(57)【要約】【課題】  樹脂膜又は導電膜の膜厚や抵抗値を精度良く検証できる検査用パターンを備えた電気光学装置、電気光学装置の検査方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器を提供する。【解決手段】  対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置において、基板上のシール領域外であって、一対の基板が重なる領域に、樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査するための検査用パターンを設け、当該検査用パターンを用いて、例えば、膜厚や抵抗値を測定する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置において、
前記基板上のシール領域外であって、前記一対の基板が重なる領域に、前記樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査するための検査用パターンを備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記樹脂膜は、着色層、遮光膜、保護膜、及びフォトスペーサの少なくとも一つの部材であり、前記導電膜は電極、又は電気配線の少なくとも一つの部材であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記検査用パターンが、前記部材ごとに単独で、あるいは、複数の前記部材を重ねて形成してあることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記検査用パターンが、膜厚測定用の検査用パターン、又は抵抗値測定用の検査用パターンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置における、前記樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査するための電気光学装置の検査方法において、
前記基板上のシール領域外であって、前記一対の基板が重なる領域に形成された、前記樹脂膜又は導電膜とは独立した検査用パターンを用いて、前記樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査することを特徴とする電気光学装置の検査方法。
【請求項６】
前記形成状態の検査が、膜厚の検査、又は抵抗値の検査であることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置の検査方法。
【請求項７】
前記検査用パターンの複数箇所で、前記形成状態の検査を行うとともに、それぞれの検査結果を平均化して評価することを特徴とする請求項５又は６に記載の電気光学装置の検査方法。
【請求項８】
対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置の製造方法において、
基板上に、樹脂膜又は導電膜を形成する工程と、
前記樹脂膜又は導電膜をパターニング処理して、前記樹脂膜又は導電膜と、前記基板のシール領域外であって、前記一対の基板が重なる領域に相当する位置に、前記樹脂膜又は導電膜とは独立した検査用パターンと、を形成する工程と、
前記検査用パターンを用いて、前記樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記形成状態の検査を、前記一対の基板の貼合わせ後に行うことを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜５に記載されたいずれかの電気光学装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の検査方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器に関する。特に、樹脂膜又は導電膜の膜厚や抵抗値を精度良く検証できる検査用パターンを備えた電気光学装置、電気光学装置の検査方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気光学装置の一態様である液晶装置は、それぞれ着色層や保護膜、電極等を備えた一対の基板を対向配置するとともに、当該一対の基板の間に液晶材料を注入して構成されている。例えば、三端子型の非線形素子であるＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）を備えた液晶装置の場合、素子基板は、ガラス基板等の上に、電気配線、ＴＦＴ素子、層間絶縁膜、画素電極、配向膜等が積層されて構成されている。また、素子基板と対向する対向基板上には、着色層、遮光膜、対向電極、配向膜等が積層されて構成されている。そして、これらの素子基板及び対向基板をシール材により貼り合わせてセル構造を形成するとともに、形成されたセル内に液晶材料が注入されている。
【０００３】
ところで、各基板上に形成されたそれぞれの部材の形成状態は、液晶装置の表示品位に大きく影響を与える要素である。例えば、基板上に形成された電気配線が断線等を生じていたりすると、点欠陥や線欠陥等の表示不良の原因となる。そのため、基板上に、少ない占有面積で、簡単かつ確実な検査回路を備えた画像表示装置が提案されている。より具体的には、画素部周辺に配置してあるダミー画素の一部を変更し検査回路にすることで、多くのプローブピンを用いた検査機や複雑な追加回路を必要とせず、しかも少ない占有面積で、データ信号線及び走査線の断線等の検査や画素制御の検査を簡単かつ確実に行うことができ、これにより安価にパネルを生産することができる画像表示装置である（特許文献１参照）。
