(57)【要約】【課題】  適切なセルギャップが形成できると共に、液晶などの電気光学材料が無駄に消費されることを抑制でき、後工程において、不良品を良品と区別し易くすることができる、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに吐出装置を提供する。【解決手段】  本発明による液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法は、基板上に電気光学（液晶表示）装置の電気光学材料（液晶）を機能させるための回路素子や電極などから成るセルパターンを形成する工程（ステップＳ１）と、セルパターンの良否情報を取得する工程（ステップＳ３）と、良否情報に基づいて、良品のセルパターンが形成されたセルに電気光学材料（液晶）を配置する工程（ステップＳ６）と、不良品のセルパターンが形成されたセルにギャップ保持材を配置する工程（ステップＳ７）と、を有する。【選択図】  図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置の電気光学材料を機能させるための回路素子や電極などから成るセルパターンが形成された２枚の基板が、前記基板間に所定のセルギャップが形成されるように、封止部材層を介して対向配置され、前記基板と前記封止部材層とによって囲まれた空間内に前記電気光学材料から成る電気光学材料層が形成されている電気光学装置の製造方法であって、
２枚のマザー基板の少なくとも一方の上に複数の前記セルパターンを形成するセルパターン形成工程と、
前記セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得する情報取得工程と、
２枚の前記マザー基板の少なくとも一方に、前記封止部材層を形成する封止材料を、前記セルパターン毎の対応する位置に配置する封止材配置工程と、
取得した前記良否情報によって特定される、良品である前記セルパターンが形成された領域の、前記電気光学材料層を形成する位置に前記電気光学材料を配置する光学材料配置工程と、
取得した前記良否情報によって特定される、不良品である前記セルパターンが形成された領域の、良品である前記セルパターンが形成された領域であれば前記電気光学材料を配置する位置に、ギャップ保持材を配置するギャップ保持材配置工程と、
２枚の前記マザー基板を、前記マザー基板間に所定のセルギャップが形成されるように貼り合せることで、２枚の前記マザー基板を一体化すると共に、前記マザー基板に配置された前記封止材料、前記電気光学材料、前記ギャップ保持材で、それぞれ前記封止部材層、前記電気光学材料層、ギャップ保持材層を形成する貼合せ工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記封止材配置工程において前記マザー基板上に配置される前記封止材料は、前記基板間の前記セルギャップを規定するギャップ材が、前記マザー基板を互いに接着する接着剤の中に混合されて構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記ギャップ保持材配置工程で用いられる前記ギャップ保持材が、液体であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記ギャップ保持材配置工程で用いられる前記ギャップ保持材が、前記ギャップ材であることを特徴とする、請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記ギャップ保持材配置工程で用いられる前記ギャップ保持材が、前記封止材料であることを特徴とする、請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記光学材料配置工程と前記ギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記封止材配置工程と前記ギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
２枚の前記マザー基板の少なくとも一方に、２枚の前記基板間を電気的に結合する導電層を形成する導電材料を、前記セルパターン毎の対応する位置に配置する導電材配置工程をさらに備え、
前記導電材配置工程において前記マザー基板上に配置される前記導電材料は、前記基板間の前記セルギャップを規定可能な第２ギャップ材を含み、
前記ギャップ保持材配置工程で用いられる前記ギャップ保持材が、前記導電材料であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記導電材配置工程と前記ギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することを特徴とする、請求項８に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
貼り合わされた前記マザー基板を個別のパネルセルに分離するブレイク工程と、
前記電気光学材料層が形成された前記パネルセルと、前記ギャップ保持材層が形成された前記パネルセルとを識別する識別工程と、を更に有することを特徴とする、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
前記識別工程において、前記電気光学材料層が形成された前記パネルセルと、前記ギャップ保持材層が形成された前記パネルセルとを、当該パネルセルの一部又は全体の画像イメージによって識別することを特徴とする、請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
前記識別工程において、前記電気光学材料層が形成された前記パネルセルと、前記ギャップ保持材層が形成された前記パネルセルとを、前記電気光学材料層又は前記ギャップ保持材層が形成された領域の反射率によって識別することを特徴とする、請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
前記識別工程において、前記電気光学材料層が形成された前記パネルセルと、前記ギャップ保持材層が形成された前記パネルセルとを、前記電気光学材料層又は前記ギャップ保持材層が形成された領域の透過率によって識別することを特徴とする、請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
前記識別工程において、前記電気光学材料層が形成された前記パネルセルと、前記ギャップ保持材層が形成された前記パネルセルとを、当該パネルセルの電気的特性によって識別することを特徴とする、請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
液晶表示装置の液晶を機能させるための回路素子や電極などから成るセルパターンが形成された２枚の基板が、前記基板間に所定のセルギャップが形成されるように、封止部材層を介して対向配置され、前記基板と前記封止部材層とによって囲まれた空間内に前記液晶から成る液晶層が形成されている液晶表示装置の製造方法であって、
２枚のマザー基板の少なくとも一方の上に複数の前記セルパターンを形成するセルパターン形成工程と、
前記セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得する情報取得工程と、
２枚の前記マザー基板の少なくとも一方に、前記封止部材層を形成する封止材料を、前記セルパターン毎の対応する位置に配置する封止材配置工程と、
取得した良否情報によって特定される、良品である前記セルパターン毎の対応する位置に前記液晶を配置する液晶配置工程と、
取得した良否情報によって特定される、不良品である前記セルパターン毎の対応する位置にギャップ保持材を配置するギャップ保持材配置工程と、
２枚の前記マザー基板を、前記マザー基板間に所定のセルギャップが形成されるように貼り合せることで、２枚の前記マザー基板を一体化すると共に、前記マザー基板に配置された前記封止材料、前記液晶、前記ギャップ保持材で、それぞれ前記封止部材層、液晶層、ギャップ保持材層を形成する貼合せ工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
液状材料を吐出する吐出ヘッドを、電気光学装置の電気光学材料を機能させるための回路素子や電極などから成るセルパターンが形成されたマザー基板に対向させ、前記吐出ヘッドと前記マザー基板とを相対的に移動させると共に、前記セルパターンが形成された領域の所定の配置位置に向けて前記液状材料を吐出することで、前記マザー基板上に前記液状材料を配置する吐出装置であって、
前記マザー基板上に形成された前記セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得する情報取得部と、
取得した前記良否情報によって特定される、良品である前記セルパターンが形成された領域の所定の配置位置に向けてのみ、前記吐出ヘッドから前記電気光学材料を吐出させる吐出制御部と、を備えることを特徴とする、吐出装置。
【請求項１７】
前記電気光学材料に代えて前記所定の配置位置に配置することで、前記電気光学装置の前記電気光学材料が配置される位置の前記マザー基板間のセルギャップを形成可能なギャップ保持材を吐出する第２の吐出ヘッドを更に備え、
前記吐出制御部は、取得した前記良否情報によって特定される、不良品である前記セルパターンが形成された領域の前記所定の配置位置に向けて、前記ギャップ保持材を吐出させることを特徴とする、請求項１６に記載の吐出装置。
【請求項１８】
前記吐出制御部は、前記電気光学材料が封止される空間を規定する封止部材層を形成する封止材料を、前記封止部材層を形成する位置に配置させると共に、
取得した前記良否情報によって特定される、不良品である前記セルパターンが形成された領域の前記所定の配置位置に向けて、前記封止材料を吐出させることを特徴とする、請求項１６に記載の吐出装置。
【請求項１９】
前記吐出制御部は、前記電気光学材料が封止される空間を規定する基板間を電気的に結合する導電層を形成する導電材料を、前記導電層を形成する位置に配置させると共に、
取得した前記良否情報によって特定される、不良品である前記セルパターンが形成された領域の前記所定の配置位置に向けて、前記導電材料を吐出させることを特徴とする、請求項１６に記載の吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに吐出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像表示装置として用いられている電気光学装置には、基板上に電気光学材料からなる電気光学材料層と、当該電気光学材料層を機能させるための回路素子や電極や回路配線からなるセルパターンとが形成されている。電気光学装置の一例である液晶表示装置の液晶層を効率良く製造する方法として、特許文献１に記載されたような液晶滴下法が、採用されている。また、小型の液晶表示装置を製造する場合には、セルパターンと液晶層とを有する液晶表示セルが複数形成されたマザーセルを、各液晶表示セル毎に分割する方法が用いられている。当該方法においては、液晶表示装置を構成する一方の基板が有するセルパターンが複数形成されたマザー基板と、液晶表示装置を構成する他方の基板が有するセルパターンが複数形成された他のマザー基板との間に、液晶滴下法によって液晶が配置され、２枚のマザー基板を適切なセルギャップが形成されるように貼り合せることで、適切な厚みを有する液晶層を実現している。
【０００３】
【特許文献１】特許第３０８４９７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、マザー基板上に形成されたセルパターンの中には不良品が存在する場合があるにも拘らず、基板上に形成されたセルパターンの全てに対して一律に液晶層を形成し、不良品に対しても良品と同様の液晶層が形成されていた。不良のセルパターンに対しても良品と同様の液晶層を形成することで、不良のセルパターンに対して滴下する液晶が無駄になるという課題があった。また、不良品であっても、外観上の違いが判り難いものは、誤って良品として扱われる可能性があり、不良品に対しても良品と同様の液晶層が形成されると、後工程において、より不良品を良品と区別し難くなるという課題があった。
