(57)【要約】【課題】パターン形成材料を複数の吐出口から吐出しつつ基板上に格子状に近いパターンを適切に形成する。【解決手段】パターン形成装置１は、複数の吐出口からパターン形成材料を基板９の主面に向けて吐出する吐出部４１を有し、ステージ移動機構２により基板９の主面に沿う方向に吐出部４１が基板９に対して相対的に移動することにより、基板９上に複数の連続パターンが形成される。連続パターンの形成時において、吐出口移動機構４４により複数の吐出口の基板９に対する相対的な移動速度が周期的に変更され、各連続パターン９１において連続パターン９１の伸びる方向に対して垂直な方向に広がる複数の節部が形成される。これにより、パターン形成材料を複数の吐出口から吐出しつつ基板９上に格子状に近いパターンを適切に形成することが実現される。【選択図】図１
2006138911.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
基板の主面に向けて複数の吐出口からパターン形成材料を吐出する吐出工程と、
前記吐出工程に並行して、前記主面に沿う所定の方向に前記複数の吐出口を前記基板に対して相対的に移動することにより、それぞれが前記所定の方向に伸びる複数の連続パターンを形成する移動工程と、
前記移動工程に並行して、前記複数の連続パターンのそれぞれにおいて前記所定の方向に対して垂直な方向に広がる複数の節部を、前記複数の連続パターンの形成時に一定時間毎に前記複数の連続パターンにおいてほぼ同時に形成する節部形成工程と、
を備えることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成方法であって、
前記節部形成工程において、前記複数の節部が、前記複数の吐出口の前記基板に対する相対的な移動距離に対する前記複数の吐出口のそれぞれからのパターン形成材料の吐出量の割合を変更することにより形成されることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項３】
請求項２に記載のパターン形成方法であって、
前記吐出工程において、前記複数の吐出口のそれぞれからのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量が一定とされ、
前記節部形成工程が、前記複数の吐出口の前記基板に対する相対的な移動速度を周期的に変更する工程であることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項４】
請求項２に記載のパターン形成方法であって、
前記移動工程において、前記複数の吐出口の前記基板に対する相対的な移動速度が一定とされ、
前記節部形成工程が、前記複数の吐出口のそれぞれからのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量を周期的に変更する工程であることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項５】
請求項１に記載のパターン形成方法であって、
パターン形成材料が光硬化性樹脂を含み、
前記節部形成工程が、前記基板上に吐出された直後のパターン形成材料への光の照射量を周期的に変更する工程であることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項６】
請求項５に記載のパターン形成方法であって、
前記光の照射量を周期的に変更する工程において、前記基板上に吐出されたパターン形成材料への光の照射のＯＮ／ＯＦＦが制御されることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項７】
基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
複数の吐出口からパターン形成材料を基板の主面に向けて吐出する吐出部と、
前記吐出部からのパターン形成材料の吐出と並行して、前記主面に沿う所定の方向に前記吐出部を前記基板に対して相対的に移動することにより、それぞれが前記所定の方向に伸びる複数の連続パターンを形成する移動機構と、
前記複数の連続パターンのそれぞれにおいて前記所定の方向に対して垂直な方向に広がる複数の節部を、前記複数の連続パターンの形成時に一定時間毎に前記複数の連続パターンにおいてほぼ同時に形成する節部形成手段と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項８】
請求項７に記載のパターン形成装置であって、
