(57)【要約】【課題】ピンホールリークによる黒点の発生を防止しつつ、かつゴーストの発生のない良好な出力画像を得ることができる、電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供すること。【解決手段】  例えば、導電性支持体上に下引き層と感光層とを有する電子写真感光体２０７において、下引き層が金属酸化物微粒子、結着樹脂を含み、かつ、電子写真感光体２０７の表面を繰り返し、帯電装置２０８による帯電、露光装置２１０による露光および光除電器２１４による光除電を行う過程で下記式（１）を満たす。  −３．０≦（ＲＰ−ΔＶＬ）／Ｌ≦−１．０    式（１）（ただし、式（１）中、ΔＶＬは２サイクル目の露光後の電子写真感光体２０７の表面電位から１サイクル目の露光装置２１０による露光後の電子写真感光体２０７の表面電位を引いた差分を示し、ＲＰは、１サイクル目の光除電器２１４による光除電後の電子写真感光体２０７の表面電位を示し、Ｌは前記感光層の膜厚を示す。）【選択図】        図４
2006317557.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に下引き層と感光層とを有する電子写真感光体において、
前記下引き層が金属酸化物微粒子、結着樹脂を含み、
かつ、前記電子写真感光体の表面を繰り返し帯電、露光および光除電を行う過程で下記式（１）を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
−３．０≦（ＲＰ−ΔＶＬ）／Ｌ≦−１．０    式（１）
（ただし、式（１）中、ΔＶＬは２サイクル目の露光後の電子写真感光体の表面電位から１サイクル目の露光後の電子写真感光体の表面電位を引いた差分を示し、ＲＰは、１サイクル目の光除電後の電子写真感光体の表面電位を示し、Ｌは前記感光層の膜厚を示す。）
【請求項２】
前記下引き層の膜厚が１５μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１乃至２のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、
前記帯電装置により帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、
前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、
現像されたトナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
前記転写装置において、前記トナーの帯電極性と逆極性の転写電圧が、前記電子写真感光体表面に印加され、かつ該転写電圧により電子写真感光体の感光層に印加される電界強度が、１．０×１０5Ｖ／ｃｍ以上４．０×１０5Ｖ／ｃｍ以下の範囲であることを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
請求項１乃至２のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電装置、露光装置及びクリーニング装置からなる群より選ばれる少なくとも一つと、を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、この電子写真感光体を用いた画像形成装置およびプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
いわゆる電子写真式の画像形成装置は、電子写真感光体を用いて帯電、露光、現像、転写などの工程を含む画像形成サイクルを行うことにより画像を形成する装置であり、高速、かつ高印字品質が得られるという利点を有するため、複写機、レーザビームプリンター等の分野で広く利用されている。これら電子写真式の画像形成装置において用いられる電子写真感光体として、安価で製造性および廃棄性の点で優れた利点を有する、有機光導電材料を用いた有機電子写真感光体が広く用いられている。
【０００３】
有機電子写真感光体の場合、アルミニウムなどの導電性基体上に下引き層を形成し、その上に感光層を形成する構成を取るものが多い。電子写真感光体において下引き層の果たすべき役割は大きく、導電性基体と感光層を十分に密着させるための結着層としてだけではなく、導電性基体上の欠陥や汚れを隠蔽したり、導電性基体より感光層に対して、電荷が過剰に注入するのを防ぐ役割も担う。
【０００４】
近年、電子写真式の画像形成装置において、非接触帯電方式であるコロトロンに替わり、オゾン発生量の少ない接触帯電方式の帯電装置が用いられるようになり、電子写真感光体の局所的な劣化部に対して、接触帯電時に加わる局所的な高電界により、電気的なピンホールリークを生じ、これが画質欠陥（黒点）となって生じる場合がある。このピンホールリークは上述の電子写真感光体自体の塗膜欠陥などにより生じる場合もあるが、それ以外にも、電子写真式画像形成装置の装置内で発生したり、また外部より装置内に侵入してきた導電性の異物等が、電子写真感光体に接触または貫入することで生じることがある。
【０００５】
このような課題に対して、下引き層を厚膜化することで導電性基材の欠陥を隠蔽し、かつ、電子写真感光体外部からの導電性の異物の貫入を防ぐ方法が講じられている。下引き層を厚膜化する場合、電子写真感光体としての電気的特性を安定化させるために、下引き層中に金属酸化物微粒子を含有させる場合が多い。例えば、特許文献１には、酸化チタン微粒子を熱硬化性樹脂中に所定の体積含有率で含有させた下引き層を用いることで、黒点発生を防止する技術が提案されている。また、特許文献２には、酸化チタン微粒子を特定ブロック共重合体に含有させた下引き層により黒点発生を防止する技術が、またさらには、特許文献３には、酸化チタン微粒子を含有する下引き層中に、ポリエチレングリコールエステルを含有させることで、黒点発生を防止する技術が提案されている。
【０００６】
ピンホールリーク防止の観点からは、下引き層は厚いほど大きな効果を有する。しかし一方で、下引き層を厚膜化すると、下引き層が電気的特性に与える影響が大きくなる。そのため、下引き層と感光層の界面、および下引き層バルク内において、電荷がスムーズに流れるようにすることが重要となる。すなわち、電子写真感光体を負に帯電して使用する場合、下引き層から感光層へのホール（正孔）の注入性が低い（ホールブロッキング性が高い）こと、また、感光層から下引き層へのエレクトロン（電子）の注入性が高いことが望まれる。下引き層から感光層へのホールの注入性が高い場合、カブリや黒点などの画質欠陥が発生する。また、感光層から下引き層へのエレクトロンの注入性が低い場合は、前サイクルでの画像が次サイクルで浮き出る所謂ゴーストと呼ばれる現象や、長期使用における電気的特性の変化による画質低下を引き起こす原因となる。
【０００７】
これら、下引き層と感光層の界面および下引き層バルク内での電荷の移動を改善するために、これまで種々の検討がなされている。例えば、下引き層から感光層へのホールの注入阻止性を向上させる手段として、特許文献４および特許文献５には、アミノ基を有するシランカップリング剤を用いてホールブロッキング性を向上させる技術が提案されている。
【特許文献１】特開平０８−０４４０９６号公報
【特許文献２】特開平１１−３３８１７６号公報
【特許文献３】特開平１１−３３８１７８号公報
【特許文献４】特開平０８−１６６６７９号公報
【特許文献５】特開平１１−１３３６４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、これら従来の技術を用いた場合では、下引き層と感光層界面および下引き層バルク内での電荷移動を十分には制御することができず、ゴーストの発生を効果的に防止することが困難であった。特に、ピンホールリークにより発生する黒点の発生を防止するために下引き層を厚膜化した場合、ゴーストの発生を効果的に防止する手段は、従来公知の技術では得ることができない。
【０００９】
本発明は、上記従来技術が有する課題に鑑みてなされたものであり、ピンホールリークによる黒点の発生を防止しつつ、かつゴーストの発生のない良好な出力画像を得ることができる、電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、下引き層中に金属酸化物微粒子、結着樹脂含有し、かつ電子写真感光体表面を繰り返し帯電、露光および光除電を行う過程で、下記式（１）：−３．０≦（ＲＰ−ΔＶＬ）／Ｌ≦−１．０（ただし、式（１）中ΔＶＬは２サイクル目の露光後の電子写真感光体の表面電位（Ｖ）から１サイクル目の露光後の電子写真感光体の表面電位（Ｖ）を引いた差分を示し、ＲＰは、１サイクル目の光除電後の電子写真感光体の表面電位（Ｖ）を示し、Ｌは前記感光層の膜厚（μｍ）を示す。）を満たすことで、ゴーストの発生のない良好な特性が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明は、
＜１＞導電性支持体上に下引き層と感光層とを有する電子写真感光体において、
前記下引き層が金属酸化物微粒子、結着樹脂を含み、
かつ、前記電子写真感光体の表面を繰り返し帯電、露光および光除電を行う過程で下記式（１）を満たすことを特徴とする電子写真感光体である。
−３．０≦（ＲＰ−ΔＶＬ）／Ｌ≦−１．０    式（１）
（ただし、式（１）中、ΔＶＬは２サイクル目の露光後の電子写真感光体の表面電位から１サイクル目の露光後の電子写真感光体の表面電位を引いた差分を示し、ＲＰは、１サイクル目の除電露光後の電子写真感光体の表面電位を示し、Ｌは前記感光層の膜厚を示す。）
【００１２】
＜２＞  前記下引き層の膜厚が１５μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする＜１＞に記載の電子写真感光体である。
【００１３】
＜３＞  前記感光層は、電荷発生層および電荷輸送層を有することを特徴とする＜１＞乃至＜２＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１４】
＜４＞  前記下引き層上に、前記感光層が当接形成されてなることを特徴とする＜１＞乃至＜３＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１５】
＜５＞  前記金属酸化物微粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズからなる群から選ばれる１種以上であることを特徴とする、＜１＞乃至＜４＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１６】