【０００５】
このように、不良のセルパターンに液晶層を形成することは好ましくないが、不良のセルパターンに液晶層を形成しない場合には、減圧下で貼り合わされた２枚のマザー基板を大気圧下に戻すと、液晶層が形成されていない部分は、空間が潰されるように２枚のマザー基板が変形する。そして、その変形の影響を受けて、液晶層が形成されていない不良のセルパターンの周囲の液晶表示セルにおいては、セルギャップが拡大するように２枚のマザー基板が変形してしまい、適切なセルギャップが得られないという別の課題があった。このため、不良のセルパターンに対しても、良品のセルパターンと同様の液晶層が形成されていた。
【０００６】
そこで、本発明は、適切なセルギャップが形成できると共に、液晶などの電気光学材料が無駄に消費されることを抑制できる、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに吐出装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による電気光学装置の製造方法は、電気光学装置の電気光学材料を機能させるための回路素子や電極などから成るセルパターンが形成された２枚の基板が、基板間に所定のセルギャップが形成されるように、封止部材層を介して対向配置され、基板と封止部材層とによって囲まれた空間内に電気光学材料から成る電気光学材料層が形成されている電気光学装置の製造方法であって、２枚のマザー基板の少なくとも一方の上に複数のセルパターンを形成するセルパターン形成工程と、セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得する情報取得工程と、２枚のマザー基板の少なくとも一方に、封止部材層を形成する封止材料を、セルパターン毎の対応する位置に配置する封止材配置工程と、取得した良否情報によって特定される、良品であるセルパターンが形成された領域の、電気光学材料層を形成する位置に電気光学材料を配置する光学材料配置工程と、取得した良否情報によって特定される、不良品であるセルパターンが形成された領域の、良品であるセルパターンが形成された領域であれば電気光学材料を配置する位置に、ギャップ保持材を配置するギャップ保持材配置工程と、２枚のマザー基板を、マザー基板間に所定のセルギャップが形成されるように貼り合せることで、２枚のマザー基板を一体化すると共に、マザー基板に配置された封止材料、電気光学材料、ギャップ保持材で、それぞれ封止部材層、電気光学材料層、ギャップ保持材層を形成する貼合せ工程と、を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得することで、形成されたセルパターンの良否を特定できる。取得した良否情報によって特定される良品のセルパターンが形成された領域には、電気光学材料を配置する。一方、不良セルパターンが形成された領域には、電気光学材料に代えてギャップ保持材を配置することで、良品セルパターンが形成された領域と同様のセルギャップを確保し、不良セルパターンの周囲の良品セルパターンが形成された領域のセルギャップに影響がでることを抑制することができる。また、不良セルパターンが形成された領域には、良品セルパターンが形成された領域に配置される電気光学材料を配置しないことから、電気光学材料を無駄に消費することを抑制することができる。
【０００９】
この場合、電気光学装置の製造方法は、封止材配置工程においてマザー基板上に配置される封止材料は、基板間のセルギャップを規定するギャップ材が、マザー基板を互いに接着する接着剤の中に混合されて構成されていてもよい。
【００１０】
この電気光学装置の製造方法によれば、マザー基板間に封止材料を配置して基板を互いに圧接すると、接着剤は押し潰されるが、ギャップ材は、マザー基板間に挟まれてその形状を維持するため、ギャップ材の大きさがマザー基板間のセルギャップとなり、セルギャップが規定される。従って、所定のセルギャップに対応する大きさのギャップ材を含む封止材料を基板間に配置して、基板を互いに圧接するだけで、所定のセルギャップを形成することができる。
【００１１】
この場合、電気光学装置の製造方法は、ギャップ保持材配置工程で用いられるギャップ保持材が、液体であることが好ましい。
【００１２】
この電気光学装置の製造方法によれば、不良セルパターンが形成された領域に、電気光学材料に代えて、電気光学材料とは異なる液体を配置することで、良品セルパターンが形成された領域と同様のセルギャップを確保し、不良セルパターンの周囲の良品セルパターンが形成された領域のセルギャップに影響がでることを抑制することができる。例えば、電気光学材料が液晶であれば、液体である液晶に代えて液体を配置することで、液晶に代えて液体以外の物を配置する場合に比べて、不良セルパターン部の状態を良品セルパターン部の状態により近くすることができる。
【００１３】
この場合、電気光学装置の製造方法は、ギャップ保持材配置工程で用いられるギャップ保持材が、ギャップ材であることが好ましい。
【００１４】
この電気光学装置の製造方法によれば、不良セルパターンが形成された領域に、電気光学材料に代えてギャップ材を配置することで、不良セルパターンが形成された領域のセルギャップを、ギャップ材に規定される所定の大きさにすることができる。
【００１５】
この場合、電気光学装置の製造方法は、ギャップ保持材配置工程で用いられるギャップ保持材が、封止材料であることが好ましい。
【００１６】
この電気光学装置の製造方法によれば、不良セルパターンが形成された領域に、電気光学材料に代えて封止材料を配置することで、不良セルパターンが形成された領域のセルギャップを、封止材料に含まれるギャップ材に規定される所定の大きさにすることができる。また、封止材料は外観的に電気光学材料と異なることから、電気光学材料に代えて封止材料が配置された不良セルパターンを、良品セルパターンと視覚的に区別し易くすることができる。さらに、ギャップ材として電気光学装置の材料として使用する封止材料を用いることで、ギャップ材として別の材料を新に用意することなく、当該効果を実現することができる。
【００１７】
この場合、電気光学装置の製造方法は、光学材料配置工程とギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することが好ましい。
【００１８】
この電気光学装置の製造方法によれば、マザー基板を製造装置に１回セットして、光学材料配置工程とギャップ保持材配置工程とを実行することができる。光学材料配置工程とギャップ保持材配置工程とを個別に実施し、それぞれの工程においてマザー基板を製造装置にセットし取り外す場合に比べ、光学材料配置工程とギャップ保持材配置工程とを効率良く実施することができる。
【００１９】
この場合、電気光学装置の製造方法は、封止材配置工程とギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することが好ましい。
【００２０】
この電気光学装置の製造方法によれば、マザー基板を製造装置に１回セットして、封止材配置工程とギャップ保持材配置工程とを実行することができる。封止材配置工程とギャップ保持材配置工程とを個別に実施し、それぞれの工程においてマザー基板を製造装置にセットし取り外す場合に比べ、封止材配置工程とギャップ保持材配置工程とを効率良く実施することができる。
【００２１】
この場合、電気光学装置の製造方法は、２枚のマザー基板の少なくとも一方に、２枚の基板間を電気的に結合する導電層を形成する導電材料を、セルパターン毎の対応する位置に配置する導電材配置工程をさらに備え、導電材配置工程においてマザー基板上に配置される導電材料は、基板間のセルギャップを規定可能な第２ギャップ材を含み、ギャップ保持材配置工程で用いられるギャップ保持材が、導電材料であることが好ましい。
【００２２】
この電気光学装置の製造方法によれば、マザー基板を製造装置に１回セットして、導電材配置工程とギャップ保持材配置工程とを実行することができる。導電材配置工程とギャップ保持材配置工程とを個別に実施し、それぞれの工程においてマザー基板を製造装置にセットし取り外す場合に比べ、導電材配置工程とギャップ保持材配置工程とを効率良く実施することができる。
【００２３】
この場合、電気光学装置の製造方法は、導電材配置工程とギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することが好ましい。
【００２４】
この電気光学装置の製造方法によれば、不良セルパターンが形成された領域に、電気光学材料に代えて導電材料を配置することで、不良セルパターンが形成された領域のセルギャップを、導電材料に含まれる第２ギャップ材に規定される所定の大きさにすることができる。また、導電材料は外観的に電気光学材料と異なることから、電気光学材料に代えて導電材料が配置された不良セルパターンを、良品セルパターンと視覚的に区別し易くすることができる。
【００２５】
この場合、電気光学装置の製造方法は、貼り合わされたマザー基板を個別のパネルセルに分離するブレイク工程と、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを識別する識別工程と、を更に有してもよい。
【００２６】
この電気光学装置の製造方法によれば、個別に分離されたパネルセルについて、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを識別することで、不良のパネルセルを良品のパネルセルと識別することができる。
【００２７】
この場合、電気光学装置の製造方法は、識別工程において、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを、当該パネルセルの一部又は全体の画像イメージによって識別することが好ましい。
【００２８】
この電気光学装置の製造方法によれば、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを、画像イメージの電気光学材料層が形成された場合とギャップ保持材層が形成された場合との違いによって識別することができる。
【００２９】
この場合、電気光学装置の製造方法は、識別工程において、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを、電気光学材料層又はギャップ保持材層が形成された領域の反射率によって識別することが好ましい。
【００３０】
この電気光学装置の製造方法によれば、電気光学材料層とギャップ保持材層とで構成する材料が異なり、構成された電気光学材料層とギャップ保持材層とでは反射率が異なることから、電気光学材料層又はギャップ保持材層が形成された領域の反射率を測定することで、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを識別することができる。
【００３１】
この場合、電気光学装置の製造方法は、識別工程において、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを、電気光学材料層又はギャップ保持材層が形成された領域の透過率によって識別することが好ましい。
【００３２】
この電気光学装置の製造方法によれば、電気光学材料層とギャップ保持材層とで構成する材料が異なり、構成された電気光学材料層とギャップ保持材層とでは透過率が異なることから、電気光学材料層又はギャップ保持材層が形成された領域の透過率を測定することで、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを識別することができる。
