転写シートにおける粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であるような構成とした。
本発明の他の態様として、粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上に所望のパターンで単粒子膜を形成するような構成とした。
【００２４】
また、本発明は、電極間に電気泳動表示素子層を備えた電気泳動表示装置において、少なくとも一方の電極は、所定のパターン形状を有し、かつ、電気的に独立した複数系統のパターン電極であり、前記電気泳動表示素子層は、電気泳動粒子と分散媒体をマイクロカプセルに収納してなる電気泳動表示素子を、上述の単粒子膜の形成方法により前記パターン電極上に単粒子膜状態となるように配列したものであり、前記電気泳動表示素子の分散媒体の色が各系統のパターン電極毎に異なるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記電気泳動表示素子の分散媒体の色は、少なくとも青色、赤色、黄色の３種であるような構成とした。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、原版に形成された凹部、あるいは貫通孔に１個づつ粒子を確実に載置することができる。また、熱収縮性フィルムに設けた粘着層上に原版を用いて配設された粒子が単粒子膜状態となり、熱収縮性フィルムが熱収縮することにより、粒子が接近した単粒子膜を備えた基材が得られる。また、熱収縮性フィルムに設けた粘着層上に原版を用いて配設された粒子が単粒子膜状態となり、熱収縮性フィルムが熱収縮することにより、粒子が接近した単粒子膜を備えた転写シートが得られ、この転写シート上の単粒子膜を被形成体に転写することにより、単粒子膜を形成することができ、転写形成された単粒子膜にはバインダーが存在しないので、高精細なパターンでの単粒子膜の形成が可能であるとともに、粒子を加圧変形させて密着させることも可能であり、また、溶融したバインダー中に粒子が置かれることがないので、粒子の受ける熱ダメージを最小限に抑えることができる。
【００２６】
また、上記の熱収縮性フィルムとして、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを用いることにより、粒子がストライプ状配列し、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在する基材、あるいは転写シートを得ることができ、このような転写シートで、粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上にストライプ状配列の粒子を転写することにより、既に形成されているストライプ状の単粒子膜に隣接させてストライプ状の単粒子膜を形成することができる。
【００２７】
また、上記の熱収縮性フィルムとして、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを用い、転写シートを発泡可能なものとする場合には、所望の部位の粒子のみを突出させて被形成体に転写することができるので、既に形成されている単粒子膜に隣接させて所望のパターンで単粒子膜を形成することができる。
また、電気泳動表示装置の電気的に独立した複数系統のパターン電極上には、本発明の単粒子膜の形成方法により、パターン電極毎に分散媒体の色が異なる電気泳動表示素子が単粒子膜状態となるように配設されているので、パターン電極による電気泳動表示素子層への電圧印加により、電気泳動表示素子の電気泳動粒子がマイクロカプセル内を異なる電荷を有する電極に向かって電気泳動する現象を利用したカラー表示が、ムラのない高品質なものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
［単粒子膜形成用の原版］
図１は、本発明の原版の一実施形態を示す縦断面図である。図１に示されるように、本発明の原版１は、基体２と、この基体２の表面２ａ側に設けられた複数の凹部３を有している。
【００２９】
原版１を構成する凹部３は、球面形状であり、凹部３の円形の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部３の配列ピッチＰ（μｍ）、凹部３の深さＳ（μｍ）と、単粒子膜を形成する粒子１００の平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、好ましくはｄ≦Ｄ≦１．４ｄの関係、ｄ≦Ｐの関係、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄ、好ましくは０．２５ｄ≦Ｓ≦１．２５ｄの関係が成立する。凹部３の開口径Ｄ、各凹部３の配列ピッチＰ、凹部３の深さＳと、粒子１００の平均粒子径ｄとの間に上記の関係が成立することにより、粒子を含有する塗布液等を原版１に塗布し、余分な塗布液をブレード等により除去した際に、各凹部３に粒子を１個づつ確実に載置することができる。尚、各凹部３の配列ピッチＰ（μｍ）と粒子１００の平均粒子径ｄ（μｍ）との関係における配列ピッチＰの下限はｄ≦Ｐであるが、上限には特に制限はなく、形成しようとする単粒子膜のパターン形状、各粒子１００の要求される距離等に応じて適宜設定することができる。したがって、原版１の中に、例えば、Ｐ＝ｄの領域と、Ｐ＝５ｄの領域とが存在してもよく、また、Ｐ＝２ｄの領域と、凹部３が形成されていない領域（あるいはＰが極めて大きい領域）とが存在してもよい。
尚、本発明において、粒子１００の平均粒径ｄは、ＪＩＳ  Ｚ２５００に準拠して測定するものとする。
【００３０】
図２は、本発明の原版の他の実施形態を示す縦断面図である。図２に示されるように、原版１１は、基体１２と、この基体１２に設けられた複数の貫通孔１３を備えている。
【００３１】
原版１１を構成する貫通孔１３は断面円形の貫通孔であり、その孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔１３の配列ピッチＰ（μｍ）、基体１２の厚みＴ（μｍ）と、単粒子膜を形成する粒子１００の平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、好ましくはｄ≦Ｄ≦１．４ｄの関係、ｄ≦Ｐの関係、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄ、好ましくは０．２５ｄ≦Ｔ≦１．２５ｄの関係が成立する。貫通孔１３の孔径Ｄ、各貫通孔１３の配列ピッチＰ、基体１２の厚みＴと、粒子１００の平均粒子径ｄとの間に上記の関係が成立することにより、例えば、被形成体上に原版１１を配置し、粒子を含有する塗布液等を原版１１に塗布し、余分な塗布液をブレード等により除去した際に、各貫通孔１３に粒子を１個づつ確実に載置することができる。この原版１１においても、各貫通孔１３の配列ピッチＰ（μｍ）と粒子１００の平均粒子径ｄ（μｍ）との関係における配列ピッチＰの下限はｄ≦Ｐであるが、上限には特に制限はなく、形成しようとする単粒子膜のパターン形状、各粒子１００の要求される距離等に応じて適宜設定することができる。したがって、原版１１の中に、例えば、Ｐ＝２ｄの領域と、Ｐ＝１０ｄの領域とが存在してもよく、また、Ｐ＝２ｄの領域と、貫通孔１３が形成されていない領域（あるいはＰが極めて大きい領域）とが存在してもよい。
【００３２】
尚、図２に示される例では、貫通孔１３は、基体１２の両面での孔径が等しいものであるが、これに限定されるものではない。すなわち、基体１２の各面の孔径が平均粒径と上記関係を満足すればよく、また、粒子が供給される面の孔径のみが平均粒径と上記関係を満足する場合には、反対面の孔径がより大きいものであれば問題はない。また、貫通孔１３の内壁面形状には特に制限はない。
【００３３】
本発明の原版１における凹部３は、例えば、図３に示すように、上述の範囲で設定されたピッチＰを有する最密六方格子配列とすることができる。また、本発明の原版１１における貫通孔１３は、例えば、図４に示すように、上述の範囲で設定されたピッチＰを有する単純立方格子配列とすることができる。これらの凹部３、貫通孔１３の配列は例示であり、凹部３が単純立方格子配列をとり、貫通孔１３が最密六方格子配列をとってもよく、また、他の配列であってもよい。
【００３４】
このような原版１，１１を構成する基体２，１２は、ガラス板、アルミニウム、銅、クロム、インバー、スーパーインバー、４２鉄ニッケル合金、コバール、工具鋼（ＳＫＤ１１）等の金属、ポリイミド、フッ素樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン等の耐熱性のある有機材料を使用することができる。また、原版の繰り返し使用における耐久性を向上させる目的で、少なくとも表面２ａ，１２ａ側にクロム、ニッケル、炭化珪素、窒化チタン等の薄膜を形成してもよい。また、基体２の厚みは特に制限されず、例えば、５０μｍ〜１０ｍｍの範囲で使用する材質等を考慮して適宜設定することができる。
【００３５】
また、基体への凹部や貫通孔の形成は、エレクトロフォーミング法、サンドブラスト法、エキシマレーザー法、イオンビーム法等の乾式法、エッチング液浸漬法等の湿式法により行なうことができる。
尚、原版を構成する凹部や貫通孔の開口部の形状は円形に限定されず、３角形以上の多角形、楕円形等であってもよく、凹部の開口径、貫通孔の孔径が均一ではない場合は、最も小さい開口径、孔径が上記関係を満足するものとする。
【００３６】
［単粒子膜の形成方法］
次に、本発明の単粒子膜の形成方法について説明する。
図５は、上述の本発明の単粒子膜形成用の原版１を使用した本発明の単粒子膜の形成方法の一実施形態を示す工程図である。
本発明では、まず、粒子１００を原版１の各凹部３に１個づつ載置する（図５（Ａ））。各凹部３内への粒子１００の載置は、ブレードコート方法、例えば、乾燥状態にある粉体１００を原版１上に散布し、ブレード５により不要な粉体１００を除去する方法、粉体１００を分散させた分散液を原版１上に塗布し、ブレード５により不要な粉体１００を除去する方法等を用いることができる。ブレード５による不要な粉体１００の除去では、ブレード５と原版１とのギャップを、粉体１００の平均粒子径ｄ未満に設定することが好ましい。
【００３７】
次に、熱収縮性フィルム２２′上に粘着層２３を形成し、この粘着層２３を、原版１上に載置された粒子１００に接触させ（図５（Ｂ））、その後、原版１を取り除くことにより、粘着層２３上に単粒子膜状態で粒子１００を転写する（図５（Ｃ））。
次いで、熱収縮性フィルム２２′を加熱して熱収縮させて基材２２を形成するとともに、粘着層２３上の粒子１００を接近させて転写シート２１を作製する（図５（Ｄ））。
【００３８】
