(57)【要約】【課題】基板の液処理において、基板の液処理において、基板上面に形成する回路パターンにむらを生じさせない液処理装置を提供する。【解決手段】液処理装置１は、処理対象の基板を水平に保持する基板保持手段と、上記基板保持手段により保持された基板の上面に処理液を供給する処理液供給手段と、上記処理液供給手段により供給された処理液が基板の下面の所定位置よりも内側に回り込むのを阻止する液回り込み阻止手段と、を備える。【選択図】図１
2006303027.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一方面の全面に所定の処理液を付着させる処理を行う液処理装置であって、
処理対象の基板を水平に保持する基板保持手段と、
上記基板保持手段により保持された基板の上面に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記処理液供給手段により供給された処理液が基板の下面の所定位置よりも内側に回り込むのを阻止する液回り込み阻止手段と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載された液処理装置において、
上記液回り込み阻止手段は、上記基板保持手段により保持された基板よりも下側に設けられた液回り込み阻止壁で構成されていることを特徴とする液処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載された液処理装置において、
上記基板保持手段は、保持した基板をその法線方向を軸として回転させることができるように構成されており、
上記液回り込み阻止壁は、処理液の回り込みを阻止する上側位置と上記基板保持手段による基板の回転を可能にする下側位置との間で可動に構成されていることを特徴とする液処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載された液処理装置において、
上記液回り込み阻止手段には、上記基板保持手段により保持された基板の下面に回り込んだ処理液を流通させて排出するための排液手段が設けられていることを特徴とする液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の液処理装置に関するもので、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いられるガラス基板等に対して現像処理等の所定の液処理を行うために用いられるものに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いられる半導体デバイスの製造工程においては、ＬＣＤ用ガラス基板の表面に例えばレジスト液を塗布し、ステッパー等の露光装置を用いてレジスト膜を露光する。そして露光後のＬＣＤ用ガラス基板表面に現像液を塗布して現像処理を行うことで回路パターンを形成するというフォトリソグラフィー技術が用いられている。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィー技術を用いた基板の液処理装置として、例えば、特許文献１には、ＬＣＤ用ガラス基板を略水平方向に搬送するコロを有するコロ搬送機構と、コロ搬送機構によって搬送されるＬＣＤ用ガラス基板に現像液を供給する現像ノズルとリンス液を供給するリンスノズルと、ＬＣＤ用ガラス基板に乾燥ガスを吹き付けるエアーナイフを具備し、ＬＣＤ用ガラス基板の搬送中の姿勢が変化し難いように、ＬＣＤ用ガラス基板の中央部の高さ位置と対向する１組の端辺の高さ位置とが異なるように断面略弓形に撓ませて搬送し、所定の液処理を行うことが開示されている。そして、これによれば、基板の撓み状態の変化を抑制しながら液処理を施すことができる、と記載されている。
【０００４】