＜６＞  前記金属酸化物微粒子が、カップリング剤で表面処理されていることを特徴とする＜１＞乃至＜５＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１７】
＜７＞  前記カップリング剤が、アミノ基を有するシランカップリング剤であること特徴とする、＜６＞に記載の電子写真感光体である。
【００１８】
＜８＞  前記電荷発生層がフタロシアニン系顔料を含有することを特徴とする、＜３＞に記載の電子写真感光体である。
【００１９】
＜９＞前記フタロシアニン系顔料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、オキソチタニルフタロシアニン、及び無金属フタロシアニンから選ばれる１種以上であることを特徴とする、＜８＞に記載の電子写真感光体である。
【００２０】
＜１０＞  ＜１＞乃至＜９＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、
前記帯電装置により帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、
前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、
現像されたトナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
を備えることを特徴とする画像形成装置である。
【００２１】
＜１１＞  前記転写装置において、前記トナーの帯電極性と逆極性の転写電圧が、前記電子写真感光体表面に印加され、かつ該転写電圧により電子写真感光体の感光層に印加される電界強度が、１．０×１０5Ｖ／ｃｍ以上４．０×１０5Ｖ／ｃｍ以下の範囲であることを特徴とする、＜１０＞に記載の画像形成装置である。
【００２２】
＜１２＞  ＜１＞乃至＜９＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電装置、像露光装置及びクリーニング装置からなる群より選ばれる少なくとも一つと、を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
【００２３】
＜１３＞  前記帯電手段として、前記感光体に接触して該感光体を帯電させる接触型帯電装置を備えることを特徴とする、＜１２＞に記載のプロセスカートリッジである。
【００２４】
ゴーストが発生する主な要因としては、１）電子写真感光体自体が有している電気的特性の連続変動量（以下、「サイクル変動」と呼ぶ）、２）電子写真感光体が転写工程において受ける転写電圧の影響、の２点が挙げられる。電子写真感光体のサイクル変動に関して言えば、前サイクルで画像部（印字部）であった領域の次サイクルでの表面電位の上昇分が大きい場合は、前サイクルでの画像が薄く浮き出る、いわゆるネガゴーストと呼ばれる現象が発生する。逆に、次サイクルでの表面電位の低下分が大きい場合は、前サイクルでの画像が濃く浮き出る、いわゆるポジゴーストと呼ばれる現象が発生する。
【００２５】
また、印字部を像露光する反転現像方式の電子写真工程の場合、転写工程において電子写真感光体は、帯電電位とは逆極性の転写電圧が印加される。電子写真感光体表面の画像部（印字部）においては、現像工程において現像されたトナー層が存在し、非画像部（非印字部）には、トナー層は存在しない。そのため、転写工程において、非画像部は画像部と比較して、転写電圧の影響をより受け易い。転写電圧の影響が大きい程、次サイクルでの表面電位の低下分が大きくなる。したがって、転写電圧の影響を受け易い電子写真感光体の場合、前サイクルの画像部（印字部）に比して非画像部（非印字部）の、次サイクルにおける表面電位の低下が大きくなり、ネガゴーストが発生し易くなる。逆に、転写電圧の影響を受けにくい電子写真感光体では、ポジゴーストが発生し易くなる。すなわち、ゴーストは、電子写真感光体のサイクル変動分と、転写電圧の影響による電位変動分との組み合わせにより発生度合いが決定される。
【００２６】
本発明者らは、電子写真感光体のサイクル変動分は感光層内の電荷挙動に起因し、転写電圧の影響による電位変動分は下引き層内の電荷挙動に起因すること、および、両者が下引き層の状態により変動することを見出した。そして、さらには、両者の差分を単位感光層膜厚当たりの電界強度に置き換えたものを、前記所定の範囲に制御することで、ゴーストの発生が効果的に防止されることを見出した。
【００２７】
すなわち、本発明の式（１）において、（ＲＰ−ΔＶＬ）／Ｌが−３．０よりも小さくなると、転写電界による影響が小さくなりポジゴーストが発生しやすくなる傾向があり、一方、式（１）において、（ＲＰ−ΔＶＬ）／Ｌが−１．０よりも大きくなると転写電界による影響を受けやすくなりネガゴーストが発生しやすくなる傾向がある。
【００２８】
ここで、感光層内の電荷挙動に起因する電位変動分と、下引き層内の電荷挙動に起因する電位変動分は、帯電、露光、光除電を繰り返し行うことができる装置において、帯電後と光除電後電位を測定することで算出できる。
【００２９】
すなわち、感光層内の電荷挙動に起因する電位変動分は、帯電、露光、光除電を繰り返し行った場合の、１サイクル目に対する２サイクル目の露光後の電位変動分（ΔＶＬ）として算出することができる。一方、下引き層内の電荷挙動に起因する電位変動分は、１サイクル目における光除電後の電位（ＲＰ）として算出することができる。上記のように、ΔＶＬおよびＲＰが測定・算出できるのは、ΔＶＬは感光層内の電荷挙動に起因するため、露光により感光層内で電荷が発生、移動した後の電位変動として現れ、ＲＰは下引き層内の電荷挙動に起因するため、充分な光量により光除電された、比較的遅い時間領域内での電位変動として現れるためであると考えられる。
【発明の効果】
【００３０】
以上説明した通り、本発明によれば、ゴーストの発生のない良好な出力画像を得ることができる、電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジが提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
【００３２】
図１〜３はそれぞれ本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図であり、電子写真感光体１を基体２及び感光層３の積層方向に対して垂直な平面で切断したものである。図１〜２に示した電子写真感光体は、機能分離型感光体であり、各感光体が備える感光層３として電荷発生層５と電荷輸送層６が個別に設けられている。一方図３に示した電子写真感光体は、感光層が電荷発生物質と電荷輸送物質とを共に含有する単一の層からなる、単層型電子写真感光体である。
【００３３】
より詳しくは、図１に示した電子写真感光体１においては、導電性基体２上に下引き層４、電荷発生層５及び電荷輸送層６がこの順で積層されて感光体３が構成されており、図２に示した電子写真感光体１においては、導電性基体２上に下引き層４、電荷発生層５、電荷輸送層６及び保護層７がこの順で積層されて感光層３が構成されている。図３に示した電子写真感光体１においては、導電性基体２上に下引き層４、および感光層３がこの順で積層されている。図３の構成には保護層の記載はないが、必要に応じて設けてもよい。
【００３４】
以下、図２に示す電子写真感光体１に基づいて、各要素について説明する。
【００３５】
導電性基体２としては、アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル等の金属製；シート、紙、プラスチック、ガラス等の基体上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅−インジウム等の金属を蒸着したもの；酸化インジウム、酸化スズ等の導電性金属化合物を上記基体に蒸着したもの；金属箔を上記基体にラミネートしたもの；カーボンブラック、酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモン粉、金属粉、ヨウ化銅等を結着樹脂に分散し、上記基体に塗布することによって導電処理したもの等が挙げられる。また、導電性基体２の形状は、ドラム状、シート状、プレート状のいずれであってもよい。
【００３６】
下引き層４は、結着樹脂に金属酸化物微粒子を含有させて形成される。下引き層４が、十分なリーク耐性を発揮するためには、金属酸化物微粒子は、１×１０2〜１×１０11Ω・ｃｍ程度の粉体抵抗があることが好ましい。中でも、上記抵抗値を有する酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物微粒子を用いるのが好ましく、さらには、酸化亜鉛が特に好ましく用いられる。尚、上記範囲の下限よりも金属酸化物微粒子の抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られず、この範囲の上限よりも高いと残留電位上昇を引き起こしてしまう懸念がある。また、金属酸化物微粒子は表面処理の異なるものあるいは粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いることもできる。また、金属酸化物微粒子としては、一次粒子径が５０〜２００ｎｍが好ましく、６０〜１５０ｎｍがより好ましい。一次粒子径が５０ｎｍより小さくなると、分散した下引き層形成用塗工液のチキソ性が高くなり、塗工液の取り扱いが困難になったり、均一な塗膜を形成することが困難となる。また、一次粒子径が２００ｎｍより大きくなると、酸化亜鉛粒子の分散性が悪くなり、酸化亜鉛粒子が均一に分散した塗工液を得ることが困難となる。
【００３７】
金属酸化物微粒子のＢＥＴ比表面積値が１０ｍ2／ｇ以上のものが好ましく用いられる。ＢＥＴ比表面積値が１０ｍ2／ｇより小さいものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性を得にくい傾向がある。
【００３８】
さらに、金属酸化物微粒子は必要に応じて、表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材など所望の特性が得られるものであれば公知の材料から選択することができる。特にシランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため好ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤は下引き層４に良好なブロッキング性を与えるため好ましく用いられる。