上述の熱収縮性フィルム２２′の熱収縮は、例えば、図６（Ａ）に示されるように、離型層２６，２８を備えた１組の基板２５，２７で転写シート２１を挟持（離型層２６，２８が転写シート２１側となるようにして挟持）し、この状態で加熱し、その後、冷却することにより行うことができる。１組の基板２５，２７で挟持された状態の転写基材２１は、熱収縮性フィルム２２′が離型層２８上にて加熱により熱収縮を生じて、また、粘着層２３は加熱によりタック値が低下する。これに伴って、粒子１００は熱収縮性フィルム２２′と離型層２６との間を移動して相互に接近する（図６（Ｂ））。加熱時の昇温速度は、熱収縮性フィルム２２′に厚み方向の凹凸が生じないような穏やかな条件で設定することが好ましい。その後、室温まで冷却することにより、粒子１００は粘着層２３に保持された単粒子膜を構成する。
【００３９】
上記のような熱収縮処理に使用する１組の基板２５，２７としては、ガラス基板、金属基板、樹脂基板、合金基板等を挙げることができる。また、上記の離型層２６，２８は、加熱冷却工程において、熱収縮する熱収縮性フィルム２２′の挙動、および、熱収縮応力による粒子１００の挙動の妨げとなる摩擦抵抗を低減するものである。この離型層２６，２８は、例えば、長鎖アルキル基を有するアクリルエステル、ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリルアマイド、マイレン酸誘導体、アリルエステル等、および、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン化合物、フッ素化合物、アミノアルキド化合物、ポリエステル化合物等の従来公知の材料を用いて形成することができる。尚、両基板２５，２７が、例えば、シリコーン樹脂基板等のように離型性を具備している場合には、離型層２６，２８は不要である。
【００４０】
次に、粘着層３２を表面に形成した被形成体３１上に、転写シート２１に保持した粒子１００を接触させ、その後、転写シート２１を剥離することにより、被形成体３１上に粒子１００を転写して単粒子膜を形成する（図５（Ｅ））。
上述の実施形態では、被形成体３１は、表面に粘着層３２を備えたものであるが、この粘着層３２には特に制限はない。また、被形成体３１が粘着性を有している場合、あるいは、粒子１００が粘着性を有している（配列工程後、加熱等により粒子１００が粘着性を発現する）場合には、粘着層３２は不要である。
尚、上述の単粒子膜の形成方法の実施形態では、原版１を使用した例を示したが、本発明の形成方法は、原版１１を使用して単粒子膜を形成することができる。この場合、原版１１は、熱収縮性フィルム２２′の粘着層２３上に配置され、この状態で貫通孔１３に１個づつ粒子が載置され、その後、原版１１を取り除き、熱収縮性フィルム２２′を加熱収縮させることにより、上記転写シート２１を作製することができる。
【００４１】
上述の本発明の単粒子膜の形成方法で使用する熱収縮性フィルム２２′としては、例えば、熱収縮率が１〜８０％、好ましくは１０〜５０％の範囲内にある一軸収縮型、あるいは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用することができる。このような熱収縮性フィルムとしては、例えば、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂等の一軸延伸フィルム、あるいは、二軸延伸フィルム等を使用することができる。尚、本発明における熱収縮率は、５０〜１００℃の範囲で各温度に設定したウォーターバス中に１０ｃｍ平方のフィルムを１０秒間浸漬して収縮させ、浸漬前後のフィルムの寸法変化から算出［（１０ｃｍ−浸漬後の一辺の長さ（ｃｍ））／（１０ｃｍ）×１００］する。尚、熱収縮フィルムが一軸延伸フィルムの場合は、延伸方向に平行な一辺について測定する。
【００４２】
上記の塩化ビニル系樹脂としては、例えば、数平均重合度が８００〜２５００、好ましくは１０００〜１８００のポリ塩化ビニル、塩化ビニルを主体とする共重合体（例えば、エチレン−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−ハロゲン化オレフィン共重合体等）、あるいは、これらのポリ塩化ビニルまたは塩化ビニル共重合体を主体とする他の相溶性樹脂（例えば、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン共重合体、部分ケン化ポリビニルアルコール等）とのブレンド物等を挙げることができ、これらを単独で、あるいは２種以上の組み合わせで使用することができる。これらの塩化ビニル系樹脂は、塊状重合法、乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法等の公知の製造方法により得られたものであってよい。
【００４３】
また、上記のポリエステル系樹脂としては、例えば、芳香族ジカルボン酸、それらのエステル形成誘導体、脂肪族ジカルボン酸等のジカルボン酸成分と、多価アルコール成分を主成分とするものである。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−１，４−ジカルボン酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられる。また、これらのエステル誘導体としては、ジアルキルエステル、ジアリールエステル等の誘導体が挙げられる。また、脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、ダイマー酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シュウ酸、コハク酸等が挙げられる。また、ｐ−オキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の多価のカルボン酸を必要に応じて併用してもよい。
【００４４】
上記の多価アルコール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ダイマージオール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール等のアルキレングリコール、ビスフェノール化合物、またはその誘導体のエチレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。また、多価アルコールではないが、イプシロンカプロラクトンも同様に使用可能である。上記したジカルボン酸成分と多価アルコール成分を通常それぞれ１種類以上組み合わせて用いることが好ましい。
【００４５】
上述の熱収縮性フィルム２２′の厚みは、例えば、５〜２００μｍ、好ましくは２０〜１００μｍの範囲とすることができる。熱収縮性フィルム２２′の厚みが５μｍ未満であると、熱収縮時の応力が弱く、粘着層２３上での粒子１００の十分な接近が得られない場合がある。また、２００μｍを超えると、厚み方向の熱収縮歪により粒子の接近が妨げられる場合がある。
【００４６】
本発明の単粒子膜の形成方法にて転写シート２１を構成する粘着層２３は、常温でのタック値が５０〜１００℃におけるタック値よりも大きいことが好ましい。また、粘着層２３は、例えば、常温でのタック値が３〜３２、好ましくは５〜２０の範囲内にあり、５０〜１００℃におけるタック値が２〜１８、好ましくは３〜１２の範囲内にあるものとすることができる。これにより、上述の熱収縮性フィルム２２′が熱収縮を生じる温度において、粘着層２３に載置された粒子１００が、熱収縮性フィルム２２′の熱収縮応力により粘着層２３上を移動して接近することが可能となり、最も接近した状態では、最密充填状態が得られる。また、粘着層２３は、タック値が低下する温度（熱収縮応力により粒子が粘着層２３上を移動可能となる温度）が、上述の熱収縮性フィルム２２′の熱収縮開始温度以下であることが好ましい。
【００４７】
尚、本発明におけるタック値は、ＪＩＳ  Ｚ０２３７に準拠し、（株）上島製作所製のボールタックテスタ（ＶＲ−５７１０）を使用し、３０°に傾斜したガラス基板上に測定試料をセットし、種々の大きさのクロム鋼球を転がし、粘着層上で停止する球の大きさをタック値として測定する。
上記のような粘着層２３を構成する材料としては、例えば、粘着剤、光硬化型剥離性粘着剤等を挙げることができる。
粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤等を使用することができる。
【００４８】
ゴム系粘着剤は、エラストマーをベースポリマーとし、ガラス転移温度が低く、高温までゴム域の広いポリマー（ゴム状物質）である。エラストマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、グラフトゴム、再生ゴム、ポリビニルエーテル、アタクティックポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ブタジエンラバー等を挙げることができる。また、粘着剤の構成成分として、上記のエラストマーの他に、粘着付与剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤等を含有してもよい。
【００４９】
アクリル系粘着剤は、粘着性を与えるガラス転移温度の低い柔らかいアクリル酸エステル等の主モノマーに、接着性や凝集力を与えるための高ガラス転移温度で硬いコモノマー、架橋や接着性の改良のための官能基含有モノマーが共重合されたものである。上記の主モノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸オクチル−メタクリル酸共重合体等のアクリル系モノマーを挙げることができる。
【００５０】
光硬化型剥離性粘着剤は、上述の転写シート２１の加熱冷却を行った後、光照射することにより粘着層２３に剥離性を付与し、転写工程にて被形成体に粒子を容易に転写可能とすることを目的とするものである。光硬化型剥離性粘着剤としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主モノマーとし、これに乳化剤、脱イオン水、重合開始剤を添加して通常の手段によりエマルジョン重合して得ることができる。また、モノマー種を選択することにより粘着力を調整することができる。このようなアクリル樹脂エマルジョン系の光硬化型剥離性粘着剤は、ガラス転移温度が０℃未満となるようなモノマー組成で選定される。
【００５１】
このような粘着層２３の厚みは、対象となる粒子１００の平均粒径よりも小さいものとし、例えば、平均粒径が１０〜１００μｍの範囲内にある粒子を対象とする場合、粘着層２３の厚みは１〜５μｍ程度の範囲で設定することができる。粘着層２３の厚みが１μｍ未満であると、粒子を確実に載置することができず、５μｍを超えると、熱収縮性フィルム２２′の熱収縮時に粘着層２３上での粒子の十分な接近が得られない場合があり、また、被形成体３１への粒子１００の転写に支障を来す場合がある。
ここで、上述の熱収縮性フィルム２２′の熱収縮により粒子１００を接近させて転写シート２１を作製する際の粒子１００の挙動について図７および図８にて説明する。
【００５２】
