(57)【要約】【課題】サーボ信号を書き込みやすく、且つ高情報記録密度を可能とする磁気ディスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に磁性層を備え、磁気ディスク装置に搭載して使用される磁気ディスクであって、  その主表面上に、所望の情報を記録再生するための記録再生用領域と、磁気ディスク装置制御用サーボ信号が記録されるサーボ信号記録領域とを有し、サーボ信号記録領域の磁性層は、記録再生用領域の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とする。面内で保磁力を変えるために、サーボ信号記録領域の磁性層を、記録再生用領域の磁性層よりも低い温度で成膜する。【選択図】図１
2006092680.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に磁性層を備える磁気ディスクであって、
前記主表面は、前記円孔側の第１の主表面と、外側面側の第２の主表面と、前記第１の主表面と前記第２の主表面との間に介在する第３の主表面とを含み、前記第１の主表面上の磁性層及び／又は前記第２の主表面上の磁性層は、前記第３の主表面上の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とされていることを特徴とする磁気ディスク。
【請求項２】
前記第３の主表面上の磁性層の保磁力が、４４００エルステッド以上とされていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク。
【請求項３】
前記磁気ディスクは、前記第３の主表面上において、１平方インチ当り６０ギガビット以上の情報記録密度で使用される磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクであることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスク。
【請求項４】
中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に磁性層を備え、磁気ディスク装置に搭載して使用される磁気ディスクであって、
前記磁気ディスクはその主表面上に、所望の情報を記録再生するための記録再生用領域と、前記磁気ディスク装置制御用サーボ信号が記録されるサーボ信号記録領域とを有し、前記サーボ信号記録領域の磁性層は、前記記録再生用領域の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とされていることを特徴とする磁気ディスク。
【請求項５】
前記サーボ信号記録領域は、前記磁気ディスクの円孔側の主表面上及び／又は外側面側の主表面上に設けられていることを特徴とする請求項４に記載の磁気ディスク。
【請求項６】
中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に、所定温度の下で磁性層を成膜する磁気ディスクの製造方法であって、
前記主表面は、前記円孔側の第１の主表面と、外側面側の第２の主表面と、前記第１の主表面と前記第２の主表面との間に介在する第３の主表面とを含み、前記第１の主表面上の磁性層及び／又は前記第２の主表面上の磁性層を、前記第３の主表面上の磁性層に比べて、低い温度で成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ等の情報を記録するための磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスクは、ディスク状の基板上に磁性層等の情報記録層を形成した情報記録媒体である。磁気ディスクは、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）等の磁気ディスク装置に搭載され、スピンドルモータにより回転し、磁気ヘッドにより情報が記録・再生される。
このような磁気ディスクとしては、例えば特許文献１に開示されている。この特許文献１にも記載されているように、磁気ディスクにおいては、所定の記録密度で情報を記録再生するため、保磁力等の磁気特性はディスク面内（ディスク円周方向、ディスク半径方向）で分布が無く、可能な限り均一であることが求められている。
【０００３】