前記節部形成手段が、前記複数の吐出口の前記基板に対する相対的な移動距離に対する前記複数の吐出口のそれぞれからのパターン形成材料の吐出量の割合を変更することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項９】
請求項７に記載のパターン形成装置であって、
パターン形成材料が光硬化性樹脂を含み、
前記節部形成手段が、前記基板上に吐出された直後のパターン形成材料への光の照射量を周期的に変更することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項１０】
請求項７ないし９のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記吐出部が、前記複数の吐出口のそれぞれから吐出される基板上のパターン形成材料の上部に当接して前記複数の連続パターンの高さを制限する部材を有することを特徴とするパターン形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上にパターンを形成する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、プラズマ表示装置用のパネルの隔壁パターンを形成する方法として、サンドブラスト法（フォトリソグラフィ法とも呼ばれる。）、スクリーン印刷法、リフトオフ法等が知られている。しかしながら、これらの方法は煩雑であり、生産コストを増加させる要因となっている。
【０００３】
そこで、近年、特許文献１に開示されているように、微細な吐出口を有するノズルから光硬化性樹脂を含むペースト状のパターン形成材料を吐出して基板上にストライプ状のパターンを形成した後に、紫外線の照射によりパターン形成材料を硬化させる手法が提案されている。特許文献１の手法によれば、パターンの形成工程を簡素化し、また、パターン形成材料の利用率を向上させることにより、パネルの生産コストを低減することができる。
【０００４】
なお、特許文献２では、ノズルからパターン形成材料を吐出して基板上にパターンを形成するパターン形成装置において、基板の移動方向に垂直な方向にノズルを揺動させる揺動機構を設けることにより、基板上に周期的な波形のパターンを形成する手法が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−１８４３０３号公報
【特許文献２】特開２００３−１８７６９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、プラズマ表示装置用のパネルの場合、基板上の隔壁のパターンは、通常、ストライプ状または格子状とされる。ストライプ状の隔壁は、構造が単純なため製造が容易であり、発光に利用されるガスを各セル（発光領域）に付与する際にセル内の排気を短時間に行うことができるという長所がある反面、非発光領域が必要となったり、格子状の隔壁と比較して１つのセルにおける蛍光体の表面積が小さくなるため、プラズマ表示装置の輝度を向上するには格子状の隔壁のパネルが有利である。しかしながら、特許文献１の手法では、ストライプ状のパターンは容易に形成することができるが、格子状のパターンの形成は困難である。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、パターン形成材料を複数の吐出口から吐出しつつ基板上に格子状に近いパターンを適切に形成することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、基板の主面に向けて複数の吐出口からパターン形成材料を吐出する吐出工程と、前記吐出工程に並行して、前記主面に沿う所定の方向に前記複数の吐出口を前記基板に対して相対的に移動することにより、それぞれが前記所定の方向に伸びる複数の連続パターンを形成する移動工程と、前記移動工程に並行して、前記複数の連続パターンのそれぞれにおいて前記所定の方向に対して垂直な方向に広がる複数の節部を、前記複数の連続パターンの形成時に一定時間毎に前記複数の連続パターンにおいてほぼ同時に形成する節部形成工程とを備える。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターン形成方法であって、前記節部形成工程において、前記複数の節部が、前記複数の吐出口の前記基板に対する相対的な移動距離に対する前記複数の吐出口のそれぞれからのパターン形成材料の吐出量の割合を変更することにより形成される。