図７（Ａ）は、原版１を用いて熱収縮性フィルム２２′の粘着層２３上に転写された粒子１００の配列が、ピッチＰを有する最密六方格子配列である場合を示す図である。そして、熱収縮性フィルム２２′として、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図７（Ｂ）に示されるように、熱収縮性フィルム２２′が一軸収縮（矢印ａ方向への収縮）を生じ、この収縮方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート２１では、粒子１００が面心立方格子配列をとる。また、熱収縮性フィルム２２′として、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図７（Ｃ）に示されるように、熱収縮性フィルム２２′が二軸収縮（矢印ａ方向と矢印ｂ方向への収縮）を生じ、直交する二方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート２１では、粒子１００が最密六方格子配列をとる。
【００５３】
図８（Ａ）は、原版１を用いて熱収縮性フィルム２２′の粘着層２３上に転写された粒子１００の配列が、ピッチＰを有する単純立方格子配列である場合を示す図である。そして、熱収縮性フィルム２２′として、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図８（Ｂ）に示されるように、熱収縮性フィルム２２′が一軸収縮（矢印ａ方向への収縮）を生じ、この収縮方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート２１では、粒子１００がストライプ状配列をとる。また、熱収縮性フィルム２２′として、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図８（Ｃ）に示されるように、熱収縮性フィルム２２′が二軸収縮（矢印ａ方向と矢印ｂ方向への収縮）を生じ、直交する二方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート２１では、粒子１００が単純立方格子配列をとる。
【００５４】
本発明では、上述の図８（Ｂ）のように、得られた転写シート２１において粒子１００がストライプ状配列をとる場合、例えば、図８（Ｄ）のように、各ストライプ状配列間に存在する粒子非配設領域２４の幅Ｗ２を、ストライプ状配列幅Ｗ１の整数倍（図示例では２倍）として、以下のように被形成体３１に粒子１００の転写を行うことができる。
まず、粒子１００Ａを保持した転写シート２１Ａを、上述の転写シート２１と同様にして作製する（図９（Ａ））。この転写シート２１Ａでは、粒子１００Ａがストライプ状配列をとり、各ストライプ状配列間に、粒子１００Ａの平均粒径ｄの２倍の幅を有する粒子非配設領域２４が存在する。また、同様の粒子非配設領域２４を有し、粒子１００Ｂを保持した転写シート２１Ｂ（図示せず）、同様の粒子非配設領域２４を有し、粒子１００Ｃを保持した転写シート２１Ｃ（図示せず）を作製する。
【００５５】
次に、粘着層３２を表面に形成した被形成体３１上に、転写シート２１Ａに保持した粒子１００Ａを接触させ、その後、転写シート２１Ａを剥離することにより、被形成体３１上に粒子１００Ａを転写してストライプ状の単粒子膜を形成する（図９（Ｂ））。
次いで、転写シート２１Ｂにストライプ状に保持されている粒子１００Ｂを、既にストライプ状に転写されている粒子１００Ａに隣接させて被形成体３１上に転写する（図９（Ｃ））。この転写時に、既に被形成体３１に転写されているストライプ状の粒子１００Ａは、転写シート２１Ｂの粒子非配設領域２４に位置する。このため、既に転写されている粒子１００Ａと被形成体３１との段差に影響されることなく、粒子１００Ｂからなるストライプ状の単粒子膜を、粒子１００Ａからなるストライプ状の単粒子膜１００Ａに隣接して形成することができる。
【００５６】
次に、転写シート２１Ｃにストライプ状に保持されている粒子１００Ｃを、既にストライプ状に転写されている粒子１００Ａ、粒子１００Ｂに隣接させて被形成体３１上に転写する（図９（Ｄ））。この転写時にも、既に被形成体３１に転写されているストライプ状の粒子１００Ａ、粒子１００Ｂは、転写シート２１Ｃの粒子非配設領域２４に位置するので、既に転写されている粒子１００Ａ、粒子１００Ｂと被形成体３１との段差に影響されることなく、粒子１００Ｃからなるストライプ状の単粒子膜を、粒子１００Ａ、粒子１００Ｂからなるストライプ状の単粒子膜１００Ａに隣接して形成することができる。
【００５７】
このようにして、３種の粒子１００Ａ、粒子１００Ｂ、粒子１００Ｃからなる各パターンを隣接して形成することができる。尚、このような複数種の粒子を用いて単粒子膜を形成する場合の粒子の種類の数には制限はない。また、上述の例では、粒子が一列に配列して１本のストライプ状配列が構成されたものであるが、ストライプ状配列における幅方向の粒子数は２個以上であってもよい。
【００５８】
次に、上述の本発明の単粒子膜形成用の原版１１を使用した本発明の単粒子膜の形成方法を説明する。
図１０〜図１２は、本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
本発明では、まず、熱収縮性フィルム４２′上に光熱変換層４３、発泡層４４、粘着層４５をこの順に積層する（図１０（Ａ））。
熱収縮性フィルム４２′としては、上述の実施形態の熱収縮性フィルム２２′として挙げたものを使用することができる。
【００５９】
光熱変換層４３は、後工程にて作製される転写シートに照射された光を効率良く熱に変換するためのものであり、例えば、樹脂バインダー中にシアニン系、ポリメチン系、アズレニウム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系色素等の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体等の赤外吸収色素を含有したもの、あるいは、酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）、鉛丹（Ｐｂ3Ｏ4）、黄鉛（ＰｂＣｒＯ4）、銀朱（ＨｇＳ）、群青（Ｎａ6Ａｌ6Ｓｉ6Ｏ24Ｓ4）、酸化コバルト（ＣｏＯ又はＣｏ3Ｏ4）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、二酸化チタン被覆雲母（ＴｉＯ2／Ｋ2Ｏ・３Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2・２Ｈ2Ｏ）、ストロンチウムクロメイト（ＳｒＣｒＯ4））、チタニウム・イエロー（ニッケルイエロー、クロムイエロー）、鉄黒（Ｆｅ3Ｏ4）、モリブデン赤（ＰｂＣｒＯ4・ｎＰｂＭｏＯ4・ｍＰｂＳＯ4・ｘＡｌ（ＯＨ）3）、モリブデンホワイト（ＺｎＭｏＯ4・ＺｎＯ又はＣａＺｎＭｏＯ4・ＣａＣＯ3）、リトポン（ＢａＳＯ4＋ＺｎＳ）、カドミウム赤（ＣｄＳ・ｎＣｄＳｅ）、ブロンズ粉（銅と亜鉛の合金）、アルミニウム粉等の近赤外領域に吸収帯をもつ金属酸化物やカーボンブラックを含有したもの、あるいは、上記物質単体からなる薄膜とすることができる。上記の樹脂バインダーとしては、上述の発泡層で挙げたような樹脂バインダーを使用することができる。また、樹脂バインダー中に含有される光熱変換性物質の含有量は、樹脂バインダー１００重量部に対して０．１〜５重量部の範囲で設定することが好ましい。
【００６０】
光熱変換層４３の形成は、上述の樹脂バインダーに光熱変換性物質と、必要に応じて架橋剤等を添加したものを、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで熱収縮性フィルム４２′上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。このような光熱変換層４３の厚みは、樹脂バインダー中に光熱変換性物質を含有する場合、例えば、１〜１００μｍの範囲で設定することができ、また、光熱変換性物質の薄膜である場合には、０．００１〜１０μｍの範囲で設定することができる。
【００６１】
上述の発泡層４４は、下記の樹脂バインダーに発泡剤と、必要に応じて熱伝導性物質、架橋剤等を添加したものを、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで光熱変換層４３上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
【００６２】
使用する発泡剤としては、例えば、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ′ジニトロソ−Ｎ，Ｎ′ジメチルテレフタルアミド、Ｐ−トルエンスルホニルヒドラジド、ヒドラゾルカルボンアミド、Ｐ−トルエンスルホニルアジド、アセトンバーＰ−スルホニルヒドラゾン等の有機系発泡剤、重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム等の無機系発泡剤、内部に低温で揮発する溶媒を含有した熱膨張性マイクロカプセル等が挙げられる。
【００６３】
上記の熱膨張性マイクロカプセルは、低温で揮発する炭化水素を熱可塑性樹脂からなる壁材の内部に包含させたカプセル構造をとるものであり、光照射（加熱）等により、未発泡状態の１０〜１５０倍程度の体積膨張を生じる。熱膨張性マイクロカプセルに内包させる炭化水素としては、塩化メチル、臭化メチル、トリクロロエタン、ジクロロエタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ペンタン、イソブタン、イソヘプタン、ネオペンタン、石油エーテル、フレオン等のフッ素原子をもつ脂肪族炭化水素、あるいは、これらの炭化水素の複合混合体等を用いることができる。
【００６４】
また、熱膨張性マイクロカプセルの壁材としては、塩化ビニリデン、塩化ビニル、アクリロニトリル、スチレン、ポリカーボネート、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、酢酸ビニルのポリマー、あるいは、これらの樹脂の共重合体や混合物等を用いることができる。また、必要の応じて、架橋剤を使用することもできる。このような熱膨張性マイクロカプセルの平均粒径は、例えば、０．１〜５０μｍ程度であってよい。
【００６５】
発泡層４４を構成する樹脂バインダーとしては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニルやポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル等のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリウレタン、アクリロニトリル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、また、加硫ゴムや未加硫ゴム等のゴム系樹脂等を挙げることができる。上記のゴム系樹脂としては、クロロプレンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、合成イソプレンゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ポリイソプレンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、塩素化ブチルゴム等の合成ゴムや天然ゴム等の未加硫ゴム、あるいは、加硫ゴムを挙げることができる。特に好ましいものとしては、ポリエステル、アクリロニトリル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ゴム系樹脂を挙げることができる。