磁気ディスクには、ＨＤＤのユーザーが所望の情報を記録再生するための記録再生用領域が設けられている。また、磁気ディスクには、この記録再生用領域とは別に、ＨＤＤ制御用信号が記録される領域が設けられる。ＨＤＤ制御用信号とは、磁気ヘッドの位置決め用の信号やスピンドルモータの駆動を制御するための信号などである。このようなＨＤＤ制御用信号は、サーボ信号と呼ばれる。また、磁気ディスクにサーボ信号を記録する工程はサーボライト工程と呼ばれる。
磁気ディスクにサーボ信号を記録する場合、その位置の基準となるクロック信号（基準クロック信号）が必要である。サーボライト工程では、まずサーボライタによりクロック信号（基準クロック信号）が磁気ディスクの主表面上に記録される。このクロック信号を位置の基準として、磁気ディスクの主表面上にサーボ信号が記録される。磁気ディスクにサーボ信号を記録する技術については、例えば特許文献２に記載がある。なお、一般に前記クロック信号も含めて広義にサーボ信号というが、クロック信号のことを特にサーボクロック信号として区別することもある。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２６３７３２号公報
【特許文献２】特開２０００−１２３５０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来、上記サーボライト工程は、磁気ディスクをＨＤＤに組み込んで、ＨＤＤに搭載されている磁気ヘッドで行っていた。しかし、このサーボライト工程は、ＨＤＤ生産上は時間のかかる工程であるため、その待ち時間のため生産性が低いという問題があった。
そこで、現在は、複数枚（たとえば２０〜３０枚程度）の磁気ディスクを積層して１本のスピンドルに装着し、これら複数枚の磁気ディスクをスピンドルモータで同時に回転させ、これに複数の磁気ヘッドを配置し、各磁気ディスクに同時にアクセスして、サーボライト工程を行うメディアスタックサーボトラックライトが採用されている。このメディアスタックサーボトラックライトによれば、一度に複数枚の磁気ディスクにサーボ信号を書き込んでから、直ぐにＨＤＤを組み立てられるというメリットがあり、サーボ信号が記録されていればいつでもＨＤＤを組み立てられるし、従来のようにサーボライトのためだけに組立を待っている時間が無くなるため、ＨＤＤの生産性を向上できる。
【０００６】
ところで、このメディアスタックサーボトラックライト工程では、クロック信号は記録密度が低いため、通常、書き込み能力の低い磁気ヘッド（たとえば、１モデル前の磁気ヘッド、ランクの低い（オーバーライトが悪い）磁気ヘッドなど）を用いて書き込みを行っている。また、通常、１本の磁気ヘッドで１００枚くらいの磁気ディスクに書き込みを行ってから、交換する場合が多いため、その間にコンタミが付着したり、劣化もするので、書き込み能力は相当低下するものと考えられる。このため、例えば磁気ディスク１枚当り４０ＧＢの磁気ディスクにおいては保磁力が４４００エルステッド程度あることが必要であるが、書き込み能力の低い磁気ヘッド、例えば磁気ディスク１枚当り３０ＧＢとされるHDD用の磁気ヘッドでは十分な書き込みが出来ないという問題が生じている。
【０００７】
また、磁気ディスクを搭載したＨＤＤがＰＣ（パーソナルコンピュータ）に組み込まれた場合、HDD起動用のデータは磁気ディスクの内周側の領域に記録されている。HDDの起動に際しては、まず、このHDD起動用のデータが読み出され、書き込まれる。その後、記録再生用領域（ユーザーデータ領域）のデータが読み出され、書き込まれる。記録再生用領域のデータが記録再生されている時点においてはHDDの温度は十分に上昇しているが、HDD起動時点は一般にＰＣ等の端末電源をＯＮにした時点であることが多く、温度は十分に上昇していない場合が多い。多くの場合HDD起動時の温度は室温近傍の温度である。室温近傍の温度でHDDは起動し、記録再生用領域のデータが記録再生される時点でHDDは６０℃〜８０℃程度の室温を超える温度に上昇しているのが一般的である。
磁気ディスクの磁性層に用いられている磁性材料は、温度の上昇につれて保磁力は低下し、温度の低下につれて保磁力は上昇する。本発明者が実験を行ったところ、Ｃｏ（コバルト）系強磁性材料においては、その変化率は概ね２０エルステッド／℃であった。例えば、HDD起動時の温度を室温程度（２０℃）と仮定し、駆動使用されるHDDの温度を７０℃と仮定すれば、HDDの起動時点と使用時点（駆動時点）とで温度が５０℃変化しているので、磁気ディスクの保磁力は１０００エルステッドも変化してしまうことになる。通常、磁気ディスクはHDD駆動時の性能を前提に設計されているので、HDD起動時の起動用データは、設計保磁力よりも高い（例えば１０００エルステッド程度も高い）保磁力で記録再生されることになる。従って、HDD起動用データは記録再生が難しく、オーバーライト特性も悪いという問題（以降、低温オーバーライト問題と呼称する。）が発生した。このHDD起動用データは前述のとおり、磁気ディスク内周側の円孔側の領域に記録されるデータである。
