(57)【要約】【課題】  光学補償用塗工膜の厚み位相差を負の方向に調整することができる位相差調整剤を提供するともに、煩雑なフィルム化工程を必要とせずに〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の特性をもつ光学補償用塗工膜を提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。【解決手段】  カルバミン酸エステル、Ｎ−置換カルバミン酸エステル、尿素、Ｎ−置換尿素から選ばれる少なくとも一つからなることを特徴とするセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤とすること。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルバミン酸エステル、Ｎ−置換カルバミン酸エステル、尿素、Ｎ−置換尿素から選ばれる少なくとも一つからなることを特徴とするセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤。
【請求項２】
前記カルバミン酸エステルが下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）で表される化合物であり、前記Ｎ−置換カルバミン酸エステルが下記一般式（ＶＩＩＩ）、（ＸＩＩ）、（ＸＶＩ）、（ＸＸＩ）、（ＸＸＩＩ）、（ＸＸＩＩＩ）、（ＸＸＩＶ）、（ＸＸＶ）、（ＸＸＶＩＩ）、（ＸＸＶＩＩＩ）、（ＸＸＩＸ）で表される化合物であり、前記尿素及びＮ−置換尿素が下記一般式（ＸＸＸ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤。
【化１】
2006317813.tif 000043
（式中Ｒ1は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）
【化２】
2006317813.tif 000044
（式中Ａ1は、炭素数１〜２０のアルキレン基を表す。）
【化３】
2006317813.tif 000045
（式中Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、下記一般式（ＩＶ）
【化４】
2006317813.tif 000046
で示される基を表すが、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6の少なくとも一つは一般式（ＩＶ）で示される基である。）
【化５】
2006317813.tif 000047
（式中Ａ7、Ａ8、Ａ9、Ａ10、Ａ11、Ａ12は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基を表すが、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12の少なくとも一つは一般式（ＩＶ）で示される基である。）
【化６】
2006317813.tif 000048
（式中Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16、Ａ17、Ａ18は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基を表すが、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18の少なくとも一つは一般式（ＩＶ）で示される基である。）
【化７】
2006317813.tif 000049
（式中Ａ19、Ａ20、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基を表すが、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26の少なくとも一つは一般式（ＩＶ）で示される基である。）
【化８】
2006317813.tif 000050
（式中Ｒ27は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、又は、下記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩ）
【化９】
2006317813.tif 000051
（式中Ａ27、Ａ28、Ａ29、Ａ30、Ａ31、Ａ32は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化１０】
2006317813.tif 000052
（式中Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36、Ａ37、Ａ38、Ａ39、Ａ40は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39、Ｒ40は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化１１】
2006317813.tif 000053
（式中Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46、Ａ47、Ａ48は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）で示される基を表し、Ｒ28は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）
【化１２】
2006317813.tif 000054
（式中Ａ49は、炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、Ｒ48、Ｒ49は、同一又は異なって、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、又は、下記一般式（ＸＩＩＩ）〜（ＸＶ）
【化１３】
2006317813.tif 000055
（式中Ａ50、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化１４】
2006317813.tif 000056
（式中Ａ56、Ａ57、Ａ58、Ａ59、Ａ60、Ａ61、Ａ62、Ａ63は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59、Ｒ60、Ｒ61は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化１５】
2006317813.tif 000057
（式中Ａ64、Ａ65、Ａ66、Ａ67、Ａ68、Ａ69、Ａ70、Ａ71は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）で示される基を表す。）
【化１６】
2006317813.tif 000058
（式中Ａ72、Ａ73、Ａ74、Ａ75、Ａ76は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、下記一般式（ＸＶＩＩ）
【化１７】
2006317813.tif 000059
（式中Ｒ74は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、又は、下記一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）
【化１８】
2006317813.tif 000060
（式中Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化１９】
2006317813.tif 000061
（式中Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化２０】
2006317813.tif 000062
（式中Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）で表される基を示す。）で示される基を表すが、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73の少なくとも一つは一般式（ＸＶＩＩ）で示される基である。）
【化２１】
2006317813.tif 000063
（式中Ａ99、Ａ100、Ａ101、Ａ102、Ａ103、Ａ104は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＶＩＩ）で示される基を表すが、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99の少なくとも一つは一般式（ＸＶＩＩ）で示される基である。）
【化２２】
2006317813.tif 000064
（式中Ａ105、Ａ106、Ａ107、Ａ108、Ａ109、Ａ110は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＶＩＩ）で示される基を表すが、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105の少なくとも一つは一般式（ＸＶＩＩ）で示される基である。）
【化２３】
2006317813.tif 000065
（式中Ａ111、Ａ112、Ａ113、Ａ114、Ａ115、Ａ116、Ａ117、Ａ118は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＶＩＩ）で示される基を表すが、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113の少なくとも一つは一般式（ＸＶＩＩ）で示される基である。）
【化２４】
2006317813.tif 000066
（式中Ａ119は、炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、Ｒ114、Ｒ115は、同一又は異なって、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）
【化２５】
2006317813.tif 000067
（式中Ａ120、Ａ121、Ａ122、Ａ123、Ａ124は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、下記一般式（ＸＸＶＩ）
【化２６】
2006317813.tif 000068
（式中Ｒ121は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）で示される基を表すが、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120の少なくとも一つは一般式（ＸＸＶＩ）で示される基である。）
【化２７】
2006317813.tif 000069
（式中Ａ125、Ａ126、Ａ127、Ａ128、Ａ129、Ａ130は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＸＶＩ）で示される基を表すが、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127の少なくとも一つは一般式（ＸＸＶＩ）で示される基である。）
【化２８】
2006317813.tif 000070
（式中Ａ131、Ａ132、Ａ133、Ａ134、Ａ135、Ａ136は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＸＶＩ）で示される基を表すが、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133の少なくとも一つは一般式（ＸＸＶＩ）で示される基である。）
【化２９】
2006317813.tif 000071
（式中Ａ137、Ａ138、Ａ139、Ａ140、Ａ141、Ａ142、Ａ143、Ａ144は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137、Ｒ138、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＸＶＩ）で示される基を表すが、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137、Ｒ138、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141の少なくとも一つは一般式（ＸＸＶＩ）で示される基である。）
