(57)【要約】【課題】  従来の慣性力センサの電極パッド６とセンサ回路を接続する配線７は、枠１に埋め込まれ貫通し、固定した配線でセンサ回路を構成するセンサ内部の固定電極５やアンカ２とつながるため、温度変化に伴う枠１の応力変化がセンサ回路に伝わり、そのインピ−ダンスを大きく変化させていた。【解決手段】  配線７を空中配線とし、バネ状の部位７Ｓを設け、温度変化に伴って枠１に生じる応力変化をバネ状の部位７Ｓに吸収させ、温度変化に対するセンサ回路のインピ−ダンス変化を抑止する。【選択図】        図１
2006349563.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面基板と下面基板は対面し、前記上面基板または前記下面基板に固定された固定電極およびアンカ柱、このアンカ柱に支持された弾性梁、前記弾性梁に進退可能に空中支持された可動電極、前記上面基板と下面基板の間に前記可動電極もしくは固定電極と外部回路とを電気的に接続するバネ状の空中配線部を有する配線を備え、前記可動電極の慣性力に依存して進退する可動電極と前記固定電極との間の静電容量の変化に基づき該慣性力を検知するようにしたことを特徴とする慣性力センサ。
【請求項２】
上面基板と下面基板は対面し、前記上面基板または前記下面基板に固定されたアンカ柱、このアンカ柱に支持された弾性梁、前記弾性梁に進退可能に空中支持された可動電極、前記可動電極の内側に前記上面基板もしくは下面基板に固定された固定電極を備え、前記可動電極の慣性力に依存して進退する可動電極と前記固定電極との間の静電容量の変化に基づき該慣性力を検知するようにしたことを特徴とする慣性力センサ。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の慣性力センサのアンカ柱、弾性梁、可動電極および固定電極が共に同一の導電体平板から抜出し形成されたことを特徴とする慣性力センサ。
【請求項４】
請求項３記載の慣性力センサの導電体平板がシリコンウエハであることを特徴とする慣性力センサ。
【請求項５】
請求項１または請求項２記載の慣性力センサの上面基板および下面基板がガラス基板であり、また、この上面基板または下面基板の対面する側の表面にノンド−プドポリシリコン膜が陽極接合法で接着されていることを特徴とする慣性力センサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加速度や角速度などを測定する静電容量型の慣性力センサに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
静電容量型慣性力センサの主たる構成は、上面基板と下面基板の間に固定された固定電極と前記いずれかの基板に固定された支柱であるアンカに設けられる弾性体である梁に空中支持された慣性体である可動電極、ならびに固定電極および可動電極と外部回路とを接続するための配線からなる。慣性力センサに加わる慣性力は、可動電極に加わる慣性力と弾性特性を有する梁の復元力が釣り合う位置を可動電極と固定電極との間の静電容量を測定することから求められる。なお、従来の慣性力センサは、固定電極と可動電極との間の静電容量を外部回路で測定するため、上面基板と下面基板の間に固定電極またはアンカ（可動電極と電気的につながっている）につながるポリシリコン配線を設け、このポリシリコン配線をセンサの側面から引き出し、外部に設けた電極パッドに接続する構成をとっていた（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特願２００２−４００３９号（段落０００９〜００１０、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の慣性力センサのポリシリコン配線は、電極パッドから下面基板と上面基板とを支持する枠部内で埋め込まれ貫通することで慣性力センサ内部に導かれ、さらに枠部の内側端面から固定した配線で固定電極またはアンカとつながる構成であったため、温度変化に伴う枠部の応力変化が前記固定配線を介してアンカに伝わり、その結果、アンカに支持される可動電極と固定電極との間の静電容量（インピ−ダンス）が大きく変化するという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の慣性力センサは、上面基板と下面基板は対面し、前記上面基板または前記下面基板に固定された固定電極およびアンカ柱、このアンカ柱に支持された弾性梁、前記弾性梁に進退可能に空中支持された可動電極、前記上面基板と下面基板の間に前記可動電極もしくは固定電極と外部回路とを電気的に接続するバネ状の空中配線部を有する配線を備えた点に特徴を有し、前記可動電極の慣性力に依存して進退する可動電極と前記固定電極との間の静電容量の変化に基づき該慣性力を検知するようにしたものである。