【０００４】
一方、電気配線の断線等以外にも、着色層の膜厚は、表示される画像の色濃度や色むらの発生に影響を与え、また、電極や配線の膜厚や抵抗値は、表示信号の反応速度や表示むらの発生に影響を与える。そのため、各基板を製造する段階で、それぞれの部材の膜厚や抵抗値等を測定して、各部材の形成状態を検証する必要があるが、かかる膜厚や抵抗値等を全品で検査するとなると、手間がかかって作業効率が著しく低下する。
ここで、通常、基板を製造する際には、複数のセル領域を含む母基板を用いて、一度に複数の基板を製造している。そのため、母基板上の各セル領域に所定の部材を形成する際に、図１２に示すように、当該母基板６０Ａにおける、後に分断されて除去される領域に検査用パターン６１０を形成し、当該検査用パターン６１０を利用して、当該部材の形成状態を検証している。すなわち、当該検査用パターンの形成状態が、各セル領域における当該部材の形成状態と同様であることを前提に、母基板の所定領域に形成した検査用パターンを用いて検査することにより、セル領域に形成された部材の膜厚等の形成状態を検証している。
【特許文献１】特開２００４−１９９０５４号公報  （特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、母基板の一部に形成された検査用パターンを用いて検査する方法では、母基板上のすべてのセル領域からの距離が近いものではなく、検査用パターンから離れて存在するセル領域に形成されたそれぞれの部材との相関関係が低いものであった。したがって、当該検査用パターンを用いた検査結果の信頼性が必ずしも高くならないという問題があった。例えば、所定の部材の成膜段階で、膜厚にむらがあった場合に、検査用パターンが形成されている領域において、所望の膜厚よりも薄いかあるいは厚く形成されていれば、膜厚のむらを検知することができるものの、検査用パターンから離れた位置にあるセル領域での膜厚の不良等を検知することができなかった。
また、母基板上の所定箇所に設けた検査用パターンは、単品のパネルとして組立てられた後には基板上に残っていないために、組立て後に表示不良が発見された場合には、セル領域内に形成された部材を削って、測定対象の部材そのものを露出させてからでなければ検査することができず、非常に手間がかかるものとなっていた。
【０００６】
そこで、本発明の発明者らは、上記問題点を鋭意検討した結果、電気光学装置を構成する各基板上におけるシール領域外であって、一対の基板が重なる領域に検査用パターンを形成することにより、上述した問題を解決することができることを見出した。
すなわち、本発明は、各電気光学装置を構成する基板上の、表示領域に近い所定箇所に検査用パターンを形成し、組立て後においても基板上に残るようにして、樹脂膜等の形成状態の検査の信頼性が高く、組立て後においても容易に検査可能な電気光学装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、そのような検査用パターンを用いた電気光学装置の検査方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置であって、基板上のシール領域外であって、一対の基板が重なる領域に、樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査するための検査用パターンを備えることを特徴とする電気光学装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、検査用パターンをそれぞれの電気光学装置を構成するいずれかの基板の所定箇所に形成することにより、表示領域に近く、信頼性の高い検査を実施可能な電気光学装置を提供することができる。また、検査用パターンを所定箇所に形成しているため、電気光学装置の外形を大型化することなく、検査用パターンを設けることができる。さらに、組立てられた後においても検査用パターンが残っているために、不良品が生じた場合に、容易に検証することができる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、樹脂膜は、着色層、遮光膜、保護膜、及びフォトスペーサの少なくとも一つの部材であり、導電膜は電極、又は電気配線の少なくとも一つの部材であることが好ましい。
このように構成することにより、表示品位に影響を与えるそれぞれの部材の形成状態を精度良く検査することができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、検査用パターンが、部材ごとに単独で、あるいは、複数の部材を重ねて形成してあることが好ましい。
このように構成することにより、基板上に形成されるそれぞれの部材の態様に合わせて検査用パターンを形成して、所望の検査を実施することができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、検査用パターンが、膜厚測定用の検査用パターン、又は抵抗値測定用の検査用パターンであることが好ましい。
このように構成することにより、表示品位に影響を与えやすい所定の検査を精度良く実施することができる。
【００１１】