このような障害は磁気ディスクの保磁力を下げることで解決することも可能ではあるが、磁気ディスクに要求される情報記録密度は年々増大の一途をたどっており、上記障害を解決するためだけに磁気ディスクの保磁力を下げられないというのが現状である。
本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、第１に、クロック信号のようなサーボ信号を書き込みやすく、且つ高情報記録密度を可能とする磁気ディスク及びその製造方法を提供することであり、第２に、ＰＣ起動時の低温オーバーライトの問題を解決し、且つ高情報記録密度化を達成できる磁気ディスク及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は。上記課題を解決すべく、ディスク面内の保磁力の分布に着目して鋭意研究した結果、本発明を完成した。すなわち、本発明は以下の構成を有する。
（構成１）中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に磁性層を備える磁気ディスクであって、前記主表面は、前記円孔側の第１の主表面と、外側面側の第２の主表面と、前記第１の主表面と前記第２の主表面との間に介在する第３の主表面とを含み、前記第１の主表面上の磁性層及び／又は前記第２の主表面上の磁性層は、前記第３の主表面上の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とされていることを特徴とする磁気ディスクである。
（構成２）前記第３の主表面上の磁性層の保磁力が、４４００エルステッド以上とされていることを特徴とする構成１に記載の磁気ディスクである。
（構成３）前記磁気ディスクは、前記第３の主表面上において、１平方インチ当り６０ギガビット以上の情報記録密度で使用される磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクであることを特徴とする構成１又は２に記載の磁気ディスクである。
【０００９】
（構成４）中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に磁性層を備え、磁気ディスク装置に搭載して使用される磁気ディスクであって、  前記磁気ディスクはその主表面上に、所望の情報を記録再生するための記録再生用領域と、前記磁気ディスク装置制御用サーボ信号が記録されるサーボ信号記録領域とを有し、前記サーボ信号記録領域の磁性層は、前記記録再生用領域の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とされていることを特徴とする磁気ディスクである。
（構成５）前記サーボ信号記録領域は、前記磁気ディスクの円孔側の主表面上及び／又は外側面側の主表面上に設けられていることを特徴とする構成４に記載の磁気ディスクである。
（構成６）中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に、所定温度の下で磁性層を成膜する磁気ディスクの製造方法であって、前記主表面は、前記円孔側の第１の主表面と、外側面側の第２の主表面と、前記第１の主表面と前記第２の主表面との間に介在する第３の主表面とを含み、前記第１の主表面上の磁性層及び／又は前記第２の主表面上の磁性層を、前記第３の主表面上の磁性層に比べて、低い温度で成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に磁性層を備える磁気ディスクであって、前記主表面は、前記円孔側の第１の主表面と、外側面側の第２の主表面と、前記第１の主表面と前記第２の主表面との間に介在する第３の主表面とを含み、前記第１の主表面上の磁性層及び／又は前記第２の主表面上の磁性層は、前記第３の主表面上の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とされているので、保磁力の低い前記第１の主表面上の磁性層及び／又は前記第２の主表面上の磁性層に、サーボ信号を書き込み能力の低い磁気ヘッドを用いても容易に記録することができ、しかも保磁力の高い前記第３の主表面上の磁性層は所望の情報を記録再生する記録再生用領域（データ領域）として使用できるので、サーボ信号を書き込みやすく、且つ、データ領域では高情報記録密度を達成することができる。また、前記第１の主表面上の磁性層又は前記第２の主表面上の磁性層は低い保磁力とされているので、ＰＣ起動時の低温オーバーライトの問題を解決でき、且つ、データ領域では高情報記録密度を達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について詳しく説明する。
