(57)【要約】【課題】工程雰囲気内の汚染物質を確実に除去して表示不良の発生を抑制し、液晶表示パネルの表示品位や歩留まりを向上させる液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法の提供。【解決手段】シール／Ａｇディスペンサ装置や液晶滴下ディスペンサ装置、スペーサ散布装置、スペーサ検査装置、スペーサ固着装置、貼り合わせ装置などのＯＤＦラインの各種装置、基板を搬送するためのロボットアームなどの装置搬送部、及び、基板を基板カセットなどに格納するためのバッファ部の少なくとも一つに、窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニット１の少なくとも一方を設置して基板表面の清浄度を維持すると共に、いずれかの工程の後において基板表面における液滴の接触角または基板表面に残存する不純物の濃度を測定し、接触角または不純物濃度に基づいて基板表面の清浄度を確認できるようにする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラビング処理が施された一対の基板の一方に液晶を滴下し、シール材を用いて前記一対の基板を貼り合わせる処理を行う液晶表示パネルの製造装置であって、
前記ラビング処理後の洗浄・乾燥後、前記一対の基板を貼り合わせるまでの各工程の処理を行う装置、前記基板を搬送する搬送部、及び、前記基板を格納するバッファ部の少なくとも一つに、窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニットの少なくとも一方が設置されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項２】
前記窒素パージユニットは、前記装置内部、前記搬送部内部、又は前記バッファ部内部の残存酸素濃度を略２０％以下に制御することを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造装置。
【請求項３】
前記ケミカルフィルタユニットは、前記基板表面における液滴の接触角を増大させる有機物を除去する機能を備えることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造装置。
【請求項４】
ラビング処理が施された一対の基板の一方に液晶を滴下し、シール材を用いて前記一対の基板を貼り合わせる液晶表示パネルの製造方法において、
前記ラビング処理後の洗浄・乾燥後、前記一対の基板を貼り合わせるまでの各工程の処理を行う装置、前記基板を搬送する搬送部、及び、前記基板を格納するバッファ部の少なくとも一つに、窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニットの少なくとも一方を設置して前記基板表面の清浄度を維持すると共に、
前記基板表面における液滴の接触角又は前記基板表面に残存する不純物の濃度を測定し、前記接触角または前記不純物濃度に基づいて、前記基板表面の清浄度を確認することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記窒素パージユニットは、前記装置内部、前記搬送部内部、又は前記バッファ部内部の残存酸素濃度を略２０％以下に制御することを特徴とする請求項４記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記ケミカルフィルタユニットは、前記接触角を増大させる有機物を除去する機能を備えることを特徴とする請求項４記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記接触角の測定を、前記一対の基板を貼り合わせる直前に行うことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項８】
