(57)【要約】【課題】設置面積を十分に小さくし得る熱処理装置を提供する。【解決手段】ディスク状体９１を載置可能に構成された複数のトレイ２と、複数のトレイ２を垂直面Ａ内における仮想円および仮想長円のいずれかの円上に並べて配設した状態で保持しつついずれかの円に沿って循環移動させる循環機構３と、複数のトレイ２および循環機構３を収容するアニールチャンバ４とを備えている。この場合、複数のトレイ２を垂直面Ａ内における仮想長円Ｂに沿って循環移動させる構成を採用することにより、仮想長円Ｂにおける直線領域を延ばしてトレイの数２を増加させることができる。【選択図】図１
2006127712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱体を載置可能に構成された複数のトレイと、
前記複数のトレイを所定の垂直面内における仮想円および仮想長円のいずれかの円上に並べて配設した状態で保持しつつ当該いずれかの円に沿って循環移動させる循環機構と、
前記複数のトレイおよび前記循環機構を収容するチャンバとを備えている熱処理装置。
【請求項２】
前記循環機構は、一対のスプロケット間にそれぞれ架け渡された状態で前記垂直面を挟んで互いに対向して配設された一対のエンドレスチェーンと、当該一対のエンドレスチェーンのそれぞれに等間隔でかつ当該一対のエンドレスチェーンのうちの一方に取り付けられたものと他方に取り付けられたものとがそれぞれ対向する状態で取り付けられた複数の支持アームと、前記対向する支持アーム間に掛け渡されて前記各トレイを回動自在に支持する複数の支持シャフトとを備えて構成され、
前記各トレイは、前記支持シャフトが回動自在に挿通される軸受部と、前記被加熱体を載置可能に構成されると共に前記軸受部に取り付けられたトレイ本体と、前記軸受部を挟んで当該軸受部における前記トレイ本体の取付位置とは反対側の位置に取り付けられた重りとを備えている請求項１記載の熱処理装置。
【請求項３】
前記チャンバ内に収容されると共に、前記被加熱体を入れ替える入替位置に循環移動した前記トレイを支持する前記支持アームの移動を規制するストッパ機構を備えている請求項２記載の熱処理装置。
【請求項４】
前記チャンバの天板には、前記循環機構によって前記いずれかの円の頂部に位置する前記入替位置に循環移動された前記複数のトレイのうちの１つに前記被加熱体を載置するための挿入孔が形成されている請求項３記載の熱処理装置。
【請求項５】
前記トレイの前記入替位置への循環移動を検出して検出信号を出力する位置センサと、
前記検出信号が出力されたときに前記ストッパ機構を作動させることにより、前記入替位置に循環移動した前記トレイを支持する前記支持シャフトの移動を規制する制御部とを備えている請求項３または４記載の熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加熱体に対して熱処理処理を行う際に使用される熱処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の熱処理装置として、例えば、特開２００３−１６２８４７号公報に開示されたアニール装置（アニール処理装置）が知られている。このアニール装置は、アニールチャンバと、アニールチャンバ内に回転自在に配設された回転テーブルとを備えている。この場合、回転テーブルは、その外周付近に等角度間隔でディスク支持部が複数設置されており、中心周りに間欠的に回転する。このアニール装置では、回転テーブルを回転させることにより、ディスク支持部にセットされたディスク（被加熱体の一例）をアニールチャンバ内において水平面内で円形の軌跡を描くように搬送しつつアニール処理を実行可能となっている。
【特許文献１】特開２００３−１６２８４７号公報（第５−６頁、第３図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、従来のアニール装置には、以下の改善すべき課題がある。すなわち、このアニール装置では、アニールチャンバ内において、非加熱体としてのディスクを円形の軌跡を描くようにして同一の水平面内で搬送しつつアニール処理を行っている。このため、このアニール装置には、装置の設置面積を十分に小さくするのが困難であり、この点を改善するのが好ましい。