【００３３】
この場合、電気光学装置の製造方法は、識別工程において、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを、当該パネルセルの電気的特性によって識別することが好ましい。
【００３４】
この電気光学装置の製造方法によれば、電気光学材料層とギャップ保持材層とで構成する材料が異なり、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとでは電気的特性が異なることから、電気光学材料層又はギャップ保持材層が形成されたパネルセルの電気的特性を測定することで、電気光学材料層が形成されたパネルセルと、ギャップ保持材層が形成されたパネルセルとを識別することができる。
【００３５】
本発明による液晶表示装置の製造方法は、液晶表示装置の液晶を機能させるための回路素子や電極などから成るセルパターンが形成された２枚の基板が、基板間に所定のセルギャップが形成されるように、封止部材層を介して対向配置され、基板と封止部材とによって囲まれた空間内に液晶から成る液晶層が形成されている液晶表示装置の製造方法であって、２枚のマザー基板の少なくとも一方の上に複数のセルパターンを形成するセルパターン形成工程と、セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得する情報取得工程と、２枚のマザー基板の少なくとも一方に、封止部材層を形成する封止材料を、セルパターン毎の対応する位置に配置する封止材配置工程と、取得した良否情報によって特定される、良品であるセルパターン毎の対応する位置に液晶を配置する液晶配置工程と、取得した良否情報によって特定される、不良品であるセルパターン毎の対応する位置にギャップ保持材を配置するギャップ保持材配置工程と、２枚のマザー基板を、マザー基板間に所定のセルギャップが形成されるように貼り合せることで、２枚のマザー基板を一体化すると共に、マザー基板に配置された封止材料、液晶、ギャップ保持材で、それぞれ封止部材層、液晶層、ギャップ保持材層、を形成する貼合せ工程と、を有することを特徴とする。
【００３６】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得することで、形成されたセルパターンの良否を特定できる。取得した良否情報によって特定される不良セルパターンが形成された領域には、ギャップ保持材を配置することで、良品セルパターンが形成された領域と同様のセルギャップを確保し、不良セルパターンの周囲の良品セルパターンが形成された領域のセルギャップに影響がでることを抑制することができる。また、不良セルパターンが形成された領域には、良品セルパターンが形成された領域に配置される液晶を配置しないことから、液晶を無駄に消費することを抑制することができる。
【００３７】
本発明による吐出装置は、液状材料を吐出する吐出ヘッドを、電気光学装置の電気光学材料を機能させるための回路素子や電極などから成るセルパターンが形成されたマザー基板に対向させ、吐出ヘッドとマザー基板とを相対的に移動させると共に、セルパターンが形成された領域の所定の配置位置に向けて液状材料を吐出することで、マザー基板上に液状材料を配置する吐出装置であって、マザー基板上に形成されたセルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得する情報取得部と、取得した良否情報によって特定される、良品であるセルパターンが形成された領域の所定の配置位置に向けてのみ、吐出ヘッドから電気光学材料を吐出させる吐出制御部と、を備えることを特徴とする。
【００３８】
本発明の吐出装置によれば、セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得することで、形成されたセルパターンの良否を特定できる。取得した良否情報によって特定される良品のセルパターンが形成された領域にのみ電気光学材料を配置することから、不良のセルパターンが形成された領域には、良品セルパターンが形成された領域に配置される電気光学材料を配置しないことから、電気光学材料を無駄に消費することを抑制することができる。
【００３９】
この場合、吐出装置は、電気光学材料に代えて所定の配置位置に配置することで、電気光学装置の電気光学材料が配置される位置のマザー基板間のセルギャップを形成可能なギャップ保持材を吐出する第２の吐出ヘッドを更に備え、吐出制御部は、取得した良否情報によって特定される、不良品であるセルパターンが形成された領域の所定の配置位置に向けて、ギャップ保持材を吐出させることが好ましい。
【００４０】
この吐出装置によれば、セルパターンが良品であるか否かの良否情報を取得することで、形成されたセルパターンの良否を特定できる。取得した良否情報によって特定される不良セルパターンが形成された領域には、ギャップ保持材を配置することで、良品セルパターンが形成された領域と同様のセルギャップを確保し、不良セルパターンの周囲の、良品セルパターンが形成された領域のセルギャップに影響がでることを抑制することができる。
【００４１】
この場合、吐出装置の吐出制御部は、電気光学材料が封止される空間を規定する封止部材層を形成する封止材料を、封止部材層を形成する位置に配置させると共に、取得した良否情報によって特定される、不良品であるセルパターンが形成された領域の所定の配置位置に向けて、封止材料を吐出させることが好ましい。
【００４２】
この吐出装置によれば、マザー基板を吐出装置に１回セットして、封止材を配置する工程とギャップ保持材を配置する工程とを実行することができる。封止材を配置する工程とギャップ保持材を配置する工程とを個別に実施し、それぞれの工程においてマザー基板を製造装置にセットし取り外す場合に比べ、封止材を配置する工程とギャップ保持材を配置する工程とを効率良く実施することができる。
【００４３】
この場合、吐出装置の吐出制御部は、電気光学材料が封止される空間を規定する基板間を電気的に結合する導電層を形成する導電材料を、導電層を形成する位置に配置させると共に、取得した良否情報によって特定される、不良品であるセルパターンが形成された領域の所定の配置位置に向けて、導電材料を吐出させることが好ましい。
【００４４】
この吐出装置によれば、マザー基板を吐出装置に１回セットして、導電材料を配置する工程とギャップ保持材を配置する工程とを実行することができる。導電材料を配置する工程とギャップ保持材を配置する工程とを個別に実施し、それぞれの工程においてマザー基板を製造装置にセットし取り外す場合に比べ、導電材料を配置する工程とギャップ保持材を配置する工程とを効率良く実施することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４５】
以下、本発明に係る液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法の一実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の図面において、各部材及び各層を認識可能な大きさとするために、各部材及び各層の縮尺を適宜変更している。
【００４６】
（第１の実施形態）
最初に、本発明に係る液晶表示装置を製造する際に用いられる製造装置の一例である液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドから基板に対して液状材料の液滴を吐出（滴下）することにより基板上に液状材料を配置するインクジェット装置である。図１は、液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図である。
【００４７】
図１において、液滴吐出装置ＩＪは、ベース１２と、ベース１２上に設けられ、液晶表示装置を形成するための基板１を支持する基板ステージ２２と、ベース１２と基板ステージ２２との間に介在し、基板ステージ２２を移動可能に支持する第１移動装置（移動装置）１４とを備えている。また、液滴吐出装置ＩＪは、基板ステージ２２に支持されている基板１に対して液状材料の液滴を吐出可能な液滴吐出ヘッド２（図２参照）と、複数の液滴吐出ヘッド２を保持するヘッドユニット３（図２参照）を移動可能に支持する第２移動装置１６と、液滴吐出ヘッド２の液滴の吐出動作を制御する液滴吐出制御部２３とを備えている。更に、液滴吐出装置ＩＪは、ベース１２上に設けられている重量測定装置としての電子天秤（不図示）と、キャッピングユニット２５と、クリーニングユニット２４とを有している。第１移動装置１４及び第２移動装置１６を含む液滴吐出装置ＩＪの動作は、液滴吐出制御部２３によって制御される。また、液滴を吐出する位置などの情報は、入力装置（図示省略）を介して液滴吐出制御部２３に入力される。液滴吐出制御部２３が、吐出制御部に相当し、入力装置が、情報取得部に相当する。
【００４８】
第１移動装置１４はベース１２の上に設置されており、Ｙ方向に沿って位置決めされている。第２移動装置１６は、２本の支柱１６ａを用いてベース１２に対して立てて取り付けられており、ベース１２の後部１２ａにおいて取り付けられている。第２移動装置１６のＸ方向（第２の方向）は、第１移動装置１４のＹ方向（第１の方向）と直交する方向である。ここで、Ｙ方向はベース１２の前部１２ｂと後部１２ａ方向に沿った方向である。これに対してＸ方向はベース１２の左右方向に沿った方向であり、各々水平である。また、Ｚ方向はＸ方向及びＹ方向に垂直な方向である。
【００４９】
第１移動装置１４は、駆動部が例えばリニアモータによって構成され、２本のガイドレール１４ａと、このガイドレール１４ａに沿って移動可能に設けられているスライダー１４ｂとを備えている。このスライダー１４ｂは、ガイドレール１４ａに沿ってＹ方向に移動して位置決め可能である。
【００５０】
また、スライダー１４ｂはＺ軸回り（θＺ）用のモータ１４ｃを備えている。このモータ１４ｃは、例えばダイレクトドライブモータであり、モータ１４ｃのロータは基板ステージ２２に固定されている。これにより、モータ１４ｃに通電することでロータと基板ステージ２２とは、θＺ方向に沿って回転して基板ステージ２２をインデックス（回転割り出し）することができる。すなわち、第１移動装置１４は、基板ステージ２２をＹ方向（第１の方向）及びθＺ方向に移動可能である。
【００５１】
基板ステージ２２は基板１を保持し、所定の位置に位置決めするものである。また、基板ステージ２２は不図示の吸着保持装置を有しており、吸着保持装置が作動することにより、基板ステージ２２の穴２２ａを通して基板１を基板ステージ２２の上に吸着して保持する。
【００５２】
第２移動装置１６は、駆動部が例えばリニアモータによって構成され、支柱１６ａに固定されたコラム１６ｂと、このコラム１６ｂに支持されているガイドレール１６ｃと、ガイドレール１６ｃに沿ってＸ方向に移動可能に支持されているスライダー１６ｄとを備えている。スライダー１６ｄはガイドレール１６ｃに沿ってＸ方向に移動して位置決め可能であり、ヘッドユニット３はスライダー１６ｄに取り付けられている。
【００５３】
ヘッドユニット３は、揺動位置決め装置としてのモータ１８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄを介してスライダー１６ｄに取り付けられている。モータ１８ａを作動すれば、ヘッドユニット３（液滴吐出ヘッド２）は、Ｚ軸に平行に上下動して位置決め可能である。このＺ軸はＸ軸とＹ軸に対して各々直交する方向（上下方向）である。モータ１８ｂを作動すると、ヘッドユニット３（液滴吐出ヘッド２）は、Ｙ軸回りのβ方向に沿って揺動して位置決め可能である。モータ１８ｃを作動すると、ヘッドユニット３（液滴吐出ヘッド２）は、Ｘ軸回りのγ方向に揺動して位置決め可能である。モータ１８ｄを作動すると、ヘッドユニット３（液滴吐出ヘッド２）は、Ｚ軸回りのα方向に揺動して位置決め可能である。すなわち、第２移動装置１６は、ヘッドユニット３をＸ方向（第１の方向）及びＺ方向に移動可能に支持するとともに、このヘッドユニット３をＸ軸回り方向、Ｙ軸回り方向、Ｚ軸回り方向に揺動可能に支持する。