また、本発明の別の態様は、対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置における、樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査するための電気光学装置の検査方法であって、基板上のシール領域外であって、一対の基板が重なる領域に形成された、樹脂膜又は導電膜とは独立した検査用パターンを用いて、樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査することを特徴とする電気光学装置の検査方法である。
すなわち、それぞれの電気光学装置を構成するいずれかの基板上の所定箇所に形成した検査用パターンを用いて検査することにより、実際の表示領域との距離が近いため、表示領域内の部材との相関関係が高く、検査結果の信頼性を向上させることができる。また、組立て後においても基板上に検査用パターンが残っているために、例えば、製品化後に表示不良が発見された場合あっても、容易に検査を実施することができる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置の検査方法を実施するにあたり、形成状態の検査が、膜厚の検査、又は抵抗値の検査であることが好ましい。
このように実施することにより、表示品位に影響を与えやすい着色層等の膜厚の検査や、電極等の抵抗値の検査を精度良く行うことができる。また、それぞれの電気光学装置に所定の検査用パターンが存在するために、組立て後においても、それらの検査を容易に行うことができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置の検査方法を実施するにあたり、検査用パターンの複数箇所で、形成状態の検査を行うことが好ましい。
このように実施することにより、検査用パターン自体の形成状態にばらつきがある場合であっても、検査結果の信頼性を向上させることができる。
【００１４】
また、本発明のさらに別の態様は、対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置の製造方法であって、基板上に、樹脂膜又は導電膜を形成する工程と、樹脂膜又は導電膜をパターニング処理して、樹脂膜又は導電膜と、基板のシール領域外であって、一対の基板が重なる領域に相当する位置に、樹脂膜又は導電膜とは独立した検査用パターンと、を形成する工程と、検査用パターンを用いて、樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査する工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
すなわち、それぞれのセル領域に対応してそれぞれの部材を形成する際に、同時に、所定箇所に検査用パターンを形成することにより、樹脂膜や導電膜の形成状態の検査の信頼性が高いとともに、組立て後でも検査が可能な電気光学装置を効率的に製造することができる。また、当該検査結果を基に、各製造装置の設定条件を修正することができるために、表示不良の少ない電気光学装置を効率的に製造することができる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、形成状態の検査を、一対の基板の貼合わせ後に行うことが好ましい。
このように実施することにより、電気光学装置の組立て後においても、表示不良等が発見された場合に、樹脂膜又は導電膜の形成不良を容易に検証することができる。
【００１６】
また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を備えた電子機器である。
すなわち、所定の検査用パターンが、基板上の所定領域に残された電気光学装置を備えているために、膜厚等の検査結果の信頼性が高く、また、不良が発見された際に、容易に検査可能な電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
［第１実施形態］
第１実施形態は、対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置において、基板上のシール領域外であって、一対の基板が重なる領域に、樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査するための検査用パターンを備えることを特徴とする電気光学装置である。
以下、第１実施形態の電気光学装置の製造方法として、所定構造の三端子型非線型素子及び画素電極を有する素子基板と、対向基板としての着色層及び対向電極を有するカラーフィルタ基板と、を備えた液晶装置の製造方法を例に採って説明する。ただし、かかる実施形態の説明は、本発明の一態様を示すものであって、本発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。例えば、本実施形態においては、三端子型非線形素子であるＴＦＴ素子を備えたアクティブマトリクス構造の液晶装置を例に採って説明するが、これに限定されるものではなく、二端子型非線型素子であるＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス構造の液晶装置であってもよく、さらには、スイッチング素子を備えていないパッシブマトリクス構造の液晶装置であっても構わない。
なお、それぞれの図中、同一の部材を示すものについては同一の符号を付してあり、各図の説明においては、適宜説明を省略してある。
【００１８】
１．液晶装置