【００３９】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては所望の感光体特性を得られるものであればいかなる物でも用いることができるが、具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用することもできる。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いることができるシランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法あるいは湿式法を用いることができる。
【００４１】
乾式法にて表面処理を施す場合には金属酸化物微粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接あるいは有機溶媒まに溶解させたシランカップリング剤を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理される。添加あるいは噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが好ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的にかたまってしまい均一な処理ができにくい欠点があり、好ましくない。添加あるいは噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。
【００４２】
湿式法としては、金属酸化物微粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、シランカップリング剤溶液を添加し攪拌あるいは分散したのち、溶剤除去することで均一に処理される。溶剤除去方法はろ過あるいは蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては表面処理剤を添加する前に金属酸化物微粒子含有水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いることもできる。
【００４３】
下引き層４中の金属酸化物微粒子に対するシランカップリング剤の量は所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定できる。
【００４４】
下引き層４に含有されるバインダー樹脂としては、良好な膜を形成できるもので、かつ所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能である。
【００４５】
このバインダー樹脂としては、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いることができる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。
【００４６】
下引き層形成用塗布液中の金属酸化物微粒子とバインダー樹脂との比率は所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できる。
【００４７】
下引き層形成用塗布液には電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いることができる。
【００４８】
添加物としては、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等
の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。シランカップリング剤は金属酸化物の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いることもできる。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００４９】
チタニウムキレート化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００５０】
アルミニウムキレート化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００５１】
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。
【００５２】
下引き層形成用塗布液を調整するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。
【００５３】
また、これらの分散に用いる溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。
【００５４】
金属酸化物微粒子を結着樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いることができる。さらにこの下引層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬塗布法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００５５】
さらに、下引き層の膜厚は１５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、１８μｍ以上２８μｍ以下であることがより好ましい。下引き層膜厚が１５ｕｍより薄い場合、ピンホールリークにより発生する黒点を、効果的に防止することが困難となる。また下引き層膜厚が３０μｍより厚い場合は、下引き層内に蓄積される電荷量が多くなり、電子写真感光体としての電気的特性が悪化してしまう。
【００５６】
ここで、前記の如く感光層内の電荷挙動に起因する電位変動分を示すΔＶＬと、下引き層内の電荷挙動に起因する電位変動分を示すＲＰ、および感光層膜厚Ｌを所定の関係に設定するためには、下引き層４における金属酸化物微粒子の分散状態が重要である。すなわち、金属酸化物微粒子が過剰に微細に分散されている（過分散の）場合、下引き層内に保持され得る電荷量が減少し、ΔＶＬとＲＰおよびＬの関係を所望の状態に設定することが困難となる。したがって、本発明の特性を得るためには、下引き層中の金属酸化物微粒子の分散度合いを制御し、ΔＶＬとＲＰおよびＬを所定の関係に調整することが肝要である。
【００５７】
金属酸化物微粒子の分散度合いは、分散において印加される分散力（分散シェア）と分散時間により、制御することができる。例えば、前記ペイントシェーカーにより分散を行う場合、被分散液と共に分散容器内に封入する分散ビーズの量を増やしたり、比重の大きい分散ビーズを用いたりすると、より分散が進行し、金属酸化物微粒子がより微細に分散される。また、分散時間を長く設定しても、同様に分散が進行する。逆に、分散ビーズ量を少なくしたり、比重の小さい分散ビーズを使用したり、あるいは分散時間を短く設定したりすると、金属酸化物微粒子は、あまり分散されていない状態となる。分散度合いを進行させると（金属酸化物微粒子が微細に分散されていると）、下引き層内の電荷挙動に起因する電位変動分ＲＰは小さくなる傾向にあり、逆に、分散度合いがあまり進行していない状態では、電位変動分ＲＰは大きくなる傾向がある。このことは、分散方法を換えても分散の度合いにより同様な傾向がある。
【００５８】
ＲＰの値は金属酸化物の径直径および量、分散メディアの材質および量、分散時間等により調整できる、例えば、下引き層に含有させる金属酸化物として酸化亜鉛粒子を用いた場合、粒子の径を５０ｎｍ〜２００ｎｍ（μｍ）とし、分散時間を１．５時間以上とすることで、ＲＰを−２０（Ｖ）以上にできる傾向があり、分散時間を０．３以上〜１．５時間未満分散することで、ＲＰを−２０（Ｖ）より小さく−４５（Ｖ）以下に調整でき、分散時間を０．３時間未満とすることでＲＰを−４５Ｖより小さく調整できる傾向がある。
【００５９】
また、一方で、感光層内の電荷挙動に起因する電位変動分を示すΔＶＬは、感光層の構成およびその構成材料等により決定される。例えば、高感度の電荷発生材料を用いるとΔＶＬは大きくなる傾向にあり、また逆に、感度がそれほど高くない電荷発生材料を用いると、ΔＶＬは小さくなる傾向にある。
【００６０】
したがって、本発明の特性を得るためには、感光層の構成と、下引き層の分散度合い、感光層の膜厚を制御し、その組み合わせにより式（１）の（ＲＰ−ΔＶＬ）／Ｌを制御することができる。例えば、ＲＰが大きくなる場合には、感度を低くしてΔＶＬを小さくし、また、ＲＰが小さくなる場合には、感度の高い電荷発生材料を用い、ＲＰとΔＶＬおよびＬを所定の関係に調整し、（ＲＰ−ΔＶＬ）／Ｌを特定の範囲にすることができる。
【００６１】
ここで、ΔＶＬが大きくなる傾向を示す電荷発生材料としては、例えばヒドロキシガリウムフタロシアニンやオキソチタニルフタロシアニン等が挙げられ、ΔＶＬを小さくする傾向を示す電荷発生材料としてはクロロガリウムフタロシアニンやビスアゾ系顔料等が挙げられる。
【００６２】
また、下引き層４の表面粗さはモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）〜１／２λに調整される。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加することもできる。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等を用いることができる。
【００６３】
また、表面粗さ調整のために下引層を研磨することもできる。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることもできる。
【００６４】
感光層３を構成する電荷発生層５は、結着樹脂（バインダー樹脂）と、電荷発生物質を含有する。電荷発生物質としては、従来公知の電荷発生物質であれば、いかなるものも使用できるが、中でも、フタロシアニン顔料が電子写真感光体の感度の点で好ましく用いられる。さらに、フタロシアニン顔料の中でも、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、オキソチタニルフタロシアニン、無金属フタロシアニンがさらに好ましく用いられる。
【００６５】
電荷発生物質は、所定の結着樹脂中に分散保持されて電荷発生層５を構成する。かかる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアセタール樹脂及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が好ましく用いられる。これらの結着樹脂は１種を単独あるいは２種以上を混合して用いることができる。電荷発生物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましく、さらには、８：２〜３：７の範囲がより好ましい。
【００６６】