また、特許文献２には、水平保持した半導体ウエハの上方に、半導体ウエハの一端側から他端側に移動可能な供給ノズルを用意し、この供給ノズルに当該供給ノズルの進行方向と直交する水平な軸周りに回転自在な回転体を設け、現像液供給時にこれを回転させると共に吐出孔から現像液の供給を行い、係る状態で供給ノズルを移動させることが開示されている。そして、これによれば、現像液内に流れ及び波立ちを抑えながら基板表面に現像液の液膜を形成し、線幅の均一性の高いマスクパターンを得ることすることができる、と記載されている。
【特許文献１】特開2003-100581号公報
【特許文献２】特開2003-142384号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１及び２に示されるような液処理装置では、ＬＣＤ用ガラス基板へ供給された処理液がＬＣＤ用ガラス基板の上面を隅々まで流れ広がる。この際、処理液の流量が多い場合又はその流れの勢いが強い場合は、隅々に流れた処理液がそのまま基板の下面へ回り込んでしまう。このように回り込んだ処理液は、ＬＣＤ用ガラス基板の下面に液滴となって付着する。この液滴は基板から受ける熱により気化するため、液滴が付着していた部分の基板の温度が下がる。そうすると、液滴が付着していた部分と付着していなかった部分とで、基板内に温度差が生じてしまう。この温度差は、ＬＣＤ用ガラス基板の上面で進行している処理液の反応速度に影響するため、ＬＣＤ用ガラス基板上に形成させる回路パターンにむらが生じ、その結果、ＬＣＤの表示品位が悪くなるという問題がある。
【０００６】
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、基板の液処理において、基板上面に形成する回路パターンにむらを生じさせない液処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に係る発明は、
基板の一方面の全面に所定の処理液を付着させる処理を行う液処理装置であって、
処理対象の基板を水平に保持する基板保持手段と、
上記基板保持手段により保持された基板の上面に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記処理液供給手段により供給された処理液が基板の下面の所定位置よりも内側に回り込むのを阻止する液回り込み阻止手段と、
を備えたことを特徴とするものである。
【０００８】
上記の構成によれば、基板保持手段により水平に保持された基板の上面に、処理液供給手段から処理液が供給される。ここで、供給された処理液は、その流れに勢いがあるため基板の端へ到達するとそのまま基板下面へ回り込もうとするが、液回り込み阻止手段が基板の下面の所定位置よりも内側に回り込むのを阻止する。すると、処理液の液滴が基板の下面に付着せず、液滴の気化による基板内の温度差が生じないため、基板の上面で進行している処理液の反応速度に影響を与えない。従って、基板上面に形成する回路パターンにむらを生じさせない液処理が可能となる。
【０００９】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載された液処理装置において、
上記液回り込み阻止手段は、上記基板保持手段により保持された基板よりも下側に設けられた液回り込み阻止壁で構成されていることを特徴とするものである。
【００１０】
上記の構成によれば、液回り込み阻止手段が、基板保持手段により保持された基板よりも下側に設けられた液回り込み阻止壁で構成されているため、液回り込み阻止手段が線状のものである場合と異なり、撓み等が生じない。そのため、液回り込み阻止壁と基板の下面との間に不均一な隙間が生じることによる処理液の漏れがほとんど生じない。さらに、処理液の回り込みを阻止するために壁を用いているため、その構造が簡単なものでよい。従って、簡単な構造で処理液の回り込みを阻止することができる。
【００１１】
請求項３に係る発明は、請求項２に記載された液処理装置において、
上記基板保持手段は、保持した基板をその法線方向を軸として回転させることができるように構成されており、
上記液回り込み阻止壁は、処理液の回り込みを阻止する上側位置と上記基板保持手段による基板の回転を可能にする下側位置との間で可動に構成されていることを特徴とするものである。