前記接触角が略１３度以下の場合に、次工程の処理を実行することを特徴とする請求項７記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記不純物濃度の測定を、一方の基板に対しては前記シール材を描画した後、他方の基板に対してはスペーサを散布／固着させた後に行うことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記基板表面に存在するカチオン及びアニオンの総イオン量が略１ｎｇ／ｃｍ２以下の場合に、次工程の処理を実行することを特徴とする請求項９記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記基板表面に存在する有機物量が略０．１ｎｇ／ｃｍ２以下の場合に、次工程の処理を実行することを特徴とする請求項９記載の液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法に関し、特に、滴下貼り合わせラインにおける液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＡＶ機器やＯＡ機器の表示装置として、薄型、軽量、低消費電力等の利点から液晶表示装置が広く用いられている。この液晶表示装置は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子がマトリクス状に形成された一方の基板（以下、アレイ基板と呼ぶ。）と、カラーフィルター（ＣＦ）やブラックマトリクス（ＢＭ）等が形成された他方の基板（以下、ＣＦ基板と呼ぶ。）との間に液晶が挟持されてなる液晶表示パネルと、この液晶表示パネルを照明するバックライトユニットなどで構成され、液晶表示パネルの少なくとも一方の基板に設けた電極による電界によって液晶分子の配向方向を制御し、バックライトユニットからのバックライト光の透過率を変化させて情報を表示する。
【０００３】
この液晶表示パネルの製造工程は、アレイ基板及びＣＦ基板の表面に、印刷装置などを用いて配向膜の材料となるポリイミドの溶液を塗布し、焼成した後、配向膜表面を回転金属ローラに巻き付けたバフ布などで一定方向に擦ってラビング処理を行うラビング工程と、バフ布の繊維くずや配向膜の削りくずなどのラビング処理の残留物を除去する洗浄・乾燥工程と、ディスペンサ描画法などを用いて、一方の基板に液晶を封止するためのシール材を描画すると共にＡｇを塗布するシール描画／Ａｇ塗布工程と、他方の基板にポリマービーズ、シリカビーズ等のスペーサを散布して固着させるスペーサ散布／固着工程と、シール材を描画した基板に液晶を滴下する液晶滴下工程と、両基板を貼り合わせ、加圧しながらシール材を硬化させる貼り合わせ工程などで構成される。
【０００４】
図７は、ＯＤＦ（One-Drop Fill：滴下貼り合わせ）ラインの構成を簡略的に示したものであり、ＯＤＦラインには、上述したシール描画／Ａｇ塗布工程やスペーサ散布／固着工程、液晶滴下工程、貼り合わせ工程を実施するためのシール／Ａｇディスペンサ装置や液晶滴下ディスペンサ装置、スペーサ散布／検査装置、スペーサ固着装置、貼り合わせ装置などの各種装置と、所定の装置から他の装置にアレイ基板やＣＦ基板を搬送するための装置搬送部や各種装置での処理待ちのアレイ基板やＣＦ基板を格納するバッファ部などが配置される。
【０００５】
上記液晶表示パネルでは、表示品位や歩留まりを向上させるために工程雰囲気内の汚染物質を除去することが重要であり、例えば、ラビング洗浄・乾燥工程後の各工程の処理を行う装置や装置搬送部、バッファ部に、工程雰囲気内の汚染物質を除去するためのＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタを設置する方法や、汚染を回避するために一部の装置内を不活性ガスで置換する方法などが用いられている。例えば、特開２００１−２４２４７１号公報には、不活性ガスで置換された雰囲気で保持可能な処理室を具える滴下貼り合わせ装置が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−２４２４７１号公報（第５−８頁、第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述した従来のＯＤＦラインでは、基板表面汚染の影響でシミ、ムラ及び気泡などのパネル内部不良が頻繁に発生し、特に、処理待ちの基板が停滞している時にパネル内部不良の発生数が増大するという問題が生じている。この問題について図８乃至図１１を参照して具体的に説明する。
【０００８】
図８は、気泡発生率と基板放置時間との関係を示す図であり、基板が放置される時間が長くなるに従って、つまり基板表面が不純物に暴露される時間が長くなるに従って、基板貼り合わせ時に発生するパネル内気泡が増加していることが分かる。また、図９は、基板表面の接触角増加量と基板放置時間との関係を示す図であり、基板が放置される時間が長くなるに従って、基板表面における液滴の接触角が増加、すなわちガラス基板の親水性が低下して塗れ性が悪化していることが分かる。また、図１０及び図１１はそれぞれ、基板表面部のカチオン汚染量又はアニオン汚染量と基板放置時間との関係を示す図であり、基板が放置される時間が長くなるに従って、カチオン量及びアニオン量が共に増加していることが分かる。