【００６６】
発泡層４４では、光照射（加熱）等により、含有される発泡剤が発泡した際に、光照射（加熱）した部位と、他の部位との境界で正確に発泡層が盛り上がることが必要であり、このため、上記のバインダー樹脂の数平均分子量は１０００〜３００００、好ましくは３０００〜２５０００の範囲であることが望ましい。
発泡層４４における発泡剤の含有量は、有機系発泡剤や無機系発泡剤の場合、樹脂バインダー１００重量部に対して５〜１００重量部の範囲で設定することが好ましい。また、発泡剤が熱膨張性マイクロカプセルの場合、樹脂バインダー１００重量部に対して５〜８０重量部の範囲で設定することが好ましい。発泡剤の含有量が上記の範囲未満であると、発泡層が充分に発泡せず、また、上記の範囲を超えると、発泡層の破裂を生じ、正確な突出形状が形成できなくなり好ましくない。
【００６７】
上述のような発泡剤、バインダー樹脂を含有する発泡層４４の厚みは、使用する発泡剤、発泡剤の含有量、粒子１００の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子１００の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、１〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
尚、発泡層４４には、熱伝導性に優れた物質、例えば、銅、アルミニウム、酸化スズ、二硫化モリブデン等の金属、金属酸化物、あるいは、金属硫化物、カーボンブラック等の炭素質物質等を含有させてもよい。
【００６８】
また、上述の粘着層４５は、転写対象となる粒子１００を保持可能であり、かつ、光照射（加熱）等により、発泡層４４が突出したときに、粒子の転写が可能なものである。このような粘着層４５は、例えば、微粘着タイプあるいは再剥離性タイプの粘着剤を用いて形成することができる。また、粘着層４５の膜切れを良好なものとして、粘着層４５ごと粒子１００を転写可能としてもよい。粘着層４５の形成は、上記の粘着性物質を、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで発泡層４４上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。粘着層４５の厚みは、使用する材料の粘着性、膜切れ性等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１〜１０μｍの範囲で設定することができる。
【００６９】
次に、粘着層４５上に本発明の原版１１を配置し（図１０（Ｂ））、原版１１の貫通孔１３内に粒子１００を１個づつ載置し（図１０（Ｃ））、その後、原版１１を取り除くことにより、粘着層４５上に単粒子膜状態で粒子１００を転写する（図１０（Ｄ））。各貫通孔１３内への粒子１００の載置は、ブレードコート方法、例えば、乾燥状態にある粉体１００を原版１１上に散布し、ブレード１５により不要な粉体１００を除去する方法、粉体１００を分散させた分散液を原版１１上に塗布し、ブレード１５により不要な粉体１００を除去する方法等を用いることができる。ブレード１５による不要な粉体１００の除去では、ブレード１５と原版１１とのギャップを、粉体１００の平均粒子径ｄ未満に設定することが好ましい。
【００７０】
次いで、熱収縮性フィルム４２′を加熱して熱収縮させて基材４２を形成するとともに、粘着層４５上の粒子１００を接近させて転写シート４１を作製する（図１１（Ａ））。この熱収縮性フィルム４２′の熱収縮は、例えば、図６に示した熱収縮性フィルム２２′の熱収縮と同様に行うことができる。尚、熱収縮性フィルム４２′の熱収縮により粒子１００を接近させて転写シート４１を作製する際の粒子１００の挙動は、図７および図８に基づいた上述の説明と同様である。
【００７１】
以下の工程の説明では、上述の転写シート４１の作製を３種の粒子１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃについて行い、３種の転写シート４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ（図示せず）を作製した場合を例とする。
まず、粒子１００Ａを保持した転写シート４１Ａの粒子配設面を、被形成体５１に間隔を設けて対向させ、転写シート４１Ａの基材４２側（粒子配設面と反対側の面）から所望の部位４０Ａに光および／または熱を供給する（図１１（Ｂ））。
【００７２】
被形成体５１は特に制限はなく、図示例では、基板５２の一方の面に粘着層５３をそなえたものである。
転写シート４１Ａと被形成体５１の対向間隔は、後述のように、発泡層４４の発泡による盛り上がりによって突出した粒子１００Ａが、被形成体５１に当接し得る間隔であり、使用する転写シートに応じて、例えば、１０〜１１０μｍの範囲で設定することができる。
所望の部位４０Ａに供給する光としてはレーザー光を用い、供給された光は光熱変換層４３により熱に変換される。また、所望の部位４０Ａに熱を直接供給する場合には、サーマルヘッド、赤外線照射装置等を用いることができる。
【００７３】
上述のように所望の部位４０Ａに光および／または熱を供給することにより、転写シート４１Ａの発泡層４４のうち、部位４０Ａに対応する部位にて、含有する発泡剤が発泡する。これにより、発泡層４４が盛り上がり、粒子１００Ａが被形成体５１方向に突出し、被形成体５１の粘着層５３上に当接する（図１１（Ｃ））。その後、転写シート４１Ａを除去することにより、粒子１００Ａが被形成体５１に所望のパターンで単粒子状態で転写される。
次に、粒子１００Ｂを保持した転写シート４１Ｂの粒子配設面を、既に粒子１００Ａが単粒子状態で転写されている被形成体５１に間隔を設けて対向させ、転写シート４１Ｂの基材４２側（粒子配設面と反対側の面）から所望の部位４０Ｂに光および／または熱を供給する（図１２（Ａ））。この部位４０Ｂは、上述の部位４０Ａに隣接した部位とすることができる。
【００７４】
転写シート４１Ｂと被形成体５１の対向間隔、所望の部位４０Ｂへの光、熱の供給は、上記の転写シート４１Ａの場合と同様である。
光および／または熱が供給された部位４０Ｂでは、転写シート４１Ｂの発泡層４４のうち、部位４０Ｂに対応する部位にて、発泡剤の発泡が生じる。これにより、発泡層４４が盛り上がり、粒子１００Ｂが被形成体５１方向に突出し、被形成体５１の粘着層５３上（既に単粒子状態で転写されている粒子１００Ａに隣接する部位）に当接する（図１２（Ｂ））。その後、転写シート４１Ｂを除去することにより、粒子１００Ｂが被形成体５１に所望のパターンで単粒子状態で転写される。
【００７５】
上述のように、所望の部位４０Ｂの粒子１００Ｂのみを突出させて被形成体５１に転写することができるので、既に形成されている粒子１００Ａと被形成体５１との段差に影響されることなく、粒子１００Ａからなる単粒子膜に隣接させて粒子１００Ｂからなる単粒子膜を所望のパターンで形成することができる。
次いで、粒子１００Ｃを保持した本発明の転写シート４１Ｃ（図示せず）を用いて、上述の転写シート４１Ｂによる粒子１００Ｂの転写と同様の操作により、粒子１００Ａおよび粒子１００Ｂが転写されていない被転写体５１上に粒子１００Ｃを転写する。これにより、被転写体５１の粘着層５３に、単粒子状態の粒子１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃからなる各パターンを隣接して形成することができる（図１２（Ｃ））。
【００７６】
上述の単粒子膜の形成方法では、３種の粒子１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃを用いた例であるが、粒子の種類の数には制限はない。また、原版１１の代わりに、原版１を使用してもよい。
また、本発明の単粒子膜の形成方法で成膜対象となる粒子の大きさには、特に制限はなく、例えば、平均粒径が１０〜１００μｍの範囲内にある粒子を対象とすることができ、粒子の種類は、均一な材質からなる粒子、内部に異なる材料を包含するカプセル素子のような粒子等、特に制限はない。
【００７７】
上述のような本発明の単粒子膜の形成方法は、転写形成された単粒子膜にバインダーが存在しないので、高精細なパターンでの単粒子膜の形成が可能である。また、転写された粒子間にバインダーが存在しないので、粒子を加圧変形させて密着させることも可能である。さらに、溶融したバインダー中に粒子が置かれることがないので、粒子の受ける熱ダメージを最小限に抑えることができる。
尚、本発明の単粒子膜の形成方法では、転写シートとして、光熱変換層４３を備えていないもの、光熱変換層４３と発泡層４４の代わりに光熱変換発泡層を備えるもの、光熱変換層４３と発泡層４４と粘着層４５の代わりに光熱変換発泡性粘着層を備えているもの、基材４２の裏面に光熱変換層を備えるもの等を使用することもできる。
【００７８】
上記の光熱変換発泡層は、樹脂バインダー、発泡剤として上述の発泡層４４で挙げたような樹脂バインダー、発泡剤を使用することができ、また、光熱変換物質としては、上述の光熱変換層４３で挙げた光熱変換性物質を用いることができる。光熱変換発泡層における発泡剤の含有量は、樹脂バインダー１００重量部に対して５〜１００重量部の範囲、光熱変換性物質の含有量は、樹脂バインダー１００重量部に対して０．１〜５重量部の範囲でそれぞれ設定することが好ましい。このような光熱変換発泡層の厚みは、使用する発泡剤や光熱変換性物質、これらの含有量、粒子の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、１〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
【００７９】
また、上記の光熱変換発泡性粘着層は、上述の発泡層４４と光熱変換層４３と粘着層４５の全機能を備えたものであり、粘着性を有する樹脂バインダー中に発泡剤と光熱変換性物質を含有するものである。光熱変換発泡性粘着層を構成する粘着性を有する樹脂バインダーとしては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤等を使用することができる。
ゴム系粘着剤は、エラストマーをベースポリマーとし、ガラス転移温度が低く、高温までゴム域の広いポリマー（ゴム状物質）であるものを使用することができる。上記のエラストマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、グラフトゴム、再生ゴム、ポリビニルエーテル、アタクティックポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ブタジエンラバー等を挙げることができる。また、粘着剤の構成成分として、上記のエラストマーの他に、粘着付与剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤等を含有してもよい。