【発明の効果】
【０００６】
上記のように構成された本発明の慣性力センサによれば、枠部の内側端面からアンカや固定電極に至る配線部分をバネ状の空中配線部としたので、温度変化に伴う枠部の応力変化は空中配線のバネ状部に吸収され、アンカや固定電極に対して枠部の応力が伝わりにくく、その結果、可動電極と固定電極との間の静電容量（インピ−ダンス）の温度変化に伴う変動を緩和できるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
実施の形態１．
以下図面に基づき、本発明の実施の形態１について詳細に説明する。図１は本発明の一実施の形態例である慣性力センサの概略構成を示す平面図である。図２は図１の一点鎖線に沿って切断したときの断面図ならびにその一部を拡大表示した拡大断面図、図３は図１の一点鎖線Ｂに沿って切断したときの断面図ならびにその一部を拡大表示した拡大断面図、図４は図１の一点鎖線Ｃに沿って切断したときの断面図ならびにその一部を拡大表示した拡大断面図である。図５ないし図１３は本発明の慣性力センサの製造過程において、図１内に記された一点鎖線Ａ−Ａ部分に相当する断面形状に至るまでの各製造プロセスを経るごとの断面形状を記した途中プロセス断面図ならびにその断面図の一部を拡大表示した拡大断面図である。図１４は図１に示す本発明の実施の形態１の慣性力センサと比較するための従来の慣性力センサの概略構成を示す平面図とその断面図である。なお、図１ないし図１４において同一部分ないし相当部分については、同一符号を付与している。図１５は図１の本発明の慣性力センサと図１４の従来の慣性力センサのもつ、周囲環境の温度変化に伴うそれぞれのインピ−ダンスの変化量を測定した結果図である。なお、本発明の慣性力センサは加速度、角速度、角加速度等の慣性力由来の特性を検知するセンサである。
【０００８】
図１に示すように本発明の慣性力センサを構成する主要部の配置は、導電体平板である例えばシリコンウエハからエッチング等で抜出し形成された枠１とその内側に同じくシリコンウエハから一体に抜出し形成された１対のアンカ柱２に支持される１対の弾性梁３を介して空中支持された可動電極４および１６個の固定電極５を配置し、前記枠１の外側部１ａに外部回路（図示しない）と接続するための導電体からなる３個の電極パッド６を配置したものである。なお、前記アンカ柱２もしくは各固定電極５は、導電体配線である例えばポリシリコン製の配線７ａ、７ｂ、７ｃによって各電極パッド６ａ、６ｂ、６ｃとそれぞれ電気的に接続されている。特に、本発明の配線７においては、その一部が弾性特性を有するようにバネ状の空中配線部７ｓを有している。なお、ここでいうバネ状とは、Ｕ字状、Ｓ字状等の蛇行状の変形を吸収できる構造を総称した形状のことである。また、可動電極４には５個の平板電極群からなる２組の可動電極群４ａおよび４ｂが設けられ、それぞれ各固定電極５と対向するように配置され、可動電極４と各固定電極５との間に静電容量を形成する。なお、１６個の各固定電極５は、ポリシリコン製の配線７ａもしくは７ｂによって電気的に接続され、それぞれ８個づつの２組の固定電極群５ａおよび５ｂを形成している。なお、可動電極４に設けられた平板電極群の数や固定電極５の数あるいは電極パッド６の数等は変更可能なものであり、ここに記載される数に制約を受けるものではない。
【０００９】
さらに、図２の断面図に示すように本発明の慣性力センサは、前記枠１とほぼ同じの外形寸法を持つ下面基板である第１ガラス基板８上に枠１を固定し、さらに枠１上に各種絶縁膜等を介してやや小さい外形寸法を持つ上面基板である第２ガラス基板９を固定することから枠１の内側に空洞を設けている。この空洞には、第２のガラス基板９に固定されたアンカ柱２に支持される１対の弾性梁３を介した可動電極４が空中支持されるとともに、第２のガラス基板９に固定された１６個の固定電極５（図１、図４参照）ならびに、バネ状の空中配線部７ｓｃをもつ配線７ｃが配置されている。なお、可動電極４と弾性梁３を空中支持するアンカ柱２および１６個の各固定電極５は上面基板である第２ガラス基板９に固定されることにより位置決めされている。
【００１０】
