(57)【要約】【課題】  複数の被加工物を各々独立して保持することの可能な，吸着保持装置を提供する。【解決手段】  複数の被加工物を被加工物毎に吸着する複数の吸着部１２１，１２２と各吸着部１２１，１２２に独立して連通する複数の排気経路とを有するテーブル部１２０と，テーブル部１２０を回転させる回転駆動部１３０とを備える吸着保持装置３０であって，径の異なる複数の円筒排気管１６１，１６２を，回転駆動部１３０を貫通する貫通孔１３１内に，テーブル部１２０の回転軸を中心とする同心円上に離隔配置することにより，大径の円筒排気管１６２の内側と隣接する小径の円筒排気管１６１の外側との間に独立した経路を形成して，複数の排気経路に区分し，各円筒排気管１６１，１６２により区分された複数の排気経路と，テーブル部１２０の各排気経路とをそれぞれ連通させることにより，各吸着部１２１，１２２と外部の吸引手段とをそれぞれ独立して連通する。【選択図】    図５
2006303205.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の被加工物を前記被加工物毎に吸着する複数の吸着部と前記複数の吸着部に独立して連通する複数の排気経路とを有するテーブル部と，前記テーブル部を回転させる回転駆動部とを備える吸着保持装置であって：
径の異なる複数の円筒排気管を，前記回転駆動部を貫通する貫通孔内に，前記テーブル部の回転軸を中心とする同心円上に離隔配置することにより，大きな径の前記円筒排気管の内側と隣接する小さな径の前記円筒排気管の外側との間に独立した経路を形成して，前記大きな径の円筒排気管の内側を複数の排気経路に区分し，
前記複数の円筒排気管により区分された前記複数の排気経路と，前記テーブル部の前記複数の排気経路とをそれぞれ連通させることにより，前記複数の吸着部と外部の吸引手段とをそれぞれ独立して連通することを特徴とする，吸着保持装置。
【請求項２】
前記大きな径の円筒排気管の内側を区分して形成された前記複数の排気経路は，略同一の断面積を有することを特徴とする，請求項１に記載の吸着保持装置。
【請求項３】
前記円筒排気管は，金属材料からなることを特徴とする，請求項１または２のいずれかに記載の吸着保持装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，吸着保持装置に関し，特に，複数の被加工物を独立して保持する吸着保持装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話およびノートブック型パーソナルコンピュータのような小型電子装置への使用に適した半導体デバイスとして，ＣＳＰ（Ｃｈｉｐ  Ｓｉｚｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）が実用に供されている。かかるＣＳＰは，通常，例えば合成樹脂基板のような基板上に，格子状に配列された切削ストリートによって複数個の矩形領域を区画し，かかる各矩形領域に対してＩＣ，ＬＳＩなどのチップを配設することにより形成される。このように，複数個のＣＳＰが形成された基板をＣＳＰ基板と称している。かかるＣＳＰ基板を切削ストリートに沿って切削することにより，個々のＣＳＰに分離される。
【０００３】
ＣＳＰ基板を切削するために，例えば，片側位置と他側位置との間を往復動されるジグテーブルと，ジグテーブル上にジグを介して保持されるＣＳＰ基板を切削する切削手段とを有する切削装置が使用される。切削手段は，例えばダイヤモンド粒子を含有した円板形状の回転切削刃と，冷却液を噴射するための冷却液噴射手段とを有して構成される。ジグテーブルが往復動する際に，回転切削刃がジグテーブル上のＣＳＰ基板に作用して，ＣＳＰ基板の切削が行われる。
【０００４】
ところが，ＣＳＰ基板は，必ずしも精度良く作成されておらず，基板自体が反っている場合がある。通常，ジグテーブルでは，ＣＳＰ基板を保持するために真空吸着を行っているが，基板が反っていると基板とジグの吸着面とが密着しないため，隙間から空気が真空吸着のための排気配管系統に進入してしまう。このため，真空度が低下し，基板をジグ上に保持できなくなってしまうという問題があった。