【００１２】
上記の構成によれば、液回り込み阻止壁は、処理液の回り込みを阻止する上側位置と基板保持手段による基板の回転を可能にする下側位置との間で可動に構成されているため、基板製造工程において、液処理のために基板を搬送する際や、基板を洗浄及び乾燥する際に、基板と液回り込み阻止壁とを所定距離だけ離すことにより、それらの衝突による損傷を回避することができる。
【００１３】
請求項４に係る発明は、請求項１に記載された液処理装置において、
上記液回り込み阻止手段には、上記基板保持手段により保持された基板の下面に回り込んだ処理液を流通させて排出するための排液手段が設けられていることを特徴とするものである。
【００１４】
上記の構成によれば、液回り込み阻止手段には、基板保持手段により保持された基板の下面に回り込んだ処理液を流通させて排出するための排液手段が設けられているため、基板の下面に回り込むのを阻止した処理液が液回り込み阻止手段を伝って、その下端へ流れ落ちるのを途中で排出することができる。従って、液回り込み阻止手段の下端にそれを昇降させる装置等が設けられている場合に、処理液がその装置内へ侵入するのを防ぐことにより、装置の故障を防止することができる。
【発明の効果】
【００１５】
以上説明したように、本発明によれば、基板の液処理において、基板上面に形成する回路パターンにむらを生じさせない液処理装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態に係る液処理装置として、ＬＣＤ製造工程において、レジストが塗布されて露光処理されたＬＣＤ基板に処理液を供給して現像処理を行う液処理装置を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１７】
尚、以下では、図１〜１８において、右側から左側へ向かう方向をＸ方向とし、手前側から奥側へ向かう方向をＹ方向とする。
【００１８】
（液処理装置の構成）
図１は、本発明の実施形態に係る液処理装置１を示す。この液処理装置１は、載置台２とそれに設けられた吸着チャック３（基板保持手段）、処理液供給ノズル４（処理液供給手段）、液回り込み阻止壁５とそれに設けられた支持軸６（液回り込み阻止手段）、基板上面洗浄ノズル７、及び、基板下面洗浄ノズル８で構成されている。
【００１９】
載置台２は、円筒部９の上に切頭円錐部１０を有する。載置台２は、その切頭円錐部１０の上部に円盤状の吸着チャック３が取り付けられている。吸着チャック３は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ＰＥＥＫ樹脂）、フェノール樹脂（ＰＨ樹脂）、ポリイミド樹脂（ＰＩ樹脂）等を材料として形成されている。吸着チャック３は、載置台２の切頭円錐部１０の切頭断面と略同径且つ同軸の円盤状に形成されている。吸着チャック３は、不図示の回転軸を介して載置台２の内部に設けられた不図示の回転駆動装置に接続されている。回転軸は、その中心に軸方向を亘る内空部が設けられている。回転軸の内空部は、不図示の真空ポンプ等の減圧吸引装置に連通している。吸着チャック３は、その上面に同心円状の環状吸着溝１１が形成されており、さらにこれらの環状吸着溝１１の全てを横切って連通した直線状吸着溝１２が放射状に形成されている。環状吸着溝１１及び直線状吸着溝１２は、回転軸の内空部に連通されている。
【００２０】
処理液供給ノズル４は、載置台２及び吸着チャック３の上方に設けられ、不図示の駆動装置により、昇降可能及びＸ方向に進退可能に構成されている。処理液供給ノズル４は、液処理を施すＬＣＤ用ガラス基板（以下、ＬＣＤ基板２０とする）のＹ方向全範囲に亘って延びるような略三角柱状に形成されている。処理液供給ノズル４は、その三角柱の一つの角が長さ方向全範囲に亘って切断されており、その切断面が下を向くように設けられている。処理液供給ノズル４は、その切断面に、長さ方向に等間隔に並んで複数の不図示の処理液供給孔が形成されている。処理液供給孔は、その孔径がすべて約０．５〜３．０ｍｍに形成されている。処理液供給孔は、処理液供給ノズル４内部の不図示の処理液供給管に繋がっている。処理液供給管は、処理液供給ノズル外部で不図示の処理液供給源に繋がっている。処理液供給管は、処理液供給ノズルの移動範囲を許容できる長さのチューブで形成されている。
