(57)【要約】【課題】  ガラス基板表面の欠陥を低減し得る磁気ディスク用基板の製造方法を提供しうる。得られる磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作製すると、歩留まり、さらには信頼性を向上し得る。【解決手段】  ガラス基板の表面をポリッシング研磨した後に洗浄するに際し、ポリッシング研磨したガラス基板の表面を濡れた状態に保持したまま該ガラス基板を洗浄液に浸漬する。ガラス基板の表面が濡れた状態としては、ガラス基板が界面活性剤を含んでいてもよい水に浸漬されている状態、またはその液膜が実質的に表面全体に形成されている状態が挙げられる。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の表面をポリッシング研磨した後に洗浄するに際し、ポリッシング研磨したガラス基板の表面を濡れた状態に保持したまま該ガラス基板を洗浄液に浸漬することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項２】
ガラス基板の表面が濡れた状態が、ガラス基板が界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水に浸漬されている状態である請求項１記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項３】
ガラス基板の表面が濡れた状態が、界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水の液膜が実質的に表面全体に形成されている状態である請求項１記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項４】
ポリッシング研磨後、直ちにガラス基板が界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水に浸漬される請求項２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項５】
カルボン酸類が，モノもしくはポリ鎖状カルボン酸類である請求項２〜４のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項６】
ポリ鎖状カルボン酸類が、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸もしくはマロン酸である請求項５記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項７】
ポリ鎖状カルボン酸類がシュウ酸である請求項６記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか記載の磁気ディスク用基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法により形成されてなる、磁気記録媒体用の磁気ディスク用基板。
【請求項１０】
請求項９記載の磁気ディスク用基板を用いて形成されてなる磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用基板および磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置はコンピュータの外部記憶装置としてコストパフォーマンスの優位性から著しい成長を遂げ、さらなる成長が期待されている。磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクの基板としては従来よりアルミニウム系基板が用いられているが、耐衝撃性に優れ、平滑性が得られ易い等の点から、化学強化ガラス、結晶化ガラス等のガラス基板が多く用いられるようになりつつある。すなわち、アルミニウム系基板は磁気特性に優れた磁気ディスクを得やすいが、研磨加工等の機械的処理の過程において塑性変形を伴うため、平滑性に難がある。これに対して、ガラス基板は表面の硬度が高く、上記のような塑性変形を伴わないため、平滑性が得られ易い。
【０００３】
従来、これらのガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄するガラス基板製造工程において、表面付着物の除去等を十分に行うため種々の洗浄方法が提案されている。たとえば、ｐＨ３から７のフッ素系溶液で処理する方法（特許文献１）、純水を電気分解して得られるアノ−ド水で洗浄する方法（特許文献２）、酸および還元剤を含む洗浄液で洗浄する方法（特許文献３）、等が挙げられる。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２６２９９１号公報
【特許文献２】特開２００１−３１２８１７号公報
【特許文献３】特開２００１−２０６７３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者は、ガラス基板の表面をポリッシング研磨した後の処理方法について種々の検討を行ない、本発明に到達した。すなわち，本発明はガラス基板表面の欠陥をさらに低減し得る磁気ディスク用基板の製造方法ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するために以下の発明を提供する。
（１）ガラス基板の表面をポリッシング研磨した後に洗浄するに際し、ポリッシング研磨したガラス基板の表面を濡れた状態に保持したまま該ガラス基板を洗浄液に浸漬することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法；