【００８０】
アクリル系粘着剤は、粘着性を与えるガラス転移温度の低い柔らかいアクリル酸エステル等のモノマーに、接着性や凝集力を与えるための高ガラス転移温度で硬いコモノマー、架橋や接着性の改良のための官能基含有モノマーが共重合されたものである。上記のモノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸オクチル−メタクリル酸共重合体等のアクリル系モノマーを挙げることができる。
また、発泡剤は、上述の発泡層４４で挙げたような発泡剤を使用することができ、光熱変換物質としては、上述の光熱変換層４３で挙げた光熱変換性物質を用いることができる。
【００８１】
光熱変換発泡性粘着層における発泡剤の含有量は、粘着性を有する樹脂バインダー１００重量部に対して５〜１００重量部の範囲、光熱変換性物質の含有量は、粘着性を有する樹脂バインダー１００重量部に対して０．１〜５重量部の範囲でそれぞれ設定することが好ましい。このような光熱変換発泡性粘着層の厚みは、使用する発泡剤や光熱変換性物質、これらの含有量、粒子の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、１〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
尚、上述の単粒子膜の形成方法では、熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製するものであったが、本発明では、熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、粘着層上の粒子を接近させて、基材上に単粒子膜を形成するものであってもよい。
【００８２】
［電気泳動表示装置］
次に、本発明の電気泳動表示装置について説明する。
図１３は、本発明の電気泳動表示装置の一実施形態を示す部分縦断面図である。図１３において、本発明の電気泳動表示装置７１は、透明パターン電極７３を一方の面に備えた透明基板７２と、透明パターン電極７７を一方の面に備えた透明基板７６とを電気泳動表示素子層８０を介して対向させたものである。電気泳動表示素子層８０は、透明パターン電極７３と透明パターン電極７７の間に、電気泳動表示素子８１が、図１４に示されるように最密充填で単粒子膜状態となるように配列したものである。
【００８３】
透明パターン電極７３は、電気的に独立した３種の透明パターン電極７３Ｙ，７３Ｍ，７３Ｃからなり、また、透明パターン電極７７も電気的に独立した３種の透明パターン電極７７Ｙ，７７Ｍ，７７Ｃからなっている。そして、透明パターン電極７３Ｙと７７Ｙが電気泳動表示素子８１Ｙを介して対向し、透明パターン電極７３Ｍと７７Ｍが電気泳動表示素子８１Ｍを介して対向し、透明パターン電極７３Ｃと７７Ｃが電気泳動表示素子８１Ｃを介して対向するように透明基板７２と透明基板７６とが配設されている。
【００８４】
透明基板７２，７６は、例えば、ガラス基板、透明樹脂基板等を使用することができ、厚みは１０μｍ〜５ｍｍ、好ましくは２５〜２００μｍの範囲で適宜設定することができる。尚、透明基板７２，７６の一方、すなわち、表示認識者から見て背面に位置する基板を、不透明な基板とすることもできる。この場合、基板として、電極面とは異なるもう一方の基板表面を粗面化あるいは金属膜を蒸着した不透明なガラス基板、染料または顔料を練り込んだ不透明樹脂基板等を使用することができ、この基板上に形成される電極も、下記のような透明電極でなく、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ等の金属電極であってもよい。
【００８５】
上記の透明パターン電極７３Ｙと７７Ｙ、透明パターン電極７３Ｍと７７Ｍ、透明パターン電極７３Ｃと７７Ｃは、それぞれ図示していない電圧印加装置に接続され、例えば、印加電圧１〜１００Ｖの範囲で任意に電極の電荷を制御可能とされている。上記のような透明パターン電極は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等を用いて、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の一般的な成膜方法により形成することができる。また、各透明パターン電極の線幅は１０〜１００μｍ程度の範囲で、電極の間隙は１０〜１００μｍ程度の範囲でそれぞれ設定することができる。
尚、本発明におけるパターン電極とは、上記のような微細パターンからなるパターン電極のみではなく、例えば、表示画面の全面に設けられた透明電極であって、基板の周辺部のシールド部に相当する部位には電極が存在しないようなパターンからなる電極も含むものである。
【００８６】
電気泳動表示素子８１は、電気泳動粒子８２と分散媒体８３をマイクロカプセル８４に収納したものであり、平均粒径は、例えば、１０〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍの範囲で設定できる。図示例では、電気泳動表示素子８１Ｙに分散媒体８３としてイエロー色の分散媒体８３Ｙが用いられ、電気泳動表示素子８１Ｍに分散媒体８３としてマゼンタ色の分散媒体８３Ｍが用いられ、また、電気泳動表示素子８１Ｃに分散媒体８３としてシアン色の分散媒体８３Ｃが用いられている。
電気泳動粒子８２としては、有色または無色（白色）の無機顔料粒子、有機顔料粒子を用いることが可能である。無機顔料粒子としては、鉛白、亜鉛華、リトポン、二酸化チタン、硫化亜鉛、酸化アンチモン、炭酸カルシウム、カオリン、雲母、硫酸バリウム、グロスホワイト、アルミナホワイト、タルク、シリカ、ケイ酸カルシウム、カドミウムイエロー、カドミウムリトポンホワイト、黄色酸化鉄、チタンイエロー、チタンバリウムイエロー、カドミウムオレンジ、カドミウムリトポンオレンジ、モリブデートオレンジ、ベンガラ、鉛丹、銀朱、カドミウムレッド、カドミウムリトポンレッド、アンバー、褐色酸化鉄、亜鉛鉄クロムブラウン、クロムグリーン、酸化クロム、ピリジアン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、チタンコバルトグリーン、紺青、コバルトブルー、群青、セルリアンブルー、コバルトアルミニウムクロムブルー、コバルトバイオレット、ミネラルバイオレット、カーボンブラック、鉄黒、マンガンフェライトブラック、コバルトフェライトブラック、銅クロムブラック、銅クロムマンガンブラック、黒色低次酸化チタン（チタンブラック）、アルミニウム粉、銅粉、鉛粉、錫粉、亜鉛粉等を使用することができる。また、有機顔料粒子としては、ファストイエロー、ジスアゾイエロー、縮合アゾイエロー、アントラピリミジンイエロー、イソインドリンイエロー、銅アゾメチンイエロー、キノフタロインイエロー、ベンズイミダゾロンイエロー、ニッケルジオキシムイエロー、モノアゾイエローレーキ、ジニトロアニリンオレンジ、ピラゾロンオレンジ、ペリノンオレンジ、ナフトールレッド、トルイジンレッド、パーマネントカーミン、ブリリアントファストスカーレッド、ピラゾロンレッド、ローダミン６Ｇレーキ、パーマネントレッド、リソールレッド、ボンレーキレッド、レーキレッド、ブリリアントカーミン、ボルドー１０Ｂ、ナフトールレッド、キナクリドンマゼンタ、縮合アゾレッド、ナフトールカーミン、ペリレンスカーレッド、縮合アゾスカーレッド、ベンズイミダゾロンカーミン、アントラキノニルレッド、ペリレンレッド、ペリレンマルーン、キナクリドンマルーン、キナクリドンスカーレッド、キナクリドンレッド、ジケトピロロピロールレッド、ベンズイミダゾロンブラウン、フタロシアニングリーン、ビクトリアブルーレーキ、フタロシアニンブルー、ファストスカイブルー、アルカリブルートーナー、インダントロンブルー、ローダミンＢレーキ、メチルバイオレットレーキ、ジオキサジンバイオレット、ナフトールバイオレット等を使用することができる。電気泳動粒子８２の平均粒径は２０ｎｍ〜１μｍ程度が好ましい。尚、電気泳動粒子８２は上記のものに限定されるものではない。
【００８７】
分散媒体８３は、例えば、芳香族炭化水素として、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ドデシルベンゼン等のアルキルベンゼン誘導体、フェニルキシリルエタン、１，１−ジトリルエタン、１，２−ジトリルエタン、１，２−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）（ＢＤＭＦ）等のジアリルアルカン誘導体、ジイソプロピルナフタレン等のアルキルナフタレン誘導体、モノイソプロピルフェニル、イソプロピルフェニル、イソアミルビフェニル等のアルキルビフェニル誘導体、各種割合にて水素化されたターフェニル誘導体、ジベンジルトルエン等のトリアリルジメタン誘導体、ベンジルナフタレン誘導体、フェニレンオキサイド誘導体、ジアルリアルキレン誘導体、アリルインダン誘導体、ポリ塩素化ビフェニル誘導体、ナフテン系炭化水素等が挙げられる。また、ヘキサン、シクロヘキサン、ケロシン、アイソバー、パラフィン系炭化水素等の脂肪族炭化水素類、クロロホルム、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ジクロロメタン、臭化エチル等のハロゲン化炭化水素類、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリシクロヘキシル等のリン酸エステル類、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジウラシル、フタル酸ジシクロヘキシル等のフタル酸エステル類、オレイン酸ブチル、ジエチレングリコールジベンゾエート、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリメリット酸トリオクチル、クエン酸アセチルトリエチル、マレイン酸オクチル、マレイン酸ジブチル、酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、塩素化パラフィン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−２−ブトキシ−５−ターシャリオクチルアニリン等が挙げられる。尚、分散媒体８３は上記のものに限定されるものではない。さらに、本発明においては、上記の分散媒体を単独で、または、２種以上を混合して使用することができる。
【００８８】