電荷発生層５を形成する際には、結着樹脂を所定の有機溶剤に溶解した溶液に、電荷発生物質を分散させた塗布液が用いられる。電荷発生層用塗布液の有機溶剤としては、結着樹脂を溶解可能なもの、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等の溶剤が使用可能である。より具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。また、電荷発生物質を結着樹脂液中に分散する方法としては、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等が挙げられる。
【００６７】
電荷発生物質は、分散性を向上させるため、表面処理を施すことが可能である。表面処理剤としてはカップリング剤などを用いることができるが、これに限定されるものではない。カップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランが好ましい。
【００６８】
また、カップリング剤の他に、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどの有機ジルコニウム化合物を配合してもよい。また、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどの有機チタン化合物、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などの有機アルミニウム化合物も用いることができる。
【００６９】
電荷輸送層６は、電荷輸送物質及び結着樹脂を含んで構成される。かかる電荷輸送物質としては、具体的には、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニルピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミンなどの芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］−（１−ナフチル）−フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリルキナゾリンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリンなどのα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体等の正孔輸送物質が挙げられる。また、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質も使用可能である。さらに、上記化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体を用いることもできる。これらの電荷輸送物質は、１種を単独で又は２種以上を組み合せて用いることができる。
【００７０】
また、電荷輸送層６の結着樹脂としては、電機絶縁性のフィルム形成可能な樹脂が好ましい。このような樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシ−メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。結着樹脂と電荷輸送物質との配合比（質量比）はいずれの場合も任意に設定することができるが、電気特性低下、膜強度低下に注意しなくてはならない。
【００７１】
電荷輸送層６は、上記材料を含む電荷輸送層用塗布液を、電荷発生層５上に塗布し、乾燥させることにより形成される。塗布液に用いる溶剤としては、所望の電子写真感光体特性が得られるものであれば、公知の有機溶剤より任意に選択できるが、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が好適に使用される。また、これらは１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送層６の厚みは、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜４０μｍである。
【００７２】
電荷輸送層６には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光  ・  熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤・光安定剤などの添加剤を添加することができる。
【００７３】
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
【００７４】
フェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’，−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【００７５】
ヒンダードアミン系化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等が挙げられる。
【００７６】
有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリルチオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【００７７】
有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィート等が挙げられる。
【００７８】
有機硫黄系及び有機燐系酸化防止剤は、２次酸化防止剤と呼ばれ、フェノール系又はアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【００７９】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
【００８０】
ベンゾフェノン系光安定剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００８１】
ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５’，６”−テトラヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’，−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’，−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００８２】
その他の化合物として２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケル  ジブチル−ジチオカルバメート等がある。
【００８３】
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることができる。電子受容性物質としては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニルキノン、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらの中でも、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ−、ＣＮ−、ＮＯ２−等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【００８４】
また、電荷輸送層６には、磨耗を低減する目的で、固形潤滑剤や金属酸化物を分散させることができる。固形潤滑剤としては、フッ素含有樹脂粒子（四フッ化エチレン、三フッ化塩化エチレン、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン及びそれらの共重合等）、ケイ素含有樹脂粒子等を挙げることができる。また、金属酸化物としては、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化スズ等を挙げることができる。固形潤滑剤を分散すると、電荷輸送層表面の摩擦係数が減少するため、摩耗を抑制することができる。また、金属酸化物を分散すると、電荷輸送層の機械的硬度が上昇するため、摩耗を抑制することができる。また、フッ素含有樹脂粒子は難分散粒子のためフッ素含有高分子系分散助剤を用いると分散性が向上される。上記固形潤滑剤や金属酸化物を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー、ホモジナイザー、高圧処理式ホモジナイザー等の方法を用いることができる。この分散の際、分散粒子を１．０μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下にすることが有効である。
【００８５】
また、塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【００８６】
表面保護層７としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含んで形成される硬化膜
が好ましい。
Ｆ−［Ｄ−Ａ］b    （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｆは光機能性化合物から誘導される有機基を表し、Ｄは２価の基を表し、Ａは−ＳｉＲ13-a（ＯＲ2）aで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を表し、ｂは１〜４の整数を表す。ここで、Ｒ1は水素、アルキル基、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ｒ2は水素、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。ａは１〜３の整数を表す。
【００８７】
一般式（Ｉ）中のＡ、すなわち−ＳｉＲ13-a（ＯＲ2）aで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基は、架橋反応による３次元的なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合（無機ガラス質ネットワーク）を形成する役割を担っている。
【００８８】
また、一般式（Ｉ）中、Ｆは、光電特性、より具体的には光キャリア輸送特性を有する有機基であり、従来、電荷輸送物質として知られている光機能性化合物の構造をそのまま用いることができる。Ｆで表される有機基としては、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、などの正孔輸送性を有する化合物骨格、およびキノン系化合物、フルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物、などの電子輸送性を有する化合物骨格等が挙げられる。