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のパターン形成方法であって、前記吐出工程において、前記複数の吐出口のそれぞれからのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量が一定とされ、前記節部形成工程が、前記複数の吐出口の前記基板に対する相対的な移動速度を周期的に変更する工程である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載のパターン形成方法であって、前記移動工程において、前記複数の吐出口の前記基板に対する相対的な移動速度が一定とされ、前記節部形成工程が、前記複数の吐出口のそれぞれからのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量を周期的に変更する工程である。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載のパターン形成方法であって、パターン形成材料が光硬化性樹脂を含み、前記節部形成工程が、前記基板上に吐出された直後のパターン形成材料への光の照射量を周期的に変更する工程である。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のパターン形成方法であって、前記光の照射量を周期的に変更する工程において、前記基板上に吐出されたパターン形成材料への光の照射のＯＮ／ＯＦＦが制御される。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、複数の吐出口からパターン形成材料を基板の主面に向けて吐出する吐出部と、前記吐出部からのパターン形成材料の吐出と並行して、前記主面に沿う所定の方向に前記吐出部を前記基板に対して相対的に移動することにより、それぞれが前記所定の方向に伸びる複数の連続パターンを形成する移動機構と、前記複数の連続パターンのそれぞれにおいて前記所定の方向に対して垂直な方向に広がる複数の節部を、前記複数の連続パターンの形成時に一定時間毎に前記複数の連続パターンにおいてほぼ同時に形成する節部形成手段とを備える。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載のパターン形成装置であって、前記節部形成手段が、前記複数の吐出口の前記基板に対する相対的な移動距離に対する前記複数の吐出口のそれぞれからのパターン形成材料の吐出量の割合を変更する。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、請求項７に記載のパターン形成装置であって、パターン形成材料が光硬化性樹脂を含み、前記節部形成手段が、前記基板上に吐出された直後のパターン形成材料への光の照射量を周期的に変更する。
【００１６】
請求項１０に記載の発明は、請求項７ないし９のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記吐出部が、前記複数の吐出口のそれぞれから吐出される基板上のパターン形成材料の上部に当接して前記複数の連続パターンの高さを制限する部材を有する。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１ないし１０の発明では、パターン形成材料を複数の吐出口から吐出しつつ基板上に格子状に近いパターンを適切に形成することができる。
【００１８】
また、請求項３の発明では、複数の吐出口の基板に対する相対的な移動速度を周期的に変更することにより、複数の節部を容易に形成することができ、請求項４の発明では、各吐出口からのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量を周期的に変更することにより、複数の節部を容易に形成することができる。
【００１９】
また、請求項５および９の発明では、基板上に吐出された直後のパターン形成材料への光の照射量を周期的に変更することにより、複数の節部を容易に形成することができ、請求項６の発明では、複数の節部をより容易に形成することができる。
【００２０】
また、請求項１０の発明では、節部を形成しつつ基板上に形成される連続パターンを一定の高さ以下とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図１は本発明の第１の実施の形態に係るパターン形成装置１の構成を示す図である。パターン形成装置１は、プラズマ表示装置用のガラス基板（以下、「基板」という。）９上に複数の隔壁（リブ）に相当するパターンを形成する装置であり、パターンが形成された基板９は他の工程を介してプラズマ表示装置の組立部品であるパネル（通常、リアパネル）となる。
【００２２】