【０００４】
本発明は、かかる改善すべき課題を解決すべくなされたものであり、設置面積を十分に小さくし得る熱処理装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成すべく本発明に係る熱処理装置は、被加熱体を載置可能に構成された複数のトレイと、前記複数のトレイを所定の垂直面内における仮想円および仮想長円のいずれかの円上に並べて配設した状態で保持しつつ当該いずれかの円に沿って循環移動させる循環機構と、前記複数のトレイおよび前記循環機構を収容するチャンバとを備えている。
【０００６】
この場合、一対のスプロケット間にそれぞれ架け渡された状態で前記垂直面を挟んで互いに対向して配設された一対のエンドレスチェーンと、当該一対のエンドレスチェーンのそれぞれに等間隔でかつ当該一対のエンドレスチェーンのうちの一方に取り付けられたものと他方に取り付けられたものとがそれぞれ対向する状態で取り付けられた複数の支持アームと、前記対向する支持アーム間に掛け渡されて前記各トレイを回動自在に支持する複数の支持シャフトとを備えて前記循環機構を構成し、前記支持シャフトが回動自在に挿通される軸受部と、前記被加熱体を載置可能に構成されると共に前記軸受部に取り付けられたトレイ本体と、前記軸受部を挟んで当該軸受部における前記トレイ本体の取付位置とは反対側の位置に取り付けられた重りとを備えて前記各トレイを構成することができる。
【０００７】
また、前記チャンバ内に収容されると共に、前記被加熱体を入れ替える入替位置に循環移動した前記トレイを支持する前記支持アームの移動を規制するストッパ機構を備えて熱処理装置を構成することもできる。
【０００８】
また、前記循環機構によって前記いずれかの円の頂部に位置する前記入替位置に循環移動された前記複数のトレイのうちの１つに前記被加熱体を載置するための挿入孔を前記チャンバの天板に形成する構成を採用することができる。
【０００９】
また、前記トレイの前記入替位置への循環移動を検出して検出信号を出力する位置センサと、前記検出信号が出力されたときに前記ストッパ機構を作動させることにより、前記入替位置に循環移動した前記トレイを支持する前記支持シャフトの移動を規制する制御部とを備えた構成を採用することもできる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る熱処理装置によれば、循環機構が所定の垂直面内における仮想円および仮想長円のいずれかの円上に並べて配設した状態で複数のトレイを保持しつつこのいずれかの円に沿って循環移動させることにより、チャンバ内において被加熱体を円形の軌跡を描くようにして水平面内で搬送しつつ熱処理を行う従来の構成と比較して、熱処理装置における平面視外形を小形化することができる結果、熱処理装置の設置面積を十分に小さくすることができる。この場合、複数のトレイを所定の垂直面内における仮想長円に沿って循環移動させる構成を採用することにより、仮想長円における直線領域を延ばしてトレイの数を増加させることができるため、熱処理装置の設置面積を一定に維持しつつ、熱処理装置において一度に熱処理できる被加熱体（トレイ）の数を大幅に増加させることもできる。
【００１１】
また、本発明に係る熱処理装置によれば、一対のスプロケット間にそれぞれ架け渡された一対のエンドレスチェーンと、一対のエンドレスチェーンのそれぞれに等間隔で取り付けられた複数の支持アームと、対向する支持アーム間に掛け渡されて各トレイを回動自在に支持する複数の支持シャフトとを備えて循環機構を構成し、軸受部、トレイ本体および重りを備えて各トレイを構成したことにより、チャンバ内の所定の垂直面内におけるいずれかの円に沿って複数のトレイを循環移動させて各被加熱体に対して熱処理を実行する構成を簡易に実現することができる。また、複数のトレイを所定の垂直面内における仮想長円に沿って循環移動させる構成では、エンドレスチェーンの長さを変えるだけで、仮想長円における直線領域を延ばしてトレイの数を簡単に増加させることができるため、熱処理装置の設置面積を一定に維持したまま、熱処理装置において一度に熱処理できる被加熱体のトレイの数を確実かつ簡易に増加させることができる。
【００１２】