これらの分散媒体に、スピリットブラック（ＳＢ、ＳＳＢＢ、ＡＢ）、ニグロシンベース（ＳＡ、ＳＡＰ、ＳＡＰＬ、ＥＥ、ＥＥＬ、ＥＸ、ＥＸＢＰ、ＥＢ）、オイルイエロー（１０５、１０７、１２９、３Ｇ、ＧＧＳ）、オイルオレンジ（２０１、ＰＳ、ＰＲ）、ファーストオレンジ、オイルレッド（５Ｂ、ＲＲ、ＯＧ）、オイルスカーレット、オイルピンク３１２、オイルバイオレット＃７３０、マクロレックスブルーＲＲ、スミブラストグリーンＧ、オイルブラウン（ＧＲ、４１６）、スーダンブラックＸ６０、オイルグリーン（５０２、ＢＧ）、オイルブルー（６１３、２Ｎ、ＢＯＳ）、オイルブラック（ＨＢＢ、８６０、ＢＳ）、バリファーストイエロー（１１０１、１１０５、３１０８、４１２０）、バリファーストオレンジ（３２０９、３２１０）、バリファーストレッド（１３０６、１３５５、２３０３、３３０４、３３０６、３３２０）、バリファーストピンク２３１０Ｎ、バリファーストブラウン（２４０２、３４０５）、バリファーストブルー（３４０５、１５０１、１６０３、１６０５、１６０７、２６０６、２６１０）、バリファーストバイオレット（１７０１、１７０２）、バリファーストブラック（１８０２、１８０７、３８０４、３８１０、３８２０、３８３０）等の染料を適宜選択して含有させることにより、各色の分散媒体８３Ｙ，８３Ｍ，８３Ｃとすることができる。
【００８９】
また、マイクロカプセル８４の壁膜材料としては、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリ尿素−ポリウレタン、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリスルホンアミド、ポリカーボネート、ポリスルフィネート、エポキシリ、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、酢酸ビニル、ゼラチン等を使用することができ、壁膜の厚みは５０ｎｍ〜１μｍ、マイクロカプセル８４の直径は１０〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍ程度の範囲で設定することができる。
【００９０】
電気泳動表示素子層８０は、上記のような電気泳動表示素子８１が透明パターン電極７３上に最密充填状態で単粒子膜として配列されたものであり、均一な厚みを有するものとすることができる。
このような本発明の電気泳動表示装置７１では、透明パターン電極７３（７３Ｙ，７３Ｍ，７３Ｃ）と透明パターン電極７７（７７Ｙ，７７Ｍ，７７Ｃ）による電気泳動表示素子層８０への電圧印加により、電気泳動表示素子層８０を構成する電気泳動表示素子８１の電気泳動粒子８２がマイクロカプセル８４内を異なる電荷を有する電極に向かって電気泳動する現象を利用したカラー表示が可能である。そして、電気泳動表示素子層８０を構成する電気泳動表示素子８１が、図１４に示されるように最密充填で単粒子膜状態となるように配設されているので、ムラのない高品質の画像表示が可能である。
【００９１】
また、本発明の電気泳動表示装置７１では、電気泳動表示素子層８０（透明パターン電極７３，７７）が存在しない部位の色を背景色として利用した表示が可能となり、コントラストに優れた高品質表示が可能な電気泳動表示装置となる。例えば、表示認識者から見て背面に位置する基板を着色基板としたり、この基板に着色層や光反射層を設けることにより、電気泳動表示素子層８０（透明パターン電極７３，７７）が存在しない部位において、基板の色を背景色として積極的に利用することが可能となる。
【００９２】
尚、図１４に示される電気泳動表示素子８１の最密充填状態の配列においても、電気泳動表示素子８１間には間隙部が存在し、このような間隙部は表示に寄与しないものである。本発明では、透明パターン電極７３と７７の距離が電気泳動表示素子８１の平均粒径よりもやや小さくなるように透明基板８２と透明基板８６を接近させることにより、図１５に示されるように、電気泳動表示素子８１を構成するマイクロカプセル８４を若干押しつぶして、電気泳動表示素子８１の幅（図１５の矢印ａ方向）を高さよりも大きくすることにより、電気泳動表示素子８１間に存在する間隙部を減少させてもよい。
【００９３】
また、上述の電気泳動表示装置の実施形態は、Ｙ，Ｍ，Ｃの３色カラー表示が可能なものであるが、本発明の電気泳動表示装置はこれに限定されるものではない。例えば、分散媒体８３の色を所望の色とした１種類の電気泳動表示素子８１を使用して電気泳動表示素子層８０を形成することにより、分散媒体８３の色と電気泳動粒子８２の色を用いた単色表示の電気泳動表示装置とすることもできる。
【００９４】
本発明の電気泳動表示装置は、上述した本発明の単粒子膜形成用の原版を使用し、本発明の単粒子膜の形成方法（例えば、上述の図９に示される方法、上述の図１０〜図１２に示される方法）により、パターン電極上に電気泳動表示素子を単粒子膜状態となるように配設して電気泳動表示素子層を形成したものである。そして、本発明では、転写された電気泳動表示素子間にバインダーが存在しないので、上述のように電気泳動表示素子８１を構成するマイクロカプセル８４を若干押しつぶして密着させることも可能である。
尚、電気泳動表示素子のマイクロカプセル化は、従来公知の一般的マイクロカプセル化技術を使用することができる。一般的マイクロカプセル化法としては、合成反応を用いる界面重合法、in-situ重合法、高分子物性変化を生じさせる液中硬化被覆法等が挙げられる。また、物理化学的作製方法として、相分離を利用したコアセルベーション法、界面沈殿法（液中濃縮法、液中乾燥法、二次エマルジョン法）および融解分離法等が挙げられる。
【００９５】
上記の界面重合法は重縮合あるいは重付加反応するような２種のモノマーとして、水溶性のものと油溶性のものを選択し、いずれかを分散させて界面で反応させる方法である。また、上記のin-situ重合法は、核材の内または外の一方からリアクタント（モノマーや開始剤）を供給し、カプセル壁膜表面で反応させる方法である。液中硬化被覆法（オリフィス法）は、予め核材を壁膜材でカプセル化した後、その壁膜を硬化液中で硬化する方法である。
【００９６】
上記のコアセルベーション法は、水溶液系および有機溶媒系のいずれでも用いることができる。水溶液系では、溶解性の減少により相分離を生じさせる単純コアセルベーション法、電気的相互作用により相分離を生じさせる複合コアセルベーション法を用いることができる。有機溶媒系では、溶解性や温度等の変化による相分離現象を利用することができる。また、上記の界面沈殿法は、激しい反応や急激なｐＨ変化等を伴わない、温和な条件でカプセル化が可能な方法であり、例えば、電気泳動表示素子を分散した水溶液を疎水性高分子の溶剤溶液中に分散させた後、さらに保護コロイド溶液に分散させるものである。上記の融解分散法は、壁膜材としてワックスやポリエチレンのような蝋状物質を用いるものであり、加熱下で核材を蝋状物質と共に液中に分散した後冷却する方法である。
【００９７】
電気泳動表示素子は、電気泳動粒子と分散媒体をマイクロカプセルに収納したものであり、上述のような各種基本的な乳化油滴法やカプセル化法を応用することにより、マイクロカプセル化した電気泳動表示素子を作製することができる。
尚、上述の本発明の電気泳動表示装置の実施形態では、電気泳動表示素子８１が最密充填で単粒子膜状態となるように配列されているが、本発明の電気泳動表示装置では、電気泳動表示素子８１が単粒子膜であればよく、最密充填状態に限定されるものではない。
【実施例】
【００９８】
次に、より具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
＜単粒子膜形成用の原版の作製＞
厚さ３ｍｍのほう珪酸ガラス板（縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ）を基体とし、この基体上に真空蒸着法によりクロム薄膜（厚さ１０００Å）を成膜して基体とした。
次に、クロム薄膜上にフォトレジスト（日本ゼオン（株）製  ＺＰＰ１８００）を塗布した。その後、基体の両面を所定のフォトマスクを介して露光し、現像を行なって、厚さ２μｍのレジストパターンを形成した。露光は超高圧水銀ランプを光源とし、照射量は３６５ｎｍで１５０ｍＪ／ｃｍ2とした。また、現像は現像液（日本ゼオン（株）製  ＺＴＭＡ−Ｕ２０）を使用して行なった。
【００９９】
次いで、酸化セリウム系のエッチング液を用いて、湿式エッチングによりクロム薄膜をエッチングした。これにより、クロム薄膜とレジストパターンとの２層構造であり、円形の開口部（直径６０μｍ）を有するエッチングマスクを、基体両面に、円形の開口部の中心が一致するように形成した。
次に、上記のエッチングマスクを備えた基体をフッ化水素酸系のエッチング液に浸漬し、エッチングすることによって貫通孔を形成し、その後、水洗し、レジスト剥離剤を用いてレジストパターンを除去し、更に、酸化セリウム系のエッチング液を用いてクロム薄膜を除去して、原版Ａを得た。この原版Ａは、図２に示されるような構造であり、両面の孔径が６０μｍである貫通孔（中央部の内径は約５５μｍ）を図４に示すような単純立方格子配列（ピッチ１００μｍ）で複数備えるものであった。
【０１００】
＜単粒子膜の形成＞
粒子（電気泳動表示素子）の作製
二酸化チタン粒子（平均粒径２００ｎｍ）１２重量部、界面活性剤（ポリカルボン酸誘導体（花王（株）製  デモールＥＰ））１．５重量部、チタン系カップリング剤（味の素ファインテクノ（株）製  プレンアクトＫＲＴＴＳ）０．５重量部、青色アントラキノン系染料（Oil Blue G extra）１重量部、ヘキシルベンゼン８５重量部とを、超音波分散により混和し、この混合液を使用してアラビアゴムゼラチン系の複合コアセルベーション法により、マイクロカプセル化した電気泳動表示素子Ａ（マイクロカプセルの平均径５０μｍ）を作製し、分散含有液とした。
【０１０１】
また、上記の青色アントラキノン系染料の代わりに、赤色ジアゾ系染料（Ｏｉｌ  Ｒｅｄ  Ｂ）を用いることにより、マイクロカプセル化した電気泳動表示素子Ｂ（マイクロカプセルの平均径５０μｍ）を作製し、分散含有液とした。
【０１０２】
光熱変換層、発泡層、粘着層の形成
熱収縮性フィルムとして、厚さ３０μｍの二軸収縮型フィルム（三菱樹脂（株）製  ヒシペットＰＳ−４０Ｓ）を準備した。このフィルムの一方の面に、下記組成の光熱変換層塗布液をブレードコート法により塗布し乾燥して、光熱変換層（厚み５μｍ）を形成した。
（光熱変換層塗布液）
・アクリル樹脂（綜研化学（株）製  Ｍ−２０００）    …    ２０重量部
・ポリメチン系赤外吸収色素                          …      １重量部
（日本化薬（株）製  ＩＲ−８２０Ｂ）
・トルエン／メチルエチルケトン／酢酸ブチル          …    ８０重量部
【０１０３】
次に、この光熱変換層上に、下記組成の発泡層塗布液をブレードコート法により塗布し乾燥して、発泡層（厚み３０μｍ）を形成した。
（発泡層塗布液）
・ポリエステル水分散液                              …    ４０重量部
（東洋紡績（株）製  バイロナールＭＤ−１９３０、
固形文濃度３０％、樹脂の数平均分子量２５０００）
・発泡性マイクロカプセル                            …    １５重量部
（松本油脂製薬（株）製  マツモトマイクロスフェアーＦ−２０ＶＳ）