パターン形成装置１では、基台１１上にステージ移動機構２が設けられ、ステージ移動機構２により基板９を保持するステージ２０が基板９の主面に沿って図１中に示すＹ方向に移動可能とされる。基台１１にはステージ２０を跨ぐようにしてフレーム１２が固定され、フレーム１２にはヘッド部３が取り付けられる。
【００２３】
ステージ移動機構２は、モータ２１にボールねじ２２が接続され、さらに、ステージ２０に固定されたナット２３がボールねじ２２に取り付けられた構造となっている。ボールねじ２２の上方にはガイドレール２４が固定され、モータ２１が回転すると、ナット２３とともにステージ２０がガイドレール２４に沿ってＹ方向に滑らかに移動する。
【００２４】
ヘッド部３は、光硬化性樹脂（本実施の形態では紫外線硬化性樹脂）を含むペースト状のパターン形成材料を基板９の（＋Ｚ）側の主面（以下、「上面」ともいう。）に向けて吐出する吐出部４１、および、吐出されたパターン形成材料に向けて紫外線を出射する光出射部５１を備える。吐出部４１および光出射部５１は支持部３２に取り付けられ、支持部３２はベース３１を介してフレーム１２に固定される。なお、パターン形成材料に含まれる光硬化性樹脂は紫外線硬化性樹脂以外であってもよく、この場合、光出射部５１からの光も光硬化性樹脂に合わせた波長の光とされる。
【００２５】
吐出部４１には、パターン形成材料を供給する供給管４２が取り付けられ、供給管４２は材料供給部４３に接続される。なお、パターン形成材料は主成分となる低軟化点ガラスフリットに光硬化性樹脂を混合したものであり、その他、溶剤や添加剤等も含んでいる。光出射部５１は光ファイバ５２を介して紫外線を発生する光源ユニット５３に接続される。
【００２６】
図２は吐出部４１の近傍を示す図であり、（−Ｘ）側から（＋Ｘ）方向を向いて吐出部４１を見た様子を示している。図２に示すように、吐出部４１の下部には先端に基板９の移動方向に垂直なＸ方向に並ぶ複数の吐出口を有するノズル４１１が設けられる。また、吐出部４１にはＸ方向に平行な軸を中心に吐出部４１を微少に回動する吐出口移動機構４４が取り付けられる。吐出口移動機構４４は、図示省略のモータに取り付けられたカム４４１を有し、吐出部４１に固定される支持棒４４２の先端に取り付けられたローラ４４３がカム４４１の外周に当接する。吐出部４１にはローラ４４３をカム４４１側（すなわち、（＋Ｙ）側）へと付勢する付勢機構４４４がさらに取り付けられ、カム４４１が回転することによりローラ４４３がＹ方向に移動して吐出部４１がＸ方向に平行な回転軸４４５を中心として微少に回動し、ノズル４１１の先端の複数の吐出口がＹ方向に微少に移動する。なお、吐出口移動機構４４による吐出部４１の回動は僅かであるため、ノズル４１１の先端が基板９に当接することはない。
【００２７】
図３はパターン形成途上におけるノズル４１１の先端近傍を示す拡大図である。図３に示すように、ノズル４１１の先端にはＸ方向に配列された複数の吐出口４１２（ただし、図３では１つの吐出口４１２のみが図示されている。）が形成され、吐出口４１２からパターン形成材料が吐出される。ノズル４１１には、複数の吐出口４１２の上側（（＋Ｚ）側）において吐出口４１２の近傍から（−Ｙ）側へと突出する庇部４１３がさらに設けられ、庇部４１３は吐出口４１２から吐出される基板９上のパターン形成材料の上部に当接する。また、吐出口４１２から吐出されたパターン形成材料に光出射部５１から出射される光が照射されるように、光出射部５１はノズル４１１から（−Ｙ）側にずれて配置されている。
【００２８】
図１に示すようにパターン形成装置１では、ステージ移動機構２、材料供給部４３、吐出口移動機構４４、および光源ユニット５３が制御部６に接続されており、これらの構成が制御部６に制御されることにより、基板９上に複数の隔壁のパターンが配列形成される。
【００２９】
図４は、パターン形成装置１が基板上にパターンを形成する動作の流れを示す図である。パターン形成装置１では、まず、図１に示す制御部６によりステージ移動機構２が制御され、基板９がステージ２０と共に図１中に二点鎖線にて示す位置から（−Ｙ）方向へと移動を開始する（ステップＳ１１）。吐出部４１のノズル４１１が基板９上のパターン形成の始点上に達すると、複数の吐出口４１２のそれぞれからパターン形成材料の吐出が開始される（ステップＳ１２）。このとき、各吐出口４１２からのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量は一定とされる。そして、光源ユニット５３に設けられたシャッタ（図示省略）が開放され、基板９上に吐出された直後のパターン形成材料への光出射部５１による光（紫外線）の照射が開始される（ステップＳ１３）。
【００３０】
