(57)【要約】      （修正有）【課題】エッジバーとセリフ修正フィーチャ合成工程を実行する方法を提供する。【解決手段】階層マスクパターンデータを非階層データ化し、データをタイルに分割する。個別タイルの全エッジに対しエッジバーを合成し、全ての角に対しセリフを合成する。セリフ合成の方法は、タイルデータをまず頂点表現にフォーマットし１００、各凸状の角に対する正のセリフと各凹状の角に対する負の頂点とを合成することによって行われる１０１。セリフのリストから互いに近すぎるセリフをフィルタリングして取り去り１０２、正のセリフは連結され１０３、負のセリフは変形タイルデータから幾何的に引き算する１０４。【選択図】図１０
2006343776.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクパターンの少なくとも１つのフィーチャの少なくとも１つの関連エッジに対しバー修正フィーチャを合成する方法であって、
前記少なくとも１つのフィーチャをフィーチャデータによって表現して、前記マスクパターンと関連する設計規則の所与のセットに従って、前記バー修正フィーチャを前記少なくとも１つの関連エッジから所与の間隔に設定し、
前記少なくとも１つの関連エッジを前記所与の間隔だけ移動する工程と、
前記少なくとも１つの移動したエッジを拡大して、所定のバー幅に等しい幅を有する前記バー修正フィーチャに対応するデータを生成する工程と、
前記少なくとも１つのバー修正フィーチャに対応する前記データが前記フィーチャデータに関して内部バー修正フィーチャであるならば、前記少なくとも１つのバー修正フィーチャデータを前記フィーチャデータから幾何的に引き算する工程と、
前記少なくとも１つのバー修正フィーチャに相当する前記データが前記フィーチャデータに関して外部バー修正フィーチャであるならば、前記少なくとも１つのバー修正フィーチャデータを前記フィーチャデータへ幾何的に付加する工程とを有することを特徴とする方法。
【請求項２】
マスクパターンの少なくとも１つのフィーチャの関連エッジに対しバー修正フィーチャを合成する方法であって、
前記少なくとも１つのフィーチャをフィーチャデータによって表現して、前記マスクパターンと関連する設計規則の所与のセットに従って、前記バー修正フィーチャを前記関連エッジから所与の間隔に設定し、
前記関連エッジを前記所与の間隔だけ移動して、第１の移動フィーチャデータを得る工程と、
前記第１の移動フィーチャデータを前記修正フィーチャの所定の幅に等しい第２の間隔だけ移動して、第２の移動フィーチャデータを得る工程と、
前記第１の移動フィーチャデータと前記第２の移動フィーチャデータとの間で幾何的なＡＮＤ−ＮＯＴ演算を実行して、前記バー修正フィーチャに対応するデータを得る工程と、
前記バー修正フィーチャに対応する前記データが前記フィーチャデータに関して内部バー修正フィーチャに相当するなら、前記バー修正フィーチャデータを前記フィーチャデータから幾何的に引き算する工程と、
前記バー修正フィーチャに対応する前記データが前記フィーチャデータに関して外部バー修正フィーチャに相当するなら、前記バー修正フィーチャデータを前記フィーチャデータへ幾何的に付加する工程とを有することを特徴とする方法。
【請求項３】
前記フィーチャデータを反転する第１の工程を更に含むことを特徴とする請求項１叉は２に記載の方法。
【請求項４】
マスクパターンの複数のフィーチャの各関連エッジに対して内外バー修正フィーチャの１つを合成する方法であって、
前記複数のフィーチャをフィーチャデータによって表現して、前記マスクパターンが透明と不透明の領域を有し、前記マスクパターンと関連する設計規則の所与のセットに従って、前記１つのバー修正フィーチャを前記各関連エッジから所与の間隔に設定し、
１）前記内バー修正フィーチャを合成するために、前記不透明と透明領域の不透明度を正反対の不透明度に変更する工程と、
２）前記複数の各フィーチャを前記所与の間隔だけ拡張して拡張フィーチャデータを生成する工程であって、前記各フィーチャが不透明領域に相当するなら前記不透明領域を特拡張し、前記各フィーチャが透明領域に相当するなら前記透明領域を拡張する工程と、
３）前記各関連エッジをエッジデータにより列挙して、前記拡張フィーチャデータをエッジ表現にフォーマットする工程と、
４）前記エッジデータを拡大して、前記内部及び外部バー修正フィーチャの所与のバー幅に等しい幅を有する１つに対応するデータを生成する工程と、
５）前記内部バー修正フィーチャに対応する前記データを、内部バー合成のための前記フィーチャデータから幾何的に引き算する工程と、
６）前記外部バー修正フィーチャに対応する前記データを、外部バー合成のための前記フィーチャデータへ幾何的に足し算する工程とを有することを特徴とする方法。
【請求項５】