また、本発明に係る熱処理装置によれば、チャンバ内に収容されると共に入替位置に循環移動したトレイを支持する支持アームの移動を規制するストッパ機構を備えたことにより、各エンドレスチェーンと各スプロケットとの間に存在するバックラッシュに起因する支持アームのがたつきをストッパ機構によって抑制することができる。このため、入替位置でのトレイおよびトレイに載置された被加熱体のがたつきを防止することができる結果、入替位置のトレイに対する被加熱体の入替作業を高精度で実行することができる。
【００１３】
また、本発明に係る熱処理装置によれば、入替位置に循環移動されたトレイに被加熱体を載置するための挿入孔をチャンバの天板に形成したことにより、いずれかの円の頂部に位置する入替位置に循環移動したトレイに対して、その真上から被加熱体の入替処理を実行することができるため、例えば被加熱体を入れ替える入替装置を上下機構などによって簡易に構成することができる。
【００１４】
また、本発明に係る熱処理装置によれば、トレイの入替位置への循環移動を検出して検出信号を出力する位置センサと、検出信号が出力されたときにストッパ機構を作動させることにより入替位置に循環移動したトレイを支持する支持シャフトの移動を規制する制御部とを備えたことにより、循環移動しているトレイを入替位置において、がたつきのない状態で確実に停止させることができる。したがって、入替位置に位置しているトレイに対する被加熱体の入替作業を高い精度で実行することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明に係る熱処理装置の最良の形態について、図面を参照して説明する。なお、図５に示す層構成の次世代の高密度光ディスク（以下、「ディスク状体」ともいう）９１を被加熱体としてアニール処理するアニール装置を例に挙げて説明する。この場合、このディスク状体９１は、基材９２と、基材９２の表面（同図では上面）に形成された情報層９３と、情報層９３を覆うようにして情報層９３の上に形成された光透過層９４およびハードコート層９５とを備えて構成されている。このディスク状体９１は、波長が３５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内の青色または青紫色のレーザー光（一例として、波長が４０５ｎｍのレーザー光）がハードコート層９５および光透過層９４の側から照射されることによってデータの記録および読出しが可能に構成されている。アニール装置は、この光透過層９４およびハードコート層９５の各形成時において、光透過層９４およびハードコート層９５に含まれている溶剤を揮発させるために使用される。
【００１６】
最初に、アニール装置１の構成について、図面を参照して説明する。
【００１７】
アニール装置１は、図１，２に示すように、複数のトレイ２、循環機構３、アニールチャンバ（本発明におけるチャンバ）４、モータ５、位置センサ６、ストッパ機構７および制御部８を備え、アニールチャンバ４の内部において、所定の垂直面Ａ（図２参照）上における仮想長円Ｂ（図１参照）に沿って複数のトレイ２および各トレイ２に載置されたディスク状体９１を循環移動させる。
【００１８】
アニールチャンバ４は、図１，２に示すように、ディスク状体９１をアニールチャンバ４内に挿入するための挿入孔４ａが天板４ｂに形成されている。この場合、挿入孔４ａは、仮想長円Ｂの頂部に位置する入替位置Ｃ（同図における最上位の位置）に循環機構３によって移動されたトレイ２に対して、天板４ｂの上方からディスク状体９１を載置可能な位置に形成されている。また、アニールチャンバ４は、対向する２つの壁部４ｃ，４ｄ間に水平に掛け渡された２本の棒状の架橋部材４ｅ，４ｆを内部に有している。この場合、架橋部材４ｅは、架橋部材４ｆの真上に位置して、架橋部材４ｆと平行に配設されている。
【００１９】