このように、パターン形成装置１では、吐出部４１からのパターン形成材料の吐出と並行して、基板９の上面に沿って（＋Ｙ）方向に吐出部４１を基板９に対して相対的に移動する（スキャンする）ことにより、図３に示すように複数の連続パターン９１（ただし、図３では１つの連続パターン９１のみが図示されている。）が基板９の（−Ｙ）側から（＋Ｙ）方向に向かって順次形成される。また、基板９上に吐出された直後の連続パターン（パターン形成材料）は、光出射部５１から光を受けて硬化する。
【００３１】
パターン形成装置１では基板９の移動に並行して、図２の吐出口移動機構４４により吐出部４１がカム４４１の外形に応じて僅かに回動し、図５の下段に示すように、ヘッド部３の支持部３２に対する複数の吐出口４１２のＹ方向（基板９に対する相対的な移動方向）に関する位置が変位する。したがって、ステージ移動機構２により一定の速度Ｖ１にて連続的に移動する基板９に対する複数の吐出口４１２の相対的な移動速度も、図５の上段に示すように周期的に変更される（ステップＳ１４）。なお、図５の上段に示す基板９に対する吐出口４１２の相対速度は、２種類のサインカーブを重ね合わせたような波形となっている。
【００３２】
本実施の形態では、図５の上段に示す複数の吐出口４１２の基板９に対する相対速度の最大値Ｖ２は毎秒４ｍｍとされ、このときの各吐出口４１２からのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量が、（−Ｙ）側から（＋Ｙ）方向を向いてみた場合の吐出口４１２の面積（すなわち、吐出口４１２のＺＸ平面に平行な面への投影面積）と相対速度Ｖ２とを乗じて得た量におよそ等しくなるように、吐出部４１内におけるパターン形成材料の圧力が調整される。前述のように、吐出口４１２からの単位時間当たりのパターン形成材料の吐出量は一定とされるため、吐出口４１２の基板９に対する相対速度がＶ２より小さい間は、基板９上に吐出されたパターン形成材料は庇部４１３により一定の高さに制限されつつ移動方向に垂直なＸ方向に広がり、相対速度の最小値Ｖ３の時点でＸ方向に広がる幅が最大となる。
【００３３】
換言すれば、複数の吐出口４１２の基板９に対する相対的な移動距離に対する各吐出口４１２からのパターン形成材料の吐出量の割合が変更され、これにより、図６に示すように、複数の連続パターン９１のそれぞれにおいて基板９の移動方向に対して垂直な方向（Ｘ方向）に広がる複数の節部９２がＹ方向に一定のピッチにて、かつ、複数の連続パターン９１においてＹ方向のほぼ同じ位置に形成され、吐出部４１の基板９に対する一回の相対的な移動により基板９上に格子状に近いパターンが形成される。このとき、吐出口４１２の基板９に対する相対速度の変化の周期は、節部９２のＹ方向のピッチが約８４０μｍとなるように調整される。なお、連続パターン９１のＸ方向のピッチは、複数の吐出口４１２のＸ方向のピッチに等しく、約２８０μｍとなる。
【００３４】
図７は、図６中の矢印Ａ−Ａの位置における連続パターン９１の縦断面図である。吐出口４１２の基板９に対する相対速度がＶ２となる時に形成される連続パターン９１の断面（図６中の矢印Ａ−Ａの位置における断面）の形状は、図７に示すように（−Ｙ）側から（＋Ｙ）方向を向いてみた場合の吐出口４１２の開口形状にほぼ近似した台形となり、この断面における平均的な幅は約９０μｍとなる。また、連続パターン９１において節部９２の最大の幅は約２００μｍとなり、この位置においてＸ方向に互いに隣接する２つの節部９２間には、約４０μｍの幅の間隙が設けられる。さらに、基板９上に形成される連続パターン９１の高さは、約１５０μｍにておよそ一定とされる。なお、連続パターン９１の幅、高さ、ピッチ、節部９２の幅、Ｙ方向のピッチ等のパターンの幾何学的形状は適宜変更されてよく、形成される所望のパターンに合わせて複数の吐出口４１２の基板９に対する相対速度の最大値Ｖ２および最小値Ｖ３等の製造パラメータや吐出口４１２の形状等が変更される。
【００３５】
吐出部４１の吐出口４１２が基板９上のパターン形成の終点上に達すると、パターン形成材料の吐出が停止される（ステップＳ１５）。終点近傍のパターン形成材料を硬化させるために基板９はさらに移動を続行し、その後、ステージ２０の移動が停止され（ステップＳ１６）、光の出射が停止されてパターン形成装置１による連続パターン９１の形成が終了する（ステップＳ１７）。
【００３６】
連続パターン９１の形成が終了すると、基板９がパターン形成装置１から搬出され、他の装置により、基板９上の連続パターン９１が焼成され（例えば、約５５０度にて１０分間焼成する。）、パターン形成材料中の有機物（樹脂成分）が除去されるとともに低軟化点ガラスフリットが融着する。
【００３７】