【００８９】
Ｆで表される有機基の好ましい例としては、下記一般式（ＩＩ）で表される基が挙げられる。Ｆが一般式（ＩＩ）で表される基であると、特に優れた光電特性と機械特性を示す。
【００９０】
【化１】
2006317557.tif 000003
【００９１】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ1〜Ａｒ4は、それぞれ独立に置換あるいは未置換のアリール基を表す。Ａｒ5は、置換あるいは未置換のアリール基、又はアリーレン基を表す。Ａｒ1〜Ａｒ5のうちｂ（ｂ＝１〜４）個は、−Ｄ−ＳｉＲ1(3-a)（ＯＲ2）aで表される基に結合する。ここで、Ｒ1、Ｒ2、ａは一般式（Ｉ）中のＲ1、Ｒ2、ａと同様である。ｋは０又は１を表す。
【００９２】
上記一般式（ＩＩ）中のＡｒ1〜Ａｒ4としては、下記式（ＩＩ−１）〜（Ｉ−７）のうちのいずれかであることが好ましい。
【００９３】
【化２】
2006317557.tif 000004
【００９４】
【化３】
2006317557.tif 000005
【００９５】
【化４】
2006317557.tif 000006
【００９６】
【化５】
2006317557.tif 000007
【００９７】
【化６】
2006317557.tif 000008
【００９８】
【化７】
2006317557.tif 000009
【００９９】
−Ａｒ−Ｚ’s−Ａｒ−Ｘm    （ＩＩ−７）
【０１００】
［式（ＩＩ−１）〜（Ｉ−７）中、Ｒ6は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ7〜Ｒ9はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｘは一般式（Ｉ）中の−Ｄ−ＳｉＲ1(3-a)（ＯＲ2）aを表し、ｍ及びｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔはそれぞれ１〜３の整数を表す。］
【０１０１】
ここで、式（ＩＩ−７）中のＡｒとしては、下記式（ＩＩ−８）又は（ＩＩ−９）で表されるものが好ましい。
【０１０２】
【化８】
2006317557.tif 000010
【０１０３】
【化９】
2006317557.tif 000011
【０１０４】
［式（ＩＩ−８）又は（ＩＩ−９）中、Ｒ10及びＲ11はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１〜３の整数を表す。］
【０１０５】
また、式（ＩＩ−７）中のＺ’としては、下記式（ＩＩ−１０）〜（ＩＩ−１７）のうちのいずれかで表されるものが好ましい。
【０１０６】
−（ＣＨ2）q−    （ＩＩ−１０）
−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）r−    （ＩＩ−１１）
【０１０７】
【化１０】
2006317557.tif 000012
【０１０８】
【化１１】
2006317557.tif 000013
【０１０９】
【化１２】
2006317557.tif 000014
【０１１０】
【化１３】
2006317557.tif 000015
【０１１１】
【化１４】
2006317557.tif 000016
【０１１２】
【化１５】
2006317557.tif 000017
【０１１３】
［式（ＩＩ−１０）〜（ＩＩ−１７）中、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１〜１０の整数を表し、ｔはそれぞれ１〜３の整数を表す。］
【０１１４】
上記式（ＩＩ−１６）、（ＩＩ−１７）中のＷとしては、下記（ＩＩ−１８）〜（ＩＩ−２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが好ましい。
【０１１５】
−ＣＨ2−    （ＩＩ−１８）
−Ｃ（ＣＨ3）2−    （ＩＩ−１９）
−Ｏ−    （ＩＩ−２０）
−Ｓ−    （ＩＩ−２１）
−Ｃ（ＣＦ3）2−    （ＩＩ−２２）
−Ｓｉ（ＣＨ3）2−    （ＩＩ−２３）
【０１１６】
【化１６】
2006317557.tif 000018
【０１１７】
【化１７】
2006317557.tif 000019
【０１１８】
【化１８】
2006317557.tif 000020
【０１１９】
［式（ＩＩ−１８）〜（ＩＩ−２６）中、ｕは０〜３の整数を表す］
【０１２０】
また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ5は、ｋが０のときはＡｒ1〜Ａｒ4の説明で例示されたアリール基であり、ｋが１のときはかかるアリール基から所定の水素原子を除いたアリーレン基である。
【０１２１】
一般式（Ｉ）中、Ｄで表される２価の基は、光電特性を付与するＦと３次元的な無機ガラス質ネットワークに直接結合するＡとを結びつける働きを担い、且つ、堅さの反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークに適度な可とう性を付与し、膜としての強靱さを向上させるという働きを担うものである。Ｄで表される２価の基としては、具体的には、−ＣnＨ2n−、−ＣnＨ2n-2−、−ＣnＨ2n-4−で表わされる２価の炭化水素基（ｎは１〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ6Ｈ4−、及びこれらを組み合わせたものや置換基を導入したもの等が挙げられる。
【０１２２】
一般式（Ｉ）中、ｂは２以上であることが好ましい。ｂが２以上であると、一般式（Ｉ）で表される光機能性有機ケイ素化合物がＳｉ原子を２個以上有することになり、無機ガラス質ネットワークの形成が容易となり、機械的強度が向上する傾向にある。
【０１２３】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１２４】
また、一般式（Ｉ）で表される化合物と共に、硬化膜の機械的強度をさらに向上させる目的で、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を併用してもよい。
Ｂ−Ａn    （ＩＩＩ）
【０１２５】
一般式（ＩＩＩ）中、Ａは−ＳｉＲ1(3-a)（ＯＲ2）aで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を表す。ここで、Ｒ1、Ｒ2、ａは一般式（Ｉ）中のＲ1、Ｒ2、ａと同様である。Ｂは、枝分かれを含んでもよい２価以上の炭化水素基、２価以上のフェニル基及び−ＮＨ−から選ばれる基の少なくとも１つ、或いはこれらの組み合わせから構成される。ｎは２以上の整数を表す。
【０１２６】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、Ａ、すなわち−ＳｉＲ13-a（ＯＲ2）aで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を有している化合物である。この一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物との反応又は一般式（ＩＩＩ）
で表される化合物同士の反応により、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成して３次元的な架橋硬化膜を与える。一般式（ＩＩＩ）で表される化合物と一般式（Ｉ）で表される化合物とを併用すると、硬化膜の架橋構造が３次元的になり易く、また、硬化膜に適度な可とう性が付与されるため、より強い機械強度が得られる。一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の好ましい例を表１に示す。
【０１２７】
【表１】
2006317557.tif 000021
【０１２８】
一般式（Ｉ）で表される化合物と共に、さらに架橋反応可能な他の化合物を併用しても
よい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤を用いることができる。
【０１２９】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【０１３０】
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、ＣＲ−３９、Ｘ−１２−２２０８、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４１０１００７、ＫＮＳ−５３００、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が挙げられる。
【０１３１】
保護層７には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、感光体表面に対する放電生成物、現像剤および紙粉などの付着を防止する効果も有し、感光体の寿命向上に役立つ。
【０１３２】
フッ素含有化合物としては、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、あるいはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。また、一般式（Ｉ）で表される化合物により形成される硬化膜の場合、フッ素含有化合物と
しては、アルコキシシランと反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成するのが望ましい。そのようなフッ素含有化合物の例として、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１３３】
フッ素含有化合物の含有量は、保護層７全量を基準として２０質量％以下とすることが好ましい。フッ素含有化合物の含有量が２０質量％を超えると、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１３４】
上記化合物を含む保護層７は十分な耐酸化性を有しているが、さらに強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の含有量としては、保護層７全量を基準として１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。