本発明に係る磁気ディスクの一実施の形態は、中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に磁性層を備える磁気ディスクであって、前記主表面は、前記円孔側の第１の主表面と、外側面側の第２の主表面と、前記第１の主表面と前記第２の主表面との間に介在する第３の主表面とを含み、前記第１の主表面上の磁性層及び／又は前記第２の主表面上の磁性層は、前記第３の主表面上の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とされている。
【００１２】
このように、ディスク主表面内において磁性層の保磁力が異なることにより、記録されるデータの種類によって領域毎に好適な保磁力を持たせることができる。本発明の磁気ディスクでは、その主表面において、前記円孔側の第１の主表面（以下、内周側領域と呼ぶ。）と、外側面側の第２の主表面（以下、外周側領域と呼ぶ。）と、内周側領域と外周側領域との間に介在する第３の主表面（以下、ユーザーデータ領域と呼ぶ。）とを含む。前述のサーボ信号は、例えば磁気ディスクの外周側領域に記録される場合、外周側領域は、サーボ信号が記録されるサーボ信号記録領域として利用される。外周側の磁性層の保磁力が低い保磁力であることにより、サーボライト工程において、書き込み能力の低い磁気ヘッドでもサーボ信号を良好に書き込むことが出来る。なお、上記サーボ信号は、磁気ディスクの内周側領域に記録される場合がある。また、磁気ディスクの外周側領域と内周側領域に記録される場合もある。
なお、特に断りがない限り、この実施の形態においてサーボ信号とは、クロック信号のことを指す。本発明の磁気ディスクはクロック信号を好適に記録再生することができる。
【００１３】
また、ＰＣ起動時のデータは通常、磁気ディスクの内周側領域に記録されるが、内周側領域の磁性層の保磁力が低い保磁力であることにより、起動時の低温オーバーライトの問題によって起こる書き込み不良を防止することが出来る。
一方、磁気ディスクの内周側領域と外周側領域の間に介在するユーザーデータ領域は、ユーザーが所望の情報を記録再生するための記録再生用領域として利用される。従って、ユーザーデータ領域の磁性層の保磁力を高情報記録密度化に好適な高い保磁力とすることにより、現在の磁気ディスクに要求されている高情報記録密度を達成することが出来る。
【００１４】
いずれにしても、磁気ディスクの内周側領域及び／又は外周側領域の磁性層の保磁力が、ユーザーデータ領域の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とすることにより、磁気ディスクの内周側領域及び／又は外周側領域ではサーボ信号を書き込みやすくして、しかもユーザーデータ領域では高い保磁力を持たせて磁気ディスクに要求される高情報記録密度を達成する磁気ディスクが得られる。また、ＰＣ起動時の低温オーバーライトの問題による書き込み不良を防止でき、しかも高情報記録密度を達成できる磁気ディスクが得られる。
本発明においては、磁性層はコバルト（Co）合金系磁性層であることが好ましい。コバルト合金系磁性層は保磁力が高く、特にユーザーデータ領域における高情報記録密度化にとって好適であるからである。
具体的には、磁性層は、CoPt系合金、CoCr系合金、CoCrPt系合金、CoCrPtTa系合金、CoCrPtB系合金、CoCrPtTaB系合金、CoCrNi系合金等を用いて構成できる。
【００１５】
本発明の磁気ディスクを得るため、磁気ディスク主表面上の磁性層の保磁力を領域によって異ならせる方法としては、例えば。磁性層成膜時の基板加熱温度を領域によって異ならせる方法が好ましく挙げられる。