【００５４】
このように、図１のヘッドユニット３に保持された液滴吐出ヘッド２は、スライダー１６ｄにおいて、Ｘ軸方向に直線移動して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置決め可能であり、液滴吐出ヘッド２の液滴吐出面２Ｐは、基板ステージ２２側の基板１に対して正確に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。なお、液滴吐出ヘッド２の液滴吐出面２Ｐには液滴を吐出する複数の吐出ノズル４が設けられている（図２（ｂ）参照）。
【００５５】
電子天秤（不図示）は、液滴吐出ヘッド２の吐出ノズルから吐出された液滴の一滴の重量を測定して管理するために、例えば、液滴吐出ヘッド２の吐出ノズルから、５０００滴分の液滴を受ける。電子天秤は、この５０００滴の液滴の重量を５０００の数字で割ることにより、一滴の液滴の重量を正確に測定することができる。この液滴の測定量に基づいて、液滴吐出ヘッド２から吐出する液滴の量を最適にコントロールすることができる。
【００５６】
クリーニングユニット２４は、液滴吐出ヘッド２の吐出ノズル等のクリーニングを製造工程中や待機時に定期的にあるいは随時に行うことができる。キャッピングユニット２５は、液滴吐出ヘッド２の液滴吐出面２Ｐが乾燥しないようにするために、デバイスを製造しない待機時にこの液滴吐出面２Ｐにキャップをかぶせるものである。
【００５７】
液滴吐出ヘッド２が第２移動装置１６によりＸ方向に移動することで、液滴吐出ヘッド２を電子天秤、クリーニングユニット２４あるいはキャッピングユニット２５の上部に選択的に位置決めさせることができる。つまり、製造作業の途中であっても、液滴吐出ヘッド２をたとえば電子天秤の位置に移動することで、液滴の重量を測定できる。また液滴吐出ヘッド２をクリーニングユニット２４上に移動することで、液滴吐出ヘッド２のクリーニングを行うことができる。液滴吐出ヘッド２をキャッピングユニット２５の上に移動して、液滴吐出ヘッド２の液滴吐出面２Ｐにキャップを取り付けることで乾燥を防止する。
【００５８】
つまり、これら電子天秤、クリーニングユニット２４、およびキャッピングユニット２５は、ベース１２上の後端側で、液滴吐出ヘッド２の移動経路直下に、基板ステージ２２と離間して配置されている。基板ステージ２２に対する基板１の給材作業及び排材作業はベース１２の前端側から行われるため、これら電子天秤、クリーニングユニット２４あるいはキャッピングユニット２５により作業に支障を来すことはない。
【００５９】
図１に示すように、基板ステージ２２のうち、基板１を支持する以外の部分には、液滴吐出ヘッド２が液滴を捨打ち或いは試し打ち（予備吐出）するための予備吐出エリア（予備吐出領域）２７が、クリーニングユニット２４と分離して設けられている。この予備吐出エリア２７は、図１に示すように、基板ステージ２２の後端部側においてＸ方向に沿って設けられている。この予備吐出エリア２７は、基板ステージ２２に固着され、上方に開口する断面凹字状の受け部材と、受け部材の凹部に交換自在に設置されて、吐出された液滴を吸収する吸収材とから構成されている。
【００６０】
次に、液滴吐出装置の液滴の吐出技術について説明する。液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式等が挙げられる。帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御して吐出ノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に３０ｋｇ／ｃｍ2程度の超高圧を印加して吐出ノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進して吐出ノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散して吐出ノズルから吐出されない。また、電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。
【００６１】
また、電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、吐出ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すものである。また、この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。このうち、ピエゾ方式は、液状材料に熱を加えないため、材料の組成等に影響を与えないなどの利点を有する。本実施形態では、液状材料選択の自由度の高さ、及び液滴の制御性の良さの点から上記ピエゾ方式を用いる。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。
【００６２】
次に、液滴吐出ヘッド２、及び複数の液滴吐出ヘッド２を保持するヘッドユニット３の構造について説明する。図２（ａ）は、ヘッドユニットの平面図、図２（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの平面図であり、図３（ａ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す斜視図であり、図３（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズル部の詳細構造を示す液滴吐出ヘッドの断面図である。
【００６３】
ヘッドユニット３は、図２（ａ）に示すように互いに同じ構造を有する複数の液滴吐出ヘッド２を保持している。ここで、図２（ａ）は、ヘッドユニット３を基板ステージ２２側から観察した図である。ヘッドユニット３には６個の液滴吐出ヘッド２からなる列が、それぞれの液滴吐出ヘッド２の長手方向がＸ軸方向に対して角度をなすように２列配置されている。また、液状材料を吐出するための液滴吐出ヘッド２は、図２（ｂ）に示すように、それぞれが液滴吐出ヘッド２の長手方向に延びる２つの吐出ノズル列６、６を有している。１つの吐出ノズル列６は、それぞれ１８０個の吐出ノズル４が一列に並んだ列のことであり、この吐出ノズル列６、６の方向に沿った吐出ノズル４の間隔は、約１４０μｍである。２つの吐出ノズル列６、６間で吐出ノズル４はそれぞれ半ピッチ（約７０μｍ）ずれた位置に配置されている。各液滴吐出ヘッド２は吐出ノズル４がＸ軸方向に一定ピッチで連続するように配置されており、液滴吐出ヘッド２のＸ軸方向に対する角度を調整すれば、ピッチを変えることができる。
【００６４】
この液滴吐出ヘッド２及び吐出ノズル４の配列パターンは一例であり、各種の基板に対し液滴吐出ヘッド２を専用部品とすれば、当該基板に合致した吐出ノズル４の配設をすれば良い。あるいは、６個の液滴吐出ヘッド２の列を一つの液滴吐出ヘッドで構成しても良い。すなわち、液滴吐出ヘッド２の個数や列数、さらに配列パターンは任意に設定できる。いずれにしても、液滴吐出ヘッド２の吐出ノズル４によりパターン形成されるドットが、Ｘ軸方向において連続していればよい。
【００６５】
図３（ａ），（ｂ）に示すように、それぞれの液滴吐出ヘッド２は、振動板３３と、ノズルプレート３４とを、備えている。振動板３３と、ノズルプレート３４との間には、液状材料タンク（図示省略）から孔３７を介して供給される材料液が常に充填される液たまり３５が位置している。また、振動板３３と、ノズルプレート３４との間には、複数のヘッド隔壁３１が位置している。そして、振動板３３と、ノズルプレート３４と、１対のヘッド隔壁３１とによって囲まれた部分がキャビティ３０である。キャビティ３０は吐出ノズル４に対応して設けられているため、キャビティ３０の数と吐出ノズル４の数とは同じである。キャビティ３０には、１対のヘッド隔壁３１間に位置する供給口３６を介して、液たまり３５から材料液が供給される。
【００６６】
振動板３３上には、それぞれのキャビティ３０に対応して、振動子３２が位置する。振動子３２は、ピエゾ素子３２ｃと、ピエゾ素子３２ｃを挟む１対の電極３２ａ、３２ｂとから成る。この１対の電極３２ａ、３２ｂに駆動電圧を与えることで、対応する吐出ノズル４から液状材料が液滴となって吐出される。
【００６７】
上記した液滴吐出制御部２３（図１参照）は、ピエゾ素子３２ｃへの印加電圧の制御、すなわち駆動信号を制御することにより、複数の吐出ノズル４のそれぞれに対して、液状材料の吐出制御を行う。具体的には、液滴吐出制御部２３は、吐出ノズル４から吐出される液滴の体積や、単位時間あたりに吐出する液滴の数、液滴同士の距離などを変化させることができる。例えば、列状に並ぶ複数の吐出ノズル４の中から、液滴を吐出させる吐出ノズル４を選択的に使用することにより、複数の液滴同士の距離を変化させることができる。なお、吐出ノズル４のそれぞれから吐出される液滴の体積は、１ｐｌ〜３００ｐｌ（ピコリットル）の間で可変である。
【００６８】
次に、本発明に係る電気光学装置の一例である液晶表示装置について説明する。本実施形態の液晶表示装置は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））を備えた液晶表示装置である。図４は、液晶表示装置について、各構成要素とともに対向基板側から見た平面図であり、図５は図４のＨ−Ｈ’線に沿う断面図である。なお、以下の説明に用いた各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００６９】
図４及び図５において、本実施形態の液晶表示装置（電気光学装置）４０は、対をなすＴＦＴアレイ基板４１と対向基板５１とが光硬化性の接着剤を含む封止材料で形成されたシール材層６２によって貼り合わされ、このシール材層６２によって区画された領域内に液晶６０ａが封入、保持されている。封入され、保持されている状態の液晶６０ａを液晶層６０と表記する。シール材層６２は、基板面内の領域において閉ざされた枠状に形成されている。ＴＦＴアレイ基板４１の、液晶層６０に対向する面には、複数の画素が構成されており、これらの画素の各々には、画素スイッチング用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成されている。対向基板５１の液晶層６０に対向する面には、画素に対向するように、対向電極５２が形成されている。上記したように、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてあり、液晶層６０は対向基板５１などと同程度の厚さに描いてあるが、実際は、数ミクロン程度の厚さのものが多く用いられている。液晶６０ａが、電気光学材料に相当し、シール材層６２が封止部材層に相当する。
【００７０】
対向基板５１の、シール材層６２が形成された領域の内側には、遮光性材料からなる周辺見切り５３が形成されている。ＴＦＴアレイ基板４１のシール材層６２の外側の領域には、データ線駆動回路４３及び複数の実装端子４４がＴＦＴアレイ基板４１の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路４６が形成されている。ＴＦＴアレイ基板４１の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路４６の間を接続するための複数の配線４７が、設けられている。
【００７１】
また、枠状に形成されたシール材層６２の４角には、ＴＦＴアレイ基板４１と対向基板５１との間で電気的導通をとるための基板間導通材層６３が配設されている。対向基板５１のコーナー部の基板間導通材層６３と接触する部分には、導通端子５４（図８（ａ）参照）が設けられており、配線５６（図８（ａ）参照）を介して対向電極５２と接続されている。ＴＦＴアレイ基板４１の基板間導通材層６３と接触する部分には、対向基板５１上の導通端子５４と対向するように、導通端子４８（図９（ａ）参照）が設けられており、配線４９（図９（ａ）参照）を介して実装端子４４の一つと接続されている。