第１の関連エッジバー修正フィーチャを有する第１の関連エッジが、第２の関連エッジバー修正フィーチャを有する第２の関連エッジから第１間隔で配置されている場合に、前記第１と第２の関連エッジバー修正フィーチャを除去することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記第１と前記第２エッジが第２間隔だけ離れて配置されている場合は、前記第１の関連エッジバー修正フィーチャと前記第２の関連エッジバー修正フィーチャとを組み合わせて、前記所与のエッジバー幅に等しい前記幅を有する１つだけのエッジバーを生成することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はフォトリソグラフィックィの分野に関し、特にリソグラフィックィックマスクパターンにおける近接効果補正フィーチャの生成に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造の分野では、リソグラフィックィックマスクを使用してシリコンウエハヘパターンを転写し、集積回路をつくり出す。設計者が最初にマスクパターンをつくり出す時は、パターンを記述するプログラムコード又はデータをコンピュータ支援設計（ＣＡＤ）のツールへ入力する。このパターンデータは、通常、凝縮された階層様式で表現されている。パターン表現階層の高いレベルでは、フィーチャは概念的な様式で表現される。例えば、メモリアレイは、所定数の行と列繰り返された所定のセルを有するように記述される。次の、階層における低レベルでは、サブセルＡとＢとを備える基本メモリセルを記述する。最終的に、最低のレベルにおいては、最も原始的なサブセルとして幾何的原形−長方形や多角形−を含んでいる。
【０００３】
マスクを生成するには、階層データをまず平坦（ｆｌａｔｔｅｎ）にして、階層内に記述されたすべての幾何的事例を列挙（ｅｎｕｍｅｒａｔｅ）し、ついで破砕（ｆｒａｃｔｕｒｅ）しなければならない。破砕は、多角形で記述されるパターンデータを、長方形及び／又は台形で表現されるデータに変換する技術である。例えば、“平坦化データ”でｕ形状の多角形は、破砕されると、３つの長方形成分に解体される。破砕前の幾何データは異なる方法で表現することができる。１つの表現は、各長方形叉は多角形を頂点の位置によって記述する（以下、頂点表現と呼ぶ）。長方形叉は多角形を表現するもう１つの方法は、各エッジをそれの端点の位置によって記述するところのエッジリストを用いる。階層の平坦化は、一般的に、パターンを表現するのに必要なデータ記憶サイズにおいて、数オーダの大きさでの増大をもたらす。
【０００４】
集積回路のサイズを小さくするための連続駆動では、マスクパターンフィーチャのサイズがリソグラフィック露光器の解像度の限界に近くなったときに発生する近接効果及びその他の望まない効果を伴う処理が、非常に重大になっている。共に本発明の譲受人が譲受している米国特許第５２５６５０５号と米国特許第５２４２７７０号は、リソグラフィックィック処理で近接効果を補償するために使用されるマスク技術を記載している。米国特許第５２５６５０５号と米国特許第５２４２７７０号は、それぞれ付加的なサブリソグラフィックフィーチャ（すなわち、露光器の解像度より小さい臨界寸法を持つフィーチャ）を利用して、近接効果を補償する。米国特許第５２４２７７０号で記述されるマスクパターン内の付加的な近接補正フィーチャ（以下、均一化バーと呼ぶ）は、近接効果を補償すべきマスクパターン内部で所定のフィーチャのエッジ強さの勾配に影響を及ぼす。米国特許第５２５６５０５号は、フィーチャの内部での強さ調節線を利用してマスクパターン内部での個々のフィーチャに対する強さレベルを減らすマスクを記載している。近接効果を補償しかつリソグラフィックパターンの転写を改善するのに使用される別の方法も、（同じく、本発明の譲受人が譲受している）米国特許出願第０８／１９４０９７号に記述されている。このマスクパターン技術は、サブリソグラフィックフィーチャ（以下、散乱バー叉は反散乱バーと呼ぶ）をマスクパターンへ付加して、近接効果によるマスクパターン内部のフィーチャの間の差を減らす。パターン転写を改善するのに使用される、１つの他の一般的なリソグラフィック操作は、“セリフ”と呼ぶフィーチャをマスクパターンフィーチャの角へ付加するものである。セリフは、フィーチャの各角に位置決めされるサブリソグラフィックの正方形状のフィーチャであって、最終転写画像での角を鋭利にするのに役立つ。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記のサブリソグラフィックフィーチャの全部叉はいくつかをマスクパターン内のフィーチャの全部へ付加するのが最良であるが、これらの光学的な近接効果補正フィーチャの全部をマスクパターンへ付加することは、マスクパターンでの合計フィーチャ数において１オーダの大きさでの増大をもたらす。例えば、正方形の各角に１セリフ（４つのセリフ）、各エッジ沿いに散乱バー（４つの散乱バー）を加えると、単一の正方形を表現するのに必要なフィーチャの数は１から９へ増大する。
【０００６】
さらに、補正フィーチャをマスクパターン内の全フィーチャへ付加するためには、マスクパターンデータを非階層フォーマットへ変形することがまず必要である。補正フィーチャが正しく計算される前に、まず、階層に記述された各幾何フィーチャの事例をすべて列挙して、フィーチャの間のすべての相互作用（重なり合い、密接状態等）を明らかにしなければならない。結果的に、補正フィーチャデータを非階層表現で定式化されたパターンの全フィーチャへ付加するプロセスは、膨大な量のデータ処理を含むことになる。