【０００９】
そこで、上述したように、ラビング洗浄・乾燥工程後の各工程の処理を行う装置や装置搬送部、バッファ部にＨＥＰＡフィルタを設置したり、一部の装置内を不活性ガスで置換するなどの方法が用いられるが、ＨＥＰＡフィルタを設置した場合でもＯＤＦラインの汚染物質を確実に排除し、常に清浄な基板表面状態を維持することはできず、また、一部の装置内を不活性ガスで置換した場合は、その装置内での汚染を回避することができても、他の装置内や基板の搬送中などの汚染を回避することができないという問題があった。
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、その主たる目的は、工程雰囲気内の汚染物質を確実に除去して表示不良の発生を抑制し、液晶表示パネルの表示品位や歩留まりを向上させることができる液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明は、ラビング処理が施された一対の基板の一方に液晶を滴下し、シール材を用いて前記一対の基板を貼り合わせる処理を行う液晶表示パネルの製造装置であって、前記ラビング処理後の洗浄・乾燥後、前記一対の基板を貼り合わせるまでの各工程の処理を行う装置、前記基板を搬送する搬送部、及び、前記基板を格納するバッファ部の少なくとも一つに、窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニットの少なくとも一方が設置されているものである。
【００１２】
本発明においては、前記窒素パージユニットは、前記装置内部、前記搬送部内部、又は前記バッファ部内部の残存酸素濃度を略２０％以下に制御することが好ましい。
【００１３】
また、本発明においては、前記ケミカルフィルタユニットは、前記基板表面における液滴の接触角を増大させる有機物を除去する機能を備える構成とすることができる。
【００１４】
また、本発明は、ラビング処理が施された一対の基板の一方に液晶を滴下し、シール材を用いて前記一対の基板を貼り合わせる液晶表示パネルの製造方法において、前記ラビング処理後の洗浄・乾燥後、前記一対の基板を貼り合わせるまでの各工程の処理を行う装置、前記基板を搬送する搬送部、及び、前記基板を格納するバッファ部の少なくとも一つに、窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニットの少なくとも一方を設置して前記基板表面の清浄度を維持すると共に、前記基板表面における液滴の接触角又は前記基板表面に残存する不純物の濃度を測定し、前記接触角または前記不純物濃度に基づいて、前記基板表面の清浄度を確認するものである。
【００１５】
本発明においては、前記接触角の測定を、前記一対の基板を貼り合わせる直前に行う構成とすることができ、前記接触角が略１３度以下の場合に、次工程の処理を実行することが好ましい。
【００１６】
また、本発明においては、前記不純物濃度の測定を、一方の基板に対しては前記シール材を描画した後、他方の基板に対してはスペーサを散布／固着させた後に行う構成とすることができ、前記基板表面に存在するカチオン及びアニオンの総イオン量が略１ｎｇ／ｃｍ２以下の場合に、又は、前記基板表面に存在する有機物量が略０．１ｎｇ／ｃｍ２以下の場合に、次工程の処理を実行することが好ましい。
【００１７】
このように、本発明は上記構成により、窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニットで工程雰囲気内の汚染物質を確実に除去して表示不良の発生を抑制することができ、液晶表示パネルの表示品位や歩留まりを向上させることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法によれば、ＯＤＦライン内の汚染物質を極力排除し、基板表面汚染の影響で頻繁に発生するシミ、ムラ及び気泡などのパネル内部不良を低減させ、表示品質の高い液晶表示パネルを高歩留まりで製造することができる。
【００１９】