【００７２】
画素とデータ線駆動回路４３と実装端子４４と走査線駆動回路４６と配線４７と導通端子４８と配線４９とを総称して、下セルパターン５９と表記する（図９参照）。対向電極５２と導通端子５４と配線５６とを総称して、上セルパターン５８と表記する（図８参照）。下セルパターン５９と上セルパターン５８とが、セルパターンに相当し、基板間導通材層６３が、導電層に相当する。液晶表示装置４０が、パネルセルに相当する。
【００７３】
液晶表示装置４０においては、使用する液晶層６０の種類、すなわち、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モード等の動作モードや、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、位相差板、偏光板等が所定の向きに配置される（図示省略）。また、液晶表示装置４０をカラー表示用として構成する場合には、対向基板５１において、ＴＦＴアレイ基板４１の各画素電極に対向する領域に、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタをその保護膜とともに形成する。
【００７４】
なお、データ線駆動回路４３及び走査線駆動回路４６をＴＦＴアレイ基板４１の上に形成する代わりに、例えば、駆動用ＬＳＩが実装されたＴＡＢ（Tape Automated Bonding）基板とＴＦＴアレイ基板４１の周辺部に形成された端子群とを異方性導電膜を介して電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。このような構成の場合、ＴＡＢ基板を接続する前の、ＴＦＴアレイ基板４１などで構成される液晶表示パネルが、パネルセルに相当する。また、例えば、駆動用ＬＳＩが形成された回路チップを、ＴＦＴアレイ基板４１の周辺部に形成された端子に接続するように実装するようにしてもよい。このような構成の場合、回路チップを実装する前の、ＴＦＴアレイ基板４１などで構成される液晶表示パネルが、パネルセルに相当する。
【００７５】
次に、液晶表示装置４０を形成する工程について説明する。図６は、複数の液晶表示装置が形成された基体の平面図である。液晶表示装置４０は、小型の液晶表示装置であり、基体上に複数の液晶表示装置を形成して製造する。複数の下セルパターン５９が形成された下マザー基板４１Ａ（図９（ｂ）参照）と、複数の上セルパターン５８が形成された上マザー基板５１Ａ（図８（ｂ）参照）とを貼り合せて、複数の液晶表示装置４０のセル４０ａが構成された基体５０Ａを形成する。下マザー基板４１Ａを図６の二点鎖線の部分で分割し、上マザー基板５１Ａを図６の一点鎖線の部分で分割することで、基体５０Ａを各セル４０ａ毎に分割して、個別の液晶表示装置４０を形成する。
【００７６】
次に、液晶表示装置４０を形成する工程について、フローチャートに基づいて説明する。図７は、液晶表示装置を形成する工程のフローチャートである。ステップＳ１からステップＳ７で下マザー基板４１Ａ側を形成し、ステップＳ１１からステップＳ１２で上マザー基板５１Ａ側を形成し、ステップＳ２１からステップＳ２２で下マザー基板４１Ａと上マザー基板５１Ａとを貼り合せ、セル４０ａ毎に分割し、ステップＳ２３で不良品を選別する。
【００７７】
最初に、上マザー基板５１Ａ側の工程を説明する。図７のステップＳ１１では、ガラスウェハ上に複数の上セルパターン５８を形成し、さらに周辺見切り５３を形成する。次に、ステップＳ１２では、上セルパターン５８の対向電極５２が形成された部分を覆う配向膜を形成する。ステップＳ１２を実行して、上マザー基板５１Ａが形成される。
【００７８】
図８（ａ）は、上セルパターン及び周辺見切りの平面図であり、図８（ｂ）は、複数の上セルパターンが形成された上マザー基板の平面図である。図８（ａ）に示すように、上セルパターン５８は、周辺見切り５３に囲まれた方形の領域に対向電極５２が形成されており、一点鎖線で示した対向基板５１となる領域の四隅には、導通端子５４が設けられている。導通端子５４は、配線５６を介して対向電極５２と接続されている。対向電極５２は、上述したステップＳ１２で形成された配向膜（図示省略）で覆われている。１枚の上マザー基板５１Ａには、２８個の上セルパターン５８及び周辺見切り５３が形成されている。また、上マザー基板５１Ａの外周側の、上セルパターン５８及び周辺見切り５３が形成されていない部分には、上マザー基板５１Ａと下マザー基板４１Ａとを基板の面方向で位置合わせするためのアライメントマーク（図示省略）が形成されている。
【００７９】
次に、下マザー基板４１Ａ側の工程を説明する。図７のステップＳ１では、半導体製造プロセスを用いて、ガラスウェハ上に複数の下セルパターン５９を形成する。次に、ステップＳ２では、下セルパターン５９の画素が形成された領域（画素領域４２）を覆う配向膜を形成する。ステップＳ２を実行することで、下マザー基板４１Ａが形成される。
【００８０】
図９（ａ）は、下セルパターンの平面図であり、図９（ｂ）は、複数の下セルパターンが形成された下マザー基板の平面図である。図９（ａ）に示すように、下セルパターン５９は、中央の方形の領域が複数の画素が形成された画素領域４２となっており、複数の画素の各々には、画素スイッチング用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）（図示省略）が形成されている。画素領域４２を囲む領域には、駆動回路及び配線が形成されている。
【００８１】
略方形形状をなす画素領域４２を囲む領域には、データ線駆動回路４３及び複数の実装端子４４が、画素領域４２の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する２辺に沿って一対の走査線駆動回路４６が形成されている。データ線駆動回路４３と走査線駆動回路４６とは、それぞれ、複数の配線４７によって、実装端子４４と接続されている。データ線駆動回路４３及び走査線駆動回路４６には、駆動回路を構成する半導体素子（図示省略）及び回路配線（図示省略）が形成されている。画素領域４２の残る一辺に隣接する領域には、画素領域４２の両側に設けられた一対の走査線駆動回路４６の間を接続するための複数の配線４７が設けられている。データ線駆動回路４３と画素とは、ソース配線（図示省略）で接続されており、走査線駆動回路４６と画素とは、ゲート配線（図示省略）で接続されている。液晶表示装置４０において基板間導通材層６３（図４参照）が配設される位置には、導通端子４８が設けられており、配線４９を介して実装端子４４と接続されている。画素領域４２は、上述したステップＳ２で形成された配向膜（図示省略）で覆われている。図９（ｂ）に示した１枚の下マザー基板４１Ａには、２８個の下セルパターン５９が形成されている。また、下マザー基板４１Ａの外周側の、下セルパターン５９が形成されていない部分には、上マザー基板５１Ａと下マザー基板４１Ａとを基板の面方向で位置合わせするためのアライメントマーク（図示省略）が形成されている。
【００８２】
次に、図７のステップＳ３では、下マザー基板４１Ａ上に形成された複数の下セルパターン５９のそれぞれについて、検査を実施し、各下セルパターン５９が良品であるか否かの情報を取得する。ステップＳ３の検査工程が、情報取得工程に相当する。
【００８３】
次に、ステップＳ４では、シール材層６２を形成する位置（図４参照）に、シール材６２ａを配置する。シール材６２ａは、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）とを接着する接着剤と、ギャップ材９１（図１６参照）とで構成されている。ギャップ材９１は、球形の固体で、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）とに挟持されることで、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）との間のセルギャップを規定する。上述したように、液晶層６０の厚み、即ちセルギャップは数ミクロンであり、ギャップ材９１は、セルギャップ値と同程度の直径をもつ、直径数ミクロンの球体である。
【００８４】
次に、ステップＳ５では、基板間導通材層６３を形成するための導通材６３ａを、導通端子４８を覆うような位置に配置する。基板間導通材層６３を形成する導通材６３ａが導電材料に相当する。
【００８５】
次に、ステップＳ６では、ステップＳ３の検査工程において良品であると判定された下セルパターン５９について、ステップＳ４で配置されたシール材６２ａに囲まれた領域に、液晶６０ａを配置する。以降、良品であると判定された下セルパターン５９においては液晶６０ａを配置する領域を、表示領域と表記する。
【００８６】
図１０は、良品の下セルパターンに、シール材と導通材と液晶が配置された状態を示す平面図であり、図１１は、その断面図である。図１０及び図１１に示すように、シール材層６２が形成される領域（図４参照）には、シール材６２ａが土手状に配置されており、基板間導通材層６３が形成される領域（図４参照）には、導通材６３ａが配置されている。土手状に配置されたシール材６２ａに囲まれた表示領域には、液晶６０ａが配置されている。上述したように、液晶層６０の厚み、即ちセルギャップは数ミクロンであり、配置されたシール材６２ａや導通材６３ａの厚みは、セルギャップより厚めの数ミクロンである。
【００８７】
次に、図７のステップＳ７では、ステップＳ３の検査工程において不良品であると判定された下セルパターン５９について、シール材６２ａに囲まれた表示領域に、液状体７０ａを配置する。液状体７０ａは、液晶６０ａとは異なる色に着色された液体、例えば赤色に着色された水を用いる。
【００８８】
シール材６２ａを配置する工程（ステップＳ４）、導通材６３ａを配置する工程（ステップＳ５）、液晶６０ａを配置する工程（ステップＳ６）、及び液状体７０ａを配置する工程（ステップＳ７）は、上述した液滴吐出装置ＩＪを用いることで、配置位置の位置精度や配置量の精度を高精度に保って実施することができる。液滴吐出装置ＩＪが、吐出装置に相当する。
【００８９】
図１２は、不良品の下セルパターンに、シール材と導通材と液状体が配置された状態を示す平面図である。図１２に示すように、シール材層６２が形成される領域（図４参照）には、図１０に示した良品の下セルパターン５９と同様に、シール材６２ａが土手状に配置されている。同じく基板間導通材層６３が形成される領域（図４参照）には、図１０に示した良品の下セルパターン５９と同様に、導通材６３ａが配置されている。土手状に配置されたシール材６２ａに囲まれた表示領域には、液状体７０ａが配置されている。
【００９０】
次に、図７のステップＳ２１では、下マザー基板４１Ａと、上マザー基板５１Ａとを貼り合せ、基体５０Ａを形成する。ステップＳ１からステップＳ７の各ステップを実行して形成された、下マザー基板４１Ａ上に、シール材６２ａと導通材６３ａと液晶６０ａが配置され、不良の下セルパターン５９がある下マザー基板４１Ａにおいてはさらに液状体７０ａが配置されたものに、ステップＳ１１とステップＳ１２を実行して形成された上マザー基板５１Ａを、上セルパターン５８が形成された面が、下マザー基板４１Ａ側になるように、減圧環境下において、重ねあわせる。重ね合わせた上マザー基板５１Ａと下マザー基板４１Ａとを、両者に形成されたアライメントマークを基準にして位置合せを行う。位置合せが完了した上マザー基板５１Ａと下マザー基板４１Ａとを圧着することで、上マザー基板５１Ａと下マザー基板４１Ａとは、シール材６２ａに含まれる接着剤によって互いに接着される。接着剤を凝固させるためには、必要に応じて、乾燥工程を実施する。
【００９１】