（２）ガラス基板の表面が濡れた状態が、ガラス基板が界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水に浸漬されている状態である（１）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（３）ガラス基板の表面が濡れた状態が、界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水の液膜が実質的に表面全体に形成されている状態である（１）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（４）ポリッシング研磨後、直ちにガラス基板が界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水に浸漬される（２）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（５）カルボン酸類が，モノもしくはポリ鎖状カルボン酸類である（２）〜（４）のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（６）ポリ鎖状カルボン酸類が、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸もしくはマロン酸である（５）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（７）ポリ鎖状カルボン酸類がシュウ酸である（６）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（８）（１）〜（７）のいずれか記載の磁気ディスク用基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法、
（９）（１）〜（８）のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法により形成されてなる、磁気記録媒体用の磁気ディスク用基板；
ならびに（１０）（９）記載の磁気ディスク用基板を用いて形成されてなる磁気記録媒体、
である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ガラス基板表面の欠陥をさらに低減し得る磁気ディスク用基板の製造方法ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の磁気ディスク用基板の製造方法においては、ガラス基板の表面をポリッシング研磨した後に洗浄するに際し、ポリッシング研磨したガラス基板の表面を濡れた状態に保持したまま該ガラス基板を洗浄液に浸漬する。
【０００９】
本発明におけるガラス基板としては、通常磁気ディスク基板として用いられるアモルファス、化学強化もしくは結晶化ガラスを用いることができ、たとえばソーダライム、アルミノシリケート、リチウムシリケート、リチウムアルミノシリケート、アルミノホウケイ酸、等のガラスが挙げられる。化学強化ガラスとしては、高温で溶融塩と接触させ、ガラス中のアルカリイオンと溶融塩中の別種アルカリイオンをイオン交換させ、その圧縮応力により強化されたものが好適である。また、結晶化ガラスとしては、たとえばガラスを制御された条件下で再加熱して、多数の微小な結晶を析出成長させて得られるものが挙げられる。結晶化ガラスとしては、たとえばＡl2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、等が挙げられる。このようなガラス基板の厚みは、通常０．１〜２ｍｍ程度から選択される。
【００１０】
本発明におけるガラス基板表面のポリッシングは、ラッピング、ついで内径孔に面する内周側端面と外周側の端面とをそれぞれ面取り加工し、得られた内周側端面および外周側端面を鏡面にポリッシュ加工した後に行われるのが好ましく、たとえば、研磨用キャリアを用いて、遊離砥粒を水等に分散させた研磨スラリーを介してガラス基板表面とパッドを有する定盤を擦り合わせる研磨が挙げられる。
【００１１】
本発明においては、ガラス基板の外端面と接触しうる内側面を樹脂コーティングした研磨用キャリアを用いて研磨するのが好適である。樹脂コーティングにおける樹脂としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ＡＢＳもしくはポリスチレン樹脂、等の熱可塑性またはエポキシ、フェノール、不飽和ポリエステルもしくはポリイミド樹脂、等の熱硬化性樹脂が挙げられるが、エポキシ樹脂が最も好適である。そして、これらの樹脂は繊維強化されていないのが好適である。樹脂コーティングの厚さは１０μｍ〜１ｍｍ程度から選択される。
【００１２】
本発明における、ガラス基板の表面が濡れた状態としては、ガラス基板が界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水に浸漬されている状態が挙げられる。このためには、ポリッシング研磨後、直ちにガラス基板が界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水に浸漬されるのが好適である。さらには、界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水に浸漬されていなくとも、その液膜が実質的に表面全体に形成されている状態であってもよい。このように、本発明においては、ガラス基板は表面が濡れた状態のまま、次の洗浄工程に移行される。
【００１３】