つぎに、図２（ｂ）および図３（ｂ）の拡大断面図を用いてシリコンウエハから抜き出された枠１上に固定された電極パッド６ｃと配線７ｃと各種絶縁膜と上面基板である第２ガラス基板９の配置構造について述べる。なお、具体的な本発明の慣性力センサの製造工程については後で詳細に説明する。図２（ｂ）に示されるように、枠１上には第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、第４絶縁膜１４、第５絶縁膜１５が形成され、その上に電極パッド６ｃが形成されるか、もしくはポリシリコン膜１６の形成と共に第２のガラス基板９が固定されている。なお、第３絶縁膜１３の一部は図３（ｂ）に示されるようにポリシリコン配線７ｃが埋め込まれ入代わっており、さらにこの配線７ｃは、図２（ｂ）に示されるよう電極パッド６ｃ下部の第４絶縁膜１４および第５絶縁膜１５に設けられた貫通孔を介して電極パッド６ｃと接続されている。
【００１１】
つぎに、図４（ｂ）の拡大断面図を用いて、固定電極群５ｂとポリシリコン配線７ａおよび７ｂと各種絶縁膜との配置構造について述べる。なお、具体的な本発明の慣性力センサの製造工程については後で詳細に説明する。図４（ｂ）に示されるように固定電極群５ｂ上には、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、第４絶縁膜１４、第５絶縁膜１５、ポリシリコン膜１６が形成され、さらにその上に第２のガラス基板９が固定されている。ポリシリコン配線７ａおよび７ｂは、第３絶縁膜１３の一部にこれら配線が埋め込まれ入代わっている。ポリシリコン配線７ｂは、第１絶縁膜１１および第２絶縁膜１２に設けられた貫通孔を介して固定電極群５ｂと接続している。なお、ポリシリコン配線７ｂは固定電極群５ａと電気的に接続することは無い。また、図示しないが、第１絶縁膜１１および第２絶縁膜１２に設けられた貫通孔を介して固定電極群５ａと接続される。なお、ポリシリコン配線７ａは固定電極群５ｂと接続されることは無い。
【００１２】
本発明の慣性力センサの動作について、以下に説明する。例えば図１の紙面左右方向に加速度が加わると、可動電極４に加速度に依存した慣性力が加わり、弾性特性を有する弾性梁３の復元力と釣り合う位置まで可動電極４の位置が移動するため、固定電極５との相対的な位置が変化する。可動電極４に設けられた平板電極群である可動電極群４ａないし４ｂは、固定電極群５ａもしくは固定電極群５ｂと互いに対向する関係に配置されているので、それぞれの対向面で静電容量を形成する。可動電極４と固定電極群５ａおよび６ｂの相対的な位置が移動するに伴い、静電容量は差動的に変化するので、可動電極４と固定電極群５ａもしくは６ｂ間の少なくともいずれか一方の静電容量の変化を測定することから、可動電極４に加わった慣性力や加速度を検出できる。なお、可動電極４（可動電極群４ａ、４ｂ）と固定電極群５ａならびに６ｂ間の静電容量の変化は、それぞれと電気的に接続される各電極パッド６ｃと６ａ間または６ｃと６ｂ間に係るインピ−ダンスを図示しない外部回路により測定可能である。従って、本発明の実施の形態１の慣性力センサに加わる慣性力は、慣性力センサに設けられた各電極パッド６間のインピ−ダンス測定から検知できることは明らかである。
【００１３】
図５ないし図１３を用いて本発明の慣性力センサの製造工程について説明する。図５ないし図１３の（ａ）図は、図１における一点鎖線Ａに沿って切断した断面に相当する部位に対して各製造工程に伴って変化する途中プロセスの断面形状について示した途中プロセス断面図である。図５ないし図１３の（ｂ）図は、対応する各図番（ａ）の図面中に記した２点鎖線で囲った部分の拡大断面図である。
【００１４】
図５はシリコンウエハ１０上にシリコン酸化膜などの第１絶縁膜１１及びシリコン窒化膜などの第２絶縁膜１２を製膜装置により堆積した状態である。ただし、ポリシリコン配線７とシリコンウエハ１０から抜出して形成する各種の要部（枠１やアンカ柱２や固定電極５等）および電気的に接続させる予定部位については、あらかじめマスキング材料等を用いて開口部位をパタ−ニングし、その後エッチングにより第２絶縁膜１２の不要箇所を除去しておく。なお、第１絶縁膜１１は後工程で実施されるシリコンウエハ１０から各種の要部をそれぞれ抜出すための貫通エッチング処理において、エッチングストッパ層の役割を持ち、余計な個所のエッチングを阻止する。
【００１５】