上マザー基板５１Ａと下マザー基板４１Ａとの間の距離は、シール材６２ａに混入されているギャップ材９１の大きさによって規定されるセルギャップになっている。減圧環境下から大気圧下に戻したとき、不良の下セルパターン５９が形成された部分でも、液状体７０ａが配置されたことにより、セルギャップが潰れることはなく、周囲の良品の下セルパターン５９が形成された部分においても適正なセルギャップが確保される。なお、液状体７０ａによって規定されるセルギャップを液晶６０ａが配置された下セルパターン５９に形成されるセルギャップにより近いものにするためには、液状体７０ａの粘度や密度などの物理特性が、液晶６０ａの物理特性に近いような液状体７０ａを選択することが好ましい。
【００９２】
形成された下セルパターン５９が全て良品の下マザー基板４１Ａの場合には、ステップＳ２１が実行されて、図６に示したような基体５０Ａが形成される。図１３は、不良の下セルパターンを含む基体の部分平面図である。図１３に示す基体８０は、不良の下セルパターン５９を１個含んでおり、当該不良の下セルパターン５９の表示領域には、上記したステップＳ７で、液状体７０ａが配置されており、液状体層７０が形成されている。良品の下セルパターン５９の表示領域には、上記したステップＳ６で、液晶６０ａが配置されており、液晶層６０が形成されて、良品のセル４０ａが形成されている。
【００９３】
次に、図７のステップＳ２２では、基体５０Ａ又は８０のような基体を各セル４０ａ毎に分割して、個別の液晶表示装置４０を形成する。下マザー基板４１Ａは、図９や図１３に示した二点鎖線の部分にブレイク線を入れてブレイクする。上マザー基板５１Ａは、図８や図１３に示した一点鎖線の部分にブレイク線を入れてブレイクする。下マザー基板４１Ａと上マザー基板５１Ａとをブレイクすることで、基体５０Ａ又は８０は、各セル４０ａ毎に分割されて、個別の液晶表示装置４０（図４参照）が形成される。液晶表示装置４０は、例えば、パレット上に整列させる。
【００９４】
次に、ステップＳ２３では、不良品を選別する。本実施形態で説明した不良品は、表示領域に形成された液状体層７０が例えば赤色をしており、良品の液晶表示装置４０の表示領域に形成された液晶層６０との透過率の違いによって識別する。より詳しくは、例えば、液晶表示装置４０の表示領域に光を照射し、表示領域を通過した透過光を測定して透過率を得る。ステップＳ２３を実行して、液晶表示装置４０を形成する工程を終了する。
【００９５】
以上説明した、第１の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）不良の下セルパターン５９の表示領域には、液状体７０ａが配置され、液晶６０ａは配置されないことから、不良の下セルパターン５９に液晶６０ａを無駄に配置することを、抑制することができる。
【００９６】
また、不良の下セルパターン５９の表示領域には、液状体７０ａが配置されることによって、不良の下セルパターン５９において、液晶が配置された良品の下セルパターン５９と同様のセルギャップが確保できることから、周辺の良品の下セルパターン５９において、影響を受けてセルギャップが適正に保たれなくなることを抑制し、適切なセルギャップが得られるようにすることができる。
【００９７】
（２）不良の下セルパターン５９の表示領域には、液状体７０ａが配置される。不良の下セルパターン５９については、下セルパターン５９が形成された区画に形成された液状体層７０の透過率が液晶層６０の透過率と異なることによって、後工程の選別工程において、不良の液晶表示装置４０を良品の液晶表示装置４０と区別し易くすることができる。
【００９８】
（３）液晶表示装置４０の表示領域に光を照射し、表示領域を通過した透過光を測定して透過率を得ることで、選別検査の自動化が可能となり、効率良く選別を実施することができる。
【００９９】
（４）不良の下セルパターン５９については、当該下セルパターン５９が形成された区画に形成された液状体層７０によって、後工程において、不良の下セルパターン５９を良品と区別し易くすることができることから、不良の下セルパターン５９を有する液晶表示装置４０が誤って良品と判断され、不良の液晶表示装置４０が良品の中に混入する可能性を低減することができ、信頼性の高い液晶表示装置４０を実現することができる。
【０１００】
（第２の実施形態）
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法の第２の実施形態について、図面に基づいて説明する。本実施形態の製造方法で製造する液晶表示装置や、製造に使用する液晶表示装置の構成材料や、使用する製造装置などは、第１の実施形態における液晶表示装置や、液晶表示装置の構成材料や、製造装置と、基本的に同一である。
【０１０１】
図１４（ａ）は、液晶表示装置を形成する工程のフローチャートであり、図１４（ｂ）は、不良の下セルパターンにおいて液晶に代えてシール材を配置した、不良の液晶表示装置を示す平面図である。図１４（ａ）に示したステップＳ３１からステップＳ３２で上マザー基板５１Ａ側を形成する工程は、第１の実施形態において、図７に基づいて説明したステップＳ１１からステップＳ１２と同様である。ステップＳ４１からステップＳ４３の各工程も、第１の実施形態において、図７に基づいて説明したステップＳ１からステップＳ３と同様である。
【０１０２】
ステップＳ４３の次のステップＳ４４では、下マザー基板４１Ａ上のシール材層６２を形成する位置（図４参照）に、シール材６２ａを配置する。それと共に、ステップＳ４３の検査工程において不良品であると判定された下セルパターン５９については、配置されたシール材６２ａに囲まれる表示領域にも、シール材６２ａを配置する。シール材６２ａは、表示領域に、例えば図１４（ｂ）に示すように略Ｘ字形状を描くように配置する。第１の実施形態において説明したように、シール材６２ａは、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）とを接着する接着剤と、ギャップ材９１（図１６参照）とで構成されている。ギャップ材９１は、球形の固体で、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）とに挟持されることで、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）との間のセルギャップを規定する。上述したように、液晶層６０の厚み、即ちセルギャップは数ミクロンであり、ギャップ材９１は、セルギャップ値と同程度の直径をもつ、直径数ミクロンの球体である。
【０１０３】
なお、不良品であると判定された下セルパターン５９においては、表示領域にもシール材６２ａを配置する工程は、シール材層６２を形成する位置に、シール材６２ａを配置する工程を実施する間に並行して実施しても良いし、連続して別途実施しても良い。いずれの場合も、例えば第１の実施形態で説明した液滴吐出装置ＩＪのような、シール材６２ａを下マザー基板４１Ａの所定の位置に塗布できる装置に、下マザー基板４１Ａをセットする。そして、一旦セットした下マザー基板４１Ａに対して、シール材層６２を形成する位置にシール材６２ａを配置する工程と、表示領域にもシール材６２ａを配置する工程との両方を実施する。
【０１０４】
なお、シール材層６２を形成する位置にシール材６２ａを配置する工程と、表示領域にもシール材６２ａを配置する工程との両方を、同一の吐出ヘッドからシール材６２ａを吐出して実行してもよいし、シール材層６２を形成する位置にシール材６２ａを配置する工程のための吐出ヘッドと、表示領域にもシール材６２ａを配置する工程のための吐出ヘッドとを、それぞれ別の吐出ヘッドとしてもよい。
【０１０５】
不良品であると判定された下セルパターン５９の表示領域に配置されたシール材６２ａが、ギャップ保持材に相当する。ステップＳ４４で並行して実施される、シール材層６２を形成する位置にシール材６２ａを配置する工程と、不良品の下セルパターン５９については、表示領域にもシール材６２ａを配置する工程とが、封止材配置工程とギャップ保持材配置工程とに相当する。シール材層６２を形成する位置にシール材６２ａを配置する吐出ヘッドと、表示領域にシール材６２ａを配置する吐出ヘッドとを、それぞれ別の吐出ヘッドとする場合、表示領域にシール材６２ａを配置する吐出ヘッドが、第２の吐出ヘッドに相当する。
【０１０６】
次のステップＳ４５からステップＳ４６の各工程も、第１の実施形態において、図７に基づいて説明したステップＳ５からステップＳ６と同様であり、ステップＳ５１からステップＳ５２の各工程も、第１の実施形態において、図７に基づいて説明したステップＳ２１からステップＳ２２と同様である。
【０１０７】
図１４（ｂ）に示す不良液晶表示装置８４は、上記したステップＳ４４で、表示領域に、略Ｘ字形状を描くようにシール材６２ａが配置され、略Ｘ字形状のシール材パターン８５が形成されている。
【０１０８】
次に、ステップＳ５３では、不良液晶表示装置８４を選別する。良品の液晶表示装置４０または不良液晶表示装置８４をＣＣＤカメラなどで撮影して画像イメージを取得し、取得した画像イメージを画像処理装置で処理する。本実施形態で説明した不良液晶表示装置８４は、良品の液晶表示装置４０では液晶層６０が形成される領域に、略Ｘ字形状のシール材パターン８５が形成されており、当該シール材パターン８５が形成された部分を含む画像イメージが、良品の液晶表示装置４０の画像イメージと異なることから識別することができる。なお、目視で略Ｘ字形状のシール材パターン８５が認識できる場合には、目視で識別してもよい。ステップＳ５３を実行して、液晶表示装置４０を形成する工程を終了する。
【０１０９】
第２の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）不良の下セルパターン５９の表示領域に、液晶６０ａに代えてシール材６２ａを配置することにより、不良の下セルパターン５９には、液晶６０ａは配置されないことから、不良の下セルパターン５９に液晶６０ａを無駄に配置することを抑制することができる。
【０１１０】
また、不良の下セルパターン５９の表示領域に、シール材６２ａを配置することにより、不良の下セルパターン５９のセルギャップを、シール材６２ａに含まれるギャップ材９１に規定される所定の大きさにすることができる。これにより、周辺の良品の下セルパターン５９において、不良の下セルパターン５９の影響を受けてセルギャップが適正に保たれないことを抑制し、適切なセルギャップが得られるようにすることができる。
【０１１１】
（２）ギャップ保持材として液晶表示装置４０を形成するための材料として使用するシール材６２ａを用いることで、ギャップ保持材として機能する別の材料を新に用意することなく、上記効果を実現することができる。
【０１１２】
（３）不良の下セルパターン５９の表示領域に配置されたシール材６２ａによって形成されるシール材パターン８５は外観的に液晶層６０と異なることから、液晶６０ａに代えてシール材パターン８５が配置された不良液晶表示装置８４を、良品の液晶表示装置４０と視覚的に区別し易くすることができる。
【０１１３】
（４）シール材６２ａを下マザー基板４１Ａの所定の位置に塗布できる装置に、下マザー基板４１Ａをセットして、一旦セットした下マザー基板４１Ａに対して、シール材層６２を形成する位置に、シール材６２ａを配置する工程と、不良品の下セルパターン５９においては、表示領域にもシール材６２ａを配置する工程との両方を実施することにより、各工程において装置に下マザー基板４１Ａをそれぞれセットする場合に比べて、効率良く二つの工程を実施することができる。
【０１１４】
（５）良品の液晶表示装置４０または不良液晶表示装置８４をＣＣＤカメラなどで撮影して画像イメージを取得し、取得した画像イメージを画像処理装置で処理することで、選別検査の自動化が可能となり、効率良く選別を実施することができる。
【０１１５】