【０００７】
補正フィーチャをマスクパターンでの各フィーチャへ付加する場合の別の問題は、それぞれの形式の補正フィーチャを生成するのに異なる情報が必要なことである。例えば、セリフの生成では、頂点位置を知ることが有用である。だから、セリフ生成のためには、頂点により表現されるオリジナルのマスクパターンデータを持つのが最良である。それに反して、近接効果補正バー（例えば、散乱バー）を生成してフィーチャの隣接エッジへ付加するには、エッジにより表現されるパターンデータを持つことが必要である。その他の形式の補正フィーチャは、長方形の表現叉は多角形の表現を必要とする。しかしながら、現行のパターン生成ソフトウエアは、幾何データをエッジ及び頂点の両方により表現することはできず、存在するツールではセリフと散乱バーとの計算を不可能にするか、最良でも、計算時間と必要な記憶量のため極端に高価になる。
【０００８】
走査用電子線叉はレーザ画像生成装置は、平坦化表現によるマスクパターンデータを利用して、集積回路に対し高解像度のフォトリソグラフィックィマスクを製造する。結果として、階層データは、マスク画像生成装置がそれを使用する前に、平坦化されることを必要とする。現在使用されている商業的なマスクパターン破砕ソフトウエアは、階層的に表現される入力フィーチャを処理するように設計されている。それ自体、これらの商業的パッケージの装備では、大量の非階層的入力データを処理して補正フィーチャを生成するには不具合である。さらに、破砕製品にはパターン寸法（以下、成長叉は収縮機能と呼ぶ）を調節でき、かつ（ＡＮＤ、ＡＮＤ−ＮＯＴ、ＯＲ、ＸＯＲ）のような簡単な幾何ブール論理機能を実行可能なものもあるが、これらは、頂点認識、エッジ認識、及び補正フィーチャを正しく計算するのに必要な寸法フィルタ（ｄｉｍｅｎｔｉｏｎａｌ  ｆｉｌｔｅｒｉｎｇ）の特殊能力を欠いている。商業的利用可能なソフトウエアのこれらの制限のために、近接効果補正フィーチャを付加するために現在実施される方法は、マスクパターンの内部の選択されたセルだけにフィーチャを加えてから、これらの補正されたセルをマスク上の所与の領域上に反復的に置くことで、達成される。この方法はパターンの全フィーチャに対して全体的な近接効果補正を行わないから、欠陥がある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、サブリソグラフィック補正フィーチャを、時間及びメモリ的に有効な方法で、オリジナルマスクパターン内部の全フィーチャに付加するための方法である。
【００１０】
本発明は、全マスクパターンに対する付加的リソグラフィック補正フィーチャを合成するための方法である。本発明の方法は、まず、階層マスクパターンデータを非階層データ表現形式にフォーマットし直す。それから、この非階層の（平坦化された）データを多数のデータ“タイル”に分割する（各データタイルはオリジナルマスクパターンの１区分を表現する）。各タイルを一連の補正フィーチャ生成工程を通して連続処理して（各工程は異なる形式の補正フィーチャに相当する）、単一の所与タイルに対して一度に全補正フィーチャを生成する。
【００１１】
各生成工程は、特殊な形式の補正フィーチャを生成する一連の工程を備える。各工程に対して、１つのタイルに相当する非階層データを、まず特殊な形式の補正フィーチャを生成するのに必要な情報を与える表現にフォーマットし直す。再フォーマットされたタイルデータは、そのタイルに対し指定された補正フィーチャを生成するよう後処理される。すべての外部形式、すなわち、そのフィーチャに関して外部にある補正フィーチャは、そのタイルのオリジナルフィーチャと連結される。内部形式の補正フィーチャ（すなわち、オリジナルパターンフィーチャからの切り抜き）は、全て、オリジナルタイルデータから幾何的に引き算され、内部フィーチャの切り抜きを有する変形タイルデータが生成される。幾何的な引き算は、内部形式の補正フィーチャとオリジナルタイルデータの間で幾何的なＡＮＤ−ＮＯＴ演算を行うことによって達成される。この変形タイルデータを、その他の内部補正フィーチャをそのタイルに対して付加するときに、引き続く補正フィーチャ生成工程において使用する。
【００１２】
オリジナルタイルパターンデータを各工程を通して処理し、かつそのタイルへの全補正フィーチャを計算したら、変形データと外部補正フィーチャとを連結してパターンファイル内へ圧縮記憶する。パターンファイルは２次メモリ内に記憶される。最後に、その特定タイルへの補正フィーチャを生成するのに使用された全中間データ、例えばブール演算などから生じる再フォーマットデータを１次メモリから放出して、つぎのタイルの補正フィーチャの計算のために、このより高速のメモリ空間を解放する。各タイルのデータは、全タイルが全マスクパターンに対して処理されるまで、上述と同じ方法で連続的に検索されて処理される。
【００１３】
本発明は、２つの形式のパターン生成工程を実施する方法をも記載する。本発明で記載される第１パターン生成工程は、正と負のセリフを合成するためであり、本発明で記載される第２パターン生成工程は、散乱バーと呼ばれる外部と内部のエッジバーを合成するためである。
【００１４】