界面活性剤としては，アルキルピリジニウム塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン；アルキルベンゼンスルホン酸塩、セッケン等のアニオン；またはアルキルポリオキシエチレンエーテル脂肪酸多価アルコールエステル等のノニオン系；等のいずれでもよい。
【００１４】
一方、カルボン酸類としては，酢酸等のモノ鎖状カルボン酸類；またはシュウ酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸もしくはマロン酸等のポリ鎖状カルボン酸類が挙げられるが、好適には、シュウ酸である。
【００１５】
上記の界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水としては、水、界面活性剤および/またはカルボン酸類を含有する水が挙げられるが、種々の目的のために他の成分を含有していてもよい。
【００１６】
本発明においては、上記のようにポリッシング研磨したガラス基板の表面を濡れた状態に保持したまま該ガラス基板を洗浄液に浸漬するが、洗浄液としては特に制限されず、たとえば上記の界面活性剤もしくはカルボン酸類を含んでいてもよい水であってもよい。
【００１７】
本発明方法によれば、表面欠陥の低減したガラス基板を得ることができる。これは、本発明方法によればガラス基板表面に付着粒子の固着が生じ難いことによると推定される。
【００１８】
得られた磁気ディスク用基板は、磁気ディスクの作製に供される。たとえば、まず基板上に、必要に応じて、ヘッド走行方向にテクスチャー溝を形成するためにテクスチャリング処理を行う。ついで、この基板上にスパッタリング法により、Ｃｒ合金からなる下地膜を形成する。そして、この下地膜の上にCo系合金からなる磁性記録層が、たとえば１０〜１００ｎｍ程度の膜厚で形成される。この磁性記録層の上に、さらに耐食性、耐摺動性等を向上させるためにカーボン等の保護膜を形成するのが好ましい。カーボンとしては、たとえばスパッタリング法により水素化カーボン、ＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボン、等を１〜５０ｎｍ程度の膜厚で形成する。そして、このカーボン保護膜の表面には、潤滑層として、たとえばパーフルオロポリエーテルまたはその末端をエステル化もしくはアミド化した修飾したものを溶媒で希釈してスプレー、ディップ、スピンコート等により、膜厚０．５〜５ｎｍ程度に塗布することにより、耐久性、信頼性等をさらに向上しうる。
【００１９】
このようにして、本発明方法で得られる磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作製すると、歩留まり、さらには信頼性を向上し得る。
【実施例】
【００２０】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限りこれらの実施例に限定されるものではない。
ガラス基板の表面欠陥の測定は、光学式表面検査装置（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて行った。６０個のガラス基板について、表および裏面の欠陥個数の合計を測定面数（１２０面）で除した値を表面欠陥個数とした。表面欠陥のうち、凸欠陥とは表面から突出した欠陥であり、凹欠陥とは表面から窪んだ欠陥である。
実施例１
２．５インチのリチウムシリケート系結晶化ガラス基板を用いて、ダイヤモンド砥石を用いて、定盤回転数１５ｒｐｍ、加工圧力１００ｇ／ｃｍ2（９．８１×１０3Ｐａ）、でラッピングを行った。ついで内径孔に面する内周側端面と外周側の端面とをそれぞれ面取り加工し、得られた内周側端面および外周側端面を鏡面にポリッシュ加工した。その後、常法により、ガラス基板の主面に対して第１段階のポリッシングを実施し、ついで、第２段階のポリッシングを、定盤回転数３０ｒｐｍ、加工圧力６５ｇ／ｃｍ2（６．３８×１０3Ｐａ）、時間３５分間で行った。ついで、得られたガラス基板をただちにシュウ酸を含む溶液（関東化学社製洗浄液「M02」を１％に水希釈）に浸漬して基板表面を濡れた状態に保持したまま該ガラス基板を次の洗浄工程に送り、洗浄液に浸漬し、イソプロピルアルコールで置換、乾燥した。得られたガラス基板の表面欠陥を測定したところ、凸欠陥２．８、凹欠陥２．９であった。
【００２１】
得られたガラス基板を、スパッタにより、基板温度２００℃で、下地層としてＣｒ６０ｎｍ、磁性記録層としてＣｏ13Ｃｒ6Ｐｔ3Ｔａ合金２０ｎｍ、保護層としてダイアモンドライクカーボン１０ｎｍを逐次成膜し、さらにパーフルオロポリエーテル系潤滑層３ｎｍをディップ法で塗布して、磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクは良好な特性を有していた。
実施例２
シュウ酸を含む溶液に代えて水を用いた以外は実施例１と同様にして、ガラス基板を得た。その表面欠陥を測定したところ、凸欠陥７・２、凹欠陥７．０であった。
比較例１
ポリッシングで得られたガラス基板をシュウ酸に浸漬しないで、その表面の一部が濡れた状態でないことを除いて実施例１と同様にして、ガラス基板を得た。その表面欠陥を測定したところ、凸欠陥および凹欠陥は１５〜２０であった。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
本発明は、ガラス基板表面の欠陥を低減し得る磁気ディスク用基板の製造方法ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供しうる。