（６）不良液晶表示装置８４については、形成されたシール材パターン８５によって、後工程において、良品の液晶表示装置４０と区別し易くすることができることから、不良液晶表示装置８４が誤って良品と判断され、不良液晶表示装置８４が良品の液晶表示装置４０中に混入する可能性を低減することができ、信頼性の高い液晶表示装置４０を実現することができる。
【０１１６】
（第３の実施形態）
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法の第３の実施形態について、図面に基づいて説明する。本実施形態の製造方法で製造する液晶表示装置や、製造に使用する液晶表示装置の構成材料や、使用する製造装置などは、第１又は第２の実施形態における液晶表示装置や、液晶表示装置の構成材料や、製造装置と、基本的に同一である。
【０１１７】
図１５（ａ）は、液晶表示装置を形成する工程のフローチャートであり、図１５（ｂ）は、不良の下セルパターンにおいて液晶に代えて導通材を配置した、不良の液晶表示装置を示す平面図である。図１５（ａ）に示したステップＳ６１からステップＳ６２で上マザー基板５１Ａ側を形成する工程は、第１の実施形態において、図７に基づいて説明したステップＳ１１からステップＳ１２と同様である。ステップＳ７１からステップＳ７４の各工程も、第１の実施形態において、図７に基づいて説明したステップＳ１からステップＳ４と同様である。
【０１１８】
ステップＳ７４の次のステップＳ７５では、基板間導通材層６３を形成するための導通材６３ａを、導通端子４８を覆うような位置に配置する。それと共に、ステップＳ７３の検査工程において不良品であると判定された下セルパターン５９については、配置されたシール材６２ａに囲まれた表示領域にも、導通材６３ａを配置する。導通材６３ａは、表示領域に、例えば点状に複数箇所配置する。
【０１１９】
導通材６３ａは、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）の導通端子５４と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）の導通端子４８とを接続する導電性材料と、ギャップ材９１（図１６参照）とで構成されている。導電性材料は、導通端子５４と導通端子４８とに接触し、導通端子５４と導通端子４８とを電気的に接続する。ギャップ材９１は、球形の固体で、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）とに挟持されることで、上マザー基板５１Ａ（対向基板５１）と下マザー基板４１Ａ（ＴＦＴアレイ基板４１）との間のセルギャップを規定する。上述したように、液晶層６０の厚み、即ちセルギャップは数ミクロンであり、ギャップ材９１は、セルギャップ値と同程度の直径をもつ、直径数ミクロンの球体である。基板間導通材層６３を形成する導通材６３ａが導電材料に相当し、ギャップ材９１が、第２ギャップ材に相当する。
【０１２０】
なお、不良品の下セルパターン５９については、表示領域にも導通材６３ａを配置する工程は、導通端子４８を覆う位置に、導通材６３ａを配置する工程を実施する間に並行して実施しても良いし、連続して別途実施しても良い。いずれの場合も、例えば第１の実施形態で説明した液滴吐出装置ＩＪのような、導通材６３ａを下マザー基板４１Ａの所定の位置に塗布できる装置に、下マザー基板４１Ａをセットする。そして、一旦セットした下マザー基板４１Ａに対して、導通端子４８を覆う位置に、導通材６３ａを配置する工程と、不良品の下セルパターン５９については、表示領域にも導通材６３ａを配置する工程との両方を実施する。
【０１２１】
なお、導通端子４８を覆う位置に、導通材６３ａを配置する工程と、表示領域にも導通材６３ａを配置する工程との両方を、同一の吐出ヘッドから導通材６３ａを吐出して実行してもよいし、導通端子４８を覆う位置に導通材６３ａを配置する工程のための吐出ヘッドと、表示領域にも導通材６３ａを配置する工程のための吐出ヘッドとを、それぞれ別の吐出ヘッドとしてもよい。
【０１２２】
不良品であると判定された下セルパターン５９の表示領域に配置された導通材６３ａが、ギャップ保持材に相当する。ステップＳ７５で並行して実施される、導通端子４８を覆う位置に導通材６３ａを配置する工程と、不良品の下セルパターン５９については、表示領域にも、導通材６３ａを配置する工程とが、導電材配置工程とギャップ保持材配置工程とに相当する。導通端子４８を覆う位置に導通材６３ａを配置する吐出ヘッドと、表示領域に導通材６３ａを配置する吐出ヘッドとを、それぞれ別の吐出ヘッドとする場合、表示領域に導通材６３を配置する吐出ヘッドが、第２の吐出ヘッドに相当する。
【０１２３】
次のステップＳ７６も、第１の実施形態において、図７に基づいて説明したステップＳ６と同様であり、ステップＳ８１からステップＳ８２の各工程も、第１の実施形態において、図７に基づいて説明したステップＳ２１からステップＳ２２と同様である。
【０１２４】
図１５（ｂ）に示す不良液晶表示装置８６は、上記したステップＳ７５で、良品の液晶表示装置４０では液晶層６０が形成される領域に、点状の導通材６３ａが９箇所に配置され、点状の導通材パターン８７が９箇所形成されている。
【０１２５】
次に、ステップＳ８３では、不良液晶表示装置８６を選別する。良品の液晶表示装置４０または不良液晶表示装置８６をＣＣＤカメラなどで撮影して画像イメージを取得し、取得した画像イメージを画像処理装置で処理する。本実施形態で説明した不良液晶表示装置８６は、良品の液晶表示装置４０では液晶層６０が形成される表示領域に、点状の導通材パターン８７が９箇所形成されており、当該導通材パターン８７が形成された部分を含む画像イメージが、良品の液晶表示装置４０の画像イメージと異なることから識別することができる。なお、目視で点状の導通材６３ａが認識できる場合には、目視で識別してもよい。ステップＳ８３を実行して、液晶表示装置４０を形成する工程を終了する。
【０１２６】
第３の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）不良の下セルパターン５９の表示領域に、液晶６０ａに代えて導通材６３ａを配置することにより、不良の下セルパターン５９には、液晶６０ａは配置されないことから、不良の下セルパターン５９に液晶６０ａを無駄に配置することを抑制することができる。
【０１２７】
また、不良の下セルパターン５９の表示領域に、導通材６３ａを配置することにより、不良の下セルパターン５９のセルギャップを、導通材６３ａに含まれるギャップ材９１に規定される所定の大きさにすることができる。これにより、周辺の良品の下セルパターン５９において、不良の下セルパターン５９の影響を受けてセルギャップが適正に保たれないことを抑制し、適切なセルギャップが得られるようにすることができる。
【０１２８】
（２）ギャップ保持材として液晶表示装置４０を形成するための材料として使用する導通材６３ａを用いることで、ギャップ保持材として機能する別の材料を新に用意することなく、上記効果を実現することができる。
【０１２９】
（３）不良の下セルパターン５９の表示領域に配置された導通材６３ａによって形成された導通材パターン８７は外観的に液晶層６０と異なることから、液晶６０ａに代えて導通材パターン８７が配置された不良液晶表示装置８６を、良品の液晶表示装置４０と視覚的に区別し易くすることができる。
【０１３０】
（４）導通材６３ａを下マザー基板４１Ａの所定の位置に塗布できる装置に、下マザー基板４１Ａをセットして、一旦セットした下マザー基板４１Ａに対して、導通端子４８を覆う位置に、導通材６３ａを配置する工程と、不良の下セルパターン５９については、表示領域にも導通材６３ａを配置する工程との両方を実施することにより、各工程において装置に下マザー基板４１Ａをそれぞれセットする場合に比べて、効率良く二つの工程を実施することができる。
【０１３１】
（５）不良液晶表示装置８６については、形成された導通材パターン８７によって、後工程において、良品の液晶表示装置４０と区別し易くすることができることから、不良液晶表示装置８６が誤って良品と判断され、不良液晶表示装置８６が良品の液晶表示装置４０中に混入する可能性を低減することができ、信頼性の高い液晶表示装置４０を実現することができる。
【０１３２】
以上、添付図面を参照しながら、本発明に係る好適な実施形態の例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。以下のように実施することもできる。
【０１３３】
（変形例１）前記実施形態においては、ギャップ保持材として液状体７０ａ、シール材６２ａ、又は導通材６３ａを用いる例を説明したが、ギャップ保持材として、ギャップ材９１を用いることもできる。図１６に示す不良液晶表示装置９０は、第１の実施形態で図７に示したギャップ保持材配置工程（ステップＳ７）で、良品の液晶表示装置４０では液晶層６０が形成される表示領域に、ギャップ材９１が配置され、表示領域内にギャップ材９１が無作為に分散されている。
【０１３４】
上述したように、液晶層６０の厚み、即ちセルギャップは数ミクロンであり、ギャップ材９１は、直径数ミクロンの球体である。不良の下セルパターン５９の表示領域に、ギャップ材９１を配置することにより、不良の下セルパターン５９のセルギャップを、ギャップ材９１に規定される所定の大きさにすることができる。これにより、周辺の良品の下セルパターン５９において、不良の下セルパターン５９の影響を受けてセルギャップが適正に保たれないことを抑制し、適切なセルギャップが得られるようにすることができる。
【０１３５】
また、ギャップ材の材質は固体に限らず、ゲルを用いることもできる。さらに形状は、球体に限らず、例えばビーズ形状や、フィラー形状であってもよい。
【０１３６】
（変形例２）前記第１の実施形態においては、ステップＳ２３において、不良の液晶表示装置は、良品の液晶表示装置４０において液晶層６０が形成される領域に形成された液状体層７０が例えば赤色をしており、良品の液晶表示装置４０に形成された液晶層６０と透過率が異なることによって識別していた。表示領域に液状体層７０が形成された不良の液晶表示装置は、液状体層７０が、良品の液晶表示装置４０に形成された液晶層６０とは反射率が異なることから、当該部分の反射率を測定することでも、不良の液晶表示装置を良品の液晶表示装置４０と識別することができる。より詳しくは、例えば、液晶表示装置４０の表示領域に光を照射し、表示領域から反射された反射光を測定して反射率を得る。表示領域から反射された反射光を測定して反射率を得ることで、選別検査の自動化が可能となり、効率良く選別を実施することができる。
【０１３７】
（変形例３）前記第３の実施形態においては、ステップＳ８３において、不良液晶表示装置８６は、良品の液晶表示装置４０では液晶層６０が形成される表示領域に、点状の導通材パターン８７が９箇所形成されており、当該導通材パターン８７が形成される部分を含む画像イメージが、良品の液晶表示装置４０の画像イメージと相違することによって識別していた。表示領域に導通材パターン８７が形成された不良液晶表示装置８６は、導通材パターン８７によって、ＴＦＴアレイ基板４１の画素電極と対向基板５１の対向電極５２とが短絡されており、良品の液晶表示装置４０とは異なる電気特性を有することから、電気特性を測定することで、不良液晶表示装置８６を良品の液晶表示装置４０と識別することができる。
【０１３８】
（変形例４）前記実施形態においては、ＴＦＴアレイ基板４１が形成される下マザー基板４１Ａ上に、液晶６０ａとシール材６２ａと導通材６３ａとを配置していたが、液晶６０ａとシール材６２ａと導通材６３ａとを下マザー基板４１Ａ上に配置することは必須ではない。液晶６０ａとシール材６２ａと導通材６３ａとを対向基板５１が形成される上マザー基板５１Ａ上に配置してもよい。また、液晶６０ａとシール材６２ａと導通材６３ａとのいずれか１種又は２種を下マザー基板４１Ａ上配置し、残りの２種又は１種を上マザー基板５１Ａ上に配置してもよい。
【０１３９】