その理由は、ラビング洗浄・乾燥後のＯＤＦラインの各工程の処理を行う装置、基板を搬送するための装置搬送部、及び、基板を格納するためのバッファ部の少なくとも一つに、窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニットの少なくとも一方を設置し、基板表面の清浄度を維持しているからである。また、ＯＤＦラインの所定の工程後に接触角または不純物濃度を測定し、接触角または不純物濃度に基づいて、基板表面の清浄度を確認できるようにしているからである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
従来技術で示したように、液晶表示パネルの製造においては、表示品位や歩留まりを向上させるために工程雰囲気内の汚染物質を除去することが重要であり、ＯＤＦラインの各工程を処理する装置、基板を搬送するための装置搬送部、基板を格納するバッファ部などにＨＥＰＡフィルタを設置したり、一部の装置内を不活性ガスで置換するなどの方法が用いられているが、ＨＥＰＡフィルタを設置した場合でもＯＤＦラインの汚染物質を確実に排除することはできず、また、一部の装置内を不活性ガスで置換した場合でも、他の装置内や基板の搬送中などの汚染を回避することができないという問題があった。
【００２１】
この問題に対して、ＯＤＦライン全体のクリーン度を高める方法なども考えられるが、効果的な清浄機能を設けなければ製造設備が高価になり、液晶表示パネルの価格が高騰してしまうという問題が生じる。そこで、本願発明者は、基板を放置する時間が長くなるに従って基板表面における液滴の接触角や基板表面に残存する不純物の濃度が増大するという実験結果に基づいて、基板表面の清浄度を効果的に維持するための手法を確立した。
【００２２】
具体的には、ラビング洗浄・乾燥後のＯＤＦラインの各工程の処理を行う装置、アレイ基板やＣＦ基板を搬送するための装置搬送部、及びアレイ基板やＣＦ基板を格納するためのバッファ部の少なくとも一つに、窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニットの少なくとも一方を設置して基板表面を清浄な状態に維持すると共に、ＯＤＦラインの所定の工程の後において接触角または不純物濃度を測定し、接触角または不純物濃度に基づいて、基板表面の清浄度を確認できるようにする。これにより、ＯＤＦライン内の汚染物質を極力排除し、表示品質の高い液晶表示パネルを高歩留まりで製造できるようにしている。
【実施例１】
【００２３】
上記実施形態について詳細に説明すべく、本発明の第１の実施例に係る液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法について、図１乃至図６を参照して説明する。図１は、本実施例に係る液晶表示パネルを製造するためのＯＤＦラインの構成を簡略的に示す図であり、図２及び図３は、ＯＤＦラインに設置される装置の具体的構成を模式的に示す図である。また、図４及び図５は、本実施例の効果を説明するための図であり、図６は、本実施例のＯＤＦラインの他の構成を簡略的に示す図である。
【００２４】
一般に、液晶表示パネルは、ＴＦＴ等のスイッチング素子がマトリクス状に形成されたアレイ基板とカラーフィルタ（ＣＦ）、ブラックマトリクス（ＢＭ）等が形成されたＣＦ基板とを有し、これらの基板の対向面には配向処理が施された配向膜が形成されている。そして、両基板の間には所定の形状のポリマービーズ、シリカビーズ等の絶縁性のスペーサが配置されて所定のギャップが形成され、そのギャップに封止された液晶の配向方向を少なくとも一方の基板に形成した電極による電界で制御することによって情報が表示される。
【００２５】
従って、液晶表示パネルの表示品位や歩留まりを向上させるためには基板間に汚染物質が混入しないようにする必要があるが、効果的な清浄機能を設けないと液晶表示パネルの価格高騰を招いてしまう。そこで、本実施例では、図１に示すように、投入前基板洗浄・乾燥工程からラビング洗浄・乾燥工程を経たアレイ基板及びＣＦ基板をＯＤＦラインに流す場合、ＯＤＦラインに設置される装置、これらの基板を搬送するための装置搬送部、バッファ部の少なくとも一つに、内部の空気を清浄な窒素ガスに置換する機能を有する機器（以下、窒素パージユニット１と呼ぶ。）を設置する。
【００２６】
具体的に説明すると、図２に示すように、シール／Ａｇディスペンサ装置や液晶滴下ディスペンサ装置、スペーサ検査装置などの各種装置と基板３を搬送するロボットアーム４などの装置搬送部とを備える設備の天井部や側面部などに窒素パージユニット１を配置したり、図３に示すように、基板３を基板カセット５などに格納するバッファ部の天井部や側面部などに窒素パージユニット１を配置する。また、スペーサ散布装置やスペーサ固着装置、貼り合わせ装置など、装置の構造・仕様上、装置内に窒素パージユニット１を取り付けられない場合は、基板出し入れ口のローダー部などに窒素パージユニット１を配置する。