循環機構３は、一対のエンドレスチェーン１１ａ，１１ｂ（以下、特に区別しないときには「エンドレスチェーン１１」ともいう）、複数の支持アーム１２，１２，・・、複数の支持シャフト１３，１３，・・、２つの駆動スプロケット１４ａ，１４ａ、２つの従動スプロケット１４ｂ，１４ｂ、１本の駆動シャフト１５、２本の従動シャフト１６，１６、および６つの軸受１７，１７，・・を備えて構成されている。この場合、６つの軸受１７，１７，・・のうちの２つが、架橋部材４ｅの上面に互いに対向した状態で配設されて、駆動シャフト１５を回動自在に支持する。この場合、駆動シャフト１５の一端側（図２中の右端側）は、壁部４ｄを貫通してアニールチャンバ４の外部に突出して、モータ５の出力軸に連結されている。一方、６つの軸受１７，１７，・・のうちの残りの４つは、架橋部材４ｆの下面に互いに対向した状態で配設されている。このうちの２つの軸受１７，１７に１本の従動シャフト１６が回転自在に支持され、他の２つの軸受１７，１７に他の１本の従動シャフト１６が回転自在に支持されている。この場合、２本の従動シャフト１６，１６は、互いの軸線が一致して共に駆動シャフト１５の軸線と平行となり、かつ駆動シャフト１５の直下に位置するように、それぞれの軸受１７，１７，・・によって支持されている。
【００２０】
駆動スプロケット１４ａおよび従動スプロケット１４ｂは、同一の直径に形成されている。このうち、駆動スプロケット１４ａ，１４ａは、駆動シャフト１５に取り付けられて、駆動シャフト１５の軸線を中心として駆動シャフト１５と一体的に回動する。各従動スプロケット１４ｂ，１４ｂは、その一方が各従動シャフト１６，１６のうちの一方に、その他方が各従動シャフト１６，１６のうちの他方にそれぞれ取り付けられている。この構成により、各従動スプロケット１４ｂ，１４ｂは、各従動シャフト１６，１６の軸線を中心としてそれぞれの従動シャフト１６，１６と一体的に回動する。この場合、垂直面Ａを基準として同一側に配設された駆動スプロケット１４ａと従動スプロケット１４ｂとが、同一の垂直面（垂直面Ａと平行な垂直面）内に配設されて、この垂直面内でそれぞれ回動する。また、垂直面Ａを基準として同一側に配設された駆動スプロケット１４ａと従動スプロケット１４ｂには、テンションを付与された状態でエンドレスチェーン１１が掛け渡されている。この場合、エンドレスチェーン１１が掛け渡された駆動スプロケット１４ａおよび従動スプロケット１４ｂが同一の直径に形成されると共に同一の垂直面内に配設され、かつ従動シャフト１６が駆動シャフト１５の直下に配設されている。このため、各エンドレスチェーン１１における直線領域が互いに平行となる結果、各エンドレスチェーン１１の全体形状は、図１に示すように、鉛直方向に延びた長円形に形成される。したがって、この鉛直方向において数多くのトレイ２を重ねることができるため、アニール装置１における平面視外形が小形化される結果、アニール装置１の設置面積が十分に小さくなる。
【００２１】
支持アーム１２，１２，・・は、その総数がトレイ２の数の２倍に規定されると共に、図１に示すように、同じ数ずつ等間隔で、かつエンドレスチェーン１１の外側に向けてほぼ直角に延出するように各エンドレスチェーン１１にそれぞれ取り付けられている。また、エンドレスチェーン１１ａに取り付けられた各支持アーム１２，１２，・・は、エンドレスチェーン１１ｂに取り付けられた各支持アーム１２，１２，・・と対向するように、その取付位置が規定されている。支持シャフト１３，１３，・・は、その総数がトレイ２と同数に規定されると共に、図２に示すように、互いに対向して配設されたエンドレスチェーン１１ａ側の支持アーム１２の先端とエンドレスチェーン１１ｂ側の支持アーム１２の先端との間に掛け渡して配設されている。この場合、各支持アーム１２，１２，・・における各エンドレスチェーン１１への取付部位（基部）と、各支持アーム１２，１２，・・における各支持シャフト１３の取付部位（先端）との間の長さは、等しい長さ（所定長）に設定されている。モータ５は、制御信号Ｓａを入力しているときに作動して、出力軸に連結された駆動シャフト１５を回転させる。この構成により、モータ５によって駆動シャフト１５が回転されて、各エンドレスチェーン１１ａ，１１ｂが駆動されたときに、各支持シャフト１３は、互いに平行な状態を維持しつつ、図２に示すように、長円形の各エンドレスチェーン１１ａ，１１ｂから所定長だけ離間した位置に規定される仮想長円Ｂ上を移動する。
【００２２】