【０００５】
かかる問題を解決するために，基板の反りを修正することや，ジグテーブルの真空吸着する排気力を増強させることが考えられる。しかし，基板の反りを修正するには，別途の装置または機構が必要であり，時間もかかる。そこで，ジグテーブルの，真空吸着する排気力を増強させることを検討した。
【０００６】
ジグテーブルの真空吸着する排気力を増強させるには，例えば，真空ポンプの排気力を増強することが考えられるが，真空ポンプが大きくなってしまう。そこで，配管の本数を増強，すなわち配管の断面積を増加させることによって排気力を増強させることがよいと考えた。
【０００７】
従来，真空ポンプとジグテーブルとを連結する配管には，樹脂製のホースを使用していた。しかし，樹脂製のホースは，肉厚であるために，例えば，図６に示すように，複数本束ねて配置した場合には効率的に断面積を増加させることができない。
【０００８】
また，ジグテーブルには，ジグテーブルを回転させるための駆動装置が内蔵化されており，その駆動装置には，配管が連通するための貫通孔が設けられている。ところが，既存の装置を改良する場合，この貫通孔の大きさを容易に拡大することはできない。また，ジグテーブルは回転するため，図６に示すように，複数のホース６０を束ねて配置すると，ジグテーブルを回転させるときの抵抗となり，チューブが継手から外れてしまう。さらに，チューブ同士，あるいはチューブと回転機構との間で摩擦が生じてしまい，チューブが損傷してしまう可能性がある。
【０００９】
したがって，できるだけ効率的に配管の断面積を増加させるために，従来の配管と比べて径の大きな配管を１本配置することが望ましいと考えた。
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−８５４４９号公報
【特許文献２】特開平１０−３２１５６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし，ジグテーブル上にひとつのＣＳＰ基板のみを配置する場合には問題はないものの，ＣＳＰ基板の大きさによって，ジグテーブル上に複数のＣＳＰ基板を載置させて，効率的に切削をしたいという要望が増加してきた。この場合，１本の配管を分岐させて複数のＣＳＰ基板を保持することは可能であるが，例えば，被加工物の一部が飛散して吸着部および配管などが破損し，空気漏れが生じた場合，ジグテーブルに載置されたすべての被加工物の吸着力が低下してしまい，すべての被加工物の加工を仕損じることになる。
【００１２】
このような問題から，例えば２つのＣＳＰ基板をジグテーブル上で保持する場合，真空ポンプとジグテーブルとを連結する配管を，各々別の配管経路として，一方の配管に空気漏れが生じた場合でも，他方の配管により１つのＣＳＰ基板は問題なく切削できるようにするという，フェールセーフ機構が必要となった。
【００１３】
そこで，本発明は，上記問題に鑑みてなされたものであり，本発明の目的とするところは，複数の被加工物を各々独立して保持することの可能な，新規かつ改良された吸着保持装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，複数の被加工物を被加工物毎に吸着する複数の吸着部と複数の吸着部に独立して連通する複数の排気経路とを有するテーブル部と，テーブル部を回転させる回転駆動部とを備える吸着保持装置であって，径の異なる複数の円筒排気管を，回転駆動部を貫通する貫通孔内に，テーブル部の回転軸を中心とする同心円上に離隔配置することにより，大きな径の円筒排気管の内側と隣接する小さな径の円筒排気管の外側との間に独立した経路を形成して，大きな径の円筒排気管の内側を複数の排気経路に区分し，複数の円筒排気管により区分された複数の排気経路と，テーブル部の複数の排気経路とをそれぞれ連通させることにより，複数の吸着部と外部の吸引手段とをそれぞれ独立して連通する，吸着保持装置が提供される。
【００１５】