セリフ生成工程は、パターンデータを頂点表現データに再フォーマットし、すべての余分な頂点を除いてそのタイルの頂点数を最小にし、セリフ生成のマッピングソフトウエアを利用して各頂点のセリフを計算し、互いに不法に接近した間隔のセリフを除くようにセリフデータをフィルタリングし、計算された正のセリフデータをパターンファイルデータと連結し、かつ負のセリフデータをオリジナルデータから幾何的に引き算して、負のセリフを有する変形タイルデータを生成する工程を含む。
【００１５】
エッジバー生成工程は、計算されているバーがそのタイル内部のオリジナルフィーチャに対して内部か外部かを決定し、内部バーの場合はタイルデータを反転し（すなわち、暗領域を明るく、明領域を暗くし）、エッジバーを置くべき指定距離に相当する量だけ、そのタイル内の各オリジナルフィーチャを成長させ、成長データをエッジ表現（ここで、各エッジは２つのデータ点で表現される）に変換し、各エッジを指定のエッジバー幅だけ拡大することによってエッジバーをつくり出し、不法なバーと破片とを除くようにバーデータをフィルタリングし、外部バーフィーチャをパターンファイルデータと連結し、かつ内部バーフィーチャをオリジナルデータから幾何的に引き算して、内部バーフィーチャを有する変形タイルデータを生成する工程を含む。
【実施例】
【００１６】
全マスクパターンに対し補正フィーチャを生成する方法を記載する。以下の記載では、データフォーマット形式、近接効果補正フィーチャ形式、マスク設計規則、及びジオメトリエンジン形式のような、多数の特定の詳細例を説明する。しかし、当業者には、これらの詳細例を本発明の実施のために使用する必要がないのは明らかである。一方、公知のリソグラフィック技術、幾何パターン操作技術、及び電子線マスク製造技術は、本発明を不必要に不明瞭にしないように、詳細には説明しなかった。
【００１７】
フォトリソグラフィックマスクは、シリコンウエハに合成されるべき回路要素に相当する幾何パターンから成る。各マスクは、シリコン基板上に配設される感光材料層（すなわち、フォトレジスト）へそれの相当パターンを転写すべく使用される。
【００１８】
集積回路のサイズが小さくなるにつれて、相当するマスクパターンの最小寸法は、パターンを転写するのに利用されている光学露光器の解像度限界（すなわち、光学的露光器の最小転写可能寸法）に接近する。結果として、多くのパターン転写問題が発生し始める。これらの問題は、しばしば“近接効果”と呼ばれる現象に起因する。
【００１９】
近接効果は、密接間隔のパターンフィーチャをリソグラフィック的にウエハ上のレジスト層に転写する時に発生する。密接間隔フィーチャの光波は相互影響し、結果として、最後の転写パターンフィーチャを歪曲する。フィーチャの寸法と間隔がリソグラフィックツールの解像度限界に接近するときに発生する別の問題は、角（凹状と凸状）の露光は、その各角でのエネルギの集中や不足によって過剰になったり不足したりする傾向があることである。大小のフィーチャを同じマスクパターンから転写する時には、小さいフィーチャの露光過剰叉は露光不足のような、他の形式の問題も発生する。
【００２０】
これらの形式の近接効果を克服すべくフォトリソグラフィック業界が利用する１つの技術は、付加的なフィーチャをオリジナルマスクパターンへ付加することである。これらの付加フィーチャは、典型的には、サブリソグラフィック的である（すなわち、露光器の解像度より小さい寸法を有する）から、レジスト層へ転写されない。むしろ、これらはオリジナルパターンと相互に影響して、最後の転写パターンを改善しかつ近接効果を補償する。
【００２１】
米国特許第５２５６５０５号、米国特許第５２４２７７０号、及び本発明の譲受人が譲受している米国特許出願第０８／１９４０９号は、３つの異なる形式の近接効果補正技術を記載し、これら各技術はサブリソグラフィック的な近接効果補正フィーチャをオリジナルマスクパターンへ付加して近接効果を補償する。一般的に業界で使用される別の近接効果補正技術としては、サブリソグラフィック的な直線状フィーチャ（セリフと呼ばれる）をオリジナルフィーチャの角へ付加して角の転写を鮮鋭にする。
【００２２】
図１Ａはマスクパターンフィーチャ１０を説明し、図１Ｂと図１Ｃとは若干の典型的な光学補正フィーチャを付加した後のフィーチャ１０を説明する。図１Ｂは正のセリフ１１とそれへ付加される負のセリフ１２とを有するオリジナルフィーチャ１０を説明し、図１Ｃは正と負のセリフ（１１と１２）と、外部エッジバー１３と、それへ付加される内部エッジバー１４とを有するフィーチャ１０を説明する。エッジバーの幅と間隔及びセリフの寸法と配置を決定する設計規則は、利用されるリソグラフィック工程に関する多くの要因に依存する。
【００２３】
これらの光学的補正フィーチャのオリジナルマスクパターンへの付加は、マスクパターンが各フィーチャを列挙するように形成されている（すなわち、非階層フォーマット）ときに、行われることが必要である。これは、マスクパターン内の各個別のオリジナルフィーチャに対して光学的補正フィーチャを計算するのに必要な情報を有するために、必要である。
【００２４】