複数のトレイ２は、図２に示すように、トレイ本体２ａ、軸受部２ｂおよび重り２ｃをそれぞれ備えている。この場合、トレイ本体２ａは、その上面にディスク状体９１を載置可能に構成されている。また、トレイ本体２ａは、その底面が軸受部２ｂに固定されている。重り２ｃは、軸受部２ｂにおけるトレイ本体２ａの取付位置に対して反対側の位置に取り付けられている。また、重り２ｃの重量はディスク状体９１およびトレイ本体２ａの総重量を超える値に設定されている。この構成を備えた各トレイ２は、軸受部２ｂに支持シャフト１３が回動自在に挿通されることにより、各支持シャフト１３における垂直面Ａとの交差部位（一例として支持シャフト１３の中心）に回動自在に取り付けられている。したがって、各支持シャフト１３に取り付けられたトレイ２は、重り２ｃが支持シャフト１３の直下に常時位置するように軸受部２ｂを回動させる。この結果、トレイ本体２ａは、支持シャフト１３の直上に常時位置して、載置されたディスク状体９１を水平状態に常に維持する。
【００２３】
位置センサ６は、図２に示すように、架橋部材４ｅの上面に取り付けられたセンサ取付台２１に固定されて、入替位置Ｃにトレイ２が移動した際に、その入替位置Ｃに位置しているトレイ２に挿通されている支持シャフト１３の直下に位置するように配設されている。また、位置センサ６は、支持シャフト１３が真上に位置するときにのみ、検出信号Ｓｂを生成して制御部８に出力する。この場合、位置センサ６は、例えば、近接スイッチやフォトセンサなどで構成されている。
【００２４】
ストッパ機構７は、図２，３に示すように、シリンダ装置７ａ、シリンダ装置７ａの出力軸７ｂに取り付けられた規制部材７ｃ、および支持カム７ｄを備えて構成されている。シリンダ装置７ａは、架橋部材４ｅの上面に取り付けられたストッパ取付台２２に、その出力軸７ｂを循環機構３側に向けた状態で固定されている。また、シリンダ装置７ａは、入替位置Ｃに位置したトレイ２に挿通された支持シャフト１３を支持する一対の支持アーム１２のうちの一方の側方（図２中では、一例として左側方）に配設されている。また、シリンダ装置７ａは、制御信号Ｓｃを入力しているときに、出力軸７ｂを循環機構３側に突出させ、制御信号Ｓｃを入力していないときに、突出させた出力軸７ｂを元の待機位置に引き戻す。規制部材７ｃは、図３に示すように、その先端側の平面形状が循環機構３側に向かうに従って次第に広がるＹ字状に形成されている。支持カム７ｄは、図２に示すように、一例としてセンサ取付台２１に取り付けられて、図２，３に示すように、ストッパ機構７の規制部材７ｃと対向する位置に配設されている。また、支持カム７ｄは、少なくとも規制部材７ｃとの対向面が曲面になる平面形状（本例では、図３に示すように全体形状が楕円形）に形成されることにより、各支持アーム１２が支持カム７ｄとの干渉を回避しつつ支持カム７ｄの前方を経由してスムーズに循環移動できるように構成されている。このように構成されたストッパ機構７は、図４に示すように、シリンダ装置７ａが作動して出力軸７ｂが循環機構３側に突出した際に、Ｙ字状の規制部材７ｃで支持アーム１２を出力軸７ｂの軸線上に位置決めしつつ、規制部材７ｃと支持カム７ｄとの間で支持アーム１２を挟持してその位置を固定する（支持アーム１２の循環移動を規制する）。
【００２５】
制御部８は、アニール装置１の外部に設置された入替装置３１による入替位置Ｃに位置するトレイ２へのディスク状体９１の入替処理に連動させて、モータ５およびストッパ機構７を作動させることにより、第１の搬送装置３２によってアニール装置１に搬送されてくるディスク状体９１に対して順次アニール処理を実行すると共に、アニール処理後のディスク状体９１を第２の搬送装置３３上に載置することによって次の工程へ搬送させる。
【００２６】
次いで、アニール装置１の動作について図６を参照して説明する。なお、アニール装置１によるアニール処理が既に実行されている状態であって、アニールチャンバ４のすべてのトレイ２上にディスク状体９１が載置されているものとする。この場合、各ディスク状体９１には、図外のスピンコート装置により、その表面に樹脂材料を含む光透過層が形成され、さらにこの光透過層の表面に潤滑剤からなるハードコート層が形成されているものとする。
【００２７】