かかる構成により，回転駆動部に形成された貫通孔の限られたスペースにおいて，単に複数の樹脂ホースを束ねて配置する場合と比べて，排気経路の断面積を大きくすることができる。これにより，切削装置の他の構造を変更することなく，大きな吸引力を得ることができる。また，各排気経路は，独立して形成されているので，例えば，１つの排気経路において空気漏れが発生したとしても，他の排気経路は正常に作動することができ，すべての切削が停止することがないという，フェールセーフ機能を吸着保持装置に備えることができる。
【００１６】
ここで，大きな径の円筒排気管の内側を区分して形成された複数の排気経路は，例えば略同一の断面積を有するように形成することができる。かかる構成により，複数の被加工物を略同一の吸引力で保持することが容易にできるようになる。
【００１７】
また，円筒排気管は，例えばステンレスなどの金属材料から形成するのがよい。これにより，例えば樹脂ホースを用いるよりも円筒排気管の厚さを薄くすることができるため，排気経路の断面積をさらに大きくすることができる。したがって，被加工物を吸引する吸引力をより大きくすることができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように本発明によれば，複数の被加工物を各々独立して保持することの可能な吸着保持装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２０】
（第１の実施形態）
まず，本発明の第１の実施形態にかかる切削装置について説明する。ここで，図１は，本実施形態にかかる切削装置を示す概略斜視図である。
【００２１】
図１に示すように，切削装置１０は，例えば，被加工物として例えばＣＳＰ基板１００を切削加工する切削手段２０と，ＣＳＰ基板１００を保持する吸着保持装置３０と，切削手段２０を加工に合わせて移動させる切削手段移動機構（図示せず。）とを備える。
【００２２】
切削手段２０は，スピンドルに装着された切削ブレードを備えている。この切削手段２０は，切削ブレードを高速回転させながらＣＳＰ基板１００に切り込ませることにより，ＣＳＰ基板１００を切削して，切削ラインに沿って極薄のカーフ（切溝）を形成することができる。
【００２３】
本実施形態にかかる特徴である吸着保持装置３０は，例えば，上面が略平坦である略矩形状のテーブル部と，テーブル部を回転させる回転駆動部と，テーブル部を支持する支持基台とを有して構成される。テーブル部の上面には，治具１１０によって保持されたＣＳＰ基板１００が載置され，かかるＣＳＰ基板１００を吸着して安定的に保持する。また，吸着保持装置３０は，回転駆動部によって水平面上で回転可能に支持されている。そして，回転駆動部が載置される支持基台は，切削送り手段によってＸ軸方向に往復移動可能となっている。このように支持基台を移動させることにより，ＣＳＰ基板１００に対し切削ブレードの刃先を直線的な軌跡で作用させることができる。かかる吸着保持装置３０の詳細な構造については，後述する。
【００２４】
切削手段移動機構（図示せず。）は，切り込み送り手段および割り出し送り手段とから構成されており，切削手段２０をＹ軸およびＺ軸方向に移動させる。このＹ軸方向は，切削方向（Ｘ軸方向）に対して直交する水平方向（割り出し方向）であり，例えば，切削手段２０内に配設されたスピンドルの軸方向である。このように，Ｙ軸方向に切削手段２０を切削ライン間隔ずつ送り出すことにより，切削ブレードの刃先をＣＳＰ基板１００の切削位置（切削ライン）に位置合わせすることができる。また，Ｚ軸方向（垂直方向）は，切削ブレードをＣＳＰ基板１００に切り込ませるときの切り込み方向である。このように，Ｚ軸方向に切削手段２０を移動させることにより，ＣＳＰ基板１００に対する切削ブレードの切り込み深さを調整することができる。
【００２５】
かかる構成の切削装置１０は，高速回転する切削ブレードをＣＳＰ基板１００に切り込ませながら，吸着保持装置３０を切削手段２０に対してＸ軸方向に相対移動させることにより，ＣＳＰ基板１００を切削加工して，複数のチップに分割することができる。
【００２６】