【００２１】
液回り込み阻止壁５は、液処理を施すＬＣＤ基板２０のＹ方向全範囲に亘って延びるような三角柱状に形成されている。液回り込み阻止壁５は、その三角柱の一つの角が上を向くように設けられている。液回り込み阻止壁５は、液処理を施すＬＣＤ基板２０の下側のＸ方向両端部にそれぞれ一つずつ互いに並行になるように、且つ、載置台２及び吸着チャック３を中央に挟んで対称の位置に設けられている。ここで、液回り込み阻止壁５が設けられるＬＣＤ基板２０下面側のＸ方向両端部は、その基板上面におけるパターン形成領域外の真下に位置する部分であればどこでもよく、基板の端であってもよいし、数ｃｍ内側に入り込んだ位置であってもよい。液回り込み阻止壁５は、その三角柱の断面の両斜辺の長さは特に限定されず、処理液が伝って流れ落ちる程度の長さであればよい。液回り込み阻止壁５は、処理液に腐蝕されなければ、その材質は樹脂製であってもよく、金属製であってもよい。液回り込み阻止壁５は、その形状はどのようなものであってもよく、例えば、直方体であってもよい。また、図２に示すように、液処理を施すＬＣＤ基板２０のＸ方向に加えてＹ方向両端部の下方にも、それぞれ液回り込み阻止壁５が設けられていてもよい。
【００２２】
支持軸６は、液回り込み阻止壁５の下面両端部にそれぞれ一つずつ設けられている。支持軸６は、液回り込み阻止壁５の端部から鉛直下方へ延びて、一度斜め上側且つＬＣＤ基板２０内側に折り曲げられており、この部分が排液手段１３となっている。そして再び折り曲げられて再度鉛直下方へ向かって延びるように形成されている。ここで、斜め上側に折り曲げる方向は、図３のように、液処理を施すＬＣＤ基板２０外側であってもよい。支持軸６は、図４のように、鉛直下方へ向かって延びて、斜め上側に折れ曲がる部分から二股になるように形成されていてもよい。この場合、折り上げられている部分、すなわち、二股になる分岐部が排液手段１３となっている。支持軸６は、その下端で、不図示のエアシリンダ等からなる昇降制御装置に接続されている。支持軸６は、その数は特に限定されず、一つの液回り込み阻止壁５の下面に対し、一つだけ設けられていてもよいし、複数設けられていてもよい。
【００２３】
また、図５の液処理装置１のように、支持軸６は無くてもよく、液回り込み阻止壁５が下端でそのまま昇降装置に接続されていてもよい。このとき、液回り込み阻止壁５が鉛直下方へ向かって延びて、一度斜め上側で且つ内側に折り曲げられており、この部分が排液手段１３となっている。そして再び折り曲げられて鉛直下方へ向かって延びるように形成されている。
【００２４】
基板上面洗浄ノズル７は、液処理を施すＬＣＤ基板２０の中央部の上方数十ｃｍの位置で且つ液処理供給ノズル４が移動によって干渉しない位置に取り付けられている。基板上面洗浄ノズル７は、円筒形状に形成されており、外部に設けられた不図示の洗浄液供給源に不図示の洗浄液供給管を介して接続されている。基板上面洗浄ノズル７は、先端のノズル口が液処理を施すＬＣＤ基板２０側に向くように取り付けられている。
【００２５】
基板下面洗浄ノズル８は、載置台２の切頭円錐部材１０の側面であって、切頭断面の中心を挟んで対称な位置に二つ設けられている。基板下面洗浄ノズル８は、円筒形状に形成されており、液処理を施すＬＣＤ基板２０の下方から洗浄液を一定の噴射角度（仰角θ）及び一定の噴射範囲（分散角ω）で噴射するように調整されている。噴射角度は、液処理を施すＬＣＤ基板２０のサイズに応じて異なり、基板下面の端から５ｃｍ内側の部分に洗浄液を噴射できるように調整される。噴射範囲（分散角ω）は３°〜３０°にすることが好ましい。基板下面洗浄ノズル８は、載置台２内部で不図示の洗浄液供給管を介して不図示の洗浄液供給源に接続されている。基板下面洗浄ノズル８は、三つ以上設けられていてもよく、載置台２ではなく外部に設けられていてもよい。
【００２６】