制御部８は、制御信号Ｓａを出力してモータ５を作動させることにより、駆動シャフト１５および各駆動スプロケット１４ａ，１４ａを介して各エンドレスチェーン１１ａ，１１ｂを駆動させる。これにより、各エンドレスチェーン１１ａ，１１ｂに取り付けられた各支持アーム１２、および各対向する支持アーム１２，１２間に掛け渡された各支持シャフト１３が移動することにより、各支持シャフト１３に回動自在に取り付けられた各トレイ２が、垂直面Ａ内における仮想長円Ｂに沿って、図１に示す矢印方向に同時に循環移動する（ステップ１００）。この移動の際に、各トレイ２に載置されている各ディスク状体９１は、各トレイ２によって常に水平な状態に維持される。次いで、制御部８は、制御信号Ｓａをモータ５に出力している状態において、位置センサ６からの検出信号Ｓｂの入力を連続して検出する（１０１）。制御部８は、この検出信号Ｓｂの入力を検出するまで、制御信号Ｓａを連続してモータ５に出力する。
【００２８】
次いで、複数のトレイ２のうちの１つが図１，２に示すように入替位置Ｃ（仮想長円Ｂ上の頂部）に達したときに、このトレイ２が取り付けられた支持シャフト１３も同様にして仮想長円Ｂ上の頂部に達する。このため、位置センサ６は、この支持シャフト１３の仮想長円Ｂ上の頂部への移動を検出して、検出信号Ｓｂを制御部８に出力する。これにより、制御部８は、ステップ１０１において検出信号Ｓｂを入力するため、モータ５への制御信号Ｓａの出力を停止して、モータ５による駆動シャフト１５の駆動を停止させてトレイ２の循環移動を停止させる（ステップ１０２）。この結果、トレイ２は、入替位置Ｃで停止される。この場合、トレイ２は、各エンドレスチェーン１１ａ，１１ｂに取り付けられた一対の支持アーム１２によって支持されているため、各エンドレスチェーン１１ａ，１１ｂと各スプロケット１４ａ，１４ｂとの間に存在するバックラッシュに起因して入替位置Ｃにおいて若干がたつくこととなる。
【００２９】
この際に、制御部８は、制御信号Ｓｃを出力してストッパ機構７を作動させることにより、入替位置Ｃに循環移動したトレイ２の入替位置Ｃでの上記のがたつきを回避しつつ位置決めを実行する（ステップ１０３）。具体的には、ストッパ機構７では、シリンダ装置７ａが、制御信号Ｓｃを入力した時点で作動して、出力軸７ｂを循環機構３側に向けて突出させる。これにより、出力軸７ｂの先端に取り付けられた規制部材７ｃが、図３に示す待機位置から図４に示す位置決め位置まで移動する。この結果、仮想長円Ｂの頂部に位置する支持シャフト１３を支持する一対の支持アーム１２のうちの一方（ストッパ機構７側の支持アーム１２）が、図４に示すように、Ｙ字状に形成された規制部材７ｃによって位置決めされつつ支持カム７ｄ側に押圧されることにより、規制部材７ｃと支持カム７ｄとの間で挟持される。これにより、一対の支持アーム１２のうちの一方のがたつきが抑制され、さらには支持シャフト１３で連結された他の支持アーム１２のがたつきも抑制される結果、一対の支持アーム１２によって支持されたトレイ２の入替位置Ｃでのがたつきが回避される。
【００３０】
次いで、制御部８は、制御信号Ｓｃの出力後に、トレイ２（およびディスク状体９１）の入替位置Ｃへの移動完了を示す移動完了信号Ｓｄを入替装置３１に対して出力すると共に、入替装置３１からの後述する入替完了信号Ｓｅの入力を連続して検出することにより、入替装置３１によるディスク状体９１の入替処理の完了を連続して検出する（ステップ１０４）。
【００３１】
入替装置３１は、移動完了信号Ｓｄを入力したときに、ディスク状体９１の入替処理を実行する。具体的には、入替装置３１は、挿入孔４ａからアニールチャンバ４内にチャック部３１ａを挿入して入替位置Ｃに移動されたディスク状体９１をトレイ２上でチャッキングし、チャッキングしたディスク状体９１を挿入孔４ａを介してアニールチャンバ４の外部に搬出すると共に、第２の搬送装置３３上に載置する。続いて、入替装置３１は、第１の搬送装置３２によってアニール装置１まで搬送されたディスク状体９１をチャッキングし、挿入孔４ａからアニールチャンバ４内にチャック部３１ａを挿入して入替位置Ｃに位置しているトレイ２上に搬入（載置）する。次いで、入替装置３１は、チャック部３１ａを挿入孔４ａから引き出してアニールチャンバ４の外部に移動させることにより、入替処理を完了する。また、入替装置３１は、入替処理完了したときに、入替完了信号Ｓｅを制御部８に出力する。なお、第２の搬送装置３３は、載置されたディスク状体９１を次の工程に搬送し、第１の搬送装置３２は、次のディスク状体９１をアニール装置１まで搬送する。