【化３０】
2006317813.tif 000072
（式中Ｒ142、Ｒ143は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、又は、下記一般式（ＸＸＸＩ）〜（ＸＸＸＩＩＩ）
【化３１】
2006317813.tif 000073
（式中Ａ145、Ａ146、Ａ147、Ａ148、Ａ149、Ａ150は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ144、Ｒ145、Ｒ146、Ｒ147、Ｒ148は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化３２】
2006317813.tif 000074
（式中Ａ151、Ａ152、Ａ153、Ａ154、Ａ155、Ａ156、Ａ157、Ａ158は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ149、Ｒ150、Ｒ151、Ｒ152、Ｒ153、Ｒ154、Ｒ155は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化３３】
2006317813.tif 000075
（式中Ａ159、Ａ160、Ａ161、Ａ162、Ａ163、Ａ164、Ａ165、Ａ166は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ156、Ｒ157、Ｒ158、Ｒ159、Ｒ160、Ｒ161、Ｒ162は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）で示される基を表す。）
【請求項３】
セルロース  Ｎ−置換カーバメート及び請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤の少なくとも一つを含有して形成され、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜。
【請求項４】
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす、請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤の少なくとも一つを含んだセルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成した光学補償用塗工膜。
【請求項５】
前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートが、セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されており、かつ、セルロースカーバメートの窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式（ＸＸＸＩＶ）〜（ＸＸＸＶＩ）から選ばれる基で置換されており、かつ、複数のＮ−置換基は同一又は異なって、下記一般式（ＸＸＸＩＶ）〜（ＸＸＸＶＩ）から選ばれる基である化合物であることを特徴とする請求項３又は請求項４のいずれか１項に記載の光学補償用塗工膜。
【化３４】
2006317813.tif 000076
（式中Ｒ163、Ｒ164、Ｒ165、Ｒ166、Ｒ167は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化３５】
2006317813.tif 000077
（式中Ｒ168、Ｒ169、Ｒ170、Ｒ171、Ｒ172、Ｒ173、Ｒ174は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化３６】
2006317813.tif 000078
（式中Ｒ175、Ｒ176、Ｒ177、Ｒ178、Ｒ179、Ｒ180、Ｒ181は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【請求項６】
下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液。
（Ａ）請求項１乃至請求項５記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート
（Ｂ）請求項１乃至請求項４記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤
（Ｃ）（Ａ）成分及び（Ｂ）成分が溶解可溶な溶媒
【請求項７】
請求項６記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、乾燥する光学素子の製造方法。
【請求項８】
請求項６記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子。
【請求項９】
請求項７記載の製造方法を用いて製造した光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤、該位相差調整剤を用いた光学補償用塗工膜、該塗工膜形成に好適な光学補償用塗工膜形成用塗工液、その塗工液を用いて製造した光学素子並びに光学素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には液晶セルの複屈折による位相差を補償して視野角の拡大を図るため、光学補償用の位相差フィルムが使用されている。例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したものが挙げられる（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。使用される液晶に合わせてポリカーボネートのような正の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムやポリスチレンのような負の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムが使い分けられているが、これらのフィルムを用いるためには煩雑なフィルム化工程が必要であり、また、液晶表示装置構成部品に貼り付ける等の手間も要する。これを解消するために、ｎz＜ｎx＝ｎyの光学特性を有するポリイミドのペースト塗布が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、ｎz＞ｎx≧ｎyの光学特性をもつもの、換言すれば、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄとして表される厚み位相差の値が負になるものについては提案されていない。また、厚み位相差の調整剤についても上昇剤については提案されているが（例えば、特許文献４参照。）、負の方向に調整することができるものについては提案されていない。
【特許文献１】特開平３−３３７１９号公報
【特許文献２】特開平１１−２４８９３９号公報
【特許文献３】特開２００１−２９００２３号公報
【特許文献４】特開２０００−１１１９１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、光学補償用塗工膜の厚み位相差を負の方向に調整することができる位相差調整剤を提供するともに、煩雑なフィルム化工程を必要とせずに〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の特性をもつ光学補償用塗工膜を提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
このような課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、カルバミン酸エステル、Ｎ−置換カルバミン酸エステル、尿素、Ｎ−置換尿素から選ばれる少なくとも一つからなることを特徴とするセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤とすることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
【０００５】
すなわち、本発明は、
カルバミン酸エステル、Ｎ−置換カルバミン酸エステル、尿素、Ｎ−置換尿素から選ばれる少なくとも一つからなることを特徴とするセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤（請求項１）であり、
前記カルバミン酸エステルが下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）で表される化合物であり、前記Ｎ−置換カルバミン酸エステルが下記一般式（ＶＩＩＩ）、（ＸＩＩ）、（ＸＶＩ）、（ＸＸＩ）、（ＸＸＩＩ）、（ＸＸＩＩＩ）、（ＸＸＩＶ）、（ＸＸＶ）、（ＸＸＶＩＩ）、（ＸＸＶＩＩＩ）、（ＸＸＩＸ）で表される化合物であり、前記尿素及びＮ−置換尿素が下記一般式（ＸＸＸ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤（請求項２）であり、
【０００６】
【化１】
2006317813.tif 000002
【０００７】
（式中Ｒ1は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）
【０００８】
【化２】
2006317813.tif 000003
【０００９】
（式中Ａ1は、炭素数１〜２０のアルキレン基を表す。）
【００１０】
【化３】
2006317813.tif 000004
【００１１】
（式中Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、下記一般式（ＩＶ）
【００１２】
【化４】
2006317813.tif 000005
【００１３】
で示される基を表すが、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6の少なくとも一つは一般式（ＩＶ）で示される基である。）
【００１４】
【化５】
2006317813.tif 000006
【００１５】
（式中Ａ7、Ａ8、Ａ9、Ａ10、Ａ11、Ａ12は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基を表すが、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12の少なくとも一つは一般式（ＩＶ）で示される基である。）
【００１６】
【化６】
2006317813.tif 000007
【００１７】
（式中Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16、Ａ17、Ａ18は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基を表すが、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18の少なくとも一つは一般式（ＩＶ）で示される基である。）
【００１８】
【化７】
2006317813.tif 000008
【００１９】
（式中Ａ19、Ａ20、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基を表すが、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26の少なくとも一つは一般式（ＩＶ）で示される基である。）
【００２０】
【化８】
2006317813.tif 000009
【００２１】
（式中Ｒ27は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、又は、下記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩ）
【００２２】
【化９】
2006317813.tif 000010
【００２３】