図６はポリシリコン配線７を製膜装置によりパタ−ニングして堆積した状態である。なお、この部位のポリシリコン配線７はボロンなどの不純物を混入し、低電気抵抗の薄膜としておくことが望ましい。
【００１６】
図７はシリコン酸化膜などの第３絶縁膜１３をパタ−ニング堆積した状態である。第３絶縁膜１３は先に形成したポリシリコン配線７を埋め込む形で形成し、段差を埋める役割を持つ。
【００１７】
図８はシリコン酸化膜などの第４絶縁膜１４及びシリコン窒化膜などの第５絶縁膜１５を堆積した状態である。ただし、ポリシリコン配線７と接合用ポリシリコン膜１６と電気的に接続させる予定部位は、マスキング材料等により開口部位をパタ−ニング化し開口しておく。
【００１８】
図９は第２ガラス基板９と接合するポリシリコン膜１６をパタ−ニングして堆積した状態である。ポリシリコン膜１６の表面はポリシリコン配線７に対する第３絶縁膜１３により埋込まれ段差部を消失させ、また、加熱処理、メカニカル研磨、化学研磨などにより、表面粗さを５００Å以下とすることが、第２ガラス基板９との密着性を上げる上で望ましい。またポリシリコン膜１６はボロンなどの不純物を含まないノンド−プポリシリコンであることが望ましい。これは、ポリシリコン膜１６をノンド−プポリシリコンとすることで、比較的低温での陽極接合法であっても第２ガラス基板９との十分な密着性を確保できることに基づくものである。
【００１９】
言い換えると、ポリシリコン膜１６に対する第２ガラス基板９側の電位を４００〜１５００Ｖの負バイアスとし、ポリシリコン膜１６を第２ガラス基板９に接着させ、３００〜５００℃に昇温度して０．２〜５時間保持する場合、ポリシリコン膜１６中の不純物濃度を１００ｐｐｂ以下にしない限り（ただし、酸素とカ−ボンは除く）、十分な密着強度が得られず、ポリシリコン膜１６と第２ガラス基板９の接着ができないことによる。この知見に基づいて本発明の実施の形態１に記載の慣性力センサでは、用いたポリシリコン膜１６をノンド−プのポリシリコンとしたため、高い機械的な信頼性をもったものにできるという効果が得られる。
【００２０】
図１０は、外部回路とワイヤボンディングで電気的接続する電極パッド６をアルミニュウムや金などを用いたスパッタリングやめっき等のプレ−ティング技術により形成した状態である。
【００２１】
図１１は第２ガラス基板９をポリシリコン膜１６と陽極接合した状態である。第２ガラス基板９は予め電極パッド６上に穴を空け、ワイヤボンディング可能な構造にしている。なお、第２ガラス基板９を接合後、シリコンウエハ１０は機械研磨ないし化学研磨等を用いたラッピング研磨等で所望の厚み、たとえば数十μｍ〜百μｍ程度に加工されている。
【００２２】
図１２はシリコンウエハ１０を裏面よりドライエッチングなどで貫通するようにエッチングしてアンカ柱２、弾性梁３、可動電極４、固定電極５、枠１などを形成した状態である。なお、第１絶縁膜１１はエッチングストップ層として機能する。すなわち、第１絶縁膜１１は上記ドライエッチング時にエッチングしたくない部分であるポリシリコン配線７およびポリシリコン膜１６に対して損傷させないようにするものである。
【００２３】
図１３は第１絶縁膜１１をフッ酸などで選択除去した後、第１ガラス基板８と陽極接合し、センサ検出部を密封構造とした状態である。なお、第１ガラス基板８には、あらかじめセンサ検出部である可動電極４等が設けられる可動領域下に溝を形成し、可動の妨げとならないようにしている。以上説明した製造工程により、本発明の慣性力センサは完成する。
【００２４】
本発明の実施の形態１によれば、ポリシリコン配線７の一部に弾性特性を有するようにバネ状の空中配線部７ｓｃを枠１とアンカ柱２の間に、また、枠１と固定電極部６ａあるいは６ｂの間に７ｓａあるいは７ｓｂを新たに設けたことにより、温度変化による接合界面の歪みが発生する枠部１０の影響をバネ状の空中配線部７ｓｃに吸収させることができる。すなわち、ポリシリコン配線７は枠部１０に発生する歪みをアンカ柱２や固定電極５に伝達し難くなるので、温度安定性の高い慣性力センサを実現できるという格別な効果が得られる。
【００２５】
以下、バネ状の空中配線部を持たない従来の慣性力センサとバネ状の空中配線部を持つ本発明の慣性力センサを比較することから、本発明のより具体的な効果について説明を加える。図１４は、図１に示した本発明の実施の形態１の慣性力センサと比較するための、バネ状の空中配線をもたない従来の慣性力センサの平面図とその断面図である。本発明の慣性力センサを示す図１及び図２（ａ）との比較から判るように、従来の慣性力センサの構造は配線にバネ状の空中配線部分を備えず、固定した配線を用いたこと以外は、図１記載の本発明の慣性力センサと全く同じ構造（構成）である。