非階層データは多数の方法で表現される。重要な２つの表現は、エッジ準拠式と頂点準拠式とである。特殊パターンのエッジ表現は、各エッジを２つの端点の空間座標によって記述するエッジのリストから成る。パターンの頂点表現は、各頂点をそれの空間座標、頂点の形式（すなわち、凸状か凹状か）、及び方向によって記述する頂点のリストから成る。
【００２５】
補正フィーチャを計算し生成するとき、オリジナルフィーチャに関して補正フィーチャの配置と寸法とを決定するために、一定の形式の情報を有することが最適である。例えば、セリフの生成では、オリジナルパターンデータの頂点表現は、典型的に、頂点の形式（凸状か凹状か）とその位置とについての情報を与えるから、エッジ表現より有用である。逆に、エッジ表現はエッジの長さと位置とを記述するから、エッジバーを生成するとき、より有用である。全マスクパターンへの補正フィーチャを決定すべく、非階層頂点表現と非階層エッジ表現との両方に対するデータ処理は、現在利用可能な商業的マスクデータ処理ソフトウエアのレパートリー内には存在しない。
【００２６】
本発明は、この問題への商業的解決策の発展をこれまで阻止してきたメモリと処理時間の制限を克服することによって、全マスクパターンへ２つ以上の形式の補正フィーチャを生成する独特の方法である。本発明の背景となる一般概念は、前記各タイルがオリジナルマスクパターンの１区分に相当するパターンデータを含むように、マスクパターンデータを多数の幾何タイルに分割することにある。その後、各個別タイルは一連の補正フィーチャ生成工程を通して処理されて、その特別のタイルに対してすべての補正フィーチャが生成される。タイルのオリジナル及び補正フィーチャの組み合わせデータは、その後凝縮されて２次メモリに記憶され、つぎのデータタイルに対する補正フィーチャ計算のために１次メモリは解放される。新しいデータタイルは、すべてのタイルの処理が完了するまで、補正発生工程を通して処理される。各補正フィーチャ工程において、タイルデータは情報の形式を与える表現にフォーマットし直されて、その工程への特別の補正フィーチャが生成される。例えば、１つの実施例では、パターンデータのオリジナルタイルは、セリフを計算するときには頂点表現にフォーマットし直される。エッジバーの生成のためには、パターンデータのオリジナルタイルはエッジ表現に変換される。各タイルへのデータ量は小さいから、再フォーマットは大きな処理遅れの時間を生じない。
【００２７】
注意すべきは、標準幾何データマニピュレーション、幾何計算、及び以下の工程で実行されるデータフォーマット演算のすべては、一般に従来の技術でジオメトリエンジンと呼ばれる一連の実用ソフトウエアルーチンによって実行されることである。ジオメトリエンジンは、パターン寸法分類（成長／収縮演算）、ＡＮＤ、ＯＲ、ＸＯＲ、ＡＮＤ−ＮＯＴのような幾何ブール演算、及び表現変換のような幾何データパターン上の各種の演算を実行する手段を与える。
【００２８】
図２は本発明の方法の一実施例の工程を示すフローチャートを説明する図である。平坦化とタイルブロック２０（図２）は、全マスクパターンに対して階層データを取り出し、それを非階層形式に拡張してから、平坦化データをマスクパターン内部で多数の幾何区分（すなわち、タイル）に分割する工程を含む。
【００２９】
本発明のこの実施例においては、平坦化パターンデータは１つ以上の多角形によって表現され、この場合、各多角形は頂点の閉ループとして定義される。その他の平坦化データフォーマットも使用されることは明らかであるが、どんなデータフォーマットであれ、各フィーチャをこの時点で列挙する必要がある。
【００３０】
それを平坦形式に拡張後、データは多重データ区分（ブロック２０）に分割され、前記各区分は全データパターンの幾何領域（タイルとも呼ばれる）を説明するデータを含む。図３Ａと図３Ｂは、データパターン３０を多数タイルに分割する方法を説明する。図３Ａに示すように、明領域データパターン３０はフィーチャ３２−３４から成り、かつ６個の重なりの無い境界設定タイル３１に区分される。図３Ｂはパターン３０に相当するデータを、実際に本発明の方法にしたがって分割する方法を説明する。パターン３０に対するデータを、図３Ｂのタイル３５で説明するような６個の重なり合うタイルに分割する（図３Ｂには明瞭化のため１つの重なり合うタイル３５だけ示す）。タイルは、フィーチャエッジが重なりの無いタイル３１によって定められる境界近くに存在する（例えば、図３Ｂのフィーチャ３２）か、叉は重なりの無いタイル３１によって定められる境界を越えて横切る（例えば、図３Ｂのフィーチャ３３と３４）場合を考慮するように重ねられる。
【００３１】
パターンデータが重なり合うタイル３５に分割されると直ちに、各タイルは２つの補正フィーチャ生成工程（図２のブロック２１と２２）を通して処理される。ブロック２１では、処理されている個別タイル内部にある全エッジに対して（米国特許出願第０８／１９４０９７号が教えるように）散乱バーと反散乱バーとを合成する。ブロック２２では、処理されているタイルの内部にあるすべての角に対してセリフ合成を実施する。理解されるべきは、ブロック２１と２２とは特別の形式の補正フィーチャとそれぞれ関連するが、その他のどんな形式の補正フィーチャもこれらのブロックの内部で発生することである。さらに、補正フィーチャ発生工程の数は２つの工程だけに限定されず、より多数の工程が付加されてよい。さらに、発生工程の順序は、図２に示すものと異なってもよい。