本実施形態の切削装置１０では，ＣＳＰ基板１００のサイズにより，複数のＣＳＰ基板１００を治具１１０に載置して，効率的に切削を行うことができる。このとき，例えば一方のＣＳＰ基板の一部が飛散してしまい，吸着部や配管が破損して空気漏れが生じたとしても，他方のＣＳＰ基板の吸着力には影響せず，問題なく加工できるようにするため，各ＣＳＰ基板１００に対してそれぞれ独立した排気経路が構成される点に本願発明の特徴がある。
【００２７】
そこで，以下に，テーブル部に載置された複数のＣＳＰ基板１００を，それぞれ独立の排気経路を形成して吸着保持する吸着保持装置３０の構成について，図２〜５に基づき説明する。ここで，図２は，本実施形態にかかる吸着保持装置３０の構成の概略を説明するための説明図である。また，図３は，本実施形態にかかる吸着保持装置３０において，円筒排気管とテーブル部とを分解した状態を示す分解図である。さらに，図４は，本実施形態にかかる吸着保持装置３０の断面図である。また，図５は，図４の円筒排気管とテーブル部とを嵌合させた状態を示す断面図である。なお，図５において，回転駆動部の内部構造の一部と，モータとの図示を省略する。
【００２８】
まず，図２に基づき，本実施形態にかかる吸着保持装置３０の構成の概略について説明する。かかる吸着保持装置３０は，図２に示すように，例えば，２つのＣＳＰ基板１０１，１０２を保持する治具１１０が載置されるテーブル部１２０と，テーブル部１２０を回転させる回転駆動部１３０と，テーブル部１２０を支持する支持基台１４０とを有して構成される。
【００２９】
治具１１０は，例えば２つのＣＳＰ基板１０１，１０２を保持するため，２つの保持領域１１１，１１２を有している。各保持領域１１１，１１２には，溝が格子状に形成されており，溝によって複数の矩形領域が区画されている。かかる矩形領域は，ＣＳＰ基板１０１，１０２の矩形領域に各々対応している。また，ＣＳＰ基板１０１，１０２に形成された矩形領域ごとに，例えば直径が３〜５ｍｍの吸引孔１１５が形成されている。各吸引孔１１５は，ＣＳＰ基板１０１，１０２がテーブル部１２０に載置されたとき，テーブル部１２０に形成された吸着部１２１，１２２を介して，テーブル部１２０の内部に形成された排気経路に連通するようになる。テーブル部１２０の排気経路は，後述するように，円筒排気管により区分された排気経路と連通されて，外部の吸引手段に接続される。そして，外部の吸引手段を作動させて排気することにより，ＣＳＰ基板１０１，１０２が吸引保持される。
【００３０】
テーブル部１２０は，治具１１０に保持されたＣＳＰ基板１０１，１０２を吸着保持するための吸着部１２１，１２２と，吸着部１２１，１２２に独立して連通する複数の排気経路とを有して構成される。吸着部１２１，１２２は，テーブル部１２０の上面１２０ａに，治具１１０の吸引孔１１５に対応する位置に形成され，吸着部１２１，１２２と吸引孔１１５とが連通するように形成される。この吸着部１２１，１２２の形状は，例えば櫛形状にすることができる。なお，テーブル部１２０の内部に形成される排気経路の構造については後述する。
【００３１】
回転駆動部１３０は，例えばモータにより回転されて，回転駆動部１３０に接合されて一体となったテーブル部１２０を回転させる。かかる回転駆動部１３０の内部には，例えば略円形状の貫通孔が形成されており，貫通孔の内部には，複数の排気経路を形成する複数の円筒排気管が挿入されている。なお，回転駆動部１３０の内部の構造については後述する。
【００３２】
支持基台１４０は，回転駆動部１３０を支持しており，ボールねじ１５２に螺合すると共に一対のガイドレール１５１，１５１に支持されている。支持基台１４０は，ボールねじ１５２に連結されたモータ（図示せず。）が駆動してボールねじ１５２が回動することにより，Ｘ軸方向に移動することができる構成となっている。
【００３３】
以上，本実施形態にかかる吸着保持装置３０の構成の概略について説明した。次に，吸着保持手段３０の内部の構造について説明する。
【００３４】
まず，図３に基づいて，複数の円筒排気管により形成される複数の排気経路の構成と，吸着保持装置３０の排気経路の構成とについて説明する。本実施形態にかかる吸着保持装置３０の排気経路は，テーブル部１２０に形成された複数の排気経路と，回転駆動部１３０の内部に挿入される，複数の円筒排気管により区分された複数の排気経路とからなり，これらを連通させて形成される。