連続パターン９１の焼成が完了すると、格子状に近い隔壁により形成された基板９（すなわち、プラズマ表示装置のリアパネル）上の複数の区画に蛍光層が形成され、その後、プラズマ表示装置のフロントパネルである１つのガラス基板が隔壁を挟んで基板９に取り付けられる。フロントパネルの取り付けに際しては、まず、基板９の隔壁のフロントパネルに接触する部位（すなわち、連続パターン９１の頂部）、および、フロントパネルの対応する部位に接着剤となる低軟化点ガラスの層が形成される。そして、両パネルの位置合わせが行われて仮止めされた後に両パネルに焼成処理が施されて固着する。
【００３８】
基板９とフロントパネルとの間の空間は、格子状に近い隔壁により複数の放電領域（すなわち、セル）に仕切られる。Ｙ方向において隣接する放電領域では、Ｘ方向に隣接する２つの節部９２間の隙間により互いに連結しており、この隙間を介して各領域からエアが排気されてキセノン（Ｘｅ）等のガスが封入される。プラズマ表示装置では、各放電領域に個別に電圧が印加されることにより個別にプラズマ放電が行われて紫外線が発生し、各放電領域内に形成された蛍光層に紫外線が入射することにより可視光が発生する。プラズマ表示装置では、複数の放電領域のそれぞれが１つの画素に相当する。なお、Ｘ方向に隣接する２つの節部９２間の隙間の大きさは、１つの放電領域において発生したプラズマが隣接する放電領域へと移動することがないように、所定の大きさ以下とされる。
【００３９】
以上のように、パターン形成装置１では、吐出部４１の複数の吐出口４１２からパターン形成材料を吐出しつつ、吐出口移動機構４４が複数の吐出口４１２の基板９に対する相対的な移動速度を周期的に変更することにより、複数の連続パターン９１の形成時に、連続パターン９１が伸びる方向に垂直な方向に広がる複数の節部９２が一定時間毎に複数の連続パターン９１においてほぼ同時に形成される。これにより、パターン形成材料を複数の吐出口４１２から吐出しつつ複数の節部９２を容易に形成して基板９上に格子状に近いパターンを適切に形成することができる。
【００４０】
ここで、図６と対比するために図８に示すストライプ状の連続パターン９９では、発光に利用されるガスを各セルに付与する際にセル内の排気を短時間に行うことができるが、大きな非発光領域が必要となったり、格子状の隔壁と比較して１つのセルにおける蛍光体の表面積が小さくなるため、プラズマ表示装置の輝度を向上することが困難である。これに対して、図１のパターン形成装置１にて形成される複数の連続パターン９１では、Ｘ方向に隣接する２つの節部９２間の隙間を利用してセル内の排気を短時間に行うことができるとともに、節部９２を利用してストライプ状の連続パターン９９よりも蛍光体の表面積の割合を大きくすることが可能となり、高輝度のプラズマ表示装置を実現することができる。
【００４１】
また、吐出部４１において吐出口４１２から吐出される基板９上のパターン形成材料の上部に当接する庇部４１３が設けられることにより、基板９上に形成される連続パターン９１を一定の高さ以下としてパターン形成材料が上方に隆起することが防止され、節部９２を確実に形成することができる。
【００４２】
図９は、本発明の第２の実施の形態に係るパターン形成装置において設けられるダイヤフラム部４５の構成を示す図である。図９のダイヤフラム部４５は図１の材料供給部４３と吐出部４１との間の供給管４２に取り付けられる。本実施の形態におけるパターン形成装置では吐出口移動機構４４は省略される。ダイヤフラム部４５は、一端が供給管４２に接続されるとともに他端側が閉塞されたベローズ４５１を有し、ベローズ４５１の他端側は押出機構４５２に接続されてベローズ４５１が伸縮される。これにより、各吐出口４１２からの単位時間当たりのパターン形成材料の吐出量が変更される。
【００４３】
図１０は、第２の実施の形態に係るパターン形成装置が基板上にパターンを形成する動作の流れを示す図であり、図４のステップＳ１４に代えて行われる処理のみを示している。図９のダイヤフラム部４５が設けられたパターン形成装置では、基板９の移動、パターン形成材料の吐出、および、パターン形成材料への光の照射が開始されると（図４：ステップＳ１１〜Ｓ１３）、これらの動作に並行して、ダイヤフラム部４５がベローズ４５１を周期的に伸縮させる。
【００４４】
具体的には、ダイヤフラム部４５がベローズ４５１を急激に縮めることにより、供給管４２内のパターン形成材料の圧力を瞬間的に高めつつ吐出口４１２からのパターン形成材料の吐出量を一時的に増大させ、続いて、ベローズ４５１を少しずつ伸ばすことにより、供給管４２内のパターン形成材料の圧力を低い状態で一定にして吐出口４１２から単位時間当たり一定の吐出量にてパターン形成材料を吐出させる。ダイヤフラム部４５では、上記動作が一定の周期にて繰り返されることにより、複数の吐出口４１２からのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量が周期的に変更される（ステップＳ２１）。