【０１３５】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１３６】
また、保護層７には公知の塗膜形成に用いられるその他の添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、など公知のものを用いることができる。
【０１３７】
保護層７は、上記化合物を含有する塗布液を電荷輸送層６上に塗布し、加熱処理することで形成される。これにより、一般式（Ｉ）で表される化合物等が３次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜が形成される。加熱処理の温度は、下層に影響しなければ特に制限はないが、好ましくは室温〜２００℃、より好ましくは１００〜１６０℃である。
【０１３８】
架橋硬化反応は、無触媒で行なってもよく、また、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエート、オクエ酸第一スズ等の有機スズ化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０１３９】
また、保護層用塗布液の塗布を容易にするため、必要に応じて溶剤を添加して用いることができる。具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル等が挙げられる。これらの溶剤は、１種を単独で用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１４０】
また、塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬塗布法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。
【０１４１】
このようにして形成される保護層７の膜厚は、好ましくは０．５〜２０μｍ、より好ましくは２〜１０μｍである。
【０１４２】
また、単層型感光層を構成する場合、単層型感光層は、電荷発生材料と結着樹脂を含有して形成される。電荷発生材料としては機能分離型感光層における電荷発生層に使用されるものと同様のものを、結着樹脂としては機能分離型感光層における電荷発生層及び電荷輸送層に用いられる結着樹脂と同様のものを用いることができる。単層型感光層中の電荷発生材料の含有量は、単層型感光層における固形分全量を基準として好ましくは１０〜８５質量％、より好ましくは２０〜５０質量％である。単層型感光層には、光電特性を改善する等の目的で電荷輸送材料や高分子電荷輸送材料を添加してもよい。その添加量は単層型感光層における固形分全量を基準として５〜５０質量％とすることが好ましい。また、塗布に用いる溶剤や塗布方法は、上記各層と同様のものを用いることができる。単層型感光層の膜厚は、５〜５０μｍ程度が好ましく、１０〜４０μｍとすることがさらに好ましい。なお、図３に示される電子写真感光体１において単層型感光層３は、図２に示される電子写真感光体１の保護層７をさらに設けても良い。
【０１４３】
次に、本発明の画像形成装置の好適な実施形態について説明する。
図４は、本発明の他の好適な実施形態に係る画像形成装置の基本構成を模式的に示す断面図である。図４に示す画像形成装置２００は、電子写真感光体２０７と、電子写真感光体２０７を帯電させる帯電装置２０８と、帯電装置２０８に接続された電源２０９と、帯電装置２０８により帯電される電子写真感光体２０７を露光して静電潜像を形成する露光装置２１０と、露光装置２１０により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置２１１と、現像装置２１１により形成されたトナー像を被転写媒体（画像出力媒体）５００に転写する転写装置２１２と、クリーニング装置２１３と、光除電器２１４と、定着装置２１５とを備える。
【０１４４】
また、図５は、本発明の他の好適な実施形態に係る画像形成装置の基本構成を模式的に示す断面図である。図５に示す画像形成装置２３０は、電子写真感光体２０７に形成されたトナー像を、１次転写部材２１２ａに転写した後、１次転写部材２１２ａと２次転写部材２１２ｂとの間に供給される被転写媒体（画像出力媒体）５００に転写する中間転写方式の転写装置を備えるもので、かかる転写の際には１次転写部材２１２ａから電子写真感光体に向けて所定の電流密度の電流が供給可能となっている。なお、それ以外の構成は、図４と同様である。
【０１４５】
図４中の帯電装置２０８は、電子写真感光体２０７の表面に導電性部材（帯電ロール）を接触させて、感光体２０７の表面を帯電させる方式（接触帯電方式）のものである。なお、本発明では、接触帯電方式の帯電装置の代わりに、コロトロン、スコロトロン等の非接触帯電方式の帯電装置を用いてもよい。
【０１４６】
接触型帯電部材としては、芯材の外周面に弾性層、抵抗層、保護層等を設けたものが好適に用いられる。導電性部材の形状は、ブラシ状、ブレード状、ピン電極状、あるいはローラー状等何れでもよい。
【０１４７】
芯材の材質としては、導電性を有するもの、例えば、鉄、銅、真鍮、ステンレス、アルミニウム、ニッケル等が用いられる。また、導電性粒子等を分散した樹脂成形品等を用いることができる。
【０１４８】
弾性層の材質としては、導電性あるいは半導電性を有するもの、例えば、ゴム材に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散したものが使用可能である。ゴム材としてはＥＰＤＭ、ポリブタジエン、天然ゴム、ポリイソブチレン、ＳＢＲ、ＣＲ、ＮＢＲ、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＳ、熱可塑性エラストマー、ノルボーネンゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンオキシドゴム、クロロプレンゴム、イソプレンゴム、エポキシゴム等が用いられる。導電性粒子あるいは半導電性粒子としてはカーボンブラック、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、クロム、チタニウム等の金属、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2−Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2、ＺｎＯ−ＴｉＯ2、ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＦｅＯ−ＴｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の金属酸化物が用いることができる。これらの材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【０１４９】
抵抗層および保護層の材質としては結着樹脂に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散し、その抵抗を制御したものである。結着樹脂としてはアクリル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、メトキシメチル化ナイロン、エトキシメチル化ナイロン、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリビニル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリチオフェン樹脂、ＰＦＡ、ＦＥＰ、ＰＥＴ等のポリオレフィン樹脂、スチレンブタジエン樹脂等が用いられる。導電性粒子あるいは半導電性粒子としては弾性層と同様のカーボンブラック、金属、金属酸化物が用いられる。また必要に応じてヒンダードフェノール、ヒンダードアミン等の酸化防止剤、クレー、カオリン等の充填剤や、シリコーンオイル等の潤滑剤を添加することができる。これらの層を形成する手段としてはブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬塗布法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法、溶融成形法、注入成形法等を用いることができる。
【０１５０】
これらの導電性部材を用いて感光体を帯電させる際には、導電性部材に電圧が印加されるが、かかる印加電圧は直流電圧、直流電圧に交流電圧を重畳したもののいずれでもよい。接触型帯電部材の形状としては、ローラー、ブレード、ベルト等のいずれの形状であってもよく、画像形成装置の仕様や形態に合わせて、任意に選択することができる。
【０１５１】
本発明の電子写真感光体に用いられる帯電方式には、特に制限はない。しかし、近年は、オゾンの発生量が少なく、環境負荷性の小さい接触帯電方式が好ましく用いられる傾向にある。一般に、接触帯電方式は、スコロトロンやコロトロンなどの非接触式帯電方式と比較して帯電能力が弱く、特に高速応答が必要な画像形成装置においては問題となりやすい。帯電能力が弱い場合、電子写真感光体の感光層中に残留している電荷が、ゴーストなどの画質欠陥を引き起こす原因となる。しかし、本発明の電子写真感光体によれば、電子写真感光体のサイクル変動分と、転写電圧の影響による電位変動分の関係を所定の状態に設定しているため、前記のような画質欠陥が生じにくく、接触式帯電方式との組み合わせて、好適に使用することが可能である。
【０１５２】
露光装置２１０としては、電子写真感光体表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光できる光学系装置等を用いることができる。
【０１５３】
現像装置２１１で用いられるトナーは、例えば結着樹脂と着色剤とを含んで構成される。結着樹脂としては、スチレン類、モノオレフィン類、ビニルエステル類、α―メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類等の単独重合体および共重合体を例示することができ、特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。さらに、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等も挙げられる。
【０１５４】
着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして挙げることができる。
【０１５５】
トナーには、帯電制御剤、離型剤、他の無機微粒子等の公知の添加剤を内添加処理や外添加処理してもよい。
【０１５６】