【００３５】
複数の円筒排気管により形成される排気経路は，図３に示すように，例えば，径の異なる２つの円筒排気管１６１，１６２から形成され，大径の円筒排気管１６２の内部に，小径の円筒排気管１６１が同心円状に離隔して配置されている。
【００３６】
大径の円筒排気管１６２は，その一端（図３の上側）はテーブル部１２０の結合部１２３と嵌合され，他端（図３の下側）は内部が空洞である略直方体の排気部１６３と連通するように接合されている。かかる排気部１６３の一側面には，例えば円筒形の排気口１６４が備えられており，例えば配管ホース（図示せず。）により，排気口１６４と吸引手段（図示せず。）とを連結することができる。
【００３７】
小径の円筒排気管１６１は，大径の円筒排気管１６２に挿入され，大径の円筒排気管１６２と連通する排気部１６３の内部で略直角に屈曲し，排気部１６３の一側面から延出している。小径の円筒排気管１６１は，その一端（図３の上側）はテーブル部１２０の結合部１２３と嵌合され，排気部１６３の一側面から延出した他端は，排気口として，例えば配管ホース（図示せず。）により，吸引手段（図示せず。）と連結される。このとき，小径の円筒排気管１６１の他端と排気口１６４とは，外部の吸引手段への接続を容易にするため，同一の側面に位置するのがよい。
【００３８】
なお，小径の円筒排気管１６１の一端（図３の上側）は，例えば，大径の円筒排気管１６２から延出している。小径の円筒排気管１６１の一端および大径の円筒排気管１６２の一端（いずれも図３の上側部分）は，テーブル部１２０の結合部１２３と嵌合する部分であり，本実施形態に示す構成に限定されず，テーブル部１２０の結合部１２３の形状に合わせて，例えば，小径の円筒排気管１６１を大径の円筒排気管１６２から延出しないようにすることもできる。
【００３９】
このように，円筒排気管１６１，１６２を，大径の円筒排気管１６２の内部に小径の円筒排気管１６１が挿入された二重構造とすることにより，大径の円筒排気管１６２の内側と小径の円筒排気管１６１の外側との間に形成される空間と，小径の円筒排気管１６１の内部空間という，２つに区分された排気経路が形成される。かかる構成により，円筒排気管１６１，１６２が挿入される貫通孔の制限されたスペース内で，例えば，２つの円筒排気管を束ねた場合と比べて，効率よく排気経路の断面積を大きくすることができ，ＣＳＰ基板１０１，１０２の吸着力が高めることができるという効果がある。
【００４０】
さらに，円筒排気管１６１，１６２は，例えばステンレスなどの金属材料から形成することもできる。これは，円筒排気管１６１，１６２を樹脂で形成する場合と比べて，円筒排気管１６１，１６２の厚みを薄くすることができ，より排気経路を広くすることが可能となるためである。
【００４１】
このように，二重構造とした円筒排気管１６１，１６２を回転駆動部１３０の貫通孔に挿入すると，回転駆動部１３０の貫通孔より大径の結合孔１３２に，小径の円筒排気管１６１および大径の円筒排気管１６２の一部が現れた状態となる（図４参照）。そして，テーブル部１２０の裏面１２０ｂに形成された結合部１２３と，二重構造にされた円筒排気管１６１，１６２とを嵌合させて連通する。このようにして，テーブル部１２０の排気経路と円筒排気管１６１，１６２により区分される排気経路とが連通して，２つの独立した排気経路が形成される。
【００４２】
さらに，図４に基づき，回転駆動部１３０の内部構造とテーブル部１２０の排気経路の構造とについて説明する。なお，回転駆動部１３０は，図３のＩ−Ｉにおいて切断した状態が示されている。
【００４３】
図４に示すように，まず，排気経路の一部である排気部１６３が，支持基台１４０に設置される。このとき，排気口１６４と小径の円筒排気管１６１の排気口部分とが，支持基台１４０の一側面から延出する。一方，二重構造とされた円筒排気管１６１，１６２は，回転駆動部１３０の貫通孔１３１に挿入される。このとき，円筒排気管１６１，１６２は，回転駆動部１３０の回転に従動しないように，シール部材１６３で固定されている。また，二重構造の円筒排気管１６１，１６２は，テーブル部１２０の回転軸を中心とするに同心円状に位置するように配置される。