（式中Ａ27、Ａ28、Ａ29、Ａ30、Ａ31、Ａ32は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００２４】
【化１０】
2006317813.tif 000011
【００２５】
（式中Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36、Ａ37、Ａ38、Ａ39、Ａ40は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39、Ｒ40は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００２６】
【化１１】
2006317813.tif 000012
【００２７】
（式中Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46、Ａ47、Ａ48は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）で示される基を表し、Ｒ28は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）
【００２８】
【化１２】
2006317813.tif 000013
【００２９】
（式中Ａ49は、炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、Ｒ48、Ｒ49は、同一又は異なって、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、又は、下記一般式（ＸＩＩＩ）〜（ＸＶ）
【００３０】
【化１３】
2006317813.tif 000014
【００３１】
（式中Ａ50、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００３２】
【化１４】
2006317813.tif 000015
【００３３】
（式中Ａ56、Ａ57、Ａ58、Ａ59、Ａ60、Ａ61、Ａ62、Ａ63は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59、Ｒ60、Ｒ61は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００３４】
【化１５】
2006317813.tif 000016
【００３５】
（式中Ａ64、Ａ65、Ａ66、Ａ67、Ａ68、Ａ69、Ａ70、Ａ71は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）で示される基を表す。）
【００３６】
【化１６】
2006317813.tif 000017
【００３７】
（式中Ａ72、Ａ73、Ａ74、Ａ75、Ａ76は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、下記一般式（ＸＶＩＩ）
【００３８】
【化１７】
2006317813.tif 000018
【００３９】
（式中Ｒ74は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、又は、下記一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）
【００４０】
【化１８】
2006317813.tif 000019
【００４１】
（式中Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００４２】
【化１９】
2006317813.tif 000020
【００４３】
（式中Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００４４】
【化２０】
2006317813.tif 000021
【００４５】
（式中Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）で表される基を示す。）で示される基を表すが、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73の少なくとも一つは一般式（ＸＶＩＩ）で示される基である。）
【００４６】
【化２１】
2006317813.tif 000022
【００４７】
（式中Ａ99、Ａ100、Ａ101、Ａ102、Ａ103、Ａ104は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＶＩＩ）で示される基を表すが、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99の少なくとも一つは一般式（ＸＶＩＩ）で示される基である。）
【００４８】
【化２２】
2006317813.tif 000023
【００４９】
（式中Ａ105、Ａ106、Ａ107、Ａ108、Ａ109、Ａ110は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＶＩＩ）で示される基を表すが、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105の少なくとも一つは一般式（ＸＶＩＩ）で示される基である。）
【００５０】
【化２３】
2006317813.tif 000024
【００５１】
（式中Ａ111、Ａ112、Ａ113、Ａ114、Ａ115、Ａ116、Ａ117、Ａ118は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＶＩＩ）で示される基を表すが、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113の少なくとも一つは一般式（ＸＶＩＩ）で示される基である。）
【００５２】
【化２４】
2006317813.tif 000025
【００５３】
（式中Ａ119は、炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、Ｒ114、Ｒ115は、同一又は異なって、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）
【００５４】
【化２５】
2006317813.tif 000026
【００５５】
（式中Ａ120、Ａ121、Ａ122、Ａ123、Ａ124は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、下記一般式（ＸＸＶＩ）
【００５６】
【化２６】
2006317813.tif 000027
【００５７】
（式中Ｒ121は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）で示される基を表すが、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120の少なくとも一つは一般式（ＸＸＶＩ）で示される基である。）
【００５８】
【化２７】
2006317813.tif 000028
【００５９】
（式中Ａ125、Ａ126、Ａ127、Ａ128、Ａ129、Ａ130は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＸＶＩ）で示される基を表すが、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127の少なくとも一つは一般式（ＸＸＶＩ）で示される基である。）
【００６０】
【化２８】
2006317813.tif 000029
【００６１】
（式中Ａ131、Ａ132、Ａ133、Ａ134、Ａ135、Ａ136は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＸＶＩ）で示される基を表すが、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133の少なくとも一つは一般式（ＸＸＶＩ）で示される基である。）
【００６２】
【化２９】
2006317813.tif 000030
【００６３】
（式中Ａ137、Ａ138、Ａ139、Ａ140、Ａ141、Ａ142、Ａ143、Ａ144は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137、Ｒ138、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＸＸＶＩ）で示される基を表すが、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137、Ｒ138、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141の少なくとも一つは一般式（ＸＸＶＩ）で示される基である。）
【００６４】
【化３０】
2006317813.tif 000031
【００６５】
（式中Ｒ142、Ｒ143は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、又は、下記一般式（ＸＸＸＩ）〜（ＸＸＸＩＩＩ）
【００６６】
【化３１】
2006317813.tif 000032
【００６７】
（式中Ａ145、Ａ146、Ａ147、Ａ148、Ａ149、Ａ150は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ144、Ｒ145、Ｒ146、Ｒ147、Ｒ148は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００６８】
【化３２】
2006317813.tif 000033
【００６９】
（式中Ａ151、Ａ152、Ａ153、Ａ154、Ａ155、Ａ156、Ａ157、Ａ158は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ149、Ｒ150、Ｒ151、Ｒ152、Ｒ153、Ｒ154、Ｒ155は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００７０】
【化３３】
2006317813.tif 000034
【００７１】
（式中Ａ159、Ａ160、Ａ161、Ａ162、Ａ163、Ａ164、Ａ165、Ａ166は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニレン基を表し、Ｒ156、Ｒ157、Ｒ158、Ｒ159、Ｒ160、Ｒ161、Ｒ162は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）で示される基を表す。）
セルロース  Ｎ−置換カーバメート及び請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤の少なくとも一つを含有して形成され、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜（請求項３）であり、
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす、請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤の少なくとも一つを含んだセルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成した光学補償用塗工膜（請求項４）であり、
前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートが、セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されており、かつ、セルロースカーバメートの窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式（ＸＸＸＩＶ）〜（ＸＸＸＶＩ）から選ばれる基で置換されており、かつ、複数のＮ−置換基は同一又は異なって、下記一般式（ＸＸＸＩＶ）〜（ＸＸＸＶＩ）から選ばれる基である化合物であることを特徴とする請求項３又は請求項４のいずれか１項に記載の光学補償用塗工膜（請求項５）であり、
【００７２】
【化３４】
2006317813.tif 000035
【００７３】