（液処理方法）
次に、液処理装置１を用いた液処理方法について説明する。
【００２７】
液処理開始時は、液回り込み阻止壁５が図６，７のように下側位置に下がっている。ここで、下側位置とは、液回り込み阻止壁５が、回転する液処理を施すＬＣＤ基板２０と衝突せずにその回転を可能にするように、ＬＣＤ基板２０下面から数ｃｍ以上下降した位置をいう。また、処理液供給ノズル４は、Ｘ方向の走査開始端（図の基板右端）の数十ｃｍ上方にあり、待機位置にある。さらに、吸着チャック３は回転しておらず、吸着チャック３上面の環状吸着溝１１及び直線状吸着溝１２に吸着能も付与されていない。
【００２８】
まず、不図示の搬送アームによってＬＣＤ基板２０を液処理装置１に搬送し、ＬＣＤ基板２０の中央部が吸着チャック３の上面に当接するように、水平に載置する。次に、外部の真空ポンプを作動させ、吸着チャック３の上面に形成した環状吸着溝１１及び直線状吸着溝１２に吸着能を付与する。この吸着能により、吸着チャック３にＬＣＤ基板２０を水平な状態を保ったまま強固に保持させる。次に、下側位置にあった液回り込み阻止壁５を、昇降制御装置によって上昇させる。そして、図８，９に示すように、そのまま液回り込み阻止壁５を上側位置、すなわち、その上端がＬＣＤ基板２０下面の所定位置から下方に５ｍｍ以内の位置になるまで上昇させた後、上昇を停止する。ここで、ＬＣＤ基板２０下面の所定位置は、そのＬＣＤ基板２０上面におけるパターン形成領域外の真下に位置する部分であればどこでもよく、ＬＣＤ基板２０の端であってもよいし、数ｃｍ内側に入り込んだ位置であってもよい。
【００２９】
続いて、図１０，１１に示すように、処理液供給ノズル４を、ＬＣＤ基板２０の走査開始端の上方数ｃｍまで下降させる。そして、処理液供給源から処理液供給管を通って送られてきた処理液を、処理液供給ノズル４の処理液供給孔からＬＣＤ基板２０上面に滴下する。このとき、処理液供給ノズル４の複数の処理液供給孔はすべて同じ大きさであるため、ＬＣＤ基板２０に滴下される処理液の液滴はすべて同量となっている。次いで、処理液を滴下している状態で処理液供給ノズル４をＸ方向へ走査させる。このとき、処理液流量は４〜８Ｌ／ｍｉｎで、走査速度は４５〜８５ｍｍ／ｓであるのがよい。
【００３０】
ここで、処理液供給ノズル４からＬＣＤ基板２０上面に滴下する処理液は、初めに走査開始端へ滴下され、そこから走査方向（Ｘ方向）末端へ徐々に滴下される。従って、滴下された処理液の中には、ＬＣＤ基板２０の走査開始端及び走査終了端からＬＣＤ基板２０下面へ回り込んでくるものがある。そのとき、液回り込み阻止壁５を、その先端がＬＣＤ基板２０下面から下方５ｍｍ以内になるように上昇させている。さらに、液回り込み阻止壁５を、ＬＣＤ基板２０上面におけるパターン形成領域外の真下に位置するように設けている。このため、図１２，１３に示すように、ＬＣＤ基板２０の走査開始端及び走査終了端からＬＣＤ基板下面への処理液の回り込みを、ＬＣＤ基板上面におけるパターン形成領域内の真下へ侵入する前に阻止することができる。
【００３１】
ここで、液回り込み阻止壁５を、その先端がＬＣＤ基板２０下面から下方５ｍｍ以内になるように上昇させたが、処理液の粘性が高い等の理由により、液回り込み阻止壁５の先端とＬＣＤ基板２０の下面との間が５ｍｍを越えていても処理液がその間を通れないときがある。そのような場合は、液回り込み阻止壁５を、その先端がＬＣＤ基板２０下面から下方へ５ｍｍを越えるように離していてもよい。
【００３２】
液回り込み阻止壁５により阻止された処理液は、液回り込み阻止壁５を伝い、下方へ流れる。その後、さらに支持軸６を伝って下方へ流れた処理液を、支持軸６の途中に形成した排液手段１３へ流通させる。このとき、処理液は、排液手段１３が下方へ突出するように形成されているため、図１２，１３に示すように、その突出部位から外部へ排出される。従って、この処理液が支持軸６の下端に接続された昇降装置へ流れ込むことはない。
【００３３】