【００３２】
散乱バー発生工程２１では、１）タイルに対し計算される外部バーのデータセットと、２）タイルの計算される内部バーに相当するデータとオリジナルタイルデータとの間の幾何的な引き算の結果に相当する変形データセットと、を発生するために所与のタイルに相当するオリジナルデータを利用する。
【００３３】
次に、セリフ発生工程２２では、タイルに相当するオリジナルデータを利用して、１）計算された正のセリフのデータファイルと、２）前のブロック（すなわち、ブロック２１）からの変形タイルデータとタイルの計算された負のセリフに相当するデータとの間の幾何的引き算の結果に相当する変形データファイルとを発生させる。
【００３４】
第２のフィーチャ発生工程後は、以下の３データセット、すなわち、１）負のセリフと内部バーの両方を持つ変形パターンを表現するデータを含むセット、２）タイルに対して正のセリフを表現するデータを含むセット、３）タイルに対して外部バーを表現するデータを含むセット、が生成されている。これらの３セットは、それに付加されるすべての補正フィーチャを有するタイルデータを表現する単一データセットに連結される。単一データセットは、その後、オリジナルの重なりの無いタイルの正確な寸法に短縮されて、重なり合うタイル内のすべての余分かつ誤ったデータを除去する。
【００３５】
このデータセットは、その後、圧縮工程２３を通して処理される。本発明の好適な実施例で使用される特別のジオメトリエンジンは、まず類似のフィーチャとフィーチャ位置との身元を確認してから、この情報によりファイルデータ内部の反復幾何パターンの身元を確認することにより、圧縮工程２３を実行する。次に、ジオメトリエンジンは、反復フィーチャの１つを記述してから、それが、境界設定される水平と垂直間隔を有する所定の行及び列数複写されることを示すフィーチャに、固有のプロパティを適用することによって、反復セルの二次元アレイとして反復パターンを表現する。処理のこの時点で圧縮を加えることの利点は、オリジナルパターンデータに加えて反復補正フィーチャパターンも圧縮されることである。結果として、圧縮工程２３は最後のデータパターンファイル内に置かれるデータの量を大きく減らす。
【００３６】
タイルに対する最後の圧縮データを、その後、パターンファイル内に記憶する。このパターンファイルは、これらがブロック２１−２３を通して処理されると、全タイルに相当する全データを保持する。パターンファイルは、典型的に、２次メモリ（すなわち、ディスクファイル）内に記憶されて、次のタイルに対して補正フィーチャを計算するために１次メモリ内に空をつくる。
【００３７】
ブロック２５で示すように、次のタイルのためのデータが検索され、ブロック２１−２４を通して処理される。全タイルが処理されたとき、最後のパターンファイルは、全フィーチャに加えられた補正フィーチャを有する全データパターンを表現するデータを含む。この最後のパターンファイルデータは、その後、リソグラフィックィックマスクをつくるために、必要ならばそれの使用に先行する他の工程を通して処理されてもよい。
【００３８】
図４は、本発明による、図２に述べたように散乱バーと反散乱バーとの合成方法（すなわち、ブロック２１）の一実施例を示すフローチャートである。処理工程は暗領域マスクパターンデータに適用する。暗領域マスクパターンは、フィーチャ領域が明るく、フィーチャを包囲する領域が暗いパターンである。
【００３９】
散乱バーは、定義により最終マスク上の不透明なフィーチャであるが、最終マスクが暗領域であるか明領域であるかに依存して、オリジナルフィーチャデータに関して“内部”か“外部”のいずれかとして計算される。反散乱バーは、定義により透明であるが、使用されるマスク領域の形式に依存してオリジナルフィーチャに対して内部か外部のいずれかでもある。例えば、図５Ａは、内部散乱バー５２と外部反散乱バー５３付きのフィーチャ５１を有する暗領域マスクパターン５０を説明する。一方、図５Ｂは、外部散乱バー５７と内部反散乱バー５６付きのフィーチャ５５を有する明領域マスクパターン５９を説明する。図４に記載する工程の目的として、内部バーは、オリジナルフィーチャと正反対の不透明を有してオリジナルフィーチャの内部にあるものであり、外部バーは、オリジナルフィーチャと同じ透明を有しオリジナルフィーチャの外側にあるものである。
【００４０】
ブロック４０（図４）は、内部叉は外部バーを計算すべきかどうかを決定する。内部バーを計算するなら、まず、タイルパターンデータをブロック４１で示すように反転する（すなわち、ジオメトリエンジンは明領域を暗く、暗領域を明るくする）。外部バーを計算するなら、データを反転せずに、タイルデータを直接ブロック４２へ通す。
【００４１】
次に、成長演算（ブロック４２）を実行する。データが反転されて内部バーデータを生成する場合は、反転データにおいて成長を実行する。
【００４２】
その後、ブロック４２からの拡張データ表現を、成長したフィーチャの各エッジを列挙するエッジ表現に変換する。この表現では、成長したフィーチャデータが、各エッジがそれの２つの端点のｘ，ｙ座標で表現されるエッジのリストとなる。