（式中Ｒ163、Ｒ164、Ｒ165、Ｒ166、Ｒ167は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００７４】
【化３５】
2006317813.tif 000036
【００７５】
（式中Ｒ168、Ｒ169、Ｒ170、Ｒ171、Ｒ172、Ｒ173、Ｒ174は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００７６】
【化３６】
2006317813.tif 000037
【００７７】
（式中Ｒ175、Ｒ176、Ｒ177、Ｒ178、Ｒ179、Ｒ180、Ｒ181は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液（請求項６）であり、
（Ａ）請求項１乃至請求項５記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート
（Ｂ）請求項１乃至請求項４記載のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤
（Ｃ）（Ａ）成分及び（Ｂ）成分が溶解可溶な溶媒
請求項６記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、乾燥する光学素子の製造方法（請求項７）であり、
請求項６記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子（請求項８）であり、
請求項７記載の製造方法を用いて製造した光学素子（請求項９）である。
【発明の効果】
【００７８】
本発明のセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤を用いると、負の方向に厚み位相差が調整でき、また、本発明の光学補償用塗工膜を用いると、煩雑なフィルム化工程やフィルム貼り付け等の手間を必要とせずに〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の光学補償層を有する光学素子が製造できることから、工業的に極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００７９】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００８０】
本発明における、セルロース  Ｎ−置換カーバメートは（以下（Ａ）成分と言うことがある）、例えば、各種木材パルプ、綿リンター、綿リント等から得られるセルロースを原料とし、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基触媒存在下でイソシアネート系化合物を反応させる既知の方法により製造することができる。尚、前記塩基触媒は溶媒としても使用することができる。その他の溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を好適に用いることができる。更に、セルロースの溶媒に対する溶解性を向上させるために塩化リチウム等の無機塩を添加することもできる。また、イソシアネート系化合物の例としては、下記一般式（ＸＸＸＶＩＩ）〜（ＸＸＸＩＸ）で表される化合物が挙げられる。
【００８１】
【化３７】
2006317813.tif 000038
【００８２】
（式中Ｒ163、Ｒ164、Ｒ165、Ｒ166、Ｒ167は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００８３】
【化３８】
2006317813.tif 000039
【００８４】
（式中Ｒ168、Ｒ169、Ｒ170、Ｒ171、Ｒ172、Ｒ173、Ｒ174は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００８５】
【化３９】
2006317813.tif 000040
【００８６】
（式中Ｒ175、Ｒ176、Ｒ177、Ｒ178、Ｒ179、Ｒ180、Ｒ181は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
これらのイソシアネート系化合物は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８７】
本発明では、上記イソシアネート系化合物の入手性の観点から、Ｒ163、Ｒ164、Ｒ165、Ｒ166、Ｒ167が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式（ＸＸＸＶＩＩ）で表されるイソシアネート系化合物、又は、Ｒ168、Ｒ169、Ｒ170、Ｒ171、Ｒ172、Ｒ173、Ｒ174、Ｒ175、Ｒ176、Ｒ177、Ｒ178、Ｒ179、Ｒ180、Ｒ181が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式（ＸＸＸＶＩＩＩ）、（ＸＸＸＩＸ）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることが好ましく、Ｒ163、Ｒ164、Ｒ165、Ｒ166、Ｒ167が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式（ＸＸＸＶＩＩ）で表されるイソシアネート系化合物、又は、Ｒ168、Ｒ169、Ｒ170、Ｒ171、Ｒ172、Ｒ173、Ｒ174、Ｒ175、Ｒ176、Ｒ177、Ｒ178、Ｒ179、Ｒ180、Ｒ181が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式（ＸＸＸＶＩＩＩ）、（ＸＸＸＩＸ）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることがより好ましい。一般式（ＸＸＸＶＩＩ）〜（ＸＸＸＩＸ）で表されるイソシアネート系化合物を具体的に例示すると、フェニルイソシアネート、ｏ−トリルイソシアネート、ｍ−トリルイソシアネート、ｐ−トリルイソシアネート、２−エチルフェニルイソシアネート、３−エチルフェニルイソシアネート、４−エチルフェニルイソシアネート、２−プロピルフェニルイソシアネート、３−プロピルフェニルイソシアネート、４−プロピルフェニルイソシアネート、２−ブチルフェニルイソシアネート、３−ブチルフェニルイソシアネート、４−ブチルフェニルイソシアネート、２，３−ジメチルフェニルイソシアネート、２，４−ジメチルフェニルイソシアネート、２，５−ジメチルフェニルイソシアネート、２，６−ジメチルフェニルイソシアネート、３，４−ジメチルフェニルイソシアネート、３，５−ジメチルフェニルイソシアネート、２，３−ジエチルフェニルイソシアネート、２，４−ジエチルフェニルイソシアネート、２，５−ジエチルフェニルイソシアネート、２，６−ジエチルフェニルイ��シアネート、３，４−ジエチルフェニルイソシアネート、３，５−ジエチルフェニルイソシアネート、２，４，６−トリメチルフェニルイソシアネート、２−メトキシフェニルイソシアネート、３−メトキシフェニルイソシアネート、４−メトキシフェニルイソシアネート、２−エトキシフェニルイソシアネート、３−エトキシフェニルイソシアネート、４−エトキシフェニルイソシアネート、２−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−ビフェニリルイソシアネート、３−ビフェニリルイソシアネート、４−ビフェニリルイソシアネート、２−フェノキシフェニルイソシアネート、３−フェノキシフェニルイソシアネート、４−フェノキシフェニルイソシアネート、２’−ベンジルフェニルイソシアネート、３’−ベンジルフェニルイソシアネート、４’−ベンジルフェニルイソシアネート、２−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、３−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、４−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、２−アセトキシフェニルイソシアネート、３−アセトキシフェニルイソシアネート、４−アセトキシフェニルイソシアネート、２−フルオロフェニルイソシアネート、３−フルオロフェニルイソシアネート、４−フルオロフェニルイソシアネート、２−クロロフェニルイソシアネ��ト、３−クロロフェニルイソシアネート、４−クロロフェニルイソシアネート、２−ブロモフェニルイソシアネート、３−ブロモフェニルイソシアネート、４−ブロモフェニルイソシアネート、２−ヨードフェニルイソシアネート、３−ヨードフェニルイソシアネート、４−ヨードフェニルイソシアネート、２，４−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，５−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，６−ジフルオロフェニルイソシアネート、３，４−ジフルオロフェニルイソシアネート、３，５−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，４−ジクロロフェニルイソシアネート、２，５−ジクロロフェニルイソシアネート、２，６−ジクロロフェニルイソシアネート、３，４−ジクロロフェニルイソシアネート、３，５−ジクロロフェニルイソシアネート、２，４−ジブロモフェニルイソシアネート、２，５−ジブロモフェニルイソシアネート、２，６−ジブロモフェニルイソシアネート、３，４−ジブロモフェニルイソシアネート、３，５−ジブロモフェニルイソシアネート、２，４−ジヨードフェニルイソシアネート、２，５−ジヨードフェニルイソシアネート、２，６−ジヨードフェニルイソシアネート、３，４−ジヨードフェニルイソシアネート、３，５−ジヨードフェニルイソシアネート、２，３，４−トリフルオロフェニルイソシアネート、２，３，４−トリクロロフェニルイソシアネート、２，３，４−トリブロモフェニルイソシアネート、２，３，４−トリヨードフェニルイソシアネート、２−フルオロ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−フルオロ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−フルオロ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−フルオロ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−クロロ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−クロロ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−クロロ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−クロロ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ブロモ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−ブロモ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−ブロモ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−ブロモ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ヨード−５−メチルフェニルイソシアネート、２−ヨード−６−メチルフェニルイソシアネート、３−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、３−ヨード−４−メチルフェニルイソシアネート、４−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、４−ヨード−３−メチルフェニルイソシアネート、５−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ニトロフェニルイソシアネート、３−ニトロフェニルイソシアネート、４−ニトロフェニルイソシアネート、１−ナフチルイソシアネート、２−