次いで、図１４，１５に示すように、処理液供給ノズル４がＬＣＤ基板２０のＸ方向の他端へ到達したとき、その走査及び処理液の滴下を停止させる。このとき、処理液はＬＣＤ基板２０上面の全面に一様に供給されている。その後、処理液供給ノズル４を走査方向とは逆の方向へ走査開始端まで後退させる。さらに、処理液供給ノズル４をＬＣＤ基板２０の上方数十ｃｍの位置まで上昇させ、待機させる。
【００３４】
その後、ＬＣＤ基板２０下面へ回り込んでくる処理液が無くなってから、液回り込み阻止壁５を下側位置まで下降させる。
【００３５】
所定時間経過後、図１６，１７に示すように、載置台２内部の回転駆動装置により、ＬＣＤ基板２０を水平に保持した吸着チャック３を回転させる。ここで、回転方向は、水平に保持したＬＣＤ基板２０の法線方向がその回転の軸となる方向である。また、液回り込み阻止壁５が下側位置まで下降しないと載置台２内部の回転駆動装置が作動しないように、回転駆動装置にインターロックを設けることが好ましい。液回り込み阻止壁５が上側位置にあるときにＬＣＤ基板２０を回転させてしまうと、ＬＣＤ基板２０と液回り込み阻止壁５が衝突していずれも損傷してしまうからである。
【００３６】
さらに、この回転の開始とほぼ同時に、図１６，１７に示すように、ＬＣＤ基板２０中央部へ上面洗浄ノズル７から洗浄液１４を噴射する。さらに、ＬＣＤ基板２０下面の端部へ下面洗浄ノズル８から一定の噴射角度（仰角θ）及び一定の噴射範囲（分散角ω）で洗浄液１５を噴射する。ここで、ＬＣＤ基板２０の洗浄液としては、薬液、純水等が用いられる。このとき、図１８に示すように、ＬＣＤ基板２０の回転により生じた遠心力で、ＬＣＤ基板２０上面及び下面に、それぞれ放射状に流れる洗浄液の渦流を発生させる。この渦流により、基板の上面及び下面を洗浄する。この渦流の流速は、回転駆動装置の回転数で容易に制御できる。
【００３７】
基板の洗浄が十分行われた後、上面洗浄ノズル及び下面洗浄ノズルからの洗浄液１４，１５の噴射を停止する。このとき、ＬＣＤ基板２０は回転したままであるため、その遠心力によりＬＣＤ基板２０の表面の洗浄液が外部へ除去されていく。
【００３８】
ＬＣＤ基板２０の表面から洗浄液が完全に除去されて、ＬＣＤ基板２０の表面が乾燥した後、載置台２内部の回転駆動装置によるＬＣＤ基板２０の回転を停止する。さらに回転が完全に停止したら、吸着チャック３によるＬＣＤ基板２０の吸着も停止する。以上により、ＬＣＤ基板２０の液処理が終了する。
【００３９】
（作用効果）
次に作用効果について説明する。
【００４０】
以上の構成の液処理装置１によれば、ＬＣＤ基板２０を水平に保持する吸着チャック３と、そのＬＣＤ基板２０の上面に処理液を供給する処理液供給ノズル４と、処理液供給ノズル４により供給された処理液がＬＣＤ基板２０の下面の所定位置よりも内側に回り込むのを阻止する液回り込み阻止壁５と、備えているため、吸着チャック３により水平に保持されたＬＣＤ基板２０の上面に、処理液供給ノズル４から処理液が供給される。ここで、供給された処理液は、その流れに勢いがあるためＬＣＤ基板２０の端へ到達するとそのままＬＣＤ基板２０下面へ回り込もうとするが、液回り込み阻止壁５がＬＣＤ基板２０の下面の所定位置よりも内側に回り込むのを阻止する。すると、処理液の液滴がＬＣＤ基板２０の下面に付着せず、液滴の気化によるＬＣＤ基板２０内の温度差が生じないため、ＬＣＤ基板２０の上面で進行している処理液の反応速度に影響を与えない。従って、ＬＣＤ基板２０上面に形成する回路パターンにむらを生じさせない液処理が可能となる。
【００４１】
また、液回り込み阻止手段が、吸着チャック３により保持されたＬＣＤ基板２０よりも下側に設けられた液回り込み阻止壁５で構成されているため、液回り込み阻止手段が線状のものである場合と異なり、撓み等が生じない。そのため、液回り込み阻止壁５とＬＣＤ基板２０の下面との間に不均一な隙間が生じることによる処理液の漏れがほとんど生じない。さらに、処理液の回り込みを阻止するために壁を用いているため、その構造が簡単なものでよい。従って、簡単な構造で処理液の回り込みを阻止することができる。
【００４２】