【００４５】
このとき、ステージ移動機構２による基板９の移動速度が一定とされるため、複数の吐出口４１２の基板９に対する相対的な移動距離に対する各吐出口４１２からのパターン形成材料の吐出量の割合が変更される。これにより、図１１に示すように、複数の連続パターン９１のそれぞれにおいて庇部４１３により高さが制限されつつ、基板９の移動方向に対して垂直な方向（Ｘ方向）に広がる複数の節部９２がＹ方向に一定のピッチにて、かつ、複数の連続パターン９１においてＹ方向のほぼ同じ位置に形成され、基板９上に格子状に近いパターンが形成される。図１１の連続パターン９１では図６の連続パターン９１とは異なり、節部９２以外の部位の幅がおよそ一定とされる。
【００４６】
節部９２の形成が周期的に行われつつ吐出部４１の吐出口４１２が基板９上のパターン形成の終点上に達すると、パターン形成材料の吐出が停止され（図４：ステップＳ１５）、続いて、ステージ２０の移動および光の出射が停止されてパターン形成装置による連続パターン９１の形成が終了する（ステップＳ１６，Ｓ１７）。
【００４７】
以上のように、図９のダイヤフラム部４５を有するパターン形成装置では、吐出部４１の複数の吐出口４１２からパターン形成材料を吐出しつつ、ダイヤフラム部４５により各吐出口４１２からのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量が周期的に変更される。これにより、パターン形成材料を複数の吐出口４１２から吐出しつつ複数の節部９２を容易に形成して基板９上に格子状に近いパターンを適切に形成することができる。
【００４８】
次に、本発明の第３の実施の形態に係るパターン形成装置について説明を行う。本実施の形態では、図１２に示すように光源ユニット５３と光出射部５１との間に、高速に開閉可能なシャッタを有する照射量変更部５４が設けられる。
【００４９】
図１３は、第３の実施の形態に係るパターン形成装置が基板上にパターンを形成する動作の流れを示す図であり、図４のステップＳ１４に代えて行われる処理のみを示している。図１２の照射量変更部５４が設けられたパターン形成装置では、基板９の移動、パターン形成材料の吐出、および、パターン形成材料への光の照射が開始されると（図４：ステップＳ１１〜Ｓ１３）、これらの動作に並行して、基板９上に吐出された直後のパターン形成材料への光の照射量が周期的に変更される（ステップＳ３１）。
【００５０】
具体的には、照射量変更部５４が周期的にシャッタを短時間だけ閉じることにより、光源ユニット５３から光出射部５１を介してパターン形成材料へと照射される光が一時的に遮断される。したがって、照射量変更部５４がシャッタを開放している間には、基板９上に吐出された直後のパターン形成材料に光が照射され、連続パターン９１が庇部４１３により高さが制限されつつ、所定の幅にて形成され、照射量変更部５４がシャッタを閉じている間には、基板９上に吐出された直後のパターン形成材料に光が照射されず、パターン形成材料が重力によりくずれて基板９の移動方向におよそ垂直な方向（すなわち、Ｘ方向）に広がる。その後、シャッタが開放されることにより、この部分にも光が照射されて連続パターン９１において他の部位に比べて高さが低い節部９２が形成される。
【００５１】
このように、パターン形成材料への光の照射のＯＮ／ＯＦＦが照射量変更部５４により制御され、図１１と同様に各連続パターン９１において節部９２が、複数の連続パターン９１の形成時に一定時間毎に複数の連続パターン９１においてほぼ同時に形成される。そして、基板９の全体に連続パターン９１が形成されると、基板９の移動、パターン形成材料の吐出、および、光の照射が停止され、パターン形成装置による連続パターン９１の形成が終了する（図４：ステップＳ１５〜Ｓ１７）。
【００５２】
以上のように、図１２の照射量変更部５４を有するパターン形成装置では、吐出部４１の複数の吐出口４１２からパターン形成材料を吐出しつつ、基板９上に吐出された直後のパターン形成材料への光の照射量が周期的に変更される。これにより、パターン形成材料を複数の吐出口４１２から吐出しつつ複数の節部９２を容易に形成して基板９上に格子状に近いパターンを適切に形成することができる。なお、光源ユニット５３に設けられたシャッタが高速に開閉可能である場合には、照射量変更部５４に代えて当該シャッタを利用してパターン形成材料への光の照射のＯＮ／ＯＦＦが制御されてもよい。