【００４３】
散乱バーの合成（ブロック４３）は、各エッジ（一次元フィーチャ）を散乱バー（二次元フィーチャ）に成長させることによって実行される。図６Ａ−図６Ｅは、明領域マスクパターン６０内でオリジナルフィーチャ６１に対して内部散乱バーを生成するために実行される幾何演算を説明する図である。図６Ｂは、フィーチャ６１が明るくて、周囲領域が暗いように変換された後のマスクパターン６０を示す。図６Ｃは、明フィーチャ６４が成長する成長演算後のパターン６０を示す（注意：明領域の成長演算において、明領域はますます小さくなる一方、暗領域は拡大する）。図６Ｄはエッジ６５−６８から成るフィーチャ６４のエッジ表現を示す。最後に、図６Ｅは、各エッジ６５−６８の、二次元内部散乱バーへの拡大を示す。
【００４４】
図７Ａ−図７Ｄは、明領域マスクパターン７０内でオリジナルフィーチャ７１に対して外部散乱バーを生成するために実行される幾何演算を示す図である。図７Ｂは拡張フィーチャ７３を生成する成長演算後のマスクパターン７０を示す。図７Ｃは、エッジ７４−７７を含むフィーチャ７３のエッジ表現を示し、かつ図７Ｄはエッジ７４−７７をそれぞれ二次元バーへ拡大して生成される外部エッジバーを示す。
【００４５】
理解されるべきは、内外バーを合成する方法がブロック４１−４３と図６、図７に記述されるような方法に拘束されないことである。例えば、フィーチャデータを反転してからそれを成長させて内部バーを合成する代わりに、フィーチャデータを収縮させて（成長演算の反対）、エッジのバー内への拡大に続いて、図６Ｄでのエッジ６５−６８を決定することができる。同様に、外部バーをまず反転してから収縮させて、エッジのバー内への拡大に続いて、図７Ｃでのエッジ７４−７７を決定することができる。結果として、本発明の技術の背景の一般概念は、内部か外部かいずれかの補正バーを合成するために、オリジナルフィーチャエッジを、バーを合成すべき位置へ移動してから、そのエッジをバー内へ拡大することである（まず反転してから収縮や成長させるか、叉は単に収縮や成長させることによって）。
【００４６】
やはりＣＡＤ業界において良く理解されるべきは、成長演算は所与の方向において、反対方向での収縮演算に相当することである。
【００４７】
補正バーを合成するための、１つの他の方法は（内部か外部か、いずれのバーを合成するかに依存して）フィーチャデータ上で最初の成長叉は収縮演算を実行して、最初の成長／収縮データを生成することによって得られる。最初の成長／収縮演算は、合成されている補正バーの内部エッジの最初のセットを規定する。次に、第２の成長／収縮演算が最初の成長／収縮データ上で実行されて、第２の成長／収縮データを生成する。第２の成長／収縮演算は、外部エッジの第２のセットを規定すべく実行される。最後に、最初の成長／収縮データが第２の成長／収縮データから幾何的に引き算されて、補正バーのリングを生成する。この方法を、図８Ａ−図８Ｄと図９Ａ−図９Ｄに示す。図８Ａ−図８Ｄはフィーチャ８１に対して外部バーデータを合成する方法を、図９Ａ−図９Ｄはフィーチャ９１に対して内部バーデータを合成する方法を示す。
【００４８】
図８Ａはフィーチャ８１を示し、図８Ｂは成長演算がフィーチャ８１上で実行された後のフィーチャ８２を示す。図８Ｃはフィーチャ８１叉は８２のいずれかの上でそれに続く成長演算から生じるフィーチャ８３を示す。図８Ｄはフィーチャ８２がフィーチャ８３から幾何的に引き算された後の合成された補正フィーチャを示す。その後、この外部バーフィーチャはフィーチャ８１へ幾何的に加えられる。
【００４９】
図９Ａはフィーチャ９１を示し、図９Ｂは収縮演算がフィーチャ９１上で実行された後のフィーチャ９２を示す。図９Ｃはフィーチャ９１叉は９２のいずれかの上でそれに続く収縮演算から生じるフィーチャ９３を示す。図９Ｄはフィーチャ９３がフィーチャ９２から幾何的に引き算された後の合成された補正フィーチャを示す。その後、この内部バーフィーチャはフィーチャ９１から幾何的に引き算される。
【００５０】
タイル内の各フィーチャに対して（内部叉は外部の）散乱バーを合成した後、ジオメトリエンジンは何らかの不法バーデータをフィルタリングする仕事を実行する（ブロック４４）。この工程で、リスト内の各バーは、それが不法バーかどうかを調べるべく吟味される。不法バーが生じるのは、１）２つの基本フィーチャがバーを合成すべきでないような間隔で設定されているか、２）２つの基本フィーチャが十分に接近していて、２つのバーを生成すると相互間隔が近すぎるか、叉は、３）２つの基本フィーチャが、１つだけの肉太バーとなるような２つの重なり合うバーを生成する時である。身元が確認されると、すべての不法バーは除去される。さらに、バー合成で生成されるその他のバー砕片も除去される。バー間隔が近すぎる（不法事例２）か、叉は肉太バーが生成される（不法事例３）場合、設計規則によって定められるように、２つのフィーチャの間に等しく位置するように、１つのバーだけが２つのオリジナルフィーチャの間に生成される。
【００５１】