磁性層は、後でも述べるように、ディスク基板上に例えばスパッタリング法で成膜されるが、前記内周側領域の磁性層及び／又は前記外周側領域の磁性層を、前記ユーザーデータ領域の磁性層に比べて、低い温度で成膜する。これによって、磁気ディスクの内周側領域及び／又は外周側領域の磁性層が、ユーザーデータ領域の磁性層の保磁力よりも低い保磁力を備えた磁気ディスクが得られる。図２は、後述の実施例にも使用される基板加熱用のヒータを示すが、このヒータ２０は、ディスク基板と同形状に形成され、その領域毎にヒータ抵抗値が異なるので、磁性層成膜時の基板加熱温度を領域によって異ならせることが出来る。
【００１６】
また、磁気ディスク主表面上の磁性層の保磁力を領域によって異ならせる方法として、他には、シード層や下地層の膜厚に分布をつける方法が挙げられる。通常、ディスク基板上には、磁性層の下地として、磁性粒子の微細化を図るためのシード層（微細化促進層）や、磁性層の配向性を調整するための下地層を設けている。これらシード層や下地層の膜厚に分布をつけることで、そのうえに成膜される磁性層の保磁力を変えることが可能である。シード層や下地層の膜厚に分布をつけるには、例えばシード層、下地層をスパッタリング成膜するときに部分的に遮蔽板を設けてスパッタする領域を制御することにより膜厚の分布を持たせる。
【００１７】
本発明の磁気ディスクにおいて、磁気ディスクの内周側領域及び／又は外周側領域の磁性層の保磁力が、ユーザーデータ領域の磁性層の保磁力よりも低い保磁力であれば、各々の領域の保磁力は特に制約されないが、ユーザーデータ領域では高情報記録密度化の観点からは、４４００エルステッド以上の保磁力であることが好適である。また、ＰＣ起動時の低温オーバーライトの観点から、例えば内周側領域の保磁力を下げる場合、内周側領域の保磁力はユーザーデータ領域よりも４００エルステッド以上低いことが好ましい。ユーザーデータ領域に比べて４００エルステッド以上保磁力を低くする、つまり、ユーザーデータ領域の保磁力に対して４００エルステッド低い保磁力を超えない保磁力であることが好ましいが、特にユーザーデータ領域の保磁力の９５％以下の保磁力であることが好ましい。特に好ましくは９２％以下の保磁力とする。なお、ユーザーデータ領域の保磁力の５０％以上の保磁力とすることが実用的である。
また、サーボ信号を書き込みやすくするため、例えば外周側領域の保磁力を下げる場合、サーボライトに使用するヘッドの書き込み能力によっても異なるが、例えばユーザーデータ領域よりも４００エルステッド以上低いことが適当である。ユーザーデータ領域に比べて４００エルステッド以上保磁力を低くする、つまり、ユーザーデータ領域の保磁力に対して４００エルステッド低い保磁力を超えない保磁力であることが好ましいが、特にユーザーデータ領域の保磁力の９５％以下の保磁力であることが好ましい。特に好ましくは９２％以下の保磁力とする。なお、ユーザーデータ領域の保磁力の５０％以上の保磁力とすることが実用的である。
【００１８】
本発明の磁気ディスクは、ユーザーデータ領域において、例えば１平方インチ当り６０ギガビット以上の情報記録密度で使用される磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクとして好適である。このような高情報記録密度に対応しながらも、低温オーバーライトによる書き込み不良が起こらず、サーボ信号の書き込みもしやすいからである。
なお、本発明の磁気ディスクは主表面内において磁性層の保磁力が異なるが、このことはオーバーライト特性が異なることでもある。
【００１９】
本発明の磁気ディスクの好ましい実施の形態としては、基板上に、シード層、下地層、磁性層、保護層、潤滑層を設けた磁気ディスクとするのが好適である。
本発明において、前記基板としてはガラス基板を使用するのが好ましい。ガラス基板は、平滑性が高く、高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量化の要求を満たすことが可能である。ガラス基板の材質としては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、又は結晶化ガラス等のガラスセラミックス等が挙げられる。アルミノシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
このようなアルミノシリケートガラスは、化学強化することによって、ガラス基板表面に圧縮応力層を設けることができ、抗折強度や、剛性、耐衝撃性、耐振動性、耐熱性に優れ、高温環境下にあってもNaの析出がないとともに、平坦性を維持し、ヌープ硬度にも優れる。
【００２０】