離型剤としては低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロプシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして挙げられる。
帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプ等の帯電制御剤を用いることができる。
【０１５７】
他の無機微粒子としては、粉体流動性、帯電制御等の目的で、平均１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機微粒子を用い、更に必要に応じて、付着力低減の為、それより大径の無機あるいは有機微粒子を併用してもよい。これらの他の無機微粒子は公知のものを使用できる。
【０１５８】
また、小径無機微粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性をあげる効果が大きくなるため有効である。
【０１５９】
本発明で用いられるトナーの製造方法としては、高い形状制御性を得られることから、乳化重合凝集法や溶解懸濁法等などの重合法が好ましく用いられる。また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法を行ってもよい。外添剤を添加する場合、トナー及び外添剤をヘンシェルミキサーあるいはＶブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナーを湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
【０１６０】
クリーニング装置２１３は、転写工程後の電子写真感光体の表面に付着する残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された電子写真感光体は上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。クリーニング装置としては、クリーニングブレードの他、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等を用いることができるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが好ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。
【０１６１】
図６は。本発明の他の好適な実施形態に係る画像形成装置の基本構成を模式的に示す断面図である。図６に示す画像形成装置は中間転写方式の画像形成装置であり、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ（例えば、電子写真感光体４０１ａがイエロー、電子写真感光体４０１ｂがマゼンタ、電子写真感光体４０１ｃがシアン、電子写真感光体４０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。
【０１６２】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニングブレード４１５ａ〜４１５ｄが配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能である。これらのトナーは平均形状係数が１００〜１４０という条件を満たすものである。また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０１６３】
さらに、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザー光源（露光装置）４０３が配置されており、レーザー光源４０３から出射されたレーザー光を帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０１６４】
中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９は、例えば駆動ロール４０６の近傍に配置されたクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０１６５】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０１６６】
なお、上述の説明においては中間転写体として中間転写ベルト４０９を使用する場合について説明したが、中間転写体は、上記中間転写ベルト４０９のようにベルト状であってもよく、又は、ドラム状であってもよい。ベルト状とする場合の中間転写体の基材として用いる樹脂材料としては、従来公知の樹脂を用いることができる。例えば、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリアルキレンテレフタレート（ＰＡＴ）、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）／ＰＣ、ＥＴＦＥ／ＰＡＴ、ＰＣ／ＰＡＴのブレンド材料、ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド等の樹脂材料及びこれらを主原料としてなる樹脂材料が挙げられる。さらに、樹脂材料と弾性材料をブレンドして用いることができる。
【０１６７】
弾性材料としては、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、ＮＢＲ、クロロピレンゴム、ＥＰＤＭ、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等を１種類、又は２種類以上をブレンドしてなる材料を用いることができる。これらの基材に用いる樹脂材料及び弾性材料に、必要に応じて、電子伝導性を付与する導電剤やイオン伝導性を有する導電剤を１種類又は２種類以上を組み合わせて添加する。この中でも、機械強度に優れる点で、導電剤を分散させたポリイミド樹脂を用いることが好ましい。上記の導電剤としては、カーボンブラック、金属酸化物、ポリアニリン等の導電性ポリマーを用いることができる。
【０１６８】
中間転写体として中間転写ベルト４０９のようなベルトの形状の構成を採用する場合、一般にベルトの厚さは５０〜５００μｍが好ましく、６０〜１５０μｍがより好ましいが、材料の硬度に応じて適宜選択することができる。
【０１６９】
例えば、導電剤を分散させたポリイミド樹脂からなるベルトは、特開昭６３−３１１２６３号公報に記載されているように、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸の溶液中に導電剤として５〜２０質量％のカーボンブラックを分散させ、分散液を金属ドラム上に流延して乾燥した後、ドラムから剥離したフィルムを高温下に延伸してポリイミドフィルムを形成し、さらに適当な大きさに切り出してエンドレスベルトとすることにより製造することができる。
【０１７０】
上記フィルム成形は、一般には、導電剤を分散したポリアミド酸溶液の成膜用原液を円筒金型に注入して、例えば、１００〜２００℃に加熱しつつ５００〜２０００ｒｐｍの回転数で円筒金型を回転させながら、遠心成形法によりフィルム状に成膜し、次いで、得られたフィルムを半硬化した状態で脱型して鉄芯に被せ、３００℃以上の高温でポリイミド化反応（ポリアミド酸の閉環反応）を進行させて本硬化させることにより行うことができる。また、成膜原液を金属シート上に均一な厚みに流延して、上記と同様に１００〜２００℃に加熱して溶媒の大半を除去し、その後３００℃以上の高温に段階的に昇温してポリイミドフィルムを形成する方法もある。また、中間転写体は表面層を有していても良い。
【０１７１】
また、中間転写体としてドラム形状を有する構成を採用する場合、基材としては、アルミニウム、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、銅等で形成された円筒状基材を用いることが好ましい。この円筒状基材上に、必要に応じて弾性層を被覆し、該弾性層上に表面層を形成することができる。
【０１７２】
本発明における転写装置において、転写電圧により電子写真感光体の感光層に印加される電界強度は、１．０×１０5Ｖ／ｃｍ以上４．０×１０5Ｖ／ｃｍ以下の範囲であることが好ましく、１．５×１０5Ｖ／ｃｍ以上３．０×１０5Ｖ／ｃｍ以下の範囲であることがより好ましい。転写電圧により印加される電界強度が１．０×１０5Ｖ／ｃｍより低い場合は、感光層内の電荷挙動に起因する電位変動の影響が大きくなり、ポジゴーストが発生しやすくなる。一方、電界強度が４．０×１０5Ｖ／ｃｍより大きい場合は、下引き層内の電荷挙動に起因する電位変動が大きくなり、ネガゴーストが発生しやすくなる。
【０１７３】
図７は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体２０７とともに、帯電装置２０８、現像装置２１１、クリーニング装置（クリーニング手段）２１３、露光のための開口部２１８、及び、除電露光のための開口部２１７を取り付けレール２１６を用いて組み合わせ、そして一体化したものである。現像装置２１１は、トナーを電子写真感光体２０７に供給するものである。
【０１７４】
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写装置２１２と、定着装置２１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【実施例】
【０１７５】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明がこれらの実施例によって限定されるものではない。
【０１７６】
（実施例１）
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：ＢＥＴ比表面積値１５ｍ2／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３：信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛顔料を得た。
【０１７７】
前記表面処理を施した酸化亜鉛顔料６０質量部と、硬化剤  ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５（住友バイエルンウレタン社製）：１２質量部と、ブチラール樹脂  ＢＭ−１  （積水化学社製）  ８質量部をメチルエチルケトン９２質量部に溶解した溶液６０質量部とを、１ｍｍΦのガラスビーズを用いてペイントシェーカーで０．３時間の分散を行い分散液を得た。
【０１７８】