ナフチルイソシアネー��、１−メチル−２−ナフチルイソシアネート、２−メチル−１−ナフチルイソシアネート、１−メトキシ−２−ナフチルイソシアネート、２−メトキシ−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリフルオロメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリフルオロメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリクロロメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリクロロメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリブロモメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリブロモメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリヨードメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリヨードメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−アセトキシ−２−ナフチルイソシアネート、２−アセトキシ−１−ナフチルイソシアネート、１−フルオロ−２−ナフチルイソシアネート、２−フルオロ−１−ナフチルイソシアネート、１−クロロ−２−ナフチルイソシアネート、２−クロロ−１−ナフチルイソシアネート、１−ブロモ−２−ナフチルイソシアネート、２−ブロモ−１−ナフチルイソシアネート、１−ヨード−２−ナフチルイソシアネート、２−ヨード−１−ナフチルイソシアネート、１−ニトロ−２−ナフチルイソシアネート、２−ニトロ−１−ナフチルイソシアネート等が挙げられる。これら及び前記イソシアネート系化合物を反応して得られるセルロース  Ｎ−置換カーバメートは、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８８】
また、セルロースはその構成単位であるグルコース残基当たり３個の水酸基を有しており、グルコース残基当たりの置換度（以下、ＤＳと称する）は最大３になるが、ＤＳの下限は好ましくは０．１、より好ましくは０．５、さらに好ましくは１であり、上限は好ましくは３、より好ましくは２．９５、さらに好ましくは２．９である。ＤＳが０．１より低いと溶媒に溶け難くなる傾向がある。本発明では、ＤＳが異なるセルロース  Ｎ−置換カーバメートの２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００８９】
さらに、（Ａ）成分の数平均分子量の下限は好ましくは５０００、より好ましくは８０００、さらに好ましくは１００００であり、上限は好ましくは３０００００、より好ましくは２５００００、さらに好ましくは２０００００である。数平均分子量が５０００より小さいと塗工膜強度が低下する傾向があり、数平均分子量が３０００００より大きいと溶媒（以下（Ｃ）成分と言うことがある）に溶け難くなる傾向がある。なお、当該数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定した値である。本発明では、数平均分子量が異なるセルロース  Ｎ−置換カーバメートの２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００９０】
次に、本発明における、セルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤（以下（Ｂ）成分と言うことがある）について説明する。
【００９１】
（Ｂ）成分は、セルロース  Ｎ−置換カーバメートの厚み位相差を負の方向に調整することができるものである。前記カルバミン酸エステルは、例えば、アンモニアにクロロギ酸エステルを反応させる既知の方法により得ることができ、前記Ｎ−置換カルバミン酸エステルは、例えば、１級アミン又は２級アミンにクロロギ酸エステルを反応させる既知の方法により製造することができる。また、前記尿素は、例えば、アンモニアと二酸化炭素を高温高圧下で反応させる工業的製法により得ることができ、Ｎ−置換尿素は、例えば、１級アミン又は２級アミンにイソシアネート系化合物を反応させる既知の方法により製造することができる。
【００９２】
本発明では、原料の入手性の観点から、カルバミン酸エステルについては、一般式（Ｉ）において、Ｒ1が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基であることが好ましく、Ｒ1が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基であることがより好ましく、一般式（ＩＩ）において、Ａ1が、炭素数１〜１６のアルキレン基であることが好ましく、Ａ1が、炭素数１〜１２のアルキレン基であることがより好ましく、一般式（ＩＩＩ）において、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基であり、かつ、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6の少なくとも一つが一般式（ＩＶ）であることが好ましく、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基であり、かつ、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6の少なくとも一つが一般式（ＩＶ）であることがより好ましく、一般式（Ｖ）において、Ａ7、Ａ8、Ａ9、Ａ10、Ａ11、Ａ12が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基であり、かつ、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12の少なくとも一つが一般式（ＩＶ）であることが好ましく、Ａ7、Ａ8、Ａ9、Ａ10、Ａ11、Ａ12が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニ��ロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基であり、かつ、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12の少なくとも一つが一般式（ＩＶ）であることがより好ましく、一般式（ＶＩ）において、Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16、Ａ17、Ａ18が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基であり、かつ、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18の少なくとも一つが一般式（ＩＶ）であることが好ましく、Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16、Ａ17、Ａ18が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基であり、かつ、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18の少なくとも一つが一般式（ＩＶ）であることがより好ましく、一般式（ＶＩＩ）において、Ａ19、Ａ20、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基であり、かつ、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26の少なくとも一つが一般式（ＩＶ）であることが好ましく、Ａ19、Ａ20、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25、Ａ26が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、前記一般式（ＩＶ）で示される基であり、かつ、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26の少なくとも一つが一般式（ＩＶ）であることがより好ましい。Ｎ−置換カルバミン酸エステルについても原料の入手性の観点から、一般式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ27が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、又は、Ａ27、Ａ28、Ａ29、Ａ30、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36、Ａ37、Ａ38、Ａ39、Ａ40、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46、Ａ47、Ａ48が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン��子、ニトロ基である一般式（ＩＸ）〜（ＸＩ）で示される基であり、Ｒ28が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基であることが好ましく、Ｒ27が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、又は、Ａ27、Ａ28、Ａ29、Ａ30、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35、Ａ36、Ａ37、Ａ38、Ａ39、Ａ40、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46、Ａ47、Ａ48が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である一般式（ＩＸ）〜（ＸＩ）で示される基であり、Ｒ28が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基であることがより好ましく、一般式（ＸＩＩ）において、Ａ49が、炭素数１〜１６のアルキレン基であり、Ｒ48、Ｒ49が、同一又は異なって、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、又は、Ａ50、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55、Ａ56、Ａ57、Ａ58、Ａ59、Ａ60、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65、Ａ66、Ａ67、Ａ68、Ａ69、Ａ70、Ａ71が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59、Ｒ60、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜
１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である一般式（ＸＩＩＩ）〜（ＸＶ）で示される基であることが好ましく、Ａ49が、炭素数１〜１２のアルキレン基であり、Ｒ48、Ｒ49が、同一又は異なって、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、又は、Ａ50、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55、Ａ56、Ａ57、Ａ58、Ａ59、Ａ60、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65、Ａ66、Ａ67、Ａ68、Ａ69、Ａ70、Ａ71が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59、Ｒ60、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である一般式（ＸＩＩＩ）〜（ＸＶ）で示される基であることがより好ましく、一般式（ＸＶＩ）において、Ａ72、Ａ73、Ａ74、Ａ75、Ａ76が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ74が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）で表される基（Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82、Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90、Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である。）である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73の少なくとも一つが該条件である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であることが好ましく、Ａ72、Ａ73、Ａ74、Ａ75、Ａ76が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ74が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）で表される基（Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82、Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90、Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である。）である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73の少なくとも一つが該条件である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であることがより好ましく、一般式（ＸＸＩ）において、Ａ99、Ａ100、Ａ101、Ａ102、Ａ103、Ａ104が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ74が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）で表される基（Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82、Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90、Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である。）である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99の少なくとも一つが該条件である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であることが好ましく、Ａ99、Ａ100、Ａ101、Ａ102、Ａ103、Ａ104が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ74が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）で表される基（Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82、Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90、Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90���Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である。）である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99の少なくとも一つが該条件である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であることがより好ましく、一般式（ＸＸＩＩ）において、Ａ105、Ａ106、Ａ107、Ａ108、Ａ109、Ａ110が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ74が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）で表される基（Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82、Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90、Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ
79、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である。）である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105の少なくとも一つが該条件である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であることが好ましく、Ａ105、Ａ106、Ａ107、Ａ108、Ａ109、Ａ110が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ74が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）で表される基（Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82、Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90、Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である。）である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105の少なくとも一つが該条件である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であることがより好ましく、一般式（ＸＸＩＩＩ）において、Ａ111、Ａ112、Ａ113、Ａ114、Ａ115、Ａ116、Ａ117、Ａ118が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ74が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）で表される基（Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82、Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90、Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である。）である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113の少なくとも一つが該条件である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であることが好ましく、Ａ111、Ａ112、Ａ113、Ａ114、Ａ115、Ａ116、Ａ117、Ａ118が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ74が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、一般式（ＸＶＩＩＩ）〜（ＸＸ）で表される基（Ａ77、Ａ78、Ａ79、Ａ80、Ａ81、Ａ82、Ａ83、Ａ84、Ａ85、Ａ86、Ａ87、Ａ88、Ａ89、Ａ90、Ａ91、Ａ92、Ａ93、Ａ94、Ａ95、Ａ96、Ａ97、Ａ98は、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77、Ｒ78、Ｒ79、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89、Ｒ90、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である。）である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113の少なくとも一つが該条件である一般式（ＸＶＩＩ）で示される基であることがより好ましく、一般式（ＸＸＩＶ）において、Ａ119が、炭素数１〜１６のアルキレン基であり、Ｒ114、Ｒ115が、同一又は異なって、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基であることが好ましく、Ａ119が、炭素数１〜１２のアルキレン基であり、Ｒ114、Ｒ115が、同一又は異なって、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基であることがより好ましく、一般式（ＸＸＶ）において、Ａ120、Ａ121、Ａ122、Ａ123、Ａ124が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ121が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120の少なくとも一つはＲ121が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であることが好ましく、Ａ120、Ａ121、Ａ122、Ａ123、Ａ124が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ121が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120の少なくとも一つはＲ121が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であることがより好ましく、一般式（ＸＸＶＩＩ）において、Ａ125、Ａ126、Ａ127、Ａ128、Ａ129、Ａ130が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ121が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127の少なくとも一つはＲ121が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であることが