シード層としては、例えば、Al系合金、Cr系合金、NiAl系合金、NiAlB系合金、AlRu系合金、AlRuB系合金、AlCo系合金、FeAl系合金等のbccまたはB2結晶構造型合金等を用いることにより、磁性粒子の微細化を図ることができる。特に、AlRu系合金、中でもAl:30〜70at%、残部がRuの配合量の合金であれば、磁性粒子の微細化作用に優れているので好ましい。
下地層としては、Cr系合金、CrMo系合金、CrV系合金、CrW系合金、CrTi系合金、Ti系合金等の磁性層の配向性を調整する層を設けることができる。特に、CrW系合金、中でも、Wが5〜40at%、残部がCrの配合量の合金は、磁性粒子の配向を整える作用に優れているので好ましい。
【００２１】
本発明においては、前記保護層は炭素系保護層であることが好ましい。炭素系保護層は、一般に膜が硬く、耐磨耗性に優れ、摺動特性が良好である。特に、水素を含有する炭素系保護層は、剛性の高い安定な非晶質構造が構成されるので、保護膜が全体として高い耐磨耗性を発揮する。
本発明の磁気ディスクは、前記保護層上に潤滑層を備えることができる。潤滑層の材質は特に限定されないが、炭素系保護層との密着性が良好なものが好ましく、液体であっても固体であってもよい。具体的には、潤滑層を形成する潤滑剤としては、PFPE（パーフロロポリエーテル）化合物が好適である。このようなＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）化合物としては、アルコール変性ＰＦＰＥを好ましく用いることができる。
【００２２】
本発明において、基板上に各層を成膜する方法については、公知の技術を用いることができ、たとえばスパッタリング法（DCマグネトロンスパッタ、RFスパッタ等）、プラズマCVD法等を採用できる。中でも、スパッタリング法は、各層の膜厚を薄くできるので好ましい。また、前記潤滑層の形成は、ディップ法、スプレイ法、スピンコート法等を用いることが出来る。
【実施例】
【００２３】
以下に実施例を挙げて、本発明の実施の形態についてさらに具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
本実施例の磁気ディスクは、図１に示すように、ガラス基板１上に、シード層２、下地層３、磁性層４、保護層５、潤滑層６を順次積層してなる。
本実施例では、まず、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより直径６６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍの円盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を得、これに粗ラッピング工程（粗研削工程）、形状加工工程、精ラッピング工程（精研削工程）、端面鏡面加工工程、主表面鏡面研磨工程を順次施すとともに、次いで化学強化を施すことにより、磁気ディスク用ガラス基板１を製造した。このガラス基板１は、主表面、端面ともに鏡面研磨加工されている。また、このガラス基板１はその中心部に円孔が形成されたドーナツ形状をなしている。
【００２４】
上記工程を経て得られたガラス基板１の主表面の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定したところ、Ｒｍａｘ＝２．１３ｎｍ、Ｒａ＝０．２０ｎｍと超平滑な表面を持つ磁気ディスク用ガラス基板を得た。また、ガラス基板の外径は65ｍｍ、内径は20mm、板厚は0.635mmであった。
【００２５】
次に、得られた磁気ディスク用ガラス基板１に前記各層を成膜することにより、磁気ディスクを製造した。すなわち、枚葉式スパッタリング装置を用いて、上記ガラス基板１上に、シード層２、下地層３、磁性層４及び保護層５を順次形成し、更にその上に潤滑層６をディップ法により形成した。
シード層２は、ＣｒＴｉ薄膜（膜厚３００オングストローム）からなる第１のシード層２ａと、ＡｌＲｕ薄膜（膜厚：４００オングストローム）からなる第２のシード層２ｂを形成した。
下地層３は、ＣｒＷ薄膜（膜厚：１００オングストローム）で、磁性層の結晶構造を良好にするために設けた。なお、このＣｒＷ薄膜は、Ｃｒ：９０ａｔ％、Ｗ：１０ａｔ％の組成比で構成されている。
【００２６】
磁性層４は、ＣｏＰｔＣｒＢ合金からなり、膜厚は、２００オングストロームである。この磁性層のＣｏ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｂの各含有量は、Ｃｏ：７３ａｔ％、Ｐｔ：７ａｔ％、Ｃｒ：１８ａｔ％、Ｂ：２ａｔ％である。磁性粒子グレインサイズをTEM（透過型電子顕微鏡）の平面撮影で調査したところ平均7nmであった。