【００２６】
図１５は本発明の慣性力センサと比較例の慣性力センサにおいて、温度変化に伴う電極パッド６ｃと６ａ間に加わるインピ−ダンスの変化量を図示しない外部回路により測定した結果である。本発明の慣性力センサ（バネ状空中配線）の温度変化に伴う電極間のインピ−ダンスの変化量は、従来の慣性力センサ（固定配線）との比較において約１／４と少なくなっている。枠１とアンカ柱２もしくは固定電極５との間に設けた配線の一部をバネ状の空中配線することで、温度変化に伴い発生した枠１の歪みの影響がアンカ柱２や固定電極５に伝わりにくくなり、その結果、アンカ柱２に空中支持される可動電極４の位置や固定電極５の位置が変化しにくくなるため、インピ−ダンスの変化量が少なくなったと考えられる。従って、本発明の実施の形態１の慣性力センサの構成により、温度変化に対して変動し難い高精度なセンサを実現できるという効果が得られる。
【００２７】
また、慣性力センサの枠１およびアンカ柱、弾性梁、可動電極ならびに固定電極が共に第２ガラス基板９に接合されたシリコンウエハから抜出し形成されるため、枠１およびアンカ柱、弾性梁、可動電極ならびに固定電極の相対的な位置関係が、製造工程の途中で揺らぐことなく、また、再配置させることなく高精度に特定されるという効果が得られる。
【００２８】
また、シリコンウエハ１０から抜出された１対のアンカ柱２に支持される１対の弾性梁３を介して空中支持された可動電極４および１６個の固定電極５等を上下基板により密封するため、外乱の影響に強く信頼性の高い慣性力センサを実現できる。さらに密封構造のため、高価な金属パッケ−ジ、セラミックパッケ−ジが不要であり、一般の半導体集積回路チップに使用されている安価なプラスチックパッケ−ジを適用でき、慣性力センサの低価格化が実現できるという効果がある。
【００２９】
実施の形態２．
以下図面に基づき、本発明の実施の形態２について詳細に説明する。図１６（ａ）は、本発明の実施の形態２に用いられる慣性力センサの概略構成を示す平面図である。図１６（ｂ）及び（ｃ）は、図１６（ａ）に記された一点鎖線Ａ−Ａもしくは一点鎖線Ｂ−Ｂに沿って切断したときのそれぞれの断面について拡大表示した拡大断面図である。なお、図１６において図１ないし図１４に記載した部分と同一ないし相当部分については、同一符号を付与している。
【００３０】
実施の形態２に用いられる慣性力センサと実施の形態１に用いられる慣性力センサとの大きな差異は、可動電極４の内側に固定電極５を配置した点である。すなわち、以下に説明する部分を除き、実施の形態２に用いられる慣性力センサは、実施の形態１に用いられる慣性力センサとほぼ同一の構成である。以下、相違する部分について詳細に説明する。図１６（ａ）において実施の形態２に用いられる慣性力センサの固定電極群５ａ及び６ｂは可動電極４の内側に設けられた空隙の内部に配置されている。各固定電極５はポリシリコン配線７ａもしくは７ｂのいずれかによって電気的に接続され、固定電極群５ａ及び６ｂを構成している。配線７ａ、配線７ｂは、可動電極４に設けられた可動電極群４ａおよび４ｂ上をまたぐように配置されている。すなわち図１６（ｂ）及び（ｃ）からわかるように、ポリシリコン配線７ａおよび７ｂはシリコンウエハ１０から抜出した可動電極群４ａおよび４ｂと接触しないようにこれらの上に空間を介して空中に配置されている。以上が相違点である。
【００３１】
上記実施の形態２に用いられる慣性力センサにおいては、可動電極４に設けられる可動電極群４ａおよび４ｂに自由端をなくした構造としたため、実施の形態１に用いられる電極群４ａおよび４ｂが櫛歯状の自由端を有した電極構造と異なる。従って、可動電極４の機械剛性が高くなるので、加速度による可動電極４の構造変形が発生しなくなり、信頼性の高い慣性力センサを実現できるという効果が生まれる。
【００３２】
実施の形態３．
以下図面に基づき、本発明の実施の形態３について詳細に説明する。図１７（ａ）は、本発明の実施の形態３に用いられる慣性力センサの概略構成を示す平面図である。図１７（ｂ）は、図１７（ａ）に記された一点鎖線Ａ−Ａに沿って切断したときの断面図である。なお、図１７において図１ないし図１４および図１６に記載した部分と同一ないし相当部分については、同一符号を付与している。
【００３３】