・水                                                …    ２０重量部
【０１０４】
次いで、この発泡層上に、アクリル系粘着剤（東亜合成（株）製  アロンＳ−１６０１）をバーコート法により塗布し乾燥して、粘着層（厚み３μｍ）を形成した。この粘着層の２５℃、１００℃におけるタック値を下記の測定条件にて測定した、その結果、２５℃でのタック値は１９、１００℃でのタック値は１０であった。
（タック値の測定条件）
ＪＩＳ  Ｚ０２３７に準拠し、（株）上島製作所製のボールタックテスタ（ＶＲ−５７
１０）を使用し、３０°に傾斜したガラス基板上に測定試料をセットし、種々の大き
さのクロム鋼球を転がし、粘着層上で停止する球の大きさをタック値とした。
【０１０５】
原版Ａへの粒子（電気泳動表示素子）の載置と転写シートの作製
次に、上記の粘着層上に上述のように作製した原版Ａを設置し、電気泳動表示素子Ａの分散含有液をブレードコート法により塗布した。この際、原版Ａとブレードとのギャップは２０μｍとした。これにより、原版Ａの各貫通孔の開口部に電気泳動表示素子Ａが１個づつ載置された。その後、原版Ａを取り除いて、粘着層上に電気泳動表示素子Ａの単粒子膜（単純立方格子配列）を形成した。
また、同様に、別の熱収縮性フィルムの粘着層上に電気泳動表示素子Ｂを１個づつ載置して、単粒子膜を形成した。
【０１０６】
上記の電気泳動表示素子Ａ、Ｂについて、画像解析により粒子占有面積比から粒子充填率を計測（粒子が最密充填状態にあるときを１００％とする）した結果、粒子充填率は３３％であった。
次に、シリコーン剥離剤（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製  ＳＨ２００）を塗布して離型層を形成した１組のガラス基板を準備した。このガラス基板を用いて、離型層が対向するようにして上記の電気泳動表示素子Ａの単粒子膜を保持した熱収縮性フィルムを挟持し、ガラス基板の周縁部に厚み８５μｍのスぺーサを介装させて、ガラス基板の間隙距離を一定なものとした。
【０１０７】
次に、ガラス基板で挟持した状態で、オーブン中にて、常温から１００℃まで加熱（昇温速度１０℃／分）し、その後、オーブンから取り出して室温まで冷却した。冷却後、ガラス基板を取り外した。これにより、粘着層上に電気泳動表示素子Ａが単粒子膜状態で転写された転写シート１Ａが得られた。
また、同様にして、粘着層上に電気泳動表示素子Ｂが単粒子膜状態で転写された転写シート１Ｂを作製した。
上述のように作製した転写シート１Ａ、１Ｂにおける電気泳動表示素子Ａ、Ｂの粒子充填率を上記と同様に測定した結果、粒子充填率は１００％まで向上していることが確認された。
【０１０８】
次に、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、幅５０μｍのストライプ形状の酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜を６０μｍピッチで１７０本形成して電極とした。このストライプ形状の電極は、１本おきに接続され、したがって、隣り合う電極は電気的に独立したものとした。この電気的に独立した２系統のストライプ形状電極の一方を電極Ａ、他方を電極Ｂとした。
次に、このＰＥＴフィルムのＩＴＯ電極を覆うようにアクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−１６０１）をバーコート法により塗布して、厚み１０μｍの粘着層を形成した。
【０１０９】
次いで、電気泳動表示素子Ａを保持した転写シート１Ａを、電気泳動表示素子Ａが、ＩＴＯ電極上の粘着層と４５μｍの間隔をなすように、上記のＰＥＴフィルムに対向させた。この状態で、転写シート１Ａの基材側からレーザー（半導体レーザー：波長８３０ｎｍ）を、ストライプ形状の電極Ａに対応するように照射（照射量１５０ｍＷ）した。このレーザー照射により、照射部位の発泡層が約５０μｍ盛り上がり、その部位の電気泳動表示素子Ａが電極Ａ上の粘着層に当接した。その後、転写シート１Ａを除去した。これにより、レーザー照射部位の電気泳動表示素子Ａがストライプ形状の電極Ａ上に単粒子状態で転写された。
【０１１０】
次に、電気泳動表示素子Ｂを保持した転写シート１Ｂを、電気泳動表示素子Ｂが、ＩＴＯ電極上の粘着層と５０μｍの間隔をなすように、上記のＰＥＴフィルム（既に電気泳動表示素子Ａが転写されている）に対向させた。この状態で、転写シート１Ｂの基材側からレーザー（半導体レーザー：波長８３０ｎｍ）を、ストライプ形状の電極Ｂに対応するように照射（照射量１５０ｍＷ）した。このレーザー照射により、照射部位の発泡層が約５０μｍ盛り上がり、その部位の電気泳動表示素子Ｂが電極Ｂ上の粘着層に当接した。その後、転写シート１Ｂを除去した。これにより、電気泳動表示素子Ｂがストライプ形状の電極Ｂ上に単粒子状態で転写された。
【０１１１】
このように電極Ａ、電極Ｂ上にそれぞれ単粒子状態で形成された電気泳動表示素子Ａと電気泳動表示素子Ｂは、電極Ａと電極Ｂの境界において１０μｍ以下の間隙をなして隣接するものであった。
次いで、電極Ａ、電極Ｂ上にそれぞれ電気泳動表示素子Ａと電気泳動表示素子Ｂを備えたＰＥＴフィルムの上記電気泳動表示素子上に、ＩＴＯ蒸着膜（共通電極）を備えた厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを圧着し、単粒子膜を構成する電気泳動表示素子Ａ，Ｂを変形させて、最密充填の間隙部を埋めながら密着した。この結果、表示に寄与しない電気泳動表示素子間の間隙部が極めて少ない電気泳動表示パネルを作製した。
【０１１２】
上記の電気泳動表示パネルの対向する電極Ａと共通電極間に±２０Ｖの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子（二酸化チタン粒子）が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白／青の鮮明な表示が可能であることが確認された。また、電気泳動表示パネルの対向する電極Ｂと共通電極間に±２０Ｖの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子（二酸化チタン粒子）が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白／赤の鮮明な表示が可能であることが確認された。
【０１１３】
［実施例２］
まず、基材上に、光熱変換層を設けず、発泡層と粘着層のみを形成した他は、実施例１と同様にして、転写シート２Ａ（電気泳動表示素子Ａを保持）と転写シート２Ｂ（電気泳動表示素子Ｂを保持）の作製までを行った。
次に、実施例１と同様に、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、電気的に独立した２系統のストライプ形状のＩＴＯ電極である電極Ａ、電極Ｂを形成し、このＩＴＯ電極を覆うように粘着層を形成した。
【０１１４】
次いで、電気泳動表示素子Ａを保持した転写シート２Ａを、電気泳動表示素子Ａが、ＩＴＯ電極上の粘着層と４５μｍの間隔をなすように、上記のＰＥＴフィルムに対向させた。この状態で、転写シート１Ａの基材側からサーマルヘッド（グラフテック（株）製  ＴＨ３８２００）を用いて、ストライプ形状の電極Ａに対応するように加熱した。このサーマルヘッドによる加熱により、加熱部位の発泡層が約５０μｍ盛り上がり、その部位の電気泳動表示素子Ａが電極Ａ上の粘着層に当接した。その後、転写シート２Ａを除去した。これにより、電気泳動表示素子Ａがストライプ形状の電極Ａ上に単粒子状態で転写された。
【０１１５】
次に、電気泳動表示素子Ｂを保持した転写シート２Ｂを、電気泳動表示素子Ｂが、ＩＴＯ電極上の粘着層と５０μｍの間隔をなすように、上記のＰＥＴフィルムに対向させた。この状態で、転写シート２Ｂの基材側から、上記のサーマルヘッドを用いて、ストライプ形状の電極Ｂに対応するように加熱し、その後、転写シート２Ｂを除去した。これにより、電気泳動表示素子Ｂがストライプ形状の電極Ｂ上に単粒子状態で転写された。
このように電極Ａ、電極Ｂ上にそれぞれ単粒子状態で形成された電気泳動表示素子Ａと電気泳動表示素子Ｂは、電極Ａと電極Ｂの境界において１０μｍ以下の間隙をなして隣接するものであった。
【０１１６】
次いで、実施例１と同様にして、電気泳動表示パネルを作製した。
この電気泳動表示パネルの対向する電極Ａと共通電極間に±２０Ｖの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子（二酸化チタン粒子）が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白／青の鮮明な表示が可能であることが確認された。また、電気泳動表示パネルの対向する電極Ｂと共通電極間に±２０Ｖの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子（二酸化チタン粒子）が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白／赤の鮮明な表示が可能であることが確認された。
【０１１７】
［実施例３］
＜単粒子膜形成用の原版の作製＞
厚さ３ｍｍのほう珪酸ガラス板（縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ）を基体とし、この基体上に真空蒸着法によりクロム薄膜（厚さ１０００Å）を成膜して基体とした。
次に、クロム薄膜上にフォトレジスト（日本ゼオン（株）製  ＺＰＰ１８００）を塗布した。その後、基体の一方の面を所定のフォトマスクを介して露光し、現像を行なって、厚さ２μｍのレジストパターンを形成した。露光は超高圧水銀ランプを光源とし、照射量は３６５ｎｍで１５０ｍＪ／ｃｍ2とした。また、現像は現像液（日本ゼオン（株）製  ＺＴＭＡ−Ｕ２０）を使用して行なった。
【０１１８】
次いで、酸化セリウム系のエッチング液を用いて、湿式エッチングによりクロム薄膜をエッチングした。これにより、クロム薄膜とレジストパターンとの２層構造であり、円形の開口部（直径６０μｍ）を有するエッチングマスクを基体に形成した。
次に、上記のエッチングマスクを備えた基体をフッ化水素酸系のエッチング液に浸漬し、基体の凹部を形成し、その後、水洗し、レジスト剥離剤を用いてレジストパターンを除去し、更に、酸化セリウム系のエッチング液を用いてクロム薄膜を除去して、原版Ｂを得た。この原版Ｂは図１に示されるような構造であり、円形開口（開口径６０μｍ）をもつ凹部（深さ４０μｍ）を一方の面に図４に示すような単純立方格子配列（ピッチ１００μｍ）で複数備えるものであった。
【０１１９】
＜単粒子膜の形成＞
原版Ｂへの粒子（電気泳動表示素子）の載置
次に、上述のように作製した原版Ｂに、電気泳動表示素子Ａの分散含有液（実施例１にて調製したもの）をブレードコート法により塗布した。この際、原版Ｂとブレードとのギャップは２０μｍとした。これにより、原版Ｂの各凹部に電気泳動表示素子Ａが１個づつ載置された。