【００４４】
また，回転駆動部１３０の上部には，貫通孔１３１より大径の結合孔１３２が形成され，結合孔１３２には，テーブル部１２０の結合部１２３が挿嵌される。そして，テーブル部１２０を結合孔１３２に挿嵌した後，回転駆動部１３０とテーブル部１２０とを一体として回転させるために，例えばボルト固定によりこれらを固定する。このため，回転駆動部１３０には，ボルト孔１６６が形成されている。また，支持基台１４０には，回転駆動部１３０を回転させるためのモータ１７１が備えられており，モータ軸の回転によって，回転駆動部１３０および回転駆動部１３０に固定されたテーブル部１２０とが一体となって回転される。
【００４５】
一方，テーブル部１２０は，図４に示すように，吸着部１２１に連通する排気経路と，吸着部１２２に連通する排気経路との，２つの排気経路に区分されている。結合孔１２３の内部には，円筒排気管１６１，１６２と嵌合する位置にシール部材１２４，１２５が備えられている。シール部材１２４は，小径の円筒排気管１６１との嵌合部分を密閉し，シール部材１２５は，大径の円筒排気管１６２との嵌合部分を密閉する。これにより，各円筒排気管１６１，１６２と結合部１２３とがそれぞれ嵌合した部分から，外部に空気が漏れないように密閉されるようになる。また，結合部１２３の外周面には，回転駆動部１３０と結合するためのボルト孔１２６が，回転駆動部１３０のボルト孔１６６の位置に合わせて形成されている。
【００４６】
次に，図４のテーブル部１２０を回転駆動部１３０に挿嵌させた状態を，図５に示す。図５に示すように，小径の円筒排気管１６１は，シール部材１２４により密閉されて吸着部１２１と連通する。一方，大径の円筒排気管１６２は，シール部材１２５により密閉されて吸着部１２２と連通する。また，テーブル部１２０を回転駆動部１３０に挿嵌させることにより連通したボルト孔１６２，１２６に，ボルト１７３を螺合させることによって，テーブル部１２０と回転駆動部１３０とが固定されて，一体に回転させることが可能となる。
【００４７】
このように，テーブル部１２０と回転駆動部１３０とを嵌合させることにより，吸着部１２１に連通するテーブル部１２０の排気経路と小径の円筒排気管１６１の内部空間とによって構成される排気経路Ａと，吸着部１２２に連通するテーブル部１２０の排気経路と大径の円筒排気管１６２の内側と小径の円筒排気管１６１の外側との間に形成される空間とによって構成される排気経路Ｂとが形成される。すなわち，２つの吸着部１２１，１２２に対して，それぞれ独立した排気経路Ａ，Ｂが形成される。したがって，吸着部１２１に載置されたＣＳＰ基板１０１は，排気経路Ａを介して吸引手段で排気されることにより吸着保持される。また，吸着部１２２に載置されたＣＳＰ基板１０２は，排気経路Ｂを介して吸引手段で排気されることにより吸着保持される。
【００４８】
以上，図２〜５に基づいて説明したように，本実施形態にかかる吸着保持装置３０では，２つのＣＳＰ基板１０１，１０２を独立して吸引することができる。さらに，回転駆動部１３０に形成された貫通孔１３１の限られたスペースにおいて，切削装置１０の他の構造を変更することなく排気経路Ａ，Ｂの断面積を効率よく大きくすることができ，各ＣＳＰ基板１０１，１０２を吸引する吸引力が向上されるという効果がある。また，各ＣＳＰ基板１０１，１０２を，それぞれ独立した排気経路Ａ，Ｂを介して吸引することにより，一方のＣＳＰ基板において空気漏れが発生したとしても，他方のＣＳＰ基板の吸着力には影響せず，正常に動作される。このように，すべての切削を停止させることがないという，フェールセーフ機能を備えることができる。
【００４９】
例えば，ＣＳＰ基板１００が反っている場合，従来は，ＣＳＰ基板１００と治具１１０との隙間から僅かに空気漏れが発生してしまい，真空度が低下して，ＣＳＰ基板を保持することができなかった。しかし，本実施形態にかかる吸着保持装置３０によれば，従来と比べて排気経路の排気力が向上し，真空度の低下を１０〜２０％程度抑えることができる。したがって，反ったＣＳＰ基板１００に対して従来よりも強い保持力が働くようになるため，ＣＳＰ基板１００の反りが大きい場合でも吸着保持することが可能となる。