好ましく、Ａ125、Ａ126、Ａ127、Ａ128、Ａ129、Ａ130が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ121が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127の少なくとも一つはＲ121が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であることがより好ましく、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）において、Ａ131、Ａ132、Ａ133、Ａ134、Ａ135、Ａ136が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ121が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133の少なくとも一つはＲ121が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン・サアルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であることが好ましく、Ａ131、Ａ132、Ａ133、Ａ134、Ａ135、Ａ136が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ121が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133の少なくとも一つはＲ121が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であることがより好ましく、一般式（ＸＸＩＸ）において、Ａ137、Ａ138、Ａ139、Ａ140、Ａ141、Ａ142、Ａ143、Ａ144が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137、Ｒ138、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ121が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137、Ｒ138、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141の少なくとも一つはＲ121が、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であることが好ましく、一般式（ＸＸＩＸ）において、Ａ137、Ａ138、Ａ139、Ａ140、Ａ141、Ａ142、Ａ143、Ａ144が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137、Ｒ138、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又は、Ｒ121が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であり、かつ、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137、Ｒ138、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141の少なくとも一つはＲ121が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である一般式（ＸＸＶＩ）で示される基であることがより好ましい。尿素、Ｎ−置換尿素についても原料の入手性の観点から、一般式（ＸＸＸ）において、Ｒ142、Ｒ143が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、又は、Ａ145、Ａ146、Ａ147、Ａ148、Ａ149、Ａ150、Ａ151、Ａ152、Ａ153、Ａ154、Ａ155、Ａ156、Ａ157、Ａ158、Ａ159、Ａ160、Ａ161、Ａ162、Ａ163、Ａ164、Ａ165、Ａ166が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１６のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ144、Ｒ145、Ｒ146、Ｒ147、Ｒ148、Ｒ149、Ｒ150、Ｒ151、Ｒ152、Ｒ153、Ｒ154、Ｒ155、Ｒ156、Ｒ157、Ｒ158、Ｒ159、Ｒ160、Ｒ161、Ｒ162が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である一般式（ＸＸＸＩ）〜（ＸＸＸＩＩＩ）で示される基であることが好ましく、Ｒ142、Ｒ143が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、又は、Ａ145、Ａ146、Ａ147、Ａ148、Ａ149、Ａ150、Ａ151、Ａ152、Ａ153、Ａ154、Ａ155、Ａ156、Ａ157、Ａ158、Ａ159、Ａ160、Ａ161、Ａ162、Ａ163、Ａ164、Ａ165、Ａ166が、同一又は異なって、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基であり、Ｒ144、Ｒ145、Ｒ146、Ｒ147、Ｒ148、Ｒ149、Ｒ150、Ｒ151、Ｒ152、Ｒ153、Ｒ154、Ｒ155、Ｒ156、Ｒ157、Ｒ158、Ｒ159、Ｒ160、Ｒ161、Ｒ162が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である一般式（ＸＸＸＩ）〜（ＸＸＸＩＩＩ）で示される基であることがより好ましい。
【００９３】
上記カルバミン酸エステルとしては、例えば、カルバミン酸メチル、カルバミン酸エチル、カルバミン酸シクロペンチル、カルバミン酸シクロヘキシル、カルバミン酸トリクロロメチル、カルバミン酸フェニル、カルバミン酸１−ナフチル、カルバミン酸２−ナフチル、カルバミン酸ベンジル、エチレングリコールジカーバメート、プロピレングリコールジカーバメート、ヒドロキノンジカーバメート、ピロカテコールジカーバメート、ピロガロールトリカーバメート等が挙げられ、上記Ｎ−置換カルバミン酸エステルとしては、例えば、Ｎ−メチルカルバミン酸メチル、Ｎ−メチルカルバミン酸エチル、Ｎ−メチルカルバミン酸シクロペンチル、Ｎ−メチルカルバミン酸シクロヘキシル、Ｎ−メチルカルバミン酸トリクロロメチル、Ｎ−メチルカルバミン酸フェニル、Ｎ−メチルカルバミン酸１−ナフチル、Ｎ−メチルカルバミン酸２−ナフチル、Ｎ−メチルカルバミン酸ベンジル、エチレングリコールビス（Ｎ−メチルカーバメート）、プロピレングリコールビス（Ｎ−メチルカーバメート）、ヒドロキノンビス（Ｎ−メチルカーバメート）、ピロカテコールビス（Ｎ−メチルカーバメート）、ピロガロールトリス（Ｎ−メチルカーバメート）、Ｎ−フェニルカルバミン酸メチル、Ｎ−フェニルカルバミン酸エチル、Ｎ−フェニルカルバミン酸シクロペンチル、Ｎ−フェニルカルバミン酸シクロヘキシル、Ｎ−フェニルカルバミン酸トリクロロメチル、Ｎ−フェニルカルバミン酸フェニル、Ｎ−フェニルカルバミン酸１−ナフチル、Ｎ−フェニルカルバミン酸２−ナフチル、Ｎ−フェニルカルバミン酸ベンジル、エチレングリコールビス（Ｎ−フェニルカーバメート）、プロピレングリコールビス（Ｎ−フェニルカーバメート）、ヒドロキノンビス（Ｎ−フェニルカーバメート）、ピロカテコールビス（Ｎ−フェニルカーバメート）、ピロガロールトリス（Ｎ−フェニルカーバメート）、Ｎ，Ｎ’−ビス（メトキシカルボニル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（エトキシカルボニル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（フェノキシカルボニル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンジルオキシカルボニル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（メトキシカルボニル）−１，２−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（エトキシカルボニル）−１，２−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（フェノキシカルボニル）−１，２−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンジルオキシカルボニル）−１，２−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（エトキシカルボニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（フェノキシカルボニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンジルオキシカルボニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（メトキシカルボニル）−１，４−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（エトキシカルボニル）−１，４−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（フェノキシカルボニル）−１，４−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンジルオキシカルボニル）−１，４−フェニレンジアミン等が挙げられ、上記Ｎ−置換尿素としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチル尿素、Ｎ，Ｎ’−ジエチル尿素、Ｎ，Ｎ’−ジクロロメチル尿素、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル尿素、Ｎ，Ｎ’−ジベンジル尿素、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチル尿素、Ｎ−メチル−Ｎ’−フェニル尿素、Ｎ−ベンジル−Ｎ’−フェニル尿素等が挙げられる。これらのセルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９４】
本発明では、セルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総重量に対する（Ｂ）成分の割合が下限０．１重量％、上限７０重量％の範囲で用いるのが好ましく、下限０．２重量％、上限６５重量％の範囲で用いるのがより好ましく、下限０．３重量％、上限６０重量％の範囲で用いるのがさらに好ましい。（Ｂ）成分の割合が０．１重量％より小さい場合は厚み位相差の調整効果が小さくなる傾向があり、７０重量％より大きい場合は光学補償用塗工膜からブリードしやすくなる傾向がある。
【００９５】
次に、光学補償用塗工膜形成用塗工液（以下、単に塗工液と言うことがある）について説明する。塗工液は、（Ａ）前記セルロース  Ｎ−置換カーバメート、（Ｂ）前記セルロース  Ｎ−置換カーバメート用位相差調整剤、（Ｃ）（Ａ）成分及び（Ｂ）成分が溶解可溶な溶媒、を含有して形成されていることが好ましい。
【００９６】
（Ｃ）成分の溶媒としては、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分が可溶であれば特に限定されるものではないが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒；エチルエーテル、イソプロピルエーテル、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、１−クロロプロパン、２−クロロプロパン、１，１−ジクロロプロパン、１，２−ジクロロプロパン、１，３−ジクロロプロパン、２，２−ジクロロプロパン、１，２，３−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベンゼン、１，４−ジクロロベンゼン、１，２，３−トリクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、１，３，５−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン等のアミド系溶媒；ピロリジン、ピペリジン、ピロール、ピリジン等のアミン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９７】
本発明では、溶媒量は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分の総重量に対する〔（Ａ）成分＋（Ｂ）成分〕の割合が下限１重量％、上限７０重量％の範囲で用いるのが好ましく、下限２重量％、上限６０重量％の範囲で用いるのがより好ましく、下限３重量％、上限５０重量％の範囲で用いるのがさらに好ましい。〔（Ａ）成分＋（Ｂ）成分〕の割合が１重量％より小さい場合は塗工膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、７０重量％より大きい場合は塗工液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。
【００９８】