【００２７】
なお、図２及び図３の構成は例示であり、ＯＤＦラインの各種工程を処理する装置や装置搬送部、バッファ部の少なくとも一つの所定の位置に窒素パージユニット１が配置されていればよく、各々の装置や装置搬送部、バッファ部に窒素パージユニット１を設置してもよいし、複数の装置や装置搬送部、バッファ部を複合した設備に窒素パージユニット１を設置してもよい。また、ここでは内部を清浄な窒素ガスに置換する窒素パージユニット１を設置しているが、窒素ガス以外の清浄な不活性ガスに置換するユニットを用いてもよい。なお、窒素パージユニット１を設置する場合において、各種装置内部や装置搬送部内部、バッファ部内部の酸素濃度を酸素濃度計で管理することが望ましく、酸素濃度が略２０％以下になるように制御すれば、汚染物質の混入を十分に抑制することができることを確認している。
【００２８】
このように窒素パージユニット１を具備したＯＤＦラインを構築することにより、液晶表示パネル内部で発生するシミ、ムラを低減させることができる。更に、基板表面汚染の影響で基板貼り合わせ時に発生するパネル内気泡に対しても大きな効果が見られる。この効果について、図４及び図５を参照して説明する。
【００２９】
図４及び図５は、液晶滴下工程から貼り合わせ工程間において、工程内雰囲気の無機イオン量と有機物量を窒素パージユニット１設置前後で比較したグラフである。本測定において、無機イオン及び有機物採取はＴＥＮＡＸ吸着管捕集法により実施した。また、その後、無機イオンの中のカチオンについては原子吸光光度法、アニオンについてはイオンクロマトグラフ法で測定し、有機物についてはＧＣ−ＭＳで測定した。図４及び図５より、窒素パージユニット１を設置することによって工程内の無機イオン量および有機物量が減少していることが分かる。
【００３０】
また、本実施例の液晶パネルの製造方法では、液晶表示パネルの製造途中段階において接触角測定または不純物濃度測定を実施し、接触角または不純物濃度に基づいて基板表面が清浄な状態に維持されているか確認し、その結果に応じて次工程の処理を実行するか否かを判断できるようにしている。
【００３１】
この接触角測定は、例えばＣＦ基板、アレイ基板ともに貼り合わせ前に測定することが好ましい。この接触角（所定のLead Timeでの接触角）が小さいほど基板表面の清浄度が高いと言えるが、本願発明者の知見によれば、接触角が略１３度以下であれば、表示パネル内部で発生するシミ、ムラ、気泡が問題のないレベルに抑制されることを確認している。
【００３２】
また、不純物濃度測定は、例えばＣＦ基板ではスペーサ散布／固着後、アレイ基板ではシール／Ａｇディスペンス後に測定することが好ましい。この不純物濃度が小さいほど基板表面の清浄度が高いと言えるが、本願発明者の知見によれば、無機イオン濃度においてはカチオン、アニオンの総イオン量が略１ｎｇ／ｃｍ２以下であり、有機物量においては略０．１ｎｇ／ｃｍ２以下であれば、表示パネル内部で発生するシミ、ムラ、気泡が問題のないレベルに抑制されることを確認している。
【００３３】
このように、ＯＤＦラインを構成する各装置や基板を搬送するための装置搬送部、基板を格納するためのバッファ部の少なくとも一つの所定の位置に窒素パージユニット１を設置し、酸素濃度が略２０％以下になるように制御することによって基板表面の清浄度を維持することができる。また、任意の工程後に接触角測定または不純物濃度測定を実施し、接触角測定では接触角が略１３度以下、不純物濃度測定では無機イオン濃度においてはカチオン、アニオンの総イオン量が略１ｎｇ／ｃｍ２以下、有機物量においては略０．１ｎｇ／ｃｍ２以下になっていれば基板表面が清浄な状態に維持されていると判断することができ、これにより、表示パネル内部で発生するシミ、ムラ、気泡を問題のないレベルに抑制して、表示品質の高い液晶表示パネルを高歩留まりで製造することができる。
【００３４】
なお、図１ではギャップを形成するためにスペーサを散布、固着する場合を例にして説明したが、本発明は図１の構成に限定されず、例えばギャップを形成するために柱を備えたＣＦ基板を使用する場合は、図６に示すように、スペーサ散布装置、スペーサ検査装置およびスペーサ固着装置の代わりにＣＦ柱測定装置を組み込んだＯＤＦラインに対しても同様に適用することができ、この構成においても同様な効果を得ることができる。