まず、本実施形態に係る液晶装置について説明する。ここで、図１（ａ）に液晶装置１０の断面図を示し、図１（ｂ）に、図１（ａ）の液晶装置における素子基板６０の平面図を示す。なお、それぞれの図中において、一部の部材を適宜省略してある。
かかる図１（ａ）に示すように、液晶装置１０は、対向基板３０と素子基板６０とが、それらの周辺部においてシール材（図示せず）によって貼り合わせられ、さらに、対向基板３０、素子基板６０及びシール材によって囲まれる間隙内に液晶材料２１を封入して形成されている。
【００１９】
また、対向基板３０は、ガラス、プラスチック等によって形成され、当該対向基板３０上には、カラーフィルタすなわち着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂと、その着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂの上に形成された対向電極３３と、その対向電極３３の上に形成された配向膜４５とを備えている。また、反射領域Ｒにおける、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂと対向電極３３との間には、リタデーションを最適化するための絶縁層４１を備えている。
ここで、対向電極３３は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等によって対向基板３０の表面全域に形成された面状電極である。また、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂは、素子基板６０側の画素電極６３に対向する位置にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）又はＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを備えている。そして、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂの隣であって、画素電極６３に対向しない位置にブラックマスク又はブラックマトリクスすなわち遮光膜３９が設けられている。
【００２０】
また、対向基板３０に対向する素子基板６０は、ガラス、プラスチック等によって形成され、当該素子基板６０上には、スイッチング素子として機能するアクティブ素子としてのＴＦＴ素子６９と、透明な絶縁膜８１を挟んでＴＦＴ素子６９の上層に形成された画素電極６３とを備えている。
ここで、画素電極６３は、反射領域Ｒにおいては反射表示を行うための光反射膜７９（６３ａ）を兼ねて形成されるとともに、透過領域Ｔにおいては、ＩＴＯなどにより透明電極６３ｂとして形成される。また、画素電極６３ａとしての光反射膜７９は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性材料によって形成される。そして、画素電極６３の上には、ポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜８５が形成されるとともに、この配向膜８５に対して、配向処理としてのラビング処理が施される。
【００２１】
また、対向基板３０の外側（すなわち、図１（ａ）の上側）表面には、位相差板４７が形成され、さらにその上に偏光板４９が形成されている。同様に、素子基板６０の外側（すなわち、図１（ａ）の下側）表面には、位相差板８７が形成され、さらにその下に偏光板８９が形成されている。さらに、素子基板６０の下方にはバックライトユニット（図示せず）が配置される。
【００２２】
また、ＴＦＴ素子６９は、素子基板６０上に形成されたゲート電極７１と、このゲート電極７１の上で素子基板６０の全域に形成されたゲート絶縁膜７２と、このゲート絶縁膜７２を挟んでゲート電極７１の上方位置に形成された半導体層７０と、その半導体層７０の一方の側にコンタクト電極７７を介して形成されたソース電極７３と、さらに半導体層７０の他方の側にコンタクト電極７７を介して形成されたドレイン電極６６とを有する。
また、ゲート電極７１はゲートバス配線（図示せず）から延びており、ソース電極７３はソースバス配線（図示せず）から延びている。また、ゲートバス配線は素子基板６０の横方向に延びていて縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されるとともに、ソースバス配線はゲート絶縁膜７２を挟んでゲートバス配線と交差するように縦方向へ延びていて横方向へ等間隔で平行に複数本形成される。
かかるゲートバス配線は液晶駆動用ＩＣ（図示せず）に接続されて、例えば走査線として作用し、他方、ソースバス配線は他の駆動用ＩＣ（図示せず）に接続されて、例えば信号線として作用する。
また、画素電極６３は、互いに交差するゲートバス配線とソースバス配線とによって区画される方形領域のうちＴＦＴ素子６９に対応する部分を除いた領域に形成されている。
【００２３】
ここで、ゲートバス配線及びゲート電極は、例えばクロム、タンタル等によって形成することができる。また、ゲート絶縁膜は、例えば窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）等によって形成される。また、半導体層は、例えばドープトａ−Ｓｉ、多結晶シリコン、ＣｄＳｅ等によって形成することができる。さらに、コンタクト電極は、例えばａ−Ｓｉ等によって形成することができ、ソース電極及びそれと一体をなすソースバス配線並びにドレイン電極は、例えばチタン、モリブデン、アルミニウム等によって形成することができる。
【００２４】