次に、本発明の塗工膜の特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００９９】
次に、本発明の塗工膜、塗工液の特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。
【０１００】
添加剤としては、酸化防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ  １１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ  １３３０等のヒンダードフェノール類）、加工安定剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＨＰ−１３６、ＩＲＧＡＮＯＸ  Ｅ２０１、ＩＲＧＡＦＯＳ  １６８等）、光安定剤（例えば、三共ライフテック製サノールＬＳ−７６５、サノールＬＳ−７７０等のヒンダードアミン類）、紫外線吸収剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６等のベンゾトリアゾール類）、接着性改良剤（例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤）、シラノール縮合触媒（例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミキレートＭ等のアルミニウムキレート類）、可塑剤（例えば、ジ２−エチルヘキシルフタレート、ジイソブチルアジペート等のエステル類）、界面活性剤（例えば、住友スリーエム製Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４３０、Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４４３０等のフッ素系化合物）、帯電防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ１８、ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ２２等）等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【０１０１】
本発明の塗工液は、例えば上記各成分を溶媒の融点以上、沸点以下の温度で、混合後静置又は攪拌混合等することにより得られる。
【０１０２】
次に、光学素子用の基板について説明する。
【０１０３】
基板としては、各種のものが使用可能であるが、特に用途から考えると透明であることが好ましい。具体的な例としては、ビスフェノールＡと塩化カルボニルより重縮合して製造されたポリカーボネート系重合体；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル；アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の２塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体；ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のスチレン系重合体；アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体；ポリエチレン、ポリノルボルネン、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体；トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリビニルアルコール；塩化ビニル；ポリエーテルスルホン；エポキシ樹脂；シリコーン樹脂；国際公開第０１／３７００７号パンフレットに記載される化合物等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したもの、これらのフィルムを偏光板に貼り付けたもの、ガラス板、カラーフィルター、液晶セル等が挙げられる。
【０１０４】
次に、光学素子の製造方法について説明する。
【０１０５】
光学素子は、前記基板の片面又は両面に本発明の塗工液を塗工後、乾燥、又は塗工後、アニーリング、乾燥することにより好適に製造できる。塗工方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。
【０１０６】
乾燥方法としては、例えば空気中又は窒素等の不活性ガス中に放置（風乾）、熱風オーブン、赤外線加熱炉等での加熱乾燥、真空乾燥機等での減圧乾燥等により行うことができる。乾燥温度は種々設定できるが、下限−３０℃、上限３００℃の温度範囲が好ましく、下限０℃、上限２８０℃がより好ましく、下限１０℃、上限２６０℃がさらに好ましい。乾燥温度が−３０℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、３００℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。
【０１０７】
また、アニーリングは塗工膜のレベリング性向上、応力緩和等のために行うことが好ましく、例えば面内位相差の低減、面内位相差の振れの低減等に有効である。アニーリングは、（Ｃ）成分の蒸気中に塗工基板の塗工膜を上にして水平に静置して行うことが好ましい。アニーリング時の温度は種々設定できるが、下限−３０℃、上限〔（Ｃ）成分の沸点（℃）〕の範囲が好ましく、下限−１５℃、上限〔（Ｃ）成分の沸点（℃）−５℃〕がより好ましく、下限０℃、上限〔（Ｃ）成分の沸点（℃）−１０℃〕がさらに好ましい。アニーリング時の温度が−３０℃より低いとアニーリング時間が長くなる傾向があり、アニーリング時の温度が（Ｃ）成分の沸点（℃）より高いと塗工膜の基板からの流れ出しが生じ易くなる傾向がある。アニーリング時の圧力も種々設定でき、大気圧、加圧下、又は減圧下で行うことができるが、作業性の点で大気圧が好ましい。
【０１０８】
次に、本発明における光学補償用塗工膜の光学特性について説明する。
【０１０９】
本発明の光学補償用塗工膜は〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の特性をもつことが好ましい。光学補償用塗工膜の厚みをｄ（ｎｍ）とすると、面内位相差は、（ｎx−ｎy）×ｄで表され、厚み位相差は、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄで表されるが、面内位相差は下限０ｎｍ、上限１００ｎｍが好ましく、下限０ｎｍ、上限８０ｎｍがより好ましく、下限０ｎｍ、上限６０ｎｍがさらに好ましい。面内位相差が１００ｎｍより大きいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、厚み位相差は下限−１０００ｎｍ、上限−１ｎｍが好ましく、下限−８００ｎｍ、上限−１０ｎｍがより好ましく、下限−６００ｎｍ、上限−２０ｎｍがさらに好ましい。厚み位相差が−１０００ｎｍより小さいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。
【０１１０】
また、本発明の光学補償用塗工膜、該塗工膜形成用塗工液及びその塗工液を用いて製造した光学素子は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。
【実施例】
【０１１１】
以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【０１１２】
（合成例１）セルロース  Ｎ−（ｐ−トリル）カーバメート（１）の合成
冷却管、窒素導入管、攪拌機、温度計を備えた５００ｍｌの４つ口フラスコに、６０℃で７時間真空乾燥したセルロース（旭化成ケミカルズ製アビセルＴＧ−Ｆ２０）３．０ｇを入れ、ピリジン３００ｍｌを加えて懸濁液とした後、さらにｐ−トリルイソシアネート（東京化成工業製）２２．２ｇを加えた。窒素を導入し、攪拌しながら１１０℃に昇温した後、７時間反応させた。その後、２５℃まで放冷した後、反応液をビーカーに移し、エタノール６００ｍｌを加え、反応液を純水４．５Ｌ中に滴下して沈殿を生成させた。濾別後、得られたポリマーにアセトン３００ｍｌを加えて溶解した後、純水３Ｌ中に滴下して沈殿を生じさせた。濾別後水洗し、６０℃で４時間真空乾燥した後、ポリマーをソックスレー抽出器に入れた。メタノールによるソックスレー抽出を２０回行った後、２５℃で４時間真空乾燥することによって、６．８ｇのセルロース  Ｎ−（ｐ−トリル）カーバメート（１）を得た。合成品（１）のＤＳはプロトンＮＭＲ分析の結果、３であった。なお、ＤＳは、セルロース骨格由来のプロトンの化学シフト（３．４〜５．５ｐｐｍ）面積とｐ−トリル基のプロトンの化学シフト（６．６〜７．７ｐｐｍ）面積を比較することによって決定した。
【０１１３】
（実施例１）
合成品（１）０．４８ｇに２−ブタノン５．５２ｇを加え、２５℃下で溶解した。さらに、Ｎ−フェニルカルバミン酸エチル（東京化成工業製）０．３２ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、１００℃で１分間、空気中で乾燥して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を下記の方法によって行い、結果を表１に示した。Ｎ−フェニルカルバミン酸エチルを添加していない比較例１と比べると、厚み位相差が負の方向に向上した光学素子が得られた。
【０１１４】
（１）３次元屈折率（ｎx，ｎy，ｎz）の算出
王子計測機器製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて遅相軸を傾斜中心軸とし、２５℃下で５９０ｎｍ光による光学素子の位相差測定を行った。次に、測定した位相差の符号判定を行うために、光学素子上にポリカーボネート製λ／４板を重ね合わせ、λ／４板の配向角が０±１度になるように自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲに装着した後、遅相軸を傾斜中心軸とし、２５℃下で５９０ｎｍ光による位相差測定を行った。測定結果が、λ／４板単体の位相差より上昇した場合は傾斜角が上がるとともに光学素子単体の位相差も正の方向に上昇しているとみなし、λ／４板単体の位相差より低下した場合は傾斜角が上がるとともに光学素子単体の位相差も負の方向に低下しているとみなして、先に測定した光学素子単体の位相差に正負の符号を付与し、３次元屈折率を算出した。得られた結果から、面内位相差を（ｎx−ｎy）×ｄにより求めた。また、厚み位相差を〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄにより求めた。
【０１１５】
（実施例２）
合成品（１）０．３２ｇにＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３．６８ｇを加え、２５℃下で溶解した。さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル尿素（東京化成工業製）０．４８ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、１３０℃で５分間、空気中で乾燥して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例１記載の方法によって行い、結果を表１に示した。Ｎ，Ｎ’−ジフェニル尿素を添加していない比較例２と比べると、厚み位相差が負の方向に向上した光学素子が得られた。
【０１１６】
（比較例１）
Ｎ−フェニルカルバミン酸エチルを添加しないこと以外は実施例１と同様の操作を行った。得られた光学素子の物性測定は実施例１記載の方法によって行い、結果を表２に示した。
【０１１７】
（比較例２）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル尿素を添加しないこと以外は実施例２と同様の操作を行った。得られた光学素子の物性測定は実施例１記載の方法によって行い、結果を表２に示した。
【０１１８】
【表１】
2006317813.tif 000041
【０１１９】
【表２】
2006317813.tif 000042