さらに、吸着チャック３は、保持したＬＣＤ基板２０をその法線方向を軸として回転させることができるように構成されており、液回り込み阻止壁５は、処理液の回り込みを阻止する上側位置と吸着チャック３によるＬＣＤ基板２０の回転を可能にする下側位置との間で可動に構成されているため、ＬＣＤ基板製造工程において、液処理のためにＬＣＤ基板を搬送する際や、ＬＣＤ基板を洗浄及び乾燥する際に、ＬＣＤ基板と液回り込み阻止壁とを所定距離だけ離すことにより、それらの衝突による損傷を回避することができる。
【００４３】
また、液回り込み阻止手段には、吸着チャック３により保持されたＬＣＤ基板の下面に回り込んだ処理液を流通させて排出するための排液手段１３が設けられているため、ＬＣＤ基板２０の下面に回り込むのを阻止した処理液が液回り込み阻止手段を伝って、その下端へ流れ落ちるのを途中で排出することができる。従って、液回り込み阻止手段の下端にそれを昇降させる装置等が設けられている場合に、処理液がその装置内へ侵入するのを防ぐことにより、装置の故障を防止することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
以上説明したように、本発明は、基板の液処理装置に関するもので、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いられるガラス基板等に対して現像処理等の所定の液処理を行うために用いられるものについて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施形態に係る液処理装置１の斜視図である。
【図２】液回り込み阻止壁をＬＣＤ基板Ｘ方向及びＹ方向に備えた液処理装置１の斜視図図である。
【図３】支持軸６がＬＣＤ基板２０外側へ曲げられることにより排液手段１３が形成されている液処理装置１の正面図である。
【図４】支持軸６が斜め上側に折れ曲がる部分から二股になるように形成されることにより排液手段が形成されている液処理装置１の正面図である。
【図５】液回り込み阻止壁５が支持軸を有さない液処理装置１の正面図である。
【図６】液回り込み阻止壁５が下側位置にある状態の本発明の実施形態に係る液処理装置１の正面図である。
【図７】液回り込み阻止壁５が下側位置にある状態の本発明の実施形態に係る液処理装置１の斜視図である。
【図８】液回り込み阻止壁５が上側位置にある状態の本発明の実施形態に係る液処理装置１の正面図である。
【図９】液回り込み阻止壁５が上側位置にある状態の本発明の実施形態に係る液処理装置１の斜視図である。
【図１０】処理液供給ノズル４が走査開始端にある液処理装置１の正面図である。
【図１１】処理液供給ノズル４が走査開始端にある液処理装置１の斜視図である。
【図１２】走査開始端における処理液のＬＣＤ基板２０下面への回り込みを液回り込み阻止壁５が阻止する様子を示す図である。
【図１３】走査終了端における処理液のＬＣＤ基板２０下面への回り込みを液回り込み阻止壁５が阻止する様子を示す図である。
【図１４】処理液供給ノズル４が走査終了端にある液処理装置１の正面図である。
【図１５】処理液供給ノズル４が走査終了端にある液処理装置１の斜視図である。
【図１６】ＬＣＤ基板を回転させながら洗浄液を供給する液処理装置１の正面図である。
【図１７】ＬＣＤ基板を回転させながら洗浄液を供給する液処理装置１の斜視図である。
【図１８】ＬＣＤ基板に噴射させた洗浄液の渦流を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  液処理装置
２  載置台
３  吸着チャック
４  処理液供給ノズル
５  液回り込み阻止壁
６  支持軸
７  基板上面洗浄ノズル
８  基板下面洗浄ノズル
９  円筒部
１０  切頭円錐部
１１  環状吸着溝
１２  直線状吸着溝
１３  排液手段
１４，１５  洗浄液
２０  ＬＣＤ基板
【図１】
2006303027.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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