実施の形態３に用いられる慣性力センサと実施の形態１に用いられる慣性力センサとの大きな差異は、可動電極４の可動方向を紙面に対し垂直方向とした点である。以下、詳細に説明する。図１６において、８個のアンカ柱２に空中支持される弾性梁３（実施の形態１および２とは形状が異なる）により支持された可動電極４は、紙面に対し上下に可動できるように構成されている。各アンカ柱２は第２ガラス基板９上に各種の絶縁膜を介して位置決め固定されている。可動電極４と対向する第１ガラス基板８及びガラス第２ガラス基板９上にはそれぞれ金属製の固定電極１７ａ及び１７ｂが形成されている。固定電極１７ａ及び１７ｂは対応する電極ポスト１８ａ及び１８ｂと電気的に接続され、さらにポリシリコン配線７ａ及び７ｂを介して電極パッド６ａ及び６ｂに接続されている。以上説明した部分を除き、実施の形態３に用いられる慣性力センサは、実施の形態１に用いられる慣性力センサとほぼ同様の構成である。
【００３４】
このような構成にすることにより、本発明の実施の形態３に用いられる慣性力センサは、紙面に向かって垂直方向（面外方向）の慣性力を高精度で検知する小型かつ薄型の慣性力センサとして機能することは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】実施の形態１における本発明の慣性力センサの平面図。
【図２】実施の形態１における本発明の慣性力センサの断面図。
【図３】実施の形態１における本発明の慣性力センサの断面図。
【図４】実施の形態１における本発明の慣性力センサの断面図。
【図５】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図６】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図７】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図８】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図９】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図１０】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図１１】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図１２】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図１３】実施の形態１における本発明の慣性力センサの途中プロセス断面図。
【図１４】実施の形態１における従来の慣性力センサの平面図と断面図。
【図１５】実施の形態１における本発明の慣性力センサと従来の慣性力センサとの温度変化に伴うインピ−ダンスの変化量について測定した結果図。
【図１６】実施の形態２における本発明の慣性力センサを示す平面図と断面図。
【図１７】実施の形態３における本発明の慣性力センサを示す平面図と断面図。
【符号の説明】
【００３６】
２  アンカ柱                        ３  弾性梁
４  可動電極                        ６  固定電極
７  配線                            ７Ｓ  バネ状の空中配線部    
８  第１ガラス基板（下面基板）      ９  第２ガラス基板（上面基板）  
１０  シリコンウエハ（導電体平板）                              
【図１】
2006349563.tif 000003
【図２】
2006349563.tif 000004
【図３】
2006349563.tif 000005
【図４】
2006349563.tif 000006
【図５】
2006349563.tif 000007
【図６】
2006349563.tif 000008
【図７】
2006349563.tif 000009
【図８】
2006349563.tif 000010
【図９】
2006349563.tif 000011
【図１０】
2006349563.tif 000012
【図１１】
2006349563.tif 000013
【図１２】
2006349563.tif 000014
【図１３】
2006349563.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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