同様にして、別の原版Ｂの各凹部に電気泳動表示素子Ｂを１個づつ載置した。
【０１２０】
転写シートの作製
熱収縮性フィルムとして、厚さ３０μｍの一軸収縮型フィルム（三菱樹脂（株）製  ヒシペットＬＸ−１０Ｓ）を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤（東亜合成（株）製  アロンＳ−１６０１）をバーコート法により塗布し乾燥して、粘着層（厚み３μｍ）を形成した。この粘着層の２５℃、１００℃におけるタック値を実施例１と同様の測定条件にて測定した、その結果、２５℃でのタック値は１９、１００℃でのタック値は１０であった。
次に、粘着層上に原版Ｂに載置された電気泳動表示素子Ａを転写した。また、別の熱収縮性フィルムの粘着層上に原版Ｂに載置された電気泳動表示素子Ｂを転写した。
【０１２１】
次に、実施例１と同様にして、熱収縮性フィルムの熱収縮を行い、粘着層上に電気泳動表示素子Ａが単粒子膜状態で転写された転写シート３Ａを作製した。この転写シート３Ａでは、幅５０μｍのストライプ状配列が、幅６０μｍの粒子非配設領域を介して存在するものであった。
また、同様にして、粘着層上に電気泳動表示素子Ｂが単粒子膜状態で転写された転写シート３Ｂを作製した。
次いで、実施例１と同様に、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、電気的に独立した２系統のストライプ形状のＩＴＯ電極である電極Ａ、電極Ｂを形成し、このＩＴＯ電極を覆うように粘着層を形成した。
【０１２２】
次いで、電気泳動表示素子Ａを保持した転写シート３Ａ、および、電気泳動表示素子Ｂを保持した転写シート３Ｂを用いて、電極Ａ上に単粒子状態で電気泳動表示素子Ａを形成し、電極Ｂ上に単粒子状態で電気泳動表示素子Ｂを形成した。
このように電極Ａ、電極Ｂ上にそれぞれ単粒子状態で形成された電気泳動表示素子Ａと電気泳動表示素子Ｂは、電極Ａと電極Ｂの境界において１０μｍ以下の間隙をなして隣接するものであった。
次いで、実施例１と同様にして、電気泳動表示パネルを作製した。
【０１２３】
この電気泳動表示パネルの対向する電極Ａと共通電極間に±２０Ｖの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子（二酸化チタン粒子）が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白／青の鮮明な表示が可能であることが確認された。また、電気泳動表示パネルの対向する電極Ｂと共通電極間に±２０Ｖの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子（二酸化チタン粒子）が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白／赤の鮮明な表示が可能であることが確認された。
【０１２４】
［比較例１］
＜単粒子膜形成用の転写シートの作製＞
まず、実施例１と同様にして、基材上に光熱変換層を形成した。
次に、上記の光熱変換層上に、下記組成の粒子層塗布液Ａをブレードコート法により塗布し乾燥して、厚み５０μｍの粒子層（バインダー中に粒子として電気泳動表示素子Ａを含有）を形成して比較転写シートＡを作製した。
（粒子層塗布液Ａ）
・ポリビニルアルコール                              …    １０重量部
（和光純薬工業（株）製  ＰＶＡ３５００）
・水                                                …    ９０重量部
・電気泳動表示素子Ａ                                …    ９０重量部
【０１２５】
同様に、下記組成の粒子層塗布液Ｂを用いて、厚み５０μｍの粒子層（バインダー中に粒子として電気泳動表示素子Ｂを含有）を備えた比較転写シートＢを作製した。
（粒子層塗布液Ｂ）
・ポリビニルアルコール                              …    １０重量部
（和光純薬工業（株）製  ＰＶＡ３５００）
・水                                                …    ９０重量部
・電気泳動表示素子Ｂ                                …    ９０重量部
【０１２６】
＜単粒子膜の形成＞
実施例１と同様に、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、電気的に独立した２系統のストライプ形状のＩＴＯ電極である電極Ａ、電極Ｂを形成した。
次いで、比較転写シートＡの粒子層（厚み５０μｍ）を、ＰＥＴフィルムのＩＴＯ電極に密着させ、比較転写シートＡの基材側からレーザー（半導体レーザー：波長８３０ｎｍ）を、ストライプ形状の電極Ａに対応するように照射（照射量１５０ｍＷ）した。その後、比較転写シートＡを除去した。これにより、電気泳動表示素子Ａがバインダーとともにストライプ形状の電極Ａ上に転写された。しかし、転写時の熱によって、バインダーが溶融し、転写された際に広がりを生じ、ライン太り（幅約１００μｍ）がみられた。
【０１２７】
次に、比較転写シートＢを、上記のＰＥＴフィルム（既に電気泳動表示素子Ａが転写されている）に密着させ、上記と同様の条件で、基材側からストライプ形状の電極Ｂに対応するようにレーザー照射を行なった。これにより、電気泳動表示素子Ｂがバインダーとともにストライプ形状の電極Ｂ上に転写された。しかし、既に転写されている電気泳動表示素子Ａのライン太りによって、電極Ｂの一部にもバインダーが存在しており、転写された電気泳動表示素子Ｂのラインは、電気泳動表示素子Ａのラインのバインダー上に乗り上げる状態となった。このため、転写された電気泳動表示素子Ｂのラインと、既に転写されている電気泳動表示素子Ａのラインとの間に約１０〜５０μｍ程度の段差が生じた。
【０１２８】
次いで、電極Ａ、電極Ｂ上にそれぞれ電気泳動表示素子Ａと電気泳動表示素子Ｂを備えた上記のＰＥＴフィルムの電気泳動表示素子上に、ＩＴＯ蒸着膜（共通電極）を備えた厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを圧着し、電気泳動表示パネルを作製した。しかし、電気泳動表示素子間にバインダーが存在するため、充分に圧着できず、電気泳動表示素子間に隙間が残った。
上記の電気泳動表示パネルの対向する電極Ａと共通電極間に±２０Ｖの直流電圧を印加したところ、表示に寄与しない電気泳動表示素子間の間隙部が原因となり、実施例の電気泳動表示パネルに比べてコントラストが低いものであった。
また、上記の圧着を、加熱によりバインダーを柔軟な状態とした条件下で行なったが、上述の電気泳動表示素子Ａと電気泳動表示素子Ｂの間の段差が原因となり、電気泳動表示素子Ｂが電気泳動表示素子Ａを覆うように圧縮変形し、コントラストの低下を招いた。
【０１２９】
［比較例２］
実施例３と同様にして、比較原版Ａを作製した。この比較原版Ａは、円形開口（開口径８０μｍ）をもつ凹部（深さ４０μｍ）を一方の面に図４に示すような単純立方格子配列（ピッチ１００μｍ）で複数備えるものであった。
次に、上述のように作製した比較原版Ａに、電気泳動表示素子Ａの分散含有液（実施例１にて調製したもの）をブレードコート法により塗布した。この際、比較原版Ａとブレードとのギャップは２０μｍとした。しかし、比較原版Ａには、電気泳動表示素子Ａが複数載置された凹部が存在し、均一な単粒子膜を形成するための粒子の載置は困難であった。
【０１３０】
［比較例３］
実施例３と同様にして、比較原版Ｂを作製した。この比較原版Ｂは、円形開口（開口径６０μｍ）をもつ凹部（深さ２０μｍ）を一方の面に図４に示すような単純立方格子配列（ピッチ１００μｍ）で複数備えるものであった。
次に、上述のように作製した比較原版Ｂに、電気泳動表示素子Ａの分散含有液（実施例１にて調製したもの）をブレードコート法により塗布した。この際、比較原版Ｂとブレードとのギャップは２０μｍとした。しかし、比較原版Ｂには、電気泳動表示素子Ａが載置されていない凹部が存在し、均一な単粒子膜を形成するための粒子の載置は困難であった。
【産業上の利用可能性】
【０１３１】
粒子を単粒子膜とすることが要求される種々の用途に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１３２】
【図１】本発明の単粒子膜形成用の原版の一実施形態を示す概略断面図である。
【図２】本発明の単粒子膜形成用の原版の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図３】本発明の単粒子膜形成用の原版における凹部の配列例を示す図である。
【図４】本発明の単粒子膜形成用の原版における貫通孔の配列例を示す図である。
【図５】本発明の単粒子膜の形成方法の一実施形態を示す工程図である。
【図６】本発明の単粒子膜の形成方法における熱収縮性フィルムの熱収縮処理の一例を説明するための図である。
【図７】本発明の単粒子膜の形成方法における熱収縮性フィルムの熱収縮時の粒子の挙動を説明するための図である。
【図８】本発明の単粒子膜の形成方法における熱収縮性フィルムの熱収縮時の粒子の挙動を説明するための図である。
【図９】本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を示す工程図である。
【図１０】本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を示す工程図である。
【図１１】本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を示す工程図である。
【図１２】本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を示す工程図である。
【図１３】本発明の電気泳動表示装置の一実施形態を示す部分縦断面図である。
【図１４】本発明の電気泳動表示装置における電気泳動表示素子の配列を示す平面面である。
【図１５】本発明の電気泳動表示装置の他の実施形態を示す部分縦断面図である。
【符号の説明】
【０１３３】
１，１１…原版
２，１２…基体
３…凹部
１３…貫通孔
２１，４１……転写シート
２２′，４２′…熱収縮性フィルム
２２，４２…基材
２３…粘着層
４３…光熱変換層
４４…発泡層
４５…粘着層
３１，５１…被形成体
７１…電気泳動表示装置
７３（７３Ｙ，７３Ｍ，７３Ｃ）…透明パターン電極
７７（７７Ｙ，７７Ｍ，７７Ｃ）…透明パターン電極
８０…電気泳動表示素子層
８１（８１Ｙ，８１Ｍ，８１Ｃ）…電気泳動表示素子
８２電気泳動粒子
８３（８３Ｙ，８３Ｍ，８３Ｃ）…分散媒体
８４…マイクロカプセル
１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ…粒子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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