また、有機絶縁膜８１は、ゲートバス配線、ソースバス配線及びＴＦＴ素子を覆って素子基板６０上の全域に形成されている。但し、有機絶縁膜８１のドレイン電極６６に対応する部分にはコンタクトホール８３が形成され、このコンタクトホール８３の所で画素電極６３とＴＦＴ素子６９のドレイン電極６６との導通がなされている。
また、かかる有機絶縁膜８１には、反射領域Ｒに対応する領域に、散乱形状として、山部と谷部との規則的な又は不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを有する樹脂膜が形成されている。この結果、有機絶縁膜８１の上に積層される光反射膜７９（６３ａ）も同様にして凹凸パターンから成る光反射パターンを有することになる。但し、この凹凸パターンは、透過領域Ｔには形成されていない。
【００２５】
以上のような構造を有する液晶装置１０において、反射表示の際には、太陽光や室内照明光などの外光が、対向基板３０側から液晶装置１０に入射するとともに、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂや液晶材料２１などを通過して光反射膜７９に至り、そこで反射されて再度液晶材料２１や着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂなどを通過して、液晶装置１０から外部へ出ることにより、反射表示が行われる。
一方、透過表示の際にはバックライトユニット（図示せず）が点灯されるとともに、バックライトユニットから出射された光が、透光性の透明電極６３ｂ部分を通過し、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ、液晶材料２１などを通過して液晶装置１０の外部へ出ることにより、透過表示が行われる。
【００２６】
このように、液晶装置を構成する素子基板上には、樹脂膜として、有機絶縁膜や配向膜等が設けられているとともに、導電膜として、画素電極やゲート電極、ソース電極、ドレイン電極等が設けられている。一方、対向するカラーフィルタ基板上には、樹脂膜として、着色層や遮光膜、絶縁膜、配向膜等が設けられているとともに、導電膜として、対向電極が設けられている。
【００２７】
２．検査用パターン
（１）基本的構成
本実施形態の液晶装置は、図２及び図３（ａ）〜（ｂ）に示すように、素子基板６０又は対向基板としてのカラーフィルタ基板３０上のシール領域２３外であって、素子基板６０及びカラーフィルタ基板３０が重なる領域に、樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査するための検査用パターン１１を備えることを特徴とする。ここで、図２は、図１（ａ）〜（ｂ）に示すような構成を、それぞれの画素に対応する領域に備えた液晶装置１０の外観を表す概略斜視図であり、図３（ａ）は、図２の液晶装置１０の概略平面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）中のＸＸ´断面を矢印方向に見た概略断面図である。
すなわち、液晶装置におけるいずれかの基板上に、所定の検査用パターンを備えることにより、実際に表示領域内に形成された各部材との距離が近いため、それらの部材との相関関係が高く、検査結果の信頼性を高めることができる。また、組立てられた後においても、当該検査用パターンが残されているために、組立て後に表示不良等が発見された場合に、実際に表示領域内に形成された部材そのものを露出させることなく、部材の形成状態を容易に確認することができる。
【００２８】
（２）配置
また、かかる検査用パターンは、図３（ａ）〜（ｂ）に示すように、対向して貼合わせられた素子基板６０及びカラーフィルタ基板３０における、シール領域２３の外側であって、二つの基板３０、６０が重なる位置に形成されている。すなわち、従来から存在する領域を利用して検査用パターンを形成することにより、基板の外形を大きくする必要がなくなる。また、シール領域外に形成することにより、表示領域内の他の部材に影響を与えることがなく、表示不良の原因となることがない。さらに、かかる位置に形成することにより、組立てられた後に、外部に直接接触することが少ないため、検査用パターンが損傷することを防ぐことができる。
【００２９】
また、かかる検査パターンは、図４に示すように、素子基板６０又はカラーフィルタ基板３０の角部付近に形成されていることが好ましい。
この理由は、基板の角部以外の、辺に沿った箇所には、電気配線やダミー電極が形成されている場合があり、検査用パターンを介して、電気配線等に静電気等が生じてしまうことを防止することができるためである。
したがって、図４に示すように、素子基板６０又はカラーフィルタ基板３０上のシール領域２３外であって、二つの基板が重なる位置における、半導体素子９１等の実装領域とは離れた箇所の角部の近傍に、検査用パターン１１が形成されていることが好ましい。
【００３０】
（３）対象部材
また、検査用パターンを形成する対象部材としての樹脂膜又は導電膜は、基板上に形成されるあらゆる部材を対象とすることができる。例えば、樹脂膜としては、上述した素子基板上の層間絶縁膜、半導体層、配向膜や、カラーフィルタ基板上の着色層、遮光膜、配向膜等を挙げることができる。また、導電膜としては、上述した素子基板上のデータ線、走査線、画素電極、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極や、カラーフィルタ基板上の対向電極等を挙げることができる。
【００３１】