【実施例２】
【００３５】
次に、本発明の第２の実施例に係る液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法について説明する。前記した第１の実施例では、ＯＤＦラインを構成する各種装置、装置搬送部、バッファ部の少なくとも一つに窒素パージユニットを設置したが、窒素パージユニットに代えて、化学的作用により特定の汚染物質を除去する機能を有する機器（以下、ケミカルフィルタユニットと呼ぶ。）を設置することもできる。
【００３６】
このケミカルフィルタユニットを用いた場合、各種汚染物質を除去することができるが、特にシロキサン類、フタル酸エステル類等の接触角を増加させる有機物を効果的に減少させることができる。これにより、基板表面部への汚染物質の付着を排除でき、パネル内部のシミ、ムラおよび気泡の発生を低減して、表示品質の高い液晶表示パネルを高歩留まりで製造することができる。
【実施例３】
【００３７】
次に、本発明の第３の実施例に係る液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法について説明する。前記した第１の実施例ではＯＤＦラインを構成する各種装置、装置搬送部、バッファ部の少なくとも一つに窒素パージユニットを設置し、第２の実施例では各種装置、装置搬送部、バッファ部の少なくとも一つにケミカルフィルタを設置したが、これらを組み合わせてもよく、例えば、窒素パージユニットにケミカルフィルタを具備させることもできる。この構成の場合、無機イオン及び有機物低減に対し更に有効であり、パネル内部のシミ、ムラおよび気泡の発生を更に低減して、表示品質の高い液晶表示パネルを高歩留まりで製造することができる。
【００３８】
なお、上記各実施例では、本発明の液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法をＯＤＦラインに適用したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、滴下貼り合わせ以外の方法、例えば、対向する基板を液晶注入孔となる領域を除いてシール材で貼り合わせた後、貼り合わせた基板を真空容器に入れて減圧状態にし、液晶注入孔を液晶に浸した状態で真空容器を大気圧に戻すことにより圧力差を利用して液晶を注入する方法や、対向する基板を液晶注入孔と排気口となる領域を除いてシール材で貼り合わせた後、液晶注入孔を液晶に浸し、排気口から排気することにより液晶を吸引する方法などを用いた製造ラインに対しても同様に適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明は、液晶表示パネルの他、基板表面への汚染物質の付着が問題となる任意の基板の製造装置及びその製造方法に対して適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の第１の実施例に係るＯＤＦラインの構成を簡略的に示す図である。
【図２】本発明の第１の実施例に係るＯＤＦラインにおける装置及び装置搬送部の具体的構造を模式的に示す図である。
【図３】本発明の第１の実施例に係るＯＤＦラインにおけるバッファ部の具体的構造を模式的に示す図である。
【図４】工程内雰囲気の窒素パージユニット設置前後の無機イオン量を示す図である。
【図５】工程内雰囲気の窒素パージユニット設置前後の有機物量を示す図である。
【図６】本発明の第１の実施例に係る液晶表示パネルを製造するＯＤＦラインの他の構成を簡略的に示す図である。
【図７】従来のＯＤＦラインの構成を簡略的に示す図である。
【図８】気泡発生率と基板放置時間との関係を示す図である。
【図９】基板表面部の接触角増加量と基板放置時間との関係を示す図である。
【図１０】基板表面部のカチオン汚染量と基板放置時間との関係を示す図である。
【図１１】基板表面部のアニオン汚染量と基板放置時間との関係を示す図である。
【符号の説明】
【００４１】
１  窒素パージユニット又はケミカルフィルタユニット
２  フィルタ
３  基板
４  ロボットアーム
５  基板カセット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2006349917.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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