【００５３】
また、照射量変更部５４にシャッタに代えて回転する光量変更フィルタを設けることにより、パターン形成材料への光の照射量が周期的に変更されてもよい。さらに、パターン形成材料の粘性が比較的高い場合等には、光出射部５１と基板９上のパターン形成材料との間にマスクが設けられ、光源ユニット５３から一定の周期にてパルス光が出射されることにより、基板９上のパターン形成材料において節部９２に対応する部位以外に光が照射されてもよい。これにより、実質的に照射量変更部５４と同様のパターン形成材料への光の照射が実現される。なお、連続パターン９１に複数の節部９２をより容易に形成するには、基板９上に吐出されたパターン形成材料に対して光の照射のＯＮ／ＯＦＦ制御のみが行われることが好ましい。
【００５４】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００５５】
上記第１の実施の形態において、吐出口移動機構４４は必ずしも吐出部４１を回動するカム機構とされる必要はなく、例えば、吐出部４１が平行移動する機構とされてもよい。また、吐出口移動機構４４が省略され、制御部６がステージ移動機構２による基板９の移動速度を周期的に変更することにより、各連続パターン９１において複数の節部９２が一定のピッチにて、かつ、複数の連続パターン９１においてほぼ同じ位置に形成されてもよい。
【００５６】
上記第２の実施の形態において、ダイヤフラム部４５はベローズを有するもの以外であってもよい。また、基板９上に形成する連続パターン９１の精度によっては、パターン形成材料の吐出に利用される材料供給部４３のポンプを制御することにより、各吐出口４１２からのパターン形成材料の単位時間当たりの吐出量が周期的に変更されてもよい。
【００５７】
上記実施の形態では、Ｘ方向に互いに隣接する２つの節部９２の間に間隙が設けられることにより、発光に利用されるガスを各セルに付与する際のセル内の排気が効率よく行われるが、プラズマ表示装置用のガラス基板９において節部９２の高さが低くされる等して、セル内の排気に支障が生じない場合には２つの節部９２間に間隙が設けられなくてもよい。
【００５８】
パターン形成装置では、基板９が固定され、吐出部４１のみがＹ方向に移動することにより、吐出部４１の基板９に対する相対移動が行われてもよい。また、１つの基板９上に形成すべき連続パターン９１の個数が吐出部４１の吐出口４１２の個数より多い場合には、ヘッド部３を基板９に対してＸ方向に相対的に移動する機構が設けられて連続パターン９１の形成が繰り返される。
【００５９】
パターン形成装置は、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の他の種類の平面表示装置（フラットパネルディスプレイ）における隔壁や他のパターンの形成に利用されてもよい。また、基板９もガラス基板には限定されず、樹脂基板や半導体基板等であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】パターン形成装置の構成を示す図である。
【図２】吐出部の近傍を示す図である。
【図３】ノズルの先端近傍を示す拡大図である。
【図４】基板上にパターンを形成する動作の流れを示す図である。
【図５】基板に対する吐出口の相対速度の変化、および、支持部に対する吐出口の位置の変化を示す図である。
【図６】基板上の複数の連続パターンを示す平面図である。
【図７】連続パターンを示す縦断面図である。
【図８】ストライプ状の連続パターンを示す平面図である。
【図９】ダイヤフラム部の構成を示す図である。
【図１０】基板上にパターンを形成する動作の流れを示す図である。
【図１１】基板上の複数の連続パターンを示す平面図である。
【図１２】照射量変更部を示す図である。
【図１３】基板上にパターンを形成する動作の流れを示す図である。
【符号の説明】
【００６１】
１    パターン形成装置
２    ステージ移動機構
６    制御部
９    基板
４１    吐出部
４４    吐出口移動機構
４５    ダイヤフラム部
５４    照射量変更部
９１    連続パターン
９２    節部
４１２    吐出口
４１３    庇部
Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１４，Ｓ２１，Ｓ３１    ステップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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