（変形例５）前記実施形態においては、ＴＦＴアレイ基板４１が形成される下マザー基板４１Ａ上に、ギャップ保持材として液状体７０ａ、シール材６２ａ、又は導通材６３ａを配置していたが、ギャップ保持材を下マザー基板４１Ａ上に配置することは必須ではない。ギャップ保持材として液状体７０ａ、シール材６２ａ、又は導通材６３ａ及びギャップ材９１は、上マザー基板５１Ａ上に配置してもよい。
【０１４０】
（変形例６）前記実施形態においては、上マザー基板５１Ａに形成された上セルパターン５８については、検査を実施せず、全て良品であるとして扱っている。これは、液晶表示装置４０がＴＦＴを備えた液晶表示装置であり、上セルパターン５８の主要部である対向電極５２は単純な１枚の電極であり、対向電極５２の不良品は殆ど発生しないため、検査を実施せず、全て良品であるとして扱う方が効率的に製造できるためである。液晶表示装置が、例えば薄膜ダイオード（ＴＦＤ（Thin Film Diode））を備えた液晶表示装置のように、より複雑な上セルパターンを有する装置である場合には、上セルパターンについても、検査を実施し、下セルパターンの不良セル処理に加えて、上セルパターンの不良セルについても同様の処理を実施することが好ましい。
【０１４１】
（変形例７）前記実施形態では、シール材配置工程と、導通材配置工程と、液晶配置工程と、ギャップ保持材配置工程とを、ここに記載した順番で実施しているが、これらの各工程を実施する順番は、実施形態に示した順番に限らない。これらの各工程を実施する順番は、どのような順番であってもよい。
【０１４２】
（変形例８）前記第１の実施形態では、液晶６０ａを配置する工程（ステップＳ６）と、液状体７０ａを配置する工程（ステップＳ７）とは、別途実施していたが、液滴吐出装置ＩＪを１台用いて並行または、連続して実施してもよい。液滴吐出装置ＩＪは、ヘッドユニット３を構成する複数の液滴吐出ヘッド２の一部に液晶６０ａを供給し、残りの液滴吐出ヘッド２には、液状体７０ａを供給する構成とする。当該液滴吐出装置ＩＪに、下マザー基板４１Ａをセットし、良品の下セルパターン５９に対しては、液晶６０ａが供給されている液滴吐出ヘッド２から液晶６０ａを吐出し、不良の下セルパターン５９に対しては、液状体７０ａが供給されている液滴吐出ヘッド２から液状体７０ａを吐出し、液晶６０ａを配置する工程（ステップＳ６）と、液状体７０ａを配置する工程（ステップＳ７）とを並行又は連続して実施する。
【０１４３】
（変形例９）前記実施形態では、シール材６２ａを配置する工程（ステップＳ４，４４，７４）、導通材６３ａを配置する工程（ステップＳ５，４５，７５）、液晶６０ａを配置する工程（ステップＳ６，４６，７６）、及び液状体７０ａを配置する工程（ステップＳ７）を精度良く実施することができる液滴吐出装置ＩＪについて説明したが、これらの各工程の全て又は一部の工程については、ディスペンサ装置など、他の装置を用いて実施してもよい。
【０１４４】
（変形例１０）前記実施形態では、導通材６３ａを４箇所に配置し、４箇所の基板間導通材層６３を形成したが、基板間導通材層６３を４箇所形成することは必須ではない。対向電極５２の機能を損なわないように、最小限１箇所設ければよい。
【０１４５】
（変形例１１）前記実施形態の液晶表示装置４０は、周辺見切り５３を有していたが、液晶表示装置上に周辺見切りを備えることは必須ではない。周辺見切り範囲の規制は、外ケースに周辺見切りの機能を果たす枠を設けるなどの方法を採ってもよい。
【０１４６】
（変形例１２）前記実施形態の導通材６３ａは、導電性材料とは別に、第２ギャップ材としてギャップ材９１が含まれていたが、第２ギャップ材の機能を果たす導電性材料を用いてもよい。導電性と、上マザー基板５１Ａと下マザー基板４１Ａ間に挟持されて適切なセルギャップを維持できる強度と、を備えた材料を、セルギャップ相当の直径の球体とし、第２ギャップ材の機能を果たす導電性材料を形成する。当該導電性材料を上マザー基板５１Ａと下マザー基板４１Ａ間で配置された位置に維持できる、例えば接着剤と当該導電性材料とで、導通材６３ａを構成する。この場合、導電性材料が第２ギャップ材に相当する。
【０１４７】
（変形例１３）前記第１の実施形態では、ギャップ保持材として液状体７０ａを用いる例を説明したが、ギャップ保持材として、液状体にギャップ材９１を混入したものを用いることもできる。ギャップ材９１を含むことで、当該ギャップ材９１を含む液状体が配置された不良の表示セルのセルギャップを、より確実に所定の値にすることができる。また、ギャップ材９１は、単独では微小粒子であって、液体に比べると流動性が乏しいため、液状体に混入させることにより流動性が増し、液滴吐出装置やディスペンサでの取扱性が向上する。
【０１４８】
（変形例１４）前記実施形態においては、ギャップ保持材として用いたシール材６２ａはＸ字形状に、導通材６３ａは点状に複数箇所に配置する例を説明したが、配置する形状はこれらに限らない。ギャップ保持材が配置されることにより、所定のセルギャップが確保できるような位置に配置されれば、どのような配置形状であってもよい。例えば、線形状、円形状、円弧形状、多角形形状、これらの組合せ形状などの各形状であってもよい。
【０１４９】
（変形例１５）前記実施形態においては、形成された下セルパターン５９が不良の領域には液晶６０ａを配置することを省略したが、必要なセルギャップが確保できるのであれば、当該領域に配置するシール材６２ａや導通材６３ａの一部又は全部を配置することを省略しても良い。これによって、不良の下セルパターン５９にシール材６２ａや導通材６３ａを無駄に配置することを抑制することができる。また、配置するのに要する無駄な時間を省略することができる。
【０１５０】
（変形例１６）前記実施形態においては、電気光学装置として液晶表示装置について説明したが、本発明に係る電気光学装置としては、液晶表示装置の他に、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）や、基板上に形成された小面積の薄膜に膜面に平行に電流を流すことにより、電子放出が生ずる現象を利用する表面伝導型電子放出素子等にも適用可能である。
【０１５１】
上記した実施形態および変形例から把握される技術的思想を以下に記載する。
（技術的思想１）  前記封止材配置工程において前記マザー基板上に配置される前記封止材料は、前記基板間の前記セルギャップを規定するギャップ材が、前記マザー基板を互いに接着する接着剤の中に混合されて構成されていることを特徴とする、請求項１５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【０１５２】
（技術的思想２）  前記ギャップ保持材配置工程で用いられる前記ギャップ保持材が、液体であることを特徴とする、請求項１５又は技術的思想１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【０１５３】
（技術的思想３）  前記ギャップ保持材配置工程で用いられる前記ギャップ保持材が、前記ギャップ材であることを特徴とする、技術的思想１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【０１５４】
（技術的思想４）  前記ギャップ保持材配置工程で用いられる前記ギャップ保持材が、前記封止材料であることを特徴とする、技術的思想１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【０１５５】
（技術的思想５）  前記液晶配置工程と前記ギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することを特徴とする、請求項１５又は技術的思想１乃至４のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【０１５６】
（技術的思想６）  前記封止材配置工程と前記ギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することを特徴とする、請求項１５又は技術的思想１乃至４のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【０１５７】
（技術的思想７）  ２枚の前記マザー基板の少なくとも一方に、２枚の前記基板間を電気的に結合する導電層を形成する導電材料を、前記セルパターンが形成された位置に対応する位置に配置する導電材配置工程をさらに備え、前記導電材配置工程において前記マザー基板上に配置される前記導電材料は、前記基板間の前記セルギャップを規定可能な第２ギャップ材を含み、前記ギャップ保持材配置工程で用いられる前記ギャップ保持材が、前記導電材料であることを特徴とする、請求項１５又は技術的思想１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【０１５８】
（技術的思想８）  前記導電材配置工程と前記ギャップ保持材配置工程とを、同一の製造装置を用いて、並行して、又は連続して実行することを特徴とする、技術的思想７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【図面の簡単な説明】
【０１５９】
【図１】液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】（ａ）ヘッドユニットの平面図。（ｂ）液滴吐出ヘッドの平面図。
【図３】（ａ）液滴吐出ヘッドの構造を示す斜視図。（ｂ）液滴吐出ヘッドの吐出ノズル部の詳細構造を示す断面図。
【図４】液晶表示装置の対向基板側から見た平面図。
【図５】液晶表示装置の断面図。
【図６】複数の液晶表示装置が形成された基体の平面図。
【図７】第１の実施形態における、液晶表示装置を形成する工程のフローチャート。
【図８】（ａ）上セルパターン及び周辺見切りの平面図。（ｂ）上マザー基板の平面図。
【図９】（ａ）下セルパターンの平面図。（ｂ）下マザー基板の平面図。
【図１０】良品の下セルパターンに、シール材と導通材と液晶が配置された状態を示す平面図。
【図１１】良品の下セルパターンに、シール材と導通材と液晶が配置された状態を示す断面図。
【図１２】不良品の下セルパターンに、シール材と導通材と液状体が配置された状態を示す平面図。
【図１３】不良の下セルパターンを含む基体の部分平面図。
【図１４】（ａ）第２の実施形態における、液晶表示装置を形成する工程のフローチャート。（ｂ）液晶に代えてシール材を配置した、不良の液晶表示装置の平面図。
【図１５】（ａ）第３の実施形態における、液晶表示装置を形成する工程のフローチャート。（ｂ）液晶に代えて導通材を配置した、不良の液晶表示装置の平面図。
【図１６】液晶に代えてギャップ材を配置した、不良の液晶表示装置の平面図。
【符号の説明】
【０１６０】
１…基板、２…液滴吐出ヘッド、２Ｐ…液滴吐出面、３…ヘッドユニット、４…吐出ノズル、２３…吐出制御部としての液滴吐出制御部、４０…液晶表示装置、４０ａ…セル、４１…ＴＦＴアレイ基板、４１Ａ…マザー基板としての下マザー基板、４２…画素領域、４３…データ線駆動回路、４４…実装端子、４６…走査線駆動回路、４７，４９，５６…配線、４８，５４…導通端子、５０Ａ…基体、５１…対向基板、５１Ａ…マザー基板としての上マザー基板、５２…対向電極、５８…セルパターンとしての上セルパターン、５９…セルパターンとしての下セルパターン、６０…液晶層、６０ａ…電気光学材料としての液晶、６２…シール材層、６２ａ…シール材、６３…基板間導通材層、６３ａ…導通材、７０ａ…ギャップ保持材としての液状体、８４，８６，９０…不良液晶表示装置、８５…シール材パターン、８７…導通材パターン、９１…ギャップ材、ＩＪ…液滴吐出装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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