ここで上記ペイントシェーカーでの分散は、容量２００ｍＬのガラス瓶を用い、ガラスビーズを１００ｇ、上記酸化亜鉛顔料、ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、ブチラール樹脂  ＢＭ−１およびメチルエチルケトンを上記の比率で混合した液１００ｇを封入して分散を行った。
【０１７９】
得られた分散液１２０質量部に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子トスパール１４５（ＧＥ東芝シリコーン社製）：３質量部を添加し、下引き層塗布用液を得た。得られた塗布液を浸漬塗布法にて直径２４ｍｍ、長さ２５７ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２４μｍの下引き層を得た。
【０１８０】
次に、Ｃｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部と、結着樹脂としての塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ：日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−酢酸ブチル３００質量部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いて横型サンドミルにて１００分間分散処理し、電荷発生層用塗布液を得た。得られた塗布液を、上記の下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１８１】
次に、４フッ化エチレン樹脂粒子１質量部及びフッ素系グラフトポリマー０．０２質量部とテトラヒドロフラン５質量部、トルエン２質量部とともに十分攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を得た。次に電荷輸送物質としてＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４０，０００）６質量部、テトラヒドロフラン２３質量部、トルエン１０質量部に混合溶解した後、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合した後、微細な流露を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（ナノマイザー株式会社製、商品名ＬＡ−３３Ｓ）を用いて、３．９２Ｐａ（４００ｋｇｆ／ｃｍ2）まで昇圧しての分散処理を６回繰り返し、４フッ化エチレン樹脂粒子分散液を得た。さらに、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２質量部を混合して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布して１３５℃で４０分間乾燥し、膜厚１７μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０１８２】
得られた電子写真感光体の電気的特性を、帯電・露光・光除電を繰り返し行うことができ、露光後、光除電後の表面電位を測定できる、連続回転式表面電位測定器にて測定した。連続回転式表面電位測定器の測定条件は以下の通りである。
【０１８３】
帯電〜露光：１７２ｍｓ
露光〜表面電位計１：７４ｍｓ
表面電位計１〜光除電：３８８ｍｓ
光除電〜表面電位計２：１３７ｍｓ
表面電位計２〜帯電：１２８ｍｓ
露光光量：１．６ｍＪ／ｍ2
露光波長：７８０ｎｍ
帯電電位：−４００Ｖ
光除電光量：４８０ｍＪ／ｍ2
光除電光源：ハロゲンランプ
（フィルターで波長６００〜８００ｎｍの光を選択）
測定温度：２０℃
測定湿度：４０％ＲＨ
【０１８４】
感光層内の電荷挙動に起因する電位変動分ΔＶＬ（Ｖ）と、下引き層内の電荷挙動に起因する電位変動分ＲＰ（Ｖ）を、以下の方法で算出した。結果を表２に示す。
ΔＶＬ＝（２サイクル目の表面電位計１の値）−（１サイクル目の表面電位計１の値）
ＲＰ＝１サイクル目の表面電位計２の値
【０１８５】
また、得られた電子写真感光体を、接触帯電装置および中間転写装置を有するフルカラープリンター（ＤＥＬＬ社製：Ｄｅｌｌ  Ｌａｓｅｒ  ５１００ｃｎ）を改造した画質試験装置に搭載し、出力画像の画質を評価した。感光体に当接する１次転写部材に印加される転写電圧（ＶＩＤＴ）を４００Ｖとし、出力画像のゴーストグレードを評価した。また、感光体の感光層に印加する転写電界強度は表２示す通りとした。ゴースト評価用の画像は、１５ｍｍ角の四角パターンを電子写真感光体１周分任意の数だけ印字した後、次のサイクルで全面ハーフトーン画像を印字し、ハーフトーン画像上に浮き出たゴースト画像を評価した。印字にはマゼンタを使用した。ハーフトーン画像は１ドットＯＮ−３ドットＯＦＦのパターンにて作成した。画像の印字は温度２０℃、湿度４０％ＲＨにて行った。ゴーストは目視にて以下のように、グレード付けを行い測定値とした。
グレード０：ゴーストが全く見えない
グレード１：ゴーストが極薄く見える
グレード２：ゴーストが薄く見える
グレード３：ゴーストがはっきり見える
グレード４：ゴーストが濃く見える
グレード５：ゴーストが極めて濃く見える
これらの内、グレード１以下であれば、画質上特に問題はないレベルである。その結果を表２に示す。なお、表２において、ゴーストグレード欄中「＋」はポジゴーストを「−」はネガゴーストを示す。
【０１８６】
（実施例２）
実施例１において、下引き層塗布用液の分散時間を０．５時間とした以外は、実施例１と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１８７】
（実施例３）
実施例１において、下引き層塗布用液の分散時間を１．０時間とした以外は、実施例１と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１８８】
（実施例４）
実施例２において、１次転写部材に印加される転写電圧（ＶＩＤＴ）を２００Ｖとした以外は、実施例２と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１８９】
（実施例５〜７）
実施例２において、１次転写部材に印加される転写電圧（ＶＩＤＴ）を、それぞれ表２に示す値とした以外は、実施例２と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１９０】
（実施例８）
実施例２において、下引き層の膜厚を１７μｍとした以外は、実施例２と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１９１】
（実施例９〜１０）
実施例２において、下引き層の膜厚をそれぞれ表２に示す値とした以外は、実施例２と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１９２】
（比較例１）
実施例１において、下引き層塗布用液の分散時間を０．２時間とした以外は、実施例１と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１９３】
（比較例２〜３）
【０１９４】
実施例１において、下引き層塗布用液の分散時間を、それぞれ表２に示す時間とした以外は、実施例１と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１９５】
（実施例１１〜１２）
実施例２において、下引き層の膜厚をそれぞれ表２に示す値とした以外は、実施例２と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１９６】
【表２】
2006317557.tif 000022
【０１９７】
表２の結果より、実施例２〜３、実施例５〜６および実施例８〜１０においては、ゴーストが発生せず、良好な出力画像が得られた。また実施例１、実施例４および実施例７においても、軽微なゴーストが発生したが、画像品質上特に問題となるレベルではなかった。また、実施例１１においては、わずかな微小黒点の発生が見られ、実施例７においてはやや画像濃度の低下が見られたが、画像品質上特に問題となるレベルではなかった。
【０１９８】
これに対し、比較例１においては、強いポジゴーストが現れ、比較例２〜３においては、強いネガゴーストが現れた。
【図面の簡単な説明】
【０１９９】
【図１】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の好適な他の一実施形態を示す模式断面図である。
【図３】本発明の電子写真感光体の好適な他の一実施形態を示す模式断面図である。
【図４】本発明の好適な実施形態に係る画像形成装置の基本構成を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の他の好適な実施形態に係る画像形成装置の基本構成を模式的に示す断面図である。
【図６】本発明の他の好適な実施形態に係る画像形成装置の基本構成を模式的に示す断面図である。
【図７】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
【０２００】
１…電子写真感光体、２…導電性基体、３…感光層、４…下引き層、５…電荷発生層、６…電荷輸送層、７…保護層、２００、２２０、２３０…画像形成装置、２０７…電子写真感光体、２０８…帯電装置、２０９…電源、２１０…露光装置、２１１…現像装置、２１２…転写装置、２１３…クリーニング装置、２１４…光除電器、２１５…定着装置、２１６…取り付けレール、２１７…除電露光のための開口部、２１８…露光のための開口部、３００…プロセスカートリッジ、４００…ハウジング、４０１ａ〜４０１ｄ…電子写真感光体、４０２ａ〜４０２ｄ…帯電ロール、４０３…レーザー光源（露光装置）、４０４ａ〜４０４ｄ・・・現像装置、４０５ａ〜４０５ｄ…トナーカートリッジ、４０６…駆動ロール、４０７…テンションロール、４０８…バックアップロール、４０９…中間転写ベルト、４１０ａ〜４１０ｄ…１次転写ロール、４１１…トレイ（被転写体トレイ）、４１２…移送ロール、４１３…２次転写ロール、４１４…定着ロール、４１５ａ〜４１５ｄ…クリーニングブレード、４１６…クリーニングブレード、５００…被転写媒体。
【図１】
2006317557.tif 000023
【図２】
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【図３】
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【図４】
2006317557.tif 000026
【図５】
2006317557.tif 000027
【図６】
2006317557.tif 000028
【図７】
2006317557.tif 000029