（４）パターン構成
また、かかる検査用パターンは、上述した各部材ごとに単独で形成されていることも好ましく、あるいは、複数の部材が重ねて形成されていることも好ましい。
この理由は、検査する内容に応じて、所望の構成の検査用パターンを形成することができ、より信頼性の高い検査を行うことができるためである。
例えば、それぞれの部材の膜厚を測定したい場合には、図５（ａ）に示すように、各部材ごとに単独で検査用パターン１１を形成することにより、容易に膜厚の測定を行うことができる。また、同じ膜厚を測定する場合であっても、例えば、遮光膜をＲＧＢ三色の着色層を重ね合わせて形成した場合には、当該遮光膜の高さを測定するために、図５（ｂ）に示すように、三色の着色層に対応した樹脂膜３７ｒ´、３７ｇ´、３７ｂ´を重ね合わせて検査用パターン１１とすることにより、そのような遮光膜の膜厚を容易に測定することができる。一方、例えば、それぞれの画素領域に形成されたＴＦＴ素子と画素電極との接続抵抗値を測定したい場合には、図５（ｃ）に示すように、それらの各部材６６´、６３´を重ね合わせて擬似的に接続構造を構成した検査用パターン１１を形成することにより、実際のＴＦＴ素子と画素電極との接続構造に似た構成の検査用パターンを利用して、より精度良く接続抵抗値を測定することができる。
【００３２】
また、検査用パターンの形状は特に制限されるものではないが、例えば、図５（ａ）に示すように、所定の長さを有する長方形状の検査用パターン１１とすることが好ましい。
この理由は、このような形状とすることにより、例えば、膜厚を測定する際に、図６（ａ）〜（ｂ）に示すように、検査用パターン１１の複数箇所で、形成状態の検査を行うことができ、検査用パターンの形成状態にばらつきがある場合であっても、それぞれの測定値を平均化して、測定結果の信頼性を向上させることができるためである。
また、検査用パターンの大きさについても特に制限されるものではないが、基板におけるシール領域外の面積が大きくなって、液晶装置の外形が大型化することのないように、従来の基板におけるシール領域外に形成することができる程度の大きさで形成することが好ましい。
【００３３】
また、それぞれの樹脂膜又は導電膜に対応する検査用パターンは、すべて集合させて、一箇所に形成されていることが好ましい。すなわち、複数の検査用パターンが集まって、ＴＥＧ（Test Element Group）を構成していることが好ましい。
この理由は、このようなＴＥＧを構成していることにより、各部材の形成状態を、対応する検査用パターンを用いて、効率的に検査することができるためである。特に、各部材に対応する検査用パターンに対して、同じ内容の検査を行う場合には、連続的に検査を行うことができ、検査効率を著しく向上させることができる。
【００３４】
（５）検査内容
また、これらを対象として形成した検査用パターンは、膜厚測定用の検査用パターン又は抵抗値測定用の検査用パターンであることが好ましい。
この理由は、それぞれの液晶装置にこのような検査を目的とする検査用パターンを形成することにより、所望の膜厚や抵抗値で各部材が形成されているかを確認することができるためである。したがって、各部材の形成不良による色むらや表示むら等の表示不良の発生があった場合に、原因を検証して、速やかに製造条件を改良修正することができる。
なお、これらの検査内容については、第２実施形態で詳細に説明する。
【００３５】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態は、対向配置され、シール材によって貼り合わせられた一対の基板と、当該一対の基板間に保持された電気光学材料と、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に設けられた樹脂膜及び導電膜と、を含む電気光学装置の製造方法であって、樹脂膜又は導電膜の形成状態の検査工程を含む電気光学装置の製造方法である。
すなわち、基板上に、樹脂膜又は導電膜を形成する工程と、樹脂膜又は導電膜をパターニング処理して、樹脂膜又は導電膜と、基板のシール領域外であって、一対の基板が重なる領域に相当する位置に、樹脂膜又は導電膜とは独立した検査用パターンと、を形成する工程と、検査用パターンを用いて、樹脂膜又は導電膜の形成状態を検査する工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
以下、第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法として、第１実施形態で説明したＴＦＴ素子を備えた液晶装置の製造方法を例に採って説明する。
【００３６】
１．製造工程
まず、素子基板を構成する基体として、複数のセル領域を含む母基板を用意した上で、それぞれのセル領域に対応させて各種の部材を積層することにより、ＴＦＴ素子６９や所定パターンの走査線７５、所定パターンのデータ線６５、外部接続端子２７等を適宜形成する。次いで、スパッタリング処理等によりＩＴＯ等の透明導電膜を積層した後、フォトリソグラフィ及びエッチング法により、表示領域に画素電極６３をマトリクス状に形成する。さらに、画素電極６３が形成された基板表面に、ポリイミドからなる配向膜８５を形成する。このようにして、図７（ａ）に示すように、種々の樹脂膜や導電膜が形成された複数のセル領域を含む素子基板としての第１の母基板６０Ａを製造する。
なお、図７（ａ）は、第１の母基板６０Ａにおける、一つのセル領域に相当する領域の断面図である。
【００３７】