なお、この磁性層４の成膜時は、図２に示すような、中心部に円孔を有する円板状のヒータ２０を用いて、ディスクの外側面側（外周側）の主表面上の磁性層を、それ以外の主表面上の磁性層に比べて、低い温度で成膜した。上記円板状のヒータ２０は、上記基板１と同形状で、例えば図示するように３つの領域２１，２２，２３において形状（面積）や抵抗値等により基板の加熱温度を異ならしめることができる。本実施例では、ディスクの外側面側（外周側）の主表面上の磁性層を２６０℃、それ以外の主表面上の磁性層を３００℃で成膜した。なお、この加熱温度はヒータ２０の加熱温度である。
【００２７】
保護層５は、水素化カーボン保護層とした。すなわち、炭素ターゲットを用い、純Ａｒガスに水素ガスを加え、水素ガス含有量を３０％とした混合ガス雰囲気下で、磁性層４上に膜厚５０オングストロームの水素化カーボンからなる保護層を成膜した。なお、この保護層成膜は基板に１００Ｗの高周波バイアスを印加しながら行い、保護層５の形成時の基板温度は２５０℃とし、混合ガスの供給量を８０ｓｃｃｍに設定した。以上のようにして、水素化カーボン保護層をダイヤモンドライク炭素保護層となるように形成した。
潤滑層６は、パーフルオロポリエーテルの液体潤滑剤をディップ法により形成し、１１０℃６０分間加熱焼成し、膜厚は９オングストロームとした。なお、上記パーフルオロポリエーテルとして、パーフルオロポリエーテル主鎖の両末端に水酸基（−ＯＨ）を備えるアルコール変性パーフルオロポリエーテルを用いた。
【００２８】
以上のようにして得られた磁気ディスクについて、ＶＳＭ（振動試料型磁化測定装置）で磁気特性を測定したところ、ディスクの外側面側（外周側）の主表面上の磁性層の保磁力（Ｈｃ）は４１００エルステッド、それ以外の主表面上の磁性層の保磁力（Ｈｃ）は４５００エルステッドであった。
【００２９】
また、磁気記録装置に、上記磁気ディスクと、磁気抵抗効果型再生素子（GMR素子）を備えた磁気ヘッドとを装着し、磁気ヘッド浮上時の浮上量を１０ｎｍとして、磁気ディスクのオーバーライト特性（Ｏ／Ｗ）を評価した。すなわち、記録密度６０ｋｆｃｉで磁気ディスク上にキャリア信号を記録した後に、記録密度７２０ｋｆｃｉでキャリア信号を上書きし、元の記録密度のキャリア再生出力と、上書き後のキャリアの残存再生出力を測定して求めた。その結果、ディスクの外側面側（外周側）の主表面上の磁性層のＯ／Ｗは−４０ｄＢ、それ以外の主表面上の磁性層のＯ／Ｗは−３６ｄＢであった。すなわち、外周側の方が４ｄＢもＯ／Ｗ特性が優れている。
【００３０】
したがって、本実施例の磁気ディスクによれば、保磁力の低いディスクの外側面側（外周側）の主表面を、前述の磁気ディスク装置制御用サーボ信号が記録されるサーボ信号記録領域とし、それ以外の保磁力の高い主表面を、所望の情報を記録再生するための記録再生用領域（データ領域）とすることにより、書き込み能力の低い磁気ヘッドを用いてもサーボ信号の書き込みができ、しかもデータ領域では高情報記録密度での記録再生ができるので、サーボ信号記録と高情報記録密度化の両方に好適な磁気ディスクが得られる。
【００３１】
なお、参考までに、上述の実施例において、磁性層成膜時の基板加熱温度をディスク面内で同じにしたこと以外は実施例と同様にして磁気ディスクを製造した。結果、磁気ディスクの保磁力は４５００エルステッド、Ｏ／Ｗは−３６ｄＢであって、これらの磁気特性がディスク面内で略均一な磁気ディスクが得られた。この磁気ディスクの外周側の領域に、サーボライタでサーボ信号の書き込みを行ったところ、書き込み能力の低い磁気ヘッドを用いたサーボライタでは書き込みができないという問題が生じた。また、磁気記録装置の起動時は、ドライブ自体の温度が低く、書き込みができない場合が発生した。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】実施例の磁気ディスクの層構成を模式的に示す断面図である。
【図２】ディスク状基板の加熱温度を面内で変えるための円板状ヒータの平面図である。
【符号の説明】
【００３３】
１  ガラス基板
２  シード層
３  下地層
４  磁性層
５  保護層
６  潤滑層
２０  円板状ヒータ
【図１】
2006092680.tif 000003
【図２】
2006092680.tif 000004