【００５０】
また，ＣＳＰ基板１００が反っていない場合でも，排気力が向上するため，真空吸着するために必要な真空度を得るまでに要する時間を短縮できるという効果が期待できる。さらに，かかる円筒排気管１６１，１６２を二重構造にしているため，従来のように円筒排気管１６１，１６２を単に束ねたときに，テーブル部１２０の回転により円筒排気管１６１，１６２が捩れることもないという効果がある。
【００５１】
さらに，円筒排気管１６１，１６２により区分されて形成される２つの排気経路について，各排気経路の断面積を，略同一となるように構成してもよい。かかる構成により，例えば，同一の外部の吸引手段を用いて，各吸着部１２１，１２２に載置されたＣＳＰ基板１０１，１０２を吸引する場合に，かかるＣＳＰ基板１０１，１０２を吸引する吸引力を容易に略同一にすることができる。例えば，大径の円筒排気管１６２の直径を，小径の円筒排気管１６１の直径の約１．４倍とすることで，各排気経路の断面積を略同一の大きさとすることができる。
【００５２】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００５３】
例えば，上記実施形態では，吸着保持する被加工物は２つであったが，本発明はかかる例に限定されず，２以上の被加工物をそれぞれ独立して吸着保持することも可能である。例えば，テーブル部１２０に４つの吸着部を形成して，それぞれに連通する排気経路を形成する。これに対応して，４つの円筒排気管をテーブル部の回転軸を中心とする同心円上にそれぞれ離隔配置し，大きな径の円筒排気管の内側と小さな径の円筒排気管の外側との間にそれぞれ独立した経路を形成する。そして，テーブル部１２０の結合部１２３と複数の円筒排気管とを連結することにより，各吸着部に連通する独立した排気経路を形成することができる。
【００５４】
また，上記実施形態では，大径の円筒排気管１６２と連通する排気部１６３の形状は略直方体であったが，本発明はかかる例に限定されず，例えば円柱形状などに形成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明は，吸着保持装置に適用可能であり，特に複数の被加工物を独立して保持する吸着保持装置に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかる切削装置を示す概略斜視図である。
【図２】同実施形態にかかる吸着保持装置の構成の概略を説明するための説明図である。
【図３】同実施形態にかかる吸着保持装置において，円筒排気管とテーブル部とを分解した状態を示す分解図である。
【図４】同実施形態にかかる吸着保持装置の断面図である。
【図５】図４の円筒排気管とテーブル部とを嵌合させた状態を示す断面図である。
【図６】回転駆動部に挿入される，束状の複数の円筒排気管を示した説明図である。
【符号の説明】
【００５７】
１００，１０１，１０２  ＣＳＰ基板
１１０                  治具
１１５                  吸引孔
１２０                  テーブル部
１２１，１２２          吸着部
１２３                  結合部
１２４，１２５，１６３  シール部材
１３０                  回転駆動部
１３１                  貫通孔
１３２                  結合孔
１４０                  支持基台
１６１，１６２          円筒排気管
１７１                  モータ
１７３                  ボルト
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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