次いで、対向基板としてのカラーフィルタ基板を構成する基体として、複数のセル領域を含む母基板を用意した上で、それぞれのセル領域に対応させて各種の部材を積層することにより、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂや遮光膜３９を適宜形成する。次いで、スパッタリング処理等によりＩＴＯ等の透明導電膜を積層した後、フォトリソグラフィ及びエッチング法により、表示領域全面に渡る対向電極３３を形成する。さらに、対向電極３３が形成された基板表面に、ポリイミドからなる配向膜４５を形成する。このようにして、図７（ｂ）に示すように、種々の樹脂膜や導電膜が形成された複数のセル領域を含むカラーフィルタ基板としての第２の母基板３０Ａを製造する。
なお、図７（ｂ）は、第２の母基板３０Ａにおける、一つのセル領域に相当する領域の断面図である。
【００３８】
ここで、本発明の電気光学装置の製造方法においては、図７（ａ）〜（ｂ）に示すように、それぞれ素子基板６０Ａやカラーフィルタ基板３０Ａを製造する際に、積層する樹脂膜又は導電膜からなる各部材を形成する工程で、同時に、それぞれのセル領域におけるシール領域外であって、組立て後において、素子基板とカラーフィルタ基板とが重なる領域に相当する位置に、表示領域内に形成された各部材とは独立した検査用パターン１１を形成することを特徴とする。
すなわち、それぞれのセル領域における表示領域と近接した位置に、同じ条件で形成した検査用パターンが設けられるために、表示領域内に形成された部材との相関関係を高くすることができる。したがって、当該検査用パターンを利用して、各部材の形成状態の検査を精度良く行うことができる。
【００３９】
次いで、図８（ａ）〜（ｃ）に示すように、製造した第１の母基板６０Ａと第２の母基板３０Ａとを、シール材２３を用いて貼り合わせて大判パネル２０Ａを形成する。次いで、図９（ａ）〜（ｃ）に示すように、それぞれのセル領域ごとに分断して、単品としての液晶パネル２０を形成する。ここで、図９（ｂ）に示すような短冊状の中間パネル２０ａの状態で、それぞれのセル領域に液晶材料が注入される。
その後、それぞれの液晶パネルに対して、半導体素子等の電子部品を実装したり、フレキシブル回路基板やバックライト等を接続したりするとともに、筐体に組み込むことで液晶装置を製造することができる。
【００４０】
２．検査工程
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上の所定箇所に形成した検査用パターンを用いて、樹脂膜又は導電膜からなるそれぞれの部材の形成状態を検査する工程を含んでいる。
すなわち、例えば、母基板上にそれぞれの部材を形成した後、素子基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせる前に、当該検査を行うこともでき、あるいは、二枚の基板を貼り合わせて組立てた後に、点灯検査等において表示不良が発見された場合等に、当該液晶装置における素子基板とカラーフィルタ基板とを分離した上で、当該検査を行うこともできる。いずれにしても、それぞれのセル領域ごとに検査用パターンが形成されているために、検査用パターンを利用しての測定結果の信頼性が高く、組立て後においても、表示領域内の部材そのものを露出させることなく容易に検査を行うことができる。
【００４１】
ここで、検査用パターンを利用して行う検査としては、主に、膜厚の検査や抵抗値の測定が挙げられる。
例えば、それぞれの部材の膜厚を測定する場合には、図６（ｂ）に示すように、触しん式の測定機器１３を用いて容易に測定することができる。より具体的には、基板上に形成した検査用パターンを含む領域に対して、基板の表面をなぞるように測定機器の先端１５をスライドさせ、その先端部１５が移動した位置の高低差を検知して、膜厚を測定する方法である。かかる膜厚の測定は、例えば、表示画像に色むらが生じている場合に、着色層の膜厚を容易に検証して、着色層を形成するための装置の条件を修正することができる。また、表示画像のコントラストが低下している場合に、電極等の膜厚を容易に検証して、電極等の抵抗値の誤差を検知できるために、電極等を形成するための装置の条件を修正することができる。
【００４２】
また、抵抗値を測定する場合には、例えば、図１０（ａ）に示すように、それぞれ単独で形成された検査用パターン１１に対して、それぞれ検査用プローブ１７を接触させて、所定の抵抗値を測定することができる。かかる抵抗値の測定は、反応速度が低下したり、残像が残ったりして、表示画像のコントラストが低下している場合等に、電極や電気配線の抵抗値を容易に検証して、電極や電気配線を形成するための装置の条件を修正することができる。
さらに、ＴＦＴ素子と画素電極との接続抵抗を測定する場合などにおいて、図１０（ｂ）に示すように、それぞれの部材に対応するパターンを積層して形成した検査用パターン１１を用いて検査することができる。すなわち、検査用パターンとして、擬似的に、素子と電極との接続構造を形成することにより、それらの間の接続抵抗を測定できるとともに、測定結果の信頼性を向上させることができる。
【００４３】
そして、これらの検査を行うにあたり、例えば、図５（ａ）に示すように、所定の長さを有する長方形状の検査用パターン１１とするとともに、膜厚を測定する際に、図６（ａ）〜（ｂ）に示すように、検査用パターン１１の複数箇所で、形成状態の検査を行うことが好ましい。この理由は、検査用パターンの形成状態にばらつきがある場合であっても、それぞれの測定値を平均化して、測定結果の信頼性を向上させることができるためである。