【００３２】
制御部８は、ステップ１０４において、入替完了信号Ｓｅの入力を検出したときには、ストッパ機構７への制御信号Ｓｃの出力を停止することにより、ストッパ機構７による支持アーム１２の挟持動作を終了させる（ステップ１０５）。この場合、ストッパ機構７では、制御信号Ｓｃの入力停止により、シリンダ装置７ａが出力軸７ｂを図３に示す元の待機位置に移動させる。これにより、規制部材７ｃも待機位置に移動される結果、規制部材７ｃと支持カム７ｄとによる支持アーム１２の挟持動作が解除されて、各支持アーム１２が移動可能な状態になる。その後、制御部８は、ステップ１００に移行し、上述したステップ１００〜１０５を繰り返し実行することにより、第１の搬送装置３２によって間欠的に搬送され、入替装置３１によって間欠的にトレイ２上に搬入されるディスク状体９１に対して、アニール処理を順次実行して、第２の搬送装置３３上に順次搬出する。
【００３３】
このように、このアニール装置１によれば、循環機構３が所定の垂直面内Ａにおける仮想長円Ｂ上に並べて配設した状態で複数のトレイ２を保持しつつ仮想長円Ｂに沿って循環移動させることにより、アニールチャンバ内においてディスクを円形の軌跡を描くようにして水平面内で搬送しつつアニール処理を行う従来の構成と比較して、アニール装置１における平面視外形を小形化することができる結果、アニール装置１の設置面積を十分に小さくすることができる。特に、複数のトレイ２を所定の垂直面Ａ内における仮想長円Ｂに沿って循環移動させるようにしたことにより、仮想長円Ｂにおける直線領域を延ばしてトレイ２の数を増加させることができるため、アニール装置１の設置面積を一定に維持しつつ、アニール装置１において一度にアニール処理できるディスク状体９１（トレイ２）の数を大幅に増加させることもできる。
【００３４】
また、このアニール装置１によれば、一対の駆動スプロケット１４ａおよび従動スプロケット１４ｂ間にそれぞれ架け渡された一対のエンドレスチェーン１１ａ，１１ｂと、一対のエンドレスチェーン１１ａ，１１ｂのそれぞれに等間隔で取り付けられた複数の支持アーム１２と、対向する支持アーム１２，１２間に掛け渡されて各トレイ２を回動自在に支持する複数の支持シャフト１３とを備えて循環機構３を構成し、トレイ本体２ａ、軸受部２ｂおよび重り２ｃを備えて各トレイ２を構成したことにより、アニールチャンバ４内の所定の垂直面Ａ内における仮想長円Ｂに沿って複数のトレイ２を循環移動させて各ディスク状体９１に対してアニール処理を実行する構成を簡易に実現することができる。また、エンドレスチェーン１１ａ，１１ｂの長さを変えるだけで、仮想長円Ｂにおける直線領域を延ばしてトレイ２の数を簡単に増加させることができるため、アニール装置１の設置面積を一定に維持したまま、アニール装置１において一度にアニール処理できるディスク状体９１のトレイ２の数を確実かつ簡易に増加させることができる。
【００３５】
また、このアニール装置１によれば、アニールチャンバ４内に収容されると共に入替位置Ｃに循環移動したトレイ２を支持する支持アーム１２の移動を規制するストッパ機構７を備えたことにより、各エンドレスチェーン１１ａ，１１ｂと各スプロケット１４ａ，１４ｂとの間に存在するバックラッシュに起因する支持アーム１２のがたつきをストッパ機構７によって抑制することができる。このため、入替位置Ｃでのトレイ２およびトレイ２に載置されたディスク状体９１のがたつきを防止することができる結果、入替位置Ｃのトレイ２に対する挿入孔４ａを介してのディスク状体９１の入替作業を高精度で実行することができる。
【００３６】
また、このアニール装置１によれば、入替位置Ｃに循環移動されたトレイ２にディスク状体９１を載置するための挿入孔４ａをアニールチャンバ４の天板に形成したことにより、仮想長円Ｂの頂部に位置する入替位置Ｃに循環移動したトレイ２に対して、その真上からディスク状体９１の入替処理を実行することができるため、例えば上下機構などによって入替装置３１を簡易に構成することができる。
【００３７】