すべての不法事例の除去後、生成されているのが内部バーか、叉は外部バーか（ブロック４５）に依存して、外部バーがオリジナルタイルデータと連結されるか（ブロック４６）、叉は内部バーがオリジナルタイルデータから幾何的に引き算されて、内部バーの切り抜きを含む変形タイルデータを生成する（ブロック４７）。この幾何的な引き算は、内部バーデータとオリジナルタイルデータとの間でＡＮＤ−ＮＯＴ演算を実行することによって得られる。
【００５２】
次に、セリフ合成を実行する（ブロック４８）。図１０は本発明の１つの方法によるセリフ合成の工程を説明する図である。ブロック１００は、オリジナルタイルデータのデータ表現を頂点表現へフォーマットし直す工程を含む。頂点表現では、各頂点を、空間座標と、形式（凸状か凹状か）と、方向とによって列挙する。ブロック１００は、２つの長方形フィーチャが互いに接触する“構造線（ｃｏｎｓｔｒｕｃｔｉｏｎ  ｌｉｎｅｓ）”から生じるような、オリジナルデータ内で余分の頂点の除去を伴う合体工程をも含む。
【００５３】
次に、この頂点リストから、ジオメトリエンジンによって与えられるソフトウエアルーチンを利用してセリフを合成する（ブロック１０１）。セリフの寸法と配置は、リソグラフィック設計規則に依存する。各凸状／凹状の頂点に対して正／負のセリフ（図１Ｂ参照）を計算する。セリフ生成後、セリフのリストを調べて、たがいに近すぎるセリフをフィルタリングして取り去る（ブロック１０２）。正のセリフは連結され（ブロック１０３）、負のセリフは前の散乱バー工程で生成された変形タイルデータセットから幾何的に引き算される（ブロック１０４）。
【００５４】
本発明の要素を特定の実施例と関連して記載したが、もちろん、本発明は各種の他の方法でも実施される。すなわち、図解説明で示した特別な実施例は制限的なものと考えるべきでない。本実施例の詳細への参照例は、本発明の本質とみなされる特徴のみを記載する特許請求の範囲を制限するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１Ａ】明領域パターンフィーチャを説明する図である。
【図１Ｂ】正と負のセリフ補正フィーチャとともに図１Ａに示すフィーチャを説明する図である。
【図１Ｃ】内部と外部エッジバーフィーチャとともに図１Ｂに示すオリジナルフィーチャを説明する。
【図２】本発明の一実施例による全マスクパターンへの補正フィーチャの合成工程を示すフローチャートである。
【図３Ａ】６つの重なりの無いタイルに分かれる明領域マスクパターンを説明する図である。
【図３Ｂ】重なりの無いタイルに関して特大タイルを説明する図である。
【図４】本発明の一実施例による散乱バーの合成工程を示すフローチャートである。
【図５Ａ】内部及び外部散乱バーフィーチャを有する暗領域マスクパターンを示す図である。
【図５Ｂ】内部及び外部散乱バーフィーチャを有する明領域マスクパターンを示す図である。
【図６Ａ】内部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図６Ｂ】内部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図６Ｃ】内部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図６Ｄ】内部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図６Ｅ】内部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図７Ａ】外部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図７Ｂ】外部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図７Ｃ】外部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図７Ｄ】外部散乱バーを生成するための幾何演算実行後のフィーチャを示す図である。
【図８Ａ】本発明の一実施例による外部バーフィーチャの合成方法を示す図である。
【図８Ｂ】本発明の一実施例による外部バーフィーチャの合成方法を示す図である。
【図８Ｃ】本発明の一実施例による外部バーフィーチャの合成方法を示す図である。
【図８Ｄ】本発明の一実施例による外部バーフィーチャの合成方法を示す図である。
【図９Ａ】本発明の一実施例による内部バーフィーチャの合成方法を示す図である。
【図９Ｂ】本発明の一実施例による内部バーフィーチャの合成方法を示す図である。
【図９Ｃ】本発明の一実施例による内部バーフィーチャの合成方法を示す図である。
【図９Ｄ】本発明の一実施例による内部バーフィーチャの合成方法を示す図である。
【図１０】本発明の一実施例によるセリフ合成工程を示すフローチャートである。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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【図９Ｄ】
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【図１０】
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