また、検査用パターンが、製品として組立てられたそれぞれの液晶装置に残されているために、同一の母基板を用いて製造された液晶装置における、表示不良が発見された液晶装置と、表示不良が発見されない液晶装置とを、それぞれ膜厚や抵抗値の測定をして比較検証することも好ましい。このようにすれば、製造装置の設定等の不具合をさらに詳細に検討することができ、以降の製造条件に反映させて、液晶装置の歩留まりを向上させることができる。
【００４４】
［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態として、第１実施形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
図１１は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶装置に備えられた液晶パネル２０と、これを制御するための制御手段２００とを有している。また、図１１中では、液晶パネル２０を、パネル構造体２０Ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２０Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段２００は、表示情報出力源２０１と、表示処理回路２０２と、電源回路２０３と、タイミングジェネレータ２０４とを備えている。
また、表示情報出力源２０１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２０４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路２０２に供給するように構成されている。
【００４５】
また、表示処理回路２０２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２０Ｂへ供給する。さらに、駆動回路２０Ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路及び検査回路を含めることができる。また、電源回路２０３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、基板上の所定領域に検査用パターンを備えた液晶装置を備えるために、樹脂膜や導電膜の検査に関し、検査結果の信頼性が高く、組立て後においても容易に検査可能な電子機器とすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明の電気光学装置、電気光学装置の検査方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器によれば、基板上の所定領域に検査用パターンを形成することにより、樹脂膜や導電膜の形成状態の検査の信頼性を高めるとともに、組立て後においても基板上に残存する検査用パターンを用いて、容易に検査することができるようになった。
したがって、表示不良の発生の少ない電気光学装置を製造する歩留まりを著しく向上させることができ、液晶装置等の電気光学装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を備えた装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）などに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ第１実施形態の液晶装置を示す断面図及び平面図である。
【図２】第１実施形態の液晶装置を示す概略斜視図である。
【図３】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ第１実施形態の液晶装置を示す概略平面図及び概略断面図である。
【図４】基板の角部に検査用パターンを設けた例を示す図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ検査用パターンの構成例を示す図である。
【図６】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ検査用パターンの複数箇所での膜厚測定方法を示す図である。
【図７】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ液晶装置を構成する素子基板及びカラーフィルタ基板を説明するために供する図である。
【図８】（ａ）〜（ｃ）は、素子基板及びカラーフィルタ基板を貼り合わせる工程を説明するために供する図である。
【図９】（ａ）〜（ｃ）は、大判パネルを分割して、液晶パネルを形成する工程を説明するために供する図である。
【図１０】（ａ）〜（ｂ）は、抵抗値の測定方法を説明するために供する図である。
【図１１】第３実施形態の電子機器の概略構成を示すブロック図である。
【図１２】従来の検査用パターンの配置を示す図である。
【符号の説明】
【００４８】
１０：液晶装置（電気光学装置）、１１：検査用パターン、１３：膜厚測定機器、１７：プローブ、２０液晶パネル、２０Ａ：大判パネル、２０ａ：中間パネル、３０：カラーフィルタ基板、３０Ａ：第２の母基板、３３：対向電極、６０：素子基板、６０Ａ：第１の母基板、６３：画素電極、６９：スイッチング素子（ＴＦＴ素子）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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