また、このアニール装置１によれば、トレイ２の入替位置Ｃへの循環移動を検出して検出信号Ｓｂを出力する位置センサ６と、検出信号Ｓｂが出力されたときにストッパ機構７を作動させることにより、入替位置Ｃに循環移動したトレイ２を支持する支持アーム１２の移動を規制する制御部８とを備えたことにより、循環移動しているトレイ２を入替位置Ｃにおいて、がたつきのない状態で確実に停止させることができる。したがって、入替位置Ｃに位置しているトレイ２に対する挿入孔４ａを介してのディスク状体９１の入替作業を高い精度で実行することができる。
【００３８】
なお、本発明は上記の構成に限定されない。例えば、一対の駆動スプロケット１４ａ，従動スプロケット１４ｂ間に各エンドレスチェーン１１を長円形に架け渡すことによってトレイ２を仮想長円Ｂに沿って移動させる例を挙げて説明したが、例えば、図７に示すアニール装置４１のように、支持シャフト１３を支持する一対の支持アーム１２，１２を、駆動シャフト１５に取り付けられた一対の円板体４２，４２（同図中では１つの円板体４２のみを示す）に等角度間隔で複数（同図では一例として６つ）取り付けて循環機構４３を構成することができる。この場合、駆動シャフト１５を中心として放射状になるように一対の円板体４２，４２に支持アーム１２，１２を連結する。この循環機構４３では、駆動シャフト１５を中心として回転させることにより、各支持シャフト１３に取り付けられた複数のトレイ２が仮想円Ｄに沿って循環移動する。この構成の循環機構４３においてトレイ２の数を増やす場合、各円板体４２の直径を大径にする必要があるため、アニール装置４１の設置面積はトレイ２の数の増加に応じて増加する。しかしながら、このアニール装置４１によれば、駆動シャフト１５を含む水平面よりも上側に位置するトレイ２（ディスク状体９１）の下に、この水平面よりも下側に位置するトレイ２（ディスク状体９１）が鉛直方向において重なるため、同数のトレイ２（ディスク状体９１）をアニールチャンバ内において円形の軌跡を描くようにして水平面内で搬送しつつアニール処理を行う従来の構成と比較して、アニール装置４１の設置面積を十分に小さく抑えることができる。なお、アニール装置１と同一の構成については、同一の符号を付して重複する説明を省略する。また、アニールチャンバ４の天板４ｂに挿入孔４ａを形成することにより、トレイ２に対して天板４ｂの上方からディスク状体９１を載置する例について説明したが、図示はしないが、挿入孔４ａをアニールチャンバ４の側壁、具体的には側壁における入替位置Ｃの側方に位置する部位（入替位置Ｃと平行な位置にある部位）に形成することにより、入替位置Ｃに位置するトレイ２に対してその側方からディスク状体９１を載置するように構成することもできる。
【００３９】
また、被加熱体として、図５に示す層構成の次世代の高密度光ディスク９１を例に挙げて説明したが、他の層構成の光ディスク（ディスク状体）に対するアニール処理（熱処理）にもアニール装置１を使用できるのは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】アニール装置１の構成を示す断面図であって、図２におけるＸ−Ｘ線断面図である。
【図２】アニール装置１の構成を示す断面図である。
【図３】ストッパ機構７の作動解除状態を示す平面図である。
【図４】ストッパ機構７の作動状態を示す平面図である。
【図５】ディスク状体９１の層構成を示す断面図である。
【図６】アニール装置１によるアニール処理を説明するためのフローチャートである。
【図７】アニール装置４１の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４１】
１，４１  アニール装置
２  トレイ
２ａ  トレイ本体
２ｂ  軸受部
２ｃ  重り
３  循環機構
４  アニールチャンバ
４ａ  挿入孔
４ｂ  天板
６  位置センサ
７  ストッパ機構
８  制御部
１１ａ，１１ｂ  エンドレスチェーン
１２  支持アーム
１３  支持シャフト
１４ａ  駆動スプロケット
１４ｂ  従動スプロケット
９１  ディスク状体
Ａ  垂直面
Ｂ  仮想長円
Ｃ  入替位置
【図１】
2006127712.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006127712.tif 000009